JP2013064101A - Method for modifying polymer compound and method for producing film including modified polymer compound - Google Patents

Method for modifying polymer compound and method for producing film including modified polymer compound Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for obtaining a polymer compound simply imparted of optical activity, which can be applied to wide range of polymer compounds.SOLUTION: This modification method of polymer compounds comprises irradiating circularly polarized light to a polymer compound having a repeating unit represented by formula (1), in formula, Ris a bivalent aromatic group which may have a substituent, or a bivalent group of formula (2).

Description

本発明は、高分子化合物の変性方法及び変性された高分子化合物を含む膜の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for modifying a polymer compound and a method for producing a film containing the modified polymer compound.

光学活性な高分子化合物は、単位構造に光学活性部位を導入したり、主鎖を光学活性ならせん構造としたりすることで合成できることが知られている。最近では、光感受性部位であるアゾベンゼンユニットを導入した高分子化合物に、円偏光を照射することで光学活性体を得る方法が報告されている(非特許文献1)。   It is known that an optically active polymer compound can be synthesized by introducing an optically active site into a unit structure or by forming an optically active helical structure in the main chain. Recently, there has been reported a method for obtaining an optically active substance by irradiating a circularly polarized light to a polymer compound into which an azobenzene unit that is a photosensitive site is introduced (Non-patent Document 1).

Phys.Chem.Chem.Phys.9,3671−3681(2007)Phys. Chem. Chem. Phys. 9,3671-3681 (2007)

しかし、円偏光を照射して光学活性体を得る技術に関しては、アゾベンゼンユニットなどの光感受性構造が導入された高分子化合物に適用した例しか無く、適用できる高分子化合物の範囲が限られていた。   However, regarding the technology for obtaining an optically active substance by irradiating circularly polarized light, there are only examples applied to a polymer compound into which a light-sensitive structure such as an azobenzene unit is introduced, and the range of applicable polymer compounds has been limited. .

そこで、本発明は、適用し得る高分子化合物の範囲が広く、且つ、光学活性の付与された高分子化合物を簡便に得る方法を提供する。   Therefore, the present invention provides a method for easily obtaining a polymer compound having a wide range of applicable polymer compounds and imparting optical activity.

上記課題を解決するために、本発明者らは鋭意検討した結果、特定の構造を有する高分子化合物に円偏光を照射することで光学活性が付与された高分子化合物へと変性することを見出し、本発明を完成させるに至った。   In order to solve the above-mentioned problems, the present inventors have intensively studied, and as a result, found that a polymer compound having a specific structure is modified into a polymer compound imparted with optical activity by irradiating circularly polarized light. The present invention has been completed.

本発明は、下記〔1〕〜〔7〕を提供する。
〔1〕下記式(1)で表される繰り返し単位を有する高分子化合物に、円偏光を照射する、高分子化合物の変性方法。

Figure 2013064101
(式(1)中、
は置換基を有していてもよい2価の芳香族基又は下記式(2)で表される2価の基である。
は−O−で表される基、−S−で表される基、−C(=O)−で表される基、−C(=O)O−で表される基、−C(=O)N(R10)−で表される基、−OC(=O)O−で表される基、−OC(=O)N(R11)−で表される基、−N(R12)C(=O)N(R13)−で表される基、−C(R14−で表される基、−Si(R15−で表される基、−C(R16)=C(R16)−で表される基、又は、2価のアミン残基である。R10、R11、R12、R13、R14、R15及びR16は、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよいヒドロカルビル基であり、R10、R11、R12、R13、R14、R15及びR16が複数個存在する場合、それぞれ同じでも異なっていてもよい。
は1以上の整数であり、mは0以上の整数である。m及び/又はmが2以上であるとき、m個存在するR及び/又はm個存在するXは、それぞれ同じでも異なっていてもよい。)
Figure 2013064101
(式(2)中、
、R及びRは、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよいヒドロカルビル基である。
は−O−で表される基、−S−で表される基、−C(=O)O−で表される基、−C(=O)N(R)−で表される基、及び置換基を有していてもよいヒドロカルビレン基からなる群から選ばれる1個又は2個を組み合わせた2価の基、又は直接結合である。Rは水素原子又は置換基を有していてもよいヒドロカルビル基である。
Arは置換基を有していてもよい1価の芳香族炭化水素基(即ち、芳香族ヒドロカルビル基)であり、該1価の芳香族炭化水素基はsp炭素原子を7個以上含む。)
〔2〕前記式(1)において、mが1であり、mが0である、上記〔1〕に記載の変性方法。
〔3〕前記式(1)において、Rが置換基を有していてもよい2価の芳香族基であるとき、該置換基を有していてもよい2価の芳香族基が、置換基を有していてもよい単環式芳香環、置換基を有していてもよい縮合多環式芳香環若しくは置換基を有していてもよい有橋多環式芳香環から環を構成する原子に直接結合する水素原子が2個除かれている2価の基であるか、又は、Rが式(2)で表される2価の基であるとき、Arが置換基を有していてもよい芳香環集合から環を構成する原子に直接結合する水素原子が1個除かれている1価の基である、上記〔1〕又は〔2〕に記載の変性方法。
〔4〕前記式(1)において、Rが式(2)で表される2価の基であるとき、R、R及びRが水素原子であり、Rが−O−で表される基、−C(=O)O−で表される基、−C(=O)N(R)−で表される基、又は、直接結合である、上記〔1〕〜〔3〕のいずれかに記載の変性方法。
〔5〕前記高分子化合物が膜の形状である、上記〔1〕〜〔4〕のいずれかに記載の変性方法。
〔6〕下記工程(a)及び(b)を含む、変性された高分子化合物を含む膜の製造方法。
(a)基材上に、下記式(1)で表される繰り返し単位を有する高分子化合物を含む膜を形成する工程。
(b)前記膜に円偏光を照射する工程。
Figure 2013064101
(式(1)中、
は置換基を有していてもよい2価の芳香族基又は下記式(2)で表される2価の基である。
は−O−で表される基、−S−で表される基、−C(=O)−で表される基、−C(=O)O−で表される基、−C(=O)N(R10)−で表される基、−OC(=O)O−で表される基、−OC(=O)N(R11)−で表される基、−N(R12)C(=O)N(R13)−で表される基、−C(R14−で表される基、−Si(R15−で表される基、−C(R16)=C(R16)−で表される基、又は、2価のアミン残基である。R10、R11、R12、R13、R14、R15及びR16は、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよいヒドロカルビル基であり、R10、R11、R12、R13、R14、R15及びR16が複数個存在する場合、それぞれ同じでも異なっていてもよい。
は1以上の整数であり、mは0以上の整数である。m及び/又はmが2以上であるとき、m個存在するR及び/又はm個存在するXは、それぞれ同じでも異なっていてもよい。)
Figure 2013064101
(式(2)中、
、R及びRは、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよいヒドロカルビル基である。
は−O−で表される基、−S−で表される基、−C(=O)O−で表される基、−C(=O)N(R)−で表される基、及び置換基を有していてもよいヒドロカルビレン基からなる群から選ばれる1個又は2個を組み合わせた2価の基、又は、直接結合である。Rは水素原子又は置換基を有していてもよいヒドロカルビル基である。
Arは置換基を有していてもよい1価の芳香族炭化水素基であり、該1価の芳香族炭化水素基はsp炭素原子を7個以上含む。)
〔7〕前記工程(a)において、前記高分子化合物を含む懸濁液又は溶液を基材に塗布する、上記〔6〕に記載の製造方法。 The present invention provides the following [1] to [7].
[1] A method for modifying a polymer compound, comprising irradiating a polymer compound having a repeating unit represented by the following formula (1) with circularly polarized light.
Figure 2013064101
(In the formula (1),
R 1 is a divalent aromatic group which may have a substituent or a divalent group represented by the following formula (2).
X 1 is a group represented by —O—, a group represented by —S—, a group represented by —C (═O) —, a group represented by —C (═O) O—, —C A group represented by (═O) N (R 10 ) —, a group represented by —OC (═O) O—, a group represented by —OC (═O) N (R 11 ) —, —N A group represented by (R 12 ) C (═O) N (R 13 ) —, a group represented by —C (R 14 ) 2 —, a group represented by —Si (R 15 ) 2 —, C (R 16) = C ( R 16) - , a group represented by or a divalent amine residue. R 10 , R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 and R 16 are each independently a hydrocarbyl group optionally having a hydrogen atom or a substituent, and R 10 , R 11 , R 16 When a plurality of 12 , R 13 , R 14 , R 15 and R 16 are present, they may be the same or different.
m 1 is an integer of 1 or more, and m 2 is an integer of 0 or more. When m 1 and / or m 2 is 2 or more, R 1 and / or X 1 present two m existing one m may be the same or different. )
Figure 2013064101
(In the formula (2),
R 5 , R 6 and R 7 are each independently a hydrogen atom or a hydrocarbyl group optionally having a substituent.
R 8 is a group represented by —O—, a group represented by —S—, a group represented by —C (═O) O—, and a group represented by —C (═O) N (R 9 ) —. And a divalent group obtained by combining one or two selected from the group consisting of an optionally substituted hydrocarbylene group, or a direct bond. R 9 is a hydrogen atom or a hydrocarbyl group optionally having a substituent.
Ar 2 is a monovalent aromatic hydrocarbon group (that is, an aromatic hydrocarbyl group) which may have a substituent, and the monovalent aromatic hydrocarbon group contains 7 or more sp 2 carbon atoms. . )
[2] The modification method according to [1], wherein m 1 is 1 and m 2 is 0 in the formula (1).
[3] In the formula (1), when R 1 is a divalent aromatic group which may have a substituent, the divalent aromatic group which may have the substituent is A ring is formed from a monocyclic aromatic ring optionally having a substituent, a condensed polycyclic aromatic ring optionally having a substituent, or a bridged polycyclic aromatic ring optionally having a substituent. Ar 2 is a substituent when R 2 is a divalent group represented by the formula (2) in which two hydrogen atoms directly bonded to the constituent atoms are removed or R 1 is a divalent group represented by the formula (2) The modification method according to the above [1] or [2], which is a monovalent group in which one hydrogen atom directly bonded to an atom constituting a ring is removed from an aromatic ring assembly which may have a ring.
[4] In the formula (1), when R 1 is a divalent group represented by the formula (2), R 5 , R 6 and R 7 are hydrogen atoms, and R 8 is —O—. a group represented by, -C (= O) O-, a group represented by, -C (= O) N ( R 9) - , a group represented by or a direct bond, [1] to [ 3] The modification | denaturation method in any one of.
[5] The modification method according to any one of [1] to [4], wherein the polymer compound is in the form of a film.
[6] A method for producing a film containing a modified polymer compound, comprising the following steps (a) and (b):
(A) The process of forming the film | membrane containing the high molecular compound which has a repeating unit represented by following formula (1) on a base material.
(B) A step of irradiating the film with circularly polarized light.
Figure 2013064101
(In the formula (1),
R 1 is a divalent aromatic group which may have a substituent or a divalent group represented by the following formula (2).
X 1 is a group represented by —O—, a group represented by —S—, a group represented by —C (═O) —, a group represented by —C (═O) O—, —C A group represented by (═O) N (R 10 ) —, a group represented by —OC (═O) O—, a group represented by —OC (═O) N (R 11 ) —, —N A group represented by (R 12 ) C (═O) N (R 13 ) —, a group represented by —C (R 14 ) 2 —, a group represented by —Si (R 15 ) 2 —, C (R 16) = C ( R 16) - , a group represented by or a divalent amine residue. R 10 , R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 and R 16 are each independently a hydrocarbyl group optionally having a hydrogen atom or a substituent, and R 10 , R 11 , R 16 When a plurality of 12 , R 13 , R 14 , R 15 and R 16 are present, they may be the same or different.
m 1 is an integer of 1 or more, and m 2 is an integer of 0 or more. When m 1 and / or m 2 is 2 or more, R 1 and / or X 1 present two m existing one m may be the same or different. )
Figure 2013064101
(In the formula (2),
R 5 , R 6 and R 7 are each independently a hydrogen atom or a hydrocarbyl group optionally having a substituent.
R 8 is a group represented by —O—, a group represented by —S—, a group represented by —C (═O) O—, and a group represented by —C (═O) N (R 9 ) —. And a divalent group obtained by combining one or two selected from the group consisting of an optionally substituted hydrocarbylene group, or a direct bond. R 9 is a hydrogen atom or a hydrocarbyl group optionally having a substituent.
Ar 2 is a monovalent aromatic hydrocarbon group which may have a substituent, and the monovalent aromatic hydrocarbon group contains 7 or more sp 2 carbon atoms. )
[7] The production method according to [6], wherein in the step (a), a suspension or solution containing the polymer compound is applied to a substrate.

本発明の変性方法によれば、適用し得る高分子化合物の範囲が広く、且つ、光学活性の付与された高分子化合物を簡便に得ることができる。   According to the modification method of the present invention, a wide range of applicable polymer compounds and a polymer compound imparted with optical activity can be easily obtained.

以下、本発明の実施形態について説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described.

本明細書において、「置換基を有していてもよい」とは、その直後に記載された化合物又は基を構成する水素原子の一部又は全部が置換基で置換されていてもよいことを意味する。別途明確な記載のない限り、前記置換基としては、例えば、ハロゲン原子、炭素原子数1〜30のヒドロカルビル基、炭素原子数1〜30のヒドロカルビルオキシ基、及び、炭素原子数1〜30のヒドロカルビルメルカプト基が挙げられ、これらの中でも、ハロゲン原子、炭素原子数1〜18のヒドロカルビル基、炭素原子数1〜18のヒドロカルビルオキシ基、又は、炭素原子数1〜18のヒドロカルビルメルカプト基が好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数1〜12のヒドロカルビル基、又は、炭素原子数1〜12のヒドロカルビルオキシ基がより好ましく、ハロゲン原子、又は、炭素原子数1〜12のヒドロカルビル基が特に好ましい。置換基の数は1個又は複数個であり、置換基が複数個の場合には各置換基は同じでも異なっていてもよい。   In the present specification, “may have a substituent” means that part or all of the hydrogen atoms constituting the compound or group described immediately after that may be substituted with a substituent. means. Unless otherwise specified, examples of the substituent include a halogen atom, a hydrocarbyl group having 1 to 30 carbon atoms, a hydrocarbyloxy group having 1 to 30 carbon atoms, and a hydrocarbyl having 1 to 30 carbon atoms. Mercapto groups are mentioned, and among these, a halogen atom, a hydrocarbyl group having 1 to 18 carbon atoms, a hydrocarbyloxy group having 1 to 18 carbon atoms, or a hydrocarbyl mercapto group having 1 to 18 carbon atoms is preferable, An atom, a hydrocarbyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a hydrocarbyloxy group having 1 to 12 carbon atoms is more preferable, and a halogen atom or a hydrocarbyl group having 1 to 12 carbon atoms is particularly preferable. The number of substituents is one or more, and when there are a plurality of substituents, each substituent may be the same or different.

本明細書において、「繰り返し単位」とは、化合物中に2個以上含有される構成単位を意味する。   In the present specification, the “repeating unit” means a structural unit contained in a compound at least two.

本明細書において、高分子化合物について言う「変性(する)」とは、高分子化合物が光学活性を呈する状態へと変化すること言う。ここで、本明細書において、高分子化合物について言う「光学活性」とは、高分子化合物が、円二色性スペクトルにおける左右の吸光度に偏りを有することを言う。なお、円二色性スペクトルにおける左右の吸光度に偏りがあるか否かの確認は、後述する実施例の測定条件にて検体の円二色性比を測定することによって行うことができる。   In this specification, the term “modify” as used for a polymer compound means that the polymer compound changes to a state exhibiting optical activity. Here, in this specification, “optical activity” as referred to for a polymer compound means that the polymer compound has a bias in the right and left absorbances in the circular dichroism spectrum. Whether or not the right and left absorbances in the circular dichroism spectrum are biased can be confirmed by measuring the circular dichroism ratio of the specimen under the measurement conditions of the examples described later.

<高分子化合物の変性方法>
本発明の高分子化合物の変性方法では、前記式(1)で表される繰り返し単位を有する高分子化合物に、円偏光を照射する。
<Modification method of polymer compound>
In the method for modifying a polymer compound of the present invention, the polymer compound having the repeating unit represented by the formula (1) is irradiated with circularly polarized light.

前記式(1)において、Rは、置換基を有していてもよい2価の芳香族基又は上記式(2)で表される2価の基である。
で表される2価の芳香族基としては、例えば、2価の芳香族炭化水素基(即ち、芳香族ヒドロカルビレン基)及び2価の芳香族複素環基が挙げられる。Rで表される2価の芳香族基としては、例えば、ベンゼン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、1,3,5−トリアジン環、1,2,4−トリアジン環、1,2,4,5−テトラジン環、フラン環、ピロール環、チオフェン環、ピラゾール環、イミダゾール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、1,2,5−オキサジアゾール環、1,3,4−オキサジアゾール環、2,3−ジアザフラン環、チアゾール環、イソチアゾール環、2,4−ジアザフラン環、1,3,4−チアジアゾール環、1,2,3−チアジアゾール環、1,2,4−チアジアゾール環、及び、2H−1,2,3−トリアゾール環等の単環式芳香環から環を構成する原子に直接結合する水素原子が2個除かれている2価の基;該単環式芳香環が2個以上縮合した縮合多環式芳香環から環を構成する原子に直接結合する水素原子が2個除かれている2価の基;該単環式芳香環及び該縮合多環式芳香環からなる群より選ばれる2個以上の芳香環を、単結合、エテニレン基又はエチニレン基で連結した芳香環集合から環を構成する原子に直接結合する水素原子が2個除かれている2価の基;該芳香環集合の、隣り合う2個の芳香環の間に、メチレン基、エチレン基、カルボニル基等の2価の有機基による単結合性の架橋を有する有橋多環式芳香環から環を構成する原子に直接結合する水素原子が2個除かれている2価の基が挙げられる。
これらのうち、Rで表される2価の芳香族基は、単環式芳香環から環を構成する原子に直接結合する水素原子が2個除かれている2価の基、縮合多環式芳香環から環を構成する原子に直接結合する水素原子が2個除かれている2価の基、又は、有橋多環式芳香環から環を構成する原子に直接結合する水素原子が2個除かれている2価の基が好ましく、高分子化合物の剛直性の観点から、縮合多環式芳香環から環を構成する原子に直接結合する水素原子が2個除かれている2価の基、又は、有橋多環式芳香環から環を構成する原子に直接結合する水素原子が2個除かれている2価の基がより好ましく、有橋多環式芳香環から環を構成する原子に直接結合する水素原子が2個除かれている2価の基が更に好ましい。
In the formula (1), R 1 is a divalent aromatic group which may have a substituent or a divalent group represented by the formula (2).
Examples of the divalent aromatic group represented by R 1 include a divalent aromatic hydrocarbon group (that is, an aromatic hydrocarbylene group) and a divalent aromatic heterocyclic group. Examples of the divalent aromatic group represented by R 1 include a benzene ring, a pyridine ring, a pyridazine ring, a pyrimidine ring, a pyrazine ring, a 1,3,5-triazine ring, a 1,2,4-triazine ring, 1,2,4,5-tetrazine ring, furan ring, pyrrole ring, thiophene ring, pyrazole ring, imidazole ring, oxazole ring, isoxazole ring, 1,2,5-oxadiazole ring, 1,3,4- Oxadiazole ring, 2,3-diazafuran ring, thiazole ring, isothiazole ring, 2,4-diazafuran ring, 1,3,4-thiadiazole ring, 1,2,3-thiadiazole ring, 1,2,4- A divalent group in which two hydrogen atoms directly bonded to the atoms constituting the ring are removed from a monocyclic aromatic ring such as a thiadiazole ring and a 2H-1,2,3-triazole ring; Aromatic ring A divalent group in which two hydrogen atoms directly bonded to the atoms constituting the ring are removed from a condensed polycyclic aromatic ring in which two or more are condensed; the monocyclic aromatic ring and the condensed polycyclic aromatic ring A divalent group in which two hydrogen atoms directly bonded to the atoms constituting the ring are removed from an aromatic ring assembly in which two or more aromatic rings selected from the group consisting of the above are connected by a single bond, an ethenylene group or an ethynylene group A bridged polycyclic aromatic ring having a single bond bridge by a divalent organic group such as a methylene group, an ethylene group or a carbonyl group between two adjacent aromatic rings of the group of aromatic rings And a divalent group in which two hydrogen atoms directly bonded to atoms constituting the ring are removed.
Among these, the divalent aromatic group represented by R 1 is a divalent group in which two hydrogen atoms directly bonded to atoms constituting the ring are removed from a monocyclic aromatic ring, a condensed polycyclic ring A divalent group in which two hydrogen atoms directly bonded to the atoms constituting the ring are removed from the aromatic ring, or 2 hydrogen atoms directly bonded to the atoms constituting the ring from the bridged polycyclic aromatic ring. A divalent group that is removed is preferable, and from the viewpoint of the rigidity of the polymer compound, a divalent group in which two hydrogen atoms directly bonded to the atoms constituting the ring are removed from the condensed polycyclic aromatic ring. Or a divalent group in which two hydrogen atoms directly bonded to the atoms constituting the ring are removed from the bridged polycyclic aromatic ring, and the ring is formed from the bridged polycyclic aromatic ring. More preferred is a divalent group in which two hydrogen atoms directly bonded to the atom are removed.

前記縮合多環式芳香環において、縮合する単環式芳香環の数は、通常、2〜6個であり、2〜5個が好ましく、2〜4個がより好ましく、2〜3個が更に好ましく、2個が特に好ましい。前記芳香環集合において、連結される芳香環の数は、通常、2〜6個であり、2〜5個が好ましく、2〜4個がより好ましく、2〜3個が更に好ましく、2個が特に好ましい。前記有橋多環式芳香環において、橋かけされる芳香環の数は、通常、2〜6個であり、2〜5個が好ましく、2〜4個がより好ましく、2〜3個が更に好ましく、2個が特に好ましい。   In the condensed polycyclic aromatic ring, the number of monocyclic aromatic rings to be condensed is usually 2 to 6, preferably 2 to 5, more preferably 2 to 4, and further 2 to 3 Two are particularly preferred. In the aromatic ring assembly, the number of aromatic rings to be connected is usually 2 to 6, preferably 2 to 5, more preferably 2 to 4, further preferably 2 to 3, and 2 Particularly preferred. In the bridged polycyclic aromatic ring, the number of aromatic rings to be bridged is usually 2 to 6, preferably 2 to 5, more preferably 2 to 4, and further 2 to 3 Two are particularly preferred.

前記単環式芳香環としては、例えば、以下の環(式500〜式526)が挙げられる。   Examples of the monocyclic aromatic ring include the following rings (Formula 500 to Formula 526).

Figure 2013064101
Figure 2013064101

前記縮合多環式芳香環としては、例えば、以下の環(式527〜式575)が挙げられる。   Examples of the condensed polycyclic aromatic ring include the following rings (Formula 527 to Formula 575).

Figure 2013064101
Figure 2013064101

前記芳香環集合としては、例えば、以下の環(式576〜式602)が挙げられる。   Examples of the aromatic ring assembly include the following rings (Formula 576 to Formula 602).

Figure 2013064101
Figure 2013064101

前記有橋多環式芳香環としては、例えば、以下の環(式603〜式614)が挙げられる。   Examples of the bridged polycyclic aromatic ring include the following rings (Formula 603 to Formula 614).

Figure 2013064101
Figure 2013064101

で表される2価の芳香族基は、式500〜式505、式508〜式514、式527〜式534、式543、式561〜式564、式568、式576〜式584、式587〜式602、式603〜式608及び式611のうちのいずれかで表される環から環を構成する原子に直接結合する水素原子が2個除かれている2価の基であることが好ましく、式500〜式505、式508〜式514、式527〜式534、式543、式561〜式564、式568、式603〜式608及び式611のうちのいずれかで表される環から環を構成する原子に直接結合する水素原子が2個除かれている2価の基であることがより好ましく、式500、式527〜式534、式543、式561〜式564、式568及び式603〜式607のうちのいずれかで表される環から環を構成する原子に直接結合する水素原子が2個除かれている2価の基であることが更に好ましく、式527〜式530及び式603〜式607のうちのいずれかで表される環から環を構成する原子に直接結合する水素原子が2個除かれている2価の基であることが特に好ましい。 The divalent aromatic group represented by R 1 is represented by Formula 500 to Formula 505, Formula 508 to Formula 514, Formula 527 to Formula 534, Formula 543, Formula 561 to Formula 564, Formula 568, Formula 576 to Formula 584, It is a divalent group in which two hydrogen atoms directly bonded to the atoms constituting the ring are removed from the ring represented by any one of formulas 587 to 602, 603 to 608 and 611 Are preferably represented by any one of Formula 500 to Formula 505, Formula 508 to Formula 514, Formula 527 to Formula 534, Formula 543, Formula 561 to Formula 564, Formula 568, Formula 603 to Formula 608, and Formula 611. It is more preferably a divalent group in which two hydrogen atoms directly bonded to the atoms constituting the ring are removed from the ring. Formula 500, Formula 527 to Formula 534, Formula 543, Formula 561 to Formula 564, Formula 568 and Expression 603 to Expression 607 It is more preferable that the divalent group in which two hydrogen atoms directly bonded to the atoms constituting the ring are removed from the ring represented by any one of formulas 527 to 530 and 603 to 607 A divalent group in which two hydrogen atoms directly bonded to the atoms constituting the ring are removed from the ring represented by any of them is particularly preferable.

で表される2価の芳香族基において、水素原子が除かれる2箇所の位置は、除かれる2個の水素原子をH及びHとするとき、Hと結合している原子とHと結合している原子の間を最短で結ぶ原子の数が多くなるように選択することが好ましい。また、Hと結合している原子とHと結合している原子の間を最短で結ぶ原子の数は、共役長がより拡張するため、偶数であることが好ましい。例えば、前記式500で表されるベンゼン環の場合、パラ位で水素原子が除かれる場合、除かれる水素原子と結合している炭素原子間の原子数は最短で4原子であり、メタ位では3原子、オルト位では2原子となる。このため、前記式500で表されるベンゼン環の場合は、パラ位で水素原子が除かれることが好ましい。また、例えば、前記式603で表されるフルオレン環の場合、2,7−位で水素原子が除かれるときに、最短で結ぶ原子の数が最も多い(8個)ため、2,7−位で水素原子が除かれることが好ましい。 In the divalent aromatic group represented by R 1 , the two positions from which hydrogen atoms are removed are atoms bonded to H x when the two hydrogen atoms to be removed are H x and H y . and it is preferable to choose between atoms bonded with H y as the number of atoms increases which connects shortest. Further, the number of atoms connecting the atoms bonded to H x and the atoms bonded to H y at the shortest is preferably an even number because the conjugate length is further expanded. For example, in the case of the benzene ring represented by Formula 500, when a hydrogen atom is removed at the para position, the minimum number of atoms between the carbon atoms bonded to the removed hydrogen atom is 4 atoms, and at the meta position, 3 atoms, 2 atoms in ortho position. For this reason, in the case of the benzene ring represented by Formula 500, it is preferable that a hydrogen atom be removed at the para position. Further, for example, in the case of the fluorene ring represented by the above formula 603, when the hydrogen atom is removed at the 2,7-position, the number of atoms connected in the shortest is the largest (eight), so the 2,7-position It is preferred that the hydrogen atom be removed.

更に、水素原子が除かれる2箇所の位置(即ち、HとHの位置)としては、下記の位置も好ましい。
前記式527で表されるナフタレン環の場合は、1−位と4−位の2ヶ所。
前記式528で表されるアントラセン環の場合は、9−位と10−位の2ヶ所。
前記式529で表されるテトラセン環の場合は、2−位と3−位の2ヶ所。
前記式530で表されるピレン環の場合は、1−位と6−位の2ヶ所。
Furthermore, the following positions are also preferable as the two positions (that is, the positions of H x and H y ) from which hydrogen atoms are removed.
In the case of the naphthalene ring represented by the above formula 527, there are two positions of 1-position and 4-position.
In the case of the anthracene ring represented by the formula 528, two positions of 9-position and 10-position.
In the case of the tetracene ring represented by the formula 529, there are two positions, the 2-position and the 3-position.
In the case of the pyrene ring represented by the formula 530, there are two positions of 1-position and 6-position.

で表される2価の芳香族基は、置換基を有していてもよい。Rで表される2価の芳香族基が有する置換基の数は、0〜4個が好ましく、0〜2個がより好ましく、1〜2個が更に好ましく、2個が特に好ましい。 The divalent aromatic group represented by R 1 may have a substituent. The number of substituents possessed by the divalent aromatic group represented by R 1 is preferably 0 to 4, more preferably 0 to 2, further preferably 1 to 2, and particularly preferably 2.

で表される2価の芳香族基が有していてもよい置換基としては、例えば、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、ヒドロカルビル基、ヒドロカルビルオキシ基、ジヒドロカルビルアミノ基、ヒドロカルビルメルカプト基、ヒドロカルビルカルボニル基、ヒドロカルビルオキシカルボニル基、ヒドロカルビルカルボニルオキシ基、及び(ジヒドロカルビル)アミノカルボニル基が挙げられる。ヒドロカルビル基を「R−(具体例は後述する)」で表される基とすると、ヒドロカルビルオキシ基とは「RO−」で表される基であり、ヒドロカルビルメルカプト基とは「RS−」で表される基であり、ヒドロカルビルカルボニル基とは「RC(=O)−」で表される基であり、ヒドロカルビルオキシカルボニル基とは「ROC(=O)−」で表される基であり、ヒドロカルビルカルボニルオキシ基とは「RC(=O)O−」で表される基であり、ジヒドロカルビルアミノ基は「R2N−」で表される基であり、(ジヒドロカルビル)アミノカルボニル基は「R2N−C(=O)−」で表される基である。2個のRが存在する場合、それらは互いに同じでも異なっていてもよく、好ましくは互いに同じである。また、2個のRが存在する場合、互いに結合して、環構造を形成していてもよい。 Examples of the substituent that the divalent aromatic group represented by R 1 may have include a halogen atom, a hydroxy group, a hydrocarbyl group, a hydrocarbyloxy group, a dihydrocarbylamino group, a hydrocarbyl mercapto group, and a hydrocarbylcarbonyl group. Groups, hydrocarbyloxycarbonyl groups, hydrocarbylcarbonyloxy groups, and (dihydrocarbyl) aminocarbonyl groups. When the hydrocarbyl group is a group represented by "R- (specific examples will be described later)", the hydrocarbyloxy group is a group represented by "RO-", and the hydrocarbyl mercapto group is represented by "RS-". The hydrocarbylcarbonyl group is a group represented by “RC (═O) —”, and the hydrocarbyloxycarbonyl group is a group represented by “ROC (═O) —”, The carbonyloxy group is a group represented by “RC (═O) O—”, the dihydrocarbylamino group is a group represented by “R 2 N—”, and the (dihydrocarbyl) aminocarbonyl group is “ R 2 N—C (═O) — ”. When two R are present, they may be the same or different from each other, preferably the same as each other. Moreover, when two R exists, they may be bonded to each other to form a ring structure.

で表される2価の芳香族基が有していてもよい置換基としては、好ましくはハロゲン原子、ヒドロキシ基、ヒドロカルビル基、ヒドロカルビルオキシ基、ジヒドロカルビルアミノ基、ヒドロカルビルカルボニル基、ヒドロカルビルオキシカルボニル基、又はヒドロカルビルカルボニルオキシ基であり、より好ましくはヒドロキシ基、ヒドロカルビル基、ヒドロカルビルオキシ基、又はヒドロカルビルカルボニルオキシ基であり、更に好ましくはヒドロカルビル基、ヒドロカルビルオキシ基、又はヒドロカルビルカルボニルオキシ基である。 The substituent which the divalent aromatic group represented by R 1 may have is preferably a halogen atom, a hydroxy group, a hydrocarbyl group, a hydrocarbyloxy group, a dihydrocarbylamino group, a hydrocarbylcarbonyl group, a hydrocarbyloxy group. A carbonyl group or a hydrocarbylcarbonyloxy group, more preferably a hydroxy group, a hydrocarbyl group, a hydrocarbyloxy group, or a hydrocarbylcarbonyloxy group, still more preferably a hydrocarbyl group, a hydrocarbyloxy group, or a hydrocarbylcarbonyloxy group.

前記Rで表されるヒドロカルビル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基及びn−デシル基等の、炭素原子数1〜50の直鎖状アルキル基;イソプロピル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、1−メチルブチル基、2−メチルブチル基、3−メチルブチル基、2,2−ジメチルプロピル基、1,1−ジメチルプロピル基、1,2−ジメチルプロピル基、1−エチルプロピル基、1−メチルペンチル基、2−メチルペンチル基、3−メチルペンチル基、4−メチルペンチル基、1,1−ジメチルブチル基、2,2−ジメチルブチル基、3,3−ジメチルブチル基、1,2−ジメチルブチル基、1,3−ジメチルブチル基、2,3−ジメチルブチル基、2,3,3−トリメチルプロピル基、2,2,3−トリメチルプロピル基、1−エチルブチル基、2−エチルブチル基、1−エチル−2−メチルプロピル基、1−メチルヘキシル基、2−メチルヘキシル基、3−メチルヘキシル基、4−メチルヘキシル基、5−メチルヘキシル基、1,2−ジメチルペンチル基、1,3−ジメチルペンチル基、1,4−ジメチルペンチル基、2,3−ジメチルペンチル基、2,4−ジメチルペンチル基、3,4−ジメチルペンチル基、1−エチルペンチル基、2−エチルペンチル基、3−エチルペンチル基、1−プロピルブチル基、1−イソプロピル−2−メチルプロピル基、1−エチル−2−メチルブチル基、1−プロピル−2−メチルプロピル基、1−メチルヘプチル基、2−メチルヘプチル基、3−メチルヘプチル基、4−メチルヘプチル基、5−メチルヘプチル基、6−メチルヘプチル基、1,2−ジメチルヘキシル基、1,3−ジメチルヘキシル基、1,4−ジメチルヘキシル基、1,5−ジメチルヘキシル基、2,3−ジメチルヘキシル基、2,4−ジメチルヘキシル基、2,5−ジメチルヘキシル基、3,4−ジメチルヘキシル基、3,5−ジメチルヘキシル基、4,5−ジメチルヘキシル基、1−エチルヘキシル基、2−エチルヘキシル基、3−エチルヘキシル基、4−エチルヘキシル基、1−プロピルペンチル基、1−イソプロピルペンチル基、1,1,3,3−テトラメチルブチル基、2,5−ジメチルヘプチル基、1−エチルヘプチル基、1−イソプロピル−2−メチルブチル基、1−イソプロピル−3−メチルブチル基、1−メチルオクチル基、1−プロピルヘキシル基、1−イソブチル−3−メチルブチル基及び3,7−ジメチルオクチル基等の、炭素原子数3〜50の分岐状アルキル基;シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロノニル基、シクロドデシル基等のシクロアルキル基、ノルボニル基及びアダマンチル基等の、炭素原子数3〜50の環状飽和ヒドロカルビル基;エテニル基、プロペニル基、3−ブテニル基、2−ブテニル基、2−ペンテニル基、2−ヘキセニル基、2−ノネニル基及び2−ドデセニル基等の、炭素原子数2〜50のアルケニル基;エチニル基、プロピニル基及び2−ブチニル基等の炭素原子数2〜50のアルキニル基;フェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、2−メチルフェニル基、3−メチルフェニル基、4−メチルフェニル基、4−エチルフェニル基、4−プロピルフェニル基、4−イソプロピルフェニル基、4−ブチルフェニル基、4−tert−ブチルフェニル基、4−ヘキシルフェニル基、4−シクロヘキシルフェニル基、4−アダマンチルフェニル基及び4−フェニルフェニル基等の、炭素原子数6〜50のアリール基;フェニルメチル基、1−フェニレンエチル基、2−フェニルエチル基、1−フェニル−1−プロピル基、1−フェニル−2−プロピル基、2−フェニル−2−プロピル基、3−フェニル−1−プロピル基、4−フェニル−1−ブチル基、5−フェニル−1−ペンチル基及び6−フェニル−1−ヘキシル基等の、炭素原子数7〜50のアラルキル基が挙げられる。中でも、Rで表されるヒドロカルビル基としては、炭素原子数1〜50の直鎖状アルキル基、炭素原子数3〜50の分岐状アルキル基、炭素原子数6〜50のアリール基、又は、炭素原子数7〜50のアラルキル基が好ましく、炭素原子数1〜30の直鎖状アルキル基、炭素原子数3〜30の分岐状アルキル基、又は、炭素原子数6〜30のアリール基が好ましく、炭素原子数1〜12の直鎖状アルキル、炭素原子数3〜12の分岐状アルキル基、又は、炭素原子数6〜18のアリール基が更に好ましく、炭素原子数1〜12の直鎖状アルキル基、又は、フェニル基が特に好ましい。   Examples of the hydrocarbyl group represented by R include a methyl group, ethyl group, n-propyl group, n-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, n A linear alkyl group having 1 to 50 carbon atoms such as nonyl group and n-decyl group; isopropyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, 1-methylbutyl group, 2-methylbutyl group, 3-methylbutyl group, 2,2-dimethylpropyl group, 1,1-dimethylpropyl group, 1,2-dimethylpropyl group, 1-ethylpropyl group, 1-methylpentyl group, 2-methylpentyl group, 3-methyl Pentyl group, 4-methylpentyl group, 1,1-dimethylbutyl group, 2,2-dimethylbutyl group, 3,3-dimethylbutyl group, 1,2-dimethylbutyl group, 1, -Dimethylbutyl group, 2,3-dimethylbutyl group, 2,3,3-trimethylpropyl group, 2,2,3-trimethylpropyl group, 1-ethylbutyl group, 2-ethylbutyl group, 1-ethyl-2-methyl Propyl group, 1-methylhexyl group, 2-methylhexyl group, 3-methylhexyl group, 4-methylhexyl group, 5-methylhexyl group, 1,2-dimethylpentyl group, 1,3-dimethylpentyl group, 1 , 4-dimethylpentyl group, 2,3-dimethylpentyl group, 2,4-dimethylpentyl group, 3,4-dimethylpentyl group, 1-ethylpentyl group, 2-ethylpentyl group, 3-ethylpentyl group, 1 -Propylbutyl group, 1-isopropyl-2-methylpropyl group, 1-ethyl-2-methylbutyl group, 1-propyl-2-methylpropyl group, 1 Methylheptyl group, 2-methylheptyl group, 3-methylheptyl group, 4-methylheptyl group, 5-methylheptyl group, 6-methylheptyl group, 1,2-dimethylhexyl group, 1,3-dimethylhexyl group, 1,4-dimethylhexyl group, 1,5-dimethylhexyl group, 2,3-dimethylhexyl group, 2,4-dimethylhexyl group, 2,5-dimethylhexyl group, 3,4-dimethylhexyl group, 3, 5-dimethylhexyl group, 4,5-dimethylhexyl group, 1-ethylhexyl group, 2-ethylhexyl group, 3-ethylhexyl group, 4-ethylhexyl group, 1-propylpentyl group, 1-isopropylpentyl group, 1,1, 3,3-tetramethylbutyl group, 2,5-dimethylheptyl group, 1-ethylheptyl group, 1-isopropyl-2-methylbutyl group 3 to 50 carbon atoms, such as a til group, 1-isopropyl-3-methylbutyl group, 1-methyloctyl group, 1-propylhexyl group, 1-isobutyl-3-methylbutyl group and 3,7-dimethyloctyl group Branched alkyl group: Cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, cyclononyl group, cyclododecyl group and other cycloalkyl groups, norbornyl group and adamantyl group, etc., cyclic saturated hydrocarbyl having 3 to 50 carbon atoms An alkenyl group having 2 to 50 carbon atoms, such as ethenyl group, propenyl group, 3-butenyl group, 2-butenyl group, 2-pentenyl group, 2-hexenyl group, 2-nonenyl group and 2-dodecenyl group; An alkynyl group having 2 to 50 carbon atoms such as an ethynyl group, a propynyl group and a 2-butynyl group; a phenyl group; -Naphtyl group, 2-naphthyl group, 2-methylphenyl group, 3-methylphenyl group, 4-methylphenyl group, 4-ethylphenyl group, 4-propylphenyl group, 4-isopropylphenyl group, 4-butylphenyl group Aryl groups having 6 to 50 carbon atoms, such as 4-tert-butylphenyl group, 4-hexylphenyl group, 4-cyclohexylphenyl group, 4-adamantylphenyl group and 4-phenylphenyl group; -Phenyleneethyl group, 2-phenylethyl group, 1-phenyl-1-propyl group, 1-phenyl-2-propyl group, 2-phenyl-2-propyl group, 3-phenyl-1-propyl group, 4-phenyl 7 to 50 carbon atoms such as -1-butyl group, 5-phenyl-1-pentyl group and 6-phenyl-1-hexyl group Aralkyl group. Among them, the hydrocarbyl group represented by R includes a linear alkyl group having 1 to 50 carbon atoms, a branched alkyl group having 3 to 50 carbon atoms, an aryl group having 6 to 50 carbon atoms, or carbon. Aralkyl groups having 7 to 50 atoms are preferred, linear alkyl groups having 1 to 30 carbon atoms, branched alkyl groups having 3 to 30 carbon atoms, or aryl groups having 6 to 30 carbon atoms, A linear alkyl having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group having 3 to 12 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 18 carbon atoms is more preferable, and a linear alkyl having 1 to 12 carbon atoms. A group or a phenyl group is particularly preferred.

前記式(1)において、Xは−O−で表される基、−S−で表される基、−C(=O)−で表される基、−C(=O)O−で表される基、−C(=O)N(R10)−で表される基、−OC(=O)O−で表される基、−OC(=O)N(R11)−で表される基、−N(R12)C(=O)N(R13)−で表される基、−C(R14−で表される基、−Si(R15−で表される基、−C(R16)=C(R16)−で表される基、又は、2価のアミン残基である。このうち、−O−で表される基、−C(=O)−で表される基、−C(=O)O−で表される基、−C(=O)N(R10)−で表される基、−OC(=O)O−で表される基、−OC(=O)N(R11)−で表される基、−C(R14−で表される基、−C(R16)=C(R16)−で表される基、又は、2価のアミン残基が好ましく、−O−で表される基、−C(=O)N(R10)−で表される基、−C(R14−で表される基、−C(R16)=C(R16)−で表される基、又は、2価のアミン残基がより好ましく、−C(R14−で表される基、−C(R16)=C(R16)−で表される基、又は、2価のアミン残基が更に好ましく、2価のアミン残基が特に好ましい。 In the formula (1), X 1 is a group represented by —O—, a group represented by —S—, a group represented by —C (═O) —, and —C (═O) O—. A group represented by —C (═O) N (R 10 ) —, a group represented by —OC (═O) O—, and —OC (═O) N (R 11 ) —. a group represented by, -N (R 12) C ( = O) N (R 13) - , a group represented by, -C (R 14) 2 -, a group represented by, -Si (R 15) 2 - Or a group represented by -C (R 16 ) = C (R 16 )-or a divalent amine residue. Among these, a group represented by —O—, a group represented by —C (═O) —, a group represented by —C (═O) O—, —C (═O) N (R 10 ). A group represented by —, a group represented by —OC (═O) O—, a group represented by —OC (═O) N (R 11 ) —, and a group represented by —C (R 14 ) 2 —. A group represented by -C (R 16 ) = C (R 16 )-or a divalent amine residue, a group represented by -O-, -C (= O) N ( A group represented by R 10 ) —, a group represented by —C (R 14 ) 2 —, a group represented by —C (R 16 ) ═C (R 16 ) —, or a divalent amine residue More preferably a group represented by -C (R 14 ) 2- , a group represented by -C (R 16 ) = C (R 16 )-, or a divalent amine residue, A divalent amine residue is particularly preferred.

で表される2価のアミン残基としては、例えば、下記式(3)で表される2価の芳香族アミン残基が挙げられる。 Examples of the divalent amine residue represented by X 1 include a divalent aromatic amine residue represented by the following formula (3).

Figure 2013064101
式(3)中、Ar、Ar、Ar及びArは、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい2価の芳香族基であり、Ar、Ar及びArは、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい1価の芳香族基である。m及びmは、それぞれ独立に、0又は1である。
Figure 2013064101
In formula (3), Ar 3 , Ar 4 , Ar 5 and Ar 6 are each independently a divalent aromatic group which may have a substituent, and Ar 7 , Ar 8 and Ar 9 are These are each independently a monovalent aromatic group optionally having a substituent. m 3 and m 4 are each independently 0 or 1.

Ar、Ar、Ar及びArで表される、置換基を有していてもよい2価の芳香族基の例は、Rで表される置換基を有していてもよい2価の芳香族基と同じであり、好ましくは置換基を有していてもよいフェニレン基である。Ar、Ar及びArで表される、置換基を有していてもよい1価の芳香族基の例は、Rで表される置換基を有していてもよい2価の芳香族基において、除かれている2個の水素原子のうち1個の水素原子を結合させてなる1価の基であり、好ましくは置換基を有していてもよいフェニル基である。 Examples of the divalent aromatic group which may have a substituent represented by Ar 3 , Ar 4 , Ar 5 and Ar 6 may have a substituent represented by R 1. It is the same as a divalent aromatic group, and is preferably a phenylene group which may have a substituent. Examples of the monovalent aromatic group which may have a substituent represented by Ar 7 , Ar 8 and Ar 9 are divalent which may have a substituent represented by R 1 . In the aromatic group, it is a monovalent group formed by bonding one hydrogen atom out of two removed hydrogen atoms, and is preferably a phenyl group which may have a substituent.

が0の場合、Ar中の炭素原子とAr中の炭素原子とが直接結合してもよく、−O−で表される基、−S−で表される基等の2価の基を介して結合していてもよい。
が0の場合、Ar中の炭素原子とAr中の炭素原子とが直接結合してもよく、−O−で表される基、−S−で表される基等の2価の基を介して結合していてもよい。
とmが共に0の場合、Ar中の炭素原子とAr中の炭素原子とが直接結合してもよく、−O−で表される基、−S−で表される基等の2価の基を介して結合していてもよい。
When m 3 is 0, the carbon atom in Ar 3 and the carbon atom in Ar 5 may be directly bonded, and a divalent group such as a group represented by —O— or a group represented by —S—. It may be bonded via the group.
When m 4 is 0, the carbon atom in Ar 3 and the carbon atom in Ar 9 may be directly bonded, and a divalent group such as a group represented by —O— or a group represented by —S—. It may be bonded via the group.
When m 3 and m 4 are both 0, a carbon atom in Ar 5 and a carbon atom in Ar 9 may be directly bonded to each other, a group represented by —O—, a group represented by —S— And may be bonded via a divalent group such as

式(3)で表される2価の芳香族アミン残基としては、下記式615〜式627のいずれかで表される芳香族アミンから環を構成する炭素原子に直接結合する水素原子が2個除かれている基が例示される。   Examples of the divalent aromatic amine residue represented by the formula (3) include 2 hydrogen atoms directly bonded to the carbon atom constituting the ring from the aromatic amine represented by any of the following formulas 615 to 627. Exemplified groups are exemplified.

Figure 2013064101
Figure 2013064101

式(3)で表される2価のアミン残基は、式615〜式627で表される芳香族アミンのうち、好ましくは式615〜式621及び式627のいずれかで表される芳香族アミンから環を構成する炭素原子に直接結合する水素原子が2個除かれている基であり、より好ましくは式615、式617、式618、式620及び式627のいずれかで表される芳香族アミンから環を構成する炭素原子に直接結合する水素原子が2個除かれている基であり、更に好ましくは式615及び式617のいずれかで表される芳香族アミンから環を構成する炭素原子に直接結合する水素原子が2個除かれている基である。   The divalent amine residue represented by the formula (3) is preferably an aromatic amine represented by any one of the formulas 615 to 621 and 627 among the aromatic amines represented by the formulas 615 to 627. A group in which two hydrogen atoms directly bonded to a carbon atom constituting a ring are removed from an amine, more preferably an aromatic represented by any one of formulas 615, 617, 618, 620, and 627 A group in which two hydrogen atoms directly bonded to a carbon atom constituting a ring are removed from an aromatic amine, and more preferably a carbon constituting a ring from an aromatic amine represented by any one of formulas 615 and 617 A group in which two hydrogen atoms directly bonded to the atom are removed.

上記式615〜式627で表される芳香族アミンから除かれる2個の水素原子の位置は、除かれる2個の水素原子の両方が、それぞれ、アミンの窒素原子に対して、アミンの該窒素原子に結合する6員環アリール基のパラ位となるように選択するか、又は、除かれる2個の水素原子の両方が、それぞれ、アミンの窒素原子に対して、アミンの該窒素原子に結合する6員環アリール基のメタ位となるように選択することが好ましく、除かれる2個の水素原子の両方が、それぞれ、アミンの窒素原子に対して、アミンの該窒素原子に結合する6員環アリール基のパラ位となるように選択することがより好ましい。
前記パラ位又は前記メタ位に相当する位置が3つ以上存在するアミンに関しては、水素原子が除かれる2箇所の位置は、除かれる2個の水素原子をH及びHとするとき、Hと結合している原子とHと結合している原子の間を最短で結ぶ原子の数が多くなるように選択することが好ましい。また、水素原子が除かれる前記6員環アリール基は、フェニル基であることが好ましい。
The positions of the two hydrogen atoms removed from the aromatic amine represented by the above formulas 615 to 627 are such that both of the two hydrogen atoms removed are each the amine nitrogen atom with respect to the amine nitrogen atom. Choose to be in the para position of the 6-membered aryl group attached to the atom, or both of the two hydrogen atoms removed are each attached to the nitrogen atom of the amine, relative to the nitrogen atom of the amine. Preferably selected to be in the meta position of the 6-membered ring aryl group, wherein both of the two hydrogen atoms to be removed are each bonded to the amine nitrogen atom to the amine nitrogen atom. More preferably, it is selected so as to be in the para position of the ring aryl group.
With respect to amines having three or more positions corresponding to the para-position or the meta-position, the positions at which two hydrogen atoms are removed are H 2 and H 2 when the two hydrogen atoms to be removed are H x and H y. it is preferable to choose between atoms bonded with the atoms to H y which joins the x as the number of atoms connecting the shortest increases. The 6-membered aryl group from which a hydrogen atom is removed is preferably a phenyl group.

前記式(1)において、R10、R11、R12、R13、R14、R15及びR16は、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよいヒドロカルビル基である。R10、R11、R12、R13、R14、R15及びR16が複数個存在する場合、それぞれ同じでも異なっていてもよい。 In the formula (1), R 10 , R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 and R 16 are each independently a hydrogen atom or a hydrocarbyl group which may have a substituent. When there are a plurality of R 10 , R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 and R 16 , they may be the same or different.

前記R10、R11、R12、R13、R14、R15及びR16におけるヒドロカルビル基としては、例えば、直鎖状アルキル基、分岐状アルキル基、環状飽和ヒドロカルビル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基及びアラルキル基が挙げられ、直鎖状アルキル基、分岐状アルキル基、アリール基又はアラルキル基が好ましく、直鎖状アルキル基、分岐状アルキル基又はアリール基がより好ましい。
該ヒドロカルビル基の炭素原子数は、通常、1〜50であり、好ましくは1〜30であり、より好ましくは1〜18であり、更に好ましくは1〜8であり、特に好ましくは4〜8である。直鎖状アルキル基、分岐状アルキル基、環状飽和ヒドロカルビル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基及びアラルキル基の例は、前記Rのそれらと同じである。
Examples of the hydrocarbyl group in R 10 , R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 and R 16 include a linear alkyl group, a branched alkyl group, a cyclic saturated hydrocarbyl group, an alkenyl group, and an alkynyl group. An aryl group and an aralkyl group, a linear alkyl group, a branched alkyl group, an aryl group or an aralkyl group is preferable, and a linear alkyl group, a branched alkyl group or an aryl group is more preferable.
The hydrocarbyl group usually has 1 to 50 carbon atoms, preferably 1 to 30, more preferably 1 to 18, still more preferably 1 to 8, and particularly preferably 4 to 8. is there. Examples of the linear alkyl group, branched alkyl group, cyclic saturated hydrocarbyl group, alkenyl group, alkynyl group, aryl group and aralkyl group are the same as those for R.

前記式(1)において、R10、R11、R12及びR13は、水素原子であることが好ましい。 In the formula (1), R 10 , R 11 , R 12 and R 13 are preferably hydrogen atoms.

前記式(1)において、R14、R15及びR16は、置換基を有していてもよいヒドロカルビル基であることが好ましい。 In the formula (1), R 14 , R 15 and R 16 are preferably hydrocarbyl groups which may have a substituent.

前記式(1)において、mは1以上の整数であり、mは0以上の整数である。mは好ましくは1〜10の整数であり、より好ましくは1〜5の整数であり、更に好ましくは1又は2であり、特に好ましくは1である。mは好ましくは0〜10の整数であり、より好ましくは0〜5の整数であり、更に好ましくは0又は1であり、特に好ましくは0である。mとmの組み合わせは、mが1であり、mが0であることが好ましい。 In the formula (1), m 1 is an integer of 1 or more, and m 2 is an integer of 0 or more. m 1 is preferably an integer of 1 to 10, more preferably an integer of 1 to 5, still more preferably 1 or 2, and particularly preferably 1. m 2 is preferably an integer of 0 to 10, more preferably an integer of 0 to 5, still more preferably 0 or 1, and particularly preferably 0. The combination of m 1 and m 2 is preferably such that m 1 is 1 and m 2 is 0.

前記式(1)において、RがR種類、XがX種類存在する場合、m/Rと、m/Xとの比は、最小の整数比になるように決定される。ただし、mが0である場合、m/R=1である。例えば、mとmの比が4:7、R=3、X=5である場合、m/R:m/Xは最小の整数比になるように決定されるので、20:21であり、m=60、m=105となる。
は1以上の数であるが、1又は2であることが好ましく、1であることがより好ましい。
は1以上の数であるが、1又は2であることが好ましく、1であることがより好ましい。
Determined in the above formula (1), when R 1 R x type, X 1 is present X y type, so that the m 1 / R x, the ratio of m 2 / X y is minimized integer ratio Is done. However, when m 2 is 0, m 1 / R x = 1. For example, when the ratio of m 1 and m 2 is 4: 7, R x = 3, and X y = 5, m 1 / R x : m 2 / X y is determined to be the smallest integer ratio. Therefore, it is 20:21, and m 1 = 60 and m 2 = 105.
R x is a number of 1 or more, preferably 1 or 2, and more preferably 1.
X y is a number of 1 or more, preferably 1 or 2, and more preferably 1.

前記式(2)において、R、R及びRは、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよいヒドロカルビル基である。R、R及びRで表されるヒドロカルビル基は、R10で上述したヒドロカルビル基と同様である。 In the formula (2), R 5 , R 6 and R 7 are each independently a hydrogen atom or a hydrocarbyl group which may have a substituent. The hydrocarbyl group represented by R 5 , R 6 and R 7 is the same as the hydrocarbyl group described above for R 10 .

、R及びRで表されるヒドロカルビル基の炭素原子数は、好ましくは1〜18であり、より好ましくは1〜8であり、更に好ましくは1〜4であり、特に好ましくは1である。 The number of carbon atoms of the hydrocarbyl group represented by R 5 , R 6 and R 7 is preferably 1-18, more preferably 1-8, still more preferably 1-4, and particularly preferably 1. It is.

、R及びRで表されるヒドロカルビル基は、好ましくは、直鎖状アルキル基、分岐状アルキル基、アリール基又はアラルキル基であり、より好ましくは、直鎖状アルキル基、分岐状アルキル基又はアリール基であり、更に好ましくは、直鎖状アルキル基である。 The hydrocarbyl group represented by R 5 , R 6 and R 7 is preferably a linear alkyl group, a branched alkyl group, an aryl group or an aralkyl group, more preferably a linear alkyl group or a branched group. It is an alkyl group or an aryl group, and more preferably a linear alkyl group.

前記式(2)において、R、R及びRは、水素原子であることが好ましい。 In the formula (2), R 5 , R 6 and R 7 are preferably hydrogen atoms.

前記式(2)において、Rは−O−で表される基、−S−で表される基、−C(=O)O−で表される基、−C(=O)N(R)−で表される基、及び、置換基を有していてもよいヒドロカルビレン基からなる群から選ばれる1個又は2個を組み合わせた2価の基、又は、直接結合である。Rは、好ましくは、−O−で表される基、−S−で表される基、−C(=O)O−で表される基、−C(=O)N(R)−で表される基、置換基を有していてもよいヒドロカルビレン基、又は、直接結合であり、より好ましくは、−O−で表される基、−C(=O)O−で表される基、−C(=O)N(R)−で表される基、又は、直接結合であり、更に好ましくは、−C(=O)N(R)−で表される基、又は、直接結合である。 In the formula (2), R 8 is a group represented by —O—, a group represented by —S—, a group represented by —C (═O) O—, —C (═O) N ( R 9 ) — is a divalent group in which one or two selected from the group consisting of a group represented by R 9 ) — and an optionally substituted hydrocarbylene group, or a direct bond. . R 8 is preferably a group represented by —O—, a group represented by —S—, a group represented by —C (═O) O—, —C (═O) N (R 9 ). A group represented by-, a hydrocarbylene group which may have a substituent, or a direct bond, more preferably a group represented by -O-, -C (= O) O-. A group represented by —C (═O) N (R 9 ) — or a direct bond, and more preferably represented by —C (═O) N (R 9 ) —. A group or a direct bond.

で表されるヒドロカルビレン基の例は、R10で上述したヒドロカルビル基から水素原子が1個除かれている2価の基である。 An example of the hydrocarbylene group represented by R 8 is a divalent group in which one hydrogen atom is removed from the hydrocarbyl group described above for R 10 .

で表されるヒドロカルビレン基の炭素原子数は、好ましくは1〜18であり、より好ましくは1〜10であり、更に好ましくは1〜4である。 The number of carbon atoms of the hydrocarbylene group represented by R 8 is preferably 1 to 18, more preferably 1 to 10, and still more preferably 1 to 4.

で表されるヒドロカルビレン基は、好ましくは、直鎖状アルキレン基、分岐状アルキレン基、アリーレン基又はアラルキレン基であり、より好ましくは、直鎖状アルキレン基又はアリーレン基であり、更に好ましくは直鎖状アルキレン基である。 The hydrocarbylene group represented by R 8 is preferably a linear alkylene group, a branched alkylene group, an arylene group or an aralkylene group, more preferably a linear alkylene group or an arylene group, A linear alkylene group is preferred.

は水素原子又は置換基を有していてもよいヒドロカルビル基であり、ヒドロカルビル基であることが好ましい。Rで表されるヒドロカルビル基の例は、R10で上述したヒドロカルビル基と同じである。 R 9 is a hydrogen atom or a hydrocarbyl group which may have a substituent, and is preferably a hydrocarbyl group. Examples of the hydrocarbyl group represented by R 9 are the same as the hydrocarbyl group described above for R 10 .

で表されるヒドロカルビル基の炭素原子数は、好ましくは1〜18であり、より好ましくは1〜12であり、更に好ましくは4〜12であり、特に好ましくは6〜8である。 The number of carbon atoms of the hydrocarbyl group represented by R 9 is preferably 1 to 18, more preferably 1 to 12, still more preferably 4 to 12, and particularly preferably 6 to 8.

で表されるヒドロカルビル基は、好ましくは、直鎖状アルキル基、分岐状アルキル基、アリール基又はアラルキル基であり、より好ましくは、直鎖状アルキル基又はアリール基であり、更に好ましくはアリール基である。 The hydrocarbyl group represented by R 9 is preferably a linear alkyl group, a branched alkyl group, an aryl group or an aralkyl group, more preferably a linear alkyl group or an aryl group, still more preferably. An aryl group.

前記式(2)において、Arは置換基を有していてもよい1価の芳香族炭化水素基であり、該1価の芳香族炭化水素基はsp炭素原子を7個以上含む。Arにおける1価の芳香族炭化水素基の例は、Rで表される2価の芳香族基において、除かれている2個の水素原子のうちの1個の水素原子を結合させてなる1価の基のうち、sp炭素原子を7個以上含む1価の芳香族炭化水素基である。 In the formula (2), Ar 2 is a monovalent aromatic hydrocarbon group which may have a substituent, and the monovalent aromatic hydrocarbon group contains 7 or more sp 2 carbon atoms. An example of a monovalent aromatic hydrocarbon group in Ar 2 is obtained by bonding one hydrogen atom out of two hydrogen atoms removed in the divalent aromatic group represented by R 1. Among the monovalent groups, a monovalent aromatic hydrocarbon group containing 7 or more sp 2 carbon atoms.

Arで表される1価の芳香族炭化水素基は、好ましくは前記式527〜式530、式576〜式579、式585〜式587及び式603〜式607のいずれかで表される環から環を構成する原子に直接結合する水素原子が1個除かれている基であり、より好ましくは式576〜式579及び式585〜式587のいずれかで表される環から環を構成する原子に直接結合する水素原子が1個除かれている基であり、更に好ましくは式576〜式579のいずれかで表される環から環を構成する原子に直接結合する水素原子が1個除かれている基であり、特に好ましくは式576又は式577で表される環から環を構成する原子に直接結合する水素原子が1個除かれている基である。 The monovalent aromatic hydrocarbon group represented by Ar 2 is preferably a ring represented by any one of Formula 527 to Formula 530, Formula 576 to Formula 579, Formula 585 to Formula 587, and Formula 603 to Formula 607. Is a group in which one hydrogen atom directly bonded to an atom constituting the ring is removed, and more preferably, the ring is constituted from the ring represented by any one of formulas 576 to 579 and 585 to 587. It is a group in which one hydrogen atom directly bonded to an atom is removed, and more preferably, one hydrogen atom directly bonded to an atom constituting the ring is removed from the ring represented by any of formulas 576 to 579. And particularly preferably a group in which one hydrogen atom directly bonded to the atom constituting the ring is removed from the ring represented by formula 576 or 577.

Arで表される1価の芳香族炭化水素基は置換基を有していてもよい。Arで表される1価の芳香族炭化水素基が有する置換基の数は、好ましくは0〜5個であり、より好ましくは0〜4個であり、更に好ましくは0〜3個であり、特に好ましくは0〜2個である。 The monovalent aromatic hydrocarbon group represented by Ar 2 may have a substituent. The number of substituents that the monovalent aromatic hydrocarbon group represented by Ar 2 has is preferably 0 to 5, more preferably 0 to 4, and still more preferably 0 to 3. Particularly preferably 0 to 2.

Arで表される1価の芳香族炭化水素基が有していてもよい置換基としては、例えば、ハロゲン原子、炭素原子数1〜30のヒドロカルビル基、炭素原子数1〜30のヒドロカルビルオキシ基、及び、炭素原子数1〜30のヒドロカルビルメルカプト基が挙げられ、好ましくは、ハロゲン原子、炭素原子数1〜18のヒドロカルビル基、又は、炭素原子数1〜18のヒドロカルビルオキシ基であり、より好ましくは、炭素原子数1〜12のヒドロカルビル基、又は、炭素原子数1〜12のヒドロカルビルオキシ基であり、更に好ましくは炭素原子数1〜12のヒドロカルビル基であり、特に好ましくは炭素原子数1〜8の直鎖状アルキル基、又は、炭素原子数1〜8の分岐状アルキル基であり、とりわけ好ましくは炭素原子数1〜6の分岐状アルキル基である。 Examples of the substituent that the monovalent aromatic hydrocarbon group represented by Ar 2 may have include a halogen atom, a hydrocarbyl group having 1 to 30 carbon atoms, and a hydrocarbyloxy group having 1 to 30 carbon atoms. And a hydrocarbyl mercapto group having 1 to 30 carbon atoms, preferably a halogen atom, a hydrocarbyl group having 1 to 18 carbon atoms, or a hydrocarbyloxy group having 1 to 18 carbon atoms, and more Preferred is a hydrocarbyl group having 1 to 12 carbon atoms or a hydrocarbyloxy group having 1 to 12 carbon atoms, more preferred is a hydrocarbyl group having 1 to 12 carbon atoms, and particularly preferred is 1 carbon atom. A linear alkyl group having ˜8 or a branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and particularly preferably a branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. Alkyl group.

Arで表される1価の芳香族炭化水素基はsp炭素原子を7個以上含む。このsp炭素原子数に置換基のsp炭素原子数は含まれない。分子の配向性を保持しやすいので、Arにおける1価の芳香族炭化水素基はsp炭素原子を、好ましくは8個以上、更に好ましくは10個以上、特に好ましくは12個以上含む。
Ar全体に含まれるsp炭素原子は、高分子化合物の分子配列がsp炭素原子同士のスタッキングにより固定されることになるので、Ar全体の20重量%以上が好ましく、40重量%以上がより好ましく、50重量%以上が更に好ましく、60重量%以上が特に好ましい。
The monovalent aromatic hydrocarbon group represented by Ar 2 contains 7 or more sp 2 carbon atoms. The sp 2 sp 2 carbon atoms of the substituents on the number of carbon atoms is not included. Since it is easy to maintain the molecular orientation, the monovalent aromatic hydrocarbon group in Ar 2 preferably contains 8 or more sp 2 carbon atoms, more preferably 10 or more, and particularly preferably 12 or more.
The sp 2 carbon atom contained in the entire Ar 2 is preferably 20% by weight or more, more preferably 40% by weight or more of the entire Ar 2 because the molecular arrangement of the polymer compound is fixed by stacking of the sp 2 carbon atoms. Is more preferable, 50% by weight or more is further preferable, and 60% by weight or more is particularly preferable.

は置換基を有していてもよい2価の芳香族基又は上記式(2)で表される2価の基である。Rが置換基を有していてもよい2価の芳香族基であるとき、該置換基を有していてもよい2価の芳香族基は、置換基を有していてもよい単環式芳香環、置換基を有していてもよい縮合多環式芳香環又は置換基を有していてもよい有橋多環式芳香環から環を構成する原子に直接結合する水素原子が2個除かれている2価の基であることが好ましい。Rが前記式(2)で表される2価の基であるとき、Arは置換基を有していてもよい芳香環集合から環を構成する原子に直接結合する水素原子が1個除かれている1価の基であることが好ましく、中でも、置換基を有していてもよい前記式576〜式579、及び式585〜式587のいずれかで表される環から環を構成する原子に直接結合する水素原子が1個除かれている基であることが好ましい。 R 1 is a divalent aromatic group which may have a substituent or a divalent group represented by the above formula (2). When R 1 is a divalent aromatic group that may have a substituent, the divalent aromatic group that may have a substituent may be a single group that may have a substituent. A hydrogen atom directly bonded to a ring-constituting aromatic ring, a condensed polycyclic aromatic ring optionally having a substituent, or a bridged polycyclic aromatic ring optionally having a substituent; A divalent group from which two are removed is preferable. When R 1 is a divalent group represented by the formula (2), Ar 2 has one hydrogen atom directly bonded to an atom constituting the ring from an aromatic ring assembly which may have a substituent. It is preferably a monovalent group that has been removed, and among them, a ring is formed from the ring represented by any one of the above formulas 576 to 579 and 585 to 587, which may have a substituent. It is preferably a group in which one hydrogen atom directly bonded to the atom to be removed is removed.

が前記式(2)で表される2価の基であるとき、R、R及びRが水素原子であり、Rが−O−で表される基、−C(=O)O−で表される基、−C(=O)N(R)−で表される基、又は、直接結合であることが好ましく、R、R及びRが水素原子であり、Rが−C(=O)N(R)−で表される基、又は、直接結合であることがより好ましい。 When R 1 is a divalent group represented by the formula (2), R 5 , R 6 and R 7 are hydrogen atoms, R 8 is a group represented by —O—, —C (= O) a group represented by O—, a group represented by —C (═O) N (R 9 ) —, or a direct bond is preferable, and R 5 , R 6, and R 7 are each a hydrogen atom. More preferably, R 8 is a group represented by —C (═O) N (R 9 ) — or a direct bond.

前記式(1)で表される繰り返し単位としては、例えば、以下の繰り返し単位(式100〜式128)が挙げられる。以下の繰り返し単位において、t−Buはtert−ブチル基を表し、n−Hexはn−ヘキシル基を表し、n−Octはn−オクチル基を表す。   Examples of the repeating unit represented by the formula (1) include the following repeating units (formula 100 to formula 128). In the following repeating units, t-Bu represents a tert-butyl group, n-Hex represents an n-hexyl group, and n-Oct represents an n-octyl group.

Figure 2013064101
Figure 2013064101

Figure 2013064101
Figure 2013064101

前記式(1)で表される繰り返し単位は、式100〜式128のうち、好ましくは式100〜式113、式118〜式121及び式125〜式128から選ばれる繰り返し単位であり、より好ましくは式100、式103〜式105、式107、式111、式112、式118〜式121及び式125〜式128から選ばれる繰り返し単位であり、更に好ましくは式103、式104、式111、式112、式118、式119、式121及び式126〜式128から選ばれる繰り返し単位である。   The repeating unit represented by Formula (1) is preferably a repeating unit selected from Formula 100 to Formula 113, Formula 118 to Formula 121, and Formula 125 to Formula 128 among Formula 100 to Formula 128, and more preferably. Is a repeating unit selected from Formula 100, Formula 103 to Formula 105, Formula 107, Formula 111, Formula 112, Formula 118 to Formula 121, and Formula 125 to Formula 128, and more preferably Formula 103, Formula 104, Formula 111, It is a repeating unit selected from Formula 112, Formula 118, Formula 119, Formula 121, and Formula 126 to Formula 128.

本発明に用いる高分子化合物は、上記式(1)で表される繰り返し単位から選ばれる1又は2以上の化学構造の繰り返し単位を少なくとも部分的に含有していればよい。光学活性の導入度合いをコントロールし易く、かつ、光学活性の高い高分子化合物が得られるので、本発明に用いる高分子化合物は、分子全体の重量に対し、式(1)で表される繰り返し単位を好ましくは1重量%以上含有し、より好ましくは5重量%以上含有し、更に好ましくは25重量%以上含有し、特に好ましくは80重量%以上含有し、とりわけ好ましくは100重量%含有する。   The high molecular compound used for this invention should just contain the repeating unit of 1 or 2 or more chemical structure chosen from the repeating unit represented by the said Formula (1) at least partially. Since it is easy to control the degree of introduction of optical activity and a high optical activity polymer compound is obtained, the polymer compound used in the present invention is a repeating unit represented by the formula (1) with respect to the weight of the whole molecule. Is preferably 1% by weight or more, more preferably 5% by weight or more, further preferably 25% by weight or more, particularly preferably 80% by weight or more, and particularly preferably 100% by weight.

本発明に用いる高分子化合物は、ホモポリマーでもコポリマーでもよいが、ホモポリマーであることが好ましい。ここで本発明に用いる高分子化合物がホモポリマーであるとは、高分子化合物が、その分子中に前記式(1)で表される繰り返し単位から選ばれる特定の化学構造の繰り返し単位のみを含有することを意味する。本発明に用いる高分子化合物がコポリマーであるとは、高分子化合物が、その分子中に前記式(1)で表される繰り返し単位から選ばれる2以上の化学構造の繰り返し単位を含有すること、並びに、高分子化合物が、その分子中に前記式(1)で表される繰り返し単位から選ばれる1又は2以上の化学構造の繰り返し単位と、前記式(1)で表される繰り返し単位以外の、1又は2以上の繰り返し単位とを含有することを意味する。   The polymer compound used in the present invention may be a homopolymer or a copolymer, but is preferably a homopolymer. Here, the polymer compound used in the present invention is a homopolymer means that the polymer compound contains only a repeating unit having a specific chemical structure selected from repeating units represented by the formula (1) in the molecule. It means to do. When the polymer compound used in the present invention is a copolymer, the polymer compound contains a repeating unit having two or more chemical structures selected from repeating units represented by the formula (1) in the molecule. In addition, the polymer compound has a repeating unit having one or more chemical structures selected from the repeating unit represented by the formula (1) in the molecule, and a repeating unit other than the repeating unit represented by the formula (1). It means containing 1 or 2 or more repeating units.

本発明に用いる高分子化合物がコポリマーである場合は、例えば、トリアリールアミン骨格を有する2価の基、トリアジン骨格を有する2価の基、不斉炭素原子を有する環状ヒドロカルビル基を有する2価の基を繰り返し単位として更に含有していてもよく、トリアリールアミン骨格を有する2価の基、又は、トリアジン骨格を有する2価の基を繰り返し単位として更に含有していることが好ましい。   When the polymer compound used in the present invention is a copolymer, for example, a divalent group having a triarylamine skeleton, a divalent group having a triazine skeleton, or a divalent group having a cyclic hydrocarbyl group having an asymmetric carbon atom. It may further contain a group as a repeating unit, and preferably further contains a divalent group having a triarylamine skeleton or a divalent group having a triazine skeleton as a repeating unit.

本発明に用いる高分子化合物のポリスチレン換算の数平均分子量(Mn)は、通常、5×10〜1×10である。成膜性及び溶媒への溶解性を高めて良好な成型加工性を確保することができるので、本発明の高分子化合物のMnは、好ましくは1×10〜1×10であり、より好ましくは2×10〜1×10であり、更に好ましくは3×10〜5×10であり、特に好ましくは4×10〜1×10であり、とりわけ好ましくは1×10〜1×10である。また、本発明に用いる高分子化合物のポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)は、通常、1×10〜1×10であり、好ましくは2×10〜1×10であり、より好ましくは5×10〜1×10であり、更に好ましくは1×10〜5×10であり、特に好ましくは5×10〜5×10である。 The number average molecular weight (Mn) in terms of polystyrene of the polymer compound used in the present invention is usually 5 × 10 2 to 1 × 10 8 . Since the film forming property and the solubility in a solvent can be improved to ensure good molding processability, the Mn of the polymer compound of the present invention is preferably 1 × 10 3 to 1 × 10 7 and more. It is preferably 2 × 10 3 to 1 × 10 6 , more preferably 3 × 10 3 to 5 × 10 5 , particularly preferably 4 × 10 3 to 1 × 10 5 , and particularly preferably 1 × 10 6. 4 to 1 × 10 5 . The weight average molecular weight (Mw) in terms of polystyrene of the polymer compound used in the present invention is usually 1 × 10 3 to 1 × 10 9 , preferably 2 × 10 3 to 1 × 10 8 , and more. Preferably it is 5 * 10 < 3 > -1 * 10 < 7 >, More preferably, it is 1 * 10 < 4 > -5 * 10 < 6 >, Most preferably, it is 5 * 10 < 4 > -5 * 10 < 5 >.

本発明に用いる高分子化合物は、円偏光の照射前から光学活性を呈する高分子化合物であってもよい。円偏光の照射前から光学活性を呈する高分子化合物を用いる場合、本発明の変性方法によって、更に強い光学活性を呈する高分子化合物を得ることができる。   The polymer compound used in the present invention may be a polymer compound that exhibits optical activity before irradiation with circularly polarized light. When using a polymer compound exhibiting optical activity before irradiation with circularly polarized light, a polymer compound exhibiting stronger optical activity can be obtained by the modification method of the present invention.

本発明に用いる高分子化合物は、従来公知の高分子化合物の合成法によって合成することができる。   The polymer compound used in the present invention can be synthesized by a conventionally known polymer compound synthesis method.

本発明に用いる高分子化合物は、例えば、下記実施例の方法により製造される。また、実施例とは別に、以下の方法によっても製造される。例えば、窒素雰囲気下、金属マグネシウムにテトラヒドロフラン及び1,2−ジブロモエタンを加えた懸濁液に、2,7−ジブロモ−9,9−ジ−n−オクチルフルオレンのTHF溶液を加え、加熱しながら撹拌する。その後、得られた反応液に[1,3−ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン]ジクロロニッケル(II)を加え、更に加熱しながら撹拌する。次いで、得られた反応液に希塩酸とクロロホルムを加えて抽出し、水で洗浄する。得られた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過、濃縮して、THFに溶かし、得られた溶液をメタノールに滴下し再沈殿させることによって合成できる。   The high molecular compound used for this invention is manufactured by the method of the following Example, for example. In addition to the embodiment, it is also manufactured by the following method. For example, a THF solution of 2,7-dibromo-9,9-di-n-octylfluorene is added to a suspension obtained by adding tetrahydrofuran and 1,2-dibromoethane to metallic magnesium in a nitrogen atmosphere, and while heating. Stir. Thereafter, [1,3-bis (diphenylphosphino) propane] dichloronickel (II) is added to the obtained reaction liquid, and further stirred while heating. Next, the resulting reaction solution is extracted by adding dilute hydrochloric acid and chloroform, and washed with water. The obtained organic layer can be synthesized by drying over anhydrous magnesium sulfate, filtering and concentrating, dissolving in THF, dropping the resulting solution into methanol and reprecipitating.

上記式(1)で表される繰り返し単位を有する高分子化合物はまた、以下の方法によっても製造される。例えば、スチレン誘導体及び2,2’−アゾビス(イソブチロニトリル)のクロロホルム溶液を混合し、加熱しながら撹拌する。得られた反応液から溶媒を留去し、クロロホルムに溶かし、得られた溶液をメタノールに滴下し再沈殿させることによって合成できる。   The polymer compound having a repeating unit represented by the above formula (1) is also produced by the following method. For example, a styrene derivative and a chloroform solution of 2,2'-azobis (isobutyronitrile) are mixed and stirred while heating. It can synthesize | combine by distilling a solvent off from the obtained reaction liquid, making it melt | dissolve in chloroform, dripping the obtained solution in methanol and reprecipitating.

本発明の高分子化合物の変性方法において、高分子化合物に円偏光を照射するにあたり、高分子化合物は、粉体、膜、成型体、溶液、分散液等のいずれの形状・状態であってもよいが、粉体、膜、成型体又は分散液の形状・状態であることが好ましく、膜又は分散液の形状・状態であることがより好ましい。工程負荷が軽く、分子配向の制御が容易であるため、高分子化合物は膜の形状であることが更に好ましい。   In the method for modifying a polymer compound of the present invention, when the polymer compound is irradiated with circularly polarized light, the polymer compound may be in any shape / state such as a powder, a film, a molded body, a solution, and a dispersion. The shape / state of the powder, film, molded product or dispersion is preferable, and the shape / state of the film or dispersion is more preferable. Since the process load is light and the control of molecular orientation is easy, the polymer compound is more preferably in the form of a film.

上記膜の厚さは、通常、1nm〜500μmであり、好ましくは2nm〜100μmであり、より好ましくは3nm〜20μmであり、更に好ましくは5nm〜1μmであり、特に好ましくは10nm〜200nmである。薄膜はピンホールや凹凸の形状を含んでいてもよい。   The thickness of the film is usually 1 nm to 500 μm, preferably 2 nm to 100 μm, more preferably 3 nm to 20 μm, still more preferably 5 nm to 1 μm, and particularly preferably 10 nm to 200 nm. The thin film may include pinholes or irregular shapes.

上記膜の製造方法としては、例えば、上記式(1)で表される繰り返し単位を有する高分子化合物と他の成分とを任意の割合で溶媒中に懸濁又は溶解させて得られる懸濁液又は溶液を基材に塗布する工程を含む方法、及び、上記式(1)で表される繰り返し単位を有する高分子化合物と他の成分とを任意の割合で基材に蒸着する工程を含む方法が挙げられ、好ましくは、前者の方法である。   As a method for producing the membrane, for example, a suspension obtained by suspending or dissolving a polymer compound having a repeating unit represented by the above formula (1) and other components in a solvent at an arbitrary ratio. Alternatively, a method including a step of applying a solution to a substrate, and a method including a step of depositing the polymer compound having the repeating unit represented by the above formula (1) and other components on the substrate in an arbitrary ratio. Preferably, the former method is used.

前記塗布する工程に使用する溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、1,1,2,2−テトラクロロエタン、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン、2−メチルテトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、アセトン、メチルエチルケトン、アセトニトリル、酢酸エチル、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ヘキサン、シクロヘキサン、トリフルオロ酢酸及びこれらの混合物が挙げられ、好ましくは、トルエン、キシレン、クロロホルム、テトラヒドロフラン、トリフルオロ酢酸又はこれらの混合物である。   Examples of the solvent used in the coating step include benzene, toluene, xylene, chloroform, 1,2-dichloroethane, 1,1,2,2-tetrachloroethane, dichloromethane, tetrahydrofuran, 2-methyltetrahydrofuran, 1,4. -Dioxane, N, N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, acetone, methyl ethyl ketone, acetonitrile, ethyl acetate, methanol, ethanol, isopropyl alcohol, hexane, cyclohexane, trifluoroacetic acid and mixtures thereof, preferably toluene, xylene , Chloroform, tetrahydrofuran, trifluoroacetic acid or mixtures thereof.

前記塗布する工程において、塗布方法としては、例えば、スピンコート法、キャスティング法、ディップコート法、グラビア印刷法、バーコート法、ロールコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、インクジェット印刷法及びオフセット印刷法が挙げられ、スピンコート法、キャスティング法、ロールコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、インクジェット印刷法又はオフセット印刷法が好ましい。   In the coating step, examples of the coating method include spin coating, casting, dip coating, gravure printing, bar coating, roll coating, spray coating, screen printing, flexographic printing, and inkjet printing. And an offset printing method, and a spin coating method, a casting method, a roll coating method, a spray coating method, a screen printing method, a flexographic printing method, an inkjet printing method or an offset printing method is preferable.

本発明の変性方法においては、上記高分子化合物を単独で用いてもよく、また、本発明の効果を阻害しない範囲において、上記高分子化合物とそれ以外の成分とを組み合わせて組成物として用いてもよい。組成物として用いる場合、より優れた良好な変性効果が得られるので、上記高分子化合物の含有量は、組成物全体の重量100重量%に対し、1重量%以上であることが好ましく、10重量%以上であることがより好ましく、50重量%以上であることが更に好ましく、90重量%以上であることが特に好ましい。また、その上限は、通常、99重量%である。   In the modification method of the present invention, the above-described polymer compound may be used alone, or within the range where the effects of the present invention are not impaired, the polymer compound and other components are used in combination as a composition. Also good. When used as a composition, a better and better modification effect can be obtained. Therefore, the content of the polymer compound is preferably 1% by weight or more with respect to 100% by weight of the entire composition. % Or more, more preferably 50% by weight or more, and particularly preferably 90% by weight or more. Moreover, the upper limit is 99 weight% normally.

前記組成物を形成するのに用いてもよい、上記高分子化合物以外の成分(以下、単に「他の成分」ともいう。)としては、例えば、低分子有機材料、高分子有機材料、有機無機複合材料、無機材料及びそれらの混合物が挙げられ、用途に応じて任意に選択し得る。
例えば、本発明の変性方法により得られる、変性された高分子化合物を、発光素子の材料として用いる場合、上記他の成分としては、以下が例示される。
Examples of components other than the above-described polymer compound (hereinafter also simply referred to as “other components”) that may be used to form the composition include, for example, a low-molecular organic material, a polymer organic material, and an organic inorganic material. A composite material, an inorganic material, and a mixture thereof are mentioned, and can be arbitrarily selected depending on the application.
For example, when the modified polymer compound obtained by the modification method of the present invention is used as a material for a light-emitting element, examples of the other components include the following.

(陽極材料)
陽極材料としては、例えば、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化インジウム、インジウムスズ酸化物(ITO)等の導電性金属酸化物;金、銀、クロム、ニッケル等の金属;前記導電性金属酸化物と前記金属との混合物;ヨウ化銅、硫化銅等の無機導電性物質;ポリアニリン及びその誘導体、ポリチオフェン及びその誘導体〔ポリ(3,4)エチレンジオキシチオフェン等〕、ポリピロール及びその誘導体等の有機導電性材料;並びに、それらの組み合わせが挙げられ、好ましくは、ポリアニリン及びその誘導体、ポリチオフェン及びその誘導体、又は、ポリピロール及びその誘導体である。これらは、本発明の変性方法により得られる、変性された高分子化合物を、発光素子の陽極に用いる際に有用である。
(Anode material)
Examples of the anode material include conductive metal oxides such as tin oxide, zinc oxide, indium oxide, and indium tin oxide (ITO); metals such as gold, silver, chromium, and nickel; the conductive metal oxides and the above Mixtures with metals; inorganic conductive materials such as copper iodide and copper sulfide; organic conductivity such as polyaniline and its derivatives, polythiophene and its derivatives [poly (3,4) ethylenedioxythiophene, etc.], polypyrrole and its derivatives And a combination thereof, preferably polyaniline and derivatives thereof, polythiophene and derivatives thereof, or polypyrrole and derivatives thereof. These are useful when the modified polymer compound obtained by the modification method of the present invention is used for an anode of a light emitting device.

(陰極材料)
陰極材料としては、例えば、アルカリ金属(Li、Na、K、Cs等)及びそのフッ化物並びに酸化物;アルカリ土類金属(Mg、Ca、Ba等)及びそのフッ化物並びに酸化物;金、銀、鉛、アルミニウム等の金属;ナトリウム−カリウム合金、ナトリウム−カリウム混合金属、リチウム−アルミニウム合金、リチウム−アルミニウム混合金属、マグネシウム−銀合金、マグネシウム−銀混合金属等の合金及び混合金属;インジウム、イッテルビウム等の希土類金属;及びそれらの組み合わせが挙げられる。これらは、本発明の変性方法により得られる、変性された高分子化合物を、発光素子の陰極に用いる際に有用である。
(Cathode material)
Examples of cathode materials include alkali metals (Li, Na, K, Cs, etc.) and their fluorides and oxides; alkaline earth metals (Mg, Ca, Ba, etc.) and their fluorides and oxides; gold, silver Metals such as lead, aluminum, etc .; sodium-potassium alloys, sodium-potassium mixed metals, lithium-aluminum alloys, lithium-aluminum mixed metals, magnesium-silver alloys, magnesium-silver mixed metals, and mixed metals; indium, ytterbium Rare earth metals; and combinations thereof. These are useful when the modified polymer compound obtained by the modification method of the present invention is used for the cathode of a light emitting device.

(正孔注入及び正孔輸送性材料)
正孔注入及び正孔輸送性材料としては、例えば、カルバゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、スチリルアントラセン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、ポルフィリン誘導体、ポリシラン誘導体、ポリ(N−ビニルカルバゾール)誘導体、及びこれらの誘導体の残基を含む重合体;アニリン系共重合体、チオフェンオリゴマー、ポリチオフェン等の導電性高分子オリゴマーが挙げられ、好ましくは、カルバゾール誘導体、アリールアミン誘導体、又は、ポリ(N−ビニルカルバゾール)誘導体である。これらは、本発明の変性方法により得られる、変性された高分子化合物を、発光素子の発光層、正孔注入及び正孔輸送層に用いる際に有用である。
(Hole injection and hole transport materials)
Examples of hole injection and hole transport materials include carbazole derivatives, polyarylalkane derivatives, pyrazoline derivatives, pyrazolone derivatives, phenylenediamine derivatives, arylamine derivatives, amino-substituted chalcone derivatives, styrylanthracene derivatives, hydrazone derivatives, stilbene derivatives. , Silazane derivatives, porphyrin derivatives, polysilane derivatives, poly (N-vinylcarbazole) derivatives, and polymers containing residues of these derivatives; conductive polymer oligomers such as aniline copolymers, thiophene oligomers, and polythiophenes Preferably, it is a carbazole derivative, an arylamine derivative, or a poly (N-vinylcarbazole) derivative. These are useful when the modified polymer compound obtained by the modification method of the present invention is used for a light emitting layer, a hole injection and a hole transport layer of a light emitting device.

(電子注入及び電子輸送性材料)
電子注入及び電子輸送性材料としては、例えば、トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、ピリジン誘導体、ピラジン誘導体、トリアジン誘導体、イミダゾール誘導体、フルオレン誘導体、フルオレノン誘導体、アントラキノジメタン誘導体、アントロン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、カルボジイミド誘導体、フルオレニリデンメタン誘導体、ジスチリルピラジン誘導体、ナフタレンやペリレン等の芳香環のテトラカルボン酸無水物、フタロシアニン誘導体、金属錯体(例えば、8−キノリノール誘導体の金属錯体、メタルフタロシアニンを配位子とする金属錯体、ベンゾオキサゾールを配位子とする金属錯体、ベンゾチアゾールを配位子とする金属錯体)が挙げられ、好ましくは、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、トリアジン誘導体、8−キノリノール誘導体の金属錯体である。これらは、本発明の変性方法により得られる、変性された高分子化合物を、発光素子の発光層、電子注入及び電子輸送層に用いる際に有用である。
(Electron injection and electron transport materials)
Examples of electron injection and electron transport materials include triazole derivatives, oxazole derivatives, oxadiazole derivatives, pyridine derivatives, pyrazine derivatives, triazine derivatives, imidazole derivatives, fluorene derivatives, fluorenone derivatives, anthraquinodimethane derivatives, anthrone derivatives, Diphenylquinone derivatives, thiopyran dioxide derivatives, carbodiimide derivatives, fluorenylidenemethane derivatives, distyrylpyrazine derivatives, tetracyclic anhydrides of aromatic rings such as naphthalene and perylene, phthalocyanine derivatives, metal complexes (for example, 8-quinolinol derivatives) Metal complexes having metal phthalocyanine as a ligand, metal complexes having benzoxazole as a ligand, and metal complexes having benzothiazole as a ligand. It is a triazole derivative, an oxadiazole derivative, a triazine derivative, a metal complex of 8-quinolinol derivatives. These are useful when the modified polymer compound obtained by the modification method of the present invention is used for a light emitting layer, an electron injection and an electron transport layer of a light emitting device.

(電解質材料)
電解質材料としては、例えば、支持塩(トリフルオロメタンスルホン酸リチウム、過塩素酸リチウム、過塩素酸テトラブチルアンモニウム、ヘキサフルオロリン酸カリウム、テトラフルオロホウ酸テトラ−n−ブチルアンモニウム等)及び支持塩を含有してもよい溶媒(プロピレンカーボネート、アセトニトリル、2−メチルテトラヒドロフラン、1,3−ジオキソフラン、ニトロベンゼン、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、グリセリン、プロピルアルコール、水等)、又は該溶媒で膨潤したゲル状の高分子(ポリエチレンオキシド、ポリアクリルニトリル、フッ化ビニリデンと六フッ化プロピレンの共重合体等)が挙げられる。これらは、本発明の変性方法により得られる、変性された高分子化合物を、電気二重層を形成する発光素子(例えば、電気化学発光素子)の発光層に用いる際に有用である。
(Electrolyte material)
Examples of the electrolyte material include a supporting salt (such as lithium trifluoromethanesulfonate, lithium perchlorate, tetrabutylammonium perchlorate, potassium hexafluorophosphate, tetra-n-butylammonium tetrafluoroborate) and a supporting salt. Solvent that may be contained (propylene carbonate, acetonitrile, 2-methyltetrahydrofuran, 1,3-dioxofuran, nitrobenzene, N, N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, glycerin, propyl alcohol, water, etc.) or swollen with the solvent Examples thereof include gel-like polymers (polyethylene oxide, polyacrylonitrile, a copolymer of vinylidene fluoride and propylene hexafluoride, and the like). These are useful when the modified polymer compound obtained by the modification method of the present invention is used in a light emitting layer of a light emitting device (for example, an electrochemiluminescent device) that forms an electric double layer.

(発光性材料)
発光性材料としては、例えば、白金族元素を用いた金属錯体(フェニルピリジン誘導体が配位したイリジウム錯体等)、希土類元素を用いた金属錯体(フェナントロリン誘導体が配位したユーロピウム錯体等)、8−キノリノール誘導体が配位したアルミニウム錯体、ナフタセン誘導体、ジシアノエチレン誘導体、クマリン誘導体、キナクリドン誘導体、アントラセン誘導体、ペリレン誘導体、フェニレンビニレン誘導体、フルオレン誘導体、ナフタレン誘導体が挙げられ、好ましくは、イリジウム錯体又はフルオレン誘導体である。これらは、本発明の変性方法により得られる、光学活性な高分子化合物を、発光素子の発光材料として用いる際に併用してもよい。
(Luminescent material)
Examples of the light-emitting material include metal complexes using platinum group elements (such as iridium complexes coordinated with phenylpyridine derivatives), metal complexes using rare earth elements (such as europium complexes coordinated with phenanthroline derivatives), 8- Examples include aluminum complexes coordinated with quinolinol derivatives, naphthacene derivatives, dicyanoethylene derivatives, coumarin derivatives, quinacridone derivatives, anthracene derivatives, perylene derivatives, phenylene vinylene derivatives, fluorene derivatives, naphthalene derivatives, preferably iridium complexes or fluorene derivatives. is there. These may be used in combination when the optically active polymer compound obtained by the modification method of the present invention is used as the light emitting material of the light emitting device.

また、他の成分として、成膜性を向上させる樹脂を用いることができる。成膜性を向上させる樹脂としては、例えば、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリブチルメタクリレート、ポリエステル、ポリスルホン、ポリフェニレンオキシド、ポリブタジエン、炭化水素樹脂、ケトン樹脂、フェノキシ樹脂、ポリアミド、エチルセルロース、酢酸ビニル、ABS樹脂、ポリウレタン、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、シリコン樹脂が挙げられ、好ましくは、ポリメチルメタクリレート、ポリエステル、ポリウレタンである。   In addition, a resin that improves the film formability can be used as the other component. Examples of the resin for improving the film forming property include polyvinyl chloride, polycarbonate, polystyrene, polymethyl methacrylate, polybutyl methacrylate, polyester, polysulfone, polyphenylene oxide, polybutadiene, hydrocarbon resin, ketone resin, phenoxy resin, polyamide, and ethyl cellulose. , Vinyl acetate, ABS resin, polyurethane, melamine resin, unsaturated polyester resin, alkyd resin, epoxy resin, and silicone resin, preferably polymethyl methacrylate, polyester, and polyurethane.

これらの他にも、蛋白質、酸化防止剤、屈折率調整剤、粘度調整剤、断熱剤、光吸収剤等を用いることができる。   In addition to these, proteins, antioxidants, refractive index adjusters, viscosity adjusters, heat insulating agents, light absorbers, and the like can be used.

本発明の高分子化合物の変性方法において、円偏光の照射は、円偏光性を示す一般的な光源を用いて行うことができる。このような光源の例としては、Arレーザー、YAGレーザー等を使用した装置が挙げられる。 In the method for modifying a polymer compound of the present invention, irradiation with circularly polarized light can be performed using a general light source exhibiting circular polarization. Examples of such a light source include an apparatus using an Ar + laser, a YAG laser, or the like.

円偏光の強度は、1〜1000mW/cmが好ましく、2〜500mW/cmがより好ましく、3〜250mW/cmが更に好ましく、5〜100mW/cmが特に好ましい。 The intensity of the circularly polarized light, preferably 1~1000mW / cm 2, more preferably 2~500mW / cm 2, more preferably 3~250mW / cm 2, 5~100mW / cm 2 is particularly preferred.

円偏光の照射時間は、0.1秒〜72時間が好ましく、1秒〜24時間がより好ましく、10秒〜12時間が更に好ましく、1分〜6時間が特に好ましく、5分〜2時間がとりわけ好ましい。
円偏光の照射環境は、窒素ガス、アルゴンガス等の不活性ガス雰囲気下でも空気中でもよいが、簡便であるので、空気中が好ましい。
円偏光は室温で照射することが好ましいが、円偏光の照射によって検体が熱を帯びてもよい。
本発明で照射する円偏光は、楕円偏光を使用し得る。
The irradiation time of the circularly polarized light is preferably 0.1 second to 72 hours, more preferably 1 second to 24 hours, further preferably 10 seconds to 12 hours, particularly preferably 1 minute to 6 hours, and 5 minutes to 2 hours. Especially preferred.
The irradiation environment of circularly polarized light may be in air or in an inert gas atmosphere such as nitrogen gas or argon gas, but is preferably in air because it is simple.
Although circularly polarized light is preferably irradiated at room temperature, the specimen may be heated by irradiation with circularly polarized light.
As the circularly polarized light irradiated in the present invention, elliptically polarized light can be used.

本発明の変性方法によって得られた光学活性な高分子化合物は、電子素子(例えば、発光素子(例えば、有機エレクトロルミネッセンス素子であり、好ましくは円偏光発光する有機エレクトロルミネッセンス素子)、太陽電池、有機トランジスタ)材料、光学分割や不斉反応のための不斉場を提供する材料、偏光材料や屈折材料、医薬品などに用いることができる。   The optically active polymer compound obtained by the modification method of the present invention is an electronic device (for example, a light emitting device (for example, an organic electroluminescent device, preferably an organic electroluminescent device emitting circularly polarized light), a solar cell, an organic It can be used for (transistor) materials, optical resolution, asymmetric field for asymmetric reactions, polarizing materials, refractive materials, pharmaceuticals, and the like.

<変性された高分子化合物を含む膜の製造方法>
本発明の、変性された高分子化合物を含む膜の製造方法は、下記工程(a)及び(b)を含む。
(a)基材上に、上記式(1)で表される繰り返し単位を有する高分子化合物を含む膜を形成する工程。
(b)前記膜に円偏光を照射する工程。
<Method for Producing Film Containing Modified Polymer Compound>
The method for producing a film containing a modified polymer compound according to the present invention includes the following steps (a) and (b).
(A) The process of forming the film | membrane containing the high molecular compound which has a repeating unit represented by the said Formula (1) on a base material.
(B) A step of irradiating the film with circularly polarized light.

[工程(a)]
工程(a)は、基材上に、上記式(1)で表される繰り返し単位を有する高分子化合物を含む膜を形成する工程である。なお、本発明の製造方法に用いられる、上記式(1)で表される繰り返し単位を有する高分子化合物は、上記<高分子化合物の変性方法>で説明したものと同じである。
[Step (a)]
Step (a) is a step of forming a film containing a polymer compound having a repeating unit represented by the above formula (1) on a substrate. In addition, the high molecular compound which has a repeating unit represented by the said Formula (1) used for the manufacturing method of this invention is the same as what was demonstrated by the said <modification method of a high molecular compound>.

基材としては、例えば、石英、ガラス、透明若しくは半透明の樹脂等を用いてもよい。
また、製造された膜を、発光素子の正孔注入及び正孔輸送層として用いる場合には、定法にて製造された陽極上に高分子化合物を含む膜を形成してもよい。この場合、陽極が「基材」として機能する。同様に、製造された膜を、発光素子の発光層として用いる場合には、定法にて製造された正孔注入及び正孔輸送層上に高分子化合物を含む膜を形成してもよい。この場合、正孔注入及び正孔輸送層が「基材」として機能する。すなわち、基材は、高分子化合物をその表面に受容することができ且つ高分子化合物を物理的に支持できる限り、膜の用途に応じて任意に選択してもよい。
As the substrate, for example, quartz, glass, transparent or translucent resin, or the like may be used.
When the manufactured film is used as a hole injection and hole transport layer of a light emitting element, a film containing a polymer compound may be formed on an anode manufactured by a conventional method. In this case, the anode functions as a “base material”. Similarly, when the manufactured film is used as a light emitting layer of a light emitting element, a film containing a polymer compound may be formed on the hole injection and hole transport layer manufactured by a conventional method. In this case, the hole injection and hole transport layer functions as a “substrate”. That is, the substrate may be arbitrarily selected according to the use of the membrane as long as the polymer compound can be received on the surface and the polymer compound can be physically supported.

工程(a)において、基材上に、高分子化合物を含む膜を形成する方法としては、例えば、上記式(1)で表される繰り返し単位を有する高分子化合物と他の成分とを任意の割合で溶媒中に懸濁又は溶解させて得られる懸濁液又は溶液を基材に塗布する方法(以下、単に塗布法ともいう)、及び、上記式(1)で表される繰り返し単位を有する高分子化合物と他の成分とを任意の割合で基材に蒸着する方法(以下、単に蒸着法ともいう)が挙げられる。これらのうち、工程を簡便化できるため、前者の塗布法により塗布成膜することが好ましい。   In the step (a), as a method for forming a film containing a polymer compound on a substrate, for example, a polymer compound having a repeating unit represented by the above formula (1) and other components may be arbitrarily selected. A method of applying a suspension or solution obtained by suspending or dissolving in a solvent in a ratio to a substrate (hereinafter also simply referred to as an application method), and a repeating unit represented by the above formula (1) A method of vapor-depositing a polymer compound and other components on a base material at an arbitrary ratio (hereinafter also simply referred to as vapor deposition method) can be mentioned. Among these, since the process can be simplified, it is preferable to form a coating by the former coating method.

前記塗布法に使用する溶媒の例及び好ましい例、並びに塗布方法の具体的態様は、上記<高分子化合物の変性方法>で説明したものと同じである。   Examples and preferred examples of the solvent used in the coating method, and specific embodiments of the coating method are the same as those described in the above <Method for modifying polymer compound>.

前記塗布法においては、通常、懸濁液又は溶液を塗布した後に、該懸濁液又は溶液に含まれる溶媒を乾燥させる。溶媒を乾燥させる方法としては、例えば、風乾、加熱乾燥、減圧乾燥、加熱減圧乾燥、及び、窒素ガスを吹き付けて行う乾燥が挙げられ、風乾又は加熱乾燥が好ましく、加熱乾燥がより好ましい。また、溶媒を乾燥させる際の雰囲気は特に限定されないが、窒素ガスやアルゴンガス等の不活性ガス雰囲気であることが好ましい。   In the coating method, usually, after applying a suspension or solution, the solvent contained in the suspension or solution is dried. Examples of the method for drying the solvent include air drying, heat drying, reduced pressure drying, heat reduced pressure drying, and drying performed by blowing nitrogen gas. Air drying or heat drying is preferable, and heat drying is more preferable. The atmosphere for drying the solvent is not particularly limited, but is preferably an inert gas atmosphere such as nitrogen gas or argon gas.

工程(a)において、上記式(1)で表される繰り返し単位を有する高分子化合物と併用される上記他の成分の例や好ましい例は、上記<高分子化合物の変性方法>で説明したものと同じであり、得られる膜の用途に応じて選択し得る。例えば、本発明の製造方法により得られる膜を発光素子の陽極に利用する場合、上記他の成分として、上記<高分子化合物の変性方法>で説明した陽極材料を用いてもよい。本発明の製造方法により得られる膜を発光素子の正孔注入及び正孔輸送層に利用する場合、上記他の成分として、上記<高分子化合物の変性方法>で説明した正孔注入及び正孔輸送性材料を用いてもよい。同様に、本発明の製造方法により得られる膜を発光素子の発光層に利用する場合、上記他の成分として、上記<高分子化合物の変性方法>で説明した正孔注入及び正孔輸送性材料、電子注入及び電子輸送性材料、電解質材料、発光性材料を用いてもよい。   In the step (a), examples and preferred examples of the other components used in combination with the polymer compound having the repeating unit represented by the formula (1) are those described in the above <Modification method of polymer compound>. And can be selected according to the intended use of the resulting membrane. For example, when the film obtained by the production method of the present invention is used for the anode of a light emitting device, the anode material described in the above <Method for modifying polymer compound> may be used as the other component. When the film obtained by the production method of the present invention is used for the hole injection and hole transport layer of the light emitting device, the hole injection and hole described in the above <Method for modifying polymer compound> are used as the other components. A transport material may be used. Similarly, when the film obtained by the production method of the present invention is used for the light emitting layer of the light emitting device, the other components are the hole injection and hole transporting materials described in the above <Method for modifying polymer compound>. Electron injection and electron transport materials, electrolyte materials, and luminescent materials may be used.

工程(a)において形成される膜中の、上記式(1)で表される繰り返し単位を有する高分子化合物の含有量は、膜の用途に応じて決定し得るが、より優れた変性効果が得られるので、膜全体の重量に対し、1重量%以上であることが好ましく、10重量%以上であることがより好ましく、50重量%以上であることが更に好ましく、90重量%以上であることが特に好ましく、100重量%(不可避的な不純物を除く)であることがとりわけ好ましい。   The content of the polymer compound having the repeating unit represented by the above formula (1) in the film formed in the step (a) can be determined according to the use of the film, but a more excellent modification effect is obtained. Therefore, it is preferably 1% by weight or more, more preferably 10% by weight or more, still more preferably 50% by weight or more, and 90% by weight or more, based on the total weight of the film. Is particularly preferred, with 100% by weight (excluding inevitable impurities) being particularly preferred.

工程(a)において形成される膜の厚さは、膜の用途に応じて決定し得るが、通常、1nm〜500μmであり、好ましくは2nm〜100μmであり、より好ましくは3nm〜20μmであり、更に好ましくは5nm〜1μmであり、特に好ましくは10nm〜200nmである。   The thickness of the film formed in the step (a) can be determined according to the use of the film, but is usually 1 nm to 500 μm, preferably 2 nm to 100 μm, more preferably 3 nm to 20 μm, More preferably, it is 5 nm-1 micrometer, Most preferably, it is 10 nm-200 nm.

[工程(b)]
工程(b)は、工程(a)で形成した、上記式(1)で表される繰り返し単位を有する高分子化合物を含む膜に、円偏光を照射する工程である。
[Step (b)]
Step (b) is a step of irradiating circularly polarized light on the film formed in step (a) and containing the polymer compound having the repeating unit represented by the above formula (1).

工程(b)において、上記式(1)で表される繰り返し単位を有する高分子化合物を含む膜に円偏光を照射することによって、膜中の高分子化合物を、光学活性を呈するように変性することができる。   In the step (b), the polymer compound in the film is modified to exhibit optical activity by irradiating the film containing the polymer compound having the repeating unit represented by the formula (1) with circularly polarized light. be able to.

円偏光の光源、並びに円偏光の強度及び照射時間は、上記<高分子化合物の変性方法>で説明した通りである。ここで、得られる膜が所期の光学活性を呈するように、工程(b)において照射する円偏光の強度及び円偏光の照射時間を調整し得る。   The circularly polarized light source, the intensity of the circularly polarized light, and the irradiation time are as described above in <Method for modifying polymer compound>. Here, the intensity of the circularly polarized light and the irradiation time of the circularly polarized light to be irradiated in the step (b) can be adjusted so that the obtained film exhibits the desired optical activity.

本発明の製造方法で得られる、変性された高分子化合物を含む膜は、上述した光学活性な高分子化合物と同様の用途に用いることができる。   The film containing the modified polymer compound obtained by the production method of the present invention can be used for the same application as the optically active polymer compound described above.

次に、実施例を示して本発明を説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。   Next, the present invention will be described with reference to examples. However, the present invention is not limited to these examples.

<合成例1>(前記式119で表される繰り返し単位を有する高分子化合物の合成)
(1)2,5−ビス(4−tert−ブチルフェニル)トルエンの合成

Figure 2013064101
<Synthesis Example 1> (Synthesis of polymer compound having a repeating unit represented by Formula 119)
(1) Synthesis of 2,5-bis (4-tert-butylphenyl) toluene
Figure 2013064101

反応容器内を窒素ガス雰囲気とした後、室温にて、金属マグネシウム(3.72g、153mmol)とテトラヒドロフラン(以下、「THF」と言う。)(20mL)との混合物に、ジブロモエタン(1.37g、7.30mmol)をゆっくり加えた。発泡が収まった後、得られた反応液に、1−ブロモ−4−tert−ブチルベンゼン(31.1g、146mmol)のTHF(100mL)溶液を加え、60℃で1時間還流した。得られた反応液を、塩化亜鉛(II)(19.9g、146mmol)のTHF(60mL)溶液に加え、更に、N,N,N',N'-テトラメチルエチレンジアミン(16.9g、146mmol)を加えて室温で30分間撹拌した。
その後、そこに、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)(2.32g、2.01mmol)を加え、更に、2,5−ジブロモトルエン(9.12g、36.5mmol)のTHF(60mL)溶液を20分間以上かけてゆっくり加え、60℃で13時間撹拌した。得られた反応液を室温に戻し、氷冷した10重量%塩酸(350mL)に加えて濾過し、濾物をクロロホルムで抽出した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた後、濾過し、溶媒を留去し、濾物をメタノールで洗浄し、2,5−ビス(4−tert−ブチルフェニル)トルエンを得た(9.31g、収率73.0%)。
The reaction vessel was filled with a nitrogen gas atmosphere, and then at room temperature, dibromoethane (1.37 g) was added to a mixture of magnesium metal (3.72 g, 153 mmol) and tetrahydrofuran (hereinafter referred to as “THF”) (20 mL). , 7.30 mmol) was added slowly. After bubbling stopped, a solution of 1-bromo-4-tert-butylbenzene (31.1 g, 146 mmol) in THF (100 mL) was added to the resulting reaction solution and refluxed at 60 ° C. for 1 hour. The obtained reaction solution was added to a solution of zinc (II) chloride (19.9 g, 146 mmol) in THF (60 mL), and further, N, N, N ′, N′-tetramethylethylenediamine (16.9 g, 146 mmol) was added. And stirred at room temperature for 30 minutes.
Thereafter, tetrakis (triphenylphosphine) palladium (0) (2.32 g, 2.01 mmol) was added thereto, and further, a solution of 2,5-dibromotoluene (9.12 g, 36.5 mmol) in THF (60 mL). Was slowly added over 20 minutes and stirred at 60 ° C. for 13 hours. The obtained reaction liquid was returned to room temperature, added to ice-cooled 10% by weight hydrochloric acid (350 mL) and filtered, and the residue was extracted with chloroform. The obtained organic layer was washed with saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, filtered, the solvent was distilled off, the filtrate was washed with methanol, and 2,5-bis (4-tert-butyl Phenyl) toluene was obtained (9.31 g, yield 73.0%).

(2)2,5−ビス(4−tert−ブチルフェニル)ベンジルブロミドの合成

Figure 2013064101
(2) Synthesis of 2,5-bis (4-tert-butylphenyl) benzyl bromide
Figure 2013064101

反応容器内を窒素ガス雰囲気とした後、N−ブロモスクシンイミド(10.8g、60.6mmol)と2,2’−アゾビス(イソブチロニトリル)(1.99g、12.1mmol)との混合物に、上記(1)で得られた2,5−ビス(4−tert−ブチルフェニル)トルエン(20.0g、56.1mmol)の四塩化炭素(120mL)溶液を加え、80℃で4時間還流した。得られた反応液を室温に戻し、濾過し、溶媒を留去し、濾物をメタノールで洗浄し、2,5−ビス(4−tert−ブチルフェニル)ベンジルブロミドを得た(20.6g、収率84.4%)。   After making the inside of the reaction vessel a nitrogen gas atmosphere, a mixture of N-bromosuccinimide (10.8 g, 60.6 mmol) and 2,2′-azobis (isobutyronitrile) (1.99 g, 12.1 mmol) was added. A solution of 2,5-bis (4-tert-butylphenyl) toluene (20.0 g, 56.1 mmol) obtained in (1) above in carbon tetrachloride (120 mL) was added and refluxed at 80 ° C. for 4 hours. . The obtained reaction liquid was returned to room temperature, filtered, the solvent was distilled off, and the residue was washed with methanol to obtain 2,5-bis (4-tert-butylphenyl) benzyl bromide (20.6 g, Yield 84.4%).

(3)[2,5−ビス(4−tert−ブチルフェニル)ベンジル]トリフェニルホスホニウムブロミドの合成

Figure 2013064101
(3) Synthesis of [2,5-bis (4-tert-butylphenyl) benzyl] triphenylphosphonium bromide
Figure 2013064101

反応容器内を窒素ガス雰囲気とした後、上記(2)で得られた2,5−ビス(4−tert−ブチルフェニル)ベンジルブロミド(2.50g、5.75mmol)とトリフェニルホスフィン(1.82g、6.94mmol)との混合物に、ベンゼン(16mL)を加えて、70℃で12時間撹拌した。得られた反応液を室温に戻し、濾過し、溶媒を留去し、濾物をヘキサンで洗浄し、[2,5−ビス(4−tert−ブチルフェニル)ベンジル]トリフェニルホスホニウムブロミドを得た(3.13g、収率78.1%)。   After making the inside of the reaction vessel a nitrogen gas atmosphere, 2,5-bis (4-tert-butylphenyl) benzyl bromide (2.50 g, 5.75 mmol) obtained in the above (2) and triphenylphosphine (1. Benzene (16 mL) was added to a mixture with 82 g, 6.94 mmol) and stirred at 70 ° C. for 12 hours. The obtained reaction liquid was returned to room temperature, filtered, the solvent was distilled off, and the residue was washed with hexane to obtain [2,5-bis (4-tert-butylphenyl) benzyl] triphenylphosphonium bromide. (3.13 g, yield 78.1%).

(4)[2,5−ビス(4−tert−ブチルフェニル)スチレンの合成

Figure 2013064101
(4) Synthesis of [2,5-bis (4-tert-butylphenyl) styrene
Figure 2013064101

反応容器内を窒素ガス雰囲気とした後、上記(3)で得られた[2,5−ビス(4−tert−ブチルフェニル)ベンジル]トリフェニルホスホニウムブロミド(3.13g、4.49mmol)と水(6mL)とを混合し、30重量%ホルマリン溶液(20mL)を加えて撹拌した。次いで、そこに、水酸化ナトリウム(1.44g、35.9mmol)の水(6mL)溶液を20分間かけて滴下し、室温で3時間撹拌した。得られた反応液をジクロロメタンで抽出し、得られた有機層を、溶媒留去後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:ジクロロメタン)により精製し、[2,5−ビス(4−tert−ブチルフェニル)スチレン(1.56g、収率94.4%)を得た。   After making the inside of the reaction vessel a nitrogen gas atmosphere, [2,5-bis (4-tert-butylphenyl) benzyl] triphenylphosphonium bromide (3.13 g, 4.49 mmol) obtained in (3) above and water (6 mL) was mixed, and 30 wt% formalin solution (20 mL) was added and stirred. Next, a solution of sodium hydroxide (1.44 g, 35.9 mmol) in water (6 mL) was added dropwise thereto over 20 minutes, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. The obtained reaction solution was extracted with dichloromethane, and the obtained organic layer was purified by silica gel column chromatography (developing solvent: dichloromethane) after evaporating the solvent, and [2,5-bis (4-tert-butylphenyl). ) Styrene (1.56 g, yield 94.4%) was obtained.

(5)ポリ[2,5−ビス(4−tert−ブチルフェニル)スチレン]の合成

Figure 2013064101
(5) Synthesis of poly [2,5-bis (4-tert-butylphenyl) styrene]
Figure 2013064101

反応容器内を窒素ガス雰囲気とした後、上記(4)で得られた[2,5−ビス(4−tert−ブチルフェニル)スチレン(500mg、1.36mmol)と、2,2’−アゾビス(イソブチロニトリル)(3.6mg、0.022mmol)のクロロホルム(1.5mL)溶液とを混合し、70℃で36時間撹拌した。得られた反応液を室温に戻し、溶媒を留去した後、クロロホルム(20mL)に溶かした。得られた溶液をメタノール(500mL)に滴下して再沈殿し、デカンテーションで溶媒を除いた。再沈殿を5回行い、目的とするポリ[2,5−ビス(4−tert−ブチルフェニル)スチレン](前記式119で表される繰り返し単位を有する高分子化合物;以下、「高分子化合物1」と言う。)を得た(25.7mg、収率5.14%)。   After making the inside of the reaction vessel a nitrogen gas atmosphere, [2,5-bis (4-tert-butylphenyl) styrene (500 mg, 1.36 mmol) obtained in the above (4) and 2,2′-azobis ( A solution of isobutyronitrile) (3.6 mg, 0.022 mmol) in chloroform (1.5 mL) was mixed and stirred at 70 ° C. for 36 hours. The obtained reaction liquid was returned to room temperature, the solvent was distilled off, and then dissolved in chloroform (20 mL). The obtained solution was added dropwise to methanol (500 mL) for reprecipitation, and the solvent was removed by decantation. Reprecipitation was performed 5 times, and the desired poly [2,5-bis (4-tert-butylphenyl) styrene] (polymer compound having a repeating unit represented by the formula 119; hereinafter, “polymer compound 1 Was obtained (25.7 mg, yield 5.14%).

高分子化合物1のポリスチレン換算の数平均分子量(Mn)及び重量平均分子量(Mw)を、サイズエクスクルージョンクロマトグラフィー(SEC)により測定した。SECのうち移動相が有機溶媒である場合を「GPC」と言う。   The number average molecular weight (Mn) and weight average molecular weight (Mw) in terms of polystyrene of the polymer compound 1 were measured by size exclusion chromatography (SEC). A case where the mobile phase is an organic solvent in SEC is referred to as “GPC”.

測定試料(高分子化合物1)を約0.1重量%の濃度でテトラヒドロフランに溶解させ、GPC(Hitachi L7100)に10μL注入した。GPCの移動相はTHFを用い、1.0mL/分の流量で流した。カラムは、TOSOH TSK gel G3000HHR及びTOSOH TSK gel G6000HHRを用いた。検出器にはUV−VIS検出器(Hitachi L−7420 UV)及びRI検出器(Hitachi L−7490 RI)を用いた。   A measurement sample (polymer compound 1) was dissolved in tetrahydrofuran at a concentration of about 0.1% by weight, and 10 μL was injected into GPC (Hitachi L7100). The mobile phase of GPC was flowed at a flow rate of 1.0 mL / min using THF. The column used was TOSOH TSK gel G3000HHR and TOSOH TSK gel G6000HHR. A UV-VIS detector (Hitachi L-7420 UV) and an RI detector (Hitachi L-7490 RI) were used as detectors.

その結果、高分子化合物1は、Mn=6.73×10、Mw=1.47×10であった。 As a result, the polymer compound 1 had Mn = 6.73 × 10 4 and Mw = 1.47 × 10 6 .

<合成例2>(前記式118で表される繰り返し単位を有する高分子化合物の合成)
(1)N−4−ビフェニルアニリンの合成

Figure 2013064101
<Synthesis Example 2> (Synthesis of polymer compound having a repeating unit represented by Formula 118)
(1) Synthesis of N-4-biphenylaniline
Figure 2013064101

反応容器内を窒素ガス雰囲気とした後、4−ブロモビフェニル(10.0g、42.9mmol)と、ナトリウムtert−ブトキシド(5.15g、53.6mmol)との混合物を、THF(340mL)に溶解させた後、[1,1−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン]ジクロロパラジウム(II)(630mg、0.860mmol)、1,1’-ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン(0.450g、0.810mmol)、アニリン(3.90mL、42.9mmol)を加え、100℃で40時間撹拌した。得られた反応液に0.1M塩酸(100mL)を加え、次いでクロロホルムを加えて抽出し、得られた有機層を飽和食塩水で洗浄した。得られた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させた後、濾過、濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:クロロホルム)による精製を行い、N−4−ビフェニルアニリン(10.1g、収率96.0%)を得た。   After making the inside of the reaction vessel a nitrogen gas atmosphere, a mixture of 4-bromobiphenyl (10.0 g, 42.9 mmol) and sodium tert-butoxide (5.15 g, 53.6 mmol) was dissolved in THF (340 mL). [1,1-bis (diphenylphosphino) ferrocene] dichloropalladium (II) (630 mg, 0.860 mmol), 1,1′-bis (diphenylphosphino) ferrocene (0.450 g, 0.810 mmol). ), Aniline (3.90 mL, 42.9 mmol) was added and stirred at 100 ° C. for 40 hours. 0.1 M hydrochloric acid (100 mL) was added to the resulting reaction solution, followed by extraction with chloroform, and the resulting organic layer was washed with saturated brine. The obtained organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate, filtered, concentrated, and purified by silica gel column chromatography (developing solvent: chloroform) to give N-4-biphenylaniline (10.1 g, yield 96. 0%) was obtained.

(2)N−4−ビフェニルN−フェニルアクリルアミドの合成

Figure 2013064101
(2) Synthesis of N-4-biphenyl N-phenylacrylamide
Figure 2013064101

反応容器内を窒素ガス雰囲気とした後、上記(2)で得られたN−4−ビフェニルアニリン(3.00g、12.2mmol)のベンゼン(180mL)溶液に、N,N−ジメチルアニリン(2.16mL)、塩化アクリロイル(1.20mL、14.7mmol)を加え、23℃で20時間撹拌した。得られた反応液に蒸留水、0.1M塩酸(100mL)を加え、次いでトルエンを加えて抽出し、得られた有機層を飽和食塩水で洗浄した。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた後、濾過、濃縮し、塩化メチレン―ジエチルエーテル溶液で再結晶を行い、濾過した。得られた濾物をヘキサンで洗浄し、N−4−ビフェニルN−フェニルアクリルアミド(2.06g、収率56.4%)を得た。   After making the inside of the reaction vessel a nitrogen gas atmosphere, N, N-dimethylaniline (2) was added to a solution of N-4-biphenylaniline (3.00 g, 12.2 mmol) obtained in (2) above in benzene (180 mL). .16 mL) and acryloyl chloride (1.20 mL, 14.7 mmol) were added, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 20 hours. Distilled water and 0.1 M hydrochloric acid (100 mL) were added to the obtained reaction solution, and then toluene was added for extraction, and the resulting organic layer was washed with saturated brine. The obtained organic layer was dried over anhydrous sodium sulfate, filtered, concentrated, recrystallized with a methylene chloride-diethyl ether solution and filtered. The obtained filtrate was washed with hexane to obtain N-4-biphenyl N-phenylacrylamide (2.06 g, yield 56.4%).

(3)ポリ(N−4−ビフェニルN−フェニルアクリルアミド)の合成

Figure 2013064101
(3) Synthesis of poly (N-4-biphenyl N-phenylacrylamide)
Figure 2013064101

tert−ブチルリチウムのn−ペンタン溶液(1.77M、1.0mL)に、トルエン(19mL)を加え、8.9×10−2Mの溶液を調製した。この調製溶液(470μL)を、反応容器内において、−78℃にて、上記(2)で得られたN−4−ビフェニルN−フェニルアクリルアミド(250mg、0.835mmol)のトルエン(6.25mL)溶液に滴下し混合し、−78℃に保ったまま14時間撹拌した。得られた反応液に少量のエタノールを加え、これをエタノール(150mL)中に滴下して再沈殿を行い、遠心分離により沈殿物を分取し、目的とするポリ(N−4−ビフェニルN−フェニルアクリルアミド)(前記式118で表される繰り返し単位を有する高分子化合物;以下、「高分子化合物2」と言う。)を収率76%で得た。 Toluene (19 mL) was added to a solution of tert-butyllithium in n-pentane (1.77 M, 1.0 mL) to prepare a 8.9 × 10 −2 M solution. This prepared solution (470 μL) was placed in a reaction vessel at −78 ° C. with toluene (6.25 mL) of N-4-biphenyl N-phenylacrylamide (250 mg, 0.835 mmol) obtained in (2) above. The solution was added dropwise to the solution, mixed and stirred for 14 hours while maintaining at -78 ° C. A small amount of ethanol was added to the obtained reaction solution, this was dropped into ethanol (150 mL), reprecipitation was performed, and the precipitate was collected by centrifugation to obtain the desired poly (N-4-biphenyl N- Phenylacrylamide) (polymer compound having a repeating unit represented by Formula 118; hereinafter referred to as “polymer compound 2”) was obtained in a yield of 76%.

高分子化合物2のGPC測定を行ったところ、Mn=1.09×10、Mw=6.7×10であった。 When the GPC measurement of the high molecular compound 2 was performed, they were Mn = 1.09 * 10 < 4 > and Mw = 6.7 * 10 < 4 >.

<合成例3>(前記式127で表される繰り返し単位を有する高分子化合物の合成)
ポリ(2,3−ジアセトキシナフタレン−1,4−ジイル)の合成

Figure 2013064101
<Synthesis Example 3> (Synthesis of polymer compound having a repeating unit represented by Formula 127)
Synthesis of poly (2,3-diacetoxynaphthalene-1,4-diyl)
Figure 2013064101

反応容器内において、空気雰囲気下、2,3−ジヒドロキシナフタレン(0.200g、1.25mmol)と塩化第一銅(6.19mg、0.0625mmol)の混合物にピリジン(9.63mg、0.125mmol)とTHF(0.4mL)を加え、60℃で48時間撹拌した。得られた反応液にジクロロメタン(2mL)、ピリジン(9.63mg、0.125mmol)、塩化アセチル(0.491g、6.25mmol)を加え、室温に戻し、12時間撹拌した。得られた反応液にメタノールを加え、沈殿を遠心分離により分取し、目的とするポリ(2,3−ジアセトキシナフタレン−1,4−ジイル)(前記式127で表される繰り返し単位を有する高分子化合物;以下、「高分子化合物3」と言う。)を収率62%で得た。   In a reaction vessel, pyridine (9.63 mg, 0.125 mmol) was added to a mixture of 2,3-dihydroxynaphthalene (0.200 g, 1.25 mmol) and cuprous chloride (6.19 mg, 0.0625 mmol) in an air atmosphere. ) And THF (0.4 mL) were added, and the mixture was stirred at 60 ° C. for 48 hours. Dichloromethane (2 mL), pyridine (9.63 mg, 0.125 mmol) and acetyl chloride (0.491 g, 6.25 mmol) were added to the obtained reaction solution, and the mixture was allowed to return to room temperature and stirred for 12 hours. Methanol is added to the resulting reaction solution, and the precipitate is collected by centrifugation, and the target poly (2,3-diacetoxynaphthalene-1,4-diyl) (having the repeating unit represented by the above formula 127). Polymer compound; hereinafter referred to as “polymer compound 3”) was obtained in a yield of 62%.

<膜の作製例1>
上記合成例1で得られた高分子化合物1の1.0×10−4M(モノマー換算)クロロホルム溶液を、キャスティング法により石英基板上に塗布し、自然乾燥させて膜を作製した(膜の厚さ40nm)。
<Membrane Production Example 1>
A 1.0 × 10 −4 M (monomer equivalent) chloroform solution of the polymer compound 1 obtained in Synthesis Example 1 was applied onto a quartz substrate by a casting method, and then naturally dried to produce a membrane (the membrane Thickness 40 nm).

<膜の作製例2>
上記合成例2で得られた高分子化合物2(5mg)をクロロホルム/トリフルオロ酢酸=10/1(v/v)の混合溶媒(2mL)に溶解させた溶液を、キャスティング法により石英基板上に塗布し、自然乾燥させて膜を作製した(膜の厚さ30nm)。
<Membrane Production Example 2>
A solution obtained by dissolving the polymer compound 2 (5 mg) obtained in Synthesis Example 2 above in a mixed solvent (2 mL) of chloroform / trifluoroacetic acid = 10/1 (v / v) was placed on a quartz substrate by a casting method. It was applied and naturally dried to produce a film (film thickness 30 nm).

<膜の作製例3>
ポリ(9,9−ジ−n−オクチルフルオレン−2,7−ジイル)(前記式111で表される繰り返し単位を有する高分子化合物;Aldrich社製、Mn=5.7×10、Mw=2.11×10)3.0mgをTHF(1mL)に溶解させた溶液を、キャスティング法により石英基板上に塗布し、自然乾燥させて膜を作製した(膜の厚さ25nm)。
<Membrane Production Example 3>
Poly (9,9-di-n-octylfluorene-2,7-diyl) (polymer compound having a repeating unit represented by the formula 111; Aldrich, Mn = 5.7 × 10 4 , Mw = A solution in which 3.0 mg of 2.11 × 10 5 ) was dissolved in THF (1 mL) was applied onto a quartz substrate by a casting method and dried naturally to form a film (film thickness 25 nm).

<膜の作製例4>
上記合成例3で得られた高分子化合物3(5mg)をTHF(1mL)に溶解させた溶液を、石英基板上に塗布し、自然乾燥させて膜を作製した(膜の厚さ350nm)。
<Membrane Production Example 4>
A solution in which the polymer compound 3 (5 mg) obtained in Synthesis Example 3 was dissolved in THF (1 mL) was applied onto a quartz substrate and allowed to dry naturally to produce a film (film thickness 350 nm).

<膜の作製例5>
ポリ(2,5−ジ−n−オクチルオキシ−1,4−フェニレン)(前記式100で表される繰り返し単位を有する高分子化合物;American Dye Source社製、Mn=1.9×10、Mw=3.99×10)3.0mgをTHF(1mL)に溶解させた溶液を、キャスティング法により石英基板上に塗布し、自然乾燥させて膜を作製した。
<Membrane Production Example 5>
Poly (2,5-di-n-octyloxy-1,4-phenylene) (polymer compound having a repeating unit represented by the formula 100; manufactured by American Dye Source, Mn = 1.9 × 10 4 , A solution in which 3.0 mg of Mw = 3.99 × 10 4 ) was dissolved in THF (1 mL) was applied onto a quartz substrate by a casting method, and air-dried to prepare a film.

<膜の作製例6>
上述のポリ(2,5−ジ−n−オクチルオキシ−1,4−フェニレン)3.0mgをクロロホルム1mLに溶解させた溶液を、キャスティング法により石英基板上に塗布し、自然乾燥させて膜を作製した。
<Membrane Production Example 6>
A solution in which 3.0 mg of the above poly (2,5-di-n-octyloxy-1,4-phenylene) is dissolved in 1 mL of chloroform is applied onto a quartz substrate by a casting method, and is naturally dried to form a film. Produced.

<膜の作製例7>
上述のポリ(2,5−ジ−n−オクチルオキシ−1,4−フェニレン)3.0mgをトルエン1mLに溶解させた溶液を、キャスティング法により石英基板上に塗布し、自然乾燥させて膜を作製した。
<Membrane Production Example 7>
A solution in which 3.0 mg of the above poly (2,5-di-n-octyloxy-1,4-phenylene) is dissolved in 1 mL of toluene is applied onto a quartz substrate by a casting method, and is naturally dried to form a film. Produced.

−円偏光の照射−
円偏光の光源としては、後述する実施例1及び2では、New Wave Research社製、型番Tempest 20Hz、YAGレーザー(波長266nm、出力8mW/cm)を用い、1/4λ素子を含む円偏光フィルムを通して検体に照射した。後述する実施例3〜10では、ウシオ社製、Modulex Deep UV SX−UID500MAMQQの光源を用い、グランテーラー偏光プリズムとフレネルロム波長板を通して検体に照射した。いずれの検体も、検体表面に対し垂直方向にて円偏光を照射した。
-Irradiation of circularly polarized light-
As a circularly polarized light source, in Examples 1 and 2 to be described later, a New Wave Research, Model No. Tempest 20 Hz, YAG laser (wavelength 266 nm, output 8 mW / cm 2 ) is used, and a circularly polarizing film including a 1 / 4λ element. The specimen was irradiated through. In Examples 3 to 10 described later, a specimen was irradiated through a Gran tailor polarizing prism and a Fresnel ROM wave plate using a light source of Modulex Deep UV SX-UID500MAMQQ manufactured by USHIO. All specimens were irradiated with circularly polarized light in a direction perpendicular to the specimen surface.

−円二色性比の測定−
円二色性比の測定は、日本分光社製、JASCO J−820を用いて行った。
-Measurement of circular dichroism ratio-
The circular dichroism ratio was measured using JASCO J-820 manufactured by JASCO Corporation.

<実施例1>
膜の作製例1で得た膜に対し、右円偏光を120分間照射した(膜検体1−1)。別途、膜の作製例1で得た膜に対し、左円偏光を120分間照射した(膜検体1−2)。
膜検体1−1の円二色性比を測定したところ、268nmの波長において5.0mdegの負のシグナルを示した。
膜検体1−2の円二色性比を測定したところ、268nmの波長において5.0mdegの正のシグナルを示した。
膜の作製例1で得た膜における、268nmでの吸光度はおよそ0.5であった。また、268nmにおける合成例1で得られた高分子化合物1のTHF中におけるユニット当たりのモル吸光係数は4.2×10L・cm−1・mol−1であった。
<Example 1>
The film obtained in Film Production Example 1 was irradiated with right circularly polarized light for 120 minutes (film specimen 1-1). Separately, the film obtained in Film Production Example 1 was irradiated with left circularly polarized light for 120 minutes (film specimen 1-2).
When the circular dichroism ratio of the membrane specimen 1-1 was measured, it showed a negative signal of 5.0 mdeg at a wavelength of 268 nm.
When the circular dichroism ratio of the membrane specimen 1-2 was measured, it showed a positive signal of 5.0 mdeg at a wavelength of 268 nm.
The absorbance at 268 nm in the film obtained in Production Example 1 of the film was approximately 0.5. Further, the molar extinction coefficient per unit of the polymer compound 1 obtained in Synthesis Example 1 at 268 nm in THF was 4.2 × 10 4 L · cm −1 · mol −1 .

<実施例2>
膜の作製例2で得た膜に対し、右円偏光を10分間照射した(膜検体2−1)。別途、膜の作製例2で得た膜に対し、左円偏光を10分間照射した(膜検体2−2)。
280nmの波長において円二色性比を測定したところ、膜検体2−1は負の円二色性シグナルを示し、膜検体2−2は正の円二色性シグナルを示し、それぞれのシグナル強度の差は1.9mdegであった。
更に、310nmの波長において円二色性比を測定したところ、膜検体2−1は正の円二色性シグナルを示し、膜検体2−2は負の円二色性シグナルを示し、それぞれのシグナル強度の差は1.7mdegであった。
膜の作製例2で得た膜における、280nm、310nmでの吸光度はそれぞれおよそ0.3、0.2であった。また、合成例2で得られた高分子化合物2のTHF中におけるユニット当たりのモル吸光係数は、280nm、310nmでそれぞれおよそ1.9×10L・cm−1・mol−1、1.2×10L・cm−1・mol−1であった。
<Example 2>
The film obtained in Film Production Example 2 was irradiated with right circularly polarized light for 10 minutes (film specimen 2-1). Separately, the film obtained in Film Production Example 2 was irradiated with left circularly polarized light for 10 minutes (film specimen 2-2).
When the circular dichroism ratio was measured at a wavelength of 280 nm, the membrane specimen 2-1 showed a negative circular dichroism signal, the membrane specimen 2-2 showed a positive circular dichroism signal, and each signal intensity The difference was 1.9 mdeg.
Further, when the circular dichroism ratio was measured at a wavelength of 310 nm, the membrane specimen 2-1 showed a positive circular dichroism signal, the membrane specimen 2-2 showed a negative circular dichroism signal, The difference in signal intensity was 1.7 mdeg.
The absorbance at 280 nm and 310 nm in the film obtained in Production Example 2 of the film was approximately 0.3 and 0.2, respectively. Moreover, the molar extinction coefficients per unit of the polymer compound 2 obtained in Synthesis Example 2 in THF were approximately 1.9 × 10 4 L · cm −1 · mol −1 and 1.2 at 280 nm and 310 nm, respectively. It was × 10 4 L · cm -1 · mol -1.

<実施例3>
膜の作製例3で得た膜に対し、右円偏光を1.5時間照射した(膜検体3−1)。別途、膜の作製例3で得た膜に対し、左円偏光を1.5時間照射した(膜検体3−2)。
390nmの波長において円二色性比を測定したところ、膜検体3−1は負の円二色性シグナルを示し、膜検体3−2は、正の円二色性シグナルを示し、それぞれのシグナル強度の差は20mdegであった。
膜の作製例3で得た膜における、390nmでの吸光度は0.35であった。また、390nmにおけるポリ(9,9−ジ−n−オクチルフルオレン−2,7−ジイル)のTHF中におけるユニット当たりのモル吸光係数は4.0×10L・cm−1・mol−1であった。
<Example 3>
The film obtained in Film Production Example 3 was irradiated with right circularly polarized light for 1.5 hours (film specimen 3-1). Separately, the film obtained in Film Production Example 3 was irradiated with left circularly polarized light for 1.5 hours (film specimen 3-2).
When the circular dichroism ratio was measured at a wavelength of 390 nm, the membrane specimen 3-1 showed a negative circular dichroism signal, and the membrane specimen 3-2 showed a positive circular dichroism signal. The difference in strength was 20 mdeg.
The absorbance at 390 nm in the film obtained in Production Example 3 of the film was 0.35. The molar extinction coefficient per unit of poly (9,9-di-n-octylfluorene-2,7-diyl) at 390 nm in THF is 4.0 × 10 4 L · cm −1 · mol −1 . there were.

<実施例4>
膜の作製例3で得た膜に対し、左円偏光を6分間照射した(膜検体4−1)。膜検体4−1は400nm付近に強い正の円二色性シグナルを示した。
次いで、膜検体4−1に右円偏光を9.5分間照射した(膜検体4−2)。膜検体4−2に関しては、円二色性シグナルはほとんど消失した。
更に膜検体4−2に右円偏光を25分間照射した(膜検体4−3)。膜検体4−3に関しては、膜検体4−1の円二色性スペクトルとほぼ対称な形の負の吸収が観測された。
<Example 4>
The film obtained in Film Production Example 3 was irradiated with left circularly polarized light for 6 minutes (film specimen 4-1). Membrane specimen 4-1 showed a strong positive circular dichroism signal around 400 nm.
Next, the film specimen 4-1 was irradiated with right circularly polarized light for 9.5 minutes (film specimen 4-2). Regarding membrane specimen 4-2, the circular dichroic signal almost disappeared.
Further, the film specimen 4-2 was irradiated with right circularly polarized light for 25 minutes (film specimen 4-3). With respect to the membrane specimen 4-3, negative absorption having a shape almost symmetrical to the circular dichroism spectrum of the membrane specimen 4-1 was observed.

<実施例5>
前記式111で表される繰り返し単位を有する高分子化合物であるポリ(9,9−ジ−n−オクチルフルオレン−2,7−ジイル)1.00mgをメチルシクロヘキサン(8mL)に懸濁させ、右円偏光を10分間照射したところ、右円偏光の照射前と比較して円二色性スペクトルに変化が観測された。
<Example 5>
1.00 mg of poly (9,9-di-n-octylfluorene-2,7-diyl), which is a polymer compound having a repeating unit represented by the formula 111, is suspended in methylcyclohexane (8 mL), and the right When the circularly polarized light was irradiated for 10 minutes, a change was observed in the circular dichroism spectrum as compared to before irradiation with the right circularly polarized light.

<実施例6>
膜の作製例4で得た膜に対し、左円偏光を45分間照射した(膜検体6−1)。左円偏光の照射前後で290nmの波長において円二色性比を測定したところ、照射前は正の円二色性シグナルの強度が0.5mdegであったところ、照射後の膜検体6−1は正の円二色性シグナルの強度が2.5mdegまで向上した。
膜の作製例4で得た膜における、290nmでの吸光度はおよそ0.9であった。また、合成例3で得られた高分子化合物3のTHF中におけるユニット当たりのモル吸光係数は、290nmでおよそ4.0×10L・cm−1・mol−1であった。
<Example 6>
The film obtained in Film Production Example 4 was irradiated with left circularly polarized light for 45 minutes (film specimen 6-1). When the circular dichroism ratio was measured at a wavelength of 290 nm before and after irradiation with left circularly polarized light, the intensity of the positive circular dichroic signal before irradiation was 0.5 mdeg. Increased the intensity of the positive circular dichroism signal to 2.5 mdeg.
The absorbance at 290 nm of the film obtained in Film Production Example 4 was approximately 0.9. In addition, the molar extinction coefficient per unit of the polymer compound 3 obtained in Synthesis Example 3 in THF was approximately 4.0 × 10 3 L · cm −1 · mol −1 at 290 nm.

<実施例7>
膜の作製例5で得た膜に対し、右円偏光を1.5時間照射した(膜検体7−1)。別途、膜の作製例5で得た膜に対し、左円偏光を1.5時間照射した(膜検体7−2)。
360nmの波長において円二色性比を測定したところ、膜検体7−1は0.7mdegの負のシグナルを示し、膜検体7−2は0.6mdegの正のシグナルを示した。
膜の作製例5で得た膜における、360nmでの吸光度は0.35であった。また、360nmにおけるポリ(2,5−ジ−n−オクチルオキシ−1,4−フェニレン)のクロロホルム中におけるユニット当たりのモル吸光係数は3.0×10L・cm−1・mol−1であった。
<Example 7>
The film obtained in Film Production Example 5 was irradiated with right circularly polarized light for 1.5 hours (film specimen 7-1). Separately, the film obtained in Film Production Example 5 was irradiated with left circularly polarized light for 1.5 hours (film specimen 7-2).
When the circular dichroism ratio was measured at a wavelength of 360 nm, the membrane sample 7-1 showed a negative signal of 0.7 mdeg and the membrane sample 7-2 showed a positive signal of 0.6 mdeg.
The absorbance at 360 nm in the film obtained in Membrane Preparation Example 5 was 0.35. In addition, the molar extinction coefficient per unit of poly (2,5-di-n-octyloxy-1,4-phenylene) at 360 nm in chloroform is 3.0 × 10 3 L · cm −1 · mol −1 . there were.

<実施例8>
膜の作製例6で得た膜に対し、右円偏光を100分間照射した(膜検体8−1)。別途、膜の作製例6で得た膜に対し、左円偏光を100分間照射した(膜検体8−2)。
360nmの波長において円二色性比を測定したところ、膜検体8−1は1.0mdegの負のシグナルを示し、膜検体8−2は1.0mdegの正のシグナルを示した。
膜の作製例6で得た膜における、360nmでの吸光度は0.65であった。
<Example 8>
The film obtained in Film Production Example 6 was irradiated with right circularly polarized light for 100 minutes (film specimen 8-1). Separately, the film obtained in Film Production Example 6 was irradiated with left circularly polarized light for 100 minutes (film specimen 8-2).
When the circular dichroism ratio was measured at a wavelength of 360 nm, the membrane specimen 8-1 showed a negative signal of 1.0 mdeg and the membrane specimen 8-2 showed a positive signal of 1.0 mdeg.
The absorbance at 360 nm in the film obtained in Production Example 6 of the film was 0.65.

<実施例9>
膜の作製例7で得た膜に対し、右円偏光を100分間照射した(膜検体9−1)。別途、膜の作製例7で得た膜に対し、左円偏光を210分間照射した(膜検体9−2)。
360nmの波長において円二色性比を測定したところ、膜検体9−1は1.8mdegの負のシグナルを示し、膜検体9−2は2.3mdegの正のシグナルを示した。
膜の作製例6で得た膜における、360nmでの吸光度は0.55であった。
<Example 9>
The film obtained in Film Production Example 7 was irradiated with right circularly polarized light for 100 minutes (film specimen 9-1). Separately, the film obtained in Film Production Example 7 was irradiated with left circularly polarized light for 210 minutes (film specimen 9-2).
When the circular dichroism ratio was measured at a wavelength of 360 nm, the membrane specimen 9-1 showed a negative signal of 1.8 mdeg and the membrane specimen 9-2 showed a positive signal of 2.3 mdeg.
The absorbance at 360 nm in the film obtained in Production Example 6 of the film was 0.55.

<実施例10>
膜の作製例7で得た膜に対し、左円偏光を10分間照射した(膜検体10−1)。膜検体10−1は360nmの波長において0.85mdegの正のシグナルを示した。
次いで、膜検体10−1に右円偏光を30分間照射した(膜検体10−2)。膜検体10−2に関しては、360nmにおける円二色性シグナルはほとんど消失した。
更に膜検体10−2に右円偏光を40分間照射した(膜検体10−3)。膜検体10−3は360nmの波長において0.85mdegの負のシグナルを示した。
<Example 10>
The film obtained in Film Production Example 7 was irradiated with left circularly polarized light for 10 minutes (film specimen 10-1). The membrane specimen 10-1 showed a positive signal of 0.85 mdeg at a wavelength of 360 nm.
Next, the film specimen 10-1 was irradiated with right circularly polarized light for 30 minutes (film specimen 10-2). Regarding the membrane specimen 10-2, the circular dichroic signal at 360 nm almost disappeared.
Further, the film specimen 10-2 was irradiated with right circularly polarized light for 40 minutes (film specimen 10-3). The membrane specimen 10-3 showed a negative signal of 0.85 mdeg at a wavelength of 360 nm.

以上の結果から分かるように、本発明の変性方法によれば、アゾベンゼン等の光感受性部位を導入しなくとも、円偏光を照射することで光学活性な高分子化合物が得られる。   As can be seen from the above results, according to the modification method of the present invention, an optically active polymer compound can be obtained by irradiating circularly polarized light without introducing a photosensitive site such as azobenzene.

Claims (7)

下記式(1)で表される繰り返し単位を有する高分子化合物に、円偏光を照射する、高分子化合物の変性方法。
Figure 2013064101
(式(1)中、
は置換基を有していてもよい2価の芳香族基又は下記式(2)で表される2価の基である。
は−O−で表される基、−S−で表される基、−C(=O)−で表される基、−C(=O)O−で表される基、−C(=O)N(R10)−で表される基、−OC(=O)O−で表される基、−OC(=O)N(R11)−で表される基、−N(R12)C(=O)N(R13)−で表される基、−C(R14−で表される基、−Si(R15−で表される基、−C(R16)=C(R16)−で表される基、又は、2価のアミン残基である。R10、R11、R12、R13、R14、R15及びR16はそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよいヒドロカルビル基であり、R10、R11、R12、R13、R14、R15及びR16が複数個存在する場合、それぞれ同じでも異なっていてもよい。
は1以上の整数であり、mは0以上の整数である。m及び/又はmが2以上であるとき、m個存在するR及び/又はm個存在するXは、それぞれ同じでも異なっていてもよい。)
Figure 2013064101
(式(2)中、
、R及びRは、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよいヒドロカルビル基である。
は−O−で表される基、−S−で表される基、−C(=O)O−で表される基、−C(=O)N(R)−で表される基、及び、置換基を有していてもよいヒドロカルビレン基からなる群から選ばれる1個又は2個を組み合わせた2価の基、又は、直接結合である。Rは水素原子又は置換基を有していてもよいヒドロカルビル基である。
Arは置換基を有していてもよい1価の芳香族炭化水素基であり、該1価の芳香族炭化水素基はsp炭素原子を7個以上含む。)
A method for modifying a polymer compound, comprising irradiating a polymer compound having a repeating unit represented by the following formula (1) with circularly polarized light.
Figure 2013064101
(In the formula (1),
R 1 is a divalent aromatic group which may have a substituent or a divalent group represented by the following formula (2).
X 1 is a group represented by —O—, a group represented by —S—, a group represented by —C (═O) —, a group represented by —C (═O) O—, —C A group represented by (═O) N (R 10 ) —, a group represented by —OC (═O) O—, a group represented by —OC (═O) N (R 11 ) —, —N A group represented by (R 12 ) C (═O) N (R 13 ) —, a group represented by —C (R 14 ) 2 —, a group represented by —Si (R 15 ) 2 —, C (R 16) = C ( R 16) - , a group represented by or a divalent amine residue. R 10 , R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 and R 16 are each independently a hydrocarbyl group optionally having a hydrogen atom or a substituent, and R 10 , R 11 , R 12. , R 13 , R 14 , R 15 and R 16 may be the same or different.
m 1 is an integer of 1 or more, and m 2 is an integer of 0 or more. When m 1 and / or m 2 is 2 or more, R 1 and / or X 1 present two m existing one m may be the same or different. )
Figure 2013064101
(In the formula (2),
R 5 , R 6 and R 7 are each independently a hydrogen atom or a hydrocarbyl group optionally having a substituent.
R 8 is a group represented by —O—, a group represented by —S—, a group represented by —C (═O) O—, and a group represented by —C (═O) N (R 9 ) —. And a divalent group obtained by combining one or two selected from the group consisting of an optionally substituted hydrocarbylene group, or a direct bond. R 9 is a hydrogen atom or a hydrocarbyl group optionally having a substituent.
Ar 2 is a monovalent aromatic hydrocarbon group which may have a substituent, and the monovalent aromatic hydrocarbon group contains 7 or more sp 2 carbon atoms. )
前記式(1)において、mが1であり、mが0である、請求項1に記載の変性方法。 In the formula (1), a m 1 is 1, m 2 is 0, modified method of claim 1. 前記式(1)において、Rが置換基を有していてもよい2価の芳香族基であるとき、該置換基を有していてもよい2価の芳香族基が、置換基を有していてもよい単環式芳香環、置換基を有していてもよい縮合多環式芳香環若しくは置換基を有していてもよい有橋多環式芳香環から環を構成する原子に直接結合する水素原子が2個除かれている2価の基であるか、又は、Rが式(2)で表される2価の基であるとき、Arが置換基を有していてもよい芳香環集合から環を構成する原子に直接結合する水素原子が1個除かれている1価の基である、請求項1又は2に記載の変性方法。 In the formula (1), when R 1 is a divalent aromatic group which may have a substituent, the divalent aromatic group which may have the substituent has a substituent. Atoms constituting a ring from a monocyclic aromatic ring optionally having, a condensed polycyclic aromatic ring optionally having a substituent, or a bridged polycyclic aromatic ring optionally having a substituent Is a divalent group in which two hydrogen atoms directly bonded to R 2 are removed, or when R 1 is a divalent group represented by the formula (2), Ar 2 has a substituent. The modification method according to claim 1 or 2, which is a monovalent group in which one hydrogen atom directly bonded to an atom constituting the ring is removed from an optionally assembled aromatic ring group. 前記式(1)において、Rが式(2)で表される2価の基であるとき、R、R及びRが水素原子であり、Rが−O−で表される基、−C(=O)O−で表される基、−C(=O)N(R)−で表される基、又は、直接結合である、請求項1〜3のいずれか一項に記載の変性方法。 In Formula (1), when R 1 is a divalent group represented by Formula (2), R 5 , R 6 and R 7 are hydrogen atoms, and R 8 is represented by —O—. groups, -C (= O) O-, a group represented by, -C (= O) N ( R 9) - , a group represented by or a direct bond, one of the claims 1 to 3 one The denaturing method according to item. 前記高分子化合物が膜の形状である、請求項1〜4のいずれか一項に記載の変性方法。   The modification | denaturation method as described in any one of Claims 1-4 whose said high molecular compound is a shape of a film | membrane. 下記工程(a)及び(b)を含む、変性された高分子化合物を含む膜の製造方法。
(a)基材上に、下記式(1)で表される繰り返し単位を有する高分子化合物を含む膜を形成する工程。
(b)前記膜に円偏光を照射する工程。
Figure 2013064101
(式(1)中、
は置換基を有していてもよい2価の芳香族基又は下記式(2)で表される2価の基である。
は−O−で表される基、−S−で表される基、−C(=O)−で表される基、−C(=O)O−で表される基、−C(=O)N(R10)−で表される基、−OC(=O)O−で表される基、−OC(=O)N(R11)−で表される基、−N(R12)C(=O)N(R13)−で表される基、−C(R14−で表される基、−Si(R15−で表される基、−C(R16)=C(R16)−で表される基、又は、2価のアミン残基である。R10、R11、R12、R13、R14、R15及びR16は、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよいヒドロカルビル基であり、R10、R11、R12、R13、R14、R15及びR16が複数個存在する場合、それぞれ同じでも異なっていてもよい。
は1以上の整数であり、mは0以上の整数である。m及び/又はmが2以上であるとき、m個存在するR及び/又はm個存在するXは、それぞれ同じでも異なっていてもよい。)
Figure 2013064101
(式(2)中、
、R及びRは、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよいヒドロカルビル基である。
は−O−で表される基、−S−で表される基、−C(=O)O−で表される基、−C(=O)N(R)−で表される基、及び置換基を有していてもよいヒドロカルビレン基からなる群から選ばれる1個又は2個を組み合わせた2価の基、又は直接結合である。Rは水素原子又は置換基を有していてもよいヒドロカルビル基である。
Arは置換基を有していてもよい1価の芳香族炭化水素基であり、該1価の芳香族炭化水素基はsp炭素原子を7個以上含む。)
The manufacturing method of the film | membrane containing the modified | denatured high molecular compound including the following process (a) and (b).
(A) The process of forming the film | membrane containing the high molecular compound which has a repeating unit represented by following formula (1) on a base material.
(B) A step of irradiating the film with circularly polarized light.
Figure 2013064101
(In the formula (1),
R 1 is a divalent aromatic group which may have a substituent or a divalent group represented by the following formula (2).
X 1 is a group represented by —O—, a group represented by —S—, a group represented by —C (═O) —, a group represented by —C (═O) O—, —C A group represented by (═O) N (R 10 ) —, a group represented by —OC (═O) O—, a group represented by —OC (═O) N (R 11 ) —, —N A group represented by (R 12 ) C (═O) N (R 13 ) —, a group represented by —C (R 14 ) 2 —, a group represented by —Si (R 15 ) 2 —, C (R 16) = C ( R 16) - , a group represented by or a divalent amine residue. R 10 , R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 and R 16 are each independently a hydrocarbyl group optionally having a hydrogen atom or a substituent, and R 10 , R 11 , R 16 When a plurality of 12 , R 13 , R 14 , R 15 and R 16 are present, they may be the same or different.
m 1 is an integer of 1 or more, and m 2 is an integer of 0 or more. When m 1 and / or m 2 is 2 or more, R 1 and / or X 1 present two m existing one m may be the same or different. )
Figure 2013064101
(In the formula (2),
R 5 , R 6 and R 7 are each independently a hydrogen atom or a hydrocarbyl group optionally having a substituent.
R 8 is a group represented by —O—, a group represented by —S—, a group represented by —C (═O) O—, and a group represented by —C (═O) N (R 9 ) —. And a divalent group obtained by combining one or two selected from the group consisting of an optionally substituted hydrocarbylene group, or a direct bond. R 9 is a hydrogen atom or a hydrocarbyl group optionally having a substituent.
Ar 2 is a monovalent aromatic hydrocarbon group which may have a substituent, and the monovalent aromatic hydrocarbon group contains 7 or more sp 2 carbon atoms. )
前記工程(a)において、前記高分子化合物を含む懸濁液又は溶液を基材に塗布する、請求項6に記載の製造方法。   The manufacturing method according to claim 6, wherein in the step (a), a suspension or a solution containing the polymer compound is applied to a substrate.
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