JP2012251035A - Curable resin composition - Google Patents

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JP2012251035A
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silsesquioxane
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acryloyloxy
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Yoriyoshi Yoneyama
依慶 米山
Natsuki Hamada
夏紀 濱田
Yoshihito Takei
吉仁 武井
Kazunori Ishikawa
和憲 石川
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Yokohama Rubber Co Ltd
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Yokohama Rubber Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a curable resin composition with which a high hardness cured product (coating film) having excellent transparency and water repellency is obtained.SOLUTION: The curable resin composition comprises a fluorine atom-free compound (A) having ≥6 (meth)acryloyloxy groups per molecule, a silsesquioxane (B) having a fluoroalkyl group and a reactive functional group capable of reacting with the (meth)acryloyloxy group, and a photopolymerization initiator (C).

Description

本発明は、硬化性樹脂組成物に関する。   The present invention relates to a curable resin composition.

ガラスやポリカーボネート樹脂等のプラスチックの成型品は、その表面を損傷から保護する等の観点から塗膜(「トップコート」、「ハードコート」等とも呼ばれる)によって被覆されるのが一般的であり、塗膜を得るために用いられる硬化性樹脂組成物としては種々のものが知られている。   Plastic molded products such as glass and polycarbonate resin are generally coated with a coating film (also called “top coat”, “hard coat”, etc.) from the viewpoint of protecting the surface from damage, etc. Various things are known as curable resin composition used in order to obtain a coating film.

例えば、特許文献1には、「(メタ)アクリレート系重合体(A)、(メタ)アクリロイルオキシ基を有するシリコーン樹脂(B)、光硬化性樹脂(C)および光重合開始剤(D)を含有し…前記光硬化性樹脂(C)が1分子中に(メタ)アクリロイルオキシ基を6〜15個有する硬化性樹脂組成物。」が記載され([請求項1])、「…合計質量に対して…前記硬化性樹脂(C)を60〜80質量%含有」することが記載されている([請求項6])。
特許文献1に記載の硬化性樹脂組成物によれば、「耐摩耗性および密着性に優れたトップコート層を形成することができる」とされている([0013])。
For example, Patent Document 1 describes “(meth) acrylate polymer (A), (meth) acryloyloxy group-containing silicone resin (B), photocurable resin (C) and photopolymerization initiator (D). Contains ... a curable resin composition in which the photocurable resin (C) has 6 to 15 (meth) acryloyloxy groups in one molecule ([Claim 1]), and "... total mass." In contrast, the content of the curable resin (C) is 60 to 80% by mass ([Claim 6]).
According to the curable resin composition described in Patent Document 1, it is said that “a top coat layer excellent in wear resistance and adhesion can be formed” ([0013]).

特開2011−016871号公報JP 2011-016871 A

近年、硬化性樹脂組成物に要求される特性のレベルは一層高まっており、例えば、自動車のヘッドランプや携帯電話のタッチパネルを被覆する塗膜(ハードコート)には、高い硬度、ならびに、優れた透明性および撥水性が要求されている。   In recent years, the level of properties required for a curable resin composition has further increased. For example, a coating film (hard coat) for covering a headlamp of an automobile or a touch panel of a mobile phone has a high hardness and an excellent property. Transparency and water repellency are required.

そこで、本発明は、高硬度であって、透明性および撥水性に優れた硬化物(塗膜)が得られる、硬化性樹脂組成物を提供することを目的とする。   Therefore, an object of the present invention is to provide a curable resin composition that can obtain a cured product (coating film) having high hardness and excellent transparency and water repellency.

本発明者は、上記目的を達成するために鋭意検討した結果、硬化性樹脂組成物に所定のシルセスキオキサンを配合することで、得られる塗膜が高硬度となり、透明性および撥水性にも優れることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、本発明は、以下の(1)〜(4)を提供する。
As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventor has blended a predetermined silsesquioxane into the curable resin composition, so that the resulting coating film has high hardness, and has transparency and water repellency. The present invention was completed.
That is, the present invention provides the following (1) to (4).

(1)フッ素原子を有さない、1分子中に6個以上の(メタ)アクリロイルオキシ基を有する化合物(A)と、上記(メタ)アクリロイルオキシ基と反応しうる反応性官能基と、フルオロアルキル基と、を有するシルセスキオキサン(B)と、光重合開始剤(C)と、を含有する硬化性樹脂組成物。   (1) A compound having no fluorine atom (A) having 6 or more (meth) acryloyloxy groups in one molecule, a reactive functional group capable of reacting with the (meth) acryloyloxy group, and fluoro A curable resin composition comprising a silsesquioxane (B) having an alkyl group and a photopolymerization initiator (C).

(2)上記化合物(A)が、イソシアヌレート環を有する、上記(1)に記載の硬化性樹脂組成物。   (2) The curable resin composition according to (1), wherein the compound (A) has an isocyanurate ring.

(3)上記反応性官能基が、(メタ)アクリロイルオキシ基、アミノ基、メルカプト基、イソシアネート基、および、ヒドロキシイミノ基からなる群から選ばれる少なくとも1種である、上記(1)または(2)に記載の硬化性樹脂組成物。   (3) The (1) or (2), wherein the reactive functional group is at least one selected from the group consisting of a (meth) acryloyloxy group, an amino group, a mercapto group, an isocyanate group, and a hydroxyimino group. ) Curable resin composition.

(4)上記シルセスキオキサン(B)の含有量が、上記化合物(A)100質量部に対して0.1〜10質量部であり、上記光重合開始剤(C)の含有量が、上記化合物(A)100質量部に対して1〜20質量部である、上記(1)〜(3)のいずれかに記載の硬化性樹脂組成物。   (4) The content of the silsesquioxane (B) is 0.1 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the compound (A), and the content of the photopolymerization initiator (C) is Curable resin composition in any one of said (1)-(3) which is 1-20 mass parts with respect to 100 mass parts of said compounds (A).

本発明によれば、高硬度であって、透明性および撥水性に優れた硬化物(塗膜)が得られる、硬化性樹脂組成物を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the curable resin composition which is high hardness and can obtain the hardened | cured material (coating film) excellent in transparency and water repellency can be provided.

[硬化性樹脂組成物]
本発明の硬化性樹脂組成物(以下、単に「本発明の組成物」ともいう)は、フッ素原子を有さない、1分子中に6個以上の(メタ)アクリロイルオキシ基を有する化合物(A)と、上記(メタ)アクリロイルオキシ基と反応しうる反応性官能基と、フルオロアルキル基と、を有するシルセスキオキサン(B)と、光重合開始剤(C)と、を含有する硬化性樹脂組成物である。
以下、本発明の組成物に含有される各成分について詳細に説明する。
[Curable resin composition]
The curable resin composition of the present invention (hereinafter also simply referred to as “the composition of the present invention”) is a compound having no fluorine atom and having 6 or more (meth) acryloyloxy groups in one molecule (A ), A silsesquioxane (B) having a reactive functional group capable of reacting with the (meth) acryloyloxy group, and a fluoroalkyl group, and a photopolymerization initiator (C). It is a resin composition.
Hereinafter, each component contained in the composition of the present invention will be described in detail.

〔化合物(A)〕
本発明の組成物に含有される化合物(A)は、フッ素原子を有さず、1分子中に6個以上の(メタ)アクリロイルオキシ基を有する化合物であれば、特に限定されない。
[Compound (A)]
The compound (A) contained in the composition of the present invention is not particularly limited as long as it does not have a fluorine atom and has 6 or more (meth) acryloyloxy groups in one molecule.

なお、「(メタ)アクリロイルオキシ基」は、アクリロイルオキシ基(CH2=CHCOO−)および/またはメタクリロイルオキシ基(CH2=C(CH3)COO−)を意味する。
本発明の組成物は、化合物(A)を含有することにより、塗布性(レベリング性)および硬化性に優れ、得られる塗膜(硬化物)は、より高硬度となり、基材に対する密着性も良好なものとなる。
The “(meth) acryloyloxy group” means an acryloyloxy group (CH 2 ═CHCOO—) and / or a methacryloyloxy group (CH 2 ═C (CH 3 ) COO—).
By containing the compound (A), the composition of the present invention is excellent in coatability (leveling property) and curability, and the resulting coating film (cured product) has higher hardness and adhesion to the substrate. It will be good.

化合物(A)が1分子中に有する(メタ)アクリロイルオキシ基の数は、より高硬度な塗膜が得られるという理由から、6〜15個であるのが好ましい。   The number of (meth) acryloyloxy groups contained in one molecule of the compound (A) is preferably 6 to 15 because a coating film having higher hardness can be obtained.

このような化合物(A)としては、例えば、以下に説明するウレタン(メタ)アクリレート(A1)、シルセスキオキサン(A2)等が挙げられる。   Examples of such a compound (A) include urethane (meth) acrylate (A1) and silsesquioxane (A2) described below.

<ウレタン(メタ)アクリレート(A1)>
ウレタン(メタ)アクリレート(A1)は、フッ素原子を有さず、1分子中にウレタン結合と6個以上の(メタ)アクリロイルオキシ基とを有するウレタン(メタ)アクリレートである。なお、「ウレタン(メタ)アクリレート」は、ウレタンアクリレートおよび/またはウレタンメタクリレートを意味する。
<Urethane (meth) acrylate (A1)>
The urethane (meth) acrylate (A1) is a urethane (meth) acrylate having no fluorine atom and having a urethane bond and 6 or more (meth) acryloyloxy groups in one molecule. “Urethane (meth) acrylate” means urethane acrylate and / or urethane methacrylate.

このようなウレタン(メタ)アクリレート(A1)としては、1分子中に2個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート(a11)と、1分子中に1個以上のヒドロキシ基と6個以上の(メタ)アクリロイルオキシ基とを有する化合物(a12)とを反応させることにより得られるウレタン(メタ)アクリレートであるのが好ましい。
以下では、ポリイソシアネート(a11)および化合物(a12)について説明する。
As such urethane (meth) acrylate (A1), polyisocyanate (a11) having two or more isocyanate groups in one molecule, one or more hydroxy groups and six or more (meta) in one molecule. It is preferably a urethane (meth) acrylate obtained by reacting the compound (a12) having an acryloyloxy group.
Below, polyisocyanate (a11) and a compound (a12) are demonstrated.

(ポリイソシアネート(a11))
ポリイソシアネート(a11)としては、例えば、ヘキサメチレンジイソシアネート(HDI)、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート(TMHDI)、リジンジイソシアネート、ノルボルナンジイソシアネート(NBDI)などの脂肪族ポリイソシアネート;トランスシクロヘキサン−1,4−ジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート(IPDI)、ビス(イソシアネートメチル)シクロヘキサン(H6XDI)、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート(H12MDI)などの脂環式ポリイソシアネート;TDI(例えば、2,4−トリレンジイソシアネート(2,4−TDI)、2,6−トリレンジイソシアネート(2,6−TDI))、MDI(例えば、4,4′−ジフェニルメタンジイソシアネート(4,4′−MDI)、2,4′−ジフェニルメタンジイソシアネート(2,4′−MDI))、1,4−フェニレンジイソシアネート、ポリメチレンポリフェニレンポリイソシアネート、キシリレンジイソシアネート(XDI)、テトラメチルキシリレンジイソシアネート(TMXDI)、トリジンジイソシアネート(TODI)、1,5−ナフタレンジイソシアネート(NDI)、トリフェニルメタントリイソシアネートなどの芳香族ポリイソシアネート;これらのイソシアヌレート体;等が挙げられ、これらを1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
これらのうち、本発明の組成物から得られる塗膜(硬化物)の硬度という観点から、イソシアヌレート体が好ましく、脂肪族ポリイソシアネートまたは脂環式ポリイソシアネートのイソシアヌレート体がより好ましく、HDIまたはIPDIのイソシアヌレート体がさらに好ましい。
(Polyisocyanate (a11))
Examples of the polyisocyanate (a11) include aliphatic polyisocyanates such as hexamethylene diisocyanate (HDI), trimethylhexamethylene diisocyanate (TMHDI), lysine diisocyanate, norbornane diisocyanate (NBDI); transcyclohexane-1,4-diisocyanate, isophorone Cycloaliphatic polyisocyanates such as diisocyanate (IPDI), bis (isocyanatomethyl) cyclohexane (H 6 XDI), dicyclohexylmethane diisocyanate (H 12 MDI); TDI (eg 2,4-tolylene diisocyanate (2,4-TDI) ), 2,6-tolylene diisocyanate (2,6-TDI)), MDI (for example, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate (4,4'-M DI), 2,4'-diphenylmethane diisocyanate (2,4'-MDI)), 1,4-phenylene diisocyanate, polymethylene polyphenylene polyisocyanate, xylylene diisocyanate (XDI), tetramethylxylylene diisocyanate (TMXDI), tolidine Aromatic polyisocyanates such as diisocyanate (TODI), 1,5-naphthalene diisocyanate (NDI), triphenylmethane triisocyanate; these isocyanurates; and the like, and these may be used alone. More than one species may be used in combination.
Among these, from the viewpoint of the hardness of the coating film (cured product) obtained from the composition of the present invention, an isocyanurate body is preferable, an isocyanurate body of aliphatic polyisocyanate or alicyclic polyisocyanate is more preferable, HDI or An isocyanurate form of IPDI is more preferable.

(化合物(a12))
化合物(a12)としては、例えば、2−ヒドロキシエチルアクリレート(HEA)、2−ヒドロキシエチルメタクリレート(HEMA)、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、骨格がペンタエリスリトールである化合物、骨格がジペンタエリスリトールである化合物等が挙げられ、これらを1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
骨格がペンタエリスリトールである化合物としては、例えば、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート等が挙げられる。
骨格がジペンタエリスリトールである化合物としては、例えば、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート等が挙げられる。
これらのうち、ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETIA)、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(DPPA)が好ましい。
(Compound (a12))
Examples of the compound (a12) include 2-hydroxyethyl acrylate (HEA), 2-hydroxyethyl methacrylate (HEMA), 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, and the skeleton is pentaerythritol. A certain compound, a compound whose skeleton is dipentaerythritol, and the like may be mentioned, and these may be used alone or in combination of two or more.
Examples of the compound whose skeleton is pentaerythritol include pentaerythritol tri (meth) acrylate.
Examples of the compound whose skeleton is dipentaerythritol include dipentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, and the like.
Of these, pentaerythritol triacrylate (PETIA), dipentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol tetraacrylate, and dipentaerythritol pentaacrylate (DPPA) are preferable.

(ウレタン(メタ)アクリレート(A1)の製造)
ウレタン(メタ)アクリレート(A1)の製造において、化合物(a12)の量は、ポリイソシアネート(a11)1モルに対して、1.5〜2.5モルであるのが好ましい。
ウレタン(メタ)アクリレート(A1)の製造方法としては、例えば、ポリイソシアネート(a11)と化合物(a12)とを、50〜80℃の条件下において、触媒として既存の有機スズ触媒(例えばジブチルスズジラウレート)を使用し、溶媒としてメチルエチルケトン、酢酸エチルを使用する方法が挙げられる。
(Production of urethane (meth) acrylate (A1))
In manufacture of urethane (meth) acrylate (A1), it is preferable that the quantity of a compound (a12) is 1.5-2.5 mol with respect to 1 mol of polyisocyanate (a11).
As a method for producing urethane (meth) acrylate (A1), for example, polyisocyanate (a11) and compound (a12) can be used as an existing organotin catalyst (for example, dibutyltin dilaurate) as a catalyst under the conditions of 50 to 80 ° C. And a method using methyl ethyl ketone and ethyl acetate as a solvent.

このようなウレタン(メタ)アクリレート(A1)としては、得られる塗膜の硬度等の観点から、1分子中の(メタ)アクリロイルオキシ基が6〜15個であるものが好ましく、具体的には、例えば、下記式(A1−1)、下記式(A1−2)、下記式(A1−3)で表されるものが挙げられる。   As such urethane (meth) acrylate (A1), those having 6 to 15 (meth) acryloyloxy groups in one molecule are preferable from the viewpoint of hardness of the resulting coating film, and specifically, Examples thereof include those represented by the following formula (A1-1), the following formula (A1-2), and the following formula (A1-3).

<シルセスキオキサン(A2)>
シルセスキオキサン(A2)は、フッ素原子を有さず、1分子中に6個以上の(メタ)アクリロイルオキシ基を有するシルセスキオキサンであり、このようなシルセスキオキサンであれば、特に限定されない。
なお、「シルセスキオキサン」は、詳細については後述するが、基本構成単位がT単位であるポリシロキサンの総称であり、ランダム構造、カゴ構造、ラダー構造等の構造をとることが知られている。
<Silsesquioxane (A2)>
The silsesquioxane (A2) is a silsesquioxane having no fluorine atom and having 6 or more (meth) acryloyloxy groups in one molecule. If such a silsesquioxane is used, There is no particular limitation.
Although “silsesquioxane” is described in detail later, it is a general term for polysiloxanes whose basic structural units are T units, and is known to have structures such as a random structure, a cage structure, and a ladder structure. Yes.

このようなシルセスキオキサン(A2)としては、市販品を用いることができ、その具体例としては、アクリロイルオキシ基(アクリロキシプロピル基)を有するシルセスキオキサンである「AC−SQ SI−20」(東亞合成社製)が挙げられる。   As such silsesquioxane (A2), a commercially available product can be used, and specific examples thereof include “AC-SQ SI-, which is a silsesquioxane having an acryloyloxy group (acryloxypropyl group). 20 "(manufactured by Toagosei Co., Ltd.).

〔シルセスキオキサン(B)〕
本発明の組成物に含有されるシルセスキオキサン(B)は、上述した化合物(A)が有する(メタ)アクリロイルオキシ基と反応しうる反応性官能基(以下、単に「反応性官能基」という)と、フルオロアルキル基と、を有するシルセスキオキサンである。
[Silsesquioxane (B)]
The silsesquioxane (B) contained in the composition of the present invention is a reactive functional group (hereinafter simply referred to as “reactive functional group”) that can react with the (meth) acryloyloxy group of the compound (A). And a silsesquioxane having a fluoroalkyl group.

<シルセスキオキサンの一般的な説明>
まず、一般的な「シルセスキオキサン」について説明する。
シロキサン結合(Si−O−Si結合)で主鎖が構成される含ケイ素ポリマーを「ポリシロキサン」という。ケイ素原子には4つの結合手があるため、ポリシロキサンの基本構成単位としては、下記式に示すように、M単位、D単位、T単位、および、Q単位の4種が存在する(Rは有機基を示す)。
<General description of silsesquioxane>
First, general “silsesquioxane” will be described.
A silicon-containing polymer whose main chain is composed of siloxane bonds (Si—O—Si bonds) is referred to as “polysiloxane”. Since the silicon atom has four bonds, as the basic structural unit of polysiloxane, there are four types of M units, D units, T units, and Q units as shown in the following formula (R is Represents an organic group).

「シルセスキオキサン」は、基本構成単位がT単位であるポリシロキサンの総称である。シルセスキオキサン中において、ケイ素原子は3個の酸素原子と結合し、酸素原子は2個のケイ素原子と結合していることから、シルセスキオキサンは「(RSiO3/2n」という式で表される(Rは有機基を示し、nは整数を示す。)。 “Silsesquioxane” is a general term for polysiloxanes whose basic structural units are T units. In silsesquioxane, since a silicon atom is bonded to three oxygen atoms and an oxygen atom is bonded to two silicon atoms, silsesquioxane is referred to as “(RSiO 3/2 ) n ”. (R represents an organic group, and n represents an integer).

シルセスキオキサンにおけるシロキサン結合の骨格の構造としては、ランダム構造、ラダー構造、カゴ構造が知られている。
ここで、カゴ構造とは、共有結合した原子で形成された複数の環によって容積が定まり、容積内に位置する点は環を通過せずには容積から離れることができない構造のことをいう。
カゴ構造を有するシルセスキオキサンは、各ユニットである(RSiO3/2)どうしが、酸素原子が共有されて連結し、カゴ構造を形成しているシルセスキオキサンであり、具体的には、例えば、上記式中のnが8である下記式(B−1)で表されるシルセスキオキサン、上記式中のnが10である下記式(B−2)で表されるシルセスキオキサン、上記式中のnが12である下記式(B−3)で表されるシルセスキオキサン等が挙げられる。
As a structure of a siloxane bond skeleton in silsesquioxane, a random structure, a ladder structure, and a cage structure are known.
Here, the cage structure is a structure in which the volume is determined by a plurality of rings formed by covalently bonded atoms, and points located within the volume cannot be separated from the volume without passing through the ring.
The silsesquioxane having a cage structure is a silsesquioxane in which each unit (RSiO 3/2 ) is linked by sharing an oxygen atom, specifically, For example, a silsesquioxane represented by the following formula (B-1) in which n in the above formula is 8, and a silsesquioxane represented by the following formula (B-2) in which n in the above formula is 10. Oxane, silsesquioxane represented by the following formula (B-3) in which n in the above formula is 12, and the like.

<本発明におけるシルセスキオキサン(B)の説明>
本発明におけるシルセスキオキサン(B)としては、上記のようなシルセスキオキサンであって、反応性官能基とフルオロアルキル基とを有するものであれば、特に限定されない。
<Description of Silsesquioxane (B) in the Present Invention>
The silsesquioxane (B) in the present invention is not particularly limited as long as it is a silsesquioxane as described above and has a reactive functional group and a fluoroalkyl group.

本発明の組成物は、シルセスキオキサン(B)のシロキサン結合の骨格により、より高硬度となる。
また、本発明の組成物においては、シルセスキオキサン(B)は、反応性官能基を有することで上述した化合物(A)に対する分散性に優れ、これにより、得られる塗膜の透明性が優れると考えられる。
さらに、本発明の組成物から得られる塗膜においては、シルセスキオキサン(B)が有するフルオロアルキル基に由来するフッ素原子が表面に配列され、撥水性に優れるものと考えられる。
このとき、シルセスキオキサン(B)が有する反応性官能基が、化合物(A)の(メタ)アクリロイルオキシ基と一部反応(結合)し、この(メタ)アクリロイルオキシ基と反応しないシルセスキオキサン(B)のフルオロアルキル基が、空気が疎水的であることを駆動力として、塗膜表面に出現し配列されるものと考えられる。
The composition of the present invention has higher hardness due to the siloxane bond skeleton of silsesquioxane (B).
Moreover, in the composition of this invention, silsesquioxane (B) is excellent in the dispersibility with respect to the compound (A) mentioned above by having a reactive functional group, and, thereby, the transparency of the coating film obtained is excellent. It is considered excellent.
Furthermore, in the coating film obtained from the composition of the present invention, it is considered that fluorine atoms derived from the fluoroalkyl group of silsesquioxane (B) are arranged on the surface and have excellent water repellency.
At this time, the reactive functional group of the silsesquioxane (B) partially reacts (bonds) with the (meth) acryloyloxy group of the compound (A) and does not react with the (meth) acryloyloxy group. It is considered that the fluoroalkyl group of oxane (B) appears and is arranged on the surface of the coating film with the driving force that air is hydrophobic.

シルセスキオキサン(B)が有する反応性官能基としては、(メタ)アクリロイルオキシ基と反応しうる(反応可能な)基であれば特に限定されないが、例えば、(メタ)アクリロイルオキシ基、アミノ基、メルカプト基、イソシアネート基、ヒドロキシイミノ基等が挙げられ、なかでも、(メタ)アクリロイルオキシ基との反応性という観点から、(メタ)アクリロイルオキシ基、アミノ基、メルカプト基であるのが好ましい。   The reactive functional group possessed by silsesquioxane (B) is not particularly limited as long as it is a group capable of reacting with (meth) acryloyloxy group (reactable). For example, (meth) acryloyloxy group, amino Group, mercapto group, isocyanate group, hydroxyimino group and the like. Among them, from the viewpoint of reactivity with (meth) acryloyloxy group, (meth) acryloyloxy group, amino group and mercapto group are preferable. .

シルセスキオキサン(B)が有するフルオロアルキル基とは、アルキル基中の水素原子の一部または全部がフッ素原子で置換された基のことをいい、例えば、炭素原子数1〜20のぺルフルオロアルキル基が挙げられ、炭素原子数1〜6のぺルフルオロアルキル基が好ましく、その具体例としては、トリフルオロメチル基(CF3−)、ペンタフルオロエチル基(C25−)、ヘプタフルオロプロピル基(C37−)、トリデカフルオロヘキシル基(C613−)、CF3−(CF2x−(CH2y−で示される基(式中、xは3,5,7,9等の奇数を示し、yは0,1,2,3等の整数を示す)、(CF32−CF−(CF2x−(CH2y−で示される基(式中、xは4,6,8等の偶数を示し、yは0,1,2,3等の整数を示す)、CF3(CF2x−R−(CH2y−で示される基(式中、xは0以上の整数を示し、yは0,1,2,3等の整数を示し、Rは−C64−、−C(=O)−NH−等の2価の基を示す)等が挙げられる。 The fluoroalkyl group possessed by silsesquioxane (B) refers to a group in which some or all of the hydrogen atoms in the alkyl group are substituted with fluorine atoms. A fluoroalkyl group, and a perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms is preferred, and specific examples thereof include a trifluoromethyl group (CF 3- ), a pentafluoroethyl group (C 2 F 5- ), heptafluoropropyl group (C 3 F 7 -), tridecafluorohexyl group (C 6 F 13 -), CF 3 - (CF 2) x - (CH 2) y - group (wherein, x indicated by the An odd number such as 3, 5, 7, 9, etc., and y represents an integer of 0, 1, 2, 3, etc.), (CF 3 ) 2 —CF— (CF 2 ) x — (CH 2 ) y — A group shown (wherein x represents an even number such as 4, 6, 8, etc., y represents 0, 1, 2, 3, etc.) A group represented by CF 3 (CF 2 ) x —R— (CH 2 ) y — (wherein x represents an integer of 0 or more, y represents 0, 1, 2, 3, etc.) Represents an integer, and R represents a divalent group such as —C 6 H 4 — or —C (═O) —NH—).

また、シルセスキオキサン(B)が有するフルオロアルキル基としては、各種反応を利用して得られる基であってもよく、例えば、下記式(i)、(ii)等で表される反応によって得られる基が挙げられる(各式中のSiはシルセスキオキサンが有するケイ素原子を示す)。
−Si−(CH23−NCO + OH−(CH23−(CF24−H (i)
−Si−(CH23−SH + H−(CF24−(CH22−O−C(=O)−CH=CH2 (ii)
Moreover, as a fluoroalkyl group which silsesquioxane (B) has, the group obtained using various reaction may be sufficient, for example, by reaction represented by following formula (i), (ii), etc. Examples include groups obtained (Si in each formula represents a silicon atom of silsesquioxane).
-Si- (CH 2) 3 -NCO + OH- (CH 2) 3 - (CF 2) 4 -H (i)
-Si- (CH 2) 3 -SH + H- (CF 2) 4 - (CH 2) 2 -O-C (= O) -CH = CH 2 (ii)

これらのうち、得られる塗膜の撥水性がより優れるという理由および安全性の観点から、トリデカフルオロヘキシル基(C613−)が好ましい。 Of these, a tridecafluorohexyl group (C 6 F 13 —) is preferable from the viewpoint of the superior water repellency of the resulting coating film and safety.

このようなシルセスキオキサン(B)は、例えば、下記式(1)で表すことができる。
(R1−X−SiO3/2n (1)
Such silsesquioxane (B) can be represented by, for example, the following formula (1).
(R 1 -X-SiO 3/2) n (1)

上記式(1)中、nは6以上の整数を示し、Xは単結合またはアルキレン基を示し、R1は反応性官能基またはフルオロアルキル基を示す。複数のR1は同一であっても異なっていてもよいが、少なくとも、1つのR1は反応性官能基を示し、別の1つのR1はフルオロアルキル基を示す。 In the above formula (1), n represents an integer of 6 or more, X represents a single bond or an alkylene group, and R 1 represents a reactive functional group or a fluoroalkyl group. A plurality of R 1 may be the same or different, but at least one R 1 represents a reactive functional group, and another R 1 represents a fluoroalkyl group.

上記式(1)中のnが示す6以上の整数としては、6〜20であるのが好ましい。   The integer of 6 or more represented by n in the above formula (1) is preferably 6-20.

また、上記式(1)中のXが示すアルキレン基としては、例えば、炭素原子数1〜6のアルキレン基が挙げられ、その具体例としては、メチレン基、エチレン基、プロパン−1,3−ジイル基、ブタン−1,4−ジイル基、ヘプタン−1,5−ジイル基、ヘキサン−1,6−ジイル基が挙げられ、なかでも、エチレン基、プロパン−1,3−ジイル基であるのが好ましい。   Examples of the alkylene group represented by X in the above formula (1) include an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, and specific examples thereof include a methylene group, an ethylene group, propane-1,3- Examples include a diyl group, a butane-1,4-diyl group, a heptane-1,5-diyl group, and a hexane-1,6-diyl group, and among them, an ethylene group and a propane-1,3-diyl group. Is preferred.

上記式(1)で表されるシルセスキオキサン(B)としては、上記式(1)中のnが8を示すカゴ構造のシルセスキオキサンが挙げられ、具体的には、例えば、下記式(2)で表されるものが挙げられる。下記式(2)中、XおよびR1は、上記式(1)中のXおよびR1と同義である。 Examples of the silsesquioxane (B) represented by the above formula (1) include a silsesquioxane having a cage structure in which n in the above formula (1) represents 8. Specifically, for example, What is represented by Formula (2) is mentioned. In the following formula (2), X and R 1 has the same meaning as X and R 1 in the formula (1).

このようなシルセスキオキサン(B)の製造方法としては、例えば、所定の官能基を有するトリアルコキシシラン(シランカップリング剤)を加水分解縮合させて得る方法、すなわち、上述した反応性官能基を有するトリアルコキシシラン(b1)と、上述したフルオロアルキル基を有するトリアルコキシシラン(b2)とを加水分解縮合させて得る方法が挙げられる。
この場合、より具体的には、例えば、トリアルコキシシラン(b1)とトリアルコキシシラン(b2)とを、所定の仕込み量で反応系に仕込み、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液等の溶媒を徐々に加えた後、系内を室温で攪拌して加水分解縮合させ、攪拌終了後に溶媒を留去させることで、シルセスキオキサン(B)を得る方法が挙げられる。
As a method for producing such a silsesquioxane (B), for example, a method obtained by hydrolytic condensation of a trialkoxysilane (silane coupling agent) having a predetermined functional group, that is, the reactive functional group described above And a method of hydrolyzing and condensing the trialkoxysilane (b1) having the above and the trialkoxysilane (b2) having the fluoroalkyl group described above.
In this case, more specifically, for example, trialkoxysilane (b1) and trialkoxysilane (b2) are charged into the reaction system at a predetermined charge amount, and a solvent such as an aqueous tetramethylammonium hydroxide solution is gradually added. Then, the system is stirred at room temperature for hydrolysis and condensation, and after completion of the stirring, the solvent is distilled off to obtain silsesquioxane (B).

なお、トリアルコキシシラン(b1)およびトリアルコキシシラン(b2)が有するアルコキシ基としては、特に限定されず、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等が挙げられ、なかでも、メトキシ基、エトキシ基であるのが好ましい。   The alkoxy group possessed by the trialkoxysilane (b1) and the trialkoxysilane (b2) is not particularly limited, and examples thereof include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, and a butoxy group. An ethoxy group is preferred.

トリアルコキシシラン(b1)とトリアルコキシシラン(b2)との仕込み量(モル)は、特に限定されず、仕込み量比としてのモル比(b1/b2)としては、例えば、1/7〜7/1とすることができるが、本発明の組成物から得られる塗膜の撥水性がより優れるという観点からは、後者の量が多い方が好ましく、1/7〜3/5であるのがより好ましい。   The charge amount (mol) of trialkoxysilane (b1) and trialkoxysilane (b2) is not particularly limited, and the molar ratio (b1 / b2) as the charge amount ratio is, for example, 1/7 to 7 / However, from the viewpoint that the water repellency of the coating film obtained from the composition of the present invention is more excellent, the latter amount is preferably larger, more preferably 1/7 to 3/5. preferable.

トリアルコキシシラン(b1)としては、市販品を用いることができ、その具体例としては、アクリロイルオキシ基を有する、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン[(CH3O)3SiC36OOCHC=CH2](KBM−5103、信越化学工業社製)、メルカプト基を有する、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン[(CH3O)3SiC36SH](KBM−803、信越化学工業社製)、アミノ基を有する、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン[(CH3O)3SiC36NH2](KBM−903、信越化学工業)等が挙げられる。 As the trialkoxysilane (b1), a commercially available product can be used. Specific examples thereof include 3-acryloxypropyltrimethoxysilane [(CH 3 O) 3 SiC 3 H 6 OOCHC = having an acryloyloxy group. CH 2 ] (KBM-5103, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), γ-mercaptopropyltrimethoxysilane [(CH 3 O) 3 SiC 3 H 6 SH] (KBM-803, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) having a mercapto group ), Γ-aminopropyltrimethoxysilane [(CH 3 O) 3 SiC 3 H 6 NH 2 ] (KBM-903, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) having an amino group.

また、トリアルコキシシラン(b2)としては、市販品を用いることができ、その具体例としては、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン[(CH3O)3SiC24CF3](KBM−7103、信越化学工業社製)、トリエトキシ−1H,1H,2H,2H−トリデカフルオロ−n−オクチルシラン[(CH3O)3SiC24613](Dynasylan F8261、エボニックデグサ社製)等が挙げられる。 As the trialkoxysilane (b2), it may be a commercial product, and specific examples thereof include trifluoropropyl trimethoxysilane [(CH 3 O) 3 SiC 2 H 4 CF 3] (KBM-7103, Manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), triethoxy-1H, 1H, 2H, 2H-tridecafluoro-n-octylsilane [(CH 3 O) 3 SiC 2 H 4 C 6 F 13 ] (Dynasylan F8261, manufactured by Evonik Degussa) Etc.

このようにして得られるシルセスキオキサン(B)の含有量は、得られる塗膜の透明性および撥水性がより優れるという理由から、上述した化合物(A)100質量部に対して0.1〜10質量部であるのが好ましく、0.5〜5質量部であるのがより好ましい。   The content of silsesquioxane (B) thus obtained is 0.1% with respect to 100 parts by mass of the compound (A) described above, because the transparency and water repellency of the resulting coating film are more excellent. It is preferably 10 to 10 parts by mass, and more preferably 0.5 to 5 parts by mass.

〔光重合開始剤(C)〕
本発明の組成物に含有される光重合開始剤(C)は、光によって例えばラジカル重合性官能基を有する化合物を重合させうるものであれば特に制限されない。
[Photopolymerization initiator (C)]
The photopolymerization initiator (C) contained in the composition of the present invention is not particularly limited as long as it can polymerize, for example, a compound having a radical polymerizable functional group by light.

光重合開始剤(C)としては、例えば、アルキルフェノン系光重合開始剤、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、テトラメチルチュウラムモノサルファイド、ベンゾイン類、ベンゾインメチルエーテル、チオキサントン類、プロピオフェノン類、ベンジル類、アシルホスフィンオキシド類が挙げられ、これらを1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   Examples of the photopolymerization initiator (C) include alkylphenone photopolymerization initiators, acetophenones, benzophenones, Michler benzoylbenzoate, α-amyloxime ester, tetramethylchuram monosulfide, benzoins, and benzoin methyl ether. Thioxanthones, propiophenones, benzyls, and acylphosphine oxides. These may be used alone or in combination of two or more.

これらのうち、光安定性、光開裂の高効率性、表面硬化性、樹脂との相溶性、低揮発、低臭気という観点から、アルキルフェノン系光重合開始剤であるのが好ましい。
アルキルフェノン系光重合開始剤としては、具体的には、例えば、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン等が挙げられ、なかでも、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトンであるのが好ましい。
1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトンとしては、市販品を用いることができ、具体的には、例えば、イルガキュア184(BASF社製)が挙げられる。
Of these, alkylphenone photopolymerization initiators are preferred from the viewpoints of light stability, high efficiency of photocleavage, surface curability, compatibility with resins, low volatility, and low odor.
Specific examples of the alkylphenone photopolymerization initiator include 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one, and 1- [4- (2-Hydroxyethoxy) -phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one and the like are mentioned, among which 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone is preferable.
A commercially available product can be used as 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, and specific examples include Irgacure 184 (manufactured by BASF).

光重合開始剤(C)の含有量は、本発明の組成物の硬化性が優れ、良好な塗膜が得られるという理由から、上述した化合物(A)100質量部に対して1〜20質量部であるのが好ましく、2〜10質量部であるのがより好ましい。   Content of a photoinitiator (C) is 1-20 mass with respect to 100 mass parts of compounds (A) mentioned above from the reason that sclerosis | hardenability of the composition of this invention is excellent and a favorable coating film is obtained. Part is preferable, and 2 to 10 parts by mass is more preferable.

〔その他の成分〕
(溶剤)
本発明の組成物は、作業性等の観点から、溶剤を含有していてもよい。溶剤は、有機溶剤であり、例えば、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、デカリンなどの脂環式炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、ドデシルベンゼン、メチルナフタレンなどの芳香族炭化水素類;メチレンクロライド、クロロホルム、エチレンクロライド、クロロベンゼンなどのハロゲン化物;THF、ジブチルエーテル、ジペンチルエーテル、ジヘキシルエーテル、ジヘプチルエーテル、ジオクチルエーテルなどのエーテル類;酢酸エチル、酢酸ブチル、アクリル酸ブチル、メタクリル酸メチル、ヘキサメチレンジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレートなどのエステル類;メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン類;プロピレングリコールモノメチルエーテル、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、プロピルセルソルブ、ブチルセルソルブなどのグリコールエーテル類;イソプロピルアルコールなどのアルコール類;等が挙げられ、これらを1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
[Other ingredients]
(solvent)
The composition of the present invention may contain a solvent from the viewpoint of workability and the like. The solvent is an organic solvent, for example, alicyclic hydrocarbons such as cyclohexane, methylcyclohexane and decalin; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, dodecylbenzene and methylnaphthalene; methylene chloride, chloroform , Ethylene chloride, chlorobenzene, etc .; THF, dibutyl ether, dipentyl ether, dihexyl ether, diheptyl ether, dioctyl ether, and other ethers; ethyl acetate, butyl acetate, butyl acrylate, methyl methacrylate, hexamethylene diacrylate , Esters such as trimethylolpropane triacrylate; ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, diisobutyl ketone, cyclohexanone; propylene Examples include glycol ethers such as recall monomethyl ether, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, propyl cellosolve, and butyl cellosolve; alcohols such as isopropyl alcohol, and the like. These may be used alone or in combination. You may use the above together.

(添加剤)
本発明の組成物は、本発明の目的を損なわない範囲で、添加剤、例えば、充填剤、老化防止剤、酸化防止剤、帯電防止剤、難燃剤、接着性付与剤、レベリング剤、分散剤、消泡剤、艶消し剤、光安定剤(例えば、ヒンダードアミン系化合物等)、染料、顔料等を含有することができる。
(Additive)
The composition of the present invention is an additive such as a filler, an anti-aging agent, an antioxidant, an antistatic agent, a flame retardant, an adhesiveness imparting agent, a leveling agent, and a dispersant as long as the object of the present invention is not impaired. , Antifoaming agents, matting agents, light stabilizers (for example, hindered amine compounds), dyes, pigments and the like.

本発明の組成物の製造方法は特に限定されず、例えば、反応容器に上記の各必須成分と任意成分とを入れ、減圧下で混合ミキサー等の攪拌機を用いて十分に混練する方法等により製造することができる。   The method for producing the composition of the present invention is not particularly limited. For example, the composition is produced by a method in which the above-described essential components and optional components are placed in a reaction vessel and sufficiently kneaded using a stirrer such as a mixing mixer under reduced pressure. can do.

本発明の組成物は、ガラス基板またはプラスチック基材の表面を被覆する用途に用いることができ、例えば、ハードコート用組成物として使用できる。   The composition of this invention can be used for the use which coat | covers the surface of a glass substrate or a plastic base material, for example, can be used as a composition for hard-coats.

ガラス基板としては、特に限定されず、種々のガラス基板を用いることができる。
プラスチック基材としては、熱可塑性プラスチック、熱硬化性プラスチックを問わず種々のプラスチック基材を用いることができ、具体的には、例えば、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリロニトリル・スチレン共重合樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、アセテート樹脂、ABS樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂等が挙げられ、ポリカーボネート樹脂であるのが好ましい。
The glass substrate is not particularly limited, and various glass substrates can be used.
As the plastic substrate, various plastic substrates can be used regardless of thermoplastic plastics and thermosetting plastics. Specifically, for example, polymethyl methacrylate resin, polycarbonate resin, polystyrene resin, acrylonitrile / styrene copolymer are used. Polymerized resin, polyvinyl chloride resin, acetate resin, ABS resin, polyester resin, polyamide resin and the like can be mentioned, and polycarbonate resin is preferable.

本発明の組成物を塗布する方法は、特に限定されず、例えば、はけ塗り、流し塗り、浸漬塗り、スプレー塗り、スピンコート等の公知の塗布方法を採用できる。
なお、本発明の組成物の塗布量としては、硬化時の塗膜の膜厚が1〜30μmとなるようにするのが好ましい。
The method for applying the composition of the present invention is not particularly limited, and for example, known application methods such as brush coating, flow coating, dip coating, spray coating, and spin coating can be employed.
In addition, as an application quantity of the composition of this invention, it is preferable to make it the film thickness of the coating film at the time of hardening become 1-30 micrometers.

本発明の組成物の硬化は、紫外線により行うことができる。本発明の組成物を硬化させる際に使用する紫外線の照射量としては、速硬化性、作業性の観点から、500〜3000mJ/cm2が好ましい。本発明の組成物を紫外線照射により硬化させる際の温度は、20〜100℃であるのが好ましい。紫外線を照射するために使用する装置は特に制限されない。例えば、従来公知のものが挙げられる。 The composition of the present invention can be cured by ultraviolet rays. The irradiation amount of the ultraviolet rays used when the composition of the present invention is cured is preferably 500 to 3000 mJ / cm 2 from the viewpoint of fast curability and workability. The temperature for curing the composition of the present invention by ultraviolet irradiation is preferably 20 to 100 ° C. The apparatus used for irradiating ultraviolet rays is not particularly limited. For example, a conventionally well-known thing is mentioned.

以下に、実施例を挙げて本発明を具体的に説明する。ただし、本発明はこれらに限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples. However, the present invention is not limited to these.

[成分(B)の製造]
まず、後述する各実施例および比較例において用いる成分(B)を製造した。
[Production of component (B)]
First, the component (B) used in each Example and Comparative Example to be described later was produced.

〔SQ AC/F3(1/7)〕
まず、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン(KBM−5103、信越化学工業社製、以下同様)と、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン(KBM−7103、信越化学工業社製、以下同様)とを、1:7のモル比で反応系に仕込んだ。
具体的には、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン5.37gと、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン34.4gとを反応系に仕込んだ。その後、約200gのテトラヒドロフラン(THF)溶媒に溶解させ、系内を攪拌しながら、5.1%のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液10.81gを徐々に加えた後、系内を室温で24時間攪拌し、加水分解縮合させた。
攪拌終了後、系内に酢酸ブチル約200gを加え、分液ロートを用いて反応溶液を飽和塩化ナトリウム/塩化カリウム水溶液により洗浄した。分液ロート内の水層が中性になるまで水洗を繰り返した後、有機層を分取、無水硫酸マグネシウムで脱水した。
その後、減圧下で酢酸ブチル等の溶媒を留去させることで、1分子中にアクリロイルオキシ基とトリフルオロメチル基(CF3−)とを1:7の割合で有するシルセスキオキサン(「SQ AC/F3(1/7)」と表記する。以下同様。)を得た。当該シルセスキオキサンは、下記式(3)で表されるカゴ構造のシルセスキオキサンを含む。
[SQ AC / F3 (1/7)]
First, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane (KBM-5103, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., hereinafter the same) and trifluoropropyltrimethoxysilane (KBM-7103, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., the same applies below) 1 : The reaction system was charged at a molar ratio of 7.
Specifically, 5.37 g of 3-acryloxypropyltrimethoxysilane and 34.4 g of trifluoropropyltrimethoxysilane were charged into the reaction system. Then, after dissolving in about 200 g of tetrahydrofuran (THF) solvent and stirring the system, 5.11 g of 5.1% tetramethylammonium hydroxide aqueous solution was gradually added, and the system was stirred at room temperature for 24 hours. And then hydrolytically condensed.
After stirring, about 200 g of butyl acetate was added to the system, and the reaction solution was washed with a saturated sodium chloride / potassium chloride aqueous solution using a separatory funnel. Washing with water was repeated until the aqueous layer in the separating funnel became neutral, and then the organic layer was separated and dehydrated with anhydrous magnesium sulfate.
Thereafter, a solvent such as butyl acetate is distilled off under reduced pressure, whereby silsesquioxane (“SQ”) having an acryloyloxy group and a trifluoromethyl group (CF 3 —) in a ratio of 1: 7 in one molecule. AC / F3 (1/7) ", and so on). The silsesquioxane includes a silsesquioxane having a cage structure represented by the following formula (3).

なお、得られた生成物について、1H−NMRおよび13C−NMR分析を行った結果、それぞれ、3.75ppmおよび50ppm付近に観測される−OCH3基に帰属可能なシグナルの消失が確認された。また、IR測定を行った結果、1110cm-1付近にSi−O−Si結合に由来する吸収が観測された。
このような結果は、成分(B)として製造した以下に記載する全ての生成物についても同様であった。
The obtained product was subjected to 1 H-NMR and 13 C-NMR analyses, and as a result, disappearance of a signal attributable to the —OCH 3 group observed near 3.75 ppm and 50 ppm was confirmed. It was. Further, as a result of IR measurement, absorption derived from Si—O—Si bond was observed in the vicinity of 1110 cm −1 .
Such a result was the same also about all the products described below manufactured as a component (B).

〔SQ AC/F3(2/6)〕
3−アクリロキシプロピルトリメトキシシランと、トリフルオロプロピルトリメトキシシランとを、2:6のモル比で反応系に仕込んだ以外は上記と同様に加水分解縮合させて、1分子中にアクリロイルオキシ基とトリフルオロメチル基(CF3−)とを2:6の割合で有するシルセスキオキサンを得た。
[SQ AC / F3 (2/6)]
3-acryloxypropyltrimethoxysilane and trifluoropropyltrimethoxysilane were hydrolyzed and condensed in the same manner as above except that the reaction system was charged at a molar ratio of 2: 6, and acryloyloxy group was contained in one molecule. And a silsesquioxane having a trifluoromethyl group (CF 3 —) in a ratio of 2: 6 was obtained.

〔SQ AC/F3(3/5)〕
3−アクリロキシプロピルトリメトキシシランと、トリフルオロプロピルトリメトキシシランとを、3:5のモル比で反応系に仕込んだ以外は上記と同様に加水分解縮合させて、1分子中にアクリロイルオキシ基とトリフルオロメチル基(CF3−)とを3:5の割合で有するシルセスキオキサンを得た。
[SQ AC / F3 (3/5)]
3-acryloxypropyltrimethoxysilane and trifluoropropyltrimethoxysilane were hydrolyzed and condensed in the same manner as described above except that the reaction system was charged at a molar ratio of 3: 5 to give an acryloyloxy group in one molecule. Silsesquioxane having a trifluoromethyl group (CF 3 —) ratio of 3: 5 was obtained.

〔SQ AC/F3(4/4)〕
3−アクリロキシプロピルトリメトキシシランと、トリフルオロプロピルトリメトキシシランとを、4:4のモル比で反応系に仕込んだ以外は上記と同様に加水分解縮合させて、1分子中にアクリロイルオキシ基とトリフルオロメチル基(CF3−)とを4:4の割合で有するシルセスキオキサンを得た。
[SQ AC / F3 (4/4)]
3-acryloxypropyltrimethoxysilane and trifluoropropyltrimethoxysilane were hydrolyzed and condensed in the same manner as described above except that the reaction system was charged in a molar ratio of 4: 4 to give an acryloyloxy group in one molecule. And a silsesquioxane having a trifluoromethyl group (CF 3 —) in a ratio of 4: 4 was obtained.

〔SQ AC/F3(6/2)〕
3−アクリロキシプロピルトリメトキシシランと、トリフルオロプロピルトリメトキシシランとを、6:2のモル比で反応系に仕込んだ以外は上記と同様に加水分解縮合させて、1分子中にアクリロイルオキシ基とトリフルオロメチル基(CF3−)とを6:2の割合で有するシルセスキオキサンを得た。
[SQ AC / F3 (6/2)]
3-acryloxypropyltrimethoxysilane and trifluoropropyltrimethoxysilane were hydrolyzed and condensed in the same manner as above except that the reaction system was charged in a molar ratio of 6: 2, and acryloyloxy group was contained in one molecule. And a silsesquioxane having a trifluoromethyl group (CF 3 —) in a ratio of 6: 2.

〔SQ AC/F3(7/1)〕
3−アクリロキシプロピルトリメトキシシランと、トリフルオロプロピルトリメトキシシランとを、7:1のモル比で反応系に仕込んだ以外は上記と同様に加水分解縮合させて、1分子中にアクリロイルオキシ基とトリフルオロメチル基(CF3−)とを7:1の割合で有するシルセスキオキサンを得た。
[SQ AC / F3 (7/1)]
3-acryloxypropyltrimethoxysilane and trifluoropropyltrimethoxysilane were hydrolyzed and condensed in the same manner as above except that 7: 1 molar ratio was charged into the reaction system, and acryloyloxy group in one molecule. And silsesquioxane having a trifluoromethyl group (CF 3 —) in a ratio of 7: 1 were obtained.

〔SQ AC/F13(1/7)〕
3−アクリロキシプロピルトリメトキシシランと、トリエトキシ−1H,1H,2H,2H−トリデカフルオロ−n−オクチルシラン(Dynasylan F8261、エボニックデグサ社製、以下同様)とを、1:7のモル比で反応系に仕込んだ以外は上記と同様に加水分解縮合させて、1分子中にアクリロイルオキシ基とトリデカフルオロヘキシル基(C613−)とを1:7の割合で有するシルセスキオキサンを得た。当該シルセスキオキサンは、下記式(4)で表されるカゴ構造のシルセスキオキサンを含む。
[SQ AC / F13 (1/7)]
3-acryloxypropyltrimethoxysilane and triethoxy-1H, 1H, 2H, 2H-tridecafluoro-n-octylsilane (Dynasylan F8261, manufactured by Evonik Degussa, the same applies hereinafter) at a molar ratio of 1: 7. except that charged to the reaction system by hydrolytic condensation in the same manner as described above, acryloyloxy group and tridecafluorohexyl groups in a molecule (C 6 F 13 -) and a 1: 7 silsesquioxane having a ratio of Got. The silsesquioxane includes a silsesquioxane having a cage structure represented by the following formula (4).

〔SQ AC/F13(4/4)〕
3−アクリロキシプロピルトリメトキシシランと、トリエトキシ−1H,1H,2H,2H−トリデカフルオロ−n−オクチルシランとを、4:4のモル比で反応系に仕込んだ以外は上記と同様にして、1分子中にアクリロイルオキシ基とトリデカフルオロヘキシル基(C613−)とを4:4の割合で有するシルセスキオキサンを得た。
[SQ AC / F13 (4/4)]
Except that 3-acryloxypropyltrimethoxysilane and triethoxy-1H, 1H, 2H, 2H-tridecafluoro-n-octylsilane were charged into the reaction system at a molar ratio of 4: 4, the same as above. A silsesquioxane having an acryloyloxy group and a tridecafluorohexyl group (C 6 F 13 —) in a ratio of 4: 4 in one molecule was obtained.

〔SQ AC/F13(6/2)〕
3−アクリロキシプロピルトリメトキシシランと、トリエトキシ−1H,1H,2H,2H−トリデカフルオロ−n−オクチルシランとを、6:2のモル比で反応系に仕込んだ以外は上記と同様に加水分解縮合させて、1分子中にアクリロイルオキシ基とトリデカフルオロヘキシル基(C613−)とを6:2の割合で有するシルセスキオキサンを得た。
[SQ AC / F13 (6/2)]
Hydrolysis was performed in the same manner as above except that 3-acryloxypropyltrimethoxysilane and triethoxy-1H, 1H, 2H, 2H-tridecafluoro-n-octylsilane were charged into the reaction system at a molar ratio of 6: 2. is engaged decomposition condensation, acryloyloxy group and tridecafluorohexyl groups per molecule - a 6 (C 6 F 13): to obtain a silsesquioxane having 2 at a rate.

〔SQ AC/F13(7/1)〕
3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン7モルと、トリエトキシ−1H,1H,2H,2H−トリデカフルオロ−n−オクチルシラン1モルとを反応系に仕込んだ以外は上記と同様に加水分解縮合させて、1分子中にアクリロイルオキシ基とトリデカフルオロヘキシル基(C613−)とを7:1の割合で有するシルセスキオキサンを得た。
[SQ AC / F13 (7/1)]
Hydrolysis condensation was carried out in the same manner as above except that 7 mol of 3-acryloxypropyltrimethoxysilane and 1 mol of triethoxy-1H, 1H, 2H, 2H-tridecafluoro-n-octylsilane were charged into the reaction system. , acryloyloxy group and tridecafluorohexyl groups in a molecule (C 6 F 13 -) and a 7: to obtain a silsesquioxane having a ratio of 1.

〔SQ NH2/F3(1/7)〕
γ−アミノプロピルトリメトキシシラン(KBM−903、信越化学工業、以下同様)と、トリフルオロプロピルトリメトキシシランとを、1:7のモル比で反応系に仕込んだ以外は上記と同様に加水分解縮合させて、1分子中にアミノ基とトリフルオロメチル基(CF3−)とを1:7の割合で有するシルセスキオキサンを得た。当該シルセスキオキサンは、下記式(5)で表されるカゴ構造のシルセスキオキサンを含む。
[SQ NH2 / F3 (1/7)]
Hydrolysis similar to the above except that γ-aminopropyltrimethoxysilane (KBM-903, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and trifluoropropyltrimethoxysilane were charged into the reaction system at a molar ratio of 1: 7. By condensation, a silsesquioxane having an amino group and a trifluoromethyl group (CF 3 —) in a ratio of 1: 7 in one molecule was obtained. The silsesquioxane includes a silsesquioxane having a cage structure represented by the following formula (5).

〔SQ SH/F3(1/7)〕
γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン(KBM−803、信越化学工業社製、以下同様)と、トリフルオロプロピルトリメトキシシランとを、1:7のモル比で反応系に仕込んだ以外は上記と同様に加水分解縮合させて、1分子中にメルカプト基とトリフルオロメチル基(CF3−)とを1:7の割合で有するシルセスキオキサンを得た。当該シルセスキオキサンは、下記式(6)で表されるカゴ構造のシルセスキオキサンを含む。
[SQ SH / F3 (1/7)]
γ-mercaptopropyltrimethoxysilane (KBM-803, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., the same applies below) and trifluoropropyltrimethoxysilane in the molar ratio of 1: 7 were charged into the reaction system in the same manner as described above. Hydrolysis condensation was performed to obtain silsesquioxane having a mercapto group and a trifluoromethyl group (CF 3 —) in a ratio of 1: 7 in one molecule. The silsesquioxane includes a silsesquioxane having a cage structure represented by the following formula (6).

〔SQ SH/F3(2/6)〕
γ−メルカプトプロピルトリメトキシシランと、トリフルオロプロピルトリメトキシシランとを、2:6のモル比で反応系に仕込んだ以外は上記と同様に加水分解縮合させて、1分子中にメルカプト基とトリフルオロメチル基(CF3−)とを2:6の割合で有するシルセスキオキサンを得た。
[SQ SH / F3 (2/6)]
γ-mercaptopropyltrimethoxysilane and trifluoropropyltrimethoxysilane were hydrolyzed and condensed in the same manner as described above except that the reaction system was charged at a molar ratio of 2: 6. A silsesquioxane having a fluoromethyl group (CF 3 —) in a ratio of 2: 6 was obtained.

〔SQ SH/F3(3/5)〕
γ−メルカプトプロピルトリメトキシシランと、トリフルオロプロピルトリメトキシシランとを、3:5のモル比で反応系に仕込んだ以外は上記と同様に加水分解縮合させて、1分子中にメルカプト基とトリフルオロメチル基(CF3−)とを3:5の割合で有するシルセスキオキサンを得た。
[SQ SH / F3 (3/5)]
γ-mercaptopropyltrimethoxysilane and trifluoropropyltrimethoxysilane were hydrolyzed and condensed in the same manner as described above except that the reaction system was charged at a molar ratio of 3: 5. Silsesquioxane having a fluoromethyl group (CF 3 —) in a ratio of 3: 5 was obtained.

〔SQ SH/F3(6/2)〕
γ−メルカプトプロピルトリメトキシシランと、トリフルオロプロピルトリメトキシシランとを、6:2のモル比で反応系に仕込んだ以外は上記と同様に加水分解縮合させて、1分子中にメルカプト基とトリフルオロメチル基(CF3−)とを6:2の割合で有するシルセスキオキサンを得た。
[SQ SH / F3 (6/2)]
γ-mercaptopropyltrimethoxysilane and trifluoropropyltrimethoxysilane were hydrolyzed and condensed in the same manner as described above except that the reaction system was charged in a molar ratio of 6: 2, and mercapto groups and trimethylsilane were combined in one molecule. Silsesquioxane having a fluoromethyl group (CF 3 —) in a ratio of 6: 2 was obtained.

〔SQ SH/F3(7/1)〕
γ−メルカプトプロピルトリメトキシシランと、トリフルオロプロピルトリメトキシシランとを、7:1のモル比で反応系に仕込んだ以外は上記と同様に加水分解縮合させて、1分子中にメルカプト基とトリフルオロメチル基(CF3−)とを7:1の割合で有するシルセスキオキサンを得た。
[SQ SH / F3 (7/1)]
γ-mercaptopropyltrimethoxysilane and trifluoropropyltrimethoxysilane were hydrolyzed and condensed in the same manner as described above except that the reaction system was charged in a molar ratio of 7: 1. Silsesquioxane having a fluoromethyl group (CF 3 —) in a ratio of 7: 1 was obtained.

〔SQ AC〕
3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン42.1gのみを反応系に仕込んだ以外は上記と同様に加水分解縮合させて、アクリロイルオキシ基のみを有し、トリフルオロメチル基等のフルオロアルキル基を有さないシルセスキオキサンを得た。
[SQ AC]
It was hydrolyzed and condensed in the same manner as described above except that only 42.1 g of 3-acryloxypropyltrimethoxysilane was charged into the reaction system, and had only an acryloyloxy group and had a fluoroalkyl group such as a trifluoromethyl group. No silsesquioxane was obtained.

〔SQ SH〕
γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン35.4gのみを反応系に仕込んだ以外は上記と同様に加水分解縮合させて、メルカプト基のみを有し、トリフルオロメチル基等のフルオロアルキル基を有さないシルセスキオキサンを得た。
[SQ SH]
Silyl which is hydrolyzed and condensed in the same manner as described above except that only 35.4 g of γ-mercaptopropyltrimethoxysilane is charged into the reaction system, has only a mercapto group, and does not have a fluoroalkyl group such as a trifluoromethyl group. Sesquioxane was obtained.

〔SQ F3〕
トリフルオロプロピルトリメトキシシラン39.3gのみを反応系に仕込んだ以外は上記と同様に加水分解縮合させて、トリフルオロメチル基(CF3−)のみを有し、アクリロイルオキシ基、アミノ基、メルカプト基等の反応性官能基を有さないシルセスキオキサンを得た。
[SQ F3]
Except that only 39.3 g of trifluoropropyltrimethoxysilane was charged into the reaction system, it was hydrolyzed and condensed in the same manner as described above to have only a trifluoromethyl group (CF 3- ), and an acryloyloxy group, amino group, mercapto Silsesquioxane having no reactive functional group such as a group was obtained.

<実施例1〜16、比較例1〜8>
下記第1表に示す配合量(単位:質量部)で、同表に示す各成分を、溶剤(イソプロピルアルコール:30質量%、酢酸ブチル:30質量%、プロピレングリコールモノメチルエーテル:20質量%、ジイソブチルケトン:20質量%の混合溶剤)に溶かし、攪拌機を用いて混合し、各硬化性樹脂組成物を得た。
<Examples 1-16, Comparative Examples 1-8>
The components shown in the following Table 1 (unit: parts by mass), and the components shown in the table are mixed with a solvent (isopropyl alcohol: 30% by mass, butyl acetate: 30% by mass, propylene glycol monomethyl ether: 20% by mass, diisobutyl (Ketone: mixed solvent of 20% by mass) and mixed using a stirrer to obtain each curable resin composition.

<評価>
得られた各硬化性樹脂組成物を、ポリカーボネート基板に10〜30μmの膜厚となるようにスプレーを用いて塗布した。その後、オーブン乾燥(70℃、3分間)を経て、川口スプリング製作所社製のGS UV SYSTEMを用いて、ピーク強度が80mW/cm2、積算光量が1000mJ/cm2となるようにUV照射を行って塗膜を形成し、評価用サンプルを得た。
この評価用サンプルを用いて、各特性を以下の方法により評価した。
<Evaluation>
Each obtained curable resin composition was apply | coated to the polycarbonate substrate using the spray so that it might become a film thickness of 10-30 micrometers. Then, after oven drying (70 ° C., 3 minutes), UV irradiation is performed using a GS UV SYSTEM manufactured by Kawaguchi Spring Mfg. Co., Ltd. so that the peak intensity is 80 mW / cm 2 and the integrated light intensity is 1000 mJ / cm 2 A coating film was formed to obtain an evaluation sample.
Each characteristic was evaluated by the following method using this sample for evaluation.

(透明性・全光線透過率)
評価用サンプルの全光線透過率[%]を、ヘイズメーター(HM−150、村上色彩技術研究所社製)を用いて測定した。全光線透過率が85%以上である場合には、透明性に優れ実用的であるとして透明性を「○」と評価し、全光線透過率が85%未満である場合には透明性に劣るものとして透明性を「×」と評価した。
透明性の評価結果および全光線透過率の値を、下記第1表に示す。
(Transparency / total light transmittance)
The total light transmittance [%] of the sample for evaluation was measured using a haze meter (HM-150, manufactured by Murakami Color Research Laboratory Co., Ltd.). When the total light transmittance is 85% or more, the transparency is evaluated as “◯” because it is excellent in transparency and practical, and when the total light transmittance is less than 85%, the transparency is inferior. The transparency was evaluated as “×”.
The evaluation results of transparency and the values of total light transmittance are shown in Table 1 below.

(水接触角)
水平に設置した評価用サンプルの塗膜表面に、10μm3の水滴を2μm3/secの速度で滴下し、接触角測定装置(OCA20、Data Physics社製)を用いて、水接触角(°)を測定した。5滴分(右・左)の水接触角の平均値を、下記第1表に示す。このとき、水接触角が80°以上であると、撥水性に優れることを示す。
(Water contact angle)
A 10 μm 3 water droplet is dropped at a rate of 2 μm 3 / sec on the coating film surface of the evaluation sample installed horizontally, and a water contact angle (°) using a contact angle measuring device (OCA20, manufactured by Data Physics). Was measured. The average water contact angle for 5 drops (right and left) is shown in Table 1 below. At this time, when the water contact angle is 80 ° or more, the water repellency is excellent.

(耐擦傷性)
評価用サンプルの塗膜表面を、スチールウール(#0000)を用いて、荷重250g/cm2で、10往復刻みで傷付きが目視で確認できるまで擦り、その往復回数によって耐擦傷性を評価した。往復回数を下記第1表に示す。往復回数が200以上であれば、高硬度であると評価できる。
(Abrasion resistance)
The coating surface of the sample for evaluation was rubbed with steel wool (# 0000) at a load of 250 g / cm 2 until scratches could be visually confirmed in 10 reciprocation increments, and scratch resistance was evaluated by the number of reciprocations. . The number of round trips is shown in Table 1 below. If the number of reciprocations is 200 or more, it can be evaluated that the hardness is high.

上記第1表に示すその他の成分は以下のとおりである。
・15官能アクリレート:ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとイソホロンジイソシアネートのイソシアヌレート体とを反応させて得られる上記式(A1−3)で表される15官能アクリレート。
・多官能シルセスキオキサン:上述したAC−SQ SI−20(東亞合成社製)
・5官能アクリレート:ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(M−403、東亞合成社製)
・テフロン(登録商標):ポリテトラフルオロエチレン(デュポン社製)
・光重合開始剤:イルガキュア184(BASF社製)
The other components shown in Table 1 are as follows.
15 functional acrylate: 15 functional acrylate represented by the above formula (A1-3) obtained by reacting dipentaerythritol pentaacrylate with an isocyanurate of isophorone diisocyanate.
Multifunctional silsesquioxane: AC-SQ SI-20 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.)
-5-functional acrylate: dipentaerythritol pentaacrylate (M-403, manufactured by Toagosei Co., Ltd.)
Teflon (registered trademark): polytetrafluoroethylene (manufactured by DuPont)
Photoinitiator: Irgacure 184 (manufactured by BASF)

上記第1表に示す結果から、実施例1〜16は、いずれも透明性および撥水性に優れ、かつ、高硬度であることが分かった。
とりわけ、成分(A)として、15官能アクリレートを用いた実施例1〜14は、多官能シルセスキオキサンを用いた実施例15および16よりも、高硬度であった。
また、(B)成分として、トリデカフルオロヘキシル基(C613−)を有するSQ AC/F13を用いた実施例12〜14は、水接触角が大きく、撥水性により優れる傾向にあることが分かった。
From the results shown in Table 1 above, it was found that Examples 1 to 16 were all excellent in transparency and water repellency and had high hardness.
In particular, Examples 1 to 14 using a 15-functional acrylate as the component (A) were higher in hardness than Examples 15 and 16 using a polyfunctional silsesquioxane.
Moreover, Examples 12 to 14 using SQ AC / F13 having a tridecafluorohexyl group (C 6 F 13 —) as the component (B) have a large water contact angle and tend to be more excellent in water repellency. I understood.

これに対して、成分(B)を用いていない比較例1および5は、水接触角が小さく撥水性に劣ることが分かった。
また、フルオロアルキル基を有していない成分(B)を用いた比較例2および3も、接触角が小さく撥水性に劣ることが分かった。
また、フルオロアルキル基のみを有する成分(B)を用いた比較例4は、透明性に劣ることが分かった。
また、成分(A)として5官能アクリレートを用いた比較例6は、耐擦傷性に劣り、高硬度が得られないことが分かった。
また、成分(A)を用いていない比較例7は、塗膜が硬化せず、各特性を評価することができなかった(上記第1表中、「−」で示す)。
また、成分(B)として、テフロン(登録商標)を用いた比較例8は、撥水性は優れるものの、透明性に劣ることが分かった。
On the other hand, it was found that Comparative Examples 1 and 5 not using the component (B) had a small water contact angle and poor water repellency.
It was also found that Comparative Examples 2 and 3 using the component (B) having no fluoroalkyl group also had a small contact angle and poor water repellency.
Moreover, it turned out that the comparative example 4 using the component (B) which has only a fluoroalkyl group is inferior to transparency.
Moreover, it turned out that the comparative example 6 which uses pentafunctional acrylate as a component (A) is inferior to abrasion resistance, and cannot obtain high hardness.
Moreover, the comparative example 7 which does not use a component (A) did not harden | cure a coating film but could not evaluate each characteristic (it shows by "-" in the said Table 1).
Moreover, although the comparative example 8 using Teflon (trademark) as a component (B) was excellent in water repellency, it turned out that it is inferior to transparency.

Claims (4)

フッ素原子を有さない、1分子中に6個以上の(メタ)アクリロイルオキシ基を有する化合物(A)と、
前記(メタ)アクリロイルオキシ基と反応しうる反応性官能基と、フルオロアルキル基と、を有するシルセスキオキサン(B)と、
光重合開始剤(C)と、
を含有する硬化性樹脂組成物。
A compound (A) having no fluorine atom and having 6 or more (meth) acryloyloxy groups in one molecule;
Silsesquioxane (B) having a reactive functional group capable of reacting with the (meth) acryloyloxy group and a fluoroalkyl group,
A photopolymerization initiator (C);
A curable resin composition containing
前記化合物(A)が、イソシアヌレート環を有する、請求項1に記載の硬化性樹脂組成物。   The curable resin composition according to claim 1, wherein the compound (A) has an isocyanurate ring. 前記反応性官能基が、(メタ)アクリロイルオキシ基、アミノ基、メルカプト基、イソシアネート基、および、ヒドロキシイミノ基からなる群から選ばれる少なくとも1種である、請求項1または2に記載の硬化性樹脂組成物。   The curable property according to claim 1 or 2, wherein the reactive functional group is at least one selected from the group consisting of a (meth) acryloyloxy group, an amino group, a mercapto group, an isocyanate group, and a hydroxyimino group. Resin composition. 前記シルセスキオキサン(B)の含有量が、前記化合物(A)100質量部に対して0.1〜10質量部であり、
前記光重合開始剤(C)の含有量が、前記化合物(A)100質量部に対して1〜20質量部である、請求項1〜3のいずれかに記載の硬化性樹脂組成物。
Content of the said silsesquioxane (B) is 0.1-10 mass parts with respect to 100 mass parts of said compounds (A),
Curable resin composition in any one of Claims 1-3 whose content of the said photoinitiator (C) is 1-20 mass parts with respect to 100 mass parts of said compounds (A).
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Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2013153936A1 (en) * 2012-04-13 2013-10-17 横浜ゴム株式会社 Photocurable resin composition
WO2013161829A1 (en) * 2012-04-27 2013-10-31 旭硝子株式会社 Partial hydrolysis condensation product, ink-repellent agent, negative-type photosensitive resin composition, cured film, partition wall, and optical element
WO2017061343A1 (en) * 2015-10-09 2017-04-13 ナガセケムテックス株式会社 Resin composition and cured product sheet
JP2018510862A (en) * 2015-03-09 2018-04-19 エヌビーディー ナノテクノロジーズ, インコーポレイテッドNbd Nanotechnologies, Inc. Functionalized F-POSS monomer composition and use thereof
US10442823B2 (en) 2014-10-07 2019-10-15 Nbd Nanotechnologies, Inc. Functionalized F-POSS monomer compositions and uses thereof
US10501583B2 (en) 2016-01-28 2019-12-10 Lg Chem, Ltd. Method for preparing polyhedral oligomeric silsesquioxane
CN110590831A (en) * 2014-05-30 2019-12-20 联邦科学和工业研究组织 Ice adhesion reducing prepolymers and polymers
US10683313B2 (en) 2016-03-17 2020-06-16 Lg Chem, Ltd. Polyhedral oligomeric silsesquioxane and preparation method thereof
CN113321623A (en) * 2021-06-03 2021-08-31 浙江乘鹰新材料股份有限公司 Six-functionality-degree fluorine-containing photocuring anti-fouling additive and application thereof
CN113387898A (en) * 2021-06-03 2021-09-14 浙江乘鹰新材料股份有限公司 Ten-functionality fluorine-containing photocuring anti-fouling additive and application thereof

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2013153936A1 (en) * 2012-04-13 2013-10-17 横浜ゴム株式会社 Photocurable resin composition
WO2013161829A1 (en) * 2012-04-27 2013-10-31 旭硝子株式会社 Partial hydrolysis condensation product, ink-repellent agent, negative-type photosensitive resin composition, cured film, partition wall, and optical element
CN110590831A (en) * 2014-05-30 2019-12-20 联邦科学和工业研究组织 Ice adhesion reducing prepolymers and polymers
US10442823B2 (en) 2014-10-07 2019-10-15 Nbd Nanotechnologies, Inc. Functionalized F-POSS monomer compositions and uses thereof
US11702433B2 (en) 2014-10-07 2023-07-18 Nbd Nanotechnologies, Inc. Functionalized F-POSS monomer compositions and uses thereof
JP2018510862A (en) * 2015-03-09 2018-04-19 エヌビーディー ナノテクノロジーズ, インコーポレイテッドNbd Nanotechnologies, Inc. Functionalized F-POSS monomer composition and use thereof
US10174059B2 (en) * 2015-03-09 2019-01-08 Nbd Nanotechnologies, Inc. Functionalized F-POSS monomer compositions and uses thereof
EP3268412A4 (en) * 2015-03-09 2018-10-24 Nbd Nanotechnologies, Inc. Functionalized f-poss monomer compositions and uses thereof
WO2017061343A1 (en) * 2015-10-09 2017-04-13 ナガセケムテックス株式会社 Resin composition and cured product sheet
US10501583B2 (en) 2016-01-28 2019-12-10 Lg Chem, Ltd. Method for preparing polyhedral oligomeric silsesquioxane
US10683313B2 (en) 2016-03-17 2020-06-16 Lg Chem, Ltd. Polyhedral oligomeric silsesquioxane and preparation method thereof
CN113321623A (en) * 2021-06-03 2021-08-31 浙江乘鹰新材料股份有限公司 Six-functionality-degree fluorine-containing photocuring anti-fouling additive and application thereof
CN113387898A (en) * 2021-06-03 2021-09-14 浙江乘鹰新材料股份有限公司 Ten-functionality fluorine-containing photocuring anti-fouling additive and application thereof
CN113387898B (en) * 2021-06-03 2023-02-28 浙江乘鹰新材料股份有限公司 Ten-functionality fluorine-containing photocuring anti-fouling additive and application thereof
CN113321623B (en) * 2021-06-03 2023-02-28 浙江乘鹰新材料股份有限公司 Six-functionality-degree fluorine-containing photocuring anti-fouling additive and application thereof

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