JP2013166725A - Phenols and process for production thereof - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、フェノール類およびその製造方法に関する。 The present invention relates to phenols and a method for producing the same.
オルト位にアラルキル基を有するフェノールは、様々な誘導体へ利用可能であり、配位子の基本骨格への利用が報告されている(非特許文献1)。この配位子を利用した金属錯体は様々な触媒反応へと利用可能であり、その応用例の一つとして重合触媒が挙げられる(特許文献1、非特許文献2)。その有用性のため、オルト位にアラルキル基を有するフェノールの合成法も種々報告されており、その主な合成法としてはフリーデルクラフツ反応が知られている(非特許文献3、4)。 Phenol having an aralkyl group at the ortho position can be used for various derivatives, and its use for a basic skeleton of a ligand has been reported (Non-patent Document 1). The metal complex using this ligand can be used for various catalytic reactions, and a polymerization catalyst is one of the application examples (Patent Document 1, Non-Patent Document 2). Due to its usefulness, various methods for synthesizing phenols having an aralkyl group at the ortho position have been reported, and Friedel-Crafts reaction is known as the main synthesis method (Non-patent Documents 3 and 4).
しかしながら、多環芳香族炭化水素基を有する化合物はフェニル基を有する化合物と比べ、求電子置換反応の反応性が高いことが知られている。フリーデルクラフツ反応によって多環芳香族炭化水素基含有アラルキル基を有するフェノールを合成する際にも、その反応性の違いから目的としない多環芳香族炭化水素基への求電子置換反応を抑制する必要があった。そのため、アラルキル基として多環芳香族炭化水素骨格を有するフェノールの合成例はほとんど報告されていなかった。 However, it is known that a compound having a polycyclic aromatic hydrocarbon group has higher electrophilic substitution reactivity than a compound having a phenyl group. When synthesizing phenols with aralkyl groups containing polycyclic aromatic hydrocarbon groups by Friedel-Crafts reaction, the electrophilic substitution reaction to undesired polycyclic aromatic hydrocarbon groups is suppressed due to the difference in reactivity. There was a need. Therefore, almost no synthesis examples of phenols having a polycyclic aromatic hydrocarbon skeleton as an aralkyl group have been reported.
本発明が解決しようとする課題は、触媒反応へと利用可能な配位子の基本骨格となる新しいフェノール類およびその製造方法提供することである。 The problem to be solved by the present invention is to provide new phenols that serve as a basic skeleton of a ligand that can be used for catalysis and a method for producing the same.
本発明者は、鋭意検討することにより本発明により上記課題を解決できることを見出した。 The present inventor has found that the above-described problems can be solved by the present invention through intensive studies.
本発明は一般式(1)で表されることを特徴とするフェノール類に関するものである。
(式中、R1〜R3は同一または相異なり、アルキル基、フェニル基、または多環芳香族炭化水素基を示し、R1〜R3のいずれか少なくとも1つは多環芳香族炭化水素基であり、R4〜R7は同一または相異なり、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アラルキル基、フッ素化炭化水素基、アルコキシ基、アリールオキシ基、第二級アミノ基または第三級シリル基を示し、R4〜R7は任意に結合していてもよく、R1〜R7における、フェニル基、アリールオキシ基、多環芳香族炭化水素基は置換基を有していてもよい。)
The present invention relates to a phenol represented by the general formula (1).
(Wherein R 1 to R 3 are the same or different and represent an alkyl group, a phenyl group, or a polycyclic aromatic hydrocarbon group, and at least one of R 1 to R 3 is a polycyclic aromatic hydrocarbon) R 4 to R 7 are the same or different and are a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an aralkyl group, a fluorinated hydrocarbon group, an alkoxy group, an aryloxy group, a secondary amino group or a tertiary silyl group. R 4 to R 7 may be optionally bonded, and the phenyl group, aryloxy group, and polycyclic aromatic hydrocarbon group in R 1 to R 7 may have a substituent. .)
また、本発明は、酸性化合物および一般式(2)で表される化合物の混合物と、一般式(3)または一般式(4)で表される化合物を反応させることを特徴とする製造方法に関する。
(式中、R4〜R7は同一または相異なり、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、フェニル基、フェニル基、アラルキル基、フッ素化炭化水素基、アルコキシ基、アリールオキシ基、第二級アミノ基または第三級シリル基を示し、R4〜R7は任意に結合していてもよく、R4〜R7における、フェニル基、アリールオキシ基は置換基を有していてもよい。)
(式中、R1〜R3は同一または相異なり、アルキル基、フェニル基、または多環芳香族炭化水素基を示し、R1〜R3のいずれか少なくとも1つは多環芳香族炭化水素基であり、A1はハロゲン原子または水酸基を表し、R1〜R3における、フェニル基、多環芳香族炭化水素基は置換基を有していてもよい。)
(式中、R1、R2は同一または相異なり、アルキル基、フェニル基、または多環芳香族炭化水素基を示し、R1またはR2の少なくとも1つは多環芳香族炭化水素基であり、R8は水素原子またはアルキル基を表し、R1〜R2における、フェニル基、多環芳香族炭化水素基は置換基を有していてもよい。)
The present invention also relates to a production method comprising reacting a mixture of an acidic compound and a compound represented by the general formula (2) with a compound represented by the general formula (3) or the general formula (4). .
(Wherein R 4 to R 7 are the same or different and are a hydrogen atom, halogen atom, alkyl group, phenyl group, phenyl group, aralkyl group, fluorinated hydrocarbon group, alkoxy group, aryloxy group, secondary amino group) A group or a tertiary silyl group, R 4 to R 7 may be optionally bonded, and the phenyl group and aryloxy group in R 4 to R 7 may have a substituent.)
(Wherein R 1 to R 3 are the same or different and represent an alkyl group, a phenyl group, or a polycyclic aromatic hydrocarbon group, and at least one of R 1 to R 3 is a polycyclic aromatic hydrocarbon) A 1 represents a halogen atom or a hydroxyl group, and the phenyl group and polycyclic aromatic hydrocarbon group in R 1 to R 3 may have a substituent.)
(Wherein R 1 and R 2 are the same or different and represent an alkyl group, a phenyl group, or a polycyclic aromatic hydrocarbon group, and at least one of R 1 or R 2 is a polycyclic aromatic hydrocarbon group; And R 8 represents a hydrogen atom or an alkyl group, and the phenyl group and polycyclic aromatic hydrocarbon group in R 1 to R 2 may have a substituent.
本発明によれば、触媒反応へと利用可能な配位子の基本骨格となる新しいフェノール類およびその製造方法提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the new phenol used as the basic skeleton of the ligand which can be utilized for a catalytic reaction, and its manufacturing method can be provided.
一般式(1)で表されるフェノール類について説明する。
The phenol represented by the general formula (1) will be described.
R1〜R3は同一または相異なり、アルキル基、フェニル基、または多環芳香族炭化水素基を示し、R1〜R3における、フェニル基、多環芳香族炭化水素基は置換基を有していてもよい。R1〜R3のいずれか少なくとも1つは多環芳香族炭化水素基であり、好ましくはR1〜R3のいずれかの1つが多環芳香族炭化水素基であり、より好ましくはR1〜R3のいずれかの1つが多環芳香族炭化水素基であり、いずれか2つがアルキル基である。 R 1 to R 3 are the same or different and represent an alkyl group, a phenyl group, or a polycyclic aromatic hydrocarbon group, and the phenyl group and the polycyclic aromatic hydrocarbon group in R 1 to R 3 have a substituent. You may do it. At least one of R 1 to R 3 is a polycyclic aromatic hydrocarbon group, preferably one of R 1 to R 3 is a polycyclic aromatic hydrocarbon group, more preferably R 1. one either to R 3 is a polycyclic aromatic hydrocarbon group is any two of the alkyl group.
R1〜R3のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、t−ブチル基、t−アミル基などが挙げられ、好ましくはメチル基、エチル基、プロピル基であり、より好ましくはメチル基、エチル基であり、最も好ましくはメチル基である。 Examples of the alkyl group of R 1 to R 3 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a t-butyl group, a t-amyl group, and the like, and preferably a methyl group, an ethyl group, or a propyl group. More preferably a methyl group or an ethyl group, and most preferably a methyl group.
R1〜R3のフェニル基としては、例えば、フェニル基、2−トリル基、3−トリル基、4−トリル基、2, 3-キシリル基、2,4-キシリル基、2,5-キシリル基、2,6-キシリル基、2, 3, 4-トリメチルフェニル基、2, 3, 5-トリメチルフェニル基、2, 3, 6-トリメチルフェニル基、2, 3, 4, 5-テトラメチルフェニル基、2, 3, 4, 6-テトラメチルフェニル基、ペンタメチルフェニル基などが挙げられ、好ましくは2−トリル基、3−トリル基、4−トリル基、2, 3-キシリル基、2,4-キシリル基、2,5-キシリル基、2,6-キシリル基、ペンタメチルフェニル基である。 Examples of the phenyl group of R 1 to R 3 include a phenyl group, a 2-tolyl group, a 3-tolyl group, a 4-tolyl group, a 2,3-xylyl group, a 2,4-xylyl group, and a 2,5-xylyl group. Group, 2,6-xylyl group, 2,3,4-trimethylphenyl group, 2,3,5-trimethylphenyl group, 2,3,6-trimethylphenyl group, 2,3,4,5-tetramethylphenyl Group, 2, 3, 4, 6-tetramethylphenyl group, pentamethylphenyl group, etc., preferably 2-tolyl group, 3-tolyl group, 4-tolyl group, 2,3-xylyl group, 2, 4-xylyl group, 2,5-xylyl group, 2,6-xylyl group, pentamethylphenyl group.
R1〜R3の多環芳香族炭化水素基としては、例えば、ナフチル基、アントラセニル基、フェナントリル基、ナフタセニル基、ペンタセニル基、ベンゾピレニル基、クリセニル基、ピレニル基、トリフェニレニル基、コロネニル基などが挙げられ、好ましくはナフチル基、アントラセニル基、ナフタセニル基、ピレニル基であり、より好ましくはナフチル基、アントラセニル基である。 The polycyclic aromatic hydrocarbon group R 1 to R 3, for example, naphthyl group, anthracenyl group, phenanthryl group, naphthacenyl group, pentacenyl group, benzopyrenyl group, chrysenyl group, pyrenyl group, triphenylenyl group, etc. coronenyl group Of these, preferred are a naphthyl group, an anthracenyl group, a naphthacenyl group, and a pyrenyl group, and more preferred are a naphthyl group and an anthracenyl group.
R4〜R7は同一または相異なり、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、フェニル基、アラルキル基、フッ素化炭化水素基、アルコキシ基、アリールオキシ基、第二級アミノ基または第三級シリル基を示し、R4〜R7は任意に結合していても良い。 R 4 to R 7 are the same or different and are a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, a phenyl group, an aralkyl group, a fluorinated hydrocarbon group, an alkoxy group, an aryloxy group, a secondary amino group, or a tertiary silyl group. R4 to R7 may be arbitrarily bonded.
R4、R6、およびR7としては、好ましくは水素原子であり、R5としては、好ましくはハロゲン原子、アルキル基、アルキル基、フェニル基、置換フェニル基、アラルキル基、フッ素化炭化水素基、アルコキシ基、アリールオキシ基、第二級アミノ基または第三級シリル基であり、より好ましくはハロゲン原子、アルキル基、フェニル基、置換フェニル基、アラルキル基、フッ素化炭化水素基、アルコキシ基、アリールオキシ基、第二級アミノ基または第三級シリル基であり、最も好ましくはハロゲン原子、アルキル基、フッ素化炭化水素基または第三級シリル基である。 R 4 , R 6 , and R 7 are preferably hydrogen atoms, and R 5 is preferably a halogen atom, an alkyl group, an alkyl group, a phenyl group, a substituted phenyl group, an aralkyl group, or a fluorinated hydrocarbon group. An alkoxy group, an aryloxy group, a secondary amino group or a tertiary silyl group, more preferably a halogen atom, an alkyl group, a phenyl group, a substituted phenyl group, an aralkyl group, a fluorinated hydrocarbon group, an alkoxy group, An aryloxy group, a secondary amino group or a tertiary silyl group, and most preferably a halogen atom, an alkyl group, a fluorinated hydrocarbon group or a tertiary silyl group.
R4〜R7のハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられ、好ましくはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子である。 Examples of the halogen atom of R 4 to R 7 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom, and a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom are preferable.
R4〜R7のアルキル基として、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、i−プロピル基、ブチル基、i−ブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、t−アミル基などが挙げられ、好ましくはメチル基、エチル基、プロピル基、i−プロピル基、ブチル基、i−ブチル基、t−ブチル基であり、より好ましくはメチル基、エチル基、i−プロピル基、t−ブチル基であり、最も好ましくはメチル基、t−ブチル基である。 Examples of the alkyl group of R 4 to R 7 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an i-propyl group, a butyl group, an i-butyl group, a s-butyl group, a t-butyl group, and a t-amyl group. Preferably methyl group, ethyl group, propyl group, i-propyl group, butyl group, i-butyl group, t-butyl group, more preferably methyl group, ethyl group, i-propyl group, t-butyl group. A butyl group, most preferably a methyl group and a t-butyl group.
R4〜R7のフェニル基としては、例えば、フェニル基、2−トリル基、3−トリル基、4−トリル基、2, 3-キシリル基、2,4-キシリル基、2,5-キシリル基、2,6-キシリル基、2, 3, 4-トリメチルフェニル基、2, 3, 5-トリメチルフェニル基、2, 3, 6-トリメチルフェニル基、2, 3, 4, 5-テトラメチルフェニル基、2, 3, 4, 6-テトラメチルフェニル基、ペンタメチルフェニル基などが挙げられ、好ましくはフェニル基、2−トリル基、3−トリル基、4−トリル基、2, 3-キシリル基、2,4-キシリル基、2,5-キシリル基、2,6-キシリル基、ペンタメチルフェニル基である。 Examples of the phenyl group of R 4 to R 7 include a phenyl group, a 2-tolyl group, a 3-tolyl group, a 4-tolyl group, a 2,3-xylyl group, a 2,4-xylyl group, and a 2,5-xylyl group. Group, 2,6-xylyl group, 2,3,4-trimethylphenyl group, 2,3,5-trimethylphenyl group, 2,3,6-trimethylphenyl group, 2,3,4,5-tetramethylphenyl Group, 2, 3, 4, 6-tetramethylphenyl group, pentamethylphenyl group, etc., preferably phenyl group, 2-tolyl group, 3-tolyl group, 4-tolyl group, 2,3-xylyl group 2,4-xylyl group, 2,5-xylyl group, 2,6-xylyl group, and pentamethylphenyl group.
R4〜R7のアラルキル基としては、1-フェニル-1-メチルエチル基、1-メチル-1-(o-トルイル)エチル基、1-メチル-1-(m-トルイル)エチル基、1-メチル-1-(p-トルイル)エチル基、1-エチル-1-フェニルエチル基、1-エチル-1-(o-トルイル)エチル基、1-エチル-1-(m-トルイル)エチル基、1-エチル-1-(p-トルイル)エチル基、1-エチル-1-(p-トルイル)エチル基、1-エチル-1-フェニルブチル基、1-エチル-1-(o-トルイル)ブチル基、1-エチル-1-(m-トルイル)ブチル基、1-エチル-1-(p-トルイル)ブチル基、1-エチル-1-(p-トルイル)ブチル基、1, 1-ジフェニルエチル基、1, 1-ジフェニルブチル基、1, 1, 1-トリフェニルメチル基などが挙げられ、好ましくは1-フェニル-1-メチルエチル基、1-エチル-1-フェニルブチル基、1, 1-ジフェニルエチル基、1, 1, 1-トリフェニルメチル基である。 Examples of the aralkyl group of R 4 to R 7 include 1-phenyl-1-methylethyl group, 1-methyl-1- (o-toluyl) ethyl group, 1-methyl-1- (m-toluyl) ethyl group, 1 -Methyl-1- (p-toluyl) ethyl group, 1-ethyl-1-phenylethyl group, 1-ethyl-1- (o-toluyl) ethyl group, 1-ethyl-1- (m-toluyl) ethyl group 1-ethyl-1- (p-toluyl) ethyl group, 1-ethyl-1- (p-toluyl) ethyl group, 1-ethyl-1-phenylbutyl group, 1-ethyl-1- (o-toluyl) Butyl group, 1-ethyl-1- (m-toluyl) butyl group, 1-ethyl-1- (p-toluyl) butyl group, 1-ethyl-1- (p-toluyl) butyl group, 1,1-diphenyl And ethyl group, 1,1-diphenylbutyl group, 1,1,1-triphenylmethyl group, etc., preferably 1-phenyl-1-methylethyl group, 1-ethyl-1-phenylbutyl group, 1, 1-diphenylethyl group, 1,1,1-triphenylmethyl group.
R4〜R7のフッ素化炭化水素基としては、例えば、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、1-フルオロエチル基、2-フルオロエチル基、1, 1-ジフルオロエチル基、1, 2-ジフルオロエチル基、2, 2-ジフルオロエチル基、1, 1, 2-トリフルオロエチル基、1, 2, 2-トリフルオロエチル基、2, 2, 2-トリフルオロエチル基、1, 1, 2, 2-テトラフルオロエチル基、1, 2, 2, 2-テトラフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、ペンタフルオロフェニル基などの炭素原子数1〜6のフッ素化アルキル基およびフッ素化フェニル基が挙げられ、好ましくはパーフルオロアルキル基、パーフルオロフェニル基である。 Examples of the fluorinated hydrocarbon group for R 4 to R 7 include a fluoromethyl group, a difluoromethyl group, a trifluoromethyl group, a 1-fluoroethyl group, a 2-fluoroethyl group, a 1,1-difluoroethyl group, 1 , 2-difluoroethyl group, 2, 2-difluoroethyl group, 1, 1, 2-trifluoroethyl group, 1, 2, 2-trifluoroethyl group, 2, 2, 2-trifluoroethyl group, 1, Fluorinated alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms such as 1, 2, 2-tetrafluoroethyl group, 1, 2, 2, 2-tetrafluoroethyl group, pentafluoroethyl group, pentafluorophenyl group, and fluorinated phenyl Groups, preferably a perfluoroalkyl group or a perfluorophenyl group.
R4〜R7のアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、i-プロポキシ基、ブトキシ基、i-ブトキシ基、s-ブトキシ基などが挙げられる。 Examples of the alkoxy group of R 4 to R 7 include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, an i-propoxy group, a butoxy group, an i-butoxy group, and an s-butoxy group.
R4〜R7のアリールオキシ基としては、例えば、フェノキシ基、2-メチルフェノキシ基、3-メチルフェノキシ基、4-メチルフェノキシ基などが挙げられる。 Examples of the aryloxy group for R 4 to R 7 include a phenoxy group, a 2-methylphenoxy group, a 3-methylphenoxy group, and a 4-methylphenoxy group.
R4〜R7の第二級アミノ基としては、例えば、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、プロピルアミノ基、ジプロピルアミノ基、ジ-i-プロピルアミノ基、ジ-i-ブチルアミノ基、ジ-s-ブチルアミノ基、ジ-t-ブチルアミノ基、ジフェニルアミノ基などが挙げられる。 Examples of the secondary amino group of R 4 to R 7 include a dimethylamino group, a diethylamino group, a propylamino group, a dipropylamino group, a di-i-propylamino group, a di-i-butylamino group, a di- Examples thereof include s-butylamino group, di-t-butylamino group, diphenylamino group and the like.
R4〜R7の第三級シリル基としては、例えば、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基プロピルシリル基、トリプロピルシリル基、トリ-i-プロピルシリル基、トリ-i-ブチルシリル基、トリ-s-ブチルシリル基、トリ-t-ブチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる As the tertiary silyl group of R 4 to R 7 , for example, trimethylsilyl group, triethylsilyl group propylsilyl group, tripropylsilyl group, tri-i-propylsilyl group, tri-i-butylsilyl group, tri-s- Examples include butylsilyl group, tri-t-butylsilyl group, triphenylsilyl group, etc.
一般式(1)で表されるフェノールの具体例としては下記の化合物が挙げられる。 Specific examples of the phenol represented by the general formula (1) include the following compounds.
他にも、例えば、これらの化合物のR5に相当する基を水素原子、エチル基、イソプロピル基、t−ブチル基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、トリフルオロメチル基、またはトリメチルシリル基で置換した化合物も挙げることができる。 In addition, for example, a group corresponding to R 5 of these compounds may be a hydrogen atom, an ethyl group, an isopropyl group, a t-butyl group, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, a trifluoromethyl group, or trimethylsilyl. A compound substituted with a group can also be mentioned.
一般式(1)で表されるフェノールの好ましい例としては、下記の化合物が挙げられる。 Preferable examples of the phenol represented by the general formula (1) include the following compounds.
他にも、例えば、これらの化合物のR5に相当する基をt−ブチル基で置換した化合物も挙げることができる。 In addition, for example, compounds in which a group corresponding to R 5 of these compounds is substituted with a t-butyl group can also be mentioned.
一般式(1)で表されるフェノールのより好ましい例としては、下記の化合物が挙げられる。 More preferable examples of the phenol represented by the general formula (1) include the following compounds.
他にも、例えば、これらの化合物のR5に相当する基をt−ブチル基で置換した化合物も挙げることができる。 In addition, for example, compounds in which a group corresponding to R 5 of these compounds is substituted with a t-butyl group can also be mentioned.
一般式(2)で表されるフェノール類について説明する。 The phenol represented by the general formula (2) will be described.
一般式(2)中のR4〜R7は一般式(1)中のR4〜R7における前記の基と同様である。 R 4 to R 7 in the general formula (2) are the same as the above-described groups in R 4 to R 7 in the general formula (1).
一般式(2)で表されるフェノールの具体例としては下記の化合物が挙げられる。
Specific examples of the phenol represented by the general formula (2) include the following compounds.
一般式(3)で表される化合物について説明する。 The compound represented by the general formula (3) will be described.
一般式(3)中のR1〜R3は一般式(1)中のR1〜R3における前記の基と同様であり、A1はハロゲン原子または水酸基を表す。 R 1 to R 3 in the general formula (3) are the same as the groups in R 1 to R 3 in the general formula (1), and A 1 represents a halogen atom or a hydroxyl group.
A1のハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。 Examples of the halogen atom for A 1 include a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
一般式(3)で表される化合物の具体例としては下記の化合物が挙げられる。
Specific examples of the compound represented by the general formula (3) include the following compounds.
他にも、例えば、これらの化合物のA1に相当する基を臭素原子、ヨウ素原子、水酸基で置換した化合物も挙げることができる。 In addition, for example, compounds in which a group corresponding to A 1 of these compounds is substituted with a bromine atom, an iodine atom, or a hydroxyl group can be exemplified.
一般式(4)で表される化合物について説明する。 The compound represented by the general formula (4) will be described.
一般式(4)中のR1またはR2は一般式(1)中のR1またはR2における前記の基と同様であり、R8は水素原子またはアルキル基を表す。 R 1 or R 2 in the general formula (4) is the same as the aforementioned group in R 1 or R 2 in the general formula (1), and R 8 represents a hydrogen atom or an alkyl group.
R8のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、t−ブチル基、t−アミル基などが挙げられ、好ましくはメチル基、エチル基、プロピル基であり、より好ましくはメチル基、エチル基であり、最も好ましくはメチル基である。 Examples of the alkyl group for R 8 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a t-butyl group, and a t-amyl group, preferably a methyl group, an ethyl group, and a propyl group, and more preferably A methyl group and an ethyl group are preferable, and a methyl group is most preferable.
一般式(4)で表される化合物の具体例としては下記の化合物が挙げられる。 Specific examples of the compound represented by the general formula (4) include the following compounds.
本発明における、酸性化合物としては、例えば、硫酸、塩酸、リン酸などの無機ブレンステッド酸類;p−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸などの有機スルホン酸類;ギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、シュウ酸などのカルボン酸類;トリメチルシリルハライド、三フッ化ホウ素錯体、チタニウムテトラアルコキシド、塩化アルミニウム、塩化鉄(III)、塩化亜鉛、四塩化化チタン、酸化ジアルキル錫、ジアルキル錫ジカルボキシレート、モノアルキル錫トリカルボキシレート、錫ジカルボキシレート、四塩化錫、ジルコニウムテトラアルコキシド、四塩化化ジルコニウム、鉛化合物、ビスマス化合物、アンチモン化合物、金属トリフラート、金属テトラフルオロボレート塩、金属アセチルアセトネート塩などのルイス酸類;クレイ、活性白土、酸性白土、シリカ、アルミナ、ゼオライト、カチオン交換樹脂などの固体酸触媒類等が挙げられる。 Examples of the acidic compound in the present invention include inorganic Bronsted acids such as sulfuric acid, hydrochloric acid and phosphoric acid; organic sulfonic acids such as p-toluenesulfonic acid and methanesulfonic acid; formic acid, acetic acid, trifluoroacetic acid and oxalic acid. Carboxylic acids: trimethylsilyl halide, boron trifluoride complex, titanium tetraalkoxide, aluminum chloride, iron (III) chloride, zinc chloride, titanium tetrachloride, dialkyltin oxide, dialkyltin dicarboxylate, monoalkyltin tricarboxylate Lewis acids such as tin dicarboxylate, tin tetrachloride, zirconium tetraalkoxide, zirconium tetrachloride, lead compound, bismuth compound, antimony compound, metal triflate, metal tetrafluoroborate salt, metal acetylacetonate salt; clay, active Clay, acid clay, silica, alumina, zeolites, and solid acid catalysts such as such as cation exchange resins.
本発明において、一般式(3)または一般式(4)で表される化合物の使用量は、式(2)で表される化合物に対するモル比が、0.001〜10であり、好ましくは0.01〜10であり、より好ましくは0.05〜2.0であり、さらに好ましくは0.05〜1.5であり、特に好ましくは0.1〜1.0である。 In the present invention, the amount of the compound represented by the general formula (3) or the general formula (4) is such that the molar ratio with respect to the compound represented by the formula (2) is 0.001 to 10, preferably 0. 0.01 to 10, more preferably 0.05 to 2.0, still more preferably 0.05 to 1.5, and particularly preferably 0.1 to 1.0.
本発明において、酸性化合物の内、無機ブレンステッド酸類、有機スルホン酸類、カルボン酸類、ルイス酸類の使用量は、一般式(3)または一般式(4)で表される化合物に対するモル比が、0.001〜10であり、好ましくは0.001〜5であり、より好ましくは0.001〜2.0であり、さらに好ましくは0.005〜1.5であり、特に好ましくは0.005〜1.0である。 In the present invention, among the acidic compounds, the amount of inorganic Bronsted acids, organic sulfonic acids, carboxylic acids and Lewis acids used is such that the molar ratio to the compound represented by formula (3) or formula (4) is 0. 0.001 to 10, preferably 0.001 to 5, more preferably 0.001 to 2.0, still more preferably 0.005 to 1.5, and particularly preferably 0.005. 1.0.
本反応において、一般式(2)で表される化合物、一般式(3)で表される化合物および一般式(4)で表される化合物は溶媒に溶解させて使用してもよい。 In this reaction, the compound represented by the general formula (2), the compound represented by the general formula (3), and the compound represented by the general formula (4) may be used by dissolving in a solvent.
一般式(2)で表される化合物を溶解させる溶媒としては、例えばヘキサン、ヘプタン、オクタン、およびシクロヘキサンのような脂肪族炭化水素;1,4−ジオキサンおよびテトラヒドロフランのような環状エーテル;ジクロロメタン、クロロホルム、1,2-ジクロロエタンおよびクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素が挙げられ、好ましくはヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、1,4−ジオキサン、ジクロロメタン、1,2-ジクロロエタン、クロロベンゼンであり、より好ましくは、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサンである。 Examples of the solvent for dissolving the compound represented by the general formula (2) include aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, octane, and cyclohexane; cyclic ethers such as 1,4-dioxane and tetrahydrofuran; dichloromethane, chloroform Halogenated hydrocarbons such as 1,2-dichloroethane and chlorobenzene, preferably hexane, heptane, octane, cyclohexane, 1,4-dioxane, dichloromethane, 1,2-dichloroethane, chlorobenzene, more preferably , Hexane, heptane, octane, cyclohexane.
一般式(3)で表される化合物および一般式(4)で表される化合物を溶解させる溶媒としては、上記の一般式(2)で表される化合物を溶解させる溶媒と同じものを挙げることが出来る。 Examples of the solvent for dissolving the compound represented by the general formula (3) and the compound represented by the general formula (4) include the same solvents as those for dissolving the compound represented by the above general formula (2). I can do it.
一般式(2)で表される化合物に対する、溶媒の使用量は、特に制限はないが0〜1000重量倍となるような範囲で用いることができ、好ましくは、1〜100重量倍である。 Although there is no restriction | limiting in particular, the usage-amount of the solvent with respect to the compound represented by General formula (2) can be used in the range used as 0 to 1000 weight times, Preferably it is 1 to 100 weight times.
一般式(3)で表される化合物および一般式(4)で表される化合物に対する、溶媒の使用量は、特に制限はないが0〜1000重量倍となるような範囲で用いることができ、好ましくは、1〜100重量倍である。 The amount of the solvent used for the compound represented by the general formula (3) and the compound represented by the general formula (4) is not particularly limited, but can be used in a range of 0 to 1000 times by weight, Preferably, it is 1 to 100 times by weight.
酸性化合物および一般式(2)で表される化合物の混合物に、一般式(3)または一般式(4)で表される化合物を反応させる形態としては、特に限定されるものではないが、好ましくは一般式(3)または一般式(4)で表される化合物を溶媒に溶解させたものを、酸性化合物および一般式(2)で表される化合物の混合物に滴下することが好ましい。 The form of reacting the compound represented by the general formula (3) or the general formula (4) with the mixture of the acidic compound and the compound represented by the general formula (2) is not particularly limited, but preferably Is preferably obtained by dropping a compound represented by the general formula (3) or the general formula (4) in a solvent into a mixture of the acidic compound and the compound represented by the general formula (2).
本発明において、式(2)で表される化合物の反応温度は、−50℃〜200℃であり、好ましくは0〜200℃あり、より好ましくは、60〜180℃であり、さらに好ましくは、80〜180℃であり、特に好ましくは80〜150℃である。 In the present invention, the reaction temperature of the compound represented by the formula (2) is −50 ° C. to 200 ° C., preferably 0 to 200 ° C., more preferably 60 to 180 ° C., still more preferably, It is 80-180 degreeC, Most preferably, it is 80-150 degreeC.
本発明の製造方法は、ヘリウム、アルゴンもしくは窒素気流下、または空気雰囲気下で行うことができる。 The production method of the present invention can be carried out in a helium, argon or nitrogen stream, or in an air atmosphere.
本発明の製造方法において、圧力の影響は無視できるため、大気圧下で反応を行うのが一般的である。 In the production method of the present invention, the influence of pressure is negligible, so the reaction is generally carried out under atmospheric pressure.
本発明において、一般式(2)で表される化合物の反応時間は、5分間〜48時間であり、好ましくは5分〜24時間、より好ましくは5分〜3時間である。 In the present invention, the reaction time of the compound represented by the general formula (2) is 5 minutes to 48 hours, preferably 5 minutes to 24 hours, more preferably 5 minutes to 3 hours.
反応終了後、一般式(1)で表される化合物を得るため反応液を後処理することが好ましい。後処理方法としては、例えば、水、希塩酸水溶液、チオ硫酸ナトリウムまたは炭酸水素ナトリウム-炭酸ナトリウム混合水溶液を反応溶液に加え、次に、トルエン、ジクロロメタン、ヘキサン、酢酸エチルまたはジエチルエーテルを加え、抽出操作を行うことができる。
得られた一般式(1)で表される化合物は、必要に応じて活性炭、蒸留、再結晶、シリカゲルまたはアルミナを用いる薄相またはカラムクロマトグラフィー、および分取液体クロマトグラフィーによる精製操作を行って、純度を高めることができる。
After completion of the reaction, the reaction solution is preferably post-treated to obtain the compound represented by the general formula (1). As the post-treatment method, for example, water, dilute hydrochloric acid aqueous solution, sodium thiosulfate or sodium hydrogen carbonate-sodium carbonate mixed aqueous solution is added to the reaction solution, and then toluene, dichloromethane, hexane, ethyl acetate or diethyl ether is added to perform the extraction operation. It can be performed.
The obtained compound represented by the general formula (1) is subjected to purification by thin-phase or column chromatography using activated carbon, distillation, recrystallization, silica gel or alumina, and preparative liquid chromatography as necessary. , Can increase the purity.
以下、実施例および比較例によって本発明をさらに詳細に説明する。実施例中の各項目の測定値は、下記の方法で測定した。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples and Comparative Examples. The measured value of each item in an Example was measured with the following method.
化合物は1H NMRおよびガスクロマトグラフ質量分析計で同定した。1H NMRは、核磁気共鳴装置(日本電子社製、JNM−AL400)を用いて下記の条件により測定した。テトラメチルシランの水素の化学シフト値を基準にした。
測定溶媒:CDCl3
測定温度:室温
The compound was identified by 1 H NMR and gas chromatograph mass spectrometer. 1 H NMR was measured using a nuclear magnetic resonance apparatus (manufactured by JEOL Ltd., JNM-AL400) under the following conditions. Based on the hydrogen chemical shift value of tetramethylsilane.
Measuring solvent: CDCl 3
Measurement temperature: room temperature
目的の化合物の純度は、ガスクロマトグラフ(島津製作所製、GC−17A)及びガスクロマトグラフ質量分析計(島津製作所製、GCMS−QP5000/QP5050A)を用いて下記条件により測定した。
(1)測定カラム:DB−1(Agilent Technologies社製)
長さ30m、I.D.(内径):0.25mm、Films:0.25μm
(2)測定温度:100℃〜300℃(10℃/分で昇温) 300℃で20分間保持
The purity of the target compound was measured under the following conditions using a gas chromatograph (manufactured by Shimadzu Corporation, GC-17A) and a gas chromatograph mass spectrometer (manufactured by Shimadzu Corporation, GCMS-QP5000 / QP5050A).
(1) Measurement column: DB-1 (manufactured by Agilent Technologies)
30m long, I.V. D. (Inner diameter): 0.25 mm, Films: 0.25 μm
(2) Measurement temperature: 100 ° C. to 300 ° C. (temperature rise at 10 ° C./min) Hold at 300 ° C. for 20 minutes
参考例で得られたポリマーの各項目の測定値は、下記の方法で測定した。
(1)融点
熱分析装置 示差走査熱量計(Diamond DSC Perkin Elmer社製)を用いて下記の方法で測定した。
1)サンプル約10mgを窒素雰囲気下、150℃ 5分間保持
2)冷却 150℃〜20℃(5℃/分)2分間保持
3)測定 20℃〜150℃(5℃/分)
(2)分子量および分子量分布
各重合体のポリスチレン換算重量平均分子鎖長(Aw)およびポリスチレン換算数平均分子鎖長(An)は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により、下記測定条件で算出した。検量線は、標準ポリスチレンを用いて作成した。ポリスチレンのQファクターとして41.3を用いた。
<測定条件>
装置 :TSK HLC−8121GPC/HT (東ソー社製)
カラム :TSKgel GMHHR−H(20) 2本
測定温度:152℃
溶媒 :o-ジクロロベンゼン(0.05%BHT添加)
溶媒流量:1ml/min
試料濃度:0.05%
カラムおよび装置校正用試料: TSK標準ポリスチレンF−2000〜A−1000(東ソー製)
ポリエチレンの重量平均分子量(Mw)および数平均分子量(Mn)は、上記測定条件により測定したポリスチレン換算重量平均分子鎖長(Aw)および数平均分子鎖長(An)をもとに、ポリエチレンのQファクターを17.7として下式より算出した。
分子量(Mw,Mn)=分子鎖長(Aw,An)×Qファクター
(3)長鎖分岐(LCB)数の算出方法
下記測定条件により測定した13C−NMRスペクトルにおいて、5〜50ppmにピークトップを有するすべてのピークの面積の総和を1000としたときの、炭素原子数7以上の分岐が結合したメチン炭素に由来するピークの面積を、1000炭素あたりの長鎖分岐数(炭素原子数7以上の分岐数)とした。本測定条件においては、38.22〜38.27ppm付近にピークトップを有するピーク面積から長鎖分岐の数(炭素原子数7以上の分岐の数)を求めた。当該ピーク面積は、高磁場側で隣接するピークとの谷のケミカルシフトから、低磁場側で隣接するピークとの谷のケミカルシフトまでの範囲とした。
<測定条件>
装置 :Bruker社製 AVANCE600 10mmクライオプローブ
測定溶媒:1,2−ジクロロベンゼン/1,2−ジクロロベンゼン−d4=75/25(容積比)の混合液
測定温度:130℃
測定方法:プロトンデカップリング法
パルス幅:45度
パルス繰り返し時間:4秒
化学シフト値基準 :テトラメチルシラン
(4)末端ビニル基数の算出方法
下記測定条件により測定したポリエチレンの1H NMRスペクトルにおいて、0.5〜2.5ppmの範囲の面積を1000としたときの、4.92〜5.20ppmのピーク面積を1000炭素あたりの末端ビニル基数とした。
<1H−NMR測定条件>
装置 :日本電子製 EX−270
測定溶媒:1,1,2,2−テトラクロロエタン−d2
測定温度:135℃
パルス幅:30度
パルス繰り返し時間:4秒
化学シフト値基準 :1,1,2,2−テトラクロロエタンのピークを6.0ppmとした。
(5)固有粘度([η])(単位:dl/g)
ウベローデ型粘度計を用い、測定温度135℃にて溶媒にテトラリンを用いて測定した。
(実施例1)
4-tert-ブチル-2-(1-メチル-1-ナフチルエチル)フェノールの合成
窒素置換した50 mLシュレンクに4-tert-ブチルフェノール6.6 g(44 mmol)、p-トルエンスルホン酸一水和物73mg(0.38 mmol)およびヘプタン20 mLを加え、100℃まで加熱した。 ここにイソプロペニルナフタレン 3.7 g(22 mmol)をヘプタン5 mLに溶解した溶液を滴下し、100℃で1時間撹拌した。反応溶液をガスクロマトグラフィーで分析した。イソプロペニルナフタレンの目的物への転化率は69%であった。反応溶液を炭酸水素ナトリウム水溶液に注いだ。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下揮発成分を留去した。得られた白色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒 酢酸エチル:ヘキサン=1:10)で精製することで4-tert-ブチル-2-(1-メチル-1-ナフチルエチル)フェノール 3.0 g(収率 43%)を白色固体として得た。
1H-NMR (400 MHz,δ, ppm, CDCl3)
1.38 (s, 9H), 1.79 (s, 6H), 4.34 (s, 1H), 6.66 (d, J = 8 Hz, 1H), 7.19〜7.30 (m, 2H), 7.44〜7.54 (m, 3H), 7.75〜7.92 (m, 4H).
(比較例1)
窒素置換した100 mLシュレンクに4-tert-ブチルフェノール6.6 g(44 mmol)、イソプロペニルナフタレン 3.7 g(22 mmol)およびジクロロメタン20 mLを加えた。ここにp-トルエンスルホン酸一水和物73mg(0.38 mmol)を加え、80℃で1時間撹拌した。反応溶液をガスクロマトグラフィーで分析した。イソプロペニルナフタレンの目的物への転化率は28%であった。
(比較例2)
窒素置換した50 mLシュレンクに4-tert-ブチルフェノール13.2 g(88 mmol)、イソプロペニルナフタレン 7.4 g(44 mmol)およびシクロへキサン50 mLを加え、80℃まで加熱した。 ここにp-トルエンスルホン酸一水和物73mg(0.38 mmol)を加え、室温で2時間撹拌した。反応溶液をガスクロマトグラフィーで分析した。イソプロペニルナフタレンの目的物への転化率は10%であった。
(参考例1)
trans-1,2-ビス(5-tert-ブチル-2-ヒドロキシ-3-(1-メチル-1-ナフチルエチル)ベンジルスルファニル)シクロオクタンの合成
(1)4-tert-ブチル-2-ヒドロキシメチル-6-(1-メチルシクロヘキシル)フェノールの合成
窒素置換した500mLフラスコに4-tert-ブチル-2-(1-メチル-1-ナフチルエチル)フェノール1.7 g(5.4 mmol,)、 塩化マグネシウム2.0 g(20 mmol)、パラホルムアルデヒド0.9 g(30 mmol)およびテトラヒドロフラン20 mLを加えた。ここにトリエチルアミン2.8 mL(20 mmol)を加え、3時間加熱還流した。反応溶液を室温まで放冷した後、不溶物を濾過した。濾液から減圧下揮発成分を留去した後、残渣に酢酸エチルと水を加えた。有機層を1 M HCl、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水の順に洗浄し、無水硫酸マグネシウムにより乾燥した。減圧下溶媒を留去することで、5-tert-ブチル-3-(1-メチル-1-ナフチルエチル)サリチルアルデヒド(収率73%)を含む混合物4.0 gを得た。
1H-NMR (400 MHz,δ, ppm, CDCl3)
1.37 (s, 9H), 1.83 (s, 6H), 4.34 (s, 1H), 7.2〜7.9 (m, 9H), 9.82 (s, 1H), 11.2 (s, 1H).
窒素置換した200mLフラスコに上記混合物 1.4 gとテトラヒドロフラン10 mLおよびメタノール10 mLを加えた。ここに水素化ホウ素ナトリウム 160 mg(4.2 mmol)をゆっくり加え、室温まで昇温後、1時間撹拌した。反応溶液から減圧下揮発成分を留去した後、水と酢酸エチルを加えた。有機層を1 M HCl、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水の順に洗浄し、無水硫酸マグネシウムにより乾燥した。得られた無色オイルをシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒 酢酸エチル:へキサン=1:10〜1:3)で精製することで4-tert-ブチル-2-ヒドロキシメチル-6-(1-メチル-1-ナフチルエチル)フェノール1.3 g(収率 91%)を白色固体として得た。
1H-NMR (400 MHz,δ, ppm, CDCl3)
1.37 (s, 9H), 1.80 (s, 6H), 2.08 (t, J = 6 Hz, 1H), 4.62 (d, J = 6 Hz, 2H), 5.60 (s, 1H), 7.1〜7.9 (m, 9H).
(2)臭化 5-tert-ブチル-2-ヒドロキシ-3-(1-メチル-1-ナフチルエチル)ベンジルの合成
窒素置換した500mLフラスコに4-tert-ブチル-2-ヒドロキシメチル-6-(1-メチル-1-ナフチルエチル)フェノール1.3 g(3.6 mmol)とジクロロメタン10 mLを加えた。ここに、三臭化リン2.7 mL(1.0 M ジクロロメタン溶液, 2.7 mmol)を加え室温で、2時間撹拌した。反応溶液に水を加え、有機層をさらに水で2回洗浄した後、飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下揮発成分を留去することで、臭化 5-tert-ブチル-2-ヒドロキシ-3-(1-メチル-1-ナフチルエチル)ベンジル1.5 g(収率 >99%)を淡黄色オイルとして得た。
1H-NMR (400 MHz,δ, ppm, CDCl3)
1.30 (s, 9H), 1.79 (s, 6H), 4.43 (s, 2H), 7.2〜8.0 (m, 9H).
(3)trans-1,2-ビス(5-tert-ブチル-2-ヒドロキシ-3-(1-メチル-1-ナフチルエチル)ベンジルスルファニル)シクロオクタンの合成
窒素置換した50 mLフラスコに臭化 5-tert-ブチル-2-ヒドロキシ-3-(1-メチル-1-ナフチルエチル)ベンジル 1.1 g(2.5 mmol)とtrans-シクロオクタン-1,2-ジチオール 0.18 g(1.0 mmol)とテトラヒドロフラン 7 mLを加え、氷冷した。ここに、トリエチルアミン 0.70 mL(5.1 mmol)を加え、0℃で1時間、室温で2時間撹拌した。減圧下揮発成分を留去し、得られた残渣に酢酸エチルと塩化アンモニウム水溶液を加えた。有機層をさらに塩化アンモニウム水溶液、飽和食塩水の順で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒 酢酸エチル:へキサン=1:10)で精製することで、trans-1,2-ビス(5-tert-ブチル-2-ヒドロキシ-3-(1-メチル-1-ナフチルエチル)ベンジルスルファニル)シクロオクタン 0.9 g(収率 >99%)を淡黄色固体として得た。
1H-NMR (400 MHz,δ, ppm, CDCl3)
0.8〜1.8 (m, 42H), 2.46 (m, 2H), 2.51 (m, 4H), 3.51 (m, 4H), 5.72 (s, 2H), 6.99 (d, J = 2 Hz, 2H), 7.20〜7.23 (m, 2H), 7.35〜7.44 (m, 6H), 7.60〜7.89 (m, 8H).
(参考例2)
[シクロオクタンジイル−trans-1,2-ビス(5-tert-ブチル-2-ヒドロキシ-3- (1-メチル-1-ナフチルエチル)ベンジルスルファニル)]ジクロロハフニウムの合成
窒素雰囲気下のグローブボックス中、50 mLシュレンク管でtrans-1,2-ビス(5-tert-ブチル-2-ヒドロキシ-3-(1-メチル-1-ナフチルエチル)ベンジルスルファニル)シクロオクタン 170 mg(0.20 mmol)のトルエン(1 mL)溶液に、ジクロロ[1,1’-オキシビス[エタン]][ビス(フェニルメチル)ハフニウム]]100 mg(0.20 mmol)のトルエン(1 mL)溶液を室温で滴下した。1.5時間後、減圧下揮発成分を留去した。得られた残渣をペンタンで洗浄し、減圧下乾燥することで、[シクロオクタンジイル−trans-1,2-ビス(5-tert-ブチル-2-ヒドロキシ-3- (1-メチル-1-ナフチルエチル)ベンジルスルファニル)]ジクロロハフニウム 110 mg (収率 51%)を白色粉末として得た。
1H-NMR (400 MHz,δ, ppm, CDCl3)
0.50〜2.2 (m, 56H), 2.48 (d, J = 14 Hz, 2H), 3.28 (d, J = 14 Hz, 2H), 6.58 (s, 2H), 6.97 (d, J = 8 Hz, 2H), 7.3-7.5 (m, 6H), 7.59 (s, 2H), 7.68 (d, J = 6 Hz, 2H), 7.84 (d, J = 7 Hz, 2H), 8.10 (s, 2H).
(参考例3)
内容積400mLの撹拌機付きオートクレーブを真空乾燥してアルゴンで置換した後、溶媒としてトルエン200mLを仕込み、反応器を40℃まで昇温した。昇温後、エチレン圧を0.6MPaに調整しながらフィードし、d−MAO 139mgを投入し、続いて [シクロオクタンジイル−trans-1,2-ビス(5-tert-ブチル-2-ヒドロキシ-3- (1-メチル-1-ナフチルエチル)ベンジルスルファニル)]ジクロロハフニウム(0.5 mmol/L、トルエン溶液)0.10mL(0.050μmol)を投入して重合を開始した。温度を40℃に保ちながら、60分間重合を行った。得られた重合体について、上述した測定条件に従い、融点、分子量および分子量分布、固有粘度、長鎖分岐数、ならびに末端ビニル基数を測定した。活性4.8×107g/mol/h, 融点117℃、Mw77,000、Mn18,800、Mw/Mn4.1、[η]1.4、長鎖分岐数0.23/1000C、ビニル末端0.37/1000Cであった。
The measured value of each item of the polymer obtained in the reference example was measured by the following method.
(1) Melting point Thermal analyzer A measurement was performed by the following method using a differential scanning calorimeter (manufactured by Diamond DSC Perkin Elmer).
1) Hold about 10 mg of sample under nitrogen atmosphere at 150 ° C. for 5 minutes 2) Cooling 150 ° C. to 20 ° C. (5 ° C./min) Hold for 2 minutes 3) Measurement 20 ° C. to 150 ° C. (5 ° C./min)
(2) Molecular weight and molecular weight distribution The polystyrene equivalent weight average molecular chain length (Aw) and polystyrene equivalent number average molecular chain length (An) of each polymer were calculated by gel permeation chromatography (GPC) under the following measurement conditions. . A calibration curve was prepared using standard polystyrene. 41.3 was used as the Q factor of polystyrene.
<Measurement conditions>
Apparatus: TSK HLC-8121GPC / HT (manufactured by Tosoh Corporation)
Column: TSKgel GMHHR-H (20) 2 Measurement temperature: 152 ° C
Solvent: o-dichlorobenzene (0.05% BHT added)
Solvent flow rate: 1 ml / min
Sample concentration: 0.05%
Column and sample for calibration: TSK standard polystyrene F-2000 to A-1000 (manufactured by Tosoh Corporation)
The weight average molecular weight (Mw) and number average molecular weight (Mn) of polyethylene are determined based on the polystyrene-converted weight average molecular chain length (Aw) and number average molecular chain length (An) measured under the above measurement conditions. The factor was calculated from the following formula with 17.7.
Molecular weight (Mw, Mn) = molecular chain length (Aw, An) × Q factor (3) long chain branching (LCB) number calculation method Peak top at 5 to 50 ppm in 13 C-NMR spectrum measured under the following measurement conditions The area of the peak derived from methine carbon to which branches having 7 or more carbon atoms are bonded when the total sum of the areas of all peaks having 1000 is 1000 is the number of long chain branches per 1000 carbons (7 or more carbon atoms) Branch number). Under the present measurement conditions, the number of long chain branches (the number of branches having 7 or more carbon atoms) was determined from the peak area having a peak top in the vicinity of 38.22 to 38.27 ppm. The peak area was in the range from the chemical shift of the valley with the peak adjacent on the high magnetic field side to the chemical shift of the valley with the peak adjacent on the low magnetic field side.
<Measurement conditions>
Apparatus: Bruker AVANCE 600 10 mm cryoprobe measurement solvent: 1,2-dichlorobenzene / 1,2-dichlorobenzene-d 4 = 75/25 (volume ratio) mixture measurement temperature: 130 ° C.
Measurement method: Proton decoupling method Pulse width: 45 ° Pulse repetition time: 4 seconds Standard of chemical shift value: Tetramethylsilane (4) Calculation method for number of terminal vinyl groups In the 1 H NMR spectrum of polyethylene measured under the following measurement conditions When the area in the range of 0.5 to 2.5 ppm is 1000, the peak area of 4.92 to 5.20 ppm is defined as the number of terminal vinyl groups per 1000 carbons.
<1 H-NMR measurement conditions>
Device: EX-270 manufactured by JEOL
Measurement solvent: 1,1,2,2-tetrachloroethane-d 2
Measurement temperature: 135 ° C
Pulse width: 30 degree pulse repetition time: 4 seconds Chemical shift value standard: The peak of 1,1,2,2-tetrachloroethane was 6.0 ppm.
(5) Intrinsic viscosity ([η]) (unit: dl / g)
Using an Ubbelohde viscometer, tetralin was used as a solvent at a measurement temperature of 135 ° C.
Example 1
Synthesis of 4-tert-butyl-2- (1-methyl-1-naphthylethyl) phenol Nitrogen-substituted 50 mL Schlenk with 6.6 g (44 mmol) of 4-tert-butylphenol and 73 mg of p-toluenesulfonic acid monohydrate (0.38 mmol) and 20 mL heptane were added and heated to 100 ° C. A solution prepared by dissolving 3.7 g (22 mmol) of isopropenylnaphthalene in 5 mL of heptane was added dropwise thereto and stirred at 100 ° C. for 1 hour. The reaction solution was analyzed by gas chromatography. The conversion of isopropenylnaphthalene to the desired product was 69%. The reaction solution was poured into an aqueous sodium bicarbonate solution. The organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate, and the volatile component was distilled off under reduced pressure. The obtained white solid was purified by silica gel column chromatography (developing solvent: ethyl acetate: hexane = 1: 10) to give 3.0 g of 4-tert-butyl-2- (1-methyl-1-naphthylethyl) phenol. 43%) was obtained as a white solid.
1 H-NMR (400 MHz, δ, ppm, CDCl 3 )
1.38 (s, 9H), 1.79 (s, 6H), 4.34 (s, 1H), 6.66 (d, J = 8 Hz, 1H), 7.19-7.30 (m, 2H), 7.44-7.54 (m, 3H) , 7.75-7.92 (m, 4H).
(Comparative Example 1)
To 100 mL Schlenk purged with nitrogen, 6.6 g (44 mmol) of 4-tert-butylphenol, 3.7 g (22 mmol) of isopropenylnaphthalene and 20 mL of dichloromethane were added. Here, 73 mg (0.38 mmol) of p-toluenesulfonic acid monohydrate was added, and the mixture was stirred at 80 ° C. for 1 hour. The reaction solution was analyzed by gas chromatography. The conversion of isopropenylnaphthalene to the desired product was 28%.
(Comparative Example 2)
4-tert-butylphenol 13.2 g (88 mmol), isopropenylnaphthalene 7.4 g (44 mmol) and cyclohexane 50 mL were added to nitrogen-substituted 50 mL Schlenk, and heated to 80 ° C. Here, 73 mg (0.38 mmol) of p-toluenesulfonic acid monohydrate was added, and the mixture was stirred at room temperature for 2 hours. The reaction solution was analyzed by gas chromatography. The conversion of isopropenylnaphthalene to the target product was 10%.
(Reference Example 1)
Synthesis of trans-1,2-bis (5-tert-butyl-2-hydroxy-3- (1-methyl-1-naphthylethyl) benzylsulfanyl) cyclooctane (1) 4-tert-butyl-2-hydroxymethyl Synthesis of -6- (1-methylcyclohexyl) phenol In a 500 mL flask purged with nitrogen, 1.7 g (5.4 mmol) of 4-tert-butyl-2- (1-methyl-1-naphthylethyl) phenol, 2.0 g of magnesium chloride ( 20 mmol), 0.9 g (30 mmol) of paraformaldehyde and 20 mL of tetrahydrofuran were added. Triethylamine 2.8 mL (20 mmol) was added here, and it heated and refluxed for 3 hours. The reaction solution was allowed to cool to room temperature, and the insoluble material was filtered off. After evaporating volatile components from the filtrate under reduced pressure, ethyl acetate and water were added to the residue. The organic layer was washed with 1 M HCl, saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and saturated brine in that order, and dried over anhydrous magnesium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure to obtain 4.0 g of a mixture containing 5-tert-butyl-3- (1-methyl-1-naphthylethyl) salicylaldehyde (yield 73%).
1 H-NMR (400 MHz, δ, ppm, CDCl 3 )
1.37 (s, 9H), 1.83 (s, 6H), 4.34 (s, 1H), 7.2 to 7.9 (m, 9H), 9.82 (s, 1H), 11.2 (s, 1H).
1.4 g of the above mixture, 10 mL of tetrahydrofuran and 10 mL of methanol were added to a 200 mL flask purged with nitrogen. Sodium borohydride 160 mg (4.2 mmol) was slowly added here, and it heated up to room temperature, and stirred for 1 hour. After distilling off volatile components from the reaction solution under reduced pressure, water and ethyl acetate were added. The organic layer was washed with 1 M HCl, saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and saturated brine in that order, and dried over anhydrous magnesium sulfate. The resulting colorless oil was purified by silica gel column chromatography (developing solvent: ethyl acetate: hexane = 1: 10 to 1: 3) to give 4-tert-butyl-2-hydroxymethyl-6- (1-methyl- 1.3 g (91% yield) of 1-naphthylethyl) phenol was obtained as a white solid.
1 H-NMR (400 MHz, δ, ppm, CDCl 3 )
1.37 (s, 9H), 1.80 (s, 6H), 2.08 (t, J = 6 Hz, 1H), 4.62 (d, J = 6 Hz, 2H), 5.60 (s, 1H), 7.1 to 7.9 (m , 9H).
(2) Synthesis of 5-tert-butyl-2-hydroxy-3- (1-methyl-1-naphthylethyl) benzyl bromide In a 500 mL flask purged with nitrogen, 4-tert-butyl-2-hydroxymethyl-6- ( 1-Methyl-1-naphthylethyl) phenol 1.3 g (3.6 mmol) and dichloromethane 10 mL were added. To this was added 2.7 mL of phosphorus tribromide (1.0 M in dichloromethane, 2.7 mmol), and the mixture was stirred at room temperature for 2 hours. Water was added to the reaction solution, and the organic layer was further washed twice with water and then with saturated brine. The organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate, and the volatile component was distilled off under reduced pressure to give 1.5 g of 5-tert-butyl-2-hydroxy-3- (1-methyl-1-naphthylethyl) benzyl bromide (recovery). Yield> 99%) as a pale yellow oil.
1 H-NMR (400 MHz, δ, ppm, CDCl 3 )
1.30 (s, 9H), 1.79 (s, 6H), 4.43 (s, 2H), 7.2 to 8.0 (m, 9H).
(3) Synthesis of trans-1,2-bis (5-tert-butyl-2-hydroxy-3- (1-methyl-1-naphthylethyl) benzylsulfanyl) cyclooctane -tert-Butyl-2-hydroxy-3- (1-methyl-1-naphthylethyl) benzyl 1.1 g (2.5 mmol), trans-cyclooctane-1,2-dithiol 0.18 g (1.0 mmol) and tetrahydrofuran 7 mL In addition, it was ice-cooled. Triethylamine 0.70 mL (5.1 mmol) was added here, and it stirred at 0 degreeC for 1 hour, and 2 hours at room temperature. Volatile components were distilled off under reduced pressure, and ethyl acetate and an aqueous ammonium chloride solution were added to the resulting residue. The organic layer was further washed with an aqueous ammonium chloride solution and saturated brine in that order, and then dried over anhydrous magnesium sulfate. After the solvent was distilled off under reduced pressure, trans-1,2-bis (5-tert-butyl-2-hydroxy-) was purified by silica gel column chromatography (developing solvent: ethyl acetate: hexane = 1: 10). 0.9 g (yield> 99%) of 3- (1-methyl-1-naphthylethyl) benzylsulfanyl) cyclooctane was obtained as a pale yellow solid.
1 H-NMR (400 MHz, δ, ppm, CDCl 3 )
0.8 ~ 1.8 (m, 42H), 2.46 (m, 2H), 2.51 (m, 4H), 3.51 (m, 4H), 5.72 (s, 2H), 6.99 (d, J = 2 Hz, 2H), 7.20 ~ 7.23 (m, 2H), 7.35 ~ 7.44 (m, 6H), 7.60 ~ 7.89 (m, 8H).
(Reference Example 2)
Synthesis of [cyclooctanediyl-trans-1,2-bis (5-tert-butyl-2-hydroxy-3- (1-methyl-1-naphthylethyl) benzylsulfanyl)] dichlorohafnium in a glove box under nitrogen atmosphere , Trans-1,2-bis (5-tert-butyl-2-hydroxy-3- (1-methyl-1-naphthylethyl) benzylsulfanyl) cyclooctane 170 mg (0.20 mmol) in toluene (50 mL Schlenk tube) A solution of 100 mg (0.20 mmol) of dichloro [1,1′-oxybis [ethane]] [bis (phenylmethyl) hafnium]] in toluene (1 mL) was added dropwise to the solution at room temperature. After 1.5 hours, volatile components were distilled off under reduced pressure. The obtained residue was washed with pentane and dried under reduced pressure to give [cyclooctanediyl-trans-1,2-bis (5-tert-butyl-2-hydroxy-3- (1-methyl-1-naphthyl Ethyl) benzylsulfanyl)] dichlorohafnium 110 mg (51% yield) was obtained as a white powder.
1 H-NMR (400 MHz, δ, ppm, CDCl 3 )
0.50 ~ 2.2 (m, 56H), 2.48 (d, J = 14 Hz, 2H), 3.28 (d, J = 14 Hz, 2H), 6.58 (s, 2H), 6.97 (d, J = 8 Hz, 2H ), 7.3-7.5 (m, 6H), 7.59 (s, 2H), 7.68 (d, J = 6 Hz, 2H), 7.84 (d, J = 7 Hz, 2H), 8.10 (s, 2H).
(Reference Example 3)
The autoclave with a stirrer with an internal volume of 400 mL was vacuum-dried and replaced with argon, and then 200 mL of toluene was charged as a solvent, and the temperature of the reactor was raised to 40 ° C. After the temperature rise, the feed was carried out while adjusting the ethylene pressure to 0.6 MPa, and 139 mg of d-MAO was added, followed by [cyclooctanediyl-trans-1,2-bis (5-tert-butyl-2-hydroxy- 3- (1-Methyl-1-naphthylethyl) benzylsulfanyl)] dichlorohafnium (0.5 mmol / L, toluene solution) was added in an amount of 0.10 mL (0.050 μmol) to initiate polymerization. Polymerization was carried out for 60 minutes while maintaining the temperature at 40 ° C. About the obtained polymer, melting | fusing point, molecular weight and molecular weight distribution, intrinsic viscosity, the number of long chain branches, and the number of terminal vinyl groups were measured according to the measurement conditions mentioned above. Activity 4.8 × 10 7 g / mol / h, melting point 117 ° C., Mw 77,000, Mn 18,800, Mw / Mn 4.1, [η] 1.4, long chain branch number 0.23 / 1000C, vinyl terminal It was 0.37 / 1000C.
Claims (2)
(式中、R1〜R3は同一または相異なり、アルキル基、フェニル基、または多環芳香族炭化水素基を示し、R1〜R3のいずれか少なくとも1つは多環芳香族炭化水素基であり、R4〜R7は同一または相異なり、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アラルキル基、フッ素化炭化水素基、アルコキシ基、アリールオキシ基、第二級アミノ基または第三級シリル基を示し、R4〜R7は任意に結合していてもよい。) Phenols represented by general formula (1).
(Wherein R 1 to R 3 are the same or different and represent an alkyl group, a phenyl group, or a polycyclic aromatic hydrocarbon group, and at least one of R 1 to R 3 is a polycyclic aromatic hydrocarbon) R 4 to R 7 are the same or different and are a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an aralkyl group, a fluorinated hydrocarbon group, an alkoxy group, an aryloxy group, a secondary amino group or a tertiary silyl group. A group, R 4 to R 7 may be optionally bonded.)
(式中、R4〜R7は同一または相異なり、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、フェニル基、フェニル基、アラルキル基、フッ素化炭化水素基、アルコキシ基、アリールオキシ基、第二級アミノ基または第三級シリル基を示し、R4〜R7は任意に結合していてもよい。)
(式中、R1〜R3は同一または相異なり、アルキル基、フェニル基、または多環芳香族炭化水素基を示し、R1〜R3のいずれか少なくとも1つは多環芳香族炭化水素基であり、A1はハロゲン原子または水酸基を表す。)
(式中、R1、R2は同一または相異なり、アルキル基、フェニル基、または多環芳香族炭化水素基を示し、R1またはR2の少なくとも1つは多環芳香族炭化水素基であり、R8は水素原子またはアルキル基を表す。) It is a manufacturing method of the compound represented by General formula (1) of Claim 1, Comprising: The mixture of the compound represented by an acidic compound and General formula (2), and General formula (3) or General formula (4) And a compound represented by the following formula:
(Wherein R 4 to R 7 are the same or different and are a hydrogen atom, halogen atom, alkyl group, phenyl group, phenyl group, aralkyl group, fluorinated hydrocarbon group, alkoxy group, aryloxy group, secondary amino group) A group or a tertiary silyl group, and R 4 to R 7 may be optionally bonded.)
(Wherein R 1 to R 3 are the same or different and represent an alkyl group, a phenyl group, or a polycyclic aromatic hydrocarbon group, and at least one of R 1 to R 3 is a polycyclic aromatic hydrocarbon) And A 1 represents a halogen atom or a hydroxyl group.)
(Wherein R 1 and R 2 are the same or different and represent an alkyl group, a phenyl group, or a polycyclic aromatic hydrocarbon group, and at least one of R 1 or R 2 is a polycyclic aromatic hydrocarbon group; And R 8 represents a hydrogen atom or an alkyl group.)
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