JP2013068519A - パターン測定方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明のパターン測定方法は、フォトマスクのOPCパターンのうち、所望の範囲のパターンを包含する一回り大きい測定対象領域を設定し、測定対象領域のパターンの寸法を微小な領域毎に測定し、寸法の測定値を統計的に処理したものを曲線で近似し、近似曲線で表れるデータ群のうち、所望の範囲のパターン寸法に相当するデータ群の平均値を、所望の範囲のパターン寸法として推定する。
【選択図】図3
Description
図3は、フォトマスクパターン31の観察画像30を示す図である。このOPCパターンも中心付近で幅寸法が狭くなるパターンで、この領域が測定範囲(所望の範囲)となる。まず、OPCパターンに対して、ROI32を適当な大きさに設定する。ROI32は、測定対象パターンが含まれるように一回り大きめにサイズ、すなわち所望の範囲をすべて含み、かつ所望の範囲よりも大きい範囲を設定することが望ましい。ROI32のサイズは適当なため、測定範囲のパターン以外の領域も、このROIは含んでいる。これは、角が丸まっている部分や幅寸法が広い領域などを指す。
本発明の実施の形態2では、実施の形態1で説明した方法の変形例を説明する。図4の工程までは実施の形態1と同様であるため、以下ではそれ以降の工程についてのみ説明する。
本発明の実施の形態3では、一つのOPCパターン内で複数箇所の線幅を測定する場合について説明する。
11、31、81、111・・・フォトマスクパターン
12、32、82、112・・・ROI
Th1、Th2、Th3、Th4、Th5・・・寸法閾値
Xa、Xb、Xc、Xd、Xj、Xk・・・測定対象領域となる範囲
Claims (5)
- 走査型電子顕微鏡で撮像されたパターン画像から所望の範囲のパターン寸法を測定するパターン測定方法において、
前記パターン画像に対して前記所望の範囲を包含する測定対象領域を設定する設定工程と、
前記測定対象領域に含まれるパターンのエッジ位置を検出して前記測定対象領域内の前記パターン寸法を測定する測定工程と、
前記測定対象領域内の前記パターン寸法の測定値から、前記所望の範囲のパターン寸法を推定する推定工程と、
を含んだことを特徴とするパターン測定方法。 - 前記設定工程では、前記所望の範囲をすべて含み、かつ前記所望の範囲よりも大きい範囲を前記測定対象領域として設定することを特徴とする請求項1に記載のパターン測定方法。
- 前記測定工程では、前記測定対象領域の両端に測定ボックスを設定し、前記測定ボックスの範囲内において前記パターンのエッジと直交する方向のラインプロファイルを前記パターン画像から所定の間隔毎に取得し、前記ラインプロファイルを微分した微分プロファイルのピークから前記所定の間隔毎の前記エッジ位置を検出し、前記所定の間隔毎の前記パターン寸法を計測することを特徴とする請求項1または2に記載のパターン測定方法。
- 前記推定工程では、前記パターン寸法の前記測定値を統計処理して曲線近似し、前記曲線で表れるデータ群のうち、前記所望の範囲に対応する前記データ群の平均値を、前記所望の範囲の前記パターン寸法の測定値として推定することを特徴とする請求項1〜3のいずれか一つに記載のパターン測定方法。
- 前記推定工程は、前記パターンの設計データから前記測定値に対する第1の閾値を設定して第1の測定対象領域を抽出する工程と、前記測定対象領域内の前記パターン寸法の測定値の変化量を算出し、前記変化量の絶対値が第2の閾値以下の第2の測定対象領域を抽出する工程と、前記第1の測定対象領域と前記第2の測定対象領域の両方に含まれる領域の前記パターン寸法の測定値の平均値を前記所望の範囲のパターン寸法の測定値として推定する工程と、を含むことを特徴とする請求項1〜3のいずれか一つに記載のパターン測定方法。
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