JP2012175438A - Notch filter - Google Patents

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Yoichi Sakuraba
養一 櫻庭
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Nihon Dempa Kogyo Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To suppress the deterioration of characteristics in an attenuation region, in regard to a notch filter having a series arm composed of an inductor for phase inversion and a parallel arm composed of an element portion which produces series resonance at a frequency corresponding to the attenuation region, even in the case that the series arm and the parallel arm are mounted on a board.SOLUTION: An inductor 11 and a SAW resonator 12 (piezoelectric substrate 4) are disposed on a package board 5 in which a conductive path 34 is formed in an internal region thereof. Through the conductive path 34, the SAW resonator 12 is grounded. A resonant circuit 21 is configured by the connection of a capacitance component 37, having a set capacitance value, between the SAW resonator 12 and a grounding port 3, so that the series resonance is produced between with the inductor component of the conductive path 34 at a frequency corresponding to the attenuation region.

Description

本発明は、例えばSAW(surface acoustic wave:弾性表面波)を利用したノッチフィルタに関する。   The present invention relates to a notch filter using, for example, SAW (surface acoustic wave).

SAW(surface acoustic wave:弾性表面波)などを利用したフィルタの一つとして、図24に示すように、一部の周波数帯域(減衰域)を減衰させると共に、当該減衰域よりも高域側及び低域側に各々通過域を形成するノッチフィルタ(バンドエリミネーションフィルタ)が知られている。このフィルタは、図25に示すように、複数例えば3つのインダクタ101を互いに直列に配置して、これらインダクタ101、101間にSAW共振子102を各々並列に接続して構成される。そして、これらSAW共振子102の直列共振周波数(共振点)を前記減衰域において互いにずらすことにより、減衰域がなるべく広い帯域に亘って形成されるように、また当該帯域に亘って大きな減衰量が得られるようにしている。各々のSAW共振子102は接地されている。図25中110は入力ポート、111は出力ポートである。   As one of filters using SAW (surface acoustic wave) or the like, as shown in FIG. 24, a part of the frequency band (attenuation area) is attenuated, and the higher frequency side than the attenuation area and 2. Description of the Related Art Notch filters (band elimination filters) that each form a pass band on the low frequency side are known. As shown in FIG. 25, this filter is configured by arranging a plurality of, for example, three inductors 101 in series, and connecting SAW resonators 102 between the inductors 101 and 101 in parallel. Then, by shifting the series resonance frequency (resonance point) of these SAW resonators 102 in the attenuation region, the attenuation region is formed over as wide a band as possible, and a large amount of attenuation is provided over the band. I try to get it. Each SAW resonator 102 is grounded. In FIG. 25, 110 is an input port, and 111 is an output port.

各々のSAW共振子102は、図26に示すように、例えばタンタル酸リチウム(LiTaO3)などの圧電基板103上にパターニングされた状態でアルミナ(Al2O3)などの基板104上に配置される。また、インダクタ101は、例えば外付けのコイルとしてこの基板104上に配置される。そして、各々のSAW共振子102は、基板104上に引き回された電極106を介して既述の図25のように接続されると共に、基板104を上下に貫通する貫通孔107内に埋め込まれた電極を介して接地電極112に接地される。図26中108はSAW共振子102と貫通孔107の電極とを接続するバンプ、109は基板104上を覆うケース体である。   As shown in FIG. 26, each SAW resonator 102 is arranged on a substrate 104 such as alumina (Al2O3) in a state of being patterned on a piezoelectric substrate 103 such as lithium tantalate (LiTaO3). The inductor 101 is disposed on the substrate 104 as an external coil, for example. Each SAW resonator 102 is connected as shown in FIG. 25 through the electrode 106 routed on the substrate 104 and embedded in a through-hole 107 penetrating the substrate 104 vertically. The ground electrode 112 is grounded via the other electrode. In FIG. 26, 108 is a bump that connects the SAW resonator 102 and the electrode of the through hole 107, and 109 is a case body that covers the substrate 104.

ここで、SAW共振子102のパターニングされた既述の圧電基板103とインダクタ101とを基板104上に実装して周波数特性を評価すると、基板104上に配置せずに評価した場合と比べて、減衰域における減衰量が劣化してしまう。即ち、各々のSAW共振子102が接地されるまでの導電路例えば貫通孔107内の電極がインダクタンスなどの分布定数成分120を持つので、既述の図24の下側に示すように、各々のSAW共振子102の共振点同士が例えば互いにカップリングしてしまい、減衰量が劣化して(減衰量が小さくなって)しまう。
特許文献1には、弾性波共振子Pとグラウンド電位との間にインダクタンスLaが生じることや、弾性波共振子P14を通過帯域において容量性にすることについて記載されているが、既述の課題には触れられていない。
Here, when the frequency characteristic is evaluated by mounting the above-described piezoelectric substrate 103 and the inductor 101 on which the SAW resonator 102 is patterned on the substrate 104, compared with the case where the evaluation is performed without arranging the SAW resonator 102 on the substrate 104, The amount of attenuation in the attenuation region will deteriorate. That is, since the conductive path until each SAW resonator 102 is grounded, for example, the electrode in the through-hole 107 has a distributed constant component 120 such as inductance, as shown in the lower side of FIG. The resonance points of the SAW resonator 102 are coupled to each other, for example, and the attenuation is deteriorated (the attenuation is reduced).
Patent Document 1 describes that an inductance La is generated between the acoustic wave resonator P and the ground potential, and that the acoustic wave resonator P14 is capacitive in the pass band. Is not touched.

国際公開WO2007/015331号公報International Publication No. WO2007 / 015331

本発明の目的は、位相反転用のインダクタからなる直列腕と減衰域に対応する周波数で直列共振を起こす素子部からなる並列腕とを備えたノッチフィルタにおいて、並列腕を基板上に実装した場合であっても、減衰域における特性の劣化を抑えることのできるフィルタを提供することにある。   It is an object of the present invention to provide a notch filter having a series arm composed of an inductor for phase inversion and a parallel arm composed of an element part that causes series resonance at a frequency corresponding to an attenuation region, when the parallel arm is mounted on a substrate. Even so, it is an object of the present invention to provide a filter that can suppress deterioration of characteristics in the attenuation region.

本発明のノッチフィルタは、
低域側及び高域側に各々形成された通過域の間に減衰域を設けるためのノッチフィルタにおいて、
入力ポートと出力ポートとの間に直列腕として互いに直列に接続された複数の位相反転用のインダクタと、
絶縁板と、
この絶縁板の一面側及び他面側に夫々形成された第1の電極部及び接地ポートをなす第2の電極部と、
これら第1の電極部及び第2の電極部を互いに接続するために前記絶縁板の内部に形成された導電路と、
互いに隣接する前記直列腕の間に各々の一端側が接続されると共に前記第1の電極部に各々の他端側が接続された、前記減衰域に対応する周波数で直列共振を起こす並列腕である複数の素子部と、
前記素子部と前記第2の電極部との間に介在して設けられ、前記減衰域に対応する周波数において前記導電路のインダクタ成分と直列共振が起こるように容量値が設定された容量成分と、を備えたことを特徴とする。
The notch filter of the present invention is
In the notch filter for providing an attenuation band between the pass bands formed on the low band side and the high band side,
A plurality of phase inversion inductors connected in series as a series arm between the input port and the output port;
An insulating plate;
A first electrode portion formed on one surface side and the other surface side of the insulating plate, respectively, and a second electrode portion forming a ground port;
A conductive path formed inside the insulating plate to connect the first electrode portion and the second electrode portion to each other;
A plurality of parallel arms, each having one end connected between the series arms adjacent to each other and having the other end connected to the first electrode portion, causing series resonance at a frequency corresponding to the attenuation region. Element part of
A capacitance component provided between the element portion and the second electrode portion, the capacitance value of which is set so that series resonance occurs with the inductor component of the conductive path at a frequency corresponding to the attenuation region; , Provided.

前記絶縁板の一面側及び他面側に夫々前記第1の電極部及び前記第2の電極部に隣接して設けられ、第1の補助電極部及び補助接地ポートをなす第2の補助電極部と、
これら第1の補助電極部及び第2の補助電極部を互いに接続するために前記絶縁板の内部に形成された補助導電路と、
前記素子部の前記他端側及び前記第1の補助電極部を互いに接続するための並列信号路と、を備え、
前記容量成分は、前記素子部と前記第2の電極部との間に介在して設けられ、前記減衰域に対応する周波数において前記導電路のインダクタ成分と直列共振が起こるように容量値が設定されていることに代えて、前記素子部と前記第2の補助電極部との間に介設して設けられ、前記減衰域から外れた周波数において前記導電路のインダクタ成分と並列共振が起こるように容量値が設定されていても良い。
A second auxiliary electrode portion that is provided adjacent to the first electrode portion and the second electrode portion on one surface side and the other surface side of the insulating plate, respectively, and forms a first auxiliary electrode portion and an auxiliary ground port. When,
An auxiliary conductive path formed inside the insulating plate to connect the first auxiliary electrode part and the second auxiliary electrode part to each other;
A parallel signal path for connecting the other end side of the element part and the first auxiliary electrode part to each other;
The capacitance component is provided between the element portion and the second electrode portion, and the capacitance value is set so that series resonance occurs with the inductor component of the conductive path at a frequency corresponding to the attenuation region. Instead of being provided, it is provided between the element part and the second auxiliary electrode part so that parallel resonance occurs with the inductor component of the conductive path at a frequency outside the attenuation region. A capacitance value may be set in the.

前記導電路と前記補助導電路との間の離間距離は、600μm以下であっても良い。
前記容量成分は、2枚の金属層の間に誘電体層が介設された積層膜であり、これら金属層の一方が前記素子部側に接続されていても良いし、その場合には前記素子部は、圧電基板上に形成されたSAW共振子であり、前記容量成分は、この圧電基板上に配置されていても良い。
The separation distance between the conductive path and the auxiliary conductive path may be 600 μm or less.
The capacitive component is a laminated film in which a dielectric layer is interposed between two metal layers, and one of these metal layers may be connected to the element portion side, in which case The element unit may be a SAW resonator formed on a piezoelectric substrate, and the capacitance component may be disposed on the piezoelectric substrate.

前記直列腕は、位相反転用のインダクタに代えて、前記減衰域に対応する周波数において並列共振を起こす素子部であり、
前記並列腕は、前記減衰域に対応する周波数において直列共振を起こす素子部に代えて、位相反転用のインダクタであっても良い。
前記容量成分は、前記導電路のインダクタ成分と直列共振が起こるように容量値が設定されていることに代えて、前記素子部と前記第2の電極部との間におけるインダクタ成分と直列共振が起こるように容量値が設定されていても良い。
前記容量成分は、前記導電路のインダクタ成分と並列共振が起こるように容量値が設定されていることに代えて、前記素子部と前記第2の電極部との間におけるインダクタ成分と並列共振が起こるように容量値が設定されていても良い。
The series arm is an element portion that causes parallel resonance at a frequency corresponding to the attenuation region, instead of an inductor for phase inversion,
The parallel arm may be an inductor for phase inversion instead of an element portion that causes series resonance at a frequency corresponding to the attenuation region.
The capacitance component has a capacitance value set so that series resonance occurs with the inductor component of the conductive path, and the inductor component and the series resonance between the element portion and the second electrode portion. A capacitance value may be set to occur.
The capacitance component has a capacitance value set so that parallel resonance with the inductor component of the conductive path occurs, and the inductor component and parallel resonance between the element portion and the second electrode portion A capacitance value may be set to occur.

本発明は、位相反転用のインダクタからなる直列腕と減衰域に対応する周波数で直列共振を起こす素子部からなる並列腕とを備えたノッチフィルタにおいて、内部領域に導電路の形成された絶縁板上に並列腕を配置して、この導電路を介して並列腕を接地ポートに接地している。そして、接地ポートと並列腕との間に、前記減衰域に対応する周波数において前記導電路のインダクタ成分と直列共振が起こるように容量値の設定された容量成分を介設している。そのため、並列腕を絶縁板上に実装した場合であっても、導電路のインダクタ成分が減衰域において見かけ上小さく抑えられるので、あるいはインダクタ成分の影響がなくなるので、各々の並列腕によって形成される共振点の極同士のカップリングを抑えることができ、従って減衰域における減衰量及び減衰幅の良好なノッチフィルタを得ることができる。また、別の発明は、導電路に隣接するように絶縁板に補助導電路を形成し、前記補助導電路の補助接地ポートと当該補助接地ポートに接続される前記並列腕との間に、前記減衰域から外れた周波数帯域において前記導電路のインダクタ成分と並列共振が起こるように容量値の設定された容量成分を接続しているので、減衰域における減衰量及び減衰幅の良好なノッチフィルタを得ることができる。   The present invention relates to a notch filter having a series arm composed of an inductor for phase inversion and a parallel arm composed of an element portion that causes series resonance at a frequency corresponding to the attenuation region, and an insulating plate having a conductive path formed in the internal region. The parallel arm is arranged on the top, and the parallel arm is grounded to the ground port through the conductive path. A capacitance component having a capacitance value is interposed between the ground port and the parallel arm so that series resonance occurs with the inductor component of the conductive path at a frequency corresponding to the attenuation region. Therefore, even when the parallel arm is mounted on the insulating plate, the inductor component of the conductive path is apparently suppressed in the attenuation region, or the influence of the inductor component is eliminated, so that each of the parallel arms is formed. Coupling between the poles of the resonance point can be suppressed, and therefore a notch filter having a good attenuation amount and attenuation width in the attenuation region can be obtained. In another aspect of the invention, an auxiliary conductive path is formed in the insulating plate so as to be adjacent to the conductive path, and the auxiliary arm is connected between the auxiliary ground port of the auxiliary conductive path and the parallel arm connected to the auxiliary ground port. Since a capacitance component with a capacitance value is connected so that parallel resonance occurs with the inductor component of the conductive path in a frequency band outside the attenuation region, a notch filter with a good attenuation amount and attenuation width in the attenuation region is connected. Obtainable.

本発明の第1の実施の形態におけるノッチフィルタを示す回路図である。It is a circuit diagram which shows the notch filter in the 1st Embodiment of this invention. 前記フィルタの概観を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the external appearance of the said filter. 前記フィルタに積載される圧電基板を示す平面図である。It is a top view which shows the piezoelectric substrate mounted on the said filter. 前記フィルタを示す縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view which shows the said filter. 前記フィルタの一部を拡大して示す縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view which expands and shows a part of said filter. 前記フィルタいおける圧電基板を一部拡大して示す斜視図である。It is a perspective view which expands and partially shows the piezoelectric substrate in the said filter. 従来のフィルタについてシミュレーションにより得られた特性を示す特性図である。It is a characteristic view which shows the characteristic obtained by simulation about the conventional filter. 本発明のフィルタについてシミュレーションにより得られた特性を示す特性図である。It is a characteristic view which shows the characteristic obtained by simulation about the filter of this invention. 本発明のフィルタについてシミュレーションにより得られた特性を示す特性図である。It is a characteristic view which shows the characteristic obtained by simulation about the filter of this invention. 前記フィルタの他の例を示す一部拡大縦断面図である。It is a partially expanded longitudinal cross-sectional view which shows the other example of the said filter. 本発明の第2の実施の形態におけるノッチフィルタを示す回路図である。It is a circuit diagram which shows the notch filter in the 2nd Embodiment of this invention. 前記フィルタに積載される圧電基板を示す平面図である。It is a top view which shows the piezoelectric substrate mounted on the said filter. 前記フィルタを示す縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view which shows the said filter. 前記フィルタの一部を拡大して示す縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view which expands and shows a part of said filter. 本発明のノッチフィルタについてシミュレーションを行った結果を示す特性図である。It is a characteristic view which shows the result of having simulated about the notch filter of this invention. 従来のノッチフィルタについてシミュレーションを行った結果を示す特性図である。It is a characteristic view which shows the result of having performed simulation about the conventional notch filter. ノッチフィルタについてシミュレーションを行った結果を示す特性図である。It is a characteristic view which shows the result of having performed simulation about a notch filter. ノッチフィルタについてシミュレーションを行った結果を示す特性図である。It is a characteristic view which shows the result of having performed simulation about a notch filter. ノッチフィルタについてシミュレーションを行った結果を示す特性図である。It is a characteristic view which shows the result of having performed simulation about a notch filter. ノッチフィルタについてシミュレーションを行った結果を示す特性図である。It is a characteristic view which shows the result of having performed simulation about a notch filter. ノッチフィルタについてシミュレーションを行った結果を示す特性図である。It is a characteristic view which shows the result of having performed simulation about a notch filter. ノッチフィルタについてシミュレーションを行った結果を示す特性図である。It is a characteristic view which shows the result of having performed simulation about a notch filter. 前記フィルタの他の例を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows the other example of the said filter. 従来のフィルタの周波数特性を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the frequency characteristic of the conventional filter. 従来のフィルタを示す回路図である。It is a circuit diagram which shows the conventional filter. 従来のフィルタの概観を示す縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view which shows the general appearance of the conventional filter.

[第1の実施の形態:直列共振]
本発明の第1の実施の形態のノッチフィルタの一例について、図1〜図6を参照して説明する。このノッチフィルタは、一部の周波数帯域この例では800MHz〜880MHz帯を減衰域にすると共に、当該減衰域よりも低域側及び高域側に通過域を配置したフィルタであり、図1に示すように、直列腕である位相反転用のインダクタ11と、並列腕である素子部この例ではSAW共振子12とがラダー型に接続された回路構成となっている。即ち、複数例えば3つのインダクタ11が入力ポート1と出力ポート2との間に互いに直列に接続され、互いに隣接するインダクタ11、11間及びインダクタ11とポート1、2との間にSAW共振子12の一端側が各々並列に接続されている。これらSAW共振子12の他端側は、並列信号路12aを介して互いに並列に接続されると共に、接地ポート3に接続されている。この例では、接地ポート3は、並列信号路12aに互いに並列に2つ設けられている。各々の接地ポート3と並列信号路12aとの間には、後で詳述するように、既述の減衰域に対応する周波数にて直列共振を起こす直列共振回路21が介設されている。即ち、この直列共振回路21では、直列共振周波数(共振点)が減衰域内の周波数例えば840MHzとなるように設定されている。
[First Embodiment: Series Resonance]
An example of the notch filter according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. This notch filter is a filter in which a part of the frequency band, in this example, 800 MHz to 880 MHz is set as an attenuation band, and a pass band is arranged on the low frequency side and the high frequency side of the attenuation band, as shown in FIG. As described above, the circuit configuration is such that the inductor 11 for phase inversion which is a series arm and the element portion which is a parallel arm, in this example, the SAW resonator 12 are connected in a ladder form. That is, a plurality of, for example, three inductors 11 are connected in series between the input port 1 and the output port 2, and the SAW resonator 12 is connected between the adjacent inductors 11 and 11 and between the inductor 11 and the ports 1 and 2. One end side of each is connected in parallel. The other end sides of these SAW resonators 12 are connected in parallel to each other via a parallel signal path 12 a and also connected to the ground port 3. In this example, two ground ports 3 are provided in parallel to each other on the parallel signal path 12a. Between each ground port 3 and the parallel signal path 12a, as will be described in detail later, a series resonance circuit 21 that causes series resonance at a frequency corresponding to the above-described attenuation region is interposed. That is, in the series resonance circuit 21, the series resonance frequency (resonance point) is set to a frequency in the attenuation region, for example, 840 MHz.

続いて、ノッチフィルタの概観について、図2を参照して説明する。このノッチフィルタは、例えばアルミナ(Al2O3)などからなる共通の絶縁板であるパッケージ基板5上に配置されており、例えばコイルなどの部品として設けられた既述のインダクタ11と、裏面側(パッケージ基板5側)に4つのSAW共振子12のパターニングされた例えばタンタル酸リチウム(LiTaO3)などの圧電基板4と、を備えている。このパッケージ基板5上には、これらインダクタ11及び圧電基板4を上方側から覆うように、下方側が開口する概略箱型の蓋体6が設けられている。尚、図2ではこの蓋体6については輪郭を一点鎖線で示しており、また圧電基板4の一部を切り欠いて描画している。また、パッケージ基板5上には、これらインダクタ11とSAW共振子12(圧電基板4)とを接続する導電線路31が形成されているが、この導電線路31について図2では一部を省略しており、これらインダクタ11及び導電線路31の配置レイアウトについては模式的に示している。   Next, an overview of the notch filter will be described with reference to FIG. This notch filter is disposed on a package substrate 5 which is a common insulating plate made of alumina (Al 2 O 3), for example, and includes the above-described inductor 11 provided as a component such as a coil and the back surface side (package substrate). 5) and a piezoelectric substrate 4 made of, for example, lithium tantalate (LiTaO3), on which four SAW resonators 12 are patterned. On the package substrate 5, a substantially box-shaped lid 6 having an opening on the lower side is provided so as to cover the inductor 11 and the piezoelectric substrate 4 from the upper side. In FIG. 2, the outline of the lid 6 is indicated by a one-dot chain line, and a part of the piezoelectric substrate 4 is notched and drawn. Further, a conductive line 31 for connecting the inductor 11 and the SAW resonator 12 (piezoelectric substrate 4) is formed on the package substrate 5. A part of the conductive line 31 is omitted in FIG. The arrangement layout of the inductor 11 and the conductive line 31 is schematically shown.

次いで、圧電基板4上におけるSAW共振子12の配置レイアウトについて説明すると、圧電基板4上には、図3に示すように、弾性波の伝搬方向に対して直交する方向(図3中左右方向)に4つのSAW共振子12が互いに離間して配置されている。そして、これらSAW共振子12よりも弾性波の伝搬方向(図3中前後方向)における手前側及び奥側には、既述の図1に示した電気回路となるようにこれらSAW共振子12とインダクタ11及び各ポート1、2、3とを互いに接続するために、概略矩形に形成された金属膜13が各々複数箇所例えば4箇所ずつ配置されている。   Next, the arrangement layout of the SAW resonator 12 on the piezoelectric substrate 4 will be described. As shown in FIG. 3, the piezoelectric substrate 4 has a direction perpendicular to the propagation direction of the elastic wave (left and right direction in FIG. 3). The four SAW resonators 12 are spaced apart from each other. The SAW resonator 12 and the SAW resonator 12 are arranged on the near side and the far side in the propagation direction of the elastic wave (front-rear direction in FIG. 3) so that the electric circuit shown in FIG. In order to connect the inductor 11 and each of the ports 1, 2, and 3 to each other, a plurality of, for example, four metal films 13 each having a substantially rectangular shape are disposed.

即ち、圧電基板4の手前側には、左側から右側に向かって入力ポート1に接続される金属膜13、入力ポート1側から1つ目のインダクタ11と入力ポート1側から2つ目のインダクタ11とを接続する金属膜13及び接地ポート3に接続される2つの金属膜13、13がこの順番で配置されている。接地ポート3に接続される金属膜13、13は、内部構造については後で詳述するが、平面的に見ると2つの金属膜13、13が横並びに配置され、これら金属膜13、13が側方領域を介してSAW共振子12と接地ポート3との間において互いに直列に接続されている。接地ポート3に接続されるこれら2つの金属膜13、13について、接地ポート3側の金属膜13に「13a」、SAW共振子12側の金属膜13に「13b」の符号を付すと、金属膜13aは圧電基板4の端部領域に配置され、金属膜13bは当該金属膜13aよりも入力ポート1側に寄った位置に配置されている。   That is, on the front side of the piezoelectric substrate 4, the metal film 13 connected to the input port 1 from the left side to the right side, the first inductor 11 from the input port 1 side and the second inductor from the input port 1 side 11 and two metal films 13 and 13 connected to the ground port 3 are arranged in this order. The metal films 13 and 13 connected to the ground port 3 will be described in detail later, but when viewed in plan, the two metal films 13 and 13 are arranged side by side. The SAW resonator 12 and the ground port 3 are connected in series with each other via a side region. With respect to these two metal films 13 and 13 connected to the ground port 3, the metal film 13 on the ground port 3 side is denoted by “13 a” and the metal film 13 on the SAW resonator 12 side is denoted by “13 b”. The film 13a is disposed in the end region of the piezoelectric substrate 4, and the metal film 13b is disposed at a position closer to the input port 1 side than the metal film 13a.

圧電基板4の奥側には、左側から右側に向かって、接地ポート3に接続される金属膜13a、13b、出力ポート2側から1つ目のインダクタ11と出力ポート2側から2つ目のインダクタ11とを互いに接続する金属膜13及び出力ポート2に接続される金属膜13がこの順番で配置されている。図3中14は、互いに櫛歯状に交差するように配置された複数本の電極指14aと、これら電極指14aの一端側を接続すると共に互いに平行に配置された一対のバスバー14bとを備えたIDT(Inter Digital Transducer)電極である。また、15は弾性波の伝搬方向においてIDT電極14の両側に配置された反射器である。尚、図3は、既述の図2における圧電基板4を裏面側(パッケージ基板5側)から見た様子を示している。   On the back side of the piezoelectric substrate 4, from the left side to the right side, metal films 13 a and 13 b connected to the ground port 3, the first inductor 11 from the output port 2 side, and the second from the output port 2 side A metal film 13 connecting the inductor 11 to each other and a metal film 13 connected to the output port 2 are arranged in this order. 3 includes a plurality of electrode fingers 14a arranged so as to intersect with each other in a comb-tooth shape, and a pair of bus bars 14b connected to one end side of the electrode fingers 14a and arranged in parallel to each other. IDT (Inter Digital Transducer) electrode. Reference numeral 15 denotes a reflector disposed on both sides of the IDT electrode 14 in the propagation direction of the elastic wave. FIG. 3 shows a state in which the piezoelectric substrate 4 in FIG. 2 described above is viewed from the back surface side (package substrate 5 side).

そして、引き回し電極16を介して、これらSAW共振子12と金属膜13とが既述の図1に示す回路となるように接続されている。即ち、図3の4つのSAW共振子12について、左側から右側に向かって「第1のSAW共振子12」、「第2のSAW共振子12」、「第3のSAW共振子12」及び「第4のSAW共振子12」と呼ぶと共に、IDT電極14の一対のバスバー14b、14bのうち左側を第1のバスバー14b、右側を第2のバスバー14bと呼ぶと、図3中手前側の左端の領域において入力ポート1に接続される金属膜13から伸びる引き回し電極16は、第1のSAW共振子12における第2のバスバー14bに接続されている。この第1のSAW共振子12における第1のバスバー14bは、引き回し電極16を介して、当該第1のSAW共振子12の側方領域を圧電基板4の奥側に回り込んで金属膜13bに接続されている。   The SAW resonator 12 and the metal film 13 are connected via the routing electrode 16 so as to form the circuit shown in FIG. That is, with respect to the four SAW resonators 12 in FIG. 3, from the left to the right, “first SAW resonator 12”, “second SAW resonator 12”, “third SAW resonator 12” and “ When the left side of the pair of bus bars 14b, 14b of the IDT electrode 14 is called the first bus bar 14b and the right side is called the second bus bar 14b, the left end of the front side in FIG. The routing electrode 16 extending from the metal film 13 connected to the input port 1 is connected to the second bus bar 14 b in the first SAW resonator 12. The first bus bar 14b in the first SAW resonator 12 passes through the lateral region of the first SAW resonator 12 to the inner side of the piezoelectric substrate 4 via the routing electrode 16, and reaches the metal film 13b. It is connected.

第2のSAW共振子12の第1のバスバー14bは、圧電基板4の手前側において、入力ポート1側から1つ目のインダクタ11と入力ポート1側から2つ目のインダクタ11とを接続する金属膜13に引き回し電極16を介して接続されている。この第2のSAW共振子12における第2のバスバー14bは、引き回し電極16を介して、第3のSAW共振子12における第1のバスバー14bに接続されると共に、圧電基板4の奥側及び手前側において金属膜13b、13bに各々接続されている。第3のSAW共振子12における第2のバスバー14bは、引き回し電極16を介して、圧電基板4の奥側において出力ポート側から1つ目のインダクタ11と出力ポート2側から2つ目のインダクタ11との間の金属膜13に接続されている。第4のSAW共振子12は、引き回し電極16を介して、圧電基板4の奥側の領域において第1のバスバー14bが出力ポート2に向かう金属膜13に接続されると共に、第2のバスバー14bが圧電基板4の手前側において金属膜13bに接続されている。尚、図3では、これらSAW共振子12、金属膜13及び引き回し電極16について、圧電基板4上の領域と区別するためにハッチングを付しており、インダクタ11について模式的に示している。   The first bus bar 14 b of the second SAW resonator 12 connects the first inductor 11 from the input port 1 side and the second inductor 11 from the input port 1 side on the front side of the piezoelectric substrate 4. It is connected to the metal film 13 through the lead electrode 16. The second bus bar 14 b in the second SAW resonator 12 is connected to the first bus bar 14 b in the third SAW resonator 12 through the routing electrode 16, and the back side and the front side of the piezoelectric substrate 4. On the side, they are connected to the metal films 13b and 13b, respectively. The second bus bar 14 b in the third SAW resonator 12 is connected to the first inductor 11 from the output port side and the second inductor from the output port 2 side on the back side of the piezoelectric substrate 4 via the routing electrode 16. 11 is connected to the metal film 13 between them. In the fourth SAW resonator 12, the first bus bar 14b is connected to the metal film 13 directed to the output port 2 in the inner region of the piezoelectric substrate 4 through the routing electrode 16, and the second bus bar 14b. Is connected to the metal film 13 b on the front side of the piezoelectric substrate 4. In FIG. 3, the SAW resonator 12, the metal film 13, and the routing electrode 16 are hatched to distinguish them from the region on the piezoelectric substrate 4, and the inductor 11 is schematically shown.

そして、図4に示すように、圧電基板4におけるこれらSAW共振子12や金属膜13の形成された面をパッケージ基板5側に当接させると共に、既述の図2に示すように、当該パッケージ基板5に形成された導電線路31と各々の金属膜13、13aとを直径寸法が例えば200μm程度のバンプ32を介して接続する。この導電線路31により、パッケージ基板5上においてインダクタ11とSAW共振子12とが既述のように接続される。また、このパッケージ基板5には、金属膜13aに接続されるバンプ32から側方側に離れた位置に、上下に貫通する貫通口(ビアホール)33が形成されている。この貫通口33内には、例えば銅(Cu)などの金属体が導電路34として埋め込まれており、この導電路34の上端側である第1の電極部が導電線路31及びバンプ32を介して金属膜13aに接続されると共に、下端側が既述の接地ポート(第2の電極部)3をなしている。導電路34は、直径寸法(幅寸法)及び高さ寸法が夫々例えば150μm及び100μmとなっており、従って既述の図1に示すように、インダクタ成分や抵抗成分などを含む分布定数成分38を持っている。接地ポート3と、当該接地ポート3に接続されるSAW共振子12と、の間におけるバンプ32、引き回し電極16及び金属膜13a、13bは、既述の並列信号路12aに相当する。尚、図4では、金属膜13aについて模式的に示している。また、パッケージ基板5の下面側に、導電路34の下方側を覆うように金属膜からなる接地ポート3を形成したが、当該金属膜を設けない場合には、導電路34の下端部が接地ポート3をなす。   As shown in FIG. 4, the surface of the piezoelectric substrate 4 on which the SAW resonator 12 and the metal film 13 are formed is brought into contact with the package substrate 5 side, and as shown in FIG. The conductive line 31 formed on the substrate 5 is connected to the respective metal films 13 and 13a via bumps 32 having a diameter of about 200 μm, for example. With this conductive line 31, the inductor 11 and the SAW resonator 12 are connected on the package substrate 5 as described above. The package substrate 5 has a through-hole (via hole) 33 penetrating vertically at a position away from the bump 32 connected to the metal film 13a laterally. A metal body such as copper (Cu) is embedded in the through hole 33 as a conductive path 34, and the first electrode portion on the upper end side of the conductive path 34 is interposed via the conductive line 31 and the bump 32. Are connected to the metal film 13a, and the lower end side forms the above-described ground port (second electrode portion) 3. The conductive path 34 has a diameter dimension (width dimension) and a height dimension of, for example, 150 μm and 100 μm, respectively. Therefore, as shown in FIG. 1 described above, a distributed constant component 38 including an inductor component, a resistance component, etc. have. The bump 32, the routing electrode 16, and the metal films 13a and 13b between the ground port 3 and the SAW resonator 12 connected to the ground port 3 correspond to the parallel signal path 12a described above. FIG. 4 schematically shows the metal film 13a. Further, although the ground port 3 made of a metal film is formed on the lower surface side of the package substrate 5 so as to cover the lower side of the conductive path 34, when the metal film is not provided, the lower end portion of the conductive path 34 is grounded. Configure port 3.

続いて、金属膜13a、13b及び金属膜13aとバンプ32との接続部分について詳述する。図5は、金属膜13aとバンプ32との接続部分を拡大して示したものであり、金属膜13bと圧電基板4との間には、例えばSiO2(二酸化珪素)などからなる誘電体層35と金属層36とが当該金属膜13b側から圧電基板4側に向かってこの順番で積層されている。そして、この誘電体層35は、金属膜13a側における側壁部が金属層36の側面を覆うように圧電基板4側に向かって直角に屈曲しており、これら金属膜13a、13bと金属層36とが誘電体層35を介して接続されるように、即ち金属膜13a、13bと金属層36とが直接接触しないように配置されている。従って、これら金属膜13b、誘電体層35及び金属層36は、コンデンサからなる容量成分37をなしており、並列信号路12aと金属膜13aとの間に介設されている。この容量成分37は、容量値が450pF〜50000pF例えば850pF程度となるように、誘電体層35の膜厚、表面積及び比誘電率(当該誘電体層35の材質)が設定されている。この例では、これら誘電体層35の膜厚、表面積及び比誘電率(当該誘電体層35の材質)は、夫々50nm、490000μm(700μm×700μm)及びε=10となっている。 Next, the metal films 13a and 13b and the connection part between the metal film 13a and the bump 32 will be described in detail. FIG. 5 is an enlarged view of a connecting portion between the metal film 13a and the bump 32. Between the metal film 13b and the piezoelectric substrate 4, a dielectric layer 35 made of, for example, SiO2 (silicon dioxide) is shown. And the metal layer 36 are laminated in this order from the metal film 13b side to the piezoelectric substrate 4 side. The dielectric layer 35 is bent at a right angle toward the piezoelectric substrate 4 so that the side wall portion on the metal film 13 a side covers the side surface of the metal layer 36, and the metal films 13 a and 13 b and the metal layer 36 are bent. Are connected via the dielectric layer 35, that is, the metal films 13a and 13b and the metal layer 36 are not in direct contact with each other. Therefore, the metal film 13b, the dielectric layer 35, and the metal layer 36 form a capacitance component 37 composed of a capacitor, and are interposed between the parallel signal path 12a and the metal film 13a. The capacitance component 37 has the thickness, surface area, and relative dielectric constant (material of the dielectric layer 35) of the dielectric layer 35 such that the capacitance value is about 450 pF to 50,000 pF, for example, about 850 pF. In this example, the film thickness, surface area, and relative dielectric constant (material of the dielectric layer 35) of the dielectric layer 35 are 50 nm, 490000 μm 2 (700 μm × 700 μm), and ε r = 10, respectively.

ここで、容量成分37の形成方法の一例について、図6を参照して説明する。先ず、圧電基板4上にSAW共振子12、引き回し電極16及び金属層36をフォトレジスト法により形成する。次いで、図示しない誘電体からなる薄膜を圧電基板4上に積層し、同様にフォトレジスト法によって金属層36の上方側及び当該金属層36における金属膜13a側の側壁部以外の誘電体薄膜を取り除く。そして、フォトレジスト法によって金属膜13(金属膜13a、13b)を圧電基板4上に形成する。こうして既述の容量値となるように、容量成分37が形成される。尚、図6では容量成分37の厚み寸法を模式的に(実際よりも厚く)描画しているが、金属層36及び誘電体層35の膜厚が極めて薄いため、金属膜13a、13bは、これら金属層36及び誘電体層35を跨ぐように形成される。   Here, an example of a method of forming the capacitance component 37 will be described with reference to FIG. First, the SAW resonator 12, the routing electrode 16, and the metal layer 36 are formed on the piezoelectric substrate 4 by a photoresist method. Next, a thin film made of a dielectric (not shown) is laminated on the piezoelectric substrate 4, and the dielectric thin film other than the upper side of the metal layer 36 and the side wall portion of the metal layer 36 on the metal film 13a side is similarly removed by a photoresist method. . Then, a metal film 13 (metal films 13a and 13b) is formed on the piezoelectric substrate 4 by a photoresist method. In this way, the capacitance component 37 is formed so as to have the above-described capacitance value. In FIG. 6, the thickness dimension of the capacitive component 37 is schematically drawn (thicker than the actual thickness), but the metal layers 13 a and 13 b are formed as the metal layers 36 and the dielectric layers 35 are extremely thin. It is formed so as to straddle the metal layer 36 and the dielectric layer 35.

従って、接地ポート3と当該接地ポート3に接続されるSAW共振子12との間には、各々並列信号路12a及び導電路34が配置され、当該並列信号路12aには容量成分37が各々介設されている。そして、既述のように導電路34が分布定数成分38を持っていることから、この分布定数成分38のインダクタ成分と容量成分37とが直列共振回路21を構成している。この直列共振回路21は、分布定数成分38のインダクタ成分の大きさに応じて、具体的には導電路34の各寸法や材質に応じて、ノッチフィルタの減衰域に対応する周波数において直列共振が起こるように、既述の容量成分37における容量値が設定されている。   Accordingly, a parallel signal path 12a and a conductive path 34 are arranged between the ground port 3 and the SAW resonator 12 connected to the ground port 3, and a capacitance component 37 is interposed in the parallel signal path 12a. It is installed. Since the conductive path 34 has the distributed constant component 38 as described above, the inductor component and the capacitive component 37 of the distributed constant component 38 constitute the series resonance circuit 21. This series resonant circuit 21 has series resonance at a frequency corresponding to the attenuation region of the notch filter according to the size of the inductor component of the distributed constant component 38, specifically according to each dimension and material of the conductive path 34. As described above, the capacitance value in the above-described capacitance component 37 is set.

そのため、入力ポート1と出力ポート2との間に電気信号が流れて、各々のSAW共振子12において直列共振が起こると、導電路34のインダクタ成分によってSAW共振子12と接地ポート3との間における電気信号の流れが阻害されようとする。しかし、減衰域に対応する周波数においてインダクタ成分と直列共振が起こるように当該インダクタ成分に容量成分37を接続して直列共振回路21を構成しているので、減衰域においてSAW共振子12と接地ポート3との間において電気信号が極めて容易に流れることになる。従って、導電路34のインダクタ成分による阻害が抑えられた状態で各々のSAW共振子12において直列共振の極が形成され、そのため減衰域において良好な(大きな)減衰量が得られる。   Therefore, when an electric signal flows between the input port 1 and the output port 2 and series resonance occurs in each SAW resonator 12, the inductor component of the conductive path 34 causes the SAW resonator 12 and the ground port 3 to be connected. The electric signal flow in the circuit is about to be inhibited. However, since the series resonance circuit 21 is configured by connecting the capacitance component 37 to the inductor component so that series resonance with the inductor component occurs at a frequency corresponding to the attenuation region, the SAW resonator 12 and the ground port are formed in the attenuation region. The electric signal flows between the terminals 3 and 3 very easily. Therefore, a pole of series resonance is formed in each SAW resonator 12 in a state where inhibition by the inductor component of the conductive path 34 is suppressed, and thus a good (large) attenuation amount can be obtained in the attenuation region.

ここで、図7は、パッケージ基板5上に各部品(インダクタ11及び圧電基板4)を搭載した状態のフィルタ特性と、パッケージ基板5にこれら部品を搭載せずにチップ状のフィルタ特性とをシミュレーションした結果を示しており、導電路34のインダクタ成分によって減衰域における減衰量が劣化していることが分かる。一方、図8に示すように、導電路34に容量成分37を直列に接続して直列共振回路21を形成することにより、チップ状で得られた特性とほぼ同程度の減衰量が得られている。   Here, FIG. 7 shows a simulation of filter characteristics in a state where each component (inductor 11 and piezoelectric substrate 4) is mounted on the package substrate 5, and chip-shaped filter characteristics without mounting these components on the package substrate 5. It can be seen that the attenuation in the attenuation region is degraded by the inductor component of the conductive path 34. On the other hand, as shown in FIG. 8, by forming a series resonant circuit 21 by connecting a capacitance component 37 in series to the conductive path 34, an attenuation amount substantially equal to the characteristic obtained in the chip shape can be obtained. Yes.

上述の実施の形態によれば、インダクタ11からなる直列腕と減衰域に対応する周波数で直列共振を起こす素子部であるSAW共振子12からなる並列腕とを備えたノッチフィルタにおいて、内部領域に導電路34の形成されたパッケージ基板5上にインダクタ11及びSAW共振子12(圧電基板4)を配置して、この導電路34を介してSAW共振子12を接地している。そして、前記SAW共振子12と前記接地ポート3との間に、前記減衰域に対応する周波数において前記導電路34のインダクタ成分と直列共振が起こるように容量値の設定された容量成分37を接続している。そのため、SAW共振子12をパッケージ基板5上に実装した場合であっても、導電路34のインダクタ成分が減衰域において見かけ上抑えられるので、各々のSAW共振子12によって形成される共振点の極同士のカップリングを抑えることができ、従って減衰域における減衰量及び減衰幅の良好なノッチフィルタを得ることができる。   According to the above-described embodiment, in the notch filter including the series arm composed of the inductor 11 and the parallel arm composed of the SAW resonator 12 which is an element portion that causes series resonance at a frequency corresponding to the attenuation region, The inductor 11 and the SAW resonator 12 (piezoelectric substrate 4) are arranged on the package substrate 5 on which the conductive path 34 is formed, and the SAW resonator 12 is grounded through the conductive path 34. A capacitance component 37 having a capacitance value is connected between the SAW resonator 12 and the ground port 3 so that series resonance with the inductor component of the conductive path 34 occurs at a frequency corresponding to the attenuation region. is doing. Therefore, even when the SAW resonator 12 is mounted on the package substrate 5, the inductor component of the conductive path 34 is apparently suppressed in the attenuation region, and therefore the resonance point pole formed by each SAW resonator 12. The coupling between each other can be suppressed, and therefore a notch filter having a good attenuation amount and attenuation width in the attenuation region can be obtained.

また、導電路34毎に個別に容量成分37を配置しているので、いずれのSAW共振子12についても共振点の極を大きくできる。更に、誘電体層35が既述のように薄膜であり壊れやすいが、圧電基板4とパッケージ基板5とをバンプ32により接続するにあたり、当該誘電体層35から側方側に外れた領域にバンプ32を形成しているので、バンプ32の形成時において誘電体層35が破壊されることを抑えることができ、従って歩留まり高くフィルタを製造できる。   In addition, since the capacitance component 37 is individually provided for each conductive path 34, the pole of the resonance point can be increased for any SAW resonator 12. Furthermore, the dielectric layer 35 is a thin film as described above and is easily broken. However, when the piezoelectric substrate 4 and the package substrate 5 are connected by the bumps 32, bumps are formed in a region that is laterally removed from the dielectric layer 35. Since 32 is formed, it is possible to prevent the dielectric layer 35 from being broken when the bumps 32 are formed, and thus it is possible to manufacture a filter with a high yield.

ここで、容量成分37の容量値について計算したところ、容量成分37を設けない場合と比べて、図9に示すように、450pF〜50000pFの範囲において良好な減衰量の得られることが分かった。尚、この時の導電路34のインダクタ成分の大きさについては0.05nH(導電路34の幅寸法及び高さ寸法が夫々150μm及び100μm)として計算した。即ち、容量成分37の好ましい容量値は、導電路34のインダクタ成分の大きさ即ち導電路34の各寸法や材質によって様々であるが、インダクタ成分の大きさが既述の値であれば450pF〜50000pFとなる。   Here, when the capacitance value of the capacitance component 37 was calculated, it was found that a good attenuation was obtained in the range of 450 pF to 50000 pF, as shown in FIG. Incidentally, the size of the inductor component of the conductive path 34 at this time was calculated as 0.05 nH (the width dimension and the height dimension of the conductive path 34 were 150 μm and 100 μm, respectively). That is, the preferable capacitance value of the capacitance component 37 varies depending on the size of the inductor component of the conductive path 34, that is, each dimension and material of the conductive path 34. If the size of the inductor component is the above-described value, 450 pF to 50000 pF.

以上の例では、容量成分37を圧電基板4に配置したが、接地ポート3と、当該接地ポート3に接続されるSAW共振子12との間に配置すれば良く、例えば図10に示すように、パッケージ基板5上において導電路34の上方側に配置しても良い。具体的には、導電路34の上位置に、既述の金属層36と誘電体層35とを下側(パッケージ基板5側)からこの順番で積層し、この誘電体層35の上方側を覆うように既述の導電線路31を形成しても良い。この場合においても、金属層36と導電線路31とが直接接続されないように、誘電体層35の側壁部がパッケージ基板5側に向かって例えば直角に形成される。また、この容量成分37について、パッケージ基板5の裏面側(接地ポート3側)において導電路34に下方側から接続されるように配置して、当該容量成分37の下端部を接地ポート3としても良い。   In the above example, the capacitive component 37 is disposed on the piezoelectric substrate 4, but it may be disposed between the ground port 3 and the SAW resonator 12 connected to the ground port 3. For example, as shown in FIG. Alternatively, it may be disposed above the conductive path 34 on the package substrate 5. Specifically, the above-described metal layer 36 and dielectric layer 35 are laminated in this order from the lower side (package substrate 5 side) above the conductive path 34, and the upper side of the dielectric layer 35 is placed on the upper side. The above-described conductive line 31 may be formed so as to cover it. Also in this case, the side wall portion of the dielectric layer 35 is formed, for example, at a right angle toward the package substrate 5 side so that the metal layer 36 and the conductive line 31 are not directly connected. Further, the capacitive component 37 is arranged so as to be connected to the conductive path 34 from the lower side on the back surface side (grounding port 3 side) of the package substrate 5, and the lower end portion of the capacitive component 37 is used as the grounding port 3. good.

[第2の実施の形態:並列共振]
既述の第1の実施の形態では、接地ポート3に接続されるSAW共振子12と当該接地ポート3との間における導電路34のインダクタ成分を抑えるにあたって、容量成分37を当該導電路34に直列に接続して直列共振回路21を構成したが、この導電路34に容量成分37を並列に接続し、並列共振回路22を構成しても良い。この場合には、並列共振回路22の反共振周波数(反共振点)は、減衰域に対応する周波数から大きく外れた領域この例では700MHzに設定される。従って、この場合においても、減衰域では、接地ポート3に接続されるSAW共振子12と当該接地ポート3との間における導電路34のインダクタ成分の影響が抑えられることになる。以下に、このような並列共振を用いた例について、第2の実施の形態として説明する。尚、既述の第1の実施の形態と同じ構成の部位については同じ符号を付して説明を省略する。
[Second Embodiment: Parallel Resonance]
In the first embodiment described above, in order to suppress the inductor component of the conductive path 34 between the SAW resonator 12 connected to the ground port 3 and the ground port 3, the capacitance component 37 is added to the conductive path 34. Although the series resonance circuit 21 is configured by connecting in series, the parallel resonance circuit 22 may be configured by connecting a capacitance component 37 to the conductive path 34 in parallel. In this case, the anti-resonance frequency (anti-resonance point) of the parallel resonance circuit 22 is set to a region greatly deviating from the frequency corresponding to the attenuation region, in this example, 700 MHz. Accordingly, even in this case, in the attenuation region, the influence of the inductor component of the conductive path 34 between the SAW resonator 12 connected to the ground port 3 and the ground port 3 is suppressed. Hereinafter, an example using such parallel resonance will be described as a second embodiment. In addition, about the site | part of the same structure as 1st Embodiment mentioned above, the same code | symbol is attached | subjected and description is abbreviate | omitted.

この第2の実施の形態の容量成分37は、図11に示すように、既述の接地ポート3の接続された並列信号路12aに対して各々並列に接続されている。具体的には、図12に示すように、既述の金属膜13a、13bを互いに独立して配置する(これら金属膜13a、13bを互いに接触させないように配置する)。そして、図12中奥側において、これら金属膜13a、13bに対して第1のSAW共振子12の第1のバスバー14b及び第2のSAW共振子12の第2のバスバー14bから伸びる並列信号路12aを各々互いに並列に接続すると共に、図12中手前側において、第3のSAW共振子12の第1のバスバー14b及び第4のSAW共振子12の第2のバスバー14bから伸びる並列信号路12aを金属膜13a、13bに各々並列に接続している。これら金属膜13a、13b間の離間距離は、当該金属膜13a、13bが互いに絶縁される程度にできるだけ短い寸法この例では600μm程度に設定される。   As shown in FIG. 11, the capacitance components 37 of the second embodiment are connected in parallel to the parallel signal path 12a to which the ground port 3 is connected as described above. Specifically, as shown in FIG. 12, the above-described metal films 13a and 13b are disposed independently of each other (the metal films 13a and 13b are disposed so as not to contact each other). Then, on the back side in FIG. 12, parallel signal paths extending from the first bus bar 14b of the first SAW resonator 12 and the second bus bar 14b of the second SAW resonator 12 with respect to the metal films 13a and 13b. 12a are connected in parallel with each other, and parallel signal paths 12a extending from the first bus bar 14b of the third SAW resonator 12 and the second bus bar 14b of the fourth SAW resonator 12 on the front side in FIG. Are connected to the metal films 13a and 13b in parallel. The distance between the metal films 13a and 13b is set to a dimension as short as possible so that the metal films 13a and 13b are insulated from each other, in this example, about 600 μm.

そして、図13に示すように、パッケージ基板5に形成された既述の導電路34を介して、金属膜13aを独立して(金属膜13bとは別個に)接地ポート3に接続すると共に、この導電路34に隣接するようにパッケージ基板5に例えば銅などの金属体の埋め込まれた補助導電路34aを形成している。また、バンプ32を介して、補助導電路34aの下面に形成された補助接地ポート(第2の補助電極部)3aに、金属膜13bを独立して(金属膜13aとは別個に)接続している。これら導電路34、34a間の離間距離は、例えば30μm程度に設定される。この補助導電路34aの上端部は、第1の補助電極部をなす。尚、図13では、金属膜13a、13bの周辺の領域については簡略化して示している。   Then, as shown in FIG. 13, the metal film 13 a is connected to the ground port 3 independently (separately from the metal film 13 b) through the conductive path 34 formed on the package substrate 5, and An auxiliary conductive path 34 a in which a metal body such as copper is embedded is formed in the package substrate 5 so as to be adjacent to the conductive path 34. Further, the metal film 13b is connected to the auxiliary grounding port (second auxiliary electrode portion) 3a formed on the lower surface of the auxiliary conductive path 34a via the bump 32 independently (separately from the metal film 13a). ing. The separation distance between the conductive paths 34 and 34a is set to about 30 μm, for example. The upper end portion of the auxiliary conductive path 34a forms a first auxiliary electrode portion. In FIG. 13, regions around the metal films 13a and 13b are shown in a simplified manner.

ここで、図14に示すように、金属膜13bの圧電基板4側には、圧電基板4側から当該金属膜13bに向かって金属層36と誘電体層35とが積層されており、これら金属層36、誘電体層35及び金属膜13bによって既述の容量成分37が構成されている。従って、接地ポート3に接続された導電路34に対して、容量成分37が並列に接続されて並列共振回路22をなしている。この場合には、容量成分37の容量値は、並列共振回路22の反共振点が既述の周波数に設定されるように、誘電体層35の厚み寸法、表面積及び比誘電率(材質)が設定される。尚、既述の図11に示すように、補助導電路34aについても、インダクタ成分などを含む分布定数成分38aを持つこととなる。また、図14において、これら金属層36、誘電体層35及び金属膜13bの厚み寸法を模式的に示している。   Here, as shown in FIG. 14, on the piezoelectric substrate 4 side of the metal film 13b, a metal layer 36 and a dielectric layer 35 are laminated from the piezoelectric substrate 4 side toward the metal film 13b. The layer 36, the dielectric layer 35, and the metal film 13b constitute the capacitance component 37 described above. Therefore, the capacitive component 37 is connected in parallel to the conductive path 34 connected to the ground port 3 to form the parallel resonance circuit 22. In this case, the capacitance value of the capacitance component 37 is such that the thickness dimension, surface area, and relative dielectric constant (material) of the dielectric layer 35 are set so that the antiresonance point of the parallel resonance circuit 22 is set to the frequency described above. Is set. As shown in FIG. 11 described above, the auxiliary conductive path 34a also has a distributed constant component 38a including an inductor component and the like. FIG. 14 schematically shows the thickness dimensions of the metal layer 36, the dielectric layer 35, and the metal film 13b.

そのため、このフィルタにおいて入力ポート1と出力ポート2との間に電気信号が流れると、並列共振回路22では減衰域から外れた周波数において反共振点が形成されるので、当該減衰域では、接地ポート3に接続される導電路34のインダクタ成分の影響が小さくなるように(あるいはなくなるように)SAW共振子12と接地ポート3との間において電気信号が流れることになる。従って、この第2の実施の形態でも、各々のSAW共振子12の直列共振の極が形成され、良好な減衰量の減衰域となる。   Therefore, when an electric signal flows between the input port 1 and the output port 2 in this filter, an anti-resonance point is formed at a frequency outside the attenuation region in the parallel resonance circuit 22. Thus, an electrical signal flows between the SAW resonator 12 and the ground port 3 so that the influence of the inductor component of the conductive path 34 connected to 3 is reduced (or eliminated). Therefore, also in the second embodiment, the poles of the series resonance of each SAW resonator 12 are formed, and an attenuation region with a good attenuation amount is obtained.

この第2の実施の形態においても、容量成分37をパッケージ基板5側(パッケージ基板5の表面における圧電基板4側あるいはパッケージ基板5と補助接地ポート3aとの間)に配置しても良い。
また、第2の実施の形態では、並列共振回路22の反共振点について既述のように設定したが、この反共振点は減衰域に対応する周波数から外れた領域に設定すれば良く、具体的には600〜800MHzあるいは850〜1000MHzに設定しても良い。更に、導電路34、34a間の離間距離としては、並列共振回路22を構成するためにできるだけ近接させることが好ましいが、これら導電路34、34a同士が互いに電気的に接続されないようにする必要がある。従って、前記離間距離としては、導電路34、34a間で絶縁を取りつつ並列共振回路22が構成される寸法、具体的には1μm〜600μm程度であることが好ましい。
Also in the second embodiment, the capacitive component 37 may be arranged on the package substrate 5 side (the piezoelectric substrate 4 side on the surface of the package substrate 5 or between the package substrate 5 and the auxiliary ground port 3a).
In the second embodiment, the anti-resonance point of the parallel resonance circuit 22 is set as described above. However, the anti-resonance point may be set in a region outside the frequency corresponding to the attenuation region. Specifically, it may be set to 600 to 800 MHz or 850 to 1000 MHz. Furthermore, the separation distance between the conductive paths 34 and 34a is preferably as close as possible to form the parallel resonant circuit 22, but it is necessary to prevent the conductive paths 34 and 34a from being electrically connected to each other. is there. Therefore, it is preferable that the separation distance is a dimension in which the parallel resonance circuit 22 is formed while insulating between the conductive paths 34 and 34a, specifically about 1 μm to 600 μm.

ここで、第2の実施の形態のフィルタについて行ったシミュレーション結果について説明する。図15に示すように、導電路34に対して並列に容量成分37を接続することにより、835MHz付近において−64dBもの大きな減衰量が得られている。一方、容量成分37を配置しない場合(従来のノッチフィルタ)には、図16に示すように、835MHz付近において−57dB程度の大きさの減衰量しか得られていない。   Here, the simulation result performed about the filter of 2nd Embodiment is demonstrated. As shown in FIG. 15, by connecting a capacitive component 37 in parallel to the conductive path 34, a large attenuation of −64 dB is obtained in the vicinity of 835 MHz. On the other hand, when the capacitive component 37 is not arranged (conventional notch filter), as shown in FIG. 16, only an attenuation of about −57 dB is obtained in the vicinity of 835 MHz.

続いて、容量成分37や分布定数成分38に含まれる抵抗成分によってノッチフィルタの周波数特性(減衰特性)がどのように変化するかシミュレーションした結果を示す。先ず、容量成分37を配置しない場合に、導電路34に分布定数成分38としてインダクタ成分だけが設けられる時の特性を図17に示す。そして、分布定数成分38に0.3Ωの抵抗成分が各々含まれる場合の特性を図18に示す。   Subsequently, a simulation result of how the frequency characteristic (attenuation characteristic) of the notch filter changes depending on the resistance component included in the capacitance component 37 and the distributed constant component 38 is shown. First, FIG. 17 shows characteristics when only the inductor component is provided as the distributed constant component 38 in the conductive path 34 when the capacitance component 37 is not disposed. FIG. 18 shows the characteristics when the distributed constant component 38 includes a resistance component of 0.3Ω.

図19は、分布定数成分38の抵抗成分が各々0.1Ωの場合に、容量値が1000pFの容量成分37を当該抵抗成分に各々並列に設けた場合の特性を示しており、図20は、2つの分布定数成分38の各々に12Ωの抵抗成分を配置し、これら抵抗成分の一方及び他方に各々1000pFの容量成分37を各々並列に接続した特性を示している。また、図21は、2つの分布定数成分38の各々に6Ωの抵抗成分を配置すると共に、これら抵抗成分の一方及び他方に各々1000pFの容量成分37を各々並列に接続した特性を示している。これらの結果から、インダクタ成分及び容量値を変えることにより、減衰特性が変化することが分かる。尚、図19、図20及び図21では、抵抗成分に容量成分37を並列に接続するにあたり、接地ポート3とSAW共振子12との間における並列信号路12aにおいて抵抗成分よりもSAW共振子12側及び接地ポート3側から各々伸びる2本の導電路を形成し、これら導電路に容量成分37の一端側及び他端側を接続した場合(各々の容量成分37が接地ポート3に接続される場合)についてシミュレーションしている。   FIG. 19 shows the characteristics when the resistance component of the distributed constant component 38 is 0.1Ω and the capacitance component 37 having a capacitance value of 1000 pF is provided in parallel with the resistance component. 12 shows a characteristic in which a resistance component of 12Ω is arranged in each of two distributed constant components 38, and a capacitance component 37 of 1000 pF is connected in parallel to one and the other of these resistance components, respectively. FIG. 21 shows characteristics in which a resistance component of 6Ω is arranged in each of the two distributed constant components 38 and a capacitance component 37 of 1000 pF is connected in parallel to one and the other of these resistance components. From these results, it can be seen that the attenuation characteristics change by changing the inductor component and the capacitance value. 19, 20, and 21, when the capacitance component 37 is connected in parallel to the resistance component, the SAW resonator 12 is more than the resistance component in the parallel signal path 12 a between the ground port 3 and the SAW resonator 12. When two conductive paths extending from the side and the ground port 3 side are formed, and one end side and the other end side of the capacitive component 37 are connected to these conductive paths (each capacitive component 37 is connected to the ground port 3) Case)).

図22は、2つの分布定数成分38の各々に0.3Ωの抵抗成分を配置すると共に、これら抵抗成分に対して1000pFの容量成分37を各々並列に接続すると共に、これら容量成分37を接地ポート3ではなく補助接地ポート3aに接続した場合の特性を示している。この図22では、以上の図17〜図20の例と比べて、減衰量の大きな特性が得られていることが分かる。   In FIG. 22, a resistance component of 0.3Ω is arranged in each of the two distributed constant components 38, a capacitance component 37 of 1000 pF is connected in parallel to each of the resistance components, and the capacitance component 37 is connected to the ground port. The characteristic when connecting to the auxiliary ground port 3a instead of 3 is shown. In FIG. 22, it can be seen that a characteristic with a large attenuation is obtained as compared with the examples of FIGS.

[その他の例]
以上の例では、インダクタ11及びSAW共振子12を夫々3つ及び4つ配置したが、これらインダクタ11及びSAW共振子12を複数ずつ例えば4つ及び5つ配置しても良い。
[Other examples]
In the above example, three and four inductors 11 and SAW resonators 12 are arranged, respectively, but a plurality of these inductors 11 and SAW resonators 12 may be arranged, for example, four and five.

また、接地ポート3と当該接地ポート3に接続されるSAW共振子12との間における導電路34、バンプ32及び引き回し電極16からなる並列信号路12aについて、導電路34の寸法に比べてバンプ32などの寸法が小さいため、導電路34のインダクタ成分よりもバンプ32などのインダクタ成分が小さい。そのため、直列共振回路21及び並列共振回路22では導電路34のインダクタ成分と共振を起こすように容量成分37の容量値を設定したが、容量成分37として、導電路34のインダクタ成分と共振を起こすことに代えて、接地ポート3と当該接地ポート3に接続されるSAW共振子12との間の並列信号路12a及び導電路34のインダクタ成分と共振を起こすように容量値を設定しても良い。その場合には、更に減衰特性の良好なフィルタが得られる。   In addition, the parallel signal path 12 a including the conductive path 34, the bump 32, and the routing electrode 16 between the ground port 3 and the SAW resonator 12 connected to the ground port 3 is compared with the size of the conductive path 34. Therefore, the inductor component such as the bump 32 is smaller than the inductor component of the conductive path 34. Therefore, in the series resonance circuit 21 and the parallel resonance circuit 22, the capacitance value of the capacitance component 37 is set so as to resonate with the inductor component of the conductive path 34, but as the capacitance component 37, resonance with the inductor component of the conductive path 34 occurs. Instead, the capacitance value may be set so as to cause resonance with the inductor component of the parallel signal path 12a and the conductive path 34 between the ground port 3 and the SAW resonator 12 connected to the ground port 3. . In that case, a filter having a better attenuation characteristic can be obtained.

また、インダクタ11及びSAW共振子12を共通のパッケージ基板5に搭載したが、インダクタ11については当該パッケージ基板5と別の基板に配置して、図示しない電極を介してこれらインダクタ11とSAW共振子12とを互いに接続しても良い。更に、複数例えば2つの接地ポート3を設けて、各々の接地ポート3に接続される導電路34に直列共振回路21あるいは並列共振回路22を配置したが、これら導電路34のうち少なくとも1つに直列共振回路21や並列共振回路22を配置しても良い。更に、複数のSAW共振子12について、導電路34及び接地ポート3を個別に設けて、各々の導電路34に直列共振回路21や並列共振回路22を接続しても良い。   Further, the inductor 11 and the SAW resonator 12 are mounted on the common package substrate 5. However, the inductor 11 is arranged on a substrate different from the package substrate 5 and the inductor 11 and the SAW resonator are connected via an electrode (not shown). 12 may be connected to each other. Further, a plurality of, for example, two ground ports 3 are provided, and the series resonant circuit 21 or the parallel resonant circuit 22 is arranged on the conductive paths 34 connected to the respective ground ports 3. At least one of these conductive paths 34 is provided. A series resonance circuit 21 and a parallel resonance circuit 22 may be arranged. Further, the conductive path 34 and the ground port 3 may be provided individually for the plurality of SAW resonators 12, and the series resonant circuit 21 and the parallel resonant circuit 22 may be connected to each conductive path 34.

更に、以上の各例では、直列腕及び並列腕として夫々インダクタ11及びSAW共振子12を用いたが、図23に示すように、直列腕及び並列腕として夫々SAW共振子12及びインダクタ11を配置しても良い。この場合においても、SAW共振子12が圧電基板4に配置されると共に、インダクタ11及び圧電基板4がパッケージ基板5上に配置され、直列共振回路21あるいは並列共振回路22が構成されるようにインダクタ11と接地ポート3と間のインダクタ成分に対して容量成分37が直列または並列に接続される。この図23では、直列共振回路21を設けた例を示している。更に、この図23において、インダクタ11に代えて、減衰域から外れた周波数において並列共振を起こす素子例えばSAW共振子12を並列腕として配置しても良い。   Further, in each of the above examples, the inductor 11 and the SAW resonator 12 are used as the series arm and the parallel arm, respectively, but as shown in FIG. 23, the SAW resonator 12 and the inductor 11 are arranged as the series arm and the parallel arm, respectively. You may do it. Also in this case, the SAW resonator 12 is disposed on the piezoelectric substrate 4 and the inductor 11 and the piezoelectric substrate 4 are disposed on the package substrate 5 so that the series resonant circuit 21 or the parallel resonant circuit 22 is configured. Capacitance component 37 is connected in series or in parallel with the inductor component between 11 and ground port 3. FIG. 23 shows an example in which a series resonance circuit 21 is provided. Furthermore, in FIG. 23, instead of the inductor 11, an element that causes parallel resonance at a frequency outside the attenuation range, for example, a SAW resonator 12 may be disposed as a parallel arm.

以上において、SAW共振子12は、弾性表面波を利用した共振子に代えて、圧電基板4の内部を伝播する弾性波を利用した共振子であっても良い。
更に、直列共振や並列共振を起こす素子部としては、SAW共振子12に代えて、水晶共振子、圧電薄膜共振子、MEMS共振子、誘電体を用いても良い。圧電薄膜共振子としては、例えばFBAR(Film Bulk Acoustic Resonator)やSMR(Solid Mounted Resonator)などが挙げられる。誘電体を素子部として用いる場合には、マイクロストリップラインの両側に誘電体を設けた構成となる。更に前記素子部としては、コイルとコンデンサとを並列に接続した共振回路(LC共振回路)も含まれる。
In the above, the SAW resonator 12 may be a resonator using an elastic wave propagating in the piezoelectric substrate 4 instead of the resonator using the surface acoustic wave.
Furthermore, instead of the SAW resonator 12, a crystal resonator, a piezoelectric thin film resonator, a MEMS resonator, or a dielectric may be used as an element unit that causes series resonance or parallel resonance. Examples of the piezoelectric thin film resonator include an FBAR (Film Bulk Acoustic Resonator) and an SMR (Solid Mounted Resonator). When a dielectric is used as the element portion, the dielectric is provided on both sides of the microstrip line. Further, the element unit includes a resonance circuit (LC resonance circuit) in which a coil and a capacitor are connected in parallel.

また、容量成分37としては、金属膜13b、誘電体層35及び金属層36を積層した構成以外にも、互いに隣接する電極指14a、14a間において容量成分が各々形成される既述のIDT電極14であっても良い。このIDT電極14を容量成分37として用いる場合には、当該容量成分37は圧電基板4上またはパッケージ基板5上にパターニングされる。尚、圧電基板4上にIDT電極14からなる容量成分37を設ける場合には、当該容量成分37にて発生する弾性波が他のSAW共振子12に影響を及ぼさないように、当該容量成分37における弾性波の伝搬方向両側に反射器や吸収体が配置される。更に、容量成分37としては、外付けのコンデンサなどの部品としてパッケージ基板5上に配置しても良い。
また、本発明のフィルタが適用される電子部品としては、例えばSAWBEFや、当該フィルタを用いてデジタル地上波TVチューナモジュールなどが挙げられる。
In addition to the configuration in which the metal film 13b, the dielectric layer 35, and the metal layer 36 are stacked as the capacitive component 37, the IDT electrodes described above in which capacitive components are formed between the electrode fingers 14a and 14a adjacent to each other 14 may be sufficient. When the IDT electrode 14 is used as the capacitive component 37, the capacitive component 37 is patterned on the piezoelectric substrate 4 or the package substrate 5. When the capacitive component 37 formed of the IDT electrode 14 is provided on the piezoelectric substrate 4, the capacitive component 37 is prevented so that the elastic wave generated in the capacitive component 37 does not affect the other SAW resonator 12. Reflectors and absorbers are arranged on both sides in the propagation direction of the elastic wave. Furthermore, the capacitance component 37 may be arranged on the package substrate 5 as a component such as an external capacitor.
Also, examples of electronic components to which the filter of the present invention is applied include SAWBEF and a digital terrestrial TV tuner module using the filter.

1 入力ポート
2 出力ポート
3 接地ポート
3a 補助接地ポート
5 パッケージ基板
12 SAW共振子
12a 並列信号路
21 直列共振回路
22 並列共振回路
34 導電路
34a 補助導電路
37 容量成分
38 分布定数成分
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Input port 2 Output port 3 Grounding port 3a Auxiliary grounding port 5 Package board 12 SAW resonator 12a Parallel signal path 21 Series resonant circuit 22 Parallel resonant circuit 34 Conductive path 34a Auxiliary conductive path 37 Capacitance component 38 Distributed constant component

Claims (8)

低域側及び高域側に各々形成された通過域の間に減衰域を設けるためのノッチフィルタにおいて、
入力ポートと出力ポートとの間に直列腕として互いに直列に接続された複数の位相反転用のインダクタと、
絶縁板と、
この絶縁板の一面側及び他面側に夫々形成された第1の電極部及び接地ポートをなす第2の電極部と、
これら第1の電極部及び第2の電極部を互いに接続するために前記絶縁板の内部に形成された導電路と、
互いに隣接する前記直列腕の間に各々の一端側が接続されると共に前記第1の電極部に各々の他端側が接続された、前記減衰域に対応する周波数で直列共振を起こす並列腕である複数の素子部と、
前記素子部と前記第2の電極部との間に介在して設けられ、前記減衰域に対応する周波数において前記導電路のインダクタ成分と直列共振が起こるように容量値が設定された容量成分と、を備えたことを特徴とするノッチフィルタ。
In the notch filter for providing an attenuation band between the pass bands formed on the low band side and the high band side,
A plurality of phase inversion inductors connected in series as a series arm between the input port and the output port;
An insulating plate;
A first electrode portion formed on one surface side and the other surface side of the insulating plate, respectively, and a second electrode portion forming a ground port;
A conductive path formed inside the insulating plate to connect the first electrode portion and the second electrode portion to each other;
A plurality of parallel arms, each having one end connected between the series arms adjacent to each other and having the other end connected to the first electrode portion, causing series resonance at a frequency corresponding to the attenuation region. Element part of
A capacitance component provided between the element portion and the second electrode portion, the capacitance value of which is set so that series resonance occurs with the inductor component of the conductive path at a frequency corresponding to the attenuation region; And a notch filter.
前記絶縁板の一面側及び他面側に夫々前記第1の電極部及び前記第2の電極部に隣接して設けられ、第1の補助電極部及び補助接地ポートをなす第2の補助電極部と、
これら第1の補助電極部及び第2の補助電極部を互いに接続するために前記絶縁板の内部に形成された補助導電路と、
前記素子部の前記他端側及び前記第1の補助電極部を互いに接続するための並列信号路と、を備え、
前記容量成分は、前記素子部と前記第2の電極部との間に介在して設けられ、前記減衰域に対応する周波数において前記導電路のインダクタ成分と直列共振が起こるように容量値が設定されていることに代えて、前記素子部と前記第2の補助電極部との間に介設して設けられ、前記減衰域から外れた周波数において前記導電路のインダクタ成分と並列共振が起こるように容量値が設定されていることを特徴とする請求項1に記載のノッチフィルタ。
A second auxiliary electrode portion that is provided adjacent to the first electrode portion and the second electrode portion on one surface side and the other surface side of the insulating plate, respectively, and forms a first auxiliary electrode portion and an auxiliary ground port. When,
An auxiliary conductive path formed inside the insulating plate to connect the first auxiliary electrode part and the second auxiliary electrode part to each other;
A parallel signal path for connecting the other end side of the element part and the first auxiliary electrode part to each other;
The capacitance component is provided between the element portion and the second electrode portion, and the capacitance value is set so that series resonance occurs with the inductor component of the conductive path at a frequency corresponding to the attenuation region. Instead of being provided, it is provided between the element part and the second auxiliary electrode part so that parallel resonance occurs with the inductor component of the conductive path at a frequency outside the attenuation region. The notch filter according to claim 1, wherein a capacitance value is set in the notch filter.
前記導電路と前記補助導電路との間の離間距離は、600μm以下であることを特徴とする請求項2に記載のノッチフィルタ。   The notch filter according to claim 2, wherein a separation distance between the conductive path and the auxiliary conductive path is 600 μm or less. 前記容量成分は、2枚の金属層の間に誘電体層が介設された積層膜であり、これら金属層の一方が前記素子部側に接続されていることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか一つに記載のノッチフィルタ。   The capacitive component is a laminated film in which a dielectric layer is interposed between two metal layers, and one of these metal layers is connected to the element portion side. 4. The notch filter according to any one of 3. 前記素子部は、圧電基板上に形成されたSAW共振子であり、
前記容量成分は、この圧電基板上に配置されていることを特徴とする請求項4に記載のノッチフィルタ。
The element unit is a SAW resonator formed on a piezoelectric substrate,
The notch filter according to claim 4, wherein the capacitive component is disposed on the piezoelectric substrate.
前記直列腕は、位相反転用のインダクタに代えて、前記減衰域に対応する周波数において並列共振を起こす素子部であり、
前記並列腕は、前記減衰域に対応する周波数において直列共振を起こす素子部に代えて、位相反転用のインダクタであることを特徴とする請求項1ないし5のいずれか一つに記載のノッチフィルタ。
The series arm is an element portion that causes parallel resonance at a frequency corresponding to the attenuation region, instead of an inductor for phase inversion,
6. The notch filter according to claim 1, wherein the parallel arm is an inductor for phase inversion instead of an element portion that causes series resonance at a frequency corresponding to the attenuation region. .
前記容量成分は、前記導電路のインダクタ成分と直列共振が起こるように容量値が設定されていることに代えて、前記素子部と前記第2の電極部との間におけるインダクタ成分と直列共振が起こるように容量値が設定されていることを特徴とする請求項1に記載のノッチフィルタ。   The capacitance component has a capacitance value set so that series resonance occurs with the inductor component of the conductive path, and the inductor component and the series resonance between the element portion and the second electrode portion. The notch filter according to claim 1, wherein a capacitance value is set so as to occur. 前記容量成分は、前記導電路のインダクタ成分と並列共振が起こるように容量値が設定されていることに代えて、前記素子部と前記第2の電極部との間におけるインダクタ成分と並列共振が起こるように容量値が設定されていることを特徴とする請求項2に記載のノッチフィルタ。   The capacitance component has a capacitance value set so that parallel resonance with the inductor component of the conductive path occurs, and the inductor component and parallel resonance between the element portion and the second electrode portion 3. The notch filter according to claim 2, wherein a capacitance value is set so as to occur.
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