JP2013175058A - Touch panel and position detection method - Google Patents

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聡 桜井
Shinkichi Shimizu
信吉 清水
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a thin touch panel at low costs in which position detection is executable only by a touch, and materials of touching objects do not matter.SOLUTION: The touch panel includes: a first conductive film having a plurality of separate regions formed in a long strip-like shape in one direction; a second conductive film having a plurality of separate regions formed in a long strip-like shape in the other direction which is almost orthogonal to one direction; and a third conductive film. The separate areas in the first conductive film are arrayed in the other direction, and the separate areas in the second conductive film are arrayed in one direction. A current detection part is connected to each of the divided areas in the first conductive film, and a current detection part is connected to a part of the divided areas in the second conductive film, and a potential detection part is connected to each of the divided areas in the second conductive film, and a potential detection part is connected to the third conductive film.

Description

本発明は、タッチパネル及び位置検出方法に関する。   The present invention relates to a touch panel and a position detection method.

タッチパネルは、ディスプレイに直接入力をすることが可能な入力デバイスであり、ディスプレイの前面に設置して使用される場合が多く、ディスプレイにより視覚的にとらえた情報に基づき、直接入力することができることから、様々な用途において用いられている。   A touch panel is an input device that allows direct input to the display, and is often used by installing it on the front of the display. It can be directly input based on information visually captured by the display. Are used in various applications.

このようなタッチパネルとしては、抵抗膜方式及び静電容量方式が広く知られている。抵抗膜方式のタッチパネルは、透明導電膜が形成された上部電極基板及び下部電極基板において、各々の透明導電膜同士が対向するように設置し、上部電極基板の一点に力を加えることにより各々の透明導電膜同士が接触し、力の加えられた位置の位置検出を行うことができるものである。   As such a touch panel, a resistance film type and a capacitance type are widely known. The resistive film type touch panel is installed so that each transparent conductive film is opposed to each other in the upper electrode substrate and the lower electrode substrate on which the transparent conductive film is formed, and each of the upper electrode substrates is applied with a force. The transparent conductive films are in contact with each other, and the position where the force is applied can be detected.

抵抗膜方式のタッチパネルは、4線式、5線式、ダイオード式に大別することができる。4線式は、上部電極基板又は下部電極基板のどちらか一方にX軸の電極が設けられており、他方にY軸の電極が設けられている(例えば、特許文献1)。また、5線式は、下部電極基板にX軸の電極及びY軸の電極がともに設けられており、上部電極基板は、電圧を検出するためのプローブとして機能するものである(例えば、特許文献2)。また、ダイオード式は、下部電極基板にダイオードが設けられている構造のものであり、電圧を印加するための2つの電極と、電位をモニタするための4つの電極とが設けられており、電圧を検出するためにプローブとして機能する上部電極基板に設けられた電極と併せて、電極が7つ形成されることから7線式とも呼ばれている(例えば、特許文献3)。   Resistive touch panels can be broadly classified into four-wire, five-wire, and diode. In the 4-wire system, an X-axis electrode is provided on one of the upper electrode substrate and the lower electrode substrate, and a Y-axis electrode is provided on the other (for example, Patent Document 1). In the 5-wire system, both the X-axis electrode and the Y-axis electrode are provided on the lower electrode substrate, and the upper electrode substrate functions as a probe for detecting a voltage (for example, Patent Documents). 2). The diode type has a structure in which a diode is provided on the lower electrode substrate, and is provided with two electrodes for applying a voltage and four electrodes for monitoring a potential. In addition to the electrodes provided on the upper electrode substrate that functions as a probe for detecting the presence of seven electrodes, it is also called a seven-wire type (for example, Patent Document 3).

また、静電容量方式は、タッチパネルに指等が接近することによりタッチパネルの透明電極等に流れる電流を検出することにより位置検出がなされるものである。   In the capacitive method, position detection is performed by detecting a current flowing through a transparent electrode or the like of the touch panel when a finger or the like approaches the touch panel.

タッチパネルにおいては、静電容量方式と抵抗膜方式とは、異なる特徴を有するものであるため、抵抗膜方式のタッチパネルと静電容量方式のタッチパネルとを積層した構造のタッチパネルが開示されている(例えば、特許文献4、5)。   In the touch panel, since the capacitive type and the resistive type have different characteristics, a touch panel having a structure in which a resistive type touch panel and a capacitive type touch panel are stacked is disclosed (for example, Patent Documents 4 and 5).

特開2004−272722号公報JP 2004-272722 A 特開2008−293129号公報JP 2008-293129 A 特開2005−196280号公報JP 2005-196280 A 実用新案登録第3132106号公報Utility Model Registration No. 3132106 実用新案登録第3139196号公報Utility Model Registration No. 3139196 特開2009−116849号公報JP 2009-116849 A

ところで、静電容量方式のタッチパネルは、静電容量結合による検出方式であるため、押下することなく触れるだけで位置検出を行なうことができるといった特徴を有しているが、絶縁体による接触では位置検出をすることができない。また、抵抗膜方式のタッチパネルでは、タッチパネルに接触するものの材質等は問わないといった特徴を有しているが、位置検出は上部抵抗膜となる透明導電膜と下部抵抗膜となる透明導電膜とが接触することにより行なわれるため、タッチパネルを所定の力で押下する必要がある。   By the way, since the capacitive touch panel is a detection method based on capacitive coupling, it has a feature that the position can be detected by simply touching without touching, but the position is not detected by contact with an insulator. It cannot be detected. In addition, the resistance film type touch panel has a feature that the material of the touch panel does not matter, but the position detection includes a transparent conductive film as an upper resistance film and a transparent conductive film as a lower resistance film. Since it is performed by touching, it is necessary to press the touch panel with a predetermined force.

これに対し、特許文献4及び5に記載されているものは、静電容量方式のタッチパネルと、抵抗膜方式のタッチパネルとを積層した構造のものであり、静電容量方式のタッチパネルと抵抗膜方式のタッチパネルとの双方の良い特徴を有している。   On the other hand, what is described in Patent Documents 4 and 5 has a structure in which a capacitive touch panel and a resistive film type touch panel are stacked, and the capacitive touch panel and the resistive film system. The touch panel has good features.

しかしながら、このような構造のタッチパネルは、2種類のタッチパネルを積層しているため、厚さが厚くなるといった問題点や、高コストなものとなるといった問題点を有していた。   However, since the touch panel having such a structure has two types of touch panels laminated thereon, it has a problem that the thickness is increased and a problem that the cost is increased.

本発明は、上記に鑑みてなされたものであり、静電容量方式のタッチパネルの特徴と抵抗膜方式のタッチパネルの良い特徴を有するタッチパネル、即ち、触れるだけで位置検出を行なうことができ、接触するものの材質等を問わない、厚さの薄いタッチパネルを低コストで提供することを目的とするものである。また、このようなタッチパネルの位置検出方法を提供することを目的とするものである。   The present invention has been made in view of the above, and has a characteristic of a capacitive touch panel and a good characteristic of a resistive touch panel, that is, a position can be detected and touched only by touching. The object is to provide a thin touch panel at a low cost regardless of the material of the object. It is another object of the present invention to provide a touch panel position detection method.

本発明は、一方の方向に長く短冊状に形成された分離領域を複数有する第1の導電膜と、前記一方の方向と略直交する他方の方向に長く短冊状に形成された分離領域を複数有する第2の導電膜と、第3の導電膜と、を有し、前記第1の導電膜における分離領域は、前記他方の方向に配列されており、前記第2の導電膜における分離領域は、前記一方の方向に配列されているものであって、前記第1の導電膜における各々の分割領域には、電流検出部が接続されており、前記第2の導電膜における分割領域の一部には、電流検出部が接続されており、前記第2の導電膜における各々の分割領域には、電位検出部が接続されており、前記第3の導電膜には、電位検出部が接続されていることを特徴とする。   The present invention provides a first conductive film having a plurality of separation regions formed in a strip shape long in one direction, and a plurality of separation regions formed in a strip shape long in the other direction substantially orthogonal to the one direction. A second conductive film and a third conductive film, wherein the isolation region in the first conductive film is arranged in the other direction, and the isolation region in the second conductive film is , Arranged in the one direction, and each of the divided regions in the first conductive film is connected to a current detection unit, and a part of the divided region in the second conductive film Is connected to a current detection unit, a potential detection unit is connected to each divided region of the second conductive film, and a potential detection unit is connected to the third conductive film. It is characterized by.

また、本発明は、一方の方向に長く短冊状に形成された分離領域を複数有する第1の導電膜と、前記一方の方向と略直交する他方の方向に長く短冊状に形成された分離領域を複数有する第2の導電膜と、を有し、前記第1の導電膜における分離領域は、前記他方の方向に配列されており、前記第2の導電膜における分離領域は、前記一方の方向に配列されているものであって、前記第1の導電膜における分割領域の一部には、電流検出部が接続されており、前記第1の導電膜における各々の分割領域には、電位検出部が接続されており、前記第2の導電膜における分割領域の一部には、電流検出部が接続されており、前記第2の導電膜における各々の分割領域には、電位検出部が接続されていることを特徴とする。   The present invention also provides a first conductive film having a plurality of separation regions that are long and elongated in one direction, and a separation region that is long and elongated in the other direction substantially orthogonal to the one direction. A plurality of second conductive films, wherein the isolation regions in the first conductive film are arranged in the other direction, and the isolation regions in the second conductive film are in the one direction And a current detection unit is connected to a part of the divided region in the first conductive film, and a potential detection is provided in each divided region in the first conductive film. A current detection unit is connected to a part of the divided region of the second conductive film, and a potential detection unit is connected to each of the divided regions of the second conductive film. It is characterized by being.

また、本発明は、一方の方向に長く短冊状に形成された分離領域を複数有する第1の導電膜と、前記一方の方向と略直交する他方の方向に長く短冊状に形成された分離領域を複数有する第2の導電膜と、第3の導電膜と、を有し、前記第1の導電膜における分離領域は、前記他方の方向に配列されており、前記第2の導電膜における分離領域は、前記一方の方向に配列されているタッチパネルの位置検出方法において、前記第1の導電膜における分割領域に接続された電流検出部と、前記第2の導電膜における分割領域の一部に接続された電流検出部により、接触位置の位置検出を行なう第1の検出工程と、前記第2の導電膜における各々の分割領域に接続された電位検出部と、前記第3の導電膜における各々の分割領域に接続された電位検出部により、接触位置の位置検出を行なう第2の検出工程と、を有することを特徴とする。   The present invention also provides a first conductive film having a plurality of separation regions that are long and elongated in one direction, and a separation region that is long and elongated in the other direction substantially orthogonal to the one direction. And a separation region in the first conductive film is arranged in the other direction, and the separation in the second conductive film is performed. In the method for detecting the position of the touch panel arranged in the one direction, the region is a current detection unit connected to the divided region in the first conductive film and a part of the divided region in the second conductive film. A first detection step of detecting the position of the contact position by the connected current detection unit, a potential detection unit connected to each divided region in the second conductive film, and each in the third conductive film Potential detection connected to Parts by, and having a second detection step of detecting the position of the contact position.

また、本発明は、一方の方向に長く短冊状に形成された分離領域を複数有する第1の導電膜と、前記一方の方向と略直交する他方の方向に長く短冊状に形成された分離領域を複数有する第2の導電膜と、を有し、前記第1の導電膜における分離領域は、前記他方の方向に配列されており、前記第2の導電膜における分離領域は、前記一方の方向に配列されているタッチパネルの位置検出方法において、前記第1の導電膜における分割領域の一部に接続された電流検出部と、前記第2の導電膜における分割領域の一部に接続された電流検出部により、接触位置の位置検出を行なう第1の検出工程と、前記第1の導電膜における各々の分割領域に接続された電位検出部と、前記第2の導電膜における各々の分割領域に接続された電位検出部により、接触位置の位置検出を行なう第2の検出工程と、を有することを特徴とする。   The present invention also provides a first conductive film having a plurality of separation regions that are long and elongated in one direction, and a separation region that is long and elongated in the other direction substantially orthogonal to the one direction. A plurality of second conductive films, wherein the isolation regions in the first conductive film are arranged in the other direction, and the isolation regions in the second conductive film are in the one direction In the method for detecting the position of the touch panel arranged in the current detection unit, a current detection unit connected to a part of the divided region in the first conductive film and a current connected to a part of the divided region in the second conductive film A first detection step for detecting the position of the contact position by the detection unit; a potential detection unit connected to each divided region in the first conductive film; and each divided region in the second conductive film. By the connected potential detector A second detection step of detecting the position of the contact position, characterized by having a.

本発明によれば、触れるだけで位置検出を行なうことができ、接触するものの材質等を問わない、厚さの薄いタッチパネルを低コストで提供することができ、更には、このタッチパネルの位置検出方法を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to detect a position simply by touching, and to provide a thin touch panel at any cost, regardless of the material of the touched object. Can be provided.

第1の実施の形態におけるタッチパネルを分解した斜視図The perspective view which decomposed | disassembled the touchscreen in 1st Embodiment 第1の実施の形態におけるタッチパネルの構造図Structural diagram of the touch panel in the first embodiment 第1の実施の形態におけるタッチパネルの駆動方法の説明図(1)Explanatory drawing (1) of the drive method of the touchscreen in 1st Embodiment 第1の実施の形態におけるタッチパネルの駆動方法の説明図(2)Explanatory drawing (2) of the drive method of the touch panel in 1st Embodiment 第1の実施の形態におけるタッチパネルの説明図Explanatory drawing of the touch panel in 1st Embodiment 第1の実施の形態におけるタッチパネルの制御方法の説明図(1)Explanatory drawing (1) of the control method of the touch panel in 1st Embodiment 第1の実施の形態におけるタッチパネルの制御方法の説明図(2)Explanatory drawing (2) of the control method of the touch panel in 1st Embodiment 第1の実施の形態におけるタッチパネルの制御方法の説明図(3)Explanatory drawing (3) of the control method of the touch panel in 1st Embodiment タッチパネルの制御回路のブロック図Block diagram of touch panel control circuit 抵抗膜方式選択部の説明図Explanatory drawing of resistive film type selector 抵抗膜方式選択部の制御の説明図Explanatory diagram of control of resistive film type selection unit 他の抵抗膜方式選択部の説明図Explanatory drawing of other resistive film type selector タッチパネルの位置検出方法のフローチャートFlowchart of touch panel position detection method 第2の実施の形態におけるタッチパネルを分解した斜視図The perspective view which decomposed | disassembled the touchscreen in 2nd Embodiment 第2の実施の形態におけるタッチパネルの構造図Structural diagram of the touch panel in the second embodiment 第2の実施の形態におけるタッチパネルの駆動方法の説明図(1)Explanatory drawing (1) of the drive method of the touchscreen in 2nd Embodiment. 第2の実施の形態におけるタッチパネルの駆動方法の説明図(2)Explanatory drawing (2) of the drive method of the touch panel in 2nd Embodiment 第2の実施の形態におけるタッチパネルの説明図Explanatory drawing of the touch panel in 2nd Embodiment 第2の実施の形態におけるタッチパネルの制御方法の説明図(1)Explanatory drawing (1) of the control method of the touchscreen in 2nd Embodiment. 第2の実施の形態におけるタッチパネルの制御方法の説明図(2)Explanatory drawing (2) of the control method of the touchscreen in 2nd Embodiment 第2の実施の形態におけるタッチパネルの制御方法の説明図(3)Explanatory drawing (3) of the control method of the touchscreen in 2nd Embodiment

本発明を実施するための形態について、以下に説明する。尚、同じ部材等については、同一の符号を付して説明を省略する。   The form for implementing this invention is demonstrated below. In addition, about the same member etc., the same code | symbol is attached | subjected and description is abbreviate | omitted.

〔第1の実施の形態〕
第1の実施の形態におけるタッチパネルについて説明する。図1及び図2に示されるように、本実施の形態におけるタッチパネルは、第1の透明導電膜10、第2の透明導電膜20及び第3の透明導電膜30を有している。本実施の形態においては、第1の透明導電膜10と第2の透明導電膜20を用いて静電容量方式により接触点(接触位置)における位置検出を行なうことができ、第2の透明導電膜20と第3の透明導電膜30を用いて抵抗膜方式により接触点(接触位置)における位置検出を行なうことができる。尚、本実施の形態においては、第1の導電膜は第1の透明導電膜10であり、第2の導電膜は第2の透明導電膜20であり、第3の導電膜は第3の透明導電膜30であるものとする。
[First Embodiment]
The touch panel in the first embodiment will be described. As shown in FIGS. 1 and 2, the touch panel in the present embodiment includes a first transparent conductive film 10, a second transparent conductive film 20, and a third transparent conductive film 30. In the present embodiment, position detection at a contact point (contact position) can be performed by a capacitance method using the first transparent conductive film 10 and the second transparent conductive film 20, and the second transparent conductive film. Position detection at the contact point (contact position) can be performed by the resistance film method using the film 20 and the third transparent conductive film 30. In the present embodiment, the first conductive film is the first transparent conductive film 10, the second conductive film is the second transparent conductive film 20, and the third conductive film is the third conductive film. The transparent conductive film 30 is assumed.

第1の透明導電膜10は、第1の透明基板11の一方の面に形成されており、X軸方向に長く形成された短冊状の分離領域10aを複数有している。複数の分離領域10aはY軸方向に並ぶように配列されており、各々の分離領域10aの端部には電極12が接続されている。尚、図面においては、符号が省略されているが、電極12は、すべての分離領域10aにおいて形成されている。   The first transparent conductive film 10 is formed on one surface of the first transparent substrate 11, and has a plurality of strip-shaped separation regions 10a formed long in the X-axis direction. The plurality of separation regions 10a are arranged so as to be aligned in the Y-axis direction, and an electrode 12 is connected to the end of each separation region 10a. In the drawing, the reference numerals are omitted, but the electrodes 12 are formed in all the separation regions 10a.

第2の透明導電膜20は、第2の透明基板21の一方の面に形成されており、Y軸方向に長く形成された短冊状の分離領域20a及び20bを複数有している。分離領域20a及び20bは、交互にX軸方向に並ぶように配列されており、各々の分離領域20a及び20bの両端、即ち、Y軸方向における両端には、電極22a及び22bが接続されている。尚、図面においては、符号が省略されているが、電極22a及び22bは、すべての分離領域20a及び20bにおいて形成されている。   The second transparent conductive film 20 is formed on one surface of the second transparent substrate 21, and has a plurality of strip-shaped separation regions 20a and 20b formed long in the Y-axis direction. The separation regions 20a and 20b are alternately arranged in the X-axis direction, and electrodes 22a and 22b are connected to both ends of each separation region 20a and 20b, that is, both ends in the Y-axis direction. . In the drawing, the reference numerals are omitted, but the electrodes 22a and 22b are formed in all the separation regions 20a and 20b.

第3の透明導電膜30は、第3の透明基板31の一方の面に、略一面に形成されており、X軸方向における両端には、電極32a及び32bが接続されている。   The third transparent conductive film 30 is formed substantially on one surface of the third transparent substrate 31, and electrodes 32a and 32b are connected to both ends in the X-axis direction.

第1の透明導電膜10、第2の透明導電膜20及び第3の透明導電膜30は、ITO(indium-tin oxide)、AZO(Al-doped zinc oxide)等の金属酸化物であって、導電性を有する透明な材料により形成されている。尚、第1の透明導電膜10、第2の透明導電膜20及び第3の透明導電膜30は、導電性を有する透明な材料であれば、金属酸化物以外の材料により形成してもよい。即ち、導電性を有するものであって光を透過させることができる材料であればよく、具体的には、導電ポリマー、金属ナノワイヤ、カーボンナノチューブ等のITO等の代替材料と呼ばれる材料により形成してもよい。   The first transparent conductive film 10, the second transparent conductive film 20, and the third transparent conductive film 30 are metal oxides such as ITO (indium-tin oxide) and AZO (Al-doped zinc oxide), It is formed of a transparent material having conductivity. The first transparent conductive film 10, the second transparent conductive film 20, and the third transparent conductive film 30 may be formed of a material other than a metal oxide as long as it is a transparent material having conductivity. . That is, any material that has conductivity and can transmit light may be used. Specifically, it is formed of a material called an alternative material such as ITO, such as a conductive polymer, metal nanowire, or carbon nanotube. Also good.

第1の透明基板11及び第2の透明基板21は、PET(Polyethylene terephthalate)等の透明な樹脂材料であって、撓みやすい材料により形成されている。第3の透明基板31は、ガラス等の透明な無機材料やプラスチック等の透明な樹脂材料により形成されている。   The 1st transparent substrate 11 and the 2nd transparent substrate 21 are transparent resin materials, such as PET (Polyethylene terephthalate), Comprising: It forms with the material which is easy to bend. The third transparent substrate 31 is formed of a transparent inorganic material such as glass or a transparent resin material such as plastic.

本実施の形態におけるタッチパネルにおいては、第1の透明基板11と第2の透明基板21とは、第1の透明基板11の一方の面、即ち、第1の透明導電膜10が形成されている面と、第2の透明基板21の他方の面とが、透明な粘着層41により接合されている。透明な粘着層41としては、エポキシ樹脂等の透明な接着剤が挙げられる。また、第2の透明基板21と第3の透明基板31とは、第2の透明基板21の一方の面と第3の透明基板31の一方の面とを対向させた状態で、枠状の両面テープ等の接着部材42により接合されている。これにより、第2の透明基板21と第3の透明基板31により空間43が形成され、この空間43を介し、第2の透明導電膜20と第3の透明導電膜30とが対向するように配置されている。   In the touch panel in the present embodiment, the first transparent substrate 11 and the second transparent substrate 21 are formed with one surface of the first transparent substrate 11, that is, the first transparent conductive film 10. The surface and the other surface of the second transparent substrate 21 are joined by a transparent adhesive layer 41. Examples of the transparent adhesive layer 41 include a transparent adhesive such as an epoxy resin. The second transparent substrate 21 and the third transparent substrate 31 are frame-shaped in a state where one surface of the second transparent substrate 21 and one surface of the third transparent substrate 31 face each other. It is joined by an adhesive member 42 such as a double-sided tape. Thus, a space 43 is formed by the second transparent substrate 21 and the third transparent substrate 31, and the second transparent conductive film 20 and the third transparent conductive film 30 are opposed to each other through the space 43. Has been placed.

(駆動方法)
次に、本実施の形態におけるタッチパネルの駆動方法について説明する。本実施の形態におけるタッチパネルは、静電容量方式による位置検出と抵抗膜方式による位置検出が時分割され交互に行なわれるものである。即ち、静電容量方式による位置検出がなされる時間には、抵抗膜方式による位置検出はなされることはなく、抵抗膜方式による位置検出がなされる時間には、静電容量方式による位置検出はなされることはなく、静電容量方式による位置検出と抵抗膜方式による位置検出とが交互に行なわれるものである。
(Driving method)
Next, a method for driving the touch panel in this embodiment will be described. The touch panel in the present embodiment is one in which position detection by the capacitance method and position detection by the resistance film method are time-divisionally performed alternately. That is, the position detection by the resistive method is not performed during the time when the position detection by the electrostatic capacitance method is performed, and the position detection by the electrostatic capacitance method is performed during the time when the position detection by the resistive film method is performed. In other words, the position detection by the electrostatic capacity method and the position detection by the resistance film method are alternately performed.

図3に基づき、本実施の形態におけるタッチパネルにおいて、静電容量方式による位置検出を行なう場合について説明する。静電容量方式による位置検出では、第1の透明導電膜10と第2の透明導電膜20とを用いて、接触点における位置検出が行なわれる。ところで、静電容量方式による位置検出においては、第1の透明導電膜10及び第2の透明導電膜20において形成されている各々の分離領域の間は、離れていることが好ましい。本実施の形態では、第1の透明導電膜10は、静電容量方式においてのみ用いられるため、第1の透明導電膜10における分離領域10a間の間隔は広く形成されている。   Based on FIG. 3, a case where position detection by a capacitive method is performed on the touch panel in the present embodiment will be described. In the position detection by the electrostatic capacity method, the position detection at the contact point is performed using the first transparent conductive film 10 and the second transparent conductive film 20. By the way, in the position detection by the capacitance method, it is preferable that the separation regions formed in the first transparent conductive film 10 and the second transparent conductive film 20 are separated from each other. In the present embodiment, since the first transparent conductive film 10 is used only in the capacitance method, the interval between the separation regions 10a in the first transparent conductive film 10 is widely formed.

また、第2の透明導電膜20は、静電容量方式のみならず、抵抗膜方式においても用いられるため、第2の透明導電膜20には、各々の分離領域20a及び20bが形成されているが、静電容量方式における位置検出を行なう場合には、分離領域20a及び20bのうちの分離領域20aのみが用いられる。従って、第2の透明導電膜20においては、分離領域20a及び20b間の間隔は狭く形成されており、第2の透明導電膜20における分離領域20a及び20b間の間隔は、第1の透明導電膜10における分離領域10a間の間隔よりも狭く形成されている。本実施の形態におけるタッチパネルにおいて、静電容量方式における位置検出を行なう場合には、分離領域20aは電極22aを介して駆動されるが、分離領域20bは電極22aを介して駆動されることなく、更には、接地されることもなく、オープン状態、即ち、フローティング状態となっている。   Further, since the second transparent conductive film 20 is used not only in the electrostatic capacity method but also in the resistive film method, the second transparent conductive film 20 is formed with respective isolation regions 20a and 20b. However, when performing position detection in the capacitive method, only the separation region 20a of the separation regions 20a and 20b is used. Therefore, in the 2nd transparent conductive film 20, the space | interval between the isolation | separation area | regions 20a and 20b is formed narrowly, and the space | interval between the isolation | separation areas 20a and 20b in the 2nd transparent conductive film 20 is 1st transparent conductive film. The film 10 is formed narrower than the interval between the separation regions 10a. In the touch panel in the present embodiment, when position detection is performed in the capacitive method, the separation region 20a is driven through the electrode 22a, but the separation region 20b is not driven through the electrode 22a. Furthermore, it is in an open state, that is, in a floating state without being grounded.

このように、本実施の形態におけるタッチパネルにおいて、静電容量方式による位置検出を行なう場合には、第1の透明導電膜10と第2の透明導電膜20における分離領域20aとが用いられる。   As described above, in the touch panel according to the present embodiment, when the position detection is performed by the electrostatic capacitance method, the first transparent conductive film 10 and the separation region 20a in the second transparent conductive film 20 are used.

次に、図4に基づき、本実施の形態におけるタッチパネルにおいて、抵抗膜方式による位置検出を行なう場合について説明する。抵抗膜方式による位置検出では、第2の透明導電膜20と第3の透明導電膜30とを用いて位置検出が行なわれる。具体的には、抵抗膜方式における4線式と同様の方法により位置検出が行なわれる。ところで、抵抗膜方式による位置検出においては、第2の透明導電膜20において形成されている各々の分離領域間は、狭く形成されていることが好ましく、可能であれば、第3の透明導電膜30のように、各々の分離領域に分割されることなく一面に形成されていることが好ましい。しかしながら、第2の透明導電膜20は、静電容量方式においても用いられることから、各々の分離領域に分離する必要がある。このため、上述したように、分離領域20a及び20b間における間隔は、できるだけ狭くなるように形成されている。   Next, based on FIG. 4, the case where position detection by the resistive film method is performed on the touch panel in the present embodiment will be described. In position detection by the resistance film method, position detection is performed using the second transparent conductive film 20 and the third transparent conductive film 30. Specifically, position detection is performed by the same method as the 4-wire type in the resistive film type. By the way, in the position detection by the resistance film method, it is preferable that the separation regions formed in the second transparent conductive film 20 are narrowly formed. If possible, the third transparent conductive film is formed. It is preferable that it is formed on one surface without being divided into each separation region as in 30. However, since the 2nd transparent conductive film 20 is used also in an electrostatic capacitance system, it is necessary to isolate | separate into each isolation | separation area | region. For this reason, as described above, the interval between the separation regions 20a and 20b is formed to be as narrow as possible.

本実施の形態におけるタッチパネルにおいて、抵抗膜方式による位置検出を行なう場合には、電極22aと電極22bに所定の電圧を印加することにより第2の透明導電膜20に電位勾配を発生させ、第3の透明導電膜30によって第2の透明導電膜20と接触した位置における電位を検出することにより、接触点のY方向における座標検出を行なう。また、電極32aと電極32bに所定の電圧を印加することにより第3の透明導電膜30に電位勾配を発生させ、第2の透明導電膜20によって第3の透明導電膜30と接触した位置における電位を検出することにより、接触点のX方向における座標検出を行なう。これにより、抵抗膜方式により接触点の位置を検出することができる。   In the touch panel in the present embodiment, in the case of performing position detection by the resistive film method, a potential gradient is generated in the second transparent conductive film 20 by applying a predetermined voltage to the electrodes 22a and 22b, so that the third By detecting the potential at the position in contact with the second transparent conductive film 20 by the transparent conductive film 30, the coordinates of the contact point in the Y direction are detected. In addition, a potential gradient is generated in the third transparent conductive film 30 by applying a predetermined voltage to the electrodes 32 a and 32 b, and the second transparent conductive film 20 is in contact with the third transparent conductive film 30. By detecting the potential, the coordinates of the contact point in the X direction are detected. Thereby, the position of the contact point can be detected by the resistive film method.

このように、本実施の形態におけるタッチパネルにおいて、抵抗膜方式による位置検出を行なう場合には、第2の透明導電膜20における分離領域20a及び20bと第3の透明導電膜30とを用いて行なわれる。   As described above, in the touch panel in the present embodiment, when the position detection by the resistance film method is performed, the separation regions 20 a and 20 b in the second transparent conductive film 20 and the third transparent conductive film 30 are used. It is.

(位置検出)
本実施の形態におけるタッチパネルにおいて、接触点の位置検出について説明する。本実施の形態におけるタッチパネルでは、図5(a)に示されるように、第1の透明導電膜10における各々の分割領域10aには、電極12を介し静電容量方式における位置検出を行なうための電流検出部13が接続されている。また、図5(b)に示されるように、第2の透明導電膜20における各々の分割領域20aには、電極22aを介し静電容量方式における位置検出を行なうための電流検出部23、抵抗膜方式による位置検出を行なうための電位検出部24、接地電位に接続するためのスイッチ25が接続されており、電源電圧Vccを印加するためのスイッチ26が電極22bを介し接続されている。また、図5(c)に示されるように、第2の透明導電膜20における各々の分割領域20bには、電極22aを介し抵抗膜方式による位置検出を行なうための電位検出部24、接地電位に接続するためのスイッチ25が接続されており、電源電圧Vccを印加するためのスイッチ26が電極22bを介し接続されている。また、図5(d)に示されるように、第3の透明導電膜30には、電極32aを介し抵抗膜方式による位置検出を行なうための電位検出部34、接地電位に接続するためのスイッチ35が接続されており、電源電圧Vccを印加するためのスイッチ36が電極32bを介し接続されている。
(Position detection)
In the touch panel in the present embodiment, detection of the position of the contact point will be described. In the touch panel according to the present embodiment, as shown in FIG. 5A, each divided region 10 a in the first transparent conductive film 10 is provided with an electrostatic capacitance type position detection via an electrode 12. A current detector 13 is connected. Further, as shown in FIG. 5B, each divided region 20a in the second transparent conductive film 20 includes a current detection unit 23 for performing position detection in the capacitive system via the electrode 22a, a resistor A potential detection unit 24 for performing position detection by a film system and a switch 25 for connection to the ground potential are connected, and a switch 26 for applying a power supply voltage Vcc is connected via an electrode 22b. Further, as shown in FIG. 5C, each divided region 20b in the second transparent conductive film 20 includes a potential detection unit 24 for performing position detection by a resistive film system via the electrode 22a, a ground potential. A switch 25 for connecting to the power supply voltage Vcc is connected, and a switch 26 for applying the power supply voltage Vcc is connected via the electrode 22b. Further, as shown in FIG. 5D, the third transparent conductive film 30 includes a potential detecting unit 34 for performing position detection by a resistive film system via an electrode 32a, and a switch for connecting to the ground potential. 35 is connected, and a switch 36 for applying the power supply voltage Vcc is connected via the electrode 32b.

本実施の形態におけるタッチパネルにおいて、図3に示されるように、静電容量方式による位置検出を行なう場合には、図6に示されるように、スイッチ25、26、35、36はすべて開いた状態(オープン状態)とする。この状態において、第1の透明導電膜10の各々の分割領域10aに接続されている電流検出部13及び、第2の透明導電膜20の各々の分割領域20aに接続されている電流検出部23により、静電容量方式による位置検出がなされる。   In the touch panel in the present embodiment, as shown in FIG. 3, when position detection is performed by a capacitance method, as shown in FIG. 6, all the switches 25, 26, 35, and 36 are opened. (Open state). In this state, the current detection unit 13 connected to each divided region 10 a of the first transparent conductive film 10 and the current detection unit 23 connected to each divided region 20 a of the second transparent conductive film 20. Thus, position detection by the electrostatic capacity method is performed.

また、本実施の形態におけるタッチパネルにおいて、図4に示されるように、抵抗膜方式による位置検出を行なう場合には、最初に、図7に示されるように、スイッチ25、26を開いた状態とし、スイッチ35、36を閉じた状態とする。この状態においては、第3の透明導電膜30において、X軸方向に電位分布が発生しており、第2の透明導電膜20の各々の分割領域20a、20bに接続されている電位検出部24により、抵抗膜方式によるX方向における位置検出がなされる。次に、図8に示されるように、スイッチ25、26を閉じた状態とし、スイッチ35、36を開いた状態とする。この状態においては、第2の透明導電膜20の各々の分割領域20a、20bにおいて、Y軸方向に電位分布が発生しており、第3の透明導電膜30に接続されている電位検出部34により、抵抗膜方式によるY方向における位置検出がなされる。   Further, in the touch panel according to the present embodiment, as shown in FIG. 4, when the position detection by the resistance film method is performed, first, as shown in FIG. 7, the switches 25 and 26 are opened. The switches 35 and 36 are closed. In this state, a potential distribution is generated in the X-axis direction in the third transparent conductive film 30, and the potential detection unit 24 connected to each of the divided regions 20 a and 20 b of the second transparent conductive film 20. Thus, the position in the X direction is detected by the resistive film method. Next, as shown in FIG. 8, the switches 25 and 26 are closed, and the switches 35 and 36 are opened. In this state, a potential distribution is generated in the Y-axis direction in each of the divided regions 20 a and 20 b of the second transparent conductive film 20, and the potential detection unit 34 connected to the third transparent conductive film 30. Thus, position detection in the Y direction by the resistive film method is performed.

(制御方法)
次に、本実施の形態におけるタッチパネルの制御方法について説明する。図9は、本実施の形態におけるタッチパネルを制御するための制御回路のブロック図である。この制御回路は、MCU(Micro Control Unit)部60、静電容量方式制御部61、静電容量方式検出部62、抵抗膜方式制御部63、抵抗膜方式選択部64、抵抗膜方式検出部65等を有している。MCU部60は、ホストI/Fを介し不図示のホストコンピュータ等に接続されており、静電容量方式制御部61、抵抗膜方式制御部63、抵抗膜方式選択部64等の制御を行なう。
(Control method)
Next, a method for controlling the touch panel in the present embodiment will be described. FIG. 9 is a block diagram of a control circuit for controlling the touch panel in the present embodiment. The control circuit includes an MCU (Micro Control Unit) unit 60, a capacitance method control unit 61, a capacitance method detection unit 62, a resistance film method control unit 63, a resistance film method selection unit 64, and a resistance film method detection unit 65. Etc. The MCU unit 60 is connected to a host computer (not shown) or the like via a host I / F, and controls the capacitance type control unit 61, the resistive film type control unit 63, the resistive film type selection unit 64, and the like.

静電容量方式検出部62は、静電容量方式における位置検出を行なうためのものであり、具体的には、第1の透明導電膜10の各々の分割領域10aに接続されている電流検出部13、第2の透明導電膜20の各々の分割領域20aに接続されている電流検出部23に相当するものである。また、静電容量方式制御部61は、静電容量方式検出部62において検出された測定値をMCU部60に伝達するための情報に変換等するものである。   The capacitance type detection unit 62 is for performing position detection in the capacitance type, and specifically, a current detection unit connected to each divided region 10 a of the first transparent conductive film 10. 13 corresponds to the current detection unit 23 connected to each divided region 20 a of the second transparent conductive film 20. In addition, the capacitance method control unit 61 converts the measurement value detected by the capacitance method detection unit 62 into information for transmitting to the MCU unit 60.

抵抗膜方式検出部65は、抵抗膜方式における位置検出を行なうためのものであり、具体的には、第2の透明導電膜20の各々の分割領域20a、20bに接続されている電位検出部24、第3の透明導電膜30に接続されている電位検出部34に相当するものである。また、抵抗膜方式制御部63は、抵抗膜方式検出部65において検出された測定値をMCU部60に伝達するための情報に変換等するものである。抵抗膜方式選択部64は、MCU部60からの選択信号に基づき、抵抗膜方式検出部65と抵抗膜方式制御部63とを接続したり遮断したりするものであり、例えば、スイッチ等である。   The resistance film type detection unit 65 is for performing position detection in the resistance film type, and specifically, a potential detection unit connected to each of the divided regions 20a and 20b of the second transparent conductive film 20. 24 corresponds to the potential detection unit 34 connected to the third transparent conductive film 30. Further, the resistance film type control unit 63 converts the measurement value detected by the resistance film type detection unit 65 into information for transmitting to the MCU unit 60. The resistance film type selection unit 64 connects or blocks the resistance film type detection unit 65 and the resistance film type control unit 63 based on a selection signal from the MCU unit 60, and is, for example, a switch or the like. .

本実施の形態では、抵抗膜方式選択部64は、図10に示されるように、リレーにより形成されている。具体的には、抵抗膜方式選択部64となるリレーは、スイッチ64aとコイル64bとを有しており、コイル64bの一方の端部にが、MCU部60からの選択信号が入力されている。尚、コイル64bの他方の端部は電源に接続されており、Vccの電位(Hレベルの電位)になっている。   In the present embodiment, the resistive film type selection unit 64 is formed of a relay as shown in FIG. Specifically, the relay serving as the resistive film type selection unit 64 includes a switch 64a and a coil 64b, and a selection signal from the MCU unit 60 is input to one end of the coil 64b. . Note that the other end of the coil 64b is connected to a power source and has a potential of Vcc (H level potential).

本実施の形態におけるタッチパネルにおいて接触位置を検出する際には、図11に示すような選択信号をMCU部60において発生させてコイル64bの一方の端部に入力させる。MCU部60からの選択信号がLレベルである場合には、コイル64bに電流が流れることにより磁界が発生し、スイッチ64aが接続されてオン状態となる。この状態においては、抵抗膜方式選択部64を介し、抵抗膜方式制御部63と抵抗膜方式検出部65とが接続され、抵抗膜方式による位置検出が行なわれる。   When the touch position is detected on the touch panel in the present embodiment, a selection signal as shown in FIG. 11 is generated in the MCU unit 60 and input to one end of the coil 64b. When the selection signal from the MCU unit 60 is at the L level, a magnetic field is generated by the current flowing through the coil 64b, and the switch 64a is connected and turned on. In this state, the resistive film type control unit 63 and the resistive film type detection unit 65 are connected via the resistive film type selection unit 64, and position detection by the resistive film type is performed.

次に、MCU部60からの選択信号がHレベルである場合には、コイル64bには電流が流れないため、発生していた磁界が消滅し、スイッチ64bが開放されオフ状態となる。この状態においては、抵抗膜方式制御部63と抵抗膜方式検出部65とが抵抗膜方式選択部64において切り離されており、抵抗膜方式検出部65に接続されている透明導電膜や透明導電膜の分離領域はオープン状態となる。この状態において静電容量方式による位置検出が行なわれる。   Next, when the selection signal from the MCU unit 60 is at the H level, since no current flows through the coil 64b, the generated magnetic field disappears, and the switch 64b is opened and turned off. In this state, the resistive film type control unit 63 and the resistive film type detection unit 65 are separated by the resistive film type selection unit 64, and the transparent conductive film and the transparent conductive film connected to the resistive film type detection unit 65 are separated. The isolation region is open. In this state, position detection is performed by a capacitance method.

尚、上記においては、抵抗膜方式選択部64にリレーを用いた場合について説明したが、図12に示すように、抵抗膜方式選択部64にトランジスタ等の半導体素子を用いてもよい。この場合、選択信号を抵抗膜方式選択部64であるトランジスタのベース(B)に入力させ、抵抗膜方式選択部64であるトランジスタのエミッタ(E)及びコレクタ(C)は、各々抵抗膜方式検出部65及び抵抗膜方式検出部65に接続する。このような半導体素子としては、トランジスタ以外にもFET(Field effect transistor)等が挙げられる。   In the above description, the case where a relay is used for the resistive film type selection unit 64 has been described. However, as shown in FIG. 12, a semiconductor element such as a transistor may be used for the resistive film type selection unit 64. In this case, the selection signal is input to the base (B) of the transistor which is the resistive film type selection unit 64, and the emitter (E) and the collector (C) of the transistor which is the resistive film type selection unit 64 are detected by the resistive film type. Connected to the unit 65 and the resistance film type detection unit 65. Examples of such a semiconductor element include an FET (Field effect transistor) and the like in addition to a transistor.

(タッチパネルの接触位置の検出方法)
次に、本実施の形態におけるタッチパネルの接触位置の検出方法について、図13に基づき説明する。
(Touch panel touch position detection method)
Next, a method for detecting the touch position of the touch panel in the present embodiment will be described with reference to FIG.

最初に、ステップ102(S102)において、静電容量方式による位置検出を行なうため、MCU部60から送信されたHレベルの選択信号を抵抗膜方式選択部64に入力する。   First, in step 102 (S102), an H-level selection signal transmitted from the MCU unit 60 is input to the resistive film type selection unit 64 in order to perform position detection by the capacitance method.

次に、ステップ104(S104)において、Hレベルの選択信号を抵抗膜方式選択部64に入力させることにより、抵抗膜方式選択部64はオフ状態となる。この際、MCU部60等における制御により、図6に示されるように、スイッチ25、26、35、36は開いた状態となっている。   Next, in step 104 (S104), by inputting an H level selection signal to the resistive film type selection unit 64, the resistive film type selection unit 64 is turned off. At this time, the switches 25, 26, 35, and 36 are in an open state as shown in FIG.

次に、ステップ106(S106)において、静電容量方式による接触位置の位置検出を開始する。この際、第1の透明導電膜10における各々の分割領域10aに接続されている電流検出部13及び、第2の透明導電膜20における各々の分割領域20aに接続されている電流検出部23が用いられる。   Next, in step 106 (S106), the position detection of the contact position by the capacitance method is started. At this time, the current detection unit 13 connected to each divided region 10a in the first transparent conductive film 10 and the current detection unit 23 connected to each divided region 20a in the second transparent conductive film 20 include Used.

次に、ステップ108(S108)において、静電容量方式において検出される接触があるか否かが判断される。具体的には、電流検出部13及び23において検出される電流量に基づき、静電容量方式において検出される接触があるか否かが判断される。静電容量方式において検出される接触があったものと判断された場合には、ステップ110に移行する。一方、静電容量方式において検出される接触がなかったものと判断された場合には、ステップ112に移行する。   Next, in step 108 (S108), it is determined whether or not there is a contact detected in the capacitance method. Specifically, based on the amount of current detected by the current detectors 13 and 23, it is determined whether or not there is a contact detected in the capacitive method. If it is determined that there is contact detected in the capacitance method, the process proceeds to step 110. On the other hand, if it is determined that there is no contact detected in the capacitance method, the process proceeds to step 112.

次に、ステップ110(S110)において、電流検出部13及び23において検出された電流量に基づき、静電容量方式による接触位置の座標位置を算出し、算出された接触位置の座標位置をホストコンピュータ等に送信する。   Next, in step 110 (S110), based on the amount of current detected by the current detectors 13 and 23, the coordinate position of the contact position by the capacitance method is calculated, and the calculated coordinate position of the contact position is calculated by the host computer. Send to etc.

次に、ステップ112(S112)において、抵抗膜方式による位置検出を行なうため、MCU部60から送信されたLレベルの選択信号を抵抗膜方式選択部64に入力する。   Next, in step 112 (S112), the L level selection signal transmitted from the MCU unit 60 is input to the resistance film type selection unit 64 in order to perform position detection by the resistance film type.

次に、ステップ114(S114)において、Lレベルの選択信号が抵抗膜方式選択部64に入力させることにより、抵抗膜方式選択部64はオン状態となる。この際、MCU部60等における制御により、例えば、図7に示すように、スイッチ25、26は開いた状態とし、スイッチ35、36は閉じた状態とすることにより、X軸方向に電位勾配を発生させる。   Next, in step 114 (S114), an L level selection signal is input to the resistive film type selection unit 64, whereby the resistive film type selection unit 64 is turned on. At this time, for example, as shown in FIG. 7, the switches 25 and 26 are opened and the switches 35 and 36 are closed as shown in FIG. generate.

次に、ステップ116(S116)において、抵抗膜方式による接触位置の位置検出を開始する。この際、第2の透明導電膜20における各々の分割領域20a及び20bに接続されている電位検出部24が用いられる。   Next, in step 116 (S116), the position detection of the contact position by the resistive film method is started. At this time, the potential detection unit 24 connected to each of the divided regions 20a and 20b in the second transparent conductive film 20 is used.

次に、ステップ118(S118)において、抵抗膜方式において検出される接触があるか否かが判断される。具体的には、電位検出部24において検出される電位に基づき、抵抗膜方式において検出される接触があるか否かが判断される。抵抗膜方式において検出される接触があったものと判断された場合には、ステップ120に移行する。一方、抵抗膜方式において検出される接触がなかったものと判断された場合には、ステップ102に移行する。   Next, in step 118 (S118), it is determined whether or not there is a contact detected in the resistive film method. Specifically, based on the potential detected by the potential detection unit 24, it is determined whether or not there is contact detected in the resistive film method. If it is determined that there is contact detected in the resistive film method, the process proceeds to step 120. On the other hand, when it is determined that there is no contact detected in the resistive film method, the process proceeds to step 102.

次に、ステップ120(S120)において、電位検出部24により検出された電位に基づき抵抗膜方式により接触位置のX座標の座標位置を算出する。この後、MCU部60等における制御により、例えば、図8に示すように、スイッチ25、26を閉じた状態とし、スイッチ35、36を開いた状態とすることにより、Y軸方向に電位勾配を発生させ、第3の透明導電膜30に接続されている電位検出部34により電位を検出し、検出された電位に基づき抵抗膜方式により接触位置のY座標の座標位置を算出する。このようにして抵抗膜方式による接触位置の座標位置を算出し、算出された接触位置の座標位置はホストコンピュータ等に送信される。   Next, in step 120 (S120), the coordinate position of the X coordinate of the contact position is calculated by the resistive film method based on the potential detected by the potential detection unit 24. Thereafter, by controlling the MCU unit 60 or the like, for example, as shown in FIG. 8, the switches 25 and 26 are closed and the switches 35 and 36 are opened, so that a potential gradient is generated in the Y-axis direction. The potential is detected by the potential detector 34 connected to the third transparent conductive film 30, and the coordinate position of the Y coordinate of the contact position is calculated by the resistance film method based on the detected potential. In this way, the coordinate position of the contact position by the resistive film method is calculated, and the calculated coordinate position of the contact position is transmitted to a host computer or the like.

尚、本実施の形態においては、静電容量方式による接触点の位置検出を行なう工程を第1の検出工程と、抵抗膜方式による接触点の位置検出を行なう工程を第2の検出工程と記載する場合がある。   In the present embodiment, the step of detecting the position of the contact point by the capacitance method is described as a first detection step, and the step of detecting the position of the contact point by the resistance film method is described as a second detection step. There is a case.

以上により、本実施の形態におけるタッチパネルにおいて、位置検出を行なうことができる。このタッチパネルの位置検出方法によれば、如何なる接触物においても位置検出を行なうことができ、また、触れるだけでも位置検出を行なうことができるタッチパネルにおいて、簡単な工程により位置検出を行なうことができる。   As described above, position detection can be performed on the touch panel in the present embodiment. According to this position detection method for a touch panel, position detection can be performed for any contact object, and position detection can be performed by a simple process on a touch panel that can perform position detection simply by touching.

〔第2の実施の形態〕
次に、第2の実施の形態におけるタッチパネルについて説明する。図14及び図15に示されるように、本実施の形態におけるタッチパネルは、第1の透明導電膜110及び第2の透明導電膜120を有している。本実施の形態においては、第1の透明導電膜110と第2の透明導電膜120を用いて静電容量方式により接触点(接触位置)における位置検出を行なうことができ、また、抵抗膜方式により接触点(接触位置)における位置検出を行なうことができる。尚、本実施の形態においては、第1の導電膜は第1の透明導電膜110であり、第2の導電膜は第2の透明導電膜120であるものとする。
[Second Embodiment]
Next, a touch panel in the second embodiment will be described. As shown in FIGS. 14 and 15, the touch panel in the present embodiment includes a first transparent conductive film 110 and a second transparent conductive film 120. In the present embodiment, position detection at the contact point (contact position) can be performed by the electrostatic capacitance method using the first transparent conductive film 110 and the second transparent conductive film 120, and the resistance film method. Thus, position detection at the contact point (contact position) can be performed. In the present embodiment, the first conductive film is the first transparent conductive film 110, and the second conductive film is the second transparent conductive film 120.

第1の透明導電膜110は、第1の透明基板111の一方の面に形成されており、X軸方向に長く形成された短冊状の分離領域110a及び110bを複数有している。分離領域110a及び110bは交互にY軸方向に並ぶように配列されており、各々の分離領域110a及び110bの両端、即ち、X軸方向における両端には、電極112a及び112bが接続されている。尚、図面においては、符号が省略されているが、電極112a及び112bは、すべての分離領域110a及び110bにおいて形成されている。   The first transparent conductive film 110 is formed on one surface of the first transparent substrate 111, and has a plurality of strip-shaped separation regions 110a and 110b formed long in the X-axis direction. The separation regions 110a and 110b are alternately arranged in the Y-axis direction, and electrodes 112a and 112b are connected to both ends of each separation region 110a and 110b, that is, both ends in the X-axis direction. In the drawing, the reference numerals are omitted, but the electrodes 112a and 112b are formed in all the separation regions 110a and 110b.

第2の透明導電膜120は、第2の透明基板121の一方の面に形成されており、Y軸方向に長く形成された短冊状の分離領域120a及び120bを複数有している。分離領域120a及び120bは交互にX軸方向に並ぶように配列されており、各々の分離領域120a及び120bの両端、即ち、Y軸方向における両端には、電極122a及び122bが接続されている。尚、図面においては、符号が省略されているが、電極22a及び22bは、すべての分離領域20a及び20bにおいて形成されている。   The second transparent conductive film 120 is formed on one surface of the second transparent substrate 121, and has a plurality of strip-shaped separation regions 120a and 120b formed long in the Y-axis direction. The separation regions 120a and 120b are alternately arranged in the X-axis direction, and electrodes 122a and 122b are connected to both ends of each separation region 120a and 120b, that is, both ends in the Y-axis direction. In the drawing, the reference numerals are omitted, but the electrodes 22a and 22b are formed in all the separation regions 20a and 20b.

第1の透明導電膜110及び第2の透明導電膜120は、ITO、AZO等の金属酸化物であって、導電性を有する透明な材料により形成されている。尚、第1の透明導電膜110及び第2の透明導電膜120は、導電性を有する透明な材料であれば、金属酸化物以外の材料により形成してもよい。即ち、導電性を有するものであって光を透過させることができる材料であればよく、具体的には、導電ポリマー、金属ナノワイヤ、カーボンナノチューブ等のITO等の代替材料と呼ばれる材料により形成してもよい。   The 1st transparent conductive film 110 and the 2nd transparent conductive film 120 are metal oxides, such as ITO and AZO, and are formed with the transparent material which has electroconductivity. In addition, as long as the 1st transparent conductive film 110 and the 2nd transparent conductive film 120 are transparent materials which have electroconductivity, you may form with materials other than a metal oxide. That is, any material that has conductivity and can transmit light may be used. Specifically, it is formed of a material called an alternative material such as ITO, such as a conductive polymer, metal nanowire, or carbon nanotube. Also good.

第1の透明基板111は、PET等の透明な樹脂材料であって、撓みやすい材料により形成されている。また、第2の透明基板121は、ガラス等の透明な無機材料やプラスチック等の透明な樹脂材料により形成されている。   The first transparent substrate 111 is a transparent resin material such as PET, and is formed of a material that is easily bent. The second transparent substrate 121 is made of a transparent inorganic material such as glass or a transparent resin material such as plastic.

本実施の形態におけるタッチパネルでは、第1の透明基板111と第2の透明基板121とは、第1の透明基板111の一方の面と第2の透明基板121の一方の面とを対向させた状態で、枠状の両面テープ等の接着部材142により接合されている。これにより、第1の透明基板111と第2の透明基板121により空間143が形成され、この空間143を介し、第1の透明導電膜110と第2の透明導電膜120とが対向するように配置されている。   In the touch panel in the present embodiment, the first transparent substrate 111 and the second transparent substrate 121 have one surface of the first transparent substrate 111 and one surface of the second transparent substrate 121 opposed to each other. In the state, they are joined by an adhesive member 142 such as a frame-like double-sided tape. As a result, a space 143 is formed by the first transparent substrate 111 and the second transparent substrate 121, and the first transparent conductive film 110 and the second transparent conductive film 120 are opposed to each other through the space 143. Is arranged.

(駆動方法)
次に、本実施の形態におけるタッチパネルの駆動方法について説明する。本実施の形態におけるタッチパネルは、静電容量方式による位置検出と抵抗膜方式による位置検出が時分割され交互に行なわれるものである。即ち、静電容量方式による位置検出がなされる時には、抵抗膜方式による位置検出はなされることはなく、抵抗膜方式による位置検出がなされる時には、静電容量方式による位置検出はなされることはない。
(Driving method)
Next, a method for driving the touch panel in this embodiment will be described. The touch panel in the present embodiment is one in which position detection by the capacitance method and position detection by the resistance film method are time-divisionally performed alternately. That is, when the position detection by the capacitance method is performed, the position detection by the resistance film method is not performed, and when the position detection by the resistance film method is performed, the position detection by the capacitance method is not performed.

図16に基づき、本実施の形態におけるタッチパネルにおいて、静電容量方式による位置検出を行なう場合について説明する。静電容量方式による位置検出では、第1の透明導電膜110と第2の透明導電膜120とを用いて、接触点における位置検出が行なわれる。ところで、静電容量方式による位置検出においては、第1の透明導電膜110及び第2の透明導電膜120における各々の分離領域の間は、離れて形成されていることが好ましい。本実施の形態においては、第1の透明導電膜110及び第2の透明導電膜120は、静電容量方式のみならず、抵抗膜方式においても用いられる。従って、第1の透明導電膜110において分離領域110a及び110bが形成されており、第2の透明導電膜120において分離領域120a及び120bが形成されているが、静電容量方式における位置検出を行なう場合には、分離領域110a及び110bのうち分離領域110aのみが用いられ、分離領域120a及び120bのうち分離領域120aのみが用いられる。即ち、本実施の形態におけるタッチパネルにおいて、静電容量方式における位置検出の場合には、分離領域110aは電極112aを介して駆動されるが、分離領域110bは電極112bを介して駆動されることなく、更には、接地されることもなく、オープン状態、即ち、フローティング状態となっている。同様に、分離領域120aは電極122bを介して駆動されるが、分離領域120bは電極122bを介して駆動されることなく、更には、接地されることもなく、オープン状態、即ち、フローティング状態となっている。   Based on FIG. 16, a case where position detection by a capacitive method is performed on the touch panel in the present embodiment will be described. In the position detection by the capacitance method, the position detection at the contact point is performed using the first transparent conductive film 110 and the second transparent conductive film 120. By the way, in the position detection by the electrostatic capacity method, it is preferable that the separation regions in the first transparent conductive film 110 and the second transparent conductive film 120 are formed apart from each other. In the present embodiment, the first transparent conductive film 110 and the second transparent conductive film 120 are used not only in the capacitive method but also in the resistive film method. Accordingly, the separation regions 110a and 110b are formed in the first transparent conductive film 110, and the separation regions 120a and 120b are formed in the second transparent conductive film 120. In this case, only the separation region 110a is used among the separation regions 110a and 110b, and only the separation region 120a is used among the separation regions 120a and 120b. That is, in the touch panel in this embodiment, in the case of position detection in the capacitive method, the separation region 110a is driven through the electrode 112a, but the separation region 110b is not driven through the electrode 112b. Furthermore, it is in an open state, that is, in a floating state without being grounded. Similarly, the isolation region 120a is driven through the electrode 122b, but the isolation region 120b is not driven through the electrode 122b, and is not grounded. It has become.

このように、本実施の形態におけるタッチパネルにおいて、静電容量方式による位置検出を行なう場合には、第1の透明導電膜110における分離領域110aと第2の透明導電膜120における分離領域120aとが用いられる。   As described above, in the touch panel according to the present embodiment, when position detection is performed by the capacitance method, the separation region 110a in the first transparent conductive film 110 and the separation region 120a in the second transparent conductive film 120 are separated. Used.

次に、図17に基づき、本実施の形態におけるタッチパネルにおいて、抵抗膜方式による位置検出を行なう場合について説明する。抵抗膜方式による位置検出では、第1の透明導電膜110と第2の透明導電膜120とを用いて位置検出が行なわれる。具体的には、抵抗膜方式における4線式と同様の方法により位置検出が行なわれる。ところで、抵抗膜方式による位置検出においては、第1の透明導電膜110及び第2の透明導電膜120において形成されている各々の分離領域間は、狭く形成されていることが好ましく、可能であれば各々の分離領域に分割されることなく一面に形成されていることが好ましい。しかしながら、第1の透明導電膜110及び第2の透明導電膜120は、静電容量方式においても用いられることから、各々の分離領域に分離する必要がある。このため、上述したように、分離領域110a及び110b間における間隔、分離領域120a及び120b間における間隔は、できるだけ狭くなるように形成されている。   Next, based on FIG. 17, the case where position detection by the resistive film method is performed on the touch panel in the present embodiment will be described. In position detection by the resistance film method, position detection is performed using the first transparent conductive film 110 and the second transparent conductive film 120. Specifically, position detection is performed by the same method as the 4-wire type in the resistive film type. By the way, in the position detection by the resistance film method, it is preferable and possible that the separation regions formed in the first transparent conductive film 110 and the second transparent conductive film 120 are narrowly formed. For example, it is preferable that the surface is formed on one surface without being divided into each separation region. However, since the first transparent conductive film 110 and the second transparent conductive film 120 are also used in the electrostatic capacity method, it is necessary to separate them into respective separation regions. For this reason, as described above, the interval between the separation regions 110a and 110b and the interval between the separation regions 120a and 120b are formed to be as narrow as possible.

本実施の形態におけるタッチパネルにおいて、抵抗膜方式による位置検出を行なう場合には、電極112aと電極112bに所定の電圧を印加することにより第1の透明導電膜110に電位勾配を発生させ、第2の透明導電膜120によって第1の透明導電膜110と接触した位置における電位を検出することにより、接触点のX方向における座標検出を行なう。また、電極122aと電極122bに所定の電圧を印加することにより第2の透明導電膜120に電位勾配を発生させ、第1の透明導電膜110によって第2の透明導電膜120と接触した位置における電位を検出することにより、接触点のY方向における座標検出を行なう。これにより、抵抗膜方式による接触点の位置を検出することができる。   In the touch panel in this embodiment, in the case of performing position detection by the resistance film method, a potential gradient is generated in the first transparent conductive film 110 by applying a predetermined voltage to the electrodes 112a and 112b, so that the second By detecting the potential at the position in contact with the first transparent conductive film 110 by the transparent conductive film 120, the coordinates of the contact point in the X direction are detected. Further, a potential gradient is generated in the second transparent conductive film 120 by applying a predetermined voltage to the electrodes 122a and 122b, and the first transparent conductive film 110 is in contact with the second transparent conductive film 120. By detecting the potential, the coordinates of the contact point in the Y direction are detected. Thereby, the position of the contact point by a resistive film system is detectable.

このように、本実施の形態におけるタッチパネルにおいて、抵抗膜方式による位置検出を行なう場合には、第1の透明導電膜110における分離領域110a及び110bと第2の透明導電膜120における分離領域120a及び120bとが用いられる。   As described above, in the touch panel according to the present embodiment, when the position detection by the resistance film method is performed, the separation regions 110a and 110b in the first transparent conductive film 110 and the separation regions 120a and 110b in the second transparent conductive film 120 120b is used.

(位置検出)
本実施の形態におけるタッチパネルにおいて、接触点の位置検出について説明する。本実施の形態におけるタッチパネルでは、図18(a)に示されるように、第1の透明導電膜110における各々の分割領域110aには、電極112aを介し静電容量方式における位置検出を行なうための電流検出部113、抵抗膜方式による位置検出を行なうための電位検出部114、接地電位に接続するためのスイッチ115が接続されており、電源電圧Vccを印加するためのスイッチ116が電極112bを介し接続されている。また、図18(b)に示されるように、第1の透明導電膜110における各々の分割領域110bには、電極112aを介し抵抗膜方式による位置検出を行なうための電位検出部114、接地電位に接続するためのスイッチ115が接続されており、電源電圧Vccを印加するためのスイッチ116が電極112bを介し接続されている。また、図18(c)に示されるように、第2の透明導電膜120における各々の分割領域120aには、電極122aを介し静電容量方式における位置検出を行なうための電流検出部123、抵抗膜方式による位置検出を行なうための電位検出部124、接地電位に接続するためのスイッチ125が接続されており、電源電圧Vccを印加するためのスイッチ126が電極122bを介し接続されている。また、図18(d)に示されるように、第2の透明導電膜120における各々の分割領域120bには、電極122aを介し抵抗膜方式による位置検出を行なうための電位検出部124、接地電位に接続するためのスイッチ125が接続されており、電源電圧Vccを印加するためのスイッチ126が電極122bを介し接続されている。
(Position detection)
In the touch panel in the present embodiment, detection of the position of the contact point will be described. In the touch panel according to the present embodiment, as shown in FIG. 18A, each divided region 110a in the first transparent conductive film 110 is subjected to capacitance type position detection via an electrode 112a. A current detection unit 113, a potential detection unit 114 for performing position detection by a resistive film method, and a switch 115 for connection to the ground potential are connected, and a switch 116 for applying the power supply voltage Vcc is connected via the electrode 112b. It is connected. Further, as shown in FIG. 18B, each divided region 110b in the first transparent conductive film 110 has a potential detection unit 114 for performing position detection by a resistive film method via an electrode 112a, a ground potential. A switch 115 for connecting to the power supply voltage Vcc is connected, and a switch 116 for applying the power supply voltage Vcc is connected via the electrode 112b. Further, as shown in FIG. 18C, each divided region 120a in the second transparent conductive film 120 includes a current detection unit 123 for performing position detection in the capacitive system via the electrode 122a, a resistor A potential detection unit 124 for detecting the position by the film system and a switch 125 for connecting to the ground potential are connected, and a switch 126 for applying the power supply voltage Vcc is connected via the electrode 122b. Further, as shown in FIG. 18D, each divided region 120b in the second transparent conductive film 120 includes a potential detection unit 124 for performing position detection by a resistive film method via the electrode 122a, a ground potential. A switch 125 for connecting to the power supply voltage Vcc is connected, and a switch 126 for applying the power supply voltage Vcc is connected via the electrode 122b.

本実施の形態におけるタッチパネルにおいて、図16に示されるように、静電容量方式による位置検出を行なう場合には、図19に示されるように、スイッチ115、116、125、126はすべて開いた状態(オープン状態)とする。この状態において、第1の透明導電膜110の各々の分割領域110aに接続されている電流検出部113及び、第2の透明導電膜120の各々の分割領域120aに接続されている電流検出部123により、静電容量方式による位置検出がなされる。   In the touch panel in the present embodiment, as shown in FIG. 16, when position detection is performed by a capacitance method, as shown in FIG. 19, the switches 115, 116, 125, and 126 are all open. (Open state). In this state, the current detection unit 113 connected to each divided region 110a of the first transparent conductive film 110 and the current detection unit 123 connected to each divided region 120a of the second transparent conductive film 120. Thus, position detection by the electrostatic capacity method is performed.

また、本実施の形態におけるタッチパネルにおいて、図17に示されるように、抵抗膜方式による位置検出を行なう場合には、最初に、図20に示されるように、スイッチ115、116を開いた状態とし、スイッチ125、126を閉じた状態とする。この状態においては、第2の透明導電膜30において、Y軸方向に電位分布が発生しており、第1の透明導電膜110の各々の分割領域110a、110bに接続されている電位検出部114により、抵抗膜方式によるY方向における位置検出がなされる。次に、図21に示されるように、スイッチ115、116を閉じた状態とし、スイッチ125、126を開いた状態とする。この状態においては、第1の透明導電膜110の各々の分割領域110a、110bにおいて、X軸方向に電位分布が発生しており、第2の透明導電膜120の各々の分割領域120a、120bに接続されている電位検出部124により、抵抗膜方式によるX方向における位置検出がなされる。   Further, in the touch panel in the present embodiment, as shown in FIG. 17, when position detection by the resistive film method is performed, first, the switches 115 and 116 are opened as shown in FIG. The switches 125 and 126 are closed. In this state, a potential distribution is generated in the Y-axis direction in the second transparent conductive film 30, and the potential detection unit 114 connected to each of the divided regions 110 a and 110 b of the first transparent conductive film 110. Thus, position detection in the Y direction by the resistive film method is performed. Next, as shown in FIG. 21, the switches 115 and 116 are closed, and the switches 125 and 126 are opened. In this state, a potential distribution is generated in the X-axis direction in each divided region 110a, 110b of the first transparent conductive film 110, and in each divided region 120a, 120b of the second transparent conductive film 120. The connected potential detector 124 detects the position in the X direction by a resistive film method.

尚、本実施の形態におけるタッチパネルの制御方法は、第1の実施の形態におけるタッチパネルの制御方法と同様であり、図9に示されるものと同様の制御回路が用いられる。本実施の形態においては、静電容量方式検出部62は、第1の透明導電膜110の各々の分割領域110aに接続されている電流検出部113、第2の透明導電膜120の各々の分割領域120aに接続されている電流検出部123に相当するものである。また、抵抗膜方式検出部65は、具体的には、第1の透明導電膜110の各々の分割領域110a、110bに接続されている電位検出部114、第2の透明導電膜120の各々の分割領域120a、120bに接続されている電位検出部124に相当するものである。   The touch panel control method in this embodiment is the same as the touch panel control method in the first embodiment, and the same control circuit as that shown in FIG. 9 is used. In the present embodiment, the capacitance type detection unit 62 includes each of the current detection unit 113 and the second transparent conductive film 120 that are connected to the respective divided regions 110a of the first transparent conductive film 110. This corresponds to the current detection unit 123 connected to the region 120a. Further, the resistance film type detection unit 65 specifically includes the potential detection unit 114 and the second transparent conductive film 120 connected to the divided regions 110a and 110b of the first transparent conductive film 110, respectively. This corresponds to the potential detection unit 124 connected to the divided regions 120a and 120b.

(タッチパネルの接触位置の検出方法)
次に、本実施の形態におけるタッチパネルの接触位置の検出方法について、図13に基づき説明する。
(Touch panel touch position detection method)
Next, a method for detecting the touch position of the touch panel in the present embodiment will be described with reference to FIG.

最初に、ステップ102(S102)において、静電容量方式による位置検出を行なうため、MCU部60から送信されたHレベルの選択信号を抵抗膜方式選択部64に入力する。   First, in step 102 (S102), an H-level selection signal transmitted from the MCU unit 60 is input to the resistive film type selection unit 64 in order to perform position detection by the capacitance method.

次に、ステップ104(S104)において、Hレベルの選択信号を抵抗膜方式選択部64に入力させることにより、抵抗膜方式選択部64はオフ状態となる。この際、MCU部60等における制御により、図19に示されるように、スイッチ115、116、125、126は開いた状態となっている。   Next, in step 104 (S104), by inputting an H level selection signal to the resistive film type selection unit 64, the resistive film type selection unit 64 is turned off. At this time, as shown in FIG. 19, the switches 115, 116, 125, and 126 are opened by the control of the MCU unit 60 and the like.

次に、ステップ106(S106)において、静電容量方式による接触位置の位置検出を開始する。この際、第1の透明導電膜110における各々の分割領域110aに接続されている電流検出部113及び、第2の透明導電膜120における各々の分割領域120aに接続されている電流検出部123が用いられる。   Next, in step 106 (S106), the position detection of the contact position by the capacitance method is started. At this time, the current detection unit 113 connected to each divided region 110a in the first transparent conductive film 110 and the current detection unit 123 connected to each divided region 120a in the second transparent conductive film 120 include Used.

次に、ステップ108(S108)において、静電容量方式において検出される接触があるか否かが判断される。具体的には、電流検出部113及び123において検出される電流量に基づき、静電容量方式において検出される接触があるか否かが判断される。静電容量方式において検出される接触があったものと判断された場合には、ステップ110に移行する。一方、静電容量方式において検出される接触がなかったものと判断された場合には、ステップ112に移行する。   Next, in step 108 (S108), it is determined whether or not there is a contact detected in the capacitance method. Specifically, based on the amount of current detected by the current detection units 113 and 123, it is determined whether or not there is a contact detected in the capacitive method. If it is determined that there is contact detected in the capacitance method, the process proceeds to step 110. On the other hand, if it is determined that there is no contact detected in the capacitance method, the process proceeds to step 112.

次に、ステップ110(S110)において、電流検出部113及び123において検出された電流量に基づき、静電容量方式による接触位置の座標位置が算出され、算出された接触位置の位置座標はホストコンピュータ等に送信される。   Next, in step 110 (S110), the coordinate position of the contact position by the capacitance method is calculated based on the amount of current detected by the current detectors 113 and 123, and the calculated position coordinate of the contact position is the host computer. Etc.

次に、ステップ112(S112)において、抵抗膜方式による位置検出を行なうため、MCU部60から送信されたLレベルの選択信号を抵抗膜方式選択部64に入力する。   Next, in step 112 (S112), the L level selection signal transmitted from the MCU unit 60 is input to the resistance film type selection unit 64 in order to perform position detection by the resistance film type.

次に、ステップ114(S114)において、Lレベルの選択信号が抵抗膜方式選択部64に入力させることにより、抵抗膜方式選択部64はオン状態となる。この際、MCU部60等における制御により、例えば、図20に示すように、スイッチ115、116は開いた状態とし、スイッチ125、126は閉じた状態とすることにより、Y軸方向に電位勾配を発生させる。   Next, in step 114 (S114), an L level selection signal is input to the resistive film type selection unit 64, whereby the resistive film type selection unit 64 is turned on. At this time, for example, as shown in FIG. 20, the switches 115 and 116 are opened and the switches 125 and 126 are closed as shown in FIG. generate.

次に、ステップ116(S116)において、抵抗膜方式による接触位置の位置検出を開始する。この際、第1の透明導電膜110における各々の分割領域110a及び110bに接続されている電位検出部114が用いられる。   Next, in step 116 (S116), the position detection of the contact position by the resistive film method is started. At this time, the potential detection unit 114 connected to each of the divided regions 110a and 110b in the first transparent conductive film 110 is used.

次に、ステップ118(S118)において、抵抗膜方式において検出される接触があるか否かが判断される。具体的には、電位検出部114において検出される電位に基づき、抵抗膜方式において検出される接触があるか否かが判断される。抵抗膜方式において検出される接触があったものと判断された場合には、ステップ120に移行する。一方、抵抗膜方式において検出される接触がなかったものと判断された場合には、ステップ102に移行する。   Next, in step 118 (S118), it is determined whether or not there is a contact detected in the resistive film method. Specifically, based on the potential detected by the potential detection unit 114, it is determined whether or not there is contact detected in the resistive film method. If it is determined that there is contact detected in the resistive film method, the process proceeds to step 120. On the other hand, when it is determined that there is no contact detected in the resistive film method, the process proceeds to step 102.

次に、ステップ120(S120)において、電位検出部114により検出された電位に基づき抵抗膜方式により接触位置のY座標の座標位置を算出する。この後、MCU部60等における制御により、例えば、図21に示すように、スイッチ115、116を閉じた状態とし、スイッチ125、126を開いた状態とすることにより、X軸方向に電位勾配を発生させ、第2の透明導電膜120における各々の分割領域120a及び120bに接続されている電位検出部124により電位を検出し、検出された電位に基づき抵抗膜方式により接触位置のX座標の座標位置を算出する。このようにして抵抗膜方式による接触位置の座標位置を算出し、算出された接触位置の座標位置はホストコンピュータ等に送信される。   Next, in step 120 (S120), the coordinate position of the Y coordinate of the contact position is calculated by the resistive film method based on the potential detected by the potential detection unit 114. Thereafter, by controlling the MCU unit 60 or the like, for example, as shown in FIG. 21, the switches 115 and 116 are closed and the switches 125 and 126 are opened, so that a potential gradient is generated in the X-axis direction. The potential is detected by the potential detector 124 connected to each of the divided regions 120a and 120b in the second transparent conductive film 120, and the coordinate of the X coordinate of the contact position by the resistive film method based on the detected potential Calculate the position. In this way, the coordinate position of the contact position by the resistive film method is calculated, and the calculated coordinate position of the contact position is transmitted to a host computer or the like.

尚、本実施の形態においては、静電容量方式による接触点の位置検出を行なう工程を第1の検出工程と、抵抗膜方式による接触点の位置検出を行なう工程を第2の検出工程と記載する場合がある。   In the present embodiment, the step of detecting the position of the contact point by the capacitance method is described as a first detection step, and the step of detecting the position of the contact point by the resistance film method is described as a second detection step. There is a case.

以上により、本実施の形態におけるタッチパネルにおいて、位置検出を行なうことができる。このタッチパネルの位置検出方法によれば、如何なる接触物においても位置検出を行なうことができ、また、触れるだけでも位置検出を行なうことができるタッチパネルにおいて、簡単な工程により位置検出を行なうことができる。   As described above, position detection can be performed on the touch panel in the present embodiment. According to this position detection method for a touch panel, position detection can be performed for any contact object, and position detection can be performed by a simple process on a touch panel that can perform position detection simply by touching.

尚、上記以外の内容については、第1の実施の形態と同様である。   The contents other than the above are the same as in the first embodiment.

以上、本発明の実施に係る形態について説明したが、上記内容は、発明の内容を限定するものではない。   As mentioned above, although the form which concerns on implementation of this invention was demonstrated, the said content does not limit the content of invention.

10 第1の透明導電膜
10a 分離された領域
11 第1の透明基板
12 電極
13 電流検出部
20 第2の透明導電膜
20a 分離された領域
20b 分離された領域
21 第2の透明基板
22a 電極
22b 電極
23 電流検出部
24 電位検出部
30 第3の透明導電膜
31 第3の透明基板
32a 電極
32b 電極
34 電位検出部
41 粘着層
42 接着部材
43 空間
60 MCU部
61 静電容量方式制御部
62 静電容量方式検出部
63 抵抗膜方式制御部
64 抵抗膜方式選択部
65 抵抗膜方式検出部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 1st transparent conductive film 10a Isolated area | region 11 1st transparent substrate 12 Electrode 13 Current detection part 20 2nd transparent conductive film 20a Isolated area 20b Isolated area 21 2nd transparent substrate 22a Electrode 22b Electrode 23 Current detection unit 24 Potential detection unit 30 Third transparent conductive film 31 Third transparent substrate 32a Electrode 32b Electrode 34 Potential detection unit 41 Adhesive layer 42 Adhesive member 43 Space 60 MCU unit 61 Capacitance control unit 62 Static Capacitance type detection unit 63 Resistance film type control unit 64 Resistance film type selection unit 65 Resistance film type detection unit

Claims (11)

一方の方向に長く短冊状に形成された分離領域を複数有する第1の導電膜と、
前記一方の方向と略直交する他方の方向に長く短冊状に形成された分離領域を複数有する第2の導電膜と、
第3の導電膜と、
を有し、
前記第1の導電膜における分離領域は、前記他方の方向に配列されており、前記第2の導電膜における分離領域は、前記一方の方向に配列されているものであって、
前記第1の導電膜における各々の分割領域には、電流検出部が接続されており、
前記第2の導電膜における分割領域の一部には、電流検出部が接続されており、
前記第2の導電膜における各々の分割領域には、電位検出部が接続されており、
前記第3の導電膜には、電位検出部が接続されていることを特徴とするタッチパネル。
A first conductive film having a plurality of separation regions formed in a strip shape long in one direction;
A second conductive film having a plurality of separation regions formed in a long strip shape in the other direction substantially orthogonal to the one direction;
A third conductive film;
Have
The isolation regions in the first conductive film are arranged in the other direction, and the isolation regions in the second conductive film are arranged in the one direction,
A current detection unit is connected to each divided region in the first conductive film,
A current detection unit is connected to a part of the divided region in the second conductive film,
A potential detection unit is connected to each divided region in the second conductive film,
A touch panel, wherein a potential detector is connected to the third conductive film.
前記第2の導電膜における各々の分割領域には、前記第2の導電膜における各々の分割領域において前記他方の方向に電位勾配を生じさせるためのスイッチが接続されており、
前記第3の導電膜には、前記第3の導電膜において前記一方の方向に電位勾配を生じさせるためのスイッチが接続されていることを特徴とする請求項1に記載のタッチパネル。
A switch for generating a potential gradient in the other direction in each divided region in the second conductive film is connected to each divided region in the second conductive film,
The touch panel according to claim 1, wherein a switch for generating a potential gradient in the one direction in the third conductive film is connected to the third conductive film.
前記第1の導電膜と前記第2の導電膜における分割領域の一部により、静電容量方式による接触位置の位置検出を行ない、
前記第2の導電膜と前記第3の導電膜により、抵抗膜方式による接触位置の位置検出を行なうものであることを特徴とする請求項1又は2に記載のタッチパネル。
The position detection of the contact position by the electrostatic capacitance method is performed by a part of the divided region in the first conductive film and the second conductive film,
The touch panel according to claim 1 or 2, wherein a position of a contact position is detected by a resistance film method using the second conductive film and the third conductive film.
一方の方向に長く短冊状に形成された分離領域を複数有する第1の導電膜と、
前記一方の方向と略直交する他方の方向に長く短冊状に形成された分離領域を複数有する第2の導電膜と、
を有し、
前記第1の導電膜における分離領域は、前記他方の方向に配列されており、前記第2の導電膜における分離領域は、前記一方の方向に配列されているものであって、
前記第1の導電膜における分割領域の一部には、電流検出部が接続されており、
前記第1の導電膜における各々の分割領域には、電位検出部が接続されており、
前記第2の導電膜における分割領域の一部には、電流検出部が接続されており、
前記第2の導電膜における各々の分割領域には、電位検出部が接続されていることを特徴とするタッチパネル。
A first conductive film having a plurality of separation regions formed in a strip shape long in one direction;
A second conductive film having a plurality of separation regions formed in a long strip shape in the other direction substantially orthogonal to the one direction;
Have
The isolation regions in the first conductive film are arranged in the other direction, and the isolation regions in the second conductive film are arranged in the one direction,
A current detection unit is connected to a part of the divided region in the first conductive film,
A potential detection unit is connected to each divided region of the first conductive film,
A current detection unit is connected to a part of the divided region in the second conductive film,
A touch panel, wherein a potential detection unit is connected to each divided region of the second conductive film.
前記第1の導電膜における各々の分割領域には、前記第1の導電膜における各々の分割領域において前記一方の方向に電位勾配を生じさせるためのスイッチが接続されており、
前記第2の導電膜における各々の分割領域には、前記第2の導電膜における各々の分割領域において前記他方の方向に電位勾配を生じさせるためのスイッチが接続されていることを特徴とする請求項4に記載のタッチパネル。
A switch for generating a potential gradient in the one direction in each divided region in the first conductive film is connected to each divided region in the first conductive film,
A switch for generating a potential gradient in the other direction in each divided region of the second conductive film is connected to each divided region of the second conductive film. Item 5. The touch panel according to item 4.
前記第1の導電膜における分割領域の一部と前記第2の導電膜における分割領域の一部により、静電容量方式による接触位置の位置検出を行ない、
前記第1の導電膜と前記第2の導電膜により、抵抗膜方式による接触位置の位置検出を行なうものであることを特徴とする請求項4又は5に記載のタッチパネル。
The position detection of the contact position by the capacitive method is performed by a part of the divided region in the first conductive film and a part of the divided region in the second conductive film,
The touch panel according to claim 4 or 5, wherein a position of a contact position is detected by a resistance film method using the first conductive film and the second conductive film.
一方の方向に長く短冊状に形成された分離領域を複数有する第1の導電膜と、前記一方の方向と略直交する他方の方向に長く短冊状に形成された分離領域を複数有する第2の導電膜と、第3の導電膜と、を有し、前記第1の導電膜における分離領域は、前記他方の方向に配列されており、前記第2の導電膜における分離領域は、前記一方の方向に配列されているタッチパネルの位置検出方法において、
前記第1の導電膜における分割領域に接続された電流検出部と、前記第2の導電膜における分割領域の一部に接続された電流検出部により、接触位置の位置検出を行なう第1の検出工程と、
前記第2の導電膜における各々の分割領域に接続された電位検出部と、前記第3の導電膜における各々の分割領域に接続された電位検出部により、接触位置の位置検出を行なう第2の検出工程と、
を有することを特徴とするタッチパネルの位置検出方法。
A first conductive film having a plurality of separation regions formed in a strip shape long in one direction, and a second conductive film having a plurality of separation regions formed in a strip shape long in the other direction substantially orthogonal to the one direction. A conductive film and a third conductive film, wherein the isolation region in the first conductive film is arranged in the other direction, and the isolation region in the second conductive film is the one of the ones In the touch panel position detection method arranged in the direction,
A first detection for detecting a position of a contact by a current detection unit connected to a divided region in the first conductive film and a current detection unit connected to a part of the divided region in the second conductive film. Process,
A second detection unit for detecting a contact position by a potential detection unit connected to each divided region in the second conductive film and a potential detection unit connected to each divided region in the third conductive film; A detection process;
A method for detecting a position of a touch panel, comprising:
前記第1の検出工程においては、前記第3の導電膜、前記第2の導電膜における前記電流検出部が接続されていない分割領域のいずれか一方または双方は、フローティング状態であることを特徴とする請求項7に記載のタッチパネルの位置検出方法。   In the first detection step, one or both of the third conductive film and the divided region of the second conductive film to which the current detection unit is not connected are in a floating state. The touch panel position detection method according to claim 7. 一方の方向に長く短冊状に形成された分離領域を複数有する第1の導電膜と、前記一方の方向と略直交する他方の方向に長く短冊状に形成された分離領域を複数有する第2の導電膜と、を有し、前記第1の導電膜における分離領域は、前記他方の方向に配列されており、前記第2の導電膜における分離領域は、前記一方の方向に配列されているタッチパネルの位置検出方法において、
前記第1の導電膜における分割領域の一部に接続された電流検出部と、前記第2の導電膜における分割領域の一部に接続された電流検出部により、接触位置の位置検出を行なう第1の検出工程と、
前記第1の導電膜における各々の分割領域に接続された電位検出部と、前記第2の導電膜における各々の分割領域に接続された電位検出部により、接触位置の位置検出を行なう第2の検出工程と、
を有することを特徴とするタッチパネルの位置検出方法。
A first conductive film having a plurality of separation regions formed in a strip shape long in one direction, and a second conductive film having a plurality of separation regions formed in a strip shape long in the other direction substantially orthogonal to the one direction. A touch panel in which the isolation regions in the first conductive film are arranged in the other direction, and the isolation regions in the second conductive film are arranged in the one direction In the position detection method of
A contact detection position is detected by a current detector connected to a part of the divided region of the first conductive film and a current detector connected to a part of the divided region of the second conductive film. 1 detection step;
A second detection unit for detecting a contact position by a potential detection unit connected to each divided region in the first conductive film and a potential detection unit connected to each divided region in the second conductive film; A detection process;
A method for detecting a position of a touch panel, comprising:
前記第1の検出工程においては、前記第1の導電膜における前記電流検出部が接続されていない分割領域及び前記第2の導電膜における前記電流検出部が接続されていない分割領域は、フローティング状態であることを特徴とする請求項9に記載のタッチパネルの位置検出方法。   In the first detection step, the divided region of the first conductive film to which the current detection unit is not connected and the divided region of the second conductive film to which the current detection unit is not connected are in a floating state The touch panel position detection method according to claim 9, wherein 前記第1の検出工程と、前記第2の検出工程は、交互に行なわれるものであることを特徴とする請求項7から10のいずれかに記載のタッチパネルの位置検出方法。   The touch panel position detection method according to claim 7, wherein the first detection step and the second detection step are alternately performed.
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