JP2013004952A - Laminate for cof - Google Patents

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Shohei Azami
昌平 莇
Toyomasa Ito
豊誠 伊藤
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a laminate for COF which has sufficient rigidity and flexibility.SOLUTION: A laminate 1 for COF includes an insulating layer 10 containing an inorganic cloth and a liquid crystal polyester and having a thickness of 150-300 μm. A metal layer 16 is provided on at least one surface of the insulating layer.

Description

本発明は、COF(Chip on Film)用積層板に関する。   The present invention relates to a laminate for COF (Chip on Film).

近年、マイクロエレクトロニクス分野の技術の発展には目覚ましいものがあり、携帯用電子機器等において小型・軽量化の要求が顕著であり、高密度実装に対する期待が大きくなっている。これに伴い、配線板の多層化、配線ピッチの狭幅化、ビアホールの微細化など、より高度の集積化に耐え得る材料が要求されている。   In recent years, there has been a remarkable development in technology in the field of microelectronics, and there has been a significant demand for miniaturization and weight reduction in portable electronic devices and the like, and expectations for high-density mounting are increasing. Along with this, there is a demand for materials that can withstand higher levels of integration, such as multilayer wiring boards, narrowing of wiring pitch, and miniaturization of via holes.

かかる要求に応える基板材料としては、例えば、ポリイミドが挙げられる。ポリイミドは、優れた耐熱性を有し、また機械的、電気的及び化学的特性において他のプラスチック材料に比べて遜色がないことから、例えば、プリント配線板(PWB)、フレキシブルプリント配線板(FPC)、テープ自動ボンディング(TAB)用テープ、そしてチップオンフィルム(COF)用テープ等の電子部品用の絶縁基板材料として多用されている。具体的には、前記PWB、FPC、TAB用テープ、COF用テープは、絶縁層であるポリイミド基板の少なくとも片面に、金属導体層として主に銅を被覆した金属被覆ポリイミド基板を加工することによって製造されている。   An example of a substrate material that meets this requirement is polyimide. Polyimide has excellent heat resistance and is not inferior to other plastic materials in mechanical, electrical and chemical properties. For example, printed wiring board (PWB), flexible printed wiring board (FPC) ), Tapes for automatic tape bonding (TAB), and tapes for chip-on-film (COF), etc., are widely used as insulating substrate materials for electronic components. Specifically, the PWB, FPC, TAB tape and COF tape are manufactured by processing a metal-coated polyimide substrate mainly coated with copper as a metal conductor layer on at least one surface of a polyimide substrate which is an insulating layer. Has been.

一方で、ポリイミドは吸水率や熱膨張率が比較的大きいという問題点があった。そこで最近では、ポリイミドに代わる絶縁層の材料として熱可塑性液晶ポリマーが注目されている。しかし、熱可塑性液晶ポリマーは、高周波特性や寸法安定性に優れるものの、ポリマーを構成する分子が容易に配向するので、力学的物性に優れた成形物を与える一方、射出成形法やインフレーション成形法によりフィルム状に成形すると、配向方向に割れ易かったり、裂け易いという問題点があった。また、従来のようにフィルム状のまま基材として用いると、基材としての剛性が不十分であるという問題点があった。これに対して、フィルム状の熱可塑性液晶ポリマー以外に、中間シートを用いて、これらを積層した積層板を用いる手法が開示されている(特許文献1参照)。   On the other hand, polyimide has a problem that water absorption and thermal expansion coefficient are relatively large. Therefore, recently, a thermoplastic liquid crystal polymer has attracted attention as a material for an insulating layer instead of polyimide. However, the thermoplastic liquid crystal polymer is excellent in high frequency characteristics and dimensional stability, but the molecules constituting the polymer are easily oriented, so that a molded product having excellent mechanical properties can be obtained, while the injection molding method and the inflation molding method are used. When it was formed into a film, there was a problem that it was easily cracked in the orientation direction or was easily torn. Further, when it is used as a base material in the form of a film as in the prior art, there is a problem that the rigidity as the base material is insufficient. On the other hand, the method of using the laminated sheet which laminated | stacked these using the intermediate sheet other than a film-form thermoplastic liquid crystal polymer is disclosed (refer patent document 1).

特開平11−309803号公報Japanese Patent Laid-Open No. 11-309803

しかし、特許文献1で開示されている積層板は、剛性が依然不十分であり、チップ実装に求められる十分な剛性と屈曲性を兼ね備えたものではないという問題点があった。   However, the laminate disclosed in Patent Document 1 still has insufficient rigidity and has a problem that it does not have sufficient rigidity and flexibility required for chip mounting.

本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、十分な剛性と屈曲性を有するCOF用積層板を提供することを課題とする。   This invention is made | formed in view of the said situation, and makes it a subject to provide the laminated board for COF which has sufficient rigidity and flexibility.

上記課題を解決するため、
本発明は、無機クロス及び液晶ポリエステルを含み、且つ厚さが150〜300μmである絶縁層を備え、該絶縁層の少なくとも一方の表面に金属層が設けられたことを特徴とするCOF用積層板を提供する。
本発明のCOF用積層板においては、前記絶縁層が、複数の絶縁基材が積層されたものであり、前記絶縁基材が、前記無機クロスに前記液晶ポリエステルが含浸されたものであることが好ましい。
本発明のCOF用積層板においては、前記無機クロスがガラスクロスであることが好ましい。
本発明のCOF用積層板においては、前記液晶ポリエステルが、下記一般式(1)、(2)及び(3)で表される繰返し単位を有することが好ましい。
(1)−O−Ar−CO−
(2)−CO−Ar−CO−
(3)−X−Ar−Y−
(式中、Arは、フェニレン基、ナフチレン基又はビフェニリレン基であり;Ar及びArは、それぞれ独立にフェニレン基、ナフチレン基、ビフェニリレン基又は下記一般式(4)で表される基であり;X及びYは、それぞれ独立に酸素原子又はイミノ基であり;前記Ar、Ar及びAr中の一つ以上の水素原子は、それぞれ独立にハロゲン原子、アルキル基又はアリール基で置換されていてもよい。)
(4)−Ar−Z−Ar
(式中、Ar及びArは、それぞれ独立にフェニレン基又はナフチレン基であり;Zは、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、スルホニル基又はアルキリデン基である。)
本発明のCOF用積層板においては、前記液晶ポリエステルが、これを構成する全繰返し単位の合計量に対して、前記一般式(1)で表される繰返し単位を30〜80モル%、前記一般式(2)で表される繰返し単位を10〜35モル%、前記一般式(3)で表される繰返し単位を10〜35モル%有することが好ましい。
本発明のCOF用積層板においては、前記一般式(3)において、X及び/又はYがイミノ基であることが好ましい。
To solve the above problem,
The present invention relates to a laminate for COF, comprising an insulating layer containing inorganic cloth and liquid crystal polyester and having a thickness of 150 to 300 μm, and a metal layer provided on at least one surface of the insulating layer. I will provide a.
In the COF laminate of the present invention, the insulating layer is obtained by laminating a plurality of insulating base materials, and the insulating base material is obtained by impregnating the liquid crystal polyester into the inorganic cloth. preferable.
In the COF laminate of the present invention, the inorganic cloth is preferably a glass cloth.
In the COF laminate of the present invention, the liquid crystal polyester preferably has a repeating unit represented by the following general formulas (1), (2) and (3).
(1) —O—Ar 1 —CO—
(2) —CO—Ar 2 —CO—
(3) -X-Ar 3 -Y-
(In the formula, Ar 1 is a phenylene group, a naphthylene group or a biphenylylene group; Ar 2 and Ar 3 are each independently a phenylene group, a naphthylene group, a biphenylylene group or a group represented by the following general formula (4): Yes; X and Y are each independently an oxygen atom or imino group; one or more hydrogen atoms in Ar 1 , Ar 2 and Ar 3 are each independently substituted with a halogen atom, an alkyl group or an aryl group May be.)
(4) -Ar 4 -Z-Ar 5-
(In the formula, Ar 4 and Ar 5 are each independently a phenylene group or a naphthylene group; Z is an oxygen atom, a sulfur atom, a carbonyl group, a sulfonyl group, or an alkylidene group.)
In the COF laminate of the present invention, the liquid crystalline polyester comprises 30 to 80 mol% of the repeating unit represented by the general formula (1) with respect to the total amount of all repeating units constituting the liquid crystalline polyester. It is preferable to have 10 to 35 mol% of the repeating unit represented by the formula (2) and 10 to 35 mol% of the repeating unit represented by the general formula (3).
In the COF laminate of the present invention, in the general formula (3), X and / or Y are preferably imino groups.

本発明によれば、十分な剛性と屈曲性を有するCOF用積層板を提供できる。   According to the present invention, a COF laminate having sufficient rigidity and flexibility can be provided.

本発明に係るCOF用積層板の製造方法を説明するための概略断面図である。It is a schematic sectional drawing for demonstrating the manufacturing method of the laminated board for COF which concerns on this invention. 図1に示す製造方法において、さらに金属箔を絶縁基材と共に同時に加熱プレス方法を説明するための概略断面図である。In the manufacturing method shown in FIG. 1, it is a schematic sectional drawing for demonstrating a hot press method simultaneously with an insulating base material further in metal foil. 図1に示す製造方法を適用して、複数の絶縁層を同時に形成する方法を説明するための概略断面図である。It is a schematic sectional drawing for demonstrating the method of forming the several insulating layer simultaneously applying the manufacturing method shown in FIG. 図2に示す製造方法を適用して、複数の絶縁層を同時に形成する方法を説明するための概略断面図である。It is a schematic sectional drawing for demonstrating the method of forming the several insulating layer simultaneously applying the manufacturing method shown in FIG.

本発明に係るCOF(Chip on Film)用積層板(以下、「積層板」ということがある。)は、無機クロス及び液晶ポリエステルを含み、且つ厚さが150〜300μmである絶縁層を備え、該絶縁層の少なくとも一方の表面に金属層が設けられたことを特徴とする。かかる積層板は、十分な剛性と屈曲性を有し、チップ実装に十分な機械的特性を有する。
以下、図面を参照しながら、本発明について詳細に説明する。
A laminate for COF (Chip on Film) according to the present invention (hereinafter sometimes referred to as “laminate”) includes an inorganic cloth and a liquid crystal polyester, and includes an insulating layer having a thickness of 150 to 300 μm. A metal layer is provided on at least one surface of the insulating layer. Such a laminate has sufficient rigidity and flexibility, and has sufficient mechanical properties for chip mounting.
Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

前記絶縁層としては、前記無機クロスに前記液晶ポリエステルが含浸された絶縁基材(以下、「液晶ポリエステル含浸基材」ということがある。)で構成されたものが例示できる。   Examples of the insulating layer include those composed of an insulating base material in which the inorganic cloth is impregnated with the liquid crystal polyester (hereinafter sometimes referred to as “liquid crystal polyester-impregnated base material”).

絶縁層は、一枚の絶縁基材からなるものでもよいが、複数の絶縁基材が積層されたものが好ましい。
絶縁層が、複数の絶縁基材が積層されたものである場合、これら複数の絶縁基材は、すべて同じでもよいし、一部が異なっていてもよく、すべて異なっていてもよい。また、絶縁基材の数が複数である場合、その数は2枚以上であればよく、目的に応じて任意に選択できる。
The insulating layer may be composed of a single insulating substrate, but is preferably a laminate of a plurality of insulating substrates.
When the insulating layer is a laminate of a plurality of insulating base materials, all of the plurality of insulating base materials may be the same, a part thereof may be different, or all may be different. Moreover, when the number of insulation base materials is plural, the number should just be 2 or more, and can be arbitrarily selected according to the objective.

絶縁基材一枚の厚さは、好ましくは5〜200μmであり、より好ましくは10〜185μmである。   The thickness of one insulating base material is preferably 5 to 200 μm, more preferably 10 to 185 μm.

液晶ポリエステルを含浸させる前記無機クロスは、無機繊維からなるシートであり、前記無機繊維としては、ガラス繊維、アルミナ系繊維、ケイ素含有セラミック系繊維等のセラミック繊維が例示できる。そして、前記無機クロスは、主としてガラス繊維からなるシート、すなわちガラスクロスが好ましい。   The inorganic cloth impregnated with the liquid crystal polyester is a sheet made of inorganic fibers, and examples of the inorganic fibers include glass fibers, alumina fibers, and ceramic fibers such as silicon-containing ceramic fibers. The inorganic cloth is preferably a sheet mainly made of glass fibers, that is, a glass cloth.

前記ガラスクロスとしては、含アルカリガラス繊維、無アルカリガラス繊維又は低誘電ガラス繊維からなるものが好ましい。また、ガラスクロスを構成する繊維は、その一部にガラス以外のセラミックからなるセラミック繊維又は炭素繊維が混入していてもよい。また、ガラスクロスを構成する繊維は、アミノシラン系カップリング剤、エポキシシラン系カップリング剤、チタネート系カップリング剤等のカップリング剤で表面処理されていてもよい。   The glass cloth is preferably made of alkali-containing glass fiber, non-alkali glass fiber or low dielectric glass fiber. Moreover, the fiber which comprises a glass cloth may mix the ceramic fiber or carbon fiber which consists of ceramics other than glass in the part. The fibers constituting the glass cloth may be surface-treated with a coupling agent such as an aminosilane coupling agent, an epoxysilane coupling agent, or a titanate coupling agent.

これら繊維からなるガラスクロスの製造方法としては、ガラスクロスを形成する繊維を水中に分散させ、必要に応じてアクリル樹脂等の糊剤を添加して、抄紙機にて抄造後、乾燥させることで不織布を得る方法や、公知の織成機を用いる方法が例示できる。   As a method for producing a glass cloth composed of these fibers, the fibers forming the glass cloth are dispersed in water, and if necessary, a paste such as an acrylic resin is added, and after making paper with a paper machine, drying is performed. Examples thereof include a method for obtaining a nonwoven fabric and a method using a known weaving machine.

繊維の織り方としては、平織り、朱子織り、綾織り、ななこ織り等が利用できる。織り密度は、10〜100本/25mmであることが好ましい。
前記ガラスクロスの単位面積当たりの質量は、10〜300g/mであることが好ましい。
前記ガラスクロスの厚さは、好ましくは10〜200μmであり、より好ましくは10〜180μmである。
Plain weave, satin weave, twill weave, Nanako weave, etc. can be used as the weaving method of the fibers. The weaving density is preferably 10 to 100 pieces / 25 mm.
The mass per unit area of the glass cloth is preferably 10 to 300 g / m 2 .
The thickness of the glass cloth is preferably 10 to 200 μm, more preferably 10 to 180 μm.

前記ガラスクロスは、市販品でもよい。容易に入手可能な市販品のガラスクロスとしては、電子部品の絶縁含浸基材用のものが例示でき、旭シュエーベル株式会社、日東紡績株式会社、有沢製作所株式会社等から入手できる。
なお、市販品のガラスクロスで好適な厚さのものとしては、IPC呼称で1035、1078、2116、7628のものが例示できる。
The glass cloth may be a commercial product. Examples of commercially available glass cloths that can be easily obtained include those for insulating impregnated substrates of electronic components, which can be obtained from Asahi Sebel Co., Ltd., Nitto Boseki Co., Ltd., Arisawa Manufacturing Co., Ltd., and the like.
Examples of commercially available glass cloth having a suitable thickness include those having IPC names of 1035, 1078, 2116, and 7628.

液晶ポリエステルは、溶融状態で液晶性を示す液晶ポリエステルであり、450℃以下の温度で溶融するものであることが好ましい。なお、液晶ポリエステルは、液晶ポリエステルアミドであってもよいし、液晶ポリエステルエーテルであってもよいし、液晶ポリエステルカーボネートであってもよいし、液晶ポリエステルイミドであってもよい。液晶ポリエステルは、原料モノマーとして芳香族化合物のみを用いてなる全芳香族液晶ポリエステルであることが好ましい。   The liquid crystalline polyester is a liquid crystalline polyester that exhibits liquid crystallinity in a molten state, and is preferably melted at a temperature of 450 ° C. or lower. The liquid crystal polyester may be a liquid crystal polyester amide, a liquid crystal polyester ether, a liquid crystal polyester carbonate, or a liquid crystal polyester imide. The liquid crystal polyester is preferably a wholly aromatic liquid crystal polyester using only an aromatic compound as a raw material monomer.

液晶ポリエステルの典型的な例としては、
(I)芳香族ヒドロキシカルボン酸と、芳香族ジカルボン酸と、芳香族ジオール、芳香族ヒドロキシアミン及び芳香族ジアミンからなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物と、を重合(重縮合)させてなるもの、
(II)複数種の芳香族ヒドロキシカルボン酸を重合させてなるもの、
(III)芳香族ジカルボン酸と、芳香族ジオール、芳香族ヒドロキシアミン及び芳香族ジアミンからなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物と、を重合させてなるもの、
(IV)ポリエチレンテレフタレート等のポリエステルと、芳香族ヒドロキシカルボン酸と、を重合させてなるもの
が挙げられる。ここで、芳香族ヒドロキシカルボン酸、芳香族ジカルボン酸、芳香族ジオール、芳香族ヒドロキシアミン及び芳香族ジアミンは、それぞれ独立に、その一部又は全部に代えて、その重合可能な誘導体が用いられてもよい。
As a typical example of liquid crystal polyester,
(I) An aromatic hydroxycarboxylic acid, an aromatic dicarboxylic acid, and at least one compound selected from the group consisting of an aromatic diol, an aromatic hydroxyamine, and an aromatic diamine are polymerized (polycondensed). thing,
(II) a polymer obtained by polymerizing plural kinds of aromatic hydroxycarboxylic acids,
(III) A polymer obtained by polymerizing an aromatic dicarboxylic acid and at least one compound selected from the group consisting of an aromatic diol, an aromatic hydroxyamine and an aromatic diamine,
(IV) What polymerizes polyester, such as a polyethylene terephthalate, and aromatic hydroxycarboxylic acid is mentioned. Here, the aromatic hydroxycarboxylic acid, the aromatic dicarboxylic acid, the aromatic diol, the aromatic hydroxyamine, and the aromatic diamine are each independently replaced with a part or all of the polymerizable derivative. Also good.

芳香族ヒドロキシカルボン酸及び芳香族ジカルボン酸のようなカルボキシル基を有する化合物の重合可能な誘導体の例としては、カルボキシル基をアルコキシカルボニル基又はアリールオキシカルボニル基に変換してなるもの(エステル)、カルボキシル基をハロホルミル基に変換してなるもの(酸ハロゲン化物)、及びカルボキシル基をアシルオキシカルボニル基に変換してなるもの(酸無水物)が挙げられる。
芳香族ヒドロキシカルボン酸、芳香族ジオール及び芳香族ヒドロキシアミンのようなヒドロキシル基を有する化合物の重合可能な誘導体の例としては、ヒドロキシル基をアシル化してアシルオキシル基に変換してなるもの(アシル化物)が挙げられる。
芳香族ヒドロキシアミン及び芳香族ジアミンのようなアミノ基を有する化合物の重合可能な誘導体の例としては、アミノ基をアシル化してアシルアミノ基に変換してなるもの(アシル化物)が挙げられる。
Examples of polymerizable derivatives of a compound having a carboxyl group such as aromatic hydroxycarboxylic acid and aromatic dicarboxylic acid include those obtained by converting a carboxyl group into an alkoxycarbonyl group or an aryloxycarbonyl group (ester), carboxyl Examples include those obtained by converting a group into a haloformyl group (acid halide), and those obtained by converting a carboxyl group into an acyloxycarbonyl group (acid anhydride).
Examples of polymerizable derivatives of hydroxyl group-containing compounds such as aromatic hydroxycarboxylic acids, aromatic diols and aromatic hydroxyamines include those obtained by acylating hydroxyl groups and converting them to acyloxyl groups (acylated products) ).
Examples of polymerizable derivatives of amino group-containing compounds such as aromatic hydroxyamines and aromatic diamines include those obtained by acylating an amino group and converting it to an acylamino group (acylated product).

液晶ポリエステルは、下記一般式(1)で表される繰返し単位(以下、「繰返し単位(1)」ということがある。)を有することが好ましく、繰返し単位(1)と、下記一般式(2)で表される繰返し単位(以下、「繰返し単位(2)」ということがある。)と、下記一般式(3)で表される繰返し単位(以下、「繰返し単位(3)」ということがある。)とを有することがより好ましい。   The liquid crystalline polyester preferably has a repeating unit represented by the following general formula (1) (hereinafter sometimes referred to as “repeating unit (1)”). The repeating unit (1) and the following general formula (2) ) (Hereinafter sometimes referred to as “repeat unit (2)”) and a repeat unit represented by the following general formula (3) (hereinafter referred to as “repeat unit (3)”). More preferably).

(1)−O−Ar−CO−
(2)−CO−Ar−CO−
(3)−X−Ar−Y−
(式中、Arは、フェニレン基、ナフチレン基又はビフェニリレン基であり;Ar及びArは、それぞれ独立にフェニレン基、ナフチレン基、ビフェニリレン基又は下記一般式(4)で表される基であり;X及びYは、それぞれ独立に酸素原子又はイミノ基であり;前記Ar、Ar及びAr中の一つ以上の水素原子は、それぞれ独立にハロゲン原子、アルキル基又はアリール基で置換されていてもよい。)
(4)−Ar−Z−Ar
(式中、Ar及びArは、それぞれ独立にフェニレン基又はナフチレン基であり;Zは、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、スルホニル基又はアルキリデン基である。)
(1) —O—Ar 1 —CO—
(2) —CO—Ar 2 —CO—
(3) -X-Ar 3 -Y-
(In the formula, Ar 1 is a phenylene group, a naphthylene group or a biphenylylene group; Ar 2 and Ar 3 are each independently a phenylene group, a naphthylene group, a biphenylylene group or a group represented by the following general formula (4): Yes; X and Y are each independently an oxygen atom or imino group; one or more hydrogen atoms in Ar 1 , Ar 2 and Ar 3 are each independently substituted with a halogen atom, an alkyl group or an aryl group May be.)
(4) -Ar 4 -Z-Ar 5-
(In the formula, Ar 4 and Ar 5 are each independently a phenylene group or a naphthylene group; Z is an oxygen atom, a sulfur atom, a carbonyl group, a sulfonyl group, or an alkylidene group.)

前記ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。
前記アルキル基の例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、2−エチルヘキシル基、n−オクチル基、n−ノニル基及びn−デシル基が挙げられ、その炭素数は、1〜10であることが好ましい。
前記アリール基の例としては、フェニル基、o−トリル基、m−トリル基、p−トリル基、1−ナフチル基及び2−ナフチル基が挙げられ、その炭素数は、6〜20であることが好ましい。
前記水素原子がこれらの基で置換されている場合、その数は、Ar、Ar又はArで表される前記基毎に、それぞれ独立に2個以下であることが好ましく、1個であることがより好ましい。
As said halogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom are mentioned.
Examples of the alkyl group include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, An n-heptyl group, a 2-ethylhexyl group, an n-octyl group, an n-nonyl group, and an n-decyl group may be mentioned, and the number of carbon atoms is preferably 1-10.
Examples of the aryl group include a phenyl group, an o-tolyl group, an m-tolyl group, a p-tolyl group, a 1-naphthyl group, and a 2-naphthyl group, and the carbon number thereof is 6 to 20. Is preferred.
When the hydrogen atom is substituted with these groups, the number is preferably 2 or less independently for each of the groups represented by Ar 1 , Ar 2 or Ar 3. More preferably.

前記アルキリデン基の例としては、メチレン基、エチリデン基、イソプロピリデン基、n−ブチリデン基及び2−エチルヘキシリデン基が挙げられ、その炭素数は1〜10であることが好ましい。   Examples of the alkylidene group include a methylene group, an ethylidene group, an isopropylidene group, an n-butylidene group, and a 2-ethylhexylidene group, and preferably have 1 to 10 carbon atoms.

繰返し単位(1)は、所定の芳香族ヒドロキシカルボン酸に由来する繰返し単位である。繰返し単位(1)としては、Arが1,4−フェニレン基であるもの(p−ヒドロキシ安息香酸に由来する繰返し単位)、及びArが2,6−ナフチレン基であるもの(6−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸に由来する繰返し単位)が好ましい。 The repeating unit (1) is a repeating unit derived from a predetermined aromatic hydroxycarboxylic acid. As repeating unit (1), Ar 1 is a 1,4-phenylene group (repeating unit derived from p-hydroxybenzoic acid), and Ar 1 is a 2,6-naphthylene group (6-hydroxy). Preferred is a repeating unit derived from 2-naphthoic acid.

繰返し単位(2)は、所定の芳香族ジカルボン酸に由来する繰返し単位である。繰返し単位(2)としては、Arが1,4−フェニレン基であるもの(テレフタル酸に由来する繰返し単位)、Arが1,3−フェニレン基であるもの(イソフタル酸に由来する繰返し単位)、Arが2,6−ナフチレン基であるもの(2,6−ナフタレンジカルボン酸に由来する繰返し単位)、及びArがジフェニルエ−テル−4,4’−ジイル基であるもの(ジフェニルエ−テル−4,4’−ジカルボン酸に由来する繰返し単位)が好ましい。 The repeating unit (2) is a repeating unit derived from a predetermined aromatic dicarboxylic acid. As the repeating unit (2), Ar 2 is a 1,4-phenylene group (repeating unit derived from terephthalic acid), Ar 2 is a 1,3-phenylene group (repeating unit derived from isophthalic acid) ), Ar 2 is a 2,6-naphthylene group (repeating unit derived from 2,6-naphthalenedicarboxylic acid), and Ar 2 is a diphenyl ether-4,4′-diyl group (diphenyl) Preferred is a repeating unit derived from ether-4,4′-dicarboxylic acid).

繰返し単位(3)は、所定の芳香族ジオール、芳香族ヒドロキシルアミン又は芳香族ジアミンに由来する繰返し単位である。繰返し単位(3)としては、Arが1,4−フェニレン基であるもの(ヒドロキノン、p−アミノフェノール又はp−フェニレンジアミンに由来する繰返し単位)、及びArが4,4’−ビフェニリレン基であるもの(4,4’−ジヒドロキシビフェニル、4−アミノ−4’−ヒドロキシビフェニル又は4,4’−ジアミノビフェニルに由来する繰返し単位)が好ましい。 The repeating unit (3) is a repeating unit derived from a predetermined aromatic diol, aromatic hydroxylamine or aromatic diamine. As the repeating unit (3), Ar 3 is a 1,4-phenylene group (a repeating unit derived from hydroquinone, p-aminophenol or p-phenylenediamine), and Ar 3 is a 4,4′-biphenylylene group. (Repeating unit derived from 4,4′-dihydroxybiphenyl, 4-amino-4′-hydroxybiphenyl or 4,4′-diaminobiphenyl) is preferred.

繰返し単位(1)の含有量は、液晶ポリエステルを構成する全繰返し単位の合計量(液晶ポリエステルを構成する各繰返し単位の質量をその各繰返し単位の式量で割ることにより、各繰返し単位の物質量相当量(モル)を求め、それらを合計した値)に対して、好ましくは30モル%以上、より好ましくは30〜80モル%、さらに好ましくは30〜60モル%、特に好ましくは30〜40モル%である。
繰返し単位(2)の含有量は、液晶ポリエステルを構成する全繰返し単位の合計量に対して、好ましくは35モル%以下、より好ましくは10〜35モル%、さらに好ましくは20〜35モル%、特に好ましくは30〜35モル%である。
繰返し単位(3)の含有量は、液晶ポリエステルを構成する全繰返し単位の合計量に対して、好ましくは35モル%以下、より好ましくは10〜35モル%、さらに好ましくは20〜35モル%、特に好ましくは30〜35モル%である。
繰返し単位(1)の含有量が多いほど、耐熱性や強度・剛性が向上し易いが、あまり多いと、溶媒に対する溶解性が低くなり易い。
The content of the repeating unit (1) is the total amount of all repeating units constituting the liquid crystal polyester (the substance of each repeating unit is obtained by dividing the mass of each repeating unit constituting the liquid crystal polyester by the formula weight of each repeating unit). The equivalent amount (mole) is obtained, and the sum of these is preferably 30 mol% or more, more preferably 30 to 80 mol%, still more preferably 30 to 60 mol%, and particularly preferably 30 to 40 mol%. Mol%.
The content of the repeating unit (2) is preferably 35 mol% or less, more preferably 10 to 35 mol%, still more preferably 20 to 35 mol%, based on the total amount of all repeating units constituting the liquid crystal polyester. Most preferably, it is 30-35 mol%.
The content of the repeating unit (3) is preferably 35 mol% or less, more preferably 10 to 35 mol%, still more preferably 20 to 35 mol%, based on the total amount of all repeating units constituting the liquid crystal polyester. Most preferably, it is 30-35 mol%.
As the content of the repeating unit (1) is increased, the heat resistance, strength and rigidity are likely to be improved. However, if the content is too large, the solubility in a solvent is likely to be lowered.

繰返し単位(2)の含有量と繰返し単位(3)の含有量との割合は、[繰返し単位(2)の含有量]/[繰返し単位(3)の含有量](モル/モル)で表して、好ましくは0.9/1〜1/0.9、より好ましくは0.95/1〜1/0.95、さらに好ましくは0.98/1〜1/0.98である。   The ratio between the content of the repeating unit (2) and the content of the repeating unit (3) is expressed as [content of repeating unit (2)] / [content of repeating unit (3)] (mol / mol). The ratio is preferably 0.9 / 1 to 1 / 0.9, more preferably 0.95 / 1 to 1 / 0.95, and still more preferably 0.98 / 1 to 1 / 0.98.

なお、液晶ポリエステルは、繰返し単位(1)〜(3)を、それぞれ独立に二種以上有してもよい。また、液晶ポリエステルは、繰返し単位(1)〜(3)以外の繰返し単位を有してもよいが、その含有量は、液晶ポリエステルを構成する全繰返し単位の合計量に対して、好ましくは10モル%以下、より好ましくは5モル%以下である。   In addition, liquid crystalline polyester may have 2 or more types of repeating units (1)-(3) each independently. The liquid crystal polyester may have a repeating unit other than the repeating units (1) to (3), and the content thereof is preferably 10 with respect to the total amount of all repeating units constituting the liquid crystal polyester. The mol% or less, more preferably 5 mol% or less.

液晶ポリエステルは、繰返し単位(3)として、X及び/又はYがイミノ基(−NH−)であるものを有すること、すなわち、所定の芳香族ヒドロキシルアミンに由来する繰返し単位及び/又は芳香族ジアミンに由来する繰返し単位を有することが好ましく、繰返し単位(3)として、X及び/又はYがイミノ基であるもののみを有することがより好ましい。このようにすることで、液晶ポリエステルは溶媒に対する溶解性がより優れたものとなる。   The liquid crystalline polyester has a repeating unit (3) in which X and / or Y is an imino group (—NH—), that is, a repeating unit derived from a predetermined aromatic hydroxylamine and / or an aromatic diamine. It is preferable that the repeating unit (3) has only those in which X and / or Y is an imino group. By doing in this way, liquid crystalline polyester becomes the thing which was more excellent in the solubility with respect to a solvent.

液晶ポリエステルは、これを構成する繰返し単位に対応する原料モノマーを溶融重合させ、得られた重合物(プレポリマー)を固相重合させることにより、製造することが好ましい。これにより、耐熱性や強度・剛性が高い高分子量の液晶ポリエステルを操作性良く製造することができる。溶融重合は、触媒の存在下で行ってもよく、この場合の触媒の例としては、酢酸マグネシウム、酢酸第一錫、テトラブチルチタネート、酢酸鉛、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、三酸化アンチモン等の金属化合物や、4−(ジメチルアミノ)ピリジン、1−メチルイミダゾール等の含窒素複素環式化合物が挙げられ、含窒素複素環式化合物が好ましく用いられる。   The liquid crystal polyester is preferably produced by melt polymerization of raw material monomers corresponding to the repeating units constituting the liquid crystal polyester and solid-phase polymerization of the obtained polymer (prepolymer). Thereby, high molecular weight liquid crystal polyester having high heat resistance, strength and rigidity can be produced with good operability. Melt polymerization may be carried out in the presence of a catalyst. Examples of the catalyst in this case include metals such as magnesium acetate, stannous acetate, tetrabutyl titanate, lead acetate, sodium acetate, potassium acetate, and antimony trioxide. Compounds, nitrogen-containing heterocyclic compounds such as 4- (dimethylamino) pyridine, 1-methylimidazole and the like can be mentioned, and nitrogen-containing heterocyclic compounds are preferably used.

液晶ポリエステルは、その流動開始温度が、好ましくは250℃以上、より好ましくは250℃〜350℃、さらに好ましくは260℃〜330℃である。流動開始温度が高いほど、耐熱性や強度・剛性が向上し易いが、高過ぎると、溶媒に対する溶解性が低くなり易かったり、後述する液状組成物の粘度が高くなり易かったりする。   The liquid crystal polyester has a flow initiation temperature of preferably 250 ° C. or higher, more preferably 250 ° C. to 350 ° C., and still more preferably 260 ° C. to 330 ° C. As the flow start temperature is higher, the heat resistance, strength and rigidity are more likely to be improved. However, if the flow start temperature is too high, the solubility in a solvent tends to be low, and the viscosity of the liquid composition described later tends to be high.

なお、流動開始温度は、フロー温度又は流動温度とも呼ばれ、毛細管レオメーターを用いて、9.8MPa(100kg/cm)の荷重下、4℃/分の速度で昇温しながら、液晶ポリエステルを溶融させ、内径1mm及び長さ10mmのノズルから押し出すときに、4800Pa・s(48000ポイズ)の粘度を示す温度であり、液晶ポリエステルの分子量の目安となるものである(小出直之編、「液晶ポリマー−合成・成形・応用−」、株式会社シーエムシー、1987年6月5日、p.95参照)。 The flow start temperature is also called flow temperature or flow temperature, and the temperature is raised at a rate of 4 ° C./min under a load of 9.8 MPa (100 kg / cm 2 ) using a capillary rheometer while liquid crystal polyester is used. Is a temperature showing a viscosity of 4800 Pa · s (48000 poise) when extruded from a nozzle having an inner diameter of 1 mm and a length of 10 mm, and is a measure of the molecular weight of the liquid crystalline polyester (Naide Koide, “ “Liquid Crystal Polymer—Synthesis / Molding / Application—”, CMC Co., Ltd., June 5, 1987, p. 95).

前記絶縁基材は、液晶ポリエステル及び溶媒を含む液状組成物(液晶ポリエステル液状組成物)、好ましくは液晶ポリエステルが溶媒に溶解された液状組成物(液晶ポリエステル溶液)を基材に含浸させ、溶媒を除去することで製造できる。   The insulating base is impregnated in a liquid composition (liquid crystal polyester liquid composition) containing liquid crystal polyester and a solvent, preferably a liquid composition (liquid crystal polyester solution) in which liquid crystal polyester is dissolved in a solvent, It can be manufactured by removing.

前記溶媒としては、用いる液晶ポリエステルが溶解可能なもの、具体的には50℃にて1質量%以上の濃度([液晶ポリエステル]/[液晶ポリエステル+溶媒]×100)で溶解可能なものが、適宜選択して用いられる。   As said solvent, what can melt | dissolve the liquid crystalline polyester to be used, specifically what can melt | dissolve in the density | concentration ([liquid crystalline polyester] / [liquid crystalline polyester + solvent] x100) of 1 mass% or more at 50 degreeC, It is appropriately selected and used.

前記溶媒の例としては、ジクロロメタン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、1,1,2,2−テトラクロロエタン、o−ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素;p−クロロフェノール、ペンタクロロフェノール、ペンタフルオロフェノール等のハロゲン化フェノール;ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン等のエーテル;アセトン、シクロヘキサノン等のケトン;酢酸エチル、γ−ブチロラクトン等のエステル;エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等のカーボネート;トリエチルアミン等のアミン;ピリジン等の含窒素複素環芳香族化合物;アセトニトリル、スクシノニトリル等のニトリル;N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン(N−メチル−2−ピロリドン)等のアミド系化合物(アミド結合を有する化合物);テトラメチル尿素等の尿素化合物;ニトロメタン、ニトロベンゼン等のニトロ化合物;ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物;ヘキサメチルリン酸アミド、トリn−ブチルリン酸等のリン化合物が挙げられ、これらの二種以上を用いてもよい。   Examples of the solvent include halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform, 1,2-dichloroethane, 1,1,2,2-tetrachloroethane, o-dichlorobenzene; p-chlorophenol, pentachlorophenol, pentafluoro Halogenated phenols such as phenol; Ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran and 1,4-dioxane; Ketones such as acetone and cyclohexanone; Esters such as ethyl acetate and γ-butyrolactone; Carbonates such as ethylene carbonate and propylene carbonate; Triethylamine and the like Amines; Nitrogen-containing heterocyclic aromatic compounds such as pyridine; Nitriles such as acetonitrile and succinonitrile; N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone (N-methyl Amide compounds (compounds having an amide bond) such as ru-2-pyrrolidone; urea compounds such as tetramethylurea; nitro compounds such as nitromethane and nitrobenzene; sulfur compounds such as dimethyl sulfoxide and sulfolane; hexamethylphosphoric acid amide; Examples include phosphorus compounds such as tri-n-butyl phosphate, and two or more of these may be used.

溶媒としては、腐食性が低く、取り扱い易いことから、非プロトン性化合物、特にハロゲン原子を有しない非プロトン性化合物を主成分とする溶媒が好ましく、溶媒全体に占める非プロトン性化合物の割合は、好ましくは50〜100質量%、より好ましくは70〜100質量%、さらに好ましくは90〜100質量%である。
また、前記非プロトン性化合物としては、液晶ポリエステルを溶解し易いことから、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン等のアミド系化合物を用いることが好ましい。
As the solvent, since it is low in corrosivity and easy to handle, an aprotic compound, particularly a solvent mainly comprising an aprotic compound having no halogen atom, is preferred, and the proportion of the aprotic compound in the entire solvent is: Preferably it is 50-100 mass%, More preferably, it is 70-100 mass%, More preferably, it is 90-100 mass%.
As the aprotic compound, amide compounds such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, and N-methylpyrrolidone are preferably used because they easily dissolve liquid crystal polyester.

また、溶媒としては、液晶ポリエステルを溶解し易いことから、双極子モーメントが3〜5である化合物を主成分とする溶媒が好ましく、溶媒全体に占める、双極子モーメントが3〜5である化合物の割合は、好ましくは50〜100質量%、より好ましくは70〜100質量%、さらに好ましくは90〜100質量%であり、前記非プロトン性化合物として、双極子モーメントが3〜5である化合物を用いることが好ましい。   Moreover, as a solvent, since it is easy to melt | dissolve liquid crystalline polyester, the solvent which has a compound whose dipole moment is 3-5 as a main component is preferable, and the compound whose dipole moment occupies the whole solvent is 3-5 The ratio is preferably 50 to 100% by mass, more preferably 70 to 100% by mass, and still more preferably 90 to 100% by mass, and a compound having a dipole moment of 3 to 5 is used as the aprotic compound. It is preferable.

また、溶媒としては、除去し易いことから、1気圧における沸点が220℃以下である化合物を主成分とするとする溶媒が好ましく、溶媒全体に占める、1気圧における沸点が220℃以下である化合物の割合は、好ましくは50〜100質量%、より好ましくは70〜100質量%、さらに好ましくは90〜100質量%であり、前記非プロトン性化合物として、1気圧における沸点が220℃以下である化合物を用いることが好ましい。   Moreover, as a solvent, since it is easy to remove, the solvent which has as a main component the compound whose boiling point in 1 atmosphere is 220 degrees C or less is preferable, and the boiling point in 1 atmosphere which occupies the whole solvent of the compound which is 220 degrees C or less The ratio is preferably 50 to 100% by mass, more preferably 70 to 100% by mass, and still more preferably 90 to 100% by mass. As the aprotic compound, a compound having a boiling point of 220 ° C. or less at 1 atm. It is preferable to use it.

液状組成物中の液晶ポリエステルの含有量は、液晶ポリエステル及び溶媒の合計量に対して、好ましくは5〜60質量%、より好ましくは10〜50質量%、さらに好ましくは15〜45質量%であり、所望の粘度の液状組成物が得られるように、適宜調整される。   The content of the liquid crystal polyester in the liquid composition is preferably 5 to 60% by mass, more preferably 10 to 50% by mass, and further preferably 15 to 45% by mass with respect to the total amount of the liquid crystal polyester and the solvent. The liquid composition having a desired viscosity is appropriately adjusted.

液状組成物は、充填材、添加剤、液晶ポリエステル以外の樹脂等の他の成分を一種以上含んでもよい。   The liquid composition may contain one or more other components such as a filler, an additive, and a resin other than the liquid crystal polyester.

前記充填材の例としては、シリカ、アルミナ、酸化チタン、チタン酸バリウム、チタン酸ストロンチウム、水酸化アルミニウム、炭酸カルシウム等の無機充填材;硬化エポキシ樹脂、架橋ベンゾグアナミン樹脂、架橋アクリル樹脂等の有機充填材が挙げられ、その含有量は、液晶ポリエステル100質量部に対して、好ましくは0〜100質量部である。   Examples of the filler include inorganic fillers such as silica, alumina, titanium oxide, barium titanate, strontium titanate, aluminum hydroxide, and calcium carbonate; organic filling such as cured epoxy resin, crosslinked benzoguanamine resin, and crosslinked acrylic resin The material may be mentioned, and the content thereof is preferably 0 to 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the liquid crystalline polyester.

前記添加剤の例としては、レベリング剤、消泡剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、難燃剤及び着色剤が挙げられ、その含有量は、液晶ポリエステル100質量部に対して、好ましくは0〜5質量部である。   Examples of the additive include a leveling agent, an antifoaming agent, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a flame retardant, and a colorant, and the content thereof is preferably 0 to 100 parts by mass of the liquid crystalline polyester. 5 parts by mass.

前記液晶ポリエステル以外の樹脂の例としては、ポリプロピレン、ポリアミド、液晶ポリエステル以外のポリエステル、ポリフェニレンスルフィド、ポリエーテルケトン、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンエーテル、ポリエーテルイミド等の熱可塑性樹脂;フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、シアネート樹脂等の熱硬化性樹脂が挙げられ、その含有量は、液晶ポリエステル100質量部に対して、好ましくは0〜20質量部である。   Examples of the resin other than the liquid crystal polyester include polypropylene, polyamide, polyester other than the liquid crystal polyester, thermoplastic resin such as polyphenylene sulfide, polyether ketone, polycarbonate, polyether sulfone, polyphenylene ether, polyether imide; phenol resin, epoxy Examples thereof include thermosetting resins such as resins, polyimide resins, and cyanate resins, and the content thereof is preferably 0 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the liquid crystalline polyester.

液状組成物は、液晶ポリエステル、溶媒、及び必要に応じて用いられる他の成分を、一括で又は適当な順序で混合することにより調製することができる。他の成分として充填材を用いる場合は、液晶ポリエステルを溶媒に溶解させて、液晶ポリエステル溶液を得、この液晶ポリエステル溶液に充填材を分散させることにより調製することが好ましい。   The liquid composition can be prepared by mixing the liquid crystal polyester, the solvent, and other components used as necessary, all at once or in an appropriate order. When using a filler as another component, it is preferable to prepare by dissolving liquid crystal polyester in a solvent to obtain a liquid crystal polyester solution, and dispersing the filler in this liquid crystal polyester solution.

無機クロスに液状組成物を含浸させる方法としては、浸漬槽中の前記液状組成物に基材を浸漬する方法が例示できる。この方法においては、液状組成物の液晶ポリエステルの含有量、浸漬時間、浸漬した基材の液状組成物からの引き上げ速度を適宜調節することで、基材への液晶ポリエステルの付着量を容易に制御できる。   Examples of the method of impregnating the inorganic cloth with the liquid composition include a method of immersing the substrate in the liquid composition in the immersion tank. In this method, the amount of liquid crystal polyester adhered to the substrate can be easily controlled by appropriately adjusting the content of liquid crystal polyester in the liquid composition, the dipping time, and the lifting speed of the immersed substrate from the liquid composition. it can.

液状組成物を含浸させた基材から溶媒を除去する方法は、特に限定されないが、操作が簡便である点で、溶媒を蒸発させる方法が好ましく、加熱、減圧及び通風のいずれかを単独で、又は二つ以上を組み合わせて蒸発させる方法が例示できる。   The method for removing the solvent from the substrate impregnated with the liquid composition is not particularly limited, but in terms of simple operation, a method of evaporating the solvent is preferable, and any one of heating, decompression and ventilation is used alone. Or the method of evaporating by combining 2 or more can be illustrated.

溶媒を除去して得られた液晶ポリエステル含浸基材における液晶ポリエステルの付着量は、液晶ポリエステル含浸基材に対して30〜80質量%であることが好ましく、40〜70質量%であることがより好ましい。   The adhesion amount of the liquid crystal polyester in the liquid crystal polyester-impregnated base material obtained by removing the solvent is preferably 30 to 80% by mass and more preferably 40 to 70% by mass with respect to the liquid crystal polyester-impregnated base material. preferable.

前記絶縁基材は、溶媒除去後にさらに加熱処理することが好ましい。これにより、含浸されている液晶ポリエステルをより高分子量化でき、耐熱性をより向上させることができる。   The insulating substrate is preferably further heat-treated after removing the solvent. Thereby, the liquid crystal polyester impregnated can be made higher in molecular weight, and heat resistance can be further improved.

加熱処理は、窒素ガス等の不活性ガスの雰囲気下で行うことが好ましい。そして、加熱温度は、好ましくは240〜330℃、より好ましくは250〜330℃、さらに好ましくは260〜320℃である。下限値以上とすることで、得られる積層板の耐熱性がより向上する。加熱時間は、好ましくは1〜30時間、より好ましくは1〜10時間である。下限値以上とすることで、得られる積層板の耐熱性がより向上し、上限値以下とすることで、積層体の生産性がより向上する。   The heat treatment is preferably performed in an atmosphere of an inert gas such as nitrogen gas. And heating temperature becomes like this. Preferably it is 240-330 degreeC, More preferably, it is 250-330 degreeC, More preferably, it is 260-320 degreeC. The heat resistance of the obtained laminated board improves more by setting it as more than a lower limit. The heating time is preferably 1 to 30 hours, more preferably 1 to 10 hours. The heat resistance of the obtained laminated board improves more by setting it as more than a lower limit, and the productivity of a laminated body improves more by setting it as an upper limit or less.

絶縁層の厚さは、150〜300μmであり、好ましくは160〜290μm、より好ましくは165〜285μm、さらに好ましくは165〜250μmである。下限値以上とすることで、積層板は剛性が向上し、上限値以下とすることで、積層板は屈曲性が向上する。   The thickness of an insulating layer is 150-300 micrometers, Preferably it is 160-290 micrometers, More preferably, it is 165-285 micrometers, More preferably, it is 165-250 micrometers. By setting the lower limit value or more, the laminate has improved rigidity, and by setting the lower limit value or less, the laminate has improved flexibility.

絶縁層の曲げ弾性率は、8〜16GPaであることが好ましい。このような範囲とすることで、チップ実装により優れた剛性を有するものとなる。   The bending elastic modulus of the insulating layer is preferably 8 to 16 GPa. By setting it as such a range, it has the rigidity which was excellent by chip mounting.

前記金属層は、絶縁層の少なくとも一方の表面に設けられる。すなわち、絶縁層の一面のみ(片面)に設けられていてもよいし、一面と、これとは反対側の面との両方(両面)に設けられていてもよい。   The metal layer is provided on at least one surface of the insulating layer. That is, it may be provided on only one surface (one surface) of the insulating layer, or may be provided on both one surface and the opposite surface (both surfaces).

金属層の材質は、銅、アルミ、銀又はこれらから選択される一種以上の金属を含む合金が好ましい。なかでも、より優れた導電性を有する点から、銅又は銅合金が好ましい。そして、金属層は、材料の取扱いが容易で、簡便に形成でき、経済性にも優れる点から、金属箔からなるものが好ましく、銅箔からなるものがより好ましい。金属層を絶縁層の両面に設ける場合、これら金属層の材質は、同じでもよいし、異なっていてもよい。   The material of the metal layer is preferably copper, aluminum, silver or an alloy containing one or more metals selected from these. Of these, copper or a copper alloy is preferable from the viewpoint of having superior conductivity. The metal layer is preferably made of a metal foil, more preferably a copper foil, because the material is easy to handle, can be easily formed, and is excellent in economy. When providing a metal layer on both surfaces of an insulating layer, the material of these metal layers may be the same and may differ.

金属層の厚さは、好ましくは1〜70μmであり、より好ましくは3〜18μmである。   The thickness of the metal layer is preferably 1 to 70 μm, more preferably 3 to 18 μm.

前記積層板は、絶縁層の表面に金属層を設けることで製造できる。
金属層を設ける方法としては、金属箔を絶縁層の表面に融着させる方法、金属箔を絶縁層の表面に接着剤で接着させる方法、絶縁層の表面をめっき法、スクリーン印刷法又はスパッタリング法により、金属粉又は金属粒子で被覆する方法が例示できる。
また、絶縁層が複数の絶縁基材が積層されたものである場合、かかる絶縁層は、例えば、これら複数の絶縁基材を加熱プレスし、互いに融着させることで得られる。
The laminate can be manufactured by providing a metal layer on the surface of the insulating layer.
As a method of providing a metal layer, a method of fusing a metal foil to the surface of the insulating layer, a method of adhering the metal foil to the surface of the insulating layer with an adhesive, a plating method, a screen printing method or a sputtering method on the surface of the insulating layer Can be exemplified by a method of coating with metal powder or metal particles.
When the insulating layer is a laminate of a plurality of insulating base materials, the insulating layer can be obtained, for example, by hot pressing the plurality of insulating base materials and fusing them together.

図1は、絶縁層として複数の絶縁基材が積層されたものを備えた積層板の製造方法を説明するための概略断面図である。ここに示す積層板1は、絶縁基材11、12、13及び14を用いたものである。
まず、図1(a)に示すように、絶縁基材11、12、13及び14をこの順に、これらの厚さ方向に配置する。なお、ここでは見易くするために、絶縁基材等を互いに離間させて示しているが、加熱プレス時にはすべて重ねて配置される。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view for explaining a method of manufacturing a laminated board including a laminate in which a plurality of insulating base materials are laminated as an insulating layer. The laminated board 1 shown here uses insulating base materials 11, 12, 13 and 14.
First, as shown to Fig.1 (a), the insulating base materials 11, 12, 13, and 14 are arrange | positioned in these thickness directions in this order. Here, in order to make it easy to see, the insulating base materials and the like are shown separated from each other, but they are all arranged in a stacked manner at the time of hot pressing.

そして、4枚の絶縁基材のうち、重ね合わせたときに最も外側に位置する(片面が絶縁基材と接触しない)絶縁基材11及び14に、それぞれ金属板91及びクッション材92をこの順に重ねて、4枚の絶縁基材をこれら金属板91及びクッション材92で挟み込み、矢印で示すようにクッション材92側から熱盤等でプレスすることで加熱プレスする。ここで、金属板91は、接触するプレス対象(ここでは、絶縁基材11及び14)の表面に傷を付けないために用いるものであり、ステンレス鋼(SUS)、アルミニウム等の材質からなり、プレス対象との接触面が滑らかなものであればよい。クッション材92としては、アラミド樹脂;カーボン繊維;アルミナ繊維等の無機繊維の不織布等、耐熱性を有する材質からなるものが好ましい。   Then, among the four insulating base materials, the metal plate 91 and the cushioning material 92 are arranged in this order on the insulating base materials 11 and 14 that are located on the outermost sides (one side does not contact the insulating base material) when they are overlapped. The four insulating base materials are sandwiched between the metal plate 91 and the cushion material 92, and are heated and pressed by pressing with a hot platen or the like from the cushion material 92 side as indicated by an arrow. Here, the metal plate 91 is used in order not to damage the surface of the pressed object to be contacted (here, the insulating base materials 11 and 14), and is made of a material such as stainless steel (SUS) or aluminum, It is sufficient that the contact surface with the object to be pressed is smooth. The cushion material 92 is preferably made of a heat-resistant material such as aramid resin; carbon fiber; non-woven fabric of inorganic fiber such as alumina fiber.

加熱プレスは、真空条件下、例えば、0.5kPa以下等の減圧下で行うことが好ましい。
加熱プレスのその他の条件は、絶縁基材の種類等に応じて適宜調節すればよく、特に限定されないが、積層板の表面平滑性が良好となるように調節することが好ましい。
例えば、加熱温度は、前記絶縁基材の作製時に、溶媒除去後の加熱処理を行っている場合には、この加熱処理時の温度に応じて調節することが好ましく、この加熱処理時の最高温度Tmax(℃)よりも高い温度であることが好ましく、Tmaxよりも5℃以上高い温度であることがより好ましい。加熱プレス時の加熱温度の上限値は、用いた液晶ポリエステルの分解温度を下回るように設定すればよいが、前記分解温度よりも30℃以上低い温度であることが好ましい。液晶ポリエステルの分解温度は、例えば、熱重量減少分析等の公知の手法で測定できる。
また、加熱プレス時の圧力は、1〜30MPaであることが好ましく、時間は5〜60分であることが好ましい。
The heating press is preferably performed under vacuum conditions, for example, under a reduced pressure of 0.5 kPa or less.
Other conditions for the hot press may be adjusted as appropriate according to the type of the insulating base material and the like, and are not particularly limited, but are preferably adjusted so that the surface smoothness of the laminate is good.
For example, the heating temperature is preferably adjusted according to the temperature at the time of the heat treatment when the heat treatment after the solvent removal is performed at the time of producing the insulating base material, and the maximum temperature at the time of the heat treatment The temperature is preferably higher than T max (° C.), and more preferably 5 ° C. higher than T max . The upper limit of the heating temperature at the time of hot pressing may be set so as to be lower than the decomposition temperature of the liquid crystal polyester used, but is preferably a temperature that is 30 ° C. lower than the decomposition temperature. The decomposition temperature of the liquid crystal polyester can be measured by a known method such as thermal weight loss analysis.
Moreover, it is preferable that the pressure at the time of a hot press is 1-30 MPa, and it is preferable that time is 5 to 60 minutes.

次いで、重ねられた絶縁基材のうち、最も外側に位置する絶縁基材11の表面に金属層15を設け、絶縁基材14の表面に金属層16設けることで、図1(b)に示すように、積層板1が得られる。重ねられた絶縁基材11、12、13及び14は、絶縁層10を構成している。   Next, among the stacked insulating base materials, the metal layer 15 is provided on the surface of the insulating base material 11 located on the outermost side, and the metal layer 16 is provided on the surface of the insulating base material 14, as shown in FIG. Thus, the laminated plate 1 is obtained. The laminated insulating base materials 11, 12, 13 and 14 constitute an insulating layer 10.

上記のように、金属箔を絶縁基材11及び14に融着させて、金属層15及び16を設ける場合には、図2に示すように、絶縁基材11の他の絶縁基材と接触しない面(図中、下向きの表面)に向かい合わせて金属箔15’を配置し、絶縁基材14の他の絶縁基材と接触しない面(図中、上向きの表面)に向かい合わせて金属箔16’を配置して、絶縁基材11、12、13及び14、並びに金属箔15’及び16’を同時に加熱プレスし、金属箔15’から金属層15を、金属箔16’から金属層16をそれぞれ形成することが好ましい。この場合、金属箔15’及び16’を配置すること以外は、図1を参照して説明した方法と同様の方法で加熱プレスすればよい。このように、絶縁基材の加熱プレス時に、重ねたときに最も外側に位置する二つの絶縁基材の表面に、さらに金属箔を重ねて、これら金属箔及び複数の絶縁基材を加熱プレスすることで、金属層を同時に設けることができる。   When the metal layers 15 and 16 are provided by fusing the metal foil to the insulating base materials 11 and 14 as described above, as shown in FIG. The metal foil 15 ′ is disposed so as to face the surface that does not contact (downward surface in the drawing), and the metal foil faces the surface that does not contact the other insulating base material (upward surface in the drawing). 16 'is disposed, and the insulating base materials 11, 12, 13, and 14 and the metal foils 15' and 16 'are simultaneously heated and pressed, and the metal layer 15 is transferred from the metal foil 15' and the metal layer 16 is transferred from the metal foil 16 '. Are preferably formed. In this case, heat pressing may be performed by the same method as described with reference to FIG. 1 except that the metal foils 15 ′ and 16 ′ are arranged. Thus, at the time of heat-pressing the insulating base material, the metal foil is further superimposed on the surfaces of the two outermost insulating base materials when they are overlapped, and the metal foil and the plurality of insulating base materials are hot-pressed. Thus, the metal layer can be provided simultaneously.

絶縁基材11及び14を金属粉又は金属粒子で被覆して、金属層15及び16を設ける場合には、めっき法を適用することが好ましく、無電解めっき法又は電解めっき法を適用することがより好ましい。また、金属層15及び16の特性をさらに向上させるために、めっき法で形成した金属層15及び16を加熱処理することが好ましく、このときの加熱処理の条件は、前記加熱プレスの条件と同様でよい。   In the case where the insulating base materials 11 and 14 are coated with metal powder or metal particles and the metal layers 15 and 16 are provided, it is preferable to apply a plating method, and to apply an electroless plating method or an electrolytic plating method. More preferred. In order to further improve the characteristics of the metal layers 15 and 16, it is preferable to heat-treat the metal layers 15 and 16 formed by plating, and the conditions for the heat treatment at this time are the same as the conditions for the heat press. It's okay.

上記の説明のように、金属層の形成は、絶縁基材の加熱プレス時と同時か、又はそれ以降に行う。   As described above, the metal layer is formed at the same time as or after the heat pressing of the insulating base material.

なお、ここでは積層板として、絶縁基材11の表面に金属層15が設けられ、絶縁基材14の表面に金属層16が設けられたものを示しているが、金属層15及び16のいずれか一方が設けられていない積層板でもよく、積層板の構成は、目的に応じて適宜選択すればよい。   Here, as the laminated plate, the metal layer 15 is provided on the surface of the insulating base material 11 and the metal layer 16 is provided on the surface of the insulating base material 14, but either of the metal layers 15 and 16 is shown. Either of them may be a laminated plate, and the configuration of the laminated plate may be appropriately selected according to the purpose.

絶縁基材の加熱プレス時においては、絶縁基材11、12、13及び14をこの順に、これらの厚さ方向に配置したものを一つの構成単位とし、金属板91を介して、この構成単位をさらに厚さ方向に複数配列させて、加熱プレスすることにより、複数の絶縁層(図1(b)に示す絶縁層10)を同時に形成できる。図3は、図1を参照して説明した方法を適用して、複数の絶縁層を同時に形成する方法を説明するための概略断面図であり、図4は、図2を参照して説明した方法を適用して、複数の絶縁層を同時に形成する方法を説明するための概略断面図である。金属箔も同時に加熱プレスする場合には、図4に示すように、金属箔15’、絶縁基材11、12、13及び14、並びに金属箔16’をこの順に、これらの厚さ方向に配置したものを一つの構成単位とし、金属板91を介して、この構成単位をさらに厚さ方向に複数配列させればよい。なお、図3及び4においては、前記構成単位の数が3である場合を例示しているが、前記構成単位の数はこれに限定されず、加熱プレスを行うのに支障が無い限り、2以上であればいくつでもよい。   At the time of heat-pressing the insulating base material, the insulating base materials 11, 12, 13 and 14 are arranged in this order in the thickness direction as one structural unit, and this structural unit is interposed via the metal plate 91. A plurality of insulating layers (insulating layer 10 shown in FIG. 1B) can be formed at the same time by arranging a plurality of layers in the thickness direction and performing heat pressing. FIG. 3 is a schematic cross-sectional view for explaining a method of simultaneously forming a plurality of insulating layers by applying the method described with reference to FIG. 1, and FIG. 4 is described with reference to FIG. It is a schematic sectional drawing for demonstrating the method of forming a several insulating layer simultaneously by applying a method. When the metal foil is also heated and pressed at the same time, as shown in FIG. 4, the metal foil 15 ′, the insulating base materials 11, 12, 13, and 14 and the metal foil 16 ′ are arranged in this order in the thickness direction. What is necessary is just to arrange | position several this structural unit further in the thickness direction through the metal plate 91 as what is made into one structural unit. 3 and 4 exemplify the case where the number of the structural units is 3, the number of the structural units is not limited to this, and as long as there is no problem in performing the heat press, 2 Any number is acceptable as long as it is above.

ここまでは、絶縁層を構成する絶縁基材が複数の場合について説明したが、絶縁基材が一枚の場合には、上記の製造方法において、複数の絶縁基材に代えて一枚の絶縁基材を用い、複数の絶縁基材を加熱プレスする操作を省略することで、同様に積層板を製造できる。   Up to this point, the case where there are a plurality of insulating base materials constituting the insulating layer has been described. However, in the case of a single insulating base material, in the above manufacturing method, instead of the plurality of insulating base materials, a single insulating base material is used. A laminated board can be manufactured similarly by omitting the operation of heating and pressing a plurality of insulating substrates using a substrate.

本発明に係る積層板は、絶縁層が無機クロス及び液晶ポリエステルを含んでいることで、チップ実装に適した十分な剛性を有し、絶縁層の厚さを150〜300μmとしたことで、十分な屈曲性を有する。積層板の剛性は、例えば、積層板又は絶縁基材の曲げ弾性率で評価できる。
そして、積層板の金属層を、エッチング等により所望のパターンにパターニングすることで、COFが得られる。
The laminated board according to the present invention has sufficient rigidity suitable for chip mounting because the insulating layer contains inorganic cloth and liquid crystal polyester, and the insulating layer has a thickness of 150 to 300 μm. Have good flexibility. The rigidity of a laminated board can be evaluated by the bending elastic modulus of a laminated board or an insulating base material, for example.
Then, the COF is obtained by patterning the metal layer of the laminated plate into a desired pattern by etching or the like.

以下、具体的実施例により、本発明についてさらに詳しく説明する。ただし、本発明は、以下に示す実施例に何ら限定されるものではない。なお、液晶ポリエステルの流動開始温度は、以下の方法で測定した。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to specific examples. However, the present invention is not limited to the following examples. In addition, the flow start temperature of liquid crystalline polyester was measured with the following method.

(液晶ポリエステルの流動開始温度の測定)
フローテスター(島津製作所社製、CFT−500型)を用いて、液晶ポリエステル約2gを、内径1mm及び長さ10mmのノズルを有するダイを取り付けたシリンダーに充填し、9.8MPa(100kg/cm)の荷重下、4℃/分の速度で昇温しながら、液晶ポリエステルを溶融させ、ノズルから押し出し、4800Pa・s(48000ポイズ)の粘度を示す温度を測定した。
(Measurement of flow start temperature of liquid crystal polyester)
Using a flow tester (manufactured by Shimadzu Corp., CFT-500 type), about 2 g of liquid crystalline polyester was filled into a cylinder equipped with a die having a nozzle having an inner diameter of 1 mm and a length of 10 mm, and 9.8 MPa (100 kg / cm 2). The liquid crystal polyester was melted while being heated at a rate of 4 ° C./min under a load of 4), extruded from a nozzle, and a temperature showing a viscosity of 4800 Pa · s (48000 poise) was measured.

<液晶ポリエステル液状組成物の製造>
[製造例1]
(液晶ポリエステルの製造)
攪拌装置、トルクメータ、窒素ガス導入管、温度計及び還流冷却器を備えた反応器に、6−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸(1976g、10.5モル)、4−ヒドロキシアセトアニリド(1474g、9.75モル)、イソフタル酸(1620g、9.75モル)及び無水酢酸(2374g、23.25モル)を仕込み、反応器内のガスを窒素ガスで十分に置換した後、窒素ガス気流下で攪拌しながら、15分間かけて室温から150℃まで昇温し、この温度(150℃)を保持して3時間還流させた。
次いで、留出する副生成物の酢酸及び未反応の無水酢酸を留去しながら、170分間かけて300℃まで昇温し、トルクの上昇が認められる時点を反応終了時点とみなし、反応器から内容物を取り出した。この内容物を室温まで冷却し、得られた固形物を粉砕機で粉砕し、比較的低分子量の液晶ポリエステルの粉末を得た。この液晶ポリエステル粉末の流動開始温度は235℃であった。この液晶ポリエステル粉末を窒素ガス雰囲気下において223℃で3時間加熱処理することにより、固相重合を行った。固相重合後の液晶ポリエステルの流動開始温度は270℃であった。
<Manufacture of liquid crystal polyester liquid composition>
[Production Example 1]
(Manufacture of liquid crystal polyester)
A reactor equipped with a stirrer, a torque meter, a nitrogen gas inlet tube, a thermometer and a reflux condenser was charged with 6-hydroxy-2-naphthoic acid (1976 g, 10.5 mol) and 4-hydroxyacetanilide (1474 g, 9. 75 mol), isophthalic acid (1620 g, 9.75 mol) and acetic anhydride (2374 g, 23.25 mol) were charged, and the gas in the reactor was sufficiently replaced with nitrogen gas, followed by stirring under a nitrogen gas stream. The temperature was raised from room temperature to 150 ° C. over 15 minutes, and this temperature (150 ° C.) was maintained and refluxed for 3 hours.
Next, while distilling off the by-product acetic acid to be distilled off and unreacted acetic anhydride, the temperature was raised to 300 ° C. over 170 minutes, and the time at which an increase in torque was observed was regarded as the reaction end time. The contents were removed. The contents were cooled to room temperature, and the resulting solid was pulverized with a pulverizer to obtain a liquid crystal polyester powder having a relatively low molecular weight. The flow starting temperature of this liquid crystal polyester powder was 235 ° C. This liquid crystal polyester powder was subjected to solid phase polymerization by heat treatment at 223 ° C. for 3 hours in a nitrogen gas atmosphere. The flow starting temperature of the liquid crystal polyester after solid phase polymerization was 270 ° C.

(液晶ポリエステル液状組成物の製造)
得られた液晶ポリエステル(2200g)を、N,N−ジメチルアセトアミド(DMAc)(7800g)に加え、100℃で2時間加熱して、液晶ポリエステル液状組成物(液晶ポリエステル溶液)を得た。東機産業社製のB型粘度計「TVL−20型」(ローターNo.21、回転速度5rpm)を用いて、23℃において、この液晶ポリエステル液状組成物の粘度を測定したところ、0.32Pa.s(320cP)であった。
(Manufacture of liquid crystal polyester liquid composition)
The obtained liquid crystal polyester (2200 g) was added to N, N-dimethylacetamide (DMAc) (7800 g) and heated at 100 ° C. for 2 hours to obtain a liquid crystal polyester liquid composition (liquid crystal polyester solution). Using a B-type viscometer “TVL-20 type” (rotor No. 21, rotation speed 5 rpm) manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd., the viscosity of this liquid crystal polyester liquid composition was measured at 23 ° C. and found to be 0.32 Pa. . s (320 cP).

<COF用積層板の製造>
[実施例1]
図1及び2を参照して説明した製造方法により、積層板を製造した。より具体的には以下の通りである。
(絶縁基材の製造)
製造例1で得られた液晶ポリエステル液状組成物に、ガラスクロス(有沢製作所社製、厚さ45μm、IPC呼称1078)を室温で1分間浸漬した後、熱風式乾燥機を用いて、溶媒を蒸発させて乾燥させ、液晶ポリエステル含浸基材である絶縁基材を得た。
<Manufacture of COF laminates>
[Example 1]
A laminated board was manufactured by the manufacturing method described with reference to FIGS. More specifically, it is as follows.
(Manufacture of insulating base materials)
A glass cloth (manufactured by Arisawa Manufacturing Co., Ltd., thickness 45 μm, IPC name 1078) was immersed in the liquid crystal polyester liquid composition obtained in Production Example 1 for 1 minute at room temperature, and then the solvent was evaporated using a hot air dryer. It was made to dry and the insulating base material which is a liquid crystal polyester impregnation base material was obtained.

(絶縁基材の加熱処理)
熱風式乾燥機を用いて、得られた絶縁基材を、窒素ガス雰囲気下、290℃で3時間加熱処理した。
(Insulation substrate heat treatment)
The obtained insulating base material was heat-treated at 290 ° C. for 3 hours in a nitrogen gas atmosphere using a hot air dryer.

(COF用積層板の製造)
アラミドクッション材(イチカワテクノファブリクス社製、厚さ3mm)の上に、SUS304板(厚さ5mm)、スペーサー用銅箔(三井金属鉱業社製「3EC−VLP」、厚さ18μm)、積層用銅箔(福田金属社製「CF−T9D−SV」、厚さ12μm)、3枚の前記絶縁基材、積層用銅箔(福田金属社製「CF−T9D−SV」、厚さ12μm)、スペーサー用銅箔(三井金属鉱業社製「3EC−VLP」、厚さ18μm)、及びSUS304板(厚さ5mm)をこの順に重ね、その上にさらにアラミドクッション材(イチカワテクノファブリクス社製、厚さ3mm)を載せた。そして、この状態で、高温真空プレス機(北川精機社製「KVHC−PRESS」、縦300mm、横300mm)を用いて、0.2kPaの減圧下、340℃、5MPaの条件で20分間加熱プレスすることにより、銅箔付き多層絶縁基材であるCOF用積層板を得た。得られたCOF用積層板の主たる構成を表1に示す。なお、表1中、「LCP」は液晶ポリエステルを意味する。
(Manufacture of laminated sheets for COF)
Aramid cushion material (made by Ichikawa Technofabrics Co., Ltd., thickness 3 mm), SUS304 plate (thickness 5 mm), copper foil for spacer (“3EC-VLP” made by Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd., thickness 18 μm), copper for lamination Foil ("CF-T9D-SV" manufactured by Fukuda Metals Co., Ltd., thickness 12 [mu] m), three insulating substrates, copper foil for lamination ("CF-T9D-SV" manufactured by Fukuda Metals Co. Ltd., thickness 12 [mu] m), spacer Copper foil ("3EC-VLP" manufactured by Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd., thickness 18 μm) and SUS304 plate (thickness 5 mm) are stacked in this order, and further, an aramid cushion material (manufactured by Ichikawa Technofabrics Co., Ltd., thickness 3 mm) ). And in this state, using a high-temperature vacuum press (“KVHC-PRESS” manufactured by Kitagawa Seiki Co., Ltd., length 300 mm, width 300 mm), heat press for 20 minutes under conditions of 340 ° C. and 5 MPa under a reduced pressure of 0.2 kPa. As a result, a laminated board for COF, which is a multilayer insulating substrate with copper foil, was obtained. Table 1 shows the main components of the obtained COF laminate. In Table 1, “LCP” means liquid crystal polyester.

[実施例2]
表1に示すように、前記絶縁基材を3枚に代えて4枚用いたこと以外は、実施例1と同様の方法でCOF用積層板を得た。
[Example 2]
As shown in Table 1, a COF laminate was obtained in the same manner as in Example 1, except that four insulating substrates were used instead of three.

[実施例3]
表1に示すように、前記絶縁基材を3枚に代えて5枚用いたこと以外は、実施例1と同様の方法でCOF用積層板を得た。
[Example 3]
As shown in Table 1, a COF laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that five insulating substrates were used instead of three.

[比較例1]
表1に示すように、前記絶縁基材を3枚に代えて1枚用いたこと以外は、実施例1と同様の方法でCOF用積層板を得た。
[Comparative Example 1]
As shown in Table 1, a COF laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that one insulating substrate was used instead of three.

[比較例2]
表1に示すように、前記絶縁基材を3枚に代えて2枚用いたこと以外は、実施例1と同様の方法でCOF用積層板を得た。
[Comparative Example 2]
As shown in Table 1, a COF laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that two insulating substrates were used instead of three.

[比較例3]
表1に示すように、前記絶縁基材を3枚に代えて6枚用いたこと以外は、実施例1と同様の方法でCOF用積層板を得た。
[Comparative Example 3]
As shown in Table 1, a COF laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that six insulating substrates were used instead of three.

[比較例4]
(絶縁基材の製造)
製造例1で得られた液晶ポリエステル液状組成物を、銅箔(福田金属社製「CF−T9D−SV」、厚さ12μm)のマット面上に流延塗布した後、窒素ガス雰囲気下、290℃で3時間加熱処理した。次いで、銅箔をエッチング除去することで、単層の液晶ポリエステルフィルム(以下、「液晶ポリエステルフィルム(1)」という。)である絶縁基材を得た。また、加熱処理の温度を290℃に代えて310℃としたこと以外は同様の方法で、単層の液晶ポリエステルフィルム(以下、「液晶ポリエステルフィルム(2)」という。)である絶縁基材を得た。示差走査熱量分析により、液晶ポリエステルフィルム(1)及び(2)の融点を測定した結果、それぞれ335℃及び347℃であった。
[Comparative Example 4]
(Manufacture of insulating base materials)
The liquid crystal polyester liquid composition obtained in Production Example 1 was cast-coated on a matte surface of copper foil (“CF-T9D-SV” manufactured by Fukuda Metals Co., Ltd., thickness 12 μm), and then in a nitrogen gas atmosphere, 290 Heat treatment was performed at 0 ° C. for 3 hours. Next, the copper foil was etched away to obtain an insulating base material that was a single-layer liquid crystal polyester film (hereinafter referred to as “liquid crystal polyester film (1)”). Further, an insulating base material that is a single-layer liquid crystal polyester film (hereinafter referred to as “liquid crystal polyester film (2)”) is obtained in the same manner except that the temperature of the heat treatment is 310 ° C. instead of 290 ° C. Obtained. As a result of measuring the melting points of the liquid crystal polyester films (1) and (2) by differential scanning calorimetry, they were 335 ° C. and 347 ° C., respectively.

(COF用積層板の製造)
アラミドクッション材(イチカワテクノファブリクス社製、厚さ3mm)の上に、SUS304板(厚さ5mm)、スペーサー用銅箔(三井金属鉱業社製「3EC−VLP」、厚さ18μm)、積層用銅箔(福田金属社製「CF−T9D−SV」、厚さ12μm)、液晶ポリエステルフィルム(2)、液晶ポリエステルフィルム(1)、液晶ポリエステルフィルム(1)、液晶ポリエステルフィルム(2)、積層用銅箔(福田金属社製「CF−T9D−SV」、厚さ12μm)、スペーサー用銅箔(三井金属鉱業社製「3EC−VLP」、厚さ18μm)、及びSUS304板(厚さ5mm)をこの順に重ね、その上にさらにアラミドクッション材(イチカワテクノファブリクス社製、厚さ3mm)を載せた。そして、この状態で、高温真空プレス機(北川精機社製「KVHC−PRESS」、縦300mm、横300mm)を用いて、0.2kPaの減圧下、340℃、5MPaの条件で20分間加熱プレスすることにより、銅箔付き多層絶縁基材であるCOF用積層板を得た。得られたCOF用積層板の主たる構成を表1に示す。
(Manufacture of laminated sheets for COF)
Aramid cushion material (made by Ichikawa Technofabrics Co., Ltd., thickness 3 mm), SUS304 plate (thickness 5 mm), copper foil for spacer (“3EC-VLP” made by Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd., thickness 18 μm), copper for lamination Foil (“CF-T9D-SV” manufactured by Fukuda Metals Co., Ltd., thickness 12 μm), liquid crystal polyester film (2), liquid crystal polyester film (1), liquid crystal polyester film (1), liquid crystal polyester film (2), copper for lamination Foil ("CF-T9D-SV" manufactured by Fukuda Kinzoku Co., Ltd., thickness 12 [mu] m), copper foil for spacers ("3EC-VLP" manufactured by Mitsui Kinzoku Mining Co., Ltd., 18 [mu] m thick), and SUS304 plate (thickness 5 mm) The aramid cushion material (made by Ichikawa Technofabrics Co., Ltd., thickness: 3 mm) was further placed thereon. And in this state, using a high-temperature vacuum press (“KVHC-PRESS” manufactured by Kitagawa Seiki Co., Ltd., length 300 mm, width 300 mm), heat press for 20 minutes under conditions of 340 ° C. and 5 MPa under a reduced pressure of 0.2 kPa. As a result, a laminated board for COF, which is a multilayer insulating substrate with copper foil, was obtained. Table 1 shows the main components of the obtained COF laminate.

<COF用積層板の評価>
(曲げ弾性率の評価)
上記各実施例及び比較例で得られたCOF用積層板について、3点曲げ試験により曲げ弾性率を測定した。すなわち、COF用積層板の銅箔をエッチング除去した後、幅10mmの短冊状に切り出した3個の試験片を作製し、それぞれの試験片に対して、下部支点間距離が「16×絶縁基材の厚さ(mm)+6.4mm」となるように位置を調整し、0.5mm/分の速度で曲げ弾性率を測定した。結果を表1に示す。
<Evaluation of laminated sheet for COF>
(Evaluation of flexural modulus)
About the COF laminated board obtained by each said Example and comparative example, the bending elastic modulus was measured by the 3 point | piece bending test. That is, after removing the copper foil of the COF laminate by etching, three test pieces cut into strips having a width of 10 mm were produced, and the distance between the lower fulcrums was “16 × insulation base” for each test piece. The position was adjusted so that the thickness of the material (mm) +6.4 mm ”, and the flexural modulus was measured at a speed of 0.5 mm / min. The results are shown in Table 1.

(屈曲性の評価)
上記各実施例及び比較例で得られたCOF用積層板を、幅1cm、長さ5cmの大きさに切断して試験片とし、その長手方向の両端を持って同方向に5回曲げたときの試験片の形状から、下記基準に従って屈曲性を評価した。結果を表1に示す。
◎:試験片の両端を接触させることができ、屈曲箇所に歪みがない。
○:試験片の両端を接触させることができるが、屈曲箇所に歪みがある。
×:試験片の両端を接触させようとすると、試験片が折れる。
(Evaluation of flexibility)
When the COF laminates obtained in each of the above examples and comparative examples are cut into a size of 1 cm in width and 5 cm in length to be a test piece, and are bent five times in the same direction with both ends in the longitudinal direction. From the shape of the test piece, the flexibility was evaluated according to the following criteria. The results are shown in Table 1.
(Double-circle): The both ends of a test piece can be made to contact and a bending location does not have distortion.
○: Both ends of the test piece can be brought into contact with each other, but the bent portion is distorted.
X: When both ends of the test piece are brought into contact with each other, the test piece is broken.

Figure 2013004952
Figure 2013004952

上記評価結果から明らかなように、実施例1〜3の積層板は、絶縁層が絶縁基材として液晶ポリエステル含浸基材を用いたものであり、絶縁層の厚さが所定の範囲であることで、十分な剛性と屈曲性を有していた。
これに対して、比較例1及び2の積層板は、絶縁層が絶縁基材として液晶ポリエステル含浸基材を用いたものであったが、絶縁層の厚さが薄くて剛性が低過ぎたため、曲げ弾性率を測定できなかった。また、比較例3の積層板は、同様に絶縁層が絶縁基材として液晶ポリエステル含浸基材を用いたものであったが、絶縁層の厚さが厚く、屈曲性が不十分であった。また、比較例4の積層板は、絶縁層が絶縁基材として液晶ポリエステルフィルムを用いたものであったため、剛性が低過ぎ、曲げ弾性率を測定できなかった。
As is clear from the evaluation results, in the laminates of Examples 1 to 3, the insulating layer uses a liquid crystal polyester-impregnated base material as the insulating base material, and the thickness of the insulating layer is within a predetermined range. And had sufficient rigidity and flexibility.
On the other hand, in the laminates of Comparative Examples 1 and 2, the insulating layer was a liquid crystal polyester-impregnated base material as an insulating base material, but the insulating layer was too thin and the rigidity was too low. The flexural modulus could not be measured. Further, in the laminated board of Comparative Example 3, the insulating layer similarly used a liquid crystal polyester-impregnated base material as the insulating base material, but the insulating layer was thick and the flexibility was insufficient. Moreover, since the laminated board of the comparative example 4 used the liquid crystalline polyester film as an insulating base material, the rigidity was too low and the bending elastic modulus was not able to be measured.

本発明は、マイクロエレクトロニクス分野でのCOFに利用可能である。   The present invention can be used for COF in the field of microelectronics.

1・・・COF用積層板、10・・・絶縁層、11,12,13,14・・・絶縁基材、15,16・・・金属層、15’,16’・・・金属箔、91・・・金属板、92・・・クッション材   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... COF laminated board, 10 ... Insulating layer, 11, 12, 13, 14 ... Insulating base material, 15, 16 ... Metal layer, 15 ', 16' ... Metal foil, 91 ... Metal plate, 92 ... Cushion material

Claims (6)

無機クロス及び液晶ポリエステルを含み、且つ厚さが150〜300μmである絶縁層を備え、該絶縁層の少なくとも一方の表面に金属層が設けられたことを特徴とするCOF用積層板。   A COF laminate comprising an insulating layer containing inorganic cloth and liquid crystal polyester and having a thickness of 150 to 300 μm, and a metal layer provided on at least one surface of the insulating layer. 前記絶縁層が、複数の絶縁基材が積層されたものであり、前記絶縁基材が、前記無機クロスに前記液晶ポリエステルが含浸されたものであることを特徴とする請求項1に記載のCOF用積層板。   2. The COF according to claim 1, wherein the insulating layer is formed by laminating a plurality of insulating base materials, and the insulating base material is obtained by impregnating the inorganic cloth with the liquid crystal polyester. Laminated board. 前記無機クロスがガラスクロスであることを特徴とする請求項1又は2に記載のCOF用積層板。   The COF laminate according to claim 1 or 2, wherein the inorganic cloth is a glass cloth. 前記液晶ポリエステルが、下記一般式(1)、(2)及び(3)で表される繰返し単位を有することを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載のCOF用積層板。
(1)−O−Ar−CO−
(2)−CO−Ar−CO−
(3)−X−Ar−Y−
(式中、Arは、フェニレン基、ナフチレン基又はビフェニリレン基であり;Ar及びArは、それぞれ独立にフェニレン基、ナフチレン基、ビフェニリレン基又は下記一般式(4)で表される基であり;X及びYは、それぞれ独立に酸素原子又はイミノ基であり;前記Ar、Ar及びAr中の一つ以上の水素原子は、それぞれ独立にハロゲン原子、アルキル基又はアリール基で置換されていてもよい。)
(4)−Ar−Z−Ar
(式中、Ar及びArは、それぞれ独立にフェニレン基又はナフチレン基であり;Zは、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、スルホニル基又はアルキリデン基である。)
The said liquid crystalline polyester has a repeating unit represented by following General formula (1), (2) and (3), The laminated sheet for COF as described in any one of Claims 1-3 characterized by the above-mentioned.
(1) —O—Ar 1 —CO—
(2) —CO—Ar 2 —CO—
(3) -X-Ar 3 -Y-
(In the formula, Ar 1 is a phenylene group, a naphthylene group or a biphenylylene group; Ar 2 and Ar 3 are each independently a phenylene group, a naphthylene group, a biphenylylene group or a group represented by the following general formula (4): Yes; X and Y are each independently an oxygen atom or imino group; one or more hydrogen atoms in Ar 1 , Ar 2 and Ar 3 are each independently substituted with a halogen atom, an alkyl group or an aryl group May be.)
(4) -Ar 4 -Z-Ar 5-
(In the formula, Ar 4 and Ar 5 are each independently a phenylene group or a naphthylene group; Z is an oxygen atom, a sulfur atom, a carbonyl group, a sulfonyl group, or an alkylidene group.)
前記液晶ポリエステルが、これを構成する全繰返し単位の合計量に対して、前記一般式(1)で表される繰返し単位を30〜80モル%、前記一般式(2)で表される繰返し単位を10〜35モル%、前記一般式(3)で表される繰返し単位を10〜35モル%有することを特徴とする請求項4に記載のCOF用積層板。   The liquid crystalline polyester has a repeating unit represented by the general formula (1) of 30 to 80 mol% and a repeating unit represented by the general formula (2) based on the total amount of all repeating units constituting the liquid crystalline polyester. The laminate for COF according to claim 4, wherein 10 to 35 mol% and 10 to 35 mol% of the repeating unit represented by the general formula (3) are contained. 前記一般式(3)において、X及び/又はYがイミノ基であることを特徴とする請求項4又は5に記載のCOF用積層板。   6. The COF laminate according to claim 4, wherein, in the general formula (3), X and / or Y is an imino group.
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