JP2013087216A - Crosslinked type polymer, and organic electroluminescent element using the same - Google Patents

Crosslinked type polymer, and organic electroluminescent element using the same Download PDF

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Tomoyuki Yomogida
知行 蓬田
Hironori Kawakami
宏典 川上
Masami Watanabe
正美 渡邉
Kiyoshi Ikeda
潔 池田
Masahiro Kawamura
昌宏 河村
Nobuhiro Yabunouchi
伸浩 藪ノ内
Tomoki Kato
朋希 加藤
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a crosslinked type polymer suitable for forming a thin film by an application method, and suitable as a material for electronic use.SOLUTION: The crosslinked type polymer is a polymer containing structural units expressed by formulas (A) and (B). P is a group derived from a compound expressed by Formula (P), in the Formula (A). Lrepresents a connection group. Q is a group derived from a compound expressed by Formula (Q), in the Formula (B). Lrepresents a connection group. At least one out of c members of the Qs and d members of Ls has a crosslinking group, in the Formula (B).

Description

本発明は、架橋型重合体及びそれを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子(有機EL素子)に関する。   The present invention relates to a cross-linked polymer and an organic electroluminescence device (organic EL device) using the same.

有機EL素子は、自発光型で視野角依存性がなく、面発光、薄型化が可能であることから、テレビや携帯電話等のディスプレイや、照明等への応用が検討されている。
有機EL素子は、有機化合物の薄膜を、陰極と陽極とで挟んだ構成を有している。薄膜の形成方法としては、蒸着法と塗布法とに大別される。蒸着法は、主に低分子化合物を用い、真空中で基板上に薄膜を形成する手法であり、製品化が先行している。一方、塗布法は、インクジェットや印刷等、溶液を用いて基板上に薄膜を形成する手法であり、材料の利用効率が高く、大面積化、高精細化に向いており、今後の大画面有機ELディスプレイには不可欠とされる手法である。
Organic EL elements are self-luminous and have no viewing angle dependency, and can be surface-emitting and thinned. Therefore, application to displays such as televisions and mobile phones, lighting, and the like are being studied.
The organic EL element has a configuration in which a thin film of an organic compound is sandwiched between a cathode and an anode. Thin film forming methods are roughly classified into vapor deposition methods and coating methods. The vapor deposition method is a method of forming a thin film on a substrate in a vacuum mainly using a low molecular compound, and commercialization has preceded. On the other hand, the coating method is a method of forming a thin film on a substrate using a solution, such as ink jet or printing, and the use efficiency of the material is high, and it is suitable for large area and high definition. This is an indispensable technique for EL displays.

低分子材料を用いた真空蒸着法は、材料の利用効率が極端に低く、また、大型化すればシャドーマスクのたわみが大きくなることから、大型基板への蒸着が難しく、その結果、大型の有機EL基板を用いた表示装置の作製が困難という問題がある。また、製造コストも高くなる。   The vacuum deposition method using low-molecular materials is extremely low in material utilization efficiency, and the larger the size, the more the shadow mask will bend, which makes it difficult to deposit on a large substrate. There is a problem that it is difficult to manufacture a display device using an EL substrate. In addition, the manufacturing cost increases.

一方、高分子系材料は、有機溶剤に溶かし込んだその溶液を、塗布することにより、均一な膜を形成することが可能であり、これを利用して、インクジェット法や印刷法に代表される塗布法を用いることができる。そのため、材料の利用効率を100%近くまで高めることができる。また、小型基板から大型基板まで、さまざまな形状の基板に容易に対応できるため、素子の製造コストを大幅に削減することができる。
しかしながら、一般的に塗布法は積層型の素子には適さず、素子の高性能化が容易ではないという問題点がある。
On the other hand, a polymer material can form a uniform film by applying a solution dissolved in an organic solvent, and is represented by an inkjet method or a printing method using this. A coating method can be used. Therefore, the utilization efficiency of the material can be increased to nearly 100%. In addition, since it can easily cope with substrates of various shapes from small substrates to large substrates, the manufacturing cost of the element can be greatly reduced.
However, in general, the coating method is not suitable for a stacked element, and there is a problem that it is not easy to improve the performance of the element.

塗布法が積層型に適さない理由としては、層を重ねる際に、先に形成してあった膜を溶かしてしまうことが挙げられる。具体的に、塗布積層型の有機発光素子において、正孔注入層及び正孔輸送層は、発光層を成膜する際に用いられる溶剤に対して不溶でなければならない。
そのため、現状では、塗布法による有機EL素子の多くは、正孔注入層をポリチオフェン:ポリスチレンスルホン酸(PEDOT:PSS)の水分散液を用いて製膜し、発光層をトルエン等の芳香族系有機溶媒を用いて製膜を行うという2層構造のものに限られている。PEDOT:PSS層はトルエンに溶解しないため、かかる2層構造を作製することが可能だからである。
従って、例えば、正孔注入層上に、正孔輸送層を形成し、さらに発光層を形成する場合には適用できなかった。
The reason why the coating method is not suitable for the laminate type is that the layer formed earlier is dissolved when the layers are stacked. Specifically, in a coated laminated organic light emitting device, the hole injection layer and the hole transport layer must be insoluble in the solvent used when forming the light emitting layer.
Therefore, at present, many organic EL devices using a coating method form a hole injection layer with an aqueous dispersion of polythiophene: polystyrene sulfonic acid (PEDOT: PSS), and a light emitting layer with an aromatic system such as toluene. It is limited to a two-layer structure in which film formation is performed using an organic solvent. This is because the PEDOT: PSS layer does not dissolve in toluene, and thus such a two-layer structure can be produced.
Therefore, for example, it was not applicable when a hole transport layer was formed on a hole injection layer and a light emitting layer was further formed.

正孔注入層には、PEDOT/PSSに代表されるように、水溶性、又は、アルコールに溶解する材料が用いられる場合が多い。そのため、正孔輸送材料は、正孔注入層上にトルエン、キシレン、ジオキサン、シクロヘキサノン等の水系又はアルコール系以外の有機溶剤を用いて成膜し、積層される。
ここで、正孔輸送材料として、熱又は光架橋型の重合体を用いることが提案されている(特許文献1参照)。しかしながら、光架橋型の材料は、光によって劣化し、正孔輸送性、発光効率、素子寿命が低下するという問題があり、一方、熱架橋型の材料では、熱架橋後、シュリンクしたり、ピンホールが生じることがあるという問題がある。
また、熱架橋後、シュリンクしない場合でも、発光層の積層に用いる成膜用溶剤に溶解することがあるという問題がある(特許文献2−4参照)。
For the hole injection layer, as represented by PEDOT / PSS, a water-soluble or alcohol-soluble material is often used. Therefore, the hole transport material is deposited and laminated on the hole injection layer using an organic solvent other than water or alcohol such as toluene, xylene, dioxane, cyclohexanone.
Here, it has been proposed to use a thermal or photocrosslinking polymer as a hole transport material (see Patent Document 1). However, the photo-crosslinking type material is deteriorated by light and has a problem that the hole transport property, the light emission efficiency, and the element lifetime are lowered. There is a problem that holes may occur.
In addition, there is a problem in that even if the film does not shrink after thermal crosslinking, it may be dissolved in a film-forming solvent used for laminating the light-emitting layer (see Patent Documents 2-4).

また、低分子化合物に重合可能な置換基を結合させた材料を用い、それを塗布後、重合させることにより、他層の塗布用溶媒への溶解度を下げ、多層構造を形成するという技術がある(例えば、特許文献5参照)。しかしながら、低分子化合物は、それ自体結晶化しやすい傾向があるため、良質な薄膜を形成しにくいという問題があった。   In addition, there is a technique in which a material in which a polymerizable substituent is bonded to a low molecular weight compound is used, and after coating it, the solubility in the coating solvent for other layers is lowered to form a multilayer structure. (For example, refer to Patent Document 5). However, since low molecular weight compounds tend to crystallize themselves, there is a problem that it is difficult to form a high-quality thin film.

特開2006−257196号公報JP 2006-257196 A 特開2008−63327号公報JP 2008-63327 A 特開2009−283509号公報JP 2009-283509 A 特開2011−82052号公報JP 2011-82052 A 特開2006−279007号公報JP 2006-279007 A

本発明は、塗布法による薄膜の形成に適し、エレクトロニクス用材料として好適な架橋型重合体を提供することを課題とする。   An object of the present invention is to provide a crosslinked polymer suitable for forming a thin film by a coating method and suitable as an electronic material.

本発明者らは、鋭意検討した結果、カルバゾール又はカルバゾールに類似する化合物に由来する構造単位(後述するP及びQ基)を有する架橋型重合体が、安定的かつ容易に良質な薄膜を形成でき、また、熱などによる架橋反応によって溶解度が変化することにより、この材料がエレクトロニクス用材料として有用であることを見出し、本発明を完成させた。   As a result of intensive studies, the present inventors have found that a crosslinked polymer having a structural unit derived from carbazole or a compound similar to carbazole (P and Q groups described later) can form a high-quality thin film stably and easily. In addition, the present inventors have found that this material is useful as an electronic material by changing the solubility due to a crosslinking reaction by heat or the like, thereby completing the present invention.

本発明によれば、以下の重合体等が提供される。
1.下記式(A)及び(B)で表される構造単位を含有する重合体。

Figure 2013087216
[式(A)中、Pは下記式(P)で表される化合物に由来する基である。
Figure 2013087216
(式中、Aはそれぞれ独立に、窒素原子又はCRである。
は、単結合、O、S、CR又はNRである。
〜Rは、それぞれ独立に、水素原子、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のアルキル基、置換もしくは無置換の環形成炭素数3〜10のシクロアルキル基、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜30のアリール基、置換もしくは無置換の環形成原子数3〜30のヘテロアリール基、置換もしくは無置換のアリールアミノ基又はアリールシリル基である。)
aは2〜5の整数であり、(P)aは、上記(P)基がa個連続して結合していることを表す。a個のPはそれぞれ独立であり、また、P同士の結合位置は限定されない。
は連結基を表す。
bは、0〜5の整数であり、(L)bは、bが2以上である場合、Lがb個連続して結合したことを表す。この場合、b個のLはそれぞれ独立であり、また、L同士が結合する位置は限定されない。
式(A)において、PとLの結合位置は限定されない。
式(B)中、Qは下記式(Q)で表される化合物に由来する基である。
Figure 2013087216
(式中、Aはそれぞれ独立に、窒素原子又はCRである。
は、単結合、O、S、CR又はNRである。
〜Rは、それぞれ独立に、水素原子、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のアルキル基、置換もしくは無置換の環形成炭素数3〜10のシクロアルキル基、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜30のアリール基、置換もしくは無置換の環形成原子数3〜30のヘテロアリール基、置換もしくは無置換のアリールアミノ基、アリールシリル基、又は架橋性基である。)
cは2〜5の整数であり、(Q)cは、上記(Q)基がc個連続して結合していることを表す。c個のQはそれぞれ独立であり、また、Q同士の結合位置は限定されない。
はそれぞれ独立に、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のアルキレン基、置換もしくは無置換の環形成炭素数3〜10のシクロアルキレン基、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜30の芳香族炭化水素環基、置換もしくは無置換の環形成原子数3〜30の芳香族複素環基、置換もしくは無置換のアリールアミン残基、アリールシリレン基、又は架橋性基である。
dは、0〜5の整数であり、(L)dは、dが2以上である場合、Lがd個連続して結合していることを表す。この場合、d個のLはそれぞれ独立であり、また、L同士が結合する位置は限定されない。
式(B)において、QとLの結合位置は限定されない。
式(B)において、c個のQ及びd個のLのうち、少なくとも1つは、架橋性基を有する。]
2.前記P又はQが、置換又は無置換のカルバゾールの残基である1に記載の重合体。
3.a個連続した置換もしくは無置換のカルバゾール残基において隣接するカルバゾール残基同士の結合位置、又は、c個連続した置換もしくは無置換のカルバゾール残基において隣接するカルバゾール残基同士の結合位置が、それぞれ、3位−3’位、3位−2’位、及び、2位−2’位から選ばれた一種である2に記載の重合体。
4.下記の構造1及び構造2の少なくとも一方を有する、2又は3に記載の重合体。
構造1:前記(P)a中の1つの置換又は無置換のカルバゾール残基と、Lとの結合位置が、該カルバゾール残基の9位、3位又は2位である。
構造2:前記(Q)c中の1つの置換又は無置換のカルバゾール残基と、Lとの結合位置が、該カルバゾール残基の9位、3位又は2位である。
5.下記の構造3及び構造4の少なくとも一方を有する、2〜4のいずれかに記載の重合体。
構造3:前記(P)a中の1つの置換又は無置換のカルバゾール残基と、Lとの結合位置が、該カルバゾール残基の9位、3位又は2位である。
構造4:前記(Q)c中の1つの置換又は無置換のカルバゾール残基と、Lとの結合位置が、該カルバゾール残基の9位、3位又は2位である。
6.前記a又はcが、それぞれ2又は3である1〜5のいずれかに記載の重合体。
7.下記式(1)〜(7)のいずれかで表される1〜6のいずれかに記載の重合体。
Figure 2013087216
Figure 2013087216
(各式中、R、R、R、R、L及びLは、前記式(A)及び(B)のR、R、R、R、L及びLと同様である。
m及びnはそれぞれ、重合体に占める各構造単位の含有率(モル比)を表し、mは0.01〜0.99、nは0.01〜0.99であり、m+n=1である。
lは、0又は1である。)
8.下記式(8)〜(25)のいずれかで表される7に記載の重合体。
Figure 2013087216
Figure 2013087216
Figure 2013087216
Figure 2013087216
(各式中、R、R、R、R、L及びLは、前記式(A)及び(B)のR、R、R、R、L及びLと同様である。
m及びnはそれぞれ、重合体に占める各構造単位の含有率(モル比)を表し、mは0.01〜0.99、nは0.01〜0.99であり、m+n=1である。)
9.前記式(1)〜(25)で表される各重合体の、Rの少なくとも1つ又はRの少なくとも1つが架橋性基であり、Lは架橋性基ではない、7又は8の重合体。
10.前記架橋性基が、下記式(31)〜(42)で示される基から選択される基である1〜9のいずれかに記載の重合体。
Figure 2013087216
11.前記式(1)〜(21)で表される各重合体のLの少なくとも1つが架橋性基であり、R及びRが架橋性基ではない7又は8の重合体。
12.前記架橋性基であるLが、下記式(43)〜(46)で示される基から選択される基である11に記載の重合体。
Figure 2013087216
(式(45)及び(46)において、oは、1〜10の整数である。)
13.前記式(1)〜(25)で表される各重合体の、R、R、R及びRの少なくとも1つが、下記式(51)〜(55)で表される基から選択される基である8〜12のいずれかに記載の重合体。
Figure 2013087216
(式中、R11〜R23は、それぞれ独立に、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のアルキル基、置換もしくは無置換の環形成炭素数3〜10のシクロアルキル基、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜30のアリール基、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のアルコキシ基、置換もしくは無置換の環形成炭素数3〜10のシクロアルコキシ基、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜30のアリールオキシ基、置換もしくは無置換の炭素数7〜40のアラルキル基、置換もしくは無置換の環形成原子数3〜30のヘテロアリール基、置換アミノ基、置換シリル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基又はヒドロキシル基である。
a、c、d、f、g、及びiは、それぞれ独立に、0〜4の整数である。
b、e、h及びjは、それぞれ独立に、0〜3の整数である。
〜Tはそれぞれ独立に、単結合、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜50の芳香族炭化水素環基又は環形成原子数3〜30の芳香族複素環基である。)
14.上記1〜13のいずれかに記載の重合体及び溶媒を含む塗布液。
15.前記溶媒の少なくとも1種が有機溶媒である14に記載の塗布液。
16.上記14又は15に記載の塗布液を用いて湿式成膜する電子素子の製造方法。
17.前記電子素子が、電界発光素子、光電変換素子又はトランジスタである16に記載の電子素子の製造方法。
18.前記電子素子が、有機エレクトロルミネッセンス素子である16又は17に記載の電子素子の製造方法。
19.陽極と陰極と、前記陽極と陰極の間に、発光層を含む1層以上の有機薄膜層を有し、
前記有機薄膜層の少なくとも1層が1〜13のいずれかに記載の重合体を含む有機エレクトロルミネッセンス素子。
20.前記有機薄膜層の少なくとも1層が正孔注入層又は正孔輸送層である19に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
21.前記正孔注入層又は正孔輸送層が発光層と接している20に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
22.前記発光層が湿式成膜法により成膜された19〜21のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。 According to the present invention, the following polymers and the like are provided.
1. A polymer containing structural units represented by the following formulas (A) and (B).
Figure 2013087216
[In formula (A), P is a group derived from a compound represented by the following formula (P).
Figure 2013087216
(In the formula, each A 1 is independently a nitrogen atom or CR 2 .
X 1 is a single bond, O, S, CR 2 R 3 or NR 2 .
R 1 to R 3 are each independently a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 10 ring carbon atoms, a substituted or unsubstituted group. An aryl group having 6 to 30 ring carbon atoms, a substituted or unsubstituted heteroaryl group having 3 to 30 ring atoms, a substituted or unsubstituted arylamino group, or an arylsilyl group. )
a is an integer of 2 to 5, and (P) a represents that a number of the (P) groups are bonded continuously. The a P's are independent from each other, and the bonding position between the P's is not limited.
L 1 represents a linking group.
b is an integer from 0 to 5, (L 1) b, when b is 2 or more, indicating that L 1 is bonded b pieces continuously. In this case, b pieces of L 1 are independent from each other, and the position at which L 1 is bonded is not limited.
In the formula (A), the bonding position of P and L 1 is not limited.
In the formula (B), Q is a group derived from a compound represented by the following formula (Q).
Figure 2013087216
(In the formula, each A 2 is independently a nitrogen atom or CR 6 .
X 2 is a single bond, O, S, CR 6 R 7 or NR 6 .
R 5 to R 7 are each independently a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 10 ring carbon atoms, a substituted or unsubstituted group. An aryl group having 6 to 30 ring carbon atoms, a substituted or unsubstituted heteroaryl group having 3 to 30 ring atoms, a substituted or unsubstituted arylamino group, an arylsilyl group, or a crosslinkable group. )
c is an integer of 2 to 5, and (Q) c represents that c (Q) groups are bonded in succession. The c Qs are independent of each other, and the bonding positions of the Qs are not limited.
L 2 each independently represents a substituted or unsubstituted alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkylene group having 3 to 10 ring carbon atoms, or a substituted or unsubstituted ring carbon atom having 6 to 30 carbon atoms. An aromatic hydrocarbon ring group, a substituted or unsubstituted aromatic heterocyclic group having 3 to 30 ring atoms, a substituted or unsubstituted arylamine residue, an arylsilylene group, or a crosslinkable group.
d is an integer from 0 to 5, (L 1) d, when d is 2 or more, indicating that L 2 is bonded d items sequentially. In this case, the d pieces of L 2 are independent from each other, and the position at which L 2 is bonded is not limited.
In the formula (B), the bonding position of Q and L 2 is not limited.
In formula (B), at least one of c Q and d L 2 has a crosslinkable group. ]
2. 2. The polymer according to 1, wherein P or Q is a residue of a substituted or unsubstituted carbazole.
3. a bonding position between adjacent carbazole residues in a consecutive substituted or unsubstituted carbazole residues, or a bonding position between adjacent carbazole residues in c consecutive substituted or unsubstituted carbazole residues, 3. The polymer according to 2, which is a kind selected from the 3-position, 3′-position, 3-position-2′-position, and 2-position-2′-position.
4). 4. The polymer according to 2 or 3, having at least one of the following structure 1 and structure 2.
Structure 1: The bonding position between one substituted or unsubstituted carbazole residue in (P) a and L 1 is the 9-position, 3-position or 2-position of the carbazole residue.
Structure 2: The bonding position between one substituted or unsubstituted carbazole residue in (Q) c and L 2 is the 9th, 3rd or 2nd position of the carbazole residue.
5. The polymer in any one of 2-4 which has at least one of the following structure 3 and structure 4.
Structure 3: The bonding position between one substituted or unsubstituted carbazole residue in (P) a and L 2 is the 9th, 3rd or 2nd position of the carbazole residue.
Structure 4: The bonding position between one substituted or unsubstituted carbazole residue in (Q) c and L 1 is the 9th, 3rd or 2nd position of the carbazole residue.
6). The polymer in any one of 1-5 whose said a or c is 2 or 3, respectively.
7). The polymer in any one of 1-6 represented by either of following formula (1)-(7).
Figure 2013087216
Figure 2013087216
(Wherein, R 1, R 2, R 5, R 6, L 1 and L 2, R 1 in the formula (A) and (B), R 2, R 5, R 6, L 1 and L Same as 2 .
m and n each represent the content (molar ratio) of each structural unit in the polymer, m is 0.01 to 0.99, n is 0.01 to 0.99, and m + n = 1. .
l is 0 or 1. )
8). 8. The polymer according to 7, which is represented by any one of the following formulas (8) to (25).
Figure 2013087216
Figure 2013087216
Figure 2013087216
Figure 2013087216
(Wherein, R 1, R 2, R 5, R 6, L 1 and L 2, R 1 in the formula (A) and (B), R 2, R 5, R 6, L 1 and L Same as 2 .
m and n each represent the content (molar ratio) of each structural unit in the polymer, m is 0.01 to 0.99, n is 0.01 to 0.99, and m + n = 1. . )
9. In each of the polymers represented by the formulas (1) to (25), at least one of R 5 or at least one of R 6 is a crosslinkable group, and L 2 is not a crosslinkable group. Polymer.
10. The polymer according to any one of 1 to 9, wherein the crosslinkable group is a group selected from groups represented by the following formulas (31) to (42).
Figure 2013087216
11. Each at least one polymer of L 2 is a bridging group, the polymer of R 5 and R 6 are crosslinkable not group 7 or 8 of the formula (1) to (21).
12 12. The polymer according to 11, wherein L 2 as the crosslinkable group is a group selected from groups represented by the following formulas (43) to (46).
Figure 2013087216
(In formulas (45) and (46), o is an integer of 1 to 10.)
13. In the polymers represented by the formulas (1) to (25), at least one of R 1 , R 2 , R 5 and R 6 is selected from the groups represented by the following formulas (51) to (55). The polymer in any one of 8-12 which is a group made.
Figure 2013087216
(In the formula, R 11 to R 23 are each independently a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 10 ring carbon atoms, substituted or unsubstituted. An aryl group having 6 to 30 ring carbon atoms, a substituted or unsubstituted alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkoxy group having 3 to 10 ring carbon atoms, a substituted or unsubstituted ring formation Aryloxy group having 6 to 30 carbon atoms, substituted or unsubstituted aralkyl group having 7 to 40 carbon atoms, substituted or unsubstituted heteroaryl group having 3 to 30 ring atoms, substituted amino group, substituted silyl group, halogen An atom, a nitro group, a cyano group or a hydroxyl group.
a, c, d, f, g, and i are each independently an integer of 0 to 4;
b, e, h, and j are each independently an integer of 0 to 3.
T 1 to T 5 are each independently a single bond, a substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon ring group having 6 to 50 ring carbon atoms or an aromatic heterocyclic group having 3 to 30 ring atoms. )
14 The coating liquid containing the polymer and solvent in any one of said 1-13.
15. 15. The coating solution according to 14, wherein at least one of the solvents is an organic solvent.
16. 16. A method for producing an electronic device, wherein a wet film is formed using the coating solution according to 14 or 15 above.
17. 17. The method for producing an electronic device according to 16, wherein the electronic device is an electroluminescent device, a photoelectric conversion device or a transistor.
18. The method for producing an electronic element according to 16 or 17, wherein the electronic element is an organic electroluminescence element.
19. Having one or more organic thin film layers including a light emitting layer between the anode and the cathode and the anode and the cathode;
The organic electroluminescent element in which at least 1 layer of the said organic thin film layer contains the polymer in any one of 1-13.
20. 20. The organic electroluminescence device according to 19, wherein at least one of the organic thin film layers is a hole injection layer or a hole transport layer.
21. 21. The organic electroluminescence device according to 20, wherein the hole injection layer or the hole transport layer is in contact with the light emitting layer.
22. The organic electroluminescent element according to any one of 19 to 21, wherein the light emitting layer is formed by a wet film forming method.

本発明によれば、塗布法による薄膜の形成に適し、エレクトロニクス用材料として好適な架橋型重合体を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, it is suitable for formation of the thin film by the apply | coating method, and can provide the crosslinked polymer suitable as an electronic material.

本発明の重合体は、下記式(A)及び(B)で表される構造単位を含有することを特徴とする。

Figure 2013087216
The polymer of the present invention is characterized by containing structural units represented by the following formulas (A) and (B).
Figure 2013087216

式(A)及び(B)において、P及びQはカルバゾール又はカルバゾールに類似する化合物由来の基であり、L及びLは連結基である。上記式(A)の構造単位は架橋性基を有さず、上記式(B)の構造単位は、架橋性基を1以上有する。本発明の重合体は、式(A)及び(B)で表される構造単位を有することにより、成膜後に架橋して得られる膜の表面平坦性が高くなる。また、塗布に用いる有機溶剤への耐性が高くなる。 In the formulas (A) and (B), P and Q are groups derived from carbazole or a compound similar to carbazole, and L 1 and L 2 are linking groups. The structural unit of the above formula (A) does not have a crosslinkable group, and the structural unit of the above formula (B) has one or more crosslinkable groups. When the polymer of the present invention has the structural units represented by the formulas (A) and (B), the surface flatness of the film obtained by crosslinking after film formation is increased. Moreover, the tolerance to the organic solvent used for coating is increased.

上記式(A)において、Pは下記式(P)で表される化合物に由来する基である。

Figure 2013087216
In the above formula (A), P is a group derived from a compound represented by the following formula (P).
Figure 2013087216

式(P)中、Aはそれぞれ窒素原子又はCRである。
は、単結合、O、S、CR又はNRである。
〜Rは、それぞれ独立に、水素原子、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のアルキル基、置換もしくは無置換の環形成炭素数3〜10のシクロアルキル基、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜30のアリール基、置換もしくは無置換の環形成原子数3〜30のヘテロアリール基又は置換もしくは無置換のアリールアミノ基である。
式(P)中のR〜Rの少なくとも1つは、PやL等である他の基と結合する単結合である。
In formula (P), A 1 is a nitrogen atom or CR 2 respectively.
X 1 is a single bond, O, S, CR 2 R 3 or NR 2 .
R 1 to R 3 are each independently a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 10 ring carbon atoms, a substituted or unsubstituted group. An aryl group having 6 to 30 ring carbon atoms, a substituted or unsubstituted heteroaryl group having 3 to 30 ring atoms, or a substituted or unsubstituted arylamino group.
At least one of R 1 to R 3 in the formula (P) is a single bond that binds to another group such as P or L 1 .

aは2〜5の整数であり、2又は3が好ましい。(P)aは、上記(P)基がa個連続して結合していることを表す。a個のPはそれぞれ独立であり、また、P同士の結合位置は限定されない。
は連結基を表わす。Lは、好ましくは、それぞれ独立に、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のアルキレン基、置換もしくは無置換の環形成炭素数3〜10のシクロアルキレン基、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜30の芳香族炭化水素環基、置換もしくは無置換の環形成原子数3〜30の芳香族複素環基、置換もしくは無置換のアリールアミン残基、又はアリールシリレン基である。また、これらの基を2以上連結した基である。この場合、各基は同一でも異なっていてもよい。
a is an integer of 2 to 5, and 2 or 3 is preferable. (P) a represents that a number of the (P) groups are continuously bonded. The a P's are independent from each other, and the bonding position between the P's is not limited.
L 1 represents a linking group. L 1 is preferably each independently a substituted or unsubstituted alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkylene group having 3 to 10 ring carbon atoms, or a substituted or unsubstituted ring forming carbon atom. It is an aromatic hydrocarbon ring group having 6 to 30 atoms, a substituted or unsubstituted aromatic heterocyclic group having 3 to 30 ring atoms, a substituted or unsubstituted arylamine residue, or an arylsilylene group. Moreover, it is the group which connected these groups 2 or more. In this case, each group may be the same or different.

bは、0〜5の整数であり、(L)bは、bが2以上である場合、Lがb個連続して結合したことを表す。この場合、b個のLはそれぞれ独立であり、また、L同士が結合する位置は限定されない。
式(A)において、PとLの結合位置は限定されない。
b is an integer from 0 to 5, (L 1) b, when b is 2 or more, indicating that L 1 is bonded b pieces continuously. In this case, b pieces of L 1 are independent from each other, and the position at which L 1 is bonded is not limited.
In the formula (A), the bonding position of P and L 1 is not limited.

式(B)中、Qは下記式(Q)で表される化合物に由来する基である。

Figure 2013087216
In the formula (B), Q is a group derived from a compound represented by the following formula (Q).
Figure 2013087216

式中、Aはそれぞれ窒素原子又はCRである。
は、単結合、O、S、CR又はNRである。
〜Rは、それぞれ独立に、上述したR〜Rと同様な基又は架橋性基である。
In the formula, A 2 is a nitrogen atom or CR 6 , respectively.
X 2 is a single bond, O, S, CR 6 R 7 or NR 6 .
R 5 to R 7 are each independently a group or a crosslinkable group similar to R 1 to R 3 described above.

cは2〜5の整数であり、2又は3が好ましい。(Q)cは、上記(Q)基がc個連続して結合していることを表す。c個のQはそれぞれ独立であり、また、Q同士の結合位置は限定されない。
はそれぞれ独立に、上述したLと同様な基又は架橋性基である。
dは、0〜5の整数であり、(L)dは、dが2以上である場合、Lがd個連続して結合したことを表す。この場合、d個のLはそれぞれ独立であり、また、L同士が結合する位置は限定されない。
式(B)において、QとLの結合位置は限定されない。
式(B)において、c個のQ及びd個のLのうち、少なくとも1つは、架橋性基を有する。
c is an integer of 2 to 5, and 2 or 3 is preferable. (Q) c represents that c (Q) groups are bonded in succession. The c Qs are independent of each other, and the bonding positions of the Qs are not limited.
L 2 is each independently a group or a crosslinkable group similar to L 1 described above.
d is an integer from 0 to 5, (L 2) d, when d is 2 or more, indicating that L 2 is bonded d items sequentially. In this case, the d pieces of L 2 are independent from each other, and the position at which L 2 is bonded is not limited.
In the formula (B), the bonding position of Q and L 2 is not limited.
In formula (B), at least one of c Q and d L 2 has a crosslinkable group.

本発明の重合体は、上述した構造単位(A)及び(B)を有していればよく、本発明の効果を阻害しない範囲において、他の構造単位、例えば、α−オレフィンに由来する構造単位を有していてもよい。
好ましくは、構造単位(A)及び(B)が交互に結合している重合体である。構造単位(A)及び(B)が交互に結合している例(AB)を以下に示す。下記例は−ABAB−に相当する。

Figure 2013087216
The polymer of the present invention only needs to have the above-described structural units (A) and (B), and the structure derived from other structural units, for example, α-olefins, as long as the effects of the present invention are not impaired. You may have a unit.
A polymer in which the structural units (A) and (B) are alternately bonded is preferable. An example (AB) in which the structural units (A) and (B) are alternately bonded is shown below. The following example corresponds to -ABAB-.
Figure 2013087216

本発明では、上記P又はQ基が、置換又は無置換のカルバゾール残基であることが好ましい。
また、a個連続した置換又は無置換のカルバゾール残基において、隣接するカルバゾール残基同士の結合位置、又はc個連続した置換又は無置換のカルバゾール残基において、隣接するカルバゾール残基同士の結合位置は、それぞれ、3位−3’位、3位−2’位、又は、2位−2’位から選ばれた一つである場合が好ましい。例として、2つのPの結合形態を以下に示す。
In the present invention, the P or Q group is preferably a substituted or unsubstituted carbazole residue.
In addition, in a consecutive substituted or unsubstituted carbazole residues, bonding positions between adjacent carbazole residues, or in c consecutive substituted or unsubstituted carbazole residues, bonding positions between adjacent carbazole residues. Are preferably selected from the 3-position, 3'-position, 3-position-2'-position, or 2-position-2'-position, respectively. As an example, two P bonding forms are shown below.

Figure 2013087216
Figure 2013087216

また、下記の構造1及び構造2の少なくとも一方を有することが好ましい。
構造1:(P)a中の1つの置換又は無置換のカルバゾール残基と、Lとの結合位置が、該カルバゾール残基の9位、3位又は2位である。
構造2:(Q)c中の1つの置換又は無置換のカルバゾール残基と、Lとの結合位置が、該カルバゾール残基の9位、3位又は2位である。
さらに、下記の構造3及び構造4の少なくとも一方を有することが好ましい。
構造3:前記(P)a中の1つの置換又は無置換のカルバゾール残基と、Lとの結合位置が、該カルバゾール残基の9位、3位又は2位である。
構造4:前記(Q)c中の1つの置換又は無置換のカルバゾール残基と、Lとの結合位置が、該カルバゾール残基の9位、3位又は2位である。
上記の例として、カルバゾール残基とLとの結合位置を以下に示す。
Moreover, it is preferable to have at least one of the following structure 1 and structure 2.
Structure 1: The bonding position between one substituted or unsubstituted carbazole residue in (P) a and L 1 is the 9-position, 3-position or 2-position of the carbazole residue.
Structure 2: The bonding position between one substituted or unsubstituted carbazole residue in (Q) c and L 2 is the 9th, 3rd or 2nd position of the carbazole residue.
Furthermore, it is preferable to have at least one of the following structure 3 and structure 4.
Structure 3: The bonding position between one substituted or unsubstituted carbazole residue in (P) a and L 2 is the 9th, 3rd or 2nd position of the carbazole residue.
Structure 4: The bonding position between one substituted or unsubstituted carbazole residue in (Q) c and L 1 is the 9th, 3rd or 2nd position of the carbazole residue.
As an example of the above, the bonding position between the carbazole residue and L 1 is shown below.

Figure 2013087216
Figure 2013087216

また、上記R〜Rの少なくとも1つ、及びR〜Rの少なくとも1つが、下記式(51)〜(55)で表される基から選択される基であることが好ましい。

Figure 2013087216
Moreover, it is preferable that at least 1 of said R < 1 > -R < 3 > and at least 1 of R < 5 > -R < 7 > are groups selected from the group represented by following formula (51)-(55).
Figure 2013087216

式中、R11〜R23は、それぞれ独立に、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のアルキル基、置換もしくは無置換の環形成炭素数3〜10のシクロアルキル基、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜30のアリール基、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のアルコキシ基、置換もしくは無置換の環形成炭素数3〜10のシクロアルコキシ基、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜30のアリールオキシ基、置換もしくは無置換の炭素数7〜40のアラルキル基、置換もしくは無置換の環形成原子数3〜30のヘテロアリール基、置換アミノ基、置換シリル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基又はヒドロキシル基である。
a、c、d、f、g、及びiは、それぞれ独立に、0〜4の整数である。
b、e、h及びjは、それぞれ独立に、0〜3の整数である。
In the formula, each of R 11 to R 23 is independently a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 10 ring carbon atoms, a substituted or unsubstituted group. Aryl group having 6 to 30 ring carbon atoms, substituted or unsubstituted alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, substituted or unsubstituted cycloalkoxy group having 3 to 10 ring carbon atoms, substituted or unsubstituted ring forming carbon An aryloxy group having 6 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aralkyl group having 7 to 40 carbon atoms, a substituted or unsubstituted heteroaryl group having 3 to 30 ring atoms, a substituted amino group, a substituted silyl group, and a halogen atom , A nitro group, a cyano group or a hydroxyl group.
a, c, d, f, g, and i are each independently an integer of 0 to 4;
b, e, h, and j are each independently an integer of 0 to 3.

17は、好ましくは、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のアルキル基、置換もしくは無置換の環形成炭素数3〜10のシクロアルキル基、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜30のアリール基、又は置換もしくは無置換の環形成原子数3〜30のヘテロアリール基である。
〜Tはそれぞれ独立に、単結合、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜50の芳香族炭化水素環基、又は環形成原子数3〜30の芳香族複素環基である。
R 17 is preferably a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 10 ring carbon atoms, or a substituted or unsubstituted ring carbon number 6 to 30. Or a substituted or unsubstituted heteroaryl group having 3 to 30 ring atoms.
T 1 to T 5 are each independently a single bond, a substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon ring group having 6 to 50 ring carbon atoms, or an aromatic heterocyclic group having 3 to 30 ring atoms.

以下、上述した式の各基の例について説明する。
尚、本願の「水素原子」は、重水素原子及び三重水素原子も含む。また、「環形成炭素」とは飽和環、不飽和環、又は芳香環を構成する炭素原子を意味し、「環形成原子」とはヘテロ環(飽和環、不飽和環、及び芳香環を含む)を構成する炭素原子及びヘテロ原子を意味する。
Hereinafter, examples of each group of the above-described formula will be described.
The “hydrogen atom” in the present application includes a deuterium atom and a tritium atom. The “ring-forming carbon” means a carbon atom constituting a saturated ring, an unsaturated ring, or an aromatic ring, and the “ring-forming atom” includes a hetero ring (including a saturated ring, an unsaturated ring, and an aromatic ring). ) Is a carbon atom and a hetero atom.

置換又は無置換の炭素数1〜20のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、n−デカニル基、n−ウンデカニル基、n−ドデカニル基、ヒドロキシメチル基、1−ヒドロキシエチル基、2−ヒドロキシエチル基、2−ヒドロキシイソブチル基、1,2−ジヒドロキシエチル基、1,3−ジヒドロキシイソプロピル基、2,3−ジヒドロキシ−t−ブチル基、1,2,3−トリヒドロキシプロピル基等が挙げられ、好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、が挙げられる。   Examples of the substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms include methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, and n-pentyl group. N-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, n-nonyl group, n-decanyl group, n-undecanyl group, n-dodecanyl group, hydroxymethyl group, 1-hydroxyethyl group, 2-hydroxyethyl Group, 2-hydroxyisobutyl group, 1,2-dihydroxyethyl group, 1,3-dihydroxyisopropyl group, 2,3-dihydroxy-t-butyl group, 1,2,3-trihydroxypropyl group, etc. Preferably, methyl, ethyl, propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, sec-butyl, tert-butyl Group, n- pentyl group, n- hexyl, n- heptyl, n- octyl, n- nonyl, and the like.

また、L及びLのアルキレン基(アルカン残基)としては、上述のアルキル基に対応する残基が挙げられる。 Further, the alkylene group of L 1 and L 2 (alkane residue) include residues corresponding to the alkyl group described above.

置換又は無置換の環形成炭素数3〜10のシクロアルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロペンチルメチル基、シクロヘキシルメチル基、シクロヘキシルエチル基、4−フルオロシクロヘキシル基、1−アダマンチル基、2−アダマンチル基、1−ノルボルニル基、2−ノルボルニル基等が挙げられ、好ましくはシクロペンチル基、シクロヘキシル基である。   Examples of the substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 10 ring carbon atoms include cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, cyclopentylmethyl group, cyclohexylmethyl group, cyclohexylethyl group, 4-fluorocyclohexyl group, A 1-adamantyl group, a 2-adamantyl group, a 1-norbornyl group, a 2-norbornyl group and the like can be mentioned, and a cyclopentyl group and a cyclohexyl group are preferable.

また、L及びLのシクロアルキレン基(シクロアルカン残基)としては、上述のシクロアルキル基に対応する残基が挙げられる。 In addition, examples of the cycloalkylene group (cycloalkane residue) of L 1 and L 2 include residues corresponding to the above-described cycloalkyl groups.

置換又は無置換の環形成炭素数6〜50(好ましくは6〜30)のアリール基(1価の芳香族炭化水素基)としては、フェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、1−アントリル基、2−アントリル基、9−アントリル基、1−フェナントリル基、2−フェナントリル基、3−フェナントリル基、4−フェナントリル基、9−フェナントリル基、1−ナフタセニル基、2−ナフタセニル基、9−ナフタセニル基、1−ピレニル基、2−ピレニル基、4−ピレニル基、ビフェニル−2−イル基、ビフェニル−3−イル基、ビフェニル−4−イル基、p−ターフェニル−4−イル基、p−ターフェニル−3−イル基、p−ターフェニル−2−イル基、m−ターフェニル−4−イル基、m−ターフェニル−3−イル基、m−ターフェニル−2−イル基、o−トリル基、m−トリル基、p−トリル基、p−t−ブチルフェニル基、p−(2−フェニルプロピル)フェニル基、3−メチル−2−ナフチル基、4−メチル−1−ナフチル基、4−メチル−1−アントリル基、4’−メチルビフェニル−4−イル基、4”−t−ブチル−p−ターフェニル−4−イル基、フルオレン−1−イル基、フルオレン−2−イル基、フルオレン−3−イル基、フルオレン−4−イル基等が挙げられる。   Examples of the substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 50 (preferably 6 to 30) ring-forming carbon atoms (monovalent aromatic hydrocarbon group) include a phenyl group, a 1-naphthyl group, a 2-naphthyl group, 1- Anthryl group, 2-anthryl group, 9-anthryl group, 1-phenanthryl group, 2-phenanthryl group, 3-phenanthryl group, 4-phenanthryl group, 9-phenanthryl group, 1-naphthacenyl group, 2-naphthacenyl group, 9- Naphthacenyl group, 1-pyrenyl group, 2-pyrenyl group, 4-pyrenyl group, biphenyl-2-yl group, biphenyl-3-yl group, biphenyl-4-yl group, p-terphenyl-4-yl group, p -Terphenyl-3-yl group, p-terphenyl-2-yl group, m-terphenyl-4-yl group, m-terphenyl-3-yl group, m-terphenyl-2-yl group Group, o-tolyl group, m-tolyl group, p-tolyl group, pt-butylphenyl group, p- (2-phenylpropyl) phenyl group, 3-methyl-2-naphthyl group, 4-methyl- 1-naphthyl group, 4-methyl-1-anthryl group, 4′-methylbiphenyl-4-yl group, 4 ″ -t-butyl-p-terphenyl-4-yl group, fluoren-1-yl group, fluorene Examples include 2-yl group, fluoren-3-yl group, and fluoren-4-yl group.

中でも、好ましくはフェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、1−アントリル基、2−アントリル基、9−アントリル基、ビフェニル−2−イル基、ビフェニル−3−イル基、ビフェニル−4−イル基、p−ターフェニル−4−イル基、p−ターフェニル−3−イル基、p−ターフェニル−2−イル基、o−トリル基、m−トリル基、p−トリル基、フルオレン−2−イル基、フルオレン−3−イル基であり、より好ましくはフェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、m−トリル基、p−トリル基、フルオレン−2−イル基、フルオレン−3−イル基である。   Among them, a phenyl group, 1-naphthyl group, 2-naphthyl group, 1-anthryl group, 2-anthryl group, 9-anthryl group, biphenyl-2-yl group, biphenyl-3-yl group, biphenyl-4- Yl group, p-terphenyl-4-yl group, p-terphenyl-3-yl group, p-terphenyl-2-yl group, o-tolyl group, m-tolyl group, p-tolyl group, fluorene- 2-yl group and fluoren-3-yl group, more preferably phenyl group, 1-naphthyl group, 2-naphthyl group, m-tolyl group, p-tolyl group, fluoren-2-yl group, fluorene-3 -An yl group.

芳香族炭化水素環基の二価以上の基としては、上述したアリール基から水素原子を除くことにより導かれる基が挙げられる。   Examples of the divalent or higher valent group of the aromatic hydrocarbon ring group include groups derived by removing a hydrogen atom from the above-described aryl group.

置換又は無置換の環形成原子数3〜30のヘテロアリール基(1価の芳香族複素環基)としては、1−ピロリル基、2−ピロリル基、3−ピロリル基、ピラジニル基、2−ピリジニル基、3−ピリジニル基、4−ピリジニル基、1−インドリル基、2−インドリル基、3−インドリル基、4−インドリル基、5−インドリル基、6−インドリル基、7−インドリル基、1−イソインドリル基、2−イソインドリル基、3−イソインドリル基、4−イソインドリル基、5−イソインドリル基、6−イソインドリル基、7−イソインドリル基、2−フリル基、3−フリル基、2−ベンゾフラニル基、3−ベンゾフラニル基、4−ベンゾフラニル基、5−ベンゾフラニル基、6−ベンゾフラニル基、7−ベンゾフラニル基、1−イソベンゾフラニル基、3−イソベンゾフラニル基、4−イソベンゾフラニル基、5−イソベンゾフラニル基、6−イソベンゾフラニル基、7−イソベンゾフラニル基、2−ジベンゾフラニル基、4−ジベンゾフラニル基、キノリル基、3−キノリル基、4−キノリル基、5−キノリル基、6−キノリル基、7−キノリル基、8−キノリル基、1−イソキノリル基、3−イソキノリル基、4−イソキノリル基、5−イソキノリル基、6−イソキノリル基、7−イソキノリル基、8−イソキノリル基、2−キノキサリニル基、5−キノキサリニル基、6−キノキサリニル基、1−カルバゾリル基、2−カルバゾリル基、3−カルバゾリル基、4−カルバゾリル基、9−カルバゾリル基、1−フェナントリジニル基、2−フェナントリジニル基、3−フェナントリジニル基、4−フェナントリジニル基、6−フェナントリジニル基、7−フェナントリジニル基、8−フェナントリジニル基、9−フェナントリジニル基、10−フェナントリジニル基、1−アクリジニル基、2−アクリジニル基、3−アクリジニル基、4−アクリジニル基、9−アクリジニル基、1,7−フェナントロリン−2−イル基、1,7−フェナントロリン−3−イル基、1,7−フェナントロリン−4−イル基、1,7−フェナントロリン−5−イル基、1,7−フェナントロリン−6−イル基、1,7−フェナントロリン−8−イル基、1,7−フェナントロリン−9−イル基、1,7−フェナントロリン−10−イル基、1,8−フェナントロリン−2−イル基、1,8−フェナントロリン−3−イル基、1,8−フェナントロリン−4−イル基、1,8−フェナントロリン−5−イル基、1,8−フェナントロリン−6−イル基、1,8−フェナントロリン−7−イル基、1,8−フェナントロリン−9−イル基、1,8−フェナントロリン−10−イル基、1,9−フェナントロリン−2−イル基、1,9−フェナントロリン−3−イル基、1,9−フェナントロリン−4−イル基、1,9−フェナントロリン−5−イル基、1,9−フェナントロリン−6−イル基、1,9−フェナントロリン−7−イル基、1,9−フェナントロリン−8−イル基、1,9−フェナントロリン−10−イル基、1,10−フェナントロリン−2−イル基、1,10−フェナントロリン−3−イル基、1,10−フェナントロリン−4−イル基、1,10−フェナントロリン−5−イル基、2,9−フェナントロリン−1−イル基、2,9−フェナントロリン−3−イル基、2,9−フェナントロリン−4−イル基、2,9−フェナントロリン−5−イル基、2,9−フェナントロリン−6−イル基、2,9−フェナントロリン−7−イル基、2,9−フェナントロリン−8−イル基、2,9−フェナントロリン−10−イル基、2,8−フェナントロリン−1−イル基、2,8−フェナントロリン−3−イル基、2,8−フェナントロリン−4−イル基、2,8−フェナントロリン−5−イル基、2,8−フェナントロリン−6−イル基、2,8−フェナントロリン−7−イル基、2,8−フェナントロリン−9−イル基、2,8−フェナントロリン−10−イル基、2,7−フェナントロリン−1−イル基、2,7−フェナントロリン−3−イル基、2,7−フェナントロリン−4−イル基、2,7−フェナントロリン−5−イル基、2,7−フェナントロリン−6−イル基、2,7−フェナントロリン−8−イル基、2,7−フェナントロリン−9−イル基、2,7−フェナントロリン−10−イル基、1−フェナジニル基、2−フェナジニル基、1−フェノチアジニル基、2−フェノチアジニル基、3−フェノチアジニル基、4−フェノチアジニル基、10−フェノチアジニル基、1−フェノキサジニル基、2−フェノキサジニル基、3−フェノキサジニル基、4−フェノキサジニル基、10−フェノキサジニル基、2−オキサゾリル基、4−オキサゾリル基、5−オキサゾリル基、2−オキサジアゾリル基、5−オキサジアゾリル基、3−フラザニル基、2−チエニル基、3−チエニル基、2−メチルピロール−1−イル基、2−メチルピロール−3−イル基、2−メチルピロール−4−イル基、2−メチルピロール−5−イル基、3−メチルピロール−1−イル基、3−メチルピロール−2−イル基、3−メチルピロール−4−イル基、3−メチルピロール−5−イル基、2−t−ブチルピロール−4−イル基、3−(2−フェニルプロピル)ピロール−1−イル基、2−メチル−1−インドリル基、4−メチル−1−インドリル基、2−メチル−3−インドリル基、4−メチル−3−インドリル基、2−t−ブチル−1−インドリル基、4−t−ブチル−1−インドリル基、2−t−ブチル−3−インドリル基、4−t−ブチル−3−インドリル基、2−チエニル基、3−チエニル基、2−ベンゾチオフェニル基、3−チオフェニル基、4−チオフェニル基、5−チオフェニル基、6−チオフェニル基、7−チオフェニル基、1−イソチオフェニル基、3−イソチオフェニル基、4−イソチオフェニル基、5−イソチオフェニル基、6−イソチオフェニル基、7−イソチオフェニル基、2−ジベンゾチオフェニル基、4−ジベンゾチオフェニル基等が挙げられる。   Examples of the substituted or unsubstituted heteroaryl group having 3 to 30 ring atoms (monovalent aromatic heterocyclic group) include 1-pyrrolyl group, 2-pyrrolyl group, 3-pyrrolyl group, pyrazinyl group, 2-pyridinyl Group, 3-pyridinyl group, 4-pyridinyl group, 1-indolyl group, 2-indolyl group, 3-indolyl group, 4-indolyl group, 5-indolyl group, 6-indolyl group, 7-indolyl group, 1-isoindolyl Group, 2-isoindolyl group, 3-isoindolyl group, 4-isoindolyl group, 5-isoindolyl group, 6-isoindolyl group, 7-isoindolyl group, 2-furyl group, 3-furyl group, 2-benzofuranyl group, 3-benzofuranyl group Group, 4-benzofuranyl group, 5-benzofuranyl group, 6-benzofuranyl group, 7-benzofuranyl group, 1-isobenzofuranyl group 3-isobenzofuranyl group, 4-isobenzofuranyl group, 5-isobenzofuranyl group, 6-isobenzofuranyl group, 7-isobenzofuranyl group, 2-dibenzofuranyl group, 4- Dibenzofuranyl group, quinolyl group, 3-quinolyl group, 4-quinolyl group, 5-quinolyl group, 6-quinolyl group, 7-quinolyl group, 8-quinolyl group, 1-isoquinolyl group, 3-isoquinolyl group, 4- Isoquinolyl group, 5-isoquinolyl group, 6-isoquinolyl group, 7-isoquinolyl group, 8-isoquinolyl group, 2-quinoxalinyl group, 5-quinoxalinyl group, 6-quinoxalinyl group, 1-carbazolyl group, 2-carbazolyl group, 3- Carbazolyl group, 4-carbazolyl group, 9-carbazolyl group, 1-phenanthridinyl group, 2-phenanthridinyl group, 3-phenanthridyl Group, 4-phenanthridinyl group, 6-phenanthridinyl group, 7-phenanthridinyl group, 8-phenanthridinyl group, 9-phenanthridinyl group, 10-phenanthridinyl group 1-acridinyl group, 2-acridinyl group, 3-acridinyl group, 4-acridinyl group, 9-acridinyl group, 1,7-phenanthrolin-2-yl group, 1,7-phenanthroline-3-yl group, 1, 7-phenanthroline-4-yl group, 1,7-phenanthroline-5-yl group, 1,7-phenanthroline-6-yl group, 1,7-phenanthroline-8-yl group, 1,7-phenanthroline-9- Yl group, 1,7-phenanthroline-10-yl group, 1,8-phenanthroline-2-yl group, 1,8-phenanthroline-3-yl group, 1,8-phenanthro Rin-4-yl group, 1,8-phenanthroline-5-yl group, 1,8-phenanthroline-6-yl group, 1,8-phenanthroline-7-yl group, 1,8-phenanthroline-9-yl group 1,8-phenanthroline-10-yl group, 1,9-phenanthroline-2-yl group, 1,9-phenanthroline-3-yl group, 1,9-phenanthroline-4-yl group, 1,9-phenanthroline -5-yl group, 1,9-phenanthroline-6-yl group, 1,9-phenanthroline-7-yl group, 1,9-phenanthroline-8-yl group, 1,9-phenanthroline-10-yl group, 1,10-phenanthroline-2-yl group, 1,10-phenanthroline-3-yl group, 1,10-phenanthroline-4-yl group, 1,10-phenanthroline-5 Yl group, 2,9-phenanthroline-1-yl group, 2,9-phenanthroline-3-yl group, 2,9-phenanthroline-4-yl group, 2,9-phenanthroline-5-yl group, 2,9 -Phenanthroline-6-yl group, 2,9-phenanthroline-7-yl group, 2,9-phenanthroline-8-yl group, 2,9-phenanthroline-10-yl group, 2,8-phenanthroline-1-yl Group, 2,8-phenanthroline-3-yl group, 2,8-phenanthroline-4-yl group, 2,8-phenanthroline-5-yl group, 2,8-phenanthroline-6-yl group, 2,8- Phenanthroline-7-yl group, 2,8-phenanthroline-9-yl group, 2,8-phenanthroline-10-yl group, 2,7-phenanthroline-1-yl group, 2,7 Phenanthroline-3-yl group, 2,7-phenanthroline-4-yl group, 2,7-phenanthroline-5-yl group, 2,7-phenanthroline-6-yl group, 2,7-phenanthroline-8-yl group 2,7-phenanthroline-9-yl group, 2,7-phenanthroline-10-yl group, 1-phenazinyl group, 2-phenazinyl group, 1-phenothiazinyl group, 2-phenothiazinyl group, 3-phenothiazinyl group 4-phenothiazinyl group, 10-phenothiazinyl group, 1-phenoxazinyl group, 2-phenoxazinyl group, 3-phenoxazinyl group, 4-phenoxazinyl group, 10-phenoxazinyl group, 2-oxazolyl group, 4-oxazolyl group, 5- Oxazolyl group, 2-oxadiazolyl group, 5-oxadiazolyl group, 3-furazanyl Group, 2-thienyl group, 3-thienyl group, 2-methylpyrrol-1-yl group, 2-methylpyrrol-3-yl group, 2-methylpyrrol-4-yl group, 2-methylpyrrol-5-yl Group, 3-methylpyrrol-1-yl group, 3-methylpyrrol-2-yl group, 3-methylpyrrol-4-yl group, 3-methylpyrrol-5-yl group, 2-t-butylpyrrole-4 -Yl group, 3- (2-phenylpropyl) pyrrol-1-yl group, 2-methyl-1-indolyl group, 4-methyl-1-indolyl group, 2-methyl-3-indolyl group, 4-methyl- 3-indolyl group, 2-t-butyl-1-indolyl group, 4-t-butyl-1-indolyl group, 2-t-butyl-3-indolyl group, 4-t-butyl-3-indolyl group, 2 -Thienyl group, 3-thienyl group, -Benzothiophenyl group, 3-thiophenyl group, 4-thiophenyl group, 5-thiophenyl group, 6-thiophenyl group, 7-thiophenyl group, 1-isothiophenyl group, 3-isothiophenyl group, 4-isothiophenyl Group, 5-isothiophenyl group, 6-isothiophenyl group, 7-isothiophenyl group, 2-dibenzothiophenyl group, 4-dibenzothiophenyl group and the like.

好ましくは、1−ピロリル基、2−ピロリル基、3−ピロリル基、1−カルバゾリル基、2−カルバゾリル基、3−カルバゾリル基、4−カルバゾリル基、9−カルバゾリル基、2−ジベンゾフラニル基、4−ジベンゾフラニル基、2−ジベンゾチオフェニル基、4−ジベンゾチオフェニル基である。   Preferably, 1-pyrrolyl group, 2-pyrrolyl group, 3-pyrrolyl group, 1-carbazolyl group, 2-carbazolyl group, 3-carbazolyl group, 4-carbazolyl group, 9-carbazolyl group, 2-dibenzofuranyl group, 4-dibenzofuranyl group, 2-dibenzothiophenyl group, 4-dibenzothiophenyl group.

芳香族複素環基の二価以上の基としては、上述したヘテロアリール基から水素原子を除くことにより導かれる基が挙げられる。   Examples of the divalent or higher valent group of the aromatic heterocyclic group include groups derived by removing a hydrogen atom from the above-described heteroaryl group.

置換アミノ基としては、置換もしくは無置換のモノもしくはジアルキルアミノ基、又は置換もしくは無置換のモノもしくはジアリールアミノ基が挙げられる。
アルキルアミノ基又はジアルキルアミノ基としては、アルキル部分が上述したアルキル基であるものが挙げられる。
アリールアミノ基としては、ジアリールアミノ基及びアルキルアリールアミノ基が挙げられる。窒素原子に結合するアルキル基及びアリール基の例としては上述のアリール基及びアルキル基が挙げられる。
また、L及びLのアリールアミン残基としては、トリアリールアミン残基及びアルキルアリールアミン残基が挙げられる。窒素原子に結合するアルキル基及びアリール基の例としては上述のアリール基及びアルキル基が挙げられる。
Examples of the substituted amino group include a substituted or unsubstituted mono- or dialkylamino group, or a substituted or unsubstituted mono- or diarylamino group.
Examples of the alkylamino group or dialkylamino group include those in which the alkyl moiety is the alkyl group described above.
Examples of the arylamino group include a diarylamino group and an alkylarylamino group. Examples of the alkyl group and aryl group bonded to the nitrogen atom include the above-described aryl group and alkyl group.
In addition, examples of the arylamine residue of L 1 and L 2 include a triarylamine residue and an alkylarylamine residue. Examples of the alkyl group and aryl group bonded to the nitrogen atom include the above-described aryl group and alkyl group.

置換シリル基としては、アルキル及び/又はアリールで置換されたシリル基が挙げられる。ケイ素原子に結合するアルキル基及びアリール基の例としては上述のアリール基及びアルキル基が挙げられる。尚、シリル基に置換しているアルキル基は、同一でも異なっていてもよい。同様に、シリル基に置換しているアリール基は、同一でも異なっていてもよい。
具体的に、トリアルキルシリル基としては、トリメチルシリル基、ビニルジメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリプロピルシリル基、プロピルジメチルシリル基、トリブチルシリル基、t−ブチルジメチルシリル基、トリペンチルシリル基、トリヘプチルシリル基、トリヘキシルシリル基等が挙げられる。好ましくはトリメチルシリル基、トリエチルシリル基である。
アリールシリル基としては、アルキルアリールシリル基やトリアリールシリル基が挙げられる。トリアリールシリル基としては、トリフェニルシリル基、トリナフチルシリル基等が挙げられる。好ましくはトリフェニルシリル基である。アルキルアリールシリル基としては、ジメチルフェニルシリル基、ジエチルフェニルシリル基、ジフェニルメチルシリル基、エチルジフェニルシリル基等が挙げられる。好ましくはジフェニルメチルシリル基、エチルジフェニルシリル基である。
Substituted silyl groups include silyl groups substituted with alkyl and / or aryl. Examples of the alkyl group and aryl group bonded to the silicon atom include the above-described aryl group and alkyl group. The alkyl groups substituted on the silyl group may be the same or different. Similarly, the aryl groups substituted on the silyl group may be the same or different.
Specifically, the trialkylsilyl group includes a trimethylsilyl group, a vinyldimethylsilyl group, a triethylsilyl group, a tripropylsilyl group, a propyldimethylsilyl group, a tributylsilyl group, a t-butyldimethylsilyl group, a tripentylsilyl group, a tripentylsilyl group, A heptylsilyl group, a trihexylsilyl group, etc. are mentioned. A trimethylsilyl group and a triethylsilyl group are preferable.
Examples of the arylsilyl group include an alkylarylsilyl group and a triarylsilyl group. Examples of the triarylsilyl group include a triphenylsilyl group and a trinaphthylsilyl group. A triphenylsilyl group is preferred. Examples of the alkylarylsilyl group include a dimethylphenylsilyl group, a diethylphenylsilyl group, a diphenylmethylsilyl group, and an ethyldiphenylsilyl group. A diphenylmethylsilyl group and an ethyldiphenylsilyl group are preferred.

炭素数1〜20のアルコキシ基は、−OYと表され、Yの例として上記のアルキル基の例が挙げられる。アルコキシ基は、例えばメトキシ基、エトキシ基である。   A C1-C20 alkoxy group is represented as -OY and the example of said alkyl group is mentioned as an example of Y. The alkoxy group is, for example, a methoxy group or an ethoxy group.

環形成炭素数3〜10のシクロアルコキシ基は、−OYと表され、Yの例として上記のシクロアルキル基の例が挙げられる。シクロアルコキシ基は、例えばシクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基である。   A cycloalkoxy group having 3 to 10 ring carbon atoms is represented as -OY, and examples of Y include the above-described cycloalkyl groups. The cycloalkoxy group is, for example, a cyclopentyloxy group or a cyclohexyloxy group.

環形成炭素数6〜30のアリールオキシ基は、−OYと表され、Yの例として上記の芳香族炭化水素環の例が挙げられる。アリールオキシ基は、例えばフェノキシ基である。   The aryloxy group having 6 to 30 ring carbon atoms is represented as -OY, and examples of Y include the above aromatic hydrocarbon rings. The aryloxy group is, for example, a phenoxy group.

炭素数7〜40のアラルキル基は、−Y−Zと表され、Yの例として上記のアルキル基の例に対応するアルキレンの例が挙げられ、Zの例として上記のアリール基の例が挙げられる。アラルキル基のアリール部分は、炭素数が6〜30が好ましい。アルキル部分は炭素数1〜10が好ましく、特に好ましくは1〜6である。例えば、ベンジル基、フェニルエチル基、2−フェニルプロパン−2−イル基である。   The aralkyl group having 7 to 40 carbon atoms is represented by -Y-Z. Examples of Y include alkylene examples corresponding to the above alkyl groups, and examples of Z include the above aryl groups. It is done. The aryl part of the aralkyl group preferably has 6 to 30 carbon atoms. The alkyl moiety preferably has 1 to 10 carbon atoms, particularly preferably 1 to 6 carbon atoms. For example, a benzyl group, a phenylethyl group, and a 2-phenylpropan-2-yl group.

ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子及び臭素原子が挙げられ、好ましくはフッ素原子である。   As a halogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, and a bromine atom are mentioned, Preferably it is a fluorine atom.

上記各基の置換基としては、それぞれ独立に、炭素数1〜20の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数2〜20の直鎖状もしくは分岐状のアルケニル基、環形成炭素数3〜20のシクロアルキル基、炭素数1〜20のアルキル基を有するトリアルキルシリル基、環形成炭素数6〜24のアリール基を有するトリアリールシリル基、炭素数1〜20のアルキル基及び環形成炭素数6〜24のアリール基を有するアルキルアリールシリル基、環形成炭素数6〜24のアリール基、環形成原子数5〜24のヘテロアリール基、炭素数1〜20のアルコキシ基、ハロゲン原子又はシアノ基である。具体的には、上記のアリール基、アルキル基、シクロアルキル基、トリアルキルシリル基、トリアリールシリル基、アルキルアリールシリル基、ヘテロアリール基、アルコキシ基、ハロゲン原子又はシアノ基が挙げられる。さらに、これらの基が同様の置換基を有していてもよい。
アルケニル基としては、上述したアルキル基の分子内に不飽和結合を有する置換基が挙げられる。
As the substituent for each of the above groups, each independently a linear or branched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a linear or branched alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms, or a ring-forming carbon number of 3 A cycloalkyl group having 20 to 20 carbon atoms, a trialkylsilyl group having an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a triarylsilyl group having an aryl group having 6 to 24 ring carbon atoms, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and ring formation An alkylarylsilyl group having an aryl group having 6 to 24 carbon atoms, an aryl group having 6 to 24 ring carbon atoms, a heteroaryl group having 5 to 24 ring atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, a halogen atom, or It is a cyano group. Specific examples include the aryl group, alkyl group, cycloalkyl group, trialkylsilyl group, triarylsilyl group, alkylarylsilyl group, heteroaryl group, alkoxy group, halogen atom, and cyano group. Furthermore, these groups may have a similar substituent.
Examples of the alkenyl group include a substituent having an unsaturated bond in the molecule of the alkyl group described above.

本発明において架橋性基は、公知の不飽和二重結合やエポキシ基、オキタセン等の熱、光、酸、電子線等により「架橋性能を有する部分」を有する基を意味する。架橋性基としては、例えば、以下のようなものが挙げられる。

Figure 2013087216
In the present invention, the crosslinkable group means a group having a “part having crosslinkability” by heat, light, acid, electron beam or the like such as a known unsaturated double bond, epoxy group, or okitacene. Examples of the crosslinkable group include the following.
Figure 2013087216

上記各式において、nは0〜10の整数を表す。
は、水素原子、アルキル基又はハロゲンを表す。アルキル基としては、炭素数1〜20のものが挙げられ、特に、好ましくは、炭素数1〜4のアルキル基である。
は、水素原子、アルキル基、アミノ基、アリール基、ハロゲン原子、アミド基又はカルボニル基を表す。アルキル基としては、炭素数1〜20のものが挙げられ、特に、好ましくは、炭素数1〜4のアルキル基である。
In said each formula, n represents the integer of 0-10.
R X represents a hydrogen atom, an alkyl group, or a halogen. As an alkyl group, a C1-C20 thing is mentioned, Especially preferably, it is a C1-C4 alkyl group.
R Y represents a hydrogen atom, an alkyl group, an amino group, an aryl group, a halogen atom, an amide group or a carbonyl group. As an alkyl group, a C1-C20 thing is mentioned, Especially preferably, it is a C1-C4 alkyl group.

具体的には、下記式(31)〜(42)で示される基から選択される基が好ましい。

Figure 2013087216
Specifically, groups selected from the groups represented by the following formulas (31) to (42) are preferable.
Figure 2013087216

尚、架橋性基は上記L及びLで例示した連結基に上記の架橋性基を結合した基も含む。なかでも、下記式(43)〜(46)で示される基から選択される基が好ましい。

Figure 2013087216
(式(45)及び(46)において、oは、1〜10の整数である。) Incidentally, the crosslinking group also includes groups bonded to the crosslinkable group in the linking group exemplified above L 1 and L 2. Of these, a group selected from the groups represented by the following formulas (43) to (46) is preferable.
Figure 2013087216
(In formulas (45) and (46), o is an integer of 1 to 10.)

本発明の重合体は、下記式(1)〜(7)で表されるものが好ましい。なかでも、下記式(8)〜(25)で表されるものが好ましい。尚、下記式においては、構造単位AとBの結合状態、及び重合体に占める含有率を表記するために、便宜上、ブロック共重合体のように記載されているが、ブロック共重合体のみを示すものではない。本発明の重合体はブロック共重合体に限定されず、ランダム共重合体(例えば、―ABBABBBAAABA―等)等も含む。   The polymers of the present invention are preferably those represented by the following formulas (1) to (7). Especially, what is represented by following formula (8)-(25) is preferable. In addition, in the following formula, in order to express the bonding state of the structural units A and B and the content ratio in the polymer, it is described as a block copolymer for convenience, but only the block copolymer is described. It is not shown. The polymer of the present invention is not limited to a block copolymer, and includes a random copolymer (for example, -ABBABBBAAABA-) and the like.

Figure 2013087216
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上記の各式中、R、R、R、R、L及びLは、上記式(A)及び(B)のR、R、R、R、L及びLと同様である。
m及びnはそれぞれ、重合体に占める各構造単位の含有率(モル比)を表し、mは0.01〜0.99、nは0.01〜0.99であり、m+n=1である。
lは、0又は1である。
In the formulas above, R 1, R 2, R 5, R 6, L 1 and L 2, R 1, R 2 in the formula (A) and (B), R 5, R 6, L 1 and is the same as that of L 2.
m and n each represent the content (molar ratio) of each structural unit in the polymer, m is 0.01 to 0.99, n is 0.01 to 0.99, and m + n = 1. .
l is 0 or 1.

本発明では、上記式(1)〜(25)で表される各重合体のRの少なくとも1つ又はRの少なくとも1つが架橋性基である重合体がより好ましい。この場合、Lは架橋性基であってもよいが、すべてのLが架橋性基でなくともよい。
また、上記式(1)〜(21)で表される各重合体のLの少なくとも1つが架橋性基である重合体であることが好ましい。この場合、R及びRは架橋性基であってもよいが、すべてのR及びRが架橋性基でなくともよい。
In the present invention, a polymer in which at least one of R 5 or at least one of R 6 of each polymer represented by the above formulas (1) to (25) is a crosslinkable group is more preferable. In this case, L 2 may be a crosslinkable group, but not all L 2 may be crosslinkable groups.
Further, it is preferable that the formula (1) to at least one of L 2 of each polymer represented by (21) is a polymer which is crosslinkable group. In this case, R 5 and R 6 may be crosslinkable groups, but not all R 5 and R 6 may be crosslinkable groups.

また、式(1)〜(25)で表される各重合体の、R、R、R及びRの少なくとも1つが、上述した式(51)〜(55)で表される基から選択される基であることが好ましい。 In addition, at least one of R 1 , R 2 , R 5 and R 6 of each polymer represented by the formulas (1) to (25) is a group represented by the above-described formulas (51) to (55). Is preferably a group selected from:

本発明の重合体の分子量は特に制限はなく、2量体以上のオリゴマーから超高分子体まで含まれる。
重合体は数平均分子量(Mn)で、好ましくは10〜10、より好ましくは5×10〜10である。また、重量平均分子量(Mw)で、好ましくは10〜10、より好ましくは5×10〜10である。また、Mw/Mnで表される分子量分布は、特に制限はないが、10以下が好ましく、3以下がさらに好ましい。
There is no restriction | limiting in particular in the molecular weight of the polymer of this invention, From the oligomer more than a dimer to an ultra high molecular body is contained.
The polymer has a number average molecular weight (Mn), preferably 10 3 to 10 8 , more preferably 5 × 10 3 to 10 6 . Further, a weight average molecular weight (Mw), preferably from 10 3 to 10 8, more preferably from 5 × 10 3 to 10 6. The molecular weight distribution represented by Mw / Mn is not particularly limited, but is preferably 10 or less, and more preferably 3 or less.

重合体の分子量が大きすぎると、ゲル化により素子作製において均質な製膜ができなくなる。一方、分子量が小さすぎると溶解性の制御が困難になる場合がある。
尚、数平均分子量及び重量平均分子量は、サイズ排除クロマトグラフィー(SEC)を用い、標準ポリスチレンで検量して求めることができる。
If the molecular weight of the polymer is too large, it becomes impossible to form a uniform film in device fabrication due to gelation. On the other hand, if the molecular weight is too small, it may be difficult to control the solubility.
The number average molecular weight and the weight average molecular weight can be determined by calibration with standard polystyrene using size exclusion chromatography (SEC).

本発明の重合体は、構造単位A及びBのP、Q、L及びLの各基に対応する重合性単量体を重合することにより得られる。
重合方法は特に限定されないが、上記各基に対応するジハライド誘導体と、ジボロン酸誘導体又はボロン酸エステル類誘導体をパラジウム触媒でカップリングさせる鈴木重合法が望ましい。ジハライド誘導体のハロゲンは、Clよりも、Br又はIがより好ましい。ジハライド誘導体のカップリング相手は、ボロン酸よりもボロン酸エステル類誘導体がより好ましい。特に、ボロン酸エステル類誘導体、ジピナコールエステル誘導体、ジ−1,3−プロパンジオール誘導体が好ましい。
The polymer of the present invention is obtained by polymerizing a polymerizable monomer corresponding to each group of P, Q, L 1 and L 2 of the structural units A and B.
The polymerization method is not particularly limited, but the Suzuki polymerization method in which a dihalide derivative corresponding to each of the above groups and a diboronic acid derivative or a boronic acid ester derivative are coupled with a palladium catalyst is desirable. The halogen of the dihalide derivative is more preferably Br or I than Cl. The coupling partner of the dihalide derivative is more preferably a boronic acid ester derivative than the boronic acid. In particular, boronic acid ester derivatives, dipinacol ester derivatives, and di-1,3-propanediol derivatives are preferable.

本発明の重合体において、構造単位Aと構造単位Bのモル比は、それぞれ、0.01〜0.99であることが好ましい。この範囲にて、重合体に要求される熱硬化性が得られるように調整すればよい。熱架橋性基を有する構造単位Bの含有率が高くなると、重合体の架橋性も高くなる。
さらに好ましくは、構造単位Aのモル比が0.85〜0.99であり、特に好ましくは、0.95〜0.99である。
In the polymer of the present invention, the molar ratio between the structural unit A and the structural unit B is preferably 0.01 to 0.99, respectively. Adjustments may be made so that the thermosetting properties required for the polymer are obtained within this range. When the content of the structural unit B having a thermally crosslinkable group increases, the crosslinkability of the polymer also increases.
More preferably, the molar ratio of the structural unit A is 0.85 to 0.99, and particularly preferably 0.95 to 0.99.

以下、本発明の重合体の具体例[化合物(1−1)〜(196−18)]を示す。但し、本発明の重合体は、これらに限定されるものではない。
尚、以下の各表において、Hは水素原子であり、H−1〜H−18、H−29及びH−30は以下の基を表す。m及びnはそれぞれ、重合体に占める各構造単位の含有率(モル比)を表し、mは0.01〜0.99、nは0.01〜0.99であり、m+n=1である。
また、上記式(1)〜(25)と同様に、下記式においては構造単位AとBの結合状態、及び重合体に占める含有率を表記するために、便宜上、ブロック共重合体のように記載されているが、ブロック共重合体のみを示すものではない。
Specific examples of the polymer of the present invention [compounds (1-1) to (196-18)] are shown below. However, the polymer of the present invention is not limited to these.
In the following tables, H is a hydrogen atom, and H-1 to H-18, H-29, and H-30 represent the following groups. m and n each represent the content (molar ratio) of each structural unit in the polymer, m is 0.01 to 0.99, n is 0.01 to 0.99, and m + n = 1. .
Similarly to the above formulas (1) to (25), in the following formula, in order to express the bonding state of the structural units A and B and the content of the polymer in the polymer, for convenience, like a block copolymer Although described, it does not represent only block copolymers.

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本発明の重合体は、塗布法によって薄膜を形成できる。塗布法としては、湿式成膜法が好適に用いられる。具体的に、凸版印刷法、凹版印刷法、平版印刷法、孔版印刷法、及び、それらとオフセット印刷法を組み合わせた印刷法、インクジェット印刷法、ディスペンサー塗布スピンコート法、バーコート法、ディップコート法、スプレーコート法、スリットコート法、ロールコート法、キャップコート法、グラビアロールコート法、メニスカスコート法等が適用できる。特に微細なパターニングを要する場合、凸版印刷法、凹版印刷法、平版印刷法、孔版印刷法、及び、それらとオフセット印刷法を組み合わせた印刷法、インクジェット印刷法、ディスペンサー塗布等が好ましい。また、転写前駆基板へ本重合体を前記の乾式または湿式成膜法により成膜した後、レーザー光や熱プレスなどで対象とする電極を有する配線基板上へ転写する方法を用いることもできる。これらの方法による成膜は当業者に周知の条件により行うことができ、その詳細は省略する。   The polymer of the present invention can form a thin film by a coating method. As the coating method, a wet film forming method is preferably used. Specifically, letterpress printing method, intaglio printing method, planographic printing method, stencil printing method, printing method combining these and offset printing method, inkjet printing method, dispenser spin coating method, bar coating method, dip coating method Spray coating method, slit coating method, roll coating method, cap coating method, gravure roll coating method, meniscus coating method and the like can be applied. In particular, when fine patterning is required, a relief printing method, an intaglio printing method, a lithographic printing method, a stencil printing method, a printing method combining these and an offset printing method, an inkjet printing method, a dispenser coating, and the like are preferable. Alternatively, a method may be used in which the polymer is formed on the transfer precursor substrate by the dry or wet film formation method described above, and then transferred onto a wiring substrate having a target electrode by laser light or heat press. Film formation by these methods can be performed under conditions well known to those skilled in the art, and details thereof are omitted.

塗布法に使用する塗布液は、本発明の重合体と溶媒を含む。塗布液中の重合体は、溶媒に溶解していても、分散していてもよい。
溶媒は好ましくは有機溶媒であり、当該有機溶媒としては、例えばクロロホルム、クロロベンゼン、クロロトルエン、クロロキシレン、クロロアニソール、ジクロロメタン、ジクロロベンゼン、ジクロロトルエン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、トリクロロベンゼン、トリクロロメチルベンゼン、ブロモベンゼン、ジブロモベンゼン、ブロモアニソール等の塩素系溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジオキソラン、オキサゾール、メチルベンゾオキサゾール、ベンゾイソオキサゾール、フラン、フラザン、ベンゾフラン、ジヒドロベンゾフラン等のエーテル系溶媒、エチルベンゼン、ジエチルベンゼン、トリエチルベンゼン、トリメチルベンゼン、トリメトキシベンゼン、プロピルベンゼン、イソプロピルベンゼン、ジイソプロピルベンゼン、ジブチルベンゼン、アミルベンゼン、ジヘキシルベンゼン、シクロヘキシルベンゼン、テトラメチルベンゼン、ドデシルベンゼン、ベンゾニトリル、アセトフェノン、メチルアセトフェノン、メトキシアセトフェノン、トルイル酸エチルエステル、トルエン、エチルトルエン、メトキシトルエン、ジメトキシトルエン、トリメトキシトルエン、イソプロピルトルエン、キシレン、ブチルキシレン、イソプロピルキシレン、アニソール、エチルアニソール、ジメチルアニソール、トリメチルアニソール、プロピルアニソール、イソプロピルアニソール、ブチルアニソール、メチルエチルアニソール、アネトールアニシルアルコール、安息香酸メチル、安息香酸エチル、安息香酸プロピル、安息香酸ブチル、ジフェニルエーテル、ブチルフェニルエーテル、ベンジルメチルエーテル、ベンジルエチルエーテル、メチレンジオキシベンゼン、メチルナフタレン、テトラヒドロナフタレン、アニリン、メチルアニリン、エチルアニリン、ブチルアニリン、ビフェニル、メチルビフェニル、イソプロピルビフェニル等の芳香族炭化水素系溶媒、シクロへキサン、メチルシクロへキサン、n−ペンタン、n−へキサン、n−へプタン、n−オクタン、n−ノナン、n−デカン、テトラデカン、デカリン、イソプロピルシクロヘキサン等の脂肪族炭化水素系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、シクロへキサノン、アセトフェノン等のケトン系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル、エチルセロソルブアセテート、安息香酸メチル、酢酸フェニル等のエステル系溶媒、エチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジメトキシエタン、プロピレングリコール、ジエトキシメタン、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、グリセリン、1,2−へキサンジオール等の多価アルコール及びその誘導体、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、シクロへキサノール等のアルコール系溶媒、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶媒、N−メチル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒が例示される。また、これらの有機溶媒は、単独で、又は複数組み合わせて用いることができる。
The coating liquid used for the coating method contains the polymer of the present invention and a solvent. The polymer in the coating solution may be dissolved or dispersed in the solvent.
The solvent is preferably an organic solvent, and examples of the organic solvent include chloroform, chlorobenzene, chlorotoluene, chloroxylene, chloroanisole, dichloromethane, dichlorobenzene, dichlorotoluene, dichloroethane, trichloroethane, trichlorobenzene, trichloromethylbenzene, and bromobenzene. , Chlorinated solvents such as dibromobenzene and bromoanisole, ether solvents such as tetrahydrofuran, dioxane, dioxolane, oxazole, methylbenzoxazole, benzoisoxazole, furan, furazane, benzofuran, dihydrobenzofuran, ethylbenzene, diethylbenzene, triethylbenzene, trimethyl Benzene, trimethoxybenzene, propylbenzene, isopropylbenzene, diisopropyl Benzene, dibutylbenzene, amylbenzene, dihexylbenzene, cyclohexylbenzene, tetramethylbenzene, dodecylbenzene, benzonitrile, acetophenone, methylacetophenone, methoxyacetophenone, toluic acid ethyl ester, toluene, ethyltoluene, methoxytoluene, dimethoxytoluene, trimethoxy Toluene, isopropyltoluene, xylene, butylxylene, isopropylxylene, anisole, ethylanisole, dimethylanisole, trimethylanisole, propylanisole, isopropylanisole, butylanisole, methylethylanisole, anetholeanisyl alcohol, methylbenzoate, ethylbenzoate, Propyl benzoate, butyl benzoate, diphenyl ether, Aromatic hydrocarbon solvents such as tilphenyl ether, benzyl methyl ether, benzyl ethyl ether, methylenedioxybenzene, methylnaphthalene, tetrahydronaphthalene, aniline, methylaniline, ethylaniline, butylaniline, biphenyl, methylbiphenyl, isopropylbiphenyl, Aliphatic hydrocarbon solvents such as cyclohexane, methylcyclohexane, n-pentane, n-hexane, n-heptane, n-octane, n-nonane, n-decane, tetradecane, decalin, isopropylcyclohexane, acetone , Ketone solvents such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, acetophenone, ester solvents such as ethyl acetate, butyl acetate, ethyl cellosolve acetate, methyl benzoate, phenyl acetate, ethylene glycol Polyhydric alcohols such as ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, dimethoxyethane, propylene glycol, diethoxymethane, triethylene glycol monoethyl ether, glycerin, 1,2-hexanediol and the like Examples include derivatives, alcohol solvents such as methanol, ethanol, propanol, isopropanol, cyclohexanol, sulfoxide solvents such as dimethyl sulfoxide, and amide solvents such as N-methyl-2-pyrrolidone and N, N-dimethylformamide. . These organic solvents can be used alone or in combination.

これらのうち、溶解性、成膜の均一性、粘度特性等の観点から、少なくともトルエン、キシレン、エチルベンゼン、アミルベンゼン、アニソール、4−メトキシトルエン、2−メトキシトルエン、1,2−ジメトキシベンゼン、メシチレン、テトラヒドロナフタレン、シクロヘキシルベンゼン、2,3−ジヒドロベンゾフラン、シクロへキサノン、メチルシクロヘキサノンのいずれか一種以上を含むことが好ましい。   Among these, from the viewpoint of solubility, film formation uniformity, viscosity characteristics, etc., at least toluene, xylene, ethylbenzene, amylbenzene, anisole, 4-methoxytoluene, 2-methoxytoluene, 1,2-dimethoxybenzene, mesitylene , Tetrahydronaphthalene, cyclohexylbenzene, 2,3-dihydrobenzofuran, cyclohexanone, and methylcyclohexanone are preferably included.

また、本成膜用の溶液には、必要に応じて粘度の調整剤、表面張力の調整剤、架橋反応の開始剤、架橋反応の触媒を添加することもできる。なお、粘度の調整剤、表面張力の調整剤、架橋反応の開始剤、架橋反応の触媒は、膜中に残留しても素子特性に影響を与えないものを選択するか、成膜工程で膜中から除去できるものが望ましい。
本発明においては、溶媒中に重合体が少なくとも一種類以上含まれ、重合体が分散又は溶解され、分散体又は溶液となっているものが好ましい。
In addition, a viscosity adjusting agent, a surface tension adjusting agent, a crosslinking reaction initiator, and a crosslinking reaction catalyst may be added to the film-forming solution as necessary. For the viscosity modifier, surface tension modifier, crosslinking reaction initiator, and crosslinking reaction catalyst, select one that does not affect the device characteristics even if it remains in the film, or the film is formed in the film formation process. What can be removed from inside is desirable.
In the present invention, it is preferable that at least one polymer is contained in the solvent and the polymer is dispersed or dissolved to form a dispersion or solution.

成膜後、真空や加熱により乾燥し、溶媒を除去することにより、重合体の薄膜が形成できる。この薄膜を、光照射や加熱(例えば、250℃程度)し、重合体を架橋させるにより、得られる膜を完全に不溶化することができる。   After the film formation, the polymer thin film can be formed by drying by vacuum or heating and removing the solvent. The resulting film can be completely insolubilized by light irradiation or heating (for example, about 250 ° C.) to crosslink the polymer.

尚、薄膜形成時には、リン系酸化防止剤等、有機EL素子の性能に影響しない酸化防止剤や重合開始剤等の反応開始剤を配合してもよい。また、用途に合わせて、他の化合物(例えば、後述するアクセプター材料)等を配合してもよい。   When forming a thin film, a reaction initiator such as an antioxidant or a polymerization initiator that does not affect the performance of the organic EL element, such as a phosphorus-based antioxidant, may be blended. Moreover, you may mix | blend another compound (for example, acceptor material mentioned later) etc. according to a use.

重合体を架橋(重合)して硬化する方法は、特に限定されないが、例えば、ラジカル重合法、イオン重合法、リビング重合法、ラジカルリビング重合法、配位重合等が挙げられる。
ラジカル重合法の開始剤としては、例えばアゾ化合物、過酸化物が挙げられ、アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)、アゾビスイソブチル酸ジエステル誘導体、過酸化ジベンゾイル(BPO)が好ましい。
カチオン重合の開始剤としては、各種強酸(p−トルエンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸等)、ルイス酸が好ましい。
また、光照射及び/又は熱処理にて、重合することも可能である。
A method of curing the polymer by crosslinking (polymerization) is not particularly limited, and examples thereof include radical polymerization, ionic polymerization, living polymerization, radical living polymerization, and coordination polymerization.
Examples of the initiator for the radical polymerization method include azo compounds and peroxides, and azobisisobutyronitrile (AIBN), azobisisobutyric acid diester derivatives, and dibenzoyl peroxide (BPO) are preferable.
As the initiator for cationic polymerization, various strong acids (p-toluenesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid, etc.) and Lewis acids are preferable.
It is also possible to polymerize by light irradiation and / or heat treatment.

本発明の重合体は、塗布法によって薄膜が形成でき、得られる膜は正孔輸送性を有する。従って、エレクトロニクス用材料として有用である。例えば、エレクトロルミネッセンス素子、光電変換素子又はトランジスタ等の電子素子に使用できる。
特に、有機エレクトロルミネッセンス素子用材料、なかでも陽極と発光層間である正孔輸送領域で使用する材料(正孔輸送層、正孔注入層等)として好適である。
The polymer of the present invention can form a thin film by a coating method, and the resulting film has a hole transporting property. Therefore, it is useful as an electronic material. For example, it can be used for an electronic element such as an electroluminescence element, a photoelectric conversion element, or a transistor.
In particular, it is suitable as a material for an organic electroluminescence element, particularly a material (hole transport layer, hole injection layer, etc.) used in a hole transport region between an anode and a light emitting layer.

本発明の有機EL素子は、陰極と陽極間に少なくとも発光層を含む1以上の有機薄膜層が挟持されている。そして、有機薄膜層の少なくとも1層が、本発明の重合体を含有する。
本発明では、陽極と発光層間に有機薄膜層を有し、この層が、本発明の重合体を含む有機薄膜層であることが好ましい。正孔輸送領域に形成される層としては、正孔輸送層や正孔注入層等が挙げられる。
また、正孔注入層又は正孔輸送層が発光層と接していることが好ましい。この場合、正孔注入層又は正孔輸送層に続いて、発光層を湿式成膜法により成膜することができる。
In the organic EL device of the present invention, one or more organic thin film layers including at least a light emitting layer are sandwiched between a cathode and an anode. And at least 1 layer of an organic thin film layer contains the polymer of this invention.
In this invention, it has an organic thin film layer between an anode and a light emitting layer, and it is preferable that this layer is an organic thin film layer containing the polymer of this invention. Examples of the layer formed in the hole transport region include a hole transport layer and a hole injection layer.
In addition, the hole injection layer or the hole transport layer is preferably in contact with the light emitting layer. In this case, the light emitting layer can be formed by a wet film forming method following the hole injection layer or the hole transport layer.

本発明では、上記重合体が正孔輸送層及び正孔注入層の少なくとも1層の主成分として含有されていることがより好ましい。具体的には、正孔輸送層又は正孔注入層においては、本発明の重合体の含有量は、好ましくは51〜100重量%である。   In the present invention, the polymer is more preferably contained as a main component of at least one of a hole transport layer and a hole injection layer. Specifically, in the hole transport layer or the hole injection layer, the content of the polymer of the present invention is preferably 51 to 100% by weight.

さらに、正孔輸送層及び正孔注入層の少なくとも1層が、アクセプター材料を含有することが好ましい。特に、陽極に接する層が含有することが好ましい。アクセプター材料を含有させることにより、正孔注入・輸送層中の正孔密度を増加したり、正孔移動度が高まるので、得られる有機EL素子の駆動電圧を低下させたり、キャリアバランスが向上して長寿命化する。   Furthermore, it is preferable that at least one of the hole transport layer and the hole injection layer contains an acceptor material. In particular, the layer in contact with the anode is preferably contained. Inclusion of the acceptor material increases the hole density in the hole injecting / transporting layer and increases the hole mobility, thereby reducing the driving voltage of the resulting organic EL device and improving the carrier balance. To extend the service life.

アクセプター材料は、好ましくは電子吸引性の置換基又は電子欠乏環を有する有機化合物である。
電子吸引性の置換基として、例えば、ハロゲン、CN−、カルボニル基、アリールホウ素基等が挙げられる。
The acceptor material is preferably an organic compound having an electron-withdrawing substituent or an electron-deficient ring.
Examples of the electron-withdrawing substituent include halogen, CN-, carbonyl group, arylboron group and the like.

電子欠乏環として、例えば、2−ピリジル、3−ピリジル、4−ピリジル、2−キノリル、3−キノリル、4−キノリル、2−イミダゾール、4−イミダゾール、3−ピラゾール、4−ピラゾール、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、シンノリン、フタラジン、キナゾリン、キノキサリン、3−(1,2,4−N)−トリアゾリル、5−(1,2,4−N)−トリアゾリル、5−テトラゾリル、4−(1−O,3−N)−オキサゾール、5−(1−O,3−N)−オキサゾール、4−(1−S,3−N)−チアゾール、5−(1−S,3−N)−チアゾール、2−ベンゾキサゾール、2−ベンゾチアゾール、4−(1,2,3−N)−ベンゾトリアゾール、及びベンズイミダゾールからなる群から選択される化合物等が挙げられるが、必ずしもこれらに限定されるわけではない。   Examples of electron-deficient rings include 2-pyridyl, 3-pyridyl, 4-pyridyl, 2-quinolyl, 3-quinolyl, 4-quinolyl, 2-imidazole, 4-imidazole, 3-pyrazole, 4-pyrazole, pyridazine, and pyrimidine. , Pyrazine, cinnoline, phthalazine, quinazoline, quinoxaline, 3- (1,2,4-N) -triazolyl, 5- (1,2,4-N) -triazolyl, 5-tetrazolyl, 4- (1-O, 3-N) -oxazole, 5- (1-O, 3-N) -oxazole, 4- (1-S, 3-N) -thiazole, 5- (1-S, 3-N) -thiazole, 2 A compound selected from the group consisting of -benzoxazole, 2-benzothiazole, 4- (1,2,3-N) -benzotriazole, and benzimidazole, Not be limited to these.

本発明の有機EL素子の代表的な素子構成としては、下記(1)〜(13)等の構造を挙げることができる。
(1)陽極/発光層/陰極
(2)陽極/正孔注入層/発光層/陰極
(3)陽極/発光層/電子注入層/陰極
(4)陽極/正孔注入層/発光層/電子注入層/陰極
(5)陽極/有機半導体層/発光層/陰極
(6)陽極/有機半導体層/電子障壁層/発光層/陰極
(7)陽極/有機半導体層/発光層/付着改善層/陰極
(8)陽極/正孔注入層/正孔輸送層/発光層/電子注入層/陰極
(9)陽極/絶縁層/発光層/絶縁層/陰極
(10)陽極/無機半導体層/絶縁層/発光層/絶縁層/陰極
(11)陽極/有機半導体層/絶縁層/発光層/絶縁層/陰極
(12)陽極/絶縁層/正孔注入層/正孔輸送層/発光層/絶縁層/陰極
(13)陽極/絶縁層/正孔注入層/正孔輸送層/発光層/電子注入層/陰極
As typical element structures of the organic EL element of the present invention, the following structures (1) to (13) can be exemplified.
(1) Anode / light emitting layer / cathode (2) Anode / hole injection layer / light emitting layer / cathode (3) Anode / light emitting layer / electron injection layer / cathode (4) Anode / hole injection layer / light emitting layer / electron Injection layer / cathode (5) Anode / organic semiconductor layer / light emitting layer / cathode (6) Anode / organic semiconductor layer / electron barrier layer / light emitting layer / cathode (7) Anode / organic semiconductor layer / light emitting layer / adhesion improving layer / Cathode (8) Anode / hole injection layer / hole transport layer / light emitting layer / electron injection layer / cathode (9) Anode / insulating layer / light emitting layer / insulating layer / cathode (10) Anode / inorganic semiconductor layer / insulating layer / Light emitting layer / insulating layer / cathode (11) Anode / organic semiconductor layer / insulating layer / light emitting layer / insulating layer / cathode (12) Anode / insulating layer / hole injection layer / hole transport layer / light emitting layer / insulating layer / Cathode (13) Anode / insulating layer / hole injection layer / hole transport layer / light emitting layer / electron injection layer / cathode

これらの中で通常(8)の構成が好ましく用いられるが、これらに限定されるものではない。   Of these, the configuration (8) is preferably used, but is not limited thereto.

本発明の有機EL素子において、本発明の重合体を含有する有機薄膜層以外の構成部材は、公知のものを使用できる。例えば、発光層はスチリルアミン化合物、アリールアミン化合物又はフルオランテン系化合物を含有することが好ましい。   In the organic EL device of the present invention, known members can be used for the constituent members other than the organic thin film layer containing the polymer of the present invention. For example, the light emitting layer preferably contains a styrylamine compound, an arylamine compound, or a fluoranthene compound.

本発明の重合体を含有する有機薄膜層以外の形成は、真空蒸着、スパッタリング、プラズマ、イオンプレーティング等の乾式成膜法やコーティング法、印刷法等の湿式成膜法等の湿式成膜法等の公知の方法を適用することができる。
各層の膜厚は特に限定されるものではないが、適切な膜厚に設定する必要がある。膜厚が厚すぎると、一定の光出力を得るために大きな印加電圧が必要になり効率が悪くなる。膜厚が薄すぎるとピンホール等が発生して、電界を印加しても充分な発光輝度が得られない。通常の膜厚は5nm〜10μmの範囲が適しているが、10nm〜0.2μmの範囲がさらに好ましい。
Forming other than the organic thin film layer containing the polymer of the present invention is a wet film forming method such as a vacuum film forming method such as vacuum deposition, sputtering, plasma, ion plating, or a wet film forming method such as a coating method or a printing method. A known method such as the above can be applied.
The thickness of each layer is not particularly limited, but must be set to an appropriate thickness. If the film thickness is too thick, a large applied voltage is required to obtain a constant light output, resulting in poor efficiency. If the film thickness is too thin, pinholes and the like are generated, and sufficient light emission luminance cannot be obtained even when an electric field is applied. The normal film thickness is suitably in the range of 5 nm to 10 μm, but more preferably in the range of 10 nm to 0.2 μm.

本発明の重合体の不溶化後に、さらに、上層に積層する場合も上記と同様に乾式成膜法、湿式成膜法のいずれを用いることもできるが、特に湿式成膜法を好適に用いることができる。この上層を積層する手段としては、凸版印刷法、凹版印刷法、平版印刷法、孔版印刷法、及び、それらとオフセット印刷法を組み合わせた印刷法、インクジェット印刷法、ディスペンサー塗布スピンコート法、バーコート法、ディップコート法、スプレーコート法、スリットコート法、ロールコート法、キャップコート法、グラビアロールコート法、メニスカスコート法等が適用できる。   After insolubilization of the polymer of the present invention, in the case of further laminating it, any of the dry film formation method and the wet film formation method can be used as described above, but the wet film formation method is particularly preferably used. it can. As the means for laminating this upper layer, there are a relief printing method, an intaglio printing method, a lithographic printing method, a stencil printing method, a printing method combining these and an offset printing method, an ink jet printing method, a dispenser spin coating method, a bar coating method. The method, dip coating method, spray coating method, slit coating method, roll coating method, cap coating method, gravure roll coating method, meniscus coating method, etc. can be applied.

各種材料及び層形成方法により陽極、発光層、必要に応じて正孔注入・輸送層、及び必要に応じて電子注入・輸送層を形成し、さらに陰極を形成することにより有機EL素子を作製することができる。また陰極から陽極へ、前記と逆の順序で有機EL素子を作製することもできる。   An organic EL device is produced by forming an anode, a light emitting layer, a hole injection / transport layer as required, and an electron injection / transport layer as necessary, and further forming a cathode by various materials and layer forming methods. be able to. Moreover, an organic EL element can also be produced from the cathode to the anode in the reverse order.

実施例1
下記の重合体P−1を合成した。

Figure 2013087216
Example 1
The following polymer P-1 was synthesized.
Figure 2013087216

(1)単量体M−1の合成

Figure 2013087216
(1) Synthesis of monomer M-1
Figure 2013087216

(a)中間体M−1−1の合成
窒素雰囲気下、冷却管付き500mL三口フラスコ中に、カルバゾール10.0g(59.8mmol)に、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)100mLを入れ、氷水浴にて0℃まで冷却した。冷却後、N−ブロモスクシンイミド(NBS)10.6g(59.8mmol)をDMF100mLに溶かした溶液をゆっくり滴下した。滴下終了後、氷水浴を外し、室温に戻し、8時間撹拌した。
(A) Synthesis of Intermediate M-1-1 Under a nitrogen atmosphere, 100 mL of N, N-dimethylformamide (DMF) was added to 10.0 g (59.8 mmol) of carbazole in a 500 mL three-necked flask with a cooling tube, and ice water Cooled to 0 ° C. in a bath. After cooling, a solution prepared by dissolving 10.6 g (59.8 mmol) of N-bromosuccinimide (NBS) in 100 mL of DMF was slowly added dropwise. After completion of the dropwise addition, the ice-water bath was removed, the temperature was returned to room temperature, and the mixture was stirred for 8 hours.

反応液を水に落として固体を析出させ、ろ取により析出物を得た。得られた粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー(トルエン)で精製し、得られた固体を減圧乾燥したところ、12.2g(収率83%)の白色固体を得た。   The reaction solution was dropped into water to precipitate a solid, and a precipitate was obtained by filtration. The obtained crude product was purified by silica gel chromatography (toluene), and the obtained solid was dried under reduced pressure to obtain 12.2 g (yield 83%) of a white solid.

H−NMRスペクトルとフィールドディソープションマススペクトル(以下、FD−MS)分析により、得られた白色粉末を中間体M−1−1と同定した。 The white powder obtained was identified as Intermediate M-1-1 by 1 H-NMR spectrum and field desorption mass spectrum (hereinafter, FD-MS) analysis.

(b)中間体M−1−2の合成
窒素雰囲気下、冷却管付き300mL三口フラスコ中M−1−1 6.0g(24.3mmol)、ヨードベンゼン5.4g(26.7mmol)、CuI1.4g(7.29mmol)、トランス−シクロヘキサンジアミン(trans-cyclohexanediamine)0.8g(7.29mmol)、りん酸カリウム10.3g(48.6mmol)にジオキサン120mLを加え、8時間還流させながら加熱した。
(B) Synthesis of Intermediate M-1-2 Under a nitrogen atmosphere, in a 300 mL three-necked flask with a condenser tube, M-1-1 6.0 g (24.3 mmol), iodobenzene 5.4 g (26.7 mmol), CuI1. To 4 g (7.29 mmol), trans-cyclohexanediamine 0.8 g (7.29 mmol) and potassium phosphate 10.3 g (48.6 mmol) was added 120 mL of dioxane, and the mixture was heated at reflux for 8 hours.

反応終了後、減圧除去にて溶媒を取り除いた。その後、ジクロロメタン100mL、水100mLを加えて目的物を抽出し、有機層を取り出した。取り出した有機層へMgSOを加えて乾燥し、ろ過によりMgSOを除去した。溶媒を減圧下にて除去し、得られた粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー(トルエン:ヘキサン=1:10)で精製した。得られた固体を減圧乾燥したところ、6.7g(収率85%)の白色固体を得た。 After completion of the reaction, the solvent was removed by removing under reduced pressure. Thereafter, 100 mL of dichloromethane and 100 mL of water were added to extract the target product, and the organic layer was taken out. MgSO 4 was added to the extracted organic layer for drying, and MgSO 4 was removed by filtration. The solvent was removed under reduced pressure, and the resulting crude product was purified by silica gel chromatography (toluene: hexane = 1: 10). When the obtained solid was dried under reduced pressure, 6.7 g (yield 85%) of a white solid was obtained.

H−NMRスペクトルとFD−MS分析により、得られた白色粉末を中間体M−1−2と同定した。 The white powder obtained was identified as Intermediate M-1-2 by 1 H-NMR spectrum and FD-MS analysis.

(c)中間体M−1−3の合成
窒素雰囲気下、冷却管付き300mL三口フラスコ中に、M−1−2 4.0g(12.5mmol)、ほう酸トリイソプロピル2.8g(15.0mmol)、脱水テトラヒドロフラン(THF)60mLを加えて撹拌し、メタノール/ドライアイス バスにて−78℃まで冷却した。冷却後、n−ブチルリチウム(1.61M)38mL(60.9mmol)をゆっくり滴下し、滴下後1時間冷却したまま撹拌した。次に室温まで戻し、7時間撹拌した。反応終了後、メタノール10mLを滴下し、さらに1N HCl水溶液30mLを滴下した。塩化メチレン、水を加え、目的物を抽出し、有機層を取り出した。この有機層へMgSOを加えて乾燥し、ろ過によりMgSOを除去した。溶媒を減圧下にて除去し、カラムクロマトグラフィーにより単離し、白色固体2.1g(収率60%)を得た。H−NMRスペクトルとFD−MS分析により、得られた白色粉末を中間体M−1−3と同定した。
(C) Synthesis of Intermediate M-1-3 In a 300 mL three-necked flask with a condenser tube under a nitrogen atmosphere, 4.0 g (12.5 mmol) of M-1-2 and 2.8 g (15.0 mmol) of triisopropyl borate Then, 60 mL of dehydrated tetrahydrofuran (THF) was added and stirred, and cooled to −78 ° C. in a methanol / dry ice bath. After cooling, 38 mL (60.9 mmol) of n-butyllithium (1.61M) was slowly added dropwise, and the mixture was stirred for 1 hour after cooling. Next, it returned to room temperature and stirred for 7 hours. After completion of the reaction, 10 mL of methanol was added dropwise, and 30 mL of 1N HCl aqueous solution was further added dropwise. Methylene chloride and water were added, the target product was extracted, and the organic layer was taken out. MgSO 4 was added to the organic layer for drying, and MgSO 4 was removed by filtration. The solvent was removed under reduced pressure and isolated by column chromatography to obtain 2.1 g (yield 60%) of a white solid. The white powder obtained was identified as Intermediate M-1-3 by 1 H-NMR spectrum and FD-MS analysis.

(d)中間体M−1−4の合成
窒素雰囲気下、冷却管付き300mL三口フラスコ中に、M−1−1 4g(10.0mmol)、M−1−3 3.7g(10.0mmol)、Pd(PPh0.2g(0.2mol)、炭酸ナトリウム2.1g(20.0mmol)、ジメチルエーテル(DME)40mL、水20mLを加えた後、還流し、8時間加熱攪拌した。反応終了後、減圧除去にて溶媒を取り除いた。その後、ジクロロメタン100mL、水100mLを加えて目的物を抽出し、有機層を取り出した。取り出した有機層へMgSOを加えて乾燥し、ろ過によりMgSOを除去した。溶媒を減圧下にて除去し、得られた粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィーで精製した。得られた固体を減圧乾燥したところ、3.0g(収率74%)の白色固体を得た。
(D) Synthesis of Intermediate M-1-4 In a 300 mL three-necked flask with a cooling tube in a nitrogen atmosphere, M-1-1 4 g (10.0 mmol), M-1-3 3.7 g (10.0 mmol) , Pd (PPh 3 ) 4 0.2 g (0.2 mol), sodium carbonate 2.1 g (20.0 mmol), dimethyl ether (DME) 40 mL, and water 20 mL were added, and the mixture was refluxed and stirred for 8 hours. After completion of the reaction, the solvent was removed by removing under reduced pressure. Thereafter, 100 mL of dichloromethane and 100 mL of water were added to extract the target product, and the organic layer was taken out. MgSO 4 was added to the extracted organic layer for drying, and MgSO 4 was removed by filtration. The solvent was removed under reduced pressure, and the resulting crude product was purified by silica gel chromatography. When the obtained solid was dried under reduced pressure, 3.0 g (yield 74%) of a white solid was obtained.

H−NMRスペクトルとFD−MS分析により、得られた白色粉末を中間体M−1−4と同定した。 The white powder obtained was identified as Intermediate M-1-4 by 1 H-NMR spectrum and FD-MS analysis.

(e)中間体M−1−5の合成
窒素雰囲気下、M−1−4 2.5g(6.1mmol)、4−(4−ブロモフェニル)−ジベンゾフラン 2.0g(6.1mmol)、CuI 0.4g(1.8mmol)、トランス−シクロヘキサンジアミン(trans-cyclohexanediamine)、りん酸カリウム2.6g(12.2mmol)にジオキサン30mLを加え、8時間還流させながら加熱した。
(E) Synthesis of Intermediate M-1-5 Under a nitrogen atmosphere, M-1-4 2.5 g (6.1 mmol), 4- (4-bromophenyl) -dibenzofuran 2.0 g (6.1 mmol), CuI To 0.4 g (1.8 mmol), trans-cyclohexanediamine, and 2.6 g (12.2 mmol) of potassium phosphate, 30 mL of dioxane was added and heated while refluxing for 8 hours.

反応終了後、減圧除去にて溶媒を取り除いた。その後、ジクロロメタン100mL、水100mLを加えて目的物を抽出し、有機層を取り出した。取り出した有機層へMgSOを加えて乾燥し、ろ過によりMgSOを除去した。溶媒を減圧下にて除去し、得られた粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィーで精製した。得られた固体を減圧乾燥したところ、2.8g(収率70%)の白色固体を得た。 After completion of the reaction, the solvent was removed by removing under reduced pressure. Thereafter, 100 mL of dichloromethane and 100 mL of water were added to extract the target product, and the organic layer was taken out. MgSO 4 was added to the extracted organic layer for drying, and MgSO 4 was removed by filtration. The solvent was removed under reduced pressure, and the resulting crude product was purified by silica gel chromatography. When the obtained solid was dried under reduced pressure, 2.8 g (yield 70%) of a white solid was obtained.

H−NMRスペクトルとFD−MS分析により、得られた白色粉末を中間体M−1−5と同定した。 The white powder obtained was identified as Intermediate M-1-5 by 1 H-NMR spectrum and FD-MS analysis.

(f)M−1の合成
窒素雰囲気下、M−1−5 2.5g(3.8mmol)に、DMF 40mLを入れ、氷水浴にて0℃まで冷却した。
(F) Synthesis of M-1 Under a nitrogen atmosphere, 40 mL of DMF was added to 2.5 g (3.8 mmol) of M-1-5 and cooled to 0 ° C. in an ice water bath.

冷却後、N−ブロモスクシンイミド1.4g(8.0mmol)をDMF40mLに溶かした溶液をゆっくり滴下した。滴下終了後、氷水浴を外し、室温に戻し、8時間撹拌した。反応液を水に落として固体を析出させ、吸引ろ過により回収した。   After cooling, a solution prepared by dissolving 1.4 g (8.0 mmol) of N-bromosuccinimide in 40 mL of DMF was slowly added dropwise. After completion of dropping, the ice water bath was removed, the temperature was returned to room temperature, and the mixture was stirred for 8 hours. The reaction solution was dropped into water to precipitate a solid, which was collected by suction filtration.

得られた粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィーで精製し、得られた固体を減圧乾燥したところ、2.5g(収率80%)の白色固体を得た。   The obtained crude product was purified by silica gel chromatography, and the obtained solid was dried under reduced pressure to obtain 2.5 g (yield 80%) of a white solid.

H−NMRスペクトルとFD−MS分析により、得られた白色粉末をM−1と同定した。 The white powder obtained was identified as M-1 by 1 H-NMR spectrum and FD-MS analysis.

(2)単量体M−2の合成

Figure 2013087216
(2) Synthesis of monomer M-2
Figure 2013087216

(a)中間体M−2−1の合成
中間体M−1−4と4−ブロモ―1,2−ジヒドロシクロブタベンゼンを使用して、中間体M−1−2の合成と同様の方法で合成した。目的物を収量5.6g(収率86%)で得た。H−NMRスペクトルとFD−MS分析により、M−2−1と同定した。
(A) Synthesis of intermediate M-2-1 Using intermediate M-1-4 and 4-bromo-1,2-dihydrocyclobutabenzene, the same method as the synthesis of intermediate M-1-2 Was synthesized. The target product was obtained in a yield of 5.6 g (yield 86%). The powder was identified as M-2-1 by 1 H-NMR spectrum and FD-MS analysis.

(b)M−2の合成
中間体M−2−1を使用して、中間体M−1の合成と同様の方法で合成した。目的物を収量4.4g(収率78%)で得た。H−NMRスペクトルとFD−MS分析により、M−2と同定した。
(B) Synthesis | combination of M-2 It synthesize | combined by the method similar to the synthesis | combination of the intermediate body M-1 using the intermediate body M-2-1. The target product was obtained in a yield of 4.4 g (yield 78%). The powder was identified as M-2 by 1 H-NMR spectrum and FD-MS analysis.

(3)重合体P−1の合成

Figure 2013087216
(3) Synthesis of polymer P-1
Figure 2013087216

窒素雰囲気下、2,7−ビス(4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン−2−イル)−9,9−ジ−n−オクチルフルオレン4.1g(6.2mmol)、M−1 5.0g(6.2mmol)、M−2 0.2g(0.3mmol)、酢酸パラジウム[Pd(OAc)] 0.01g(0.04mmol)、トリ(o−トリル)ホスフィン[P(o−Tol)] 0.06g(0.2mmol)、りん酸カリウム6.6g(30.9mmol)、にジオキサン50mL、トルエン12mL、水11mLを加え、16時間還流させながら加熱した。 Under nitrogen atmosphere, 2,7-bis (4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl) -9,9-di-n-octylfluorene (4.1 g) (6. 2 mmol), M-1 5.0 g (6.2 mmol), M-2 0.2 g (0.3 mmol), palladium acetate [Pd (OAc) 2 ] 0.01 g (0.04 mmol), tri (o-tolyl) ) Add phosphine [P (o-Tol) 3 ] 0.06 g (0.2 mmol), potassium phosphate 6.6 g (30.9 mmol), dioxane 50 mL, toluene 12 mL, water 11 mL, and heat while refluxing for 16 hours. did.

反応終了後、減圧除去にて溶媒を取り除いた。トルエン150mL、水100mLを加えて目的物を抽出し、有機層を取り出した。取り出した有機層へMgSOを加えて乾燥し、ろ過によりMgSOを除去した。溶媒を減圧下にて濃縮し、この濃縮液をシリカゲルに通してろ過した。回収した溶液を減圧下にて濃縮し、メタノールへ滴下し、固体を析出させた。固体は、ろ取し、減圧乾燥した。 After completion of the reaction, the solvent was removed by removing under reduced pressure. 150 mL of toluene and 100 mL of water were added to extract the target product, and the organic layer was taken out. MgSO 4 was added to the extracted organic layer for drying, and MgSO 4 was removed by filtration. The solvent was concentrated under reduced pressure, and the concentrate was filtered through silica gel. The collected solution was concentrated under reduced pressure and added dropwise to methanol to precipitate a solid. The solid was collected by filtration and dried under reduced pressure.

窒素雰囲気下、この粗生成物と、ブロモベンゼン0.3g(1.9mmol)、Pd(OAc)0.03g(0.04mmol)、P(t−Bu)0.01g(0.05mmol)、りん酸カリウム2.0g(9.5mmol)、トルエン50mLを加え、8時間還流させながら加熱した。次にフェニルボロン酸を0.2g(1.9mmol)加え、さらに8時間加熱した。 Under a nitrogen atmosphere, this crude product, 0.3 g (1.9 mmol) of bromobenzene, 0.03 g (0.04 mmol) of Pd (OAc) 2, 0.01 g (0.05 mmol) of P (t-Bu) 3 Then, potassium phosphate (2.0 g, 9.5 mmol) and toluene (50 mL) were added, and the mixture was heated under reflux for 8 hours. Next, 0.2 g (1.9 mmol) of phenylboronic acid was added and further heated for 8 hours.

反応終了後、水100mLを加えて目的物を抽出し、有機層を取り出した。取り出した有機層へMgSOを加えて乾燥し、ろ過によりMgSOを除去した。回収したろ液をシリカゲルに通してろ過した。回収した溶液を濃縮し、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、80℃で8時間撹拌した。冷却後、有機層を、水で洗浄し、得られた溶液をメタノールに滴下し、ろ取することで沈殿物を得た。 After completion of the reaction, 100 mL of water was added to extract the target product, and the organic layer was taken out. MgSO 4 was added to the extracted organic layer for drying, and MgSO 4 was removed by filtration. The collected filtrate was filtered through silica gel. The collected solution was concentrated, sodium diethyldithiacarbamate aqueous solution was added, and the mixture was stirred at 80 ° C. for 8 hours. After cooling, the organic layer was washed with water, and the resulting solution was added dropwise to methanol and collected by filtration to obtain a precipitate.

この沈殿物をトルエンに溶解させ、シリカゲルカラムを通すことにより精製した。得られた溶液をメタノールに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、重合体P−1を5.3g得た。
P−1のポリスチレン換算数平均分子量は7.8×10であり、ポリスチレン換算重量平均分子量は2.4×10であった。
This precipitate was dissolved in toluene and purified by passing through a silica gel column. The obtained solution was added dropwise to methanol and stirred, and then the resulting precipitate was collected by filtration and dried to obtain 5.3 g of polymer P-1.
The polystyrene equivalent number average molecular weight of P-1 was 7.8 × 10 3 , and the polystyrene equivalent weight average molecular weight was 2.4 × 10 4 .

尚、本願において分子量及び分子量分布は、下記の条件で測定した。
試料10mgをTHF10mlに溶解させた溶液を100μl注入して行った。流速は毎分1mlとし、カラム温度を40℃に設定した。サイズ排除クロマトグラフィー(SEC)装置は、東ソー製HLC−8220を用いた。検出器は示差屈折(RI)検出器又は紫外可視(UV)検出器を用いた。カラムは、東ソー製TSKgel GMH−XL 2本及びTSKgel G2000−XL 1本使用し、標準試料のポリスチレンには、東ソー製TSK標準ポリスチレンを使用した。
In the present application, the molecular weight and molecular weight distribution were measured under the following conditions.
100 μl of a solution prepared by dissolving 10 mg of a sample in 10 ml of THF was injected. The flow rate was 1 ml / min and the column temperature was set to 40 ° C. Tosoh HLC-8220 was used as the size exclusion chromatography (SEC) apparatus. As the detector, a differential refraction (RI) detector or an ultraviolet-visible (UV) detector was used. Two TSKgel GMH-XL and one TSKgel G2000-XL manufactured by Tosoh were used as the columns, and TSK standard polystyrene manufactured by Tosoh was used as the standard sample polystyrene.

実施例2
下記重合体P−2を合成した。

Figure 2013087216
Example 2
The following polymer P-2 was synthesized.
Figure 2013087216

(1)単量体M−3の合成

Figure 2013087216
(1) Synthesis of monomer M-3
Figure 2013087216

(a)中間体M−3−1の合成
NBSをN−ヨードスクシンイミド(NIS)に変えた他は、中間体M−1−1の合成と同様の方法で合成した。目的物を収量5.6g(収率79%)で得た。H−NMRスペクトルとFD−MS分析により、M−3−1と同定した。
(A) Synthesis of Intermediate M-3-1 Except that NBS was changed to N-iodosuccinimide (NIS), synthesis was performed in the same manner as the synthesis of Intermediate M-1-1. The target product was obtained in a yield of 5.6 g (yield 79%). The powder was identified as M-3-1 by 1 H-NMR spectrum and FD-MS analysis.

(b)中間体M−3−2の合成
中間体M−3−1を使用した他は、中間体M−1−1の合成と同様の方法で合成した。目的物を収量3.7g(収率82%)で得た。H−NMRスペクトルとFD−MS分析により、M−3−2と同定した。
(B) Synthesis of Intermediate M-3-2 The synthesis was performed in the same manner as the synthesis of Intermediate M-1-1 except that Intermediate M-3-1 was used. The target product was obtained in a yield of 3.7 g (82% yield). The powder was identified as M-3-2 by 1 H-NMR spectrum and FD-MS analysis.

(c)中間体M−3−3の合成
中間体M−3−2と中間体M−1−3を使用して、中間体M−1−4の合成と同様の方法で合成した。目的物を収量5.2g(収率76%)で得た。H−NMRスペクトルとFD−MS分析により、M−3−3と同定した。
(C) Synthesis of Intermediate M-3-3 The intermediate M-3-2 and the intermediate M-1-3 were used and synthesized in the same manner as the synthesis of the intermediate M-1-4. The target product was obtained in a yield of 5.2 g (76% yield). The powder was identified as M-3-3 by 1 H-NMR spectrum and FD-MS analysis.

(d)M−3の合成
中間体M−3−3と1−ブロモ−4−ヨードベンゼンを使用し、中間体M−1−2の合成と同様の方法で合成した。目的物を収量4.9g(収率66%)で得た。H−NMRスペクトルとFD−MS分析により、M−3と同定した。
(D) Synthesis of M-3 The intermediate M-3-3 and 1-bromo-4-iodobenzene were used and synthesized in the same manner as the synthesis of the intermediate M-1-2. The target product was obtained in a yield of 4.9 g (yield 66%). The powder was identified as M-3 by 1 H-NMR spectrum and FD-MS analysis.

(2)単量体M−4の合成

Figure 2013087216
(2) Synthesis of monomer M-4
Figure 2013087216

(a)中間体M−4−1の合成
カルバゾールとブロモシクロブタベンゼンを使用して、中間体M−1−2の合成と同様の方法で合成した。目的物を収量7.9g(収率90%)で得た。H−NMRスペクトルとFD−MS分析により、M−4−1と同定した。
(A) Synthesis of Intermediate M-4-1 Using carbazole and bromocyclobutabenzene, the intermediate M-1-2 was synthesized in the same manner as the intermediate M-1-2. The target product was obtained in a yield of 7.9 g (yield 90%). The powder was identified as M-4-1 by 1 H-NMR spectrum and FD-MS analysis.

(b)中間体M−4−2の合成
中間体M−4−1を使用し、中間体M−1−1の合成と同様の方法で合成した。目的物を収量6.8g(収率77%)で得た。H−NMRスペクトルとFD−MS分析により、M−4−2と同定した。
(B) Synthesis of Intermediate M-4-2 Intermediate M-4-1 was used and synthesized in the same manner as the synthesis of intermediate M-1-1. The target product was obtained in a yield of 6.8 g (yield 77%). The powder was identified as M-4-2 by 1 H-NMR spectrum and FD-MS analysis.

(c)中間体M−4−3の合成
中間体M−4−2を使用し、中間体M−1−3の合成と同様の方法で合成した。目的物を収量5.5g(収率75%)で得た。H−NMRスペクトルとFD−MS分析により、M−4−3と同定した。
(C) Synthesis of Intermediate M-4-3 Intermediate M-4-2 was used and synthesized in the same manner as intermediate M-1-3. The target product was obtained in a yield of 5.5 g (yield 75%). The powder was identified as M-4-3 by 1 H-NMR spectrum and FD-MS analysis.

(d)中間体M−4−4の合成
中間体M−3−2と中間体M−4−3を使用し、中間体M−1−4の合成と同様の方法で合成した。目的物を収量6.1g(収率60%)で得た。H−NMRスペクトルとFD−MS分析により、M−4−4と同定した。
(D) Synthesis of Intermediate M-4-4 Intermediate M-3-2 and intermediate M-4-3 were used and synthesized in the same manner as intermediate M-1-4. The target product was obtained in a yield of 6.1 g (yield 60%). The powder was identified as M-4-4 by 1 H-NMR spectrum and FD-MS analysis.

(e)M−4の合成
中間体M−4−4と1−ブロモ−4−ヨードベンゼンを使用し、中間体M−1−2の合成と同様の方法で合成した。目的物を収量5.3g(収率77%)で得た。H−NMRスペクトルとFD−MS分析により、M−4と同定した。
(E) Synthesis of M-4 Using the intermediate M-4-4 and 1-bromo-4-iodobenzene, the synthesis was performed in the same manner as the synthesis of the intermediate M-1-2. The target product was obtained in a yield of 5.3 g (yield 77%). The powder was identified as M-4 by 1 H-NMR spectrum and FD-MS analysis.

(3)重合体P−2の合成

Figure 2013087216
(3) Synthesis of polymer P-2
Figure 2013087216

2,7−ビス(4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン−2−イル)−9,9−ジ−n−オクチルフルオレン、M−3及びM−4を用いて、P−1と同様の方法にて合成した。目的物を収量5.2gで得た。P−2のポリスチレン換算数平均分子量は1.2×10であり、ポリスチレン換算重量平均分子量は3.5×10であった。 Using 2,7-bis (4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl) -9,9-di-n-octylfluorene, M-3 and M-4 And synthesized in the same manner as P-1. The target product was obtained in a yield of 5.2 g. The polystyrene equivalent number average molecular weight of P-2 was 1.2 × 10 4 , and the polystyrene equivalent weight average molecular weight was 3.5 × 10 4 .

実施例3
下記重合体P−3を合成した。

Figure 2013087216
Example 3
The following polymer P-3 was synthesized.
Figure 2013087216

(1)単量体M−5の合成

Figure 2013087216
(1) Synthesis of monomer M-5
Figure 2013087216

(a)中間体M−5−1の合成
窒素気流下、4−ブロモ―1,2−ジヒドロシクロブタベンゼンを18.3g(100mmol)に脱水THF300mLを加え、−78℃に冷却し、n−ブチルリチウムヘキサン溶液(1.58M)を130mL滴下した。1時間撹拌した後、1,6−ジヨードヘキサン16.5mLをゆっくり滴下してから1時間かけて室温まで昇温させ、さらに2時間反応させた。10%希塩酸溶液を加えて攪拌し、有機層を抽出した。飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ別後、濃縮した。得られた固体を、シリカゲルクロマトグラフィーで精製し、減圧乾燥したところ、12.6g(収率37%)の無色液体を得た。H−NMRスペクトルとFD−MS分析により、M−5−1と同定した。
(A) Synthesis of Intermediate M-5-1 Under a nitrogen stream, 18.3 g (100 mmol) of 4-bromo-1,2-dihydrocyclobutabenzene was added 300 mL of dehydrated THF, cooled to −78 ° C., and n- 130 mL of butyl lithium hexane solution (1.58M) was added dropwise. After stirring for 1 hour, 16.5 mL of 1,6-diiodohexane was slowly added dropwise, the temperature was raised to room temperature over 1 hour, and the reaction was further continued for 2 hours. A 10% diluted hydrochloric acid solution was added and stirred, and the organic layer was extracted. The extract was washed with saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, filtered and concentrated. The obtained solid was purified by silica gel chromatography and dried under reduced pressure to obtain 12.6 g (yield 37%) of a colorless liquid. The powder was identified as M-5-1 by 1 H-NMR spectrum and FD-MS analysis.

(b)M−5の合成
窒素気流下、2,7−ジブロモフルオレンを12.5g(38.6mmol)に脱水THF120mLを加え、−78℃に冷却し、LDAヘキサン/THF溶液(1.11M)を77mL滴下した。1時間撹拌した後、脱水THF60mLに溶かしたM−5−1 21.7gをゆっくり滴下し、1時間かけて室温まで昇温させ、さらに2時間反応させた。
(B) Synthesis of M-5 Under a nitrogen stream, 120 mL of dehydrated THF was added to 12.5 g (38.6 mmol) of 2,7-dibromofluorene, cooled to −78 ° C., and an LDA hexane / THF solution (1.11 M). Was added dropwise. After stirring for 1 hour, 21.7 g of M-5-1 dissolved in 60 mL of dehydrated THF was slowly added dropwise, the temperature was raised to room temperature over 1 hour, and the reaction was further continued for 2 hours.

10%希塩酸溶液を加えて撹拌し、塩化メチレンを加え、目的物を抽出し、有機層を取り出した。この有機層へMgSOを加えて乾燥し、ろ過によりMgSOを除去した。溶媒を減圧下にて除去し、カラムクロマトグラフィーにより単離し、白色固体12.2g(収率45%)を得た。H−NMRスペクトルとFD−MS分析により、得られた白色粉末をM−5と同定した。 A 10% dilute hydrochloric acid solution was added and stirred, methylene chloride was added to extract the target product, and the organic layer was taken out. MgSO 4 was added to the organic layer for drying, and MgSO 4 was removed by filtration. The solvent was removed under reduced pressure and isolated by column chromatography to obtain 12.2 g (yield 45%) of a white solid. The white powder obtained was identified as M-5 by 1 H-NMR spectrum and FD-MS analysis.

(2)単量体M−6の合成

Figure 2013087216
(2) Synthesis of monomer M-6
Figure 2013087216

(a)中間体M−6−1の合成
2−ブロモ−ジベンゾフランを使用して、中間体M−1−3の合成と同様の方法で合成した。目的物を収量6.1g(収率63%)で得た。H−NMRスペクトルとFD−MS分析により、M−6−1と同定した。
(A) Synthesis of Intermediate M-6-1 Using 2-bromo-dibenzofuran, synthesis was performed in the same manner as the synthesis of Intermediate M-1-3. The target product was obtained in a yield of 6.1 g (yield 63%). The powder was identified as M-6-1 by 1 H-NMR spectrum and FD-MS analysis.

(b)中間体M−6−2の合成
窒素気流下、9−H−カルバゾール10g(59.8mmol)を入れ、75mlのクロロホルムに溶解させた後、氷水浴にて0℃まで冷却した。次にゆっくりとFeCl 38.8g(239.2mmol)を60ml程度のクロロホルムに分散して得た溶液を滴下した。滴下後、室温に戻し、24時間撹拌した。反応液を多量のメタノールに滴下し、固体を析出させた。固体は、ろ取して回収した。その後、多量のメタノールと水で繰り返し洗浄し、ろ取して固体7.8g(収率82%)を得た。H−NMRスペクトルとFD−MS分析により、得られた白色粉末をM−6−2と同定した。
(B) Synthesis of Intermediate M-6-2 Under a nitrogen stream, 10 g (59.8 mmol) of 9-H-carbazole was added and dissolved in 75 ml of chloroform, and then cooled to 0 ° C. in an ice water bath. Next, a solution obtained by slowly dispersing 38.8 g (239.2 mmol) of FeCl 3 in about 60 ml of chloroform was dropped. After dropping, the temperature was returned to room temperature and stirred for 24 hours. The reaction solution was added dropwise to a large amount of methanol to precipitate a solid. The solid was collected by filtration. Then, it was repeatedly washed with a large amount of methanol and water and collected by filtration to obtain 7.8 g of solid (yield 82%). The white powder obtained was identified as M-6-2 by 1 H-NMR spectrum and FD-MS analysis.

(c)中間体M−6−3の合成
中間体M−6−2を使用して、中間体M−2の合成と同様の方法で合成した。目的物を収量4.1g(収率56%)で得た。H−NMRスペクトルとFD−MS分析により、M−6−3と同定した。
(C) Synthesis of Intermediate M-6-3 Intermediate M-6-2 was used and synthesized in the same manner as Intermediate M-2. The target product was obtained in a yield of 4.1 g (56% yield). The powder was identified as M-6-3 by 1 H-NMR spectrum and FD-MS analysis.

(d)M−6の合成
中間体M−6−1と中間体M−6−3を使用して、中間体M−1−4の合成と同様の方法で合成した。目的物を収量3.4g(収率48%)で得た。H−NMRスペクトルとFD−MS分析により、M−6と同定した。
(D) Synthesis of M-6 Using the intermediate M-6-1 and the intermediate M-6-3, the synthesis was performed in the same manner as the synthesis of the intermediate M-1-4. The target product was obtained in a yield of 3.4 g (yield 48%). The powder was identified as M-6 by 1 H-NMR spectrum and FD-MS analysis.

(3)重合体P−3の合成

Figure 2013087216
(3) Synthesis of polymer P-3
Figure 2013087216

窒素雰囲気下、9,9−ジオクチル−2,7−ジブロモフルオレン5.8g(10.0mmol)、M−5 0.4g(0.5mmol)、M−6 7.0g(10.5mmol)、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)[Pd(dba)] 0.2g(0.2mmol)、P(t−Bu) 0.06g(0.3mmol)、t−ブトキシナトリウム3.0g(31.5mmol)にキシレン40mLを加え、20時間還流させながら加熱した。 Under a nitrogen atmosphere, 9,9-dioctyl-2,7-dibromofluorene 5.8 g (10.0 mmol), M-5 0.4 g (0.5 mmol), M-6 7.0 g (10.5 mmol), Tris (Dibenzylideneacetone) dipalladium (0) [Pd 2 (dba) 3 ] 0.2 g (0.2 mmol), P (t-Bu) 3 0.06 g (0.3 mmol), t-butoxy sodium 3.0 g 40 mL of xylene was added to (31.5 mmol) and heated while refluxing for 20 hours.

反応終了後、減圧除去にて溶媒を取り除いた。水100mLを加えて目的物を抽出し、有機層を取り出した。取り出した有機層へMgSOを加えて乾燥し、ろ過によりMgSOを除去した。溶媒を減圧下にて濃縮し、この濃縮液をシリカゲルに通してろ過した。回収した溶液を減圧下にて濃縮し、メタノールへ滴下し、固体を析出させた。固体は、吸引ろ過により回収し、減圧乾燥した。 After completion of the reaction, the solvent was removed by removing under reduced pressure. The target product was extracted by adding 100 mL of water, and the organic layer was taken out. MgSO 4 was added to the extracted organic layer for drying, and MgSO 4 was removed by filtration. The solvent was concentrated under reduced pressure, and the concentrate was filtered through silica gel. The collected solution was concentrated under reduced pressure and added dropwise to methanol to precipitate a solid. The solid was collected by suction filtration and dried under reduced pressure.

窒素雰囲気下、この粗生成物とブロモベンゼン0.5g(3.2mmol)、Pd(OAc) 0.04g(0.2mmol)、P(t−Bu) 0.06g(0.3mmol)、りん酸カリウム1.1g(5.2mmol)にトルエン40mLを加え、8時間還流させながら加熱した。次にフェニルボロン酸を0.4g(3.2mmol)加え、さらに8時間加熱した。 Under a nitrogen atmosphere, this crude product and 0.5 g (3.2 mmol) of bromobenzene, 0.04 g (0.2 mmol) of Pd (OAc) 2, 0.06 g (0.3 mmol) of P (t-Bu) 3 , 40 mL of toluene was added to 1.1 g (5.2 mmol) of potassium phosphate, and the mixture was heated while refluxing for 8 hours. Next, 0.4 g (3.2 mmol) of phenylboronic acid was added and further heated for 8 hours.

反応終了後、水100mLを加えて目的物を抽出し、有機層を取り出した。取り出した有機層へMgSOを加えて乾燥し、ろ過によりMgSOを除去した。回収したろ液をシリカゲルに通してろ過した。回収した溶液を濃縮し、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、80℃で2時間撹拌した。冷却後、有機層を、水で洗浄し、得られた溶液をメタノールに滴下し、ろ取することで沈殿物を得た。 After completion of the reaction, 100 mL of water was added to extract the target product, and the organic layer was taken out. MgSO 4 was added to the extracted organic layer for drying, and MgSO 4 was removed by filtration. The collected filtrate was filtered through silica gel. The collected solution was concentrated, sodium diethyldithiacarbamate aqueous solution was added, and the mixture was stirred at 80 ° C. for 2 hours. After cooling, the organic layer was washed with water, and the resulting solution was added dropwise to methanol and collected by filtration to obtain a precipitate.

この沈殿物をトルエンに溶解させ、シリカゲルカラムを通すことにより精製した。得られた溶液をメタノールに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、重合体P−3を7.3g得た。P−3のポリスチレン換算数平均分子量は0.9×10であり、ポリスチレン換算重量平均分子量は2.8×10であった。 This precipitate was dissolved in toluene and purified by passing through a silica gel column. The obtained solution was added dropwise to methanol and stirred, and then the resulting precipitate was collected by filtration and dried to obtain 7.3 g of polymer P-3. P-3 had a polystyrene equivalent number average molecular weight of 0.9 × 10 4 and a polystyrene equivalent weight average molecular weight of 2.8 × 10 4 .

実施例4
下記重合体P−4を合成した。

Figure 2013087216
Example 4
The following polymer P-4 was synthesized.
Figure 2013087216

(1)単量体M−7の合成

Figure 2013087216
(1) Synthesis of monomer M-7
Figure 2013087216

(a)中間体M−7−1の合成
9−フェニルカルバゾールを使用して、M−2の合成と同様の方法で合成した。目的物を収量2.9g(収率73%)で得た。H−NMRスペクトルとFD−MS分析により、M−7−1と同定した。
(A) Synthesis of Intermediate M-7-1 Using 9-phenylcarbazole, it was synthesized by the same method as the synthesis of M-2. The target product was obtained in a yield of 2.9 g (yield 73%). The powder was identified as M-7-1 by 1 H-NMR spectrum and FD-MS analysis.

(b)中間体M−7−2の合成
カルバゾールと2−ブロモ−ジベンゾフランを使用して、中間体M−1−2の合成と同様の方法で合成した。目的物を収量4.0g(収率68%)で得た。H−NMRスペクトルとFD−MS分析により、M−7−2と同定した。
(B) Synthesis of Intermediate M-7-2 Using carbazole and 2-bromo-dibenzofuran, synthesis was performed in the same manner as the synthesis of Intermediate M-1-2. The target product was obtained in a yield of 4.0 g (yield 68%). The powder was identified as M-7-2 by 1 H-NMR spectrum and FD-MS analysis.

(c)中間体M−7−3の合成
中間体M−7−2を使用して、中間体M−1−1の合成と同様の方法で合成した。目的物を収量3.2g(収率59%)で得た。H−NMRスペクトルとFD−MS分析により、M−7−3と同定した。
(C) Synthesis of Intermediate M-7-3 Intermediate M-7-2 was used and synthesized in the same manner as Intermediate M-1-1. The target product was obtained in a yield of 3.2 g (yield 59%). The powder was identified as M-7-3 by 1 H-NMR spectrum and FD-MS analysis.

(d)中間体M−7−4の合成
中間体M−7−3を使用して、中間体M−1−3の合成と同様の方法で合成した。目的物を収量5.4g(収率66%)で得た。H−NMRスペクトルとFD−MS分析により、M−7−4と同定した。
(D) Synthesis of Intermediate M-7-4 Intermediate M-7-3 was used and synthesized in the same manner as intermediate M-1-3. The target product was obtained in a yield of 5.4 g (yield 66%). The powder was identified as M-7-4 by 1 H-NMR spectrum and FD-MS analysis.

(e)中間体M−7−5の合成
中間体M−7−4と中間体M−7−1を使用して、中間体M−1−4の合成と同様の方法で合成した。目的物を収量2.7g(収率61%)で得た。H−NMRスペクトルとFD−MS分析により、M−7−5と同定した。
(E) Synthesis of Intermediate M-7-5 Intermediate M-7-4 and Intermediate M-7-1 were used and synthesized in the same manner as Intermediate M-1-4. The target product was obtained in a yield of 2.7 g (yield 61%). The powder was identified as M-7-5 by 1 H-NMR spectrum and FD-MS analysis.

(f)M−7の合成
中間体M−7−5を使用して、モノマーM−2の合成と同様の方法で合成した。目的物を収量3.9g(収率56%)で得た。H−NMRスペクトルとFD−MS分析により、M−7と同定した。
(F) Synthesis of M-7 Using the intermediate M-7-5, the synthesis was performed in the same manner as the synthesis of the monomer M-2. The target product was obtained in a yield of 3.9 g (56% yield). The powder was identified as M-7 by 1 H-NMR spectrum and FD-MS analysis.

(2)単量体M−8の合成

Figure 2013087216
(2) Synthesis of monomer M-8
Figure 2013087216

(a)中間体M−8−1の合成
中間体M−4−1を使用して、モノマーM−2の合成と同様の方法で合成した。目的物を収量5.3g(収率85%)で得た。H−NMRスペクトルとFD−MS分析により、M−8−1と同定した。
(A) Synthesis of Intermediate M-8-1 Intermediate M-4-1 was used and synthesized in the same manner as the synthesis of monomer M-2. The target product was obtained in a yield of 5.3 g (yield 85%). The powder was identified as M-8-1 by 1 H-NMR spectrum and FD-MS analysis.

(b)中間体M−8−2の合成
中間体M−8−1と中間体M−7−4を使用して、中間体M−1−4の合成と同様の方法で合成した。目的物を収量3.8g(収率58%)で得た。H−NMRスペクトルとFD−MS分析により、M−8−2と同定した。
(B) Synthesis of Intermediate M-8-2 Intermediate M-8-1 and Intermediate M-7-4 were used and synthesized in the same manner as Intermediate M-1-4. The target product was obtained in a yield of 3.8 g (yield 58%). The powder was identified as M-8-2 by 1 H-NMR spectrum and FD-MS analysis.

(c)M−8の合成
中間体M−8−2を使用して、M−2の合成と同様の方法で合成した。目的物を収量4.2g(収率60%)で得た。H−NMRスペクトルとFD−MS分析により、M−8と同定した。
(C) Synthesis of M-8 The intermediate M-8-2 was used and synthesized in the same manner as the synthesis of M-2. The target product was obtained in a yield of 4.2 g (yield 60%). The powder was identified as M-8 by 1 H-NMR spectrum and FD-MS analysis.

(3)重合体P−4の合成

Figure 2013087216
(3) Synthesis of polymer P-4
Figure 2013087216

2,7−ビス(4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン−2−イル)−9,9−ジ−n−オクチルフルオレン、M−7、M−8を用いて、P−1と同様の方法にて合成した。目的物を収量3.3gで得た。重合体P−4のポリスチレン換算数平均分子量は1.8×10であり、ポリスチレン換算重量平均分子量は4.0×10であった。 Using 2,7-bis (4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl) -9,9-di-n-octylfluorene, M-7, M-8 And synthesized in the same manner as P-1. The target product was obtained in a yield of 3.3 g. The polymer P-4 had a polystyrene equivalent number average molecular weight of 1.8 × 10 4 and a polystyrene equivalent weight average molecular weight of 4.0 × 10 4 .

実施例5
下記重合体P−5を合成した。

Figure 2013087216
Example 5
The following polymer P-5 was synthesized.
Figure 2013087216

(1)単量体M−9の合成

Figure 2013087216
(1) Synthesis of monomer M-9
Figure 2013087216

(a)中間体M−9−1の合成
カルバゾールと3−ブロモ−ジベンゾフランを使用して、中間体M−1−2の合成と同様の方法で合成した中間体M−9−0を使用して、中間体M−2の合成と同様の方法で合成した。目的物を収量4.6g(収率87%)で得た。H−NMRスペクトルとFD−MS分析により、M−9−1と同定した。
(A) Synthesis of intermediate M-9-1 Using carbazole and 3-bromo-dibenzofuran, intermediate M-9-0 synthesized by a method similar to the synthesis of intermediate M-1-2 was used. Then, it was synthesized by the same method as the synthesis of intermediate M-2. The target product was obtained in a yield of 4.6 g (yield 87%). The powder was identified as M-9-1 by 1 H-NMR spectrum and FD-MS analysis.

(b)中間体M−9−2の合成
中間体M−9−1を使用して、中間体M−1−3の合成と同様の方法で合成した。目的物を収量1.9g(収率43%)で得た。H−NMRスペクトルとFD−MS分析により、M−9−2と同定した。
(B) Synthesis of Intermediate M-9-2 Intermediate M-9-9-1 was used and synthesized in the same manner as Intermediate M-1-3. The target product was obtained in a yield of 1.9 g (43% yield). The powder was identified as M-9-2 by 1 H-NMR spectrum and FD-MS analysis.

(c)M−9の合成
中間体M−9−2を使用して、中間体M−1−4の合成と同様の方法で合成した。目的物を収量3.5g(収率56%)で得た。H−NMRスペクトルとFD−MS分析により、M−9と同定した。
(C) Synthesis of M-9 The intermediate M-9-2 was used and synthesized in the same manner as the synthesis of the intermediate M-1-4. The target product was obtained in a yield of 3.5 g (56% yield). The powder was identified as M-9 by 1 H-NMR spectrum and FD-MS analysis.

(2)重合体P−5の合成

Figure 2013087216
(2) Synthesis of polymer P-5
Figure 2013087216

2,7−ジブロモ−9,9−ジ−n−オクチルフルオレン、M−5、M−9を用いて、P−3と同様の方法にて合成した。目的物を収量6.2gで得た。重合体P−5のポリスチレン換算数平均分子量は1.9×10であり、ポリスチレン換算重量平均分子量は3.8×10であった。 It was synthesized in the same manner as P-3 using 2,7-dibromo-9,9-di-n-octylfluorene, M-5 and M-9. The target product was obtained in a yield of 6.2 g. The polymer P-5 had a polystyrene equivalent number average molecular weight of 1.9 × 10 4 and a polystyrene equivalent weight average molecular weight of 3.8 × 10 4 .

実施例6
下記重合体P−6を合成した。

Figure 2013087216
Example 6
The following polymer P-6 was synthesized.
Figure 2013087216

(1)単量体M−10の合成

Figure 2013087216
(1) Synthesis of monomer M-10
Figure 2013087216

(a)中間体M−10−1の合成
中間体M−6−2を使用して、中間体M−1−1の合成と同様の方法で合成した。目的物を収量3.5g(収率66%)で得た。H−NMRスペクトルとFD−MS分析により、M−10−1と同定した。
(A) Synthesis of Intermediate M-10-1 Intermediate M-10-2 was used and synthesized in the same manner as Intermediate M-1-1. The target product was obtained in a yield of 3.5 g (yield 66%). The powder was identified as M-10-1 by 1 H-NMR spectrum and FD-MS analysis.

(b)M−10の合成
中間体M−10−1と中間体M−7−4を使用して、中間体M−1−4の合成と同様の方法で合成した。目的物を収量4.9g(収率72%)で得た。H−NMRスペクトルとFD−MS分析により、M−10と同定した。
(B) Synthesis of M-10 Using the intermediate M-10-1 and the intermediate M-7-4, the synthesis was performed in the same manner as the synthesis of the intermediate M-1-4. The target product was obtained in a yield of 4.9 g (yield 72%). The powder was identified as M-10 by 1 H-NMR spectrum and FD-MS analysis.

(2)単量体M−11の合成

Figure 2013087216
(2) Synthesis of monomer M-11
Figure 2013087216

(a)中間体M−11−1の合成
中間体M−4−1を使用して、中間体M−1−1の合成と同様の方法で合成した。目的物を収量3.9g(収率70%)で得た。H−NMRスペクトルとFD−MS分析により、M−11−1と同定した。
(A) Synthesis of Intermediate M-11-1 Intermediate M-4-1 was used and synthesized in the same manner as Intermediate M-1-1. The target product was obtained in a yield of 3.9 g (yield 70%). The powder was identified as M-11-1 by 1 H-NMR spectrum and FD-MS analysis.

(b)中間体M−11−2の合成
中間体M−11−1を使用して、中間体M−1−3の合成と同様の方法で合成した。目的物を収量4.4g(収率52%)で得た。H−NMRスペクトルとFD−MS分析により、M−11−1と同定した。
(B) Synthesis of Intermediate M-11-2 Intermediate M-11-1 was used and synthesized in the same manner as intermediate M-1-3. The target product was obtained in a yield of 4.4 g (52% yield). The powder was identified as M-11-1 by 1 H-NMR spectrum and FD-MS analysis.

(c)M−11の合成
中間体M−10−1と中間体M−11−2を使用して、中間体M−1−4の合成と同様の方法で合成した。目的物を収量2.3g(収率67%)で得た。H−NMRスペクトルとFD−MS分析により、M−11と同定した。
(C) Synthesis of M-11 Using the intermediate M-10-1 and the intermediate M-11-2, the synthesis was performed in the same manner as the synthesis of the intermediate M-1-4. The target product was obtained in a yield of 2.3 g (yield 67%). The powder was identified as M-11 by 1 H-NMR spectrum and FD-MS analysis.

(3)重合体P−6の合成

Figure 2013087216
(3) Synthesis of polymer P-6
Figure 2013087216

2,7−ジブロモ−9,9−ジ−n−オクチルフルオレン、M−10、M−11を用いて、P−3と同様の方法にて合成した。目的物を収量4.6gで得た。重合体P−6のポリスチレン換算数平均分子量は1.5×10であり、ポリスチレン換算重量平均分子量は3.3×10であった。 It was synthesized in the same manner as P-3 using 2,7-dibromo-9,9-di-n-octylfluorene, M-10, M-11. The target product was obtained in a yield of 4.6 g. The polymer P-6 had a polystyrene equivalent number average molecular weight of 1.5 × 10 4 and a polystyrene equivalent weight average molecular weight of 3.3 × 10 4 .

実施例7
下記重合体P−7を合成した。

Figure 2013087216
Example 7
The following polymer P-7 was synthesized.
Figure 2013087216

(1)単量体M−12の合成

Figure 2013087216
(1) Synthesis of monomer M-12
Figure 2013087216

(a)中間体M−12−1の合成
中間体M−7−3と中間体M−7−4を使用して、中間体M−1−4の合成と同様の方法で合成した。目的物を収量3.6g(収率82%)で得た。H−NMRスペクトルとFD−MS分析により、M−12−1と同定した。
(A) Synthesis of Intermediate M-12-1 Intermediate M-7-3 and Intermediate M-7-4 were used and synthesized in the same manner as Intermediate M-1-4. The target product was obtained in a yield of 3.6 g (82% yield). The powder was identified as M-12-1 by 1 H-NMR spectrum and FD-MS analysis.

(b)中間体M−12−2の合成
中間体M−12−1を使用して、中間体M−1−1の合成と同様の方法で合成した。目的物を収量3.5g(収率66%)で得た。H−NMRスペクトルとFD−MS分析により、M−12−2と同定した。
(B) Synthesis of Intermediate M-12-2 Intermediate M-12-1 was used and synthesized in the same manner as Intermediate M-1-1. The target product was obtained in a yield of 3.5 g (yield 66%). The powder was identified as M-12-2 by 1 H-NMR spectrum and FD-MS analysis.

(c)中間体M−12−3の合成
中間体M−12−2を使用して、中間体M−1−3の合成と同様の方法で合成した。目的物を収量4.1g(収率62%)で得た。H−NMRスペクトルとFD−MS分析により、M−12−3と同定した。
(C) Synthesis of Intermediate M-12-3 Intermediate M-12-2 was used and synthesized in the same manner as intermediate M-1-3. The target product was obtained in a yield of 4.1 g (62% yield). The powder was identified as M-12-3 by 1 H-NMR spectrum and FD-MS analysis.

(d)中間体M−12−4の合成
中間体M−12−3と中間体M−3−2を使用して、中間体M−1−4の合成と同様の方法で合成した。目的物を収量1.8g(収率76%)で得た。H−NMRスペクトルとFD−MS分析により、M−12−4と同定した。
(D) Synthesis of Intermediate M-12-4 Intermediate M-12-3 and intermediate M-3-2 were used and synthesized in the same manner as intermediate M-1-4. The target product was obtained in a yield of 1.8 g (yield 76%). The powder was identified as M-12-4 by 1 H-NMR spectrum and FD-MS analysis.

(e)M−12の合成
中間体M−12−4と1−ブロモ−4−ヨードベンゼンを使用して、中間体M−1−2の合成と同様の方法で合成した。目的物を収量2.7g(収率70%)で得た。H−NMRスペクトルとFD−MS分析により、M−12と同定した。
(E) Synthesis of M-12 Using the intermediate M-12-4 and 1-bromo-4-iodobenzene, the synthesis was performed in the same manner as the synthesis of the intermediate M-1-2. The target product was obtained in a yield of 2.7 g (yield 70%). The powder was identified as M-12 by 1 H-NMR spectrum and FD-MS analysis.

(2)単量体M−13の合成

Figure 2013087216
(2) Synthesis of monomer M-13
Figure 2013087216

窒素気流下、M−5 3.7g(5.3mmol)、ビスピナコラートジボロン4.1g(31.8mmol)、1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン−パラジウム(II)ジクロリド−ジクロロメタン錯体[PdCl(dppf)・CHCl]0.5g(0.6mmol)、酢酸カリウム3.1g(31.8mmol)、脱水DMSOを入れて、80℃にて28時間還流反応した。冷却後、水25mLを加えて目的物を抽出し、有機層を取り出した。取り出した有機層へMgSOを加えて乾燥し、ろ過によりMgSOを除去した。溶媒を減圧下にて除去し、得られた粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィーで精製した。得られた固体を減圧乾燥したところ、2.7g(収率64%)の白色固体を得た。H−NMRスペクトルとFD−MS分析により、M−13と同定した。 Under a nitrogen stream, 3.7 g (5.3 mmol) of M-5, 4.1 g (31.8 mmol) of bispinacolatodiboron, 1,1′-bis (diphenylphosphino) ferrocene-palladium (II) dichloride-dichloromethane The complex [PdCl 2 (dppf) · CH 2 Cl 2 ] 0.5 g (0.6 mmol), potassium acetate 3.1 g (31.8 mmol) and dehydrated DMSO were added, and the mixture was refluxed at 80 ° C. for 28 hours. After cooling, 25 mL of water was added to extract the target product, and the organic layer was taken out. MgSO 4 was added to the extracted organic layer for drying, and MgSO 4 was removed by filtration. The solvent was removed under reduced pressure, and the resulting crude product was purified by silica gel chromatography. The obtained solid was dried under reduced pressure to obtain 2.7 g (yield 64%) of a white solid. The powder was identified as M-13 by 1 H-NMR spectrum and FD-MS analysis.

(3)重合体P−7の合成

Figure 2013087216
(3) Synthesis of polymer P-7
Figure 2013087216

2,7−ビス(4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン−2−イル)−9,9−ジ−n−オクチルフルオレン、M−12、M−13を用いて、P−1と同様の方法にて合成した。目的物を収量5.5gで得た。重合体P−7のポリスチレン換算数平均分子量は1.0×10であり、ポリスチレン換算重量平均分子量は2.5×10であった。 Using 2,7-bis (4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl) -9,9-di-n-octylfluorene, M-12, M-13 And synthesized in the same manner as P-1. The target product was obtained in a yield of 5.5 g. The polymer P-7 had a polystyrene equivalent number average molecular weight of 1.0 × 10 4 and a polystyrene equivalent weight average molecular weight of 2.5 × 10 4 .

実施例8
下記スキームにより重合体P−8を合成した。

Figure 2013087216
Example 8
Polymer P-8 was synthesized according to the following scheme.
Figure 2013087216

2,7−ビス(4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン−2−イル)−9,9−ジ−n−オクチルフルオレン、M−1、M−13を用いて、P−1と同様の方法にて合成した。目的物を収量5.2gで得た。重合体P−8のポリスチレン換算数平均分子量は3.8×10であり、ポリスチレン換算重量平均分子量は1.6×10であった。 Using 2,7-bis (4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl) -9,9-di-n-octylfluorene, M-1, M-13 And synthesized in the same manner as P-1. The target product was obtained in a yield of 5.2 g. The number average molecular weight in terms of polystyrene of the polymer P-8 was 3.8 × 10 4 , and the weight average molecular weight in terms of polystyrene was 1.6 × 10 4 .

比較例1
下記スキームにより重合体P−9を合成した。

Figure 2013087216
Comparative Example 1
Polymer P-9 was synthesized according to the following scheme.
Figure 2013087216

(1)単量体M−14の合成
(a)中間体M−14−1の合成
窒素雰囲気下、冷却管付き300mL三口フラスコ中ジフェニルアミン6.0g(35.4mmol)、ブロモベンゾシクロブテン6.5g(35.4mmol)、Pd(OAc)0.2g(0.9mmol)、P(t−Bu) 0.3g(1.4mmol)、t−ブトキシナトリウム6.8g(70.8mmol)にトルエン100mLを加え、8時間還流させながら加熱した。
反応終了後、減圧除去にて溶媒を取り除いた。その後、ジクロロメタン100mL、水100mLを加えて目的物を抽出し、有機層を取り出した。取り出した有機層へMgSOを加えて乾燥し、ろ過によりMgSOを除去した。溶媒を減圧下にて除去し、得られた粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィーで精製した。得られた固体を減圧乾燥したところ、7.2g(収率88%)の白色固体を得た。
(1) Synthesis of monomer M-14 (a) Synthesis of intermediate M-14-1 In a 300 mL three-necked flask with a condenser tube under a nitrogen atmosphere, 6.0 g (35.4 mmol) of diphenylamine and bromobenzocyclobutene 6. 5 g (35.4 mmol), Pd (OAc) 2 0.2 g (0.9 mmol), P (t-Bu) 3 0.3 g (1.4 mmol), t-butoxy sodium 6.8 g (70.8 mmol) Toluene 100mL was added and it heated, making it recirculate | reflux for 8 hours.
After completion of the reaction, the solvent was removed by removing under reduced pressure. Thereafter, 100 mL of dichloromethane and 100 mL of water were added to extract the target product, and the organic layer was taken out. MgSO 4 was added to the extracted organic layer for drying, and MgSO 4 was removed by filtration. The solvent was removed under reduced pressure, and the resulting crude product was purified by silica gel chromatography. When the obtained solid was dried under reduced pressure, 7.2 g (yield 88%) of a white solid was obtained.

H−NMRスペクトルとFD−MS分析により、得られた白色粉末を中間体M−14−1と同定した。 The white powder obtained was identified as Intermediate M-14-1 by 1 H-NMR spectrum and FD-MS analysis.

(b)M−14の合成
中間体M−14−1を使用して、中間体M−1−1の合成と同様の方法で合成した。目的物を収量4.8g(収率68%)で得た。H−NMRスペクトルとFD−MS分析により、M−14と同定した。
(B) Synthesis of M-14 Using the intermediate M-14-1, synthesis was performed in the same manner as the synthesis of the intermediate M-1-1. The target product was obtained in a yield of 4.8 g (68% yield). The powder was identified as M-14 by 1 H-NMR spectrum and FD-MS analysis.

(2)P−9の合成
2,7−ビス(4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン−2−イル)−9,9−ジ−n−オクチルフルオレン、ジ(4−ブロモフェニル)フェニルアミン、M−14を用いて、P−1と同様の方法にて合成した。目的物を収量5.6gで得た。重合体P−9のポリスチレン換算数平均分子量は7.8×10であり、ポリスチレン換算重量平均分子量は2.4×10であった。
(2) Synthesis of P-9 2,7-bis (4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl) -9,9-di-n-octylfluorene, di It was synthesized in the same manner as P-1 using (4-bromophenyl) phenylamine, M-14. The target product was obtained in a yield of 5.6 g. The polymer P-9 had a polystyrene equivalent number average molecular weight of 7.8 × 10 3 and a polystyrene equivalent weight average molecular weight of 2.4 × 10 4 .

比較例2
下記重合体P−10を合成した。

Figure 2013087216
Comparative Example 2
The following polymer P-10 was synthesized.
Figure 2013087216

(1)単量体M−16の合成

Figure 2013087216
(1) Synthesis of monomer M-16
Figure 2013087216

窒素雰囲気下、9,9−ジオクチル−2,7−ジブロモフルオレン10.0g(18.2mmol)、アニリン1.7g(18.2mmol)、Pd(dba)30.6g(0.6mmol)、(±)−2,2’−ビス(ジフェニルホスフィノ)−1,1’−ビナフチル(rac−BINAP)1.7g(0.8mmol)、t−ブトキシナトリウム5.0g(72.8mmol)、にトルエン500mLを加え、16時間還流させながら加熱した。 Under a nitrogen atmosphere, 9,9-dioctyl-2,7-dibromofluorene 10.0 g (18.2 mmol), aniline 1.7 g (18.2 mmol), Pd 2 (dba) 30.6 g (0.6 mmol), ( ±) -2,2′-bis (diphenylphosphino) -1,1′-binaphthyl (rac-BINAP) 1.7 g (0.8 mmol), t-butoxy sodium 5.0 g (72.8 mmol), toluene 500 mL was added and heated at reflux for 16 hours.

反応終了後、減圧除去にて溶媒を取り除いた。水100mLを加えて目的物を抽出し、有機層を取り出した。取り出した有機層へMgSOを加えて乾燥し、ろ過によりMgSOを除去した。溶媒を減圧下にて除去し、得られた粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィーで精製した。得られた固体を減圧乾燥したところ、6.8g(収率65%)の白色固体を得た。H−NMRスペクトルとFD−MS分析により、得られた白色粉末を中間体M−16と同定した。 After completion of the reaction, the solvent was removed by removing under reduced pressure. The target product was extracted by adding 100 mL of water, and the organic layer was taken out. MgSO 4 was added to the extracted organic layer for drying, and MgSO 4 was removed by filtration. The solvent was removed under reduced pressure, and the resulting crude product was purified by silica gel chromatography. When the obtained solid was dried under reduced pressure, 6.8 g (yield 65%) of a white solid was obtained. The white powder obtained was identified as Intermediate M-16 by 1 H-NMR spectrum and FD-MS analysis.

(2)単量体M−17の合成

Figure 2013087216
(2) Synthesis of monomer M-17
Figure 2013087216

(2)単量体M−17の合成
(a)中間体M−17−1の合成
上記化合物を使用して中間体M−1−4の合成と同様の方法で合成した。目的物を収量7.8g(収率68%)で得た。H−NMRスペクトルとFD−MS分析により、M−17−1と同定した。
(2) Synthesis of monomer M-17 (a) Synthesis of intermediate M-17-1 Synthesis was performed in the same manner as the synthesis of intermediate M-1-4 using the above compound. The target product was obtained in a yield of 7.8 g (68% yield). The powder was identified as M-17-1 by 1 H-NMR spectrum and FD-MS analysis.

(b)M−17の合成
中間体M−17−1を使用して、M−16の合成と同様の方法で合成した。目的物を収量5.8g(収率63%)で得た。H−NMRスペクトルとFD−MS分析により、M−17と同定した。
(B) Synthesis of M-17 Using the intermediate M-17-1, synthesis was performed in the same manner as the synthesis of M-16. The target product was obtained in a yield of 5.8 g (yield 63%). The powder was identified as M-17 by 1 H-NMR spectrum and FD-MS analysis.

(3)重合体P−10の合成

Figure 2013087216
(3) Synthesis of polymer P-10
Figure 2013087216

4、4’−ジブロモビフェニル、M−16、M−17を用いて、P−3と同様の方法にて合成した。目的物を収量4.5gで得た。重合体P−10のポリスチレン換算数平均分子量は1.3×10であり、ポリスチレン換算重量平均分子量は3.6×10であった。 Using 4,4′-dibromobiphenyl, M-16, and M-17, synthesis was performed in the same manner as for P-3. The target product was obtained in a yield of 4.5 g. The polymer P-10 had a polystyrene equivalent number average molecular weight of 1.3 × 10 4 and a polystyrene equivalent weight average molecular weight of 3.6 × 10 4 .

実施例9(有機EL素子作製と評価)
25mm×75mm×1.1mm厚のITO透明電極付きガラス基板(ジオマティック社製)を、イソプロピルアルコール中で5分間超音波洗浄した後、UVオゾン洗浄を30分間行なった。洗浄後の透明電極付きガラス基板に、スピンコート法で正孔注入層に用いるポリエチレンジオキシチオフェン・ポリスチレンスルホン酸(PEDOT:PSS)の混合物を10nmの膜厚で成膜して、正孔注入層を形成した(PSSはアクセプター)。
次いで、実施例1で得られた重合体P−1のキシレン溶液(1.0重量%)を、スピンコート法で25nmの膜厚で成膜した。次に、これを減圧下120℃で1時間乾燥し、正孔輸送層を形成した。
さらに、膜厚40nmの下記化合物EM1を蒸着し成膜した。同時に発光分子として、下記のスチリル基を有するアミン化合物D1を、EM1とD1の重量比が95:5になるように蒸着し、発光層を形成した。
この膜上に下記Alqを蒸着により、膜厚10nmに成膜した。この層は、電子注入層として機能する。
この後、還元性ドーパントであるLi(Li源:サエスゲッター社製)とAlqを二元蒸着させ、電子注入層(陰極)としてAlq:Li膜(膜厚10nm)を形成した。このAlq:Li膜上に金属Alを蒸着させ金属陰極を形成し、窒素中でガラス封止して、有機EL素子を作製した。

Figure 2013087216
Example 9 (Production and evaluation of organic EL device)
A glass substrate with an ITO transparent electrode having a thickness of 25 mm × 75 mm × 1.1 mm (manufactured by Geomatic Co., Ltd.) was ultrasonically cleaned in isopropyl alcohol for 5 minutes, and then UV ozone cleaning was performed for 30 minutes. On the glass substrate with a transparent electrode after cleaning, a film of polyethylene dioxythiophene / polystyrene sulfonic acid (PEDOT: PSS) used for the hole injection layer by spin coating is formed to a thickness of 10 nm, and the hole injection layer is formed. (PSS is an acceptor).
Subsequently, the xylene solution (1.0 wt%) of the polymer P-1 obtained in Example 1 was formed into a film with a film thickness of 25 nm by a spin coat method. Next, this was dried at 120 ° C. under reduced pressure for 1 hour to form a hole transport layer.
Further, the following compound EM1 having a film thickness of 40 nm was deposited to form a film. At the same time, an amine compound D1 having the following styryl group was deposited as a light emitting molecule so that the weight ratio of EM1 and D1 was 95: 5, thereby forming a light emitting layer.
The following Alq was deposited on this film to a thickness of 10 nm by vapor deposition. This layer functions as an electron injection layer.
Thereafter, Li (Li source: manufactured by Saesgetter Co.), which is a reducing dopant, and Alq were vapor-deposited, and an Alq: Li film (film thickness: 10 nm) was formed as an electron injection layer (cathode). Metal Al was vapor-deposited on the Alq: Li film to form a metal cathode, which was sealed with glass in nitrogen to produce an organic EL device.
Figure 2013087216

作製した有機EL素子に電流を流して発光効率及び寿命を評価した。結果を表197に示す。   A current was passed through the produced organic EL device to evaluate luminous efficiency and lifetime. The results are shown in Table 197.

実施例10
発光層の材料として、スチリル基を有するアミン化合物D1の代わりに下記アリールアミン化合物D2を用いた他は実施例9と同様にして有機EL素子を作製し、評価した。結果を表197に示す。

Figure 2013087216
(Meはメチル基である。) Example 10
An organic EL device was prepared and evaluated in the same manner as in Example 9 except that the following arylamine compound D2 was used instead of the amine compound D1 having a styryl group as the material of the light emitting layer. The results are shown in Table 197.
Figure 2013087216
(Me is a methyl group.)

比較例3
正孔輸送材料としてP−1の代わりに比較例1で得られたP−9を用いた他は、実施例9と同様にして有機EL素子を作製し、評価した結果を表197に示す。
Comparative Example 3
Table 197 shows the results obtained by producing and evaluating an organic EL device in the same manner as in Example 9, except that P-9 obtained in Comparative Example 1 was used instead of P-1 as the hole transport material.

比較例4
正孔輸送材料としてP−1の代わりに比較例2で得られたP−10を用いた他は実施例9と同様にして有機EL素子を作製し、評価した。結果を表197に示す。
Comparative Example 4
An organic EL device was prepared and evaluated in the same manner as in Example 9 except that P-10 obtained in Comparative Example 2 was used instead of P-1 as the hole transport material. The results are shown in Table 197.

Figure 2013087216
Figure 2013087216

実施例9〜10及び比較例3〜4の結果から、本発明のビスカルバゾールポリマーを用いた有機EL素子は、芳香族アミン誘導体である比較化合物を用いた有機EL素子と比べて、発光効率、寿命で優れていることが分かる。   From the results of Examples 9 to 10 and Comparative Examples 3 to 4, the organic EL device using the biscarbazole polymer of the present invention has a luminous efficiency, compared with the organic EL device using the comparative compound that is an aromatic amine derivative. It can be seen that the life is excellent.

実施例11(有機EL素子作製と評価)
25mm×75mm×1.1mm厚のITO透明電極付きガラス基板(ジオマティック社製)を、イソプロピルアルコール中で5分間超音波洗浄した後、UVオゾン洗浄を30分間行なった。洗浄後の透明電極付きガラス基板に、スピンコート法で正孔注入層に用いるポリエチレンジオキシチオフェン・ポリスチレンスルホン酸(PEDOT:PSS)の混合物を10nmの膜厚で成膜して、正孔注入層を形成した(PSSはアクセプター)。
次いで、実施例1で得られた重合体P−1のキシレン溶液(1.0重量%)を、スピンコート法で25nmの膜厚で成膜し、230℃で30分間乾燥及び熱硬化し、正孔輸送層を形成した。
次に、上記化合物EM1(ホスト)と上記スチリル基を有するアミン化合物D1(ドーパント)が固形分重量比95:5で混合しているキシレン溶液(1.0重量%)を、スピンコート法で40nmの膜厚で成膜し、150℃で30分間乾燥させ、発光層を形成した。
この膜上にAlqを蒸着により、膜厚10nmに成膜した。この層は、電子注入層として機能する。この後、還元性ドーパントであるLi(Li源:サエスゲッター社製)とAlqを二元蒸着させ、電子注入層(陰極)としてAlq:Li膜(膜厚10nm)を形成した。このAlq:Li膜上に金属Alを蒸着させ金属陰極を形成し、窒素中でガラス封止して、有機EL素子を作製した。
作製した有機EL素子に電流を流して性能を評価した。結果を表198に示す。
Example 11 (Organic EL device fabrication and evaluation)
A glass substrate with an ITO transparent electrode having a thickness of 25 mm × 75 mm × 1.1 mm (manufactured by Geomatic Co., Ltd.) was ultrasonically cleaned in isopropyl alcohol for 5 minutes, and then UV ozone cleaning was performed for 30 minutes. On the glass substrate with a transparent electrode after cleaning, a film of polyethylene dioxythiophene / polystyrene sulfonic acid (PEDOT: PSS) used for the hole injection layer by spin coating is formed to a thickness of 10 nm, and the hole injection layer is formed. (PSS is an acceptor).
Next, a xylene solution (1.0 wt%) of the polymer P-1 obtained in Example 1 was formed into a film having a film thickness of 25 nm by a spin coating method, dried and thermally cured at 230 ° C. for 30 minutes, A hole transport layer was formed.
Next, a xylene solution (1.0 wt%) in which the compound EM1 (host) and the amine compound D1 (dopant) having a styryl group are mixed at a solid content weight ratio of 95: 5 is spin-coated to 40 nm. A light emitting layer was formed by drying at 150 ° C. for 30 minutes.
On this film, Alq was deposited to a thickness of 10 nm by vapor deposition. This layer functions as an electron injection layer. Thereafter, Li (Li source: manufactured by Saesgetter Co.), which is a reducing dopant, and Alq were vapor-deposited, and an Alq: Li film (film thickness: 10 nm) was formed as an electron injection layer (cathode). Metal Al was vapor-deposited on the Alq: Li film to form a metal cathode, which was sealed with glass in nitrogen to produce an organic EL device.
A current was passed through the produced organic EL device to evaluate the performance. The results are shown in Table 198.

実施例12
正孔輸送材料としてP−1の代わりに実施例2で得られた重合体P−2を用いた他は、実施例11と同様にして有機EL素子を作製し、評価した。結果を表198に示す。
Example 12
An organic EL device was prepared and evaluated in the same manner as in Example 11 except that the polymer P-2 obtained in Example 2 was used instead of P-1 as the hole transport material. The results are shown in Table 198.

実施例13
正孔輸送材料としてP−1の代わりに実施例3で得られた重合体P−3を用いた他は、実施例11と同様にして有機EL素子を作製し、評価した。結果を表198に示す。
Example 13
An organic EL device was prepared and evaluated in the same manner as in Example 11 except that the polymer P-3 obtained in Example 3 was used instead of P-1 as the hole transport material. The results are shown in Table 198.

実施例14
正孔輸送材料としてP−1の代わりに実施例4で得られた重合体P−4を用いた他は、実施例11と同様にして有機EL素子を作製し、評価した。結果を表198に示す。
Example 14
An organic EL device was prepared and evaluated in the same manner as in Example 11 except that the polymer P-4 obtained in Example 4 was used instead of P-1 as the hole transport material. The results are shown in Table 198.

実施例15
正孔輸送材料としてP−1の代わりに実施例5で得られた重合体P−5を用いた他は、実施例11と同様にして有機EL素子を作製し、評価した。結果を表198に示す。
Example 15
An organic EL device was prepared and evaluated in the same manner as in Example 11 except that the polymer P-5 obtained in Example 5 was used instead of P-1 as the hole transport material. The results are shown in Table 198.

実施例16
正孔輸送材料としてP−1の代わりに実施例6で得られた重合体P−6を用いた他は、実施例11と同様にして有機EL素子を作製し、評価した。結果を表198に示す。
Example 16
An organic EL device was prepared and evaluated in the same manner as in Example 11 except that the polymer P-6 obtained in Example 6 was used instead of P-1 as the hole transport material. The results are shown in Table 198.

実施例17
正孔輸送材料としてP−1の代わりに実施例7で得られた重合体P−7を用いた他は、実施例11と同様にして有機EL素子を作製し、評価した。結果を表198に示す。
Example 17
An organic EL device was prepared and evaluated in the same manner as in Example 11 except that the polymer P-7 obtained in Example 7 was used instead of P-1 as the hole transport material. The results are shown in Table 198.

実施例18
正孔輸送材料としてP−1の代わりに実施例8で得られた重合体P−8を用いた他は、実施例11と同様にして有機EL素子を作製し、評価した。結果を表198に示す。
Example 18
An organic EL device was prepared and evaluated in the same manner as in Example 11 except that the polymer P-8 obtained in Example 8 was used instead of P-1 as the hole transport material. The results are shown in Table 198.

実施例19
発光層の材料として、スチリル基を有するアミン化合物D1の代わりにアリールアミン化合物D2を用いた他は実施例11と同様にして有機EL素子を作製し、評価した。結果を表198に示す。
Example 19
An organic EL device was prepared and evaluated in the same manner as in Example 11 except that the arylamine compound D2 was used in place of the amine compound D1 having a styryl group as the material for the light emitting layer. The results are shown in Table 198.

比較例5
正孔輸送材料としてP−1の代わりに比較例1で得られたP−9を用いた他は、実施例11と同様にして有機EL素子を作製し、評価した。結果を表198に示す。
Comparative Example 5
An organic EL device was prepared and evaluated in the same manner as in Example 11 except that P-9 obtained in Comparative Example 1 was used instead of P-1 as the hole transport material. The results are shown in Table 198.

比較例6
正孔輸送材料としてP−1の代わりに比較例2で得られたP−10を用いた他は実施例11と同様にして有機EL素子を作製し、評価した。結果を表198に示す。
Comparative Example 6
An organic EL device was prepared and evaluated in the same manner as in Example 11 except that P-10 obtained in Comparative Example 2 was used instead of P-1 as the hole transport material. The results are shown in Table 198.

Figure 2013087216
Figure 2013087216

実施例11〜19及び比較例5、6の結果から、本発明のビスカルバゾールポリマーを用いた有機EL素子は、芳香族アミン誘導体である比較化合物を用いた有機EL素子と比べて、発光効率、寿命で優れていることが分かる。
また、正孔注入層、正孔輸送層及び発光層を湿式成膜で形成しても、優れた性能が得られることが確認できた。
From the results of Examples 11 to 19 and Comparative Examples 5 and 6, the organic EL device using the biscarbazole polymer of the present invention is higher in luminous efficiency than the organic EL device using the comparative compound that is an aromatic amine derivative. It can be seen that the life is excellent.
It was also confirmed that excellent performance was obtained even when the hole injection layer, the hole transport layer, and the light emitting layer were formed by wet film formation.

本発明の重合体は、エレクトロニクス用材料として有用である。特に、有機エレクトロルミネッセンス素子用材料、なかでも陽極と発光層間である正孔輸送領域で使用する材料として好適である。   The polymer of the present invention is useful as an electronic material. In particular, it is suitable as a material for an organic electroluminescence element, particularly a material used in a hole transport region between an anode and a light emitting layer.

Claims (22)

下記式(A)及び(B)で表される構造単位を含有する重合体。
Figure 2013087216
[式(A)中、Pは下記式(P)で表される化合物に由来する基である。
Figure 2013087216
(式中、Aはそれぞれ独立に、窒素原子又はCRである。
は、単結合、O、S、CR又はNRである。
〜Rは、それぞれ独立に、水素原子、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のアルキル基、置換もしくは無置換の環形成炭素数3〜10のシクロアルキル基、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜30のアリール基、置換もしくは無置換の環形成原子数3〜30のヘテロアリール基、置換もしくは無置換のアリールアミノ基又はアリールシリル基である。)
aは2〜5の整数であり、(P)aは、上記(P)基がa個連続して結合していることを表す。a個のPはそれぞれ独立であり、また、P同士の結合位置は限定されない。
は連結基を表す。
bは、0〜5の整数であり、(L)bは、bが2以上である場合、Lがb個連続して結合したことを表す。この場合、b個のLはそれぞれ独立であり、また、L同士が結合する位置は限定されない。
式(A)において、PとLの結合位置は限定されない。
式(B)中、Qは下記式(Q)で表される化合物に由来する基である。
Figure 2013087216
(式中、Aはそれぞれ独立に、窒素原子又はCRである。
は、単結合、O、S、CR又はNRである。
〜Rは、それぞれ独立に、水素原子、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のアルキル基、置換もしくは無置換の環形成炭素数3〜10のシクロアルキル基、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜30のアリール基、置換もしくは無置換の環形成原子数3〜30のヘテロアリール基、置換もしくは無置換のアリールアミノ基、アリールシリル基、又は架橋性基である。)
cは2〜5の整数であり、(Q)cは、上記(Q)基がc個連続して結合していることを表す。c個のQはそれぞれ独立であり、また、Q同士の結合位置は限定されない。
はそれぞれ独立に、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のアルキレン基、置換もしくは無置換の環形成炭素数3〜10のシクロアルキレン基、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜30の芳香族炭化水素環基、置換もしくは無置換の環形成原子数3〜30の芳香族複素環基、置換もしくは無置換のアリールアミン残基、アリールシリレン基、又は架橋性基である。
dは、0〜5の整数であり、(L)dは、dが2以上である場合、Lがd個連続して結合していることを表す。この場合、d個のLはそれぞれ独立であり、また、L同士が結合する位置は限定されない。
式(B)において、QとLの結合位置は限定されない。
式(B)において、c個のQ及びd個のLのうち、少なくとも1つは、架橋性基を有する。]
A polymer containing structural units represented by the following formulas (A) and (B).
Figure 2013087216
[In formula (A), P is a group derived from a compound represented by the following formula (P).
Figure 2013087216
(In the formula, each A 1 is independently a nitrogen atom or CR 2 .
X 1 is a single bond, O, S, CR 2 R 3 or NR 2 .
R 1 to R 3 are each independently a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 10 ring carbon atoms, a substituted or unsubstituted group. An aryl group having 6 to 30 ring carbon atoms, a substituted or unsubstituted heteroaryl group having 3 to 30 ring atoms, a substituted or unsubstituted arylamino group, or an arylsilyl group. )
a is an integer of 2 to 5, and (P) a represents that a number of the (P) groups are bonded continuously. The a P's are independent from each other, and the bonding position between the P's is not limited.
L 1 represents a linking group.
b is an integer from 0 to 5, (L 1) b, when b is 2 or more, indicating that L 1 is bonded b pieces continuously. In this case, b pieces of L 1 are independent from each other, and the position at which L 1 is bonded is not limited.
In the formula (A), the bonding position of P and L 1 is not limited.
In the formula (B), Q is a group derived from a compound represented by the following formula (Q).
Figure 2013087216
(In the formula, each A 2 is independently a nitrogen atom or CR 6 .
X 2 is a single bond, O, S, CR 6 R 7 or NR 6 .
R 5 to R 7 are each independently a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 10 ring carbon atoms, a substituted or unsubstituted group. An aryl group having 6 to 30 ring carbon atoms, a substituted or unsubstituted heteroaryl group having 3 to 30 ring atoms, a substituted or unsubstituted arylamino group, an arylsilyl group, or a crosslinkable group. )
c is an integer of 2 to 5, and (Q) c represents that c (Q) groups are bonded in succession. The c Qs are independent of each other, and the bonding positions of the Qs are not limited.
L 2 each independently represents a substituted or unsubstituted alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkylene group having 3 to 10 ring carbon atoms, or a substituted or unsubstituted ring carbon atom having 6 to 30 carbon atoms. An aromatic hydrocarbon ring group, a substituted or unsubstituted aromatic heterocyclic group having 3 to 30 ring atoms, a substituted or unsubstituted arylamine residue, an arylsilylene group, or a crosslinkable group.
d is an integer from 0 to 5, (L 1) d, when d is 2 or more, indicating that L 2 is bonded d items sequentially. In this case, the d pieces of L 2 are independent from each other, and the position at which L 2 is bonded is not limited.
In the formula (B), the bonding position of Q and L 2 is not limited.
In formula (B), at least one of c Q and d L 2 has a crosslinkable group. ]
前記P又はQが、置換又は無置換のカルバゾールの残基である請求項1に記載の重合体。   The polymer according to claim 1, wherein P or Q is a residue of a substituted or unsubstituted carbazole. a個連続した置換もしくは無置換のカルバゾール残基において隣接するカルバゾール残基同士の結合位置、又は、c個連続した置換もしくは無置換のカルバゾール残基において隣接するカルバゾール残基同士の結合位置が、それぞれ、3位−3’位、3位−2’位、及び、2位−2’位から選ばれた一種である請求項2に記載の重合体。   a bonding position between adjacent carbazole residues in a consecutive substituted or unsubstituted carbazole residues, or a bonding position between adjacent carbazole residues in c consecutive substituted or unsubstituted carbazole residues, The polymer according to claim 2, which is a kind selected from the 3-position, 3'-position, 3-position-2'-position, and 2-position-2'-position. 下記の構造1及び構造2の少なくとも一方を有する、請求項2又は3に記載の重合体。
構造1:前記(P)a中の1つの置換又は無置換のカルバゾール残基と、Lとの結合位置が、該カルバゾール残基の9位、3位又は2位である。
構造2:前記(Q)c中の1つの置換又は無置換のカルバゾール残基と、Lとの結合位置が、該カルバゾール残基の9位、3位又は2位である。
The polymer according to claim 2 or 3, which has at least one of the following structure 1 and structure 2.
Structure 1: The bonding position between one substituted or unsubstituted carbazole residue in (P) a and L 1 is the 9-position, 3-position or 2-position of the carbazole residue.
Structure 2: The bonding position between one substituted or unsubstituted carbazole residue in (Q) c and L 2 is the 9th, 3rd or 2nd position of the carbazole residue.
下記の構造3及び構造4の少なくとも一方を有する、請求項2〜4のいずれかに記載の重合体。
構造3:前記(P)a中の1つの置換又は無置換のカルバゾール残基と、Lとの結合位置が、該カルバゾール残基の9位、3位又は2位である。
構造4:前記(Q)c中の1つの置換又は無置換のカルバゾール残基と、Lとの結合位置が、該カルバゾール残基の9位、3位又は2位である。
The polymer in any one of Claims 2-4 which has at least one of the following structure 3 and the structure 4.
Structure 3: The bonding position between one substituted or unsubstituted carbazole residue in (P) a and L 2 is the 9th, 3rd or 2nd position of the carbazole residue.
Structure 4: The bonding position between one substituted or unsubstituted carbazole residue in (Q) c and L 1 is the 9th, 3rd or 2nd position of the carbazole residue.
前記a又はcが、それぞれ2又は3である請求項1〜5のいずれかに記載の重合体。   Said a or c is 2 or 3, respectively, The polymer in any one of Claims 1-5. 下記式(1)〜(7)のいずれかで表される請求項1〜6のいずれかに記載の重合体。
Figure 2013087216
Figure 2013087216
(各式中、R、R、R、R、L及びLは、前記式(A)及び(B)のR、R、R、R、L及びLと同様である。
m及びnはそれぞれ、重合体に占める各構造単位の含有率(モル比)を表し、mは0.01〜0.99、nは0.01〜0.99であり、m+n=1である。
lは、0又は1である。)
The polymer in any one of Claims 1-6 represented by either of following formula (1)-(7).
Figure 2013087216
Figure 2013087216
(Wherein, R 1, R 2, R 5, R 6, L 1 and L 2, R 1 in the formula (A) and (B), R 2, R 5, R 6, L 1 and L Same as 2 .
m and n each represent the content (molar ratio) of each structural unit in the polymer, m is 0.01 to 0.99, n is 0.01 to 0.99, and m + n = 1. .
l is 0 or 1. )
下記式(8)〜(25)のいずれかで表される請求項7に記載の重合体。
Figure 2013087216
Figure 2013087216
Figure 2013087216
Figure 2013087216
(各式中、R、R、R、R、L及びLは、前記式(A)及び(B)のR、R、R、R、L及びLと同様である。
m及びnはそれぞれ、重合体に占める各構造単位の含有率(モル比)を表し、mは0.01〜0.99、nは0.01〜0.99であり、m+n=1である。)
The polymer of Claim 7 represented by either of following formula (8)-(25).
Figure 2013087216
Figure 2013087216
Figure 2013087216
Figure 2013087216
(Wherein, R 1, R 2, R 5, R 6, L 1 and L 2, R 1 in the formula (A) and (B), R 2, R 5, R 6, L 1 and L Same as 2 .
m and n each represent the content (molar ratio) of each structural unit in the polymer, m is 0.01 to 0.99, n is 0.01 to 0.99, and m + n = 1. . )
前記式(1)〜(25)で表される各重合体の、Rの少なくとも1つ又はRの少なくとも1つが架橋性基であり、Lは架橋性基ではない、請求項7又は8の重合体。 In each polymer represented by the formulas (1) to (25), at least one of R 5 or at least one of R 6 is a crosslinkable group, and L 2 is not a crosslinkable group. 8. Polymer of 8. 前記架橋性基が、下記式(31)〜(42)で示される基から選択される基である請求項1〜9のいずれかに記載の重合体。
Figure 2013087216
The polymer according to any one of claims 1 to 9, wherein the crosslinkable group is a group selected from groups represented by the following formulas (31) to (42).
Figure 2013087216
前記式(1)〜(21)で表される各重合体のLの少なくとも1つが架橋性基であり、R及びRが架橋性基ではない請求項7又は8の重合体。 Each at least one polymer of L 2 is a bridging group, the polymer according to claim 7 or 8 R 5 and R 6 is not a crosslinking group represented by the formula (1) to (21). 前記架橋性基であるLが、下記式(43)〜(46)で示される基から選択される基である請求項11に記載の重合体。
Figure 2013087216
(式(45)及び(46)において、oは、1〜10の整数である。)
The polymer according to claim 11, wherein L 2 which is the crosslinkable group is a group selected from groups represented by the following formulas (43) to (46).
Figure 2013087216
(In formulas (45) and (46), o is an integer of 1 to 10.)
前記式(1)〜(25)で表される各重合体の、R、R、R及びRの少なくとも1つが、下記式(51)〜(55)で表される基から選択される基である請求項8〜12のいずれかに記載の重合体。
Figure 2013087216
(式中、R11〜R23は、それぞれ独立に、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のアルキル基、置換もしくは無置換の環形成炭素数3〜10のシクロアルキル基、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜30のアリール基、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のアルコキシ基、置換もしくは無置換の環形成炭素数3〜10のシクロアルコキシ基、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜30のアリールオキシ基、置換もしくは無置換の炭素数7〜40のアラルキル基、置換もしくは無置換の環形成原子数3〜30のヘテロアリール基、置換アミノ基、置換シリル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基又はヒドロキシル基である。
a、c、d、f、g、及びiは、それぞれ独立に、0〜4の整数である。
b、e、h及びjは、それぞれ独立に、0〜3の整数である。
〜Tはそれぞれ独立に、単結合、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜50の芳香族炭化水素環基又は環形成原子数3〜30の芳香族複素環基である。)
In the polymers represented by the formulas (1) to (25), at least one of R 1 , R 2 , R 5 and R 6 is selected from the groups represented by the following formulas (51) to (55). The polymer according to any one of claims 8 to 12, which is a group to be formed.
Figure 2013087216
(In the formula, R 11 to R 23 are each independently a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 10 ring carbon atoms, substituted or unsubstituted. An aryl group having 6 to 30 ring carbon atoms, a substituted or unsubstituted alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkoxy group having 3 to 10 ring carbon atoms, a substituted or unsubstituted ring formation Aryloxy group having 6 to 30 carbon atoms, substituted or unsubstituted aralkyl group having 7 to 40 carbon atoms, substituted or unsubstituted heteroaryl group having 3 to 30 ring atoms, substituted amino group, substituted silyl group, halogen An atom, a nitro group, a cyano group or a hydroxyl group.
a, c, d, f, g, and i are each independently an integer of 0 to 4;
b, e, h, and j are each independently an integer of 0 to 3.
T 1 to T 5 are each independently a single bond, a substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon ring group having 6 to 50 ring carbon atoms or an aromatic heterocyclic group having 3 to 30 ring atoms. )
請求項1〜13のいずれかに記載の重合体及び溶媒を含む塗布液。   The coating liquid containing the polymer and solvent in any one of Claims 1-13. 前記溶媒の少なくとも1種が有機溶媒である請求項14に記載の塗布液。   The coating liquid according to claim 14, wherein at least one of the solvents is an organic solvent. 請求項14又は15に記載の塗布液を用いて湿式成膜する電子素子の製造方法。   The manufacturing method of the electronic element which carries out wet film-forming using the coating liquid of Claim 14 or 15. 前記電子素子が、電界発光素子、光電変換素子又はトランジスタである請求項16に記載の電子素子の製造方法。   The method of manufacturing an electronic device according to claim 16, wherein the electronic device is an electroluminescent device, a photoelectric conversion device, or a transistor. 前記電子素子が、有機エレクトロルミネッセンス素子である請求項16又は17に記載の電子素子の製造方法。   The method of manufacturing an electronic device according to claim 16 or 17, wherein the electronic device is an organic electroluminescence device. 陽極と陰極と、前記陽極と陰極の間に、発光層を含む1層以上の有機薄膜層を有し、
前記有機薄膜層の少なくとも1層が請求項1〜13のいずれかに記載の重合体を含む有機エレクトロルミネッセンス素子。
Having one or more organic thin film layers including a light emitting layer between the anode and the cathode and the anode and the cathode;
The organic electroluminescent element in which at least 1 layer of the said organic thin film layer contains the polymer in any one of Claims 1-13.
前記有機薄膜層の少なくとも1層が正孔注入層又は正孔輸送層である請求項19に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。   The organic electroluminescence device according to claim 19, wherein at least one of the organic thin film layers is a hole injection layer or a hole transport layer. 前記正孔注入層又は正孔輸送層が発光層と接している請求項20に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。   The organic electroluminescence device according to claim 20, wherein the hole injection layer or the hole transport layer is in contact with the light emitting layer. 前記発光層が湿式成膜法により成膜された請求項19〜21のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。   The organic electroluminescent element according to any one of claims 19 to 21, wherein the light emitting layer is formed by a wet film forming method.
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