JP2013082987A - Method for manufacturing coated article superior in corrosion resistance and coated article - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、例えばプラスチックやゴムの成形に用いられる金型、工具、および射出成形用部品といった、耐食性が求められる被覆物品の製造方法および被覆物品に関する。 The present invention relates to a method for producing a coated article and a coated article that require corrosion resistance, such as a mold, a tool, and an injection molding part used for molding plastics and rubber, for example.
従来、プラスチック(樹脂)やゴムの成形においては、その被成形材によってもたらされる腐食環境から、成形に使用される金型や工具等の物品には優れた耐食性が求められている。例えば射出成形の場合、そのプラスチック等の被成形材には耐熱性や強度を向上させるための各種の添加剤が加えられる。そして、射出成形中には、その加熱または発熱によってプラスチックが分解する一方で、上記の添加剤からも腐食性ガスが発生するので、射出成形用部品(例えば、スクリューヘッドやシールリング、など)は激しい腐食環境に曝され、孔食やガス焼付き等の損傷を受けやすい。 Conventionally, in the molding of plastics (resins) and rubbers, excellent corrosion resistance is required for articles such as molds and tools used for molding because of the corrosive environment caused by the molding material. For example, in the case of injection molding, various additives for improving heat resistance and strength are added to a material to be molded such as plastic. During injection molding, the plastic is decomposed by heating or heat generation, and corrosive gas is also generated from the above additives. Therefore, injection molding parts (for example, screw heads, seal rings, etc.) Exposed to severe corrosive environment and susceptible to damage such as pitting and gas seizure.
腐食環境下で使用される各種物品の耐食性を向上する手法としては、該部品への表面処理が一般的に用いられている。例えば、厚膜のハードクロムメッキを被覆することで耐食性を改善する手法がある。また、物理蒸着法(以下、PVDと略す)や化学蒸着法によって被覆されるTiN、CrN、TiCN等の硬質皮膜は、その優れた耐食性に加えて、高硬度による耐摩耗性も備えていることから、有効な手法である。 As a technique for improving the corrosion resistance of various articles used in a corrosive environment, surface treatment on the component is generally used. For example, there is a technique for improving the corrosion resistance by coating a thick hard chrome plating. In addition, hard coatings such as TiN, CrN, TiCN, etc. coated by physical vapor deposition (hereinafter abbreviated as PVD) or chemical vapor deposition have high wear resistance in addition to their excellent corrosion resistance. Therefore, it is an effective method.
例えば、射出成形用部品の表面を窒化処理した後、アークイオンプレーティング法によるCrNやTiN皮膜を被覆することで、耐摩耗性や皮膜密着性を改善する手法がある(特許文献1)。また、同じくCrNやTiN皮膜を被覆する手法においては、基材との密着性および耐食性に優れたCrN皮膜を先に被覆した上に、高硬度のTiN皮膜を複層被覆することで、耐食性を付与する手法がある(特許文献2)。 For example, there is a technique for improving wear resistance and film adhesion by nitriding the surface of an injection molding part and then coating a CrN or TiN film by an arc ion plating method (Patent Document 1). Similarly, in the method of coating a CrN or TiN film, the CrN film having excellent adhesion and corrosion resistance to the base material is coated first, and then a high-hardness TiN film is coated in multiple layers, thereby improving the corrosion resistance. There is a method of giving (Patent Document 2).
また、上記の皮膜成分の改良による一方では、その構造を改良することで、皮膜特性を向上させる手法がある。例えば切削工具の分野では、その工具表面に硬質皮膜を被覆する際、被覆途中に中間イオンエッチング(ボンバード処理)を行なうことで亀裂破壊の要因となるドロップレットを除去し、ボイドやポアの発生しない平滑な皮膜を得る手法がある(特許文献3)。そして、上記のドロップレットを除去する手法は、サンドブラストによる機械的処理を適用する手法もある(特許文献4)。 On the other hand, there is a technique for improving the film properties by improving the structure on the other hand by improving the film components. For example, in the field of cutting tools, when coating a hard film on the tool surface, intermediate ion etching (bombarding) is performed in the middle of the coating to remove droplets that cause crack fracture, and no voids or pores are generated. There is a technique for obtaining a smooth film (Patent Document 3). As a technique for removing the above-described droplets, there is a technique in which mechanical processing by sandblasting is applied (Patent Document 4).
硬質皮膜の被覆手段にPVDを採用することは、基材に掛かる熱的負荷が小さいことから有効である。しかしながら、PVDで被覆した皮膜中には上記のドロップレットやパーティクル等が少なからず存在する。これらに起因したボイドやポア、ピンホール状の隙間欠陥が、特に基材にまで貫通すると、その部位では腐食が激しく進行し、早期の孔食やガス焼付きの要因となる。そのため、特許文献1の硬質皮膜は、それが耐食性に優れたCrNであっても、皮膜中に上記の欠陥が存在することで本来の耐食性が得られないという課題がある。また、特許文献2の硬質皮膜は、そのCrN皮膜上にTiN皮膜を被覆したとしても、CrN皮膜中に一旦形成された欠陥はそのまま覆い隠すことが難しい。 Adopting PVD as the coating means for the hard coating is effective because the thermal load applied to the substrate is small. However, the droplets and particles described above are not a little present in the film coated with PVD. When voids, pores, or pinhole-like gap defects due to these penetrate into the base material in particular, the corrosion progresses violently at the site, which causes early pitting corrosion and gas seizure. Therefore, even if it is CrN which was excellent in corrosion resistance, the hard film of patent document 1 has the subject that original corrosion resistance cannot be obtained because the said defect exists in a film. Moreover, even if the hard film of patent document 2 coat | covers the TiN film | membrane on the CrN film | membrane, it is difficult to cover the defect once formed in the CrN film | membrane as it is.
一方、ドロップレットを除去する手法である特許文献3または特許文献4の適用が有効と考えられるが、さらに十分な耐食性を得るための新しい耐食性付与の手法の開発が望まれている。 On the other hand, the application of Patent Document 3 or Patent Document 4 which is a technique for removing droplets is considered to be effective, but development of a new technique for imparting corrosion resistance for obtaining sufficient corrosion resistance is desired.
本発明の目的は上記の課題に鑑み、硬質皮膜の耐食性を向上した被覆物品の製造方法および被覆物品を提供することである。 In view of the above problems, an object of the present invention is to provide a method for producing a coated article and a coated article having improved corrosion resistance of a hard film.
本発明者等は、PVDで被覆した硬質皮膜について、その表面から基材に向かって貫通した欠陥の抑制方法を検討した。その結果、この抑制のためには、被覆工程の途中で平滑に研磨すること、そして基材に印加する負圧のバイアス電圧を変化させることが耐食性の向上に重要であることを知見した。それに加えて、耐食性を向上させる組織形態があることを見出した。 The present inventors examined a method for suppressing defects penetrating from the surface of the hard film coated with PVD toward the base material. As a result, it has been found that for this suppression, it is important to improve the corrosion resistance to polish smoothly during the coating process and to change the negative bias voltage applied to the substrate. In addition, it has been found that there is a structure form that improves the corrosion resistance.
すなわち本発明は、物品の基材表面に物理蒸着法によって硬質皮膜を被覆した被覆物品の製造方法であって、前記硬質皮膜は、第1のクロム系硬質皮膜とその直上の第2のクロム系硬質皮膜の少なくとも2層以上からなり、前記第2のクロム系硬質皮膜の被覆前に、前記第1のクロム系硬質皮膜の表面を研磨し、前記第2のクロム系硬質皮膜の被覆期間中に、前記基材に印加する負圧のバイアス電圧を変化させる耐食性に優れた被覆物品の製造方法である。 That is, the present invention is a method of manufacturing a coated article in which a hard film is coated on the surface of a base material of the article by a physical vapor deposition method. It consists of at least two layers of hard coating, the surface of the first chromium hard coating is polished before coating of the second chromium hard coating, and during the coating period of the second chromium hard coating This is a method for producing a coated article having excellent corrosion resistance by changing the negative bias voltage applied to the substrate.
さらに、第2のクロム系硬質皮膜の被覆期間中に、基材に印加する負圧のバイアス電圧を初期と終盤で異ならせることが好ましい。
さらに、第2のクロム系硬質皮膜の被覆前に、第1のクロム系硬質皮膜の表面を算術平均粗さRaは0.05μm以下、かつ最大高さRzは1.00μm以下となるように研磨することが好ましい。
Furthermore, it is preferable that the negative bias voltage applied to the substrate is different between the initial stage and the final stage during the coating period of the second chromium-based hard coating.
Further, before coating the second chrome hard film, the surface of the first chrome hard film is polished so that the arithmetic average roughness Ra is 0.05 μm or less and the maximum height Rz is 1.00 μm or less. It is preferable to do.
さらに、第2のクロム系硬質皮膜の被覆期間中は、基材に印加する負圧のバイアス電圧を10V以上変化させることが好ましい。
さらに、第2のクロム系硬質皮膜の被覆期間中に、基材に印加する負圧のバイアス電圧を初期と終盤で10V以上異ならせることが好ましい。
さらに、第2のクロム系硬質皮膜の被覆期間中に、基材に印加する負圧のバイアス電圧を20Vより大きくすることが好ましい。
Furthermore, it is preferable that the negative bias voltage applied to the substrate is changed by 10 V or more during the coating period of the second chromium-based hard coating.
Further, it is preferable that the negative bias voltage applied to the base material is varied by 10 V or more between the initial stage and the final stage during the coating period of the second chromium-based hard coating.
Furthermore, it is preferable that the negative bias voltage applied to the base material is larger than 20 V during the coating period of the second chromium-based hard coating.
第1および/または第2のクロム系硬質皮膜は、Mo、Nb、W、Si、Bから選択される1種または2種以上の元素を含むことが好ましい。
そしてこの場合、第1および/または第2のクロム系硬質皮膜は、金属成分(半金属を含む)のみの原子%で、Mo、Nb、W、Si、Bから選択される1種または2種以上の元素を1〜20%含むことが好ましい。
The first and / or second chromium-based hard coating preferably contains one or more elements selected from Mo, Nb, W, Si, and B.
In this case, the first and / or second chromium-based hard coating is one or two selected from Mo, Nb, W, Si, and B in atomic percent of only the metal component (including the semimetal). It is preferable to contain 1 to 20% of the above elements.
さらに、第2のクロム系硬質皮膜の表面を、算術平均粗さRaは0.05μm以下、かつ最大高さRzは1.00μm以下となるように研磨することが好ましい。 Furthermore, it is preferable to polish the surface of the second chromium-based hard coating so that the arithmetic average roughness Ra is 0.05 μm or less and the maximum height Rz is 1.00 μm or less.
さらに、本発明の製造方法は物理蒸着法の内、アークイオンプレーティング法で被覆することが好ましい。
さらに、被覆物品は、射出成形用部品および/または金型であることが好ましい。
さらに、射出成形用部品は、スクリューおよび/またはスクリューの先端部品であることが好ましい。
Further, the production method of the present invention is preferably coated by an arc ion plating method among physical vapor deposition methods.
Furthermore, the coated article is preferably an injection molding part and / or a mold.
Further, the injection molding part is preferably a screw and / or a tip part of the screw.
また本発明は、上記の製造方法のいずれかで形成された被覆物品であって、硬質皮膜は、第1のクロム系硬質皮膜と、その直上に被覆された第2のクロム系硬質皮膜の少なくとも2層以上からなり、第1のクロム系硬質皮膜の表面は研磨されており、さらに、第2のクロム系硬質皮膜は、その基材側と表面側で粒度の異なる粒子層で構成される耐食性に優れた被覆物品である。さらに、ナノインデンテーション法による第2のクロム系硬質皮膜の硬度は、30GPa以上であることが好ましい。
さらに、第1のクロム系硬質皮膜の膜厚は、1.0〜10.0μm、第2のクロム系硬質皮膜の膜厚は、1.0〜10.0μmであることが好ましい。
The present invention is also a coated article formed by any of the above manufacturing methods, wherein the hard coating is at least a first chromium-based hard coating and a second chromium-based hard coating coated directly thereon. It consists of two or more layers, and the surface of the first chromium-based hard coating is polished, and the second chromium-based hard coating is made of a corrosion resistance composed of particle layers having different particle sizes on the substrate side and the surface side. It is an excellent coated article. Furthermore, the hardness of the second chromium-based hard coating by the nanoindentation method is preferably 30 GPa or more.
Furthermore, the film thickness of the first chromium-based hard film is preferably 1.0 to 10.0 μm, and the film thickness of the second chromium-based hard film is preferably 1.0 to 10.0 μm.
本発明の製造方法によれば、その硬質皮膜を被覆途中の第1のクロム系硬質皮膜の表面を最適に研磨して、さらに、第2のクロム系硬質皮膜の被覆期間中に基材に印加する負圧のバイアス電圧を変化させることで、皮膜表面から基材に向けて貫通する欠陥が非常に少ない被覆物品となる。よって本発明は、腐食環境に曝される射出成形用部品、工具、金型の製造に有用である。 According to the manufacturing method of the present invention, the surface of the first chrome-based hard coating that is being coated with the hard coating is optimally polished, and further applied to the substrate during the coating period of the second chrome-based hard coating. By changing the negative bias voltage, the coated article has very few defects penetrating from the coating surface toward the substrate. Therefore, the present invention is useful for manufacturing injection molding parts, tools, and molds that are exposed to corrosive environments.
本発明者等は、皮膜表面にあるドロップレット等の不純物の影響を遮断することが、耐食性の向上に重要であることを突きとめた。それに加えて、表面側のクロム系硬質皮膜の被覆期間中に、基材に印加する負圧のバイアス電圧を変化させることが耐食性の向上に極めて有効であることを見出した。そして、耐食性が極めて優れる具体的な皮膜構造とその製造方法をも見出して本発明に到達した。以下、その詳細を説明する。 The present inventors have found that it is important to improve the corrosion resistance to block the influence of impurities such as droplets on the surface of the film. In addition, it has been found that changing the negative bias voltage applied to the substrate during the coating period of the chromium hard coating on the surface side is extremely effective in improving the corrosion resistance. And the specific film structure and its manufacturing method which are extremely excellent in corrosion resistance were found, and the present invention was reached. Details will be described below.
本発明の硬質皮膜は、耐食性に優れる皮膜種であるクロム系硬質皮膜とする。本発明においてクロム系硬質皮膜とは、耐食性が優れるクロム量が、その金属成分(半金属を含む)のみの原子%で、50%以上あるものをいう。より好ましくは70%以上である。また、クロム系硬質皮膜は、耐食性および基材との密着性に優れる窒化物または炭窒化物であることが好ましい。
そして、本発明の硬質皮膜は、物理蒸着法で被覆することで、冷間ダイス鋼、熱間ダイス鋼、高速度鋼等の基材の焼き戻し温度より低温で被覆処理が可能となり、基材の寸法の変動を抑制することができる。また、硬質皮膜に圧縮残留応力を付与することができ、硬質皮膜の機械特性も改善できる
基材は、窒化処理、浸炭処理等といった拡散を利用した表面硬化処理を予め適用してもよい。
The hard film of the present invention is a chromium-based hard film that is a film type having excellent corrosion resistance. In the present invention, the chromium-based hard coating means that the amount of chromium having excellent corrosion resistance is 50% or more in terms of atomic% of only the metal component (including metalloid). More preferably, it is 70% or more. Further, the chromium-based hard coating is preferably a nitride or carbonitride excellent in corrosion resistance and adhesion to the substrate.
The hard coating of the present invention can be coated at a temperature lower than the tempering temperature of the base material such as cold die steel, hot die steel, high speed steel, etc. by coating by physical vapor deposition. The fluctuation of the dimension of can be suppressed. In addition, a compressive residual stress can be imparted to the hard coating, and the mechanical properties of the hard coating can be improved. A surface hardening treatment using diffusion such as nitriding treatment or carburizing treatment may be applied in advance to the base material.
本発明の製造方法で被覆される第1のクロム系硬質皮膜の表面は、ドロップレットやパーティクルを除去するだけでなく、その皮膜表面を平滑に研磨にすることで耐食性を改善できる。そして、JIS−B−0602−2001に定められる表面粗さにおける算術平均粗さRaは0.05μm以下とし、かつ最大高さRzは1.00μm以下になるよう研磨することで、凹凸が少ない極めて平滑な表面状態になるため、耐食性が向上して好ましい。ドロップレットやパーティクル等を確実に除去し平滑な表面状態にするために、次のような研磨方法が好ましい。
(1)ダイヤモンドペースト等の研磨剤を保持した研磨布で硬質皮膜の表面を磨く方法
(2)ダイヤモンド粒子と湿度を持った研磨剤を用い、基材に被覆された皮膜に高速に滑走させて、発生する摩擦力によって磨く、いわゆるエアロラップ(エアロラップは株式会社ヤマシタワークスの登録商標である)等による研磨方法
(3)エアーを使用せずに弾性と粘着性を持った研磨剤を噴射することで磨く、いわゆるスマップ(SMAP)(合資会社亀井鉄工所の鏡面ショットマシンである)等による研磨方法
さらに、これらの処理後には3μm以下のダイヤモンドペースト磨きをすることで、より好ましい平滑化が実現できる。
The surface of the first chromium-based hard coating coated by the production method of the present invention can improve the corrosion resistance not only by removing droplets and particles but also by smooth polishing the coating surface. And by polishing so that the arithmetic average roughness Ra in the surface roughness defined in JIS-B-0602-2001 is 0.05 μm or less and the maximum height Rz is 1.00 μm or less, there is very little unevenness. Since it becomes a smooth surface state, corrosion resistance improves and is preferable. In order to reliably remove droplets, particles and the like to obtain a smooth surface state, the following polishing method is preferable.
(1) A method of polishing the surface of a hard film with an abrasive cloth holding a polishing agent such as diamond paste (2) Using a polishing agent having diamond particles and humidity, and sliding at a high speed on a film coated on a substrate. Polishing by the generated friction force, so-called aero lapping (Aero lapping is a registered trademark of Yamashita Towers Co., Ltd.) etc. (3) Injecting an abrasive with elasticity and adhesion without using air Polishing method by so-called SMAP (mirror surface shot machine of Kamei Ironworks, Inc.) etc. Furthermore, after these treatments, diamond paste of 3 μm or less is polished to achieve more favorable smoothing it can.
耐食性を向上させるために、第2のクロム系硬質皮膜の表面上も、算術平均粗さRaは0.05μm以下とし、かつ最大高さRzは1.00μm以下になるよう研磨することが好ましい。
また、被覆前の基材の表面粗さを算術平均粗さRaは0.50μm以下とし、かつ最大高さRzは1.00μm以下に研磨しておくことが好ましい。
In order to improve the corrosion resistance, it is preferable that the surface of the second chromium-based hard coating is also polished so that the arithmetic average roughness Ra is 0.05 μm or less and the maximum height Rz is 1.00 μm or less.
Further, it is preferable that the surface roughness of the base material before coating is polished so that the arithmetic average roughness Ra is 0.50 μm or less and the maximum height Rz is 1.00 μm or less.
さらに本発明の製造方法では、第2のクロム系硬質皮膜の被覆期間中に、基材に印加する負圧のバイアス電圧を変化させることが重要である。
負圧のバイアス電圧が低いと粒子層が相対的に微細に、負圧のバイアス電圧が高いと粒子層が相対的に粗大となり易い傾向にある。また、バイアス電圧を変化させることで粒径等の形状だけでなく結晶方位も変化する。
そのため、第2のクロム系硬質皮膜の被覆期間中に、基材に印加する負圧のバイアス電圧を変化させることで、途中研磨をしても少なからずは存在する皮膜内部から表面へと連続するドロップレットやパーティクルに起因したボイドやポア、ピンホール状の隙間欠陥が途中で遮断されて、腐食進行が基材内部まで到達せず極めて耐食性に優れる被覆物品になると考えられる。
第2のクロム系硬質皮膜の被覆期間中に、初期と終盤でのバイアス電圧を異ならせることで、皮膜途中で腐食経路が遮断され易く好ましい。
Furthermore, in the production method of the present invention, it is important to change the negative bias voltage applied to the base material during the coating period of the second chromium-based hard coating.
When the negative bias voltage is low, the particle layer tends to be relatively fine, and when the negative pressure bias voltage is high, the particle layer tends to be relatively coarse. Further, by changing the bias voltage, not only the shape such as the grain size but also the crystal orientation changes.
Therefore, during the coating period of the second chromium-based hard film, by changing the bias voltage of the negative pressure applied to the base material, it continues from the inside of the existing film to the surface even if it is polished halfway. It is considered that voids, pores and pinhole-like gap defects due to droplets and particles are blocked in the middle, and the corrosion progress does not reach the inside of the base material, resulting in a coated article having extremely excellent corrosion resistance.
During the coating period of the second chromium-based hard coating, it is preferable to change the bias voltage between the initial stage and the final stage so that the corrosion path is easily interrupted in the middle of the coating.
バイアス電圧の変化が少ない場合は、耐食性を向上させる効果が十分に得られない場合がある。そのため、耐食性をより向上させるには、第2のクロム系硬質皮膜の被覆期間中に、基材に印加する負圧のバイアス電圧を10V以上変化させることが好ましい。より好ましくは30V以上である。さらに、50V以上である。
より好ましくは、第2のクロム系硬質皮膜の被覆期間中に、初期と終盤で、基材に印加する負圧のバイアス電圧を10V以上変化させることが好ましい。より好ましくは30V以上である。さらに、50V以上である。
第2のクロム系硬質皮膜の表面側の組織がより微細である方が、耐食性および耐摩耗性の向上に好ましく、終盤では基材に印加する負圧のバイアス電圧を100V以下とすることが好ましい。
If the change in the bias voltage is small, the effect of improving the corrosion resistance may not be sufficiently obtained. Therefore, in order to further improve the corrosion resistance, it is preferable to change the negative bias voltage applied to the base material by 10 V or more during the coating period of the second chromium-based hard coating. More preferably, it is 30 V or more. Furthermore, it is 50V or more.
More preferably, during the coating period of the second chromium-based hard coating, it is preferable to change the bias voltage of the negative pressure applied to the base material by 10 V or more in the initial stage and the final stage. More preferably, it is 30 V or more. Furthermore, it is 50V or more.
The finer structure on the surface side of the second chromium-based hard coating is preferable for improving corrosion resistance and wear resistance, and in the final stage, the negative bias voltage applied to the substrate is preferably 100 V or less. .
基材に印加する負圧のバイアス電圧が20V以下であると、皮膜内部の空隙が多くなる傾向になる。そのため、第2のクロム系硬質皮膜の被覆期間中に、基材に印加する負圧のバイアス電圧を20Vより大きくすることが好ましい。より好ましくは30V以上である。負圧のバイアス電圧が大きくなり過ぎると、成膜が安定し難いので200V以下とすることが好ましい。
第1のクロム系硬質皮膜の被覆期間中も、基材に印加する負圧のバイアス電圧を20Vより大きく、200V以下とすることが好ましい。
When the negative bias voltage applied to the substrate is 20 V or less, voids inside the film tend to increase. Therefore, it is preferable that the bias voltage of the negative pressure applied to the substrate is set to be larger than 20V during the coating period of the second chromium-based hard coating. More preferably, it is 30 V or more. If the negative bias voltage becomes too large, it is difficult to stabilize the film formation.
Even during the coating period of the first chromium-based hard coating, it is preferable that the negative bias voltage applied to the substrate is greater than 20V and not greater than 200V.
第1および/または第2のクロム系硬質皮膜は、Mo、Nb、W、Si、Bから選択される1種または2種以上の元素を含むことで、硬度が上昇し耐摩耗性が向上するので好ましい。
耐摩耗性を向上させるためには、金属成分(半金属を含む)のみの原子%で、Mo、Nb、W、Si、Bから選択される1種または2種以上の元素を1〜20%添加することが好ましい。
これよりも少ないと耐摩耗性の向上が十分ではない。これよりも多いと、皮膜の靭性が低下して、耐食性も低下する場合がある。より好ましくは、3%以上および/または15%以下である。
The first and / or second chromium-based hard coating contains one or more elements selected from Mo, Nb, W, Si, and B, thereby increasing the hardness and improving the wear resistance. Therefore, it is preferable.
In order to improve wear resistance, 1% to 20% of one or more elements selected from Mo, Nb, W, Si, and B are contained in atomic% of only metal components (including metalloids). It is preferable to add.
If it is less than this, the improvement in wear resistance is not sufficient. When it is more than this, the toughness of the film is lowered and the corrosion resistance may be lowered. More preferably, it is 3% or more and / or 15% or less.
硬質皮膜に十分な耐摩耗性を持たせるには、表面側にある第2のクロム系硬質皮膜に、上記の元素を添加することが好ましい。第2のクロム系硬質皮膜の耐摩耗性が向上すれば、その直下にある第1のクロム系硬質皮膜が添加元素を含有しない単純な化合物としても、皮膜全体としては十分な耐摩耗性が発揮される。さらに、第2のクロム系硬質皮膜のみに、添加元素を含有した合金ターゲットを使用することで製造コストも安くなるので好ましい。 In order to impart sufficient wear resistance to the hard film, it is preferable to add the above elements to the second chromium-based hard film on the surface side. If the wear resistance of the second chromium-based hard coating is improved, even if the first chromium-based hard coating immediately below it is a simple compound containing no additive elements, the wear resistance of the entire coating will be sufficient. Is done. Furthermore, it is preferable to use an alloy target containing an additive element only for the second chromium-based hard coating because the manufacturing cost is reduced.
また、クロム系硬質皮膜にSiおよび/またはBが皮膜中に添加されることで高硬度になることに加えて、皮膜組織が微細化されるため耐食性がより向上するので好ましい。つまり、皮膜に高い硬度をも付与することで、耐摩耗性の向上に加えて、摩耗腐食も抑制できるので、例えばプラスチックにガラス繊維等の強化物質が添加された場合でも、摩耗に起因する被覆物品の腐食防止に著しい効果を発揮する。
耐摩耗性と耐食性をより高いレベルで両立させるためには、Siおよび/またはBの添加量が金属組成(半金属を含む)のみの原子%で、5〜10%であることが好ましい。特にSiおよびBをいずれも添加することが好ましい。
Further, it is preferable because Si and / or B is added to the chromium-based hard coating to increase the hardness, and the coating structure is refined to improve the corrosion resistance. In other words, by imparting high hardness to the film, it is possible to suppress wear corrosion in addition to improving wear resistance, so that even when a reinforcing material such as glass fiber is added to plastic, for example, the coating caused by wear It has a remarkable effect on preventing corrosion of articles.
In order to achieve both wear resistance and corrosion resistance at a higher level, the addition amount of Si and / or B is preferably 5 to 10% in terms of atomic% of only the metal composition (including metalloid). In particular, it is preferable to add both Si and B.
Siおよび/またはBを第2のクロム系硬質皮膜に添加することで、基材側および表面側のそれぞれの平均結晶粒子幅を200nm以下にすることもできるので、皮膜表面から内部への腐食経路が微細に分断され耐食性がより改善できて好ましい。また、皮膜の硬度が高くなるため、耐摩耗性も改善され好ましい。
第1のクロム系硬質皮膜と第2のクロム系硬質皮膜の界面で、それぞれの結晶粒径の差異が大きい場合は、使用環境によっては密着強度が十分でない場合がある。そのため、第2のクロム系硬質皮膜のみにSiおよび/またはBを添加する場合には、第1のクロム系硬質皮膜との結晶粒径を少しでも近づけるために、表面側よりも基材側の方が粗大であることが好ましい。
By adding Si and / or B to the second chromium-based hard coating, the average crystal grain width on each of the base material side and the surface side can be made 200 nm or less. Is finely divided, and the corrosion resistance can be further improved. Moreover, since the hardness of the film is increased, the wear resistance is also improved, which is preferable.
When the difference in crystal grain size is large at the interface between the first chromium-based hard coating and the second chromium-based hard coating, the adhesion strength may not be sufficient depending on the use environment. Therefore, when adding Si and / or B only to the second chromium-based hard coating, in order to make the crystal grain size of the first chromium-based hard coating as close as possible, the surface side is closer to the substrate side. It is preferable that the direction is coarse.
本発明の硬質皮膜は、物理蒸着法の中でも特に皮膜密着性、皮膜密度が高いアークイオンプレーティング法で被覆することが好ましい。第1のクロム系硬質皮膜および第2のクロム系硬質皮膜のそれぞれを、密着性が優れるアークイオンプレーティング法で被覆することが好ましい。 The hard coating of the present invention is preferably coated by an arc ion plating method having a high film adhesion and a high film density among physical vapor deposition methods. It is preferable to coat each of the first chromium-based hard coating and the second chromium-based hard coating by an arc ion plating method having excellent adhesion.
本発明者は耐食性を向上させるため鋭意研究し、皮膜中に粗大なドロップレットが存在すると、その上面に堆積する皮膜との間に空隙等の内部欠陥が形成され、この欠陥を通して腐食が進行することを突き止めた。そして、硬質皮膜の形成工程の中間で研磨処理を行い平滑化することが、硬質皮膜の深さ方向の内部欠陥の連通を遮断するのに有効であることを見出した。
そのため、本発明の製造方法で形成した被覆物品は、第1のクロム系硬質皮膜上を研磨して、ドロップレットやパーティクル等を除去した上で、平滑な表面状態にするので、第2のクロム系硬質皮膜の被覆期間中に、第1のクロム系硬質皮膜の表面の微細な凹凸が埋めるように被覆される。そのため、基材までの貫通欠陥などを遮断し、皮膜全体の耐食性を大幅に改善できる。
研磨面は、鏡面加工した皮膜の断面観察から確認することができる。そして、平滑に研磨することで、本発明の第1のクロム系硬質皮膜と第2のクロム系硬質皮膜の界面は、その界面をまたぐ長径1μm以上のドロップレットが50μm当たりに2個未満とすることができる。長径が1μm未満のドロップレットおよび長径1μm以上であっても50μmあたり2個程度の存在は耐食性に大きな影響を与えないので好ましい。
The present inventor has intensively studied to improve the corrosion resistance. When coarse droplets are present in the film, internal defects such as voids are formed between the film and the film deposited on the upper surface, and corrosion proceeds through the defects. I found out. And it discovered that it was effective in interrupting | blocking the communication of the internal defect of the depth direction of a hard film | membrane by performing a polishing process in the middle of the formation process of a hard film | membrane.
Therefore, the coated article formed by the manufacturing method of the present invention polishes the first chrome-based hard film to remove droplets and particles and makes a smooth surface state. During the coating period of the system hard film, the surface is coated so that fine irregularities on the surface of the first chromium system hard film are filled. Therefore, the penetration defect etc. to a base material can be interrupted | blocked and the corrosion resistance of the whole membrane | film | coat can be improved significantly.
The polished surface can be confirmed from cross-sectional observation of the mirror-finished film. And by polishing smoothly, the interface between the first chromium-based hard coating and the second chromium-based hard coating of the present invention has less than two droplets having a major axis of 1 μm or more straddling the interface per 50 μm. be able to. Even if the major axis is a droplet having a major axis of less than 1 μm and the major axis is 1 μm or more, the presence of about two per 50 μm is preferable because it does not significantly affect the corrosion resistance.
また、第1のクロム系硬質皮膜の表面を平滑にすることに加えて、第2のクロム系硬質皮膜の被覆期間中に、基材に印加する負圧のバイアス電圧を変化させることで、第2のクロム系硬質皮膜が異なる粒子層で構成され易くなる。そのため、表面からの腐食経路が第2のクロム系硬質皮膜の途中で遮断され、第1のクロム系硬質皮膜にまで腐食が到達し難く、耐食性が改善され易いと考えられる。この場合、表面側よりも基材側が微細であっても良いし、逆に基材側よりも表面側の方が微粒でもよい。また、表面側と基材側の粒度を変化させるには、基材側から表面側に向けて緩やかに粒度を変化させた傾斜構造としてもよい。 Further, in addition to smoothing the surface of the first chrome-based hard coating, the negative-voltage bias voltage applied to the base material is changed during the coating period of the second chrome-based hard coating. The two chromium-based hard coatings are easily composed of different particle layers. For this reason, the corrosion path from the surface is interrupted in the middle of the second chromium-based hard coating, so that corrosion does not easily reach the first chromium-based hard coating, and the corrosion resistance is likely to be improved. In this case, the substrate side may be finer than the surface side, and conversely, the surface side may be finer than the substrate side. Further, in order to change the particle size on the surface side and the substrate side, an inclined structure in which the particle size is gradually changed from the substrate side to the surface side may be used.
第2のクロム系硬質皮膜の基材側と表面側の粒子層を比較するには、結晶方位のコントラストが強く現れる走査イオン顕微鏡(以下、SIMと略す)で観察することが好ましい。
さらに、第1のクロム系硬質皮膜との界面および皮膜表面からそれぞれ0.3μm〜0.5μmの位置で基材に対して平行な直線を引いたときに接する結晶粒子の平均粒子幅を測定することで、第2のクロム系硬質皮膜の基材側と表面側の粒度差をより正確に比較することができる。それぞれの平均結晶粒子幅の差が、50nm以上であることが好ましい。
In order to compare the particle layer on the substrate side and the surface side of the second chromium-based hard coating, it is preferable to observe with a scanning ion microscope (hereinafter abbreviated as SIM) in which the crystal orientation contrast is strong.
Furthermore, the average particle width of the crystal grains in contact with each other when a straight line parallel to the substrate is drawn at a position of 0.3 μm to 0.5 μm from the interface with the first chromium-based hard coating and the surface of the coating, respectively. Thereby, the particle size difference between the base material side and the surface side of the second chromium-based hard coating can be more accurately compared. The difference in the average crystal grain width is preferably 50 nm or more.
ナノインデンテーション法で測定した表面側にある第2のクロム系硬質皮膜の硬さが、30GPa以上であればより高い耐摩耗性が得られ好ましい。
さらには、皮膜組成および基材に印加する負圧のバイアス電圧を調整することで、35GPa以上の高硬度にもすることができて好ましい。
本発明では、ナノインデンテーション法による押し込み硬さが基材の影響を受けないように、試験片を5度傾け鏡面研磨して、最大押し込み深さが膜厚の1/10以下となるように制御して押し込み荷重を付加する。
If the hardness of the second chromium-based hard coating on the surface side measured by the nanoindentation method is 30 GPa or more, it is preferable because higher wear resistance can be obtained.
Furthermore, by adjusting the coating composition and the negative bias voltage applied to the substrate, it is possible to achieve a high hardness of 35 GPa or more, which is preferable.
In the present invention, in order to prevent the indentation hardness by the nanoindentation method from being affected by the base material, the test piece is tilted by 5 degrees and mirror-polished so that the maximum indentation depth becomes 1/10 or less of the film thickness. Control and add indentation load.
本発明の第1のクロム系硬質皮膜の膜厚は、1.0〜10.0μmであり、第2のクロム系硬質皮膜の膜厚は、1.0〜10.0μmであることで耐食性が十分に発揮されて好ましい。第1と第2のクロム系硬質皮膜がこれよりも薄い場合、より優れた耐食性効果が得られ難い。これよりも厚くなると皮膜全体の密着性強度が低下する場合がある。また、第1のクロム系硬質皮膜と第2のクロム系硬質皮膜の膜厚は同程度であることが好ましい。 The film thickness of the first chromium-based hard film of the present invention is 1.0 to 10.0 μm, and the film thickness of the second chromium-based hard film is 1.0 to 10.0 μm. It is preferable because it is sufficiently exerted. When the first and second chromium-based hard coatings are thinner than this, it is difficult to obtain a better corrosion resistance effect. If it is thicker than this, the adhesive strength of the whole film may be lowered. Moreover, it is preferable that the film thickness of a 1st chromium-type hard film and a 2nd chromium-type hard film is comparable.
本発明は、被覆物品の中でも特に耐食性が要求されるプラスチックやゴムの形成に用いられる射出成形部品(例えば、スクリュー、スクリューヘッド、チェックリング、シールリング、シリンダ―、逆流防止リング、スペーサー、など)および/または金型へ適用することで耐食性が著しく改善され好ましい。
中でも、優れた耐腐食性と耐摩耗性が要求されるスクリューおよび/またはスクリューの先端部品(例えば、スクリューヘッド、逆流防止リング、シールリング、スペーサー、など)に適用することが好ましい。この場合、基材には原子%で、Cを0.6〜1.6%、Crを4〜16%含む工具鋼とすることが好ましい。
The present invention is an injection-molded part used for the formation of plastics and rubbers that require particularly corrosion resistance among coated articles (for example, screws, screw heads, check rings, seal rings, cylinders, backflow prevention rings, spacers, etc.) And / or is preferably applied to a mold because the corrosion resistance is remarkably improved.
Among these, it is preferable to apply to screws and / or screw tip parts (for example, screw heads, backflow prevention rings, seal rings, spacers, etc.) that require excellent corrosion resistance and wear resistance. In this case, it is preferable to use tool steel containing 0.6 to 1.6% of C and 4 to 16% of Cr in atomic percent in the base material.
実施例1では、基本組成であるCrNを用いて本発明の効果を実証した。
硬質皮膜の被覆手段には、アークイオンプレーティング装置を用いた。成膜装置の概略図を図10に示す。
成膜チャンバー2中には、各種のターゲット(カソード)1を装着する複数のアーク放電式蒸発源3、4、5と、基材7を搭載するための基材ホルダー6を有する。基材ホルダー6の下には回転機構8があり、基材7は基材ホルダー6を介して、自転かつ公転する。そして、基材7が各種のターゲットに対峙したときに、該ターゲットによる皮膜が被覆される。なお、本実施例で使用したターゲットは、粉末冶金法で作製した。
In Example 1, the effect of the present invention was demonstrated using CrN which is a basic composition.
An arc ion plating apparatus was used as the means for coating the hard film. A schematic diagram of the film forming apparatus is shown in FIG.
The film forming chamber 2 includes a plurality of arc discharge evaporation sources 3, 4, and 5 for mounting various targets (cathodes) 1, and a substrate holder 6 for mounting the substrate 7. A rotation mechanism 8 is provided below the substrate holder 6, and the substrate 7 rotates and revolves through the substrate holder 6. And when the base material 7 opposes various targets, the film | membrane by this target is coat | covered. Note that the target used in this example was manufactured by a powder metallurgy method.
蒸発源3〜5には、硬質皮膜の金属成分(半金属を含む)を構成するターゲットと、金属イオンエッチング用のTiターゲットを装着した。基材には57〜60HRCに調質したJIS−SKD11相当鋼材を用い、表面を研磨して、表面粗さは平均粗さRa0.01μm、Rz0.07μmとした。
表面研磨した基材を脱脂洗浄して、基材ホルダー7に固定した。そして、チャンバー2に設置された図示しない加熱用ヒーターにより、基材を500℃付近に加熱し、50分間保持した。次に、Arガスを導入し、基材には−500Vのバイアス電圧を印加して、20分間のプラズマクリーニング処理(Arイオンエッチング)を行った。続いて、基材には−800Vのバイアス電圧を印加して、約20分間のTi金属イオンエッチングを行った(金属イオンエッチング後の冷却を含む)。以下、各試料の被覆条件の詳細を説明する。
Evaporation sources 3 to 5 were equipped with a target constituting a metal component (including a semimetal) of a hard film and a Ti target for metal ion etching. A JIS-SKD11 equivalent steel material tempered to 57-60 HRC was used as the base material, and the surface was polished to have an average roughness Ra of 0.01 μm and Rz of 0.07 μm.
The substrate whose surface was polished was degreased and washed and fixed to the substrate holder 7. Then, the substrate was heated to around 500 ° C. with a heater (not shown) installed in the chamber 2 and held for 50 minutes. Next, Ar gas was introduced, a bias voltage of −500 V was applied to the substrate, and a 20 minute plasma cleaning process (Ar ion etching) was performed. Subsequently, a bias voltage of −800 V was applied to the substrate, and Ti metal ion etching was performed for about 20 minutes (including cooling after metal ion etching). Details of the coating conditions for each sample will be described below.
<本発明例 試料No.1>
基材のイオンエッチング後、窒素ガスを導入し、基材には−120Vのバイアス電圧を印加して、基材温度500℃、反応ガス圧力3.0Paの条件で、約3.0μmの膜厚になるようCrNを被覆した。その後、CrNの表面を平滑に研磨するため、基材をチャンバーから取り出して、ヤマシタワークス社製エアロラップ装置(AERO LAP YT-300)を使用して表面処理を行った。さらにその後、1μmのダイヤモンドペーストにてポリッシング研磨し、続いては、合資会社亀井鉄工所製鏡面ショットマシンSMAP-II型使用を使用して、算術平均粗さRaは0.05μm以下、かつ最大高さRzは1.00μm以下とした。
そして、脱脂洗浄を行った後には、再びチャンバー内に戻して、第2のクロム系硬質皮膜を被覆した。まずArイオンエッチングおよびTi金属イオンエッチングを行い、窒素ガスを導入し、被覆初期では基材に−180Vのバイアス電圧を印加して、基材温度が500℃、反応ガス圧力が3.0Paの条件で、5分間被覆した。その後、5分間かけて、−180Vから−60Vになるようにバイアス電圧を変え、終盤には−60Vで5分間被覆して約3.0μmのCrNを被覆した。
<Invention Sample Sample No. 1>
After ion etching of the base material, nitrogen gas is introduced, a bias voltage of −120 V is applied to the base material, and the film thickness is about 3.0 μm under the conditions of the base material temperature of 500 ° C. and the reaction gas pressure of 3.0 Pa. CrN was coated so that Then, in order to grind | polish the surface of CrN smoothly, the base material was taken out from the chamber and surface treatment was performed using the Yamato towers company aero lapping apparatus (AERO LAP YT-300). Further polishing is then performed with a 1 μm diamond paste, followed by the use of a specular shot machine SMAP-II manufactured by Kamei Iron Works, with an arithmetic average roughness Ra of 0.05 μm or less and a maximum height The thickness Rz was 1.00 μm or less.
And after performing degreasing washing | cleaning, it returned in the chamber again and coat | covered the 2nd chromium type hard membrane | film | coat. First, Ar ion etching and Ti metal ion etching are performed, nitrogen gas is introduced, a bias voltage of −180 V is applied to the substrate at the initial stage of coating, the substrate temperature is 500 ° C., and the reaction gas pressure is 3.0 Pa. And coated for 5 minutes. Thereafter, the bias voltage was changed from −180 V to −60 V over 5 minutes, and the final stage was covered with −60 V for 5 minutes to cover about 3.0 μm of CrN.
<本発明例 試料No.2>
本発明例である試料No.2は、第2のクロム系硬質皮膜の被覆前までの工程は試料No.1と同じとした。
第2のクロム系硬質皮膜の被覆では、まずArイオンエッチングおよびTi金属イオンエッチングを行い、窒素ガスを導入し、被覆初期では、基材に−180Vのバイアス電圧を印加して、基材温度500℃、反応ガス圧力3.0Paの条件で、5分間被覆した。その後、−180Vから−90Vになるように5分間かけてバイアス電圧を変えて、終盤には−90Vで5分間被覆して約3.0μmのCrNを被覆した。
<Invention Sample Sample No. 2>
Sample No. which is an example of the present invention. 2 shows that the process up to the coating of the second chromium-based hard coating is the same as the sample No. 2. Same as 1.
In the coating of the second chromium-based hard film, first, Ar ion etching and Ti metal ion etching are performed, nitrogen gas is introduced, and at the initial stage of coating, a bias voltage of −180 V is applied to the substrate, and a substrate temperature of 500 The coating was carried out for 5 minutes under the conditions of 0 ° C. and a reaction gas pressure of 3.0 Pa. Thereafter, the bias voltage was changed from −180 V to −90 V over 5 minutes, and the final stage was coated with −90 V for 5 minutes to coat approximately 3.0 μm of CrN.
<比較例 試料No.3〜5>
比較例である試料No.3〜5は、第2のクロム系硬質皮膜の被覆前までの工程は試料No.1と同じとした。
第2のクロム系硬質皮膜の被覆期間中は、バイアス電圧を一定にして約3.0μmのCrN被覆した。
<Comparative Example Sample No. 3-5>
Sample No. which is a comparative example. Nos. 3 to 5 are sample Nos. 1 to 2 before the coating of the second chromium-based hard coating. Same as 1.
During the coating period of the second chromium-based hard film, the bias voltage was kept constant and the CrN film of about 3.0 μm was coated.
<従来例 No.6〜8>
従来例である試料No.6〜8は、バイアス電圧を−120Vと一定とし、途中研磨せず、同一炉内で連続して2種の硬質皮膜をそれぞれ約3μm被覆した。
<Conventional Example No. 6-8>
Sample No. which is a conventional example. In Nos. 6 to 8, the bias voltage was kept constant at −120 V, and polishing was not performed halfway, and two types of hard coatings were continuously coated in the same furnace by about 3 μm.
<従来例 No.9〜11>
従来例である試料No.9〜11は、バイアス電圧を−120Vと一定として単層の硬質皮膜を約6μm被覆した。
<Conventional Example No. 9-11>
Sample No. which is a conventional example. In Nos. 9 to 11, the bias voltage was kept constant at −120 V, and a single layer hard film was coated by about 6 μm.
そして最後には、各試料の最表面をエアロラップ、ダイヤモンドペースト磨き、合資会社亀井鉄工所製鏡面ショットマシンSMAP-II型使用を使用した表面処理を実施して平滑にした。 Finally, the outermost surface of each sample was smoothed by aero lapping, diamond paste polishing, and surface treatment using a specular shot machine SMAP-II manufactured by Kamei Iron Works.
これらの試料について、その硬質皮膜の表面粗さ測定、硬度、組織観察、耐食性の評価を行った。各評価試験方法を以下に示す。 About these samples, the surface roughness measurement of the hard film, hardness, structure observation, and corrosion resistance evaluation were performed. Each evaluation test method is shown below.
(表面粗さ測定)
JIS−B−0602−2001に従って、粗さ曲線より算術平均粗さRaと最大高さRzを測定した。測定条件は、評価長さ:4.0mm、測定速度:0.3mm/s、カットオフ値:0.8mmとした。表1に試験結果を示す。
(Surface roughness measurement)
According to JIS-B-0602-2001, the arithmetic average roughness Ra and the maximum height Rz were measured from the roughness curve. The measurement conditions were as follows: evaluation length: 4.0 mm, measurement speed: 0.3 mm / s, cut-off value: 0.8 mm. Table 1 shows the test results.
(硬度測定)
エリオニクス製のナノインデンテーション装置を用い、硬質皮膜の硬度を測定した。皮膜の硬度を測定するために、試験片を5度傾けて、鏡面研磨後、皮膜の研磨面内で最大押し込み深さが各層厚の1/10以下となる領域を選定した。このとき1/5程度でも基材の影響はないことを確認した。
押込み荷重49mN、最大荷重保持時間1秒、荷重負荷後の除去速度0.49mN/秒の測定条件で10点測定し、最大と最小の値を除いた8点の平均値から求めた。
本測定方法における皮膜硬度は、圧子の微細形状、測定時の温度、湿度、試料の表面状態に左右され易く、得られる数値は必ずしもビッカース硬さと一致しない。そのため、標準試料である溶融石英を測定した。そのときの溶融石英の皮膜硬さは11GPaであり、本測定結果をもとに相対比較することができる。表1に試験結果を示す。
(Hardness measurement)
The hardness of the hard coating was measured using an Elionix nanoindentation device. In order to measure the hardness of the film, the specimen was tilted by 5 degrees, and after mirror polishing, an area where the maximum indentation depth was 1/10 or less of each layer thickness within the polished surface of the film was selected. At this time, it was confirmed that there was no influence of the substrate even at about 1/5.
Ten points were measured under the measurement conditions of an indentation load of 49 mN, a maximum load holding time of 1 second, and a removal rate after loading of 0.49 mN / second, and the average value of 8 points excluding the maximum and minimum values was obtained.
The film hardness in this measurement method is easily influenced by the fine shape of the indenter, the temperature, humidity at the time of measurement, and the surface condition of the sample, and the obtained numerical values do not necessarily match the Vickers hardness. Therefore, the fused quartz which is a standard sample was measured. The film hardness of the fused quartz at that time is 11 GPa, and a relative comparison can be made based on this measurement result. Table 1 shows the test results.
(組織観察)
図1に途中研磨をしている本発明の試料No.1と、途中研磨をしていない比較例である試料No.10をクロスセクションポリッシャー(CP)で加工した断面観察写真を示す。(図中において、球状の白色部はドロップレットであり、ドロップレット周辺の黒色部はドロップレットに起因する空隙である。)
本発明のクロム系硬質皮膜は、第1のクロム系硬質皮膜と第2のクロム系硬質皮膜の界面が平滑に研磨され、界面のドロップレットが除去されており、第1のクロム系硬質皮膜の凹凸を埋めるように第2のクロム系硬質皮膜が被覆されていることが確認される。
同様の研磨方法で途中研磨した試料No.2〜5では、試料No.1と同様に平滑な研磨面が確認された。そして、試料No.1〜5のいずれの試料でも第1のクロム系硬質皮膜と第2のクロム系硬質皮膜の界面をまたぐ長径が1μm以上のドロップレットは50μmあたり、1個以下であった。
また、本発明の製造方法で形成した試料をSIM観察したところ、第2のクロム系硬質皮膜の基材側と表面側で結晶粒子の平均幅が異なった。
(Tissue observation)
In FIG. 1, the sample No. 1 and sample No. 1 which is a comparative example which is not polished halfway. The cross-sectional observation photograph which processed 10 with the cross section polisher (CP) is shown. (In the figure, the spherical white portion is a droplet, and the black portion around the droplet is a void resulting from the droplet.)
In the chrome-based hard coating of the present invention, the interface between the first chrome-based hard coating and the second chrome-based hard coating is polished smoothly, and droplets at the interface are removed. It is confirmed that the second chromium-based hard coating is coated so as to fill the unevenness.
Sample No. polished halfway by the same polishing method. 2 to 5, sample No. Similar to 1, a smooth polished surface was confirmed. And sample no. In any of the samples 1 to 5, the number of droplets having a major axis of 1 μm or more straddling the interface between the first chromium hard coating and the second chromium hard coating was 1 or less per 50 μm.
Moreover, when the sample formed by the manufacturing method of the present invention was observed by SIM, the average width of the crystal particles was different between the base side and the surface side of the second chromium-based hard coating.
(耐食性評価試験)
実際の射出成形中に発生するハロゲンガスなどの腐食ガスを模擬して、試料を10%硫酸水溶液中に10、20、30時間浸漬する試験を実施した。
前記水溶液の温度は50℃とし、JIS−G−0591−2007に従って、試験片の被覆された面以外はマスキングした。そして、浸漬後には、その腐食による減量を記録するとともに、表面に現れる孔食(ピット)の観察を行った。試験面に対する腐食の面積率は、顕微鏡写真(倍率:8倍)にて評価した。
孔食数の測定は、その顕微鏡写真に現れる孔食(ピット)のうち、0.8mm以上のものをAクラス、0.2〜0.8mm未満のものをBクラスとして、それぞれのサイズの孔食数を測定した。
また、耐食性の判断は、以下の通りとした。
◎:孔食が認められなかったもの
○:面積率1%以下の孔食が認められたもの
△:面積率1超〜10%の孔食が認められたもの
×:面積率10%超の孔食が認められたもの
表1に試験結果を示す。
(Corrosion resistance evaluation test)
A test was performed in which a sample was immersed in a 10% aqueous sulfuric acid solution for 10, 20, and 30 hours, simulating a corrosive gas such as a halogen gas generated during actual injection molding.
The temperature of the aqueous solution was 50 ° C., and the surfaces other than the coated surface of the test piece were masked according to JIS-G-0591-2007. After immersion, the weight loss due to the corrosion was recorded, and pitting corrosion (pits) appearing on the surface was observed. The area ratio of corrosion on the test surface was evaluated by a micrograph (magnification: 8 times).
The number of pitting corrosion is determined by classifying the pitting corrosion (pits) appearing in the micrograph as a class A with a diameter of 0.8 mm or more and a class B with a size less than 0.2 to 0.8 mm. The number of meals was measured.
Moreover, the corrosion resistance was determined as follows.
◎: No pitting corrosion was observed. ○: Pitting corrosion with an area ratio of 1% or less was observed. Δ: Pitting corrosion with an area ratio exceeding 1 to 10% was observed. X: Area ratio exceeding 10%. Table 1 shows the test results.
耐食性評価試験後の皮膜表面を図2、3に示す(図中において、球状に確認される薄色部が孔食である)。 The surface of the film after the corrosion resistance evaluation test is shown in FIGS. 2 and 3 (in the figure, the light-colored portion confirmed to be spherical is pitting corrosion).
本発明の硬質皮膜である試料No.1、2は、腐食時間が30時間でも極めて優れた耐食性を示した。
第2のクロム系硬質皮膜の被覆期間中に、基材に印加する負圧のバイアス電圧を一定にした試料No.3〜5は、腐食時間が20時間では孔食は確認されず、優れた耐食性を示した。しかし、腐食時間が30時間と長時間となると、本発明例と比較して耐食性が低下した。
図2に、本発明例と比較例の腐食時間30時間後の表面観察写真を示す。本発明例である試料No.1は孔食が全く発生していないことが確認される。
一方、従来皮膜である試料No.6〜11は腐食時間が10〜20時間でも腐食発生が極めて著しくなった。
Sample No. which is a hard film of the present invention. 1 and 2 showed extremely excellent corrosion resistance even when the corrosion time was 30 hours.
During the coating period of the second chromium-based hard coating, the sample No. 1 with a constant negative bias voltage applied to the substrate was used. In Nos. 3 to 5, pitting corrosion was not confirmed when the corrosion time was 20 hours, and excellent corrosion resistance was shown. However, when the corrosion time was as long as 30 hours, the corrosion resistance was lowered as compared with the inventive examples.
In FIG. 2, the surface observation photograph after 30 hours of corrosion time of this invention example and a comparative example is shown. Sample No. which is an example of the present invention. 1 confirms that no pitting corrosion has occurred.
On the other hand, the conventional film No. In the case of Nos. 6 to 11, the occurrence of corrosion was extremely remarkable even when the corrosion time was 10 to 20 hours.
実施例2では、第2のクロム系硬質皮膜を(92Cr3Si5B)Nにして評価した(数値は原子比)。
本発明例のNo.12〜21、および比較例のNo.22、23のいずれの試料も、第2のクロム系硬質皮膜の被覆前までの工程は、実施例1の試料No.1と同様とした。
比較例のNo.24は、第1のクロム系硬質皮膜のCrNの被覆期間中は、基材に印加するバイアス電圧を−90Vに一定にした。
各試料、第1のクロム系硬質皮膜の表面を、ヤマシタワークス社製エアロラップ装置(AERO LAP YT-300)を使用して表面処理を行った。さらにその後、1μmのダイヤモンドペーストにてポリッシング研磨し、続いては、合資会社亀井鉄工所製鏡面ショットマシンSMAP-II型使用を使用して、算術平均粗さRaは0.05μm以下、かつ最大高さRzは1.00μm以下とした。
No.12〜20、No.22〜24は、第2のクロム系硬質皮膜の被覆条件を実施例1と同様の要領とした。
No.21は、第2のクロム系硬質皮膜の被覆期間中に、その初期では基材に印加するバイアス電圧を−90Vとし、5分間被覆した。その後、中盤では5分間かけて−180Vに変化させ、−180Vで5分間被覆し、さらに5分間かけて−90Vに変化させた。終盤では−90Vで20分被覆して、約5μm被覆した。
そして最後には、各試料の最表面をエアロラップ、ダイヤモンドペースト磨き、合資会社亀井鉄工所製鏡面ショットマシンSMAP-II型使用を使用した表面処理を実施して平滑にした。表2にバイアス条件および試験結果を示す。
In Example 2, the second chromium-based hard coating was evaluated as (92Cr3Si5B) N (the numerical value is an atomic ratio).
No. of the example of the present invention. 12 to 21 and Comparative Example No. In both samples 22 and 23, the steps up to the coating of the second chromium-based hard coating were the same as the sample No. 1 in Example 1. Same as 1.
Comparative Example No. No. 24, the bias voltage applied to the substrate was kept constant at -90 V during the CrN coating period of the first chromium-based hard coating.
The surface of each sample and the first chromium-based hard coating was subjected to a surface treatment using an aero lapping apparatus (AERO LAP YT-300) manufactured by Yamashita Towers. Further polishing is then performed with a 1 μm diamond paste, followed by the use of a specular shot machine SMAP-II manufactured by Kamei Iron Works, with an arithmetic average roughness Ra of 0.05 μm or less and a maximum height The thickness Rz was 1.00 μm or less.
No. 12-20, no. In Nos. 22 to 24, the coating conditions of the second chromium-based hard coating were the same as those in Example 1.
No. In No. 21, during the coating period of the second chromium-based hard film, the bias voltage applied to the base material was initially set to −90 V and the coating was performed for 5 minutes. Thereafter, in the middle stage, the voltage was changed to -180 V over 5 minutes, covered with -180 V for 5 minutes, and further changed to -90 V over 5 minutes. In the final stage, the film was coated at −90 V for 20 minutes, and coated at about 5 μm.
Finally, the outermost surface of each sample was smoothed by aero lapping, diamond paste polishing, and surface treatment using a specular shot machine SMAP-II manufactured by Kamei Iron Works. Table 2 shows the bias conditions and test results.
第2のクロム系硬質皮膜の被覆期間中に、基材に印加する負圧のバイアス電圧を変化させた本発明例の試料No.12〜21は、バイアス電圧を変化させていない比較例の試料No.22〜24よりも優れた耐食性を示した。特に、第2のクロム系硬質皮膜の被覆期間中に基材に印加する負圧のバイアス電圧が20Vよりも大きい場合には、腐食時間が30時間でも孔食が全く確認されなかった。耐食性評価試験後の皮膜表面の観察写真を図4に示す。 In the coating period of the second chromium-based hard coating, sample No. of the present invention in which the negative bias voltage applied to the substrate was changed. Samples Nos. 12 to 21 are comparative sample Nos. Corrosion resistance superior to 22-24 was shown. In particular, when the negative pressure bias voltage applied to the substrate during the coating period of the second chromium-based hard coating was higher than 20 V, no pitting corrosion was confirmed even when the corrosion time was 30 hours. An observation photograph of the film surface after the corrosion resistance evaluation test is shown in FIG.
図5に本発明例である試料No.12の走査型電子顕微鏡による破断面観察写真を示す。SiとBを含有している第2のクロム系硬質皮膜が、CrNである第1のクロム系硬質皮膜よりも粒子層が微細であることが確認される。
そして、第2のクロム系硬質皮膜では、被覆期間中に基材に印加する負圧のバイアス電圧を変化させたため、基材側よりも表面側の粒子層が微細になっていることが確認される。
図6に本発明例である試料No.12のSIM像を示す。第2のクロム系硬質皮膜の基材側が粗大で、表面側が微粒な粒子層であることが、図5の破断面観察写真に比べてより明確に確認される。
試料No.12のSIM像から、第2のクロム系硬質皮膜の、第1のクロム系硬質皮膜との界面および皮膜表面から0.5μmの位置で基材に対して平行な直線を引いたときに接する結晶粒子の粒子幅を測定した。2視野以上を測定して、基材側の平均結晶粒子幅は148nm、表面側の平均結晶粒子幅は77nmであり、その差異は71nmであった。
本発明の製造方法で形成した試料はいずれも、第2のクロム系硬質皮膜の基材側と表面側で結晶粒子の平均幅が異なった。また、断面観察写真では、試料No.1と同様に平滑な研磨面が確認された。そして、第1のクロム系硬質皮膜と第2のクロム系硬質皮膜の界面をまたぐ長径が1μm以上のドロップレットは50μmあたり、1個以下であった。
In FIG. The fracture | rupture cross-sectional observation photograph by 12 scanning electron microscopes is shown. It is confirmed that the particle layer of the second chromium-based hard coating containing Si and B is finer than that of the first chromium-based hard coating that is CrN.
And in the 2nd chromium system hard coat, since the bias voltage of the negative pressure applied to a substrate was changed during the covering period, it was confirmed that the particle layer on the surface side is finer than the substrate side. The
In FIG. 12 SIM images are shown. It is confirmed more clearly that the second chromium-based hard coating is a coarse particle layer on the base material side and a fine particle layer on the surface side compared to the fracture surface observation photograph of FIG.
Sample No. A crystal that comes into contact when a straight line parallel to the substrate is drawn at a position of 0.5 μm from the interface of the second chromium-based hard coating and the surface of the second chromium-based hard coating from the SIM image of 12 The particle width of the particles was measured. Two or more fields of view were measured. The average crystal grain width on the base material side was 148 nm, the average crystal grain width on the surface side was 77 nm, and the difference was 71 nm.
In all the samples formed by the production method of the present invention, the average width of the crystal particles was different between the base side and the surface side of the second chromium-based hard coating. In the cross-sectional observation photograph, sample No. Similar to 1, a smooth polished surface was confirmed. The number of droplets having a major axis of 1 μm or more straddling the interface between the first chromium hard coating and the second chromium hard coating was 1 or less per 50 μm.
図7には、試料No.13のSIM像を示す。第2のクロム系硬質皮膜の基材側が微細で、表面側が粗大な粒子層であることが確認される。 In FIG. 13 SIM images are shown. It is confirmed that the substrate side of the second chromium-based hard coating is fine and the surface side is a coarse particle layer.
実施例3では、第2のクロム系硬質皮膜を(85Cr10Mo5Si)Nにして評価した(数値は原子比)。
本発明例のNo.25、26、および比較例のNo.27のいずれの試料も、第2のクロム系硬質皮膜の被覆前までの工程は、実施例1の試料No.1と同様とし、第1のクロム系硬質皮膜の表面を、ヤマシタワークス社製エアロラップ装置(AERO LAP YT-300)を使用して表面処理を行った。さらにその後、1μmのダイヤモンドペーストにてポリッシング研磨し、続いては、合資会社亀井鉄工所製鏡面ショットマシンSMAP-II型使用を使用して、算術平均粗さRaは0.05μm以下、かつ最大高さRzは1.00μm以下とした。
また、第2のクロム系硬質皮膜の被覆条件も実施例1と同様の要領とした。
そして最後には、各試料の最表面をエアロラップ、ダイヤモンドペースト磨き、合資会社亀井鉄工所製鏡面ショットマシンSMAP-II型使用を使用した表面処理を実施して平滑にした。表3にバイアス条件および試験結果を示す。
In Example 3, the second chromium-based hard coating was evaluated as (85Cr10Mo5Si) N (the numerical value is an atomic ratio).
No. of the example of the present invention. 25, 26, and Comparative Example No. In any of the samples of No. 27, the steps up to the coating of the second chromium-based hard coating were the same as those of the sample No. 1 of Example 1. In the same manner as in No. 1, the surface of the first chromium-based hard coating was subjected to surface treatment using an aero lapping apparatus (AERO LAP YT-300) manufactured by Yamashita Towers. Further polishing is then performed with a 1 μm diamond paste, followed by the use of a specular shot machine SMAP-II manufactured by Kamei Iron Works, with an arithmetic average roughness Ra of 0.05 μm or less and a maximum height The thickness Rz was 1.00 μm or less.
The coating conditions for the second chromium-based hard coating were the same as in Example 1.
Finally, the outermost surface of each sample was smoothed by aero lapping, diamond paste polishing, and surface treatment using a specular shot machine SMAP-II manufactured by Kamei Iron Works. Table 3 shows the bias conditions and test results.
第2のクロム系硬質皮膜の被覆期間中に、基材に印加する負圧のバイアス電圧を変化させた本発明例の試料No.25、26は、バイアス電圧を変化させていない比較例の試料No.27よりも優れた耐食性を示した。耐食性評価試験後の皮膜表面の観察写真を図8に示す。 In the coating period of the second chromium-based hard coating, sample No. of the present invention in which the negative bias voltage applied to the substrate was changed. Nos. 25 and 26 are sample Nos. Of comparative examples in which bias voltage is not changed. Corrosion resistance superior to 27 was exhibited. An observation photograph of the film surface after the corrosion resistance evaluation test is shown in FIG.
図9には、試料No.25のSIM像を示す。第2のクロム系硬質皮膜の基材側が微細で、表面側が粗大な粒子層であることが確認される。
本発明の製造方法で形成した試料はいずれも、第2のクロム硬質皮膜の基材側と表面側で結晶粒子の平均幅が異なった。また、断面観察写真では、試料No.1と同様に平滑な研磨面が確認された。そして、第1のクロム系硬質皮膜と第2のクロム系硬質皮膜の界面をまたぐ長径が1μm以上のドロップレットは50μmあたり、1個以下であった。
In FIG. 25 SIM images are shown. It is confirmed that the substrate side of the second chromium-based hard coating is fine and the surface side is a coarse particle layer.
In all the samples formed by the production method of the present invention, the average width of the crystal particles was different between the base side and the surface side of the second chromium hard coating. In the cross-sectional observation photograph, sample No. Similar to 1, a smooth polished surface was confirmed. The number of droplets having a major axis of 1 μm or more straddling the interface between the first chromium hard coating and the second chromium hard coating was 1 or less per 50 μm.
本発明は、プラスチックやゴムを成形する金型や工具、射出成形用部品の他には、例えば皮膜成分等を調整して、被成形材との離型性をも付与することで、MIM(メタルインジェクションモールディング)用金型や、そして各種の機械部品にも適用し得る。 In the present invention, in addition to molds and tools for molding plastics and rubber, and injection molding parts, for example, a film component is adjusted to provide release properties from a molding material. It can be applied to metal injection molding dies and various machine parts.
1、ターゲット
2、成膜チャンバー
3、蒸発源
4、蒸発源
5、蒸発源
6、基材ホルダー
7、基材
8、回転機構
1, target 2, film formation chamber 3, evaporation source 4, evaporation source 5, evaporation source 6, base material holder 7, base material 8, rotation mechanism
Claims (15)
前記第2のクロム系硬質皮膜の被覆前に、前記第1のクロム系硬質皮膜の表面を研磨し、前記第2のクロム系硬質皮膜の被覆期間中に、前記基材に印加する負圧のバイアス電圧を変化させること特徴とする耐食性に優れた被覆物品の製造方法。 A method of manufacturing a coated article in which a base film surface of an article is coated with a hard film by a physical vapor deposition method, wherein the hard film includes at least two of a first chromium-based hard film and a second chromium-based hard film directly thereon. Consisting of more layers,
Before coating the second chromium-based hard coating, the surface of the first chromium-based hard coating is polished, and during the coating period of the second chromium-based hard coating, a negative pressure applied to the substrate is applied. A method for producing a coated article excellent in corrosion resistance, characterized by changing a bias voltage.
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