JP2012211965A - Electrochromic element and method for manufacturing the same - Google Patents

Electrochromic element and method for manufacturing the same Download PDF

Info

Publication number
JP2012211965A
JP2012211965A JP2011076914A JP2011076914A JP2012211965A JP 2012211965 A JP2012211965 A JP 2012211965A JP 2011076914 A JP2011076914 A JP 2011076914A JP 2011076914 A JP2011076914 A JP 2011076914A JP 2012211965 A JP2012211965 A JP 2012211965A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electrode
electrochromic
layer
composition layer
coloring
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2011076914A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hiroki Momokawa
裕希 百川
Takashi Masako
隆志 眞子
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
Priority to JP2011076914A priority Critical patent/JP2012211965A/en
Publication of JP2012211965A publication Critical patent/JP2012211965A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Electrochromic Elements, Electrophoresis, Or Variable Reflection Or Absorption Elements (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a high-contrast electrochromic element and a method for manufacturing the same.SOLUTION: An electrochromic element 10 of the present invention comprises: a first electrode 13; a second electrode 14; an electrolytic layer 16; and an electrochromic composition layer 15. The electrochromic composition layer 15 is arranged on the first electrode 13, and the electrolytic layer 16 is arranged on the electrochromic composition layer 15, while the second electrode 14 is arranged on the lateral faces of at least one of the electrolytic layer 16 and the electrochromic composition layer 15, so that electric voltage can be applied to the electrolytic layer 16 and the electrochromic composition layer 15, in between the first electrode 13 and the second electrode 14.

Description

本発明は、エレクトロクロミック素子およびその製造方法に関する。   The present invention relates to an electrochromic device and a manufacturing method thereof.

電気化学反応により色が変化するエレクトロクロミズム(CE:Electrochromism)方式による表示デバイス(エレクトロクロミック素子)は、その表示面と平行な一対の透明電極を使用して形成されるのが一般的である。この表示デバイスの一例を、図8の縦断面図に示す。図8に示すように、表示デバイスの1画素にあたるセル101が、隔壁108により分割されている。セル101は、対向する一対の透明電極である、透明絶縁基材102に形成された第1の透明導電膜104と、ベース基材109に形成された第2の透明導電膜103との間に、電解質層106とエレクトロクロミック組成物層105とが挟みこまれた構造である。前記両透明導電膜間に電場を掛けると、電解質層106を介してエレクトロクロミック組成物層105に電場が注入され、着色状態となる。また、エレクトロクロミック組成物層105から電場が抜ければ、消色状態(無色透明)となる。EC方式では、着色していないセルは、無色透明となるため、着色していない部分を白色としたい場合には、例えば、図8に示すように、ベース基材109と第2の透明導電膜103との間に、白色層107を設ける。前記各セルには、マトリックス状に配線(例えば、図8に示すY座標配線111、および、図8に示していないX座標配線)が形成され、着色したいセルのX座標・Y座標に対応する配線に通電することで、所望のセルを着色できる。   In general, a display device (electrochromic element) using an electrochromism (CE) method in which a color is changed by an electrochemical reaction is formed using a pair of transparent electrodes parallel to the display surface. An example of this display device is shown in the longitudinal sectional view of FIG. As shown in FIG. 8, a cell 101 corresponding to one pixel of the display device is divided by a partition wall 108. The cell 101 is a pair of opposing transparent electrodes between a first transparent conductive film 104 formed on the transparent insulating base material 102 and a second transparent conductive film 103 formed on the base base material 109. In this structure, the electrolyte layer 106 and the electrochromic composition layer 105 are sandwiched. When an electric field is applied between the two transparent conductive films, an electric field is injected into the electrochromic composition layer 105 through the electrolyte layer 106 and a colored state is obtained. In addition, when the electric field is removed from the electrochromic composition layer 105, the color disappears (colorless and transparent). In the EC method, an uncolored cell is colorless and transparent. Therefore, when it is desired to make an uncolored portion white, for example, as shown in FIG. 8, a base substrate 109 and a second transparent conductive film are used. A white layer 107 is provided between In each cell, wiring (for example, the Y coordinate wiring 111 shown in FIG. 8 and the X coordinate wiring not shown in FIG. 8) is formed in a matrix, and corresponds to the X coordinate / Y coordinate of the cell to be colored. A desired cell can be colored by energizing the wiring.

また、エレクトロクロミック素子として、例えば、ライン状の第1の電極とライン状の第2の電極とが立体交差する領域をセルとする構造の素子も提案されている(例えば、特許文献1参照)。   Further, as an electrochromic element, for example, an element having a structure in which a region where a line-shaped first electrode and a line-shaped second electrode intersect three-dimensionally is a cell has been proposed (for example, see Patent Document 1). .

特開2008−32911号公報JP 2008-32911 A

図8に示す表示デバイス(エレクトロクロミック素子)では、表示面に電極を配置する必要がある。このため、このような構造では、少なくとも、一対の電極のうちのいずれか一方の電極に透明導電膜を使用する。しかしながら、透明導電膜では、光が完全には透過しないため、コントラストが低下し、画面が暗くなる問題があった。   In the display device (electrochromic element) shown in FIG. 8, it is necessary to dispose electrodes on the display surface. For this reason, in such a structure, a transparent conductive film is used for at least one of the pair of electrodes. However, since the transparent conductive film does not transmit light completely, there is a problem that the contrast is lowered and the screen becomes dark.

そこで、本発明は、高コントラストなエレクトロクロミック素子およびその製造方法を提供することを目的とする。   Therefore, an object of the present invention is to provide a high-contrast electrochromic device and a method for manufacturing the same.

前記目的を達成するために、本発明のエレクトロクロミック素子は、
第1の電極と、第2の電極と、電解質層と、エレクトロクロミック組成物層とを含み、
前記第1の電極の上に、前記エレクトロクロミック組成物層が積層され、
前記エレクトロクロミック組成物層の上に、前記電解質層が積層され、
前記第2の電極が、前記電解質層および前記エレクトロクロミック組成物層の少なくとも一方の側面に配置され、
前記第1の電極と前記第2の電極との間で、前記電解質層および前記エレクトロクロミック組成物層に電圧を印加可能であることを特徴とする。
In order to achieve the above object, the electrochromic device of the present invention comprises:
Including a first electrode, a second electrode, an electrolyte layer, and an electrochromic composition layer;
The electrochromic composition layer is laminated on the first electrode,
The electrolyte layer is laminated on the electrochromic composition layer,
The second electrode is disposed on at least one side of the electrolyte layer and the electrochromic composition layer;
A voltage can be applied to the electrolyte layer and the electrochromic composition layer between the first electrode and the second electrode.

また、本発明のエレクトロクロミック素子の製造方法は、
第1の電極の上に、エレクトロクロミック組成物層を形成するエレクトロクロミック組成物層形成工程と、
前記エレクトロクロミック組成物層の上に、電解質層を形成する電解質層形成工程と、
前記電解質層および前記エレクトロクロミック組成物層の少なくとも一方の側面に、前記第1の電極と第2の電極との間で、前記電解質層および前記エレクトロクロミック組成物層に電圧を印加可能であるように、第2の電極を形成する第2の電極形成工程とを含むことを特徴とする。
In addition, the method for producing the electrochromic device of the present invention includes:
An electrochromic composition layer forming step of forming an electrochromic composition layer on the first electrode;
An electrolyte layer forming step of forming an electrolyte layer on the electrochromic composition layer;
A voltage can be applied to the electrolyte layer and the electrochromic composition layer on at least one side surface of the electrolyte layer and the electrochromic composition layer between the first electrode and the second electrode. And a second electrode forming step of forming a second electrode.

本発明によれば、高コントラストなエレクトロクロミック素子およびその製造方法を提供できる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, a high contrast electrochromic element and its manufacturing method can be provided.

図1は、本発明のエレクトロクロミック素子の一例(実施形態1)の構成を示す縦断面図である。FIG. 1 is a longitudinal sectional view showing a configuration of an example (Embodiment 1) of an electrochromic element of the present invention. 図2は、図1に示すエレクトロクロミック素子のA−A方向に見た横断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view of the electrochromic element shown in FIG. 図3は、前記実施形態1における第2の電極のその他の例を示す横断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view showing another example of the second electrode in the first embodiment. 図4は、前記実施形態1における第2の電極のさらにその他の例を示す縦断面図である。FIG. 4 is a longitudinal sectional view showing still another example of the second electrode in the first embodiment. 図5Aは、本発明のエレクトロクロミック素子のその他の例(実施形態2)の構成を示す平面図である。FIG. 5A is a plan view showing a configuration of another example (Embodiment 2) of the electrochromic element of the present invention. 図5Bは、図5Aに示すエレクトロクロミック素子のB−B方向に見た縦断面図である。FIG. 5B is a longitudinal sectional view of the electrochromic element shown in FIG. 5A viewed in the BB direction. 図6Aは、前記実施形態2におけるエレクトロクロミック組成物層のその他の例を示す平面図である。6A is a plan view showing another example of the electrochromic composition layer in Embodiment 2. FIG. 図6Bは、図6Aに示すエレクトロクロミック素子のC−C方向に見た縦断面図である。6B is a longitudinal sectional view of the electrochromic element shown in FIG. 6A viewed in the CC direction. 図7Aは、前記実施形態2のエレクトロクロミック素子の製造方法の一工程を説明する図である。(a)は一工程を説明する平面図、(b)は(a)に示す工程のD−D方向に見た縦断面図である。FIG. 7A is a diagram illustrating one step in the method of manufacturing the electrochromic device according to the second embodiment. (A) is a top view explaining 1 process, (b) is the longitudinal cross-sectional view seen in the DD direction of the process shown to (a). 図7Bは、前記実施形態2のエレクトロクロミック素子の製造方法のその他の工程を説明する図である。(a)はその他の工程を説明する平面図、(b)は(a)に示す工程のE−E方向に見た縦断面図である。FIG. 7B is a diagram for explaining other steps of the method for manufacturing the electrochromic device of the second embodiment. (A) is a top view explaining another process, (b) is the longitudinal cross-sectional view seen in the EE direction of the process shown to (a). 図7Cは、前記実施形態2のエレクトロクロミック素子の製造方法のさらにその他の工程を説明する図である。(a)はさらにその他の工程を説明する平面図、(b)は(a)に示す工程のF−F方向に見た縦断面図である。FIG. 7C is a diagram illustrating still another process of the method for manufacturing an electrochromic element according to Embodiment 2. (A) is a top view explaining another process further, (b) is the longitudinal cross-sectional view seen in the FF direction of the process shown to (a). 図7Dは、前記実施形態2のエレクトロクロミック素子の製造方法のさらにその他の工程を説明する図である。(a)はさらにその他の工程を説明する平面図、(b)は(a)に示す工程のG−G方向に見た縦断面図である。FIG. 7D is a diagram illustrating still another process of the method for manufacturing an electrochromic device according to the second embodiment. (A) is a top view explaining another process further, (b) is the longitudinal cross-sectional view seen in the GG direction of the process shown to (a). 図7Eは、前記実施形態2のエレクトロクロミック素子の製造方法のさらにその他の工程を説明する図である。(a)はさらにその他の工程を説明する平面図、(b)は(a)に示す工程のH−H方向に見た縦断面図である。FIG. 7E is a diagram illustrating still another process of the method for manufacturing an electrochromic element according to Embodiment 2. (A) is a top view explaining another process further, (b) is the longitudinal cross-sectional view seen in the HH direction of the process shown to (a). 図7Fは、前記実施形態2のエレクトロクロミック素子の製造方法のさらにその他の工程を説明する図である。(a)はさらにその他の工程を説明する平面図、(b)は(a)に示す工程のI−I方向に見た縦断面図である。FIG. 7F is a diagram illustrating still another process of the method for manufacturing an electrochromic device according to the second embodiment. (A) is a top view explaining another process further, (b) is the longitudinal cross-sectional view seen in the II direction of the process shown to (a). 図7Gは、前記実施形態2のエレクトロクロミック素子の製造方法のさらにその他の工程を説明する図である。(a)はさらにその他の工程を説明する平面図、(b)は(a)に示す工程のJ−J方向に見た縦断面図である。FIG. 7G is a diagram illustrating still another process of the method for manufacturing an electrochromic device according to the second embodiment. (A) is a top view explaining another process further, (b) is the longitudinal cross-sectional view seen in the JJ direction of the process shown to (a). 図7Hは、前記実施形態2のエレクトロクロミック素子の製造方法のさらにその他の工程を説明する図である。(a)はさらにその他の工程を説明する平面図、(b)は(a)に示す工程のK−K方向に見た縦断面図である。FIG. 7H is a diagram illustrating still another process of the method for manufacturing an electrochromic element according to the second embodiment. (A) is a top view explaining another process further, (b) is the longitudinal cross-sectional view seen in the KK direction of the process shown to (a). 図8は、本発明に関連するエレクトロクロミック素子の構成を示す縦断面図である。FIG. 8 is a longitudinal sectional view showing a configuration of an electrochromic element related to the present invention.

本発明において、前記「の上に」は、特に断らない限り、上面に直接接触している状態に限定されず、間に他の構成要素等が存在し、直接接触していない状態も含む。また、本発明において、前記「第1の電極の上」は、前記第1の電極の、エレクトロクロミック素子における表示面側上である。前記「エレクトロクロミック組成物層の上」は、前記エレクトロクロミック組成物層の、エレクトロクロミック素子における表示面側上である。   In the present invention, the term “on top” is not limited to a state in which the top surface is in direct contact unless otherwise specified, and includes a state in which other components or the like are present and not in direct contact with each other. In the present invention, “on the first electrode” is on the display surface side of the first electrode in the electrochromic device. The “on the electrochromic composition layer” is the display surface side of the electrochromic composition layer in the electrochromic device.

本発明において、前記「側面に」は、特に断らない限り、側面に直接接触している状態に限定されず、間に他の構成要素等が存在し、直接接触していない状態も含む。   In the present invention, the “on the side surface” is not limited to a state in which the side surface is in direct contact unless otherwise specified, and includes a state in which other components are present and not in direct contact with each other.

本発明において、「積層」は、特に断らない限り、層と層とが直接接して積層されている状態に限定されず、層と層との間に、他の構成要素等が存在し、直接接していない状態で積層されている場合も含む。   In the present invention, “lamination” is not limited to a state in which layers are laminated in direct contact with each other unless otherwise specified, and other components exist between the layers, This includes the case where they are stacked in a non-contact state.

つぎに、本発明の実施形態について図面を参照して詳細に説明する。ただし、本発明は、以下の説明により限定されない。なお、以下の図1〜図7において、同一部分には、同一符号を付している。また、図面においては、説明の便宜上、各部の構造は適宜簡略化して示す場合があり、各部の寸法比等は、実際とは異なる場合がある。   Next, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. However, the present invention is not limited by the following description. In addition, in the following FIGS. 1-7, the same code | symbol is attached | subjected to the same part. In the drawings, for convenience of explanation, the structure of each part may be simplified as appropriate, and the dimensional ratio of each part may be different from the actual one.

[実施形態1]
図1および図2に、本実施形態のエレクトロクロミック素子の構成を示す。図1は、本実施形態のエレクトロクロミック素子の構成を示す縦断面図である。図2は、図1に示すエレクトロクロミック素子のA−A方向に見た横断面図である。
[Embodiment 1]
1 and 2 show the configuration of the electrochromic device of this embodiment. FIG. 1 is a longitudinal sectional view showing the configuration of the electrochromic element of the present embodiment. FIG. 2 is a cross-sectional view of the electrochromic element shown in FIG.

(1)全体構成
図1および図2に示すように、本実施形態のエレクトロクロミック素子10は、第1の電極13と、第2の電極14と、エレクトロクロミック組成物層15と、電解質層16とを主要な構成要素として含む。第1の電極13の上には、エレクトロクロミック組成物層15が積層されており、エレクトロクロミック組成物層15の上には、電解質層16が積層されている。第2の電極14は、電解質層16の側面の全部を囲むように形成されている。図1において、本実施形態のエレクトロクロミック素子10の表示面側は、電解質層16側である。
(1) Overall Configuration As shown in FIGS. 1 and 2, the electrochromic element 10 of this embodiment includes a first electrode 13, a second electrode 14, an electrochromic composition layer 15, and an electrolyte layer 16. And as a major component. An electrochromic composition layer 15 is laminated on the first electrode 13, and an electrolyte layer 16 is laminated on the electrochromic composition layer 15. The second electrode 14 is formed so as to surround the entire side surface of the electrolyte layer 16. In FIG. 1, the display surface side of the electrochromic element 10 of the present embodiment is the electrolyte layer 16 side.

(2)エレクトロクロミック組成物層
エレクトロクロミック組成物層15は、電気化学的な酸化または還元により変色する性質を有する着色材料(エレクトロクロミック材料)を含んでいる。前記エレクトロクロミック材料は、従来公知のものが使用でき、例えば、無機系材料、有機系材料等があげられる。前記無機系材料は、例えば、導電性高分子、遷移金属酸化物、遷移金属錯体、遷移金属塩等があげられる。前記遷移金属酸化物は、例えば、WO3型の材料等があげられる。前記遷移金属錯体は、例えば、プルシアンブルー型の材料等があげられる。前記エレクトロクロミック材料の色が複数であれば、例えば、エレクトロクロミック素子毎に、エレクトロクロミック材料を塗り分けることでカラー表示も可能となる。
(2) Electrochromic composition layer The electrochromic composition layer 15 includes a coloring material (electrochromic material) having the property of being discolored by electrochemical oxidation or reduction. As the electrochromic material, conventionally known materials can be used, and examples thereof include inorganic materials and organic materials. Examples of the inorganic material include a conductive polymer, a transition metal oxide, a transition metal complex, and a transition metal salt. Examples of the transition metal oxide include a WO3 type material. Examples of the transition metal complex include Prussian blue type materials. If there are a plurality of colors of the electrochromic material, for example, color display is possible by separately coating the electrochromic material for each electrochromic element.

(3)電解質層
電解質層16は、電解質を含み、エレクトロクロミック組成物層15に電解質を供給する層である。前記電解質は、特に制限されず、前記エレクトロクロミック材料の選択に応じて、適宜選択できる。前記電解質は、例えば、リチウム塩、カリウム塩、ナトリウム塩等があげられる。電解質層16の形態は、特に制限されず、例えば、固体でも、液体でも、ゲル体でもよい。
(3) Electrolyte Layer The electrolyte layer 16 is a layer that contains an electrolyte and supplies the electrolyte to the electrochromic composition layer 15. The electrolyte is not particularly limited and can be appropriately selected according to the selection of the electrochromic material. Examples of the electrolyte include lithium salt, potassium salt, sodium salt and the like. The form of the electrolyte layer 16 is not particularly limited, and may be, for example, a solid, a liquid, or a gel body.

(4)第1の電極
第1の電極13は、前記表示面側とは反対側に配置された電極である。第1の電極13は、例えば、製造工程または電気特性の要求に応じて、適宜選択できる。第1の電極13の形成材料は、特に制限されず、従来公知の材料を使用できる。
(4) 1st electrode The 1st electrode 13 is an electrode arrange | positioned on the opposite side to the said display surface side. The 1st electrode 13 can be suitably selected according to the request | requirement of a manufacturing process or an electrical property, for example. The material for forming the first electrode 13 is not particularly limited, and a conventionally known material can be used.

(5)第2の電極
第2の電極14は、前述のように、電解質層16の側面の全部を囲むように形成された電極である。第2の電極14の形成材料は、特に制限されず、電気配線として使用できる材料であればよい。第2の電極14は、例えば、スパッタもしくは蒸着による金属箔膜、メッキによる金属膜とすることができる。また、第2の電極14は、例えば、樹脂と導電性フィラーを含む導電性ペーストを使用し、印刷により形成してもよい。前記導電性ペーストにおいて、前記樹脂は、特に制限されず、例えば、エポキシ、フェノール、アクリル、ポリエステル、ポリウレタン、シリコーン等があげられる。前記導電性フィラーは、特に制限されず、例えば、銀、金、銅、ニッケル、パラジウム、白金の担体、または、これらの合金があげられ、好ましくは銅、銅合金、ニッケル、ニッケル合金等を銀で被覆したものである。前記導電性フィラーは、一種類を単独で使用してもよいし、複数種類を併用してもよい。前記導電性フィラーのフィラー形状は、特に制限されず、例えば、粒子状、球状、燐片状、針状、またはこれらの組み合わせが好ましい。粒子状の導電性フィラーは、導電性粒子ということができる。前記導電性粒子は、例えば、金属粒子があげられる。金属粒子の粒子径は、例えば、前記粒子径が大きすぎると印刷性が低下するため、例えば、5μm以下が好ましい。前記金属粒子において、その粒度分布のピークは、1つである必要は無く、例えば、前記金属粒子は、ミクロンオーダの金属粒子と、100nm以下の金属微粒子とを、ともに含有してもよい。ナノサイズの金属は低温で融着する性質があり、例えば、この融着により導電性粒子間の接触を金属結合とすることで低抵抗化を実現できる。前記導電性粒子は、前記金属粒子の他に、例えば、電性カーボン粒子、カーボンファイバー、カーボンナノチューブ等があげられる。
(5) Second Electrode The second electrode 14 is an electrode formed so as to surround the entire side surface of the electrolyte layer 16 as described above. The material for forming the second electrode 14 is not particularly limited as long as it can be used as an electrical wiring. The second electrode 14 can be, for example, a metal foil film by sputtering or vapor deposition, or a metal film by plating. The second electrode 14 may be formed by printing using, for example, a conductive paste containing a resin and a conductive filler. In the conductive paste, the resin is not particularly limited, and examples thereof include epoxy, phenol, acrylic, polyester, polyurethane, and silicone. The conductive filler is not particularly limited, and examples thereof include silver, gold, copper, nickel, palladium, platinum carriers, and alloys thereof, preferably copper, copper alloy, nickel, nickel alloy and the like are silver. It is coated with. The said conductive filler may be used individually by 1 type, and may use multiple types together. The filler shape of the conductive filler is not particularly limited, and for example, a particulate shape, a spherical shape, a flake shape, a needle shape, or a combination thereof is preferable. The particulate conductive filler can be referred to as conductive particles. Examples of the conductive particles include metal particles. The particle diameter of the metal particles is preferably, for example, 5 μm or less because, for example, if the particle diameter is too large, the printability deteriorates. The metal particles do not have to have a single particle size distribution peak. For example, the metal particles may contain both micron-order metal particles and metal fine particles of 100 nm or less. A nano-sized metal has a property of being fused at a low temperature. For example, the resistance can be reduced by making the contact between conductive particles a metal bond by this fusion. Examples of the conductive particles include conductive carbon particles, carbon fibers, and carbon nanotubes in addition to the metal particles.

(6)エレクトロクロミック素子の作動
本実施形態のエレクトロクロミック素子10は、例えば、以下のように作動する。すなわち、まず、第2の電極14および第1の電極13を電源装置(図示せず)に接続する。つぎに、第2の電極14が第1の電極13に対して正の電位となるように、第2の電極14および第1の電極13の間に電圧を印加する。前記電圧印加により、エレクトロクロミック組成物層15に含まれる前記エレクトロクロミック材料に電場が注入され着色する。この状態で、第2の電極14が第1の電極13に対して負の電位となるように、第2の電極14および第1の電極13の間に電圧を印加する。前記印加により、前記エレクトロクロミック材料から電場が抜け、例えば、消色状態(無色透明)となる。
(6) Operation | movement of an electrochromic element The electrochromic element 10 of this embodiment operate | moves as follows, for example. That is, first, the second electrode 14 and the first electrode 13 are connected to a power supply device (not shown). Next, a voltage is applied between the second electrode 14 and the first electrode 13 so that the second electrode 14 has a positive potential with respect to the first electrode 13. By applying the voltage, an electric field is injected into the electrochromic material included in the electrochromic composition layer 15 to be colored. In this state, a voltage is applied between the second electrode 14 and the first electrode 13 so that the second electrode 14 has a negative potential with respect to the first electrode 13. By the application, an electric field is released from the electrochromic material, for example, a decolored state (colorless and transparent) is obtained.

本実施形態のエレクトロクロミック素子10では、前述のように、第1の電極13は、前記表示面側とは反対側に配置され、そして、第2の電極14は、電解質層16の側面に形成されている。したがって、前記表示面には、透明電極等の光の透過を妨げる構成が存在しない。このため、本実施形態のエレクトロクロミック素子10は、コントラストが高い。また、前記表示面側にITO等の高価な透明電極を使用しないため、例えば、エレクトロクロミック素子を低コストで製造できる。また、透明導電膜を使用するタッチパネル等の入力デバイスを、本実施形態のエレクトロクロミック素子10の表示面上に配置したとしても、例えば、コントラストの低下を抑制できる。   In the electrochromic element 10 of the present embodiment, as described above, the first electrode 13 is disposed on the side opposite to the display surface side, and the second electrode 14 is formed on the side surface of the electrolyte layer 16. Has been. Therefore, the display surface does not have a configuration that prevents light transmission, such as a transparent electrode. For this reason, the electrochromic element 10 of this embodiment has high contrast. Further, since an expensive transparent electrode such as ITO is not used on the display surface side, for example, an electrochromic element can be manufactured at low cost. Moreover, even if an input device such as a touch panel using a transparent conductive film is arranged on the display surface of the electrochromic element 10 of the present embodiment, for example, a decrease in contrast can be suppressed.

また、本実施形態のエレクトロクロミック素子10では、前述のように、第2の電極14を、電解質層16の側面に形成している。このため、例えば、特開2006−030829号公報および特開2006−323191号公報に記載のエレクトロクロミック素子(横電界型)のように、第2の電極の配置のためのスペースを必要としない。したがって、本実施形態のエレクトロクロミック素子10は、例えば、小型化が可能である。この結果、本実施形態のエレクトロクロミック素子10は、例えば、表示装置における表示の高精細化にも対応できる。   In the electrochromic element 10 of the present embodiment, the second electrode 14 is formed on the side surface of the electrolyte layer 16 as described above. For this reason, for example, unlike the electrochromic element (lateral electric field type) described in JP-A-2006-030829 and JP-A-2006-323191, a space for arranging the second electrode is not required. Therefore, the electrochromic element 10 of this embodiment can be reduced in size, for example. As a result, the electrochromic element 10 of the present embodiment can cope with, for example, higher definition of display in a display device.

(7)その他の形態
本実施形態のエレクトロクロミック素子10では、前述のように、第2の電極14は、電解質層16の側面の全部を囲むように形成されている。このような形態であれば、第2の電極14の面積を大きくできるため好ましいが、本発明は、これには限定されない。例えば、図3(a)および図3(b)の横断面図に示すように、第2の電極14は、電解質層16の側面の一部のみに形成されてもよい。また、第1の電極13と第2の電極14との間で、電解質層16およびエレクトロクロミック組成物層15に電圧を印加可能であれば、例えば、図4(a)の縦断面図に示すように、電解質層16の側面に加えて、エレクトロクロミック組成物層15の側面に形成されてもよいし、図4(b)の縦断面図に示すように、電解質層16の側面に加えて、エレクトロクロミック組成物層15の上面に形成されていてもよい。これらの形態でも、コントラストが高いという、本発明の効果が得られる。
(7) Other Forms In the electrochromic element 10 of the present embodiment, the second electrode 14 is formed so as to surround the entire side surface of the electrolyte layer 16 as described above. Such a configuration is preferable because the area of the second electrode 14 can be increased, but the present invention is not limited to this. For example, as shown in the cross-sectional views of FIGS. 3A and 3B, the second electrode 14 may be formed only on a part of the side surface of the electrolyte layer 16. Moreover, if a voltage can be applied to the electrolyte layer 16 and the electrochromic composition layer 15 between the first electrode 13 and the second electrode 14, for example, a longitudinal sectional view of FIG. Thus, in addition to the side surface of the electrolyte layer 16, it may be formed on the side surface of the electrochromic composition layer 15, or in addition to the side surface of the electrolyte layer 16 as shown in the longitudinal sectional view of FIG. The electrochromic composition layer 15 may be formed on the upper surface. Even in these forms, the effect of the present invention that the contrast is high can be obtained.

[実施形態2]
本実施形態のエレクトロクロミック素子は、反射型不揮発性表示素子の一例である。図5Aおよび図5Bに、本実施形態のエレクトロクロミック素子の構成を示す。図5Aは、本実施形態のエレクトロクロミック素子の一部の構成を示す平面図である。図5Bは、図5Aに示すエレクトロクロミック素子のB−B方向に見た縦断面図である。
[Embodiment 2]
The electrochromic element of this embodiment is an example of a reflective nonvolatile display element. 5A and 5B show the configuration of the electrochromic device of this embodiment. FIG. 5A is a plan view showing a configuration of a part of the electrochromic element of the present embodiment. FIG. 5B is a longitudinal sectional view of the electrochromic element shown in FIG. 5A viewed in the BB direction.

(1)全体構成
図5Aおよび図5Bに示すように、本実施形態のエレクトロクロミック素子は、導電性、または、表面に導電層(第1の電極)を設けたベース基材23上に、白色層27およびエレクトロクロミック組成物層25が、前記順序で積層されている。ベース基材23と、ベース基材23と対向するように配置された透明絶縁基材22との間に、電解質層26が挟み込まれている。そして、絶縁性隔壁28(第1の絶縁層)により、各画素21が形成されている。なお、図5Aでは、説明の便宜上、透明絶縁基材22を二点鎖線で示している(以下、図6Aおよび図7Hにおいて同様。)。第1の絶縁層28の内部には、X座標配線31およびY座標配線30が形成されている。X座標配線31とY座標配線30との交差部分は、第2の絶縁層29により絶縁されている。第1の絶縁層28の側面には、セル電極(第2の電極)24が形成されている。このセル電極24のON・OFFを制御するスイッチとして、第1の絶縁層28上に、TFT32が形成されている。
(1) Overall Configuration As shown in FIGS. 5A and 5B, the electrochromic device of this embodiment is conductive or white on a base substrate 23 provided with a conductive layer (first electrode) on the surface. The layer 27 and the electrochromic composition layer 25 are laminated in the above order. An electrolyte layer 26 is sandwiched between the base substrate 23 and the transparent insulating substrate 22 disposed so as to face the base substrate 23. Each pixel 21 is formed by the insulating partition wall 28 (first insulating layer). In FIG. 5A, for the convenience of explanation, the transparent insulating base material 22 is indicated by a two-dot chain line (hereinafter, the same applies to FIGS. 6A and 7H). An X coordinate wiring 31 and a Y coordinate wiring 30 are formed inside the first insulating layer 28. The intersection of the X coordinate wiring 31 and the Y coordinate wiring 30 is insulated by the second insulating layer 29. A cell electrode (second electrode) 24 is formed on the side surface of the first insulating layer 28. A TFT 32 is formed on the first insulating layer 28 as a switch for controlling ON / OFF of the cell electrode 24.

本実施形態のエレクトロクロミック素子における、導電層(第1の電極)23、セル電極(第2の電極)24、エレクトロクロミック組成物層25および電解質層26は、例えば、前記実施形態1で示した各構成部材と同様のものが使用できる。   In the electrochromic device of this embodiment, the conductive layer (first electrode) 23, the cell electrode (second electrode) 24, the electrochromic composition layer 25, and the electrolyte layer 26 are, for example, shown in the first embodiment. The same thing as each structural member can be used.

(2)ベース基材
ベース基材23の形成材料は、特に制限されず、例えば、絶縁基材上に導電体が形成された構成の場合には、前記絶縁基材として、例えば、ガラスエポキシ、紙フェノール等の基板材料、ポリイミド、PET、PEN等の樹脂フィルム、ガラス、紙等を選択できる。前記絶縁基板の表面に形成する導電層(第1の電極)、白色層27、エレクトロクロミック組成物層25を形成する際に、熱硬化性の材料を使用する場合には、例えば、これら材料のキュア(硬化)条件に対する耐熱性を有する材料を選定する。
(2) Base substrate The material for forming the base substrate 23 is not particularly limited. For example, in the case of a configuration in which a conductor is formed on an insulating substrate, the insulating substrate may be, for example, glass epoxy, Substrate materials such as paper phenol, resin films such as polyimide, PET, and PEN, glass, paper, and the like can be selected. When using a thermosetting material when forming the conductive layer (first electrode), the white layer 27, and the electrochromic composition layer 25 formed on the surface of the insulating substrate, for example, Select a material that has heat resistance to cure (curing) conditions.

(3)白色層
白色層27は、エレクトロクロミック組成物層25が消色状態の時に反射層として機能する。白色層27の形成材料は、例えば、反射層として機能させるために白色であり、ベース基材23の導電体、セル電極24、X座標配線31およびY座標配線30を絶縁する材料である。一方で、エレクトロクロミック組成物層25および白色層27の厚みが厚いと、絶縁性が高くなりすぎ、セル電極24からベース基材23の導電体まで電流が流れなくなる。このため、白色層27は、薄く形成するか、または、例えば、酸化チタンのナノ粒子を焼成させた多孔質な層とすることが好ましい。白色層27を、前述のような構造とすることで、セル電極24内部の電解質層26が多孔質に入り、セル電極24とベース基材23の導電体との間で電流を流すことができる。なお、この場合、この孔部の一部または全部にエレクトロクロミック組成物層25に含まれるエレクトロクロミック材料を入れてもよい。このようにすることで、例えば、エレクトロクロミック組成物層25と白色層27との密着性を向上できる。また、エレクトロクロミック組成物層25の表面積が大きくなり、電場の注入が早くできるため、例えば、結果として着消色(着色および/または消色)の速さを向上できる。
(3) White layer The white layer 27 functions as a reflective layer when the electrochromic composition layer 25 is in a decolored state. The material for forming the white layer 27 is, for example, white so as to function as a reflective layer, and is a material that insulates the conductor of the base substrate 23, the cell electrode 24, the X coordinate wiring 31, and the Y coordinate wiring 30. On the other hand, if the thickness of the electrochromic composition layer 25 and the white layer 27 is thick, the insulating property becomes too high, and no current flows from the cell electrode 24 to the conductor of the base substrate 23. For this reason, the white layer 27 is preferably formed thin or a porous layer obtained by firing, for example, titanium oxide nanoparticles. Since the white layer 27 has the above-described structure, the electrolyte layer 26 inside the cell electrode 24 enters a porous state, and a current can flow between the cell electrode 24 and the conductor of the base substrate 23. . In this case, an electrochromic material contained in the electrochromic composition layer 25 may be put in part or all of the hole. By doing in this way, the adhesiveness of the electrochromic composition layer 25 and the white layer 27 can be improved, for example. In addition, since the surface area of the electrochromic composition layer 25 is increased and the electric field can be injected quickly, for example, the speed of decoloring (coloring and / or decoloring) can be improved as a result.

(4)第1の絶縁層
第1の絶縁層28は、セル電極24と、X座標配線31およびY座標配線30の間を絶縁できればよく、その形成材料は、例えば、エポキシ、アクリル、フェノール、シリコーン、ポリエステル、ポリウレタン、ポリイミド、ポリアミド等があげられる。前記形成材料は、一種類を単独で使用してもよいし、二種類以上を併用してもよい。ペースト化した樹脂を印刷塗布する場合には、例えば、前記樹脂中にシリカ、アルミナ等の絶縁性微粒子を含有させることが好ましい。このような微粒子を用いて粘度を適正に調整することで、例えば、印刷時のペーストのダレを抑制できる。前記印刷では、セルの開口面積を大きく取るため、絶縁可能な範囲で、できる限り薄くペーストを塗布することが好ましい。
(4) 1st insulating layer The 1st insulating layer 28 should just insulate between the cell electrode 24 and the X coordinate wiring 31 and the Y coordinate wiring 30, and the formation material is an epoxy, an acryl, a phenol, for example, Examples thereof include silicone, polyester, polyurethane, polyimide, polyamide and the like. The said forming material may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together. When the pasted resin is printed and applied, for example, it is preferable to contain insulating fine particles such as silica and alumina in the resin. By appropriately adjusting the viscosity using such fine particles, for example, sagging of the paste during printing can be suppressed. In the printing, in order to increase the opening area of the cell, it is preferable to apply the paste as thinly as possible within an insulating range.

(5)第2の絶縁層
第2の絶縁層29は、X座標配線31およびY座標配線30を絶縁する。第2の絶縁層29の形成材料は、特に制限されず、例えば、第1の絶縁層28の形成材料と同様のものが使用できる。第2の絶縁層29の形成方法は、特に制限されず、例えば、第1の絶縁層28の形成方法と同様の方法が使用できる。
(5) Second Insulating Layer The second insulating layer 29 insulates the X coordinate wiring 31 and the Y coordinate wiring 30. The material for forming the second insulating layer 29 is not particularly limited, and for example, the same material as the material for forming the first insulating layer 28 can be used. The method for forming the second insulating layer 29 is not particularly limited, and for example, a method similar to the method for forming the first insulating layer 28 can be used.

(6)透明絶縁基材
透明絶縁基材22は、例えば、透明なポリイミド、PET、PEN等の樹脂フィルム、または、ガラス等を使用できる。透明絶縁基材22として、熱硬化性の材料を使用する場合には、例えば、これらの材料のキュア(硬化)条件に対する耐熱性を有する材料を選定する。
(6) Transparent insulating base material The transparent insulating base material 22 can use resin films, such as transparent polyimide, PET, PEN, or glass, for example. When thermosetting materials are used as the transparent insulating base material 22, for example, materials having heat resistance to the curing (curing) conditions of these materials are selected.

(7)X座標配線
X座標配線31の形成材料は、特に制限されず、例えば、前述の第2の電極の形成材料と同様のものを使用できる。また、X座標配線31の形成方法も、特に制限されず、例えば、前述の第2の電極の形成方法と同様の方法を使用できる。
(7) X-coordinate wiring The material for forming the X-coordinate wiring 31 is not particularly limited, and for example, the same material as that for forming the second electrode described above can be used. Also, the method for forming the X coordinate wiring 31 is not particularly limited, and for example, a method similar to the method for forming the second electrode described above can be used.

(8)Y座標配線
Y座標配線30の形成材料は、特に制限されず、例えば、前述の第2の電極の形成材料と同様のものを使用できる。また、Y座標配線30の形成方法も、特に制限されず、例えば、前述の第2の電極の形成方法と同様の方法を使用できる。
(8) Y Coordinate Wiring The material for forming the Y coordinate wiring 30 is not particularly limited, and for example, the same material as that for the second electrode described above can be used. Also, the method for forming the Y coordinate wiring 30 is not particularly limited, and for example, a method similar to the method for forming the second electrode described above can be used.

(9)TFT(薄膜トランジスタ)
TFT32の形成方法は、特に限定されず、例えば、シリコン、金属酸化物、有機半導体等をスパッタを使用して製膜する方法、または、有機半導体、半導体の性質を有するカーボンナノチューブ(CNT)を分散させたインクを印刷塗布する方法等を使用できる。エレクトロクロミック素子では、注入した電場量により着色速さが決まる。このため、比較的大きな電流が流せるTFTが好ましい。したがって、TFT32を印刷法で形成する場合には、前記有機半導体より電流を多く流せるTFTを形成可能なCNTインクを使用してTFT32を形成するのが好ましい。なお、第1の絶縁層28上に、TFT32を形成するには、第1の絶縁層28のX座標と平行な辺、もしくはY座標と平行な辺の一方は、あらかじめTFT32の大きさ分だけ厚くしておくことが好ましい。
(9) TFT (Thin Film Transistor)
The method of forming the TFT 32 is not particularly limited. For example, a method of forming silicon, a metal oxide, an organic semiconductor, or the like using sputtering, or a carbon nanotube (CNT) having properties of an organic semiconductor or a semiconductor is dispersed. For example, a method of applying the applied ink by printing can be used. In an electrochromic device, the coloring speed is determined by the amount of injected electric field. For this reason, a TFT capable of flowing a relatively large current is preferable. Therefore, when the TFT 32 is formed by a printing method, it is preferable to form the TFT 32 using a CNT ink capable of forming a TFT that can flow more current than the organic semiconductor. In order to form the TFT 32 on the first insulating layer 28, one of the side parallel to the X coordinate or the side parallel to the Y coordinate of the first insulating layer 28 is equal to the size of the TFT 32 in advance. It is preferable to keep it thick.

(10)製造方法
つぎに、図7A〜7Hを参照して、本実施形態のエレクトロクロミック素子の製造方法を説明する。ただし、以下で説明する製造方法は一例であり、本発明はこの例により、なんら制限されない。また、図7A〜図7Hにおいて、(a)は、各工程を説明する平面図であり、(b)は、(a)中で示される断面線の方向に見た縦断面図である。
(10) Manufacturing Method Next, with reference to FIGS. 7A to 7H, a manufacturing method of the electrochromic device of the present embodiment will be described. However, the manufacturing method described below is an example, and the present invention is not limited by this example. 7A to 7H, (a) is a plan view for explaining each process, and (b) is a longitudinal sectional view as viewed in the direction of the sectional line shown in (a).

まず、図7Aに示すように、透明絶縁基材22上に、X座標配線31およびY座標配線30を、格子状に一括形成する。透明絶縁基材22は、例えば、ポリイミド、PET、PEN等の樹脂フィルム、または、ガラス等を使用できる。透明絶縁基材22として、熱硬化性の材料を使用する場合には、例えば、これらの材料のキュア(硬化)条件に対する耐熱性を有する材料を選定する。X座標配線31およびY座標配線30の交点は、絶縁しておく必要があるため、図7Aでは、X座標配線31のY座標配線30との交点部分を断線させている。前述の導電性樹脂を使用して印刷で、前記両配線を形成する場合には、その印刷工法は、特に制限されず、例えば、孔版を使用したスクリーン印刷が、厚膜可能で比較的微細印刷が可能なため好ましい。前記印刷工法には、例えば、スクリーン印刷の他に、凸版印刷、凹版印刷、これらのオフセット印刷、インクジェット法等を使用できる。   First, as shown in FIG. 7A, the X coordinate wiring 31 and the Y coordinate wiring 30 are collectively formed in a lattice pattern on the transparent insulating substrate 22. As the transparent insulating base material 22, for example, a resin film such as polyimide, PET, PEN, or glass can be used. When thermosetting materials are used as the transparent insulating base material 22, for example, materials having heat resistance to the curing (curing) conditions of these materials are selected. Since the intersection of the X coordinate wiring 31 and the Y coordinate wiring 30 needs to be insulated, in FIG. 7A, the intersection of the X coordinate wiring 31 and the Y coordinate wiring 30 is disconnected. When both the wirings are formed by printing using the above-described conductive resin, the printing method is not particularly limited. For example, screen printing using a stencil is capable of thick film and relatively fine printing. Is preferable because it is possible. For the printing method, for example, in addition to screen printing, letterpress printing, intaglio printing, their offset printing, inkjet method, and the like can be used.

つぎに、図7Bに示すように、第1の絶縁層28を、X座標配線31およびY座標配線30の表面を覆うように形成する。第1の絶縁層28の形成方法は、特に制限されず、例えば、感光性樹脂を使用したフォトリソ法、絶縁性ペーストを使用した印刷工法等があげられる。前記印刷工法を使用する場合、前記印刷工法は、特に制限されず、例えば、前述と同様の印刷方法が使用できる。第1の絶縁層28は、セル電極24と、X座標配線31およびY座標配線30との間を絶縁できればよく、その形成材料は、例えば、エポキシ、アクリル、フェノール、シリコーン、ポリエステル、ポリウレタン、ポリイミド、ポリアミド等があげられる。前記形成材料は、一種類を単独で使用してもよいし、二種類以上を併用してもよい。ペースト化した樹脂を印刷塗布する場合には、例えば、前記樹脂中にシリカ、アルミナ等の絶縁性微粒子を含有させることが好ましい。このような微粒子を用いて粘度を適正に調整することで、例えば、印刷時のペーストのダレを抑制できる。前記印刷では、セルの開口面積を大きく取るため、絶縁可能な範囲で、できる限り薄くペーストを塗布することが好ましい。   Next, as shown in FIG. 7B, the first insulating layer 28 is formed so as to cover the surfaces of the X coordinate wiring 31 and the Y coordinate wiring 30. The method for forming the first insulating layer 28 is not particularly limited, and examples thereof include a photolithography method using a photosensitive resin and a printing method using an insulating paste. When the printing method is used, the printing method is not particularly limited, and for example, the same printing method as described above can be used. The first insulating layer 28 only needs to be able to insulate between the cell electrode 24 and the X coordinate wiring 31 and the Y coordinate wiring 30, and the formation material thereof is, for example, epoxy, acrylic, phenol, silicone, polyester, polyurethane, polyimide And polyamide. The said forming material may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together. When the pasted resin is printed and applied, for example, it is preferable to contain insulating fine particles such as silica and alumina in the resin. By appropriately adjusting the viscosity using such fine particles, for example, sagging of the paste during printing can be suppressed. In the printing, in order to increase the opening area of the cell, it is preferable to apply the paste as thinly as possible within an insulating range.

続いて、図7Cに示すように、第1の絶縁層28の表面をさらに覆うように、セル電極24となる導電部材を形成する。前記導電部材の形成方法は、特に限定されず、例えば、電気配線として使用できるものであればよく、例えば、スパッタもしくは蒸着による金属箔膜、メッキによる金属膜とすることができる。また、前記導電部材は、例えば、樹脂と導電性フィラーを含む導電性ペーストを使用し、印刷法により形成してもよい。前記導電性ペーストは、前述のとおりである。前記印刷法は、特に制限されず、セルの開口面積を大きく取るため、所望の電流が流せる範囲で、塗布厚を薄くするのが好ましい。   Subsequently, as shown in FIG. 7C, a conductive member to be the cell electrode 24 is formed so as to further cover the surface of the first insulating layer 28. The method for forming the conductive member is not particularly limited, and any conductive material may be used, for example, as long as it can be used as electrical wiring. For example, a metal foil film by sputtering or vapor deposition or a metal film by plating can be used. The conductive member may be formed by a printing method using, for example, a conductive paste containing a resin and a conductive filler. The conductive paste is as described above. The printing method is not particularly limited, and it is preferable to reduce the coating thickness within a range in which a desired current can flow in order to increase the cell opening area.

続いて、図7Dに示すように、透明絶縁基材22上の、X座標配線31、Y座標配線30、第1の絶縁層28およびセル電極24が積層された(印刷された)箇所の先端部を除去し、X座標配線31、Y座標配線30、第1の絶縁層28およびセル電極24の各表面を露出させる。これにより、セル電極24は、第1の絶縁層28により個々に独立される。前記印刷箇所の除去方法は、特に限定されず、例えば、研磨または研削等の機械加工、レーザ、化学機械研磨(CMP)等を使用できる。   Subsequently, as shown in FIG. 7D, the tip of the portion on which the X coordinate wiring 31, the Y coordinate wiring 30, the first insulating layer 28, and the cell electrode 24 are laminated (printed) on the transparent insulating substrate 22. The surface of the X coordinate wiring 31, the Y coordinate wiring 30, the first insulating layer 28, and the cell electrode 24 is exposed. Thereby, the cell electrodes 24 are individually separated by the first insulating layer 28. The method for removing the printed portion is not particularly limited, and for example, machining such as polishing or grinding, laser, chemical mechanical polishing (CMP), or the like can be used.

前述のようにして、露出させたX座標配線31、Y座標配線30の交点部分に、図7Eに示すように、第2の絶縁層29を形成する。続いて、図7Fに示すように、断線している各X座標配線31相互を接続するように配線を接続し、X座標配線31およびY座標配線30を完成させる。なお、この例では、X座標配線31を断線させるように配線を形成しているが、これには限定されず、例えば、Y座標配線30を断線させるようなパターンとしてもよい。第2の絶縁層29の形成方法は、特に限定されず、第1の絶縁層28と同様に、例えば、感光性樹脂を使用したフォトリソ法、絶縁性ペーストを使用した印刷工法等があげられる。   As described above, as shown in FIG. 7E, the second insulating layer 29 is formed at the intersection of the exposed X coordinate wiring 31 and Y coordinate wiring 30. Subsequently, as shown in FIG. 7F, wirings are connected so as to connect the disconnected X coordinate wirings 31 to complete the X coordinate wiring 31 and the Y coordinate wiring 30. In this example, the wiring is formed so that the X coordinate wiring 31 is disconnected. However, the present invention is not limited to this, and for example, a pattern that disconnects the Y coordinate wiring 30 may be used. The method for forming the second insulating layer 29 is not particularly limited, and as with the first insulating layer 28, for example, a photolithography method using a photosensitive resin, a printing method using an insulating paste, and the like can be given.

第2の絶縁樹脂29の形成後、X座標配線31およびY座標配線30がON状態となったときに、セル電極24へ電流を流すスイッチとして、図7Gに示すように、第1の絶縁層28上に、TFT32を形成する。TFT32の形成方法は、特に限定されず、例えば、シリコン、金属酸化物、有機半導体等をスパッタを使用して製膜する方法、または、有機半導体、半導体の性質を有するカーボンナノチューブ(CNT)を分散させたインクを印刷塗布する方法等を使用できる。エレクトロクロミック素子では、注入した電場量により着色速さが決まる。このため、比較的大きな電流が流せるTFTが好ましい。したがって、TFT32を印刷法で形成する場合には、前記有機半導体より電流を多く流せるTFTを形成可能なCNTインクを使用して、TFT32を形成するのが好ましい。なお、第1の絶縁層28上に、TFT32を形成には、第1の絶縁層28のX座標と平行な辺、もしくはY座標と平行な辺の一方は、あらかじめTFT32の大きさ分だけ厚くしておくことが好ましい。この例では、図7Gに示すように、X座標配線31と平行な辺の第1の絶縁層28が厚く形成されており、第1の絶縁層28上に、TFT32を形成している。   After the formation of the second insulating resin 29, as shown in FIG. 7G, the first insulating layer is used as a switch for passing a current to the cell electrode 24 when the X coordinate wiring 31 and the Y coordinate wiring 30 are turned on. A TFT 32 is formed on 28. The method of forming the TFT 32 is not particularly limited. For example, a method of forming silicon, a metal oxide, an organic semiconductor, or the like using sputtering, or a carbon nanotube (CNT) having properties of an organic semiconductor or a semiconductor is dispersed. For example, a method of applying the applied ink by printing can be used. In an electrochromic device, the coloring speed is determined by the amount of injected electric field. For this reason, a TFT capable of flowing a relatively large current is preferable. Therefore, when the TFT 32 is formed by a printing method, it is preferable to form the TFT 32 using a CNT ink capable of forming a TFT that can flow more current than the organic semiconductor. In order to form the TFT 32 on the first insulating layer 28, one of the side parallel to the X coordinate or the side parallel to the Y coordinate of the first insulating layer 28 is previously thickened by the size of the TFT 32. It is preferable to keep it. In this example, as shown in FIG. 7G, the first insulating layer 28 on the side parallel to the X coordinate wiring 31 is formed thick, and the TFT 32 is formed on the first insulating layer 28.

そして、図7Hに示すように、図7Gまでで作成した透明絶縁基材22を、電解質層26を挟むように、白色層27、エレクトロクロミック組成物層25を予め形成したベース基材23に貼り合わせる。このようにして、本実施形態のエレクトロクロミック素子を製造できる。ベース基材23の形成材料は、特に制限されず、例えば、絶縁基材上に導電体が形成された構成の場合には、前記絶縁基材として、例えば、ガラスエポキシ、紙フェノール等の基板材料、ポリイミド、PET、PEN等の樹脂フィルム、ガラス、紙等と選択できる。前記絶縁基板の表面に形成する導電層、白色層27、エレクトロクロミック組成物層25を形成する際に、熱硬化性の材料を使用する場合には、例えば、これら材料のキュア(硬化)条件に対する耐熱性を有する材料を選定する。エレクトロクロミック組成物層25は、電場の注入により着色されるエレクトロクロミック材料を含めばよく、有機系材料、無機系材料等を使用できる。前記無機系材料は、例えば、WO3型、プルシアンブルー型等があげられる。このエレクトロクロミック材料の色が複数あれば、セルごとに色の異なる着色材料を塗り分けることで、例えば、カラー表示も可能となる。白色層27の形成材料は、例えば、反射層として機能させるために白色であり、ベース基材23の導電体、セル電極24、X座標配線31およびY座標配線30を絶縁する材料である。一方で、エレクトロクロミック組成物層25および白色層27の厚みが厚いと、絶縁性が高くなりすぎ、セル電極24からベース基材23の導電体まで電流が流れなくなる。このため、白色層27は、薄く形成するか、または、例えば、酸化チタンのナノ粒子を焼成させた多孔質な層とすることが好ましい。白色層27を、前述のような構造とすることで、セル電極24内部の電解質層26が多孔質に入り、セル電極24とベース基材23の導電体との間で電流を流すことができる。なお、この場合、この孔部の一部または全部にエレクトロクロミック組成物層25に含まれるエレクトロクロミック材料を入れてもよい。このようにすることで、例えば、エレクトロクロミック組成物層25と白色層27との密着性を向上できる。また、エレクトロクロミック組成物層25の表面積が大きくなり、電場の注入が早くできるため、例えば、結果として着消色(着色および/または消色)の速さを向上できる。   Then, as shown in FIG. 7H, the transparent insulating base material 22 prepared up to FIG. 7G is pasted on the base base material 23 on which the white layer 27 and the electrochromic composition layer 25 are formed in advance so as to sandwich the electrolyte layer 26. Match. In this way, the electrochromic device of this embodiment can be manufactured. The material for forming the base substrate 23 is not particularly limited. For example, in the case where a conductor is formed on an insulating base material, the insulating base material may be a substrate material such as glass epoxy or paper phenol. , Polyimide, PET, PEN and other resin films, glass, paper and the like. In the case of using a thermosetting material when forming the conductive layer, the white layer 27, and the electrochromic composition layer 25 formed on the surface of the insulating substrate, for example, with respect to the curing (curing) conditions of these materials. Select a material with heat resistance. The electrochromic composition layer 25 may include an electrochromic material that is colored by injection of an electric field, and an organic material, an inorganic material, or the like can be used. Examples of the inorganic material include WO3 type and Prussian blue type. If there are a plurality of colors of the electrochromic material, for example, color display can be performed by coating different coloring materials for each cell. The material for forming the white layer 27 is, for example, white so as to function as a reflective layer, and is a material that insulates the conductor of the base substrate 23, the cell electrode 24, the X coordinate wiring 31, and the Y coordinate wiring 30. On the other hand, if the thickness of the electrochromic composition layer 25 and the white layer 27 is thick, the insulating property becomes too high, and no current flows from the cell electrode 24 to the conductor of the base substrate 23. For this reason, the white layer 27 is preferably formed thin or a porous layer obtained by firing, for example, titanium oxide nanoparticles. Since the white layer 27 has the above-described structure, the electrolyte layer 26 inside the cell electrode 24 enters a porous state, and a current can flow between the cell electrode 24 and the conductor of the base substrate 23. . In this case, an electrochromic material contained in the electrochromic composition layer 25 may be put in part or all of the hole. By doing in this way, the adhesiveness of the electrochromic composition layer 25 and the white layer 27 can be improved, for example. In addition, since the surface area of the electrochromic composition layer 25 is increased and the electric field can be injected quickly, for example, the speed of decoloring (coloring and / or decoloring) can be improved as a result.

本実施形態のエレクトロクロミック素子の製造方法によれば、例えば、従来困難であった高コントラスト、高反射な反射型不揮発性表示デバイス(エレクトロクロミック素子)を、より簡易に製造できる。ただし、本発明のエレクトロクロミック素子を製造する方法は、この例には限定されない。   According to the method for manufacturing an electrochromic element of this embodiment, for example, a high-contrast, high-reflection reflective nonvolatile display device (electrochromic element) that has been difficult in the past can be more easily manufactured. However, the method for manufacturing the electrochromic device of the present invention is not limited to this example.

(11)その他の形態
本実施形態のエレクトロクロミック素子は、前述のように、エレクトロクロミック材料の色を複数準備することで、カラー表示にも対応し得る。具体的には、例えば、図6Aおよび図6Bに示すように、各セル21において、色の異なる着色材料(エレクトロクロミック材料)を含むエレクトロクロミック組成物層25aおよび25bを適用する。このようにすることで、セル21ごとに着色材料を塗り分けることができ、例えば、カラー表示も可能となる。
(11) Other Embodiments As described above, the electrochromic device according to the present embodiment can be used for color display by preparing a plurality of colors of electrochromic material. Specifically, for example, as shown in FIGS. 6A and 6B, electrochromic composition layers 25 a and 25 b including coloring materials (electrochromic materials) having different colors are applied to each cell 21. By doing in this way, a coloring material can be separately applied for every cell 21, for example, a color display is also attained.

以上のように、本発明によれば、高コントラストで、さらに、例えば、高反射のエレクトロクロミック素子を提供できる。したがって、本発明のエレクトロクロミック素子は、例えば、不揮発性表示デバイス等の用途に適用できる。ただし、その用途は限定されず、広い分野に適用可能である。   As described above, according to the present invention, it is possible to provide an electrochromic element with high contrast and, for example, high reflection. Therefore, the electrochromic element of the present invention can be applied to applications such as a nonvolatile display device. However, its use is not limited and can be applied to a wide range of fields.

上記の実施形態の一部または全部は、以下の付記のようにも記載しうるが、以下には限定されない。   A part or all of the above embodiment can be described as in the following supplementary notes, but is not limited to the following.

(付記1)
第1の電極と、第2の電極と、電解質層と、エレクトロクロミック組成物層とを含み、
前記第1の電極の上に、前記エレクトロクロミック組成物層が積層され、
前記エレクトロクロミック組成物層の上に、前記電解質層が積層され、
前記第2の電極が、前記電解質層および前記エレクトロクロミック組成物層の少なくとも一方の側面に配置され、
前記第1の電極と前記第2の電極との間で、前記電解質層および前記エレクトロクロミック組成物層に電圧を印加可能であることを特徴とする、エレクトロクロミック素子。
(Appendix 1)
Including a first electrode, a second electrode, an electrolyte layer, and an electrochromic composition layer;
The electrochromic composition layer is laminated on the first electrode,
The electrolyte layer is laminated on the electrochromic composition layer,
The second electrode is disposed on at least one side of the electrolyte layer and the electrochromic composition layer;
An electrochromic element, wherein a voltage can be applied to the electrolyte layer and the electrochromic composition layer between the first electrode and the second electrode.

(付記2)
さらに、絶縁性隔壁を含み、
前記絶縁性隔壁が、前記第2の電極の外周に配置されていることを特徴とする付記1記載のエレクトロクロミック素子。
(Appendix 2)
In addition, including an insulating partition,
The electrochromic device according to appendix 1, wherein the insulating partition is disposed on an outer periphery of the second electrode.

(付記3)
さらに、透明絶縁基材を含み、
前記電解質層上に、前記透明絶縁基材が配置されていることを特徴とする付記1または2記載のエレクトロクロミック素子。
(Appendix 3)
In addition, including a transparent insulating substrate,
The electrochromic device according to appendix 1 or 2, wherein the transparent insulating base material is disposed on the electrolyte layer.

(付記4)
前記絶縁性隔壁が、前記エレクトロクロミック組成物層および前記透明絶縁基材に接して配置され、
前記エレクトロクロミック組成物層と、前記透明絶縁基材と、前記絶縁性隔壁とに囲まれた領域に、前記電解質層が配置されていることを特徴とする付記3記載のエレクトロクロミック素子。
(Appendix 4)
The insulating partition is disposed in contact with the electrochromic composition layer and the transparent insulating substrate;
The electrochromic device according to appendix 3, wherein the electrolyte layer is disposed in a region surrounded by the electrochromic composition layer, the transparent insulating base material, and the insulating partition.

(付記5)
さらに、白色層を含み、
前記白色層が、前記第1の電極と前記エレクトロクロミック組成物層との間に配置されていることを特徴とする付記1から4のいずれかに記載のエレクトロクロミック素子。
(Appendix 5)
In addition, it contains a white layer,
The electrochromic device according to any one of appendices 1 to 4, wherein the white layer is disposed between the first electrode and the electrochromic composition layer.

(付記6)
前記第2の電極が、前記電解質層の側面および前記エレクトロクロミック組成物層の側面に配置されていることを特徴とする付記1から5のいずれかに記載のエレクトロクロミック素子。
(Appendix 6)
The electrochromic device according to any one of appendices 1 to 5, wherein the second electrode is disposed on a side surface of the electrolyte layer and a side surface of the electrochromic composition layer.

(付記7)
さらに、着色制御配線を含み、
前記着色制御配線が、前記絶縁性隔壁内部に配置され、前記エレクトロクロミック素子の着色を制御可能であることを特徴とする付記2から6のいずれかに記載のエレクトロクロミック素子。
(Appendix 7)
In addition, including coloring control wiring,
The electrochromic element according to any one of appendices 2 to 6, wherein the coloring control wiring is disposed inside the insulating partition wall and can control coloring of the electrochromic element.

(付記8)
さらに、着色制御素子を含み、
前記着色制御配線は、第1の着色制御配線および第2の着色制御配線を含み、
前記第1の着色制御配線および第2の着色制御配線が、前記着色制御素子に電気的に接続され、
前記着色制御素子が、前記第2の電極に電気的に接続され、
前記着色制御素子が、第1の着色制御配線および第2の着色制御配線の双方から信号を受け取って、前記第2の電極に電流を流すことにより、前記エレクトロクロミック素子の着色を制御可能であることを特徴とする付記7記載のエレクトロクロミック素子。
(Appendix 8)
Furthermore, a coloring control element is included,
The coloring control wiring includes a first coloring control wiring and a second coloring control wiring,
The first coloring control wiring and the second coloring control wiring are electrically connected to the coloring control element;
The coloring control element is electrically connected to the second electrode;
The coloring control element can control the coloring of the electrochromic element by receiving signals from both the first coloring control wiring and the second coloring control wiring and passing a current through the second electrode. The electrochromic device according to appendix 7, wherein

(付記9)
前記白色層が、酸化チタンを含む多孔質層であり、
前記多孔質層に形成された孔の少なくとも一部に、電解質およびエレクトロクロミック材料の少なくとも一方が含まれていることを特徴とする付記5から8のいずれかに記載のエレクトロクロミック素子。
(Appendix 9)
The white layer is a porous layer containing titanium oxide;
9. The electrochromic device according to any one of appendices 5 to 8, wherein at least one of an electrolyte and an electrochromic material is contained in at least a part of the holes formed in the porous layer.

(付記10)
前記第2の電極が、前記電解質層および前記エレクトロクロミック組成物層の少なくとも一方の側面の全部または一部に配置されていることを特徴とする付記1から9のいずれかに記載のエレクトロクロミック素子。
(Appendix 10)
10. The electrochromic device according to any one of appendices 1 to 9, wherein the second electrode is disposed on all or part of at least one side surface of the electrolyte layer and the electrochromic composition layer. .

(付記11)
前記エレクトロクロミック組成物層が、プルシアンブルー型のエレクトロクロミック材料を含むことを特徴とする付記1から10のいずれかに記載のエレクトロクロミック素子。
(Appendix 11)
11. The electrochromic device according to any one of appendices 1 to 10, wherein the electrochromic composition layer includes a Prussian blue type electrochromic material.

(付記12)
前記透明絶縁基材が、ポリイミド、PET、PENおよびガラスからなる群から選択される少なくとも一つを含むことを特徴とする付記3から11のいずれかに記載のエレクトロクロミック素子。
(Appendix 12)
12. The electrochromic device according to any one of appendices 3 to 11, wherein the transparent insulating substrate includes at least one selected from the group consisting of polyimide, PET, PEN, and glass.

(付記13)
前記第2の電極および前記着色制御配線が、透明性樹脂または金属ナノ粒子の焼成体から形成されていることを特徴とする付記7から12のいずれかに記載のエレクトロクロミック素子。
(Appendix 13)
13. The electrochromic device according to any one of appendices 7 to 12, wherein the second electrode and the coloring control wiring are formed from a sintered body of a transparent resin or metal nanoparticles.

(付記14)
前記着色制御素子が、トランジスタであり、
前記トランジスタが、半導体材料としてカーボンナノチューブを含むことを特徴とする付記8から13のいずれかに記載のエレクトロクロミック素子。
(Appendix 14)
The coloring control element is a transistor;
14. The electrochromic device according to any one of appendices 8 to 13, wherein the transistor includes a carbon nanotube as a semiconductor material.

(付記15)
第1の電極の上に、エレクトロクロミック組成物層を形成するエレクトロクロミック組成物層形成工程と、
前記エレクトロクロミック組成物層の上に、電解質層を形成する電解質層形成工程と、
前記電解質層および前記エレクトロクロミック組成物層の少なくとも一方の側面に、前記第1の電極と第2の電極との間で、前記電解質層および前記エレクトロクロミック組成物層に電圧を印加可能であるように、第2の電極を形成する第2の電極形成工程とを含むことを特徴とする、エレクトロクロミック素子の製造方法。
(Appendix 15)
An electrochromic composition layer forming step of forming an electrochromic composition layer on the first electrode;
An electrolyte layer forming step of forming an electrolyte layer on the electrochromic composition layer;
A voltage can be applied to the electrolyte layer and the electrochromic composition layer on at least one side surface of the electrolyte layer and the electrochromic composition layer between the first electrode and the second electrode. And a second electrode forming step of forming a second electrode. A method for manufacturing an electrochromic device.

(付記16)
さらに、前記第2の電極の外周に、絶縁性隔壁を形成する絶縁性隔壁形成工程と、
前記電解質層上に、透明絶縁基材を配置する透明絶縁基材配置工程と、
前記絶縁性隔壁内部に、前記エレクトロクロミック素子の着色を制御する第1の着色制御配線および第2の着色制御配線を配置する着色制御配線配置工程と、
前記第1の着色制御配線および前記第2の着色制御配線の双方から信号を受け取って、前記第2の電極に電流を流すことにより、前記エレクトロクロミック素子の着色を制御可能な着色制御素子を、前記第2の電極に電気的に接続する着色制御素子接続工程とを含むことを特徴とする付記15記載のエレクトロクロミック素子の製造方法。
(Appendix 16)
Furthermore, an insulating partition forming step of forming an insulating partition on the outer periphery of the second electrode;
On the electrolyte layer, a transparent insulating base material placement step of placing a transparent insulating base material,
A coloring control wiring arrangement step of arranging a first coloring control wiring and a second coloring control wiring for controlling the coloring of the electrochromic element inside the insulating partition,
A coloring control element capable of controlling the coloring of the electrochromic element by receiving a signal from both the first coloring control wiring and the second coloring control wiring and passing a current through the second electrode. The method for producing an electrochromic element according to claim 15, further comprising a coloring control element connecting step of electrically connecting to the second electrode.

10 エレクトロクロミック素子
13 第1の電極
14 第2の電極
15、25、25a、25b エレクトロクロミック組成物層
16、26 電解質層
21 画素(セル)
22 透明絶縁基材
23 ベース基材(第1の電極)
24 セル電極(第2の電極)
27 白色層
28 第1の絶縁層(絶縁性隔壁)
29 第2の絶縁層
30 Y座標配線(ソース配線)
31 X座標配線(ゲート配線)
32 TFT(着色制御素子)
101 セル
102 透明絶縁基材
103 第2の透明導電膜
104 第1の透明導電膜
105 エレクトロクロミック組成物層
106 電解質層
107 白色層
108 隔壁
109 ベース基材
111 Y座標配線
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Electrochromic element 13 1st electrode 14 2nd electrode 15, 25, 25a, 25b Electrochromic composition layer 16, 26 Electrolyte layer 21 Pixel (cell)
22 Transparent insulating base material 23 Base base material (first electrode)
24 Cell electrode (second electrode)
27 White layer 28 First insulating layer (insulating partition)
29 Second insulating layer 30 Y coordinate wiring (source wiring)
31 X coordinate wiring (gate wiring)
32 TFT (coloring control element)
101 Cell 102 Transparent Insulating Base Material 103 Second Transparent Conductive Film 104 First Transparent Conductive Film 105 Electrochromic Composition Layer 106 Electrolyte Layer 107 White Layer 108 Partition 109 Base Base 111 Y Coordinate Wiring

Claims (10)

第1の電極と、第2の電極と、電解質層と、エレクトロクロミック組成物層とを含み、
前記第1の電極の上に、前記エレクトロクロミック組成物層が積層され、
前記エレクトロクロミック組成物層の上に、前記電解質層が積層され、
前記第2の電極が、前記電解質層および前記エレクトロクロミック組成物層の少なくとも一方の側面に配置され、
前記第1の電極と前記第2の電極との間で、前記電解質層および前記エレクトロクロミック組成物層に電圧を印加可能であることを特徴とする、エレクトロクロミック素子。
Including a first electrode, a second electrode, an electrolyte layer, and an electrochromic composition layer;
The electrochromic composition layer is laminated on the first electrode,
The electrolyte layer is laminated on the electrochromic composition layer,
The second electrode is disposed on at least one side of the electrolyte layer and the electrochromic composition layer;
An electrochromic element, wherein a voltage can be applied to the electrolyte layer and the electrochromic composition layer between the first electrode and the second electrode.
さらに、絶縁性隔壁を含み、
前記絶縁性隔壁が、前記第2の電極の外周に配置されていることを特徴とする請求項1記載のエレクトロクロミック素子。
In addition, including an insulating partition,
The electrochromic device according to claim 1, wherein the insulating partition is disposed on an outer periphery of the second electrode.
さらに、透明絶縁基材を含み、
前記電解質層上に、前記透明絶縁基材が配置されていることを特徴とする請求項1または2記載のエレクトロクロミック素子。
In addition, including a transparent insulating substrate,
The electrochromic device according to claim 1, wherein the transparent insulating substrate is disposed on the electrolyte layer.
前記絶縁性隔壁が、前記エレクトロクロミック組成物層および前記透明絶縁基材に接して配置され、
前記エレクトロクロミック組成物層と、前記透明絶縁基材と、前記絶縁性隔壁とに囲まれた領域に、前記電解質層が配置されていることを特徴とする請求項3記載のエレクトロクロミック素子。
The insulating partition is disposed in contact with the electrochromic composition layer and the transparent insulating substrate;
The electrochromic device according to claim 3, wherein the electrolyte layer is disposed in a region surrounded by the electrochromic composition layer, the transparent insulating base material, and the insulating partition.
さらに、白色層を含み、
前記白色層が、前記第1の電極と前記エレクトロクロミック組成物層との間に配置されていることを特徴とする請求項1から4のいずれか一項に記載のエレクトロクロミック素子。
In addition, it contains a white layer,
The electrochromic device according to any one of claims 1 to 4, wherein the white layer is disposed between the first electrode and the electrochromic composition layer.
前記第2の電極が、前記電解質層の側面および前記エレクトロクロミック組成物層の側面に配置されていることを特徴とする請求項1から5のいずれか一項に記載のエレクトロクロミック素子。 6. The electrochromic device according to claim 1, wherein the second electrode is disposed on a side surface of the electrolyte layer and a side surface of the electrochromic composition layer. さらに、着色制御配線を含み、
前記着色制御配線が、前記絶縁性隔壁内部に配置され、前記エレクトロクロミック素子の着色を制御可能であることを特徴とする請求項2から6のいずれか一項に記載のエレクトロクロミック素子。
In addition, including coloring control wiring,
The electrochromic element according to any one of claims 2 to 6, wherein the coloring control wiring is disposed inside the insulating partition wall and can control coloring of the electrochromic element.
さらに、着色制御素子を含み、
前記着色制御配線は、第1の着色制御配線および第2の着色制御配線を含み、
前記第1の着色制御配線および第2の着色制御配線が、前記着色制御素子に電気的に接続され、
前記着色制御素子が、前記第2の電極に電気的に接続され、
前記着色制御素子が、第1の着色制御配線および第2の着色制御配線の双方から信号を受け取って、前記第2の電極に電流を流すことにより、前記エレクトロクロミック素子の着色を制御可能であることを特徴とする請求項7記載のエレクトロクロミック素子。
Furthermore, a coloring control element is included,
The coloring control wiring includes a first coloring control wiring and a second coloring control wiring,
The first coloring control wiring and the second coloring control wiring are electrically connected to the coloring control element;
The coloring control element is electrically connected to the second electrode;
The coloring control element can control the coloring of the electrochromic element by receiving signals from both the first coloring control wiring and the second coloring control wiring and passing a current through the second electrode. The electrochromic device according to claim 7.
第1の電極の上に、エレクトロクロミック組成物層を形成するエレクトロクロミック組成物層形成工程と、
前記エレクトロクロミック組成物層の上に、電解質層を形成する電解質層形成工程と、
前記電解質層および前記エレクトロクロミック組成物層の少なくとも一方の側面に、前記第1の電極と第2の電極との間で、前記電解質層および前記エレクトロクロミック組成物層に電圧を印加可能であるように、第2の電極を形成する第2の電極形成工程とを含むことを特徴とする、エレクトロクロミック素子の製造方法。
An electrochromic composition layer forming step of forming an electrochromic composition layer on the first electrode;
An electrolyte layer forming step of forming an electrolyte layer on the electrochromic composition layer;
A voltage can be applied to the electrolyte layer and the electrochromic composition layer on at least one side surface of the electrolyte layer and the electrochromic composition layer between the first electrode and the second electrode. And a second electrode forming step of forming a second electrode. A method for manufacturing an electrochromic device.
さらに、前記第2の電極の外周に、絶縁性隔壁を形成する絶縁性隔壁形成工程と、
前記電解質層上に、透明絶縁基材を配置する透明絶縁基材配置工程と、
前記絶縁性隔壁内部に、前記エレクトロクロミック素子の着色を制御する第1の着色制御配線および第2の着色制御配線を配置する着色制御配線配置工程と、
前記第1の着色制御配線および前記第2の着色制御配線の双方から信号を受け取って、前記第2の電極に電流を流すことにより、前記エレクトロクロミック素子の着色を制御可能な着色制御素子を、前記第2の電極に電気的に接続する着色制御素子接続工程とを含むことを特徴とする請求項9記載のエレクトロクロミック素子の製造方法。
Furthermore, an insulating partition forming step of forming an insulating partition on the outer periphery of the second electrode;
On the electrolyte layer, a transparent insulating base material placement step of placing a transparent insulating base material,
A coloring control wiring arrangement step of arranging a first coloring control wiring and a second coloring control wiring for controlling the coloring of the electrochromic element inside the insulating partition,
A coloring control element capable of controlling the coloring of the electrochromic element by receiving a signal from both the first coloring control wiring and the second coloring control wiring and passing a current through the second electrode. The method for manufacturing an electrochromic element according to claim 9, further comprising a coloring control element connecting step of electrically connecting to the second electrode.
JP2011076914A 2011-03-30 2011-03-30 Electrochromic element and method for manufacturing the same Withdrawn JP2012211965A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011076914A JP2012211965A (en) 2011-03-30 2011-03-30 Electrochromic element and method for manufacturing the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011076914A JP2012211965A (en) 2011-03-30 2011-03-30 Electrochromic element and method for manufacturing the same

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2012211965A true JP2012211965A (en) 2012-11-01

Family

ID=47265999

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011076914A Withdrawn JP2012211965A (en) 2011-03-30 2011-03-30 Electrochromic element and method for manufacturing the same

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2012211965A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113820898A (en) * 2021-09-27 2021-12-21 苏州清越光电科技股份有限公司 Electrochromic panel and preparation method thereof

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113820898A (en) * 2021-09-27 2021-12-21 苏州清越光电科技股份有限公司 Electrochromic panel and preparation method thereof
CN113820898B (en) * 2021-09-27 2024-02-02 苏州清越光电科技股份有限公司 Electrochromic panel and preparation method thereof

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10446585B2 (en) Multi-layer expanding electrode structures for backplane assemblies
CN100523964C (en) Display device using printed circuit board as substrate of display panel
JP2022549082A (en) Electrochromic device with low resistance transparent electrode structure
CN113270457A (en) Display panel, preparation method thereof, display device and splicing display device
JP2019158940A (en) Electrochromic device
CN103728741B (en) Thermochromatic element and thermochromatic display device
US10317767B2 (en) Electro-optic display backplane structure with drive components and pixel electrodes on opposed surfaces
KR20180034869A (en) Electrochromic device
JP2012211965A (en) Electrochromic element and method for manufacturing the same
JP5782920B2 (en) Display device and method for manufacturing display device
CN109690396B (en) Transmissivity variable element
US20220221766A1 (en) Electro-optic display apparatus
KR20190023522A (en) Electrochromism element and electrochromism device comprising the same
CN208861126U (en) A kind of closed display plasma-based mould group
KR102383563B1 (en) Electrochromism element and electrochromism device comprising the same
JP2012211966A (en) Electrochromic display element and method for manufacturing the same
KR20200115749A (en) Display device and manufacturing method therof
CN111983869B (en) Electrochromic device for improving color change reaction speed and manufacturing method thereof
WO2016170901A1 (en) Method for producing circuit board, method for producing electronic device, and electronic device
US20220107541A1 (en) Front plane laminates with outer surface electrical connections
JP2016075877A (en) Electrophoretic display medium sheet and electrophoretic display medium using the same
JP6702637B2 (en) Multi-layer extended electrode structure for backplane assembly
CN217881555U (en) Mini LED insulation resistance welding structure
KR20180125325A (en) Electrochromism element and electrochromism apparatus
JP2017097169A (en) Electrochromic element

Legal Events

Date Code Title Description
RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20131226

A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20140603