JP2013058529A - Pickup method for semiconductor chip - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、半導体チップのピックアップ方法に関する。 The present invention relates to a method for picking up a semiconductor chip.
近年、半導体チップの集積度が年々向上し、それに伴ってチップサイズの大型化や、配線の微細化及び多層化等が進んでいる。一方、高密度実装化のためには、パッケージサイズの小型化及び薄型化が必要となっている。 In recent years, the degree of integration of semiconductor chips has been improved year by year, and accordingly, the chip size has been increased, the wiring has been miniaturized, and the number of layers has been increased. On the other hand, for high-density mounting, it is necessary to reduce the package size and reduce the thickness.
このような要求に対して、MCP(Multi Chip Package)と呼ばれる1つの配線基板上に複数の半導体チップを高密度実装する技術が開発されている。その中でも、TSV(Through Silicon Via)と呼ばれる貫通ビアを含む貫通電極を有する半導体チップを積層したチップ積層体を配線基板の表面に実装したCoC(Chip on Chip)型の半導体パッケージ(半導体装置)が注目されている。 In response to such a demand, a technology called high-density mounting of a plurality of semiconductor chips on one wiring board called MCP (Multi Chip Package) has been developed. Among them, there is a CoC (Chip on Chip) type semiconductor package (semiconductor device) in which a chip stacked body in which semiconductor chips having through electrodes including through vias called TSV (Through Silicon Via) are stacked is mounted on the surface of a wiring board. Attention has been paid.
上記貫通電極は、半導体チップを貫通するように設けられている。また、貫通ビアは、半導体基板(具体的には、単結晶Si基板)を貫通するように設けられており、上記貫通電極の一部となる導体である。
さらに、貫通電極の両端には、配線基板、或いは他の半導体チップと接続されるバンプ電極がそれぞれ設けられている。
The penetration electrode is provided so as to penetrate the semiconductor chip. The through via is provided so as to penetrate a semiconductor substrate (specifically, a single crystal Si substrate), and is a conductor that becomes a part of the through electrode.
Further, bump electrodes connected to a wiring board or another semiconductor chip are provided at both ends of the through electrode.
上記貫通電極を有する半導体チップは、半導体基板を貫通する貫通ビアを形成する観点から、薄板化(例えば、50μm以下)されているため、機械的強度に弱い構造とされている。 Since the semiconductor chip having the through electrode is thinned (for example, 50 μm or less) from the viewpoint of forming a through via that penetrates the semiconductor substrate, the semiconductor chip has a weak mechanical strength.
従来、半導体装置の組立において、ダイシングテープ上に粘着固定された状態のウェハは、個々の半導体チップ毎に分割される。この分割された半導体チップは、1個ずつダイシングテープから剥離させてピックアップする。ピックアップされた半導体チップは、例えば、配線基板上に実装される。 Conventionally, in assembling a semiconductor device, a wafer that is adhesively fixed on a dicing tape is divided into individual semiconductor chips. The divided semiconductor chips are picked up after being separated from the dicing tape one by one. The picked-up semiconductor chip is mounted on a wiring board, for example.
特許文献1には、吸着ステージによりダイシングテープを吸着した状態で、半導体チップの裏面を第1の突き上げ機構及び第2の突き上げ機構で突き上げて、半導体チップをダイシングテープから剥離させる半導体チップの剥離装置及び剥離方法が開示されている。 Patent Document 1 discloses a semiconductor chip peeling apparatus that pushes a back surface of a semiconductor chip with a first push-up mechanism and a second push-up mechanism in a state where the dicing tape is sucked by a suction stage, and peels the semiconductor chip from the dicing tape. And a stripping method is disclosed.
しかしながら、特許文献1では、貫通電極を有し、薄板化された半導体チップ(機械的強度の弱い半導体チップ)をダイシングテープから剥離させて、ピックアップすることは考慮されていない。 However, Patent Document 1 does not consider picking up a thinned semiconductor chip (a semiconductor chip having low mechanical strength) having a through electrode from a dicing tape.
そのため、特許文献1に記載の半導体チップの剥離方法を用いて、貫通電極を有し、かつ薄板化された半導体チップをダイシングテープから剥離させると、第1の突き上げ機構及び第2の突き上げ機構による突き上げにより、半導体チップの破損(例えば、貫通電極を起点にしたチップクラック等)や、半導体チップのピックアップミスが発生する恐れがあった。 Therefore, using the semiconductor chip peeling method described in Patent Document 1, when the semiconductor chip having a through electrode and thinned is peeled from the dicing tape, the first push-up mechanism and the second push-up mechanism are used. Due to the push-up, there is a possibility that damage to the semiconductor chip (for example, chip crack starting from the through electrode) or pick-up mistake of the semiconductor chip may occur.
また、特許文献1に記載の半導体チップの剥離方法を用いて、貫通電極を有し、かつ薄板化された半導体チップをダイシングテープから剥離させると、ダイシングテープの接着層に埋め込まれた一方のバンプ電極がアンカーとして機能して、バンプ電極が該接着層に引っかかるため、半導体チップの破損(例えば、貫通電極を起点にしたチップクラック等)や、半導体チップのピックアップミスが発生する恐れがあった。 When the semiconductor chip peeling method described in Patent Document 1 is used to peel the thinned semiconductor chip from the dicing tape, one bump embedded in the adhesive layer of the dicing tape is used. Since the electrode functions as an anchor and the bump electrode is caught by the adhesive layer, the semiconductor chip may be damaged (for example, a chip crack starting from the through electrode) or the semiconductor chip may be picked up.
本発明の一観点によれば、半導体チップが形成される複数のチップ形成領域、及び複数の前記チップ形成領域を区画するダイシング領域を有する半導体基板と、該半導体基板の第1の面のうち、複数の前記チップ形成領域に形成された回路素子層と、該回路素子層の表面に形成された第1のバンプ電極と、を有し、複数の前記半導体チップが連結された半導体チップ形成用母基板を準備する工程と、特定の処理により気化する犠牲接着層、及びテープ本体を有するダイシングテープを準備し、前記半導体チップ形成用母基板の面のうち、前記第1のバンプ電極が形成された面とは反対側に位置する面に、前記犠牲接着層を介して前記テープ本体を貼着する工程と、前記第1のバンプ電極が形成された側から、前記ダイシング領域に沿って前記半導体チップ形成用母基板及び前記犠牲接着層を切断することで、前記半導体チップ及び前記犠牲接着層を個片化する工程と、個片化された前記半導体チップのうち、ピックアップする前記半導体チップの前記第1のバンプ電極が形成された面を吸着保持し、吸着保持された前記半導体チップに形成された前記犠牲接着層を気化させる工程と、を含むことを特徴とする半導体チップのピックアップ方法が提供される。 According to one aspect of the present invention, a semiconductor substrate having a plurality of chip formation regions in which semiconductor chips are formed, a dicing region that partitions the plurality of chip formation regions, and a first surface of the semiconductor substrate, A semiconductor chip forming mother having a plurality of circuit element layers formed in a plurality of chip formation regions and a first bump electrode formed on a surface of the circuit element layer, wherein the plurality of semiconductor chips are connected to each other. A dicing tape having a step of preparing a substrate, a sacrificial adhesive layer that is vaporized by a specific process, and a tape body is prepared, and the first bump electrode is formed on the surface of the semiconductor chip forming mother substrate. A step of adhering the tape main body to the surface opposite to the surface via the sacrificial adhesive layer, and the side on which the first bump electrode is formed, along the dicing region. By cutting the mother substrate for forming a conductor chip and the sacrificial adhesive layer, the semiconductor chip and the sacrificial adhesive layer are separated into individual pieces, and the semiconductor chips to be picked up among the separated semiconductor chips are picked up. A method of picking up a semiconductor chip, comprising: sucking and holding the surface on which the first bump electrode is formed, and vaporizing the sacrificial adhesive layer formed on the sucked and held semiconductor chip. Provided.
本発明の半導体チップのピックアップ方法によれば、半導体チップ形成用母基板の面のうち、第1のバンプ電極が形成された面とは反対側に位置する面に、犠牲接着層を介してテープ本体を貼着し、次いで、第1のバンプ電極が形成された側から、ダイシング領域に沿って半導体チップ形成用母基板及び犠牲接着層を切断することで、半導体チップ及び犠牲接着層を個片化し、次いで、個片化された半導体チップのうち、ピックアップする半導体チップの第1のバンプ電極が形成された面を吸着保持し、吸着保持された半導体チップに形成された犠牲接着層を気化させることにより、ダイシングテープを介して、半導体チップを突き上げることなく、半導体チップをピックアップすることが可能となるので、半導体チップの破損や、半導体チップのピックアップミスの発生を抑制できる。 According to the method for picking up a semiconductor chip of the present invention, the surface of the mother substrate for forming the semiconductor chip is taped on the surface located on the opposite side to the surface on which the first bump electrode is formed via the sacrificial adhesive layer. The semiconductor chip and the sacrificial adhesive layer are separated by cutting the mother substrate for forming the semiconductor chip and the sacrificial adhesive layer along the dicing region from the side on which the first bump electrode is formed. Next, among the separated semiconductor chips, the surface on which the first bump electrode of the semiconductor chip to be picked up is sucked and held, and the sacrificial adhesive layer formed on the sucked and held semiconductor chip is vaporized As a result, the semiconductor chip can be picked up without pushing up the semiconductor chip through the dicing tape. The occurrence of a flop in pickup mistakes can be suppressed.
以下、図面を参照して本発明を適用した実施の形態について詳細に説明する。なお、以下の説明で用いる図面は、本発明の実施の形態の構成を説明するためのものであり、図示される各部の大きさや厚さや寸法等は、実際の半導体チップ形成用母基板及び半導体装置の寸法関係とは異なる場合がある。 Embodiments to which the present invention is applied will be described below in detail with reference to the drawings. The drawings used in the following description are for explaining the configuration of the embodiment of the present invention. The size, thickness, dimensions, and the like of each part shown are the actual semiconductor chip forming mother substrate and semiconductor. It may be different from the dimensions of the device.
(実施の形態)
図1〜図23は、本発明の実施の形態に係る半導体装置の製造工程を示す断面図であり、図1〜図11は、本実施の形態の半導体チップのピックアップ方法を説明するための断面図である。
図1〜図23を参照して、本実施の形態の半導体装置120(図23参照)の製造方法について説明する中で、本実施の形態の半導体チップのピックアップ方法について説明する。
(Embodiment)
1 to 23 are cross-sectional views showing the manufacturing process of the semiconductor device according to the embodiment of the present invention, and FIGS. 1 to 11 are cross-sectional views for explaining the semiconductor chip pickup method of the present embodiment. FIG.
With reference to FIG. 1 to FIG. 23, the semiconductor chip pickup method of the present embodiment will be described in the description of the method of manufacturing the semiconductor device 120 (see FIG. 23) of the present embodiment.
始めに、図1に示す工程では、図1には図示していない第1の半導体チップ27(後述する図4参照)が形成される複数のチップ形成領域A、及び複数のチップ形成領域Aを区画するダイシング領域Bを有する半導体基板11を準備する。半導体基板11は、平坦な面である第1の面11aと、第1の面11aの反対側に位置し、かつ平坦な面である第2の面11bと、を有する。半導体基板11としては、例えば、単結晶シリコンウェハを用いることができる。
First, in the process shown in FIG. 1, a plurality of chip formation areas A in which first semiconductor chips 27 (see FIG. 4 described later) not shown in FIG. 1 are formed, and a plurality of chip formation areas A are formed. A
次いで、半導体基板11の第1の面11aのうち、複数のチップ形成領域Aに第1の回路素子層12を形成する。第1の回路素子層12は、トランジスタ素子、積層された複数の層間絶縁層、及び該複数の層間絶縁層に形成された配線パターン(配線及びビア等)等を有した多層配線構造とされている。
Next, the first
図4に示す第1の半導体チップ27としては、メモリ用半導体チップを用いることができる。該メモリ用半導体チップとしては、例えば、DRAM(Dynamic Random Access Memory)を用いることができる。第1の半導体チップ27としてDRAMを用いる場合、第1の回路素子層12には、図示していないDRAM素子が形成される。
なお、本実施の形態では、第1の半導体チップ27としてメモリ用半導体チップを用いた場合を例に挙げて、以下の説明を行う。
As the
In the present embodiment, the following description is given by taking as an example a case where a memory semiconductor chip is used as the
次いで、第1の回路素子層12の表面12aに、第1のバンプ電極15の形成領域を露出する開口部14Aを有した保護膜14(パッシベーション膜)を形成する。
保護膜14は、第1の回路素子層12を保護するための膜であり、絶縁樹脂(例えば、ポリイミド樹脂)を用いて形成する。
Next, a protective film 14 (passivation film) having an
The
次いで、開口部14Aにより露出された第1の回路素子層12の表面12aに、メモリ用回路素子と電気的に接続される第1のバンプ電極15を形成する。このとき、第1のバンプ電極15は、保護膜14の表面から突出する高さとなるように形成する。具体的には、第1のバンプ電極15の高さは、例えば、20μmとすることができる。
Next, a
第1のバンプ電極15は、表面電極として機能する電極であり、その表面には、図示していないはんだ層が形成されている。第1のバンプ電極15は、第1の回路素子層12に設けられたトランジスタ素子(図示せず)と電気的に接続されている。第1のバンプ電極15の材料としては、例えば、Cuを用いることができる。
これにより、後述する図4に示す半導体チップ形成用母基板20の構成要素の一部となる構造体19が形成される。
The
As a result, a
次いで、図2に示す工程では、図1に示す構造体19を上下反転させた後、保護膜14が形成された側の構造体19の面に、接着部材16を介して、支持基板17を接着する。接着部材16の材料としては、特定の光源(例えば、レーザ光或いはUV光(紫外線))に反応することで、発砲或いは接着力の低下するものを用いるとよい。
支持基板17としては、例えば、光透過性の基板(例えば、ガラス基板)を用いることができる。
Next, in the process shown in FIG. 2, after the
As the
接着部材16は、その厚さが第1のバンプ電極15を完全に埋め込むことの可能な厚さとなるように形成する。具体的には、第1のバンプ電極15の高さが20μmの場合、接着部材16の厚さは、例えば、50μmとすることができる。
このように、接着部材16の厚さを、第1のバンプ電極15を完全に埋め込むことの可能な厚さにすることで、第1のバンプ電極15を損傷させることなく、支持基板16により構造体19を支持することができる。
The
In this way, the thickness of the
次いで、図3に示す工程では、図2に示す半導体基板11の第2の面11b側から、半導体基板11を研削或いは研磨することで、半導体基板11を薄板化する。このとき、例えば、構造体19の厚さが50μm以下となるように、半導体基板11を薄板化する。
薄板化された構造体19は、支持基板17に支持されているため、薄板化された後の構造体19の取り扱い(例えば、半導体製造装置間の搬送等)を容易に行なうことができる。
Next, in the process shown in FIG. 3, the
Since the thinned
次いで、図4に示す工程では、第1の回路素子層12及び半導体基板11のうち、第1のバンプ電極15と対向する部分を貫通する貫通孔22を形成する。貫通孔22は、第1のバンプ電極15が形成された図示しない電極パッドを露出するように形成する。
次いで、貫通孔22の側面、及び半導体基板11の第2の面11bを覆う絶縁層(図示せず)を形成する。次いで、半導体基板11の第2の面11bに形成された該絶縁層上に、貫通孔22を露出する開口部を有しためっき用マスク(図示せず)を形成する。
Next, in the step shown in FIG. 4, a through
Next, an insulating layer (not shown) that covers the side surface of the through
次いで、貫通孔22の内面、めっき用マスクの表面(開口部の側面も含む)、及び該開口部に露出された該絶縁層の上面を覆う図示していないシード層(例えば、Cu層)を形成し、該シード層を給電層とする電解めっき法により、貫通孔22、及び開口部を埋め込む図示していないめっき膜(例えば、Cuめっき膜)を形成する。
Next, a seed layer (for example, a Cu layer) (not shown) covering the inner surface of the through
次いで、めっき用レジスト膜を除去し、その後、該めっき膜に覆われていないシード層を除去することで、貫通孔22内に配置され、一端が第1のバンプ電極15と電気的に接続された貫通電極24と、貫通電極24の他端と一体に構成され、絶縁層(図示していない)から突出する第2のバンプ電極25と、が一括形成される。貫通電極24及び第2のバンプ電極25は、該絶縁層により、半導体基板11に対して電気的に絶縁されている。
Next, the plating resist film is removed, and then the seed layer not covered with the plating film is removed, so that the plating film is disposed in the through
これにより、薄板化された半導体基板11、第1の回路素子層12、保護膜14、第1のバンプ電極15、図示していない絶縁層、貫通電極24、及び第2のバンプ電極25を有し、を有し、複数のチップ形成領域Aに第1の半導体チップ27が形成された半導体チップ形成用母基板20が形成される。これにより、半導体チップ形成用母基板20が準備される。また、この段階では、複数の第1の半導体チップ27は、連結されており、個片化されていない。
As a result, the thinned
次いで、図5に示す工程では、特定の処理により気化する犠牲接着層29、及び絶縁性を有したテープ本体31を有するダイシングテープ32を準備し、半導体チップ形成用母基板20の面のうち、第1のバンプ電極15が形成された面とは反対側に位置する面(言い換えれば、半導体基板11の第2の面11b)に、犠牲接着層29を介してテープ本体31を貼着する。
Next, in the process shown in FIG. 5, a sacrificial
ダイシングテープ32は、テープ本体31上に、犠牲接着層29を積層した積層構造とされている。ダイシングテープ32は、図示していないリング状の治具に貼り渡された状態で、半導体基板11の第2の面11bに貼り付けられる。
The dicing
犠牲材接着層29としては、例えば、160℃程度までの温度で所定の接着力が保たれ、かつ200℃以上の温度で気化するものを用いるとよい。犠牲材接着層29の材料としては、例えば、所望の特性が得られるようにエポキシ樹脂を配合した環状オレフィン系樹脂よりなる材料を用いることができる。
As the sacrificial
なお、本実施の形態では、犠牲材接着層29の一例として、所定の温度(200℃以上の温度)で気化する犠牲材接着層を用いた場合を例に挙げて説明するが、例えば、特定光を照射されることで気化或いは液化する特性を有する犠牲材接着層を用いてもよい。
In the present embodiment, a case where a sacrificial material adhesive layer that vaporizes at a predetermined temperature (a temperature of 200 ° C. or higher) is used as an example of the sacrificial
次いで、図6に示す工程では、図5に示す構造体を上下反転させた後、支持基板17を介して、特定の光源から照射された光(例えば、レーザ光或いはUV光(紫外線))を接着部材16に照射し、接着部材16を発泡或いは接着力を低下させることで、接着部材16及び支持基板17を除去する。
これにより、半導体チップ形成用母基板20を構成する保護膜14及び第1のバンプ電極15が露出される。
Next, in the process shown in FIG. 6, the structure shown in FIG. 5 is turned upside down, and then light (for example, laser light or UV light (ultraviolet light)) emitted from a specific light source through the
As a result, the
次いで、図7に示す工程では、図示していないダイシング装置のステージ上に、図6に示す構造体を保持し、次いで、ダイシングブレード33により、第1のバンプ電極15が形成された側から、ダイシング装置が認識したダイシング領域Bに沿って半導体チップ形成用母基板20及び犠牲接着層29を切断する。
これにより、複数の半導体チップ27が個片化されると共に、各半導体チップ27の第2のバンプ電極25側の面に、第1の半導体チップ27の外形と略等しい大きさとされた犠牲接着層29が形成される。また、上記切断を行う際は、ダイシング領域Bに対応するテープ本体31の一部を切断するとよい。
Next, in the step shown in FIG. 7, the structure shown in FIG. 6 is held on a stage of a dicing apparatus (not shown), and then, from the side where the
As a result, the plurality of
これにより、図7に示すように、第1の半導体チップ27を構成する半導体基板11(個片化された半導体基板11)の第2の面11b側に、第1の半導体チップ27の外形と略等しい形状とされた犠牲接着層29が形成される。
As a result, as shown in FIG. 7, the outer shape of the
次いで、図8に示す工程では、ピックアップ装置36を準備する。ここで、図8を参照して、ピックアップ装置36の概略構成について説明する。
ピックアップ装置36は、吸着ステージ37と、吸着コレット38と、を有する。吸着ステージ37は、加熱用支持部39(ヒートブロック)と、支持ブロック41(マスク)と、吸着溝42と、を有する。
Next, in the process shown in FIG. 8, a
The
加熱用支持部39は、加熱用支持ブロック44と、ヒーター45と、を有する。加熱用支持ブロック44は、ダイシングテープ32のテープ本体31と接触し、かつ平坦な面とされた吸着面44a(加熱用支持部39の上面39a)を有する。吸着面44aは、第1の半導体チップ27の外形と略等しい形状とされている。
ヒーター45は、加熱用支持ブロック44に内設されている。ヒーター45は、加熱用支持ブロック44の吸着面44aを介して、テープ本体31上に積層された犠牲接着層29を加熱する。ヒーター45としては、例えば、カートリッジヒーターを用いることができる。
The
The
支持ブロック41は、加熱用支持部39の周囲に配置されている。支持ブロック41は、ダイシングテープ32のテープ本体31と接触し、かつ平坦な面とされた吸着面41aを有する。吸着面41aは、吸着面44aに対して略面一となるように配置されている。
吸着溝42は、加熱用支持ブロック44の外壁と支持ブロック41の側壁との間に形成されている。吸着溝42は、図示していない真空ポンプと接続されており、吸着面41a,44a上に載置されたダイシングテープ32(具体的には、テープ本体31)を吸着する。
The
The
上記支持ブロック41は、支持ブロック41上に配置された第1の半導体チップ27に形成された犠牲接着層29が、ヒーター45の熱により気化することを防止する機能を有する。この観点から、支持ブロック41を構成する材料としては、断熱機能を有した材料を用いるとよい。
The
また、支持ブロック41を冷却する冷却機構(図示せず)を設けてもよい。該冷却機構としては、支持ブロック41にエアーを吹き付けるエアー供給手段や、支持ブロック41に内設された水冷用管路等を用いることができる。
A cooling mechanism (not shown) for cooling the
吸着コレット38は、吸着ステージ37の上方に配置されている。吸着コレット38は、図示していない駆動手段と接続されており、上下方向、及び上下方向と直交する平面方向に移動可能な構成とされている。
吸着コレット38は、保護膜14が形成された側の第1の半導体基板27の面と対向する平坦な吸着面38aと、吸着面38aから露出された吸着孔38Aを有する。
吸着孔38Aは、図示していない真空ポンプと接続されている。これにより、吸着孔38Aは、保護膜14が形成された側の第1の半導体基板27の面を吸着する。
The
The
The
上記ピックアップ装置36を準備後、図8に示す工程では、吸着ステージ37の吸着面41a,44a上に、図7に示す構造体34を載置し、その後、吸着面41a,44aに図7に示す構造体34を吸着させる。このとき、テープ本体31と吸着面41a,44aとが接触すると共に、ダイシングテープ32を介して、1つの第1の半導体チップ27が対向するように、吸着ステージ37上に構造体34を配置する。
次いで、加熱用支持部39の上方に配置された第1の半導体チップ27と対向するように、該第1の半導体チップ27の上方に吸着コレット38を移動させる。
After the
Next, the
次いで、図9に示す工程では、個片化された複数の第1の半導体チップ27のうち、ピックアップする第1の半導体チップ27の第1のバンプ電極15が形成された面を吸着保持し、ヒーター45による犠牲接着層29の加熱を開始する。
Next, in the step shown in FIG. 9, among the plurality of separated
次いで、図10に示す工程では、ピックアップする第1の半導体チップ27を吸着保持した状態で、犠牲接着層29が気化する温度(例えば、200℃以上)まで犠牲接着層29を加熱することで、犠牲接着層29を気化させる。
つまり、図10に示す工程では、ヒーター45を用いて、犠牲接着層29を加熱処理(特定の処理のうちの1つ)することで、犠牲接着層29を気化させる。
Next, in the process shown in FIG. 10, the
That is, in the process shown in FIG. 10, the
このように、半導体チップ形成用母基板20の面のうち、第1のバンプ電極15が形成された面とは反対側に位置する面に、犠牲接着層29を介してテープ本体31を貼着(ダイシングテープ32を貼着)し、次いで、第1のバンプ電極15が形成された側から、ダイシング領域Bに沿って半導体チップ形成用母基板20及び犠牲接着層29を切断することで、第1の半導体チップ27及び犠牲接着層29を個片化し、次いで、個片化された第1の半導体チップ27のうち、ピックアップする第1の半導体チップ27の第1のバンプ電極15が形成された面を吸着保持し、吸着保持された第1の半導体チップ27に形成された犠牲接着層29を気化させることにより、ダイシングテープ32を介して、第1の半導体チップ27を突き上げることなく、第1の半導体チップ27をピックアップすることが可能となるので、第1の半導体チップの破損(例えば、貫通電極24を起点にしたチップクラック等)や、第1の半導体チップ27のピックアップミスを抑制でき、製造効率を向上させることができる。
As described above, the
また、第1の半導体チップ27を突き上げることなく、犠牲接着層29を気化させることで、第1の半導体チップ27をピックアップすることにより、ダイシングテープ32から第1の半導体チップ27を剥離させる際、犠牲接着層29に埋め込まれた第2のバンプ電極25がアンカーとして機能することがなくなるため、第1の半導体チップ27の破損(例えば、貫通電極24を起点にしたチップクラック等)や、第1の半導体チップ27のピックアップミスを抑制でき、製造効率を向上させることができる。
Further, when the
次いで、図11に示す工程では、先に説明した図8〜図9に示す工程と同様な処理を繰り返し行うことで、図10に示すダイシングテープ32に貼り付けられた全ての第1の半導体チップ27のピックアックを行う。
これにより、図11に示すように、複数の第1の半導体チップ27が製造される。
Next, in the step shown in FIG. 11, all the first semiconductor chips attached to the dicing
Thereby, as shown in FIG. 11, a plurality of
次いで、図12に示す工程では、ボンディング装置55に設けられたステージ56の基板載置面61aに、予め準備しておいた第2の半導体チップ58を吸着させる。このとき、半導体基板11の第2の面11bが基板載置面61aと接触するように、第2の半導体チップ58を吸着する。
Next, in the step shown in FIG. 12, the
ここで、図12を参照して、ボンディング装置55のステージ56の構成について説明する。ステージ56は、ステージ本体61と、第1の吸着孔62と、ヒーター63と、を有する。
ステージ本体61は、第2の半導体チップ58が載置される平坦な基板載置面61aを有する。第1の吸着孔62は、ステージ本体61に複数設けられており、基板載置面61aから露出されている。第1の吸着孔62は、図示していない真空ポンプと接続されており、基板載置面61aに載置された第2の半導体チップ58を吸着する。
Here, the configuration of the
The stage
ヒーター63は、ステージ本体61に内設されている。ヒーター63は、ステージ本体61に吸着された第2の半導体チップ58を所定の温度に加熱する。ヒーター63としては、例えば、カートリッジヒーターを用いることができる。
The
次に、図12を参照して、第2の半導体チップ58の構成について説明する。
第2の半導体チップ58は、図11に示す第1の半導体チップ27に設けられた第1の回路素子層12の替わりに第2の回路素子層65を設けると共に、第1の半導体チップ27に設けられた第1のバンプ電極15の替わりに第1のバンプ電極66を設け、さらに、第1の半導体チップ27に設けられた貫通電極24及び第2のバンプ電極25を構成要素から除いた以外は、第1の半導体チップ27と同様に構成される。
Next, the configuration of the
The
第2の回路素子層65は、半導体基板11の第1の面11aに形成されている。第2の回路素子層65は、トランジスタ素子、積層された複数の層間絶縁層、及び該複数の層間絶縁層に形成された配線パターン(配線及びビア等)を有した多層配線構造とされている。
第1のバンプ電極66は、保護膜14の開口部14Aから露出された第2の回路素子層65の表面65aに形成されている。第1のバンプ電極66は、第2の回路素子層65に設けられたトランジスタ素子(図示せず)と電気的に接続されている。
The second
The
上記構成とされた第2の半導体チップ58は、半導体基板11の第2の面11b(基板載置面61aと接触する面)にバンプ電極が設けられておらず、基板載置面61aと接触する第2の半導体チップ58の面が平坦な面とされているため、ステージ56の基板載置面61aに第2の半導体チップ58をしっかりと吸着させることができる。
The
第2の半導体チップ58としては、メモリ用半導体チップを用いることができる。該メモリ用半導体チップとしては、例えば、DRAM(Dynamic Random Access Memory)を用いることができる。第2の半導体チップ58としてDRAMを用いる場合、第2の回路素子層65には、図示していないDRAM素子が形成される。
なお、本実施の形態では、第2の半導体チップ58としてメモリ用半導体チップを用いた場合を例に挙げて、以下の説明を行う。
As the
In the present embodiment, the following description will be given by taking as an example the case where a memory semiconductor chip is used as the
次いで、図13に示す工程を説明する前に、図13を参照して、図5に示すボンディング装置55のボンディングツール71(ボンディング装置55の構成要素の1つ)の構成について説明する。
ボンディングツール71は、ツール本体72と、第2の吸着孔73と、ヒーター75と、を有する。ツール本体72は、吸着した半導体チップを押圧する押圧面72aを有する。
Next, before describing the process shown in FIG. 13, the configuration of the bonding tool 71 (one of the components of the bonding apparatus 55) of the
The
第2の吸着孔73は、ツール本体72に複数設けられており、押圧面72aから露出されている。第2の吸着孔73は、図示していない真空ポンプと接続されている。これにより、第2の吸着孔73は、押圧面72aと対向する半導体チップを吸着する。
ヒーター75は、ボンディングツール71に吸着された半導体チップを所定の温度(例えば、80〜100℃)に加熱する。ヒーター75としては、例えば、カートリッジヒーターを用いることができる。
A plurality of second suction holes 73 are provided in the tool
The
次いで、図13に示す工程では、ボンディングツール71により、押圧面72aが図12に示す第1の半導体チップ27(以下の説明では、この「第1の半導体チップ27」を、説明の便宜上、「第1の半導体チップ27−1」という)に設けられた第1のバンプ電極15と接触するように第1の半導体チップ27−1を吸着し、ヒーター75により、第1の半導体チップ27−1が所定の温度(例えば、300℃程度)となるように加熱する。
Next, in the step shown in FIG. 13, the
次いで、ステージ56に吸着された第2の半導体チップ58の第1のバンプ電極66と第1の半導体チップ27−1の第2のバンプ電極25とが対向するように、第1の半導体チップ27−1を吸着したボンディングツール71を第2の半導体チップ58上に移動させる。
Next, the
次いで、ボンディングツール71を下方(ステージ56側)に移動させて、第1の半導体チップ27−1の第2のバンプ電極25と第2の半導体チップ58の第1のバンプ電極66とを接触させる。
Next, the
その後、押圧面72aにより、第1の半導体チップ27−1を押圧することで、第2のバンプ電極25と第1のバンプ電極66とが熱圧着(この段階では、仮圧着)され、第2の半導体チップ58に対して第1の半導体チップ27−1がフリップチップ接続される。
これにより、第2の半導体チップ58上に第1の半導体チップ27−1が積層されると共に、第1の半導体チップ27−1と第2の半導体チップ58との間に隙間が形成される。
Thereafter, by pressing the first semiconductor chip 27-1 with the
As a result, the first semiconductor chip 27-1 is stacked on the
次いで、図14に示す工程では、図13に示す工程と同様な手法により、第1の半導体チップ27(以下の説明では、この「第1の半導体チップ27」を、説明の便宜上、「第1の半導体チップ27−2」という)を吸着し、第1の半導体チップ27−1の第1のバンプ電極15と第1の半導体チップ27−2の第2のバンプ電極25とを熱圧着する。
これにより、第1の半導体チップ12−1に対して、第1の半導体チップ12−2がフリップチップ接続されると共に、第1の半導体チップ27−1と第1の半導体チップ27−2との間に隙間が形成される。
Next, in the step shown in FIG. 14, the first semiconductor chip 27 (in the following description, the “
Thereby, the first semiconductor chip 12-2 is flip-chip connected to the first semiconductor chip 12-1, and the first semiconductor chip 27-1 and the first semiconductor chip 27-2 are connected to each other. A gap is formed between them.
次いで、図13に示す工程と同様な手法により、第1の半導体チップ27(以下の説明では、この「第1の半導体チップ27」を、説明の便宜上、「第1の半導体チップ27−3」という)を吸着し、第1の半導体チップ27−2の第1のバンプ電極15と第1の半導体チップ27−3の第2のバンプ電極25とを熱圧着する。
これにより、第1の半導体チップ27−2に対して、第1の半導体チップ27−3がフリップチップ接続されると共に、第1の半導体チップ27−2と第1の半導体チップ27−3との間に隙間が形成される。
Next, the first semiconductor chip 27 (in the following description, the “
Thus, the first semiconductor chip 27-3 is flip-chip connected to the first semiconductor chip 27-2, and the first semiconductor chip 27-2 and the first semiconductor chip 27-3 are connected to each other. A gap is formed between them.
ここで、図14を参照して、第1の半導体チップ27−3上に、積層される第1の半導体チップ78の構成及び製造方法について説明する。
第1の半導体チップ78は、インターフェイス(Interface)用半導体チップである。第1の半導体チップ78は、第2の半導体チップ27に設けられた第1の回路素子層12、第1のバンプ電極15、及び第2のバンプ電極25の替わりに、第1の回路素子層81、第1のバンプ電極82、及び第2のバンプ電極84を設けた以外は、第1の半導体チップ27と同様に構成される。
Here, with reference to FIG. 14, the structure and manufacturing method of the
The
第1の回路素子層81は、半導体基板11の表面11aに形成されている。第1の回路素子層81には、インターフェイス回路素子(図示せず)が形成されている。
第1のバンプ電極82は、保護膜14に形成された開口部14Aから露出された第1の回路素子層81の表面81aに設けられている。
The first
The
第2のバンプ電極84は、図示していない絶縁層を介して、半導体基板11の第2の面11bに設けられている。第2のバンプ電極84は、貫通電極24或いは図示していない配線パターンを介して、第1のバンプ電極82と電気的に接続されている。
また、第1及び第2のバンプ電極82,84は、第1の回路素子層81に形成されたインターフェイス回路素子(図示せず)と電気的に接続されている。
The second bump electrode 84 is provided on the
The first and
上記構成とされた第1の半導体チップ78は、先に説明した図1〜図11に示す工程と同様な処理を行なうことで形成される。
The
次いで、図13に示す工程と同様な手法により、第1の半導体チップ78を吸着し、第1の半導体チップ27−3の第1のバンプ電極15と第1の半導体チップ78の第2のバンプ電極84とを熱圧着する。
Next, the
これにより、第1の半導体チップ27−3に対して、第1の半導体チップ78がフリップチップ接続されると共に、第1の半導体チップ27−3と第1の半導体チップ78との間に隙間が形成される。
また、第2の半導体チップ58と、第1の半導体チップ27−1と、第1の半導体チップ27−2と、第1の半導体チップ27−3と、第1の半導体チップ78と、が順次積層されたチップ積層体87が形成される。
Accordingly, the
In addition, the
次いで、図15に示す工程では、第1の半導体チップ27−1,27−2,27−3,78及び第2の半導体チップ58間の隙間を充填する第1の封止樹脂88を形成する。
このとき、第1の半導体チップ78を構成する第1のバンプ電極82及び保護膜14の表面14aを、第1の封止樹脂88から露出させる。
Next, in the step shown in FIG. 15, the first sealing
At this time, the
具体的には、以下の方法により、第1の封止樹脂88を形成する。始めに、アンダーフィル樹脂91(第1の封止樹脂88の母材)に対する濡れ性の悪いシート93を、ステージ92の平坦な上面92aに配置する。次いで、濡れ性の悪いシート93の上面93aと第1のバンプ電極82が形成されていない側のチップ積層体87の面(第2の半導体チップ58を構成する半導体基板11の裏面11b)とを接触させる。
Specifically, the first sealing
次いで、チップ積層体87の側壁にディスペンサー95から供給したアンダーフィル樹脂91を滴下し、毛細管現象により第1の半導体チップ27−1,27−2,27−3,78及び第2の半導体チップ58間の隙間を充填する。
濡れ性の悪いシート93としては、フッ素系シート材、或いはシリコーン系接着剤を備えたシート材等を用いることができる。
その後、アンダーフィル樹脂91を所定の温度(例えば、150℃)でキュアして、アンダーフィル樹脂91を完全に硬化させることで、第1の封止樹脂88が形成される。
Next, the
As the
Thereafter, the
このように、アンダーフィル樹脂91(第1の封止樹脂88の母材)に対する濡れ性の悪いシート93の上面93aにチップ積層体87を配置した後、チップ積層体87の側壁にアンダーフィル樹脂91を滴下して、第1の半導体チップ27−1,27−2,27−3,78及び第2の半導体チップ58間の隙間を充填することにより、アンダーフィル樹脂91がチップ積層体87の外周側面よりも外側に広がることを抑制可能となるので、第1の封止樹脂88のフィレット幅を低減できる。
As described above, after the chip laminated
また、濡れ性の悪いシート93の上面93aと第1のバンプ電極17が形成されていない側のチップ積層体87の平坦な面(具体的には、第2の半導体チップ58を構成する半導体基板11の裏面11b)とを接触させることで、第2の半導体チップ58を構成する半導体基板11の裏面11bにアンダーフィル樹脂91が回り込むことを抑制できる。
Further, the
次いで、図16に示す工程では、図4に示す第1の封止樹脂88が形成されたチップ積層体87を濡れ性の悪いシート93から剥離させる。
Next, in the step shown in FIG. 16, the
次いで、図17に示す工程では、複数の配線基板100が連結された配線母基板101を準備する。ここで、図17を参照して、配線母基板101の構成について説明する。
配線母基板101は、複数の配線基板100が連結された構成とされており、基板本体103と、接続パッド104と、配線パターン105と、外部接続用パッド106と、貫通電極107と、第1のソルダーレジスト109と、第2のソルダーレジスト111と、を有する。
Next, in a step shown in FIG. 17, a
The
基板本体103は、ダイシングラインDにより区画され、配線基板100が形成される配線基板形成領域Cを複数有する。基板本体103としては、例えば、ガラスエポキシ基板を用いることができる。
接続パッド104は、基板本体103の表面103aのうち、配線基板形成領域Cの中央部に設けられている。接続パッド104は、図16に示すチップ積層体87を構成する第1の半導体チップ78に設けられた第1のバンプ電極82と接続される電極である。
The
The
配線パターン105は、接続パッド104と一体に構成されており、配線基板形成領域Cに対応する基板本体103の表面103aに設けられている。配線パターン105は、再配線用のパターンである。
外部接続用パッド106は、配線基板形成領域Cに対応する基板本体103の裏面103bに設けられている。
The
The
貫通電極107は、配線基板形成領域Cに対応する基板本体103を貫通するように設けられている。貫通電極107の上端は、配線パターン105と接続されており、貫通電極107の下端は、外部接続用パッド106と接続されている。これにより、貫通電極107は、外部接続用パッド106と接続パッド104とを電気的に接続している。
The through
第1のソルダーレジスト109は、接続パッド104を露出するように、配線基板形成領域C及びダイシングラインDに対応する基板本体103の表面103aに設けられている。第1のソルダーレジスト109は、配線パターン105の一部を覆うように設けられている。第1のソルダーレジスト109は、配線パターン105を保護する機能を有する。
第2のソルダーレジスト111は、外部接続用パッド106を露出するように、配線基板形成領域C及びダイシングラインDに対応する基板本体103の裏面103bに設けられている。
The first solder resist 109 is provided on the
The second solder resist 111 is provided on the
配線基板100は、接続パッド104と、配線パターン105と、外部接続用パッド106と、貫通電極107と、配線基板形成領域Cに対応する基板本体103、第1のソルダーレジスト109、及び第2のソルダーレジスト111と、を有した構成とされている。
The
次いで、接続パッド104上に、ワイヤバンプ113を形成する。具体的には、ワイヤバンプ113は、例えば、AuやCu等よりなるワイヤの先端に溶融したボールが形成されたものを、ワイヤボンディング装置(図示せず)を用いて、超音波により接続パッド104の上面に圧着後、ワイヤの後端を引き切ることで形成する。
Next, wire bumps 113 are formed on the
次いで、図18に示す工程では、各配線基板形成領域Cの中央部に、ワイヤバンプ113を覆うように、液状とされたアンダーフィル樹脂115を配置する。
具体的には、液状とされたアンダーフィル樹脂115は、ディスペンサー(図示せず)から液状とされたNCP(Non conductive Paste)を供給することで形成する。
Next, in the step shown in FIG. 18, a
Specifically, the
次いで、図19に示す工程では、ボンディングツール(図示せず)を用いて、図16に示す第1の封止樹脂88が形成されたチップ積層体87をピックアップして、チップ積層体87を構成する第1の半導体チップ78の第1のバンプ電極82と、配線基板100の接続パッド104と、を対向配置させる。
Next, in the step shown in FIG. 19, the
次いで、ボンディングツール(図示せず)により、チップ積層体87を高温(例えば、300℃程度)で加熱した状態で、加熱された配線基板100(配線母基板101)に押し当てることで、ワイヤバンプ113を介して、第1のバンプ電極82と接続パッド104とを熱圧着すると共に、チップ積層体87と配線基板100との間に形成される隙間をアンダーフィル樹脂115で封止する。
Next, the
これにより、チップ積層体87は、配線基板100に対してフリップチップ接続され、チップ積層体87と配線基板100とが電気的に接続される。
なお、図20に示す工程では、配線母基板101を構成する全ての配線基板100に対して、第1の封止樹脂88が形成されたチップ積層体87を実装する。
As a result, the
In the step shown in FIG. 20, the chip laminated
次いで、図20に示す工程では、配線母基板101上に実装された複数のチップ積層体87を一括して封止し、かつ上面117aが平坦な面とされたモールド樹脂117を形成する。モールド樹脂117は、例えば、トランスファーモールド法により形成する。
Next, in a process shown in FIG. 20, a plurality of chip stacks 87 mounted on the
具体的には、上部金型と下部金型との間に形成された空間内に、図19に示す構造体を収容し、その後、該空間内に加熱溶融されたモールド樹脂117を注入する。次いで、溶融したモールド樹脂117を所定の温度(例えば、180℃程度)で加熱(キュア)し、その後、所定の温度でベークすることで、モールド樹脂117を完全に硬化させる。
これにより、複数のチップ積層体87を一括封止するモールド樹脂117が形成される。モールド樹脂117としては、例えば、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂を用いることができる。
Specifically, the structure shown in FIG. 19 is accommodated in a space formed between the upper mold and the lower mold, and then a
As a result, the
次いで、図21に示す工程では、図20に示す構造体の上下を反転させ、その後、配線基板100に形成された複数の外部接続用パッド106に外部接続端子119を形成する。
これにより、配線基板100、チップ積層体87、アンダーフィル樹脂115、モールド樹脂117、及び外部接続端子119を有し、かつ連結された複数の半導体装置120が形成される。外部接続端子119としては、例えば、はんだボールを用いることができる。
Next, in the step shown in FIG. 21, the structure shown in FIG. 20 is turned upside down, and then the
As a result, a plurality of
この場合、図示していない複数の吸着孔を有するボールマウンターのマウントツールにより、複数のはんだボールを吸着保持しながら、複数のはんだボールにフラックスを転写形成する。次いで、配線基板100に形成された複数の外部接続用パッド106に、はんだボールを載置し、その後、はんだボールが形成された配線母基板101を熱処理(リフロー処理)する。これにより、複数の配線基板100に設けられた外部接続用パッド106にはんだボールが固定される。
In this case, the flux is transferred and formed on the plurality of solder balls while the plurality of solder balls are sucked and held by a ball mounter mounting tool having a plurality of suction holes (not shown). Next, solder balls are placed on the plurality of
次いで、図22に示す工程では、モールド樹脂117の上面117aにダイシングテープ122を貼着する。次いで、ダイシングブレード113により、ダイシングラインDに沿って、図22に示す配線母基板101及びモールド樹脂117を切断することで、複数の半導体装置120が個片化される。このとき、配線基板100も個片化される。
Next, in the process shown in FIG. 22, the dicing
次いで、図23に示す工程では、図22に示す構造体を上下反転させた後、ダイシングテープ122を剥離することで、CoC型(Chip on Chip)の半導体装置120が複数製造される。
Next, in the process shown in FIG. 23, the structure shown in FIG. 22 is turned upside down, and then the dicing
本実施の形態の半導体チップのピックアップ方法によれば、半導体チップ形成用母基板20の面のうち、第1のバンプ電極15が形成された面とは反対側に位置する面に、犠牲接着層29を介してテープ本体31を貼着(ダイシングテープ32を貼着)し、次いで、第1のバンプ電極15が形成された側から、ダイシング領域Bに沿って半導体チップ形成用母基板20及び犠牲接着層29を切断することで、第1の半導体チップ27及び犠牲接着層29を個片化し、次いで、個片化された第1の半導体チップ27のうち、ピックアップする第1の半導体チップ27の第1のバンプ電極15が形成された面を吸着保持し、吸着保持された第1の半導体チップ27に形成された犠牲接着層29を気化させることにより、ダイシングテープ32を介して、第1の半導体チップ27を突き上げることなく、第1の半導体チップ27をピックアップすることが可能となるので、第1の半導体チップ27の破損(例えば、貫通電極24を起点にしたチップクラック等)や、第1の半導体チップ27のピックアップミスを抑制でき、製造効率を向上させることができる。
According to the semiconductor chip pickup method of the present embodiment, the sacrificial adhesive layer is formed on the surface of the semiconductor chip forming
また、第1の半導体チップ27を突き上げることなく、犠牲接着層29を気化させることで第1の半導体チップ27をピックアップすることにより、ダイシングテープ32から第1の半導体チップ27を剥離させる際、犠牲接着層29に埋め込まれた第2のバンプ電極25がアンカーとして機能することがなくなるため、第1の半導体チップ27の破損(例えば、貫通電極24を起点にしたチップクラック等)や、第1の半導体チップ27のピックアップミスを抑制でき、製造効率を向上させることができる。
Further, when the
以上、本発明の好ましい実施の形態について詳述したが、本発明はかかる特定の実施の形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲内に記載された本発明の要旨の範囲内において、種々の変形・変更が可能である。 The preferred embodiments of the present invention have been described in detail above, but the present invention is not limited to such specific embodiments, and within the scope of the present invention described in the claims, Various modifications and changes are possible.
例えば、本実施の形態では、貫通電極24を有した第1の半導体チップ27をピックアップする場合を例に挙げて、本発明の導体チップのピックアップ方法について説明したが、本発明の半導体チップのピックアップ方法は、例えば、薄板化(例えば、50μm以下)され、かつ貫通電極を有していない半導体チップ(例えば、図16に示す第2の半導体チップ58)にも適用可能であり、本実施の形態と同様な効果を得ることができる。
For example, in the present embodiment, the method for picking up the conductor chip of the present invention has been described by taking as an example the case of picking up the
本発明は、半導体チップのピックアップ方法に適用可能である。 The present invention is applicable to a semiconductor chip pickup method.
11…半導体基板、11a…第1の面、11b…第2の面、12,81…第1の回路素子層、12a,14a,65a,81a,93a,103a…表面、14…保護膜、14A…開口部、15,66,82…第1のバンプ電極、16…接着部材、17…支持基板、19,34…構造体、20…半導体チップ形成用母基板、22…貫通孔、24,107…貫通電極、25,84…第2のバンプ電極、27,27−1,27−2,27−3,78…第1の半導体チップ、29…犠牲接着層、31…テープ本体、32,122…ダイシングテープ、33,123…ダイシングブレード、36…ピックアップ装置、37…吸着ステージ、38…吸着コレット、38A…吸着孔、39…加熱用支持部、39a,92a,117a…上面、41…支持ブロック、42…吸着溝、44…加熱用支持ブロック、41a,44a…吸着面、45,63,75…ヒーター、55…ボンディング装置、56…ステージ、58…第2の半導体チップ、61…ステージ本体、61a…基板載置面、62…第1の吸着孔、65…第2の回路素子層、71…ボンディングツール、72…ツール本体、72a…押圧面、73…第2の吸着孔、87…チップ積層体、88…第1の封止樹脂、91,115…アンダーフィル樹脂、92…ステージ、93…濡れ性の悪いシート、95…ディスペンサー、100…配線基板、101…配線母基板、103…基板本体、103b…裏面、104…接続パッド、105…配線パターン、106…外部接続用パッド、109…第1のソルダーレジスト、111…第2のソルダーレジスト、113…ワイヤバンプ、117…モールド樹脂、119…外部接続端子、120…半導体装置、A…チップ形成領域、B…ダイシング領域、C…配線基板形成領域、D…ダイシンライン
DESCRIPTION OF
Claims (5)
特定の処理により気化する犠牲接着層、及びテープ本体を有するダイシングテープを準備し、前記半導体チップ形成用母基板の面のうち、前記第1のバンプ電極が形成された面とは反対側に位置する面に、前記犠牲接着層を介して前記テープ本体を貼着する工程と、
前記第1のバンプ電極が形成された側から、前記ダイシング領域に沿って前記半導体チップ形成用母基板及び前記犠牲接着層を切断することで、前記半導体チップ及び前記犠牲接着層を個片化する工程と、
個片化された前記半導体チップのうち、ピックアップする前記半導体チップの前記第1のバンプ電極が形成された面を吸着保持し、吸着保持された前記半導体チップに形成された前記犠牲接着層を気化させる工程と、
を含むことを特徴とする半導体チップのピックアップ方法。 A semiconductor substrate having a plurality of chip formation regions in which semiconductor chips are formed and a dicing region partitioning the plurality of chip formation regions, and a first surface of the semiconductor substrate, formed in the plurality of chip formation regions. Preparing a semiconductor chip forming mother board having a plurality of the semiconductor chips connected to the circuit element layer, and a first bump electrode formed on the surface of the circuit element layer;
A dicing tape having a sacrificial adhesive layer that vaporizes by a specific process and a tape body is prepared, and is positioned on the opposite side of the surface of the semiconductor chip forming mother substrate from the surface on which the first bump electrode is formed. A step of adhering the tape body to the surface through the sacrificial adhesive layer;
The semiconductor chip and the sacrificial adhesive layer are cut into pieces by cutting the semiconductor chip forming mother substrate and the sacrificial adhesive layer along the dicing region from the side on which the first bump electrodes are formed. Process,
Of the separated semiconductor chips, the surface of the semiconductor chip to be picked up is sucked and held, and the sacrificial adhesive layer formed on the sucked and held semiconductor chip is vaporized A process of
A method for picking up a semiconductor chip, comprising:
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