JP2013131464A - Conductive resin composition for solar battery element - Google Patents

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JP2013131464A JP2011281838A JP2011281838A JP2013131464A JP 2013131464 A JP2013131464 A JP 2013131464A JP 2011281838 A JP2011281838 A JP 2011281838A JP 2011281838 A JP2011281838 A JP 2011281838A JP 2013131464 A JP2013131464 A JP 2013131464A
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Miyuki Wakao
幸 若尾
Kenichi Inafuku
健一 稲福
Tsutomu Kashiwagi
努 柏木
Kenzo Ishida
謙三 石田
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Shin Etsu Chemical Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a conductive resin composition for a solar battery element, which combines adhesiveness, heat resistance and moisture resistance of an epoxy resin with flexibility and impact resistance of a silicone resin.SOLUTION: A composition contains: (A) (A-1) a specific silicone modified epoxy resin and (A2) an epoxy compound containing an epoxy compound that contains no silicon atom; (B) a hardener; (C) a hardening accelerator; and (D) a conductive filler. In the composition, a content of the (A-2) component is 1-100 pts.mass relative to 100 pts.mass of the (A-1) component, a content of the (B) component is 10-100 pts.mass relative to 100 pts.mass of the (A) component, and a content of the (C) component is 0.1-10 pts.mass and a content of the (D) component is 800-1,500 pts.mass, relative to 100 pts.mass of the total of the (A) component and the (B) component.

Description

本発明は、太陽電池素子用導電性樹脂組成物に関する。詳細には、太陽電池素子(太陽電池セルとも称される)に用いられる種々の導電性部材、例えば電極またはタブ(配線部材)を他の部材に接続する接着層の形成、また、電極の形成に使用される導電性樹脂組成物に関する。   The present invention relates to a conductive resin composition for solar cell elements. Specifically, various conductive members used in solar cell elements (also referred to as solar cells), for example, formation of adhesive layers for connecting electrodes or tabs (wiring members) to other members, and formation of electrodes It is related with the conductive resin composition used for.

従来の一般的な太陽電池素子について、図1を用いて説明する。図1において、1は太陽電池素子、2は半導体基板、3は透明導電膜(ITO)、4は導電性樹脂組成物からなる接着材層、5は表面電極を示す。表面電極5は通常アルミニウムからなりその表面は、後工程で太陽電池素子同士を電気的に接続するために表面が半田で被覆されたインナーリードと接続しやすくする目的と、太陽電池素子の長期信頼性を確保する目的とを満たすために、半田層で被覆するのが一般的である。   A conventional general solar cell element will be described with reference to FIG. In FIG. 1, 1 is a solar cell element, 2 is a semiconductor substrate, 3 is a transparent conductive film (ITO), 4 is an adhesive layer made of a conductive resin composition, and 5 is a surface electrode. The surface electrode 5 is usually made of aluminum, and the surface has a purpose of facilitating connection with the inner leads whose surfaces are coated with solder in order to electrically connect the solar cell elements to each other in a later process, and long-term reliability of the solar cell element. In order to satisfy the purpose of securing the properties, it is common to coat with a solder layer.

従来、電極形成用導電性樹脂組成物として、銀粉末と加熱硬化性成分としてのエポキシ樹脂とを含有し、該エポキシ樹脂としてエポキシ当量の異なる二種を特定比率で構成した導電性ペースト組成物が知られている(特許文献1)。該組成物は、表面電極5と他の太陽電池素子との電気的接続並びに長期接着信頼性の向上を図り、硬化収縮による接続信頼性の低下を防ぐことを意図したものである。   Conventionally, as a conductive resin composition for electrode formation, a conductive paste composition containing silver powder and an epoxy resin as a thermosetting component, and comprising two types having different epoxy equivalents as the epoxy resin in a specific ratio Known (Patent Document 1). The composition is intended to improve electrical connection between the surface electrode 5 and other solar cell elements and long-term adhesion reliability, and to prevent a decrease in connection reliability due to curing shrinkage.

特許4413700号公報Japanese Patent No. 4413700

本発明は、組成物として作業性に優れ、接着強度及び接続信頼性に優れた硬化物を与える太陽電池素子用導電性樹脂組成物を提供することを目的とする。   An object of this invention is to provide the conductive resin composition for solar cell elements which gives the hardened | cured material which was excellent in workability | operativity as a composition, and was excellent in adhesive strength and connection reliability.

また、本発明は該導性樹脂組成物で太陽電池素子と表面電極を接続した太陽電池モジュールを提供する事を目的とする。   Another object of the present invention is to provide a solar cell module in which a solar cell element and a surface electrode are connected with the conductive resin composition.

本発明者は、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、下記発明により、作業性に優れ、かつ接着強度及び接続信頼性に優れた硬化物を与えることができる導電性樹脂組成物、並びに、信頼性の高い太陽電池モジュールを提供できることを見出した。
即ち、本発明は、
(A)(A−1)シリコーン変性エポキシ樹脂及び(A−2)ケイ素原子を含まないエポキシ化合物を含有するエポキシ化合物、
(B)硬化剤、
(C)硬化促進剤、並びに、
(D)導電性充填材
を必須成分として含有し、
以下の条件(I)及至(III)を満たす、
ことを特徴とする太陽電池素子用導電性樹脂組成物を提供する。
(I)(A−1)成分が、下記式(1)で表されるエポキシ化合物と、下記平均組成式(2)で示されるオルガノハイドロジェンポリシロキサンとをヒドロシリル化反応させて得られたシリコーン変性エポキシ樹脂である。
As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the present inventor, as a result of the following invention, a conductive resin composition capable of providing a cured product having excellent workability and excellent adhesion strength and connection reliability, and The present inventors have found that a highly reliable solar cell module can be provided.
That is, the present invention
(A) (A-1) an epoxy compound containing a silicone-modified epoxy resin and (A-2) an epoxy compound containing no silicon atom,
(B) a curing agent,
(C) a curing accelerator, and
(D) containing a conductive filler as an essential component;
The following conditions (I) to (III) are satisfied.
A conductive resin composition for solar cell elements is provided.
(I) Silicone obtained by hydrosilylation reaction of an epoxy compound represented by the following formula (1) and an organohydrogenpolysiloxane represented by the following average composition formula (2): It is a modified epoxy resin.

Figure 2013131464
Figure 2013131464

(但し、式中Rはエポキシ基を1個以上有するフェニル基、ナフチル基、イソシアヌル基である。) (In the formula, R 1 is a phenyl group, a naphthyl group or an isocyanuric group having one or more epoxy groups.)

Figure 2013131464
Figure 2013131464

(但し、式中Rは脂肪族不飽和炭化水素基を除く同一又は異種の置換若しくは非置換の1価炭化水素基、a ,b は0.7≦a≦2.1、0.001≦b≦1.0、かつ0.8≦a+b≦2.6を満たす正数である。)で示される1分子中に少なくとも2個のSiH結合を有し、かつ25℃での粘度が1000mPa・s以下であるオルガノハイドロジェンポリシロキサン。
(II)(A−1)成分100質量部に対して(A−2)成分の量が1〜200質量部である。
(III)(A)成分の合計100質量部に対して、(B)成分の量が10〜100質量部であり、(A)成分及び(B)成分の合計100質量部に対して(C)成分の量が0.1〜10質量部であり、(D)成分の量が800〜1500質量部である。
(Wherein R 2 is the same or different substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group excluding the aliphatic unsaturated hydrocarbon group, and a and b are 0.7 ≦ a ≦ 2.1, 0.001 ≦ b ≦ 1.0 and 0.8 ≦ a + b ≦ 2.6.) 1 molecule has at least two SiH bonds, and the viscosity at 25 ° C. is 1000 mPa · Organohydrogenpolysiloxane which is s or less.
(II) The amount of the component (A-2) is 1 to 200 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the component (A-1).
(III) The amount of the component (B) is 10 to 100 parts by mass with respect to the total of 100 parts by mass of the component (A), and (C) with respect to the total of 100 parts by mass of the component (A) and the component (B) The amount of component) is 0.1 to 10 parts by mass, and the amount of component (D) is 800 to 1500 parts by mass.

本発明の太陽電池素子用導電性樹脂組成物は、太陽電池素子に用いられる各種部材、部品どうし、特に各種の部品や部材と基板との間における電気的、機械的な接続の為に、従来のエポキシ樹脂系導電性樹脂組成物の代用品として好適に用いることができる。該組成物は、エポキシ樹脂の接着性、耐熱性、耐湿性と、シリコーン樹脂の柔軟性、耐衝撃性とを兼ね備え、これにより接続界面で発生するストレスを十分に吸収し得るものであり、これを用いた太陽電池素子及びモジュールは信頼性に優れるものである。   The conductive resin composition for solar cell elements of the present invention is conventionally used for various members and parts used in solar cell elements, particularly for electrical and mechanical connection between various parts and members and a substrate. It can be suitably used as a substitute for the epoxy resin-based conductive resin composition. The composition combines the adhesiveness, heat resistance, and moisture resistance of the epoxy resin with the flexibility and impact resistance of the silicone resin, and can sufficiently absorb the stress generated at the connection interface. The solar cell element and the module using are excellent in reliability.

該組成物は、基板、電子部品の基材に印刷または塗布してパターンを形成し、これに電極配線(アルミニウム配線)等を接着、加熱硬化させることにより、優れた接着性と導電性を備えるとともに、長期信頼性に優れた電極を形成することが出来る。   The composition has excellent adhesiveness and conductivity by forming a pattern by printing or coating on a substrate or a substrate of an electronic component, and bonding and heating and curing an electrode wiring (aluminum wiring) or the like thereto. At the same time, an electrode having excellent long-term reliability can be formed.

本発明の太陽電池素子用導電性樹脂組成物を用いて形成された太陽電池素子の実施形態例を素子上面から見た図である。It is the figure which looked at the embodiment example of the solar cell element formed using the conductive resin composition for solar cell elements of this invention from the element upper surface. 接着評価用印刷パターンのパッド上にSiチップを接着した状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the state which adhere | attached Si chip on the pad of the printing pattern for adhesion | attachment evaluation.

以下、本発明について詳細に説明する。
−(A)エポキシ化合物−
(A)成分のエポキシ化合物は、(A−1)シリコーン変性エポキシ樹脂と(A−2)ケイ素原子を含まないエポキシ化合物を含有する。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
-(A) Epoxy compound-
The (A) component epoxy compound contains (A-1) a silicone-modified epoxy resin and (A-2) an epoxy compound not containing a silicon atom.

<(A−1)シリコーン変性エポキシ樹脂>
(A−1)成分は、シリコーン変性エポキシ樹脂である。該エポキシ樹脂は上記式(1)で表されるエポキシ化合物と、上記平均組成式(2)で示されるオルガノハイドロジェンポリシロキサンをヒドロシリル化反応させて得られるシリコーン変性エポキシ樹脂である。上記式(1)中、Rはエポキシ基を1個以上有する、フェニル基、ナフチル基又はイソシアヌル基である。
上記式(2)中、Rは脂肪族不飽和炭化水素基を除く、同一又は異種の置換若しくは非置換の1価炭化水素基である。1価炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などのアルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ノルボニル基などのシクロアルキル基、フェニル基などのアリール基が挙げられる。また、これらの基の炭素原子に結合した水素原子の一部または全部を酸素、窒素、硫黄、ハロゲン等を有する基で置換していてもよく、例えば、3,3,3−トリフロロプロピル基、3−ヒドロキシプロピル基、3−アミノプロピル基などであってもよい。特に、メチル基、フェニル基が好ましく、Rで示される基の合計の90モル%以上がメチル基であることが好ましい。
上記式(2)中、a 及びb は0.7≦a≦2.1、0.001≦b≦1.0、かつ0.8≦a+b≦2.6を満たす正数である。
本発明に用いられるシリコーン変性エポキシ樹脂の原料となるオルガノハイドロジェンポリシロキサンは、例えば、下記式(3)で示される構造を有し、1分子中に少なくとも2個のSiH基を有し、かつ25℃での粘度が1000mPa・s以下、好ましくは、1〜200mPa・sであるオルガノハイドロジェンポリシロキサンである。
<(A-1) Silicone-modified epoxy resin>
The component (A-1) is a silicone-modified epoxy resin. The epoxy resin is a silicone-modified epoxy resin obtained by hydrosilylation reaction of the epoxy compound represented by the above formula (1) and the organohydrogenpolysiloxane represented by the above average composition formula (2). In the above formula (1), R 1 is a phenyl group, a naphthyl group or an isocyanuric group having one or more epoxy groups.
In said formula (2), R < 2 > is the same or different substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group except an aliphatic unsaturated hydrocarbon group. Examples of the monovalent hydrocarbon group include alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group and butyl group, cycloalkyl groups such as cyclopentyl group, cyclohexyl group and norbornyl group, and aryl groups such as phenyl group. In addition, some or all of the hydrogen atoms bonded to the carbon atoms of these groups may be substituted with groups having oxygen, nitrogen, sulfur, halogen, etc., for example, 3,3,3-trifluoropropyl group , 3-hydroxypropyl group, 3-aminopropyl group and the like. In particular, a methyl group and a phenyl group are preferable, and 90 mol% or more of the total of the groups represented by R 2 is preferably a methyl group.
In the above formula (2), a and b are positive numbers satisfying 0.7 ≦ a ≦ 2.1, 0.001 ≦ b ≦ 1.0, and 0.8 ≦ a + b ≦ 2.6.
The organohydrogenpolysiloxane used as a raw material for the silicone-modified epoxy resin used in the present invention has, for example, a structure represented by the following formula (3), has at least two SiH groups in one molecule, and An organohydrogenpolysiloxane having a viscosity at 25 ° C. of 1000 mPa · s or less, preferably 1 to 200 mPa · s.

Figure 2013131464
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(上記式(3)において、Rは式(2)に関して定義した通りであり、好ましくはメチル基又はフェニル基を示し、p は0〜38、特に3〜18の整数であることが望ましく、qは0〜10、特に0〜5の整数であることが望ましい。
上記式(3)で示される化合物として、具体的には下記のオルガノポリシロキサンを挙げることができる。なお、各式におけるシロキサン単位の繰り返し数は一例として示したものであり、それぞれ上記p 及び q に相当する範囲でいずれの整数であってもよい。
(In the above formula (3), R 2 is as defined for formula (2), preferably represents a methyl group or a phenyl group, and p is preferably an integer of 0 to 38, particularly 3 to 18, q is preferably an integer of 0 to 10, particularly 0 to 5.
Specific examples of the compound represented by the above formula (3) include the following organopolysiloxanes. In addition, the repeating number of the siloxane unit in each formula is shown as an example, and may be any integer in a range corresponding to the above-mentioned p 1 and q 2, respectively.

Figure 2013131464
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Figure 2013131464
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Figure 2013131464
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これらのオルガノハイドロジェンポリシロキサンの分子量は、特に限定されるものではないが、100〜3,000、特に500〜2,000が望ましい。オルガノハイドロジェンポリシロキサンの分子量が上記範囲にある場合、本発明の樹脂組成物の硬化物は相分離(別々の相に分離する現象)を起こさず均一であり、柔軟性・耐衝撃性に優れるシリコーン樹脂の特性と、接着性・耐熱性・耐湿性に優れるエポキシ樹脂の特性とを兼ね備えることが可能である。ここで、該オルガノハイドロジェンポリシロキサンの分子量が小さすぎると得られる硬化物は剛直で脆くなる場合があり、分子量が大きすぎると硬化物中で相分離が起こる場合がある。
上記オルガノハイドロジェンポリシロキサンの配合量は、特に制限されるものではなく、(A−1)成分のシリコーン変性エポキシ樹脂中のオルガノポリシロキサン分の含有量が80質量%以下、好ましくは60質量%以下、より好ましくは20〜50質量%を満足する量であることが望ましい。
The molecular weight of these organohydrogenpolysiloxanes is not particularly limited, but is preferably 100 to 3,000, particularly 500 to 2,000. When the molecular weight of the organohydrogenpolysiloxane is in the above range, the cured product of the resin composition of the present invention is uniform without causing phase separation (a phenomenon of separation into separate phases), and is excellent in flexibility and impact resistance. It is possible to combine the characteristics of a silicone resin with the characteristics of an epoxy resin excellent in adhesiveness, heat resistance, and moisture resistance. Here, if the molecular weight of the organohydrogenpolysiloxane is too small, the resulting cured product may be rigid and brittle, and if the molecular weight is too large, phase separation may occur in the cured product.
The blending amount of the organohydrogenpolysiloxane is not particularly limited, and the content of the organopolysiloxane in the silicone-modified epoxy resin as the component (A-1) is 80% by mass or less, preferably 60% by mass. Hereinafter, it is more preferable that the amount satisfy 20 to 50% by mass.

(A−1)成分のシリコーン変性エポキシ樹脂は、公知の方法により(1)のエポキシ化合物と平均組成式(2)のオルガノハイドロジェンポリシロキサンとのヒドロシリル化付加反応により得られる。   The silicone-modified epoxy resin (A-1) is obtained by a hydrosilylation addition reaction between the epoxy compound (1) and the organohydrogenpolysiloxane of the average composition formula (2) by a known method.

本発明の組成物には、その硬化物中において上記オルガノハイドロジェンポリシロキサンに由来するオルガノポリシロキサン分が相分離構造を形成せず、得られる硬化物の構造は均一であることが必須である。この相分離構造の形成を支配する要因としては、シリコーン変性エポキシ樹脂中の該オルガノポリシロキサン分の含有量と、組成物中の有機樹脂成分全体(即ち、(A−1)成分のシリコーン変性エポキシ樹脂、(A−2)成分のエポキシ樹脂、及び(B)硬化剤との合計)におけるオルガノポリシロキサンの含有量の2つが挙げられる。   In the composition of the present invention, it is essential that the organopolysiloxane component derived from the organohydrogenpolysiloxane does not form a phase separation structure in the cured product, and the structure of the resulting cured product is uniform. . Factors governing the formation of this phase separation structure include the content of the organopolysiloxane in the silicone-modified epoxy resin and the whole organic resin component in the composition (that is, the silicone-modified epoxy of the component (A-1)). Resin, (A-2) epoxy resin of component, and (B) content of organopolysiloxane in (B) total of curing agent).

先ず、シリコーン変性エポキシ樹脂中の前記オルガノハイドロジェンポリシロキサン由来のオルガノポリシロキサン分の含有量は、80質量% 以下であることが好ましく、70質量% 以下であることがより好ましい。該オルガノポリシロキサン分の含有量が多すぎると、シリコーン変性樹脂中で相分離構造が形成されやすく、構造が不均一になるおそれがある。そして、このような相分離構造を有するシリコーン変性エポキシ樹脂を本発明の組成物に添加すると、やはりオルガノポリシロキサン分が相分離構造を形成して組成物が不均一になる。その結果、得られる硬化物は、オルガノポリシロキサン分に由来する柔軟性・耐衝撃性に優れるシリコーン樹脂の特性は得られるものの、エポキシ樹脂に由来する接着性・耐熱性・耐湿性といった特性は低下する。なお、シリコーン変性エポキシ樹脂中の前記オルガノハイドロジェンポリシロキサン由来のオルガノポリシロキサン分の含有量の下限は10質量%以上が好ましく、より好ましくは20質量%以上である。このオルガノポリシロキサンの含有量が少なすぎると、後述する有機樹脂成分全体におけるオルガノポリシロキサンの含有量を好適な範囲に制御することが困難になる場合がある。   First, the content of the organopolysiloxane derived from the organohydrogenpolysiloxane in the silicone-modified epoxy resin is preferably 80% by mass or less, and more preferably 70% by mass or less. If the content of the organopolysiloxane is too large, a phase separation structure is likely to be formed in the silicone-modified resin, and the structure may be nonuniform. When a silicone-modified epoxy resin having such a phase separation structure is added to the composition of the present invention, the organopolysiloxane component also forms a phase separation structure and the composition becomes non-uniform. As a result, the resulting cured product has the properties of silicone resin with excellent flexibility and impact resistance derived from organopolysiloxane, but the properties such as adhesion, heat resistance and moisture resistance derived from epoxy resin are reduced. To do. In addition, the lower limit of the content of organopolysiloxane derived from organohydrogenpolysiloxane in the silicone-modified epoxy resin is preferably 10% by mass or more, and more preferably 20% by mass or more. If the content of the organopolysiloxane is too small, it may be difficult to control the content of the organopolysiloxane in the entire organic resin component described later within a suitable range.

次に、有機樹脂成分全体におけるオルガノポリシロキサン分の含有量は、5質量%以上、特に10質量%以上であることが望ましい。含有量が少な過ぎると、オルガノポリシロキサン分が組成物の硬化物中で相分離構造を形成して硬化物の構造が不均一になるおそれがある。その結果、オルガノポリシロキサン分の含有量が少ないために接着性・耐熱性・耐湿性に優れるエポキシ樹脂の特性は維持されるものの、柔軟性・耐衝撃性に優れるシリコーン樹脂の特性が低下する。なお、有機樹脂成分全体におけるオルガノポリシロキサン分の含有量の上限は、前述したシリコーン変性樹脂中のオルガノポリシロキサン分の含有量と同様の理由で、60質量%以下であることが好ましい。下限は5質量%以上が好ましく、10質量%以上がより好ましい。   Next, the content of the organopolysiloxane in the whole organic resin component is desirably 5% by mass or more, particularly 10% by mass or more. If the content is too small, the organopolysiloxane content may form a phase separation structure in the cured product of the composition, and the structure of the cured product may become non-uniform. As a result, since the organopolysiloxane content is small, the properties of the epoxy resin excellent in adhesiveness, heat resistance and moisture resistance are maintained, but the properties of the silicone resin excellent in flexibility and impact resistance are deteriorated. The upper limit of the organopolysiloxane content in the whole organic resin component is preferably 60% by mass or less for the same reason as the content of the organopolysiloxane in the silicone-modified resin described above. The lower limit is preferably 5% by mass or more, and more preferably 10% by mass or more.

上記で得られたシリコーン変性エポキシ樹脂には低分子シロキサン等が含まれている場合があるがその含有量はなるべく低いことが望ましい。該低分子シロキサン等は、加熱下、減圧ストリップして除去するか、薄膜蒸留によって除去することができる。或いはメタノール等で洗浄することで除去することができる。   The silicone-modified epoxy resin obtained above may contain low molecular weight siloxane or the like, but its content is preferably as low as possible. The low molecular weight siloxane or the like can be removed by stripping under reduced pressure under heating or by thin film distillation. Alternatively, it can be removed by washing with methanol or the like.

上記で得られたシリコーン変性エポキシ樹脂の粘度及びエポキシ当量は、特に限定されるものではなく、室温で液状のものから固体状のものまで用途に応じて任意に設定し得るものである。特に、本発明の組成物が室温で液状である場合には、シリコーン変性エポキシ樹脂の粘度は、25℃において0.01〜100Pa・s(パスカル・秒)、特に0.1〜20Pa・sであることが好ましく、また、エポキシ当量は、100〜1,000、特に200〜500であることが好ましい。   The viscosity and epoxy equivalent of the silicone-modified epoxy resin obtained above are not particularly limited, and can be arbitrarily set depending on the use from liquid to solid at room temperature. In particular, when the composition of the present invention is liquid at room temperature, the viscosity of the silicone-modified epoxy resin is 0.01 to 100 Pa · s (pascal · second) at 25 ° C., particularly 0.1 to 20 Pa · s. It is preferable that the epoxy equivalent is 100 to 1,000, particularly 200 to 500.

該シリコーン変性エポキシ樹脂は、式(1)で表されるエポキシ化合物を平均組成式(2)で示されるオルガノハイドロジェンポリシロキサンのヒドロシリル基1モルに対し、式(2)中のアリール基が少なくとも1モル、望ましくは1.0〜2.0モルとなる範囲で、白金族金属系化合物等のヒドロシリル化反応触媒の存在下、80〜150℃にて反応させることで容易に製造することができる。   The silicone-modified epoxy resin contains at least an aryl group in the formula (2) with respect to 1 mol of the hydrosilyl group of the organohydrogenpolysiloxane represented by the average composition formula (2) in the epoxy compound represented by the formula (1). It can be easily produced by reacting at 80 to 150 ° C. in the presence of a hydrosilylation reaction catalyst such as a platinum group metal compound in the range of 1 mol, preferably 1.0 to 2.0 mol. .

触媒である白金族金属系化合物としては公知のものを使用すればよいが、白金系化合物が代表的である。例えば、塩化白金酸又は塩化白金酸とエチレン等のオレフィンとの錯体、アルコール、ビニルシロキサンとの錯体、及びシリカ、アルミナ、カーボン等に担持された金属白金などを挙げることができる。ヒドロシリル化反応触媒としては、その他の白金族金属触媒、例えばロジウム、ルテニウム、イリジウム及びパラジウムといった白金族金属の化合物、例えば、RhCl(PPh33、RhCl(CO)(PPh32、Ru3(CO)12、IrCl(CO)(PPh32、Pd(PPh34等を例示することができる。なお、前記式中、Phはフェニル基である。この中でも特に塩化白金酸のオクチルアルコール溶液や塩化白金酸のビニルシロキサン錯体等が好適に使用できる。白金族金属触媒は、白金族金属含有量が5〜50ppmとなる量を使用するのがよい。反応は80〜150℃、好ましくは80〜100℃で、1〜8時間で行うことにより、高収率で所望する化合物を製造することが出来る。また、本反応には芳香族系、ケトン系などの溶剤を使用してもよい。 As the platinum group metal compound which is a catalyst, a known compound may be used, but a platinum compound is typical. For example, chloroplatinic acid or a complex of chloroplatinic acid and an olefin such as ethylene, a complex of alcohol or vinyl siloxane, and metal platinum supported on silica, alumina, carbon, or the like can be given. Examples of the hydrosilylation reaction catalyst include other platinum group metal catalysts such as rhodium, ruthenium, iridium and palladium compounds such as RhCl (PPh 3 ) 3 , RhCl (CO) (PPh 3 ) 2 , Ru 3. (CO) 12 , IrCl (CO) (PPh 3 ) 2 , Pd (PPh 3 ) 4 and the like can be exemplified. In the above formula, Ph is a phenyl group. Of these, an octyl alcohol solution of chloroplatinic acid, a vinylsiloxane complex of chloroplatinic acid, and the like can be preferably used. The platinum group metal catalyst is preferably used in such an amount that the platinum group metal content is 5 to 50 ppm. By carrying out the reaction at 80 to 150 ° C., preferably 80 to 100 ° C. for 1 to 8 hours, the desired compound can be produced in high yield. In this reaction, an aromatic solvent, a ketone solvent or the like may be used.

<(A−2)ケイ素原子を含まないエポキシ化合物>
(A−2)成分はケイ素原子を含まないエポキシ化合物であり、低分子量のものから樹脂状の高分子量のものまで含まれる。(A−2)成分のエポキシ化合物を含む事によって、本発明の導電性樹脂組成物の硬化物の体積抵抗率が小さくなる。
<(A-2) Epoxy compound containing no silicon atom>
The component (A-2) is an epoxy compound that does not contain a silicon atom, and includes a low molecular weight to a resinous high molecular weight. By including the epoxy compound as the component (A-2), the volume resistivity of the cured product of the conductive resin composition of the present invention is reduced.

該(A−2)成分の例としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、フェノールアラルキル型エポキシ樹脂、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂等の芳香族系エポキシ樹脂;前記各種芳香族系エポキシ樹脂の芳香環を水素添加した水添型エポキシ樹脂;ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂;脂環式エポキシ化合物;脂環式エポキシ樹脂;イソシアヌレート環を有するエポキシ化合物、例えば下記式(4)で示すトリグリシジルイソシアヌレート、イソシアヌレート環を有するエポキシ樹脂、及びこれらの混合物を挙げることができる。なかでも、耐熱性、耐光性の点から、イソシアヌレート環を有する、エポキシ化合物及び樹脂が好ましい。   Examples of the component (A-2) include bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, phenol aralkyl type epoxy. Resins, aromatic epoxy resins such as biphenyl aralkyl epoxy resins; hydrogenated epoxy resins obtained by hydrogenating aromatic rings of the above-mentioned various aromatic epoxy resins; dicyclopentadiene epoxy resins; alicyclic epoxy compounds; An epoxy compound having an isocyanurate ring, for example, triglycidyl isocyanurate represented by the following formula (4), an epoxy resin having an isocyanurate ring, and a mixture thereof can be exemplified. Of these, epoxy compounds and resins having an isocyanurate ring are preferred from the viewpoint of heat resistance and light resistance.

Figure 2013131464
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該(A−2)成分のエポキシ化合物の配合量は、(A−1)シリコーン変性エポキシ樹脂100質量部に対して、1〜200質量部、好ましくは10〜160質量部である。前記上限値超では、樹脂組成物の硬化物の可撓性が低下し、高温に放置した時に劣化して接着力の低下による接続不良が生じるおそれがある。   The compounding amount of the epoxy compound of the component (A-2) is 1 to 200 parts by mass, preferably 10 to 160 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the (A-1) silicone-modified epoxy resin. If it exceeds the upper limit, the flexibility of the cured product of the resin composition is lowered and may deteriorate when left at a high temperature, resulting in poor connection due to a decrease in adhesive strength.

−(B)硬化剤−
(B)硬化剤は、(A)成分((A−1)成分及び(A−2)成分)のエポキシ基と反応し架橋構造を形成する。該硬化剤としては、従来一般的に使用されるアミン系硬化剤、フェノール系硬化剤、及び酸無水物系硬化剤のいずれ一種単独でも2種以上の併用でもよい。得られる硬化物の耐熱性、接着性並びに耐湿性がより向上する点では酸無水物系硬化剤及びフェノール系硬化剤が望ましい。
-(B) Curing agent-
(B) A hardening | curing agent reacts with the epoxy group of (A) component ((A-1) component and (A-2) component), and forms a crosslinked structure. As the curing agent, any one of amine-based curing agents, phenol-based curing agents, and acid anhydride-based curing agents that are conventionally used may be used alone or in combination of two or more. An acid anhydride-based curing agent and a phenol-based curing agent are desirable in terms of further improving the heat resistance, adhesiveness, and moisture resistance of the resulting cured product.

酸無水物系硬化剤としては、無水コハク酸、無水フタル酸、無水マレイン酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、3−メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、4−メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、あるいは4−メチルヘキサヒドロ無水フタル酸とヘキサヒドロ無水フタル酸との混合物、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、無水ナジック酸、無水メチルナジック酸、ノルボルナン−2,3−ジカルボン酸無水物、メチルノルボルナン−2,3−ジカルボン酸無水物、メチルシクロヘキセンジカルボン酸無水物、3,4−ジメチル−6−(2−メチル−1−プロペニル)−4−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸無水物などを挙げることができる。   Acid anhydride curing agents include succinic anhydride, phthalic anhydride, maleic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, 3-methylhexahydrophthalic anhydride, 4-methylhexahydro Phthalic anhydride, or a mixture of 4-methylhexahydrophthalic anhydride and hexahydrophthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, nadic anhydride, methyl nadic anhydride, norbornane-2,3-dicarboxylic acid Anhydride, methylnorbornane-2,3-dicarboxylic acid anhydride, methylcyclohexene dicarboxylic acid anhydride, 3,4-dimethyl-6- (2-methyl-1-propenyl) -4-cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid An anhydride etc. can be mentioned.

また、フェノール系硬化剤としては、1分子中にフェノール性水酸基を2個以上有するフェノール樹脂を好適に使用することができ、具体的には、ビスフェノールA型樹脂、ビスフェノールF型樹脂等のビスフェノール型樹脂、フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂等のノボラック樹脂、トリフェノールメタン型樹脂、トリフェノールプロパン型樹脂等のトリフェノールアルカン型樹脂、レゾール型フェノール樹脂、フェノールアラルキル樹脂、ビフェニル型フェノール樹脂、ナフタレン型フェノール樹脂、シクロペンタジエン型フェノール樹脂などが挙げられる。フェノール系硬化剤は、滲み性試験で優れた硬化物を与える。好ましくはフェノールノボラック樹脂である。   Moreover, as a phenol type hardening | curing agent, the phenol resin which has 2 or more of phenolic hydroxyl groups in 1 molecule can be used conveniently, Specifically, bisphenol type | molds, such as a bisphenol A type resin and a bisphenol F type resin, are used. Resin, novolak resin such as phenol novolac resin, cresol novolak resin, triphenol alkane type resin such as triphenolmethane type resin, triphenolpropane type resin, resol type phenol resin, phenol aralkyl resin, biphenyl type phenol resin, naphthalene type phenol Examples thereof include resins and cyclopentadiene type phenol resins. The phenolic curing agent gives an excellent cured product in the bleeding test. A phenol novolac resin is preferable.

硬化剤の配合量は、(A)成分の合計100質量部に対して10〜100質量部、好ましくは20〜60質量部であり、該組成物中に含まれる全てのエポキシ基1当量に対して、該硬化剤に含まれる、エポキシ基と反応性の基が0.4〜1.5当量、好ましくは0.8〜1.2当量となる量である。   The compounding quantity of a hardening | curing agent is 10-100 mass parts with respect to a total of 100 mass parts of (A) component, Preferably it is 20-60 mass parts, and with respect to 1 equivalent of all the epoxy groups contained in this composition. The amount of the epoxy group and reactive group contained in the curing agent is 0.4 to 1.5 equivalents, preferably 0.8 to 1.2 equivalents.

−(C)硬化促進剤−
本発明の太陽電池素子用導電性樹脂組成物には、(C)成分として、(A)成分のエポキシ化合物と(B)成分の硬化剤との反応を促進する硬化促進剤が用いられる。硬化促進剤としては、特に限定されないが、具体的には有機リン系化合物、イミダゾール化合物、3級アミン化合物等の塩基性有機化合物から選ばれる1種又は2種以上が挙げられ、特に耐湿信頼性を考慮すると有機リン系化合物が望ましい。
-(C) Curing accelerator-
In the conductive resin composition for a solar cell element of the present invention, as the component (C), a curing accelerator that accelerates the reaction between the epoxy compound of the component (A) and the curing agent of the component (B) is used. Although it does not specifically limit as a hardening accelerator, Specifically, 1 type, or 2 or more types chosen from basic organic compounds, such as an organophosphorus compound, an imidazole compound, a tertiary amine compound, is mentioned, Especially moisture-resistant reliability In view of the above, an organophosphorus compound is desirable.

イミダゾール化合物としては、例えば、2−メチルイミダゾール、2−エチルイミダゾール、4−メチルイミダゾール、4−エチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、2−フェニル−4−ヒドロキシメチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−メチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾール、2−フェニル−4,5−ジヒドロキシメチルイミダゾール等が挙げられる。   Examples of the imidazole compound include 2-methylimidazole, 2-ethylimidazole, 4-methylimidazole, 4-ethylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, and 2-phenyl-4-hydroxymethylimidazole. 2-ethyl-4-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazole, 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole, 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole and the like.

3級アミン化合物としては、例えば、トリエチルアミン、ベンジルジメチルアミン、ベンジルトリメチルアミン、α−メチルベンジルジメチルアミン等の窒素原子に結合する置換基としてアルキル基やアラルキル基を有するアミン化合物、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7及びそのフェノール塩、オクチル酸塩、オレイン酸塩などのシクロアミジン化合物やその有機酸との塩、或いは下記式(5)の化合物などのシクロアミジン化合物と4級ホウ素化合物との塩又は錯塩などが挙げられる。   As the tertiary amine compound, for example, an amine compound having an alkyl group or an aralkyl group as a substituent bonded to a nitrogen atom such as triethylamine, benzyldimethylamine, benzyltrimethylamine, or α-methylbenzyldimethylamine, 1,8-diazabicyclo [ 5.4.0] Undecene-7 and its cycloamidine compounds such as phenol salts, octylates and oleates, and salts thereof with organic acids, or cycloamidine compounds such as compounds of the following formula (5) and quaternary Examples thereof include salts or complex salts with boron compounds.

Figure 2013131464
Figure 2013131464

有機リン系化合物としては、例えば、トリフェニルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリ(p−メチルフェニル)ホスフィン、トリ(ノニルフェニル)ホスフィン等のトリオルガノホスフィン、トリフェニルホスフィン・トリフェニルボラン等のトリオルガノホスフィンとトリオルガノボランとの塩、テトラフェニルホスホニウム・テトラフェニルボレート等のテトラオルガノホスホニウムとテトラオルガノボレートとの塩などが挙げられる。   Examples of the organic phosphorus compound include triorganophosphine such as triphenylphosphine, tributylphosphine, tri (p-methylphenyl) phosphine, tri (nonylphenyl) phosphine, and triorganophosphine such as triphenylphosphine / triphenylborane. Examples thereof include salts with triorganoborane and salts of tetraorganophosphonium and tetraorganoborate such as tetraphenylphosphonium / tetraphenylborate.

硬化促進剤の配合量は、(A)成分及び(B)成分の
合計100質量部に対し0.1〜10質量部、好ましくは0.5〜5質量部がよい。硬化促進剤の配合量が0.1質量部より少ないと有機樹脂成分の反応を促進させる効果を十分に得ることができず、10質量部より多いと組成物の室温での保存性が悪くなり、作業性の低下の原因となるおそれがある。
The compounding quantity of a hardening accelerator is 0.1-10 mass parts with respect to a total of 100 mass parts of (A) component and (B) component, Preferably 0.5-5 mass parts is good. When the blending amount of the curing accelerator is less than 0.1 parts by mass, the effect of promoting the reaction of the organic resin component cannot be obtained sufficiently, and when it exceeds 10 parts by mass, the storage stability of the composition at room temperature is deteriorated. There is a risk that workability may be reduced.

−(D)導電性充填材−
導電性充填材は、レーザー回折法で測定される累積頻度99%の粒子径(d99)が好ましくは20μm以下、より好ましくは5μm〜20μm、さらに好ましくは10〜20μmを持ち、かつ、比表面積が好ましくは0.2〜1.5m/g、より好ましくは0.4〜1.2m/g、さらに好ましくは0.5〜1.0m/gを持つ。d99が上大きすぎると、本発明の組成物をスクリーン印刷する際にメッシュ目詰りなどが起こり易く、作業性に問題が生じ、その結果好適な電気特性が得がたくなる。また、比表面積が小さすぎると、本発明の組成物の硬化物からなる部材と接合相手部材との接合界面において導電性充填材の相手部材との接触面積が少なくなり硬化物の接触抵抗値が上昇する傾向が出る。また、比表面積が大き過ぎると、接合界面において相手部材と接触する樹脂面積が少なくなり接合強度が弱くなりやすい
-(D) Conductive filler-
The conductive filler preferably has a 99% cumulative particle size (d 99 ) measured by a laser diffraction method of 20 μm or less, more preferably 5 μm to 20 μm, still more preferably 10 to 20 μm, and a specific surface area. is preferably 0.2~1.5m 2 / g, more preferably 0.4~1.2m 2 / g, more preferably having 0.5~1.0m 2 / g. If d99 is too large, mesh clogging or the like is likely to occur when screen-printing the composition of the present invention, causing problems in workability, and as a result, it is difficult to obtain suitable electrical characteristics. In addition, if the specific surface area is too small, the contact area between the mating member of the composition of the present invention and the mating member of the mating member and the mating member of the conductive filler is reduced, and the contact resistance value of the cured product is There is a tendency to rise. On the other hand, if the specific surface area is too large, the resin area that comes into contact with the mating member at the bonding interface decreases, and the bonding strength tends to decrease.

また、導電性充填材は平均粒子径が好ましくは1〜10μm、より好ましくは1〜6μm、さらに好ましくは1〜4μmである。平均粒子径が小さすぎると、組成物のチキソ性が高くなる、或いは組成物の粘度が高くなるため多量の溶剤添加が必要となる。その結果、最適な粘度特性を維持できず、ニジミ、ダレ等の発生により作業性が悪くなるため。また平均粒子径が大きすぎると、接合界面において導電性充填剤粒子と相手部材とが点接触となり、導電性充填材の接触面積が相対的に少なくなり、接触抵抗値が上昇する。ここで、平均粒子径とは、レーザー回折式粒度分布測定装置で測定した粒度分布における積算値50%での粒径である。   The conductive filler preferably has an average particle size of 1 to 10 μm, more preferably 1 to 6 μm, and still more preferably 1 to 4 μm. If the average particle size is too small, the thixotropy of the composition is increased, or the viscosity of the composition is increased, so that a large amount of solvent is required. As a result, the optimum viscosity characteristics cannot be maintained, and workability deteriorates due to the occurrence of blurring and sagging. On the other hand, if the average particle diameter is too large, the conductive filler particles and the mating member are in point contact at the bonding interface, the contact area of the conductive filler is relatively reduced, and the contact resistance value is increased. Here, the average particle size is a particle size at an integrated value of 50% in the particle size distribution measured with a laser diffraction particle size distribution measuring device.

本発明において使用される導電性充填材は、本組成物中の他の成分と反応せず、安定した熱伝導性、電気伝導性が確保されるものであれば特に限定されない。例えば、金粉末、銀粉末、銅粉末、ニッケル粉末の各種の金属、カーボン粉末及びこれらの合金、シリカ、アルミナ、有機樹脂、シリコーンゴム等の絶縁性材料からなる粉末の表面に上記各種金属を蒸着又はメッキした粉末が挙げられ、これらは1種単独でまたは2種以上混合して使用することができる。中でも、銀粉が好ましい。銀粉の形状は、特に制限されるものではなく、球状、フレーク状等から適宜選択し、1種の形状のみでもよいし、あるいは2種以上の形状のものを混合して使用することができる。フレーク状の銀粉と球状の銀粉を混合して使用する場合には、フレーク状の銀粉/球状の銀粉の質量比が好ましくは60〜90/40〜10、より好ましくは70〜80/30〜20である。導電性充填剤の配合量は、(A)成分及び(B)成分の合計100質量部に対し800〜1500質量部、好ましくは900〜1400質量部がよい。   The conductive filler used in the present invention is not particularly limited as long as it does not react with other components in the present composition and stable thermal conductivity and electrical conductivity are ensured. For example, various metals such as gold powder, silver powder, copper powder, nickel powder, carbon powder and alloys thereof, silica, alumina, organic resin, and powders made of insulating materials such as silicone rubber are deposited on the surface. Or the powder which plated can be mentioned, These can be used individually by 1 type or in mixture of 2 or more types. Among these, silver powder is preferable. The shape of the silver powder is not particularly limited, and may be appropriately selected from a spherical shape, a flake shape and the like, and may be a single shape or a mixture of two or more shapes. When flaky silver powder and spherical silver powder are mixed and used, the mass ratio of flaky silver powder / spherical silver powder is preferably 60-90 / 40-10, more preferably 70-80 / 30-20. It is. The compounding quantity of a conductive filler is 800-1500 mass parts with respect to a total of 100 mass parts of (A) component and (B) component, Preferably 900-1400 mass parts is good.

−(E)その他の成分−
本発明の組成物は硬化物の接着力向上の目的で接着付与剤を添加することができる。該接着付与剤としてはエポキシ系シランカップリング剤、メルカプトシラン系カップリング剤が好適であり、例えばγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシランが挙げられる。配合量は有機樹脂成分の合計100質量部に対して好ましくは0.1〜5質量部、より好ましくは0.5〜3質量部である。
-(E) Other ingredients-
The composition of the present invention may contain an adhesion-imparting agent for the purpose of improving the adhesive strength of the cured product. As the adhesion-imparting agent, an epoxy-based silane coupling agent and a mercaptosilane-based coupling agent are suitable, and examples thereof include γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane and γ-mercaptopropyltrimethoxysilane. The amount is preferably 0.1 to 5 parts by mass, more preferably 0.5 to 3 parts by mass with respect to 100 parts by mass in total of the organic resin components.

本発明の導電性樹脂組成物には、作業性を改善する目的で溶剤を添加することができ、これにより、粘度が低くなるために作業性が向上し、また硬化中に溶剤が除去されて体積収縮が起こるために導電性が向上する。溶剤は1種でも2種以上を併用してもよい。   A solvent can be added to the conductive resin composition of the present invention for the purpose of improving workability. This improves workability because the viscosity is lowered, and the solvent is removed during curing. Since volume shrinkage occurs, conductivity is improved. The solvent may be used alone or in combination of two or more.

溶剤の種類や添加量は、特に限定されないが、溶剤の例として具体的には、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、アニソール、ジグライム、トリグライム等のエーテル類、シクロヘキサノン、2−ブタノン、メチルイソブチルケトン、2−ヘプタノン、2−オクタノン、アセトフェノン等のケトン類、酢酸ブチル、安息香酸メチル、γ−ブチロラクトン、2−ヒドロキシプロパン酸メチル等のエステル類、エチルセロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、カルビトールアセテート等のセロソルブ類、N , N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン等のアミド類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、或いは炭素数8以上の脂肪族炭化水素類等が挙げられ、特にシクロヘキサノン、2−ブタノン、エチルセロソルブアセテート、カルビトールアセテートが望ましい。溶剤の添加量としては、導電性樹脂組成物の0.1〜50質量%、特に1〜10質量%の範囲で添加することが望ましい。   The type and amount of the solvent are not particularly limited, but specific examples of the solvent include ethers such as tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, anisole, diglyme, and triglyme, cyclohexanone, 2-butanone, methyl isobutyl ketone, Ketones such as 2-heptanone, 2-octanone and acetophenone, esters such as butyl acetate, methyl benzoate, γ-butyrolactone and methyl 2-hydroxypropanoate, cellosolves such as ethyl cellosolve acetate, butyl cellosolve acetate and carbitol acetate Amides such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, or aliphatic hydrocarbons having 8 or more carbon atoms, etc. Especially cyclo Cyclohexanone, 2-butanone, ethyl cellosolve acetate, carbitol acetate is preferred. As an addition amount of a solvent, it is desirable to add in the range of 0.1-50 mass% of the conductive resin composition, especially 1-10 mass%.

また、本発明の導電性樹脂組成物は半田との接続を得るために、半田接続時に半田表面の酸化膜を除去し、接続を良好にするために、フラックス成分を添加してもよい。フラックス成分としては、アビエチン酸、グルタミン酸等が使用することが出来る。添加量としては有機樹脂成分100質量部に対し、0.1〜3質量部の範囲で添加することが好ましい。   Moreover, in order to obtain the connection with the solder, the conductive resin composition of the present invention may add a flux component in order to remove the oxide film on the solder surface during the solder connection and to improve the connection. As the flux component, abietic acid, glutamic acid and the like can be used. The addition amount is preferably 0.1 to 3 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the organic resin component.

本発明の導電性樹脂組成物は、上述した成分の他に用途に応じて、無機充填剤、変色防止剤、及び可塑剤等を添加してもよい。   In addition to the above-described components, the conductive resin composition of the present invention may contain an inorganic filler, a discoloration inhibitor, a plasticizer, and the like depending on the application.

本発明の導電性樹脂組成物は、上記各成分を、公知の混合方法、例えば、ミキサー、ロールミル等を用いて混合することによって調製することができる。また、本発明の導電性樹脂組成物は、E型粘度計により25℃における0.1rpmでの測定値として10〜1,000Pa・s、特には100〜600Pa・sであることが好ましい。   The conductive resin composition of the present invention can be prepared by mixing each of the above components using a known mixing method, for example, a mixer, a roll mill or the like. Moreover, it is preferable that the conductive resin composition of this invention is 10-1,000 Pa.s, especially 100-600 Pa.s as a measured value in 0.1 rpm in 25 degreeC with an E-type viscosity meter.

本発明の導電性樹脂組成物は、太陽電池素子と表面電極を接続するための接着材として好適に使用される。   The conductive resin composition of the present invention is suitably used as an adhesive for connecting the solar cell element and the surface electrode.

導電性樹脂組成物を塗布する方法は特に制限されず、例えば、印刷、ディスペンス等が挙げられる。導電性樹脂組成物の塗膜の厚みは適宜選択すればよく、通常5〜50μm、特には10〜30μmである。例えば、スクリーン印刷装置またはディスペンス装置を用いて25℃の温度、0.5〜5kgf/cmの圧力で吐出し、導電性樹脂組成物を基板に転写することで容易に塗布することができる。本発明の太陽電池素子は、該導電性樹脂組成物を基板に塗布した後、従来公知の方法に従いタブ(表面電極)を貼り付け、加熱硬化することにより製造することができる。本発明の導電性樹脂組成物の硬化条件は、150〜250℃で、30〜60分間の範囲において、作業条件、生産性、太陽電池素子及び筐体耐熱性とのバランスから適宜選定することができる。 The method in particular of apply | coating a conductive resin composition is not restrict | limited, For example, printing, dispensing etc. are mentioned. What is necessary is just to select the thickness of the coating film of a conductive resin composition suitably, and is 5-50 micrometers normally, Especially it is 10-30 micrometers. For example, it can be easily applied by discharging the conductive resin composition onto a substrate by discharging it at a temperature of 25 ° C. and a pressure of 0.5 to 5 kgf / cm 2 using a screen printing device or a dispensing device. The solar cell element of the present invention can be produced by applying the conductive resin composition to a substrate, attaching a tab (surface electrode) according to a conventionally known method, and heat-curing. The curing conditions for the conductive resin composition of the present invention may be appropriately selected from the balance of working conditions, productivity, solar cell elements and housing heat resistance in the range of 150 to 250 ° C. and 30 to 60 minutes. it can.

以下、合成例、実施例と比較例を挙げて本発明をさらに説明するが、本発明は下記実施例に限定されるものではない。
(A−1)オルガノポリシロキサンの合成
[合成例1]
攪拌羽根、滴下漏斗、温度計と還流管を取り付けたセパラブルフラスコに、下記式(6)のエポキシ樹脂28.1グラム(0.10モル)とトルエン168.0gを入れ、130℃/2時間で共沸脱水を行った。これを100℃に冷却し、塩化白金酸/ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液(白金金属濃度0.5質量%)0.5gを滴下し、直ちに下記式(7)のハイドロジェンシロキサン36.3g(0.05mol)とトルエン145gの混合物を30分程度で滴下し、更に100℃/6時間で熟成した。これからトルエンを除去し、無色透明な液体(化合物I)を62.5g得た。化合物Iの粘度は1.0Pa・s(25℃)、滴定法(JIS K7236)により測定されたエポキシ当量は320g/eq、オルガノポリシロキサン分含有量は56質量%であった。
EXAMPLES Hereinafter, although a synthesis example, an Example, and a comparative example are given and this invention is further demonstrated, this invention is not limited to the following Example.
(A-1) Synthesis of organopolysiloxane [Synthesis Example 1]
In a separable flask equipped with a stirring blade, a dropping funnel, a thermometer and a reflux tube, 28.1 g (0.10 mol) of an epoxy resin of the following formula (6) and 168.0 g of toluene were placed, and 130 ° C./2 hours. Azeotropic dehydration was carried out. This was cooled to 100 ° C., 0.5 g of a toluene solution of chloroplatinic acid / vinylsiloxane complex (platinum metal concentration 0.5% by mass) was added dropwise, and immediately 36.3 g of hydrogen siloxane of the following formula (7) (0 .05 mol) and 145 g of toluene were added dropwise in about 30 minutes and further aged at 100 ° C./6 hours. From this, toluene was removed to obtain 62.5 g of a colorless and transparent liquid (Compound I). The viscosity of Compound I was 1.0 Pa · s (25 ° C.), the epoxy equivalent measured by a titration method (JIS K7236) was 320 g / eq, and the content of organopolysiloxane was 56 mass%.

Figure 2013131464
Figure 2013131464

Figure 2013131464
Figure 2013131464

[合成例2]
攪拌羽根、滴下漏斗、温度計と還流管を取り付けたセパラブルフラスコに、下記式(8)のエポキシ樹脂42.0g(0.10モル)とトルエン168.0gを入れ、130℃/2時間で共沸脱水を行った。これを100℃に冷却し、塩化白金酸/ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液(白金金属濃度0.5質量%)0.5gを滴下し、直ちに下記式(9)のハイドロジェンシロキサン 36.3g(0.05mol)とトルエン145gの混合物を30分程度で滴下し、更に100℃/6時間で熟成した。これからトルエンを除去した後、メタノールで洗浄、分離し、除去することにより、黄色透明な液体(化合物II)を75.2g得た。粘度は5Pa・s(25℃)、GPC(ゲルパーミッションクロマトグラフィー)により測定された500以下の分子量は0.4%、滴定法(JIS K7236)により測定されたエポキシ当量は400g/eq、オルガノポリシロキサン含有量は46%であった。
[Synthesis Example 2]
In a separable flask equipped with a stirring blade, a dropping funnel, a thermometer and a reflux tube, 42.0 g (0.10 mol) of an epoxy resin of the following formula (8) and 168.0 g of toluene were placed at 130 ° C./2 hours. Azeotropic dehydration was performed. This was cooled to 100 ° C., 0.5 g of a toluene solution of chloroplatinic acid / vinylsiloxane complex (platinum metal concentration 0.5% by mass) was added dropwise, and immediately 36.3 g of hydrogen siloxane of the following formula (9) (0 .05 mol) and 145 g of toluene were added dropwise in about 30 minutes and further aged at 100 ° C./6 hours. After removing toluene from this, it was washed with methanol, separated and removed to obtain 75.2 g of a yellow transparent liquid (Compound II). The viscosity is 5 Pa · s (25 ° C.), the molecular weight of 500 or less measured by GPC (gel permeation chromatography) is 0.4%, the epoxy equivalent measured by titration method (JIS K7236) is 400 g / eq, organopoly The siloxane content was 46%.

Figure 2013131464
Figure 2013131464

Figure 2013131464
Figure 2013131464

[合成例3]
攪拌羽根、滴下漏斗、温度計と還流管を取り付けたセパラブルフラスコに、前記式(8)のエポキシ樹脂42.0g(0.10モル)とトルエン168.0gを入れ、130℃/2時間で共沸脱水を行った。これを100℃に冷却し、塩化白金酸/ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液(白金金属濃度0.5質量%)0.5gを滴下し、直ちに下記式(10)のハイドロジェンシロキサン221.8g(0.05mol)とトルエン885gの混合物を30分程度で滴下し、更に100℃/6時間で熟成した。これからトルエンを除去し、黄色透明な液体(化合物III)を258g得た。粘度は1Pa・s(25℃)、滴定法(JIS K7236)により測定されたエポキシ当量は770g/eq、オルガノポリシロキサン含有量は84%であった。
[Synthesis Example 3]
In a separable flask equipped with a stirring blade, a dropping funnel, a thermometer and a reflux tube, 42.0 g (0.10 mol) of the epoxy resin of the above formula (8) and 168.0 g of toluene were placed at 130 ° C./2 hours. Azeotropic dehydration was performed. This was cooled to 100 ° C., 0.5 g of a toluene solution of chloroplatinic acid / vinylsiloxane complex (platinum metal concentration 0.5% by mass) was dropped, and immediately, 221.8 g (0 of hydrogen siloxane of the following formula (10) .05 mol) and 885 g of toluene were added dropwise in about 30 minutes and further aged at 100 ° C./6 hours. From this, toluene was removed to obtain 258 g of a yellow transparent liquid (Compound III). The viscosity was 1 Pa · s (25 ° C.), the epoxy equivalent measured by a titration method (JIS K7236) was 770 g / eq, and the organopolysiloxane content was 84%.

Figure 2013131464
Figure 2013131464

[実施例1〜6、比較例1〜2]
下記表1に示す組成及び配合(質量部)で、各成分をミキサーで十分混合し、さらに三本ロールミルで混練りして太陽電池素子用導電性樹脂組成物を調製した。表中の各成分は以下のとおりである。
[Examples 1-6, Comparative Examples 1-2]
Each component was sufficiently mixed by a mixer with the composition and blending (parts by mass) shown in Table 1 below, and further kneaded by a three-roll mill to prepare a conductive resin composition for a solar cell element. Each component in the table is as follows.

尚、下記記載において累積頻度99%の粒子径(d99)はレーザー回折法で測定したものである。 In the following description, the particle diameter (d 99 ) with a cumulative frequency of 99% is measured by a laser diffraction method.

硬化物中のオルガノポリシロキサン分含有量は、合成例の配合量から算出した。
(A−1)オルガノポリシロキサン
・化合物I:合成例1で調製したシリコーン変性エポキシ樹脂(エポキシ当量320g/eq)
・化合物II:合成例2で調製したシリコーン変性エポキシ樹脂(エポキシ当量400g/eq)
・化合物III:合成例3で調製したシリコーン変性エポキシ樹脂(エポキシ当量770g/eq)
(A−2)ケイ素原子を含まないエポキシ樹脂
・エポキシ樹脂I:ビスフェノールA型エポキシ樹脂(エポトートYD−8125、新日鐵化学(株)製、MW=378、エポキシ当量189g/eq)
・エポキシ樹脂II:ビスフェノールF型エポキシ樹脂(エポトートYDF−8170、新日鐵化学(株)製、MW=312、エポキシ当量156g/eq)
・エポキシ樹脂III:ビスフェノールA型エポキシ樹脂(jER−1009、三菱化学(株)製、MW=3800、エポキシ当量2850g/eq)
(B)硬化剤
・硬化剤I:3,4−ジメチル−6−(2−メチル−1−プロペニル)−4−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸無水物(jER YH−307、三菱化学(株)製、無水カルボン酸当量117g/eq)
・硬化剤II:フェノールノボラック樹脂(軟化点 55℃、フェノール当量100)
(C)硬化促進剤
・硬化促進剤I:第四級ホスホニウム塩(U−CAT5003、サンアプロ(株)製)
・硬化促進剤II:三フッ化ホウ素モノエチルアミン(東京化成工業(株)製)
(D)導電性充填材
・銀粉I:フレーク状、平均粒子径2.4μm、比表面積0.7m/g、d99:18μm(AgC−239、福田金属箔粉工業(株)製)
・銀粉II:球状、平均粒子径1.5μm、比表面積0.65m/g、d99:6μm(AgC−HWQ 1.5μm、福田金属箔粉工業(株)製)
(E)その他の成分
・接着付与剤:γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(商品名: KBM-403、信越化学工業(株)製)
・未変性シリコーンオイル:ジメチルポリシロキサン、1000mm/s(商品名:KF−96、信越化学工業(株)製)
・溶剤:エチルセロソルブアセテート(関東化学(株)製)
各組成物について、後述の(a)乃至(e)の諸試験を行った。組成物は各樹脂組成物を200℃で0.5時間加熱して硬化した。結果を表2に示す。
(a)粘度
東機産業(株)製E型回転粘度計にて、25℃で0.1rpmと1rpmでの粘度を測定した。
(b)滲み性試験
ITO基板(ITOを蒸着したSi基板)上に325メッシュスクリーンを用いて0.1mm幅×10mmのパターンを印刷し、200℃で0.5時間加熱して硬化させた後の基板表面を観察し、次の基準で評価した。パターンの初期の印刷幅に対して、樹脂成分の一部が滲み出し広がった幅の長さを測定した。
The organopolysiloxane content in the cured product was calculated from the blending amount in the synthesis example.
(A-1) Organopolysiloxane / Compound I: Silicone-modified epoxy resin prepared in Synthesis Example 1 (epoxy equivalent 320 g / eq)
Compound II: Silicone-modified epoxy resin prepared in Synthesis Example 2 (epoxy equivalent 400 g / eq)
Compound III: Silicone-modified epoxy resin prepared in Synthesis Example 3 (epoxy equivalent 770 g / eq)
(A-2) Epoxy resin / epoxy resin I containing no silicon atom: Bisphenol A type epoxy resin (Epototo YD-8125, manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd., MW = 378, epoxy equivalent 189 g / eq)
Epoxy resin II: bisphenol F type epoxy resin (Epototo YDF-8170, manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd., MW = 312, epoxy equivalent 156 g / eq)
Epoxy resin III: bisphenol A type epoxy resin (jER-1009, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, MW = 3800, epoxy equivalent 2850 g / eq)
(B) Curing agent / curing agent I: 3,4-dimethyl-6- (2-methyl-1-propenyl) -4-cyclohexene-1,2-dicarboxylic anhydride (jER YH-307, Mitsubishi Chemical Corporation) ), Carboxylic anhydride equivalent 117 g / eq)
Curing agent II: phenol novolac resin (softening point 55 ° C., phenol equivalent 100)
(C) Curing accelerator / curing accelerator I: quaternary phosphonium salt (U-CAT5003, manufactured by San Apro Co., Ltd.)
・ Curing accelerator II: Boron trifluoride monoethylamine (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
(D) Conductive filler / silver powder I: flake, average particle size 2.4 μm, specific surface area 0.7 m 2 / g, d 99 : 18 μm (AgC-239, manufactured by Fukuda Metal Foil Powder Industry Co., Ltd.)
Silver powder II: spherical, average particle diameter 1.5 μm, specific surface area 0.65 m 2 / g, d 99 : 6 μm (AgC-HWQ 1.5 μm, manufactured by Fukuda Metal Foil Powder Industry Co., Ltd.)
(E) Other components and adhesion promoter: γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane (trade name: KBM-403, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
Unmodified silicone oil: dimethylpolysiloxane, 1000 mm 2 / s (trade name: KF-96, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
・ Solvent: Ethyl cellosolve acetate (manufactured by Kanto Chemical Co., Inc.)
Each composition was subjected to the following tests (a) to (e). The composition was cured by heating each resin composition at 200 ° C. for 0.5 hour. The results are shown in Table 2.
(A) Viscosity Viscosity at 0.1 rpm and 1 rpm was measured at 25 ° C. with an E-type rotational viscometer manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd.
(B) Bleeding test After printing a pattern of 0.1 mm width × 10 mm on an ITO substrate (Si substrate on which ITO is deposited) using a 325 mesh screen, and curing by heating at 200 ° C. for 0.5 hour. The substrate surface was observed and evaluated according to the following criteria. The length of the width in which a part of the resin component exudes and spreads was measured with respect to the initial printing width of the pattern.

○:樹脂の滲み出しが0.01mm以下
△:樹脂の滲み出しが0.01〜0.02mm
×:樹脂の滲み出しが0.02mm以上
(c)ピール強度
図2により説明する。シリコン基板の片面にITOを蒸着したITO基板21(ITO層は図示略)上に325メッシュスクリーンを用いて0.1mm×50mmのパターン状に試料の組成物を印刷し、次にその組成物層22の上にリボン半田23を置いた。リボン半田23を半田ごてで組成物層22に熱圧着し、試験片を作成した。(株)島津製作所製オートグラフAG−ISを用いて該試験片のリボン半田23の一方の端部24をつかみ、ITO基板21に対して90°の方向、即ち垂直方向に引っ張りリボン半田23を剥離するのに要する力(ピール強度)を測定した

(d)体積抵抗率
JIS K 6911に基づき硬化物の体積抵抗率(25℃)を測定した。
(e)半田付け性
ITO基板(ITOを蒸着したSi基板)上に導電性樹脂組成物の試料を印刷し、200℃で0.5時間加熱して硬化させて得た硬化物上に半田を溶融付着させた後、引き剥がし、剥離界面の状態を観察した。
○: Exudation of resin is 0.01 mm or less. Δ: Exudation of resin is 0.01 to 0.02 mm.
X: Exudation of resin is 0.02 mm or more (c) Peel strength A description will be given with reference to FIG. The composition of the sample was printed in a pattern of 0.1 mm × 50 mm using a 325 mesh screen on an ITO substrate 21 (ITO layer not shown) having ITO deposited on one side of a silicon substrate, and then the composition layer Ribbon solder 23 was placed on 22. The ribbon solder 23 was thermocompression bonded to the composition layer 22 with a soldering iron to prepare a test piece. Grasp one end 24 of the ribbon solder 23 of the test piece using an autograph AG-IS manufactured by Shimadzu Corporation, and pull the ribbon solder 23 in a direction of 90 ° with respect to the ITO substrate 21, that is, in a vertical direction. The force (peel strength) required for peeling was measured.
(D) Volume resistivity The volume resistivity (25 degreeC) of hardened | cured material was measured based on JISK6911.
(E) Solderability A sample of a conductive resin composition is printed on an ITO substrate (Si substrate on which ITO is vapor-deposited), heated at 200 ° C. for 0.5 hours, and cured on the cured product obtained by curing. After melting and adhering, it was peeled off and the state of the peeling interface was observed.

Figure 2013131464
Figure 2013131464

Figure 2013131464
Figure 2013131464

シリコーン変性エポキシ樹脂を含まない比較例1の導電性樹脂組成物は接着強度が低下し信頼性に劣る。これに対し本発明の導電性樹脂組成物は、滲み性試験、半田付け性等の作業性に優れ、また接着強度、体積抵抗率等の信頼性に優れた硬化物を提供する。また、硬化剤にフェノールノボラック樹脂を含む実施例6の導電性樹脂組成物は、滲み性試験に優れた硬化物を与えることができる。   The conductive resin composition of Comparative Example 1 containing no silicone-modified epoxy resin has poor adhesive strength and poor reliability. On the other hand, the conductive resin composition of the present invention provides a cured product excellent in workability such as bleeding test and solderability and excellent in reliability such as adhesive strength and volume resistivity. Moreover, the conductive resin composition of Example 6 containing a phenol novolac resin in the curing agent can give a cured product excellent in the bleeding test.

本発明の太陽電池素子用導電性樹脂組成物は接着強度及び作業性に優れ、かつ耐熱性、耐湿性に優れた硬化物を提供することができる。また本発明の導電性樹脂組成物は導電性に優れた硬化物を提供することができる。これにより太陽電池素子と配線部材を良好に接続する事ができ、信頼性の高い太陽電池モジュールを提供することができる。   The conductive resin composition for a solar cell element of the present invention can provide a cured product having excellent adhesive strength and workability, and excellent heat resistance and moisture resistance. Moreover, the conductive resin composition of this invention can provide the hardened | cured material excellent in electroconductivity. Thereby, a solar cell element and a wiring member can be connected favorably, and a highly reliable solar cell module can be provided.

1 ・・・太陽電池素子
2 ・・・半導体基板
3 ・・・透明導電膜(ITO)
4 ・・・導電性樹脂組成物
5 ・・・表面電極
21・・・ITO基板
22・・・組成物層
23・・・リボン半田
24・・・端部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Solar cell element 2 ... Semiconductor substrate 3 ... Transparent electrically conductive film (ITO)
4 ... conductive resin composition 5 ... surface electrode 21 ... ITO substrate 22 ... composition layer 23 ... ribbon solder 24 ... end

Claims (10)

(A)(A−1)シリコーン変性エポキシ樹脂、及び(A−2)ケイ素原子を含まないエポキシ化合物を含有するエポキシ化合物、
(B)硬化剤、
(C)硬化促進剤、並びに、
(D)導電性充填材
を必須成分として含有し、
以下の条件(I)及至(III)を満たす、太陽電池素子用導電性樹脂組成物。
(I)(A−1)成分が、下記式(1)で表されるエポキシ化合物と、下記平均組成式(2)で示されるオルガノハイドロジェンポリシロキサンとをヒドロシリル化反応させて得られたシリコーン変性エポキシ樹脂である。
Figure 2013131464

(但し、式中Rはエポキシ基を1個以上有する、フェニル基、ナフチル基又はイソシアヌル基である。)
Figure 2013131464

(但し、式中Rは脂肪族不飽和炭化水素基を除く、同一又は異種の置換若しくは非置換の1価炭化水素基、a 及びb は0.7≦a≦2.1、0.001≦b≦1.0、かつ0.8≦a+b≦2.6を満たす正数である。)で示される1分子中に少なくとも2個のSiH結合を有し、かつ25℃での粘度が1000mPa・s以下であるオルガノハイドロジェンポリシロキサン。
(II)(A−1)成分100質量部に対して(A−2)成分の量が1〜200質量部である。
(III)(A)成分の合計100質量部に対して、(B)成分の量が10〜100質量部であり、(A)成分及び(B)成分の合計100質量部に対して(C)成分の量が0.1〜10質量部であり、(D)成分の量が800〜1500質量部である。
(A) (A-1) a silicone-modified epoxy resin, and (A-2) an epoxy compound containing an epoxy compound containing no silicon atom,
(B) a curing agent,
(C) a curing accelerator, and
(D) containing a conductive filler as an essential component;
A conductive resin composition for solar cell elements that satisfies the following conditions (I) to (III).
(I) Silicone obtained by hydrosilylation reaction of an epoxy compound represented by the following formula (1) and an organohydrogenpolysiloxane represented by the following average composition formula (2): It is a modified epoxy resin.
Figure 2013131464

(In the formula, R 1 is a phenyl group, a naphthyl group or an isocyanuric group having at least one epoxy group.)
Figure 2013131464

Wherein R 2 is the same or different substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group excluding the aliphatic unsaturated hydrocarbon group, and a and b are 0.7 ≦ a ≦ 2.1, 0.001 ≦ b ≦ 1.0 and 0.8 ≦ a + b ≦ 2.6.) 1 molecule has at least two SiH bonds, and the viscosity at 25 ° C. is 1000 mPa An organohydrogenpolysiloxane that is less than or equal to s.
(II) The amount of the component (A-2) is 1 to 200 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the component (A-1).
(III) The amount of the component (B) is 10 to 100 parts by mass with respect to the total of 100 parts by mass of the component (A), and (C) with respect to the total of 100 parts by mass of the component (A) and the component (B) The amount of component) is 0.1 to 10 parts by mass, and the amount of component (D) is 800 to 1500 parts by mass.
(A−1)成分は分子量500以下の成分の含有率が1質量%以下である、請求項1に記載の太陽電池素子用導電性樹脂組成物。 (A-1) The conductive resin composition for solar cell elements of Claim 1 whose content rate of a component with a molecular weight of 500 or less is 1 mass% or less. (D)導電性充填材が銀粉である、請求項1又は2に記載の太陽電池素子用導電性樹脂組成物。 (D) The conductive resin composition for solar cell elements according to claim 1 or 2, wherein the conductive filler is silver powder. (D)導電性充填材が平均粒子径1〜10μmの粉末である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の太陽電池素子用導電性樹脂組成物。 (D) The conductive resin composition for solar cell elements according to any one of claims 1 to 3, wherein the conductive filler is a powder having an average particle diameter of 1 to 10 µm. 組成物中のオルガノポリシロキサン分の、(A)成分及び(B)成分の合計に対する割合が60質量%以下である請求項1〜4のいずれか1項に記載の太陽電池素子用導電性樹脂組成物。   The conductive resin for solar cell elements according to any one of claims 1 to 4, wherein the ratio of the organopolysiloxane content in the composition to the sum of the components (A) and (B) is 60% by mass or less. Composition. 硬化して得られる硬化物の体積抵抗率が10−5Ωcm以下である請求項1〜5のいずれか1項に記載の太陽電池素子用導電性樹脂組成物。 The volume resistivity of the hardened | cured material obtained by hardening is 10 < -5 > (omega | ohm) cm or less, The conductive resin composition for solar cell elements of any one of Claims 1-5. 硬化して得られる硬化物とリボン半田との90°ピール接着力が0.2N以上である請求項1〜6のいずれか1項に記載の太陽電池素子用導電性樹脂組成物。 The conductive resin composition for solar cell elements according to any one of claims 1 to 6, wherein a 90 ° peel adhesive force between the cured product obtained by curing and the ribbon solder is 0.2 N or more. 太陽電池素子と表面電極を接続する接着材として用いられる請求項1〜7のいずれか1項に記載の太陽電池素子用導電性樹脂組成物。 The electrically conductive resin composition for solar cell elements of any one of Claims 1-7 used as an adhesive material which connects a solar cell element and a surface electrode. 請求項1〜7のいずれか1項に記載の太陽電池素子用導電性樹脂組成物の硬化物を備える太陽電池素子。   A solar cell element provided with the hardened | cured material of the conductive resin composition for solar cell elements of any one of Claims 1-7. 前記硬化物が太陽電池素子と表面電極を接続する接着層を形成している請求項9に記載の太陽電池素子。 The solar cell element of Claim 9 in which the said hardened | cured material forms the contact bonding layer which connects a solar cell element and a surface electrode.
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