JP2012232270A - Purification tank and purification system - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To sufficiently improve purification capacity without increasing running cost.SOLUTION: The purification system comprises a purification tank body 30 configured to be able to store drain water W, a photocatalyst filter 33 that is provided with a photocatalyst at least on the surface site thereof and is placed within the purification tank body 30, and a light source lamp 34 for irradiating the filter 33 with ultraviolet light, wherein the purification tank body 30 is configured so that the site on the lower side of the filter 33 is immersed in the stored drain water W and the filter 33 is stored such that the site on the upper side of the filter 33 is located above the stored liquid surface of the drain water W, a water guide plate 35 is provided for guiding drain water W introduced into the purification tank body 30 toward the site on the upper side of the filter 33, and the lamp 34 is located within the purification tank body 30 so that at least a part of the lamp 34 is positioned above the liquid surface of the drain water W stored in the purification tank body 30.

Description

本発明は、処理対象液を貯留可能な処理槽本体内に光触媒フィルタが収容された浄化処理槽、および、そのような浄化処理槽を備えて構成された浄化処理システムに関するものである。   The present invention relates to a purification treatment tank in which a photocatalytic filter is accommodated in a treatment tank body capable of storing a liquid to be treated, and a purification treatment system configured to include such a purification treatment tank.

例えば、特開2008−246449号公報には、ポリクロロビフェニル(PCB)油等の有害物質を含有する汚染水を浄化処理する有害有機物質油含有水の処理装置(以下、「浄化処理装置」)が開示されている。この浄化処理装置は、処理対象の汚染水を収容する汚染水タンクと、光触媒を収容すると共に汚染水に含まれている有害有機物質を分解処理(浄化処理)する光触媒反応容器と、汚染水タンクから光触媒反応容器に汚染水を供給するための供給配管と、光触媒反応容器内において処理された処理水を回収する回収タンクと、光触媒反応容器から回収タンクに処理水を排出する排出配管と、光触媒反応容器内の光触媒に紫外線を照射する紫外線ランプとを備えて構成されている。   For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2008-246449 discloses a treatment apparatus for water containing harmful organic substance oil (hereinafter, “purification treatment apparatus”) that purifies contaminated water containing harmful substances such as polychlorinated biphenyl (PCB) oil. Is disclosed. This purification treatment apparatus includes a contaminated water tank that contains contaminated water to be treated, a photocatalytic reaction container that contains a photocatalyst and decomposes (purifies) harmful organic substances contained in the contaminated water, and a contaminated water tank. Supply pipe for supplying contaminated water from the photocatalytic reaction vessel, a recovery tank for recovering the treated water treated in the photocatalytic reaction vessel, a discharge pipe for discharging the treated water from the photocatalytic reaction vessel to the recovery tank, and a photocatalyst An ultraviolet lamp for irradiating the photocatalyst in the reaction vessel with ultraviolet rays is provided.

この浄化処理装置によって汚染水を浄化処理する際には、まず、汚染水タンクから光触媒反応容器に供給配管を介して汚染水を供給する。次いで、光触媒反応容器内の光触媒に紫外線ランプから紫外線を照射する。この際には、光触媒反応容器内の汚染水に含まれている有害有機物質が光触媒の光触媒反応によって酸化分解される。これにより、光触媒反応容器内に供給された汚染水が浄化処理される。この後、浄化処理された処理水は、光触媒反応容器から回収タンクに排出配管を介して排出される。   When purifying contaminated water by this purification treatment apparatus, first, the contaminated water is supplied from the contaminated water tank to the photocatalytic reaction vessel via the supply pipe. Next, the photocatalyst in the photocatalytic reaction vessel is irradiated with ultraviolet rays from an ultraviolet lamp. At this time, harmful organic substances contained in the contaminated water in the photocatalytic reaction vessel are oxidatively decomposed by the photocatalytic reaction of the photocatalyst. Thereby, the contaminated water supplied in the photocatalytic reaction container is purified. Thereafter, the treated water subjected to the purification treatment is discharged from the photocatalytic reaction vessel to the recovery tank through the discharge pipe.

特開2008−246449号公報(第4−12頁、第1−6図)JP 2008-246449 A (page 4-12, FIG. 1-6)

ところが、従来の浄化処理装置には、以下の問題点が存在する。すなわち、従来の浄化処理装置では、光触媒反応容器内において汚染水に浸漬された状態の光触媒に対して紫外線ランプから紫外線を照射することで汚染水を光触媒反応によって浄化する構成が採用されている。この場合、光触媒反応容器内に供給された汚染水は、たとえ、濾過フィルタ等で物理的にフィルタリング可能な粉塵などの異物が除去されて、見た目には透明であっても、紫外線の透過率が低い(紫外線の吸収率が高い)ことが知られている。このため、汚染水に浸漬された状態の光触媒に対して紫外線ランプから紫外線を照射する構成の従来の浄化処理装置では、紫外線ランプから出射された紫外線が汚染水を透過する際に大きく減衰する結果、光触媒に対して十分な量の紫外線を照射するのが困難となっている。   However, the following problems exist in the conventional purification treatment apparatus. That is, the conventional purification treatment apparatus employs a configuration in which the contaminated water is purified by a photocatalytic reaction by irradiating the photocatalyst immersed in the contaminated water in the photocatalytic reaction vessel with ultraviolet rays from an ultraviolet lamp. In this case, the contaminated water supplied into the photocatalytic reaction container has a transmittance of ultraviolet rays even if foreign matter such as dust that can be physically filtered by a filtration filter or the like has been removed and is visually transparent. It is known to be low (high absorption rate of ultraviolet rays). For this reason, in the conventional purification treatment apparatus configured to irradiate the photocatalyst immersed in the contaminated water with ultraviolet rays from the ultraviolet lamp, the ultraviolet light emitted from the ultraviolet lamp is greatly attenuated when passing through the contaminated water. It is difficult to irradiate the photocatalyst with a sufficient amount of ultraviolet rays.

また、実際には、異物が含まれた汚染水を処理対象とする場合が多く、このような場合には、異物によって紫外線の透過が物理的に妨げられる結果、光触媒に対して十分な量の紫外線を照射するのが一層困難となる。したがって、従来の浄化処理装置では、紫外線の照射によって光触媒反応を十分に促進させるのが困難となっており、これにより、汚染水の浄化処理能力の向上が困難となっているという問題点がある。この場合、高輝度の紫外線ランプを配設したり、複数の紫外線ランプを配設したりすることにより、光触媒反応を十分に促進し得る十分な量の紫外線を光触媒に照射できる可能性がある。しかしながら、このような構成を採用した場合には、高輝度のランプ、或いは、複数のランプを点灯させるために大量の電力が必要となる結果、浄化処理装置のランニングコストが高騰するという問題が生じる。   In fact, in many cases, contaminated water containing foreign matter is treated, and in such a case, as a result of the physical impediment to the transmission of ultraviolet rays by the foreign matter, there is a sufficient amount for the photocatalyst. It becomes more difficult to irradiate ultraviolet rays. Therefore, in the conventional purification treatment apparatus, it is difficult to sufficiently promote the photocatalytic reaction by irradiation with ultraviolet rays, which makes it difficult to improve the purification treatment capacity of contaminated water. . In this case, there is a possibility that a sufficient amount of ultraviolet rays capable of sufficiently promoting the photocatalytic reaction can be irradiated to the photocatalyst by disposing a high-intensity ultraviolet lamp or a plurality of ultraviolet lamps. However, when such a configuration is adopted, a large amount of electric power is required to turn on a high-intensity lamp or a plurality of lamps, resulting in a problem that the running cost of the purification processing apparatus increases. .

本発明は、かかる問題点に鑑みてなされたものであり、ランニングコストの高騰を招くことなく、浄化処理能力を十分に向上させ得る浄化処理槽および浄化処理システムを提供することを主目的とする。   The present invention has been made in view of such problems, and a main object of the present invention is to provide a purification treatment tank and a purification treatment system capable of sufficiently improving the purification treatment capacity without causing an increase in running cost. .

上記目的を達成すべく、請求項1記載の浄化処理槽は、処理対象液を貯留可能に構成された処理槽本体と、少なくともその表面部位に光触媒が配設されて前記処理槽本体内に収容された光触媒フィルタと、前記光触媒フィルタに紫外線を照射する光源ランプとを備えた浄化処理槽であって、前記処理槽本体は、貯留した前記処理対象液に前記光触媒フィルタにおける下方側部位が浸り、かつ当該貯留した処理対象液の液面よりも上方に当該光触媒フィルタにおける上方側部位が位置するように当該光触媒フィルタを収容可能に構成されると共に、当該処理槽本体内に導入された前記処理対象液を前記光触媒フィルタにおける前記上方側部位に案内する案内機構を備えて構成され、前記光源ランプは、前記処理槽本体内に貯留された前記処理対象液の液面よりも上方に当該光源ランプにおける少なくとも一部が位置するように当該処理槽本体内に収容されている。   In order to achieve the above object, the purification treatment tank according to claim 1 is a treatment tank main body configured to be able to store a liquid to be treated and a photocatalyst disposed at least on a surface portion thereof and accommodated in the treatment tank main body. A purification tank comprising a photocatalyst filter and a light source lamp for irradiating the photocatalyst filter with ultraviolet light, wherein the treatment tank body is immersed in a lower part of the photocatalyst filter in the stored liquid to be treated, And the said process target introduced into the said processing tank main body while being comprised so that the said photocatalyst filter can be accommodated so that the upper side part in the said photocatalyst filter may be located above the liquid level of the said stored process target liquid A guide mechanism for guiding the liquid to the upper portion of the photocatalytic filter, and the light source lamp is stored in the processing tank body. At least a portion of the light source lamp above the liquid level of the liquid is accommodated in the processing bath main body so as to be located.

また、請求項2記載の浄化処理槽は、請求項1記載の浄化処理槽において、前記処理槽本体内に貯留された前記処理対象液を攪拌する攪拌機構を備えている。   Further, a purification treatment tank according to a second aspect is the purification treatment tank according to the first aspect, further comprising a stirring mechanism for stirring the processing target liquid stored in the processing tank main body.

さらに、請求項3記載の浄化処理槽は、請求項2記載の浄化処理槽において、前記攪拌機構は、前記貯留された処理対象液内に気体を供給して当該供給した気体によって当該処理対象液を攪拌する気体供給機構を備えて構成されている。   Furthermore, the purification treatment tank according to claim 3 is the purification treatment tank according to claim 2, wherein the stirring mechanism supplies a gas into the stored treatment target liquid, and the treatment target liquid is supplied by the supplied gas. It is provided with a gas supply mechanism that stirs.

また、請求項4記載の浄化処理槽は、請求項1から3のいずれかに記載の浄化処理槽において、前記光触媒フィルタは、筒状に形成され、前記光源ランプは、前記光触媒フィルタの内側に配設されている。   The purification treatment tank according to claim 4 is the purification treatment tank according to any one of claims 1 to 3, wherein the photocatalytic filter is formed in a cylindrical shape, and the light source lamp is disposed inside the photocatalytic filter. It is arranged.

さらに、請求項5記載の浄化処理槽は、請求項1から4のいずれかに記載の浄化処理槽において、前記光触媒フィルタは、多孔質体で形成された骨材に前記光触媒がコーティングされて構成されている。   Furthermore, the purification treatment tank according to claim 5 is the purification treatment tank according to any one of claims 1 to 4, wherein the photocatalytic filter is formed by coating the photocatalyst on an aggregate formed of a porous body. Has been.

また、請求項6記載の浄化処理システムは、請求項1から5のいずれかに記載の浄化処理槽を備えて前記処理対象液を浄化可能に構成されている。   In addition, a purification processing system according to a sixth aspect includes the purification treatment tank according to any one of the first to fifth aspects, and is configured to purify the liquid to be treated.

また、請求項7記載の浄化処理システムは、請求項6記載の浄化処理システムにおいて、前記浄化処理槽の上流側に配設された気液分離槽を備え、当該気液分離槽において気体が分離された前記処理対象液を前記浄化処理槽によって浄化する。   A purification treatment system according to claim 7 is the purification treatment system according to claim 6, further comprising a gas-liquid separation tank disposed upstream of the purification treatment tank, wherein gas is separated in the gas-liquid separation tank. The treated liquid to be treated is purified by the purification treatment tank.

請求項1記載の浄化処理槽では、処理槽本体が、貯留した処理対象液に光触媒フィルタの下方側部位が浸り、かつ貯留した処理対象液の液面よりも上方に光触媒フィルタの上方側部位が位置するように光触媒フィルタを収容可能に構成されると共に、処理槽本体内に導入された処理対象液を光触媒フィルタにおける上方側部位に案内する案内機構を備えて構成され、光源ランプが、処理槽本体内に貯留された処理対象液の液面よりも上方に少なくとも一部が位置するように処理槽本体内に収容されている。また、請求項6記載の浄化処理システムでは、上記の浄化処理槽を備えて処理対象液を浄化可能に構成されている。   In the purification treatment tank according to claim 1, the lower part of the photocatalyst filter is immersed in the stored treatment target liquid, and the upper part of the photocatalyst filter is located above the liquid level of the stored treatment target liquid. The photocatalyst filter is configured to be accommodated so as to be positioned, and is configured to include a guide mechanism that guides the liquid to be processed introduced into the processing tank main body to an upper side portion of the photocatalytic filter. It is accommodated in the processing tank main body so that at least a part is located above the liquid level of the liquid to be processed stored in the body. Moreover, in the purification processing system of Claim 6, it comprises the said purification processing tank and is comprised so that a process target liquid can be purified.

したがって、請求項1記載の浄化処理槽、および請求項6記載の浄化処理システムによれば、処理槽本体内の上方側において光源ランプからの紫外線が大きく減衰することなく光触媒フィルタに照射され、この光触媒フィルタの上方側部位に処理対象液が案内されて光触媒フィルタを伝って流れるため、光触媒フィルタによる光触媒反応を好適に生じさせて、処理対象液を十分に浄化することができる。また、高輝度の光源を有する光源ランプや、複数の光源ランプを設けることなく、光触媒フィルタに対して十分な量の紫外線を照射することができるため、消費電力の増加を回避して、そのランニングコストを十分に低減することができる。さらに、光触媒フィルタの下方側部位が処理槽本体内の処理対象液に浸った状態となっているため、処理槽本体内に導入された処理対象液が光触媒フィルタを伝って流れ落ちる間だけでなく、この処理対象液が処理槽本体の下方側部位に貯留された状態においても、光触媒フィルタによる光触媒反応によって好適に浄化することができる。   Therefore, according to the purification treatment tank according to claim 1 and the purification treatment system according to claim 6, the ultraviolet light from the light source lamp is irradiated to the photocatalyst filter without significant attenuation on the upper side in the treatment tank body. Since the liquid to be treated is guided to the upper part of the photocatalytic filter and flows through the photocatalytic filter, the photocatalytic reaction by the photocatalytic filter can be preferably caused to sufficiently purify the liquid to be treated. In addition, it is possible to irradiate the photocatalytic filter with a sufficient amount of ultraviolet light without providing a light source lamp having a high-intensity light source or a plurality of light source lamps. Cost can be reduced sufficiently. Furthermore, since the lower part of the photocatalyst filter is in a state immersed in the processing target liquid in the processing tank body, not only while the processing target liquid introduced into the processing tank body flows down through the photocatalytic filter, Even in a state where the liquid to be treated is stored in the lower part of the treatment tank body, it can be suitably purified by the photocatalytic reaction by the photocatalytic filter.

また、請求項2記載の浄化処理槽によれば、処理槽本体内に貯留された処理対象液を攪拌する攪拌機構を備えたことにより、貯留された処理対象液を透過する際に紫外線がある程度減衰してしまう処理槽本体の下方側部位において、光触媒フィルタの表面に処理対象液を好適に接触させて、光触媒反応によって十分に浄化することができる。   Further, according to the purification treatment tank of the second aspect, since the agitation mechanism for agitating the processing target liquid stored in the processing tank main body is provided, ultraviolet rays are transmitted to some extent when the stored processing target liquid is transmitted. The liquid to be treated can be suitably brought into contact with the surface of the photocatalytic filter in the lower portion of the treatment tank body that is attenuated, and can be sufficiently purified by the photocatalytic reaction.

さらに、請求項3記載の浄化処理槽によれば、貯留された処理対象液内に気体を供給して供給した気体によって処理対象液を攪拌する気体供給機構を備えて攪拌機構を構成したことにより、比較的簡易な構成でありながら、貯留された処理対象液を好適に攪拌して光触媒フィルタに接触させることができる。また、貯留された処理対象液内に没する部位に可動機構部品を配設することなく処理対象液を攪拌することができるため、煩雑なメンテナンス作業を不要として、浄化処理槽(浄化処理システム)の浄化処理能力を長期間に亘って維持することができる。   Furthermore, according to the purification treatment tank according to claim 3, the stirring mechanism is configured by including the gas supply mechanism that stirs the processing target liquid with the gas supplied and supplied into the stored processing target liquid. Although the structure is relatively simple, the stored liquid to be treated can be suitably stirred and brought into contact with the photocatalytic filter. Further, since the liquid to be treated can be agitated without disposing a movable mechanism part in a portion that is submerged in the stored liquid to be treated, the purification treatment tank (purification treatment system) can be performed without complicated maintenance work. The purification treatment capacity can be maintained over a long period of time.

また、請求項4記載の浄化処理槽によれば、光触媒フィルタを筒状に形成すると共に、光源ランプを光触媒フィルタの内側に配設したことにより、光源ランプからの紫外線を光触媒フィルタに対して効率良く、かつ満遍なく照射することができるため、光触媒フィルタの各部に光触媒反応を好適に生じさせることができる。   According to the purification treatment tank of claim 4, the photocatalytic filter is formed in a cylindrical shape, and the light source lamp is disposed inside the photocatalytic filter, so that the ultraviolet light from the light source lamp is efficiently generated with respect to the photocatalytic filter. Since it can irradiate well and uniformly, a photocatalytic reaction can be suitably generated in each part of the photocatalytic filter.

さらに、請求項5記載の浄化処理槽によれば、多孔質体で形成した骨材に光触媒をコーティングして光触媒フィルタを構成したことにより、光触媒の表面積を十分に拡げることができる結果、光源ランプからの紫外線を光触媒に対して一層効率よく照射することができると共に、処理対象液を光触媒に対して効率よく接触させることができるため、一層好適に浄化することができる。また、無垢材の骨材に光触媒をコーティングした光触媒フィルタよりも軽量化することができる。   Furthermore, according to the purification treatment tank of claim 5, since the photocatalyst filter is formed by coating the aggregate formed of the porous body with the photocatalyst, the surface area of the photocatalyst can be sufficiently expanded. In addition to being able to irradiate the photocatalyst with ultraviolet light more efficiently, the liquid to be treated can be efficiently brought into contact with the photocatalyst. Further, it can be made lighter than a photocatalytic filter in which a solid aggregate is coated with a photocatalyst.

また、請求項7記載の浄化処理システムによれば、浄化処理槽の上流側に配設された気液分離槽を備えて、気液分離槽において気体が分離された処理対象液を浄化処理槽によって浄化することにより、浄化処理槽内に導入される以前に大きな油滴を浮上分離させることができるため、光触媒フィルタに目詰まりが生じる事態を招くことなく、処理対象液を一層好適に浄化することができる。   Further, according to the purification processing system according to claim 7, the gas-liquid separation tank disposed upstream of the purification processing tank is provided, and the treatment target liquid from which the gas is separated in the gas-liquid separation tank is purified. By purifying the liquid, it is possible to float and separate large oil droplets before they are introduced into the purification treatment tank, so that the liquid to be treated is more suitably purified without causing a clogging of the photocatalytic filter. be able to.

本発明の実施の形態に係る浄化処理システム1の構成を示す構成図である。It is a lineblock diagram showing the composition of purification processing system 1 concerning an embodiment of the invention. 本発明の実施の形態に係る浄化処理システム1における第1処理槽3a(第2処理槽3b)の構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the 1st processing tank 3a (2nd processing tank 3b) in the purification processing system 1 which concerns on embodiment of this invention. 本発明の他の実施の形態に係る浄化処理システム1Aにおける処理槽5の構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the processing tank 5 in the purification processing system 1A which concerns on other embodiment of this invention. 本発明のさらに他の実施の形態に係る浄化処理システム1Bにおける処理槽6の構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the processing tank 6 in the purification processing system 1B which concerns on other embodiment of this invention. 本発明のさらに他の実施の形態に係る浄化処理システム1Cにおける処理槽7の構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the processing tank 7 in the purification processing system 1C which concerns on other embodiment of this invention.

以下、添付図面を参照して、本発明に係る浄化処理槽および浄化処理システムの実施の形態について説明する。   Hereinafter, embodiments of a purification treatment tank and a purification treatment system according to the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

図1に示す浄化処理システム1は、一例として、エアーコンプレッサや圧縮空気除湿装置などの「ドレン水発生源」から排水されたドレン水W(油分等を含んで汚れたドレン水W)を対象とする浄化処理を実行可能に構成されたシステムであって、気液分離槽2、第1処理槽3a、第2処理槽3bおよびエアーポンプ4を備えて構成されている。この場合、本例の浄化処理システム1では、図示しない接続用配管を介して気液分離槽2がドレン水発生源に接続されている。また、この浄化処理システム1では、送水用配管11によって気液分離槽2および第1処理槽3aが相互に接続されると共に、送水用配管12によって第1処理槽3aおよび第2処理槽3bが相互に接続され、かつ、排水用配管13を介して第2処理槽3bが図示しない排水溝(または、処理済みのドレン水Wを貯留するタンク等)に接続されている。   The purifying treatment system 1 shown in FIG. 1 is intended for drain water W (drain water W contaminated with oil etc.) drained from a “drain water generation source” such as an air compressor or a compressed air dehumidifier. The purification system is configured to be capable of performing the purification process, and includes a gas-liquid separation tank 2, a first processing tank 3a, a second processing tank 3b, and an air pump 4. In this case, in the purification processing system 1 of this example, the gas-liquid separation tank 2 is connected to a drain water generation source via a connection pipe (not shown). Further, in this purification treatment system 1, the gas-liquid separation tank 2 and the first treatment tank 3a are connected to each other by the water supply pipe 11, and the first treatment tank 3a and the second treatment tank 3b are connected by the water supply pipe 12. The second treatment tank 3 b is connected to each other and to a drainage groove (not shown) (or a tank for storing the treated drain water W) via the drainage pipe 13.

また、上記の送水用配管11,12および排水用配管13には、大気開放口11a,12a,13aがそれぞれ設けられて、後述するドレン水Wの流路内がほぼ大気圧となっている。さらに、この浄化処理システム1では、気液分離槽2よりも第1処理槽3aの方がやや低い位置に配置されると共に、第1処理槽3aよりも第2処理槽3bの方がやや低い位置に配置されている。これにより、この浄化処理システム1では、ドレン水Wを送水するための動力を必要とすることなく、後述するようにして、気液分離槽2から第1処理槽3aにドレン水Wが自然流下によって送水されると共に、第1処理槽3aから第2処理槽3bにドレン水Wが自然流下によって送水され、かつ、第2処理槽3bから排水溝にドレン水Wが自然流下によって排水される。   The water supply pipes 11 and 12 and the drainage pipe 13 are provided with open air ports 11a, 12a, and 13a, respectively, so that the inside of the drain water W described later has a substantially atmospheric pressure. Further, in the purification processing system 1, the first processing tank 3a is disposed at a slightly lower position than the gas-liquid separation tank 2, and the second processing tank 3b is slightly lower than the first processing tank 3a. Placed in position. Thereby, in this purification processing system 1, the drain water W naturally flows from the gas-liquid separation tank 2 to the first processing tank 3a as described later without requiring power for feeding the drain water W. The drain water W is sent from the first treatment tank 3a to the second treatment tank 3b by natural flow, and the drain water W is drained from the second treatment tank 3b to the drain by natural flow.

気液分離槽2は、ドレン水W(液体)と圧縮空気(気体)とが混ざり合った状態でドレン水発生源から排出される混合流体を液体と気体とに分離させ、かつ、分離させた液体に含まれている油滴を浮上させて分離させるための分離槽であって、容器体21および蓋体22で構成された処理槽本体20を備えている。この場合、容器体21には、分離させたドレン水Wを排水するための排水口21aが設けられ、蓋体22には、上記の混合流体を導入するための導入口22aが設けられている。なお、浄化処理システム1の構成についての理解を容易とするために、容器体21および蓋体22だけの簡易な構成の処理槽本体20で「気液分離槽」を構成した例について説明するが、上記の気液分離槽2の構成に代えて、「混合流体」を「液体」と「気体」とに分離させ得る各種構成の「気液分離槽」を採用することができる。   The gas-liquid separation tank 2 separates and separates the mixed fluid discharged from the drain water generation source into a liquid and a gas in a state where the drain water W (liquid) and the compressed air (gas) are mixed. A separation tank for floating and separating oil droplets contained in a liquid, and includes a treatment tank main body 20 constituted by a container body 21 and a lid body 22. In this case, the container body 21 is provided with a drain port 21a for draining the separated drain water W, and the lid body 22 is provided with an inlet port 22a for introducing the mixed fluid. . In order to facilitate understanding of the configuration of the purification processing system 1, an example in which a “gas-liquid separation tank” is configured by the processing tank body 20 having a simple configuration including only the container body 21 and the lid body 22 will be described. Instead of the configuration of the gas-liquid separation tank 2 described above, a “gas-liquid separation tank” having various configurations capable of separating the “mixed fluid” into “liquid” and “gas” can be employed.

第1処理槽3aおよび第2処理槽3b(以下、区別しないときには「処理槽3」ともいう)は、「浄化処理槽」の一例であって、図2に示すように、光触媒フィルタ33、光源ランプ34およびエア供給部36が処理槽本体30内に収容されて構成されている。また、処理槽本体30は、浄化処理したドレン水Wを排水するための排水口31aが設けられた容器体31と、処理対象のドレン水Wを導入するための導入口32aが設けられた蓋体32と、導水板35とを備えて構成されている。   The first treatment tank 3a and the second treatment tank 3b (hereinafter also referred to as “treatment tank 3” when not distinguished from each other) are examples of the “purification treatment tank”, and as shown in FIG. The lamp 34 and the air supply unit 36 are accommodated in the processing tank main body 30. Moreover, the processing tank main body 30 is a lid provided with a container body 31 provided with a drain port 31a for draining the drain water W subjected to the purification treatment, and an introduction port 32a for introducing the drain water W to be treated. A body 32 and a water guide plate 35 are provided.

この場合、この浄化処理システム1では、送水用配管12および排水用配管13における最高位部位(ドレン水Wの流路において最も高い部位)が、一例として、処理槽本体30(容器体31)における高さ方向の上方から1/3程度の部位に位置するように、送水用配管12および排水用配管13が排水口31aに接続されている。言い換えれば、この浄化処理システム1では、第1処理槽3aの処理槽本体30における上方から1/3程度の部位が、送水用配管12における最高位部位と同程度の高さに位置するように第1処理槽3aが配置されると共に、第2処理槽3bの処理槽本体30における上方から1/3程度の部位が、排水用配管13における最高位部位と同程度の高さに位置するように第2処理槽3bが配置されている。   In this case, in this purification processing system 1, the highest part (the highest part in the flow path of the drain water W) in the water supply pipe 12 and the drain pipe 13 is, for example, in the treatment tank body 30 (container body 31). The water supply pipe 12 and the drainage pipe 13 are connected to the drainage port 31a so as to be located at about 1/3 from the upper side in the height direction. In other words, in this purification processing system 1, a portion of about 1/3 from the top of the treatment tank main body 30 of the first treatment tank 3 a is located at the same height as the highest position in the water supply pipe 12. While the 1st processing tank 3a is arrange | positioned, the site | part of about 1/3 from the upper direction in the processing tank main body 30 of the 2nd processing tank 3b is located in the height comparable as the highest level site | part in the drainage piping 13. The 2nd processing tank 3b is arrange | positioned.

したがって、この浄化処理システム1では、第1処理槽3a内に導入されたドレン水Wの水位が処理槽本体30における高さ方向の下方から2/3程度となったときに、排水口31aから送水用配管12内に進入しているドレン水Wが第2処理槽3b内に導入され、第2処理槽3b内に導入されたドレン水Wの水位が処理槽本体30における高さ方向の下方から2/3程度となったときに、排水口31aから排水用配管13内に進入しているドレン水Wが排水溝に排水される。これにより、この浄化処理システム1では、両処理槽3の処理槽本体30内に、その高さ方向の2/3を大きく超える量のドレン水Wが貯留されることなく、両処理槽本体30における高さ方向の上方側から1/3程度の空間に空気が存在する状態が維持される。   Therefore, in this purification treatment system 1, when the water level of the drain water W introduced into the first treatment tank 3a becomes about 2/3 from the lower side in the height direction of the treatment tank body 30, the drainage port 31a The drain water W entering the water supply pipe 12 is introduced into the second treatment tank 3b, and the water level of the drain water W introduced into the second treatment tank 3b is lower in the height direction in the treatment tank body 30. The drain water W that has entered the drainage pipe 13 from the drain port 31a is drained into the drainage groove. Thereby, in this purification processing system 1, in the processing tank main body 30 of both the processing tanks 3, the drain water W of the amount greatly exceeding 2/3 of the height direction is not stored, but both the processing tank main bodies 30 are stored. The state where air is present in a space of about 1/3 from the upper side in the height direction is maintained.

光触媒フィルタ33は、一例として、連続気泡性の原体を焼結して形成した多孔質セラミックスによって円筒状に形成された骨材(「多孔質体で形成された骨材」の一例)の表面(外周面、内周面および各孔の内壁面)にTiO(「光触媒」の一例)がコーティングされて(「少なくともその表面部位に光触媒が配設されて」との構成の一例))、骨材の各孔を介して、光触媒フィルタ33の内側から外側に向かってドレン水Wを通過させるように処理槽本体30内に収容されている。なお、骨材にコーティングする「光触媒」については、必要に応じて、TiOに任意の添加物(Agなど)を添加したものを使用することができる。 As an example, the photocatalytic filter 33 is a surface of an aggregate (an example of an “aggregate formed of a porous body”) formed into a cylindrical shape by porous ceramics formed by sintering an open-cell base material. (The outer peripheral surface, the inner peripheral surface, and the inner wall surface of each hole) are coated with TiO 2 (an example of “photocatalyst”) (“an example of a configuration in which a photocatalyst is disposed at least on the surface portion”)), It is accommodated in the treatment tank main body 30 so that the drain water W is passed from the inner side to the outer side of the photocatalytic filter 33 through each hole of the aggregate. Note that the "photocatalyst" coating to aggregate, may be used if necessary, any additives TiO 2 the material obtained by adding (such as Ag).

この場合、本例の処理槽3では、光触媒フィルタ33の高さ(筒長)が処理槽本体30の高さ(容器体31の深さ)と等しくなるように構成されている。また、本例の処理槽3では、上記したように、処理槽本体30における高さ方向の上方側から1/3程度の空間に空気が存在する状態が維持されるように構成されている。したがって、この処理槽3では、処理槽本体30内に貯留されたドレン水Wに光触媒フィルタ33における下方側部位(この例では、下方側の2/3程度)が浸り、かつ貯留されたドレン水Wの液面よりも上方に光触媒フィルタ33における上方側部位(この例では、上方側の1/3程度)が位置した状態となる。   In this case, in the processing tank 3 of this example, the height (cylinder length) of the photocatalytic filter 33 is configured to be equal to the height of the processing tank main body 30 (depth of the container body 31). Moreover, in the processing tank 3 of this example, as mentioned above, it is comprised so that the state which air exists in about 1/3 space from the upper side of the height direction in the processing tank main body 30 is maintained. Therefore, in this processing tank 3, the lower part (in this example, about 2/3 of the lower side) of the photocatalytic filter 33 is immersed in the drain water W stored in the processing tank main body 30, and the stored drain water. The upper part of the photocatalytic filter 33 (about 1/3 of the upper side in this example) is positioned above the liquid level of W.

光源ランプ34は、光触媒フィルタ33の内側に配設されて、光触媒フィルタ33に対して紫外線を照射する。この場合、本例の光源ランプ34は、一例として、直管型の蛍光管を光源として備えて全体として棒状に形成されている。この光源ランプ34は、一例として、光触媒フィルタ33の筒径方向における中心部に位置するように、導水板35の下面に下向きに取り付けられている。これにより、後述するように、処理槽本体30内にドレン水Wが貯留された状態においては、光源ランプ34の基端部(導水板35に固定された側の端部:上端部)側の一部が、ドレン水Wの液面よりも上方に位置した状態となる(「貯留された処理対象液の液面よりも上方に光源ランプにおける少なくとも一部が位置するように処理槽本体内に収容されている」との構成の一例)。   The light source lamp 34 is disposed inside the photocatalytic filter 33 and irradiates the photocatalytic filter 33 with ultraviolet rays. In this case, as an example, the light source lamp 34 of this example includes a straight tube type fluorescent tube as a light source and is formed in a rod shape as a whole. As an example, the light source lamp 34 is attached downward to the lower surface of the water guide plate 35 so as to be positioned at the center of the photocatalytic filter 33 in the cylinder radial direction. Thereby, as will be described later, in the state where the drain water W is stored in the treatment tank main body 30, the base end portion (the end portion on the side fixed to the water guide plate 35: the upper end portion) side of the light source lamp 34 is provided. A part of the light source lamp is positioned above the liquid level of the drain water W (in the processing tank main body so that at least a part of the light source lamp is positioned above the liquid level of the stored processing target liquid. An example of a configuration of “accommodated”).

導水板35は、「案内機構」の一例であって、光触媒フィルタ33の内径よりもやや小径の円板状に形成されると共に、その板面(上面)が水平となり、かつ、容器体31に対して蓋体32を装着したときに光触媒フィルタ33の内側に位置するように蓋体32に取り付けられている。この導水板35は、後述するように、導入口32aから処理槽本体30内に導入されたドレン水Wを、その外縁部に向かって展延させるようにして板面に沿って流動させることにより、ドレン水Wを光触媒フィルタ33の上方側部位に案内する。これにより、後述するように、この処理槽3では、処理槽本体30内に導入されたドレン水Wが光触媒フィルタ33を伝って流れ落ちて貯留される。   The water guide plate 35 is an example of a “guide mechanism”, and is formed in a disk shape having a slightly smaller diameter than the inner diameter of the photocatalytic filter 33, and the plate surface (upper surface) thereof is horizontal, On the other hand, it is attached to the lid 32 so as to be positioned inside the photocatalytic filter 33 when the lid 32 is attached. As will be described later, the water guide plate 35 causes the drain water W introduced into the treatment tank body 30 from the introduction port 32a to flow along the plate surface so as to extend toward the outer edge portion. The drain water W is guided to the upper part of the photocatalytic filter 33. Thereby, as will be described later, in the processing tank 3, the drain water W introduced into the processing tank body 30 flows down through the photocatalytic filter 33 and is stored.

エア供給部36は、エアーポンプ4と相まって「攪拌機構」の一例である「気体供給機構」を構成する。このエア供給部36は、処理槽本体30の底部に配設されると共に、エアーポンプ4からエアーホース4aを介して圧送される空気(「気体」の一例)を処理槽本体30内に供給する(排出する)ことによって、処理槽本体30内に貯留されているドレン水W内に気泡を生じさせ、この気泡の浮上によってドレン水Wを攪拌する。   The air supply unit 36, together with the air pump 4, constitutes a “gas supply mechanism” that is an example of a “stirring mechanism”. The air supply unit 36 is disposed at the bottom of the processing tank body 30 and supplies air (an example of “gas”) fed from the air pump 4 through the air hose 4 a into the processing tank body 30. By (discharging), bubbles are generated in the drain water W stored in the treatment tank main body 30, and the drain water W is stirred by the rising of the bubbles.

この浄化処理システム1によってドレン水Wを浄化処理する際には、まず、図示しない接続用配管を介してドレン水発生源と気液分離槽2とを相互に接続すると共に、排水用配管13の下流側端部を排水溝に敷設する。なお、気液分離槽2および両処理槽3の設置や、送水用配管11,12を介しての気液分離槽2および両処理槽3の接続に関しては、既に完了しているものとして説明を省略する。   When purifying the drain water W by the purification processing system 1, first, the drain water generation source and the gas-liquid separation tank 2 are connected to each other via a connection pipe (not shown) and the drain pipe 13 Lay the downstream end in the drain. The installation of the gas-liquid separation tank 2 and both treatment tanks 3 and the connection of the gas-liquid separation tank 2 and both treatment tanks 3 through the water supply pipes 11 and 12 are described as already completed. Omitted.

次いで、図示しない電源スイッチを操作して両処理槽3内の光源ランプ34を点灯させて光触媒フィルタ33に対して紫外線を照射させると共に、エアーポンプ4から両処理槽3内のエア供給部36にエアーホース4aを介して空気を供給させる。この際に、この処理槽3では、前述したように、光源ランプ34が光触媒フィルタ33の筒径方向の中心部に位置するように光源ランプ34が設置されている。したがって、光源ランプ34から出射された紫外線が光触媒フィルタ33の各部に対して均一に照射される。なお、本例では、比較的大きな孔の多孔質セラミックスを骨材として採用して光触媒フィルタ33が形成されている。したがって、光源ランプ34からの紫外線が光触媒フィルタ33の内周面に照射されるだけでなく、各孔を通過する際に各孔内に照射されると共に、各孔を通過して処理槽本体30の内側で反射された紫外線が光触媒フィルタ33の外周面にも照射される。   Next, a power switch (not shown) is operated to turn on the light source lamps 34 in both treatment tanks 3 to irradiate the photocatalytic filter 33 with ultraviolet rays, and from the air pump 4 to the air supply unit 36 in both treatment tanks 3. Air is supplied through the air hose 4a. At this time, in the treatment tank 3, as described above, the light source lamp 34 is installed so that the light source lamp 34 is positioned at the center of the photocatalytic filter 33 in the cylinder radial direction. Therefore, the ultraviolet rays emitted from the light source lamp 34 are uniformly applied to each part of the photocatalytic filter 33. In this example, the photocatalytic filter 33 is formed using porous ceramics having relatively large pores as an aggregate. Therefore, the ultraviolet light from the light source lamp 34 is not only irradiated to the inner peripheral surface of the photocatalytic filter 33 but also irradiated into each hole when passing through each hole, and also passes through each hole and passes through the processing tank body 30. UV rays reflected on the inner side of the photocatalytic filter 33 are also irradiated on the outer peripheral surface of the photocatalytic filter 33.

続いて、ドレン水発生源と気液分離槽2とを接続している接続用配管に設けられたバルブ(図示せず)を開放操作する。この際には、ドレン水Wおよび圧縮空気の混合流体が導入口22aから処理槽本体20内に導入され、この混合流体が、処理槽本体20内においてドレン水Wと圧縮空気とに分離される。また、分離された圧縮空気は、容器体21と蓋体22との隙間から大気中に開放され、分離されたドレン水Wは、処理槽本体20内に順次貯留される。さらに、貯留されたドレン水Wに含まれている油滴(比較的大きな油の塊)は、処理槽本体20内において浮上させられてドレン水Wから分離される。   Subsequently, a valve (not shown) provided in a connection pipe connecting the drain water source and the gas-liquid separation tank 2 is opened. At this time, a mixed fluid of drain water W and compressed air is introduced into the treatment tank main body 20 from the inlet 22a, and this mixed fluid is separated into drain water W and compressed air in the treatment tank main body 20. . Further, the separated compressed air is released into the atmosphere through a gap between the container body 21 and the lid body 22, and the separated drain water W is sequentially stored in the treatment tank body 20. Furthermore, oil droplets (relatively large lump of oil) contained in the stored drain water W are floated in the treatment tank body 20 and separated from the drain water W.

一方、気液分離槽2内に規定量のドレン水Wが貯留されたときには、処理槽本体20内における水位の上昇に伴って排水口21aから送水用配管11内に進入しているドレン水Wが導入口32aから第1処理槽3a内に導入される。この際には、導入口32aから導入されたドレン水Wが導水板35の板面に沿って流動させられて光触媒フィルタ33の上端部における内周面に案内される。また、光触媒フィルタ33の上端部に案内されたドレン水Wは、光触媒フィルタ33を伝って処理槽本体30の底部に向かって流れ落ちる。   On the other hand, when a specified amount of drain water W is stored in the gas-liquid separation tank 2, the drain water W entering the water supply pipe 11 from the drain port 21a as the water level in the treatment tank body 20 rises. Is introduced into the first treatment tank 3a from the introduction port 32a. At this time, the drain water W introduced from the introduction port 32 a is caused to flow along the plate surface of the water guide plate 35 and is guided to the inner peripheral surface at the upper end portion of the photocatalytic filter 33. Further, the drain water W guided to the upper end portion of the photocatalyst filter 33 flows down toward the bottom portion of the processing tank body 30 through the photocatalyst filter 33.

この際に、光源ランプ34の点灯に伴って光触媒フィルタ33に十分な量の紫外線が照射されているため、光触媒フィルタ33を伝って流れ落ちるドレン水Wが、光触媒反応によって十分に浄化される。また、処理槽本体30内にドレン水Wが導入され始めてから暫くの間は、光触媒フィルタ33および光源ランプ34のほぼ全体が空気中に露出した状態となっているため、光源ランプ34から出射された紫外線が大きく減衰することなく、光触媒フィルタ33の筒長方向の全体に対して十分に照射される。これにより、光触媒フィルタ33を伝って流れ落ちるドレン水Wが好適に浄化される。   At this time, since the photocatalytic filter 33 is irradiated with a sufficient amount of ultraviolet light as the light source lamp 34 is turned on, the drain water W flowing down through the photocatalytic filter 33 is sufficiently purified by the photocatalytic reaction. Further, for a while after the drain water W starts to be introduced into the treatment tank main body 30, almost the entire photocatalytic filter 33 and the light source lamp 34 are exposed to the air, so that the light is emitted from the light source lamp 34. Ultraviolet rays are sufficiently irradiated to the entire tube length direction of the photocatalytic filter 33 without being greatly attenuated. Thereby, the drain water W flowing down through the photocatalytic filter 33 is suitably purified.

また、光触媒フィルタ33を伝って流れ落ちたドレン水Wは、処理槽本体30内に貯留される。この際に、エア供給部36が水没する程度のドレン水Wが貯留されたときには、エアーポンプ4から供給されている空気が気泡となってドレン水W内に放出される。したがって、第1処理槽3a内に貯留されたドレン水Wが気泡の浮上に伴って攪拌される。この場合、処理槽本体30内のドレン水Wが貯留されている部位においては、光源ランプ34から出射された紫外線がドレン水Wを透過する際にある程度減衰するものの、この紫外線が光触媒フィルタ33に対して照射され続けた状態が維持される。したがって、エア供給部36から供給された(排出された)空気(気泡)によって第1処理槽3a内のドレン水Wが攪拌されることで、貯留されているドレン水Wの全体が光触媒フィルタ33の表面に順次接する結果、このドレン水Wが光触媒反応によって十分に浄化される。   Further, the drain water W that has flowed down through the photocatalytic filter 33 is stored in the treatment tank body 30. At this time, when the drain water W is stored such that the air supply unit 36 is submerged, the air supplied from the air pump 4 is discharged into the drain water W as bubbles. Therefore, the drain water W stored in the first treatment tank 3a is agitated as the bubbles rise. In this case, in the portion where the drain water W in the treatment tank body 30 is stored, the ultraviolet light emitted from the light source lamp 34 attenuates to some extent when it passes through the drain water W, but this ultraviolet light is transmitted to the photocatalytic filter 33. On the other hand, the state of being continuously irradiated is maintained. Therefore, the drain water W in the first treatment tank 3a is agitated by the air (bubbles) supplied (discharged) from the air supply unit 36, so that the entire drain water W stored is the photocatalytic filter 33. As a result, the drain water W is sufficiently purified by the photocatalytic reaction.

この場合、本例の処理槽3とは異なり、貯留したドレン水Wの液面よりも上方に光触媒フィルタ33の全体が位置するように「処理槽本体」を構成した「浄化処理槽」では(図示せず)、光触媒フィルタ33を伝って流れ落ちたドレン水W(「処理槽本体」内に貯留されたドレン水W)が光触媒フィルタ33に接しない状態となる。したがって、このような構成を採用する場合、導入されたドレン水Wが光触媒フィルタ33を伝って流れ落ちる間に浄化を完了させる必要が生じる。これに対して、本例の処理槽3では、貯留したドレン水Wに光触媒フィルタ33の下方側が浸った状態となるように処理槽本体30が構成されている。したがって、光触媒フィルタ33を伝って流れ落ちて処理槽本体30内に貯留されたドレン水Wが光触媒フィルタ33の下方側において生じる光触媒反応によって継続的に浄化処理される。   In this case, unlike the processing tank 3 of this example, in the “purification processing tank” in which the “processing tank body” is configured such that the entire photocatalytic filter 33 is positioned above the liquid level of the stored drain water W ( The drain water W that has flowed down through the photocatalytic filter 33 (the drain water W stored in the “treatment tank main body”) is not in contact with the photocatalytic filter 33. Therefore, when adopting such a configuration, it is necessary to complete the purification while the introduced drain water W flows down through the photocatalytic filter 33. On the other hand, in the processing tank 3 of this example, the processing tank main body 30 is configured so that the lower side of the photocatalytic filter 33 is immersed in the stored drain water W. Therefore, the drain water W flowing down through the photocatalytic filter 33 and stored in the treatment tank body 30 is continuously purified by the photocatalytic reaction that occurs on the lower side of the photocatalytic filter 33.

一方、第1処理槽3a内に貯留されたドレン水Wの水位が処理槽本体30(容器体31)における高さ方向の上方から1/3程度に達したときには、排水口31aから送水用配管12内に進入しているドレン水Wが第2処理槽3b内に導入される。この際には、気液分離槽2から第1処理槽3a内に導入されたドレン水Wと同様にして、導入口32aから第2処理槽3b内に導入されたドレン水Wが導水板35によって光触媒フィルタ33の上端部における内周面に案内され、光触媒フィルタ33を伝って処理槽本体30の底部に向かって流れ落ちる際に、光触媒反応によって十分に浄化される。なお、この際に、第2処理槽3b内において生じる浄化処理のプロセスについては、上記の第1処理槽3a内における浄化処理のプロセスと同様であるため、その説明を省略する。   On the other hand, when the water level of the drain water W stored in the first treatment tank 3a reaches about 3 from the top in the height direction of the treatment tank main body 30 (container body 31), the water supply pipe from the drain port 31a. The drain water W entering the inside 12 is introduced into the second treatment tank 3b. At this time, the drain water W introduced into the second treatment tank 3b from the inlet 32a is introduced into the second treatment tank 3b in the same manner as the drain water W introduced from the gas-liquid separation tank 2 into the first treatment tank 3a. Is guided to the inner peripheral surface of the upper end portion of the photocatalyst filter 33, and is sufficiently purified by the photocatalytic reaction when flowing down the photocatalyst filter 33 toward the bottom portion of the processing tank body 30. At this time, the purification process that occurs in the second treatment tank 3b is the same as the purification process in the first treatment tank 3a, and a description thereof will be omitted.

この場合、第1処理槽3aから第2処理槽3bにドレン水Wが順次送水されている状態において、第1処理槽3aでは、処理槽本体30(容器体31)における高さ方向の上方側から1/3程度の空間に空気が存在する状態が維持される。したがって、この空間内においては、光源ランプ34から出射された紫外線が大きく減衰することなく、光触媒フィルタ33に対して十分に照射される。これにより、第1処理槽3aにおける処理槽本体30の上方側から1/3程度の範囲において、光触媒フィルタ33を伝って流れ落ちるドレン水Wが十分に浄化される状態が維持される。また、第1処理槽3aにおける下方側から2/3の範囲においても、光触媒フィルタ33に対して紫外線が照射され続けているため、エア供給部36から供給された空気(気泡)によってドレン水Wが攪拌されることで、このドレン水Wが光触媒フィルタ33に対して好適に接する結果、十分に浄化される。   In this case, in the state where the drain water W is sequentially fed from the first treatment tank 3a to the second treatment tank 3b, the first treatment tank 3a has an upper side in the height direction of the treatment tank body 30 (container body 31). Thus, a state where air exists in a space of about 1/3 is maintained. Therefore, in this space, the ultraviolet light emitted from the light source lamp 34 is sufficiently irradiated to the photocatalytic filter 33 without being greatly attenuated. Thereby, in the range of about 1/3 from the upper side of the processing tank main body 30 in the first processing tank 3a, a state in which the drain water W flowing down through the photocatalytic filter 33 is sufficiently purified is maintained. In addition, since the ultraviolet rays are continuously irradiated to the photocatalytic filter 33 even in the range of 2/3 from the lower side in the first treatment tank 3a, the drain water W is supplied by the air (bubbles) supplied from the air supply unit 36. As a result, the drain water W is suitably in contact with the photocatalytic filter 33 and is sufficiently purified.

また、第2処理槽3b内に貯留されたドレン水Wの水位が処理槽本体30(容器体31)における高さ方向の上方から1/3程度に達したときには、排水口31aから排水用配管13内に進入しているドレン水Wが排水溝に排水される。この際に、第2処理槽3bから排水溝にドレン水Wが順次排水されている状態において、第2処理槽3bでは、処理槽本体30(容器体31)における高さ方向の上方側から1/3程度の空間に空気が存在する状態が維持される。したがって、前述した第1処理槽3a内と同様にして、処理槽本体30の上方側から1/3程度の範囲において、光触媒フィルタ33を伝って流れ落ちるドレン水Wが十分に浄化される状態が維持される。また、第2処理槽3bにおける下方側から2/3の範囲においても、前述した第1処理槽3a内と同様にして、光触媒フィルタ33に対して紫外線が照射され続けているため、エア供給部36から供給された(排出された)空気(気泡)によってドレン水Wが攪拌されることで、このドレン水Wが光触媒フィルタ33に対して好適に接する結果、十分に浄化される。   Further, when the water level of the drain water W stored in the second treatment tank 3b reaches about 1/3 from the upper side in the height direction of the treatment tank body 30 (container body 31), the drainage pipe is connected to the drainage port 31a. The drain water W entering the inside 13 is drained into the drainage groove. At this time, in the state where the drain water W is sequentially drained from the second treatment tank 3b to the drainage groove, the second treatment tank 3b is 1 from the upper side in the height direction of the treatment tank body 30 (container body 31). A state in which air exists in a space of about / 3 is maintained. Therefore, the drain water W flowing down through the photocatalytic filter 33 is sufficiently purified in the range of about 1/3 from the upper side of the processing tank body 30 in the same manner as in the first processing tank 3a described above. Is done. Further, in the range of 2/3 from the lower side of the second treatment tank 3b, the photocatalyst filter 33 is continuously irradiated with ultraviolet rays in the same manner as in the first treatment tank 3a described above. As the drain water W is agitated by the air (bubbles) supplied (discharged) from 36, the drain water W suitably contacts the photocatalyst filter 33, and thus is sufficiently purified.

このように、この処理槽3では、処理槽本体30が、貯留したドレン水Wに光触媒フィルタ33の下方側部位が浸り、かつ貯留したドレン水Wの液面よりも上方に光触媒フィルタ33の上方側部位が位置するように光触媒フィルタ33を収容可能に構成されると共に、処理槽本体30内に導入されたドレン水Wを光触媒フィルタ33における上方側部位に案内する導水板35を備えて構成され、光源ランプ34が、処理槽本体30内に貯留されたドレン水Wの液面よりも上方に少なくとも一部が位置するように処理槽本体30内に収容されている。また、この浄化処理システム1では、上記の処理槽3を備えてドレン水Wを浄化可能に構成されている。   As described above, in the processing tank 3, the processing tank main body 30 has the lower part of the photocatalytic filter 33 immersed in the stored drain water W, and the upper side of the photocatalytic filter 33 above the liquid level of the stored drain water W. The photocatalyst filter 33 is configured to be accommodated so that the side portion is positioned, and is provided with a water guide plate 35 that guides the drain water W introduced into the treatment tank body 30 to the upper side portion of the photocatalyst filter 33. The light source lamp 34 is accommodated in the processing tank body 30 so that at least a part thereof is positioned above the liquid level of the drain water W stored in the processing tank body 30. In addition, the purification treatment system 1 includes the treatment tank 3 and is configured to purify the drain water W.

したがって、この処理槽3、および処理槽3を備えた浄化処理システム1によれば、処理槽本体30内の上方側において光源ランプ34からの紫外線が大きく減衰することなく光触媒フィルタ33に照射され、この光触媒フィルタ33の上方側部位にドレン水Wが案内されて光触媒フィルタ33を伝って流れるため、光触媒フィルタ33による光触媒反応を好適に生じさせて、ドレン水Wを十分に浄化することができる。また、高輝度の光源を有する「光源ランプ」や、複数の「光源ランプ」を設けることなく、光触媒フィルタ33に対して十分な量の紫外線を照射することができるため、消費電力の増加を回避して、そのランニングコストを十分に低減することができる。さらに、光触媒フィルタ33の下方側部位が処理槽本体30内のドレン水Wに浸った状態となっているため、処理槽本体30内に導入されたドレン水Wが光触媒フィルタ33を伝って流れ落ちる間だけでなく、このドレン水Wが処理槽本体30の下方側部位に貯留された状態においても、光触媒フィルタ33による光触媒反応によって好適に浄化することができる。   Therefore, according to the treatment tank 3 and the purification treatment system 1 including the treatment tank 3, the ultraviolet light from the light source lamp 34 is irradiated on the photocatalyst filter 33 on the upper side in the treatment tank body 30 without being greatly attenuated, Since the drain water W is guided to the upper part of the photocatalyst filter 33 and flows through the photocatalyst filter 33, the photocatalytic reaction by the photocatalyst filter 33 is preferably caused to sufficiently purify the drain water W. Further, it is possible to irradiate the photocatalytic filter 33 with a sufficient amount of ultraviolet rays without providing a “light source lamp” having a high-luminance light source or a plurality of “light source lamps”, thereby avoiding an increase in power consumption. Thus, the running cost can be sufficiently reduced. Furthermore, since the lower part of the photocatalyst filter 33 is immersed in the drain water W in the treatment tank body 30, the drain water W introduced into the treatment tank body 30 flows down through the photocatalyst filter 33. In addition, even in a state where the drain water W is stored in the lower portion of the treatment tank body 30, it can be suitably purified by the photocatalytic reaction by the photocatalytic filter 33.

また、この処理槽3、および処理槽3を備えた浄化処理システム1によれば、処理槽本体30内に貯留されたドレン水Wを攪拌する「攪拌機構」を備えたことにより、貯留されたドレン水Wを透過する際に紫外線がある程度減衰してしまう処理槽本体30の下方側部位において、光触媒フィルタ33の表面にドレン水Wを好適に接触させて、光触媒反応によって十分に浄化することができる。   Further, according to the purification treatment system 1 including the treatment tank 3 and the treatment tank 3, the treatment tank 3 is stored by being provided with the “stirring mechanism” for stirring the drain water W stored in the treatment tank main body 30. The drain water W is preferably brought into contact with the surface of the photocatalyst filter 33 at the lower portion of the treatment tank body 30 where the ultraviolet light attenuates to some extent when passing through the drain water W, and sufficiently purified by the photocatalytic reaction. it can.

さらに、この処理槽3、および処理槽3を備えた浄化処理システム1によれば、貯留されたドレン水W内に気体を供給して、その気体(気泡)によってドレン水Wを攪拌するエア供給部36を備えて「攪拌機構」を構成したことにより、比較的簡易な構成でありながら、貯留されたドレン水Wを好適に攪拌して光触媒フィルタ33に接触させることができる。また、貯留されたドレン水W内に没する部位に可動機構部品を配設することなくドレン水Wを攪拌することができるため、煩雑なメンテナンス作業を不要として、処理槽3(浄化処理システム1)の浄化処理能力を長期間に亘って維持することができる。   Furthermore, according to the treatment tank 3 and the purification treatment system 1 provided with the treatment tank 3, an air supply for supplying gas into the stored drain water W and stirring the drain water W with the gas (bubbles). By providing the “stirring mechanism” with the portion 36, the stored drain water W can be suitably stirred and brought into contact with the photocatalytic filter 33 with a relatively simple configuration. Further, since the drain water W can be agitated without disposing a movable mechanism part in a portion submerged in the stored drain water W, a complicated maintenance work is unnecessary, and the treatment tank 3 (purification treatment system 1 ) Can be maintained over a long period of time.

また、この処理槽3、および処理槽3を備えた浄化処理システム1によれば、光触媒フィルタ33を筒状(本例では、円筒形)に形成すると共に、光源ランプ34を光触媒フィルタ33の内側に配設したことにより、光源ランプ34からの紫外線を光触媒フィルタ33に対して効率良く、かつ満遍なく照射することができるため、光触媒フィルタ33の各部に光触媒反応を好適に生じさせることができる。   Further, according to the treatment tank 3 and the purification treatment system 1 including the treatment tank 3, the photocatalytic filter 33 is formed in a cylindrical shape (cylindrical in this example), and the light source lamp 34 is disposed inside the photocatalytic filter 33. Accordingly, the photocatalytic filter 33 can be efficiently and evenly irradiated with the ultraviolet rays from the light source lamp 34, so that a photocatalytic reaction can be suitably caused in each part of the photocatalytic filter 33.

さらに、この処理槽3、および処理槽3を備えた浄化処理システム1によれば、多孔質体で形成した骨材(本例では、多孔質セラミックス)に光触媒をコーティングして光触媒フィルタ33を構成したことにより、光触媒の表面積を十分に拡げることができる結果、光源ランプ34からの紫外線を光触媒に対して一層効率よく照射することができると共に、ドレン水Wを光触媒に対して効率よく接触させることができるため、一層好適に浄化することができる。また、無垢材の骨材に光触媒をコーティングした光触媒フィルタよりも軽量化することができる。   Furthermore, according to the treatment tank 3 and the purification treatment system 1 provided with the treatment tank 3, the photocatalyst filter 33 is configured by coating a photocatalyst on an aggregate (in this example, porous ceramics) formed of a porous body. As a result, the surface area of the photocatalyst can be sufficiently expanded. As a result, it is possible to more efficiently irradiate the photocatalyst with ultraviolet rays from the light source lamp 34 and to efficiently bring the drain water W into contact with the photocatalyst. Therefore, it can be purified more suitably. Further, it can be made lighter than a photocatalytic filter in which a solid aggregate is coated with a photocatalyst.

また、この浄化処理システム1によれば、処理槽3の上流側に配設された気液分離槽2を備えて、気液分離槽2において気体が分離されたドレン水Wを処理槽3によって浄化することにより、両処理槽3内に導入される以前に大きな油滴を浮上分離させることができるため、光触媒フィルタ33に目詰まりが生じる事態を招くことなく、ドレン水Wを一層好適に浄化することができる。   Further, according to the purification processing system 1, the gas-liquid separation tank 2 disposed upstream of the processing tank 3 is provided, and the drain water W from which gas has been separated in the gas-liquid separation tank 2 is discharged by the processing tank 3. By purifying, since large oil droplets can be floated and separated before being introduced into both treatment tanks 3, the drain water W is more suitably purified without causing a situation in which the photocatalytic filter 33 is clogged. can do.

なお、「浄化処理槽」および「浄化処理システム」の構成は、上記した処理槽3や浄化処理システム1の構成に限定されるものではない。例えば、第1処理槽3aおよび第2処理槽3bの2つの処理槽3を備えて構成した浄化処理システム1を例に挙げて説明したが、1つの「浄化処理槽(処理槽3)」を備えて「浄化処理システム」を構成したり、3つ以上の任意の数の「浄化処理槽(処理槽3)」を備えて「浄化処理システム」を構成したりすることができる(図示せず)。この場合、1つの「浄化処理槽」を備えて「浄化処理システム」を構成する場合には、一例として、上記の浄化処理システム1における第1処理槽3aの排水口31aに排水用配管13を接続する。また、3つ以上の複数の「浄化処理槽」を備えて「浄化処理システム」を構成する場合には、一例として、上流側の「浄化処理槽」と、下流側の「浄化処理槽」との接続関係や位置関係を、上記の浄化処理システム1における第1処理槽3aおよび第2処理槽3bの接続関係や位置関係と同様に構成する。   Note that the configurations of the “purification treatment tank” and the “purification treatment system” are not limited to the configurations of the treatment tank 3 and the purification treatment system 1 described above. For example, the purification processing system 1 including the two processing tanks 3 of the first processing tank 3a and the second processing tank 3b has been described as an example, but one “purification processing tank (processing tank 3)” is described. The “purification processing system” can be configured, or the “purification processing system” can be configured by including any number of three or more “purification processing tanks (processing tanks 3)” (not shown). ). In this case, in the case where the “purification treatment system” is configured by including one “purification treatment tank”, as an example, the drainage pipe 13 is connected to the drain port 31a of the first treatment tank 3a in the purification treatment system 1 described above. Connecting. In addition, when a “purification treatment system” is configured by including three or more “purification treatment tanks”, as an example, an upstream “purification treatment tank” and a downstream “purification treatment tank” The connection relationship and the positional relationship are configured in the same manner as the connection relationship and the positional relationship between the first treatment tank 3a and the second treatment tank 3b in the purification processing system 1 described above.

また、貯留されたドレン水W内に供給した気体によってドレン水Wを攪拌するエア供給部36を備えて「攪拌機構」を構成した例について説明したが、「攪拌機構」の構成は、この例に限定されない。例えば、図3に示す浄化処理システム1Aは、前述した浄化処理システム1における処理槽3に代えて、処理槽5(「浄化処理槽」の他の一例)を備えて構成されている。この処理槽5では、処理槽3におけるエア供給部36に代えて、モータ5bによって回転させられるプロペラ5aを備え(「攪拌機構」の他の一例)、このプロペラ5aによって、処理槽本体30内に貯留されているドレン水Wを攪拌する構成が採用されている。なお、この浄化処理システム1A、および後に説明する浄化処理システム1B,1C(図4,5参照)は、「浄化処理槽」の構成が相違する点を除き、浄化処理システム1と同様に構成されている。なお、図3では、モータ5bをプロペラ5aと共に処理槽本体30内に設置した例を図示しているが、モータ5bを処理槽本体30の外部に設置してもよい。   Moreover, although the example which comprised the air supply part 36 which stirs the drain water W with the gas supplied in the stored drain water W and comprised "stirring mechanism" was demonstrated, the structure of "stirring mechanism" is this example. It is not limited to. For example, the purification processing system 1A shown in FIG. 3 includes a treatment tank 5 (another example of “purification treatment tank”) instead of the treatment tank 3 in the purification treatment system 1 described above. The processing tank 5 includes a propeller 5a that is rotated by a motor 5b in place of the air supply unit 36 in the processing tank 3 (another example of the “stirring mechanism”). The structure which stirs the drain water W stored is employ | adopted. The purification processing system 1A and purification processing systems 1B and 1C (see FIGS. 4 and 5) described later are configured in the same manner as the purification processing system 1 except that the configuration of the “purification processing tank” is different. ing. 3 illustrates an example in which the motor 5b is installed in the processing tank body 30 together with the propeller 5a, the motor 5b may be installed outside the processing tank body 30.

また、図4に示す浄化処理システム1Bは、前述した浄化処理システム1における処理槽3に代えて、処理槽6(「浄化処理槽」のさらに他の一例)を備えて構成されている。この処理槽6では、処理槽3におけるエア供給部36や、処理槽5におけるプロペラ5aおよびモータ5bに代えて、処理槽本体30内に貯留されているドレン水Wをウォーターポンプ6bによって循環させるための循環用配管6aを備えて構成されている(「攪拌機構」のさらに他の一例)。この場合、循環用配管6aは、一例として、容器体31の底部からドレン水Wを取水して、蓋体32の導入口32aから処理槽本体30内に排水するように配管されている。   Further, the purification treatment system 1B shown in FIG. 4 is configured to include a treatment tank 6 (a further example of “purification treatment tank”) instead of the treatment tank 3 in the purification treatment system 1 described above. In this processing tank 6, instead of the air supply unit 36 in the processing tank 3, the propeller 5a and the motor 5b in the processing tank 5, the drain water W stored in the processing tank main body 30 is circulated by the water pump 6b. (A further example of the “stirring mechanism”). In this case, as an example, the circulation pipe 6 a is piped so that drain water W is taken from the bottom of the container body 31 and drained into the treatment tank body 30 from the inlet 32 a of the lid 32.

このような「攪拌機構」を備えた処理槽5,6(浄化処理システム1A,1B)においても、前述した処理槽3(浄化処理システム1)と同様にして、貯留されたドレン水Wを透過する際に紫外線がある程度減衰してしまう処理槽本体30の下方側部位において、光触媒フィルタ33の表面にドレン水Wを好適に接触させて、光触媒反応によって十分に浄化することができる。さらに、筒状の光触媒フィルタ33における内側にドレン水Wを導入すると共に、この光触媒フィルタ33の外側に位置する排水口31aからドレン水Wを排水する構成を例に挙げて説明したが、筒状の「光触媒フィルタ」の外側にドレン水Wを導入すると共に、この「光触媒フィルタ」の内側に設けた排水口からドレン水Wを排水する構成を採用することもできる。このような構成を採用した場合においても、上記の浄化処理システム1(処理槽3)と同様にドレン水Wを十分に浄化することができる。   In the treatment tanks 5 and 6 (purification treatment systems 1A and 1B) provided with such a “stirring mechanism”, the stored drain water W is permeated in the same manner as the treatment tank 3 (purification treatment system 1) described above. In this case, the drain water W can be suitably brought into contact with the surface of the photocatalyst filter 33 at the lower portion of the treatment tank body 30 where the ultraviolet rays are attenuated to some extent, and can be sufficiently purified by the photocatalytic reaction. Further, the drain water W is introduced into the inside of the cylindrical photocatalytic filter 33, and the drain water W is drained from the drain port 31a located outside the photocatalytic filter 33 as an example. It is also possible to adopt a configuration in which the drain water W is introduced outside the “photocatalytic filter” and the drain water W is drained from a drain outlet provided inside the “photocatalytic filter”. Even when such a configuration is adopted, the drain water W can be sufficiently purified in the same manner as the purification processing system 1 (processing tank 3).

また、筒状の光触媒フィルタ33を備えて構成した処理槽3,5,6を例に挙げて説明したが、図5に示す浄化処理システム1Cの処理槽7(「浄化処理槽」のさらに他の一例)のように、例えば平板状の多孔質セラミックスの表面にTiOがコーティングされて構成された光触媒フィルタ33aを備えて構成することもできる。この処理槽7(浄化処理システム1C)では、一例として、光触媒フィルタ33aによって処理槽本体30が左右方向に仕切られると共に、この光触媒フィルタ33aによって仕切られた左右方向のいずれか一方の空間(この例では、左方の空間)から他方の空間(この例では、右方の空間)に向かって光触媒フィルタ33aを通過させてドレン水Wを流動させる構成が採用されている。このような構成を採用した場合においても、処理槽本体30内の上方側において光源ランプ34からの紫外線が大きく減衰することなく光触媒フィルタ33aに照射され、この光触媒フィルタ33aの上方側部位にドレン水Wが案内されて光触媒フィルタ33aを伝って流れるため、光触媒フィルタ33aによる光触媒反応を好適に生じさせて、ドレン水Wを十分に浄化することができる。 In addition, the processing tanks 3, 5, and 6 configured with the cylindrical photocatalytic filter 33 have been described as examples. However, the processing tank 7 of the purification processing system 1C illustrated in FIG. For example, a photocatalytic filter 33a configured by coating TiO 2 on the surface of a plate-like porous ceramic can also be used. In this treatment tank 7 (purification treatment system 1C), as an example, the treatment tank main body 30 is partitioned in the left-right direction by the photocatalytic filter 33a, and one of the left and right spaces partitioned by the photocatalytic filter 33a (this example) Then, a configuration is adopted in which the drain water W flows through the photocatalytic filter 33a from the left space) toward the other space (in this example, the right space). Even in the case of adopting such a configuration, the ultraviolet light from the light source lamp 34 is irradiated to the photocatalyst filter 33a on the upper side in the processing tank body 30 without being greatly attenuated, and the drain water is applied to the upper part of the photocatalyst filter 33a. Since W is guided and flows through the photocatalytic filter 33a, the photocatalytic reaction by the photocatalytic filter 33a is preferably caused to sufficiently purify the drain water W.

さらに、多孔質セラミックスを骨材として用いた光触媒フィルタ33,33aを例に挙げて説明したが、多孔質の金属やガラス等の任意の骨材に光触媒をコーティングして「光触媒フィルタ」を構成することができる。また、処理槽本体30内に貯留されたドレン水Wが光触媒フィルタ33,33aを通過するように構成した例について説明したが、「処理対象液」が「光触媒フィルタ」の表面に接するだけで、「処理対象液」の一部または全部が「光触媒フィルタ」を通過しないように構成することもできる。このような構成を採用する場合には、その表面に微細凹凸が形成された骨材(例えば「独立気泡性の原体を焼結して形成した多孔質セラミックス」で形成した骨材)を用いて形成した「光触媒フィルタ」を採用することで、光触媒の表面積が広い分だけ、「処理対象液」を好適に浄化することができる。   Furthermore, the photocatalytic filter 33, 33a using porous ceramics as an aggregate has been described as an example. However, a photocatalyst is coated on an arbitrary aggregate such as porous metal or glass to constitute a “photocatalytic filter”. be able to. Moreover, although the example which comprised the drain water W stored in the processing tank main body 30 passing the photocatalyst filters 33 and 33a was demonstrated, only "the process target liquid" touches the surface of the "photocatalyst filter", A part or all of the “treatment target liquid” may be configured not to pass through the “photocatalytic filter”. When such a configuration is adopted, an aggregate having fine irregularities formed on its surface (for example, an aggregate formed of “porous ceramic formed by sintering a closed cell base material”) is used. By adopting the “photocatalyst filter” formed in this way, it is possible to suitably purify the “treatment target liquid” by the amount of the large surface area of the photocatalyst.

この場合、処理対象液が光触媒フィルタを通過しない構成においては、「光触媒フィルタ」の全体を「光触媒」で構成することもできるし、また、金属、セラミックスおよびガラス等で形成した無垢材(多孔質ではない骨材)の表面に光触媒をコーティングして「光触媒フィルタ」を構成することもできる。なお、「光触媒フィルタ」の全体を「光触媒」で構成したり、任意の無垢材に光触媒をコーティングして「光触媒フィルタ」を構成したりする場合には、これらの「光触媒フィルタ」の表面を凹凸させることで、「光触媒」の表面積を拡げるのが好ましい。   In this case, in the configuration in which the liquid to be treated does not pass through the photocatalytic filter, the entire “photocatalytic filter” can be configured by “photocatalyst”, or a solid material (porous material formed of metal, ceramics, glass, etc.) The photocatalyst may be coated on the surface of the aggregate (not aggregate) to form a “photocatalytic filter”. When the entire “photocatalyst filter” is composed of “photocatalyst” or the photocatalyst filter is formed by coating photocatalyst on any solid material, the surface of these “photocatalyst filters” is uneven. It is preferable to increase the surface area of the “photocatalyst”.

また、直管型の光源を有する光源ランプ34に代えて、球状の光源ランプを有する「光源ランプ」(図示せず)を採用することもできる。このような「光源ランプ」を採用する場合には、「光源ランプ」の全体が、貯水されているドレン水Wから露出するように「処理槽本体」内に設置するのが好ましい。また、気液分離槽2を備えて構成した浄化処理システム1,1A〜1Cを例に挙げて説明したが、「気液分離槽」を設けることなく「浄化処理システム」を構成することもできる。加えて、濾過フィルタや吸着フィルタ等の各種フィルタと、本願発明に係る「浄化処理槽」とを相互に接続して「浄化処理システム」を構成することもできる。   Further, instead of the light source lamp 34 having a straight tube type light source, a “light source lamp” (not shown) having a spherical light source lamp may be employed. When such a “light source lamp” is employed, it is preferable that the “light source lamp” is installed in the “treatment tank body” so as to be exposed from the drain water W stored. Further, the purification processing systems 1 and 1A to 1C configured to include the gas-liquid separation tank 2 have been described as examples. However, the “purification processing system” can be configured without providing the “gas-liquid separation tank”. . In addition, a “purification processing system” can be configured by mutually connecting various filters such as a filtration filter and an adsorption filter and the “purification processing tank” according to the present invention.

1,1A〜1C 浄化処理システム
2 気液分離槽
3a 第1処理槽
3b 第2処理槽
4 エアーポンプ
4a エアーホース
5〜7 処理槽
5a プロペラ
5b モータ
6a 循環用配管
6b ウォーターポンプ
20,30 処理槽本体
31 容器体
31a 排水口
32 蓋体
32a 導入口
33,33a 光触媒フィルタ
34 光源ランプ
35 導水板
36 エア供給部
W ドレン水
1, 1A-1C Purification treatment system 2 Gas-liquid separation tank 3a First treatment tank 3b Second treatment tank 4 Air pump 4a Air hose 5-7 Treatment tank 5a Propeller 5b Motor 6a Circulation piping 6b Water pump 20, 30 Treatment tank Main body 31 Container body 31a Drain port 32 Cover body 32a Inlet port 33, 33a Photocatalytic filter 34 Light source lamp 35 Water guide plate 36 Air supply unit W Drain water

Claims (7)

処理対象液を貯留可能に構成された処理槽本体と、少なくともその表面部位に光触媒が配設されて前記処理槽本体内に収容された光触媒フィルタと、前記光触媒フィルタに紫外線を照射する光源ランプとを備えた浄化処理槽であって、
前記処理槽本体は、貯留した前記処理対象液に前記光触媒フィルタにおける下方側部位が浸り、かつ当該貯留した処理対象液の液面よりも上方に当該光触媒フィルタにおける上方側部位が位置するように当該光触媒フィルタを収容可能に構成されると共に、当該処理槽本体内に導入された前記処理対象液を前記光触媒フィルタにおける前記上方側部位に案内する案内機構を備えて構成され、
前記光源ランプは、前記処理槽本体内に貯留された前記処理対象液の液面よりも上方に当該光源ランプにおける少なくとも一部が位置するように当該処理槽本体内に収容されている浄化処理槽。
A treatment tank main body configured to be able to store a liquid to be treated; a photocatalyst filter disposed at least on the surface of the treatment tank and housed in the treatment tank main body; and a light source lamp for irradiating the photocatalyst filter with ultraviolet rays A purification treatment tank comprising:
The processing tank main body has a lower part of the photocatalytic filter immersed in the stored processing target liquid, and an upper part of the photocatalytic filter is positioned above the liquid level of the stored processing target liquid. The photocatalytic filter is configured to be accommodated, and includes a guide mechanism that guides the processing target liquid introduced into the processing tank body to the upper side portion of the photocatalytic filter,
The said light source lamp is the purification processing tank accommodated in the said processing tank main body so that at least one part in the said light source lamp may be located above the liquid level of the said process target liquid stored in the said processing tank main body .
前記処理槽本体内に貯留された前記処理対象液を攪拌する攪拌機構を備えている請求項1記載の浄化処理槽。   The purification processing tank according to claim 1, further comprising an agitation mechanism for agitating the processing target liquid stored in the processing tank main body. 前記攪拌機構は、前記貯留された処理対象液内に気体を供給して当該供給した気体によって当該処理対象液を攪拌する気体供給機構を備えて構成されている請求項2記載の浄化処理槽。   The purification processing tank according to claim 2, wherein the stirring mechanism includes a gas supply mechanism that supplies a gas into the stored processing target liquid and stirs the processing target liquid with the supplied gas. 前記光触媒フィルタは、筒状に形成され、
前記光源ランプは、前記光触媒フィルタの内側に配設されている請求項1から3のいずれかに記載の浄化処理槽。
The photocatalytic filter is formed in a cylindrical shape,
The purification lamp according to any one of claims 1 to 3, wherein the light source lamp is disposed inside the photocatalytic filter.
前記光触媒フィルタは、多孔質体で形成された骨材に前記光触媒がコーティングされて構成されている請求項1から4のいずれかに記載の浄化処理槽。   The said photocatalyst filter is a purification processing tank in any one of Claim 1 to 4 with which the said photocatalyst is coated by the aggregate formed with the porous body. 請求項1から5のいずれかに記載の浄化処理槽を備えて前記処理対象液を浄化可能に構成されている浄化処理システム。   A purification processing system comprising the purification treatment tank according to any one of claims 1 to 5 and configured to purify the liquid to be treated. 前記浄化処理槽の上流側に配設された気液分離槽を備え、当該気液分離槽において気体が分離された前記処理対象液を前記浄化処理槽によって浄化する請求項6記載の浄化処理システム。   The purification processing system of Claim 6 provided with the gas-liquid separation tank arrange | positioned in the upstream of the said purification processing tank, and purifying the said process target liquid from which the gas was isolate | separated in the said gas-liquid separation tank with the said purification processing tank. .
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN108373186A (en) * 2018-05-12 2018-08-07 王国强 A kind of visible light catalytic sewage disposal device
KR102621349B1 (en) * 2022-11-26 2024-01-04 장현실 Eco-friendly road spray system including gravel filter device

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