JP2013154550A - Transparent composite substrate and display element substrate - Google Patents

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Toshimasa Eguchi
敏正 江口
Hideo Umeda
英雄 楳田
Manabu Naito
学 内藤
Hiroyuki Otsuka
博之 大塚
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide: a transparent composite substrate excellent in an optical characteristic; and a display element substrate with a high reliability that is provided with the transparent composite substrate.SOLUTION: A transparent composite substrate 1 includes: a composite layer 4 that includes a glass cloth 2, and a resin material 3 that is impregnated to the glass cloth 2, and whose Abbe number is at least 45; and a gas barrier layer 5 that is disposed on the composite layer 4 and consists of an inorganic material, wherein when the melting point of the inorganic material is assumed to be Tm [°C], and the 5% weight reduction temperature of the principal ingredient of the resin material is assumed to be Td [°C], the relation of 1,200°C<(Tm-Td)<1,400°C is satisfied. Moreover, the inorganic material is shown by SiOxNy, and it is desirable that x satisfies the relation of 1≤x≤2 and y satisfies the relation of 0≤y≤1.

Description

本発明は、透明複合基板および表示素子基板に関するものである。   The present invention relates to a transparent composite substrate and a display element substrate.

液晶表示素子や有機EL表示素子等の表示素子に用いられるカラーフィルター基板、アクティブマトリックス基板のような表示素子基板や、太陽電池用基板などには、ガラス板が広く用いられている。しかしながら、ガラス板は、割れ易い、曲げられない、軽量化に不向き等の理由から、近年、その代替材としてプラスチック素材からなる基板(プラスチック基板)が検討されている。   Glass plates are widely used for color filter substrates used for display elements such as liquid crystal display elements and organic EL display elements, display element substrates such as active matrix substrates, and substrates for solar cells. However, in recent years, substrates made of plastic materials (plastic substrates) have been studied as substitutes for glass plates because they are easily broken, cannot be bent, and are not suitable for weight reduction.

ここで、プラスチック基板としては、これまでプリント基板用のガラス繊維複合樹脂シートが提案されている(例えば、特許文献1参照)。ガラス繊維複合樹脂シートは、ガラス繊維を含むガラス布帛に透明樹脂材料を含浸したものである。ガラス繊維を含むことにより、ガラス繊維複合樹脂シートは、特に機械的特性(曲げ強さ、低線膨張率等)を高めることができる。   Here, as a plastic substrate, the glass fiber composite resin sheet for printed circuit boards has been proposed until now (for example, refer patent document 1). The glass fiber composite resin sheet is obtained by impregnating a glass fabric containing glass fibers with a transparent resin material. By including the glass fiber, the glass fiber composite resin sheet can particularly enhance mechanical properties (such as bending strength and low linear expansion coefficient).

近年、このガラス繊維複合樹脂シートを透明化して、ガラス板の代替材とすることが試みられている。   In recent years, attempts have been made to make this glass fiber composite resin sheet transparent to substitute for a glass plate.

しかしながら、従来のガラス繊維複合樹脂シートは、プリント基板用途に特化して最適化されてきたため、上述したような用途に適した光学特性を備えていないという問題があった。   However, since the conventional glass fiber composite resin sheet has been optimized specifically for printed circuit board applications, there has been a problem that it does not have optical characteristics suitable for the above-described applications.

特開平5−147979号公報Japanese Patent Laid-Open No. 5-147979

本発明の目的は、光学特性に優れた透明複合基板および前記透明複合基板を備えた信頼性の高い表示素子基板を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a transparent composite substrate having excellent optical characteristics and a highly reliable display element substrate including the transparent composite substrate.

このような目的は、下記(1)〜(9)の本発明により達成される。
(1) ガラス布帛と前記ガラス布帛に含浸したアッベ数が45以上である樹脂材料とを有する複合層と、
前記複合層上に設けられ、無機材料で構成されたガスバリア層と、を有し、
前記無機材料の融点をTm[℃]とし、前記樹脂材料の主成分の5%重量減少温度をTd[℃]としたとき、1200℃<(Tm−Td)<1400℃の関係を満足することを特徴とする透明複合基板。
Such an object is achieved by the present inventions (1) to (9) below.
(1) a composite layer comprising a glass fabric and a resin material having an Abbe number of 45 or more impregnated in the glass fabric;
A gas barrier layer provided on the composite layer and made of an inorganic material,
When the melting point of the inorganic material is Tm [° C.] and the 5% weight reduction temperature of the main component of the resin material is Td [° C.], the relationship of 1200 ° C. <(Tm−Td) <1400 ° C. is satisfied. A transparent composite substrate characterized by

(2) 前記無機材料は、ケイ素化合物を含むものである上記(1)に記載の透明複合基板。   (2) The transparent composite substrate according to (1), wherein the inorganic material includes a silicon compound.

(3) 前記ケイ素化合物は、酸素原子および窒素原子を含むものである上記(2)に記載の透明複合基板。   (3) The transparent composite substrate according to (2), wherein the silicon compound contains an oxygen atom and a nitrogen atom.

(4) 前記ケイ素化合物は、SiOxNyで表され、xが1≦x≦2の関係を満足し、かつ、yが0≦y≦1の関係を満足するものである上記(2)または(3)に記載の透明複合基板。   (4) The silicon compound is represented by SiOxNy, wherein x satisfies a relationship of 1 ≦ x ≦ 2 and y satisfies a relationship of 0 ≦ y ≦ 1 (2) or (3 ) Transparent composite substrate.

(5) 前記ガスバリア層の平均厚さは、10〜500nmである上記(1)ないし(4)のいずれかに記載の透明複合基板。   (5) The transparent composite substrate according to any one of (1) to (4), wherein the gas barrier layer has an average thickness of 10 to 500 nm.

(6) JIS K 7129 Bに規定された水蒸気透過度が、0.1[g/m/day/40℃、90%RH]以下である上記(1)ないし(5)のいずれかに記載の透明複合基板。 (6) The water vapor transmission rate defined in JIS K 7129 B is 0.1 [g / m 2 / day / 40 ° C., 90% RH] or less, according to any one of (1) to (5) above Transparent composite substrate.

(7) 前記樹脂材料は、脂環式エポキシ樹脂を主成分とするものである上記(1)ないし(6)のいずれかに記載の透明複合基板。   (7) The transparent composite substrate according to any one of (1) to (6), wherein the resin material has an alicyclic epoxy resin as a main component.

(8) 前記複合層と前記ガスバリア層との間に設けられ、樹脂材料で構成された中間層を有する上記(1)ないし(7)のいずれかに記載の透明複合基板。   (8) The transparent composite substrate according to any one of (1) to (7), wherein the transparent composite substrate is provided between the composite layer and the gas barrier layer and has an intermediate layer made of a resin material.

(9) 上記(1)ないし(8)のいずれかに記載の透明複合基板を備えることを特徴とする表示素子基板。   (9) A display element substrate comprising the transparent composite substrate according to any one of (1) to (8).

本発明によれば、所定のアッベ数の樹脂材料を用いるとともに、所定の組成のケイ素化合物で構成されたガスバリア層を設けることにより、光学特性の経時的な低下を抑制することができるので、長期にわたって均一で優れた光学特性を維持し得る透明複合基板が得られる。   According to the present invention, since a resin material having a predetermined Abbe number is used and a gas barrier layer composed of a silicon compound having a predetermined composition is provided, a decrease in optical characteristics over time can be suppressed. A transparent composite substrate capable of maintaining uniform and excellent optical characteristics over a wide range is obtained.

また、本発明によれば、上記のような透明複合基板を備えたことにより、信頼性の高い表示素子基板が得られる。   In addition, according to the present invention, a display element substrate with high reliability can be obtained by including the transparent composite substrate as described above.

本発明の透明複合基板の実施形態に係るガラスクロスを示す平面図である。It is a top view which shows the glass cloth which concerns on embodiment of the transparent composite substrate of this invention. 本発明の透明複合基板の実施形態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows embodiment of the transparent composite substrate of this invention.

以下、本発明の透明複合基板および表示素子基板について添付図面に示す好適実施形態に基づいて詳細に説明する。   Hereinafter, the transparent composite substrate and the display element substrate of the present invention will be described in detail based on preferred embodiments shown in the accompanying drawings.

本発明の透明複合基板は、ガラス布帛と、ガラス布帛に含浸したアッベ数が45以上である樹脂材料と、を有する複合層と、複合層上に設けられ、無機材料で構成されたガスバリア層と、を有するものである。そして、無機材料の融点をTm[℃]とし、樹脂材料の主成分の5%重量減少温度をTd[℃]としたとき、1200℃<(Tm−Td)<1400℃の関係を満足するよう構成されたものである。   The transparent composite substrate of the present invention includes a composite layer having a glass fabric and a resin material having an Abbe number of 45 or more impregnated in the glass fabric, and a gas barrier layer provided on the composite layer and made of an inorganic material. , Has. When the melting point of the inorganic material is Tm [° C.] and the 5% weight loss temperature of the main component of the resin material is Td [° C.], the relationship of 1200 ° C. <(Tm−Td) <1400 ° C. is satisfied. It is configured.

本発明において透明とは、透光性を有する状態をいい、有彩色を呈していてもよいが、好ましくは無色とされる。   In the present invention, the term “transparent” refers to a state having translucency, and may have a chromatic color, but is preferably colorless.

本発明の透明複合基板は、所定のアッベ数の樹脂材料を用いるとともに、無機材料で構成されたガスバリア層を設け、かつ、無機材料の融点と樹脂材料の主成分の5%重量減少温度との差を最適化したことにより、光学特性の経時的な低下を確実に抑制し得るものとなる。このため、本発明の透明複合基板は、長期にわたって均一で優れた光学特性を維持し得るものとなる。   The transparent composite substrate of the present invention uses a resin material having a predetermined Abbe number, is provided with a gas barrier layer composed of an inorganic material, and has a melting point of the inorganic material and a 5% weight reduction temperature of the main component of the resin material. By optimizing the difference, it is possible to reliably suppress the temporal deterioration of the optical characteristics. For this reason, the transparent composite substrate of the present invention can maintain uniform and excellent optical characteristics over a long period of time.

<透明複合基板>
まず、本発明の透明複合基板の実施形態について説明する。
<Transparent composite substrate>
First, an embodiment of the transparent composite substrate of the present invention will be described.

図1は、本発明の透明複合基板の実施形態に係るガラスクロスを示す平面図、図2は、本発明の透明複合基板の実施形態を示す断面図である。   FIG. 1 is a plan view showing a glass cloth according to an embodiment of the transparent composite substrate of the present invention, and FIG. 2 is a cross-sectional view showing an embodiment of the transparent composite substrate of the present invention.

図2に示す透明複合基板1は、ガラスクロス(ガラス布帛)2と樹脂材料(マトリックス樹脂)3とを含む複合層4と、複合層4上に設けられたガスバリア層5と、を有するものである。以下、各構成要素について説明する。   A transparent composite substrate 1 shown in FIG. 2 includes a composite layer 4 including a glass cloth (glass fabric) 2 and a resin material (matrix resin) 3, and a gas barrier layer 5 provided on the composite layer 4. is there. Hereinafter, each component will be described.

(ガラスクロス)
本発明に用いられるガラスクロス2としては、ガラス繊維を含む織布や不織布等の布帛が挙げられる。図1では、ガラスクロス2が織布である場合を例に図示している。図1に示すガラスクロス2は、縦方向ガラスヤーン(経糸)2aおよび横方向ガラスヤーン(緯糸)2bで構成されており、縦方向ガラスヤーン2aと横方向ガラスヤーン2bとは略直交している。ガラスクロス2の織組織としては、図1に示す平織りの他、ななこ織り、朱子織り、綾織り等が挙げられる。
(Glass cloth)
Examples of the glass cloth 2 used in the present invention include fabrics such as woven fabrics and nonwoven fabrics containing glass fibers. In FIG. 1, the case where the glass cloth 2 is a woven fabric is illustrated as an example. A glass cloth 2 shown in FIG. 1 includes a longitudinal glass yarn (warp) 2a and a transverse glass yarn (weft) 2b. The longitudinal glass yarn 2a and the transverse glass yarn 2b are substantially orthogonal to each other. . Examples of the woven structure of the glass cloth 2 include a plain weave, a woven weave, a satin weave, and a twill weave.

ガラス繊維を構成する無機系ガラス材料としては、例えば、Eガラス、Cガラス、Aガラス、Sガラス、Tガラス、Dガラス、NEガラス、クオーツ、低誘電率ガラス、高誘電率ガラス等が挙げられ、中でもアルカリ金属などのイオン性不純物が少なく入手の容易なEガラス、Sガラス、Tガラス、NEガラスが好ましく用いられ、特に30℃から250℃における平均線膨張係数が5ppm以下であるSガラスまたはTガラスがより好ましく用いられる。   Examples of the inorganic glass material constituting the glass fiber include E glass, C glass, A glass, S glass, T glass, D glass, NE glass, quartz, low dielectric constant glass, and high dielectric constant glass. Among them, E glass, S glass, T glass, and NE glass, which have few ionic impurities such as alkali metals and are easily available, are preferably used. Especially, S glass having an average linear expansion coefficient of 5 ppm or less at 30 ° C. to 250 ° C. T glass is more preferably used.

また、無機系ガラス材料の屈折率は、用いる樹脂材料の屈折率に応じて適宜設定されるものの、例えば、1.4〜1.6程度であるのが好ましく、1.5〜1.55程度であるのがより好ましい。これにより、広い波長領域において優れた光学特性を示す透明複合基板1が得られる。   Moreover, although the refractive index of an inorganic type glass material is suitably set according to the refractive index of the resin material to be used, it is preferable that it is about 1.4-1.6, for example, about 1.5-1.55. It is more preferable that Thereby, the transparent composite substrate 1 which shows the outstanding optical characteristic in a wide wavelength range is obtained.

ガラスクロス2に含まれるガラス繊維の平均径は2〜15μm程度であるのが好ましく、3〜12μm程度であるのがより好ましく、3〜10μm程度であるのがさらに好ましい。これにより、機械的特性や光学的特性と表面の平滑性とを高度に両立し得る透明複合基板1が得られる。なお、ガラス繊維の平均径は、透明複合基板1の横断面を各種顕微鏡等で観察し、観察像から測定される100本分のガラス繊維の直径の平均値として求められる。   The average diameter of the glass fibers contained in the glass cloth 2 is preferably about 2 to 15 μm, more preferably about 3 to 12 μm, and further preferably about 3 to 10 μm. Thereby, the transparent composite substrate 1 which can make mechanical characteristics, optical characteristics, and surface smoothness highly compatible is obtained. In addition, the average diameter of glass fiber is calculated | required as an average value of the diameter of 100 glass fibers measured from the observation image by observing the cross section of the transparent composite substrate 1 with various microscopes.

一方、ガラスクロス2の平均厚さは、10〜200μm程度であるのが好ましく、20〜120μm程度であるのがより好ましい。ガラスクロス2の平均厚さを前記範囲内にすることにより、透明複合基板1の薄型化を図り、かつ十分な可撓性および透光性を確保しつつ、機械的特性の低下を抑えることができる。   On the other hand, the average thickness of the glass cloth 2 is preferably about 10 to 200 μm, and more preferably about 20 to 120 μm. By making the average thickness of the glass cloth 2 within the above range, the transparent composite substrate 1 can be made thin, and sufficient flexibility and translucency can be secured, while suppressing the deterioration of mechanical properties. it can.

また、複数のガラス繊維からなる束(ガラスヤーン)を織って織布とした場合、ガラスヤーンにはガラス繊維の単糸が30〜300本程度含まれているのが好ましく、50〜250本程度含まれているのがより好ましい。これにより、機械的特性や光学的特性と表面の平滑性とを高度に両立し得る透明複合基板1が得られる。   When a bundle (glass yarn) made of a plurality of glass fibers is woven to form a woven fabric, the glass yarn preferably contains about 30 to 300 single fibers of glass fiber, and about 50 to 250. More preferably it is included. Thereby, the transparent composite substrate 1 which can make mechanical characteristics, optical characteristics, and surface smoothness highly compatible is obtained.

このようなガラスクロス2には、あらかじめ開繊処理が施されているのが好ましい。開繊処理により、ガラスヤーンが拡幅され、その断面は扁平状に成形される。また、いわゆるバスケットホールも小さくなる。その結果、ガラスクロス2の平滑性が高くなり、透明複合基板1の表面の平滑性も高くなる。開繊処理としては、例えば、ウォータージェットを噴射する処理、エアージェットを噴射する処理、ニードルパンチングを施す処理等が挙げられる。   Such a glass cloth 2 is preferably subjected to a fiber opening treatment in advance. By the fiber opening process, the glass yarn is widened and the cross section is formed into a flat shape. Also, the so-called basket hole becomes smaller. As a result, the smoothness of the glass cloth 2 is increased, and the smoothness of the surface of the transparent composite substrate 1 is also increased. Examples of the opening process include a process of spraying a water jet, a process of spraying an air jet, and a process of performing needle punching.

また、ガラス繊維の表面には、必要に応じてカップリング剤を付与するようにしてもよい。カップリング剤としては、例えば、シラン系カップリング剤、チタン系カップリング剤等が挙げられるが、シラン系カップリング剤が特に好ましく用いられる。シランカップリング剤には、官能基としてエポキシ基、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、イソシアネート基、アミド基等を含むものが好ましく用いられる。   Moreover, you may make it provide a coupling agent to the surface of glass fiber as needed. Examples of the coupling agent include a silane coupling agent and a titanium coupling agent, and a silane coupling agent is particularly preferably used. As the silane coupling agent, those containing an epoxy group, a (meth) acryloyl group, a vinyl group, an isocyanate group, an amide group or the like as a functional group are preferably used.

このようなカップリング剤の含有率は、ガラスクロス100質量部に対して0.01〜5質量部程度であるのが好ましく、0.02〜1質量部程度であるのがより好ましく、0.02〜0.5質量部程度であるのがさらに好ましい。カップリング剤の含有率が前記範囲内であれば、光学特性を高めることができ、例えば表示素子基板として好適な透明複合基板1が得られる。   The content of such a coupling agent is preferably about 0.01 to 5 parts by mass, more preferably about 0.02 to 1 part by mass with respect to 100 parts by mass of the glass cloth. More preferably, it is about 02 to 0.5 parts by mass. If the content rate of a coupling agent is in the said range, an optical characteristic can be improved, for example, the transparent composite substrate 1 suitable as a display element substrate is obtained.

また、ガラスクロス2としては、屈折率の最大値と最小値との差が0.01以下のものが好ましく用いられる。このような屈折率分布を有するガラスクロス2を用いることにより、屈折率差に伴う光の干渉等が抑えられ、透明複合基板1の光学特性を特に高めることができる。また、屈折率分布はガラス繊維の微小構造(原子配列)を反映していると考えられることから、このような屈折率分布を有するガラスクロス2は、この微小構造に基づく特性、例えば耐候性等においても均一性を備えていると考えられる。すなわち、上記のようなガラスクロス2は、経時的な劣化が避けられない環境下であっても、均一に光学特性が変化し得る。したがって、かかるガラスクロス2を備える透明複合基板1は、長期にわたって均一で優れた光学特性を維持し得るものとなる。   Further, as the glass cloth 2, one having a difference between the maximum value and the minimum value of the refractive index of 0.01 or less is preferably used. By using the glass cloth 2 having such a refractive index distribution, light interference associated with the refractive index difference can be suppressed, and the optical characteristics of the transparent composite substrate 1 can be particularly enhanced. Since the refractive index distribution is considered to reflect the microstructure (atomic arrangement) of the glass fiber, the glass cloth 2 having such a refractive index distribution has characteristics based on this microstructure, such as weather resistance. It is thought that it has uniformity. That is, the glass cloth 2 as described above can change its optical characteristics uniformly even in an environment where deterioration over time is unavoidable. Therefore, the transparent composite substrate 1 including the glass cloth 2 can maintain uniform and excellent optical characteristics over a long period of time.

また、ガラスクロス2における屈折率の最大値と最小値との差は、より好ましくは0.008以下とされ、さらに好ましくは0.005以下とされる。   Further, the difference between the maximum value and the minimum value of the refractive index in the glass cloth 2 is more preferably 0.008 or less, and further preferably 0.005 or less.

また、本発明に用いられるガラスクロス2が織布である場合、この織布において、単位幅当たりの横方向ガラスヤーン(第2のガラス繊維束)2b中のガラス成分の断面積を1としたとき、単位幅当たりの縦方向ガラスヤーン(第1のガラス繊維束)2a中のガラス成分の断面積の比は、1.04以上1.40以下であるのが好ましく、1.21以上1.39以下であるのがより好ましく、1.25以上1.35以下であるのがさらに好ましい。これにより、透明複合基板1において縦方向と横方向の線膨張率の均等性を図るとともに、光透過性のさらなる向上を図ることができる。   When the glass cloth 2 used in the present invention is a woven fabric, the cross-sectional area of the glass component in the lateral glass yarn (second glass fiber bundle) 2b per unit width is set to 1 in this woven fabric. The ratio of the cross-sectional areas of the glass components in the longitudinal glass yarn (first glass fiber bundle) 2a per unit width is preferably 1.04 or more and 1.40 or less, and 1.21 or more and 1. It is more preferably 39 or less, and further preferably 1.25 or more and 1.35 or less. Thereby, while the uniformity of the linear expansion coefficient of the vertical direction and a horizontal direction can be aimed at in the transparent composite substrate 1, the further improvement of a light transmittance can be aimed at.

また、縦方向ガラスヤーン2aと横方向ガラスヤーン2bとが同一のガラスヤーンである場合、すなわちガラス成分の断面積が互いに実質的に等しい場合、単位幅当たりの横方向ガラスヤーン(第2のガラス繊維束)の本数を1としたとき、単位幅当たりの縦方向ガラスヤーン(第1ガラス繊維束)の本数の比は、1.02以上1.18以下であるのが好ましく、1.10以上1.18以下であるのがより好ましく、1.12以上1.16以下であるのがさらに好ましい。これにより、透明複合基板1において縦方向と横方向の線膨張率の均等性を図るとともに、光透過性のさらなる向上を図ることができる。   When the longitudinal glass yarn 2a and the transverse glass yarn 2b are the same glass yarn, that is, when the cross-sectional areas of the glass components are substantially equal to each other, the transverse glass yarn per unit width (second glass When the number of fiber bundles) is 1, the ratio of the number of longitudinal glass yarns (first glass fiber bundles) per unit width is preferably 1.02 or more and 1.18 or less, and 1.10 or more. It is more preferably 1.18 or less, and further preferably 1.12 or more and 1.16 or less. Thereby, while the uniformity of the linear expansion coefficient of the vertical direction and a horizontal direction can be aimed at in the transparent composite substrate 1, the further improvement of a light transmittance can be aimed at.

なお、ガラスクロス2が織布である場合、この織布を製造する際には、縦方向ガラスヤーン2aがMD方向(流れ方向)を向き、横方向ガラスヤーン2bがTD方向(垂直方向)を向くようにして製造装置にセットされる。ここで、縦方向ガラスヤーン2aと横方向ガラスヤーン2bとを織り込む場合には、双方に等しい力が加わるわけではなく、糸送りの方向によって変わる。したがって、本発明では、織り込む際に加わる力の差が最終的な透明複合基板1の光学特性に及ぼす影響を考慮し、光学特性を最適化するべく、上記のようなガラス成分の断面積やガラスヤーンの本数に異方性を持たせるようにすることが好ましい。   When the glass cloth 2 is a woven fabric, when manufacturing this woven fabric, the longitudinal glass yarn 2a faces the MD direction (flow direction), and the transverse glass yarn 2b faces the TD direction (vertical direction). It is set in the manufacturing device so that it faces. Here, when weaving the longitudinal glass yarn 2a and the transverse glass yarn 2b, equal force is not applied to both, but changes depending on the yarn feeding direction. Therefore, in the present invention, in consideration of the influence of the difference in force applied during weaving on the optical characteristics of the final transparent composite substrate 1, the cross-sectional area of the glass component and the glass as described above are optimized in order to optimize the optical characteristics. It is preferable to make the number of yarns anisotropic.

一方、上記のようにガラスクロス2に異方性がある場合、熱、湿度環境の変化等による寸法変化にも異方性が生じ、変形等を招く恐れがある。これに対して、本発明では、複合層4上に無機材料で構成されたガスバリア層5を設けることにより、透明複合基板1の寸法変化を大幅に抑制することを可能にした。このような本発明によれば、寸法変化をもたらす内部応力の偏在を抑制し、透明複合基板1の光学特性の低下や反りや変形等を抑えることができる。すなわち、本発明によれば、ガラスクロス2が織布である場合に不可避であった問題を解消することができる。
なお、上記の「単位幅」とは、1インチ幅のことである。
On the other hand, when the glass cloth 2 has anisotropy as described above, anisotropy also occurs in a dimensional change due to a change in heat and humidity environment, and there is a risk of causing deformation or the like. On the other hand, in the present invention, by providing the gas barrier layer 5 made of an inorganic material on the composite layer 4, the dimensional change of the transparent composite substrate 1 can be greatly suppressed. According to the present invention as described above, it is possible to suppress the uneven distribution of internal stress that causes a dimensional change, and it is possible to suppress a decrease in optical characteristics, warpage, deformation, and the like of the transparent composite substrate 1. That is, according to the present invention, it is possible to solve the problem that is unavoidable when the glass cloth 2 is a woven fabric.
The “unit width” is a width of 1 inch.

また、前記第1ガラス繊維束および前記第2ガラス繊維束の撚り数は、それぞれ0.2〜2.0/インチであることが好ましく、0.3〜1.6/インチであることがより好ましい。ガラス繊維束の撚り数がこの範囲であることで、ヘイズ値が小さい透明複合基板1を得ることができる。   Further, the number of twists of the first glass fiber bundle and the second glass fiber bundle is preferably 0.2 to 2.0 / inch, and more preferably 0.3 to 1.6 / inch. preferable. When the number of twists of the glass fiber bundle is in this range, the transparent composite substrate 1 having a small haze value can be obtained.

(樹脂材料)
本発明に用いられる樹脂材料3は、硬化後のアッベ数が45以上のものであり、好ましくは50以上のものである。
(Resin material)
The resin material 3 used in the present invention has an Abbe number after curing of 45 or more, preferably 50 or more.

ここでアッベ数(ν)とは、屈折率の波長依存性、すなわち分散の度合いを示すものであり、ν=(n−1)/(n−n)で求めることができる。n、n、nは、それぞれフラウンホーファーの線のC線(波長656nm)、D線(589nm)、F線(486nm)に対する屈折率である。アッベ数が小さい樹脂材料3は、波長によって屈折率が大きく変化する。すなわち、一般的なガラス繊維はアッベ数が50以上であるため、このようなガラス繊維と複合化する樹脂材料のアッベ数が45未満と小さい場合には、波長589nmで両者の屈折率を合わせたとしても、400nm以下の波長では屈折率が大きく異なってしまい、400nm以下の光線透過率が低下してしまう。本発明では、アッベ数が45以上の樹脂材料3を用いることにより、一般的なガラス繊維に対して広い波長範囲で屈折率を一致させることができ、例えば400nm以下の波長においても優れた光線透過率を実現できる。したがって、本発明の透明複合基板は、広い波長範囲において均一で優れた光学特性を有するものとなる。 Here, the Abbe number (ν d ) indicates the wavelength dependency of the refractive index, that is, the degree of dispersion, and can be obtained by ν d = (n D −1) / (n F −n C ). . n C , n D , and n F are refractive indexes of the Fraunhofer line with respect to C line (wavelength 656 nm), D line (589 nm), and F line (486 nm), respectively. The refractive index of the resin material 3 having a small Abbe number varies greatly depending on the wavelength. That is, since a general glass fiber has an Abbe number of 50 or more, when the Abbe number of a resin material combined with such a glass fiber is as small as less than 45, the refractive indexes of both are combined at a wavelength of 589 nm. Even at a wavelength of 400 nm or less, the refractive index is greatly different, and the light transmittance of 400 nm or less is lowered. In the present invention, by using the resin material 3 having an Abbe number of 45 or more, the refractive index can be matched with a general glass fiber in a wide wavelength range. For example, excellent light transmission even at a wavelength of 400 nm or less. Rate can be realized. Therefore, the transparent composite substrate of the present invention has uniform and excellent optical characteristics in a wide wavelength range.

加えて、樹脂材料3のアッベ数が45未満である場合、樹脂材料3が吸湿や酸化の影響を受けた時のアッベ数変化により、ガラス繊維を構成するガラスのアッべ数との乖離がさらに大きくなるため、結果としてヘイズ値が大きくなる。一方で、アッベ数が45以上の場合には、アッべ数の変化があった場合でもガラスとのアッべ数差が少ないため、ヘイズ値の変化も小さい。ガスバリア層5があった場合には、ヘイズ値の変化抑制の効果がより顕著となる。   In addition, when the Abbe number of the resin material 3 is less than 45, the deviation from the Abbe number of the glass constituting the glass fiber is further caused by the Abbe number change when the resin material 3 is affected by moisture absorption or oxidation. As a result, the haze value increases. On the other hand, when the Abbe number is 45 or more, even if there is a change in the Abbe number, the difference in the Abbe number from the glass is small, so the change in haze value is also small. When the gas barrier layer 5 is present, the effect of suppressing the change in haze value becomes more remarkable.

本発明に用いられる樹脂材料3には、例えば、エポキシ系樹脂、オキセタン系樹脂、イソシアネート系樹脂、アクリレート系樹脂、オレフィン系樹脂、シクロオレフィン系樹脂、ジアリルフタレート系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ジアリルカーボネート系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂、ポリイミド系樹脂、芳香族ポリアミド系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリフェニレン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリフェニレンオキサイド系樹脂、シルセスキオキサン系化合物等が挙げられる。このうち、好ましくはエポキシ樹脂またはアクリル樹脂が用いられ、より好ましくは脂環式エポキシ樹脂または脂環式アクリル樹脂が用いられる。   Examples of the resin material 3 used in the present invention include epoxy resins, oxetane resins, isocyanate resins, acrylate resins, olefin resins, cycloolefin resins, diallyl phthalate resins, polycarbonate resins, and diallyl carbonate resins. Examples include resins, urethane resins, melamine resins, polyimide resins, aromatic polyamide resins, polystyrene resins, polyphenylene resins, polysulfone resins, polyphenylene oxide resins, silsesquioxane compounds, and the like. Among these, an epoxy resin or an acrylic resin is preferably used, and an alicyclic epoxy resin or an alicyclic acrylic resin is more preferably used.

本発明に用いられるエポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、またはこれらの水添化物、ジシクロペンタジエン骨格を有するエポキシ樹脂、トリグリシジルイソシアヌレート骨格を有するエポキシ樹脂、カルド骨格を有するエポキシ樹脂、ポリシロキサン構造を有するエポキシ樹脂、脂環式多官能エポキシ樹脂、水添ビフェニル骨格を有する脂環式エポキシ樹脂、水添ビスフェノールA骨格を有する脂環式エポキシ樹脂等が挙げられ、これらのエポキシ樹脂の1種または2種以上の混合物を用いることができる。   Examples of the epoxy resin used in the present invention include bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, or hydrogenated products thereof, epoxy resin having a dicyclopentadiene skeleton, and triglycidyl isocyanurate. Epoxy resin having skeleton, epoxy resin having cardo skeleton, epoxy resin having polysiloxane structure, alicyclic polyfunctional epoxy resin, alicyclic epoxy resin having hydrogenated biphenyl skeleton, alicyclic having hydrogenated bisphenol A skeleton An epoxy resin etc. are mentioned, The 1 type (s) or 2 or more types of mixture of these epoxy resins can be used.

また、上述したエポキシ樹脂は、グリシジル基およびエーテル結合を含むグリシジルエーテル型エポキシ樹脂、グリシジル基およびエステル結合を含むグリシジルエステル型エポキシ樹脂、グリシジル基およびアミノ基を含むグリシジルアミン型エポキシ樹脂のようなグリシジル型エポキシ樹脂と、脂環式エポキシ基を有する脂環式エポキシ基に大別できるが、本発明では特に、分子内に2個以上のエポキシシクロヘキサン環を有する脂環式エポキシ樹脂が好ましく用いられる。具体的には、脂環式多官能エポキシ樹脂、水添ビフェニル骨格を有する脂環式エポキシ樹脂、水添ビスフェノールA骨格を有する脂環式エポキシ樹脂等の各種脂環式エポキシ樹脂を主成分とする樹脂材料が用いられる。   In addition, the above-mentioned epoxy resin is a glycidyl ether type epoxy resin containing a glycidyl group and an ether bond, a glycidyl ester type epoxy resin containing a glycidyl group and an ester bond, and a glycidyl amine type epoxy resin containing a glycidyl group and an amino group. Type epoxy resin and alicyclic epoxy group having an alicyclic epoxy group can be broadly classified. In the present invention, an alicyclic epoxy resin having two or more epoxycyclohexane rings in the molecule is preferably used. Specifically, the main component is various alicyclic epoxy resins such as alicyclic polyfunctional epoxy resins, alicyclic epoxy resins having a hydrogenated biphenyl skeleton, and alicyclic epoxy resins having a hydrogenated bisphenol A skeleton. A resin material is used.

脂環式エポキシ樹脂として、より具体的には、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’、4’−エポキシシクロヘキセンカルボキシレート、3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、2−(3,4−エポキシ)シクロヘキシル−5,5−スピロ−(3,4−エポキシ)シクロヘキサン−m−ジオキサン、1,2:8,9−ジエポキシリモネン、ジシクロペンタジエンジオキサイド、シクロオクテンジオキサイド、アセタールジエポキシサイド、ビニルシクロヘキサンジオキシド、ビニルシクロヘキセンモノオキサイド1,2−エポキシ−4−ビニルシクロヘキサン、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)アジペート、ビス(3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシルメチル)アジペート、エキソーエキソビス(2,3−エポキシシクロペンチル)エーテル、2,2−ビス(4−(2,3−エポキシプロピル)シクロヘキシル)プロパン、2,6−ビス(2,3−エポキシプロポキシシクロヘキシル−p−ジオキサン)、2,6−ビス(2,3−エポキシプロポキシ)ノルボルネン、リノール酸二量体のジグリシジルエーテル、リモネンジオキシド、2,2−ビス(3,4−エポキシシクロヘキシル)プロパン、o−(2,3−エポキシ)シクロペンチルフェニル−2,3−エポキシプロピルエーテル、1,2−ビス[5−(1,2−エポキシ)−4,7−ヘキサヒドロメタノインダンキシル]エタン、シクロヘキサンジオールジグリシジルエーテルおよびジグリシジルヘキサヒドロフタレート、ε−カプロラクトンオリゴマーの両端にそれぞれ3,4−エポキシシクロヘキシルメタノールと3,4−エポキシシクロヘキシルカルボン酸がエステル結合したもの、エポキシ化されたヘキサヒドロベンジルアルコール等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上の混合物が用いられる。   More specifically, as the alicyclic epoxy resin, 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3 ′, 4′-epoxycyclohexenecarboxylate, 3,4-epoxy-6-methylcyclohexylmethyl-3,4-epoxy- 6-methylcyclohexanecarboxylate, 2- (3,4-epoxy) cyclohexyl-5,5-spiro- (3,4-epoxy) cyclohexane-m-dioxane, 1,2: 8,9-diepoxy limonene, di Cyclopentadiene dioxide, cyclooctene dioxide, acetal diepoxyside, vinylcyclohexane dioxide, vinylcyclohexylene monooxide 1,2-epoxy-4-vinylcyclohexane, bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) adipate, bis (3 , 4-epoxy- -Methylcyclohexylmethyl) adipate, exo-exobis (2,3-epoxycyclopentyl) ether, 2,2-bis (4- (2,3-epoxypropyl) cyclohexyl) propane, 2,6-bis (2,3 -Epoxypropoxycyclohexyl-p-dioxane), 2,6-bis (2,3-epoxypropoxy) norbornene, diglycidyl ether of linoleic acid dimer, limonene dioxide, 2,2-bis (3,4-epoxy) Cyclohexyl) propane, o- (2,3-epoxy) cyclopentylphenyl-2,3-epoxypropyl ether, 1,2-bis [5- (1,2-epoxy) -4,7-hexahydromethanoindanxyl] Ethane, cyclohexanediol diglycidyl ether and diglycidyl hexahydride Examples include phthalate and ε-caprolactone oligomers in which both ends of 3,4-epoxycyclohexylmethanol and 3,4-epoxycyclohexylcarboxylic acid are ester-bonded, and epoxidized hexahydrobenzyl alcohol. A seed or a mixture of two or more is used.

また、本発明では特に分子内に2個以上のエポキシシクロヘキサン環を有する脂環式エポキシ樹脂が好ましく用いられる。このうち、下記化学式(1)、(2)、および(3)で示される脂環式エポキシ構造が特に好適に用いられる。   In the present invention, an alicyclic epoxy resin having two or more epoxycyclohexane rings in the molecule is particularly preferably used. Of these, alicyclic epoxy structures represented by the following chemical formulas (1), (2), and (3) are particularly preferably used.

Figure 2013154550
Figure 2013154550

Figure 2013154550
[上記式(2)中、−X−は−O−、−S−、−SO−、−SO−、−CH−、−CH(CH)−、または−C(CH−を表す。]
Figure 2013154550
[In the above formula (2), -X- is -O -, - S -, - SO -, - SO 2 -, - CH 2 -, - CH (CH 3) -, or -C (CH 3) 2 -Represents. ]

Figure 2013154550
Figure 2013154550

一方、分子中にエポキシシクロヘキサン環を1個有する脂環式エポキシ樹脂としては、下記化学式(4)、(5)で示される脂環式エポキシ樹脂が特に好適に用いられる。   On the other hand, as the alicyclic epoxy resin having one epoxycyclohexane ring in the molecule, alicyclic epoxy resins represented by the following chemical formulas (4) and (5) are particularly preferably used.

Figure 2013154550
Figure 2013154550

Figure 2013154550
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このような脂環式エポキシ樹脂は、低温での硬化性に優れることから、低温で硬化処理を行うことができる。これにより、硬化時に樹脂材料3を高温にする必要がなくなるため、その後硬化物を室温に戻しても、温度の変化量を抑えることができる。その結果、本発明の透明複合基板では、温度変化に伴う熱応力の発生を抑制することができ、光学特性に優れたものとなる。   Since such an alicyclic epoxy resin is excellent in curability at low temperature, it can be cured at low temperature. Thereby, since it becomes unnecessary to make the resin material 3 high temperature at the time of hardening, even if it returns a hardened | cured material to room temperature after that, the amount of change of temperature can be suppressed. As a result, the transparent composite substrate of the present invention can suppress the generation of thermal stress accompanying a temperature change, and has excellent optical characteristics.

また、上述したような脂環式エポキシ樹脂は、硬化後の線膨張係数が低いため、かかる脂環式エポキシ樹脂を含む樹脂材料を用いて得られた透明複合基板1では、ガラスクロス2と樹脂材料3との界面における界面応力が室温において特に小さくなる。このため、上記界面応力の小さい透明複合基板1を得ることができ、かかる透明複合基板1は、光学異方性の小さいものとなる。さらに、線膨張係数が低いため、透明複合基板1では、反りやうねり等の変形が防止される。   Moreover, since the alicyclic epoxy resin as described above has a low coefficient of linear expansion after curing, in the transparent composite substrate 1 obtained using a resin material containing the alicyclic epoxy resin, a glass cloth 2 and a resin are used. The interfacial stress at the interface with the material 3 is particularly small at room temperature. For this reason, the said transparent composite substrate 1 with a small interface stress can be obtained, and this transparent composite substrate 1 becomes a thing with small optical anisotropy. Furthermore, since the linear expansion coefficient is low, the transparent composite substrate 1 is prevented from being deformed such as warpage and swell.

また、これらの脂環式エポキシ樹脂は、透明性および耐熱性に優れていることから、光透過性に優れ、かつ耐熱性の高い透明複合基板1の実現に寄与するものである。   In addition, these alicyclic epoxy resins are excellent in transparency and heat resistance, and thus contribute to the realization of the transparent composite substrate 1 having excellent light transmittance and high heat resistance.

なお、樹脂材料3は、脂環式エポキシ樹脂が主成分であるものが好ましい。本発明において主成分とは、樹脂材料3の50質量%超を占める成分のことをいい、樹脂材料3における脂環式エポキシ樹脂の含有率は70質量%以上であるのが好ましく、80質量%以上であるのがより好ましい。   The resin material 3 is preferably a resin material mainly composed of an alicyclic epoxy resin. In the present invention, the main component means a component occupying more than 50% by mass of the resin material 3, and the content of the alicyclic epoxy resin in the resin material 3 is preferably 70% by mass or more, and 80% by mass. The above is more preferable.

また、樹脂材料3には、脂環式エポキシ樹脂とともにグリシジル型エポキシ樹脂が好ましく用いられる。これらを併用することにより、透明複合基板1において光学特性の低下を抑えつつ、樹脂材料3の屈折率を容易に調整することができる。すなわち、脂環式エポキシ樹脂とグリシジル型エポキシ樹脂との混合比を適宜調整することによって、樹脂材料3の屈折率を所望の値にすることができる。その結果、光透過性の高い透明複合基板1が得られる。   For the resin material 3, a glycidyl type epoxy resin is preferably used together with an alicyclic epoxy resin. By using these together, the refractive index of the resin material 3 can be easily adjusted while suppressing a decrease in optical properties in the transparent composite substrate 1. That is, the refractive index of the resin material 3 can be set to a desired value by appropriately adjusting the mixing ratio of the alicyclic epoxy resin and the glycidyl type epoxy resin. As a result, a transparent composite substrate 1 having a high light transmittance is obtained.

この場合、グリシジル型エポキシ樹脂の添加量は、脂環式エポキシ樹脂100質量部に対して、0.1〜10質量部程度であるのが好ましく、1〜5質量部程度であるのがより好ましい。   In this case, the addition amount of the glycidyl type epoxy resin is preferably about 0.1 to 10 parts by mass and more preferably about 1 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the alicyclic epoxy resin. .

グリシジル型エポキシ樹脂としては、例えば、グリシジルエーテル型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂等が挙げられる。   Examples of the glycidyl type epoxy resin include a glycidyl ether type epoxy resin, a glycidyl ester type epoxy resin, a glycidyl amine type epoxy resin, and the like.

また、用いるグリシジル型エポキシ樹脂の中でも、カルド構造を有するグリシジル型エポキシ樹脂が好ましく用いられる。すなわち、脂環式エポキシ樹脂にカルド構造を有するグリシジル型エポキシ樹脂を添加して用いることにより、ビスアリールフルオレン骨格に由来する多数の芳香環が含まれることになるため、透明複合基板1の光学特性および耐熱性をより高めることができる。   Of the glycidyl type epoxy resins to be used, glycidyl type epoxy resins having a cardo structure are preferably used. That is, by adding a glycidyl type epoxy resin having a cardo structure to an alicyclic epoxy resin and using it, a large number of aromatic rings derived from the bisarylfluorene skeleton are included, so the optical characteristics of the transparent composite substrate 1 In addition, the heat resistance can be further increased.

このようなカルド構造を有するグリシジル型エポキシ樹脂としては、例えば、オンコートEXシリーズ(長瀬産業社製)、オグソール(大阪ガスケミカル社製)等が挙げられる。   Examples of the glycidyl type epoxy resin having such a cardo structure include Oncoat EX series (manufactured by Nagase Sangyo Co., Ltd.), Ogsol (manufactured by Osaka Gas Chemical Co., Ltd.), and the like.

また、樹脂材料3には、脂環式エポキシ樹脂とともにシルセスキオキサン系化合物も好ましく用いられ、このうち、オキセタニル基、(メタ)アクリロイル基のような光重合性基を有するシルセスキオキサン系化合物がより好ましく用いられる。これらが併用されることにより、透明複合基板1において光学特性の低下を抑えつつ、樹脂材料3の屈折率を容易に調整することができる。また、オキセタニル基を有するシルセスキオキサン系化合物は、脂環式エポキシ樹脂との相溶性に富んでいるため、均一な混合が可能になり、その結果、屈折率をより確実に調整しつつ、光学特性に優れた透明複合基板1が得られる。   In addition, a silsesquioxane compound is also preferably used as the resin material 3 together with the alicyclic epoxy resin, and among these, a silsesquioxane compound having a photopolymerizable group such as an oxetanyl group or a (meth) acryloyl group. A compound is more preferably used. By using these together, the refractive index of the resin material 3 can be easily adjusted while suppressing a decrease in optical characteristics in the transparent composite substrate 1. Moreover, since the silsesquioxane-based compound having an oxetanyl group is rich in compatibility with the alicyclic epoxy resin, uniform mixing is possible, and as a result, the refractive index is more reliably adjusted, A transparent composite substrate 1 having excellent optical characteristics is obtained.

このようなオキセタニル基を有するシルセスキオキサン系化合物としては、例えば、OX−SQ、OX−SQ−H、OX−SQ−F(いずれも東亞合成社製)等が挙げられる。   Examples of such silsesquioxane compounds having an oxetanyl group include OX-SQ, OX-SQ-H, OX-SQ-F (all manufactured by Toagosei Co., Ltd.) and the like.

この場合、シルセスキオキサン系化合物の添加量は、脂環式エポキシ樹脂100質量部に対して、1〜20質量部程度であるのが好ましく、2〜15質量部程度であるのがより好ましい。   In this case, the addition amount of the silsesquioxane-based compound is preferably about 1 to 20 parts by mass and more preferably about 2 to 15 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the alicyclic epoxy resin. .

一方、脂環式アクリル樹脂としては、例えば、トリシクロデカニルジアクリレート、その水素添加物、ジシクロペンタニルジアクリレート、イソボルニルジアクリレート、水素化ビスフェノールAジアクリレート、シクロヘキサン−1,4−ジメタノールジアクリレート等が挙げられ、具体的には、日立化成工業社製オプトレッツシリーズ、ダイセル・サイテック社製アクリレートモノマー等が用いられる。   On the other hand, as the alicyclic acrylic resin, for example, tricyclodecanyl diacrylate, its hydrogenated product, dicyclopentanyl diacrylate, isobornyl diacrylate, hydrogenated bisphenol A diacrylate, cyclohexane-1,4- Examples include dimethanol diacrylate, and specifically, Hitachi Chemical's Optretz series, Daicel Cytec's acrylate monomer, and the like.

さらには、本発明に用いられる樹脂材料3は、ガラス転移温度が150℃以上であるのが好ましく、170℃以上であるのがより好ましく、180℃以上であるのがさらに好ましい。これにより、透明複合基板1の製造後、これを表示素子基板に加工する際において各種加熱処理を施したとしても、透明複合基板1に反りや変形等が発生するのを防止することができる。   Furthermore, the resin material 3 used in the present invention preferably has a glass transition temperature of 150 ° C. or higher, more preferably 170 ° C. or higher, and further preferably 180 ° C. or higher. Thereby, even if various heat treatments are performed when the transparent composite substrate 1 is manufactured and then processed into a display element substrate, it is possible to prevent the transparent composite substrate 1 from being warped or deformed.

また、樹脂材料3は、熱変形温度が200℃以上であるのが好ましく、熱膨張率は100ppm/K以下であるのが好ましい。   The resin material 3 preferably has a heat distortion temperature of 200 ° C. or higher, and preferably has a coefficient of thermal expansion of 100 ppm / K or lower.

また、樹脂材料3の屈折率は、ガラスクロス2の屈折率にできるだけ近い方がよく、実質的に同一の屈折率であるのが好ましい。具体的には、両者の屈折率差は0.01以下であるのが好ましく、0.005以下であるのがより好ましい。これにより、光透過性の高い透明複合基板1が得られる。   The refractive index of the resin material 3 is preferably as close as possible to the refractive index of the glass cloth 2 and is preferably substantially the same refractive index. Specifically, the refractive index difference between the two is preferably 0.01 or less, and more preferably 0.005 or less. Thereby, the transparent composite substrate 1 with high light transmittance is obtained.

(その他の成分)
本発明の透明複合基板は、樹脂材料3中において上記のもの以外にフィラー等を含んでいてもよい。
(Other ingredients)
The transparent composite substrate of the present invention may contain a filler in the resin material 3 in addition to the above.

フィラーとしては、例えば無機系ガラス材料の繊維片または粒子等で構成されたガラスフィラーが挙げられる。ガラスフィラーが樹脂材料3中に分散することで、透明複合基板1の光透過性を阻害することなく機械的特性を高めることができる。   As a filler, the glass filler comprised, for example with the fiber piece or particle | grains, etc. of the inorganic type glass material is mentioned. Dispersing the glass filler in the resin material 3 can enhance the mechanical characteristics without inhibiting the light transmittance of the transparent composite substrate 1.

ガラスフィラーとしては、具体的には、ガラスチョップドストランド、ガラスビーズ、ガラスフレーク、ガラスパウダー、ミルドガラス等が挙げられる。   Specific examples of the glass filler include glass chopped strands, glass beads, glass flakes, glass powder, and milled glass.

無機系ガラス材料としては、前述したガラスクロスの構成材料と同様のものが用いられる。   As the inorganic glass material, the same material as that of the glass cloth described above is used.

フィラーの含有量は、ガラスクロス100質量部に対して1〜90質量部程度であるのが好ましく、3〜70質量部程度であるのがより好ましい。   The content of the filler is preferably about 1 to 90 parts by mass, more preferably about 3 to 70 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the glass cloth.

なお、フィラーの直径は100nm以下であるのが好ましい。このようなフィラーは、界面での散乱が生じ難いので、透明複合基板1の透明性が比較的高くなる。   In addition, it is preferable that the diameter of a filler is 100 nm or less. Since such a filler hardly causes scattering at the interface, the transparency of the transparent composite substrate 1 becomes relatively high.

また、樹脂材料3中に前述したカップリング剤を添加するようにしてもよい。これにより、前述した応力集中をさらに緩和することができ、透明複合基板1の光学特性をより高めることができる。樹脂材料3中にカップリング剤を添加する場合、その添加量は樹脂材料100質量部に対して0.01〜5質量部程度であるのが好ましく、0.05〜2質量部程度であるのがより好ましい。   Further, the coupling agent described above may be added to the resin material 3. Thereby, the stress concentration described above can be further relaxed, and the optical characteristics of the transparent composite substrate 1 can be further enhanced. When adding a coupling agent in the resin material 3, it is preferable that the addition amount is about 0.01-5 mass parts with respect to 100 mass parts of resin materials, and is about 0.05-2 mass parts. Is more preferable.

(ガスバリア層)
本発明の透明複合基板が備える複合層4上にはガスバリア層5が設けられている。
(Gas barrier layer)
A gas barrier layer 5 is provided on the composite layer 4 provided in the transparent composite substrate of the present invention.

ガスバリア層5の構成材料は、無機材料であればよく、例えばSi、Al、Ca、Na、B、Ti、Pb、Nb、Mg、P、Ba、Ge、Li、K、Zr等からなる群から選択される少なくとも1種の酸化物または2種以上の混合物の酸化物、フッ化物、窒化物あるいは酸窒化物等が挙げられる。   The constituent material of the gas barrier layer 5 may be an inorganic material, for example, from the group consisting of Si, Al, Ca, Na, B, Ti, Pb, Nb, Mg, P, Ba, Ge, Li, K, Zr, and the like. The oxide, fluoride, nitride, oxynitride, or the like of at least one selected oxide or a mixture of two or more types can be given.

上記無機材料は、これらの中でも複数種の酸化物を含むことが好ましく、特に複数種の酸化物を含むガラス材料で構成されているのがより好ましい。これにより、非晶質でかつ緻密なガラス材料からなる層によって、ガスバリア層5のガスバリア性を向上させることができる。   Among these, the inorganic material preferably includes a plurality of types of oxides, and more preferably includes a glass material including a plurality of types of oxides. Thereby, the gas barrier property of the gas barrier layer 5 can be improved by a layer made of an amorphous and dense glass material.

ここで無機材料が含む酸化物には、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウムおよび酸化ホウ素が好ましく用いられるが、このうちケイ素化合物である酸化ケイ素が特に好ましく用いられる。酸化ケイ素を含むことにより、ガスバリア性の顕著な向上を図ることができる。   Here, silicon oxide, aluminum oxide, magnesium oxide and boron oxide are preferably used as the oxide contained in the inorganic material, and among these, silicon oxide which is a silicon compound is particularly preferably used. By containing silicon oxide, the gas barrier property can be remarkably improved.

また、ケイ素化合物としては、特に酸化ケイ素とともに窒化ケイ素を含む(以下、双方を含むものを「酸窒化ケイ素」という。)ものが好ましく用いられる。酸素原子と窒素原子とを含むケイ素化合物である酸窒化ケイ素を含むことにより、無機材料はガスバリア性とともに表面の硬度にも優れたものとなる。すなわち、ガスバリア層5は、ガスバリア性と保護性とを両立し得るものとなる。   In addition, as the silicon compound, those containing silicon nitride in addition to silicon oxide (hereinafter, those containing both are referred to as “silicon oxynitride”) are preferably used. By including silicon oxynitride, which is a silicon compound containing oxygen atoms and nitrogen atoms, the inorganic material has excellent surface hardness as well as gas barrier properties. That is, the gas barrier layer 5 can achieve both gas barrier properties and protective properties.

ここで、ガスバリア層5を構成する無機材料の融点をTm[℃]とし、樹脂材料3の主成分の5%重量減少温度をTd[℃]としたとき、透明複合基板1は1200℃<(Tm−Td)<1400℃の関係を満足するよう構成される。このような透明複合基板1は、無機材料と樹脂材料3との間の特性が最適化されることにより、ガスバリア性に富んだものとなり、合わせて表面保護性を有するものとなる。このため、透明複合基板1の吸湿や酸化、反りや変形等が抑制され、透明複合基板1の光学特性が長期にわたって均一に維持されるとともに、表面に傷等が付くのを確実に防止することができる。   Here, when the melting point of the inorganic material constituting the gas barrier layer 5 is Tm [° C.] and the 5% weight reduction temperature of the main component of the resin material 3 is Td [° C.], the transparent composite substrate 1 is 1200 ° C. <( Tm−Td) <1400 ° C. Such a transparent composite substrate 1 is rich in gas barrier properties by optimizing the properties between the inorganic material and the resin material 3, and also has surface protection properties. For this reason, moisture absorption, oxidation, warpage, deformation, etc. of the transparent composite substrate 1 are suppressed, the optical characteristics of the transparent composite substrate 1 are maintained uniformly over a long period of time, and the surface is reliably prevented from being scratched. Can do.

なお、5%重量減少温度Td[℃]は、例えば、熱重量分析(TGA)により、大気中での加熱に伴って5%の重量減少が生じたときの温度として測定することができる。一方、無機材料に融点が存在せず、熱分解してしまう場合には、その熱分解の開始温度を上記Tm[℃]とすることができる。   The 5% weight reduction temperature Td [° C.] can be measured, for example, by thermogravimetric analysis (TGA) as the temperature at which a 5% weight reduction occurs with heating in the atmosphere. On the other hand, when the inorganic material does not have a melting point and is thermally decomposed, the thermal decomposition start temperature can be set to the above Tm [° C.].

また、Tm−Tdの値は、好ましくは1250℃<(Tm−Td)<1400℃とされ、より好ましくは1300℃<(Tm−Td)<1400℃とされる。   The value of Tm−Td is preferably 1250 ° C. <(Tm−Td) <1400 ° C., more preferably 1300 ° C. <(Tm−Td) <1400 ° C.

また、上記ケイ素化合物は、SiOxNyで表されるが、このxおよびyが0.3<x/(x+y)≦1の関係を満足するのが好ましく、0.35<x/(x+y)≦0.95の関係を満足するのがより好ましく、0.4<x/(x+y)≦0.9の関係を満足するのがさらに好ましい。このようなケイ素化合物で構成されたガスバリア層5は、ガスバリア性と表面保護性とを両立し得るものとなる。このため、複合層4の吸湿や酸化を抑制し、透明複合基板1の光学特性をより長期にわたって均一に維持することができるとともに、透明複合基板1の表面を傷等からより確実に保護することができる。その結果、耐摩耗性のさらなる向上が図られ、特に過酷な環境下での使用に耐え得る透明複合基板1が得られる。   The silicon compound is represented by SiOxNy, and it is preferable that x and y satisfy the relationship of 0.3 <x / (x + y) ≦ 1, and 0.35 <x / (x + y) ≦ 0. It is more preferable to satisfy the relationship of .95, and it is even more preferable to satisfy the relationship of 0.4 <x / (x + y) ≦ 0.9. The gas barrier layer 5 composed of such a silicon compound can achieve both gas barrier properties and surface protection properties. For this reason, moisture absorption and oxidation of the composite layer 4 can be suppressed, the optical characteristics of the transparent composite substrate 1 can be maintained uniformly over a longer period, and the surface of the transparent composite substrate 1 can be more reliably protected from scratches and the like. Can do. As a result, the wear resistance is further improved, and the transparent composite substrate 1 that can withstand use in a particularly severe environment is obtained.

また、このようなケイ素化合物で構成されたガスバリア層5を設けることにより、複合層4に対してガスバリア層5の線膨張係数が最適化されることになるため、ガスバリア性を付与しつつも透明複合基板1の反りや変形等を抑えることができる。その結果、透明複合基板1の光学特性をより均一化することができる。さらに、ガスバリア層5の屈折率が複合層4に対して近くなるため、透明複合基板1の光透過性の向上も図られる。   Moreover, since the linear expansion coefficient of the gas barrier layer 5 is optimized with respect to the composite layer 4 by providing the gas barrier layer 5 made of such a silicon compound, it is transparent while providing gas barrier properties. Warpage or deformation of the composite substrate 1 can be suppressed. As a result, the optical characteristics of the transparent composite substrate 1 can be made more uniform. Further, since the refractive index of the gas barrier layer 5 is close to that of the composite layer 4, the light transmittance of the transparent composite substrate 1 can be improved.

これに加え、上記のケイ素化合物で構成されたガスバリア層5は、前述したように複合層4の吸湿や酸化を抑制し、樹脂材料3のアッベ数の変化を抑制する機能も有する。このため、透明複合基板1が過酷な環境下で使用された場合であっても、樹脂材料3は高いアッベ数を維持することができる。よって、過酷な環境下で使用した場合でも、広い波長範囲において均一で優れた光学特性を示す透明複合基板1が得られる。   In addition to this, the gas barrier layer 5 made of the silicon compound has a function of suppressing moisture absorption and oxidation of the composite layer 4 and suppressing a change in the Abbe number of the resin material 3 as described above. For this reason, even if the transparent composite substrate 1 is used in a harsh environment, the resin material 3 can maintain a high Abbe number. Therefore, even when used in a harsh environment, the transparent composite substrate 1 showing uniform and excellent optical characteristics in a wide wavelength range can be obtained.

なお、x/(x+y)の値が前記下限値を下回ると、窒素原子に対して酸素原子の存在比が著しく低下することになるため、ガスバリア層5の光透過性が低下するとともに可撓性も低下するおそれがある。さらには、ガスバリア層5と樹脂材料3との間でアッベ数の差が大きくなり過ぎて、均一で優れた光学特性を示す波長範囲が狭くなる。   If the value of x / (x + y) is below the lower limit value, the abundance ratio of oxygen atoms with respect to nitrogen atoms is remarkably reduced, so that the light transmittance of the gas barrier layer 5 is reduced and flexibility is increased. May also decrease. Furthermore, the difference in Abbe number between the gas barrier layer 5 and the resin material 3 becomes too large, and the wavelength range showing uniform and excellent optical characteristics becomes narrow.

また、SiOxNyにおいてxは1≦x≦2の関係を満足し、かつyは0≦y≦1の関係を満足するのが好ましく、1.2≦x≦1.8および0.2≦y≦0.8の関係を満足するのがより好ましい。このようなSiOxNyは、ガスバリア性と保護性とを高度に両立し得るとともに、その屈折率が複合層4に対して特に最適化されることにより、透明複合基板1の光透過性の向上にも寄与する。   In SiOxNy, x preferably satisfies the relationship of 1 ≦ x ≦ 2, and y preferably satisfies the relationship of 0 ≦ y ≦ 1, and 1.2 ≦ x ≦ 1.8 and 0.2 ≦ y ≦ It is more preferable to satisfy the relationship of 0.8. Such SiOxNy can achieve a high degree of compatibility between gas barrier properties and protective properties, and its refractive index is particularly optimized with respect to the composite layer 4, thereby improving the light transmittance of the transparent composite substrate 1. Contribute.

なお、xが前記下限値を下回ると、ガスバリア層5の光透過性および可撓性が低下し、xが前記上限値を上回ると、ガスバリア層5の表面保護性が低下するおそれがある。また、yが前記上限値を上回ると、ガスバリア層5の表面保護性が低下するおそれがある。   In addition, when x is less than the lower limit, the light transmittance and flexibility of the gas barrier layer 5 may be reduced, and when x exceeds the upper limit, the surface protection of the gas barrier layer 5 may be reduced. Moreover, when y exceeds the said upper limit, there exists a possibility that the surface protection of the gas barrier layer 5 may fall.

ガスバリア層5の平均厚さは、特に限定されないが、10〜500nm程度であるのが好ましい。この範囲内であれば、十分なガスバリア性および保護性を有するとともに、可撓性にも優れたガスバリア層5が得られる。   The average thickness of the gas barrier layer 5 is not particularly limited, but is preferably about 10 to 500 nm. Within this range, the gas barrier layer 5 having sufficient gas barrier properties and protective properties and excellent flexibility can be obtained.

また、ガスバリア層5は、JIS K 7129 Bに規定の水蒸気透過度が0.1[g/m/day/40℃、90%RH]以下であるのが好ましい。水蒸気透過度が前記範囲内にあると、吸湿によるガラスクロス2や樹脂材料3の変質、劣化を抑制するとともにそれに伴う屈折率の変化を抑制し、長期にわたって優れた光学特性を有する透明複合基板1が得られる。 The gas barrier layer 5 preferably has a water vapor permeability of 0.1 [g / m 2 / day / 40 ° C., 90% RH] or less as defined in JIS K 7129 B. When the water vapor transmission rate is within the above range, the transparent composite substrate 1 has excellent optical characteristics over a long period of time by suppressing alteration and deterioration of the glass cloth 2 and the resin material 3 due to moisture absorption and suppressing the change in the refractive index associated therewith. Is obtained.

また、ガスバリア層5は、JIS K 7126 Bに規定の酸素透過度が0.1[cm/m/day/1atm/23℃]以下であるのが好ましい。酸素透過度が前記範囲内にあると、酸化による樹脂材料3の変質、劣化を抑制するとともにそれに伴う屈折率の変化を抑制し、長期にわたって優れた光学特性を有する透明複合基板1が得られる。 In addition, the gas barrier layer 5 preferably has an oxygen permeability defined by JIS K 7126 B of 0.1 [cm 3 / m 2 / day / 1 atm / 23 ° C.] or less. When the oxygen permeability is within the above range, the transparent composite substrate 1 having excellent optical characteristics over a long period of time can be obtained by suppressing alteration and deterioration of the resin material 3 due to oxidation and suppressing the change in the refractive index.

なお、複合層4とガスバリア層5との間には、必要に応じて中間層が介在していてもよい。中間層としては、後述する機能層等が挙げられるが、特にエポキシ樹脂、アクリル樹脂等の樹脂材料で構成される層が好ましく用いられる。このような中間層を介在させることにより、透明複合基板1の表面の平坦性および平滑性を高め、光学特性を高めることができる。それとともに、複合層4とガスバリア層5との密着性を高め、ガスバリア層5の剥離を確実に防止することができる。その結果、透明複合基板1の耐久性が向上し、長期にわたって均一で優れた光学特性を維持し得る透明複合基板1が得られる。   An intermediate layer may be interposed between the composite layer 4 and the gas barrier layer 5 as necessary. Examples of the intermediate layer include a functional layer, which will be described later, and a layer composed of a resin material such as an epoxy resin or an acrylic resin is preferably used. By interposing such an intermediate layer, the flatness and smoothness of the surface of the transparent composite substrate 1 can be enhanced, and the optical characteristics can be enhanced. At the same time, the adhesion between the composite layer 4 and the gas barrier layer 5 can be enhanced, and the gas barrier layer 5 can be reliably prevented from peeling off. As a result, the durability of the transparent composite substrate 1 is improved, and the transparent composite substrate 1 capable of maintaining uniform and excellent optical characteristics over a long period of time is obtained.

中間層を構成する樹脂材料としては、複合層4に含まれる樹脂材料3と同様のものが用いられ、好ましくは樹脂材料3と同じ組成のものが用いられる。これにより、中間層が剥離し難くなり、複合層4とガスバリア層5との密着性をより高めることができる。   As the resin material constituting the intermediate layer, the same material as the resin material 3 included in the composite layer 4 is used, and preferably the same material as the resin material 3 is used. Thereby, it becomes difficult to peel off the intermediate layer, and the adhesion between the composite layer 4 and the gas barrier layer 5 can be further improved.

(透明複合基板の特性)
表示素子基板の波長400nmにおける全光線透過率は、70%以上であるのが好ましく、より好ましくは75%以上であり、さらに好ましくは78%以上である。波長400nmにおける全光線透過率が下限値未満であると表示素子における表示性能が十分でないおそれがある。
(Characteristics of transparent composite substrate)
The total light transmittance at a wavelength of 400 nm of the display element substrate is preferably 70% or more, more preferably 75% or more, and further preferably 78% or more. If the total light transmittance at a wavelength of 400 nm is less than the lower limit, the display performance of the display element may not be sufficient.

また、透明複合基板の平均厚さは、特に限定されないが、40〜200μm程度であるのが好ましく、50〜100μm程度であるのがより好ましい。   Moreover, although the average thickness of a transparent composite substrate is not specifically limited, It is preferable that it is about 40-200 micrometers, and it is more preferable that it is about 50-100 micrometers.

また、本発明の透明複合基板は、30℃〜150℃における平均線膨張係数が40ppm以下であることが好ましく、より好ましくは20ppm以下、さらに好ましくは10ppm以下である。このような平均線膨張係数の透明複合基板は、温度変化に伴う寸法変化が十分に小さいので、例えばアクティブマトリックス表示素子用基板に用いられたときに、反りや配線の断線といった諸問題が発生し難いものとなる。   Moreover, it is preferable that the average linear expansion coefficient in 30 to 150 degreeC of the transparent composite substrate of this invention is 40 ppm or less, More preferably, it is 20 ppm or less, More preferably, it is 10 ppm or less. Such a transparent composite substrate having an average coefficient of linear expansion has a sufficiently small dimensional change due to a temperature change. For example, when it is used for an active matrix display device substrate, various problems such as warping and wire breakage occur. It will be difficult.

また、本発明の透明複合基板は、JIS K 7129 Bに規定の水蒸気透過度が0.1[g/m/day/40℃、90%RH]以下であるのが好ましい。水蒸気透過度が前記範囲内であれば、透明複合基板の内部を透過する水蒸気量が抑えられ、ガラスクロス2や樹脂材料3の吸湿が抑制される。これにより、樹脂材料3の変質、劣化を抑制し、樹脂材料3のアッベ数の変化を特に抑制することができる。その結果、樹脂材料3は高いアッベ数を維持することができ、過酷な環境下で使用した場合でも、広い波長範囲において均一で優れた光学特性を示す透明複合基板1が得られる。 In addition, the transparent composite substrate of the present invention preferably has a water vapor permeability of 0.1 [g / m 2 / day / 40 ° C., 90% RH] or less as defined in JIS K 7129 B. If the water vapor transmission rate is within the above range, the amount of water vapor passing through the inside of the transparent composite substrate is suppressed, and moisture absorption of the glass cloth 2 and the resin material 3 is suppressed. Thereby, the quality change and deterioration of the resin material 3 can be suppressed, and the change in the Abbe number of the resin material 3 can be particularly suppressed. As a result, the resin material 3 can maintain a high Abbe number, and even when used in a harsh environment, a transparent composite substrate 1 that exhibits uniform and excellent optical characteristics in a wide wavelength range is obtained.

また、ガラスクロス2の屈折率の最大値と最小値との差が0.01以下の場合には、微小構造が均一になるためさらに吸湿による屈折率変動も均一となり、透明複合基板1は均一で優れた光学特性をより長期にわたって維持し得るものとなる。また、水蒸気透過度が前記範囲内であれば、吸湿に伴う透明複合基板1の線膨張係数の変動も抑制される。このため、寸法変化に伴う光学特性の低下も確実に抑制することができる。さらに、水蒸気透過度が前記範囲内にあると、本発明の透明複合基板を表示素子基板として用いた場合に、吸湿による表示素子の劣化を抑制し、表示素子の信頼性を長期にわたって高めることができる。   Further, when the difference between the maximum value and the minimum value of the refractive index of the glass cloth 2 is 0.01 or less, the microstructure is uniform, and the refractive index variation due to moisture absorption is further uniform, and the transparent composite substrate 1 is uniform. With this, excellent optical characteristics can be maintained for a longer period of time. Moreover, if the water vapor permeability is within the above range, the fluctuation of the linear expansion coefficient of the transparent composite substrate 1 due to moisture absorption is also suppressed. For this reason, it is possible to reliably suppress the deterioration of the optical characteristics accompanying the dimensional change. Furthermore, when the water vapor permeability is within the above range, when the transparent composite substrate of the present invention is used as a display element substrate, it is possible to suppress deterioration of the display element due to moisture absorption and to improve the reliability of the display element over a long period of time. it can.

また、本発明の透明複合基板は、JIS K 7126 Bに規定の酸素透過度が0.1[cm/m/day/1atm/23℃]以下であるのが好ましい。酸素透過度が前記範囲内にあると、本発明の透明複合基板を表示素子基板として用いた場合、酸化による表示素子の劣化を抑制し、表示素子の信頼性を長期にわたって高めることができる。 The transparent composite substrate of the present invention preferably has an oxygen permeability specified by JIS K 7126 B of 0.1 [cm 3 / m 2 / day / 1 atm / 23 ° C.] or less. When the oxygen permeability is within the above range, when the transparent composite substrate of the present invention is used as a display element substrate, deterioration of the display element due to oxidation can be suppressed, and the reliability of the display element can be improved over a long period of time.

以上のことから、本発明によれば、過酷な環境下で使用した場合でも、広い波長範囲において均一で優れた光学特性を示す透明複合基板1が得られる。   From the above, according to the present invention, even when used in a harsh environment, it is possible to obtain the transparent composite substrate 1 exhibiting uniform and excellent optical characteristics in a wide wavelength range.

<表示素子基板>
本発明の透明複合基板は、例えば、液晶表示素子用基板、有機EL素子用基板、カラーフィルター用基板、TFT用基板、電子ペーパー用基板、タッチパネル用基板のような各種表示素子基板(本発明の表示素子基板)の他、太陽電池用基板等にも適用される。
<Display element substrate>
The transparent composite substrate of the present invention includes, for example, various display element substrates such as a liquid crystal display element substrate, an organic EL element substrate, a color filter substrate, a TFT substrate, an electronic paper substrate, and a touch panel substrate. In addition to the display element substrate, it is also applied to a solar cell substrate and the like.

本発明の表示素子基板は、本発明の透明複合基板を備えるものであり、必要に応じて透明複合基板の表面に成膜された機能層を有する。   The display element substrate of the present invention includes the transparent composite substrate of the present invention, and has a functional layer formed on the surface of the transparent composite substrate as necessary.

かかる機能層としては、例えば、酸化インジウム、酸化スズ、スズ−インジウム合金の酸化物等で構成される透明導電層、金、銀、パラジウムまたはこれらの合金等で構成される金属導電層、エポキシ樹脂、アクリル樹脂等で構成される平滑層、ゴム状またはゲル状のシリコーン硬化物、ポリウレタン、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、塩化ビニル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン等で構成される衝撃緩衝層等が挙げられる。   Examples of such a functional layer include a transparent conductive layer composed of indium oxide, tin oxide, an oxide of tin-indium alloy, a metal conductive layer composed of gold, silver, palladium, or an alloy thereof, or an epoxy resin. Smooth layer composed of acrylic resin, rubber or gel cured silicone, polyurethane, epoxy resin, acrylic resin, polyethylene, polypropylene, polystyrene, vinyl chloride resin, polyamide resin, polycarbonate resin, polyacetal resin, polyether An impact buffer layer composed of sulfone, polysulfone or the like can be used.

このうち、平滑層は、耐熱性、透明性、耐薬品性を有していることが好ましく、その構成材料としては例えば複合層中に含まれる樹脂材料と同じ組成のものが好ましく用いられる。平滑層の平均厚さは、0.1〜30μm程度であるのが好ましく、0.5〜30μm程度であるのがより好ましい。   Among these, the smooth layer preferably has heat resistance, transparency, and chemical resistance, and, for example, a material having the same composition as that of the resin material contained in the composite layer is preferably used. The average thickness of the smooth layer is preferably about 0.1 to 30 μm, and more preferably about 0.5 to 30 μm.

また、層構成としては、透明複合基板の少なくとも片側に平滑層を設け、さらにその上に衝撃緩衝層を設ける構成、または、透明複合基板の少なくとも片側に衝撃緩衝層を設け、さらにその上に平滑層を設ける構成等が挙げられる。   In addition, as a layer configuration, a smooth layer is provided on at least one side of the transparent composite substrate, and an impact buffer layer is further provided thereon, or an impact buffer layer is provided on at least one side of the transparent composite substrate, and a smooth surface is further provided thereon. The structure etc. which provide a layer are mentioned.

また、本発明の表示素子基板は、元々ガラス基板よりも落球試験による耐衝撃性が優れているが、上記のような衝撃緩衝層を設けることにより、さらに耐衝撃性が向上する。   The display element substrate of the present invention is originally superior in impact resistance by a falling ball test than a glass substrate, but the impact resistance is further improved by providing the impact buffer layer as described above.

以上、本発明によれば、高品質で信頼性の高い表示素子を実現可能な表示素子基板が得られる。   As described above, according to the present invention, a display element substrate capable of realizing a display element with high quality and high reliability can be obtained.

<透明複合基板の製造方法>
本発明の透明複合基板は、前述したようにガラスクロスに未硬化の樹脂材料を含浸させ、この状態で板状に成形された後、硬化させてなるものである。
<Method for producing transparent composite substrate>
As described above, the transparent composite substrate of the present invention is obtained by impregnating a glass cloth with an uncured resin material, forming into a plate shape in this state, and then curing.

具体的には、本発明の透明複合基板は、ガラスクロスに樹脂ワニスを含浸させた後、成形しつつ樹脂ワニスを硬化させ、複合層を得る工程と、複合層上にガスバリア層を成膜する工程と、を経て製造される。以下、製造工程について詳述する。   Specifically, in the transparent composite substrate of the present invention, a glass cloth is impregnated with a resin varnish, the resin varnish is cured while being molded, and a composite layer is obtained, and a gas barrier layer is formed on the composite layer. And a process. Hereinafter, the manufacturing process will be described in detail.

[1]まず、ガラスクロスにカップリング剤を付与して表面処理を行う。この工程は必要に応じて行えばよく、省略することもできる。カップリング剤の付与は、例えば、カップリング剤を含む液体中にガラスクロスを浸漬する方法、ガラスクロスに前記液体を塗布する方法、ガラスクロスに前記液体を噴霧する方法等により行われる。   [1] First, a surface treatment is performed by applying a coupling agent to the glass cloth. This step may be performed as necessary and may be omitted. The application of the coupling agent is performed by, for example, a method of immersing a glass cloth in a liquid containing the coupling agent, a method of applying the liquid to the glass cloth, a method of spraying the liquid on the glass cloth, or the like.

[2]次に、樹脂ワニスを調製する。樹脂ワニスは、上述した未硬化の樹脂材料、フィラー等のその他の成分、有機溶剤等を含む他、必要に応じて、硬化剤、酸化防止剤、難燃剤、紫外線吸収剤等を含むものである。   [2] Next, a resin varnish is prepared. The resin varnish contains the above-mentioned uncured resin material, other components such as a filler, an organic solvent, and the like, and also contains a curing agent, an antioxidant, a flame retardant, an ultraviolet absorber, and the like as necessary.

(硬化剤)
かかる硬化剤としては、酸無水物、脂肪族アミン等の架橋剤、カチオン系硬化剤、アニオン系硬化剤等が挙げられ、これらの1種または2種以上の混合物が用いられる。
(Curing agent)
Examples of such curing agents include acid anhydrides, crosslinking agents such as aliphatic amines, cationic curing agents, anionic curing agents, and the like, and one or a mixture of two or more thereof is used.

これらの中でも特にカチオン系硬化剤が好ましく用いられる。カチオン系硬化剤によれば、樹脂材料を比較的低温で硬化させることができるので、硬化時に樹脂ワニスを高温にする必要がなく、温度変化に伴う熱応力の発生を抑制することができる。その結果、光学異方性の低い透明複合基板が得られる。   Among these, a cationic curing agent is particularly preferably used. According to the cationic curing agent, since the resin material can be cured at a relatively low temperature, it is not necessary to set the resin varnish to a high temperature at the time of curing, and generation of thermal stress accompanying a temperature change can be suppressed. As a result, a transparent composite substrate with low optical anisotropy is obtained.

また、カチオン系硬化剤を用いることにより、耐熱性(例えばガラス転移温度)の高い透明複合基板が得られる。これは、カチオン系硬化剤を用いることにより、エポキシ樹脂の硬化物の架橋密度が高くなるためであると考えられる。   Further, by using a cationic curing agent, a transparent composite substrate having high heat resistance (for example, glass transition temperature) can be obtained. This is considered to be because the crosslinking density of the cured epoxy resin is increased by using a cationic curing agent.

前記カチオン系硬化剤としては、加熱によりカチオン重合を開始させる物質を放出するもの、例えばオニウム塩系カチオン硬化剤、またはアルミニウムキレート系カチオン硬化剤や、活性エネルギー線によってカチオン重合を開始させる物質を放出させるもの、例えばオニウム塩系カチオン系硬化剤等が挙げられる。これらの中でも、光カチオン系硬化剤が好ましい。これにより、光の照射領域を選択することのみで、硬化の有無を容易に選択することができる。   The cationic curing agent releases a substance that initiates cationic polymerization by heating, for example, an onium salt cationic curing agent, an aluminum chelate cationic curing agent, or a substance that initiates cationic polymerization by active energy rays. For example, an onium salt cationic curing agent. Among these, a photocationic curing agent is preferable. Thereby, the presence or absence of hardening can be easily selected only by selecting the irradiation region of light.

光カチオン系硬化剤としては、多官能カチオン重合性化合物および単官能カチオン重合性化合物を光カチオン重合反応させ得るものであればよく、例えば、ルイス酸のジアゾニウム塩、ルイス酸のヨードニウム塩、ルイス酸のスルホニウム塩等のオニウム塩が挙げられる。具体的には、四フッ化ホウ素のフェニルジアゾニウム塩、六フッ化リンのジフェニルヨードニウム塩、六フッ化アンチモンのジフェニルヨードニウム塩、六フッ化ヒ素のトリ−4−メチルフェニルスルホニウム塩、四フッ化アンチモンのトリ−4−メチルフェニルスルホニウム塩等が挙げられる。   The cationic photocuring agent is not particularly limited as long as it can cause a polycationic cationically polymerizable compound and a monofunctional cationically polymerizable compound to undergo a cationic photopolymerization reaction. For example, Lewis acid diazonium salt, Lewis acid iodonium salt, Lewis acid And onium salts such as sulfonium salts. Specifically, boron difluoride phenyldiazonium salt, phosphorus hexafluoride diphenyliodonium salt, antimony hexafluoride diphenyliodonium salt, arsenic hexafluoride tri-4-methylphenylsulfonium salt, antimony tetrafluoride And tri-4-methylphenylsulfonium salt.

また、樹脂モノマーの種類によっては、イルガキュアシリーズ(チバ・ジャパン社製)のような光ラジカル硬化剤も用いられる。   Depending on the type of resin monomer, a radical photocuring agent such as Irgacure series (manufactured by Ciba Japan) may also be used.

一方、熱カチオン系硬化剤としては、例えば芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、アンモニウム塩、アルミニウムキレート、三フッ化ホウ素アミン錯体等が挙げられる。   On the other hand, examples of the thermal cationic curing agent include aromatic sulfonium salts, aromatic iodonium salts, ammonium salts, aluminum chelates, and boron trifluoride amine complexes.

このようなカチオン系硬化剤の含有量は、特に限定されないが、脂環式エポキシ樹脂100質量部に対して0.1〜5質量部程度であるのが好ましく、特に0.5〜3重量部が好ましい。含有量が前記下限値未満であると硬化性が低下する場合があり、前記上限値を超えると透明複合基板が脆くなる場合がある。   Although content of such a cationic hardening | curing agent is not specifically limited, It is preferable that it is about 0.1-5 mass parts with respect to 100 mass parts of alicyclic epoxy resins, and 0.5-3 weight part is especially preferable. Is preferred. If the content is less than the lower limit, the curability may be lowered, and if the content exceeds the upper limit, the transparent composite substrate may become brittle.

光硬化させる場合は、必要に応じて硬化反応を促進させるため増感剤、酸増殖剤等も併せて用いることができる。   In the case of photocuring, a sensitizer, an acid proliferating agent, and the like can be used together to accelerate the curing reaction as necessary.

(酸化防止剤)
酸化防止剤としては、例えば、フェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤等が用いられるが、特にヒンダードフェノール系酸化防止剤が好ましく用いられる。
(Antioxidant)
As the antioxidant, for example, a phenol-based antioxidant, a phosphorus-based antioxidant, a sulfur-based antioxidant, and the like are used, and a hindered phenol-based antioxidant is particularly preferably used.

ヒンダードフェノール系酸化防止剤としては、例えば、BHT、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−tert−ブチルフェノール)等が挙げられる。   Examples of the hindered phenol antioxidant include BHT and 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-tert-butylphenol).

酸化防止剤の含有量は、樹脂ワニスの0.01質量%以上5質量%以下であるのが好ましく、0.1質量%以上3質量%以下程度であるのがより好ましい。酸化防止剤の含有量を前記範囲内にすることにより、光学異方性の低い透明複合基板が得られ、かつ、信頼性試験においても光学異方性の悪化の小さい透明複合基板が得られる。   The content of the antioxidant is preferably 0.01% by mass or more and 5% by mass or less, more preferably about 0.1% by mass or more and 3% by mass or less of the resin varnish. By setting the content of the antioxidant within the above range, a transparent composite substrate having a low optical anisotropy can be obtained, and a transparent composite substrate having a small deterioration in optical anisotropy can also be obtained in a reliability test.

また、酸化防止剤の重量平均分子量は、200〜2000であるのが好ましく、500〜1500であるのがより好ましく、1000〜1400であるのがさらに好ましい。酸化防止剤の重量平均分子量が上記範囲内であれば、酸化防止剤の揮発性が抑制されるとともに、脂環式エポキシ樹脂に対する相溶性が確保される。このような酸化防止剤は、湿熱処理のような信頼性試験を経ても残存し続けることができ、これにより光学異方性の悪化を抑制し得る透明複合基板を実現することができる。   Moreover, it is preferable that the weight average molecular weight of antioxidant is 200-2000, It is more preferable that it is 500-1500, It is further more preferable that it is 1000-1400. When the weight average molecular weight of the antioxidant is within the above range, the volatility of the antioxidant is suppressed and compatibility with the alicyclic epoxy resin is ensured. Such an antioxidant can continue to remain even after a reliability test such as wet heat treatment, thereby realizing a transparent composite substrate capable of suppressing deterioration of optical anisotropy.

また、ヒンダードフェノール系酸化防止剤以外のフェノール系酸化防止剤としては、例えば、水酸基を挟むように位置する置換基の一方がメチル基等に置換されているセミヒンダード型のフェノール系酸化防止剤や、水酸基を挟む2つの置換基の双方がメチル基等に置換されているレスヒンダード型のフェノール系酸化防止剤が挙げられる。これらは、ヒンダードフェノール系酸化防止剤より少ない添加量で添加される。   Examples of phenolic antioxidants other than hindered phenolic antioxidants include, for example, semi-hindered phenolic antioxidants in which one of the substituents located so as to sandwich the hydroxyl group is substituted with a methyl group or the like. And a hindered phenolic antioxidant in which both of two substituents sandwiching a hydroxyl group are substituted with a methyl group or the like. These are added in a smaller amount than the hindered phenolic antioxidant.

リン系酸化防止剤としては、例えば、トリデシルホスファイト、ジフェニルデシルホスファイト等が挙げられる。   Examples of phosphorus antioxidants include tridecyl phosphite and diphenyl decyl phosphite.

なお、ヒンダードフェノール系酸化防止剤とリン系酸化防止剤とを併用することにより、それらの相乗効果が発揮され、脂環式エポキシ樹脂の酸化防止、および透明複合基板の光学異方性の抑制がより顕著になる。これは、ヒンダードフェノール系酸化防止剤とリン系酸化防止剤とで、酸化防止のメカニズムが異なるため、両者が独立して働き、さらには相乗的な効果が生じているからであると考えられる。   In addition, by using a hindered phenolic antioxidant and a phosphorus-based antioxidant in combination, their synergistic effect is exhibited, the alicyclic epoxy resin is antioxidant, and the optical anisotropy of the transparent composite substrate is suppressed. Becomes more prominent. This is probably because hindered phenolic antioxidants and phosphorus antioxidants have different antioxidant mechanisms, so they both work independently and have a synergistic effect. .

このようなヒンダードフェノール系酸化防止剤以外の酸化防止剤(特にリン系酸化防止剤)の添加量は、ヒンダードフェノール系酸化防止剤100質量部に対して、好ましくは30〜300質量部程度とされ、より好ましくは50〜200質量部程度とされる。これにより、ヒンダードフェノール系酸化防止剤とそれ以外の酸化防止剤とが、それぞれの効果を埋没させることなく発揮し、相乗効果をもたらすことができる。   The addition amount of antioxidants (particularly phosphorus antioxidants) other than such hindered phenolic antioxidants is preferably about 30 to 300 parts by mass with respect to 100 parts by mass of hindered phenolic antioxidants. And more preferably about 50 to 200 parts by mass. Thereby, a hindered phenolic antioxidant and other antioxidants can exhibit each effect, without burying, and can bring about a synergistic effect.

なお、樹脂ワニスは、その特性を損なわない範囲で必要に応じて、熱可塑性樹脂または熱硬化性樹脂のオリゴマーやモノマー剤等を含んでいてもよい。なお、これらのオリゴマーやモノマーを使用する場合は、全体の屈折率がガラスクロスの屈折率に合うように組成比が適宜設定される。
樹脂ワニスは、以上のような成分を混合して得られる。
In addition, the resin varnish may contain an oligomer or a monomer agent of a thermoplastic resin or a thermosetting resin as necessary as long as the characteristics are not impaired. In addition, when using these oligomers and monomers, the composition ratio is appropriately set so that the overall refractive index matches the refractive index of the glass cloth.
The resin varnish is obtained by mixing the above components.

[3]その後、得られた樹脂ワニスをガラスクロスに含浸させる。樹脂ワニスをガラスクロスに含浸させる際には、例えば、樹脂ワニス中にガラスクロスを浸漬する方法、ガラスクロスに樹脂ワニスを塗布する方法等が用いられる。また、樹脂ワニスをガラスクロスに含浸させた後、樹脂ワニスが未硬化の状態または硬化させた後に、その上からさらに樹脂ワニスを塗布するようにしてもよい。   [3] Thereafter, the obtained resin varnish is impregnated into a glass cloth. When impregnating the resin varnish into the glass cloth, for example, a method of immersing the glass cloth in the resin varnish, a method of applying the resin varnish to the glass cloth, or the like is used. Further, after impregnating the resin varnish into the glass cloth, the resin varnish may be further applied from above after the resin varnish is uncured or cured.

その後、必要に応じて樹脂ワニスに脱泡処理を施す。さらには、必要に応じて樹脂ワニスを乾燥させる。   Thereafter, the resin varnish is defoamed as necessary. Furthermore, the resin varnish is dried as necessary.

[4]次いで、樹脂ワニスを含浸させたガラスクロスを板状に成形しつつ加熱する。これにより、樹脂材料を硬化させ、透明複合基板を得る。   [4] Next, the glass cloth impregnated with the resin varnish is heated while being formed into a plate shape. Thereby, the resin material is cured and a transparent composite substrate is obtained.

加熱条件としては、好ましくは加熱温度が50〜300℃程度、加熱時間が0.5〜10時間程度とされ、より好ましくは加熱温度が170〜270℃程度、加熱時間が1〜5時間程度とされる。   As heating conditions, the heating temperature is preferably about 50 to 300 ° C. and the heating time is about 0.5 to 10 hours, more preferably the heating temperature is about 170 to 270 ° C. and the heating time is about 1 to 5 hours. Is done.

また、加熱温度は途中で変更するようにしてもよい。例えば、当初は50〜100℃程度で0.5〜3時間程度加熱し、その後、200〜300℃程度で0.5〜3時間程度加熱するようにしてもよい。   Moreover, you may make it change heating temperature on the way. For example, it may be initially heated at about 50 to 100 ° C. for about 0.5 to 3 hours, and then heated at about 200 to 300 ° C. for about 0.5 to 3 hours.

また、樹脂ワニスの成形には、例えばポリエステルフィルム、ポリイミドフィルム等が用いられる。そして、樹脂ワニスを含浸させたガラスクロスを挟むように両側からフィルムを押し当てることにより、樹脂ワニスの表面を平滑化、平坦化することができる。   Moreover, a polyester film, a polyimide film, etc. are used for shaping | molding of a resin varnish, for example. And the surface of a resin varnish can be smooth | blunted and planarized by pressing a film from both sides so that the glass cloth impregnated with the resin varnish may be pinched | interposed.

なお、樹脂ワニスが光硬化性を有する場合には、波長200〜400nm程度の紫外線等を照射することにより樹脂ワニスを硬化させる。   In addition, when a resin varnish has photocurability, a resin varnish is hardened by irradiating the ultraviolet-ray etc. with a wavelength of about 200-400 nm.

付与される光エネルギー量(積算光量)は、5mJ/cm以上3000mJ/cm以下であるのが好ましく、10mJ/cm以上2000mJ/cm以下であるのがより好ましい。積算光量が前記範囲内であれば、ムラなく均一に、かつ確実に硬化させることができる。 Light energy applied (integrated quantity of light) is preferably at 5 mJ / cm 2 or more 3000 mJ / cm 2 or less, more preferably 10 mJ / cm 2 or more 2000 mJ / cm 2 or less. If the integrated light quantity is within the above range, it can be cured uniformly and reliably without unevenness.

[5]その後、複合層の表面にガスバリア層を成膜する。
ガスバリア層の成膜には、例えば、ゾル・ゲル法のような各種液相成膜法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法、CVD法のような各種気相成膜法等が用いられる。このうち、気相成膜法が好ましく用いられ、スパッタリング法またはCVD法がより好ましく用いられる。また、例えば酸窒化ケイ素を含むガスバリア層の成膜には、ケイ素の酸化物と窒化物を原材料とするRFスパッタリング法や、ケイ素を含むターゲットを用いプロセス中に酸素や窒素等の反応性ガスを導入するDCスパッタリング法等が用いられる。
以上のようにして透明複合基板1が得られる。
[5] Thereafter, a gas barrier layer is formed on the surface of the composite layer.
For forming the gas barrier layer, for example, various liquid phase film forming methods such as sol-gel method, vacuum vapor deposition method, ion plating method, sputtering method, various gas phase film forming methods such as CVD method, etc. are used. It is done. Among these, a vapor deposition method is preferably used, and a sputtering method or a CVD method is more preferably used. In addition, for example, for forming a gas barrier layer containing silicon oxynitride, an RF sputtering method using silicon oxide and nitride as raw materials, or a reactive gas such as oxygen or nitrogen is used during the process using a target containing silicon. A DC sputtering method or the like to be introduced is used.
The transparent composite substrate 1 is obtained as described above.

以上、本発明について説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば透明複合基板および表示素子基板には、任意の構成物が付加されていてもよい。   Although the present invention has been described above, the present invention is not limited to this. For example, an arbitrary component may be added to the transparent composite substrate and the display element substrate.

次に、本発明の具体的実施例について説明する。
1.透明複合基板の製造
(実施例1)
(1)ガラスクロスの用意
まず、100mm四方のNEガラス系ガラスクロス(平均厚さ95μm、平均線径9μm、屈折率1.511)を用意した。そして、これをベンジルアルコール(屈折率1.54)に浸漬した後、そのベンジルアルコールにアセトキシエトキシエタン(屈折率1.406)を少量ずつ添加し、ベンジルアルコールの屈折率を変化させる度に、ガラスクロスを蛍光灯にかざし、ガラスクロスが実質的に透明になったか否かを確認した。そして、最初に実質的に透明になった部分が現れた際の混合液の屈折率と、最後に実質的に透明になった部分が現れた際の混合液の屈折率を測定し、その測定値をガラスクロスの屈折率差とした。また、最も透明部分の面積が大きい時の混合液の屈折率を平均屈折率とした。結果を表1に示す。
Next, specific examples of the present invention will be described.
1. Production of transparent composite substrate (Example 1)
(1) Preparation of Glass Cloth First, a 100 mm square NE glass-based glass cloth (average thickness 95 μm, average wire diameter 9 μm, refractive index 1.511) was prepared. And after immersing this in benzyl alcohol (refractive index 1.54), acetoxyethoxyethane (refractive index 1.406) is added little by little to the benzyl alcohol, and whenever the refractive index of benzyl alcohol is changed, glass The cloth was held over a fluorescent lamp, and it was confirmed whether or not the glass cloth became substantially transparent. Then, the refractive index of the liquid mixture when the first substantially transparent portion appears and the refractive index of the liquid mixture when the substantially transparent portion finally appears are measured. The value was the refractive index difference of the glass cloth. Moreover, the refractive index of the liquid mixture when the area of the transparent part was the largest was made into the average refractive index. The results are shown in Table 1.

また、このガラスクロスは、MD方向の1インチ幅当たりの縦方向ガラスヤーンの本数は58本であり、TD方向の1インチ幅当たりの横方向ガラスヤーンの本数は50本であった。すなわち、TD方向の1インチ幅当たりの横方向ガラスヤーンの本数を1としたとき、MD方向の1インチ幅当たりの縦方向ガラスヤーンの本数の比は1.16であった。   Further, in this glass cloth, the number of longitudinal glass yarns per inch width in the MD direction was 58, and the number of lateral glass yarns per inch width in the TD direction was 50. That is, when the number of transverse glass yarns per inch width in the TD direction was 1, the ratio of the number of longitudinal glass yarns per inch width in the MD direction was 1.16.

また、このガラスクロスは、TD方向の1インチ幅当たりのガラスヤーン中のガラス成分の断面積を1としたとき、MD方向の1インチ幅当たりのガラスヤーン中のガラス成分の断面積の比は1.35であった。   Further, in this glass cloth, when the cross-sectional area of the glass component in the glass yarn per inch width in the TD direction is 1, the ratio of the cross-sectional area of the glass component in the glass yarn per inch width in the MD direction is 1.35.

また、ガラスクロスのガラス繊維束の撚り数は、MD方向1インチ長さ当たり1.0、TD方向1インチ長さ当たり1.0であった。   Further, the number of twists of the glass fiber bundle of the glass cloth was 1.0 per 1 inch length in the MD direction and 1.0 per 1 inch length in the TD direction.

(2)樹脂ワニスの調製
次に、上記化学式(2)の構造を有し、式中の「−X−」が「−C(CH−」である脂環式エポキシ樹脂(ダイセル化学工業株式会社製、E−DOA、Tg:>250℃)と、シルセスキオキサン(東亞合成株式会社製、OX−SQ−H)と、光カチオン重合開始剤(株式会社ADEKA製、SP−170)と、溶剤(メチルイソブチルケトン)と、を表1に示す割合で混合し、樹脂ワニスを調製した。E−DOAの架橋後の屈折率は1.513であり、架橋後の屈折率が1.47である。
なお、樹脂ワニスのアッベ数については、次のように測定した。
(2) Preparation of Resin Varnish Next, an alicyclic epoxy resin having the structure of the above chemical formula (2), wherein “—X—” is “—C (CH 3 ) 2 —” (Daicel Chemical) Kogyo Co., Ltd., E-DOA, Tg:> 250 ° C.), silsesquioxane (manufactured by Toagosei Co., Ltd., OX-SQ-H), and photocationic polymerization initiator (manufactured by ADEKA, SP-170) ) And a solvent (methyl isobutyl ketone) were mixed at a ratio shown in Table 1 to prepare a resin varnish. The refractive index after crosslinking of E-DOA is 1.513, and the refractive index after crosslinking is 1.47.
The Abbe number of the resin varnish was measured as follows.

まず、離型処理されたガラス板に樹脂ワニスを塗布して液膜を形成した後、同じく離型処理されたガラス板をその液膜の上に載せ、液膜をガラス板で挟み込んだ。なお、この際、ガラス板の間には、四辺に厚み200μmのスペーサーを配置した。そして、この液膜に対して高圧水銀灯にて1100mJ/cmの紫外線を照射した。さらに、250℃で2時間加熱することにより、厚さ200μmの樹脂フィルム(マトリックス樹脂)を得た。その後、アッベ屈折計(株式会社アタゴ製DR−A1)を用いてこの樹脂フィルムのアッべ数を測定した。結果を表1に示す。 First, a resin varnish was applied to a release-treated glass plate to form a liquid film, and then the release-treated glass plate was placed on the liquid film, and the liquid film was sandwiched between the glass plates. At this time, spacers having a thickness of 200 μm were arranged on the four sides between the glass plates. The liquid film was irradiated with ultraviolet rays of 1100 mJ / cm 2 with a high-pressure mercury lamp. Furthermore, a 200 μm-thick resin film (matrix resin) was obtained by heating at 250 ° C. for 2 hours. Thereafter, the Abbe number of the resin film was measured using an Abbe refractometer (DR-A1 manufactured by Atago Co., Ltd.). The results are shown in Table 1.

(3)樹脂ワニスの含浸・硬化
次いで、得られた樹脂ワニスをガラスクロスに含浸させ、その後、脱泡処理を施し、さらに樹脂ワニスを乾燥させた。
(3) Impregnation / curing of resin varnish Next, the obtained resin varnish was impregnated into a glass cloth, then subjected to defoaming treatment, and the resin varnish was further dried.

続いて、このように樹脂ワニスを含浸させたガラスクロスを、離型処理を施した2枚のガラス板に挟み込み、高圧水銀灯にて1100mJ/cmの紫外線を照射した。さらに、250℃で2時間加熱することにより、平均厚さ97μm(ガラスクロス含有量60質量%)の複合層を得た。 Subsequently, the glass cloth impregnated with the resin varnish in this way was sandwiched between two glass plates subjected to a release treatment, and irradiated with ultraviolet rays of 1100 mJ / cm 2 with a high-pressure mercury lamp. Furthermore, the composite layer of average thickness 97micrometer (glass cloth content 60 mass%) was obtained by heating at 250 degreeC for 2 hours.

(4)平滑層(中間層)の成膜
上記化学式(2)の構造を有し、式中の「−X−」が「−C(CH−」である脂環式エポキシ樹脂(ダイセル化学工業株式会社製、E−DOA、Tg:>250℃)100質量部と、光カチオン重合開始剤(株式会社ADEKA製、SP−170)1質量部と、を混合し、被覆材料を調製した。次いで、バーコーターにより複合層の両面に塗布した後、高圧水銀灯にて1100mJ/cmの紫外線を照射した。さらに、250℃で2時間加熱することにより平均厚さ5μmの平滑層を成膜した。
(4) Formation of smooth layer (intermediate layer) Alicyclic epoxy resin having the structure of the above chemical formula (2), wherein “—X—” is “—C (CH 3 ) 2 —” Daicel Chemical Industries, Ltd., E-DOA, Tg:> 250 ° C.) 100 parts by mass and photocationic polymerization initiator (ADEKA, SP-170) 1 part by mass are mixed to prepare a coating material. did. Subsequently, after apply | coating to both surfaces of a composite layer with a bar coater, the ultraviolet ray of 1100 mJ / cm < 2 > was irradiated with the high pressure mercury lamp. Further, a smooth layer having an average thickness of 5 μm was formed by heating at 250 ° C. for 2 hours.

(5)ガスバリア層の成膜
次いで、平滑層を成膜した複合層をRFスパッタリング装置のチャンバー内に載置した。そして、チャンバー内を減圧した後、Arガスを0.5Pa、Oガスを0.005Paの分圧で導入した。続いて、チャンバー内に載置されたSiターゲットと複合層との間に0.3kWのRF電力を印加して放電させた。そして、放電が安定したところでターゲットと複合層との間に設けていたシャッターを開き、SiOxNyで構成されたガスバリア層の成膜を開始した。その後、ガスバリア層の平均厚さが100nmになったところでシャッターを閉じ、成膜を終了した。そして、チャンバーを大気開放して、製造された透明複合基板を得た。
(5) Formation of Gas Barrier Layer Next, the composite layer having the smooth layer formed thereon was placed in the chamber of the RF sputtering apparatus. Then, after reducing the pressure in the chamber, Ar gas was introduced at 0.5 Pa and O 2 gas was introduced at a partial pressure of 0.005 Pa. Subsequently, an RF power of 0.3 kW was applied between the Si 3 N 4 target placed in the chamber and the composite layer for discharge. When the discharge was stabilized, the shutter provided between the target and the composite layer was opened, and the film formation of the gas barrier layer composed of SiOxNy was started. Thereafter, when the average thickness of the gas barrier layer reached 100 nm, the shutter was closed to complete the film formation. The chamber was opened to the atmosphere to obtain a manufactured transparent composite substrate.

なお、樹脂材料の主成分である脂環式エポキシ樹脂の5%重量減少温度をTd[℃]とし、ガスバリア層を構成する無機材料の融点をTm[℃]としたとき、Tm−Tdを算出し、表1に示す。   Tm-Td is calculated when the 5% weight loss temperature of the alicyclic epoxy resin that is the main component of the resin material is Td [° C.] and the melting point of the inorganic material constituting the gas barrier layer is Tm [° C.]. And shown in Table 1.

(実施例2〜10、比較例1〜7)
製造条件を表1に示すように変更した以外は、それぞれ実施例1と同様にして透明複合基板を得た。
(Examples 2 to 10, Comparative Examples 1 to 7)
A transparent composite substrate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the production conditions were changed as shown in Table 1.

また、実施例2、3、4、8および比較例2、4、7において用いた水添ビフェニル型脂環式エポキシ樹脂(ダイセル化学工業株式会社製、E−BP、Tg:>250℃)は、上記化学式(1)の構造を有するものである。なお、E−BPの架橋後の屈折率は1.522である。   Moreover, the hydrogenated biphenyl type alicyclic epoxy resin used in Examples 2, 3, 4, 8 and Comparative Examples 2, 4, 7 (Daicel Chemical Industries, E-BP, Tg:> 250 ° C.) And having the structure of the chemical formula (1). The refractive index after crosslinking of E-BP is 1.522.

また、実施例3、8および比較例4において用いたTガラス系ガラスクロスは、平均厚さ95μm、平均線径9μm、屈折率1.522である。   Moreover, the T glass-type glass cloth used in Examples 3 and 8 and Comparative Example 4 has an average thickness of 95 μm, an average wire diameter of 9 μm, and a refractive index of 1.522.

また、実施例5において用いたSガラス系ガラスクロスは、平均厚さ95μm、平均線径9μm、屈折率1.510である。   Further, the S glass-based glass cloth used in Example 5 has an average thickness of 95 μm, an average wire diameter of 9 μm, and a refractive index of 1.510.

また、比較例6、7において用いたEガラス系ガラスクロスは、平均厚さ95μm、平均線径9μm、屈折率1.558である。   Moreover, the E glass-type glass cloth used in Comparative Examples 6 and 7 has an average thickness of 95 μm, an average wire diameter of 9 μm, and a refractive index of 1.558.

また、実施例5において用いた脂環式アクリル樹脂(ダイセル・サイテック株式会社製、IRR−214K)は、架橋後の屈折率が1.529である。なお、樹脂ワニスを硬化させる際には、樹脂ワニスを含浸させたガラスクロスに対して波長365nmの紫外線を照射した。   In addition, the alicyclic acrylic resin (IRR-214K, manufactured by Daicel-Cytec Corp.) used in Example 5 has a refractive index after crosslinking of 1.529. When the resin varnish was cured, the glass cloth impregnated with the resin varnish was irradiated with ultraviolet rays having a wavelength of 365 nm.

また、比較例6、7では、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(三菱化学株式会社製、エピコート828)を用いた。   Moreover, in Comparative Examples 6 and 7, bisphenol A type epoxy resin (Mitsubishi Chemical Corporation, Epicoat 828) was used.

また、実施例5および比較例6、7において用いた光ラジカル重合開始剤には、チバ・ジャパン株式会社製、イルガキュア184を用いた。   Further, Irgacure 184 manufactured by Ciba Japan Co., Ltd. was used as the radical photopolymerization initiator used in Example 5 and Comparative Examples 6 and 7.

また、実施例2におけるガスバリア層の平均厚さは50nm、実施例8におけるガスバリア層の平均厚さは250nmである。   Moreover, the average thickness of the gas barrier layer in Example 2 is 50 nm, and the average thickness of the gas barrier layer in Example 8 is 250 nm.

2.透明複合基板の評価
2.1 湿度による寸法変化の評価
各実施例および各比較例で得られた透明複合基板から100mm×100mmの試験片を切り出し、非接触画像測定機 S−QVH606(株式会社ミツトヨ製)にて温度25℃/装置湿度50%の環境下でサンプルの四辺の寸法を測定した。次いで、温度25℃/相対湿度90%/24時間の条件でサンプルを処理後、同じく四辺の寸法を測定し、吸湿処理に伴う試験片の寸法変化率を測定した。なお、寸法変化率の測定は、ガラスクロスの織組織にならい、MD方向とTD方向のそれぞれについて行った。測定結果を表1に示す。
2. 2.1 Evaluation of transparent composite substrate 2.1 Evaluation of dimensional change due to humidity A test piece of 100 mm × 100 mm was cut out from the transparent composite substrate obtained in each Example and each Comparative Example, and a non-contact image measuring device S-QVH606 (Mitutoyo Corporation) The dimensions of the four sides of the sample were measured in an environment of temperature 25 ° C./apparatus humidity 50%. Next, after the sample was treated under the conditions of temperature 25 ° C./relative humidity 90% / 24 hours, the dimensions of the four sides were similarly measured, and the dimensional change rate of the test piece accompanying the moisture absorption treatment was measured. In addition, the measurement of the dimensional change rate was performed for each of the MD direction and the TD direction in accordance with the woven structure of the glass cloth. The measurement results are shown in Table 1.

2.2 ヘイズの評価
各実施例および各比較例で得られた透明複合基板について、100mmx100mmの試験片を切り出し、温度25℃/相対湿度50%の環境下で均一に分散した9点を選択し、各点についてそれぞれ濁度計(日本電色工業製、NDH2000)を用いJIS K 7136に準拠した条件でヘイズを測定した。そして、測定値の平均値をヘイズとした。
2.2 Evaluation of Haze For the transparent composite substrates obtained in each Example and each Comparative Example, a test piece of 100 mm × 100 mm was cut out, and nine points were uniformly dispersed in an environment of temperature 25 ° C./relative humidity 50%. The haze was measured for each point using a turbidimeter (manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd., NDH2000) under conditions based on JIS K7136. And the average value of the measured value was made into haze.

2.3 ヘイズ変化率の評価
次いで、温度25℃/相対湿度90%/24時間の条件でサンプルを処理後、2.2に記載された測定部と同じ部分のヘイズを2.2記載の方法で測定し、2.2で測定したヘイズとの差を求めた。
2.3 Evaluation of Haze Change Rate Next, after the sample was processed under the conditions of temperature 25 ° C./relative humidity 90% / 24 hours, the haze of the same part as the measurement part described in 2.2 was changed to the method described in 2.2. The difference from the haze measured in 2.2 was obtained.

2.4 ガスバリア性の評価
各実施例および各比較例で得られた透明複合基板について、JIS K 7129 Bに規定の水蒸気透過度およびJIS K 7126 Bに規定の酸素透過度を測定した。なお、測定条件は、表1に示す通りである。
2.4 Evaluation of Gas Barrier Properties With respect to the transparent composite substrates obtained in each Example and each Comparative Example, the water vapor permeability specified in JIS K 7129 B and the oxygen permeability specified in JIS K 7126 B were measured. Measurement conditions are as shown in Table 1.

2.5 耐摩耗性の評価
各実施例および各比較例で得られた透明複合基板について、JIS K 5600−5−4に規定の塗膜の機械的性質の試験方法(引っかき硬度(鉛筆法))に準拠して耐摩耗性を評価した。なお、耐摩耗性の評価は、以下の評価基準にしたがって行った。
2.5 Evaluation of Abrasion Resistance For the transparent composite substrates obtained in each example and each comparative example, the test method for the mechanical properties of the coating film specified in JIS K 5600-5-4 (scratch hardness (pencil method)) ) To evaluate the wear resistance. The abrasion resistance was evaluated according to the following evaluation criteria.

<耐摩耗性の評価基準>
A:引っかき硬度が2Hより硬い
B:引っかき硬度がFまたはHである
C:引っかき硬度がBより軟らかい
以上の評価結果を表1に示す。
<Evaluation criteria for wear resistance>
A: Scratch hardness is harder than 2H B: Scratch hardness is F or H C: Scratch hardness is softer than B Table 1 shows the above evaluation results.

Figure 2013154550
Figure 2013154550

表1から明らかなように、各実施例で得られた透明複合基板は、ヘイズが小さく、また湿気処理を施してもヘイズ変化率は小さかった。また、各実施例で得られた透明複合基板は、織り方向による寸法変化の差(異方性)が小さかった。また、Tm−Tdの値が所定の範囲にあるとともに、ガスバリア層を構成するケイ素化合物中の酸素原子および窒素原子の存在比を最適化することにより、透明複合基板の耐摩耗性を高め得ることが認められた。したがって、各実施例で得られた透明複合基板は、光学特性に優れるとともに、過酷な環境下でも長期にわたって優れた光学特性を維持し得ることが明らかとなった。   As is clear from Table 1, the transparent composite substrates obtained in each Example had a low haze, and even when the moisture treatment was performed, the haze change rate was small. Moreover, the difference (anisotropy) of the dimensional change by the weaving direction was small in the transparent composite substrate obtained in each Example. In addition, the value of Tm-Td is within a predetermined range, and the wear resistance of the transparent composite substrate can be improved by optimizing the abundance ratio of oxygen atoms and nitrogen atoms in the silicon compound constituting the gas barrier layer. Was recognized. Therefore, it became clear that the transparent composite substrate obtained in each example has excellent optical characteristics and can maintain excellent optical characteristics over a long period of time even in a harsh environment.

一方、各比較例で得られた透明複合基板には、ヘイズの大きいものが含まれていた。また、湿気処理に伴ってヘイズが大きく変化することが明らかとなった。さらに、各比較例で得られた透明複合基板は、製造直後にヘイズが小さくても、湿気処理のような加速試験を行うことで急速に悪化することが明らかとなった。各比較例で得られた透明複合基板には、Tm−Tdの値が所定の範囲から外れているものや、ガラスクロスの屈折率差、水蒸気透過度または線膨張係数が大きいものが含まれており、これらがヘイズの悪化につながっていると推察される。また、ガスバリア層としてケイ素化合物以外のものを用いた場合、耐摩耗性が低下することが認められた。   On the other hand, the transparent composite substrate obtained in each comparative example contained a large haze. Moreover, it became clear that a haze changes a lot with moisture treatment. Furthermore, it has been clarified that the transparent composite substrates obtained in the respective comparative examples are rapidly deteriorated by performing an accelerated test such as moisture treatment even if the haze is small immediately after production. The transparent composite substrates obtained in the respective comparative examples include those in which the value of Tm−Td is out of the predetermined range, and those in which the glass cloth has a large refractive index difference, water vapor permeability, or linear expansion coefficient. It is speculated that these have led to deterioration of haze. Further, it was confirmed that the wear resistance was lowered when a gas barrier layer other than the silicon compound was used.

以上のことから、本発明によれば、均一で優れた光学特性を長期にわたって維持し得る透明複合基板が得られることが明らかとなった。   From the above, it became clear that according to the present invention, a transparent composite substrate capable of maintaining uniform and excellent optical characteristics over a long period of time can be obtained.

1 透明複合基板
2 ガラスクロス
2a 縦方向ガラスヤーン(第1のガラス繊維束)
2b 横方向ガラスヤーン(第2のガラス繊維束)
3 樹脂材料
4 複合層
5 ガスバリア層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Transparent composite substrate 2 Glass cloth 2a Longitudinal direction glass yarn (1st glass fiber bundle)
2b Transverse glass yarn (second glass fiber bundle)
3 Resin material 4 Composite layer 5 Gas barrier layer

Claims (9)

ガラス布帛と前記ガラス布帛に含浸したアッベ数が45以上である樹脂材料とを有する複合層と、
前記複合層上に設けられ、無機材料で構成されたガスバリア層と、を有し、
前記無機材料の融点をTm[℃]とし、前記樹脂材料の主成分の5%重量減少温度をTd[℃]としたとき、1200℃<(Tm−Td)<1400℃の関係を満足することを特徴とする透明複合基板。
A composite layer having a glass cloth and a resin material having an Abbe number of 45 or more impregnated in the glass cloth;
A gas barrier layer provided on the composite layer and made of an inorganic material,
When the melting point of the inorganic material is Tm [° C.] and the 5% weight reduction temperature of the main component of the resin material is Td [° C.], the relationship of 1200 ° C. <(Tm−Td) <1400 ° C. is satisfied. A transparent composite substrate characterized by
前記無機材料は、ケイ素化合物を含むものである請求項1に記載の透明複合基板。   The transparent composite substrate according to claim 1, wherein the inorganic material contains a silicon compound. 前記ケイ素化合物は、酸素原子および窒素原子を含むものである請求項2に記載の透明複合基板。   The transparent composite substrate according to claim 2, wherein the silicon compound contains an oxygen atom and a nitrogen atom. 前記ケイ素化合物は、SiOxNyで表され、xが1≦x≦2の関係を満足し、かつ、yが0≦y≦1の関係を満足するものである請求項2または3に記載の透明複合基板。   4. The transparent composite according to claim 2, wherein the silicon compound is represented by SiOxNy, wherein x satisfies a relationship of 1 ≦ x ≦ 2 and y satisfies a relationship of 0 ≦ y ≦ 1. 5. substrate. 前記ガスバリア層の平均厚さは、10〜500nmである請求項1ないし4のいずれかに記載の透明複合基板。   The transparent composite substrate according to any one of claims 1 to 4, wherein an average thickness of the gas barrier layer is 10 to 500 nm. JIS K 7129 Bに規定された水蒸気透過度が、0.1[g/m/day/40℃、90%RH]以下である請求項1ないし5のいずれかに記載の透明複合基板。 The transparent composite substrate according to any one of claims 1 to 5, wherein the water vapor permeability specified in JIS K 7129 B is 0.1 [g / m 2 / day / 40 ° C, 90% RH] or less. 前記樹脂材料は、脂環式エポキシ樹脂を主成分とするものである請求項1ないし6のいずれかに記載の透明複合基板。   The transparent composite substrate according to claim 1, wherein the resin material is mainly composed of an alicyclic epoxy resin. 前記複合層と前記ガスバリア層との間に設けられ、樹脂材料で構成された中間層を有する請求項1ないし7のいずれかに記載の透明複合基板。   The transparent composite substrate according to any one of claims 1 to 7, further comprising an intermediate layer provided between the composite layer and the gas barrier layer and made of a resin material. 請求項1ないし8のいずれかに記載の透明複合基板を備えることを特徴とする表示素子基板。   A display element substrate comprising the transparent composite substrate according to claim 1.
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