JP2012240358A - Barrier film for electronic device - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a new and improved barrier film for an electronic device, capable of improving a barrier performance more than before.SOLUTION: The barrier film for the electronic device includes: an alternately stacked part for which an inorganic planar particle layer containing charged inorganic planar particles and a binder layer charged oppositely to the inorganic planar particles are alternately stacked; and a filling part formed at a defective part which is a part in which the inorganic planar particles are not present in the inorganic planar particle layer.

Description

本発明は、電子デバイス用バリアフィルムに関する。   The present invention relates to a barrier film for electronic devices.

電子デバイス用のフレキシブル基板として、樹脂フィルム上にバリア層が形成されたバリアフィルムが用いられている。これらバリアフィルムの用途は、従来、食品等の包装であったが、近年、電子デバイスに用いられるようになり、バリア性能の飛躍的な向上が求められていた。   As a flexible substrate for an electronic device, a barrier film in which a barrier layer is formed on a resin film is used. Conventionally, these barrier films have been used for packaging foods, but in recent years, they have been used in electronic devices, and there has been a demand for dramatic improvement in barrier performance.

特許文献1にこのようなバリアフィルムが開示されている。特許文献1記載のバリアフィルムは、粘土粒子からなる粘土層とカチオン性樹脂とを交互吸着法によって積層したものである。   Patent Document 1 discloses such a barrier film. The barrier film described in Patent Document 1 is obtained by laminating a clay layer made of clay particles and a cationic resin by an alternating adsorption method.

米国特許出願公開第2004/053037号明細書US Patent Application Publication No. 2004/053037

しかし、特許文献1記載のバリアフィルムでは、粘土粒子の密度(吸着密度)が粘土層内で不均一(不安定)となり、粘土粒子が樹脂フィルムに吸着しない欠陥部分が多数形成されていた。この欠陥部分は、水分等のガスの通り道となる。このため、特許文献1記載のバリアフィルムには、各粘土層のバリア性能が不十分になり易いという問題があった。この問題を解決する方法として、粘土層の積層数を増加させるという方法も考えられるが、この方法では、工程が複雑になり、かつ、バリアフィルムが厚くなってしまう。
そこで、本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、本発明の目的とするところは、従来よりもバリア性能を向上させることが可能な、新規かつ改良された電子デバイス用バリアフィルムを提供することにある。
However, in the barrier film described in Patent Document 1, the density (adsorption density) of the clay particles is not uniform (unstable) in the clay layer, and a large number of defect portions where the clay particles are not adsorbed to the resin film are formed. This defective portion becomes a passage for gas such as moisture. For this reason, the barrier film described in Patent Document 1 has a problem that the barrier performance of each clay layer tends to be insufficient. As a method of solving this problem, a method of increasing the number of laminated clay layers is also conceivable, but this method complicates the process and increases the thickness of the barrier film.
Therefore, the present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a new and improved barrier film for electronic devices capable of improving the barrier performance as compared with the prior art. It is to provide.

上記課題を解決するために、本発明のある観点によれば、樹脂フィルムに、帯電した無機板状粒子を含む無機板状粒子層と、無機板状粒子と反対の電荷に帯電したバインダ層と、が交互に積層された交互積層部と、無機板状粒子層のうち、無機板状粒子が欠落した箇所である欠陥部分に形成される充填部と、を有することを特徴とする、電子デバイス用バリアフィルムが提供される。   In order to solve the above problems, according to one aspect of the present invention, an inorganic plate-like particle layer containing charged inorganic plate-like particles on a resin film, and a binder layer charged to a charge opposite to that of the inorganic plate-like particles, An electronic device comprising: alternately stacked portions alternately stacked; and a filling portion formed in a defective portion of the inorganic plate-like particle layer where the inorganic plate-like particles are missing. A barrier film is provided.

この観点による電子デバイス用バリアフィルムは、欠陥部分に充填部が形成されるので、この充填部によって欠陥部分でのガスの透過を防止することができる。したがって、この観点による電子デバイス用バリアフィルムは、従来よりもバリア性能を向上させることができる。   In the barrier film for electronic devices according to this aspect, since the filling portion is formed in the defective portion, the filling portion can prevent gas permeation through the defective portion. Therefore, the barrier film for electronic devices according to this aspect can improve the barrier performance as compared with the conventional case.

ここで、充填部は、金属酸化物を含んでもよい。   Here, the filling portion may include a metal oxide.

これにより、電子デバイス用バリアフィルムは、欠陥部分でのガスの透過をより確実に防止することができる。   Thereby, the barrier film for electronic devices can prevent the permeation | transmission of the gas in a defective part more reliably.

また、金属酸化物を構成する金属は、バナジウム、タングステン、及びモリブデンのうち少なくとも1種であってもよい。   Further, the metal constituting the metal oxide may be at least one of vanadium, tungsten, and molybdenum.

これにより、電子デバイス用バリアフィルムは、欠陥部分でのガスの透過をより確実に防止することができる。   Thereby, the barrier film for electronic devices can prevent the permeation | transmission of the gas in a defective part more reliably.

また、金属酸化物を構成する元素には、リンが含まれてもよい。   Further, the element constituting the metal oxide may include phosphorus.

これにより、電子デバイス用バリアフィルムは、欠陥部分でのガスの透過をより確実に防止することができる。   Thereby, the barrier film for electronic devices can prevent the permeation | transmission of the gas in a defective part more reliably.

また、無機板状粒子は負に帯電し、バインダ層は正に帯電していてもよい。   Further, the inorganic plate-like particles may be negatively charged, and the binder layer may be positively charged.

これにより、電子デバイス用バリアフィルムを構成する層同士がクーロン力により強固に吸着するので、バリア性能がより向上する。   Thereby, since the layers which comprise the barrier film for electronic devices adsorb | suck firmly by Coulomb force, barrier performance improves more.

また、無機板状粒子は、粘土鉱物及びリン酸ジルコニウムのうち少なくとも1種を層分離することで得られるものであってもよい。   Moreover, the inorganic plate-like particle may be obtained by layer-separating at least one of clay mineral and zirconium phosphate.

これにより、無機板状粒子がガスの透過を防止するので、バリア性能がより向上する。   Thereby, since inorganic plate-like particles prevent gas permeation, the barrier performance is further improved.

また、粘土鉱物は、雲母、バーミュライト、モンモリロナイト、鉄モンモリロナイト、バイデライト、サポナイト、ヘクトライト、及びスチーブンサイトの少なくとも1種であってもよい。   The clay mineral may be at least one of mica, vermulite, montmorillonite, iron montmorillonite, beidellite, saponite, hectorite, and stevensite.

これにより、無機板状粒子がガスの透過を防止するので、バリア性能がより向上する。   Thereby, since inorganic plate-like particles prevent gas permeation, the barrier performance is further improved.

また、粘土鉱物は、モンモリロナイトであってもよい。   The clay mineral may be montmorillonite.

モンモリロナイトは容易に層分離されるので、この観点によれば、無機板状粒子が容易に生成される。   Since montmorillonite is easily separated into layers, according to this aspect, inorganic plate-like particles are easily generated.

また、無機板状粒子は、リン酸ジルコニウムを層分離することで得られるものであってもよい。   Further, the inorganic plate-like particles may be obtained by layer separation of zirconium phosphate.

リン酸ジルコニウムは容易に層分離されるので、この観点によれば、無機板状粒子が容易に生成される。   Since zirconium phosphate is easily separated into layers, according to this aspect, inorganic plate-like particles are easily generated.

また、樹脂フィルムに形成され、樹脂フィルムを交互積層部に強力に吸着させる吸着層を備えるようにしてもよい。   Moreover, you may make it provide the adsorption layer which is formed in a resin film and makes a resin film adsorb | suck to an alternating lamination part strongly.

これにより、交互積層部と樹脂フィルムとが強力に吸着するので、バリア性能がより向上する。更に、吸着層がガスの透過を防止するので、バリア性能がより向上する。   Thereby, since an alternating lamination part and a resin film adsorb | suck strongly, barrier performance improves more. Furthermore, since the adsorption layer prevents gas permeation, the barrier performance is further improved.

また、吸着層は、シリカ及びアルミナのうち、少なくとも1種を含んでもよい。   Further, the adsorption layer may include at least one of silica and alumina.

これにより、交互積層部と樹脂フィルムとが強力に吸着するので、バリア性能がより向上する。   Thereby, since an alternating lamination part and a resin film adsorb | suck strongly, barrier performance improves more.

また、吸着層は、交互積層部の最も外側の層である最外層と反対の電荷に帯電していてもよい。   In addition, the adsorption layer may be charged to a charge opposite to the outermost layer, which is the outermost layer of the alternately laminated portion.

これにより、交互積層部と樹脂フィルムとが強力に吸着するので、バリア性能がより向上する。   Thereby, since an alternating lamination part and a resin film adsorb | suck strongly, barrier performance improves more.

また、吸着層を帯電させる処理は、シランカップリング剤を用いることで行われるようにしてもよい。   Further, the treatment for charging the adsorption layer may be performed by using a silane coupling agent.

これにより、吸着層をより確実に帯電させることができる。   Thereby, the adsorption layer can be more reliably charged.

以上説明したように本発明によれば、欠陥部分に充填部が形成されるので、この充填部によって欠陥部分でのガスの透過を防止することができる。したがって、本発明による電子デバイス用バリアフィルムは、従来よりもバリア性能を向上させることができる。   As described above, according to the present invention, since the filling portion is formed in the defective portion, the permeation of the gas in the defective portion can be prevented by this filling portion. Therefore, the barrier film for electronic devices according to the present invention can improve the barrier performance as compared with the conventional case.

本発明の実施形態に係るバリアフィルムを示す断面図である。It is sectional drawing which shows the barrier film which concerns on embodiment of this invention. 無機板状粒子が欠落した箇所である欠陥部分に充填部が形成(充填)される様子を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows a mode that a filling part is formed (filling) in the defect part which is a location where the inorganic plate-shaped particle | grain was missing. タングステンのプールベダイアグラム(Pourbaix Diagram)である。It is a pool diagram of Tungsten (Pourbaix Diagram). 同実施形態にかかるバリアフィルムの製造方法を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the manufacturing method of the barrier film concerning the embodiment.

以下に添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の機能構成を有する構成要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略する。   Exemplary embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings. In addition, in this specification and drawing, about the component which has the substantially same function structure, duplication description is abbreviate | omitted by attaching | subjecting the same code | symbol.

[従来のバリアフィルムが有する問題点]
本発明者は、従来のバリアフィルム及びその問題点を精査し、この結果に基づいて、本実施の形態に係るバリアフィルムを完成させるに至った。そこで、まず、従来のバリアフィルム及びその問題点について説明する。
[Problems of conventional barrier films]
The inventor has scrutinized the conventional barrier film and its problems, and has completed the barrier film according to the present embodiment based on this result. First, the conventional barrier film and its problems will be described.

電子デバイス用のフレキシブル基板として、バリア層が形成されたバリアフィルムが用いられている。これらバリアフィルムの用途は、従来、食品等の包装であったが、近年、電子デバイスに用いられるようになり、バリア性能の飛躍的な向上が求められていた。例えば、フレキシブルディスプレイに好適と言われている、全固体型の発光素子である有機エレクトロルミネッセンス素子の場合、必要とされるバリア性能は、透湿率(WVTR)で、1E−6(g/m/day)が要求されていた。 As a flexible substrate for an electronic device, a barrier film in which a barrier layer is formed is used. Conventionally, these barrier films have been used for packaging foods, but in recent years, they have been used in electronic devices, and there has been a demand for dramatic improvement in barrier performance. For example, in the case of an organic electroluminescence element which is an all-solid-state light-emitting element, which is said to be suitable for a flexible display, the required barrier performance is a moisture permeability (WVTR) of 1E-6 (g / m 2 / day).

このような高い性能を満たすバリアフィルムが各社より提案されている。例えば、米国バイテックス(Vitex)社は、樹脂フィルム及びアルミナ層の交互積層構造からなるバリアフィルムを開示している(http://www.vitexsys.com/barix_how_made.html)。バイテックス社によれば、このバリアフィルムは有機発光素子に適用可能な高い性能を有する。また、2008年2月20日の三菱樹脂株式会社の新聞発表(http://www.mpi.co.jp/info/360/index.html)によれば、WVTRが0.05(g/m/day)のバリアフィルムが上市されている。 Various companies have proposed barrier films that satisfy such high performance. For example, the US company Vitex discloses a barrier film composed of an alternately laminated structure of a resin film and an alumina layer (http://www.vitexsys.com/barix_how_made.html). According to Vitex, this barrier film has high performance applicable to organic light emitting devices. According to a press release on February 20, 2008 by Mitsubishi Plastics Co., Ltd. (http://www.mpi.co.jp/info/360/index.html), the WVTR is 0.05 (g / m 2 / day) barrier film is on the market.

これら二つの技術を始め、多くの高性能バリアフィルムは、真空プロセスを用いて作製されている。真空プロセスは、概略的には、真空チャンバ内に設置したフィルム基板上に、バリアフィルムを構成する物質を付着させるプロセスである。真空プロセスは、巨大な真空チャンバを必要とするため、設備投資額が大きくなるという問題があった。また、真空プロセスは、真空チャンバの維持に過大なランニングコストが必要になるので、バリアフィルムの製造コストが高くなるという問題もあった。また、真空プロセスは、バリアフィルムのステップカバレージが悪いため、フィルム基板上の異物が原因でピンホールが生じやすいという問題もあった。   Many high performance barrier films, including these two technologies, are made using a vacuum process. The vacuum process is generally a process in which a substance constituting the barrier film is attached on a film substrate placed in a vacuum chamber. Since the vacuum process requires a huge vacuum chamber, there is a problem that the capital investment is increased. In addition, since the vacuum process requires an excessive running cost for maintaining the vacuum chamber, there is also a problem that the manufacturing cost of the barrier film increases. Further, the vacuum process has a problem in that the step coverage of the barrier film is poor, and therefore pinholes are likely to occur due to foreign matters on the film substrate.

一方、バリアフィルムの成膜方法として、湿式プロセスによる成膜方法も知られている。この製膜方法は、これら真空プロセスの問題を回避でき、低コストでピンホールの少ないバリアフィルムを形成できる。湿式プロセスとしては、ゾルゲル法や、ガス透過がほとんどない粘土の粒子を用いる方法が考えられる。これらの手法を用いたバリアフィルムの製造方法は、上述した特許文献1の他、特開2007−22075号公報(以下、「参考文献1」とも称する)、及び特開2003−41153号公報(以下、「参考文献2」とも称する)に開示されている。特許文献1に開示された技術及び当該技術に関する問題点については、上述したとおりである。   On the other hand, a film forming method using a wet process is also known as a method for forming a barrier film. This film forming method can avoid these problems of the vacuum process, and can form a barrier film with few pinholes at low cost. As the wet process, a sol-gel method or a method using clay particles having almost no gas permeation can be considered. In addition to the above-mentioned Patent Document 1, a method for producing a barrier film using these techniques is disclosed in JP 2007-22075 A (hereinafter also referred to as “Reference Document 1”) and JP 2003-41153 A (hereinafter referred to as “Patent Document 1”). , Also referred to as “reference document 2”). The technique disclosed in Patent Document 1 and problems related to the technique are as described above.

参考文献1は、粘土粒子(後述する無機層状化合物の粒子)からなる粘土層と、ゾルゲル法により形成される無機層とが交互積層されたバリアフィルムを開示する。参考文献1に開示された技術では、粘土粒子が分散した分散液を静置することで、粘土層を形成する。しかし、このような方法で形成された粘土層は、他の層、即ち無機層との密着性が低いという問題があった。また、粘土層は、単に粘土粒子が堆積した層であるので、粘土層内の粘土粒子同士の結合も非常に弱い。例えば、水分が無機層を通って粘土層中に浸入すると、容易に粘土粒子間に水分子が入り込み、粘土層が膨潤し、バリアフィルムのバリア性能が著しく低下する。この問題を解決するためには、無機層の透湿率を低くすることが考えられるが、そのためには無機層を高温(100〜500℃)で焼成する必要があるので、工程が複雑になるという問題があった。   Reference 1 discloses a barrier film in which clay layers made of clay particles (particles of inorganic layered compounds described later) and inorganic layers formed by a sol-gel method are alternately laminated. In the technique disclosed in Reference 1, a clay layer is formed by allowing a dispersion in which clay particles are dispersed to stand. However, the clay layer formed by such a method has a problem of low adhesion to other layers, that is, inorganic layers. Further, since the clay layer is simply a layer in which clay particles are deposited, the bond between the clay particles in the clay layer is very weak. For example, when moisture enters the clay layer through the inorganic layer, water molecules easily enter between the clay particles, the clay layer swells, and the barrier performance of the barrier film is significantly reduced. In order to solve this problem, it is conceivable to reduce the moisture permeability of the inorganic layer, but for this purpose, the inorganic layer needs to be baked at a high temperature (100 to 500 ° C.), so the process becomes complicated. There was a problem.

参考文献2には、ゾルゲル材料と粘土粒子との混合物からなるバリアフィルムが開示される。この技術では、粘土粒子をゾルゲル材料中に高濃度に分散させることがバリアフィルムのバリア性能を高めるために重要な事項となる。粘土粒子のような層状化合物をゾルゲル材料中に分散させた場合に、バリアフィルムがどの程度バリア性能を高めることができるかについては、J. MACROMOL. SCI. (CHEM.), A1(5), 929−942 (1967)で試算されている。該文献の計算方法によれば、例えば、1μmの直径で1nmの厚さを持つ粘土粒子を用いた場合、混合するゾルゲル材料のWVTR、即ちバリアフィルムのWVTRを2桁下げるためには、バリアフィルムの総質量に対し約20質量%の粘土粒子をゾルゲル材料中に分散させる必要がある。粘土粒子のような非常に扁平な形状である粒子がゾルゲル材料中に分散した分散液はチクソトロピー性を示し、静置時の粘度が非常に高くなる。このような粘度の高さのため、20質量%もの粘土粒子をゾルゲル材料中に分散させるのは事実上困難であるという問題があった。また、仮に分散できたとしても、分散液の粘度が高いため、分散液を膜状に塗布するのは非常に困難であるという問題もあった。   Reference 2 discloses a barrier film made of a mixture of a sol-gel material and clay particles. In this technique, it is important to disperse clay particles at a high concentration in the sol-gel material in order to improve the barrier performance of the barrier film. For how much the barrier film can improve the barrier performance when a layered compound such as clay particles is dispersed in a sol-gel material, see J. Org. MACROMOL. SCI. (CHEM.), A1 (5), 929-942 (1967). According to the calculation method of the literature, for example, when clay particles having a diameter of 1 μm and a thickness of 1 nm are used, in order to lower the WVTR of the sol-gel material to be mixed, that is, the WVTR of the barrier film by two orders of magnitude, About 20% by mass of clay particles must be dispersed in the sol-gel material with respect to the total mass of the sol-gel. A dispersion in which particles having a very flat shape such as clay particles are dispersed in a sol-gel material exhibits thixotropy and has a very high viscosity upon standing. Due to such high viscosity, there has been a problem that it is practically difficult to disperse 20% by mass of clay particles in the sol-gel material. Further, even if it can be dispersed, there is a problem that it is very difficult to apply the dispersion in the form of a film because the viscosity of the dispersion is high.

本発明者は、上記の問題点に鑑み、本実施の形態に記載のバリアフィルムを開発するに至った。以下、本実施の形態に係るバリアフィルムについて説明する。   In view of the above problems, the present inventor has developed the barrier film described in the present embodiment. Hereinafter, the barrier film according to the present embodiment will be described.

[バリアフィルムの構造]
まず、本実施の形態に係るバリアフィルムの構造を図1に基づいて説明する。本実施の形態に係るバリアフィルム1は、樹脂フィルム2と、無機板状粒子層3及びバインダ層5が交互に積層された交互積層部8と、無機板状粒子層3の欠陥部分7に形成される充填部4とを備える。なお、以下の説明において、バリアフィルム1を製造する途中過程で製造されるフィルム、即ち、樹脂フィルム2の表面に無機板状粒子層3及びバインダ層5のうち少なくとも一方が積層されたフィルムを「中間フィルム」とも称する。
[Barrier film structure]
First, the structure of the barrier film according to the present embodiment will be described with reference to FIG. The barrier film 1 according to the present embodiment is formed on the resin film 2, the alternately laminated portion 8 in which the inorganic plate-like particle layer 3 and the binder layer 5 are alternately laminated, and the defective portion 7 of the inorganic plate-like particle layer 3. The filling part 4 is provided. In the following description, a film manufactured in the course of manufacturing the barrier film 1, that is, a film in which at least one of the inorganic plate-like particle layer 3 and the binder layer 5 is laminated on the surface of the resin film 2 is “ Also referred to as “intermediate film”.

[樹脂フィルムの構成]
まず、樹脂フィルム2の構成について説明する。樹脂フィルム2は、既知の樹脂であればどのような樹脂で構成されていてもよいが、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリエーテルスルホン(PES)、及びポリイミド(PI)等で構成される。樹脂フィルム2は、これらの物質のうち、いずれか1種だけで構成されていても良く、これらの物質のうち、2種以上の物質で構成されていても良い。
[Configuration of resin film]
First, the configuration of the resin film 2 will be described. The resin film 2 may be made of any resin as long as it is a known resin. For example, polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), polyethersulfone (PES), and polyimide (PI) ) Etc. The resin film 2 may be composed of only one of these substances, or may be composed of two or more substances among these substances.

樹脂フィルム2の表面は、正または負に帯電している。図1では、樹脂フィルム2は正に帯電している。樹脂フィルム2を帯電させる処理としては特に制限されないが、例えば、物理的処理(例えば、コロナ処理、UV/O処理等)、EB処理(電子線処理)、及びシランカップリング剤等の薬液による化学的処理等を用いることができる。樹脂フィルム2の表面をコロナ処理することで、樹脂フィルム2の表面が負に帯電する。また、樹脂フィルム2の表面をシランカップリング剤で処理すると、樹脂フィルム2の表面が正に帯電する。更に、これら帯電処理の効果を高めるために、樹脂フィルム2上に吸着層を形成し、吸着層に帯電処理を行っても良い。吸着層は、樹脂フィルム2を無機板状粒子層3またはバインダ層5に強力に吸着するものであり、シリカ及びアルミナ等の金属酸化物で構成される。これら金属酸化物は、大気中でその表面にOH基を有しているので、金属酸化物にコロナ処理やUV/O処理を行うと、強力かつ均一に表面が帯電される。同様に、金属酸化物の表面をシランカップリング剤で帯電処理する場合、該シランカップリング剤が金属酸化物表面のOH基と結合する結果、強力かつ均一に表面が帯電される。 The surface of the resin film 2 is positively or negatively charged. In FIG. 1, the resin film 2 is positively charged. The treatment for charging the resin film 2 is not particularly limited. For example, physical treatment (for example, corona treatment, UV / O 3 treatment, etc.), EB treatment (electron beam treatment), and a chemical solution such as a silane coupling agent. Chemical treatment or the like can be used. By corona-treating the surface of the resin film 2, the surface of the resin film 2 is negatively charged. Further, when the surface of the resin film 2 is treated with a silane coupling agent, the surface of the resin film 2 is positively charged. Furthermore, in order to enhance the effect of these charging treatments, an adsorption layer may be formed on the resin film 2 and the adsorption treatment may be performed on the adsorption layer. The adsorption layer strongly adsorbs the resin film 2 to the inorganic plate-like particle layer 3 or the binder layer 5 and is composed of a metal oxide such as silica and alumina. Since these metal oxides have an OH group on the surface in the atmosphere, when the metal oxide is subjected to corona treatment or UV / O 3 treatment, the surface is strongly and uniformly charged. Similarly, when the surface of the metal oxide is charged with a silane coupling agent, the surface is strongly and uniformly charged as a result of the silane coupling agent binding to the OH group on the surface of the metal oxide.

樹脂フィルム2、無機板状粒子層3、及びバインダ層5がそれぞれ有する電荷によって、無機板状粒子層3、及びバインダ層5のうち、どちらを樹脂フィルム2に積層するかが決まる。例えば、樹脂フィルム2の表面を正に、無機板状粒子層3が負にそれぞれ帯電している場合は、無機板状粒子層3を樹脂フィルム2に積層し、バインダ層5を無機板状粒子層3に積層する。   Which of the inorganic plate-like particle layer 3 and the binder layer 5 is laminated on the resin film 2 is determined by the electric charge of the resin film 2, the inorganic plate-like particle layer 3, and the binder layer 5. For example, when the surface of the resin film 2 is positive and the inorganic plate-like particle layer 3 is negatively charged, the inorganic plate-like particle layer 3 is laminated on the resin film 2 and the binder layer 5 is made of the inorganic plate-like particle. Laminate on layer 3.

[無機板状粒子層の構成]
次に、バリアフィルム1を構成する無機板状粒子層3について説明する。無機板状粒子層3は、無機板状粒子で構成される。
[Configuration of inorganic plate-like particle layer]
Next, the inorganic plate-like particle layer 3 constituting the barrier film 1 will be described. The inorganic plate-like particle layer 3 is composed of inorganic plate-like particles.

無機板状粒子は、無機層状化合物、例えば雲母、バーミキュライト、モンモリロナイト、鉄モンモリロナイト、バイデライト、サポナイト、ヘクトライト、スチーブンサイト等の粘土鉱物、リン酸ジルコニウム、及び層状複水酸化物(LDH)等を層分離(層間剥離、Exfoliate)することで得られる。   The inorganic plate-like particles are layered with inorganic layered compounds, for example, clay minerals such as mica, vermiculite, montmorillonite, iron montmorillonite, beidellite, saponite, hectorite, stevensite, zirconium phosphate, and layered double hydroxide (LDH). It can be obtained by separation (delamination, Exfoliate).

これらの無機層状化合物は、正または負に帯電した複数の無機板状粒子同士が、無機板状粒子と逆の電荷に帯電した層間イオン(例えばナトリウムイオン)を介して積層されたものである。無機層状化合物を層分離するためには、例えば、無機板状粒子間に層間イオンよりも粒径の大きな粒子、例えば水分子、カルシウムイオン、テトラブチルアンモニウムイオンを挿入すればよい。例えば、無機層状化合物を水に投入し、攪拌すればよい。   These inorganic layered compounds are obtained by laminating a plurality of positively or negatively charged inorganic plate-like particles via interlayer ions (for example, sodium ions) charged to a charge opposite to that of the inorganic plate-like particles. In order to separate the inorganic layered compound, for example, particles having a particle size larger than the interlayer ions, such as water molecules, calcium ions, and tetrabutylammonium ions may be inserted between the inorganic plate-like particles. For example, the inorganic layered compound may be added to water and stirred.

無機板状粒子層3は、1種の無機板状粒子で構成されていても良く、同じ電荷を有する2種以上の無機板状粒子で構成されていても良い。   The inorganic plate-like particle layer 3 may be composed of one kind of inorganic plate-like particle, or may be composed of two or more kinds of inorganic plate-like particles having the same charge.

なお、層分離のしやすさは、無機層状化合物の持つ電荷の密度に依存する。層分離のしやすい無機層状化合物として、モンモリロナイトや燐酸ジルコニウムが挙げられる。したがって、これらの無機層状化合物は、層分離がしやすいという点で好ましいといえる。   The ease of layer separation depends on the charge density of the inorganic layered compound. Examples of the inorganic layered compound that can be easily separated include montmorillonite and zirconium phosphate. Therefore, it can be said that these inorganic layered compounds are preferable in terms of easy layer separation.

無機板状粒子は、非常に扁平な形状をしており、金属酸化物等の無機物で構成される。無機板状粒子は、気体をほとんど透過させない。したがって、無機板状粒子を他の層に対して水平に配置することにより、バリアフィルム1のバリア性能が向上する。   The inorganic plate-like particles have a very flat shape and are composed of an inorganic substance such as a metal oxide. Inorganic plate-like particles hardly permeate gas. Therefore, the barrier performance of the barrier film 1 is improved by arranging the inorganic plate-like particles horizontally with respect to the other layers.

無機平板状化合物の寸法は、例えば、平面方向の直径が10nm〜10μm、厚さが1〜100nmとなる。なお、平面方向の直径は、例えば各粒子の相当径(粒子の平面方向の形状を円としたときの直径)を算術平均した値であり、厚さは、各粒子の厚さを算術平均した値である。無機平板状化合物粒子の平面方向の直径及び厚さは、例えばSEM(走査型電子顕微鏡)、AFM(原子間力顕微鏡)、レーザー散乱式粒度分布計によって測定される。   The dimensions of the inorganic tabular compound are, for example, a diameter in the plane direction of 10 nm to 10 μm and a thickness of 1 to 100 nm. The diameter in the plane direction is, for example, the value obtained by arithmetically averaging the equivalent diameter of each particle (the diameter when the shape of the particle in the plane direction is a circle), and the thickness is the arithmetic average of the thickness of each particle. Value. The planar diameter and thickness of the inorganic tabular compound particles are measured by, for example, SEM (scanning electron microscope), AFM (atomic force microscope), or laser scattering particle size distribution analyzer.

また、無機板状粒子は、上述したように、正または負に帯電している。具体的には、雲母、バーミキュライト、モンモリロナイト、鉄モンモリロナイト、バイデライト、サポナイト、ヘクトライト、スチーブンサイト等の粘土鉱物、及びリン酸ジルコニウムから取得される無機板状粒子は、負に帯電している。   Further, the inorganic plate-like particles are charged positively or negatively as described above. Specifically, the inorganic platy particles obtained from clay minerals such as mica, vermiculite, montmorillonite, iron montmorillonite, beidellite, saponite, hectorite, stevensite, and zirconium phosphate are negatively charged.

一方、層状複水酸化物から取得される無機板状粒子は、正に帯電している。即ち、層状複水酸化物は、以下の化学式1で表される。
[M2+ 1−x3+ (OH)x+[Bn− x/n・yHO]x−・・・(化学式1)
化学式1中、M2+は2価金属、M3+は3価金属、Bはアニオン、nはアニオンの価数、xは0<x<0.4の実数、yは0より大きい実数である。すなわち、層状複水酸化物は、ブルーサイトと同様の構成を有し、正に帯電した無機板状粒子([M2+ 1−x3+ (OH)x+)の層間に、アニオン及び層間水からなり、負に帯電した層間イオン([Bn−x/n・yHO]x−)が配置された無機層状化合物である。
On the other hand, the inorganic plate-like particles obtained from the layered double hydroxide are positively charged. That is, the layered double hydroxide is represented by the following chemical formula 1.
[M 2+ 1-x M 3+ x (OH) 2] x + [B n- x / n · yH 2 O] x- ··· ( Formula 1)
In Chemical Formula 1, M 2+ is a divalent metal, M 3+ is a trivalent metal, B is an anion, n is a valence of the anion, x is a real number where 0 <x <0.4, and y is a real number greater than 0. That is, the layered double hydroxide has a structure similar to that of brucite, an anion and a layer between positively charged inorganic plate-like particles ([M 2 + 1-x M 3+ x (OH) 2 ] x + ). It is an inorganic layered compound composed of interlayer water and in which negatively charged interlayer ions ([B nx / n · yH 2 O] x− ) are arranged.

層状複水酸化物の結晶全体では電気的中性が保たれている。2価金属としてはMg、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn等が知られており、3価金属としてはAl、Fe、Cr、Co、In等が知られている。また、アニオンとしては、OH、F、Cl、NO 、SO 2−、CO 2−、Fe(CN) 4−、CHCOO、V1028 6−、ドデシルSO 等が知られている。 Electrical neutrality is maintained in the entire layered double hydroxide crystal. As the divalent metal, Mg, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn and the like are known, and as the trivalent metal, Al, Fe, Cr, Co, In and the like are known. The anions include OH , F , Cl , NO 3 , SO 4 2− , CO 3 2− , Fe (CN) 6 4− , CH 3 COO , V 10 O 28 6− , dodecyl. SO 4 − and the like are known.

無機板状粒子層3は、吸着法によって形成される。吸着法は、表面が帯電した基板を、基板と逆の電荷に帯電した粒子の分散液に浸漬する手法である。この手法では、クーロン力により基板表面に粒子が吸着する。本実施の形態では、樹脂フィルム2または表面がバインダ層5となる中間フィルムを、樹脂フィルム2または中間フィルムの表面電荷と逆の電荷に帯電した無機板状粒子の分散液に浸漬する。これにより、樹脂フィルム2または中間フィルムの表面に無機板状粒子が吸着する。このとき、無機板状粒子は、樹脂フィルム2または中間フィルムの表面と平行になるように吸着する。   The inorganic plate-like particle layer 3 is formed by an adsorption method. The adsorption method is a technique in which a substrate having a charged surface is immersed in a dispersion of particles charged to a charge opposite to that of the substrate. In this method, particles are adsorbed on the substrate surface by Coulomb force. In the present embodiment, the resin film 2 or the intermediate film whose surface becomes the binder layer 5 is immersed in a dispersion of inorganic plate-like particles charged to a charge opposite to the surface charge of the resin film 2 or the intermediate film. Thereby, inorganic plate-like particles are adsorbed on the surface of the resin film 2 or the intermediate film. At this time, the inorganic plate-like particles are adsorbed so as to be parallel to the surface of the resin film 2 or the intermediate film.

無機板状粒子の分散液は、水に無機層状化合物を投入し、撹拌することで生成される。ここで、無機層状化合物の濃度は、0.01〜10(g/L)が好適で、0.1〜1(g/L)が更に好適である。濃度が低すぎると、樹脂フィルム2または中間フィルムへの無機板状粒子の吸着が不十分となる。一方、濃度が高すぎると、分散液の粘度が高くなってしまう。分散液は、少なくとも水と無機層状化合物(具体的には、無機層状化合物が層分離することで形成される無機板状粒子及び層間イオン)からなるが、無機板状粒子の分散性を高めるための分散剤や、無機層状化合物の層分離を促進するためのインタカレート剤を含んでいても良い。   The dispersion of inorganic plate-like particles is produced by adding an inorganic layered compound to water and stirring. Here, the concentration of the inorganic layered compound is preferably 0.01 to 10 (g / L), and more preferably 0.1 to 1 (g / L). When the concentration is too low, the adsorption of the inorganic plate-like particles to the resin film 2 or the intermediate film becomes insufficient. On the other hand, when the concentration is too high, the viscosity of the dispersion becomes high. The dispersion is composed of at least water and an inorganic stratiform compound (specifically, inorganic plate-like particles and interlayer ions formed by separating the inorganic stratiform compound), but in order to increase the dispersibility of the inorganic platy particles. And an intercalating agent for promoting layer separation of the inorganic layered compound may be included.

[充填部の構成]
次に、充填部4の構成について説明する。図2に示すように、吸着法により無機板状粒子層3を形成した場合、無機板状粒子層3には、無機板状粒子が欠落した箇所である欠陥部分7が形成されうる。そこで、本実施の形態では、この欠陥部分7を充填部4で充填する。
[Configuration of filling section]
Next, the configuration of the filling unit 4 will be described. As shown in FIG. 2, when the inorganic plate-like particle layer 3 is formed by the adsorption method, the inorganic plate-like particle layer 3 can be formed with a defective portion 7 that is a portion where the inorganic plate-like particles are missing. Therefore, in the present embodiment, the defective portion 7 is filled with the filling portion 4.

充填部4は、気体透過率の低い無機材料で構成される。このような無機材料としては、例えば、金属及び金属酸化物が挙げられる。   The filling unit 4 is made of an inorganic material having a low gas permeability. Examples of such an inorganic material include metals and metal oxides.

ここで、充填部4を欠陥部分7に形成する方法を、欠陥部分7に充填部4として三酸化タングステン(WO)を形成する場合を一例として説明する。図3は、タングステンに関するプールベダイアグラムを示す。プールベダイアグラムは、水中における化学種(特に金属)の存在領域を電極電位とpHの2次元座標上に図示したものである。なお、図3は、25℃におけるタングステンの存在領域を示す。本実施の形態では、このプールベダイアグラムのうち、直線aと直線bとに挟まれた領域A1、A2が重要になるので、これらの領域について説明する。領域A1は、タングステンがタングステン酸イオン(WO 2−)として存在する領域であり、領域A2は、タングステンが三酸化タングステンとして存在する領域である。これらの領域の境界線は、直線L1〜L4のいずれかで表される。即ち、水中におけるタングステンの濃度が1E−0(mol/L)となる場合には、境界線は直線L1となり、水中におけるタングステンの濃度が1E−2(mol/L)となる場合には、境界線は直線L2となり、濃度が1E−4(mol/L)となる場合には、境界線は直線L3となり、濃度が1E−6(mol/L)となる場合には、境界線は直線L4となる。なお、境界線は、領域A1に属する。 Here, a method of forming the filling portion 4 in the defect portion 7 will be described by taking as an example a case where tungsten trioxide (WO 3 ) is formed as the filling portion 4 in the defect portion 7. FIG. 3 shows a pool diagram for tungsten. The Pourbaille diagram shows the existence region of chemical species (especially metal) in water on the two-dimensional coordinates of electrode potential and pH. FIG. 3 shows a region where tungsten is present at 25 ° C. In the present embodiment, the regions A1 and A2 sandwiched between the straight line a and the straight line b are important in the pool diagram, and these regions will be described. The region A1 is a region where tungsten exists as tungstate ions (WO 4 2− ), and the region A2 is a region where tungsten exists as tungsten trioxide. A boundary line between these regions is represented by any of straight lines L1 to L4. That is, when the concentration of tungsten in water is 1E-0 (mol / L), the boundary line is a straight line L1, and when the concentration of tungsten in water is 1E-2 (mol / L), the boundary is The line is a straight line L2, and when the concentration is 1E-4 (mol / L), the boundary line is a straight line L3. When the concentration is 1E-6 (mol / L), the boundary line is a straight line L4. It becomes. The boundary line belongs to the region A1.

このプールベダイアグラムによれば、電極電位及びpHが一定の下では、タングステンの濃度が高くなるほど、領域A2が広くなる(即ち、タングステンが三酸化タングステンとして析出しやすくなる)。例えば、点C(電極電位=0、pH=6.0)は、タングステンの濃度が1E−2以下であれば領域A1に属する。したがって、タングステン水溶液の電極電位が0、pHが6.0、濃度が1E−2以下となる場合、タングステンはタングステン酸イオンとして存在する。一方、点Cは、タングステンの濃度が1E−2より大きければ領域A2に属する。したがって、タングステン水溶液の電極電位が0、pHが6.0、濃度が1E−2より大きくなる場合、タングステンは三酸化タングステンとして存在する。   According to this pool diagram, under a constant electrode potential and pH, the higher the concentration of tungsten, the wider the region A2 (that is, tungsten tends to precipitate as tungsten trioxide). For example, the point C (electrode potential = 0, pH = 6.0) belongs to the region A1 if the tungsten concentration is 1E-2 or less. Therefore, when the electrode potential of the aqueous tungsten solution is 0, the pH is 6.0, and the concentration is 1E-2 or less, tungsten exists as tungstate ions. On the other hand, the point C belongs to the region A2 if the tungsten concentration is higher than 1E-2. Therefore, when the electrode potential of the tungsten aqueous solution is 0, the pH is 6.0, and the concentration is higher than 1E-2, tungsten exists as tungsten trioxide.

本実施の形態では、この原理を利用して、充填部4を欠陥部分7に形成する。即ち、まず、三酸化タングステン水溶液、例えばタングステン酸アンモニウム((NH)WO)水溶液を用意する。この時、電極電位及びpHを示す点が領域A1内に属し、かつ領域A1と領域A2との境界線の近傍となるように、三酸化タングステン水溶液の電極電位(基本的にゼロとなる)、pH、及び濃度を調整する。次いで、図2に示すように、三酸化タングステン水溶液に、表面が無機板状粒子層3となる中間フィルム(即ち、樹脂フィルム2またはバインダ層5の表面に無機板状粒子層3が積層したフィルム)を浸漬する。ここで、樹脂フィルム2またはバインダ層5は、正に帯電し、無機板状粒子層3は負に帯電している。 In this embodiment, the filling portion 4 is formed in the defective portion 7 by utilizing this principle. That is, first, a tungsten trioxide aqueous solution, for example, an ammonium tungstate ((NH 4 ) WO 4 ) aqueous solution is prepared. At this time, the electrode potential of the tungsten trioxide aqueous solution (essentially becomes zero) so that the point indicating the electrode potential and pH belongs to the region A1 and is in the vicinity of the boundary line between the region A1 and the region A2. Adjust pH and concentration. Next, as shown in FIG. 2, an intermediate film whose surface is the inorganic plate-like particle layer 3 (that is, a film in which the inorganic plate-like particle layer 3 is laminated on the surface of the resin film 2 or the binder layer 5) in an aqueous solution of tungsten trioxide. Soak). Here, the resin film 2 or the binder layer 5 is positively charged, and the inorganic plate-like particle layer 3 is negatively charged.

タングステン水溶液中のタングステン酸イオン10は、クーロン力により欠陥部分7に引きつけられ、凝集する。これにより、欠陥部分7でタングステンの濃度が高くなるため、欠陥部分7に三酸化タングステン11、即ち充填部4が析出する。なお、樹脂フィルム2またはバインダ層5の表面のうち、無機板状粒子層3が形成される部分には、タングステン酸イオン10は凝集しない。無機板状粒子層3が負に帯電しているからである。   The tungstate ion 10 in the tungsten aqueous solution is attracted to the defect portion 7 by the Coulomb force and aggregates. As a result, the concentration of tungsten is increased in the defect portion 7, so that tungsten trioxide 11, that is, the filling portion 4 is deposited in the defect portion 7. In addition, the tungstate ion 10 does not aggregate on the portion of the surface of the resin film 2 or the binder layer 5 where the inorganic plate-like particle layer 3 is formed. This is because the inorganic plate-like particle layer 3 is negatively charged.

充填部4を構成する金属としては、アルミニウム、鉄、マグネシウム、及びカリウム等が挙げられる。充填部4を金属で構成する方法は、概略以下の通りである。即ち、まず、水溶性の金属化合物、例えば硫酸塩、塩化物、水酸化物等を水に溶解させることで金属水溶液を用意する。金属水溶液では、金属は、陽イオン(金属イオン)として存在する。次いで、この金属水溶液に表面が無機板状粒子層3となる中間フィルムを浸漬させる。この時、無機板状粒子層3は正に帯電し、樹脂フィルム2またはバインダ層5は負に帯電している。金属イオンは、クーロン力により欠陥部分7に引きつけられ、欠陥部分7に凝集する。これにより、欠陥部分7で金属イオンの濃度が高くなるので、欠陥部分7に金属、即ち充填部4が析出する。   Examples of the metal constituting the filling portion 4 include aluminum, iron, magnesium, and potassium. The method of forming the filling portion 4 with a metal is roughly as follows. That is, first, an aqueous metal solution is prepared by dissolving a water-soluble metal compound such as sulfate, chloride, hydroxide, etc. in water. In the aqueous metal solution, the metal exists as a cation (metal ion). Next, an intermediate film whose surface is the inorganic plate-like particle layer 3 is immersed in this aqueous metal solution. At this time, the inorganic plate-like particle layer 3 is positively charged, and the resin film 2 or the binder layer 5 is negatively charged. The metal ions are attracted to the defective portion 7 by the Coulomb force and aggregate in the defective portion 7. As a result, the concentration of metal ions is increased in the defect portion 7, so that metal, that is, the filling portion 4 is deposited in the defect portion 7.

したがって、充填部4を構成する無機材料は、樹脂フィルム2またはバインダ層5の電荷に応じて選択されることになる。すなわち、樹脂フィルム2またはバインダ層5が正に帯電している場合、充填部4を構成する無機材料として金属酸化物が選択される。金属酸化物は、水溶液中で陰イオン(オキソ酸イオン)として存在するので、金属酸化物イオンがクーロン力により欠陥部分7に引きつけられるからである。一方、樹脂フィルム2またはバインダ層5が負に帯電している場合、充填部4を構成する無機材料として金属が選択される。金属は、水溶液中で陽イオン(金属イオン)として存在するので、金属イオンがクーロン力により欠陥部分7に引きつけられるからである。   Therefore, the inorganic material constituting the filling portion 4 is selected according to the charge of the resin film 2 or the binder layer 5. That is, when the resin film 2 or the binder layer 5 is positively charged, a metal oxide is selected as an inorganic material constituting the filling portion 4. This is because the metal oxide exists as an anion (oxo acid ion) in the aqueous solution, and thus the metal oxide ion is attracted to the defect portion 7 by the Coulomb force. On the other hand, when the resin film 2 or the binder layer 5 is negatively charged, a metal is selected as the inorganic material constituting the filling portion 4. This is because the metal exists as a cation (metal ion) in the aqueous solution, so that the metal ion is attracted to the defect portion 7 by the Coulomb force.

充填部4をアルミニウムで構成する場合、上記の金属化合物としては、AlK(SOやAlNH(SO等が挙げられる。充填部4を鉄で構成する場合、上記の金属化合物としては、FeK(SO等が挙げられる。充填部4をマグネシウムで構成する場合、上記の金属化合物としては、例えば、MgClやMg(NO等が挙げられる。充填部4をカリウムで構成する場合、上記の金属化合物としては、KOH、KSO、KClが挙げられる。 When the filling part 4 is made of aluminum, examples of the metal compound include AlK (SO 4 ) 2 and AlNH 4 (SO 4 ) 2 . When the filling part 4 is made of iron, examples of the metal compound include FeK (SO 4 ) 2 . When the filling part 4 is made of magnesium, examples of the metal compound include MgCl 2 and Mg (NO 3 ) 2 . When the filling part 4 is composed of potassium, examples of the metal compound include KOH, K 2 SO 4 , and KCl.

一方、充填部4を構成する金属酸化物としては、上述したタングステンの他、バナジウム、及びモリブデンの酸化物が挙げられる。金属酸化物水溶液は、金属のオキソ酸塩を水に溶解させることで用意される。このようなオキソ酸塩としては、NaVO、(NHMoO、(NHWO等が挙げられる。なお、このような金属酸化物は、リンや珪素が含まれたヘテロポリ酸でもよい。リンを含む金属酸化物としては、例えば、HPMo1240・nHOが、珪素を含む金属酸化物としては、HSiMo1240・nHOが挙げられる。 On the other hand, as a metal oxide which comprises the filling part 4, the oxide of vanadium and molybdenum other than tungsten mentioned above is mentioned. The aqueous metal oxide solution is prepared by dissolving a metal oxoacid salt in water. Examples of such oxo acid salts include NaVO 3 , (NH 4 ) 2 MoO 4 , (NH 4 ) 2 WO 4 and the like. Such a metal oxide may be a heteropoly acid containing phosphorus or silicon. The metal oxide containing phosphorus, for example, H 3 PMo 12 O 40 · nH 2 O , and examples of the metal oxide containing silicon include H 4 SiMo 12 O 40 · nH 2 O.

[バインダ層の構成]
バインダ層5は、無機板状粒子層3と逆の電荷に帯電可能なバインダ粒子で構成される。このようなバインダ粒子としては、例えば、高分子電解質イオン、金属イオン、金属化合物イオン、及び無機板状粒子が挙げられる。バインダ層5は、これらの物質のうち、いずれか1種だけで構成されていても良く、これらの物質のうち、同じ電荷を有する2つ以上の物質で構成されていても良い。
[Binder layer configuration]
The binder layer 5 is composed of binder particles that can be charged to a charge opposite to that of the inorganic plate-like particle layer 3. Examples of such binder particles include polymer electrolyte ions, metal ions, metal compound ions, and inorganic plate-like particles. The binder layer 5 may be composed of only one of these substances, or may be composed of two or more substances having the same charge among these substances.

高分子電解質イオンとしては、例えば、ポリアリルアミン及びポリアクリルアミドの窒素原子にプロトンが配位結合した高分子電解質イオンが挙げられる。金属イオンとしては、アルミニウム、マグネシウム、カリウム、及び多価遷移金属等のイオンが挙げられる。多価遷移金属としては、鉄、コバルト、及びマンガン等が挙げられる。金属化合物イオンとしては、金属のオキソ酸イオン、例えば、VO 、MoO 2−、WO 2−、TiO2+等が挙げられる。無機板状粒子は、上述した無機層状化合物を層分離することで得られるものである。即ち、無機板状粒子層3が粘土鉱物から得られる無機板状粒子で構成される場合、バインダ層5は、層状複水酸化物から得られる無機板状粒子で構成される。逆に、無機板状粒子層3が層状複水酸化物から得られる無機板状粒子で構成される場合、バインダ層5は、粘土鉱物から得られる無機板状粒子で構成される。 Examples of the polymer electrolyte ions include polymer electrolyte ions in which protons are coordinated to nitrogen atoms of polyallylamine and polyacrylamide. Examples of metal ions include ions of aluminum, magnesium, potassium, and polyvalent transition metals. Examples of the polyvalent transition metal include iron, cobalt, and manganese. Examples of the metal compound ions include metal oxoacid ions such as VO 3 , MoO 4 2− , WO 4 2− , TiO 2+ and the like. The inorganic plate-like particles are obtained by separating the inorganic layered compound described above. That is, when the inorganic plate-like particle layer 3 is made of inorganic plate-like particles obtained from clay mineral, the binder layer 5 is made of inorganic plate-like particles obtained from layered double hydroxide. Conversely, when the inorganic plate-like particle layer 3 is composed of inorganic plate-like particles obtained from layered double hydroxide, the binder layer 5 is composed of inorganic plate-like particles obtained from clay mineral.

バインダ層5は、無機板状粒子層3と同様に、吸着法によって形成される。本実施の形態では、樹脂フィルム2または表面が無機板状粒子層3となる中間フィルムを、樹脂フィルム2または中間フィルムの表面電荷と逆の電荷に帯電した無機材料の水溶液(または分散液)に浸漬する。これにより、樹脂フィルム2または中間フィルムの表面に無機材料が吸着する。即ち、樹脂フィルム2または中間フィルムの表面にバインダ層5が形成される。このとき、無機材料が無機板状粒子となる場合、無機板状粒子は、樹脂フィルム2または中間フィルムの表面と平行になるように吸着する。   The binder layer 5 is formed by an adsorption method in the same manner as the inorganic plate-like particle layer 3. In the present embodiment, the resin film 2 or the intermediate film whose surface is the inorganic plate-like particle layer 3 is converted into an aqueous solution (or dispersion) of an inorganic material charged to a charge opposite to the surface charge of the resin film 2 or the intermediate film. Immerse. Thereby, an inorganic material adsorb | sucks to the surface of the resin film 2 or an intermediate | middle film. That is, the binder layer 5 is formed on the surface of the resin film 2 or the intermediate film. At this time, when the inorganic material becomes inorganic plate-like particles, the inorganic plate-like particles are adsorbed so as to be parallel to the surface of the resin film 2 or the intermediate film.

バインダ粒子水溶液(または分散液)は、水に各種の水溶性化合物または上述した無機層状化合物を溶解または分散させることで得られる。ここで、水溶性化合物または無機層状化合物の濃度は、100(nmol/L)〜1(mol/L)が好適で、1(μmol/L)〜100(μmol/L)が更に好適である。濃度が低すぎると、樹脂フィルム2または中間フィルムへのバインダ粒子の吸着が不十分となる。一方、濃度が高すぎると、バインダ粒子水溶液(または分散液)の粘度が高くなってしまう。バインダ粒子水溶液(または分散液)は、少なくとも水とバインダ粒子とからなるが、バインダ粒子が無機板状粒子となる場合、無機板状粒子の分散性を高めるための分散剤や、無機層状化合物の層分離を促進するためのインタカレート剤を含んでいても良い。   The binder particle aqueous solution (or dispersion liquid) is obtained by dissolving or dispersing various water-soluble compounds or the above-described inorganic layered compounds in water. Here, the concentration of the water-soluble compound or the inorganic stratiform compound is preferably 100 (nmol / L) to 1 (mol / L), and more preferably 1 (μmol / L) to 100 (μmol / L). When the concentration is too low, the adsorption of the binder particles to the resin film 2 or the intermediate film becomes insufficient. On the other hand, if the concentration is too high, the viscosity of the aqueous binder particle solution (or dispersion) becomes high. The binder particle aqueous solution (or dispersion liquid) is composed of at least water and binder particles. When the binder particles are inorganic plate particles, a dispersant for increasing the dispersibility of the inorganic plate particles or an inorganic layered compound is used. An intercalating agent for promoting layer separation may be included.

なお、バインダ層5を高分子電解質イオンで構成する場合、水溶性化合物としては、例えば、ポリアリルアミンヒドロキシドやポリアクリル酸等のイオン性ポリマーが挙げられる。バインダ層5を金属イオンで構成する場合、水溶性化合物としては、金属の硫酸塩、塩化物、水酸化物、例えば、AlK(SO、AlNH(SO、MgCl、Mg(NO、KOH、KSO、KCl、FeK(SO、CoCl、Co(NO、MnCl,Mn(NO,NiCl,Ni(NO,CuCl,Cu(NO,ZnCl、Zn(NO、等が挙げられる。バインダ層5を金属化合物イオンで構成する場合、水溶性化合物としては、オキソ酸のナトリウム塩やアンモニウム塩等、例えば、NaVO、(NHMoO、(NHWO、TiOSO等が挙げられる。 In the case where the binder layer 5 is composed of polymer electrolyte ions, examples of the water-soluble compound include ionic polymers such as polyallylamine hydroxide and polyacrylic acid. When the binder layer 5 is composed of metal ions, examples of water-soluble compounds include metal sulfates, chlorides, and hydroxides such as AlK (SO 4 ) 2 , AlNH 4 (SO 4 ) 2 , MgCl 2 , Mg (NO 3 ) 2 , KOH, K 2 SO 4 , KCl, FeK (SO 4 ) 2 , CoCl 2 , Co (NO 3 ) 2 , MnCl 2 , Mn (NO 3 ) 2 , NiCl 2 , Ni (NO 3 ) 2 , CuCl 2 , Cu (NO 3 ) 2 , ZnCl 2 , Zn (NO 3 ) 2 , and the like. When the binder layer 5 is composed of metal compound ions, examples of water-soluble compounds include sodium salts and ammonium salts of oxo acids such as NaVO 3 , (NH 4 ) 2 MoO 4 , (NH 4 ) 2 WO 4 , and TiOSO. 4 etc. are mentioned.

[バリアフィルムの製造方法]
次に、バリアフィルム1の製造方法を図4に基づいて説明する。なお、ここでは、製造方法の一例として、樹脂フィルム2に無機板状粒子層3を積層し、次いで無機板状粒子層3にバインダ層5を積層する製造方法について説明するが、樹脂フィルム2にバインダ層5を積層しても良いことは勿論である。
[Method for producing barrier film]
Next, the manufacturing method of the barrier film 1 is demonstrated based on FIG. Here, as an example of the manufacturing method, a manufacturing method in which the inorganic plate-like particle layer 3 is laminated on the resin film 2 and then the binder layer 5 is laminated on the inorganic plate-like particle layer 3 will be described. Of course, the binder layer 5 may be laminated.

[第1段階:樹脂フィルム2への帯電処理]
まず、図4(a)に示すように、樹脂フィルム2の表面を正に帯電する。または、樹脂フィルム2の表面に吸着層を形成し、吸着層を正に帯電する。樹脂フィルム2または吸着層を帯電させる方法としては、例えば、コロナ処理、UV/O処理、EB処理(電子線処理)、及びシランカップリング剤等の薬液による化学的処理等を用いることができる。
[First Stage: Charging Treatment for Resin Film 2]
First, as shown in FIG. 4A, the surface of the resin film 2 is positively charged. Alternatively, an adsorption layer is formed on the surface of the resin film 2 and the adsorption layer is positively charged. As a method for charging the resin film 2 or the adsorption layer, for example, corona treatment, UV / O 3 treatment, EB treatment (electron beam treatment), chemical treatment with a chemical solution such as a silane coupling agent, or the like can be used. .

[第2段階:無機板状粒子層を形成する処理]
次いで、図4(b)に示すように、樹脂フィルム2の表面に負に帯電した無機板状粒子層3を形成する。具体的には、まず、粘土鉱物及びリン酸ジルコニウムのうち、少なくとも一方を水に投入し、撹拌することで無機板状粒子の分散液を生成する。なお、粘土鉱物及びリン酸ジルコニウムは、負に帯電した無機板状粒子が層間イオンを介して積層されたものである。次いで、無機板状粒子の分散液に、樹脂フィルム2を浸漬する。これにより、樹脂フィルム2の表面に無機板状粒子が吸着する。即ち、樹脂フィルム2の表面に無機板状粒子層3が形成される。ただし、無機板状粒子層3には、無機板状粒子が欠落した箇所である欠陥部分7が形成される。
[Second stage: treatment for forming inorganic plate-like particle layer]
Next, as shown in FIG. 4B, a negatively charged inorganic plate-like particle layer 3 is formed on the surface of the resin film 2. Specifically, first, at least one of clay mineral and zirconium phosphate is put into water and stirred to produce a dispersion of inorganic plate-like particles. The clay mineral and zirconium phosphate are obtained by laminating negatively charged inorganic plate-like particles via interlayer ions. Next, the resin film 2 is immersed in a dispersion of inorganic plate-like particles. Thereby, inorganic plate-like particles are adsorbed on the surface of the resin film 2. That is, the inorganic plate-like particle layer 3 is formed on the surface of the resin film 2. However, in the inorganic plate-like particle layer 3, a defective portion 7 which is a portion where the inorganic plate-like particles are missing is formed.

[第3段階:充填部を形成する処理]
次いで、図4(c)に示すように、欠陥部分7に充填部4を形成(充填)する。具体的には、まず、金属酸化物を水に溶解させることで、金属酸化物水溶液を生成する。この金属酸化物水溶液中には、オキソ酸イオン(陰イオン)が存在する。ここで、金属酸化物に対応するプールベダイアグラムにおいて、電極電位及びpHを示す点がイオン領域(図3の領域A1に対応する領域)内に属し、かつイオン領域と固体領域(図3の領域A2に対応する領域)との境界線の近傍となるように、金属酸化物水溶液の電極電位(基本的にゼロとなる)、pH、及び濃度が調整される。
[Third stage: treatment for forming the filling portion]
Next, as shown in FIG. 4C, the filling portion 4 is formed (filled) in the defective portion 7. Specifically, first, a metal oxide aqueous solution is generated by dissolving a metal oxide in water. Oxoic acid ions (anions) are present in this metal oxide aqueous solution. Here, in the pool diagram corresponding to the metal oxide, the points indicating the electrode potential and pH belong to the ion region (the region corresponding to the region A1 in FIG. 3), and the ion region and the solid region (the region in FIG. 3). The electrode potential (essentially zero), pH, and concentration of the aqueous metal oxide solution are adjusted so that they are close to the boundary line with the region corresponding to A2.

次いで、金属酸化物水溶液に、表面が無機板状粒子層3となる中間フィルムを浸漬する。これにより、金属酸化物水溶液中のオキソ酸イオンは、クーロン力により欠陥部分7に引きつけられ、凝集する。これにより、欠陥部分7でオキソ酸イオンの濃度が高くなるため、欠陥部分7に金属酸化物、即ち充填部4が析出する。なお、樹脂フィルム2の表面のうち、無機板状粒子層3が形成される部分には、オキソ酸イオンは凝集しない。無機板状粒子層3が負に帯電しているからである。   Next, an intermediate film whose surface is the inorganic plate-like particle layer 3 is immersed in the aqueous metal oxide solution. As a result, oxo acid ions in the metal oxide aqueous solution are attracted to the defective portion 7 by the Coulomb force and aggregate. As a result, the concentration of the oxo acid ion is increased in the defect portion 7, so that the metal oxide, that is, the filling portion 4 is deposited in the defect portion 7. In the surface of the resin film 2, oxo acid ions do not aggregate on the portion where the inorganic plate-like particle layer 3 is formed. This is because the inorganic plate-like particle layer 3 is negatively charged.

[第4段階:バインダ層を形成する処理]
次に、図4(d)に示すように、無機板状粒子層3にバインダ層5を形成する。具体的には、まず、正に帯電した高分子電解質イオン、金属イオン、金属化合物イオン、及び正に帯電した無機板状粒子のうち、少なくとも1種が溶解(または分散)したバインダ粒子水溶液(または分散液)を用意する。次いで、バインダ粒子水溶液(または分散液)に、表面が無機板状粒子層3となる中間フィルムを浸漬する。これにより、中間フィルムの表面にバインダ粒子が吸着する。即ち、中間フィルムの表面にバインダ層5が形成される。このとき、バインダ粒子が無機板状粒子となる場合、無機板状粒子は、中間フィルムの表面と平行になるように吸着する。
[Fourth stage: treatment for forming binder layer]
Next, as shown in FIG. 4 (d), a binder layer 5 is formed on the inorganic plate-like particle layer 3. Specifically, first, an aqueous binder particle solution in which at least one of positively charged polymer electrolyte ions, metal ions, metal compound ions, and positively charged inorganic plate-like particles is dissolved (or dispersed) (or Prepare a dispersion. Next, the intermediate film whose surface is the inorganic plate-like particle layer 3 is immersed in the aqueous binder particle solution (or dispersion). Thereby, binder particles are adsorbed on the surface of the intermediate film. That is, the binder layer 5 is formed on the surface of the intermediate film. At this time, when the binder particles are inorganic plate-like particles, the inorganic plate-like particles are adsorbed so as to be parallel to the surface of the intermediate film.

[第5段階:繰り返し処理]
次いで、図4(e)に示すように、第2段階〜第4段階の処理を繰り返して行うことで、樹脂フィルム2上に無機板状粒子層3及びバインダ層5を交互に積層していく。なお、無機板状粒子層3及びバインダ層5の組が1つのユニット6を形成する。これにより、バリアフィルム1が製造される。
[Fifth stage: repetitive processing]
Next, as shown in FIG. 4 (e), the inorganic plate-like particle layer 3 and the binder layer 5 are alternately laminated on the resin film 2 by repeatedly performing the second to fourth steps. . A set of the inorganic plate-like particle layer 3 and the binder layer 5 forms one unit 6. Thereby, the barrier film 1 is manufactured.

[バリアフィルムの作用]
次に、図1等に基づいて、バリアフィルム1の作用(動作)について説明する。樹脂フィルム2を通って無機板状粒子層3に浸入した水分や酸素等のガスは、無機板状粒子層3を構成する無機板状粒子を通過できないため、図1に示すような透過経路100を通って拡散する可能性がある。バリアフィルム1のガス透過は、以下の式(1)に示すように、バインダ層5中の透過と充填部4の透過に分けられる。
[Function of barrier film]
Next, based on FIG. 1 etc., the effect | action (operation | movement) of the barrier film 1 is demonstrated. Gases such as moisture and oxygen that have entered the inorganic plate-like particle layer 3 through the resin film 2 cannot pass through the inorganic plate-like particles constituting the inorganic plate-like particle layer 3, so that the permeation path 100 as shown in FIG. May diffuse through. The gas permeation of the barrier film 1 is divided into permeation through the binder layer 5 and permeation through the filling portion 4 as shown in the following formula (1).

1/T=1/Tb+1/Tp・・・(1)
T:バリアフィルム1全体のガス透過率
Tb:バインダ層5全体のガス透過率
Tp:充填部4全体のガス透過率
1 / T = 1 / Tb + 1 / Tp (1)
T: Gas permeability of the entire barrier film Tb: Gas permeability of the entire binder layer 5 Tp: Gas permeability of the entire filling portion 4

バインダ層5全体のガス透過率は、ガスの透過経路の長さ、バインダ層5のガス透過率、バインダ層5の透過断面(透過経路100に垂直な断面)の面積にそれぞれ比例する。バインダ層5の透過断面の面積は、バインダ層5の膜厚に比例するので、ガスの透過率は式(2)のように表せる。   The gas permeability of the entire binder layer 5 is proportional to the length of the gas permeation path, the gas permeability of the binder layer 5, and the area of the permeation cross section (cross section perpendicular to the permeation path 100) of the binder layer 5. Since the area of the transmission cross section of the binder layer 5 is proportional to the film thickness of the binder layer 5, the gas permeability can be expressed as in equation (2).

Tb∝L*Tb0*Db・・・(2)
Tb:バインダ層5全体のガス透過率
L:バインダ層5内の透過経路の長さ
Tb0:バインダ層5の単位長さ(単位厚さ)当たりのガス透過率
Db:バインダ層5の膜厚(例えば、各バインダ層5の膜厚を算術平均した値。膜厚は、例えばエリプソメーター、AFM等により測定される。以下同じ)
Tb∝L * Tb0 * Db (2)
Tb: gas permeability of the entire binder layer 5 L: length of a permeation path in the binder layer 5 Tb0: gas permeability per unit length (unit thickness) of the binder layer 5 Db: film thickness of the binder layer 5 ( For example, a value obtained by arithmetically averaging the film thickness of each binder layer 5. The film thickness is measured by, for example, an ellipsometer, AFM, etc. The same applies hereinafter)

一方、充填部4全体のガス透過率は、充填部の厚さ、充填部4の単位長さ(単位厚さ)当たりのガス透過率、欠陥部分7の透過断面(透過経路100に垂直な断面)の面積にそれぞれ比例するので、式(3)のように表せる。   On the other hand, the gas permeability of the entire filling portion 4 is the thickness of the filling portion, the gas permeability per unit length (unit thickness) of the filling portion 4, the permeation section of the defect portion 7 (the section perpendicular to the permeation path 100) ) Is proportional to the area, respectively, and can be expressed as in equation (3).

Tp∝Dp*Tp0*Sc・・・(3)
Tp:充填部4全体のガス透過率
Dp:充填部4の膜厚(例えば、各充填部4の膜厚を算術平均した値)
Tp0:単位長さ(単位厚さ)当たりの充填部4のガス透過率
Sc:欠陥部分7の透過断面の面積
Tp∝Dp * Tp0 * Sc (3)
Tp: gas permeability of the entire filling portion 4 Dp: film thickness of the filling portion 4 (for example, a value obtained by arithmetically averaging the film thickness of each filling portion 4)
Tp0: gas permeability Sc of filling portion 4 per unit length (unit thickness) Sc: area of permeation cross section of defect portion 7

上述した特許文献1に開示された技術では、粘土層の欠陥部分に何も施されていないため、式(3)のTp0が非常に大きな値となる。つまり、Tpが非常に大きい値となり、その結果、Tの値も大きくなる。これに対し、バリアフィルム1は、無機板状粒子層3の欠陥部分7が充填部4、即ち無機材料で埋められているため、Tp0の値を小さくでき、その結果Tpの値も小さくなり、バリアフィルム1全体のガス透過率Tを小さくできる。したがって、バリアフィルム1は、特許文献1に開示された技術よりも、ガス透過率を低減(即ちバリア性能を向上)させることができる。さらに、バリアフィルム1は、交互吸着数(ユニット6の数)を従来よりも大幅に減らすことができるので、工程が簡便になる。   In the technique disclosed in Patent Document 1 described above, nothing is applied to the defective portion of the clay layer, and thus Tp0 in Expression (3) is a very large value. That is, Tp becomes a very large value, and as a result, the value of T also becomes large. On the other hand, since the defect part 7 of the inorganic plate-like particle layer 3 is filled with the filling portion 4, that is, the inorganic material, the barrier film 1 can reduce the value of Tp0, and as a result, the value of Tp is also reduced. The gas permeability T of the entire barrier film 1 can be reduced. Therefore, the barrier film 1 can reduce the gas permeability (that is, improve the barrier performance) as compared with the technique disclosed in Patent Document 1. Furthermore, since the barrier film 1 can significantly reduce the number of alternating adsorptions (the number of units 6) as compared with the prior art, the process becomes simple.

また、本実施の形態では、バインダ層5が吸着法によって形成されるため、参考文献2に開示された技術に比べ、Dbが非常に小さくなる。例えば、参考文献2の実施例2では、3μmのゾルゲル材料中に膨潤性合成雲母からなる無機層状化合物を10質量%分散させている。この実施例2では、算術平均的な無機層状化合物間の間隔は300nm程度と見積もられる。これに対し、本実施の形態によるバインダ層5の膜厚は、1nm以下と見積もられるため、2桁以上Dbが小さいことになる。一方、バインダ層5に参考文献2と同じ無機層状化合物を用いた場合、Tbは同程度であるから、バリアフィルム1は、参考文献2に開示された技術よりも高いバリア性能を得ることができる。   Moreover, in this Embodiment, since the binder layer 5 is formed by the adsorption method, Db becomes very small compared with the technique disclosed in Reference Document 2. For example, in Example 2 of Reference Document 2, an inorganic layered compound composed of a swellable synthetic mica is dispersed in 10% by mass in a 3 μm sol-gel material. In Example 2, the interval between the arithmetic average inorganic layered compounds is estimated to be about 300 nm. On the other hand, since the film thickness of the binder layer 5 according to the present embodiment is estimated to be 1 nm or less, Db is two digits or more smaller. On the other hand, when the same inorganic layered compound as that in Reference 2 is used for the binder layer 5, Tb is approximately the same, so that the barrier film 1 can obtain higher barrier performance than the technique disclosed in Reference 2. .

さらに、バリアフィルム1では、水分に弱い(即ち、水分によって膨潤する)無機層状化合物をそのまま無機板状粒子層3に用いるのではなく、無機層状化合物を層分離することで無機板状粒子を生成し、この無機板状粒子を用いて無機板状粒子層3を形成している。具体的には、本実施の形態では、無機層状化合物を水に投入して撹拌することで無機層状化合物を層分離させる。そして、この結果生成された無機板状粒子をイオン吸着法により樹脂フィルム2またはバインダ層5に吸着させることで、無機板状粒子層3を形成する。これにより、本実施の形態に係るバリアフィルム1は、水分等のガスが無機板状粒子層3の内部に侵入して無機板状粒子層3を膨潤させることを防止することができる。また、バリアフィルム1は、無機板状粒子がクーロン力により他の層に吸着しているので、無機板状粒子層3と他の層との間に水分等のガスが侵入することも防止することができる。したがって、バリアフィルム1は、参考文献1に開示された技術よりもバリア性能を向上させることができる。   Furthermore, in the barrier film 1, the inorganic layered compound that is weak to moisture (that is, swelled by moisture) is not used as it is in the inorganic tabular particle layer 3, but the inorganic layered compound is generated by separating the layers. The inorganic plate-like particle layer 3 is formed using the inorganic plate-like particles. Specifically, in the present embodiment, the inorganic layered compound is separated into layers by adding the inorganic layered compound to water and stirring. Then, the inorganic plate-like particle layer 3 is formed by adsorbing the resulting inorganic plate-like particles to the resin film 2 or the binder layer 5 by an ion adsorption method. Thereby, the barrier film 1 which concerns on this Embodiment can prevent gas, such as a water | moisture content, permeating the inside of the inorganic plate-like particle layer 3, and swelling the inorganic plate-like particle layer 3. FIG. In addition, since the inorganic plate-like particles are adsorbed to other layers by Coulomb force, the barrier film 1 also prevents gas such as moisture from entering between the inorganic plate-like particle layer 3 and the other layers. be able to. Therefore, the barrier film 1 can improve the barrier performance as compared with the technique disclosed in Reference Document 1.

次に、本実施の形態の実施例を説明する。   Next, examples of the present embodiment will be described.

実施例1は、樹脂フィルム2を正に帯電させ、負に帯電した無機板状粒子層3と正に帯電したバインダ層5とを樹脂フィルム2上に交互に積層したものである。   In Example 1, the resin film 2 is positively charged, and the negatively charged inorganic plate-like particle layer 3 and the positively charged binder layer 5 are alternately laminated on the resin film 2.

1)樹脂フィルム2の洗浄
樹脂フィルム2として、0.1mm厚のPETフィルムを用意した。樹脂フィルム2を洗剤と純水とで洗浄し、エアブローで乾燥させた。
1) Cleaning of Resin Film 2 As the resin film 2, a 0.1 mm thick PET film was prepared. The resin film 2 was washed with detergent and pure water and dried by air blow.

2)無機板状粒子分散液の作製
モンモリロナイト(MMT)として、クニミネ工業製クニフィル−D36を0.5g、純水1L中に入れ、市販のスターラ(アズワン製KNS−T1)を用いて、1日間攪拌した。これにより、無機板状粒子が分散した無機板状粒子分散液を作製した。
2) Preparation of inorganic plate-like particle dispersion liquid As montmorillonite (MMT), 0.5 g of Kunimine Industries Kunifil-D36 is put in 1 L of pure water, and a commercially available stirrer (Aswan KNS-T1) is used for 1 day. Stir. Thereby, the inorganic plate-like particle dispersion liquid in which the inorganic plate-like particles were dispersed was prepared.

3)バインダ粒子水溶液の作製
ポリアリルアミンヒドロキシド(PAH)の30mmol/L水溶液を調整した。
3) Preparation of binder particle aqueous solution A 30 mmol / L aqueous solution of polyallylamine hydroxide (PAH) was prepared.

充填部水溶液の作製
4)NaVOの1mmol/L水溶液を調整しpHを測定したところ、5.9であった。この水溶液に、100mmol/LのNaOHを用いてpHを6.5に調整し、充填部水溶液を作製した。
Preparation of Filling Part Aqueous Solution 4) A 1 mmol / L aqueous solution of NaVO 3 was prepared and the pH was measured and found to be 5.9. To this aqueous solution, 100 mmol / L NaOH was used to adjust the pH to 6.5 to prepare a packed portion aqueous solution.

5)樹脂フィルム2の帯電処理
1)で洗浄した樹脂フィルム2を、3−アミノプロピルトリエトキシシラン(APTES)の10mmol/Lのエタノール溶液に30分間浸漬した。その後、樹脂フィルム2をエタノールと純水で洗い流した後、エアブローで乾燥した。これにより、樹脂フィルム2を正に帯電させた。
5) Charge treatment of resin film 2 The resin film 2 washed in 1) was immersed in a 10 mmol / L ethanol solution of 3-aminopropyltriethoxysilane (APTES) for 30 minutes. Thereafter, the resin film 2 was washed away with ethanol and pure water and then dried by air blow. Thereby, the resin film 2 was positively charged.

6)無機板状粒子層形成
5)で帯電処理した樹脂フィルム2を、2)で作製した無機板状粒子分散液に15分間浸漬した後、純水で十分洗い流し、エアブローで乾燥させた。これにより、樹脂フィルム2の表面に無機板状粒子層3を形成した。
6) Formation of inorganic plate-like particle layer The resin film 2 electrified in 5) was immersed in the inorganic plate-like particle dispersion prepared in 2) for 15 minutes, washed thoroughly with pure water, and dried by air blow. Thereby, the inorganic plate-like particle layer 3 was formed on the surface of the resin film 2.

7)充填部形成
6)で無機板状粒子層3を形成した樹脂フィルム2を、4)で作製した充填部水溶液に15分間浸漬した後、純水で十分洗い流し、エアブローで乾燥した。これにより、無機板状粒子層3の欠陥部分7に充填部4を形成した。
7) Filling portion formation The resin film 2 on which the inorganic plate-like particle layer 3 was formed in 6) was immersed in the filling portion aqueous solution prepared in 4) for 15 minutes, and then thoroughly washed with pure water and dried by air blow. Thereby, the filling part 4 was formed in the defect part 7 of the inorganic plate-like particle layer 3.

8)バインダ層形成
7)で無機板状粒子層3と充填部4とを形成した樹脂フィルム2を、3)で作製したバインダ粒子水溶液に15分間浸漬した後、純水で十分洗い流し、エアブローで乾燥した。これにより、無機板状粒子層3上にバインダ層5を形成した。
8) Binder layer formation After immersing the resin film 2 in which the inorganic plate-like particle layer 3 and the filling portion 4 are formed in 7) in the binder particle aqueous solution prepared in 3) for 15 minutes, the resin film 2 is thoroughly washed with pure water and air blown. Dried. Thereby, the binder layer 5 was formed on the inorganic plate-like particle layer 3.

9)交互吸着
6)〜8)の工程を、5、10、20回繰り返し、樹脂フィルム2にユニット6(無機板状粒子層3とバインダ層5との組)がそれぞれ5、10、20層形成されたバリアフィルム1を得た。
9) Alternating adsorption The steps 6) to 8) are repeated 5, 10, and 20 times, and the unit 6 (the combination of the inorganic plate-like particle layer 3 and the binder layer 5) is 5, 10, and 20 layers on the resin film 2, respectively. The formed barrier film 1 was obtained.

10)WVTR測定
9)で作製した3枚のバリアフィルム1を、MOCON社製水蒸気透過率測定装置AQUATRANを用いて、WVTRを測定した。
10) WVTR measurement WVTR was measured for the three barrier films 1 prepared in 9) using a water vapor transmission rate measuring apparatus AQUATRAN manufactured by MOCON.

次に、実施例2を説明する。実施例2は、実施例1で充填部4を変更したものである。即ち、実施例2では、実施例1の4)の工程を次のようにしたこと以外は、実施例1と同様の工程で、3つのバリアフィルム1を作製し、WVTRを測定した。   Next, Example 2 will be described. In the second embodiment, the filling unit 4 is changed from the first embodiment. That is, in Example 2, three barrier films 1 were produced and WVTR was measured in the same process as Example 1 except that the process of 4) of Example 1 was performed as follows.

4)充填部水溶液の作製
(NHWOの1mmol/L水溶液を調整しpHを測定したところ、5.5であった。この液に、100mmol/LのNaOHを用いてpHを6.0に調整し、充填部水溶液を作製した。
4) Measurement of the adjusted pH prepare (1 mmol / L aqueous solution of NH 4) 2 WO 4 of the filling unit solution was 5.5. To this solution, 100 mmol / L NaOH was used to adjust the pH to 6.0 to prepare a filling portion aqueous solution.

次に、実施例3を説明する。実施例3は、実施例1で充填部4を変更してものである。即ち、実施例3では、実施例1の4)の工程を次のようにしたこと以外は、実施例1と同様の工程で、3つのバリアフィルム1を作製し、WVTRを測定した。   Next, Example 3 will be described. In the third embodiment, the filling unit 4 is changed in the first embodiment. That is, in Example 3, except that the process of 4) of Example 1 was performed as follows, three barrier films 1 were prepared and WVTR was measured in the same process as in Example 1.

4)充填部水溶液の作製
(NHMoOの1mmol/L水溶液を調整しpHを測定したところ、5.0であった。この液に、100mmol/LのHClを用いてpHを4.0に調整し、充填部水溶液を作製した。
4) Measurement of the adjusted pH prepare (1 mmol / L aqueous solution of NH 4) 2 MoO 4 of the filling unit solution was 5.0. To this solution, 100 mmol / L HCl was used to adjust the pH to 4.0 to prepare an aqueous filling portion solution.

次に、実施例4を説明する。実施例4は、樹脂フィルム2を負に帯電させ、正に帯電した無機板状粒子層3と負に帯電したバインダ層5とを樹脂フィルム2上に交互に積層したものである。   Next, Example 4 will be described. In Example 4, the resin film 2 is negatively charged, and the positively charged inorganic plate-like particle layer 3 and the negatively charged binder layer 5 are alternately laminated on the resin film 2.

1)樹脂フィルム2の洗浄
樹脂フィルム2として、0.1mm厚のPETフィルムを用意し、樹脂フィルム2を洗剤と純水とで洗浄し、エアブローで乾燥させた。
1) Washing of Resin Film 2 A 0.1 mm thick PET film was prepared as the resin film 2, and the resin film 2 was washed with a detergent and pure water and dried by air blow.

2)無機板状粒子分散液の作製
2+ 3+ (OH)CO・nHO(M2+:Mg、M3+:Al、B:CO 2−、x=4.5、y=2、n=13)からなる層状複水酸化物(LDH)を、LDH20mgにつき、塩化ナトリウム1mol/L、酢酸0.01mol/L、酢酸ナトリウム0.09mol/Lの混合水溶液20mLを添加し、市販のシェーカ(SH−B型、テラサワ)を用い2日間攪拌することにより、M2+ 3+ (OH)Cl・nHO(M2+:Mg、M3+:Al、B:CO 2−、x=4.5、y=2、n=13)からなるLDHを分散した無機板状粒子分散液を作製した。
2) Preparation of inorganic plate-like particle dispersion M 2+ x M 3+ y (OH) n CO 3 .nH 2 O (M 2+ : Mg, M 3+ : Al, B: CO 3 2− , x = 4.5, A layered double hydroxide (LDH) composed of y = 2, n = 13) was added 20 mL of a mixed aqueous solution of 1 mol / L sodium chloride, 0.01 mol / L acetic acid and 0.09 mol / L sodium acetate per 20 mg LDH. commercial shaker (SH-B type, Terasawa) by stirring for 2 days using a, M 2+ x M 3+ y ( OH) n Cl 2 · nH 2 O (M 2+: Mg, M 3+: Al, B: An inorganic plate-like particle dispersion liquid in which LDH composed of CO 3 2− , x = 4.5, y = 2, n = 13) was dispersed was prepared.

3)バインダ粒子水溶液の作製
ポリアクリル酸(PAA)の30mmol/L水溶液を調整することで、バインダ粒子水溶液を作製した。
3) Preparation of binder particle aqueous solution A binder particle aqueous solution was prepared by adjusting a 30 mmol / L aqueous solution of polyacrylic acid (PAA).

4)充填部水溶液の作製
AlK(SO4)2の30mmol/L水溶液を調整しBinder層液を作製した。
4) Preparation of filling portion aqueous solution A 30 mmol / L aqueous solution of AlK (SO4) 2 was prepared to prepare a binder layer solution.

5)樹脂フィルム2の帯電処理
1)で洗浄した樹脂フィルム2を、日本スタテック製HPS−101を用いて、10分間コロナ処理した。
5) Charging treatment of resin film 2 The resin film 2 washed in 1) was subjected to corona treatment for 10 minutes using HPS-101 manufactured by Nihon Statech.

6)無機板状粒子層形成
5)で帯電処理した樹脂フィルム2を、2)で作製した無機板状粒子分散液に15分間浸漬した後、純水で十分洗い流し、エアブローで乾燥した。これにより、無機板状粒子層3を形成した。
6) Formation of inorganic plate-like particle layer The resin film 2 charged in 5) was dipped in the inorganic plate-like particle dispersion prepared in 2) for 15 minutes, then thoroughly washed with pure water and dried by air blow. Thereby, the inorganic plate-like particle layer 3 was formed.

7)充填部形成
6)で無機板状粒子層3を形成した樹脂フィルム2を、4)で作製した充填部水溶液に15分間浸漬した後、純水で十分洗い流し、エアブローで乾燥した。これにより、無機板状粒子層3の欠陥部分7に充填部4を形成した。
7) Filling portion formation The resin film 2 on which the inorganic plate-like particle layer 3 was formed in 6) was immersed in the filling portion aqueous solution prepared in 4) for 15 minutes, and then thoroughly washed with pure water and dried by air blow. Thereby, the filling part 4 was formed in the defect part 7 of the inorganic plate-like particle layer 3.

8)バインダ層形成
7)で無機板状粒子層3と充填部4とを形成した樹脂フィルム2を、3)で作製したバインダ粒子水溶液に15分間浸漬した後、純水で十分洗い流し、エアブローで乾燥した。これにより、バインダ層5を形成した。
8) Binder layer formation After immersing the resin film 2 in which the inorganic plate-like particle layer 3 and the filling portion 4 are formed in 7) in the binder particle aqueous solution prepared in 3) for 15 minutes, the resin film 2 is thoroughly washed with pure water and air blown. Dried. Thereby, the binder layer 5 was formed.

9)交互吸着
6)〜8)の工程を、5、10、20回繰り返し、樹脂フィルム2にユニット6(無機板状粒子層3とバインダ層5との組)がそれぞれ5、10、20層形成されたバリアフィルム1を得た。
9) Alternating adsorption The steps 6) to 8) are repeated 5, 10, and 20 times, and the unit 6 (the combination of the inorganic plate-like particle layer 3 and the binder layer 5) is 5, 10, and 20 layers on the resin film 2, respectively. The formed barrier film 1 was obtained.

10)WVTR測定
9)で作製した3枚のバリアフィルム1を、MOCON社製水蒸気透過率測定装置AQUATRANを用いて、WVTRを測定した。
10) WVTR measurement WVTR was measured for the three barrier films 1 prepared in 9) using a water vapor transmission rate measuring apparatus AQUATRAN manufactured by MOCON.

次に、実施例5を説明する。実施例5は、実施例1に、吸着層を追加したものである。具体的には、実施例5では、実施例1の5)の工程を、次のようにしたこと以外は、実施例2と同様の工程で3つのバリアフィルム1を作製し、WVTRを測定した。   Next, Example 5 will be described. In Example 5, an adsorption layer is added to Example 1. Specifically, in Example 5, three barrier films 1 were produced in the same process as Example 2 except that the process of 5) of Example 1 was performed as follows, and WVTR was measured. .

5)樹脂フィルム2の帯電処理
1)で洗浄した樹脂フィルム2に、ミカサ製MS−A150を用いて、AZエレクトロニックマテリアルズ製アクアミカNL100Aをスピンコーティングした。ついで、樹脂フィルム2を、120℃で1時間、続いて95℃−湿度80%の雰囲気下で3時間硬化した。これにより、樹脂フィルム2の表面に吸着層としてシリカ層を約0.2μmの厚さで形成した。この樹脂フィルム2を3−アミノプロピルトリエトキシシラン(APTES)の10mmol/Lのエタノール溶液に30分間浸漬した。その後、樹脂フィルム2をエタノールと純水とで洗い流した後、エアブローで乾燥した。これにより、シリカ層を正に帯電した。
5) Charge treatment of resin film 2 The resin film 2 washed in 1) was spin-coated with AQUAMICA NL100A manufactured by AZ Electronic Materials using MS-A150 manufactured by Mikasa. Next, the resin film 2 was cured at 120 ° C. for 1 hour, and then in an atmosphere of 95 ° C.-80% humidity for 3 hours. Thus, a silica layer having a thickness of about 0.2 μm was formed on the surface of the resin film 2 as an adsorption layer. This resin film 2 was immersed in a 10 mmol / L ethanol solution of 3-aminopropyltriethoxysilane (APTES) for 30 minutes. Thereafter, the resin film 2 was washed away with ethanol and pure water and then dried by air blow. Thereby, the silica layer was positively charged.

[比較例1]
実施例1の4)と7)の工程を行わないこと以外は、実施例1と同様の工程を行なうことで、充填部4が形成されていない3つの比較用フィルムを作製し、WVTRを測定した。
[Comparative Example 1]
Except for not performing the steps 4) and 7) of Example 1, the same steps as in Example 1 were performed to produce three comparative films in which the filling portion 4 was not formed, and the WVTR was measured. did.

[WVTRの測定結果]
表1に、実施例1〜5、及び、比較例1で作製したバリアフィルム1及び比較用フィルムを40℃、90%RH(湿度)の環境下でWVTR測定した結果(単位:g/m/day)を示す。
[Measurement result of WVTR]
Table 1 shows the results of WVTR measurement of the barrier film 1 and the comparative film prepared in Examples 1 to 5 and Comparative Example 1 in an environment of 40 ° C. and 90% RH (humidity) (unit: g / m 2). / Day).

Figure 2012240358
Figure 2012240358

何れの実施例においても、比較例1に比べ、WVTRの値が小さくなっており、本実施形態によるバリアフィルム1が高いバリア性能を有することが分かる。例えば、10の−2乗(g/m/day)台のWVTRを得るためには、比較例では20対の交互吸着(即ち、20個のユニット)でも不可能だが、実施例では5対(即ち、5個のユニット6)で十分である。つまり、本実施形態による交互吸着を用いたバリアフィルム1は、従来の交互吸着を用いたバリアフィルムに比べ、高い性能を少ない積層数で実現できることが確認された。 In any of the Examples, the value of WVTR is smaller than that of Comparative Example 1, and it can be seen that the barrier film 1 according to the present embodiment has a high barrier performance. For example, in order to obtain 10 −2 (g / m 2 / day) WVTR, 20 pairs in the comparative example (that is, 20 units) is impossible in the comparative example, but 5 pairs in the example. (Ie 5 units 6) is sufficient. That is, it was confirmed that the barrier film 1 using the alternate adsorption according to the present embodiment can achieve high performance with a smaller number of layers than the conventional barrier film using the alternate adsorption.

なお、実施例5によるバリアフィルム1のWVTRが実施例1よりも低いのは、実施例5において形成したシリカ層により帯電処理の効果が向上し、より完全に無機板状粒子層3が樹脂フィルム2に吸着したためと思われる。   Note that the WVTR of the barrier film 1 according to Example 5 is lower than that of Example 1 because the effect of charging treatment is improved by the silica layer formed in Example 5, and the inorganic plate-like particle layer 3 is more completely made of a resin film. This is probably due to adsorbed to 2.

以上により、本実施の形態によれば、バリアフィルム1は、欠陥部分7に充填部4が形成されるので、この充填部4によって欠陥部分7でのガスの透過を防止することができる。したがって、バリアフィルム1は、従来よりもバリア性能を向上させることができる。   As described above, according to the present embodiment, since the filling portion 4 is formed in the defective portion 7 of the barrier film 1, the filling portion 4 can prevent gas from being transmitted through the defective portion 7. Therefore, the barrier film 1 can improve the barrier performance as compared with the conventional case.

ここで、充填部4は、金属酸化物を含むことができるので、バリアフィルム1は、欠陥部分7でのガスの透過をより確実に防止することができる。   Here, since the filling part 4 can contain a metal oxide, the barrier film 1 can prevent the permeation | transmission of the gas in the defective part 7 more reliably.

さらに、金属酸化物を構成する金属は、バナジウム、タングステン、及びモリブデンのうち少なくとも1種でありうるので、バリアフィルム1は、欠陥部分7でのガスの透過をより確実に防止することができる。   Furthermore, since the metal which comprises a metal oxide may be at least 1 sort (s) among vanadium, tungsten, and molybdenum, the barrier film 1 can prevent the permeation | transmission of the gas in the defect part 7 more reliably.

さらに、金属酸化物を構成する元素には、リンが含まれうるので、バリアフィルム1は、欠陥部分7でのガスの透過をより確実に防止することができる。   Furthermore, since the element which comprises a metal oxide can contain phosphorus, the barrier film 1 can prevent more reliably the permeation | transmission of the gas in the defect part 7. FIG.

さらに、無機板状粒子層3は負に帯電し、バインダ層5は正に帯電しうるので、バリアフィルム1を構成する層同士がクーロン力により強固に吸着する。したがって、バリア性能がより向上する。   Further, since the inorganic plate-like particle layer 3 can be negatively charged and the binder layer 5 can be positively charged, the layers constituting the barrier film 1 are firmly adsorbed by Coulomb force. Therefore, the barrier performance is further improved.

さらに、無機板状粒子は、粘土鉱物及びリン酸ジルコニウムのうち少なくとも1種を層分離することで得られうる。したがって、無機板状粒子がガスの透過を防止するので、バリア性能がより向上する。   Furthermore, the inorganic plate-like particles can be obtained by layer separation of at least one of clay mineral and zirconium phosphate. Therefore, since the inorganic plate-like particles prevent gas permeation, the barrier performance is further improved.

さらに、粘土鉱物は、雲母、バーミュライト、モンモリロナイト、鉄モンモリロナイト、バイデライト、サポナイト、ヘクトライト、及びスチーブンサイトの少なくとも1種でありうるので、無機板状粒子がガスの透過を防止する。したがって、バリア性能がより向上する。   Furthermore, since the clay mineral can be at least one of mica, vermulite, montmorillonite, iron montmorillonite, beidellite, saponite, hectorite, and stevensite, the inorganic plate-like particles prevent gas permeation. Therefore, the barrier performance is further improved.

さらに、粘土鉱物は、モンモリロナイトでありうる。この場合、モンモリロナイトは容易に層分離されるので、無機板状粒子が容易に生成される。   Further, the clay mineral can be montmorillonite. In this case, since montmorillonite is easily separated into layers, inorganic plate-like particles are easily generated.

さらに、無機板状粒子は、リン酸ジルコニウムを層分離することで得られうる。この場合、リン酸ジルコニウムは容易に層分離されるので、無機板状粒子が容易に生成される。   Furthermore, inorganic plate-like particles can be obtained by layer separation of zirconium phosphate. In this case, since the zirconium phosphate is easily separated into layers, inorganic plate-like particles are easily generated.

また、樹脂フィルム2上に形成され、樹脂フィルム2を交互積層部に強力に吸着させる吸着層を備えうる。この場合、交互積層部と樹脂フィルム2とが強固に吸着するので、バリア性能がより向上する。更に、吸着層がガスの透過を防止するので、バリア性能がより向上する。   Moreover, the adsorption layer formed on the resin film 2 and adsorb | sucking the resin film 2 to an alternating lamination part strongly can be provided. In this case, since the alternately laminated portions and the resin film 2 are firmly adsorbed, the barrier performance is further improved. Furthermore, since the adsorption layer prevents gas permeation, the barrier performance is further improved.

また、吸着層は、シリカ及びアルミナのうち、少なくとも1種を含みうる。この場合、交互積層部と樹脂フィルム2とが強固に吸着するので、バリア性能がより向上する。   Moreover, the adsorption layer can include at least one of silica and alumina. In this case, since the alternately laminated portions and the resin film 2 are firmly adsorbed, the barrier performance is further improved.

また、吸着層は、交互積層部の最外層と反対の電荷に帯電しうる。これにより、交互積層部と樹脂フィルム2とが強固に吸着するので、バリア性能がより向上する。   Further, the adsorption layer can be charged to the opposite charge to the outermost layer of the alternately laminated portion. Thereby, since an alternately laminated part and the resin film 2 adsorb | suck firmly, barrier performance improves more.

また、吸着層を帯電させる処理は、シランカップリング剤を用いることで行われうる。これにより、吸着層をより確実に帯電させることができる。   Moreover, the process which charges an adsorption layer can be performed by using a silane coupling agent. Thereby, the adsorption layer can be more reliably charged.

以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について詳細に説明したが、本発明はかかる例に限定されない。本発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者であれば、特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、これらについても、当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。   The preferred embodiments of the present invention have been described in detail above with reference to the accompanying drawings, but the present invention is not limited to such examples. It is obvious that a person having ordinary knowledge in the technical field to which the present invention pertains can come up with various changes or modifications within the scope of the technical idea described in the claims. Of course, it is understood that these also belong to the technical scope of the present invention.

1 バリアフィルム
2 樹脂フィルム
3 無機板状粒子層
4 充填部
5 バインダ層
6 ユニット
7 欠陥部分

DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Barrier film 2 Resin film 3 Inorganic plate-like particle layer 4 Filling part 5 Binder layer 6 Unit 7 Defect part

Claims (13)

樹脂フィルムに、帯電した無機板状粒子を含む無機板状粒子層と、前記無機板状粒子と反対の電荷に帯電したバインダ層と、が交互に積層された交互積層部と、
前記無機板状粒子層のうち、前記無機板状粒子が欠落した箇所である欠陥部分に形成される充填部と、を有することを特徴とする、電子デバイス用バリアフィルム。
An alternating laminate part in which an inorganic plate-like particle layer containing charged inorganic plate-like particles and a binder layer charged to a charge opposite to that of the inorganic plate-like particles are alternately laminated on the resin film;
A barrier film for an electronic device, comprising: a filler portion formed in a defective portion of the inorganic plate-like particle layer where the inorganic plate-like particle is missing.
前記充填部は、金属酸化物を含むことを特徴とする、請求項1記載の電子デバイス用バリアフィルム。   The barrier film for electronic devices according to claim 1, wherein the filling portion includes a metal oxide. 前記金属酸化物を構成する金属は、バナジウム、タングステン、及びモリブデンのうち少なくとも1種であることを特徴とする、請求項2記載の電子デバイス用バリアフィルム。   The barrier film for electronic devices according to claim 2, wherein the metal constituting the metal oxide is at least one of vanadium, tungsten, and molybdenum. 前記金属酸化物を構成する元素には、リンが含まれることを特徴とする、請求項2または3記載の電子デバイス用バリアフィルム。   4. The barrier film for electronic devices according to claim 2, wherein the element constituting the metal oxide contains phosphorus. 前記無機板状粒子は負に帯電し、前記バインダ層は正に帯電していることを特徴とする、請求項1〜4のいずれか1項に記載の電子デバイス用バリアフィルム。   The barrier film for an electronic device according to any one of claims 1 to 4, wherein the inorganic plate-like particles are negatively charged and the binder layer is positively charged. 前記無機板状粒子は、粘土鉱物及びリン酸ジルコニウムのうち少なくとも1種を層分離することで得られることを特徴とする、請求項5記載の電子デバイス用バリアフィルム。   6. The barrier film for electronic devices according to claim 5, wherein the inorganic plate-like particles are obtained by layer-separating at least one of a clay mineral and zirconium phosphate. 前記粘土鉱物は、雲母、バーミュライト、モンモリロナイト、鉄モンモリロナイト、バイデライト、サポナイト、ヘクトライト、及びスチーブンサイトの少なくとも1種であることを特徴とする、請求項6記載の電子デバイス用バリアフィルム。   The barrier film for electronic devices according to claim 6, wherein the clay mineral is at least one of mica, vermulite, montmorillonite, iron montmorillonite, beidellite, saponite, hectorite, and stevensite. 前記粘土鉱物は、モンモリロナイトであることを特徴とする、請求項7記載の電子デバイス用バリアフィルム。   The barrier film for electronic devices according to claim 7, wherein the clay mineral is montmorillonite. 前記無機板状粒子は、リン酸ジルコニウムを層分離することで得られることを特徴とする、請求項6記載の電子デバイス用バリアフィルム。   The barrier film for electronic devices according to claim 6, wherein the inorganic plate-like particles are obtained by layer separation of zirconium phosphate. 前記樹脂フィルムに形成され、前記樹脂フィルムを前記交互積層部に吸着させる吸着層を備えることを特徴とする、請求項1〜9のいずれか1項に記載の電子デバイス用バリアフィルム。   The barrier film for an electronic device according to claim 1, further comprising an adsorption layer that is formed on the resin film and adsorbs the resin film to the alternately laminated portion. 前記吸着層は、シリカ及びアルミナのうち、少なくとも1種を含むことを特徴とする、請求項10記載の電子デバイス用バリアフィルム。   The barrier film for electronic devices according to claim 10, wherein the adsorption layer contains at least one of silica and alumina. 前記吸着層は、前記交互積層部の最も外側の層である最外層と反対の電荷に帯電していることを特徴とする、請求項10または11に記載の電子デバイス用バリアフィルム。   The barrier film for electronic devices according to claim 10, wherein the adsorption layer is charged with a charge opposite to that of the outermost layer, which is the outermost layer of the alternate laminated portion. 前記吸着層を帯電させる処理は、シランカップリング剤を用いることで行われることを特徴とする、請求項12記載の電子デバイス用バリアフィルム。

The barrier film for electronic devices according to claim 12, wherein the treatment for charging the adsorption layer is performed by using a silane coupling agent.

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