JP2012252259A - Lens array, image pickup apparatus, biometric authentication apparatus, and electronic apparatus - Google Patents

Lens array, image pickup apparatus, biometric authentication apparatus, and electronic apparatus Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a lens array including microlenses having a stable shape, an image pickup apparatus including the lens array, a biometric authentication apparatus, and electronic apparatus.SOLUTION: A lens array 20 according to the present application includes a plurality of microlenses 22 formed by softening a photosensitive lens material by heat; and a plurality of dummy patterns 23 formed by using a photosensitive lens material on a dummy region 28 that encloses a lens region 27 in which the plurality of microlenses 22 are formed. Arrangement pitches of the plurality of dummy patterns 23 in the dummy region 28 are smaller than the arrangement pitches of the plurality of microlenses 22 in the lens region.

Description

本発明は、レンズアレイ、撮像装置、生体認証装置、電子機器に関する。   The present invention relates to a lens array, an imaging device, a biometric authentication device, and an electronic device.

撮像装置として、受光面に画素単位に配列され、受光光束を画素単位に光電変換して画像信号を生成する光電変換素子と、当該光電変換素子へ受光光束を集光するマイクロレンズ層とを備えた固体撮像装置が知られている（特許文献１）。   The imaging device includes a photoelectric conversion element that is arranged in a pixel unit on a light receiving surface, photoelectrically converts a received light beam in a pixel unit to generate an image signal, and a microlens layer that collects the received light beam on the photoelectric conversion element. A solid-state imaging device is known (Patent Document 1).

上記特許文献１によれば、マイクロレンズ層は、有効画素領域に設けられたマイクロレンズと、有効画素領域の外側の外周域に設けられたダミーのマイクロレンズとを有している。ダミーマイクロレンズを当該外周域に設けることで、マイクロレンズの加工工程における周辺の歩留まり低下を抑制し、マイクロレンズの品質を高めることができるとしている。
一方で上記特許文献１には、ダミーを含めたマイクロレンズの加工方法についての詳細な記載は見当たらない。 According to Patent Document 1, the microlens layer includes a microlens provided in an effective pixel region and a dummy microlens provided in an outer peripheral region outside the effective pixel region. By providing the dummy microlens in the outer peripheral area, it is possible to suppress a decrease in the peripheral yield in the processing process of the microlens and to improve the quality of the microlens.
On the other hand, Patent Document 1 does not contain a detailed description of a microlens processing method including a dummy.

例えば、安定した形状のマイクロレンズが得られる加工方法として、素子が形成された基板に平坦化膜を形成し、当該平坦化膜の上に互いに離間するベース層を形成し、当該ベース層の上に薄膜層を形成し、当該薄膜層に軟化処理を施して端部がベース層の周縁により画定されるレンズ層を形成する固体撮像素子の製造方法が知られている（特許文献２）。
上記特許文献２によれば、ベース層および薄膜層は、所謂フォトリソグラフィ法を用いて形成され、形成された薄膜層に熱軟化処理を施して変形させマイクロレンズを形成するとしている。 For example, as a processing method for obtaining a microlens having a stable shape, a planarization film is formed on a substrate on which elements are formed, base layers that are separated from each other are formed on the planarization film, and the base layer is formed. There is known a manufacturing method of a solid-state imaging device in which a thin film layer is formed on a thin film layer, and a softening process is performed on the thin film layer to form a lens layer whose end is defined by the periphery of the base layer (Patent Document 2).
According to Patent Document 2, the base layer and the thin film layer are formed using a so-called photolithography method, and the formed thin film layer is deformed by subjecting it to thermal softening to form a microlens.

特開２００７−１７３５３５号公報JP 2007-173535 A 特開２００１−６８６５７号公報JP 2001-68657 A

上記特許文献１では、有効画素領域におけるマイクロレンズと同じ大きさや配置ピッチで外周域にダミーのマイクロレンズを設けているが、上記特許文献２の方法を適用してダミーを含むマイクロレンズを形成したとしても、必ずしも安定した形状のマイクロレンズが得られるとは限らない。
例えば、フォトリソグラフィ法における現像工程において、現像液中に溶解している上記薄膜層を構成するレンズ材料の濃度が有効画素領域と外周域との間で異なる場合には、濃度勾配により現像スピードのばらつきが発生し、上記薄膜層のパターニング状態がばらつくおそれがある。
すなわち、上記特許文献１には、ダミーのマイクロレンズを設けることが有効であると記載されているものの、安定した形状のマイクロレンズを形成するための好ましいダミーのマイクロレンズの配置や形状などに関する技術が不明確であるという課題がある。 In Patent Document 1, dummy microlenses are provided in the outer peripheral area with the same size and arrangement pitch as the microlenses in the effective pixel area, but the microlens including the dummy is formed by applying the method of Patent Document 2. However, a microlens having a stable shape is not always obtained.
For example, in the development process in the photolithography method, when the density of the lens material constituting the thin film layer dissolved in the developer is different between the effective pixel area and the outer peripheral area, the development speed is reduced by the density gradient. Variations may occur and the patterning state of the thin film layer may vary.
That is, although Patent Document 1 describes that provision of a dummy microlens is effective, a technique relating to a preferable arrangement and shape of dummy microlenses for forming a stable microlens. There is a problem that is unclear.

本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。   SUMMARY An advantage of some aspects of the invention is to solve at least a part of the problems described above, and the invention can be implemented as the following forms or application examples.

［適用例１］本適用例のレンズアレイは、熱により感光性レンズ材料が軟化して形成された複数のマイクロレンズと、前記複数のマイクロレンズが形成されたレンズ領域を囲むダミー領域に、前記感光性レンズ材料を用いて形成された複数のダミーパターンとを有し、前記ダミー領域における前記複数のダミーパターンの配置ピッチは、前記レンズ領域における前記複数のマイクロレンズの配置ピッチよりも小さいことを特徴とする。   [Application Example 1] The lens array of this application example includes a plurality of microlenses formed by softening a photosensitive lens material by heat, and a dummy area surrounding the lens area where the plurality of microlenses are formed. A plurality of dummy patterns formed using a photosensitive lens material, and the arrangement pitch of the plurality of dummy patterns in the dummy area is smaller than the arrangement pitch of the plurality of microlenses in the lens area. Features.

この構成によれば、感光性レンズ材料を現像してマイクロレンズの前駆体とダミーパターンとを形成する際に、現像液中の感光性レンズ材料の濃度がレンズ領域とダミー領域との間で大きく異なってしまうことを抑制できる。つまり、レンズ領域とダミー領域との間における現像液中の感光性レンズ材料の濃度勾配が生じ難く、濃度勾配による現像スピードのばらつきが低減され、安定した形状を有する複数のマイクロレンズが設けられたレンズアレイを提供することができる。   According to this configuration, when the photosensitive lens material is developed to form the microlens precursor and the dummy pattern, the concentration of the photosensitive lens material in the developer is large between the lens region and the dummy region. It is possible to suppress the difference. That is, it is difficult for the concentration gradient of the photosensitive lens material in the developer between the lens region and the dummy region to occur, variation in development speed due to the concentration gradient is reduced, and a plurality of microlenses having stable shapes are provided. A lens array can be provided.

［適用例２］上記適用例のレンズアレイにおいて、前記感光性レンズ材料の配置密度は、前記レンズ領域と前記ダミー領域とでほぼ同じであることが好ましい。
この構成によれば、レンズ領域とダミー領域との間における現像液中の感光性レンズ材料の濃度勾配の発生がより低減され、安定した形状を有する複数のマイクロレンズが得られる。 Application Example 2 In the lens array of the application example, it is preferable that the arrangement density of the photosensitive lens material is substantially the same in the lens region and the dummy region.
According to this configuration, the occurrence of a concentration gradient of the photosensitive lens material in the developer between the lens region and the dummy region is further reduced, and a plurality of microlenses having stable shapes can be obtained.

［適用例３］本適用例の他のレンズアレイは、熱により感光性レンズ材料が軟化して形成された複数のマイクロレンズと、前記複数のマイクロレンズが形成されたレンズ領域を囲むダミー領域に、前記感光性レンズ材料を用いて形成された複数のダミーパターンと、前記ダミー領域を囲む周辺領域とを有し、前記感光性レンズ材料の配置密度は、前記ダミー領域＜前記レンズ領域＜前記周辺領域または前記ダミー領域＞前記レンズ領域＞前記周辺領域の関係を満たすことを特徴とする。   Application Example 3 Another lens array of this application example includes a plurality of microlenses formed by softening a photosensitive lens material by heat, and a dummy region surrounding the lens region in which the plurality of microlenses are formed. A plurality of dummy patterns formed using the photosensitive lens material, and a peripheral region surrounding the dummy region, and the arrangement density of the photosensitive lens material is the dummy region <the lens region <the peripheral The relationship of the region or the dummy region> the lens region> the peripheral region is satisfied.

この構成によれば、ダミー領域を挟んでレンズ領域と周辺領域との間において感光性レンズ材料の配置密度に勾配を設けることによって、現像液中の感光性レンズ材料の濃度は、レンズ領域と周辺領域との濃度勾配が小さくなるように拡散する。つまり、ダミー領域とレンズ領域とにおける感光性レンズ材料の配置密度を同じにする場合に比べて、レンズ領域と周辺領域との間に挟まれたダミー領域の大きさを小さくすることができる。したがって、安定した形状の複数のマイクロレンズを有する一方で、より小型なレンズアレイを提供することができる。   According to this configuration, by providing a gradient in the arrangement density of the photosensitive lens material between the lens region and the peripheral region across the dummy region, the concentration of the photosensitive lens material in the developing solution can be increased between the lens region and the peripheral region. It diffuses so that the concentration gradient with the region becomes smaller. That is, the size of the dummy region sandwiched between the lens region and the peripheral region can be reduced as compared with the case where the arrangement density of the photosensitive lens material in the dummy region and the lens region is the same. Therefore, it is possible to provide a smaller lens array while having a plurality of microlenses having a stable shape.

［適用例４］上記適用例のレンズアレイにおいて、前記ダミーパターンの平面形状が四角形であることが好ましい。
この構成によれば、ダミーパターンの配置ピッチをマイクロレンズの配置ピッチに対して小さくしても、ダミーパターンの平面形状が円形である場合に比べて、感光性レンズ材料の配置密度を比較的容易に調整することができる。 Application Example 4 In the lens array of the application example described above, it is preferable that the planar shape of the dummy pattern is a quadrangle.
According to this configuration, even if the arrangement pitch of the dummy pattern is smaller than the arrangement pitch of the microlens, the arrangement density of the photosensitive lens material is relatively easy as compared with the case where the planar shape of the dummy pattern is circular. Can be adjusted.

［適用例５］本適用例の撮像装置は、画素ごとに設けられた撮像素子と、前記撮像素子に光を集光させるマイクロレンズを備えた上記適用例に記載のレンズアレイと、前記撮像素子と前記マイクロレンズとの間の光軸上に設けられた開口部を有する遮光部とを備えたことを特徴とする。
この構成によれば、安定した形状の複数のマイクロレンズを有するレンズアレイを備えているので、マイクロレンズ間における焦点位置や集光量のばらつきが抑えられ、優れた撮像品質を有する撮像装置を提供できる。 Application Example 5 An imaging apparatus according to this application example includes an imaging element provided for each pixel, a lens array according to the application example including a microlens for condensing light on the imaging element, and the imaging element. And a light-shielding portion having an opening provided on the optical axis between the microlens and the microlens.
According to this configuration, since the lens array having a plurality of microlenses having a stable shape is provided, it is possible to provide an imaging apparatus that can suppress variations in the focal position and the light collection amount between the microlenses and has excellent imaging quality. .

［適用例６］本適用例の生体認証装置は、上記適用例に記載の撮像装置と、前記撮像装置によって撮像された静脈パターンと予め登録された生体の静脈パターンとを照合して、前記撮像された静脈パターンが前記生体のものか否か判定する認証実行部と、を備えたことを特徴とする。
この構成によれば、生体の静脈パターンを高品位に撮像可能であるため、認証ミスが生じ難い生体認証装置を提供できる。 Application Example 6 The biometric authentication device according to this application example matches the imaging device according to the application example described above with a vein pattern captured by the imaging device and a previously registered biological vein pattern. And an authentication execution unit for determining whether or not the vein pattern thus obtained is that of the living body.
According to this configuration, since a vein pattern of a living body can be imaged with high quality, it is possible to provide a biometric authentication apparatus that is unlikely to cause an authentication error.

［適用例７］本適用例の電子機器は、上記適用例の生体認証装置を備えたことを特徴とする。
この構成によれば、例えば、使用者を正しく特定して認証可能な高いセキュリティー機能を有する電子機器を提供することができる。 Application Example 7 An electronic apparatus according to this application example includes the biometric authentication apparatus according to the application example.
According to this configuration, for example, an electronic device having a high security function that can correctly identify and authenticate a user can be provided.

撮像装置の構成を示す概略斜視図。1 is a schematic perspective view illustrating a configuration of an imaging apparatus. 撮像装置の構造を示す概略断面図。FIG. 2 is a schematic cross-sectional view illustrating a structure of an imaging device. 実施例１のレンズアレイにおけるマイクロレンズおよびダミーパターンの配置を示す概略平面図。FIG. 3 is a schematic plan view showing the arrangement of microlenses and dummy patterns in the lens array of Example 1. （ａ）〜（ｄ）はマイクロレンズの製造方法を示す概略断面図。(A)-(d) is a schematic sectional drawing which shows the manufacturing method of a micro lens. ダミーパターンが無い場合の現像液における感光性レンズ材料の濃度分布を示すグラフ。The graph which shows the density distribution of the photosensitive lens material in a developing solution when there is no dummy pattern. ダミーパターンが有る場合の現像液における感光性レンズ材料の濃度分布を示すグラフ。The graph which shows the density distribution of the photosensitive lens material in a developing solution in case there exists a dummy pattern. 濃度分布均一性におけるダミーパターンの数依存性を示すグラフ。The graph which shows the number dependence of the dummy pattern in density distribution uniformity. 実施例２のレンズアレイにおけるマイクロレンズおよびダミーパターンの配置を示す概略平面図。FIG. 6 is a schematic plan view showing the arrangement of microlenses and dummy patterns in the lens array of Example 2. 実施例２の現像液における感光性レンズ材料の濃度分布を示すグラフ。6 is a graph showing the density distribution of the photosensitive lens material in the developer of Example 2. 実施例３のレンズアレイにおけるマイクロレンズとダミーパターンの配置を示す概略平面図。FIG. 6 is a schematic plan view showing the arrangement of microlenses and dummy patterns in the lens array of Example 3. 実施例３の現像液における感光性レンズ材料の濃度分布を示すグラフ。10 is a graph showing the density distribution of the photosensitive lens material in the developer of Example 3. 生体認証装置の構成を示すブロック図。The block diagram which shows the structure of a biometrics apparatus. （ａ）は電子機器としての携帯型電話機を示す斜視図、（ｂ）は電子機器としてのパーソナルコンピューターを示す概略図。(A) is a perspective view showing a portable telephone as an electronic device, (b) is a schematic diagram showing a personal computer as an electronic device.

以下、本発明を具体化した実施形態について図面に従って説明する。なお、使用する図面は、説明する部分が認識可能な状態となるように、適宜拡大または縮小して表示している。   DESCRIPTION OF EXEMPLARY EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments of the invention will be described with reference to the drawings. Note that the drawings to be used are appropriately enlarged or reduced so that the part to be described can be recognized.

なお、以下の形態において、例えば「基板上に」と記載された場合、基板の上に接するように配置される場合、または基板の上に他の構成物を介して配置される場合、または基板の上に一部が接するように配置され、一部が他の構成物を介して配置される場合を表すものとする。   In the following embodiments, for example, when “on the substrate” is described, the substrate is disposed so as to be in contact with the substrate, or is disposed on the substrate via another component, or the substrate. It is assumed that a part is arranged so as to be in contact with each other and a part is arranged via another component.

（第１実施形態）
＜撮像装置＞
本実施形態における撮像装置は、生体を識別するための生体情報として指の静脈パターンを撮像する装置である。まず、図１および図２を参照して本実施形態の撮像装置について説明する。図１は撮像装置の構成を示す概略斜視図、図２は撮像装置の構造を示す概略断面図である。詳しくは指の延在方向に沿って切った場合の断面である。 (First embodiment)
<Imaging device>
The imaging device according to the present embodiment is a device that images a finger vein pattern as biological information for identifying a living body. First, the imaging apparatus of this embodiment will be described with reference to FIGS. 1 and 2. FIG. 1 is a schematic perspective view showing the configuration of the imaging apparatus, and FIG. 2 is a schematic sectional view showing the structure of the imaging apparatus. Specifically, it is a cross section when cut along the extending direction of the finger.

図１に示すように、本実施形態の撮像装置１は、複数の撮像素子が配置されたセンサー基板４０と、遮光基板３０と、該撮像素子に向けて光を集光させる集光素子としての複数のマイクロレンズが配置されたレンズアレイ２０と、生体としての指を所定の方向に向けて配置するためのガイド基板１０とがこの順に積層されたものである。   As shown in FIG. 1, the imaging apparatus 1 according to the present embodiment includes a sensor substrate 40 on which a plurality of imaging elements are arranged, a light shielding substrate 30, and a condensing element that collects light toward the imaging element. A lens array 20 in which a plurality of microlenses are arranged and a guide substrate 10 for arranging a finger as a living body in a predetermined direction are laminated in this order.

ガイド基板１０は、例えば透明なアクリル樹脂などからなり、指が配置される溝状の凹部１１ａと、凹部１１ａの両側において指を所定の方向に向けてガイドする一対のガイド部１１と、を有している。ガイド部１１の内部には、指を照明するための光源１２として例えば近赤外光を発するＬＥＤ素子や有機ＥＬ素子などが指の延在方向に沿って複数配置されている。
なお、ガイド基板１０の構成は、これに限定されず、指の配置位置を示す例えば枠などの識別マークをレンズアレイ２０の光の入射側の表面に設け、光源１２をレンズアレイ２０に実装あるいは内蔵してもよい。
以降、指の延在方向つまり一対のガイド部１１の延在方向をＹ方向とし、Ｙ方向に直交する方向をＸ方向、各基板の積層方向をＺ方向として各構成を説明する。指の主な静脈は指の延在方向に沿って存在していると考えられる。 The guide substrate 10 is made of, for example, a transparent acrylic resin, and has a groove-like recess 11a in which the finger is disposed and a pair of guide portions 11 that guide the finger in a predetermined direction on both sides of the recess 11a. is doing. A plurality of LED elements, organic EL elements, and the like that emit near-infrared light, for example, are arranged along the extending direction of the finger as the light source 12 for illuminating the finger.
Note that the configuration of the guide substrate 10 is not limited thereto, and an identification mark such as a frame indicating the arrangement position of the finger is provided on the light incident surface of the lens array 20 and the light source 12 is mounted on the lens array 20. It may be built in.
Hereinafter, each configuration will be described with the finger extending direction, that is, the extending direction of the pair of guide portions 11 being the Y direction, the direction orthogonal to the Y direction being the X direction, and the stacking direction of each substrate being the Z direction. It is considered that the main vein of the finger exists along the extending direction of the finger.

図２に示すように、センサー基板４０は、基板本体４１に所定の間隔を置いて配置された撮像素子４２と、撮像素子４２に繋がる電気回路（図示省略）とを有するものである。つまり、基板本体４１は電気回路を設け、撮像素子４２を実装可能な例えばガラスエポキシ基板やセラミック基板などを採用することができる。
撮像素子４２は、例えばＣＣＤやＣＭＯＳなどの光センサーを用いることができる。特に、近赤外線に高い感度を持った光センサーを採用することで、指を介して受光される光源１２から発せられた近赤外光を効率よく検出できる。 As shown in FIG. 2, the sensor substrate 40 includes an image sensor 42 arranged at a predetermined interval on the substrate body 41 and an electric circuit (not shown) connected to the image sensor 42. That is, for example, a glass epoxy substrate or a ceramic substrate on which the image pickup device 42 can be mounted can be adopted as the substrate body 41.
As the image sensor 42, for example, an optical sensor such as a CCD or a CMOS can be used. In particular, by adopting an optical sensor having high sensitivity to near infrared light, it is possible to efficiently detect near infrared light emitted from the light source 12 that is received through a finger.

レンズアレイ２０は、透明な基板本体２１と、基板本体２１に凸状のレンズ面が撮像素子４２の方向（光の入射側と反対側の方向）に向くように形成された複数のマイクロレンズ２２を有している。
また、撮像素子４２と対向する有効なマイクロレンズ２２が設けられたレンズ領域２７の外側に、マイクロレンズ２２と同じ感光性レンズ材料を用いて形成された複数のダミーパターン２３を有している。複数のダミーパターン２３が設けられた領域をダミー領域２８と呼ぶ。ダミーパターン２３は、レンズアレイ２０の製造にあたって安定した形状のマイクロレンズ２２が得られるように、その配置や形状が工夫されており、詳しくは後述する。 The lens array 20 includes a transparent substrate body 21 and a plurality of microlenses 22 formed so that the convex lens surface of the substrate body 21 faces the direction of the image sensor 42 (the direction opposite to the light incident side). have.
In addition, a plurality of dummy patterns 23 formed using the same photosensitive lens material as that of the microlens 22 are provided outside the lens region 27 where the effective microlens 22 facing the imaging element 42 is provided. An area provided with a plurality of dummy patterns 23 is referred to as a dummy area 28. The arrangement and shape of the dummy pattern 23 are devised so that a stable microlens 22 can be obtained in manufacturing the lens array 20, which will be described in detail later.

レンズアレイ２０とセンサー基板４０との間には、遮光基板３０が設けられている。遮光基板３０は、透明な２つの基板３１，３２の間に挟まれた遮光部３３を有している。
遮光部３３は、マイクロレンズ２２と撮像素子４２とを結ぶ光軸上に開口部３３ａを有している。
遮光部３３は、遮光性で表面が光を反射し難い、例えばＣｒなどの金属薄膜からなり、この金属薄膜を２つの基板３１，３２のいずれか一方に成膜してパターニングすることにより、平面視では円形の開口部３３ａが形成されている。遮光部３３を挟んで２つの基板３１，３２を貼り合わせて遮光基板３０が構成されている。 A light shielding substrate 30 is provided between the lens array 20 and the sensor substrate 40. The light shielding substrate 30 has a light shielding portion 33 sandwiched between two transparent substrates 31 and 32.
The light shielding unit 33 has an opening 33 a on the optical axis connecting the microlens 22 and the image sensor 42.
The light-shielding portion 33 is light-shielding and hardly reflects light, and is made of, for example, a metal thin film such as Cr. The metal thin film is formed on one of the two substrates 31 and 32 and patterned to form a flat surface. As viewed, a circular opening 33a is formed. The light shielding substrate 30 is configured by bonding the two substrates 31 and 32 with the light shielding portion 33 interposed therebetween.

マイクロレンズ２２により集光された光が対応する開口部３３ａを通過する。マイクロレンズ２２により集光された光以外の光、例えば光源１２から発せられた光の散乱光や外光などの迷光が撮像素子４２に届かないように、開口部３３ａの大きさが決められている。マイクロレンズ２２により集光された光の束（以降、光束と呼ぶ）だけが開口部３３ａを通過するように、開口部３３ａの大きさが設定されている。つまり、遮光部３３における開口部３３ａは撮像装置１における絞り（ピンホール）の役目を果たし、これによって、鮮明な静脈パターンを撮像することが可能となる。   The light condensed by the microlens 22 passes through the corresponding opening 33a. The size of the opening 33 a is determined so that light other than the light collected by the microlens 22, for example, stray light such as scattered light or external light emitted from the light source 12 does not reach the image sensor 42. Yes. The size of the opening 33a is set so that only a bundle of light (hereinafter referred to as a light beam) collected by the microlens 22 passes through the opening 33a. That is, the opening 33a in the light shielding unit 33 serves as a diaphragm (pinhole) in the imaging device 1, and thus, a clear vein pattern can be imaged.

なお、基板３２は、遮光部３３と撮像素子４２との間の距離を一定に保持すべく、その厚みが設定されている。具体的には、マイクロレンズ２２により集光された光束が開口部３３ａを通過した後に、撮像素子４２に万遍なく受光されることが好ましい。したがって、撮像素子４２における受光面積と、マイクロレンズ２２の焦点距離とに基づいて基板３２の厚みが決まる。   The thickness of the substrate 32 is set so as to keep the distance between the light shielding portion 33 and the image sensor 42 constant. Specifically, it is preferable that the light beam collected by the microlens 22 is uniformly received by the image sensor 42 after passing through the opening 33a. Therefore, the thickness of the substrate 32 is determined based on the light receiving area in the image sensor 42 and the focal length of the microlens 22.

本実施形態では、遮光部３３と撮像素子４２との間の距離を撮像素子４２ごとに一定に保つことを目的として基板３２が配置されているが、当該距離を調整して一定に保つ方法が他にあれば、基板３２を削除してもよい。   In the present embodiment, the substrate 32 is arranged for the purpose of keeping the distance between the light shielding portion 33 and the image sensor 42 constant for each image sensor 42. However, there is a method of adjusting the distance to keep it constant. If there are others, the substrate 32 may be deleted.

レンズアレイ２０は、センサー基板４０と遮光基板３０とが貼り合わされた積層体に対して、マイクロレンズ２２の凸状のレンズ面（曲面）が撮像素子４２に向かうと共に、遮光基板３０にレンズ面が接するように対向配置され、ギャップ剤が混入されたシール材２４によって周囲が封着されている。これにより遮光基板３０と基板本体２１との間の距離が一定に保たれている。シール材２４は、例えば熱硬化型のエポキシ系接着剤や紫外線硬化型のアクリル系接着剤を用いることができる。   In the lens array 20, the convex lens surface (curved surface) of the microlens 22 faces the image sensor 42 and the lens surface of the light shielding substrate 30 has a lens surface with respect to the laminated body in which the sensor substrate 40 and the light shielding substrate 30 are bonded. The surroundings are sealed by a sealing material 24 which is disposed so as to be in contact with each other and into which a gap agent is mixed. Thereby, the distance between the light shielding substrate 30 and the substrate body 21 is kept constant. As the sealing material 24, for example, a thermosetting epoxy adhesive or an ultraviolet curable acrylic adhesive can be used.

レンズアレイ２０上に配置された指に対して光源１２から光（近赤外光）が照射される。指の内部を走る静脈は近赤外光をよく吸収する。照明された被写体としての指から発した光はマイクロレンズ２２により集光されて撮像素子４２により受光される。   Light (near-infrared light) is irradiated from the light source 12 to the finger arranged on the lens array 20. The vein running inside the finger absorbs near infrared light well. Light emitted from a finger as an illuminated subject is collected by the microlens 22 and received by the image sensor 42.

本実施形態のレンズアレイ２０におけるマイクロレンズ２２は、感光性レンズ材料を用いてフォトリソグラフィ法により形成されたマイクロレンズ前駆体を熱により軟化させてレンズ形状を得ている。詳しくは後述するが、フォトリソグラフィ法により形成された上記マイクロレンズ前駆体の寸法精度が、軟化後のマイクロレンズ２２の形状に影響する。ダミー領域２８に設けられたダミーパターン２３は、安定した形状のマイクロレンズ２２を実現するために設けられたものであって、以下、実施例を挙げて説明する。   The microlens 22 in the lens array 20 of the present embodiment has a lens shape obtained by softening a microlens precursor formed by photolithography using a photosensitive lens material with heat. Although details will be described later, the dimensional accuracy of the microlens precursor formed by the photolithography method affects the shape of the microlens 22 after being softened. The dummy pattern 23 provided in the dummy region 28 is provided in order to realize a microlens 22 having a stable shape, and will be described below with reference to examples.

（実施例１）
図３は実施例１のレンズアレイにおけるマイクロレンズおよびダミーパターンの配置を示す概略平面図、図４（ａ）〜（ｄ）はマイクロレンズの製造方法を示す概略断面図である。
図３に示すように、実施例１のレンズアレイ２０は、Ｘ方向とＹ方向とに配列した複数のマイクロレンズ２２を有するレンズ領域２７と、レンズ領域２７を囲んで同じくＸ方向とＹ方向とに配列した複数のダミーパターン２３を有するダミー領域２８とを備えている。 Example 1
3 is a schematic plan view showing the arrangement of microlenses and dummy patterns in the lens array of Example 1, and FIGS. 4A to 4D are schematic cross-sectional views showing a method for manufacturing the microlens.
As shown in FIG. 3, the lens array 20 of the first embodiment includes a lens region 27 having a plurality of microlenses 22 arranged in the X direction and the Y direction, and surrounds the lens region 27 and also has the X direction and the Y direction. And a dummy region 28 having a plurality of dummy patterns 23 arranged in the same manner.

平面視で円形のマイクロレンズ２２のレンズ径は、例えばおよそ１００μｍである。Ｘ方向とＹ方向とにおける配置ピッチはそれぞれおよそ１０５μｍで、マイクロレンズ２２は等間隔に配置されている。   The lens diameter of the circular microlens 22 in plan view is about 100 μm, for example. The arrangement pitch in the X direction and the Y direction is about 105 μm, and the microlenses 22 are arranged at equal intervals.

これに対して、平面視で正方形（四角形）のダミーパターン２３は、Ｘ方向およびＹ方向における配置ピッチがマイクロレンズ２２の配置ピッチに比べて小さくなるように設定されており、実施例１では配置ピッチがおよそ９５μｍ、サイズ（正方形の一辺の大きさ）がおよそ８０μｍとなっている。また、ダミー領域２８における単位面積あたりのパターン配置密度がレンズ領域２７におけるマイクロレンズ２２の配置密度とほぼ同じになるように外形サイズが設定されている。実施例１では、ダミーパターン２３がレンズ領域２７を囲むようにしてＸ方向とＹ方向とにそれぞれ５個ずつ（５行、５列）配置されている。   On the other hand, the square (quadrangle) dummy pattern 23 in plan view is set so that the arrangement pitch in the X direction and the Y direction is smaller than the arrangement pitch of the microlenses 22. The pitch is about 95 μm, and the size (the size of one side of the square) is about 80 μm. Further, the outer size is set so that the pattern arrangement density per unit area in the dummy area 28 is substantially the same as the arrangement density of the microlenses 22 in the lens area 27. In the first embodiment, five dummy patterns 23 (5 rows and 5 columns) are arranged in the X direction and the Y direction so as to surround the lens region 27.

次に図４を参照してマイクロレンズ２２の製造方法を説明する。
まず、図４（ａ）に示すように、透明な基板本体２１の一方の面に感光性レンズ材料層２０ａを一定の膜厚ｔで形成する（感光性レンズ材料層形成工程）。感光性レンズ材料層２０ａの形成方法としては、例えば感光性レンズ材料を含む溶液をスピンコート法を用いて塗布して乾燥する方法が挙げられる。このような感光性レンズ材料としては、有機溶媒に可溶なポジ型の感光性ポリイミドや感光性アクリルなどが挙げられる。 Next, a method for manufacturing the microlens 22 will be described with reference to FIG.
First, as shown in FIG. 4A, a photosensitive lens material layer 20a is formed with a certain film thickness t on one surface of a transparent substrate body 21 (photosensitive lens material layer forming step). Examples of the method for forming the photosensitive lens material layer 20a include a method in which a solution containing a photosensitive lens material is applied and dried using a spin coating method. Examples of such a photosensitive lens material include positive photosensitive polyimide soluble in an organic solvent and photosensitive acrylic.

次に、マイクロレンズ２２のレンズ径に相当する径Ｌの遮光パターンＭａを有するマスクＭ１を介して、形成された感光性レンズ材料層２０ａを露光する（露光工程）。   Next, the formed photosensitive lens material layer 20a is exposed through a mask M1 having a light shielding pattern Ma having a diameter L corresponding to the lens diameter of the microlens 22 (exposure process).

感光性レンズ材料層２０ａがポジ型であるため、光が当たった部分は、現像液に溶解する（現像工程）。そして、図４（ｂ）に示すように、基板本体２１上には円柱状であって、径Ｌのマイクロレンズ前駆体２２ａが形成される。   Since the photosensitive lens material layer 20a is a positive type, the portion exposed to light is dissolved in the developer (development process). Then, as shown in FIG. 4B, a microlens precursor 22 a having a cylindrical shape and a diameter L is formed on the substrate body 21.

このマイクロレンズ前駆体２２ａを加熱して熱変形（軟化）させ、その後冷却することにより、図４（ｃ）に示すように、凸状のレンズ面を有するマイクロレンズ２２が形成される。   The microlens precursor 22a is heated to be thermally deformed (softened) and then cooled to form a microlens 22 having a convex lens surface as shown in FIG. 4C.

このような製造方法によって得られるマイクロレンズ２２の形状は、加熱前の円柱状のマイクロレンズ前駆体２２ａの底面の半径と高さとによって決まる。具体的には、次の数式（１）、（２）のような関係がある。図４（ｄ）に示すように、円柱状のマイクロレンズ前駆体２２ａの直径をＬ、高さをｔ、熱変形（軟化）後のマイクロレンズ２２の曲率半径をｒ、高さをｈとする。   The shape of the microlens 22 obtained by such a manufacturing method is determined by the radius and height of the bottom surface of the cylindrical microlens precursor 22a before heating. Specifically, there is a relationship such as the following mathematical formulas (1) and (2). As shown in FIG. 4D, the diameter of the cylindrical microlens precursor 22a is L, the height is t, the radius of curvature of the microlens 22 after thermal deformation (softening) is r, and the height is h. .

感光性レンズ材料からなるマイクロレンズ前駆体２２ａと熱変形後のマイクロレンズ２２の体積は同じである。よって、以下の数式（１）が得られる。
π（ｒｈ2−ｈ3／３）＝π（Ｌ／２）2ｔ・・・・・（１） The volume of the microlens precursor 22a made of a photosensitive lens material and the microlens 22 after thermal deformation are the same. Therefore, the following mathematical formula (1) is obtained.
π (rh 2 -h 3/3 ) = π (L / 2) 2 t ····· (1)

また、熱変形（軟化）後のレンズ面が球面の一部であることから、以下の数式（２）が得られる。
ｒ2＝（ｒ−ｈ）2＋（Ｌ／２）2・・・・・・・・・（２） Further, since the lens surface after thermal deformation (softening) is a part of a spherical surface, the following formula (2) is obtained.
r 2 = (r−h) 2 + (L / 2) 2 (2)

上記の数式（１）、（２）より、レンズ径Ｌに比べｔが小さい場合、マイクロレンズ２２の高さｈは一定の値（２ｔ）に近づく。このとき、マイクロレンズ２２の曲率半径ｒはＬ2／１６ｔになる。この関係よりマイクロレンズ前駆体２２ａの径Ｌが大きくなるとマイクロレンズ２２の曲率半径ｒも大きくなることがわかる。 From the above formulas (1) and (2), when t is smaller than the lens diameter L, the height h of the microlens 22 approaches a constant value (2t). At this time, the radius of curvature r of the microlens 22 is L 2 / 16t. From this relationship, it can be seen that the radius of curvature r of the microlens 22 increases as the diameter L of the microlens precursor 22a increases.

言い換えれば、マイクロレンズ前駆体２２ａの大きさ（径Ｌ）がばらつくと、マイクロレンズ２２の曲率半径ｒもばらつくことになる。曲率半径ｒのばらつきは、マイクロレンズ２２における焦点距離や集光度のばらつきに繋がる。   In other words, if the size (diameter L) of the microlens precursor 22a varies, the curvature radius r of the microlens 22 also varies. Variations in the radius of curvature r lead to variations in focal length and light collection degree in the microlens 22.

マイクロレンズ前駆体２２ａの大きさ（径Ｌ）のばらつきは、現像工程に負うところが大きい。前述したように、ポジ型の感光性レンズ材料層２０ａをマスクＭ１を介して露光すると光が当たった部分が現像液に溶解する。光が当たる部分が増えれば増えるほど現像液に溶解する感光性レンズ材料が増えることになる。現像液中の感光性レンズ材料の濃度は、現像スピードに影響を与える。現像スピードのばらつきがマイクロレンズ前駆体２２ａの大きさ（径Ｌ）のばらつきに繋がるのである。   Variations in the size (diameter L) of the microlens precursor 22a are greatly affected by the development process. As described above, when the positive type photosensitive lens material layer 20a is exposed through the mask M1, the portion exposed to light is dissolved in the developer. The more parts that are exposed to light, the more photosensitive lens material that dissolves in the developer. The density of the photosensitive lens material in the developer affects the development speed. Variation in development speed leads to variation in size (diameter L) of the microlens precursor 22a.

図５はダミーパターンが無い場合の現像液における感光性レンズ材料の濃度分布を示すグラフである。グラフの縦軸は、現像液中の感光性レンズ材料の濃度を示しており、単位面積当たりの感光性レンズ材料がすべて溶解する場合を１００として指数化されている。横軸は、Ｘ方向またはＹ方向におけるダミーパターン２３やマイクロレンズ２２のアドレス（位置）をパターンの数を基準として表したものである。   FIG. 5 is a graph showing the density distribution of the photosensitive lens material in the developer when there is no dummy pattern. The vertical axis of the graph indicates the concentration of the photosensitive lens material in the developer, and is indexed with 100 representing the case where all the photosensitive lens material is dissolved per unit area. The horizontal axis represents the addresses (positions) of the dummy pattern 23 and the microlens 22 in the X direction or the Y direction on the basis of the number of patterns.

図５に示すように、ダミーパターン２３が無い場合には、レンズ領域２７の外側の周辺領域では、感光性レンズ材料層２０ａがほとんど露光されているので、現像液に感光性レンズ材料が溶解し、レンズ領域２７に比べて感光性レンズ材料の濃度が高くなってゆく。
現像液中では感光性レンズ材料の濃度勾配が小さくなるように感光性レンズ材料が拡散する。一方、感光性レンズ材料の現像液への溶解速度は、現像液中の既に溶けた感光性レンズ材料の濃度上昇に伴い、徐々に低下する。つまり、現像する面積が広いエリアの近傍では、現像する面積が狭いエリアの近傍に比べ、現像液中の感光性レンズ材料の濃度が高くなり、その現像液が拡散することで、現像速度を低下させる。現像工程において、レンズ領域２７の中央側のマイクロレンズ前駆体２２ａの大きさを基準にして現像条件（例えば現像時間）を決めると、外縁側のマイクロレンズ前駆体２２ａが現像不十分となるおそれがある。これとは逆に、レンズ領域２７の外縁側のマイクロレンズ前駆体２２ａの大きさを基準にして現像条件（例えば現像時間）を決めると、中央側のマイクロレンズ前駆体２２ａがオーバー現像となるおそれがある。 As shown in FIG. 5, in the absence of the dummy pattern 23, the photosensitive lens material layer 20a is almost exposed in the peripheral region outside the lens region 27, so that the photosensitive lens material is dissolved in the developer. The density of the photosensitive lens material becomes higher than that of the lens region 27.
In the developer, the photosensitive lens material diffuses so that the concentration gradient of the photosensitive lens material becomes small. On the other hand, the dissolution rate of the photosensitive lens material in the developer gradually decreases as the concentration of the photosensitive lens material already dissolved in the developer increases. In other words, the density of the photosensitive lens material in the developer is higher in the vicinity of the area where the development area is large than in the vicinity of the area where the development area is narrow, and the development speed is reduced by the diffusion of the developer. Let In the development process, if development conditions (for example, development time) are determined based on the size of the microlens precursor 22a on the center side of the lens region 27, the microlens precursor 22a on the outer edge side may be insufficiently developed. is there. On the contrary, if the development condition (for example, development time) is determined based on the size of the microlens precursor 22a on the outer edge side of the lens region 27, the microlens precursor 22a on the center side may be over-developed. There is.

そこで、図３に示したように、レンズ領域２７を囲むようにしてダミーパターン２３を配置すると、上記のような現像液中の感光性レンズ材料の濃度勾配をレンズ領域２７から遠ざけることが可能となる。   Therefore, as shown in FIG. 3, if the dummy pattern 23 is disposed so as to surround the lens region 27, the concentration gradient of the photosensitive lens material in the developer as described above can be kept away from the lens region 27.

図６はダミーパターンが有る場合の現像液における感光性レンズ材料の濃度分布を示すグラフである。縦軸、横軸は、図５のグラフと同じである。
図６に示すように、レンズ領域２７と周辺領域との間に複数のダミーパターン２３を有するダミー領域２８を設けると、現像液中の感光性レンズ材料の濃度勾配が生ずる領域がダミー領域２８側に追いやられるので、レンズ領域２７における現像条件が安定する。それゆえに、レンズ領域２７におけるマイクロレンズ前駆体２２ａの大きさが安定して、熱変形（軟化）後に形状が安定したマイクロレンズ２２が得られる。 FIG. 6 is a graph showing the concentration distribution of the photosensitive lens material in the developing solution when there is a dummy pattern. The vertical and horizontal axes are the same as those in the graph of FIG.
As shown in FIG. 6, when a dummy region 28 having a plurality of dummy patterns 23 is provided between the lens region 27 and the peripheral region, the region where the concentration gradient of the photosensitive lens material in the developer is generated is on the dummy region 28 side. Therefore, the development conditions in the lens region 27 are stabilized. Therefore, the size of the microlens precursor 22a in the lens region 27 is stabilized, and the microlens 22 having a stable shape after thermal deformation (softening) is obtained.

図７は濃度分布均一性におけるダミーパターンの数依存性を示すグラフである。縦軸は現像液中の濃度分布均一性を示す指標として前述した濃度勾配の程度を指数化しており、縦軸の上に行くほど濃度勾配が大きくなる。横軸は、ダミーパターン２３の数を示している。   FIG. 7 is a graph showing the number dependency of dummy patterns in density distribution uniformity. The vertical axis indicates the degree of the above-described density gradient as an index indicating the density distribution uniformity in the developing solution, and the density gradient increases as it goes above the vertical axis. The horizontal axis indicates the number of dummy patterns 23.

詳しくは、現像液中の感光性レンズ材料の濃度分布均一性について、ダミーパターン２３の配置ピッチとサイズ（正方形における一辺の長さ）とを変えて現像を行ったときの、ダミーパターン２３のＸ方向またはＹ方向における数と濃度分布均一性との関係を示すものである。ダミーパターン２３の配置ピッチとサイズとの組み合わせは、次の通りである。
配置ピッチ／サイズで示すと、１０５μｍ／１０３μｍ、１０５μｍ／１００μｍ、１０５μｍ／９５μｍ、９５μｍ／９０μｍ、８５μｍ／８０μｍとなっている。 Specifically, regarding the uniformity of the density distribution of the photosensitive lens material in the developer, the X of the dummy pattern 23 when the development is performed by changing the arrangement pitch and size (the length of one side in the square) of the dummy pattern 23. The relationship between the number in the direction or the Y direction and the density distribution uniformity is shown. The combination of the arrangement pitch and the size of the dummy pattern 23 is as follows.
In terms of arrangement pitch / size, they are 105 μm / 103 μm, 105 μm / 100 μm, 105 μm / 95 μm, 95 μm / 90 μm, and 85 μm / 80 μm.

図７に示すように、ダミーパターン２３の数が５個以下の場合、ダミーパターン２３がレンズ領域２７におけるマイクロレンズ２２の配置ピッチ（１０５μｍ）およびサイズ（レンズ径１００μｍ）と同等かそれよりも大きい場合に比べて、ダミーパターン２３の配置ピッチを小さくしてゆくと、濃度分布均一性が改善されることが分かる。
また、ダミーパターン２３がレンズ領域２７におけるマイクロレンズ２２の配置ピッチおよびサイズと同じであったとしても、ダミーパターン２３の数を５個以上、好ましくは１０個以上配置すれば、濃度分布均一性が改善されることが分かる。 As shown in FIG. 7, when the number of dummy patterns 23 is five or less, the dummy patterns 23 are equal to or larger than the arrangement pitch (105 μm) and size (lens diameter 100 μm) of the microlenses 22 in the lens region 27. It can be seen that the density distribution uniformity is improved when the arrangement pitch of the dummy patterns 23 is reduced as compared with the case.
Even if the dummy pattern 23 is the same as the arrangement pitch and size of the microlenses 22 in the lens region 27, if the number of dummy patterns 23 is five or more, preferably ten or more, the density distribution uniformity is improved. It can be seen that it is improved.

実施例１では、ダミー領域２８におけるＸ方向およびＹ方向に配列したダミーパターン２３の数を５個とし、配置ピッチをマイクロレンズ２２の配置ピッチ（１０５μｍ）よりも小さい９５μｍとしているので、レンズ領域２７において安定した形状のマイクロレンズ２２が得られる。   In the first embodiment, the number of the dummy patterns 23 arranged in the X direction and the Y direction in the dummy region 28 is five, and the arrangement pitch is 95 μm which is smaller than the arrangement pitch (105 μm) of the microlens 22. Thus, a stable microlens 22 can be obtained.

また、図７に示すように、ダミーパターン２３の数が５個以下の場合、ダミーパターン２３の配置ピッチが同じであったとしても、ダミーパターン２３のサイズをマイクロレンズ２２のサイズよりも大きくすることで、濃度分布均一性が改善されることが分かる。ダミーパターン２３のサイズをマイクロレンズ２２のサイズよりも大きくすることは、現像時にダミー領域２８において溶解する感光性レンズ材料を減らすことになる。つまり、現像後におけるレンズ領域２７とダミー領域２８とにおける感光性レンズ材料の配置密度に関連することが分かる。図７のグラフを得たときのレンズ領域２７における感光性レンズ材料の単位面積当たりに占める割り合い、すなわち配置密度はおよそ７２％となっている。次に説明する実施例２および実施例３は感光性レンズ材料の配置密度に着目した実施例である。   As shown in FIG. 7, when the number of dummy patterns 23 is 5 or less, even if the arrangement pitch of the dummy patterns 23 is the same, the size of the dummy patterns 23 is made larger than the size of the microlenses 22. This shows that the uniformity of the density distribution is improved. Making the size of the dummy pattern 23 larger than the size of the micro lens 22 reduces the photosensitive lens material dissolved in the dummy region 28 during development. That is, it can be seen that this is related to the arrangement density of the photosensitive lens material in the lens region 27 and the dummy region 28 after development. The ratio of the photosensitive lens material per unit area in the lens region 27 when the graph of FIG. 7 is obtained, that is, the arrangement density is approximately 72%. Examples 2 and 3 described below are examples focusing on the arrangement density of the photosensitive lens material.

（実施例２）
実施例２のレンズアレイ２０について、図８および図９を参照して説明する。図８は実施例２のレンズアレイにおけるマイクロレンズおよびダミーパターンの配置を示す概略平面図、図９は実施例２の現像液における感光性レンズ材料の濃度分布を示すグラフである。実施例１の図５および図６と同様に、図９のグラフにおける縦軸は感光性レンズ材料の指数化された濃度であり、横軸はパターンアドレスである。 (Example 2)
The lens array 20 of Example 2 will be described with reference to FIGS. 8 and 9. FIG. 8 is a schematic plan view showing the arrangement of microlenses and dummy patterns in the lens array of Example 2, and FIG. 9 is a graph showing the concentration distribution of the photosensitive lens material in the developer of Example 2. As in FIGS. 5 and 6 of Example 1, the vertical axis in the graph of FIG. 9 is the indexed density of the photosensitive lens material, and the horizontal axis is the pattern address.

図８に示すように、実施例２のレンズアレイ２０は、Ｘ方向とＹ方向とに配列した複数のマイクロレンズ２２を有するレンズ領域２７と、レンズ領域２７を囲んで同じくＸ方向とＹ方向とに配列した複数のダミーパターン２５を有するダミー領域２８と、ダミー領域２８を囲むように設けられた周辺領域２９とを備えている。   As shown in FIG. 8, the lens array 20 of Example 2 includes a lens region 27 having a plurality of microlenses 22 arranged in the X direction and the Y direction, and surrounds the lens region 27 and also has the X direction and the Y direction. A dummy area 28 having a plurality of dummy patterns 25 arranged in a row and a peripheral area 29 provided so as to surround the dummy area 28.

レンズ領域２７に配置されたマイクロレンズ２２は、実施例１と同じであって、レンズ径がおよそ１００μｍ、配置ピッチが１０５μｍとなっている。そうすると、前述したようにレンズ領域２７における感光性レンズ材料の配置密度はおよそ７２％である。これに対して、ダミー領域２８には、平面視で正方形（四角形）のダミーパターン２５が、レンズ領域２７を囲むようにしてＸ方向とＹ方向とにそれぞれ３個ずつ（３行、３列）配列しており、配置ピッチが９５μｍ、サイズ（正方形の一辺の大きさ）が７５μｍとなっている。ダミー領域２８における感光性レンズ材料の配置密度は、およそ６２％となる。
ダミー領域２８を囲むように設けられた周辺領域２９には、図８において図示を省略したが、感光性レンズ材料の配置密度がレンズ領域２７よりも大きくなるように配置されている。つまり、感光性レンズ材料の配置密度は、実施例１がレンズ領域２７≒ダミー領域２８の関係であったのに対し、実施例２ではダミー領域２８（６２％）＜レンズ領域２７（７２％）＜周辺領域２９の関係となっている。周辺領域２９における感光性レンズ材料の配置は、様々な形式（パターン）が考えられるが、周辺領域２９の全面に亘って感光性レンズ材料を配置して露光しない状態（配置密度１００％）としてもよい。 The microlens 22 arranged in the lens region 27 is the same as that of the first embodiment, and has a lens diameter of about 100 μm and an arrangement pitch of 105 μm. Then, as described above, the arrangement density of the photosensitive lens material in the lens region 27 is approximately 72%. On the other hand, in the dummy area 28, square (quadrangular) dummy patterns 25 in a plan view are arranged so as to surround the lens area 27, three in each of the X direction and the Y direction (3 rows and 3 columns). The arrangement pitch is 95 μm and the size (the size of one side of the square) is 75 μm. The arrangement density of the photosensitive lens material in the dummy area 28 is approximately 62%.
Although not shown in FIG. 8, the peripheral area 29 provided so as to surround the dummy area 28 is arranged so that the arrangement density of the photosensitive lens material is larger than that of the lens area 27. In other words, the arrangement density of the photosensitive lens material in the first embodiment was such that the lens area 27≈dummy area 28, whereas in the second embodiment, the dummy area 28 (62%) <the lens area 27 (72%). <The relationship of the peripheral region 29 is established. Various types (patterns) of the arrangement of the photosensitive lens material in the peripheral region 29 can be considered. However, the photosensitive lens material may be arranged over the entire surface of the peripheral region 29 and not exposed (arrangement density 100%). Good.

このような実施例２の感光性レンズ材料の配置によれば、図９に示すように、周辺領域２９では、現像液に感光性レンズ材料が溶解し難く、周辺領域２９とダミー領域２８との間の濃度勾配よりもダミー領域２８とレンズ領域２７との間の濃度勾配の方がより小さくなることが分かった。ダミー領域２８で感光性レンズ材料が溶解した現像液は濃度が低い周辺領域２９へと拡散していると考えられる。これによって、レンズ領域２７では、現像液中の感光性レンズ材料濃度が安定し、現像後に安定した形状のマイクロレンズ２２が得られる。   According to the arrangement of the photosensitive lens material of Example 2 as described above, as shown in FIG. 9, in the peripheral region 29, the photosensitive lens material is difficult to dissolve in the developer, and the peripheral region 29 and the dummy region 28 are It has been found that the density gradient between the dummy area 28 and the lens area 27 is smaller than the density gradient between them. It is considered that the developer in which the photosensitive lens material is dissolved in the dummy region 28 is diffused to the peripheral region 29 having a low concentration. Thereby, in the lens region 27, the density of the photosensitive lens material in the developer is stabilized, and the microlens 22 having a stable shape after development is obtained.

（実施例３）
次に、実施例３のレンズアレイ２０について、図１０及び図１１を参照して説明する。図１０は実施例３のレンズアレイにおけるマイクロレンズとダミーパターンの配置を示す概略平面図、図１１は実施例３の現像液における感光性レンズ材料の濃度分布を示すグラフである。実施例１の図５および図６と同様に、図１１のグラフにおける縦軸は感光性レンズ材料の指数化された濃度であり、横軸はパターンアドレスである。 (Example 3)
Next, the lens array 20 of Example 3 will be described with reference to FIGS. 10 and 11. FIG. 10 is a schematic plan view showing the arrangement of microlenses and dummy patterns in the lens array of Example 3, and FIG. 11 is a graph showing the concentration distribution of the photosensitive lens material in the developer of Example 3. As in FIGS. 5 and 6 of Example 1, the vertical axis in the graph of FIG. 11 is the indexed density of the photosensitive lens material, and the horizontal axis is the pattern address.

図１０に示すように、実施例３のレンズアレイ２０は、Ｘ方向とＹ方向とに配列した複数のマイクロレンズ２２を有するレンズ領域２７と、レンズ領域２７を囲んで同じくＸ方向とＹ方向とに配列した複数のダミーパターン２６を有するダミー領域２８と、ダミー領域２８を囲むように設けられた周辺領域２９を備えている。   As shown in FIG. 10, the lens array 20 of Example 3 includes a lens region 27 having a plurality of microlenses 22 arranged in the X direction and the Y direction, and surrounds the lens region 27 in the X direction and the Y direction. A dummy region 28 having a plurality of dummy patterns 26 arranged in a row and a peripheral region 29 provided so as to surround the dummy region 28 are provided.

レンズ領域２７に配置されたマイクロレンズ２２は、実施例１と同じであって、レンズ径がおよそ１００μｍ、配置ピッチが１０５μｍである。前述したようにレンズ領域２７における感光性レンズ材料の配置密度はおよそ７２％となる。これに対して、ダミー領域２８には、平面視で正方形（四角形）のダミーパターン２６が、レンズ領域２７を囲むようにしてＸ方向とＹ方向とにそれぞれ３個ずつ（３行、３列）配列しており、配置ピッチが９５μｍ、サイズ（正方形の一辺の大きさ）が８５μｍとなっている。ダミー領域２８における感光性レンズ材料の配置密度は８０％となり、レンズ領域２７よりも大きくなる。
ダミー領域２８を囲むように設けられた周辺領域２９には、図１０において図示を省略したが、感光性レンズ材料の配置密度がレンズ領域２７よりも小さくなるように配置されている。つまり、感光性レンズ材料の配置密度は、ダミー領域２８（８０％）＞レンズ領域２７（７２％）＞周辺領域２９の関係となっている。周辺領域２９における感光性レンズ材料の配置は、様々な形式（パターン）が考えられるが、周辺領域２９の全面に亘って感光性レンズ材料を配置しない状態（配置密度０％）としてもよい。 The microlens 22 arranged in the lens region 27 is the same as that of the first embodiment, and has a lens diameter of about 100 μm and an arrangement pitch of 105 μm. As described above, the arrangement density of the photosensitive lens material in the lens region 27 is approximately 72%. On the other hand, in the dummy area 28, three (square) dummy patterns 26 in a plan view are arranged so as to surround the lens area 27, three in each of the X direction and the Y direction (3 rows and 3 columns). The arrangement pitch is 95 μm and the size (the size of one side of the square) is 85 μm. The arrangement density of the photosensitive lens material in the dummy area 28 is 80%, which is larger than that in the lens area 27.
Although not shown in FIG. 10, the peripheral area 29 provided so as to surround the dummy area 28 is arranged so that the arrangement density of the photosensitive lens material is smaller than that of the lens area 27. That is, the arrangement density of the photosensitive lens material has a relationship of dummy area 28 (80%)> lens area 27 (72%)> peripheral area 29. Various arrangements (patterns) can be considered for the arrangement of the photosensitive lens material in the peripheral region 29, but the photosensitive lens material may not be arranged over the entire surface of the peripheral region 29 (arrangement density 0%).

このような実施例３の感光性レンズ材料の配置によれば、図１１に示すように、周辺領域２９では、ダミー領域２８に比べてより多くの感光性レンズ材料が現像液に溶解する。周辺領域２９とダミー領域２８との間の濃度勾配よりもダミー領域２８とレンズ領域２７との間の濃度勾配の方がより小さくなることが分かった。周辺領域２９で感光性レンズ材料が溶解した現像液は濃度が低いダミー領域２８からレンズ領域２７へと拡散していると考えられる。これにより、レンズ領域２７では現像液中の感光性レンズ材料濃度が安定し、現像後に安定した形状のマイクロレンズ２２が得られる。   According to the arrangement of the photosensitive lens material of Example 3, more photosensitive lens material is dissolved in the developer in the peripheral area 29 than in the dummy area 28 as shown in FIG. It was found that the density gradient between the dummy area 28 and the lens area 27 is smaller than the density gradient between the peripheral area 29 and the dummy area 28. It is considered that the developer in which the photosensitive lens material is dissolved in the peripheral region 29 is diffused from the dummy region 28 having a low concentration to the lens region 27. Thereby, in the lens region 27, the concentration of the photosensitive lens material in the developer is stabilized, and the microlens 22 having a stable shape after development is obtained.

以上に述べた前記実施形態によれば、以下の効果が得られる。   According to the embodiment described above, the following effects can be obtained.

（１）上記実施例１のレンズアレイ２０は、ダミー領域２８におけるダミーパターン２３の配置ピッチがレンズ領域２７におけるマイクロレンズ２２の配置ピッチよりも小さく、レンズ領域２７とダミー領域２８とにおける感光性レンズ材料の配置密度がほぼ同じとなるように、ダミーパターン２３のサイズが決められている。また、ダミー領域２８においてダミーパターン２３がレンズ領域２７を囲むようにＸ方向とＹ方向とに５個ずつ（５行、５列）配列されている。したがって、現像時における現像液中の感光性レンズ材料の濃度分布均一性が、ダミー領域２８を設けない場合に比べて改善される。ゆえに、レンズ領域２７において安定した現像条件が実現されるので、安定した形状のマイクロレンズ２２を有するレンズアレイ２０を実現できる。   (1) In the lens array 20 of the first embodiment, the arrangement pitch of the dummy patterns 23 in the dummy area 28 is smaller than the arrangement pitch of the microlenses 22 in the lens area 27, and the photosensitive lens in the lens area 27 and the dummy area 28. The size of the dummy pattern 23 is determined so that the material arrangement density is substantially the same. In the dummy area 28, five dummy patterns 23 (5 rows and 5 columns) are arranged in the X direction and the Y direction so as to surround the lens area 27. Therefore, the density distribution uniformity of the photosensitive lens material in the developer at the time of development is improved as compared with the case where the dummy region 28 is not provided. Therefore, since stable development conditions are realized in the lens region 27, the lens array 20 having the microlenses 22 having a stable shape can be realized.

（２）上記実施例２および上記実施例３のレンズアレイ２０は、感光性レンズ材料の配置密度が異なる領域を段階的に設けることによって、現像液中ではレンズ領域２７、ダミー領域２８、周辺領域２９の間の濃度勾配が互いに緩和されるように現像液の流動が生ずる。これによって、実施例１に対して、ダミー領域２８におけるＸ方向とＹ方向とに配列するダミーパターン２５，２６の数を５個（５行、５列）から３個（３行、３列）に減らしても、レンズ領域２７において安定した形状のマイクロレンズ２２が得られる。   (2) In the lens arrays 20 of the second embodiment and the third embodiment, regions having different arrangement densities of the photosensitive lens material are provided in stages, so that the lens region 27, the dummy region 28, and the peripheral region in the developer. The developer flows so that the density gradients between 29 are alleviated. Accordingly, the number of dummy patterns 25 and 26 arranged in the X direction and the Y direction in the dummy region 28 is changed from 5 (5 rows, 5 columns) to 3 (3 rows, 3 columns). Even if the number is reduced, the microlens 22 having a stable shape in the lens region 27 can be obtained.

（３）上記実施形態において、ダミー領域２８に設けられるダミーパターン２３，２５，２６は、平面視で正方形（四角形）であるため、平面形状が円形である場合に比べて、一辺の長さを調整することでダミー領域２８における感光性レンズ材料の配置密度を比較的容易に調整することができる。また、ダミーパターン間の隙間を一定とすることができるので、現像液中の濃度分布を均一化し易い。   (3) In the above embodiment, the dummy patterns 23, 25, and 26 provided in the dummy region 28 are square (quadrangle) in plan view, so that the length of one side is larger than when the planar shape is circular. By adjusting, the arrangement density of the photosensitive lens material in the dummy region 28 can be adjusted relatively easily. Further, since the gap between the dummy patterns can be made constant, the concentration distribution in the developer can be easily made uniform.

（４）上記実施例１〜上記実施例３のいずれかのレンズアレイ２０を備えた撮像装置１は、安定した形状のマイクロレンズ２２によって集光された光を撮像素子４２によって受光できるので、集光度のむらが少なく、鮮明な指の静脈パターンを撮像することができる。また、上記実施例２または上記実施例３のレンズアレイ２０を用いた場合には、実施例１に比べてダミー領域２８におけるダミーパターンの配置数を減らすことができる。言い換えれば、レンズアレイ２０の外形サイズを小さくできるので、撮像装置１の小型化に貢献できる。   (4) Since the imaging device 1 including the lens array 20 of any one of the first to third embodiments can receive the light collected by the microlens 22 having a stable shape by the imaging device 42, A bright finger vein pattern can be imaged with little unevenness in luminous intensity. Further, when the lens array 20 of the second embodiment or the third embodiment is used, the number of dummy patterns arranged in the dummy region 28 can be reduced as compared with the first embodiment. In other words, since the outer size of the lens array 20 can be reduced, it is possible to contribute to downsizing of the imaging device 1.

（第２実施形態）
＜生体認証装置＞
次に、上記第１実施形態の撮像装置１を備えた生体認証装置の例につき、図１２を参照して説明する。図１２は生体認証装置の構成を示すブロック図である。 (Second Embodiment)
<Biometric authentication device>
Next, an example of a biometric authentication device including the imaging device 1 of the first embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 12 is a block diagram showing the configuration of the biometric authentication apparatus.

図１２に示すように、本実施形態の生体認証装置８０は、記憶部８１、撮像部８２、発光部８３、認証実行部８４、およびこれら各部を制御する制御部８５を有する。撮像部８２、発光部８３は撮像装置１に相当し、撮像部８２はガイド基板１０、レンズアレイ２０、遮光基板３０、センサー基板４０を含むものであり、発光部８３は光源１２に相当する。   As illustrated in FIG. 12, the biometric authentication device 80 of the present embodiment includes a storage unit 81, an imaging unit 82, a light emitting unit 83, an authentication execution unit 84, and a control unit 85 that controls these units. The imaging unit 82 and the light emitting unit 83 correspond to the imaging device 1, the imaging unit 82 includes the guide substrate 10, the lens array 20, the light shielding substrate 30, and the sensor substrate 40, and the light emitting unit 83 corresponds to the light source 12.

発光部８３は、制御部８５から伝達される信号に基づいて、光（近赤外光）を指に向けて射出する。撮像部８２は、制御部８５から伝達される制御信号に基づいて撮影動作を開始し、撮像された静脈パターンを制御部８５に出力する。   The light emitting unit 83 emits light (near infrared light) toward the finger based on the signal transmitted from the control unit 85. The imaging unit 82 starts an imaging operation based on the control signal transmitted from the control unit 85, and outputs the captured vein pattern to the control unit 85.

制御部８５は、記憶部８１に格納されたプログラムに基づいて信号の演算処理、信号伝送といった各種の処理を実行し、撮像部８２から出力される静脈パターンを認証実行部８４に伝達する。   The control unit 85 executes various processes such as signal calculation processing and signal transmission based on the program stored in the storage unit 81, and transmits the vein pattern output from the imaging unit 82 to the authentication execution unit 84.

記憶部８１は、ハードディスク、半導体メモリー（ＤＲＡＭ（Dynamic Random Access Memory）、またはＳＲＡＭ（Static Random Access Memory））といった記憶装置である。記憶部８１には、生体認証を実現するためのプログラム、画像構成を実現するためのプログラム、認証時に用いられる予め登録された静脈パターン、および認証履歴といった情報が格納される。   The storage unit 81 is a storage device such as a hard disk, a semiconductor memory (DRAM (Dynamic Random Access Memory), or SRAM (Static Random Access Memory)). The storage unit 81 stores information such as a program for realizing biometric authentication, a program for realizing an image configuration, a pre-registered vein pattern used for authentication, and an authentication history.

認証実行部８４は、撮像部８２によって撮像され出力された静脈パターン（画像情報）と予め登録された生体の静脈パターン（画像情報）とを照合して、撮像された静脈パターンが登録された生体のものか否か判定する。静脈認証の方法は、静脈パターンの類似性を判別する各種方法に依存する。   The authentication execution unit 84 collates the vein pattern (image information) imaged and output by the imaging unit 82 with the previously registered vein pattern (image information) of the living body, and the living body in which the captured vein pattern is registered Judge whether or not. The vein authentication method depends on various methods for determining the similarity of vein patterns.

生体認証装置８０は、上記第１実施形態の撮像装置１を備えているので、指の内部における静脈パターン（生体情報）を鮮明な状態で入手することができる。したがって、認証実行部８４は、予め登録された静脈パターンごとに、撮像された静脈パターンとの間で類似性を判別し、高い認証精度を実現することができる。また、より高い認証精度を実現し、不正行為を防止することができる。   Since the biometric authentication device 80 includes the imaging device 1 of the first embodiment, a vein pattern (biometric information) inside the finger can be obtained in a clear state. Therefore, the authentication execution unit 84 can determine similarity between each vein pattern registered in advance and the captured vein pattern, thereby realizing high authentication accuracy. In addition, higher authentication accuracy can be realized and fraud can be prevented.

（第３実施形態）
＜電子機器＞
次に本実施形態の電子機器について、図１３を参照して説明する。図１３（ａ）は電子機器としての携帯型電話機を示す斜視図、同図（ｂ）は電子機器としてのパーソナルコンピューターを示す概略図である。 (Third embodiment)
<Electronic equipment>
Next, the electronic apparatus of this embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 13A is a perspective view showing a mobile phone as an electronic device, and FIG. 13B is a schematic view showing a personal computer as an electronic device.

図１３（ａ）に示すように、本実施形態の電子機器としての携帯型電話機１００は、表示部１０１、操作ボタン１０２および生体認証装置８０を備えている。生体認証装置８０は、携帯型電話機１００の本体に搭載された撮像装置１に指を触れさせることによって取得された静脈パターンを用いて、例えば、携帯型電話機１００のロック状態を解除したり、金融決済の際の個人認証を行うことができる。   As shown in FIG. 13A, the mobile phone 100 as the electronic apparatus of this embodiment includes a display unit 101, operation buttons 102, and a biometric authentication device 80. The biometric authentication device 80 uses the vein pattern acquired by touching the imaging device 1 mounted on the main body of the mobile phone 100 with a finger, for example, to unlock the mobile phone 100, Personal authentication at the time of settlement can be performed.

図１３（ｂ）に示すように、本実施形態の電子機器としてのノート型のパーソナルコンピューター１１０は、表示部１１１、入力ボタン１１２および生体認証装置８０を備えている。生体認証装置８０は、パーソナルコンピューター１１０の本体に組み込まれた撮像装置１に指を触れさせることによって取得された静脈パターンを用い、例えば、パーソナルコンピューター１１０にログインしたり、金融決済の際の個人認証を行うことができる。   As shown in FIG. 13B, a notebook personal computer 110 as an electronic apparatus according to this embodiment includes a display unit 111, an input button 112, and a biometric authentication device 80. The biometric authentication device 80 uses a vein pattern acquired by touching the imaging device 1 incorporated in the main body of the personal computer 110 with a finger. For example, the biometric authentication device 80 logs in the personal computer 110 or performs personal authentication at the time of financial settlement. It can be performed.

上記携帯型電話機１００および上記パーソナルコンピューター１１０は、室内、屋外を問わず静脈パターンを撮影できる撮像装置１を有する生体認証装置８０を備えているため、あらゆる環境下で高精度に個人認証を行うことができる。それゆえに、不正な使用行為を防止することができる。   Since the mobile phone 100 and the personal computer 110 include the biometric authentication device 80 having the imaging device 1 that can capture a vein pattern regardless of whether it is indoors or outdoors, personal authentication can be performed with high accuracy in any environment. Can do. Therefore, unauthorized use can be prevented.

上記実施形態以外にも様々な変形例が考えられる。以下、変形例を挙げて説明する。   Various modifications other than the above embodiment are conceivable. Hereinafter, a modification will be described.

（変形例１）レンズアレイ２０におけるマイクロレンズ２２の配置は、Ｘ方向とＹ方向とにマトリクス状に配置されることに限定されない。例えば、中心が正三角形の各頂点に位置するようにマイクロレンズ２２を配置して、単位面積当たりの配置密度を上げてもよい。これによれば、より高精細な画像を得ることができる。   (Modification 1) The arrangement of the microlenses 22 in the lens array 20 is not limited to being arranged in a matrix in the X direction and the Y direction. For example, the arrangement density per unit area may be increased by arranging the microlenses 22 so that the center is located at each vertex of the equilateral triangle. According to this, a higher definition image can be obtained.

（変形例２）レンズアレイ２０におけるダミーパターン２３，２５，２６の形状は、正方形に限定されない。マイクロレンズ２２と同様にして円形でもよいし、多角形でもよい。   (Modification 2) The shapes of the dummy patterns 23, 25, and 26 in the lens array 20 are not limited to squares. Similar to the microlens 22, it may be circular or polygonal.

（変形例３）レンズアレイ２０を備えた撮像装置１の構成は、これに限定されない。例えば、マイクロレンズ２２の凸状のレンズ面が光の入射側に向くように遮光基板３０に対してレンズアレイ２０を配置してもよい。   (Modification 3) The configuration of the imaging apparatus 1 including the lens array 20 is not limited to this. For example, the lens array 20 may be disposed on the light shielding substrate 30 so that the convex lens surface of the microlens 22 faces the light incident side.

（変形例４）撮像装置１を有する生体認証装置８０が搭載される電子機器は、上記第３実施形態の携帯型電話機１００やパーソナルコンピューター１１０に限定されない。例えば、ＰＤＡやＰＯＳなどの携帯型情報端末などに搭載することにより、高いセキュリティーを確保して、使用される用途を広げることができる。   (Modification 4) The electronic device on which the biometric authentication device 80 having the imaging device 1 is mounted is not limited to the mobile phone 100 or the personal computer 110 of the third embodiment. For example, by installing it in a portable information terminal such as a PDA or POS, it is possible to ensure high security and expand the usage.

２０…レンズアレイ、２２…マイクロレンズ、２３，２５，２６…ダミーパターン、２７…レンズ領域、２８…ダミー領域、２９…周辺領域、３３…遮光部、３３ａ…開口部、４２…撮像素子、８０…生体認証装置、８４…認証実行部、１００…電子機器としての携帯型電話機、１１０…電子機器としてのパーソナルコンピューター。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 20 ... Lens array, 22 ... Micro lens, 23, 25, 26 ... Dummy pattern, 27 ... Lens area | region, 28 ... Dummy area | region, 29 ... Peripheral area | region, 33 ... Light-shielding part, 33a ... Opening part, 42 ... Image pick-up element, 80 DESCRIPTION OF SYMBOLS ... Biometric authentication apparatus, 84 ... Authentication execution part, 100 ... Portable telephone as an electronic device, 110 ... Personal computer as an electronic device.

Claims (7)

熱により感光性レンズ材料が軟化して形成された複数のマイクロレンズと、
前記複数のマイクロレンズが形成されたレンズ領域を囲むダミー領域に、前記感光性レンズ材料を用いて形成された複数のダミーパターンとを有し、
前記ダミー領域における前記複数のダミーパターンの配置ピッチは、前記レンズ領域における前記複数のマイクロレンズの配置ピッチよりも小さいことを特徴とするレンズアレイ。 A plurality of microlenses formed by heat-sensitive photosensitive lens material; and
A plurality of dummy patterns formed using the photosensitive lens material in a dummy region surrounding the lens region where the plurality of microlenses are formed;
An arrangement pitch of the plurality of dummy patterns in the dummy area is smaller than an arrangement pitch of the plurality of microlenses in the lens area. 前記感光性レンズ材料の配置密度は、前記レンズ領域と前記ダミー領域とでほぼ同じであることを特徴とする請求項１に記載のレンズアレイ。   The lens array according to claim 1, wherein the arrangement density of the photosensitive lens material is substantially the same in the lens region and the dummy region. 熱により感光性レンズ材料が軟化して形成された複数のマイクロレンズと、
前記複数のマイクロレンズが形成されたレンズ領域を囲むダミー領域に、前記感光性レンズ材料を用いて形成された複数のダミーパターンと、
前記ダミー領域を囲む周辺領域とを有し、
前記感光性レンズ材料の配置密度は、前記ダミー領域＜前記レンズ領域＜前記周辺領域または前記ダミー領域＞前記レンズ領域＞前記周辺領域の関係を満たすことを特徴とするレンズアレイ。 A plurality of microlenses formed by heat-sensitive photosensitive lens material; and
A plurality of dummy patterns formed using the photosensitive lens material in a dummy region surrounding the lens region where the plurality of microlenses are formed;
A peripheral region surrounding the dummy region,
An arrangement density of the photosensitive lens material satisfies a relationship of the dummy area <the lens area <the peripheral area or the dummy area> the lens area> the peripheral area. 前記ダミーパターンの平面形状が四角形であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載のレンズアレイ。   The lens array according to any one of claims 1 to 3, wherein the planar shape of the dummy pattern is a quadrangle. 画素ごとに設けられた撮像素子と、
前記撮像素子に光を集光させるマイクロレンズを備えた請求項１乃至４に記載のレンズアレイと、
前記撮像素子と前記マイクロレンズとの間の光軸上に設けられた開口部を有する遮光部とを備えたことを特徴とする撮像装置。 An image sensor provided for each pixel;
The lens array according to any one of claims 1 to 4, further comprising a microlens for condensing light on the image sensor.
An image pickup apparatus comprising: a light shielding portion having an opening provided on an optical axis between the image pickup device and the microlens. 請求項５に記載の撮像装置と、
前記撮像装置によって撮像された静脈パターンと予め登録された生体の静脈パターンとを照合して、前記撮像された静脈パターンが前記生体のものか否か判定する認証実行部と、を備えたことを特徴とする生体認証装置。 An imaging device according to claim 5;
An authentication execution unit that compares a vein pattern captured by the imaging device with a vein pattern of a biological body registered in advance and determines whether the captured vein pattern is that of the biological body; A biometric authentication device. 請求項６に記載の生体認証装置を備えたことを特徴とする電子機器。   An electronic apparatus comprising the biometric authentication device according to claim 6.
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