JP2012212508A - Light-emitting element and illumination apparatus - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a see-through light-emitting element with high light extraction efficiency, in which stripe lines are less visible.SOLUTION: A light-emitting element 10 includes an organic EL element 140 and a structure layer 100 provided for a light-emitting surface 144 of the organic EL element 140. The structure layer 100 includes on a surface 10U opposite to the organic EL element 140, an uneven structure including a first line 113 extending in a first direction, a second line 114 extending in a second direction, which intersects with the first direction, and a third line 115 extending in a third direction, which intersects with the first direction and the second direction. A projection area formed by projecting a slope part of the uneven structure on a plane, which is parallel to a flat surface part of the uneven structure, in a direction perpendicular to the flat surface part is 0.1 times or less of the total area of the flat surface part.

Description

本発明は発光素子に関する。具体的には、有機エレクトロルミネッセンス素子(以下、適宜「有機EL素子」という。)を備えた発光素子に関する。   The present invention relates to a light emitting device. Specifically, the present invention relates to a light-emitting element including an organic electroluminescence element (hereinafter referred to as “organic EL element” as appropriate).

有機EL素子を備える発光素子は、その形状を面状とすることが可能であり、且つ、その光の色を白色又はそれに近い色とすることが可能である。このため、有機EL素子を備える発光素子は、住環境等の空間を照明する照明器具の光源として、または、表示装置のバックライト装置としての用途に用いることが考えられる。   A light-emitting element including an organic EL element can have a planar shape, and the light color can be white or a color close thereto. For this reason, it is possible to use a light emitting element provided with an organic EL element for the use as a light source of the lighting fixture which illuminates spaces, such as a living environment, or as a backlight apparatus of a display apparatus.

しかしながら、現在知られている有機EL素子は、上記照明の用途に用いるには効率が低い。そこで、有機EL素子の光取出効率を向上させることが望まれる。有機EL素子の光取出効率を向上させる方法として、片面発光型の有機EL素子の発光面に、種々の凹凸構造を設けることが知られている。例えば、有機EL素子の発光面に、凹凸構造を有する構造層を設けることが提案されている(特許文献1参照)。この凹凸構造により、良好な集光を達成することができ、前記の光取出効率を向上させることができる。
また、特許文献2,3のような技術も知られている。
However, currently known organic EL elements are low in efficiency for use in the above-described illumination applications. Therefore, it is desired to improve the light extraction efficiency of the organic EL element. As a method for improving the light extraction efficiency of an organic EL element, it is known to provide various uneven structures on the light emitting surface of a single-sided light emitting organic EL element. For example, it has been proposed to provide a structure layer having an uneven structure on the light emitting surface of an organic EL element (see Patent Document 1). With this concavo-convex structure, good light collection can be achieved, and the light extraction efficiency can be improved.
Further, techniques such as Patent Documents 2 and 3 are also known.

国際公開第2004/017106号International Publication No. 2004/017106 特開2010−164715号公報JP 2010-164715 A 特開2005−221516号公報JP 2005-221516 A

有機EL素子を備える発光素子には、片面発光型の他に、両面から光を取り出す両面発光型の発光素子がある。両面発光型の発光素子においても光を高効率で取り出すことが求められるので、発明者は、両面発光型の発光素子にも、片面発光型の発光素子と同様に凹凸構造を設けることを試みた。ところが、片面発光型の発光素子用の凹凸構造をそのまま両面発光型の発光素子に適用しても、所望の性能が得られないことが判明した。   In addition to the single-sided light-emitting type, a light-emitting element including an organic EL element includes a double-sided light-emitting type that extracts light from both sides. Since it is required to extract light with high efficiency even in a double-sided light emitting device, the inventor tried to provide a concavo-convex structure in a double-sided light emitting device as well as a single-sided light emitting device. . However, it has been found that the desired performance cannot be obtained even when the uneven structure for a single-sided light-emitting element is applied to a double-sided light-emitting element as it is.

通常、両面発光型の発光素子が備える各層は、光を透過させることができるようになっている。このため、通常の両面発光型の発光素子はシースルーになっていて、その発光素子を通して向こう側を見通すことができるようになっている。シースルーになっていることにより意匠性を高めたり用途を多様化することができたりするので、シースルーであることは、両面発光型の発光素子の利点の一つである。したがって、光を高効率で取り出すように凹凸構造を設ける場合でも、その発光素子を通して向こう側を見通せなくなることは避けることが望ましい。   In general, each layer included in a double-sided light emitting element can transmit light. For this reason, a normal double-sided light emitting element is see-through, and the other side can be seen through the light emitting element. Since see-through can improve design and diversify applications, see-through is one of the advantages of a dual-side light emitting element. Therefore, even when a concavo-convex structure is provided so that light can be extracted with high efficiency, it is desirable to prevent the other side from being seen through the light emitting element.

他方、片面発光型の発光素子は、光取出効率を高める観点から反射層(例えば反射電極等)を備え、有機EL素子が発した光のうち出光面とは反対側に発せられた光を反射層で反射するようになっている。このため、外部から片面発光型の発光素子に進入した光も反射層で反射されるので、その発光素子を通して向こう側を見通すことができないようになっている。このような理由から、片面発光型の発光素子に設けられる従来の凹凸構造は、一般に、両面発光型の発光素子のようにシースルーに関する検討がなされていない。したがって、従来の凹凸構造を両面発光型の発光素子に設けた場合、通常はヘイズが大きくなって、発光素子を通して向こう側を見通せなくなる。   On the other hand, a single-sided light emitting device includes a reflective layer (for example, a reflective electrode) from the viewpoint of increasing light extraction efficiency, and reflects light emitted from the organic EL device on the side opposite to the light emitting surface. Reflected by the layer. For this reason, since the light that has entered the single-sided light emitting element from the outside is also reflected by the reflective layer, the other side cannot be seen through the light emitting element. For these reasons, the conventional concavo-convex structure provided in a single-sided light-emitting element is generally not studied for see-through like the double-sided light-emitting element. Therefore, when a conventional uneven structure is provided in a double-sided light emitting device, the haze is usually increased, and the other side cannot be seen through the light emitting device.

また、有機EL素子の発光面に設けられる凹凸構造の形状の一例として、ある一定の方向に延在する条列を含む形状がある。凹凸構造にこのような条列が含まれていると、両面発光型の発光素子では、観察する角度によっては前記の条列が視認されることがあった。例えば、有機EL素子の発光面に対して斜めの極角で凹凸構造を観察すると、条列が延在する方向に沿ったスジが視認されることがあった。特に、2群の条列が格子状になっている場合には、条列のスジがある一定の領域で視認されることにより、凹凸構造の表面での反射光のムラが観察されることがあった。このムラを、以下、「格子ムラ」と呼ぶことがある。格子ムラは、発光素子の外部から照射されて凹凸構造の表面で反射された光がムラ状に観察されたものであるので、前記の条列のスジが視認されなくなれば、解消されるものと考えられる。ただし、ここで課題となっている格子ムラは、視認される反射光の強さが周囲よりも強かったり大きかったりすることを意味するものではなく、前記の条列のスジが視認されることにより、条列が延在する方向が認識できる程度に反射光の見え方にムラがあることを意味する。   Moreover, there exists a shape including the row | line | column extended in a fixed direction as an example of the shape of the uneven structure provided in the light emission surface of an organic EL element. When such a row is included in the concavo-convex structure, the above-mentioned row may be visually recognized depending on the observation angle in the double-sided light emitting device. For example, when the concavo-convex structure is observed at an oblique polar angle with respect to the light emitting surface of the organic EL element, a streak along the direction in which the line extends may be visually recognized. In particular, when the two groups of rows are in a lattice pattern, unevenness of reflected light on the surface of the concavo-convex structure may be observed by visually recognizing the stripes in a certain region. there were. Hereinafter, this unevenness may be referred to as “lattice unevenness”. The lattice unevenness is the light that is irradiated from the outside of the light emitting element and reflected on the surface of the concavo-convex structure is observed in the form of unevenness. Conceivable. However, the lattice unevenness which is a problem here does not mean that the intensity of the reflected light to be visually recognized is stronger or larger than the surroundings, and the streak of the above-mentioned row is visually recognized. , It means that the reflected light is unevenly visible to the extent that the direction in which the line extends can be recognized.

本発明は、上記に鑑みてなされたものであって、シースルーであることを維持しながら、高効率で光を取り出すことができ、更には条列のスジが視認され難い発光素子、並びに、その発光素子を備えた照明器具を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above, and is capable of taking out light with high efficiency while maintaining a see-through, and further, a light emitting element in which a streak of a row is hardly visually recognized, and its An object of the present invention is to provide a lighting fixture including a light emitting element.

本発明者は上述した課題を解決するべく、鋭意検討した結果、その出光面に凹凸構造を有する発光素子において、凹凸構造が異なる方向に延在する3群以上の条列を含み、且つ、その凹凸構造の平坦面部と斜面部との面積比を制御することにより、条列のスジを見え難くでき、且つ、シースルーであることを維持しながら、高効率で光を取り出すことができる発光素子を実現できることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、本発明は以下の〔1〕〜〔6〕を要旨とする。
As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the present inventor has a light emitting element having a concavo-convex structure on its light output surface, including three or more rows in which the concavo-convex structure extends in different directions, and By controlling the area ratio between the flat surface portion and the slope portion of the concavo-convex structure, it is possible to make the light emitting element capable of extracting light with high efficiency while making it difficult to see stripes in the row and maintaining the see-through. The present invention has been completed by finding out that it can be realized.
That is, the gist of the present invention is the following [1] to [6].

〔1〕 発光面を有し前記発光面から光を発する有機エレクトロルミネッセンス素子と、前記有機エレクトロルミネッセンス素子の前記発光面に直接又は間接的に設けられた構造層とを備え、
前記構造層は、前記構造層の前記有機エレクトロルミネッセンス素子とは反対側の表面に、前記表面に平行な第一の方向に延在する第一の条列と、前記表面に平行で前記第一の方向と交差する第二の方向に延在する第二の条列と、前記表面に平行で前記第一の方向及び前記第二の方向に交差する第三の方向に延在する第三の条列とを含む凹凸構造を有し、
前記凹凸構造が、前記発光面に対して平行な平坦面部と、前記発光面に対して傾斜した斜面部を有し、
前記斜面部を、前記平坦面部に対して垂直な方向に、前記平坦面部に対して平行な平面へと投影して形成される投影面積が、前記平坦面部の合計面積の0.1倍以下である、発光素子。
〔2〕 前記凹凸構造における平坦面部の高低差の最大値が22μm以下である、〔1〕記載の発光素子。
〔3〕 前記斜面部が前記平坦面部に対して80°以上90°未満の傾斜角度で傾斜している、〔1〕又は〔2〕記載の発光素子。
〔4〕 前記平坦面部の高低差の最大値が0.1μm以上である、〔1〕〜〔3〕のいずれか一項に記載の発光素子。
〔5〕 〔1〕〜〔4〕のいずれか一項に記載の発光素子を備える照明器具。
[1] An organic electroluminescence device that has a light emitting surface and emits light from the light emitting surface, and a structural layer provided directly or indirectly on the light emitting surface of the organic electroluminescence device,
The structural layer includes a first row extending in a first direction parallel to the surface on a surface of the structural layer opposite to the organic electroluminescence element, and the first parallel to the surface and the first A second row extending in a second direction intersecting with the direction of the second, and a third row extending in a third direction parallel to the surface and intersecting the first direction and the second direction. It has a concavo-convex structure including a row,
The concavo-convex structure has a flat surface portion parallel to the light emitting surface and a slope portion inclined with respect to the light emitting surface;
A projected area formed by projecting the slope portion in a direction perpendicular to the flat surface portion onto a plane parallel to the flat surface portion is 0.1 times or less of the total area of the flat surface portions. There is a light emitting element.
[2] The light emitting device according to [1], wherein the maximum value of the height difference of the flat surface portion in the uneven structure is 22 μm or less.
[3] The light emitting device according to [1] or [2], wherein the inclined surface portion is inclined at an inclination angle of 80 ° or more and less than 90 ° with respect to the flat surface portion.
[4] The light emitting device according to any one of [1] to [3], wherein a maximum height difference of the flat surface portion is 0.1 μm or more.
[5] A lighting fixture comprising the light emitting element according to any one of [1] to [4].

本発明によれば、シースルーであることを維持しながら、高効率で光を取り出すことができ、更には条列のスジが視認され難い発光素子、並びに、その発光素子を備えた照明器具を実現できる。   According to the present invention, it is possible to extract light with high efficiency while maintaining see-through, and further to realize a light-emitting element in which a streak of stripes is difficult to visually recognize, and a lighting fixture including the light-emitting element. it can.

図1は、本発明の第一実施形態に係る発光素子を模式的に示す斜視図である。FIG. 1 is a perspective view schematically showing a light emitting device according to the first embodiment of the present invention. 図2は、本発明の第一実施形態に係る発光素子を説明する図であって、図1に示す発光素子を線1a−1bを含み出光面に対して垂直な面で切断した断面を模式的に示す断面図である。FIG. 2 is a diagram for explaining the light emitting element according to the first embodiment of the present invention, and schematically shows a cross section of the light emitting element shown in FIG. 1 cut along a plane including the lines 1a-1b and perpendicular to the light exit surface. FIG. 図3は、本発明の第一実施形態に係る発光素子の出光面を、発光素子の厚み方向から見た様子を拡大して模式的に示す平面図である。FIG. 3 is an enlarged plan view schematically showing a light output surface of the light emitting device according to the first embodiment of the present invention as viewed from the thickness direction of the light emitting device. 図4は、本発明の第一実施形態に係る発光素子の出光面を、発光素子の厚み方向から見た様子を拡大して模式的に示す平面図である。FIG. 4 is a plan view schematically showing an enlarged view of the light-emitting surface of the light-emitting element according to the first embodiment of the present invention viewed from the thickness direction of the light-emitting element. 図5は、本発明の第一実施形態に係る発光素子の出光面を、発光素子の厚み方向から見た様子を拡大して模式的に示す平面図である。FIG. 5 is a plan view schematically showing an enlarged view of the light-emitting surface of the light-emitting element according to the first embodiment of the present invention viewed from the thickness direction of the light-emitting element. 図6は、本発明の第一実施形態に係る発光素子の出光面を、発光素子の厚み方向から見た様子を拡大して模式的に示す平面図である。FIG. 6 is a plan view schematically showing an enlarged view of the light-emitting surface of the light-emitting element according to the first embodiment of the present invention viewed from the thickness direction of the light-emitting element. 図7は、本発明の第一実施形態に係る発光素子の出光面を、発光素子の厚み方向から見た様子を拡大して模式的に示す平面図である。FIG. 7 is a plan view schematically showing an enlarged view of the light-emitting surface of the light-emitting element according to the first embodiment of the present invention viewed from the thickness direction of the light-emitting element. 図8は、本発明の第一実施形態に係る凹凸構造層の一部を、図3の線3aを含み出光面に対して垂直な面で切断した断面を模式的に示す部分断面図である。FIG. 8 is a partial cross-sectional view schematically showing a cross section of a part of the concavo-convex structure layer according to the first embodiment of the present invention, taken along a plane that includes the line 3a of FIG. 3 and is perpendicular to the light exit surface. . 図9は、本発明の第一実施形態に係る発光素子の出光面の斜面部を、平坦面部に対して垂直な方向に、平坦面部に対して平行な平面へと投影した様子を模式的に示す投影図である。FIG. 9 schematically illustrates a state in which the slope portion of the light emitting surface of the light emitting element according to the first embodiment of the present invention is projected onto a plane parallel to the flat surface portion in a direction perpendicular to the flat surface portion. FIG. 図10は、本発明の第二実施形態に係る発光素子を、第三の条列と第四の条列とが交わる地点及び凹部を通り第一の条列が延在する方向に対して平行な線を含み、出光面に対して垂直な面で切断した断面を模式的に示す断面図である。FIG. 10 shows a light emitting device according to the second embodiment of the present invention parallel to the point where the third row and the fourth row intersect and the direction in which the first row extends through the recess. It is sectional drawing which shows typically the cross section cut | disconnected by the surface perpendicular | vertical with respect to the light-emitting surface including a straight line. 図11は、本発明の第三実施形態に係る発光素子を模式的に示す斜視図である。FIG. 11 is a perspective view schematically showing a light emitting device according to the third embodiment of the present invention. 図12は、本発明の第一実施形態の変形例に係る発光素子の出光面を、発光素子の厚み方向から見た様子を拡大して模式的に示す平面図である。FIG. 12 is a plan view schematically showing an enlarged view of the light-emitting surface of the light-emitting element according to the modification of the first embodiment of the present invention when viewed from the thickness direction of the light-emitting element. 図13は、本発明の変形例に係る出光面の一部を、発光素子の厚み方向から見た様子を模式的に示す平面図である。FIG. 13 is a plan view schematically showing a part of the light exit surface according to the modification of the present invention as seen from the thickness direction of the light emitting element. 図14は、本発明の変形例に係る出光面の一部を、発光素子の厚み方向から見た様子を模式的に示す平面図である。FIG. 14 is a plan view schematically showing a part of the light exit surface according to the modification of the present invention as seen from the thickness direction of the light emitting element. 図15は、本発明の変形例に係る出光面の一部を、発光素子の厚み方向から見た様子を模式的に示す平面図である。FIG. 15 is a plan view schematically showing a part of the light exit surface according to the modification of the present invention as seen from the thickness direction of the light emitting element. 図16は、実施例1で得られた凹凸構造層の一部を斜め方向から見た様子を模式的に示す斜視図である。FIG. 16 is a perspective view schematically showing a part of the concavo-convex structure layer obtained in Example 1 as seen from an oblique direction. 図17は、実施例1で得られた凹凸構造層の一部を厚み方向から見た様子を模式的に示す平面図である。FIG. 17 is a plan view schematically showing a part of the concavo-convex structure layer obtained in Example 1 as viewed from the thickness direction. 図18は、実施例2で得られた凹凸構造層の一部を斜め方向から見た様子を模式的に示す斜視図である。FIG. 18 is a perspective view schematically showing a part of the concavo-convex structure layer obtained in Example 2 as seen from an oblique direction. 図19は、実施例2で得られた凹凸構造層の一部を厚み方向から見た様子を模式的に示す平面図である。FIG. 19 is a plan view schematically showing a part of the concavo-convex structure layer obtained in Example 2 as viewed from the thickness direction.

以下、実施形態及び例示物等を示して本発明について詳細に説明するが、本発明は以下に説明する実施形態及び例示物等に限定されるものではなく、本発明の要旨及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施してもよい。   Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to embodiments and examples, but the present invention is not limited to the embodiments and examples described below, and the gist of the present invention and its equivalent scope. The present invention may be implemented with any changes without departing from the scope.

〔1.第一実施形態〕
図1及び図2はいずれも本発明の第一実施形態に係る発光素子を説明する図であって、図1は発光素子を模式的に示す斜視図であり、図2は図1に示す発光素子を線1a−1bを含み出光面に対して垂直な面で切断した断面を模式的に示す断面図である。
[1. First embodiment]
1 and 2 are views for explaining a light emitting device according to the first embodiment of the present invention. FIG. 1 is a perspective view schematically showing the light emitting device, and FIG. 2 is a light emitting device shown in FIG. It is sectional drawing which shows typically the cross section which cut | disconnected the element | device by the surface perpendicular | vertical with respect to the light emission surface including line 1a-1b.

図1に示すように、本発明の第一実施形態に係る発光素子10は、矩形の平板状の構造を有する素子であり、両面発光型の有機EL素子140を備える。有機EL素子140は、少なくとも第一の電極層141、発光層142及び第二の電極層143をこの順に備える。また、本実施形態では、第一の電極層141及び第二の電極層143がいずれも透明電極層となっている。このため、発光層142で生じた光は、第一の電極層141及び第二の電極層143をそれぞれ透過して、表面144及び145を通って外へと発せられるようになっている。したがって、以下の説明においては、表面144及び145を「発光面」ということがある。   As shown in FIG. 1, the light emitting element 10 according to the first embodiment of the present invention is an element having a rectangular flat plate structure, and includes a double-sided light emitting organic EL element 140. The organic EL element 140 includes at least a first electrode layer 141, a light emitting layer 142, and a second electrode layer 143 in this order. In the present embodiment, the first electrode layer 141 and the second electrode layer 143 are both transparent electrode layers. For this reason, the light generated in the light emitting layer 142 is transmitted through the first electrode layer 141 and the second electrode layer 143, respectively, and emitted outside through the surfaces 144 and 145. Therefore, in the following description, the surfaces 144 and 145 may be referred to as “light emitting surfaces”.

有機EL素子140の少なくとも一方の発光面144には、本発明に係る構造層として出光面構造層100が設けられている。本実施形態では、出光面構造層100は発光面144に接するように直接に設けられている。ただし、出光面構造層100は、例えば接着層、光拡散層等の層を介して、発光面144に間接的に設けられていてもよい。   At least one light emitting surface 144 of the organic EL element 140 is provided with a light emitting surface structural layer 100 as a structural layer according to the present invention. In the present embodiment, the light emitting surface structure layer 100 is provided directly so as to contact the light emitting surface 144. However, the light emitting surface structure layer 100 may be provided indirectly on the light emitting surface 144 via a layer such as an adhesive layer or a light diffusion layer.

さらに、本実施形態の発光素子10は、上述した部材以外にも構成要素を備えていてもよい。本実施形態では、有機EL素子140の図中下側の発光面145に封止基材151が設けられているものとする。   Furthermore, the light emitting element 10 of the present embodiment may include components other than the above-described members. In the present embodiment, it is assumed that the sealing substrate 151 is provided on the lower light emitting surface 145 of the organic EL element 140 in the drawing.

したがって、発光素子10は、封止基材151、有機EL素子140及び出光面構造層100をこの順に備え、出光面構造層100の有機EL素子140とは反対側の表面10Uを通って光が出射し、また、封止基材151における有機EL素子140とは反対側の表面10Dを通って光が射出しうるようになっている。なお、前記の表面10U及び10Dは発光素子10の最も外側に位置し、この表面10U及び10Dを通って発光素子10の外部へ光が出光することになるため、表面10U及び10Dを「出光面」と呼ぶことがある。   Therefore, the light emitting element 10 includes the sealing substrate 151, the organic EL element 140, and the light emitting surface structure layer 100 in this order, and light passes through the surface 10U on the opposite side of the light emitting surface structure layer 100 from the organic EL element 140. The light can be emitted through the surface 10D of the sealing substrate 151 opposite to the organic EL element 140. The surfaces 10U and 10D are located on the outermost side of the light emitting element 10, and light is emitted to the outside of the light emitting element 10 through the surfaces 10U and 10D. May be called.

〔1−1.有機EL素子〕
例えば有機EL素子140として例示するように、有機EL素子は、通常、2層以上の電極層と、これらの電極層間に設けられ、電極層から電圧を印加されることにより発光する発光層と、を備える。
[1-1. Organic EL device]
For example, as exemplified as the organic EL element 140, the organic EL element is usually provided with two or more electrode layers and a light emitting layer that is provided between these electrode layers and emits light when a voltage is applied from the electrode layers; Is provided.

有機EL素子は、基板上に有機EL素子を構成する電極層、発光層等の層を形成し、さらにそれらの層を覆う封止部材を設け、基板と封止部材で発光層等の層を封止した構成とされるのが一般的である。   An organic EL element forms layers such as an electrode layer and a light emitting layer constituting the organic EL element on a substrate, and further provides a sealing member that covers those layers, and a layer such as a light emitting layer is formed between the substrate and the sealing member. Generally, a sealed configuration is used.

発光層としては、特に限定されず既知のものを適宜選択することができる。発光層中の発光材料は1種類に限らず、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。また、発光層は1層に限られず、光源としての用途に適合すべく、一種類の層単独又は複数種類の層の組み合わせとしてもよい。これにより、白色又はそれに近い色の光を発光するものとしうる。   As a light emitting layer, it does not specifically limit but a known thing can be selected suitably. The light emitting material in the light emitting layer is not limited to one type, and two or more types may be used in combination at any ratio. Further, the light emitting layer is not limited to a single layer, and may be a single type of layer or a combination of a plurality of types of layers in order to suit the use as a light source. Thereby, light of white or a color close thereto can be emitted.

本発明に係る有機EL素子の電極層は、いずれも透明な材料により形成されている透明電極層である。ここで「透明」であるとは、光学部材に用いるのに適した程度の光線透過率を有する意味である。例えば、発光素子10が全体として後述する所望の全光線透過率を有する程度に高い光線透過率を有する電極層を、透明電極層として用いてもよい。このように高い透明性を有する透明電極層を備えることにより、発光層で発生した光の取出効率を向上でき、また、発光素子を通じて向こう側を明瞭に見通すことができる。なお、透明電極層の材料は1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。さらに透明電極層は1層のみを備える単層構造の層であってもよく、2層以上の層を備える複層構造の層であってもよい。   The electrode layers of the organic EL element according to the present invention are all transparent electrode layers formed of a transparent material. Here, “transparent” means having a light transmittance of a degree suitable for use in an optical member. For example, an electrode layer having such a high light transmittance that the light-emitting element 10 has a desired total light transmittance described later as a whole may be used as the transparent electrode layer. By providing the transparent electrode layer having high transparency as described above, the extraction efficiency of light generated in the light emitting layer can be improved, and the other side can be clearly seen through the light emitting element. In addition, the material of a transparent electrode layer may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios. Further, the transparent electrode layer may be a single-layer structure including only one layer, or may be a multilayer structure including two or more layers.

有機EL素子140は、電極層141と電極層143との間に、発光層142に加えて、例えばホール注入層、ホール輸送層、電子輸送層、及び電子注入層等の他の層(図示せず。)をさらに有していてもよい。また、有機EL素子140はさらに、電極層141及び143に通電するための配線、発光層142の封止のための周辺構造等の任意の構成要素を備えていてもよい。   In addition to the light emitting layer 142, the organic EL element 140 includes other layers such as a hole injection layer, a hole transport layer, an electron transport layer, and an electron injection layer (not shown) between the electrode layer 141 and the electrode layer 143. May be further included. Further, the organic EL element 140 may further include arbitrary components such as a wiring for energizing the electrode layers 141 and 143 and a peripheral structure for sealing the light emitting layer 142.

電極層及びその間に設ける層を構成する材料としては、特に限定されないが、具体例として下記のものを挙げることができる。
透明電極層の材料としては、例えば、ITO(酸化インジウムスズ)等を挙げることができる。
正孔注入層の材料としては、例えば、スターバースト系芳香族ジアミン化合物等を挙げることができる。
正孔輸送層の材料としては、例えば、トリフェニルジアミン誘導体等を挙げることができる。
黄色発光層のホスト材料としては、例えば、トリフェニルジアミン誘導体等を挙げることができ、黄色発光層のドーパント材料としては、例えば、テトラセン誘導体等を挙げることができる。
緑色発光層の材料としては、例えば、ピラゾリン誘導体等を挙げることができる。
青色発光層のホスト材料としては、例えば、アントラセン誘導体等を挙げることができ、青色発光層のドーパント材料としては、例えば、ペリレン誘導体等を挙げることができる。
赤色発光層の材料としては、例えば、ユーロピウム錯体等を挙げることができる。
電子輸送層の材料としては、例えば、アルミニウムキノリン錯体(Alq)等を挙げることができる。
反射電極層の材料としては、例えば、フッ化リチウムおよびアルミニウムをそれぞれ用い、これらを順次真空成膜により積層させたもの等を挙げることができる。
Although it does not specifically limit as a material which comprises an electrode layer and the layer provided in between, The following can be mentioned as a specific example.
Examples of the material for the transparent electrode layer include ITO (indium tin oxide).
Examples of the material for the hole injection layer include a starburst aromatic diamine compound.
Examples of the material for the hole transport layer include a triphenyldiamine derivative.
As a host material of a yellow light emitting layer, a triphenyldiamine derivative etc. can be mentioned, for example, As a dopant material of a yellow light emitting layer, a tetracene derivative etc. can be mentioned, for example.
Examples of the material for the green light emitting layer include pyrazoline derivatives.
Examples of the host material for the blue light emitting layer include anthracene derivatives and the like, and examples of the dopant material for the blue light emitting layer include perylene derivatives.
Examples of the material for the red light emitting layer include a europium complex.
Examples of the material for the electron transport layer include an aluminum quinoline complex (Alq).
As a material of the reflective electrode layer, for example, lithium fluoride and aluminum can be used, which are sequentially laminated by vacuum film formation.

上記のもの又はその他の発光層を適宜組み合わせて積層型又はタンデム型と呼ばれる、補色関係にある発光色を発生する発光層としてもよい。補色関係の組み合わせは、例えば、黄/青、又は緑/青/赤等としてもよい。   The above-described or other light-emitting layers may be combined as appropriate to form a light-emitting layer that generates a light emission color having a complementary color relationship, which is referred to as a stacked type or a tandem type. The combination of complementary colors may be, for example, yellow / blue or green / blue / red.

〔1−2.出光面構造層〕
出光面構造層100は、有機EL素子140の発光面144に設けられた層であり、この出光面構造層100の有機EL素子140とは反対側の表面が、出光面10Uである。出光面10Uは発光素子10の最表面に露出した面であり、発光素子10としての出光面、即ち、発光素子10から素子外部に光が出光する際の出光面である。
[1-2. (Light emitting surface structure layer)
The light emitting surface structure layer 100 is a layer provided on the light emitting surface 144 of the organic EL element 140, and the surface of the light emitting surface structure layer 100 opposite to the organic EL element 140 is the light emitting surface 10U. The light exit surface 10U is a surface exposed on the outermost surface of the light emitting element 10, and is a light exit surface as the light emitting element 10, that is, a light exit surface when light is emitted from the light emitting element 10 to the outside of the element.

出光面10Uは、巨視的に見ると、有機EL素子140の発光面144に対して平行な面であり、発光素子10の主面に対して平行である。しかし、出光面10Uは、微視的に見ると、凹凸構造を有するため、凹部又は凸部の表面に相当する部分は発光面144に対して非平行な角度をなしうる。そこで、以下の説明において、出光面に対して平行又は垂直であるとは、別に断らない限り、凹部又は凸部を無視して巨視的に見た出光面に対して平行又は垂直であることをいう。また、発光素子10は、別に断らない限り、出光面10Uが水平方向に対して平行で且つ上向きになるよう載置した状態で説明する。
さらに、構成要素が「平行」又は「垂直」であるとは、本発明の効果を損ねない範囲、例えば±5°の範囲内で誤差を含んでいてもよい。また、ある方向に「沿って」とは、別に断らない限り、ある方向に「平行に」という意味である。
When viewed macroscopically, the light exit surface 10 </ b> U is a surface parallel to the light emitting surface 144 of the organic EL element 140 and parallel to the main surface of the light emitting element 10. However, since the light exit surface 10U has an uneven structure when viewed microscopically, a portion corresponding to the surface of the concave portion or the convex portion can form an angle that is not parallel to the light emitting surface 144. Therefore, in the following description, being parallel or perpendicular to the light exit surface means that it is parallel or perpendicular to the light exit surface viewed macroscopically ignoring the recesses or projections unless otherwise specified. Say. Further, the light emitting element 10 will be described in a state where the light emitting surface 10U is placed so as to be parallel and upward with respect to the horizontal direction unless otherwise specified.
Further, the fact that the component is “parallel” or “vertical” may include an error within a range that does not impair the effects of the present invention, for example, ± 5 °. Further, “along” in a certain direction means “in parallel” in a certain direction unless otherwise specified.

出光面構造層100は、凹凸構造層111及び基材フィルム層112を含む複層体110と、基板としての支持基板131と、複層体110及び支持基板131を接着する接着層121とを備える。
凹凸構造層111は、発光素子10の上面(即ち発光素子10の出光面側の最外層)に位置する層である。この凹凸構造層111は、第一の条列113、第二の条列114、第三の条列115及び第四の条列116を含む凹凸構造を有する。ここで、「条列」とは、ある一定の方向にある長さだけ連続して延在する複数列の凹部又は凸部の群のことを意味する。したがって、条列が延在する方向とは、当該条列に含まれる凹部又は凸部が延在する方向のことを意味する。条列には、例えば溝状に形成された凹部のみが含まれていてもよく、例えば畝状に形成された凸部のみが含まれていてもよく、これらの組み合わせが含まれていてもよい。本実施形態では、第一〜第四の条列113〜116は、いずれも周囲よりも相対的に突出した凸部からなっている。このため、前記の第一〜第四の条列113〜116の間の位置には、相対的に窪んだ凹部117が存在する。本実施形態の凹凸構造層111においては、凸部からなる第一〜第四の条列113〜116と凹部117とが凹凸構造に含まれていて、当該凹凸構造によって出向面10Uが規定されている。
The light exit surface structure layer 100 includes a multilayer body 110 including the concavo-convex structure layer 111 and the base film layer 112, a support substrate 131 as a substrate, and an adhesive layer 121 that adheres the multilayer body 110 and the support substrate 131. .
The uneven structure layer 111 is a layer located on the upper surface of the light emitting element 10 (that is, the outermost layer on the light emitting surface side of the light emitting element 10). The uneven structure layer 111 has an uneven structure including a first row 113, a second row 114, a third row 115, and a fourth row 116. Here, the “row” means a group of a plurality of rows of recesses or projections extending continuously for a certain length in a certain direction. Therefore, the direction in which the line extends means the direction in which the concave part or the convex part included in the line extends. The row may include, for example, only concave portions formed in a groove shape, for example, may include only convex portions formed in a bowl shape, or may include a combination thereof. . In the present embodiment, each of the first to fourth strips 113 to 116 is a convex portion that protrudes relatively from the surroundings. For this reason, a recessed portion 117 that is relatively recessed exists at a position between the first to fourth rows 113 to 116. In the concavo-convex structure layer 111 of the present embodiment, the concavo-convex structure includes the first to fourth rows 113 to 116 made of convex portions and the concave portion 117, and the outgoing surface 10U is defined by the concavo-convex structure. Yes.

なお、本明細書においては、図面は模式的な図示であるため、出光面10U上に示す第一〜第四の条列113〜116に含まれる凸部の数は僅かな個数だけであるが、実際の発光素子においては、一枚の発光素子の出光面10Uに、これよりも遥かに多い数の凸部を設けてもよい。   In addition, in this specification, since drawing is typical illustration, the number of the convex parts contained in the 1st-4th row | line | columns 113-116 shown on the light emission surface 10U is only a small number. In an actual light emitting element, a much larger number of convex portions may be provided on the light emitting surface 10U of one light emitting element.

(凹凸構造の説明)
以下、出光面10Uの凹凸構造について、図面を参照して詳細に説明する。
図3〜図7は、本発明の第一実施形態に係る発光素子10の出光面10Uを、発光素子10の厚み方向から見た様子を拡大して模式的に示す平面図である。また、図8は、本発明の第一実施形態に係る凹凸構造層111の一部を、図3の線3aを含み出光面10Uに対して垂直な面で切断した断面を模式的に示す部分断面図である。なお、図3において線3aは、第三の条列115と第四の条列116とが交わる地点X及び凹部117を通り、第一の条列113が延在する方向に対して平行な線である。また、図4では第一の条列113に斜線を付して示し、図5では第二の条列114に斜線を付して示し、図6では第三の条列115に斜線を付して示し、図7では第四の条列116に斜線を付して示す。さらに、以下の説明において、別に断らない限り、「厚み方向」とは発光素子10の厚み方向を表す。
(Description of uneven structure)
Hereinafter, the uneven structure of the light exit surface 10U will be described in detail with reference to the drawings.
3 to 7 are plan views schematically showing an enlarged view of the light exit surface 10U of the light emitting element 10 according to the first embodiment of the present invention viewed from the thickness direction of the light emitting element 10. FIG. Further, FIG. 8 is a portion schematically showing a cross section of a part of the concavo-convex structure layer 111 according to the first embodiment of the present invention cut by a plane including the line 3a of FIG. 3 and perpendicular to the light exit surface 10U. It is sectional drawing. In FIG. 3, the line 3 a passes through the point X where the third row 115 and the fourth row 116 intersect and the recess 117, and is parallel to the direction in which the first row 113 extends. It is. In FIG. 4, the first row 113 is hatched, the second row 114 is hatched, and the third row 115 is hatched in FIG. In FIG. 7, the fourth row 116 is indicated by hatching. Furthermore, in the following description, unless otherwise specified, “thickness direction” represents the thickness direction of the light emitting element 10.

図3に示すように、出光面構造層100は、出光面10Uに、出光面10Uに平行な方向に延在する4群の条列、すなわち、第一の条列113、第二の条列114、第三の条列115および第四の条列116を有する。第一の条列113、第二の条列114、第三の条列115および第四の条列116は、いずれも出光面10Uに平行な方向に延在する。ただし、第一の条列113、第二の条列114、第三の条列115および第四の条列116が延在する方向は、互いに平行ではなく、交差している。すなわち、第一の条列113が延在する方向を第一の方向とした場合、第二の条列114は第一の方向と交差する第二の方向に延在し、第三の条列115は第一の方向及び第二の方向に交差する第三の方向に延在し、第四の条列116は第一の方向、第二の方向及び第三の方向に交差する第四の方向に延在するようになっている。   As shown in FIG. 3, the light-emitting surface structure layer 100 includes four rows extending on the light-emitting surface 10U in a direction parallel to the light-emitting surface 10U, that is, a first row 113 and a second row. 114, a third row 115 and a fourth row 116. The first row 113, the second row 114, the third row 115, and the fourth row 116 all extend in a direction parallel to the light exit surface 10U. However, the directions in which the first row 113, the second row 114, the third row 115, and the fourth row 116 extend are not parallel to each other but intersect each other. That is, when the direction in which the first row 113 extends is the first direction, the second row 114 extends in the second direction intersecting the first direction, and the third row 115 extends in a third direction intersecting the first direction and the second direction, and the fourth row 116 is a fourth direction intersecting the first direction, the second direction, and the third direction. It extends in the direction.

このように、3方向以上の異なる方向に延在する条列113〜116が設けられていることにより、本実施形態の発光素子10では、出光面10Uを見ても条列113〜116のスジが視認され難くすることができる。このように第一〜第四の条列113〜116の視認を防止できる理由は必ずしも定かではないが、本発明者の検討によれば、次の理由によるものと推察される。   As described above, since the rows 113 to 116 extending in three or more different directions are provided, in the light emitting element 10 of the present embodiment, the stripes of the rows 113 to 116 are observed even when the light exit surface 10U is viewed. Can be made difficult to see. As described above, the reason why the first to fourth rows 113 to 116 can be prevented from being visually recognized is not certain, but according to the study of the present inventor, it is assumed that the reason is as follows.

従来の発光素子では、条列を有する凹凸構造を設ける場合でも、条列は1群又は2群だけ設けることが多かった。条列が1群又は2群であると、厚み方向から見た場合の出光面の面形状の規則性が高くなる。このため、高い規則性に応じて出光面での反射光の見え方にも一定の規則性が生じ、この規則性が条列のスジが見える原因となっていたと考えられる。また、従来のように出光面の面形状の規則性が高いと、条列の斜面部の周期的構造に起因して干渉及び回折が生じ、これらの干渉及び回折によって光が強められたり弱められたりすることも、条列のスジが見える一因であったと考えられる。これに対し、発光素子10のように、3方向以上の異なる方向に延在する条列113〜116を設ければ、出光面10Uの面形状の規則性が低くなるので、第一〜第四の条列113〜116がスジとして視認されることを抑制できるものと推察される。   In the conventional light emitting element, even when the uneven structure having the rows is provided, the rows are often provided only in one group or two groups. When the row is the first group or the second group, the regularity of the surface shape of the light emitting surface when viewed from the thickness direction becomes high. For this reason, it is considered that a certain regularity occurs in the way the reflected light is seen on the light exit surface according to the high regularity, and this regularity causes the streak of the line to be seen. In addition, when the regularity of the surface shape of the light exit surface is high as in the conventional case, interference and diffraction occur due to the periodic structure of the slope portion of the row, and light is strengthened or weakened by these interference and diffraction. It is thought that this was also one of the reasons for seeing streak lines. On the other hand, if the strips 113 to 116 extending in three or more different directions are provided as in the light emitting element 10, the regularity of the surface shape of the light exit surface 10U is lowered. It is inferred that the rows 113 to 116 can be suppressed from being visually recognized as streaks.

また、従来の凹凸構造を有する発光素子では、観察者が発光素子を見る方位角が変わると、発光素子の出光面の色及び明るさ等の見え方も変化するため、使用者の位置により発光素子の見え方が大きく変動することがあった。これに対し、3方向以上の異なる方向に延在する条列113〜116が設けられていることにより、本実施形態の発光素子10では、通常、観察者が発光素子を見る方位角による見え方の変動を抑制することも可能である。このように観察者が発光素子を見る方位角による見え方の変動を小さくできる理由は定かではないが、本発明者の検討によれば、次の理由によるものと推察される。   In addition, in the conventional light emitting element having a concavo-convex structure, when the azimuth angle at which the observer views the light emitting element changes, the appearance of the light emitting surface of the light emitting element, such as the color and brightness, also changes. The appearance of the element sometimes fluctuated greatly. On the other hand, by providing the rows 113 to 116 extending in three or more different directions, in the light emitting element 10 of the present embodiment, the appearance according to the azimuth angle at which the observer normally looks at the light emitting element. It is also possible to suppress fluctuations in As described above, the reason why the change in appearance depending on the azimuth angle at which the observer looks at the light-emitting element can be reduced. However, according to the study by the present inventor, it is assumed that the reason is as follows.

従来の発光素子では、前記のように、直交する面内の1方向又は2方向のみに沿って凹凸を設けることが多かったため、観察する方位角に応じて、当該方位角において観察される光学特性(輝度、色味等)が大きく異なり、方位角による見え方の変動が大きくなっていたものと考えられる。これに対し、本実施形態のように3方向以上の異なる方向に延在する条列113〜116を出光面10Uに設けると、出光面10Uの凹凸構造の規則性が低くなり、どの方位角から観察しても光学特性があまり異ならなくなるので、方位角による見え方が均一化するものと推察される。また、条列113〜116の数が増えると、当該条列113〜116により従来よりも多くの光が拡散されるので、このような光拡散も、方位角による見え方の変動を小さくできる要因のひとつと推察される。   In the conventional light emitting device, as described above, since the unevenness is often provided only along one or two directions in the orthogonal plane, the optical characteristics observed at the azimuth angle according to the azimuth angle to be observed. (Luminance, color, etc.) are greatly different, and it is thought that the change in appearance due to the azimuth angle is large. On the other hand, when the rows 113 to 116 extending in three or more different directions as in the present embodiment are provided on the light exit surface 10U, the regularity of the concavo-convex structure of the light exit surface 10U is lowered, and from which azimuth angle Even if observed, the optical characteristics do not differ so much, and it is assumed that the appearance by the azimuth is uniform. Further, when the number of the rows 113 to 116 increases, more light is diffused by the rows 113 to 116 than in the prior art, so that such light diffusion is also a factor that can reduce the change in appearance due to the azimuth angle. It is inferred that

また、出光面が平坦面部を有する場合、従来の発光素子では、平坦面部で反射する光の干渉により、出光面にムラが観察される場合があった。しかし、本実施形態のように3方向以上の異なる方向に延在する条列113〜116を出光面10Uに設けると、平坦面部113U〜116U及び117Bによる干渉が分散化し、干渉によるムラの発現を抑制することができる。   In the case where the light exit surface has a flat surface portion, in the conventional light emitting device, unevenness may be observed on the light exit surface due to interference of light reflected by the flat surface portion. However, when the rows 113 to 116 extending in three or more different directions are provided on the light exit surface 10U as in the present embodiment, the interference by the flat surface portions 113U to 116U and 117B is dispersed, and unevenness due to the interference is expressed. Can be suppressed.

条列113〜116が延在する各方向同士がなす角度は本発明の効果を著しく損なわない範囲であれば任意に設定してよい。具体的には、各条列113〜116が延在する方向が、通常4°以上、好ましくは15°以上、より好ましくは22.5°以上、また、通常176°以下、好ましくは165°以下、より好ましくは157.5°以下の角度をなすように交差していることが望ましい。これにより、4群の条列がある場合において、条列113〜116のスジを効果的に視認され難くできる。また、通常は、観察者が発光素子を見る方位角による見え方の変動を効果的に抑制できる。
また、ここでは、4群の条列の場合について述べたが、N群の条列(Nは3以上の整数を表す。)として、第mの条列が延在する方向を一般式で表すと、
180°/N×(m−1)±180°/1.1Nの範囲が好ましく、
180°/N×(m−1)±180°/1.5Nの範囲がより好ましく、
180°/N×(m−1)±180°/2Nの範囲が特に好ましい。
なお、ここでmは1以上N以下の整数を表す。また、前記一般式は、ある基準方向を角度0°とした場合に、当該基準方向と第mの条列が延在する方向とがなす角度を表す。
The angle formed by the directions in which the strips 113 to 116 extend may be arbitrarily set as long as the effect of the present invention is not significantly impaired. Specifically, the direction in which each row 113 to 116 extends is usually 4 ° or more, preferably 15 ° or more, more preferably 22.5 ° or more, and usually 176 ° or less, preferably 165 ° or less. More preferably, the crossing is performed so as to form an angle of 157.5 ° or less. Thereby, when there are four groups of lines, the stripes of the lines 113 to 116 can be effectively prevented from being visually recognized. Moreover, normally, the fluctuation | variation of the appearance by the azimuth which an observer looks at a light emitting element can be suppressed effectively.
Moreover, although the case of the 4th row was described here, the direction in which the mth row extends is expressed by a general formula as the Nth row (N represents an integer of 3 or more). When,
A range of 180 ° / N × (m−1) ± 180 ° / 1.1N is preferable,
The range of 180 ° / N × (m−1) ± 180 ° / 1.5N is more preferable,
A range of 180 ° / N × (m−1) ± 180 ° / 2N is particularly preferable.
Here, m represents an integer of 1 or more and N or less. The general formula represents an angle formed by the reference direction and a direction in which the m-th row extends when a certain reference direction is set to an angle of 0 °.

本実施形態では、図4に示すように、第一の条列113が、出光面10Uに平行な第一の方向Diに延在するように形成されている。また、図5に示すように、第二の条列114は、第一の条列113が延在する第一の方向Diに対して角度θをなす第二の方向Diiに延在するように形成されている。また、図6に示すように、第三の条列115は、第一の条列113が延在する第一の方向Diに対して角度θをなす第三の方向Diiiに延在するように形成されている。さらに、図7に示すように、第四の条列116は、第一の条113が延在する第一の方向Diに対して角度θをなす第四の方向Divに延在するように形成されている。前記の角度θ〜θはいずれも0°より大きく180°未満であればよいが、条列113〜116のスジを効果的に視認され難くし、また、観察者が発光素子を見る方位角による見え方の変動を効果的に抑制する観点から通常は4°以上176°未満である。ただし、角度θ〜θは互いに相違しており、前記のように4°以上異なる角度であることが好ましい。本実施形態では、θは90°、θは45°、θは135°に設定されているものとする。 In the present embodiment, as shown in FIG. 4, the first row 113 is formed so as to extend in a first direction Di parallel to the light exit surface 10U. Further, as shown in FIG. 5, the second row 114 extends in a second direction Dii that forms an angle θ 1 with respect to the first direction Di in which the first row 113 extends. Is formed. Further, as shown in FIG. 6, the third row 115 extends in a third direction Diii that forms an angle θ 2 with respect to the first direction Di in which the first row 113 extends. Is formed. Furthermore, as shown in FIG. 7, the fourth row 116 extends in a fourth direction Div that forms an angle θ 3 with respect to the first direction Di in which the first row 113 extends. Is formed. The angles θ 1 to θ 3 may be all greater than 0 ° and less than 180 °, but the stripes 113 to 116 are less likely to be effectively visually recognized, and the direction in which the observer views the light emitting element is difficult. From the viewpoint of effectively suppressing variation in appearance due to corners, the angle is usually 4 ° or more and less than 176 °. However, the angles θ 1 to θ 3 are different from each other, and are preferably different from each other by 4 ° or more as described above. In the present embodiment, θ 1 is set to 90 °, θ 2 is set to 45 °, and θ 3 is set to 135 °.

第一〜第四の条列113〜116を、当該条列113〜116が延在する方向に対して直交する平面で切った断面の形状は、例えば矩形、半円状などでもよいが、型抜き性がよく条列113〜116の成形が容易であること、目的とする光学特性が斜面部113S〜116Sの角度に強く依存する観点から、三角形以上の多角形であることが好ましい。ここで目的とする光学特性が斜面部113S〜116Sの角度に強く依存するとは、斜面部113S〜116Sの角度が45°近傍であると集光しやすい、55°以上だと素子からの発光の色味を均一にしやすい、と言った意味である。中でも、条列113〜116を欠け難くして凹凸構造層111の耐久性を高める観点から、四角形以上の多角形であることが好ましい。ここで、条列の断面の形状とは、前記の条列の断面における、条列を構成する凹部又は凸部(本実施形態では、凸部)の形状のことを意味する。   The shape of the cross section obtained by cutting the first to fourth rows 113 to 116 with a plane orthogonal to the direction in which the rows 113 to 116 extend may be, for example, a rectangle or a semicircle. From the viewpoints of good drawability and easy forming of the rows 113 to 116, and the objective optical characteristics strongly depending on the angles of the slope portions 113S to 116S, it is preferable that the polygon is a triangle or more. Here, the target optical characteristics strongly depend on the angles of the slopes 113S to 116S. It is easy to collect light when the angles of the slopes 113S to 116S are in the vicinity of 45 °, and light emission from the element is 55 ° or more. It means that it is easy to make the color uniform. Especially, it is preferable that it is a polygon more than a square from a viewpoint of making the row | line | columns 113-116 hard to chip and improving the durability of the uneven structure layer 111. Here, the shape of the cross section of the row means the shape of the concave portion or the convex portion (the convex portion in the present embodiment) constituting the row in the cross section of the row.

本実施形態では、図8に示すように、第一〜第四の条列113〜116を当該条列113〜116が延在する方向に対して直交する平面で切った断面の形状は、いずれも四角形である台形(具体的には等脚台形)となっている。したがって、図3に示すように、第一〜第四の条列113〜116はいずれも最突出部として平坦面部113U〜116Uを有し、この平坦面部113U〜116Uは、前記の台形の上底に相当する。また、第一〜第四の条列113〜116は、台形の互いに平行でない対辺に相当する一対の斜面部113S〜116Sを有し、前記の平坦面部113U〜116Uは前記の斜面部113S〜116Sに挟み込まれるようになっている。   In this embodiment, as shown in FIG. 8, the shape of the cross section obtained by cutting the first to fourth rows 113 to 116 with a plane orthogonal to the direction in which the rows 113 to 116 extend is any Is also a trapezoid (specifically an isosceles trapezoid) that is a square. Therefore, as shown in FIG. 3, each of the first to fourth rows 113 to 116 has flat surface portions 113U to 116U as the most projecting portions, and the flat surface portions 113U to 116U are the upper bases of the trapezoids. It corresponds to. The first to fourth strips 113 to 116 have a pair of slope portions 113S to 116S corresponding to opposite sides of the trapezoid, and the flat surface portions 113U to 116U are the slope portions 113S to 116S. It is to be sandwiched between.

ここで「斜面部」とは、出光面10Uに対して傾斜した面であり、すなわち、出光面10Uに対して平行でない角度をなす面である。また、斜面部の角度とは出光面10Uに対して斜面部がなす角度である。他方、平坦面部113U〜116Uは、出光面10Uに対して平行で平坦な面となっている。平坦面部113U〜116Uは、前述のように、凹凸構造の耐久性を高める効果をもち、また、例えば、有機EL素子140から発光し、空気中に取り出されまで反射を繰り返す光を多様な方向に反射させることで、光取出効率を高めるなどの効果がある。また、斜面部113S〜116Sでは、有機EL素子140が発する光のうち、平坦面部113U〜116Uでは取り出せなかった光を外部へと取り出すことができるため、斜面部113S〜116Sを設けることにより発光素子10の光取出効率を向上させることができる。   Here, the “slope portion” is a surface that is inclined with respect to the light exit surface 10U, that is, a surface that forms an angle that is not parallel to the light exit surface 10U. Further, the angle of the slope portion is an angle formed by the slope portion with respect to the light exit surface 10U. On the other hand, the flat surface portions 113U to 116U are flat surfaces parallel to the light exit surface 10U. As described above, the flat surface portions 113U to 116U have an effect of improving the durability of the uneven structure. For example, the light emitted from the organic EL element 140 and repeatedly reflected until taken out in the air in various directions. Reflecting has the effect of increasing the light extraction efficiency. Further, in the slope portions 113S to 116S, light that cannot be extracted by the flat surface portions 113U to 116U out of the light emitted from the organic EL element 140 can be extracted to the outside. Therefore, by providing the slope portions 113S to 116S, the light emitting element is provided. 10 light extraction efficiency can be improved.

上述したように、第一〜第四の条列113〜116にはそれぞれ複数本の凸部が含まれ、また、これらの凸部はそれぞれ所定の間隔を空けて設けられている。このため、条列113〜116同士の間には、周囲よりも相対的に窪んだ凹部117が存在している。すなわち、出光面10Uには、複数の凹部117が設けられ、各凹部117は条列113〜116に隔てられて離散的に形成されている。
図8に示すように、凹部117の底は、出光面10Uに対して平行で平坦な面である平坦面部117Bとなっている。仮に塵及び破片が凹部117にたまると光取出効率の低下及び輝点の発生などを生じる可能性があるが、凹部117の底が平坦な平坦面部117Bとなっていることにより、凹部117に塵及び破片等を溜まり難くすることができる。
As described above, each of the first to fourth rows 113 to 116 includes a plurality of convex portions, and these convex portions are provided at predetermined intervals. For this reason, a recess 117 that is relatively recessed from the surroundings exists between the rows 113 to 116. That is, the light exit surface 10U is provided with a plurality of concave portions 117, and the respective concave portions 117 are discretely formed so as to be separated by the rows 113 to 116.
As shown in FIG. 8, the bottom of the recess 117 is a flat surface portion 117B that is a flat surface parallel to the light exit surface 10U. If dust and debris accumulate in the concave portion 117, the light extraction efficiency may be reduced and bright spots may be generated. However, the bottom of the concave portion 117 is a flat surface portion 117B. In addition, it is possible to make it difficult to collect debris and the like.

図9は、本発明の第一実施形態に係る発光素子10の出光面10Uの斜面部113S〜116Sを、平坦面部113U〜116U及び117Bに対して垂直な方向に、平坦面部113U〜116U及び117Bに対して平行な平面901へと投影した様子を模式的に示す投影図である。なお、本実施形態では、平坦面部113U〜116U及び117Bに対して垂直な方向は、出光面10Uに対して垂直な方向、及び、発光素子10の厚み方向に対して平行な方向に一致する。また、平坦面部113U〜116U及び117Bに対して平行な平面901は、出光面10Uに対して平行な平面となる。ただし、前記の平坦面部113U〜116U及び117Bに対して平行な平面901は、発光素子10が有する平面ではなく、斜面部113S〜116Sの投影面積を測定するために設定される投影平面である。また、図9において、発光素子10の出光面10Uの斜面部113S〜116Sを、平坦面部113U〜116U及び117Bに対して垂直な方向に、平坦面部113U〜116U及び117Bに対して平行な平面901へと投影した投影像902には斜線を付して示す。   FIG. 9 shows flat surface portions 113U to 116U and 117B in a direction perpendicular to the flat surface portions 113U to 116U and 117B of the slope portions 113S to 116S of the light emitting surface 10U of the light emitting element 10 according to the first embodiment of the present invention. It is a projection figure which shows a mode that it projected on the plane 901 parallel to with respect to. In the present embodiment, the direction perpendicular to the flat surface portions 113U to 116U and 117B coincides with the direction perpendicular to the light exit surface 10U and the direction parallel to the thickness direction of the light emitting element 10. Further, the plane 901 parallel to the flat surface portions 113U to 116U and 117B is a plane parallel to the light exit surface 10U. However, the plane 901 that is parallel to the flat surface portions 113U to 116U and 117B is not a plane that the light emitting element 10 has, but a projection plane that is set to measure the projected areas of the slope portions 113S to 116S. In addition, in FIG. 9, the inclined surfaces 113S to 116S of the light emitting surface 10U of the light emitting element 10 are arranged in a plane perpendicular to the flat surface portions 113U to 116U and 117B and parallel to the flat surface portions 113U to 116U and 117B. A projected image 902 projected onto the head is shown with diagonal lines.

図9に示すように、本実施形態の発光素子10において、斜面部113S〜116Sを、平坦面部113U〜116U及び117Bに対して垂直な方向に、平坦面部113U〜116U及び117Bに対して平行な平面901へと投影して形成される投影面積が、平坦面部113U〜116U及び117Bの合計面積の、通常0.1倍以下、好ましくは0.05倍以下、より好ましくは0.01倍以下である。また、平坦面部113U〜116U及び117Bの合計面積に対する斜面部113S〜116Sの投影面積の比の下限は、通常0.0001倍以上、好ましくは0.0005倍以上、より好ましくは0.001倍以上である。   As shown in FIG. 9, in the light emitting element 10 of this embodiment, the slope portions 113S to 116S are parallel to the flat surface portions 113U to 116U and 117B in a direction perpendicular to the flat surface portions 113U to 116U and 117B. The projected area formed by projecting onto the plane 901 is usually 0.1 times or less, preferably 0.05 times or less, more preferably 0.01 times or less of the total area of the flat surface portions 113U to 116U and 117B. is there. In addition, the lower limit of the ratio of the projected area of the slope portions 113S to 116S to the total area of the flat surface portions 113U to 116U and 117B is usually 0.0001 times or more, preferably 0.0005 times or more, more preferably 0.001 times or more. It is.

これにより、発光素子10の向こう側を見通せるようになる。従来の片面発光型の発光素子に設けられる凹凸構造を両面発光型の発光素子に適用した場合、通常は斜面部の割合が大きくなることによりヘイズが大きくなり、発光素子の向こう側を見通せなくなる。これに対し、平坦面部113U〜116U及び117Bの合計面積に対する斜面部113S〜116Sの投影面積の割合を前記の範囲に収めると、出光面10Uに対して垂直な方向から見た場合の凹凸構造によるヘイズの向上を抑制できる。したがって、本実施形態の発光素子10によれば、凹凸構造を有しながらもヘイズの上昇を抑制できるので、シースルーを損なわないようになっている。   Thereby, the other side of the light emitting element 10 can be seen. When the uneven structure provided in the conventional single-sided light emitting device is applied to the double-sided light emitting device, the haze increases due to the increase in the ratio of the slope portion, and the other side of the light emitting device cannot be seen. On the other hand, when the ratio of the projected area of the inclined surface portions 113S to 116S to the total area of the flat surface portions 113U to 116U and 117B is within the above range, the uneven structure when viewed from the direction perpendicular to the light exit surface 10U. The improvement of haze can be suppressed. Therefore, according to the light emitting device 10 of the present embodiment, the haze increase can be suppressed while having the concavo-convex structure, so that see-through is not impaired.

さらに、図8に示すように、出光面10Uにおける平坦面部113U〜116U及び117Bの高低差Hの最大値は、好ましくは22μm以下であり、21.5μm以下もしくは21.0μm以下としてもよい。なお、下限は、通常0.1μm以上であり、0.15μm以上もしくは0.2μm以上としてもよい。ここで、高低差とは、厚み方向における距離をいう。したがって、本実施形態における平坦面部113U〜116Uと平坦面部117Bとの高低差Hは、第一〜第四の条列113〜116に含まれる凸部の高さのことを意味し、凹部117の深さのことを意味する。   Furthermore, as shown in FIG. 8, the maximum value of the height difference H between the flat surface portions 113U to 116U and 117B on the light exit surface 10U is preferably 22 μm or less, and may be 21.5 μm or less or 21.0 μm or less. The lower limit is usually 0.1 μm or more, and may be 0.15 μm or more or 0.2 μm or more. Here, the height difference means a distance in the thickness direction. Therefore, the height difference H between the flat surface portions 113U to 116U and the flat surface portion 117B in the present embodiment means the height of the convex portions included in the first to fourth rows 113 to 116, and It means depth.

平坦面部113U〜116U及び117Bの高低差Hの最大値をこのような範囲に収めることにより、出光面10Uの法線方向に対して傾斜した方向(斜め方向)から見た場合にも発光素子10の向こう側を見通すことができるようになる。斜面部113S〜116Sの面積割合が大きいと、斜め方向から出光面10Uを見た場合のヘイズが大きくなる傾向がある。これに対し、平坦面部113U〜116U及び117Bの合計面積(全面積)に対する斜面部113S〜116Sの投影面積の割合が前記の範囲に収まり、且つ、平坦面部113U〜116U及び117Bの高低差Hの最大値が前記の範囲に収まることにより、斜め方向から見た場合のヘイズの向上を抑制できるので、斜め方向から発光素子10を見た場合でもシースルーを損なわないようにできる。   By keeping the maximum value of the height difference H of the flat surface portions 113U to 116U and 117B within such a range, the light emitting element 10 can be seen even when viewed from a direction (oblique direction) inclined with respect to the normal direction of the light exit surface 10U. You can see the other side. When the area ratio of the slope portions 113S to 116S is large, the haze tends to increase when the light exit surface 10U is viewed from an oblique direction. On the other hand, the ratio of the projected area of the slope portions 113S to 116S to the total area (total area) of the flat surface portions 113U to 116U and 117B is within the above range, and the height difference H of the flat surface portions 113U to 116U and 117B is When the maximum value falls within the above range, improvement in haze when viewed from an oblique direction can be suppressed, so that see-through can be prevented from being impaired even when the light emitting element 10 is viewed from an oblique direction.

図8に示すように、斜面部113S〜116Sは、平坦面部113U〜116U及び117Bに対して、通常80°以上、好ましくは81°以上、より好ましくは82°以上、また、通常90°未満、好ましくは89°以下、より好ましくは88°以下の傾斜角度φで傾斜していることが好ましい。すなわち、斜面部113S〜116Sはいずれも平坦面部113U〜116U及び117Bに対して平行でない面であるが、これらの斜面部113S〜116Sと平坦面部113U〜116U及び117Bとがなす角度φが前記の範囲に収まることが好ましい。このように斜面部113S〜116Sの傾斜角度φが大きいことにより、光の取出効率を安定して高めることができる。また、傾斜角度φが小さい場合と比べ、傾斜角度φが大きいと斜面部113S〜116S一つあたりの前記投影面積を小さくできるので、出光面10Uに対して垂直な厚み方向から見た場合に発光素子10の向こう側をより明瞭に見通しやすくなる。出光面10Uに対して垂直な厚み方向は発光素子10の正面方向に当たり、通常はこの正面方向から発光素子10の向こう側を見通す頻度が高いと想定されるため、前記の利点は実用上、有用である。   As shown in FIG. 8, the slope portions 113S to 116S are usually 80 ° or more, preferably 81 ° or more, more preferably 82 ° or more, and usually less than 90 °, with respect to the flat surface portions 113U to 116U and 117B. Preferably, it is inclined at an inclination angle φ of 89 ° or less, more preferably 88 ° or less. That is, the slope portions 113S to 116S are all surfaces that are not parallel to the flat surface portions 113U to 116U and 117B. It is preferable to be within the range. Thus, since the inclination angle φ of the slope portions 113S to 116S is large, the light extraction efficiency can be stably increased. In addition, when the inclination angle φ is large, the projected area per one of the slope portions 113S to 116S can be reduced as compared with the case where the inclination angle φ is small, and thus light emission occurs when viewed from the thickness direction perpendicular to the light exit surface 10U. The other side of the element 10 is more clearly visible. The thickness direction perpendicular to the light emitting surface 10U corresponds to the front direction of the light emitting element 10, and since it is normally assumed that the frequency of looking through the light emitting element 10 from the front direction is high, the above advantages are practically useful. It is.

また、本実施形態では、全ての斜面部113S〜116Sの傾斜角度φは、同じ大きさに設定されているが、特に限定されず異なっていてもよい。   Moreover, in this embodiment, although inclination-angle (phi) of all the slope parts 113S-116S is set to the same magnitude | size, it does not specifically limit and may differ.

凹凸構造層111の厚みTは、前記の平坦面部113U〜116U及び117Bの高低差Hの最大値との関係で、適切な範囲することが好ましい。例えば、凹凸構造層111の材料として、凹凸構造層111の耐久性の維持に有利な硬質の材料を用いた場合、凹凸構造層111の厚みTを薄くしたほうが発光素子10の可撓性を高めることが可能となり、発光素子10の製造工程における凹凸構造層111の取り扱いが容易となるので、好ましい。具体的には、平坦面部113U〜116U及び117Bの高低差Hの最大値と凹凸構造層111の厚みTとの差は、0〜30μmであることが好ましい。   The thickness T of the concavo-convex structure layer 111 is preferably in an appropriate range in relation to the maximum value of the height difference H of the flat surface portions 113U to 116U and 117B. For example, in the case where a hard material advantageous for maintaining the durability of the uneven structure layer 111 is used as the material of the uneven structure layer 111, the flexibility of the light emitting element 10 is improved by reducing the thickness T of the uneven structure layer 111. This makes it possible to easily handle the uneven structure layer 111 in the manufacturing process of the light emitting element 10, which is preferable. Specifically, the difference between the maximum value of the height difference H of the flat surface portions 113U to 116U and 117B and the thickness T of the uneven structure layer 111 is preferably 0 to 30 μm.

第一〜第四の条列113〜116において、それぞれの条列113〜116に含まれる凹部又は凸部の幅W、ピッチPなどの寸法は、本発明の効果を著しく損なわない限り任意である。例えば、幅Wは、通常1μm以上、好ましくは2μm以上であり、通常60μm以下、好ましくは50μm以下である。さらに、ピッチPは、通常0.5μm以上、好ましくは1μm以上であり、通常2mm以下、好ましくは1mm以下である。   In the first to fourth strips 113 to 116, the dimensions such as the width W and the pitch P of the concave portions or the convex portions included in the respective strips 113 to 116 are arbitrary as long as the effects of the present invention are not significantly impaired. . For example, the width W is usually 1 μm or more, preferably 2 μm or more, and is usually 60 μm or less, preferably 50 μm or less. Furthermore, the pitch P is usually 0.5 μm or more, preferably 1 μm or more, and is usually 2 mm or less, preferably 1 mm or less.

第一〜第四の条列113〜116に含まれる凹部又は凸部それぞれにおいて、高さ(即ち、平坦面部113U〜116U及び117Bの高低差)H、幅W、ピッチPなどの寸法は、一定であってもよく、例えば延在方向の位置に応じて変化してもよい。本実施形態では、いずれの条列113〜116でも、凸部の寸法は延在方向において一定であるものとする。
また、同じ条列113〜116に含まれる凹部又は凸部の寸法は、同じでもよく、異なっていてもよい。本実施形態では、同じ条列113〜116に含まれる凸部の寸法は、いずれも一定であるものとする。
さらに、異なる条列113〜116に含まれる凹部又は凸部の寸法は、同じでもよく、異なっていてもよい。本実施形態では、いずれの条列113〜116においても、凸部の高さH及び幅Wは一定である。ピッチPは、第一の条列113と第二の条列114とが交差する地点を、いずれの第三の条列115及び第四の条列116も通るように、寸法が調整されている。このため、凹部117を厚み方向から見た形状は、いずれの凹部117においても同一の形状であり、どの凹部117においても底の平坦面部117Bは三角形になっている。
In each of the concave portions or the convex portions included in the first to fourth rows 113 to 116, the height (that is, the height difference between the flat surface portions 113U to 116U and 117B) H, the width W, the pitch P, and the like are constant. For example, it may change according to the position in the extending direction. In this embodiment, the dimension of a convex part shall be constant in the extension direction in any row 113-116.
Moreover, the dimension of the recessed part or convex part contained in the same row | line | column 113-116 may be the same, and may differ. In the present embodiment, the dimensions of the convex portions included in the same row 113 to 116 are all constant.
Furthermore, the dimension of the recessed part or convex part contained in different rows 113-116 may be the same, and may differ. In this embodiment, the height H and the width W of the convex portions are constant in any of the rows 113 to 116. The size of the pitch P is adjusted so that any of the third row 115 and the fourth row 116 pass through the point where the first row 113 and the second row 114 intersect. . For this reason, the shape of the concave portion 117 viewed from the thickness direction is the same in any concave portion 117, and the flat surface portion 117B at the bottom of each concave portion 117 is triangular.

(複層体の材料の説明)
出光面構造層100は、複数の層からなるものとしうるが、単一の層からなってもよい。所望の特性を備えた出光面構造層100を容易に得る観点からは、複数の層からなることが好ましい。本実施形態では、図1に示すように、出光面構造層100は、凹凸構造層111と基材フィルム層112とを組み合わせた複層体110を含むようになっているものとする。これにより、性能の高い出光面構造層100を容易に得ることができる。
(Description of the material of the multilayer)
The light exit surface structure layer 100 may be composed of a plurality of layers, but may be composed of a single layer. From the viewpoint of easily obtaining the light-emitting surface structure layer 100 having desired characteristics, it is preferable that the light-emitting surface structure layer 100 is composed of a plurality of layers. In the present embodiment, as shown in FIG. 1, the light exit surface structure layer 100 includes a multilayer body 110 in which an uneven structure layer 111 and a base film layer 112 are combined. Thereby, the light emission surface structure layer 100 with high performance can be obtained easily.

凹凸構造層111及び基材フィルム層112は、通常、透明樹脂を含む樹脂組成物により形成する。ここで透明樹脂が「透明」であるとは、光学部材に用いるのに適した程度の光線透過率を有する意味である。本実施形態においては、出光面構造層100を構成する各層が、光学部材に用いるのに適した光線透過率を有するものとしてもよく、例えば出光面構造層100全体として80%以上の全光線透過率を有するものとしてもよい。   The concavo-convex structure layer 111 and the base film layer 112 are usually formed of a resin composition containing a transparent resin. Here, that the transparent resin is “transparent” means having a light transmittance suitable for use in an optical member. In the present embodiment, each layer constituting the light exit surface structure layer 100 may have a light transmittance suitable for use in an optical member. For example, the light exit surface structure layer 100 as a whole has a total light transmittance of 80% or more. It is good also as what has a rate.

透明樹脂は、特に限定されず、透明な層を形成することができる各種の樹脂を用いてもよい。例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂などを挙げることができる。なかでも熱可塑性樹脂は熱による変形が容易であるため、また紫外線硬化性樹脂は硬化性が高く効率が良いため、凹凸構造層111の効率的な形成が可能となり、それぞれ好ましい。   The transparent resin is not particularly limited, and various resins that can form a transparent layer may be used. Examples thereof include a thermoplastic resin, a thermosetting resin, an ultraviolet curable resin, and an electron beam curable resin. Among these, thermoplastic resins are preferable because they can be easily deformed by heat, and ultraviolet curable resins have high curability and high efficiency, so that the uneven structure layer 111 can be efficiently formed.

熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリエステル系、ポリアクリレート系、シクロオレフィンポリマー系等の樹脂を挙げることができる。また、紫外線硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ系、アクリル系、ウレタン系、エン/チオール系、イソシアネート系等の樹脂等を挙げることができる。これらの樹脂としては、複数個の重合性官能基を有するものを好ましく用いることができる。なお、前記の樹脂は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。   Examples of the thermoplastic resin include polyester-based, polyacrylate-based, and cycloolefin polymer-based resins. In addition, examples of the ultraviolet curable resin include epoxy resins, acrylic resins, urethane resins, ene / thiol resins, isocyanate resins, and the like. As these resins, those having a plurality of polymerizable functional groups can be preferably used. In addition, the said resin may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.

なかでも、複層体110を構成する凹凸構造層111の材料としては、出光面10Uの凹凸構造を形成しやすく且つ凹凸構造の耐擦傷性を得やすいという観点から、硬化時の硬度が高い材料が好ましい。具体的には、7μmの膜厚の樹脂層を基材上に凹凸構造が無い状態で形成した際に、鉛筆硬度でHB以上になるような材料が好ましく、H以上になる材料がさらに好ましく、2H以上になる材料がより好ましい。一方、基材フィルム層112の材料としては、凹凸構造層111の形成に際しての取り扱い、並びに、複層体110を成形した後の複層体110の取り扱いを容易とするために、ある程度の柔軟性があるものが好ましい。このような材料を組み合わせることにより、取り扱いが容易で且つ耐久性に優れる複層体110を得ることができ、その結果、高性能の発光素子10を容易に製造することができる。   Among them, the material of the concavo-convex structure layer 111 constituting the multilayer body 110 is a material having a high hardness at the time of curing from the viewpoint of easily forming the concavo-convex structure of the light exit surface 10U and easily obtaining scratch resistance of the concavo-convex structure. Is preferred. Specifically, when a resin layer having a film thickness of 7 μm is formed on a substrate without a concavo-convex structure, a material having a pencil hardness of HB or higher is preferable, and a material of H or higher is more preferable. The material which becomes 2H or more is more preferable. On the other hand, as the material of the base film layer 112, in order to facilitate the handling when forming the concavo-convex structure layer 111 and the handling of the multilayer body 110 after forming the multilayer body 110, a certain degree of flexibility is provided. There are preferred. By combining such materials, the multilayer body 110 that is easy to handle and excellent in durability can be obtained, and as a result, the high-performance light-emitting element 10 can be easily manufactured.

このような材料の組み合わせは、それぞれの材料を構成する樹脂として、上に例示した透明樹脂を適宜選択することにより得ることができる。具体的には、凹凸構造層111の材料を構成する透明樹脂として、例えばアクリレート等の紫外線硬化性樹脂を用い、一方、基材フィルム層112の材料を構成する透明樹脂として、例えば脂環式オレフィンポリマー製のフィルム(例えば、日本ゼオン社製のゼオノアフィルム等)や、ポリエステルフィルムを用いることが好ましい。   Such a combination of materials can be obtained by appropriately selecting the transparent resin exemplified above as the resin constituting each material. Specifically, as the transparent resin constituting the material of the concavo-convex structure layer 111, for example, an ultraviolet curable resin such as acrylate is used, while as the transparent resin constituting the material of the base film layer 112, for example, an alicyclic olefin It is preferable to use a polymer film (for example, ZEONOR film manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.) or a polyester film.

本実施形態のように、出光面構造層100が凹凸構造層111と基材フィルム層112とを含む場合、凹凸構造層111と基材フィルム層112との屈折率はできるだけ近くする態様としてもよい。この場合、凹凸構造層111と基材フィルム層112との屈折率差は、好ましくは0.1以内、さらに好ましくは0.05以内である。   When the light-emitting surface structure layer 100 includes the concavo-convex structure layer 111 and the base film layer 112 as in the present embodiment, the refractive index of the concavo-convex structure layer 111 and the base film layer 112 may be as close as possible. . In this case, the refractive index difference between the uneven structure layer 111 and the base film layer 112 is preferably within 0.1, and more preferably within 0.05.

凹凸構造層111、基材フィルム層112等の出光面構造層100の構成要素となる層の材料として、シースルー性を阻害しない範囲で、光拡散性のある材料を用いてもよい。これにより、シースルー性を維持しつつ、出光面構造層100を透過する光を拡散させることができ、観察角度による色味の変化を更に低減することができる。   As a material of a layer that is a constituent element of the light exit surface structure layer 100 such as the uneven structure layer 111 and the base film layer 112, a material having light diffusibility may be used as long as the see-through property is not hindered. Thereby, it is possible to diffuse the light transmitted through the light exit surface structure layer 100 while maintaining the see-through property, and it is possible to further reduce the change in color depending on the observation angle.

光拡散性のある材料としては、例えば、粒子を含んだ材料、2種類以上の樹脂を混ぜ合わせて光を拡散させるアロイ樹脂、等を挙げることができる。なかでも、光拡散性を容易に調節できるという観点から、粒子を含んだ材料が好ましく、特に粒子を含んだ樹脂組成物が特に好ましい。   Examples of the light diffusing material include a material containing particles, and an alloy resin that diffuses light by mixing two or more kinds of resins. Among these, from the viewpoint that the light diffusibility can be easily adjusted, a material including particles is preferable, and a resin composition including particles is particularly preferable.

粒子は、透明であってもよく、不透明であってもよい。粒子の材料としては、例えば、金属及び金属化合物、並びに樹脂等が挙げられる。金属化合物としては、例えば、金属の酸化物及び窒化物を挙げることができる。金属及び金属化合物の具体例を挙げると、銀、アルミのような反射率が高い金属;酸化ケイ素、酸化アルミ、酸化ジルコニウム、窒化珪素、錫添加酸化インジウム、酸化チタン等の金属化合物;などを挙げることができる。一方、樹脂としては、例えば、メタクリル樹脂、ポリウレタン樹脂、シリコーン樹脂等を挙げることができる。なお、粒子の材料は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。   The particles may be transparent or opaque. Examples of the material of the particles include metals and metal compounds, and resins. Examples of the metal compound include metal oxides and nitrides. Specific examples of metals and metal compounds include metals having high reflectivity such as silver and aluminum; metal compounds such as silicon oxide, aluminum oxide, zirconium oxide, silicon nitride, tin-added indium oxide, and titanium oxide. be able to. On the other hand, examples of the resin include methacrylic resin, polyurethane resin, and silicone resin. In addition, the particle | grain material may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.

粒子の形状は、例えば、球状、円柱状、針状、立方体状、直方体状、角錐状、円錐状、星型状等の形状とすることができる。
粒子の粒径は、好ましくは0.1μm以上であり、好ましくは10μm以下、より好ましくは5μm以下である。ここで粒径とは、体積基準の粒子量を、粒子径を横軸にして積算した積算分布における50%粒子径のことである。粒径が大きいほど、所望の効果を得るために必要な粒子の含有割合は多くなり、粒径が小さいほど、含有量は少なくてすむ。したがって、粒径が小さいほど、観察角度による色味の変化の低減、及び光取り出し効率の向上等の所望の効果を、少ない粒子で得ることができる。なお、粒径は、粒子の形状が球状以外である場合には、その同等体積の球の直径を粒径とする。
The shape of the particles can be, for example, a spherical shape, a cylindrical shape, a needle shape, a cubic shape, a rectangular parallelepiped shape, a pyramid shape, a conical shape, a star shape, or the like.
The particle diameter of the particles is preferably 0.1 μm or more, preferably 10 μm or less, more preferably 5 μm or less. Here, the particle diameter is a 50% particle diameter in an integrated distribution obtained by integrating the volume-based particle amount with the particle diameter as the horizontal axis. The larger the particle size, the larger the content ratio of particles necessary for obtaining the desired effect, and the smaller the particle size, the smaller the content. Therefore, as the particle size is smaller, desired effects such as a reduction in change in color depending on the observation angle and an improvement in light extraction efficiency can be obtained with fewer particles. When the particle shape is other than spherical, the diameter of the sphere having the same volume is used as the particle size.

粒子が透明な粒子であり、且つ粒子が透明樹脂中に含まれる場合において、粒子の屈折率と透明樹脂の屈折率との差が、0.05〜0.5であることが好ましく、0.07〜0.5であることがより好ましい。ここで、粒子及び透明樹脂の屈折率は、どちらがより大きくてもよい。粒子と透明樹脂の屈折率が近すぎると拡散効果が得られず色味ムラは抑制され難くなる可能性があり、逆に差が大きすぎると拡散が大きくなり色味ムラは抑制されるが光取出効果が低減する可能性がある。   In the case where the particles are transparent particles and the particles are contained in the transparent resin, the difference between the refractive index of the particles and the refractive index of the transparent resin is preferably 0.05 to 0.5. More preferably, it is 07-0.5. Here, either the particle or the refractive index of the transparent resin may be larger. If the refractive index of the particles and the transparent resin is too close, the diffusion effect cannot be obtained and the color unevenness may be difficult to be suppressed. Conversely, if the difference is too large, the diffusion becomes large and the color unevenness is suppressed, but light Extraction effect may be reduced.

粒子の含有割合は、粒子を含む層の全量中における体積割合で、1%以上が好ましく、5%以上がより好ましく、また、80%以下が好ましく、50%以下がより好ましい。粒子の含有割合をかかる下限以上とすることにより、観察角度による色味の変化の低減等の所望の効果を得ることができる。また、かかる上限以下とすることにより、粒子の凝集を防止し、粒子を安定して分散させることができる。   The content ratio of the particles is a volume ratio in the total amount of the layer containing the particles, preferably 1% or more, more preferably 5% or more, 80% or less, and more preferably 50% or less. By setting the content ratio of the particles to be equal to or higher than the lower limit, desired effects such as reduction of a change in color depending on the observation angle can be obtained. Moreover, by setting it as this upper limit or less, aggregation of particle | grains can be prevented and particle | grains can be disperse | distributed stably.

さらに、樹脂組成物は、必要に応じて任意の成分を含んでいてもよい。当該任意の成分としては、例えば、フェノール系、アミン系等の劣化防止剤;界面活性剤系、シロキサン系等の帯電防止剤;トリアゾール系、2−ヒドロキシベンゾフェノン系等の耐光剤;などの添加剤を挙げることができる。   Furthermore, the resin composition may contain arbitrary components as necessary. Examples of the optional component include additives such as phenol-based and amine-based degradation inhibitors; surfactant-based, siloxane-based antistatic agents; triazole-based, 2-hydroxybenzophenone-based light-resistant agents; Can be mentioned.

凹凸構造層111の厚さTは、特に限定されないが、1μm〜70μmであることが好ましい。本実施形態では、凹凸構造層111の厚さTとは、凹凸構造が形成されていない基材フィルム層112側の面と、凹凸構造の平坦面部113U〜116Uとの距離のことである。
また、基材フィルム層112の厚さは、20μm〜300μmであることが好ましい。
The thickness T of the uneven structure layer 111 is not particularly limited, but is preferably 1 μm to 70 μm. In the present embodiment, the thickness T of the concavo-convex structure layer 111 is a distance between the surface on the base film layer 112 side where the concavo-convex structure is not formed and the flat surface portions 113U to 116U of the concavo-convex structure.
Moreover, it is preferable that the thickness of the base film layer 112 is 20 micrometers-300 micrometers.

(支持基板)
本実施形態の発光素子10は、有機EL素子140と複層体110との間に、支持基板131を備える。支持基板131を備えることにより、発光素子10に、たわみを抑制する剛性を与えることができる。また、支持基板131として、有機EL素子140を封止する性能に優れて、且つ、製造工程において有機EL素子140を構成する層をその上に順次形成することを容易に行い得る基板を備えることにより、発光素子10の耐久性を向上させ、且つ製造を容易にすることができる。
(Support substrate)
The light emitting element 10 of this embodiment includes a support substrate 131 between the organic EL element 140 and the multilayer body 110. By providing the support substrate 131, the light emitting element 10 can be given rigidity for suppressing deflection. Further, the supporting substrate 131 is provided with a substrate that is excellent in the performance of sealing the organic EL element 140 and that can easily form the layers constituting the organic EL element 140 on the manufacturing process in order. As a result, the durability of the light emitting element 10 can be improved and the manufacture can be facilitated.

支持基板131を構成する材料としては、通常、透明な材料を用いる。その材料としては、例えば、ガラス、樹脂などが挙げられる。なお、支持基板131の材料は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
支持基板131の屈折率は、特に制限されないが、1.4〜2.0とすることが好ましい。
支持基板131の厚さは、特に限定されないが、0.1mm〜5mmであることが好ましい。
As a material constituting the support substrate 131, a transparent material is usually used. Examples of the material include glass and resin. In addition, the material of the support substrate 131 may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.
The refractive index of the support substrate 131 is not particularly limited, but is preferably 1.4 to 2.0.
The thickness of the support substrate 131 is not particularly limited, but is preferably 0.1 mm to 5 mm.

(接着層)
本実施形態の発光素子10は、複層体110と支持基板131との間に接着層121を備える。接着層121は、複層体110の基材フィルム層112と支持基板131との間に介在して、これらの2層を接着する層である。
接着層121の材料である接着剤は、狭義の接着剤(23℃における剪断貯蔵弾性率が1〜500MPaであり、常温で粘着性を示さない、いわゆるホットメルト型の接着剤)のみならず、23℃における剪断貯蔵弾性率が1MPa未満である粘着剤をも包含する。具体的には、支持基板131あるいは基材フィルム層112に近い屈折率を有し、且つ透明であるものを適宜用いうる。より具体的には、アクリル系接着剤あるいは粘着剤が挙げられる。接着層の厚さは、5μm〜100μmであることが好ましい。
(Adhesive layer)
The light emitting element 10 of this embodiment includes an adhesive layer 121 between the multilayer body 110 and the support substrate 131. The adhesive layer 121 is a layer that is interposed between the base film layer 112 of the multilayer body 110 and the support substrate 131 and adheres these two layers.
The adhesive that is the material of the adhesive layer 121 is not only a narrowly defined adhesive (a so-called hot melt type adhesive having a shear storage modulus of 1 to 500 MPa at 23 ° C. and not exhibiting tackiness at room temperature), A pressure-sensitive adhesive having a shear storage modulus at 23 ° C. of less than 1 MPa is also included. Specifically, a material having a refractive index close to that of the support substrate 131 or the base film layer 112 and transparent can be used as appropriate. More specifically, an acrylic adhesive or a pressure-sensitive adhesive can be used. The thickness of the adhesive layer is preferably 5 μm to 100 μm.

(封止基材)
本実施形態の発光素子10は、発光面145に封止基材151を備える。封止基材151は、発光面145に直接接するように設けてもよい。また、発光面145と封止基材151との間に、充填材や接着剤等の任意の物質が存在していてもよいし、空隙が存在していてもよい。空隙には、発光層142の耐久性を大きく損なう等の不都合がない限りは空気やその他の気体が存在してもよいし、空隙内を真空としてもよい。
(Sealing substrate)
The light emitting element 10 of the present embodiment includes a sealing substrate 151 on the light emitting surface 145. The sealing substrate 151 may be provided so as to be in direct contact with the light emitting surface 145. Further, an arbitrary substance such as a filler or an adhesive may be present between the light emitting surface 145 and the sealing substrate 151, or a gap may be present. As long as there is no inconvenience such as greatly impairing the durability of the light emitting layer 142, air or other gas may be present in the space, or the space may be evacuated.

封止基材151としては、有機EL素子140を封止でき、発光面145から発せられる光を透過させる任意の部材を用いうる。例えば、支持基材131と同様の部材を用いうる。   As the sealing substrate 151, any member that can seal the organic EL element 140 and transmits light emitted from the light emitting surface 145 can be used. For example, a member similar to the support base 131 can be used.

(製造方法)
発光素子10の製造方法は、特に限定されないが、例えば、支持基板131の一方の面に有機EL素子140を構成する各層を積層し、その後又はその前に、支持基板131の他方の面に凹凸構造層111及び基材フィルム層112を有する複層体110を、接着層121を介して貼付することにより製造してもよい。
(Production method)
Although the manufacturing method of the light emitting element 10 is not particularly limited, for example, each layer constituting the organic EL element 140 is laminated on one surface of the support substrate 131, and after or before that, the other surface of the support substrate 131 is uneven. You may manufacture by sticking the multilayer body 110 which has the structure layer 111 and the base film layer 112 through the contact bonding layer 121. FIG.

凹凸構造層111及び基材フィルム層112を有する複層体110の製造は、例えば、所望の形状を有する金型等の型を用意し、この型を、凹凸構造層111を形成する材料の層に転写することにより行ってもよい。より具体的な方法としては、例えば、
(方法1)基材フィルム層112を構成する樹脂組成物Aの層及び凹凸構造層111を構成する樹脂組成物Bの層(凹凸構造はまだ形成されていない)を有する未加工複層体を用意し、かかる未加工複層体の樹脂組成物B側の面上に、凹凸構造を形成する方法;及び
(方法2)基材フィルム層112の上に、液体状態の樹脂組成物Bを塗布し、塗布された樹脂組成物Bの層に型を当て、その状態で樹脂組成物Bを硬化させ、凹凸構造層111を形成する方法
などを挙げることができる。
For the production of the multilayer body 110 having the concavo-convex structure layer 111 and the base film layer 112, for example, a mold such as a mold having a desired shape is prepared, and this mold is a layer of a material for forming the concavo-convex structure layer 111. You may carry out by transferring to. As a more specific method, for example,
(Method 1) An unprocessed multilayer having a layer of the resin composition A constituting the base film layer 112 and a layer of the resin composition B constituting the concavo-convex structure layer 111 (the concavo-convex structure is not yet formed) A method for preparing and forming a concavo-convex structure on the surface of the raw multilayer body on the resin composition B side; and (Method 2) applying the resin composition B in a liquid state on the base film layer 112 Then, a method may be mentioned in which a mold is applied to the applied layer of the resin composition B, the resin composition B is cured in that state, and the concavo-convex structure layer 111 is formed.

方法1において、未加工複層体は、例えば樹脂組成物A及び樹脂組成物Bを共押出する押出成形により得るようにしてもよい。未加工複層体の樹脂組成物B側の面上に、所望の表面形状を有する型を押し当てることにより、凹凸構造を形成することができる。
より具体的には、長尺の未加工複層体を押出成形により連続的に形成し、所望の表面形状を有する転写ロールとニップロールとで未加工複層体を加圧し、それにより、連続的な製造を効率的に行うことができる。転写ロールとニップロールとによる挟み圧力は、好ましくは数MPa〜数十MPaである。また転写時の温度は、樹脂組成物Bのガラス転移温度をTgとすると、好ましくはTg以上(Tg+100℃)以下である。未加工複層体と転写ロールとの接触時間はフィルムの送り速度、すなわちロール回転速度によって調整でき、好ましくは5秒以上600秒以下である。
In Method 1, the raw multilayer body may be obtained by, for example, extrusion molding in which the resin composition A and the resin composition B are coextruded. An uneven structure can be formed by pressing a mold having a desired surface shape onto the surface of the unprocessed multilayer body on the resin composition B side.
More specifically, a long raw multilayer body is continuously formed by extrusion molding, and the raw multilayer body is pressed with a transfer roll and a nip roll having a desired surface shape, thereby continuously. Manufacturing can be performed efficiently. The pinching pressure between the transfer roll and the nip roll is preferably several MPa to several tens of MPa. The temperature at the time of transfer is preferably Tg or more (Tg + 100 ° C.) or less, where Tg is the glass transition temperature of the resin composition B. The contact time between the unprocessed multilayer body and the transfer roll can be adjusted by the film feed speed, that is, the roll rotation speed, and is preferably 5 seconds or more and 600 seconds or less.

方法2において、凹凸構造層111を構成する樹脂組成物Bとしては、紫外線等のエネルギー線により硬化しうる組成物を用いることが好ましい。かかる樹脂組成物Bを、基材フィルム層112上に塗布し、型を当てた状態で、塗布面の裏側(基材フィルムの、樹脂組成物Bを塗布した面とは反対側)に位置する光源から、紫外線等のエネルギー線を照射し、樹脂組成物Bを硬化させ、その後型を剥離することにより、樹脂組成物Bの塗膜を凹凸構造層111とし、複層体110を得ることができる。   In Method 2, as the resin composition B constituting the concavo-convex structure layer 111, it is preferable to use a composition that can be cured by energy rays such as ultraviolet rays. The resin composition B is applied on the base film layer 112, and in a state where the mold is applied, the resin composition B is located on the back side of the application surface (the side opposite to the surface on which the resin composition B is applied). By irradiating energy rays such as ultraviolet rays from a light source, curing the resin composition B, and then peeling the mold, the coating film of the resin composition B can be used as the concavo-convex structure layer 111 to obtain a multilayer body 110. it can.

(発光素子の主な利点)
本実施形態の発光素子10は上述したように構成されているので、有機EL素子140の発光面144から発せられた光は、出光面構造層100を透過して、出光面10Uを通って取り出され、また、発光面145から発せられた光は封止基材151を透過して出光面10Dを通って取り出される。
(Main advantages of light-emitting elements)
Since the light emitting element 10 of the present embodiment is configured as described above, light emitted from the light emitting surface 144 of the organic EL element 140 is transmitted through the light emitting surface structure layer 100 and extracted through the light emitting surface 10U. In addition, the light emitted from the light emitting surface 145 passes through the sealing substrate 151 and is extracted through the light emitting surface 10D.

この際、出光面10Uに、第一〜第四の条列113〜116及び凹部117を含む凹凸構造を有するので、平坦面部113U〜116U及び117Bから取り出せない光であっても斜面部113S〜116Sから取り出せるため、凹凸構造を有さない場合と比較して、出光面10Uを通した光の取出効率を高めることができる。   At this time, since the light exit surface 10U has a concavo-convex structure including the first to fourth strips 113 to 116 and the concave portion 117, even if the light cannot be extracted from the flat surface portions 113U to 116U and 117B, the slope portions 113S to 116S. Therefore, the light extraction efficiency through the light exit surface 10U can be increased as compared with the case without the uneven structure.

また、異なる方向に延在する3群以上の条列113〜116を含む凹凸構造を出光面10Uに有することにより、発光素子10を観察した場合に、第一〜第四の条列113〜116のスジが視認されることを防止でき、ひいては格子ムラを防止することができる。   Moreover, when the light-emitting element 10 is observed by having a concavo-convex structure including three or more groups of rows 113 to 116 extending in different directions on the light emitting surface 10U, the first to fourth rows 113 to 116 are observed. It is possible to prevent the streaks from being visually recognized, and consequently to prevent lattice unevenness.

また、発光素子10は、出光面10Uに第一〜第四の条列113〜116を有しているため、通常は、観察者が発光素子を見る方位角による見え方の変動が小さい。   In addition, since the light emitting element 10 has the first to fourth rows 113 to 116 on the light exit surface 10U, usually, the change in appearance due to the azimuth angle at which the observer views the light emitting element is small.

これらの効果は、少なくとも3群の条列があれば奏されるが、より多くの条列がある方が顕著な効果が得られるものと考えられるので、条列を3群だけ設けるよりも、本実施形態のように4群以上の条列を有することが好ましい。また、条列の群の数を過度に多くしなくても十分な効果が得られることから、通常は8群以下の条列を有するようにしてもよい。   These effects can be achieved if there are at least three groups of rows, but it is considered that a remarkable effect can be obtained if there are more rows, so rather than providing only three groups of rows. It is preferable to have four or more rows as in the present embodiment. In addition, since a sufficient effect can be obtained without excessively increasing the number of groups in the row, the number of rows in the eight groups or less may be usually provided.

さらに、発光素子10が備える層がいずれも透明であるため、発光素子10では、一方の出光面10Uに入射した光は発光素子10を透過して他方の出光面10Dを通って出光できるようになっており、また、他方の出光面10Dに入射した光も発光素子10を透過して一方の出光面10Uを通って出光できるようになっている。さらに、本実施形態では、平坦面部113U〜116U及び117Bの合計面積に対する斜面部113S〜116Sの投影面積の割合を所定の範囲に収めてあるので、ヘイズを抑制できる。したがって、発光素子10を通じて反対側を肉眼で明瞭に見通すことができるようになり、シースルータイプの発光素子を実現できる。   Furthermore, since all the layers included in the light emitting element 10 are transparent, in the light emitting element 10, the light incident on one light exit surface 10U can pass through the light emitting element 10 and exit through the other light exit surface 10D. In addition, the light incident on the other light exit surface 10D can be transmitted through the light emitting element 10 and emitted through one light exit surface 10U. Furthermore, in this embodiment, since the ratio of the projection area of slope part 113S-116S with respect to the total area of flat surface part 113U-116U and 117B is contained in the predetermined range, haze can be suppressed. Therefore, the opposite side can be clearly seen through the light emitting element 10 with the naked eye, and a see-through type light emitting element can be realized.

具体的には、発光素子10は、発光素子10全体として、通常60%以上、好ましくは70%以上、より好ましくは80%以上の全光線透過率を有する。なお、上限は理想的には100%であるが、通常は90%以下である。   Specifically, the light emitting element 10 as a whole has a total light transmittance of 60% or more, preferably 70% or more, more preferably 80% or more as a whole. The upper limit is ideally 100%, but is usually 90% or less.

さらに、発光素子10では凹凸構造の形状を適切に設定してあるので、発光素子10のヘイズは、発光素子10全体として、通常10%以下、好ましくは8%以下、より好ましくは6%以下と小さい値になっている。なお、下限値は理想的にはゼロであるが、通常は0.1%以上である。   Furthermore, since the shape of the concavo-convex structure is appropriately set in the light emitting element 10, the haze of the light emitting element 10 is generally 10% or less, preferably 8% or less, more preferably 6% or less as the whole light emitting element 10. It is a small value. The lower limit value is ideally zero, but is usually 0.1% or more.

さらに、本実施形態の発光素子10では、外部衝撃により出光面10Uに欠け等が生じることを防止でき、ひいては出光面10Uの機械的強度を向上させることができる。一般に、面に凹凸構造があると、その面に衝撃が加えられた場合に当該凹凸構造の一部に力が集中し、破損を招きやすくなる傾向がある。ところが、本実施形態の発光素子10では、厚み方向の最も外側の位置に平坦な平坦面部113U〜116Uを有している。このため、外部から出光面10Uに加えられる力又は衝撃によって凹凸構造層111の一部に力が集中することを抑制できるようになっているので、凹凸構造層111の破損を防止し、発光素子10の機械的強度を高めることができる。したがって、凹凸構造層111の破損を防止し、良好な光取り出し効率と、発光素子10の出光面10Uの高い機械的強度とを両立させることができるようになっている。   Furthermore, in the light emitting element 10 according to the present embodiment, it is possible to prevent the light exit surface 10U from being chipped due to an external impact, thereby improving the mechanical strength of the light exit surface 10U. In general, when a surface has a concavo-convex structure, when an impact is applied to the surface, the force concentrates on a part of the concavo-convex structure and tends to cause breakage. However, the light emitting element 10 according to the present embodiment has the flat surface portions 113U to 116U at the outermost position in the thickness direction. For this reason, it is possible to prevent the force from being concentrated on a part of the concavo-convex structure layer 111 due to the force or impact applied to the light exit surface 10U from the outside. The mechanical strength of 10 can be increased. Therefore, damage to the concavo-convex structure layer 111 can be prevented, and both good light extraction efficiency and high mechanical strength of the light output surface 10U of the light emitting element 10 can be achieved at the same time.

〔2.第二実施形態〕
第一実施形態においては、同じ出光面10Uにおける平坦面部113U〜116U及び117Bの高低差Hを一定にしたため、出光面10Uの凹凸構造は2つの異なる高さを有していた。しかし、本発明の発光素子では、例えばこの高低差Hを不揃いにすることによって、出光面の凹凸構造が、3つ以上の異なる高さを有するようにしてもよい。
この際、凹凸構造の高さは、いずれの高さ同士を比べても、それぞれ0.1μm以上異なるようにすることが好ましい。出光面の凹凸構造が0.1μm以上異なる3つ以上の高さを有すると、出光面の凹凸構造は、出光面を通って出光する出射光及び出光面で反射した反射光の一方又は両方の干渉をもたらす差異を超える寸法差を有することになる。これにより、前記の出射光及び反射光の一方又は両方の干渉による虹ムラを効果的に抑制できる。ここで虹ムラとは、出光面を見た場合に観察される虹状の色ムラのことを意味する。また、前記の凹凸構造の高さの差は、0.1μm以上の他にも、例えば0.15μm以上もしくは0.2μm以上であってもよい。凹凸構造の高さの差の上限については特に限定しないが、大きすぎると発光素子が厚くなる傾向があることから、凹凸構造の高さの差の上限は、好ましくは50μm以下であり、例えば25μm以下もしくは10μm以下としてもよい。
[2. Second embodiment]
In the first embodiment, since the height difference H between the flat surface portions 113U to 116U and 117B on the same light exit surface 10U is made constant, the uneven structure of the light exit surface 10U has two different heights. However, in the light emitting device of the present invention, the uneven structure on the light exit surface may have three or more different heights by making the height difference H uneven, for example.
At this time, it is preferable that the height of the concavo-convex structure is different from each other by 0.1 μm or more regardless of which height is compared. When the uneven structure of the light exit surface has three or more heights different by 0.1 μm or more, the uneven structure of the light exit surface is one or both of the outgoing light that exits through the light exit surface and the reflected light that is reflected by the light exit surface. It will have a dimensional difference that exceeds the difference that causes interference. Thereby, the rainbow nonuniformity by interference of the one or both of the said emitted light and reflected light can be suppressed effectively. Here, the rainbow unevenness means a rainbow-like color unevenness observed when the light exit surface is viewed. Further, the height difference of the concavo-convex structure may be, for example, 0.15 μm or more or 0.2 μm or more in addition to 0.1 μm or more. The upper limit of the height difference of the concavo-convex structure is not particularly limited, but if it is too large, the light emitting element tends to be thick. Therefore, the upper limit of the height difference of the concavo-convex structure is preferably 50 μm or less, for example, 25 μm. Or may be 10 μm or less.

ここで、凹凸構造の高さとは、斜面部以外の出光面の厚み方向における位置を意味し、通常は、条列に含まれる凸部の最も突出した部分の厚み方向における位置、及び、条列に含まれる凸部同士の間に設けられた凹部の底の厚み方向における位置を言う。また、出光面を通って出光する出射光には、有機EL素子が発した光だけでなく、当該出光面を通って発光素子の内部へ進入し、発光素子の内部で反射して再び出光面を通って出光する光も含む。
以下、その例を、図面を用いて説明する。
Here, the height of the concavo-convex structure means the position in the thickness direction of the light exit surface other than the slope portion, and usually the position in the thickness direction of the most protruding portion of the convex portion included in the row, and the row The position in the thickness direction of the bottom of the recessed part provided between the convex parts contained in is said. In addition, the outgoing light emitted through the light emitting surface is not only the light emitted from the organic EL element, but also enters the light emitting element through the light emitting surface, is reflected inside the light emitting element, and is again emitted. Also includes light that exits through.
Hereinafter, the example is demonstrated using drawing.

図10は、本発明の第二実施形態に係る発光素子20を、第三の条列115と第四の条列116とが交わる地点及び凹部117を通り第一の条列113が延在する方向に対して平行な線を含み、出光面10Uに対して垂直な面で切断した断面を模式的に示す断面図である。なお、第二実施形態では、第一実施形態と同様の要素は、第一実施形態と同様の符号で示す。   FIG. 10 shows the light emitting device 20 according to the second embodiment of the present invention, in which the first row 113 extends through the point where the third row 115 and the fourth row 116 intersect and the recess 117. It is sectional drawing which shows typically the cross section cut | disconnected by the surface perpendicular | vertical with respect to the light emission surface 10U including a line parallel to a direction. In addition, in 2nd embodiment, the element similar to 1st embodiment is shown with the code | symbol similar to 1st embodiment.

図10に示すように、本発明の第二実施形態に係る発光素子20は、第一の条列113(図1参照)及び第二の条列114に含まれる凸部の高さと、第三の条列115及び第四の条列116に含まれる凸部の高さとが異なっていること以外は、第一実施形態に係る発光素子10と同様の構成を有する。具体的には、第一の条列113及び第二の条列114に含まれる凸部の高さよりも、第三の条列115及び第四の条列116に含まれる凸部の高さが低くなっている。これにより、出光面10Uの凹凸構造の高さとしては、凹部117の底の平坦面部117Bの厚み方向の位置T、第三の条列115の平坦面部115U及び第四の条列116の平坦面部116Uの厚み方向の位置TII、並びに、第一の条列113の平坦面部113U及び第二の条列114の平坦面部114Uの厚み方向の位置TIIIの3つが存在することになる。 As shown in FIG. 10, the light emitting element 20 according to the second embodiment of the present invention includes the height of the convex portions included in the first row 113 (see FIG. 1) and the second row 114, and the third row. Except that the heights of the convex portions included in the first row 115 and the fourth row 116 are different, the light emitting element 10 according to the first embodiment has the same configuration. Specifically, the height of the convex portion included in the third row 115 and the fourth row 116 is higher than the height of the convex portion included in the first row 113 and the second row 114. It is low. Thereby, as the height of the concavo-convex structure of the light exit surface 10U, the position T I in the thickness direction of the flat surface portion 117B at the bottom of the recess 117, the flat surface portion 115U of the third row 115 and the flatness of the fourth row 116 are obtained. There are three positions T II in the thickness direction of the surface portion 116 U, and a position T III in the thickness direction of the flat surface portion 113 U of the first row 113 and the flat surface portion 114 U of the second row 114.

また、第三の条列115及び第四の条列116に含まれる凸部の高さは、0.1μm以上に設定されている。さらに、第一の条列113及び第二の条列114に含まれる凸部の高さと、第三の条列115及び第四の条列116に含まれる凸部の高さとの差も、0.1μm以上に設定されている。したがって、出光面10Uの凹凸構造が有する3つの高さT〜TIIIは、それぞれ0.1μm以上異なるようになっている。 Moreover, the height of the convex part contained in the 3rd row | line 115 and the 4th row | line 116 is set to 0.1 micrometer or more. Furthermore, the difference between the height of the convex portion included in the first row 113 and the second row 114 and the height of the convex portion included in the third row 115 and the fourth row 116 is also 0. It is set to 1 μm or more. Accordingly, the three heights T I to T III of the uneven structure of the light exit surface 10U are different from each other by 0.1 μm or more.

この場合、出光面10Uの凹凸構造が有する3つの高さT〜TIIIの差は、出射光及び反射光の一方又は両方の干渉をもたらす差異を超える凹凸構造の寸法差となり、干渉による色むらを抑制できる。すなわち、異なる高さに位置する平坦面部113U,114Uと、平坦面部115U,116Uと、平坦面部117Bとにおける出射光及び反射光の干渉を抑え、虹ムラを効果的に抑制できる。この際、前記の前記の寸法差TIII−TII及びTII−Tは、出射光の干渉をもたらす差異を超える寸法差となることでも作用を発揮するが、通常は出射光よりも反射光の方が虹ムラへの影響が大きい傾向があるので、反射光の干渉をもたらす差異を超える寸法差であることにより、顕著な効果を発揮する。 In this case, the difference between the three heights T I to T III of the concavo-convex structure of the light exit surface 10U is a dimensional difference of the concavo-convex structure exceeding the difference that causes interference of one or both of the emitted light and the reflected light. Unevenness can be suppressed. That is, interference of the emitted light and reflected light at the flat surface portions 113U and 114U, the flat surface portions 115U and 116U, and the flat surface portion 117B located at different heights can be suppressed, and rainbow unevenness can be effectively suppressed. At this time, the dimensional difference T III -T II and T II -T I of the above, but exhibits the effects even by the size difference exceeding the difference resulting in interference of the emitted light, typically reflective than the emitted light Since the light tends to have a greater influence on the rainbow unevenness, a remarkable effect is exhibited by the dimensional difference exceeding the difference that causes interference of reflected light.

前記の干渉をもたらす差異を超える寸法差とは、有機EL素子140から発せられた出射光の干渉を例に挙げると、例えば、出射光の中心波長の、通常0.62倍以上、好ましくは1.5倍以上の寸法差である。この寸法差を設けることにより、虹ムラの発生を抑制することができる。かかる寸法差の上限は特に限定されないが、好ましくは、出射光の中心波長の60倍以下である。   The dimensional difference exceeding the difference that causes the interference is, for example, interference of outgoing light emitted from the organic EL element 140, for example, usually 0.62 times or more of the center wavelength of outgoing light, preferably 1 Dimensional difference more than 5 times. By providing this dimensional difference, the occurrence of rainbow unevenness can be suppressed. The upper limit of the dimensional difference is not particularly limited, but is preferably 60 times or less of the center wavelength of the emitted light.

上記数値範囲は、以下に示す知見から確認している。すなわち、凹部の深さを全て揃える態様で設計した構造層において、凹部の深さに170nm以上の誤差が生じると干渉が発生して虹ムラが現れるという場合に、かかる虹ムラを発生させる誤差の最小値の2倍以上の高さの寸法差を敢えて設けると、虹ムラの発生を抑制することができることが分かっている。さらに、凹部の深さを全て揃える態様で設計した構造層において、凹部の深さに標準偏差でσ1nm(≒60nm)のバラツキが生じると干渉が発生し虹ムラが現れるという場合、6×σ1nm(=360nm)以上の寸法差を敢えて設けることにより、虹ムラの発生を抑制することができることが分かっている。上記2つの知見により、出射光の干渉をもたらす差異を超える寸法差は、発光素子が出光する光の中心波長の0.62倍以上であると示すことができる。   The above numerical range is confirmed from the knowledge shown below. In other words, in a structural layer designed in such a manner that all the depths of the recesses are made uniform, if an error of 170 nm or more occurs in the depth of the recesses, interference occurs and rainbow unevenness appears. It has been found that the generation of rainbow unevenness can be suppressed by daringly providing a dimensional difference that is twice or more the minimum value. Further, in the structure layer designed in such a manner that all the depths of the recesses are made uniform, if a variation of σ1 nm (≈60 nm) with a standard deviation occurs in the depth of the recesses, interference occurs and rainbow unevenness appears. = 360 nm) It is known that the generation of rainbow unevenness can be suppressed by intentionally providing a dimensional difference of not less than 360 nm. Based on the above two findings, it can be shown that the dimensional difference exceeding the difference that causes interference of the emitted light is 0.62 or more times the center wavelength of the light emitted from the light emitting element.

また、同様の理由から、透過光及び反射光の干渉では、干渉をもたらす差異を超える寸法差は、透過光及び反射光の中心波長の、通常0.62倍以上、好ましくは1.5倍以上の寸法差であり、また通常60倍以下の寸法差である。ただし、通常は、透過光及び反射光は自然光であり、任意の波長を含む光であるため、反射する光の中心波長を決定することは難しい。そこで、虹ムラの原因となる光が可視光であることに鑑みて、通常は、可視光の中心波長である550nmを反射する光の中心波長として、前記の寸法差を設定してもよい。   For the same reason, in the interference between transmitted light and reflected light, the dimensional difference exceeding the difference that causes interference is usually 0.62 times or more, preferably 1.5 times or more the center wavelength of transmitted light and reflected light. And a dimensional difference of usually 60 times or less. However, normally, since transmitted light and reflected light are natural light and include light having an arbitrary wavelength, it is difficult to determine the center wavelength of the reflected light. Therefore, in view of the fact that the light that causes rainbow unevenness is visible light, the dimensional difference may be set as the center wavelength of light that normally reflects the center wavelength of visible light at 550 nm.

本実施形態のように凹凸構造が0.1μm以上異なる3つ以上の高さTI、TII及びTIIIを有するようにした場合でも、第一実施形態と同様の利点を得ることができる。第一実施形態のように全ての条列113〜116に含まれる凸部の高さHを均一にできた場合には干渉による虹ムラは生じ難いが、現実の製品では温度及び湿度等の製造条件の変更により条列113〜116に含まれる凸部の高さHを高度に均一にすることが難しい場合がある。そこで、積極的に凹凸構造が前記のように異なる高さTI、TII及びTIIIを有するようにすることで、虹ムラをより容易に抑制することが可能となる。 Even when the concavo-convex structure has three or more heights T I , T II and T III different from each other by 0.1 μm or more as in the present embodiment, the same advantages as those of the first embodiment can be obtained. When the heights H of the convex portions included in all the rows 113 to 116 can be made uniform as in the first embodiment, rainbow unevenness due to interference is unlikely to occur, but in an actual product, manufacturing such as temperature and humidity It may be difficult to make the height H of the convex portions included in the rows 113 to 116 highly uniform due to a change in the conditions. Therefore, by making the uneven structure positively have different heights T I , T II and T III as described above, rainbow unevenness can be more easily suppressed.

また、凹凸構造の高さ以外の要素において、前記の寸法差を設けた場合でも、同様の効果を得ることができる。例えば、条列の高さ、幅及びピッチなどの要素群のうち1つ以上の要素において前記の寸法差があれば、同様に虹ムラを抑制することができる。   Moreover, the same effect can be obtained even when the dimensional difference is provided in the elements other than the height of the concavo-convex structure. For example, if there is a dimensional difference in one or more elements of the group of elements such as the height, width, and pitch of the row, rainbow unevenness can be similarly suppressed.

〔3.第三実施形態〕
上述した第一及び第二実施形態では、有機EL素子の2つの発光面のうち一方の発光面に出光面構造層を配置した例を示したが、両方の発光面に出光面構造層を配置してもよい。以下、その例を、図面を用いて説明する。
[3. Third Embodiment]
In the first and second embodiments described above, the example in which the light emitting surface structure layer is disposed on one light emitting surface of the two light emitting surfaces of the organic EL element has been described. However, the light emitting surface structure layer is disposed on both light emitting surfaces. May be. Hereinafter, the example is demonstrated using drawing.

図11は、本発明の第三実施形態に係る発光素子を模式的に示す斜視図である。なお、第三実施形態では、第一実施形態と同様の要素は、第一実施形態と同様の符号で示す。
図11に示す通り、第三実施形態に係る発光素子30は、封止基材151の代わりに出光面構造層100を備えること以外は、第一実施形態に係る発光素子10と同様である。これにより、発光素子30は、有機EL素子140の2つの発光面144及び145の両方に、出光面構造層100を備えることになる。したがって、発光素子30は、2つの出光面10Uの両方に凹凸構造を有することになる。なお、本実施形態では、2つの出光面に、それぞれ同じ形状の凹凸構造層を設けているが、必ずしもこのような形態には限定されず、一方の出光面の凹凸構造の形状と、他方の出光面の凹凸構造の形状を異なるものとしてもよい。また、図中下側の出光面構造層100と、第二の電極143との間には、充填材や接着剤等の任意の物質が存在していてもよいし、空隙が存在していてもよい。空隙には、発光層142の耐久性を大きく損なう等の不都合がない限りは空気やその他の気体が存在してもよいし、空隙内を真空としてもよい。
FIG. 11 is a perspective view schematically showing a light emitting device according to the third embodiment of the present invention. In the third embodiment, the same elements as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals as those in the first embodiment.
As shown in FIG. 11, the light emitting element 30 according to the third embodiment is the same as the light emitting element 10 according to the first embodiment except that the light emitting surface structure layer 100 is provided instead of the sealing base material 151. Accordingly, the light emitting element 30 includes the light emitting surface structure layer 100 on both of the two light emitting surfaces 144 and 145 of the organic EL element 140. Therefore, the light emitting element 30 has an uneven structure on both of the two light exit surfaces 10U. In the present embodiment, the two light exit surfaces are provided with the uneven structure layer having the same shape. However, the present invention is not necessarily limited to such a form, and the shape of the uneven structure on one light output surface and the other The shape of the concavo-convex structure on the light exit surface may be different. In addition, an arbitrary substance such as a filler or an adhesive may exist between the light emitting surface structure layer 100 on the lower side in the drawing and the second electrode 143, and a void exists. Also good. As long as there is no inconvenience such as greatly impairing the durability of the light emitting layer 142, air or other gas may be present in the space, or the space may be evacuated.

本実施形態の発光素子30は上述したように構成されているため、有機EL素子140の発光面144から発せられる光は図中上側の出光面10Uを通って出光し、発光面145から発せられる光は図中下側の出光面10Uを通って出光することになる。この際、シースルーであることを維持しながら、高効率で光を取り出すことができる。また、2つの出光面10Uの両方において、第一〜第四の条列113〜116のスジの視認を防止できる。さらに、第一実施形態と同様の効果を奏することができる。   Since the light emitting element 30 of the present embodiment is configured as described above, the light emitted from the light emitting surface 144 of the organic EL element 140 is emitted through the light emitting surface 10U on the upper side in the drawing and emitted from the light emitting surface 145. The light exits through the lower exit surface 10U in the figure. At this time, light can be extracted with high efficiency while maintaining see-through. Further, it is possible to prevent the streaks of the first to fourth rows 113 to 116 from being visually recognized on both of the two light exit surfaces 10U. Furthermore, the same effect as the first embodiment can be obtained.

〔4.その他〕
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上述した実施形態に限定されるものではなく、更に変更して実施してもよい。
例えば、上述した実施形態では発光面144に直接に接するように出光面構造層100を設けたが、出光面構造層100は他の層を介して発光面144に設けられていてもよい。他の層としては、例えば、有機EL素子140を外気及び湿気から保護するガスバリア層、紫外線を遮断する紫外線カット層などが挙げられる。
[4. Others]
As mentioned above, although embodiment of this invention was described, this invention is not limited to embodiment mentioned above, You may implement it further changing.
For example, although the light emitting surface structure layer 100 is provided so as to be in direct contact with the light emitting surface 144 in the above-described embodiment, the light emitting surface structure layer 100 may be provided on the light emitting surface 144 via another layer. Examples of the other layers include a gas barrier layer that protects the organic EL element 140 from the outside air and moisture, and an ultraviolet cut layer that blocks ultraviolet rays.

また、例えば、上述した実施形態では、出光面構造層100としては、凹凸構造層111、基材フィルム層112、接着層121及び支持基板131からなるものを示したが、出光面構造層100は、これらよりも少ない層から構成されたものであってもよく、又は逆にこれらの層に加えて任意の層をさらに含むものであってもよい。例えば、凹凸構造層111の表面にさらにコーティング層を有し、これが出光面U10の凹凸構造を規定するものであってもよい。   Further, for example, in the above-described embodiment, the light exit surface structure layer 100 includes the uneven structure layer 111, the base film layer 112, the adhesive layer 121, and the support substrate 131. These layers may be composed of fewer layers than these, or conversely may include any layers in addition to these layers. For example, a coating layer may be further provided on the surface of the concavo-convex structure layer 111, and this may define the concavo-convex structure of the light exit surface U10.

また、例えば、上述した実施形態では、第一の条列113と第二の条列114とが交差する地点を、いずれの第三の条列115及び第四の条列116も通るようにすることで、一つの交点で第一〜第四の条列113〜116が交差するようにしたが、例えば図12に示す発光素子40のように、第一〜第四の条列113〜116が一つの交点で交わらないようにしてもよい。具体例としては、いずれかの条列のピッチを不均一にしたり、条列の位置又は延在する方向を上述した実施形態からずらしたりしてもよい。これにより、出光面10Uの規則性をより低下させて、第一〜第四の条列113〜116のスジが視認されることを、より効果的に抑制できる。なお、図12は、本発明の第一実施形態の変形例に係る発光素子40の出光面10Uを、発光素子40の厚み方向から見た様子を拡大して模式的に示す平面図である。また、図12において、第一実施形態と同様の要素は、第一実施形態と同様の符号で示す。   Further, for example, in the above-described embodiment, any third row 115 and fourth row 116 pass through a point where the first row 113 and the second row 114 intersect. Thus, the first to fourth rows 113 to 116 intersect each other at one intersection, but the first to fourth rows 113 to 116, for example, as in the light emitting element 40 shown in FIG. It is possible not to intersect at one intersection. As a specific example, the pitch of any row may be made nonuniform, or the position or extending direction of the row may be shifted from the above-described embodiment. Thereby, the regularity of the light emission surface 10U can be reduced more and it can suppress more effectively that the stripe of the 1st-4th strips 113-116 is visually recognized. FIG. 12 is a plan view schematically showing an enlarged view of the light emitting surface 10U of the light emitting element 40 according to the modification of the first embodiment of the present invention as viewed from the thickness direction of the light emitting element 40. FIG. In FIG. 12, the same elements as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals as those in the first embodiment.

また、例えば、上述した実施形態では、第一〜第四の条列113〜116がいずれも周囲よりも突出した凸部を含む例を示したが、第一〜第四の条列が周囲よりも窪んだ凹部を含むようにしてもよい。また、同じ出光面に、凸部からなる条列と凹部からなる条列とが混在していてもよい。
また、例えば、第一〜第四の条列に含まれる凹部又は凸部は、角が丸みを帯びた形状に形成されてもよい。
また、例えば、斜面部を曲面にしてもよい。
Further, for example, in the above-described embodiment, the first to fourth rows 113 to 116 each include a protruding portion that protrudes from the surroundings, but the first to fourth rows are from the surroundings. Also, it may include a depressed recess. Moreover, the row | line | column which consists of a convex part, and the row | line | column which consists of a recessed part may coexist on the same light-emitting surface.
Further, for example, the concave portions or the convex portions included in the first to fourth rows may be formed in a shape with rounded corners.
Further, for example, the slope portion may be a curved surface.

さらに、出光面に設ける条列の数、位置、延在方向及び長さ並びにこれらの組み合わせなどは、上述した実施形態に限定されるものではない。例えば図13に示すように、出光面410Uに、120°の角度で交差する同じ長さの条列413、414及び415を厚み方向から見て正六角形となるように設け、更に、これらの条列413、414及び415に交差する条列416及び417を設けるようにしてもよい。また、例えば図14に示すように、出光面510Uに、一定の角度で交差する条列513及び514を厚み方向から見て平行四辺形となるように設け、更に、これらの条列513及び514に交差する条列515及び516を設けるようにしてもよい。また、例えば図15に示すように、出光面610Uに、60°の角度で交差する同じ長さの条列613、614及び615を厚み方向から見て正三角形となるように設け、更に、これらの条列614、614及び615に交差する条列616及び617を設けるようにしてもよい。これらのように複雑な配置の条列であっても、例えばエッチングなどの手法を用いることにより、形成することが可能である。   Furthermore, the number, position, extending direction and length of the rows provided on the light exit surface, and combinations thereof are not limited to the above-described embodiments. For example, as shown in FIG. 13, strips 413, 414, and 415 of the same length intersecting at an angle of 120 ° are provided on the light exit surface 410U so as to form a regular hexagon when viewed from the thickness direction. Rows 416 and 417 intersecting the columns 413, 414 and 415 may be provided. For example, as shown in FIG. 14, the rows 513 and 514 intersecting at a certain angle are provided on the light exit surface 510U so as to form a parallelogram when viewed from the thickness direction, and these rows 513 and 514 are further provided. Rows 515 and 516 intersecting with each other may be provided. Further, for example, as shown in FIG. 15, strips 613, 614, and 615 having the same length intersecting at an angle of 60 ° are provided on the light exit surface 610U so as to form an equilateral triangle when viewed from the thickness direction. Rows 616 and 617 that intersect the rows 614, 614, and 615 may be provided. Even such a complicated arrangement of rows can be formed by using a technique such as etching.

また、第二実施形態においては、第一の条列113及び第二の条列114に含まれる凸部を高くし、第三の条列115及び第四の条列116に含まれる凸部を低くして出光面10Uの凹凸構造に異なる高さをもたせたが、これ以外の構成により出光面10Uの凹凸構造に異なる高さをもたせてもよい。例えば、第一の条列113に含まれる凸部だけを高くし、第二〜第四の条114〜116に含まれる凸部を低くしてもよい。また、例えば、凹部117の底の平坦面部117Bの厚み方向の位置を不均一にして、ある凹部117の底の平坦面部117Bの位置と、別の凹部117の底の平坦面部117Bの位置とが、厚み方向で0.1μm以上異なるようにしてもよい。さらに、例えば、同じ条列に属する凸部の高さを不均一にしたり、ある一本の凸部の高さを延在方向において不均一としたりして、出光面10Uの凹凸構造に異なる高さをもたせてもよい。   Moreover, in 2nd embodiment, the convex part contained in the 1st row | line | column 113 and the 2nd row | line | column 114 is made high, and the convex part contained in the 3rd row | line 115 and the 4th row | line 116 is used. Although the height is made lower so that the uneven structure of the light exit surface 10U has a different height, the uneven structure of the light output surface 10U may have a different height by other configurations. For example, only the convex portions included in the first strip 113 may be increased, and the convex portions included in the second to fourth strips 114 to 116 may be decreased. Further, for example, the position in the thickness direction of the flat surface portion 117B at the bottom of the concave portion 117 is made non-uniform so that the position of the flat surface portion 117B at the bottom of one concave portion 117 and the position of the flat surface portion 117B at the bottom of another concave portion 117 The thickness direction may differ by 0.1 μm or more. Further, for example, the height of the convex portions belonging to the same row is made non-uniform, or the height of a certain convex portion is made non-uniform in the extending direction, so that the height of the uneven structure of the light exit surface 10U is different. You may give it.

〔5.照明器具及びバックライト装置〕
本発明の発光素子は、例えば、照明器具及びバックライト装置等の用途に用いてもよい。
照明器具は、本発明の発光素子を光源として備え、さらに、必要に応じて、光源を保持する部材、電力を供給する回路等の任意の構成要素を備える。
また、バックライト装置は、本発明の発光素子を光源として備え、さらに、必要に応じて、筐体、電力を供給する回路、出光する光をさらに均一にするための拡散板、拡散シート、プリズムシート等の任意の構成要素を含む。バックライト装置の用途は、液晶表示装置等、画素を制御して画像を表示させる表示装置、並びに看板等の固定された画像を表示させる表示装置のバックライト等が挙げられる。
[5. Lighting equipment and backlight device]
The light emitting device of the present invention may be used for applications such as lighting equipment and backlight devices.
The luminaire includes the light-emitting element of the present invention as a light source, and further includes optional components such as a member for holding the light source and a circuit for supplying power as necessary.
Further, the backlight device includes the light-emitting element of the present invention as a light source, and further includes a casing, a circuit for supplying power, a diffusion plate, a diffusion sheet, and a prism for making light emitted more uniform as necessary. Including optional components such as sheets. Applications of the backlight device include a display device such as a liquid crystal display device that displays an image by controlling pixels, and a backlight of a display device that displays a fixed image such as a signboard.

以下、実施例を示して本発明について具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではなく、本発明の要旨及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において、任意に変更して実施してもよい。また、以下の説明において表記される樹脂の屈折率は、いずれも、硬化後の屈折率を表す。また、量を示す「部」及び「%」は、別に断らない限り重量基準である。さらに、以下に説明する操作は、別に断らない限り、常温及び常圧の条件において行った。また方位角方向とは、凹凸構造が形成された面に平行な方向を指す。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples. However, the present invention is not limited to the following examples, and can be arbitrarily changed without departing from the gist of the present invention and the equivalent scope thereof. May be implemented. In addition, the refractive index of the resin described in the following description represents the refractive index after curing. Further, “parts” and “%” indicating amounts are based on weight unless otherwise specified. Further, the operations described below were performed under normal temperature and normal pressure conditions unless otherwise specified. An azimuth angle direction refers to a direction parallel to the surface on which the concavo-convex structure is formed.

〔実施例1〕
(複層体の製造)
ロール状のフィルム基材(商品名「ゼオノアフィルム」、日本ゼオン株式会社製、脂環式構造含有重合体樹脂のフィルム、厚さ100μm、屈折率1.53)にウレタンアクリレートを主成分とするUV硬化樹脂(屈折率1.54)を塗布して塗膜を形成し、かかる塗膜上に金属モールドを押し付けた。この状態で、紫外線を1.5mJ/cm照射し塗膜を硬化させ、凹凸構造を有する凹凸構造層(厚み25μm)を形成した。凹凸構造を作成する金属モールドは、頂角5°、先端幅50μmの切削バイトを用いて、3つの方位角方向に切削することにより作製した。
[Example 1]
(Manufacture of multilayers)
UV film composed mainly of urethane acrylate on a roll-shaped film substrate (trade name “ZEONOR FILM”, Nippon Zeon Co., Ltd., alicyclic structure-containing polymer resin film, thickness 100 μm, refractive index 1.53) A cured resin (refractive index of 1.54) was applied to form a coating film, and a metal mold was pressed onto the coating film. In this state, ultraviolet rays were irradiated at 1.5 mJ / cm 2 to cure the coating film, thereby forming an uneven structure layer (thickness 25 μm) having an uneven structure. The metal mold for forming the concavo-convex structure was prepared by cutting in three azimuth directions using a cutting tool having an apex angle of 5 ° and a tip width of 50 μm.

3つの方位角方向は0°方向、45°方向、90°方向とした。
方位角0°方向の切削は、切削ピッチを200μmとし、溝の深さを19.4μm、19.7μm、20.0μm、20.3μm及び20.6μmで溝ごとにランダムになるようにした。
方位角45°方向及び90°方向の切削は、切削ピッチを400μmとし、溝の深さを20.0μmで一定にした。
The three azimuth directions were 0 °, 45 °, and 90 °.
Cutting in the direction of azimuth angle 0 ° was performed with a cutting pitch of 200 μm and a groove depth of 19.4 μm, 19.7 μm, 20.0 μm, 20.3 μm, and 20.6 μm, and random for each groove.
In the azimuth angle 45 ° direction and 90 ° direction cutting, the cutting pitch was 400 μm, and the groove depth was constant at 20.0 μm.

図16は実施例1で得られた凹凸構造層の一部を斜め方向から見た様子を模式的に示す斜視図であり、図17は実施例1で得られた凹凸構造層の一部を厚み方向から見た様子を模式的に示す平面図である。図16及び図17に示すように、得られた凹凸構造層の表面には、金属モールドに形成された溝に対応して断面が台形状の凸部を多数有する凹凸構造が形成された。この凹凸構造層の凹凸構造が形成された面において、平坦面部に対する斜面部の平均傾斜角度は87.5°であった。また、平坦面部の合計面積(全面積)に対する斜面部の投影面積の比は0.03であり、平坦面部の高低差の最大は20.6μmであった。   16 is a perspective view schematically showing a part of the concavo-convex structure layer obtained in Example 1 as viewed obliquely, and FIG. 17 shows a part of the concavo-convex structure layer obtained in Example 1. It is a top view which shows typically a mode that it saw from the thickness direction. As shown in FIGS. 16 and 17, the surface of the obtained concavo-convex structure layer was formed with a concavo-convex structure having a number of convex portions having a trapezoidal cross section corresponding to the grooves formed in the metal mold. On the surface of the concavo-convex structure layer on which the concavo-convex structure was formed, the average inclination angle of the inclined portion with respect to the flat surface portion was 87.5 °. Further, the ratio of the projected area of the slope portion to the total area (total area) of the flat surface portion was 0.03, and the maximum height difference of the flat surface portion was 20.6 μm.

(透明有機EL素子の製造)
主面に透明電極層が形成されたガラス基板上に、ホール注入層、ホール輸送層、発光層、ホール阻止層、電荷発生層、金属酸化物層及び陰極を、この順に形成した。各層を形成した材料と膜厚は下記の通りである。
(Manufacture of transparent organic EL elements)
A hole injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer, a hole blocking layer, a charge generation layer, a metal oxide layer, and a cathode were formed in this order on a glass substrate having a transparent electrode layer formed on the main surface. The material and film thickness for forming each layer are as follows.

・透明電極層:ITO 300nm
・ホール注入層:三酸化モリブデン(MoO)5nm
・ホール輸送層:NS−21[新日鉄化学株式会社製]及びMoO 20nm、さらにNS−21 5nm、合計25nm
・発光層:NS−21及びEY52(e−Ray Optoelectronics Technology社(以下、e−Ray社とする)製)20nm、さらにEB43及びEB52(共にe−Ray社製)30nm、合計50nm
・ホール阻止層:ビス(2−メチル−8−キノリノラート)(p−フェニルフェノラート)アルミニウム(BAlq) 5nm
・電荷発生層:Liq及びDPB 35nm、さらにアルミニウム 1.5nm、さらにNS−21及びMoO 10nm、合計37.5nm
・金属酸化物層:MoO 5nm
・陰極:ITO 100nm
-Transparent electrode layer: ITO 300nm
Hole injection layer: Molybdenum trioxide (MoO 3 ) 5 nm
-Hole transport layer: NS-21 [manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.] and MoO 3 20 nm, NS-21 5 nm, total 25 nm
-Light emitting layer: NS-21 and EY52 (manufactured by e-Ray Optoelectronics Technology (hereinafter referred to as e-Ray)) 20 nm, EB43 and EB52 (both manufactured by e-Ray) 30 nm, total 50 nm
Hole blocking layer: bis (2-methyl-8-quinolinolato) (p-phenylphenolate) aluminum (BAlq) 5 nm
Charge generation layer: Liq and DPB 35 nm, further aluminum 1.5 nm, further NS-21 and MoO 3 10 nm, total 37.5 nm
Metal oxide layer: MoO 3 5 nm
-Cathode: ITO 100nm

ホール注入層から金属酸化物層までの形成は、真空蒸着装置内に透明電極層を既に形成したガラス基板を設置し、上記のホール輸送層から金属酸化物層までの材料を抵抗加熱式により順次蒸着させることにより行なった。系内圧は5×10−3Paで、蒸発速度0.1〜0.2nm/sで行った。その後、陰極層のITOは、対向ターゲット型スパッタ法により製膜した。これを、UV硬化樹脂を用いて、別のガラス板により封止し、透明有機EL素子1を得た。得られた透明有機EL素子1に通電し駆動させたところ、良好な白色の発光が得られ、正面方向及び斜め方向共に、透明性が優れていた。なお、ここで正面方向とは発光面の法線方向に平行な方向を指し、斜め方向とは発光面に対して45°傾斜した方向を指す。 For the formation from the hole injection layer to the metal oxide layer, a glass substrate on which a transparent electrode layer has already been formed is placed in a vacuum evaporation apparatus, and the materials from the hole transport layer to the metal oxide layer are sequentially applied by resistance heating. This was done by vapor deposition. The system internal pressure was 5 × 10 −3 Pa and the evaporation rate was 0.1 to 0.2 nm / s. Thereafter, ITO of the cathode layer was formed by facing target sputtering. This was sealed with another glass plate using a UV curable resin to obtain a transparent organic EL element 1. When the obtained transparent organic EL element 1 was energized and driven, good white light emission was obtained, and both the front direction and the oblique direction were excellent in transparency. Here, the front direction refers to a direction parallel to the normal direction of the light emitting surface, and the oblique direction refers to a direction inclined by 45 ° with respect to the light emitting surface.

(発光素子1の製造)
得られた透明有機EL素子1に、凹凸構造層を形成したフィルム基材を粘着層(アクリル系樹脂、屈折率1.49、日東電工社製、CS9621)を介して貼り合せ、透明有機EL素子1−粘着層−フィルム基材−凹凸構造層との層構成を有する発光素子1を得た。得られた発光素子1を通電して発光させ、発光素子1の透過性を目視で評価すると、正面方向及び斜め方向からの透明性が優れていた。
(Manufacture of light-emitting element 1)
The obtained transparent organic EL element 1 is bonded with a film substrate on which an uneven structure layer is formed via an adhesive layer (acrylic resin, refractive index 1.49, manufactured by Nitto Denko Corporation, CS9621), and the transparent organic EL element The light emitting element 1 having a layer structure of 1-adhesive layer-film substrate-uneven structure layer was obtained. When the obtained light emitting device 1 was energized to emit light and the transparency of the light emitting device 1 was visually evaluated, the transparency from the front direction and the oblique direction was excellent.

〔実施例2〕
頂角25°、先端幅50μmの切削バイトと、頂角25°、先端幅150μmの切削バイトとを用いて、4つの方位角方向に切削することにより、金属モールドを作製した。4つの方位角方向は0°方向、45°方向、90°方向及び135°方向とした。
方位角0°方向の切削は、先端幅150μmの切削バイトを用い、切削ピッチを360μm、380μm、400μm、420μm及び440μmで溝ごとにランダムになるようにした。
方位角45°方向及び90°方向の切削は、先端幅50μmの切削バイトを用い、切削ピッチを400μmで一定となるようにした。
方位角135°方向の切削は、先端幅150μmの切削バイトを用い、切削ピッチを400μmで一定となるようにした。
さらに、いずれの溝の深さも18.0μmとした。
金属モールドとして以上のようにして作製したものを用いたこと以外は実施例1と同様にして、凹凸構造層(厚み25μm)を形成し、発光素子2を製造した。
[Example 2]
Using a cutting tool with an apex angle of 25 ° and a tip width of 50 μm and a cutting tool with an apex angle of 25 ° and a tip width of 150 μm, the metal mold was manufactured by cutting in four azimuth directions. The four azimuth directions were 0 °, 45 °, 90 ° and 135 °.
Cutting at an azimuth angle of 0 ° was performed using a cutting tool having a tip width of 150 μm, and the cutting pitch was 360 μm, 380 μm, 400 μm, 420 μm, and 440 μm so that each groove was random.
Cutting in the azimuth 45 ° direction and 90 ° direction was performed using a cutting tool having a tip width of 50 μm and a constant cutting pitch of 400 μm.
For cutting in the direction of azimuth 135 °, a cutting tool having a tip width of 150 μm was used, and the cutting pitch was made constant at 400 μm.
Further, the depth of any groove was set to 18.0 μm.
A light-emitting element 2 was produced by forming a concavo-convex structure layer (thickness 25 μm) in the same manner as in Example 1 except that the metal mold produced as described above was used.

図18は実施例2で得られた凹凸構造層の一部を斜め方向から見た様子を模式的に示す斜視図であり、図19は実施例2で得られた凹凸構造層の一部を厚み方向から見た様子を模式的に示す平面図である。図18及び図19に示すように、得られた凹凸構造層の表面には、金属モールドに形成された溝に対応して断面が台形状の凸部を多数有する凹凸構造が形成された。この凹凸構造層の凹凸構造が形成された面において、平坦面部に対する斜面部の平均傾斜角度は77.5°であった。また、平坦面部の合計面積に対する斜面部の投影面積の比は0.08であり、平坦面部の高低差の最大は18.1μmであった。得られた発光素子2を通電して発光させ、発光素子2の透過性を目視で評価すると、正面方向及び斜め方向からの透明性が優れていた。   18 is a perspective view schematically showing a part of the concavo-convex structure layer obtained in Example 2 as viewed obliquely, and FIG. 19 shows a part of the concavo-convex structure layer obtained in Example 2. It is a top view which shows typically a mode that it saw from the thickness direction. As shown in FIGS. 18 and 19, the surface of the obtained concavo-convex structure layer was formed with a concavo-convex structure having many trapezoidal convex sections corresponding to the grooves formed in the metal mold. On the surface of the concavo-convex structure layer on which the concavo-convex structure was formed, the average inclination angle of the slope portion with respect to the flat surface portion was 77.5 °. Further, the ratio of the projected area of the slope portion to the total area of the flat surface portion was 0.08, and the maximum height difference of the flat surface portion was 18.1 μm. When the obtained light emitting device 2 was energized to emit light and the transparency of the light emitting device 2 was visually evaluated, the transparency from the front direction and the oblique direction was excellent.

〔実施例3〕
頂角20°、先端幅75μmの切削バイトと、頂角20°、先端幅100μmの切削バイトと、頂角20°、先端幅125μmの切削バイトとを用いて、6つの方位角方向に切削することにより、金属モールドを作製した。6つの方位角方向は0°方向、45°方向、60°方向、90°方向、120°方向及び135°方向とした。
方位角0°方向の切削は、先端幅100μmの切削バイトを用い、切削ピッチを360μm、380μm、400μm、420μm及び440μmで溝ごとにランダムになるようにし、溝の深さを24.4μm、24.7μm、25.0μm、25.3μm及び25.5μmで溝ごとにランダムになるようにした。
方位角45°方向の切削は、先端幅125μmの切削バイトを用い、切削ピッチを800μmで一定となるようにし、溝の深さを24.4μm、24.7μm、25.0μm、25.3μm及び25.6μmで溝ごとにランダムとなるようにした。
方位角60°方向の切削は、先端幅75μmの切削バイトを用い、切削ピッチを720μm、760μm、800μm、840μm及び880μmで溝ごとにランダムとなるようにし、溝の深さを25.0μmで一定となるようにした。
方位角90°方向の切削は、先端幅100μmの切削バイトを用い、切削ピッチを400μmで一定となるようにし、溝の深さを24.4μm、24.7μm、25.0μm、25.3μm及び25.6μmで溝ごとにランダムとなるようにした。
方位角120°方向の切削は、先端幅125μmの切削バイトを用い、切削ピッチを800μmで一定となるようにし、溝の深さを25.1μmとなるようにした。
方位角135°方向の切削は、先端幅75μmの切削バイトを用い、切削ピッチを720μm、760μm、800μm、840μm及び880μmで溝ごとにランダムとなるようにし、溝の深さを25.0μmで一定となるようにした。
金属モールドとして以上のようにして作製されたものを用いたこと以外は実施例1と同様にして、凹凸構造層(厚み30μm)を形成し、発光素子3を製造した。
Example 3
Cutting is performed in six azimuth directions using a cutting bit having an apex angle of 20 ° and a tip width of 75 μm, a cutting bit having an apex angle of 20 ° and a tip width of 100 μm, and a cutting bit having an apex angle of 20 ° and a tip width of 125 μm. This produced a metal mold. The six azimuth directions were 0 °, 45 °, 60 °, 90 °, 120 ° and 135 °.
For cutting in the direction of 0 ° azimuth, a cutting tool having a tip width of 100 μm is used, the cutting pitch is 360 μm, 380 μm, 400 μm, 420 μm, and 440 μm so that each groove is random, and the groove depth is 24.4 μm, 24 .7 μm, 25.0 μm, 25.3 μm, and 25.5 μm were made random for each groove.
Cutting in the direction of 45 ° azimuth uses a cutting tool with a tip width of 125 μm, the cutting pitch is made constant at 800 μm, and the groove depths are 24.4 μm, 24.7 μm, 25.0 μm, 25.3 μm and It was made random for every groove | channel at 25.6 micrometers.
Cutting at an azimuth angle of 60 ° uses a cutting tool with a tip width of 75 μm, and the cutting pitch is set to 720 μm, 760 μm, 800 μm, 840 μm, and 880 μm to be random for each groove, and the groove depth is constant at 25.0 μm. It was made to become.
Cutting in the direction of 90 ° azimuth uses a cutting tool having a tip width of 100 μm, the cutting pitch is made constant at 400 μm, and the groove depths are 24.4 μm, 24.7 μm, 25.0 μm, 25.3 μm and It was made random for every groove | channel at 25.6 micrometers.
For cutting in the direction of azimuth 120 °, a cutting tool having a tip width of 125 μm was used, the cutting pitch was made constant at 800 μm, and the groove depth was made 25.1 μm.
Cutting in the direction of 135 ° azimuth uses a cutting tool with a tip width of 75 μm, and the cutting pitch is set to 720 μm, 760 μm, 800 μm, 840 μm, and 880 μm so as to be random for each groove, and the groove depth is constant at 25.0 μm. It was made to become.
A light-emitting element 3 was manufactured by forming a concavo-convex structure layer (thickness 30 μm) in the same manner as in Example 1 except that the metal mold manufactured as described above was used.

製造された凹凸構造層の凹凸構造が形成された面において、平坦面部に対する斜面部の平均傾斜角度は80.0°であった。また、平坦面部の合計面積に対する斜面部の投影面積の比は0.09であり、平坦面部の高低差の最大は25.6μmであった。得られた発光素子3を通電して発光させ、発光素子3の透過性を目視で評価すると、正面方向及び斜め方向からの透明性が優れていた。   On the surface of the manufactured concavo-convex structure layer on which the concavo-convex structure was formed, the average inclination angle of the slope portion with respect to the flat surface portion was 80.0 °. Further, the ratio of the projected area of the inclined surface portion to the total area of the flat surface portion was 0.09, and the maximum height difference of the flat surface portion was 25.6 μm. When the obtained light emitting device 3 was energized to emit light, and the transparency of the light emitting device 3 was visually evaluated, the transparency from the front direction and the oblique direction was excellent.

〔実施例4〕
頂角25°、先端幅40μmの切削バイトと、頂角25°、先端幅80μmの切削バイトと、頂角25°、先端幅120μmの切削バイトと、頂角25°、先端幅160μmの切削バイトとを用いて、8つの方位角方向に切削することにより、金属モールドを作製した。8つの方位角方向は、0°方向、20°方向、45°方向、60°方向、90°方向、115°方向、135°方向及び165°方向とした。
方位角0°方向の切削は、先端幅160μmの切削バイトを用い、切削ピッチを720μm、760μm、800μm、840μm及び880μmで溝ごとにランダムになるようにし、溝の深さを25.0μmで一定となるようにした。
方位角20°方向の切削は、先端幅120μmの切削バイトを用い、切削ピッチを800μmで一定となるようにし、溝の深さを24.4μm、24.7μm、25.0μm、25.3μm及び25.6μmで溝ごとにランダムとなるようにした。
方位角45°方向の切削は、先端幅40μmの切削バイトを用い、切削ピッチを720μm、760μm、800μm、840μm及び880μmで溝ごとにランダムとなるようにし、溝の深さを24.4μm、24.7μm、25.0μm、25.3μm及び25.6μmで溝ごとにランダムとなるようにした。
方位角60°方向の切削は、先端幅160μmの切削バイトを用い、切削ピッチを800μmで一定となるようにし、溝の深さを24.4μm、24.7μm、25.0μm、25.3μm及び25.6μmで溝ごとにランダムとなるようにした。
方位角90°方向の切削は、先端幅80μmの切削バイトを用い、切削ピッチを720μm、760μm、800μm、840μm及び880μmで溝ごとにランダムとなるようにし、溝の深さを25.0μmで一定となるようにした。
方位角115°方向の切削は、先端幅120μmの切削バイトを用い、切削ピッチを720μm、760μm、800μm、840μm及び880μmで溝ごとにランダムとなるようにし、溝の深さを24.4μm、24.7μm、25.0μm、25.3μm及び25.6μmで溝ごとにランダムとなるようにした。
方位角135°方向の切削は、先端幅80μmの切削バイトを用い、切削ピッチを720μm、760μm、800μm、840μm及び880μmで溝ごとにランダムとなるようにし、溝の深さを25.0μmで一定となるようにした。
方位角165°方向の切削は、先端幅40μmの切削バイトを用い、切削ピッチを800μmで一定となるようにし、溝の深さを24.4μm、24.7μm、25.0μm、25.3μm及び25.6μmで溝ごとにランダムとなるようにした。
この金属モールドから、Ni電鋳(厚み約300μm)にて、凹凸形状が反転した形状の転写型を作製した。
型としてこの転写型を用いたこと以外は実施例1と同様にして、凹凸構造層(厚み30μm)を形成し、発光素子4を製造した。
Example 4
Cutting tool with apex angle 25 ° and tip width 40 μm, cutting tool with apex angle 25 ° and tip width 80 μm, cutting tool with apex angle 25 ° and tip width 120 μm, cutting tool with apex angle 25 ° and tip width 160 μm Were cut into eight azimuthal directions to produce a metal mold. The eight azimuth directions were 0 ° direction, 20 ° direction, 45 ° direction, 60 ° direction, 90 ° direction, 115 ° direction, 135 ° direction, and 165 ° direction.
Cutting at an azimuth angle of 0 ° is performed by using a cutting tool having a tip width of 160 μm, with a cutting pitch of 720 μm, 760 μm, 800 μm, 840 μm, and 880 μm so that each groove is random, and the groove depth is constant at 25.0 μm. It was made to become.
Cutting in the direction of the azimuth angle of 20 ° uses a cutting tool having a tip width of 120 μm, the cutting pitch is made constant at 800 μm, and the groove depths are 24.4 μm, 24.7 μm, 25.0 μm, 25.3 μm and It was made random for every groove | channel at 25.6 micrometers.
Cutting in the direction of 45 ° azimuth is performed using a cutting tool having a tip width of 40 μm, and the cutting pitch is set to 720 μm, 760 μm, 800 μm, 840 μm, and 880 μm so as to be random for each groove, and the groove depth is 24.4 μm, 24 It was made to become random for every groove | channel at 0.7 micrometer, 25.0 micrometer, 25.3 micrometer, and 25.6 micrometers.
Cutting at an azimuth angle of 60 ° is performed using a cutting tool having a tip width of 160 μm, the cutting pitch is kept constant at 800 μm, and the groove depths are 24.4 μm, 24.7 μm, 25.0 μm, 25.3 μm, and It was made random for every groove | channel at 25.6 micrometers.
Cutting in the direction of 90 ° azimuth angle uses a cutting tool with a tip width of 80 μm, the cutting pitch is 720 μm, 760 μm, 800 μm, 840 μm and 880 μm so that each groove is random, and the groove depth is constant at 25.0 μm. It was made to become.
Cutting at an azimuth angle of 115 ° is performed using a cutting tool having a tip width of 120 μm, with the cutting pitches being 720 μm, 760 μm, 800 μm, 840 μm, and 880 μm so that each groove is random, and the groove depth is 24.4 μm, 24 It was made to become random for every groove | channel at 0.7 micrometer, 25.0 micrometer, 25.3 micrometer, and 25.6 micrometers.
Cutting at an azimuth angle of 135 ° is performed using a cutting tool having a tip width of 80 μm, the cutting pitch is set to 720 μm, 760 μm, 800 μm, 840 μm, and 880 μm so as to be random for each groove, and the groove depth is constant at 25.0 μm. It was made to become.
Cutting in the direction of azimuth angle 165 ° uses a cutting tool having a tip width of 40 μm, the cutting pitch is made constant at 800 μm, and the groove depths are 24.4 μm, 24.7 μm, 25.0 μm, 25.3 μm and It was made random for every groove | channel at 25.6 micrometers.
From this metal mold, a transfer mold having a shape in which the concavo-convex shape was inverted was produced by Ni electroforming (thickness: about 300 μm).
Except that this transfer mold was used as a mold, a concavo-convex structure layer (thickness 30 μm) was formed in the same manner as in Example 1 to manufacture the light-emitting element 4.

製造された凹凸構造層の凹凸構造が形成された面において、平坦面部に対する斜面部の平均傾斜角度は77.5°であった。また、平坦面部の合計面積に対する斜面部の投影面積の比は0.09であり、平坦面部の高低差の最大は25.6μmであった。得られた発光素子4を通電して発光させ、発光素子4の透過性を目視で評価すると、正面方向及び斜め方向からの透明性が優れていた。   On the surface of the manufactured concavo-convex structure layer on which the concavo-convex structure was formed, the average inclination angle of the slope portion with respect to the flat surface portion was 77.5 °. Further, the ratio of the projected area of the inclined surface portion to the total area of the flat surface portion was 0.09, and the maximum height difference of the flat surface portion was 25.6 μm. When the obtained light emitting device 4 was energized to emit light, and the transparency of the light emitting device 4 was visually evaluated, the transparency from the front direction and the oblique direction was excellent.

〔比較例2〕
頂角20.0°、先端幅10μmの切削バイトを用いて、2つの方位角方向に切削することにより、金属モールドを作製した。2つの方位角方向は0°方向及び90°方向とした。
切削は、いずれの方位角方向でも、切削ピッチを90.0μm、95.0μm、100.0μm、105.0μm及び110.0μmで溝ごとにランダムとなるようにし、溝の深さを20.0μmで一定となるようにした。
金属モールドとして以上のようにして作製されたものを用いたこと以外は実施例1と同様にして、凹凸構造層(厚み25μm)を形成し、発光素子5を製造した。
[Comparative Example 2]
A metal mold was manufactured by cutting in two azimuth directions using a cutting tool having an apex angle of 20.0 ° and a tip width of 10 μm. The two azimuth directions were 0 ° and 90 °.
In any azimuth direction, the cutting is random for each groove with a cutting pitch of 90.0 μm, 95.0 μm, 100.0 μm, 105.0 μm and 110.0 μm, and the groove depth is 20.0 μm. To be constant.
A light-emitting element 5 was manufactured by forming a concavo-convex structure layer (thickness 25 μm) in the same manner as in Example 1 except that the metal mold manufactured as described above was used.

製造された凹凸構造層の凹凸構造が形成された面において、平坦面部の合計面積に対する斜面部の投影面積の比は0.32であり、平坦面部の高低差の最大は20.1μmであった。得られた発光素子5を通電して発光させ、発光素子5の透過性を目視で評価すると、正面方向及び斜め方向からの透明性が劣っていた。   On the surface of the manufactured concavo-convex structure layer on which the concavo-convex structure was formed, the ratio of the projected area of the inclined surface portion to the total area of the flat surface portion was 0.32, and the maximum height difference of the flat surface portion was 20.1 μm. . When the obtained light-emitting element 5 was energized to emit light and the transparency of the light-emitting element 5 was visually evaluated, the transparency from the front direction and the oblique direction was inferior.

〔比較例3〕
頂角40.0°、先端幅10.0μmの切削バイトを用いて、2つの方位角方向に切削することにより、金属モールドを作製した。2つの方位角方向は0°方向及び90°方向とした。
切削は、いずれの方位角方向でも、切削ピッチを35.0μmで一定となるようにし、溝の深さを4.4μm、4.7μm、5.0μm、5.3μm及び5.6μmで溝ごとにランダムとなるようにした。
金属モールドとして以上のようにして作製されたものを用いたこと以外は実施例1と同様にして、凹凸構造層(厚み10μm)を形成し、発光素子6を製造した。
[Comparative Example 3]
A metal mold was manufactured by cutting in two azimuth directions using a cutting tool having an apex angle of 40.0 ° and a tip width of 10.0 μm. The two azimuth directions were 0 ° and 90 °.
Cutting is performed so that the cutting pitch is constant at 35.0 μm in any azimuth direction, and the groove depth is 4.4 μm, 4.7 μm, 5.0 μm, 5.3 μm and 5.6 μm for each groove. To be random.
A light-emitting element 6 was produced by forming a concavo-convex structure layer (thickness: 10 μm) in the same manner as in Example 1 except that the metal mold produced as described above was used.

製造された凹凸構造層の凹凸構造が形成された面において、平坦面部の合計面積に対する斜面部の投影面積の比は0.40であり、平坦面部の高低差の最大は5.6μmであった。得られた発光素子6を通電して発光させ、発光素子6の透過性を目視で評価すると、正面方向及び斜め方向からの透明性が劣っていた。   In the surface of the manufactured concavo-convex structure layer on which the concavo-convex structure was formed, the ratio of the projected area of the inclined surface portion to the total area of the flat surface portion was 0.40, and the maximum height difference of the flat surface portion was 5.6 μm. . When the obtained light emitting element 6 was energized to emit light and the transparency of the light emitting element 6 was visually evaluated, the transparency from the front direction and the oblique direction was inferior.

〔比較例4〕
頂角20.0°、先端幅30.0μmの切削バイトを用いて、2つの方位角方向に切削することにより、金属モールドを作製した。2つの方位角方向は0°方向及び90°方向とした。
切削は、いずれの方位角方向でも、切削ピッチを90.0μm、95.0μm、100.0μm、105.0μm及び110.0μmで溝ごとにランダムとなるようにし、溝の深さを24.4μm、24.7μm、25.0μm、25.3μm及び25.6μmで溝ごとにランダムとなるようにした。
金属モールドとして以上のようにして作製されたものを用いたこと以外は実施例1と同様にして、凹凸構造層(厚み30μm)を形成し、発光素子7を製造した。
[Comparative Example 4]
A metal mold was manufactured by cutting in two azimuth directions using a cutting tool having an apex angle of 20.0 ° and a tip width of 30.0 μm. The two azimuth directions were 0 ° and 90 °.
In any azimuth direction, the cutting is random for each groove with a cutting pitch of 90.0 μm, 95.0 μm, 100.0 μm, 105.0 μm and 110.0 μm, and the depth of the groove is 24.4 μm. 24.7 μm, 25.0 μm, 25.3 μm, and 25.6 μm so that each groove is random.
A light-emitting element 7 was manufactured by forming a concavo-convex structure layer (thickness: 30 μm) in the same manner as in Example 1 except that the metal mold manufactured as described above was used.

製造された凹凸構造層の凹凸構造が形成された面において、平坦面部の合計面積に対する斜面部の投影面積の比は0.28であり、平坦面部の高低差の最大は25.6μmであった。得られた発光素子7を通電して発光させ、発光素子7の透過性を目視で評価すると、正面方向及び斜め方向からの透明性が劣っていた。   In the surface of the manufactured concavo-convex structure layer on which the concavo-convex structure was formed, the ratio of the projected area of the inclined surface portion to the total area of the flat surface portion was 0.28, and the maximum height difference of the flat surface portion was 25.6 μm. . When the obtained light-emitting element 7 was energized to emit light and the transparency of the light-emitting element 7 was visually evaluated, the transparency from the front direction and the oblique direction was inferior.

〔比較例5〕
頂角30.0°、先端幅75.0μmの切削バイトを用いて、2つの方位角方向に切削することにより、金属モールドを作製した。2つの方位角方向は0°方向及び90°方向とした。
切削は、いずれの方位角方向でも、切削ピッチを90.0μm、95.0μm、100.0μm、105.0μm及び110.0μmで溝ごとにランダムとなるようにし、溝の深さを24.4μm、24.7μm、25.0μm、25.3μm及び25.6μmで溝ごとにランダムとなるようにした。
金属モールドとして以上のようにして作製されたものを用いたこと以外は実施例1と同様にして、凹凸構造層(厚み30μm)を形成し、発光素子8を製造した。
[Comparative Example 5]
A metal mold was manufactured by cutting in two azimuth directions using a cutting tool having an apex angle of 30.0 ° and a tip width of 75.0 μm. The two azimuth directions were 0 ° and 90 °.
In any azimuth direction, the cutting is random for each groove with a cutting pitch of 90.0 μm, 95.0 μm, 100.0 μm, 105.0 μm and 110.0 μm, and the depth of the groove is 24.4 μm. 24.7 μm, 25.0 μm, 25.3 μm, and 25.6 μm so that each groove is random.
A light-emitting element 8 was produced by forming a concavo-convex structure layer (thickness 30 μm) in the same manner as in Example 1 except that the metal mold produced as described above was used.

製造された凹凸構造層の凹凸構造が形成された面において、平坦面部の合計面積に対する斜面部の投影面積の比は0.26であり、平坦面部の高低差の最大は25.6μmであった。得られた発光素子8を通電して発光させ、発光素子8の透過性を目視で評価すると、正面方向及び斜め方向からの透明性が劣っていた。   On the surface of the manufactured concavo-convex structure layer on which the concavo-convex structure was formed, the ratio of the projected area of the inclined surface portion to the total area of the flat surface portion was 0.26, and the maximum height difference of the flat surface portion was 25.6 μm. . When the obtained light-emitting element 8 was energized to emit light and the transparency of the light-emitting element 8 was visually evaluated, the transparency from the front direction and the oblique direction was inferior.

〔評価〕
(光取り出し量)
実施例1で得られた透明有機EL素子1、実施例1〜4並びに比較例2〜5で得られた発光素子1〜8について、プログラム(プログラム名:ASAP,Breault Reserch社製)を用いた光学シミュレーションで、発光層の光度を1lmとし、両面からでてくる光度を算出した。得られた値を表1及び表2に示す。なお、表1及び表2において「貼合面の光取出量」欄の数値は、凹凸構造層が設けられて凹凸構造を有する出光面からの光取出量を表し、「裏面の光取出量」欄の数値は、凹凸構造層の無いガラス表面からの光取出量を表す。また、透明有機EL素子1については比較例1として取り扱う。比較例1において、「貼合面の光取出量」欄の数値および「裏面の光取出量」欄の数値は、いずれも、凹凸構造層の無いガラス表面からの光取出量を表す。
[Evaluation]
(Light extraction amount)
For the transparent organic EL device 1 obtained in Example 1, Examples 1 to 4 and the light-emitting devices 1 to 8 obtained in Comparative Examples 2 to 5, a program (program name: ASAP, manufactured by Breath Research) was used. In the optical simulation, the luminous intensity of the light emitting layer was set to 1 lm, and the luminous intensity emitted from both sides was calculated. The obtained values are shown in Tables 1 and 2. In Tables 1 and 2, the numerical value in the “light extraction amount of the bonding surface” column represents the light extraction amount from the light emission surface having the concavo-convex structure layer provided with the concavo-convex structure layer, and “the light extraction amount of the back surface”. The numerical value in the column represents the amount of light extracted from the glass surface without the uneven structure layer. Further, the transparent organic EL element 1 is handled as Comparative Example 1. In Comparative Example 1, each of the numerical value in the “light extraction amount on the bonding surface” column and the numerical value in the “back light extraction amount” column represents the light extraction amount from the glass surface without the uneven structure layer.

(凹凸構造層の透明性)
実施例1〜4並びに比較例2〜5で得られた凹凸構造層について、プログラム(プログラム名:ASAP,Breault Reserch社製)を用いた光学シミュレーションで、平行光透過率と拡散光透過率を算出し、凹凸構造層の透明性を表す数値として、(拡散光透過率)/(平行光透過率+拡散光透過率)×100を算出した。この数値が低いほど、厚み方向から見た透明性に優れることを表す。得られた値を表1及び表2に示す。
(Transparency of uneven structure layer)
For the concavo-convex structure layers obtained in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 2 to 5, the parallel light transmittance and the diffuse light transmittance are calculated by optical simulation using a program (program name: ASAP, manufactured by Breath Research). Then, (diffuse light transmittance) / (parallel light transmittance + diffuse light transmittance) × 100 was calculated as a numerical value representing the transparency of the uneven structure layer. It represents that it is excellent in the transparency seen from the thickness direction, so that this figure is low. The obtained values are shown in Tables 1 and 2.

(格子ムラ)
実施例1〜実施例4、および比較例2〜比較例5で得られた発光素子1〜8について目視観察し、格子ムラの有無を確認した。実施例1〜実施例4は凹凸構造層に含まれる条列が3群以上含まれるため、格子ムラがほとんど観察されず優良であった。なお、表1及び表2においては、格子ムラがほとんど観察されないものを「優」、格子ムラが観察されるものを「不良」で示す。
(Lattice unevenness)
The light-emitting elements 1 to 8 obtained in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 2 to 5 were visually observed to confirm the presence or absence of lattice unevenness. In Examples 1 to 4, since three or more groups included in the concavo-convex structure layer were included, the lattice unevenness was hardly observed and was excellent. In Tables 1 and 2, “excellent” indicates that lattice unevenness is hardly observed, and “defect” indicates that lattice unevenness is observed.

(視認性)
5mm×5mmサイズの文字を配列した表示面の50cm手前に、透明有機EL素子1および発光素子1〜8を非点灯状態で配置し、透明有機EL素子1および発光素子1〜8を通して、正面方向および斜め方向から文字を観察した。文字がにじみやゆがみが無くはっきり見えるものを「優」、にじみやゆがみがあるが、文字が読み取れるものを「良」、にじみやゆがみが多く、文字がはっきり読み取れないものを「不良」とした。結果を表1及び表2に示す。
(Visibility)
The transparent organic EL element 1 and the light emitting elements 1 to 8 are arranged in a non-lighting state 50 cm in front of the display surface on which characters of 5 mm × 5 mm size are arranged. Through the transparent organic EL element 1 and the light emitting elements 1 to 8, the front direction The characters were observed from an oblique direction. Characters that are clearly visible with no blurring or distortion are classified as “excellent”, while those with blurring or distortion are “good”, while those that can read characters are “good”, and those that have many blurring or distortion and are not clearly readable are “bad”. The results are shown in Tables 1 and 2.

(虹ムラ)
実施例1〜実施例4、および比較例2〜比較例5で得られた発光素子について目視観察し、虹ムラの有無を確認した。実施例1〜実施例4、および比較例2〜比較例5は、いずれも凹凸構造の高低差を所定範囲で不揃いとしているため、凹凸構造層の表裏面での反射光における干渉に基づく虹ムラがほとんど観察されず優良であった。
(Rainbow unevenness)
The light emitting elements obtained in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 2 to 5 were visually observed to confirm the presence or absence of rainbow unevenness. In each of Examples 1 to 4 and Comparative Examples 2 to 5, since the unevenness of the uneven structure is uneven within a predetermined range, rainbow unevenness based on interference in the reflected light on the front and back surfaces of the uneven structure layer Was not observed and was excellent.

Figure 2012212508
Figure 2012212508

Figure 2012212508
Figure 2012212508

〔実施例5〕
頂角5°、先端幅50μmの切削バイトを用いて、3つの方位角方向に切削することにより、金属モールドを作製した。3つの方位角方向は0°方向、45°方向及び90°方向とした。
方位角0°方向の切削ピッチは200μmで一定とし、方位角45°方向及び90°方向の切削ピッチは400μmで一定とし、溝の深さは全ての方位角方向で20.0μmで一定とした。
金属モールドとして以上のようにして作製されたものを用いたこと以外は実施例1と同様にして、凹凸構造層(厚み25μm)を形成し、発光素子9を製造した。
Example 5
A metal mold was manufactured by cutting in three azimuth directions using a cutting tool having an apex angle of 5 ° and a tip width of 50 μm. The three azimuth directions were 0 °, 45 ° and 90 °.
Cutting pitch in azimuth angle 0 ° direction is constant at 200 μm, cutting pitch in azimuth angle 45 ° direction and 90 ° direction is constant at 400 μm, and groove depth is constant at 20.0 μm in all azimuth directions. .
A light-emitting element 9 was manufactured by forming a concavo-convex structure layer (thickness: 25 μm) in the same manner as in Example 1 except that the metal mold manufactured as described above was used.

製造された凹凸構造層の凹凸構造が形成された面において、平坦面部に対する斜面部の平均傾斜角度は87.5°であった。また、平坦面部の合計面積に対する斜面部の投影面積の比は0.03であり、平坦面部の高低差の最大は20.1μmであった。
得られた発光素子9を通電して発光させ、発光素子9の透過性を目視で評価すると、正面方向及び斜め方向からの透明性が優れていた。
On the surface of the manufactured concavo-convex structure layer on which the concavo-convex structure was formed, the average inclination angle of the inclined portion with respect to the flat surface portion was 87.5 °. Further, the ratio of the projected area of the inclined surface portion to the total area of the flat surface portion was 0.03, and the maximum height difference of the flat surface portion was 20.1 μm.
When the obtained light emitting device 9 was energized to emit light and the transparency of the light emitting device 9 was visually evaluated, the transparency from the front direction and the oblique direction was excellent.

〔実施例6〕
頂角25°、先端幅50μmの切削バイトと、頂角25°、先端幅150μmの切削バイトとを用いて、4つの方位角方向に切削することにより、金属モールドを作製した。4つの方位角方向は0°方向、45°方向、90°方向及び135°方向とした。
方位角0°方向及び135°方向の切削は先端幅150μmの切削バイトを用いて行った。また、方位角45°方向及び90°方向の切削は、先端幅50μmの切削バイトを用いて行った。いずれの溝においても、切削ピッチは400μmで一定となるようにし、溝の深さは18.0μmで一定となるようにした。
金属モールドとして以上のようにして作製されたものを用いたこと以外は実施例1と同様にして、凹凸構造層(厚み25μm)を形成して、発光素子10を製造した。
Example 6
Using a cutting tool with an apex angle of 25 ° and a tip width of 50 μm and a cutting tool with an apex angle of 25 ° and a tip width of 150 μm, the metal mold was manufactured by cutting in four azimuth directions. The four azimuth directions were 0 °, 45 °, 90 ° and 135 °.
Cutting in the azimuth angle 0 ° direction and 135 ° direction was performed using a cutting tool having a tip width of 150 μm. Further, cutting in the azimuth 45 ° direction and 90 ° direction was performed using a cutting tool having a tip width of 50 μm. In any of the grooves, the cutting pitch was made constant at 400 μm, and the groove depth was made constant at 18.0 μm.
A light-emitting element 10 was manufactured by forming a concavo-convex structure layer (thickness: 25 μm) in the same manner as in Example 1 except that the metal mold manufactured as described above was used.

製造された凹凸構造層の凹凸構造が形成された面において、平坦面部に対する斜面部の平均傾斜角度は77.5°であった。また、平坦面部の合計面積に対する斜面部の投影面積の比は0.08であり、平坦面部の高低差の最大は18.1μmであった。得られた発光素子10を通電して発光させ、発光素子10の透過性を目視で評価すると、正面方向及び斜め方向からの透明性が優れていた。   On the surface of the manufactured concavo-convex structure layer on which the concavo-convex structure was formed, the average inclination angle of the slope portion with respect to the flat surface portion was 77.5 °. Further, the ratio of the projected area of the slope portion to the total area of the flat surface portion was 0.08, and the maximum height difference of the flat surface portion was 18.1 μm. When the obtained light emitting device 10 was energized to emit light and the transparency of the light emitting device 10 was visually evaluated, the transparency from the front direction and the oblique direction was excellent.

〔実施例7〕
頂角20°、先端幅75μmの切削バイトと、頂角20°、先端幅100μmの切削バイトと、頂角20°、先端幅125μmの切削バイトとを用いて、6つの方位角方向に切削することにより、金属モールドを作製した。6つの方位角方向は0°方向、45°方向、60°方向、90°方向、120°方向及び135°方向とした。
方位角0°方向及び90°方向の切削は、先端幅100μmの切削バイトを用い、切削ピッチを400μmで一定とした。
方位角45°方向及び120°方向の切削は、先端幅125μmの切削バイトを用い、切削ピッチを800μmで一定となるようにした。
方位角60°方向及び135°方向の切削は、先端幅75μmの切削バイトを用い、切削ピッチを800μmで一定となるようにした。
また、溝の深さはいずれの溝においても25.0μmで一定となるようにした。
金属モールドとして以上のようにして作製されたものを用いたこと以外は実施例1と同様にして、凹凸構造層(厚み30μm)を形成して、発光素子11を製造した。
Example 7
Cutting is performed in six azimuth directions using a cutting bit having an apex angle of 20 ° and a tip width of 75 μm, a cutting bit having an apex angle of 20 ° and a tip width of 100 μm, and a cutting bit having an apex angle of 20 ° and a tip width of 125 μm. This produced a metal mold. The six azimuth directions were 0 °, 45 °, 60 °, 90 °, 120 ° and 135 °.
Cutting in the azimuth 0 ° direction and 90 ° direction was performed using a cutting tool having a tip width of 100 μm and a constant cutting pitch of 400 μm.
Cutting in the azimuth 45 ° direction and 120 ° direction was performed using a cutting tool having a tip width of 125 μm, and the cutting pitch was kept constant at 800 μm.
Cutting in the azimuth 60 ° direction and 135 ° direction was performed using a cutting tool with a tip width of 75 μm, and the cutting pitch was kept constant at 800 μm.
The depth of the groove was fixed at 25.0 μm in any groove.
A light-emitting element 11 was manufactured by forming a concavo-convex structure layer (thickness of 30 μm) in the same manner as in Example 1 except that the metal mold manufactured as described above was used.

製造された凹凸構造層の凹凸構造が形成された面において、平坦面部に対する斜面部の平均傾斜角度は80.0°であった。また、平坦面部の合計面積に対する斜面部の投影面積の比は0.09であり、平坦面部の高低差の最大は25.1μmであった。得られた発光素子11を通電して発光させ、発光素子11の透過性を目視で評価すると、正面方向及び斜め方向からの透明性が優れていた。   On the surface of the manufactured concavo-convex structure layer on which the concavo-convex structure was formed, the average inclination angle of the slope portion with respect to the flat surface portion was 80.0 °. The ratio of the projected area of the slope portion to the total area of the flat surface portion was 0.09, and the maximum height difference of the flat surface portion was 25.1 μm. When the obtained light emitting element 11 was energized to emit light and the transparency of the light emitting element 11 was visually evaluated, the transparency from the front direction and the oblique direction was excellent.

〔実施例8〕
頂角25°、先端幅40μmの切削バイトと、頂角25°、先端幅80μmの切削バイトと、頂角25°、先端幅120μmの切削バイトと、頂角25°、先端幅160μmの切削バイトとを用いて、8つの方位角方向に切削することにより、金属モールドを作製した。8つの方位角方向は0°方向、20°方向、45°方向、60°方向、90°方向、115°方向、135°方向及び165°方向とした。
方位角0°方向及び方位角60°方向の切削は、先端幅160μmの切削バイトを用いた。方位角20°方向及び115°方向の切削は、先端幅120μmの切削バイトを用いた。方位角45°方向及び165°方向の切削は、先端幅40μmの切削バイトを用いた。方位角90°方向及び135°方向の切削は、先端幅80μmの切削バイトを用いた。いずれの溝においても、切削ピッチを800μmで一定となるようにし、溝の深さを25.0μmで一定となるようにした。
この金属モールドから、Ni電鋳(厚み約300μm)にて、凹凸形状が反転した形状の転写型を作製した。
型としてこの転写型を用いたこと以外は実施例1と同様にして、凹凸構造層(厚み30μm)を形成し、発光素子12を製造した。
Example 8
Cutting tool with apex angle 25 ° and tip width 40 μm, cutting tool with apex angle 25 ° and tip width 80 μm, cutting tool with apex angle 25 ° and tip width 120 μm, cutting tool with apex angle 25 ° and tip width 160 μm Were cut into eight azimuthal directions to produce a metal mold. The eight azimuth directions were 0 °, 20 °, 45 °, 60 °, 90 °, 115 °, 135 ° and 165 °.
For cutting in the azimuth angle 0 ° direction and azimuth angle 60 ° direction, a cutting tool having a tip width of 160 μm was used. For cutting in the azimuth 20 ° direction and 115 ° direction, a cutting tool having a tip width of 120 μm was used. For cutting in the azimuth 45 ° direction and 165 ° direction, a cutting tool having a tip width of 40 μm was used. For cutting in the azimuth 90 ° direction and 135 ° direction, a cutting tool having a tip width of 80 μm was used. In any groove, the cutting pitch was made constant at 800 μm, and the groove depth was made constant at 25.0 μm.
From this metal mold, a transfer mold having a shape in which the concavo-convex shape was inverted was produced by Ni electroforming (thickness: about 300 μm).
Except that this transfer mold was used as a mold, a concavo-convex structure layer (thickness 30 μm) was formed in the same manner as in Example 1, and the light emitting device 12 was manufactured.

製造された凹凸構造層の凹凸構造が形成された面において、平坦面部に対する斜面部の平均傾斜角度は77.5°であった。また、平坦面部の合計面積に対する斜面部の投影面積の比は0.09であり、平坦面部の高低差の最大は25.1μmであった。得られた発光素子12を通電して発光させ、発光素子12の透過性を目視で評価すると、正面方向及び斜め方向からの透明性が優れていた。   On the surface of the manufactured concavo-convex structure layer on which the concavo-convex structure was formed, the average inclination angle of the slope portion with respect to the flat surface portion was 77.5 °. The ratio of the projected area of the slope portion to the total area of the flat surface portion was 0.09, and the maximum height difference of the flat surface portion was 25.1 μm. When the obtained light emitting device 12 was energized to emit light and the transparency of the light emitting device 12 was visually evaluated, the transparency from the front direction and the oblique direction was excellent.

〔比較例6〕
頂角20.0°、先端幅10μmの切削バイトを用いて、2つの方位角方向に切削することにより、金属モールドを作製した。2つの方位角方向は0°方向及び90°方向とした。
切削は、いずれの方位角方向でも、切削ピッチを100.0μmで一定となるようにし、溝の深さを20.0μmで一定となるようにした。
金属モールドとして以上のようにして作製されたものを用いたこと以外は実施例1と同様にして、凹凸構造層(厚み25μm)を形成し、発光素子13を製造した。
[Comparative Example 6]
A metal mold was manufactured by cutting in two azimuth directions using a cutting tool having an apex angle of 20.0 ° and a tip width of 10 μm. The two azimuth directions were 0 ° and 90 °.
In the cutting, the cutting pitch was made constant at 100.0 μm and the groove depth was made constant at 20.0 μm in any azimuth direction.
A light-emitting element 13 was manufactured by forming a concavo-convex structure layer (thickness: 25 μm) in the same manner as in Example 1 except that the metal mold manufactured as described above was used.

製造された凹凸構造層の凹凸構造が形成された面において、平坦面部の合計面積に対する斜面部の投影面積の比は0.32であり、平坦面部の高低差の最大は20.1μmであった。得られた発光素子13を通電して発光させ、発光素子13の透過性を目視で評価すると、正面方向及び斜め方向からの透明性が劣っていた。   On the surface of the manufactured concavo-convex structure layer on which the concavo-convex structure was formed, the ratio of the projected area of the inclined surface portion to the total area of the flat surface portion was 0.32, and the maximum height difference of the flat surface portion was 20.1 μm. . When the obtained light-emitting element 13 was energized to emit light and the transparency of the light-emitting element 13 was visually evaluated, the transparency from the front direction and the oblique direction was poor.

〔比較例7〕
頂角40.0°、先端幅10.0μmの切削バイトを用いて、2つの方位角方向に切削することにより、金属モールドを作製した。2つの方位角方向は0°方向及び90°方向とした。
切削は、いずれの方位角方向でも、切削ピッチを35.0μmで一定となるようにし、溝の深さを5.0μmで一定となるようにした。
金属モールドとして以上のようにして作製されたものを用いたこと以外は実施例1と同様にして、凹凸構造層(厚み10μm)を形成し、発光素子14を製造した。
[Comparative Example 7]
A metal mold was manufactured by cutting in two azimuth directions using a cutting tool having an apex angle of 40.0 ° and a tip width of 10.0 μm. The two azimuth directions were 0 ° and 90 °.
In the cutting, the cutting pitch was made constant at 35.0 μm and the groove depth was made constant at 5.0 μm in any azimuth direction.
A light-emitting element 14 was manufactured by forming a concavo-convex structure layer (thickness: 10 μm) in the same manner as in Example 1 except that the metal mold manufactured as described above was used.

製造された凹凸構造層の凹凸構造が形成された面において、平坦面部の面積に対する斜面部の投影面積の比は0.40であり、平坦面部の高低差の最大は5.1μmであった。得られた発光素子14を通電して発光させ、発光素子14の透過性を目視で評価すると、正面方向及び斜め方向からの透明性が劣っていた。   On the surface of the manufactured concavo-convex structure layer on which the concavo-convex structure was formed, the ratio of the projected area of the inclined surface portion to the area of the flat surface portion was 0.40, and the maximum height difference of the flat surface portion was 5.1 μm. When the obtained light emitting element 14 was energized to emit light and the transparency of the light emitting element 14 was visually evaluated, the transparency from the front direction and the oblique direction was inferior.

〔比較例8〕
頂角20.0°、先端幅30.0μmの切削バイトを用いて、2つの方位角方向に切削することにより、金属モールドを作製した。2つの方位角方向は0°方向及び90°方向とした。
切削は、いずれの方位角方向でも、切削ピッチを100.0μmで一定となるようにし、溝の深さを25.1μmで一定となるようにした。
金属モールドとして以上のようにして作製されたものを用いたこと以外は実施例1と同様にして、凹凸構造層(厚み30μm)を形成し、発光素子15を製造した。
[Comparative Example 8]
A metal mold was manufactured by cutting in two azimuth directions using a cutting tool having an apex angle of 20.0 ° and a tip width of 30.0 μm. The two azimuth directions were 0 ° and 90 °.
In the cutting, the cutting pitch was made constant at 100.0 μm and the groove depth was made constant at 25.1 μm in any azimuth direction.
A light-emitting element 15 was manufactured by forming a concavo-convex structure layer (thickness of 30 μm) in the same manner as in Example 1 except that the metal mold manufactured as described above was used.

製造された凹凸構造層の凹凸構造が形成された面において、平坦面部の面積に対する斜面部の投影面積の比は0.28であり、平坦面部の高低差の最大は25.1μmであった。得られた発光素子15を通電して発光させ、発光素子15の透過性を目視で評価すると、正面方向及び斜め方向からの透明性が劣っていた。   In the surface of the manufactured concavo-convex structure layer on which the concavo-convex structure was formed, the ratio of the projected area of the inclined surface portion to the area of the flat surface portion was 0.28, and the maximum height difference of the flat surface portion was 25.1 μm. When the obtained light-emitting element 15 was energized to emit light and the transparency of the light-emitting element 15 was visually evaluated, the transparency from the front direction and the oblique direction was inferior.

〔比較例9〕
頂角が30.0°、先端幅50.0μmの切削バイトを用いて、2つの方位角方向に切削することにより、金属モールドを作製した。2つの方位角方向は0°方向及び90°方向とした。
切削は、いずれの方位角方向でも、切削ピッチを100.0μmで一定となるようにし、溝の深さを25.0μmで一定となるようにした。
金属モールドとして以上のようにして作製されたものを用いたこと以外は実施例1と同様にして、凹凸構造層(厚み30μm)を形成し、発光素子16を製造した。
[Comparative Example 9]
A metal mold was manufactured by cutting in two azimuth directions using a cutting tool having an apex angle of 30.0 ° and a tip width of 50.0 μm. The two azimuth directions were 0 ° and 90 °.
In the cutting, the cutting pitch was made constant at 100.0 μm and the groove depth was made constant at 25.0 μm in any azimuth direction.
A light-emitting element 16 was manufactured by forming a concavo-convex structure layer (thickness: 30 μm) in the same manner as in Example 1 except that the metal mold manufactured as described above was used.

製造された凹凸構造層の凹凸構造が形成された面において、平坦面部の面積に対する斜面部の投影面積の比は0.26であり、平坦面部の高低差の最大は25.1μmであった。得られた発光素子16を通電して発光させ、発光素子16透過性を目視で評価すると、正面方向及び斜め方向からの透明性が劣っていた。   In the surface of the manufactured concavo-convex structure layer on which the concavo-convex structure was formed, the ratio of the projected area of the inclined surface portion to the area of the flat surface portion was 0.26, and the maximum height difference of the flat surface portion was 25.1 μm. When the obtained light-emitting element 16 was energized to emit light and the light-emitting element 16 transparency was evaluated visually, the transparency from the front direction and the oblique direction was poor.

〔評価〕
実施例5〜8及び比較例6〜9で得られた発光素子9〜16について、上述した要領で評価を行った。結果を表3及び表4に示す。
[Evaluation]
The light emitting elements 9 to 16 obtained in Examples 5 to 8 and Comparative Examples 6 to 9 were evaluated in the manner described above. The results are shown in Tables 3 and 4.

実施例5〜実施例8、および比較例6〜比較例9で得られた発光素子について目視観察したところ、多少の虹ムラが存在するものの、使用態様によっては問題視されない程度のものであった。   When the light-emitting elements obtained in Examples 5 to 8 and Comparative Examples 6 to 9 were visually observed, although some rainbow unevenness was present, it was of a level that was not regarded as a problem depending on the use mode. .

Figure 2012212508
Figure 2012212508

Figure 2012212508
Figure 2012212508

10 発光素子
20 発光素子
30 発光素子
40 発光素子
10U 出光面
10D 出光面
100 出光面構造層
110 複層体
111 凹凸構造層
112 基材フィルム層
113 第一の条列
113U 平坦面部
113S 斜面部
114 第二の条列
114U 平坦面部
114S 斜面部
115 第三の条列
115U 平坦面部
115S 斜面部
116 第四の条列
116U 平坦面部
116S 斜面部
117 凹部
117B 平坦面部
121 接着層
131 支持基板
140 有機EL素子
141 第一の電極層
142 発光層
143 第二の電極層
144 発光面
145 発光面
151 封止基材
410U 出光面
413、414、415、416及び417 条列
510U 出光面
513、514、515及び516 条列
610U 出光面
613、614、615、616及び617 条列
901 投影平面
902 投影像
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Light emitting element 20 Light emitting element 30 Light emitting element 40 Light emitting element 10U Light emission surface 10D Light emission surface 100 Light emission surface structure layer 110 Multilayer body 111 Concavity and convexity structure layer 112 Base film layer 113 First row 113U Flat surface part 113S Slope part 114 1st Second row 114U Flat surface portion 114S Slope portion 115 Third row 115U Flat surface portion 115S Slope portion 116 Fourth row 116U Flat surface portion 116S Slope portion 117 Concave portion 117B Flat surface portion 121 Adhesive layer 131 Support substrate 140 Organic EL element 141 First electrode layer 142 Light emitting layer 143 Second electrode layer 144 Light emitting surface 145 Light emitting surface 151 Sealing substrate 410U Light emitting surface 413, 414, 415, 416 and 417 row 510U Light emitting surface 513, 514, 515 and 516 Row 610U Light exit surface 613, 614, 615, 616, and 617 row 901 projection plane 902 projection image

Claims (5)

発光面を有し前記発光面から光を発する有機エレクトロルミネッセンス素子と、前記有機エレクトロルミネッセンス素子の前記発光面に直接又は間接的に設けられた構造層とを備え、
前記構造層は、前記構造層の前記有機エレクトロルミネッセンス素子とは反対側の表面に、前記表面に平行な第一の方向に延在する第一の条列と、前記表面に平行で前記第一の方向と交差する第二の方向に延在する第二の条列と、前記表面に平行で前記第一の方向及び前記第二の方向に交差する第三の方向に延在する第三の条列とを含む凹凸構造を有し、
前記凹凸構造が、前記発光面に対して平行な平坦面部と、前記発光面に対して傾斜した斜面部を有し、
前記斜面部を、前記平坦面部に対して垂直な方向に、前記平坦面部に対して平行な平面へと投影して形成される投影面積が、前記平坦面部の合計面積の0.1倍以下である、発光素子。
An organic electroluminescence device that has a light emitting surface and emits light from the light emitting surface; and a structural layer provided directly or indirectly on the light emitting surface of the organic electroluminescence device,
The structural layer includes a first row extending in a first direction parallel to the surface on a surface of the structural layer opposite to the organic electroluminescence element, and the first parallel to the surface and the first A second row extending in a second direction intersecting with the direction of the second, and a third row extending in a third direction parallel to the surface and intersecting the first direction and the second direction. It has a concavo-convex structure including a row,
The concavo-convex structure has a flat surface portion parallel to the light emitting surface and a slope portion inclined with respect to the light emitting surface;
A projected area formed by projecting the slope portion in a direction perpendicular to the flat surface portion onto a plane parallel to the flat surface portion is 0.1 times or less of the total area of the flat surface portions. There is a light emitting element.
前記凹凸構造における平坦面部の高低差の最大値が22μm以下である、請求項1記載の発光素子。   The light emitting element according to claim 1, wherein the maximum value of the height difference of the flat surface portion in the uneven structure is 22 μm or less. 前記斜面部が前記平坦面部に対して80°以上90°未満の傾斜角度で傾斜している、請求項1又は2記載の発光素子。   The light emitting element of Claim 1 or 2 in which the said slope part inclines with the inclination angle of 80 degrees or more and less than 90 degrees with respect to the said flat surface part. 前記平坦面部の高低差の最大値が0.1μm以上である、請求項1〜3のいずれか一項に記載の発光素子。   The light emitting element as described in any one of Claims 1-3 whose maximum value of the height difference of the said flat surface part is 0.1 micrometer or more. 請求項1〜4のいずれか一項に記載の発光素子を備える照明器具。   A lighting fixture provided with the light emitting element as described in any one of Claims 1-4.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018147076A1 (en) * 2017-02-08 2018-08-16 株式会社東海理化電機製作所 Display device

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0883688A (en) * 1994-09-13 1996-03-26 Idemitsu Kosan Co Ltd Organic el device
WO2002103813A1 (en) * 2001-06-15 2002-12-27 Nichia Corporation Nitride semiconductor light emitting element and light emitting device using it
JP2009151955A (en) * 2007-12-18 2009-07-09 Sony Corp Surface emitting light source and its manufacturing method
JP2010027428A (en) * 2008-07-22 2010-02-04 Konica Minolta Opto Inc Surface emitter and display device using the same, and lighting device
WO2010143706A1 (en) * 2009-06-11 2010-12-16 日本ゼオン株式会社 Surface light source device, lighting equipment, backlight device

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0883688A (en) * 1994-09-13 1996-03-26 Idemitsu Kosan Co Ltd Organic el device
WO2002103813A1 (en) * 2001-06-15 2002-12-27 Nichia Corporation Nitride semiconductor light emitting element and light emitting device using it
JP2009151955A (en) * 2007-12-18 2009-07-09 Sony Corp Surface emitting light source and its manufacturing method
JP2010027428A (en) * 2008-07-22 2010-02-04 Konica Minolta Opto Inc Surface emitter and display device using the same, and lighting device
WO2010143706A1 (en) * 2009-06-11 2010-12-16 日本ゼオン株式会社 Surface light source device, lighting equipment, backlight device

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018147076A1 (en) * 2017-02-08 2018-08-16 株式会社東海理化電機製作所 Display device
JP2018129172A (en) * 2017-02-08 2018-08-16 株式会社東海理化電機製作所 Display device

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