JP2012176932A - Method for preparation of salt - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for preparation of a salt used for an acid generator etc., in a resist composition.SOLUTION: The salt represented by formula (I) [wherein, Qand Qrepresent each a fluorine atom or a 1-6C perfluoroalkyl group, Y represents a 1-18C hydrocarbon group which may have a substituted group, and Zrepresents an organic cation] is prepared by reacting a compound represented by formula (II) (Q, Qand Y represent each the same in the above ), a salt represented by formula (III) [wherein Zrepresents an organic cation, and Xrepresents an anion] and water in the presence of an organic base.

Description

本発明は、レジスト組成物用の酸発生剤等として用いられる塩の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for producing a salt used as an acid generator or the like for a resist composition.

式(I)

Figure 2012176932
[式中、Q及びQは、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表す。Yは、置換基を有していてもよい炭素数1〜18の脂肪族炭化水素基を表し、該脂肪族炭化水素基を構成するメチレン基は、酸素原子、スルホニル基又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。Zは有機カチオンを表す。]
で示される塩(以下、塩(I)と記載することがある。)の製造方法としては、例えば、下式に示す製造方法が知られている(特許文献1)。
Figure 2012176932
Formula (I)
Figure 2012176932
[Wherein, Q 1 and Q 2 each independently represent a fluorine atom or a C 1-6 perfluoroalkyl group. Y represents an optionally substituted aliphatic hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and the methylene group constituting the aliphatic hydrocarbon group is replaced with an oxygen atom, a sulfonyl group or a carbonyl group. May be. Z + represents an organic cation. ]
For example, a production method represented by the following formula is known as a method for producing a salt represented by formula (hereinafter, sometimes referred to as salt (I)) (Patent Document 1).
Figure 2012176932

特開2006−257078号公報JP 2006-257078 A

従来から知られる上記製造方法では、目的の塩(I)は無機塩(上式の場合はNaCl)との混合物として得られ、それらを分離して十分に満足できる収率で塩(I)のみを取得することは困難であった。   In the above-mentioned production methods known from the past, the target salt (I) is obtained as a mixture with an inorganic salt (NaCl in the case of the above formula), and only the salt (I) is obtained in a sufficiently satisfactory yield by separating them. It was difficult to get.

本発明は、以下の発明を含む。
[1]有機塩基の存在下、式(II)

Figure 2012176932
[式中、Q及びQは、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表す。Yは、置換基を有していてもよい炭素数1〜18の脂肪族炭化水素基を表し、該脂肪族炭化水素基を構成するメチレン基は、酸素原子、スルホニル基又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。]
で表される化合物と式(III)
Figure 2012176932
[式中、Zは有機カチオンを表し、Xはアニオンを表す。]
で表される塩と水とを反応させる式(I)
Figure 2012176932
[式中、Q、Q、Y及びZは、それぞれ上記と同じ意味を表す。]
で表される塩の製造方法。
[2]式(III)におけるXが、ハロゲン化物イオン又はRSO (式中、Rは炭素数1〜6のアルキル基を表す。)である[1]記載の製造方法。
[3]有機塩基が、トリアルキルアミンである[1]又は[2]記載の製造方法。 The present invention includes the following inventions.
[1] Formula (II) in the presence of an organic base
Figure 2012176932
[Wherein, Q 1 and Q 2 each independently represent a fluorine atom or a C 1-6 perfluoroalkyl group. Y represents an optionally substituted aliphatic hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and the methylene group constituting the aliphatic hydrocarbon group is replaced with an oxygen atom, a sulfonyl group or a carbonyl group. May be. ]
And a compound represented by formula (III)
Figure 2012176932
[Wherein, Z + represents an organic cation, and X represents an anion. ]
Wherein the salt represented by formula (I) is reacted with water
Figure 2012176932
[Wherein, Q 1 , Q 2 , Y and Z + represent the same meaning as described above. ]
The manufacturing method of the salt represented by these.
[2] The production method according to [1], wherein X in the formula (III) is a halide ion or RSO 4 (wherein R represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms).
[3] The production method according to [1] or [2], wherein the organic base is a trialkylamine.

本発明の製造方法によれば、従来よりも良好な収率で、無機塩を含まない塩(I)を製造できる。   According to the production method of the present invention, the salt (I) containing no inorganic salt can be produced with a better yield than conventional.

以下、本発明について詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail.

上記式(I)及び式(II)中、Q及びQは、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表す。炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基としては、例えば、トリフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロイソプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロsec−ブチル基、ペルフルオロtert−ブチル基、ペルフルオロペンチル基、ペルフルオロヘキシル基等が挙げられる。Q1及びQ2としては、トリフルオロメチル基又はフッ素原子が好ましく、フッ素原子がより好ましい。 In the above formula (I) and formula (II), Q 1 and Q 2 each independently represent a fluorine atom or a C 1-6 perfluoroalkyl group. Examples of the C 1-6 perfluoroalkyl group include a trifluoromethyl group, a perfluoroethyl group, a perfluoropropyl group, a perfluoroisopropyl group, a perfluorobutyl group, a perfluorosec-butyl group, a perfluorotert-butyl group, and a perfluoropentyl group. And perfluorohexyl group. Q 1 and Q 2 are preferably a trifluoromethyl group or a fluorine atom, and more preferably a fluorine atom.

上記式(I)及び式(II)中、Yは、置換基を有していてもよい炭素数1〜18の脂肪族炭化水素基を表す。該脂肪族炭化水素基のうち、炭素数1〜6のアルキル基を含む基又は炭素数3〜12の脂環式炭化水素基を含む基が好ましく、炭素数3〜12の脂環式炭化水素基を含む基がより好ましく、炭素数1〜6のアルキル基と炭素数3〜12の脂環式炭化水素基とを含む基がさらに好ましい。   In the above formulas (I) and (II), Y represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms which may have a substituent. Among the aliphatic hydrocarbon groups, a group containing an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or a group containing an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms is preferable, and an alicyclic hydrocarbon having 3 to 12 carbon atoms. A group containing a group is more preferable, and a group containing an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms and an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms is more preferable.

上記Yで表される炭素数1〜18の脂肪族炭化水素基が有していてもよい置換基としては、例えば、ハロゲン原子(但し、フッ素原子を除く)、ヒドロキシ基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数6〜18の芳香族炭化水素基、炭素数7〜21のアラルキル基、炭素数2〜4のアシル基、グリシジルオキシ基又は−(CH2j−O−CO−Rb1で表される基(式中、Rb1は、炭素数1〜16の炭化水素基を表す。jは、0〜4の整数を表す。)が挙げられる。ここでいう芳香族炭化水素基及びアラルキル基は、アルキル基、ハロゲン原子又はヒドロキシ基等の置換基をさらに有していてもよい。 Examples of the substituent that the aliphatic hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms represented by Y may have include, for example, a halogen atom (excluding a fluorine atom), a hydroxy group, and 1 to 12 carbon atoms. Alkoxy groups, C 6-18 aromatic hydrocarbon groups, C 7-21 aralkyl groups, C 2-4 acyl groups, glycidyloxy groups, or — (CH 2 ) j —O—CO—R. and a group represented by b1 (wherein R b1 represents a hydrocarbon group having 1 to 16 carbon atoms, j represents an integer of 0 to 4). The aromatic hydrocarbon group and aralkyl group here may further have a substituent such as an alkyl group, a halogen atom or a hydroxy group.

上記Yで表される炭素数1〜18の脂肪族炭化水素基に含まれる脂環式炭化水素基のうち、かかる置換基を有するものとしては、例えば、以下のものが挙げられる。

Figure 2012176932
Among the alicyclic hydrocarbon groups contained in the aliphatic hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms represented by Y, examples of those having such a substituent include the following.
Figure 2012176932

Figure 2012176932
Figure 2012176932

Figure 2012176932
Figure 2012176932

上記Yで表される炭素数1〜18の脂肪族炭化水素基を構成するメチレン基は、酸素原子、スルホニル基又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。脂環式炭化水素基を構成するメチレン基が、酸素原子、スルホニル基又はカルボニル基に置き換わった基としては例えば、環状エーテル基(脂環式炭化水素基を構成するメチレン基の1つ又は2つが酸素原子に置き換わった基)、環状ケトン基(脂環式炭化水素基を構成するメチレン基の1つ又は2つがカルボニル基に置き換わった基)、スルトン環基(脂環式炭化水素基を構成するメチレン基のうち隣り合う2つのメチレン基が、それぞれ、酸素原子及びスルホニル基に置き換わった基)及びラクトン環基(脂環式炭化水素基を構成するメチレン基のうち隣り合う2つのメチレン基が、それぞれ、酸素原子及びカルボニル基に置き換わった基)等が挙げられる。   The methylene group constituting the aliphatic hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms represented by Y may be replaced with an oxygen atom, a sulfonyl group or a carbonyl group. Examples of the group in which the methylene group constituting the alicyclic hydrocarbon group is replaced with an oxygen atom, a sulfonyl group or a carbonyl group include, for example, a cyclic ether group (one or two of the methylene groups constituting the alicyclic hydrocarbon group are A group in which an oxygen atom is substituted), a cyclic ketone group (a group in which one or two methylene groups constituting an alicyclic hydrocarbon group are replaced by a carbonyl group), a sultone ring group (which constitutes an alicyclic hydrocarbon group) Two adjacent methylene groups in the methylene group are groups in which an oxygen atom and a sulfonyl group are substituted, respectively. A group in which an oxygen atom and a carbonyl group are substituted, respectively).

リソグラフィ技術を用いた半導体の微細加工に用いられるレジスト組成物に含まれる酸発生剤としての塩(I)の性能の観点から、上記Yで表される炭素数1〜18の脂肪族炭化水素基に含まれる脂環式炭化水素基としては、以下の式(Y1)、式(Y2)、式(Y3)、式(Y4)及び式(Y5)のいずれかで表される脂環式炭化水素基が好ましく、これらのうち、式(Y1)、式(Y2)、式(Y3)及び式(Y5)のいずれかで表される脂環式炭化水素基がより好ましく、式(Y1)及び式(Y2)のいずれかで表される脂環式炭化水素基がさらに好ましい。これらの脂環式炭化水素基を構成する水素原子は、上記Yで表される炭素数1〜18の脂肪族炭化水素基が有していてもよい置換基で置換されていてもよく、ヒドロキシ基で置換されていることが好ましい。

Figure 2012176932
(式(Y1)〜式(Y5)中、*は結合手を表す。) From the viewpoint of the performance of the salt (I) as an acid generator contained in a resist composition used for fine processing of a semiconductor using a lithography technique, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms represented by Y above The alicyclic hydrocarbon group contained in the alicyclic hydrocarbon group represented by any of the following formula (Y1), formula (Y2), formula (Y3), formula (Y4) and formula (Y5) Group is preferred, and among these, an alicyclic hydrocarbon group represented by any one of formula (Y1), formula (Y2), formula (Y3) and formula (Y5) is more preferred, and formula (Y1) and formula The alicyclic hydrocarbon group represented by any one of (Y2) is more preferable. The hydrogen atom constituting these alicyclic hydrocarbon groups may be substituted with a substituent that the aliphatic hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms represented by Y may have a hydroxy group. It is preferably substituted with a group.
Figure 2012176932
(In formula (Y1) to formula (Y5), * represents a bond)

リソグラフィ技術を用いた半導体の微細加工に用いられるレジスト組成物に含まれる酸発生剤としての塩(I)の性能の観点から、Yで表される炭素数1〜18の脂肪族炭化水素基としては、ヒドロキシアダマンチルメチル基が好ましい。   From the viewpoint of the performance of the salt (I) as an acid generator contained in a resist composition used for microfabrication of a semiconductor using a lithography technique, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms represented by Y Is preferably a hydroxyadamantylmethyl group.

上記式(I)及び式(II)において、*−C(Q)(Q)−CO−O−Y[式中、Q、Q及びYは、それぞれ上記と同じ意味を表し、*はSOF又はSO との結合手を表す。]で表される構造の好適例を具体的に示すと、式(b1−1−1)、式(b1−1−2)、式(b1−1−3)、式(b1−1−4)、式(b1−1−5)、式(b1−1−6)、式(b1−1−7)、式(b1−1−8)及び式(b1−1−9)〔以下、「式(b1−1−1)〜式(b1−1−9)」のように表記する。〕で表される構造が挙げられる。この式(b1−1−1)〜式(b1−1−9)のいずれかで表される構造において、Lb1は単結合又は炭素数1〜6のアルキレン基であり、単結合又はメチレン基が好ましい。また、Rb2及びRb3は、それぞれ独立に、上記Yで表される炭素数1〜18の脂肪族炭化水素基が有していてもよい置換基として定義したものであり、炭素数1〜4のアルキル基が好ましく、メチル基がより好ましい。

Figure 2012176932
In the above formula (I) and formula (II), * —C (Q 1 ) (Q 2 ) —CO—O—Y [wherein Q 1 , Q 2 and Y represent the same meaning as above, * Represents a bond with SO 2 F or SO 3 . Specific examples of the structure represented by formula (b1-1-1), formula (b1-1-2), formula (b1-1-3), formula (b1-1-4) ), Formula (b1-1-5), formula (b1-1-6), formula (b1-1-7), formula (b1-1-8) and formula (b1-1-9) [hereinafter, “ It represents like "formula (b1-1-1)-formula (b1-1-9)". The structure represented by] is mentioned. In the structure represented by any one of the formulas (b1-1-1) to (b1-1-9), L b1 is a single bond or an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, and is a single bond or a methylene group. Is preferred. R b2 and R b3 are each independently defined as a substituent that the aliphatic hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms represented by Y may have, An alkyl group of 4 is preferable, and a methyl group is more preferable.
Figure 2012176932

式(b1−1−1)〜式(b1−1−9)のいずれかで表される構造を有するスルホン酸アニオン(塩(I)のアニオン部分)の具体例としては、特開2010−204646号公報に記載されているスルホン酸アニオンを挙げることができる。   Specific examples of the sulfonate anion (anion portion of the salt (I)) having a structure represented by any one of the formulas (b1-1-1) to (b1-1-9) include JP-A-2010-204646. Examples thereof include sulfonate anions described in Japanese Patent Publication.

上記*−C(Q)(Q)−CO−O−Y(式中、Q、Q、Y及び*は、それぞれ上記と同じ意味を表す。)で表される構造として、Yが式(Y1)又は式(Y2)で表される脂環式炭化水素基を含む基である具体例を挙げる。Yが無置換の脂環式炭化水素基を含む基である構造としては、以下の式(b1−s−1)〜式(b1−s−9)のいずれかで表される構造が挙げられる。

Figure 2012176932
As a structure represented by the above * -C (Q 1 ) (Q 2 ) —CO—O—Y (wherein Q 1 , Q 2 , Y and * each have the same meaning as above), Y Is a specific example in which is a group containing an alicyclic hydrocarbon group represented by the formula (Y1) or the formula (Y2). Examples of the structure in which Y is a group containing an unsubstituted alicyclic hydrocarbon group include structures represented by any of the following formulas (b1-s-1) to (b1-s-9). .
Figure 2012176932

Yがヒドロキシ基を有する脂環式炭化水素基を含む基である構造としては、以下の式(b1−s−10)〜式(b1−s−18)のいずれかで表されるものが挙げられる。

Figure 2012176932
Examples of the structure in which Y is a group containing an alicyclic hydrocarbon group having a hydroxy group include those represented by any of the following formulas (b1-s-10) to (b1-s-18). It is done.
Figure 2012176932

Yが環状ケトン基を含む基である構造としては、以下の式(b1−s−19)〜式(b1−s−29)のいずれかで表される構造が挙げられる。

Figure 2012176932
Examples of the structure in which Y is a group containing a cyclic ketone group include structures represented by any of the following formulas (b1-s-19) to (b1-s-29).
Figure 2012176932

Figure 2012176932
Figure 2012176932

Yが芳香族炭化水素基を含む基である構造としては、以下の式(b1−s−30)〜式(b1−s−35)のいずれかで表される構造が挙げられる。

Figure 2012176932
Examples of the structure in which Y is a group containing an aromatic hydrocarbon group include structures represented by any of the following formulas (b1-s-30) to (b1-s-35).
Figure 2012176932

Yが、前記ラクトン環基又は前記スルホン酸環基を含む基である構造としては、以下の式(b1−s−36)〜式(b1−s−41)のいずれかで表される構造が挙げられる。

Figure 2012176932
The structure in which Y is a group containing the lactone ring group or the sulfonic acid ring group is a structure represented by any of the following formulas (b1-s-36) to (b1-s-41). Can be mentioned.
Figure 2012176932

また、Yがアルキル基である構造としては、以下の式(b1−s−42)で表される構造が挙げられる。

Figure 2012176932
Moreover, as a structure whose Y is an alkyl group, the structure represented by the following formula | equation (b1-s-42) is mentioned.
Figure 2012176932

上記式(II)で表される化合物(以下、化合物(II)と記載することがある。)としては、上記各構造における*がSOFと結合した構造の化合物が挙げられる。 Examples of the compound represented by the above formula (II) (hereinafter sometimes referred to as compound (II)) include compounds having a structure in which * in each of the above structures is bonded to SO 2 F.

化合物(II)は、例えば、Inorganic Chemistry, 1991, 30(25), 4821-6に記載された方法に準じて合成することができる。   Compound (II) can be synthesized, for example, according to the method described in Inorganic Chemistry, 1991, 30 (25), 4821-6.

また、化合物(II)は、例えば下式(II−a)で表される化合物と下式(II−b)で表される化合物とを、塩基存在下、溶剤中でエステル交換反応させることにより製造することができる。塩基としては、チタニウムイソプロポキシド等が挙げられる。溶媒としては、クロロホルム、n−ヘプタン等が挙げられる。反応温度は、5℃以上、溶剤の沸点以下の範囲が好ましく、20℃以上、溶剤の沸点以下の範囲がより好ましく、溶剤の還流温度条件下がさらに好ましい。式(II−a)で表される化合物の一つであるフルオロスルホニル(ジフルオロ)酢酸メチル(Q及びQが共にフッ素原子)は、市販品として入手可能である。式(II−b)で表される化合物としては、3−ヒドロキシメチルアダマンタン−1−オール等が挙げられ、市販品を用いてもよいし、任意の公知の方法により製造して用いてもよい。

Figure 2012176932
[式中、Q、Q及びYは、それぞれ上記と同じ意味を表す。] In addition, compound (II) can be obtained, for example, by subjecting a compound represented by the following formula (II-a) and a compound represented by the following formula (II-b) to an ester exchange reaction in a solvent in the presence of a base. Can be manufactured. Examples of the base include titanium isopropoxide. Examples of the solvent include chloroform and n-heptane. The reaction temperature is preferably in the range of 5 ° C. or higher and lower than the boiling point of the solvent, more preferably in the range of 20 ° C. or higher and lower than the boiling point of the solvent, and more preferably the reflux temperature condition of the solvent. One of the compounds represented by the formula (II-a), methyl fluorosulfonyl (difluoro) acetate (both Q 1 and Q 2 are fluorine atoms) is commercially available. Examples of the compound represented by the formula (II-b) include 3-hydroxymethyladamantan-1-ol and the like, and a commercially available product may be used, or it may be produced and used by any known method. .
Figure 2012176932
[Wherein, Q 1 , Q 2 and Y each have the same meaning as described above. ]

さらに、化合物(II)は、例えば下式(J−a)で表される化合物と下式(II−b)で表される化合物とを、酸存在下、溶剤中で脱水反応させることにより製造することもできる。酸としては、硫酸等が挙げられる。溶媒としては、ジクロロエタン、クロロホルム等が挙げられる。反応温度は、5℃以上、溶剤の沸点以下の範囲が好ましく、20℃以上、溶剤の沸点以下の範囲がより好ましく、溶剤の還流温度条件下がさらに好ましい。式(J−a)で表される化合物の一つであるフルオロスルホニル(ジフルオロ)酢酸(Q及びQが共にフッ素原子)は、市販品として入手可能である。

Figure 2012176932
[式中、Q、Q及びYは、それぞれ上記と同じ意味を表す。] Furthermore, the compound (II) is produced, for example, by subjecting a compound represented by the following formula (Ja) and a compound represented by the following formula (II-b) to a dehydration reaction in a solvent in the presence of an acid. You can also Examples of the acid include sulfuric acid. Examples of the solvent include dichloroethane and chloroform. The reaction temperature is preferably in the range of 5 ° C. or higher and lower than the boiling point of the solvent, more preferably in the range of 20 ° C. or higher and lower than the boiling point of the solvent, and more preferably the reflux temperature condition of the solvent. Fluorosulfonyl (difluoro) acetic acid (both Q 1 and Q 2 are fluorine atoms), which is one of the compounds represented by formula (Ja), is commercially available.
Figure 2012176932
[Wherein, Q 1 , Q 2 and Y each have the same meaning as described above. ]

上記式(I)及び式(III)中、Zで表される有機カチオンとしては、例えば有機スルホニウムカチオン、有機ヨードニウムカチオン、有機アンモニウムカチオン、有機ベンゾチアゾリウムカチオン及び有機ホスホニウムカチオン等の有機オニウムカチオン等が挙げられる。リソグラフィ技術を用いた半導体の微細加工に用いられるレジスト組成物に含まれる酸発生剤としての塩(I)の性能の観点から、これらの中でも、有機スルホニウムカチオン及び有機ヨードニウムカチオンが好ましく、以下の式(b2−1)〜式(b2−4)のいずれかで表されるカチオンがより好ましい。

Figure 2012176932
In the above formulas (I) and (III), examples of the organic cation represented by Z + include organic oniums such as organic sulfonium cation, organic iodonium cation, organic ammonium cation, organic benzothiazolium cation, and organic phosphonium cation. And cations. From the viewpoint of the performance of the salt (I) as an acid generator contained in a resist composition used for microfabrication of a semiconductor using a lithography technique, among these, an organic sulfonium cation and an organic iodonium cation are preferable. A cation represented by any one of (b2-1) to formula (b2-4) is more preferable.
Figure 2012176932

式(b2−1)〜式(b2−4)において、
b4〜Rb6は、それぞれ独立に、炭素数1〜30のアルキル基、炭素数3〜36の脂環式炭化水素基又は炭素数6〜18の芳香族炭化水素基を表す。該アルキル基は、ヒドロキシ基、炭素数1〜12のアルコキシ基又は炭素数6〜18の芳香族炭化水素基で置換されていてもよく、該脂環式炭化水素基は、ハロゲン原子、炭素数2〜4のアシル基又はグリシジルオキシ基で置換されていてもよく、該芳香族炭化水素基は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数1〜36のアルキル基、炭素数3〜36の脂環式炭化水素基又は炭素数1〜12のアルコキシ基で置換されていてもよい。Rb4、Rb5及びRb6から選ばれる2つが一緒になって、イオウ原子を含む環を形成してもよい。
In formula (b2-1) to formula (b2-4),
R b4 to R b6 each independently represents an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 36 carbon atoms, or an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms. The alkyl group may be substituted with a hydroxy group, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms or an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, and the alicyclic hydrocarbon group has a halogen atom or a carbon number. The aromatic hydrocarbon group may be substituted with 2 to 4 acyl groups or glycidyloxy groups, and the aromatic hydrocarbon group is a halogen atom, a hydroxy group, an alkyl group having 1 to 36 carbon atoms, or an alicyclic group having 3 to 36 carbon atoms. It may be substituted with a hydrocarbon group or an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms. Two members selected from R b4 , R b5 and R b6 may be combined to form a ring containing a sulfur atom.

b4、Rb5及びRb6から選ばれる2つが一緒になって形成してもよい環としては、単環式、多環式、芳香族性、非芳香族性、飽和及び不飽和のいずれの環であってもよく、イオウ原子を1以上含むものであれば、さらに、1以上のイオウ原子及び/又は1以上の酸素原子を含んでいてもよい。該環としては、炭素数3〜18の環が好ましく、炭素数4〜13の環がより好ましい。 The ring which may be formed by combining two selected from R b4 , R b5 and R b6 is any of monocyclic, polycyclic, aromatic, non-aromatic, saturated and unsaturated. It may be a ring and may contain one or more sulfur atoms and / or one or more oxygen atoms as long as it contains one or more sulfur atoms. As the ring, a ring having 3 to 18 carbon atoms is preferable, and a ring having 4 to 13 carbon atoms is more preferable.

b7及びRb8は、それぞれ独立に、ヒドロキシ基、炭素数1〜12のアルキル基又は炭素数1〜12のアルコキシ基を表す。
m2及びn2は、それぞれ独立に0〜5の整数を表す。m2が2以上である場合、複数のRb7は互いに同一であっても異なってもよく、n2が2以上である場合、複数のRb8は互いに同一であっても異なってもよい。
R b7 and R b8 each independently represent a hydroxy group, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms.
m2 and n2 each independently represent an integer of 0 to 5. When m2 is 2 or more, the plurality of R b7 may be the same or different from each other. When n2 is 2 or more, the plurality of R b8 may be the same or different from each other.

b9及びRb10は、それぞれ独立に、炭素数1〜36のアルキル基又は炭素数3〜36の脂環式炭化水素基を表すか、Rb9とRb10とが互いに結合し、それらがともに結合している硫黄原子とともに3員環〜12員環(好ましくは3員環〜7員環)を形成するか、している。かかる環を構成するメチレン基は、酸素原子、硫黄原子又はカルボニル基で置き換わっていてもよい。
b11は、水素原子、炭素数1〜36のアルキル基、炭素数3〜36の脂環式炭化水素基又は炭素数6〜18の芳香族炭化水素基を表し、Rb12は、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数3〜18の脂環式炭化水素基又は炭素数6〜18の芳香族炭化水素基を表すか、Rb11とRb12とが互いに結合し、それらがそれぞれ結合している炭素原子とともに、4員環〜12員環(好ましくは4員環〜7員環)を形成するか、している。かかる環を構成するメチレン基は、酸素原子、硫黄原子又はカルボニル基で置き換わっていてもよい。
b9〜Rb12のうち、アルキル基は、好ましくは炭素数1〜12であり、脂環式炭化水素基は、好ましくは炭素数3〜36、より好ましくは炭素数4〜12である。また、芳香族炭化水素基は、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数3〜18の脂環式炭化水素基又は炭素数2〜13のアルキルカルボニルオキシ基で置換されていてもよい。
アルキルカルボニルオキシ基としては、メチルカルボニルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、n−プロピルカルボニルオキシ基、イソプロピルカルボニルオキシ基、n−ブチルカルボニルオキシ基、sec−ブチルカルボニルオキシ基、tert−ブチルカルボニルオキシ基、ペンチルカルボニルオキシ基、ヘキシルカルボニルオキシ基、オクチルカルボニルオキシ基及び2−エチルヘキシルカルボニルオキシ基等が挙げられる。
R b9 and R b10 each independently represent an alkyl group having 1 to 36 carbon atoms or an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 36 carbon atoms, or R b9 and R b10 are bonded to each other, A 3-membered ring to a 12-membered ring (preferably a 3-membered ring to a 7-membered ring) are formed with the sulfur atom bonded thereto. The methylene group constituting the ring may be replaced with an oxygen atom, a sulfur atom or a carbonyl group.
R b11 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 36 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 36 carbon atoms, or an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, and R b12 represents 1 carbon atom. Represents an alkyl group of ˜12, an alicyclic hydrocarbon group of 3 to 18 carbon atoms or an aromatic hydrocarbon group of 6 to 18 carbon atoms, or R b11 and R b12 are bonded to each other, A 4-membered ring to a 12-membered ring (preferably a 4-membered ring to a 7-membered ring) are formed with the carbon atom. The methylene group constituting the ring may be replaced with an oxygen atom, a sulfur atom or a carbonyl group.
Among R b9 to R b12 , the alkyl group preferably has 1 to 12 carbon atoms, and the alicyclic hydrocarbon group preferably has 3 to 36 carbon atoms, more preferably 4 to 12 carbon atoms. The aromatic hydrocarbon group is an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, or an alkylcarbonyloxy group having 2 to 13 carbon atoms. May be substituted.
Examples of the alkylcarbonyloxy group include a methylcarbonyloxy group, an ethylcarbonyloxy group, an n-propylcarbonyloxy group, an isopropylcarbonyloxy group, an n-butylcarbonyloxy group, a sec-butylcarbonyloxy group, a tert-butylcarbonyloxy group, Examples thereof include a pentylcarbonyloxy group, a hexylcarbonyloxy group, an octylcarbonyloxy group, and a 2-ethylhexylcarbonyloxy group.

b13〜Rb18は、それぞれ独立に、ヒドロキシ基、炭素数1〜12のアルキル基又は炭素数1〜12のアルコキシ基を表す。
b11は、硫黄原子又は酸素原子を表す。
o2、p2、s2、及びt2は、それぞれ独立に、0〜5の整数を表す。
q2及びr2は、それぞれ独立に、0〜4の整数を表す。
u2は0又は1を表す。
o2が2以上であるとき、複数のRb13は同一又は異なっていてもよく、p2が2以上であるとき、複数のRb14は同一又は異なっていてもよく、q2が2以上であるとき、複数のRb15は同一又は異なっていてもよく、r2が2以上であるとき、複数のRb16は同一又は異なっていてもよく、s2が2以上であるとき、複数のRb17は同一又は異なっていてもよく、t2が2以上であるとき、複数のRb18は同一又は異なっていてもよい。
R b13 to R b18 each independently represent a hydroxy group, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms.
L b11 represents a sulfur atom or an oxygen atom.
o2, p2, s2, and t2 each independently represents an integer of 0 to 5.
q2 and r2 each independently represents an integer of 0 to 4.
u2 represents 0 or 1.
When o2 is 2 or more, the plurality of R b13 may be the same or different. When p2 is 2 or more, the plurality of R b14 may be the same or different. When q2 is 2 or more, A plurality of R b15 may be the same or different. When r2 is 2 or more, a plurality of R b16 may be the same or different. When s2 is 2 or more, a plurality of R b17 are the same or different. And when t2 is 2 or more, the plurality of R b18 may be the same or different.

好ましいアルキル基は、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基又は2−エチルヘキシル基である。
好ましい脂環式炭化水素基は、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロデシル基、2−アルキルアダマンタン−2−イル基、1−(アダマンタン−1−イル)アルカン−1−イル基又はイソボルニル基である。
好ましい芳香族炭化水素基は、フェニル基、4−メチルフェニル基、4−エチルフェニル基、4−tert−ブチルフェニル基、4−シクロへキシルフェニル基、4−メトキシフェニル基、ビフェニリル基又はナフチル基である。
芳香族炭化水素基で置換されたアルキル基としては、ベンジル基等のアラルキル基等が挙げられる。
b9及びRb10とが互いに結合し、それらがともに結合している硫黄原子とともに形成する環としては、例えば、チオラン−1−イウム環(テトラヒドロチオフェニウム環)、チアン−1−イウム環、1,4−オキサチアン−4−イウム環等が挙げられる。
b11とRb12とが互いに結合し、それらがそれぞれ結合している炭素原子とともに形成する環としては、例えば、オキソシクロヘプタン環、オキソシクロヘキサン環、オキソノルボルナン環、オキソアダマンタン環等が挙げられる。
Preferred alkyl groups are methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, sec-butyl, tert-butyl, pentyl, hexyl, octyl or 2-ethylhexyl.
Preferred alicyclic hydrocarbon groups are cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group, cyclodecyl group, 2-alkyladamantan-2-yl group, 1- (adamantan-1-yl) alkane- 1-yl group or isobornyl group.
Preferred aromatic hydrocarbon groups are phenyl, 4-methylphenyl, 4-ethylphenyl, 4-tert-butylphenyl, 4-cyclohexylphenyl, 4-methoxyphenyl, biphenylyl or naphthyl. It is.
Examples of the alkyl group substituted with an aromatic hydrocarbon group include aralkyl groups such as a benzyl group.
Examples of the ring formed by R b9 and R b10 bonded together and the sulfur atom to which they are bonded together include, for example, a thiolane-1-ium ring (tetrahydrothiophenium ring), a thian-1-ium ring, Examples include 1,4-oxathian-4-ium ring.
Examples of the ring formed by combining R b11 and R b12 together with the carbon atoms to which they are bonded include an oxocycloheptane ring, an oxocyclohexane ring, an oxonorbornane ring, and an oxoadamantane ring.

式(b2−1)〜式(b2−4)で表される有機カチオンの具体例は、特開2010−204646号公報に記載されたものを挙げることができる。   Specific examples of the organic cation represented by the formulas (b2-1) to (b2-4) include those described in JP2010-204646A.

上述の有機カチオンの中でも、リソグラフィ技術を用いた半導体の微細加工に用いられるレジスト組成物に含まれる酸発生剤としての塩(I)の性能の観点から、上記式(b2−1)で表される有機カチオンが好ましく、以下の式(b2−1−1)で表される有機カチオン〔以下、「カチオン(b2−1−1)」という場合がある。〕がより好ましく、トリフェニルスルホニウムカチオン(式(b2−1−1)中、v2=w2=x2=0である。)又はトリトリルスルホニウムカチオン(式(b2−1−1)中、v2=w2=x2=1であり、Rb19、Rb20及びRb21がいずれもメチル基である。)がさらに好ましい。

Figure 2012176932
Among the above organic cations, the organic cation is represented by the above formula (b2-1) from the viewpoint of the performance of the salt (I) as an acid generator contained in a resist composition used for fine processing of a semiconductor using a lithography technique. The organic cation is preferably an organic cation represented by the following formula (b2-1-1) [hereinafter referred to as “cation (b2-1-1)”. ], More preferably a triphenylsulfonium cation (in formula (b2-1-1), v2 = w2 = x2 = 0) or a tolylsulfonium cation (in formula (b2-1-1), v2 = w2 = X2 = 1, and R b19 , R b20 and R b21 are all methyl groups).
Figure 2012176932

式(b2−1−1)中、Rb19、Rb20及びRb21は、それぞれ独立に、ハロゲン原子(好ましくはフッ素原子)、ヒドロキシ基、炭素数1〜18の脂肪族炭化水素基又は炭素数1〜12のアルコキシ基を表し、Rb19、Rb20及びRb21から選ばれる2つが一緒になって単結合、−O−又は炭素数1〜4の2価の脂肪族炭化水素基を表し、イオウ原子を含む環を形成してもよい。
かかる炭素数1〜18の脂肪族炭化水素基としては、炭素数1〜12のアルキル基又は炭素数4〜18の脂環式炭化水素基が好ましく、炭素数1〜12のアルキル基がより好ましい。また、かかる炭素数1〜18の脂肪族炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数6〜18の芳香族炭化水素基、炭素数2〜4のアシル基又はグリシジルオキシ基で置換されていてもよい。
v2、w2及びx2は、それぞれ独立に0〜5の整数(好ましくは0又は1)を表す。
v2が2以上のとき、複数存在するRb19は互いに同一であっても相異なっていてもよく、w2が2以上のとき、複数存在するRb20は互いに同一であっても相異なっていてもよく、x2が2以上のとき、複数存在するRb21は互いに同一であっても相異なっていてもよい。
In formula (b2-1-1), R b19 , R b20 and R b21 each independently represent a halogen atom (preferably a fluorine atom), a hydroxy group, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms or a carbon number. Represents an alkoxy group having 1 to 12, and two selected from R b19 , R b20 and R b21 together represent a single bond, —O— or a divalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms; A ring containing a sulfur atom may be formed.
As this C1-C18 aliphatic hydrocarbon group, a C1-C12 alkyl group or a C4-C18 alicyclic hydrocarbon group is preferable, and a C1-C12 alkyl group is more preferable. . Moreover, the hydrogen atom contained in this C1-C18 aliphatic hydrocarbon group is a halogen atom, a hydroxy group, a C1-C12 alkoxy group, a C6-C18 aromatic hydrocarbon group, carbon number. It may be substituted with 2 to 4 acyl groups or glycidyloxy groups.
v2, w2 and x2 each independently represent an integer of 0 to 5 (preferably 0 or 1).
When v2 is 2 or more, a plurality of R b19 may be the same or different from each other, and when w2 is 2 or more, a plurality of R b20 may be the same or different from each other. When x2 is 2 or more, a plurality of R b21 may be the same or different from each other.

ここで、好適な有機カチオンであるカチオン(b2−1−1)の具体例を示す。

Figure 2012176932
Here, the specific example of the cation (b2-1-1) which is a suitable organic cation is shown.
Figure 2012176932

Figure 2012176932
Figure 2012176932

Figure 2012176932
Figure 2012176932

Figure 2012176932
Figure 2012176932

カチオン(b2−1−1)のうち、イオウ原子を含む環が形成されたカチオンの具体例としては、以下のものが挙げられる。

Figure 2012176932
The following are mentioned as a specific example of the cation in which the ring containing a sulfur atom was formed among cations (b2-1-1).
Figure 2012176932

カチオン(b2−1)のうち、イオウ原子を含む環が形成されたカチオンの具体例としては、以下のものが挙げられる。

Figure 2012176932
The following are mentioned as a specific example of the cation in which the ring containing a sulfur atom was formed among cations (b2-1).
Figure 2012176932

カチオン(b2−2)としては、以下のものが挙げられる。

Figure 2012176932
Examples of the cation (b2-2) include the following.
Figure 2012176932

また、有機カチオンとしては、式(b2−3)で表される有機カチオンのうち、以下の有機カチオンも好適である。

Figure 2012176932
Moreover, as an organic cation, the following organic cations are suitable among the organic cations represented by Formula (b2-3).
Figure 2012176932

上記式(III)中、Xで表されるアニオンとしては、ハロゲン化物イオン又はRSO (式中、Rは炭素数1〜6のアルキル基を表す。)が挙げられ、中でも、塩化物イオン、臭化物イオン又はCHSO が好ましい。 In the above formula (III), examples of the anion represented by X include a halide ion or RSO 4 (wherein R represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms). Ions, bromide ions or CH 3 SO 4 are preferred.

上記式(III)で表される塩(以下、塩(III)と記載することがある。)は、上記ZとXとの組み合わせである。ZとXとは任意に組み合わせることができ、反応性や所望の塩(I)の種類等に応じて、適宜選択できる。中でも、トリフェニルスルホニウム メチルスルフェート、トリフェニルスルホニウム クロライド、トリフェニルスルホニウム ブロミドが好ましい。塩(III)は、市販のものを用いてもよいし、任意の公知の方法により製造して用いてもよい。 The salt represented by the above formula (III) (hereinafter sometimes referred to as salt (III)) is a combination of the above Z + and X . Z + and X can be arbitrarily combined, and can be appropriately selected depending on the reactivity, the type of the desired salt (I), and the like. Among these, triphenylsulfonium methyl sulfate, triphenylsulfonium chloride, and triphenylsulfonium bromide are preferable. A commercially available salt (III) may be used, and the salt (III) may be produced by any known method.

塩(III)の使用量は、化合物(II)1モルに対して、1.0〜1.5モルの範囲が好ましく、1.0〜1.1モルの範囲がより好ましい。   The amount of salt (III) used is preferably in the range of 1.0 to 1.5 mol and more preferably in the range of 1.0 to 1.1 mol with respect to 1 mol of compound (II).

水は、工業用水、水道水、蒸留水、イオン交換水等が使用できる。その使用量は、化合物(II)1モルに対して1モル以上であればよく、溶媒を兼ねて大過剰量用いてもよい。化合物(II)1質量部に対し、1〜10質量部の範囲が好ましく、2〜5質量部の範囲がより好ましい。   As the water, industrial water, tap water, distilled water, ion-exchanged water and the like can be used. The amount used may be 1 mol or more with respect to 1 mol of compound (II), and a large excess amount may be used also as a solvent. The range of 1-10 mass parts is preferable with respect to 1 mass part of compound (II), and the range of 2-5 mass parts is more preferable.

有機塩基としては、下記式(N−1)で表される化合物が挙げられる。

Figure 2012176932
[式(N−1)中、
N1、RN2及びRN3は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のヒドロキシアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシアルキル基、炭素数3〜12のシクロアルキル基、置換されてもよいフェニル基、置換されてもよい炭素数7〜12のアラルキル基、置換されてもよいナフチル基又は置換されてもよい炭素数5〜10のヘテロ芳香環基を表す。] Examples of the organic base include compounds represented by the following formula (N-1).
Figure 2012176932
[In the formula (N-1),
R N1 , R N2 and R N3 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a hydroxyalkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxyalkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or 3 to 3 carbon atoms. 12 cycloalkyl groups, an optionally substituted phenyl group, an optionally substituted aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms, an optionally substituted naphthyl group, or an optionally substituted heteroaromatic ring having 5 to 10 carbon atoms Represents a group. ]

中でも、トリメチルアミン、トリエチルアミン等のトリアルキルアミン、ジエチルアミン等のジアルキルアミン、モノエチルアミン等のモノアルキルアミン、アンモニア及び下記で表される化合物が好ましく、トリアルキルアミンがより好ましい。

Figure 2012176932
Among these, trialkylamines such as trimethylamine and triethylamine, dialkylamines such as diethylamine, monoalkylamines such as monoethylamine, ammonia, and compounds represented by the following are preferable, and trialkylamines are more preferable.
Figure 2012176932

有機塩基の使用量は、塩(III)1モルに対して、1〜5モルの範囲が好ましく、1.1〜3モルの範囲がより好ましい。   The amount of the organic base used is preferably in the range of 1 to 5 mol and more preferably in the range of 1.1 to 3 mol with respect to 1 mol of the salt (III).

本発明において、化合物(II)と塩(III)と水との反応は有機塩基の存在下で行われるが、さらに有機溶媒の存在下で行われることが好ましい。かかる有機溶媒としては、例えば、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素溶媒、酢酸エチル等のエステル溶剤等が挙げられ、中でも、ハロゲン化炭化水素溶媒が好ましい。有機塩基の使用量は、化合物(II)と塩(III)との合計1質量部に対して、1〜10モルの範囲が好ましく、2〜5モルの範囲がより好ましい。   In the present invention, the reaction of compound (II), salt (III) and water is carried out in the presence of an organic base, but is preferably carried out in the presence of an organic solvent. Examples of the organic solvent include halogenated hydrocarbon solvents such as chloroform and dichloromethane, ester solvents such as ethyl acetate, and among them, halogenated hydrocarbon solvents are preferable. The amount of the organic base used is preferably in the range of 1 to 10 mol, more preferably in the range of 2 to 5 mol, with respect to 1 part by mass in total of the compound (II) and the salt (III).

反応温度は、用いる有機溶媒の種類等にもよるが、5℃以上、100℃以下(有機溶媒の沸点が100℃未満の場合は、有機溶媒の沸点以下)の範囲が好ましく、10〜50℃の範囲がより好ましく、20〜40℃の範囲がさらに好ましい。反応時間は、反応終点を追跡することにより適宜決めることができ、通常1分〜24時間の範囲である。   The reaction temperature is preferably in the range of 5 ° C. or higher and 100 ° C. or lower (if the boiling point of the organic solvent is lower than 100 ° C.), preferably 10 to 50 ° C. The range of 20-40 degreeC is more preferable, and the range of 20-40 degreeC is further more preferable. The reaction time can be appropriately determined by following the reaction end point, and is usually in the range of 1 minute to 24 hours.

本発明の製造方法は、必要により有機溶媒の存在下で、化合物(II)と塩(III)と水と有機塩基とを混合することにより実施される。それらの混合順序は特に限定されるものではないが、塩(III)と水と有機溶媒との混合物中に化合物(II)を加えていくことにより実施することが好ましい。   The production method of the present invention is carried out by mixing compound (II), salt (III), water and an organic base, if necessary in the presence of an organic solvent. Although the mixing order is not particularly limited, it is preferable to carry out by adding compound (II) to a mixture of salt (III), water and organic solvent.

反応終了後の混合物中には、通常、塩(I)が含まれる。かかる混合物に、分液、濃縮、晶析(貧溶媒との混合や冷却晶析等)、ろ過等の通常の後処理を施すことにより、塩(I)を単離することができる。単離された塩(I)は、さらに洗浄、再結晶等の通常の精製処理により精製してもよい。   The mixture after completion of the reaction usually contains a salt (I). The salt (I) can be isolated by subjecting such a mixture to normal post-treatment such as liquid separation, concentration, crystallization (mixing with a poor solvent, cooling crystallization, etc.), filtration and the like. The isolated salt (I) may be further purified by a usual purification treatment such as washing and recrystallization.

かくして得られる塩(I)は、式(I)に表されるように、スルホン酸アニオンと有機カチオンとの組合せである。該スルホン酸アニオンとは、例えば、上記式(b1−s−1)〜式(b1−s−42)で表される構造における*がSO と結合した構造のアニオンであり、該有機カチオンとは、例えば、上記式(b2−c−1)〜式(b2c−24)で表されるカチオンであり、これらは任意に組み合わせることができる。該スルホン酸アニオン及び該有機カチオンの組み合わせを表1及び2に示す。なお、表1及び2において、*−C(Q)(Q)−CO−O−Y[式中、Q、Q及びYは、それぞれ上記と同じ意味を表す。]で表される構造として式(b1−s−1)で表される構造を含むスルホン酸アニオン等を、その式番号に応じて「(b1−s−1)」等と表し、式(b2−c−1)で表される有機カチオン等を、その式番号に応じて、「(b2−c−1)」等と表すことにする。 The salt (I) thus obtained is a combination of a sulfonate anion and an organic cation as represented by the formula (I). The sulfonate anion is, for example, an anion having a structure in which * in the structure represented by the formula (b1-s-1) to the formula (b1-s-42) is bonded to SO 3 , and the organic cation Is, for example, a cation represented by the above formula (b2-c-1) to formula (b2c-24), and these can be arbitrarily combined. The combinations of the sulfonate anion and the organic cation are shown in Tables 1 and 2. In Tables 1 and 2, * —C (Q 1 ) (Q 2 ) —CO—O—Y [wherein Q 1 , Q 2 and Y represent the same meaning as described above. ], A sulfonate anion containing a structure represented by the formula (b1-s-1) as a structure represented by the formula (b1-s-1) is represented according to the formula number, and the formula (b2 The organic cation represented by -c-1) is represented as "(b2-c-1)" or the like according to the formula number.

Figure 2012176932
Figure 2012176932

Figure 2012176932
Figure 2012176932

リソグラフィ技術を用いた半導体の微細加工に用いられるレジスト組成物に含まれる酸発生剤としての塩(I)の性能の観点から、さらに好ましい塩(I)を具体的に示す。このような塩(I)は、以下の式(I−1)、式(I−2)、式(I−3)、式(I−4)、式(I−5)、式(I−6)、式(I−7)、式(I−8)、式(I−9)、式(I−10)、式(I−11)、式(I−12)、式(I−13)、式(I−14)、式(I−15)、式(I−16)、式(I−17)、式(I−18)、式(I−19)及び式(I−20)のいずれかで表されるものである。中でも、式(I−2)、式(I−3)、式(I−6)、式(I−7)、式(I−11)、式(I−12)、式(I−13)、式(I−14)、式(I−18)、式(I−19)及び(I−20)のいずれかで表されるものがより好ましい。また、すでに述べたように、Yが置換基を有していてもよい脂環式炭化水素基を含む基が好ましいので、この点では、式(I−2)、式(I−3)、(I−6)、式(I−7)、(I−11)、式(I−18)、式(I−19)及び式(I−20)のいずれかで表されるものがより好ましい。   From the viewpoint of the performance of the salt (I) as an acid generator contained in a resist composition used for fine processing of a semiconductor using a lithography technique, a more preferable salt (I) is specifically shown. Such a salt (I) is represented by the following formula (I-1), formula (I-2), formula (I-3), formula (I-4), formula (I-5), formula (I- 6), Formula (I-7), Formula (I-8), Formula (I-9), Formula (I-10), Formula (I-11), Formula (I-12), Formula (I-13) ), Formula (I-14), Formula (I-15), Formula (I-16), Formula (I-17), Formula (I-18), Formula (I-19), and Formula (I-20) It is represented by either. Among them, formula (I-2), formula (I-3), formula (I-6), formula (I-7), formula (I-11), formula (I-12), formula (I-13) And those represented by any one of formulas (I-14), (I-18), (I-19) and (I-20). In addition, as described above, since Y is preferably a group containing an alicyclic hydrocarbon group which may have a substituent, in this respect, formula (I-2), formula (I-3), What is represented by any one of (I-6), formula (I-7), (I-11), formula (I-18), formula (I-19) and formula (I-20) is more preferable. .

Figure 2012176932
Figure 2012176932

Figure 2012176932
Figure 2012176932

Figure 2012176932
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Figure 2012176932
Figure 2012176932

以下、本発明を実施例によって詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
実施例、製造例及び比較例中、含有量ないし使用量を表す%及び部は、特記ないかぎり質量基準である。
EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention in detail, this invention is not limited to these.
In Examples, Production Examples and Comparative Examples, “%” and “part” representing the content or amount used are based on mass unless otherwise specified.

化合物及び塩の定量は、質量分析(LCはAgilent製1100型、MASSはAgilent製LC/MSD型又はLC/MSD TOF型)を用いて行った。   The quantification of the compound and salt was carried out using mass spectrometry (LC: Agilent model 1100, MASS: Agilent LC / MSD type or LC / MSD TOF type).

製造例1:式(II−2)で表される化合物の製造

Figure 2012176932
式(H−1)で表される化合物40.00部とクロロホルム240部とを混合し、23℃で30分間攪拌した。得られた混合溶液に、式(II−1)で表される化合物46.38部及びチタニウムイソプロポキシド1.25部を添加し、更に63℃で6時間還流しながらメタノールを留去した。得られた反応物にシリカゲル12.50部を添加攪拌後、ろ過した。得られたろ液を濃縮した後、濃縮物にn−ヘプタン300部を添加した後、濃縮した。得られた濃縮物に、n−ヘプタン100部を添加し、23℃で6時間撹拌後、濾過することにより、式(II−2)で表される化合物69.47部を得た。 Production Example 1: Production of compound represented by formula (II-2)
Figure 2012176932
40.00 parts of the compound represented by the formula (H-1) and 240 parts of chloroform were mixed and stirred at 23 ° C. for 30 minutes. To the obtained mixed solution, 46.38 parts of the compound represented by the formula (II-1) and 1.25 parts of titanium isopropoxide were added, and methanol was distilled off while refluxing at 63 ° C. for 6 hours. To the obtained reaction product, 12.50 parts of silica gel was added and stirred, followed by filtration. After concentrating the obtained filtrate, 300 parts of n-heptane was added to the concentrate, followed by concentration. To the obtained concentrate, 100 parts of n-heptane was added, stirred at 23 ° C. for 6 hours, and filtered to obtain 69.47 parts of a compound represented by the formula (II-2).

製造例2:式(II−6)で表される化合物の製造

Figure 2012176932
式(J−6)で表される化合物15.00部、式(H−6)で表される化合物8.79部、濃硫酸0.104部及びジクロロエタン150部を混合し、85℃で6時間還流しながら脱水した。得られた反応物に、5%炭酸水素ナトリウム水溶液86.95部を添加攪拌後分液し、有機層を回収した。回収された有機層に、イオン交換水86.95部を添加攪拌後分液し、有機層を回収した。この水洗を4回行った。得られた有機層を濃縮することにより、式(II−6)で表される化合物15.11部を得た。 Production Example 2: Production of compound represented by formula (II-6)
Figure 2012176932
15.00 parts of the compound represented by the formula (J-6), 8.79 parts of the compound represented by the formula (H-6), 0.104 parts of concentrated sulfuric acid, and 150 parts of dichloroethane were mixed and mixed at 85 ° C. It dehydrated while refluxing for hours. To the obtained reaction product, 86.95 parts of 5% aqueous sodium hydrogen carbonate solution was added and stirred for liquid separation, and the organic layer was recovered. To the recovered organic layer, 86.95 parts of ion-exchanged water was added and stirred for liquid separation, and the organic layer was recovered. This washing with water was performed 4 times. The obtained organic layer was concentrated to obtain 15.11 parts of a compound represented by the formula (II-6).

製造例3:式(II−19)で表される化合物の製造

Figure 2012176932
式(II−6)で表される化合物5.00部とテトラヒドロフラン50部とを混合し、23℃で30分間攪拌した後、−40℃に冷却した。得られた混合物に、1M−水素化ホウ素のテトラヒドロフラン溶液15.32mlを40分かけて滴下した後、−40℃で24時間攪拌した。その後、0℃まで昇温した後、イオン交換水50部及びクロロホルム150部を添加攪拌後、分液し、有機層を回収した。回収された有機層に、イオン交換水150部を添加攪拌後分液し、有機層を回収した。この水洗を2回行った。得られた有機層を濃縮することにより、式(II−19)で表される化合物3.80部を得た。 Production Example 3: Production of compound represented by formula (II-19)
Figure 2012176932
5.00 parts of the compound represented by the formula (II-6) and 50 parts of tetrahydrofuran were mixed, stirred at 23 ° C. for 30 minutes, and then cooled to −40 ° C. To the obtained mixture, 15.32 ml of 1M-borohydride tetrahydrofuran solution was added dropwise over 40 minutes, followed by stirring at −40 ° C. for 24 hours. Then, after heating up to 0 degreeC, 50 parts of ion-exchange water and 150 parts of chloroform were added and stirred, and it liquid-separated and collect | recovered the organic layers. To the recovered organic layer, 150 parts of ion-exchanged water was added and stirred for separation, and the organic layer was recovered. This washing with water was performed twice. The obtained organic layer was concentrated to obtain 3.80 parts of a compound represented by the formula (II-19).

実施例1:式(I−2)で表される塩の製造

Figure 2012176932
式(III−1)で表される塩20.00部、クロロホルム100部、イオン交換水60部及びトリエチルアミン13.51部を混合し、23℃で30分間攪拌した。得られた混合溶液に、製造例1で得た式(II−2)で表される化合物22.52部をクロロホルム78.04部に溶解した溶液を30分かけて滴下し、更に23℃で1時間撹拌した後、分液して有機層を回収した。回収された有機層にイオン交換水60部を添加攪拌後分液し、有機層を回収した。この水洗を4回行った。得られた有機層を濃縮した後、濃縮物にアセトニトリル100部を添加した後、濃縮した。得られた濃縮物に、アセトニトリル27.32部及びtert−ブチルメチルエーテル257.52部を添加し、撹拌後、濾過することにより、式(I−2)で表される塩26.48部(式(II−1)で表される化合物に対する収率76.1%、式(III−1)で表される塩に対する収率82.3%)を得た。 Example 1: Production of a salt represented by the formula (I-2)
Figure 2012176932
20.00 parts of the salt represented by the formula (III-1), 100 parts of chloroform, 60 parts of ion-exchanged water and 13.51 parts of triethylamine were mixed and stirred at 23 ° C. for 30 minutes. A solution obtained by dissolving 22.52 parts of the compound represented by the formula (II-2) obtained in Production Example 1 in 78.04 parts of chloroform was added dropwise to the obtained mixed solution over 30 minutes, and further at 23 ° C. After stirring for 1 hour, the organic layer was recovered by liquid separation. To the recovered organic layer, 60 parts of ion-exchanged water was added and stirred for separation, and the organic layer was recovered. This washing with water was performed 4 times. After concentrating the obtained organic layer, 100 parts of acetonitrile was added to the concentrate, followed by concentration. To the obtained concentrate, 27.32 parts of acetonitrile and 257.52 parts of tert-butyl methyl ether were added, and after stirring, filtered, 26.48 parts of the salt represented by the formula (I-2) ( The yield of the compound represented by the formula (II-1) was 76.1%, and the yield of the salt represented by the formula (III-1) was 82.3%.

実施例2:式(I−3)で表される塩の製造

Figure 2012176932
式(III−2)で表される塩20.00部、クロロホルム100部、イオン交換水60部及びトリエチルアミン12.15部を混合し、23℃で30分間攪拌した。得られた混合溶液に、製造例1で得た式(II−2)で表される化合物20.25部をクロロホルム70.15部に溶解した溶液を30分かけて滴下し、更に23℃で1時間撹拌した後、分液して有機層を回収した。回収された有機層にイオン交換水60部を添加攪拌後分液し、有機層を回収した。この水洗を4回行った。得られた有機層を濃縮した後、濃縮物にアセトニトリル100部を添加した後、濃縮した。得られた濃縮物に、アセトニトリル26.40部及びtert−ブチルメチルエーテル253.83部を添加し、撹拌後、濾過することにより、式(I−3)で表される塩28.91部(式(II−1)で表される化合物に対する収率75.8%、式(III−2)で表される塩に対する収率81.9%)を得た。 Example 2: Production of salt represented by formula (I-3)
Figure 2012176932
20.00 parts of the salt represented by the formula (III-2), 100 parts of chloroform, 60 parts of ion-exchanged water and 12.15 parts of triethylamine were mixed and stirred at 23 ° C. for 30 minutes. A solution obtained by dissolving 20.25 parts of the compound represented by the formula (II-2) obtained in Production Example 1 in 70.15 parts of chloroform was added dropwise to the obtained mixed solution over 30 minutes, and further at 23 ° C. After stirring for 1 hour, the organic layer was recovered by liquid separation. To the recovered organic layer, 60 parts of ion-exchanged water was added and stirred for separation, and the organic layer was recovered. This washing with water was performed 4 times. After concentrating the obtained organic layer, 100 parts of acetonitrile was added to the concentrate, followed by concentration. To the obtained concentrate, 26.40 parts of acetonitrile and 253.83 parts of tert-butyl methyl ether were added, and after stirring, filtered, 28.91 parts of the salt represented by the formula (I-3) ( A yield of 75.8% based on the compound represented by the formula (II-1) and a yield of 81.9% based on the salt represented by the formula (III-2) were obtained.

実施例3:式(I−18)で表される塩の製造

Figure 2012176932
式(III−18)で表される塩20.00部、クロロホルム100部、イオン交換水60部及びトリエチルアミン10.03部を混合し、23℃で30分間攪拌した。得られた混合溶液に、製造例1で得た式(II−2)で表される化合物16.72部をクロロホルム66.88部に溶解した溶液を30分かけて滴下し、更に23℃で1時間撹拌した後、分液して有機層を回収した。回収された有機層にイオン交換水50部を添加攪拌後分液し、有機層を回収した。この水洗を5回行った。得られた有機層を濃縮した後、濃縮物にアセトニトリル100部を添加した後、濃縮した。得られた濃縮物に、酢酸エチル30部を加えて攪拌し、上澄液を除去した。得られた残渣にtert−ブチルメチルエーテル30部を加えて攪拌し、上澄液を除去した。得られた残渣をクロロホルムに溶解し、濃縮することにより、式(I−18)で表される塩23.84部(式(II−1)で表される化合物に対する収率76.0%、式(III−18)で表される塩に対する収率82.1%)を得た。 Example 3: Production of salt represented by formula (I-18)
Figure 2012176932
20.00 parts of the salt represented by the formula (III-18), 100 parts of chloroform, 60 parts of ion-exchanged water and 10.03 parts of triethylamine were mixed and stirred at 23 ° C. for 30 minutes. A solution obtained by dissolving 16.72 parts of the compound represented by the formula (II-2) obtained in Production Example 1 in 66.88 parts of chloroform was dropped into the obtained mixed solution over 30 minutes, and further at 23 ° C. After stirring for 1 hour, the organic layer was recovered by liquid separation. To the recovered organic layer, 50 parts of ion-exchanged water was added and stirred for liquid separation, and the organic layer was recovered. This water washing was performed 5 times. After concentrating the obtained organic layer, 100 parts of acetonitrile was added to the concentrate, followed by concentration. 30 parts of ethyl acetate was added to the resulting concentrate and stirred, and the supernatant was removed. To the obtained residue, 30 parts of tert-butyl methyl ether was added and stirred, and the supernatant was removed. The obtained residue was dissolved in chloroform and concentrated to give 23.84 parts of a salt represented by the formula (I-18) (yield: 76.0% based on the compound represented by the formula (II-1), A yield of 82.1% based on the salt represented by the formula (III-18) was obtained.

実施例4:式(I−6)で表される塩の製造

Figure 2012176932
式(III−1)で表される塩20.00部、クロロホルム100部、イオン交換水60部及びトリエチルアミン13.51部を混合し、23℃で30分間攪拌した。得られた混合溶液に、製造例1で得た式(II−6)で表される化合物20.50部をクロロホルム71.76部に溶解した溶液を30分かけて滴下し、更に23℃で1時間撹拌した後、分液して有機層を回収した。回収された有機層にイオン交換水50部を添加攪拌後分液し、有機層を回収した。この水洗を4回行った。得られた有機層を濃縮した後、濃縮物にアセトニトリル100部を添加した後、濃縮した。得られた濃縮物に、酢酸エチル30部を加えて攪拌し、上澄液を除去した。得られた残渣にtert−ブチルメチルエーテル30部を加えて攪拌し、上澄液を除去した。得られた残渣をクロロホルムに溶解し、濃縮することにより、式(I−6)で表される塩25.89部(式(J−6)で表される化合物に対する収率72.3%、式(III−1)で表される塩に対する収率82.6%)を得た。 Example 4: Production of a salt represented by the formula (I-6)
Figure 2012176932
20.00 parts of the salt represented by the formula (III-1), 100 parts of chloroform, 60 parts of ion-exchanged water and 13.51 parts of triethylamine were mixed and stirred at 23 ° C. for 30 minutes. A solution obtained by dissolving 20.50 parts of the compound represented by the formula (II-6) obtained in Production Example 1 in 71.76 parts of chloroform was added dropwise to the obtained mixed solution over 30 minutes, and further at 23 ° C. After stirring for 1 hour, the organic layer was recovered by liquid separation. To the recovered organic layer, 50 parts of ion-exchanged water was added and stirred for liquid separation, and the organic layer was recovered. This washing with water was performed 4 times. After concentrating the obtained organic layer, 100 parts of acetonitrile was added to the concentrate, followed by concentration. 30 parts of ethyl acetate was added to the resulting concentrate and stirred, and the supernatant was removed. To the obtained residue, 30 parts of tert-butyl methyl ether was added and stirred, and the supernatant was removed. The obtained residue was dissolved in chloroform and concentrated to give 25.89 parts of the salt represented by the formula (I-6) (yield 72.3% based on the compound represented by the formula (J-6), A yield of 82.6% based on the salt represented by the formula (III-1) was obtained.

実施例5:式(I−19)で表される塩の製造

Figure 2012176932
式(III−1)で表される塩20.00部、クロロホルム100部、イオン交換水60部及びトリエチルアミン13.51部を混合し、23℃で30分間攪拌した。得られた混合溶液に、製造例1で得た式(II−6)で表される化合物20.63部をクロロホルム72.19部に溶解した溶液を30分かけて滴下し、更に23℃で1時間撹拌した後、分液して有機層を回収した。回収された有機層にイオン交換水50部を添加攪拌後分液し、有機層を回収した。この水洗を4回行った。得られた有機層を濃縮した後、濃縮物にアセトニトリル100部を添加した後、濃縮した。得られた濃縮物に、酢酸エチル30部を加えて攪拌し、上澄液を除去した。得られた残渣にtert−ブチルメチルエーテル30部を加えて攪拌し、上澄液を除去した。得られた残渣をクロロホルムに溶解し、濃縮することにより、式(I−19)で表される塩25.21部(式(II−6)で表される化合物に対する収率60.5%、式(III−1)で表される塩に対する収率80.2%)を得た。 Example 5: Production of salt represented by formula (I-19)
Figure 2012176932
20.00 parts of the salt represented by the formula (III-1), 100 parts of chloroform, 60 parts of ion-exchanged water and 13.51 parts of triethylamine were mixed and stirred at 23 ° C. for 30 minutes. A solution obtained by dissolving 20.63 parts of the compound represented by the formula (II-6) obtained in Production Example 1 in 72.19 parts of chloroform was added dropwise to the obtained mixed solution over 30 minutes, and further at 23 ° C. After stirring for 1 hour, the organic layer was recovered by liquid separation. To the recovered organic layer, 50 parts of ion-exchanged water was added and stirred for liquid separation, and the organic layer was recovered. This washing with water was performed 4 times. After concentrating the obtained organic layer, 100 parts of acetonitrile was added to the concentrate, followed by concentration. 30 parts of ethyl acetate was added to the resulting concentrate and stirred, and the supernatant was removed. To the obtained residue, 30 parts of tert-butyl methyl ether was added and stirred, and the supernatant was removed. The obtained residue was dissolved in chloroform and concentrated to give 25.21 parts of the salt represented by the formula (I-19) (yield 60.5% based on the compound represented by the formula (II-6), A yield of 80.2% based on the salt represented by the formula (III-1) was obtained.

比較例1:式(I−2)で表される塩の製造

Figure 2012176932
式(II−1)で表される化合物100部とイオン交換水150部との混合物に、氷浴下、30%水酸化ナトリウム水溶液230部を滴下した。得られた混合物を100℃で3時間還流し、冷却後、これを濃塩酸88部で中和した。得られた溶液を濃縮することにより式(H−2)で表される塩164.4部(無機塩(NaCl)含有、純度62.7%)を得た。得られた式(H−2)で表される塩1.9部(純度62.7%)とN,N−ジメチルホルムアミド9.5部との混合物に、1,1’−カルボニルジイミダゾール1.0部を添加し、2時間撹拌して式(H−2)で表される塩を含む溶液を調製した。
一方、式(H−1)で表される化合物1.1部とN,N−ジメチルホルムアミド5.5部との混合物に、水素化ナトリウム0.2部を添加し、2時間撹拌した。得られた溶液に、前記の式(H−2)で表される塩を含む溶液を添加した。得られた溶液を15時間撹拌し、式(H−3)で表される塩を含む溶液を得た。 Comparative Example 1: Production of salt represented by formula (I-2)
Figure 2012176932
To a mixture of 100 parts of the compound represented by formula (II-1) and 150 parts of ion-exchanged water, 230 parts of a 30% aqueous sodium hydroxide solution was added dropwise in an ice bath. The resulting mixture was refluxed at 100 ° C. for 3 hours, cooled, and neutralized with 88 parts of concentrated hydrochloric acid. The obtained solution was concentrated to obtain 164.4 parts of a salt represented by the formula (H-2) (containing inorganic salt (NaCl), purity 62.7%). 1,1′-carbonyldiimidazole 1 was added to a mixture of 1.9 parts of the salt represented by the formula (H-2) (purity 62.7%) and 9.5 parts of N, N-dimethylformamide. 0.0 part was added and it stirred for 2 hours, and prepared the solution containing the salt represented by Formula (H-2).
On the other hand, 0.2 part of sodium hydride was added to a mixture of 1.1 parts of the compound represented by the formula (H-1) and 5.5 parts of N, N-dimethylformamide, and stirred for 2 hours. A solution containing the salt represented by the formula (H-2) was added to the obtained solution. The obtained solution was stirred for 15 hours to obtain a solution containing a salt represented by the formula (H-3).

Figure 2012176932
上記で得た式(H−3)で表される塩含む溶液に、クロロホルム17.2部及び式(III−1)で表される塩を含む水溶液(14.8%)2.9部を添加した。15時間撹拌した後、分液して有機層を回収した。次いで、残った水層をクロロホルム6.5部で抽出することにより有機層を回収した。さらに残った水層に、前記の抽出操作を繰り返して行い、さらに有機層を回収した。前記の各有機層を合せた後、イオン交換水で洗浄し、その後、得られた有機層を濃縮した。濃縮物にtert−ブチルメチルエーテル5.0部を添加し、撹拌後、濾過することにより白色固体として式(I−2)で表される塩0.2部(式(II−1)で表される化合物に対する収率5.5%、式(H−2)で表される化合物に対する収率5.5%、式(III−1)で表される塩に対する収率23%)を得た。
Figure 2012176932
In the solution containing the salt represented by the formula (H-3) obtained above, 17.2 parts of chloroform and 2.9 parts of an aqueous solution (14.8%) containing the salt represented by the formula (III-1) were added. Added. After stirring for 15 hours, the organic layer was recovered by liquid separation. Subsequently, the remaining aqueous layer was extracted with 6.5 parts of chloroform to recover the organic layer. Further, the above extraction operation was repeated on the remaining aqueous layer, and the organic layer was further recovered. The organic layers were combined, washed with ion-exchanged water, and then the obtained organic layer was concentrated. To the concentrate, 5.0 parts of tert-butyl methyl ether was added, stirred, and then filtered to obtain 0.2 parts of a salt represented by the formula (I-2) as a white solid (represented by the formula (II-1)). Yield of 5.5% with respect to the compound represented by formula (H-2), and yield of 23% with respect to the salt represented by formula (III-1). .

本発明の製造方法によれば、アルカリ金属を使用することなく、また、アルカリ金属を使用する場合より高い収率で目的の塩を製造することができる。本発明の製造方法により得られる塩は、例えば、リソグラフィ技術を用いた半導体の微細加工に用いられるレジスト組成物に含まれる酸発生剤として使用し得る。   According to the production method of the present invention, a target salt can be produced without using an alkali metal and with a higher yield than when an alkali metal is used. The salt obtained by the production method of the present invention can be used, for example, as an acid generator contained in a resist composition used for fine processing of a semiconductor using a lithography technique.

Claims (3)

有機塩基の存在下、式(II)
Figure 2012176932
[式中、Q及びQは、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表す。Yは、置換基を有していてもよい炭素数1〜18の脂肪族炭化水素基を表し、該脂肪族炭化水素基を構成するメチレン基は、酸素原子、スルホニル基又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。]
で表される化合物と式(III)
Figure 2012176932
[式中、Zは有機カチオンを表し、Xはアニオンを表す。]
で表される塩と水とを反応させる式(I)
Figure 2012176932
[式中、Q、Q、Y及びZは、それぞれ上記と同じ意味を表す。]
で表される塩の製造方法。
In the presence of an organic base, the formula (II)
Figure 2012176932
[Wherein, Q 1 and Q 2 each independently represent a fluorine atom or a C 1-6 perfluoroalkyl group. Y represents an optionally substituted aliphatic hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and the methylene group constituting the aliphatic hydrocarbon group is replaced with an oxygen atom, a sulfonyl group or a carbonyl group. May be. ]
And a compound represented by formula (III)
Figure 2012176932
[Wherein, Z + represents an organic cation, and X represents an anion. ]
Wherein the salt represented by formula (I) is reacted with water
Figure 2012176932
[Wherein, Q 1 , Q 2 , Y and Z + represent the same meaning as described above. ]
The manufacturing method of the salt represented by these.
式(III)におけるXが、ハロゲン化物イオン又はRSO (式中、Rは炭素数1〜6のアルキル基を表す。)である請求項1記載の製造方法。 The production method according to claim 1, wherein X in formula (III) is a halide ion or RSO 4 (wherein R represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms). 有機塩基が、トリアルキルアミンである請求項1又は2記載の製造方法。 The production method according to claim 1 or 2, wherein the organic base is a trialkylamine.
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