JP2013168660A - Semiconductor integrated circuit device and layout method thereof - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor integrated circuit device that has at least two image data interfaces and is provided with an effective arrangement of the image data interfaces and memory interfaces from the point of view of reliability.SOLUTION: A first image data interface 110 is arranged in an electrode region 210 and an I/O buffer region 220 provided along a first side 230 of a semiconductor chip 200. A second image data interface 130 is arranged in the electrode region 210 and the I/O buffer region 220 provided along a second side 240. A first memory interface 160 is arranged in the electrode region 210 and the I/O buffer region 220 provided along a third side 250. A second memory interface 170 is arranged in the electrode region 210 and the I/O buffer region 220 provided along a fourth side 260.

Description

本発明は、半導体集積回路装置、データ記録装置及び半導体集積回路装置のレイアウト方法に関する。   The present invention relates to a semiconductor integrated circuit device, a data recording device, and a layout method for a semiconductor integrated circuit device.

自動車の走行中の画像データを一定時間間隔で1次記憶装置に記録し、事故等のイベントが発生した時に、そのイベントの前後の一定時間の画像データをSDRAM等の1次記憶装置からCFメモリカード等の2次記憶装置に転送して記録するドライブレコーダが利用されている。従来、事故の様子を記録するために、走行中の自動車の前方を向いた1台のカメラにより画像データが撮影されていた。一方、走行中のドライバの様子を撮影することにより、ドライバの事故防止に対する意識を向上すること等を目的として、2台のカメラを装備し、前方の画像だけでなく車内の画像も同時に記録するドライブレコーダが使用されるようになってきた。2台のカメラを装備した場合、両カメラが撮影した画像データに関して同期をとり、同時刻に撮影した画像データを対応づけて記録することが信頼性を保証する上で重要である。また、両カメラが撮影した画像データが干渉しあう等することにより、画像データが壊れるようなことになっては、記録された画像を証拠として使用することができなくなる。   The image data during driving of the car is recorded in the primary storage device at regular time intervals, and when an event such as an accident occurs, the image data for a certain time before and after the event is transferred from the primary storage device such as SDRAM to the CF memory. Drive recorders that transfer and record to secondary storage devices such as cards are used. Conventionally, in order to record the state of an accident, image data has been captured by a single camera facing the front of a running car. On the other hand, for the purpose of improving the driver's awareness of accident prevention by taking a picture of the driver while driving, it is equipped with two cameras and records not only the front image but also the image in the car at the same time Drive recorders have come into use. When two cameras are installed, it is important to ensure the reliability of the image data taken by both cameras and to record the image data taken at the same time in association with each other. In addition, if the image data captured by both cameras interfere with each other and the image data is destroyed, the recorded image cannot be used as evidence.

特開2005−259041号公報JP 2005-259041 A

従って、ドライブレコーダのように、証拠能力が重要視されるデータ記録装置においては、画像データの信頼性をシステム的に保証するだけでなく、データ記録装置に使用される半導体集積回路装置のレイアウトにも十分配慮しなければならない。   Therefore, in a data recording apparatus such as a drive recorder in which evidence capability is regarded as important, not only the reliability of image data is systematically guaranteed but also the layout of a semiconductor integrated circuit device used in the data recording apparatus. You must also give due consideration.

本発明は、以上のような問題点に鑑みてなされたものであり、少なくとも2つの画像データインターフェースを有し、画像データの信頼性の観点から画像データインターフェース及びメモリインターフェースについての有効な配置を行った半導体集積回路装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above problems, and has at least two image data interfaces, and performs effective arrangement of the image data interface and the memory interface from the viewpoint of image data reliability. Another object is to provide a semiconductor integrated circuit device.

(1)本発明は、
正方形又は長方形の形状を有し、各辺に沿って周辺部に複数の電極部を配置するための電極領域と、前記電極領域に沿って複数の入出力バッファを配置するための入出力バッファ領域と、を有する半導体チップを含む半導体集積回路装置であって、
複数の電極部と複数の入出力バッファを含み、画像データを前記半導体チップの内部に供給するためのインターフェースを提供する第1の画像データインターフェース部と、
複数の電極部と複数の入出力バッファを含み、画像データを前記半導体チップの内部に供給するためのインターフェースを提供する第2の画像データインターフェース部とを含み、
前記第1の画像データインターフェース部の複数の電極部及び複数の入出力バッファは、
前記半導体チップの第1の辺に沿って設けられている電極領域及び入出力バッファ領域の少なくとも一部に配置され、
前記第2の画像データインターフェース部の複数の電極部及び複数の入出力バッファは、
前記半導体チップの第1の辺と対向する第2の辺に沿って設けられている電極領域及び入出力バッファ領域の少なくとも一部に配置されることを特徴とする。
(1) The present invention
An electrode region having a square or rectangular shape and for arranging a plurality of electrode portions in the peripheral portion along each side, and an input / output buffer region for arranging a plurality of input / output buffers along the electrode region A semiconductor integrated circuit device including a semiconductor chip having:
A first image data interface unit that includes a plurality of electrode units and a plurality of input / output buffers, and provides an interface for supplying image data to the inside of the semiconductor chip;
A second image data interface unit that includes a plurality of electrode units and a plurality of input / output buffers, and provides an interface for supplying image data to the inside of the semiconductor chip;
The plurality of electrode units and the plurality of input / output buffers of the first image data interface unit are
Disposed in at least a part of the electrode region and the input / output buffer region provided along the first side of the semiconductor chip;
The plurality of electrode units and the plurality of input / output buffers of the second image data interface unit are
The semiconductor chip is arranged in at least a part of an electrode region and an input / output buffer region provided along a second side facing the first side of the semiconductor chip.

画像データは、例えば、カメラモジュール等が撮影した画像データそのものであってもよいし、当該画像データにJPEGエンコードやIP変換(インタレース/プログレッシブ変換)等の変換処理を施した画像データであってもよい。   The image data may be, for example, image data taken by a camera module or the like, or image data obtained by subjecting the image data to conversion processing such as JPEG encoding or IP conversion (interlace / progressive conversion). Also good.

半導体チップを含む半導体集積回路装置は、例えば、半導体チップそのものでもよいし、半導体チップをパッケージングした半導体デバイスであってもよいし、本発明に係る半導体チップと他の半導体チップを搭載した半導体デバイスであってもよい。   The semiconductor integrated circuit device including the semiconductor chip may be, for example, the semiconductor chip itself, a semiconductor device in which the semiconductor chip is packaged, or a semiconductor device on which the semiconductor chip according to the present invention and another semiconductor chip are mounted. It may be.

本発明によれば、第1の画像データインターフェース部と第2の画像データインターフェース部を対向する辺に沿って周辺部に配置することにより、信号線の接続を手配線で行う場合はいうまでもなく、自動配線ツールにより配線させる場合であっても、第1の画像データインターフェース部に接続される配線のための配線領域と第2の画像データインターフェース部に接続される配線のための配線領域の重複部分を削減することができる。その結果、配線効率が高くなり配線領域を小さくすることができるため、半導体チップの面積コストを削減することができる。また、配線領域の重複部分を削減することにより、第1の画像データインターフェース部及び第2の画像データインターフェース部から前記半導体チップの内部に供給される2つの画像データ間の干渉や画像データへのノイズの重畳を効果的に防止することができるとともに、配線の寄生容量に伴う信号伝搬遅延の増大を抑制することができるので、高速動作を実現することが可能となる。   According to the present invention, it goes without saying that the signal lines are connected by hand wiring by arranging the first image data interface unit and the second image data interface unit in the peripheral part along opposite sides. Even if the automatic wiring tool is used for wiring, the wiring region for wiring connected to the first image data interface unit and the wiring region for wiring connected to the second image data interface unit Overlapping parts can be reduced. As a result, the wiring efficiency is increased and the wiring area can be reduced, so that the area cost of the semiconductor chip can be reduced. Further, by reducing the overlapping portion of the wiring area, interference between the two image data supplied from the first image data interface unit and the second image data interface unit to the inside of the semiconductor chip and the image data can be reduced. Superposition of noise can be effectively prevented, and an increase in signal propagation delay due to the parasitic capacitance of the wiring can be suppressed, so that high-speed operation can be realized.

さらに、本発明に係る半導体集積回路装置をデータ記録装置に使用し、前方と後方の画像を撮影するような場合は、データ記録装置の基板上において、第1の画像データインターフェース部に接続される第1の外部デバイス(カメラモジュール等)と第2の画像データインターフェース部に接続される第2の外部デバイス(カメラモジュール等)の間に本発明に係る半導体集積回路装置を配置すれば、各外部デバイスと本発明に係る半導体集積回路装置の間でなされる配線を基板上で交差させる必要がない。従って、基板設計が容易になるととともに、基板の層数を削減することができ、コスト削減の効果を得ることができる。   Further, when the semiconductor integrated circuit device according to the present invention is used for a data recording device and the front and rear images are taken, it is connected to the first image data interface unit on the substrate of the data recording device. If the semiconductor integrated circuit device according to the present invention is arranged between the first external device (camera module or the like) and the second external device (camera module or the like) connected to the second image data interface unit, each external device It is not necessary to cross the wiring formed between the device and the semiconductor integrated circuit device according to the present invention on the substrate. Therefore, the design of the substrate becomes easy, the number of layers of the substrate can be reduced, and the effect of cost reduction can be obtained.

(2)本発明に係る半導体集積回路装置は、
前記第2の画像データインターフェース部の複数の電極部及び複数の入出力バッファは、
前記第1の画像データインターフェース部の複数の電極部及び複数の入出力バッファと対向して配置されることを特徴とする。
(2) A semiconductor integrated circuit device according to the present invention includes:
The plurality of electrode units and the plurality of input / output buffers of the second image data interface unit are
The plurality of electrode units and the plurality of input / output buffers of the first image data interface unit are arranged to face each other.

本発明によれば、第1の画像データインターフェース部に接続される配線と第2の画像データインターフェース部に接続される配線の長さをほぼ等しくすることができるため、これらの配線の寄生容量に伴う信号伝搬遅延をほぼ等しくすることができる。その結果、第1の画像データインターフェース部から供給される画像データと第2の画像データインターフェース部から供給される画像データを非同期に処理する場合であっても半導体チップの内部で同期させて処理する場合であっても、両者の画像データの対応関係を誤ることなく変換処理を行い、1次記憶装置に記録することができる。   According to the present invention, since the length of the wiring connected to the first image data interface unit and the length of the wiring connected to the second image data interface unit can be made substantially equal, the parasitic capacitance of these wirings can be reduced. The accompanying signal propagation delay can be made approximately equal. As a result, even when the image data supplied from the first image data interface unit and the image data supplied from the second image data interface unit are processed asynchronously, they are processed synchronously inside the semiconductor chip. Even in such a case, the conversion process can be performed without mistaken correspondence between the image data of the two and recorded in the primary storage device.

(3)本発明に係る半導体集積回路装置は、
複数の電極部と複数の入出力バッファを含み、前記第1の画像データインターフェース部及び前記第2の画像データインターフェース部が前記半導体チップの内部に供給する画像データ又は当該画像データに変換処理を施した画像データを前記半導体チップの外部の1次記憶装置に記録し、記録した画像データを前記1次記憶装置から読み出すための1次記憶用インターフェースを提供する第1のメモリインターフェース部を含み、
前記第1のメモリインターフェース部の複数の電極部の少なくとも一部及び複数の入出力バッファの少なくとも一部は、
前記半導体チップの第3の辺に沿って設けられている電極領域及び入出力バッファ領域に配置されることを特徴とする。
(3) A semiconductor integrated circuit device according to the present invention includes:
A plurality of electrode units and a plurality of input / output buffers are provided, and the first image data interface unit and the second image data interface unit perform conversion processing on the image data supplied to the semiconductor chip or the image data. A first memory interface unit for recording a recorded image data in a primary storage device external to the semiconductor chip and providing a primary storage interface for reading the recorded image data from the primary storage device;
At least some of the plurality of electrode portions and at least some of the plurality of input / output buffers of the first memory interface portion are:
It is arranged in an electrode region and an input / output buffer region provided along the third side of the semiconductor chip.

第1のメモリインターフェース部の複数の電極部及び複数の入出力バッファは、第1の辺に沿って設けられている電極領域及び入出力バッファ領域と、第3の辺に沿って設けられている電極領域及び入出力バッファ領域に配置されるようにしてもよい。   The plurality of electrode units and the plurality of input / output buffers of the first memory interface unit are provided along the third side and the electrode region and the input / output buffer region provided along the first side. It may be arranged in the electrode region and the input / output buffer region.

また、第1のメモリインターフェース部の複数の電極部及び複数の入出力バッファは、第2の辺に沿って設けられている電極領域及び入出力バッファ領域と、第3の辺に沿って設けられている電極領域及び入出力バッファ領域に配置されるようにしてもよい。   The plurality of electrode units and the plurality of input / output buffers of the first memory interface unit are provided along the third side and the electrode region and the input / output buffer region provided along the second side. It may be arranged in the electrode area and the input / output buffer area.

また、第1のメモリインターフェース部の複数の電極部及び複数の入出力バッファは、第1の辺に沿って設けられている電極領域及び入出力バッファ領域と、第2の辺に沿って設けられている電極領域及び入出力バッファ領域と、第3の辺に沿って設けられている電極領域及び入出力バッファ領域に配置されるようにしてもよい。   The plurality of electrode units and the plurality of input / output buffers of the first memory interface unit are provided along the electrode region and the input / output buffer region provided along the first side and the second side. The electrode region and the input / output buffer region may be disposed in the electrode region and the input / output buffer region provided along the third side.

本発明によれば、第1のメモリインターフェース部を第1の画像データインターフェース部及び第2の画像データインターフェース部が配置される辺と異なる辺に沿って配置するので、第1の画像データインターフェース部又第2の画像データインターフェース部から第1のメモリインターフェース部へ向かうデータ線の配線が、他のモジュールや配線で混み合う可能性が高い中心付近を通らないで済むため、配線効率を高くすることができるだけでなく、画像データにノイズが重畳される可能性を低減することができる。   According to the present invention, since the first memory interface unit is arranged along a side different from the side where the first image data interface unit and the second image data interface unit are arranged, the first image data interface unit In addition, the wiring of the data line from the second image data interface unit to the first memory interface unit does not need to pass near the center where there is a high possibility of being crowded with other modules and wirings, so that the wiring efficiency is increased. As well as reducing the possibility of noise being superimposed on the image data.

また、本発明に係る半導体集積回路装置を使用するデータ記録装置の基板上において、第1の画像データインターフェース部に接続される第1の外部デバイス(カメラモジュール等)、第2の画像データインターフェース部に接続される第2の外部デバイス(カメラモジュール等)、1次記憶装置(SDRAM等)をそれぞれ半導体チップの第1の辺、第2の辺、第3の辺に対向して配置すれば、第1の外部デバイス、第2の外部デバイス、1次記憶装置と本発明に係る半導体集積回路装置の間でなされる配線を基板上で交差させる必要がない。従って、基板設計が容易になるととともに、基板の層数を削減することができ、コスト削減の効果を得ることができる。   In addition, on a substrate of a data recording apparatus using the semiconductor integrated circuit device according to the present invention, a first external device (camera module or the like) connected to the first image data interface unit, a second image data interface unit If the second external device (camera module, etc.) and the primary storage device (SDRAM, etc.) connected to the semiconductor chip are respectively arranged to face the first side, the second side, and the third side of the semiconductor chip, It is not necessary to cross the wiring formed between the first external device, the second external device, the primary storage device, and the semiconductor integrated circuit device according to the present invention on the substrate. Therefore, the design of the substrate becomes easy, the number of layers of the substrate can be reduced, and the effect of cost reduction can be obtained.

(4)本発明に係る半導体集積回路装置は、
前記第1の画像データインターフェース部の複数の電極部及び複数の入出力バッファは、前記半導体チップの第1の辺と第3の辺が交差する付近に寄せて電極領域及び入出力バッファ領域に配置され、
前記第2の画像データインターフェース部の複数の電極部及び複数の入出力バッファは、前記半導体チップの第2の辺と第3の辺が交差する付近に寄せて電極領域及び入出力バッファ領域に配置されることを特徴とする。
(4) A semiconductor integrated circuit device according to the present invention includes:
The plurality of electrode units and the plurality of input / output buffers of the first image data interface unit are arranged in the electrode region and the input / output buffer region near the first side and the third side of the semiconductor chip. And
The plurality of electrode units and the plurality of input / output buffers of the second image data interface unit are arranged in the electrode region and the input / output buffer region near the intersection of the second side and the third side of the semiconductor chip. It is characterized by being.

半導体チップの第1の辺と第3の辺が交差する付近に寄せて配置されるとは、半導体チップの第3の辺と対向する辺を第4の辺とした時、少なくとも、第1の辺と第4の辺が交差する付近よりも第1の辺と第3の辺が交差する付近寄りに配置されていればよい。例えば、第1の画像データインターフェース部の複数の電極部及び複数の入出力バッファは、過半数の電極部の中心点から第1の辺と第3の辺が交差する頂点までの距離が第1の辺と第4の辺が交差する頂点までの距離よりも短くなるように電極領域及び入出力バッファ領域に配置されるようにしてもよい。好ましくは、第1の画像データインターフェース部の複数の電極部及び複数の入出力バッファは、半導体チップの第1の辺と第3の辺が交差する頂点に近い所定の範囲の電極領域及び入出力バッファ領域に配置されるのがよい。例えば、当該複数の電極部は、ボンディングの困難性により電極部を配置することができない第1の辺と第3の辺が交差する頂点付近の電極領域を除き、当該頂点にできる限り近い電極領域に順番に配置するのが好ましい。また、当該複数の入出力バッファは、レイアウトの都合上入出力バッファを配置することができない第1の辺と第3の辺が交差する頂点付近の入出力バッファ領域を除き当該頂点にできる限り近い入出力バッファ領域に電極部と対応させて順番に配置するのが好ましい。   The fact that the first side and the third side of the semiconductor chip are arranged close to each other means that when the side facing the third side of the semiconductor chip is the fourth side, at least the first side What is necessary is just to be arrange | positioned near the vicinity which a 1st edge | side and a 3rd edge | intersection cross rather than the vicinity where an edge | side and a 4th edge | side cross | intersect. For example, in the plurality of electrode units and the plurality of input / output buffers of the first image data interface unit, the distance from the center point of the majority of the electrode units to the vertex at which the first side and the third side intersect is the first. You may make it arrange | position in an electrode area | region and an input / output buffer area | region so that it may become shorter than the distance to the vertex which an edge | side and a 4th edge | intersection cross. Preferably, the plurality of electrode units and the plurality of input / output buffers of the first image data interface unit have a predetermined range of electrode regions and input / outputs close to a vertex at which the first side and the third side of the semiconductor chip intersect. It is good to arrange in the buffer area. For example, the plurality of electrode portions are electrode regions that are as close as possible to the vertexes except for an electrode region in the vicinity of the vertex where the first side and the third side cannot be arranged due to difficulty in bonding. It is preferable to arrange them in order. Further, the plurality of input / output buffers are as close as possible to the vertexes except for an input / output buffer region near the vertex where the first side and the third side cannot be arranged for layout reasons. It is preferable to arrange them in order in the input / output buffer region so as to correspond to the electrode portions.

同様に、半導体チップの第2の辺と第3の辺が交差する付近に寄せて配置されるとは、半導体チップの第3の辺と対向する辺を第4の辺とした時、少なくとも、第2の辺と第4の辺が交差する付近よりも第2の辺と第3の辺が交差する付近寄りに配置されていればよい。例えば、第2の画像データインターフェース部の複数の電極部及び複数の入出力バッファは、過半数の電極部の中心点から第2の辺と第3の辺が交差する頂点までの距離が第2の辺と第4の辺が交差する頂点までの距離よりも短くなるように電極領域及び入出力バッファ領域に配置されるようにしてもよい。好ましくは、第2の画像データインターフェース部の複数の電極部及び複数の入出力バッファは、半導体チップの第2の辺と第3の辺が交差する頂点に近い所定の範囲の電極領域及び入出力バッファ領域に配置されるのがよい。例えば、当該複数の電極部は、ボンディングの困難性により電極部を配置することができない第2の辺と第3の辺が交差する頂点付近の電極領域を除き、当該頂点にできる限り近い電極領域に順番に配置するのが好ましい。また、当該複数の入出力バッファは、レイアウトの都合上入出力バッファを配置することができない第2の辺と第3の辺が交差する頂点付近の入出力バッファ領域を除き当該頂点にできる限り近い入出力バッファ領域に電極部と対応させて順番に配置するのが好ましい。   Similarly, when the second side and the third side of the semiconductor chip are arranged close to each other, when the side facing the third side of the semiconductor chip is the fourth side, at least, It suffices if the second side and the third side are arranged closer to the vicinity where the second side and the fourth side intersect than the vicinity where the second side and the fourth side intersect. For example, in the plurality of electrode units and the plurality of input / output buffers of the second image data interface unit, the distance from the center point of the majority of the electrode units to the vertex at which the second side and the third side intersect is the second. You may make it arrange | position in an electrode area | region and an input / output buffer area | region so that it may become shorter than the distance to the vertex which an edge | side and a 4th edge | intersection cross. Preferably, the plurality of electrode units and the plurality of input / output buffers of the second image data interface unit have a predetermined range of electrode regions and input / outputs close to a vertex at which the second side and the third side of the semiconductor chip intersect. It is good to arrange in the buffer area. For example, the plurality of electrode portions are electrode regions that are as close as possible to the vertexes except for an electrode region near the vertex where the second side and the third side cannot be arranged due to difficulty in bonding. It is preferable to arrange them in order. Further, the plurality of input / output buffers are as close as possible to the vertexes except for an input / output buffer region in the vicinity of the vertex where the second side and the third side intersect where the input / output buffer cannot be arranged due to layout. It is preferable to arrange them in order in the input / output buffer region so as to correspond to the electrode portions.

本発明によれば、第1の画像データインターフェース部及び第2の画像データインターフェース部と第1のメモリインターフェース部の距離を短くすることができる。従って、第1の外部デバイス(カメラモジュール等)及び第2の外部デバイス(カメラモジュール等)から第1の画像データインターフェース部及び第2の画像データインターフェース部を介してそれぞれ供給された画像データを、第1のメモリインターフェース部を介して1次記憶装置に記録することを想定すると、第1の画像データインターフェース部及び第2の画像データインターフェース部に接続される配線の長さを短くすることができるので、配線効率を高くすることができる。さらに、配線の長さを短くすることにより、1次記憶装置への記録動作を高速化することができるので、単位時間あたりの保存可能な画像データ数を多くすることも可能であり、本発明に係る半導体集積回路装置を使用すれば信頼性および証拠能力の高いデータ記録装置を提供することができる。   According to the present invention, the distance between the first image data interface unit and the second image data interface unit and the first memory interface unit can be shortened. Therefore, the image data supplied from the first external device (camera module or the like) and the second external device (camera module or the like) via the first image data interface unit and the second image data interface unit, respectively, Assuming that recording is performed in the primary storage device via the first memory interface unit, the length of the wiring connected to the first image data interface unit and the second image data interface unit can be shortened. Therefore, the wiring efficiency can be increased. Further, since the recording operation to the primary storage device can be speeded up by reducing the length of the wiring, the number of image data that can be stored per unit time can be increased. If the semiconductor integrated circuit device according to the above is used, a data recording device with high reliability and high evidence capability can be provided.

(5)本発明に係る半導体集積回路装置は、
前記半導体チップの第1の辺と第3の辺が交差する付近の入出力バッファ領域において、前記第1の画像データインターフェース部の電源供給線と前記第1のメモリインターフェース部の電源供給線が分離され、
前記半導体チップの第2の辺と第3の辺が交差する付近の入出力バッファ領域において、前記第2の画像データインターフェース部の電源供給線と前記第1のメモリインターフェース部の電源供給線が分離されることを特徴とする。
(5) A semiconductor integrated circuit device according to the present invention includes:
In the input / output buffer region near the first side and the third side of the semiconductor chip, the power supply line of the first image data interface unit and the power supply line of the first memory interface unit are separated. And
In the input / output buffer region near the second side and the third side of the semiconductor chip, the power supply line of the second image data interface unit and the power supply line of the first memory interface unit are separated. It is characterized by being.

本発明によれば、第1の画像データインターフェース部及び第2の画像データインターフェース部の動作電圧と第1のメモリインターフェース部の動作電圧が異なるような場合であっても、有効に使用できない角付近の入出力バッファ領域を使用して電源分離を実現することができる。   According to the present invention, even when the operating voltage of the first image data interface unit and the second image data interface unit is different from the operating voltage of the first memory interface unit, the vicinity of the corner that cannot be used effectively. Power supply isolation can be realized using the input / output buffer area.

(6)本発明に係る半導体集積回路装置は、
請求項3乃至5のいずれかにおいて、
前記第1のメモリインターフェース部は、
前記1次記憶用インターフェースと、前記1次記憶装置に記録された画像データ又は当該画像データに変換処理を施した画像データを前記半導体チップの外部の2次記憶装置に記録するための2次記憶用インターフェースのいずれかを選択して提供するための選択信号を前記半導体チップの外部に出力するための少なくとも1つの電極部を含むことを特徴とする。
(6) A semiconductor integrated circuit device according to the present invention includes:
In any of claims 3 to 5,
The first memory interface unit includes:
Secondary storage for recording the primary storage interface and image data recorded in the primary storage device or image data obtained by converting the image data in a secondary storage device outside the semiconductor chip It includes at least one electrode unit for outputting a selection signal for selecting and providing one of the interfaces for use to the outside of the semiconductor chip.

本発明によれば、第1のメモリインターフェース部から第2のメモリインターフェース部へ向かうデータ線が不要となり、配線領域を削減することができるので、配線効率を高くすることができる。   According to the present invention, a data line from the first memory interface unit to the second memory interface unit is not necessary, and the wiring area can be reduced, so that the wiring efficiency can be increased.

(7)本発明に係る半導体集積回路装置は、
複数の電極部と複数の入出力バッファを含み、前記1次記憶装置に記録された画像データ又は当該画像データに変換処理を施した画像データを前記半導体チップの外部の2次記憶装置に記録するための2次記憶用インターフェースを提供する第2のメモリインターフェース部を含み、
前記第2のメモリインターフェース部の電極部の少なくとも一部及び複数の入出力バッファの少なくとも一部は、
前記半導体チップの第3の辺と対向する第4の辺に沿って設けられている電極領域及び入出力バッファ領域に配置されることを特徴とする。
(7) A semiconductor integrated circuit device according to the present invention includes:
Image data recorded in the primary storage device or image data obtained by converting the image data is recorded in a secondary storage device outside the semiconductor chip, including a plurality of electrode units and a plurality of input / output buffers. A second memory interface unit providing a secondary storage interface for
At least part of the electrode part of the second memory interface part and at least part of the plurality of input / output buffers are
The semiconductor chip is disposed in an electrode region and an input / output buffer region provided along a fourth side facing the third side of the semiconductor chip.

第2のメモリインターフェース部の複数の電極部及び複数の入出力バッファは、第1の辺に沿って設けられている電極領域及び入出力バッファ領域と、第4の辺に沿って設けられている電極領域及び入出力バッファ領域に配置されるようにしてもよい。   The plurality of electrode units and the plurality of input / output buffers of the second memory interface unit are provided along the electrode side and the input / output buffer region provided along the first side and the fourth side. It may be arranged in the electrode region and the input / output buffer region.

また、第2のメモリインターフェース部の複数の電極部及び複数の入出力バッファは、第2の辺に沿って設けられている電極領域及び入出力バッファ領域と、第4の辺に沿って設けられている電極領域及び入出力バッファ領域に配置されるようにしてもよい。   The plurality of electrode units and the plurality of input / output buffers of the second memory interface unit are provided along the electrode side and the input / output buffer region provided along the second side and the fourth side. It may be arranged in the electrode area and the input / output buffer area.

また、第2のメモリインターフェース部の複数の電極部及び複数の入出力バッファは、第1の辺に沿って設けられている電極領域及び入出力バッファ領域と、第2の辺に沿って設けられている電極領域及び入出力バッファ領域と、第4の辺に沿って設けられている電極領域及び入出力バッファ領域に配置されるようにしてもよい。   The plurality of electrode units and the plurality of input / output buffers of the second memory interface unit are provided along the second side and the electrode region and the input / output buffer region provided along the first side. The electrode region and the input / output buffer region may be disposed in the electrode region and the input / output buffer region provided along the fourth side.

本発明によれば、第1の画像データインターフェース部及び第2の画像データインターフェース部から第1のメモリインターフェース部へ向かうデータ線のための配線領域と、第1のメモリインターフェース部から第2のメモリインターフェース部へ向かうデータ線のための配線領域の重複部分を効果的に削減することができる。   According to the present invention, the wiring area for the data line from the first image data interface unit and the second image data interface unit to the first memory interface unit, and the second memory from the first memory interface unit It is possible to effectively reduce the overlapping portion of the wiring area for the data line toward the interface unit.

また、本発明に係る集積回路装置をデータ記録装置に使用する場合、一般に、1次記憶装置(SDRAM等)に対する記録動作の方が2次記憶装置(CFメモリカード、SDメモリカード等)に対する記録動作に比べて圧倒的に高速に行う必要があるが、第1の画像データインターフェース部及び第2の画像データインターフェース部を第1のメモリインターフェース部の近くに配置することにより、第1のメモリインターフェース部を介して画像データを1次記憶装置に記録する動作を高速化することができる。   When the integrated circuit device according to the present invention is used for a data recording device, generally, the recording operation for the primary storage device (SDRAM or the like) is performed for the secondary storage device (CF memory card, SD memory card or the like). Although it is necessary to perform overwhelmingly high speed as compared with the operation, the first memory interface is arranged by arranging the first image data interface unit and the second image data interface unit near the first memory interface unit. The operation of recording the image data in the primary storage device via the unit can be speeded up.

さらに、本発明に係る半導体集積回路装置を使用するデータ記録装置の基板上において、第1の画像データインターフェース部に接続される第1の外部デバイス(カメラモジュール等)、第2の画像データインターフェース部に接続される第2の外部デバイス(カメラモジュール等)、1次記憶装置、2次記憶装置をそれぞれ半導体チップの第1の辺、第2の辺、第3の辺、第4の辺に対向して配置すれば、第1の外部デバイス、第2の外部デバイス、1次記憶装置、2次記憶装置と本発明に係る半導体集積回路装置の間でなされる配線を基板上で交差させる必要がない。従って、基板設計が容易になるととともに、基板の層数を削減することができ、コスト削減の効果を得ることができる。   Furthermore, on the substrate of the data recording apparatus using the semiconductor integrated circuit device according to the present invention, a first external device (such as a camera module) connected to the first image data interface unit, a second image data interface unit The second external device (camera module, etc.) connected to the primary storage device and the secondary storage device are respectively opposed to the first side, the second side, the third side, and the fourth side of the semiconductor chip. If arranged in this manner, the wiring formed between the first external device, the second external device, the primary storage device, the secondary storage device and the semiconductor integrated circuit device according to the present invention must be crossed on the substrate. Absent. Therefore, the design of the substrate becomes easy, the number of layers of the substrate can be reduced, and the effect of cost reduction can be obtained.

(8)本発明に係る半導体集積回路装置は、
複数の電極部と複数の入出力バッファを含み、前記2次記憶用インターフェース又は前記1次記憶用インターフェースを提供する第3のメモリインターフェース部を含み、
前記第3のメモリインターフェース部の電極部の少なくとも一部及び複数の入出力バッファの少なくとも一部は、
前記第4の辺に沿って設けられている電極領域及び入出力バッファ領域に配置されることを特徴とする。
(8) A semiconductor integrated circuit device according to the present invention includes:
A third memory interface unit including a plurality of electrode units and a plurality of input / output buffers, and providing the secondary storage interface or the primary storage interface;
At least part of the electrode part of the third memory interface part and at least part of the plurality of input / output buffers are
It is arranged in an electrode area and an input / output buffer area provided along the fourth side.

本発明によれば、第3のメモリインターフェース部が2次記憶用インターフェースを提供する場合には、第1の画像データインターフェース部及び第2の画像データインターフェース部から第1のメモリインターフェース部へ向かうデータ線のための配線領域と、第1のメモリインターフェース部から第3のメモリインターフェース部へ向かうデータ線のための配線領域の重複部分を効果的に削減することができる。   According to the present invention, when the third memory interface unit provides the secondary storage interface, the data from the first image data interface unit and the second image data interface unit to the first memory interface unit. It is possible to effectively reduce the overlapping portion of the wiring area for the line and the wiring area for the data line from the first memory interface unit to the third memory interface unit.

また、第3のメモリインターフェース部が2次記憶用インターフェースを提供する場合には、本発明に係る半導体集積回路装置を使用するデータ記録装置の基板上において、第1の画像データインターフェース部に接続される第1の外部デバイス(カメラモジュール等)、第2の画像データインターフェース部に接続される第2の外部デバイス(カメラモジュール等)、1次記憶装置、2次記憶装置をそれぞれ半導体チップの第1の辺、第2の辺、第3の辺、第4の辺に対向して配置すれば、第1の外部デバイス、第2の外部デバイス、1次記憶装置、2次記憶装置と本発明に係る半導体集積回路装置の間でなされる配線を基板上で交差させる必要がない。従って、基板設計が容易になるととともに、基板の層数を削減することができ、コスト削減の効果を得ることができる。   Further, when the third memory interface unit provides the secondary storage interface, the third memory interface unit is connected to the first image data interface unit on the substrate of the data recording apparatus using the semiconductor integrated circuit device according to the present invention. A first external device (camera module, etc.), a second external device (camera module, etc.) connected to the second image data interface unit, a primary storage device, and a secondary storage device are respectively connected to the first semiconductor chip. The second external device, the second external device, the primary storage device, the secondary storage device and the present invention. There is no need to cross wirings formed between such semiconductor integrated circuit devices on the substrate. Therefore, the design of the substrate becomes easy, the number of layers of the substrate can be reduced, and the effect of cost reduction can be obtained.

(9)本発明に係る半導体集積回路装置は、
前記第3のメモリインターフェース部の電極部の一部及び複数の入出力バッファの一部は、前記第1の辺に沿って設けられている電極領域及び入出力バッファ領域に配置されることを特徴とする。
(9) A semiconductor integrated circuit device according to the present invention comprises:
A part of the electrode part of the third memory interface part and a part of the plurality of input / output buffers are arranged in an electrode area and an input / output buffer area provided along the first side. And

第3のメモリインターフェース部の複数の電極部及び複数の入出力バッファは、第1の辺に沿って設けられている電極領域及び入出力バッファ領域と、第4の辺に沿って設けられている電極領域及び入出力バッファ領域に配置されるようにしてもよい。   The plurality of electrode units and the plurality of input / output buffers of the third memory interface unit are provided along the electrode side and the input / output buffer region provided along the first side and the fourth side. It may be arranged in the electrode region and the input / output buffer region.

また、第2のメモリインターフェース部の複数の電極部及び複数の入出力バッファは、第2の辺に沿って設けられている電極領域及び入出力バッファ領域と、第4の辺に沿って設けられている電極領域及び入出力バッファ領域に配置され、かつ、第3のメモリインターフェース部の複数の電極部及び複数の入出力バッファは、第1の辺に沿って設けられている電極領域及び入出力バッファ領域と、第4の辺に沿って設けられている電極領域及び入出力バッファ領域に配置されるようにしてもよい。   The plurality of electrode units and the plurality of input / output buffers of the second memory interface unit are provided along the electrode side and the input / output buffer region provided along the second side and the fourth side. The plurality of electrode units and the plurality of input / output buffers of the third memory interface unit are arranged in the electrode region and the input / output buffer region that are provided along the first side. You may make it arrange | position to the buffer area | region and the electrode area | region and input-output buffer area | region provided along the 4th edge | side.

第3のメモリインターフェース部に接続される2次記憶装置又は1次記憶装置は、例えば、USBメモリであってもよい。この場合、USBコントローラを第4の辺と第1の辺が交差するコーナー付近に配置し、第3のメモリインターフェース部の電極部の一部及び入出力バッファの一部を第4の辺に沿って設けられている電極領域及び入出力バッファ領域に配置し、第3のメモリインターフェース部の電極部の残りの部分及び入出力バッファの残りの部分を第1の辺に沿って設けられている電極領域及び入出力バッファ領域に配置するようにしてもよい。このように配置することにより、USBコントローラと第3のメモリインターフェース部を接続する配線の長さを短くすることができる。   The secondary storage device or primary storage device connected to the third memory interface unit may be, for example, a USB memory. In this case, the USB controller is arranged near the corner where the fourth side and the first side intersect, and a part of the electrode part of the third memory interface part and a part of the input / output buffer are arranged along the fourth side. The electrode area and the input / output buffer area are provided, and the remaining part of the electrode part of the third memory interface part and the remaining part of the input / output buffer are provided along the first side. It may be arranged in the area and the input / output buffer area. By arranging in this way, the length of the wiring connecting the USB controller and the third memory interface unit can be shortened.

(10)本発明に係る半導体集積回路装置は、
前記第1の画像データインターフェース部が前記半導体チップの内部に供給する画像データに変換処理を施す第1の画像処理部と、
前記第2の画像データインターフェース部が前記半導体チップの内部に供給する画像データに変換処理を施す第2の画像処理部とを含み、
前記第1の画像処理部は、前記第1の画像データインターフェース部の隣に配置され、 前記第2の画像処理部は、前記第2の画像データインターフェース部の隣に配置されることを特徴とする。
(10) A semiconductor integrated circuit device according to the present invention includes:
A first image processing unit that performs conversion processing on image data supplied to the inside of the semiconductor chip by the first image data interface unit;
A second image processing unit that performs conversion processing on image data supplied to the inside of the semiconductor chip by the second image data interface unit;
The first image processing unit is arranged next to the first image data interface unit, and the second image processing unit is arranged next to the second image data interface unit. To do.

本発明によれば、第1の画像データインターフェース部から第1の画像処理部へ向かうデータ線の配線及び第2の画像データインターフェース部から第2の画像処理部へ向かうデータ線の配線の長さを短くすることができるので、配線領域の削減及び画像処理の高速化を実現することができる。   According to the present invention, the length of the data line wiring from the first image data interface unit to the first image processing unit and the length of the data line wiring from the second image data interface unit to the second image processing unit. Therefore, the wiring area can be reduced and the image processing speed can be increased.

(11)本発明に係る半導体集積回路装置は、
前記第1の画像データインターフェース部が前記半導体チップの内部に供給するアナログ画像データをデジタル画像データに変換する処理を施す第1のAD変換部と、
前記第2の画像データインターフェース部が前記半導体チップの内部に供給するアナログ画像データをデジタル画像データに変換する処理を施す第2のAD変換部とを含み、
前記第1のAD変換部は、前記第1の画像データインターフェース部の隣に配置され、 前記第2のAD変換部は、前記第2の画像データインターフェース部の隣に配置されることを特徴とする。
(11) A semiconductor integrated circuit device according to the present invention comprises:
A first AD converter for performing processing for converting analog image data supplied to the inside of the semiconductor chip by the first image data interface unit into digital image data;
A second AD conversion unit that performs processing for converting analog image data supplied to the inside of the semiconductor chip by the second image data interface unit into digital image data;
The first AD conversion unit is arranged next to the first image data interface unit, and the second AD conversion unit is arranged next to the second image data interface unit. To do.

本発明によれば、第1の画像データインターフェース部から第1のAD変換部へ向かうデータ線の配線及び第2の画像データインターフェース部から第2のAD変換部へ向かうデータ線の配線の長さを短くすることができるので、配線領域の削減を実現することができる。   According to the present invention, the length of the data line wiring from the first image data interface unit to the first AD conversion unit and the length of the data line wiring from the second image data interface unit to the second AD conversion unit. Therefore, the wiring area can be reduced.

(12)本発明に係る半導体集積回路装置は、
前記第1のAD変換部が変換したデジタル画像データに変換処理を施す第1の画像処理部と、
前記第2のAD変換部が変換したデジタル画像データに変換処理を施す第2の画像処理部とを含み、
前記第1の画像処理部は、前記第1の画像データインターフェース部の隣に配置され、 前記第2の画像処理部は、前記第2の画像データインターフェース部の隣に配置されることを特徴とする。
(12) A semiconductor integrated circuit device according to the present invention includes:
A first image processing unit that performs a conversion process on the digital image data converted by the first AD conversion unit;
A second image processing unit that performs a conversion process on the digital image data converted by the second AD conversion unit,
The first image processing unit is arranged next to the first image data interface unit, and the second image processing unit is arranged next to the second image data interface unit. To do.

本発明によれば、第1の画像データインターフェース部及び第2の画像データインターフェース部がアナログ画像データ入力とデジタル画像データ入力の両方が可能であるような場合であっても、第1の画像データインターフェース部から第1のAD変換部へ向かうデータ線の配線、第1の画像データインターフェース部から第1の画像処理部へ向かうデータ線の配線、第2の画像データインターフェース部から第2のAD変換部へ向かうデータ線の配線、第2の画像データインターフェース部から第2の画像処理部へ向かうデータ線の配線の長さをすべて短くすることができる。従って、配線領域を削減することができるので、配線効率を高くすることができる。   According to the present invention, even if the first image data interface unit and the second image data interface unit can input both analog image data and digital image data, the first image data Data line wiring from the interface unit to the first AD conversion unit, data line wiring from the first image data interface unit to the first image processing unit, and second AD conversion from the second image data interface unit It is possible to reduce all the lengths of the wiring of the data lines going to the part and the lengths of the wirings of the data lines going from the second image data interface part to the second image processing part. Accordingly, the wiring area can be reduced, and the wiring efficiency can be increased.

(13)本発明に係る半導体集積回路装置は、
前記第1の画像データインターフェース部は、
前記半導体チップの外部の第1のカメラモジュールが撮影した画像データ又は当該画像データに変換処理を施した画像データを前記半導体チップの内部に供給するためのインターフェースを提供し、
前記第2の画像データインターフェース部は、
前記半導体チップの外部の第2のカメラモジュールが撮影した画像データ又は当該画像データに変換処理を施した画像データを前記半導体チップの内部に供給するためのインターフェースを提供することを特徴とする。
(13) A semiconductor integrated circuit device according to the present invention includes:
The first image data interface unit includes:
Providing an interface for supplying image data taken by the first camera module outside the semiconductor chip or image data obtained by converting the image data into the semiconductor chip;
The second image data interface unit includes:
An interface is provided for supplying image data taken by a second camera module outside the semiconductor chip or image data obtained by converting the image data into the semiconductor chip.

(14)本発明は、
上記記載の半導体集積回路装置と、第1のカメラモジュールと、第2のカメラモジュールと、1次記憶装置と、2次記憶装置とを含むことを特徴とするデータ記録装置である。
(14) The present invention provides:
A data recording apparatus comprising the semiconductor integrated circuit device described above, a first camera module, a second camera module, a primary storage device, and a secondary storage device.

(15)本発明は、
正方形又は長方形の形状を有し、各辺に沿って周辺部に複数の電極部を配置するための電極領域と、前記電極領域に沿って複数の入出力バッファを配置するための入出力バッファ領域とを有する半導体チップを含む半導体集積回路装置のレイアウト方法であって、
前記半導体集積回路装置は、
複数の電極部と複数の入出力バッファを含み、画像データを前記半導体チップの内部に供給するためのインターフェースを提供する第1の画像データインターフェース部と、
複数の電極部と複数の入出力バッファを含み、画像データを前記半導体チップの内部に供給するためのインターフェースを提供する第2の画像データインターフェース部と、
複数の電極部と複数の入出力バッファを含み、前記第1の画像データインターフェース部及び前記第2の画像データインターフェース部が前記半導体チップの内部に供給する画像データ又は当該画像データに変換処理を施した画像データを前記半導体チップの外部の1次記憶装置に記録し、記録した画像データを前記1次記憶装置から読み出すためのインターフェースを提供する第1のメモリインターフェース部とを含み、
前記半導体チップの第1の辺に沿って設けられている電極領域及び入出力バッファ領域の少なくとも一部に前記第1の画像データインターフェース部の複数の電極部と複数の入出力バッファを配置し、
前記半導体チップの第1の辺と対向する第2の辺に沿って設けられている電極領域及び入出力バッファ領域の少なくとも一部に前記第2の画像データインターフェース部の複数の電極部と複数の入出力バッファを配置し、
前記半導体チップの第3の辺に沿って設けられている電極領域及び入出力バッファ領域の少なくとも一部に前記第1のメモリインターフェース部の複数の電極部と複数の入出力バッファを配置することを特徴とする。
(15) The present invention provides:
An electrode region having a square or rectangular shape and for arranging a plurality of electrode portions in the peripheral portion along each side, and an input / output buffer region for arranging a plurality of input / output buffers along the electrode region A semiconductor integrated circuit device layout method including a semiconductor chip having:
The semiconductor integrated circuit device includes:
A first image data interface unit that includes a plurality of electrode units and a plurality of input / output buffers, and provides an interface for supplying image data to the inside of the semiconductor chip;
A second image data interface unit that includes a plurality of electrode units and a plurality of input / output buffers, and provides an interface for supplying image data to the inside of the semiconductor chip;
A plurality of electrode units and a plurality of input / output buffers are provided, and the first image data interface unit and the second image data interface unit perform conversion processing on the image data supplied to the semiconductor chip or the image data. A first memory interface unit for recording the recorded image data in a primary storage device outside the semiconductor chip and providing an interface for reading the recorded image data from the primary storage device;
A plurality of electrode portions and a plurality of input / output buffers of the first image data interface portion are disposed in at least a part of the electrode region and the input / output buffer region provided along the first side of the semiconductor chip;
A plurality of electrode portions and a plurality of electrode portions of the second image data interface portion are provided in at least a part of the electrode region and the input / output buffer region provided along the second side facing the first side of the semiconductor chip. I / O buffer is arranged,
A plurality of electrode portions and a plurality of input / output buffers of the first memory interface portion are disposed in at least a part of an electrode region and an input / output buffer region provided along the third side of the semiconductor chip; Features.

本実施の形態の半導体集積回路装置の機能ブロック図。1 is a functional block diagram of a semiconductor integrated circuit device of an embodiment. 本実施の形態の半導体集積回路装置をデータ記録装置に適用した場合の動作フローの例を説明するための図。FIG. 6 is a diagram for explaining an example of an operation flow when the semiconductor integrated circuit device of this embodiment is applied to a data recording device. 本実施の形態の半導体集積回路装置における第1のカメラインターフェース部及び第2のカメラインターフェース部の配置例を説明するための図。FIG. 6 is a diagram for explaining an arrangement example of a first camera interface unit and a second camera interface unit in the semiconductor integrated circuit device of the present embodiment. 本実施の形態の半導体集積回路装置における第1のカメラインターフェース部及び第2のカメラインターフェース部の他の配置例を説明するための図。FIG. 6 is a diagram for explaining another arrangement example of the first camera interface unit and the second camera interface unit in the semiconductor integrated circuit device of the present embodiment. 本実施の形態の半導体集積回路装置における第1のカメラインターフェース部、第2のカメラインターフェース部及び第1のメモリインターフェース部の配置例を説明するための図。4 is a diagram for explaining an arrangement example of a first camera interface unit, a second camera interface unit, and a first memory interface unit in the semiconductor integrated circuit device of the present embodiment. FIG. 本実施の形態の半導体集積回路装置における第1のカメラインターフェース部、第2のカメラインターフェース部、第1のメモリインターフェース部及び第2のメモリインターフェース部の配置例を説明するための図。4 is a diagram for explaining an arrangement example of a first camera interface unit, a second camera interface unit, a first memory interface unit, and a second memory interface unit in the semiconductor integrated circuit device of the present embodiment. FIG. 本実施の形態の半導体集積回路装置における第1のメモリインターフェース部が、1次記憶用インターフェースと2次記憶用インターフェースを選択信号により選択して提供する場合における、第1のメモリインターフェース部の配置例を説明するための図。Arrangement example of the first memory interface unit in the case where the first memory interface unit in the semiconductor integrated circuit device of the present embodiment selects and provides the primary storage interface and the secondary storage interface by the selection signal The figure for demonstrating. 本実施の形態の半導体集積回路装置における第1のAD変換部、第1の画像処理部、第2のAD変換部、第2の画像処理部の配置例を説明するための図。4A and 4B are diagrams for describing an arrangement example of a first AD conversion unit, a first image processing unit, a second AD conversion unit, and a second image processing unit in the semiconductor integrated circuit device of this embodiment. 本実施の形態の半導体集積回路装置における第1のメモリインターフェース部及び第2のメモリインターフェース部の他の配置例を説明するための図。FIG. 10 is a diagram for explaining another arrangement example of the first memory interface unit and the second memory interface unit in the semiconductor integrated circuit device of this embodiment. 本実施の形態の半導体集積回路装置における第1のメモリインターフェース部及び第2のメモリインターフェース部の他の配置例を説明するための図。FIG. 10 is a diagram for explaining another arrangement example of the first memory interface unit and the second memory interface unit in the semiconductor integrated circuit device of this embodiment. 本実施の形態の半導体集積回路装置の機能ブロック図の他の例。10 is another example of a functional block diagram of the semiconductor integrated circuit device of this embodiment. 本実施の形態の半導体集積回路装置における第3のメモリインターフェース部の配置例を説明するための図。FIG. 10 is a diagram for explaining an arrangement example of a third memory interface unit in the semiconductor integrated circuit device of the present embodiment; 半導体集積回路装置を含むデータ記録装置のブロック図の一例を示す。1 shows an example of a block diagram of a data recording device including a semiconductor integrated circuit device.

本実施の形態の半導体集積回路装置は、
正方形又は長方形の形状を有し、各辺に沿って周辺部に複数の電極部を配置するための電極領域と、前記電極領域に沿って複数の入出力バッファを配置するための入出力バッファ領域とを有する半導体チップを含む半導体集積回路装置であって、
複数の電極部と複数の入出力バッファを含み、前記半導体チップの外部の第1のカメラモジュールが撮影した画像データを前記半導体チップの内部に供給するためのインターフェースを提供する第1のカメラインターフェース部と、
複数の電極部と複数の入出力バッファを含み、前記半導体チップの外部の第2のカメラモジュールが撮影した画像データを前記半導体チップの内部に供給するためのインターフェースを提供する第2のカメラインターフェース部とを含み、
前記第1のカメラインターフェース部の複数の電極部及び複数の入出力バッファは、
前記半導体チップの第1の辺に沿って設けられている電極領域及び入出力バッファ領域の少なくとも一部に配置され、
前記第2のカメラインターフェース部の複数の電極部及び複数の入出力バッファは、
前記半導体チップの第1の辺と対向する第2の辺に沿って設けられている電極領域及び入出力バッファ領域の少なくとも一部に配置されることを特徴とする。
The semiconductor integrated circuit device of the present embodiment is
An electrode region having a square or rectangular shape and for arranging a plurality of electrode portions in the peripheral portion along each side, and an input / output buffer region for arranging a plurality of input / output buffers along the electrode region A semiconductor integrated circuit device including a semiconductor chip having:
A first camera interface unit that includes a plurality of electrode units and a plurality of input / output buffers, and provides an interface for supplying image data captured by a first camera module outside the semiconductor chip to the inside of the semiconductor chip When,
A second camera interface unit that includes a plurality of electrode units and a plurality of input / output buffers, and provides an interface for supplying image data captured by a second camera module outside the semiconductor chip to the inside of the semiconductor chip Including
The plurality of electrode units and the plurality of input / output buffers of the first camera interface unit are
Disposed in at least a part of the electrode region and the input / output buffer region provided along the first side of the semiconductor chip;
The plurality of electrode units and the plurality of input / output buffers of the second camera interface unit are:
The semiconductor chip is arranged in at least a part of an electrode region and an input / output buffer region provided along a second side facing the first side of the semiconductor chip.

半導体チップを含む半導体集積回路装置は、例えば、半導体チップそのものでもよいし、半導体チップをパッケージングした半導体デバイスであってもよいし、本実施の形態の半導体チップと他の半導体チップを搭載した半導体デバイスであってもよい。   The semiconductor integrated circuit device including the semiconductor chip may be, for example, the semiconductor chip itself, a semiconductor device in which the semiconductor chip is packaged, or a semiconductor on which the semiconductor chip of this embodiment and another semiconductor chip are mounted. It may be a device.

本実施の形態によれば、第1のカメラインターフェース部と第2のカメラインターフェース部を対向する辺に沿って周辺部に配置することにより、信号線の接続を手配線で行う場合はいうまでもなく、自動配線ツールにより配線させる場合であっても、第1のカメラインターフェース部に接続される配線のための配線領域と第2のカメラインターフェース部に接続される配線のための配線領域の重複部分を削減することができる。その結果、配線効率が高くなり配線領域を小さくすることができるため、半導体チップの面積コストを削減することができる。また、配線領域の重複部分を削減することにより、第1のカメラインターフェース部及び第2のカメラインターフェース部から前記半導体チップの内部に供給される2つの画像データ間の干渉や画像データへのノイズの重畳を効果的に防止することができるとともに、配線の寄生容量に伴う信号伝搬遅延の増大を抑制することができるので、高速動作を実現することが可能となる。   According to this embodiment, it goes without saying that the signal lines are connected by hand wiring by arranging the first camera interface unit and the second camera interface unit in the peripheral part along the opposing sides. Even when the wiring is performed by the automatic wiring tool, the overlapping portion of the wiring area for wiring connected to the first camera interface unit and the wiring area for wiring connected to the second camera interface unit Can be reduced. As a result, the wiring efficiency is increased and the wiring area can be reduced, so that the area cost of the semiconductor chip can be reduced. In addition, by reducing the overlapping portion of the wiring area, interference between two image data supplied from the first camera interface unit and the second camera interface unit to the inside of the semiconductor chip and noise in the image data are reduced. Superposition can be effectively prevented and an increase in signal propagation delay due to the parasitic capacitance of the wiring can be suppressed, so that high-speed operation can be realized.

さらに、本実施の形態の半導体集積回路装置をデータ記録装置に使用し、前方と後方の画像を撮影するような場合は、データ記録装置の基板上において、2つのカメラモジュールの間に本実施の形態の半導体集積回路装置を配置すれば、各カメラモジュールと本実施の形態の半導体集積回路装置の間でなされる配線を基板上で交差させる必要がない。従って、基板設計が容易になるととともに、基板の層数を削減することができ、コスト削減の効果を得ることができる。   Further, when the semiconductor integrated circuit device of the present embodiment is used for a data recording device and the front and rear images are taken, the present embodiment is provided between two camera modules on the substrate of the data recording device. If the semiconductor integrated circuit device according to the embodiment is arranged, it is not necessary to cross wirings formed between the camera modules and the semiconductor integrated circuit device according to the present embodiment on the substrate. Therefore, the design of the substrate becomes easy, the number of layers of the substrate can be reduced, and the effect of cost reduction can be obtained.

本実施の形態の半導体集積回路装置は、
前記第2のカメラインターフェース部の複数の電極部及び複数の入出力バッファは、
前記第1のカメラインターフェース部の複数の電極部及び複数の入出力バッファと対向して配置されることを特徴とする。
The semiconductor integrated circuit device of the present embodiment is
The plurality of electrode units and the plurality of input / output buffers of the second camera interface unit are:
The plurality of electrode units and the plurality of input / output buffers of the first camera interface unit are arranged to face each other.

本実施の形態によれば、第1のカメラインターフェース部に接続される配線と第2のカメラインターフェース部に接続される配線の長さをほぼ等しくすることができるため、これらの配線の寄生容量に伴う信号伝搬遅延をほぼ等しくすることができる。その結果、第1のカメラモジュールと第2のカメラモジュールがそれぞれ撮影する画像データを非同期に処理する場合であっても半導体チップの内部で同期させて処理する場合であっても、両者の画像データの対応関係を誤ることなく変換処理を行い、1次記憶装置に記録することができる。   According to the present embodiment, since the length of the wiring connected to the first camera interface unit and the wiring connected to the second camera interface unit can be made substantially equal, the parasitic capacitance of these wirings can be reduced. The accompanying signal propagation delay can be made approximately equal. As a result, both image data captured by the first camera module and the second camera module are processed asynchronously or processed in synchronization within the semiconductor chip. Can be converted and recorded in the primary storage device without mistaking the correspondence relationship.

本実施の形態の半導体集積回路装置は、
複数の電極部と複数の入出力バッファを含み、前記第1のカメラインターフェース部及び前記第2のカメラインターフェース部が前記半導体チップの内部に供給する画像データ又は当該画像データに変換処理を施した画像データを前記半導体チップの外部の1次記憶装置に記録し、記録した画像データを前記1次記憶装置から読み出すための1次記憶用インターフェースを提供する第1のメモリインターフェース部を含み、
前記第1のメモリインターフェース部の複数の電極部及び複数の入出力バッファは、
前記半導体チップの第3の辺に沿って設けられている電極領域及び入出力バッファ領域の少なくとも一部に配置されることを特徴とする。
The semiconductor integrated circuit device of the present embodiment is
Image data that includes a plurality of electrode units and a plurality of input / output buffers and that is supplied to the inside of the semiconductor chip by the first camera interface unit and the second camera interface unit, or an image obtained by performing a conversion process on the image data A first memory interface unit for recording data in a primary storage device outside the semiconductor chip and providing a primary storage interface for reading the recorded image data from the primary storage device;
The plurality of electrode units and the plurality of input / output buffers of the first memory interface unit are
It is characterized in that it is disposed in at least a part of an electrode region and an input / output buffer region provided along the third side of the semiconductor chip.

本実施の形態によれば、第1のメモリインターフェース部を第1のカメラインターフェース部及び第2のカメラインターフェース部が配置される辺と異なる辺に沿って配置するので、第1のカメラインターフェース部又第2のカメラインターフェース部から第1のメモリインターフェース部へ向かうデータ線の配線が、他のモジュールや配線で混み合う可能性が高い中心付近を通らないで済むため、配線効率を高くすることができるだけでなく、画像データにノイズが重畳される可能性を低減することができる。   According to the present embodiment, the first memory interface unit is arranged along a side different from the side where the first camera interface unit and the second camera interface unit are arranged. Since the wiring of the data line from the second camera interface unit to the first memory interface unit does not have to pass through the vicinity of the center where there is a high possibility of being crowded with other modules and wirings, the wiring efficiency can only be increased. In addition, it is possible to reduce the possibility of noise being superimposed on the image data.

また、本実施の形態の半導体集積回路装置を使用するデータ記録装置の基板上において、第1のカメラモジュール、第2のカメラモジュール、1次記憶装置をそれぞれ半導体チップの第1の辺、第2の辺、第3の辺に対向して配置すれば、第1のカメラモジュール、第2のカメラモジュール、1次記憶装置と本実施の形態の半導体集積回路装置の間でなされる配線を基板上で交差させる必要がない。従って、基板設計が容易になるととともに、基板の層数を削減することができ、コスト削減の効果を得ることができる。   Further, on the substrate of the data recording apparatus using the semiconductor integrated circuit device of this embodiment, the first camera module, the second camera module, and the primary storage device are respectively connected to the first side and the second side of the semiconductor chip. If the first camera module, the second camera module, the primary storage device, and the semiconductor integrated circuit device of the present embodiment are arranged on the substrate There is no need to cross. Therefore, the design of the substrate becomes easy, the number of layers of the substrate can be reduced, and the effect of cost reduction can be obtained.

本実施の形態の半導体集積回路装置は、
前記第1のカメラインターフェース部の複数の電極部及び複数の入出力バッファは、前記半導体チップの第1の辺と第3の辺が交差する付近に寄せて電極領域及び入出力バッファ領域に配置され、
前記第2のカメラインターフェース部の複数の電極部及び複数の入出力バッファは、前記半導体チップの第2の辺と第3の辺が交差する付近に寄せて電極領域及び入出力バッファ領域に配置されることを特徴とする。
The semiconductor integrated circuit device of the present embodiment is
The plurality of electrode units and the plurality of input / output buffers of the first camera interface unit are arranged in the electrode region and the input / output buffer region near the first side and the third side of the semiconductor chip. ,
The plurality of electrode units and the plurality of input / output buffers of the second camera interface unit are disposed in the electrode region and the input / output buffer region near the second side and the third side of the semiconductor chip. It is characterized by that.

半導体チップの第1の辺と第3の辺が交差する付近に寄せて配置されるとは、半導体チップの第3の辺と対向する辺を第4の辺とした時、少なくとも、第1の辺と第4の辺が交差する付近よりも第1の辺と第3の辺が交差する付近寄りに配置されていればよい。例えば、第1のカメラインターフェース部の複数の電極部及び複数の入出力バッファは、過半数の電極部の中心点から第1の辺と第3の辺が交差する頂点までの距離が第1の辺と第4の辺が交差する頂点までの距離よりも短くなるように電極領域及び入出力バッファ領域に配置されるようにしてもよい。好ましくは、第1のカメラインターフェース部の複数の電極部及び複数の入出力バッファは、半導体チップの第1の辺と第3の辺が交差する頂点に近い所定の範囲の電極領域及び入出力バッファ領域に配置されるのがよい。例えば、当該複数の電極部は、ボンディングの困難性により電極部を配置することができない第1の辺と第3の辺が交差する頂点付近の電極領域を除き、当該頂点にできる限り近い電極領域に順番に配置するのが好ましい。また、当該複数の入出力バッファは、レイアウトの都合上入出力バッファを配置することができない第1の辺と第3の辺が交差する頂点付近の入出力バッファ領域を除き当該頂点にできる限り近い入出力バッファ領域に電極部と対応させて順番に配置するのが好ましい。   The fact that the first side and the third side of the semiconductor chip are arranged close to each other means that when the side facing the third side of the semiconductor chip is the fourth side, at least the first side What is necessary is just to be arrange | positioned near the vicinity which a 1st edge | side and a 3rd edge | intersection cross rather than the vicinity where an edge | side and a 4th edge | side cross | intersect. For example, in the plurality of electrode units and the plurality of input / output buffers of the first camera interface unit, the distance from the center point of the majority of the electrode units to the vertex where the first side and the third side intersect is the first side. May be arranged in the electrode region and the input / output buffer region so as to be shorter than the distance to the vertex where the fourth side intersects. Preferably, the plurality of electrode units and the plurality of input / output buffers of the first camera interface unit are in a predetermined range of electrode regions and input / output buffers close to a vertex at which the first side and the third side of the semiconductor chip intersect. It should be placed in the area. For example, the plurality of electrode portions are electrode regions that are as close as possible to the vertexes except for an electrode region in the vicinity of the vertex where the first side and the third side cannot be arranged due to difficulty in bonding. It is preferable to arrange them in order. Further, the plurality of input / output buffers are as close as possible to the vertexes except for an input / output buffer region near the vertex where the first side and the third side cannot be arranged for layout reasons. It is preferable to arrange them in order in the input / output buffer region so as to correspond to the electrode portions.

同様に、半導体チップの第2の辺と第3の辺が交差する付近に寄せて配置されるとは、半導体チップの第3の辺と対向する辺を第4の辺とした時、少なくとも、第2の辺と第4の辺が交差する付近よりも第2の辺と第3の辺が交差する付近寄りに配置されていればよい。例えば、第2のカメラインターフェース部の複数の電極部及び複数の入出力バッファは、過半数の電極部の中心点から第2の辺と第3の辺が交差する頂点までの距離が第2の辺と第4の辺が交差する頂点までの距離よりも短くなるように電極領域及び入出力バッファ領域に配置されるようにしてもよい。好ましくは、第2のカメラインターフェース部の複数の電極部及び複数の入出力バッファは、半導体チップの第2の辺と第3の辺が交差する頂点に近い所定の範囲の電極領域及び入出力バッファ領域に配置されるのがよい。例えば、当該複数の電極部は、ボンディングの困難性により電極部を配置することができない第2の辺と第3の辺が交差する頂点付近の電極領域を除き、当該頂点にできる限り近い電極領域に順番に配置するのが好ましい。また、当該複数の入出力バッファは、レイアウトの都合上入出力バッファを配置することができない第2の辺と第3の辺が交差する頂点付近の入出力バッファ領域を除き当該頂点にできる限り近い入出力バッファ領域に電極部と対応させて順番に配置するのが好ましい。   Similarly, when the second side and the third side of the semiconductor chip are arranged close to each other, when the side facing the third side of the semiconductor chip is the fourth side, at least, It suffices if the second side and the third side are arranged closer to the vicinity where the second side and the fourth side intersect than the vicinity where the second side and the fourth side intersect. For example, in the plurality of electrode units and the plurality of input / output buffers of the second camera interface unit, the distance from the center point of the majority of the electrode units to the vertex where the second side and the third side intersect is the second side. May be arranged in the electrode region and the input / output buffer region so as to be shorter than the distance to the vertex where the fourth side intersects. Preferably, the plurality of electrode units and the plurality of input / output buffers of the second camera interface unit are a predetermined range of electrode regions and input / output buffers close to a vertex at which the second side and the third side of the semiconductor chip intersect. It should be placed in the area. For example, the plurality of electrode portions are electrode regions that are as close as possible to the vertexes except for an electrode region near the vertex where the second side and the third side cannot be arranged due to difficulty in bonding. It is preferable to arrange them in order. Further, the plurality of input / output buffers are as close as possible to the vertexes except for an input / output buffer region in the vicinity of the vertex where the second side and the third side intersect where the input / output buffer cannot be arranged due to layout. It is preferable to arrange them in order in the input / output buffer region so as to correspond to the electrode portions.

本実施の形態によれば、第1のカメラインターフェース部及び第2のカメラインターフェース部と第1のメモリインターフェース部の距離を短くすることができる。従って、2つのカメラモジュールが撮影し、第1のカメラインターフェース部及び第2のカメラインターフェース部を介してそれぞれ供給された画像データを、第1のメモリインターフェース部を介して1次記憶装置に記録することを想定すると、第1のカメラインターフェース部及び第2のカメラインターフェース部に接続される配線の長さを短くすることができるので、配線効率を高くすることができる。さらに、配線の長さを短くすることにより、1次記憶装置への記録動作を高速化することができるので、単位時間あたりの保存可能な画像データ数を多くすることも可能であり、本実施の形態の半導体集積回路装置を使用すれば信頼性および証拠能力の高いデータ記録装置を提供することができる。   According to this embodiment, the distance between the first camera interface unit and the second camera interface unit and the first memory interface unit can be shortened. Accordingly, the image data captured by the two camera modules and supplied via the first camera interface unit and the second camera interface unit are recorded in the primary storage device via the first memory interface unit. Assuming this, since the length of the wiring connected to the first camera interface unit and the second camera interface unit can be shortened, the wiring efficiency can be increased. Furthermore, since the recording operation to the primary storage device can be speeded up by shortening the wiring length, it is possible to increase the number of image data that can be stored per unit time. If the semiconductor integrated circuit device of the form is used, a data recording device with high reliability and high evidence ability can be provided.

本実施の形態の半導体集積回路装置は、
前記半導体チップの第1の辺と第3の辺が交差する付近の入出力バッファ領域において、前記第1のカメラインターフェース部の電源供給線と前記第1のメモリインターフェース部の電源供給線が分離され、
前記半導体チップの第2の辺と第3の辺が交差する付近の入出力バッファ領域において、前記第2のカメラインターフェース部の電源供給線と前記第1のメモリインターフェース部の電源供給線が分離されることを特徴とする。
The semiconductor integrated circuit device of the present embodiment is
In the input / output buffer region near the first side and the third side of the semiconductor chip, the power supply line of the first camera interface unit and the power supply line of the first memory interface unit are separated. ,
In the input / output buffer region near the second side and the third side of the semiconductor chip, the power supply line of the second camera interface unit and the power supply line of the first memory interface unit are separated. It is characterized by that.

本実施の形態によれば、第1のカメラインターフェース部及び第2のカメラインターフェース部の動作電圧と第1のメモリインターフェース部の動作電圧が異なるような場合であっても、有効に使用できない角付近の入出力バッファ領域を使用して電源分離を実現することができる。   According to the present embodiment, even when the operating voltage of the first camera interface unit and the second camera interface unit and the operating voltage of the first memory interface unit are different, near the corner that cannot be used effectively Power supply isolation can be realized using the input / output buffer area.

本実施の形態の半導体集積回路装置は、
複数の電極部と複数の入出力バッファを含み、前記1次記憶装置に記録された画像データ又は当該画像データに変換処理を施した画像データを前記半導体チップの外部の2次記憶装置に記録するためのインターフェースを提供する第2のメモリインターフェース部を含み、
前記第2のメモリインターフェース部の電極部及び複数の入出力バッファは、
前記半導体チップの第3の辺と対向する第4の辺に沿って設けられている電極領域及び入出力バッファ領域の少なくとも一部に配置されることを特徴とする。
The semiconductor integrated circuit device of the present embodiment is
Image data recorded in the primary storage device or image data obtained by converting the image data is recorded in a secondary storage device outside the semiconductor chip, including a plurality of electrode units and a plurality of input / output buffers. A second memory interface unit providing an interface for
The electrode unit and the plurality of input / output buffers of the second memory interface unit are
The semiconductor chip is disposed in at least a part of an electrode region and an input / output buffer region provided along a fourth side facing the third side of the semiconductor chip.

本実施の形態によれば、第1のカメラインターフェース部及び第2のカメラインターフェース部から第1のメモリインターフェース部へ向かうデータ線のための配線領域と、第1のメモリインターフェース部から第2のメモリインターフェース部へ向かうデータ線のための配線領域の重複部分を効果的に削減することができる。   According to the present embodiment, the wiring area for the data line from the first camera interface unit and the second camera interface unit to the first memory interface unit, and the second memory from the first memory interface unit It is possible to effectively reduce the overlapping portion of the wiring area for the data line toward the interface unit.

また、本実施の形態の集積回路装置をデータ記録装置に使用する場合、一般に、1次記憶装置に対する記録動作の方が2次記憶装置に対する記録動作に比べて圧倒的に高速に行う必要があるが、第1のカメラインターフェース部及び第2のカメラインターフェース部を第1のメモリインターフェース部の近くに配置することにより、第1のメモリインターフェース部を介して画像データを1次記憶装置に記録する動作を高速化することができる。   When the integrated circuit device according to the present embodiment is used for a data recording device, it is generally necessary to perform the recording operation for the primary storage device at an overwhelmingly higher speed than the recording operation for the secondary storage device. However, by arranging the first camera interface unit and the second camera interface unit in the vicinity of the first memory interface unit, the operation of recording the image data in the primary storage device via the first memory interface unit Can be speeded up.

さらに、本実施の形態の半導体集積回路装置を使用するデータ記録装置の基板上において、第1のカメラモジュール、第2のカメラモジュール、1次記憶装置、2次記憶装置をそれぞれ半導体チップの第1の辺、第2の辺、第3の辺、第4の辺に対向して配置すれば、第1のカメラモジュール、第2のカメラモジュール、1次記憶装置、2次記憶装置と本実施の形態の半導体集積回路装置の間でなされる配線を基板上で交差させる必要がない。従って、基板設計が容易になるととともに、基板の層数を削減することができ、コスト削減の効果を得ることができる。   Further, on the substrate of the data recording apparatus using the semiconductor integrated circuit device of this embodiment, the first camera module, the second camera module, the primary storage device, and the secondary storage device are respectively connected to the first semiconductor chip. 1st camera module, second camera module, primary storage device, secondary storage device and the present embodiment are arranged opposite to the second side, the second side, the third side, and the fourth side. It is not necessary to cross the wiring formed between the semiconductor integrated circuit devices in the form on the substrate. Therefore, the design of the substrate becomes easy, the number of layers of the substrate can be reduced, and the effect of cost reduction can be obtained.

本実施の形態の半導体集積回路装置は、
前記第1のメモリインターフェース部は、
前記1次記憶用インターフェースと、前記1次記憶装置に記録された画像データ又は当該画像データに変換処理を施した画像データを前記半導体チップの外部の2次記憶装置に記録するためのインターフェースのいずれかを選択して提供するための選択信号を前記半導体チップの外部に出力するための少なくとも1つの電極部を含むことを特徴とする。
The semiconductor integrated circuit device of the present embodiment is
The first memory interface unit includes:
Any of the primary storage interface and an interface for recording image data recorded in the primary storage device or image data obtained by converting the image data in a secondary storage device outside the semiconductor chip. It includes at least one electrode portion for outputting a selection signal for selecting and providing the selection to the outside of the semiconductor chip.

本実施の形態によれば、第1のメモリインターフェース部から第2のメモリインターフェース部へ向かうデータ線が不要となり、配線領域を削減することができるので、配線効率を高くすることができる。   According to the present embodiment, the data line from the first memory interface unit to the second memory interface unit is not necessary, and the wiring area can be reduced, so that the wiring efficiency can be increased.

本実施の形態の半導体集積回路装置は、
前記第1のカメラインターフェース部が前記半導体チップの内部に供給する画像データに変換処理を施す第1の画像処理部と、
前記第2のカメラインターフェース部が前記半導体チップの内部に供給する画像データに変換処理を施す第2の画像処理部とを含み、
前記第1の画像処理部は、前記第1のカメラインターフェース部の隣に配置され、
前記第2の画像処理部は、前記第2のカメラインターフェース部の隣に配置されることを特徴とする。
The semiconductor integrated circuit device of the present embodiment is
A first image processing unit that performs conversion processing on image data supplied to the inside of the semiconductor chip by the first camera interface unit;
A second image processing unit that performs conversion processing on image data supplied to the inside of the semiconductor chip by the second camera interface unit,
The first image processing unit is disposed next to the first camera interface unit,
The second image processing unit is arranged next to the second camera interface unit.

本実施の形態によれば、第1のカメラインターフェース部から第1の画像処理部へ向かうデータ線の配線及び第2のカメラインターフェース部から第2の画像処理部へ向かうデータ線の配線の長さを短くすることができるので、配線領域の削減及び画像処理の高速化を実現することができる。   According to the present embodiment, the length of the data line that runs from the first camera interface unit to the first image processing unit and the length of the data line that runs from the second camera interface unit to the second image processing unit. Therefore, the wiring area can be reduced and the image processing speed can be increased.

本実施の形態の半導体集積回路装置は、
前記第1のカメラインターフェース部が前記半導体チップの内部に供給するアナログ画像データをデジタル画像データに変換する処理を施す第1のAD変換部と、
前記第2のカメラインターフェース部が前記半導体チップの内部に供給するアナログ画像データをデジタル画像データに変換する処理を施す第2のAD変換部とを含み、
前記第1のAD変換部は、前記第1のカメラインターフェース部の隣に配置され、
前記第2のAD変換部は、前記第2のカメラインターフェース部の隣に配置されることを特徴とする。
The semiconductor integrated circuit device of the present embodiment is
A first AD converter that performs processing for converting analog image data supplied to the inside of the semiconductor chip by the first camera interface unit into digital image data;
A second AD conversion unit that performs processing for converting analog image data supplied to the inside of the semiconductor chip by the second camera interface unit into digital image data;
The first AD conversion unit is disposed next to the first camera interface unit,
The second AD conversion unit is arranged next to the second camera interface unit.

本実施の形態によれば、第1のカメラインターフェース部から第1のAD変換部へ向かうデータ線の配線及び第2のカメラインターフェース部から第2のAD変換部へ向かうデータ線の配線の長さを短くすることができるので、配線領域の削減を実現することができる。   According to the present embodiment, the length of the data line wiring from the first camera interface unit to the first AD conversion unit and the length of the data line wiring from the second camera interface unit to the second AD conversion unit. Therefore, the wiring area can be reduced.

本実施の形態の半導体集積回路装置は、
前記第1のAD変換部が変換したデジタル画像データに変換処理を施す第1の画像処理部と、
前記第2のAD変換部が変換したデジタル画像データに変換処理を施す第2の画像処理部とを含み、
前記第1の画像処理部は、前記第1のカメラインターフェース部の隣に配置され、
前記第2の画像処理部は、前記第2のカメラインターフェース部の隣に配置されることを特徴とする。
The semiconductor integrated circuit device of the present embodiment is
A first image processing unit that performs a conversion process on the digital image data converted by the first AD conversion unit;
A second image processing unit that performs a conversion process on the digital image data converted by the second AD conversion unit,
The first image processing unit is disposed next to the first camera interface unit,
The second image processing unit is arranged next to the second camera interface unit.

本実施の形態によれば、第1のカメラインターフェース部及び第2のカメラインターフェース部がアナログ画像データ入力とデジタル画像データ入力の両方が可能であるような場合であっても、第1のカメラインターフェース部から第1のAD変換部へ向かうデータ線の配線、第1のカメラインターフェース部から第1の画像処理部へ向かうデータ線の配線、第2のカメラインターフェース部から第2のAD変換部へ向かうデータ線の配線、第2のカメラインターフェース部から第2の画像処理部へ向かうデータ線の配線の長さをすべて短くすることができる。従って、配線領域を削減することができるので、配線効率を高くすることができる。   According to the present embodiment, even if the first camera interface unit and the second camera interface unit are capable of both analog image data input and digital image data input, the first camera interface unit Wiring from the first camera unit to the first AD conversion unit, wiring from the first camera interface unit to the first image processing unit, and from the second camera interface unit to the second AD conversion unit The lengths of the data lines and the lengths of the data lines from the second camera interface unit to the second image processing unit can be reduced. Accordingly, the wiring area can be reduced, and the wiring efficiency can be increased.

本実施の形態は、
上記のいずれかに記載された半導体集積回路装置と、第1のカメラモジュールと、第2のカメラモジュールと、1次記憶装置と、2次記憶装置とを含むことを特徴とするデータ記録装置である。
This embodiment is
A data recording apparatus comprising: the semiconductor integrated circuit device according to any one of the above; a first camera module; a second camera module; a primary storage device; and a secondary storage device. is there.

本実施の形態は、
正方形又は長方形の形状を有し、各辺に沿って周辺部に複数の電極部を配置するための電極領域と、前記電極領域に沿って複数の入出力バッファを配置するための入出力バッファ領域とを有する半導体チップを含む半導体集積回路装置のレイアウト方法であって、
前記半導体集積回路装置は、
複数の電極部と複数の入出力バッファを含み、前記半導体チップの外部の第1のカメラモジュールが撮影した画像データを前記半導体チップの内部に供給するためのインターフェースを提供する第1のカメラインターフェース部と、
複数の電極部と複数の入出力バッファを含み、前記半導体チップの外部の第2のカメラモジュールが撮影した画像データを前記半導体チップの内部に供給するためのインターフェースを提供する第2のカメラインターフェース部と、
複数の電極部と複数の入出力バッファを含み、前記第1のカメラインターフェース部及び前記第2のカメラインターフェース部が前記半導体チップの内部に供給する画像データ又は当該画像データに変換処理を施した画像データを前記半導体チップの外部の1次記憶装置に記録し、記録した画像データを前記1次記憶装置から読み出すためのインターフェースを提供する第1のメモリインターフェース部とを含み、
前記半導体チップの第1の辺に沿って設けられている電極領域及び入出力バッファ領域の少なくとも一部に前記第1のカメラインターフェース部の複数の電極部と複数の入出力バッファを配置し、
前記半導体チップの第1の辺と対向する第2の辺に沿って設けられている電極領域及び入出力バッファ領域の少なくとも一部に前記第2のカメラインターフェース部の複数の電極部と複数の入出力バッファを配置し、
前記半導体チップの第3の辺に沿って設けられている電極領域及び入出力バッファ領域の少なくとも一部に前記第1のメモリインターフェース部の複数の電極部と複数の入出力バッファを配置することを特徴とする半導体集積回路装置のレイアウト方法である。
This embodiment is
An electrode region having a square or rectangular shape and for arranging a plurality of electrode portions in the peripheral portion along each side, and an input / output buffer region for arranging a plurality of input / output buffers along the electrode region A semiconductor integrated circuit device layout method including a semiconductor chip having:
The semiconductor integrated circuit device includes:
A first camera interface unit that includes a plurality of electrode units and a plurality of input / output buffers, and provides an interface for supplying image data captured by a first camera module outside the semiconductor chip to the inside of the semiconductor chip When,
A second camera interface unit that includes a plurality of electrode units and a plurality of input / output buffers, and provides an interface for supplying image data captured by a second camera module outside the semiconductor chip to the inside of the semiconductor chip When,
Image data that includes a plurality of electrode units and a plurality of input / output buffers and that is supplied to the inside of the semiconductor chip by the first camera interface unit and the second camera interface unit, or an image obtained by performing a conversion process on the image data A first memory interface unit for recording data in a primary storage device external to the semiconductor chip and providing an interface for reading the recorded image data from the primary storage device;
A plurality of electrode portions and a plurality of input / output buffers of the first camera interface portion are disposed in at least a part of the electrode region and the input / output buffer region provided along the first side of the semiconductor chip;
At least a part of the electrode region and the input / output buffer region provided along the second side opposite to the first side of the semiconductor chip, the plurality of electrode units of the second camera interface unit and the plurality of input regions. Arrange the output buffer,
A plurality of electrode portions and a plurality of input / output buffers of the first memory interface portion are disposed in at least a part of an electrode region and an input / output buffer region provided along the third side of the semiconductor chip; A semiconductor integrated circuit device layout method is characterized.

以下、本発明の好適な実施形態について図面を用いて詳細に説明する。なお、以下に説明する実施の形態は、特許請求の範囲に記載された本発明の内容を不当に限定するものではない。また以下で説明される構成の全てが本発明の必須構成要件であるとは限らない。   DESCRIPTION OF EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The embodiments described below do not unduly limit the contents of the present invention described in the claims. Also, not all of the configurations described below are essential constituent requirements of the present invention.

1.半導体集積回路装置
図1は、本実施の形態の半導体集積回路装置の機能ブロック図である。半導体集積回路装置10は、CPU100、メモリコントローラ150及びROM180を含んでもよい。CPU100は、メモリコントローラ150を介してROM180に格納されたプログラムを読み出し、当該プログラムを構成する各命令を実行することにより、半導体集積回路装置10の動作を制御する。
1. Semiconductor Integrated Circuit Device FIG. 1 is a functional block diagram of the semiconductor integrated circuit device of the present embodiment. The semiconductor integrated circuit device 10 may include a CPU 100, a memory controller 150, and a ROM 180. The CPU 100 reads out a program stored in the ROM 180 via the memory controller 150 and executes each command constituting the program, thereby controlling the operation of the semiconductor integrated circuit device 10.

半導体集積回路装置10は、第1の画像データインターフェース部として機能する第1のカメラインターフェース部110を含む。第1のカメラインターフェース部110は、第1のカメラモジュール20が撮影した画像データ22を半導体集積回路装置10の内部に供給するためのインターフェースを提供する。第1のカメラインターフェース部110は、例えば、画像データ22がデジタル画像データである場合は、半導体集積回路装置10の内部電源電圧に適合するように画像データ22の電圧レベルをシフトさせるレベルシフタであってもよいし、画像データ22の電圧レベルが半導体集積回路装置10の内部電源電圧に適合している場合は単なるデジタル入力バッファであってもよい。また、画像データ22がアナログ画像データである場合はアナログ入力バッファであってもよい。   The semiconductor integrated circuit device 10 includes a first camera interface unit 110 that functions as a first image data interface unit. The first camera interface unit 110 provides an interface for supplying the image data 22 captured by the first camera module 20 to the inside of the semiconductor integrated circuit device 10. For example, when the image data 22 is digital image data, the first camera interface unit 110 is a level shifter that shifts the voltage level of the image data 22 to match the internal power supply voltage of the semiconductor integrated circuit device 10. Alternatively, when the voltage level of the image data 22 is compatible with the internal power supply voltage of the semiconductor integrated circuit device 10, a simple digital input buffer may be used. Further, when the image data 22 is analog image data, it may be an analog input buffer.

半導体集積回路装置10は、第1の画像処理部120を含む。第1の画像処理部120は、第1のカメラインターフェース部110が出力する画像データ112に変換処理を施す。第1の画像処理部120は、例えば、静止画像データを圧縮又は伸長するJPEGエンコーダ/デコーダ、動画像データを圧縮又は伸長するMPEGエンコーダ/デコーダ、IP(Interlace to Progressive)変換器などであってもよい。なお、画像データ22がアナログ画像データである場合は、第1のカメラインターフェース部110(例えば、アナログ入力バッファ)の出力にAD変換器を接続し、アナログ画像データをデジタル画像データに変換した後、第1の画像処理部120に供給するようにしてもよい。   The semiconductor integrated circuit device 10 includes a first image processing unit 120. The first image processing unit 120 performs conversion processing on the image data 112 output from the first camera interface unit 110. The first image processing unit 120 may be, for example, a JPEG encoder / decoder that compresses or expands still image data, an MPEG encoder / decoder that compresses or expands moving image data, an IP (Interlace to Progressive) converter, and the like. Good. If the image data 22 is analog image data, an AD converter is connected to the output of the first camera interface unit 110 (for example, an analog input buffer), and the analog image data is converted into digital image data. You may make it supply to the 1st image process part 120. FIG.

半導体集積回路装置10は、第2の画像データインターフェース部として機能する第2のカメラインターフェース部130を含む。第2のカメラインターフェース部130は、第2のカメラモジュール30が撮影した画像データ32を半導体集積回路装置10の内部に供給するためのインターフェースを提供する。第2のカメラインターフェース部130は、例えば、画像データ32がデジタル画像データである場合は、半導体集積回路装置10の内部電源電圧に適合するように画像データ32の電圧レベルをシフトさせるレベルシフタであってもよいし、画像データ32の電圧レベルが半導体集積回路装置10の内部電源電圧に適合している場合は単なるデジタル入力バッファであってもよい。また、画像データ32がアナログ画像データである場合はアナログ入力バッファであってもよい。なお、第1のカメラインターフェース部110と第2のカメラインターフェース部130は同一の構成である必要はなく、例えば、画像データ22と画像データ32が異なるビット数のデジタル画像データである場合や、一方がアナログ画像データであり、他方がデジタル画像データであるような場合には、異なる構成であってもよい。   The semiconductor integrated circuit device 10 includes a second camera interface unit 130 that functions as a second image data interface unit. The second camera interface unit 130 provides an interface for supplying the image data 32 captured by the second camera module 30 to the inside of the semiconductor integrated circuit device 10. For example, when the image data 32 is digital image data, the second camera interface unit 130 is a level shifter that shifts the voltage level of the image data 32 so as to match the internal power supply voltage of the semiconductor integrated circuit device 10. Alternatively, when the voltage level of the image data 32 is compatible with the internal power supply voltage of the semiconductor integrated circuit device 10, a simple digital input buffer may be used. Further, when the image data 32 is analog image data, it may be an analog input buffer. The first camera interface unit 110 and the second camera interface unit 130 do not need to have the same configuration. For example, when the image data 22 and the image data 32 are digital image data having different bit numbers, In the case where is analog image data and the other is digital image data, a different configuration may be used.

半導体集積回路装置10は、第2の画像処理部140を含む。第2の画像処理部140は、第2のカメラインターフェース部130が出力する画像データ132に変換処理を施す。第2の画像処理部140は、例えば、静止画像データを圧縮又は伸長するJPEGエンコーダ/デコーダ、動画像データを圧縮又は伸長するMPEGエンコーダ/デコーダ、IP変換器などであってもよい。なお、画像データ32がアナログ画像データである場合は、第2のカメラインターフェース部130(例えば、アナログ入力バッファ)の出力にAD変換器を接続し、アナログ画像データをデジタル画像データに変換した後、第2の画像処理部140に供給するようにしてもよい。   The semiconductor integrated circuit device 10 includes a second image processing unit 140. The second image processing unit 140 performs conversion processing on the image data 132 output from the second camera interface unit 130. The second image processing unit 140 may be, for example, a JPEG encoder / decoder that compresses or expands still image data, an MPEG encoder / decoder that compresses or expands moving image data, an IP converter, and the like. When the image data 32 is analog image data, an AD converter is connected to the output of the second camera interface unit 130 (for example, an analog input buffer), and the analog image data is converted into digital image data. You may make it supply to the 2nd image process part 140. FIG.

半導体集積回路装置10は、第1のメモリインターフェース部160を含む。第1のメモリインターフェース部160は、第1のカメラインターフェース部110及び第2のカメラインターフェース部130が内部に供給する画像データ112、132又は画像データ112、132に変換処理を施した画像データ122、142を1次記憶装置40に記録し、記録した画像データを1次記憶装置40から読み出すための1次記憶用インターフェースを提供する。第1のメモリインターフェース部160は、例えば、半導体集積回路装置10の内部電源電圧又は1次記憶装置40の電源電圧に適合するように画像データ162又は152の電圧レベルをシフトさせるレベルシフタであってもよいし、半導体集積回路装置10の内部電源電圧と1次記憶装置40の電源電圧が適合している場合は単なるデジタル入出力バッファであってもよい。   The semiconductor integrated circuit device 10 includes a first memory interface unit 160. The first memory interface unit 160 includes image data 112 and 132 that are supplied to the inside by the first camera interface unit 110 and the second camera interface unit 130, or image data 122 that is obtained by performing conversion processing on the image data 112 and 132, 142 is recorded in the primary storage device 40, and a primary storage interface for reading the recorded image data from the primary storage device 40 is provided. For example, the first memory interface unit 160 may be a level shifter that shifts the voltage level of the image data 162 or 152 so as to match the internal power supply voltage of the semiconductor integrated circuit device 10 or the power supply voltage of the primary storage device 40. Alternatively, when the internal power supply voltage of the semiconductor integrated circuit device 10 and the power supply voltage of the primary storage device 40 are compatible, a simple digital input / output buffer may be used.

半導体集積回路装置10は、第2のメモリインターフェース部170を含む。第2のメモリインターフェース部170は、1次記憶装置40に記録された画像データ又は当該画像データに変換処理を施した画像データを2次記憶装置50に記録するための2次記憶用インターフェースを提供する。第2のメモリインターフェース部170は、例えば、半導体集積回路装置10の内部電源電圧又は2次記憶装置50の電源電圧に適合するように画像データ172又は154の電圧レベルをシフトさせるレベルシフタであってもよいし、半導体集積回路装置10の内部電源電圧と2次記憶装置50の電源電圧が適合している場合は単なるデジタル入出力バッファであってもよい。   The semiconductor integrated circuit device 10 includes a second memory interface unit 170. The second memory interface unit 170 provides a secondary storage interface for recording the image data recorded in the primary storage device 40 or the image data obtained by converting the image data in the secondary storage device 50. To do. For example, the second memory interface unit 170 may be a level shifter that shifts the voltage level of the image data 172 or 154 so as to match the internal power supply voltage of the semiconductor integrated circuit device 10 or the power supply voltage of the secondary storage device 50. Alternatively, when the internal power supply voltage of the semiconductor integrated circuit device 10 and the power supply voltage of the secondary storage device 50 are compatible, a simple digital input / output buffer may be used.

なお、半導体集積回路装置10は、第1のカメラモジュール及び第2のカメラモジュールに対応する第1のカメラインターフェース部110及び第2のカメラインターフェース部130を他のインターフェースに対応する第1の画像データインターフェース部及び第2の画像データインターフェース部に置き換えてもよい。例えば、第1の画像データインターフェース部及び第2の画像データインターフェース部は、JPEGエンコーダICやIP変換用ICに対応するインターフェースを有するようにしてもよい。
図2は、本実施の形態の半導体集積回路装置をデータ記録装置に適用した場合の動作フローの例を説明するための図である。以下、図1を参照しながら動作フローを説明する。
The semiconductor integrated circuit device 10 uses the first camera interface unit 110 and the second camera interface unit 130 corresponding to the first camera module and the second camera module as the first image data corresponding to another interface. The interface unit and the second image data interface unit may be replaced. For example, the first image data interface unit and the second image data interface unit may have an interface corresponding to a JPEG encoder IC or an IP conversion IC.
FIG. 2 is a diagram for explaining an example of an operation flow when the semiconductor integrated circuit device of the present embodiment is applied to a data recording device. The operation flow will be described below with reference to FIG.

CPU100は、第1のカメラモジュール20が一定時間間隔で撮影し供給する画像データ22を第1のカメラインターフェース部110が受け取った画像データ112又は第1の画像処理部120が変換処理を施した画像データ122を、第1のメモリインターフェース部160を介して1次記憶装置40の所定の記憶領域にサイクリックに順次記録する(ステップS10)。   The CPU 100 receives the image data 22 received by the first camera interface unit 110 or the image processed by the first image processing unit 120 for the image data 22 captured and supplied by the first camera module 20 at regular time intervals. The data 122 is sequentially and sequentially recorded in a predetermined storage area of the primary storage device 40 via the first memory interface unit 160 (step S10).

同様に、CPU100は、第2のカメラモジュール30が一定時間間隔で撮影し供給する画像データ32を第2のカメラインターフェース部130が受け取った画像データ132又は第2の画像処理部140が変換処理を施した画像データ142を、第1のメモリインターフェース部160を介して1次記憶装置40の所定の記憶領域にサイクリックに順次記録する(ステップS12)。   Similarly, in the CPU 100, the image data 132 received by the second camera interface unit 130 or the second image processing unit 140 converts the image data 32 that is captured and supplied by the second camera module 30 at regular time intervals. The applied image data 142 is sequentially and sequentially recorded in a predetermined storage area of the primary storage device 40 via the first memory interface unit 160 (step S12).

ステップS10及びステップS12において、第1の画像処理部120及び第2の画像処理部140がDMA(Direct Memory Access)転送機能を有する場合には、第1の画像処理部120及び第2の画像処理部140が第1のメモリインターフェース部160を介して画像データ122及び142を直接、1次記憶装置40に記録することもできる。その場合、CPU100の負荷を低減することができる。   In step S10 and step S12, when the first image processing unit 120 and the second image processing unit 140 have a DMA (Direct Memory Access) transfer function, the first image processing unit 120 and the second image processing are performed. The unit 140 can directly record the image data 122 and 142 in the primary storage device 40 via the first memory interface unit 160. In that case, the load on the CPU 100 can be reduced.

所定のイベント(例えば、図示しない加速度センサの出力が閾値を超える等のイベント)が発生するまで、CPU100は、1次記憶装置40への画像データの記録を一定時間間隔で行う(ステップS10〜S14)。所定のイベントが発生すると、CPU100は、ステップS10及びステップS12で1次記憶装置40に記録した画像データの一部(例えば、イベントが発生する15秒前以降の画像データ)を順次読み出し(ステップS16)、第2のメモリインターフェース部170を介して2次記憶装置50に記録する(ステップS18)。   Until a predetermined event (for example, an event such as the output of an acceleration sensor not shown exceeds a threshold value) occurs, the CPU 100 records image data in the primary storage device 40 at regular time intervals (steps S10 to S14). ). When a predetermined event occurs, the CPU 100 sequentially reads out part of the image data recorded in the primary storage device 40 in step S10 and step S12 (for example, image data after 15 seconds before the event occurs) (step S16). ) And recorded in the secondary storage device 50 through the second memory interface unit 170 (step S18).

同様に、CPU100は、第2のカメラモジュール30が定期的に撮影し供給する画像データ32を第2のカメラインターフェース部130が受け取った画像データ132又は第2の画像処理部140が変換処理を施した画像データ142を、第1のメモリインターフェース部160を介して1次記憶装置40の所定の記憶領域にサイクリックに順次記録する(ステップS22)。   Similarly, the CPU 100 causes the image data 132 received by the second camera interface unit 130 or the second image processing unit 140 to perform conversion processing on the image data 32 that the second camera module 30 periodically captures and supplies. The processed image data 142 is cyclically recorded sequentially in a predetermined storage area of the primary storage device 40 via the first memory interface unit 160 (step S22).

2次記憶装置50に一定数の画像データ(例えば、イベント発生前15秒間及びイベント発生後5秒間の画像データ)を記録するまで、CPU100は、2次記憶装置50及び1次記憶装置40への画像データの記録を順次行う(ステップS16〜S24)。その結果、所定のイベント発生前後の必要な画像データを2次記憶装置50に記録し、長期的に保存することが可能になる。   Until a certain number of image data is recorded in the secondary storage device 50 (for example, image data for 15 seconds before the event occurrence and 5 seconds after the event occurrence), the CPU 100 stores data in the secondary storage device 50 and the primary storage device 40. Image data is sequentially recorded (steps S16 to S24). As a result, necessary image data before and after the occurrence of a predetermined event can be recorded in the secondary storage device 50 and stored for a long time.

図3は、本実施の形態の半導体集積回路装置における第1のカメラインターフェース部及び第2のカメラインターフェース部の配置例を説明するための図である。本実施の形態の半導体集積回路装置に含まれる半導体チップ200は、正方形又は長方形の形状を有し、各辺に沿って周辺部に複数の電極部212を配置するための電極領域210と、電極領域210に沿って複数の入出力バッファ222を配置するための入出力バッファ領域220とを有する。   FIG. 3 is a diagram for explaining an arrangement example of the first camera interface unit and the second camera interface unit in the semiconductor integrated circuit device of the present embodiment. A semiconductor chip 200 included in the semiconductor integrated circuit device of the present embodiment has a square or rectangular shape, an electrode region 210 for arranging a plurality of electrode portions 212 in the peripheral portion along each side, and an electrode An input / output buffer area 220 for arranging a plurality of input / output buffers 222 along the area 210 is provided.

電極部212は、半導体チップ200の外部から信号を入力し、又は半導体チップ200の外部に信号を出力するために使用される。入出力バッファ222は、電極部212と接続されており、電極部212に入力される信号の電圧レベルを半導体チップ200の内部動作電圧レベルに適合させて内部に供給し、又は半導体チップ200の内部動作電圧レベルを外部モジュールの動作電圧レベルに適合させて電極部212から出力するためのレベルシフタとして機能する。そのため、入出力バッファ222には、少なくとも、高電源電圧(HVDD)供給線、低電源電圧(LVDD)供給線及び接地電位(VSS)供給線が備えられている。例えば、内部電源電圧がLVDDであり、外部モジュールの電源電圧がHVDDであるような場合、入出力バッファ222は、電源電圧をHVDD(例えば、2.4V〜3.6V)からLVDD(例えば、1.8V)に変換し、又はLVDDからHVDDに変換するレベルシフタとして機能する。また、外部モジュールの電源電圧と内部電源電圧が適合している場合は、高電源電圧供給線と低電源電圧供給線をショートさせて使用することにより、入出力バッファ222を単なるバッファとして機能させることもできる。なお、入出力バッファ212は、入力のみ可能なバッファであってもよいし、出力のみ可能なバッファであってもよいし、入出力が可能なバッファであってもよい。複数の入出力バッファ222を隣接して配置することにより、入出力バッファ領域220において、環状に接続される高電源電圧(HVDD)供給線224、低電源電圧(LVDD)供給線226、接地電位(VSS)供給線228が形成され、所定の電極部212からHVDD、LVDD、VSSの各電位が供給される。なお、半導体チップ200の四隅付近には、入出力バッファ222を配置することができないので、各供給線が環状になるように各供給線のみ別途設けられる。   The electrode unit 212 is used for inputting a signal from the outside of the semiconductor chip 200 or outputting a signal to the outside of the semiconductor chip 200. The input / output buffer 222 is connected to the electrode unit 212, and supplies the voltage level of a signal input to the electrode unit 212 in accordance with the internal operating voltage level of the semiconductor chip 200 or the inside of the semiconductor chip 200. It functions as a level shifter for adjusting the operating voltage level to the operating voltage level of the external module and outputting from the electrode unit 212. Therefore, the input / output buffer 222 includes at least a high power supply voltage (HVDD) supply line, a low power supply voltage (LVDD) supply line, and a ground potential (VSS) supply line. For example, when the internal power supply voltage is LVDD and the power supply voltage of the external module is HVDD, the input / output buffer 222 changes the power supply voltage from HVDD (for example, 2.4 V to 3.6 V) to LVDD (for example, 1 .8V) or function as a level shifter that converts from LVDD to HVDD. When the power supply voltage of the external module and the internal power supply voltage are compatible, the input / output buffer 222 can function as a simple buffer by using the high power supply voltage supply line and the low power supply voltage supply line shorted. You can also. Note that the input / output buffer 212 may be a buffer that can only input, a buffer that can only output, or a buffer that can input and output. By arranging a plurality of input / output buffers 222 adjacent to each other, in the input / output buffer region 220, a high power supply voltage (HVDD) supply line 224, a low power supply voltage (LVDD) supply line 226, a ground potential ( VSS) supply line 228 is formed, and each potential of HVDD, LVDD, and VSS is supplied from a predetermined electrode portion 212. Since the input / output buffer 222 cannot be arranged near the four corners of the semiconductor chip 200, only the supply lines are separately provided so that the supply lines are annular.

このように、第1のカメラインターフェース部110と第2のカメラインターフェース部130を対向する辺に沿って周辺部に配置することにより、信号線の接続を手配線で行う場合はいうまでもなく、自動配線ツールにより配線させる場合であっても、第1のカメラインターフェース部110に接続される配線のための配線領域と第2のカメラインターフェース部130に接続される配線のための配線領域の重複部分を削減することができる。その結果、配線効率が高くなり配線領域を小さくすることができるので、半導体チップ200の面積コストを削減することができる。また、配線領域の重複部分を削減することにより、第1のカメラインターフェース部110及び第2のカメラインターフェース部130から半導体チップ200の内部に供給される2つの画像データ間の干渉や画像データへのノイズの重畳を効果的に防止することができるとともに、配線の寄生容量に伴う信号伝搬遅延の増大を抑制することができるので、高速動作を実現することが可能となる。   Thus, it goes without saying that the signal lines are connected by hand wiring by arranging the first camera interface unit 110 and the second camera interface unit 130 in the peripheral part along the opposing sides. Even when wiring is performed by an automatic wiring tool, an overlapping portion of a wiring area for wiring connected to the first camera interface unit 110 and a wiring area for wiring connected to the second camera interface unit 130 Can be reduced. As a result, the wiring efficiency is increased and the wiring area can be reduced, so that the area cost of the semiconductor chip 200 can be reduced. Further, by reducing the overlapping portion of the wiring area, interference between the two image data supplied from the first camera interface unit 110 and the second camera interface unit 130 to the inside of the semiconductor chip 200 and image data can be prevented. Superposition of noise can be effectively prevented, and an increase in signal propagation delay due to the parasitic capacitance of the wiring can be suppressed, so that high-speed operation can be realized.

図4は、本実施の形態の半導体集積回路装置における第1のカメラインターフェース部及び第2のカメラインターフェース部の他の配置例を説明するための図である。図3と同じ構成には同じ番号を付しており説明を省略する。第1のカメラインターフェース部110の複数の電極部212及び複数の入出力バッファ222は、半導体チップ200の第1の辺(230)に沿って設けられている電極領域210及び入出力バッファ領域220の少なくとも一部に配置され、第2のカメラインターフェース部130の複数の電極部212及び複数の入出力バッファ222は、第2の辺(240)に沿って設けられている電極領域210及び入出力バッファ領域220に第1のカメラインターフェース部110複数の電極部212及び複数の入出力バッファ222と対向して配置される。例えば、第1のカメラインターフェース部110の複数の電極部212及び複数の入出力バッファ222と第2のカメラインターフェース部130の複数の電極部212及び複数の入出力バッファ222は、半導体チップ200の中心線202に対して線対称となる位置に配置される。また、第1のカメラインターフェース部110の電極部の数と第2のカメラインターフェース部130の電極部の数が異なるような場合は、例えば、第1のカメラインターフェース部110の中心に位置する電極部と第2のカメラインターフェース部130の中心に位置する電極部が半導体チップ200の中心線202に対して線対称となるように配置される。   FIG. 4 is a diagram for explaining another arrangement example of the first camera interface unit and the second camera interface unit in the semiconductor integrated circuit device of the present embodiment. The same components as those in FIG. The plurality of electrode units 212 and the plurality of input / output buffers 222 of the first camera interface unit 110 are formed of the electrode region 210 and the input / output buffer region 220 provided along the first side (230) of the semiconductor chip 200. The plurality of electrode units 212 and the plurality of input / output buffers 222 of the second camera interface unit 130 arranged at least in part are provided with the electrode region 210 and the input / output buffer provided along the second side (240). The first camera interface unit 110 is disposed in the region 220 so as to face the plurality of electrode units 212 and the plurality of input / output buffers 222. For example, the plurality of electrode units 212 and the plurality of input / output buffers 222 of the first camera interface unit 110 and the plurality of electrode units 212 and the plurality of input / output buffers 222 of the second camera interface unit 130 are arranged at the center of the semiconductor chip 200. They are arranged at positions that are line-symmetric with respect to the line 202. Further, when the number of electrode portions of the first camera interface unit 110 and the number of electrode portions of the second camera interface unit 130 are different, for example, the electrode unit located at the center of the first camera interface unit 110 The electrode part located at the center of the second camera interface part 130 is arranged so as to be symmetrical with respect to the center line 202 of the semiconductor chip 200.

このように、第1のカメラインターフェース部110と第2のカメラインターフェース部130を対向する辺に沿って周辺部に対向して配置することにより、第1のカメラインターフェース部110に接続される配線と第2のカメラインターフェース部130に接続される配線の配線長をほぼ等しくすることができる(すなわち、図4においてこれらの配線を左右対称にする)ことが容易であり、これらの配線の寄生容量に伴う信号伝搬遅延をほぼ等しくすることができる。その結果、第1のカメラモジュールと第2のカメラモジュールがそれぞれ撮影する画像データを非同期に処理する場合であっても半導体チップ200の内部で同期させて処理する場合であっても、両者の画像データの対応関係を誤ることなく変換処理を行い、1次記憶装置に記録することができる。従って、本実施の形態の半導体集積回路装置を使用すれば、信頼性および証拠能力の高いデータ記録装置を提供することができる。   As described above, the first camera interface unit 110 and the second camera interface unit 130 are arranged along the opposing sides so as to be opposed to the peripheral part, and thereby the wiring connected to the first camera interface unit 110 and It is easy to make the wiring lengths of the wirings connected to the second camera interface unit 130 substantially equal (that is, to make these wirings symmetrical in FIG. 4), and to the parasitic capacitance of these wirings. The accompanying signal propagation delay can be made approximately equal. As a result, both the image data captured by the first camera module and the second camera module are processed asynchronously or the image data of both are processed in synchronization within the semiconductor chip 200. Conversion processing can be performed without erroneous data correspondence and recorded in the primary storage device. Therefore, if the semiconductor integrated circuit device of this embodiment is used, a data recording device with high reliability and high evidence ability can be provided.

図5は、本実施の形態の半導体集積回路装置における第1のカメラインターフェース部、第2のカメラインターフェース部及び第1のメモリインターフェース部の配置例を説明するための図である。図4と同じ構成には同じ番号を付しており説明を省略する。半導体チップ200は、第1のカメラインターフェース部110、第2のカメラインターフェース部130に加えて、さらに第1のメモリインターフェース部160を含む。第1のメモリインターフェース部160は、複数の電極部212と複数の入出力バッファ222を含み、半導体チップ200の第3の辺(250)に沿って設けられている電極領域210及び入出力バッファ領域220の少なくとも一部に配置される。第1のカメラインターフェース部110の複数の電極部212及び複数の入出力バッファ222は、半導体チップ200の第1の辺(230)と第3の辺(250)が交差する付近に寄せて電極領域210及び入出力バッファ領域220に配置される。第2のカメラインターフェース部130の複数の電極部212及び複数の入出力バッファ222は、半導体チップ200の第2の辺(240)と第3の辺(250)が交差する付近に寄せて電極領域210及び入出力バッファ領域220に配置される。   FIG. 5 is a diagram for explaining an arrangement example of the first camera interface unit, the second camera interface unit, and the first memory interface unit in the semiconductor integrated circuit device of the present embodiment. The same components as those in FIG. 4 are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted. The semiconductor chip 200 further includes a first memory interface unit 160 in addition to the first camera interface unit 110 and the second camera interface unit 130. The first memory interface unit 160 includes a plurality of electrode units 212 and a plurality of input / output buffers 222, and includes an electrode region 210 and an input / output buffer region provided along the third side (250) of the semiconductor chip 200. 220 is disposed at least in part. The plurality of electrode units 212 and the plurality of input / output buffers 222 of the first camera interface unit 110 are brought close to the vicinity where the first side (230) and the third side (250) of the semiconductor chip 200 intersect with each other. 210 and the input / output buffer area 220. The plurality of electrode units 212 and the plurality of input / output buffers 222 of the second camera interface unit 130 are brought close to the vicinity where the second side (240) and the third side (250) of the semiconductor chip 200 intersect with each other. 210 and the input / output buffer area 220.

図2で説明したように、本実施の形態の半導体集積回路装置をデータ記録装置に適用した場合、第1のカメラインターフェース部110及び第2のカメラインターフェース部130から第1のメモリインターフェース部160へ向かうデータの流れが存在する。このように、第1のカメラインターフェース部110と第2のカメラインターフェース部130を対向する辺に沿って第1のメモリインターフェース部160に近い位置に配置することにより、第1のカメラインターフェース部110及び第2のカメラインターフェース部130と第1のメモリインターフェース部160の距離を短くすることができる。従って、2つのカメラモジュールが撮影し、第1のカメラインターフェース部110及び第2のカメラインターフェース部130を介してそれぞれ供給された画像データを、第1のメモリインターフェース部160を介して1次記憶装置に記録することを想定すると、第1のカメラインターフェース部110及び第2のカメラインターフェース部130に接続される配線の長さを短くすることができるので、配線効率を高くすることができる。また、配線の長さを短くすることにより、第1のメモリインターフェース部160を介して画像データを1次記憶装置に記録する動作を高速化することができるので、単位時間あたりの保存可能な画像データ数を多くすることも可能であり、本実施の形態の半導体集積回路装置を使用すれば信頼性および証拠能力の高いデータ記録装置を提供することができる。   As described with reference to FIG. 2, when the semiconductor integrated circuit device of this embodiment is applied to a data recording device, the first camera interface unit 110 and the second camera interface unit 130 to the first memory interface unit 160. There is a flow of data going. As described above, by arranging the first camera interface unit 110 and the second camera interface unit 130 at positions close to the first memory interface unit 160 along the opposing sides, the first camera interface unit 110 and The distance between the second camera interface unit 130 and the first memory interface unit 160 can be shortened. Accordingly, the image data captured by the two camera modules and supplied via the first camera interface unit 110 and the second camera interface unit 130 are respectively stored in the primary storage device via the first memory interface unit 160. Assuming that recording is performed on the first and second camera interface units 110 and 130, the wiring efficiency can be increased. In addition, by shortening the wiring length, the operation of recording image data in the primary storage device via the first memory interface unit 160 can be speeded up, so that images that can be stored per unit time are stored. It is possible to increase the number of data. By using the semiconductor integrated circuit device of this embodiment, it is possible to provide a data recording device with high reliability and evidence capability.

また、第1のカメラインターフェース部110及び第2のカメラインターフェース部130の動作電圧と第1のメモリインターフェース部160の動作電圧が異なるような場合、半導体チップ200は、第1のカメラインターフェース部110及び第2のカメラインターフェース部130の電源と第1のメモリインターフェース部160の電源を分離するために、電源分離セル232及び242を含んでもよい。電源分離セルは、高電源電圧(HVDD)供給線、低電源電圧(LVDD)供給線、接地電位(VSS)供給線の全部又は一部の配線を含まないセルである。電源分離セル232及び242は、高電源電圧(HVDD)供給線の配線のみ含んでいない。そのため、半導体チップ200の第1の辺(230)と第3の辺(250)が交差する付近の入出力バッファ領域220において、第1のカメラインターフェース部110の電源供給線(高電源電圧供給線224)と第1のメモリインターフェース部160の電源供給線(高電源電圧供給線252)が分離され、半導体チップ200の第2の辺(240)と第3の辺(250)が交差する付近の入出力バッファ領域220において、第2のカメラインターフェース部130の電源供給線(高電源電圧供給線224)と第1のメモリインターフェース部160の電源供給線(高電源電圧供給線252)が分離されている。   In addition, when the operating voltage of the first camera interface unit 110 and the second camera interface unit 130 and the operating voltage of the first memory interface unit 160 are different, the semiconductor chip 200 includes the first camera interface unit 110 and In order to separate the power source of the second camera interface unit 130 and the power source of the first memory interface unit 160, power source separation cells 232 and 242 may be included. The power supply isolation cell is a cell that does not include all or part of the high power supply voltage (HVDD) supply line, the low power supply voltage (LVDD) supply line, and the ground potential (VSS) supply line. The power supply isolation cells 232 and 242 do not include only a high power supply voltage (HVDD) supply line. Therefore, in the input / output buffer region 220 near the first side (230) and the third side (250) of the semiconductor chip 200, the power supply line (high power supply voltage supply line) of the first camera interface unit 110 is used. 224) and the power supply line (high power supply voltage supply line 252) of the first memory interface unit 160 are separated, and the second side (240) and the third side (250) of the semiconductor chip 200 intersect each other. In the input / output buffer area 220, the power supply line (high power supply voltage supply line 224) of the second camera interface unit 130 and the power supply line (high power supply voltage supply line 252) of the first memory interface unit 160 are separated. Yes.

ここで、ボンディングの困難性により半導体チップ200の四隅付近の電極領域には、電極部を密集させることができない。その結果、四隅付近の入出力バッファ領域に、多くの入出力バッファを置いてもすべてを電極部と対応させて有効に使用することができない。そこで、四隅付近の入出力バッファ領域に、電源分離セルを置くことにより、又は、電源配線を直接的に切断することにより、電源分離のための領域を新たに追加することなく電源分離を実現することができる。   Here, due to the difficulty of bonding, electrode portions cannot be concentrated in the electrode regions near the four corners of the semiconductor chip 200. As a result, even if many input / output buffers are placed in the input / output buffer areas near the four corners, all of them cannot be used effectively in correspondence with the electrode portions. Therefore, power supply isolation is realized by adding power supply isolation cells in the input / output buffer areas near the four corners or by directly disconnecting the power supply wiring without newly adding an area for power supply isolation. be able to.

図6は、本実施の形態の半導体集積回路装置における第1のカメラインターフェース部、第2のカメラインターフェース部、第1のメモリインターフェース部及び第2のメモリインターフェース部の配置例を説明するための図である。図5と同じ構成には同じ番号を付しており説明を省略する。半導体チップ200は、第1のカメラインターフェース部110、第2のカメラインターフェース部130、第1のメモリインターフェース部160に加えて、さらに第2のメモリインターフェース部170を含む。第2のメモリインターフェース部170は、複数の電極部212と複数の入出力バッファ222を含み、半導体チップ200の第3の辺(250)と対向する第4の辺(260)に沿って設けられている電極領域210及び入出力バッファ領域220の少なくとも一部に配置される。   FIG. 6 is a diagram for explaining an arrangement example of the first camera interface unit, the second camera interface unit, the first memory interface unit, and the second memory interface unit in the semiconductor integrated circuit device of this embodiment. It is. The same components as those in FIG. The semiconductor chip 200 further includes a second memory interface unit 170 in addition to the first camera interface unit 110, the second camera interface unit 130, and the first memory interface unit 160. The second memory interface unit 170 includes a plurality of electrode units 212 and a plurality of input / output buffers 222, and is provided along a fourth side (260) facing the third side (250) of the semiconductor chip 200. The electrode region 210 and the input / output buffer region 220 are disposed at least in part.

図2で説明したように、本実施の形態の半導体集積回路装置をデータ記録装置に適用した場合、第1のカメラインターフェース部110及び第2のカメラインターフェース部130から第1のメモリインターフェース部160へ向かうデータの流れと第1のメモリインターフェース部160から第2のメモリインターフェース部170へ向かうデータの流れが存在する。このように、第1のカメラインターフェース部110及び第2のカメラインターフェース部130が配置される2辺と異なる2辺に沿って第1のメモリインターフェース部160及び第2のメモリインターフェース部170を配置することにより、第1のカメラインターフェース部110及び第2のカメラインターフェース部130から第1のメモリインターフェース部160へ向かうデータ線のための配線領域と、第1のメモリインターフェース部160から第2のメモリインターフェース部170へ向かうデータ線のための配線領域の重複部分を効果的に削減することができる。   As described with reference to FIG. 2, when the semiconductor integrated circuit device of this embodiment is applied to a data recording device, the first camera interface unit 110 and the second camera interface unit 130 to the first memory interface unit 160. There is a data flow that goes to the second memory interface unit 170 from the first memory interface unit 160. As described above, the first memory interface unit 160 and the second memory interface unit 170 are arranged along two sides different from the two sides on which the first camera interface unit 110 and the second camera interface unit 130 are arranged. Accordingly, a wiring area for data lines from the first camera interface unit 110 and the second camera interface unit 130 to the first memory interface unit 160, and the second memory interface from the first memory interface unit 160 to the second memory interface. It is possible to effectively reduce the overlapping portion of the wiring area for the data line toward the unit 170.

また、本実施の形態の集積回路装置をデータ記録装置に使用する場合、一般に、1次記憶装置に対する記録動作の方が2次記憶装置に対する記録動作に比べて圧倒的に高速に行う必要があるが、第1のカメラインターフェース部110及び第2のカメラインターフェース部130を第1のメモリインターフェース部160の近くに配置することにより、第1のメモリインターフェース部160を介して画像データを1次記憶装置に記録する動作を高速化することができる。   When the integrated circuit device according to the present embodiment is used for a data recording device, it is generally necessary to perform the recording operation for the primary storage device at an overwhelmingly higher speed than the recording operation for the secondary storage device. However, by arranging the first camera interface unit 110 and the second camera interface unit 130 in the vicinity of the first memory interface unit 160, image data is stored in the primary storage device via the first memory interface unit 160. The recording operation can be speeded up.

図7は、本実施の形態の半導体集積回路装置における第1のメモリインターフェース部が、1次記憶用インターフェースと2次記憶用インターフェースを選択信号により選択して提供する場合における、第1のメモリインターフェース部の配置例を説明するための図である。図5と同じ構成には同じ番号を付しており説明を省略する。第1のメモリインターフェース部160は、第1のカメラインターフェース部110及び第2のカメラインターフェース部130が半導体チップ200の内部に供給する画像データ又は当該画像データに変換処理を施した画像データを半導体チップ200の外部の1次記憶装置に記録し、記録した画像データを1次記憶装置から読み出すための1次記憶用インターフェースと、1次記憶装置に記録された画像データ又は当該画像データに変換処理を施した画像データを2次記憶装置に記録するための2次記憶用インターフェースのいずれかを選択して提供するための選択信号を半導体チップ200の外部に出力するための電極部254及び256を含む。例えば、電極部254から出力する選択信号(チップセレクト信号)がアクティブの時は1次記憶用インターフェースが選択され、電極部256から出力する選択信号(チップセレクト信号)がアクティブの時は2次記憶用インターフェースが選択されるようにしてもよい。また、1つの1選択信号の極性により、1次記憶用インターフェースと2次記憶用インターフェースのいずれかを選択するようにしてもよい。第1のメモリインターフェース部160に含まれる電極部254及び256以外の電極部の全部について、1次記憶用インターフェースと2次記憶用インターフェースで兼用してもよいし、一部についてのみ兼用するようにしてもよい。   FIG. 7 shows the first memory interface in the case where the first memory interface unit in the semiconductor integrated circuit device of the present embodiment selects and provides the primary storage interface and the secondary storage interface with a selection signal. It is a figure for demonstrating the example of arrangement | positioning of a part. The same components as those in FIG. The first memory interface unit 160 converts image data supplied to the inside of the semiconductor chip 200 by the first camera interface unit 110 and the second camera interface unit 130 or image data obtained by converting the image data into the semiconductor chip. The primary storage interface for reading out the recorded image data from the primary storage device, and the image data recorded in the primary storage device or the conversion process into the image data. Electrodes 254 and 256 for outputting a selection signal for selecting and providing one of the secondary storage interfaces for recording the applied image data in the secondary storage device to the outside of the semiconductor chip 200 are included. . For example, when the selection signal (chip select signal) output from the electrode unit 254 is active, the primary storage interface is selected, and when the selection signal (chip select signal) output from the electrode unit 256 is active, the secondary storage is performed. An interface may be selected. Further, either the primary storage interface or the secondary storage interface may be selected according to the polarity of one single selection signal. All of the electrode units other than the electrode units 254 and 256 included in the first memory interface unit 160 may be shared by the primary storage interface and the secondary storage interface, or may be shared by only a part. May be.

図2で説明したように、本実施の形態の半導体集積回路装置をデータ記録装置に適用した場合、第1のカメラインターフェース部110及び第2のカメラインターフェース部130から第1のメモリインターフェース部160へ向かうデータの流れと第1のメモリインターフェース部160から第2のメモリインターフェース部170へ向かうデータの流れが存在する。このように、第1のメモリインターフェース部160が、1次記憶用インターフェースと2次記憶用インターフェースを選択信号により選択して提供することにより、第1のメモリインターフェース部160から第2のメモリインターフェース部170へ向かうデータ線が不要となり、配線領域を削減することができるので、配線効率を高くすることができる。   As described with reference to FIG. 2, when the semiconductor integrated circuit device of this embodiment is applied to a data recording device, the first camera interface unit 110 and the second camera interface unit 130 to the first memory interface unit 160. There is a data flow that goes to the second memory interface unit 170 from the first memory interface unit 160. As described above, the first memory interface unit 160 selects and provides the primary storage interface and the secondary storage interface by the selection signal, so that the first memory interface unit 160 to the second memory interface unit are provided. The data line going to 170 becomes unnecessary, and the wiring area can be reduced, so that the wiring efficiency can be increased.

図8は、本実施の形態の半導体集積回路装置における第1のAD変換部、第1の画像処理部、第2のAD変換部、第2の画像処理部の配置例を説明するための図である。図5と同じ構成には同じ番号を付しており説明を省略する。半導体チップ200は、第1のAD変換部270を含む。第1のAD変換部270は、第1のカメラインターフェース部110が半導体チップ200の内部に供給するアナログ画像データをデジタル画像データに変換する処理を施す。半導体チップ200は、第1の画像処理部120を含む。第1の画像処理部120は、第1のAD変換部270が変換したデジタル画像データに変換処理を施す。第1のAD変換部270及び第1の画像処理部120は、第1のカメラインターフェース部110の隣に配置される。半導体チップ200は、第2のAD変換部280を含む。第2のAD変換部280は、第2のカメラインターフェース部130が半導体チップ200の内部に供給するアナログ画像データをデジタル画像データに変換する処理を施す。半導体チップ200は、第2の画像処理部140を含む。第2の画像処理部140は、第2のAD変換部280が変換したデジタル画像データに変換処理を施す。第2のAD変換部280及び第2の画像処理部140は、第2のカメラインターフェース部130の隣に配置される。   FIG. 8 is a diagram for explaining an arrangement example of the first AD conversion unit, the first image processing unit, the second AD conversion unit, and the second image processing unit in the semiconductor integrated circuit device of this embodiment. It is. The same components as those in FIG. The semiconductor chip 200 includes a first AD converter 270. The first AD conversion unit 270 performs processing for converting analog image data supplied to the inside of the semiconductor chip 200 by the first camera interface unit 110 into digital image data. The semiconductor chip 200 includes a first image processing unit 120. The first image processing unit 120 performs a conversion process on the digital image data converted by the first AD conversion unit 270. The first AD conversion unit 270 and the first image processing unit 120 are arranged next to the first camera interface unit 110. The semiconductor chip 200 includes a second AD converter 280. The second AD conversion unit 280 performs processing for converting analog image data supplied to the inside of the semiconductor chip 200 by the second camera interface unit 130 into digital image data. The semiconductor chip 200 includes a second image processing unit 140. The second image processing unit 140 performs a conversion process on the digital image data converted by the second AD conversion unit 280. The second AD conversion unit 280 and the second image processing unit 140 are arranged next to the second camera interface unit 130.

このように、第1のAD変換部270及び第1の画像処理部120を、第1のカメラインターフェース部110の隣に配置することにより、第1のカメラインターフェース部110がアナログ画像データ入力とデジタル画像データ入力の両方が可能であるような場合であっても、第1のカメラインターフェース部110と第1のAD変換部270及び第1の画像処理部120との間の配線のための配線領域を削減することができる。また、第1のAD変換部270の出力を第1の画像処理部120の入力に供給するような場合であっても、配線領域を削減することができる。   As described above, by arranging the first AD conversion unit 270 and the first image processing unit 120 next to the first camera interface unit 110, the first camera interface unit 110 can input analog image data and digitally. Even in a case where both image data input is possible, a wiring region for wiring between the first camera interface unit 110, the first AD conversion unit 270, and the first image processing unit 120 Can be reduced. Further, even when the output of the first AD conversion unit 270 is supplied to the input of the first image processing unit 120, the wiring area can be reduced.

同様に、第2のAD変換部280及び第2の画像処理部140を、第2のカメラインターフェース部130の隣に配置することにより、第2のカメラインターフェース部130がアナログ画像データ入力とデジタル画像データ入力の両方が可能であるような場合であっても、第2のカメラインターフェース部130と第2のAD変換部280及び第2の画像処理部140との間の配線のための配線領域を削減することができる。また、第2のAD変換部280の出力を第2の画像処理部140の入力に供給するような場合であっても、配線領域を削減することができる。   Similarly, by arranging the second AD conversion unit 280 and the second image processing unit 140 next to the second camera interface unit 130, the second camera interface unit 130 can input analog image data and digital images. Even when both data input is possible, a wiring area for wiring between the second camera interface unit 130, the second AD conversion unit 280, and the second image processing unit 140 is provided. Can be reduced. Further, even when the output of the second AD conversion unit 280 is supplied to the input of the second image processing unit 140, the wiring area can be reduced.

なお、第1のAD変換部270と第1の画像処理部120を隣同士に配置させる必要はなく、むしろ、AD変換部270のアナログ画像データ入力に、画像処理部120が発するデジタルノイズが重畳されるのを避けるためには、第1のAD変換部270と第1の画像処理部120は十分な距離をとって配置するのが望ましい。同様に、第2のAD変換部280と第2の画像処理部140は十分な距離をとって配置するのが望ましい。   The first AD converter 270 and the first image processor 120 do not need to be arranged next to each other. Rather, digital noise generated by the image processor 120 is superimposed on the analog image data input of the AD converter 270. In order to avoid this, it is desirable that the first AD conversion unit 270 and the first image processing unit 120 be arranged with a sufficient distance. Similarly, it is desirable that the second AD conversion unit 280 and the second image processing unit 140 are arranged with a sufficient distance.

図9は、本実施の形態の半導体集積回路装置における第1のメモリインターフェース部及び第2のメモリインターフェース部の他の配置例を説明するための図である。図6と同じ構成には同じ番号を付しており説明を省略する。   FIG. 9 is a diagram for explaining another arrangement example of the first memory interface unit and the second memory interface unit in the semiconductor integrated circuit device of the present embodiment. The same components as those in FIG.

第1のメモリインターフェース部160は、複数の電極部212と複数の入出力バッファ222を含み、その一部は半導体チップ200の第3の辺(250)に沿って設けられている電極領域210及び入出力バッファ領域220に配置され、残りの部分は第1の辺(230)に沿って設けられている電極領域210及び入出力バッファ領域220に配置されている。例えば、第1のメモリインターフェース部160に含まれる電極部212及び入出力バッファ222の数が多い場合には、第3の辺(250)に沿って設けられている電極領域210及び入出力バッファ領域220にすべての電極部212及び入出力バッファ222を配置できない場合もある。このような場合には、第1のメモリインターフェース部160に含まれる電極部212及び入出力バッファ222の一部を第1の辺(230)に沿って設けられている電極領域210及び入出力バッファ領域220に配置するようにしてもよい。同様に、第1のメモリインターフェース部160に含まれる電極部212及び入出力バッファ222を第3の辺(250)に沿って設けられている電極領域210及び入出力バッファ領域220と第2の辺(240)に沿って設けられている電極領域210及び入出力バッファ領域220に配置するようにしてもよい。   The first memory interface unit 160 includes a plurality of electrode units 212 and a plurality of input / output buffers 222, part of which is provided with an electrode region 210 provided along the third side (250) of the semiconductor chip 200 and The remaining portion is disposed in the input / output buffer region 220, and the remaining portion is disposed in the electrode region 210 and the input / output buffer region 220 provided along the first side (230). For example, when the number of the electrode units 212 and the input / output buffers 222 included in the first memory interface unit 160 is large, the electrode regions 210 and the input / output buffer regions provided along the third side (250). In some cases, not all electrode portions 212 and input / output buffers 222 can be arranged in 220. In such a case, a part of the electrode part 212 and the input / output buffer 222 included in the first memory interface part 160 are part of the electrode region 210 and the input / output buffer provided along the first side (230). You may make it arrange | position to the area | region 220. FIG. Similarly, the electrode section 212 and the input / output buffer 222 included in the first memory interface section 160 are provided along the third side (250) and the input / output buffer area 220 and the second side. It may be arranged in the electrode region 210 and the input / output buffer region 220 provided along (240).

第2のメモリインターフェース部170は、複数の電極部212と複数の入出力バッファ222を含み、その一部は半導体チップ200の第4の辺(260)に沿って設けられている電極領域210及び入出力バッファ領域220に配置され、残りの部分は第2の辺(240)に沿って設けられている電極領域210及び入出力バッファ領域220に配置されている。例えば、第4の辺(260)と第2の辺(240)が交差するコーナー付近にCPU100を配置する場合には、CPU100と第2のメモリインターフェース170の配線を効率よく行うために、第2のメモリインターフェース部170に含まれる電極部212及び入出力バッファ222の一部を第4の辺(260)に沿って設けられている電極領域210及び入出力バッファ領域220に配置し、残りの部分を第2の辺(240)に沿って設けられている電極領域210及び入出力バッファ領域220に配置するようにしてもよい。同様に、第2のメモリインターフェース部170に含まれる電極部212及び入出力バッファ222を第4の辺(260)に沿って設けられている電極領域210及び入出力バッファ領域220と第1の辺(230)に沿って設けられている電極領域210及び入出力バッファ領域220に配置するようにしてもよい。   The second memory interface unit 170 includes a plurality of electrode units 212 and a plurality of input / output buffers 222, some of which are electrode regions 210 provided along the fourth side (260) of the semiconductor chip 200 and The remaining portion is disposed in the input / output buffer region 220, and the remaining portion is disposed in the electrode region 210 and the input / output buffer region 220 provided along the second side (240). For example, in the case where the CPU 100 is arranged near the corner where the fourth side (260) and the second side (240) intersect, in order to efficiently wire the CPU 100 and the second memory interface 170, the second A part of the electrode part 212 and the input / output buffer 222 included in the memory interface part 170 are arranged in the electrode area 210 and the input / output buffer area 220 provided along the fourth side (260), and the remaining part. May be arranged in the electrode region 210 and the input / output buffer region 220 provided along the second side (240). Similarly, the electrode unit 212 and the input / output buffer 222 included in the second memory interface unit 170 are provided along the fourth side (260), and the electrode region 210 and the input / output buffer region 220 and the first side. It may be arranged in the electrode region 210 and the input / output buffer region 220 provided along (230).

図10は、本実施の形態の半導体集積回路装置における第1のメモリインターフェース部及び第2のメモリインターフェース部の他の配置例を説明するための図である。図6と同じ構成には同じ番号を付しており説明を省略する。   FIG. 10 is a diagram for explaining another arrangement example of the first memory interface unit and the second memory interface unit in the semiconductor integrated circuit device of the present embodiment. The same components as those in FIG.

第1のメモリインターフェース部160は、複数の電極部212と複数の入出力バッファ222を含み、その一部は半導体チップ200の第3の辺(250)に沿って設けられている電極領域210及び入出力バッファ領域220に配置され、残りの部分は第1の辺(230)に沿って設けられている電極領域210及び入出力バッファ領域220と第2の辺(240)に沿って設けられている電極領域210及び入出力バッファ領域220に配置されている。例えば、第1のメモリインターフェース部160に含まれる電極部212及び入出力バッファ222の数が多い場合には、第3の辺(250)に沿って設けられている電極領域210及び入出力バッファ領域220にすべての電極部212及び入出力バッファ222を配置できない場合もある。このような場合には、第1のメモリインターフェース部160に含まれる電極部212及び入出力バッファ222の一部を第1の辺(230)に沿って設けられている電極領域210及び入出力バッファ領域220と第2の辺(240)に沿って設けられている電極領域210及び入出力バッファ領域220に配置するようにしてもよい。   The first memory interface unit 160 includes a plurality of electrode units 212 and a plurality of input / output buffers 222, part of which is provided with an electrode region 210 provided along the third side (250) of the semiconductor chip 200 and Arranged in the input / output buffer region 220, the remaining part is provided along the electrode region 210 and the input / output buffer region 220 and the second side (240) provided along the first side (230). The electrode region 210 and the input / output buffer region 220 are disposed. For example, when the number of the electrode units 212 and the input / output buffers 222 included in the first memory interface unit 160 is large, the electrode regions 210 and the input / output buffer regions provided along the third side (250). In some cases, not all electrode portions 212 and input / output buffers 222 can be arranged in 220. In such a case, a part of the electrode part 212 and the input / output buffer 222 included in the first memory interface part 160 are part of the electrode region 210 and the input / output buffer provided along the first side (230). It may be arranged in the electrode region 210 and the input / output buffer region 220 provided along the region 220 and the second side (240).

第2のメモリインターフェース部170は、複数の電極部212と複数の入出力バッファ222を含み、その一部は半導体チップ200の第4の辺(260)に沿って設けられている電極領域210及び入出力バッファ領域220に配置され、残りの部分は第1の辺(230)に沿って設けられている電極領域210及び入出力バッファ領域220と第2の辺(240)に沿って設けられている電極領域210及び入出力バッファ領域220に配置されている。例えば、第2のメモリインターフェース部170に含まれる電極部212及び入出力バッファ222の数が多い場合には、第4の辺(260)に沿って設けられている電極領域210及び入出力バッファ領域220にすべての電極部212及び入出力バッファ222を配置できない場合もある。このような場合には、第2のメモリインターフェース部170に含まれる電極部212及び入出力バッファ222の一部を第1の辺(230)に沿って設けられている電極領域210及び入出力バッファ領域220と第2の辺(240)に沿って設けられている電極領域210及び入出力バッファ領域220に配置するようにしてもよい。   The second memory interface unit 170 includes a plurality of electrode units 212 and a plurality of input / output buffers 222, some of which are electrode regions 210 provided along the fourth side (260) of the semiconductor chip 200 and Arranged in the input / output buffer region 220, the remaining part is provided along the electrode region 210 and the input / output buffer region 220 and the second side (240) provided along the first side (230). The electrode region 210 and the input / output buffer region 220 are disposed. For example, when the number of the electrode units 212 and the input / output buffers 222 included in the second memory interface unit 170 is large, the electrode regions 210 and the input / output buffer regions provided along the fourth side (260). In some cases, not all electrode portions 212 and input / output buffers 222 can be arranged in 220. In such a case, a part of the electrode unit 212 and the input / output buffer 222 included in the second memory interface unit 170 are partly provided along the first side (230) and the electrode region 210 and the input / output buffer. It may be arranged in the electrode region 210 and the input / output buffer region 220 provided along the region 220 and the second side (240).

図11は、本実施の形態の半導体集積回路装置の機能ブロック図の他の例である。図1と同じ構成には同じ番号を付しており説明を省略する。   FIG. 11 is another example of a functional block diagram of the semiconductor integrated circuit device of this embodiment. The same components as those in FIG.

半導体集積回路装置12は、第3のメモリインターフェース部190を含む。第3のメモリインターフェース部190は、1次記憶装置40に記録された画像データ又は当該画像データに変換処理を施した画像データを2次記憶装置60に記録するための2次記憶用インターフェース、又は、第1のカメラインターフェース部110及び第2のカメラインターフェース部130が内部に供給する画像データ112、132又は画像データ112、132に変換処理を施した画像データ122、142を1次記憶装置60に記録し、記録した画像データを1次記憶装置60から読み出すための1次記憶用インターフェースを提供する。第3のメモリインターフェース部190は、例えば、半導体集積回路装置12の内部電源電圧又は2次記憶装置(又は1次記憶装置)60の電源電圧に適合するように画像データ192又は156の電圧レベルをシフトさせるレベルシフタであってもよいし、半導体集積回路装置12の内部電源電圧と2次記憶装置(又は1次記憶装置)60の電源電圧が適合している場合は単なるデジタル入出力バッファであってもよい。2次記憶装置(又は1次記憶装置)60は、例えば、USBメモリであってもよい。その場合には、メモリコントローラ150の一部を、CPU100と2次記憶装置(又は1次記憶装置)60(USBメモリ)の間におけるUSB規格に準拠したデータ送受信を制御するためのUSBコントローラとして機能させてもよい。   The semiconductor integrated circuit device 12 includes a third memory interface unit 190. The third memory interface unit 190 is an interface for secondary storage for recording image data recorded in the primary storage device 40 or image data obtained by converting the image data in the secondary storage device 60, or The image data 112 and 132 supplied by the first camera interface unit 110 and the second camera interface unit 130 or the image data 122 and 142 obtained by converting the image data 112 and 132 are stored in the primary storage device 60. An interface for primary storage for recording and reading recorded image data from the primary storage device 60 is provided. For example, the third memory interface unit 190 sets the voltage level of the image data 192 or 156 so as to match the internal power supply voltage of the semiconductor integrated circuit device 12 or the power supply voltage of the secondary storage device (or primary storage device) 60. It may be a level shifter to be shifted, or if the internal power supply voltage of the semiconductor integrated circuit device 12 and the power supply voltage of the secondary storage device (or primary storage device) 60 are compatible, it is a mere digital input / output buffer. Also good. The secondary storage device (or primary storage device) 60 may be a USB memory, for example. In that case, a part of the memory controller 150 functions as a USB controller for controlling data transmission and reception compliant with the USB standard between the CPU 100 and the secondary storage device (or primary storage device) 60 (USB memory). You may let them.

図12は、本実施の形態の半導体集積回路装置における第3のメモリインターフェース部の配置例を説明するための図である。図9と同じ構成には同じ番号を付しており説明を省略する。   FIG. 12 is a diagram for explaining an arrangement example of the third memory interface unit in the semiconductor integrated circuit device of the present embodiment. The same components as those in FIG. 9 are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.

第3のメモリインターフェース部190は、複数の電極部212と複数の入出力バッファ222を含み、その一部は半導体チップ200の第4の辺(260)に沿って設けられている電極領域210及び入出力バッファ領域220に配置され、残りの部分は第1の辺(230)に沿って設けられている電極領域210及び入出力バッファ領域220に配置されている。例えば、半導体集積回路装置12に2次記憶装置(又は1次記憶装置)60としてUSBメモリを接続する場合、USBの仕様を満たすためにはUSBコントローラと第3のメモリインターフェース部190を接続する配線の長さは出来る限り短い方がよい。そこで、USBコントローラとして機能するメモリコントローラ150の一部を第4の辺(260)と第1の辺(230)が交差するコーナー付近に配置し、第3のメモリインターフェース部190に含まれる電極部212及び入出力バッファ222の一部を第4の辺(260)に沿って設けられている電極領域210及び入出力バッファ領域220に配置し、残りの部分を第1の辺(230)に沿って設けられている電極領域210及び入出力バッファ領域220に配置するようにしてもよい。   The third memory interface unit 190 includes a plurality of electrode units 212 and a plurality of input / output buffers 222, some of which are electrode regions 210 provided along the fourth side (260) of the semiconductor chip 200 and The remaining portion is disposed in the input / output buffer region 220, and the remaining portion is disposed in the electrode region 210 and the input / output buffer region 220 provided along the first side (230). For example, when a USB memory is connected as the secondary storage device (or primary storage device) 60 to the semiconductor integrated circuit device 12, wiring for connecting the USB controller and the third memory interface unit 190 to satisfy the USB specifications Should be as short as possible. Therefore, a part of the memory controller 150 functioning as a USB controller is arranged near the corner where the fourth side (260) and the first side (230) intersect, and the electrode unit included in the third memory interface unit 190 212 and a part of the input / output buffer 222 are arranged in the electrode region 210 and the input / output buffer region 220 provided along the fourth side (260), and the remaining part is arranged along the first side (230). The electrode area 210 and the input / output buffer area 220 may be arranged.

2.データ記録装置
図13に、本実施の形態のデータ記録装置のブロック図の一例を示す。データ記録装置800は、集積回路装置810、第1のカメラモジュール820、第2のカメラモジュール830、1次記憶装置840、2次記憶装置850、電源生成部860、センサ870を含む。
2. Data Recording Device FIG. 13 shows an example of a block diagram of the data recording device of the present embodiment. The data recording device 800 includes an integrated circuit device 810, a first camera module 820, a second camera module 830, a primary storage device 840, a secondary storage device 850, a power generation unit 860, and a sensor 870.

第1のカメラモジュール820及び第2のカメラモジュール830は、一定の時間間隔で画像を撮影する。1次記憶装置840は、第1のカメラモジュール820及び第2のカメラモジュール830が同時刻に撮影した画像データの組を一時的に順次保存するためのものであり、SDRAM(Synchronous DRAM)等の揮発性メモリであってもよい。2次記憶装置850は、1次記憶装置840に記録された画像データの組のうち、必要な画像データの組を長期的に保存するためのものであり、フラッシュメモリ等の不揮発性メモリであればよく、例えば、CF(Compact Flash)メモリカードやSD(Secure Digital)メモリカード等の記憶媒体であってもよい。電源生成部860は、データ記録装置800で使用される各種電源を生成するためのものである。センサ870は、所定のイベントの発生(例えば、事故発生時における急激な加速度の増加)を検知するためのものである。   The first camera module 820 and the second camera module 830 take images at regular time intervals. The primary storage device 840 is for temporarily and sequentially storing a set of image data photographed at the same time by the first camera module 820 and the second camera module 830, such as SDRAM (Synchronous DRAM). It may be a volatile memory. The secondary storage device 850 is for storing a set of required image data among the sets of image data recorded in the primary storage device 840 for a long period of time, and may be a non-volatile memory such as a flash memory. For example, a storage medium such as a CF (Compact Flash) memory card or an SD (Secure Digital) memory card may be used. The power generation unit 860 is for generating various power sources used in the data recording apparatus 800. The sensor 870 is for detecting the occurrence of a predetermined event (for example, a sudden increase in acceleration when an accident occurs).

集積回路装置810は、第1のカメラモジュール820及び第2のカメラモジュール830が同時刻に撮影した画像データの組を一定の時間間隔で1次記憶装置840の所定の記憶領域にサイクリックに順次記録する処理を行う。集積回路装置810は、センサ870の出力に基づいて所定のイベントが発生したと判断した場合は、前記の画像データの組を1次記憶装置840に順次記録する処理を続行するとともに、イベントが発生する所定時間前の画像データの組から順に時系列に沿って1次記憶装置840から読み出し、2次記憶装置850に順次記録する処理を行い、イベント発生前後の所定時間の画像データの組を2次記憶装置に記録すれば処理を終了する。   The integrated circuit device 810 cyclically sequentially sets a set of image data captured at the same time by the first camera module 820 and the second camera module 830 to a predetermined storage area of the primary storage device 840 at regular time intervals. Process to record. When the integrated circuit device 810 determines that a predetermined event has occurred based on the output of the sensor 870, the integrated circuit device 810 continues the process of sequentially recording the set of image data in the primary storage device 840 and an event occurs. A set of image data of a predetermined time before and after an event is generated by performing processing of reading from the primary storage device 840 in order from a set of image data before a predetermined time to be recorded in the secondary storage device 850 in time sequence. If it is recorded in the next storage device, the process is terminated.

データ記録装置800としては、例えば、自動車に設置され、事故発生前後の前方の画像及び車内の画像を記録するドライブレコーダなどがある。   As the data recording device 800, for example, there is a drive recorder that is installed in an automobile and records forward images before and after an accident and images inside the vehicle.

なお、データ記録装置800は、第1のカメラモジュール及び第2のカメラモジュールがそれぞれ撮影した画像データ(YUVデータやRGBデータ)に変換処理を施すデバイスを含み、半導体集積回路装置810には変換処理が施された画像データが供給されるようにしてもよい。例えば、データ記録装置800は、第1のカメラモジュール及び第2のカメラモジュールの出力をそれぞれJPEGエンコードやIP変換するデバイスを含んでいてもよい。   Note that the data recording apparatus 800 includes devices that perform conversion processing on image data (YUV data and RGB data) captured by the first camera module and the second camera module, respectively, and the semiconductor integrated circuit device 810 includes conversion processing. The image data subjected to the above may be supplied. For example, the data recording apparatus 800 may include a device that performs JPEG encoding or IP conversion on the outputs of the first camera module and the second camera module, respectively.

なお、本発明は本実施形態に限定されず、本発明の要旨の範囲内で種々の変形実施が可能である。   In addition, this invention is not limited to this embodiment, A various deformation | transformation implementation is possible within the range of the summary of this invention.

本発明は、実施の形態で説明した構成と実質的に同一の構成(例えば、機能、方法及び結果が同一の構成、あるいは目的及び効果が同一の構成)を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成の本質的でない部分を置き換えた構成を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成と同一の作用効果を奏する構成又は同一の目的を達成することができる構成を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成に公知技術を付加した構成を含む。   The present invention includes configurations that are substantially the same as the configurations described in the embodiments (for example, configurations that have the same functions, methods, and results, or configurations that have the same objects and effects). In addition, the invention includes a configuration in which a non-essential part of the configuration described in the embodiment is replaced. In addition, the present invention includes a configuration that exhibits the same operational effects as the configuration described in the embodiment or a configuration that can achieve the same object. Further, the invention includes a configuration in which a known technique is added to the configuration described in the embodiment.

10 半導体集積回路装置、20 第1のカメラモジュール、22 画像データ、30 第2のカメラモジュール、32 画像データ、40 1次記憶装置、50 2次記憶装置、60 2次記憶装置(1次記憶装置)、100 CPU、110 第1のカメラインターフェース部(第1の画像データインターフェース部)、112 画像データ、120 第1の画像処理部、122 画像データ、130 第2のカメラインターフェース部(第2の画像データインターフェース部)、132 画像データ、140 第2の画像処理部、142 画像データ、150 メモリコントローラ、152 画像データ、154 画像データ、156 画像データ、160 第1のメモリインターフェース部、162 画像データ、170 第2のメモリインターフェース部、172 画像データ、180 ROM、190 第3のメモリインターフェース部、192 画像データ、200 半導体チップ、202 半導体チップの中心線、210 電極領域、212 電極部、220 入出力バッファ領域、222 入出力バッファ、224 高電源電圧(HVDD)供給線、226 低電源電圧(LVDD)供給線、228 接地電位(VSS)供給線、230 第1の辺、232 電源分離セル、240 第2の辺、242 電源分離セル、250 第3の辺、252 高電源電圧(HVDD)供給線、254 1次記憶装置選択信号出力電極部、256 2次記憶装置選択信号出力電極部、260 第4の辺、270 第1のAD変換部、280 第2のAD変換部、800 データ記録装置、810 半導体集積回路(ASIC)、820 第1のカメラモジュール、830 第2のカメラモジュール、840 1次記憶装置、850 2次記憶装置、860 電源生成部、870 センサ。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Semiconductor integrated circuit device, 20 1st camera module, 22 Image data, 30 2nd camera module, 32 Image data, 40 Primary storage device, 50 Secondary storage device, 60 Secondary storage device (Primary storage device ), 100 CPU, 110 First camera interface unit (first image data interface unit), 112 Image data, 120 First image processing unit, 122 Image data, 130 Second camera interface unit (Second image) Data interface unit), 132 image data, 140 second image processing unit, 142 image data, 150 memory controller, 152 image data, 154 image data, 156 image data, 160 first memory interface unit, 162 image data, 170 Second memory interface 172 Image data, 180 ROM, 190 Third memory interface unit, 192 Image data, 200 Semiconductor chip, 202 Semiconductor chip center line, 210 electrode area, 212 electrode section, 220 I / O buffer area, 222 I / O Buffer, 224 High power supply voltage (HVDD) supply line, 226 Low power supply voltage (LVDD) supply line, 228 Ground potential (VSS) supply line, 230 First side, 232 Power supply isolation cell, 240 Second side, 242 Power supply Isolation cell, 250 third side, 252 high power supply voltage (HVDD) supply line, 254 primary storage device selection signal output electrode unit, 256 secondary storage device selection signal output electrode unit, 260 fourth side, 270 first AD converter, 280 Second AD converter, 800 data recording device, 810 Semiconductor integrated circuit ASIC), 820 the first camera module 830 a second camera module, 840 the primary storage device, 850 secondary storage device, 860 power generating unit, 870 sensor.

本発明のひとつの適用例に係る半導体集積回路装置は、正方形又は長方形の形状を有し、各辺に沿って周辺部に複数の電極部を配置するための電極領域と、前記電極領域に沿って複数の入出力バッファを配置するための入出力バッファ領域と、を有する半導体チップを含む半導体集積回路装置であって、複数の電極部と複数の入出力バッファを含み、画像データを前記半導体チップの内部に供給するためのインターフェースを提供する第1の画像データインターフェース部と、複数の電極部と複数の入出力バッファを含み、画像データを前記半導体チップの内部に供給するためのインターフェースを提供する第2の画像データインターフェース部と、複数の電極部と複数の入出力バッファを含み、前記第1の画像データインターフェース部及び前記第2の画像データインターフェース部が前記半導体チップの内部に供給する画像データ又は当該画像データに変換処理を施した画像データを前記半導体チップの外部の1次記憶装置に記録し、記録した画像データを前記1次記憶装置から読み出すための1次記憶用インターフェースを提供する第1のメモリインターフェース部とを含み、前記第1の画像データインターフェース部は、前記半導体チップの第1の辺に沿って設けられ、前記第2の画像データインターフェース部は、前記半導体チップの前記第1の辺と対向する第2の辺に沿って設けられ、前記第1のメモリインターフェース部は、前記半導体チップの前記第1の辺及び前記第2の辺以外の第3の辺に沿って設けられ、前記第1の辺と前記第3の辺とが交差する付近の入出力バッファ領域、及び、前記第2の辺と前記第3の辺とが交差する付近の入出力バッファ領域において、電源分離セルにより電源供給線が分離されていることを特徴とする。
上記のひとつの適用例に係る半導体集積回路装置において、前記電源分離セルは、高電源電圧供給線、低電源電圧供給線、接地電位供給線の全部又は一部の配線を含まないセルであることが好ましい。
上記のひとつの適用例に係る半導体集積回路装置において、前記電源分離セルは、前記半導体チップの四隅の入出力バッファ領域に配置されていることが好ましい。
上記のひとつの適用例に係る半導体集積回路装置において、前記第1の画像データインターフェース部、前記第2の画像データインターフェース部及び前記第1のメモリインターフェース部のそれぞれの入出力バッファは、前記半導体チップの四隅の入出力バッファ領域に配置されないことが好ましい。
本発明のひとつの適用例に係る半導体集積回路装置のレイアウト方法は、正方形又は長方形の形状を有し、各辺に沿って周辺部に複数の電極部を配置するための電極領域と、前記電極領域に沿って複数の入出力バッファを配置するための入出力バッファ領域とを有する半導体チップを含む半導体集積回路装置のレイアウト方法であって、前記半導体集積回路装置は、複数の電極部と複数の入出力バッファを含み、画像データを前記半導体チップの内部に供給するためのインターフェースを提供する第1の画像データインターフェース部と、複数の電極部と複数の入出力バッファを含み、画像データを前記半導体チップの内部に供給するためのインターフェースを提供する第2の画像データインターフェース部と、複数の電極部と複数の入出力バッファを含み、前記第1の画像データインターフェース部及び前記第2の画像データインターフェース部が前記半導体チップの内部に供給する画像データ又は当該画像データに変換処理を施した画像データを前記半導体チップの外部の1次記憶装置に記録し、記録した画像データを前記1次記憶装置から読み出すためのインターフェースを提供する第1のメモリインターフェース部とを含み、前記半導体チップの第1の辺に沿って前記第1の画像データインターフェース部を配置し、前記半導体チップの前記第1の辺と対向する第2の辺に沿って前記第2の画像データインターフェース部を配置し、前記第1の辺と前記第3の辺とが交差する付近の入出力バッファ領域、及び、前記第2の辺と前記第3の辺とが交差する付近の入出力バッファ領域に電源分離セルを配置することを特徴とする。
上記のひとつの適用例に係る半導体集積回路装置のレイアウト方法において、前記電源分離セルは、高電源電圧供給線、低電源電圧供給線、接地電位供給線の全部又は一部の配線を含まないセルであることが好ましい。
上記のひとつの適用例に係る半導体集積回路装置のレイアウト方法において、前記電源分離セルは、前記半導体チップの四隅の入出力バッファ領域に配置することが好ましい。
上記のひとつの適用例に係る半導体集積回路装置のレイアウト方法は、前記第1の画像データインターフェース部、前記第2の画像データインターフェース部及び前記第1のメモリインターフェース部のそれぞれの入出力バッファを、前記半導体チップの四隅の入出力バッファ領域に配置しないことが好ましい。
(1)本発明は、
正方形又は長方形の形状を有し、各辺に沿って周辺部に複数の電極部を配置するための電極領域と、前記電極領域に沿って複数の入出力バッファを配置するための入出力バッファ領域と、を有する半導体チップを含む半導体集積回路装置であって、
複数の電極部と複数の入出力バッファを含み、画像データを前記半導体チップの内部に供給するためのインターフェースを提供する第1の画像データインターフェース部と、
複数の電極部と複数の入出力バッファを含み、画像データを前記半導体チップの内部に供給するためのインターフェースを提供する第2の画像データインターフェース部とを含み、
前記第1の画像データインターフェース部の複数の電極部及び複数の入出力バッファは、
前記半導体チップの第1の辺に沿って設けられている電極領域及び入出力バッファ領域の少なくとも一部に配置され、
前記第2の画像データインターフェース部の複数の電極部及び複数の入出力バッファは、
前記半導体チップの第1の辺と対向する第2の辺に沿って設けられている電極領域及び入出力バッファ領域の少なくとも一部に配置されることを特徴とする。

A semiconductor integrated circuit device according to one application example of the present invention has a square or rectangular shape, an electrode region for disposing a plurality of electrode portions in a peripheral portion along each side, and the electrode region A semiconductor integrated circuit device including a semiconductor chip having an input / output buffer region for arranging a plurality of input / output buffers, and including a plurality of electrode portions and a plurality of input / output buffers, An interface for supplying image data to the inside of the semiconductor chip is provided, including a first image data interface unit that provides an interface for supplying the image data to the inside of the semiconductor chip, a plurality of electrode units, and a plurality of input / output buffers. A second image data interface unit; a plurality of electrode units; and a plurality of input / output buffers. Image data supplied to the inside of the semiconductor chip by the second image data interface unit or image data obtained by converting the image data in a primary storage device outside the semiconductor chip, and recorded image data And a first memory interface unit that provides a primary storage interface for reading data from the primary storage device, wherein the first image data interface unit is provided along a first side of the semiconductor chip. And the second image data interface unit is provided along a second side opposite to the first side of the semiconductor chip, and the first memory interface unit is provided on the first side of the semiconductor chip. Entry and exit in the vicinity of the first side and the third side provided along the third side other than the second side and the second side Buffer area, and, in the output buffer area in the vicinity of said second side and said third side intersect, the power supply line is characterized in that it is separated by the power separating cells.
In the semiconductor integrated circuit device according to one application example described above, the power supply isolation cell is a cell that does not include all or part of the wiring of the high power supply voltage supply line, the low power supply voltage supply line, and the ground potential supply line. Is preferred.
In the semiconductor integrated circuit device according to one application example described above, it is preferable that the power source separation cell is disposed in input / output buffer regions at four corners of the semiconductor chip.
In the semiconductor integrated circuit device according to one application example, each of the input / output buffers of the first image data interface unit, the second image data interface unit, and the first memory interface unit includes the semiconductor chip. It is preferable not to be arranged in the input / output buffer areas at the four corners.
A layout method of a semiconductor integrated circuit device according to one application example of the present invention includes a square or rectangular shape, an electrode region for arranging a plurality of electrode portions in a peripheral portion along each side, and the electrode A layout method of a semiconductor integrated circuit device including a semiconductor chip having an input / output buffer region for arranging a plurality of input / output buffers along the region, wherein the semiconductor integrated circuit device includes a plurality of electrode portions and a plurality of electrode portions. A first image data interface unit that includes an input / output buffer and provides an interface for supplying image data to the inside of the semiconductor chip; a plurality of electrode units; and a plurality of input / output buffers. A second image data interface unit providing an interface for supplying the chip inside, a plurality of electrode units, and a plurality of input / outputs Image data supplied to the inside of the semiconductor chip by the first image data interface unit and the second image data interface unit or image data obtained by performing conversion processing on the image data. And a first memory interface unit providing an interface for reading the recorded image data from the primary storage device, and along the first side of the semiconductor chip, the first memory interface unit provides an interface for reading the recorded image data from the primary storage device. One image data interface unit is disposed, and the second image data interface unit is disposed along a second side opposite to the first side of the semiconductor chip, and the first side and the third side An input / output buffer area in the vicinity of the intersection of the second side and the input / output buffer in the vicinity of the intersection of the second side and the third side Characterized by arranging the power separation cell region.
In the layout method of a semiconductor integrated circuit device according to the above one application example, the power source separation cell does not include all or a part of wiring of a high power supply voltage supply line, a low power supply voltage supply line, and a ground potential supply line. It is preferable that
In the semiconductor integrated circuit device layout method according to one application example described above, it is preferable that the power supply isolation cells are arranged in input / output buffer regions at four corners of the semiconductor chip.
In the layout method of the semiconductor integrated circuit device according to the above one application example, the input / output buffers of the first image data interface unit, the second image data interface unit, and the first memory interface unit are provided. It is preferable not to arrange in the input / output buffer areas at the four corners of the semiconductor chip.
(1) The present invention
An electrode region having a square or rectangular shape and for arranging a plurality of electrode portions in the peripheral portion along each side, and an input / output buffer region for arranging a plurality of input / output buffers along the electrode region A semiconductor integrated circuit device including a semiconductor chip having:
A first image data interface unit that includes a plurality of electrode units and a plurality of input / output buffers, and provides an interface for supplying image data to the inside of the semiconductor chip;
A second image data interface unit that includes a plurality of electrode units and a plurality of input / output buffers, and provides an interface for supplying image data to the inside of the semiconductor chip;
The plurality of electrode units and the plurality of input / output buffers of the first image data interface unit are
Disposed in at least a part of the electrode region and the input / output buffer region provided along the first side of the semiconductor chip;
The plurality of electrode units and the plurality of input / output buffers of the second image data interface unit are
The semiconductor chip is arranged in at least a part of an electrode region and an input / output buffer region provided along a second side facing the first side of the semiconductor chip.

Claims (8)

正方形又は長方形の形状を有し、各辺に沿って周辺部に複数の電極部を配置するための電極領域と、前記電極領域に沿って複数の入出力バッファを配置するための入出力バッファ領域と、を有する半導体チップを含む半導体集積回路装置であって、
複数の電極部と複数の入出力バッファを含み、画像データを前記半導体チップの内部に供給するためのインターフェースを提供する第1の画像データインターフェース部と、
複数の電極部と複数の入出力バッファを含み、画像データを前記半導体チップの内部に供給するためのインターフェースを提供する第2の画像データインターフェース部と、
複数の電極部と複数の入出力バッファを含み、前記第1の画像データインターフェース部及び前記第2の画像データインターフェース部が前記半導体チップの内部に供給する画像データ又は当該画像データに変換処理を施した画像データを前記半導体チップの外部の1次記憶装置に記録し、記録した画像データを前記1次記憶装置から読み出すための1次記憶用インターフェースを提供する第1のメモリインターフェース部とを含み、
前記第1の画像データインターフェース部の複数の電極部及び複数の入出力バッファは、
前記半導体チップの第1の辺に沿って設けられている電極領域及び入出力バッファ領域の少なくとも一部に配置され、
前記第2の画像データインターフェース部の複数の電極部及び複数の入出力バッファは、
前記半導体チップの第1の辺と対向する第2の辺に沿って設けられている電極領域及び入出力バッファ領域の少なくとも一部に配置され、
前記第1のメモリインターフェース部の複数の電極部の少なくとも一部及び複数の入出力バッファの少なくとも一部は、
前記半導体チップの第3の辺に沿って設けられている電極領域及び入出力バッファ領域に配置されることを特徴とする半導体集積回路装置。
An electrode region having a square or rectangular shape and for arranging a plurality of electrode portions in the peripheral portion along each side, and an input / output buffer region for arranging a plurality of input / output buffers along the electrode region A semiconductor integrated circuit device including a semiconductor chip having:
A first image data interface unit that includes a plurality of electrode units and a plurality of input / output buffers, and provides an interface for supplying image data to the inside of the semiconductor chip;
A second image data interface unit that includes a plurality of electrode units and a plurality of input / output buffers, and provides an interface for supplying image data to the inside of the semiconductor chip;
A plurality of electrode units and a plurality of input / output buffers are provided, and the first image data interface unit and the second image data interface unit perform conversion processing on the image data supplied to the semiconductor chip or the image data. A first memory interface unit for recording the recorded image data in a primary storage device outside the semiconductor chip and providing a primary storage interface for reading the recorded image data from the primary storage device;
The plurality of electrode units and the plurality of input / output buffers of the first image data interface unit are
Disposed in at least a part of the electrode region and the input / output buffer region provided along the first side of the semiconductor chip;
The plurality of electrode units and the plurality of input / output buffers of the second image data interface unit are
Disposed in at least a part of an electrode region and an input / output buffer region provided along a second side opposite to the first side of the semiconductor chip;
At least some of the plurality of electrode portions and at least some of the plurality of input / output buffers of the first memory interface portion are:
A semiconductor integrated circuit device, wherein the semiconductor integrated circuit device is disposed in an electrode region and an input / output buffer region provided along a third side of the semiconductor chip.
請求項1において、
前記第1の画像データインターフェース部の複数の電極部及び複数の入出力バッファは、前記半導体チップの第1の辺と第3の辺が交差する付近に寄せて電極領域及び入出力バッファ領域に配置され、
前記第2の画像データインターフェース部の複数の電極部及び複数の入出力バッファは、前記半導体チップの第2の辺と第3の辺が交差する付近に寄せて電極領域及び入出力バッファ領域に配置されることを特徴とする半導体集積回路装置。
In claim 1,
The plurality of electrode units and the plurality of input / output buffers of the first image data interface unit are arranged in the electrode region and the input / output buffer region near the first side and the third side of the semiconductor chip. And
The plurality of electrode units and the plurality of input / output buffers of the second image data interface unit are arranged in the electrode region and the input / output buffer region near the intersection of the second side and the third side of the semiconductor chip. A semiconductor integrated circuit device.
請求項2において、
前記半導体チップの第1の辺と第3の辺が交差する付近の入出力バッファ領域において、前記第1の画像データインターフェース部の電源供給線と前記第1のメモリインターフェース部の電源供給線が分離され、
前記半導体チップの第2の辺と第3の辺が交差する付近の入出力バッファ領域において、前記第2の画像データインターフェース部の電源供給線と前記第1のメモリインターフェース部の電源供給線が分離されることを特徴とする半導体集積回路装置。
In claim 2,
In the input / output buffer region near the first side and the third side of the semiconductor chip, the power supply line of the first image data interface unit and the power supply line of the first memory interface unit are separated. And
In the input / output buffer region near the second side and the third side of the semiconductor chip, the power supply line of the second image data interface unit and the power supply line of the first memory interface unit are separated. A semiconductor integrated circuit device.
請求項1乃至3のいずれかにおいて、
前記第1のメモリインターフェース部は、
前記1次記憶用インターフェースと、前記1次記憶装置に記録された画像データ又は当該画像データに変換処理を施した画像データを前記半導体チップの外部の2次記憶装置に記録するための2次記憶用インターフェースのいずれかを選択して提供するための選択信号を前記半導体チップの外部に出力するための少なくとも1つの電極部を含むことを特徴とする半導体集積回路装置。
In any one of Claims 1 thru | or 3,
The first memory interface unit includes:
Secondary storage for recording the primary storage interface and image data recorded in the primary storage device or image data obtained by converting the image data in a secondary storage device outside the semiconductor chip A semiconductor integrated circuit device comprising: at least one electrode portion for outputting a selection signal for selecting and providing any one of the interfaces for use to the outside of the semiconductor chip.
請求項1乃至3のいずれかにおいて、
複数の電極部と複数の入出力バッファを含み、前記1次記憶装置に記録された画像データ又は当該画像データに変換処理を施した画像データを前記半導体チップの外部の2次記憶装置に記録するための2次記憶用インターフェースを提供する第2のメモリインターフェース部を含み、
前記第2のメモリインターフェース部の電極部の少なくとも一部及び複数の入出力バッファの少なくとも一部は、
前記半導体チップの第3の辺と対向する第4の辺に沿って設けられている電極領域及び入出力バッファ領域に配置されることを特徴とする半導体集積回路装置。
In any one of Claims 1 thru | or 3,
Image data recorded in the primary storage device or image data obtained by converting the image data is recorded in a secondary storage device outside the semiconductor chip, including a plurality of electrode units and a plurality of input / output buffers. A second memory interface unit providing a secondary storage interface for
At least part of the electrode part of the second memory interface part and at least part of the plurality of input / output buffers are
A semiconductor integrated circuit device, wherein the semiconductor integrated circuit device is disposed in an electrode region and an input / output buffer region provided along a fourth side facing the third side of the semiconductor chip.
請求項5において、
複数の電極部と複数の入出力バッファを含み、前記2次記憶用インターフェース又は前記1次記憶用インターフェースを提供する第3のメモリインターフェース部を含み、
前記第3のメモリインターフェース部の電極部の少なくとも一部及び複数の入出力バッファの少なくとも一部は、
前記第4の辺に沿って設けられている電極領域及び入出力バッファ領域に配置されることを特徴とする半導体集積回路装置。
In claim 5,
A third memory interface unit including a plurality of electrode units and a plurality of input / output buffers, and providing the secondary storage interface or the primary storage interface;
At least part of the electrode part of the third memory interface part and at least part of the plurality of input / output buffers are
A semiconductor integrated circuit device, wherein the semiconductor integrated circuit device is disposed in an electrode region and an input / output buffer region provided along the fourth side.
請求項6において、
前記第3のメモリインターフェース部の電極部の一部及び複数の入出力バッファの一部は、前記第1の辺に沿って設けられている電極領域及び入出力バッファ領域に配置されることを特徴とする半導体集積回路装置。
In claim 6,
A part of the electrode part of the third memory interface part and a part of the plurality of input / output buffers are arranged in an electrode area and an input / output buffer area provided along the first side. A semiconductor integrated circuit device.
正方形又は長方形の形状を有し、各辺に沿って周辺部に複数の電極部を配置するための電極領域と、前記電極領域に沿って複数の入出力バッファを配置するための入出力バッファ領域とを有する半導体チップを含む半導体集積回路装置のレイアウト方法であって、
前記半導体集積回路装置は、
複数の電極部と複数の入出力バッファを含み、画像データを前記半導体チップの内部に供給するためのインターフェースを提供する第1の画像データインターフェース部と、
複数の電極部と複数の入出力バッファを含み、画像データを前記半導体チップの内部に供給するためのインターフェースを提供する第2の画像データインターフェース部と、
複数の電極部と複数の入出力バッファを含み、前記第1の画像データインターフェース部及び前記第2の画像データインターフェース部が前記半導体チップの内部に供給する画像データ又は当該画像データに変換処理を施した画像データを前記半導体チップの外部の1次記憶装置に記録し、記録した画像データを前記1次記憶装置から読み出すためのインターフェースを提供する第1のメモリインターフェース部とを含み、
前記半導体チップの第1の辺に沿って設けられている電極領域及び入出力バッファ領域の少なくとも一部に前記第1の画像データインターフェース部の複数の電極部と複数の入出力バッファを配置し、
前記半導体チップの第1の辺と対向する第2の辺に沿って設けられている電極領域及び入出力バッファ領域の少なくとも一部に前記第2の画像データインターフェース部の複数の電極部と複数の入出力バッファを配置し、
前記半導体チップの第3の辺に沿って設けられている電極領域及び入出力バッファ領域の少なくとも一部に前記第1のメモリインターフェース部の複数の電極部と複数の入出力バッファを配置することを特徴とする半導体集積回路装置のレイアウト方法。
An electrode region having a square or rectangular shape and for arranging a plurality of electrode portions in the peripheral portion along each side, and an input / output buffer region for arranging a plurality of input / output buffers along the electrode region A semiconductor integrated circuit device layout method including a semiconductor chip having:
The semiconductor integrated circuit device includes:
A first image data interface unit that includes a plurality of electrode units and a plurality of input / output buffers, and provides an interface for supplying image data to the inside of the semiconductor chip;
A second image data interface unit that includes a plurality of electrode units and a plurality of input / output buffers, and provides an interface for supplying image data to the inside of the semiconductor chip;
A plurality of electrode units and a plurality of input / output buffers are provided, and the first image data interface unit and the second image data interface unit perform conversion processing on the image data supplied to the semiconductor chip or the image data. A first memory interface unit for recording the recorded image data in a primary storage device outside the semiconductor chip and providing an interface for reading the recorded image data from the primary storage device;
A plurality of electrode portions and a plurality of input / output buffers of the first image data interface portion are disposed in at least a part of the electrode region and the input / output buffer region provided along the first side of the semiconductor chip;
A plurality of electrode portions and a plurality of electrode portions of the second image data interface portion are provided in at least a part of the electrode region and the input / output buffer region provided along the second side facing the first side of the semiconductor chip. I / O buffer is arranged,
A plurality of electrode portions and a plurality of input / output buffers of the first memory interface portion are disposed in at least a part of an electrode region and an input / output buffer region provided along the third side of the semiconductor chip; A layout method of a semiconductor integrated circuit device.
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