JP2013128186A - 電磁波制御装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板22の面上に設けられ、磁場又は電場により吸引力又は斥力を受け、基板上で流動可能な第1流動性材料10と、磁場又は電場により吸引力も斥力も受けないか、又は、磁場又は電場により第1流動性材料に作用する力とは反対向きの力を受ける、基板上で流動可能な第2流動性材料11とから成る流動性材料を有する。流動性材料を流動可能に基板の面上に封止する封止部材と、基板の面上における磁場分布又は電場分布を可変発生させる場分布発生装置21と、を有し、場分布発生装置により任意の磁場分布又は電場分布を基板の面上に発生させて、その発生された磁場分布又は電場分布に沿って第1流動性材料を移動させることにより、電磁波の透過、屈折、反射、放射、又は、入射を制御することを特徴とする電磁波制御装置である。
【選択図】図1
Description
電気抵抗や磁気抵抗などは、半導体や磁性材料の開発により、様々な素子により制御されてきた。しかし、空間の誘電率を変化させる必要のある電磁波や熱などの伝播や放射の制御に関しては、効果的に制御できる素子の開発が遅れている。
磁性粉末には、フエライト、BaFeO3 などの磁性酸化物、SmCo5 、SmCo17、Nd2 Fe14Bなどの異方性希土類磁性材料、その他のNd−Fe−B系材料、Nd−Fe−Bに他の希土類元素を含んでいたり、その他の添加元素を含んでいたりする材料を用いることができる。更に、Nd以外の希土類元素を含んだ材料、例えば、Sm−Fe−N系材料、SmCo系材料、または、Nd−Fe−B系材料とこれらの混合物質を用いることができる。また、磁性粉末と界面活性剤とを用いた磁性流体を用いることができる。磁性流体には、水、炭化水素系オイル及びフッ素系オイルを媒体するものがある。
また、第1流動性材料は油性材料であり、第2流動性材料は親水性材料であり、場分布発生装置は基板の面上に形成された疎水性膜であって、その膜上に流動性材料が配置され、電界の印加により疎水性から親水性に変化する疎水性膜を有し、この疎水性膜に電場分布を発生させる装置とすることができる。電場の印加により疎水性膜は親水性となり、第2流動性材料が疎水性膜に引き寄せられる結果、第1流動性材料は排斥されて一箇所に集中する。したがって、結果的に、第1流動性材料は、電場の分布により斥力を受けて移動し、第2流動性材料は、第1流動性材料とは反対向きの力を受けるものと見做すことができる。この発明は、エレクトロウェッティングを用いて、誘電率、透磁率の平面分布や、容量の平面分布を発生させるものである。
また、第1流動性材料は分極の大きな流動性材料であり、第2流動性材料は分極が第1流動性材料よりも小さな流動性材料であって、場分布発生装置は電場分布を発生させる装置としても良い。
また、第1流動性材料は正電荷を荷電した粒子を含む流動性材料であり、第2流動性材料は負電荷を荷電した粒子を含む流動性材料であって、場分布発生装置は電場分布を発生させる装置としても良い。
また、第1流動性材料と第2流動性材料とは、それらの誘電率が電磁波に対する影響に差を与える程度に異なっていることが望ましい。これにより、電磁波に対する各種の特性を変化させることができる。
また、第1流動性材料と第2流動性材料とは、それらの透磁率が電磁波に対する影響に差を与える程度に異なっていることが望ましい。この場合にも、電磁波に対する各種の特性を変化させることができる。
また、第2流動性材料11には、水、空気、イオン性液体(例えば、イミダゾール誘導体、ブチルメチルイミダゾール誘導体、ピリジニウム誘導体、脂肪族系誘導体、ホスホネート誘導体などのイオン性液体)を用いることができる。イオン性液体は、水やオイルに溶けないので、第2流動性材料として適している。
帯電しない流動性材料としては、金属微粒子、In2 O3 、SnO2 、などの導電性酸化物、表面を導電性処理した樹脂材料を用いることができる。
分極粒子としては、外部から電界を与えなくとも自発的な分極を有している焦電体や強誘電体材料が適している。例えば、チタン酸ジルコン酸鉛(PZT)、チタン酸ジルコン酸ランタン鉛(PLZT)、チタン酸バリウム(BaTiO3 )、ビスマス鉄酸化物(BiFeO3 )、PVDF(ボリフッ化ビニリデン)などを用いることができる。
無分極粒子としては、帯電しない材料である金属微粒子、In2 O3 、SnO2 などの導電性酸化物、表面を導電性処理した樹脂材料を用いることができる。
室温で液体の金属としては、ガリウム、インジウム、スズの合金であるガリンスタンと呼ばれる液体金属(融点−19℃)を用いることができる。使用する温度によって、組成を変化させて最適な融点を調整することが可能である。また、封止された状態で用いる場合には、水銀(融点−39℃)を用いることも可能である。使用温度が高い場合には、ウッドメタル(融点70℃)やローズ合金(融点100℃)をどの合金を用いることもできる。
基板22の面上に、実施例1と同様に所望の磁場分布を形成する。本実施例では、基板22の面上に形成される平面金属体の形状を変化させている。そして、この平面金属体をパッチアンテナとして用いて、この平面金属体に高周波を供給して、平面金属体を放射アンテナとしたものである。
10…第1流動性材料
11…第2流動性材料
20,30,40…基台
22…基板
21…マイクロコイル
13,38,41…封止膜
22a、22b…側面
31,43…行電極
33,44…列電極
34…誘電体層
35,42…疎水性膜
Claims (9)
- 電磁波の透過、屈折、反射、放射、又は、入射を制御する電磁波制御装置において、
基板の面上に設けられ、磁場又は電場により吸引力又は斥力を受け、前記基板上で流動可能な第1流動性材料と、磁場又は電場により吸引力も斥力も受けないか、又は、磁場又は電場により前記第1流動性材料に作用する力とは反対向きの力を受ける、前記基板上で流動可能な第2流動性材料とから成る流動性材料と、
前記流動性材料を流動可能に前記基板の面上に封止する封止部材と、
前記基板の面上における磁場分布又は電場分布を可変発生させる場分布発生装置と、
を有し、
前記場分布発生装置により任意の磁場分布又は電場分布を前記基板の面上に発生させて、その発生された磁場分布又は電場分布に沿って前記第1流動性材料を移動させることにより、電磁波の透過、屈折、反射、放射、又は、入射を制御する
ことを特徴とする電磁波制御装置。 - 前記第1流動性材料は磁性粉末を分散させた流体材料又は磁性流体材料であり、前記第2流動性材料は非磁性流体材料であり、前記場分布発生装置は磁場分布を発生させる装置であることを特徴とする請求項1に記載の電磁波制御装置。
- 前記第1流動性材料は液体金属であり、前記第2流動性材料は誘電体液体であることを特徴とする請求項1に記載の電磁波制御装置。
- 前記第1流動性材料は油性材料であり、前記第2流動性材料は親水性材料であり、前記場分布発生装置は前記基板の面上に形成された疎水性膜であって、その膜上に前記流動性材料が配置され、電界の印加により疎水性から親水性に変化する疎水性膜を有し、この疎水性膜に電場分布を発生させる装置であることを特徴とする請求項1に記載の電磁波制御装置。
- 前記第1流動性材料は電荷の帯電が可能な流動性材料であり、前記第2流動性材料は電荷を帯電しない流動性材料であって、前記場分布発生装置は電場分布を発生させる装置であることを特徴とする請求項1に記載の電磁波制御装置。
- 前記第1流動性材料は分極の大きな流動性材料であり、前記第2流動性材料は分極が前記第1流動性材料よりも小さな流動性材料であって、前記場分布発生装置は電場分布を発生させる装置であることを特徴とする請求項1に記載の電磁波制御装置。
- 前記第1流動性材料は正電荷を荷電した粒子を含む流動性材料であり、前記第2流動性材料は負電荷を荷電した粒子を含む流動性材料であって、前記場分布発生装置は電場分布を発生させる装置であることを特徴とする請求項1に記載の電磁波制御装置。
- 前記第1流動性材料と前記第2流動性材料とは、それらの誘電率が前記電磁波に対する影響に差を与える程度に異なっていることを特徴とする請求項1乃至請求項7の何れか1項に記載の電磁波制御装置。
- 前記第1流動性材料と前記第2流動性材料とは、それらの透磁率が前記電磁波に対する影響に差を与える程度に異なっていることを特徴とする請求項1乃至請求項8の何れか1項に記載の電磁波制御装置。
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