JP2013007066A - Method and device for producing plated wire material - Google Patents

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照一 本田
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隆行 林
Chosho Yamada
暢昭 山田
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To suppress adhesion of foreign matters and generation of bare spot on a plated wire material during production.SOLUTION: In a production method for a plated wire material, a wire material is subjected to an annealing and softened, then immersed in a molten metal and pulled up by being guided along a guide roll to form a plated layer so as to cover the surface thereof. The wire material is heated before being subjected to the annealing for softening to burn oils and fats adhered to the surface thereof.

Description

本発明はメッキ線材の製造方法及び製造装置に関する。   The present invention relates to a method and an apparatus for manufacturing a plated wire.

結晶系太陽電池パネルのセル間同士を接続するためにインターコネクタと呼ばれる平角のメッキ線材が用いられる。   In order to connect the cells of the crystalline solar cell panel, a flat plated wire called an interconnector is used.

メッキ線材の製造においては、メッキ層を形成する前に線材を浄化するが、その方法として、例えば、特許文献1には、脱脂及び酸洗浄による浄化、フラックス浴への浸漬による浄化、並びに超音波洗浄による錆の除去が開示されている。   In the production of the plated wire, the wire is purified before the plating layer is formed. For example, Patent Document 1 discloses purification by degreasing and acid cleaning, purification by immersion in a flux bath, and ultrasonic waves. The removal of rust by cleaning is disclosed.

特開平4−293757号公報JP-A-4-293757

平角のメッキ線材の製造では、銅の母線としての荒引線を横断面形状が円形になるように伸線加工した後、横断面形状が平角状になるように圧延加工する。そして、しかる後、それを還元ガス雰囲気で焼鈍するのに続いて、溶融メッキ槽に浸漬して引き上げて巻き取る。このとき、伸線加工及び圧延加工では、線材の表面に加工油等の油脂類が塗布され、また、銅粉等の異物が付着する。このような油脂類及び異物が付着したままの線材を溶融メッキ槽に浸漬した場合、表面状態が良好でないメッキ線材が製造されることとなるため、溶融メッキ層への浸漬の前に線材の表面の洗浄が行われる。   In the manufacture of a flat plated wire, a rough drawn wire as a copper bus is drawn so that the cross-sectional shape is circular, and then rolled so that the cross-sectional shape is flat. Then, after annealing it in a reducing gas atmosphere, it is immersed in a hot dipping bath, pulled up and wound up. At this time, in wire drawing and rolling, fats and oils such as processing oil are applied to the surface of the wire, and foreign matters such as copper powder adhere. When such a wire with oils and fats and foreign matters attached is immersed in a hot dipped bath, a plated wire with a poor surface condition will be produced, so the surface of the wire before dipping in the hot dipped layer Cleaning is performed.

しかしながら、線材の表面に付着した油脂類や異物の問題は洗浄によってある程度は解消されるものの、特に油脂類を完全に除去することは困難であり、焼鈍においても炭化しきらずに残留した油脂類或いはそれに由来する化合物が線材を案内するガイドロールに付着して堆積すると、その堆積物があるタイミングで線材の表面に付着して異物となったり、或いは、不メッキを発生する虞がある。   However, although the problem of fats and oils adhering to the surface of the wire rod is solved to some extent by washing, it is difficult to completely remove the fats and oils in particular. If a compound derived from the deposit adheres to the guide roll that guides the wire, the deposit may adhere to the surface of the wire at a certain timing to become foreign matter, or unplating may occur.

本発明の課題は、製造時におけるメッキ線材への異物の付着及び不メッキを抑制することである。   An object of the present invention is to suppress adhesion and non-plating of foreign matters to a plated wire during production.

本発明は、線材を、焼鈍して軟化させた後、ガイドロールによる案内によって溶融金属中に浸漬して引き上げることにより表面を被覆するようにメッキ層を形成するメッキ線材の製造方法であって、線材を焼鈍して軟化させる前に、線材を加熱することにより、その表面に付着した油脂類を燃焼させる。   The present invention is a method for producing a plated wire material in which a wire layer is annealed and softened, and then a plating layer is formed so as to cover the surface by being immersed in a molten metal by a guide roll and pulled up, Prior to annealing and softening the wire, the wire is heated to burn the oils and fats adhering to the surface.

本発明は、通過する線材を焼鈍して軟化させるための焼鈍炉と、該焼鈍炉の下流側に設けられた溶融金属を貯留するためのメッキ槽と、該焼鈍炉を通過した線材を該メッキ槽に貯留された溶融金属中に浸漬して引き上げるように案内するためのガイドロールと、を備えたメッキ線材製造装置であって、上記焼鈍炉の上流側に設けられた、線材を加熱することにより、その表面に付着した油脂類を燃焼させるための加熱手段をさらに備える。   The present invention includes an annealing furnace for annealing and softening a passing wire, a plating tank for storing molten metal provided on the downstream side of the annealing furnace, and a wire passing through the annealing furnace. A plating wire manufacturing apparatus comprising: a guide roll for guiding so as to be immersed in a molten metal stored in a tank, and heating the wire provided on the upstream side of the annealing furnace Thus, a heating means for burning the fats and oils adhering to the surface is further provided.

本発明によれば、線材を焼鈍して軟化させる前に、線材を加熱することにより、その表面に付着した油脂類を燃焼させるので、油脂類或いはそれに由来する化合物が線材を案内するガイドロールに付着して堆積するのを規制でき、その結果、製造時におけるガイドロールの堆積物に起因したメッキ線材への異物の付着及び不メッキを抑制することができる。   According to the present invention, before the wire is annealed and softened, by heating the wire, the oils and fats adhering to the surface are burned, so that the oils and fats or compounds derived therefrom are guided to the guide roll that guides the wire. Adhesion and deposition can be restricted, and as a result, adhesion and non-plating of foreign matter to the plated wire due to deposits on the guide roll during manufacturing can be suppressed.

(a)〜(c)は実施形態に係るメッキ線材を示す斜視図である。(A)-(c) is a perspective view which shows the plating wire which concerns on embodiment. 実施形態に係るメッキ線材の製造方法を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the manufacturing method of the plated wire which concerns on embodiment. 実施形態に係るメッキ線材製造装置を示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows the plating wire manufacturing apparatus which concerns on embodiment. メッキ線材製造装置の変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of a plating wire manufacturing apparatus. メッキ線材製造装置の別の変形例を示す図である。It is a figure which shows another modification of a plating wire manufacturing apparatus.

以下、実施形態について図面に基づいて詳細に説明する。   Hereinafter, embodiments will be described in detail based on the drawings.

(メッキ線材)
図1(a)〜(c)は実施形態に係るメッキ線材10を示す。この実施形態に係るメッキ線材10は、例えば、細分化して結晶系太陽電池パネルのセル間同士を接続するためのインターコネクタとして用いられるものである。
(Plating wire)
Fig.1 (a)-(c) shows the plating wire 10 which concerns on embodiment. The plated wire rod 10 according to this embodiment is used as, for example, an interconnector for subdividing and connecting cells of a crystalline solar cell panel.

実施形態に係るメッキ線材10は、平角の金属製の線材11とその表面を被覆するように設けられたハンダメッキ層12とを備えた平角線で構成されている。ここで、メッキ線材10を構成する平角線には、図1(a)に示すような角部を有する断面矩形のものの他、丸線を四方から圧縮して形成した図1(b)に示すような角部が丸くなった断面略矩形のもの、及び丸線を上下から圧縮して形成した図1(c)に示すような断面において上下の辺が直線で且つ両側の辺が円弧状である陸上競技用トラック形状の偏平な断面略矩形のものも含まれる。平角線のメッキ線材10は、例えば、幅が1〜2mm、及び厚さが0.1〜0.2mmである。なお、メッキ線材10は、平角線の他、丸線であってもよく、また、角線であってもよい。   The plated wire 10 according to the embodiment is configured by a flat wire including a flat metal wire 11 and a solder plating layer 12 provided so as to cover the surface thereof. Here, the rectangular wire constituting the plated wire rod 10 is shown in FIG. 1B, which is formed by compressing a round wire from four sides in addition to a rectangular cross section having a corner as shown in FIG. In such a cross section as shown in FIG. 1 (c) formed by compressing the round line from above and below, the upper and lower sides are straight and both sides are arcuate. A track-shaped track with a flat and substantially rectangular cross section is also included. The flat wire 10 is, for example, 1 to 2 mm in width and 0.1 to 0.2 mm in thickness. In addition, the plated wire 10 may be a round wire or a square wire in addition to a flat wire.

線材11を構成する金属としては、例えば、無酸素銅、タフピッチ銅が挙げられる。線材11は、後述のように母線としての荒引線に伸線加工及び圧延加工を施すことにより得ることができる。   Examples of the metal constituting the wire 11 include oxygen-free copper and tough pitch copper. The wire 11 can be obtained by drawing and rolling a rough drawn wire as a bus bar as described later.

ハンダメッキ層12を形成するハンダ組成としては、融点が130〜300℃程度のSn−Pb合金、Sn−(0.5〜5質量%)Ag合金、Sn−(0.5〜5質量%)Ag−(0.3〜1.0質量%)Cu合金、Sn−(0.3〜1.0質量%)Cu合金、Sn−(1.0〜5.0質量%)Ag−(5〜8質量%)In合金、Sn−(1.0〜5.0質量%)Ag−(40〜50質量%)Bi合金、Sn−(40〜50質量%)Bi合金、Sn−(1.0〜5.0質量%)Ag−(40〜50質量%)Bi−(5〜8質量%)In合金等が挙げられる。Pbは人体に有害であり、自然環境を汚染するおそれがあるので、汚染防止の観点からはPbフリーのSn−Ag合金、Sn−Ag−Cu合金、Sn−Cu合金、Sn−Ag−In合金、Sn−Ag−Bi合金などのはんだ材が好ましく、具体的には、Sn−3.0質量%Ag−0.5質量%Cu合金が好ましい。ハンダメッキ層12の厚さは5〜80μmであることが好ましく、10〜50μmであることがより好ましい。   The solder composition for forming the solder plating layer 12 is Sn—Pb alloy having a melting point of about 130 to 300 ° C., Sn— (0.5 to 5 mass%) Ag alloy, Sn— (0.5 to 5 mass%). Ag- (0.3-1.0 mass%) Cu alloy, Sn- (0.3-1.0 mass%) Cu alloy, Sn- (1.0-5.0 mass%) Ag- (5- 8 mass%) In alloy, Sn- (1.0-5.0 mass%) Ag- (40-50 mass%) Bi alloy, Sn- (40-50 mass%) Bi alloy, Sn- (1.0 -5.0 mass%) Ag- (40-50 mass%) Bi- (5-8 mass%) In alloy etc. are mentioned. Since Pb is harmful to the human body and may contaminate the natural environment, Pb-free Sn—Ag alloy, Sn—Ag—Cu alloy, Sn—Cu alloy, Sn—Ag—In alloy are used from the viewpoint of pollution prevention. A solder material such as a Sn-Ag-Bi alloy is preferable, and specifically, a Sn-3.0 mass% Ag-0.5 mass% Cu alloy is preferable. The thickness of the solder plating layer 12 is preferably 5 to 80 μm, and more preferably 10 to 50 μm.

実施形態に係るメッキ線材10は、線材11が極軟化処理(焼鈍処理)が施されることにより、0.2%耐力が60MPa以下であることが好ましく、50MPa以下であることがより好ましい。   In the plated wire 10 according to the embodiment, the 0.2% proof stress is preferably 60 MPa or less, and more preferably 50 MPa or less, when the wire 11 is subjected to an ultrasoftening treatment (annealing treatment).

実施形態に係るメッキ線材10はフラックス成分を含有しないことが好ましい。かかるフラックス成分としては、例えば、アビエチン酸などのロジン成分材料、アミン及びその塩、セバシン酸、アゼライン酸、コルク酸などの脂肪族骨格に両末端カルボン酸を有する有機酸等が挙げられる。   The plated wire 10 according to the embodiment preferably does not contain a flux component. Examples of such flux components include rosin component materials such as abietic acid, amines and salts thereof, organic acids having an aliphatic skeleton such as sebacic acid, azelaic acid, and corkic acid.

(メッキ線材の製造方法)
次に、実施形態に係るメッキ線材10の製造方法について説明する。
(Plating wire manufacturing method)
Next, the manufacturing method of the plated wire 10 which concerns on embodiment is demonstrated.

実施形態に係るメッキ線材10の製造方法は、図2に示すように、伸線工程、圧延工程、洗浄工程、加熱工程、焼鈍工程、及びメッキ工程からなる。   As shown in FIG. 2, the manufacturing method of the plated wire rod 10 according to the embodiment includes a wire drawing process, a rolling process, a cleaning process, a heating process, an annealing process, and a plating process.

実施形態に係るメッキ線材10の製造方法では、まず、母線としての荒引線を細径化して横断面形状が円形の丸線に伸線加工する(伸線工程)。伸線加工は、荒引線を伸線ダイスに通すことにより行う。荒引線の外径は例えば6.0〜10mmであり、伸線後の丸線の外径は例えば0.5〜2.0mmである。   In the manufacturing method of the plated wire rod 10 according to the embodiment, first, a rough drawn wire as a bus wire is reduced in diameter and drawn into a round wire having a circular cross section (drawing step). The wire drawing is performed by passing the rough wire through a wire drawing die. The outer diameter of the rough drawn wire is, for example, 6.0 to 10 mm, and the outer diameter of the round wire after drawing is, for example, 0.5 to 2.0 mm.

伸線工程の後、伸線した丸線を横断面形状が平角状の線材11に冷間圧延加工する(圧延工程)。冷間圧延加工は、丸線を圧延機のローラー間に通すことにより行う。   After the wire drawing step, the drawn round wire is cold-rolled into a wire 11 having a flat cross-sectional shape (rolling step). Cold rolling is performed by passing a round wire between rollers of a rolling mill.

ここで、伸線工程及び圧延工程では、荒引線或いは丸線に油脂類を塗布する。油脂類としては、例えば、加工油、防錆剤等が挙げられ、加工油としては、例えば、油性潤滑剤、水性潤滑剤等が挙げられる。   Here, in the wire drawing step and the rolling step, fats and oils are applied to the rough drawn wire or the round wire. Examples of the fats and oils include processing oil and rust preventive agent, and examples of the processing oil include oil-based lubricants and aqueous lubricants.

圧延工程の後、線材11の表面に付着した油脂類や異物を洗浄除去する(洗浄工程)。洗浄工程は、例えば線材11を洗浄槽に貯留された洗浄液に浸漬することにより行うことができる。洗浄液としては、例えば、水(温水)、有機溶剤等が挙げられる。洗浄液を水とする場合、水温は例えば10〜60℃である。洗浄液には洗剤を含めてもよい。なお、この洗浄工程は後述の加熱工程の後であってもよい。   After the rolling step, oils and fats and foreign matters adhering to the surface of the wire 11 are washed away (cleaning step). The cleaning step can be performed, for example, by immersing the wire 11 in the cleaning liquid stored in the cleaning tank. Examples of the cleaning liquid include water (warm water), an organic solvent, and the like. When the cleaning liquid is water, the water temperature is, for example, 10 to 60 ° C. The cleaning liquid may contain a detergent. In addition, this washing | cleaning process may be after the below-mentioned heating process.

洗浄工程の後、線材11を加熱することにより、その表面に残留して付着した油脂類を燃焼させて炭化させる(加熱工程)。加熱工程は、例えば、線材11を巻いたボビンを恒温槽に保管することにより、また、線材11を加熱炉に連続的に通過させることにより、或いは、線材11を火炎中に連続的に通過させることにより行うことができる。線材11を加熱する温度(炉内温度)は例えば400〜800℃とし、500〜700℃とすることが好ましい。また、線材11を加熱する温度は、0.2%耐力が高くなるのを抑制する観点から、後述の焼鈍工程において線材11を焼鈍して軟化させる温度よりも低くすることが好ましい。線材11を加熱する時間は例えば0.01〜30分とし、0.01〜5.0分とすることが好ましい。線材11の加熱は大気雰囲気下で行うことが好ましい。   After the cleaning process, the wire 11 is heated to burn and carbonize the oils and fats remaining on the surface and adhering (heating process). In the heating step, for example, the bobbin wound with the wire 11 is stored in a constant temperature bath, the wire 11 is continuously passed through a heating furnace, or the wire 11 is continuously passed through the flame. Can be done. The temperature (furnace temperature) for heating the wire 11 is, for example, 400 to 800 ° C, and preferably 500 to 700 ° C. Moreover, it is preferable to make temperature which heats the wire 11 lower than the temperature which anneals and softens the wire 11 in the below-mentioned annealing process from a viewpoint which suppresses that 0.2% yield strength becomes high. The time for heating the wire 11 is, for example, 0.01 to 30 minutes, and preferably 0.01 to 5.0 minutes. The heating of the wire 11 is preferably performed in an air atmosphere.

加熱工程の後、油脂類を燃焼させた線材11を焼鈍して軟化させる(焼鈍工程)。焼鈍工程は、例えば、線材11を巻いたボビンを恒温槽に保管することにより、或いは、線材11を焼鈍炉に連続的に通過させることにより行うことができる。線材11を焼鈍する温度(炉内温度)は例えば300〜900℃とし、有効に線材11を極軟化させる観点から500〜800℃とすることがより好ましい。線材11を焼鈍する時間は例えば0.01〜30分とし、0.01〜5.0分とすることが好ましい。線材11の焼鈍は還元ガス雰囲気下で行うことが好ましい。かかる雰囲気を形成する還元ガスとしては、例えば、水素ガス、一酸化炭素ガス等が挙げられるが、これらのうち作業環境性の観点から水素ガスが好ましい。また、還元ガス雰囲気を形成する際には、還元ガスを不活性ガスで希釈してもよい。かかる不活性ガスとしては、例えば、窒素ガス、アルゴンガス等が挙げられるが、これらのうち汎用性の観点から窒素ガスが好ましい。還元ガスを不活性ガスで希釈する場合、還元ガスの濃度は10〜80体積%とすることが好ましく、経済的観点からは20〜50体積%とすることがより好ましい。   After the heating step, the wire 11 burned with fats and oils is annealed and softened (annealing step). The annealing step can be performed, for example, by storing the bobbin around which the wire 11 is wound in a constant temperature bath, or by continuously passing the wire 11 through an annealing furnace. The temperature (furnace temperature) for annealing the wire 11 is, for example, 300 to 900 ° C., and more preferably 500 to 800 ° C. from the viewpoint of effectively softening the wire 11. The time for annealing the wire 11 is, for example, 0.01 to 30 minutes, and preferably 0.01 to 5.0 minutes. The annealing of the wire 11 is preferably performed in a reducing gas atmosphere. Examples of the reducing gas that forms such an atmosphere include hydrogen gas and carbon monoxide gas. Among these, hydrogen gas is preferable from the viewpoint of working environment. Further, when the reducing gas atmosphere is formed, the reducing gas may be diluted with an inert gas. Examples of the inert gas include nitrogen gas and argon gas. Among these, nitrogen gas is preferable from the viewpoint of versatility. When diluting the reducing gas with an inert gas, the concentration of the reducing gas is preferably 10 to 80% by volume, and more preferably 20 to 50% by volume from an economic viewpoint.

焼鈍工程の後、焼鈍して軟化させた線材11を、ガイドロールによる案内によって溶融したハンダ(溶融金属)中に浸漬して引き上げることにより表面を被覆するようにメッキ層12を形成してメッキ線材10に製造加工する(メッキ工程)。メッキ工程は、線材11をメッキ槽25に貯留された溶融したハンダに浸漬して引き上げることにより行うことができる。溶融したハンダの温度は例えば230〜300℃とし、250〜300℃とすることが好ましい。ハンダに浸漬するときの線材11の温度は例えば100〜500℃とし、ハンダメッキ層12の厚さを抑制する観点からは150〜450℃とすることが好ましい。線材11のハンダへの浸漬時間は例えば0.005〜5.0秒とし、0.01〜2.0秒とすることが好ましい。   After the annealing process, the wire 11 that has been annealed and softened is immersed in a solder (molten metal) that has been melted by guiding with a guide roll, and then pulled up to form a plating layer 12 so as to cover the surface. 10 is processed (plating process). The plating step can be performed by immersing the wire 11 in molten solder stored in the plating tank 25 and pulling it up. The temperature of the molten solder is, for example, 230 to 300 ° C, and preferably 250 to 300 ° C. The temperature of the wire 11 when immersed in the solder is, for example, 100 to 500 ° C., and preferably 150 to 450 ° C. from the viewpoint of suppressing the thickness of the solder plating layer 12. The immersion time of the wire 11 in the solder is, for example, 0.005 to 5.0 seconds, and preferably 0.01 to 2.0 seconds.

以上の伸線工程、圧延工程、洗浄工程、加熱工程、焼鈍工程、及びメッキ工程は、それぞれを独立して行ってもよく、また、全てを連続して行ってもよい。さらに、これらを複数に分割して行ってもよい。例えば、上記工程を、伸線工程と、その後の圧延工程、洗浄工程、加熱工程、焼鈍工程、及びメッキ工程とに二分割し、そして、伸線工程において荒引線から丸線を作製して一旦巻き取り、しかる後、連続する圧延工程、洗浄工程、加熱工程、焼鈍工程、及びメッキ工程において丸線からメッキ線材10を製造してもよい。また、上記工程を、伸線工程及び圧延工程と、加熱工程と、その後の洗浄工程、焼鈍工程、及びメッキ工程とに三分割し、そして、連続する伸線工程及び圧延工程において荒引線から平角状の線材11を作製して一旦巻き取り、次いで、加熱工程において線材11を加熱処理して再び巻き取り、しかる後、連続する洗浄工程、焼鈍工程、及びメッキ工程において加熱処理した線材11からメッキ線材10を製造してもよい。特に、加熱工程及び焼鈍工程については、表面に油脂類が付着した線材11を加熱して油脂類を燃焼させる加熱工程と油脂類を燃焼させた線材11を焼鈍して軟化させる焼鈍工程とをバッチ式で独立して行ってもよいが、生産効率の観点及び加熱工程後に一旦巻き取ることにより不所望の変形を受けるのを防止する観点から、加熱工程に引き続いて焼鈍工程を連続式で行うことが好ましい。その場合、線材11の送り速度は例えば5〜50m/minとし、7〜40m/minとすることが好ましい。   The wire drawing process, rolling process, cleaning process, heating process, annealing process, and plating process may be performed independently or all may be performed continuously. Furthermore, these may be divided into a plurality. For example, the above process is divided into a wire drawing process, a subsequent rolling process, a cleaning process, a heating process, an annealing process, and a plating process, and a round wire is produced from the rough drawn wire in the wire drawing process. The plated wire 10 may be manufactured from a round wire in a continuous rolling process, a cleaning process, a heating process, an annealing process, and a plating process. In addition, the above process is divided into a wire drawing process and a rolling process, a heating process, a subsequent cleaning process, an annealing process, and a plating process, and in a continuous wire drawing process and rolling process, a flat wire is drawn from a rough drawing line. The wire 11 is prepared and wound up, and then the wire 11 is subjected to heat treatment in the heating process and wound up again, and then plated from the heat treated wire 11 in the continuous cleaning process, annealing process, and plating process. The wire 10 may be manufactured. In particular, with regard to the heating step and the annealing step, the heating step of heating the wire 11 with the fats and oils attached to the surface and burning the fats and oils and the annealing step of annealing and softening the wire 11 that burns the fats and oils are batched. Although it may be performed independently by the formula, from the viewpoint of production efficiency and from the viewpoint of preventing undesired deformation by winding once after the heating process, the annealing process is performed continuously following the heating process. Is preferred. In that case, the feeding speed of the wire 11 is, for example, 5 to 50 m / min, and preferably 7 to 40 m / min.

以上の実施形態に係るメッキ線材10の製造方法によれば、線材11を焼鈍して軟化させる前に、線材11を加熱することにより、その表面に付着した油脂類を燃焼させるので、油脂類或いはそれに由来する化合物が線材11を案内するガイドロールに付着して堆積するのを規制でき、その結果、製造時におけるガイドロールの堆積物に起因したハンダメッキ線材10への異物の付着及び不メッキを抑制することができる。   According to the method for manufacturing the plated wire 10 according to the above embodiment, before the wire 11 is annealed and softened, the wire 11 is heated to burn the oil and fat attached to the surface thereof. It is possible to restrict the compounds derived therefrom from adhering to and depositing on the guide roll that guides the wire 11, and as a result, adherence and non-plating of the foreign matter to the solder plating wire 10 due to the deposit on the guide roll during manufacture. Can be suppressed.

(メッキ線材製造装置)
図3は実施形態に係るメッキ線材1製造装置20の1つの実施態様を示す。この実施形態に係るメッキ線材1製造装置20は、製造工程を、伸線工程と、その後の圧延工程、洗浄工程、加熱工程、焼鈍工程、及びメッキ工程とに二分割してメッキ線材10を製造する態様における後段で用いられるものである。
(Plating wire manufacturing equipment)
FIG. 3 shows one embodiment of the plated wire 1 manufacturing apparatus 20 according to the embodiment. The plated wire 1 manufacturing apparatus 20 according to this embodiment manufactures the plated wire 10 by dividing the manufacturing process into a wire drawing process, a subsequent rolling process, a cleaning process, a heating process, an annealing process, and a plating process. Used in the latter stage in the embodiment.

実施形態に係るメッキ線材1製造装置20は、線材供給部21、洗浄槽22、加熱炉23、焼鈍炉24、メッキ槽25、及び線材回収部26を備えている。   The plated wire 1 manufacturing apparatus 20 according to the embodiment includes a wire rod supply unit 21, a cleaning tank 22, a heating furnace 23, an annealing furnace 24, a plating tank 25, and a wire rod recovery unit 26.

線材供給部21は、伸線工程で作製された丸線11’が巻かれたボビンBが取り付けられるように構成されており、また、圧延機21aを備えている。この線材供給部21において、ボビンBから丸線11’を引き出して圧延機21aのローラーによって上下方向から潤滑剤(油脂類)を流し掛けながら、冷間圧延加工し、平角の線材11に加工して洗浄槽22に送り出す。   The wire supply unit 21 is configured such that the bobbin B around which the round wire 11 ′ produced in the wire drawing process is wound is attached, and includes a rolling mill 21 a. In this wire supply section 21, the round wire 11 ′ is pulled out from the bobbin B, and cold rolled while pouring lubricant (oils and fats) from above and below by the roller of the rolling mill 21a, and processed into a flat wire 11. To the washing tank 22.

洗浄槽22は、長尺に形成されており、槽内に洗浄液が貯留されている。この洗浄槽22において、線材供給部21からの線材11を洗浄液に浸漬し、その中を通過させて表面の油脂類等を洗浄除去し、そして、引き上げて加熱炉23に送り出す。線材11の洗浄液への浸漬長さは例えば0.5〜5mである。   The cleaning tank 22 is formed in a long shape, and cleaning liquid is stored in the tank. In this cleaning tank 22, the wire 11 from the wire supply unit 21 is immersed in the cleaning liquid, and the resin 11 is passed through the cleaning liquid to clean and remove surface oils and the like, and then pulled up and sent to the heating furnace 23. The immersion length of the wire 11 in the cleaning liquid is, for example, 0.5 to 5 m.

加熱炉23は、長尺箱形の炉本体23aに線材挿通管23bが長さ方向に挿通されて貫通状態に設けられた構成を有する。ヒータは炉本体23a内部に設けられている。線材挿通管23bには大気導入手段が設けられていてもよい。この加熱炉23において、洗浄槽22からの線材11を線材挿通管23b内の高温の大気雰囲気に導入し、その中を通過させて加熱することにより、その表面に付着した残留した油脂類を燃焼させて炭化させ、そして、焼鈍炉24に送り出す。従って、この加熱炉23が、後述の焼鈍炉24の上流側に設けられた、線材11を加熱することにより、その表面に付着した油脂類を燃焼させるための加熱手段を構成する。線材11の加熱炉23での加熱長さは例えば0.5〜5.0mである。線材挿通管23bの内径は例えば2.0〜20mmである。   The heating furnace 23 has a configuration in which a wire rod insertion tube 23b is inserted in a longitudinal direction through a long box-shaped furnace main body 23a and is provided in a penetrating state. The heater is provided inside the furnace body 23a. An air introduction means may be provided in the wire rod insertion pipe 23b. In this heating furnace 23, the wire 11 from the cleaning tank 22 is introduced into a high-temperature air atmosphere in the wire insertion tube 23b, and is heated by passing through it, thereby burning the remaining fats and oils adhering to the surface thereof. And carbonized and sent to an annealing furnace 24. Therefore, the heating furnace 23 constitutes a heating means for burning the fats and oils attached to the surface of the wire 11 provided on the upstream side of the annealing furnace 24 described later. The heating length of the wire 11 in the heating furnace 23 is, for example, 0.5 to 5.0 m. The inner diameter of the wire rod insertion tube 23b is, for example, 2.0 to 20 mm.

焼鈍炉24は、長尺箱形の炉本体24aに線材挿通管24bが長さ方向に挿通されて貫通状態に設けられた構成を有する。ヒータは炉本体24a内部に設けられている。焼鈍炉24は、待機時の水平位置と加工時の傾斜位置との間で傾動可能に構成されており、傾斜位置に位置付けられると、炉本体24aの下流側に突出した線材挿通管24bの先端部分が後述のメッキ槽25内の溶融したハンダM(溶融金属)に浸かり、従って、焼鈍炉24の下流端の線材出口がメッキ槽25内の溶融したハンダM中に位置付けられるように構成されている。また、炉本体24aの下流側に突出した線材挿通管24bには還元ガス供給管27が接続されており、焼鈍路23内を還元ガスが下流側から上流側に流れるように構成されている。この焼鈍炉24において、加熱炉23からの線材11を高温の還元ガス雰囲気に導入し、通過する線材を焼鈍して軟化させると共に、表面を還元ガスによって還元して酸化被膜を除去し、そして、線材出口からメッキ槽25内の溶融したハンダM中に送り出す。このとき、加熱炉23内の大気雰囲気下での加熱によって生成した酸化被膜も除去される。なお、還元ガス供給管27は炉本体24aの下流側に突出した線材挿通管24b以外の部分に接続されていてもよいが、還元ガスによる酸化被膜の除去を効率よく行う観点からは、上記のように還元ガス供給管27が炉本体24aの下流側に突出した線材挿通管24bに接続され、還元ガスが下流側から上流側に流れる構成が好ましい。線材11の焼鈍炉24での加熱長さは例えば0.5〜3.0mである。線材挿通管24bの内径は例えば5〜30mmである。   The annealing furnace 24 has a configuration in which a wire rod insertion tube 24b is inserted in a longitudinal direction through a long box-shaped furnace body 24a and is provided in a penetrating state. The heater is provided inside the furnace body 24a. The annealing furnace 24 is configured to be tiltable between a horizontal position during standby and an inclined position during processing. When the annealing furnace 24 is positioned at the inclined position, the distal end of a wire rod insertion tube 24b protruding downstream from the furnace body 24a. The portion is immersed in molten solder M (molten metal) in the plating tank 25 described later, and therefore the wire outlet at the downstream end of the annealing furnace 24 is positioned in the molten solder M in the plating tank 25. Yes. Moreover, a reducing gas supply pipe 27 is connected to the wire rod insertion pipe 24b protruding to the downstream side of the furnace body 24a, and the reducing gas flows in the annealing path 23 from the downstream side to the upstream side. In this annealing furnace 24, the wire 11 from the heating furnace 23 is introduced into a high-temperature reducing gas atmosphere, the passing wire is annealed and softened, the surface is reduced with a reducing gas to remove the oxide film, and It is sent out from the wire rod outlet into the molten solder M in the plating tank 25. At this time, the oxide film generated by heating in the air atmosphere in the heating furnace 23 is also removed. Note that the reducing gas supply pipe 27 may be connected to a portion other than the wire rod insertion pipe 24b protruding to the downstream side of the furnace body 24a, but from the viewpoint of efficiently removing the oxide film with the reducing gas, As described above, it is preferable that the reducing gas supply pipe 27 is connected to the wire rod insertion pipe 24b protruding to the downstream side of the furnace body 24a so that the reducing gas flows from the downstream side to the upstream side. The heating length of the wire 11 in the annealing furnace 24 is, for example, 0.5 to 3.0 m. The inner diameter of the wire rod insertion tube 24b is, for example, 5 to 30 mm.

加熱炉23及び焼鈍炉24は、図3に示すように、前者の線材挿通管23bの線材出口と後者の線材挿通管24bの線材入口との間が間隔を有するように設けられていてもよく、また、図4に示すように、前者の線材挿通管23bの線材出口と後者の線材挿通管24bの線材入口とが結合して連続して設けられていてもよい。加熱炉23及び焼鈍炉24は、装置構成の簡略化の観点から、それらの熱源が共通であってもよい。   As shown in FIG. 3, the heating furnace 23 and the annealing furnace 24 may be provided such that there is a gap between the wire rod outlet of the former wire rod insertion tube 23b and the wire rod inlet of the latter wire rod insertion tube 24b. Moreover, as shown in FIG. 4, the wire rod outlet of the former wire rod insertion tube 23b and the wire rod inlet of the latter wire rod insertion tube 24b may be connected and provided continuously. The heating furnace 23 and the annealing furnace 24 may have a common heat source from the viewpoint of simplifying the device configuration.

メッキ槽25は、焼鈍炉24の下流側に設けられ、槽内に溶融したハンダMが貯留されている。このメッキ槽25において、焼鈍炉24からの線材11を溶融したハンダMに浸漬し、溶融したハンダM中に設けられたガイドロールR1(ターンロール)に巻き掛けて案内した後、溶融したハンダMの外部に出してメッキ槽25の上方に設けられた引き上げガイドロールR2に巻き掛けられるまでの間で空冷し、そして、それによって表面を被覆するようにハンダメッキ層12が形成されたメッキ線材10に製造する。従って、ガイドロールR1,R2が焼鈍炉24を通過した線材11をメッキ槽25に貯留された溶融したハンダM中に浸漬して引き上げるように案内する。メッキ槽25の上方には、メッキ槽25から引き上げられた線材11を冷却する冷却器が設けられていてもよい。また、メッキ槽25から引き上げられた線材11に形成するハンダメッキ層12の厚さを調整するダイスが設けられていてもよい。また、ダイスの有無に関わらず、線材11に付着したハンダが自重で下方に落ちてハンダメッキ層12の厚さの調整が図られるように、メッキ槽25から引き上げられた線材11が垂直に上方に延びるように引き上げガイドロールR2が設けられた構成であることが好ましい。   The plating tank 25 is provided on the downstream side of the annealing furnace 24, and molten solder M is stored in the tank. In this plating tank 25, the wire 11 from the annealing furnace 24 is immersed in molten solder M, wound around a guide roll R 1 (turn roll) provided in the molten solder M, and then melted. Plating wire 10 in which the solder plating layer 12 is formed so as to cover the surface by air cooling until it is wound out on the lifting guide roll R2 provided above the plating tank 25. To manufacture. Therefore, the guide rolls R1 and R2 guide the wire 11 that has passed through the annealing furnace 24 so as to be immersed in the molten solder M stored in the plating tank 25 and pulled up. A cooler that cools the wire 11 pulled up from the plating tank 25 may be provided above the plating tank 25. Further, a die for adjusting the thickness of the solder plating layer 12 formed on the wire 11 pulled up from the plating tank 25 may be provided. Regardless of the presence or absence of dies, the wire 11 pulled up from the plating tank 25 is vertically moved upward so that the solder attached to the wire 11 falls downward due to its own weight and the thickness of the solder plating layer 12 is adjusted. It is preferable that the lifting guide roll R2 is provided so as to extend in the direction.

線材回収部26は、ボビンBが取り付けられ、その取り付けられたボビンBを回転させるように構成されている。この線材回収部26において、メッキ槽25から引き上げガイドロールR2に案内されて延びるメッキ線材10をボビンBに巻き取って回収する。   The wire rod recovery unit 26 is configured to have the bobbin B attached thereto and to rotate the attached bobbin B. In the wire rod recovery unit 26, the plated wire rod 10 that is guided by the pulling guide roll R <b> 2 extending from the plating tank 25 is wound around the bobbin B and collected.

その他、実施形態に係るメッキ線材1製造装置20には、メッキ槽25内のガイドロールR1及び引き上げガイドロールR2以外にも各部間にガイドロールR3〜R5が設けられており、それによって線材11或いはメッキ線材10を案内するように構成されている。また、実施形態に係るメッキ線材1製造装置20は、一時に単一のメッキ線材10のみを製造するように構成されていてもよいが、高い生産性を得る観点から同時に複数のメッキ線材10を製造するように構成されていることが好ましい。   In addition, in the plated wire 1 manufacturing apparatus 20 according to the embodiment, guide rolls R3 to R5 are provided between the respective portions in addition to the guide roll R1 and the pulling guide roll R2 in the plating tank 25, whereby the wire 11 or It is configured to guide the plated wire 10. Moreover, although the plating wire 1 manufacturing apparatus 20 which concerns on embodiment may be comprised so that only the single plating wire 10 may be manufactured at once, from the viewpoint of obtaining high productivity, the several plating wire 10 is manufactured simultaneously. It is preferably configured to manufacture.

以上の構成の実施形態に係るメッキ線材1製造装置20では、線材供給部21において、圧延機21aで丸線11’の線材11を上下方向から冷間圧延加工して平角の線材11として送り出す。洗浄槽22では、線材11の表面の油脂類や異物等を洗浄液で洗浄除去する。また、線材11を洗浄槽22に貯留された洗浄液に浸漬する態様ではなく、線材11に洗浄液を流しかける態様でもよい。   In the plated wire 1 manufacturing apparatus 20 according to the embodiment having the above-described configuration, the wire 11 in the round wire 11 ′ is cold-rolled from the vertical direction by the rolling mill 21 a and sent out as a flat wire 11 in the wire supply unit 21. In the cleaning tank 22, oils and fats, foreign matters and the like on the surface of the wire 11 are cleaned and removed with a cleaning liquid. Moreover, the aspect which pours a washing | cleaning liquid on the wire 11 may be sufficient instead of the aspect which immerses the wire 11 in the washing | cleaning liquid stored in the washing tank 22. FIG.

加熱炉23では、線材11を高温の大気雰囲気下で加熱することにより、その表面に付着した残留した油脂類を燃焼させて炭化させる。焼鈍炉24では、線材11を高温の還元ガス雰囲気下で焼き鈍すと共に表面を還元ガスにより還元して酸化被膜を除去する。このとき、還元ガスが焼鈍炉24内を下流側から上流側に流れることにより、線材11の表面の酸化被膜を効果的に除去することができる。焼鈍炉24内に供給するガスの流量は例えば2〜3L/minである。メッキ槽25では、線材11の表面に溶融したハンダMを付着させ、それを引き上げて空冷し、線材11の表面を被覆するようにハンダメッキ層12を形成する。線材回収部26では、メッキ線材10をボビンBに巻き取って回収する。   In the heating furnace 23, the wire 11 is heated in a high-temperature air atmosphere to burn and carbonize the remaining fats and oils attached to the surface. In the annealing furnace 24, the wire 11 is annealed in a high-temperature reducing gas atmosphere, and the oxide film is removed by reducing the surface with a reducing gas. At this time, the reducing gas flows in the annealing furnace 24 from the downstream side to the upstream side, so that the oxide film on the surface of the wire 11 can be effectively removed. The flow rate of the gas supplied into the annealing furnace 24 is, for example, 2 to 3 L / min. In the plating tank 25, the molten solder M is attached to the surface of the wire 11, pulled up and air-cooled, and the solder plating layer 12 is formed so as to cover the surface of the wire 11. In the wire rod collection unit 26, the plated wire rod 10 is wound around the bobbin B and collected.

なお、上記実施形態に係るメッキ線材1製造装置20では、加熱炉23により線材の表面に付着した油脂類を燃焼させる加熱手段を構成したが、特にこれに限定されるものではなく、図5に示すように焼鈍炉24の前段に設けられた火炎発生器28により構成してもよい。また、加熱炉23により油脂類を燃焼させるので、洗浄槽22(洗浄工程)は必須ではなく、洗浄槽22(洗浄工程)がなければ、それだけ短い工程でメッキ線材10を生産できるので好ましい。   In the plated wire 1 manufacturing apparatus 20 according to the above embodiment, the heating means configured to burn the oils and fats adhering to the surface of the wire by the heating furnace 23 is configured. However, the present invention is not particularly limited to this, and FIG. As shown, a flame generator 28 provided in the front stage of the annealing furnace 24 may be used. Moreover, since fats and oils are burned by the heating furnace 23, the cleaning tank 22 (cleaning process) is not essential, and if there is no cleaning tank 22 (cleaning process), it is preferable because the plated wire 10 can be produced in a shorter process.

本発明はメッキ線材の製造方法及び製造装置について有用である。   The present invention is useful for a method and an apparatus for manufacturing a plated wire.

10 メッキ線材
11 線材
11’ 丸線
12 ハンダメッキ層
20 メッキ線材製造装置
21 線材供給部
21a 圧延機
22 洗浄槽
23 加熱炉
23a 炉本体
23b 線材挿通管
24 焼鈍炉
24a 炉本体
24b 線材挿通管
25 メッキ槽
26 線材回収部
27 還元ガス供給管
28 火炎発生器
B ボビン
M 溶融したハンダ
R1〜R5 ガイドロール
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Plated wire 11 Wire 11 'Round wire 12 Solder plating layer 20 Plating wire manufacturing apparatus 21 Wire supply part 21a Rolling machine 22 Cleaning tank 23 Heating furnace 23a Furnace main body 23b Wire material insertion pipe 24 Annealing furnace 24a Furnace main body 24b Wire material insertion pipe 25 Plating Tank 26 Wire rod recovery unit 27 Reducing gas supply pipe 28 Flame generator B Bobbin M Molten solder R1 to R5 Guide roll

Claims (9)

線材を、焼鈍して軟化させた後、ガイドロールによる案内によって溶融金属中に浸漬して引き上げることにより表面を被覆するようにメッキ層を形成するメッキ線材の製造方法であって、
線材を焼鈍して軟化させる前に、線材を加熱することにより、その表面に付着した油脂類を燃焼させるメッキ線材の製造方法。
After annealing and softening the wire, it is a method for producing a plated wire that forms a plating layer so as to cover the surface by dipping in the molten metal by a guide roll and pulling up,
A method for producing a plated wire material, in which the wire material is heated to burn the oils and fats adhering to the surface thereof before the wire material is annealed and softened.
請求項1に記載されたメッキ線材の製造方法において、
表面に油脂類が付着した線材を加熱して油脂類を燃焼させるのに引き続いて焼鈍して軟化させる連続式としたメッキ線材の製造方法。
In the manufacturing method of the plated wire according to claim 1,
A method for producing a continuous plated wire in which a wire with oils and fats attached to the surface is heated to burn the oils and fats, followed by annealing and softening.
請求項2に記載されたメッキ線材の製造方法において、
線材を加熱炉に通過させることにより加熱して油脂類を燃焼させ、該加熱炉を通過した線材を焼鈍炉に通過させることにより焼鈍して軟化させるメッキ線材の製造方法。
In the manufacturing method of the plated wire according to claim 2,
The manufacturing method of the plating wire which heats by passing a wire through a heating furnace, burns fats and oils, anneals and softens by passing the wire which passed through the heating furnace through an annealing furnace.
請求項1乃至3のいずれかに記載されたメッキ線材の製造方法において、
線材を加熱して油脂類を燃焼させる温度を線材を焼鈍して軟化させる温度よりも低くするメッキ線材の製造方法。
In the manufacturing method of the plated wire according to any one of claims 1 to 3,
The manufacturing method of the plating wire which makes the temperature which heats a wire and burns fats and oils lower than the temperature which anneals and softens a wire.
請求項1乃至4のいずれかに記載されたメッキ線材の製造方法において、
上記線材を大気雰囲気下で加熱して油脂類を燃焼させる一方、上記線材を還元ガス雰囲気下で焼鈍して軟化させるメッキ線材の製造方法。
In the manufacturing method of the plated wire according to any one of claims 1 to 4,
A method for producing a plated wire, wherein the wire is heated in an air atmosphere to burn oils and fats, while the wire is annealed and softened in a reducing gas atmosphere.
通過する線材を焼鈍して軟化させるための焼鈍炉と、該焼鈍炉の下流側に設けられた溶融金属を貯留するためのメッキ槽と、該焼鈍炉を通過した線材を該メッキ槽に貯留された溶融金属中に浸漬して引き上げるように案内するためのガイドロールと、を備えたメッキ線材製造装置であって、
上記焼鈍炉の上流側に設けられた、線材を加熱することにより、その表面に付着した油脂類を燃焼させるための加熱手段をさらに備えたメッキ線材製造装置。
An annealing furnace for annealing and softening the passing wire, a plating tank for storing molten metal provided on the downstream side of the annealing furnace, and a wire that has passed through the annealing furnace are stored in the plating tank. And a guide roll for guiding the guide wire so as to be immersed in the molten metal and pulling it up,
The plating wire manufacturing apparatus further provided with the heating means provided in the upstream of the said annealing furnace for burning the fats and oils adhering to the surface by heating a wire.
請求項6に記載されたメッキ線材製造装置において、
上記加熱手段は、表面に油脂類が付着した線材が通過する加熱炉により構成されているメッキ線材製造装置。
In the plated wire manufacturing apparatus according to claim 6,
The said heating means is a plating wire manufacturing apparatus comprised by the heating furnace through which the wire with which fats and oils adhered to the surface passes.
請求項7に記載されたメッキ線材製造装置において、
上記焼鈍炉と上記加熱炉との熱源が共通であるメッキ線材製造装置。
In the plated wire manufacturing apparatus according to claim 7,
A plated wire manufacturing apparatus in which the heat source is common to the annealing furnace and the heating furnace.
請求項7又は8に記載されたメッキ線材製造装置において、
上記加熱炉が上記焼鈍炉に結合しているメッキ線材製造装置。
In the plated wire manufacturing apparatus according to claim 7 or 8,
A plating wire manufacturing apparatus in which the heating furnace is coupled to the annealing furnace.
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