JP2013056981A - Ladder-type silsesquioxane, method for producing the same, curing resin composition, and cured material thereof - Google Patents

Ladder-type silsesquioxane, method for producing the same, curing resin composition, and cured material thereof Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a ladder-type silsesquioxane and a composition, having a long pot life before curing, reduced in the amount of low-molecular weight compounds evaporating in curing, and excellent in physical properties after curing and yellowing resistance.SOLUTION: The ladder-type silsesquioxane has in its molecule, a structure represented by formula (1) (wherein Siis a silicon atom constituting a silsesquioxane skeleton of the ladder-type silsesquioxane; X is a single bond or a linking group; Rs and Rs are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a monovalent organic group, a monovalent oxygen atom-containing group, a monovalent nitrogen atom-containing group, or a monovalent sulfur atom-containing group; and n is an integer of 1 to 100).

Description

本発明は、ラダー型シルセスキオキサン及びその製造方法、並びに、上記ラダー型シルセスキオキサンを含む硬化性樹脂組成物及びその硬化物に関する。   The present invention relates to a ladder-type silsesquioxane, a method for producing the same, a curable resin composition containing the ladder-type silsesquioxane, and a cured product thereof.

高耐熱・高耐電圧の半導体装置において半導体素子を被覆する材料として、150℃以上の耐熱性を有する材料が求められている。特に、LED素子などの光学材料を被覆する材料(封止材)には、耐熱性に加えて、柔軟性、透明性、耐黄変性(例えば、高温や高エネルギーの光に対する耐黄変性)等の物性を備えることが求められている。   A material having a heat resistance of 150 ° C. or higher is required as a material for covering a semiconductor element in a semiconductor device having a high heat resistance and a high withstand voltage. In particular, for materials (encapsulating materials) that cover optical materials such as LED elements, in addition to heat resistance, flexibility, transparency, yellowing resistance (for example, yellowing resistance to high temperature and high energy light), etc. It is required to have the physical properties.

透明性、耐UV性、耐熱着色性に優れた光素子封止用樹脂組成物として、脂肪族炭素−炭素不飽和結合を含有しH−Si結合を含有しない籠型構造体の液状のシルセスキオキサン、及び、H−Si結合を含有し脂肪族炭素−炭素不飽和結合を含有しない籠型構造体の液状のシルセスキオキサンからなる群から選択される少なくとも1種のシルセスキオキサンを樹脂成分として含有する光素子封止用樹脂組成物が開示されている(特許文献1参照)。しかしながら、籠型のシルセスキオキサンを含む樹脂組成物の硬化物は比較的硬く、柔軟性に乏しいため、クラックや割れが生じやすいという問題を有していた。   As a resin composition for encapsulating an optical element having excellent transparency, UV resistance, and heat resistance coloring property, a liquid silsesqui-foil having a cage structure containing an aliphatic carbon-carbon unsaturated bond and no H-Si bond. At least one silsesquioxane selected from the group consisting of oxane and liquid silsesquioxane having a cage structure containing an H-Si bond and no aliphatic carbon-carbon unsaturated bond A resin composition for sealing an optical element contained as a resin component is disclosed (see Patent Document 1). However, the cured product of the resin composition containing a cage silsesquioxane is relatively hard and lacks flexibility, and thus has a problem that cracks and cracks are likely to occur.

また、(A)SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に少なくとも2個含有するトリアリルイソシアヌレートなどの有機化合物、(B)1分子中に少なくとも2個のSiH基を含有する、鎖状、及び/又は、環状ポリオルガノシロキサンなどの化合物、(C)ヒドロシリル化触媒、を必須成分として含有する硬化性組成物が開示されている(特許文献2参照)。しかしながら、これらの材料の耐クラック性等の物性は、未だ満足できるものではない。   And (A) an organic compound such as triallyl isocyanurate containing at least two carbon-carbon double bonds reactive with SiH groups in one molecule, and (B) at least two SiH groups in one molecule. A curable composition containing a chain-containing and / or cyclic polyorganosiloxane-containing compound and (C) a hydrosilylation catalyst as essential components is disclosed (see Patent Document 2). However, the physical properties such as crack resistance of these materials are still not satisfactory.

特開2007−31619号公報JP 2007-31619 A 特開2002−314140号公報JP 2002-314140 A

さらに、特に、特許文献2に開示された硬化性組成物は、低分子量の鎖状又は環状のポリオルガノシロキサン(シロキサン化合物)を含有するため、室温において粘度が上昇しやすく、ポットライフ(可使時間)が短いという問題を有していた。このため、上記硬化性組成物は、光半導体装置の種々の製造プロセス(具体的には、注型プロセス)に適合させることが困難であった。また、上記硬化性組成物は、硬化させる際に上記シロキサン化合物が揮発して、作業者の安全確保が困難となったり、一定の物性を有する硬化物が得られにくいなどの問題を有していた。   Furthermore, in particular, since the curable composition disclosed in Patent Document 2 contains a low molecular weight linear or cyclic polyorganosiloxane (siloxane compound), the viscosity is likely to increase at room temperature, and pot life (usable) (Time) was short. For this reason, it was difficult to adapt the said curable composition to the various manufacturing processes (specifically, casting process) of an optical semiconductor device. In addition, the curable composition has a problem that the siloxane compound volatilizes when cured, making it difficult to ensure the safety of the worker, and difficult to obtain a cured product having certain physical properties. It was.

従って、本発明の目的は、ポットライフが長く、硬化時に揮発する低分子化合物(特に、低分子量のシロキサン化合物)の量が低減された硬化性樹脂組成物を得ることができ、さらに、該樹脂組成物の硬化により、耐熱性、透明性、柔軟性、及び耐黄変性に優れた硬化物を形成することができるラダー型シルセスキオキサン、並びにその製造方法を提供することにある。
また、本発明の他の目的は、ポットライフが長く、硬化時に揮発する低分子化合物(特に、低分子量のシロキサン化合物)の量が低減され、さらに、硬化により、耐熱性、透明性、柔軟性、及び耐黄変性に優れた硬化物を得ることができる硬化性樹脂組成物を提供することにある。
また、本発明の他の目的は、耐熱性、透明性、柔軟性、及び耐黄変性に優れた硬化物を提供することにある。
Accordingly, an object of the present invention is to provide a curable resin composition having a long pot life and a reduced amount of low molecular weight compounds (particularly, low molecular weight siloxane compounds) that volatilize during curing. An object of the present invention is to provide a ladder-type silsesquioxane capable of forming a cured product excellent in heat resistance, transparency, flexibility and yellowing resistance by curing the composition, and a method for producing the same.
Another object of the present invention is that the pot life is long and the amount of low molecular weight compounds (particularly low molecular weight siloxane compounds) that volatilize during curing is reduced, and further, the heat resistance, transparency and flexibility are improved by curing. Another object of the present invention is to provide a curable resin composition capable of obtaining a cured product excellent in yellowing resistance.
Another object of the present invention is to provide a cured product excellent in heat resistance, transparency, flexibility, and yellowing resistance.

本発明者らは、特定の構造を有するラダー型シルセスキオキサンを少なくとも含む硬化性樹脂組成物が長いポットライフを有し、硬化時に揮発する低分子化合物(特に、低分子量のシロキサン化合物)の量が低減されており、さらに、上記硬化性樹脂組成物を硬化させた硬化物は、耐熱性、透明性、柔軟性、及び耐黄変性に優れることを見出し、本発明を完成させた。   The inventors of the present invention provide a curable resin composition containing at least a ladder-type silsesquioxane having a specific structure having a long pot life and a low molecular weight compound (particularly a low molecular weight siloxane compound) that volatilizes during curing. The amount was reduced, and furthermore, the cured product obtained by curing the curable resin composition was found to be excellent in heat resistance, transparency, flexibility, and yellowing resistance, and the present invention was completed.

すなわち、本発明は、分子内に下記式(1)で表される構造を有することを特徴とするラダー型シルセスキオキサンを提供する。

Figure 2013056981
[式(1)中、SiLはラダー型シルセスキオキサンのシルセスキオキサン骨格を構成するケイ素原子を示す。Xは単結合又は二価の連結基を示す。複数個のRaは、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、一価の有機基、一価の酸素原子含有基、一価の窒素原子含有基、又は一価の硫黄原子含有基を示す。複数個のRbは、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、一価の有機基、一価の酸素原子含有基、一価の窒素原子含有基、又は一価の硫黄原子含有基を示す。nは1〜100の整数を示す。] That is, the present invention provides a ladder-type silsesquioxane characterized by having a structure represented by the following formula (1) in the molecule.
Figure 2013056981
[In Formula (1), Si L shows the silicon atom which comprises the silsesquioxane frame | skeleton of ladder type silsesquioxane. X represents a single bond or a divalent linking group. Several R <a> shows a hydrogen atom, a halogen atom, a monovalent organic group, a monovalent oxygen atom containing group, a monovalent nitrogen atom containing group, or a monovalent sulfur atom containing group each independently. Several Rb shows a hydrogen atom, a halogen atom, a monovalent organic group, a monovalent oxygen atom containing group, a monovalent nitrogen atom containing group, or a monovalent sulfur atom containing group each independently. n shows the integer of 1-100. ]

また、本発明は、前記のラダー型シルセスキオキサンの製造方法であって、分子内に脂肪族炭素−炭素二重結合を有するラダー型シルセスキオキサンと、下記式(2)で表される化合物

Figure 2013056981
[式(2)中、複数個のRbは、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、一価の有機基、一価の酸素原子含有基、一価の窒素原子含有基、又は一価の硫黄原子含有基を示す。nは1〜100の整数を示す。]
とを、ヒドロシリル化触媒の存在下で反応させる工程を含むことを特徴とするラダー型シルセスキオキサンの製造方法を提供する。 Moreover, this invention is a manufacturing method of the said ladder type silsesquioxane, Comprising: Ladder type silsesquioxane which has an aliphatic carbon-carbon double bond in a molecule | numerator, It represents with following formula (2). Compound
Figure 2013056981
[In the formula (2), each of the plurality of R b is independently a hydrogen atom, a halogen atom, a monovalent organic group, a monovalent oxygen atom-containing group, a monovalent nitrogen atom-containing group, or a monovalent group. A sulfur atom-containing group is shown. n shows the integer of 1-100. ]
And a method for producing a ladder-type silsesquioxane, comprising the step of reacting with a hydrosilylation catalyst.

また、本発明は、前記のラダー型シルセスキオキサンと、分子内に脂肪族炭素−炭素二重結合を有する化合物と、ヒドロシリル化触媒とを含むことを特徴とする硬化性樹脂組成物を提供する。   The present invention also provides a curable resin composition comprising the ladder-type silsesquioxane, a compound having an aliphatic carbon-carbon double bond in the molecule, and a hydrosilylation catalyst. To do.

さらに、前記分子内に脂肪族炭素−炭素二重結合を有する化合物が、分子内に脂肪族炭素−炭素二重結合を有するラダー型シルセスキオキサンである前記の硬化性樹脂組成物を提供する。   Furthermore, the curable resin composition is provided wherein the compound having an aliphatic carbon-carbon double bond in the molecule is a ladder-type silsesquioxane having an aliphatic carbon-carbon double bond in the molecule. .

また、本発明は、前記の硬化性樹脂組成物を硬化して得られる硬化物を提供する。   Moreover, this invention provides the hardened | cured material obtained by hardening | curing the said curable resin composition.

本発明のラダー型シルセスキオキサンは上記構造を有するため、該ラダー型シルセスキオキサンを必須成分として含む硬化性樹脂組成物は、経時で粘度が上昇しにくく、ポットライフが長い。また、上記硬化性樹脂組成物は、硬化時に揮発する低分子化合物(特に、低分子量のシロキサン化合物)の量を低減でき、安全性が高く、一定の物性を備えた硬化物を効率的に得ることができる。さらに、上記硬化性樹脂組成物を硬化して得られる硬化物は、耐熱性、柔軟性、透明性、及び耐黄変性(例えば、高温や高エネルギーの光に対する耐黄変性)に優れる。このため、上記硬化物はこれまでにない高温(例えば、180℃以上)での耐熱黄変性を長時間に亘って発揮し、水蒸気やSOXガスから光半導体素子を保護するバリア性に優れ、上記硬化物により光半導体素子(LED素子)を封止して得られる光半導体装置は、優れた品質と耐久性を備える。特に、本発明のラダー型シルセスキオキサンは、次世代の光源用封止剤として特に有用である。 Since the ladder-type silsesquioxane of the present invention has the above structure, the curable resin composition containing the ladder-type silsesquioxane as an essential component hardly increases in viscosity over time and has a long pot life. Moreover, the said curable resin composition can reduce the quantity of the low molecular compound (especially low molecular weight siloxane compound) volatilized at the time of hardening, and obtains hardened | cured material with high safety | security and a fixed physical property efficiently. be able to. Furthermore, the cured product obtained by curing the curable resin composition is excellent in heat resistance, flexibility, transparency, and yellowing resistance (for example, yellowing resistance to high temperature and high energy light). For this reason, the cured product exhibits heat-resistant yellowing at an unprecedented high temperature (for example, 180 ° C. or more) over a long period of time, and has excellent barrier properties to protect the optical semiconductor element from water vapor and SO X gas. An optical semiconductor device obtained by sealing an optical semiconductor element (LED element) with the cured product has excellent quality and durability. In particular, the ladder-type silsesquioxane of the present invention is particularly useful as a next-generation light source sealant.

(a)は、実施例1で用いた末端にTMS基を有するラダー型フェニルメチルビニルシルセスキオキサンの1H−NMRスペクトルを示すチャートであり、(b)は、実施例1で得られたSiH含有基を有するラダー型シルセスキオキサンの1H−NMRスペクトルを示すチャートである。(A) is a chart showing the 1 H-NMR spectrum of ladder-type phenylmethylvinylsilsesquioxane having a TMS group at the terminal used in Example 1, and (b) was obtained in Example 1. It is a chart which shows the < 1 > H-NMR spectrum of ladder type silsesquioxane which has SiH content group. 実施例4で得られた硬化性樹脂組成物の23℃における粘度(調製開始から調製してから24時間後まで)を示すグラフである。It is a graph which shows the viscosity (23 hours after preparing from the start of preparation) at 23 degreeC of the curable resin composition obtained in Example 4. FIG. 実施例4で得られた硬化物の光線透過率を示すグラフである。6 is a graph showing the light transmittance of the cured product obtained in Example 4.

[ラダー型シルセスキオキサン]
本発明のラダー型シルセスキオキサンは、分子内(1分子中)に下記式(1)で表される構造(構造単位)を少なくとも有することを特徴とするラダー型シルセスキオキサン(ラダー型ポリシルセスキオキサン)である。

Figure 2013056981
[Ladder-type silsesquioxane]
The ladder-type silsesquioxane of the present invention has at least a structure (structural unit) represented by the following formula (1) in the molecule (in one molecule). Polysilsesquioxane).
Figure 2013056981

上記式(1)中、SiLはラダー型シルセスキオキサンのシルセスキオキサン骨格を構成するケイ素原子を示す。なお、本明細書では、上記式(1)で表される構造中、SiLに結合している原子団(基)を「SiH含有基」と称する場合がある。即ち、本発明のラダー型シルセスキオキサンは、シルセスキオキサン骨格を構成するケイ素原子の少なくとも1つに上記SiH含有基が結合した構造を有する。 In the above formula (1), Si L denotes a silicon atom constituting the silsesquioxane skeleton of the ladder-type silsesquioxane. In the present specification, an atomic group (group) bonded to Si L in the structure represented by the above formula (1) may be referred to as “SiH-containing group”. That is, the ladder-type silsesquioxane of the present invention has a structure in which the SiH-containing group is bonded to at least one silicon atom constituting the silsesquioxane skeleton.

上記式(1)におけるXは単結合又は二価の連結基(1以上の原子を有する二価の基)を示す。上記二価の連結基としては、例えば、二価の炭化水素基、カルボニル基、エーテル基(エーテル結合)、チオエーテル基(チオエーテル結合)、エステル基(エステル結合)、カーボネート基(カーボネート結合)、アミド基(アミド結合)、これらが複数個連結した基等が挙げられる。   X in the above formula (1) represents a single bond or a divalent linking group (a divalent group having one or more atoms). Examples of the divalent linking group include a divalent hydrocarbon group, a carbonyl group, an ether group (ether bond), a thioether group (thioether bond), an ester group (ester bond), a carbonate group (carbonate bond), and an amide. Examples include a group (amide bond) and a group in which a plurality of these groups are linked.

なお、上記式(1)におけるXが単結合の場合とは、式(1)に示されたSiLと、2つの炭素原子のうち左側の炭素原子とが、直接単結合により結合している場合を意味する。 Note that the case where X in the above formula (1) is a single bond means that Si L shown in the formula (1) and the left carbon atom of two carbon atoms are directly bonded by a single bond. Means the case.

上記二価の炭化水素基としては、例えば、炭素数が1〜18の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基、二価の脂環式炭化水素基などが挙げられる。炭素数が1〜18の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基としては、例えば、メチレン基、メチルメチレン基、ジメチルメチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基などが挙げられる。二価の脂環式炭化水素基としては、例えば、1,2−シクロペンチレン基、1,3−シクロペンチレン基、シクロペンチリデン基、1,2−シクロヘキシレン基、1,3−シクロヘキシレン基、1,4−シクロヘキシレン基、シクロヘキシリデン基等の二価のシクロアルキレン基(シクロアルキリデン基を含む)などが挙げられる。   As said bivalent hydrocarbon group, a C1-C18 linear or branched alkylene group, a bivalent alicyclic hydrocarbon group, etc. are mentioned, for example. Examples of the linear or branched alkylene group having 1 to 18 carbon atoms include a methylene group, a methylmethylene group, a dimethylmethylene group, an ethylene group, a propylene group, and a trimethylene group. Examples of the divalent alicyclic hydrocarbon group include 1,2-cyclopentylene group, 1,3-cyclopentylene group, cyclopentylidene group, 1,2-cyclohexylene group, 1,3-cyclohexene group. And divalent cycloalkylene groups (including cycloalkylidene groups) such as a silylene group, a 1,4-cyclohexylene group, and a cyclohexylidene group.

上記式(1)における複数個のRaは、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、一価の有機基、一価の酸素原子含有基、一価の窒素原子含有基、又は一価の硫黄原子含有基を示す。即ち、複数個のRaは、同一でもよいし、それぞれ異なっていてもよい。 A plurality of R a in the above formula (1) are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a monovalent organic group, a monovalent oxygen atom-containing group, a monovalent nitrogen atom-containing group, or a monovalent sulfur. An atom-containing group is shown. That is, a plurality of R a may be the same or may be different.

上記ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。上記一価の有機基としては、例えば、置換又は無置換の炭化水素基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、アシルオキシ基、アルキルチオ基、アルケニルチオ基、アリールチオ基、アラルキルチオ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、エポキシ基、シアノ基、イソシアナート基、カルバモイル基、イソチオシアナート基などが挙げられる。   As said halogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom etc. are mentioned, for example. Examples of the monovalent organic group include a substituted or unsubstituted hydrocarbon group, alkoxy group, alkenyloxy group, aryloxy group, aralkyloxy group, acyloxy group, alkylthio group, alkenylthio group, arylthio group, aralkylthio group. Group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, aralkyloxycarbonyl group, epoxy group, cyano group, isocyanate group, carbamoyl group, isothiocyanate group and the like.

上記Raにおける炭化水素基としては、例えば、脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基、これらが2以上結合した基が挙げられる。 Examples of the hydrocarbon group for Ra include an aliphatic hydrocarbon group, an alicyclic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group, and a group in which two or more of these are bonded.

上記脂肪族炭化水素基としては、例えば、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基が挙げられる。アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、イソオクチル基、デシル基、ドデシル基などのC1-20アルキル基(好ましくはC1-10アルキル基、さらに好ましくはC1-4アルキル基)などが挙げられる。アルケニル基としては、例えば、ビニル基、アリル基、メタリル基、1−プロペニル基、イソプロペニル基、1−ブテニル基、2−ブテニル基、3−ブテニル基、1−ペンテニル基、2−ペンテニル基、3−ペンテニル基、4−ペンテニル基、5−ヘキセニル基などのC2-20アルケニル基(好ましくはC2-10アルケニル基、さらに好ましくはC2-4アルケニル基)などが挙げられる。アルキニル基としては、例えば、エチニル基、プロピニル基などのC2-20アルキニル基(好ましくはC2-10アルキニル基、さらに好ましくはC2-4アルキニル基)などが挙げられる。 Examples of the aliphatic hydrocarbon group include an alkyl group, an alkenyl group, and an alkynyl group. Examples of the alkyl group include C 1-20 alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, hexyl group, octyl group, isooctyl group, decyl group, dodecyl group (preferably C 1- 10 alkyl group, more preferably C 1-4 alkyl group). Examples of the alkenyl group include a vinyl group, allyl group, methallyl group, 1-propenyl group, isopropenyl group, 1-butenyl group, 2-butenyl group, 3-butenyl group, 1-pentenyl group, 2-pentenyl group, C 2-20 alkenyl groups (preferably C 2-10 alkenyl groups, more preferably C 2-4 alkenyl groups) such as 3-pentenyl group, 4-pentenyl group, 5-hexenyl group and the like can be mentioned. Examples of the alkynyl group include C 2-20 alkynyl groups such as ethynyl group and propynyl group (preferably C 2-10 alkynyl group, more preferably C 2-4 alkynyl group).

上記脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロドデシル基などのC3-12のシクロアルキル基;シクロヘキセニル基などのC3-12のシクロアルケニル基;ビシクロヘプタニル基、ビシクロヘプテニル基などのC4-15の架橋環式炭化水素基などが挙げられる。 Examples of the alicyclic hydrocarbon group include a C 3-12 cycloalkyl group such as a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, and a cyclododecyl group; a C 3-12 cyclo group such as a cyclohexenyl group. An alkenyl group; a C 4-15 bridged cyclic hydrocarbon group such as a bicycloheptanyl group and a bicycloheptenyl group.

上記芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基等のC6-14アリール基(特に、C6-10アリール基)などが挙げられる。 As said aromatic hydrocarbon group, C6-14 aryl groups (especially C6-10 aryl group), such as a phenyl group and a naphthyl group, etc. are mentioned, for example.

また、脂肪族炭化水素基と脂環式炭化水素基とが結合した基として、例えば、シクロへキシルメチル基、メチルシクロヘキシル基などが挙げられる。脂肪族炭化水素基と芳香族炭化水素基とが結合した基として、ベンジル基、フェネチル基等のC7-18アラルキル基(特に、C7-10アラルキル基)、シンナミル基等のC6-10アリール−C2-6アルケニル基、トリル基等のC1-4アルキル置換アリール基、スチリル基等のC2-4アルケニル置換アリール基などが挙げられる。 Examples of the group in which an aliphatic hydrocarbon group and an alicyclic hydrocarbon group are bonded include a cyclohexylmethyl group and a methylcyclohexyl group. Examples of the group in which an aliphatic hydrocarbon group and an aromatic hydrocarbon group are bonded include a C 7-18 aralkyl group (particularly a C 7-10 aralkyl group) such as a benzyl group and a phenethyl group, and a C 6-10 such as a cinnamyl group. Examples thereof include C 1-4 alkyl-substituted aryl groups such as aryl-C 2-6 alkenyl group and tolyl group, and C 2-4 alkenyl-substituted aryl groups such as styryl group.

上記Raにおける炭化水素基は置換基を有していてもよい。上記炭化水素基における置換基の炭素数は0〜20、好ましくは0〜10である。該置換基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子;ヒドロキシル基;メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基;アリルオキシ基等のアルケニルオキシ基;フェノキシ基等のアリールオキシ基;ベンジルオキシ基等のアラルキルオキシ基;アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、(メタ)アクリロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等のアシルオキシ基;メルカプト基;メチルチオ基、エチルチオ基等のアルキルチオ基;アリルチオ基等のアルケニルチオ基;フェニルチオ基等のアリールチオ基;ベンジルチオ基等のアラルキルチオ基;カルボキシル基;メトキシカルボニル、エトキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基;フェニルオキシカルボニル基等のアリールオキシカルボニル基;ベンジルオキシカルボニル基等のアラルキルオキシカルボニル基;アミノ基;メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基等のモノ又はジアルキルアミノ基;アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基等のアシルアミノ基;グリシジルオキシ基等のエポキシ基含有基;エチルオキセタニルオキシ基等のオキセタニル基含有基;アセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基等のアシル基;オキソ基;これらの2以上が必要に応じてC1-6アルキレン基を介して結合した基などが挙げられる。 The hydrocarbon group for R a may have a substituent. Carbon number of the substituent in the said hydrocarbon group is 0-20, Preferably it is 0-10. Examples of the substituent include halogen atoms such as fluorine atom, chlorine atom and bromine atom; hydroxyl group; alkoxy group such as methoxy group and ethoxy group; alkenyloxy group such as allyloxy group; aryloxy group such as phenoxy group; Aralkyloxy groups such as benzyloxy groups; Acyloxy groups such as acetyloxy groups, propionyloxy groups, (meth) acryloyloxy groups and benzoyloxy groups; mercapto groups; alkylthio groups such as methylthio groups and ethylthio groups; alkenyl groups such as allylthio groups Thio group; arylthio group such as phenylthio group; aralkylthio group such as benzylthio group; carboxyl group; alkoxycarbonyl group such as methoxycarbonyl and ethoxycarbonyl group; aryloxycarbonyl group such as phenyloxycarbonyl group; Aralkyloxycarbonyl groups such as cycarbonyl groups; amino groups; mono- or dialkylamino groups such as methylamino groups, dimethylamino groups and diethylamino groups; acylamino groups such as acetylamino groups and benzoylamino groups; epoxy groups such as glycidyloxy groups Containing group; Oxetanyl group-containing group such as ethyl oxetanyloxy group; Acyl group such as acetyl group, propionyl group, benzoyl group; oxo group; two or more of these are bonded via a C 1-6 alkylene group as necessary Group and the like.

上記Raにおけるアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、イソブチルオキシ基等のC1-6アルコキシ基(好ましくはC1-4アルコキシ基)などが挙げられる。アルケニルオキシ基としては、例えば、アリルオキシ基等のC2-6アルケニルオキシ基(好ましくはC2-4アルケニルオキシ基)などが挙げられる。アリールオキシ基としては、例えば、フェノキシ基、トリルオキシ基、ナフチルオキシ基等の、芳香環にC1-4アルキル基、C2-4アルケニル基、ハロゲン原子、C1-4アルコキシ基等の置換基を有していてもよいC6-14アリールオキシ基などが挙げられる。アラルキルオキシ基としては、例えば、ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基等のC7-18アラルキルオキシ基などが挙げられる。アシルオキシ基としては、例えば、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等のC1-12アシルオキシ基などが挙げられる。 Examples of the alkoxy group in R a include a C 1-6 alkoxy group (preferably a C 1-4 alkoxy group) such as a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, an isopropyloxy group, a butoxy group, and an isobutyloxy group. Can be mentioned. Examples of the alkenyloxy group include a C 2-6 alkenyloxy group (preferably a C 2-4 alkenyloxy group) such as an allyloxy group. Examples of the aryloxy group include substituents such as a C 1-4 alkyl group, a C 2-4 alkenyl group, a halogen atom, and a C 1-4 alkoxy group on the aromatic ring, such as a phenoxy group, a tolyloxy group, and a naphthyloxy group. And a C 6-14 aryloxy group which may have. Examples of the aralkyloxy group include C 7-18 aralkyloxy groups such as benzyloxy group and phenethyloxy group. Examples of the acyloxy group include C 1-12 acyloxy groups such as acetyloxy group, propionyloxy group, and benzoyloxy group.

アルキルチオ基としては、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基等のC1-6アルキルチオ基(好ましくはC1-4アルキルチオ基)などが挙げられる。アルケニルチオ基としては、アリルチオ基等のC2-6アルケニルチオ基(好ましくはC2-4アルケニルチオ基)などが挙げられる。アリールチオ基としては、例えば、フェニルチオ基、トリルチオ基、ナフチルチオ基等の、芳香環にC1-4アルキル基、C2-4アルケニル基、ハロゲン原子、C1-4アルコキシ基等の置換基を有していてもよいC6-14アリールチオ基などが挙げられる。アラルキルチオ基としては、例えば、ベンジルチオ基、フェネチルチオ基等のC7-18アラルキルチオ基などが挙げられる。アルコキシカルボニル基としては、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基等のC1-6アルコキシ−カルボニル基などが挙げられる。アリールオキシカルボニル基としては、例えば、フェノキシカルボニル基、トリルオキシカルボニル基、ナフチルオキシカルボニル基等のC6-14アリールオキシ−カルボニル基などが挙げられる。アラルキルオキシカルボニル基としては、例えば、ベンジルオキシカルボニル基などのC7-18アラルキルオキシ−カルボニル基などが挙げられる。モノ又はジアルキルアミノ基としては、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基等のモノ又はジ−C1-6アルキルアミノ基などが挙げられる。アシルアミノ基としては、例えば、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基、ベンゾイルアミノ基等のC1-11アシルアミノ基などが挙げられる。ハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。 Examples of the alkylthio group include C 1-6 alkylthio groups (preferably C 1-4 alkylthio groups) such as a methylthio group and an ethylthio group. Examples of the alkenylthio group include a C 2-6 alkenylthio group (preferably a C 2-4 alkenylthio group) such as an allylthio group. The arylthio group has, for example, a phenylthio group, a tolylthio group, a naphthylthio group, and the like, and an aromatic ring having a substituent such as a C 1-4 alkyl group, a C 2-4 alkenyl group, a halogen atom, a C 1-4 alkoxy group. And a C 6-14 arylthio group which may be used. Examples of the aralkylthio group include C 7-18 aralkylthio groups such as benzylthio group and phenethylthio group. Examples of the alkoxycarbonyl group include C 1-6 alkoxy-carbonyl groups such as a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, a propoxycarbonyl group, and a butoxycarbonyl group. Examples of the aryloxycarbonyl group include C 6-14 aryloxy-carbonyl groups such as a phenoxycarbonyl group, a tolyloxycarbonyl group, and a naphthyloxycarbonyl group. Examples of the aralkyloxycarbonyl group include a C 7-18 aralkyloxy-carbonyl group such as a benzyloxycarbonyl group. Examples of the mono- or dialkylamino group include mono- or di-C 1-6 alkylamino groups such as a methylamino group, an ethylamino group, a dimethylamino group, and a diethylamino group. Examples of the acylamino group include C 1-11 acylamino groups such as an acetylamino group, a propionylamino group, and a benzoylamino group. Examples of the halogen atom include a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.

上記Raにおける上記一価の酸素原子含有基としては、例えば、ヒドロキシル基、ヒドロパーオキシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、アシルオキシ基、イソシアナート基、スルホ基、カルバモイル基などが挙げられる。上記一価の窒素原子含有基としては、例えば、アミノ基又は置換アミノ基(モノ又はジアルキルアミノ基、アシルアミノ基等)、シアノ基、イソシアナート基、イソチオシアナート基、カルバモイル基などが挙げられる。また、上記一価の硫黄原子を有する化合物としては、例えば、メルカプト基(チオール基)、スルホ基、アルキルチオ基、アルケニルチオ基、アリールチオ基、アラルキルチオ基、イソチオシアナート基などが挙げられる。なお、上述の一価の有機基、一価の酸素原子含有基、一価の窒素原子含有基、一価の硫黄原子含有基は、相互に重複し得る。 Examples of the monovalent oxygen-containing group in the above R a, for example, a hydroxyl group, hydroperoxy group, an alkenyloxy group, an aryloxy group, an aralkyloxy group, an acyloxy group, an isocyanate group, a sulfo group, such as a carbamoyl group Is mentioned. Examples of the monovalent nitrogen atom-containing group include an amino group or a substituted amino group (mono or dialkylamino group, acylamino group, etc.), a cyano group, an isocyanate group, an isothiocyanate group, and a carbamoyl group. Examples of the compound having a monovalent sulfur atom include a mercapto group (thiol group), a sulfo group, an alkylthio group, an alkenylthio group, an arylthio group, an aralkylthio group, and an isothiocyanate group. The monovalent organic group, the monovalent oxygen atom-containing group, the monovalent nitrogen atom-containing group, and the monovalent sulfur atom-containing group described above can overlap each other.

さらに、上記Raとしては、下記式(3)で表される基が挙げられる。

Figure 2013056981
上記式(3)中の複数個のRcは、同一でもよいし、それぞれ異なっていてもよい。式(3)中のRcは、水素原子、ハロゲン原子、一価の有機基、一価の酸素原子含有基、一価の窒素原子含有基、又は一価の硫黄原子含有基を示し、これらの基としては、上記Raとして例示したものと同様の基が挙げられる。 Further, examples of the R a, for example, a group represented by the following formula (3).
Figure 2013056981
A plurality of R c in the above formula (3) may be the same or different. R c in formula (3) represents a hydrogen atom, a halogen atom, a monovalent organic group, a monovalent oxygen atom-containing group, a monovalent nitrogen atom-containing group, or a monovalent sulfur atom-containing group. Examples of the group include the same groups as those exemplified as Ra .

上記式(3)で表される基において、各Rcとしては、それぞれ、水素原子、C1-10アルキル基(特に、C1-4アルキル基)、C2-10アルケニル基(特に、C2-4アルキル基)、C3-12シクロアルキル基、C3-12シクロアルケニル基、芳香環にC1-4アルキル基、C2-4アルケニル基、ハロゲン原子、C1-4アルコキシ基等の置換基を有していてもよいC6-14アリール基、C7-18アラルキル基、C6-10アリール−C2-6アルケニル基、ヒドロキシル基、C1-6アルコキシ基、ハロゲン原子が好ましい。 In the group represented by the above formula (3), each R c is a hydrogen atom, a C 1-10 alkyl group (particularly a C 1-4 alkyl group), a C 2-10 alkenyl group (particularly a C 1-10 group). 2-4 alkyl group), C 3-12 cycloalkyl group, C 3-12 cycloalkenyl group, C 1-4 alkyl group, C 2-4 alkenyl group, halogen atom, C 1-4 alkoxy group on the aromatic ring, etc. A C 6-14 aryl group, a C 7-18 aralkyl group, a C 6-10 aryl-C 2-6 alkenyl group, a hydroxyl group, a C 1-6 alkoxy group, or a halogen atom, which may have a substituent of preferable.

上記の中でも、Raとしては、それぞれ、水素原子、又は、置換若しくは無置換の炭化水素基が好ましく、より好ましくは水素原子である。 Among the above, each R a is preferably a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted hydrocarbon group, more preferably a hydrogen atom.

上記式(1)における複数個のRbは、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、一価の有機基、一価の酸素原子含有基、一価の窒素原子含有基、又は一価の硫黄原子含有基を示す。即ち、複数個のRbは、同一でもよいし、それぞれ異なっていてもよい。上記ハロゲン原子、一価の有機基、一価の酸素原子含有基、一価の窒素原子含有基、一価の硫黄原子含有基としては、上記Raとして例示したものと同様の基が挙げられる。なお、式(1)中のnが2以上の整数の場合、nが付された各括弧内におけるRbは、それぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。 A plurality of R b in the above formula (1) are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a monovalent organic group, a monovalent oxygen atom-containing group, a monovalent nitrogen atom-containing group, or a monovalent sulfur. An atom-containing group is shown. That is, the plurality of R b may be the same or different. Examples of the halogen atom, monovalent organic group, monovalent oxygen atom-containing group, monovalent nitrogen atom-containing group, and monovalent sulfur atom-containing group include the same groups as those exemplified as Ra. . In addition, when n in Formula (1) is an integer greater than or equal to 2, Rb in each parenthesis to which n is attached may be the same or different.

上記の中でも、Rbとしては、それぞれ、水素原子、又は、置換若しくは無置換の炭化水素基が好ましく、より好ましくは置換又は無置換の炭化水素基、さらに好ましくはメチル基、フェニル基である。 Among the above, R b is preferably a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted hydrocarbon group, more preferably a substituted or unsubstituted hydrocarbon group, still more preferably a methyl group or a phenyl group.

上記式(1)におけるnは、1〜100の整数(好ましくは1〜30、より好ましくは1〜10、さらに好ましくは1〜5)を示す。nが大きすぎる場合、硬化物のバリア性が低下する傾向があるため、例えば、光半導体用の封止剤としては適さない場合がある。   N in the above formula (1) represents an integer of 1 to 100 (preferably 1 to 30, more preferably 1 to 10, and further preferably 1 to 5). When n is too large, there is a tendency that the barrier property of the cured product is lowered, and thus, for example, it may not be suitable as a sealant for an optical semiconductor.

本発明のラダー型シルセスキオキサンにおける、分子内(一分子中)の上記式(1)で表される構造単位の数(即ち、上記SiH含有基の数)は、特に限定されないが、2個以上(例えば、2〜50個)が好ましく、より好ましくは2〜30個である。上述の範囲で上記SiH含有基を有することにより、硬化性樹脂組成物の硬化物の耐熱性が向上する傾向がある。   In the ladder-type silsesquioxane of the present invention, the number of structural units represented by the above formula (1) in the molecule (in one molecule) (that is, the number of the SiH-containing groups) is not particularly limited. One or more (for example, 2 to 50) is preferable, and 2 to 30 is more preferable. By having the SiH-containing group within the above range, the heat resistance of the cured product of the curable resin composition tends to be improved.

なお、シルセスキオキサンとは、ポリシロキサンの一種である。ポリシロキサンとは、シロキサン結合(Si−O−Si)で構成された主鎖(骨格)を有する化合物をいい、その基本構成単位は、下記式(M)、(D)、(T)、(Q)(以下、それぞれM単位、D単位、T単位、Q単位という)に分類される。

Figure 2013056981
Silsesquioxane is a kind of polysiloxane. Polysiloxane refers to a compound having a main chain (skeleton) composed of siloxane bonds (Si—O—Si), and the basic structural units thereof are represented by the following formulas (M), (D), (T), ( Q) (hereinafter referred to as M unit, D unit, T unit, and Q unit, respectively).
Figure 2013056981

上記式中、Rはケイ素原子に結合している原子又は原子団を示す。M単位は、ケイ素原子が1個の酸素原子と結合した一価の基からなる単位であり、D単位は、ケイ素原子が2個の酸素原子と結合した二価の基からなる単位であり、T単位は、ケイ素原子が3個の酸素原子と結合した三価の基からなる単位であり、Q単位は、ケイ素原子が4個の酸素原子と結合した四価の基からなる単位である。   In the above formula, R represents an atom or atomic group bonded to a silicon atom. The M unit is a unit composed of a monovalent group in which a silicon atom is bonded to one oxygen atom, and the D unit is a unit composed of a divalent group in which a silicon atom is bonded to two oxygen atoms. The T unit is a unit composed of a trivalent group in which a silicon atom is bonded to three oxygen atoms, and the Q unit is a unit composed of a tetravalent group in which a silicon atom is bonded to four oxygen atoms.

シルセスキオキサンは、上記T単位を基本構成単位とするポリシロキサンであり、その実験式(基本構造式)は、RSiO3/2で表される。シルセスキオキサンのSi−O−Si骨格の構造としては、ランダム構造やラダー構造、カゴ構造などが知られている。本発明のラダー型シルセスキオキサンは、シルセスキオキサン骨格として、ラダー構造のSi−O−Si骨格を有するシルセスキオキサン骨格(「ラダー型シルセスキオキサン骨格」と称する場合がある)を少なくとも含む化合物である。本発明のラダー型シルセスキオキサンは、シルセスキオキサン骨格として、上記ラダー型シルセスキオキサン骨格以外のシルセスキオキサン骨格を含んでいてもよく、例えば、ラダー構造とランダム構造とを共に含むシルセスキオキサン骨格を有していてもよい。 Silsesquioxane is a polysiloxane having the T unit as a basic structural unit, and its empirical formula (basic structural formula) is represented by RSiO 3/2 . As the structure of the Si—O—Si skeleton of silsesquioxane, a random structure, a ladder structure, a cage structure, and the like are known. The ladder-type silsesquioxane of the present invention has a silsesquioxane skeleton having a Si—O—Si skeleton having a ladder structure as the silsesquioxane skeleton (sometimes referred to as “ladder-type silsesquioxane skeleton”). Is a compound containing at least The ladder-type silsesquioxane of the present invention may contain a silsesquioxane skeleton other than the ladder-type silsesquioxane skeleton as a silsesquioxane skeleton, for example, both a ladder structure and a random structure. It may have a silsesquioxane skeleton.

本発明のラダー型シルセスキオキサンは、例えば、下記式(L)で表すことができる。

Figure 2013056981
なお、上記式(L)中に示されたケイ素原子(Si)が、上記式(1)中のSiL(シルセスキオキサン骨格を構成するケイ素原子)にあたる。 The ladder-type silsesquioxane of the present invention can be represented by, for example, the following formula (L).
Figure 2013056981
The silicon atom (Si) shown in the formula (L) corresponds to Si L (silicon atom constituting the silsesquioxane skeleton) in the formula (1).

上記式(L)において、pは1以上の整数(例えば、1〜5000)であり、好ましくは1〜2000、さらに好ましくは1〜1000である。式(L)中のRとしては、上記Raとして例示したものと同様の基が例示される。但し、式(L)中のRのうち少なくとも1つ(好ましくは2つ以上)が、上記式(1)で表されるSiH含有基である。なお、上記SiH含有基が結合する位置は、特に限定されず、ラダー型シルセスキオキサンにおけるM単位を構成するケイ素原子に結合していてもよいし、T単位を構成するケイ素原子に結合していてもよい。 In said formula (L), p is an integer greater than or equal to 1 (for example, 1-5000), Preferably it is 1-2000, More preferably, it is 1-1000. Examples of R in the formula (L) include the same groups as those exemplified as Ra . However, at least one (preferably two or more) of R in the formula (L) is a SiH-containing group represented by the above formula (1). The position at which the SiH-containing group is bonded is not particularly limited, and may be bonded to the silicon atom constituting the M unit in the ladder-type silsesquioxane or bonded to the silicon atom constituting the T unit. It may be.

本発明のラダー型シルセスキオキサンは、特に限定されないが、式(L)において、Rのうち、置換又は無置換の炭化水素基が50モル%以上(より好ましくは80モル%以上、特に好ましくは90モル%以上)占めることが好ましい。特に、置換又は無置換の、炭素数1〜10のアルキル基(特に、メチル基、エチル基等の炭素数1〜4のアルキル基)、炭素数6〜10のアリール基(特に、フェニル基)、炭素数7〜10のアラルキル基(特に、ベンジル基)が合計で50モル%以上(より好ましくは80モル%以上、特に好ましくは90モル%以上)占めることが好ましい。   The ladder-type silsesquioxane of the present invention is not particularly limited. In the formula (L), in R, a substituted or unsubstituted hydrocarbon group is 50 mol% or more (more preferably 80 mol% or more, particularly preferably). Is preferably 90 mol% or more). Particularly, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms (particularly an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms such as a methyl group or an ethyl group), an aryl group having 6 to 10 carbon atoms (particularly a phenyl group). It is preferable that the aralkyl group having 7 to 10 carbon atoms (particularly benzyl group) occupies 50 mol% or more (more preferably 80 mol% or more, particularly preferably 90 mol% or more).

本発明のラダー型シルセスキオキサン中のヒドロシリル基(SiH基)の含有量は、特に限定されないが、0.01〜0.5mmol/gが好ましく、より好ましくは0.08〜0.28mmol/gである。また、本発明のラダー型シルセスキオキサン中のヒドロシリル基(SiH基)の重量基準の含有量は、特に限定されないが、SiH基におけるH(ヒドリド)の重量換算(H換算)で、0.01〜0.50重量%が好ましく、より好ましくは0.08〜0.28重量%である。ヒドロシリル基の含有量が少なすぎると(例えば、0.01mmol/g未満、H換算で0.01重量%未満の場合)、硬化性樹脂組成物の硬化が進行しない場合がある。一方、ヒドロシリル基の含有量が多すぎると(例えば、0.50mmol/gを超える、H換算で0.50重量%を超える場合)、硬化物の硬度が硬くなり、割れやすくなる場合がある。なお、本発明のラダー型シルセスキオキサンにおけるヒドロシリル基の含有量は、例えば、1H−NMRなどによって測定することができる。 The content of the hydrosilyl group (SiH group) in the ladder-type silsesquioxane of the present invention is not particularly limited, but is preferably 0.01 to 0.5 mmol / g, more preferably 0.08 to 0.28 mmol / g. Further, the content by weight of the hydrosilyl group (SiH group) in the ladder-type silsesquioxane of the present invention is not particularly limited, but is 0.0 (in terms of H) in terms of H (hydride) in the SiH group. The content is preferably from 01 to 0.50% by weight, more preferably from 0.08 to 0.28% by weight. If the content of the hydrosilyl group is too small (for example, less than 0.01 mmol / g and less than 0.01% by weight in terms of H), curing of the curable resin composition may not proceed. On the other hand, when there is too much content of a hydrosilyl group (for example, when it exceeds 0.50 mmol / g, when it exceeds 0.50 weight% in conversion of H), the hardness of hardened | cured material may become hard and it may become easy to crack. In addition, content of the hydrosilyl group in the ladder type silsesquioxane of this invention can be measured by < 1 > H-NMR etc., for example.

なお、本発明のラダー型シルセスキオキサン中のヒドロシリル基の全量(100モル%)に対するSiH含有基の含有量は、特に限定されないが、硬化度の観点で、50〜100モル%が好ましく、より好ましくは80〜100モル%である。   The content of the SiH-containing group with respect to the total amount of hydrosilyl groups (100 mol%) in the ladder-type silsesquioxane of the present invention is not particularly limited, but is preferably 50 to 100 mol% from the viewpoint of the degree of curing. More preferably, it is 80-100 mol%.

本発明のラダー型シルセスキオキサンの分子量は、特に限定されないが、100〜80万が好ましく、より好ましくは200〜10万、さらに好ましくは300〜3万、特に好ましくは1000〜20000である。分子量が100未満であると、硬化物の耐熱性が低下する場合がある。一方、分子量が80万を超えると、液状では無くなり、他の化合物との相溶性が下がる場合がある。なお、本発明のラダー型シルセスキオキサンは、上記範囲の種々の分子量を有するものの混合物であってもよい。なお、上記分子量は、例えば、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィーによるポリスチレン換算の分子量として算出することができる。   The molecular weight of the ladder-type silsesquioxane of the present invention is not particularly limited, but is preferably from 100 to 800,000, more preferably from 200 to 100,000, still more preferably from 300 to 30,000, particularly preferably from 1000 to 20000. If the molecular weight is less than 100, the heat resistance of the cured product may decrease. On the other hand, when the molecular weight exceeds 800,000, it is no longer liquid and compatibility with other compounds may be reduced. The ladder-type silsesquioxane of the present invention may be a mixture having various molecular weights in the above range. The molecular weight can be calculated, for example, as a molecular weight in terms of polystyrene by gel permeation chromatography.

本発明のラダー型シルセスキオキサンの重量平均分子量は、特に限定されないが、100〜80万が好ましく、より好ましくは200〜10万、さらに好ましくは300〜3万、特に好ましくは1000〜8000である。なお、上記重量平均分子量は、例えば、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィーにより測定した分子量(ポリスチレン換算)に基づいて算出できる。   The weight-average molecular weight of the ladder-type silsesquioxane of the present invention is not particularly limited, but is preferably 100 to 800,000, more preferably 200 to 100,000, still more preferably 300 to 30,000, and particularly preferably 1000 to 8,000. is there. In addition, the said weight average molecular weight is computable based on the molecular weight (polystyrene conversion) measured by the gel permeation chromatography, for example.

本発明のラダー型シルセスキオキサンは、特に限定されないが、常温(約25℃)で液体であることが好ましい。より具体的には、本発明のラダー型シルセスキオキサンは、23℃における粘度として、100〜100000mPa・sが好ましく、より好ましくは500〜10000mPa・s、さらに好ましくは1000〜8000mPa・sである。粘度が100mPa・s未満であると、硬化物の耐熱性が低下する場合がある。一方、粘度が100000mPa・sを超えると、硬化性樹脂組成物の調製や取り扱いが困難となる場合がある。なお、23℃における粘度は、例えば、レオーメーター(商品名「Physica UDS−200」、Anton Paar社製)とコーンプレート(円錐直径:16mm、テーパ角度=0°)を用いて、温度:23℃、回転数:20rpmの条件で測定することができる。   The ladder-type silsesquioxane of the present invention is not particularly limited, but is preferably liquid at normal temperature (about 25 ° C.). More specifically, the ladder-type silsesquioxane of the present invention has a viscosity at 23 ° C. of preferably 100 to 100,000 mPa · s, more preferably 500 to 10,000 mPa · s, and still more preferably 1000 to 8000 mPa · s. . If the viscosity is less than 100 mPa · s, the heat resistance of the cured product may decrease. On the other hand, when the viscosity exceeds 100,000 mPa · s, it may be difficult to prepare and handle the curable resin composition. The viscosity at 23 ° C. is, for example, using a rheometer (trade name “Physica UDS-200”, manufactured by Anton Paar) and a cone plate (cone diameter: 16 mm, taper angle = 0 °), temperature: 23 ° C. The number of rotations can be measured under the condition of 20 rpm.

本発明のラダー型シルセスキオキサンの製造方法は、特に限定されないが、生産性や原料入手性の観点から、分子内に脂肪族炭素−炭素二重結合を有するラダー型シルセスキオキサン(「ビニル型ラダーシルセスキオキサン」と称する場合がある)と、下記式(2)で表される化合物

Figure 2013056981
[式(2)中、Rb、nは、前記に同じ。]
とを、ヒドロシリル化触媒の存在下で反応させる工程(「反応工程」と称する場合がある)を少なくとも含む方法が好ましい。 The method for producing the ladder-type silsesquioxane of the present invention is not particularly limited. However, from the viewpoint of productivity and availability of raw materials, a ladder-type silsesquioxane having an aliphatic carbon-carbon double bond in the molecule (“ And may be referred to as “vinyl-type ladder silsesquioxane”) and a compound represented by the following formula (2):
Figure 2013056981
[In formula (2), R b and n are the same as above. ]
Is preferably included in the presence of a hydrosilylation catalyst (sometimes referred to as “reaction step”).

上記ビニル型ラダーシルセスキオキサンとしては、末端又は側鎖に脂肪族炭素−炭素二重結合を有するラダー型シルセスキオキサンであればよく、特に限定されないが、例えば、上記式(L)で表されるラダー型シルセスキオキサンにおいて、Rのうち少なくとも1つ(好ましくは2つ以上)が脂肪族炭素−炭素二重結合を有する基である化合物などが挙げられる。なお、上記ビニル型ラダーシルセスキオキサンは、ラダー型シルセスキオキサン骨格以外のシルセスキオキサン骨格を含んでいてもよく、例えば、ラダー構造とランダム構造とを共に含むシルセスキオキサン骨格を有していてもよい。   The vinyl-type ladder silsesquioxane is not particularly limited as long as it is a ladder-type silsesquioxane having an aliphatic carbon-carbon double bond at the terminal or side chain. For example, in the above formula (L) In the ladder-type silsesquioxane represented, a compound in which at least one of R (preferably two or more) is a group having an aliphatic carbon-carbon double bond is exemplified. The vinyl-type ladder silsesquioxane may contain a silsesquioxane skeleton other than the ladder-type silsesquioxane skeleton, for example, a silsesquioxane skeleton containing both a ladder structure and a random structure. You may have.

上記脂肪族炭素−炭素二重結合を有する基としては、例えば、ビニル基、アリル基、メタリル基、1−プロペニル基、イソプロペニル基、1−ブテニル基、2−ブテニル基、3−ブテニル基、1−ペンテニル基、2−ペンテニル基、3−ペンテニル基、4−ペンテニル基、5−ヘキセニル基などのC2-20アルケニル基(好ましくはC2-10アルケニル基、さらに好ましくはC2-4アルケニル基);シクロヘキセニル基などのC3-12のシクロアルケニル基;ビシクロヘプテニル基などのC4-15架橋環式不飽和炭化水素基;スチリル基等のC2-4アルケニル置換アリール基;シンナミル基などが挙げられる。なお、脂肪族炭素−炭素二重結合を有する基には、上記式(3)で表される基において、3つのRcのうち少なくとも1つが上記のC2-20アルケニル基、C3-12のシクロアルケニル基、C4-15の架橋環式不飽和炭化水素基、C2-4アルケニル置換アリール基、シンナミル基等である基も含まれる。 Examples of the group having an aliphatic carbon-carbon double bond include a vinyl group, allyl group, methallyl group, 1-propenyl group, isopropenyl group, 1-butenyl group, 2-butenyl group, 3-butenyl group, C 2-20 alkenyl groups (preferably C 2-10 alkenyl groups, more preferably C 2-4 alkenyl groups) such as 1-pentenyl group, 2-pentenyl group, 3-pentenyl group, 4-pentenyl group and 5-hexenyl group Group); C 3-12 cycloalkenyl group such as cyclohexenyl group; C 4-15 bridged cyclic unsaturated hydrocarbon group such as bicycloheptenyl group; C 2-4 alkenyl-substituted aryl group such as styryl group; cinnamyl Group and the like. In the group having an aliphatic carbon-carbon double bond, in the group represented by the above formula (3), at least one of three R c is the above C 2-20 alkenyl group, C 3-12. And a group such as a C 4-15 bridged cyclic unsaturated hydrocarbon group, a C 2-4 alkenyl substituted aryl group, a cinnamyl group, and the like.

具体的には、上記ビニル型ラダーシルセスキオキサンとしては、例えば、下記式(4)で表される構造(構造単位)を少なくとも有するラダー型シルセスキオキサンなどが挙げられる。

Figure 2013056981
[式(4)中、SiL、X、Raは、前記に同じ。] Specifically, examples of the vinyl-type ladder silsesquioxane include ladder-type silsesquioxane having at least a structure (structural unit) represented by the following formula (4).
Figure 2013056981
[In the formula (4), Si L , X, and R a are the same as described above. ]

上記ビニル型ラダーシルセスキオキサンにおける、分子内(一分子中)の脂肪族炭素−炭素二重結合の数は、特に限定されないが、2個以上(例えば、2〜50個)が好ましく、より好ましくは2〜30個である。上述の範囲で脂肪族炭素−炭素二重結合を有することにより、本発明のラダー型シルセスキオキサンが有するSiH基の量を適切な範囲に制御することが容易となる場合がある。   The number of aliphatic carbon-carbon double bonds in the molecule (in one molecule) in the vinyl-type ladder silsesquioxane is not particularly limited, but is preferably 2 or more (for example, 2 to 50), more Preferably it is 2-30. By having an aliphatic carbon-carbon double bond within the above-mentioned range, it may be easy to control the amount of SiH group of the ladder-type silsesquioxane of the present invention within an appropriate range.

上記ビニル型ラダーシルセスキオキサンの分子量は、特に限定されないが、100〜80万が好ましく、より好ましくは200〜10万、さらに好ましくは300〜1万、特に好ましくは500〜6000である。上記ビニル型ラダーシルセスキオキサンの分子量がこの範囲にあると、室温で液体であり、なおかつその粘度が比較的低いため、取り扱いが容易となる場合がある。なお、上記ビニル型ラダーシルセスキオキサンは、上記範囲の種々の分子量を有するものの混合物であってもよい。   The molecular weight of the vinyl ladder silsesquioxane is not particularly limited, but is preferably from 100 to 800,000, more preferably from 200 to 100,000, still more preferably from 300 to 10,000, and particularly preferably from 500 to 6000. When the molecular weight of the vinyl-type ladder silsesquioxane is within this range, it is liquid at room temperature, and its viscosity is relatively low, so that handling may be easy. The vinyl-type ladder silsesquioxane may be a mixture having various molecular weights in the above range.

上記ビニル型ラダーシルセスキオキサン中の脂肪族炭素−炭素二重結合の含有量は、特に限定されないが、0.7〜5.5mmol/gが好ましく、より好ましくは1.1〜4.4mmol/gである。また、上記ビニル型ラダーシルセスキオキサンに含まれる脂肪族炭素−炭素二重結合の割合(重量基準)は、特に限定されないが、例えば、ビニル基換算で、2.0〜15.0重量%、好ましくは3.0〜12.0重量%である。   The content of the aliphatic carbon-carbon double bond in the vinyl type ladder silsesquioxane is not particularly limited, but is preferably 0.7 to 5.5 mmol / g, more preferably 1.1 to 4.4 mmol. / G. Moreover, the ratio (weight basis) of the aliphatic carbon-carbon double bond contained in the vinyl-type ladder silsesquioxane is not particularly limited, but is, for example, 2.0 to 15.0% by weight in terms of vinyl group. Preferably, it is 3.0 to 12.0% by weight.

上記ビニル型ラダーシルセスキオキサンは、公知の方法により製造できる。上記ビニル型ラダーシルセスキオキサンは、例えば、[1]脂肪族炭素−炭素二重結合を有する加水分解性シランの加水分解・縮合反応(ゾルゲル反応)、[2]加水分解性基を有するラダー型シルセスキオキサンと脂肪族炭素−炭素二重結合を有するシラン化合物との反応などにより得ることができる。   The vinyl ladder silsesquioxane can be produced by a known method. The vinyl type ladder silsesquioxane includes, for example, [1] hydrolysis / condensation reaction (sol-gel reaction) of hydrolyzable silane having an aliphatic carbon-carbon double bond, [2] ladder having a hydrolyzable group. It can be obtained by reaction of a type silsesquioxane with a silane compound having an aliphatic carbon-carbon double bond.

上述の[1]脂肪族炭素−炭素二重結合を有する加水分解性シランの加水分解・縮合反応(ゾルゲル反応)によるビニル型ラダーシルセスキオキサンの製造方法としては、例えば、下記式(5a)

Figure 2013056981
[式(5a)中、R1は脂肪族炭素−炭素二重結合を有する基を示し、3つのYは、同一又は異なって、加水分解性基又はヒドロキシル基を示す。]
で表される加水分解性シラン化合物の1種若しくは2種以上を、又は、上記式(5a)で表される加水分解性シラン化合物の1種若しくは2種以上と下記式(6a)若しくは(6a’)
Figure 2013056981
[式(6a)及び(6a’)中、R2は前記Rに同じ。複数個のR2は同一でもよいし、それぞれ異なっていてもよい。Yは前記に同じ。]
で表されるシラン化合物の1種若しくは2種以上とを、加水分解・縮合反応(ゾルゲル反応)に付す方法が挙げられる。 [1] As a method for producing a vinyl-type ladder silsesquioxane by hydrolysis / condensation reaction (sol-gel reaction) of a hydrolyzable silane having an aliphatic carbon-carbon double bond, for example, the following formula (5a)
Figure 2013056981
[In formula (5a), R 1 represents a group having an aliphatic carbon-carbon double bond, and three Ys are the same or different and each represent a hydrolyzable group or a hydroxyl group. ]
Or one or more hydrolyzable silane compounds represented by the above formula (5a) and the following formula (6a) or (6a): ')
Figure 2013056981
[In the formulas (6a) and (6a ′), R 2 is the same as R. A plurality of R 2 may be the same or different. Y is the same as above. ]
The method of attaching | subjecting 1 type, or 2 or more types of the silane compound represented by these to a hydrolysis and condensation reaction (sol-gel reaction) is mentioned.

また、上記ビニル型ラダーシルセスキオキサンは、例えば、下記式(5b)

Figure 2013056981
[式(5b)中、R3は前記Rに同じ。3つのYは、同一又は異なって、加水分解性基又はヒドロキシル基を示す。]
で表される加水分解性シラン化合物の1種若しくは2種以上と、下記式(6b)若しくは(6b’)
Figure 2013056981
[式(6b)及び(6b’)中、R4は、前記Rに同じ。複数個のR4は同一でもよいし、それぞれ異なっていてもよい。但し、式(6b)、(6b’)のそれぞれにおいて、R4のうち少なくとも1つは脂肪族炭素−炭素二重結合を有する基である。]
で表されるシラン化合物の1種若しくは2種以上とを、加水分解・縮合反応(ゾルゲル反応)に付すことにより得ることができる。 The vinyl ladder silsesquioxane is, for example, the following formula (5b)
Figure 2013056981
[In formula (5b), R 3 is the same as R. Three Y's are the same or different and each represents a hydrolyzable group or a hydroxyl group. ]
And one or more hydrolyzable silane compounds represented by the following formula (6b) or (6b ′)
Figure 2013056981
[In the formulas (6b) and (6b ′), R 4 is the same as the above R. A plurality of R 4 may be the same or different. However, in each of the formulas (6b) and (6b ′), at least one of R 4 is a group having an aliphatic carbon-carbon double bond. ]
It can obtain by attaching | subjecting 1 type, or 2 or more types of the silane compound represented by these to a hydrolysis and condensation reaction (sol-gel reaction).

また、上記ビニル型ラダーシルセスキオキサンは、例えば、上記式(5a)で表される加水分解性シラン化合物の1種若しくは2種以上と、上記式(6b)若しくは(6b’)で表されるシラン化合物の1種若しくは2種以上とを、加水分解・縮合反応(ゾルゲル反応)に付すことによっても得ることができる。   The vinyl ladder silsesquioxane is represented by, for example, one or more hydrolyzable silane compounds represented by the above formula (5a) and the above formula (6b) or (6b ′). It can also be obtained by subjecting one or more silane compounds to a hydrolysis / condensation reaction (sol-gel reaction).

なお、式(5a)、(5b)で表される加水分解性シラン化合物は、上記ビニル型ラダーシルセスキオキサンのT単位の形成に用いられ、式(6a)、(6a’)、(6b)、(6b’)で表されるシラン化合物は、末端封止剤として機能し、上記ビニル型ラダーシルセスキオキサンのM単位の形成に用いられる。   The hydrolyzable silane compounds represented by the formulas (5a) and (5b) are used for forming the T unit of the vinyl ladder silsesquioxane, and are represented by the formulas (6a), (6a ′), (6b). The silane compound represented by (6b ′) functions as an end-capping agent and is used for forming the M unit of the vinyl ladder silsesquioxane.

Yにおける加水分解性基としては、加水分解及びシラノール縮合によりシロキサン結合を形成しうる基であればよく、例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子;メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等のC1-10アルコキシ基;アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等のC1-10アシルオキシ基等が挙げられる。これらの中でも、塩素原子、C1-4アルコキシ基が好ましい。 The hydrolyzable group in Y may be a group that can form a siloxane bond by hydrolysis and silanol condensation, such as halogen atoms such as chlorine atom, bromine atom, iodine atom; methoxy group, ethoxy group, propoxy group C 1-10 alkoxy groups such as C 1-10 acyloxy groups such as acetyloxy group, propionyloxy group and benzoyloxy group. Among these, a chlorine atom and a C 1-4 alkoxy group are preferable.

上述の加水分解・縮合反応は、例えば、シラノール縮合触媒の存在下、水又は水と有機溶媒との混合溶媒中で、上記シラン化合物をシラノール縮合させ、反応中又は反応後に、溶媒及び/又は副生物(アルコールなど)を留去することにより行うことができる。反応温度は、−78〜150℃、好ましくは−20〜100℃である。水の使用量は、シラン化合物の合計1モルに対して、1モル以上(例えば、1〜20モル、好ましくは1〜10モル)である。   The hydrolysis / condensation reaction described above is carried out, for example, by silanol condensation of the silane compound in water or a mixed solvent of water and an organic solvent in the presence of a silanol condensation catalyst, and during and after the reaction, It can be carried out by distilling off organisms (such as alcohol). The reaction temperature is -78 to 150 ° C, preferably -20 to 100 ° C. The usage-amount of water is 1 mol or more (for example, 1-20 mol, Preferably it is 1-10 mol) with respect to 1 mol of total of a silane compound.

上記有機溶媒としては、例えば、ヘキサン、ヘプタン、オクタンなどの脂肪族炭化水素;シクロヘキサンなどの脂環式炭化水素;ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼンなどの芳香族炭化水素;クロロホルム、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素;ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチルなどのエステル;N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドなどのアミド;アセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリルなどのニトリル;メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノールなどのアルコール;これらの混合溶媒などが挙げられる。有機溶媒の使用量は、シラン化合物の合計1容量部に対して、例えば、0.5〜30容量部である。   Examples of the organic solvent include aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, and octane; alicyclic hydrocarbons such as cyclohexane; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, and ethylbenzene; chloroform, dichloromethane, 1, 2 Halogenated hydrocarbons such as dichloroethane; ethers such as diethyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran, dioxane; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone; esters such as methyl acetate, ethyl acetate, isopropyl acetate, butyl acetate; Amides such as N-dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide; Nitriles such as acetonitrile, propionitrile and benzonitrile; Methanol, ethanol, isopropyl alcohol and butano Alcohols such as Le; and mixed solvents thereof. The usage-amount of an organic solvent is 0.5-30 volume parts with respect to a total of 1 volume part of a silane compound, for example.

上記シラノール縮合触媒としては、例えば、酸触媒、塩基触媒を用いることができる。酸触媒として、例えば、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸、ホウ酸等の鉱酸;リン酸エステル;酢酸、トリフルオロ酢酸等のカルボン酸;メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸等のスルホン酸;活性白土等の固体酸;塩化鉄等のルイス酸などが挙げられる。塩基触媒として、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物;水酸化バリウム、水酸化マグネシウム等のアルカリ土類金属の水酸化物;炭酸ナトリウム等のアルカリ金属炭酸塩;炭酸バリウム、炭酸マグネシウム等のアルカリ土類金属炭酸塩;炭酸水素ナトリウム等のアルカリ金属炭酸水素塩;ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド等のアルカリ金属アルコキシド;バリウムメトキシド等のアルカリ土類金属アルコキシド;ナトリウムフェノキシド等のアルカリ金属フェノキシド;テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド等のテトラアルキルアンモニウムヒドロキシドなどの第4級アンモニウムヒドロキシド;テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルホスホニウムヒドロキシド等のテトラアルキルホスホニウムヒドロキシドなどの第4級ホスホニウムヒドロキシド;トリエチルアミン、N−メチルピペリジン、4−ジメチルアミノピリジン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン(DBU)等の第3級アミンなどのアミン;ピリジン等の含窒素芳香族複素環化合物などが挙げられる。また、シラノール縮合触媒として、テトラブチルアンモニウムフルオライド、フッ化カリウム、フッ化ナトリウムなどのフッ素化合物を用いることもできる。   As the silanol condensation catalyst, for example, an acid catalyst or a base catalyst can be used. Examples of the acid catalyst include mineral acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, phosphoric acid, and boric acid; phosphoric acid esters; carboxylic acids such as acetic acid and trifluoroacetic acid; methanesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid, and p-toluenesulfonic acid. Sulfonic acids such as activated clay; solid acids such as activated clay; Lewis acids such as iron chloride. Examples of the base catalyst include alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide; hydroxides of alkaline earth metals such as barium hydroxide and magnesium hydroxide; alkali metal carbonates such as sodium carbonate; barium carbonate Alkaline earth metal carbonates such as magnesium carbonate; alkali metal hydrogen carbonates such as sodium hydrogen carbonate; alkali metal alkoxides such as sodium methoxide and sodium ethoxide; alkaline earth metal alkoxides such as barium methoxide; sodium phenoxide and the like Alkali metal phenoxides; quaternary ammonium hydroxides such as tetramethylammonium hydroxide and tetrabutylammonium hydroxide; tetramethylammonium hydroxide; Quaternary phosphonium hydroxides such as tetraalkylphosphonium hydroxides such as ruphosphonium hydroxide; triethylamine, N-methylpiperidine, 4-dimethylaminopyridine, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene ( DBU) and other amines such as tertiary amines; and nitrogen-containing aromatic heterocyclic compounds such as pyridine. Moreover, fluorine compounds, such as tetrabutylammonium fluoride, potassium fluoride, sodium fluoride, can also be used as a silanol condensation catalyst.

反応生成物は、例えば、水洗、酸洗浄、アルカリ洗浄、濾過、濃縮、蒸留、抽出、晶析、再結晶、カラムクロマトグラフィーなどの分離手段や、これらを組み合わせた分離手段により分離精製できる。   The reaction product can be separated and purified by separation means such as water washing, acid washing, alkali washing, filtration, concentration, distillation, extraction, crystallization, recrystallization, column chromatography, etc., or a combination of these.

また、上述の[2]加水分解性基を有するラダー型シルセスキオキサンと脂肪族炭素−炭素二重結合を有するシラン化合物との反応によるビニル型ラダーシルセスキオキサンの製造方法としては、例えば、加水分解性基又はヒドロキシル基を1以上有するラダー型シルセスキオキサンと、下記式(7)で表されるシラン化合物

Figure 2013056981
[式(7)中、R5は前記Rに同じ。3つのR5は同一でもよいし、それぞれ異なっていてもよい。但し、R5のうち少なくとも1つは脂肪族炭素−炭素二重結合を有する基である。Yは前記に同じ。]
の1種又は2種以上とを反応させる方法などが挙げられる。 Moreover, as a manufacturing method of the vinyl type ladder silsesquioxane by reaction with the above-mentioned [2] ladder type silsesquioxane which has a hydrolyzable group, and the silane compound which has an aliphatic carbon-carbon double bond, A ladder-type silsesquioxane having one or more hydrolyzable groups or hydroxyl groups, and a silane compound represented by the following formula (7)
Figure 2013056981
[In the formula (7), R 5 is the same as R. The three R 5 may be the same or different from each other. However, at least one of R 5 is a group having an aliphatic carbon-carbon double bond. Y is the same as above. ]
The method of making these 1 type, or 2 or more types react is mentioned.

上記加水分解性基又はヒドロキシル基を1以上有するラダー型シルセスキオキサンにおける加水分解性基、上記式(7)で表されるシラン化合物のYにおける加水分解性基、R5における脂肪族炭素−炭素二有結合を有する基は、前述の加水分解性基、脂肪族炭素−炭素二重結合を有する基と同様のものが挙げられる。上記加水分解性基又はヒドロキシル基を1以上有するラダー型シルセスキオキサンにおける加水分解性基としては、メトキシ基、エトキシ基等のC1-4アルコキシ基が特に好ましい。 The hydrolyzable group in ladder-type silsesquioxane having one or more hydrolyzable groups or hydroxyl groups, the hydrolyzable group in Y of the silane compound represented by the above formula (7), the aliphatic carbon in R 5- Examples of the group having a carbon double bond include the same groups as the hydrolyzable group and the group having an aliphatic carbon-carbon double bond. As the hydrolyzable group in the ladder-type silsesquioxane having one or more hydrolyzable groups or hydroxyl groups, a C 1-4 alkoxy group such as a methoxy group or an ethoxy group is particularly preferable.

上記式(7)で表されるシラン化合物において、脂肪族炭素−炭素二重結合を有する基を除く残りのR5としては、同一又は異なって、置換又は無置換の、炭素数1〜10のアルキル基(特に、メチル、エチル基等の炭素数1〜4のアルキル基)、炭素数6〜10のアリール基(特に、フェニル基)、又は炭素数7〜10のアラルキル基(特に、ベンジル基)であるのが好ましい。 In the silane compound represented by the above formula (7), the remaining R 5 excluding the group having an aliphatic carbon-carbon double bond is the same or different, and is substituted or unsubstituted, having 1 to 10 carbon atoms. An alkyl group (particularly an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms such as methyl and ethyl groups), an aryl group having 6 to 10 carbon atoms (particularly a phenyl group), or an aralkyl group having 7 to 10 carbon atoms (particularly a benzyl group). ) Is preferred.

上記式(7)で表されるシラン化合物として、より具体的には、モノハロゲン化ビニルシラン、モノハロゲン化アリルシラン、モノハロゲン化3−ブテニルシラン、モノアルコキシビニルシラン、モノアルコキシアリルシラン、モノアルコキシ3−ブテニルシランなどが挙げられる。   More specifically, examples of the silane compound represented by the above formula (7) include monohalogenated vinyl silane, monohalogenated allyl silane, monohalogenated 3-butenyl silane, monoalkoxy vinyl silane, monoalkoxy allyl silane, monoalkoxy 3-butenyl silane, and the like. Is mentioned.

上記モノハロゲン化ビニルシランの代表例としては、クロロジメチルビニルシラン、クロロエチルメチルビニルシラン、クロロメチルフェニルビニルシラン、クロロジエチルビニルシラン、クロロエチルフェニルビニルシラン、クロロジフェニルビニルシランなどが挙げられる。   Representative examples of the monohalogenated vinylsilane include chlorodimethylvinylsilane, chloroethylmethylvinylsilane, chloromethylphenylvinylsilane, chlorodiethylvinylsilane, chloroethylphenylvinylsilane, chlorodiphenylvinylsilane, and the like.

上記モノハロゲン化アリルシランの代表例としては、アリルクロロジメチルシラン、アリルクロロエチルメチルシラン、アリルクロロメチルフェニルシラン、アリルクロロジエチルシラン、アリルクロロエチルフェニルシラン、アリルクロロジフェニルシランなどが挙げられる。   Representative examples of the monohalogenated allylsilane include allylchlorodimethylsilane, allylchloroethylmethylsilane, allylchloromethylphenylsilane, allylchlorodiethylsilane, allylchloroethylphenylsilane, allylchlorodiphenylsilane, and the like.

上記モノハロゲン化3−ブテニルシランの代表例としては、3−ブテニルクロロジメチルシラン、3−ブテニルクロロエチルメチルシラン、3−ブテニルクロロメチルフェニルシラン、3−ブテニルクロロジエチルシラン、3−ブテニルクロロエチルフェニルシラン、3−ブテニルクロロジフェニルシランなどが挙げられる。   Representative examples of the monohalogenated 3-butenylsilane include 3-butenylchlorodimethylsilane, 3-butenylchloroethylmethylsilane, 3-butenylchloromethylphenylsilane, 3-butenylchlorodiethylsilane, 3-butenylchlorosilane, Examples thereof include tenenyl chloroethyl phenyl silane and 3-butenyl chloro diphenyl silane.

上記モノアルコキシビニルシランの代表例としては、メトキシジメチルビニルシラン、エチルメトキシメチルビニルシラン、メトキシメチルフェニルビニルシラン、ジエチルメトキシビニルシラン、エチルメトキシフェニルビニルシラン、メトキシジフェニルビニルシラン、エトキシジメチルビニルシラン、エトキシエチルメチルビニルシラン、エトキシメチルフェニルビニルシラン、エトキシジエチルビニルシラン、エトキシエチルフェニルビニルシランなどが挙げられる。   Representative examples of the monoalkoxy vinyl silane include methoxy dimethyl vinyl silane, ethyl methoxy methyl vinyl silane, methoxy methyl phenyl vinyl silane, diethyl methoxy vinyl silane, ethyl methoxy phenyl vinyl silane, methoxy diphenyl vinyl silane, ethoxy dimethyl vinyl silane, ethoxy ethyl methyl vinyl silane, ethoxy methyl phenyl vinyl silane. , Ethoxydiethylvinylsilane, ethoxyethylphenylvinylsilane, and the like.

上記モノアルコキシアリルシランの代表例としては、アリルメトキシジメチルシラン、アリルエチルメトキシメチルシラン、アリルメトキシメチルフェニルシラン、アリルジエチルメトキシシラン、アリルエチルメトキシフェニルシラン、アリルメトキシジフェニルシラン、アリルエトキシジメチルシラン、アリルエトキシエチルメチルシラン、アリルエトキシメチルフェニルシラン、アリルエトキシジエチルシラン、アリルエトキシエチルフェニルシランなどが挙げられる。   Representative examples of the above monoalkoxyallylsilane include allylmethoxydimethylsilane, allylethylmethoxymethylsilane, allylmethoxymethylphenylsilane, allyldiethylmethoxysilane, allylethylmethoxyphenylsilane, allylmethoxydiphenylsilane, allylethoxydimethylsilane, allylethoxy. Examples include ethylmethylsilane, allylethoxymethylphenylsilane, allylethoxydiethylsilane, and allylethoxyethylphenylsilane.

上記モノアルコキシ3−ブテニルシランの代表例としては、3−ブテニルメトキシジメチルシラン、3−ブテニルエチルメトキシメチルシラン、3−ブテニルメトキシメチルフェニルシラン、3−ブテニルジエチルメトキシシラン、3−ブテニルエチルメトキシフェニルシラン、3−ブテニルメトキシジフェニルシラン、3−ブテニルエトキシジメチルシラン、3−ブテニルエトキシエチルメチルシラン、3−ブテニルエトキシメチルフェニルシラン、3−ブテニルエトキシジエチルシラン、3−ブテニルエトキシエチルフェニルシラン、3−ブテニルエトキシジフェニルシランなどが挙げられる。   Representative examples of the monoalkoxy 3-butenylsilane include 3-butenylmethoxydimethylsilane, 3-butenylethylmethoxymethylsilane, 3-butenylmethoxymethylphenylsilane, 3-butenyldiethylmethoxysilane, and 3-butenyl. Ethylmethoxyphenylsilane, 3-butenylmethoxydiphenylsilane, 3-butenylethoxydimethylsilane, 3-butenylethoxyethylmethylsilane, 3-butenylethoxymethylphenylsilane, 3-butenylethoxydiethylsilane, 3-butenyl Examples include tenenyl ethoxyethyl phenyl silane and 3-butenyl ethoxy diphenyl silane.

加水分解性基又はヒドロキシル基を1以上有するラダー型シルセスキオキサンと式(7)で表されるシラン化合物との反応は、通常、溶媒中で行われる。溶媒としては、例えば、ヘキサン、ヘプタン、オクタンなどの脂肪族炭化水素;シクロヘキサンなどの脂環式炭化水素;ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼンなどの芳香族炭化水素;クロロホルム、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素;ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチルなどのエステル;N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドなどのアミド;アセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリルなどのニトリル;メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノールなどのアルコールなどが挙げられる。これらの溶媒は単独で、又は2種以上を混合して用いられる。   The reaction between the ladder-type silsesquioxane having one or more hydrolyzable groups or hydroxyl groups and the silane compound represented by the formula (7) is usually performed in a solvent. Examples of the solvent include aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, and octane; alicyclic hydrocarbons such as cyclohexane; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, and ethylbenzene; chloroform, dichloromethane, 1,2-dichloroethane. Halogenated hydrocarbons such as: diethyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran, dioxane, etc .; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone; esters such as methyl acetate, ethyl acetate, isopropyl acetate, butyl acetate; N, N— Amides such as dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide; Nitriles such as acetonitrile, propionitrile and benzonitrile; Methanol, ethanol, isopropyl alcohol, butanol, etc. Such as alcohol and the like. These solvents are used alone or in admixture of two or more.

式(7)で表されるシラン化合物の使用量は、特に限定されないが、加水分解性基又はヒドロキシル基を1以上有するラダー型シルセスキオキサン中の反応性基(加水分解性基、ヒドロキシル基)の合計1モルに対して、1〜20モルが好ましく、より好ましくは2〜10モル、さらに好ましくは5〜9モルである。   Although the usage-amount of the silane compound represented by Formula (7) is not specifically limited, The reactive group (hydrolyzable group, hydroxyl group in ladder type silsesquioxane which has one or more hydrolyzable groups or hydroxyl groups. ) Is preferably 1 to 20 mol, more preferably 2 to 10 mol, and still more preferably 5 to 9 mol.

加水分解性基又はヒドロキシル基を1以上有するラダー型シルセスキオキサンと式(7)で表されるシラン化合物との反応は、シラノール縮合触媒の存在下で行われる。シラノール縮合触媒としては、上記で例示したものを使用できる。中でも、シラノール縮合触媒として、塩基触媒を用いるのが好ましい。   The reaction between the ladder-type silsesquioxane having one or more hydrolyzable groups or hydroxyl groups and the silane compound represented by the formula (7) is performed in the presence of a silanol condensation catalyst. As the silanol condensation catalyst, those exemplified above can be used. Among these, a base catalyst is preferably used as the silanol condensation catalyst.

上記シラノール縮合触媒の使用量は、特に限定されないが、加水分解性基又はヒドロキシル基を1以上有するラダー型シルセスキオキサン中の反応性基(加水分解性基、ヒドロキシル基)の合計1モルに対して、例えば、0.1〜10モルが好ましく、より好ましくは0.1〜1.0モルである。シラノール縮合触媒の使用量は触媒量であってもよい。   Although the usage-amount of the said silanol condensation catalyst is not specifically limited, It is 1 mol in total of the reactive group (hydrolyzable group, hydroxyl group) in the ladder type silsesquioxane which has one or more hydrolyzable groups or hydroxyl groups. On the other hand, for example, 0.1 to 10 mol is preferable, and 0.1 to 1.0 mol is more preferable. The amount of silanol condensation catalyst used may be a catalytic amount.

上記反応は重合禁止剤の存在下で行ってもよい。反応温度は、反応成分や触媒の種類などに応じて適宜選択できるが、通常、0〜200℃が好ましく、より好ましくは20〜100℃、さらに好ましくは30〜60℃である。反応は常圧で行ってもよく、減圧又は加圧下で行ってもよい。反応の雰囲気は反応を阻害しない限り特に限定されず、例えば、空気雰囲気、窒素雰囲気、アルゴン雰囲気などの何れであってもよい。また、反応はバッチ式、セミバッチ式、連続式などの何れの方法で行うこともできる。   The above reaction may be performed in the presence of a polymerization inhibitor. Although reaction temperature can be suitably selected according to the reaction component, the kind of catalyst, etc., 0-200 degreeC is preferable normally, More preferably, it is 20-100 degreeC, More preferably, it is 30-60 degreeC. The reaction may be carried out at normal pressure or under reduced pressure or increased pressure. The atmosphere of the reaction is not particularly limited as long as the reaction is not inhibited, and may be any of an air atmosphere, a nitrogen atmosphere, an argon atmosphere, and the like. Further, the reaction can be carried out by any method such as batch, semi-batch and continuous methods.

上記方法では、加水分解性基又はヒドロキシル基を1以上有するラダー型シルセスキオキサン中の反応性基(アルコキシ基等の加水分解性基、ヒドロキシル基)と式(7)で表されるシラン化合物中の反応性基(アルコキシ基等の加水分解性基、ヒドロキシル基)が、加水分解・縮合(又は縮合)して、対応する分子内に脂肪族炭素−炭素二重結合を有するラダー型シルセスキオキサンが生成する。   In the above method, a reactive group (hydrolyzable group such as an alkoxy group, hydroxyl group) in a ladder-type silsesquioxane having one or more hydrolyzable groups or hydroxyl groups and a silane compound represented by the formula (7) Ladder-type silsesquines in which the reactive group (hydrolyzable group such as alkoxy group, hydroxyl group) is hydrolyzed / condensed (or condensed) and has an aliphatic carbon-carbon double bond in the corresponding molecule Oxane is formed.

反応終了後、反応生成物は、例えば、水洗、酸洗浄、アルカリ洗浄、濾過、濃縮、蒸留、抽出、晶析、再結晶、カラムクロマトグラフィーなどの分離手段や、これらを組み合わせた分離手段により分離精製できる。   After completion of the reaction, the reaction product is separated by separation means such as water washing, acid washing, alkali washing, filtration, concentration, distillation, extraction, crystallization, recrystallization, column chromatography, etc., or a combination of these. It can be purified.

本発明のラダー型シルセスキオキサンの製造に用いる、上記式(2)で表される化合物におけるRbとしては、上記式(1)におけるRbと同様のものが例示される。また、上記式(2)におけるnは、上記式(1)のnと同様に、1〜100の整数を示す。 Used for the manufacture of ladder-type silsesquioxane of the present invention, the R b in the compound represented by the formula (2), the same as R b in the formula (1) are exemplified. Moreover, n in the said Formula (2) shows the integer of 1-100 similarly to n of the said Formula (1).

具体的には、上記式(2)で表される化合物としては、例えば、1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン、1,1,3,3,5,5−ヘキサメチルトリシロキサン、1,1,3,3,5,5,7,7−オクタメチルテトラシロキサン、1,1,3,3,5,5,7,7,9,9−デカメチルペンタシロキサンなどの両末端にSiH基を有する(Si−O)単位を1〜10個(好ましくは2〜5個)有する直鎖状ポリジメチルシロキサン、両末端にSiH基を有する直鎖状ポリジアルキルシロキサン(好ましくは直鎖状ポリジC1-10アルキルシロキサン)などが挙げられる。 Specifically, examples of the compound represented by the above formula (2) include 1,1,3,3-tetramethyldisiloxane, 1,1,3,3,5,5-hexamethyltrisiloxane, 1,1,3,3,5,5,7,7-octamethyltetrasiloxane, 1,1,3,3,5,5,7,7,9,9-decamethylpentasiloxane Linear polydimethylsiloxane having 1 to 10 (preferably 2 to 5) (Si-O) units having SiH groups, linear polydialkylsiloxane having SiH groups at both ends (preferably linear) Polydi-C 1-10 alkylsiloxane).

上記式(2)で表される化合物の使用量は、特に限定されないが、上記ビニル型ラダーシルセスキオキサンが有する脂肪族炭素−炭素二重結合の全量1モルに対して、上記(2)で表される化合物が有するヒドロシリル基(Si−H)が、3モル以上(例えば、3〜500モル)となるような使用量とすることが好ましく、より好ましくは5〜300モル、さらに好ましくは8〜100モル、特に好ましくは8〜20モルである。ヒドロシリル基の量が3モル未満であると、上記ビニル型ラダーシルセスキオキサンと式(2)で表される化合物の硬化反応が進行し、ゲル化する場合がある。一方、使用量が500モルを超えると、コスト面で不利となる場合がある。   Although the usage-amount of the compound represented by said Formula (2) is not specifically limited, said (2) with respect to 1 mol of the total amount of the aliphatic carbon-carbon double bond which the said vinyl type ladder silsesquioxane has. It is preferable to make it the usage-amount that the hydrosilyl group (Si-H) which the compound represented by becomes 3 mol or more (for example, 3-500 mol), More preferably, it is 5-300 mol, More preferably The amount is 8 to 100 mol, particularly preferably 8 to 20 mol. When the amount of the hydrosilyl group is less than 3 mol, the vinyl-type ladder silsesquioxane and the compound represented by the formula (2) may be cured and gelled. On the other hand, when the amount used exceeds 500 moles, it may be disadvantageous in terms of cost.

上記ヒドロシリル化触媒としては、白金系触媒、ロジウム系触媒、パラジウム系触媒等の周知のヒドロシリル化反応用触媒が例示され、具体的には、白金微粉末、白金黒、白金担持シリカ微粉末、白金担持活性炭、塩化白金酸、塩化白金酸とアルコール、アルデヒド、ケトン等との錯体、白金のオレフィン錯体、白金−カルボニルビニルメチル錯体などの白金のカルボニル錯体、白金−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体や白金−シクロビニルメチルシロキサン錯体などの白金ビニルメチルシロキサン錯体、白金−ホスフィン錯体、白金−ホスファイト錯体等の白金系触媒、ならびに上記白金系触媒において白金原子の代わりにパラジウム原子又はロジウム原子を含有するパラジウム系触媒又はロジウム系触媒が挙げられる。上記ヒドロシリル化触媒は1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。中でも、白金ビニルメチルシロキサン錯体や白金−カルボニルビニルメチル錯体や塩化白金酸とアルコール、アルデヒドとの錯体は反応速度が良好であるため好ましい。   Examples of the hydrosilylation catalyst include known hydrosilylation reaction catalysts such as platinum-based catalysts, rhodium-based catalysts, and palladium-based catalysts. Specifically, platinum fine powder, platinum black, platinum-supported silica fine powder, platinum Supported activated carbon, chloroplatinic acid, complexes of chloroplatinic acid with alcohols, aldehydes, ketones, platinum olefin complexes, platinum carbonyl complexes such as platinum-carbonylvinylmethyl complexes, platinum-divinyltetramethyldisiloxane complexes and platinum- Platinum-based catalysts such as platinum vinylmethylsiloxane complexes such as cyclovinylmethylsiloxane complexes, platinum-phosphine complexes, platinum-phosphite complexes, etc., and palladium-based catalysts containing palladium atoms or rhodium atoms instead of platinum atoms in the platinum-based catalysts A catalyst or a rhodium-type catalyst is mentioned. The said hydrosilylation catalyst may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together. Among these, a platinum vinylmethylsiloxane complex, a platinum-carbonylvinylmethyl complex, and a complex of chloroplatinic acid, an alcohol, and an aldehyde are preferable because the reaction rate is good.

上記ヒドロシリル化触媒の使用量は、特に限定されないが、上記ビニル型ラダーシルセスキオキサンの脂肪族炭素−炭素二重結合の全量1モルに対して、1×10-8〜1×10-2モルが好ましく、より好ましくは1.0×10-6〜1.0×10-3モルである。使用量が1×10-8モル未満であると、反応が十分に進行しない場合がある。一方、使用量が1×10-2モルを超えると、硬化物の着色につながる場合がある。 Although the usage-amount of the said hydrosilylation catalyst is not specifically limited, It is 1 * 10 < -8 > -1 * 10 <-2 > with respect to 1 mol of total amounts of the aliphatic carbon-carbon double bond of the said vinyl type ladder silsesquioxane. Mol is preferable, and more preferably 1.0 × 10 −6 to 1.0 × 10 −3 mol. If the amount used is less than 1 × 10 −8 mol, the reaction may not proceed sufficiently. On the other hand, if the amount used exceeds 1 × 10 −2 mol, the cured product may be colored.

本発明のラダー型シルセスキオキサンの製造方法において、上記ビニル型ラダーシルセスキオキサンと上記式(2)で表される化合物とを、ヒドロシリル化触媒の存在下で反応させる際には、必要に応じて、その他の添加剤を反応系中に添加してもよい。また、上記反応は、必要に応じて、溶媒(例えば、上記例示した有機溶媒など)中で実施してもよい。また、上記反応を実施する雰囲気は、反応を阻害しないものであればよく、特に限定されないが、例えば、空気雰囲気、窒素雰囲気、アルゴン雰囲気などのいずれであってもよい。また、反応はバッチ式、セミバッチ式、連続式などいずれの方法で行うこともできる。   In the method for producing a ladder-type silsesquioxane of the present invention, it is necessary when the vinyl-type ladder silsesquioxane and the compound represented by the above formula (2) are reacted in the presence of a hydrosilylation catalyst. Depending on the case, other additives may be added to the reaction system. Moreover, you may implement the said reaction in a solvent (for example, the organic solvent illustrated above etc.) as needed. The atmosphere for carrying out the reaction is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction, and may be any of an air atmosphere, a nitrogen atmosphere, an argon atmosphere, and the like. The reaction can be carried out by any method such as batch, semi-batch and continuous methods.

上記反応工程における反応温度は、特に限定されないが、0〜200℃が好ましく、より好ましくは20〜150℃、さらに好ましくは30〜100℃である。反応温度が0℃未満であると、反応の進行が遅く、生産性が低下する場合がある。一方、反応温度が200℃を超えると、反応物の分解や副反応が併発し、収率が低下する場合がある。なお、反応温度は、反応の間一定に制御してもよいし、逐次的又は連続的に変化させてもよい。   Although the reaction temperature in the said reaction process is not specifically limited, 0-200 degreeC is preferable, More preferably, it is 20-150 degreeC, More preferably, it is 30-100 degreeC. When the reaction temperature is less than 0 ° C., the progress of the reaction is slow, and the productivity may be lowered. On the other hand, when the reaction temperature exceeds 200 ° C., decomposition of the reactants and side reactions may occur together, resulting in a decrease in yield. The reaction temperature may be controlled to be constant during the reaction, or may be changed sequentially or continuously.

また、上記反応工程における反応時間は、特に限定されないが、10〜1400分が好ましく、より好ましくは60〜720分である。反応時間が10分未満であると、十分に反応を進行させることができず、収率が低下する場合がある。一方、反応時間が1400分を超えると、反応物の分解や副反応が併発し、収率が低下したり、濃く着色する場合がある。   Moreover, the reaction time in the said reaction process is although it does not specifically limit, 10-1400 minutes are preferable, More preferably, it is 60-720 minutes. If the reaction time is less than 10 minutes, the reaction cannot sufficiently proceed, and the yield may be reduced. On the other hand, if the reaction time exceeds 1400 minutes, decomposition of the reactants and side reactions may occur simultaneously, resulting in a decrease in yield or a deep coloration.

上記反応工程における圧力(反応圧力)は、特に限定されず、常圧下、加圧下、減圧下などいずれにおいても反応を実施することができる。   The pressure in the reaction step (reaction pressure) is not particularly limited, and the reaction can be carried out under normal pressure, increased pressure, reduced pressure, or the like.

本発明のラダー型シルセスキオキサンの製造方法は、上記反応工程以外のその他の工程を含んでいてもよい。上記その他の工程としては、例えば、原料を調製する工程、反応生成物を精製、単離する工程などが挙げられる。なお、反応生成物の精製や単離においては、例えば、水洗、酸洗浄、アルカリ洗浄、濾過、濃縮、蒸留、抽出、晶析、再結晶、カラムクロマトグラフィーなどの分離手段や、これらを組み合わせた分離手段などの、公知乃至慣用の方法を利用することができる。   The method for producing a ladder-type silsesquioxane of the present invention may include other steps other than the reaction step. As said other process, the process of preparing a raw material, the process of refine | purifying and isolating a reaction product, etc. are mentioned, for example. In purification and isolation of the reaction product, for example, water washing, acid washing, alkali washing, filtration, concentration, distillation, extraction, crystallization, recrystallization, column chromatography and other separation means, or a combination of these A known or conventional method such as a separation means can be used.

本発明のラダー型シルセスキオキサンの製造方法は、上述の方法に限定されず、例えば、本発明のラダー型シルセスキオキサンは、SiH含有基を有する加水分解性シラン(例えば、下記式(8)で表される化合物など)を必須のモノマー成分として使用し、これを加水分解・縮合反応(ゾルゲル反応)させることによって製造することも可能である。

Figure 2013056981
[式(8)中、X、Y、Ra、Rb、nは、前記に同じ。] The method for producing the ladder-type silsesquioxane of the present invention is not limited to the above-described method. For example, the ladder-type silsesquioxane of the present invention is a hydrolyzable silane having a SiH-containing group (for example, the following formula ( The compound represented by 8) can be used as an essential monomer component and hydrolyzed / condensed (sol-gel reaction).
Figure 2013056981
[In the formula (8), X, Y, R a , R b and n are the same as above. ]

[硬化性樹脂組成物]
本発明の硬化性樹脂組成物は、本発明のラダー型シルセスキオキサンと、分子内に脂肪族炭素−炭素二重結合を有する化合物と、ヒドロシリル化触媒とを必須成分として含む樹脂組成物である。
[Curable resin composition]
The curable resin composition of the present invention is a resin composition comprising the ladder-type silsesquioxane of the present invention, a compound having an aliphatic carbon-carbon double bond in the molecule, and a hydrosilylation catalyst as essential components. is there.

(本発明のラダー型シルセスキオキサン)
本発明の硬化性樹脂組成物中の本発明のラダー型シルセスキオキサンの含有量は、特に限定されないが、硬化性樹脂組成物(100重量%)に対して、10重量%以上(例えば、10〜90重量%)が好ましく、より好ましくは20〜80重量%、さらに好ましくは30〜70重量%である。含有量が10重量%未満であると、硬化反応が十分に進行せず、硬化物の耐熱性が低下する場合がある。なお、本発明のラダー型シルセスキオキサンは1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて使用することができる。
(Ladder type silsesquioxane of the present invention)
The content of the ladder-type silsesquioxane of the present invention in the curable resin composition of the present invention is not particularly limited, but is 10% by weight or more (for example, with respect to the curable resin composition (100% by weight)) 10 to 90% by weight) is preferable, more preferably 20 to 80% by weight, and still more preferably 30 to 70% by weight. When the content is less than 10% by weight, the curing reaction does not proceed sufficiently, and the heat resistance of the cured product may decrease. In addition, the ladder type silsesquioxane of this invention can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

(分子内に脂肪族炭素−炭素二重結合を有する化合物)
本発明の硬化性樹脂組成物における、分子内に脂肪族炭素−炭素二重結合を有する化合物としては、脂肪族炭素−炭素二重結合を分子内に少なくとも有する化合物であれば、特に限定されず、公知乃至慣用の化合物を使用することができる。中でも、分子内に脂肪族炭素−炭素二重結合を2以上(例えば、2〜20個)有する化合物が好ましい。なお、上記分子内に脂肪族炭素−炭素二重結合を有する化合物は、本発明のラダー型シルセスキオキサンを除くものであってもよい。また、上記分子内に脂肪族炭素−炭素二重結合を有する化合物は1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて使用することができる。
(Compound having an aliphatic carbon-carbon double bond in the molecule)
In the curable resin composition of the present invention, the compound having an aliphatic carbon-carbon double bond in the molecule is not particularly limited as long as it is a compound having at least an aliphatic carbon-carbon double bond in the molecule. Any known or conventional compounds can be used. Especially, the compound which has 2 or more (for example, 2-20) of aliphatic carbon-carbon double bonds in a molecule | numerator is preferable. In addition, the compound which has an aliphatic carbon-carbon double bond in the said molecule | numerator may remove | exclude the ladder type silsesquioxane of this invention. Moreover, the compound which has an aliphatic carbon-carbon double bond in the said molecule | numerator can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

具体的には、上記分子内に脂肪族炭素−炭素二重結合を有する化合物としては、分子内に脂肪族炭素−炭素二重結合を有するポリシロキサン(オルガノポリシロキサン)が好ましく、中でも、特に、分子内に脂肪族炭素−炭素二重結合を有するラダー型シルセスキオキサンが好ましい。上記分子内に脂肪族炭素−炭素二重結合を有するラダー型シルセスキオキサンとしては、例えば、上述のビニル型ラダーシルセスキオキサン、具体的には、上記式(L)で表されるラダー型シルセスキオキサンにおいて、Rのうち少なくとも1つ(好ましくは2つ以上)が脂肪族炭素−炭素二重結合を有する基である化合物などが挙げられる。本発明の硬化性樹脂組成物をこのような構成とすることにより、特に、硬化物の耐熱性、透明性、柔軟性、及び耐黄変性をいっそう向上させることが可能となる。   Specifically, the compound having an aliphatic carbon-carbon double bond in the molecule is preferably a polysiloxane having an aliphatic carbon-carbon double bond in the molecule (organopolysiloxane). Ladder type silsesquioxane having an aliphatic carbon-carbon double bond in the molecule is preferred. Examples of the ladder-type silsesquioxane having an aliphatic carbon-carbon double bond in the molecule include the above-described vinyl-type ladder silsesquioxane, specifically, a ladder represented by the above formula (L). Examples of the type silsesquioxane include compounds in which at least one (preferably two or more) of Rs are groups having an aliphatic carbon-carbon double bond. By setting the curable resin composition of the present invention to such a configuration, particularly, the heat resistance, transparency, flexibility, and yellowing resistance of the cured product can be further improved.

本発明の硬化性樹脂組成物中における、上記脂肪族炭素−炭素二重結合を有する化合物の含有量(配合量)は、特に限定されないが、硬化性樹脂組成物(100重量%)に対して、8〜88重量%以上が好ましく、より好ましくは18〜78重量%である。含有量が8重量%未満であると、硬化反応が進行しない場合がある。一方、含有量が88重量%を超えると、硬化反応が進行しない場合がある。   The content (blending amount) of the compound having an aliphatic carbon-carbon double bond in the curable resin composition of the present invention is not particularly limited, but is relative to the curable resin composition (100% by weight). 8 to 88% by weight or more, more preferably 18 to 78% by weight. If the content is less than 8% by weight, the curing reaction may not proceed. On the other hand, if the content exceeds 88% by weight, the curing reaction may not proceed.

具体的には、本発明の硬化性樹脂組成物は、特に限定されないが、樹脂組成物中に存在するヒドロシリル基1モルに対して、脂肪族炭素−炭素二重結合が0.2〜4モルとなるような組成(配合組成)であることが好ましく、より好ましくは0.5〜1.5モル、さらに好ましくは0.8〜1.2モルである。ヒドロシリル基と脂肪族炭素−炭素二重結合との割合を上記範囲に制御することにより、硬化物の耐熱性、透明性、柔軟性、及び耐黄変性がより向上する傾向がある。   Specifically, the curable resin composition of the present invention is not particularly limited, but the aliphatic carbon-carbon double bond is 0.2 to 4 mol per 1 mol of the hydrosilyl group present in the resin composition. It is preferable that it is a composition (formulation composition) which becomes like this, More preferably, it is 0.5-1.5 mol, More preferably, it is 0.8-1.2 mol. By controlling the ratio of the hydrosilyl group and the aliphatic carbon-carbon double bond within the above range, the heat resistance, transparency, flexibility, and yellowing resistance of the cured product tend to be further improved.

(ヒドロシリル化触媒)
本発明の硬化性樹脂組成物におけるヒドロシリル化触媒としては、例えば、本発明のラダー型シルセスキオキサンの製造方法において例示したものが使用できる。ヒドロシリル化触媒は1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて使用することができる。
(Hydrosilylation catalyst)
As the hydrosilylation catalyst in the curable resin composition of the present invention, for example, those exemplified in the method for producing a ladder-type silsesquioxane of the present invention can be used. A hydrosilylation catalyst can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

本発明の硬化性樹脂組成物中のヒドロシリル化触媒の含有量は、特に限定されないが、例えば、ヒドロシリル化触媒中の白金、パラジウム、又はロジウムが重量単位で、0.01〜1,000ppmの範囲内となる量が好ましく、0.1〜500ppmの範囲内となる量がさらに好ましい。ヒドロシリル化触媒の含有量がこのような範囲にあると、架橋速度が著しく遅くなることがなく、架橋物に着色等の問題を生じるおそれが少なく好ましい。   The content of the hydrosilylation catalyst in the curable resin composition of the present invention is not particularly limited. For example, platinum, palladium, or rhodium in the hydrosilylation catalyst is in the range of 0.01 to 1,000 ppm by weight. The amount is preferably in the range of 0.1 to 500 ppm. When the content of the hydrosilylation catalyst is in such a range, the crosslinking rate is not remarkably slow, and there is less possibility of causing problems such as coloring in the crosslinked product.

本発明の硬化性樹脂組成物は、本発明のラダー型シルセスキオキサン以外のSiH基を有する化合物(「SiH化合物」と称する場合がある)を含んでいてもよい。上記SiH化合物としては、例えば、1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン、1,3,5,7?テトラメチルシクロテトラシロキサン、1,3,5,7,9?ペンタメチルシクロペンタシロキサン、シクロトリシロキサンなどのSiH基を有する環状シロキサン;メチル(トリスジメチルシロキシ)シラン、テトラキス(ジメチルシロキシ)シラン、1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン、1,1,3,3,5,5−ヘキサメチルトリシロキサン、1,1,1,3,5,5,5−へプタメチルトリシロキサン、1,1,3,3,5,5,7,7−オクタメチルテトラシロキサン、1,1,1,3,5,5,7,7,7−ノナメチルテトラシロキサン、1,1,3,3,5,5,7,7,9,9−デカメチルペンタシロキサン、1,1,1,3,5,5,7,7,9,9,9−ウンデカメチルペンタシロキサンなどのSiH基を有する直鎖又は分岐鎖状シロキサンなどが挙げられる。中でも、上記SiH化合物としては、分子内に2以上のSiH基を有するものが好ましい。なお、SiH化合物は1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて使用することができる。上記SiH化合物の含有量は、特に限定されないが、硬化性樹脂組成物100重量%に対して、5重量%以下(例えば、0〜5重量%)が好ましく、より好ましくは1.5重量%以下である。   The curable resin composition of the present invention may contain a compound having an SiH group other than the ladder-type silsesquioxane of the present invention (sometimes referred to as “SiH compound”). Examples of the SiH compound include 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane, 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane, 1,3,5,7,9-pentamethylcyclopenta Cyclic siloxanes having SiH groups such as siloxane and cyclotrisiloxane; methyl (trisdimethylsiloxy) silane, tetrakis (dimethylsiloxy) silane, 1,1,3,3-tetramethyldisiloxane, 1,1,3,3 5,5-hexamethyltrisiloxane, 1,1,1,3,5,5,5-heptamethyltrisiloxane, 1,1,3,3,5,5,7,7-octamethyltetrasiloxane, 1,1,1,3,5,5,7,7,7-nonamethyltetrasiloxane, 1,1,3,3,5,5,7,7,9,9-decamethylpentasiloxane Emissions, such as straight-chain or branched-chain siloxanes having SiH groups, such as 1,1,1,3,5,5,7,7,9,9,9- down decamethylpentasiloxane. Especially, as said SiH compound, what has two or more SiH groups in a molecule | numerator is preferable. In addition, a SiH compound can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types. Although content of the said SiH compound is not specifically limited, 5 weight% or less (for example, 0-5 weight%) is preferable with respect to 100 weight% of curable resin compositions, More preferably, 1.5 weight% or less It is.

また、本発明の硬化性樹脂組成物は、ヒドロシリル化反応の速度を調整するために、ヒドロシリル化反応抑制剤を含んでいてもよい。上記ヒドロシリル化反応抑制剤としては、3−メチル−1−ブチン−3−オール、3,5−ジメチル−1−ヘキシン−3−オール、フェニルブチノール等のアルキンアルコール;3−メチル−3−ペンテン−1−イン、3,5−ジメチル−3−ヘキセン−1−イン等のエンイン化合物;1,3,5,7−テトラメチル−1,3,5,7−テトラビニルシクロテトラシロキサン、1,3,5,7−テトラメチル−1,3,5,7−テトラヘキセニルシクロテトラシロキサン、チアゾール、ベンゾチアゾール、ベンゾトリアゾールなどが例示される。上記ヒドロシリル化反応抑制剤の含有量としては、硬化性樹脂組成物の架橋条件により異なるが、実用上、硬化性樹脂組成物中の含有量として、0.00001〜5重量%の範囲内が好ましい。   In addition, the curable resin composition of the present invention may contain a hydrosilylation reaction inhibitor in order to adjust the speed of the hydrosilylation reaction. Examples of the hydrosilylation reaction inhibitor include alkyne alcohols such as 3-methyl-1-butyn-3-ol, 3,5-dimethyl-1-hexyn-3-ol, and phenylbutynol; 3-methyl-3-pentene Ene-in compounds such as -1-yne and 3,5-dimethyl-3-hexen-1-yne; 1,3,5,7-tetramethyl-1,3,5,7-tetravinylcyclotetrasiloxane, 1, Examples include 3,5,7-tetramethyl-1,3,5,7-tetrahexenylcyclotetrasiloxane, thiazole, benzothiazole, and benzotriazole. The content of the hydrosilylation reaction inhibitor varies depending on the crosslinking conditions of the curable resin composition, but practically, the content in the curable resin composition is preferably in the range of 0.00001 to 5% by weight. .

(溶媒)
本発明の硬化性樹脂組成物は、溶媒を含んでいてもよい。上記溶媒としては、例えば、トルエン、ヘキサン、イソプロパノール、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等の従来公知の溶媒などが挙げられる。溶媒は1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて使用することができる。
(solvent)
The curable resin composition of the present invention may contain a solvent. Examples of the solvent include conventionally known solvents such as toluene, hexane, isopropanol, methyl isobutyl ketone, cyclopentanone, propylene glycol monomethyl ether acetate, and the like. A solvent can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

(添加剤)
さらに、本発明の硬化性樹脂組成物は、その他任意の成分として、沈降シリカ、湿式シリカ、ヒュームドシリカ、焼成シリカ、酸化チタン、アルミナ、ガラス、石英、アルミノケイ酸、酸化鉄、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、カーボンブラック、炭化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ホウ素等の無機質充填剤、これらの充填剤をオルガノハロシラン、オルガノアルコキシシラン、オルガノシラザン等の有機ケイ素化合物により処理した無機質充填剤;シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、フッ素樹脂等の有機樹脂微粉末;銀、銅等の導電性金属粉末等の充填剤、溶剤、安定化剤(酸化防止剤、紫外線吸収剤、耐光安定剤、熱安定化剤など)、難燃剤(リン系難燃剤、ハロゲン系難燃剤、無機系難燃剤など)、難燃助剤、補強材(他の充填剤など)、核剤、カップリング剤、シランカップリング剤、滑剤、ワックス、可塑剤、離型剤、耐衝撃改良剤、色相改良剤、流動性改良剤、着色剤(染料、顔料など)、分散剤、消泡剤、脱泡剤、抗菌剤、防腐剤、粘度調整剤、増粘剤などの慣用の添加剤を含んでいてもよい。これらの添加剤は単独で、又は2種以上を組み合わせて使用できる。
(Additive)
Further, the curable resin composition of the present invention includes, as other optional components, precipitated silica, wet silica, fumed silica, calcined silica, titanium oxide, alumina, glass, quartz, aluminosilicate, iron oxide, zinc oxide, carbonic acid. Inorganic fillers such as calcium, carbon black, silicon carbide, silicon nitride, boron nitride and the like, inorganic fillers obtained by treating these fillers with organosilicon compounds such as organohalosilane, organoalkoxysilane, organosilazane; silicone resin, epoxy Resin, organic resin fine powder such as fluororesin; filler such as conductive metal powder such as silver and copper, solvent, stabilizer (antioxidant, ultraviolet absorber, light stabilizer, heat stabilizer, etc.), Flame retardants (phosphorous flame retardants, halogen flame retardants, inorganic flame retardants, etc.), flame retardant aids, reinforcing materials (other fillers, etc.), nucleating agents, Pulling agents, silane coupling agents, lubricants, waxes, plasticizers, mold release agents, impact modifiers, hue improvers, fluidity improvers, colorants (dyes, pigments, etc.), dispersants, antifoaming agents, defoamers Conventional additives such as foaming agents, antibacterial agents, preservatives, viscosity modifiers, and thickeners may be included. These additives can be used alone or in combination of two or more.

本発明の硬化性樹脂組成物は、特に限定されないが、上記の各成分を室温で攪拌・混合することにより得られる。なお、本発明の硬化性樹脂組成物は、各成分があらかじめ混合されたものをそのまま使用する1液系の組成物として用いてもよいし、例えば、別々に保管しておいた2以上の成分を使用前に所定の割合で混合して使用する多液系(例えば、2液系)の組成物として用いてもよい。   The curable resin composition of the present invention is not particularly limited, but can be obtained by stirring and mixing each of the above components at room temperature. In addition, the curable resin composition of the present invention may be used as a one-component composition in which each component is mixed in advance, for example, two or more components stored separately. May be used as a multi-liquid composition (for example, a two-liquid composition) used by mixing them at a predetermined ratio before use.

本発明の硬化性樹脂組成物は、特に限定されないが、常温(約25℃)で液体であることが好ましい。より具体的には、本発明の硬化性樹脂組成物は、23℃における粘度として、300〜20000mPa・sが好ましく、より好ましくは500〜10000mPa・s、さらに好ましくは1000〜8000mPa・sである。粘度が300mPa・s未満であると、硬化物の耐熱性が低下する場合がある。一方、粘度が20000mPa・sを超えると、硬化性樹脂組成物の調製や取り扱いが困難となり、硬化物に気泡が残存しやすくなる場合がある。なお、23℃における粘度は、例えば、上述のラダー型シルセスキオキサンの粘度と同様の方法で測定できる。   Although the curable resin composition of this invention is not specifically limited, It is preferable that it is a liquid at normal temperature (about 25 degreeC). More specifically, the viscosity at 23 ° C. of the curable resin composition of the present invention is preferably 300 to 20000 mPa · s, more preferably 500 to 10000 mPa · s, and still more preferably 1000 to 8000 mPa · s. If the viscosity is less than 300 mPa · s, the heat resistance of the cured product may decrease. On the other hand, when the viscosity exceeds 20000 mPa · s, it is difficult to prepare and handle the curable resin composition, and bubbles may remain in the cured product. The viscosity at 23 ° C. can be measured, for example, by the same method as that for the ladder type silsesquioxane described above.

本発明の硬化性樹脂組成物の必須成分である本発明のラダー型シルセスキオキサンは、比較的柔軟な式(1)で表される構造単位を分子内に有するため、上記硬化性樹脂組成物を硬化させることによって得られる硬化物に対して柔軟性を付与することが可能である。一般に、柔軟性に優れた硬化物を得るためには、硬化性樹脂組成物の構成成分として、柔軟な構造単位を分子内に有する多官能の低分子化合物(特に、低分子量のシロキサン化合物、例えば、上記式(2)で表される化合物など)を使用する手法が採用される。しかしながら、このような手法においては、硬化性樹脂組成物の硬化の際に上記低分子化合物が揮発しやすく、安全性や一定の物性を有する硬化物を得る観点で、問題が生じていた。これに対して、本発明のラダー型シルセスキオキサンは硬化物に柔軟性を付与するための構造単位を有しているため、本発明の硬化性樹脂組成物においては、上述の低分子化合物の使用を無くすことができ、硬化時に揮発する低分子化合物(特に、低分子量のシロキサン化合物)の量を無くす事ができる。   Since the ladder-type silsesquioxane of the present invention, which is an essential component of the curable resin composition of the present invention, has a relatively flexible structural unit represented by the formula (1) in the molecule, the curable resin composition described above It is possible to impart flexibility to a cured product obtained by curing the product. In general, in order to obtain a cured product having excellent flexibility, as a constituent component of the curable resin composition, a polyfunctional low molecular compound having a flexible structural unit in the molecule (particularly, a low molecular weight siloxane compound, for example, , A method using a compound represented by the above formula (2), etc. is employed. However, in such a technique, the low molecular weight compound is easily volatilized when the curable resin composition is cured, and there has been a problem in terms of obtaining a cured product having safety and certain physical properties. On the other hand, since the ladder-type silsesquioxane of the present invention has a structural unit for imparting flexibility to the cured product, the low molecular weight compound described above is used in the curable resin composition of the present invention. Can be eliminated, and the amount of low molecular weight compounds (particularly low molecular weight siloxane compounds) that volatilize during curing can be eliminated.

[硬化物]
本発明の硬化性樹脂組成物をヒドロシリル化反応により硬化させることにより、硬化物を得ることができる。硬化(ヒドロシリル化)の際の条件は、特に限定されず、従来公知の条件を採用できるが、例えば、反応速度の点から、温度(硬化温度)は室温〜180℃(好ましくは60℃〜150℃)が好ましく、時間(硬化時間)は5〜720分が好ましい。本発明の硬化物は、耐熱性、透明性、柔軟性、耐黄変性等の物性に優れている。また、本発明の硬化物を得るにあたり、本発明の硬化性樹脂組成物を硬化させる際には、揮発する低分子化合物(特に、低分子量のシロキサン化合物)の量が少ないため、安全性が高く、一定の物性を有する硬化物を効率的に得ることができる。
[Cured product]
A cured product can be obtained by curing the curable resin composition of the present invention by a hydrosilylation reaction. The conditions for curing (hydrosilylation) are not particularly limited, and conventionally known conditions can be employed. For example, from the viewpoint of reaction rate, the temperature (curing temperature) is room temperature to 180 ° C. (preferably 60 ° C. to 150 ° C.). C.), and the time (curing time) is preferably 5 to 720 minutes. The cured product of the present invention is excellent in physical properties such as heat resistance, transparency, flexibility, and yellowing resistance. Further, in obtaining the cured product of the present invention, when the curable resin composition of the present invention is cured, the amount of the low-molecular compound that volatilizes (particularly, the low-molecular weight siloxane compound) is small, so that the safety is high. A cured product having certain physical properties can be obtained efficiently.

[封止剤]
本発明の封止剤は、本発明の硬化性樹脂組成物を必須成分として含む封止剤である。本発明の封止剤は、硬化して硬化材を形成する際に、揮発する低分子化合物(特に、低分子量のシロキサン化合物)の量が低減されており、安全性が高く、一定の物性を有する封止材を効率的に得ることができる点で有益である。また、本発明の封止剤を硬化させることにより得られる封止材は、耐熱性、透明性、柔軟性、耐黄変性等の物性に優れる。このため、本発明の封止剤は、特に、光半導体装置における光半導体素子などの封止剤として好ましく使用できる。
[Sealant]
The sealant of the present invention is a sealant containing the curable resin composition of the present invention as an essential component. The encapsulant of the present invention is reduced in the amount of low molecular weight compounds (particularly low molecular weight siloxane compounds) that volatilize when cured to form a cured material, and has high safety and certain physical properties. This is advantageous in that the sealing material having it can be obtained efficiently. Moreover, the sealing material obtained by hardening the sealing agent of this invention is excellent in physical properties, such as heat resistance, transparency, a softness | flexibility, and yellowing resistance. For this reason, the sealing agent of this invention can be preferably used especially as sealing agents, such as an optical semiconductor element in an optical semiconductor device.

以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。反応生成物の同定は1H−NMRにより行った。なお、1H−NMR分析は、JEOL ECA500(500MHz)により行った。また、反応生成物の重量平均分子量の測定は、Alliance HPLCシステム 2695(Waters製)、Refractive Index Detector 2414(Waters製)、カラム:Tskgel GMHHR−M×2(東ソー(株)製)、ガードカラム:Tskgel guard column HHRL(東ソー(株)製)、カラムオーブン:COLUMN HEATER U−620(Sugai製)、溶媒:THF、測定条件:40℃により行った。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on examples, but the present invention is not limited to these examples. The reaction product was identified by 1 H-NMR. 1 H-NMR analysis was performed by JEOL ECA500 (500 MHz). In addition, the weight average molecular weight of the reaction product was measured using Alliance HPLC system 2695 (manufactured by Waters), Refractive Index Detector 2414 (manufactured by Waters), column: Tskel GMH HR- M × 2 (manufactured by Tosoh Corporation), guard column. : Tskel guard column H HR L (manufactured by Tosoh Corporation), column oven: COLUMN HEATER U-620 (manufactured by Sugai), solvent: THF, measurement conditions: 40 ° C.

実施例1
[SiH含有基を有するラダー型シルセスキオキサン(プレポリマー)の合成]
50ml四つ口フラスコに、末端にトリメチルシリル基(TMS基)を有するラダー型フェニルメチルビニルシルセスキオキサン(重量平均分子量Mw2900、フェニル基/メチル基/ビニル基(側鎖モル比)=17/68/15)10gと、1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン(東京化成工業(株)製)20gと、1.7%白金−シクロビニルシロキサン錯体ビニルシクロシロキサン溶液(和光純薬工業(株)製)20μlとを仕込んだ。次いで、70℃で8時間加熱して、反応終了とした。続いて、エバポレータで濃縮した後、真空ポンプを用いて30分間減圧し、SiH含有基を有するラダー型シルセスキオキサンを11.8g得た。上記SiH含有基を有するラダー型シルセスキオキサンの重量平均分子量(Mw)は3800、1分子当たりのSiH基の含有量(平均含有量)は、SiH基におけるH(ヒドリド)の重量換算で0.11重量%であった。
(SiH含有基を有するラダー型シルセスキオキサンの1H−NMRスペクトル)
1H−NMR(JEOL ECA500(500MHz、CDCl3))δ:0.1ppm(br)、0.5ppm(br)、4.7ppm(s)、6.8−7.8ppm(br)
図1には、原料である末端にTMS基を有するラダー型フェニルメチルビニルシルセスキオキサンの1H−NMRスペクトル(図1(a))と、生成物であるSiH含有基を有するラダー型シルセスキオキサンの1H−NMRスペクトル(図1(b))を示す。
Example 1
[Synthesis of ladder-type silsesquioxane (prepolymer) having SiH-containing group]
In a 50 ml four-necked flask, ladder-type phenylmethylvinylsilsesquioxane having a trimethylsilyl group (TMS group) at the end (weight average molecular weight Mw2900, phenyl group / methyl group / vinyl group (side chain molar ratio) = 17/68 / 15) 10 g, 1,1,3,3-tetramethyldisiloxane (Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 20 g, 1.7% platinum-cyclovinylsiloxane complex vinylcyclosiloxane solution (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 20 μl) was prepared. Subsequently, the reaction was completed by heating at 70 ° C. for 8 hours. Then, after concentrating with an evaporator, it reduced in pressure for 30 minutes using the vacuum pump, and 11.8g of ladder-type silsesquioxane which has SiH containing group was obtained. The ladder-type silsesquioxane having the SiH-containing group has a weight average molecular weight (Mw) of 3800, and the SiH group content (average content) per molecule is 0 in terms of the weight of H (hydride) in the SiH group. .11% by weight.
(1 H-NMR spectrum of ladder-type silsesquioxane having SiH-containing group)
1 H-NMR (JEOL ECA500 (500 MHz, CDCl 3 )) δ: 0.1 ppm (br), 0.5 ppm (br), 4.7 ppm (s), 6.8-7.8 ppm (br)
1 shows a 1 H-NMR spectrum (FIG. 1A) of a ladder-type phenylmethylvinylsilsesquioxane having a TMS group at the terminal as a raw material, and a ladder-type silyl having a SiH-containing group as a product. The 1 H-NMR spectrum of sesquioxane (FIG. 1B) is shown.

なお、原料として用いた末端にTMS基を有するラダー型フェニルメチルビニルシルセスキオキサンは、トリエトキシフェニルシランとトリエトキシメチルシランとトリエトキシビニルシランとを(モル比:17/68/15)、常法により加水分解及び縮合することで調製した。   The ladder-type phenylmethylvinylsilsesquioxane having a TMS group at the end used as a raw material is composed of triethoxyphenylsilane, triethoxymethylsilane, and triethoxyvinylsilane (molar ratio: 17/68/15). It was prepared by hydrolysis and condensation by the method.

実施例2
[SiH含有基を有するラダー型シルセスキオキサン(プレポリマー)の合成]
50ml四つ口フラスコに、末端にTMS基を有するラダー型フェニルメチルビニルシルセスキオキサン(重量平均分子量Mw2900、フェニル基/メチル基/ビニル基(側鎖モル比)=17/68/15)5gと、1,1,3,3,5,5−ヘキサメチルトリシロキサン(Gelest製)10gと、1.7%白金−シクロビニルシロキサン錯体ビニルシクロシロキサン溶液(和光純薬工業(株)製)20μlとを仕込んだ。次いで、70℃で6時間加熱して、反応終了とした。続いて、エバポレータで濃縮した後、真空ポンプを用いて30分間減圧し、SiH含有基を有するラダー型シルセスキオキサンを5.7g得た。上記SiH基を有するラダー型シルセスキオキサンの重量平均分子量(Mw)は6400、1分子当たりのSiH基の含有量(平均含有量)は、SiH基におけるH(ヒドリド)の重量換算で0.11重量%であった。
(SiH含有基を有するラダー型シルセスキオキサンの1H−NMRスペクトル)
1H−NMR(JEOL ECA500(500MHz、CDCl3))δ:0.1ppm(br)、0.5ppm(br)、4.7ppm(s)、6.8−7.8ppm(br)
Example 2
[Synthesis of ladder-type silsesquioxane (prepolymer) having SiH-containing group]
In a 50 ml four-necked flask, 5 g of ladder-type phenylmethylvinylsilsesquioxane having a TMS group at its end (weight average molecular weight Mw 2900, phenyl group / methyl group / vinyl group (side chain molar ratio) = 17/68/15) 10 g of 1,1,3,3,5,5-hexamethyltrisiloxane (manufactured by Gelest) and 20 μl of a 1.7% platinum-cyclovinylsiloxane complex vinylcyclosiloxane solution (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) And charged. Subsequently, the reaction was completed by heating at 70 ° C. for 6 hours. Subsequently, after concentrating with an evaporator, the pressure was reduced for 30 minutes using a vacuum pump to obtain 5.7 g of ladder-type silsesquioxane having a SiH-containing group. The ladder-type silsesquioxane having the SiH group has a weight average molecular weight (Mw) of 6400, and the SiH group content (average content) per molecule is 0. 0 in terms of the weight of H (hydride) in the SiH group. It was 11% by weight.
(1 H-NMR spectrum of ladder-type silsesquioxane having SiH-containing group)
1 H-NMR (JEOL ECA500 (500 MHz, CDCl 3 )) δ: 0.1 ppm (br), 0.5 ppm (br), 4.7 ppm (s), 6.8-7.8 ppm (br)

なお、原料として用いた末端にTMS基を有するラダー型フェニルメチルビニルシルセスキオキサンは、トリエトキシフェニルシランとトリエトキシメチルシランとトリエトキシビニルシランとを(モル比:17/68/15)、常法により加水分解及び縮合することで調製した。   The ladder-type phenylmethylvinylsilsesquioxane having a TMS group at the end used as a raw material is composed of triethoxyphenylsilane, triethoxymethylsilane, and triethoxyvinylsilane (molar ratio: 17/68/15). It was prepared by hydrolysis and condensation by the method.

実施例3
[SiH含有基を有するラダー型シルセスキオキサンの合成]
50ml四つ口フラスコに、末端にTMS基を有するラダー型フェニルメチルビニルシルセスキオキサン(重量平均分子量Mw2400、フェニル基/メチル基/ビニル基(側鎖モル比)=42.5/42.5/15)10gと、1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン(東京化成工業(株)製)20gと、1.7%白金−シクロビニルシロキサン錯体ビニルシクロシロキサン溶液(和光純薬工業(株)製)20μlとを仕込んだ。次いで、70℃で6時間加熱して、反応終了とした。続いて、エバポレータで濃縮した後、真空ポンプを用いて30分間減圧し、SiH含有基を有するラダー型シルセスキオキサンを11.2g得た。上記SiH基を有するラダー型シルセスキオキサンの重量平均分子量(Mw)は5400、1分子当たりのSiH基の含有量(平均含有量)は、SiH基におけるH(ヒドリド)の重量換算で0.12重量%であった。
(SiH含有基を有するラダー型シルセスキオキサンの1H−NMRスペクトル)
1H−NMR(JEOL ECA500(500MHz、CDCl3))δ:0.1ppm(br)、0.5ppm(br)、4.7ppm(s)、6.8−7.8ppm(br)
Example 3
[Synthesis of ladder-type silsesquioxane having SiH-containing group]
In a 50 ml four-necked flask, ladder type phenylmethylvinylsilsesquioxane having a TMS group at the end (weight average molecular weight Mw 2400, phenyl group / methyl group / vinyl group (side chain molar ratio) = 42.5 / 42.5 / 15) 10 g, 1,1,3,3-tetramethyldisiloxane (Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 20 g, 1.7% platinum-cyclovinylsiloxane complex vinylcyclosiloxane solution (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 20 μl) was prepared. Subsequently, the reaction was completed by heating at 70 ° C. for 6 hours. Then, after concentrating with an evaporator, it pressure-reduced for 30 minutes using the vacuum pump, and obtained 11.2g of ladder type silsesquioxanes which have SiH containing group. The ladder-type silsesquioxane having the SiH group has a weight average molecular weight (Mw) of 5400, and the SiH group content (average content) per molecule is 0. 0 in terms of the weight of H (hydride) in the SiH group. It was 12% by weight.
(1 H-NMR spectrum of ladder-type silsesquioxane having SiH-containing group)
1 H-NMR (JEOL ECA500 (500 MHz, CDCl 3 )) δ: 0.1 ppm (br), 0.5 ppm (br), 4.7 ppm (s), 6.8-7.8 ppm (br)

なお、原料として用いた末端にTMS基を有するラダー型フェニルメチルビニルシルセスキオキサンは、トリエトキシフェニルシランとトリエトキシメチルシランとトリエトキシビニルシランとを(モル比:42.5/42.5/15)、常法により加水分解及び縮合することで調製した。   The ladder-type phenylmethylvinylsilsesquioxane having a TMS group at the end used as a raw material is composed of triethoxyphenylsilane, triethoxymethylsilane, and triethoxyvinylsilane (molar ratio: 42.5 / 42.5 / 15) Prepared by hydrolysis and condensation by conventional methods.

実施例4
[硬化性樹脂組成物及びその硬化物の製造]
実施例1で合成したSiH含有基を有するラダー型シルセスキオキサン1.0gと、末端にTMS基を有するラダー型フェニルメチルビニルシルセスキオキサン(重量平均分子量Mw2900、フェニル基/メチル基/ビニル基(側鎖モル比)=17/68/15)1gとを、6mlのスクリュー間に秤量し、2時間室温で攪拌したところ、両者の相溶性は良好であり、透明で均一な混合液が得られた。得られた混合液に、白金ビニルメチルシロキサン錯体(アルドリッチ製、白金2.0重量%)0.8μlを仕込み、再度攪拌し、硬化性樹脂組成物(耐熱硬化性組成物)を得た。
得られた硬化性樹脂組成物をガラスプレートに塗布し、オーブン中、90℃で1時間、150℃で5時間加熱すると、無色透明な硬化物が得られた。
Example 4
[Production of curable resin composition and cured product thereof]
1.0 g of ladder-type silsesquioxane having a SiH-containing group synthesized in Example 1 and ladder-type phenylmethylvinylsilsesquioxane having a TMS group at the terminal (weight average molecular weight Mw 2900, phenyl group / methyl group / vinyl) 1 g of the group (side chain molar ratio) = 17/68/15) was weighed between 6 ml screws and stirred at room temperature for 2 hours. The compatibility between the two was good, and a transparent and uniform mixed solution was obtained. Obtained. To the obtained mixed solution, 0.8 μl of a platinum vinylmethylsiloxane complex (manufactured by Aldrich, platinum 2.0% by weight) was charged and stirred again to obtain a curable resin composition (heat-resistant curable composition).
When the obtained curable resin composition was applied to a glass plate and heated in an oven at 90 ° C. for 1 hour and 150 ° C. for 5 hours, a colorless and transparent cured product was obtained.

比較例1
[硬化性樹脂組成物の製造]
1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン0.11g(東京化成工業(株)製)と、末端にTMS基を有するラダー型フェニルメチルビニルシルセスキオキサン(重量平均分子量Mw2900、フェニル基/メチル基/ビニル基(側鎖モル比)=17/68/15)1gとを、6mlのスクリュー間に秤量し、30分間室温で攪拌したところ、両者の相溶性は良好であり、透明で均一な混合液が得られた。得られた混合液に、白金ビニルメチルシロキサン錯体(アルドリッチ製、白金2.0重量%)0.8μlを仕込み、再度攪拌した。
Comparative Example 1
[Production of curable resin composition]
1,1,3,3-tetramethyldisiloxane 0.11 g (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) and ladder-type phenylmethylvinylsilsesquioxane having a TMS group at the terminal (weight average molecular weight Mw 2900, phenyl group / 1 g of methyl group / vinyl group (side chain molar ratio) = 17/68/15) was weighed between 6 ml screws and stirred at room temperature for 30 minutes. The compatibility of both was good, transparent and uniform A liquid mixture was obtained. To the obtained mixed solution, 0.8 μl of platinum vinylmethylsiloxane complex (manufactured by Aldrich, 2.0 wt% platinum) was charged and stirred again.

(評価)
[硬化性樹脂組成物の評価]
実施例4で得られた硬化性樹脂組成物の調製直後の粘度、調製してから2時間後の粘度、4時間後の粘度、6時間後の粘度、8時間後の粘度、及び24時間後の粘度を、レオーメーター(商品名「Physica UDS−200」、Anton Paar社製)とコーンプレート(円錐直径:16mm、テーパ角度=0°)を用いて、温度:23℃、回転数:20rpmの条件で測定した。なお、硬化性樹脂組成物は、調製直後の粘度測定から、調製してから24時間後の粘度測定まで終始、23℃、50%RHの環境下に保管した。
粘度の測定結果を図2に示す。図2に示すように、本発明の硬化性樹脂組成物は、経時での粘度上昇の幅が小さく、長いポットライフを有していた。
一方、比較例1で得られた硬化性樹脂組成物は、白金ビニルメチルシロキサン錯体を仕込み、攪拌してから約10分後にゲル化したため、粘度を測定することができず、ポットライフが非常に短かった。
(Evaluation)
[Evaluation of curable resin composition]
Viscosity immediately after preparation of the curable resin composition obtained in Example 4, viscosity after 2 hours after preparation, viscosity after 4 hours, viscosity after 6 hours, viscosity after 8 hours, and after 24 hours Using a rheometer (trade name “Physica UDS-200”, manufactured by Anton Paar) and a cone plate (cone diameter: 16 mm, taper angle = 0 °), temperature: 23 ° C., rotation speed: 20 rpm Measured under conditions. The curable resin composition was stored in an environment of 23 ° C. and 50% RH throughout from the viscosity measurement immediately after preparation to the viscosity measurement 24 hours after preparation.
The measurement results of the viscosity are shown in FIG. As shown in FIG. 2, the curable resin composition of the present invention had a small viscosity increase with time and a long pot life.
On the other hand, the curable resin composition obtained in Comparative Example 1 was charged with a platinum vinylmethylsiloxane complex and gelled about 10 minutes after stirring, so the viscosity could not be measured and the pot life was very high. It was short.

[硬化物の物性評価]
実施例4で得られた硬化物について、表1に記載の物性を、表1に示す試験方法により評価した。評価結果を表1に示す。
また、図3には、上記硬化物の波長300〜800nmの光に対する光線透過率の測定結果を示す。
[Evaluation of physical properties of cured product]
About the hardened | cured material obtained in Example 4, the physical property as described in Table 1 was evaluated by the test method shown in Table 1. The evaluation results are shown in Table 1.
Moreover, in FIG. 3, the measurement result of the light transmittance with respect to the light of wavelength 300-800 nm of the said hardened | cured material is shown.

Figure 2013056981
Figure 2013056981

[硬化物の耐熱性、耐黄変性試験]
実施例4で得られた硬化物を180℃で1000時間、オーブン中で加熱したところ、変色(黄変)は見られなかった。
[Heat resistance and yellowing resistance test of cured products]
When the cured product obtained in Example 4 was heated in an oven at 180 ° C. for 1000 hours, no discoloration (yellowing) was observed.

Claims (5)

分子内に下記式(1)で表される構造を有することを特徴とするラダー型シルセスキオキサン。
Figure 2013056981
[式(1)中、SiLはラダー型シルセスキオキサンのシルセスキオキサン骨格を構成するケイ素原子を示す。Xは単結合又は二価の連結基を示す。複数個のRaは、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、一価の有機基、一価の酸素原子含有基、一価の窒素原子含有基、又は一価の硫黄原子含有基を示す。複数個のRbは、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、一価の有機基、一価の酸素原子含有基、一価の窒素原子含有基、又は一価の硫黄原子含有基を示す。nは1〜100の整数を示す。]
A ladder-type silsesquioxane having a structure represented by the following formula (1) in the molecule.
Figure 2013056981
[In Formula (1), Si L shows the silicon atom which comprises the silsesquioxane frame | skeleton of ladder type silsesquioxane. X represents a single bond or a divalent linking group. Several R <a> shows a hydrogen atom, a halogen atom, a monovalent organic group, a monovalent oxygen atom containing group, a monovalent nitrogen atom containing group, or a monovalent sulfur atom containing group each independently. Several Rb shows a hydrogen atom, a halogen atom, a monovalent organic group, a monovalent oxygen atom containing group, a monovalent nitrogen atom containing group, or a monovalent sulfur atom containing group each independently. n shows the integer of 1-100. ]
請求項1に記載のラダー型シルセスキオキサンの製造方法であって、
分子内に脂肪族炭素−炭素二重結合を有するラダー型シルセスキオキサンと、下記式(2)で表される化合物
Figure 2013056981
[式(2)中、複数個のRbは、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、一価の有機基、一価の酸素原子含有基、一価の窒素原子含有基、又は一価の硫黄原子含有基を示す。nは1〜100の整数を示す。]
とを、ヒドロシリル化触媒の存在下で反応させる工程を含むことを特徴とするラダー型シルセスキオキサンの製造方法。
A method for producing a ladder-type silsesquioxane according to claim 1,
A ladder-type silsesquioxane having an aliphatic carbon-carbon double bond in the molecule, and a compound represented by the following formula (2)
Figure 2013056981
[In the formula (2), each of the plurality of R b is independently a hydrogen atom, a halogen atom, a monovalent organic group, a monovalent oxygen atom-containing group, a monovalent nitrogen atom-containing group, or a monovalent group. A sulfur atom-containing group is shown. n shows the integer of 1-100. ]
And a method for producing a ladder-type silsesquioxane, comprising the step of:
請求項1に記載のラダー型シルセスキオキサンと、分子内に脂肪族炭素−炭素二重結合を有する化合物と、ヒドロシリル化触媒とを含むことを特徴とする硬化性樹脂組成物。   A curable resin composition comprising the ladder-type silsesquioxane according to claim 1, a compound having an aliphatic carbon-carbon double bond in a molecule, and a hydrosilylation catalyst. 前記分子内に脂肪族炭素−炭素二重結合を有する化合物が、分子内に脂肪族炭素−炭素二重結合を有するラダー型シルセスキオキサンである請求項3に記載の硬化性樹脂組成物。   The curable resin composition according to claim 3, wherein the compound having an aliphatic carbon-carbon double bond in the molecule is a ladder-type silsesquioxane having an aliphatic carbon-carbon double bond in the molecule. 請求項3又は4に記載の硬化性樹脂組成物を硬化して得られる硬化物。   A cured product obtained by curing the curable resin composition according to claim 3 or 4.
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