JP2012198371A - Diffraction grating recording medium - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a display body including a concealed pattern using an optical diffraction structure, which is very difficult to be visually determined and has outstanding anti-counterfeit effect, a determining tool therefor, and a display body determination system.SOLUTION: A concealed pattern region is filled with repetition of stripe pairs of first wavy stripes 121a and second wavy stripes 121b different by diffraction characteristics, and the inside of each of the first wavy stripes 121a is constituted of a first linear diffraction grating 12'1a, and the inside of each of the second wavy stripes 121b is constituted of a second linear diffraction grating 12'1b. Tilt angles of the first linear diffraction gratings 12'1a and tilt angles of the second linear diffraction gratings 12'1b in a first pattern region constituting a concealed pattern are equal to tilt angles of the first linear diffraction gratings 12'1a and tilt angles of the second linear diffraction gratings 12'1b in a second pattern region adjacent to the first pattern region respectively with respect to a reference line S set to a display surface, and characteristics of stripe pairs in the first pattern region are different from those of stripe pairs in the second pattern region.

Description

本発明は、光回折構造による隠しパターンを内包する表示体及びそのための判別具、並びに表示体判別システムに関し、特に、通常の視認状態では判別が困難な光回折構造による隠しパターンを内包する表示体、及びそのための判別具、並びに表示体判別システムに関するものである。   The present invention relates to a display body including a hidden pattern by a light diffractive structure, a discrimination tool therefor, and a display body discrimination system, and more particularly, a display body including a hidden pattern by a light diffractive structure that is difficult to discriminate in a normal viewing state. And a discriminating tool therefor, and a display body discriminating system.

近年、カラーコピー機による高額紙幣や商品券の偽造事件が頻発している。そのために、高額紙幣や商品券は、デザインの一部にカラーコピー機のセンサーでは読み取ることができない小さな網点や細線を、同じ反射濃度でデザインされた絵柄の中に組み込んでいる。その結果、これらの高額紙幣や商品券をカラーコピー機によって複写しようとすると、コピー機のスキャナーが小さな網点や細線を読み落とし、その部分が白く抜けることでコピー品であると判別している。   In recent years, forgery cases of high-value banknotes and gift certificates using color copiers have frequently occurred. For this reason, high-value banknotes and gift certificates have a small halftone dot or fine line that cannot be read by a color copier sensor in a part of the design, and is incorporated in a pattern designed with the same reflection density. As a result, when trying to copy these high-value banknotes and gift certificates with a color copier, the copier scanner reads out small dots and fine lines, and those parts are identified as white and are identified as copies. .

また、印刷物のデザインの一部に光り輝く金属部分を設けることによりコピー品を判別する方法も実施されている。   In addition, a method of discriminating a copy product by providing a brilliant metal part in a part of the design of the printed material is also implemented.

このような金属部分は、入射光を100%反射するために、コピー機は、金属の部分を黒にコピーする。実施例として、例えば、紙の表層に金糸を縫い付け、コピー牽制を行っている。   Since such a metal part reflects 100% of incident light, the copying machine copies the metal part to black. As an example, for example, a gold thread is sewed on the surface layer of paper, and copy check is performed.

その他、透明な樹脂で複製した光回折構造体の凹凸面に金属蒸着処理をして、印刷エリアの一部に熱転写し、複写機によるコピーを牽制している。この光回折構造体は、金属表面の反射効果でコピーによる不正を牽制しようとする一方で、熱転写された印刷物あるいは製品そのものの偽造を防止する手段として利用されている。光回折構造体は、高度な製造技術を必要とするために、金券類等の偽造防止手段としてしばしば使用される。   In addition, the metal diffractive surface of the light diffraction structure replicated with a transparent resin is subjected to metal vapor deposition, thermally transferred to a part of the printing area, and the copying by the copying machine is restrained. This light diffractive structure is used as a means for preventing counterfeiting of a printed matter or product itself that has been thermally transferred, while trying to check fraud due to copying by the reflection effect of the metal surface. The light diffractive structure is often used as a forgery prevention means such as a cash voucher because it requires an advanced manufacturing technique.

しかし、製造技術の向上によって、一見して本物に近い光回折構造体を製造することができるようになってきた。   However, improvement in manufacturing technology has made it possible to manufacture an optical diffraction structure that is close to the real thing at first glance.

このような偽造品をチェックするために、光回折構造体の中に判別困難な隠しパターンを組み込んで真偽判別の手段として使用する技術が提案されているが、見る角度によって隠しパターンが微かに判別されてしまうという問題があり、また、隠しパターンを形成した部分に他の絵柄が形成されていないために、隠しパターンがあり得ると推測される結果になり、偽造防止効果を低減させる問題があった。   In order to check such counterfeit products, a technique has been proposed in which a hidden pattern that is difficult to discriminate is incorporated into a light diffraction structure and used as a means of authenticity discrimination. There is a problem that it is discriminated, and since there is no other pattern formed in the part where the hidden pattern is formed, it is assumed that there is a hidden pattern, and there is a problem of reducing the forgery prevention effect there were.

このような背景の中、目視状態では直線回折格子の領域毎の構成の違いによって通常の表示パターンが観察でき、隠しパターンは判別困難であるが、判別具を重ね合わせることで、今度は通常の表示パターンではなく隠しパターンが判別可能となる光回折構造による隠しパターンを内包する表示体が開示されている(特許文献1及び2参照)。   In such a background, the normal display pattern can be observed in the visual state due to the difference in the configuration of each region of the linear diffraction grating, and it is difficult to distinguish the hidden pattern. There has been disclosed a display body that includes a hidden pattern based on an optical diffraction structure in which a hidden pattern can be distinguished instead of a display pattern (see Patent Documents 1 and 2).

特許文献1の発明は、
・光回折構造中に複数のパターンを持たせ、
・各パターンを相互に隣接する平行な縞で形成し、
・隣接する第1の縞と第2の縞の回折格子ピッチ若しくは傾き角を異なるものとし、
・各パターンを構成する各縞対の傾き角を異なるものとすることで、光回折構造(回折格子)に隠しパターンを共存させ、
・各縞対のピッチと同ピッチの透明部と不透明部からなる判別器具で判別することにより隠しパターンを判別するものである。
The invention of Patent Document 1
・ Give multiple patterns in the light diffraction structure,
・ Each pattern is formed by parallel stripes adjacent to each other,
-The diffraction grating pitch or inclination angle of the adjacent first stripe and the second stripe is different,
-By making the inclination angles of each pair of stripes constituting each pattern different, a hidden pattern coexists in the light diffraction structure (diffraction grating),
-A hidden pattern is discriminated by discriminating with a discriminating instrument consisting of a transparent portion and an opaque portion having the same pitch as each stripe pair.

また、特許文献2の発明は、
・表示体の光回折構造中に複数のパターンを持たせ、
・各パターンを相互に隣接する平行な縞で形成し、
・隣接する第1の縞と第2の縞の回折格子ピッチ若しくは傾き角を異なるものとし、
・各パターンを構成する各縞対の傾き角を同じにすると共にそのピッチを異なるものとすることで、光回折構造(回折格子)に隠しパターンを共存させ、
・各縞対のピッチと同ピッチで同じ傾き角の透明部と不透明部からなる判別具で判別することにより隠しパターンを判別するものである。
The invention of Patent Document 2
・ Give multiple patterns in the light diffraction structure of the display,
・ Each pattern is formed by parallel stripes adjacent to each other,
-The diffraction grating pitch or inclination angle of the adjacent first stripe and the second stripe is different,
-By making the inclination angle of each stripe pair constituting each pattern the same and making the pitch different, the hidden pattern coexists in the optical diffraction structure (diffraction grating),
A hidden pattern is discriminated by discriminating it with a discriminator consisting of a transparent portion and an opaque portion having the same pitch and the same inclination angle as the pitch of each stripe pair.

特開2004−212927号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2004-212927 特開2005−266041号公報JP 2005-266041 A

しかしながら、従来の技術では、隠しパターンを判別するために表示体と判別具を重ね合わせる際に、表示体の縞と判別具の透明部及び不透明部が直線であったため、モアレを最大限に生じさせるために表示体の縞の直線と判別具の透明部及び不透明部の直線とをずれの無いように重ね合わせることは困難であった。そのため、モアレ模様のコントラストが低くなり、モアレから生じる文字の視認性が低減する場合があった。   However, in the conventional technique, when the display body and the discriminator are overlapped to discriminate the hidden pattern, the stripe of the display body and the transparent part and the opaque part of the discriminator are straight lines, so that moiré is generated to the maximum. For this reason, it is difficult to superimpose the straight lines of the stripes of the display body and the straight lines of the transparent part and the opaque part of the discriminating tool so that there is no deviation. For this reason, the contrast of the moire pattern is lowered, and the visibility of characters generated from the moire may be reduced.

本発明は従来技術のこのような現状に鑑みてなされたものであり、その目的は、目視による判別が極めて困難で偽造防止効果が大きい光回折構造による隠しパターンのモアレ模様を明確に生じさせる表示体及びそのための判別具、並びに表示体判別システムを提供することである。   The present invention has been made in view of such a current state of the prior art, and an object of the present invention is to clearly display a hidden pattern moire pattern by an optical diffraction structure that is extremely difficult to visually discriminate and has a large anti-counterfeit effect. To provide a body, a discriminating tool therefor, and a display body discriminating system.

上記目的を達成する本発明の光回折構造による隠しパターンを内包する表示体は、光回折構造を有する表示面を備え、前記表示面は、回折特性が異なり、表示パターンに応じた任意の外形及び内形を持つ複数のパターン領域が並列配置されてなり、前記複数のパターン領域は、隠しパターン領域及び非隠しパターン領域を有し、前記隠しパターン領域は、所定の繰り返しピッチで埋めつくされた前記隠しパターン領域の縞対を含み、前記隠しパターン領域の縞対は、相互に隣接していて平行で、回折特性の異なる前記隠しパターン領域の第1波線縞及び前記隠しパターン領域の第2波線縞を持ち、前記隠しパターン領域の前記第1波線縞は、波形の縞内が前記隠しパターン領域の第1直線回折格子によって構成されて、前記隠しパターン領域の前記第2波線縞は、波形の縞内が前記隠しパターン領域の第2直線回折格子によって構成されて、前記非隠しパターン領域は、所定の繰り返しピッチで埋めつくされた前記非隠しパターン領域の縞対を含み、前記非隠しパターン領域の前記第1波線縞は、波形の縞内が前記非隠しパターン領域の第1直線回折格子によって構成されて、前記非隠しパターン領域の前記第2波線縞は、波形の縞内が前記非隠しパターン領域の第2直線回折格子によって構成されて、前記表示面に対して設定された基準線に対して、前記隠しパターン領域の前記第1直線回折格子の傾き角は、前記非隠しパターン領域の前記第1直線回折格子の傾き角に等しく、前記非隠しパターン領域の前記第2直線回折格子の傾き角は、前記非隠しパターン領域の前記第2直線回折格子の傾き角に等しく、かつ、前記隠しパターン領域の前記縞対の特性は、前記非隠しパターン領域の前記縞対の特性と異なることが好ましい。   The display body including the hidden pattern by the light diffraction structure of the present invention that achieves the above object includes a display surface having a light diffraction structure, the display surface has different diffraction characteristics, and has an arbitrary outer shape according to the display pattern and A plurality of pattern areas having an inner shape are arranged in parallel, and the plurality of pattern areas have a hidden pattern area and a non-hidden pattern area, and the hidden pattern area is embedded at a predetermined repetition pitch. The hidden pattern area includes a pair of stripes, and the hidden pattern area stripe pairs are adjacent to each other in parallel and have different diffraction characteristics. The first wavy stripes of the hidden pattern area and the second wavy stripes of the hidden pattern area And the first wavy stripe in the hidden pattern region is configured by a first linear diffraction grating in the hidden pattern region in the wavy stripe, The second wavy stripe is formed by a second linear diffraction grating in the hidden pattern area in a wavy stripe, and the non-hidden pattern area is a stripe of the non-hidden pattern area embedded at a predetermined repetition pitch. The first wavy stripe in the non-hidden pattern region is formed by a first linear diffraction grating in the non-hidden pattern region, and the second wavy stripe in the non-hidden pattern region is The slope of the first linear diffraction grating in the hidden pattern region is defined by the second linear diffraction grating in the non-hidden pattern region and the reference line set with respect to the display surface. An angle is equal to an inclination angle of the first linear diffraction grating in the non-hidden pattern region, and an inclination angle of the second linear diffraction grating in the non-hidden pattern region is equal to the second straight angle of the non-hidden pattern region. Equal to the tilt angle of the diffraction grating, and the characteristics of the stripe pair of the hidden pattern area, the different it is preferred characteristics of the stripe pair of non-hidden pattern region.

また、前記隠しパターン領域の前記第1波線縞及び前記隠しパターン領域の前記第2波線縞、並びに、前記非隠しパターン領域の前記第1波線縞及び前記非隠しパターン領域の前記第2波線縞は、それぞれの繰り返しピッチに対して、5〜20%の高さの凸部及び凹部を交互に有することが好ましい。   The first wavy stripes in the hidden pattern area and the second wavy stripes in the hidden pattern area, and the first wavy stripes in the non-hidden pattern area and the second wavy stripes in the non-hidden pattern area are , It is preferable to have convex portions and concave portions having a height of 5 to 20% alternately with respect to each repeating pitch.

また、前記隠しパターン領域の前記第1波線縞及び前記隠しパターン領域の前記第2波線縞、並びに、前記非隠しパターン領域の前記第1波線縞及び前記非隠しパターン領域の前記第2波線縞は、それぞれの繰り返しピッチに対して、0.5〜5個/mmの凸部及び凹部を交互に有することが好ましい。   The first wavy stripes in the hidden pattern area and the second wavy stripes in the hidden pattern area, and the first wavy stripes in the non-hidden pattern area and the second wavy stripes in the non-hidden pattern area are It is preferable that convex portions and concave portions of 0.5 to 5 pieces / mm are alternately provided for each repetition pitch.

また、前記表示面に対して設定された基準線に対して、前記隠しパターン領域の前記縞対の傾き角は、前記非隠しパターン領域の前記縞対の傾き角とは異なることが好ましい。   In addition, it is preferable that an inclination angle of the stripe pair in the hidden pattern area is different from an inclination angle of the stripe pair in the non-hidden pattern area with respect to a reference line set for the display surface.

また、前記隠しパターン領域の前記縞対の繰り返しピッチは、前記非隠しパターン領域の前記縞対の繰り返しピッチと異なることが好ましい。   The repetitive pitch of the stripe pairs in the hidden pattern area is preferably different from the repetitive pitch of the stripe pairs in the non-hidden pattern area.

さらに、前記光回折構造による隠しパターンを内包する表示体のための判別具は、前記隠しパターン領域の前記縞対と同じ傾き角及び前記隠しパターン領域の前記縞対と同じ繰り返しピッチを持つ平行な直線透明部と直線不透明部との繰り返しパターンを有することが好ましい。   Further, the discriminating tool for the display body including the hidden pattern by the light diffraction structure has a parallel inclination having the same inclination angle as the stripe pair in the hidden pattern area and the same repetition pitch as the stripe pair in the hidden pattern area. It is preferable to have a repeating pattern of straight transparent portions and straight opaque portions.

さらに、前記光回折構造による隠しパターンを内包する表示体のための判別具は、前記隠しパターン領域の前記縞対と同じ傾き角及び前記隠しパターン領域の前記縞対と同じ繰り返しピッチを持つ平行な波線透明部と波線不透明部との繰り返しパターンを有することが好ましい。   Further, the discriminating tool for the display body including the hidden pattern by the light diffraction structure has a parallel inclination having the same inclination angle as the stripe pair in the hidden pattern area and the same repetition pitch as the stripe pair in the hidden pattern area. It is preferable to have a repeating pattern of a wavy transparent part and a wavy opaque part.

また、前記透明部の幅が前記不透明部の幅より小さいことが好ましい。   The width of the transparent part is preferably smaller than the width of the opaque part.

さらに、光回折構造による隠しパターンを内包する表示体の判別システムは、光回折構造を有する表示面を備え、前記表示面は、回折特性が異なり、表示パターンに応じた任意の外形及び内形を持つ複数のパターン領域が並列配置されてなり、前記複数のパターン領域は、隠しパターン領域及び非隠しパターン領域を有し、前記隠しパターン領域は、所定の繰り返しピッチで埋めつくされた前記隠しパターン領域の縞対を含み、前記隠しパターン領域の縞対は、相互に隣接していて平行で、回折特性の異なる前記隠しパターン領域の第1波線縞及び前記隠しパターン領域の第2波線縞を持ち、前記隠しパターン領域の前記第1波線縞は、波形の縞内が前記隠しパターン領域の第1直線回折格子によって構成されて、前記隠しパターン領域の前記第2波線縞は、波形の縞内が前記隠しパターン領域の第2直線回折格子によって構成されて、前記非隠しパターン領域は、所定の繰り返しピッチで埋めつくされた前記非隠しパターン領域の縞対を含み、前記非隠しパターン領域の前記第1波線縞は、波形の縞内が前記非隠しパターン領域の第1直線回折格子によって構成されて、前記非隠しパターン領域の前記第2波線縞は、波形の縞内が前記非隠しパターン領域の第2直線回折格子によって構成されて、前記表示面に対して設定された基準線に対して、前記隠しパターン領域の前記第1直線回折格子の傾き角は、前記非隠しパターン領域の前記第1直線回折格子の傾き角に等しく、前記非隠しパターン領域の前記第2直線回折格子の傾き角は、前記非隠しパターン領域の前記第2直線回折格子の傾き角に等しく、かつ、前記隠しパターン領域の前記縞対の特性は、前記非隠しパターン領域の前記縞対の特性とは異なる光回折構造による隠しパターンを内包する表示体と、前記隠しパターン領域の前記縞対と同じ傾き角及び前記隠しパターン領域の前記縞対と同じ繰り返しピッチ
を持つ平行な波線透明部と波線不透明部との繰り返しパターンを有する判別具と、を備えることが好ましい。
Further, the display body discriminating system including the hidden pattern by the light diffractive structure includes a display surface having the light diffractive structure, and the display surface has different diffraction characteristics and has an arbitrary outer shape and inner shape according to the display pattern. A plurality of pattern areas having a plurality of pattern areas, the plurality of pattern areas having a hidden pattern area and a non-hidden pattern area, wherein the hidden pattern area is embedded at a predetermined repetition pitch. The hidden pattern region stripe pair has a first wavy stripe of the hidden pattern region and a second wavy stripe of the hidden pattern region that are adjacent to each other and parallel and have different diffraction characteristics, The first wavy stripe in the hidden pattern area is formed by a first linear diffraction grating in the hidden pattern area in a wavy stripe, and the front of the hidden pattern area is The second wavy stripe is formed by the second linear diffraction grating of the hidden pattern area in the wavy stripe, and the non-hidden pattern area is a pair of stripes of the non-hidden pattern area embedded at a predetermined repetition pitch. The first wavy stripe in the non-hidden pattern region is configured by a first linear diffraction grating in the non-hidden pattern region in a wavy stripe, and the second wavy stripe in the non-hidden pattern region is An inclination angle of the first linear diffraction grating in the hidden pattern region with respect to a reference line set with respect to the display surface is formed by a second linear diffraction grating in the non-hidden pattern region in a wavy stripe Is equal to the tilt angle of the first linear diffraction grating in the non-hidden pattern region, and the tilt angle of the second linear diffraction grating in the non-hidden pattern region is equal to the tilt angle of the second linear diffraction grating in the non-hidden pattern region. A display body including a hidden pattern having a light diffraction structure equal to a tilt angle of the grating and having a characteristic of the fringe pair in the hidden pattern region different from that of the stripe pair in the non-hidden pattern region; It is preferable to include a discriminator having a repeating pattern of parallel wavy transparent portions and wavy opaque portions having the same inclination angle as the stripe pairs in the pattern region and the same repetition pitch as the stripe pairs in the hidden pattern region.

本発明においては、光回折構造を含む表示体の表示面を、相互に隣接していて平行で、回折特性の異なる第1の縞と第2の縞の縞対と、それら縞を構成する直線回折格子との二重構造で構成し、隠しパターンを構成する領域とそれ以外の領域では直線回折格子の構成は同じで、縞対の構成を異なるものとすることにより、目視状態では直線回折格子の領域毎の構成の違いによって通常の表示パターンが観察でき、隠しパターンは判別困難であるが、上記の縞対とモアレ現象を生じる判別具を重ね合わせることで、今度は通常の表示パターンではなく隠しパターンが判別可能となる。そして、第1の縞及び第2の縞、若しくは、判別具の透明縞及び不透明縞の少なくとも1つを波形の縞とする。そのため、目視による判別が極めて困難な隠しパターンを含み、偽造防止効果が大きく、デザイン性の高い表示体を得ることができると共に、表示体の隠しパターンに判別具を重ね合わせると、簡単にコントラストの高い明確なモアレ模様を生じさせることが可能となり、表示体の真偽を容易に確認することが可能となる。   In the present invention, the display surface of the display body including the light diffractive structure is parallel to each other, the first fringe pair of the first fringe and the second fringe having different diffraction characteristics, and the straight lines constituting the fringes. It is composed of a double structure with the diffraction grating, and the structure of the linear diffraction grating is the same in the region constituting the hidden pattern and the other regions, and the configuration of the stripe pair is different, so that the linear diffraction grating is visually observed. The normal display pattern can be observed due to the difference in the configuration of each region, and the hidden pattern is difficult to discriminate, but this time instead of the normal display pattern by overlapping the above stripe pair and the discriminator that causes the moire phenomenon A hidden pattern can be discriminated. Then, at least one of the first stripe and the second stripe, or the transparent stripe and the opaque stripe of the discriminator is used as a wavy stripe. Therefore, it includes a hidden pattern that is extremely difficult to visually discriminate, has a large anti-counterfeiting effect, and can provide a display with high design.When a discriminator is superimposed on the hidden pattern of the display, A high clear moire pattern can be generated, and the authenticity of the display body can be easily confirmed.

本実施形態による隠しパターンを有する光回折構造を転写した印刷物の一例について説明するための図である。It is a figure for demonstrating an example of the printed matter which transferred the light diffraction structure which has a hidden pattern by this embodiment. 本実施形態において部分表示面中の均一な特性及び構成を有する表示単位領域の基本構成を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the basic composition of the display unit area | region which has the uniform characteristic and structure in a partial display surface in this embodiment. 本実施形態の縞対を示す拡大図である。It is an enlarged view which shows the stripe pair of this embodiment. 第1実施形態の光回折構造による隠しパターンを含む部分表示面の拡大図である。It is an enlarged view of the partial display surface containing the hidden pattern by the light diffraction structure of 1st Embodiment. 図4の破線で囲まれたA部分の拡大図である。FIG. 5 is an enlarged view of a portion A surrounded by a broken line in FIG. 4. 図4の部分表示面の隠しパターンを判別するための判別具の一例の平面図である。It is a top view of an example of the discrimination tool for discriminating the hidden pattern of the partial display surface of FIG. 判別具を図4の部分表示面に重ね合わせた状態を示す図であるIt is a figure which shows the state which accumulated the discrimination tool on the partial display surface of FIG. 図4の部分表示面から判別される隠しパターンを示す図である。It is a figure which shows the hidden pattern discriminated from the partial display surface of FIG. 第2実施形態の光回折構造による隠しパターンを含む部分表示面2の拡大図である。It is an enlarged view of the partial display surface 2 including the hidden pattern by the light diffraction structure of 2nd Embodiment. 図9の破線で囲まれたB部分の拡大図である。FIG. 10 is an enlarged view of a portion B surrounded by a broken line in FIG. 9. 図9の部分表示面の隠しパターンを判別するための判別具の一例の平面図である。It is a top view of an example of the discriminating tool for discriminating the hidden pattern of the partial display surface of FIG. 判別具を図9の部分表示面に重ね合わせた状態を示す図である。FIG. 10 is a diagram showing a state in which a discriminator is overlaid on the partial display surface of FIG. 9. 図9の部分表示面から判別される隠しパターンを示す図である。It is a figure which shows the hidden pattern discriminated from the partial display surface of FIG. 第3実施形態の光回折構造による隠しパターンを含む部分表示面2の拡大図である。It is an enlarged view of the partial display surface 2 including the hidden pattern by the light diffraction structure of 3rd Embodiment. 図14の破線で囲まれたC部分の拡大図である。FIG. 15 is an enlarged view of a portion C surrounded by a broken line in FIG. 14. 部分表示面を目視によって見た図である。It is the figure which looked at the partial display surface by visual observation. 第4実施携帯の光回折構造による隠しパターンを含む部分表示面2の拡大図である。It is an enlarged view of the partial display surface 2 including the hidden pattern by the optical diffraction structure of 4th Example carrying. 部分表示面から隠し文字"H"を判別した状態を示す図である。It is a figure which shows the state which discriminate | determined the hidden character "H" from the partial display surface. 部分表示面から隠し文字"T"を判別した状態を示す図である。It is a figure which shows the state which discriminate | determined the hidden character "T" from the partial display surface. 図21の部分表示面の隠しパターンを判別するための判別具の一例の平面図である。It is a top view of an example of the discrimination tool for discriminating the hidden pattern of the partial display surface of FIG. 部分表示面から隠し文字"H"及び"T"を判別した状態を示す図である。It is a figure which shows the state which discriminate | determined the hidden characters "H" and "T" from the partial display surface. 各パターンの周辺に設ける縁取りを説明するための図である。It is a figure for demonstrating the border provided in the periphery of each pattern. 平行な直線透明部と直線不透明部との繰り返しパターンからなる判別パターンの幅関係を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the width | variety relationship of the discrimination | determination pattern which consists of a repeating pattern of a parallel linear transparent part and a linear opaque part. 他の実施形態の判別具を示す図である。It is a figure which shows the discrimination tool of other embodiment. 判別具の波線透明部と波線不透明部を示す図である。It is a figure which shows the wavy transparent part and wavy opaque part of a discrimination tool. 光回折構造による隠しパターンを内包する表示体を転写箔として構成する場合の層構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the layer structure in the case of comprising as a transfer foil the display body which includes the hidden pattern by an optical diffraction structure. 光回折構造による隠しパターンを内包する表示体をラベルとして構成する場合の層構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the layer structure in the case of comprising as a label the display body which includes the hidden pattern by a light diffraction structure. 光回折構造による隠しパターンを内包する表示体を脆質ラベルとして構成する場合の層構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the layer structure in the case of comprising the display body which includes the hidden pattern by a light diffraction structure as a brittle label. 光回折構造による隠しパターンを内包する表示体をフィルムとして構成する場合の層構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the layer structure in the case of comprising as a film the display body which includes the hidden pattern by a light diffraction structure.

以下、図面を参照して本発明の光回折構造による隠しパターン及びそのための判別具について説明する。   Hereinafter, a hidden pattern and a discriminator therefor according to the light diffraction structure of the present invention will be described with reference to the drawings.

図1は、本発明の1実施例として、本発明による隠しパターンを有する光回折構造を転写した印刷物の一例について説明するための図である。偽造、又は、コピーを牽制するために隠しパターンを内包する表示体1が印刷物4の所定の位置に形成されている。この場合の表示体1は、凹凸が形成された極めて薄い樹脂が熱によって所定の大きさに溶断されて熱再活性型の接着剤によってラベルとして紙等の印刷物4上に形成されている。   FIG. 1 is a view for explaining an example of a printed material to which a light diffraction structure having a hidden pattern according to the present invention is transferred as one embodiment of the present invention. A display body 1 including a hidden pattern for checking forgery or copying is formed at a predetermined position of the printed matter 4. In this case, the display body 1 is formed on a printed matter 4 such as paper as a label with a heat-reactive adhesive after an extremely thin resin with unevenness is melted to a predetermined size by heat.

あるいは、ベースフィルムの上に光回折構造を形成した状態で所定の大きさに打ち抜かれ、ベースフィルムと一緒に粘着材又は接着剤によって印刷物4上に形成される。   Alternatively, it is punched into a predetermined size in a state where the light diffraction structure is formed on the base film, and is formed on the printed matter 4 together with the base film by an adhesive or an adhesive.

このような表示体1が形成された印刷物は、偽造又は複写されては困るものが多く、例えば、紙幣、商品券、入場券、ギフト券、手形、小切手等がその対象になる。また、印刷自体にも特殊な技術を持ち合わせていないと複製できない手法が盛り込まれており、偽造、複写による悪用に対して二重にプロテクトされている。   Many printed materials on which such a display body 1 is formed are difficult to be counterfeited or copied, for example, banknotes, gift certificates, admission tickets, gift certificates, bills, checks, and the like. In addition, the printing itself incorporates a technique that cannot be duplicated without a special technique, and is double protected against forgery and misuse by copying.

表示面1は、隠しパターンを含む部分表示面2とその他の部分表示面3とからなっており、部分表示面2と部分表示面3は共に光回折構造による表示面であっても、隠しパターンを含む部分表示面2のみが光回折構造による表示面であって、その他の部分表示面3は印刷等光回折構造によらない表示面であってもよい。もちろん、表示面3が光回折構造による隠しパターンを含む部分表示面2のみからなっていてもよい。   The display surface 1 is composed of a partial display surface 2 including a hidden pattern and another partial display surface 3. Even if both the partial display surface 2 and the partial display surface 3 are display surfaces having a light diffraction structure, the hidden pattern is displayed. Only the partial display surface 2 including the light diffraction structure may be a display surface, and the other partial display surface 3 may be a display surface not based on the light diffraction structure such as printing. Of course, the display surface 3 may consist only of the partial display surface 2 including the hidden pattern by the light diffraction structure.

図2は、本実施形態において部分表示面中の均一な特性及び構成を有する表示単位領域の基本構成を説明するための図である。   FIG. 2 is a diagram for explaining the basic configuration of the display unit area having uniform characteristics and configuration in the partial display surface in the present embodiment.

図2に示すように、部分表示面2は、均一な特性及び構成を有する表示単位領域5が並列集合している。表示単位領域5は表示パターンに応じた任意の外形及び内形パターン領域を構成しており、そのパターン領域は、相互に隣接していて平行で、回折特性の異なる第1波線縞61と第2波線縞62の縞対6の繰り返しにより埋めつくされてなり、第1波線縞61は第1直線回折格子6’1によって構成され、第2波線縞62は第2直線回折格子6’2によって構成されている。 As shown in FIG. 2, on the partial display surface 2, display unit regions 5 having uniform characteristics and configuration are gathered in parallel. The display unit region 5 constitute any contour and inner shape pattern area corresponding to the display pattern, the pattern region is parallel to and adjacent to each other, the first wavy fringe 61 having different diffractive properties first is filled by two repetitions of wavy stripes 6 2 stripes pairs 6 becomes, the first wavy fringe 61 is constituted by a first linear diffraction grating 6 '1, the second wavy stripes 6 2 second linear diffraction grating 6 'Consists of two .

ここで、第1波線縞61、第2波線縞62の基準線Sに対する傾き角をα、第1直線回折格子6’1の基準線Sに対する傾き角をβ1、第2直線回折格子6’2の基準線Sに対する傾き角をβ2 とする。また、基準線Sとしては、例えば部分表示面2の表示パターンに対し水平と認識される方向、例えば表示面2の長辺方向に平行な直線が用いられる。なお、回折格子6’1、6’2の傾き角β1、β2は、格子線の基準線Sに対する角度である。 Here, the inclination angle of the first wavy stripe 6 1 and the second wavy stripe 6 2 with respect to the reference line S is α, the inclination angle of the first linear diffraction grating 6 ′ 1 with respect to the reference line S is β 1 , and the second linear diffraction grating. An inclination angle with respect to the reference line S of 6 ′ 2 is β 2 . As the reference line S, for example, a straight line parallel to the direction recognized as horizontal with respect to the display pattern of the partial display surface 2, for example, the long side direction of the display surface 2 is used. Note that the inclination angles β 1 and β 2 of the diffraction gratings 6 ′ 1 and 6 ′ 2 are angles with respect to the reference line S of the grating lines.

図3は、本実施形態の縞対6を示す拡大図である。   FIG. 3 is an enlarged view showing the stripe pair 6 of the present embodiment.

縞対6は、第1波線縞61及び第2波線縞62を有する。第1波線縞61の繰り返しピッチをd1、第2波線縞62の繰り返しピッチをd2とすると、縞対6の繰り返しピッチは、d=d1+d2となる。ここで、縞対6の繰り返しピッチdは、d≦1/5mmに設定されることが好ましい。 The fringe pair 6 has a first wavy stripe 6 1 and a second wavy stripe 6 2 . If the repetition pitch of the first wavy stripe 6 1 is d 1 and the repetition pitch of the second wavy stripe 6 2 is d 2 , the repetition pitch of the stripe pair 6 is d = d 1 + d 2 . Here, the repetition pitch d of the stripe pair 6 is preferably set to d ≦ 1/5 mm.

また、第1波線縞61は、繰り返しピッチd1に対して高さhの凸部と凹部を交互に有して波形を形成している。同様に、第2波線縞62は、繰り返しピッチd2に対して高さhの凸部との凹部を交互に有して波形を形成している。凹凸の個数は、0.5〜5個/mmが好ましい。また、凹凸の高さhは、第1波線縞61の繰り返しピッチd1及び第2波線縞62の繰り返しピッチd2の5〜20%が好ましい。 The first wavy fringe 61 forms a waveform having alternating projections and recesses of the height h against repeated pitch d 1. Similarly, the second wavy stripe 6 2 forms a waveform by alternately having concave portions with convex portions having a height h with respect to the repetition pitch d 2 . The number of irregularities is preferably 0.5 to 5 / mm. The height h of unevenness, 5-20% of the repetition pitch d 2 of the first wavy stripes 6 1 repetition pitch d 1 and the second wavy stripes 6 2 is preferred.

図2に示すように、第1直線回折格子6’1と第2直線回折格子6’2とは、傾き角が異なる(β1≠β2)か、その回折格子の格子ピッチが異なるかの少なくとも一方を満たすように選ばれている。なお、第1直線回折格子6’1、第2直線回折格子6’2の格子ピッチは、当然ながら縞対6の繰り返しピッチdに比較して十分に小さく設定される。通常、回折格子6’1、6’2の格子ピッチとしては、0.5μm〜2μmの範囲のものが用いられる。また、第1直線回折格子6’1と第2直線回折格子6’2との傾き角の差|β1−β2|は、限定的ではないが、30°〜90°の範囲に設定するのが望ましい。 As shown in FIG. 2, the first linear diffraction grating 6 ′ 1 and the second linear diffraction grating 6 ′ 2 have different inclination angles (β 1 ≠ β 2 ), or whether the grating pitches of the diffraction gratings are different. It is chosen to satisfy at least one. Of course, the grating pitch of the first linear diffraction grating 6 ′ 1 and the second linear diffraction grating 6 ′ 2 is set sufficiently smaller than the repetition pitch d of the stripe pair 6. Usually, the grating pitch of the diffraction gratings 6 ′ 1 and 6 ′ 2 is in the range of 0.5 μm to 2 μm. Moreover, the difference in inclination angle | β 1 −β 2 | between the first linear diffraction grating 6 ′ 1 and the second linear diffraction grating 6 ′ 2 is not limited, but is set in a range of 30 ° to 90 °. Is desirable.

以上のように、本発明の光回折構造による隠しパターンを含む部分表示面2を並列集合して構成する表示単位領域5は、直線回折格子6’1、6’2と、それらの直線回折格子によって構成される第1波線縞61、第2波線縞62の縞対6との二重構造を持つものであり、その二重構造に特徴があるものである。 As described above, the display unit region 5 formed by arranging the partial display surfaces 2 including the hidden pattern by the light diffraction structure of the present invention in parallel includes the linear diffraction gratings 6 ′ 1 and 6 ′ 2 and their linear diffraction gratings. The first wavy stripe 6 1 and the second wavy stripe 6 2 constituted by a pair of stripes 6 have a double structure, and the double structure is characteristic.

なお、以後の説明において、第1直線回折格子6’1、第2直線回折格子6’2は、特に必要のないとき、何れも直線の用語を省いて、第1回折格子6’1、第2回折格子6’2と呼ぶ。 In the following description, the first linear diffraction grating 6 '1, second linear diffraction grating 6' 2, especially when not needed, either be omitted linear terms, the first diffraction grating 6 '1, the It referred to as a second diffraction grating 6 '2.

図4は、第1実施形態の光回折構造による隠しパターンを含む部分表示面2の拡大図である。   FIG. 4 is an enlarged view of the partial display surface 2 including a hidden pattern by the light diffraction structure of the first embodiment.

図4に示すように、部分表示面2においては、表示パターンとしては、背景の中央部の文字"H"の部分を除いた第1の領域11と、中央部の文字"H"の第2の領域12と、を有する。ここで、文字"H"が隠しパターンとして構成されるものである。   As shown in FIG. 4, on the partial display surface 2, the display pattern includes a first area 11 excluding a portion of the character “H” in the center of the background and a second of the character “H” in the center. Region 12. Here, the letter “H” is configured as a hidden pattern.

図5は、図4の破線で囲まれたA部分の拡大図である。   FIG. 5 is an enlarged view of a portion A surrounded by a broken line in FIG.

非隠しパターン領域11を構成する第1波線縞111a、第2波線縞111b(第1縞対111)の傾き角α11は、例えば45°に選択される。また、隠しパターン領域12を構成する第1波線縞121a、第2波線縞121b(第2縞対121)の傾き角α12は、例えば135°に選択される。なお、第1実施形態では、非隠しパターン領域11の縞対111の繰り返しピッチd11及び隠しパターン領域11の縞対121の繰り返しピッチd12は、等しく設定される。 The inclination angle α 11 of the first wavy stripe 11 1a and the second wavy stripe 11 1b (first stripe pair 11 1 ) constituting the non-hidden pattern region 11 is selected to be 45 °, for example. In addition, the inclination angle α 12 of the first wavy stripe 12 1a and the second wavy stripe 12 1b (second stripe pair 12 1 ) constituting the hidden pattern region 12 is selected to be, for example, 135 °. In the first embodiment, the repetition pitch d 11 of the stripe pair 11 1 of the non-hidden pattern region 11 and the repetition pitch d 12 of the stripe pair 12 1 of the hidden pattern region 11 are set equal.

非隠しパターン領域11の第1波線縞111aの第1回折格子11’1aは、傾き角β11a=0°に選択されている。また、非隠しパターン領域11の第2波線縞111bの第2回折格子11’1bは、傾き角β11b=45°に選択されている。 The first diffraction grating 11 ′ 1a of the first wavy stripe 11 1a in the non-hidden pattern region 11 is selected at an inclination angle β 11a = 0 °. In addition, the second diffraction grating 11 ′ 1b of the second wavy stripe 11 1b in the non-hidden pattern region 11 is selected at an inclination angle β 11b = 45 °.

隠しパターン領域12の第1波線縞121aの第1回折格子12’1aは、傾き角β12a=0°に選択されている。また、隠しパターン領域12の第2波線縞121bの第2回折格子12’1bは、傾き角β12b=45°に選択されている。 The first diffraction grating 12 ′ 1a of the first wavy stripe 12 1a in the hidden pattern region 12 is selected at an inclination angle β 12a = 0 °. In addition, the second diffraction grating 12 ′ 1b of the second wavy stripe 12 1b in the hidden pattern region 12 is selected at an inclination angle β 12b = 45 °.

すなわち、第1実施形態の表示面2においては、傾き角β11a=0°の非隠しパターン領域11の第1回折格子11’1a及び隠しパターン領域12の第1回折格子12’1a、並びに、傾き角β11b=45°の非隠しパターン領域11の第2回折格子11’1b及び隠しパターン領域12の第2回折格子12’1b、をそれぞれほぼ同じ割合で含む。 That is, on the display surface 2 of the first embodiment, the first diffraction grating 11 ′ 1a of the non-hidden pattern region 11 having the inclination angle β 11a = 0 °, the first diffraction grating 12 ′ 1a of the hidden pattern region 12, and the second diffraction grating 11 '1b and the second diffraction grating 12 of the hidden pattern region 12' 1b of the non-hidden pattern region 11 of the tilt angle β 11b = 45 °, respectively comprise substantially the same rate.

また、第1実施形態の非隠しパターン領域11の縞対111の傾き角α11と隠しパターン領域12の縞対121の傾き角α12は、異なる。さらに、非隠しパターン領域11の縞対111の繰り返しピッチd11及び隠しパターン領域12の縞対121の繰り返しピッチd12は、d11,d12≦1/5mmを満たすように等しく設定される。なお、縞対111の繰り返しピッチd11と縞対121の繰り返しピッチd12は、異なってもよい。 Further, the tilt angle alpha 12 stripe pair 12 1 of the pattern regions 12 and hidden stripe pair 11 1 of the inclination angle alpha 11 of the non-hidden pattern area 11 of the first embodiment is different. Moreover, the repetition pitch d 11 and repetition pitch d 12 of stripe pair 12 1 of the hidden pattern area 12 of the stripe pair 11 1 of the non-hidden pattern region 11 are equal is set to satisfy d 11, d 12 ≦ one / 5 mm The Incidentally, the repetition pitch d 12 repetition pitch d 11 and stripe pair 12 1 of the stripe pair 11 1 may be different.

そして、非隠しパターン領域11の第1回折格子11’1aの傾き角β11a及び隠しパターン領域12の第1回折格子12’1aの傾き角β12aを0°、非隠しパターン領域11の第2回折格子11’1bの傾き角β11b及び隠しパターン領域12の第2回折格子12’1bの傾き角β12bを45°とそれぞれ共通にしたので、通常の目視状態では相互に判別できない。 The inclination angle β 11a of the first diffraction grating 11 ′ 1a in the non-hidden pattern area 11 and the inclination angle β 12a of the first diffraction grating 12 ′ 1a in the hidden pattern area 12 are 0 °, and the second angle of the non-hidden pattern area 11 is 2nd. Since the inclination angle β 11b of the diffraction grating 11 ′ 1b and the inclination angle β 12b of the second diffraction grating 12 ′ 1b in the hidden pattern region 12 are 45 ° in common, they cannot be distinguished from each other in a normal visual state.

したがって、後記する判別具を用いない通常の目視状態では、表示面2全体は均一な明るさの何ら表示パターンのない状態に観察され、隠し文字"H"は判別不可能である。   Therefore, in a normal visual state without using a discriminator described later, the entire display surface 2 is observed in a state where there is no display pattern with uniform brightness, and the hidden character “H” cannot be discriminated.

図6は、図4の部分表示面の隠しパターンを判別するための判別具の一例の平面図である。   FIG. 6 is a plan view of an example of a discriminator for discriminating a hidden pattern on the partial display surface of FIG.

判別具20は、平行な直線透明部20aと直線不透明部20bとの繰り返しパターンであって、その繰り返しピッチが表示面2の縞対121の繰り返しピッチd12と等しいピッチd20を有し、直線透明部20a、直線不透明部20bの基準線Sに対する傾き角α20が、隠しパターン領域12の縞対121の傾き角α12と同じ135°を有する。 The discriminator 20 is a repeating pattern of parallel straight transparent portions 20a and straight opaque portions 20b, and the repeating pitch has a pitch d 20 equal to the repeating pitch d 12 of the stripe pair 12 1 on the display surface 2, The inclination angle α 20 with respect to the reference line S of the straight transparent portion 20 a and the straight opaque portion 20 b has the same 135 ° as the inclination angle α 12 of the stripe pair 12 1 of the hidden pattern region 12.

図7は判別具を図4の部分表示面に重ね合わせた状態を示す図、図8は図4の部分表示面から判別される隠しパターンを示す図である。   7 is a diagram showing a state in which the discriminating tool is superimposed on the partial display surface of FIG. 4, and FIG. 8 is a diagram showing a hidden pattern discriminated from the partial display surface of FIG.

図7に示すように、図6に示すような判別具20を、図4の部分表示面2に近接あるいは密着して重ね合わせると、隠しパターン領域12では、図5に示した縞対121の第1波線縞121a又は第2波線縞121bの傾き角α12=135°が、判別具20の直線透明部20a、直線不透明部20bの基準線Sに対する傾き角α20=135°と同一なので、モアレ現象が生じる。 As shown in FIG. 7, when the discriminating tool 20 shown in FIG. 6 is superposed close to or in close contact with the partial display surface 2 of FIG. 4, in the hidden pattern region 12, the stripe pair 12 1 shown in FIG. The inclination angle α 12 = 135 ° of the first wavy stripe 12 1a or the second wavy stripe 12 1b is the inclination angle α 20 = 135 ° with respect to the reference line S of the straight transparent portion 20a and the straight opaque portion 20b of the discriminating tool 20. Since they are the same, a moire phenomenon occurs.

このモアレ現象により、隠しパターン領域12の縞対121の第1波線縞121a又は第2波線縞121bのいずれか一方が直線透明部20aに略対応し、他方が直線不透明部20bに略対応することになる結果、隠しパターン領域12の第1回折格子12’1a又は第2回折格子12’1bの一方による回折光が回折方向に回折される。 The Moire phenomenon, either the first wavy fringe 12 1a and the second wavy stripes 12 1b stripe pair 12 1 of the hidden pattern region 12 is substantially corresponding to the linear transparent portion 20a, substantially to the other linear opaque portion 20b As a result, the diffracted light by one of the first diffraction grating 12 ′ 1a and the second diffraction grating 12 ′ 1b in the hidden pattern region 12 is diffracted in the diffraction direction.

これに対して、非隠しパターン領域11では、縞対111の第1波線縞111a又は第2波線縞111bの傾き角α11=45°が、判別具20の直線透明部20a、直線不透明部20bの基準線Sに対する傾き角α20=135°に対して大きく異なるので、何らモアレ現象が起きない。 On the other hand, in the non-hidden pattern region 11, the inclination angle α 11 = 45 ° of the first wavy stripe 11 1a or the second wavy stripe 11 1b of the stripe pair 11 1 is equal to the straight transparent portion 20a of the discriminator 20 and the straight line. Since the inclination angle α 20 = 135 ° with respect to the reference line S of the opaque portion 20b is greatly different, no moire phenomenon occurs.

したがって、隠しパターン領域12において直線不透明部20bで隠されなかった第1回折格子12’1a又は第2回折格子12’1bが直線透明部20aを介して略半分の密度で露出され、略半分の回折強度で同じ方向に回折光を回折する。 Therefore, the first diffraction grating 12 ′ 1a or the second diffraction grating 12 ′ 1b that is not hidden by the straight opaque portion 20b in the hidden pattern region 12 is exposed through the straight transparent portion 20a at a substantially half density, and is substantially half. Diffracted light is diffracted in the same direction with diffraction intensity.

その結果、図8に示すように、部分表示面2のうち、隠しパターン領域12が相対的により明るく、非隠しパターン領域11が相対的により暗く観察され、この例では隠し文字"H"が判別可能となる。   As a result, as shown in FIG. 8, in the partial display surface 2, the hidden pattern area 12 is observed to be relatively brighter and the non-hidden pattern area 11 is observed to be relatively darker. In this example, the hidden character “H” is discriminated. It becomes possible.

図9は、第2実施形態の光回折構造による隠しパターンを含む部分表示面2の拡大図である。   FIG. 9 is an enlarged view of the partial display surface 2 including a hidden pattern by the light diffraction structure of the second embodiment.

図9に示すように、部分表示面2においては、表示パターンとしては、背景の中央部の文字"H"の部分を除いた非隠しパターン領域11と、中央部の文字"H"の隠しパターン領域12と、を有する。ここで、文字"H"が隠しパターンとして構成されるものである。   As shown in FIG. 9, on the partial display surface 2, the display patterns include a non-hidden pattern region 11 excluding the portion of the character “H” in the central portion of the background and a hidden pattern of the character “H” in the central portion. And region 12. Here, the letter “H” is configured as a hidden pattern.

図10は、図9の破線で囲まれたB部分の拡大図である。   FIG. 10 is an enlarged view of a portion B surrounded by a broken line in FIG.

非隠しパターン領域11を構成する第1波線縞111a、第2波線縞111b(縞対111)の繰り返しピッチをd11とし、隠しパターン領域12を構成する第1波線縞121a、第2波線縞121b(縞対121)の繰り返しピッチd12とする。なお、第2実施形態では、非隠しパターン領域11の縞対111の傾き角度α11及び隠しパターン領域12の縞対121の傾き角度α12は、共に45°に設定される。 The first wavy stripes 11 1a and the second wavy stripes 11 1b (striped pair 11 1 ) constituting the non-hidden pattern region 11 have a repetition pitch d 11, and the first wavy stripes 12 1a and second The repetition pitch d 12 of the two wavy stripes 12 1b (stripe pair 12 1 ) is used. In the second embodiment, the inclination angle α 11 of the stripe pair 11 1 of the non-hidden pattern region 11 and the inclination angle α 12 of the stripe pair 12 1 of the hidden pattern region 12 are both set to 45 °.

非隠しパターン領域11の第1波線縞111aの第1回折格子11’1aは、傾き角β11a=0°に選択されている。また、非隠しパターン領域11の第2波線縞111bの第2回折格子11’1bは、傾き角β11b=45°に選択されている。 The first diffraction grating 11 ′ 1a of the first wavy stripe 11 1a in the non-hidden pattern region 11 is selected at an inclination angle β 11a = 0 °. In addition, the second diffraction grating 11 ′ 1b of the second wavy stripe 11 1b in the non-hidden pattern region 11 is selected at an inclination angle β 11b = 45 °.

隠しパターン領域12の第1波線縞121aの第1回折格子12’1aは、傾き角β12a=0°に選択されている。また、隠しパターン領域12の第2波線縞121bの第2回折格子12’1bは、傾き角β12b=45°に選択されている。 The first diffraction grating 12 ′ 1a of the first wavy stripe 12 1a in the hidden pattern region 12 is selected at an inclination angle β 12a = 0 °. In addition, the second diffraction grating 12 ′ 1b of the second wavy stripe 12 1b in the hidden pattern region 12 is selected at an inclination angle β 12b = 45 °.

すなわち、第2実施形態の表示面2においては、傾き角β11a=0°の非隠しパターン領域11の第1回折格子11’1a及び隠しパターン領域12の第1回折格子12’1a、傾き角β11b=45°の非隠しパターン領域11の第2回折格子11’1b及び隠しパターン領域12の第2回折格子12’1b、を同じ割合で含むものである。 That is, in the display surface 2 of the second embodiment, 1a first diffraction grating 11 'first diffraction grating 12 of 1a and hidden pattern region 12' of the non-hidden pattern region 11 of the inclination angle beta 11a = 0 °, tilt angle The second diffraction grating 11 ′ 1b of the non-hidden pattern region 11 of β 11b = 45 ° and the second diffraction grating 12 ′ 1b of the hidden pattern region 12 are included at the same ratio.

また、第1実施形態では、非隠しパターン領域11の縞対111の繰り返しピッチd11及び隠しパターン領域12の縞対121 の繰り返しピッチd12が異なる。また、非隠しパターン領域11の縞対111 の傾き角α11及び隠しパターン領域12の縞対121 の傾き角α12は、45°を満たすように設定される。 In the first embodiment, the repetition pitch d 11 of the stripe pair 11 1 in the non-hidden pattern region 11 and the repetition pitch d 12 of the stripe pair 12 1 in the hidden pattern region 12 are different. Further, the tilt angle alpha 12 striped pairs 12 1 non-hidden stripe pair of pattern regions 11 11 1 tilt angle alpha 11 and a hidden pattern region 12 is set so as to satisfy the 45 °.

そして、非隠しパターン領域11の第1回折格子11’1aの傾き角β11a及び隠しパターン領域12の第1回折格子12’1aの傾き角β12aを0°、非隠しパターン領域11の第2回折格子11’1bの傾き角β11b及び隠しパターン領域12の第2回折格子12’1bの傾き角β12b を45°とそれぞれ共通にしたので、通常の目視状態では相互に判別できない。 The inclination angle β 11a of the first diffraction grating 11 ′ 1a in the non-hidden pattern area 11 and the inclination angle β 12a of the first diffraction grating 12 ′ 1a in the hidden pattern area 12 are 0 °, and the second angle of the non-hidden pattern area 11 is 2nd. Since the inclination angle β 11b of the diffraction grating 11 ′ 1b and the inclination angle β 12b of the second diffraction grating 12 ′ 1b in the hidden pattern region 12 are 45 ° in common, they cannot be distinguished from each other in a normal visual state.

したがって、後記する判別具を用いない通常の目視状態では、表示面2全体は均一な明るさの何ら表示パターンのない状態に観察され、隠し文字"H"は判別不可能である。   Therefore, in a normal visual state without using a discriminator described later, the entire display surface 2 is observed in a state where there is no display pattern with uniform brightness, and the hidden character “H” cannot be discriminated.

図11は、図9の部分表示面の隠しパターンを判別するための判別具の一例の平面図である。   FIG. 11 is a plan view of an example of a discriminator for discriminating a hidden pattern on the partial display surface of FIG.

判別具21は、平行な直線透明部21aと直線不透明部21bとの繰り返しパターンであって、その繰り返しピッチが表示面2の隠しパターン領域12の縞対121の繰り返しピッチd12と同じピッチd21を有し、直線透明部21a、直線不透明部21bの基準線Sに対する傾き角αが、隠しパターン領域12の縞対121の傾き角α12と同じ傾き角α21=45°を有する。 The discriminator 21 is a repetitive pattern of parallel straight transparent portions 21 a and straight opaque portions 21 b, and the repetitive pitch thereof is the same pitch d as the repetitive pitch d 12 of the stripe pair 12 1 of the hidden pattern region 12 of the display surface 2. It has 21, linear transparent portion 21a, the inclination angle alpha with respect to the reference line S of the straight opaque portions 21b, have the same inclination angle alpha 21 = 45 ° and the inclination angle alpha 12 stripe pair 12 1 of the hidden pattern region 12.

図12は判別具を図9の部分表示面に重ね合わせた状態を示す図、図13は図9の部分表示面から判別される隠しパターンを示す図である。   12 is a diagram showing a state in which the discriminating tool is superimposed on the partial display surface of FIG. 9, and FIG. 13 is a diagram showing a hidden pattern discriminated from the partial display surface of FIG.

図12に示すように、図11に示すような判別具21を、図9の部分表示面2に近接あるいは密着して重ね合わせると、図10に示した隠しパターン領域12では、縞対121の第1波線縞121a又は第2波線縞121bの傾き角α12=45°が、判別具20の直線透明部21a、直線不透明部21bの基準線Sに対する傾き角α21=45°と同一で有ると共に、縞対121の繰り返しピッチd12が判別具20の直線透明部21aと直線不透明部21bとの繰り返しピッチd21と同じなので、モアレ現象が生じる。 As shown in FIG. 12, the discrimination device 21 as shown in FIG. 11, when superimposed in proximity or contact to the partial display surface 2 in FIG. 9, the hidden pattern region 12 shown in FIG. 10, stripe pair 12 1 The inclination angle α 12 = 45 ° of the first wavy stripe 12 1a or the second wavy stripe 12 1b is the inclination angle α 21 = 45 ° with respect to the reference line S of the straight transparent portion 21a and the straight opaque portion 21b of the discrimination tool 20. with the same, since the repetition pitch d 12 striped pairs 12 1 is the same as the repetition pitch d 21 of the linear transparent portion 21a and a linear non-transparent portion 21b of the discrimination member 20, the moire phenomenon occurs.

このモアレ現象により、縞対121の第1波線縞121a又は第2波線縞121bのいずれか一方が直線透明部21aに略対応し、他方が直線不透明部21bに略対応することになる結果、第1回折格子12’1a又は第2回折格子12’1bの一方による回折光が回折方向に回折される。 Due to this moire phenomenon, either the first wavy stripe 12 1a or the second wavy stripe 12 1b of the stripe pair 12 1 substantially corresponds to the straight transparent portion 21a, and the other substantially corresponds to the straight opaque portion 21b. As a result, the diffracted light by one of the first diffraction grating 12 ′ 1a or the second diffraction grating 12 ′ 1b is diffracted in the diffraction direction.

これに対して、非隠しパターン領域11では、図10に示した第1縞対111の第1波線縞111a又は第2波線縞111bの繰り返しピッチd11が、図11に示した判別具21の直線透明部21aと直線不透明部21bとの繰り返しピッチd21に対して異なるので、何らモアレ現象が起きない。 In contrast, the determination in the non-hidden pattern region 11, the repetition pitch d 11 of the first stripe pair 11 1 of the first wavy fringe 11 1a or the second wavy fringe 11 1b shown in FIG. 10, as shown in FIG. 11 Since it differs with respect to the repeating pitch d 21 between the linear transparent portion 21a and the linear opaque portion 21b of the tool 21, no moire phenomenon occurs.

したがって、隠しパターン領域12において直線不透明部21bで隠されなかった第1回折格子12’1a又は第2回折格子12’1bが直線透明部21aを介して略半分の密度で露出され、略半分の回折強度で同じ方向に回折光を回折する。 Accordingly, the first diffraction grating 12 ′ 1a or the second diffraction grating 12 ′ 1b that is not hidden by the straight opaque portion 21b in the hidden pattern region 12 is exposed through the straight transparent portion 21a at a substantially half density, and is substantially half. Diffracted light is diffracted in the same direction with diffraction intensity.

その結果、図13に示すように、部分表示面2のうち、隠しパターン領域12が相対的により明るく、非隠しパターン領域11が相対的により暗く観察され、この例では隠し文字"H"が判別可能となる。   As a result, as shown in FIG. 13, in the partial display surface 2, the hidden pattern area 12 is observed to be relatively brighter and the non-hidden pattern area 11 is observed to be relatively darker. In this example, the hidden character “H” is discriminated. It becomes possible.

次に、第3実施形態について説明する。   Next, a third embodiment will be described.

図14は、第3実施形態の光回折構造による隠しパターンを含む部分表示面2の拡大図である。   FIG. 14 is an enlarged view of the partial display surface 2 including a hidden pattern by the light diffraction structure of the third embodiment.

この表示面2においては、表示パターンとしては、中央部に四角形パターンと、その背景の長方形から中央部の四角形領域を除いたパターンと、それらに重畳している文字"H"とからなる。ここで、文字"H"が隠しパターンとして構成されるものである。   On the display surface 2, the display pattern includes a square pattern at the center, a pattern obtained by removing the square area at the center from the background rectangle, and the letter “H” superimposed on them. Here, the letter “H” is configured as a hidden pattern.

そして、この表示面2において、並列配置される領域は次のようになる。
・第1非隠しパターン領域11a:長方形から中央部四角形領域と文字"H"とを除いた領域
・第1隠しパターン領域12a:文字"H"で中央部四角形領域から外に出た領域
・第2非隠しパターン領域11b:中央部四角形領域の文字"H"と重ならない領域
・第2隠しパターン領域12b:中央部四角形領域の文字"H"の領域
And the area | region arrange | positioned in parallel on this display surface 2 is as follows.
The first non-hidden pattern area 11a: an area obtained by removing the central square area and the letter “H” from the rectangle. • the first hidden pattern area 12a: an area extending out of the central square area by the letter “H”. 2 Non-hidden pattern area 11b: Area that does not overlap with the letter “H” in the central square area Second hidden pattern area 12b: Area of the letter “H” in the central square area

すなわち、第1非隠しパターン領域11a、第1隠しパターン領域12a、第2非隠しパターン領域11b、及び第2隠しパターン領域12bの4つのパターンが並列して、表示面2を構成している。隠しパターンの文字"H"は、第1隠しパターン領域12aと第2隠しパターン領域12bが並列して構成されている。   That is, four patterns of the first non-hidden pattern region 11a, the first hidden pattern region 12a, the second non-hidden pattern region 11b, and the second hidden pattern region 12b constitute the display surface 2 in parallel. The hidden pattern character “H” includes a first hidden pattern region 12a and a second hidden pattern region 12b arranged in parallel.

図15は、図14の破線で囲まれたC部分の拡大図である。   FIG. 15 is an enlarged view of a portion C surrounded by a broken line in FIG.

文字パターン"H"以外の第1非隠しパターン領域11aでは、第1波線縞11a1a、第2波線縞11a1b(縞対11a1)の傾き角α11aを45°に選択する。同様に、文字パターン"H"以外の第2非隠しパターン領域11bでは、第1波線縞11b1a、第2波線縞11b1b(縞対11b1)の傾き角α11bを45°に選択する。 In the first non-hidden pattern region 11a other than the character pattern “H”, the inclination angle α 11a of the first wavy stripe 11a 1a and the second wavy stripe 11a 1b (the stripe pair 11a 1 ) is selected to be 45 °. Similarly, in the second non-hidden pattern region 11b other than the character pattern “H”, the inclination angle α 11b of the first wavy stripe 11b 1a and the second wavy stripe 11b 1b (the stripe pair 11b 1 ) is selected to be 45 °.

文字パターンHを構成する第1隠しパターン領域12aでは、第1波線縞12a1a、第2波線縞12a1b(縞対12a1)の傾き角α12aを135°に選択する。同様に、文字パターンHを構成する第2隠しパターン領域12bでは、第1波線縞12b1a、第2波線縞12b1b(縞対12b1)の傾き角α12bを135°に選択する。 In the first hidden pattern region 12a constituting the character pattern H, the inclination angle α 12a of the first wavy stripe 12a 1a and the second wavy stripe 12a 1b (the stripe pair 12a 1 ) is selected to be 135 °. Similarly, in the second hidden pattern region 12b constituting the character pattern H, the inclination angle α 12b of the first wavy stripe 12b 1a and the second wavy stripe 12b 1b (the stripe pair 12b 1 ) is selected to be 135 °.

さらに、第3実施形態では、第1非隠しパターン領域11aの縞対11a1、第2非隠しパターン領域11bの縞対11b1、第1隠しパターン領域12aの縞対12a1、及び第2隠しパターン領域12bの縞対12b1の繰り返しピッチdは、全て同じに設定される。 Furthermore, in the third embodiment, the stripe pair 11a 1 of the first non-hidden pattern area 11a, the stripe pair 11b 1 of the second non-hidden pattern area 11b, the stripe pair 12a 1 of the first hidden pattern area 12a, and the second hidden pattern. The repetition pitch d of the stripe pair 12b 1 in the pattern region 12b is all set to be the same.

中央部四角形の外側の第1非隠しパターン領域11aでは、第1波線縞11a1aの第1回折格子11’a1aの傾き角β11a1は、0°、第2波線縞11a1bの第2回折格子11’a1bの傾き角β11a2は、45°に設定する。また、中央部四角形の内側の第2非隠しパターン領域11bでは、第1波線縞11b1aの第1回折格子11’b1aの傾き角β11b1は、90°、第2波線縞11b1bの第2回折格子11’b1bの傾き角β11b2は、135°に設定する。 In the first non-hidden pattern region 11a outside the central square, the inclination angle β 11a1 of the first diffraction grating 11′a 1a of the first wavy stripe 11a 1a is 0 °, and the second diffraction of the second wavy stripe 11a 1b . The inclination angle β 11a2 of the grating 11′a 1b is set to 45 °. In addition, in the second non-hidden pattern region 11b inside the central square, the inclination angle β 11b1 of the first diffraction grating 11′b 1a of the first wavy stripe 11b 1a is 90 ° and the second wavy stripe 11b 1b The inclination angle β 11b2 of the two diffraction gratings 11′b 1b is set to 135 °.

中央部四角形の外側の第1隠しパターン領域12aでは、第1波線縞12a1aの第1回折格子12’a1aの傾き角β12a1は、0°、第2波線縞12a1bの第2回折格子12’a1bの傾き角β12a2は、45°に設定する。また、中央部四角形の内側の第2隠しパターン領域12bでは、第1波線縞12b1aの第1回折格子12’b1aの傾き角β12b1は、90°、第2波線縞12b1bの第2回折格子12’b1bの傾き角β12b2は、135°に設定する。 In the first hidden pattern region 12a outside the central square, the inclination angle β 12a1 of the first diffraction grating 12′a 1a of the first wavy stripe 12a 1a is 0 °, and the second diffraction grating of the second wavy stripe 12a 1b . The inclination angle β 12a2 of 12′a 1b is set to 45 °. In addition, in the second hidden pattern region 12b inside the center square, the inclination angle β 12b1 of the first diffraction grating 12′b 1a of the first wavy stripe 12b 1a is 90 °, and the second wavy stripe 12b 1b is the second of the second wavy stripe 12b 1b . The inclination angle β 12b2 of the diffraction grating 12′b 1b is set to 135 °.

図16は、部分表示面2を目視によって見た図である。   FIG. 16 is a view of the partial display surface 2 as viewed visually.

図15に示したように、中央部四角形の外側の第1非隠しパターン領域11aの第1回折格子11’a1a(傾き角β11a1=0°)及び第2回折格子11’a1b(傾き角β11a2=45°)、並びに、第1隠しパターン領域12aの第1回折格子12’a1a(傾き角β12a1=0°)及び第2回折格子12’a1b(傾き角β12a2=45°)は、それぞれ同じ割合で含まれる。したがって、図16の13aに示すように、第1の図柄として通常の目視状態では同じ明るさで同じ色の一様領域に見える。 As shown in FIG. 15, the first diffraction grating 11′a 1a (inclination angle β 11a1 = 0 °) and the second diffraction grating 11′a 1b (inclination) of the first non-hidden pattern region 11a outside the central square. angle β 11a2 = 45 °), and, the first diffraction grating 12'a 1a (inclination angle β 12a1 = 0 °) and a second diffraction grating 12'a 1b (tilt angle beta 12a2 = 45 in the first hidden pattern area 12a °) are included in the same proportions. Therefore, as shown by 13a in FIG. 16, the first pattern appears as a uniform area of the same color with the same brightness in a normal viewing state.

同様に、図15に示したように、中央部四角形の内側の第2非隠しパターン領域11bの第1回折格子11’b1a(傾き角β11b1=90°)及び第2回折格子11’b1b(傾き角β11b2=135°)、並びに、第2隠しパターン領域12bの第1回折格子12’b1a(傾き角β12b1=90°)及び第2回折格子12’b1b(傾き角β12b2=135°)は、それぞれ同じ割合で含まれる。したがって、図16の13bに示すように、第2の図柄として通常の目視状態では同じ明るさで同じ色の一様領域に見える。 Similarly, as shown in FIG. 15, the first diffraction grating 11′b 1a (inclination angle β 11b1 = 90 °) and the second diffraction grating 11′b in the second non-hidden pattern region 11b inside the central square. 1b (inclination angle β 11b2 = 135 °), and the first diffraction grating 12′b 1a (inclination angle β 12b1 = 90 °) and second diffraction grating 12′b 1b (inclination angle β) in the second hidden pattern region 12b. 12b2 = 135 °) are included at the same rate. Accordingly, as shown in 13b of FIG. 16, the second pattern appears as a uniform region of the same color with the same brightness in a normal viewing state.

このような部分表示面2に、図6に平面図を示すような平行な直線透明部20aと直線不透明部20bとの繰り返しパターンであって、その繰り返しピッチdが表示面2の縞対の繰り返しピッチdと同じであり、直線透明部20aと直線不透明部20bの基準線Sに対する傾き角α=135°が、隠し文字パターン“H”を構成する第1隠しパターン領域12aの縞対12a1及び第2隠しパターン領域12bの縞対12b1の傾き角と同じ135°の判別具20を近接あるいは密着して重ね合わせるとモアレ現象が生じる。 Such a partial display surface 2 has a repetitive pattern of parallel linear transparent portions 20a and straight opaque portions 20b as shown in a plan view in FIG. It is the same as the pitch d, and the inclination angle α = 135 ° with respect to the reference line S of the straight transparent portion 20a and the straight opaque portion 20b is the stripe pair 12a 1 of the first hidden pattern region 12a constituting the hidden character pattern “H” and superposition of the second hidden pattern region 12b discrimination device 20 of the same 135 ° and the inclination angle of the fringes pair 12b 1 of the proximity or contact to the moire phenomenon.

このモアレ現象により、第1隠しパターン領域12aの縞対12a1の第1波線縞12a1a又は第2波線縞12a1bのいずれか一方が直線透明部20aに略対応し、他方が直線不透明部20bに略対応することになる結果、第1隠しパターン領域12aの第1回折格子12’a1a又は第2回折格子12’a1bの一方による回折光が回折方向に回折される。 Due to this moire phenomenon, one of the first wavy stripe 12a 1a and the second wavy stripe 12a 1b of the stripe pair 12a 1 of the first hidden pattern region 12a substantially corresponds to the straight transparent portion 20a, and the other corresponds to the straight opaque portion 20b. As a result, the diffracted light by one of the first diffraction grating 12′a 1a or the second diffraction grating 12′a 1b in the first hidden pattern region 12a is diffracted in the diffraction direction.

また、同様に、第2隠しパターン領域12bの縞対12b1の第1波線縞12b1a又は第2波線縞12b1bのいずれか一方が直線透明部20aに略対応し、他方が直線不透明部20bに略対応することになる結果、第2隠しパターン領域12bの第1回折格子12’b1a又は第2回折格子12’b1bの一方による回折光が回折方向に回折される。 Similarly, either the first wavy stripe 12b 1a or the second wavy stripe 12b 1b of the stripe pair 12b 1 of the second hidden pattern region 12b substantially corresponds to the straight transparent portion 20a, and the other corresponds to the straight opaque portion 20b. As a result, the diffracted light by one of the first diffraction grating 12′b 1a or the second diffraction grating 12′b 1b in the second hidden pattern region 12b is diffracted in the diffraction direction.

これに対して、第1非隠しパターン領域11aでは、縞対11a1の第1波線縞11a1a又は第2波線縞11a1bの傾き角α11a=45°が、判別具20の直線透明部20a、直線不透明部20bの基準線Sに対する傾き角α=135°に対して大きく異なるので、何らモアレ現象が起きない。 On the other hand, in the first non-hidden pattern region 11a, the inclination angle α 11a = 45 ° of the first wavy stripe 11a 1a or the second wavy stripe 11a 1b of the stripe pair 11a 1 is the linear transparent portion 20a of the discriminator 20. Since the inclination angle α of the straight opaque portion 20b with respect to the reference line S is significantly different from 135 °, no moire phenomenon occurs.

同様に、第2非隠しパターン領域11bでは、縞対11b1の第1波線縞11b1a又は第2波線縞11b1bの傾き角α11b=45°が、判別具20の直線透明部20a、直線不透明部20bの基準線Sに対する傾き角α=135°に対して大きく異なるので、何らモアレ現象が起きない。 Similarly, in the second non-hidden pattern region 11b, the inclination angle α 11b = 45 ° of the first wavy stripe 11b 1a or the second wavy stripe 11b 1b of the stripe pair 11b 1 is the straight transparent portion 20a, straight line Since the inclination angle α of the opaque portion 20b with respect to the reference line S is significantly different from 135 °, no moire phenomenon occurs.

したがって、第1隠しパターン領域12aにおいて直線不透明部20bで隠されなかった第1回折格子12’a1a又は第2回折格子12’a1b、並びに、第2隠しパターン領域12bにおいて直線不透明部20bで隠されなかった第1回折格子12’b1a又は第2回折格子12’b1bが直線透明部20aを介して略半分の密度で露出され、略半分の回折強度で同じ方向に回折光を回折する。 Accordingly, the first diffraction grating 12′a 1a or the second diffraction grating 12′a 1b that is not hidden by the linear opaque portion 20b in the first hidden pattern region 12a, and the linear opaque portion 20b in the second hidden pattern region 12b. The first diffraction grating 12′b 1a or the second diffraction grating 12′b 1b that is not hidden is exposed at approximately half the density through the linear transparent portion 20a, and diffracts the diffracted light in the same direction with approximately half the diffraction intensity. To do.

その結果、図8に示すように、部分表示面2のうち、第1隠しパターン領域12a及び第2隠しパターン領域12bが相対的により明るく、第1非隠しパターン領域11a及び第2非隠しパターン領域11bが相対的により暗く観察され、この例では隠し文字"H"が判別可能となる。   As a result, as shown in FIG. 8, in the partial display surface 2, the first hidden pattern area 12a and the second hidden pattern area 12b are relatively brighter, and the first non-hidden pattern area 11a and the second non-hidden pattern area 11b is observed relatively darker, and in this example, the hidden character “H” can be discriminated.

なお、第1隠しパターン領域12aの縞対12a1の第1波線縞12a1a又は第2波線縞12a1bと、第2隠しパターン領域12bの縞対12b1の第1波線縞12b1a又は第2波線縞12b1bとは、連続して形成されることが好ましい。連続して形成することで、より明るく隠し文字"H"が判別可能となる。 Note that the first wavy stripes 12a 1a or the second wavy stripes 12a 1b stripe pairs 12a 1 of the first hidden pattern area 12a, the first wavy stripes 12b 1a stripe pair 12b 1 of the second hidden pattern region 12b or the second The wavy stripes 12b 1b are preferably formed continuously. By forming them continuously, the hidden character “H” can be distinguished brighter.

図17は、第4実施携帯の光回折構造による隠しパターンを含む部分表示面2の拡大図である。   FIG. 17 is an enlarged view of the partial display surface 2 including a hidden pattern by the light diffraction structure of the fourth embodiment mobile phone.

部分表示面2は、長方形内に正方形領域があり、その長方形内に正方形領域と一部重なるように"H"の文字と"T"の文字を重ならずに並列して描いたものであり、"H"の文字の正方形領域内に位置する文字の内側領域H11(第1図柄の第1隠しパターン領域)と、正方形領域外に位置する文字の内側領域H12(第2図柄の第1隠しパターン領域)と、"T"の文字の正方形領域内に位置する文字の内側領域T11(第1図柄の第2隠しパターン領域)と、正方形領域外に位置する文字の内側領域T12(第2図柄の第2隠しパターン領域)と、正方形領域の"H"の文字及び"T"の文字以外の領域O11(第1図柄の第1非隠しパターン領域)と、正方形領域の外で"H"の文字及び"T"の文字の外側領域O12(第2図柄の第1非隠しパターン領域)とからなるものであり、例えば、以下のように設定する。 The partial display surface 2 has a square area in a rectangle, and the letter “H” and the letter “T” are drawn in parallel so as to partially overlap the square area in the rectangle. , “H” character inner region H 11 (first hidden pattern region of the first pattern) located within the square region and character inner region H 12 (second symbol of the second symbol) located outside the square region. 1 hidden pattern area), an inner area T 11 of the character located within the square area of the character “T” (second hidden pattern area of the first pattern), and an inner area T 12 of the character located outside the square area. (The second hidden pattern area of the second pattern), the area O 11 other than the letters “H” and “T” in the square area (the first non-hidden pattern area of the first pattern), and the outside of the square area From the outer region O 12 (the first non-hidden pattern region of the second pattern) of the characters “H” and “T” For example, it is set as follows.

領域H11
縞対の傾き角:135°
縞対の繰り返しピッチ:0.08mm
第1回折格子の傾き角:0°
第2回折格子の傾き角:45°
領域H12
縞対の傾き角:135°
縞対の繰り返しピッチ:0.08mm
第1回折格子の傾き角:30°
第2回折格子の傾き角:75°
領域T11
縞対の傾き角:45°
縞対の繰り返しピッチ:0.12mm
第1回折格子の傾き角:0°
第2回折格子の傾き角:45°
領域T12
縞対の傾き角:45°
縞対の繰り返しピッチ:0.12mm
第1回折格子の傾き角:30°
第2回折格子の傾き角:75°
領域O11
縞対の傾き角:90°
縞対の繰り返しピッチ :0.16mm
第1回折格子の傾き角:0°
第2回折格子の傾き角:45°
領域O12
縞対の傾き角:90°
縞対の繰り返しピッチ:0.16mm
第1回折格子の傾き角:30°
第2回折格子の傾き角:75°
Region H 11
Tilt angle of stripe pair: 135 °
Repeat pitch of stripe pairs: 0.08mm
Tilt angle of first diffraction grating: 0 °
Tilt angle of second diffraction grating: 45 °
Region H 12
Tilt angle of stripe pair: 135 °
Repeat pitch of stripe pairs: 0.08mm
Tilt angle of the first diffraction grating: 30 °
Tilt angle of second diffraction grating: 75 °
Region T 11
Tilt angle of stripe pair: 45 °
Repeat pitch of stripe pairs: 0.12 mm
Tilt angle of first diffraction grating: 0 °
Tilt angle of second diffraction grating: 45 °
Region T 12
Tilt angle of stripe pair: 45 °
Repeat pitch of stripe pairs: 0.12 mm
Tilt angle of the first diffraction grating: 30 °
Tilt angle of second diffraction grating: 75 °
Region O 11
Tilt angle of stripe pair: 90 °
Repeat pitch of stripe pairs: 0.16 mm
Tilt angle of first diffraction grating: 0 °
Tilt angle of second diffraction grating: 45 °
Region O 12
Tilt angle of stripe pair: 90 °
Repeat pitch of stripe pairs: 0.16 mm
Tilt angle of the first diffraction grating: 30 °
Tilt angle of second diffraction grating: 75 °

このような配置にすると、部分表示面2において、正方形内の領域である領域H11と領域T11と領域O11では、共に何れの領域においても、傾き角0°の第1回折格子と、傾き角45°の第2回折格子とが同じ割合で含まれる。また、表示面2の正方形外の領域である領域H12と領域T12と領域O12では、共に何れの領域においても、傾き角30°の第1回折格子と、傾き角75°の第2回折格子とが同じ割合で含まれる。 With such an arrangement, in the partial display surface 2, the first diffraction grating having an inclination angle of 0 ° in any of the regions H 11 , T 11, and O 11 , which are regions within the square, The second diffraction grating having an inclination angle of 45 ° is included in the same ratio. In each of the areas H 12 , T 12, and O 12 that are areas outside the square of the display surface 2, the first diffraction grating having an inclination angle of 30 ° and the second diffraction grating having an inclination angle of 75 ° are included. The diffraction grating is included in the same ratio.

すなわち、何れも縞対の繰り返しピッチは異なるものの、縞対の繰り返しピッチは1/5mm以下を満たすように設定されるので、通常の目視状態では、表示面2の正方形内の領域は一様に、正方形外の領域も一様に見え、かつ、正方形内と正方形外では回折方向が異なるので、相互に異なった状態に見え判別できる。したがって、判別具を用いない通常の目視状態では、図16に示した形態と同様に、表示面2は長方形内に正方形を含む表示パターンとして観察され、隠し文字"H"と"T"は判別不可能である。   That is, although the repetition pitch of the stripe pair is different in all cases, the repetition pitch of the stripe pair is set to satisfy 1/5 mm or less, so that the area in the square of the display surface 2 is uniform in the normal viewing state. The areas outside the square also appear to be uniform, and the diffraction directions are different between the inside and outside the square, so that they can be seen and distinguished from each other. Therefore, in a normal visual state without using a discriminator, the display surface 2 is observed as a display pattern including a square within a rectangle, and the hidden characters “H” and “T” are discriminated similarly to the form shown in FIG. Impossible.

図18は部分表示面2から隠し文字"H"を判別した状態を示す図である。   FIG. 18 is a diagram illustrating a state where the hidden character “H” is determined from the partial display surface 2.

図6に示したような平行な直線透明部20aと直線不透明部20bとの繰り返しパターンであって、直線透明部20a、直線不透明部20bの傾き角が領域H11と領域H12の縞対の傾き角45°に等しく、その繰り返しピッチが領域H11と領域H12の縞対の繰り返しピッチ0.08mmに等しい判別具20を、部分表示面2に近接あるいは密着して重ね合わせると、領域H11及び領域H12では観察方向に応じてより明るいか暗く見え、それ以外の領域T11、T12、O11、O12では反対に相対的に暗いかより明るく観察され、領域H11、H12と領域T11、T12、O11、O12との間で相互にコントラストがついて観察され、図18に示すように、隠し文字"H"が判別可能となる。なお、"H"の文字の正方形の内側領域H11と外側領域H12の間では、照明光源の位置により、若干明るさや色が相互に異なって見えるが、通常の目視環境では多くの光源や面光源が存在するので、この"H"の文字の内側での明るさや色の違いは、隠し文字"H"を判別するのに邪魔となるものではない。 A repeating pattern of parallel linear transparent portion 20a and a linear non-transparent portion 20b as shown in FIG. 6, the linear transparent portion 20a, the linear opaque portion 20b inclination angle of stripe pairs of region H 11 and the area H 12 When a discriminating tool 20 having an inclination angle of 45 ° and a repetition pitch equal to the repetition pitch of the stripe pair of the region H 11 and the region H 12 of 0.08 mm is brought close to or in close contact with the partial display surface 2, the region H 11 and region H 12 appear brighter or darker depending on the viewing direction, and other regions T 11 , T 12 , O 11 , and O 12 are observed relatively darker or brighter, and regions H 11 , H 12 12 and the regions T 11 , T 12 , O 11 , and O 12 are observed with a mutual contrast, and the hidden character “H” can be discriminated as shown in FIG. Note that the brightness and color look slightly different depending on the position of the illumination light source between the square inner region H 11 and the outer region H 12 of the letter “H”, but in the normal viewing environment, many light sources and Since there is a surface light source, the difference in brightness and color inside the “H” character does not disturb the determination of the hidden character “H”.

図19は、部分表示面2から隠し文字"T"を判別した状態を示す図である。   FIG. 19 is a diagram showing a state where the hidden character “T” is discriminated from the partial display surface 2.

次に、図11に示したような平行な直線透明部21aと直線不透明部21bとの繰り返しパターンであって、直線透明部21a、直線不透明部21bの傾き角が領域T11と領域T12の縞対の傾き角45°に等しく、その繰り返しピッチが領域T11と領域T12の縞対の繰り返しピッチ0.12mmに等しい判別具20を、部分表示面2に近接あるいは密着して重ね合わせると、領域T11、T12では観察方向に応じてより明るいか暗く見え、それ以外の領域H11、H12、O11、O12では反対に相対的に暗いかより明るく観察され、領域T11、T12と領域H11、H12、O11、O12との間で相互にコントラストがついて観察され、図19に示すように、隠し文字"T"が判別可能となる。なお、"T"の文字の正方形の内側領域T11と外側領域T12の間では、照明光源の位置により、若干明るさや色が相互に異なって見えるが、通常の目視環境では多くの光源や面光源が存在するので、この"TB"の文字の内側での明るさや色の違いは、隠し文字"T"を判別するのに邪魔となるものではない。 Next, a repeating pattern of parallel straight transparent portion 21a and a linear non-transparent portion 21b as shown in FIG. 11, the linear transparent portion 21a, the linear opaque portion 21b inclination angle of the region T 11 and the region T 12 When the discriminating tool 20 which is equal to the inclination angle 45 ° of the stripe pair and whose repetition pitch is equal to the repetition pitch 0.12 mm of the stripe pair in the regions T 11 and T 12 is brought close to or in close contact with the partial display surface 2. , appear dark or brighter according to the region T 11, T 12 in the viewing direction, the other regions H 11, H 12, O 11 , O brightly observed from either relatively dark 12 opposite the regions T 11 , T 12 and the regions H 11 , H 12 , O 11 , O 12 are observed with a contrast between them, and the hidden character “T” can be discriminated as shown in FIG. It should be noted that although the brightness and color look slightly different depending on the position of the illumination light source between the square inner region T 11 and the outer region T 12 of the letter “T”, many light sources and Since there is a surface light source, the difference in brightness and color inside the character “TB” does not disturb the determination of the hidden character “T”.

図20は図21の部分表示面の隠しパターンを判別するための判別具の一例の平面図、図21は部分表示面2から隠し文字"H"及び"T"を判別した状態を示す図である。   20 is a plan view of an example of a discriminating tool for discriminating the hidden pattern on the partial display surface of FIG. 21, and FIG. 21 is a diagram showing a state in which the hidden characters “H” and “T” are discriminated from the partial display surface 2. is there.

次に、図20に示したような平行な直線透明部22aと直線不透明部22bとの繰り返しパターンであって、直線透明部22a、直線不透明部22bの傾き角が領域O11と領域O12の縞対の傾き角90°に等しく、その繰り返しピッチが領域O11と領域O12の縞対の繰り返しピッチ0.16mmに等しい判別具22を、部分表示面2に近接あるいは密着して重ね合わせると、領域O11と領域O12では観察方向に応じてより明るいか暗く見え、それ以外の領域H11、H12、T11、T12は相対的に暗いかより明るく観察され、図21に示すように、隠し文字"HT"が判別可能となる。なお、隠し文字"HT"外の領域O11と領域O12の間では、照明光源の位置により、若干明るさや色が相互に異なって見えるが、通常の目視環境では多くの光源や面光源が存在するので、この"隠し文字"HT"外での明るさや色の違いは、隠し文字"HT"を判別するのに邪魔となるものではない。 Next, a repeating pattern of parallel linear transparent portions 22a and linear opaque portions 22b as shown in FIG. 20, where the inclination angles of the linear transparent portions 22a and the linear opaque portions 22b are the regions O 11 and O 12 . When the discriminating tool 22 which is equal to the inclination angle 90 ° of the stripe pair and whose repetition pitch is equal to the repetition pitch 0.16 mm of the stripe pair in the region O 11 and the region O 12 is brought close to or in close contact with the partial display surface 2. The regions O 11 and O 12 appear brighter or darker depending on the viewing direction, and the other regions H 11 , H 12 , T 11 , and T 12 are observed relatively darker or brighter, as shown in FIG. Thus, the hidden character “HT” can be discriminated. It should be noted that although the brightness and color look slightly different depending on the position of the illumination light source between the region O 11 and the region O 12 outside the hidden character “HT”, there are many light sources and surface light sources in a normal viewing environment. Therefore, the difference in brightness and color outside the “hidden character” HT does not disturb the determination of the hidden character “HT”.

次に、第1実施形態〜第4実施形態までの部分表示面2に形成した波線縞の実施例について説明する。   Next, examples of wavy stripes formed on the partial display surface 2 from the first embodiment to the fourth embodiment will be described.

実施例1では、図3に示した波線縞対6の第1波線縞61のピッチd1及び第2波線縞62のピッチd2を85μm、凹凸の高さを60μm又は120μmとし、1mmあたりの凹凸の個数を変化させた際のモアレ模様の視認性を、直線縞と相対的に比較した。なお、以下の表1及び表2中、凹凸個数が0の場合が直線縞の場合に相当し、直線縞の場合の視認性を△とし、直線縞よりも視認しやすい場合を○、さらにしやすい場合を◎、視認しにくい場合を×とする。 In Example 1, the pitch d 2 of the pitch d 1 and the second wavy stripes 6 2 of the first wavy stripes 6 1 wavy stripe pair 6 illustrated in FIG. 3 85 .mu.m, the height of the unevenness and 60μm or 120 [mu] m, 1 mm The visibility of the moiré pattern when the number of the irregularities was changed was relatively compared with the straight stripes. In Table 1 and Table 2 below, the case where the number of irregularities is 0 corresponds to the case of a straight stripe, the visibility in the case of a straight stripe is △, and the case where it is easier to see than the straight stripe is ○. The case where it is easy to observe is ◎, and the case where it is difficult to visually recognize is ×.

表1

凹凸高さ:60μm
凹凸個数 0 0.25 0.5 1 2 5 10
視認性 △ ○ ◎ ◎ ○ ○ △
Table 1

Unevenness height: 60 μm
Number of bumps 0 0.25 0.5 1 2 5 10
Visibility △ ○ ◎ ◎ ○ ○ △

表2

凹凸高さ:120μm
凹凸個数 0 0.25 0.5 1 2 5 10
視認性 △ ○ ◎ ◎ ○ ○ △
Table 2

Unevenness height: 120 μm
Number of bumps 0 0.25 0.5 1 2 5 10
Visibility △ ○ ◎ ◎ ○ ○ △

このように、波線縞の凹凸の高さが60μm及び120μmのどちらの場合でも、直線縞の場合の視認性よりも、波線縞の視認性は良好であった。   As described above, the visibility of the wavy stripes was better than the visibility of the straight stripes in both cases where the height of the irregularities of the wavy stripes was 60 μm and 120 μm.

次に、実施例2では、図3に第1波線縞61のピッチd1及び第2波線縞62のピッチd2を85μm、第1波線縞61及び第2波線縞62の1mmあたりの凹凸の個数を0.5個又は1個とし、凹凸の高さを変化させた際のモアレ模様の視認性を、直線縞と相対的に比較した。なお、以下の表3及び表4中、凹凸個数が0の場合が直線縞の場合に相当し、直線縞の場合の視認性を△とし、直線縞よりも視認しやすい場合を○、さらにしやすい場合を◎、視認しにくい場合を×とする。 Next, in Example 2, 85 .mu.m pitch d 2 of the pitch d 1 and the second wavy stripes 6 2 of the first wavy stripes 6 1 3, the first wavy stripes 6 1 and the second wavy stripes 6 2 1mm The visibility of the moiré pattern when the height of the unevenness was changed by setting the number of the unevenness per round to 0.5 or 1 was relatively compared with the straight stripes. In Table 3 and Table 4 below, the case where the number of irregularities is 0 corresponds to the case of a straight stripe, the visibility in the case of a straight stripe is △, and the case where it is easier to visually recognize than the straight stripe is ○. The case where it is easy is marked with ◎, and the case where it is difficult to visually recognize is marked with ×.

表3

凹凸個数:0.5個/mm
凹凸高さ 0 5 10 15 20 25 30
視認性 △ ○ ◎ ◎ ◎ ○ △
Table 3

Number of irregularities: 0.5 / mm
Uneven height 0 5 10 15 20 25 30
Visibility △ ○ ◎ ◎ ◎ ○ △

表4

凹凸個数:1個/mm
凹凸高さ 0 5 10 15 20 25 30
視認性 △ ○ ◎ ◎ ◎ ○ △
Table 4

Number of irregularities: 1 / mm
Uneven height 0 5 10 15 20 25 30
Visibility △ ○ ◎ ◎ ◎ ○ △

このように、波線縞の凹凸個数が0.5個/mm及び1個/mmのどちらの場合でも、直線縞の場合の視認性よりも、波線縞の視認性は良好であった。   Thus, the visibility of the wavy stripes was better than the visibility of the straight stripes in both cases where the number of irregularities of the wavy stripes was 0.5 / mm and 1 / mm.

図22は、各パターンの周辺に設ける縁取りを説明するための図である。   FIG. 22 is a diagram for explaining borders provided around each pattern.

判別具を用いない通常の目視状態で判別可能なパターン(図16の正方形パターン)、隠しパターン(図8、図13、図17、及び図21の"H"の文字パターン、図19及び図21の"T"の文字パターン)共に、それぞれのパターンPの周辺に、図22に示すように、そのパターンPを構成する縞対6の周期に対して半周期ずれた周期の縞対で縁取りP'を形成することもできる。このような縁取りP'を施すことによって、判別困難な隠しパターンを、判別具を用いて判別する際に、判別しやすくし、判別可能なパターンに対してもその境界をより鮮明化する効果がある。   A pattern (square pattern in FIG. 16) that can be discriminated in a normal visual state without using a discriminator, a hidden pattern (character pattern “H” in FIGS. 8, 13, 17, and 21; FIGS. 19 and 21); The character pattern “T” in FIG. 22 is surrounded by a fringe pair having a period shifted by a half period from the period of the fringe pair 6 constituting the pattern P, as shown in FIG. 'Can also be formed. By applying such a border P ′, it is easy to discriminate a hidden pattern that is difficult to discriminate using a discriminating tool, and the effect of sharpening the border even for a discriminable pattern is obtained. is there.

以上の説明では、縞対を構成する第1回折格子と第2回折格子は、傾き角が異なるか、その回折格子の格子ピッチが異なるかの少なくとも一方を満たすように選ぶものとしたが、その傾き角と格子ピッチの2つの要素を共に異ならせて構成することにより、隠しパターンの効果をより高めることができる。   In the above description, the first diffraction grating and the second diffraction grating constituting the fringe pair are selected so as to satisfy at least one of different tilt angles or different grating pitches of the diffraction grating. By configuring the two elements of the inclination angle and the lattice pitch to be different, the effect of the hidden pattern can be further enhanced.

また、以上において、判別具20〜22は、平行な直線透明部20a〜22aと直線不透明部20b〜22bとの繰り返しパターンであって、その繰り返しピッチが表示面の何れかの隠しパターンの領域の縞対の繰り返しピッチと同じピッチを有し、直線透明部20a〜22a、直線不透明部20b〜22bの基準線に対する傾き角が、隠しパターンの領域の縞対の傾き角と同じであればよいと説明したが、このような判別具20〜22は、印刷物4に対して決められた角度で近づけると、判別具20〜22を介して隠しパターンが表示される。判別具20〜22を介して表示された隠しパターンが所定のパターンであった場合に、その印刷物は正しい供給者から供給された正当な製品(真正品)であると判定される。   Further, in the above, the discriminators 20 to 22 are repetitive patterns of parallel linear transparent portions 20a to 22a and straight opaque portions 20b to 22b, and the repetitive pitch of any hidden pattern region on the display surface. It has the same pitch as the repetitive pitch of the stripe pair, and the inclination angle with respect to the reference line of the straight transparent portions 20a to 22a and the straight opaque portions 20b to 22b may be the same as the inclination angle of the stripe pair in the hidden pattern region. As described above, when such discriminators 20 to 22 are brought close to the printed matter 4 at a predetermined angle, a hidden pattern is displayed via the discriminators 20 to 22. When the hidden pattern displayed via the determination tools 20 to 22 is a predetermined pattern, it is determined that the printed product is a legitimate product (genuine product) supplied from a correct supplier.

判別具20〜22は、その判別具を透過して印刷物の隠しパターンに照射された光を観察者が目視できなければならないために、透明なベース基材に判別パターンが形成されているものを用いる。ベース基材は透明度が高い方が好ましい。また、判別具20〜22は、頻繁に使用されるために、ベース基材を強固な枠材で固定したものが多く使用される。この枠材には取っ手等を付けることも可能で、そのことによって判別具20〜22の透明なベース基材が指紋や油で汚れることを防止する。   The discriminating tools 20 to 22 are those in which a discriminating pattern is formed on a transparent base substrate in order that an observer must be able to visually observe the light that has passed through the discriminating tool and is applied to the hidden pattern of the printed matter. Use. The base substrate is preferably higher in transparency. In addition, since the discriminators 20 to 22 are frequently used, those in which the base substrate is fixed with a strong frame member are often used. A handle or the like can be attached to the frame material, thereby preventing the transparent base substrate of the discriminating tools 20 to 22 from being stained with fingerprints or oil.

隠しパターンの判別に際し、判別具20〜22を、表示体1が形成された印刷物4に密着させる程度に近づけて判別する。その密着の状態から一定の距離までは隠しパターンの判別が可能であるが、モアレ現象を利用しているために、表示体1と判別具20〜22の距離が空きすぎると、判別が困難になる。   When discriminating the hidden pattern, the discriminating tools 20 to 22 are discriminated so as to be close to the printed material 4 on which the display body 1 is formed. Although it is possible to discriminate the hidden pattern from the close contact state to a certain distance, since the moire phenomenon is used, it is difficult to discriminate if the distance between the display body 1 and the discriminators 20 to 22 is too large. Become.

ところで、判別具20〜22は、基準線Sに対して、直線透明部20a〜22aと直線不透明部20b〜22bの傾き角が所定角度αの万線パターンで構成することができる。万線は、直線透明部20a〜22aと着色された直線不透明部20b〜22bが対となった繰り返しパターンであり、透明な直線透明部20a〜22aの幅と、着色された直線不透明部20b〜22bの幅は、同一でも、異なっていてもよい。   By the way, the discriminators 20 to 22 can be configured with a line pattern in which the inclination angles of the linear transparent portions 20a to 22a and the linear opaque portions 20b to 22b with respect to the reference line S are a predetermined angle α. Each line is a repeated pattern in which the linear transparent portions 20a to 22a and the colored linear opaque portions 20b to 22b are paired. The width of the transparent transparent transparent portions 20a to 22a and the colored linear opaque portions 20b to 20b The width of 22b may be the same or different.

なお、このような万線パターンの代わりに網点パターンによっても、判別具20〜22を構成することができる。方向性のある網点は、透明な部分と着色された部分が独立した点、又は、2箇所が鎖状に繋がった点で構成されており、透明な部分を繋ぐ(鎖状の)線と、着色された部分を繋ぐ(鎖状の)線が対になって、直線透明部20a〜22aと直線不透明部20b〜22bに相当する判別パターンが構成される。   The discriminators 20 to 22 can also be configured by a halftone dot pattern instead of such a line pattern. A directional halftone dot is composed of a point where a transparent part and a colored part are independent, or two points connected in a chain, and a line connecting the transparent parts (a chain) A pair of (chain-like) lines connecting the colored portions forms a discrimination pattern corresponding to the straight transparent portions 20a to 22a and the straight opaque portions 20b to 22b.

ところで、判別具21として、図11に示すように、平行な直線透明部21aと直線不透明部21bとの繰り返しパターンからなる判別パターンを用いる場合に、図23にその繰り返しパターンの一部を拡大して示すように、直線透明部21aの幅をa、直線不透明部21bの幅をbとするとき、a/b≒1、すなわち、直線透明部21aと直線不透明部21bを略同じ幅としてもよいが、a/bは2/3〜1/4の範囲、すなわち、直線透明部21aの幅を直線不透明部21bの幅より小さく設定することが望ましい。その理由は、2/3≧a/b≧1/4の範囲においては、判別具21を表示面2に近接あるいは密着して重ね合わせると、隠しパターン"H"等がコントラスト良く観察される。これに対して、a/bが2/3を越えると、判別具21を通して見える光量が多すぎて明るくなりすぎてコントラストが低下し、隠しパターンが見え難くなり、逆に、a/bが1/4を下回ると、その光量が少なすぎて暗くなって隠しパターンが見え難くなるためである。   By the way, as shown in FIG. 11, when using a discrimination pattern consisting of a repeat pattern of parallel straight transparent portions 21a and straight opaque portions 21b as the discriminator 21, a part of the repeat pattern is enlarged in FIG. As shown, when the width of the straight transparent portion 21a is a and the width of the straight opaque portion 21b is b, a / b≈1, that is, the straight transparent portion 21a and the straight opaque portion 21b may have substantially the same width. However, it is desirable to set a / b in the range of 2/3 to 1/4, that is, the width of the linear transparent portion 21a is smaller than the width of the linear opaque portion 21b. The reason is that in the range of 2/3 ≧ a / b ≧ ¼, when the discriminating tool 21 is overlapped with the display surface 2 close to or in close contact, the hidden pattern “H” or the like is observed with good contrast. On the other hand, if a / b exceeds 2/3, the amount of light that can be seen through the discriminator 21 becomes too bright and too bright and the contrast is lowered, making it difficult to see the hidden pattern. This is because if it is less than / 4, the amount of light is too small and it becomes dark and it is difficult to see the hidden pattern.

図24は他の実施形態の判別具を示す図、図25は判別具の波線透明部と波線不透明部を示す図である。   FIG. 24 is a diagram showing a discriminator of another embodiment, and FIG. 25 is a diagram showing a wavy transparent portion and a wavy opaque portion of the discriminator.

また、判別具20’として、図24に示すように、平行な波線透明部20’aと波線不透明部20’bとの繰り返しパターンからなる判別パターンを用いてもよい。   Further, as the discriminating tool 20 ', as shown in FIG. 24, a discriminating pattern including a repeating pattern of parallel wavy transparent portions 20'a and wavy opaque portions 20'b may be used.

判別具20’は、波線透明部20’aと波線不透明部20’bを有する。波線透明部20’aの繰り返しピッチをd1 、波線不透明部20’bの繰り返しピッチをd2 とすると、波線透明部20’a及び波線不透明部20’bの繰り返しピッチは、d=d1+d2となる。ここで、波線透明部20’a及び波線不透明部20’bの繰り返しピッチdは、d≦1/5mmに設定されることが好ましい。 The discriminating tool 20 ′ has a wavy transparent portion 20′a and a wavy opaque portion 20′b. When the repeating pitch of the wavy transparent portion 20′a is d 1 and the repeating pitch of the wavy opaque portion 20′b is d 2 , the repeating pitch of the wavy transparent portion 20′a and the wavy opaque portion 20′b is d = d 1. + a d 2. Here, the repeating pitch d of the wavy transparent portion 20′a and the wavy opaque portion 20′b is preferably set to d ≦ 1/5 mm.

また、波線透明部20’aは、繰り返しピッチd1 に対して高さhの凸部と凹部を交互に有して波形を形成している。同様に、波線不透明部20’bは、繰り返しピッチd2 に対して高さhの凸部と凹部を交互に有して波形を形成している。凹凸の個数は、0.5〜5個/mmが好ましい。また、凹凸の高さhは、波線透明部20’aの繰り返しピッチd1 、及び波線不透明部20bの繰り返しピッチd2 の5〜20%が好ましい。 Further, the wavy transparent portion 20′a has a convex portion and a concave portion having a height h alternately with respect to the repetition pitch d 1 to form a waveform. Similarly, the wavy opaque portion 20′b has a waveform having alternating convex portions and concave portions having a height h with respect to the repetition pitch d 2 . The number of irregularities is preferably 0.5 to 5 / mm. Further, the height h of the unevenness is preferably 5 to 20% of the repeating pitch d 1 of the wavy transparent portion 20′a and the repeating pitch d 2 of the wavy opaque portion 20b.

次に、判別具20’に形成した波線透明部20’aと波線不透明部20’bの実施例について説明する。   Next, examples of the wavy transparent portion 20'a and the wavy opaque portion 20'b formed on the discriminating tool 20 'will be described.

実施例3では、図25に示した波線透明部20’aのピッチd1及び波線不透明部20’bのピッチを85μm、凹凸の高さを60μm又は120μmとし、1mmあたりの凹凸の個数を変化させた際のモアレ模様の視認性を、図6、図11、及び図20に示した直線透明部20a及び直線不透明部20bの判別具20と相対的に比較した。なお、以下の表5及び表6中、凹凸個数が0の場合が直線透明部20a及び直線不透明部20bの場合に相当し、直線透明部20a及び直線不透明部20bの場合の視認性を△とし、直線透明部20a及び直線不透明部20bよりも視認しやすい場合を○、さらにしやすい場合を◎、視認しにくい場合を×とする。 In Example 3, the pitch d 1 of the wavy transparent portion 20′a and the pitch of the wavy opaque portion 20′b shown in FIG. 25 are set to 85 μm, the height of the unevenness is set to 60 μm or 120 μm, and the number of unevenness per 1 mm is changed. The visibility of the moire pattern at the time of making it comparative was compared with the discriminating tool 20 of the linear transparent part 20a and the linear opaque part 20b shown in FIG. 6, FIG. 11, and FIG. In Tables 5 and 6 below, the case where the number of irregularities is 0 corresponds to the case of the linear transparent portion 20a and the linear opaque portion 20b, and the visibility in the case of the linear transparent portion 20a and the linear opaque portion 20b is Δ. The case where it is easier to visually recognize than the straight transparent portion 20a and the straight opaque portion 20b is indicated as ◯, the case where it is more easily visible as ◎, and the case where it is difficult to visually recognize as ×.

表5
凹凸高さ:60μm
凹凸個数 0 0.25 0.5 1 2 5 10
視認性 △ ○ ◎ ◎ ○ ○ △
Table 5
Unevenness height: 60 μm
Number of bumps 0 0.25 0.5 1 2 5 10
Visibility △ ○ ◎ ◎ ○ ○ △

表6
凹凸高さ:120μm
凹凸個数 0 0.25 0.5 1 2 5 10
視認性 △ ○ ◎ ◎ ○ ○ △
Table 6
Unevenness height: 120 μm
Number of bumps 0 0.25 0.5 1 2 5 10
Visibility △ ○ ◎ ◎ ○ ○ △

このように、波線透明部20’a及び波線不透明部20’bの凹凸の高さが60μm及び120μmのどちらの場合でも、直線透明部20a及び直線不透明部20bの場合の視認性よりも、波線透明部20’a及び波線不透明部20’bの視認性は良好であった。   Thus, in both cases where the height of the irregularities of the wavy transparent portion 20′a and the wavy opaque portion 20′b is 60 μm and 120 μm, the wavy line is more than the visibility in the case of the straight transparent portion 20a and the straight opaque portion 20b. The visibility of the transparent portion 20′a and the wavy opaque portion 20′b was good.

次に、実施例4では、図3に波線透明部20’aのピッチd1及び波線不透明部20’bのピッチd2を85μm、波線透明部20’a及び波線不透明部20’bの1mmあたりの凹凸の個数を0.5個又は1個とし、凹凸の高さを変化させた際のモアレ模様の視認性を、直線透明部20a及び直線不透明部20bと相対的に比較した。なお、以下の表7及び表8中、凹凸個数が0の場合が直線透明部20a及び直線不透明部20bの場合に相当し、直線透明部20a及び直線不透明部20bの場合の視認性を△とし、直線透明部20a及び直線不透明部20bよりも視認しやすい場合を○、さらにしやすい場合を◎、視認しにくい場合を×とする。 Next, in Example 4, the pitch d 1 of the wavy transparent portion 20′a and the pitch d 2 of the wavy opaque portion 20′b are 85 μm in FIG. 3, and 1 mm of the wavy transparent portion 20′a and the wavy opaque portion 20′b. The visibility of the moire pattern when changing the height of the unevenness was set to be 0.5 or 1, and the visibility of the moire pattern was relatively compared with the linear transparent portion 20a and the linear opaque portion 20b. In Tables 7 and 8 below, the case where the number of irregularities is 0 corresponds to the case of the linear transparent portion 20a and the linear opaque portion 20b, and the visibility in the case of the linear transparent portion 20a and the linear opaque portion 20b is Δ. The case where it is easier to visually recognize than the straight transparent portion 20a and the straight opaque portion 20b is indicated as ◯, the case where it is more easily visible as ◎, and the case where it is difficult to visually recognize as ×.

表7

凹凸個数:0.5個/mm
凹凸高さ 0 5 10 15 20 25 30
視認性 △ ○ ◎ ◎ ◎ ○ △
Table 7

Number of irregularities: 0.5 / mm
Uneven height 0 5 10 15 20 25 30
Visibility △ ○ ◎ ◎ ◎ ○ △

表8
凹凸個数:1個/mm
凹凸高さ 0 5 10 15 20 25 30
視認性 △ ○ ◎ ◎ ◎ ○ △
Table 8
Number of irregularities: 1 / mm
Uneven height 0 5 10 15 20 25 30
Visibility △ ○ ◎ ◎ ◎ ○ △

このように、波線透明部20’a及び波線不透明部20’bの凹凸個数が0.5個/mm及び1個/mmのどちらの場合でも、直線透明部20a及び直線不透明部20bの場合の視認性よりも、波線透明部20’a及び波線不透明部20’bの視認性は良好であった。   In this way, in the case of the straight transparent portion 20a and the straight opaque portion 20b, the wavy transparent portion 20′a and the wavy opaque portion 20′b have the number of irregularities of 0.5 / mm and 1 / mm. The visibility of the wavy transparent portion 20′a and the wavy opaque portion 20′b was better than the visibility.

ところで、以上の説明において、図1に示した表示体1の表示面2の光回折構造を構成する回折格子については、詳しく説明しなかった。通常、印刷物等に貼着して用いる表示面2に用いる回折格子としては、凹凸のレリーフ構造の回折格子のレリーフ面あるいは平面に蒸着等で金属反射膜を設けて反射型とした回折格子が用いられるが、それ以外に、振幅が周期的に変化する振幅型回折格子を構成するもの又は屈折率が周期的に変化して位相型回折格子を構成するものの裏面に金属反射膜を設けて反射型とした回折格子、体積型感光材料中に干渉縞で回折格子を構成した体積型回折格子等を用いてもよい。   By the way, in the above description, the diffraction grating which comprises the light diffraction structure of the display surface 2 of the display body 1 shown in FIG. 1 was not demonstrated in detail. Usually, as the diffraction grating used for the display surface 2 that is attached to a printed material or the like, a reflection type diffraction grating is used in which a metal reflective film is provided on the relief surface or plane of the relief grating having an uneven relief structure by vapor deposition or the like. Other than that, it is a reflective type in which a metal reflective film is provided on the back surface of an amplitude type diffraction grating whose amplitude changes periodically or a refractive index changes periodically to form a phase type diffraction grating. A diffraction grating having a diffraction grating composed of interference fringes in a volume type photosensitive material or the like may be used.

もちろん、表示面を反射型でなく透過型のもので構成し、回折格子も透過型の回折格子で構成してもよい。   Of course, the display surface may be a transmission type instead of the reflection type, and the diffraction grating may be a transmission type diffraction grating.

さて、本実施形態のような隠しパターンを含む部分表示面を有する表示体(又は、表示面2のみ)は、転写箔、ラベル、フィルム等種々の形態に構成することができる。転写箔形態の場合には、例えば商品券、クレジットカード、パッケージ等に適用でき、ラベル形態の場合には、例えばソフトウエア、カートリッジ、医薬品等のパッケージ等に適用でき、フィルム形態の場合には、例えばそのフィルムを1〜2mm程度の幅にマイクロスリットし、用紙の抄造時に紙中に共に抄き込んで偽造防止を図ることができる。また、ラベル形態の場合には、脆質層を層構成中に介在させて、偽造のためにラベルを剥離しようとしたときにその脆質層から剥がれるようにして偽造のために表示体を剥がすことを困難にすることができる(脆質ラベル)。以下、本発明の光回折構造による隠しパターンを内包する表示体を、転写箔、ラベル、脆質ラベル、フィルムの各形態に構成する場合の、層構成とその作製工程の例を説明する。   Now, the display body (or only the display surface 2) which has the partial display surface containing a hidden pattern like this embodiment can be comprised in various forms, such as transfer foil, a label, and a film. In the case of the transfer foil form, for example, it can be applied to gift certificates, credit cards, packages, etc. In the case of the label form, it can be applied to packages such as software, cartridges, pharmaceuticals, etc., and in the case of the film form, For example, the film can be micro-slit to a width of about 1 to 2 mm, and the sheet can be made into paper together to prevent forgery. In the case of the label form, a brittle layer is interposed in the layer structure, and when the label is peeled off for counterfeiting, the label is peeled off from the brittle layer and the display body is peeled off for counterfeiting. Can be difficult (brittle label). Hereinafter, an example of a layer configuration and a manufacturing process thereof when the display body including the hidden pattern by the light diffraction structure of the present invention is configured in each form of a transfer foil, a label, a brittle label, and a film will be described.

図26は、本発明の光回折構造による隠しパターンを内包する表示体を転写箔31として構成する場合の層構成を示す断面図であり、その作製方法に従ってその構成を説明すると、PET等の透明樹脂フィルムからなる基材44上に剥離層45を塗布し、その剥離層45上に回折格子形成層41を塗布し、回折格子形成層41に凹凸レリーフ構造の回折格子原版をエンボスしてその凹凸レリーフ構造の回折格子を複製し、その複製されたレリーフ回折格子面上に反射層42を蒸着することにより反射型の回折格子43を形成し、その回折格子43の反射層42側にヒートシール層46を塗布して、図26のような層構成の転写箔31を完成する。   FIG. 26 is a cross-sectional view showing a layer structure in the case where a display body containing a hidden pattern by the light diffraction structure of the present invention is configured as a transfer foil 31, and the structure will be described according to the manufacturing method. A release layer 45 is applied on a substrate 44 made of a resin film, a diffraction grating forming layer 41 is applied on the release layer 45, and a diffraction grating original plate having an uneven relief structure is embossed on the diffraction grating forming layer 41. A diffraction grating having a relief structure is duplicated, and a reflective layer is deposited on the duplicated relief diffraction grating surface to form a reflective diffraction grating 43, and a heat seal layer is formed on the reflective layer side of the diffraction grating 43. 46 is applied to complete a transfer foil 31 having a layer structure as shown in FIG.

ここで、基材44を構成する樹脂フィルムとしては、ポリプロピレン樹脂フィルム、ポリカーボネート樹脂フィルム、若しくは、ポリエチレンテレフタレート樹脂フィルム等が好ましく、中でも、これらに加え、機械的強度の優れた2軸延伸ポリエチレンテレフタレート樹脂フィルムが適している。   Here, as a resin film which comprises the base material 44, a polypropylene resin film, a polycarbonate resin film, or a polyethylene terephthalate resin film etc. are preferable, and in addition to these, biaxially-stretched polyethylene terephthalate resin excellent in mechanical strength. Film is suitable.

また、剥離層45を構成する樹脂は、基材44の素材や、剥離層45と接着する回折格子形成層41の材質にもよるが、ポリエステル樹脂、アクリル骨格樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合樹脂、酢酸セルロースと熱硬化型アクリル樹脂との2成分のブレンド樹脂、メラミン樹脂、若しくは、ニトロセルロース樹脂を使用することができる。例えば、基材44がポリエチレンテレフタレート樹脂(PET)フィルムであるときは、剥離層45と基材44との密着力の点で、ポリエステル樹脂が好ましい。これらの樹脂には、さらにポリエチレンワックス等のワックス、若しくは、シリコーン樹脂を添加して剥離性を向上させてもよい。剥離層45は、上記の樹脂を適宜な溶剤若しくは分散剤を用いて溶解若しくは分散させて、塗布若しくは印刷に適した組成物を調製したものを、公知の塗布方法若しくは印刷方法により、基材44に積層形成することができる。   Further, the resin constituting the release layer 45 depends on the material of the base material 44 and the material of the diffraction grating forming layer 41 adhered to the release layer 45, but the polyester resin, the acrylic skeleton resin, and the vinyl chloride-vinyl acetate copolymer. A resin, a two-component blend resin of cellulose acetate and a thermosetting acrylic resin, a melamine resin, or a nitrocellulose resin can be used. For example, when the base material 44 is a polyethylene terephthalate resin (PET) film, a polyester resin is preferable in terms of the adhesion between the release layer 45 and the base material 44. To these resins, a wax such as polyethylene wax or a silicone resin may be added to improve the peelability. The release layer 45 is prepared by dissolving or dispersing the above resin using an appropriate solvent or dispersant, and preparing a composition suitable for coating or printing by using a known coating method or printing method. Can be laminated.

また、回折格子形成層41を構成する合成樹脂としては、ポリ塩化ビニル、アクリル樹脂(例、PMMA)、ポリスチレン、ポリカーボネート等の熱可塑性樹脂、不飽和ポリエステル、メラミン、エポキシ、ポリエステル(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、ポリエーテル(メタ)アクリレート、ポリオール(メタ)アクリレート、メラミン(メタ)アクリレート、トリアジン系アクリレート等の熱硬化性樹脂をそれぞれ単独、あるいは、上記熱可塑性樹脂と熱硬化性樹脂とを混合して使用することができ、さらには、ラジカル重合性不飽和基を有する熱成形性物質、あるいは、これらにラジカル重合性不飽和単量体を加え電離放射線硬化性としたもの等を使用することができる。この他、銀塩、重クロム酸ゼラチン、サーモプラスチック、ジアゾ系感光材料、フォトレジスト、強誘電体、フォトクロミックス材料、サーモクロミックス材料、カルコゲンガラスなどの感光材料なども使用できる。   Moreover, as a synthetic resin which comprises the diffraction grating formation layer 41, thermoplastic resins, such as polyvinyl chloride, an acrylic resin (for example, PMMA), a polystyrene, a polycarbonate, unsaturated polyester, melamine, an epoxy, polyester (meth) acrylate, Thermosetting resins such as urethane (meth) acrylates, epoxy (meth) acrylates, polyether (meth) acrylates, polyol (meth) acrylates, melamine (meth) acrylates, triazine-based acrylates, respectively, or the above thermoplastic resins And thermosetting resin can be used as a mixture, and furthermore, thermoforming materials having radically polymerizable unsaturated groups, or radically polymerizable unsaturated monomers added to these, and ionizing radiation curable Can be used. In addition, photosensitive materials such as silver salt, dichromated gelatin, thermoplastic, diazo photosensitive material, photoresist, ferroelectric, photochromic material, thermochromic material, chalcogen glass, and the like can be used.

上記の合成樹脂からなる層への凹凸レリーフ構造の回折格子の形成は、上記の材料を用いて、従来既知の方法によって形成することができる。例えば、回折格子が凹凸の形で記録された原版をプレス型として用い、上記樹脂層上にその原版を重ねて加熱ロール等の適宜手段により、両者を加熱圧着することにより、原版の凹凸模様を複製することができる。あるいは、紫外線硬化性とした樹脂層上にその原版を重ねて、紫外線を照射してその樹脂層を硬化させて原版の凹凸模様を複製することができる。   Formation of the concavo-convex relief structure diffraction grating on the synthetic resin layer can be formed by a conventionally known method using the above-described materials. For example, by using an original plate in which the diffraction grating is recorded in a concavo-convex shape as a press mold, the original plate is overlaid on the resin layer and heated and pressure-bonded by an appropriate means such as a heating roll, whereby the concavo-convex pattern of the original plate is formed. Can be duplicated. Alternatively, the original plate can be superimposed on an ultraviolet curable resin layer, and the resin layer can be cured by irradiating ultraviolet rays to reproduce the concave / convex pattern of the original plate.

反射層42を構成する材質としては、Mg、Al、Ti、Cr、Cu、Zn、Ga、Ge、Se、Rb、Pd、Ag、Cd、In、Sn、Sb、Te、Au、Pb、若しくは、Bi等の金属、又は、それらの酸化物、若しくは、それらの窒化物を単独で、若しくは、組み合わせ、薄膜として形成する。金属薄膜層を反射層42として用いるときには、これらの中でも、Al、Cr、Ni、Ag、若しくは、Au等が特に好ましい。   As a material constituting the reflective layer 42, Mg, Al, Ti, Cr, Cu, Zn, Ga, Ge, Se, Rb, Pd, Ag, Cd, In, Sn, Sb, Te, Au, Pb, or A metal such as Bi or an oxide thereof or a nitride thereof is used alone or in combination to form a thin film. Among these, when a metal thin film layer is used as the reflective layer 42, Al, Cr, Ni, Ag, Au, or the like is particularly preferable.

反射層42を形成するには、真空蒸着法、スパッタリング法、若しくは、イオンプレーティング法等の公知の薄膜形成法によって行う。   The reflective layer 42 is formed by a known thin film forming method such as a vacuum deposition method, a sputtering method, or an ion plating method.

ヒートシール層46を構成する材質としては、例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエチレン樹脂、エチレン−イソブチルアクリレート共重合体樹脂、ブチラール樹脂、ポリ酢酸ビニル及びその共重合体樹脂、セルロース誘導体、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリビニルエーテル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリプロピレン樹脂、エポキシ樹脂、又は、フェノール樹脂が使用できる。あるいは、SBS(スチレン−ブタジエン−スチレンブロックコポリマー)、SIS(スチレン−イソプレン−スチレンブロックコポリマー)、SEBS(スチレン−エチレン−ブチレン−スチレンブロックコポリマー)等の熱可塑性エラストマー、又は、反応ホットメルト性樹脂等を使用してもよい。   Examples of the material constituting the heat seal layer 46 include an ethylene-vinyl acetate copolymer resin, a polyamide resin, a polyester resin, a polyethylene resin, an ethylene-isobutyl acrylate copolymer resin, a butyral resin, polyvinyl acetate, and a copolymer thereof. A coalesced resin, a cellulose derivative, a polymethyl methacrylate resin, a polyvinyl ether resin, a polyurethane resin, a polycarbonate resin, a polypropylene resin, an epoxy resin, or a phenol resin can be used. Alternatively, thermoplastic elastomers such as SBS (styrene-butadiene-styrene block copolymer), SIS (styrene-isoprene-styrene block copolymer), SEBS (styrene-ethylene-butylene-styrene block copolymer), or reactive hot melt resins May be used.

図27は、本発明の光回折構造による隠しパターンを内包する表示体をラベル32として構成する場合の層構成を示す断面図であり、その作製方法に従ってその構成を説明すると、PET等の透明樹脂フィルムからなる基材44上に回折格子形成層41を塗布し、回折格子形成層41に凹凸レリーフ構造の回折格子原版をエンボスしてその凹凸レリーフ構造の回折格子を複製し、その複製されたレリーフ回折格子面上に反射層42を蒸着することにより反射型の回折格子43を形成し、その回折格子43の反射層42側に粘着層47を塗布し、その粘着層47上にその保護用としてセパレータ(剥離紙)48をラミネートして、図27のような層構成のラベル32を完成する。   FIG. 27 is a cross-sectional view showing a layer structure when a display body containing a hidden pattern by the light diffraction structure of the present invention is configured as a label 32. The structure will be described in accordance with the manufacturing method. Transparent resin such as PET A diffraction grating forming layer 41 is coated on a substrate 44 made of a film, and a diffraction grating original plate having an uneven relief structure is embossed on the diffraction grating forming layer 41 to replicate the diffraction grating having the uneven relief structure, and the replicated relief A reflective diffraction grating 43 is formed by vapor-depositing a reflective layer 42 on the diffraction grating surface, an adhesive layer 47 is applied to the reflective layer 42 side of the diffraction grating 43, and the adhesive layer 47 is used for protection. A separator (release paper) 48 is laminated to complete a label 32 having a layer structure as shown in FIG.

ここで、基材44、回折格子形成層41、反射層42を構成する材質としては、図25の場合と同様である。   Here, the materials constituting the substrate 44, the diffraction grating formation layer 41, and the reflection layer 42 are the same as those in the case of FIG.

粘着層47を構成する接着剤としては、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルアセタール(ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール等)、シアノアクリレート、ポリビニルアルキルエーテル、ポリ塩化ビニル、ポリアミド、ポリメタクリル酸メチル、ニトロセルロース、酢酸セルロース、熱可塑性エポキシ、ポリスチレン、エチレン−酢酸ビニルコポリマー、エチレン−アクリル酸エチルコポリマー等、ユリア樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、レゾルシノール樹脂、フラン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリベンツイミダゾール、ポリベンゾチアゾール等、あるいは、ゴム系の天然ゴム、再生ゴム、スチレン−ブタジエンゴム、アクリロニトリル−ブタジエンゴム、クロロプレンゴム、ブチルゴム、ポリスルフィドゴム、シリコーンゴム、ポリウレタンゴム、ステレオゴム(合成天然ゴム)、エチレンプロピレンゴム、ブロックコポリマーゴム(SBS,SIS,SEBS等)が使用できる。   Examples of the adhesive constituting the adhesive layer 47 include polyvinyl acetate resin, polyvinyl alcohol, polyvinyl acetal (polyvinyl formal, polyvinyl butyral, etc.), cyanoacrylate, polyvinyl alkyl ether, polyvinyl chloride, polyamide, polymethyl methacrylate, nitrocellulose. , Cellulose acetate, thermoplastic epoxy, polystyrene, ethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene-ethyl acrylate copolymer, urea resin, melamine resin, phenol resin, resorcinol resin, furan resin, epoxy resin, unsaturated polyester resin, polyurethane resin, Polyimide, polyamideimide, polybenzimidazole, polybenzothiazole, etc., or rubber-based natural rubber, recycled rubber, styrene-butadiene rubber, acrylo Tolyl - butadiene rubber, chloroprene rubber, butyl rubber, polysulfide rubber, silicone rubber, polyurethane rubber, stereo rubber (synthetic natural rubber), ethylene-propylene rubber, block copolymer rubbers (SBS, SIS, SEBS, etc.) can be used.

また、セパレータ(剥離紙)48としては、従来公知の紙やフィルム基材に剥離処理を施したものが使用できる。   Further, as the separator (release paper) 48, a conventionally known paper or a film substrate subjected to a release treatment can be used.

図28は、本発明の光回折構造による隠しパターンを内包する表示体を脆質ラベル33として構成する場合の層構成を示す断面図であり、その作製方法に従ってその構成を説明すると、PET等の透明樹脂フィルムからなる基材44上に脆質層49を塗布し、その脆質層49上に回折格子形成層41を塗布し、回折格子形成層41に凹凸レリーフ構造の回折格子原版をエンボスしてその凹凸レリーフ構造の回折格子を複製し、その複製されたレリーフ回折格子面上に反射層42を蒸着することにより反射型の回折格子43を形成し、その回折格子43の反射層42側に粘着層47を塗布し、その粘着層47上にセパレータ(剥離紙)48をラミネートして、図28のような層構成の脆質ラベル33を完成する。   FIG. 28 is a cross-sectional view showing a layer structure in the case where the display body containing the hidden pattern by the light diffraction structure of the present invention is configured as the brittle label 33. The structure will be described according to the manufacturing method thereof. A brittle layer 49 is applied on a substrate 44 made of a transparent resin film, a diffraction grating forming layer 41 is applied on the brittle layer 49, and a diffraction grating original plate having an uneven relief structure is embossed on the diffraction grating forming layer 41. Then, the diffraction grating having the concavo-convex relief structure is duplicated, and a reflection type diffraction grating 43 is formed by vapor-depositing the reflection layer 42 on the duplicated relief diffraction grating surface, and the diffraction grating 43 is formed on the reflection layer 42 side. An adhesive layer 47 is applied, and a separator (release paper) 48 is laminated on the adhesive layer 47 to complete the brittle label 33 having a layer structure as shown in FIG.

ここで、基材44、回折格子形成層41、反射層42、粘着層47、セパレータ(剥離紙)48を構成する材質としては、図27の場合と同様である。   Here, the materials constituting the substrate 44, the diffraction grating forming layer 41, the reflective layer 42, the adhesive layer 47, and the separator (release paper) 48 are the same as those in FIG.

脆質層49を構成する材料としては、図26の場合の剥離層45を構成する樹脂と同じ系列のものが用いられる。   As the material constituting the brittle layer 49, the same series as the resin constituting the peeling layer 45 in the case of FIG. 26 is used.

図29は、本実施形態の光回折構造による隠しパターンを内包する表示体をフィルム34として構成する場合の層構成を示す断面図であり、その作製方法に従ってその構成を説明すると、PET等の透明樹脂フィルムからなる基材44上に回折格子形成層41を塗布し、回折格子形成層41に凹凸レリーフ構造の回折格子原版をエンボスしてその凹凸レリーフ構造の回折格子を複製し、その複製されたレリーフ回折格子面上に反射層42を蒸着することにより反射型の回折格子43を形成して、図29のような層構成のフィルム34が完成する。   FIG. 29 is a cross-sectional view showing a layer structure in the case where the display body containing the hidden pattern by the light diffraction structure of the present embodiment is configured as a film 34. The structure will be described according to the manufacturing method. A diffraction grating forming layer 41 is applied onto a substrate 44 made of a resin film, and a diffraction grating original plate having an uneven relief structure is embossed on the diffraction grating forming layer 41 to reproduce the diffraction grating having the uneven relief structure. A reflective diffraction grating 43 is formed by vapor-depositing a reflective layer 42 on the relief diffraction grating surface, and a film 34 having a layer structure as shown in FIG. 29 is completed.

ここで、基材44、回折格子形成層41、反射層42を構成する材質としては、図26〜図28の場合と同様である。   Here, the materials constituting the substrate 44, the diffraction grating formation layer 41, and the reflection layer 42 are the same as those in FIGS.

ここで、図26〜図29において、回折格子形成層41に凹凸レリーフ構造の回折格子をエンボスするための回折格子原版の作製方法の例を簡単に説明しておく。そのためには、Crメッキされたガラス板を用意し、その上に電子線レジストを塗布し、電子線描画により、回折格子パターンを描画し、その後に電子線レジストを現像することにより、断面矩形波状の凹凸レリーフ構造が得られる。   Here, in FIG. 26 to FIG. 29, an example of a method for producing a diffraction grating original plate for embossing a diffraction grating having an uneven relief structure on the diffraction grating forming layer 41 will be briefly described. To do so, prepare a Cr-plated glass plate, apply an electron beam resist on it, draw a diffraction grating pattern by electron beam drawing, and then develop the electron beam resist to obtain a rectangular wave shape in cross section. An uneven relief structure is obtained.

そのような電子線レジストの凹凸レリーフ構造の回折格子パターン上に紫外線硬化性樹脂あるいは熱硬化性樹脂を塗布して紫外線照射あるいは加熱により、その凹凸レリーフ構造を紫外線硬化性樹脂あるいは熱硬化性樹脂に複製することにより、電子線描画の回折格子パターンのネガ版が得られる。そのネガ版から同様に複製してポジ版を得るか、あるいは、このような複製を偶数回繰り返すことにより得られたポジ版を、上記の回折格子形成層41に凹凸レリーフ構造の回折格子をエンボスするための回折格子原版として用いることができる。   An ultraviolet curable resin or a thermosetting resin is applied onto the diffraction grating pattern of the concavo-convex relief structure of such an electron beam resist, and the concavo-convex relief structure is converted into an ultraviolet curable resin or a thermosetting resin by ultraviolet irradiation or heating. By duplicating, a negative version of the diffraction grating pattern for electron beam drawing is obtained. The negative plate is similarly duplicated to obtain a positive plate, or the positive plate obtained by repeating such duplication an even number of times is embossed with the diffraction grating having an uneven relief structure on the diffraction grating forming layer 41. It can be used as a diffraction grating original plate.

以上、本発明の光回折構造による隠しパターンを内包する表示体及びそのための判別具をいくつかの実施例に基づいて説明してきたが、本発明はこれら実施例に限定されず種々の変形が可能である。   As described above, the display body including the hidden pattern by the light diffraction structure of the present invention and the discriminating tool therefor have been described based on some embodiments. However, the present invention is not limited to these embodiments and can be variously modified. It is.

1…隠しパターンを内包する表示体
2…隠しパターンを含む部分表示面
3…その他の部分表示面
4…印刷物
5…表示単位領域
6…縞対
1…第1波線縞
2…第2波線縞
6’1…第1直線回折格子
6’2…第2直線回折格子
11…非隠しパターン領域
11a…第1非隠しパターン領域
11b…第2非隠しパターン領域
111、11a1、11b1…縞対
111a、11a1a、11b1a…第1波線縞
111b、11a1b、11b1b…第2波線縞
11’1a、11’a1a、11’b1a…第1直線回折格子
11’1b、11’a1b、11’b1b…第2直線回折格子
12…隠しパターン領域
12a…第1隠しパターン領域
12b…第2隠しパターン領域
121、12a1、12b1…縞対
121a、12a1a、12b1a…第1波線縞
121b、12a1b、12b1b…第2波線縞
12’1a、12’a1a、12’b1a…第1直線回折格子
12’1b、12’a1b、12’b1b…第2直線回折格子
20,20’,21,22…判別具
20a,20’a,21a,22a…直線透明部
20b,20’b,21b,22b…直線不透明部
31…転写箔
32…ラベル
33…脆質ラベル
34…フィルム
41…回折格子形成層
42…反射層
43…反射型の回折格子
44…基材
45…剥離層
46…ヒートシール層
47…粘着層
48…セパレータ(剥離紙)
49…脆質層
S…基準線
P…パターン
P'…縁取り
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Display body containing a hidden pattern 2 ... Partial display surface 3 containing a hidden pattern ... Other partial display surfaces 4 ... Printed matter 5 ... Display unit area 6 ... Stripe pair 6 1 ... 1st wavy stripe 6 2 ... 2nd wavy line stripe 6 '1 ... first linear diffraction grating 6' 2 ... second linear diffraction grating 11 ... non-hidden pattern region 11a ... first non hidden pattern area 11b ... second non hidden pattern region 11 1, 11a 1, 11b 1 ... Stripe pairs 11 1a , 11a 1a , 11b 1a ... first wavy stripes 11 1b , 11a 1b , 11b 1b ... second wavy stripes 11 ' 1a , 11'a 1a , 11'b 1a ... first linear diffraction grating 11' 1b , 11'a 1b , 11'b 1b ... second linear diffraction grating 12 ... hidden pattern area 12a ... first hidden pattern area 12b ... second hidden pattern area 12 1 , 12a 1 , 12b 1 ... stripe pairs 12 1a , 12a 1a , 12b 1a ... 1st wavy stripes 12 1b , 12a 1b , 12b 1b ... second wavy fringe 12 '1a, 12'a 1a, 12'b 1a ... first linear diffraction grating 12' 1b, 12'a 1b, 12'b 1b ... second linear diffraction gratings 20, 20 ', 21, 22 ... discriminating tools 20a, 20'a, 21a, 22a ... straight transparent portions 20b, 20'b, 21b, 22b ... straight opaque portions 31 ... transfer foil 32 ... label 33 ... brittle label 34 ... film 41 ... diffraction grating formation Layer 42 ... Reflective layer 43 ... Reflective diffraction grating 44 ... Base material 45 ... Release layer 46 ... Heat seal layer 47 ... Adhesive layer 48 ... Separator (release paper)
49 ... Brittle layer S ... Reference line P ... Pattern P '... Border

Claims (9)

光回折構造を有する表示面を備え、
前記表示面は、回折特性が異なり、表示パターンに応じた任意の外形及び内形を持つ複数のパターン領域が並列配置されてなり、
前記複数のパターン領域は、隠しパターン領域及び非隠しパターン領域を有し、
前記隠しパターン領域は、所定の繰り返しピッチで埋めつくされた前記隠しパターン領域の縞対を含み、
前記隠しパターン領域の縞対は、相互に隣接していて平行で、回折特性の異なる前記隠しパターン領域の第1波線縞及び前記隠しパターン領域の第2波線縞を持ち、
前記隠しパターン領域の前記第1波線縞は、波形の縞内が前記隠しパターン領域の第1直線回折格子によって構成されて、
前記隠しパターン領域の前記第2波線縞は、波形の縞内が前記隠しパターン領域の第2直線回折格子によって構成されて、
前記非隠しパターン領域は、所定の繰り返しピッチで埋めつくされた前記非隠しパターン領域の縞対を含み、
前記非隠しパターン領域の前記第1波線縞は、波形の縞内が前記非隠しパターン領域の第1直線回折格子によって構成されて、
前記非隠しパターン領域の前記第2波線縞は、波形の縞内が前記非隠しパターン領域の第2直線回折格子によって構成されて、
前記表示面に対して設定された基準線に対して、
前記隠しパターン領域の前記第1直線回折格子の傾き角は、前記非隠しパターン領域の前記第1直線回折格子の傾き角に等しく、
前記非隠しパターン領域の前記第2直線回折格子の傾き角は、前記非隠しパターン領域の前記第2直線回折格子の傾き角に等しく、
かつ、
前記隠しパターン領域の前記縞対の特性は、前記非隠しパターン領域の前記縞対の特性と異なる
ことを特徴とする光回折構造による隠しパターンを内包する表示体。
A display surface having a light diffraction structure;
The display surface has different diffraction characteristics, and a plurality of pattern regions having arbitrary outer shapes and inner shapes according to the display pattern are arranged in parallel,
The plurality of pattern areas have a hidden pattern area and a non-hidden pattern area,
The hidden pattern area includes a pair of stripes of the hidden pattern area embedded with a predetermined repetition pitch,
The fringe pair of the hidden pattern area has a first wavy stripe of the hidden pattern area and a second wavy stripe of the hidden pattern area, which are adjacent to each other and parallel, and have different diffraction characteristics,
The first wavy stripe in the hidden pattern region is configured by a first linear diffraction grating in the hidden pattern region in a wavy stripe,
The second wavy stripe in the hidden pattern region is configured by a second linear diffraction grating in the hidden pattern region in a wavy stripe.
The non-hidden pattern area includes a pair of stripes of the non-hidden pattern area embedded at a predetermined repetition pitch,
The first wavy stripe in the non-hidden pattern region is configured by a first linear diffraction grating in the non-hidden pattern region in a wavy stripe.
The second wavy stripe in the non-hidden pattern region is configured by a second linear diffraction grating in the non-hidden pattern region in a wavy stripe.
For the reference line set for the display surface,
The inclination angle of the first linear diffraction grating in the hidden pattern region is equal to the inclination angle of the first linear diffraction grating in the non-hidden pattern region,
The inclination angle of the second linear diffraction grating in the non-hidden pattern region is equal to the inclination angle of the second linear diffraction grating in the non-hidden pattern region,
And,
The display body containing a hidden pattern by an optical diffraction structure, wherein the characteristic of the stripe pair in the hidden pattern region is different from the characteristic of the stripe pair in the non-hidden pattern region.
前記隠しパターン領域の前記第1波線縞及び前記隠しパターン領域の前記第2波線縞、並びに、前記非隠しパターン領域の前記第1波線縞及び前記非隠しパターン領域の前記第2波線縞は、それぞれの繰り返しピッチに対して、5〜20%の高さの凸部及び凹部を交互に有する
ことを特徴とする請求項1記載の光回折構造による隠しパターンを内包する表示体。
The first wavy stripe in the hidden pattern area and the second wavy stripe in the hidden pattern area, and the first wavy stripe in the non-hidden pattern area and the second wavy stripe in the non-hidden pattern area, respectively. The display body containing a hidden pattern by the light diffraction structure according to claim 1, wherein convex portions and concave portions having a height of 5 to 20% are alternately provided with respect to the repetitive pitch.
前記隠しパターン領域の前記第1波線縞及び前記隠しパターン領域の前記第2波線縞、並びに、前記非隠しパターン領域の前記第1波線縞及び前記非隠しパターン領域の前記第2波線縞は、それぞれの繰り返しピッチに対して、0.5〜5個/mmの凸部及び凹部を交互に有する
ことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の光回折構造による隠しパターンを内包する表示体。
The first wavy stripe in the hidden pattern area and the second wavy stripe in the hidden pattern area, and the first wavy stripe in the non-hidden pattern area and the second wavy stripe in the non-hidden pattern area, respectively. The display body containing a hidden pattern by the light diffraction structure according to claim 1, wherein convex portions and concave portions of 0.5 to 5 pieces / mm are alternately provided with respect to the repetitive pitch. .
前記表示面に対して設定された基準線に対して、
前記隠しパターン領域の前記縞対の傾き角は、前記非隠しパターン領域の前記縞対の傾き角とは異なる
ことを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の光回折構造による隠しパターンを内包する表示体。
For the reference line set for the display surface,
4. The light diffraction according to claim 1, wherein an inclination angle of the stripe pair in the hidden pattern region is different from an inclination angle of the stripe pair in the non-hidden pattern region. 5. A display that contains a hidden pattern of structure.
前記隠しパターン領域の前記縞対の繰り返しピッチは、前記非隠しパターン領域の前記縞対の繰り返しピッチと異なる
ことを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載の光回折構造による隠しパターンを内包する表示体。
5. The optical diffraction structure according to claim 1, wherein a repetition pitch of the stripe pair in the hidden pattern region is different from a repetition pitch of the stripe pair in the non-hidden pattern region. A display that contains a hidden pattern.
請求項1乃至請求項5のいずれか1項に記載の前記光回折構造による隠しパターンを内包する表示体のための判別具であって、
前記隠しパターン領域の前記縞対と同じ傾き角
及び
前記隠しパターン領域の前記縞対と同じ繰り返しピッチ
を持つ平行な直線透明部と直線不透明部との繰り返しパターンを有する
ことを特徴とする光回折構造による隠しパターンを内包する表示体のための判別具。
A discrimination tool for a display body containing a hidden pattern by the light diffraction structure according to any one of claims 1 to 5,
An optical diffractive structure having a repeating pattern of parallel linear transparent portions and linear opaque portions having the same inclination angle as the stripe pairs in the hidden pattern region and the same repetition pitch as the stripe pairs in the hidden pattern region Discriminator for a display body that contains a hidden pattern.
請求項1乃至請求項5のいずれか1項に記載の前記光回折構造による隠しパターンを内包する表示体のための判別具であって、
前記隠しパターン領域の前記縞対と同じ傾き角
及び
前記隠しパターン領域の前記縞対と同じ繰り返しピッチ
を持つ平行な波線透明部と波線不透明部との繰り返しパターンを有する
ことを特徴とする光回折構造による隠しパターンを内包する表示体のための判別具。
A discrimination tool for a display body containing a hidden pattern by the light diffraction structure according to any one of claims 1 to 5,
An optical diffraction structure having a repeating pattern of parallel wavy transparent portions and wavy opaque portions having the same inclination angle as the fringe pair in the hidden pattern region and the same repeating pitch as the fringe pair in the hidden pattern region Discriminator for a display body that contains a hidden pattern.
前記透明部の幅が前記不透明部の幅より小さい
ことを特徴とする請求項6又は請求項7に記載の光回折構造による隠しパターンを内包する表示体のための判別具。
The discriminating tool for a display body containing a hidden pattern by the light diffraction structure according to claim 6, wherein a width of the transparent portion is smaller than a width of the opaque portion.
光回折構造を有する表示面を備え、
前記表示面は、回折特性が異なり、表示パターンに応じた任意の外形及び内形を持つ複数のパターン領域が並列配置されてなり、
前記複数のパターン領域は、隠しパターン領域及び非隠しパターン領域を有し、
前記隠しパターン領域は、所定の繰り返しピッチで埋めつくされた前記隠しパターン領域の縞対を含み、
前記隠しパターン領域の縞対は、相互に隣接していて平行で、回折特性の異なる前記隠しパターン領域の第1波線縞及び前記隠しパターン領域の第2波線縞を持ち、
前記隠しパターン領域の前記第1波線縞は、波形の縞内が前記隠しパターン領域の第1直線回折格子によって構成されて、
前記隠しパターン領域の前記第2波線縞は、波形の縞内が前記隠しパターン領域の第2直線回折格子によって構成されて、
前記非隠しパターン領域は、所定の繰り返しピッチで埋めつくされた前記非隠しパターン領域の縞対を含み、
前記非隠しパターン領域の前記第1波線縞は、波形の縞内が前記非隠しパターン領域の第1直線回折格子によって構成されて、
前記非隠しパターン領域の前記第2波線縞は、波形の縞内が前記非隠しパターン領域の第2直線回折格子によって構成されて、
前記表示面に対して設定された基準線に対して、
前記隠しパターン領域の前記第1直線回折格子の傾き角は、前記非隠しパターン領域の前記第1直線回折格子の傾き角に等しく、
前記非隠しパターン領域の前記第2直線回折格子の傾き角は、前記非隠しパターン領域の前記第2直線回折格子の傾き角に等しく、
かつ、
前記隠しパターン領域の前記縞対の特性は、前記非隠しパターン領域の前記縞対の特性とは異なる
光回折構造による隠しパターンを内包する表示体と、
前記隠しパターン領域の前記縞対と同じ傾き角
及び
前記隠しパターン領域の前記縞対と同じ繰り返しピッチ
を持つ平行な波線透明部と波線不透明部との繰り返しパターンを有する判別具と、
を備える
ことを特徴とする光回折構造による隠しパターンを内包する表示体の判別システム。
A display surface having a light diffraction structure;
The display surface has different diffraction characteristics, and a plurality of pattern regions having arbitrary outer shapes and inner shapes according to the display pattern are arranged in parallel,
The plurality of pattern areas have a hidden pattern area and a non-hidden pattern area,
The hidden pattern area includes a pair of stripes of the hidden pattern area embedded with a predetermined repetition pitch,
The fringe pair of the hidden pattern area has a first wavy stripe of the hidden pattern area and a second wavy stripe of the hidden pattern area, which are adjacent to each other and parallel, and have different diffraction characteristics,
The first wavy stripe in the hidden pattern region is configured by a first linear diffraction grating in the hidden pattern region in a wavy stripe,
The second wavy stripe in the hidden pattern region is configured by a second linear diffraction grating in the hidden pattern region in a wavy stripe.
The non-hidden pattern area includes a pair of stripes of the non-hidden pattern area embedded at a predetermined repetition pitch,
The first wavy stripe in the non-hidden pattern region is configured by a first linear diffraction grating in the non-hidden pattern region in a wavy stripe.
The second wavy stripe in the non-hidden pattern region is configured by a second linear diffraction grating in the non-hidden pattern region in a wavy stripe.
For the reference line set for the display surface,
The inclination angle of the first linear diffraction grating in the hidden pattern region is equal to the inclination angle of the first linear diffraction grating in the non-hidden pattern region,
The inclination angle of the second linear diffraction grating in the non-hidden pattern region is equal to the inclination angle of the second linear diffraction grating in the non-hidden pattern region,
And,
A characteristic of the fringe pair in the hidden pattern region is a display body containing a hidden pattern with a light diffraction structure different from the characteristic of the fringe pair in the non-hidden pattern region;
A discriminator having a repetitive pattern of parallel wavy transparent portions and wavy opaque portions having the same inclination angle as the fringe pair of the hidden pattern region and the same repetitive pitch as the fringe pair of the hidden pattern region;
A display object discrimination system including a hidden pattern by a light diffraction structure.
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