JP2012172279A - Release paper for use in manufacture of synthetic leather - Google Patents

Release paper for use in manufacture of synthetic leather Download PDF

Info

Publication number
JP2012172279A
JP2012172279A JP2011035737A JP2011035737A JP2012172279A JP 2012172279 A JP2012172279 A JP 2012172279A JP 2011035737 A JP2011035737 A JP 2011035737A JP 2011035737 A JP2011035737 A JP 2011035737A JP 2012172279 A JP2012172279 A JP 2012172279A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ionizing radiation
synthetic leather
release paper
radiation curable
layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2011035737A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP5724448B2 (en
Inventor
Takanari Tanaka
崇成 田中
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority to JP2011035737A priority Critical patent/JP5724448B2/en
Publication of JP2012172279A publication Critical patent/JP2012172279A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5724448B2 publication Critical patent/JP5724448B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a release paper, which may be easily produced and is jet-black, for use in manufacture of synthetic leather.SOLUTION: A release paper for use in manufacture of synthetic leather, comprises: a paper base layer; an ionizing radiation curable resin layer provided on the paper base layer; and a release layer formed on the ionizing radiation curable resin layer. The ionizing radiation curable resin layer includes, in a dried state thereof, phenol-based particles with an average particle size of 1 to 30 μm in a ratio ranging from 10 to 80 mass%.

Description

本発明は、合成皮革製造用離型紙に関し、より詳細にはマット調であり、製造が容易な合成皮革製造用離型紙に関する。   The present invention relates to a release paper for manufacturing synthetic leather, and more particularly to a release paper for manufacturing synthetic leather that is matte and easy to manufacture.

従来、合成皮革として塩化ビニル系樹脂やポリウレタン樹脂を主原料としたものが広く使用されている。このような合成皮革は、離型紙を用いて製造されることが多い。例えば、ポリウレタンレザーを製造するには、離型紙上にペースト状のポリウレタン樹脂を塗布し、乾燥・固化した後に基布を貼合して離型紙から剥離する。離型紙に天然皮革と同様の絞り模様や他の凹凸を形成しておけば、得られる合成皮革の表面に良好な模様を付与することができる。同様の原理により、離型紙上にペースト状のポリウレタン樹脂を塗布して乾燥・固化した後、塩化ビニル発泡層を形成して基布と貼合し、離型紙から剥離してもよい。また、塩化ビニルレザーを製造する方法として、離型紙上に塩化ビニルゾルを塗布し、加熱・ゲル化した後、塩化ビニル発泡層を形成して基布と貼合し、離型紙から剥離する方法もある。   Conventionally, synthetic leather made of vinyl chloride resin or polyurethane resin as a main raw material has been widely used. Such synthetic leather is often manufactured using release paper. For example, in order to manufacture polyurethane leather, a paste-like polyurethane resin is applied on a release paper, dried and solidified, and then a base fabric is bonded and peeled off from the release paper. If a drawing pattern similar to natural leather or other irregularities are formed on the release paper, a good pattern can be imparted to the surface of the resulting synthetic leather. Based on the same principle, a paste-like polyurethane resin may be applied onto a release paper, dried and solidified, and then a vinyl chloride foam layer may be formed and bonded to the base fabric and peeled off from the release paper. As a method for producing vinyl chloride leather, there is a method in which a vinyl chloride sol is applied on release paper, heated and gelled, a vinyl chloride foam layer is formed, bonded to a base fabric, and peeled off from the release paper. is there.

このような離型紙として、合成皮革用離型紙の支持体としてJIS P−3001に基づく吸油度で200〜1000秒の顔料塗被紙を使用し、この顔料塗被紙にスチレン・ブタジエン共重合体ラテックスのトルエンに対するゲル重量分率が80%以上のバインダーを塗工し、剥離剤層が、平均粒子径0.5〜40μmの範囲にある無機顔料を艶消し剤として含有し、かつ離型紙表面の王研式平滑度が100〜500秒の範囲にあることを特徴とする、合成皮革用離型紙がある(特許文献1)。艶消しタイプの合成皮革の表面形成に供される離型紙として、支持体にシリカなどの無機顔料を添加して剥離層を形成させたものは光沢度や平滑性が高く、得られる合成皮革の色調が淡く漆黒性が低い。しかしながら、上記構成によれば、合成皮革に高い漆黒性と均一性を付与することができるという。   As such a release paper, a pigment-coated paper having an oil absorption of 200 to 1000 seconds based on JIS P-3001 is used as a support for a release paper for synthetic leather, and a styrene-butadiene copolymer is used as the pigment-coated paper. A latex having a gel weight fraction with respect to toluene of 80% or more is applied, the release agent layer contains an inorganic pigment having an average particle diameter of 0.5 to 40 μm as a matting agent, and the surface of the release paper There is a release paper for synthetic leather, characterized in that the Oken type smoothness is in the range of 100 to 500 seconds (Patent Document 1). As release paper used for surface formation of matte type synthetic leather, a release layer is formed by adding an inorganic pigment such as silica to the support, which has high gloss and smoothness. The color is pale and jet black is low. However, according to the said structure, it is said that high jetness and uniformity can be provided to synthetic leather.

また、裏面に布を基材として貼り合わせたポリウレタン系合成皮革を製造するには、離型紙にポリウレタン樹脂を塗布および乾燥し、次いで前記布基材を貼り合わせるためにポリウレタン層上にイソシアネート基を官能基とする成分を含有する第1液とポリオールからなる第2液とからなるポリウレタン系2液型接着剤が使用される。この2液型接着剤は接着力が強く、ソファーなどの家具類や靴などの使用期間が長いものや使用の激しいものに多用されているが、上記工程において高い反応性を有するイソシアネート基が離型紙に移行し、工程用離型紙の剥離性が害され、生産性が低下する場合がある。このようなポリウレタン系2液型接着剤に対しても剥離が容易でかつ耐熱性に優れる離型紙として、紙と電離放射線硬化膜とからなるエンボス付き剥離紙がある(特許文献2)。該特許文献2では、前記硬化膜として、イソシアネート化合物と、(メタ)アクリロイル基を有していて且つイソシアネート化合物と反応し得る(メタ)アクリル化合物と、(メタ)アクリロイル基を有しておらず且つイソシアネート基と反応し得る化合物との反応生成物であって、軟化点が40℃以上の電離放射線硬化性組成物を電離放射線により硬化させたものを使用している。実施例では、目止め層を設けた紙基材層に、上記電離放射線硬化性組成物を2度コーティングして電離放射線硬化膜を形成し、エンボス賦型性、耐熱性および繰り返し剥離性に優れるエンボス付き剥離紙を製造している。   In addition, in order to produce a polyurethane-based synthetic leather having a cloth bonded to the back surface, a polyurethane resin is applied to a release paper and dried, and then an isocyanate group is formed on the polyurethane layer to bond the cloth substrate. A polyurethane two-component adhesive composed of a first liquid containing a functional group component and a second liquid composed of a polyol is used. This two-part adhesive has strong adhesive strength and is often used for furniture such as sofas and shoes that are used for a long period of time or those that are used frequently. In the above process, a highly reactive isocyanate group is released. There is a case where it shifts to a pattern paper, the releasability of the process release paper is impaired, and the productivity is lowered. There is an embossed release paper made of paper and an ionizing radiation-cured film as a release paper that can be easily peeled from such a polyurethane two-component adhesive and has excellent heat resistance (Patent Document 2). In Patent Document 2, the cured film does not have an isocyanate compound, a (meth) acryloyl group that has an (meth) acryloyl group and can react with the isocyanate compound, and no (meth) acryloyl group. In addition, a reaction product of a compound capable of reacting with an isocyanate group, which is obtained by curing an ionizing radiation curable composition having a softening point of 40 ° C. or higher with ionizing radiation, is used. In the examples, the ionizing radiation curable composition is coated twice on the paper base material layer provided with the sealing layer to form an ionizing radiation curable film, and is excellent in embossing property, heat resistance, and repetitive peelability. Manufactures embossed release paper.

また、電離放射線硬化樹脂層と、熱硬化シリコーン層とがこの順に積層され、かつエンボスを有するエンボス付き剥離紙もある(特許文献3)。特定の電離放射線硬化樹脂層を使用することで耐熱性、耐溶剤性、機械的強度に優れ、再使用が可能な離型紙を提供するというものである。   There is also an embossed release paper in which an ionizing radiation curable resin layer and a thermosetting silicone layer are laminated in this order and have embossing (Patent Document 3). By using a specific ionizing radiation curable resin layer, a release paper which is excellent in heat resistance, solvent resistance and mechanical strength and can be reused is provided.

特開2000−328464号公報JP 2000-328464 A 特開2005−186516号公報JP 2005-186516 A 特開2009−101685号公報JP 2009-101685 A

合成皮革は、需要者の要求により、光沢のあるグロスタイプや光沢のないマットタイプなどが開発され、各種のエンボス柄も開発されている。例えば、黒色の合成皮革を製造する場合には、深みのある、いわゆる「漆黒」という色合いが要求される場合がある。特許文献1記載の合成皮革用工程剥離は、漆黒性と均一性を付与するため、特定の吸油度を有する支持体を使用し、剥離剤に特定の平均粒子径の艶消し剤を配合したものである。しかしながら、エンボス加工のためには、エンボスに対する賦形性が必須であるが、特許文献1記載の合成皮革用工程剥離には、エンボス加工に関する記載は存在しない。   Synthetic leather has been developed in accordance with customer demands, such as glossy gloss type and matte mat type, and various embossed patterns. For example, when producing black synthetic leather, a deep so-called “jet black” shade may be required. The process peeling for synthetic leather described in Patent Document 1 uses a support having a specific oil absorbency and blends a matting agent having a specific average particle diameter with a release agent in order to impart jetness and uniformity. It is. However, for embossing, shapeability for embossing is essential, but there is no description regarding embossing in the process peeling for synthetic leather described in Patent Document 1.

一方、表面にエンボス加工がなされた離型紙を作製する場合、離型紙の凹部を精度良く形成することは容易であるが、加工圧力が比較的小さくなりやすいために凸部を精度良く形成することは困難であり、このため離型紙を用いて作製された合成皮革のコントラスト(明暗の差)が十分でない場合がある。特に、特許文献2で示すように、紙基材層への剥離剤の浸透を防止するため予めシリカ入りアクリル樹脂などで目止め処理を行った紙基材層を使用すると、目止め処理に使用したシリカ等によってエンボスのコントラストが低減する場合がある。   On the other hand, when producing release paper whose surface is embossed, it is easy to accurately form the concave portion of the release paper, but the convex portion is accurately formed because the processing pressure tends to be relatively small. For this reason, the contrast (difference between light and dark) of the synthetic leather produced using the release paper may not be sufficient. In particular, as shown in Patent Document 2, when a paper base material layer that has been subjected to a sealing treatment with an acrylic resin containing silica in advance to prevent penetration of the release agent into the paper base material layer is used for the sealing treatment. The embossed contrast may be reduced by the silica or the like.

一方、特許文献3記載の離型紙は、紙基材層の上に電離放射線硬化樹脂層と剥離層として熱硬化シリコーンとを積層したものであり、シリカなどの粒子を配合した目止め層を使用せずに耐溶剤性を確保できるというものである。このため、マット調の剥離紙とするにはマット感のある紙基材層を使用する必要があるが、この離型紙は合成皮革に接触する側から順に、熱硬化シリコーン層からなる剥離層、電離放射線硬化樹脂層、および紙基材層とからなるため、たとえマット感のある紙基材層を使用しても「漆黒性」の確保には十分でない。   On the other hand, the release paper described in Patent Document 3 is obtained by laminating an ionizing radiation curable resin layer and a thermosetting silicone as a release layer on a paper base material layer, and uses a sealing layer containing particles such as silica. The solvent resistance can be ensured without the need. For this reason, it is necessary to use a matte-like paper base layer to make a mat-like release paper, but this release paper is, in order from the side in contact with the synthetic leather, a release layer consisting of a thermosetting silicone layer, Since it consists of an ionizing radiation curable resin layer and a paper base material layer, even if a paper base material layer having a matte feeling is used, it is not sufficient to ensure “jet blackness”.

また、特許文献1は、剥離層に特定の平均粒子径の艶消し剤を配合して漆黒性を確保するものであるが、特許文献3記載の剥離層にガラスなどの無機粒子を配合する場合には分散剤の配合が必要であり、かつ均一な分散には熟練を要するため安価かつ簡便な製造が困難な状況となっている。   Moreover, although patent document 1 mix | blends the matting agent of a specific average particle diameter in a peeling layer and ensures jet blackness, when mixing inorganic particles, such as glass, in the peeling layer of patent document 3 In addition, it is necessary to blend a dispersant, and skill is required for uniform dispersion, so that it is difficult to manufacture at a low cost and in a simple manner.

このような状況の下、本発明は、マット調であり、エンボス加工が可能であって、漆黒性を有し、かつその製造が容易な合成皮革製造用離型紙を提供するものである。
Under such circumstances, the present invention provides a release paper for producing synthetic leather that has a matte tone, can be embossed, has jetness, and is easy to produce.

本発明者らは、合成皮革製造用離型紙について詳細に検討した結果、特定の粒子径のフェノール系粒子は、分散剤を使用せずに電離放射線硬化樹脂層に配合することができるため、合成皮革製造用離型紙を安価に製造でき、かつ製造工程を簡略化できること、また、電離放射線硬化樹脂層の調製には、紫外線などの電離放射線の照射が必要であるが、前記フェノール系粒子は紫外線を透過するために電離放射線硬化樹脂層を調製しうること、フェノール系粒子の配合量が電離放射線硬化性組成物100質量部に対して10〜80質量%含有させるとマット調の剥離紙となり、合成皮革の表面に漆黒性を表出しうることを見出し、本発明を完成させた。   As a result of examining the release paper for synthetic leather production in detail, the present inventors have synthesized phenolic particles having a specific particle size into an ionizing radiation curable resin layer without using a dispersant. Release paper for leather production can be manufactured at low cost and the manufacturing process can be simplified, and the ionizing radiation curable resin layer needs to be irradiated with ionizing radiation such as ultraviolet rays. That the ionizing radiation curable resin layer can be prepared to penetrate the resin, and the blending amount of the phenolic particles is 10 to 80% by mass with respect to 100 parts by mass of the ionizing radiation curable composition. The present invention was completed by finding that jet blackness can be expressed on the surface of the synthetic leather.

すなわち本発明は、紙基材層と、前記紙基材層の上に設けられた電離放射線硬化樹脂層と、前記電離放射線硬化樹脂層の上に形成された剥離層とからなる合成皮革製造用離型紙であって、前記電離放射線硬化樹脂層は、乾燥電離放射線硬化樹脂層中に、平均粒子径1〜30μmのフェノール系粒子を10〜80質量%の範囲で含有することを特徴とする、合成皮革製造用離型紙を提供するものである。   That is, the present invention is for producing synthetic leather comprising a paper base layer, an ionizing radiation curable resin layer provided on the paper base layer, and a release layer formed on the ionizing radiation curable resin layer. It is a release paper, wherein the ionizing radiation curable resin layer contains phenolic particles having an average particle diameter of 1 to 30 μm in a range of 10 to 80% by mass in the dry ionizing radiation curable resin layer. A release paper for producing synthetic leather is provided.

また本発明は、前記電離放射線硬化樹脂層は、前記フェノール系粒子を配合した電離放射線硬化性組成物を電離放射線により硬化させたものである、請求項1または2記載の合成皮革製造用離型紙を提供するものである。   Further, in the present invention, the ionizing radiation curable resin layer is obtained by curing an ionizing radiation curable composition containing the phenolic particles by ionizing radiation. The release paper for producing synthetic leather according to claim 1 or 2. Is to provide.

また本発明は、上記合成皮革製造用離型紙であって、前記剥離層側にエンボスが形成されることを特徴とする、エンボス付き離型紙を提供するものである。
更に本発明は、上記合成皮革製造用離型紙、またはエンボス付き離型紙を使用して製造された合成皮革を提供するものである。
The present invention also provides a release paper with embossing, which is the above-mentioned release paper for producing synthetic leather, wherein an emboss is formed on the release layer side.
Furthermore, this invention provides the synthetic leather manufactured using the said release paper for synthetic leather manufacture, or the release paper with an emboss.

本発明の合成皮革製造用離型紙は、フェノール系粒子を含有する電離放射線硬化樹脂層を使用することで漆黒性を表出することができる。しかも、フェノール系粒子は、分散剤を使用することなく均一に分散できるため、電離放射線硬化樹脂層、ひいては合成皮革製造用離型紙の製造工程を簡略化することができる。   The release paper for manufacturing synthetic leather of the present invention can exhibit jetness by using an ionizing radiation curable resin layer containing phenolic particles. In addition, since the phenolic particles can be uniformly dispersed without using a dispersant, it is possible to simplify the production process of the ionizing radiation-cured resin layer and thus the release paper for producing synthetic leather.

図1は、紙基材層と、電離放射線硬化樹脂層と、熱硬化シリコーン層とが積層された、本発明の合成皮革製造用離型紙を説明する図である。FIG. 1 is a diagram illustrating a release paper for producing synthetic leather according to the present invention, in which a paper base material layer, an ionizing radiation curable resin layer, and a thermosetting silicone layer are laminated. 図2は、実施例1で製造した合成皮革製造用離型紙の剥離層の拡大図(720倍)である。2 is an enlarged view (720 times) of a release layer of a release paper for producing synthetic leather produced in Example 1. FIG. 図3は、実施例4で製造した合成皮革製造用離型紙の剥離層の拡大図(290倍)である。FIG. 3 is an enlarged view (290 times) of the release layer of the release paper for producing synthetic leather produced in Example 4. 図4は、実施例4で製造した合成皮革製造用離型紙の剥離層の拡大図(720倍)である。FIG. 4 is an enlarged view (720 times) of a release layer of a release paper for producing synthetic leather produced in Example 4. 図5は、実施例4で製造した合成皮革製造用離型紙を使用して製造した合成皮革の表面の拡大図(290倍)である。FIG. 5 is an enlarged view (290 times) of the surface of the synthetic leather produced using the release paper for producing synthetic leather produced in Example 4. 図6は、実施例4で製造した合成皮革製造用離型紙を使用して製造した合成皮革の表面の拡大図(720倍)である。6 is an enlarged view (720 times) of the surface of the synthetic leather produced using the release paper for producing synthetic leather produced in Example 4. FIG. 図7は、比較例2で製造した合成皮革製造用離型紙の剥離層の拡大図(720倍)である。FIG. 7 is an enlarged view (720 times) of the release layer of the release paper for synthetic leather production produced in Comparative Example 2. 図8は、比較例4で製造した合成皮革製造用離型紙の剥離層の拡大図(290倍)である。FIG. 8 is an enlarged view (290 times) of the release layer of the release paper for synthetic leather production produced in Comparative Example 4. 図9は、比較例4で製造した合成皮革製造用離型紙の剥離層の拡大図(720倍)である。FIG. 9 is an enlarged view (720 times) of the release layer of the release paper for synthetic leather production produced in Comparative Example 4.

本発明の第一は、紙基材層と、前記紙基材層の上に設けられた電離放射線硬化樹脂層と、前記電離放射線硬化樹脂層の上に形成された剥離層とからなる合成皮革製造用離型紙であって、前記電離放射線硬化樹脂層は、乾燥電離放射線硬化樹脂層中に、平均粒子径1〜30μmのフェノール系粒子を10〜80質量%の範囲で含有することを特徴とする、合成皮革製造用離型紙である。   The first of the present invention is a synthetic leather comprising a paper base material layer, an ionizing radiation curable resin layer provided on the paper base material layer, and a release layer formed on the ionizing radiation curable resin layer. A release paper for production, wherein the ionizing radiation curable resin layer contains phenolic particles having an average particle diameter of 1 to 30 μm in a range of 10 to 80% by mass in the dry ionizing radiation curable resin layer. This is a release paper for manufacturing synthetic leather.

また、本発明の第二は、上記合成皮革製造用離型紙であって、前記剥離層側にエンボスが形成されることを特徴とする、エンボス付き離型紙である。
また、本発明の第三は、上記合成皮革製造用離型紙、またはエンボス付き離型紙を使用して製造された合成皮革である。本発明の好適な態様の一例を示す図1を参照しつつ、本発明を詳細に説明する。
The second of the present invention is the above-mentioned release paper for producing synthetic leather, characterized in that an emboss is formed on the release layer side.
Moreover, the 3rd of this invention is the synthetic leather manufactured using the said release paper for synthetic leather manufacture, or the release paper with an emboss. The present invention will be described in detail with reference to FIG. 1 showing an example of a preferred embodiment of the present invention.

(1)合成皮革製造用離型紙およびエンボス付き剥離紙
本発明の合成皮革製造用離型紙は、図1に示すように、製造される合成皮革側から順に、熱硬化シリコーン層(10)と、電離放射線硬化樹脂層(20)と紙基材層(30)とが積層されたものであり、本発明のエンボス付き剥離紙は、熱硬化シリコーン層(10)側からエンボスが形成されたものである。なお、紙基材層(30)と電離放射線硬化樹脂層(20)との間に熱可塑性樹脂からなる中間層を積層するものであってもよい。このような中間層によって紙基材層(10)と電離放射線硬化樹脂層(20)との接着性が向上する場合がある。
(1) Release paper for manufacturing synthetic leather and release paper with embossing The release paper for manufacturing synthetic leather of the present invention, as shown in FIG. 1, in order from the manufactured synthetic leather side, a thermosetting silicone layer (10), An ionizing radiation curable resin layer (20) and a paper substrate layer (30) are laminated, and the embossed release paper of the present invention is one in which embossing is formed from the thermosetting silicone layer (10) side. is there. An intermediate layer made of a thermoplastic resin may be laminated between the paper base material layer (30) and the ionizing radiation curable resin layer (20). Such an intermediate layer may improve the adhesion between the paper substrate layer (10) and the ionizing radiation curable resin layer (20).

前記電離放射線硬化樹脂層(20)は、乾燥電離放射線硬化樹脂層中に、乾燥電離放射線硬化樹脂層中に、平均粒子径1〜30μmのフェノール系粒子を10〜80質量%の範囲で配合されたものであり、前記電離放射線硬化樹脂層のフェノール系粒子の凹凸が剥離層(10)の表面に表出し、マット調となる。   The ionizing radiation curable resin layer (20) is blended in the dry ionizing radiation curable resin layer with phenolic particles having an average particle diameter of 1 to 30 μm in the range of 10 to 80% by mass in the dry ionizing radiation curable resin layer. The unevenness of the phenolic particles of the ionizing radiation curable resin layer is exposed on the surface of the release layer (10), resulting in a matte tone.

(2)紙基材層
本発明の合成皮革製造用離型紙やエンボス付き剥離紙で使用する紙基材層は、電離放射線硬化樹脂層(20)および熱硬化シリコーン層(10)を積層する工程に耐える強度を有し、合成皮革の塗工・形成時の表面にマット調や凹凸模様を賦型する際の耐熱性、耐薬品性などの性質を有するものである。クラフト紙、上質紙、片艶クラフト紙、純白ロール紙、グラシン紙、カップ原紙などの非塗工紙の他、天然パルプを用いない合成紙なども用いることができる。合成皮革の加工適性のためには、耐久性、耐熱性に優れる点で天然パルプからなる紙を使用することが好ましい。
(2) Paper base material layer The paper base material layer used in the release paper for synthetic leather production and the release paper with embossing of the present invention is a step of laminating an ionizing radiation curable resin layer (20) and a thermosetting silicone layer (10). It has the strength to withstand, and has properties such as heat resistance and chemical resistance when a matte tone or uneven pattern is formed on the surface of the synthetic leather applied and formed. In addition to non-coated paper such as kraft paper, high-quality paper, single gloss kraft paper, pure white roll paper, glassine paper, and cup base paper, synthetic paper that does not use natural pulp can also be used. For the processability of synthetic leather, it is preferable to use paper made of natural pulp in terms of durability and heat resistance.

本発明において、基材層として使用する紙としては、秤量15〜300g/m2、好ましくは100〜180g/m2である。
なお、本発明で使用する紙基材層としては、例えば一般的な、クレーコート紙、微塗工印刷用紙、塗工印刷用紙、樹脂コート紙、加工原紙、剥離原紙、両面コート剥離原紙など、予め目止め層などが形成された市販品を使用してもよい。
In the present invention, the paper used as the base material layer has a basis weight of 15 to 300 g / m 2 , preferably 100 to 180 g / m 2 .
In addition, as a paper base material layer used in the present invention, for example, general, clay-coated paper, fine-coated printing paper, coated printing paper, resin-coated paper, processed base paper, release base paper, double-sided coat release base paper, etc. You may use the commercial item in which the sealing layer etc. were formed previously.

(3)フェノール系粒子
本発明では、電離放射線硬化樹脂層にフェノール系粒子が配合される点に特徴がある。配合されるフェノール系粒子は、平均粒子径1〜30μm、好ましくは1〜20μm、より好ましくは2〜15μm、特に好ましくは5〜12μmである。
(3) Phenolic particles The present invention is characterized in that phenolic particles are blended in the ionizing radiation curable resin layer. The phenolic particles to be blended have an average particle size of 1 to 30 μm, preferably 1 to 20 μm, more preferably 2 to 15 μm, and particularly preferably 5 to 12 μm.

電離放射線硬化樹脂層は、電離放射線硬化性組成物に上記フェノール系粒子を分散させた後に紫外線などの電離放射線を照射して硬化させるため、電離放射線硬化性組成物に含まれるフェノール系粒子が電離放射線を透過する必要がある。本発明で使用するフェノール系粒子は、電離放射線を透過性に優れ、電離放射線硬化性組成物を硬化させて電離放射線硬化樹脂層を形成することができる。なお、このような電離放射線に対する透過性の条件を満たす粒子としてはガラスなどの無機粒子も存在する。しかしながら、ガラス粒子は電離放射線硬化性組成物への分散が困難であり、分散剤を配合する必要がある。しかも均一分散には熟練を要し、粒子を電離放射線硬化性組成物へ混練する特別の工程が必要であった。しかしながら本発明で使用するフェノール系粒子は、分散剤を使用することなく電離放射線硬化性組成物中に粒子を分散させることができるため、製造工程を簡略化することができ、かつマット調の表出にきわめて優れる事が判明した。   In the ionizing radiation curable resin layer, the phenolic particles contained in the ionizing radiation curable composition are ionized because the phenolic particles are dispersed in the ionizing radiation curable composition and then cured by irradiation with ionizing radiation such as ultraviolet rays. It is necessary to transmit radiation. The phenolic particles used in the present invention are excellent in ionizing radiation permeability, and can cure the ionizing radiation curable composition to form an ionizing radiation curable resin layer. In addition, inorganic particles such as glass are also present as particles that satisfy the conditions for the permeability to ionizing radiation. However, it is difficult to disperse the glass particles in the ionizing radiation curable composition, and it is necessary to add a dispersant. In addition, skill is required for uniform dispersion, and a special process for kneading the particles into the ionizing radiation curable composition is required. However, the phenolic particles used in the present invention can disperse the particles in the ionizing radiation curable composition without using a dispersant, so that the production process can be simplified and the matte tone table can be used. It turns out that it is extremely excellent in out.

本発明で使用するフェノール系粒子の平均粒子径は、前記したように1〜30μmであることが好ましい。この範囲で電離放射線硬化性組成物に対する分散性に優れ、かつ漆黒のマット調の離型紙を形成することができるからである。なお、本願明細書において、「平均粒子径」とは、フェノール粒子を走査型電子顕微鏡で任意の倍率で観察・写真撮影し、その写真から、無作為に500個の粒子を選び、デジタルノギスを用いて各粒子の長径を測長し、その数平均値を平均粒子径とする。また、使用するフェノール系粒子の形状は、フェノール系粒子の真球度(短径/長径)が1である真円である場合に限定されないが、好ましくは0.5以上であり、より好ましくは0.7以上、特に好ましくは0.9以上である。なお、上記真球度は、フェノール系粒子の平均真球度である。   The average particle diameter of the phenolic particles used in the present invention is preferably 1 to 30 μm as described above. This is because in this range, dispersibility with respect to the ionizing radiation curable composition is excellent, and a jet black matte release paper can be formed. In the present specification, “average particle size” means that phenol particles are observed / photographed with a scanning electron microscope at an arbitrary magnification, and 500 particles are randomly selected from the photograph, and digital calipers are selected. The major axis of each particle is measured and the number average value is taken as the average particle diameter. The shape of the phenolic particles used is not limited to a perfect circle having a sphericity (minor axis / major axis) of 1, but is preferably 0.5 or more, more preferably It is 0.7 or more, particularly preferably 0.9 or more. The sphericity is the average sphericity of phenolic particles.

更に、フェノール系粒子の粒度分布も、単分散に限定されるものでもない。粒度分布の変動係数は、0.65以下であることが好ましく、より好ましくは0.6以下である。この範囲で、電離放射線硬化性組成物における分散性に優れるからである。なお、粒度分布の変動係数は、粒子径の標準偏差σを平均値で割り、百分率で表した数値である。   Furthermore, the particle size distribution of the phenolic particles is not limited to monodispersion. The variation coefficient of the particle size distribution is preferably 0.65 or less, and more preferably 0.6 or less. It is because it is excellent in the dispersibility in an ionizing radiation-curable composition in this range. The variation coefficient of the particle size distribution is a numerical value obtained by dividing the standard deviation σ of the particle diameter by the average value and expressed as a percentage.

本発明で使用するフェノール系粒子は、電離放射線硬化樹脂層に配合されて合成皮革にマット調を形成するにたる耐熱性を有する必要がある。本発明で使用するフェノール系粒子の融点は130以上、より好ましくは150〜300℃である。このような耐熱性を担保するため、フェノール系粒子の重量平均分子量は、5,000〜20,000である事が好ましく、より好ましくは7,000〜15,000である。なお、内部架橋を形成するものであってもよい。   The phenolic particles used in the present invention are required to have heat resistance to form a matte tone in the synthetic leather by being blended in the ionizing radiation curable resin layer. The melting point of the phenolic particles used in the present invention is 130 or more, more preferably 150 to 300 ° C. In order to ensure such heat resistance, the weight average molecular weight of the phenol-based particles is preferably 5,000 to 20,000, more preferably 7,000 to 15,000. In addition, you may form internal bridge | crosslinking.

このようなフェノール系粒子としては、例えば以下の方法で調製されたものを好適に使用することができる。
本発明で使用するフェノール系粒子としては、フェノール類とアルデヒド類とを付加縮合反応させて得ることができる。
As such phenol-based particles, for example, those prepared by the following method can be suitably used.
The phenolic particles used in the present invention can be obtained by addition condensation reaction of phenols and aldehydes.

フェノール類としては、芳香族環に1または2以上のフェノール性水酸基を有するものであればよく、さらには水酸基以外の置換基を有していてもよい。例えば、フェノール、o−クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾール等のクレゾール、混合クレゾール、2,3−キシレノール、2,4−キシレノール、2,5−キシレノール、2,6−キシレノール、3,4−キシレノール、3,5−キシレノール等のキシレノール、o−エチルフェノール、m−エチルフェノール、p−エチルフェノール等のエチルフェノール、イソプロピルフェノール、ブチルフェノール、p−tert−ブチルフェノール等のブチルフェノール、p−tert−アミルフェノール、p−オクチルフェノール、p−ノニルフェノール、p−クミルフェノール等のアルキルフェノール、フルオロフェノール、クロロフェノール、ブロモフェノール、ヨードフェノール等のハロゲン化フェノール、p−フェニルフェノール、アミノフェノール、ニトロフェノール、ジニトロフェノール、トリニトロフェノール等の1価フェノール置換体、ヒドロキシ基と共にメチロール基が付加されたヒドロキシメチルフェノール、ヒドロキシメチルハイドロキノン、ヒドロキシメチルレゾルシン、ヒドロキシメチルキシレノール、ヒドロキシメチルピロガロール、および1−ナフトール、2−ナフトール等の1価のフェノール類、レゾルシン、アルキルレゾルシン、ピロガロール、カテコール、アルキルカテコール、ハイドロキノン、アルキルハイドロキノン、フロログルシン、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、ジヒドロキシナフタリン等の多価フェノール類が挙げられる。好ましくは、フェノール、クレゾール、ビスフェノールA、レゾルシンである。これらを単独または2種類以上組み合わせて使用することができる。フェノール類は1種であってもよく、2種以上組み合わせて用いてもよい。   The phenols only need to have one or more phenolic hydroxyl groups in the aromatic ring, and may further have a substituent other than the hydroxyl group. For example, cresols such as phenol, o-cresol, m-cresol, p-cresol, mixed cresol, 2,3-xylenol, 2,4-xylenol, 2,5-xylenol, 2,6-xylenol, 3,4- Xylenol, xylenol such as 3,5-xylenol, ethylphenol such as o-ethylphenol, m-ethylphenol and p-ethylphenol, butylphenol such as isopropylphenol, butylphenol and p-tert-butylphenol, p-tert-amylphenol Alkylphenols such as p-octylphenol, p-nonylphenol and p-cumylphenol, halogenated phenols such as fluorophenol, chlorophenol, bromophenol and iodophenol, p-phenylphenol , Monohydric phenol substitutes such as aminophenol, nitrophenol, dinitrophenol, trinitrophenol, hydroxymethylphenol with hydroxy group and methylol group added, hydroxymethylhydroquinone, hydroxymethylresorcin, hydroxymethylxylenol, hydroxymethylpyrogallol, And monovalent phenols such as 1-naphthol and 2-naphthol, polyvalent compounds such as resorcin, alkylresorcin, pyrogallol, catechol, alkylcatechol, hydroquinone, alkylhydroquinone, phloroglucin, bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, dihydroxynaphthalene, etc. Phenols are mentioned. Preferable are phenol, cresol, bisphenol A, and resorcin. These can be used alone or in combination of two or more. One type of phenol may be used, or two or more types may be used in combination.

また、アルデヒド類としては、特に制限されるものではないが、たとえばホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド、グリオキサール、ベンズアルデヒド、アセトアルデヒド、テレフタルアルデヒド、ヒドロキシベンズアルデヒド、フルフラール、トリオキサン、プロピオンアルデヒド、ポリオキシメチレン、クロラール、ヘキサメチレンテトラミン、n−ブチルアルデヒド、カプロアルデヒド、アリルアルデヒド、クロトンアルデヒド、アクロレイン、テトラオキシメチレン、フェニルアセトアルデヒド、o−トルアルデヒド、サリチルアルデヒド、パラキシレンジメチルエーテル等が挙げられる。好ましくは、ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド、トリオキサン、ポリオキシメチレン、アセトアルデヒド、パラキシレンジメチルエーテルなどを挙げることができる。アルデヒド類は1種であってもよく、2種以上組み合わせて用いてもよい。   The aldehydes are not particularly limited, but for example, formaldehyde, paraformaldehyde, glyoxal, benzaldehyde, acetaldehyde, terephthalaldehyde, hydroxybenzaldehyde, furfural, trioxane, propionaldehyde, polyoxymethylene, chloral, hexamethylenetetramine N-butyraldehyde, caproaldehyde, allyl aldehyde, crotonaldehyde, acrolein, tetraoxymethylene, phenylacetaldehyde, o-tolualdehyde, salicylaldehyde, paraxylene dimethyl ether and the like. Preferable examples include formaldehyde, paraformaldehyde, trioxane, polyoxymethylene, acetaldehyde, paraxylene dimethyl ether and the like. The aldehydes may be used alone or in combination of two or more.

フェノール類とアルデヒド類との仕込み量は、理論的には1:1であるが、使用する触媒や反応効率を考慮して、配合量を適宜変更することができる。なお、アルデヒド類量を多くするとフェノール類に更にアルデヒド類が付加された化合物が生成するため、この付加された官能基により内部架橋などを形成することができる。   The charged amount of phenols and aldehydes is theoretically 1: 1, but the blending amount can be appropriately changed in consideration of the catalyst used and the reaction efficiency. When the amount of aldehydes is increased, a compound in which aldehydes are further added to phenols is produced, and therefore internal crosslinking and the like can be formed by the added functional groups.

本発明では、塩酸、リン酸、硫酸等の酸性触媒を使用し、またはアルカリ金属やアルカリ土類金属の水酸化物、アンモニアなどの塩基性触媒を使用し、付加縮合反応を行い、フェノール系粒子を製造することができる。必要に応じて、乳化剤を配合して乳化重合を行ってもよい。反応温度は、使用する触媒は原料の仕込み量に応じて適宜選択することができ、10〜200℃である。更に、反応液に、他の成分を配合してもよい。例えば、カルボキシメチルセルロースのアルカリ金属塩またはアンモニウム塩などを配合すると、平均粒子径が20μm以下のフェノール系粒子を得ることができる。   In the present invention, an acidic catalyst such as hydrochloric acid, phosphoric acid, sulfuric acid, or the like, or a basic catalyst such as an alkali metal or alkaline earth metal hydroxide or ammonia is used, and an addition condensation reaction is performed. Can be manufactured. If necessary, an emulsifier may be added to carry out emulsion polymerization. The reaction temperature can be appropriately selected according to the amount of raw material charged, and the catalyst used is 10 to 200 ° C. Furthermore, you may mix | blend another component with a reaction liquid. For example, when an alkali metal salt or ammonium salt of carboxymethyl cellulose is blended, phenolic particles having an average particle size of 20 μm or less can be obtained.

本発明では、アルデヒド類に対するフェノール類の仕込みモル比を、0.9以下となるように選択し、水性媒体中で2.0mol/L以上の濃度の塩酸、リン酸、硫酸等の酸性触媒、および水溶性の多糖類誘導体などの保護コロイド剤の存在下に行なうことが好ましい。反応液には、カルボキシメチルセルロースのアルカリ金属塩またはアンモニウム塩;アラビアゴム、アカシア、グアーガム、ローカストビーンガム等の水溶性多糖類誘導体を主成分とする天然糊料などのコロイド剤を、固形分重量でフェノール類の使用量の0.01〜5重量%の範囲で添加すると、フェノール系粒子の平均粒径を20μm以下とすることができる。なお、水性媒体としては、水または水と水溶性有機溶媒との混合溶媒を挙げることができ、水溶媒を好ましく使用することができる。なお、この場合の反応温度は、10〜60℃である。反応が進行するにつれ、反応液は次第に白濁化(懸濁化)し、粒状フェノール樹脂が形成され、フェノール系粒子が析出するため、得られたフェノール系粒子を濾過や圧搾などにより単離し、水などで洗浄すれば、残存モノマーの少ない、平均粒子径が20μm以下のフェノール系粒子を得ることができる。   In the present invention, the feed molar ratio of phenols to aldehydes is selected to be 0.9 or less, and an acidic catalyst such as hydrochloric acid, phosphoric acid, sulfuric acid or the like having a concentration of 2.0 mol / L or more in an aqueous medium, And in the presence of a protective colloid agent such as a water-soluble polysaccharide derivative. The reaction solution contains an alkali metal salt or ammonium salt of carboxymethyl cellulose; a colloid agent such as natural glue mainly composed of water-soluble polysaccharide derivatives such as gum arabic, acacia, guar gum, locust bean gum, etc. When added in the range of 0.01 to 5% by weight of the amount of phenol used, the average particle size of the phenolic particles can be 20 μm or less. Examples of the aqueous medium include water or a mixed solvent of water and a water-soluble organic solvent, and an aqueous solvent can be preferably used. In this case, the reaction temperature is 10 to 60 ° C. As the reaction progresses, the reaction solution gradually becomes clouded (suspended), granular phenol resin is formed, and phenolic particles are precipitated. Therefore, the obtained phenolic particles are isolated by filtration, pressing, etc. If it is washed, etc., phenol-based particles having a small residual monomer and an average particle diameter of 20 μm or less can be obtained.

また、フェノール類とアルデヒド類との反応として、アミノ水素を少なくとも2個以上含有するアルキルアミン化合物触媒、および乳化剤を使用する場合は、アルデヒド類の使用量をフェノール類1モルに対して、0.6〜3.0モル、好ましくは1.1〜1.8モルの範囲とする。前記アミノ水素を少なくとも2個以上含有するアルキルアミン化合物触媒としては、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラアミン、テトラエチレンペンタミン、ペンタエチレンヘキサミン、N−(2−アミノエチル)エタノールアミン、N−(2−アミノエチル)プロパノールアミンの1種又は2種以上の混合物を使用することができる。また、乳化剤としてヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース−2−ハイドロキシプロピルトリメチルアンモニウムクロライドエーテルを使用し温度100〜200℃で反応させると、粒子径が2〜20μmのフェノール系粒子を得ることができる。   Further, when an alkylamine compound catalyst containing at least two amino hydrogens and an emulsifier are used as a reaction between phenols and aldehydes, the amount of aldehydes used is 0.1% relative to 1 mol of phenols. The range is 6 to 3.0 mol, preferably 1.1 to 1.8 mol. Examples of the alkylamine compound catalyst containing at least two amino hydrogens include ethylenediamine, diethylenetriamine, triethylenetetraamine, tetraethylenepentamine, pentaethylenehexamine, N- (2-aminoethyl) ethanolamine, N- (2 -Aminoethyl) propanolamine can be used, or a mixture of two or more. When hydroxyethyl cellulose or hydroxyethyl cellulose-2-hydroxypropyltrimethylammonium chloride ether is used as an emulsifier and reacted at a temperature of 100 to 200 ° C., phenolic particles having a particle size of 2 to 20 μm can be obtained.

さらに、本発明で使用するフェノール系粒子としては、上記した条件を満たすものであれば、フェノール系化合物とアルデヒド類との反応生成物からなる、熱溶融性および熱硬化性を有する粒状のフェノール樹脂のほか、このようなフェノール樹脂を80質量%以上含有することを条件に、フェノール樹脂を他の化合物や樹脂などで変性してなる変性フェノール樹脂粒子であってもよい。このような変性フェノール樹脂粒子として、特開2004−149696号のロジン変性フェノール樹脂などがある。   Furthermore, as the phenolic particles used in the present invention, a granular phenol resin having a heat melting property and a thermosetting property, which is a reaction product of a phenolic compound and an aldehyde as long as the above conditions are satisfied. In addition, modified phenol resin particles obtained by modifying a phenol resin with another compound or resin on the condition that such a phenol resin is contained in an amount of 80% by mass or more may be used. Examples of such modified phenolic resin particles include rosin-modified phenolic resin described in JP-A No. 2004-149696.

本発明では、フェノール系粒子として市販品を使用してもよい。このようなフェノール系粒子として、エア・ウォーター・ベルパール株式会社の「ベルパール マクロ−スフェア シリーズ」のR100、R200、R800や、住友ベークライト株式会社製のロジン変性フェノール樹脂などを使用することができる。   In the present invention, commercially available products may be used as the phenolic particles. As such phenol-based particles, R100, R200, R800 of “Bellpearl Macro-Sphere Series” manufactured by Air Water Bellpearl Co., Ltd., rosin-modified phenol resin manufactured by Sumitomo Bakelite Co., Ltd., and the like can be used.

(4)電離放射線硬化樹脂層
本発明で使用する電離放射線硬化樹脂層は、電離放射線硬化樹脂層(乾燥)に前記フェノール系粒子を10〜80質量%、好ましくは15〜70質量%、より好ましくは20〜65質量%、特に好ましくは30〜60質量%の範囲で配合したものである。電離放射線硬化性組成物に上記範囲でフェノール系粒子を配合し、熱硬化および電離放射線で硬化させると電離放射線硬化樹脂層となる。フェノール系粒子の配合量が10質量%を下回るとマット調が弱く、一方、80質量%を超えると、電離放射線硬化性組成物への分散が容易でなく、かつ電離放射線硬化樹脂層の機械的強度が低下する場合がある。
(4) Ionizing radiation curable resin layer The ionizing radiation curable resin layer used in the present invention is 10 to 80% by mass, preferably 15 to 70% by mass, more preferably 15 to 70% by mass, with the ionizing radiation curable resin layer (dry). Is blended in the range of 20 to 65% by mass, particularly preferably 30 to 60% by mass. When the ionizing radiation curable composition is blended with phenol-based particles in the above range and cured by thermosetting and ionizing radiation, an ionizing radiation curable resin layer is obtained. When the blending amount of the phenolic particles is less than 10% by mass, the matte tone is weak. On the other hand, when it exceeds 80% by mass, it is not easy to disperse in the ionizing radiation curable composition, and the mechanical strength of the ionizing radiation curable resin layer. The strength may decrease.

合成皮革製造用離型紙による合成皮革の製造は温度40〜150℃で行われ、エンボス付き離型紙として使用される場合には、上記度範囲でエンボス形状が維持される耐熱性や、電離放射線硬化樹脂層形成時に原反の巻き取りが容易であるようにタックフリー性や、フェノール系粒子を均一に分散しうる分散性も要求される。本発明では、電離放射線硬化樹脂層を構成する電離放射線硬化性組成物として、(メタ)アクリロイル基含有アクリル系共重合体(I)からなる電離放射線硬化性組成物、または(メタ)アクリル酸エステル35〜80質量部、グリシジル(メタ)アクリル酸エステル20〜60質量部、他の(メタ)アクリル酸エステル0〜30質量部からなる共重合体に、(メタ)アクリル酸を10〜30質量部反応させてなる(メタ)アクリロイル基含有アクリル系共重合体(II)からなる電離放射線硬化性組成物を電離放射線により硬化させたものであり、当該(メタ)アクリロイル基含有アクリル系共重合体(I)は、重量平均分子量(Mw)が5,000〜200,000、より好ましくは15,000〜100,000、特に好ましくは15,000〜70,000である。また、(メタ)アクリロイル基含有アクリル系共重合体(I)の分散比(Mw/Mn)は1.0〜5.0、より好ましくは1.5〜4.0、特に好ましくは1.9〜3.5であり、ガラス転移点温度(Tg)は40〜150℃、より好ましくは65〜120℃、特に好ましくは65〜90℃である。なお、本発明において、重量平均分子量および数平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)法によりポリスチレン換算で求めた値である。   Production of synthetic leather with release paper for synthetic leather production is performed at a temperature of 40 to 150 ° C. When used as release paper with emboss, heat resistance that maintains the embossed shape within the above-mentioned range, and ionizing radiation curing Tack-free properties and dispersibility capable of uniformly dispersing phenolic particles are also required so that the raw material can be easily taken up when the resin layer is formed. In the present invention, as the ionizing radiation curable composition constituting the ionizing radiation curable resin layer, an ionizing radiation curable composition comprising (meth) acryloyl group-containing acrylic copolymer (I), or (meth) acrylic acid ester 35 to 80 parts by mass, 20 to 60 parts by mass of glycidyl (meth) acrylate, and 0 to 30 parts by mass of (meth) acrylic ester to 10 to 30 parts by mass of (meth) acrylic acid An ionizing radiation curable composition comprising a (meth) acryloyl group-containing acrylic copolymer (II) obtained by reaction is cured by ionizing radiation, and the (meth) acryloyl group-containing acrylic copolymer ( I) has a weight average molecular weight (Mw) of 5,000 to 200,000, more preferably 15,000 to 100,000, and particularly preferably 15. It is 000~70,000. The dispersion ratio (Mw / Mn) of the (meth) acryloyl group-containing acrylic copolymer (I) is 1.0 to 5.0, more preferably 1.5 to 4.0, and particularly preferably 1.9. The glass transition temperature (Tg) is 40 to 150 ° C, more preferably 65 to 120 ° C, and particularly preferably 65 to 90 ° C. In addition, in this invention, a weight average molecular weight and a number average molecular weight are the values calculated | required in polystyrene conversion by the gel permeation chromatography (GPC) method.

このような(メタ)アクリロイル基含有アクリル系共重合体(I)としては、例えば(メタ)アクリレート系単量体単位(A)とエポキシ基含有(メタ)アクリレート系単量体単位(B)とを含むエポキシ基含有共重合体(C)に、(メタ)アクリル酸を反応させて得ることができる。   As such a (meth) acryloyl group-containing acrylic copolymer (I), for example, a (meth) acrylate monomer unit (A) and an epoxy group-containing (meth) acrylate monomer unit (B) The epoxy group-containing copolymer (C) containing can be obtained by reacting (meth) acrylic acid.

本発明において(メタ)アクリレート系単量体単位(A)としては、メチルメタクリレート、メチルアクリレート、ブチルアクリレート、ブチルメタクリレート、イソブチルアクリレート、イソブチルメタクリレート、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート、ジシクロペンタニルアクリレート、ジシクロペンタニルメタクリレート、2−(ジシクロペンタニルオキシ)エチルアクリレート、2−(ジシクロペンタニルオキシ)エチルメタクリレート、2−(ジシクロペンタニルオキシ)エチル−2'−(アクリロイルオキシ)エチルエーテル、2−(ジシクロペンタニルオキシ)エチル−2'−(メタクリロイルオキシ)エチルエーテル、2−{2−(ジシクロペンタニルオキシ)エチルオキシ}−1−{2'−(アクリロイルオキシ)エチルオキシ}エタン、2−{2−(ジシクロペンタニルオキシ)エチルオキシ}−1−{2'−(メタクリロイルオキシ)エチルオキシ}エタン、ジシクロペンテニルアクリレート、ジシクロペンテニルメタクリレート、2−(ジシクロペンテニルオキシ)エチルアクリレート、2−(ジシクロペンテニルオキシ)エチルメタクリレート、2−(ジシクロペンテニルオキシ)エチル−2'−(アクリロイルオキシ)エチルエーテル、2−(ジシクロペンテニルオキシ)エチル−2'−(メタクリロイルオキシ)エチルエーテル、2−{2−(ジシクロペンテニルオキシ)エチルオキシ}−1−{2'−(アクリロイルオキシ)エチルオキシ}エタン、2−{2−(ジシクロペンテニルオキシ)エチルオキシ}−1−{2'−(メタクリロイルオキシ)エチルオキシ}エタン、ジメチロール−トリシクロデカンジアクリレート、ジメチロール−トリシクロデカンジメタクリレート、イソボルニルアクリレート、イソボルニルメタクリレート、シクロヘキシルアクリレート、シクロヘキシルメタクリレートなどがある。これらの中でも、メチルメタクリレート、メチルアクリレート、イソボルニルメタクリレート、イソボルニルアクリレートなどを好適に使用することができる。   In the present invention, the (meth) acrylate monomer unit (A) includes methyl methacrylate, methyl acrylate, butyl acrylate, butyl methacrylate, isobutyl acrylate, isobutyl methacrylate, hydroxyethyl acrylate, hydroxyethyl methacrylate, dicyclopentanyl acrylate, Dicyclopentanyl methacrylate, 2- (dicyclopentanyloxy) ethyl acrylate, 2- (dicyclopentanyloxy) ethyl methacrylate, 2- (dicyclopentanyloxy) ethyl-2 ′-(acryloyloxy) ethyl ether 2- (dicyclopentanyloxy) ethyl-2 ′-(methacryloyloxy) ethyl ether, 2- {2- (dicyclopentanyloxy) ethyloxy} -1- {2 ′-(a Liloyloxy) ethyloxy} ethane, 2- {2- (dicyclopentanyloxy) ethyloxy} -1- {2 ′-(methacryloyloxy) ethyloxy} ethane, dicyclopentenyl acrylate, dicyclopentenyl methacrylate, 2- (dicyclo Pentenyloxy) ethyl acrylate, 2- (dicyclopentenyloxy) ethyl methacrylate, 2- (dicyclopentenyloxy) ethyl-2 ′-(acryloyloxy) ethyl ether, 2- (dicyclopentenyloxy) ethyl-2′- (Methacryloyloxy) ethyl ether, 2- {2- (dicyclopentenyloxy) ethyloxy} -1- {2 ′-(acryloyloxy) ethyloxy} ethane, 2- {2- (dicyclopentenyloxy) ethyloxy} -1 -{2 '-(Me Acryloyloxy) ethyloxy} ethane, dimethylol-tricyclodecane diacrylate, dimethylol-tricyclodecane dimethacrylate, isobornyl acrylate, isobornyl methacrylate, cyclohexyl acrylate, cyclohexyl methacrylate and the like. Among these, methyl methacrylate, methyl acrylate, isobornyl methacrylate, isobornyl acrylate and the like can be preferably used.

また、エポキシ基含有(メタ)アクリレート系単量体単位(B)としては、グリシジルメタクリレート、メチルグリシジルメタクリレート、3,4−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート、3,4−エポキシシクロヘキシルメチルアクリレート、アジリジニル(メタ)アクリレートなどがある。   The epoxy group-containing (meth) acrylate monomer unit (B) includes glycidyl methacrylate, methyl glycidyl methacrylate, 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate, 3,4-epoxycyclohexylmethyl acrylate, and aziridinyl (meth) acrylate. and so on.

上記(メタ)アクリレート系単量体単位(A)とエポキシ基含有(メタ)アクリレート系単量体単位(B)との配合比は、単量体単位の合計質量中に上記エポキシ基含有(メタ)アクリレート系単量体単位(B)を5〜95質量%となるように配合することである。5質量%を下回ると、十分な二重結合当量を確保することができず、(メタ)アクリロイル基含有アクリル系共重合体(I)の硬化後の耐溶剤性、耐擦過性が損なわれる場合がある。一方、95質量%を超えるとTgが低くなりすぎることによる未硬化膜のタック感が生じ、賦型性が損なわれる場合がある。   The blending ratio of the (meth) acrylate monomer unit (A) to the epoxy group-containing (meth) acrylate monomer unit (B) is determined based on the epoxy group content (meta ) The acrylate monomer unit (B) is blended so as to be 5 to 95% by mass. When less than 5% by mass, a sufficient double bond equivalent cannot be ensured, and the solvent resistance and scratch resistance after curing of the (meth) acryloyl group-containing acrylic copolymer (I) are impaired. There is. On the other hand, if it exceeds 95% by mass, the tackiness of the uncured film due to the Tg being too low may occur, and the moldability may be impaired.

また、本発明で使用する電離放射線硬化性組成物は、(メタ)アクリル酸エステル35〜80質量部、グリシジル(メタ)アクリル酸エステル20〜60質量部、他の(メタ)アクリル酸エステル0〜30質量部からなる共重合体に、(メタ)アクリル酸を10〜30質量部反応させてなる(メタ)アクリロイル基含有アクリル系共重合体(II)であってもよい。(メタ)アクリル酸エステルおよび他の(メタ)アクリル酸エステルは、上記(メタ)アクリレート系単量体単位(A)に該当し、グリシジル(メタ)アクリル酸エステルはエポキシ基含有(メタ)アクリレート系単量体単位(B)に該当する。したがって、他の(メタ)アクリル酸エステルは、上記(メタ)アクリレート系単量体単位(A)の中から適宜選択することができる。   Moreover, the ionizing radiation curable composition used by this invention is (meth) acrylic acid ester 35-80 mass parts, glycidyl (meth) acrylic acid ester 20-60 mass parts, other (meth) acrylic acid ester 0-. It may be a (meth) acryloyl group-containing acrylic copolymer (II) obtained by reacting 30 parts by mass of a copolymer with 10 to 30 parts by mass of (meth) acrylic acid. (Meth) acrylates and other (meth) acrylates correspond to the above (meth) acrylate monomer units (A), and glycidyl (meth) acrylates are epoxy group-containing (meth) acrylates. It corresponds to the monomer unit (B). Therefore, other (meth) acrylic acid esters can be appropriately selected from the above (meth) acrylate monomer units (A).

反応は、上記単量体単位をラジカル開始剤の存在下で共重合して得られる。ラジカル開始剤としては特に制限されるものではないが、2,2'−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2'−アゾビスイソブチロニトリル、2,2'−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)、1,1′−アゾビス−(シクロヘキサン−1−カルボニトリル)、アゾビスメチルブチロニトリル、2,2′−アゾビス−(4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2′−アゾビスイソブチロニトリル、2,2′−アゾビスイソ酪酸ジメチル等のアゾ化合物;過酸化水素;ラウロイルパーオキサイド、2,4−ジクロロベンゾイルパーオキサイド、t−ブチルパーオキシピバレート、3,5,5−トリメチルヘキサノイルパーオキサイド、オクタノイルパーオキサイド、デカノイルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、サクシニックアシッドパーオキサイド、アセチルパーオキサイド、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエイト、m−トルオイルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、t−ブチルパーオキシマレイックアシッド、t−ブチルパーオキシラウレート、t−ブチルパーオキシ−3,5,5−トリメチルヘキサノエート、シクロヘキサノンパーオキサイド、t−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート、2,5−ジメチル−2,5−ジ(ベンゾイルパーオキシ)ヘキサン、2,2−ビス(t−ブチルパーオキシ)オクタン、t−ブチルパーオキシアセテート、2,2−ビス(t−ブチルパーオキシ)ブタン、t−ブチルパーオキシベンゾエート、n−ブチル−4,4−ビス(t−ブチルパーオキシ)バレレート、ジ−t−ブチル−ジパーオキシイソフタレート、メチルエチルケトンパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、2,5−ジメチル(t−ブチルパーオキシ)ヘキサン、t−ブチルクミルパーオキサイドなどのパーオキサイド;過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム、塩素酸ソーダ等の過酸化物、あるいはこれら過酸化物と還元剤との組合せによるレドツクス系開始剤等一般的なラジカル開始剤を重合方法に合わせて適宜採択し得る。上記重合開始剤の使用量は、その種類や重合条件で異なるが、上記単量体100質量部に対して通常、0.1〜10質量部である。   The reaction is obtained by copolymerizing the above monomer units in the presence of a radical initiator. The radical initiator is not particularly limited, but 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2′-azobisisobutyronitrile, 2,2′-azobis (2 -Methylbutyronitrile), 1,1'-azobis- (cyclohexane-1-carbonitrile), azobismethylbutyronitrile, 2,2'-azobis- (4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile) Azo compounds such as 2,2'-azobisisobutyronitrile, dimethyl 2,2'-azobisisobutyrate; hydrogen peroxide; lauroyl peroxide, 2,4-dichlorobenzoyl peroxide, t-butyl peroxypivalate 3,5,5-trimethylhexanoyl peroxide, octanoyl peroxide, decanoyl peroxide, lauroyl peroxide Xide, succinic acid peroxide, acetyl peroxide, t-butylperoxy-2-ethylhexanoate, m-toluoyl peroxide, benzoyl peroxide, t-butylperoxymaleic acid, t-butylperoxy Laurate, t-butylperoxy-3,5,5-trimethylhexanoate, cyclohexanone peroxide, t-butylperoxyisopropyl carbonate, 2,5-dimethyl-2,5-di (benzoylperoxy) hexane, 2,2-bis (t-butylperoxy) octane, t-butylperoxyacetate, 2,2-bis (t-butylperoxy) butane, t-butylperoxybenzoate, n-butyl-4,4- Bis (t-butylperoxy) valerate, di Peroxides such as t-butyl-diperoxyisophthalate, methyl ethyl ketone peroxide, dicumyl peroxide, 2,5-dimethyl (t-butylperoxy) hexane, t-butylcumyl peroxide; potassium persulfate, ammonium persulfate A general radical initiator such as a peroxide such as sodium chlorate or a redox initiator based on a combination of these peroxides and a reducing agent may be appropriately selected according to the polymerization method. Although the usage-amount of the said polymerization initiator changes with the kind and superposition | polymerization conditions, it is 0.1-10 mass parts normally with respect to 100 mass parts of said monomers.

重合温度は、重合開始剤の種類によるが、通常40〜180℃、好ましくは50〜150℃、より好ましくは60〜130℃である。また、反応圧は、大気圧でもよく、加圧条件でもよく、通常0.15〜0.5MPである。なお、重合時間は、3〜15時間である。   Although superposition | polymerization temperature is based on the kind of polymerization initiator, it is 40-180 degreeC normally, Preferably it is 50-150 degreeC, More preferably, it is 60-130 degreeC. The reaction pressure may be atmospheric pressure or pressurized conditions, and is usually 0.15 to 0.5 MP. The polymerization time is 3 to 15 hours.

上記のような単量体単位(A)、単量体単位(B)を溶液重合により重合する。溶液重合に使用しうる溶媒としては、n−ヘキサン、ヘプタン、オクタンなどの脂肪族炭化水素化合物;シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサンなどの脂環式炭化水素化合物;ベンゼン、トルエン、キシレン、クメンなどの芳香族炭化水素化合物;テトラヒドロフラン、ジ−n−ブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテルなどのエーテル化合物などの有機溶媒、メタノール、エタノールなどのアルコール類、アセトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類、エチルベンゼン、メチルエチルケトン、酢酸ブチル等の公知の溶剤が使用できる。中でも、メチルエチルケトン、メタノール、トルエン、エチルベンゼン、酢酸ブチル等を用いることが好ましい。このような溶媒は1種を用いても2種以上を併用してもよい。   The monomer unit (A) and the monomer unit (B) as described above are polymerized by solution polymerization. Solvents that can be used for solution polymerization include aliphatic hydrocarbon compounds such as n-hexane, heptane, and octane; alicyclic hydrocarbon compounds such as cyclohexane, methylcyclohexane, and ethylcyclohexane; benzene, toluene, xylene, cumene, etc. Aromatic hydrocarbon compounds: Organic solvents such as ether compounds such as tetrahydrofuran, di-n-butyl ether, ethylene glycol dimethyl ether and ethylene glycol diethyl ether, alcohols such as methanol and ethanol, ketones such as acetone and methyl isobutyl ketone, ethylbenzene Well-known solvents such as methyl ethyl ketone and butyl acetate can be used. Of these, methyl ethyl ketone, methanol, toluene, ethylbenzene, butyl acetate and the like are preferably used. Such solvents may be used alone or in combination of two or more.

反応溶媒中の単量体濃度は10〜80質量%が好ましい。単量体濃度が10重量%より小さいと十分な反応速度が得られないことがあり、80質量%より高いと反応中にゲル化物が生じる恐れがある。   The monomer concentration in the reaction solvent is preferably 10 to 80% by mass. When the monomer concentration is less than 10% by weight, a sufficient reaction rate may not be obtained, and when it is higher than 80% by mass, a gelled product may be generated during the reaction.

十分な反応速度を得るために、本反応は触媒を用いて行うのが好ましい。触媒としては、トリフェニルホスフィン、トリブチルホスフィンなどのホスフィン類、トリエチルアミン、ジメチルベンジルアミンなどのアミン類、ジメチルスルフィド、ジフェニルスルフィドなどのスルフィド類などを用いることができるが、反応速度の面からホスフィン類が好ましく、特にトリフェニルホスフィンが好ましい。   In order to obtain a sufficient reaction rate, this reaction is preferably carried out using a catalyst. As the catalyst, phosphines such as triphenylphosphine and tributylphosphine, amines such as triethylamine and dimethylbenzylamine, and sulfides such as dimethylsulfide and diphenylsulfide can be used. Triphenylphosphine is particularly preferable.

これらの触媒の量はエポキシ基含有(メタ)アクリレート系単量体単位(B)に対して、通常、0.1〜10質量%である。触媒量がエポキシ基含有(メタ)アクリレート系単量体単位(B)に対して0.1重量%より少ない場合には十分な反応速度が得られないことがあり、10質量%より多く加えると生成した樹脂の諸物性に悪影響を及ぼす恐れがある。   The amount of these catalysts is usually 0.1 to 10% by mass with respect to the epoxy group-containing (meth) acrylate monomer unit (B). When the amount of the catalyst is less than 0.1% by weight based on the epoxy group-containing (meth) acrylate monomer unit (B), a sufficient reaction rate may not be obtained. There is a risk of adversely affecting the physical properties of the produced resin.

反応中のゲル化物の生成を防止するために、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、フェノチアジン、4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−N−オキシル、4−アセトアミノ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−N−オキシル、4−ベンゾオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−N−オキシル、4−オキソ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−N−オキシル、2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−N−オキシルなどのN−オキシラジカル系化合物;ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール、2,2'−メチレンビス(4−エチル−6−t−ブチルフェノール)、2,6−ジ−t−ブチル−N,N−ジメチルアミノ−p−クレゾール、2,4−ジメチル−6−t−ブチルフェノール、4−t−ブチルカテコール、4,4'−チオ−ビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4'−ブチリデン−ビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)などのフェノール系化合物;フェノチアジン、N,N'−ジフェニル−p−フェニレンジアミン、フェニル−β−ナフチルアミン、N,N'−ジ−β−ナフチル−p−フェニレンジアミン、N−フェニル−N'−イソプロピル−p−フェニレンジアミンなどのアミン化合物;1,4−ジヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−ジヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジンなどのヒドロキシルアミン系化合物;ベンゾキノン、2,5−ジ−t−ブチルハイドロキノンなどのキノン系化合物;塩化第一鉄、ジメチルジチオカルバミン酸銅などの銅化合物などが挙げられる。これらは、それぞれ単独で又は2種以上を混合して用いることができる。これらの重合禁止剤の量は反応液全体に対して1〜10000ppmであるのが好ましい。   In order to prevent the formation of gelled product during the reaction, hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, phenothiazine, 4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine-N-oxyl, 4-acetamino-2,2,6 , 6-tetramethylpiperidine-N-oxyl, 4-benzooxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine-N-oxyl, 4-oxo-2,2,6,6-tetramethylpiperidine-N-oxyl N-oxy radical compounds such as 2,2,6,6-tetramethylpiperidine-N-oxyl; hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, 2,6-di-t-butyl-4-methylphenol, 2,2 ′ -Methylenebis (4-ethyl-6-tert-butylphenol), 2,6-di-tert-butyl-N, N-dimethyl Tylamino-p-cresol, 2,4-dimethyl-6-t-butylphenol, 4-t-butylcatechol, 4,4'-thio-bis (3-methyl-6-t-butylphenol), 4,4'- Phenolic compounds such as butylidene-bis (3-methyl-6-t-butylphenol); phenothiazine, N, N′-diphenyl-p-phenylenediamine, phenyl-β-naphthylamine, N, N′-di-β-naphthyl Amine compounds such as -p-phenylenediamine and N-phenyl-N'-isopropyl-p-phenylenediamine; 1,4-dihydroxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4-dihydroxy-2,2, Hydroxylamine compounds such as 6,6-tetramethylpiperidine; benzoquinone, 2,5-di-t-butylhydroquinone What quinone compounds; ferrous chloride, copper compounds such as dimethyl copper dithiocarbamate, and the like. These can be used alone or in admixture of two or more. The amount of these polymerization inhibitors is preferably 1 to 10,000 ppm with respect to the entire reaction solution.

次いで、得られた共重合体(C)に(メタ)アクリル酸を反応させると(メタ)アクリロイル基含有アクリル系共重合体(I)、(II)を得ることができる。(メタ)アクリル酸、より好ましくはアクリル酸で変性することで(メタ)アクリロイル基含有アクリル系共重合体に二重結合を導入することができる。本発明で使用する(メタ)アクリロイル基含有アクリル系共重合体(I)は電離放射線硬化膜をなすものであり、硬化によって耐溶媒性、耐熱性などを確保するため、二重結合当量が0.5〜4.5meq/gであることが好ましく、より好ましくは0.5〜4.0meq/g、特に好ましくは0.7〜3.6meq/gである。したがって、(メタ)アクリル酸は、二重結合当量が上記範囲となるように共重合体(C)と反応させるとよい。   Next, when the obtained copolymer (C) is reacted with (meth) acrylic acid, (meth) acryloyl group-containing acrylic copolymers (I) and (II) can be obtained. A double bond can be introduced into the (meth) acryloyl group-containing acrylic copolymer by modification with (meth) acrylic acid, more preferably acrylic acid. The (meth) acryloyl group-containing acrylic copolymer (I) used in the present invention forms an ionizing radiation cured film. In order to ensure solvent resistance, heat resistance, etc. by curing, the double bond equivalent is 0. It is preferably 0.5 to 4.5 meq / g, more preferably 0.5 to 4.0 meq / g, and particularly preferably 0.7 to 3.6 meq / g. Therefore, (meth) acrylic acid is preferably reacted with the copolymer (C) such that the double bond equivalent is in the above range.

共重合体(C)と(メタ)アクリル酸との反応は、溶液中で3級アミン触媒、4級アンモニウム塩触媒、3級ホスフィン触媒、4級ホフフィン塩触媒、有機錫化合物触媒の存在下で行うことが好ましい。具体的には、トリフェニルホスフィン、トリブチルホスフィンなどのホスフィン類、トリエチルアミン、ジメチルベンジルアミンなどのアミン類、ジメチルスルフィド、ジフェニルスルフィドなどのスルフィド類などを用いることができる。   The reaction between the copolymer (C) and (meth) acrylic acid is carried out in the presence of a tertiary amine catalyst, a quaternary ammonium salt catalyst, a tertiary phosphine catalyst, a quaternary phosphine salt catalyst, and an organotin compound catalyst. Preferably it is done. Specifically, phosphines such as triphenylphosphine and tributylphosphine, amines such as triethylamine and dimethylbenzylamine, and sulfides such as dimethyl sulfide and diphenyl sulfide can be used.

上記反応時間、反応温度は、選択した溶媒や反応圧力などによって異なるが、圧力が大気圧〜0.2MPaで、通常、温度50〜160℃、反応時間は3〜50時間である。
本発明の電離放射線硬化性組成物は、重量平均分子量(Mw)が5,000〜200,000であり、分散比(Mw/Mn)が1.0〜5.0であり、ガラス転移点温度(Tg)が40〜150℃の(メタ)アクリロイル基含有アクリル系共重合体(I)を含む。(メタ)アクリロイル基含有アクリル系共重合体(I)のTgが40℃より低いと、エンボス加工時に溶融しエンボス賦型性が不良となり、または未硬化の膜にタックが発生し、シートの巻き取りが損なわれる場合がある。一方、150℃を超えると、エンボス押し込み時に極端な高温をかける必要があり、また硬化後の可撓性が損なわれる場合がある。なお、本発明に規定するTgの測定は、後記する実施例に記載する方法で測定するものとする。また、150℃を超えると賦型が困難となる場合がある。なお、(メタ)アクリル酸エステル35〜80質量部、グリシジル(メタ)アクリル酸エステル20〜60質量部、他の(メタ)アクリル酸エステル0〜30質量部からなる共重合体に、(メタ)アクリル酸を10〜30質量部反応させてなる(メタ)アクリロイル基含有アクリル系共重合体(II)は、重量平均分子量(Mw)やTgの制限はないが、エンボス付き離型紙として成型するには、ガラス転移温度が40〜150℃であることが好ましく、より好ましくは65〜120℃である。Tgは重量平均分子量(Mw)や二重結合当量と相関するため、上記ガラス転移温度を満たすように二重結合を含め、かつ重量平均分子量(Mw)を調製すればよい。好ましくは5,000〜200,000、より好ましくは15,000〜100,000、特に好ましくは15,000〜70,000である。5,000を下回ると、耐溶剤性や強靭性に劣る場合があり、一方、200,000を超えると樹脂粘度が高くなり、取り扱いが困難となる場合がある。また、ガラス転移点温度(Tg)は40〜150℃、より好ましくは65〜120℃、特に好ましくは65〜90℃である。この範囲であれば、(メタ)アクリロイル基含有アクリル系共重合体(II)を硬化させた後に、耐溶剤性、耐擦過性に優れ、かつ未硬化膜のタック感がなく、賦型性に優れるからである。
The reaction time and reaction temperature vary depending on the selected solvent, reaction pressure, etc., but the pressure is atmospheric pressure to 0.2 MPa, usually 50 to 160 ° C., and the reaction time is 3 to 50 hours.
The ionizing radiation curable composition of the present invention has a weight average molecular weight (Mw) of 5,000 to 200,000, a dispersion ratio (Mw / Mn) of 1.0 to 5.0, and a glass transition temperature. (Tg) contains 40-150 degreeC (meth) acryloyl group containing acrylic copolymer (I). If the Tg of the (meth) acryloyl group-containing acrylic copolymer (I) is lower than 40 ° C., it will melt at the time of embossing, resulting in poor embossability, or tackiness will occur in the uncured film, and the sheet will be wound. The take may be damaged. On the other hand, when the temperature exceeds 150 ° C., it is necessary to apply an extremely high temperature when embossing is pressed, and flexibility after curing may be impaired. In addition, the measurement of Tg prescribed | regulated to this invention shall be measured by the method as described in the Example mentioned later. Moreover, when it exceeds 150 degreeC, shaping | molding may become difficult. In addition, the copolymer which consists of 35-80 mass parts of (meth) acrylic acid ester, 20-60 mass parts of glycidyl (meth) acrylic acid ester, and 0-30 mass parts of other (meth) acrylic acid ester, (meth) The (meth) acryloyl group-containing acrylic copolymer (II) obtained by reacting 10 to 30 parts by mass of acrylic acid is not limited in weight average molecular weight (Mw) or Tg, but is molded as an embossed release paper. The glass transition temperature is preferably 40 to 150 ° C, more preferably 65 to 120 ° C. Since Tg correlates with the weight average molecular weight (Mw) and the double bond equivalent, the double average should be included and the weight average molecular weight (Mw) should be adjusted so as to satisfy the glass transition temperature. Preferably it is 5,000-200,000, More preferably, it is 15,000-100,000, Most preferably, it is 15,000-70,000. If it is less than 5,000, the solvent resistance and toughness may be inferior. On the other hand, if it exceeds 200,000, the resin viscosity will be high and handling may be difficult. Moreover, glass transition temperature (Tg) is 40-150 degreeC, More preferably, it is 65-120 degreeC, Most preferably, it is 65-90 degreeC. Within this range, after curing the (meth) acryloyl group-containing acrylic copolymer (II), it has excellent solvent resistance and scratch resistance, and there is no tackiness of the uncured film, making it formable. Because it is excellent.

本発明で用いられる電離放射線硬化性組成物は、上記(メタ)アクリロイル基含有アクリル系共重合体(I)、(II)のみからなるものであってもよい。組成物とは2種以上の物質が配合されたものであるが、(メタ)アクリロイル基含有アクリル系共重合体(I)の分散比から明らかなように、異なる分子量の(メタ)アクリロイル基含有アクリル系共重合体が含まれているため、本願では(メタ)アクリロイル基含有アクリル系共重合体のみからなる場合も電離放射線硬化性組成物と称する。一方、本発明で使用する電離放射線硬化性組成物には、更に光重合開始剤、その他を配合してもよい。   The ionizing radiation curable composition used in the present invention may be composed only of the (meth) acryloyl group-containing acrylic copolymers (I) and (II). The composition is a mixture of two or more substances. As is clear from the dispersion ratio of the (meth) acryloyl group-containing acrylic copolymer (I), it contains (meth) acryloyl group having different molecular weights. Since an acrylic copolymer is included, the present application also refers to an ionizing radiation curable composition that is composed only of a (meth) acryloyl group-containing acrylic copolymer. On the other hand, you may mix | blend a photoinitiator and others with the ionizing radiation-curable composition used by this invention.

電離放射線硬化性組成物に配合しうる光重合開始剤としては、ベンゾインエチルエーテル、アセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、ベンジルジメチルケタール、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオフェノン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノプロパン−1、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾフェノン、p−クロロベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、N,N−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、2−クロロチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントンなどがある。光重合開始剤の配合量は、(メタ)アクリロイル基含有アクリル系共重合体100質量部に対して、1〜10質量部である。   Examples of the photopolymerization initiator that can be blended in the ionizing radiation curable composition include benzoin ethyl ether, acetophenone, diethoxyacetophenone, benzyldimethyl ketal, 2-hydroxy-2-methylpropiophenone, 2-methyl-1- [4. -(Methylthio) phenyl] -2-morpholinopropane-1, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, benzophenone, p-chlorobenzophenone, Michler's ketone, isoamyl N, N-dimethylaminobenzoate, 2-chlorothioxanthone, 2,4-diethyl There is thioxanthone. The compounding quantity of a photoinitiator is 1-10 mass parts with respect to 100 mass parts of (meth) acryloyl group containing acrylic copolymers.

更に、該(メタ)アクリロイル基含有アクリル系共重合体の硬化特性を改質するために、電離放射線硬化性組成物に任意成分として他の樹脂、シリコーン化合物、反応性モノマー、他の光硬化性重合体などをその特性を害しない範囲で含有させてもよい。   Furthermore, in order to modify the curing characteristics of the (meth) acryloyl group-containing acrylic copolymer, other resins, silicone compounds, reactive monomers, other photocuring properties are optionally added to the ionizing radiation curable composition. You may contain a polymer etc. in the range which does not injure the characteristic.

他の樹脂としては、メタクリル樹脂、塩素化ポリプロピレン、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルアセタールなどがあり、反応性モノマーとしては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、トリデシル(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートなどがある。   Other resins include methacrylic resin, chlorinated polypropylene, epoxy resin, polyurethane resin, polyester resin, polyvinyl alcohol, polyvinyl acetal, and reactive monomers include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (Meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, ethylhexyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, tridecyl (meth) acrylate, trimethylolpropane triacrylate, tris (acryloxyethyl) isocyanurate, Examples include pentaerythritol tetraacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate.

光硬化性重合体としては、多官能(メタ)アクリレートオリゴマーがある。配合量は、該(メタ)アクリロイル基含有アクリル系共重合体100質量部に対して30質量部以下、より好ましくは10質量部以下である。多官能(メタ)アクリレートオリゴマーとは、1分子中に2個以上の(メタ)アクリロイル基を有するもので、例えば、トリシクロデカンジメチロールジアクリレート、ビスフェノールFのエチレンオキサイド変性ジアクリレート、ビスフェノールAのエチレンオキサイド変性ジアクリレート、イソシアヌル酸のエチレンオキサイド変性ジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパンのプロピレンオキサイド変性トリアクリレート、トリメチロールプロパンのエチレンオキサイド変性トリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ウレタンアクリレートなどがある。これらは、2種以上を組み合わせて配合することもできる。   As the photocurable polymer, there is a polyfunctional (meth) acrylate oligomer. A compounding quantity is 30 mass parts or less with respect to 100 mass parts of this (meth) acryloyl group containing acrylic copolymer, More preferably, it is 10 mass parts or less. The polyfunctional (meth) acrylate oligomer has two or more (meth) acryloyl groups in one molecule. For example, tricyclodecane dimethylol diacrylate, ethylene oxide-modified diacrylate of bisphenol F, bisphenol A Ethylene oxide modified diacrylate, ethylene oxide modified diacrylate of isocyanuric acid, polypropylene glycol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, propylene oxide modified triacrylate of trimethylolpropane, ethylene oxide modified triacrylate of trimethylolpropane , Pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, ditrimethylolprop Tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, there is such as urethane acrylate. These can also be blended in combination of two or more.

なお、電離放射線硬化性組成物としては、市販品を使用することもできる。このような市販品としては、東亞合成株式会社製、商品名「LP−09」などがある。
本発明で使用する電離放射線硬化樹脂層は、上記電離放射線硬化性組成物に前記したフェノール系粒子を分散してフェノール系粒子含有電離放射線硬化性組成物を調製し、これを紙基材層に塗工することができ、乾燥および加熱して乾燥炉で溶剤を蒸発させてフェノール系粒子含有電離放射線硬化性組成物を熱硬化させることができる。なお、紫外線や電子線などの電離放射線を照射することで電離放射線硬化性組成物を硬化させることができる。
In addition, a commercial item can also be used as an ionizing radiation curable composition. As such a commercially available product, there is a product name “LP-09” manufactured by Toagosei Co., Ltd.
The ionizing radiation curable resin layer used in the present invention is prepared by dispersing the above-described phenolic particles in the ionizing radiation curable composition to prepare a phenolic particle-containing ionizing radiation curable composition, which is used as a paper base material layer. It can be applied, dried and heated, and the solvent is evaporated in a drying furnace to heat cure the phenolic particle-containing ionizing radiation curable composition. In addition, an ionizing radiation curable composition can be hardened | cured by irradiating ionizing radiations, such as an ultraviolet-ray and an electron beam.

電離放射線硬化樹脂層の厚さは、1〜50μmであることが好ましく、より好ましくは3〜20μmである。1μmより薄いと微細な賦型性の転写が悪くなり、一方、50μmを超えると樹脂の硬化性が悪くなる場合がある。   The thickness of the ionizing radiation curable resin layer is preferably 1 to 50 μm, more preferably 3 to 20 μm. If it is thinner than 1 μm, the transfer of fine moldability is worsened, while if it exceeds 50 μm, the curability of the resin may be worsened.

(5)熱硬化シリコーン層
本発明では、アルケニル基含有オルガノポリシロキサン、オルガノハイドロジェンポリシロキサンおよび白金系硬化触媒からなる熱硬化性シリコーン組成物を熱硬化して形成した熱硬化シリコーン層を好適に使用することができる。なお、このような熱硬化性シリコーン組成物としては、市販品を使用してもよく、例えば、アルケニル基含有オルガノポリシロキサンとオルガノハイドロジェンポリシロキサンとの混合物からなる付加重合型シリコーン材料の主剤(信越化学工業株式会社製、KS−3603)に白金系硬化触媒からなる硬化剤(信越化学工業株式会社製、CAT−PL−50T)を混合して調製することができる。また、信越化学工業株式会社製、商品名「X−62−9214」も好適に使用することができる。
(5) Thermosetting silicone layer In the present invention, a thermosetting silicone layer formed by thermosetting a thermosetting silicone composition comprising an alkenyl group-containing organopolysiloxane, an organohydrogenpolysiloxane and a platinum-based curing catalyst is suitably used. Can be used. In addition, as such a thermosetting silicone composition, you may use a commercial item, for example, the main ingredient of the addition polymerization type silicone material (for example, the mixture of an alkenyl group containing organopolysiloxane and organohydrogenpolysiloxane ( It can be prepared by mixing a curing agent comprising a platinum-based curing catalyst (CAT-PL-50T, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., KS-3603) manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Moreover, the product name "X-62-9214" by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. can also be used conveniently.

上記熱硬化性シリコーン組成物は、常温では固体状態であるが、加工時には加熱により液体状態に変化する材料である。本発明で使用する熱硬化性シリコーン組成物は、エンボス加工により形成した微細凹凸パターンを固定すると共に、強度等の充分な皮膜物性を得るために硬化性を有する。   The thermosetting silicone composition is a material that is in a solid state at room temperature but changes to a liquid state by heating during processing. The thermosetting silicone composition used in the present invention has curability in order to fix a fine uneven pattern formed by embossing and to obtain sufficient film properties such as strength.

上記熱硬化性シリコーン層は、前記熱硬化性シリコーン組成物の塗布、乾燥加熱によって調製でき、形成される前記熱硬化シリコーン層の厚みは0.01〜20μmの範囲が好ましい。   The thermosetting silicone layer can be prepared by applying the thermosetting silicone composition and drying and heating, and the thickness of the thermosetting silicone layer to be formed is preferably in the range of 0.01 to 20 μm.

(6)合成皮革製造用離型紙の製造方法
本発明の合成皮革製造用離型紙は、紙基材層上にフェノール系粒子含有電離放射線硬化性組成物を塗工し、この組成物を乾燥および熱硬化させ、次いで、熱硬化した電離放射線硬化性組成物上に熱硬化性シリコーン組成物を塗工し、加熱乾燥して熱硬化シリコーン膜を形成し、前記熱硬化シリコーン膜側から電離放射線処理して前記した熱硬化電離放射線性組成物を硬化して製造することができる。
(6) Method for producing release paper for synthetic leather production The release paper for synthetic leather production of the present invention is a method of applying a phenolic particle-containing ionizing radiation curable composition on a paper base layer, drying the composition, The thermosetting silicone composition is applied onto the ionizing radiation curable composition that has been thermoset, and then heat-dried to form a thermosetting silicone film, and the ionizing radiation treatment is performed from the thermosetting silicone film side. Thus, the above-mentioned thermosetting ionizing radiation composition can be cured and produced.

フェノール系粒子含有電離放射線硬化性組成物は、予め光重合開始剤が配合された電離放射線硬化性組成物を溶媒で希釈し、これにフェノール系粒子を撹拌しつつ添加して調製することができる。   A phenolic particle-containing ionizing radiation curable composition can be prepared by diluting an ionizing radiation curable composition, in which a photopolymerization initiator is previously blended, with a solvent, and adding the phenolic particles to this while stirring. .

溶媒で希釈する場合は、(メタ)アクリロイル基含有アクリル系共重合体100質量部に対して10〜1000質量部、より好ましくは100〜700質量部の溶剤で希釈することができる。この範囲で、フェノール系粒子を沈降することなく分散でき、かつ塗工に適正な粘度、例えば、25℃において10〜3000mPa・秒の粘度を付与するとともに、これを乾燥する工程においてシリコーン化合物の適正な表面への移行を可能にする。   When diluting with a solvent, it can be diluted with 10 to 1000 parts by mass, more preferably 100 to 700 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the (meth) acryloyl group-containing acrylic copolymer. Within this range, the phenolic particles can be dispersed without settling, and an appropriate viscosity for coating, for example, a viscosity of 10 to 3000 mPa · s at 25 ° C. is given, and in the step of drying it, the silicone compound is appropriate. The transition to a smooth surface.

溶媒としては、例えばトルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル等のエステル系溶媒、ジエチレングリコールエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、3−メチル−3−メトキシブチルアセテート、エチル−3−エトキシプロピオネート等のグリコールエーテルエステル系溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、N−メチルピロリドン等の非プロトン性極性溶媒などが用いられる。本発明で使用するフェノール系粒子は、上記電離放射線硬化性組成物に対する親和性に優れ、沈降することなく組成物中に分散される。   Examples of the solvent include aromatic hydrocarbon solvents such as toluene and xylene, ketone solvents such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone, ester solvents such as ethyl acetate, butyl acetate and isobutyl acetate, diethylene glycol ethyl ether acetate, propylene Glycol ether ester solvents such as glycol methyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether, 3-methyl-3-methoxybutyl acetate, ethyl-3-ethoxypropionate, ether solvents such as tetrahydrofuran and dioxane, N-methylpyrrolidone, etc. These aprotic polar solvents are used. The phenolic particles used in the present invention are excellent in affinity for the ionizing radiation curable composition and are dispersed in the composition without settling.

フェノール系粒子含有電離放射線硬化性組成物は、ダイレクトグラビアコート、リバースグラビアコート、グラビアオフセットコート、マイクログラビアコート、ダイレクトロールコート、リバースロールコート、カーテンコート、ナイフコート、エアナイフコート、バーコート、ダイコート、スプレーコートなどの公知の方法で紙基材層上に塗工することができる。これを紙基材層上に塗工し、温度90〜130℃で乾燥および加熱して、乾燥炉で溶剤を蒸発させて電離放射線硬化性組成物を熱硬化させる。この温度は、電離放射線硬化性組成物の軟化点より高く、かつ電離放射線硬化性組成物が溶融する温度より低い範囲である。   Phenolic particle-containing ionizing radiation curable compositions are direct gravure coat, reverse gravure coat, gravure offset coat, micro gravure coat, direct roll coat, reverse roll coat, curtain coat, knife coat, air knife coat, bar coat, die coat, It can coat on a paper base material layer by well-known methods, such as spray coating. This is coated on a paper base material layer, dried and heated at a temperature of 90 to 130 ° C., and the solvent is evaporated in a drying furnace to thermally cure the ionizing radiation curable composition. This temperature is a range higher than the softening point of the ionizing radiation curable composition and lower than the temperature at which the ionizing radiation curable composition melts.

ついで、この熱硬化電離放射線硬化性組成物の上に熱硬化シリコーンを塗工し、温度90〜130℃で加熱乾燥し、乾燥炉内で硬化し熱硬化シリコーン膜を形成させる。
ついで、熱硬化シリコーン膜の側から紫外線あるいは電子線を照射し、前記熱硬化電離放射線硬化性組成物を硬化させ電離放射線硬化樹脂層とする。紫外線の光源としては、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、タングステンランプなどが用いられる。電子線の照射方式としては、スキャンニング方式、カーテンビーム方式、ブロードビーム方式などが用いられ、電子線の加速電圧は、50〜300kVが適当である。
Then, a thermosetting silicone is applied onto the thermosetting ionizing radiation curable composition, dried by heating at a temperature of 90 to 130 ° C., and cured in a drying furnace to form a thermosetting silicone film.
Next, ultraviolet rays or electron beams are irradiated from the thermosetting silicone film side to cure the thermosetting ionizing radiation curable composition to form an ionizing radiation curable resin layer. As the ultraviolet light source, a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, a tungsten lamp, or the like is used. As an electron beam irradiation method, a scanning method, a curtain beam method, a broad beam method, or the like is used, and an acceleration voltage of the electron beam is appropriately 50 to 300 kV.

本発明の合成皮革製造用離型紙において電離放射線硬化樹脂層の厚さは、1〜50μmであり、熱硬化シリコーン層の厚みは0.01〜20μmである。電離放射線硬化樹脂層にフェノール系粒子を配合すると、フェノール系粒子による凹凸が剥離層の表面に表出され、合成皮革製造用離型紙をマット調にすることができる。   In the release paper for producing synthetic leather of the present invention, the ionizing radiation curable resin layer has a thickness of 1 to 50 μm, and the thermosetting silicone layer has a thickness of 0.01 to 20 μm. When phenolic particles are blended in the ionizing radiation curable resin layer, irregularities due to the phenolic particles are exposed on the surface of the release layer, and the release paper for producing synthetic leather can be matte.

また、エンボス付き離型紙を調製する場合には、電離放射線硬化処理の前にエンボス加工を行い、ついで電離放射線硬化処理を行えばよい。エンボス加工は、搬送速度1〜20m/min、版温度:100〜160℃、線圧:5〜400kgf/cmでエンボスを上記熱硬化シリコーン層側に形成する。エンボス加工前に、電離放射線硬化性組成物を熱硬化させることで、熱硬化性シリコーン組成物の塗工性を改良でき、かつエンボス加工後に電離放射線硬化させることでエンボス加工の賦型性を確保できる。これにより、マット調かつエンボスを有する離型紙を調製することができる。   Moreover, when preparing the release paper with an emboss, embossing may be performed before the ionizing radiation curing process, and then the ionizing radiation curing process may be performed. Embossing forms embossing on the thermosetting silicone layer side at a conveying speed of 1 to 20 m / min, plate temperature: 100 to 160 ° C., and linear pressure: 5 to 400 kgf / cm. By heat curing the ionizing radiation curable composition before embossing, the coating properties of the thermosetting silicone composition can be improved, and after the embossing, ionizing radiation curing is performed to ensure the embossing processability. it can. Thereby, the release paper which has a matte tone and embossing can be prepared.

なお、本発明のエンボス付き剥離紙を調製するには、エンボス前の厚さは、30〜300μmである。厚さが30μmを下回ると賦型性が低下したり、製造工程で巻き取りの際に切断しやすくなるなどのライン適性が低下する場合がある。一方、300μmを超えると、エンボス付き剥離紙の幅カールが大きくなり、加工性が低下する場合がある。   In addition, in order to prepare the release paper with embossing of this invention, the thickness before embossing is 30-300 micrometers. If the thickness is less than 30 μm, formability may be reduced, and line suitability such as easy cutting during winding in the manufacturing process may be reduced. On the other hand, when it exceeds 300 μm, the width curl of the release paper with emboss becomes large, and the workability may be lowered.

(7)合成皮革の製造方法
本発明の合成皮革製造用離型紙やエンボス付き剥離紙を用いて、従来の離型紙を使用すると同様にして合成皮革を製造することができる。
(7) Synthetic leather production method Synthetic leather can be produced in the same manner as in the case of using conventional release paper, using the release paper for producing synthetic leather and the release paper with embossing of the present invention.

まず、合成皮革製造用離型紙やエンボス付き剥離紙の熱硬化シリコーン層上に合成皮革用の樹脂組成物を塗布する。熱硬化シリコーン層上に塗布された樹脂層には、熱硬化シリコーン層の表面のマット調やエンボス柄が形成されている。これに基布(例えば、織布、不織布等)を貼り合わせ、樹脂層を乾燥し冷却した後、離型紙を剥離すれば合成皮革を得ることができる。上記の合成皮革用の樹脂組成物には、ポリウレタン、ポリ塩化ビニル等の樹脂を用いることができる。この樹脂組成物の塗布方法としては、ナイフコート、ロールコート、グラビアコート等の従来公知の塗布方法を挙げることができる。このような本発明の合成皮革製造用離型紙やエンボス付き剥離紙を用いた合成皮革の製造では、高温下で行なわれる塩化ビニル系レザー製造の場合においても、紙基材層と電離放射線硬化樹脂層との間における剥離が防止され、耐熱性に優れ、かつ機械的強度の高い電離放射線硬化樹脂層の存在および剥離性に優れる熱硬化シリコーン層の存在により繰り返し安定生産が可能となる。   First, the resin composition for synthetic leather is apply | coated on the thermosetting silicone layer of the release paper for synthetic leather manufacture, or the release paper with embossing. The resin layer applied on the thermosetting silicone layer has a matte tone or embossed pattern on the surface of the thermosetting silicone layer. A synthetic leather can be obtained by bonding a base fabric (for example, woven fabric, non-woven fabric, etc.) to this, drying and cooling the resin layer, and then releasing the release paper. Resins such as polyurethane and polyvinyl chloride can be used for the above resin composition for synthetic leather. Examples of the coating method of the resin composition include conventionally known coating methods such as knife coating, roll coating, and gravure coating. In the production of synthetic leather using the release paper for producing synthetic leather and the release paper with embossing of the present invention, the paper base layer and the ionizing radiation curable resin are used even in the case of producing vinyl chloride leather at high temperatures. Peeling between the layers is prevented, and the presence of the ionizing radiation curable resin layer having excellent heat resistance and high mechanical strength and the presence of the thermosetting silicone layer having excellent peelability enable repeated and stable production.

次に、具体的な実施例を示して本発明を更に詳細に説明する。
(実施例1)
坪量が157g/m2の紙基材層(王子製紙株式会社製、商品名「OK工程紙」)に、電離放射線硬化性組成物(東亞合成株式会社製、商品名「アロンLP−09」、固形分40質量%)100質量部とフェノール系粒子(エア・ウォーター・ベルパール株式会社製、商品名「ベルパール R200」、平均粒子径約6.8μm)40質量部に、全量が200質量部となるように溶剤を加えて混合してなる含フェノール系粒子紫外線硬化組成溶液をメイヤーバー番手:#14を用いて塗工し、130℃で30秒の条件で加熱乾燥させ、この層を熱硬化させ、熱硬化組成物膜を得た。
Next, the present invention will be described in more detail by showing specific examples.
Example 1
An ionizing radiation curable composition (manufactured by Toagosei Co., Ltd., trade name “Aron LP-09”) on a paper base material layer (made by Oji Paper Co., Ltd., trade name “OK Process Paper”) having a basis weight of 157 g / m 2 , Solid content of 40% by mass) and 100 parts by mass of phenolic particles (product name “Bellpearl R200”, average particle diameter of about 6.8 μm, manufactured by Air Water Velpearl Co., Ltd.) A phenolic particle ultraviolet curable composition solution obtained by adding a solvent and mixing is applied using Meyer bar number: # 14 and dried by heating at 130 ° C. for 30 seconds, and this layer is thermoset. To obtain a thermosetting composition film.

得られた熱硬化組成物膜上に熱硬化シリコーン組成物(信越化学工業株式会社製、商品名「X−62−9214」)をメイヤーバー番手:#8を用いて塗膜厚さが乾燥後0.4g/m2となるように塗工し、同じく130℃で30秒の条件で加熱乾燥させ、シリコーン層を熱硬化させた。この合成皮革製造用離型紙の層構成は、OK工程紙/R200+LP−09/X−62−9214となる。 After the thermosetting silicone composition (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name “X-62-9214”) is dried on the obtained thermosetting composition film using Meyer bar number: # 8 The coating was applied to 0.4 g / m 2, and heat-dried at 130 ° C. for 30 seconds to thermally cure the silicone layer. The layer structure of the release paper for manufacturing synthetic leather is OK process paper / R200 + LP-09 / X-62-9214.

ついで出力120W/cmの高圧水銀灯を用い、600mJ/cm2の紫外線照射を行い、前記熱硬化組成物膜を硬化させ、合成皮革製造用離型紙を得た。この合成皮革製造用離型紙の剥離層の拡大図(倍率720倍)を図2に示す。フェノール粒子は一部凝集して海島構造を形成するが、沈降することなく分散していた。なお、本明細書における表面拡大図は、全て株式会社キーエンス製レーザー顕微鏡VK−9510を用いて観察したものである。 Next, using a high-pressure mercury lamp with an output of 120 W / cm, irradiation with ultraviolet rays of 600 mJ / cm 2 was performed to cure the thermosetting composition film, thereby obtaining a release paper for producing synthetic leather. FIG. 2 shows an enlarged view (magnification 720 times) of the release layer of the release paper for manufacturing synthetic leather. The phenol particles partially aggregated to form a sea-island structure, but were dispersed without settling. In addition, all the surface enlarged views in this specification are observed using the Keyence Corporation laser microscope VK-9510.

また、上記乾燥塗膜作製後、搬送速度:1m/min、版温度:130℃、線圧:161kgf/cmで幾何学的なエンボス模様を有するエンボス版(大日本印刷株式会社製、柄名:1213)でエンボス加工を行い、その後、出力120W/cmの高圧水銀灯を用い、600mJ/cm2の紫外線照射を行い、前記熱硬化組成物膜を硬化させ、合成皮革製造用エンボス離型紙を得た。 Moreover, after the above-mentioned dry coating film preparation, an embossed plate having a geometric embossed pattern at a conveyance speed of 1 m / min, a plate temperature of 130 ° C., a linear pressure of 161 kgf / cm (manufactured by Dai Nippon Printing Co., Ltd., pattern name: 1213), and then using a high-pressure mercury lamp with an output of 120 W / cm, irradiation with ultraviolet rays of 600 mJ / cm 2 was performed to cure the thermosetting composition film to obtain an embossed release paper for synthetic leather production. .

更に、R200の配合量をそれぞれ10質量部、17質量部、27質量部、32質量部、60質量部、86質量部、107質量部に変更して、上記と同様にして合成皮革製造用エンボス離型紙を作製した。   Furthermore, the compounding amount of R200 was changed to 10 parts by mass, 17 parts by mass, 27 parts by mass, 32 parts by mass, 60 parts by mass, 86 parts by mass and 107 parts by mass, respectively, and embossed for synthetic leather production in the same manner as above. A release paper was prepared.

得られた合成皮革製造用エンボス離型紙につき、下記方法でグロス値、剥離性、フェノール粒子の混和性を評価した。なお、グロス値は、剥離性試験の際に得られた合成皮革の表面でも同様に評価した。結果を表2に示す。   About the obtained embossing release paper for synthetic leather manufacture, the gloss value, peelability, and the miscibility of the phenol particles were evaluated by the following methods. In addition, the gloss value was similarly evaluated on the surface of the synthetic leather obtained in the peelability test. The results are shown in Table 2.

(測定方法)
(i)グロス値
株式会社堀場製作所製光沢度計IG−320によって、グロス値(60°反射)を評価した。
(Measuring method)
(I) Gloss value The gloss value (60 ° reflection) was evaluated by a gloss meter IG-320 manufactured by Horiba, Ltd.

(ii)剥離性
剥離性は、表1に示す組成の無黄変型カーボネート系ポリウレタン樹脂組成物を調製し、実験例で得た離型紙に乾燥厚み坪量約36g/cm2になるようにメイヤーバー番手:#18を用いて塗工し、60℃で300秒の条件で加熱乾燥させ、この層を熱硬化させ、熱硬化組成物膜を得た。そして、この熱硬化組成物膜上に同上のポリウレタン樹脂組成物を上と同じく塗布し、この層を接着層とし、基布を貼り付け、ポリウレタン表皮層を有する基布を形成した。その後、70℃で600秒の条件でこれを加熱乾燥させた後に、離型紙からポリウレタン表皮層を有する基布を剥離させ、合成皮革とした。そして、その表面を観察した。
なお、剥離性は、○は粒子の転移が全く見られなかったもの、△はウレタン皮膜が剥がれるが、一部に粒子の転移が観察されたもの、×はウレタン皮膜が剥がれなかったものを意味する。
(Ii) Peelability For peelability, a non-yellowing carbonate-based polyurethane resin composition having the composition shown in Table 1 was prepared, and the release paper obtained in the experimental example had a dry thickness basis weight of about 36 g / cm 2. Bar number: coated with # 18, heat-dried at 60 ° C. for 300 seconds, and this layer was thermally cured to obtain a thermosetting composition film. And the polyurethane resin composition same as the above was apply | coated on this thermosetting composition film | membrane as this, the layer was made into the contact bonding layer, the base fabric was affixed, and the base fabric which has a polyurethane skin layer was formed. Thereafter, this was heated and dried at 70 ° C. for 600 seconds, and then the base fabric having a polyurethane skin layer was peeled from the release paper to obtain a synthetic leather. And the surface was observed.
In addition, as for peelability, ○ means that no particle transfer was observed, Δ means that the urethane film was peeled off, but some particle transfer was observed, and × means that the urethane film was not peeled off To do.

(iii)混和性
含フェノール系粒子紫外線硬化組成溶液を調製する際の、フェノール系粒子の混和性を評価した。○は、分散剤を使用せずに溶液中で均一に混和できた場合、×は、分散剤を使用せずに均一に混和できず、塗工中に大部分の粒子が沈降してしまった場合を示す。
(Iii) Miscibility The miscibility of phenolic particles when preparing a phenol-containing particle UV curable composition solution was evaluated. ○ indicates that the particles can be mixed uniformly in the solution without using a dispersant. × indicates that the particles cannot be mixed uniformly without using a dispersant, and most of the particles settled during coating. Show the case.

(実施例2)
電離放射線硬化性組成物(東亞合成株式会社製、商品名「アロンLP−09」、固形分40質量%)100質量部に対しフェノール系粒子(エア・ウォーター・ベルパール株式会社製、商品名「ベルパール R800」、平均粒子径約23μm)を使用し、その配合量をそれぞれ10質量部、17質量部、27質量部、40質量部、60質量部、74質量部に変更した以外は、実施例1と同様に操作して合成皮革製造用エンボス離型紙を得た。この合成皮革製造用エンボス離型紙の層構成は、OK工程紙/R800+LP−09/X−62−9214となる。
(Example 2)
Ionizing radiation curable composition (manufactured by Toagosei Co., Ltd., trade name “Aron LP-09”, solid content 40% by mass) with 100 parts by mass of phenol-based particles (produced by Air Water Belpearl Co., Ltd., trade name “Bell Pearl” R800 ", average particle size of about 23 μm), and the blending amounts thereof were changed to 10 parts by mass, 17 parts by mass, 27 parts by mass, 40 parts by mass, 60 parts by mass, and 74 parts by mass, respectively. The embossed release paper for synthetic leather production was obtained in the same manner as described above. The layer structure of the embossed release paper for manufacturing synthetic leather is OK process paper / R800 + LP-09 / X-62-9214.

この合成皮革製造用エンボス離型紙について、実施例1と同様にしてグロス値、剥離性、混和性を評価した。結果を表3に示す。
(実施例3)
電離放射線硬化性組成物(東亞合成株式会社製、商品名「アロンLP−09」、固形分40質量%)100質量部に対しフェノール系粒子(エア・ウォーター・ベルパール株式会社製、商品名「ベルパール R100」、平均粒子径約1.4μm)を使用し、その配合量をそれぞれ10質量部、17質量部、27質量部、40質量部、60質量部、74質量部に変更した以外は、実施例1と同様に操作して合成皮革製造用エンボス離型紙を得た。この合成皮革製造用エンボス離型紙の層構成は、OK工程紙/R100+LP−09/X−62−9214となる。
About this embossing release paper for synthetic leather manufacture, it carried out similarly to Example 1, and evaluated the gloss value, peelability, and miscibility. The results are shown in Table 3.
(Example 3)
Ionizing radiation curable composition (manufactured by Toagosei Co., Ltd., trade name “Aron LP-09”, solid content 40% by mass) with 100 parts by mass of phenol-based particles (produced by Air Water Belpearl Co., Ltd., trade name “Bell Pearl” R100 "and an average particle diameter of about 1.4 μm) were used, except that the blending amounts were changed to 10 parts by mass, 17 parts by mass, 27 parts by mass, 40 parts by mass, 60 parts by mass, and 74 parts by mass, respectively. The embossed release paper for synthetic leather production was obtained in the same manner as in Example 1. The layer structure of the embossed release paper for manufacturing synthetic leather is OK process paper / R100 + LP-09 / X-62-9214.

この合成皮革製造用エンボス離型紙について、実施例1と同様にしてグロス値、剥離性、混和性を評価した。結果を表4に示す。
(実施例4)
坪量が157g/m2の紙基材層(王子製紙株式会社製、商品名「OK工程紙」)に、電離放射線硬化性組成物(東亞合成株式会社製、商品名「アロンLP−09」、固形分40質量%)100質量部とフェノール系粒子(エア・ウォーター・ベルパール株式会社製、商品名「ベルパール R200」、平均粒子径約6.8μm)40質量部に、全量が200質量部となるように溶剤を加えて混合してなる含フェノール系粒子紫外線硬化組成溶液をグラビアコーターを用いて塗工し、90〜130℃の条件で加熱乾燥させ、この層を熱硬化させ、熱硬化組成物膜を得た。電離放射線硬化性組成物の乾燥塗工量は、約4.5g/m2であった。
About this embossing release paper for synthetic leather manufacture, it carried out similarly to Example 1, and evaluated the gloss value, peelability, and miscibility. The results are shown in Table 4.
Example 4
An ionizing radiation curable composition (manufactured by Toagosei Co., Ltd., trade name “Aron LP-09”) on a paper base material layer (made by Oji Paper Co., Ltd., trade name “OK Process Paper”) having a basis weight of 157 g / m 2 , Solid content of 40% by mass) and 100 parts by mass of phenolic particles (product name “Bellpearl R200”, average particle diameter of about 6.8 μm, manufactured by Air Water Velpearl Co., Ltd.) A phenol-containing particle UV curable composition solution formed by adding a solvent and mixing is applied using a gravure coater, dried by heating at 90 to 130 ° C., and this layer is thermally cured to obtain a thermosetting composition. A material film was obtained. The dry coating amount of the ionizing radiation curable composition was about 4.5 g / m 2 .

得られた熱硬化組成物膜上に熱硬化シリコーン組成物(信越化学工業株式会社製、商品名「X−62−9214」)を同じくグラビアコーターを用いて塗工し、90〜130℃の条件で加熱乾燥させ、シリコーン層を熱硬化させた。この合成皮革製造用離型紙の層構成は、OK工程紙/R200+LP−09/X−62−9214となる。   On the obtained thermosetting composition film, a thermosetting silicone composition (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name “X-62-9214”) was similarly applied using a gravure coater, and the condition of 90 to 130 ° C. The silicone layer was thermally cured by heating and drying. The layer structure of the release paper for manufacturing synthetic leather is OK process paper / R200 + LP-09 / X-62-9214.

この合成皮革製造用離型紙を幾何学的なエンボス模様を有するエンボス版(大日本印刷株式会社製、柄名:1213)でエンボス加工を行い、高圧水銀灯を用い、紫外線照射を行い、前記熱硬化組成物膜を硬化させ、合成皮革製造用エンボス離型紙を得た。   The release paper for synthetic leather production is embossed with an embossed plate having a geometric embossed pattern (Dai Nippon Printing Co., Ltd., pattern name: 1213), irradiated with ultraviolet light using a high-pressure mercury lamp, and the thermosetting The composition film was cured to obtain an embossed release paper for producing synthetic leather.

この合成皮革製造用エンボス離型紙の倍率290倍の剥離層の拡大図を図3に、倍率720倍の剥離層の拡大図を図4に示す。また、剥離性の評価の際に形成したポリウレタン表皮層の倍率290倍の拡大図を図5に、倍率720倍の拡大図を図6に示す。図3に示すように、合成皮革製造用離型紙にはエンボスが明瞭に形成され、図4に示すように、フェノール系樹脂は、エンボスの凹部および凸部に均一に分散されていた。また、図5に示すように製造された合成皮革(ポリウレタン表皮層)にもエンボス模様が明瞭に形成され、図6に示すように、合成皮革製造用離型紙側からのフェノール系粒子の剥離は観察されなかった。このため、フェノール系粒子は、電離放射線硬化樹脂層に安定に存在している事が判明した。   FIG. 3 shows an enlarged view of the release layer at a magnification of 290 times and FIG. 4 shows an enlarged view of the release layer at a magnification of 720 times. An enlarged view of the polyurethane skin layer formed at the time of evaluation of peelability at a magnification of 290 times is shown in FIG. 5, and an enlarged view at a magnification of 720 times is shown in FIG. As shown in FIG. 3, the emboss was clearly formed on the release paper for synthetic leather production, and as shown in FIG. 4, the phenolic resin was uniformly dispersed in the concave and convex portions of the emboss. Also, the embossed pattern is clearly formed on the synthetic leather (polyurethane skin layer) produced as shown in FIG. 5, and as shown in FIG. 6, the release of the phenolic particles from the release paper side for producing synthetic leather Not observed. For this reason, it was found that the phenolic particles are stably present in the ionizing radiation curable resin layer.

また、エンボス版のシボ深さ、離型紙への転写率を測定し、その平均値を表7に示した。エンボス版は、約43.7μmのシボ深さであった。なお、本明細書における各種シボ深さは、株式会社キーエンス製レーザー顕微鏡VK−9510を用いて測定した。   Further, the embossed plate was subjected to measurement of the embossing depth and the transfer rate to the release paper, and the average values are shown in Table 7. The embossed plate had a grain depth of about 43.7 μm. In addition, various grain depths in this specification were measured using a laser microscope VK-9510 manufactured by Keyence Corporation.

(比較例1)
電離放射線硬化性組成物(東亞合成株式会社製、商品名「アロンLP−09」、固形分40質量%)100質量部に対しシリカ被覆メラミン系粒子(日産化学工業株式会社製、商品名「オプトビーズ 500S」、平均粒子径約0.5μm)を使用し、その配合量をそれぞれ4質量部、10質量部、17質量部、27質量部、40質量部、60質量部、74質量部に変更した以外は、実施例1と同様に操作して合成皮革製造用エンボス離型紙を得た。この合成皮革製造用エンボス離型紙の層構成は、OK工程紙/500S+LP−09/X−62−9214となる。
(Comparative Example 1)
Ionizing radiation curable composition (Toagosei Co., Ltd., trade name “Aron LP-09”, solid content 40% by mass) 100 parts by mass of silica-coated melamine particles (Nissan Chemical Industry Co., Ltd., trade name “Opto”) Beads 500S ”and average particle diameter of about 0.5 μm), and the blending amounts were changed to 4 parts by mass, 10 parts by mass, 17 parts by mass, 27 parts by mass, 40 parts by mass, 60 parts by mass, and 74 parts by mass, respectively. Except that, emboss release paper for synthetic leather production was obtained in the same manner as in Example 1. The layer structure of the embossed release paper for manufacturing synthetic leather is OK process paper / 500S + LP-09 / X-62-9214.

この合成皮革製造用エンボス離型紙について、実施例1と同様にしてグロス値、剥離性、混和性を評価した。結果を表5に示す。表5に示すように、粒子の大部分が沈降するため、40〜74質量部の配合域では、コート量がほとんど変化しなくなる。これは、同程度の平均粒子径である実施例3と比較すると、顕著な差であり、比重が約2.5の純粋なガラス粒子と比較して、比較的比重の小さい(真比重1.5g/cm3)シリカ被覆メラミン粒子であっても、混和性が低いといえる。したがって、シリカ粒子は有機溶液中においては凝集力が強く、混和性が低いことがわかる。 About this embossing release paper for synthetic leather manufacture, it carried out similarly to Example 1, and evaluated the gloss value, peelability, and miscibility. The results are shown in Table 5. As shown in Table 5, since most of the particles settle, the coating amount hardly changes in the blending range of 40 to 74 parts by mass. This is a significant difference compared to Example 3 which has an average particle diameter of the same level, and has a relatively small specific gravity (true specific gravity of 1.) as compared with pure glass particles having a specific gravity of about 2.5. 5 g / cm 3 ) Even silica-coated melamine particles have low miscibility. Therefore, it can be seen that the silica particles have strong cohesive force and low miscibility in the organic solution.

(比較例2)
坪量が157g/m2の紙基材層(王子製紙株式会社製、商品名「OK工程紙」)に、電離放射線硬化性組成物(東亞合成株式会社製、商品名「アロンLP−09」、固形分40質量%)100質量部に、全量が160質量部となるように溶剤を加えて混合してなる紫外線硬化組成溶液をグラビアコーターを用いて塗工し、90〜130℃の条件で加熱乾燥させ、この層を熱硬化させ、熱硬化組成物膜を得た。電離放射線硬化性組成物の乾燥塗工量は、約4.5g/m2であった。
(Comparative Example 2)
An ionizing radiation curable composition (manufactured by Toagosei Co., Ltd., trade name “Aron LP-09”) on a paper base material layer (made by Oji Paper Co., Ltd., trade name “OK Process Paper”) having a basis weight of 157 g / m 2 In addition, an ultraviolet curable composition solution obtained by adding a solvent and mixing so that the total amount becomes 160 parts by mass is added to 100 parts by mass using a gravure coater, and the condition is 90 to 130 ° C. The layer was heat-dried and the layer was heat-cured to obtain a thermosetting composition film. The dry coating amount of the ionizing radiation curable composition was about 4.5 g / m 2 .

得られた熱硬化組成物膜上に実施例4と同様に熱硬化シリコーン組成物(信越化学工業株式会社製、商品名「X−62−9214」)を同じくグラビアコーターを用いて塗工し、90〜130℃の条件で加熱乾燥させ、シリコーン層を熱硬化させ、合成皮革製造用離型紙を作製した。この合成皮革製造用離型紙の層構成は、OK工程紙/LP−09/X−62−9214となる。   On the obtained thermosetting composition film, a thermosetting silicone composition (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name “X-62-9214”) was applied using the same gravure coater as in Example 4. The silicone layer was heat-dried under the conditions of 90 to 130 ° C., and a release paper for producing synthetic leather was produced. The layer structure of the release paper for manufacturing synthetic leather is OK process paper / LP-09 / X-62-9214.

ついで、この合成皮革製造用離型紙を幾何学的なエンボス模様を有するエンボス版(大日本印刷株式会社製、柄名:1213)でエンボス加工を行い、高圧水銀灯を用い、紫外線照射を行い、前記熱硬化組成物膜を硬化させ、合成皮革製造用エンボス離型紙を得た。   Subsequently, the release paper for manufacturing synthetic leather is embossed with an embossed plate having a geometric embossed pattern (Dai Nippon Printing Co., Ltd., pattern name: 1213), irradiated with ultraviolet light using a high-pressure mercury lamp, The thermosetting composition film was cured to obtain an embossed release paper for producing synthetic leather.

得られた離型紙につき、実施例1と同様にグロス値、剥離性および混和性を評価した。結果を表6に示す。
また、これについても離型紙への転写率を測定し、その平均値を表7に示した。実施例4は、フェノール粒子を含有していない比較例2と比較して、同程度の転写率を示すことがわかる。したがって、実施例4と比較例2のグロス値の差は、フェノール粒子によってもたらされるシボよりも細かい表面の凹凸によることがわかる。
For the obtained release paper, the gloss value, peelability and miscibility were evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 6.
In this case, the transfer rate to the release paper was also measured, and the average value is shown in Table 7. It turns out that Example 4 shows the transfer rate comparable as compared with the comparative example 2 which does not contain a phenol particle. Therefore, it can be seen that the difference in the gloss value between Example 4 and Comparative Example 2 is due to the surface irregularities finer than the texture caused by the phenol particles.

また、剥離層の拡大図(720倍)を図7に示す。エンボス柄が形成されているが、粒子が配合されていないため、表面が滑らかであった。
(比較例3)
坪量が157g/m2の紙基材層(王子製紙株式会社製、商品名「OK工程紙」)に、電離放射線硬化性組成物(東亞合成株式会社製、商品名「アロンLP−09」、固形分40質量%)100質量部とシリコーンパウダー(信越化学工業株式会社製、商品名「KMP−600」、平均粒子径約5μm)32質量部に、全量が192質量部となるように溶剤を加えて混合してなる含シリコーンパウダー紫外線硬化組成溶液をメイヤーバー番手:#14を用いて塗膜厚さが乾燥後約8.8g/m2となるように塗工し、130℃で30秒の条件で加熱乾燥させ、この層を熱硬化させ、熱硬化組成物膜を得た。
Moreover, the enlarged view (720 times) of a peeling layer is shown in FIG. An embossed pattern was formed, but the surface was smooth because no particles were blended.
(Comparative Example 3)
An ionizing radiation curable composition (manufactured by Toagosei Co., Ltd., trade name “Aron LP-09”) on a paper base material layer (made by Oji Paper Co., Ltd., trade name “OK Process Paper”) having a basis weight of 157 g / m 2 , Solid content 40% by mass) 100 parts by mass and silicone powder (trade name “KMP-600”, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., average particle diameter of about 5 μm) 32 parts by mass with a total amount of 192 parts by mass The silicone-containing powder UV curable composition solution obtained by adding and mixing is applied with a Meyer bar number: # 14 so that the coating thickness is about 8.8 g / m 2 after drying, and is 30 at 130 ° C. The layer was heat-dried for 2 seconds, and this layer was thermally cured to obtain a thermosetting composition film.

得られた熱硬化組成物膜上に熱硬化シリコーン組成物(信越化学工業株式会社製、商品名「X−62−9214」)をメイヤーバー番手:#8を用いて塗布し、塗膜厚さが乾燥後約0.4g/m2となるように塗工し、同じく130℃で30秒の条件で加熱乾燥させ、シリコーン層を熱硬化させた。この合成皮革製造用離型紙の層構成は、OK工程紙/KMP−600+LP−09/X−62−9214となる。 On the obtained thermosetting composition film, a thermosetting silicone composition (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name “X-62-9214”) was applied using Meyer bar number: # 8, and the coating thickness There was applied to approximately 0.4 g / m 2 after drying, also heat-dried under conditions of 30 seconds at 130 ° C., and the silicone layer is thermally cured. The layer structure of the release paper for manufacturing synthetic leather is OK process paper / KMP-600 + LP-09 / X-62-9214.

ついで出力120W/cmの高圧水銀灯を用い、600mJ/cm2の紫外線照射を行い、前記熱硬化組成物膜を硬化させ、合成皮革製造用離型紙を得た。
得られた離型紙につき、実施例1と同様にグロス値、剥離性および混和性を評価した。結果を表6に示す。
Next, using a high-pressure mercury lamp with an output of 120 W / cm, irradiation with ultraviolet rays of 600 mJ / cm 2 was performed to cure the thermosetting composition film, thereby obtaining a release paper for producing synthetic leather.
For the obtained release paper, the gloss value, peelability and miscibility were evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 6.

シリコーンパウダーを配合すると、合成皮革全面にシリコーンパウダーが転移してしまうことがわかった。
(比較例4)
平均粒子径が約6μmのガラス粒子配合UV樹脂(DICグラフィックス株式会社製、商品名「FM−80」)100質量部に全量が160質量部となるように溶剤を加えて混合し含ガラス粒子紫外線硬化組成溶液を調製した。
It was found that when silicone powder was blended, the silicone powder transferred to the entire surface of the synthetic leather.
(Comparative Example 4)
Glass-containing particles obtained by adding a solvent to 100 parts by mass of glass resin-containing UV resin having an average particle size of about 6 μm (manufactured by DIC Graphics, trade name “FM-80”) so that the total amount becomes 160 parts by mass. An ultraviolet curable composition solution was prepared.

坪量125g/m2の紙基材層(北越紀州製紙株式会社製、商品名「H230」紙)に、熱可塑性樹脂(三井化学株式会社製、商品名「TPX」)を厚さ37μmとなるように塗工し、この上に、上記の含ガラス粒子紫外線硬化組成溶液を、グラビアコーターを用いて塗工し、90〜130℃の条件で加熱乾燥させ、この層を熱硬化させ、熱硬化組成物膜を得た。電離放射線硬化性組成物の乾燥塗工量は、約5.0g/m2であった。 A thermoplastic resin (trade name “TPX”, manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.) having a thickness of 37 μm is formed on a paper base layer (made by Hokuetsu Kishu Paper Co., Ltd., trade name “H230” paper) having a basis weight of 125 g / m 2. The above glass-containing particle ultraviolet curable composition solution is coated on the surface using a gravure coater, dried by heating at 90 to 130 ° C., and this layer is thermally cured and thermally cured. A composition film was obtained. The dry coating amount of the ionizing radiation curable composition was about 5.0 g / m 2 .

得られた熱硬化組成物膜上に実施例5と同様に熱硬化シリコーン組成物(信越化学工業株式会社製、商品名「X−62−9214」)を同じくグラビアコーターを用いて塗工し、90〜130℃の条件で加熱乾燥させ、シリコーン層を熱硬化させ、合成皮革用離型紙を作製した。この合成皮革製造用離型紙の層構成は、HR紙/TPX/FM−80/X−62−9214となる。   On the obtained thermosetting composition film, a thermosetting silicone composition (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name “X-62-9214”) was applied using the same gravure coater as in Example 5. Heat-dried under the conditions of 90 to 130 ° C., the silicone layer was thermally cured, and a release paper for synthetic leather was produced. The layer structure of the release paper for producing synthetic leather is HR paper / TPX / FM-80 / X-62-9214.

ついで、この合成皮革製造用離型紙を幾何学的なエンボス模様を有するエンボス版(大日本印刷株式会社製、柄名:1213)でエンボス加工を行い、高圧水銀灯を用い、紫外線照射を行い、前記熱硬化組成物膜を硬化させ、合成皮革製造用エンボス離型紙を得た。   Subsequently, the release paper for manufacturing synthetic leather is embossed with an embossed plate having a geometric embossed pattern (Dai Nippon Printing Co., Ltd., pattern name: 1213), irradiated with ultraviolet light using a high-pressure mercury lamp, The thermosetting composition film was cured to obtain an embossed release paper for producing synthetic leather.

得られた合成皮革製造用エンボス離型紙につき、実施例1と同様にグロス値、剥離性および混和性を評価した。結果を表6に示す。
この合成皮革製造用エンボス離型紙の倍率290倍の剥離層の拡大図を図8に、倍率720倍の剥離層の拡大図を図9に示す。ガラス粒子によって剥離層の表面に凹凸によるマット調が形成されているが、エンボス加工によってクラックが発生し、剥離層の表面から突出するガラス粒子が観察された。また、このガラス粒子配合UV樹脂「FM−80」は、電離放射線による硬化後に経時劣化が発生した。
About the obtained embossing release paper for synthetic leather manufacture, the gloss value, peelability, and miscibility were evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 6.
FIG. 8 shows an enlarged view of the release layer at a magnification of 290 times and FIG. 9 shows an enlarged view of the release layer at a magnification of 720 times. Although the matte tone by the unevenness | corrugation was formed on the surface of the peeling layer by the glass particle, the crack generate | occur | produced by embossing and the glass particle which protrudes from the surface of a peeling layer was observed. Further, the glass particle-containing UV resin “FM-80” deteriorated with time after being cured by ionizing radiation.

(比較例5)
平均粒子径が約6μmのガラス粒子を、実施例1と同種のUV樹脂(東亜合成株式会社製、商品名「アロンLP−07」、固形分45質量%)100質量部に45質量部配合させた後、全量が200質量部となるように溶剤を加えて混合し含ガラス粒子紫外線硬化組成溶液を調製した。しかし、含ガラス粒子紫外線硬化組成溶液中でガラス粒子が沈降し、含ガラス粒子紫外線硬化組成溶液は、紙基材層上に塗工することができず、このため合成皮革製造用離型紙ならびに合成皮革製造用エンボス離型紙を製造することができなかった。結果を表6に示す。
(Comparative Example 5)
45 parts by mass of glass particles having an average particle diameter of about 6 μm are blended with 100 parts by mass of the same type of UV resin as in Example 1 (trade name “Aron LP-07” manufactured by Toa Gosei Co., Ltd., solid content: 45% by mass). After that, a solvent was added and mixed so that the total amount was 200 parts by mass to prepare a glass-containing particle ultraviolet curable composition solution. However, the glass particles settle in the glass-containing particle UV curable composition solution, and the glass-containing particle UV curable composition solution cannot be coated on the paper base layer. An embossed release paper for leather production could not be produced. The results are shown in Table 6.

本発明の合成皮革製造用離型紙は、安価にマット調の合成皮革を製造することができ有用である。   The release paper for producing synthetic leather of the present invention is useful because it can produce mat-like synthetic leather at low cost.

10・・・熱硬化シリコーン層、
20・・・電離放射線硬化樹脂層、
30・・・紙基材層
10 ... thermosetting silicone layer,
20 ... ionizing radiation curable resin layer,
30 ... Paper base material layer

Claims (4)

紙基材層と、前記紙基材層の上に設けられた電離放射線硬化樹脂層と、前記電離放射線硬化樹脂層の上に形成された剥離層とからなる合成皮革製造用離型紙であって、
前記電離放射線硬化樹脂層は、乾燥電離放射線硬化樹脂層中に、平均粒子径1〜30μmのフェノール系粒子を10〜80質量%の範囲で含有することを特徴とする、合成皮革製造用離型紙。
A release paper for producing synthetic leather comprising a paper base layer, an ionizing radiation curable resin layer provided on the paper base layer, and a release layer formed on the ionizing radiation curable resin layer. ,
The ionizing radiation curable resin layer contains phenolic particles having an average particle diameter of 1 to 30 μm in a dry ionizing radiation curable resin layer in a range of 10 to 80% by mass, and is a release paper for producing synthetic leather. .
前記電離放射線硬化樹脂層は、
前記フェノール系粒子を配合した電離放射線硬化性組成物を電離放射線により硬化させたものである、請求項1記載の合成皮革製造用離型紙。
The ionizing radiation curable resin layer is
The release paper for synthetic leather manufacture according to claim 1, wherein the ionizing radiation curable composition containing the phenolic particles is cured by ionizing radiation.
請求項1または2記載の合成皮革製造用離型紙であって、前記剥離層側にエンボスが形成されることを特徴とする、エンボス付き離型紙。   The release paper for manufacturing synthetic leather according to claim 1 or 2, wherein an emboss is formed on the release layer side. 請求項1または2記載の合成皮革製造用離型紙、または請求項3記載のエンボス付き離型紙を使用して製造された合成皮革。   The synthetic leather manufactured using the release paper for synthetic leather manufacture of Claim 1 or 2, or the release paper with an embossing of Claim 3.
JP2011035737A 2011-02-22 2011-02-22 Release paper for synthetic leather production Active JP5724448B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011035737A JP5724448B2 (en) 2011-02-22 2011-02-22 Release paper for synthetic leather production

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011035737A JP5724448B2 (en) 2011-02-22 2011-02-22 Release paper for synthetic leather production

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2012172279A true JP2012172279A (en) 2012-09-10
JP5724448B2 JP5724448B2 (en) 2015-05-27

Family

ID=46975463

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011035737A Active JP5724448B2 (en) 2011-02-22 2011-02-22 Release paper for synthetic leather production

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5724448B2 (en)

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06240024A (en) * 1992-03-30 1994-08-30 Toray Ind Inc Prepreg and composite material
WO2006006713A1 (en) * 2004-07-13 2006-01-19 Lintec Corporation Releasing sheet and formed article obtained by using such releasing sheet
JP2006176926A (en) * 2004-12-22 2006-07-06 Dainippon Printing Co Ltd Embossed release paper and synthetic leather using the same
WO2007091593A1 (en) * 2006-02-07 2007-08-16 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Original sheet of embossed release sheet, embossed release sheet, method for producing original sheet of embossed release sheet, method for producing embossed release sheet, apparatus for producing embossed release sheet, synthetic leather, and method for producing synthetic leather
JP2008088565A (en) * 2006-09-29 2008-04-17 Nippon Paper Industries Co Ltd Base paper for mold release paper and process paper using the same
JP2010253779A (en) * 2009-04-24 2010-11-11 Dainippon Printing Co Ltd Laminate having uneven patterns of nano order, and manufacturing method thereof

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06240024A (en) * 1992-03-30 1994-08-30 Toray Ind Inc Prepreg and composite material
WO2006006713A1 (en) * 2004-07-13 2006-01-19 Lintec Corporation Releasing sheet and formed article obtained by using such releasing sheet
JP2006176926A (en) * 2004-12-22 2006-07-06 Dainippon Printing Co Ltd Embossed release paper and synthetic leather using the same
WO2007091593A1 (en) * 2006-02-07 2007-08-16 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Original sheet of embossed release sheet, embossed release sheet, method for producing original sheet of embossed release sheet, method for producing embossed release sheet, apparatus for producing embossed release sheet, synthetic leather, and method for producing synthetic leather
JP2008088565A (en) * 2006-09-29 2008-04-17 Nippon Paper Industries Co Ltd Base paper for mold release paper and process paper using the same
JP2010253779A (en) * 2009-04-24 2010-11-11 Dainippon Printing Co Ltd Laminate having uneven patterns of nano order, and manufacturing method thereof

Also Published As

Publication number Publication date
JP5724448B2 (en) 2015-05-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI301504B (en) Microparticle containing silicone release coatings having improved anti-block and release properties
JP5155645B2 (en) Transfer material manufacturing method and transfer material excellent in foil burr resistance
TWI541311B (en) Acrylic adhesive tape and manufacturing method thereof
TWI421164B (en) Transfer sheet and manufacturing method of a transfer sheet
TWI506069B (en) A hard film-forming laminate film, a roll film, and a hard coat film-forming hardening composition
CN107849369A (en) The curable composition of acrylate including simple function
TWI715030B (en) Curable compositions based on multistage polymers
TWI798300B (en) Release film and method for producing laminate
US20190092980A1 (en) Self-adhesive layer
TW201247408A (en) Base membrane of laminated body for transfer printing, laminated body for transfer printing, and manufacturing method of base membrane
JP2010228413A (en) Process release paper and method for manufacturing the same
JP2015509997A (en) Hard coating composition and decorative film with improved yellowing comprising the same
CN105980143A (en) Flexible microsphere articles having high temperature stability
WO2023109148A1 (en) Release liner that has exhaust function and is formed by means of radiation, preparation method therefor, and application thereof
JP6424894B2 (en) Latex ink, foil image forming method using the same, laminate, and wallpaper
TW201003311A (en) Resin composition for energy ray-curable layer and sheet for forming through hole
JP6014653B2 (en) Hard coating composition and sheet for forming hard coating excellent in low-temperature formability and slip property using the same
JP2014193524A (en) Transfer material, active energy curable resin composition used in hard coat layer of transfer material and method of producing mold excellent in wear resistance by using the transfer material
JP5724448B2 (en) Release paper for synthetic leather production
KR20170120754A (en) Dual curing type hard coating composition and decoration sheet using the same and method of manufacturing the decoration sheet
CN101511592A (en) Method of manufacturing structured release liner
JP5868120B2 (en) Partial mat transfer sheet and manufacturing method thereof
JP5116900B1 (en) Transfer sheet to suppress ink flow
JP2012207187A (en) Powder, ultraviolet-curing inkjet composition, and recorded matter
JP6416176B2 (en) Printable functional hard coat film and method for producing the same

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20131226

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20141010

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20141021

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20141219

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20150303

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20150316

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5724448

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150