JP2013108024A - Epoxy resin composition for sealing and electronic component device - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an epoxy resin composition for sealing, which is excellent in reliability of moisture resistance, as well as moldability and solder resistance, and an electronic component device including an element sealed with a hardened product of the epoxy resin composition.SOLUTION: The epoxy resin composition for sealing contains: (A) an epoxy resin; (B) a phenol resin hardener; (C) an inorganic filler; and (D) a silane compound represented by general formula (1). The component (D) has a purity of 98.5-99.5 mass%, a content of 1-5C monovalent alcohol of 1,000-2,500 ppm, and a content of a silane compound having no mercapto group in the molecule of less than 8,000 ppm.

Description

本発明は、封止用エポキシ樹脂組成物及び電子部品装置に関する。   The present invention relates to a sealing epoxy resin composition and an electronic component device.

近年の電子部品装置の分野では、装置の小型化、軽量化、高性能化を図るため、素子の高密度実装化、配線の微細化、多層化、及び多ピン化、素子のパッケージに対する占有面積の増大化が進んでいる。同時に電子部品装置ではパッケージ薄型化傾向が進んでおり、このような開発が進む中で、封止材に対する要求はますます厳しくなっている。
半導体などの電子部品の封止用エポキシ樹脂組成物には一般的に無機充填剤や素子などの無機物とエポキシ樹脂やフェノール樹脂などの有機物との接着性向上を目的として、3−メルカプトプロピルトリメトキシシランや3―アニリノプロピルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン等、種々のカップリング剤がエポキシ樹脂組成物中に添加されてきた。
In the field of electronic component devices in recent years, in order to reduce the size, weight, and performance of devices, high-density mounting of devices, finer wiring, multilayering, and multi-pins, the area occupied by the device package Is increasing. At the same time, the trend toward thinner packages for electronic component devices is advancing, and as such development progresses, the requirements for sealing materials are becoming increasingly severe.
In general, epoxy resin compositions for sealing electronic parts such as semiconductors are composed of 3-mercaptopropyltrimethoxy for the purpose of improving the adhesion between inorganic substances such as inorganic fillers and elements and organic substances such as epoxy resins and phenol resins. Various coupling agents such as silane, 3-anilinopropyltriethoxysilane, and 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane have been added to the epoxy resin composition.

例えば特許文献1及び特許文献2では、耐半田リフロー性向上を目的として、3−メルカプトプロピルトリメトキシシランを添加した封止材を用いているが、特許文献1及び特許文献2に記載された方法では耐半田性や成形性が不十分であった。   For example, in Patent Document 1 and Patent Document 2, a sealing material added with 3-mercaptopropyltrimethoxysilane is used for the purpose of improving solder reflow resistance, but the method described in Patent Document 1 and Patent Document 2 is used. However, solder resistance and formability were insufficient.

特開平10−25335号公報Japanese Patent Laid-Open No. 10-25335 特開2009−249424号公報JP 2009-249424 A

本発明はかかる状況に鑑みなされたもので、成形性と耐半田性に優れ、耐湿信頼性にも優れた封止用エポキシ樹脂組成物、及びこの封止用エポキシ樹脂組成物の硬化物で素子が封止されている電子部品装置を提供しようとするものである。   The present invention has been made in view of such a situation, and has an element formed with an epoxy resin composition for sealing excellent in moldability and solder resistance, and excellent in moisture resistance reliability, and a cured product of the epoxy resin composition for sealing. An electronic component device in which is sealed is intended to be provided.

本発明者らは上記の課題を解決するために鋭意検討を重ねた結果、下記一般式(1)で示されるシラン化合物として、純度が98.5〜99.5質量%であり、炭素数1〜5の一価のアルコールの含有量が1000〜2500ppmであり、分子内にメルカプト基を有しないシラン化合物の含有量が8000ppm未満であるものを封止用エポキシ樹脂組成物に添加することにより上記の目的を達成しうることを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have a purity of 98.5 to 99.5% by mass as a silane compound represented by the following general formula (1), and have 1 carbon atom. By adding to the epoxy resin composition for sealing, the content of monohydric alcohol of ˜5 is 1000 to 2500 ppm and the content of silane compound having no mercapto group in the molecule is less than 8000 ppm. The inventors have found that the object can be achieved, and have completed the present invention.

このような目的は、下記の本発明[1]〜[4]により達成される。
[1](A)エポキシ樹脂、(B)フェノール樹脂硬化剤、(C)無機充填材、及び、(D)下記一般式(1)で示されるシラン化合物、を含有する封止用エポキシ樹脂組成物であって、前記(D)成分が、純度が98.5〜99.5質量%であり、炭素数1〜5の一価のアルコールの含有量が1000〜2500ppmであり、分子内にメルカプト基を有しないシラン化合物の含有量が8000ppm未満であることを特徴とする、封止用エポキシ樹脂組成物。
Such an object is achieved by the following present invention [1] to [4].
[1] An epoxy resin composition for sealing containing (A) an epoxy resin, (B) a phenol resin curing agent, (C) an inorganic filler, and (D) a silane compound represented by the following general formula (1) The component (D) has a purity of 98.5 to 99.5% by mass, a monohydric alcohol content of 1 to 5 carbon atoms of 1000 to 2500 ppm, and a mercapto in the molecule. An epoxy resin composition for sealing, wherein the content of a silane compound having no group is less than 8000 ppm.

Figure 2013108024
(式中、R1は炭素数1〜5のアルキル基である。R2は炭素数1〜5のアルキル基である。mは1〜6の整数である。nは1〜3の正数である。)
Figure 2013108024
(In the formula, R1 is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms. R2 is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms. M is an integer of 1 to 6. n is a positive number of 1 to 3. .)

[2]上記(A)成分が、下記一般式(2)で示されるビフェニル型エポキシ樹脂、下記一般式(3)で示されるフェニレン骨格を有するフェノールアラルキル型エポキシ樹脂、及び下記一般式(4)で示されるビフェニレン骨格を有するフェノールアラルキル型エポキシ樹脂からなる群から選ばれる少なくとも1種以上のエポキシ樹脂を含む、上記[1]に記載の封止用エポキシ樹脂組成物。 [2] The component (A) is a biphenyl type epoxy resin represented by the following general formula (2), a phenol aralkyl type epoxy resin having a phenylene skeleton represented by the following general formula (3), and the following general formula (4) The sealing epoxy resin composition according to the above [1], comprising at least one epoxy resin selected from the group consisting of phenol aralkyl type epoxy resins having a biphenylene skeleton represented by formula (1).

Figure 2013108024
(上記一般式(2)において、R〜Rは水素原子及び炭素数1〜10の置換もしくは無置換の炭化水素基から選ばれ、全てが同一でも互いに異なっていてもよい。nは0〜3の整数を示す。)
Figure 2013108024
(In the general formula (2), R 3 to R 6 are selected from a hydrogen atom and a substituted or unsubstituted hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and all may be the same or different from each other. N is 0. Represents an integer of ~ 3.)

Figure 2013108024
(上記一般式(3)において、R〜Rは水素原子及び炭素数1〜10の置換もしくは無置換の炭化水素基から選ばれ、全てが同一でも互いに異なっていてもよい。nは0〜3の整数を示す。)
Figure 2013108024
(In the general formula (3), R 7 to R 9 are selected from a hydrogen atom and a substituted or unsubstituted hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and all may be the same or different from each other. N is 0. Represents an integer of ~ 3.)

Figure 2013108024
(上記一般式(4)において、R10〜R18は水素原子及び炭素数1〜10の置換もしくは無置換の炭化水素基から選ばれ、全てが同一でも互いに異なっていてもよい。nは0〜3の整数を示す。)
Figure 2013108024
(In the general formula (4), R 10 to R 18 are selected from a hydrogen atom and a substituted or unsubstituted hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and all may be the same or different from each other. N is 0. Represents an integer of ~ 3.)

[3]上記(B)成分が、下記一般式(5)で示されるビフェニレン骨格を有するフェノールアラルキル樹脂からなる群から選ばれる少なくとも1種以上のフェノール樹脂を含む、上記[1]又は[2]に記載の封止用エポキシ樹脂組成物。 [3] The above [1] or [2], wherein the component (B) includes at least one phenol resin selected from the group consisting of phenol aralkyl resins having a biphenylene skeleton represented by the following general formula (5). The epoxy resin composition for sealing as described in 2.

Figure 2013108024
(上記一般式(5)において、R19〜R27は水素原子及び炭素数1〜10の置換もしくは無置換の炭化水素基から選ばれ、全てが同一でも互いに異なっていてもよい。nは0〜3の整数を示す。)
Figure 2013108024
(In the above general formula (5), R 19 to R 27 are selected from a hydrogen atom and a substituted or unsubstituted hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and all may be the same or different from each other. N is 0. Represents an integer of ~ 3.)

[4]上記[1]ないし[3]のいずれか一項に記載の封止用エポキシ樹脂組成物の硬化物で、素子が封止されていることを特徴とする電子部品装置。 [4] An electronic component device, wherein an element is sealed with a cured product of the sealing epoxy resin composition according to any one of [1] to [3].

本発明によれば、成形性と耐半田性に優れ、耐湿信頼性にも優れた封止用エポキシ樹脂組成物を得ることができる。
また、この封止用エポキシ樹脂組成物を用いてIC、LSI等の電子部品を封止すれば信頼性に優れた電子部品装置を得ることができる。
ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the epoxy resin composition for sealing excellent in a moldability and solder resistance, and excellent in moisture-proof reliability can be obtained.
In addition, if this sealing epoxy resin composition is used to seal an electronic component such as an IC or LSI, an electronic component device having excellent reliability can be obtained.

本発明に係る封止用エポキシ樹脂組成物を用いた電子部品装置の一例について、断面構造を示した図である。It is the figure which showed the cross-sectional structure about an example of the electronic component apparatus using the epoxy resin composition for sealing which concerns on this invention.

本発明の封止用エポキシ樹脂組成物(以下、単に「エポキシ樹脂組成物」ということが
ある)は、(A)エポキシ樹脂、(B)フェノール樹脂硬化剤、(C)無機充填材、及び、(D)上記一般式(1)で示されるシラン化合物、を含有し、前記(D)成分が、所定の純度、炭素数1〜5の一価のアルコール含有量、及び、分子内にメルカプト基を有しないシラン化合物の含有量を有することを特徴とする。
これにより、成形性、耐半田性、耐湿信頼性に優れたエポキシ樹脂組成物を得ることができる。
本発明の電子部品装置は、上述のエポキシ樹脂組成物の硬化物で、素子が封止されていることを特徴とする。これにより、信頼性に優れた電子部品装置を得ることができる。
以下、本発明について詳細に説明する。
The epoxy resin composition for sealing of the present invention (hereinafter sometimes simply referred to as “epoxy resin composition”) includes (A) an epoxy resin, (B) a phenol resin curing agent, (C) an inorganic filler, and (D) a silane compound represented by the general formula (1), wherein the component (D) has a predetermined purity, a monohydric alcohol content of 1 to 5 carbon atoms, and a mercapto group in the molecule. It has the content of the silane compound which does not have.
Thereby, the epoxy resin composition excellent in moldability, solder resistance, and moisture resistance reliability can be obtained.
The electronic component device of the present invention is characterized in that an element is sealed with a cured product of the above-described epoxy resin composition. Thereby, the electronic component apparatus excellent in reliability can be obtained.
Hereinafter, the present invention will be described in detail.

先ず、本発明のエポキシ樹脂組成物について説明する。
本発明のエポキシ樹脂組成物において用いられる(A)成分のエポキシ樹脂は、エポキシ樹脂組成物に一般に使用されているものであれば特に制限はないが、例えば、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂をはじめとするフェノール、クレゾール、キシレノール、レゾルシン、カテコール、ビスフェノールA、ビスフェノールF等のフェノール類及び/又はα−ナフトール、β−ナフトール、ジヒドロキシナフタレン等のナフトール類と、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ベンズアルデヒド、サリチルアルデヒド等のアルデヒド基を有する化合物とを酸性触媒下で縮合又は共縮合させて得られるノボラック樹脂をエポキシ化したもの、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、ビスフェノールA/D等のジグリシジルエーテル、アルキル置換又は無置換のビフェノールのジグリシジルエーテルであるビフェニル型エポキシ樹脂、フェノール類及び/又はナフトール類とジメトキシパラキシレン又はビス(メトキシメチル)ビフェニルから合成されるフェノールアラルキル樹脂のエポキシ化物、スチルベン型エポキシ樹脂、ハイドロキノン型エポキシ樹脂、フタル酸、ダイマー酸等の多塩基酸とエピクロルヒドリンの反応により得られるグリシジルエステル型エポキシ樹脂、ジアミノジフェニルメタン、イソシアヌル酸等のポリアミンとエピクロルヒドリンの反応により得られるグリシジルアミン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエンとフェノ−ル類の共縮合樹脂のエポキシ化物であるジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、ナフタレン環を有するエポキシ樹脂、トリフェノールメタン型エポキシ樹脂、トリメチロールプロパン型エポキシ樹脂、テルペン変性エポキシ樹脂、1−アルケン結合を過酢酸等の過酸で酸化して得られる線状脂肪族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、及びこれらのエポキシ樹脂をシリコーン、アクリロニトリル、ブタジエン、イソプレン系ゴム、ポリアミド系樹脂等により変性したエポキシ樹脂などが挙げられ、これらを単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
First, the epoxy resin composition of the present invention will be described.
The epoxy resin of the component (A) used in the epoxy resin composition of the present invention is not particularly limited as long as it is generally used in the epoxy resin composition. For example, a phenol novolak type epoxy resin, an orthocresol novolak Phenols such as epoxy resin, cresol, xylenol, resorcin, catechol, bisphenol A, bisphenol F, and / or naphthols such as α-naphthol, β-naphthol, dihydroxynaphthalene, and formaldehyde, acetaldehyde, propion Epoxidized novolak resin obtained by condensation or cocondensation with a compound having an aldehyde group such as aldehyde, benzaldehyde, salicylaldehyde in the presence of an acidic catalyst, bisphenol A, bisphenol Diglycidyl ethers such as diol F, bisphenol S and bisphenol A / D, biphenyl type epoxy resins which are diglycidyl ethers of alkyl-substituted or unsubstituted biphenol, phenols and / or naphthols and dimethoxyparaxylene or bis (methoxy Epoxy product of phenol aralkyl resin synthesized from (methyl) biphenyl, stilbene type epoxy resin, hydroquinone type epoxy resin, glycidyl ester type epoxy resin obtained by reaction of polybasic acid such as phthalic acid and dimer acid and epichlorohydrin, diaminodiphenylmethane, Diglycolamine type epoxy resin obtained by reaction of polyamine such as isocyanuric acid and epichlorohydrin, epoxidized product of cocondensation resin of dicyclopentadiene and phenols Clopentadiene type epoxy resin, epoxy resin having a naphthalene ring, triphenolmethane type epoxy resin, trimethylolpropane type epoxy resin, terpene modified epoxy resin, a line obtained by oxidizing 1-alkene bond with peracid such as peracetic acid Aliphatic epoxy resins, alicyclic epoxy resins, and epoxy resins obtained by modifying these epoxy resins with silicone, acrylonitrile, butadiene, isoprene-based rubber, polyamide-based resin, and the like. You may use combining more than a seed.

これらの中でも、成形性、接着性の観点から下記一般式(2)で示されるビフェニル型エポキシ樹脂、下記一般式(3)で示されるフェニレン骨格を有するフェノールアラルキル型エポキシ樹脂、及び下記一般式(4)で示されるビフェニレン骨格を有するフェノールアラルキル型エポキシ樹脂が好ましい。   Among these, from the viewpoint of moldability and adhesiveness, a biphenyl type epoxy resin represented by the following general formula (2), a phenol aralkyl type epoxy resin having a phenylene skeleton represented by the following general formula (3), and the following general formula ( A phenol aralkyl type epoxy resin having a biphenylene skeleton represented by 4) is preferred.

Figure 2013108024
(上記一般式(2)において、R〜Rは水素原子及び炭素数1〜10の置換もしくは無置換の炭化水素基から選ばれ、全てが同一でも互いに異なっていてもよい。nは0〜3の整数を示す。)
Figure 2013108024
(In the general formula (2), R 3 to R 6 are selected from a hydrogen atom and a substituted or unsubstituted hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and all may be the same or different from each other. N is 0. Represents an integer of ~ 3.)

Figure 2013108024
(上記一般式(3)において、R〜Rは水素原子及び炭素数1〜10の置換もしくは無置換の炭化水素基から選ばれ、全てが同一でも互いに異なっていてもよい。nは0〜3の整数を示す。)
Figure 2013108024
(In the general formula (3), R 7 to R 9 are selected from a hydrogen atom and a substituted or unsubstituted hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and all may be the same or different from each other. N is 0. Represents an integer of ~ 3.)

Figure 2013108024
(上記一般式(4)において、R10〜R18は水素原子及び炭素数1〜10の置換もしくは無置換の炭化水素基から選ばれ、全てが同一でも互いに異なっていてもよい。nは0〜3の整数を示す。)
Figure 2013108024
(In the general formula (4), R 10 to R 18 are selected from a hydrogen atom and a substituted or unsubstituted hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and all may be the same or different from each other. N is 0. Represents an integer of ~ 3.)

上記一般式(2)中のR〜Rは、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、イソブチル基等の炭素数1〜10のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等の炭素数1〜10のアルコキシ基、フェニル基、トリル基、キシリル基等の炭素数6〜10のアリール基、及び、ベンジル基、フェネチル基等の炭素数7〜10のアラルキル基等から選ばれるが、中でも水素原子又はメチル基が好ましい。上記一般式(2)で示されるビフェニル型エポキシ樹脂としては、4,4’−ビス(2,3−エポキシプロポキシ)ビフェニル又は4,4’−ビス(2,3−エポキシプロポキシ)−3,3’,5,5’−テトラメチルビフェニルを主成分とするエポキシ樹脂、エピクロルヒドリンと4,4’−ビフェノール又は4,4’−(3,3’,5,5’−テトラメチル)ビフェノールとを反応させて得られるエポキシ樹脂等が挙げられ、中でも、4,4’−ビス(2,3−エポキシプロポキシ)−3,3’,5,5’−テトラメチルビフェニルを主成分とするエポキシ樹脂がより好ましく、例えば、YX−4000K、YX−4000H(いずれも三菱化学株式会社製商品名)等が市販品として入手可能で
ある。このビフェニル型エポキシ樹脂を使用する場合、ダイパッドやリードフレームに対する接着性が向上することで、耐半田性の向上が期待できる。その配合量は、その性能を発揮するためにエポキシ樹脂全量に対して20質量%以上とすることが好ましく、30質量%以上がより好ましく、50質量%以上がさらに好ましい。
R < 3 > -R < 6 > in the said General formula (2) is a C1-C10 alkyl group, such as a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, an isopropyl group, an isobutyl group, a methoxy group, ethoxy Groups, propoxy groups, butoxy groups, etc., C1-C10 alkoxy groups, phenyl groups, tolyl groups, xylyl groups, etc. aryl groups, and benzyl groups, phenethyl groups, etc. Among them, a hydrogen atom or a methyl group is preferable. Examples of the biphenyl type epoxy resin represented by the general formula (2) include 4,4′-bis (2,3-epoxypropoxy) biphenyl or 4,4′-bis (2,3-epoxypropoxy) -3,3. Reaction of epoxy resin based on ', 5,5'-tetramethylbiphenyl, epichlorohydrin and 4,4'-biphenol or 4,4'-(3,3 ', 5,5'-tetramethyl) biphenol Epoxy resin obtained by the above-mentioned process. Among them, an epoxy resin mainly composed of 4,4′-bis (2,3-epoxypropoxy) -3,3 ′, 5,5′-tetramethylbiphenyl is more preferable. Preferably, for example, YX-4000K, YX-4000H (both are trade names manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) and the like are commercially available. When this biphenyl type epoxy resin is used, improvement in solder resistance can be expected by improving adhesion to a die pad or a lead frame. The blending amount is preferably 20% by mass or more, more preferably 30% by mass or more, and further preferably 50% by mass or more based on the total amount of the epoxy resin in order to exhibit the performance.

上記一般式(3)中のR〜Rは、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、イソブチル基等の炭素数1〜10のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等の炭素数1〜10のアルコキシ基、フェニル基、トリル基、キシリル基等の炭素数6〜10のアリール基、及び、ベンジル基、フェネチル基等の炭素数7〜10のアラルキル基等から選ばれるが、中でも水素原子又はメチル基が好ましい。上記一般式(3)で示されるフェニレン骨格を有するフェノールアラルキル型エポキシ樹脂としては、n=0を主成分とするエポキシ樹脂がより好ましく、例えば、NC−2000(日本化薬株式会社製商品名)等が市販品として入手可能である。このフェニレン骨格を有するフェノールアラルキル型エポキシ樹脂を使用する場合、架橋点間距離が広がるため、硬化物の弾性率を低減でき、耐半田性の向上が期待できる。その配合量は、その性能を発揮するためにエポキシ樹脂全量に対して10質量%以上とすることが好ましく、20質量%以上がより好ましい。 R 7 to R 9 in the general formula (3) are each an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms such as a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, an isopropyl group, or an isobutyl group, a methoxy group, and an ethoxy group. Groups, propoxy groups, butoxy groups, etc., C1-C10 alkoxy groups, phenyl groups, tolyl groups, xylyl groups, etc. aryl groups, and benzyl groups, phenethyl groups, etc. Among them, a hydrogen atom or a methyl group is preferable. As the phenol aralkyl type epoxy resin having a phenylene skeleton represented by the general formula (3), an epoxy resin having n = 0 as a main component is more preferable. For example, NC-2000 (trade name, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) Etc. are available as commercial products. When the phenol aralkyl type epoxy resin having this phenylene skeleton is used, the distance between cross-linking points is widened, so that the elastic modulus of the cured product can be reduced, and improvement in solder resistance can be expected. The blending amount is preferably 10% by mass or more, more preferably 20% by mass or more with respect to the total amount of the epoxy resin in order to exhibit the performance.

上記一般式(4)中のR10〜R18は、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、イソブチル基等の炭素数1〜10のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等の炭素数1〜10のアルコキシ基、フェニル基、トリル基、キシリル基等の炭素数6〜10のアリール基、及び、ベンジル基、フェネチル基等の炭素数7〜10のアラルキル基等から選ばれるが、中でも水素原子又はメチル基が好ましい。上記一般式(4)で示されるビフェニレン骨格を有するフェノールアラルキル型エポキシ樹脂としては、n=0を主成分とするエポキシ樹脂がより好ましく、例えば、NC−3000L(日本化薬株式会社製商品名)等が市販品として入手可能である。このビフェニレン骨格を有するフェノールアラルキル型エポキシ樹脂を使用する場合、架橋点間距離が広がるため、硬化物の弾性率を低減でき、耐半田性の向上が期待できる。その配合量は、その性能を発揮するためにエポキシ樹脂全量に対して10質量%以上とすることが好ましく、20質量%以上がより好ましい。 R 10 to R 18 in the general formula (4) are a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, an isopropyl group, an isobutyl group or the like, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a methoxy group, or an ethoxy group. Groups, propoxy groups, butoxy groups, etc., C1-C10 alkoxy groups, phenyl groups, tolyl groups, xylyl groups, etc. aryl groups, and benzyl groups, phenethyl groups, etc. Among them, a hydrogen atom or a methyl group is preferable. As the phenol aralkyl type epoxy resin having a biphenylene skeleton represented by the general formula (4), an epoxy resin having n = 0 as a main component is more preferable. For example, NC-3000L (trade name, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) Etc. are available as commercial products. When the phenol aralkyl type epoxy resin having this biphenylene skeleton is used, the distance between cross-linking points is widened, so that the elastic modulus of the cured product can be reduced, and improvement in solder resistance can be expected. The blending amount is preferably 10% by mass or more, more preferably 20% by mass or more with respect to the total amount of the epoxy resin in order to exhibit the performance.

上記一般式(2)で示されるビフェニル型エポキシ樹脂、上記一般式(3)で示されるフェニレン骨格を有するフェノールアラルキル型エポキシ樹脂、及び上記一般式(4)で示されるビフェニレン骨格を有するフェノールアラルキル型エポキシ樹脂は、それぞれ単独で用いても2種以上を併用してもよい。単独で用いる場合あるいは2種以上を併用する場合には、それらの配合量はエポキシ樹脂全量に対して合計で50質量%以上とすることが好ましく、70質量%以上とすることがより好ましい。   Biphenyl type epoxy resin represented by the general formula (2), phenol aralkyl type epoxy resin having a phenylene skeleton represented by the general formula (3), and phenol aralkyl type having a biphenylene skeleton represented by the general formula (4) Epoxy resins may be used alone or in combination of two or more. When used alone or in combination of two or more, their blending amount is preferably 50% by mass or more, more preferably 70% by mass or more, based on the total amount of the epoxy resin.

本発明のエポキシ樹脂組成物で用いられる(A)成分のエポキシ樹脂全体の配合割合としては、特に限定されないが、全エポキシ樹脂組成物中に、1質量%以上、15質量%以下であることが好ましく、2質量%以上、10質量%以下であることがより好ましい。
(A)成分のエポキシ樹脂全体の配合割合が上記下限値以上であると、エポキシ樹脂組成物の溶融時の流動性を良好なものとすることができる。また、上記上限値以下であると、成形品の耐半田性を良好なものとすることができる。
Although it does not specifically limit as a compounding ratio of the whole epoxy resin of the (A) component used with the epoxy resin composition of this invention, It is 1 mass% or more and 15 mass% or less in all the epoxy resin compositions. Preferably, it is 2 mass% or more and 10 mass% or less.
When the blending ratio of the entire epoxy resin of the component (A) is not less than the above lower limit value, the fluidity at the time of melting of the epoxy resin composition can be improved. Moreover, the solder resistance of a molded article can be made favorable as it is below the said upper limit.

本発明のエポキシ樹脂組成物において用いられる(B)成分のフェノール樹脂硬化剤は、エポキシ樹脂組成物に一般に使用されているものであれば特に制限はないが、例えば、フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂をはじめとするフェノール、クレゾール、レゾルシン、カテコール、ビスフェノールA、ビスフェノールF、フェニルフェノール、アミノフェノール等のフェノール類及び/又はα−ナフトール、β−ナフトール
、ジヒドロキシナフタレン等のナフトール類とホルムアルデヒド等のアルデヒド基を有する化合物とを酸性触媒下で縮合又は共縮合させて得られる樹脂、フェノール類及び/又はナフトール類とジメトキシパラキシレン又はビス(メトキシメチル)ビフェニルから合成されるフェノールアラルキル樹脂などが挙げられ、これらを単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
The phenol resin curing agent of component (B) used in the epoxy resin composition of the present invention is not particularly limited as long as it is generally used in epoxy resin compositions. For example, phenol novolak resin, cresol novolak resin Such as phenol, cresol, resorcin, catechol, bisphenol A, bisphenol F, phenylphenol, aminophenol and the like and / or naphthols such as α-naphthol, β-naphthol, dihydroxynaphthalene and aldehyde groups such as formaldehyde A resin obtained by condensing or co-condensing a compound having an acid with an acidic catalyst, a phenol aralkyl resin synthesized from phenols and / or naphthols and dimethoxyparaxylene or bis (methoxymethyl) biphenyl These may be used, and these may be used alone or in combination of two or more.

これらの中でも、流動性、低吸湿性の観点から、下記一般式(5)で示されるビフェニレン骨格を有するフェノールアラルキル樹脂が好ましい。   Among these, from the viewpoint of fluidity and low hygroscopicity, a phenol aralkyl resin having a biphenylene skeleton represented by the following general formula (5) is preferable.

Figure 2013108024
(上記一般式(5)において、R19〜R27は水素原子及び炭素数1〜10の置換もしくは無置換の炭化水素基から選ばれ、全てが同一でも異なっていてもよい。nは0〜3の整数を示す。)
Figure 2013108024
(In the general formula (5), R 19 to R 27 are selected from a hydrogen atom and a substituted or unsubstituted hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, all of which may be the same or different. Indicates an integer of 3.)

上記式(5)中のR19〜R27は全てが同一でも異なっていてもよく、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、イソブチル基等の炭素数1〜10のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等の炭素数1〜10のアルコキシ基、フェニル基、トリル基、キシリル基等の炭素数6〜10のアリール基、及び、ベンジル基、フェネチル基等の炭素数7〜10のアラルキル基等から選ばれるが、中でも水素原子及びメチル基が好ましい。上記一般式(5)で示されるビフェニレン骨格を有するフェノールアラルキル樹脂としては、例えば、R19〜R27が全て水素原子である化合物等が挙げられ、中でも溶融粘度の観点から、nが0の成分を50質量%以上含む縮合体の混合物が好ましい。このような化合物としては、MEH−7851SS(明和化成株式会社製商品名)が市販品として入手可能である。このビフェニレン骨格を有するフェノールアラルキル樹脂を使用する場合、その配合量は、その性能を発揮するためにフェノール樹脂硬化剤全量に対して50質量%以上とすることが好ましく、70質量%以上がより好ましい。 R 19 to R 27 in the formula (5) may all be the same or different and have 1 to 10 carbon atoms such as a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, an isopropyl group, and an isobutyl group. An alkyl group, a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group and the like, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, a phenyl group, a tolyl group, a xylyl group and the like aryl group, and a benzyl group, It is selected from aralkyl groups having 7 to 10 carbon atoms such as phenethyl group, among which hydrogen atom and methyl group are preferable. Examples of the phenol aralkyl resin having a biphenylene skeleton represented by the general formula (5) include compounds in which R 19 to R 27 are all hydrogen atoms. Among them, a component having n of 0 from the viewpoint of melt viscosity Is preferably a mixture of condensates containing 50% by mass or more. As such a compound, MEH-7851SS (trade name, manufactured by Meiwa Kasei Co., Ltd.) is commercially available. When using this phenol aralkyl resin having a biphenylene skeleton, its blending amount is preferably 50% by mass or more, more preferably 70% by mass or more based on the total amount of the phenol resin curing agent in order to exhibit its performance. .

本発明のエポキシ樹脂組成物で用いられる(B)成分のフェノール硬化剤の配合割合は、特に限定されないが、全エポキシ樹脂組成物中に、0.5質量%以上、12質量%以下であることが好ましく、1質量%以上、9質量%以下であることがより好ましい。
(B)成分のフェノール樹脂硬化剤の配合割合が上記下限値以上であると、エポキシ樹脂組成物の溶融時の流動性を良好なものとすることができる。また、上記上限値以下であると、成形品の耐半田性を良好なものとすることができる。
The blending ratio of the phenol curing agent of component (B) used in the epoxy resin composition of the present invention is not particularly limited, but is 0.5% by mass or more and 12% by mass or less in the total epoxy resin composition. Is preferably 1% by mass or more and 9% by mass or less.
When the blending ratio of the (B) component phenolic resin curing agent is equal to or higher than the lower limit, the fluidity at the time of melting of the epoxy resin composition can be improved. Moreover, the solder resistance of a molded article can be made favorable as it is below the said upper limit.

(A)成分のエポキシ樹脂と(B)成分のフェノール樹脂硬化剤との当量比、すなわち、エポキシ樹脂中のエポキシ基数/フェノール樹脂硬化剤中の水酸基数の比は、特に制限はないが、それぞれの未反応分を少なく抑えるために0.5〜2の範囲に設定されることが好ましく、0.6〜1.5の範囲に設定されることがより好ましい。また、成形性、耐リフロー性に優れるエポキシ樹脂組成物を得るためには0.8〜1.2の範囲に設定されることがさらに好ましい。   The equivalent ratio of the (A) component epoxy resin and the (B) component phenol resin curing agent, that is, the ratio of the number of epoxy groups in the epoxy resin / the number of hydroxyl groups in the phenol resin curing agent is not particularly limited. In order to suppress the amount of unreacted material to be small, it is preferably set in the range of 0.5 to 2, and more preferably in the range of 0.6 to 1.5. Moreover, in order to obtain the epoxy resin composition excellent in moldability and reflow resistance, it is more preferable to set in the range of 0.8 to 1.2.

本発明のエポキシ樹脂組成物において用いられる(C)成分の無機充填材は、吸湿性低減、線膨張係数低減、熱伝導性向上及び機械的強度向上のためにエポキシ樹脂組成物に配合されるものであり、例えば、溶融シリカ、結晶シリカ、アルミナ、珪酸カルシウム、炭酸カルシウム、チタン酸カリウム、炭化珪素、窒化珪素、窒化アルミ、窒化ホウ素、ベリリア、ジルコニア、ジルコン、フォステライト、ステアタイト、スピネル、ムライト、チタニア等の粉体、又はこれらを球形化したビーズ、ガラス繊維などが挙げられる。さらに、難燃効果のある無機充填材としては水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、硼酸亜鉛、モリブデン酸亜鉛等が挙げられる。これらの無機充填材は単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。上記の無機充填材の中で、線膨張係数低減の観点からは溶融シリカが、高熱伝導性の観点からはアルミナが好ましく、充填材形状は成形時の流動性及び金型摩耗性の点から球形が好ましい。   The inorganic filler of component (C) used in the epoxy resin composition of the present invention is blended in the epoxy resin composition to reduce hygroscopicity, reduce linear expansion coefficient, improve thermal conductivity, and improve mechanical strength. For example, fused silica, crystalline silica, alumina, calcium silicate, calcium carbonate, potassium titanate, silicon carbide, silicon nitride, aluminum nitride, boron nitride, beryllia, zirconia, zircon, fosterite, steatite, spinel, mullite , Powders such as titania, or beads formed by spheroidizing these, glass fibers, and the like. Furthermore, examples of the inorganic filler having a flame retardant effect include aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, zinc borate, and zinc molybdate. These inorganic fillers may be used alone or in combination of two or more. Among the above inorganic fillers, fused silica is preferable from the viewpoint of reducing the linear expansion coefficient, and alumina is preferable from the viewpoint of high thermal conductivity, and the filler shape is spherical from the viewpoint of fluidity and mold wear during molding. Is preferred.

無機充填材(C)の配合量は、成形性の向上、吸湿性、線膨張係数の低減及び機械的強度向上の観点から、エポキシ樹脂組成物全体に対して80質量%以上、96質量%以下の範囲が好ましく、82質量%以上、92質量%以下の範囲がより好ましく、86質量%以上、90質量%以下の範囲がさらに好ましい。
無機充填材(C)の配合量を上記下限値以上とすることにより、吸湿要因である樹脂成分の配合量を少なくし、エポキシ樹脂組成物の硬化物の吸湿量を低く抑えることができる。また、上記上限値以下とすることにより、成形性を良好なものとすることができる。
The blending amount of the inorganic filler (C) is 80% by mass or more and 96% by mass or less based on the entire epoxy resin composition from the viewpoints of improvement of moldability, hygroscopicity, reduction of linear expansion coefficient and improvement of mechanical strength. The range is preferably 82% by mass or more and 92% by mass or less, and more preferably 86% by mass or more and 90% by mass or less.
By making the compounding quantity of an inorganic filler (C) more than the said lower limit, the compounding quantity of the resin component which is a moisture absorption factor can be decreased, and the moisture absorption of the hardened | cured material of an epoxy resin composition can be restrained low. Moreover, a moldability can be made favorable by setting it as the said upper limit or less.

本発明のエポキシ樹脂組成物において用いられる(D)成分は、下記一般式(1)で示されるものであり、純度が98.5〜99.5質量%であり、炭素数1〜5の一価のアルコールの含有量が1000〜2500ppmであり、分子内にメルカプト基を有しないシラン化合物の含有量が8000ppm未満であるものであれば適用することができる。
例えば、一般式(1)におけるアルキル基R、Rの炭素数は1〜5の中から選択することができ、含有される一価のアルコールの炭素数も1〜5の中から選択することができる。また、メルカプト基とシリル基とを結合するアルキレン基は、炭素数1〜6の中から選択することができる。これらの化合物を単独で用いても2種類以上を組み合わせてもよい。
The component (D) used in the epoxy resin composition of the present invention is represented by the following general formula (1), has a purity of 98.5 to 99.5% by mass, and has 1 to 5 carbon atoms. It can be applied if the content of the hydric alcohol is 1000 to 2500 ppm and the content of the silane compound having no mercapto group in the molecule is less than 8000 ppm.
For example, the carbon number of the alkyl groups R 1 and R 2 in the general formula (1) can be selected from 1 to 5, and the carbon number of the monovalent alcohol contained is also selected from 1 to 5. be able to. Moreover, the alkylene group which couple | bonds a mercapto group and a silyl group can be selected from C1-C6. These compounds may be used alone or in combination of two or more.

Figure 2013108024
(式中、R1は炭素数1〜5のアルキル基である。R2は炭素数1〜5のアルキル基である。mは1〜6の整数である。nは1〜3の正数である。)
Figure 2013108024
(In the formula, R1 is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms. R2 is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms. M is an integer of 1 to 6. n is a positive number of 1 to 3. .)

本発明で用いられる(D)成分は、純度が98.5〜99.5質量%である。このような高い純度の(D)成分を用いることにより、エポキシ樹脂組成物内の有機樹脂成分と無機充填材、インサート部品との接着性を向上させることができる。なお、ここで、(D)成分の純度は、例えばガスクロマトグラフィー(GC)により測定することができる。   The component (D) used in the present invention has a purity of 98.5 to 99.5% by mass. By using such a high purity component (D), the adhesion between the organic resin component in the epoxy resin composition, the inorganic filler, and the insert part can be improved. Here, the purity of the component (D) can be measured, for example, by gas chromatography (GC).

また、本発明で用いられる(D)成分は、炭素数1〜5の一価のアルコールの含有量が1000〜2500ppmである。このような所定量の一価アルコールは、アルコキシシラン同士の縮合反応によって生じた化合物を加溶媒分解させ、アルコキシシリル基に戻している。これにより、エポキシ樹脂組成物内で、(D)成分の分散性を向上させ、樹脂組成物の局所的な高分子量化を抑制できるため、成形性を向上させることができる。一価のアルコールの含有量が1000ppm未満であると、この作用効果が充分ではなく、また、2500ppmを越えると、揮発成分の多さから、成形物中にボイドが発生し、耐半田性が低下するようになる。
含有される炭素数1〜5の一価アルコールとしては、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノール、2−ブタノール、2−メチル−2−ブタノール、1−ペンタノール、2−ペンタノール、3−ペンタノール、2,2ジメチル−1−プロパール、1−メチルブタノール、2−メチルブタノール、3−メチル−1−ブタノール、3−メチル−2−ブタノールが挙げられるが、これらの中でも炭素数1〜3のアルコールが好ましく、さらにこれら中でもメタノールが好ましい。これにより、(D)成分の自己縮合物を効率よく単量体に戻し、純度を向上させることができる。
The component (D) used in the present invention has a monovalent alcohol content of 1 to 5 carbon atoms of 1000 to 2500 ppm. Such a predetermined amount of monohydric alcohol causes the compound produced by the condensation reaction of alkoxysilanes to undergo solvolysis and returns to alkoxysilyl groups. Thereby, in the epoxy resin composition, the dispersibility of the component (D) can be improved, and the local increase in the molecular weight of the resin composition can be suppressed, so that the moldability can be improved. If the content of monohydric alcohol is less than 1000 ppm, this effect is not sufficient, and if it exceeds 2500 ppm, voids are generated in the molded product due to the large amount of volatile components, and solder resistance decreases. Will come to do.
Examples of the monohydric alcohol having 1 to 5 carbon atoms include methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, 1-butanol, 2-butanol, 2-methyl-2-butanol, 1-pentanol, 2- Examples include pentanol, 3-pentanol, 2,2 dimethyl-1-propal, 1-methylbutanol, 2-methylbutanol, 3-methyl-1-butanol, and 3-methyl-2-butanol. Among these, alcohols having 1 to 3 carbon atoms are preferable, and methanol is more preferable among these. Thereby, the self-condensate of (D) component can be efficiently returned to a monomer, and purity can be improved.

さらに、エポキシ樹脂と反応できない、分子内にメルカプト基を含まないシラン化合物の含有量を8000ppm未満に低減したことを特徴とする。これにより、無機充填材や各種基材表面と有機樹脂成分との化学結合を効率よく形成可能なため、耐半田性を向上させることが可能になる。
さらに、本発明で用いられる(D)成分は蒸留等による精製が十分に行われているため耐湿信頼性が改善される。分子内にメルカプト基を含まないシラン化合物の含有量が8000ppm以上であると、エポキシ樹脂組成物内の有機樹脂成分と無機充填材、インサート部品との接着性が低下するようになる。
ここで、上記分子内にメルカプト基を含まないシラン化合物としては、例えば、プロピルトリメトキシシラン(下記式a)、3−メチルチオプロピルトリメトキシシラン(下記式b)、1,6−ビス(トリメトキシシリル)へキサン(下記式c)が挙げられる。本願発明においては、(D)成分中におけるこれらの化合物の合計含有量を8000ppm未満とすることにより、上記効果を発現させることができるものである。
Si(OCH (a)
CHSCSi(OCH(b)
(CHO)SiC12Si(OCH(c)
なお、本発明のエポキシ樹脂組成物に用いられる上記(D)成分において、一価のアルコールの含有量と分子内にメルカプト基を含有しないシラン化合物の含有量はともにガスクロマトグラフィー(GC)測定時のピーク面積で定量可能である。
Furthermore, the content of a silane compound that does not react with an epoxy resin and does not contain a mercapto group in the molecule is reduced to less than 8000 ppm. This makes it possible to efficiently form a chemical bond between the inorganic filler or the surfaces of various base materials and the organic resin component, thereby improving the solder resistance.
Furthermore, since the component (D) used in the present invention is sufficiently purified by distillation or the like, the moisture resistance reliability is improved. When the content of the silane compound containing no mercapto group in the molecule is 8000 ppm or more, the adhesion between the organic resin component in the epoxy resin composition, the inorganic filler, and the insert part is lowered.
Here, examples of the silane compound containing no mercapto group in the molecule include propyltrimethoxysilane (the following formula a), 3-methylthiopropyltrimethoxysilane (the following formula b), and 1,6-bis (trimethoxy). Silyl) hexane (formula c below). In this invention, the said effect can be expressed by making total content of these compounds in (D) component less than 8000 ppm.
C 3 H 7 Si (OCH 3 ) 3 (a)
CH 3 SC 3 H 6 Si ( OCH 3) 3 (b)
(CH 3 O) 3 SiC 6 H 12 Si (OCH 3 ) 3 (c)
In the component (D) used in the epoxy resin composition of the present invention, the content of monohydric alcohol and the content of silane compound not containing a mercapto group in the molecule are both measured by gas chromatography (GC). The peak area can be quantified.

本発明で用いられるような性状を有する上記(D)成分を調製する方法としては特に限定されないが、例えば、減圧蒸留精製により、(D)成分の自己縮合を抑えながら、メルカプト基を含まないシラン化合物の含有量を8000ppm未満に低減させ、この蒸留成分に炭素数1〜5の一価のアルコールを添加することで、上記一価のアルコールの含有量を調節する方法により調製することができる。   The method for preparing the component (D) having properties as used in the present invention is not particularly limited. For example, a silane that does not contain a mercapto group while suppressing self-condensation of the component (D) by vacuum distillation purification. It can prepare by the method of adjusting the content of the said monohydric alcohol by reducing the content of the compound to less than 8000 ppm and adding a monohydric alcohol having 1 to 5 carbon atoms to this distillation component.

本発明のエポキシ樹脂組成物において、上記(D)成分の配合量としては、全エポキシ樹脂組成物中に0.05〜2質量%が好ましく、特に0.1〜0.4質量%が好ましい。
上記(D)成分の配合量を上記下限値以上とすることにより、成形品の耐半田性を向上
させることができる。また、上記上限値以下とすることにより、成形性を良好なものとすることができる。
In the epoxy resin composition of the present invention, the amount of the component (D) is preferably 0.05 to 2% by mass, particularly preferably 0.1 to 0.4% by mass, based on the total epoxy resin composition.
By setting the blending amount of the component (D) to be equal to or higher than the lower limit, the solder resistance of the molded product can be improved. Moreover, a moldability can be made favorable by setting it as the said upper limit or less.

本発明のエポキシ樹脂組成物において用いられる上記(D)成分は、その特性が損なわれない範囲で他のシランカップリング剤と併用できる。併用できるシランカップリング剤としては、1分子中にアルコキシ基と、エポキシ基などの有機官能基を有するシラン化合物全般を指し、例えばエポキシシラン、アミノシラン、アルキルシラン、ウレイドシラン、ビニルシラン等の各種シラン系化合物が挙げられる。これらを例示すると、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(β−メトキシエトキシ)シラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アニリノプロピルトリメトキシシラン、γ−アニリノプロピルメチルジメトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−(β−アミノエチル)アミノプロピルジメトキシメチルシラン、N−(トリメトキシシリルプロピル)エチレンジアミン、N−(ジメトキシメチルシリルイソプロピル)エチレンジアミン、N−β−(N−ビニルベンジルアミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、ヘキサメチルジシラン、ビニルトリメトキシシラン等のシラン系カップリング剤などが挙げられ、これらを単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。   The said (D) component used in the epoxy resin composition of this invention can be used together with another silane coupling agent in the range by which the characteristic is not impaired. The silane coupling agent that can be used in combination refers to all silane compounds having an alkoxy group and an organic functional group such as an epoxy group in one molecule. For example, various silanes such as epoxy silane, amino silane, alkyl silane, ureido silane, and vinyl silane. Compounds. Examples of these include vinyltriethoxysilane, vinyltris (β-methoxyethoxy) silane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltri Methoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxy Silane, γ-anilinopropyltrimethoxysilane, γ-anilinopropylmethyldimethoxysilane, N-β- (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ- (β-aminoethyl) aminopropyldimethoxy Methylsilane, N- (trimethoxysilylpropyl) ethylenediamine, N- (dimethoxymethylsilylisopropyl) ethylenediamine, N-β- (N-vinylbenzylaminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-chloropropyltrimethoxysilane And silane coupling agents such as hexamethyldisilane and vinyltrimethoxysilane. These may be used alone or in combination of two or more.

通常、カップリング剤はインテグラルブレンドによりエポキシ樹脂組成物中に混合されるが、本発明のエポキシ樹脂組成物において上記(D)成分は、予めエポキシ樹脂あるいはフェノール樹脂の全部又は一部に予め加熱混合しても良い。   Usually, the coupling agent is mixed into the epoxy resin composition by integral blending. In the epoxy resin composition of the present invention, the component (D) is preheated to all or part of the epoxy resin or phenol resin. You may mix.

又、本発明のエポキシ樹脂組成物においては、上記(D)成分で無機充填材表面を処理してもよい。上記(D)成分は、無機充填材表面に存在することにより、無機充填材とエポキシ樹脂組成物中の有機成分とを化学的に結合させ、界面の接着性の向上に有効であると考えられる。そのため、上記(D)成分が無機充填材表面に存在すること、より好ましくは吸着又は固定化していることが有効である。無機充填材表面を上記(D)成分で処理する方法としては、例えば攪拌している無機充填材に上記(D)成分を噴霧し、更に攪拌を行った後室温に放置したり、加熱したりすることにより表面処理無機充填材を得る方法等を挙げることができる。   Moreover, in the epoxy resin composition of this invention, you may process the inorganic filler surface with the said (D) component. The component (D) is considered to be effective in improving the adhesion at the interface by chemically bonding the inorganic filler and the organic component in the epoxy resin composition by being present on the surface of the inorganic filler. . For this reason, it is effective that the component (D) is present on the surface of the inorganic filler, more preferably adsorbed or immobilized. As a method of treating the surface of the inorganic filler with the component (D), for example, the component (D) is sprayed on the inorganic filler being stirred, and the mixture is further stirred and left at room temperature or heated. By doing so, a method of obtaining a surface-treated inorganic filler can be exemplified.

本発明のエポキシ樹脂組成物には、硬化性と流動性の良好なエポキシ樹脂組成物を得る目的で、硬化促進剤を用いることができる。
本発明で用いることができる硬化促進剤は、封止用エポキシ樹脂組成物に一般に使用されているもので特に制限はないが、例えば、1,8−ジアザ−ビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7、1,5−ジアザ−ビシクロ(4,3,0)ノネン、5,6−ジブチルアミノ−1,8−ジアザ−ビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7等のシクロアミジン化合物及び、ベンジルジメチルアミン、トリエタノールアミン、ジメチルアミノエタノール、トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール等の3級アミン化合物及びこれらの誘導体、2−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール等のイミダゾール化合物及びこれらの誘導体、トリブチルホスフィン、メチルジフェニルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリス(4−メチルフェニル)ホスフィン、ジフェニルホスフィン、フェニルホスフィン等の有機ホスフィン、及びこれらの有機ホスフィンに1,4−ベンゾキノン、2,5−トルキノン、1,4−ナフトキノン、2,3−ジメチルベンゾキノン、2,6−ジメチルベンゾキノン、2,3−ジメトキシ−5−メチル−1,4−ベンゾキノン、2,3−ジメトキシ−1,4−ベンゾキノン、フェニル−1
,4−ベンゾキノン等のキノン化合物、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、フェノール樹脂等のπ結合をもつ化合物を付加してなる分子内分極を有する化合物等の有機リン化合物、テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート、トリフェニルホスフィンテトラフェニルボレート等のテトラフェニルボロン塩及びこれらの誘導体などが挙げられ、これらを単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
これらの中でも成形性の観点から、有機リン化合物が好ましく、有機ホスフィン及び有機ホスフィンとキノン化合物との付加物がより好ましく、トリフェニルホスフィン、トリス(4−メチルフェニル)ホスフィン、トリス(4−メトキシフェニル)ホスフィン等の第三ホスフィンとp−ベンゾキノン、1,4−ナフトキノン等のキノン化合物との付加物がさらに好ましい。
In the epoxy resin composition of the present invention, a curing accelerator can be used for the purpose of obtaining an epoxy resin composition having good curability and fluidity.
The curing accelerator that can be used in the present invention is generally used in an epoxy resin composition for sealing and is not particularly limited. For example, 1,8-diaza-bicyclo (5,4,0) undecene is used. Cycloamidine compounds such as -7, 1,5-diaza-bicyclo (4,3,0) nonene, 5,6-dibutylamino-1,8-diaza-bicyclo (5,4,0) undecene-7; Tertiary amine compounds such as benzyldimethylamine, triethanolamine, dimethylaminoethanol, tris (dimethylaminomethyl) phenol and their derivatives, 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, etc. Imidazole compounds and their derivatives, tributylphosphine, methyldiphenylphosphine, triphenyl Organic phosphines such as sphin, tris (4-methylphenyl) phosphine, diphenylphosphine and phenylphosphine, and 1,4-benzoquinone, 2,5-toluquinone, 1,4-naphthoquinone, 2,3-dimethyl to these organic phosphines Benzoquinone, 2,6-dimethylbenzoquinone, 2,3-dimethoxy-5-methyl-1,4-benzoquinone, 2,3-dimethoxy-1,4-benzoquinone, phenyl-1
Quinone compounds such as 1,4-benzoquinone, organophosphorus compounds such as bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, compounds having intramolecular polarization formed by adding a compound having a π bond such as phenol resin, tetraphenylphosphonium tetraphenylborate And tetraphenylboron salts such as triphenylphosphine tetraphenylborate and derivatives thereof. These may be used alone or in combination of two or more.
Among these, from the viewpoint of moldability, an organic phosphorus compound is preferable, an organic phosphine and an adduct of an organic phosphine and a quinone compound are more preferable, and triphenylphosphine, tris (4-methylphenyl) phosphine, tris (4-methoxyphenyl). ) Adducts of tertiary phosphines such as phosphine and quinone compounds such as p-benzoquinone and 1,4-naphthoquinone are more preferred.

硬化促進剤の配合量は、硬化促進効果が達成される量であれば特に制限されるものではないが、エポキシ樹脂(A)に対して0.1〜10質量%が好ましく、より好ましくは1〜5質量%である。
硬化促進剤の配合量を上記下限値以上とすることにより、短時間での硬化性を良好なものとすることができる。また、上記上限値以下とすることにより、硬化速度を適正なものとし、充填性の良好な成形品を得ることができる。
Although the compounding quantity of a hardening accelerator will not be restrict | limited especially if the hardening acceleration effect is achieved, 0.1-10 mass% is preferable with respect to an epoxy resin (A), More preferably, 1 ˜5 mass%.
By making the compounding quantity of a hardening accelerator more than the said lower limit, sclerosis | hardenability in a short time can be made favorable. Moreover, by setting it as the said upper limit or less, a hardening rate can be made appropriate and a molded article with favorable filling property can be obtained.

本発明のエポキシ樹脂組成物には、耐半田ストレス性と、流動性の良好なエポキシ樹脂組成物を得る目的で、シロキサン付加重合体を添加することができる。シロキサン付加重合体しては特に制限はなく、従来公知のものを用いることができるが、例えば、ジメチルシロキサンのメチル置換基の一部を、アルキル基、エポキシ基、カルボキシル基、及びアミノ基等の置換基で置換した変性シリコーンオイルなどが挙げられる。   A siloxane addition polymer can be added to the epoxy resin composition of the present invention for the purpose of obtaining an epoxy resin composition having good solder stress resistance and fluidity. The siloxane addition polymer is not particularly limited, and a conventionally known polymer can be used. For example, a part of the methyl substituent of dimethylsiloxane may be an alkyl group, an epoxy group, a carboxyl group, an amino group, or the like. Examples thereof include modified silicone oil substituted with a substituent.

シロキサン付加重合体は1種又は2種以上混合して、エポキシ樹脂組成物全体に対し0.1質量%以上、2質量%以下の割合で使用することができる。
配合量を上記下限値以上とすることにより、成形品に十分な低弾性率を発現させることができるとともに、離型剤の分散性も良好なものとすることができる。また、上記上限値以下とすることにより、表面汚染を抑え、レジンブリードが長くなるのを抑制することができる。
One or two or more siloxane addition polymers can be mixed and used in a proportion of 0.1% by mass or more and 2% by mass or less based on the entire epoxy resin composition.
By setting the blending amount to be equal to or higher than the above lower limit value, a sufficiently low elastic modulus can be exhibited in the molded product, and the dispersibility of the release agent can be improved. Moreover, by setting it as the said upper limit or less, surface contamination can be suppressed and it can suppress that a resin bleed becomes long.

本発明のエポキシ樹脂組成物には、IC等の素子の耐湿性、高温放置特性を向上させる観点から、陰イオン交換体を添加することもできる。陰イオン交換体としては特に制限はなく、従来公知のものを用いることができるが、例えば、ハイドロタルサイトや、アンチモン、ビスマス、ジルコニウム、チタン、スズ、マグネシウム、アルミニウムから選ばれる元素の含水酸化物等が挙げられ、これらを単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。中でも、下記一般式(6)で示されるハイドロタルサイト及びビスマスの含水酸化物が好ましい。
Mg1−XAl(OH)(COX/2・mHO (6)
(上記一般式(6)において、0<X≦0.5、mは正の整数。)
An anion exchanger may be added to the epoxy resin composition of the present invention from the viewpoint of improving the moisture resistance and high temperature storage characteristics of an element such as an IC. The anion exchanger is not particularly limited and conventionally known anion exchangers can be used. For example, hydrotalcite, hydrous oxide of an element selected from antimony, bismuth, zirconium, titanium, tin, magnesium, and aluminum These can be used, and these can be used alone or in combination of two or more. Among these, hydrotalcite and bismuth hydrous oxide represented by the following general formula (6) are preferable.
Mg 1-X Al X (OH) 2 (CO 3 ) X / 2 · mH 2 O (6)
(In the above general formula (6), 0 <X ≦ 0.5, m is a positive integer.)

陰イオン交換体の配合量は、ハロゲンイオン等のイオン性不純物を捕捉できる十分な量であれば特に制限はないが、(A)成分のエポキシ樹脂100質量部に対して0.1質量部以上、30質量部以下が好ましく、1質量部以上、10質量部以下がより好ましく、2質量部以上、5質量部以下がさらに好ましい。
配合量を上記下限値以上とすることにより、イオン性不純物の十分な捕捉ができる。また、上記上限値以下とすることにより、経済的とすることができる。
The amount of the anion exchanger is not particularly limited as long as it is an amount sufficient to capture ionic impurities such as halogen ions, but it is 0.1 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the epoxy resin of component (A). 30 parts by mass or less, preferably 1 part by mass or more and 10 parts by mass or less, more preferably 2 parts by mass or more and 5 parts by mass or less.
By setting the blending amount to be equal to or more than the above lower limit value, sufficient capture of ionic impurities can be achieved. Moreover, it can be made economical by setting it as the said upper limit or less.

さらに、本発明のエポキシ樹脂組成物には、その他の添加剤として、臭素化エポキシ樹脂、三酸化アンチモン、四酸化アンチモン、五酸化アンチモン等のハロゲン原子、アンチ
モン原子、窒素原子又はリン原子を含む公知の有機又は無機の化合物、金属水酸化物などの難燃剤、カーボンブラック、有機染料、有機顔料、酸化チタン、鉛丹、ベンガラ等の着色剤、イミダゾール、トリアゾール、テトラゾール、トリアジン等及びこれらの誘導体、アントラニル酸、没食子酸、マロン酸、リンゴ酸、マレイン酸、アミノフェノール、キノリン等及びこれらの誘導体、脂肪族酸アミド化合物、ジチオカルバミン酸塩、チアジアゾール誘導体等の接着促進剤などを必要に応じて配合することができる。
Furthermore, the epoxy resin composition of the present invention contains a halogen atom such as brominated epoxy resin, antimony trioxide, antimony tetroxide, antimony pentoxide, antimony atom, nitrogen atom or phosphorus atom as other additives. Organic or inorganic compounds, flame retardants such as metal hydroxides, carbon black, organic dyes, organic pigments, colorants such as titanium oxide, red lead, bengara, imidazole, triazole, tetrazole, triazine, etc. and their derivatives, Adhesion promoters such as anthranilic acid, gallic acid, malonic acid, malic acid, maleic acid, aminophenol, quinoline, etc. and their derivatives, aliphatic acid amide compounds, dithiocarbamate, thiadiazole derivatives, etc. are blended as necessary. be able to.

本発明のエポキシ樹脂組成物は、各種原材料を均一に分散混合できるのであれば、いかなる手法を用いても調製できるが、一般的な手法として、所定の配合量の原材料をミキサー等によって十分混合した後、ミキシングロール、ニーダ、押出機等によって溶融混練した後、冷却、粉砕する方法を挙げることができる。成形条件に合うような寸法及び質量でタブレット化すると使いやすい。   The epoxy resin composition of the present invention can be prepared by any method as long as various raw materials can be uniformly dispersed and mixed, but as a general method, raw materials of a predetermined blending amount are sufficiently mixed by a mixer or the like. Thereafter, a method of melting and kneading with a mixing roll, a kneader, an extruder or the like, followed by cooling and pulverization can be exemplified. It is easy to use if it is tableted with dimensions and mass that match the molding conditions.

また、本発明のエポキシ樹脂組成物は、各種有機溶剤に溶かして液状封止用エポキシ樹脂組成物として使用することもでき、この液状封止用エポキシ樹脂組成物を板又はフィルム上に薄く塗布し、樹脂の硬化反応が余り進まないような条件で有機溶剤を飛散させることによって得られるシートあるいはフィルム状のエポキシ樹脂組成物として使用することもできる。   In addition, the epoxy resin composition of the present invention can be dissolved in various organic solvents and used as a liquid sealing epoxy resin composition. The liquid sealing epoxy resin composition is thinly applied onto a plate or film. Further, it can also be used as a sheet or film-like epoxy resin composition obtained by scattering an organic solvent under conditions such that the resin curing reaction does not proceed so much.

次に、本発明の電子部品装置について説明する。
本発明の電子部品装置は、以上に説明した本発明のエポキシ樹脂組成物の硬化物で素子が封止されていることを特徴とする。
本発明で得られるエポキシ樹脂組成物により素子を封止して得られる電子部品装置としては、銅製リードフレームの支持部材に、半導体チップ、トランジスタ、ダイオード、サイリスタ等の能動素子、コンデンサ、抵抗体、コイル等の受動素子等の素子を搭載し、必要な部分を本発明のエポキシ樹脂組成物で封止した、電子部品装置などが挙げられる。
このような電子部品装置としては、例えば、銅製リードフレーム上に素子を固定し、ボンディングパッド等の素子の端子部とリード部をワイヤーボンディングやバンプで接続した後、本発明のエポキシ樹脂組成物を用いてトランスファー成形などにより封止してなる、DIP(Dual Inline Package)、PLCC(Plastic Leaded Chip Carrier)、QFP(Quad Flat Package)、SOP(Small Outline Package)、SOJ(Small Outline J−lead package)、TSOP(Thin Small Outline Package)、TQFP(Thin Quad Flat Package)等の一般的な樹脂封止型ICが挙げられる。また、MCP(Multi Chip Stacked Package)等のチップが多段に積層されたパッケージも挙げられる。
Next, the electronic component device of the present invention will be described.
The electronic component device of the present invention is characterized in that the element is sealed with the cured product of the epoxy resin composition of the present invention described above.
As an electronic component device obtained by sealing an element with the epoxy resin composition obtained in the present invention, an active element such as a semiconductor chip, transistor, diode, thyristor, capacitor, resistor, Examples thereof include an electronic component device in which an element such as a coil or the like is mounted and a necessary portion is sealed with the epoxy resin composition of the present invention.
As such an electronic component device, for example, an element is fixed on a copper lead frame, and the terminal part and the lead part of an element such as a bonding pad are connected by wire bonding or bump, and then the epoxy resin composition of the present invention is used. DIP (Dual Inline Package), PLCC (Plastic Leaded Chip Carrier), QFP (Quad Flat Package), SOP (Small Outline Package), SOJ (Small Outer Jap) Common resin-sealed ICs such as TSOP (Thin Small Outline Package), TQFP (Thin Quad Flat Package), and the like. In addition, a package in which chips such as MCP (Multi Chip Stacked Package) are stacked in multiple stages is also included.

本発明のエポキシ樹脂組成物で封止されるリードフレームの材料は特に限定されず、銅、銅合金、42アロイ(Fe−42%Ni合金)等用いることができる。
リードフレームの表面は、例えば、純銅のストライクメッキ、銀メッキ(主にインナーリード先端のワイヤ接合部やダイパッド部)、又はニッケル/パラジウム/金多層メッキ(PPF(Palladium Pre−Plated Frame))等のメッキが施されていてもよい。
The material of the lead frame sealed with the epoxy resin composition of the present invention is not particularly limited, and copper, copper alloy, 42 alloy (Fe-42% Ni alloy), or the like can be used.
The surface of the lead frame is made of, for example, pure copper strike plating, silver plating (mainly wire bonding portion or die pad portion at the tip of the inner lead), or nickel / palladium / gold multi-layer plating (PPF (Palladium Pre-Plated Frame)). It may be plated.

図1は、本発明に係るエポキシ樹脂組成物を用いた電子部品装置の一例について、断面構造を示した図である。ダイパッド3上に、ダイボンド材硬化体2を介して素子1が2段に積層されて固定されている。素子1の電極パッドと銅製リードフレーム5との間はボンディングワイヤ4によって接続されている。素子1は、エポキシ樹脂組成物の硬化体6によって封止されている。   FIG. 1 is a view showing a cross-sectional structure of an example of an electronic component device using the epoxy resin composition according to the present invention. On the die pad 3, the element 1 is laminated and fixed in two stages via a die bond material cured body 2. The electrode pads of the element 1 and the copper lead frame 5 are connected by bonding wires 4. The element 1 is sealed with a cured body 6 of an epoxy resin composition.

本発明のエポキシ樹脂組成物を用いて素子を封止する方法としては、低圧トランスファー成形法が最も一般的であるが、インジェクション成形法、圧縮成形法等を用いてもよい。エポキシ樹脂組成物が常温で液状又はペースト状の場合は、ディスペンス方式、注型方式、印刷方式等が挙げられる。   As a method for sealing an element using the epoxy resin composition of the present invention, a low-pressure transfer molding method is the most common, but an injection molding method, a compression molding method, or the like may be used. When the epoxy resin composition is liquid or paste at normal temperature, a dispensing method, a casting method, a printing method, and the like can be given.

また、素子を直接樹脂封止する一般的な封止方法ばかりではなく、素子に直接封止用エポキシ樹脂組成物が接触しない形態である中空パッケージの方式もあり、中空パッケージ用のエポキシ樹脂組成物としても好適に使用できる。   In addition to a general sealing method for directly sealing an element with a resin, there is also a hollow package system in which an epoxy resin composition for sealing is not in direct contact with the element. An epoxy resin composition for a hollow package Can also be suitably used.

以下、本発明について実施例を挙げて詳細に説明するが、本発明は何らこれらに限定されない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example is given and this invention is demonstrated in detail, this invention is not limited to these at all.

実施例1〜6及び比較例1〜3で用いた成分について、以下に示す。
(A)成分のエポキシ樹脂:
エポキシ樹脂1:エポキシ当量185g/eq、融点108℃のビフェニル型エポキシ樹脂(三菱化学株式会社製商品名YX−4000K)。一般式(2)において、R3〜R6が3,3’位と5,5’位に導入されたメチル基である構造を有するものである。
エポキシ樹脂2:エポキシ当量238g/eq、軟化点52℃のフェニレン骨格を有するフェノールアラルキル型エポキシ樹脂(日本化薬株式会社製商品名NC‐2000)。一般式(3)において、R7〜R9が水素である構造を有するものである。
エポキシ樹脂3:エポキシ当量276g/eq、軟化点52℃のビフェニレン骨格を有するフェノールアラルキル型エポキシ樹脂(日本化薬株式会社製商品名NC‐3000L)。一般式(4)において、R10〜R18が水素である構造を有するものである。
It shows below about the component used in Examples 1-6 and Comparative Examples 1-3.
(A) Component epoxy resin:
Epoxy resin 1: Biphenyl type epoxy resin having an epoxy equivalent of 185 g / eq and a melting point of 108 ° C. (trade name YX-4000K, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation). In the general formula (2), R3 to R6 have a structure in which they are methyl groups introduced at the 3,3 ′ and 5,5 ′ positions.
Epoxy resin 2: A phenol aralkyl type epoxy resin having a phenylene skeleton having an epoxy equivalent of 238 g / eq and a softening point of 52 ° C. (trade name NC-2000 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.). In the general formula (3), R7 to R9 have a structure of hydrogen.
Epoxy resin 3: A phenol aralkyl type epoxy resin having a biphenylene skeleton having an epoxy equivalent of 276 g / eq and a softening point of 52 ° C. (trade name NC-3000L, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.). In the general formula (4), R10 to R18 have a structure of hydrogen.

(B)成分のフェノール樹脂硬化剤:
フェノール樹脂硬化剤1:水酸基当量198g/eq、軟化点64℃のビフェニレン骨格を有するフェノールアラルキル樹脂(明和化成株式会社製商品名MEH−7851SS)。一般式(5)において、R19〜R27が水素である構造を有するものである。
(B) component phenolic resin curing agent:
Phenol resin curing agent 1: a phenol aralkyl resin having a biphenylene skeleton having a hydroxyl group equivalent of 198 g / eq and a softening point of 64 ° C. (trade name MEH-7785SS manufactured by Meiwa Kasei Co., Ltd.). In the general formula (5), R19 to R27 have a structure of hydrogen.

(C)成分の無機充填材:
無機充填材1:平均粒径10.8μm、比表面積5.1m/gの球状溶融シリカ
Component (C) inorganic filler:
Inorganic filler 1: spherical fused silica having an average particle size of 10.8 μm and a specific surface area of 5.1 m 2 / g

(D)成分:
合成例1(シランカップリング剤1の調製法)
3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン(江蘇省対外経済貿易株式有限公司製)1500gを減圧蒸留し、4mmHgで85℃の留分を回収し精製することで、不純物の含有量が極めて少ない3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン1350gを得た。この蒸留3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン1000gに1.8gのメタノールを添加してシランカップリング剤1を調製した。
得られたシランカップリング剤1をGCで分析したところ、3−メルカプトプロピルトリメトキシシランの純度は99.0質量%、分子内にメルカプト基を含まないシラン化合物の含有量は7700ppm、メタノールの含有量は1800ppmであった。
(D) component:
Synthesis Example 1 (Preparation method of silane coupling agent 1)
3-mercaptopropyl trimethoxysilane (manufactured by Jiangsu Foreign Economic Trade Co., Ltd.) is distilled under reduced pressure, and the fraction at 85 ° C is collected and purified at 4 mmHg to purify 3-mercaptopropyl with very little impurities 1350 g of trimethoxysilane was obtained. Silane coupling agent 1 was prepared by adding 1.8 g of methanol to 1000 g of this distilled 3-mercaptopropyltrimethoxysilane.
When the obtained silane coupling agent 1 was analyzed by GC, the purity of 3-mercaptopropyltrimethoxysilane was 99.0% by mass, the content of the silane compound not containing a mercapto group in the molecule was 7700 ppm, and the content of methanol The amount was 1800 ppm.

合成例2(シランカップリング剤2の調製法)
蒸留精製後に添加するメタノール量を2.5gに変更したことを除いては合成例1に記載の方法によってシランカップリング剤2を調製した。
得られたシランカップリング剤2をGCで分析したところ、3−メルカプトプロピルトリメトキシシランの純度は98.9質量%、分子内にメルカプト基を含まないシラン化合
物の含有量は7700ppm、メタノールの含有量は2500ppmであった。
Synthesis Example 2 (Method for Preparing Silane Coupling Agent 2)
Silane coupling agent 2 was prepared by the method described in Synthesis Example 1 except that the amount of methanol added after distillation purification was changed to 2.5 g.
When the obtained silane coupling agent 2 was analyzed by GC, the purity of 3-mercaptopropyltrimethoxysilane was 98.9% by mass, the content of the silane compound not containing a mercapto group in the molecule was 7700 ppm, and the content of methanol The amount was 2500 ppm.

合成例3(シランカップリング剤3の調製法)
蒸留精製後に添加するメタノール量を1.0gに変更したことを除いては合成例1に記載の方法によってシランカップリング剤3を調製した。
得られたシランカップリング剤3をGCで分析したところ、3−メルカプトプロピルトリメトキシシランの純度は99.1質量%、分子内にメルカプト基を含まないシラン化合物の含有量は7700ppm、メタノールの含有量は1000ppmであった。
Synthesis Example 3 (Preparation method of silane coupling agent 3)
Silane coupling agent 3 was prepared by the method described in Synthesis Example 1 except that the amount of methanol added after distillation purification was changed to 1.0 g.
When the obtained silane coupling agent 3 was analyzed by GC, the purity of 3-mercaptopropyltrimethoxysilane was 99.1% by mass, the content of the silane compound not containing a mercapto group in the molecule was 7700 ppm, and the content of methanol The amount was 1000 ppm.

合成例4(シランカップリング剤4の調製法)
3−メルカプトプロピルトリエトキシシラン(江蘇省対外経済貿易株式有限公司製)1500gを減圧蒸留し、14mmHgで115℃の留分を回収し精製することで、不純物の含有量が極めて少ない3−メルカプトプロピルトリエトキシシラン1350gを得た。
この蒸留3−メルカプトプロピルトリエトキシシラン1000gに1.8gのエタノールを添加してシランカップリング剤4を調製した。
得られたシランカップリング剤4をGCで分析したところ、3−メルカプトプロピルトリエトキシシランの純度は99.0質量%、分子内にメルカプト基を含まないシラン化合物の含有量は7700ppm、エタノールの含有量は1800ppmであった。
Synthesis Example 4 (Method for Preparing Silane Coupling Agent 4)
3-mercaptopropyl triethoxysilane (manufactured by Jiangsu Foreign Economic Trade Co., Ltd.) 1500 g is distilled under reduced pressure, and a fraction at 115 ° C. is collected and purified at 14 mmHg, so that 3-mercaptopropyl with extremely low impurity content is obtained. 1350 g of triethoxysilane was obtained.
Silane coupling agent 4 was prepared by adding 1.8 g of ethanol to 1000 g of this distilled 3-mercaptopropyltriethoxysilane.
When the obtained silane coupling agent 4 was analyzed by GC, the purity of 3-mercaptopropyltriethoxysilane was 99.0% by mass, the content of the silane compound not containing a mercapto group in the molecule was 7700 ppm, and the content of ethanol The amount was 1800 ppm.

合成例5(シランカップリング剤6の調製法)
蒸留精製後に添加するメタノール量を3.0gに変更したことを除いては合成例1に記載の方法によってシランカップリング剤6を調製した。
得られたシランカップリング剤5をGCで分析したところ、3−メルカプトプロピルトリメトキシシランの純度は98.9質量%、分子内にメルカプト基を含まないシラン化合物の含有量は7700ppm、メタノールの含有量は3000ppmであった。
Synthesis Example 5 (Method for Preparing Silane Coupling Agent 6)
Silane coupling agent 6 was prepared by the method described in Synthesis Example 1 except that the amount of methanol added after distillation purification was changed to 3.0 g.
When the obtained silane coupling agent 5 was analyzed by GC, the purity of 3-mercaptopropyltrimethoxysilane was 98.9% by mass, the content of the silane compound not containing a mercapto group in the molecule was 7700 ppm, and the content of methanol The amount was 3000 ppm.

合成例6(シランカップリング剤7の調製法)
蒸留精製後にメタノールを添加しないことを除いては合成例1に記載の方法によってシランカップリング剤7を調製した。
得られたシランカップリング剤7をGCで分析したところ、3−メルカプトプロピルトリメトキシシランの純度は99.2質量%、分子内にメルカプト基を含まないシラン化合物の含有量は7700ppm、メタノールの含有量は300ppmであった。
Synthesis Example 6 (Method for Preparing Silane Coupling Agent 7)
Silane coupling agent 7 was prepared by the method described in Synthesis Example 1 except that methanol was not added after distillation purification.
When the obtained silane coupling agent 7 was analyzed by GC, the purity of 3-mercaptopropyltrimethoxysilane was 99.2% by mass, the content of the silane compound not containing a mercapto group in the molecule was 7700 ppm, and the content of methanol The amount was 300 ppm.

合成例7(シランカップリング剤8の調製法)
3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン(江蘇省対外経済貿易株式有限公司製)1500gを、ヘキサンを展開溶剤としたシリカゲルカラムクトマトグラフィー(ワコーゲルC−300)により精製し、得られた精製3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン1000gに1.8gのメタノールを添加してシランカップリング剤8を調製した。
得られたシランカップリング剤8をGCで分析したところ、3−メルカプトプロピルトリメトキシシランの純度は98.8質量%、分子内にメルカプト基を含まないシラン化合物の含有量は10000ppm、メタノールの含有量は1800ppmであった。
Synthesis Example 7 (Preparation method of silane coupling agent 8)
Purified 3-mercaptopropyl obtained by purifying 1500 g of 3-mercaptopropyltrimethoxysilane (manufactured by Jiangsu Foreign Economic Trade Co., Ltd.) by silica gel column chromatography (Wakogel C-300) using hexane as a developing solvent. Silane coupling agent 8 was prepared by adding 1.8 g of methanol to 1000 g of trimethoxysilane.
When the obtained silane coupling agent 8 was analyzed by GC, the purity of 3-mercaptopropyltrimethoxysilane was 98.8% by mass, the content of the silane compound not containing a mercapto group in the molecule was 10,000 ppm, and the content of methanol The amount was 1800 ppm.

カップリング剤1(CA1):合成例1に記載の3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン
カップリング剤2(CA2):合成例2に記載の3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン
カップリング剤3(CA3):合成例3に記載の3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン
カップリング剤4(CA4):合成例4に記載の3−メルカプトプロピルトリエトキシシラン
カップリング剤5(CA5):フェニルアミノプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業株式会社製商品名KBM−573)
カップリング剤6(CA6):合成例5に記載の3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン
カップリング剤7(CA7):合成例6に記載の3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン
カップリング剤8(CA8):合成例7に記載の3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン
カップリング剤9(CA9):3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業株式会社製商品名KBM−803)。GC分析による純度97.5質量%、分子内にメルカプト基を含まないシラン化合物の含有量は17000ppm、メタノールの含有量は300ppm。
Coupling agent 1 (CA1): 3-mercaptopropyltrimethoxysilane coupling agent 2 described in synthesis example 1 (CA2): 3-mercaptopropyltrimethoxysilane coupling agent 3 described in synthesis example 2 (CA3): 3-mercaptopropyltrimethoxysilane coupling agent 4 (CA4) described in Synthesis Example 3: 3-mercaptopropyltriethoxysilane coupling agent 5 (CA5) described in Synthesis Example 4: phenylaminopropyltrimethoxysilane (Shin-Etsu) Chemical Industry Co., Ltd. trade name KBM-573)
Coupling agent 6 (CA6): 3-mercaptopropyltrimethoxysilane coupling agent 7 (CA7) described in Synthesis Example 5: 3-mercaptopropyltrimethoxysilane coupling agent 8 (CA8) described in Synthesis Example 6: 3-mercaptopropyltrimethoxysilane coupling agent 9 (CA9) described in Synthesis Example 7: 3-mercaptopropyltrimethoxysilane (trade name KBM-803, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.). According to GC analysis, the purity was 97.5% by mass, the content of the silane compound containing no mercapto group in the molecule was 17000 ppm, and the content of methanol was 300 ppm.

硬化促進剤:
硬化促進剤1:トリフェニルホスフィンとp−ベンゾキノンとの付加物
Curing accelerator:
Curing accelerator 1: Adduct of triphenylphosphine and p-benzoquinone

その他の添加剤:
離型剤1:酸化ポリエチレンワックス(クラリアントジャパン株式会社製商品名リコワックスPED191)
着色剤1:カーボンブラック(三菱化学株式会社製商品名カーボン#5)
Other additives:
Mold release agent 1: Oxidized polyethylene wax (trade name Rico Wax PED191, manufactured by Clariant Japan KK)
Colorant 1: Carbon black (trade name carbon # 5 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation)

上記成分をそれぞれ表1及び表2に示す質量部で配合し、混練温度100℃、混練時間30分間の条件で二軸混練して冷却後粉砕し、封止用エポキシ樹脂組成物を作製した。   The above components were blended in parts by mass shown in Tables 1 and 2, respectively, biaxially kneaded under conditions of a kneading temperature of 100 ° C. and a kneading time of 30 minutes, cooled and pulverized to prepare an epoxy resin composition for sealing.

作製した実施例及び比較例の封止用エポキシ樹脂組成物を、次の各試験により評価した。評価結果を表1及び表2に示す。   The produced epoxy resin compositions for sealing of Examples and Comparative Examples were evaluated by the following tests. The evaluation results are shown in Tables 1 and 2.

スパイラルフロー(SF):
低圧トランスファー成形機(コータキ精機(株)製、KTS−15)を用いて、EMMI−1−66に準じたスパイラルフロー測定用金型に、175℃、注入圧力6.9MPa、保圧時間120秒間の条件で樹脂組成物を注入し、流動長を測定した。スパイラルフローは、流動性のパラメータであり、数値が大きい方が、流動性が良好である。単位はcm。
Spiral flow (SF):
Using a low-pressure transfer molding machine (manufactured by Kotaki Seiki Co., Ltd., KTS-15), a spiral flow measurement mold according to EMMI-1-66 was applied at 175 ° C., injection pressure 6.9 MPa, and holding time 120 seconds. The resin composition was injected under the following conditions, and the flow length was measured. The spiral flow is a fluidity parameter, and the larger the value, the better the fluidity. The unit is cm.

連続成形性(エアベントブロック):
低圧トランスファー自動成形機(第一精工(株)製、GP−ELF)を用いて、金型温度175℃、注入圧力9.8MPa、硬化時間70秒間の条件で、エポキシ樹脂組成物によりチップなどを封止して80ピンクワッドフラットパッケージ(80pQFP;銅製リードフレーム、パッケージ外寸:14mm×20mm×2mm厚、パッドサイズ:6.5mm×6.5mm、チップサイズ6.0mm×6.0mm×0.35mm厚)を得る成形を、連続で400ショットまで行った。
エアベントブロックの評価については、50ショット毎に金型を目視により観察することで、エアベントブロック(エアベント(幅0.5mm、厚さ50μm)部に樹脂硬化物が固着してエアベントを塞いだ状態)の有無を確認し、次の4段階で評価した。好ましい順は、A、B、C、Dの順であるが、Cランク以上であれば実用可能範囲である。評価結果を下記に示した。
A:400ショットまで問題なし
B:300ショットまでにエアベントブロック発生
C:200ショットまでにエアベントブロック発生
D:100ショットまでにエアベントブロック発生
Continuous formability (air vent block):
Using a low-pressure transfer automatic molding machine (Daiichi Seiko Co., Ltd., GP-ELF), chips and the like are formed with an epoxy resin composition under conditions of a mold temperature of 175 ° C., an injection pressure of 9.8 MPa, and a curing time of 70 seconds. Sealed 80 pink quad flat package (80pQFP; copper lead frame, package outer dimensions: 14mm x 20mm x 2mm thickness, pad size: 6.5mm x 6.5mm, chip size 6.0mm x 6.0mm x 0.00mm Molding to obtain a thickness of 35 mm was continuously performed up to 400 shots.
Regarding the evaluation of the air vent block, the mold is visually observed every 50 shots, so that the air vent block (the state where the cured resin is fixed to the air vent (width 0.5 mm, thickness 50 μm) and the air vent is blocked) The following four levels were evaluated. The preferred order is the order of A, B, C, D, but if it is C rank or higher, it is within the practical range. The evaluation results are shown below.
A: No problem up to 400 shots B: Air vent block generated by 300 shots C: Air vent block generated by 200 shots D: Air vent block generated by 100 shots

耐半田性:
低圧トランスファー成形機(第一精工株式会社製、GP−ELF)を用いて、金型温度180℃、注入圧力7.4MPa、硬化時間120秒間の条件で、エポキシ樹脂組成物を注入して半導体素子(シリコンチップ)が搭載されたリードフレーム等を封止成形し、80pQFP(銅製リードフレーム、サイズは14×20mm×厚さ2.00mm、半導体素子は7×7mm×厚さ0.35mm、ダイパッドとインナーリードとに銀メッキが施され、半導体素子とリードフレームのインナーリードとは25μm径の金線でボンディングされている。)なる半導体装置を作製した。ポストキュアとして175℃で4時間加熱処理した半導体装置12個を、60℃、相対湿度60%で120時間加湿処理した後、IRリフロー処理(260℃、JEDEC・Level3条件に従う)を行った。これらの半導体装置内部の剥離及びクラックの有無を超音波探傷装置(日立建機ファインテック株式会社製、mi−scope10)で観察し、剥離又はクラックのいずれか一方でも発生したものを不良とした。n=12中の不良半導体装置の個数を表示した。不良個数が1以下であれば実用可能範囲である。
Solder resistance:
Using a low-pressure transfer molding machine (Daiichi Seiko Co., Ltd., GP-ELF), an epoxy resin composition was injected under conditions of a mold temperature of 180 ° C., an injection pressure of 7.4 MPa, and a curing time of 120 seconds. (Silicon chip) mounted lead frame or the like is sealed, 80pQFP (copper lead frame, size 14 x 20 mm x thickness 2.00 mm, semiconductor element 7 x 7 mm x thickness 0.35 mm, die pad and The inner lead was plated with silver, and the semiconductor element and the inner lead of the lead frame were bonded with a gold wire with a diameter of 25 μm. Twelve semiconductor devices heat-treated at 175 ° C. for 4 hours as post-cure were humidified at 60 ° C. and 60% relative humidity for 120 hours, and then subjected to IR reflow treatment (in accordance with JEDEC Level 3 conditions at 260 ° C.). The presence or absence of peeling and cracks inside these semiconductor devices was observed with an ultrasonic flaw detector (manufactured by Hitachi Construction Machinery Finetech Co., Ltd., mi-scope 10), and the occurrence of either peeling or cracking was regarded as defective. The number of defective semiconductor devices in n = 12 is displayed. If the number of defects is 1 or less, it is within the practical range.

耐湿信頼性:
低圧トランスファー成形機を用いて、金型温度175℃、注入圧力9.8MPa、硬化時間120秒間で、得られたエポキシ樹脂組成物を注入して16ピンSOP(チップサイズ3.0mm×3.5mm)を成形した後、ポストキュアとして175℃で4時間加熱処理した。その後、プレッシャークッカー試験(130℃、圧力2.3×105Pa、240時間)を行い、回路のオープン不良を測定した。15個のパッケージ中の不良個数を示す。
Moisture resistance reliability:
Using a low-pressure transfer molding machine, the resulting epoxy resin composition was injected at a mold temperature of 175 ° C., an injection pressure of 9.8 MPa, and a curing time of 120 seconds to obtain a 16-pin SOP (chip size: 3.0 mm × 3.5 mm). ) Was then heat treated at 175 ° C. for 4 hours as a post cure. Thereafter, a pressure cooker test (130 ° C., pressure 2.3 × 10 5 Pa, 240 hours) was performed, and open circuit failures were measured. The number of defects in 15 packages is shown.

Figure 2013108024
Figure 2013108024

Figure 2013108024
Figure 2013108024

実施例1〜7は、(A)エポキシ樹脂、(B)フェノール樹脂硬化剤、(C)無機充填材、及び、(D)純度98.5〜99.5質量%、炭素数1〜5の一価のアルコールを1000〜2500ppm含有し、分子内にメルカプト基を有しないシラン化合物の含有量が8000ppm未満である3−メルカプトプロピルトリメトキシシランCA1、CA2、CA3、CA4を含む本発明のエポキシ樹脂組成物であり、(A)成分の種類と配合量、(D)成分の種類を変えたものを含むものであるが、いずれも、スパイラルフローが100cmを超え、連続成形性、耐半田性、耐湿信頼性に優れる結果が得られた。   Examples 1-7 are (A) an epoxy resin, (B) a phenol resin curing agent, (C) an inorganic filler, and (D) a purity of 98.5 to 99.5% by mass and having 1 to 5 carbon atoms. Epoxy resin of the present invention containing 3-mercaptopropyltrimethoxysilane CA1, CA2, CA3, CA4 containing 1000 to 2500 ppm of monohydric alcohol and containing less than 8000 ppm of silane compound having no mercapto group in the molecule It is a composition, including (A) the type and amount of component, and (D) the type of component being changed, all of which have a spiral flow exceeding 100 cm, continuous formability, solder resistance, and moisture resistance reliability. Excellent results were obtained.

一方、(D)成分の代わりに、メタノールの含有量が3000ppmのCA6を使用した比較例1ではスパイラルフロー、連続成形性、耐湿信頼性は問題がなかったものの、耐半田性に劣り、パッケージ内部にボイドも見られた。
(D)成分の代わりに、メタノールの含有量が300ppmのCA7を使用した比較例2では耐半田性、耐湿信頼性に問題はなかったものの、スパイラルフローが短く、連続成形性も悪化する結果となった。
(D)成分の代わりに、分子内にメルカプト基を有しないシラン化合物の含有量が10000ppmであるCA8を使用した比較例3、同様に17000ppmであるCA9を使用した比較例4では、ともにスパイラルフローと連続成形性に問題はなかったものの、比較例3では耐湿信頼性、比較例4では耐半田性、耐湿信頼性のいずれもが低下する結果となった。
On the other hand, in Comparative Example 1 using CA6 having a methanol content of 3000 ppm instead of the component (D), there was no problem in spiral flow, continuous formability, and moisture resistance reliability. There were also voids.
In Comparative Example 2 in which CA7 having a methanol content of 300 ppm was used instead of the component (D), there was no problem in solder resistance and moisture resistance reliability, but the spiral flow was short and the continuous moldability deteriorated. became.
In the comparative example 3 using CA8 whose content of the silane compound which does not have a mercapto group in a molecule | numerator instead of (D) component is 10000 ppm, and the comparative example 4 which similarly uses CA9 which is 17000 ppm, spiral flow is both. Although there was no problem in the continuous formability, in Comparative Example 3, both moisture resistance reliability and Comparative Example 4 resulted in a decrease in both solder resistance and moisture resistance reliability.

本発明によれば、上記実施例で示したようにメルカプトシランカップリング剤の分散性が向上しており、成形性、耐半田性、耐湿信頼性に優れた封止用エポキシ樹脂組成物を得ることができるため、この封止用エポキシ樹脂組成物を用いてIC、LSI等の電子部品装置等に好適に用いることができる。   According to the present invention, as shown in the above examples, the dispersibility of the mercaptosilane coupling agent is improved, and an epoxy resin composition for sealing excellent in moldability, solder resistance, and moisture resistance reliability is obtained. Therefore, this sealing epoxy resin composition can be used suitably for electronic component devices such as IC and LSI.

1 素子
2 ダイボンド材硬化体
3 ダイパッド
4 ボンディングワイヤ
5 銅製リードフレーム
6 封止用エポキシ樹脂組成物の硬化体
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Element 2 Die-bonding material hardening body 3 Die pad 4 Bonding wire 5 Copper lead frame 6 Hardening body of epoxy resin composition for sealing

Claims (4)

(A)エポキシ樹脂、(B)フェノール樹脂硬化剤、(C)無機充填材、及び、(D)下記一般式(1)で示されるシラン化合物、を含有する封止用エポキシ樹脂組成物であって、前記(D)成分が、純度が98.5〜99.5質量%であり、炭素数1〜5の一価のアルコールの含有量が1000〜2500ppmであり、分子内にメルカプト基を有しないシラン化合物の含有量が8000ppm未満であることを特徴とする、封止用エポキシ樹脂組成物。
Figure 2013108024
(式中、R1は炭素数1〜5のアルキル基である。R2は炭素数1〜5のアルキル基である。mは1〜6の整数である。nは1〜3の正数である。)
It is an epoxy resin composition for sealing containing (A) an epoxy resin, (B) a phenol resin curing agent, (C) an inorganic filler, and (D) a silane compound represented by the following general formula (1). The component (D) has a purity of 98.5 to 99.5% by mass, a monohydric alcohol content of 1 to 5 carbon atoms of 1000 to 2500 ppm, and has a mercapto group in the molecule. An epoxy resin composition for sealing, characterized in that the content of the silane compound not to be removed is less than 8000 ppm.
Figure 2013108024
(In the formula, R1 is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms. R2 is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms. M is an integer of 1 to 6. n is a positive number of 1 to 3. .)
上記(A)成分が、下記一般式(2)で示されるビフェニル型エポキシ樹脂、下記一般式(3)で示されるフェニレン骨格を有するフェノールアラルキル型エポキシ樹脂、及び下記一般式(4)で示されるビフェニレン骨格を有するフェノールアラルキル型エポキシ樹脂からなる群から選ばれる少なくとも1種以上のエポキシ樹脂を含む、請求項1に記載の封止用エポキシ樹脂組成物。

Figure 2013108024
(上記一般式(2)において、R〜Rは水素原子及び炭素数1〜10の置換もしくは無置換の炭化水素基から選ばれ、全てが同一でも互いに異なっていてもよい。nは0〜3の整数を示す。)
Figure 2013108024
(上記一般式(3)において、R〜Rは水素原子及び炭素数1〜10の置換もしくは無置換の炭化水素基から選ばれ、全てが同一でも互いに異なっていてもよい。nは0〜3の整数を示す。)
Figure 2013108024
(上記一般式(4)において、R10〜R18は水素原子及び炭素数1〜10の置換もしくは無置換の炭化水素基から選ばれ、全てが同一でも互いに異なっていてもよい。nは0〜3の整数を示す。)
The component (A) is represented by the biphenyl type epoxy resin represented by the following general formula (2), the phenol aralkyl type epoxy resin having a phenylene skeleton represented by the following general formula (3), and the following general formula (4). The epoxy resin composition for sealing according to claim 1, comprising at least one epoxy resin selected from the group consisting of phenol aralkyl type epoxy resins having a biphenylene skeleton.

Figure 2013108024
(In the general formula (2), R 3 to R 6 are selected from a hydrogen atom and a substituted or unsubstituted hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and all may be the same or different from each other. N is 0. Represents an integer of ~ 3.)
Figure 2013108024
(In the general formula (3), R 7 to R 9 are selected from a hydrogen atom and a substituted or unsubstituted hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and all may be the same or different from each other. N is 0. Represents an integer of ~ 3.)
Figure 2013108024
(In the general formula (4), R 10 to R 18 are selected from a hydrogen atom and a substituted or unsubstituted hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and all may be the same or different from each other. N is 0. Represents an integer of ~ 3.)
上記(B)成分が、下記一般式(5)で示されるビフェニレン骨格を有するフェノールアラルキル樹脂からなる群から選ばれる少なくとも1種以上のフェノール樹脂を含む、請求項1又は2に記載の封止用エポキシ樹脂組成物。
Figure 2013108024
(上記一般式(5)において、R19〜R27は水素原子及び炭素数1〜10の置換もしくは無置換の炭化水素基から選ばれ、全てが同一でも互いに異なっていてもよい。nは0〜3の整数を示す。)
The sealing component according to claim 1 or 2, wherein the component (B) contains at least one phenol resin selected from the group consisting of phenol aralkyl resins having a biphenylene skeleton represented by the following general formula (5). Epoxy resin composition.
Figure 2013108024
(In the above general formula (5), R 19 to R 27 are selected from a hydrogen atom and a substituted or unsubstituted hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and all may be the same or different from each other. N is 0. Represents an integer of ~ 3.)
請求項1ないし3のいずれか一項に記載の封止用エポキシ樹脂組成物の硬化物で、素子が封止されていることを特徴とする電子部品装置。   An electronic component device, wherein an element is sealed with a cured product of the epoxy resin composition for sealing according to any one of claims 1 to 3.
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