JP2012156591A - Piezoelectric vibration piece, piezoelectric vibrator and electronic device - Google Patents

Piezoelectric vibration piece, piezoelectric vibrator and electronic device Download PDF

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満広 西田
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a piezoelectric vibration piece which has had its stress to a vibration part when mounted on-board relieved and a piezoelectric vibrator and an electronic device using the vibration piece.SOLUTION: A piezoelectric vibration piece 10 comprises a thin part 21 having a vibration part 22 and a thick part 17 provided on a periphery of the thin part 21 and greater in thickness than the thin part 21. The thick part 17 has a mount part 12 connected in a row thereto via a buffer part 14, characterized in that the buffer part 14 has a slit 16 between the mount part 12 and the thick part 17, and the mount part 12 has chamfered parts 18 at both ends thereof in an orthogonal direction to a direction in which the mount part 12, the buffer part 14 and the thick part 17 are arranged in a row, at least part in a longitudinal direction of the slit 16 being parallel to the orthogonal direction.

Description

本発明は、圧電振動片、およびこれを用いた圧電振動子、電子デバイスに関し、特に実装後に発生するマウント位置での応力の振動部への影響を緩和させる技術に関する。   The present invention relates to a piezoelectric vibrating piece, a piezoelectric vibrator using the same, and an electronic device, and more particularly to a technique for mitigating the influence of stress on a vibrating part at a mounting position generated after mounting.

従来、圧電振動片の実装形態には、導電性接着剤を塗布してパッケージに固着する形態がある。このように導電性接着剤で圧電振動片を支持すると、この導電性接着剤を硬化させるため乾燥等の熱処理で、圧電振動片、パッケージ、導電性接着剤のそれぞれの線膨張係数の違いによる歪みが固着部分に残ってしまい、固着部分からの振動部への応力、すなわちマウント歪みが振動領域に悪影響を与えてしまうという問題があった。   Conventionally, there is a form in which a piezoelectric vibrating piece is mounted and fixed to a package by applying a conductive adhesive. When the piezoelectric vibrating piece is supported by the conductive adhesive in this way, distortion due to differences in the linear expansion coefficients of the piezoelectric vibrating piece, the package, and the conductive adhesive is caused by heat treatment such as drying to cure the conductive adhesive. Remains in the fixed part, and there is a problem that stress from the fixed part to the vibration part, that is, mount distortion adversely affects the vibration region.

また、圧電振動片の小型化を図ろうとすると、圧電振動片の支持部に塗布された接着剤の硬化により生じた残留応力によって圧電振動片の共振周波数に経年変化が生じたり、あるいは励振電極の面積を小さくしなければならず、それによって圧電振動片としての電気的特性が劣化する問題が生じる。例えばインピーダンスが大きくなり、良好な特性を得られなくなるという問題があった。   In addition, when attempting to reduce the size of the piezoelectric vibrating piece, the resonant stress of the piezoelectric vibrating piece may change over time due to residual stress generated by the curing of the adhesive applied to the support portion of the piezoelectric vibrating piece, or the excitation electrode The area must be reduced, which causes a problem that the electrical characteristics of the piezoelectric vibrating piece deteriorate. For example, there is a problem that the impedance becomes large and good characteristics cannot be obtained.

そこで、このような問題に鑑みて、特許文献12においては、矩形のフラットな形状をしたATカット水晶基板等の厚みすべり圧電振動子に関し、支持部と振動部との間に切欠きやスリットを設けた構造について提案されている。
図19に特許文献12に係る圧電振動子を示し、図19(a)は圧電振動子を構成する圧電振動片の平面図、図19(b)は圧電振動子を構成する圧電振動片の底面図、図19(c)は圧電振動子の平面図、図19(d)は図19(c)のA−A´線断面図である。
Therefore, in view of such a problem, in Patent Document 12, regarding a thickness-slip piezoelectric vibrator such as an AT-cut quartz substrate having a rectangular flat shape, a notch or a slit is provided between the support portion and the vibration portion. Proposed structures are proposed.
19 shows a piezoelectric vibrator according to Patent Document 12. FIG. 19A is a plan view of a piezoelectric vibrating piece constituting the piezoelectric vibrator, and FIG. 19B is a bottom face of the piezoelectric vibrating piece constituting the piezoelectric vibrator. FIG. 19C is a plan view of the piezoelectric vibrator, and FIG. 19D is a cross-sectional view taken along the line AA ′ of FIG. 19C.

特許文献12においては、支持部602と振動部604とを有する矩形状の圧電振動子600が示されている。前記圧電振動子600の振動部604の上面と下面にそれぞれ形成した励振電極部606A、606Bと、前記励振電極部606A、606Bから前記(圧電振動子600の)支持部602の縁に引き出された入出力端子部608A、608Bとの間の圧電振動子600の主面上にスリット610が配置形成されている。これにより、前記励振電極部606A、606Bと前記入出力端子部608A、608Bとを物理的に隔離する構造としたものである。   In Patent Document 12, a rectangular piezoelectric vibrator 600 having a support portion 602 and a vibrating portion 604 is shown. The excitation electrode portions 606A and 606B formed on the upper surface and the lower surface of the vibration portion 604 of the piezoelectric vibrator 600, respectively, and the support electrode 602 (of the piezoelectric vibrator 600) are pulled out from the excitation electrode portions 606A and 606B. A slit 610 is disposed and formed on the main surface of the piezoelectric vibrator 600 between the input / output terminal portions 608A and 608B. Thus, the excitation electrode portions 606A and 606B are physically separated from the input / output terminal portions 608A and 608B.

上記構成において、圧電振動子600の支持部602と、圧電振動子600を収容する容器612内の底部の電極端子(不図示)とを固着並びに電気的に接続するための接着剤616が硬化すると、図19(c)の二点鎖線で示す方向、範囲にわたって、圧電振動子600に対する残留応力が発生することになる。しかし、このような構造においては、スリット610によってこの残留応力が振動部604に伝播しないように構成しており、スリット610の長手方向長を最適な長さに設定することによって、残留応力の伝搬方向を上述の二点鎖線で示した領域の外側に制限することができる。これにより、圧電振動子600の電気的な特性を損なうことなく、かつ圧電振動子の共振周波数の経年変化が小さい小型の圧電振動子600を製造することができるとされている。なお、類似の技術として、導電性接着剤を塗布する箇所と振動部の間にスリット(特許文献1乃至5参照)や切欠き(特許文献1、2、3、4、6、7、8参照)を設ける構成が開示されている。また、強度確保等のために、圧電振動片の中央部に窪みを形成して逆メサ型とすることが行われている(特許文献9乃至11参照)。   In the above configuration, when the adhesive 616 for fixing and electrically connecting the support portion 602 of the piezoelectric vibrator 600 and the electrode terminal (not shown) at the bottom of the container 612 containing the piezoelectric vibrator 600 is cured. In the direction and range shown by the two-dot chain line in FIG. However, in such a structure, the residual stress is not propagated to the vibrating portion 604 by the slit 610, and the residual stress is propagated by setting the length in the longitudinal direction of the slit 610 to an optimum length. The direction can be limited to the outside of the region indicated by the two-dot chain line. As a result, it is said that a small piezoelectric vibrator 600 can be manufactured without impairing the electrical characteristics of the piezoelectric vibrator 600 and with little secular change in the resonance frequency of the piezoelectric vibrator. In addition, as a similar technique, a slit (see Patent Documents 1 to 5) or a notch (see Patent Documents 1, 2, 3, 4, 6, 7, and 8) between the portion where the conductive adhesive is applied and the vibration part. ) Is disclosed. Further, in order to ensure the strength and the like, a recess is formed in the central portion of the piezoelectric vibrating piece to form an inverted mesa type (see Patent Documents 9 to 11).

特開昭59−040715号公報JP 59-040715 A 実開昭61−187116号公報Japanese Utility Model Publication No. 61-187116 特開2004−165798号公報JP 2004-165798 A 特開2009−158999号公報JP 2009-158999 A 特開2005−136705号公報JP 2005-136705 A 特許第4087186号公報Japanese Patent No. 4087186 特開2009−188483号公報JP 2009-188483 A 特開2010−130123号公報JP 2010-130123 A 特開2000−332571号公報JP 2000-332571 A 特開2009−164824号公報JP 2009-164824 A 特開2002−246869号公報JP 2002-246869 A 特開平9−326667号公報Japanese Patent Laid-Open No. 9-326667

しかし、近年このような圧電振動片を用いたデバイスの小型化並びに高性能化が加速した状況においては、前述のごとき上記いずれの構成であっても、マウント歪みを十分に取り除くことは困難であることが、以下に示すように本願発明者らにより見出された。   However, in the situation where the miniaturization and high performance of the device using such a piezoelectric vibrating piece have been accelerated in recent years, it is difficult to sufficiently remove the mount distortion in any of the above-described configurations. This has been found by the present inventors as shown below.

図20に圧電振動片のマウント部と振動部との間にスリットを形成した場合の応力分布を示し、図20(a)は圧電振動片のスリットのZ´軸方向の幅を150μmとした場合の応力分布、図20(b)は圧電振動片のスリットのZ´軸方向の幅を250μmとした場合の応力分布を示す。また、図21、図22に、圧電振動片の幅方向の両側でマウント部と振動部との間となる位置に切欠きを形成して、マウント部と振動部との間を連結する連結部を形成した場合の応力分布を示し、図21(a)は連結部のX軸方向の幅を400μmとした場合の応力分布、図21(b)は連結部のX軸方向の幅を300μmとした場合の応力分布、図22(a)は連結部のX軸方向の幅を200μmとした場合の応力分布、図22(b)は連結部のX軸方向の幅を100μmとした場合の応力分布を示す。   FIG. 20 shows a stress distribution when a slit is formed between the mount portion and the vibration portion of the piezoelectric vibrating piece. FIG. 20A shows a case where the width of the slit of the piezoelectric vibrating piece in the Z′-axis direction is 150 μm. FIG. 20B shows the stress distribution when the width of the slit of the piezoelectric vibrating piece in the Z′-axis direction is 250 μm. 21 and 22, a connecting portion that connects the mount portion and the vibrating portion by forming a notch at a position between the mount portion and the vibrating portion on both sides in the width direction of the piezoelectric vibrating piece. FIG. 21A shows the stress distribution when the width of the connecting portion in the X-axis direction is 400 μm, and FIG. 21B shows the width of the connecting portion in the X-axis direction of 300 μm. 22A shows the stress distribution when the width of the connecting portion in the X-axis direction is 200 μm, and FIG. 22B shows the stress when the width of the connecting portion in the X-axis direction is 100 μm. Show the distribution.

図20、図21、図22は、図中の導電性接着剤が塗布されるマウント部702のY´軸側の面上に示した円の中心の2点を基点として圧電振動片700に対して圧縮応力或いは引張応力を印加した場合の応力分布のシミュレーション結果を示したものである。この圧縮応力或いは引張応力(残留応力)は、圧電振動片、導電性接着剤、基板の熱膨張係数の違いにより、圧電振動片に印加される熱歪みにより発生する。   20, 21, and 22 show the piezoelectric vibrating piece 700 with respect to the two points at the center of the circle shown on the surface on the Y′-axis side of the mount portion 702 to which the conductive adhesive in FIG. 6 shows a simulation result of stress distribution when compressive stress or tensile stress is applied. This compressive stress or tensile stress (residual stress) is generated by thermal strain applied to the piezoelectric vibrating piece due to differences in the thermal expansion coefficients of the piezoelectric vibrating piece, the conductive adhesive, and the substrate.

図20、図21、図22において、X軸、Y´軸、Z´軸は互いに直交するものとし、圧電振動片700は、Y´軸に平行な方向を法線とする主面を有し、Z´軸に平行な方向及びX軸に平行な方向にそれぞれ縁辺を有する板状の外形を有している。また圧電振動片700の主面を貫通する貫通孔としてスリット704が形成されている。よって、圧電振動片700において、マウント部702、スリット704、振動部706が横並びに配置された形となる。図20において、圧電振動片700は、マウント部702、スリット704、振動部706が並ぶ方向(Z´軸方向)の長さが1500μm、X軸方向の幅が1000μmの外形を有している。またスリット704のX軸方向(長辺)の長さは650μmである。そしてマウント部702側のスリット704の長辺からマウント部702の端部までのZ´軸方向の幅は、図20(a)において350μm、図20(b)においては250μmとしている。またスリット704のZ´軸方向の幅は、図20(a)において150μm、図20(b)において250μmとしている。すなわち、図20(a)と図20(b)では、スリット704のZ´軸方向の位置と幅を変化させている。   20, 21, and 22, the X axis, the Y ′ axis, and the Z ′ axis are orthogonal to each other, and the piezoelectric vibrating piece 700 has a main surface whose normal is a direction parallel to the Y ′ axis. , And a plate-like outer shape each having an edge in a direction parallel to the Z ′ axis and a direction parallel to the X axis. A slit 704 is formed as a through-hole penetrating the main surface of the piezoelectric vibrating piece 700. Therefore, in the piezoelectric vibrating piece 700, the mount portion 702, the slit 704, and the vibrating portion 706 are arranged side by side. In FIG. 20, the piezoelectric vibrating piece 700 has an outer shape in which the length in the direction in which the mount portion 702, the slit 704, and the vibrating portion 706 are aligned (Z′-axis direction) is 1500 μm and the width in the X-axis direction is 1000 μm. The length of the slit 704 in the X-axis direction (long side) is 650 μm. The width in the Z′-axis direction from the long side of the slit 704 on the mount portion 702 side to the end of the mount portion 702 is 350 μm in FIG. 20A and 250 μm in FIG. The width of the slit 704 in the Z′-axis direction is 150 μm in FIG. 20A and 250 μm in FIG. That is, in FIG. 20A and FIG. 20B, the position and width of the slit 704 in the Z′-axis direction are changed.

そして、図20、図21、図22の図中の左に縦一列に並べられた複数の模様は、それぞれ圧電振動片700が受ける応力の強度を示し、上の模様に行くほど応力が大きいことを示し、下の模様に行くほど応力が小さいことを示す。そして圧電振動片700が受ける応力の強度の分布を、上述の模様を用いて表している。   20, 21, and 22, the plurality of patterns arranged in a vertical line on the left indicate the strength of the stress received by the piezoelectric vibrating piece 700, and the stress increases as it goes to the upper pattern. And the lower the pattern, the lower the stress. And the distribution of the intensity of the stress which the piezoelectric vibrating piece 700 receives is represented using the above-mentioned pattern.

図20に示すように、このように小さな圧電振動片700においては、スリット16を形成しても、さらにスリット16の位置や幅を変化させても、マウント部12で発生した熱歪みに起因する応力を解消しきれずに、強い応力が圧電振動片700の振動部706にまで達していることがわかる。よって圧電振動片700の共振周波数の安定性等の電気的特性に悪影響を与えるという問題がある。   As shown in FIG. 20, in such a small piezoelectric vibrating piece 700, even if the slit 16 is formed or the position or width of the slit 16 is changed, it is caused by the thermal strain generated in the mount portion 12. It can be seen that the strong stress reaches the vibrating portion 706 of the piezoelectric vibrating piece 700 without completely eliminating the stress. Therefore, there is a problem that the electrical characteristics such as the stability of the resonance frequency of the piezoelectric vibrating piece 700 are adversely affected.

図21、図22に示す圧電振動片700は、特許文献6、7のような従来技術に係るマウント部702と振動部706との間において圧電振動片700の幅方向の両端に切欠き708を形成した、所謂切欠き構造となっている。この構造では、切欠き708により形成された連結部710の幅を狭くしていくことにより、マウント部702で発生した応力の振動部706への伝播が緩和されていく様子が観察される。しかし、連結部710のみで振動部706を支持する構造では耐落下衝撃等の強度面で不利となり実用性に乏しいという問題がある。   The piezoelectric vibrating piece 700 shown in FIG. 21 and FIG. 22 has notches 708 at both ends in the width direction of the piezoelectric vibrating piece 700 between the mount portion 702 and the vibrating portion 706 according to the related art as in Patent Documents 6 and 7. A so-called notch structure is formed. In this structure, it is observed that the propagation of the stress generated in the mount portion 702 to the vibration portion 706 is reduced by reducing the width of the connecting portion 710 formed by the notch 708. However, the structure in which the vibrating portion 706 is supported only by the connecting portion 710 is disadvantageous in terms of strength such as a drop impact resistance and has a problem of poor practicality.

そこで本発明は上記問題点に着目し、強度を確保しつつマウント部から振動領域への応力の伝播を十分に緩和することを可能にした圧電振動片、圧電振動子、電子デバイスを提供することを目的とする。   Accordingly, the present invention focuses on the above problems and provides a piezoelectric vibrating piece, a piezoelectric vibrator, and an electronic device that can sufficiently relax the propagation of stress from the mount portion to the vibration region while ensuring strength. With the goal.

本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の適用例として実現することが可能である。   SUMMARY An advantage of some aspects of the invention is to solve at least a part of the problems described above, and the invention can be implemented as the following application examples.

[適用例1]振動部を有する薄肉部と、前記薄肉部の周縁に設けられ、前記薄肉部より厚い厚肉部とを備えた圧電振動片であって、前記厚肉部には、緩衝部を介してマウント部が横並びに接続され、前記緩衝部は、前記マウント部と前記厚肉部との間にスリットを有し、前記マウント部は、前記マウント部と前記緩衝部と前記厚肉部との並ぶ方向に対して直交方向の両端部に、面取り部を有し、前記スリットの長手方向の少なくとも一部は前記直交方向と平行であることを特徴とする圧電振動片。   Application Example 1 A piezoelectric vibrating piece including a thin part having a vibration part and a thick part provided at a periphery of the thin part and thicker than the thin part. The mount part is connected side by side, the buffer part has a slit between the mount part and the thick part, and the mount part includes the mount part, the buffer part, and the thick part. A piezoelectric vibrating piece having chamfered portions at both ends in a direction orthogonal to the direction in which the slits are arranged, and at least a part of the longitudinal direction of the slit is parallel to the orthogonal direction.

圧電振動片はマウント部に導電性接着剤を塗布することにより基板に接続される。しかし、これによりマウント部と導電性接着剤との間に熱歪みが生じ、これが圧電振動片全体に応力として伝播することになる。しかし、マウント部に形成された面取り部により、マウント部の端部は短くなる。これにより、マウント部に接着される導電性接着剤同士の距離が短くなるため、導電性接着剤とマウント部との間で発生する応力そのものを小さくすることができる。またマウント部と導電性接着剤との間で発生した応力は振動部側に向かって直進的に進む成分が最も大きな応力を有している。しかし、応力が最も強く伝播する直進的な経路上にスリットが配置された形となるので、その直進的な経路は遮断され、スリットを迂回する応力の成分のみが振動部側に伝播可能となる。しかし、その応力は、振動部側に進行するたびに前記応力の進行路(伝播路)が曲げられることになるので大きな割合で応力が緩和される。よって応力が振動部に伝播する前に十分に緩和させることができ、振動部への応力の影響を緩和することが可能な圧電振動片となる。また従来技術で述べた所謂切欠き構造ではなく、スリットの長手方向の両端でマウント部と振動部側とを連結する形となっているので、圧電振動片を小型化してもその強度を維持することができる。   The piezoelectric vibrating piece is connected to the substrate by applying a conductive adhesive to the mount portion. However, this causes thermal distortion between the mount portion and the conductive adhesive, which propagates as stress throughout the piezoelectric vibrating piece. However, the end portion of the mount portion is shortened by the chamfered portion formed in the mount portion. Thereby, since the distance between the conductive adhesives bonded to the mount portion is shortened, the stress itself generated between the conductive adhesive and the mount portion can be reduced. Further, the stress generated between the mount portion and the conductive adhesive has the largest stress component that advances straight toward the vibration portion side. However, since the slit is arranged on the straight path through which stress is most strongly propagated, the straight path is blocked and only the stress component that bypasses the slit can propagate to the vibrating part side. . However, the stress is relieved at a large rate because the stress propagation path (propagation path) is bent each time the stress progresses toward the vibration part. Therefore, the piezoelectric vibrating piece can be sufficiently relaxed before the stress propagates to the vibrating portion, and the influence of the stress on the vibrating portion can be mitigated. Also, not the so-called notch structure described in the prior art, but the shape in which the mount portion and the vibrating portion side are connected at both ends in the longitudinal direction of the slit, so that the strength is maintained even if the piezoelectric vibrating piece is miniaturized. be able to.

[適用例2]前記スリットの前記長手方向の両端部が前記スリットの長手方向の中央部よりも前記マウント部側に位置するように屈曲或いは湾曲した形状を有することを特徴とする適用例1に記載の圧電振動片。
上記構成により、実装時にマウント部において発生した応力をスリットが取り囲む形となるので、薄肉部側への応力の漏れを低減して、振動部への応力の影響を緩和することができる。
[Application Example 2] In Application Example 1, wherein both ends of the slit in the longitudinal direction are bent or curved so as to be positioned closer to the mount part than the center part in the longitudinal direction of the slit. The piezoelectric vibrating piece according to the description.
With the above configuration, since the slit surrounds the stress generated in the mount portion during mounting, the leakage of stress to the thin portion side can be reduced, and the influence of the stress on the vibration portion can be reduced.

[適用例3]前記スリットには、前記緩衝部より薄肉に形成され前記スリットの前記両端部から前記スリットの中央部に向かって延びる補強部が配置されたことを特徴とする適用例1または2に記載の圧電振動片。
上記構成により、スリットの振動部側への応力の伝播を制限する効果を損なうことなく、緩衝部の強度を確保することができる。
Application Example 3 Application Example 1 or 2 in which the slit is provided with a reinforcing portion that is thinner than the buffer portion and extends from the both end portions of the slit toward the central portion of the slit. The piezoelectric vibrating piece according to 1.
With the above configuration, the strength of the buffer portion can be ensured without impairing the effect of limiting the propagation of stress to the vibrating portion side of the slit.

[適用例4]前記スリットの前記長手方向の両端部が前記スリットの長手方向の中央部よりも前記薄肉部側に位置するように屈曲或いは湾曲した形状を有し、前記両端部側と前記面取り部との間に、前記両端部側から前記面取り部に向かって延びる溝が形成されたことを特徴とする適用例1に記載の圧電振動片。   Application Example 4 The slit has a shape that is bent or curved so that both end portions in the longitudinal direction of the slit are positioned on the thin-walled portion side with respect to the center portion in the longitudinal direction of the slit. The piezoelectric vibrating piece according to Application Example 1, wherein a groove extending from the both end portions toward the chamfered portion is formed between the two portions.

上記構成により、スリットは、実装時にマウント部において発生した応力をある程度スリットの両端側に受け流す形となるが、その受け流された応力を溝でせき止めることができる。これによりマウント部で発生した応力は、マウント部と、緩衝部のスリットのマウント部側において均一化される。したがって、圧電振動片を量産した場合の応力分布のバラつきを抑制することができ、これにより圧電振動片の周波数特性等の特性のバラつきを抑制して、コストを抑制することができる。   With the above configuration, the slit has a shape in which the stress generated in the mount portion during mounting is received to some extent on both ends of the slit, but the received stress can be blocked by the groove. As a result, the stress generated in the mount part is equalized on the mount part and the mount part side of the slit of the buffer part. Therefore, it is possible to suppress the variation in the stress distribution when the piezoelectric vibrating piece is mass-produced, thereby suppressing the variation in the characteristics such as the frequency characteristic of the piezoelectric vibrating piece, thereby reducing the cost.

[適用例5]水晶の結晶軸である、電気軸としてのX軸と、機械軸としてのY軸と、光学軸としてのZ軸と、からなる直交座標系の前記X軸を中心として、前記Z軸を前記Y軸の−Y方向へ傾けた軸とZ′軸とし、前記Y軸を前記Z軸の+Z方向へ傾けた軸をY′軸とし、前記X軸と前記Z′軸に平行な面で構成され、前記Y′軸に平行な方向を厚みとするATカット水晶からなることを特徴とする適用例1乃至4のいずれか1例に記載の圧電振動片。
上記構成により、厚みすべり振動を効率的に発振可能な圧電振動片となる。
Application Example 5 With respect to the X axis of an orthogonal coordinate system including an X axis as an electric axis, a Y axis as a mechanical axis, and a Z axis as an optical axis, which are crystal axes of quartz, The Z-axis is an axis tilted in the −Y direction of the Y-axis and the Z′-axis, the Y-axis is an axis tilted in the + Z-direction of the Z-axis and the Y′-axis is parallel to the X-axis and the Z′-axis. 5. The piezoelectric vibrating piece according to any one of Application Examples 1 to 4, wherein the piezoelectric vibrating piece is made of an AT-cut quartz crystal having a thickness in a direction parallel to the Y ′ axis.
With the above configuration, a piezoelectric vibrating piece capable of efficiently oscillating thickness shear vibration is obtained.

[適用例6]前記振動部の両面には前記振動部を振動させる励振電極が形成され、前記マウント部の実装面には、各励振電極と電気的に接続された一対の引出電極が形成され、前記薄肉部は、前記実装面の反対面側に偏って前記厚肉部に接続されたことを特徴とする適用例1乃至5のいずれか1例に記載の圧電振動片。   Application Example 6 Excitation electrodes for vibrating the vibration unit are formed on both surfaces of the vibration unit, and a pair of extraction electrodes electrically connected to the excitation electrodes are formed on the mounting surface of the mount unit. The piezoelectric vibrating piece according to any one of Application Examples 1 to 5, wherein the thin-walled portion is connected to the thick-walled portion while being biased toward the surface opposite to the mounting surface.

上記構成により、薄肉部と厚肉部との実装面側の境界には厚み方向に段差が形成される。よって、引出電極に塗布される導電性接着剤と振動部との距離が、前述の段差の分だけ遠くなるので、振動部に到達する応力をより多く緩和させることができる。   With the above configuration, a step is formed in the thickness direction at the boundary on the mounting surface side between the thin portion and the thick portion. Therefore, since the distance between the conductive adhesive applied to the extraction electrode and the vibration part is increased by the above-described step, the stress reaching the vibration part can be more relaxed.

[適用例7]前記振動部は、前記薄肉部よりも厚くなっていることを特徴とする適用例1乃至6のいずれか1例に記載の圧電振動片。
上記構成により、厚みすべり振動を振動部に閉じこめ、励振効率を高めることができる。
Application Example 7 The piezoelectric vibrating piece according to any one of Application Examples 1 to 6, wherein the vibrating portion is thicker than the thin portion.
With the above configuration, the thickness shear vibration can be confined to the vibration part, and the excitation efficiency can be increased.

[適用例8]基板を有し、適用例1乃至7のいずれか1例に記載の圧電振動片のマウント部の実装面を前記基板側に向け、前記マウント部と前記基板とを導電性接着剤で接着することにより前記圧電振動片を実装してなることを特徴とする圧電振動子。
上記構成により、振動部への応力を緩和させた圧電振動子となる。
Application Example 8 Having a substrate, the mounting surface of the mounting portion of the piezoelectric vibrating piece according to any one of Application Examples 1 to 7 is directed to the substrate side, and the mount portion and the substrate are conductively bonded. A piezoelectric vibrator comprising the piezoelectric vibrating piece mounted by bonding with an agent.
With the above configuration, a piezoelectric vibrator in which stress on the vibration part is relaxed is obtained.

[適用例9]基板を有し、適用例1乃至7のいずれか1例に記載の圧電振動片のマウント部の実装面を前記基板側に向け、前記マウント部と前記基板とを導電性接着剤で接着することにより前記圧電振動片を実装し、少なくとも一以上の電子部品を備えてなることを特徴とする電子デバイス。
上記構成により、振動部への応力を緩和させた電子デバイスとなる。
Application Example 9 Having a substrate, the mounting surface of the mounting portion of the piezoelectric vibrating piece according to any one of Application Examples 1 to 7 is directed to the substrate side, and the mount portion and the substrate are conductively bonded. An electronic device comprising: the piezoelectric vibrating piece mounted by bonding with an agent; and at least one electronic component.
With the above configuration, an electronic device in which stress on the vibration part is relaxed is obtained.

[適用例10]適用例9に記載の電子デバイスにおいて、前記電子部品が、サーミスタ、コンデンサ、リアクタンス素子、半導体素子のうちのいずれかであることを特徴とする電子デバイス。
上記構成により、圧電振動片を発振源として用いた電子デバイスを構築することができる。
Application Example 10 In the electronic device according to Application Example 9, the electronic component is any one of a thermistor, a capacitor, a reactance element, and a semiconductor element.
With the above configuration, an electronic device using the piezoelectric vibrating piece as an oscillation source can be constructed.

第1実施形態に係る圧電振動片の模式図であり、図1(a)は平面図、図1(b)は底面図、図1(c)は水晶基板のカット角を表す図である。FIG. 1A is a schematic view of a piezoelectric vibrating piece according to a first embodiment, FIG. 1A is a plan view, FIG. 1B is a bottom view, and FIG. 1C is a diagram illustrating a cut angle of a quartz substrate. 第1実施形態に係る圧電振動片の模式図であり、図2(a)は正面図、図2(b)は背面図、図2(c)は図1(a)のA−A線断面図、図2(d)は図1(a)のB−B線断面図である。2A and 2B are schematic views of the piezoelectric vibrating piece according to the first embodiment, in which FIG. 2A is a front view, FIG. 2B is a rear view, and FIG. 2C is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. FIG. 2 and FIG. 2D are cross-sectional views taken along the line BB of FIG. 第1実施形態に係る圧電振動片の製造工程(薄肉部形成工程)を示す図である。It is a figure which shows the manufacturing process (thin wall part formation process) of the piezoelectric vibrating piece which concerns on 1st Embodiment. 第1実施形態に係る圧電振動片の製造工程(外形形成工程)を示す図である。It is a figure which shows the manufacturing process (outer shape formation process) of the piezoelectric vibrating piece which concerns on 1st Embodiment. 第1実施形態に係る圧電振動片の製造工程(電極形成工程)を示す図である。It is a figure which shows the manufacturing process (electrode formation process) of the piezoelectric vibrating piece which concerns on 1st Embodiment. 第2実施形態に係る圧電振動片の模式図であり、図6(a)は平面図、図6(b)は底面図、図6(c)は図6(a)のA−A線断面図、図6(d)は図1(a)のB−B線断面図である。FIG. 6A is a schematic view of a piezoelectric vibrating piece according to a second embodiment, FIG. 6A is a plan view, FIG. 6B is a bottom view, and FIG. 6C is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. FIG. 6 and FIG. 6D are cross-sectional views taken along the line BB in FIG. 第2実施形態に係る圧電振動片の変形例の模式図であり、図7(a)は平面図、図7(b)は底面図、図7(c)は図7(a)のA−A線断面図、図7(d)は図7(a)のB−B線断面図である。FIG. 7A is a schematic view of a modified example of the piezoelectric vibrating piece according to the second embodiment, FIG. 7A is a plan view, FIG. 7B is a bottom view, and FIG. 7C is an A- in FIG. FIG. 7D is a cross-sectional view taken along line A, and FIG. 7D is a cross-sectional view taken along line BB in FIG. 第3実施形態に係る圧電振動片の模式図であり、図8(a)は平面図、図8(b)は底面図である。FIG. 8A is a schematic view of a piezoelectric vibrating piece according to a third embodiment, FIG. 8A is a plan view, and FIG. 8B is a bottom view. 第3実施形態に係る圧電振動片の変形例の模式図であり、図9(a)は平面図、図9(b)は底面図である。FIG. 9A is a schematic view of a modification of the piezoelectric vibrating piece according to the third embodiment, FIG. 9A is a plan view, and FIG. 9B is a bottom view. 第4実施形態に係る圧電振動片の模式図であり、図10(a)は平面図、図10(b)は底面図である。FIG. 10A is a schematic view of a piezoelectric vibrating piece according to a fourth embodiment, FIG. 10A is a plan view, and FIG. 10B is a bottom view. 第5実施形態に係る圧電振動片の模式図であり、図11(a)は平面図、図11(b)は底面図である。FIG. 11A is a schematic view of a piezoelectric vibrating piece according to a fifth embodiment, FIG. 11A is a plan view, and FIG. 11B is a bottom view. 第5実施形態に係る圧電振動片の変形例の模式図であり、図12(a)は平面図、図12(b)は底面図である。FIG. 12A is a schematic diagram of a modification of the piezoelectric vibrating piece according to the fifth embodiment, FIG. 12A is a plan view, and FIG. 12B is a bottom view. 本実施形態の圧電振動片のマウント部に応力を印加した場合の応力の強度分布を示す図である。It is a figure which shows strength distribution of the stress at the time of applying a stress to the mount part of the piezoelectric vibrating piece of this embodiment. 本実施形態の圧電振動片を搭載した圧電振動子の模式図を示し、図14(a)は図6に示す圧電振動片を搭載した場合の圧電振動子の平面図、図14(b)は図14(a)のA−A線断面図である。FIG. 14A is a schematic diagram of a piezoelectric vibrator equipped with the piezoelectric vibrating piece of the present embodiment, FIG. 14A is a plan view of the piezoelectric vibrator when the piezoelectric vibrating piece shown in FIG. 6 is installed, and FIG. It is the sectional view on the AA line of Fig.14 (a). 図1に示す圧電振動片を搭載した電子デバイスの分解斜視図である。It is a disassembled perspective view of the electronic device carrying the piezoelectric vibrating piece shown in FIG. 本実施形態の圧電振動片を搭載した電子デバイスの模式図であり、図16(a)は図15に図6に示す圧電振動片を搭載した場合のA−A線断面図であって、図16(b)は図15において図7に示す圧電振動片を搭載した場合のA−A線断面図である。FIG. 16A is a schematic diagram of an electronic device on which the piezoelectric vibrating piece of the present embodiment is mounted, and FIG. 16A is a cross-sectional view taken along line AA when the piezoelectric vibrating piece shown in FIG. 16B is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. 15 when the piezoelectric vibrating piece shown in FIG. 7 is mounted. 本実施形態の電子デバイスの第1変形例の模式図である。It is a schematic diagram of the 1st modification of the electronic device of this embodiment. 本実施形態の電子デバイスの第2変形例の模式図である。It is a schematic diagram of the 2nd modification of the electronic device of this embodiment. 特許文献12に係る圧電振動素子の模式図であり、図19(a)は圧電振動素子を構成する圧電振動片の平面図、図19(b)は圧電振動素子を構成する圧電振動片の底面図、図19(c)は圧電振動素子の平面図、図19(d)は図19(c)のA−A´線断面図である。FIG. 19A is a schematic diagram of a piezoelectric vibrating element according to Patent Document 12, FIG. 19A is a plan view of a piezoelectric vibrating piece constituting the piezoelectric vibrating element, and FIG. 19B is a bottom surface of the piezoelectric vibrating piece constituting the piezoelectric vibrating element. FIG. 19C is a plan view of the piezoelectric vibration element, and FIG. 19D is a cross-sectional view taken along the line AA ′ of FIG. 19C. 圧電振動片のマウント部と振動部との間にスリットを形成した場合の応力分布を示し、図20(a)は圧電振動片のスリットのZ´軸方向の幅を150μmとした場合の応力分布、図20(b)は圧電振動片のスリットのZ´軸方向の幅を250μmとした場合の応力分布である。FIG. 20A shows the stress distribution when a slit is formed between the mount portion and the vibrating portion of the piezoelectric vibrating piece, and FIG. 20A shows the stress distribution when the Z′-axis direction width of the slit of the piezoelectric vibrating piece is 150 μm. FIG. 20B shows the stress distribution when the width of the slit of the piezoelectric vibrating piece in the Z′-axis direction is 250 μm. 圧電振動片の幅方向の両側でマウント部と振動部との間となる位置に切欠きを形成して、マウント部と振動部との間を連結する連結部を形成した場合の応力分布を示し、図21(a)は連結部のX軸方向の幅を400μmとした場合の応力分布、図21(b)は連結部のX軸方向の幅を300μmとした場合の応力分布である。Shows the stress distribution when notches are formed on the both sides of the piezoelectric vibrating piece in the width direction between the mount and the vibration part to form a connecting part that connects the mount and the vibration part. FIG. 21A shows the stress distribution when the width of the connecting portion in the X-axis direction is 400 μm, and FIG. 21B shows the stress distribution when the width of the connecting portion in the X-axis direction is 300 μm. 圧電振動片の幅方向の両側でマウント部と振動部との間となる位置に切欠きを形成して、マウント部と振動部との間を連結する連結部を形成した場合の応力分布を示し、図22(a)は連結部のX軸方向の幅を200μmとした場合の応力分布、図22(b)は連結部のX軸方向の幅を100μmとした場合の応力分布である。Shows the stress distribution when notches are formed on the both sides of the piezoelectric vibrating piece in the width direction between the mount and the vibration part to form a connecting part that connects the mount and the vibration part. 22A shows the stress distribution when the width of the connecting portion in the X-axis direction is 200 μm, and FIG. 22B shows the stress distribution when the width of the connecting portion in the X-axis direction is 100 μm.

以下、本発明を図に示した実施形態を用いて詳細に説明する。但し、この実施形態に記載される構成要素、種類、組み合わせ、形状、その相対配置などは特定的な記載がない限り、この発明の範囲をそれのみに限定する主旨ではなく単なる説明例に過ぎない。なお以下の説明に用いられる図において、X軸、Y′軸、Z′軸は互いに直交するものとする。   Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to embodiments shown in the drawings. However, the components, types, combinations, shapes, relative arrangements, and the like described in this embodiment are merely illustrative examples and not intended to limit the scope of the present invention only unless otherwise specified. . In the drawings used in the following description, the X axis, the Y ′ axis, and the Z ′ axis are assumed to be orthogonal to each other.

第1実施形態に係る圧電振動片を図1、図2に示す。図1(a)は平面図、図1(b)は底面図、図1(c)は水晶基板のカット角を表す図、図2(a)は正面図、図2(b)は背面図、図2(c)は図1(a)のA−A線断面図、図2(d)は図1(a)のB−B線断面図である。本実施形態に係る圧電振動片10は、図1(c)に示すように、圧電素板11として、水晶の結晶軸である、電気軸としてのX軸と、機械軸としてのY軸と、光学軸としてのZ軸と、からなる直交座標系の前記X軸を中心として、前記Z軸を前記Y軸の−Y方向へ(約35°15′)傾けた軸をZ′軸とし、前記Y軸を前記Z軸の+Z方向へ(約35°15′)傾けた軸をY′軸とし、前記X軸と前記Z′軸に平行な面で構成され、前記Y′軸に平行な方向を厚みとするATカット水晶を採用している。これにより、厚みすべり振動を効率的に発振可能な圧電振動片10となる。   The piezoelectric vibrating piece according to the first embodiment is shown in FIGS. 1 (a) is a plan view, FIG. 1 (b) is a bottom view, FIG. 1 (c) is a diagram showing a cut angle of a quartz substrate, FIG. 2 (a) is a front view, and FIG. 2 (b) is a rear view. 2 (c) is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. 1 (a), and FIG. 2 (d) is a cross-sectional view taken along line BB in FIG. 1 (a). As shown in FIG. 1C, the piezoelectric vibrating piece 10 according to the present embodiment includes, as the piezoelectric element plate 11, an X axis as an electric axis, which is a crystal axis of quartz, a Y axis as a mechanical axis, An axis obtained by tilting the Z axis in the −Y direction of the Y axis (about 35 ° 15 ′) around the X axis of the orthogonal coordinate system comprising the Z axis as an optical axis is defined as the Z ′ axis, and An axis obtained by inclining the Y axis in the + Z direction (about 35 ° 15 ′) of the Z axis is defined as a Y ′ axis, and is configured by a plane parallel to the X axis and the Z ′ axis. Uses an AT-cut quartz with a thickness of. As a result, the piezoelectric vibrating piece 10 capable of efficiently oscillating thickness shear vibration is obtained.

そして上述のATカット水晶素板を用い、短辺方向を前記X軸方向、長辺方向を前記Z′軸方向とする矩形形状の外形を有する圧電振動片10を形成している。この圧電振動片10は、周縁に厚肉部17(補強部)を残したウエットエッチングにより、前記厚肉部17よりも厚みが薄く形成された薄肉部21(振動部22)を有する逆メサ型の振動部22を有した構造となっている。また圧電振動片10は、長辺方向(Z´軸方向)に並んでマウント部12、緩衝部14、厚肉部17(振動部22)が順に接続された形態を有している。すなわち、厚肉部17には、緩衝部14を介してマウント部12が横並びで接続されている。また圧電振動片10は、図1(a)のA−A線を中心線として線対称な形状を有している。上記外形を有する圧電振動片10はマウント部12側を固定端とし、振動部22側を自由端として片持ち支持状態で、実装先の基板34に導電性接着剤32により固定される。   Then, the above-described AT-cut quartz base plate is used to form the piezoelectric vibrating piece 10 having a rectangular outer shape with the short side direction as the X-axis direction and the long side direction as the Z′-axis direction. The piezoelectric vibrating piece 10 has an inverted mesa type having a thin portion 21 (vibrating portion 22) formed to be thinner than the thick portion 17 by wet etching with a thick portion 17 (reinforcing portion) left at the periphery. It has a structure having a vibrating portion 22. In addition, the piezoelectric vibrating piece 10 has a configuration in which the mount portion 12, the buffer portion 14, and the thick portion 17 (vibrating portion 22) are sequentially connected in the long side direction (Z′-axis direction). That is, the mount part 12 is connected to the thick part 17 side by side through the buffer part 14. The piezoelectric vibrating piece 10 has a line-symmetric shape with the AA line in FIG. The piezoelectric vibrating reed 10 having the above outer shape is fixed to the mounting substrate 34 by the conductive adhesive 32 in a cantilevered state with the mounting portion 12 side as a fixed end and the vibrating portion 22 side as a free end.

マウント部12は、圧電振動片10の−Z′軸側の端部に配置されるとともに、X軸方向の両端には面取り部18が形成されている。面取り部18は、矩形形状を有する圧電振動片10の4つの角部のうち、マウント部12に含まれる2つの角部において、前記2つの角部を形成する圧電振動片10の長辺及び短辺と平面視でそれぞれ交差する2つの斜線をY´軸方向に並進移動させて形成される軌跡の面を切断面として、前記2つの角部をそれぞれ断裁する態様で形成される。そして実装面となるマウント部の一主面(−Y′軸側の面)には後述の励振電極24、28と電気的に接続する引出電極26、30が配置されている。引出電極26、30には実装側の基板34と接着するための導電性接着剤32が塗布される。したがって導電性接着剤32を用いて基板34に接着することにより圧電振動子が形成される。なお図1に示すように面取り部18は、マウント部12を斜め方向から直線的に断裁するのではなく、曲線的に面取り部18aを形成してもよい。   The mount 12 is disposed at the end of the piezoelectric vibrating piece 10 on the −Z′-axis side, and chamfers 18 are formed at both ends in the X-axis direction. The chamfered portion 18 includes a long side and a short side of the piezoelectric vibrating piece 10 that forms the two corner portions at two corner portions included in the mount portion 12 among the four corner portions of the piezoelectric vibrating piece 10 having a rectangular shape. It is formed in such a manner that each of the two corners is cut with a trajectory plane formed by translationally moving two oblique lines intersecting each side in a plan view in the Y′-axis direction. In addition, lead electrodes 26 and 30 that are electrically connected to excitation electrodes 24 and 28 (described later) are arranged on one main surface (the surface on the −Y′-axis side) of the mount portion serving as a mounting surface. A conductive adhesive 32 for adhering to the mounting-side substrate 34 is applied to the extraction electrodes 26 and 30. Therefore, a piezoelectric vibrator is formed by bonding to the substrate 34 using the conductive adhesive 32. In addition, as shown in FIG. 1, the chamfered part 18 may form the chamfered part 18a in a curved line instead of cutting the mount part 12 linearly from an oblique direction.

緩衝部14は、マウント部12と厚肉部17との間に形成され、マウント部12で発生して振動部22側に伝播する応力を緩和させる作用を有している。これを実現するため、緩衝部14にはスリット16が設けられている。なおマウント部12の緩衝部14側と緩衝部14のマウント部12側は一体的に形成されている。そして、緩衝部14にも上述の引出電極26、30が形成されている。   The buffer portion 14 is formed between the mount portion 12 and the thick portion 17 and has a function of relaxing stress generated in the mount portion 12 and propagating to the vibrating portion 22 side. In order to realize this, the buffer part 14 is provided with a slit 16. The buffer portion 14 side of the mount portion 12 and the mount portion 12 side of the buffer portion 14 are integrally formed. The above-described extraction electrodes 26 and 30 are also formed in the buffer portion 14.

スリット16は、圧電振動片10の短辺方向(X軸方向)に沿って長辺を有する矩形状の貫通孔として形成されている。よってスリット16の長手方向はマウント部12、緩衝部14、厚肉部17が並ぶ方向(Z´軸方向)に垂直となる。これにより、実装時にマウント部12において発生した応力が、振動部22へ直線的に伝播することをスリット16により防ぐことができる。よってマウント部12からの応力は緩衝部14に形成されたスリット16の周囲を伝播することになる。   The slit 16 is formed as a rectangular through hole having a long side along the short side direction (X-axis direction) of the piezoelectric vibrating piece 10. Therefore, the longitudinal direction of the slit 16 is perpendicular to the direction in which the mount portion 12, the buffer portion 14, and the thick portion 17 are arranged (Z′-axis direction). Thereby, it is possible to prevent the slit 16 from causing the stress generated in the mount portion 12 during mounting to propagate linearly to the vibration portion 22. Therefore, the stress from the mount part 12 propagates around the slit 16 formed in the buffer part 14.

振動部22は、薄肉部21の一部を構成するとともに、圧電振動片10において厚みすべり振動を発生させる領域である。振動部22の中央の両主面(表裏面)には互いに対向するように励振電極24、28が形成されている。+Y′軸側の面に形成された励振電極28は引出電極30に接続され、−Y′軸側の面に形成された励振電極24は、−Y′軸側から圧電振動片10の端面を通って+Y′軸側に引き出された引出電極26と電気的に接続される。したがって、引出電極26、30に交流電圧を印加することにより振動部22は所定の周波数で厚みすべり振動を行なうことができる。   The vibration part 22 constitutes a part of the thin-walled part 21 and is a region that generates thickness shear vibration in the piezoelectric vibrating piece 10. Excitation electrodes 24 and 28 are formed on both the main surfaces (front and back surfaces) of the center of the vibrating portion 22 so as to face each other. The excitation electrode 28 formed on the surface on the + Y′-axis side is connected to the extraction electrode 30, and the excitation electrode 24 formed on the surface on the −Y′-axis side is connected to the end surface of the piezoelectric vibrating piece 10 from the −Y′-axis side. The lead electrode 26 is electrically connected to the lead electrode 26 drawn to the + Y′-axis side. Therefore, by applying an AC voltage to the extraction electrodes 26 and 30, the vibration part 22 can perform thickness shear vibration at a predetermined frequency.

ところで、導電性接着剤32を用いた圧電振動片10の接着工程では導電性接着剤32を硬化させるために圧電振動片10を高温に曝す必要がある。よって接着後温度が低下するとマウント部12の導電性接着剤32が塗布されている2点の間を結ぶ領域で、圧電振動片10、基板34、導電性接着剤32の熱膨張係数の違いによる熱歪みが発生し、これに起因する応力が圧電振動片10全体に伝播することになる。   By the way, in the bonding process of the piezoelectric vibrating piece 10 using the conductive adhesive 32, it is necessary to expose the piezoelectric vibrating piece 10 to a high temperature in order to cure the conductive adhesive 32. Therefore, when the temperature decreases after bonding, the piezoelectric resonator element 10, the substrate 34, and the conductive adhesive 32 have different thermal expansion coefficients in the region connecting the two points where the conductive adhesive 32 of the mount 12 is applied. Thermal distortion occurs, and stress resulting from this is propagated throughout the piezoelectric vibrating piece 10.

しかし、マウント部12に形成された面取り部18により、マウント部12は−Z´軸方向に向かうにつれてX軸方向の幅が狭くなる。これにより、マウント部12に接着される導電性接着剤32同士の距離が短くなるため、導電性接着剤32とマウント部12との間で発生する応力そのものを小さくすることができる。またマウント部12と導電性接着剤32との間で発生した応力は振動部22側に向かって直進的に進む成分(+Z´軸方向に進行する成分)が最も大きな応力を有している。しかし、応力が最も強く伝播する直進的な経路上にスリット16が配置された形となるので、その直進的な経路は遮断され、スリット16を迂回する応力の成分のみが振動部22側に伝播可能となる。しかし、その応力は、振動部22側に進行するたびに前記応力の進行路(伝播路)が曲げられることになるので大きな割合で応力を緩和させることができる。よって応力が振動部22に伝播する前に十分に緩和され、振動部22への応力の影響を緩和することが可能な圧電振動片10となる。また圧電振動片10は、従来技術で述べた所謂切欠き構造ではなく、スリット16の長手方向の両端でマウント部12と振動部22側とを連結する形となっている。よって圧電振動片10を小型化してもその強度を維持することができる。   However, due to the chamfered portion 18 formed in the mount portion 12, the width of the mount portion 12 in the X-axis direction becomes narrower toward the −Z′-axis direction. Thereby, since the distance between the conductive adhesives 32 bonded to the mount portion 12 is shortened, the stress itself generated between the conductive adhesive 32 and the mount portion 12 can be reduced. Further, the stress generated between the mount portion 12 and the conductive adhesive 32 has the largest stress component that travels straight toward the vibrating portion 22 side (component that travels in the + Z′-axis direction). However, since the slit 16 is arranged on a straight path through which stress is most strongly propagated, the straight path is blocked, and only the stress component that bypasses the slit 16 propagates to the vibrating portion 22 side. It becomes possible. However, the stress can be relieved at a large rate because the stress traveling path (propagation path) is bent each time the stress travels toward the vibrating portion 22 side. Therefore, the stress is sufficiently relaxed before the stress is propagated to the vibrating portion 22, and the piezoelectric vibrating piece 10 is obtained that can relax the influence of the stress on the vibrating portion 22. The piezoelectric vibrating piece 10 is not the so-called notch structure described in the prior art, but has a shape in which the mount portion 12 and the vibrating portion 22 side are connected at both ends in the longitudinal direction of the slit 16. Therefore, the strength can be maintained even if the piezoelectric vibrating piece 10 is downsized.

また、振動部22に外部から応力が印加されると、振動部22の見かけ上の剛性が変化するため、共振周波数が変動する。そしてマウント部12におけるマウント状態は実装状態に依存して個々に異なるため、振動部22に伝播する応力にもバラつきが生じ、共振周波数にバラつきが生じることになる。しかし上述のように、マウント部12で発生した歪みをスリット16において緩和させることができているので、周波数変動を抑制し、圧電振動片10を用いた圧電振動子の歩留を高めることができる。   In addition, when a stress is applied to the vibration unit 22 from the outside, the apparent rigidity of the vibration unit 22 changes, so that the resonance frequency varies. Since the mount state of the mount portion 12 differs depending on the mounting state, the stress propagating to the vibration portion 22 also varies, and the resonance frequency varies. However, as described above, the distortion generated in the mount portion 12 can be alleviated in the slit 16, so that the frequency fluctuation can be suppressed and the yield of the piezoelectric vibrator using the piezoelectric vibrating piece 10 can be increased. .

さらに、振動部22は、緩衝部14より薄肉に形成されている。これにより、振動部22が緩衝部14から受ける応力は前述の如く減衰している。更に、振動部22と緩衝部14との間に位置する厚肉部17の振動部22側の側壁により、減衰した応力が当該側壁部にてせき止められるので、振動部22への応力の影響を極めて有効に抑制させることができる。つまり、図1に示すように、振動部22は導電性接着剤32が塗布される面側(−Y′軸側の面側)からハーフエッチングにより掘り込んで形成する。よって振動部22と緩衝部14との接続位置を圧電振動片10の引出電極26、30が引き出された面(−Y′軸側の面)の反対側の面(+Y′軸側の面)に偏在させた状態で、振動部22と厚肉部17との間で段差を形成することになる。したがって、引出電極26、30に塗布される導電性接着剤32との距離が、前述の段差の分だけ遠くなるので、振動部22に到達する応力をより多く緩和させることができる。   Furthermore, the vibration part 22 is formed thinner than the buffer part 14. Thereby, the stress which the vibration part 22 receives from the buffer part 14 is attenuate | damping as mentioned above. Furthermore, since the attenuated stress is dammed by the side wall portion of the thick wall portion 17 located between the vibration portion 22 and the buffer portion 14 on the vibration portion 22 side, the influence of the stress on the vibration portion 22 is reduced. It can be suppressed very effectively. That is, as shown in FIG. 1, the vibrating portion 22 is formed by digging by half etching from the surface side (the surface side on the −Y ′ axis side) to which the conductive adhesive 32 is applied. Therefore, the connection position between the vibrating portion 22 and the buffer portion 14 is set so that the surface opposite to the surface (the surface on the −Y′-axis side) from which the extraction electrodes 26 and 30 of the piezoelectric vibrating piece 10 are extracted (the surface on the + Y′-axis side). In this state, a step is formed between the vibrating portion 22 and the thick portion 17. Therefore, since the distance from the conductive adhesive 32 applied to the extraction electrodes 26 and 30 is increased by the above-described step, the stress reaching the vibration part 22 can be more relaxed.

次に第1実施形態の圧電振動片の製造工程について説明する。
図3に、圧電振動片の製造工程(薄肉部形成工程)を示し、図4に圧電振動片の製造工程(外形形成工程)を示し、図5に圧電振動片の製造工程(電極形成工程)を示す。大まかな手順としては、圧電振動片10の材料となる水晶基板36において、薄肉部21(振動部22)に相当する位置をハーフエッチングし、圧電振動片10の外形に倣ってエッチングし、励振電極24、28や引出電極26、30の形成を行なう。
Next, the manufacturing process of the piezoelectric vibrating piece according to the first embodiment will be described.
FIG. 3 shows a manufacturing process (thin wall portion forming process) of the piezoelectric vibrating piece, FIG. 4 shows a manufacturing process (outer shape forming process) of the piezoelectric vibrating piece, and FIG. 5 shows a manufacturing process (electrode forming process) of the piezoelectric vibrating piece. Indicates. As a rough procedure, a position corresponding to the thin-walled portion 21 (vibrating portion 22) is half-etched in the quartz substrate 36 that is a material of the piezoelectric vibrating piece 10, and is etched according to the outer shape of the piezoelectric vibrating piece 10, thereby exciting electrodes. 24 and 28 and extraction electrodes 26 and 30 are formed.

図3に示すように、最初に圧電振動片10を構成する薄肉部21(振動部22)の外形を形成する。まず図3(a)に示すように、圧電素板としてATカットの水晶基板36を用意し、水晶基板36においてレジスト膜38を塗布する。そして図3(b)に示すように、薄肉部21の形状に対応したフォトマスク40を用いてレジスト膜38を露光し、図3(c)に示すように感光したレジスト膜38aを除去する。そして図3(d)に示すように、水晶基板36が露出した部分が薄肉部21の厚みとなるまでハーフエッチングし、図3(e)に示すようにレジスト膜38を除去する。このとき水晶基板36には薄肉部21に対応する凹部21aが形成される。   As shown in FIG. 3, first, the outer shape of the thin portion 21 (vibrating portion 22) constituting the piezoelectric vibrating piece 10 is formed. First, as shown in FIG. 3A, an AT-cut quartz substrate 36 is prepared as a piezoelectric element plate, and a resist film 38 is applied on the quartz substrate 36. Then, as shown in FIG. 3B, the resist film 38 is exposed using a photomask 40 corresponding to the shape of the thin portion 21, and the exposed resist film 38a is removed as shown in FIG. Then, as shown in FIG. 3D, half etching is performed until the portion where the quartz substrate 36 is exposed reaches the thickness of the thin portion 21, and the resist film 38 is removed as shown in FIG. At this time, a concave portion 21 a corresponding to the thin portion 21 is formed in the quartz substrate 36.

次に圧電振動片10の外形を形成する。図4(a)に示すように、凹部21aが形成された水晶基板36にレジスト膜42を塗布する。そして図4(b)に示すように圧電振動片10、スリット16、面取り部18の形状に対応したフォトマスク44を用いてレジスト膜42を露光し、図4(c)に示すように感光したレジスト膜42aを除去する。そして図4(d)に示すように、水晶基板36が露出した部分が貫通するまでエッチングし、図4(e)に示すようにレジスト膜42を除去する。これにより圧電振動片10の外形(スリット16、面取り部18含む)を有する圧電素板10aが形成される。   Next, the outer shape of the piezoelectric vibrating piece 10 is formed. As shown in FIG. 4A, a resist film 42 is applied to the quartz substrate 36 on which the recesses 21a are formed. 4B, the resist film 42 is exposed using a photomask 44 corresponding to the shape of the piezoelectric vibrating piece 10, the slit 16, and the chamfered portion 18, and exposed as shown in FIG. 4C. The resist film 42a is removed. Then, as shown in FIG. 4D, etching is performed until the exposed portion of the quartz substrate 36 penetrates, and the resist film 42 is removed as shown in FIG. Thereby, the piezoelectric element plate 10a having the outer shape of the piezoelectric vibrating piece 10 (including the slit 16 and the chamfered portion 18) is formed.

そして圧電素板10aに電極を形成する。まず図5(a)に示すように、スパッタ等により圧電素板10aの全面にCrやAu等による金属膜46を蒸着する。このとき圧電素板10aの端面10bにも金属膜46が蒸着する。そして図5(b)に示すように金属膜46が蒸着した圧電素板10aの全面にレジスト膜48を塗布する。このとき圧電素板10aの端面10bにもレジスト膜48が塗布される。次に図5(c)に示すように圧電振動片10の両面の励振電極24、28、引出電極26、30の形状に対応したフォトマスク50を用い、レジスト膜48を露光する。このとき引出電極30の端面10bを通過する部分(不図示)のレジスト膜48は感光しない。次に図5(d)に示すように感光したレジスト膜48aを除去し、図5(e)に示すように励振電極24、28、引出電極26、30(図5では不図示)に対応する部分以外の金属膜46を露出させエッチングを行なう。このとき、端面に蒸着した金属膜46は感光せずに残ったレジスト膜42により保護されている。よって引出電極30の端面を通過する部分の金属膜46は残り、引出電極30はその反対面にある励振電極28と電気的に接続される。そして図5(f)に示すようにレジスト膜48を除去することにより圧電振動片10が形成される。   Then, electrodes are formed on the piezoelectric element plate 10a. First, as shown in FIG. 5A, a metal film 46 of Cr, Au or the like is deposited on the entire surface of the piezoelectric element plate 10a by sputtering or the like. At this time, the metal film 46 is also deposited on the end face 10b of the piezoelectric element plate 10a. Then, as shown in FIG. 5B, a resist film 48 is applied to the entire surface of the piezoelectric base plate 10a on which the metal film 46 is deposited. At this time, the resist film 48 is also applied to the end face 10b of the piezoelectric element plate 10a. Next, as shown in FIG. 5C, the resist film 48 is exposed using a photomask 50 corresponding to the shapes of the excitation electrodes 24 and 28 and the extraction electrodes 26 and 30 on both surfaces of the piezoelectric vibrating piece 10. At this time, the resist film 48 in a portion (not shown) passing through the end face 10b of the extraction electrode 30 is not exposed. Next, the exposed resist film 48a is removed as shown in FIG. 5D, and the excitation electrodes 24 and 28 and the extraction electrodes 26 and 30 (not shown in FIG. 5) correspond to the resist film 48a as shown in FIG. Etching is performed with the metal film 46 other than the portion exposed. At this time, the metal film 46 deposited on the end face is protected by the remaining resist film 42 without being exposed to light. Therefore, a portion of the metal film 46 passing through the end face of the extraction electrode 30 remains, and the extraction electrode 30 is electrically connected to the excitation electrode 28 on the opposite surface. Then, as shown in FIG. 5 (f), the piezoelectric vibrating piece 10 is formed by removing the resist film 48.

図6に第2実施形態の圧電振動片を示し、図6(a)は平面図、図6(b)は底面図、図6(c)は図6(a)のA−A線断面図、図6(d)は図1(a)のB−B線断面図である。第2実施形態の圧電振動片60は、基本的には第1実施形態と類似する。すなわち、第1実施形態と同様にマウント部62、緩衝部64、厚肉部70の順にZ´軸方向に並んで形成され、マウント部62には面取り部18が形成され、緩衝部64にはスリット16が形成され、厚肉部70には薄肉部71が形成されている。一方、薄肉部71に形成される振動部は、薄肉部71の−Y´軸側の面に形成されたメサ部72により厚肉に形成されている。そして励振電極76をメサ部72に形成し、励振電極74を薄肉部71の+Y´軸側の面であって励振電極74に対向する位置に形成する点で相違する構造としてよい。そうすることにより、メサ部72に厚みすべり振動である主振動のエネルギーを閉じ込めることができる。   FIG. 6 shows the piezoelectric vibrating piece of the second embodiment, FIG. 6 (a) is a plan view, FIG. 6 (b) is a bottom view, and FIG. 6 (c) is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. FIG. 6D is a cross-sectional view taken along line BB in FIG. The piezoelectric vibrating piece 60 of the second embodiment is basically similar to the first embodiment. That is, as in the first embodiment, the mount portion 62, the buffer portion 64, and the thick portion 70 are formed in the Z'-axis direction in this order, the chamfered portion 18 is formed on the mount portion 62, and the buffer portion 64 is A slit 16 is formed, and a thin portion 71 is formed in the thick portion 70. On the other hand, the vibration part formed in the thin part 71 is formed thick by the mesa part 72 formed on the surface at the −Y′-axis side of the thin part 71. The excitation electrode 76 may be formed on the mesa portion 72, and the excitation electrode 74 may be different in that the excitation electrode 74 is formed on the surface of the thin portion 71 on the + Y′-axis side and facing the excitation electrode 74. By doing so, the energy of the main vibration that is the thickness shear vibration can be confined in the mesa portion 72.

第2実施形態の圧電振動片60の製造工程は、ハーフエッチングの工程で、薄肉部71の中央に薄肉部より厚肉となるメサ部72を形成する点で相違するが、それ以外では第1実施形態と共通である。このような構成とすることにより、厚みすべり振動の振動領域を振動部(メサ部72)に閉じこめ、励振効率を高めることができる。   The manufacturing process of the piezoelectric vibrating piece 60 according to the second embodiment is different in that the mesa portion 72 that is thicker than the thin portion is formed in the center of the thin portion 71 in the half-etching step. This is common with the embodiment. By adopting such a configuration, the vibration region of the thickness shear vibration can be confined to the vibration part (mesa part 72), and the excitation efficiency can be increased.

図7に、第2実施形態に係る圧電振動片の変形例を示し、図7(a)は平面図、図7(b)は底面図、図7(c)は図7(a)のA−A線断面図、図7(d)は図7(a)のB−B線断面図である。
図7に示すように第2実施形態の変形例おいては、メサ部80を薄肉部78の両面に設けることも好適である。このとき薄肉部78は水晶基板の両面からメサ部80の形状を残してハーフエッチングすることにより形成される。そしてこのメサ部80の両面に励振電極74、76を形成する。このように振動部を形成することにより、厚みすべり振動の閉じ込め効果を高めた圧電振動片61とすることができる。なお、第2実施形態において、メサ部72に対して励振電極76はメサ部72全面に矩形に形成され、励振電極74は励振電極76の外形に倣って矩形に形成されている。また。メサ部80に対して励振電極74、76はメサ部80全面に矩形に形成されている。しかし、実際の振動領域に対応して例えば円形状、楕円形状としてもよい。そうすることにより、メサ部72、メサ部80に厚みすべり振動である主振動のエネルギーを閉じ込めることができるとともに、圧電振動片60、61のCI値を高めることができる。
FIG. 7 shows a modification of the piezoelectric vibrating piece according to the second embodiment. FIG. 7A is a plan view, FIG. 7B is a bottom view, and FIG. 7C is A in FIG. -A sectional view, FIG.7 (d) is BB sectional drawing of Fig.7 (a).
As shown in FIG. 7, in the modified example of the second embodiment, it is also preferable to provide the mesa portion 80 on both surfaces of the thin portion 78. At this time, the thin portion 78 is formed by half-etching the shape of the mesa portion 80 from both sides of the quartz substrate. Excitation electrodes 74 and 76 are formed on both surfaces of the mesa unit 80. By forming the vibrating portion in this way, the piezoelectric vibrating piece 61 having an enhanced confinement effect of thickness shear vibration can be obtained. In the second embodiment, the excitation electrode 76 is formed in a rectangular shape on the entire surface of the mesa portion 72 with respect to the mesa portion 72, and the excitation electrode 74 is formed in a rectangular shape following the outer shape of the excitation electrode 76. Also. Excitation electrodes 74 and 76 are formed in a rectangular shape on the entire surface of the mesa 80 with respect to the mesa 80. However, for example, a circular shape or an elliptical shape may be used corresponding to the actual vibration region. By doing so, the energy of the main vibration which is the thickness shear vibration can be confined in the mesa part 72 and the mesa part 80, and the CI value of the piezoelectric vibrating pieces 60 and 61 can be increased.

図8に第3実施形態に係る圧電振動片を示し、図8(a)は平面図、図8(b)は底面図である。また図9に第3実施形態に係る圧電振動片の変形例を示し、図9(a)は平面図、図9(b)は底面図である。第3実施形態に係る圧電振動片90、91は、基本的には第1実施形態に類似するが、緩衝部94に形成されたスリット100、102のX軸方向の長手方向の両端部がスリット100、102の長手方向の中央部よりもマウント部92側に位置するように屈曲或いは湾曲した形状を有する点で相違する。   FIG. 8 shows a piezoelectric vibrating piece according to the third embodiment. FIG. 8A is a plan view and FIG. 8B is a bottom view. FIG. 9 shows a modification of the piezoelectric vibrating piece according to the third embodiment. FIG. 9A is a plan view and FIG. 9B is a bottom view. The piezoelectric vibrating reeds 90 and 91 according to the third embodiment are basically similar to those of the first embodiment, but both ends of the slits 100 and 102 formed in the buffer portion 94 in the longitudinal direction in the X-axis direction are slits. 100 and 102 differ in that they have a bent or curved shape so as to be positioned closer to the mount portion 92 than the central portion in the longitudinal direction.

このような形状としては、図8に示す圧電振動片90に形成されたスリット100、図9に示す圧電振動片91に形成されたスリット102が挙げられる。図8においてスリット100は、X軸方向に延びる中央部100bと、中央部100bのX軸方向の両端に接続されマウント部92側に長手方向を有する屈曲部100cと、を有し、屈曲部100cのマウント部12側(面取り部18側)の終端がスリット100の端部100aとなっている。よってスリット100は、全体としてX軸方向の両端がマウント部92側(面取り部18側)に折れ曲がった形状を有し、スリット100の端部100aはスリット100の中央部100bよりマウント部12側(面取り部18側)に配置される。   Examples of such a shape include a slit 100 formed in the piezoelectric vibrating piece 90 shown in FIG. 8 and a slit 102 formed in the piezoelectric vibrating piece 91 shown in FIG. In FIG. 8, the slit 100 has a central portion 100b extending in the X-axis direction, and a bent portion 100c connected to both ends of the central portion 100b in the X-axis direction and having a longitudinal direction on the mount portion 92 side. The end of the mount portion 12 side (the chamfered portion 18 side) is an end portion 100 a of the slit 100. Accordingly, the slit 100 as a whole has a shape in which both ends in the X-axis direction are bent toward the mount portion 92 side (the chamfered portion 18 side), and the end portion 100a of the slit 100 is closer to the mount portion 12 side than the central portion 100b of the slit 100 ( It is arranged on the chamfered portion 18 side).

図9においてスリット102は、端部102a、端部102aをマウント部92側(面取り部18側)に向けるように湾曲させた円弧状の形状を有している。よってスリット102の端部102aはスリット102の中央部102bよりマウント部12側(面取り部18側)に配置される。   In FIG. 9, the slit 102 has an end 102 a and an arcuate shape that is curved so that the end 102 a faces the mount portion 92 side (the chamfered portion 18 side). Therefore, the end portion 102 a of the slit 102 is disposed closer to the mount portion 12 (the chamfered portion 18 side) than the central portion 102 b of the slit 102.

よって、スリット100、スリット102は、それぞれの長手方向の中央部において、Z´軸方向に垂直な方向(すなわちX軸方向)に延びる部分を有することになる。なお、上述の各スリットは、各スリットの外形に倣った貫通孔を圧電振動片90、91に空けることにより得られる。そして図8(a)に示すように、スリット100を形成する貫通孔の側面(圧電振動片90の端面)のうち、端部100aを形成する側面の法線100dはZ´軸及びX軸に対して鋭角に交差する方向を向いている。また図9(a)に示すように、スリット102を形成する貫通孔の側面(圧電振動片91の端面)のうち、端部102aを形成する側面の法線102cはZ´軸及びX軸に対して鋭角に交差する方向を向いている。   Therefore, the slit 100 and the slit 102 have a portion extending in the direction perpendicular to the Z′-axis direction (that is, the X-axis direction) at the center in the longitudinal direction. Each of the slits described above can be obtained by opening through holes in the piezoelectric vibrating pieces 90 and 91 following the outer shape of each slit. 8A, the normal line 100d of the side surface forming the end portion 100a out of the side surface of the through hole forming the slit 100 (end surface of the piezoelectric vibrating piece 90) is on the Z ′ axis and the X axis. It faces the direction that intersects at an acute angle. As shown in FIG. 9A, the normal line 102c of the side surface forming the end portion 102a out of the side surface of the through hole forming the slit 102 (end surface of the piezoelectric vibrating piece 91) is on the Z ′ axis and the X axis. It faces the direction that intersects at an acute angle.

マウント部92の2箇所において導電性接着剤32を塗布して圧電振動片を実装する場合、上述のように導電性接着剤32同士を結ぶ線上において熱歪みによる応力が発生し、この応力がスリット100、102に到達し、スリット100、102の周囲を迂回する成分が振動部98(薄肉部96)側に伝達しうる虞がある。しかし、スリット100、102を上述の形状とすることにより、マウント部92において発生した応力をスリット100、102が取り囲む形となるので、薄肉部96側への応力の漏れを低減して、振動部98への応力の影響を緩和することができる。これは図8、図9いずれの形態であっても同様の効果を奏する。また第3実施形態は、第1実施形態、第2実施形態に適用することができる。   When mounting the piezoelectric vibrating piece by applying the conductive adhesive 32 at two places on the mount portion 92, stress due to thermal distortion occurs on the line connecting the conductive adhesives 32 as described above, and this stress is slit. There is a possibility that a component that reaches 100 and 102 and bypasses the periphery of the slits 100 and 102 may be transmitted to the vibrating portion 98 (thin wall portion 96) side. However, by forming the slits 100 and 102 into the above-described shape, the slits 100 and 102 surround the stress generated in the mount portion 92. Therefore, stress leakage to the thin portion 96 side is reduced, and the vibration portion The effect of stress on 98 can be mitigated. This has the same effect regardless of which of FIGS. The third embodiment can be applied to the first embodiment and the second embodiment.

図10に第4実施形態に係る圧電振動片を示し、図10(a)は平面図、図10(b)は底面図である。第4実施形態の圧電振動片のスリット100には、緩衝部より薄肉に形成されスリット100の両端部(端部100a、端部100a)からスリット100の中央部100bに向かって延びた補強部112が配置されている。図10においては第3実施形態に本実施形態を適用した場合を示しており、スリット100の両端の端部100a、100aを基点として屈曲部100c、100cの一部または全部が補強部112により閉じられた形となる。緩衝部94にスリット100を形成することにより、緩衝部94そのものの強度が低下する場合がある。しかし、スリット100の長手方向であるX軸方向の寸法を小さくすると、マウント部92で発生した応力が振動部98(薄肉部96)に伝達しやすくなる。   FIG. 10 shows a piezoelectric vibrating piece according to the fourth embodiment. FIG. 10A is a plan view and FIG. 10B is a bottom view. In the slit 100 of the piezoelectric vibrating piece according to the fourth embodiment, the reinforcing portion 112 is formed thinner than the buffer portion and extends from both end portions (end portion 100a, end portion 100a) of the slit 100 toward the central portion 100b of the slit 100. Is arranged. FIG. 10 shows a case where the present embodiment is applied to the third embodiment, and a part or all of the bent portions 100c, 100c are closed by the reinforcing portion 112 with the end portions 100a, 100a at both ends of the slit 100 as base points. It becomes the shape that was made. By forming the slit 100 in the buffer portion 94, the strength of the buffer portion 94 itself may be reduced. However, when the dimension in the X-axis direction, which is the longitudinal direction of the slit 100, is reduced, the stress generated in the mount portion 92 is easily transmitted to the vibration portion 98 (thin portion 96).

そこで図10に示すような補強部112をスリット100の両端部側に配置することにより、スリット100の振動部98側への応力の伝播を制限する効果を損なうことなく、緩衝部94の強度を確保することができる。ここで、補強部112は、薄肉部96を形成するのと同時に形成することができる。そして後述のように、圧電振動片の厚み方向にも応力緩和が進む観点から、薄肉部96と同様に、補強部112は、圧電振動片110の導電性接着剤32が塗布される実装面の反対面、即ち+Y´軸側の面に偏在させて配置することが望ましい。なおこの補強部112は図9に示すスリット102の両端部(端部102a、端部102a)に配置することができる。   Therefore, by arranging the reinforcing portions 112 as shown in FIG. 10 on both ends of the slit 100, the strength of the buffer portion 94 is increased without impairing the effect of restricting the propagation of stress to the vibrating portion 98 side of the slit 100. Can be secured. Here, the reinforcing portion 112 can be formed simultaneously with the formation of the thin portion 96. As will be described later, from the viewpoint of stress relaxation also in the thickness direction of the piezoelectric vibrating piece, the reinforcing portion 112 is formed on the mounting surface to which the conductive adhesive 32 of the piezoelectric vibrating piece 110 is applied, like the thin portion 96. It is desirable to dispose it on the opposite surface, that is, the surface on the + Y′-axis side. The reinforcing portion 112 can be disposed at both ends (end portion 102a, end portion 102a) of the slit 102 shown in FIG.

図11に第5実施形態に係る圧電振動片を示し、図11(a)は平面図、図11(b)は底面図である。また図12に第5実施形態に係る圧電振動片の変形例を示し、図12(a)は平面図、図12(b)は底面図である。第5実施形態に係る圧電振動片120、121は、基本的には第1実施形態に類似するが、スリット122、124の長手方向の両端部がスリット122、124の長手方向の中央部よりも薄肉部96側に屈曲或いは湾曲した形状を有している点で相違する。また前記両端部と面取り部18との間に、前記両端部付近から面取り部18に向かって延びる溝126が形成された点で相違する。   FIG. 11 shows a piezoelectric vibrating piece according to the fifth embodiment, FIG. 11 (a) is a plan view, and FIG. 11 (b) is a bottom view. FIG. 12 shows a modification of the piezoelectric vibrating piece according to the fifth embodiment. FIG. 12 (a) is a plan view and FIG. 12 (b) is a bottom view. The piezoelectric vibrating reeds 120 and 121 according to the fifth embodiment are basically similar to the first embodiment, but the longitudinal ends of the slits 122 and 124 are more than the central portions of the slits 122 and 124 in the longitudinal direction. The difference is that the thin portion 96 has a bent or curved shape. Further, the difference is that a groove 126 extending from the vicinity of both end portions toward the chamfered portion 18 is formed between the both end portions and the chamfered portion 18.

図11に示すように、圧電振動片120に形成されたスリット122は、スリット100を前記X軸に平行な線を中心とし対称的に反転させた形状を有している。即ちスリット122は、X軸方向に延びる中央部122bと、中央部122bのX軸方向の両端に接続され薄肉部96側に長手方向を有する屈曲部122cと、を有し、屈曲部122cの薄肉部96側の終端がスリット122の端部122aとなっている。よって端部122aは中央部122bより薄肉部96側に配置される。さらに溝126は、緩衝部94より薄肉に形成され、スリット122の両端部側、すなわち、スリット122の屈曲部122c或いは端部122a付近からマウント部92側(面取り部18側)に長手方向を有するように形成される。   As shown in FIG. 11, the slit 122 formed in the piezoelectric vibrating piece 120 has a shape in which the slit 100 is symmetrically inverted about a line parallel to the X axis. That is, the slit 122 has a central portion 122b extending in the X-axis direction and a bent portion 122c connected to both ends of the central portion 122b in the X-axis direction and having a longitudinal direction on the thin-walled portion 96 side. The end on the side of the portion 96 is an end portion 122 a of the slit 122. Therefore, the end portion 122a is disposed closer to the thin portion 96 than the central portion 122b. Further, the groove 126 is formed thinner than the buffer portion 94, and has a longitudinal direction from both ends of the slit 122, that is, from the vicinity of the bent portion 122c or the end 122a of the slit 122 to the mount portion 92 side (the chamfered portion 18 side). Formed as follows.

図12に示すように、圧電振動片121に形成されたスリット124は、図9のスリット102を前記X軸に平行な線を中心として対称的に反転させた形状を有しており、スリット124の端部124aはスリット124の中央部124bよりも薄肉部96側に配置される。図12において、溝126は、緩衝部94より薄肉に形成され、スリット124の両端部側、すなわち端部122a付近からマウント部92側(面取り部18側)に長手方向を有するように形成される。   As shown in FIG. 12, the slit 124 formed in the piezoelectric vibrating piece 121 has a shape in which the slit 102 in FIG. 9 is symmetrically inverted about a line parallel to the X axis. The end portion 124a of the slit 124 is disposed closer to the thin portion 96 than the central portion 124b of the slit 124. In FIG. 12, the groove 126 is formed thinner than the buffer portion 94 and has a longitudinal direction from both ends of the slit 124, that is, from the vicinity of the end 122 a to the mount portion 92 side (the chamfered portion 18 side). .

上記構成により、スリット122、124は、実装時にマウント部92において発生した応力をある程度スリット122、124の両端側に受け流す形となるが、その受け流された応力を溝126でせき止めることができる。これによりマウント部92で発生した応力は、マウント部92と、緩衝部94のスリット122、124のマウント部92側において均一化される。したがって、圧電振動片120、121を量産した場合の応力分布のバラつきを抑制することができ、これにより圧電振動片120、121の周波数特性等の特性のバラつきを抑制して、コストを抑制することができる。なお、図11、図12において、溝126の側面、底面にも引出電極26、30を形成してもよい。   With the above configuration, the slits 122 and 124 are configured to receive a certain amount of stress generated in the mount portion 92 during mounting to both ends of the slits 122 and 124, but the received stress can be blocked by the groove 126. As a result, the stress generated in the mount portion 92 is made uniform on the mount portion 92 and on the mount portion 92 side of the slits 122 and 124 of the buffer portion 94. Therefore, it is possible to suppress variations in the stress distribution when the piezoelectric vibrating reeds 120 and 121 are mass-produced, thereby suppressing variations in characteristics such as frequency characteristics of the piezoelectric vibrating reeds 120 and 121, thereby reducing costs. Can do. 11 and 12, the extraction electrodes 26 and 30 may also be formed on the side and bottom surfaces of the groove 126.

ここで、溝126は、薄肉部96を形成するのと同時に形成することができる。そして後述のように、圧電振動片の厚み方向にも応力緩和が進む観点から、薄肉部96と同様に、溝126は、圧電振動片120、121の導電性接着剤32が塗布される面側(−Y´軸側の面側)から掘り込んで形成することが望ましい。   Here, the groove 126 can be formed simultaneously with the formation of the thin portion 96. And as will be described later, from the viewpoint of stress relaxation also in the thickness direction of the piezoelectric vibrating piece, like the thin portion 96, the groove 126 is formed on the surface side to which the conductive adhesive 32 of the piezoelectric vibrating pieces 120 and 121 is applied. It is desirable to dig from (the surface side on the −Y′-axis side).

図13に本実施形態の圧電振動片のマウント部に応力を印加した場合の応力の強度分布を示す。本願発明者は、本実施形態の圧電振動片のマウント部に応力を印加した場合の応力の強度分布についてシミュレーションを行った。シミュレーションの対象となる圧電振動片は、第1実施形態のものとほぼ同様の形態を有している(図1参照)。そして、図13に示すように、マウント部の実装面上に描かれた2つの円の中心の2点の位置において、2点間で互いに引き合う力若しくは互いに押し合う力を印加したときの、圧電振動片の応力の分布のシミュレーションを行った。なお、図13の左に縦一列に並べてある模様は、圧電振動片に印加された応力の強度(9段階)を示し、上から下に行くにつれて応力が小さくなることを表している。そしてこれらの模様は、圧電振動片上において圧電振動片の応力の強度分布に対応して描かれている。以下、図13におけるミュレーション結果を図1に示す圧電振動片10の構成要素に対応させながら説明する。   FIG. 13 shows the strength distribution of stress when stress is applied to the mount portion of the piezoelectric vibrating piece of the present embodiment. The inventor of the present application performed a simulation on the stress intensity distribution when stress was applied to the mount portion of the piezoelectric vibrating piece of the present embodiment. The piezoelectric vibrating piece to be simulated has almost the same form as that of the first embodiment (see FIG. 1). Then, as shown in FIG. 13, the piezoelectric force is applied when a force attracting each other or a force pushing each other is applied between the two points at the center of the two circles drawn on the mounting surface of the mount portion. The stress distribution of the vibrating piece was simulated. The pattern arranged in a vertical line on the left in FIG. 13 indicates the strength of stress applied to the piezoelectric vibrating piece (9 levels), and indicates that the stress decreases from the top to the bottom. These patterns are drawn on the piezoelectric vibrating piece corresponding to the stress intensity distribution of the piezoelectric vibrating piece. Hereinafter, the simulation result in FIG. 13 will be described in correspondence with the components of the piezoelectric vibrating piece 10 shown in FIG.

図13に示すように、マウント部12全体及び緩衝部14のマウント部12側に強い応力が発生していることがわかる。そしてマウント部12側で発生した応力は、緩衝部14のスリット16の周囲を伝って厚肉部17に伝播するものの、スリット16の周囲を伝播する途中でかなり緩和されることがわかる。これにより、スリット16によりマウント部12で発生した応力の経路が曲げられるため、応力において最も強く伝播する直進的な経路が遮断され、その結果、伝播途中で大きな割合で応力が緩和されることが分かる。またマウント部に形成された面取り部18により、マウント部12の端部のX軸方向の長さが短くなるため、導電性接着剤同士32の距離が小さくなり、マウント部12で発生する応力そのものを小さくすることができる。   As shown in FIG. 13, it can be seen that strong stress is generated on the entire mount portion 12 and the mount portion 12 side of the buffer portion 14. It can be seen that the stress generated on the mount portion 12 side propagates around the slit 16 of the buffer portion 14 and propagates to the thick portion 17 but is considerably relieved during propagation around the slit 16. Thereby, since the path of the stress generated in the mount portion 12 is bent by the slit 16, the straight path that propagates the strongest in the stress is blocked, and as a result, the stress is relieved at a large rate during the propagation. I understand. Further, the chamfered portion 18 formed in the mount portion shortens the length of the end portion of the mount portion 12 in the X-axis direction, so that the distance between the conductive adhesives 32 is reduced, and the stress generated in the mount portion 12 itself. Can be reduced.

そして厚肉部17と薄肉部21との境界において応力の強度が不連続となって薄肉部21に対する応力が緩和されており、薄肉部21の殆どの領域において応力が緩和されている(応力の強度が最小となっている)ことがわかる。このとき、圧電振動片10の上述の応力が印加された+Y´軸側の面(実装面)において薄肉部21と厚肉部17との間には段差が形成されている。よって薄肉部21に残る応力は、厚肉部17の−Y´軸側の面の応力を引き継いだものである。このことから、応力は上述の印加された−Y´軸側の面(実装面)から+Y軸側の面にかけて圧電振動片10の厚み方向にも緩和すると考えられる。   The strength of the stress is discontinuous at the boundary between the thick portion 17 and the thin portion 21 and the stress on the thin portion 21 is relieved, and the stress is relieved in most regions of the thin portion 21 (stress It can be seen that the intensity is minimal. At this time, a step is formed between the thin portion 21 and the thick portion 17 on the surface (mounting surface) on the + Y′-axis side to which the above-described stress of the piezoelectric vibrating piece 10 is applied. Therefore, the stress remaining in the thin portion 21 is a succession of the stress on the surface at the −Y′-axis side of the thick portion 17. From this, it is considered that the stress is also relaxed in the thickness direction of the piezoelectric vibrating piece 10 from the applied −Y′-axis side surface (mounting surface) to the + Y-axis side surface.

以上、実施例で説明したいずれの圧電振動片も、振動部(薄肉部)の短辺方向をX軸方向、長辺方向をZ′軸方向となるように構成した逆メサ型の圧電振動片としたが、本発明はこれに限らず、振動部の短辺方向をZ′軸方向、長辺方向をX軸方向となるように構成した逆メサ型の圧電振動片にも適用できることは言うまでもない。   As described above, any of the piezoelectric vibrating pieces described in the embodiments is an inverted mesa type piezoelectric vibrating piece configured such that the short side direction of the vibrating portion (thin wall portion) is the X-axis direction and the long side direction is the Z′-axis direction. However, the present invention is not limited to this, and it is needless to say that the present invention can also be applied to an inverted mesa type piezoelectric vibrating piece configured such that the short side direction of the vibrating portion is the Z′-axis direction and the long side direction is the X-axis direction. Yes.

図14に本実施形態の圧電振動片を搭載した圧電振動子を示す。図14(a)は図6に示す圧電振動片60を搭載した場合の圧電振動子の平面図、図14(b)は図14(a)のA−A線断面図である。圧電振動子200は圧電振動片60を収容する凹部204を有するパッケージ202(基板)と、凹部204を封止するリッド212により形成される。またパッケージ202の下面には外部電極206が形成され、凹部204の底面には貫通電極208を介して外部電極206と電気的に接続された接続電極210が配置されている。そしてこの接続電極210とマウント部62の引出電極26、30とが導電性接着剤32により接合される。よって圧電振動片60はマウント部62を固定端として片持ち支持状態でパッケージ202に接続される。さらに外部電極206と引出電極26、30とが電気的に接続される。上記構成により、圧電振動片60の振動部(メサ部72)への応力を緩和させた圧電振動子200となる。   FIG. 14 shows a piezoelectric vibrator on which the piezoelectric vibrating piece of this embodiment is mounted. FIG. 14A is a plan view of the piezoelectric vibrator when the piezoelectric vibrating piece 60 shown in FIG. 6 is mounted, and FIG. 14B is a cross-sectional view taken along the line AA of FIG. The piezoelectric vibrator 200 is formed by a package 202 (substrate) having a recess 204 that houses the piezoelectric vibrating piece 60 and a lid 212 that seals the recess 204. An external electrode 206 is formed on the lower surface of the package 202, and a connection electrode 210 electrically connected to the external electrode 206 through the through electrode 208 is disposed on the bottom surface of the recess 204. Then, the connection electrode 210 and the extraction electrodes 26 and 30 of the mount portion 62 are joined by the conductive adhesive 32. Therefore, the piezoelectric vibrating piece 60 is connected to the package 202 in a cantilevered state with the mount portion 62 as a fixed end. Further, the external electrode 206 and the extraction electrodes 26 and 30 are electrically connected. With the above configuration, the piezoelectric vibrator 200 in which the stress on the vibrating portion (mesa portion 72) of the piezoelectric vibrating piece 60 is relaxed is obtained.

図15、図16に本実施形態の圧電振動片を搭載した電子デバイスを示す。図15は図1に示す圧電振動片10を搭載した電子デバイスの分解斜視図である。また図16(a)は図15に図6に示す圧電振動片60を搭載した場合のA−A線断面図であって、図16(b)は図15において図7に示す圧電振動片61を搭載した場合のA−A線断面図である。   15 and 16 show an electronic device on which the piezoelectric vibrating piece according to this embodiment is mounted. FIG. 15 is an exploded perspective view of an electronic device on which the piezoelectric vibrating piece 10 shown in FIG. 1 is mounted. 16A is a cross-sectional view taken along line AA when the piezoelectric vibrating piece 60 shown in FIG. 6 is mounted in FIG. 15, and FIG. 16B is a piezoelectric vibrating piece 61 shown in FIG. It is an AA line sectional view at the time of carrying.

本実施形態の電子デバイス300は、パッケージ302(基板)、圧電振動片10、60、61を駆動させる集積回路(IC310)、リッド312により構成されている。パッケージ302は、図16の破線で示すように3層構造で形成されている。パッケージ302の下面には外部電極314が形成されている。またパッケージ302の凹部304の下段部306には複数の接続電極316が配置されている。接続電極316は、IC310に形成された複数のパッド電極320に対向する配置で複数形成され、各接続電極316は対応するパッド電極320に接続する。またパッケージ302の凹部304の上段部308には、圧電振動片10、60、61の引出電極26、30と導電性接着剤32を介して接続する接続電極318が形成されている。   The electronic device 300 according to this embodiment includes a package 302 (substrate), an integrated circuit (IC 310) that drives the piezoelectric vibrating reeds 10, 60, and 61, and a lid 312. The package 302 is formed in a three-layer structure as indicated by a broken line in FIG. An external electrode 314 is formed on the lower surface of the package 302. A plurality of connection electrodes 316 are arranged in the lower step 306 of the recess 304 of the package 302. A plurality of connection electrodes 316 are formed so as to face the plurality of pad electrodes 320 formed on the IC 310, and each connection electrode 316 is connected to the corresponding pad electrode 320. A connection electrode 318 is formed on the upper step 308 of the recess 304 of the package 302 to connect to the extraction electrodes 26 and 30 of the piezoelectric vibrating reeds 10, 60 and 61 via the conductive adhesive 32.

上述のように、パッケージ302の凹部304の下段部306に形成された接続電極316は、パッド電極320と接続するものであるが、接続電極318と電気的に接続するものと、外部電極314に接続するものがある。よってIC310は接続電極316及び外部電極314を介して外部と電気的に接続され、圧電振動片10、60、61の引出電極26、30は接続電極318及び接続電極316を介してIC310と電気的に接続される。したがってIC310は、外部電極314を介して電力が供給されると、圧電振動片10、60、61を駆動させることができる。本実施形態の電子デバイス300においては、圧電振動片10、60、61とIC310とが共に凹部304においてリッド312によりシングルシールにて封止された構造を有している。上記構成により、圧電振動片の振動部への応力を緩和させた電子デバイス300となる。   As described above, the connection electrode 316 formed in the lower step 306 of the recess 304 of the package 302 is connected to the pad electrode 320, but the connection electrode 318 is electrically connected to the external electrode 314. There is something to connect. Therefore, the IC 310 is electrically connected to the outside via the connection electrode 316 and the external electrode 314, and the extraction electrodes 26 and 30 of the piezoelectric vibrating reeds 10, 60 and 61 are electrically connected to the IC 310 via the connection electrode 318 and the connection electrode 316. Connected to. Therefore, the IC 310 can drive the piezoelectric vibrating reeds 10, 60, 61 when electric power is supplied via the external electrode 314. The electronic device 300 according to the present embodiment has a structure in which the piezoelectric vibrating reeds 10, 60, 61 and the IC 310 are sealed with a single seal by a lid 312 in the recess 304. With the above configuration, the electronic device 300 in which the stress on the vibration part of the piezoelectric vibrating piece is relaxed is obtained.

図17に本実施形態の電子デバイスの第1変形例を示す。図17においては、パッケージ402(基板)の両面に凹部404、406を形成し、一方の凹部404に圧電振動片60(圧電振動片10等でもよい)を搭載するとともにリッド408で封止し、他方の凹部406には集積回路(IC416)を取り付けた構成を有した電子デバイス400となっている。そしてパッケージ402の下端には外部電極410が形成され、また凹部406には外部電極410または凹部404に配置された接続電極420と電気的に接続するとともに、ワイヤー414を介してIC416のパッド電極418と電気的に接続する接続電極412が配置されている。   FIG. 17 shows a first modification of the electronic device of this embodiment. In FIG. 17, concave portions 404 and 406 are formed on both surfaces of a package 402 (substrate), and a piezoelectric vibrating piece 60 (which may be the piezoelectric vibrating piece 10 or the like) is mounted on one concave portion 404 and sealed with a lid 408. The other concave portion 406 is an electronic device 400 having a structure in which an integrated circuit (IC416) is attached. An external electrode 410 is formed at the lower end of the package 402, and the recess 406 is electrically connected to the connection electrode 420 disposed in the external electrode 410 or the recess 404, and the pad electrode 418 of the IC 416 through the wire 414. A connection electrode 412 that is electrically connected to is disposed.

一方、凹部404に配置された接続電極420は、圧電振動片60の引出電極26、30と導電性接着剤32を介して接続される。よって圧電振動片60はマウント部62を固定端として片持ち支持状態でパッケージ402に接続される。このように圧電振動片60とIC416とを隔離することによって、圧電振動片60のIC416からの熱の影響を低減することができる。   On the other hand, the connection electrode 420 disposed in the recess 404 is connected to the extraction electrodes 26 and 30 of the piezoelectric vibrating piece 60 via the conductive adhesive 32. Therefore, the piezoelectric vibrating piece 60 is connected to the package 402 in a cantilevered state with the mount portion 62 as a fixed end. By isolating the piezoelectric vibrating piece 60 and the IC 416 in this way, the influence of heat from the IC 416 of the piezoelectric vibrating piece 60 can be reduced.

図18に本実施形態の電子デバイスの第2変形例を示す。図18(a)は側面図、図18(b)は電子デバイスを構成する基板の平面図である。第2変形例においては、例えば図14に示す圧電振動子200を用いて電子デバイス500を形成している。すなわち、第2実施形態においては、圧電振動子200を駆動する集積回路(IC504)を搭載した基板502上にIC504(パッド電極506)と電気的に接続する電極球512を配置し、この電極球512により圧電振動子200を支持するとともに、電極球512と圧電振動子200の外部電極206とを電気的に接続し、基板502、IC504、電極球512、圧電振動子200を樹脂等のモールド剤516により一体形成している。ここで、基板502の下面には外部電極510が形成され、基板502の上面には外部電極510と貫通電極518を介して電気的に接続する接続電極508が形成されている。そしてIC504に形成されたパッド電極506のうち、一部は電極球512にワイヤー514を介して接続され、残りは接続電極508にワイヤー514を介して接続されている。   FIG. 18 shows a second modification of the electronic device of this embodiment. 18A is a side view, and FIG. 18B is a plan view of a substrate constituting the electronic device. In the second modification, for example, the electronic device 500 is formed using a piezoelectric vibrator 200 shown in FIG. That is, in the second embodiment, an electrode sphere 512 that is electrically connected to the IC 504 (pad electrode 506) is disposed on a substrate 502 on which an integrated circuit (IC 504) that drives the piezoelectric vibrator 200 is mounted. The piezoelectric vibrator 200 is supported by 512, and the electrode sphere 512 and the external electrode 206 of the piezoelectric vibrator 200 are electrically connected, and the substrate 502, the IC 504, the electrode sphere 512, and the piezoelectric vibrator 200 are made of a molding agent such as a resin. 516 is integrally formed. Here, an external electrode 510 is formed on the lower surface of the substrate 502, and a connection electrode 508 that is electrically connected to the external electrode 510 via the through electrode 518 is formed on the upper surface of the substrate 502. A part of the pad electrode 506 formed on the IC 504 is connected to the electrode sphere 512 via the wire 514, and the rest is connected to the connection electrode 508 via the wire 514.

上記構成とすることにより、既存の圧電振動子200の規格に対応して基板502、IC504、電極球512等の配置をして電子デバイス500を形成することができるのでコストを抑制することができる。なお、いずれの実施形態においてもICと各電極との接続はフェイスダウンボンディング方式を用いてもよい。またいずれの圧電振動子、電子デバイスの実施形態においても、上述のいずれの実施形態の圧電振動片の実装も適用できる。   With the above-described configuration, the electronic device 500 can be formed by arranging the substrate 502, the IC 504, the electrode sphere 512, and the like corresponding to the standard of the existing piezoelectric vibrator 200, so that the cost can be suppressed. . In any of the embodiments, the connection between the IC and each electrode may use a face-down bonding method. In any embodiment of the piezoelectric vibrator and the electronic device, the mounting of the piezoelectric vibrating piece of any of the above-described embodiments can be applied.

なお、上述の電子デバイスにおいては、圧電振動子に半導体素子(IC)に代表される電子部品を備えた構成として説明したが、少なくとも一以上の電子部品を備えることが好適である。そして前記電子部品としては、サーミスタ、コンデンサ、リアクタンス素子等を適用することができ、圧電振動片を発振源として用いた電子デバイスを構築することができる。   In the above-described electronic device, the piezoelectric vibrator is described as having a configuration including an electronic component typified by a semiconductor element (IC). However, it is preferable to include at least one electronic component. As the electronic component, a thermistor, a capacitor, a reactance element or the like can be applied, and an electronic device using a piezoelectric vibrating piece as an oscillation source can be constructed.

10………圧電振動片、10a………圧電素板、11………圧電素板、12………マウント部、14………緩衝部、16………スリット、17………厚肉部、18………面取り部、21………薄肉部、21a………凹部、22………振動部、24………励振電極、26………引出電極、28………励振電極、30………引出電極、32………導電性接着剤、34………基板、36………水晶基板、38………レジスト膜、38a………レジスト膜、40………フォトマスク、42………レジスト膜、42a………レジスト膜、44………フォトマスク、46………金属膜、48………レジスト膜、48a………レジスト膜、50………フォトマスク、60………圧電振動片、61………圧電振動片、62………マウント部、64………緩衝部、70………厚肉部、71………薄肉部、72………メサ部、74………励振電極、76………励振電極、78………薄肉部、80………メサ部、90………圧電振動片、91………圧電振動片、92………マウント部、94………緩衝部、96………薄肉部、98………振動部、100………スリット、100a………端部、100b………中央部、100c………屈曲部、100d………法線、102………スリット、102a………端部、102b………中央部、102c………法線、110………圧電振動片、112………補強部、120………圧電振動片、121………圧電振動片、122………スリット、122a………端部、122b………中央部、122c………屈曲部、124………スリット、124a………端部、124b………中央部、126………溝、200………圧電振動子、202………パッケージ、204………凹部、206………外部電極、208………貫通電極、210………接続電極、212………リッド、214………引出電極、215………引出電極、300………電子デバイス、302………パッケージ、304………凹部、306………下段部、308………上段部、310………IC、312………リッド、314………外部電極、316………接続電極、318………接続電極、320………パッド電極、322………接着剤、400………電子デバイス、402………パッケージ、404………凹部、406………凹部、408………リッド、410………外部電極、412………接続電極、414………ワイヤー、416………IC、418………パッド電極、420………接続電極、500………電子デバイス、502………基板、504………IC、506………パッド電極、508………接続電極、510………外部電極、512………電極球、514………ワイヤー、516………モールド剤、518………貫通電極、600………圧電振動子、602………支持部、604………振動部、606A………励振電極部、606B………励振電極部、608A………入出力端子部、608B………入出力端子部、610………スリット、612………容器、614………底部、616………接着剤、700………圧電振動片、702………マウント部、704………スリット、706………振動部、708………切欠き、710………連結部。 10 ......... Piezoelectric vibrator element, 10a ......... Piezoelectric element plate, 11 ......... Piezoelectric element plate, 12 ......... Mount part, 14 ......... Buffer part, 16 ......... Slit, 17 ......... Thick wall , 18 ......... Chamfered part, 21 .... Thin wall part, 21a ... ... Recessed part, 22 ... ... Vibrating part, 24 ... ... Excitation electrode, 26 ... ... Extraction electrode, 28 ... ... Excitation electrode, 30... Extraction electrode 32... Conductive adhesive 34... Substrate 36... Crystal substrate 38 38 Resist film 38 a Resist film 40 Photomask 42 ......... Resist film, 42a ......... Resist film, 44 ......... Photomask, 46 ......... Metal film, 48 ...... Resist film, 48a ......... Resist film, 50 ...... Photomask, 60 ……… Piezoelectric vibrating piece, 61 ……… Piezoelectric vibrating piece, 62 ……… Mounting part, 64 ……… Buffering part 70 ......... Thick part, 71 ......... Thin part, 72 ......... Mesa part, 74 ......... Excitation electrode, 76 ......... Excitation electrode, 78 ......... Thin part, 80 ......... Mesa part, 90 ......... piezoelectric vibrating piece, 91 ......... piezoelectric vibrating piece, 92 ......... mounting portion, 94 ......... buffering portion, 96 ......... thin portion, 98 ......... vibrating portion, 100 ......... slit, 100a ......... End, 100b ......... Center, 100c ......... Bent, 100d ......... Normal, 102 ......... Slit, 102a ......... End, 102b ......... Center, 102c ... ...... Normal line, 110 .... piezoelectric vibrating piece, 112 .... reinforcing portion, 120 .... piezoelectric vibrating piece, 121 .... piezoelectric vibrating piece, 122 .... slit, 122a .... end, 122b. ......... Center part, 122c ......... Bending part, 124 ......... Slit, 124a ......... End part, 12 b ......... central part, 126 ......... groove, 200 ......... piezoelectric vibrator, 202 ......... package, 204 ......... concave, 206 ......... external electrode, 208 ......... through electrode, 210 ... ...... Connecting electrode, 212... Lid, 214... Extraction electrode, 215... Extraction electrode, 300... Electronic device, 302... Package, 304. 308... Upper stage, 310... IC, 312... Lid, 314... External electrode, 316 ... Connection electrode, 318 ... Connection electrode, 320 ... Pad electrode, 322 ... adhesive, 400 ...... electronic device, 402 ......... package, 404 ......... concave, 406 ......... concave, 408 ......... lid, 410 ...... external electrode, 412 ...... connection electrode, 414 ……… Wire, 416 …… ... IC, 418 ... Pad electrode, 420 ... Connection electrode, 500 ... Electronic device, 502 ... Substrate, 504 ... IC, 506 ... Pad electrode, 508 ... Connection electrode, 510... External electrode 512... Electrode ball 514... Wire 516 ... Molding agent 518 ... Through electrode 600 ... Piezoelectric vibrator 602 ... Support section 604 ......... vibrating part, 606A ......... excitation electrode part, 606B ......... excitation electrode part, 608A ......... input / output terminal part, 608B ......... input / output terminal part, 610 ......... slit, 612 ......... Container, 614 ......... Bottom, 616 ......... Adhesive, 700 ......... Piezoelectric vibrating piece, 702 ......... Mount, 704 ......... Slit, 706 ...... Vibrating, 708 ......... Notch, 710 .... a connecting part.

Claims (10)

振動部を有する薄肉部と、前記薄肉部の周縁に設けられ、前記薄肉部より厚い厚肉部とを備えた圧電振動片であって、
前記厚肉部には、緩衝部を介してマウント部が横並びに接続され、
前記緩衝部は、前記マウント部と前記厚肉部との間にスリットを有し、
前記マウント部は、
前記マウント部と前記緩衝部と前記厚肉部との並ぶ方向に対して直交方向の両端部に、面取り部を有し、
前記スリットの長手方向の少なくとも一部は前記直交方向と平行であることを特徴とする圧電振動片。
A piezoelectric vibrating piece provided with a thin part having a vibration part, and a thick part provided on the periphery of the thin part, and thicker than the thin part,
The thick part is connected side by side with a mount part through a buffer part,
The buffer part has a slit between the mount part and the thick part,
The mount part is
A chamfered portion is provided at both ends in a direction orthogonal to the direction in which the mount portion, the buffer portion, and the thick portion are aligned,
The piezoelectric vibrating piece according to claim 1, wherein at least part of the longitudinal direction of the slit is parallel to the orthogonal direction.
前記スリットの前記長手方向の両端部が前記スリットの長手方向の中央部よりも前記マウント部側に位置するように屈曲或いは湾曲した形状を有することを特徴とする請求項1に記載の圧電振動片。   2. The piezoelectric vibrating piece according to claim 1, wherein both ends of the slit in the longitudinal direction are bent or curved so as to be positioned closer to the mount portion than the center in the longitudinal direction of the slit. . 前記スリットには、前記緩衝部より薄肉に形成され前記スリットの前記両端部から前記スリットの中央部に向かって延びる補強部が配置されたことを特徴とする請求項1または2に記載の圧電振動片。   3. The piezoelectric vibration according to claim 1, wherein the slit is provided with a reinforcing portion that is thinner than the buffer portion and extends from the both end portions of the slit toward a central portion of the slit. Piece. 前記スリットの前記長手方向の両端部が前記スリットの長手方向の中央部よりも前記薄肉部側に位置するように屈曲或いは湾曲した形状を有し、
前記両端部側と前記面取り部との間に、前記両端部側から前記面取り部に向かって延びる溝が形成されたことを特徴とする請求項1に記載の圧電振動片。
The slit has a shape that is bent or curved so that both ends of the slit in the longitudinal direction are located on the side of the thin portion with respect to the center in the longitudinal direction of the slit,
2. The piezoelectric vibrating piece according to claim 1, wherein a groove extending from the both end portions toward the chamfered portion is formed between the both end portions and the chamfered portion.
水晶の結晶軸である、電気軸としてのX軸と、機械軸としてのY軸と、光学軸としてのZ軸と、からなる直交座標系の前記X軸を中心として、前記Z軸を前記Y軸の−Y方向へ傾けた軸とZ′軸とし、前記Y軸を前記Z軸の+Z方向へ傾けた軸をY′軸とし、前記X軸と前記Z′軸に平行な面で構成され、前記Y′軸に平行な方向を厚みとするATカット水晶からなることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の圧電振動片。   Centering on the X axis of an orthogonal coordinate system consisting of an X axis as an electric axis, a Y axis as a mechanical axis, and a Z axis as an optical axis, which are crystal axes of quartz, the Z axis is the Y axis. The axis tilted in the −Y direction and the Z ′ axis, the Y axis tilted in the + Z direction of the Z axis as the Y ′ axis, and a plane parallel to the X axis and the Z ′ axis. 5. The piezoelectric vibrating piece according to claim 1, comprising an AT-cut quartz crystal having a thickness in a direction parallel to the Y ′ axis. 前記振動部の両面には前記振動部を振動させる励振電極が形成され、
前記マウント部の実装面には、各励振電極と電気的に接続された一対の引出電極が形成され、
前記薄肉部は、前記実装面の反対面側に偏って前記厚肉部に接続されたことを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の圧電振動片。
Excitation electrodes for vibrating the vibrating portion are formed on both surfaces of the vibrating portion,
On the mounting surface of the mount portion, a pair of extraction electrodes electrically connected to each excitation electrode is formed,
6. The piezoelectric vibrating piece according to claim 1, wherein the thin portion is connected to the thick portion with a bias toward an opposite surface of the mounting surface.
前記振動部は、前記薄肉部よりも厚くなっていることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の圧電振動片。   The piezoelectric vibrating piece according to claim 1, wherein the vibrating portion is thicker than the thin portion. 基板を有し、
請求項1乃至7のいずれか1項に記載の圧電振動片のマウント部の実装面を前記基板側に向け、前記マウント部と前記基板とを導電性接着剤で接着することにより前記圧電振動片を実装してなることを特徴とする圧電振動子。
Having a substrate,
The piezoelectric vibrating piece according to claim 1, wherein a mounting surface of the mounting portion of the piezoelectric vibrating piece according to claim 1 is directed to the substrate side, and the mounting portion and the substrate are bonded with a conductive adhesive. A piezoelectric vibrator characterized by being mounted.
基板を有し、
請求項1乃至7のいずれか1項に記載の圧電振動片のマウント部の実装面を前記基板側に向け、前記マウント部と前記基板とを導電性接着剤で接着することにより前記圧電振動片を実装し、少なくとも一以上の電子部品を備えてなることを特徴とする電子デバイス。
Having a substrate,
The piezoelectric vibrating piece according to claim 1, wherein a mounting surface of the mounting portion of the piezoelectric vibrating piece according to claim 1 is directed to the substrate side, and the mounting portion and the substrate are bonded with a conductive adhesive. And an electronic device comprising at least one electronic component.
請求項9に記載の電子デバイスにおいて、前記電子部品が、サーミスタ、コンデンサ、リアクタンス素子、半導体素子のうちのいずれかであることを特徴とする電子デバイス。   The electronic device according to claim 9, wherein the electronic component is one of a thermistor, a capacitor, a reactance element, and a semiconductor element.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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