JP2012154599A - Vapor generator - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a vapor generator which can generate solvent steam efficiently while controlling the breakdown of a container being a tank.SOLUTION: In this steam generator 37, the tank 71 is supported from below by a supporting member 75 which has a flange 75a, the first recess 75b, and the first O ring 76. Therefore, the supporting function of the tank 71 can be maintained without a bonded seal being broken by thermal stress caused by heat from a conventional heating means. Moreover, since the tank 71 is supported from the side by the supporting member 75, the second recess 75c created at the side of the supporting member 75, and the second O ring 77, thermal deformation under the side of the tank 71 can be coped with by the second O ring 77. Furthermore, since a heat conductive sponge 84 is provided between the top of an upper aluminum plate 81 and the tank 71, the warp of the bottom of the tank 71 and the warp of a heater 41 can be coped with.

Description

本発明は、半導体ウエハや液晶表示装置用のガラス基板(以下、単に基板と称する)等の基板に対して、処理液により洗浄、エッチング等の処理を行った後、溶剤蒸気を基板に供給して基板を乾燥させる基板処理装置に用いる溶剤蒸気を発生する蒸気発生装置に関する。   In the present invention, a substrate such as a semiconductor wafer or a glass substrate for a liquid crystal display device (hereinafter simply referred to as a substrate) is subjected to a treatment such as cleaning or etching with a treatment liquid, and then a solvent vapor is supplied to the substrate. The present invention relates to a vapor generation apparatus that generates solvent vapor used in a substrate processing apparatus for drying a substrate.

従来から、処理液を貯留する処理槽と、処理槽を囲うチャンバと、基板を支持して処理位置と乾燥位置とにわたって昇降自在のリフタと、チャンバ内の気体を排出する真空ポンプと、チャンバ内に窒素ガスを供給する窒素ガスノズルと、チャンバ内に溶剤蒸気を供給する溶剤ノズルとを備えた基板処理装置が提案されている。   Conventionally, a processing tank for storing a processing liquid, a chamber surrounding the processing tank, a lifter that supports a substrate and can be raised and lowered between a processing position and a drying position, a vacuum pump that discharges gas in the chamber, A substrate processing apparatus having a nitrogen gas nozzle for supplying nitrogen gas and a solvent nozzle for supplying solvent vapor into the chamber has been proposed.

このような構成の基板処理装置では、窒素ガスノズルからチャンバ内に窒素ガスを供給し、チャンバ内の酸素をチャンバ底部の排出口から排出してチャンバ内を窒素ガス雰囲気にした後、処理槽に処理液を貯留した状態でリフタを処理位置に位置させて、基板に対して処理液による処理(例えば、純水洗浄)を行う。そして、処理液による処理が終了した後、窒素ガスノズルから窒素ガスを供給してチャンバ内の酸素を排出し、チャンバ内に溶剤ノズルから溶剤蒸気を供給して、チャンバ内を溶剤蒸気雰囲気とした後に、リフタを処理位置から乾燥位置に引き上げて溶剤蒸気により基板を乾燥する。   In the substrate processing apparatus having such a configuration, nitrogen gas is supplied into the chamber from the nitrogen gas nozzle, oxygen in the chamber is exhausted from the discharge port at the bottom of the chamber to make the inside of the chamber a nitrogen gas atmosphere, and then the processing is performed in the processing tank. With the liquid stored, the lifter is positioned at the processing position, and the substrate is processed with the processing liquid (for example, pure water cleaning). After the treatment with the treatment liquid is completed, nitrogen gas is supplied from the nitrogen gas nozzle to discharge oxygen in the chamber, solvent vapor is supplied from the solvent nozzle into the chamber, and the inside of the chamber is made a solvent vapor atmosphere. Then, the lifter is lifted from the processing position to the drying position, and the substrate is dried by the solvent vapor.

このような基板処理装置では、基板を乾燥する際には、溶媒蒸気が用いられ、特許文献1〜特許文献4に示すように、基板を乾燥させるための溶剤蒸気を発生させる蒸気発生装置が必ず設けられている。   In such a substrate processing apparatus, when the substrate is dried, a solvent vapor is used. As shown in Patent Documents 1 to 4, a vapor generating apparatus that generates a solvent vapor for drying the substrate is always used. Is provided.

図4は、従来の蒸気発生装置を示す概略構成図である。この従来の蒸気発生装置は、主として、防爆の囲い110と、防爆の囲い110内に収容されるタンク120と、このタンク120を載置するための支持部材130とを備えている。このタンク120は、直方体の形状であって、上部周囲に鍔部121が形成されており、イソプロピルアルコール(以下、単にIPAと称する)等の有機溶剤を内部に貯留する。支持部材130は、口字形状をしており、防爆の囲い110内の底部に載置されている。   FIG. 4 is a schematic configuration diagram showing a conventional steam generator. This conventional steam generator mainly includes an explosion-proof enclosure 110, a tank 120 accommodated in the explosion-proof enclosure 110, and a support member 130 on which the tank 120 is placed. The tank 120 has a rectangular parallelepiped shape, and has a flange 121 formed around the upper portion thereof, and stores therein an organic solvent such as isopropyl alcohol (hereinafter simply referred to as IPA). The support member 130 has a square shape and is placed on the bottom of the explosion-proof enclosure 110.

このタンク120の周囲には、タンク120の長辺側3本、短辺側2本の計10本の支柱140が配置されている(図4では2本のみ開示)。この支柱140の下端部は、ボルト131により、防爆の囲い110の底部及び支持部材130に取り付けられている。なお、タンク120の側部と支柱140のタンク120と接する側とは接着剤(図示省略)により、取り付けられている。   Around the tank 120, a total of ten columns 140, three on the long side of the tank 120 and two on the short side, are disposed (only two are disclosed in FIG. 4). The lower end portion of the support column 140 is attached to the bottom portion of the explosion-proof enclosure 110 and the support member 130 by bolts 131. In addition, the side part of the tank 120 and the side in contact with the tank 120 of the column 140 are attached by an adhesive (not shown).

口字の形状の支持部材130の内側で、防爆の囲い110の底部上には、上側アルミ板150及び下側アルミ板151に挟まれた板状のヒータ160が配置されている。上側アルミ板150の上部はタンク120の下部に接触しており、下側アルミ板151の下部は防爆の囲い110の底部に接触している。タンク120の下部周囲と支持部材130とは接着シール170により取り付けられている。この接着シール170は、タンク120の下部周囲を支持するという働きがあるとともに、もしタンク120からIPA液体が漏れ出た場合のシール機能も有している。   A plate-like heater 160 sandwiched between an upper aluminum plate 150 and a lower aluminum plate 151 is disposed on the bottom of the explosion-proof enclosure 110 inside the support member 130 having a square shape. The upper part of the upper aluminum plate 150 is in contact with the lower part of the tank 120, and the lower part of the lower aluminum plate 151 is in contact with the bottom of the explosion-proof enclosure 110. The lower periphery of the tank 120 and the support member 130 are attached by an adhesive seal 170. The adhesive seal 170 has a function of supporting the lower periphery of the tank 120 and also has a sealing function in case IPA liquid leaks from the tank 120.

タンク120の鍔部121上には、タンク120内を密閉するための蓋180が載置されている。このタンク120の鍔部121と蓋180とは、ボルト190とナット191とにより、複数個所において接合されている(図4では、2組のボルト190とナット191を開示)。   A lid 180 for sealing the inside of the tank 120 is placed on the flange portion 121 of the tank 120. The flange portion 121 and the lid 180 of the tank 120 are joined at a plurality of locations by bolts 190 and nuts 191 (in FIG. 4, two sets of bolts 190 and nuts 191 are disclosed).

蓋180には、窒素ガス(Nガス)をタンク120内に導入するための窒素ガス導入穴181と、IPA液体をタンク120内に供給するためのIPA液体供給穴182と、IPA蒸気を基板処理部(図示省略)へ供給するためのIPA蒸気供給穴183とがそれぞれ形成されている。また、防爆の囲い110の上側には、窒素ガスを防爆の囲い110内に導入するための窒素ガス導入穴111と、IPA液体を防爆の囲い110内に供給するためのIPA液体供給穴112と、IPA蒸気を基板処理部(図示省略)へ供給するためのIPA蒸気供給穴113とがそれぞれ形成されている。 The lid 180 has a nitrogen gas introduction hole 181 for introducing nitrogen gas (N 2 gas) into the tank 120, an IPA liquid supply hole 182 for supplying IPA liquid into the tank 120, and IPA vapor as a substrate. An IPA vapor supply hole 183 for supplying to a processing unit (not shown) is formed. Also, on the upper side of the explosion-proof enclosure 110, a nitrogen gas introduction hole 111 for introducing nitrogen gas into the explosion-proof enclosure 110, and an IPA liquid supply hole 112 for supplying IPA liquid into the explosion-proof enclosure 110, , IPA vapor supply holes 113 for supplying IPA vapor to a substrate processing unit (not shown) are formed.

防爆の囲い110の窒素ガス導入穴111と蓋180の窒素ガス導入穴182とには、窒素ガス導入配管185が接続されている。防爆の囲い110のIPA液体供給穴112と蓋180のIPA液体供給穴181とには、IPA液体供給配管186が接続されている。防爆の囲い110のIPA蒸気供給穴113と蓋180のIPA蒸気供給穴183とには、IPA蒸気供給配管187が接続されている。   A nitrogen gas introduction pipe 185 is connected to the nitrogen gas introduction hole 111 of the explosion-proof enclosure 110 and the nitrogen gas introduction hole 182 of the lid 180. An IPA liquid supply pipe 186 is connected to the IPA liquid supply hole 112 of the explosion-proof enclosure 110 and the IPA liquid supply hole 181 of the lid 180. An IPA vapor supply pipe 187 is connected to the IPA vapor supply hole 113 of the explosion-proof enclosure 110 and the IPA vapor supply hole 183 of the lid 180.

特開2009−21420号公報JP 2009-21420 A 特開2009−21421号公報JP 2009-21421 A 特開2010−67811号公報JP 2010-67811 A 特開2010−86981号公報JP 2010-86981 A

しかしながら、このような構成を有する従来の蒸気発生装置には、次のような問題がある。通常、IPA液体をIPA蒸気にするためには、ヒータ160は約120℃の温度に加熱させられる。このとき、タンク120の下部は、ヒータ160からの熱により左右に伸びようとする力が働く。また、支持部材130そのものは、常温に近い温度なので、タンク120の底部と支持部材130とには温度差がある。   However, the conventional steam generator having such a configuration has the following problems. Typically, the heater 160 is heated to a temperature of about 120 ° C. to convert the IPA liquid to IPA vapor. At this time, a force is exerted on the lower portion of the tank 120 to extend left and right due to heat from the heater 160. Further, since the support member 130 itself has a temperature close to room temperature, there is a temperature difference between the bottom of the tank 120 and the support member 130.

このタンク120の下部が伸びようとする力と上述した温度差とにより、接着シール170には熱応力がかかってしまい、接着シール170が破損することがある。この接着シール170が破損すれば、防爆の囲い110内のタンク120の支持機能が低下してしまうことになる。その結果、このタンク120の支持機能が低下すれば、防爆の囲い110内でタンク120が破損してしまう可能性がある。   Due to the force that the lower part of the tank 120 tends to extend and the temperature difference described above, the adhesive seal 170 may be subjected to thermal stress, and the adhesive seal 170 may be damaged. If the adhesive seal 170 is broken, the support function of the tank 120 in the explosion-proof enclosure 110 is lowered. As a result, if the support function of the tank 120 is lowered, the tank 120 may be damaged in the explosion-proof enclosure 110.

本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、容器の破損を抑制しつつ、効率的に溶剤蒸気を発生できる蒸気発生装置を提供することを目的とする。   This invention is made | formed in view of such a situation, Comprising: It aims at providing the vapor | steam generator which can generate | occur | produce solvent vapor | steam efficiently, suppressing the damage of a container.

上述した目的を達成するために、請求項1に記載の発明は、溶剤液体を加熱して溶剤蒸気を発生させる蒸気発生装置において、溶剤液体を貯留する容器と、前記容器の下側に配置され、前記容器内に貯留された溶剤液体を加熱する加熱手段と、前記容器を収容する囲いと、前記囲い内において前記囲いの底部に取り付けられ、前記容器を載置するためのフランジを有する支持部材と、前記支持部材の上部に取り付けられ、前記容器を外周側から支えるための複数の支柱とを備え、前記フランジにおいて、前記容器の下側と接触する側に凹部を形成し、前記凹部に前記容器の下側と接触するOリングを嵌め込ませたことを特徴とするものである。   In order to achieve the above-described object, the invention according to claim 1 is a vapor generating apparatus for heating a solvent liquid to generate a solvent vapor, and is disposed below the container for storing the solvent liquid and the container. A heating means for heating the solvent liquid stored in the container; a support housing the container; and a support member attached to the bottom of the enclosure in the enclosure and for mounting the container And a plurality of support posts attached to the upper part of the support member for supporting the container from the outer peripheral side, and forming a recess on the flange in contact with the lower side of the container, An O-ring contacting the lower side of the container is fitted.

請求項2に記載の蒸気発生装置は、請求項1に記載の蒸気発生装置において、前記支持部材の前記容器の側部と接触する側に凹部を形成し、前記凹部に前記容器の側部と接触するOリングを嵌め込ませたことを特徴とするものである。   The steam generator according to claim 2 is the steam generator according to claim 1, wherein a recess is formed on a side of the support member that contacts the side of the container, and the side of the container is formed in the recess. The contact O-ring is fitted.

請求項3に記載の蒸気発生装置は、請求項1または請求項2に記載の蒸気発生装置において、前記加熱手段が板状であり、前記支持部材が平面視で口字状であるとともに、前記フランジが前記支持部材の内側に設けられており、前記支持部材の内側に、前記加熱手段が配置されていることを特徴とするものである。   The steam generator according to claim 3 is the steam generator according to claim 1 or 2, wherein the heating means is plate-shaped, the support member is shaped like a square in plan view, and A flange is provided inside the support member, and the heating means is arranged inside the support member.

請求項4に記載の蒸気発生装置は、請求項3に記載の蒸気発生装置において、前記容器の下側と前記加熱手段との間に配置された伝熱スポンジをさらに備えることを特徴とするものである。   The steam generator according to claim 4 is the steam generator according to claim 3, further comprising a heat transfer sponge disposed between the lower side of the container and the heating means. It is.

本発明に係る蒸気発生装置によれば、容器を載置するためのフランジを有する支持部材を備え、この支持部材のフランジにおいて、容器の下側と接触する側に凹部を形成にし、凹部に容器の下側と接触するOリングを嵌め込ませているので、従来のような加熱手段からの熱による熱応力により、接着シールが破損することもなく、容器の支持機能を維持することができ、その結果、容器の破損を抑制できるという顕著な効果がある。   The steam generator according to the present invention includes a support member having a flange for placing the container. The flange of the support member has a recess formed on the side in contact with the lower side of the container. Since the O-ring that comes into contact with the lower side is fitted, the support function of the container can be maintained without damaging the adhesive seal due to the thermal stress caused by the heat from the conventional heating means. As a result, there is a remarkable effect that breakage of the container can be suppressed.

この発明の実施形態に係る蒸気発生装置を備える基板処理装置の概略構成を示したブロック図である。It is the block diagram which showed schematic structure of the substrate processing apparatus provided with the steam generator which concerns on embodiment of this invention. この発明の実施形態に係る蒸気発生装置の断面図である。It is sectional drawing of the steam generator which concerns on embodiment of this invention. 図2における矢印Iが示す方向から見た図である。It is the figure seen from the direction which the arrow I in FIG. 2 shows. 従来の蒸気発生装置を示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows the conventional steam generator.

以下、図面を参照して本発明の実施の形態を説明する。図1は、本発明の実施の形態に係る蒸気発生装置を備える基板処理装置の概略構成を示したブロック図である。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a block diagram showing a schematic configuration of a substrate processing apparatus including a vapor generating apparatus according to an embodiment of the present invention.

この基板処理装置は、純水などの処理液を貯留する処理槽1を備えている。この処理槽1は、処理液を貯留し、起立姿勢とされた複数枚の基板Wを収容可能である。処理槽1の底部には、複数枚の基板Wが整列されている方向(紙面方向)に沿って長軸を有し、処理液を供給するための二本の噴出管7が配設されている。各噴出管7には、供給管11の一端側が接続されている。供給管11の他端側は、処理液供給源15に連通接続されており、その流量が制御弁からなる処理液弁17で制御される。処理液供給源15は、フッ化水素酸(HF)や、硫酸・過酸化水素水(HSO・H)の混合液などの薬液や、純水などを処理液として供給管11に供給する。 The substrate processing apparatus includes a processing tank 1 for storing a processing liquid such as pure water. The processing tank 1 stores a processing liquid and can accommodate a plurality of substrates W in an upright posture. At the bottom of the processing tank 1, two ejection pipes 7 having a long axis along the direction (paper surface direction) in which a plurality of substrates W are aligned are provided for supplying a processing liquid. Yes. One end of a supply pipe 11 is connected to each ejection pipe 7. The other end side of the supply pipe 11 is connected to a processing liquid supply source 15 and its flow rate is controlled by a processing liquid valve 17 including a control valve. The treatment liquid supply source 15 is a supply pipe using a chemical solution such as hydrofluoric acid (HF), a mixed solution of sulfuric acid / hydrogen peroxide solution (H 2 SO 4 .H 2 O 2 ), or pure water as a treatment liquid. 11 is supplied.

処理槽1は、その周囲がチャンバ27で囲われている。チャンバ27は、上部に開閉自在の上部カバー29を備えている。起立姿勢で複数枚の基板Wを保持するリフタ31は、駆動機構(図示省略)によりチャンバ27の上方にあたる「待機位置」と、処理槽1の内部にあたる「処理位置」と、処理槽1の上方であってチャンバ27の内部にあたる「乾燥位置」とにわたって移動可能である。チャンバ27の側面の一部位には、排気管28aが配設されている。この排気管28aには、排気ポンプ28bが接続されており、排気弁28cにより開閉される。   The processing tank 1 is surrounded by a chamber 27. The chamber 27 includes an upper cover 29 that can be opened and closed. The lifter 31 that holds a plurality of substrates W in a standing posture is configured such that a “standby position” that is above the chamber 27, a “processing position” that is inside the processing tank 1, and a position above the processing tank 1 by a drive mechanism (not shown). However, it can be moved over a “drying position” which is inside the chamber 27. An exhaust pipe 28 a is disposed at one part of the side surface of the chamber 27. An exhaust pump 28b is connected to the exhaust pipe 28a and is opened and closed by an exhaust valve 28c.

上部カバー29の下方であってチャンバ27の上部内壁には、一対の溶剤ノズル33と、一対の不活性ガスノズル34とが配設されている。溶剤ノズル33には、IPA供給管35の一端側が連通接続されている。その他端側は、蒸気発生装置37に連通接続されている。このIPA供給管35には、その上流側から順に、溶剤蒸気の流量を調整するための制御弁からなる蒸気弁38と、溶剤蒸気を加熱するためのインラインヒータ40とが配設されている。なお、IPA供給管35は、従来からある基板処理装置の供給管よりも大径(9.52mm程度)で構成され、IPA供給管35の中における溶剤蒸気の流路抵抗を小さくして溶剤ノズル33への溶剤蒸気の供給が円滑に行われる。IPA供給管35がインラインヒータ40を備えていることにより、発生された溶剤蒸気がIPA供給管35で凝縮することを軽減でき、溶剤濃度が低下することを防止できる。   A pair of solvent nozzles 33 and a pair of inert gas nozzles 34 are disposed below the upper cover 29 and on the upper inner wall of the chamber 27. One end side of the IPA supply pipe 35 is connected to the solvent nozzle 33 in communication. The other end side is connected in communication with the steam generator 37. The IPA supply pipe 35 is provided with a steam valve 38 including a control valve for adjusting the flow rate of the solvent vapor and an in-line heater 40 for heating the solvent vapor in order from the upstream side. The IPA supply pipe 35 has a larger diameter (about 9.52 mm) than the conventional supply pipe of the substrate processing apparatus, and the solvent resistance in the IPA supply pipe 35 is reduced to reduce the solvent nozzle. The supply of the solvent vapor to 33 is performed smoothly. Since the IPA supply pipe 35 includes the in-line heater 40, the generated solvent vapor can be reduced from condensing in the IPA supply pipe 35, and the solvent concentration can be prevented from decreasing.

蒸気発生装置37は、蒸気発生空間である内部空間を所定温度に温調し、加熱して溶剤の蒸気を発生させるヒータ41が内部に付設されている。蒸気発生装置37の内部空間には、溶剤を供給するための溶剤供給源43が連通接続されている。この例では、溶剤としてイソプロピルアルコール(IPA)が利用されているものとする。なお、溶剤としては、イソプロピルアルコールの他に、例えば、ハイドロフルオロエーテル(HFE)がある。蒸気発生装置の詳細な内容については後述する。   The steam generator 37 is provided with a heater 41 for adjusting the temperature of the internal space, which is a steam generation space, to a predetermined temperature and heating it to generate solvent vapor. A solvent supply source 43 for supplying a solvent is connected in communication with the internal space of the steam generator 37. In this example, isopropyl alcohol (IPA) is used as the solvent. In addition to isopropyl alcohol, examples of the solvent include hydrofluoroether (HFE). Details of the steam generator will be described later.

不活性ガスノズル34には、供給管45の一端側が連通接続されている。その他端側は、不活性ガスを供給する不活性ガス供給源47に連通接続されている。不活性ガスとしては、例えば、窒素ガスが挙げられる。不活性ガスの供給量は、不活性ガス弁49によって調整される。不活性ガス弁49の下流側には、インラインヒータ50が取り付けられている。このインラインヒータ50は、不活性ガス供給源47からの不活性ガスを所定温度に加熱する。   One end of a supply pipe 45 is connected to the inert gas nozzle 34 in communication. The other end side is connected in communication with an inert gas supply source 47 that supplies an inert gas. Examples of the inert gas include nitrogen gas. The supply amount of the inert gas is adjusted by an inert gas valve 49. An inline heater 50 is attached to the downstream side of the inert gas valve 49. The in-line heater 50 heats the inert gas from the inert gas supply source 47 to a predetermined temperature.

チャンバ27には、チャンバ27内のガスの圧力がこもらないようにするために減圧状態を解消するための制御弁からなる呼吸弁53が取り付けられている。   The chamber 27 is provided with a breathing valve 53 comprising a control valve for eliminating the decompression state so that the pressure of the gas in the chamber 27 is not accumulated.

処理槽1の底部には、排出口57が配設されている。この排出口57には、QDR弁59が取り付けられている。このQDR弁59から処理槽1内の処理液を排出すると、処理液がチャンバ27内の底部に一旦排出される。チャンバ27の底部には、気液分離部61に連通接続された排出管63が取り付けられ、この排出管63には排液弁65が取り付けられている。気液分離部61は、排出管63から気体と液体を取り込むとともに、それらを分離して排出する。   A discharge port 57 is disposed at the bottom of the processing tank 1. A QDR valve 59 is attached to the discharge port 57. When the processing liquid in the processing tank 1 is discharged from the QDR valve 59, the processing liquid is once discharged to the bottom of the chamber 27. A discharge pipe 63 connected to the gas-liquid separator 61 is attached to the bottom of the chamber 27, and a drain valve 65 is attached to the discharge pipe 63. The gas-liquid separation unit 61 takes in gas and liquid from the discharge pipe 63 and separates and discharges them.

上述した処理液弁17、排気弁28c、排気ポンプ28b、上部カバー29、リフタ31、蒸気発生装置37、蒸気弁38、インラインヒータ40、ヒータ41、不活性ガス弁49、インラインヒータ50、呼吸弁53、QDR弁59、排液弁65などの動作は、制御部67によって統括的に制御される。制御部67は、上述した各部を制御するとともに、記憶部69に記憶されているデータなどを参照する。この記憶部69は、予め行われた実験によって得られた低減所要時間を記憶している。制御部67は、図示しないタイマを備えており、適宜に時間を計時する。   The above-described processing liquid valve 17, exhaust valve 28c, exhaust pump 28b, upper cover 29, lifter 31, steam generator 37, steam valve 38, in-line heater 40, heater 41, inert gas valve 49, in-line heater 50, breathing valve 53, the QDR valve 59, the drain valve 65, and the like are controlled in an integrated manner by the control unit 67. The control unit 67 controls each unit described above and refers to data stored in the storage unit 69. The storage unit 69 stores a required reduction time obtained by an experiment performed in advance. The control unit 67 includes a timer (not shown) and measures time appropriately.

低減所要時間とは、排気ポンプ28bを作動させ、チャンバ27内から気体を排気することにより、チャンバ27内における所定の酸素濃度にまで低減させるのに要する時間である。所定の酸素濃度は、酸素濃度の低減目標であり、例えば、基板Wに対してプロセス的に悪影響が生じないとされる100ppm以下、好ましくは1ppm以下である。この濃度以下となるのに要する時間が上記の低減所要時間であり、例えば、40〜60秒程度である。この実施の形態では、60秒であるとする。   The time required for reduction is the time required to reduce the oxygen concentration in the chamber 27 to a predetermined level by operating the exhaust pump 28 b and exhausting the gas from the chamber 27. The predetermined oxygen concentration is a target for reducing the oxygen concentration, and is, for example, 100 ppm or less, preferably 1 ppm or less, at which no adverse effects are caused in the process on the substrate W. The time required to become this concentration or less is the time required for the above reduction, for example, about 40 to 60 seconds. In this embodiment, it is assumed that it is 60 seconds.

上述した制御部67は、処理液による処理を終えた後、酸素濃度低減処理を行うが、その際に記憶部69を参照し、チャンバ27内における酸素濃度が100ppm以下となったに等しい、低減所要時間が経過した時点で減圧を停止させるように上述した各部を操作する。   The control unit 67 described above performs the oxygen concentration reduction process after finishing the processing with the processing liquid. At that time, the storage unit 69 is referred to, and the oxygen concentration in the chamber 27 is equal to or less than 100 ppm. Each part mentioned above is operated so that pressure reduction may be stopped when required time passes.

次に、本発明の実施の形態に係る蒸気発生装置の具体的な構成について、図2及び図3に基づいて説明する。図2は、この発明の実施形態に係る蒸気発生装置の断面図であり、図3は、図2における矢印Iが示す方向から見た図である。   Next, a specific configuration of the steam generator according to the embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 2 is a cross-sectional view of the steam generator according to the embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a view as seen from the direction indicated by the arrow I in FIG.

この蒸気発生装置37は、主として、防爆の囲い70と、防爆の囲い70内に収容されているタンク71とを備えている。この防爆の囲い70は、ステンレス製の筺体であり、下側に凹部が形成されている。このタンク71は、直方体の形状であって、上部周囲に口字状の鍔部72が形成されており、溶剤液体としてのIPA液体を内部に貯留する。防爆の囲い70の凹部に対応させるように、凸状の台座73が設けられている。この台座73は、ステンレス製である。なお、タンク71は、本発明の容器に相当する。   The steam generator 37 mainly includes an explosion-proof enclosure 70 and a tank 71 accommodated in the explosion-proof enclosure 70. The explosion-proof enclosure 70 is a stainless steel housing, and has a recess formed on the lower side. The tank 71 has a rectangular parallelepiped shape, and has a lip-shaped collar portion 72 formed around the upper portion, and stores an IPA liquid as a solvent liquid therein. A convex pedestal 73 is provided so as to correspond to the concave portion of the explosion-proof enclosure 70. This pedestal 73 is made of stainless steel. The tank 71 corresponds to the container of the present invention.

凸状の台座73上面の周囲には、複数の取付部材74(図2では、2個開示)により防爆の囲い70の下部と支持部材75とが取り付けられている。支持部材75は、口字状の形状としているとともに、内側に突出したフランジ75aを備えている。支持部材75のフランジ75a上にタンク71が載置される。なお、支持部材75は、ステンレス製である。   Around the upper surface of the convex pedestal 73, a lower portion of the explosion-proof enclosure 70 and a support member 75 are attached by a plurality of attachment members 74 (two are disclosed in FIG. 2). The support member 75 is shaped like a square and includes a flange 75a protruding inward. The tank 71 is placed on the flange 75 a of the support member 75. The support member 75 is made of stainless steel.

フランジ75aにおいて、タンク71の下部側に口字状の第1凹部75bが形成されている。この第1凹部75bには、第1Oリング76が嵌め込まれている。支持部材75の内側側部には口字状の第2凹部75cが形成されている。この第2凹部75cには、第2Oリング77が嵌め込まれている。第1Oリング76及び第2Oリング77は、いずれもゴム状の弾力性部材であるエラストマーである。   A flange-shaped first recess 75 b is formed on the lower side of the tank 71 in the flange 75 a. A first O-ring 76 is fitted in the first recess 75b. A second concave portion 75 c having a mouth shape is formed on the inner side portion of the support member 75. A second O-ring 77 is fitted in the second recess 75c. The first O-ring 76 and the second O-ring 77 are both elastomers that are rubber-like elastic members.

このタンク71の周囲には、タンク71の長辺側3本、短辺側2本の計10本の支柱79が配置されている(図2では、2本のみ開示、図3では、10本開示)。この支柱79の下端部は、ボルト80により、支持部材75の上端部に取り付けられている。この10本の支柱79は、ステンレス製である。なお、タンク71の側部と支柱79のタンク71と接触する側とは、接着剤(図示省略)により、取り付けられている。   Around this tank 71, a total of ten columns 79, three on the long side of the tank 71 and two on the short side, are arranged (only two are disclosed in FIG. 2, 10 in FIG. 3. Disclosure). The lower end portion of the column 79 is attached to the upper end portion of the support member 75 with a bolt 80. The ten struts 79 are made of stainless steel. In addition, the side part of the tank 71 and the side of the support 79 in contact with the tank 71 are attached by an adhesive (not shown).

口字の形状の支持部材75の内側で、台座73上には上側アルミ板81及び下側アルミ板82に挟まれた板状のヒータ41が配置されている。上側アルミ板81の上部とタンク71との間には伝熱スポンジ84が設けられている。この伝熱スポンジ84は、シリコーン主原料のゲルである。   A plate-like heater 41 sandwiched between an upper aluminum plate 81 and a lower aluminum plate 82 is disposed on the pedestal 73 inside the support member 75 having a square shape. A heat transfer sponge 84 is provided between the upper part of the upper aluminum plate 81 and the tank 71. The heat transfer sponge 84 is a silicone main raw material gel.

タンク71の鍔部72には上には、タンク71内を密閉するための蓋85が載置されている。図2及び図3に示すように、タンク71の鍔部72と蓋85とは、10組のボルト86とナット87とにより、接合されている。   A lid 85 for sealing the inside of the tank 71 is placed on the flange portion 72 of the tank 71. As shown in FIGS. 2 and 3, the flange portion 72 and the lid 85 of the tank 71 are joined together by ten sets of bolts 86 and nuts 87.

蓋85には、窒素ガスをタンク71内に導入するための窒素ガス導入穴85aと、IPA液体をタンク71内に供給するためのIPA液体供給穴85bと、IPA蒸気を溶剤ノズル33へ供給するためのIPA蒸気供給穴85cとがそれぞれ形成されている。また、防爆の囲い70の上側には、窒素ガスをタンク71内に導入するための窒素ガス導入穴70aと、IPA液体をタンク71内に供給するためのIPA液体供給穴70bと、IPA蒸気を溶剤ノズル33へ供給するためのIPA蒸気供給穴70cとがそれぞれ形成されている。   In the lid 85, a nitrogen gas introduction hole 85 a for introducing nitrogen gas into the tank 71, an IPA liquid supply hole 85 b for supplying IPA liquid into the tank 71, and IPA vapor are supplied to the solvent nozzle 33. IPA vapor supply holes 85c for the purpose are formed. Further, on the upper side of the explosion-proof enclosure 70, a nitrogen gas introduction hole 70a for introducing nitrogen gas into the tank 71, an IPA liquid supply hole 70b for supplying IPA liquid into the tank 71, and IPA vapor are supplied. An IPA vapor supply hole 70c for supplying the solvent nozzle 33 is formed.

蓋85の窒素ガス導入穴85aと防爆の囲い70の窒素ガス導入穴70aとには、窒素ガス導入配管89が接続されている。蓋85のIPA液体供給穴85bと防爆の囲い70のIPA液体供給穴70bとには、上流側のIPA供給管35が接続されている。蓋85のIPA蒸気供給穴85cと防爆の囲い70のIPA蒸気供給穴70cとには、下流側のIPA供給管35が接続されている。   A nitrogen gas introduction pipe 89 is connected to the nitrogen gas introduction hole 85 a of the lid 85 and the nitrogen gas introduction hole 70 a of the explosion-proof enclosure 70. An upstream IPA supply pipe 35 is connected to the IPA liquid supply hole 85 b of the lid 85 and the IPA liquid supply hole 70 b of the explosion-proof enclosure 70. A downstream IPA supply pipe 35 is connected to the IPA vapor supply hole 85 c of the lid 85 and the IPA vapor supply hole 70 c of the explosion-proof enclosure 70.

この蒸気発生装置37では以下のようにして、IPA蒸気を発生する。まず、溶剤供給源43(図1)から上流側のIPA供給管35を介して、蒸気発生装置37内のタンク71にIPA液体を供給する。次に、ヒータ41を作動させて、タンク71内に貯留されたIPA液体を加熱する。これによりタンク71内のIPA液体の上方の空間にIPA蒸気を発生させる。最後に、窒素ガス供給源(図示省略)から窒素ガス導入配管89を介して、タンク71内に窒素ガスを導入する。この窒素ガスのタンク71への導入にともなって、タンク71内にあるIPA蒸気が下流側のIPA供給管35を介して溶剤ノズル33へ供給される。   The steam generator 37 generates IPA steam as follows. First, the IPA liquid is supplied from the solvent supply source 43 (FIG. 1) to the tank 71 in the vapor generating device 37 through the upstream IPA supply pipe 35. Next, the heater 41 is operated to heat the IPA liquid stored in the tank 71. As a result, IPA vapor is generated in the space above the IPA liquid in the tank 71. Finally, nitrogen gas is introduced into the tank 71 from a nitrogen gas supply source (not shown) through the nitrogen gas introduction pipe 89. As the nitrogen gas is introduced into the tank 71, the IPA vapor in the tank 71 is supplied to the solvent nozzle 33 through the IPA supply pipe 35 on the downstream side.

上述した本発明の実施の形態に係る蒸気発生装置37によれば、以下のような顕著な効果がある。まず、この蒸気発生装置37では、フランジ75aを有する支持部材75、第1凹部75b、及び第1Oリング76により、タンク71を下側から支持しているので、従来のような加熱手段からの熱による熱応力により、接着シールが破損することもなく、タンク71の支持機能を維持することができ、その結果、タンク71の破損を抑制でき、効率的に溶剤蒸気を発生できるという顕著な効果がある。   According to the steam generator 37 according to the embodiment of the present invention described above, there are the following remarkable effects. First, in this steam generator 37, since the tank 71 is supported from the lower side by the support member 75 having the flange 75a, the first recess 75b, and the first O-ring 76, the heat from the conventional heating means is obtained. It is possible to maintain the support function of the tank 71 without damaging the adhesive seal due to the thermal stress caused by the above. As a result, the tank 71 can be prevented from being damaged and the solvent vapor can be generated efficiently. is there.

また、この蒸気発生装置37では、支持部材75、支持部材75の側部に形成された第2凹部75c、及び第2Oリング77により、タンク71を側部から支持しているので、第2Oリング77によりタンク71の側部下側の熱変形に対応できるという顕著な効果がある。   Further, in this steam generation device 37, the tank 71 is supported from the side by the support member 75, the second recess 75c formed in the side of the support member 75, and the second O-ring 77, so the second O-ring. 77 has a remarkable effect that it can cope with thermal deformation of the lower side of the tank 71.

さらに、この蒸気発生装置37では、上側アルミ板81の上部とタンク71との間には伝熱スポンジ84が設けられているので、タンク71の底面の反りとヒータ41の反りに対応できるという顕著な効果もある。   Furthermore, in this steam generator 37, since the heat transfer sponge 84 is provided between the upper portion of the upper aluminum plate 81 and the tank 71, it is possible to cope with the warp of the bottom surface of the tank 71 and the warp of the heater 41. There is also an effect.

なお、上述した本発明の実施の形態にかぎるものではない。たとえば、上述した発明の実施形態は、処理槽1を備えたバッチ式の洗浄装置であったが、基板を回転させながら1枚ずつ処理する枚葉式の洗浄装置でも利用することが可能である。   Note that the present invention is not limited to the above-described embodiment. For example, although the embodiment of the invention described above is a batch type cleaning apparatus provided with the processing tank 1, it can also be used in a single wafer type cleaning apparatus that processes the substrates one by one while rotating the substrate. .

35 IPA供給管
37 蒸気発生装置
41 ヒータ
70 防爆の囲い
71 タンク
73 台座
75 支持部材
75a フランジ
75b 第1凹部
75c 第2凹部
76 第1Oリング
77 第2Oリング
79 支柱
84 伝熱スポンジ
35 IPA supply pipe 37 steam generator 41 heater 70 explosion-proof enclosure 71 tank 73 pedestal 75 support member 75a flange 75b first recess 75c second recess 76 first O-ring 77 second O-ring 79 column 84 heat transfer sponge

Claims (4)

溶剤液体を加熱して溶剤蒸気を発生させる蒸気発生装置において、
溶剤液体を貯留する容器と、
前記容器の下側に配置され、前記容器内に貯留された溶剤液体を加熱する加熱手段と、
前記容器を収容する囲いと、
前記囲い内において前記囲いの底部に取り付けられ、前記容器を載置するためのフランジを有する支持部材と、
前記支持部材の上部に取り付けられ、前記容器を外周側から支えるための複数の支柱とを備え、
前記フランジにおいて、前記容器の下側と接触する側に凹部を形成し、前記凹部に前記容器の下側と接触するOリングを嵌め込ませたことを特徴とする蒸気発生装置。
In a steam generator that heats solvent liquid and generates solvent vapor,
A container for storing a solvent liquid;
A heating means disposed on the lower side of the container for heating the solvent liquid stored in the container;
An enclosure containing the container;
A support member attached to the bottom of the enclosure within the enclosure and having a flange for mounting the container;
A plurality of support columns attached to an upper portion of the support member and supporting the container from the outer peripheral side;
In the flange, a recess is formed on a side of the flange that contacts the lower side of the container, and an O-ring that contacts the lower side of the container is fitted into the concave part.
請求項1に記載の蒸気発生装置において、
前記支持部材の前記容器の側部と接触する側に凹部を形成し、前記凹部に前記容器の側部と接触するOリングを嵌め込ませたことを特徴とする蒸気発生装置。
The steam generator according to claim 1,
A steam generator, wherein a recess is formed on a side of the support member that contacts the side of the container, and an O-ring that contacts the side of the container is fitted into the recess.
請求項1または請求項2に記載の蒸気発生装置において、
前記加熱手段は板状であり、
前記支持部材は、平面視で口字状であるとともに、前記フランジは、前記支持部材の内側に設けられており、
前記支持部材の内側に、前記加熱手段が配置されていることを特徴とする蒸気発生装置。
The steam generator according to claim 1 or 2,
The heating means is plate-shaped,
The support member has a square shape in plan view, and the flange is provided inside the support member,
The steam generating apparatus, wherein the heating means is disposed inside the support member.
請求項3に記載の蒸気発生装置において、
前記容器の下側と前記加熱手段との間に配置された伝熱スポンジをさらに備えることを特徴とする蒸気発生装置。
The steam generator according to claim 3,
The steam generator further comprising a heat transfer sponge disposed between a lower side of the container and the heating means.
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