JP2013175289A - Vacuum environment adaptive plate heater - Google Patents

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JP2013175289A
JP2013175289A JP2012037604A JP2012037604A JP2013175289A JP 2013175289 A JP2013175289 A JP 2013175289A JP 2012037604 A JP2012037604 A JP 2012037604A JP 2012037604 A JP2012037604 A JP 2012037604A JP 2013175289 A JP2013175289 A JP 2013175289A
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Masami Suzuki
正美 鈴木
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent impurity particles of fine powder etc., produced through thermal expansion and thermal contraction of a member constituting a heating element from being diffused out from a plate heater.SOLUTION: There is provided a plate heater 1 constituted by housing a heating element 4 in a back plate 2, and screwing and fixing peripheral edges of the back plate 2 and a face plate 3 while an upper surface of the heating element and an upper surface of the back plate 2 are in contact with a reverse surface of the face plate 3, the plate heater being characterized in that an outside air passage coming into contact with the heating element 4 is formed at an interval with at least one of the back plate 2 and the face plate 3, and a metal filter blocking impurities of fine particles and a heat-resistant seal securing airtightness between the peripheral edge of the heating element and both the plates 2, 3 are provided to the outside air passage on sides close to outside air.

Description

本発明は減圧槽、真空槽等の真空環境下で使用するプレートヒーターに関する発明であり、半導体ウエハ、液晶表示器用ガラス基板、光ディスク用基板などの各種被乾燥物を乾燥する際にプレートヒーター自体から発生する有機物成分や発熱体とプレートとの熱膨張、熱収縮に伴う相互の接触時の摩擦等により微粉末粒子等の不純物の発生やマイカ板や接着剤等から発生する微粉末粒子等が被乾燥物に付着しないようにした真空環境対応プレートヒーターに関する。   The present invention relates to a plate heater used in a vacuum environment such as a decompression tank, a vacuum tank, etc., and from the plate heater itself when drying various objects to be dried such as a semiconductor wafer, a glass substrate for a liquid crystal display, and an optical disk substrate Impurities such as fine powder particles and fine powder particles generated from mica plates and adhesives are covered by the organic matter components generated, friction between the heating element and the plate due to thermal expansion and contraction due to thermal contraction, etc. The present invention relates to a vacuum environment-compatible plate heater that does not adhere to dry matter.

従来からプレートヒーターとして、マイカヒーターが使用されている。このマイカヒーターは上下の矩形状をしたマイカ板の間にステンレス箔からなる発熱体を挟むように配置して固定したものである。その他に、プレートヒーターとして、アルミ鋳込みヒーター、アルミ埋め込みヒーター、アルミプレートヒーター等がある。アルミ鋳込みヒーターはシーズヒーターをアルミに鋳込んだヒーターであり、アルミ埋め込みヒーターはアルミプレートに溝加工を施し、シーズヒーターを熱伝セメントで固定して隙間を埋めたヒーターである。アルミプレートヒーターはアルミプレートに穴加工を施し、カートリッジヒーターを差し込んだヒーターである。プレートの材質としては、ステンレス、アルミニウム等が用いられる。本発明は発熱体とプレートの組み合わせにおける微細な粉塵等の不純物の発生が被乾燥物に付着しないようにした真空環境対応プレートヒーターの発明である。   Conventionally, a mica heater has been used as a plate heater. This mica heater is arranged and fixed so that a heating element made of stainless steel foil is sandwiched between upper and lower rectangular mica plates. Other plate heaters include cast aluminum heaters, embedded aluminum heaters, and aluminum plate heaters. The cast aluminum heater is a heater in which a sheathed heater is cast in aluminum. The embedded aluminum heater is a heater in which a groove is formed in an aluminum plate and the sheathed heater is fixed with heat transfer cement to fill a gap. The aluminum plate heater is a heater in which holes are drilled in the aluminum plate and a cartridge heater is inserted. As the material of the plate, stainless steel, aluminum or the like is used. The present invention is an invention for a vacuum environment-compatible plate heater in which generation of impurities such as fine dust in a combination of a heating element and a plate does not adhere to an object to be dried.

従来のプレートヒーターとして、金属板からなる加熱プレートと金属製押さえ板との間に金属箔ヒーターをポリイミドまたはポリベンゾイミダゾールを介して絶縁したものからなり、前記絶縁は、前記金属箔ヒーターに接する側の前記加熱プレートおよび金属製押さえ板上に、ポリイミドまたはポリベンゾイミダゾールを塗布するか、または蒸着させて形成したポリイミドまたはポリベンゾイミダゾールの皮膜を形成し、該ポリイミドまたはポリベンゾイミダゾールの皮膜が前記金属箔ヒーターに接するように、前記加熱プレートおよび押さえ板を前記板状ヒーターの両側から挟み付け、ネジ止めして一体とした加熱体である(特許文献1の請求項4)。   As a conventional plate heater, a metal foil heater is insulated via polyimide or polybenzimidazole between a heating plate made of a metal plate and a metal pressing plate, and the insulation is on the side in contact with the metal foil heater. A polyimide or polybenzimidazole film is formed by applying or vapor-depositing polyimide or polybenzimidazole on the heating plate and metal pressing plate, and the polyimide or polybenzimidazole film is formed on the metal. The heating plate and the pressing plate are sandwiched from both sides of the plate heater so as to be in contact with the foil heater, and are screwed together to be an integrated heating body (Claim 4 of Patent Document 1).

また、他の従来例として、熱プレートには、上下方向に貫通する複数の貫通孔が穿設され、各貫通孔それぞれには、基板支持ピンが昇降可能に挿入されている。各基板支持ピンは、エアシリンダに連動連結されて昇降可能な支持部材に立設され、これら基板支持ピンは同期して昇降されるようになっている。各基板支持ピンを上昇させることで、熱プレートの上方において基板搬送装置(図示せず)との間で基板の受け渡しを行い、各基板支持ピンを下降させることで、熱プレートの上面に基板を支持させることができる旨の記載がされている(特許文献2の段落0016)。
特開2003−217800 特開2000−164601
As another conventional example, the thermal plate has a plurality of through holes penetrating in the vertical direction, and a substrate support pin is inserted in each through hole so as to be moved up and down. Each substrate support pin is erected on a support member that is interlocked and connected to an air cylinder and can be raised and lowered, and these substrate support pins are raised and lowered in synchronization. By raising each substrate support pin, the substrate is transferred to and from a substrate transfer device (not shown) above the heat plate, and by lowering each substrate support pin, the substrate is placed on the upper surface of the heat plate. It is described that it can be supported (paragraph 0016 of Patent Document 2).
JP 2003-217800 A JP 2000-164601 A

上記特許文献1は、加熱プレートの内側に形成したネジ孔と、マイカ巻付ヒーターを貫通する孔と、絶縁板を貫通する孔と、押さえ板を貫通する孔のそれぞれをネジで一体的に固定する構造であるために、各孔とネジの隙間を通して熱膨張、熱収縮による微細な粉末状の不純物やマイカ等の材質から生起する微粉粒等の不純物等が発生し、被乾燥物である基板の表面に前記不純物が付着して製品の歩留まりを悪くする一因となっている。   In Patent Document 1, a screw hole formed inside the heating plate, a hole penetrating the mica winding heater, a hole penetrating the insulating plate, and a hole penetrating the pressing plate are integrally fixed with screws. As a result of this structure, fine powdery impurities due to thermal expansion and contraction through the gaps between the holes and screws, impurities such as fine particles generated from materials such as mica, etc. are generated, and the substrate that is to be dried The impurities adhere to the surface of the metal and contribute to the deterioration of the product yield.

また、引用文献2においては、熱プレートの上下方向に貫通する複数の貫通孔のそれぞれに基板支持ピンが昇降可能に挿入されているために、マイカヒーター等の発熱体の熱膨張、熱収縮によって生起する微細紛等の不純物粒子が乾燥時に基板等に付着することとなり歩留まりの悪い製品となる等の不都合が生じている。   Further, in the cited document 2, since the substrate support pin is inserted in each of the plurality of through holes penetrating in the vertical direction of the heat plate so as to be moved up and down, the heat expansion and contraction of a heating element such as a mica heater Impurity particles such as fine particles that are generated adhere to the substrate or the like during drying, resulting in inconveniences such as a product with a low yield.

本発明は上記の不都合を解消するためになされたもので、その目的とするところは、発熱体を構成する部材の熱膨張、熱収縮によって発生する微細紛等の不純物粒子がプレートヒーターから外部に拡散しないように阻止でき、歩留まりの良い被乾燥物を得るとともに金属プレートの間に挟まれた発熱体が外気又は真空槽又はクリーンルームと常時、通気し得るようにしたことにある。   The present invention has been made to solve the above-described disadvantages. The object of the present invention is to prevent impurities such as fine particles generated by thermal expansion and contraction of members constituting the heating element from the plate heater to the outside. The object of the present invention is to prevent the material from being diffused and to obtain an object to be dried having a high yield, and to allow the heating element sandwiched between the metal plates to be constantly ventilated with the outside air, the vacuum chamber or the clean room.

本発明は、バックプレートに発熱体を収納し、該発熱体の上面及びバックプレートの上面がフェイスプレートの裏面に接する状態で両プレート周縁を螺子止め固定してなるプレートヒーターであって、前記発熱体と接する外気通路を前記バックプレート及びフェイスプレートの少なくともいずれかに間隔をおいて形成し、該外気通路の外気寄りのそれぞれに微細な粒子の不純物を阻止する金属又はセラミックスを素材とするフィルターを設けるとともに前記発熱体の周縁及び両プレート間の気密性を確保する耐熱シールを設けたことを特徴とするプレートヒーターである。   The present invention is a plate heater in which a heating element is housed in a back plate, and the peripheral edges of both plates are screwed and fixed in a state where the upper surface of the heating element and the upper surface of the back plate are in contact with the back surface of the face plate. A filter made of a metal or ceramic material that forms an outside air passage in contact with the body at an interval in at least one of the back plate and the face plate and blocks impurities of fine particles on each side of the outside air passage. The plate heater is characterized in that it is provided with a heat-resistant seal that ensures airtightness between the peripheral edge of the heating element and both plates.

請求項1記載のプレートヒーターにおいて、該プレートヒーターの厚さ方向の複数箇所に被乾燥物を支持するリフトピン用穴が発熱体及びフェイスプレート、バックプレートのそれぞれを貫通し、かつ発熱体を貫通する部位のリフトピン用穴の周囲のバックプレート及びフェイスプレート内にシールプラグを埋設し、該シールプラグの外周面のフェイスプレート及びバックプレートのそれぞれの側に耐熱シールを設けたことを特徴とする。   2. The plate heater according to claim 1, wherein lift pin holes for supporting an object to be dried pass through each of the heating element, the face plate, and the back plate at a plurality of locations in the thickness direction of the plate heater and penetrate the heating element. A seal plug is embedded in a back plate and a face plate around a lift pin hole in a part, and a heat-resistant seal is provided on each side of the face plate and the back plate on the outer peripheral surface of the seal plug.

請求項1又は請求項2において、発熱体はマイカヒーター、シーズヒーター、アルミ鋳込みヒーター、アルミ埋め込みヒーター、アルミプレートヒーターのいずれかであることを特徴とする。   The heating element according to claim 1 or 2, wherein the heating element is any one of a mica heater, a sheathed heater, an aluminum cast heater, an aluminum embedded heater, and an aluminum plate heater.

請求項1、請求項2又は請求項3において、フェイスプレート及びバックプレートの材質はアルミニウム、ステンレス、鉄のいずれかを含む熱伝導性の良い金属を使用することを特徴とする。   In claim 1, claim 2, or claim 3, the face plate and the back plate are made of a metal having good thermal conductivity including any of aluminum, stainless steel, and iron.

請求項1、請求項2、請求項3又は請求項4において、プレートヒーターはクリーンルーム又は減圧槽、真空槽内に設置することを特徴とする。   In claim 1, claim 2, claim 3, or claim 4, the plate heater is installed in a clean room, a decompression tank, or a vacuum tank.

請求項1、請求項2、請求項3、請求項4又は請求項5において、減圧槽、真空槽内に設置するプレートヒーターの取付け位置は、槽内の底部、天井部、側壁部のいずれか又は複数部位に設けることを特徴とする。   In claim 1, claim 2, claim 3, claim 4 or claim 5, the mounting position of the plate heater installed in the decompression tank or the vacuum tank is any one of a bottom part, a ceiling part and a side wall part in the tank. Alternatively, it is provided at a plurality of sites.

マイカヒーター等の発熱体で発生する昇温、ヒーターの温度降下に伴う熱膨張、熱収縮によって摩擦等の発生により微細紛等の不純物粒子の発生は金属フィルター及び発熱体周縁の耐熱シールによって効率良く捕集され、クリーンルームでの乾燥又は真空環境下での乾燥においても基板等の被乾燥物に不純物の付着が解消され、製品の歩留まりが大幅に向上する。併せて発熱体は常時外気であるクリーンルーム又は真空槽内の雰囲気と通じており、大気又は真空槽内においても真空環境と通じている。しかも、本発明では被乾燥物を真空槽等に投入するときや乾燥終了後に被乾燥物を取り出すときは大気圧であり、乾燥中は減圧槽乃至真空槽であるために、フィルター自体に付着する微細な不純物粒子が圧力変化に伴い離反、吸着の繰り返しをおこなうという呼吸運動をおこなうのでフィルター自体の目詰まりが解消され、継続使用が可能となる。   Generation of impurity particles such as fine particles due to heat generated by heating elements such as mica heaters, thermal expansion and thermal contraction due to the temperature drop of the heaters, etc. due to friction etc Even in the case of being collected and dried in a clean room or in a vacuum environment, the adhesion of impurities to a material to be dried such as a substrate is eliminated, and the yield of products is greatly improved. In addition, the heating element always communicates with the atmosphere in the clean room or the vacuum chamber, which is outside air, and also communicates with the vacuum environment in the atmosphere or the vacuum chamber. Moreover, in the present invention, when the material to be dried is put into a vacuum chamber or the like, or when the material to be dried is taken out after completion of drying, the pressure is atmospheric pressure. Since the fine impurity particles perform a respiration movement that separates and repeats adsorption due to pressure change, clogging of the filter itself is eliminated, and continuous use is possible.

すなわち、発熱体と接する外気通路を前記バックプレート及びフェイスプレートの少なくともいずれかに間隔をおいて形成し、該外気通路の外気寄りのそれぞれに微細な不純物粒子を阻止する金属フィルターやセラミックスフィルターを設けたので、発熱体は常時、クリーンルームと同じ環境下に置かれるか、あるいは減圧ないし真空環境下と同じ環境に置かれるために、プレートヒーターの温度管理が一元化され、温度制御等が容易となる。   That is, an outside air passage that contacts the heating element is formed at an interval in at least one of the back plate and the face plate, and a metal filter or a ceramic filter that blocks fine impurity particles is provided near each outside air in the outside air passage. Therefore, since the heating element is always placed in the same environment as the clean room, or in the same environment as the reduced pressure or vacuum environment, the temperature management of the plate heater is unified, and temperature control and the like are facilitated.

本発明に係るプレートヒーターは基板等の被乾燥物を支持するリフトピンを備える構造であっても、リフトピンの通路は発熱体と耐熱シールを介して完全に遮断されているために、発熱体で生じる微細な不純物粒子はリフトピン通路を介してクリーンルームや真空環境に放出されることは無い。   Even if the plate heater according to the present invention has a structure including a lift pin for supporting an object to be dried such as a substrate, the path of the lift pin is completely blocked by the heat generating element and the heat-resistant seal, and thus is generated by the heat generating element. Fine impurity particles are not released into the clean room or vacuum environment through the lift pin passage.

本発明の一実施例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows one Example of this invention. 図1におけるフェイスプレートの平面図である。It is a top view of the face plate in FIG. 図1におけるバックプレートの平面図である。It is a top view of the back plate in FIG. 本発明の他の実施例で、被乾燥物を支持するリフトピンを備えた場合を示す概略断面図である。In another Example of this invention, it is a schematic sectional drawing which shows the case where the lift pin which supports a to-be-dried object is provided. 図4におけるフェイスプレートの平面図である。It is a top view of the face plate in FIG. 図4におけるバックプレートの平面図である。It is a top view of the back plate in FIG. 本発明の他の実施例であるプレートヒーターを真空槽内に設置した場合を示す概略説明図である。It is a schematic explanatory drawing which shows the case where the plate heater which is the other Example of this invention is installed in a vacuum chamber. 従来例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows a prior art example. 従来例を示すフェイスプレートの平面図である。It is a top view of the face plate which shows a prior art example. 従来例を示すバックプレートの平面図である。It is a top view of the back plate which shows a prior art example.

以下本発明の一実施例を図面に基づいて説明する。
1はプレートヒーターである。プレートヒーター1はバックプレート2の上面とフェイスプレート3の裏面が密着した状態で接しており、バックプレート2の上面に形成した窪み部2aに平面状の発熱体4を収納し、そのフェイスプレート3の裏面が発熱体4の上面に接する構造である。
An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.
1 is a plate heater. The plate heater 1 is in contact with the upper surface of the back plate 2 and the back surface of the face plate 3 in close contact with each other. The back surface of the heating element 4 is in contact with the upper surface of the heating element 4.

バックプレート2及びフェイスプレート3の材質はアルミニウム、アルミニウム合金、ステンレス、鉄等の金属材料が使用され、熱伝導性の良好な材料が好適である。
バックプレート2及びフェイスプレート3のサイズは用途により種々の形状が採用されるが例えば縦420mm、横520mmの大きさがそれぞれ同じで、バックプレート2の厚さは6mmで、フェイスプレート3の厚さは8mmの場合を示したがこれらのサイズに限定されるものではない。連続使用時の最高温度は、アルミニウムで350℃、鉄で800℃、ステンレスで600℃であるが、発熱体4の耐久性を考慮すると上記温度以下で使用するのが好適である。本例では50℃から500℃の範囲での使用である。
The back plate 2 and the face plate 3 are made of a metal material such as aluminum, aluminum alloy, stainless steel, or iron, and a material having good thermal conductivity is preferable.
The back plate 2 and the face plate 3 may have various shapes depending on the application. For example, the back plate 2 and the face plate 3 have the same size of 420 mm in length and 520 mm in width, the thickness of the back plate 2 is 6 mm, and the thickness of the face plate 3. Although the case of 8 mm was shown, it is not limited to these sizes. The maximum temperature during continuous use is 350 ° C. for aluminum, 800 ° C. for iron, and 600 ° C. for stainless steel. However, considering the durability of the heating element 4, it is preferable to use it at the above temperature or lower. In this example, it is used in the range of 50 ° C to 500 ° C.

バックプレート2の上面に形成した窪み部2aに収納する発熱体4は、本例ではマイカヒーター4aを採用した場合を示す。マイカヒーター4aは上下に絶縁板であるマイカ板の間に発熱するステンレス箔(図示せず)を配置して重ね合わせ1mmの厚さに形成したもので、マイカヒーター4aの上面はバックプレート2の上面と面一に形成されている。
マイカヒーター4aを挟んだ状態のバックプレート2とフェイスプレート3のマイカヒーター4aが配置されていない外側の矩形周縁部を螺子止め(図示せず)して一体的に固定する。
本例のマイカヒーター4aはAC200V、3.5KWの電力の場合を示したが、この数値に限定されるものではなく、使用目的により電圧、電力は適宜変更することができる。
発熱体4はマイカヒーター4aに限定されるものではなく、金属板にシーズヒーター(図示せず)を埋め込んだものやその他の手段等であっても良い。
The heating element 4 accommodated in the hollow part 2a formed in the upper surface of the back plate 2 shows the case where the mica heater 4a is employ | adopted in this example. The mica heater 4a is formed by placing a heat generating stainless steel foil (not shown) between the upper and lower insulating mica plates to form a thickness of 1 mm. The upper surface of the mica heater 4a It is formed flush.
The back plate 2 in a state of sandwiching the mica heater 4a and the outer rectangular peripheral edge of the face plate 3 where the mica heater 4a is not disposed are screwed (not shown) and fixed integrally.
Although the mica heater 4a of this example has shown the case of AC200V, 3.5KW electric power, it is not limited to this numerical value, and a voltage and electric power can be changed suitably according to the intended purpose.
The heating element 4 is not limited to the mica heater 4a, but may be a metal plate embedded with a sheathed heater (not shown), or other means.

本発明で重要な点は、バックプレート2の上面の溝部2aに収納した発熱体4であるマイカヒーター4aの外周縁と、バックプレート2におけるマイカヒーター4aの外周縁との接触部と、フェイスプレート3におけるマイカヒーター4aの外周縁との接触部とが耐熱シール5を設けることにより発熱体4から発生する微細紛等の不純物粒子が外部に漏出しないようにすることと、発熱体4であるマイカヒーター4aが外部と通じる通気孔6をバックプレート2の厚さ方向に形成し、その通気孔6の端部寄りに金属フィルター7を介して設けた点である。マイカヒーター4aの外周縁に設ける耐熱シール5は耐熱性のオーリングでシールする。耐熱性のオーリングとしてはフッ素系樹脂、ポリイミド等の耐熱性樹脂が使用される。マイカヒーター4aが外部と通じる通気孔6の端部寄りには金属フィルター7を設ける。金属フィルター7は多数のポーラスを有する焼結金属が使用され、例えばセラミックスフィルターやステンレスフィルター等が使用される。
プレートヒーター1には図示していないが、ヒーター4の温度管理をするための熱電対(図示せず)が備えられている。
The important point in the present invention is that the outer peripheral edge of the mica heater 4a, which is the heating element 4 housed in the groove 2a on the upper surface of the back plate 2, the contact portion of the back plate 2 with the outer peripheral edge of the mica heater 4a, and the face plate 3 is provided with a heat-resistant seal 5 between the contact portion with the outer peripheral edge of the mica heater 4a so that impurity particles such as fine particles generated from the heating element 4 do not leak to the outside, and the mica that is the heating element 4 A vent hole 6 through which the heater 4 a communicates with the outside is formed in the thickness direction of the back plate 2, and a metal filter 7 is provided near the end of the vent hole 6. The heat-resistant seal 5 provided on the outer peripheral edge of the mica heater 4a is sealed with a heat-resistant O-ring. As the heat-resistant O-ring, a heat-resistant resin such as fluorine resin or polyimide is used. A metal filter 7 is provided near the end of the ventilation hole 6 through which the mica heater 4a communicates with the outside. The metal filter 7 is made of a sintered metal having a large number of porous materials, such as a ceramic filter or a stainless steel filter.
Although not shown in the figure, the plate heater 1 is provided with a thermocouple (not shown) for controlling the temperature of the heater 4.

図4から図7は、本発明の他の実施例で、被乾燥物を支持するリフトピンを備えた場合を示す図であり、図7はプレートヒーター1を真空槽内に設置した場合を示す概略説明図である。
プレートヒーター1の厚さ方向の複数箇所に被乾燥物Aを支持するリフトピン用穴8が発熱体4及びフェイスプレート3、バックプレート2のそれぞれを貫通する孔が形成されている。発熱体4を貫通する部位のリフトピン用穴8の周囲のバックプレート2及びフェイスプレート3内にはリフトピン(図示せず)が挿通する管状のシールプラグ9が埋設されている。シールプラグ9の外周面のうちフェイスプレート3及びバックプレート2のそれぞれの側には耐熱シール10を設ける。リフトピンは真空槽11の扉(図示せず)を介して外部から搬送されてくる基板等の被乾燥物Aを同じレベルで支持するためにリフトピンを予め同じ高さに調整し、被乾燥物Aを受け取った後にリフトピンを降下させてフェイスプレート3の上に直接載置するかあるいは、あるいはフェイスプレート3の上面から所定の高さに設定しても良い。リフトピンの上下動は上下駆動手段(図示せず)によって行なう。また、被乾燥物Aは必要に応じてリフトピンが上下動しないで真空槽11内で固定されている場合であっても良い。
FIGS. 4 to 7 are views showing a case where a lift pin for supporting an object to be dried is provided in another embodiment of the present invention, and FIG. 7 is a schematic view showing a case where the plate heater 1 is installed in a vacuum chamber. It is explanatory drawing.
Lift pin holes 8 for supporting the material to be dried A are formed at a plurality of positions in the thickness direction of the plate heater 1 so as to penetrate the heating element 4, the face plate 3, and the back plate 2. A tubular seal plug 9 into which a lift pin (not shown) is inserted is embedded in the back plate 2 and the face plate 3 around the lift pin hole 8 at a portion that penetrates the heating element 4. A heat-resistant seal 10 is provided on each side of the face plate 3 and the back plate 2 in the outer peripheral surface of the seal plug 9. The lift pins are adjusted in advance to the same height in order to support the object A to be dried such as a substrate conveyed from the outside through the door (not shown) of the vacuum chamber 11 at the same level. The lift pin may be lowered after being received and placed directly on the face plate 3 or may be set to a predetermined height from the upper surface of the face plate 3. The lift pins are moved up and down by vertical drive means (not shown). Moreover, the case where the to-be-dried object A is being fixed in the vacuum chamber 11 without a lift pin moving up and down as needed may be sufficient.

本発明は半導体ウエハ、液晶表示器用ガラス基板、光ディスク用基板などの精密部品や医薬品、食品等の不純物が混入しないクリーンな環境下で被乾燥物を乾燥することができる精密部品分野、医薬分、食品分野等の広い産業分野で利用できる。   The present invention is a precision component field capable of drying an object to be dried in a clean environment in which impurities such as semiconductor wafers, glass substrates for liquid crystal displays, optical disk substrates, pharmaceuticals, foods and the like are not mixed, pharmaceuticals, It can be used in a wide range of industrial fields such as food.

1 プレートヒーター
2 バックプレート
2a 窪み部
3 フェイスプレート
4 発熱体
4a マイカヒーター
5 耐熱シール
6 通気孔
7 金属フィルター
8 リフトピン用穴
9 シールプラグ
10 耐熱シール
11 真空槽
A 被乾燥物
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Plate heater 2 Back plate 2a Recessed part 3 Face plate 4 Heating element 4a Mica heater 5 Heat resistant seal 6 Vent hole 7 Metal filter 8 Lift pin hole 9 Seal plug 10 Heat resistant seal 11 Vacuum chamber A

Claims (6)

バックプレートに発熱体を収納し、該発熱体の上面及びバックプレートの上面がフェイスプレートの裏面に接する状態で両プレート周縁を螺子止め固定してなるプレートヒーターであって、前記発熱体と接する外気通路を前記バックプレート及びフェイスプレートの少なくともいずれかに間隔をおいて形成し、該外気通路の外気寄りのそれぞれに微細な粒子の不純物を阻止する金属又はセラミックスを素材とするフィルターを設けるとともに前記発熱体の周縁及び両プレート間の気密性を確保する耐熱シールを設けたことを特徴とするプレートヒーター。 A plate heater in which a heating element is housed in a back plate, and the periphery of both plates is screwed and fixed in a state where the upper surface of the heating element and the upper surface of the back plate are in contact with the back surface of the face plate. A passage is formed in at least one of the back plate and the face plate with an interval, and a filter made of a metal or ceramic material that prevents impurities of fine particles is provided near the outside air in the outside air passage, and the heat generation A plate heater comprising a heat-resistant seal that ensures airtightness between the peripheral edge of the body and both plates. 請求項1記載のプレートヒーターにおいて、該プレートヒーターの厚さ方向の複数箇所に被乾燥物を支持するリフトピン用穴が発熱体及びフェイスプレート、バックプレートのそれぞれを貫通し、かつ発熱体を貫通する部位のリフトピン用穴の周囲のバックプレート及びフェイスプレート内にシールプラグを埋設し、該シールプラグの外周面のフェイスプレート及びバックプレートのそれぞれの側に耐熱シールを設けたことを特徴とする請求項1記載のプレートヒーター。 2. The plate heater according to claim 1, wherein lift pin holes for supporting an object to be dried pass through each of the heating element, the face plate, and the back plate at a plurality of locations in the thickness direction of the plate heater and penetrate the heating element. A seal plug is embedded in a back plate and a face plate around a lift pin hole in a part, and a heat-resistant seal is provided on each side of the face plate and the back plate on the outer peripheral surface of the seal plug. The plate heater according to 1. 請求項1又は請求項2において、発熱体はマイカヒーター、シーズヒーター、アルミ鋳込みヒーター、アルミ埋め込みヒーター、アルミプレートヒーターのいずれかであることを特徴とする請求項1又は請求項2のプレートヒーター。 3. The plate heater according to claim 1, wherein the heating element is any one of a mica heater, a sheathed heater, an aluminum cast heater, an aluminum embedded heater, and an aluminum plate heater. 請求項1、請求項2又は請求項3において、フェイスプレート及びバックプレートの材質はアルミニウム、ステンレス、鉄のいずれかを含む熱伝導性の良い金属を使用することを特徴とする請求項1、請求項2又は請求項3記載のプレートヒーター。 4. The metal plate according to claim 1, wherein the face plate and the back plate are made of a metal having good thermal conductivity, including aluminum, stainless steel, and iron. The plate heater according to claim 2 or claim 3. 請求項1、請求項2、請求項3又は請求項4において、プレートヒーターはクリーンルーム又は減圧槽、真空槽内に設置することを特徴とする請求項1、請求項2、請求項3又は請求項4記載のプレートヒーター。 In Claim 1, Claim 2, Claim 3, or Claim 4, the plate heater is installed in a clean room, a decompression tank, or a vacuum tank. 4. The plate heater according to 4. 請求項1、請求項2、請求項3、請求項4又は請求項5において、減圧槽、真空槽内に設置するプレートヒーターの取付け位置は、槽内の底部、天井部、側壁部のいずれか又は複数部位に設けることを特徴とする請求項1、請求項2、請求項3、請求項4又は請求項5のプレートヒーター。 In claim 1, claim 2, claim 3, claim 4 or claim 5, the mounting position of the plate heater installed in the decompression tank or the vacuum tank is any one of a bottom part, a ceiling part and a side wall part in the tank. Alternatively, the plate heater according to claim 1, 2, 3, 4 or 5, wherein the plate heater is provided at a plurality of portions.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2020062575A (en) * 2018-10-15 2020-04-23 株式会社不二越 Coating device

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