JP2013048202A - Laser system - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To facilitate installation and maintenance of a module.SOLUTION: A laser system includes a frame including a mount on which support portions are mounted in each of at least two modules, in at least two modules out of a first module including an oscillator for oscillating a laser beam and a support portion for supporting the oscillator, a second module including a beam transmitter for transmitting the laser beam and a support portion for supporting the beam transmitter, and a third module including an amplifier for amplifying the laser beam and a support portion for supporting the amplifier, and a frame on which at least the two modules are mounted.

Description

本開示は、レーザシステムに関する。   The present disclosure relates to laser systems.

近年、半導体プロセスの微細化に伴って、半導体プロセスの光リソグラフィにおける転写パターンの微細化が急速に進展している。次世代においては、70nm〜45nmの微細加工、更には32nm以下の微細加工が要求されるようになる。このため、例えば32nm以下の微細加工の要求に応えるべく、波長13nm程度の極端紫外(EUV)光を生成するための装置と縮小投影反射光学系とを組み合わせた露光装置の開発が期待されている。   In recent years, along with miniaturization of semiconductor processes, miniaturization of transfer patterns in optical lithography of semiconductor processes has been rapidly progressing. In the next generation, fine processing of 70 nm to 45 nm and further fine processing of 32 nm or less are required. Therefore, for example, in order to meet the demand for fine processing of 32 nm or less, development of an exposure apparatus combining an apparatus for generating extreme ultraviolet (EUV) light with a wavelength of about 13 nm and a reduced projection reflection optical system is expected. .

EUV光を生成するための装置としては、一般に、ターゲット物質にレーザ光を照射することによって生成されるプラズマが用いられるLPP(Laser Produced Plasma)方式の装置と、放電によって生成されるプラズマが用いられるDPP(Discharge Produced Plasma)方式の装置と、軌道放射光が用いられるSR(Synchrotron Radiation)方式の装置との3種類の装置が知られている。   As an apparatus for generating EUV light, an LPP (Laser Produced Plasma) apparatus in which plasma generated by irradiating a target material with laser light is used, and plasma generated by discharge are generally used. Three types of devices are known: a DPP (Discharge Produced Plasma) system and an SR (Synchrotron Radiation) system using orbital radiation.

米国特許出願公開第2009−0103575号明細書US Patent Application Publication No. 2009-0103575

概要Overview

本開示の1つの観点に係るレーザシステムは、レーザ光を発振する発振器と、発振器を支持する支持部とを含む第1のモジュールと、レーザ光を伝送するビーム伝送器と、ビーム伝送器を支持する支持部とを含む第2のモジュールと、レーザ光を増幅する増幅器と、増幅器を支持する支持部とを含む第3のモジュールと、のうちの少なくとも2つのモジュールと、少なくとも2つのモジュールが載置されるフレームであって、少なくとも2つのモジュールの各々につき、支持部が載置されるマウントを含むフレームと、を含んでいてもよい。   A laser system according to an aspect of the present disclosure includes a first module including an oscillator that oscillates laser light and a support unit that supports the oscillator, a beam transmitter that transmits the laser light, and a beam transmitter. At least two modules, and a second module including a second module including a support section, an amplifier that amplifies laser light, and a third module including a support section that supports the amplifier. And a frame including a mount on which a support portion is mounted for each of at least two modules.

本開示の他の1つの観点に係るレーザシステムは、レーザ光を増幅する増幅器と、増幅器を支持する第1〜第3の支持部とを含むモジュールと、モジュールが載置されるフレームであって、第1〜第3の支持部がそれぞれ載置される第1〜第3のマウントを含むフレームと、を含み、モジュールは、入射光が第1の外部ユニットから入射するための入射部と、出射光が第2の外部ユニットへ出射するための出射部と、を更に含み、第1の支持部は、モジュールの重心から見て入射部側の第1の位置に有し、第2の支持部は、第1の位置から見て入射光の入射方向側の第2の位置に有し、第3の支持部は、第3の位置に有してもよい。   A laser system according to another aspect of the present disclosure includes a module including an amplifier that amplifies laser light, first to third support portions that support the amplifier, and a frame on which the module is mounted. A frame including first to third mounts on which the first to third support portions are respectively mounted, and the module includes an incident portion for incident light to be incident from the first external unit; And an emission part for emitting the emitted light to the second external unit, and the first support part is located at the first position on the incident part side as seen from the center of gravity of the module, and the second support The portion may be provided at the second position on the incident direction side of the incident light when viewed from the first position, and the third support portion may be provided at the third position.

本開示の他の1つの観点に係るレーザシステムは、レーザ光を増幅する増幅器と、増幅器を支持する第1〜第3の支持部とを含むモジュールと、モジュールが載置されるフレームであって、第1〜第3の支持部がそれぞれ載置される第1〜第3のマウントを含むフレームと、を含み、モジュールは、出射光が外部ユニットへ出射するための出射部を更に含み、第1の支持部は、モジュールの重心から見て出射部側の第1の位置に有し、第2の支持部は、第1の位置から見て出射光の出射方向とは反対側の第2の位置に有し、第3の支持部は、第3の位置に有してもよい。   A laser system according to another aspect of the present disclosure includes a module including an amplifier that amplifies laser light, first to third support portions that support the amplifier, and a frame on which the module is mounted. The first to third mounts on which the first to third support parts are respectively mounted, and the module further includes an emission part for emitting the emitted light to the external unit, The first support portion has a first position on the emission portion side when viewed from the center of gravity of the module, and the second support portion is a second position on the opposite side to the emission direction of the emitted light when viewed from the first position. The third support portion may be provided at the third position.

本開示の他の1つの観点に係るレーザシステムは、レーザ光を増幅する増幅器と、増幅器を支持する第1〜第3の支持部とを含むモジュールと、モジュールが載置されるフレームであって、第1〜第3の支持部がそれぞれ載置される第1〜第3のマウントを含むフレームと、を含み、モジュールは、入射光が第1の外部ユニットから入射するための入射部と、出射光が第2の外部ユニットへ出射するための出射部と、を更に含み、第1の支持部は、モジュールの重心から見て入射部側の第1の位置に有し、第2の支持部は、モジュールの重心から見て出射部側の第2の位置に有し、第3の支持部は、第3の位置に有してもよい。   A laser system according to another aspect of the present disclosure includes a module including an amplifier that amplifies laser light, first to third support portions that support the amplifier, and a frame on which the module is mounted. A frame including first to third mounts on which the first to third support portions are respectively mounted, and the module includes an incident portion for incident light to be incident from the first external unit; And an emission part for emitting the emitted light to the second external unit, and the first support part is located at the first position on the incident part side as seen from the center of gravity of the module, and the second support The part may be provided at the second position on the emission part side when viewed from the center of gravity of the module, and the third support part may be provided at the third position.

本開示の他の1つの観点に係るレーザシステムは、レーザ光を増幅する増幅器と、増幅器を支持する第1〜第3の支持部とを含むモジュールと、モジュールが載置されるフレームであって、第1〜第3の支持部がそれぞれ載置される第1〜第3のマウントと、第1〜第3のマウントがそれぞれ載置される第1〜第3の設置部と、を含むフレームと、を含み、第1のマウントは、第1の支持部をフレームの所定位置に位置決めし、第2のマウントは、第2の設置部に形成された段差に沿って移動できるように第2の設置部に載置され、第2の設置部が重力方向に垂直な面に対して傾斜していることにより、第2のマウントは段差に押し付けられ、第2のマウントは、第2の支持部を第2のマウントの所定位置に位置決めすることにより、第2の支持部がフレームに対して重力方向と交差する一方向に沿った方向に移動できるように第2の支持部を支持し、第3のマウントは、第3の支持部がフレームに対して重力方向と交差する面内において移動できるように第3の支持部を支持してもよい。   A laser system according to another aspect of the present disclosure includes a module including an amplifier that amplifies laser light, first to third support portions that support the amplifier, and a frame on which the module is mounted. A frame including first to third mounts on which the first to third support portions are respectively mounted, and first to third installation portions on which the first to third mounts are respectively mounted. The first mount positions the first support portion at a predetermined position of the frame, and the second mount is movable so as to move along the step formed in the second installation portion. Since the second mounting portion is inclined with respect to the plane perpendicular to the direction of gravity, the second mount is pressed against the step, and the second mount is the second support. By positioning the portion at a predetermined position of the second mount, The second support portion is supported so that the holding portion can move in a direction along one direction intersecting the direction of gravity with respect to the frame. You may support a 3rd support part so that it can move in the surface which cross | intersects.

本開示の他の1つの観点に係るレーザシステムは、レーザ光を増幅する増幅器と、増幅器を支持する第1〜第3の支持部とを含むモジュールと、モジュールが載置されるフレームであって、第1〜第3の支持部がそれぞれ載置される第1〜第3のマウントと、第1〜第3のマウントがそれぞれ載置される第1〜第3の設置部と、を含むフレームと、を含み、第1のマウントは、第1の支持部をフレームの所定位置に位置決めし、第2のマウントは、第2の設置部に形成された段差に沿って移動できるように第2の設置部に載置され、第2の設置部又は第2のマウントに設けられた弾性部材により、第2のマウントは段差に押し付けられ、第2のマウントは、第2の支持部を第2のマウントの所定位置に位置決めすることにより、第2の支持部がフレームに対して重力方向と交差する一方向に沿った方向に移動できるように第2の支持部を支持し、第3のマウントは、第3の支持部がフレームに対して重力方向と交差する面内において移動できるように第3の支持部を支持してもよい。   A laser system according to another aspect of the present disclosure includes a module including an amplifier that amplifies laser light, first to third support portions that support the amplifier, and a frame on which the module is mounted. A frame including first to third mounts on which the first to third support portions are respectively mounted, and first to third installation portions on which the first to third mounts are respectively mounted. The first mount positions the first support portion at a predetermined position of the frame, and the second mount is movable so as to move along the step formed in the second installation portion. The second mount is pressed against the step by the elastic member provided on the second installation section and provided on the second installation section or the second mount, and the second mount pushes the second support section to the second mount. The second support portion is positioned by positioning the mount at a predetermined position. The second support portion is supported so that the frame can move in a direction along one direction intersecting the gravitational direction, and the third mount has the third support portion intersecting the gravitational direction with respect to the frame. You may support a 3rd support part so that it can move in a surface.

本開示の他の1つの観点に係るレーザシステムは、レーザ光を伝送するビーム伝送器と、ビーム伝送器を支持する第1〜第3の支持部とを含むモジュールと、モジュールが載置されるフレームであって、第1〜第3の支持部がそれぞれ載置される第1〜第3のマウントを含むフレームと、を含み、第1及び第2のマウントは、フレームの第1の面に設けられ、第3のマウントは、フレームの第2の面であって第1の面と交差する面に設けられ、第1のマウントは、第1の支持部を所定位置に位置決めし、第2のマウントは、第2の支持部が第1のマウントに近づく方向に沿った方向に移動できるように第2の支持部を支持し、第3のマウントは、第3の支持部が第2の面に沿った方向に移動できるように第3の支持部を支持してもよい。   A laser system according to another aspect of the present disclosure includes a module including a beam transmitter that transmits laser light, first to third support portions that support the beam transmitter, and the module. A frame including first to third mounts on which the first to third support portions are respectively mounted, and the first and second mounts are disposed on the first surface of the frame. The third mount is provided on a second surface of the frame that intersects the first surface, the first mount positions the first support portion at a predetermined position, and the second mount. The mount supports the second support portion so that the second support portion can move in a direction along the direction approaching the first mount, and the third mount has the third support portion that is the second support portion. You may support a 3rd support part so that it can move to the direction along a surface.

本開示の1つの観点に係るフレームは、レーザ光を発振する発振器と、発振器を支持する支持部とを含む第1のモジュールと、レーザ光を伝送するビーム伝送器と、ビーム伝送器を支持する支持部とを含む第2のモジュールと、レーザ光を増幅する増幅器と、増幅器を支持する支持部とを含む第3のモジュールと、のうちの少なくとも2つのモジュールが載置されるフレームであって、少なくとも2つのモジュールの各々につき、支持部が載置されるマウントを含んでもよい。   A frame according to one aspect of the present disclosure supports a first module including an oscillator that oscillates laser light and a support unit that supports the oscillator, a beam transmitter that transmits the laser light, and a beam transmitter. A frame on which at least two modules of a second module including a support part, a third module including an amplifier that amplifies laser light, and a support part that supports the amplifier are mounted. In each of the at least two modules, a mount on which the support portion is placed may be included.

本開示のいくつかの実施形態を、単なる例として、添付の図面を参照して以下に説明する。
図1は、LPP方式のEUV光生成装置の構成を概略的に示す。 図2は、本開示の第1の実施形態に係るEUV光生成システムの構成を示すブロック図である。 図3Aは、第1の実施形態に係るレーザシステムを構成するモジュールの具体的な配置を示す斜視図である。 図3Bは、図3Aにおける下層部のモジュールの配置を示す斜視図である。 図3Cは、図3Aにおけるフレームを示す斜視図である。 図4は、レーザシステムを構成するモジュールの具体的な配置を示す平面図である。 図5は、第1のメインアンプの斜視図である。 図6は、第1のメインアンプを図5の矢印VIで示す方向から見た平面図である。 図7Aは、第1のメインアンプを図5の矢印VIIAで示す方向から見た正面図である。 図7Bは、車輪とメインアンプとの間の距離を長くした状態を示す正面図である。 図8は、第1のメインアンプを図5の矢印VIIIで示す方向から見た側面図である。 図9Aは、第2及び第3のプリアンプの斜視図である。 図9Bは、第2及び第3のプリアンプを図9Aの矢印IXBで示す方向から見た平面図である。 図10Aは、第3のビーム伝送器の斜視図である。 図10Bは、第3のビーム伝送器を図10Aの矢印XBで示す方向から見た平面図である。 図11Aは、マスターオシレータの正面図である。 図11Bは、マスターオシレータを図11Aの矢印XIBで示す方向から見た平面図である。 図12は、本開示の第2の実施形態における第1のメインアンプの正面図である。 図13は、本開示の第3の実施形態における第1のメインアンプの正面図である。 図14は、本開示の第4の実施形態における第1のメインアンプの斜視図である。 図15は、本開示の第5の実施形態における第1のメインアンプの正面図である。 図16は、本開示の第6の実施形態における第1のメインアンプの側面図である。 図17は、本開示の第7の実施形態における第1のメインアンプの側面図である。 図18Aは、本開示の第8の実施形態においてモジュールを支持するための構造を示す分解斜視図である。 図18Bは、第8の実施形態においてモジュールを支持するための構造を示す斜視図である。 図19は、本開示の第9の実施形態においてモジュールを支持するための第2のマウントを示す断面図である。 図20Aは、本開示の第10の実施形態においてモジュールを支持するための構造を示す分解斜視図である。 図20Bは、本開示の第10の実施形態においてモジュールを支持するための構造を示す斜視図である。 図20Cは、図20Bの矢印XXCで示す方向から見た一部断面図である。 図21は、本開示の第11の実施形態に係るEUV光生成システムの構成を示すブロック図である。 図22Aは、第11の実施形態に係るレーザシステムを構成するモジュールの具体的な配置を示す斜視図である。 図22Bは、図22Aにおける下層部のモジュールの配置を示す斜視図である。 図22Cは、図22Aにおけるフレームを示す斜視図である。
Several embodiments of the present disclosure are described below by way of example only and with reference to the accompanying drawings.
FIG. 1 schematically shows a configuration of an LPP EUV light generation apparatus. FIG. 2 is a block diagram illustrating a configuration of the EUV light generation system according to the first embodiment of the present disclosure. FIG. 3A is a perspective view showing a specific arrangement of modules constituting the laser system according to the first embodiment. FIG. 3B is a perspective view showing the arrangement of the modules in the lower layer in FIG. 3A. FIG. 3C is a perspective view showing the frame in FIG. 3A. FIG. 4 is a plan view showing a specific arrangement of modules constituting the laser system. FIG. 5 is a perspective view of the first main amplifier. FIG. 6 is a plan view of the first main amplifier as viewed from the direction indicated by the arrow VI in FIG. FIG. 7A is a front view of the first main amplifier as viewed from the direction indicated by the arrow VIIA in FIG. FIG. 7B is a front view illustrating a state in which the distance between the wheel and the main amplifier is increased. FIG. 8 is a side view of the first main amplifier as viewed from the direction indicated by the arrow VIII in FIG. FIG. 9A is a perspective view of the second and third preamplifiers. FIG. 9B is a plan view of the second and third preamplifiers as viewed from the direction indicated by the arrow IXB in FIG. 9A. FIG. 10A is a perspective view of a third beam transmitter. FIG. 10B is a plan view of the third beam transmitter as viewed from the direction indicated by the arrow XB in FIG. 10A. FIG. 11A is a front view of the master oscillator. FIG. 11B is a plan view of the master oscillator viewed from the direction indicated by arrow XIB in FIG. 11A. FIG. 12 is a front view of the first main amplifier according to the second embodiment of the present disclosure. FIG. 13 is a front view of the first main amplifier according to the third embodiment of the present disclosure. FIG. 14 is a perspective view of the first main amplifier according to the fourth embodiment of the present disclosure. FIG. 15 is a front view of the first main amplifier according to the fifth embodiment of the present disclosure. FIG. 16 is a side view of the first main amplifier according to the sixth embodiment of the present disclosure. FIG. 17 is a side view of the first main amplifier according to the seventh embodiment of the present disclosure. FIG. 18A is an exploded perspective view showing a structure for supporting a module in the eighth embodiment of the present disclosure. FIG. 18B is a perspective view showing a structure for supporting a module in the eighth embodiment. FIG. 19 is a cross-sectional view illustrating a second mount for supporting a module according to the ninth embodiment of the present disclosure. FIG. 20A is an exploded perspective view showing a structure for supporting a module in the tenth embodiment of the present disclosure. FIG. 20B is a perspective view showing a structure for supporting a module in the tenth embodiment of the present disclosure. 20C is a partial cross-sectional view as seen from the direction indicated by arrow XXC in FIG. 20B. FIG. 21 is a block diagram illustrating a configuration of an EUV light generation system according to the eleventh embodiment of the present disclosure. FIG. 22A is a perspective view showing a specific arrangement of modules constituting the laser system according to the eleventh embodiment. 22B is a perspective view showing the arrangement of modules in the lower layer in FIG. 22A. FIG. 22C is a perspective view showing the frame in FIG. 22A.

実施形態Embodiment

内容
1.概要
2.用語の説明
3.EUV光生成システムの全体説明
3.1 構成
3.2 動作
4.第1の実施形態
4.1 レーザシステムの構成
4.2 モジュールの配置
4.3 メインアンプの支持機構
4.4 プリアンプの支持機構
4.5 ビーム伝送器の支持機構
4.6 マスターオシレータの支持機構
5.第2の実施形態
6.第3の実施形態
7.第4の実施形態
8.第5の実施形態
9.第6の実施形態
10.第7の実施形態
11.第8の実施形態
12.第9の実施形態
13.第10の実施形態
14.第11の実施形態
Contents 1. Outline 2. 2. Explanation of terms 3. Overview of EUV light generation system 3.1 Configuration 3.2 Operation 4. First Embodiment 4.1 Laser System Configuration 4.2 Module Arrangement 4.3 Main Amplifier Support Mechanism 4.4 Preamplifier Support Mechanism 4.5 Beam Transmitter Support Mechanism 4.6 Master Oscillator Support Mechanism 5. Second embodiment 6. Third embodiment 7. Fourth embodiment 8. Fifth embodiment Sixth Embodiment 10. Seventh embodiment 11. Eighth Embodiment 12 Ninth embodiment 13. Tenth Embodiment Eleventh embodiment

以下、本開示の実施形態について、図面を参照しながら詳しく説明する。以下に説明される実施形態は、本開示のいくつかの例を示すものであって、本開示の内容を限定するものではない。また、各実施形態で説明される構成及び動作の全てが本開示の構成及び動作として必須であるとは限らない。なお、同一の構成要素には同一の参照符号を付して、重複する説明を省略する。   Hereinafter, embodiments of the present disclosure will be described in detail with reference to the drawings. Embodiment described below shows some examples of this indication, and does not limit the contents of this indication. In addition, all the configurations and operations described in the embodiments are not necessarily essential as the configurations and operations of the present disclosure. In addition, the same referential mark is attached | subjected to the same component and the overlapping description is abbreviate | omitted.

1.概要
本開示の各実施形態においては、レーザ光を増幅するメインアンプ等のモジュールが、脚部を含み、脚部がフレームの所定位置に載置されることによってモジュールが位置決めされ得る。更に、このモジュールには車輪が取り付けられ、車輪は、モジュールとの間の距離を伸縮し得る。車輪とモジュールとの間の距離を離すことにより、脚部をフレームから離れさせれば、モジュールをフレームに対して移動させ得る。反対に、車輪とモジュールとの間の距離を近づけることにより、脚部をフレームの所定位置に載置すれば、モジュールをフレームの所定位置に位置決めし得る。
1. Overview In each embodiment of the present disclosure, a module such as a main amplifier that amplifies laser light includes a leg portion, and the module can be positioned by placing the leg portion at a predetermined position of the frame. In addition, wheels are attached to the module, and the wheels can expand and contract the distance to the module. The module can be moved relative to the frame if the legs are separated from the frame by increasing the distance between the wheel and the module. On the contrary, the module can be positioned at a predetermined position of the frame by placing the leg portion at a predetermined position of the frame by reducing the distance between the wheel and the module.

2.用語の説明
本開示において使用する用語を説明する。「チャンバ」は、EUV光の生成が行われる空間を大気から隔絶するためのチャンバである。「ドロップレット生成器」は、EUV光を生成するために用いられるスズ等のターゲット物質を液滴の状態でチャンバ内に供給する装置である。「レーザシステム」は、ターゲット物質を励起してプラズマ化するためのレーザ光を出力するシステムである。「プラズマ生成領域」とは、プラズマが生成される空間として予め設定された3次元空間である。レーザ光のエネルギーによってターゲット物質が励起されて放射される光には特定波長の光(EUV光)が含まれている。「EUV集光ミラー」は、プラズマ化されたターゲット物質から放射されるEUV光を高い反射率で反射して、チャンバ外に出力するミラーである。レーザ光の光軸または光路における「上流」とは、レーザ光の起源となるマスターオシレータに近い側を指す。一方、光軸または光路における「下流」とは、プラズマ生成領域に近い側を指す。
2. Explanation of Terms Terms used in the present disclosure will be described. The “chamber” is a chamber for isolating a space where EUV light is generated from the atmosphere. The “droplet generator” is a device that supplies a target material such as tin used for generating EUV light into the chamber in the form of droplets. The “laser system” is a system that outputs laser light for exciting a target material into plasma. The “plasma generation region” is a three-dimensional space preset as a space where plasma is generated. The light emitted by exciting the target material with the energy of the laser light includes light of a specific wavelength (EUV light). The “EUV collector mirror” is a mirror that reflects EUV light radiated from a plasma target material with high reflectivity and outputs the reflected light outside the chamber. “Upstream” in the optical axis or optical path of laser light refers to the side close to the master oscillator from which the laser light originates. On the other hand, “downstream” in the optical axis or optical path refers to the side close to the plasma generation region.

3.EUV光生成システムの全体説明
3.1 構成
図1に、例示的なLPP方式のEUV光生成装置1の構成を概略的に示す。EUV光生成装置1は、少なくとも1つのレーザシステム3と共に用いられてもよい(EUV光生成装置1及びレーザシステム3を含むシステムを、以下、EUV光生成システム11と称する)。図1に示し、かつ以下に詳細に説明されるように、EUV光生成装置1は、チャンバ2、ターゲット供給装置(例えばドロップレット生成器26)等を含んでもよい。チャンバ2は、密閉可能であってもよい。ターゲット供給装置は、例えばチャンバ2に取り付けられていてもよい。ターゲット供給装置から供給されるターゲットの材料は、スズ、テルビウム、ガドリニウム、リチウム、キセノンそれらのうちのいずれか2つ以上の組合せ等を含んでもよいが、これらに限定されない。
3. 3. General Description of EUV Light Generation System 3.1 Configuration FIG. 1 schematically shows a configuration of an exemplary LPP type EUV light generation apparatus 1. The EUV light generation apparatus 1 may be used with at least one laser system 3 (a system including the EUV light generation apparatus 1 and the laser system 3 is hereinafter referred to as an EUV light generation system 11). As shown in FIG. 1 and described in detail below, the EUV light generation device 1 may include a chamber 2, a target supply device (eg, a droplet generator 26), and the like. The chamber 2 may be sealable. The target supply device may be attached to the chamber 2, for example. The target material supplied from the target supply device may include, but is not limited to, a combination of two or more of tin, terbium, gadolinium, lithium, and xenon.

チャンバ2の壁には、少なくとも1つの貫通孔が設けられていてもよく、その貫通孔をレーザシステム3から出力されたパルスレーザ光32が通過してもよい。或いは、チャンバ2には、レーザシステム3から出力されたパルスレーザ光32が透過する少なくとも1つのウィンドウ21が設けられてもよい。チャンバ2の内部には例えば、回転楕円面形状の反射面を有するEUV集光ミラー23が配置されてもよい。EUV集光ミラー23は、第1及び第2の焦点を有し得る。EUV集光ミラー23の表面には例えば、モリブデンとシリコンとが交互に積層された多層反射膜が形成されていてもよい。EUV集光ミラー23は、例えば、第1の焦点がプラズマ生成領域25に位置し、第2の焦点が露光装置の仕様によって規定される所望の集光位置(中間焦点(IF)292)に位置するように配置されるのが好ましい。EUV集光ミラー23の中央部には、貫通孔24が設けられてもよい。   The wall of the chamber 2 may be provided with at least one through hole, and the pulse laser beam 32 output from the laser system 3 may pass through the through hole. Alternatively, the chamber 2 may be provided with at least one window 21 through which the pulsed laser light 32 output from the laser system 3 is transmitted. For example, an EUV collector mirror 23 having a spheroidal reflecting surface may be disposed inside the chamber 2. The EUV collector mirror 23 may have first and second focal points. For example, a multilayer reflective film in which molybdenum and silicon are alternately laminated may be formed on the surface of the EUV collector mirror 23. In the EUV collector mirror 23, for example, the first focal point is located in the plasma generation region 25, and the second focal point is located at a desired condensing position (intermediate focal point (IF) 292) defined by the specifications of the exposure apparatus. It is preferable to arrange so as to. A through hole 24 may be provided at the center of the EUV collector mirror 23.

EUV光生成装置1は、EUV光生成制御システム5、ターゲットセンサ4等をさらに含んでもよい。ターゲットセンサ4は、撮像機能を有してもよく、ターゲットの存在、軌道、位置等を検出してもよい。   The EUV light generation apparatus 1 may further include an EUV light generation control system 5, a target sensor 4, and the like. The target sensor 4 may have an imaging function, and may detect the presence, trajectory, position, and the like of the target.

更に、EUV光生成装置1は、チャンバ2内部と露光装置6内部とを連通させる接続部29を含んでもよい。接続部29内部には、アパーチャが形成された壁291が設けられてもよい。壁291は、そのアパーチャがEUV集光ミラー23の第2の焦点位置に位置するように配置されてもよい。   Further, the EUV light generation apparatus 1 may include a connection portion 29 that allows communication between the inside of the chamber 2 and the inside of the exposure apparatus 6. A wall 291 in which an aperture is formed may be provided inside the connection portion 29. The wall 291 may be arranged such that its aperture is located at the second focal position of the EUV collector mirror 23.

更に、EUV光生成装置1は、レーザ光進行方向制御部34、レーザ光集光光学系22、ドロップレットターゲット27を回収するためのターゲット回収部28等を含んでもよい。レーザ光進行方向制御部34は、レーザ光の進行方向を規定するための光学素子と、この光学素子の位置や姿勢等を制御するためのアクチュエータとを備えてもよい。   Furthermore, the EUV light generation apparatus 1 may include a laser beam traveling direction control unit 34, a laser beam focusing optical system 22, a target recovery unit 28 for recovering the droplet target 27, and the like. The laser beam traveling direction control unit 34 may include an optical element for defining the traveling direction of the laser beam and an actuator for controlling the position, posture, and the like of the optical element.

3.2 動作
図1を参照に、レーザシステム3から出力されたパルスレーザ光31は、レーザ光進行方向制御部34を経て、パルスレーザ光32としてウィンドウ21を透過して、チャンバ2に入射してもよい。パルスレーザ光32は、少なくとも1つのレーザ光経路に沿ってチャンバ2内に進み、レーザ光集光光学系22で反射されて、パルスレーザ光33として少なくとも1つのドロップレットターゲット27に照射されてもよい。
3.2 Operation Referring to FIG. 1, the pulse laser beam 31 output from the laser system 3 passes through the window 21 as the pulse laser beam 32 through the laser beam traveling direction control unit 34 and enters the chamber 2. May be. The pulse laser beam 32 travels into the chamber 2 along at least one laser beam path, is reflected by the laser beam focusing optical system 22, and is irradiated to the at least one droplet target 27 as the pulse laser beam 33. Good.

ドロップレット生成器26からは、ドロップレットターゲット27がチャンバ2内部のプラズマ生成領域25に向けて出力されてもよい。ドロップレットターゲット27には、パルスレーザ光33に含まれる少なくとも1つのパルスレーザ光が照射され得る。パルスレーザ光が照射されたドロップレットターゲット27はプラズマ化し、そのプラズマからEUV光251が放射され得る。EUV光251は、EUV集光ミラー23によって集光されるとともに反射されてもよい。EUV集光ミラー23で反射されたEUV光252は、中間焦点292を通って露光装置6に出力されてもよい。なお、1つのドロップレットターゲット27に、パルスレーザ光33に含まれる複数のパルスレーザ光が照射されてもよい。   A droplet target 27 may be output from the droplet generator 26 toward the plasma generation region 25 inside the chamber 2. The droplet target 27 can be irradiated with at least one pulsed laser beam included in the pulsed laser beam 33. The droplet target 27 irradiated with the pulse laser beam is turned into plasma, and EUV light 251 can be emitted from the plasma. The EUV light 251 may be collected and reflected by the EUV collector mirror 23. The EUV light 252 reflected by the EUV collector mirror 23 may be output to the exposure apparatus 6 through the intermediate focal point 292. One droplet target 27 may be irradiated with a plurality of pulse laser beams included in the pulse laser beam 33.

EUV光生成制御システム5は、EUV光生成システム11全体の制御を統括してもよい。EUV光生成制御システム5はターゲットセンサ4によって撮像されたドロップレットターゲット27のイメージデータ等を処理してもよい。EUV光生成制御システム5は、例えば、ドロップレットターゲット27を出力するタイミングやドロップレットターゲット27の出力方向等を制御してもよい。また、EUV光生成制御システム5は、例えば、レーザシステム3のレーザ発振タイミングやパルスレーザ光32の進行方向やパルスレーザ光33の集光位置等を制御してもよい。上述の様々な制御は単なる例示に過ぎず、必要に応じて他の制御を追加してもよい。   The EUV light generation control system 5 may control the entire EUV light generation system 11. The EUV light generation control system 5 may process image data of the droplet target 27 captured by the target sensor 4. The EUV light generation control system 5 may control the output timing of the droplet target 27, the output direction of the droplet target 27, and the like, for example. Further, the EUV light generation control system 5 may control, for example, the laser oscillation timing of the laser system 3, the traveling direction of the pulse laser light 32, the condensing position of the pulse laser light 33, and the like. The various controls described above are merely examples, and other controls may be added as necessary.

4.第1の実施形態
4.1 レーザシステムの構成
図2は、本開示の第1の実施形態に係るEUV光生成システムの構成を示すブロック図である。EUV光生成システム11に含まれるレーザシステム3は、マスターオシレータ300と、第1〜第3のプリアンプ301〜303と、第1及び第2のメインアンプ304及び305と、プリパルスレーザ部306と、光路調整部307とを含んでもよい。
4). First Embodiment 4.1 Configuration of Laser System FIG. 2 is a block diagram illustrating a configuration of an EUV light generation system according to a first embodiment of the present disclosure. The laser system 3 included in the EUV light generation system 11 includes a master oscillator 300, first to third preamplifiers 301 to 303, first and second main amplifiers 304 and 305, a prepulse laser unit 306, an optical path The adjusting unit 307 may be included.

マスターオシレータ300(発振器)は、例えばCOレーザ装置によって構成されてもよい。マスターオシレータ300は、メインパルスレーザ光の種光を生成するよう構成されてもよい。メインパルスレーザ光は、ターゲットに照射されることによってターゲットをプラズマ化し得る。 The master oscillator 300 (oscillator) may be constituted by a CO 2 laser device, for example. The master oscillator 300 may be configured to generate seed light of main pulse laser light. The main pulse laser beam can be converted into plasma by irradiating the target with the target.

マスターオシレータ300の下流側には、第1のプリアンプ301、第2のプリアンプ302、第3のプリアンプ303、第1のメインアンプ304及び第2のメインアンプ305が、この順で配置されてもよい。第1のプリアンプ301、第2のプリアンプ302、第3のプリアンプ303、第1のメインアンプ304及び第2のメインアンプ305は、マスターオシレータ300によって生成されたメインパルスレーザ光の種光を順次増幅して、光路調整部307に出力するよう構成されてもよい。第1のプリアンプ301、第2のプリアンプ302及び第3のプリアンプ303は、それぞれ例えばスラブ型増幅器で構成されてもよい。第1のメインアンプ304及び第2のメインアンプ305は、それぞれ例えば高速軸流型増幅器で構成されてもよい。   On the downstream side of the master oscillator 300, the first preamplifier 301, the second preamplifier 302, the third preamplifier 303, the first main amplifier 304, and the second main amplifier 305 may be arranged in this order. . The first preamplifier 301, the second preamplifier 302, the third preamplifier 303, the first main amplifier 304, and the second main amplifier 305 sequentially amplify the seed light of the main pulse laser light generated by the master oscillator 300. Then, it may be configured to output to the optical path adjustment unit 307. Each of the first preamplifier 301, the second preamplifier 302, and the third preamplifier 303 may be constituted by, for example, a slab type amplifier. Each of the first main amplifier 304 and the second main amplifier 305 may be composed of, for example, a high-speed axial flow amplifier.

第2のプリアンプ302の上流側及び下流側には、それぞれ、第1及び第2のビーム調節器(BF)311及び312が配置されてもよい。第3のプリアンプ303の上流側及び下流側には、それぞれ、第3及び第4のビーム調節器313及び314が配置されてもよい。   First and second beam conditioners (BF) 311 and 312 may be arranged on the upstream side and the downstream side of the second preamplifier 302, respectively. Third and fourth beam conditioners 313 and 314 may be arranged on the upstream side and the downstream side of the third preamplifier 303, respectively.

第1のプリアンプ301と第1のビーム調節器311との間には、第1のビーム伝送器(BD)321が配置されてもよい。第1のビーム伝送器321は、第1のプリアンプ301からの出射光を第1のビーム調節器311への入射位置へ伝送してもよい。   A first beam transmitter (BD) 321 may be disposed between the first preamplifier 301 and the first beam adjuster 311. The first beam transmitter 321 may transmit the emitted light from the first preamplifier 301 to the incident position on the first beam adjuster 311.

第4のビーム調節器314と第1のメインアンプ304との間には、第2及び第3のビーム伝送器322及び323が配置されてもよい。第2及び第3のビーム伝送器322及び323は、第4のビーム調節器314からの出射光を第1のメインアンプ304への入射位置へ伝送してもよい。   Between the fourth beam adjuster 314 and the first main amplifier 304, second and third beam transmitters 322 and 323 may be disposed. The second and third beam transmitters 322 and 323 may transmit the emitted light from the fourth beam adjuster 314 to the incident position on the first main amplifier 304.

第1のメインアンプ304と第2のメインアンプ305との間には、第3及び第4のビーム伝送器323及び324が配置されてもよい。第3及び第4のビーム伝送器323及び324は、第1のメインアンプ304からの出射光を第2のメインアンプ305への入射位置へ伝送してもよい。   Third and fourth beam transmitters 323 and 324 may be disposed between the first main amplifier 304 and the second main amplifier 305. The third and fourth beam transmitters 323 and 324 may transmit the emitted light from the first main amplifier 304 to the incident position on the second main amplifier 305.

第2のメインアンプ305と光路調整部307との間には、第4及び第5のビーム伝送器324及び325が配置されてもよい。第4及び第5のビーム伝送器324及び325は、第2のメインアンプ305からの出射光を光路調整部307への入射位置へ伝送してもよい。   Between the second main amplifier 305 and the optical path adjustment unit 307, fourth and fifth beam transmitters 324 and 325 may be arranged. The fourth and fifth beam transmitters 324 and 325 may transmit the emitted light from the second main amplifier 305 to the incident position on the optical path adjustment unit 307.

プリパルスレーザ部306は、プリパルスレーザ光を出力し得る。プリパルスレーザ光は、ドロップレットターゲット27(図1参照)に照射されることにより、ドロップレットターゲット27を拡散させ、拡散したターゲットに対するメインパルスレーザ光の吸収率を向上させ得る。プリパルスレーザ部306から出力されたプリパルスレーザ光は、光路調整部307に入射してもよい。光路調整部307に入射したメインパルスレーザ光及びプリパルスレーザ光は、第6のビーム伝送器326を介してEUV光生成装置1に入射してもよい。   The prepulse laser unit 306 can output prepulse laser light. By irradiating the droplet target 27 (see FIG. 1) with the pre-pulse laser beam, the droplet target 27 can be diffused and the absorption rate of the main pulse laser beam with respect to the diffused target can be improved. The prepulse laser beam output from the prepulse laser unit 306 may be incident on the optical path adjustment unit 307. The main pulse laser beam and the pre-pulse laser beam incident on the optical path adjustment unit 307 may be incident on the EUV light generation apparatus 1 via the sixth beam transmitter 326.

4.2 モジュールの配置
図3Aは、第1の実施形態に係るレーザシステムを構成するモジュールの具体的な配置を示す斜視図である。図3Bは、図3Aにおける下層部のモジュールの配置を示す斜視図である。図3Cは、図3Aにおけるフレームを示す斜視図である。図3Cに示すように、このフレームは複数の梁を組合わせた構造物であってもよい。上述のマスターオシレータ300、第1〜第3のプリアンプ301〜303、第1及び第2のメインアンプ304及び305、プリパルスレーザ部306、光路調整部307、第1〜第4のビーム調節器311〜314、第1〜第4のビーム伝送器321〜324は、フレーム330によって支持されてもよい。なお、第6のビーム伝送器326及びEUV光生成装置1(図2参照)は、図3Aに示す構成要素とは遠隔に配置されてもよいため、図3Aには第6のビーム伝送器326を記載していない。図3Aにおいて、XYZの3次元直交軸を規定し、以降の図においても共通の座標軸を用いる。XY平面は重力方向に直行する面、Z方向は重力の逆方向である。
4.2 Module Arrangement FIG. 3A is a perspective view showing a specific arrangement of modules constituting the laser system according to the first embodiment. FIG. 3B is a perspective view showing the arrangement of the modules in the lower layer in FIG. 3A. FIG. 3C is a perspective view showing the frame in FIG. 3A. As shown in FIG. 3C, the frame may be a structure in which a plurality of beams are combined. The master oscillator 300, the first to third preamplifiers 301 to 303, the first and second main amplifiers 304 and 305, the prepulse laser unit 306, the optical path adjustment unit 307, and the first to fourth beam conditioners 311 to 111. 314 and the first to fourth beam transmitters 321 to 324 may be supported by the frame 330. Note that the sixth beam transmitter 326 and the EUV light generation apparatus 1 (see FIG. 2) may be remotely located from the components shown in FIG. 3A, and therefore the sixth beam transmitter 326 is shown in FIG. 3A. Is not listed. In FIG. 3A, a three-dimensional orthogonal axis of XYZ is defined, and a common coordinate axis is used in the subsequent drawings. The XY plane is a plane perpendicular to the direction of gravity, and the Z direction is the reverse direction of gravity.

フレーム330は、少なくとも3つのフレーム支持部331〜333によって床面上に支持されてもよい。フレーム支持部331〜333は、例えば、エアーサスペンション装置によって構成されてもよい。   The frame 330 may be supported on the floor surface by at least three frame support portions 331 to 333. The frame support portions 331 to 333 may be configured by, for example, an air suspension device.

図3Aに示すように、第1のプリアンプ301と第1のビーム伝送器321とは、1つの筐体に収容されてもよい。また、第5のビーム伝送器325と、プリパルスレーザ部306と、光路調整部307とは、それぞれ別の1つの筐体に収容されてもよい。   As shown in FIG. 3A, the first preamplifier 301 and the first beam transmitter 321 may be housed in one housing. Further, the fifth beam transmitter 325, the pre-pulse laser unit 306, and the optical path adjustment unit 307 may be housed in separate housings.

マスターオシレータ300、第1のプリアンプ301、第1のビーム伝送器321、第2のビーム伝送器322、第5のビーム伝送器325、プリパルスレーザ部306及び光路調整部307は、レーザシステム3の上層部に配置されてもよい。図3Bに示すように、第2及び第3のプリアンプ302及び303、第1及び第2のメインアンプ304及び305、第1〜第4のビーム調節器311〜314は、レーザシステム3の下層部に配置されてもよい。   The master oscillator 300, the first preamplifier 301, the first beam transmitter 321, the second beam transmitter 322, the fifth beam transmitter 325, the prepulse laser unit 306, and the optical path adjustment unit 307 are the upper layers of the laser system 3. It may be arranged in the part. As shown in FIG. 3B, the second and third preamplifiers 302 and 303, the first and second main amplifiers 304 and 305, and the first to fourth beam adjusters 311 to 314 are arranged in the lower layer portion of the laser system 3. May be arranged.

マスターオシレータ300に隣接して、第1のプリアンプ301と第1のビーム伝送器321とを収容した筐体が配置されてもよい。第1のプリアンプ301と第1のビーム伝送器321とが収容された筐体の下方に、図3Bに示す第1のビーム調節器311が配置されてもよい。   A housing that houses the first preamplifier 301 and the first beam transmitter 321 may be disposed adjacent to the master oscillator 300. A first beam adjuster 311 shown in FIG. 3B may be disposed below the housing in which the first preamplifier 301 and the first beam transmitter 321 are accommodated.

図3Bに示すように、第1のビーム調節器311に隣接して、第2のプリアンプ302が配置されてもよい。第2のプリアンプ302に隣接して、第2のビーム調節器312が配置されてもよい。第2のビーム調節器312に隣接して、第3のビーム調節器313が配置されてもよい。第3のビーム調節器313に隣接して、第3のプリアンプ303が配置されてもよい。第3のプリアンプ303に隣接して、第4のビーム調節器314が配置されてもよい。第4のビーム調節器314の上方に、図3Aに示す第2のビーム伝送器322が配置されてもよい。   As shown in FIG. 3B, a second preamplifier 302 may be disposed adjacent to the first beam adjuster 311. A second beam adjuster 312 may be disposed adjacent to the second preamplifier 302. A third beam conditioner 313 may be disposed adjacent to the second beam conditioner 312. A third preamplifier 303 may be disposed adjacent to the third beam adjuster 313. A fourth beam adjuster 314 may be disposed adjacent to the third preamplifier 303. A second beam transmitter 322 shown in FIG. 3A may be disposed above the fourth beam adjuster 314.

図3Aに示すように、第2のビーム伝送器322に隣接して、第3のビーム伝送器323が配置されてもよい。第3のビーム伝送器323に隣接していて、かつ第2のビーム伝送器322の下方の位置に、第1のメインアンプ304が配置されてもよい。また、第3のビーム伝送器323に隣接して、第4のビーム伝送器324が配置されてもよい。第4のビーム伝送器324に隣接して、第2のメインアンプ305が配置されてもよい。また、第4のビーム伝送器324に隣接していて、かつ第2のメインアンプ305の上方には、第5のビーム伝送器325、プリパルスレーザ部306及び光路調整部307が収容された筐体が配置されてもよい。   As shown in FIG. 3A, a third beam transmitter 323 may be disposed adjacent to the second beam transmitter 322. The first main amplifier 304 may be disposed adjacent to the third beam transmitter 323 and at a position below the second beam transmitter 322. Further, a fourth beam transmitter 324 may be disposed adjacent to the third beam transmitter 323. A second main amplifier 305 may be disposed adjacent to the fourth beam transmitter 324. A housing that is adjacent to the fourth beam transmitter 324 and that houses the fifth beam transmitter 325, the prepulse laser unit 306, and the optical path adjustment unit 307 above the second main amplifier 305. May be arranged.

図3Bに示すように、第2のプリアンプ302及び第3のプリアンプ303は、それぞれ、水平面(X−Y平面)に対して所定角度θ(例えばθ=45°)傾いた状態で配置されてもよい。このように傾いて配置されるプリアンプに入射するメインパルスレーザ光は、プリアンプの傾斜方向に対し、ビーム断面形状の長手方向が略一致するようなたとえば楕円形状のレーザ光であってもよい。そこで、第1の実施形態では、第1のビーム調節器311によって、ビーム断面形状が略円形のメインパルスレーザ光を、ビーム断面形状が一方向に長いレーザ光に変換してもよい。そして、第1のビーム調節器311は、メインパルスレーザ光のビーム断面形状の長手方向と第2のプリアンプ302の傾斜方向とが略一致するように、メインパルスレーザ光を第2のプリアンプ302に入射させてもよい。   As shown in FIG. 3B, each of the second preamplifier 302 and the third preamplifier 303 may be arranged in a state inclined by a predetermined angle θ (for example, θ = 45 °) with respect to the horizontal plane (XY plane). Good. The main pulse laser beam incident on the preamplifier arranged in such a manner may be, for example, an elliptical laser beam in which the longitudinal direction of the beam cross-sectional shape substantially coincides with the inclination direction of the preamplifier. Therefore, in the first embodiment, the first beam adjuster 311 may convert the main pulse laser beam having a substantially circular beam cross-sectional shape into a laser beam having a long beam cross-sectional shape in one direction. Then, the first beam adjuster 311 sends the main pulse laser beam to the second preamplifier 302 so that the longitudinal direction of the beam cross-sectional shape of the main pulse laser beam substantially coincides with the inclination direction of the second preamplifier 302. It may be incident.

第2のビーム調節器312は、第2のプリアンプ302から出力されたメインパルスレーザ光を、ビーム断面形状が略円形のレーザ光に戻してもよい。第3のビーム調節器313は、ビーム断面形状が略円形のメインパルスレーザ光を、ビーム断面形状が一方向に長いレーザ光に変換してもよい。あるいは、第2のビーム調節器312は、第2のプリアンプ302から出力されたメインパルスレーザ光を、ビーム断面形状が一方向に長いレーザ光で第3のビーム調節器313に入射してもよい。この際、メインパルスレーザ光のダイバージェンスやビーム断面積が調整されてもよい。そして、第3のビーム調節器313は、メインパルスレーザ光のビーム断面の長手方向と第3のプリアンプ303の傾斜方向とが一致するように、メインパルスレーザ光を第3のプリアンプ303に入射させてもよい。第4のビーム調節器314は、第3のプリアンプ303から出力されたメインパルスレーザ光を、ビーム断面形状が略円形のレーザ光に戻してもよい。   The second beam adjuster 312 may return the main pulse laser beam output from the second preamplifier 302 to a laser beam having a substantially circular beam cross-sectional shape. The third beam adjuster 313 may convert the main pulse laser beam having a substantially circular beam cross-sectional shape into a laser beam having a long beam cross-sectional shape in one direction. Alternatively, the second beam adjuster 312 may make the main pulse laser beam output from the second preamplifier 302 enter the third beam adjuster 313 as a laser beam having a long beam cross-sectional shape in one direction. . At this time, the divergence and beam cross-sectional area of the main pulse laser beam may be adjusted. Then, the third beam adjuster 313 causes the main pulse laser beam to enter the third preamplifier 303 so that the longitudinal direction of the beam cross section of the main pulse laser beam coincides with the tilt direction of the third preamplifier 303. May be. The fourth beam adjuster 314 may return the main pulse laser beam output from the third preamplifier 303 to a laser beam having a substantially circular beam cross-sectional shape.

第2及び第3のプリアンプ302及び303、並びに第1及び第2のメインアンプ304及び305は、メインパルスレーザ光のエネルギー増幅量が多い場合がある。そのため、これらの装置は、上流側のマスターオシレータ300及び第1のプリアンプ301に比べて、大きく且つ重い装置であり得る。そこで、第2及び第3のプリアンプ302及び303、並びに第1及び第2のメインアンプ304及び305のメンテナンスを容易にするため、これらの装置をレーザシステム3の下層部に配置してもよい。   The second and third preamplifiers 302 and 303 and the first and second main amplifiers 304 and 305 may have a large amount of energy amplification of the main pulse laser beam. Therefore, these devices can be larger and heavier than the upstream master oscillator 300 and the first preamplifier 301. Therefore, these devices may be arranged in the lower layer portion of the laser system 3 in order to facilitate maintenance of the second and third preamplifiers 302 and 303 and the first and second main amplifiers 304 and 305.

図4は、レーザシステムを構成するモジュールの具体的な配置を示す平面図である。マスターオシレータ300、第1〜第3のプリアンプ301〜303、第1及び第2のメインアンプ304、305、プリパルスレーザ部306、光路調整部307、第1〜第4のビーム調節器311〜314、第1〜第4のビーム伝送器321〜324等のモジュールは、フレーム330から取り外してメンテナンスできるようにしてもよい。例えば、マスターオシレータ300、第2及び第3のプリアンプ302及び303、第1及び第2のメインアンプ304及び305は、設置面に対して平行に(たとえば図4におけるXY方向に)移動してメンテナンスできるようにしてもよい。以下に、これらのモジュールをフレーム330に対して位置決めしたり、フレーム330から取り外したりするための構成について説明する。   FIG. 4 is a plan view showing a specific arrangement of modules constituting the laser system. Master oscillator 300, first to third preamplifiers 301 to 303, first and second main amplifiers 304 and 305, prepulse laser unit 306, optical path adjustment unit 307, first to fourth beam conditioners 311 to 314, Modules such as the first to fourth beam transmitters 321 to 324 may be removed from the frame 330 for maintenance. For example, the master oscillator 300, the second and third preamplifiers 302 and 303, and the first and second main amplifiers 304 and 305 move parallel to the installation surface (for example, in the XY direction in FIG. 4) for maintenance. You may be able to do it. A configuration for positioning these modules with respect to the frame 330 and removing them from the frame 330 will be described below.

4.3 メインアンプの支持機構
図5は、第1のメインアンプの透視斜視図である。図6は、第1のメインアンプを図5の矢印VIで示す方向から見た透視平面図である。図7Aは、第1のメインアンプを図5の矢印VIIAで示す方向から見た透視正面図である。図8は、第1のメインアンプを図5の矢印VIIIで示す方向から見た透視側面図である。
4.3 Main Amplifier Support Mechanism FIG. 5 is a perspective view of the first main amplifier. 6 is a perspective plan view of the first main amplifier as viewed from the direction indicated by the arrow VI in FIG. FIG. 7A is a transparent front view of the first main amplifier as viewed from the direction indicated by the arrow VIIA in FIG. 5. FIG. 8 is a see-through side view of the first main amplifier as seen from the direction indicated by the arrow VIII in FIG.

1つのモジュールを構成し得る第1のメインアンプ304は、例えば高速軸流型増幅器を含んでもよい。高速軸流型増幅器は、入射窓401と、複数の放電管411〜418と、ミラー421〜428と、出射窓402とを含んでもよい。入射窓401は、X軸に沿って第3のビーム伝送器323(図3A参照)からのレーザ光が入射するための透明な窓であってもよい。出射窓402は、X軸に沿って第3のビーム伝送器323へレーザ光が出射するための透明な窓であってもよい。   The first main amplifier 304 that can constitute one module may include, for example, a high-speed axial flow amplifier. The high speed axial flow amplifier may include an entrance window 401, a plurality of discharge tubes 411 to 418, mirrors 421 to 428, and an exit window 402. The incident window 401 may be a transparent window through which laser light from the third beam transmitter 323 (see FIG. 3A) enters along the X axis. The emission window 402 may be a transparent window for emitting laser light to the third beam transmitter 323 along the X axis.

図6に示すように、放電管411〜418各々の外周に一対の電極433及び434を含んでもよい。また、放電管411〜418の各々の内部には、レーザ媒質としてCOガスを含む混合ガスが供給されてもよい。 As shown in FIG. 6, a pair of electrodes 433 and 434 may be included on the outer periphery of each of the discharge tubes 411 to 418. Further, a mixed gas containing CO 2 gas may be supplied to each of the discharge tubes 411 to 418 as a laser medium.

放電管411〜418の各々において、図示しない外部のRF電源装置から電極433と電極434との間に高周波電圧が印加されてもよい、これにより、COガスを含む混合ガスが励起され、励起された領域を通過するレーザ光が増幅され得る。レーザ光は、入射窓401から放電管411へ入射され、ミラー421〜428(図5参照)によって反射されて放電管412〜418内を通過することで順次増幅されて、X軸に沿って出射窓402から出力され得る。 In each of the discharge tubes 411 to 418, a high frequency voltage may be applied between the electrode 433 and the electrode 434 from an external RF power supply device (not shown), thereby exciting and exciting the mixed gas containing CO 2 gas. The laser light passing through the formed region can be amplified. The laser light enters the discharge tube 411 from the incident window 401, is reflected by the mirrors 421 to 428 (see FIG. 5), passes through the discharge tubes 412 to 418, is sequentially amplified, and is emitted along the X axis. It can be output from the window 402.

第1のメインアンプ304は、脚部(支持部)441〜443を更に含んでもよい。脚部(支持部)は少なくとも3箇所にもうけられ、3点でメインアンプを支持してもよい。望ましくは、脚部441は、第1のメインアンプ304の入射窓401及び出射窓402側の位置に設けられてもよい。また、脚部442は、脚部441から見て、入射窓401からの入射光の入射方向側の位置に設けられてもよい。また、脚部443は、脚部441及び442が設けられる側とは反対側に設けられてもよい。   The first main amplifier 304 may further include leg portions (support portions) 441 to 443. Leg portions (support portions) may be provided at at least three locations, and the main amplifier may be supported at three points. Desirably, the leg portion 441 may be provided at a position on the entrance window 401 and exit window 402 side of the first main amplifier 304. Further, the leg portion 442 may be provided at a position on the incident direction side of the incident light from the incident window 401 when viewed from the leg portion 441. Further, the leg portion 443 may be provided on the side opposite to the side on which the leg portions 441 and 442 are provided.

図7Aに示すように、フレーム330は、脚部441〜443が載置されるマウント341〜343を含んでもよい。脚部441〜443がマウント341〜343にそれぞれ載置されることにより、第1のメインアンプ304がフレーム330に支持されてもよい。   As shown in FIG. 7A, the frame 330 may include mounts 341 to 343 on which the leg portions 441 to 443 are placed. The first main amplifier 304 may be supported by the frame 330 by placing the leg portions 441 to 443 on the mounts 341 to 343, respectively.

マウント341の上面には、円錐状の窪み341aが形成されてもよい。マウント342の上面には、断面がV字状の溝342aが形成されてもよい。溝342aは、入射窓401からの入射光の入射方向(X軸方向)と平行で、且つ出射窓402からの出射光の出射方向と平行な方向(X軸方向)に形成されてもよい。マウント343の上面は、平面状になっていてもよい。   A conical recess 341 a may be formed on the upper surface of the mount 341. A groove 342 a having a V-shaped cross section may be formed on the upper surface of the mount 342. The groove 342a may be formed in a direction (X-axis direction) parallel to the incident direction (X-axis direction) of the incident light from the incident window 401 and parallel to the emission direction of the emitted light from the emission window 402. The upper surface of the mount 343 may be planar.

脚部441がマウント341に載置されることにより、脚部441がXY方向には動き難い。脚部442がマウント342に載置されることにより、脚部442は、溝342aに沿った方向に移動できるように支持され得る。すなわち、脚部442は、入射窓401からの入射光の入射方向(X軸方向)と平行で、且つ出射窓402からの出射光の出射方向(X軸方向)と平行な方向に移動できるように支持され得る。脚部443は、マウント343に載置されることにより、マウント343の上面に沿って移動できるように支持され得る。すなわち、脚部443は、重力方向と交差する面内において移動できるように支持され得る。   Since the leg portion 441 is placed on the mount 341, the leg portion 441 hardly moves in the XY directions. By placing the leg portion 442 on the mount 342, the leg portion 442 can be supported so as to be movable in a direction along the groove 342a. That is, the leg 442 can move in a direction parallel to the incident direction (X-axis direction) of the incident light from the incident window 401 and parallel to the emission direction (X-axis direction) of the emitted light from the emission window 402. Can be supported. The leg 443 can be supported so as to be movable along the upper surface of the mount 343 by being placed on the mount 343. That is, the leg 443 can be supported so as to be movable in a plane that intersects the direction of gravity.

図6に示すように、脚部441及び442は、入射窓401からの入射光の軸(出射窓402からの出射光の軸)を第1のメインアンプ304内に延長した線の直下に設けられてもよい。そして、脚部441は、入射窓401側(出射窓402側)に設けられ、第1のメインアンプ304をフレーム330に対して位置決めしてもよい。   As shown in FIG. 6, the legs 441 and 442 are provided immediately below a line in which the axis of incident light from the incident window 401 (axis of outgoing light from the exit window 402) extends into the first main amplifier 304. May be. The leg portion 441 may be provided on the incident window 401 side (outgoing window 402 side) to position the first main amplifier 304 with respect to the frame 330.

以上の構成により、第1のメインアンプ304が熱により膨張または変形した場合でも、入射窓401及び出射窓402の空間的な位置が変動することが抑制される。さらに、出射光の出射方向が入射光の入射方向に対して相対的に変位することが抑制される。   With the above configuration, even when the first main amplifier 304 is expanded or deformed by heat, the spatial positions of the entrance window 401 and the exit window 402 are suppressed from changing. Further, it is possible to suppress the displacement of the emission direction of the emitted light relative to the incident direction of the incident light.

図6,図7Aに示すように第1のメインアンプ304には、複数の伸縮機構(昇降機構)461、462、463、464が取り付けられ、これらの伸縮機構には、車輪(ガイドフォロア)451、452、453、454が取り付けられてもよい。なお、伸縮機構463および464に取り付けられた車輪453および454は図7Aにおいてそれぞれ車輪451および452の奥に隠れてあり、その図示は省略した。また、フレーム330には、平行に配置される2本のレール(ガイド)351及び352が設けられてもよい。この構成において、伸縮機構461、462、463、464を伸張することで図7B、図8に示す状態としてもよい。   As shown in FIGS. 6 and 7A, the first main amplifier 304 is provided with a plurality of expansion / contraction mechanisms (lifting mechanisms) 461, 462, 463, 464, and wheels (guide followers) 451 are attached to these expansion / contraction mechanisms. 452, 453, 454 may be attached. The wheels 453 and 454 attached to the expansion and contraction mechanisms 463 and 464 are hidden behind the wheels 451 and 452 in FIG. The frame 330 may be provided with two rails (guides) 351 and 352 arranged in parallel. In this configuration, the expansion and contraction mechanisms 461, 462, 463, and 464 may be extended to achieve the state shown in FIGS.

図7Bは、伸縮機構461、462、463、464を伸張することで車輪とメインアンプとの間の距離を長くした状態を示す正面図である。伸縮機構461〜464によって、車輪451〜454と第1のメインアンプ304との間の距離を離すことにより、メインアンプに固定された脚部441〜443がフレーム330に固定されたマウント341〜343から離れ得る。これにより、車輪451〜454がレール351及び352上を走行することができ、第1のメインアンプ304をフレーム330に対して移動させることができる。   FIG. 7B is a front view showing a state in which the distance between the wheel and the main amplifier is increased by extending the telescopic mechanisms 461, 462, 463, and 464. Mounts 341 to 343 in which the legs 441 to 443 fixed to the main amplifier are fixed to the frame 330 by separating the distance between the wheels 451 to 454 and the first main amplifier 304 by the extension mechanisms 461 to 464. Get away from. Thus, the wheels 451 to 454 can travel on the rails 351 and 352, and the first main amplifier 304 can be moved with respect to the frame 330.

更に、図8に示すように、フレーム330の近くに、台車7を用意してもよい。台車7には、例えば、平行に配置される2本のレール751及び752が設けられてもよい。これにより、フレーム330上の位置から台車7上の位置に第1のメインアンプ304を移動させ、所望のメンテナンスエリアに運搬してもよい。   Furthermore, as shown in FIG. 8, a carriage 7 may be prepared near the frame 330. For example, the carriage 7 may be provided with two rails 751 and 752 arranged in parallel. Thus, the first main amplifier 304 may be moved from a position on the frame 330 to a position on the carriage 7 and transported to a desired maintenance area.

また、台車7には、マウント341〜343と同様に配置されるマウント761〜763を設けてもよい。マウント761〜763は、第1のメインアンプ304が台車7に対して固定され得る形状に形成されてもよい。メインアンプ304はレール751及び752によって、メインアンプ304の脚部441〜443がそれぞれ対応する、台車7上のマウント761〜763の直上位置に移動してもよい。この状態で、伸縮機構461〜464を短縮することで、車輪451〜454と第1のメインアンプ304との間の距離を近づけてもよい。これにより、脚部441〜443を台車7上のマウント761〜763にそれぞれ載置し、第1のメインアンプ304を台車7上に安定的に載置することができる。   Further, the carriage 7 may be provided with mounts 761 to 763 arranged in the same manner as the mounts 341 to 343. The mounts 761 to 763 may be formed in a shape that allows the first main amplifier 304 to be fixed to the carriage 7. The main amplifier 304 may be moved by rails 751 and 752 to positions immediately above the mounts 761 to 763 on the carriage 7 to which the legs 441 to 443 of the main amplifier 304 correspond respectively. In this state, the distance between the wheels 451 to 454 and the first main amplifier 304 may be reduced by shortening the expansion / contraction mechanisms 461 to 464. Accordingly, the leg portions 441 to 443 can be placed on the mounts 761 to 763 on the carriage 7, respectively, and the first main amplifier 304 can be stably placed on the carriage 7.

4.4 プリアンプの支持機構
図9Aは、第2及び第3のプリアンプの透視斜視図である。図9Bは、第2及び第3のプリアンプを図9Aの矢印IXBで示す方向から見た透視平面図である。図9A及び図9Bにおいて、第3のプリアンプ303についてはその内部を透視図として示し、第2のプリアンプ302については内部の図示を省略しているが、これらの構成は同様としてもよい。
4.4 Preamp Support Mechanism FIG. 9A is a perspective view of the second and third preamps. FIG. 9B is a perspective plan view of the second and third preamplifiers as viewed from the direction indicated by the arrow IXB in FIG. 9A. 9A and 9B, the inside of the third preamplifier 303 is shown as a perspective view, and the inside of the second preamplifier 302 is not shown, but these configurations may be the same.

1つのモジュールを構成し得る第3のプリアンプ303は、例えばスラブ型増幅器を含んでもよい。スラブ型増幅器は、入射窓501と、出射窓502と、一対の凹面ミラー503及び504と、一対の放電電極505及び506と、を含んでもよい。   The third preamplifier 303 that can constitute one module may include, for example, a slab type amplifier. The slab amplifier may include an entrance window 501, an exit window 502, a pair of concave mirrors 503 and 504, and a pair of discharge electrodes 505 and 506.

入射窓501は、第3のビーム調節器313(図3B参照)からのレーザ光が入射するための透明な窓であってもよい。出射窓502は、第4のビーム調節器314へレーザ光が出射するための透明な窓であってもよい。一対の放電電極505と506との間には、図示しない電源装置によって、高電圧を印加してもよい。放電電極505と放電電極506との間には、図示しないレーザチャンバによって、ガス状のレーザ媒質が大気から隔絶された状態で保持されてもよい。   The incident window 501 may be a transparent window through which laser light from the third beam adjuster 313 (see FIG. 3B) is incident. The emission window 502 may be a transparent window for emitting laser light to the fourth beam adjuster 314. A high voltage may be applied between the pair of discharge electrodes 505 and 506 by a power supply device (not shown). A gaseous laser medium may be held between the discharge electrode 505 and the discharge electrode 506 in a state of being isolated from the atmosphere by a laser chamber (not shown).

一対の凹面ミラー503及び504は、レーザ光を反射することにより、放電電極505と放電電極506との間においてレーザ光を所定回数ジグザグに進行させ、マルチパス増幅光路を形成させ得る。放電電極505と506との間に高電圧を印加することでガス状のレーザ媒質を励起状態としてもよい。入射窓501から入射したメインパルスレーザ光は、一対の凹面ミラー503及び504によって反射されて励起状態のレーザ媒質内をジグザグに進行する際に増幅され、出射窓502から出力され得る。入射窓501からの入射光の入射方向と、出射窓502からの出射光の出射方向とは、同一方向ではないが、ほぼ一致した方向となり得る。   The pair of concave mirrors 503 and 504 can cause the laser light to travel zigzag a predetermined number of times between the discharge electrode 505 and the discharge electrode 506 by reflecting the laser light, thereby forming a multipath amplification optical path. The gaseous laser medium may be excited by applying a high voltage between the discharge electrodes 505 and 506. The main pulse laser beam incident from the incident window 501 is reflected by the pair of concave mirrors 503 and 504 and amplified when traveling zigzag in the excited laser medium, and can be output from the emission window 502. The incident direction of the incident light from the incident window 501 and the emission direction of the emitted light from the emission window 502 are not the same direction, but can be almost coincident directions.

図5〜図8を参照しながら説明した第1のメインアンプ304と同様に、第3のプリアンプ303は、脚部541〜543を更に含んでもよい。脚部541は、第3のプリアンプ303の出射窓502側の位置に設けられてもよい。脚部542は、第3のプリアンプ303の入射窓501側の位置に設けられてもよい。脚部543は、脚部541及び542が設けられる側とは反対側に設けられてもよい。   Similar to the first main amplifier 304 described with reference to FIGS. 5 to 8, the third preamplifier 303 may further include legs 541 to 543. The leg portion 541 may be provided at a position on the exit window 502 side of the third preamplifier 303. The leg 542 may be provided at a position on the incident window 501 side of the third preamplifier 303. The leg portion 543 may be provided on the side opposite to the side where the leg portions 541 and 542 are provided.

フレーム330は、脚部541〜543が載置されるマウント341〜343を含んでもよい。マウント341〜343の構成は、図5〜図8を参照しながら説明した構成と同様でもよい。但し、マウント342の溝342aは、入射窓501からの入射光の入射方向と、出射窓502からの出射光の出射方向とにほぼ一致した方向に形成されてもよい。なお、マウント341,342の位置は入れ替えてもよく、V字型溝と円錐状の窪みはそれぞれどちらに設置されても良い。   The frame 330 may include mounts 341 to 343 on which the leg portions 541 to 543 are placed. The configuration of the mounts 341 to 343 may be the same as the configuration described with reference to FIGS. However, the groove 342 a of the mount 342 may be formed in a direction substantially coincident with the incident direction of the incident light from the incident window 501 and the emission direction of the emitted light from the exit window 502. Note that the positions of the mounts 341 and 342 may be interchanged, and the V-shaped groove and the conical depression may be installed respectively.

図9Bに示すように、脚部541及び542は、それぞれ、出射窓502からの出射光の軸及び入射窓501からの入射光の軸を第3のプリアンプ303内に延長した線の直下に設けられてもよい。以上の構成により、第3のプリアンプ303が熱により膨張または変形した場合でも、入射窓501及び出射窓502の空間的な位置が変動することが抑制される。さらに、出射光の出射方向が入射光の入射方向に対して相対的に変位することが抑制される。   As shown in FIG. 9B, the legs 541 and 542 are respectively provided immediately below the lines extending the axis of the outgoing light from the outgoing window 502 and the axis of the incoming light from the incoming window 501 into the third preamplifier 303. May be. With the above configuration, even when the third preamplifier 303 is expanded or deformed by heat, the spatial positions of the entrance window 501 and the exit window 502 are suppressed from changing. Further, it is possible to suppress the displacement of the emission direction of the emitted light relative to the incident direction of the incident light.

図9Aに示すように第3のプリアンプ303には、複数の伸縮機構461、462、463、464が取り付けられ、これらの伸縮機構には、車輪451、452、453、454が取り付けられてもよい。また、フレーム330には、平行に配置される2本のレール351及び352が設けられてもよい。これらの構成要素の構成は、図5〜図8を参照しながら説明した構成と同様でもよい。さらに、図8を参照しながら説明したのと同様に、第3のプリアンプ303を台車に載せて運搬できるように構成してもよい。   As shown in FIG. 9A, the third preamplifier 303 may be provided with a plurality of expansion / contraction mechanisms 461, 462, 463, 464, and wheels 451, 452, 453, 454 may be attached to these expansion / contraction mechanisms. . The frame 330 may be provided with two rails 351 and 352 arranged in parallel. The configuration of these components may be the same as the configuration described with reference to FIGS. Furthermore, as described with reference to FIG. 8, the third preamplifier 303 may be configured to be carried on a carriage.

4.5 ビーム伝送器の支持機構
図10Aは、第3のビーム伝送器の透視斜視図である。図10Bは、第3のビーム伝送器を図10Aの矢印XBで示す方向から見た平面図である。
4.5 Beam Transmitter Support Mechanism FIG. 10A is a perspective view of a third beam transmitter. FIG. 10B is a plan view of the third beam transmitter as viewed from the direction indicated by the arrow XB in FIG. 10A.

1つのモジュールを構成し得る第3のビーム伝送器323は、第1の入射窓601と、第1の出射窓602と、第2の入射窓603と、第2の出射窓604と、第1〜第3の高反射ミラー605〜607と、を含んでもよい。   The third beam transmitter 323 that can constitute one module includes a first incident window 601, a first exit window 602, a second entrance window 603, a second exit window 604, To third high reflection mirrors 605 to 607 may be included.

第1の入射窓601は、第2のビーム伝送器322(図3A参照)からのレーザ光が入射するための透明な窓でもよい。第1の出射窓602は、第1のメインアンプ304へレーザ光が出射するための透明な窓でもよい。第2の入射窓603は、第1のメインアンプ304からのレーザ光が入射するための透明な窓でもよい。第2の出射窓604は、第4のビーム伝送器324へレーザ光が出射するための透明な窓でもよい。   The first incident window 601 may be a transparent window through which laser light from the second beam transmitter 322 (see FIG. 3A) enters. The first emission window 602 may be a transparent window for emitting laser light to the first main amplifier 304. The second incident window 603 may be a transparent window through which the laser light from the first main amplifier 304 is incident. The second emission window 604 may be a transparent window for emitting laser light to the fourth beam transmitter 324.

第1の入射窓601から入射したメインパルスレーザ光を反射して、第1の出射窓602から出力されるように、第1及び第2の高反射ミラー605及び606が配置されていてもよい。第2の入射窓603から入射したメインパルスレーザ光を反射して、第2の出射窓604から出力されるように、第3の高反射ミラー607が配置されていてもよい。このように、第1の高反射ミラー605、第2の高反射ミラー606、および第3の高反射ミラー607は入射したビームの方向を規定して反射するようにしてもよい。   The first and second highly reflective mirrors 605 and 606 may be arranged so that the main pulse laser beam incident from the first incident window 601 is reflected and output from the first emission window 602. . A third highly reflective mirror 607 may be arranged so that the main pulse laser beam incident from the second incident window 603 is reflected and output from the second emission window 604. As described above, the first high reflection mirror 605, the second high reflection mirror 606, and the third high reflection mirror 607 may be configured to reflect the direction of the incident beam.

第1の入射窓601からの入射光の入射方向と、第1の出射窓602からの出射光の出射方向と、第2の入射窓603からの入射光の入射方向とは、ほぼ平行でもよい。第2の入射窓603からの入射光の入射方向と、第2の出射窓604からの出射光の出射方向とは、ほぼ直交してもよい。このように、第1の高反射ミラー605、第2の高反射ミラー606、および第3の高反射ミラー607に対する入射角と反射角は約45度であってもよい。   The incident direction of incident light from the first incident window 601, the emitting direction of emitted light from the first emitting window 602, and the incident direction of incident light from the second incident window 603 may be substantially parallel. . The incident direction of the incident light from the second incident window 603 and the emission direction of the emitted light from the second emission window 604 may be substantially orthogonal. As described above, the incident angle and the reflection angle with respect to the first high reflection mirror 605, the second high reflection mirror 606, and the third high reflection mirror 607 may be about 45 degrees.

図5〜図8を参照しながら説明した第1のメインアンプ304と同様に、第3のビーム伝送器323は、脚部641〜643を更に含んでもよい。脚部641は、第2の入射窓603からの入射光の軸と、第2の出射窓604からの出射光の軸を第3のビーム伝送器323内に延長した線の直下に設けられてもよい。たとえば高反射ミラー607の直下に設けられてもよい。脚部642は、脚部641から見て、第2の出射窓604からの出射光の出射方向とは反対側の位置に設けられてもよい。脚部643は、脚部641及び642が設けられる側とは反対側に設けられてもよい。   Similar to the first main amplifier 304 described with reference to FIGS. 5 to 8, the third beam transmitter 323 may further include legs 641 to 643. The leg portion 641 is provided immediately below a line in which the axis of the incident light from the second incident window 603 and the axis of the emitted light from the second exit window 604 are extended into the third beam transmitter 323. Also good. For example, it may be provided directly under the high reflection mirror 607. The leg 642 may be provided at a position opposite to the emission direction of the emitted light from the second emission window 604 when viewed from the leg 641. The leg portion 643 may be provided on the side opposite to the side on which the leg portions 641 and 642 are provided.

フレーム330(図3A参照)は、脚部641〜643が載置されるマウント341〜343を含んでもよい。マウント341〜343の構成は、図5〜図8を参照しながら説明した構成と同様でもよい。また、マウント342の溝342aは、第2の出射窓604からの出射光の出射方向と平行な方向に形成されてもよい。   The frame 330 (see FIG. 3A) may include mounts 341 to 343 on which the legs 641 to 643 are placed. The configuration of the mounts 341 to 343 may be the same as the configuration described with reference to FIGS. Further, the groove 342 a of the mount 342 may be formed in a direction parallel to the emission direction of the emitted light from the second emission window 604.

図5〜図8を参照しながら説明したのと同様に、第3のビーム伝送器323には、複数の伸縮機構及び車輪を取り付けてもよい。また、図8を参照しながら説明したのと同様に、第3のビーム伝送器323を台車に載せて運搬できるように構成してもよい。これらの運搬機構は、第3のビーム伝送器323の重量が大きくない場合には、設けられなくてもよい。ビーム伝送器にレーザ光が入射又は出射するための窓601〜604が設けられた実施形態を示した。しかし、この実施形態に限定されることなく、レーザシステム3の設置空間が十分なクリーン度に保たれている場合、各窓を備えず各窓に対応する位置にレーザ光が通過する貫通孔が設けられてもよい。また、窓の有無にかかわらず、安全のためにビーム伝送器と他のモジュールとの間にレーザ光が通過するための配管が設けられてもよい。   As described with reference to FIGS. 5 to 8, the third beam transmitter 323 may be provided with a plurality of telescopic mechanisms and wheels. Moreover, you may comprise so that the 3rd beam transmitter 323 can be carried on a trolley | bogie similarly to having demonstrated referring FIG. These transport mechanisms may not be provided if the weight of the third beam transmitter 323 is not large. The embodiment in which the windows 601 to 604 for allowing the laser beam to enter or exit the beam transmitter is shown. However, the present invention is not limited to this embodiment. When the installation space of the laser system 3 is kept at a sufficiently clean level, a through-hole through which laser light passes without being provided with each window is provided at a position corresponding to each window. It may be provided. Moreover, piping for a laser beam to pass between a beam transmitter and another module may be provided for safety regardless of the presence or absence of a window.

4.6 マスターオシレータの支持機構
図11Aは、マスターオシレータの透視正面図である。図11Bは、マスターオシレータを図11Aの矢印XIBに示す方向から見た透視平面図である。
4.6 Master Oscillator Support Mechanism FIG. 11A is a perspective front view of the master oscillator. FIG. 11B is a perspective plan view of the master oscillator viewed from the direction indicated by arrow XIB in FIG. 11A.

1つのモジュールを構成し得るマスターオシレータ300は、出力結合ミラー701と、高反射ミラー702と、一対の放電電極703及び704と、Qスイッチ705と、出射窓706とを含んでもよい。   The master oscillator 300 that can constitute one module may include an output coupling mirror 701, a high reflection mirror 702, a pair of discharge electrodes 703 and 704, a Q switch 705, and an exit window 706.

出射窓706は、第1のプリアンプ301(図3A参照)へレーザ光が出射するための透明な窓でもよい。一対の放電電極703と704との間には、図示しない電源装置によって、高電圧が印加されてもよい。放電電極703と放電電極704との間には、図示しないレーザチャンバにより、レーザ媒質としてCOガスを含む混合ガスが保持されてもよい。 The emission window 706 may be a transparent window for emitting laser light to the first preamplifier 301 (see FIG. 3A). A high voltage may be applied between the pair of discharge electrodes 703 and 704 by a power supply device (not shown). A mixed gas containing CO 2 gas as a laser medium may be held between the discharge electrode 703 and the discharge electrode 704 by a laser chamber (not shown).

放電電極703と704との間に電源装置から高電圧が印加されると、放電電極703と704との間に放電が起こり得る。この放電のエネルギーにより、レーザ媒質が励起されて高エネルギー準位に移行し得る。励起されたレーザ媒質が、その後低エネルギー準位に移行するとき、そのエネルギー準位差に応じた光が放出され得る。   When a high voltage is applied between the discharge electrodes 703 and 704 from the power supply device, a discharge may occur between the discharge electrodes 703 and 704. Due to the energy of this discharge, the laser medium can be excited to shift to a high energy level. When the excited laser medium subsequently shifts to a low energy level, light corresponding to the energy level difference can be emitted.

励起されたレーザ媒質から放出された光は、光共振器を構成する出力結合ミラー701と高反射ミラー702との間で往復し、放電電極703と704との間(レーザゲイン空間)を通過する度に増幅され得る。Qスイッチ705は、レーザ媒質を構成する原子の多くが励起状態になるまで光損失を大きい状態に保って発振を抑え、レーザ媒質を構成する原子の多くが励起状態になったときに光損失を低下させ得る。Qスイッチ705が備えられることにより、パルス状のレーザ光が生成され得る。高いエネルギーに増幅されたパルスレーザ光の一部が、出力結合ミラー701を介して出力され得る。出力結合ミラー701を通過したパルスレーザ光は、出射窓706を介して第1のプリアンプ301に出力され得る。   The light emitted from the excited laser medium reciprocates between the output coupling mirror 701 and the high reflection mirror 702 constituting the optical resonator, and passes between the discharge electrodes 703 and 704 (laser gain space). Can be amplified every time. The Q switch 705 suppresses the oscillation by keeping the optical loss large until many of the atoms constituting the laser medium are in an excited state, and reduces the optical loss when many of the atoms constituting the laser medium are in an excited state. Can be reduced. By providing the Q switch 705, pulsed laser light can be generated. A part of the pulsed laser light amplified to high energy can be output via the output coupling mirror 701. The pulsed laser light that has passed through the output coupling mirror 701 can be output to the first preamplifier 301 via the emission window 706.

図5〜図8を参照しながら説明した第1のメインアンプ304と同様に、マスターオシレータ300は、脚部741〜743を更に含んでもよい。脚部741は、マスターオシレータ300の出射窓706側の位置に設けられてもよい。脚部742は、脚部741に対して、出射窓706からの出射光の出射方向とは反対側の位置に設けられてもよい。または、脚部741は出力結合ミラー701の直下に、脚部742は高反射ミラー702の直下に配置されるようにしてもよい。脚部743は、脚部741及び742が設けられる側とは反対側に設けられてもよい。または、脚部741は出力結合ミラー701の直下に、脚部742は高反射ミラー702の直下に配置されるようにしてもよい。   Similar to the first main amplifier 304 described with reference to FIGS. 5 to 8, the master oscillator 300 may further include legs 741 to 743. The leg 741 may be provided at a position on the exit window 706 side of the master oscillator 300. The leg 742 may be provided at a position opposite to the exit direction of the emitted light from the exit window 706 with respect to the leg 741. Alternatively, the leg portion 741 may be disposed directly below the output coupling mirror 701, and the leg portion 742 may be disposed directly below the high reflection mirror 702. The leg portion 743 may be provided on the side opposite to the side on which the leg portions 741 and 742 are provided. Alternatively, the leg portion 741 may be disposed directly below the output coupling mirror 701, and the leg portion 742 may be disposed directly below the high reflection mirror 702.

フレーム330は、脚部741〜743が載置されるマウント341〜343を含んでもよい。マウント341〜343の構成は、図5〜図8を参照しながら説明した構成と同様でもよい。但し、マウント342の溝342aは、出射窓706からの出射光の出射方向と平行な方向に形成されてもよい。   The frame 330 may include mounts 341 to 343 on which the leg portions 741 to 743 are placed. The configuration of the mounts 341 to 343 may be the same as the configuration described with reference to FIGS. However, the groove 342 a of the mount 342 may be formed in a direction parallel to the emission direction of the emitted light from the emission window 706.

図11Bに示すように、脚部741及び742は、出射窓706からの出射光の軸をマスターオシレータ300内に延長した線の直下に設けられてもよい。そして、脚部741は、出射窓706側に設けられ、マスターオシレータ300をフレーム330に対して位置決めしてもよい。   As shown in FIG. 11B, the legs 741 and 742 may be provided immediately below a line obtained by extending the axis of light emitted from the emission window 706 into the master oscillator 300. The leg portion 741 may be provided on the exit window 706 side to position the master oscillator 300 with respect to the frame 330.

以上の構成により、マスターオシレータ300が熱により膨張または変形した場合でも、出射窓706から出力される出射光の軸からずれることが抑制され得る。   With the above configuration, even when the master oscillator 300 is expanded or deformed by heat, it is possible to suppress deviation from the axis of the outgoing light output from the outgoing window 706.

マスターオシレータ300には、複数の伸縮機構461、462、463、464が取り付けられ、これらの伸縮機構には、車輪451、452、453、454が取り付けられてもよい。また、フレーム330には、2本の平行に配置されるレール351及び352が設けられてもよい。これらの構成要素の構成は、図5〜図8を参照しながら説明した構成と同様でもよい。   A plurality of extension mechanisms 461, 462, 463, 464 may be attached to the master oscillator 300, and wheels 451, 452, 453, 454 may be attached to these extension mechanisms. The frame 330 may be provided with two rails 351 and 352 arranged in parallel. The configuration of these components may be the same as the configuration described with reference to FIGS.

5.第2の実施形態
図12は、本開示の第2の実施形態における第1のメインアンプの透視正面図である。第2の実施形態において、第1のメインアンプ304は、支持部344〜346を含んでもよい。支持部344の下面には、円錐状の窪み341aが形成されてもよい。支持部345の下面には、断面がV字状の溝342aが形成されてもよい。溝342aは、入射窓401からの入射光の入射方向と平行で、且つ出射窓402からの出射光の出射方向と平行な方向に形成されてもよい。支持部346の下面は、平面状になっていてもよい。
5. Second Embodiment FIG. 12 is a perspective front view of a first main amplifier according to a second embodiment of the present disclosure. In the second embodiment, the first main amplifier 304 may include support portions 344 to 346. A conical recess 341 a may be formed on the lower surface of the support portion 344. A groove 342a having a V-shaped cross section may be formed on the lower surface of the support portion 345. The groove 342 a may be formed in a direction parallel to the incident direction of the incident light from the incident window 401 and parallel to the emission direction of the emitted light from the emission window 402. The lower surface of the support portion 346 may be planar.

一方、フレーム330は、支持部344〜346が載置される脚部(マウント)444〜446を含んでもよい。脚部444〜446は、フレーム330の下方から上方に向けて突出していてもよい。   On the other hand, the frame 330 may include leg portions (mounts) 444 to 446 on which the support portions 344 to 346 are placed. The leg portions 444 to 446 may protrude upward from below the frame 330.

このように、第2の実施形態は、支持部とマウントとの関係が逆になっている点で、図7Aを参照しながら説明した第1の実施形態と異なる。他の点については、図7Aを参照しながら説明した第1の実施形態と同様でよい。   Thus, the second embodiment is different from the first embodiment described with reference to FIG. 7A in that the relationship between the support portion and the mount is reversed. Other points may be the same as those of the first embodiment described with reference to FIG. 7A.

6.第3の実施形態
図13は、本開示の第3の実施形態における第1のメインアンプの透視正面図である。図13は、車輪と第1のメインアンプ304との間の距離を長くした状態を示している。第3の実施形態において、伸縮機構461、462および図示を省略した伸縮機構463、464に固定されたプレート465は、伸縮機構461、462、463および464によって、車輪451及び452と一緒に押し下げられてもよい。プレート465にはマウント441〜443が貫通することのできる貫通孔が形成されていてもよい。伸縮機構を伸張することにより、車輪451、452および図示を省略した車輪453、454と第1のメインアンプ304との間の距離を離すようにしてもよい。プレート465に伸縮機構461〜464が固定されているため、各伸縮機構の伸縮速度が異なっていてもメインアンプ304を略水平に保持するようにしてもよい。他の点については、図7Bを参照しながら説明した第1の実施形態と同様でよい。
6). Third Embodiment FIG. 13 is a perspective front view of a first main amplifier according to a third embodiment of the present disclosure. FIG. 13 shows a state where the distance between the wheel and the first main amplifier 304 is increased. In the third embodiment, the expansion and contraction mechanisms 461 and 462 and the plate 465 fixed to the expansion and contraction mechanisms 463 and 464 (not shown) are pushed down together with the wheels 451 and 452 by the expansion and contraction mechanisms 461, 462, 463, and 464. May be. A through hole through which the mounts 441 to 443 can pass may be formed in the plate 465. The distance between the wheels 451 and 452 and the wheels 453 and 454 (not shown) and the first main amplifier 304 may be increased by extending the telescopic mechanism. Since the expansion / contraction mechanisms 461 to 464 are fixed to the plate 465, the main amplifier 304 may be held substantially horizontally even if the expansion / contraction speeds of the expansion / contraction mechanisms are different. Other points may be the same as those of the first embodiment described with reference to FIG. 7B.

7.第4の実施形態
図14は、本開示の第4の実施形態における第1のメインアンプの透視斜視図である。第4の実施形態において、レール351及び352上を走行する車輪が設けられなくてもよい。伸縮機構461、462、463および図示を省略した伸縮機構464には、ガイドフォロア455、456、457および図示を省略したガイドフォロア458が取り付けられていてもよい。これらのガイドフォロア455、456、457、458が、レール351及び352上を滑ることにより走行するように構成してもよい。他の点については、図5を参照しながら説明した第1の実施形態と同様でよい。
7). Fourth Embodiment FIG. 14 is a perspective view of a first main amplifier according to a fourth embodiment of the present disclosure. In the fourth embodiment, wheels that run on the rails 351 and 352 may not be provided. The guide followers 455, 456, 457 and the guide follower 458 (not shown) may be attached to the extension mechanisms 461, 462, 463 and the extension mechanism 464 (not shown). These guide followers 455, 456, 457, 458 may be configured to run by sliding on rails 351 and 352. Other points may be the same as those of the first embodiment described with reference to FIG.

8.第5の実施形態
図15は、本開示の第5の実施形態における第1のメインアンプの正面図である。第5の実施形態において、レールを備えず、車輪451及び452が、フレーム330の任意の面上を走行するよう構成されてもよい。
8). Fifth Embodiment FIG. 15 is a front view of a first main amplifier according to a fifth embodiment of the present disclosure. In the fifth embodiment, the rails may not be provided, and the wheels 451 and 452 may be configured to travel on any surface of the frame 330.

図15に示すように、フレーム330には、一本のガイド359が設けられてもよい。一方、第1のメインアンプ304には、ガイド359に沿って動くガイドフォロア459が設けられていてもよい。ガイド359は断面がU字状でもよく、ガイドフォロア459は、このガイド359に挟まれた状態でガイド359に沿って動くように構成されてもよい。他の点については、図7Aを参照しながら説明した第1の実施形態と同様でよい。   As shown in FIG. 15, the frame 330 may be provided with a single guide 359. On the other hand, the first main amplifier 304 may be provided with a guide follower 459 that moves along the guide 359. The guide 359 may have a U-shaped cross section, and the guide follower 459 may be configured to move along the guide 359 while being sandwiched between the guides 359. Other points may be the same as those of the first embodiment described with reference to FIG. 7A.

9.第6の実施形態
図16は、本開示の第6の実施形態における第1のメインアンプの側面図である。第6の実施形態において、フレーム330には、レールではなく複数の車輪371〜373が設けられていてもよい。車輪371〜373は、フレーム330上の所定の位置で回転できるように構成されてもよい。一方、第1のメインアンプ304の伸縮機構461及び463には、レール471が固定されていてもよい。レール471は、車輪371〜373の上に配置されてもよい。車輪371〜373の回転に伴って、第1のメインアンプ304がレール471と共に移動するように構成されてもよい。
9. Sixth Embodiment FIG. 16 is a side view of a first main amplifier according to a sixth embodiment of the present disclosure. In the sixth embodiment, the frame 330 may be provided with a plurality of wheels 371 to 373 instead of rails. The wheels 371 to 373 may be configured to rotate at a predetermined position on the frame 330. On the other hand, a rail 471 may be fixed to the extension mechanisms 461 and 463 of the first main amplifier 304. Rail 471 may be arranged on wheels 371-373. The first main amplifier 304 may be configured to move with the rail 471 as the wheels 371 to 373 rotate.

さらに、台車7にも複数の車輪771〜773が設けられていてもよい。これにより、フレーム330上の位置から台車7上の位置へ第1のメインアンプ304を移動させ、所望のメンテナンスエリアに運搬してもよい。   Further, the carriage 7 may be provided with a plurality of wheels 771 to 773. Thus, the first main amplifier 304 may be moved from a position on the frame 330 to a position on the carriage 7 and transported to a desired maintenance area.

このように、第6の実施形態は、レールと車輪との関係が逆になっている点で、図8を参照しながら説明した第1の実施形態と異なる。他の点については、図8を参照しながら説明した第1の実施形態と同様でよい。   Thus, the sixth embodiment differs from the first embodiment described with reference to FIG. 8 in that the relationship between the rails and the wheels is reversed. Other points may be the same as those of the first embodiment described with reference to FIG.

10.第7の実施形態
図17は、本開示の第7の実施形態における第1のメインアンプの側面図である。第7の実施形態においては、レール(ガイド)及び車輪(ガイドフォロア)がなくてもよい。図17に示すように、第1のメインアンプ304の下面には、エア吹出し装置(昇降機構)475が設けられていてもよい。エア吹出し装置475の周囲には、スカート476が設けられていてもよい。エア吹出し装置475から高圧ガスを噴出することにより、スカート476の内側のガス圧が大気圧よりも上昇し、第1のメインアンプ304を上昇させてもよい。これにより、僅かな力で第1のメインアンプ304をフレーム330上の位置から台車7上の位置へ移動させてもよい。他の点については、図8を参照しながら説明した第1の実施形態と同様でよい。
10. Seventh Embodiment FIG. 17 is a side view of a first main amplifier according to a seventh embodiment of the present disclosure. In the seventh embodiment, there may be no rail (guide) and wheels (guide follower). As shown in FIG. 17, an air blowing device (elevating mechanism) 475 may be provided on the lower surface of the first main amplifier 304. A skirt 476 may be provided around the air blowing device 475. By jetting high-pressure gas from the air blowing device 475, the gas pressure inside the skirt 476 may rise above atmospheric pressure, and the first main amplifier 304 may be raised. Thereby, the first main amplifier 304 may be moved from a position on the frame 330 to a position on the carriage 7 with a slight force. Other points may be the same as those of the first embodiment described with reference to FIG.

11.第8の実施形態
図18Aは、本開示の第8の実施形態においてモジュールを支持するための構造を示す分解斜視図である。図18Bは、第8の実施形態においてモジュールを支持するための構造を示す斜視図である。図18A及び図18Bにおいて、モジュールはその脚部441〜443のみが図示されている。
11. Eighth Embodiment FIG. 18A is an exploded perspective view showing a structure for supporting a module in an eighth embodiment of the present disclosure. FIG. 18B is a perspective view showing a structure for supporting a module in the eighth embodiment. 18A and 18B, only the legs 441 to 443 of the module are shown.

第8の実施形態において、マウント361〜363の上面には、それぞれ円錐状の窪み361a〜363aが形成されていてもよい。なお、窪みの形状は円錐以外の形状でもよく、たとえば半球状の窪みでもよい。マウント361は、フレーム330の設置部361b上に、ピン361c又はボルトにより固定されていてもよい。これにより、脚部441が水平方向に動き難いように位置決めされてもよい。   In the eighth embodiment, conical depressions 361a to 363a may be formed on the upper surfaces of the mounts 361 to 363, respectively. The shape of the recess may be a shape other than a cone, for example, a hemispherical recess. The mount 361 may be fixed on the installation portion 361b of the frame 330 by a pin 361c or a bolt. Thereby, the leg 441 may be positioned so as not to move in the horizontal direction.

フレーム330には、載置台362dがピン362c又はボルトにより固定されていてもよい。マウント362が、載置台362dの上に載置されてもよい。載置台362dの上面には、段差362eと傾斜とを有する設置部362bが形成されていてもよい。マウント362の下面には、段差362eに対応する段差362fが形成されていてもよい。これらの段差362eと段差362fとは、例えば、直方体状のキーと、これに対応する形状のキー溝とによって形成されてもよい。マウント362は、載置台362dに固定されなくてもよい。   A mounting table 362d may be fixed to the frame 330 with pins 362c or bolts. The mount 362 may be mounted on the mounting table 362d. An installation portion 362b having a step 362e and an inclination may be formed on the upper surface of the mounting table 362d. A step 362f corresponding to the step 362e may be formed on the lower surface of the mount 362. These steps 362e and 362f may be formed by, for example, a rectangular parallelepiped key and a key groove having a shape corresponding thereto. The mount 362 may not be fixed to the mounting table 362d.

マウント362が載置台362dの設置部362b上に載置されたとき、重力によって、マウント362が設置部362bの傾斜に従って滑ることにより、段差362eに段差362fが押し付けられてもよい。設置部362bは、水平面に対して摩擦角以上の傾斜角を有することが望ましい。マウント362は、段差362eに押し付けられた状態で、段差362eに沿って移動可能であってもよい。これにより、モジュールの脚部442は、段差362eに沿って移動できてもよい。   When the mount 362 is placed on the installation portion 362b of the placement table 362d, the step 362f may be pressed against the step 362e by sliding the mount 362 according to the inclination of the installation portion 362b. The installation portion 362b preferably has an inclination angle that is greater than or equal to the friction angle with respect to the horizontal plane. The mount 362 may be movable along the step 362e while being pressed against the step 362e. Thereby, the leg part 442 of the module may be able to move along the step 362e.

マウント363は、フレーム330の設置部363b上に載置されてもよく、設置部363bに固定されなくてもよい。マウント363が設置部363bに載置されたとき、マウント363は、設置部363bの面に沿って移動可能であってもよい。これにより、脚部443は、マウント363と共に重力方向と交差する面内において移動できるように支持され得る。   The mount 363 may be placed on the installation portion 363b of the frame 330, and may not be fixed to the installation portion 363b. When the mount 363 is placed on the installation portion 363b, the mount 363 may be movable along the surface of the installation portion 363b. Thereby, the leg part 443 can be supported so that it can move with the mount 363 in a plane intersecting the direction of gravity.

第8の実施形態によれば、マウント361〜363に形成された円錐状の窪み361a〜363aによって、脚部441〜443を支持するので、マウント361〜363と脚部441〜443との接触箇所が点状ではなく線状となり荷重が分散し得る。従って、マウント361〜363と脚部441〜443とがモジュールの大きな荷重にも耐え得る。なお、脚部441〜443の先端は丸い必要は無く、前記窪み内に接する大きさと形状を有すればよい。   According to the eighth embodiment, since the leg portions 441 to 443 are supported by the conical depressions 361a to 363a formed in the mounts 361 to 363, the contact points between the mounts 361 to 363 and the leg portions 441 to 443 Becomes a line instead of a dot, and the load can be dispersed. Therefore, the mounts 361 to 363 and the leg portions 441 to 443 can withstand a large load of the module. Note that the ends of the leg portions 441 to 443 do not have to be round and may have a size and a shape in contact with the recess.

また、第8の実施形態によれば、マウント362を載置するための載置台362dの上面が傾斜し、且つ段差362eが形成されているので、マウント362が段差362eに押し付けられ得る。そのため、マウント362が段差362eに沿って精度よく位置決めされ得る。他の点については、図8を参照しながら説明した第1の実施形態と同様でよい。   Further, according to the eighth embodiment, since the upper surface of the mounting table 362d for mounting the mount 362 is inclined and the step 362e is formed, the mount 362 can be pressed against the step 362e. Therefore, the mount 362 can be accurately positioned along the step 362e. Other points may be the same as those of the first embodiment described with reference to FIG.

12.第9の実施形態
図19は、本開示の第9の実施形態においてモジュールを支持するためのマウントを示す断面図である。第9の実施形態においては、第8の実施形態におけるマウント362及び載置台362d(図18A参照)の代わりに、傾斜を有しない設置部382b上に載置されたマウント382が用いられてもよい。
12 Ninth Embodiment FIG. 19 is a cross-sectional view showing a mount for supporting a module in a ninth embodiment of the present disclosure. In the ninth embodiment, instead of the mount 362 and the mounting table 362d (see FIG. 18A) in the eighth embodiment, a mount 382 mounted on an installation portion 382b having no inclination may be used. .

設置部382bには、段差382eが形成されていてもよい。マウント382の下面には、段差382eに対応する段差382fが形成されていてもよい。これらの段差は、例えば、設置部382bにピン382c又はボルトにより固定されたキー382gと、キー382gに対応する形状のキー溝382hとによって形成されてもよい。   A step 382e may be formed in the installation portion 382b. A step 382f corresponding to the step 382e may be formed on the lower surface of the mount 382. These steps may be formed by, for example, a key 382g fixed to the installation portion 382b with a pin 382c or a bolt, and a key groove 382h having a shape corresponding to the key 382g.

マウント382には、弾性部材によってキー溝382h内部に向かって付勢されたプランジャ382iが設けられていてもよい。マウント382が設置部382bに載置されたとき、プランジャ382iは、キー382gを押圧してもよい。これにより、段差382eに段差382fが押し付けられてもよい。マウント382は、段差382eに押し付けられた状態で、段差382eに沿って(図19の奥行方向に)移動可能であってもよい。これにより、モジュールの脚部442は、段差382eに沿って移動できるように支持され得る。他の点については、図18A及び図18Bを参照しながら説明した第8の実施形態と同様でよい。   The mount 382 may be provided with a plunger 382i biased toward the inside of the key groove 382h by an elastic member. When the mount 382 is placed on the installation portion 382b, the plunger 382i may press the key 382g. Accordingly, the step 382f may be pressed against the step 382e. The mount 382 may be movable along the step 382e (in the depth direction of FIG. 19) while being pressed against the step 382e. Thereby, the leg part 442 of a module can be supported so that it can move along the level | step difference 382e. Other points may be the same as in the eighth embodiment described with reference to FIGS. 18A and 18B.

13.第10の実施形態
図20Aは、本開示の第10の実施形態においてモジュールを支持するための構造を示す分解斜視図である。図20Bは、本開示の第10の実施形態においてモジュールを支持するための構造を示す斜視図である。図20Cは、図20Bの矢印XXCで示す方向から見た一部断面図である。図20A〜図20Cにおいて、モジュール内の光学素子及びレーザ光が通過する窓又は配管は、図示を省略している。
13. Tenth Embodiment FIG. 20A is an exploded perspective view showing a structure for supporting a module in a tenth embodiment of the present disclosure. FIG. 20B is a perspective view showing a structure for supporting a module in the tenth embodiment of the present disclosure. 20C is a partial cross-sectional view as seen from the direction indicated by arrow XXC in FIG. 20B. 20A to 20C, the optical elements in the module and the windows or pipes through which the laser light passes are not shown.

第10の実施形態において、フレーム330はフレーム形状の他にプレート形状の部分を有してもよい。フレーム330のプレート形状部側面には、第3のビーム伝送器323などのモジュールが設置されてもよい。第3のビーム伝送器323は、その伝送器の長い方向が重力方向に向くようにして設置されても良い。図10A及び図10Bを参照しながら説明した如く第3のビーム伝送器323の下面を支持する代わりに、第10の実施形態においては、第3のビーム伝送器323をフレーム330の側面で支持してもよい。   In the tenth embodiment, the frame 330 may have a plate-shaped portion in addition to the frame shape. On the side surface of the plate-shaped portion of the frame 330, a module such as the third beam transmitter 323 may be installed. The third beam transmitter 323 may be installed such that the long direction of the transmitter is in the direction of gravity. Instead of supporting the lower surface of the third beam transmitter 323 as described with reference to FIGS. 10A and 10B, in the tenth embodiment, the third beam transmitter 323 is supported on the side surface of the frame 330. May be.

フレーム330のプレート形状部上面には、第3のビーム伝送器323の脚部641及び642が載置されるマウント391及び392が配置されていてもよい。脚部641がマウント391に載置されることにより、脚部641が水平方向に動き難いように位置決めされてもよい。脚部642がマウント392に載置されることにより、脚部642は、Y方向に移動できるように支持されてもよい。   Mounts 391 and 392 on which the legs 641 and 642 of the third beam transmitter 323 are placed may be arranged on the upper surface of the plate-shaped portion of the frame 330. By placing the leg portion 641 on the mount 391, the leg portion 641 may be positioned so as not to move in the horizontal direction. By placing the leg 642 on the mount 392, the leg 642 may be supported so as to be movable in the Y direction.

フレーム330のプレート形状部側面に、マウント393が形成されていてもよい。マウント393は、フレーム330に形成された凹部であってもよい。第3のビーム伝送器323の脚部643は、第3のビーム伝送器323がフレーム330のプレート形状部に対向する面に配置されていてもよく、マウント393に対して押し付けられるとともに、フレーム330の側面に沿った方向に移動できるようになっていてもよい。脚部643が押し付けられるマウント393の平坦面393bは、図20Cに示すように、マウント391及び392の中心を通過する面であることが望ましい。   A mount 393 may be formed on the side surface of the plate-shaped portion of the frame 330. The mount 393 may be a recess formed in the frame 330. The leg portion 643 of the third beam transmitter 323 may be disposed on the surface of the third beam transmitter 323 facing the plate-shaped portion of the frame 330, and is pressed against the mount 393 and the frame 330. You may be able to move in the direction along the side of the. The flat surface 393b of the mount 393 against which the leg portion 643 is pressed is desirably a surface that passes through the centers of the mounts 391 and 392 as shown in FIG. 20C.

脚部643をマウント393に対して押し付けるために、ボルト643aが、第3のビーム伝送器323の壁面の貫通孔(大径部643b及び小径部643c)を貫通し、フレーム330に対してねじ込まれていてもよい。ボルト643aの頭部643dと貫通孔の大径部643bの底面との間には、ばね等の弾性部材643eが配置され、第3のビーム伝送器323をマウント393に対して押し付けてもよい。第3のビーム伝送器323をマウント393に対して押し付けるために、ボルト643a等の代わりに、磁石等を用いてもよい。第3のビーム転送器323がフレーム330の側面に沿って移動しやすいように、ボルト643aと小径部643cとの間に間隙を設けてもよい。   In order to press the leg portion 643 against the mount 393, the bolt 643 a passes through the through holes (the large diameter portion 643 b and the small diameter portion 643 c) of the wall surface of the third beam transmitter 323 and is screwed into the frame 330. It may be. An elastic member 643e such as a spring may be disposed between the head portion 643d of the bolt 643a and the bottom surface of the large-diameter portion 643b of the through hole, and the third beam transmitter 323 may be pressed against the mount 393. In order to press the third beam transmitter 323 against the mount 393, a magnet or the like may be used instead of the bolt 643a or the like. A gap may be provided between the bolt 643a and the small diameter portion 643c so that the third beam transfer device 323 can easily move along the side surface of the frame 330.

第10の実施形態によれば、モジュールの底面の大きさに対してモジュールの高さが高く、下面で支持するだけでは倒れる可能性のあるモジュールであっても、安定的に支持することができる。他の点については、図8を参照しながら説明した第1の実施形態と同様でよい。   According to the tenth embodiment, even if the module has a height that is higher than the size of the bottom surface of the module and may fall down only by being supported on the lower surface, it can be stably supported. . Other points may be the same as those of the first embodiment described with reference to FIG.

14.第11の実施形態
図21は、本開示の第11の実施形態に係るEUV光生成システムの構成を示すブロック図である。EUV光生成システム11aに含まれるレーザシステム3aは、マスターオシレータ300aと、第1、第2及び第3のプリアンプ301a、302a及び303aと、第1及び第2のメインアンプ304及び305と、プリパルスレーザ部306と、光路調整部307とを含んでもよい。
14 Eleventh Embodiment FIG. 21 is a block diagram illustrating a configuration of an EUV light generation system according to an eleventh embodiment of the present disclosure. The laser system 3a included in the EUV light generation system 11a includes a master oscillator 300a, first, second and third preamplifiers 301a, 302a and 303a, first and second main amplifiers 304 and 305, and a prepulse laser. The unit 306 and the optical path adjustment unit 307 may be included.

図22Aは、第11の実施形態に係るレーザシステムを構成するモジュールの具体的な配置を示す斜視図である。図22Bは、図22Aにおける下層部のモジュールの配置を示す斜視図である。図22Cは、図22Aにおけるフレームを示す斜視図である。   FIG. 22A is a perspective view showing a specific arrangement of modules constituting the laser system according to the eleventh embodiment. 22B is a perspective view showing the arrangement of modules in the lower layer in FIG. 22A. FIG. 22C is a perspective view showing the frame in FIG. 22A.

マスターオシレータ300aと第1のプリアンプ301aとは、1つの筐体に収容されてもよい。第11の実施形態において、第2及び第3のプリアンプ302a及び303aが、いずれも第1及び第2のメインアンプ304及び305と同様の高速軸流型増幅器で構成されてもよい。従って、第1の実施形態における第1〜第4のビーム調節器311〜314が設けられなくてもよい。   The master oscillator 300a and the first preamplifier 301a may be housed in one housing. In the eleventh embodiment, each of the second and third preamplifiers 302a and 303a may be a high-speed axial flow amplifier similar to the first and second main amplifiers 304 and 305. Therefore, the first to fourth beam conditioners 311 to 314 in the first embodiment may not be provided.

第11の実施形態においては、第1及び第2のプリアンプ301aと302aとの間に、第7のビーム伝送器327が配置されてもよい。第2及び第3のプリアンプ302aと303aとの間には、第7及び第8のビーム伝送器327及び328が配置されてもよい。第3のプリアンプ303aと第1のメインアンプ304との間には、第8、第2及び第3のビーム伝送器328、322及び323が配置されてもよい。   In the eleventh embodiment, a seventh beam transmitter 327 may be disposed between the first and second preamplifiers 301a and 302a. Seventh and eighth beam transmitters 327 and 328 may be arranged between the second and third preamplifiers 302a and 303a. Between the third preamplifier 303a and the first main amplifier 304, eighth, second, and third beam transmitters 328, 322, and 323 may be arranged.

第11の実施形態によれば、レーザシステム3をコンパクトに構成することができる。第11の実施形態における各種モジュールの支持機構は、第1の実施形態における支持機構と同様でもよい。   According to the eleventh embodiment, the laser system 3 can be configured compactly. The support mechanism for the various modules in the eleventh embodiment may be the same as the support mechanism in the first embodiment.

上記の説明は、制限ではなく単なる例示を意図したものである。従って、添付の特許請求の範囲を逸脱することなく本開示の実施形態に変更を加えることができることは、当業者には明らかであろう。   The above description is intended to be illustrative only and not limiting. Thus, it will be apparent to one skilled in the art that modifications may be made to the embodiments of the present disclosure without departing from the scope of the appended claims.

本明細書及び添付の特許請求の範囲全体で使用される用語は、「限定的でない」用語と解釈されるべきである。例えば、「含む」又は「含まれる」という用語は、「含まれるものとして記載されたものに限定されない」と解釈されるべきである。「有する」という用語は、「有するものとして記載されたものに限定されない」と解釈されるべきである。また、本明細書、及び添付の特許請求の範囲に記載される修飾句「1つの」は、「少なくとも1つ」又は「1又はそれ以上」を意味すると解釈されるべきである。   Terms used throughout this specification and the appended claims should be construed as "non-limiting" terms. For example, the terms “include” or “included” should be interpreted as “not limited to those described as included”. The term “comprising” should be interpreted as “not limited to what is described as having”. Also, the modifier “one” in the specification and the appended claims should be interpreted to mean “at least one” or “one or more”.

1…EUV光生成装置、2…チャンバ、3、3a…レーザシステム、4…ターゲットセンサ、5…EUV光生成制御システム、6…露光装置、7…台車、11、11a…EUV光生成システム、21…ウィンドウ、22…レーザ光集光光学系、23…EUV集光ミラー、24…貫通孔、25…プラズマ生成領域、26…ドロップレット生成器、27…ドロップレットターゲット、28…ターゲット回収部、29…接続部、31、32、33…パルスレーザ光、34…レーザ光進行方向制御部、251、252…EUV光、291…壁、292…中間焦点、300、300a…マスターオシレータ、301、301a…第1のプリアンプ、302、302a…第2のプリアンプ、303、303a…第3のプリアンプ、304…第1のメインアンプ、305…第2のメインアンプ、306…プリパルスレーザ部、307…光路調整部、311…第1のビーム調節器、312…第2のビーム調節器、313…第3のビーム調節器、314…第4のビーム調節器、321…第1のビーム伝送器、322…第2のビーム伝送器、323…第3のビーム伝送器、324…第4のビーム伝送器、325…第5のビーム伝送器、326…第6のビーム伝送器、327…第7のビーム伝送器、328…第8のビーム伝送器、330…フレーム、331〜333…フレーム支持部、341〜343…マウント、341a…窪み、342a…溝、344〜346…支持部、351、352…レール(ガイド)、359…ガイド、361〜363…マウント、361a〜363a…窪み、361b〜363b…設置部、361c、362c…ピン、362d…載置台、362e…段差、362f…段差、371〜373…車輪(ガイドフォロア)、382…マウント、382b…設置部、382c…ピン、382e…段差、382f…段差、382g…キー、382h…キー溝、382i…プランジャ、391〜393…マウント、393b…平坦面、401…入射窓、402…出射窓、411〜418…放電管、421〜428…ミラー、433、434…電極、441〜433…脚部(支持部)、444〜446…脚部(マウント)、451〜453…車輪(ガイドフォロア)、455〜459…ガイドフォロア、461〜464…伸縮機構、465…プレート、471…レール、475…エア吹出し装置、476…スカート、501…入射窓、502…出射窓、503…凹面ミラー、505、506…放電電極、541〜543…脚部(支持部)、601…第1の入射窓、602…第1の出射窓、603…第2の入射窓、604…第2の出射窓、605…第1の高反射ミラー、606…第2の高反射ミラー、607…第3の高反射ミラー、641〜643…脚部(支持部)、643a…ボルト、643b…大径部、643c…小径部、643d…頭部、643e…弾性部材、701…出力結合ミラー、702…高反射ミラー、703、704…放電電極、705…Qスイッチ、706…出射窓、741〜743…脚部(支持部)、751、752…レール、761〜763…マウント、771〜773…車輪 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... EUV light generation apparatus, 2 ... Chamber 3, 3a ... Laser system, 4 ... Target sensor, 5 ... EUV light generation control system, 6 ... Exposure apparatus, 7 ... Dolly, 11, 11a ... EUV light generation system, 21 DESCRIPTION OF SYMBOLS ... Window, 22 ... Laser beam condensing optical system, 23 ... EUV condensing mirror, 24 ... Through-hole, 25 ... Plasma production | generation area | region, 26 ... Droplet generator, 27 ... Droplet target, 28 ... Target collection part, 29 ... connection part 31, 32, 33 ... pulse laser beam, 34 ... laser beam traveling direction control part, 251, 252 ... EUV light, 291 ... wall, 292 ... intermediate focus, 300, 300a ... master oscillator, 301, 301a ... First preamplifier, 302, 302a, second preamplifier, 303, 303a, third preamplifier, 304, first main amplifier 305 ... second main amplifier, 306 ... pre-pulse laser unit, 307 ... optical path adjusting unit, 311 ... first beam adjuster, 312 ... second beam adjuster, 313 ... third beam adjuster, 314 ... fourth beam conditioner, 321 ... first beam transmitter, 322 ... second beam transmitter, 323 ... third beam transmitter, 324 ... fourth beam transmitter, 325 ... fifth beam Transmitter, 326 ... sixth beam transmitter, 327 ... seventh beam transmitter, 328 ... eighth beam transmitter, 330 ... frame, 331-333 ... frame support, 341-343 ... mount, 341a ... Recess, 342a ... groove, 344-346 ... support, 351, 352 ... rail (guide), 359 ... guide, 361-363 ... mount, 361a-363a ... recess, 361b-363 ... Installation part, 361c, 362c ... Pin, 362d ... Placing table, 362e ... Step, 362f ... Step, 371-373 ... Wheel (guide follower), 382 ... Mount, 382b ... Installation part, 382c ... Pin, 382e ... Step, 382f ... step, 382g ... key, 382h ... key groove, 382i ... plunger, 391-393 ... mount, 393b ... flat surface, 401 ... incident window, 402 ... outgoing window, 411-418 ... discharge tube, 421-428 ... mirror 433, 434 ... Electrodes, 441-433 ... Legs (supports), 444-446 ... Legs (mounts), 451-453 ... Wheels (guide followers), 455-459 ... Guide followers, 461-464 ... Expansion / contraction Mechanism, 465 ... Plate, 471 ... Rail, 475 ... Air blowing device, 476 ... Skirt, 501 ... Incident window , 502 ... exit window, 503 ... concave mirror, 505, 506 ... discharge electrode, 541 to 543 ... leg (support), 601 ... first entrance window, 602 ... first exit window, 603 ... second Incident window, 604 ... second exit window, 605 ... first high reflection mirror, 606 ... second high reflection mirror, 607 ... third high reflection mirror, 641 to 643 ... legs (supporting part), 643a ... bolt, 643b ... large diameter part, 643c ... small diameter part, 643d ... head, 643e ... elastic member, 701 ... output coupling mirror, 702 ... high reflection mirror, 703, 704 ... discharge electrode, 705 ... Q switch, 706 ... Outgoing window, 741 to 743 ... leg (support), 751, 752 ... rail, 761 to 763 ... mount, 771 to 773 ... wheel

4.2 モジュールの配置
図3Aは、第1の実施形態に係るレーザシステムを構成するモジュールの具体的な配置を示す斜視図である。図3Bは、図3Aにおける下層部のモジュールの配置を示す斜視図である。図3Cは、図3Aにおけるフレームを示す斜視図である。図3Cに示すように、このフレームは複数の梁を組合わせた構造物であってもよい。上述のマスターオシレータ300、第1〜第3のプリアンプ301〜303、第1及び第2のメインアンプ304及び305、プリパルスレーザ部306、光路調整部307、第1〜第4のビーム調節器311〜314、第1〜第のビーム伝送器321〜32は、フレーム330によって支持されてもよい。なお、第6のビーム伝送器326及びEUV光生成装置1(図2参照)は、図3Aに示す構成要素とは遠隔に配置されてもよいため、図3Aには第6のビーム伝送器326を記載していない。図3Aにおいて、XYZの3次元直交軸を規定し、以降の図においても共通の座標軸を用いる。XY平面は重力方向に直行する面、Z方向は重力の逆方向である。
4.2 Module Arrangement FIG. 3A is a perspective view showing a specific arrangement of modules constituting the laser system according to the first embodiment. FIG. 3B is a perspective view showing the arrangement of the modules in the lower layer in FIG. 3A. FIG. 3C is a perspective view showing the frame in FIG. 3A. As shown in FIG. 3C, the frame may be a structure in which a plurality of beams are combined. The master oscillator 300, the first to third preamplifiers 301 to 303, the first and second main amplifiers 304 and 305, the prepulse laser unit 306, the optical path adjustment unit 307, and the first to fourth beam conditioners 311 to 111. 314, first to fifth beam transmitter 321 to 32 5 may be supported by a frame 330. Note that the sixth beam transmitter 326 and the EUV light generation apparatus 1 (see FIG. 2) may be remotely located from the components shown in FIG. 3A, and therefore the sixth beam transmitter 326 is shown in FIG. 3A. Is not listed. In FIG. 3A, a three-dimensional orthogonal axis of XYZ is defined, and a common coordinate axis is used in the subsequent drawings. The XY plane is a plane perpendicular to the direction of gravity, and the Z direction is the reverse direction of gravity.

図3Aに示すように、第1のプリアンプ301と第1のビーム伝送器321とは、1つの筐体に収容されてもよい。また、第5のビーム伝送器325と、プリパルスレーザ部306と、光路調整部307とは、別の1つの筐体に収容されてもよい。 As shown in FIG. 3A, the first preamplifier 301 and the first beam transmitter 321 may be housed in one housing. Further, the fifth beam transmitter 325, the pre-pulse laser unit 306, and the optical path adjustment unit 307 may be housed in a separate case.

図4は、レーザシステムを構成するモジュールの具体的な配置を示す平面図である。マスターオシレータ300、第1〜第3のプリアンプ301〜303、第1及び第2のメインアンプ304、305、プリパルスレーザ部306、光路調整部307、第1〜第4のビーム調節器311〜314、第1〜第のビーム伝送器321〜32等のモジュールは、フレーム330から取り外してメンテナンスできるようにしてもよい。例えば、マスターオシレータ300、第2及び第3のプリアンプ302及び303、第1及び第2のメインアンプ304及び305は、設置面に対して平行に(たとえば図4におけるXY方向に)移動してメンテナンスできるようにしてもよい。以下に、これらのモジュールをフレーム330に対して位置決めしたり、フレーム330から取り外したりするための構成について説明する。 FIG. 4 is a plan view showing a specific arrangement of modules constituting the laser system. Master oscillator 300, first to third preamplifiers 301 to 303, first and second main amplifiers 304 and 305, prepulse laser unit 306, optical path adjustment unit 307, first to fourth beam conditioners 311 to 314, Modules such as the first to fifth beam transmitters 321 to 32 5 may be removed from the frame 330 for maintenance. For example, the master oscillator 300, the second and third preamplifiers 302 and 303, and the first and second main amplifiers 304 and 305 move parallel to the installation surface (for example, in the XY direction in FIG. 4) for maintenance. You may be able to do it. A configuration for positioning these modules with respect to the frame 330 and removing them from the frame 330 will be described below.

6.第3の実施形態
図13は、本開示の第3の実施形態における第1のメインアンプの透視正面図である。図13は、車輪と第1のメインアンプ304との間の距離を長くした状態を示している。第3の実施形態において、伸縮機構461、462および図示を省略した伸縮機構463、464に固定されたプレート465は、伸縮機構461、462、463および464によって、車輪451及び452と一緒に押し下げられてもよい。プレート465には脚部441〜443が貫通することのできる貫通孔が形成されていてもよい。伸縮機構を伸張することにより、車輪451、452および図示を省略した車輪453、454と第1のメインアンプ304との間の距離を離すようにしてもよい。プレート465に伸縮機構461〜464が固定されているため、各伸縮機構の伸縮速度が異なっていてもメインアンプ304を略水平に保持するようにしてもよい。他の点については、図7Bを参照しながら説明した第1の実施形態と同様でよい。
6). Third Embodiment FIG. 13 is a perspective front view of a first main amplifier according to a third embodiment of the present disclosure. FIG. 13 shows a state where the distance between the wheel and the first main amplifier 304 is increased. In the third embodiment, the expansion and contraction mechanisms 461 and 462 and the plate 465 fixed to the expansion and contraction mechanisms 463 and 464 (not shown) are pushed down together with the wheels 451 and 452 by the expansion and contraction mechanisms 461, 462, 463, and 464. May be. The plate 465 may be formed with through holes through which the leg portions 441 to 443 can pass. The distance between the wheels 451 and 452 and the wheels 453 and 454 (not shown) and the first main amplifier 304 may be increased by extending the telescopic mechanism. Since the expansion / contraction mechanisms 461 to 464 are fixed to the plate 465, the main amplifier 304 may be held substantially horizontally even if the expansion / contraction speeds of the expansion / contraction mechanisms are different. Other points may be the same as those of the first embodiment described with reference to FIG. 7B.

脚部643をマウント393に対して押し付けるために、ボルト643aが、第3のビーム伝送器323の壁面の貫通孔(大径部643b及び小径部643c)を貫通し、フレーム330に対してねじ込まれていてもよい。ボルト643aの頭部643dと貫通孔の大径部643bの底面との間には、ばね等の弾性部材643eが配置され、第3のビーム伝送器323をマウント393に対して押し付けてもよい。第3のビーム伝送器323をマウント393に対して押し付けるために、ボルト643a等の代わりに、磁石等を用いてもよい。第3のビーム送器323がフレーム330の側面に沿って移動しやすいように、ボルト643aと小径部643cとの間に間隙を設けてもよい。 In order to press the leg portion 643 against the mount 393, the bolt 643 a passes through the through holes (the large diameter portion 643 b and the small diameter portion 643 c) of the wall surface of the third beam transmitter 323 and is screwed into the frame 330. It may be. An elastic member 643e such as a spring may be disposed between the head portion 643d of the bolt 643a and the bottom surface of the large-diameter portion 643b of the through hole, and the third beam transmitter 323 may be pressed against the mount 393. In order to press the third beam transmitter 323 against the mount 393, a magnet or the like may be used instead of the bolt 643a or the like. Third, as the beam Transmission 323 is easily moved along the sides of the frame 330 may be provided a gap between the bolt 643a and the small diameter portion 643c.

Claims (17)

レーザ光を発振する発振器と、前記発振器を支持する支持部とを含む第1のモジュールと、
レーザ光を伝送するビーム伝送器と、前記ビーム伝送器を支持する支持部とを含む第2のモジュールと、
レーザ光を増幅する増幅器と、前記増幅器を支持する支持部とを含む第3のモジュールと、
のうちの少なくとも2つのモジュールと、
前記少なくとも2つのモジュールが載置されるフレームであって、前記少なくとも2つのモジュールの各々につき、前記支持部が載置されるマウントを含む前記フレームと、
を含むレーザシステム。
A first module including an oscillator that oscillates laser light and a support that supports the oscillator;
A second module including a beam transmitter for transmitting laser light and a support for supporting the beam transmitter;
A third module including an amplifier that amplifies laser light and a support that supports the amplifier;
At least two modules of
A frame on which the at least two modules are mounted, the frame including a mount on which the support portion is mounted for each of the at least two modules;
Including laser system.
前記少なくとも2つのモジュールの各々につき、前記少なくとも2つのモジュールを前記マウントに対して昇降する昇降機構をさらに含む、請求項1に記載のレーザシステム。   The laser system according to claim 1, further comprising an elevating mechanism that elevates and lowers the at least two modules with respect to the mount for each of the at least two modules. 前記フレームに設置された少なくとも2つのガイドと、
前記少なくとも2つのモジュールをそれぞれ支持する少なくとも2つの群のガイドフォロアであって、前記少なくとも2つのガイドにそれぞれ沿って動くことにより前記少なくとも2つのモジュールをそれぞれ移動させる前記少なくとも2つの群のガイドフォロアと、
をさらに含む、請求項1に記載のレーザシステム。
At least two guides installed in the frame;
At least two groups of guide followers that respectively support the at least two modules, the at least two groups of guide followers each moving the at least two modules by moving along the at least two guides, respectively. ,
The laser system according to claim 1, further comprising:
前記少なくとも2つのモジュールの各々につき、前記少なくとも2つの群のガイドフォロアとの間の距離をそれぞれ伸縮することにより前記少なくとも2つのモジュールをそれぞれ昇降する昇降機構をさらに含む、請求項3に記載のレーザシステム。   4. The laser according to claim 3, further comprising an elevating mechanism that raises and lowers each of the at least two modules by expanding and contracting a distance between the at least two groups of guide followers for each of the at least two modules. system. 前記少なくとも2つのモジュールが、それぞれ第1の位置と前記第1の位置の下方の第2の位置とに配置される、請求項1に記載のレーザシステム。   2. The laser system according to claim 1, wherein the at least two modules are respectively disposed at a first position and a second position below the first position. 前記第2の位置に配置されるモジュールが、前記第1の位置に配置されるモジュールより質量が小さい、請求項5に記載のレーザシステム。   The laser system according to claim 5, wherein the module disposed at the second position has a smaller mass than the module disposed at the first position. レーザ光を増幅する増幅器と、前記増幅器を支持する第1〜第3の支持部とを含むモジュールと、
前記モジュールが載置されるフレームであって、前記第1〜第3の支持部がそれぞれ載置される第1〜第3のマウントを含む前記フレームと、
を含み、
前記モジュールは、
入射光が第1の外部ユニットから入射するための入射部と、
出射光が第2の外部ユニットへ出射するための出射部と、
を更に含み、
前記第1の支持部は、前記モジュールの重心から見て前記入射部側の第1の位置に有し、
前記第2の支持部は、前記第1の位置から見て前記入射光の入射方向側の第2の位置に有し、
前記第3の支持部は、第3の位置に有する、レーザシステム。
A module including an amplifier that amplifies laser light, and first to third support portions that support the amplifier;
A frame on which the module is mounted, the frame including first to third mounts on which the first to third support portions are respectively mounted;
Including
The module is
An incident part for incident light to be incident from the first external unit;
An emission part for emitting the emitted light to the second external unit;
Further including
The first support part has a first position on the incident part side as seen from the center of gravity of the module;
The second support portion has a second position on the incident direction side of the incident light as viewed from the first position,
The laser system, wherein the third support portion is in a third position.
前記第1のマウントは、前記第1の支持部を所定位置に位置決めし、
前記第2のマウントは、前記第2の支持部が前記入射光の入射方向に沿った方向に移動できるように前記第2の支持部を支持し、
前記第3のマウントは、前記第3の支持部が重力方向と交差する面内において移動できるように前記第3の支持部を支持する、請求項7に記載のレーザシステム。
The first mount positions the first support portion at a predetermined position;
The second mount supports the second support portion so that the second support portion can move in a direction along the incident direction of the incident light,
8. The laser system according to claim 7, wherein the third mount supports the third support portion so that the third support portion can move in a plane intersecting the direction of gravity.
レーザ光を増幅する増幅器と、前記増幅器を支持する第1〜第3の支持部とを含むモジュールと、
前記モジュールが載置されるフレームであって、前記第1〜第3の支持部がそれぞれ載置される第1〜第3のマウントを含む前記フレームと、
を含み、
前記モジュールは、
出射光が外部ユニットへ出射するための出射部を更に含み、
前記第1の支持部は、前記モジュールの重心から見て前記出射部側の第1の位置に有し、
前記第2の支持部は、前記第1の位置から見て前記出射光の出射方向とは反対側の第2の位置に有し、
前記第3の支持部は、第3の位置に有する、レーザシステム。
A module including an amplifier that amplifies laser light, and first to third support portions that support the amplifier;
A frame on which the module is mounted, the frame including first to third mounts on which the first to third support portions are respectively mounted;
Including
The module is
It further includes an emission part for emitting the emitted light to the external unit,
The first support part has a first position on the emission part side as seen from the center of gravity of the module;
The second support portion has a second position opposite to the emission direction of the emitted light when viewed from the first position;
The laser system, wherein the third support portion is in a third position.
前記第1のマウントは、前記第1の支持部を所定位置に位置決めし、
前記第2のマウントは、前記第2の支持部が前記出射光の出射方向に沿った方向に移動できるように前記第2の支持部を支持し、
前記第3のマウントは、前記第3の支持部が重力方向と交差する面内において移動できるように前記第3の支持部を支持する、請求項9に記載のレーザシステム。
The first mount positions the first support portion at a predetermined position;
The second mount supports the second support part so that the second support part can move in a direction along the emission direction of the emitted light,
10. The laser system according to claim 9, wherein the third mount supports the third support portion so that the third support portion can move in a plane that intersects the direction of gravity.
レーザ光を増幅する増幅器と、前記増幅器を支持する第1〜第3の支持部とを含むモジュールと、
前記モジュールが載置されるフレームであって、前記第1〜第3の支持部がそれぞれ載置される第1〜第3のマウントを含む前記フレームと、
を含み、
前記モジュールは、
入射光が第1の外部ユニットから入射するための入射部と、
出射光が第2の外部ユニットへ出射するための出射部と、
を更に含み、
前記第1の支持部は、前記モジュールの重心から見て前記入射部側の第1の位置に有し、
前記第2の支持部は、前記モジュールの重心から見て前記出射部側の第2の位置に有し、
前記第3の支持部は、第3の位置に有する、レーザシステム。
A module including an amplifier that amplifies laser light, and first to third support portions that support the amplifier;
A frame on which the module is mounted, the frame including first to third mounts on which the first to third support portions are respectively mounted;
Including
The module is
An incident part for incident light to be incident from the first external unit;
An emission part for emitting the emitted light to the second external unit;
Further including
The first support part has a first position on the incident part side as seen from the center of gravity of the module;
The second support part has a second position on the emission part side as seen from the center of gravity of the module,
The laser system, wherein the third support portion is in a third position.
前記第1のマウントは、前記第1の支持部を所定位置に位置決めし、
前記第2のマウントは、前記第2の支持部が前記出射光の出射方向に沿った方向に移動できるように前記第2の支持部を支持し、
前記第3のマウントは、前記第3の支持部が重力方向と交差する面内において移動できるように前記第3の支持部を支持する、請求項11に記載のレーザシステム。
The first mount positions the first support portion at a predetermined position;
The second mount supports the second support part so that the second support part can move in a direction along the emission direction of the emitted light,
12. The laser system according to claim 11, wherein the third mount supports the third support portion so that the third support portion can move in a plane intersecting with the direction of gravity.
前記第1のマウントは、前記第2の支持部を所定位置に位置決めし、
前記第2のマウントは、前記第1の支持部が前記入射光の入射方向に沿った方向に移動できるように前記第1の支持部を支持し、
前記第3のマウントは、前記第3の支持部が重力方向と交差する面内において移動できるように前記第3の支持部を支持する、請求項11に記載のレーザシステム。
The first mount positions the second support portion at a predetermined position;
The second mount supports the first support portion so that the first support portion can move in a direction along the incident direction of the incident light,
12. The laser system according to claim 11, wherein the third mount supports the third support portion so that the third support portion can move in a plane intersecting with the direction of gravity.
レーザ光を増幅する増幅器と、前記増幅器を支持する第1〜第3の支持部とを含むモジュールと、
前記モジュールが載置されるフレームであって、前記第1〜第3の支持部がそれぞれ載置される第1〜第3のマウントと、前記第1〜第3のマウントがそれぞれ載置される第1〜第3の設置部と、を含む前記フレームと、
を含み、
前記第1のマウントは、前記第1の支持部を前記フレームの所定位置に位置決めし、
前記第2のマウントは、前記第2の設置部に形成された段差に沿って移動できるように前記第2の設置部に載置され、前記第2の設置部が重力方向に垂直な面に対して傾斜していることにより、前記第2のマウントは前記段差に押し付けられ、前記第2のマウントは、前記第2の支持部を前記第2のマウントの所定位置に位置決めすることにより、前記第2の支持部が前記フレームに対して前記段差に沿った方向に移動できるように前記第2の支持部を支持し、
前記第3のマウントは、前記第3の支持部が前記フレームに対して重力方向と交差する面内において移動できるように前記第3の支持部を支持する、レーザシステム。
A module including an amplifier that amplifies laser light, and first to third support portions that support the amplifier;
A frame on which the module is mounted, wherein the first to third mounts on which the first to third support portions are respectively mounted, and the first to third mounts are respectively mounted. The frame including first to third installation parts;
Including
The first mount positions the first support portion at a predetermined position of the frame;
The second mount is placed on the second installation portion so that the second mount can move along a step formed in the second installation portion, and the second installation portion is placed on a surface perpendicular to the direction of gravity. By being inclined with respect to the second mount, the second mount is pressed against the step, and the second mount is configured by positioning the second support portion at a predetermined position of the second mount. Supporting the second support portion so that the second support portion can move in a direction along the step with respect to the frame;
The third mount supports the third support portion so that the third support portion can move in a plane intersecting a gravitational direction with respect to the frame.
レーザ光を増幅する増幅器と、前記増幅器を支持する第1〜第3の支持部とを含むモジュールと、
前記モジュールが載置されるフレームであって、前記第1〜第3の支持部がそれぞれ載置される第1〜第3のマウントと、前記第1〜第3のマウントがそれぞれ載置される第1〜第3の設置部と、を含む前記フレームと、
を含み、
前記第1のマウントは、前記第1の支持部を前記フレームの所定位置に位置決めし、
前記第2のマウントは、前記第2の設置部に形成された段差に沿って移動できるように前記第2の設置部に載置され、前記第2の設置部又は前記第2のマウントに設けられた弾性部材により、前記第2のマウントは前記段差に押し付けられ、前記第2のマウントは、前記第2の支持部を前記第2のマウントの所定位置に位置決めすることにより、前記第2の支持部が前記フレームに対して前記段差に沿った方向に移動できるように前記第2の支持部を支持し、
前記第3のマウントは、前記第3の支持部が前記フレームに対して重力方向と交差する面内において移動できるように前記第3の支持部を支持する、レーザシステム。
A module including an amplifier that amplifies laser light, and first to third support portions that support the amplifier;
A frame on which the module is mounted, wherein the first to third mounts on which the first to third support portions are respectively mounted, and the first to third mounts are respectively mounted. The frame including first to third installation parts;
Including
The first mount positions the first support portion at a predetermined position of the frame;
The second mount is placed on the second installation portion so as to be movable along a step formed on the second installation portion, and is provided on the second installation portion or the second mount. The second mount is pressed against the step by the elastic member, and the second mount positions the second support portion at a predetermined position of the second mount. Supporting the second support part so that the support part can move in a direction along the step with respect to the frame;
The third mount supports the third support portion so that the third support portion can move in a plane intersecting a gravitational direction with respect to the frame.
レーザ光を伝送するビーム伝送器と、前記ビーム伝送器を支持する第1〜第3の支持部とを含むモジュールと、
前記モジュールが載置されるフレームであって、前記第1〜第3の支持部がそれぞれ載置される第1〜第3のマウントを含む前記フレームと、
を含み、
前記第1及び第2のマウントは、前記フレームの第1の面に設けられ、
前記第3のマウントは、前記フレームの第2の面であって前記第1の面と交差する面に設けられ、
前記第1のマウントは、前記第1の支持部を所定位置に位置決めし、
前記第2のマウントは、前記第2の支持部が前記第1のマウントに近づく方向に沿った方向に移動できるように前記第2の支持部を支持し、
前記第3のマウントは、前記第3の支持部が前記第2の面に沿った方向に移動できるように前記第3の支持部を支持する、レーザシステム。
A module including a beam transmitter for transmitting laser light, and first to third support portions for supporting the beam transmitter;
A frame on which the module is mounted, the frame including first to third mounts on which the first to third support portions are respectively mounted;
Including
The first and second mounts are provided on a first surface of the frame;
The third mount is provided on a surface that is a second surface of the frame and intersects the first surface;
The first mount positions the first support portion at a predetermined position;
The second mount supports the second support portion so that the second support portion can move in a direction along a direction approaching the first mount,
The third mount is a laser system that supports the third support portion so that the third support portion can move in a direction along the second surface.
レーザ光を発振する発振器と、前記発振器を支持する支持部とを含む第1のモジュールと、
レーザ光を伝送するビーム伝送器と、前記ビーム伝送器を支持する支持部とを含む第2のモジュールと、
レーザ光を増幅する増幅器と、前記増幅器を支持する支持部とを含む第3のモジュールと、
のうちの少なくとも2つのモジュールが載置されるフレームであって、前記少なくとも2つのモジュールの各々につき、前記支持部が載置されるマウントを含む、フレーム。
A first module including an oscillator that oscillates laser light and a support that supports the oscillator;
A second module including a beam transmitter for transmitting laser light and a support for supporting the beam transmitter;
A third module including an amplifier that amplifies laser light and a support that supports the amplifier;
A frame on which at least two of the modules are mounted, the frame including a mount on which the support portion is mounted for each of the at least two modules.
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