JP2012215498A - Magnetic sensor - Google Patents

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Hirobumi Fukumoto
博文 福本
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a magnetic sensor having a hall element, capable of removing an offset voltage and flicker noise contained in output voltage of the hall element in a signal processing circuit having a simple circuit configuration.SOLUTION: A hall plate H is formed by a bipolar material capable of making the kind of the carrier of a current flowing through the hole plate H either an electron or a hole according to the potential Vg of a gate electrode G. Further, input/output terminals TA, TA', TB, TB' become a current input terminal pair and a voltage output terminal pair opposing in the face of the hole plate H. At that time, the current input terminal pair and voltage output terminal pair are formed at a position where they orthogonally intersect with each other.

Description

本発明は、磁気センサに関し、特にホール効果を用いて磁界の強度を検出するホール素子を有する磁気センサに関する。   The present invention relates to a magnetic sensor, and more particularly to a magnetic sensor having a Hall element that detects the strength of a magnetic field using the Hall effect.

磁界の強度を検出する磁気センサの一つとして、ホール効果を用いて磁界の強度を検出するホール素子を有する磁気センサが一般に知られている。このホール効果とは、磁界中を移動する電子または正孔が、磁界の方向と電子または正孔の移動方向とのそれぞれに対して垂直方向に働く力を受けることによって、電圧が生じる現象である。
ここで、図5を参照して、従来技術における一般的なホール素子100の機略構成・動作を説明する。図5に示すホール素子100は、一般的にホール効果を有するホールプレートHと、その中心を軸として4回対称になるような位置に4つの入出力端子TA,TA’,TB,TB’を備えて構成される。なお、印加される磁界の向きは、紙面に垂直な方向として説明する。
As one of magnetic sensors for detecting the strength of a magnetic field, a magnetic sensor having a Hall element that detects the strength of a magnetic field using the Hall effect is generally known. The Hall effect is a phenomenon in which a voltage is generated when electrons or holes moving in a magnetic field receive a force acting in a direction perpendicular to the direction of the magnetic field and the direction of movement of the electrons or holes. .
Here, with reference to FIG. 5, the general configuration and operation of a general Hall element 100 in the prior art will be described. The Hall element 100 shown in FIG. 5 generally has a Hall plate H having a Hall effect and four input / output terminals TA, TA ′, TB, TB ′ at positions that are four-fold symmetric about the center thereof. It is prepared for. The direction of the applied magnetic field will be described as a direction perpendicular to the paper surface.

ホールプレートHは、ホール効果を有する材質を用いて形成される。また、入出力端子TA,TA’,TB,TB’は、入出力端子TAと入出力端子TA’とが組になっており、また入出力端子TBと入出力端子TB’とが組になっている。ホール素子100は、入出力端子TA,TA’,TB,TB’のうちの、電子または正孔の移動方向に対応する2つの入出力端子(以下、「電流入力端子対」という。)間に電流を流すことで、電子または正孔の移動方向と直交する方向の他の2つの入出力端子(以下、「電圧出力端子対」という。)間に印加された磁界に応じた電位差を出力する。例えば、ホール素子100は、電流入力端子対TA−TA’間に電流を流すことで、電圧出力端子対TB−TB’間に、印加された磁界に応じた電位差が出力される。   The hall plate H is formed using a material having a hall effect. The input / output terminals TA, TA ′, TB, TB ′ are a set of the input / output terminal TA and the input / output terminal TA ′, and the input / output terminal TB and the input / output terminal TB ′. ing. The Hall element 100 is between two input / output terminals (hereinafter referred to as “current input terminal pair”) corresponding to the moving direction of electrons or holes among the input / output terminals TA, TA ′, TB, TB ′. By supplying a current, a potential difference corresponding to the magnetic field applied between the other two input / output terminals (hereinafter referred to as “voltage output terminal pair”) in the direction orthogonal to the moving direction of electrons or holes is output. . For example, the Hall element 100 outputs a potential difference according to the applied magnetic field between the voltage output terminal pair TB-TB 'by causing a current to flow between the current input terminal pair TA-TA'.

この電圧出力端子対間に出力される電位差は、印加された磁界の磁束密度に比例し、理想的には磁束密度がゼロである時にゼロである。しかしながら、ホール素子100の製造プロセスのバラツキ等により磁束密度がゼロであっても、電圧出力端子対間に出力される電位差がゼロにならず、電位差にいわゆるオフセット電圧が生じることが多い。
このオフセット電圧を除去する方法としては、スピニングカレント法が一般的に用いられている(特許文献1参照)。この方法では、ホール素子100の電流入力端子対と電圧出力端子対とを交互に切り替える。これにより、電流入力端子対と電圧出力端子対とを交互に切り替える前後のオフセット電圧を逆相の関係にして、オフセット電圧を除去する。これは、ホイートストンブリッジを非平衡状態にするのに似ている。
The potential difference output between the voltage output terminal pair is proportional to the magnetic flux density of the applied magnetic field, and is ideally zero when the magnetic flux density is zero. However, even if the magnetic flux density is zero due to variations in the manufacturing process of the Hall element 100, the potential difference output between the pair of voltage output terminals does not become zero, and a so-called offset voltage often occurs in the potential difference.
As a method for removing the offset voltage, a spinning current method is generally used (see Patent Document 1). In this method, the current input terminal pair and the voltage output terminal pair of the Hall element 100 are alternately switched. As a result, the offset voltage is removed by making the offset voltage before and after switching the current input terminal pair and the voltage output terminal pair alternately in a reverse phase relationship. This is similar to making the Wheatstone bridge non-equilibrium.

ここで、ホール素子100のホール係数をRhとし、ホールプレートHの厚さをdとし、電流入力端子対間に流れる電流の電流値をIとし、電圧出力端子対間に印加された磁界の磁束密度をBとし、オフセット電圧をVoffとする。すると、電流入力端子対TA−TA’間に電流値Iの電流を流した時の電圧出力端子対TB−TB’間に出力される電位差V1を、下記の式(1)に示す式のように表すことができる。また、電流入力端子対TA−TA’と電圧出力端子対TB−TB’とを切り替えて、電流入力端子対TB−TB’間に電流値Iの電流を流した時の電圧出力端子対TA−TA’間に出力される電位差V2を、下記の式(2)に示す式のように表すことができる。
V1=Rh/d × I ×B + Voff ……式(1)
V2=Rh/d × I ×B − Voff ……式(2)
Here, the Hall coefficient of the Hall element 100 is Rh, the thickness of the Hall plate H is d, the current value of the current flowing between the current input terminal pair is I, and the magnetic flux of the magnetic field applied between the voltage output terminal pair. The density is B and the offset voltage is Voff. Then, the potential difference V1 output between the voltage output terminal pair TB-TB ′ when the current of the current value I is passed between the current input terminal pair TA-TA ′ is expressed by the following equation (1). Can be expressed as Further, when the current input terminal pair TA-TA ′ and the voltage output terminal pair TB-TB ′ are switched and a current having a current value I flows between the current input terminal pair TB-TB ′, the voltage output terminal pair TA− The potential difference V2 output between TA ′ can be expressed as the following equation (2).
V1 = Rh / d × I × B + Voff (1)
V2 = Rh / d × I × B−Voff (2)

従って、電圧出力端子対TB−TB’間に出力される電位差V1と、電圧出力端子対TA−TA’間に出力される電位差V2とを足し合わせることにより、オフセット電圧Voffを除去することができる。この時に、強度がホール素子100から出力された出力電圧(信号)の周波数に反比例するノイズ成分であるフリッカノイズも除去することができる。このようにして、オフセット電圧Voff及びフリッカノイズを除去することで、磁束密度Bに比例した磁界に応じた電位差を得ることができる。   Therefore, the offset voltage Voff can be removed by adding the potential difference V1 output between the voltage output terminal pair TB-TB ′ and the potential difference V2 output between the voltage output terminal pair TA-TA ′. . At this time, flicker noise that is a noise component whose intensity is inversely proportional to the frequency of the output voltage (signal) output from the Hall element 100 can also be removed. Thus, by removing the offset voltage Voff and flicker noise, a potential difference corresponding to the magnetic field proportional to the magnetic flux density B can be obtained.

特開2001−337147号公報JP 2001-337147 A

しかしながら、上記のスピニングカレント法を用いたホール素子100では、入出力端子TA,TA’,TB,TB’を、電流入力端子対と電圧出力端子対とに交互に切り替えた時に、ホールプレートHの内部を流れる電流の領域が中央部を除いて異なる。このため、オフセット電圧及びフリッカノイズを十分に除去することができない場合があった。
また、上記のホール素子100では、ホール素子の4つの入出力端子TA,TA’,TB,TB’に対して、それぞれを電流入力端子対または電圧出力端子対として切り替えて使用するためのスイッチング素子を含むスイッチング回路を設ける必要がある。従って、ホール素子100の信号処理を行う信号処理回路は、スイッチング回路の制御も行わなければならないため、その分だけ信号処理回路の回路構成が複雑になる場合があった。
そこで、本発明は、上記の課題に鑑み、ホール素子を有する磁気センサにおいて、簡易な回路構成である信号処理回路で、ホール素子の出力電圧に含まれるオフセット電圧及びフリッカノイズを除去することのできる磁気センサを提供することを目的とする。
However, in the Hall element 100 using the spinning current method described above, when the input / output terminals TA, TA ′, TB, TB ′ are alternately switched between the current input terminal pair and the voltage output terminal pair, The region of the current flowing inside is different except for the central part. For this reason, the offset voltage and flicker noise may not be sufficiently removed.
In the Hall element 100 described above, switching elements for switching the four input / output terminals TA, TA ′, TB, TB ′ of the Hall element to be used as current input terminal pairs or voltage output terminal pairs are used. It is necessary to provide a switching circuit including Therefore, since the signal processing circuit that performs signal processing of the Hall element 100 must also control the switching circuit, the circuit configuration of the signal processing circuit may be complicated accordingly.
Therefore, in view of the above problems, the present invention can remove an offset voltage and flicker noise included in an output voltage of a Hall element with a signal processing circuit having a simple circuit configuration in a magnetic sensor having a Hall element. An object is to provide a magnetic sensor.

本発明による発振器は、上記の目的を達成するために、次のように構成される。
本発明による第1の磁気センサは、ホール効果を有するホールプレートと、前記ホールプレートと電気的に接続されるように形成された入出力端子と、前記ホールプレートの上部または下部の少なくとも一方に絶縁膜を介して形成されたゲート電極とからなるホール素子を備え、前記ホールプレートは、前記ホールプレートを移動するキャリアの種類を、前記ゲート電極の電位により電子または正孔のいずれか一方に変更することが可能な両極性材料を用いて形成され、前記入出力端子は、前記ホールプレートの面内で互いにそれぞれ対向し合う2組の入出力端子であって、一方の組の入出力端子が電流入力端子対になり、他方の組の入出力端子が電圧出力端子対になり、前記電流入出力端子対と前記電圧出力端子対とが互いに直交するような位置に形成されたことを特徴とする。
In order to achieve the above object, an oscillator according to the present invention is configured as follows.
A first magnetic sensor according to the present invention includes a Hall plate having a Hall effect, an input / output terminal formed to be electrically connected to the Hall plate, and at least one of an upper portion and a lower portion of the Hall plate. A Hall element comprising a gate electrode formed through a film, wherein the Hall plate changes the type of carrier moving through the Hall plate to either an electron or a hole depending on the potential of the gate electrode. The input / output terminals are two sets of input / output terminals facing each other in the plane of the hall plate, and one set of input / output terminals is a current. It becomes an input terminal pair, the other input / output terminal is a voltage output terminal pair, and the current input / output terminal pair and the voltage output terminal pair are orthogonal to each other. Characterized in that it is formed at a position.

上記の第1の磁気センサによれば、ホールプレートが両極性材料を用いて形成される。このため、ホールプレートを移動するキャリアを、ゲート電極に印加する電圧により電子または正孔のいずれか一方に変えて、電圧出力端子対に出力される電位差の極性を反転させることができる。但し、ホールプレートに磁界が印加された状態でゲート電極に印加する電圧によりキャリアの種類を変更した時に、電圧出力端子対に出力される電位差は位相が反転するが、オフセット電圧は位相が反転しない。
従って、ホールプレートを移動するキャリアの種類を変更する前後の電圧出力端子対間に出力される電位差の差分をとることにより、電圧出力端子対間に出力される電位差に含まれるオフセット電圧及びフリッカノイズを容易に除去することが可能となる。
According to the first magnetic sensor, the hall plate is formed using the bipolar material. For this reason, the polarity of the potential difference output to the voltage output terminal pair can be reversed by changing the carriers moving through the Hall plate to either electrons or holes according to the voltage applied to the gate electrode. However, when the carrier type is changed by the voltage applied to the gate electrode while the magnetic field is applied to the Hall plate, the phase of the potential difference output to the voltage output terminal pair is reversed, but the phase of the offset voltage is not reversed. .
Therefore, the offset voltage and flicker noise included in the potential difference output between the voltage output terminal pair are obtained by taking the difference in potential difference output between the voltage output terminal pair before and after changing the type of carrier moving on the Hall plate. Can be easily removed.

本発明による第2の磁気センサは、前記ゲート電極のゲート電圧を制御するゲート電圧制御回路を備えることを特徴とする。
上記の第2の磁気センサによれば、ゲート電圧制御回路が、ゲート電極のゲート電圧を変調することが可能となる。
The second magnetic sensor according to the present invention includes a gate voltage control circuit for controlling a gate voltage of the gate electrode.
According to the second magnetic sensor, the gate voltage control circuit can modulate the gate voltage of the gate electrode.

本発明による第3の磁気センサは、前記ゲート電極は、前記ホールプレートを挟み込むように、当該ホールプレートの上部に形成されたゲート電極と、当該ホールプレートの下部に形成されたゲート電極とからなり、前記ゲート電圧制御回路は、前記ホールプレートの上部に形成されたゲート電極のゲート電圧と、前記ホールプレートの下部に形成されたゲート電極のゲート電圧とを個別に制御することを特徴とすることを特徴とする。   In a third magnetic sensor according to the present invention, the gate electrode includes a gate electrode formed on an upper portion of the hole plate and a gate electrode formed on a lower portion of the hole plate so as to sandwich the hole plate. The gate voltage control circuit individually controls the gate voltage of the gate electrode formed on the upper part of the Hall plate and the gate voltage of the gate electrode formed on the lower part of the Hall plate. It is characterized by.

上記の第3の磁気センサによれば、ゲート電圧制御回路が、2つのゲート電極のゲート電圧を、個別に変調することが可能となる。また、ゲート電圧制御回路が、ホールプレートと電気的に接続された入力電流端子の電位に対するゲート電極の電圧と、ホールプレートの面に対して垂直方向の電界の強度とを、個別に制御することが可能となる。
本発明による第4の磁気センサは、クロックを生成するクロック生成回路を備え、前記クロック生成回路により生成されたクロックが前記ゲート電圧制御回路に入力され、当該クロックに同期して前記ゲート電圧制御回路により前記ゲート電圧が変調されることによって、前記電圧出力端子対間に出力される電位差が交流信号に変換されることを特徴とする。
According to the third magnetic sensor, the gate voltage control circuit can individually modulate the gate voltages of the two gate electrodes. In addition, the gate voltage control circuit individually controls the voltage of the gate electrode with respect to the potential of the input current terminal electrically connected to the Hall plate and the strength of the electric field perpendicular to the surface of the Hall plate. Is possible.
A fourth magnetic sensor according to the present invention includes a clock generation circuit for generating a clock, the clock generated by the clock generation circuit is input to the gate voltage control circuit, and the gate voltage control circuit is synchronized with the clock. The potential difference output between the voltage output terminal pair is converted into an AC signal by modulating the gate voltage by.

上記の第4の磁気センサによれば、クロック生成回路から生成されたクロックによってゲート電極に印加する交流電圧が変調され、出力される。これにより、ホール素子から出力された出力電圧を交流信号に変換することが可能となる。フィルタ回路等で電圧出力端子対に出力された電位差から直流成分を除去し、交流成分のみを抽出することにより、オフセット電圧及びフリッカノイズを除去することができる。   According to the fourth magnetic sensor, the AC voltage applied to the gate electrode is modulated and output by the clock generated from the clock generation circuit. Thereby, the output voltage output from the Hall element can be converted into an AC signal. By removing the DC component from the potential difference output to the voltage output terminal pair by a filter circuit or the like and extracting only the AC component, the offset voltage and flicker noise can be removed.

本発明による第5の磁気センサは、前記電流入力端子対間に印加する電圧が一定値になるように制御する定電圧回路を備えることを特徴とする。
上記の第5の磁気センサによれば、定電圧回路が、電流入力端子対間に印加される電圧が一定値にすることが可能となる。
The fifth magnetic sensor according to the present invention includes a constant voltage circuit that controls the voltage applied between the pair of current input terminals to be a constant value.
According to the fifth magnetic sensor, the constant voltage circuit can make the voltage applied between the pair of current input terminals constant.

本発明による第6の磁気センサは、前記電流入力端子対間に流れる電流が一定値になるように制御する定電流回路を備えることを特徴とする。
上記の第6の磁気センサによれば、定電流回路が、ホールプレートを流れる電流が一定値になるように制御する。オフセット電圧は、電流入力端子対間に流す電流値に依存する。しかしながら、電流入力端子対間に流す電流値が一定値であれば、オフセット電圧はキャリアの種類によらず同じにすることが可能となる。
A sixth magnetic sensor according to the present invention includes a constant current circuit that controls a current flowing between the pair of current input terminals to be a constant value.
According to the sixth magnetic sensor, the constant current circuit controls the current flowing through the Hall plate to be a constant value. The offset voltage depends on the current value flowing between the current input terminal pair. However, if the current value flowing between the pair of current input terminals is a constant value, the offset voltage can be made the same regardless of the type of carrier.

本発明による第7の磁気センサは、前記ホールプレートは、材料にグラフェンを用いて形成されたグラフェン層であって、当該グラフェン層の層数が単層または複層で形成されたことを特徴とする。
上記の第7の磁気センサによれば、ホールプレートが、グラフェンを用いて形成された単層または複層のグラフェン層で形成される。単層のグラフェン層は、バンドギャップがゼロの半導体である。これにより、ゲート電極に印加する電圧によって、電圧出力端子対に出力される電位差の極性を容易に反転することができる。このため、ゲート電圧に対するキャリアの濃度及び電流量を、電子と正孔の濃度が等しいディラックポイントを中心にして、その前後で同じになるようにすることが可能となる。
A seventh magnetic sensor according to the present invention is characterized in that the hole plate is a graphene layer formed using graphene as a material, and the number of the graphene layers is a single layer or a plurality of layers. To do.
According to the seventh magnetic sensor, the hole plate is formed of a single-layer or multi-layer graphene layer formed using graphene. A single graphene layer is a semiconductor having a zero band gap. Thereby, the polarity of the potential difference output to the voltage output terminal pair can be easily reversed by the voltage applied to the gate electrode. Therefore, the carrier concentration and the current amount with respect to the gate voltage can be made the same before and after the Dirac point where the electron and hole concentrations are equal.

本発明による第8の磁気センサは、前記ホールプレートは、材料にグラフェンを用いて形成されたグラフェン層であって、当該グラフェン層の層数が2層で形成されたことを特徴とする。
上記の第8の磁気センサによれば、ホールプレートが、グラフェンを用いて形成された2層のグラフェン層で形成される。2層のグラフェン層は、2つのゲート電極によりグラフェン層の面に対して垂直方向に電界が印加された時に、バンドギャップが形成される。これにより、電荷中性点でのキャリアの濃度を低減することできる。このため、磁気センサの出力の温度特性を改善することが可能となる。
An eighth magnetic sensor according to the present invention is characterized in that the hole plate is a graphene layer formed using graphene as a material, and the number of the graphene layers is two.
According to the eighth magnetic sensor, the hole plate is formed of two graphene layers formed using graphene. In the two graphene layers, a band gap is formed when an electric field is applied in a direction perpendicular to the surface of the graphene layer by two gate electrodes. Thereby, the carrier concentration at the charge neutral point can be reduced. For this reason, it becomes possible to improve the temperature characteristic of the output of a magnetic sensor.

本発明による第9の磁気センサは、前記ホール素子の信号処理を行う信号処理回路と前記ホールプレートとは、同一の半導体基板上に形成されたことを特徴とする。
上記の第9の磁気センサによれば、一つの半導体基板上に、検出素子であるホール素子と、そのホール素子の信号処理を行うための信号処理回路とを形成する。これにより、ホール素子と信号処理回路とを別々の半導体基板上に形成した時よりも、磁気センサのサイズを小型化することが可能となる。
A ninth magnetic sensor according to the present invention is characterized in that the signal processing circuit for performing signal processing of the Hall element and the Hall plate are formed on the same semiconductor substrate.
According to the ninth magnetic sensor, the Hall element as the detection element and the signal processing circuit for performing signal processing of the Hall element are formed on one semiconductor substrate. Thereby, the size of the magnetic sensor can be reduced as compared with the case where the Hall element and the signal processing circuit are formed on separate semiconductor substrates.

本発明の磁気センサによれば、従来より簡易な構成の信号処理回路で、ホール素子の出力電圧に含まれるオフセット電圧及びフリッカノイズを容易に除去することができる。   According to the magnetic sensor of the present invention, the offset voltage and flicker noise included in the output voltage of the Hall element can be easily removed with a signal processing circuit having a simpler configuration than the conventional one.

本発明の実施形態に係る磁気センサ10の回路構成を示すブロック図である。1 is a block diagram showing a circuit configuration of a magnetic sensor 10 according to an embodiment of the present invention. 本発明の実施形態に係る磁気センサ10が有するホール素子11を上面から見た時の上面図である。It is a top view when the Hall element 11 which the magnetic sensor 10 which concerns on embodiment of this invention has is seen from the upper surface. ホール素子11の断面線A−Aにおける断面を表す断面図である。3 is a cross-sectional view illustrating a cross section of the hall element 11 taken along a cross-sectional line AA. FIG. 電流入力端子対TA−TA’間に電圧を印加した時の、ゲート電極Gに印加するゲート電圧Vgと、電流入力端子対TA−TA'間に流れる電流Idとの関係を示すグラフである。6 is a graph showing a relationship between a gate voltage Vg applied to a gate electrode G and a current Id flowing between the current input terminal pair TA-TA ′ when a voltage is applied between the current input terminal pair TA-TA ′. 一般的なホール素子100を上面から見たときのホール素子100の機略構造を示す模式図である。FIG. 3 is a schematic diagram showing a schematic structure of the Hall element 100 when a general Hall element 100 is viewed from above.

以下、添付図面を参照しながら、本発明の磁気センサの好適な実施形態を詳細に説明する。なお、図面の説明において、同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。
(磁気センサ10の回路構成)
まず、図1を参照して、本発明の実施形態に係る磁気センサ10の回路構成を説明する。図1は、本発明の実施形態に係る磁気センサ10の回路構成を示すブロック図である。
Hereinafter, preferred embodiments of a magnetic sensor of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the description of the drawings, the same elements are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted.
(Circuit configuration of the magnetic sensor 10)
First, a circuit configuration of a magnetic sensor 10 according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a block diagram showing a circuit configuration of a magnetic sensor 10 according to an embodiment of the present invention.

図1に示す磁気センサ10は、ホール素子11と、クロック生成回路12と、ゲート電圧制御回路13と、定電圧回路15と、定電流回路16と、フィルタ17と、復調回路18とを備えて構成される。
ホール素子11は、ホール素子100と同様に、ホール効果を用いて磁界の強度を検出する検出素子である。
The magnetic sensor 10 shown in FIG. 1 includes a Hall element 11, a clock generation circuit 12, a gate voltage control circuit 13, a constant voltage circuit 15, a constant current circuit 16, a filter 17, and a demodulation circuit 18. Composed.
Similar to the Hall element 100, the Hall element 11 is a detection element that detects the strength of the magnetic field using the Hall effect.

クロック生成回路12は、ゲート電圧制御回路13がホール素子11に出力するゲート電圧を変調する処理と、復調回路18がフィルタ17を介してホール素子11から出力された出力電圧を復調する処理との同期をとるためのクロックを生成する。
ゲート電圧制御回路13は、変調回路を兼ねており、クロック生成回路12により生成されたクロックに同期して、後述するゲート電極のゲート電圧を変調する。これによって、ホール素子11の電圧出力端子対TB−TB’間に出力される電位差も変調される。
The clock generation circuit 12 includes a process of modulating the gate voltage output to the Hall element 11 by the gate voltage control circuit 13 and a process of demodulating the output voltage output from the Hall element 11 through the filter 17 by the demodulation circuit 18. Generate a clock to synchronize.
The gate voltage control circuit 13 also serves as a modulation circuit, and modulates the gate voltage of a gate electrode described later in synchronization with the clock generated by the clock generation circuit 12. As a result, the potential difference output between the voltage output terminal pair TB-TB ′ of the Hall element 11 is also modulated.

定電圧回路15は、ゲート電圧制御回路13によりホール素子11に入力されるゲート電圧が変調される時に、ホール素子11の入力電流端子対TA−TA’間を流れる電圧が一定値になるように制御する。
定電流回路16は、ゲート電圧制御回路13によりホール素子11に入力されるゲート電圧が変調される時に、ホール素子11の入力電流端子対TA−TA’間を流れる電流が一定値になるように制御する。また、定電流回路16は、ホール素子11に入力されるゲート電圧の値も制御する。
The constant voltage circuit 15 is configured such that when the gate voltage input to the Hall element 11 is modulated by the gate voltage control circuit 13, the voltage flowing between the input current terminal pair TA-TA ′ of the Hall element 11 becomes a constant value. Control.
The constant current circuit 16 adjusts the current flowing between the input current terminal pair TA-TA ′ of the Hall element 11 to a constant value when the gate voltage input to the Hall element 11 is modulated by the gate voltage control circuit 13. Control. The constant current circuit 16 also controls the value of the gate voltage input to the Hall element 11.

フィルタ17は、ホール素子11の電圧出力端子対TB−TB’間に出力される電位差から、オフセット電圧(直流成分)を除去して、変調されている交流信号の周波数成分(交流成分)のみを抽出する。
復調回路18は、クロック生成回路12により生成されたクロックに同期して、変調されている交流信号を復調して、ホール素子11に印加された磁界の磁束密度に比例した電位差を出力する。
The filter 17 removes the offset voltage (DC component) from the potential difference output between the voltage output terminal pair TB-TB ′ of the Hall element 11 and only the frequency component (AC component) of the modulated AC signal. Extract.
The demodulating circuit 18 demodulates the modulated AC signal in synchronization with the clock generated by the clock generating circuit 12 and outputs a potential difference proportional to the magnetic flux density of the magnetic field applied to the Hall element 11.

上記のゲート電圧制御回路13と、定電圧回路15と、定電流回路16とが、ホール素子11の動作を制御する制御回路19として機能する。さらに、クロック生成回路12と、フィルタ17と、復調回路18と、制御回路19とが、ホール素子11の信号処理を行う信号処理回路として機能する。また、上記のホール素子11は、その信号処理回路が形成された図示しない半導体基板上に形成される。ホール素子11と信号処理回路とを別々の半導体基板上に形成した時よりも、磁気センサ10のサイズの小型化を図ることができる。   The gate voltage control circuit 13, the constant voltage circuit 15, and the constant current circuit 16 function as a control circuit 19 that controls the operation of the Hall element 11. Further, the clock generation circuit 12, the filter 17, the demodulation circuit 18, and the control circuit 19 function as a signal processing circuit that performs signal processing of the Hall element 11. The Hall element 11 is formed on a semiconductor substrate (not shown) on which the signal processing circuit is formed. The size of the magnetic sensor 10 can be reduced as compared with the case where the Hall element 11 and the signal processing circuit are formed on separate semiconductor substrates.

(ホール素子11の積層構造)
続いて、図2及び図3を参照して、磁気センサ10が有するホール素子11の積層構造を説明する。
図2は、本発明の実施形態に係る磁気センサ10が有するホール素子11を上面から見た時の上面図である。また、図3は、ホール素子11の断面線A−Aにおける断面を表す断面図である。
(Laminated structure of Hall element 11)
Next, a stacked structure of the Hall elements 11 included in the magnetic sensor 10 will be described with reference to FIGS.
FIG. 2 is a top view when the Hall element 11 included in the magnetic sensor 10 according to the embodiment of the present invention is viewed from above. FIG. 3 is a cross-sectional view showing a cross section of the hall element 11 taken along a cross-sectional line AA.

図2及び図3に示すホール素子11は、半導体基板21と、絶縁膜22と、ホールプレートHと、ゲート電極Gと、入出力端子TA,TA’,TB,TB’を備えて構成される。
半導体基板21としては、シリコン(Si)、炭化ケイ素(SiC)等の材料を用いて形成される。なお、半導体基板21は、半導体デバイスの製造で用いられる一般的な材料を用いて形成することができるが、シリコンを用いて形成されたシリコン基板が特に好ましい。
2 and 3 includes a semiconductor substrate 21, an insulating film 22, a hole plate H, a gate electrode G, and input / output terminals TA, TA ′, TB, and TB ′. .
The semiconductor substrate 21 is formed using a material such as silicon (Si) or silicon carbide (SiC). The semiconductor substrate 21 can be formed using a general material used in the manufacture of semiconductor devices, but a silicon substrate formed using silicon is particularly preferable.

絶縁膜22は、酸化シリコン、窒化シリコン、六方晶窒化ホウ素、アルミナ、ハフニア、ジルコニア、イットリア等の半導体デバイスの製造で用いられる周知の材料を用いて形成される。絶縁膜22は、六方晶窒化ホウ素を用いて形成された六方晶窒化ホウ素絶縁膜が特に好ましい。また、絶縁膜22は、CVD法やスパッタリング法等の半導体デバイスの製造で用いられる周知の製造方法を用いて形成することができる。より低いゲート電圧で極性を反転することができるように制御するためには、絶縁膜22の比誘電率をより大きくし、厚みをより薄くすると良い。   The insulating film 22 is formed using a known material used in manufacturing semiconductor devices such as silicon oxide, silicon nitride, hexagonal boron nitride, alumina, hafnia, zirconia, and yttria. The insulating film 22 is particularly preferably a hexagonal boron nitride insulating film formed using hexagonal boron nitride. The insulating film 22 can be formed using a known manufacturing method used in manufacturing semiconductor devices such as a CVD method or a sputtering method. In order to control the polarity so that the polarity can be reversed with a lower gate voltage, it is preferable to increase the relative dielectric constant and reduce the thickness of the insulating film 22.

ホールプレートHは、半導体基板21の上部に絶縁膜22を介して形成される。ホールプレートHは、一般的なホール素子100と同様にホール効果を有する材質を用いて形成される。しかしながら、ホール素子11のホールプレートHは、ホールプレートHを移動するキャリアの種類を、ゲート電極の電位により電子または正孔のいずれか一方に変更することが可能な両極性材料を用いて形成される。   The hall plate H is formed on the semiconductor substrate 21 via the insulating film 22. The Hall plate H is formed using a material having a Hall effect in the same manner as the general Hall element 100. However, the Hall plate H of the Hall element 11 is formed using a bipolar material that can change the type of carriers moving through the Hall plate H to either electrons or holes depending on the potential of the gate electrode. The

一般的なホール素子100は半導体材料により形成されている。従って、ホールプレートHを移動するキャリアは、ホールプレートHがn型半導体である場合には電子になり、ホールプレートHがp型半導体である場合には正孔になる。よって、磁界が印加された時のホール素子100から出力された出力電圧の位相は、ホールプレートHを移動するキャリアの種類により定められていた。   A general Hall element 100 is formed of a semiconductor material. Therefore, the carriers moving through the Hall plate H become electrons when the Hall plate H is an n-type semiconductor, and become holes when the Hall plate H is a p-type semiconductor. Therefore, the phase of the output voltage output from the Hall element 100 when a magnetic field is applied is determined by the type of carrier that moves through the Hall plate H.

ところが、ホール素子11のホールプレートHは、両極性材料により形成されている。この場合には、ホールプレートHを移動するキャリアを、ゲート電極Gの電位により電子または正孔のいずれか一方に変えることができる。
具体的な両極性材料としては、グラフェン、有機半導体等のπ共役系材料がその一つであるが、その中でもグラフェンが特に好ましい。例えば、炭素により構成されたグラフェンは、単層ではエネルギーギャップがゼロである半導体である。しかしながら、グラフェンをチャネルにした電界効果トランジスタでは、チャネルに誘起されるキャリアが、ゲート電極に印加する電圧により、電子あるいは正孔となる両極性を有することが知られている。
However, the Hall plate H of the Hall element 11 is formed of a bipolar material. In this case, the carriers moving through the hole plate H can be changed to either electrons or holes according to the potential of the gate electrode G.
Specific examples of the bipolar material include π-conjugated materials such as graphene and organic semiconductors, and among these, graphene is particularly preferable. For example, graphene composed of carbon is a semiconductor whose energy gap is zero in a single layer. However, in a field effect transistor using graphene as a channel, it is known that carriers induced in the channel have a polarity that becomes electrons or holes depending on the voltage applied to the gate electrode.

ホールプレートHをグラフェンを用いたグラフェン層として形成する場合には、例えば「W. Zhu, V. Pererbeinos, M. Freitag and P. Avouris: Carrier scattering, mobilities and electrostatic potential in mono-, bi- and tri-layer graphenes: Phys. Rev. B 80, 235402 (2009)」の文献に記載されるような半導体デバイスの製造で用いられる周知の製造方法を用いて、ホールプレートHを形成することができる。また、グラフェン層は、単層または複層のどちらでも形成することができるが、単層または2層で形成したものが特に好ましい。   When the hole plate H is formed as a graphene layer using graphene, for example, “W. Zhu, V. Pererbeinos, M. Freitag and P. Avouris: Carrier scattering, mobilities and electrostatic potential in mono-, bi- and tri The hole plate H can be formed by using a well-known manufacturing method used in manufacturing a semiconductor device as described in the document “-layer graphenes: Phys. Rev. B 80, 235402 (2009)”. The graphene layer can be formed of either a single layer or a plurality of layers, but a single layer or a double layer is particularly preferable.

ホールプレートHが単層のグラフェン層で形成される場合には、ホールプレートHは、バンドギャップがゼロの半導体である。よって、グラフェン層は、ゲート電極Gに印加する電圧により、電圧出力端子対TB−TB’間に出力される電位差の極性を反転させることができる。また、グラフェン層は、ゲート電圧に対するキャリアの濃度及び電流量を、電子と正孔の濃度が等しくなるディラックポイントを中心にして、その前後で同じになるようにすることができる。   When the hole plate H is formed of a single graphene layer, the hole plate H is a semiconductor having a zero band gap. Therefore, the graphene layer can reverse the polarity of the potential difference output between the voltage output terminal pair TB-TB ′ by the voltage applied to the gate electrode G. In the graphene layer, the carrier concentration and the current amount with respect to the gate voltage can be made the same before and after the Dirac point where the electron and hole concentrations are equal.

また、ホールプレートHが2層のグラフェン層で形成される場合には、ホールプレートHは、2つのゲート電極によりグラフェン層の面に対して垂直方向に電界が印加された時に、バンドギャップが形成された半導体である。これにより、グラフェン層は、電荷中性点でのキャリアの濃度を低減することできる。このため、磁気センサの出力電圧の温度特性を良好に改善することができる。   When the hole plate H is formed of two graphene layers, the hole plate H forms a band gap when an electric field is applied in a direction perpendicular to the surface of the graphene layer by two gate electrodes. Semiconductor. Thereby, the graphene layer can reduce the concentration of carriers at the charge neutral point. For this reason, the temperature characteristics of the output voltage of the magnetic sensor can be improved satisfactorily.

入出力端子TA,TA’,TB,TB’は、ホールプレートHと電気的に接続されるように形成される。入出力端子TA,TA’,TB,TB’は、ホールプレートHとの接触抵抗が比較的小さい金属等を用いて形成される。入出力端子TA,TA’,TB,TB’は、金属を用いて形成されることが好ましく、具体的には、Cr,Ni,Ti,Co,Pd,Al,Ag,Cu,Au,Pt等を用いて形成されることが特に好ましい。入出力端子TA,TA’,TB,TB’は、スパッタリングやメッキ、ソルダーレジストのスクリーン印刷等の半導体デバイスの製造で用いられる周知の製造方法を用いて形成することができる。   The input / output terminals TA, TA ′, TB, TB ′ are formed so as to be electrically connected to the Hall plate H. The input / output terminals TA, TA ′, TB, TB ′ are formed using a metal having a relatively small contact resistance with the Hall plate H. The input / output terminals TA, TA ′, TB, TB ′ are preferably formed using a metal, and specifically, Cr, Ni, Ti, Co, Pd, Al, Ag, Cu, Au, Pt, etc. It is particularly preferred to be formed using The input / output terminals TA, TA ', TB, and TB' can be formed by using a known manufacturing method used in manufacturing semiconductor devices such as sputtering, plating, and solder resist screen printing.

ゲート電極Gは、ホールプレートHの上部に絶縁膜22を介して形成される。ゲート電極Gは、半導体あるいは金属を用いて形成されることが好ましく、具体的には、Si,Cr,Ni,Ti,Co,Pd,Al,Ag,Cu,Au,Pt等を用いて形成されることが特に好ましい。ゲート電極Gは、スパッタリングやCVD,メッキ、ソルダーレジストのスクリーン印刷等の半導体デバイスの製造で用いられる周知の製造方法を用いて形成することができる。   The gate electrode G is formed on the hall plate H with an insulating film 22 interposed therebetween. The gate electrode G is preferably formed using a semiconductor or metal. Specifically, the gate electrode G is formed using Si, Cr, Ni, Ti, Co, Pd, Al, Ag, Cu, Au, Pt, or the like. It is particularly preferable. The gate electrode G can be formed using a well-known manufacturing method used in manufacturing semiconductor devices such as sputtering, CVD, plating, and solder resist screen printing.

また、ホール素子11は、上記のホールプレートHの上部のゲート電極Gの他にも、半導体基板21をホールプレートHの下部のゲート電極として機能させることが可能である。従って、ゲート電圧制御回路13は、ホールプレートHの上部及び下部に形成された2つのゲート電極として機能する部分のゲート電圧を個別に制御する。これにより、ホールプレートHと電気的に接続された電流入力端子TAあるいは電流入力端子TA’の電位に対するゲート電極の電圧と、ホールプレートHの面に垂直方向の電界の強度とを、ゲート電圧制御回路13によって個別に制御することができる。また、半導体基板21に限らず、さらに別のゲート電極を形成しても良い。   In addition to the gate electrode G above the Hall plate H, the Hall element 11 can cause the semiconductor substrate 21 to function as a gate electrode below the Hall plate H. Accordingly, the gate voltage control circuit 13 individually controls the gate voltages of the portions functioning as the two gate electrodes formed on the upper and lower portions of the Hall plate H. As a result, the gate voltage control is performed on the voltage of the gate electrode with respect to the potential of the current input terminal TA or the current input terminal TA ′ electrically connected to the Hall plate H and the strength of the electric field perpendicular to the surface of the Hall plate H It can be individually controlled by the circuit 13. In addition to the semiconductor substrate 21, another gate electrode may be formed.

(磁気センサ10の検出動作)
続いて、図4を参照して、磁気センサ10が備えるホール素子11の検出動作を説明する。
図4は、ホール素子11の電流入力端子対TA−TA’間に電圧を印加した時の、ゲート電極Gに印加するゲート電圧Vgと、電流入力端子対TA−TA'間に流れる電流Idとの関係を示すグラフである。
ゲート電極Gと同様に機能する半導体基板21の電位は、図4のグラフに示すように、ゲート電圧Vg=0(V)の時に、電流入力端子対TA−TA'間に流れる電流Idが最小値になることが好ましい。この場合に、半導体基板21は、電荷中性点を設定するもう一つのゲート電極として機能する。従って、半導体基板21の電位を変化させることで、電荷中性点をずらすことができる。
(Detection operation of the magnetic sensor 10)
Next, with reference to FIG. 4, the detection operation of the Hall element 11 provided in the magnetic sensor 10 will be described.
FIG. 4 shows the gate voltage Vg applied to the gate electrode G and the current Id flowing between the current input terminal pair TA-TA ′ when a voltage is applied between the current input terminal pair TA-TA ′ of the Hall element 11. It is a graph which shows the relationship.
As shown in the graph of FIG. 4, the potential of the semiconductor substrate 21 that functions in the same way as the gate electrode G has a minimum current Id flowing between the current input terminal pair TA-TA ′ when the gate voltage Vg = 0 (V). It is preferable to become a value. In this case, the semiconductor substrate 21 functions as another gate electrode that sets a charge neutral point. Therefore, the charge neutral point can be shifted by changing the potential of the semiconductor substrate 21.

また、図4のグラフに示すように、ゲート電圧Vg>0(V)の時に、電流入力端子対TA−TA’間に流れる電流Idは、ホールプレートHを移動するキャリアが主に電子によるものである。また、ゲート電圧Vg<0(V)の時に、電流入力端子対TA−TA’間に流れる電流Idは、ホールプレートHを移動するキャリアが主に正孔によるものである。電流入力端子対TA−TA’間に印加した電圧を固定し、ゲート電圧Vg>0(V)の時に、電流入力端子対TA−TA'間に流れる電流Idが所定の電流値Ibになるゲート電圧をVg1とする。また、ゲート電圧Vg<0(V)の時に、電流入力端子対TA−TA'間に流れる電流Idが所定の電流値Ibになるゲート電圧をVg2とする。   Further, as shown in the graph of FIG. 4, when the gate voltage Vg> 0 (V), the current Id flowing between the current input terminal pair TA-TA ′ is mainly due to electrons moving through the Hall plate H due to electrons. It is. Further, when the gate voltage Vg <0 (V), the current Id flowing between the current input terminal pair TA-TA 'is mainly due to the holes moving through the hole plate H due to the holes. The voltage applied between the current input terminal pair TA-TA ′ is fixed, and when the gate voltage Vg> 0 (V), the current Id flowing between the current input terminal pair TA-TA ′ becomes a predetermined current value Ib. The voltage is Vg1. Further, when the gate voltage Vg <0 (V), the gate voltage at which the current Id flowing between the current input terminal pair TA-TA ′ becomes a predetermined current value Ib is defined as Vg2.

図3に示すホール素子11において、図3中の上側から下側に向かって磁束密度Bの磁場を印加した時に、オフセット電圧Voffがゼロである理想的な状態では、電圧出力端子対TB−TB’間に出力される電位差Vhは、次のようになる。
まず、ゲート電圧Vg>0(V)の時に、電圧出力端子対TB−TB’間に出力される電位差Vh=−Vh1(V)になる。また、ゲート電圧Vg<0(V)の時に、電圧出力端子対TB−TB’間に出力される電位差Vh=Vh2(V)になる。この時、Vh1(V)の値と、Vh2(V)の値とは、同じ符号である。従って、オフセット電圧Voffが存在する時に、電流入力端子対TA−TA’間に印加した電圧が一定値であれば、ゲート電圧Vg>0(V)の時のオフセット電圧と、ゲート電圧Vg<0(V)の時のオフセット電圧とは、ほぼ同じ値となる。
In the Hall element 11 shown in FIG. 3, in an ideal state where the offset voltage Voff is zero when a magnetic field having a magnetic flux density B is applied from the upper side to the lower side in FIG. 3, the voltage output terminal pair TB-TB The potential difference Vh output between 'is as follows.
First, when the gate voltage Vg> 0 (V), the potential difference Vh = −Vh1 (V) output between the voltage output terminal pair TB−TB ′. Further, when the gate voltage Vg <0 (V), the potential difference Vh = Vh2 (V) output between the voltage output terminal pair TB-TB ′. At this time, the value of Vh1 (V) and the value of Vh2 (V) have the same sign. Therefore, when the offset voltage Voff exists and the voltage applied between the current input terminal pair TA-TA ′ is a constant value, the offset voltage when the gate voltage Vg> 0 (V) and the gate voltage Vg <0. The offset voltage at (V) is almost the same value.

ゲート電圧Vg>0(V)の時に、電圧出力端子対TB−TB’間に出力される電位差Vh+を、下記の式(3)に示す式のように表わすことができる。また、ゲート電圧Vg<0(V)の時に、電圧出力端子対TB−TB’間に出力される電位差Vh−を、下記の式(4)に示す式のように表わすことができる。
Vh+=−Vh1 + Voff ……式(3)
Vh−= Vh2 + Voff ……式(4)
When the gate voltage Vg> 0 (V), the potential difference Vh + output between the voltage output terminal pair TB−TB ′ can be expressed as the following equation (3). Further, when the gate voltage Vg <0 (V), the potential difference Vh− output between the voltage output terminal pair TB−TB ′ can be expressed as the following equation (4).
Vh + = − Vh1 + Voff (3)
Vh− = Vh2 + Voff ...... Formula (4)

この時に、上記の式(3)に示す式と、式(4)に示す式との差分をとると、電圧出力端子対TB−TB’間に出力される電圧Vhを、下記の式(5)に示す式のように表わすことができる。
Vh=Vh1 + Vh2 ……式(5)
従って、ゲート電圧VgによりホールプレートHを移動するキャリアの種類を変更する前後の電圧出力端子対TB−TB’間に出力される電位差の差分をとると、オフセット電圧Voffを除去することができる。
At this time, if the difference between the equation (3) and the equation (4) is taken, the voltage Vh output between the voltage output terminal pair TB-TB ′ is expressed by the following equation (5). ).
Vh = Vh1 + Vh2 (5)
Therefore, the offset voltage Voff can be removed by taking the difference in potential difference output between the voltage output terminal pair TB-TB ′ before and after changing the type of carrier moving on the Hall plate H by the gate voltage Vg.

また、フリッカノイズは、その強度がホール素子11から出力された出力電圧の周波数に反比例するノイズ成分であり、素子中の結晶が欠陥していることによるキャリアのトラップ等に起因して生じる。なお、キャリアは、電子である時にも、正孔である時にも、同じホールプレートHを移動する。このため、ゲート電圧Vg>0(V)の時のフリッカノイズと、ゲート電圧Vg<0(V)の時のフリッカノイズとは、ほぼ同じになる。従って、オフセット電圧Voffと同様に、ゲート電極に印加するゲート電圧VgによりホールプレートHを移動するキャリアの種類を変更する前後の電圧出力端子対TB−TB’間に印加された磁界に応じた電位差の差分をとることにより、フリッカノイズを除去することができる。なお、ゲート電圧Vg>0(V)またはゲート電圧Vg<0(V)に切り替えるゲート電圧Vgの周波数は、フリッカノイズの周波数より十分大きい必要がある。   Flicker noise is a noise component whose intensity is inversely proportional to the frequency of the output voltage output from the Hall element 11, and is caused by carrier trapping due to a defect in the crystal in the element. Note that the carrier moves through the same hole plate H whether it is an electron or a hole. Therefore, the flicker noise when the gate voltage Vg> 0 (V) and the flicker noise when the gate voltage Vg <0 (V) are substantially the same. Therefore, similarly to the offset voltage Voff, the potential difference corresponding to the magnetic field applied between the voltage output terminal pair TB-TB ′ before and after changing the type of carrier moving the Hall plate H by the gate voltage Vg applied to the gate electrode. The flicker noise can be removed by taking the difference between the two. Note that the frequency of the gate voltage Vg for switching to the gate voltage Vg> 0 (V) or the gate voltage Vg <0 (V) needs to be sufficiently larger than the frequency of flicker noise.

なお、本実施形態で説明したホール素子11は、4つの入出力端子TA,TA’,TB,TB’が、ホール素子11の中心を軸として4回対称になるように配置されている。しかしながら、4回対称であることは必須ではなく、入出力端子TB,TB’を、入出力端子TAと入出力端子TATA’とを通る直線に対して線対称となるように配置しても良い。   In the Hall element 11 described in the present embodiment, the four input / output terminals TA, TA ′, TB, and TB ′ are arranged so as to be symmetric four times around the center of the Hall element 11. However, the four-fold symmetry is not essential, and the input / output terminals TB and TB ′ may be arranged so as to be line-symmetric with respect to a straight line passing through the input / output terminal TA and the input / output terminal TATA ′. .

例えば、入出力端子の配置を変えて電流が流れる幅を広くすることで、電流入力端子対TA−TA’間に印加する電圧に対して流れる電流より、多くの電流が流れるようになる。これにより、ホール素子11から出力される出力電圧がより高くなるため、ホール素子11が磁界の強度を検出する感度をより高めることができる。   For example, by changing the arrangement of the input / output terminals to increase the width of current flow, more current flows than the current flowing for the voltage applied between the current input terminal pair TA-TA '. Thereby, since the output voltage output from the Hall element 11 becomes higher, the sensitivity with which the Hall element 11 detects the strength of the magnetic field can be further increased.

本発明の磁気センサは、各種の電子機器用の磁界の強度を検出する磁気センサとして用いることができる。   The magnetic sensor of the present invention can be used as a magnetic sensor for detecting the strength of a magnetic field for various electronic devices.

10……磁気センサ
11……ホール素子
12……クロック生成回路
13……ゲート電圧制御回路
15……定電圧回路
16……定電流回路
17……フィルタ
18……復調回路
21……半導体基板
22……絶縁膜
G……ゲート電極
H……ホールプレート
TA,TA’,TB,TB’……入出力端子
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Magnetic sensor 11 ... Hall element 12 ... Clock generation circuit 13 ... Gate voltage control circuit 15 ... Constant voltage circuit 16 ... Constant current circuit 17 ... Filter 18 ... Demodulation circuit 21 ... Semiconductor substrate 22 ... Insulating film G ... Gate electrode H ... Hall plate TA, TA ', TB, TB' ... Input / output terminal

Claims (9)

ホール効果を有するホールプレートと、前記ホールプレートと電気的に接続されるように形成された入出力端子と、前記ホールプレートの上部または下部の少なくとも一方に絶縁膜を介して形成されたゲート電極とからなるホール素子を備え、
前記ホールプレートは、前記ホールプレートを移動するキャリアの種類を、前記ゲート電極の電位により電子または正孔のいずれか一方に変更することが可能な両極性材料を用いて形成され、
前記入出力端子は、前記ホールプレートの面内で互いにそれぞれ対向し合う2組の入出力端子であって、一方の組の入出力端子が電流入力端子対になり、他方の組の入出力端子が電圧出力端子対になり、前記電流入出力端子対と前記電圧出力端子対とが互いに直交するような位置に形成されたことを特徴とする磁気センサ。
A Hall plate having a Hall effect; an input / output terminal formed to be electrically connected to the Hall plate; and a gate electrode formed on at least one of an upper portion or a lower portion of the Hall plate via an insulating film; Comprising a Hall element consisting of
The hole plate is formed using a bipolar material capable of changing the type of carriers moving through the hole plate to either electrons or holes according to the potential of the gate electrode,
The input / output terminals are two sets of input / output terminals facing each other in the plane of the hall plate, and one set of input / output terminals forms a current input terminal pair, and the other set of input / output terminals. Is a voltage output terminal pair, and the current input / output terminal pair and the voltage output terminal pair are formed at positions orthogonal to each other.
前記ゲート電極のゲート電圧を制御するゲート電圧制御回路を備えることを特徴とする、
請求項1記載の磁気センサ。
A gate voltage control circuit for controlling the gate voltage of the gate electrode is provided.
The magnetic sensor according to claim 1.
前記ゲート電極は、前記ホールプレートを挟み込むように、当該ホールプレートの上部に形成されたゲート電極と、当該ホールプレートの下部に形成されたゲート電極とからなり、
前記ゲート電圧制御回路は、前記ホールプレートの上部に形成されたゲート電極のゲート電圧と、前記ホールプレートの下部に形成されたゲート電極のゲート電圧とを個別に制御することを特徴とすることを特徴とする
請求項2記載の磁気センサ。
The gate electrode is composed of a gate electrode formed on the top of the hole plate and a gate electrode formed on the bottom of the hole plate so as to sandwich the hole plate,
The gate voltage control circuit individually controls a gate voltage of a gate electrode formed on an upper portion of the Hall plate and a gate voltage of a gate electrode formed on a lower portion of the Hall plate. The magnetic sensor according to claim 2.
クロックを生成するクロック生成回路を備え、
前記クロック生成回路により生成されたクロックが前記ゲート電圧制御回路に入力され、当該クロックに同期して前記ゲート電圧制御回路により前記ゲート電圧が変調されることによって、前記電圧出力端子対間に出力される電位差が交流信号に変換されることを特徴とする、
請求項1から請求項3までのいずれか1項に記載の磁気センサ。
A clock generation circuit for generating a clock is provided.
A clock generated by the clock generation circuit is input to the gate voltage control circuit, and the gate voltage is modulated by the gate voltage control circuit in synchronization with the clock, so that it is output between the voltage output terminal pair. The potential difference is converted into an AC signal,
The magnetic sensor according to any one of claims 1 to 3.
前記電流入力端子対間に印加する電圧が一定値になるように制御する定電圧回路を備えることを特徴とする、
請求項1から請求項4までのいずれか1項に記載の磁気センサ。
It comprises a constant voltage circuit for controlling the voltage applied between the current input terminal pair to be a constant value,
The magnetic sensor according to any one of claims 1 to 4.
前記電流入力端子対間に流れる電流が一定値になるように制御する定電流回路を備えることを特徴とする、
請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の磁気センサ。
It comprises a constant current circuit for controlling the current flowing between the current input terminal pair to be a constant value,
The magnetic sensor according to any one of claims 1 to 5.
前記ホールプレートは、材料にグラフェンを用いて形成されたグラフェン層であって、当該グラフェン層の層数が単層または複層で形成されたことを特徴とする、
請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の磁気センサ。
The hole plate is a graphene layer formed using graphene as a material, wherein the number of the graphene layers is a single layer or a plurality of layers.
The magnetic sensor according to claim 1.
前記ホールプレートは、材料にグラフェンを用いて形成されたグラフェン層であって、当該グラフェン層の層数が2層で形成されたことを特徴とする、
請求項7記載の磁気センサ。
The hole plate is a graphene layer formed using graphene as a material, and the number of the graphene layers is two.
The magnetic sensor according to claim 7.
前記ホール素子の信号処理を行う信号処理回路と前記ホールプレートとは、同一の半導体基板上に形成されたことを特徴とする、
請求項1から請求項8のいずれか1項に記載の磁気センサ。
The signal processing circuit for performing signal processing of the Hall element and the Hall plate are formed on the same semiconductor substrate,
The magnetic sensor according to claim 1.
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