JP2013041632A - Semiconductor device - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor device including a constant voltage generation circuit which enables a quick operation start of an internal circuit that is connected to an output terminal.SOLUTION: A semiconductor device comprises: a booster circuit 20 that performs a pumping operation at a plurality of internal nodes when a clock signal VOSC is input, that sequentially transfers charge, which is supplied to an input terminal, to an output terminal via the plurality of nodes, and that generates an output voltage from the output terminal; a voltage detection circuit 30 that outputs a detection signal VUPT at an inactive level when the output voltage reaches a predetermined voltage; and a clock signal control circuit 40 that outputs a clock signal to the booster circuit when the detection signal is at an active level, and stops the output of the clock signal to the booster circuit when the detection signal is at an inactive level. The clock signal control circuit outputs the clock signal to the booster circuit according to the level of an incoming control signal RESETT even when the detection signal is at an inactive level.

Description

本発明は、定電圧発生回路を搭載した半導体装置に関する。   The present invention relates to a semiconductor device equipped with a constant voltage generation circuit.

近年、半導体装置には、外部から供給される電源電圧に応じて、内部回路の動作に必要な定電圧(例えば外部から供給される電源電圧に対して昇圧された電圧)を発生し、この定電圧を内部回路に出力する定電圧発生回路が搭載されている。
例えば、特許文献1には、昇圧回路と、電圧検出回路と、クロック信号制御回路と、を含んで構成される定電圧発生回路が開示されている。
In recent years, a constant voltage (for example, a voltage boosted with respect to a power supply voltage supplied from the outside) necessary for the operation of an internal circuit is generated in a semiconductor device according to a power supply voltage supplied from the outside. A constant voltage generation circuit that outputs a voltage to an internal circuit is mounted.
For example, Patent Document 1 discloses a constant voltage generation circuit including a booster circuit, a voltage detection circuit, and a clock signal control circuit.

昇圧回路は、電源電圧が供給される入力端子と、昇圧電圧を出力する出力端子とを有し、入力端子と出力端子との間に、ダイオード接続されたMOSトランジスタとキャパシタとからなるチャージポンプが複数個、直列に接続された構成を備えている。この複数個のチャージポンプは、MOSトランジスタ各々のダイオード極性が同方向になるように直列接続される。そして、直列接続されたチャージポンプの接続点(チャージポンプの内部ノード)各々には、キャパシタの一端が接続され、キャパシタの他端はクロック信号制御回路に接続される。
隣接するチャージポンプ各々のキャパシタの他端には、クロック信号制御回路から互いに逆相のクロック信号が入力される。チャージポンプ各々は、このクロック信号により、入力端子から流入された電荷を次段のチャージポンプの内部ノードに転送し(電圧を昇圧するポンピング動作を行い)、出力端子の電圧レベルを昇圧する。
The booster circuit has an input terminal to which a power supply voltage is supplied and an output terminal for outputting the boosted voltage. A charge pump including a diode-connected MOS transistor and a capacitor is provided between the input terminal and the output terminal. A plurality are connected in series. The plurality of charge pumps are connected in series so that the diode polarities of the MOS transistors are in the same direction. One end of the capacitor is connected to each connection point (internal node of the charge pump) of the charge pumps connected in series, and the other end of the capacitor is connected to the clock signal control circuit.
Clock signals having opposite phases from each other are input from the clock signal control circuit to the other ends of the capacitors of the adjacent charge pumps. In response to this clock signal, each charge pump transfers the charge flowing in from the input terminal to the internal node of the next-stage charge pump (performs a pumping operation for boosting the voltage), and boosts the voltage level of the output terminal.

また、昇圧回路の出力電圧を定電圧とするため、定電圧発生回路には電圧検出回路とクロック信号制御回路とが設けられる。電圧検出回路は、昇圧回路の出力電圧と、予め設定された基準電圧とを比較し、比較結果を検知信号として出力する。クロック信号制御回路は、内部にオシレータを有し、この検知信号、及びオシレータの出力に基づいて、チャージポンプのポンピング動作を制御するクロック信号を出力する。
具体的には、電圧検出回路は、昇圧回路の出力電圧が基準電圧より高い場合、昇圧回路の出力電圧が定電圧に達したと判定して、検知信号を、オシレータを停止させるための非活性レベルにする。クロック信号制御回路は、非活性レベルの検知信号が入力されると、オシレータを停止状態にする。これにより、チャージポンプ各々は、ポンピング動作を止め、昇圧回路は出力電圧の上昇を停止する。一方、電圧検出回路は、昇圧回路の出力電圧が基準電圧より低い場合、昇圧回路の出力電圧が定電圧に達していないと判定して、検知信号を、オシレータを動作させるための活性レベルのままに維持する。この場合、クロック信号制御回路は、活性レベルの検知信号が継続して入力されるので、オシレータを停止状態とはしない。これにより、チャージポンプ各々は、クロック信号が入力されるため、さらにポンピング動作を続け出力電圧を上昇させる。
Further, in order to set the output voltage of the booster circuit to a constant voltage, the constant voltage generation circuit is provided with a voltage detection circuit and a clock signal control circuit. The voltage detection circuit compares the output voltage of the booster circuit with a preset reference voltage and outputs the comparison result as a detection signal. The clock signal control circuit has an oscillator inside, and outputs a clock signal for controlling the pumping operation of the charge pump based on the detection signal and the output of the oscillator.
Specifically, when the output voltage of the booster circuit is higher than the reference voltage, the voltage detection circuit determines that the output voltage of the booster circuit has reached a constant voltage and deactivates the detection signal to stop the oscillator. To level. When the inactive level detection signal is input, the clock signal control circuit stops the oscillator. Thereby, each of the charge pumps stops the pumping operation, and the booster circuit stops increasing the output voltage. On the other hand, when the output voltage of the booster circuit is lower than the reference voltage, the voltage detection circuit determines that the output voltage of the booster circuit has not reached the constant voltage, and keeps the detection signal at the active level for operating the oscillator. To maintain. In this case, the clock signal control circuit does not stop the oscillator because the active level detection signal is continuously input. As a result, each of the charge pumps receives a clock signal, and thus continues the pumping operation to raise the output voltage.

特開平7−154692号公報Japanese Patent Laid-Open No. 7-154692

特許文献1に示される定電圧発生回路において、クロック信号制御回路は、外部クロック(半導体装置の外部端子から供給されるクロック)に基づいて、オシレータを起動させる。この定電圧発生回路を搭載した半導体装置が、電源投入時において外部クロックの入力を許可しない場合、電圧検出回路が検出した検出電圧が基準電圧より低い場合であっても、クロック信号制御回路において、オシレータは起動されない。そのため、昇圧回路は、チャージポンプの内部ノードにおいてポンピング動作を行うことができず、内部回路に予め設定された電圧(定電圧)を供給することができない。内部回路は、定電圧が供給されない状態で動作すると、正規の動作電圧で動作することができないため、誤動作する可能性が高くなる。従って、内部回路が誤動作を起さないために、定電圧発生回路が定電圧を発生するまで、内部回路の動作を停止させる対策をとることが考えられる。しかしながら、内部回路に正規の動作電圧が供給されるまで動作を停止させれば、内部回路の動作開始時刻が遅れてしまう。   In the constant voltage generation circuit disclosed in Patent Document 1, a clock signal control circuit starts an oscillator based on an external clock (a clock supplied from an external terminal of a semiconductor device). If the semiconductor device equipped with this constant voltage generation circuit does not allow input of an external clock at power-on, even if the detection voltage detected by the voltage detection circuit is lower than the reference voltage, in the clock signal control circuit, The oscillator is not started. Therefore, the booster circuit cannot perform the pumping operation at the internal node of the charge pump, and cannot supply a preset voltage (constant voltage) to the internal circuit. If the internal circuit operates in a state in which no constant voltage is supplied, it cannot operate at a normal operating voltage, so that there is a high possibility of malfunction. Therefore, in order not to cause the internal circuit to malfunction, it is conceivable to take measures to stop the operation of the internal circuit until the constant voltage generation circuit generates a constant voltage. However, if the operation is stopped until the normal operating voltage is supplied to the internal circuit, the operation start time of the internal circuit is delayed.

また、定電圧発生回路を搭載した半導体装置が、外部クロック信号の入力を許可する通常動作において、内部回路が待機状態(動作を行わないスタンバイ状態)となる動作モード(パワーダウンモード)へ移行する場合がある。このパワーダウンモードでは、内部回路は、電流を消費しないので、電源投入時と異なり定電圧が既に供給されている。そのため、クロック信号制御回路はオシレータを停止状態にする。しかしながら、昇圧回路におけるチャージポンプ各々は、キャパシタにより構成されるので、パワーダウンモードの期間が長くなるにつれて、チャージポンプの内部ノードの電位がキャパシタのリーク電流により、定電圧を出力した状態の電位(プリチャージ電位)から降下してしまう。そのため、半導体装置がパワーダウンモードから抜け出て(イグジットして)、内部回路が待機状態から動作状態へ移行した場合、電圧検出回路が検出する検出電圧は基準電圧より低くなり、クロック信号制御回路はオシレータを起動する。これにより、昇圧回路におけるチャージポンプ各々は、ポンピング動作を開始するが、内部ノードの電位がプリチャージ電位に比べて降下した状態からポンピング動作を行うことになるため、昇圧回路の出力電圧は降下し(ドロップし)、内部回路は定電圧で動作できなくなる。つまり、電源投入時と同じく、内部回路が誤動作する可能性が高くなる。内部回路が誤動作を起さないために、電源投入時と同じく、定電圧発生回路が定電圧を発生するまで、内部回路の動作を停止させる対策をとることが考えられるが、これでは、電源投入時と同じく内部回路の動作開始時刻が遅れてしまう。   Further, a semiconductor device equipped with a constant voltage generation circuit shifts to an operation mode (power down mode) in which the internal circuit is in a standby state (standby state in which no operation is performed) in a normal operation in which input of an external clock signal is permitted. There is a case. In this power-down mode, the internal circuit does not consume current, so a constant voltage is already supplied unlike when the power is turned on. For this reason, the clock signal control circuit stops the oscillator. However, since each of the charge pumps in the booster circuit is constituted by a capacitor, as the period of the power down mode becomes longer, the potential of the internal state of the charge pump is a potential in a state where a constant voltage is output due to the leakage current of the capacitor ( It drops from the precharge potential. Therefore, when the semiconductor device exits (exits) from the power down mode and the internal circuit shifts from the standby state to the operating state, the detection voltage detected by the voltage detection circuit becomes lower than the reference voltage, and the clock signal control circuit Start the oscillator. As a result, each of the charge pumps in the booster circuit starts the pumping operation. However, since the pumping operation is performed from the state where the potential of the internal node is lower than the precharge potential, the output voltage of the booster circuit decreases. (Dropped), the internal circuit cannot operate at a constant voltage. In other words, the possibility that the internal circuit malfunctions is increased as when the power is turned on. In order to prevent the internal circuit from malfunctioning, it is possible to take measures to stop the operation of the internal circuit until the constant voltage generation circuit generates a constant voltage, just as when the power is turned on. Like the time, the operation start time of the internal circuit is delayed.

本発明は、クロック信号が入力されると、内部の複数のノードにおいてポンピング動作を行い、入力端子に供給される電荷を前記複数のノードを介して出力端子へと順次転送し、前記出力端子から出力電圧を発生する昇圧回路と、第1の制御信号が活性レベルであって、前記出力電圧が予め設定された電圧に達しない場合、非活性レベルの検知信号を出力し、前記第1の制御信号が活性レベルであって、前記出力電圧が予め設定された電圧に達した場合、活性レベルの前記検知信号を出力する電圧検出回路と、前記検知信号が非活性レベルの場合、前記クロック信号を前記昇圧回路へ出力し、前記検知信号が活性レベルの場合、前記クロック信号の前記昇圧回路への出力を停止するクロック信号制御回路と、を備え、前記クロック信号制御回路は、前記検知信号が活性レベルであっても、前記第1の制御信号が前記電圧検出回路に入力されるよりも先に入力される第2の制御信号のレベルに応じて前記クロック信号を前記昇圧回路へ出力する、ことを特徴とする半導体装置である。   In the present invention, when a clock signal is input, a pumping operation is performed at a plurality of internal nodes, charges supplied to the input terminal are sequentially transferred to the output terminal via the plurality of nodes, and the output terminal When the booster circuit for generating an output voltage and the first control signal are at an active level and the output voltage does not reach a preset voltage, a detection signal at an inactive level is output and the first control signal is output. When the signal is at the active level and the output voltage reaches a preset voltage, the voltage detection circuit that outputs the detection signal at the active level; and when the detection signal is at the inactive level, the clock signal is A clock signal control circuit that outputs to the booster circuit and stops the output of the clock signal to the booster circuit when the detection signal is at an active level. Even if the detection signal is at an active level, the clock signal is set according to the level of the second control signal input before the first control signal is input to the voltage detection circuit. The semiconductor device is characterized in that it outputs to a booster circuit.

本発明によれば、クロック信号制御回路は、第1の制御信号が活性レベルになるよりも先に入力される第2の制御信号のレベルに応じて、クロック信号を昇圧回路に対して出力する。このため、電源投入時において、第2の制御信号をクロック信号制御回路に入力することで、電圧検出回路が検出した検出電圧が基準電圧より低い場合であっても、クロック信号制御回路は、クロック信号をチャージポンプ各々へ供給できる。また、昇圧回路は内部ノードにおいてポンピング動作を行って定電圧を発生し、この定電圧を内部回路に対して供給できる。そのため、内部回路が誤動作を起さないために、内部回路の動作を停止させる必要がなく、従来に比べて内部回路の動作開始時刻を早めることができる。
また、半導体装置のパワーダウンモード期間が長くなっても、パワーダウンモードからイグジットして、第1の制御信号より先に第2の制御信号を与えることで、昇圧回路の内部ノードの電位をプリチャージ電位に戻し、昇圧回路の出力電圧の降下(ドロップ)を抑制できる。そのため、内部回路が誤動作を起さないために、内部回路の動作を停止させる必要がなく、従来に比べて内部回路の動作開始時刻を早めることができる。
According to the present invention, the clock signal control circuit outputs the clock signal to the booster circuit according to the level of the second control signal input before the first control signal becomes the active level. . Therefore, when the power is turned on, the second control signal is input to the clock signal control circuit, so that even if the detection voltage detected by the voltage detection circuit is lower than the reference voltage, the clock signal control circuit A signal can be supplied to each charge pump. The booster circuit can generate a constant voltage by performing a pumping operation at the internal node, and supply the constant voltage to the internal circuit. Therefore, since the internal circuit does not malfunction, it is not necessary to stop the operation of the internal circuit, and the operation start time of the internal circuit can be advanced as compared with the conventional case.
Further, even when the power down mode period of the semiconductor device becomes long, the potential of the internal node of the booster circuit is pre-established by exiting from the power down mode and applying the second control signal before the first control signal. By returning to the charge potential, the output voltage drop (drop) of the booster circuit can be suppressed. Therefore, since the internal circuit does not malfunction, it is not necessary to stop the operation of the internal circuit, and the operation start time of the internal circuit can be advanced as compared with the conventional case.

定電圧発生回路10の構成を示すブロック図である。2 is a block diagram showing a configuration of a constant voltage generation circuit 10. FIG. 定電圧発生回路10のタイミング波形図である。4 is a timing waveform diagram of the constant voltage generation circuit 10. FIG. 定電圧発生回路10aの構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the structure of the constant voltage generation circuit 10a. 定電圧発生回路10aのタイミング波形図である。It is a timing waveform diagram of the constant voltage generation circuit 10a. 定電圧発生回路10bの構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the structure of the constant voltage generation circuit 10b. 定電圧発生回路10bのタイミング波形図である。It is a timing waveform diagram of the constant voltage generation circuit 10b. 定電圧発生回路10を備えた半導体装置100のブロック図である。1 is a block diagram of a semiconductor device 100 including a constant voltage generation circuit 10. FIG.

まず、昇圧回路、電圧検出回路、及びクロック信号制御回路を有する定電圧発生回路10bを備えた半導体装置について、図5を用いてその問題点を説明する。
図5は、定電圧発生回路10bの回路構成を示す図である。定電圧発生回路10bは、昇圧回路20(チャージポンプ回路)、電圧検出回路30、及びクロック信号制御回路40bを含んで構成される。
昇圧回路20は、NMOSトランジスタ21、チャージポンプ20a、チャージポンプ20b、及びチャージポンプ20cを含んで構成される。
NMOSトランジスタ21(N型チャネルMOSトランジスタ)において、ドレインは電源VCCに、ソースは接続点N23に接続され、ゲートは電源VCCにそれぞれ接続される。
First, a problem of a semiconductor device including a constant voltage generation circuit 10b having a booster circuit, a voltage detection circuit, and a clock signal control circuit will be described with reference to FIG.
FIG. 5 is a diagram showing a circuit configuration of the constant voltage generation circuit 10b. The constant voltage generation circuit 10b includes a booster circuit 20 (charge pump circuit), a voltage detection circuit 30, and a clock signal control circuit 40b.
The booster circuit 20 includes an NMOS transistor 21, a charge pump 20a, a charge pump 20b, and a charge pump 20c.
In the NMOS transistor 21 (N-type channel MOS transistor), the drain is connected to the power supply VCC, the source is connected to the connection point N23, and the gate is connected to the power supply VCC.

チャージポンプ20aは、スイッチング素子23a、キャパシタC23を含んで構成される。スイッチング素子23aは、NMOSトランジスタ23により構成され、ドイレン及びゲートは接続点N23に、ソースは接続点N24に接続される。また、キャパシタC23は、一端が接続点N23に接続され、他端がクロック信号発生回路50に接続されてクロック信号φ1が入力される。スイッチング素子23aは、ポンピング動作により、出力側の接続点N24(ノード)の電位が入力側の接続点N23より高くなった場合、電荷が逆流し接続点N24の電位が下がるのを阻止する整流素子である。   The charge pump 20a includes a switching element 23a and a capacitor C23. The switching element 23a is composed of an NMOS transistor 23, and its drain and gate are connected to the connection point N23, and its source is connected to the connection point N24. Capacitor C23 has one end connected to connection point N23 and the other end connected to clock signal generation circuit 50 to receive clock signal φ1. The switching element 23a is a rectifying element that prevents charge from flowing backward and lowering the potential of the connection point N24 when the potential of the output-side connection point N24 (node) becomes higher than the input-side connection point N23 due to the pumping operation. It is.

また、チャージポンプ20bは、スイッチング素子24a、キャパシタC24を含んで構成される。スイッチング素子24aは、NMOSトランジスタ24により構成され、ドイレン及びゲートは接続点N24に、ソースは昇圧回路20の接続点N25に接続される。また、キャパシタC24は、一端が接続点N24に接続され、他端がクロック信号発生回路50に接続されてクロック信号φ2が入力される。スイッチング素子24aは、スイッチング素子23aと同様、ポンピング動作により、出力側の接続点N25の電位が入力側の接続点N24より高くなった場合、電荷が逆流し接続点N25の電位が下がるのを阻止する整流素子である。   The charge pump 20b includes a switching element 24a and a capacitor C24. The switching element 24 a is configured by an NMOS transistor 24, the drain and gate are connected to the connection point N 24, and the source is connected to the connection point N 25 of the booster circuit 20. Capacitor C24 has one end connected to connection point N24 and the other end connected to clock signal generation circuit 50 to receive clock signal φ2. Similarly to the switching element 23a, the switching element 24a prevents the charge from flowing backward and the potential at the connection point N25 from dropping when the potential at the output side connection point N25 becomes higher than the input side connection point N24 by the pumping operation. This is a rectifying element.

また、チャージポンプ20cは、スイッチング素子25a、キャパシタC25を含んで構成される。スイッチング素子25aは、NMOSトランジスタ25により構成され、ドイレン及びゲートは接続点N25に、ソースは昇圧回路20の接続点N26に接続される。また、キャパシタC25は、一端が接続点N25に接続され、他端がクロック信号発生回路50に接続されてクロック信号φ1が入力される。スイッチング素子25aは、スイッチング素子23a、及びスイッチング素子24aと同様、ポンピング動作により、出力側の接続点N26の電位が入力側の接続点N25より高くなった場合、電荷が逆流し接続点N26の電位が下がるのを阻止する整流素子である。
昇圧回路20は、チャージポンプ20cの接続点N26に、出力電圧VPP(定電圧)を出力する。
定電圧発生回路10bにおいて、昇圧回路20は、3段のチャージポンプ(チャージポンプ20a〜チャージポンプ20c)により構成されるが、勿論3段に限られるものではなく、出力電圧VPPとして要求される定電圧のレベルに応じて、4段以上のチャージポンプにより構成してもよい。また、昇圧回路20を構成するスイッチング素子として、MOSトランジスタを用いているが、ダイオードであってもよい。
The charge pump 20c includes a switching element 25a and a capacitor C25. The switching element 25a is constituted by an NMOS transistor 25. The drain and gate are connected to the connection point N25, and the source is connected to the connection point N26 of the booster circuit 20. The capacitor C25 has one end connected to the connection point N25 and the other end connected to the clock signal generation circuit 50 to receive the clock signal φ1. Similarly to the switching element 23a and the switching element 24a, when the potential at the output-side connection point N26 becomes higher than the input-side connection point N25 by the pumping operation, the switching element 25a reverses the charge and the potential at the connection point N26. This is a rectifying element that prevents the lowering of the current.
The booster circuit 20 outputs an output voltage VPP (constant voltage) to the connection point N26 of the charge pump 20c.
In the constant voltage generation circuit 10b, the booster circuit 20 is constituted by three stages of charge pumps (charge pump 20a to charge pump 20c), but of course is not limited to three stages, and is not limited to the three stages. Depending on the voltage level, it may be constituted by four or more stages of charge pumps. Further, although the MOS transistor is used as the switching element constituting the booster circuit 20, a diode may be used.

電圧検出回路30は、最終段のチャージポンプ20cが出力電圧VPP(定電圧)を発生したか否かを検出する。電圧検出回路30は、抵抗R1、及び抵抗R2からなる分圧回路、コンパレータ31、インバータ回路32、及びアンド回路33を含んで構成される。
分圧回路は、抵抗R1及び抵抗R2により、出力電圧VPPをGNDとの間で分圧し、分圧により得られた分圧電圧Vdを、コンパレータ31の正転入力端子(+)に出力する。
コンパレータ31は、予め設定された基準電圧VREFと分圧電圧Vdとを比較し、比較結果信号を出力する。コンパレータ31が出力する比較結果信号は、分圧電圧Vd>基準電圧VREFである場合、Hレベルとなり、分圧電圧Vd<基準電圧VREFである場合、Lレベルとなる。ここで、分圧電圧Vdは、出力電圧VPP×R2/(R1+R2)で表されるから、コンパレータ31は、出力電圧VPPが予め設定された電圧(基準電圧VREF×(R1+R2)/R2)に達しない場合、Lレベルの比較結果信号を出力し、達した場合、Hレベルの比較結果信号を出力する。
インバータ回路32は、コンパレータ31が出力する比較結果信号のレベルを反転し、反転した信号を、アンド回路33の一方の入力端子に出力する。
アンド回路33は、他方の入力端子にチャージポンプイネーブル信号CPEが入力され、一方の入力端子に入力されるインバータ回路32が出力する比較結果信号の論理反転信号との論理積を演算し、演算結果として検知信号VUPTをクロック信号制御回路40bに出力する。
The voltage detection circuit 30 detects whether or not the final stage charge pump 20c has generated the output voltage VPP (constant voltage). The voltage detection circuit 30 includes a voltage dividing circuit including a resistor R1 and a resistor R2, a comparator 31, an inverter circuit 32, and an AND circuit 33.
The voltage dividing circuit divides the output voltage VPP from the GND by the resistors R1 and R2, and outputs the divided voltage Vd obtained by the voltage division to the normal input terminal (+) of the comparator 31.
The comparator 31 compares a preset reference voltage VREF and the divided voltage Vd, and outputs a comparison result signal. The comparison result signal output from the comparator 31 is H level when the divided voltage Vd> reference voltage VREF, and is L level when the divided voltage Vd <reference voltage VREF. Here, since the divided voltage Vd is expressed by the output voltage VPP × R2 / (R1 + R2), the comparator 31 reaches the voltage (reference voltage VREF × (R1 + R2) / R2) where the output voltage VPP is set in advance. If not, an L level comparison result signal is output, and if reached, an H level comparison result signal is output.
The inverter circuit 32 inverts the level of the comparison result signal output from the comparator 31 and outputs the inverted signal to one input terminal of the AND circuit 33.
The AND circuit 33 calculates the logical product of the charge pump enable signal CPE input to the other input terminal and the logical inversion signal of the comparison result signal output from the inverter circuit 32 input to the one input terminal, and the operation result The detection signal VUPT is output to the clock signal control circuit 40b.

ここで、チャージポンプイネーブル信号CPEは、先行技術文献におけるクロックに対応する信号である。つまり、チャージポンプイネーブル信号CPEは、半導体装置外部から入力される信号ではないが、電源投入時には、非活性レベル(Lレベル)にリセットされている信号である。チャージポンプイネーブル信号CPEは、チャージポンプを活性化するための信号であり、後述する制御信号RESETTより遅れて活性レベル(Hレベル)になり、アンド回路33に入力される。
以上の構成により、電圧検出回路30は、チャージポンプイネーブル信号CPEがHレベル、かつ、分圧電圧Vd<基準電圧VREFである場合にのみ、検知信号VUPTを非活性レベル(Lレベル)から活性レベル(Hレベル)へと変化させる。検知信号VUPTがHレベルにあるとき、オシレータ51の発振が行われ、昇圧回路20においてポンピング動作が行われる。
Here, the charge pump enable signal CPE is a signal corresponding to the clock in the prior art document. That is, the charge pump enable signal CPE is not a signal input from the outside of the semiconductor device, but is a signal that is reset to an inactive level (L level) when the power is turned on. The charge pump enable signal CPE is a signal for activating the charge pump, becomes an activation level (H level) later than a control signal RESETT described later, and is input to the AND circuit 33.
With the above configuration, the voltage detection circuit 30 changes the detection signal VUPT from the inactive level (L level) to the active level only when the charge pump enable signal CPE is at the H level and the divided voltage Vd <the reference voltage VREF. Change to (H level). When the detection signal VUPT is at the H level, the oscillator 51 oscillates and the boosting circuit 20 performs the pumping operation.

クロック信号制御回路40bは、インバータ回路60a、オシレータ51、アンド回路57、ナンド回路58を含んで構成される。オシレータ51、アンド回路57、及びナンド回路58によりクロック信号発生回路50を構成する。
インバータ回路60aは、検知信号VUPTのレベルを反転し、検知信号VUPTを反転した信号であるオシレータ駆動信号OSCACTBを、オシレータ51のノア回路52の一方の入力に対して出力する。オシレータ51は、オシレータ駆動信号OSCACTBが活性レベル(Lレベル)になると発振を開始する。
オシレータ51は、ノア回路52、インバータ回路53〜インバータ回路56を含んで構成される。
アンド回路57は、ノア回路52の出力信号とインバータ回路55の出力信号とが入力され、両出力信号がいずれもHレベルの期間にHレベルとなるクロック信号φ1を発生する。
また、ナンド回路58は、負論理の2入力ナンド回路であり、ノア回路52の出力信号とインバータ回路55の出力信号とが入力され、両出力信号がいずれもLレベルの期間にHレベルとなるクロック信号φ2を発生する。
The clock signal control circuit 40b includes an inverter circuit 60a, an oscillator 51, an AND circuit 57, and a NAND circuit 58. The oscillator 51, the AND circuit 57, and the NAND circuit 58 constitute a clock signal generation circuit 50.
The inverter circuit 60 a inverts the level of the detection signal VUPT, and outputs an oscillator drive signal OSCACTB, which is a signal obtained by inverting the detection signal VUPT, to one input of the NOR circuit 52 of the oscillator 51. The oscillator 51 starts oscillating when the oscillator drive signal OSCACTB becomes an active level (L level).
The oscillator 51 includes a NOR circuit 52 and inverter circuits 53 to 56.
The AND circuit 57 receives the output signal of the NOR circuit 52 and the output signal of the inverter circuit 55, and generates a clock signal φ1 that is at H level during the period when both output signals are at H level.
The NAND circuit 58 is a negative logic two-input NAND circuit, to which the output signal of the NOR circuit 52 and the output signal of the inverter circuit 55 are input, and both output signals are at the H level during the L level. Clock signal φ2 is generated.

以上の構成により、クロック信号制御回路40bに入力される検知信号VUPTがHレベルのとき、インバータ回路60aは、オシレータ駆動信号OSCACTBをLレベルにする。これにより、オシレータ51は、発振を開始し、オシレータ駆動信号OSCACTBがLレベルである発振期間中に、Hレベルの期間が互いにオーバーラップすることのないクロック信号φ1、及びクロック信号φ2を周期的に発生し、昇圧回路20に対して出力する。   With the above configuration, when the detection signal VUPT input to the clock signal control circuit 40b is at the H level, the inverter circuit 60a sets the oscillator drive signal OSCACTB to the L level. As a result, the oscillator 51 starts oscillating. During the oscillation period in which the oscillator drive signal OSCACTB is at the L level, the clock signal φ1 and the clock signal φ2 whose H level periods do not overlap each other periodically. Generated and output to the booster circuit 20.

以上の構成を備える定電圧発生回路10bの、電源投入時の動作について図6に示すタイミング波形図を用いて説明する。
なお、簡単のためにクロック信号φ1、クロック信号φ2の振幅はVCCで、0V(Lレベル)とVCC(Hレベル)の間で振幅するものとし、キャパシタC23、キャパシタC24、及びキャパシタC25の容量は、それぞれのキャパシタの一端が接続される各接続点の寄生容量に比べて十分に大きいものとする。また、スイッチング素子23a〜スイッチング素子25aを構成するNMOSトランジスタ23〜NMOSトランジスタ25の閾値電圧はそれぞれVTHであるものとする。
The operation at power-on of the constant voltage generation circuit 10b having the above configuration will be described with reference to the timing waveform diagram shown in FIG.
For the sake of simplicity, the amplitude of the clock signal φ1 and the clock signal φ2 is VCC, and it is assumed that the amplitude is between 0 V (L level) and VCC (H level). The capacitances of the capacitors C23, C24, and C25 are as follows. It is assumed that the capacitance is sufficiently larger than the parasitic capacitance at each connection point to which one end of each capacitor is connected. The threshold voltages of the NMOS transistors 23 to 25 constituting the switching elements 23a to 25a are assumed to be VTH, respectively.

時刻t0に電源を投入すると、接続点N23、接続点N24、接続点N25、接続点N26(出力電圧VPP)の電位は、それぞれ(VCC−VTH)、(VCC−2VTH)、(VCC−3VTH)、(VCC−4VTH)となる。これは、接続点N23には、電源電圧VCCがNMOSトランジスタ21の閾値電圧VTH分降下して現れるからである。また、接続点N24には、接続点N23の電位(VCC−VTH)がNMOSトランジスタ23の閾値電圧VTH分降下して現れるからである。また、接続点N25には、接続点N24の電位(VCC−2VTH)がNMOSトランジスタ24の閾値電圧VTH分降下して現れるからである。また、接続点N26には、接続点N25の電位(VCC−3VTH)がNMOSトランジスタ25の閾値電圧VTH分降下して現れるからである。   When power is turned on at time t0, the potentials at the connection point N23, connection point N24, connection point N25, and connection point N26 (output voltage VPP) are (VCC-VTH), (VCC-2VTH), and (VCC-3VTH), respectively. , (VCC-4VTH). This is because the power supply voltage VCC appears at the connection point N23 by dropping by the threshold voltage VTH of the NMOS transistor 21. Further, this is because the potential (VCC−VTH) at the connection point N23 appears to drop at the connection point N24 by the threshold voltage VTH of the NMOS transistor 23. Further, the potential at the connection point N24 (VCC-2VTH) appears to drop at the connection point N25 by the threshold voltage VTH of the NMOS transistor 24. Further, this is because the potential (VCC-3VTH) at the connection point N25 appears to drop at the connection point N26 by the threshold voltage VTH of the NMOS transistor 25.

時刻t1において、電圧検出回路30のアンド回路33に入力されるチャージポンプイネーブル信号CPEがHレベルになると、このときはまだ分圧電圧Vd<基準電圧VREFであるので、コンパレータ31はLレベルの比較結果信号を出力する。これにより、電圧検出回路30は、アンド回路33から、Hレベルの検知信号VUPTを出力する。
クロック信号制御回路40bにおいて、インバータ回路60aは、オシレータ駆動信号OSCACTBをHレベル(非活性レベル)からLレベル(活性レベル)へ変化させる。オシレータ51は、発振を開始し、アンド回路57、ナンド回路58は、それぞれHレベルの期間が互いにオーバーラップしないクロック信号φ1、クロック信号φ2を、昇圧回路20のキャパシタC23及びキャパシタC25の他端、キャパシタC24の他端に出力する。
At time t1, when the charge pump enable signal CPE input to the AND circuit 33 of the voltage detection circuit 30 becomes H level, the divided voltage Vd <reference voltage VREF is still satisfied at this time, so the comparator 31 compares the L level. Output the result signal. As a result, the voltage detection circuit 30 outputs an H level detection signal VUPT from the AND circuit 33.
In the clock signal control circuit 40b, the inverter circuit 60a changes the oscillator drive signal OSCACTB from H level (inactive level) to L level (active level). The oscillator 51 starts oscillating, and the AND circuit 57 and the NAND circuit 58 receive the clock signal φ1 and the clock signal φ2 whose H level periods do not overlap each other, the other ends of the capacitor C23 and the capacitor C25 of the booster circuit 20, Output to the other end of the capacitor C24.

時刻t2において、クロック信号制御回路40bが出力するクロック信号φ1がHレベルになると、キャパシタC23は、その一端が接続される接続点N23の電位を(VCC−VTH)から(2VCC−VTH)まで上昇させる。また、キャパシタC25は、その一端が接続される接続点N25の電位を(VCC−3VTH)から(2VCC−3VTH)まで上昇させる。
これにより、NMOSトランジスタ23、NMOSトランジスタ25が導通し、それぞれ接続点N24、接続点N26に電荷を転送する。接続点N24、接続点N26の電位は上昇し、それぞれ(VCC−2VTH)から接続点N23の電位よりVTH低い(2VCC−2VTH)、(VCC−4VTH)から接続点N25の電位よりVTH低い(2VCC−4VTH)となる。
クロック信号φ1がLレベルになると、キャパシタC23は、その一端が接続される接続点N23の電位を(2VCC−VTH)から(VCC−VTH)まで下降させる。また、キャパシタC25は、その一端が接続される接続点N25の電位を(2VCC−3VTH)から(VCC−3VTH)まで下降させる。このとき、NMOSトランジスタ23、NMOSトランジスタ25は逆方向への電荷の流れを阻止するので、接続点N24、接続点N26の電位は、それぞれ上昇した電位である(2VCC−2VTH)、(2VCC−4VTH)のままである。
At time t2, when the clock signal φ1 output from the clock signal control circuit 40b becomes H level, the capacitor C23 raises the potential at the connection point N23 to which one end thereof is connected from (VCC-VTH) to (2VCC-VTH). Let Capacitor C25 raises the potential at node N25 to which one end thereof is connected from (VCC-3VTH) to (2VCC-3VTH).
As a result, the NMOS transistor 23 and the NMOS transistor 25 become conductive, and charge is transferred to the connection point N24 and the connection point N26, respectively. The potentials of the connection point N24 and the connection point N26 rise, and are respectively VTH lower than the potential at the connection point N23 from (VCC-2VTH) (2VCC-2VTH), and VTH lower than the potential at the connection point N25 from (VCC-4VTH) (2VCC). −4VTH).
When the clock signal φ1 becomes L level, the capacitor C23 lowers the potential of the connection point N23 to which one end thereof is connected from (2VCC−VTH) to (VCC−VTH). Capacitor C25 lowers the potential at node N25 to which one end thereof is connected from (2VCC-3VTH) to (VCC-3VTH). At this time, since the NMOS transistor 23 and the NMOS transistor 25 block the flow of charges in the reverse direction, the potentials at the connection point N24 and the connection point N26 are the increased potentials (2VCC-2VTH) and (2VCC-4VTH), respectively. ).

時刻t3において、クロック信号制御回路40bが出力するクロック信号φ2がHレベルになると、キャパシタC24は、一端が接続される接続点N24の電位を(2VCC−2VTH)から(3VCC−2VTH)まで上昇させる。これにより、NMOSトランジスタ24が導通し、接続点N25に電荷を転送する。接続点N25の電位は上昇し、(VCC−3VTH)から(3VCC−3VTH)となる。
このとき、このとき、NMOSトランジスタ23は逆方向への電荷の流れを阻止するので、接続点N23の電位は、電源電圧VCCよりVTH低い(VCC−VTH)のままである。
クロック信号φ2がLレベルになると、キャパシタC24は、その一端が接続される接続点N24の電位を(3VCC−2VTH)から(2VCC−2VTH)まで下降させる。しかし、NMOSトランジスタ25は逆方向への電荷の流れを阻止するので、接続点N25の電位は、(3VCC−3VTH)のままである。
At time t3, when the clock signal φ2 output from the clock signal control circuit 40b becomes H level, the capacitor C24 raises the potential of the connection point N24 to which one end is connected from (2VCC-2VTH) to (3VCC-2VTH). . As a result, the NMOS transistor 24 becomes conductive, and charges are transferred to the connection point N25. The potential at the connection point N25 rises from (VCC-3VTH) to (3VCC-3VTH).
At this time, since the NMOS transistor 23 prevents the flow of charges in the reverse direction, the potential at the node N23 remains VTH lower than the power supply voltage VCC (VCC-VTH).
When the clock signal φ2 becomes L level, the capacitor C24 lowers the potential of the connection point N24 to which one end thereof is connected from (3VCC-2VTH) to (2VCC-2VTH). However, since the NMOS transistor 25 blocks the flow of charges in the reverse direction, the potential at the connection point N25 remains (3VCC-3VTH).

時刻t4において、クロック信号制御回路40bが出力するクロック信号φ1が再びHレベルになると、キャパシタC23は、その一端が接続される接続点N23の電位を(VCC−VTH)から(2VCC−VTH)まで上昇させる。また、キャパシタC25は、その一端が接続される接続点N25の電位を(3VCC−3VTH)から(4VCC−3VTH)まで上昇させる。
これにより、NMOSトランジスタ23、NMOSトランジスタ25が導通し、それぞれ接続点N24、接続点N26に電荷を転送する。接続点N24の電位は、仮に(2VCC−2VTH)より低くなっていても、接続点N23から電荷が補充され、時刻t2における電位と同じ(2VCC−2VTH)になる。また、接続点N26の電位は上昇し、接続点N25の電位よりVTH低い(4VCC−4VTH)となる。
クロック信号φ1がLレベルになると、キャパシタC23は、その一端が接続される接続点N23の電位を(2VCC−VTH)から(VCC−VTH)まで下降させる。また、キャパシタC25は、その一端が接続される接続点N25の電位を(4VCC−3VTH)から(3VCC−3VTH)まで下降させる。このとき、NMOSトランジスタ23、NMOSトランジスタ25は逆方向への電荷の流れを阻止するので、接続点N24、接続点N26の電位は、それぞれ(2VCC−2VTH)、(4VCC−4VTH)のままである。
At time t4, when the clock signal φ1 output from the clock signal control circuit 40b becomes H level again, the capacitor C23 changes the potential at the connection point N23 to which one end thereof is connected from (VCC-VTH) to (2VCC-VTH). Raise. Capacitor C25 raises the potential at node N25 to which one end is connected from (3VCC-3VTH) to (4VCC-3VTH).
As a result, the NMOS transistor 23 and the NMOS transistor 25 become conductive, and charge is transferred to the connection point N24 and the connection point N26, respectively. Even if the potential at the connection point N24 is lower than (2VCC-2VTH), the charge is replenished from the connection point N23 and becomes the same as the potential at time t2 (2VCC-2VTH). Further, the potential of the connection point N26 increases and becomes VTH lower than the potential of the connection point N25 (4VCC-4VTH).
When the clock signal φ1 becomes L level, the capacitor C23 lowers the potential of the connection point N23 to which one end thereof is connected from (2VCC−VTH) to (VCC−VTH). Capacitor C25 lowers the potential at node N25 to which one end thereof is connected from (4VCC-3VTH) to (3VCC-3VTH). At this time, since the NMOS transistor 23 and the NMOS transistor 25 block the flow of charges in the reverse direction, the potentials at the connection point N24 and the connection point N26 remain (2VCC-2VTH) and (4VCC-4VTH), respectively. .

このように、定電圧発生回路10bでは、昇圧回路20のチャージポンプの台数を3段としているので、クロック信号の3回(クロック信号φ1が2回、クロック信号φ2が1回の計3回)の入力で、接続点N26の電位は(4VCC−4VT)となり、昇圧回路20はこの電位と等しい定電圧を発生することになる。なお、一般にn段のチャージポンプで構成した場合、クロック信号のn回(クロック信号φ1、クロック信号φ2の合計)の入力で、定電圧として(n+1)×(VCC−VTH)を得ることができる。なお、n回で定電圧に到達するのは、接続点間における必要な電荷の移動が上述したように理想的に一回で行われる場合であって、実際はさらに多くのポンピング動作により、内部接続点の電位はプリチャージ電位へ、出力電圧VPPは所定の定電圧(この場合4VCC−4VTH)に到達する。   In this way, in the constant voltage generation circuit 10b, the number of charge pumps of the booster circuit 20 is three, so that the clock signal is three times (clock signal φ1 is two times and clock signal φ2 is one time three times in total). , The potential at the connection point N26 becomes (4VCC-4VT), and the booster circuit 20 generates a constant voltage equal to this potential. In general, in the case of an n-stage charge pump, (n + 1) × (VCC−VTH) can be obtained as a constant voltage by inputting clock signals n times (total of clock signal φ1 and clock signal φ2). . Note that the constant voltage is reached n times when the necessary charge transfer between the connection points is performed ideally once as described above, and the internal connection is actually performed by more pumping operations. The potential at the point reaches the precharge potential, and the output voltage VPP reaches a predetermined constant voltage (in this case, 4VCC-4VTH).

また、基準電圧VREFを、この定電圧を抵抗R1、抵抗R2により分圧した分圧電圧Vdと等しくなるように、予め設定しておくことで、コンパレータ31は、Hレベルの比較結果信号を出力する。
これにより、時刻t5において、電圧検出回路30は検知信号VUPTをLレベル(非活性レベル)に変化させる。クロック信号制御回路40bにおいて、インバータ回路60aは、オシレータ駆動信号OSCACTBを非活性レベル(Hレベル)に変化させる。こにより、オシレータ51は発振を停止し、クロック信号φ1、クロック信号φ2をいずれもLレベル(非活性レベル)に維持する(時刻t5〜t6)。
接続点N23の電位は、NMOSトランジスタ21により(VDD−VTH)に維持され、接続点N24、接続点N25の電位は、それぞれキャパシタC24により(2VCC−2VTH)、キャパシタC25により(3VCC−3VTH)に維持される。これらの電位が、昇圧回路20における内部ノードのプリチャージ電位に相当する電位である。
Further, by setting the reference voltage VREF so as to be equal to the divided voltage Vd obtained by dividing the constant voltage by the resistors R1 and R2, the comparator 31 outputs an H level comparison result signal. To do.
Thereby, at time t5, the voltage detection circuit 30 changes the detection signal VUPT to L level (inactive level). In the clock signal control circuit 40b, the inverter circuit 60a changes the oscillator drive signal OSCACTB to an inactive level (H level). As a result, the oscillator 51 stops oscillating and maintains both the clock signal φ1 and the clock signal φ2 at the L level (inactive level) (time t5 to t6).
The potential at the connection point N23 is maintained at (VDD−VTH) by the NMOS transistor 21, and the potentials at the connection point N24 and the connection point N25 are respectively set to (2VCC-2VTH) by the capacitor C24 and (3VCC-3VTH) by the capacitor C25. Maintained. These potentials are potentials corresponding to the precharge potential of the internal node in the booster circuit 20.

時刻t6において、昇圧回路20が出力電圧VPP(定電圧)を供給する内部回路(図5において不図示)が動作を始めると、昇圧回路20が供給する電流を消費するので、出力電圧VPPが下降する。
分圧電圧Vd<基準電圧VREFであるので、コンパレータ31はLレベルの比較結果信号を出力する。このとき、電圧検出回路30のアンド回路33に入力されるチャージポンプイネーブル信号CPEがHレベルであるので、電圧検出回路30は、アンド回路33から、Hレベルの検知信号VUPTを出力する。
クロック信号制御回路40bにおいて、インバータ回路60aは、オシレータ駆動信号OSCACTBをHレベル(非活性レベル)からLレベル(活性レベル)へ変化させる。オシレータ51は、発振を開始し、アンド回路57、ナンド回路58は、それぞれHレベルの期間が互いにオーバーラップしないクロック信号φ1、クロック信号φ2を、昇圧回路20のキャパシタC23及びキャパシタC25の他端、キャパシタC24の他端に出力する。
これらのクロック信号の出力時刻は、時刻t8、時刻t9、時刻t10であり、これらの時刻は、先に説明した時刻t2、時刻t3、時刻t4にそれぞれ対応する。
At time t6, when an internal circuit (not shown in FIG. 5) to which the booster circuit 20 supplies the output voltage VPP (constant voltage) starts operating, the current supplied by the booster circuit 20 is consumed, so the output voltage VPP decreases. To do.
Since the divided voltage Vd <the reference voltage VREF, the comparator 31 outputs an L level comparison result signal. At this time, since the charge pump enable signal CPE input to the AND circuit 33 of the voltage detection circuit 30 is at the H level, the voltage detection circuit 30 outputs an H level detection signal VUPT from the AND circuit 33.
In the clock signal control circuit 40b, the inverter circuit 60a changes the oscillator drive signal OSCACTB from H level (inactive level) to L level (active level). The oscillator 51 starts oscillating, and the AND circuit 57 and the NAND circuit 58 receive the clock signal φ1 and the clock signal φ2 whose H level periods do not overlap each other, the other ends of the capacitor C23 and the capacitor C25 of the booster circuit 20, Output to the other end of the capacitor C24.
The output times of these clock signals are time t8, time t9, and time t10, and these times correspond to the time t2, time t3, and time t4 described above, respectively.

しかしながら、接続点N23、接続点N24、接続点N25の電位が、図6に示すように、プリチャージ電位に維持されている場合、時刻t8〜時刻t10において、時刻t2〜時刻t4において行われたほどの電荷の移動は不要である。例えば、接続点N23から接続点N24へ、時刻t2において(VCC×キャパシタC24の容量値)に相当する電荷の移動が行われ、接続点N24のプリチャージが電位への充電が行われる。また、接続点N24から接続点N25へ、時刻t3において(2VCC×キャパシタC25の容量値)に相当する電荷の移動が行われ、接続点N25のプリチャージ電位への充電が行われる。また、接続点N25から接続点N26へ、時刻t2、時刻t3、及び時刻t4各々において(VCC×内部回路が、出力電圧VPPが供給される配線に対して有する容量)に相当する電荷の移動が行われ、接続点N26及び内部回路の充電が行われる。   However, when the potentials of the connection point N23, the connection point N24, and the connection point N25 are maintained at the precharge potential as shown in FIG. 6, the operation was performed from time t8 to time t10 and from time t2 to time t4. As much charge transfer is not necessary. For example, the charge corresponding to (VCC × capacitance value of the capacitor C24) is transferred from the connection point N23 to the connection point N24, and the precharge at the connection point N24 is charged to the potential. Further, at time t3, a charge corresponding to (2VCC × capacitance value of capacitor C25) is transferred from connection point N24 to connection point N25, and charging to the precharge potential at connection point N25 is performed. In addition, at time t2, time t3, and time t4, the charge transfer corresponding to (VCC × capacity of the internal circuit with respect to the wiring to which the output voltage VPP is supplied) is transferred from the connection point N25 to the connection point N26. The connection point N26 and the internal circuit are charged.

これに対して、時刻t8〜時刻t10においては、昇圧回路20は、内部回路が消費する電流に応じた電荷を内部回路に供給すれば足りる。そのため、上で説明した各内部接続点のプリチャージに伴う電荷の移動に比べて、電荷の移動が少なくて足り、少ないポンピング動作で定電圧を供給できるわけである。
しかしながら、定電圧発生回路10bの構成では、電源投入時において、時刻t2〜時刻t4における電荷の移動は必要である。そのため、定電圧へ到達するまでのポンピング動作の回数も増え、昇圧回路から動作電流が供給される内部回路の定電圧でのスタート時刻が遅れてしまう。図6で説明すれば、時刻t1にチャージポンプイネーブル信号CPEが入力されて、その後各チャージポンプの接続点がプリチャージ電位まで到達するポンピング動作を行う時間が必要となり、この時間が経過した後でなければ内部回路は正規の電圧で(定電圧で)動作できないことになる。
On the other hand, from time t8 to time t10, the booster circuit 20 only needs to supply the internal circuit with a charge corresponding to the current consumed by the internal circuit. For this reason, the movement of charges is less than the movement of charges accompanying the precharge of each internal connection point described above, and a constant voltage can be supplied with a small pumping operation.
However, in the configuration of the constant voltage generation circuit 10b, it is necessary to move charges from time t2 to time t4 when the power is turned on. Therefore, the number of pumping operations until reaching the constant voltage increases, and the start time at the constant voltage of the internal circuit to which the operating current is supplied from the booster circuit is delayed. Referring to FIG. 6, after the charge pump enable signal CPE is input at time t1, a time for performing a pumping operation in which the connection point of each charge pump reaches the precharge potential is required, and after this time has elapsed. Otherwise, the internal circuit cannot operate at a regular voltage (at a constant voltage).

また、プリチャージ電位が確保されたとしても、時刻t5から時刻t6までの時間が長い場合、接続点のプリチャージ電位を維持するのはキャパシタであるので、長時間経過した場合、キャパシタの電流リークによりプリチャージ電位は下降する。例えば、全ての電荷がリークした場合、接続点N24、接続点N25の電位は、時刻t0〜時刻t1と同じく、それぞれ(VCC−2VTH)、(VCC−3VTH)となる(この電位まで、NMOSトランジスタ21により補償される)。
時刻t5〜時刻t6の時間が長時間となる場合としては、定電圧発生回路10bが搭載される半導体装置が、動作モードとしてパワーダウンモードを備えている場合が考えられる。このようなパワーダウンモードを備えていない半導体装置の場合、昇圧回路20が出力電圧VPPを供給する内部回路が動作する時刻(図6における時刻t6)において、昇圧回路20から内部回路への電荷供給が行われ、内部回路が動作することにより出力電圧VPPが降下(ドロップ)する(図5において実線で示す)。一方、パワーダウンモードを備えている半導体装置の場合、この電圧ドロップは、昇圧回路20の内部ノードである接続点N24、及び接続点N25の電位が降下した場合、更に大きくなる(図5において破線で示す)。電圧ドロップが大きい場合、昇圧回路20におけるポンピング動作の回数も増え、出力電圧VPPの定電圧レベルへの回復に時間がかかってしまう。そのため、昇圧回路20に接続される内部回路は、電源投入時と同様に、昇圧回路20の各ノードがプリチャージ電位に復帰し、昇圧回路20のポンプ能力が最大能力に復帰するまで、正規の電圧で(定電圧で)動作できないことになる。
Further, even if the precharge potential is secured, if the time from time t5 to time t6 is long, the capacitor maintains the precharge potential at the connection point. As a result, the precharge potential drops. For example, when all charges are leaked, the potentials at the connection point N24 and the connection point N25 are (VCC-2VTH) and (VCC-3VTH), respectively, from time t0 to time t1 (up to this potential, the NMOS transistor 21).
As a case where the time from the time t5 to the time t6 is long, a case where the semiconductor device on which the constant voltage generation circuit 10b is mounted has a power down mode as an operation mode is considered. In the case of a semiconductor device that does not have such a power down mode, charge is supplied from the booster circuit 20 to the internal circuit at the time when the internal circuit to which the booster circuit 20 supplies the output voltage VPP operates (time t6 in FIG. 6). When the internal circuit operates, the output voltage VPP drops (drops) in FIG. On the other hand, in the case of a semiconductor device having a power-down mode, this voltage drop becomes larger when the potentials at the connection point N24 and the connection point N25 that are internal nodes of the booster circuit 20 drop (indicated by the broken line in FIG. 5). ). When the voltage drop is large, the number of pumping operations in the booster circuit 20 also increases, and it takes time to recover the output voltage VPP to a constant voltage level. Therefore, the internal circuit connected to the booster circuit 20 is in a normal state until each node of the booster circuit 20 is restored to the precharge potential and the pumping capacity of the booster circuit 20 is restored to the maximum capacity, similar to when the power is turned on. It cannot operate with voltage (at constant voltage).

このように、関連する定電圧発生回路10bでは、電源投入後や長期パワーダウンモード後に、昇圧回路20内の内部ノード(接続点N24、接続点N25)が期待される電位(プリチャージ電位)になっていない場合がある。そのため、検知信号VUPTが活性レベル(Hレベル)になって、オシレータ51が動作しても、昇圧回路20のポンプ能力(内部ノード各々がポンピング動作を行い、定電圧を所定時間内に内部回路に供給し、出力電圧VPPのドロップを防ぐこと)が落ちてしまい、定電圧が供給される内部回路の動作開始時刻が遅くなってしまう。   As described above, in the related constant voltage generation circuit 10b, the internal nodes (connection point N24, connection point N25) in the booster circuit 20 are set to potentials (precharge potentials) after the power is turned on or after the long-term power down mode. It may not be. For this reason, even if the detection signal VPUT becomes an active level (H level) and the oscillator 51 operates, the pumping capacity of the booster circuit 20 (each internal node performs a pumping operation, and a constant voltage is applied to the internal circuit within a predetermined time. To prevent the output voltage VPP from dropping), and the operation start time of the internal circuit to which the constant voltage is supplied is delayed.

[第1の実施形態]
そのため、本実施形態の定電圧発生回路では、この電圧ドロップを防ぐため、内部回路の動作前に、昇圧回路20の内部ノード(各接続点)をプリチャージ電位に充電し、ポンプ能力が落ちないようにすることを特徴とする。
図1は、定電圧発生回路10の構成を示すブロック図である。
定電圧発生回路10は、昇圧回路20、電圧検出回路30、及びクロック信号制御回路40を含んで構成される。図1において、図5と同様の構成については同一の符号を付し、その説明を省略する。
なお、図1に示すクロック信号VOSCが、図5を用いて説明したクロック信号φ1、及びクロック信号φ2に相当するクロック信号である。
[First Embodiment]
Therefore, in the constant voltage generation circuit of this embodiment, in order to prevent this voltage drop, the internal node (each connection point) of the booster circuit 20 is charged to the precharge potential before the operation of the internal circuit, and the pumping capacity does not decrease. It is characterized by doing so.
FIG. 1 is a block diagram showing the configuration of the constant voltage generation circuit 10.
The constant voltage generation circuit 10 includes a booster circuit 20, a voltage detection circuit 30, and a clock signal control circuit 40. 1, the same components as those in FIG. 5 are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.
The clock signal VOSC shown in FIG. 1 is a clock signal corresponding to the clock signal φ1 and the clock signal φ2 described with reference to FIG.

図1に示すように、クロック信号制御回路40は、クロック信号発生回路50、駆動信号発生回路60、及び遅延信号発生回路70を含んで構成される。
クロック信号制御回路40において、図5に示すクロック信号制御回路40bと同様の構成については同一の符号を付し、その説明を省略する。
駆動信号発生回路60は、インバータ回路62、及びノア回路61を含んで構成される。
インバータ回路62は、入力が遅延信号発生回路70の出力である接続点Aに接続され、出力がノア回路61の一方の入力に接続される。インバータ回路62は、接続点Aに現れる電位を反転して、ノア回路61に対して出力する。
ノア回路61は、図5に示すインバータ回路60aに対応する回路であり、電圧検出回路30の出力信号である検知信号VUPTとインバータ回路62との否定論理和演算を行い演算結果であるオシレータ駆動信号OSCACTBをクロック信号発生回路50に対して出力する。
この構成により、駆動信号発生回路60は、検知信号VUPTが、非活性レベルであるLレベルであっても、遅延信号発生回路の出力(接続点A)が非活性レベル(Hレベル)から活性レベル(Lレベル)になると、オシレータ駆動信号OSCACTBを活性レベル(Lレベル)に変化させる。
As shown in FIG. 1, the clock signal control circuit 40 includes a clock signal generation circuit 50, a drive signal generation circuit 60, and a delay signal generation circuit 70.
In the clock signal control circuit 40, the same components as those of the clock signal control circuit 40b shown in FIG.
The drive signal generation circuit 60 includes an inverter circuit 62 and a NOR circuit 61.
The inverter circuit 62 has an input connected to the connection point A that is the output of the delay signal generation circuit 70, and an output connected to one input of the NOR circuit 61. The inverter circuit 62 inverts the potential appearing at the connection point A and outputs it to the NOR circuit 61.
The NOR circuit 61 is a circuit corresponding to the inverter circuit 60a shown in FIG. 5, and performs an OR operation between the detection signal VPPT that is an output signal of the voltage detection circuit 30 and the inverter circuit 62, and an oscillator drive signal that is an operation result. OSCACTB is output to the clock signal generation circuit 50.
With this configuration, the drive signal generation circuit 60 allows the output of the delay signal generation circuit (connection point A) to be at the active level from the inactive level (H level) even when the detection signal VPUT is at the inactive level L level. When (L level) is reached, the oscillator drive signal OSCACTB is changed to the active level (L level).

遅延信号発生回路70は、ノア回路71、ノア回路72、インバータ回路73、及び遅延回路74を含んで構成される。
ノア回路71は、一方の入力端子に入力される制御信号RESETTと、他方の入力端子に入力されるノア回路72の出力信号との否定論理和演算を行い、演算結果をインバータ回路62に対して出力する。
ノア回路72は、一方の入力端子に入力されるノア回路71の出力信号と、他方の入力端子に入力されるインバータ回路73の出力信号との否定論理和演算を行い、演算結果をノア回路71の他方の入力端子に対して出力する。
インバータ回路73は、遅延回路74の出力信号のレベルを反転して、ノア回路72の他方の入力端子に対して出力する。
遅延回路74は、入力が接続点Aに接続され、ノア回路71の出力信号を遅延させて、遅延させた出力信号をインバータ回路73に対して出力する。
The delay signal generation circuit 70 includes a NOR circuit 71, a NOR circuit 72, an inverter circuit 73, and a delay circuit 74.
The NOR circuit 71 performs a negative OR operation between the control signal RESETT input to one input terminal and the output signal of the NOR circuit 72 input to the other input terminal, and outputs the operation result to the inverter circuit 62. Output.
The NOR circuit 72 performs a negative OR operation on the output signal of the NOR circuit 71 input to one input terminal and the output signal of the inverter circuit 73 input to the other input terminal, and the operation result is output to the NOR circuit 71. Output to the other input terminal.
The inverter circuit 73 inverts the level of the output signal of the delay circuit 74 and outputs it to the other input terminal of the NOR circuit 72.
The delay circuit 74 has an input connected to the connection point A, delays the output signal of the NOR circuit 71, and outputs the delayed output signal to the inverter circuit 73.

ここで、制御信号RESETTは、定電圧発生回路10を搭載する半導体装置への電源投入時において、遅延信号発生回路70に入力される信号である。本実施形態において、制御信号RESETTは、外部から入力されるか、半導体装置の内部で生成されるかは問わない。例えば、半導体装置が専用端子を備え、この専用端子を介して制御信号RESETTが直接入力されてもよい。或いは、半導体装置がコマンドデコーダを備え、このコマンドデコーダが半導体装置の外部から供給されるコマンドを、昇圧回路20の内部ノード(図5における各接続点)をプリチャージ電位へ移行させるコマンドであると解釈して、この制御信号RESETTを遅延信号発生回路70に対して出力する構成としてもよい。
また制御信号RESETTは、半導体装置が動作モードとしてパワーダウンモードを備える場合、昇圧回路20に接続される内部回路が動作状態から待機状態となる当該パワーダウンモードから、この内部回路が今度は待機状態から動作可能状態となるパワーダウンイグジットモードへ移行すると、遅延信号発生回路70に入力される構成としてもよい。
Here, the control signal RESETT is a signal that is input to the delay signal generation circuit 70 when the semiconductor device in which the constant voltage generation circuit 10 is mounted is turned on. In the present embodiment, it does not matter whether the control signal RESETT is input from the outside or generated inside the semiconductor device. For example, the semiconductor device may have a dedicated terminal, and the control signal RESETT may be directly input through the dedicated terminal. Alternatively, the semiconductor device includes a command decoder, and the command decoder is a command for transferring a command supplied from the outside of the semiconductor device to the internal node (each connection point in FIG. 5) of the booster circuit 20 to the precharge potential. Interpreting this, the control signal RESETT may be output to the delay signal generation circuit 70.
When the semiconductor device has a power down mode as an operation mode, the control signal RESETT is changed from the power down mode in which the internal circuit connected to the booster circuit 20 is changed from the operating state to the standby state. It is also possible to adopt a configuration in which the signal is input to the delay signal generation circuit 70 when shifting to the power down exit mode in which the operation becomes possible.

また、遅延回路74に設定される遅延時間は、クロック信号発生回路50がクロック信号を周期的に発生して、昇圧回路20においてポンピング動作を行う内部ノード(図5における各接続点)がプリチャージ電位(図6において時刻t5における電位)に達成するまでの時間が設定されていればよい。   Further, the delay time set in the delay circuit 74 is such that the clock signal generation circuit 50 periodically generates the clock signal and the internal nodes (the connection points in FIG. 5) that perform the pumping operation in the booster circuit 20 are precharged. It is only necessary to set a time until the potential is reached (the potential at time t5 in FIG. 6).

図2は、定電圧発生回路10のタイミング波形図である。
時刻t1において、制御信号RESETTが遅延信号発生回路70に入力されると、遅延信号発生回路70は、時刻t1から時刻t2の期間、接続点Aの電位をLレベル(活性レベル)にする。これにより、駆動信号発生回路60は、時刻t1から時刻t2の期間と同一期間、オシレータ駆動信号OSCACTBを活性レベル(Lレベル)にする。
クロック信号発生回路50は、オシレータ駆動信号OSCACTBを活性レベルにある期間、クロック信号VOSC(クロック信号φ1、及びクロック信号φ2)を昇圧回路20に対して出力する。
昇圧回路20において、内部ノード(各接続点)の電位がプリチャージ電位へと充電される。
これにより、昇圧回路20から出力電圧VPPが供給される内部回路が電源投入後に動作する前に、昇圧回路20は定電圧をポンプ能力が高い状態で内部回路に供給することができる。つまり、チャージポンプイネーブル信号CPEが入力されて電圧検出回路30が活性化し、その後内部回路が動作することにより出力電圧VPPがドロップするが、このとき昇圧回路20のポンプ能力を最大能力にしておくことができるので、電圧ドロップを抑制できる。このため、内部回路は正規の定電圧に近い、電圧ドロップが抑制された状態で誤動作なく、かつ、従来に比べて早く(つまり従来の様にポンプ能力の回復を待つことなく)動作開始することができる。
FIG. 2 is a timing waveform diagram of the constant voltage generation circuit 10.
When the control signal RESETT is input to the delay signal generation circuit 70 at time t1, the delay signal generation circuit 70 sets the potential at the connection point A to L level (activation level) during the period from time t1 to time t2. As a result, the drive signal generation circuit 60 sets the oscillator drive signal OSCACTB to the active level (L level) for the same period as the period from the time t1 to the time t2.
The clock signal generation circuit 50 outputs the clock signal VOSC (clock signal φ1 and clock signal φ2) to the booster circuit 20 while the oscillator drive signal OSCACTB is at the active level.
In the booster circuit 20, the potential of the internal node (each connection point) is charged to the precharge potential.
Thereby, before the internal circuit to which the output voltage VPP is supplied from the booster circuit 20 operates after the power is turned on, the booster circuit 20 can supply a constant voltage to the internal circuit with a high pumping capability. That is, the charge pump enable signal CPE is input to activate the voltage detection circuit 30 and then the internal circuit operates to drop the output voltage VPP. At this time, the pumping capacity of the booster circuit 20 should be set to the maximum capacity. Voltage drop can be suppressed. For this reason, the internal circuit is close to a regular constant voltage, does not malfunction in a state where voltage drop is suppressed, and starts operating earlier than before (that is, without waiting for recovery of pump capacity as in the past). Can do.

[第2の実施形態]
図3は、定電圧発生回路10aの構成を示すブロック図である。
定電圧発生回路10aは、昇圧回路20、電圧検出回路30、クロック信号制御回路40aを含んで構成される。図3において、図1、及び図5と同様の構成については同一の符号を付し、その説明を省略する。
図3に示すように、クロック信号制御回路40aは、クロック信号発生回路50、駆動信号発生回路60、遅延信号発生回路70、及びオーバーシュート抑制回路80(制御信号RESETT入力時のポンピング動作により出力電圧VPPが定電圧以上に過上昇することを抑制する回路)を含んで構成される。
クロック信号制御回路40aにおいて、図1に示すクロック信号制御回路40と同様の構成については同一の符号を付し、その説明を省略する。
[Second Embodiment]
FIG. 3 is a block diagram showing a configuration of the constant voltage generation circuit 10a.
The constant voltage generation circuit 10a includes a booster circuit 20, a voltage detection circuit 30, and a clock signal control circuit 40a. 3, the same components as those in FIGS. 1 and 5 are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.
As shown in FIG. 3, the clock signal control circuit 40a includes a clock signal generation circuit 50, a drive signal generation circuit 60, a delay signal generation circuit 70, and an overshoot suppression circuit 80 (the output voltage by the pumping operation when the control signal RESETT is input). And a circuit for suppressing the VPP from excessively rising above a constant voltage.
In the clock signal control circuit 40a, the same components as those in the clock signal control circuit 40 shown in FIG.

オーバーシュート抑制回路80は、遅延回路82、PMOSトランジスタ81(P型チャネルMOSトランジスタ)、及びコンパレータ83、及びNMOSトランジスタ84を含んで構成される。
遅延回路82(第2の遅延回路)は、ノア回路71の出力信号(遅延信号)を遅延させた信号を、接続点Bから発生し、PMOSトランジスタ81のゲートに対して出力する。
PMOSトランジスタ81は、ソースが電源電圧VCCを供給する電源線に接続され、ゲートが接続点B(遅延回路82の出力)に接続され、ドレインがコンパレータ83の電源端子に接続される。
コンパレータ83は、電源端子がPMOSトランジスタ81のドレインに接続されて動作し、昇圧回路20の出力電圧VPPと、基準電圧VR(図5に示す基準電圧VREFと同電位であってよい)とを比較し、比較結果信号をNMOSトランジスタ84のゲートに対して出力する。コンパレータ83は、出力電圧VPPが基準電圧VR以上の場合、Hレベルの比較結果信号を出力し、出力電圧VPPが基準電圧VR未満の場合、Lレベルの比較結果信号を出力する。
NMOSトランジスタ84(充放電回路)は、ドレインが昇圧回路20の出力に接続され、ゲートがコンパレータ83の出力に接続され、ソースが接地される。NMOSトランジスタ84は、コンパレータ83の比較結果信号がHレベルの場合、オン(導通)して出力電圧VPPのレベルを降下させ、比較結果信号がLレベルの場合、オフ(非導通)する。
なお、遅延回路82に設定される遅延時間は、例えば、予め出力電圧VPPの基準電圧VRに対する上昇の程度を、測定或いは計算機シミュレーションにより求め、NMOSトランジスタにより、上昇した出力電圧VPPを基準電圧VRまで降下できる程度の時間である。
The overshoot suppression circuit 80 includes a delay circuit 82, a PMOS transistor 81 (P-type channel MOS transistor), a comparator 83, and an NMOS transistor 84.
The delay circuit 82 (second delay circuit) generates a signal obtained by delaying the output signal (delay signal) of the NOR circuit 71 from the connection point B and outputs the signal to the gate of the PMOS transistor 81.
The PMOS transistor 81 has a source connected to the power supply line that supplies the power supply voltage VCC, a gate connected to the connection point B (output of the delay circuit 82), and a drain connected to the power supply terminal of the comparator 83.
The comparator 83 operates with the power supply terminal connected to the drain of the PMOS transistor 81, and compares the output voltage VPP of the booster circuit 20 with the reference voltage VR (which may be the same potential as the reference voltage VREF shown in FIG. 5). Then, the comparison result signal is output to the gate of the NMOS transistor 84. The comparator 83 outputs an H level comparison result signal when the output voltage VPP is equal to or higher than the reference voltage VR, and outputs an L level comparison result signal when the output voltage VPP is less than the reference voltage VR.
The NMOS transistor 84 (charge / discharge circuit) has a drain connected to the output of the booster circuit 20, a gate connected to the output of the comparator 83, and a source grounded. The NMOS transistor 84 is turned on (conducted) when the comparison result signal of the comparator 83 is at the H level to lower the level of the output voltage VPP, and is turned off (non-conducted) when the comparison result signal is at the L level.
Note that the delay time set in the delay circuit 82 is obtained, for example, by measuring the degree of increase of the output voltage VPP with respect to the reference voltage VR in advance by measurement or computer simulation, and using the NMOS transistor to increase the output voltage VPP to the reference voltage VR. It is enough time to descend.

図4は、定電圧発生回路10aのタイミング波形図である。
時刻t1において、昇圧回路20がポンピング動作を開始して、出力電圧VPPを供給するが、出力電圧VPPが基準電圧VREFになると、電圧検出回路30は検知信号VUPTを活性レベル(Hレベル)にする。これにより、クロック信号発生回路50は、クロック信号VOSCの昇圧回路20への供給を停止するが、クロック信号の供給停止までの間に出力電圧VPPが過上昇する。そのため、コンパレータ83及びNMOSトランジスタ84により、時刻t1〜時刻t3の期間において、出力電圧VPPを、過上昇した電圧分だけ、つまり基準電圧VRからの上昇分だけ降下させる。
FIG. 4 is a timing waveform diagram of the constant voltage generation circuit 10a.
At time t1, the booster circuit 20 starts the pumping operation and supplies the output voltage VPP. When the output voltage VPP becomes the reference voltage VREF, the voltage detection circuit 30 sets the detection signal VPUT to the active level (H level). . As a result, the clock signal generation circuit 50 stops supplying the clock signal VOSC to the booster circuit 20, but the output voltage VPP increases excessively until the supply of the clock signal is stopped. For this reason, the comparator 83 and the NMOS transistor 84 cause the output voltage VPP to decrease by an excessively increased voltage, that is, by an increase from the reference voltage VR, during the period from time t1 to time t3.

[第3の実施形態]
図7は、以上説明した定電圧発生回路10(または定電圧発生回路10a)を半導体装置100、例えばクロックに同期して動作するSDRAM(シンクロナス・ダイナミック・ランダム・アクセス・メモリ)に適用した場合の概略構成を示す。なお、図7に示されている各回路ブロックは、全て単結晶シリコンのような1個の半導体チップ上に形成される。各回路ブロックは、例えば、PMOSトランジスタ及びNMOSトランジスタ等の複数のトランジスタで構成される。また、○印で示されているのは、当該半導体チップに設けられる外部端子としてのパッドであり、図示されている外部端子の他に外部から供給される電源電圧が印加される電源電圧端子が設けられる。
半導体装置100は、定電圧発生回路10、メモリセルアレイ11、アドレスバッファ12、ロウデコーダ13、カラムデコーダ14、センスアンプ15、コマンドデコーダ16、モードレジスタ17、データ入出力回路19、及びクロック生成回路16aを含んで構成される。
メモリセルアレイ11は、複数のメモリセルが行及び列のマトリックス状に配置された例えば4つのバンク(BANK0〜4)から構成される。また、各バンクは、記憶領域であるメモリセル領域111を有している。
例えば、メモリセル領域111におけるメモリセル111mは、ワード線11aとビット線11bの交点に配置される。
[Third Embodiment]
FIG. 7 shows a case where the above-described constant voltage generation circuit 10 (or constant voltage generation circuit 10a) is applied to a semiconductor device 100, for example, an SDRAM (Synchronous Dynamic Random Access Memory) that operates in synchronization with a clock. The schematic structure of is shown. Each circuit block shown in FIG. 7 is formed on a single semiconductor chip such as single crystal silicon. Each circuit block includes a plurality of transistors such as a PMOS transistor and an NMOS transistor, for example. In addition, a circle indicates a pad as an external terminal provided in the semiconductor chip. In addition to the illustrated external terminal, a power supply voltage terminal to which a power supply voltage supplied from the outside is applied is provided. Provided.
The semiconductor device 100 includes a constant voltage generation circuit 10, a memory cell array 11, an address buffer 12, a row decoder 13, a column decoder 14, a sense amplifier 15, a command decoder 16, a mode register 17, a data input / output circuit 19, and a clock generation circuit 16a. It is comprised including.
The memory cell array 11 includes, for example, four banks (BANK 0 to 4) in which a plurality of memory cells are arranged in a matrix of rows and columns. Each bank has a memory cell area 111 which is a storage area.
For example, the memory cell 111m in the memory cell region 111 is disposed at the intersection of the word line 11a and the bit line 11b.

クロック生成回路16aは、外部から供給される一定周波数のクロック信号CLKおよびクロックが有効であることを示すクロックイネーブル信号CKEに基づいて内部回路(コマンドデコーダ16、制御回路18、データ入出力回路19)を動作させる内部クロック信号を生成する。
半導体装置100に外部から供給される制御信号としては、クロック信号CLK及びクロックイネーブル信号CKEの他に次の制御信号がある。チップを選択状態にするチップセレクト信号/CS(以下、外部メモリ制御信号CSとする)、行アドレスストローブ信号/RAS(以下、外部メモリ制御信号RASとする)、列アドレスストローブ信号/CAS(以下、外部メモリ制御信号CASとする)、データの書込み動作を指示するライトイネーブル信号/WE(以下、外部メモリ制御信号WEとする)などである。これらの信号のうち符号の前に“/”が付されているものは、ロウレベル(Lレベル)が有効レベルであることを意味している。
The clock generation circuit 16a has an internal circuit (command decoder 16, control circuit 18, data input / output circuit 19) based on a clock signal CLK having a constant frequency supplied from the outside and a clock enable signal CKE indicating that the clock is valid. An internal clock signal for operating is generated.
As control signals supplied from the outside to the semiconductor device 100, there are the following control signals in addition to the clock signal CLK and the clock enable signal CKE. A chip select signal / CS (hereinafter referred to as an external memory control signal CS) for selecting a chip, a row address strobe signal / RAS (hereinafter referred to as an external memory control signal RAS), a column address strobe signal / CAS (hereinafter referred to as an external memory control signal CS). An external memory control signal CAS), a write enable signal / WE (hereinafter referred to as an external memory control signal WE) for instructing a data write operation. Among these signals, those having “/” in front of the sign mean that the low level (L level) is the effective level.

コマンドデコーダ16は、これらの外部メモリ制御信号であるCS信号、RAS信号、CAS信号、及びWE信号とアドレス信号の一部をデコードして、外部から供給されるコマンドを復号する。本実施例の半導体装置100に供給されるコマンドとしては、半導体装置の内部回路の活性化を指示するACTコマンド、読出しを指示するREADコマンド、書込みを指示するWRTコマンド、モードレジスタ17への動作モードの設定を指示するMRSコマンド、ACTコマンドにより活性化された内部回路の非活性化を指示するPREコマンドなどがある。また、本実施形態において、コマンドデコーダ16に供給されるコマンドとしてリセットコマンドがある。また、本実施形態において、コマンドデコーダ16に供給されるコマンドとして、内部回路の待機状態への移行を指示するパワーダウンエントリコマンドがある。このパワーダウンエントリコマンドが供給されると、半導体装置100の内部回路は待機状態へ移行する。内部回路を、この待機状態から動作可能状態へ移行させるには、新たに内部回路の動作可能状態への復帰を指示するパワーダウンイグジットコマンドをコマンドデコーダ16に供給する必要がある。
コマンドデコーダ16は、外部メモリ制御信号であるCS信号、RAS信号、CAS信号、及びWE信号をコマンド信号として、内部クロック信号に同期して取り込み、復号する。また、コマンドデコーダ16は、復号したコマンドに対応して内部コマンド信号、例えば、アクティブコマンド(ACTコマンド)、ライトコマンド(WRTコマンド)、リードコマンド(READコマンド)、プリチャージコマンド(PREコマンド)それぞれに対応して内部アクティブ信号、内部ライト信号、内部リード信号、内部プリチャージ信号などを制御回路18へ出力する。また、本実施形態において、コマンドデコーダ16は、リセットコマンドが供給されると、内部リセット信号を制御回路18に出力する。また、本実施形態において、コマンドデコーダ16は、パワーダウンエントリコマンドが供給されると、内部プリチャージ信号を制御回路18に出力し、パワーダウンイグジットコマンドが供給されると内部リセット信号を制御回路18に出力する。
モードレジスタ17は、外部メモリ制御信号であるCS信号、RAS信号、CAS信号、及びWE信号の活性レベルの組み合わせ入力によりアドレス信号を保持し、テスト動作モードへのエントリなど各動作モードの初期設定を行う。
The command decoder 16 decodes the CS signal, the RAS signal, the CAS signal, the WE signal, and a part of the address signal, which are these external memory control signals, and decodes a command supplied from the outside. The commands supplied to the semiconductor device 100 of this embodiment include an ACT command for instructing activation of an internal circuit of the semiconductor device, a READ command for instructing reading, a WRT command for instructing writing, and an operation mode to the mode register 17 There are an MRS command for instructing the setting of the above, a PRE command for instructing deactivation of the internal circuit activated by the ACT command, and the like. In the present embodiment, a command supplied to the command decoder 16 includes a reset command. In the present embodiment, as a command supplied to the command decoder 16, there is a power-down entry command for instructing the transition of the internal circuit to the standby state. When this power down entry command is supplied, the internal circuit of the semiconductor device 100 shifts to a standby state. In order to shift the internal circuit from the standby state to the operable state, it is necessary to supply a power down exit command to the command decoder 16 to instruct to return the internal circuit to the operable state.
The command decoder 16 takes in and decodes the CS signal, RAS signal, CAS signal, and WE signal, which are external memory control signals, as command signals in synchronization with the internal clock signal. Further, the command decoder 16 responds to an internal command signal corresponding to the decoded command, for example, an active command (ACT command), a write command (WRT command), a read command (READ command), and a precharge command (PRE command). Correspondingly, an internal active signal, an internal write signal, an internal read signal, an internal precharge signal, etc. are output to the control circuit 18. In this embodiment, the command decoder 16 outputs an internal reset signal to the control circuit 18 when a reset command is supplied. In this embodiment, the command decoder 16 outputs an internal precharge signal to the control circuit 18 when a power-down entry command is supplied, and outputs an internal reset signal when the power-down exit command is supplied. Output to.
The mode register 17 holds an address signal by a combination input of the activation levels of the CS signal, RAS signal, CAS signal, and WE signal that are external memory control signals, and initializes each operation mode such as entry to the test operation mode. Do.

制御回路18は、モードレジスタに設定された各動作モード、コマンドデコーダ16からの内部コマンド信号に対応して、半導体装置100内の各回路(アドレスバッファ12、ロウデコーダ13、カラムデコーダ14、センスアンプ15、データ入出力回路19)を制御する制御信号を発生する。例えば、制御回路18は、ロウデコーダ13、カラムデコーダ14、センスアンプ15、データ入出力回路19を活性制御する活性化を示す活性非活性制御信号を、内部アクティブ信号、内部プリチャージ信号の論理レベルの変化に対応してタイミング制御し、出力する。また、制御回路18は、データ入出力回路19を活性制御するライト制御信号を、内部ライト信号の論理レベルの変化に対応してタイミング制御して出力する。また、制御回路18は、チャージポンプイネーブル信号CPEを、内部アクティブ信号の論理レベルの変化に対応してタイミング制御して、定電圧発生回路10における電圧検出回路30に対して出力する。また、本実施形態において、制御回路18は、制御信号RESETTを、内部リセット信号の論理レベルの変化に対応してタイミング制御して、定電圧発生回路10におけるクロック信号制御回路40に対して出力する。
これにより、制御信号RESETTは、リセットコマンドまたはパワーダウンイグジットコマンドが半導体装置100に供給されると、クロック信号制御回路40に入力される。
The control circuit 18 responds to each operation mode set in the mode register and the internal command signal from the command decoder 16 in accordance with each circuit (address buffer 12, row decoder 13, column decoder 14, sense amplifier) in the semiconductor device 100. 15. Generate a control signal for controlling the data input / output circuit 19). For example, the control circuit 18 generates an active / inactive control signal indicating activation for controlling the activation of the row decoder 13, the column decoder 14, the sense amplifier 15, and the data input / output circuit 19. The timing is controlled in response to the change in output and output. In addition, the control circuit 18 outputs a write control signal for controlling the activation of the data input / output circuit 19 with timing control corresponding to the change in the logic level of the internal write signal. Further, the control circuit 18 controls the timing of the charge pump enable signal CPE corresponding to the change in the logic level of the internal active signal, and outputs it to the voltage detection circuit 30 in the constant voltage generation circuit 10. In the present embodiment, the control circuit 18 controls the timing of the control signal RESETT corresponding to the change in the logic level of the internal reset signal, and outputs the control signal RESETT to the clock signal control circuit 40 in the constant voltage generation circuit 10. .
Thus, the control signal RESETT is input to the clock signal control circuit 40 when a reset command or a power down exit command is supplied to the semiconductor device 100.

アドレスバッファ12は、ACTコマンドにより活性化された状態で、外部から入力されるメモリセルの位置を示すアドレスデータ(以下、アドレスと略す)を、マルチプレックス方式で内部に取り込む。マルチプレックス方式とは、ACTコマンドによりメモリセルの位置を示す行アドレス(ロウアドレス)を、READコマンドまたはWRTコマンドによりメモリセルの位置を示す列アドレス(カラムアドレス)を、時系列に取り込む方式である。
ロウデコーダ13は、ACTコマンドにより活性化された状態で、アドレスバッファ12により取り込まれたロウアドレスをデコードし、メモリセルアレイ11内の対応するワード線(例えば上記ワード線11a)を選択する。選択されたワード線に接続される複数のメモリセルは、それぞれのビット線(メモリセル111mであればビット線11b)と接続され、各メモリセルのデータはビット線に読み出される。本実施形態において、ロウデコーダ13は、電源電圧として定電圧発生回路10から出力電圧VPPが供給され、選択するワード線の電位を昇圧する。これにより、メモリセルにビット線のHレベルと等しいレベルを書き込むことができる。
The address buffer 12 is activated by an ACT command and takes in address data (hereinafter abbreviated as an address) indicating the position of a memory cell input from the outside in a multiplex manner. The multiplex method is a method in which a row address (row address) indicating the position of the memory cell is acquired by an ACT command, and a column address (column address) indicating the position of the memory cell is acquired in time series by a READ command or a WRT command. .
The row decoder 13 decodes the row address fetched by the address buffer 12 while being activated by the ACT command, and selects a corresponding word line (for example, the word line 11a) in the memory cell array 11. The plurality of memory cells connected to the selected word line are connected to the respective bit lines (the bit line 11b in the case of the memory cell 111m), and the data of each memory cell is read to the bit line. In this embodiment, the row decoder 13 is supplied with the output voltage VPP from the constant voltage generation circuit 10 as a power supply voltage, and boosts the potential of the selected word line. As a result, a level equal to the H level of the bit line can be written into the memory cell.

センスアンプ15は、ACTコマンドにより活性化され、内部リード信号または内部ライト信号によりビット線に読み出された電圧を増幅し、半導体装置が読み出し動作にあるとき、増幅したデータを選択されるカラムスイッチ及びI/O線を介して、データ入出力回路19へ出力する。また、センスアンプ15は、半導体装置が書き込み動作にあるとき、データ入出力回路19からカラムスイッチ及びI/O線を介して入力されるデータをメモリセルへ書き込む。
カラムデコーダ14は、ACTコマンドに続くWRTコマンド(またはREADコマンド)により活性化された状態で、アドレスバッファ12により取り込まれたカラムアドレスをデコードしてメモリセル領域111内の対応するカラム(ビット線)を選択する。
The sense amplifier 15 is activated by the ACT command, amplifies the voltage read to the bit line by the internal read signal or the internal write signal, and selects the amplified data when the semiconductor device is in a read operation. And output to the data input / output circuit 19 via the I / O line. The sense amplifier 15 writes data input from the data input / output circuit 19 via the column switch and the I / O line to the memory cell when the semiconductor device is in a write operation.
The column decoder 14 is activated by the WRT command (or READ command) following the ACT command, decodes the column address fetched by the address buffer 12, and corresponding column (bit line) in the memory cell region 111. Select.

データ入出力回路19は、半導体装置の読み出し動作において、メモリセルアレイ11からI/O線を介して読み出されたデータを、データ入出力端子DQ0〜DQ15を介して外部に出力する。また、データ入出力回路19は、書き込み動作において外部からデータ入出力端子DQ0〜DQ15を介して入力されるデータをラッチして、I/O線を介してセンスアンプ15へ供給する。なお、データ入出力回路19は、外部から供給される制御信号DQMに基づいて例えば16ビットのデータDQ0〜DQ15をマスク(有効)するかしないかを決定するように構成されている。   The data input / output circuit 19 outputs data read from the memory cell array 11 via the I / O line to the outside via the data input / output terminals DQ0 to DQ15 in the read operation of the semiconductor device. The data input / output circuit 19 latches data input from the outside via the data input / output terminals DQ0 to DQ15 in the write operation, and supplies the latched data to the sense amplifier 15 via the I / O line. The data input / output circuit 19 is configured to determine whether to mask (validate) 16-bit data DQ0 to DQ15, for example, based on a control signal DQM supplied from the outside.

定電圧発生回路10は、本発明の特徴的部分である回路である。これについては後述し、ここでは、本発明に関係するコマンドが、外部から供給される場合、半導体装置100が行う動作について簡単に述べる。
まず、外部からのクロック信号CLKの立ち上り時に、外部メモリ制御信号CS、RASがLレベルであり外部メモリ制御信号CAS、WEがHレベルであるときに、コマンドデコーダ16にACTコマンドが入力される。このとき、コマンドデコーダ16の内部コマンド信号のうち、内部アクティブ信号がLレベルからHレベルへ変化する。この内部アクティブ信号のHレベルへの変化に対応して、半導体装置100の内部でアクティブ動作が行われる。すなわち、ロウデコーダ13及びアドレスバッファ12は、活性化を示す活性非活性制御信号が入力され、活性化される。また、ACTコマンド入力と同時に、外部入力のアドレス信号がアドレスバッファ12にラッチされる。そして、活性化されたロウデコーダ13は、ラッチされたアドレス信号をデコードし、メモリセルアレイ11のワード線を選択し、選択したワード線のレベルを昇圧する。また、ACTコマンド入力により、センスアンプ15、データ入出力回路19も、活性化を示す活性非活性制御信号が入力され、活性化される。制御回路18は、内部で活性化を示す活性非活性制御信号をタイミング調整し、センスアンプ15へ出力する。タイミング調整した信号が入力されるセンスアンプ15は、ビット線の電圧を増幅する。
The constant voltage generation circuit 10 is a circuit that is a characteristic part of the present invention. This will be described later, and here, an operation performed by the semiconductor device 100 when a command related to the present invention is supplied from the outside will be briefly described.
First, when the external memory control signals CS and RAS are at the L level and the external memory control signals CAS and WE are at the H level at the rising edge of the clock signal CLK from the outside, the ACT command is input to the command decoder 16. At this time, the internal active signal among the internal command signals of the command decoder 16 changes from the L level to the H level. In response to the change of the internal active signal to the H level, an active operation is performed inside the semiconductor device 100. That is, the row decoder 13 and the address buffer 12 are activated by receiving an activation / deactivation control signal indicating activation. Simultaneously with the input of the ACT command, the externally input address signal is latched in the address buffer 12. The activated row decoder 13 decodes the latched address signal, selects a word line of the memory cell array 11, and boosts the level of the selected word line. In response to the input of the ACT command, the sense amplifier 15 and the data input / output circuit 19 are also activated by the activation / deactivation control signal indicating activation. The control circuit 18 adjusts the timing of an active / inactive control signal indicating activation internally and outputs the signal to the sense amplifier 15. The sense amplifier 15 to which the timing adjusted signal is input amplifies the voltage of the bit line.

次に、書き込み動作においては、クロック信号CLKの立ち上り時に、外部メモリ制御信号CS、CAS、WEがLレベルであり、外部メモリ制御信号RASがHレベルであるときに、コマンドデコーダ16にWRTコマンドが入力される。このとき、コマンドデコーダ16の内部コマンド信号の中で、内部ライト信号がLレベルからHレベルへ変化する。この内部ライト信号のHレベルへの変化に対応して、半導体装置100の内部でライト動作が行われる。すなわち、既にACTコマンドにより活性化されているアドレスバッファ12は、今度はWRTコマンドとともに入力される外部入力のアドレス信号をラッチし、WRTコマンドにより活性化されるカラムデコーダ14は、ラッチされたアドレス信号に基づいて、メモリセルアレイ11のビット線を選択する。制御回路18は、ライト制御信号をタイミング制御し、データ入出力回路19へ出力する。ライト制御信号が入力されるデータ入出力回路19は、選択されたメモリセルアレイ11のビット線をI/O線及びカラムスイッチを介して、センスアンプ15とともに駆動し、外部から入力されるデータを、メモリセルに書き込む。特にメモリセルにHレベルのデータを書き込む場合、ワード線が定電圧発生回路10、及びロウデコーダ13により昇圧されることで、ビット線のHレベルと同じレベルを書き込むことができる。   Next, in the write operation, when the external memory control signals CS, CAS, and WE are at the L level and the external memory control signal RAS is at the H level when the clock signal CLK rises, the command decoder 16 receives the WRT command. Entered. At this time, the internal write signal changes from the L level to the H level in the internal command signal of the command decoder 16. A write operation is performed inside the semiconductor device 100 in response to the change of the internal write signal to the H level. That is, the address buffer 12 already activated by the ACT command latches an externally input address signal that is input together with the WRT command, and the column decoder 14 activated by the WRT command receives the latched address signal. Based on the above, the bit line of the memory cell array 11 is selected. The control circuit 18 controls the timing of the write control signal and outputs it to the data input / output circuit 19. The data input / output circuit 19 to which the write control signal is input drives the bit line of the selected memory cell array 11 together with the sense amplifier 15 via the I / O line and the column switch, Write to memory cell. In particular, when H level data is written in the memory cell, the word line is boosted by the constant voltage generation circuit 10 and the row decoder 13 so that the same level as the H level of the bit line can be written.

また、読み出し動作においては、クロック信号CLKの立ち上り時に、外部メモリ制御信号CS、CASがLレベルであり、外部メモリ制御信号RAS、WEがHレベルであるときに、コマンドデコーダ16にREADコマンドが入力される。このとき、コマンドデコーダ16の内部コマンド信号の中で、内部リード信号がLレベルからHレベルへ変化する。この内部リード信号のHレベルへの変化に対応して、半導体装置100の内部でリード動作が行われる。すなわち、既にACTコマンドにより活性化されているアドレスバッファ12は、今度はREADコマンドとともに入力される外部入力のアドレス信号をラッチし、READコマンドにより活性化されるカラムデコーダ14は、ラッチされたアドレス信号に基づいて、メモリセルアレイ11のビット線を選択する。制御回路18は、リード制御信号をタイミング制御し出力する。リード制御信号が入力されるデータ入出力回路19は、センスアンプ15により増幅されたメモリセルアレイ11のビット線の電圧が、カラムスイッチ及びI/O線を介して入力され、メモリセルのデータを外部へ読み出す。   In the read operation, the READ command is input to the command decoder 16 when the external memory control signals CS and CAS are at the L level and the external memory control signals RAS and WE are at the H level when the clock signal CLK rises. Is done. At this time, the internal read signal changes from the L level to the H level in the internal command signal of the command decoder 16. Corresponding to the change of the internal read signal to the H level, a read operation is performed inside the semiconductor device 100. That is, the address buffer 12 already activated by the ACT command latches the externally input address signal that is input together with the READ command, and the column decoder 14 activated by the READ command receives the latched address signal. Based on the above, the bit line of the memory cell array 11 is selected. The control circuit 18 controls the timing of the read control signal and outputs it. The data input / output circuit 19 to which the read control signal is input receives the voltage of the bit line of the memory cell array 11 amplified by the sense amplifier 15 via the column switch and the I / O line, and transfers the data of the memory cell to the outside. Read to.

読み出し動作または書き込み動作に続いてスタンバイ状態に移行する際、クロック信号CLKの立ち上り時に、外部メモリ制御信号CS、RAS、WEがLレベルであり、外部メモリ制御信号CASがHレベルであるときに、コマンドデコーダ16にPREコマンドが入力される。このとき、コマンドデコーダ16の内部コマンド信号の中で、内部プリチャージ信号がLレベルからHレベルへ変化する。この内部プリチャージ信号のHレベルへの変化に対応して、半導体装置100の内部でプリチャージ動作が行われる。すなわち、ロウデコーダ13は、非活性化を示す活性非活性制御信号が入力されて非活性化され、メモリセルアレイ11のワード線が非選択状態となり、メモリセルアレイ11のビット線が所定の電圧へプリチャージされ、半導体装置100はスタンバイ状態(IDLE)となる。また、PREコマンド入力により、カラムデコーダ14、センスアンプ15、データ入出力回路19にも、非活性化を示す活性非活性制御信号が入力され、非活性化される。また、パワーダウンエントリコマンドがコマンドデコーダ16に供給されて、内部回路がスタンバイ状態(待機状態)へ移行する場合も、上記と同様にロウデコーダ13を含む各内部回路は非活性化される。   When shifting to the standby state following the read operation or the write operation, when the external memory control signals CS, RAS, and WE are at the L level and the external memory control signal CAS is at the H level when the clock signal CLK rises, A PRE command is input to the command decoder 16. At this time, the internal precharge signal changes from the L level to the H level in the internal command signal of the command decoder 16. A precharge operation is performed inside the semiconductor device 100 in response to the change of the internal precharge signal to the H level. That is, the row decoder 13 is deactivated by receiving an activation / deactivation control signal indicating deactivation, the word line of the memory cell array 11 is deselected, and the bit line of the memory cell array 11 is preset to a predetermined voltage. The semiconductor device 100 is charged and enters a standby state (IDLE). In response to the input of the PRE command, an activation / deactivation control signal indicating deactivation is also input to the column decoder 14, the sense amplifier 15, and the data input / output circuit 19 to deactivate them. Also, when the power down entry command is supplied to the command decoder 16 and the internal circuit shifts to the standby state (standby state), each internal circuit including the row decoder 13 is deactivated as described above.

またテスト動作モードへ移行するには、クロック信号CLKの立ち上り時に、外部メモリ制御信号CS、RAS、WE、CASが全てLレベルであるときに、コマンドデコーダ16にMRSコマンドが入力される。モードレジスタ17は、MRSコマンドが入力され、入力されるアドレスの論理が所定の論理である場合、半導体装置100がテスト動作モードへ移行することを示すコード(MRSコード)を生成する。このMRSコードは、モードレジスタ17にラッチされ、テスト回路の有効制御を行うために用いられる。   In order to shift to the test operation mode, the MRS command is input to the command decoder 16 when the external memory control signals CS, RAS, WE, and CAS are all at the L level when the clock signal CLK rises. The mode register 17 generates a code (MRS code) indicating that the semiconductor device 100 shifts to the test operation mode when the MRS command is input and the logic of the input address is a predetermined logic. This MRS code is latched in the mode register 17 and used for effective control of the test circuit.

本実施形態では、定電圧発生回路10の出力電圧VPPが供給される内部回路としてロウデコーダ13を例にとって説明するが、勿論ロウデコーダ13に限られるものではなく、昇圧電圧を使用する他の回路であってもよい。
半導体装置100の電源投入時に、コマンドデコーダ16にリセットコマンドが供給されると、制御回路18は制御信号RESETTを定電圧発生回路10に出力する。これにより、定電圧発生回路10において、ポンピング動作が行われ、出力電圧VPPがロウデコーダ13に供給される。
その後、ACTコマンドの入力により、制御回路18は、チャージポンプイネーブル信号CPEを、定電圧発生回路10における電圧検出回路30に対して出力する。
ロウデコーダ13は、ワード線を駆動するが、ワード線に接続された負荷(メモリセル)により出力電圧VPPは降下する。電圧検出回路30は、出力電圧VPPを分圧した分圧電圧Vdが基準電圧VRより低くなったと判定し、検知信号VUPTを活性レベル(Hレベル)に変化させ、クロック信号制御回路40に対して出力する。
クロック信号制御回路40は、クロック信号発生回路50におけるオシレータ51を発振させるオシレータ駆動信号OSCACTBを活性レベル(Lレベル)に変化させる。クロック信号発生回路は、クロック信号VOSCを昇圧回路20に対して出力する。
In the present embodiment, the row decoder 13 is described as an example of an internal circuit to which the output voltage VPP of the constant voltage generation circuit 10 is supplied. However, the present invention is not limited to the row decoder 13 and other circuits using a boosted voltage. It may be.
When a reset command is supplied to the command decoder 16 when the semiconductor device 100 is powered on, the control circuit 18 outputs a control signal RESETT to the constant voltage generation circuit 10. As a result, a pumping operation is performed in the constant voltage generation circuit 10, and the output voltage VPP is supplied to the row decoder 13.
Thereafter, the input of the ACT command causes the control circuit 18 to output a charge pump enable signal CPE to the voltage detection circuit 30 in the constant voltage generation circuit 10.
The row decoder 13 drives the word line, but the output voltage VPP drops due to a load (memory cell) connected to the word line. The voltage detection circuit 30 determines that the divided voltage Vd obtained by dividing the output voltage VPP is lower than the reference voltage VR, changes the detection signal VPPT to the active level (H level), and Output.
The clock signal control circuit 40 changes the oscillator drive signal OSCACTB for oscillating the oscillator 51 in the clock signal generation circuit 50 to an active level (L level). The clock signal generation circuit outputs the clock signal VOSC to the booster circuit 20.

昇圧回路20は、内部ノードにおいてポンピング動作を行い、出力電圧VPPのドロップ分に対応する電荷をロウデコーダ13に供給する。
このとき、昇圧回路20における各ノードは、チャージポンプイネーブル信号CPEより先にクロック信号制御回路40に入力される制御信号RESETTにより、プリチャージ電位まで充電されている。これにより、昇圧回路20のポンプ能力は最大能力に確保され、出力電圧の大幅なドロップは抑制される。つまり、ロウデコーダ13は、ACTコマンド入力から、従来必要であった昇圧回路20の内部ノードをプリチャージ電位へ充電するポンピング動作に要する時間の経過を待つことなく、ACTコマンド入力から所定の定電圧でワード線昇圧動作を実行することができる。
なお、本実施形態において、リセットコマンド入力を例にとって説明しているが、この構成に限ることなく、例えば半導体装置100が、制御信号RESETT入力用の専用端子を有している場合、この専用端子を介して、定電圧発生回路10におけるクロック信号制御回路40が制御信号RESETTを受け取る構成としてもよい。
あるいは、半導体装置100が、電源投入時に活性レベルのパワーオンリセット信号を発生するパワーオンリセット回路を備えている場合、このパワーオンリセット信号から制御信号RESETTを発生する構成、あるいはパワーオンリセット信号そのものを制御信号RESETTとする構成としてもよい。
The booster circuit 20 performs a pumping operation at the internal node, and supplies a charge corresponding to the drop of the output voltage VPP to the row decoder 13.
At this time, each node in the booster circuit 20 is charged to the precharge potential by the control signal RESETT input to the clock signal control circuit 40 prior to the charge pump enable signal CPE. Thereby, the pumping capacity of the booster circuit 20 is ensured to the maximum capacity, and a large drop in the output voltage is suppressed. In other words, the row decoder 13 does not wait for the time required for the pumping operation for charging the internal node of the booster circuit 20 to the precharge potential from the ACT command input to the predetermined constant voltage from the ACT command input. Thus, the word line boosting operation can be executed.
In this embodiment, the reset command input is described as an example. However, the present invention is not limited to this configuration. For example, when the semiconductor device 100 has a dedicated terminal for inputting the control signal RESETT, this dedicated terminal is used. Alternatively, the clock signal control circuit 40 in the constant voltage generation circuit 10 may receive the control signal RESETT.
Alternatively, when the semiconductor device 100 includes a power-on reset circuit that generates a power-on reset signal of an active level when the power is turned on, a configuration for generating the control signal RESETT from the power-on reset signal, or the power-on reset signal itself May be a control signal RESETT.

また、半導体装置100がパワーダウンモードへ移行する場合、コマンドデコーダ16にパワーダウンエントリコマンドが供給されると、内部プリチャージ信号を、制御回路18に出力する、制御回路18は、ロウデコーダ13を含む半導体装置100の内部回路を待機状態へ移行させる。この待機状態から抜け出るコマンドとして、パワーダウンイグジットコマンドがコマンドデコーダ16に供給されると、制御回路18は制御信号RESETTを定電圧発生回路10に出力する。定電圧発生回路10において、昇圧回路20における各ノードは制御信号RESETTの入力により、プリチャージ電位までポンピング動作を行い、昇圧回路20のポンプ能力は十分確保される。
その後、ACTコマンドの入力により、制御回路18は、チャージポンプイネーブル信号CPEを、定電圧発生回路10における電圧検出回路30に対して出力する。ロウデコーダ13は、ワード線を駆動するが、ワード線に接続された負荷(メモリセル)により出力電圧VPPは降下する。電圧検出回路30は、出力電圧VPPを分圧した分圧電圧Vdが基準電圧VRより低くなったと判定し、検知信号VUPTを活性レベル(Hレベル)に変化させ、クロック信号制御回路40に対して出力する。
クロック信号制御回路40は、クロック信号発生回路50におけるオシレータ51を発振させるオシレータ駆動信号OSCACTBを活性レベル(Lレベル)に変化させる。クロック信号発生回路は、クロック信号VOSCを昇圧回路20に対して出力する。
Further, when the semiconductor device 100 shifts to the power down mode, when a power down entry command is supplied to the command decoder 16, the internal precharge signal is output to the control circuit 18. The internal circuit of the included semiconductor device 100 is shifted to the standby state. When a power down exit command is supplied to the command decoder 16 as a command to exit from this standby state, the control circuit 18 outputs a control signal RESETT to the constant voltage generation circuit 10. In the constant voltage generation circuit 10, each node in the booster circuit 20 performs a pumping operation to the precharge potential by the input of the control signal RESETT, and the pumping capacity of the booster circuit 20 is sufficiently secured.
Thereafter, the input of the ACT command causes the control circuit 18 to output a charge pump enable signal CPE to the voltage detection circuit 30 in the constant voltage generation circuit 10. The row decoder 13 drives the word line, but the output voltage VPP drops due to a load (memory cell) connected to the word line. The voltage detection circuit 30 determines that the divided voltage Vd obtained by dividing the output voltage VPP is lower than the reference voltage VR, changes the detection signal VPPT to the active level (H level), and Output.
The clock signal control circuit 40 changes the oscillator drive signal OSCACTB for oscillating the oscillator 51 in the clock signal generation circuit 50 to an active level (L level). The clock signal generation circuit outputs the clock signal VOSC to the booster circuit 20.

昇圧回路20は、内部ノードにおいてポンピング動作を行い、出力電圧VPPのドロップ分に対応する電荷をロウデコーダ13に供給する。
このとき、昇圧回路20における各ノードは、チャージポンプイネーブル信号CPEより先にクロック信号制御回路40に入力される制御信号RESETTにより、プリチャージ電位まで充電されている。これにより、昇圧回路20のポンプ能力は最大能力に確保され、出力電圧の大幅なドロップは抑制される。つまり、ロウデコーダ13は、電源投入時と同じく、ACTコマンド入力から、従来必要であった昇圧回路20の内部ノードをプリチャージ電位へ充電するポンピング動作に要する時間の経過を待つことなく、ACTコマンド入力から所定の定電圧でワード線昇圧動作を実行することができる。
The booster circuit 20 performs a pumping operation at the internal node, and supplies a charge corresponding to the drop of the output voltage VPP to the row decoder 13.
At this time, each node in the booster circuit 20 is charged to the precharge potential by the control signal RESETT input to the clock signal control circuit 40 prior to the charge pump enable signal CPE. Thereby, the pumping capacity of the booster circuit 20 is ensured to the maximum capacity, and a large drop in the output voltage is suppressed. That is, the row decoder 13 does not wait for the lapse of time required for the pumping operation for charging the internal node of the booster circuit 20 to the precharge potential from the input of the ACT command, as in the case of power-on. The word line boosting operation can be executed at a predetermined constant voltage from the input.

このように、本発明の半導体装置は、クロック信号VOSC(クロック信号φ1、φ2)が入力されると、内部の複数のノード(接続点N23〜接続点N25)においてポンピング動作を行い、入力端子に供給される電荷を複数のノードを介して出力端子へと順次転送し、出力端子から出力電圧を発生する昇圧回路20を備える。また、本発明の半導体装置は、第1の制御信号(チャージポンプイネーブル信号CPE)が活性レベル(Hレベル)であって、出力電圧VPPが予め設定された電圧(基準電圧VREF×(R1+R2)/R2)に達しない場合、活性レベル(Hレベル)の検知信号VUPTを出力し、第1の制御信号(CPE)が活性レベル(Hレベル)であって、出力電圧VPPが予め設定された電圧に達した場合、非活性レベル(Lレベル)の検知信号VUPTを出力する電圧検出回路30を備える。また、本発明の半導体装置は、検知信号VUPTが活性レベル(Hレベル)の場合、クロック信号VOSCを昇圧回路20へ出力し、検知信号VUPTが非活性レベル(Lレベル)の場合、クロック信号VOSCの昇圧回路20への出力を停止するクロック信号制御回路40(または40a)を備える。この半導体装置において、クロック信号制御回路40(または40a)は、検知信号VUPTが非活性レベル(Lレベル)であっても、第1の制御信号(チャージポンプイネーブル信号CPE)が電圧検出回路30に入力されるよりも先に入力される第2の制御信号(制御信号RESETT)のレベルに応じてクロック信号VOSCを昇圧回路20へ出力する、ことを特徴とする。   As described above, when the clock signal VOSC (clock signals φ1, φ2) is input, the semiconductor device of the present invention performs a pumping operation at a plurality of internal nodes (connection point N23 to connection point N25), and inputs to the input terminal. A booster circuit 20 is provided for sequentially transferring supplied charges to an output terminal via a plurality of nodes and generating an output voltage from the output terminal. In the semiconductor device of the present invention, the first control signal (charge pump enable signal CPE) is at the active level (H level), and the output voltage VPP is a preset voltage (reference voltage VREF × (R1 + R2) / R2) is not reached, an active level (H level) detection signal VPUT is output, the first control signal (CPE) is at the active level (H level), and the output voltage VPP is set to a preset voltage. The voltage detection circuit 30 is provided that outputs a detection signal VPUT at an inactive level (L level) when it has reached. The semiconductor device of the present invention outputs the clock signal VOSC to the booster circuit 20 when the detection signal VOPT is at the active level (H level), and outputs the clock signal VOSC when the detection signal VOPT is at the inactive level (L level). Is provided with a clock signal control circuit 40 (or 40a) for stopping output to the booster circuit 20. In this semiconductor device, the clock signal control circuit 40 (or 40a) is configured such that the first control signal (charge pump enable signal CPE) is supplied to the voltage detection circuit 30 even when the detection signal VPUT is at an inactive level (L level). The clock signal VOSC is output to the booster circuit 20 in accordance with the level of the second control signal (control signal RESETT) input prior to the input.

本発明によれば、クロック信号制御回路40は、第1の制御信号(チャージポンプイネーブル信号CPE)が活性レベル(Hレベル)になるよりも先に入力される第2の制御信号(制御信号RESETT)のレベルに応じて、クロック信号VOSCを昇圧回路20に対して出力する。このため、電源投入時において、第2の制御信号をクロック信号制御回路に入力することで、電圧検出回路30が検出した検出電圧が基準電圧VREFより低い場合であっても、クロック信号制御回路40は、クロック信号VOSCをチャージポンプ各々へ供給できる。また、昇圧回路20は内部ノードにおいてポンピング動作を行って定電圧を発生し、この定電圧を内部回路に対して供給できる。そのため、内部回路が誤動作を起さないために、内部回路の動作を停止させる必要がなく、従来に比べて内部回路(例えばロウデコーダ13)の動作開始時刻を早めることができる。
また、半導体装置100のパワーダウンモード期間が長くなっても、パワーダウンモードからイグジットして、第1の制御信号より先に第2の制御信号を与えることで、昇圧回路20の内部ノードの電位をプリチャージ電位に戻し、昇圧回路20の出力電圧VPPの降下(ドロップ)を抑制できる。そのため、内部回路が誤動作を起さないために、内部回路の動作を停止させる必要がなく、従来に比べて内部回路の動作開始時刻を早めることができる。
According to the present invention, the clock signal control circuit 40 receives the second control signal (control signal RESETT) that is input before the first control signal (charge pump enable signal CPE) becomes the active level (H level). The clock signal VOSC is output to the booster circuit 20 in accordance with the level of). For this reason, even when the detected voltage detected by the voltage detection circuit 30 is lower than the reference voltage VREF by inputting the second control signal to the clock signal control circuit when the power is turned on, the clock signal control circuit 40 Can supply the clock signal VOSC to each charge pump. The booster circuit 20 can generate a constant voltage by performing a pumping operation at the internal node, and supply the constant voltage to the internal circuit. Therefore, since the internal circuit does not malfunction, it is not necessary to stop the operation of the internal circuit, and the operation start time of the internal circuit (for example, the row decoder 13) can be advanced compared to the conventional case.
Further, even when the power down mode period of the semiconductor device 100 becomes long, the potential of the internal node of the booster circuit 20 is obtained by exiting from the power down mode and giving the second control signal before the first control signal. Can be returned to the precharge potential, and the drop (drop) of the output voltage VPP of the booster circuit 20 can be suppressed. Therefore, since the internal circuit does not malfunction, it is not necessary to stop the operation of the internal circuit, and the operation start time of the internal circuit can be advanced as compared with the conventional case.

本願の技術思想は、定電圧発生回路を有する半導体装置に適用できる。更に、図面で開示した各ブロックの接続方法や回路形式、その他の制御信号を生成する回路は、実施例が開示する回路形式に限られない。
また、本発明の半導体装置の技術思想は、様々な半導体装置に適用することができる。本発明の実施形態においては、主にメモリ(Memory)での実施例を開示したが、これに限られず、メモリ以外の半導体装置、例えば、CPU(Central Processing Unit)、MCU(Micro Control Unit)、DSP(Digital Signal Processor)、ASIC(Application Specific Integrated Circuit)、ASSP(Application Specific Standard Product)等の半導体装置全般に、本発明を適用することができる。更にこれらの半導体装置は、冗長メモリセルとレギュラーメモリセル(通常メモリセル)を含んでいても良い。
また、このような本発明が適用された半導体装置の製品形態としては、例えば、SOC(システムオンチップ)、MCP(マルチチップパッケージ)やPOP(パッケージオンパッケージ)などが挙げられる。これらの任意の製品形態、パッケージ形態を有する半導体装置に対して本発明を適用することができる。
また、トランジスタは、電界効果トランジスタ(Field Eeffect Transistor;FET)であれば良く、MOS(Metal Oxide Semiconductor)以外にもMIS(Metal-Insulator Semiconductor)、TFT(Thin Film Transistor)等の様々なFETに適用できる。トランジスタ等の様々なFETに適用できる。更に、装置内に一部のバイポーラ型トランジスタを有しても良い。
更に、PMOSトランジスタ(P型チャネルMOSトランジスタ)は、第2導電型のトランジスタ、NMOSトランジスタ(N型チャネルMOSトランジスタ)は、第1導電型のトランジスタの代表例である。
また、本発明の請求の範囲の枠内において種々の開示要素の多様な組み合わせ、ないし選択が可能である。すなわち、本発明は、請求の範囲を含む全開示、技術的思想にしたがって当業者であればなし得る各種変形、修正を含むことは勿論である。
The technical idea of the present application can be applied to a semiconductor device having a constant voltage generation circuit. Further, the connection method and circuit format of each block disclosed in the drawings, and other circuits for generating control signals are not limited to the circuit format disclosed in the embodiments.
Further, the technical idea of the semiconductor device of the present invention can be applied to various semiconductor devices. In the embodiment of the present invention, the example mainly in the memory (Memory) has been disclosed. However, the present invention is not limited to this, and semiconductor devices other than the memory, such as a CPU (Central Processing Unit), an MCU (Micro Control Unit), The present invention can be applied to general semiconductor devices such as a DSP (Digital Signal Processor), an ASIC (Application Specific Integrated Circuit), and an ASSP (Application Specific Standard Product). Further, these semiconductor devices may include redundant memory cells and regular memory cells (normal memory cells).
Examples of the product form of the semiconductor device to which the present invention is applied include SOC (system on chip), MCP (multichip package), and POP (package on package). The present invention can be applied to a semiconductor device having any of these product forms and package forms.
The transistor may be a field effect transistor (FET), and may be applied to various FETs such as MIS (Metal-Insulator Semiconductor) and TFT (Thin Film Transistor) in addition to MOS (Metal Oxide Semiconductor). it can. It can be applied to various FETs such as transistors. Furthermore, some bipolar transistors may be included in the device.
Further, the PMOS transistor (P-type channel MOS transistor) is a second conductivity type transistor, and the NMOS transistor (N-type channel MOS transistor) is a typical example of the first conductivity type transistor.
Various combinations and selections of various disclosed elements are possible within the scope of the claims of the present invention. That is, the present invention of course includes various variations and modifications that can be made by those skilled in the art according to the entire disclosure including the claims and the technical idea.

100…半導体装置、10,10a,10b…定電圧発生回路、11…メモリセルアレイ、111…メモリセル領域、111m…メモリセル、11a…ワード線、11b…ビット線、12…アドレスバッファ、13…ロウデコーダ、14…カラムデコーダ、15…センスアンプ、16…コマンドデコーダ、17…モードレジスタ、18…制御回路、19…データ入出力回路、16a…クロック生成回路、20…昇圧回路、20a,20b,20c…チャージポンプ、30…電圧検出回路、40,40a,40b…クロック信号制御回路、50…クロック信号発生回路、60…駆動信号発生回路、60a,53,55,56,32,62,73…インバータ回路、33,57…アンド回路、52,71,72,61…ノア回路、58…ナンド回路、74,82…遅延回路、31,83…コンパレータ、81…PMOSトランジスタ、21,23,24,25,84…NMOSトランジスタ、23a,24a,25a…スイッチング素子、C23,C24,C25…キャパシタ、R1,R2…抵抗、N23,N24,N25,N26,A,B…接続点、RESETT,CS,RAS,CAS,WE,DQM…制御信号、CPE…チャージポンプイネーブル信号、VUPT…検知信号、OSCACTB…オシレータ駆動信号、VREF,VR…基準電圧、Vd…分圧電圧、VPP…出力電圧   DESCRIPTION OF SYMBOLS 100 ... Semiconductor device 10, 10a, 10b ... Constant voltage generation circuit, 11 ... Memory cell array, 111 ... Memory cell area, 111m ... Memory cell, 11a ... Word line, 11b ... Bit line, 12 ... Address buffer, 13 ... Row Decoder, 14 ... column decoder, 15 ... sense amplifier, 16 ... command decoder, 17 ... mode register, 18 ... control circuit, 19 ... data input / output circuit, 16a ... clock generation circuit, 20 ... booster circuit, 20a, 20b, 20c ... Charge pump, 30 ... Voltage detection circuit, 40, 40a, 40b ... Clock signal control circuit, 50 ... Clock signal generation circuit, 60 ... Drive signal generation circuit, 60a, 53, 55, 56, 32, 62, 73 ... Inverter Circuit, 33, 57 ... AND circuit, 52, 71, 72, 61 ... NOR circuit, 58 ... NAND times 74, 82 ... delay circuit 31, 83 ... comparator, 81 ... PMOS transistor, 21, 23, 24, 25, 84 ... NMOS transistor, 23a, 24a, 25a ... switching element, C23, C24, C25 ... capacitor, R1 , R2... Resistor, N23, N24, N25, N26, A, B... Connection point, RESETT, CS, RAS, CAS, WE, DQM... Control signal, CPE. Drive signal, VREF, VR ... reference voltage, Vd ... divided voltage, VPP ... output voltage

Claims (5)

クロック信号が入力されると、内部の複数のノードにおいてポンピング動作を行い、入力端子に供給される電荷を前記複数のノードを介して出力端子へと順次転送し、前記出力端子から出力電圧を発生する昇圧回路と、
第1の制御信号が活性レベルであって、前記出力電圧が予め設定された電圧に達しない場合、活性レベルの検知信号を出力し、前記第1の制御信号が活性レベルであって、前記出力電圧が予め設定された電圧に達した場合、非活性レベルの前記検知信号を出力する電圧検出回路と、
前記検知信号が活性レベルの場合、前記クロック信号を前記昇圧回路へ出力し、前記検知信号が非活性レベルの場合、前記クロック信号の前記昇圧回路への出力を停止するクロック信号制御回路と、
を備え、
前記クロック信号制御回路は、前記検知信号が非活性レベルであっても、前記第1の制御信号が前記電圧検出回路に入力されるよりも先に入力される第2の制御信号のレベルに応じて前記クロック信号を前記昇圧回路へ出力する、ことを特徴とする半導体装置。
When a clock signal is input, a pumping operation is performed at a plurality of internal nodes, charges supplied to the input terminal are sequentially transferred to the output terminal via the plurality of nodes, and an output voltage is generated from the output terminal. A booster circuit to
When the first control signal is at an active level and the output voltage does not reach a preset voltage, an active level detection signal is output, the first control signal is at an active level, and the output A voltage detection circuit that outputs the detection signal at an inactive level when the voltage reaches a preset voltage;
A clock signal control circuit that outputs the clock signal to the booster circuit when the detection signal is at an active level, and stops outputting the clock signal to the booster circuit when the detection signal is at an inactive level;
With
The clock signal control circuit responds to a level of a second control signal that is input before the first control signal is input to the voltage detection circuit even when the detection signal is at an inactive level. And outputting the clock signal to the booster circuit.
前記第2の制御信号は、前記半導体装置への電源投入時において入力されることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。   The semiconductor device according to claim 1, wherein the second control signal is input when power is supplied to the semiconductor device. 前記第2の制御信号は、前記半導体装置が、前記昇圧回路に接続される内部回路が動作状態から待機状態となるパワーダウンモードから、前記内部回路が前記待機状態から前記動作状態となるパワーダインイグジットモードへ移行すると、入力されることを特徴とする請求項1または請求項2のいずれか一項に記載の半導体装置。   The second control signal is a power dyne in which the semiconductor device is in a power down mode in which an internal circuit connected to the booster circuit is changed from an operating state to a standby state, and in which the internal circuit is changed from the standby state to the operating state. The semiconductor device according to claim 1, wherein the semiconductor device is input when the mode is shifted to the exit mode. 前記クロック信号制御回路は、
活性レベルのオシレータ駆動信号が入力すると前記クロック信号を所定の周期で発生するオシレータと、
前記オシレータ駆動信号を発生する駆動信号発生回路と、
前記昇圧回路の前記出力電圧が前記予め設定された電圧に到達するまでの遅延時間が設定された第1の遅延回路を有し、前記第2の制御信号が入力されると、前記遅延時間の期間において活性レベルとなる第1の遅延信号を発生する遅延信号発生回路と、
を含み、
前記駆動信号発生回路は、前記第1の遅延信号、及び前記検知信号に基づいて前記オシレータ駆動信号を発生することを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の半導体装置。
The clock signal control circuit includes:
An oscillator that generates the clock signal at a predetermined period when an oscillator drive signal of an active level is input;
A drive signal generating circuit for generating the oscillator drive signal;
A first delay circuit in which a delay time until the output voltage of the booster circuit reaches the preset voltage is set, and when the second control signal is input, the delay time A delay signal generation circuit for generating a first delay signal that is at an active level in a period;
Including
4. The semiconductor device according to claim 1, wherein the drive signal generation circuit generates the oscillator drive signal based on the first delay signal and the detection signal. 5. .
前記遅延信号を遅延させた第2の遅延信号を発生する第2の遅延回路と、
前記第2の遅延信号が活性レベルの期間に、前記出力電圧と前記予め設定された電圧とを比較し、前記出力電圧が前記予め設定された電圧に比べて高い場合、前記昇圧回路の前記出力を、前記入力端子が接続される電源とは異なる電源へと充電または放電する充放電回路と、
を備えたことを特徴とする請求項4に記載の半導体装置。
A second delay circuit for generating a second delay signal obtained by delaying the delay signal;
When the second delay signal is at an active level, the output voltage is compared with the preset voltage. When the output voltage is higher than the preset voltage, the output of the booster circuit A charge / discharge circuit that charges or discharges to a power source different from the power source to which the input terminal is connected;
The semiconductor device according to claim 4, further comprising:
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