JP2012144595A - Thermally conductive silicone composition and cured product excellent in transparency - Google Patents

Thermally conductive silicone composition and cured product excellent in transparency Download PDF

Info

Publication number
JP2012144595A
JP2012144595A JP2011002279A JP2011002279A JP2012144595A JP 2012144595 A JP2012144595 A JP 2012144595A JP 2011002279 A JP2011002279 A JP 2011002279A JP 2011002279 A JP2011002279 A JP 2011002279A JP 2012144595 A JP2012144595 A JP 2012144595A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
component
groups
silicone composition
bonded
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2011002279A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP5589856B2 (en
Inventor
Yasuhisa Ishihara
靖久 石原
Akihiro Endo
晃洋 遠藤
Kenichi Tsuji
謙一 辻
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shin Etsu Chemical Co Ltd filed Critical Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority to JP2011002279A priority Critical patent/JP5589856B2/en
Priority to CN201180064371.0A priority patent/CN103298885B/en
Priority to KR1020137020738A priority patent/KR101780526B1/en
Priority to PCT/JP2011/079907 priority patent/WO2012093602A1/en
Priority to TW100149837A priority patent/TWI518138B/en
Publication of JP2012144595A publication Critical patent/JP2012144595A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5589856B2 publication Critical patent/JP5589856B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/54Silicon-containing compounds
    • C08K5/541Silicon-containing compounds containing oxygen
    • C08K5/5415Silicon-containing compounds containing oxygen containing at least one Si—O bond
    • C08K5/5419Silicon-containing compounds containing oxygen containing at least one Si—O bond containing at least one Si—C bond
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/04Polysiloxanes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/34Silicon-containing compounds
    • C08K3/36Silica
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K9/00Use of pretreated ingredients
    • C08K9/04Ingredients treated with organic substances
    • C08K9/06Ingredients treated with organic substances with silicon-containing compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L83/00Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L83/04Polysiloxanes

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a thermally conductive silicone composition that provides a cured product simultaneously having thermal conductivity, transparency, and flame retardancy, and to provide the cured product thereof.SOLUTION: The thermally conductive silicone composition includes surface-hydrophobized silica comprising a substrate silica comprising an SiOunit (unit Q) and a surface treatment agent applied and bonded to the surface of the substrate silica. The surface treatment agent is an organosilicon compound represented by general formula (X), wherein Ris either a monovalent organosiloxane group which may have a trifunctional branch but not a tetrafunctional branch and whose terminal bonded to a silicon atom is terminated by an oxygen atom, or a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group; Ris an alkyl group; and x is an integer of 1-3. The molar ratio (p/q) of the number (p) of the silicon atom constituting the surface treatment agent bonded to the surface of the substrate silica to the number (q) of the unit Q is in the range of 0.01-0.3.

Description

本発明は広くは、透明性が必要とされる発熱境界面に介装し得る透明性に優れる熱伝導性シリコーン材料に関する。   The present invention generally relates to a heat-conductive silicone material having excellent transparency that can be interposed in a heat generation interface where transparency is required.

パーソナルコンピューター、デジタルビデオディスク、携帯電話等の電子機器に使用されるCPU、ドライバIC、メモリー等のLSIチップは、高性能化・高速化・小型化・高集積化に伴い、それ自身が大量の熱を発生するようになり、その熱によるチップの温度上昇はチップの動作不良、破壊を引き起こす。そのため、動作中のチップの温度上昇を抑制するための多くの熱放散方法及びそれに使用する熱放散部材が提案されている。しかしこれまで提案されてきた熱放散部材は樹脂に熱伝導性無機充填材を配合した組成物またその硬化物であり不透明なものであった。不透明であると電子部品に実装した後に、部品の名前や部品番号を確認するためには電子部品からわざわざ取り外さなければならなかった。この問題を解決するために、ケース状の熱放散部材において実公昭62-28769号公報(特許文献1)ではケースの一面に切り欠き又は窓を設けた構成を提案している。しかし切り抜きした部分の電気絶縁性が得られないという問題があり、特開平8-17977公報(特許文献2)では透明性と電気絶縁性を両立させた電子部品ケースが提案されている。これは切り抜かれている窓の部分が透明シリコーンゴムで出来ている。しかしこの場合、透明シリコーンゴムの部分は熱伝導性がその他の部分に比べて著しく低く、その部分にヒートスポットが生じてしまうという欠点があった。またケースの一部に窓を設けるとケースを取り付ける際に窓のある部分を部品の部品番号等が記載されている部分に合わせなければならず取り付け作業の効率が悪い。もしケース全体が透明でさらに熱伝導性を有しているのであればどのように取り付けても部品番号を確認することができ、またヒートスポットが生じることはない。   LSI chips such as CPUs, driver ICs, and memories used in electronic devices such as personal computers, digital video discs, and mobile phones are becoming more and more themselves as performance, speed, size, and integration increase. Heat is generated, and the temperature rise of the chip due to the heat causes malfunction and destruction of the chip. Therefore, many heat dissipating methods for suppressing the temperature rise of the chip during operation and heat dissipating members used therefor have been proposed. However, the heat dissipating member that has been proposed so far is a composition in which a heat conductive inorganic filler is blended with a resin, or a cured product thereof, and is opaque. After being mounted on an electronic component as being opaque, it was necessary to remove it from the electronic component in order to confirm the name and part number of the component. In order to solve this problem, Japanese Utility Model Publication No. 62-28769 (Patent Document 1) has proposed a case-like heat dissipation member in which a notch or a window is provided on one surface of the case. However, there is a problem that the electrical insulation of the cut-out portion cannot be obtained, and Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-17977 (Patent Document 2) proposes an electronic component case that achieves both transparency and electrical insulation. This is made of transparent silicone rubber in the cutout window. However, in this case, the transparent silicone rubber portion has a drawback that the heat conductivity is remarkably lower than that of other portions, and a heat spot is generated in that portion. In addition, if a window is provided in a part of the case, when attaching the case, the part with the window must be matched with the part on which the part number or the like of the part is written, and the efficiency of the attaching work is poor. If the entire case is transparent and has thermal conductivity, the part number can be confirmed no matter how it is attached, and no heat spot is generated.

一方近年、液晶パネルディスプレイ(LCD)や発光ダイオード(LED)などの発展は凄まじいものがある。液晶パネルディスプレイは薄型化が進行し、LEDに関しては高輝度化が進んでいる。このような分野でも発熱の問題があり、LCDやLEDから出た熱は基板の裏側に逃がしているのが現状である。またLCDの画面上には保護フィルムなどが何層にも積層されているが放熱性能を有している層はない。もし放熱性能を有する層を積層させることが出来ればディスプレイ部からも放熱を行なえることになるので、よりパネルの温度上昇を抑えられることができる。ただそのためには放熱性能を有しながらも透明性が必要となる。またLED素子の封止材やリフレクター材にも放熱性能を付与することが出来れば、輝度が落ちることなく長寿命化に貢献できる。そのためにもやはり放熱性能を有しながらも透明性が必要となる。   On the other hand, in recent years, the development of liquid crystal panel displays (LCDs) and light emitting diodes (LEDs) has been tremendous. Liquid crystal panel displays are becoming thinner and LEDs are becoming brighter. Even in these fields, there is a problem of heat generation, and the current situation is that the heat generated from the LCD and LED is released to the back side of the substrate. In addition, although a number of protective films are laminated on the LCD screen, there is no layer with heat dissipation performance. If a layer having heat dissipation performance can be laminated, heat can be radiated from the display portion, so that the temperature rise of the panel can be further suppressed. However, for that purpose, transparency is required while having heat dissipation performance. Moreover, if heat dissipation performance can be imparted to the sealing material and reflector material of the LED element, it can contribute to longer life without lowering the brightness. Therefore, transparency is still necessary while having heat dissipation performance.

実公昭62-28769号公報Japanese Utility Model Publication No.62-28769 特開平8-17977公報Japanese Patent Laid-Open No. 8-17977

そこで、本発明は、上記問題に鑑み、熱伝導性、透明性、難燃性を兼ね備えた硬化物を与える熱伝導性シリコーン組成物及びその硬化物を提供することを目的としている。   Then, in view of the said problem, this invention aims at providing the heat conductive silicone composition which gives the hardened | cured material which has heat conductivity, transparency, and a flame retardance, and its hardened | cured material.

本発明者らは特定の疎水化表面処理を施したシリカを含む用いることにより高充填が可能で、透明性を保ちながら熱伝導性、難燃性に優れる熱導伝性シリコーン組成物及びその硬化物を開発するに至った。   The inventors of the present invention are capable of high filling by using silica having a specific hydrophobized surface treatment, and have excellent thermal conductivity and flame retardancy while maintaining transparency, and curing thereof. It came to develop a thing.

即ち、本発明は、上記課題を解決するものとして、
(α)SiO1/2単位(Q単位)からなる基材シリカと、その表面に処理され結合した表面処理剤とからなる疎水化表面処理シリカ、及び、
(β)ポリオルガノシロキサン成分
を含む熱伝導性シリコーン組成物にして、
前記の表面処理剤が、一般式(X):
That is, the present invention solves the above problems as follows:
(Α) Hydrophobized surface-treated silica composed of a base silica composed of SiO 1/2 units (Q units) and a surface treatment agent treated and bonded to the surface, and
(Β) A thermally conductive silicone composition containing a polyorganosiloxane component,
The surface treatment agent has the general formula (X):

Figure 2012144595
Figure 2012144595

(式中、Rは3官能性分岐を有してもよいが4官能性分岐は有しない、ケイ素原子に結合する末端が酸素原子で停止している1価のオルガノシロキサン基であるか、又は置換若しくは非置換の1価の炭化水素基であり、Rはアルキル基であり、xは1〜3の整数である。)
で表される有機ケイ素化合物であり、
前記Q単位の数(q)に対する、基材シリカの表面に結合した表面処理剤を構成するケイ素原子の数(p)のモル比(p/q)が、0.01〜0.3の範囲内である、ことを特徴とする熱伝導性シリコーン組成物を提供する。
(In the formula, R 1 may have a trifunctional branch but does not have a tetrafunctional branch, is a monovalent organosiloxane group whose terminal bonded to a silicon atom is terminated with an oxygen atom, or Or a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group, R 2 is an alkyl group, and x is an integer of 1 to 3. )
An organosilicon compound represented by
The molar ratio (p / q) of the number (p) of silicon atoms constituting the surface treatment agent bonded to the surface of the base silica with respect to the number (q) of Q units is in the range of 0.01 to 0.3. A thermally conductive silicone composition is provided.

本発明の熱伝導性シリコーン組成物は、熱伝導性、透明性、難燃性を兼ね備えた硬化物を与えることができる。したがって、透明性が必要である発熱部分にも放熱部材として使用することができる。   The thermally conductive silicone composition of the present invention can provide a cured product having both thermal conductivity, transparency and flame retardancy. Therefore, it can be used as a heat radiating member even in a heat generating portion that requires transparency.

−M、D、T、Q単位について−
オルガノポリシロキサンは、無機質のSi-O-Si結合と、ケイ素原子に結合した有機基から成り立っており、骨格の構造、重合度、有機基の種類などを変えることにより、それぞれ特徴のあるいろいろなものが得られる。そこで、オルガノポリシロキサンの構造及び本発明の説明を簡略化するために、当業者には周知、慣用である以下の記号を用いる。各単位においてケイ素原子に隣接して結合する酸素原子はシロキサン結合(Si−O−Si)を形成する酸素原子を想定しており、該酸素原子を挟む二つのケイ素原子に1/2個ずつ共有されている、と考える。
M単位:
-About M, D, T, Q units-
Organopolysiloxane is composed of inorganic Si-O-Si bonds and organic groups bonded to silicon atoms. By changing the structure of the skeleton, the degree of polymerization, the type of organic groups, etc., each has various characteristics. Things are obtained. Therefore, in order to simplify the structure of the organopolysiloxane and the description of the present invention, the following symbols that are well known and commonly used by those skilled in the art are used. In each unit, the oxygen atom bonded adjacent to the silicon atom is assumed to be an oxygen atom that forms a siloxane bond (Si—O—Si), and ½ is shared by two silicon atoms sandwiching the oxygen atom. I think it has been.
M units:

Figure 2012144595
Figure 2012144595

D単位: D unit:

Figure 2012144595
Figure 2012144595

T単位: T unit:

Figure 2012144595
Figure 2012144595

Q単位: Q unit:

Figure 2012144595
Figure 2012144595

ただし、これらの単位において、Rは一価の置換基を表す。   However, in these units, R represents a monovalent substituent.

−(α)表面処理シリカ−
・基材シリカ:
基材シリカ、即ち、無処理のシリカは本質的にQ単位のみからなるが、通常、表面に水酸基(シラノール基)を多数有し、表面は親水性である。
-(Α) surface-treated silica-
-Base silica:
Base silica, that is, untreated silica consists essentially of Q units, but usually has many hydroxyl groups (silanol groups) on the surface, and the surface is hydrophilic.

・表面処理剤:
本発明に用いられる表面処理シリカは基材シリカを前記一般式(X)で表される特定の表面処理剤で処理し表面を疎水化したものである。基材シリカが本来有する水酸基が表面処理剤と反応して表面が疎水化されている。したがって、表面処理シリカは、基材シリカの表面に表面処理剤が結合した状態で存在している。
・ Surface treatment agent:
The surface-treated silica used in the present invention is obtained by treating the base silica with the specific surface treatment agent represented by the general formula (X) to make the surface hydrophobic. The hydroxyl group inherent to the base silica reacts with the surface treatment agent to make the surface hydrophobic. Accordingly, the surface-treated silica exists in a state where the surface treatment agent is bonded to the surface of the base silica.

一般式(X)において、Rは3官能性分岐を有してもよいが4官能性分岐は有しない、ケイ素原子に結合する末端が酸素原子で停止している1価のオルガノシロキサン基であるか、又は置換若しくは非置換の1価の炭化水素基である。ここで、3官能性分岐とは上記T単位の存在によりポリオルガノシロキサンの主鎖中に形成されたT字形分岐であり、4官能性分岐とは上記Q単位の存在により該主鎖中に形成された十字形分岐である。 In the general formula (X), R 1 may be a monovalent organosiloxane group which may have a trifunctional branch but does not have a tetrafunctional branch, and the terminal bonded to the silicon atom is terminated with an oxygen atom. Or a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group. Here, the trifunctional branch is a T-shaped branch formed in the main chain of the polyorganosiloxane by the presence of the T unit, and the tetrafunctional branch is formed in the main chain by the presence of the Q unit. Cruciform branch.

が前記1価のポリオルガノシロキサン基である場合、そのポリオルガノシロキサン鎖はM単位、D単位、T単位若しくはこれらの2種以上の組み合わせからなる。
一般式(X)で表される有機ケイ素化合物は、具体的には、以下の一般式(1)〜(3)で表すことができる。
When R 1 is the monovalent polyorganosiloxane group, the polyorganosiloxane chain is composed of M units, D units, T units, or a combination of two or more thereof.
Specifically, the organosilicon compound represented by the general formula (X) can be represented by the following general formulas (1) to (3).

Figure 2012144595
式(1)〜(3)において、R及びRは一般式(X)について述べた通りである。
Figure 2012144595
In the formulas (1) to (3), R 1 and R 2 are as described for the general formula (X).

がオルガノポリシロキサン基の場合、通常は主鎖部分が基本的に前記D単位(但し、Rは一価の有機基)の繰り返しからなるのが一般的であるが、主鎖部分の一部に前記T単位(但し、Rは一価の有機基)を含んでT字形の分枝構造を含んだものであってもよい。 In the case where R 1 is an organopolysiloxane group, the main chain portion is usually basically composed of repetition of the D unit (where R is a monovalent organic group). The portion may contain the T unit (where R is a monovalent organic group) and a T-shaped branched structure.

が1価のオルガノポリシロキサン基である場合には、シロキサン単位の繰り返し数(その重合度)は3〜50が好ましい。該重合度の下限は3以上が好ましく、上限は20以下であることがより好ましい。繰り返し単位が50を超えると基材シリカ表面をシリコーンが被覆することになり、基材シリカ表面上に存在するシラノール基との脱水縮合が進行しにくくなる。また得られる表面処理シリカの粒径が過大なり易い。 When R 1 is a monovalent organopolysiloxane group, the number of repeating siloxane units (degree of polymerization) is preferably 3-50. The lower limit of the degree of polymerization is preferably 3 or more, and the upper limit is more preferably 20 or less. If the number of repeating units exceeds 50, the surface of the base silica is covered with silicone, and dehydration condensation with silanol groups present on the surface of the base silica is difficult to proceed. Moreover, the particle diameter of the surface-treated silica obtained tends to be excessive.

R1が非置換又は置換の1価炭化水素基である場合、一般式(X)で表される有機ケイ素化合物はアルコキシシランである。該非置換又は置換の1価炭化水素基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基などのアルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等のシクロアルキル基、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、ビフェニリル基等のアリール基、ベンジル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基、メチルベンジル基等のアラルキル基等の炭化水素基;ならびにこれらの炭化水素基の炭素原子が結合している水素原子の一部又は全部が、フッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子、シアノ基などで置換された置換炭化水素基、例えば、クロロメチル基、2-ブロモエチル基、3-クロロプロピル基、3,3,3-トリフルオロプロピル基、クロロフェニル基、フルオロフェニル基、シアノエチル基、3,3,4,4,5,5,6,6,6-ノナフルオロヘキシル基等が挙げられる。これらの中で、代表的なものは炭素原子数が1〜10、特に代表的なものは炭素原子数が1〜6のものであり、好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、クロロメチル基、ブロモエチル基、3,3,3-トリフルオロプロピル基、シアノエチル基等の炭素原子数1〜3の非置換又は置換のアルキル基及びフェニル基、クロロフェニル基、フルオロフェニル基等の非置換又は置換のフェニル基である。 When R 1 is an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group, the organosilicon compound represented by the general formula (X) is an alkoxysilane. Examples of the unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a tert-butyl group, a pentyl group, a neopentyl group, a hexyl group, a heptyl group, and an octyl group. Group, nonyl group, decyl group, dodecyl group and other alkyl groups, cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group and other cycloalkyl groups, phenyl group, tolyl group, xylyl group, xylyl group, naphthyl group, biphenylyl group and other aryl groups, benzyl A hydrocarbon group such as an aralkyl group such as a group, phenylethyl group, phenylpropyl group or methylbenzyl group; and a part or all of the hydrogen atoms to which the carbon atoms of these hydrocarbon groups are bonded are fluorine, chlorine, Substituted hydrocarbon groups substituted by halogen atoms such as bromine, cyano groups, etc., for example, chloromethyl groups 2-bromoethyl group, 3-chloropropyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group, chlorophenyl group, fluorophenyl group, cyanoethyl group, 3,3,4,4,5,5,6,6,6- Nonafluorohexyl group etc. are mentioned. Among these, a typical one has 1 to 10 carbon atoms, and a particularly typical one has 1 to 6 carbon atoms, preferably a methyl group, an ethyl group, a propyl group, or a chloromethyl group. Group, bromoethyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group, cyanoethyl group, etc., unsubstituted or substituted alkyl group having 1 to 3 carbon atoms and phenyl group, chlorophenyl group, fluorophenyl group, etc., unsubstituted or substituted Of the phenyl group.

アルコキシ基(OR2)のR2は炭素原子数1〜6のアルキル基であり、好ましくは、炭素原子数1又は2のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基が挙げられる。 R 2 of the alkoxy group (OR 2 ) is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, preferably an alkyl group having 1 or 2 carbon atoms, such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, or an isopropyl group. Butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, pentyl group, neopentyl group, and hexyl group.

末端のケイ素に結合するアルコキシ基(OR2)は一つ以上あればよい。またアルコキシシランの種類は1種類またはそれ以上から選ぶことができる。さらに末端にアルコキシ基が二つ以上有するアルコキシシランを用いた場合、さらに別のアルコキシシランで処理をすることができ高い疎水性を有する表面処理シリカが得られる。どの程度処理されたかは、例えば、表面処理シリカに水酸化カリウムを作用させて、シロキサン結合を切断し全てエトキシシラン化してガスクロマトグラフィーの面積比から算出することができる。(本願の実施例ではこの方法で算出した)。 There may be one or more alkoxy groups (OR 2 ) bonded to the terminal silicon. The type of alkoxysilane can be selected from one or more. Further, when an alkoxysilane having two or more alkoxy groups at the terminal is used, it can be further treated with another alkoxysilane, and a surface-treated silica having high hydrophobicity can be obtained. The extent of the treatment can be calculated from the area ratio of gas chromatography by, for example, applying potassium hydroxide to the surface-treated silica to cleave the siloxane bond and all ethoxysilanize. (Calculated by this method in the examples of the present application).

一般式(1)〜(3)で表される表面処理剤の具体例としては、次の化合物が挙げられる。   Specific examples of the surface treatment agent represented by the general formulas (1) to (3) include the following compounds.

Figure 2012144595
Figure 2012144595

上述した一般式(X)で表される表面処理剤は1種単独でも2種以上の組み合わせでも使用することができる。
・表面処理シリカ:
Q単位からなる基材シリカと、表面に存在する前記表面処理剤との割合は、前記基材シリカを構成するQ単位の数(q)に対する、基材シリカの表面に結合した表面処理剤を構成するケイ素原子の数(p)のモル比(p/q)が、0.01〜0.3の範囲内である。このp/qの値が大きい程シリカ表面に多くの表面処理剤が存在することになり処理度の高いシリカと言える。p/qが0.01よりも小さいと、処理度が不十分になり充填性、分散性が悪く、透明性を保つことが出来ない。またT単位の方がM単位よりも嵩高いためにT単位が多い方がよりシリカ表面を保護することができる。例えば表面処理済みのシリカ表面にシラノール基が残存していてもT単位がシラノール基に覆い被さるため、疎水化効果がえられる。また上記モル比が0.3を超えるとシリカの粒径が大きくなってしまい、透明性を確保できなくなる。
The surface treating agent represented by the general formula (X) described above can be used alone or in combination of two or more.
・ Surface treatment silica:
The ratio of the base silica composed of Q units and the surface treatment agent present on the surface is the surface treatment agent bonded to the surface of the base silica with respect to the number (q) of Q units constituting the base silica. The molar ratio (p / q) of the number (p) of the silicon atoms constituting is in the range of 0.01 to 0.3. The larger the value of p / q, the more surface treatment agent is present on the silica surface, and it can be said that the silica has a higher degree of treatment. When p / q is smaller than 0.01, the degree of processing becomes insufficient, the filling property and dispersibility are poor, and the transparency cannot be maintained. Further, since the T unit is bulkier than the M unit, the silica surface can be protected more when the T unit is larger. For example, even if silanol groups remain on the surface of the surface-treated silica, the T unit is covered with the silanol groups, so that a hydrophobic effect can be obtained. On the other hand, when the molar ratio exceeds 0.3, the particle size of silica increases, and transparency cannot be ensured.

表面処理シリカの平均粒径はマイクロトラック法を用いて測定した値である。該平均粒径は20nm以上200nm以下である必要があり、好ましくは20nm以上150um以下、より好ましくは20nm以上120nm以下である。というのは、平均粒径が大きすぎるとシリコーン中によく分散させても透明性を確保することができないからである。また平均粒径が小さいと透明性は高くなるがシリカの表面積が大きくなり充填性が低下し良好な熱伝導性を達成し難い。   The average particle diameter of the surface-treated silica is a value measured using a microtrack method. The average particle size needs to be 20 nm or more and 200 nm or less, preferably 20 nm or more and 150 μm or less, more preferably 20 nm or more and 120 nm or less. This is because if the average particle size is too large, transparency cannot be ensured even if it is well dispersed in silicone. On the other hand, when the average particle size is small, the transparency is increased, but the surface area of the silica is increased, the filling property is lowered, and it is difficult to achieve good thermal conductivity.

表面処理シリカの代表的な製造法としては、ヒドロカルビルオキシシラン、代表例としては、テトラメトキシシランを加水分解縮合して得られた親水性ゾル‐ゲルシリカ微粒子に、前述の表面処理剤である一般式(X)で表される有機ケイ素化合物を作用させて得る。   As a typical production method of surface-treated silica, hydrocarbyloxysilane, typically, hydrophilic sol-gel silica fine particles obtained by hydrolytic condensation of tetramethoxysilane, the above-mentioned general formula of surface treatment agent is used. It is obtained by acting an organosilicon compound represented by (X).

−シリコーン組成物−
本発明の熱伝導性シリコーン組成物は、
(α)SiO1/2単位(Q単位)からなる基材シリカと、その表面に処理され結合した表面処理剤とからなる疎水化表面処理シリカ、及び、
(β)ポリオルガノシロキサン成分
を含む熱伝導性シリコーン組成物にして、
前記の表面処理剤が、一般式(X):
-Silicone composition-
The thermally conductive silicone composition of the present invention is
(Α) Hydrophobized surface-treated silica composed of a base silica composed of SiO 1/2 units (Q units) and a surface treatment agent treated and bonded to the surface, and
(Β) A thermally conductive silicone composition containing a polyorganosiloxane component,
The surface treatment agent has the general formula (X):

Figure 2012144595
Figure 2012144595

(式中、Rは3官能性分岐を有してもよいが4官能性分岐は有しない、ケイ素原子に結合する末端が酸素原子で停止している1価のオルガノシロキサン基であるか、又は置換若しくは非置換の1価の炭化水素基であり、Rはアルキル基であり、xは1〜3の整数である。)
で表される有機ケイ素化合物であり、
前記Q単位の数(q)に対する、基材シリカの表面に結合した表面処理剤を構成するケイ素原子の数(p)のモル比(p/q)が、0.01〜0.3の範囲内である、ことを特徴とする熱伝導性シリコーン組成物である。
(In the formula, R 1 may have a trifunctional branch but does not have a tetrafunctional branch, is a monovalent organosiloxane group whose terminal bonded to a silicon atom is terminated with an oxygen atom, or Or a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group, R 2 is an alkyl group, and x is an integer of 1 to 3. )
An organosilicon compound represented by
The molar ratio (p / q) of the number (p) of silicon atoms constituting the surface treatment agent bonded to the surface of the base silica with respect to the number (q) of Q units is in the range of 0.01 to 0.3. It is a heat conductive silicone composition characterized by the above-mentioned.

該シリコーン組成物は(α)成分の前記表面処理シリカの他に、別の必須の成分として(β)オルガノポリシロキサン成分を含む。該組成物に含まれる、(β)成分である全オルガノポリシロキサン成分((α)成分を構成する表面処理剤を含まない)100質量部に対して(α)成分の前記表面処理シリカの添加量は、透明性、熱伝導性及び難燃性がともに良好である点で、100〜500質量部であることが好ましい。該添加量の下限は、200質量部以上であることがより好ましく、300質量部以上であることが更に好ましい。また、該添加量の上限は、400質量部以下がより好ましく、350質量部以下であることがさらに好ましい。また、多すぎると、組成物の粘度が過度に高くなり、成形性に乏しくなる。
本発明の熱伝導性シリコーン組成物は硬化性であり、硬化反応の型に応じて(β)成分のポリオルガノシロキサン成分が選択され、また必要に応じて硬化剤や触媒が配合される。以下、組成物の硬化反応の型ごとに詳しく説明する。
The silicone composition contains (β) an organopolysiloxane component as another essential component in addition to the surface-treated silica as the component (α). Addition of the surface-treated silica of the component (α) to 100 parts by weight of the total organopolysiloxane component (not containing the surface-treating agent constituting the component (α)) contained in the composition The amount is preferably 100 to 500 parts by mass in terms of good transparency, thermal conductivity and flame retardancy. The lower limit of the addition amount is more preferably 200 parts by mass or more, and still more preferably 300 parts by mass or more. Further, the upper limit of the addition amount is more preferably 400 parts by mass or less, and further preferably 350 parts by mass or less. Moreover, when too large, the viscosity of a composition will become high too much and it will become poor in a moldability.
The thermally conductive silicone composition of the present invention is curable, and a polyorganosiloxane component (β) is selected according to the type of curing reaction, and a curing agent and a catalyst are blended as necessary. Hereinafter, each type of curing reaction of the composition will be described in detail.

・シリコーン組成物の硬化型による種類
本発明の熱伝導性シリコーン組成物の硬化型は特に限定はされていない。公知のものを使用することができる。その具体例としては、有機過酸化物硬化性、付加硬化性、放射線硬化性、および縮合硬化性のシリコーン組成物が挙げられる。付加硬化性が好ましい。
-Kind by the hardening type of a silicone composition The hardening type of the heat conductive silicone composition of this invention is not specifically limited. A well-known thing can be used. Specific examples thereof include organic peroxide curable, addition curable, radiation curable, and condensation curable silicone compositions. Addition curability is preferred.

放射線硬化性シリコーン組成物としては、紫外線硬化性シリコーン組成物及び電子線硬化性シリコーン組成物を挙げられる。
付加硬化反応性シリコーン組成物としては、例えば、上記のアルケニル基を有する直鎖状オルガノポリシロキサンとオルガノハイドロジェンポリシロキサンと白金族金属系触媒の存在下で反応(ヒドロシリル化付加反応)させることにより硬化するシリコーン組成物を挙げることができる。
Examples of the radiation curable silicone composition include an ultraviolet curable silicone composition and an electron beam curable silicone composition.
Examples of the addition curing reactive silicone composition include a reaction (hydrosilylation addition reaction) in the presence of the above-mentioned linear organopolysiloxane having an alkenyl group, an organohydrogenpolysiloxane, and a platinum group metal catalyst. Mention may be made of silicone compositions that cure.

有機過酸化物硬化性シリコーン組成物としては、例えば、分子鎖末端(片末端または両末端)および分子鎖非末端のどちらか一方またはその両方にビニル基等のアルケニル基を有する直鎖状オルガノポリシロキサンを有機過酸化物存在下でラジカル重合させることによる硬化するシリコーン組成物を挙げることができる。   Examples of organic peroxide-curable silicone compositions include linear organopolysiloxanes having an alkenyl group such as a vinyl group at one or both of the molecular chain terminal (one terminal or both terminals) and the molecular chain non-terminal. Mention may be made of a silicone composition which cures by radical polymerization of siloxane in the presence of an organic peroxide.

紫外線硬化性シリコーン組成物としては、例えば、波長200〜400nmの紫外線のエネルギーにより硬化するシリコーン組成物が挙げられる。この場合、硬化機構には特に制限はない。その具体例としてはアクリル基あるいはメタクリル基を有するオルガノポリシロキサンと光重合開始剤とを含むアクリルシリコーン系シリコーン組成物、メルカプト基含有オルガノポリシロキサンとビニル基等のアルケニル基を有するオルガノポリシロキサンと光重合開始剤とを含有するメルカプト−ビニル付加重合系シリコーン組成物、熱硬化性の付加反応型と同じ白金族金属系触媒を用いた付加反応系シリコーン組成物、エポキシ基を含有するオルガノポリシロキサンとオニウム塩触媒とを含有するカチオン重合系シリコーン組成物などが挙げられ、いずれも紫外線硬化反応性シリコーン組成物として使用することができる。   As an ultraviolet curable silicone composition, the silicone composition hardened | cured with the energy of the ultraviolet-ray with a wavelength of 200-400 nm is mentioned, for example. In this case, the curing mechanism is not particularly limited. Specific examples thereof include an acrylic silicone composition containing an organopolysiloxane having an acrylic group or a methacryl group and a photopolymerization initiator, an organopolysiloxane having a mercapto group-containing organopolysiloxane and an alkenyl group such as a vinyl group, and light. A mercapto-vinyl addition polymerization silicone composition containing a polymerization initiator, an addition reaction silicone composition using the same platinum group metal catalyst as the thermosetting addition reaction type, an organopolysiloxane containing an epoxy group, and Examples thereof include a cationic polymerization type silicone composition containing an onium salt catalyst, and any of them can be used as an ultraviolet curable reactive silicone composition.

電子線硬化反応性シリコーン組成物としては、ラジカル重合性基を有するオルガノポリシロキサンに電子線を照射することで開始するラジカル重合により硬化するいずれのシリコーン組成物も使用することができる。   As the electron beam curing reactive silicone composition, any silicone composition that cures by radical polymerization that is initiated by irradiating an electron beam to an organopolysiloxane having a radical polymerizable group can be used.

縮合硬化反応性シリコーン組成物としては、例えば、両末端シラノール封鎖オルガノポリシロキサンとオルガノハイドロジェンポリシロキサンまたはテトラアルコキシシラン、オルガノトリアルコキシシラン等の加水分解性シランおよび/もしくはその部分加水分解縮合物とを有機錫系触媒等の縮合反応触媒の存在下で反応させることにより硬化するシリコーン組成物、あるいは両末端がトリアルコキシ基、ジアルコキシオルガノ基、トリアルコキシシロキシエチル基、ジアルコキシオルガノシロキシエチル基等で封鎖されたオルガノポリシロキサンを有機錫触媒等の縮合反応存在下で反応させることにより硬化するシリコーン組成物などを挙げることができる。   Examples of the condensation-curing reactive silicone composition include a silanol-blocked organopolysiloxane and an organohydrogenpolysiloxane or a hydrolyzable silane such as tetraalkoxysilane or organotrialkoxysilane and / or a partially hydrolyzed condensate thereof. Is a silicone composition that cures by reacting in the presence of a condensation reaction catalyst such as an organotin catalyst, or both ends are trialkoxy groups, dialkoxyorgano groups, trialkoxysiloxyethyl groups, dialkoxyorganosiloxyethyl groups, etc. Examples thereof include a silicone composition that is cured by reacting the organopolysiloxane blocked with the above in the presence of a condensation reaction such as an organotin catalyst.

以下、各反応性シリコーン組成物の代表例について詳述する。   Hereinafter, typical examples of each reactive silicone composition will be described in detail.

・有機過酸化物硬化反応型シリコーン組成物:
有機過酸化物硬化反応型シリコーン組成物として、具体的には、例えば、前記表面処理剤の他に、
(a)ケイ素原子に結合したアルケニル基を少なくとも2個含有するオルガノポリシロキサン、
(b)有機過酸化物、および、任意成分として
(c)ケイ素原子に結合した水素原子(即ち、SiH基)を少なくとも2個含有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン 全硬化性シリコーン組成物中のアルケニル基1モル当たり、本(c)成分中のケイ素原子に結合した水素原子の量が0.1〜2モルとなる量、
を含有する有機過酸化物硬化反応型シリコーン組成物があげられる。
Organic peroxide curing reaction type silicone composition:
Specifically, as the organic peroxide curing reaction type silicone composition, for example, in addition to the surface treatment agent,
(A) an organopolysiloxane containing at least two alkenyl groups bonded to silicon atoms,
(B) an organic peroxide and, as an optional component, (c) an organohydrogenpolysiloxane containing at least two hydrogen atoms bonded to silicon atoms (ie, SiH groups), an alkenyl group in the fully curable silicone composition An amount in which the amount of hydrogen atoms bonded to silicon atoms in the component (c) is 0.1 to 2 mol per mol;
An organic peroxide curing reaction type silicone composition containing

・・(a)成分
(a)成分のオルガノポリシロキサンは、有機過酸化物硬化反応型シリコーン組成物のベースポリマーである。(a)成分のオルガノポリシロキサンの重合度は特に限定されず、(a)成分としては、25℃で液状のオルガノポリシロキサンから生ゴム状のオルガノポリシロキサンまで使用できるが、平均重合度が好ましくは50〜20,000、より好ましくは100〜10,000、更により好ましくは100〜2,000程度のオルガノポリシロキサンが好適に使用される。また、(a)成分のオルガノポリシロキサンは、基本的には、原料の入手のしやすさの観点から、分子鎖がジオルガノシロキサン単位(R4 SiO2/2単位)の繰返しからなり、分子鎖両末端がトリオルガノシロキシ基(R4 SiO1/2)もしくはヒドロキシジオルガノシロキシ基((HO)R4 SiO1/2単位)で封鎖された、分岐を有しない直鎖構造、または分子鎖が該ジオルガノシロキサン単位の繰返しからなる、分岐を有しない環状構造を有するが、三官能性シロキサン単位やSiO単位等の分岐状構造を部分的に含有してもよい。ここで、Rは下に説明する式(4)において定義の通りである。
-(A) component The organopolysiloxane of the (a) component is a base polymer of an organic peroxide curing reaction type silicone composition. The degree of polymerization of the organopolysiloxane of component (a) is not particularly limited, and as component (a), liquid organopolysiloxanes at 25 ° C. to raw rubber-like organopolysiloxane can be used, but the average degree of polymerization is preferred. An organopolysiloxane of 50 to 20,000, more preferably 100 to 10,000, and still more preferably about 100 to 2,000 is preferably used. The organopolysiloxane of component (a) is basically composed of repeating diorganosiloxane units (R 4 2 SiO 2/2 units) from the viewpoint of easy availability of raw materials, A linear structure having no branching, in which both ends of the molecular chain are blocked with a triorganosiloxy group (R 4 3 SiO 1/2 ) or a hydroxydiorganosiloxy group ((HO) R 4 2 SiO 1/2 unit), Alternatively, the molecular chain has a cyclic structure having no branch, consisting of repeating diorganosiloxane units, but may partially contain a branched structure such as a trifunctional siloxane unit or SiO 2 unit. Here, R 4 is as defined in formula (4) described below.

(a)成分としては、例えば下記平均組成式(4);
4 SiO(4−a)/2 (4)
(式中、R4は同一または異種の非置換もしくは置換の、炭素原子数が1〜10、より好ましくは1〜8の一価炭化水素基を表し、R4の50〜99モル%はアルケニル基であり、aは1.5〜2.8、より好ましくは1.8から2.5、さらにより好ましくは1.95〜2.05の範囲の正数である。)で示され、一分子中に少なくとも2個のアルケニル基を有するオルガノポリシロキサンが用いられる。
As the component (a), for example, the following average composition formula (4):
R 4 a SiO (4-a) / 2 (4)
Wherein R 4 represents the same or different unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, more preferably 1 to 8 carbon atoms, and 50 to 99 mol% of R 4 is alkenyl. A is a positive number in the range of 1.5 to 2.8, more preferably 1.8 to 2.5, and even more preferably 1.95 to 2.05. Organopolysiloxanes having at least two alkenyl groups in the molecule are used.

上記R4の具体的例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等のアルキル基;フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基等のアリール基;シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基;ビニル基、アリル基、プロペニル基、イソプロペニル基、ブテニル基等のアルケニル基これらの炭化水素基の水素原子の一部又は全部をフッ素、臭素、塩素等のハロゲン原子、シアノ基等で置換した基例えばクロロメチル基、クロロプロピル基、ブロモエチル基、トリフロロプロピル基、シアノエチル基等が挙げられるが、高純度の観点から炭化水素基のみで構成されるほうが好ましい。 Specific examples of R 4 include methyl groups, ethyl groups, propyl groups, butyl groups, pentyl groups, hexyl groups and other alkyl groups; phenyl groups, tolyl groups, xylyl groups, naphthyl groups and other aryl groups; cyclopentyl groups. A cycloalkyl group such as a cyclohexyl group; an alkenyl group such as a vinyl group, an allyl group, a propenyl group, an isopropenyl group, and a butenyl group; a part or all of the hydrogen atoms of these hydrocarbon groups are halogens such as fluorine, bromine, and chlorine A group substituted with an atom, a cyano group or the like, for example, a chloromethyl group, a chloropropyl group, a bromoethyl group, a trifluoropropyl group, a cyanoethyl group, and the like can be mentioned. From the viewpoint of high purity, it is preferably composed only of a hydrocarbon group.

この場合、R4のうち少なくとも2個はアルケニル基(特に、炭素原子が好ましくは2〜8、より好ましくは2〜6のアルケニル基)である。なお、アルケニル基の含有量はケイ素原子に結合する全有機基中(即ち、前記平均組成式(4)においてRで示される非置換または置換の全一価炭化水素基中)、好ましくは50〜99モル%、特に好ましくは75〜95モル%である。(a)成分のオルガノポリシロキサンが直鎖状構造を有する場合、このアルケニル基は、分子鎖末端および分子鎖末端でない部分のどちらか一方でのみケイ素原子に結合していても、その両方でケイ素原子に結合していてもよい。 In this case, at least two of R 4 are alkenyl groups (particularly alkenyl groups having preferably 2 to 8, more preferably 2 to 6 carbon atoms). The content of the alkenyl group is in the total organic group bonded to the silicon atom (that is, in the unsubstituted or substituted all monovalent hydrocarbon group represented by R 4 in the average composition formula (4)), preferably 50. It is -99 mol%, Most preferably, it is 75-95 mol%. When the organopolysiloxane of component (a) has a linear structure, the alkenyl group is bonded to a silicon atom only in one of the molecular chain terminal and the non-molecular chain terminal, and both of them are silicon. It may be bonded to an atom.

・・(b)成分
(b)成分は、有機過酸化物硬化反応型オルガノポリシロキサン組成物において(a)成分の架橋反応を促進するための触媒として使用される有機過酸化物である。(b)成分としては、(a)成分の架橋反応を促進することができる限り、従来公知の有機過酸化物を使用することができる。その具体例としては、ベンソイルパーオキサイド、2,4−ジクロロベンソイルパーオキサイド、p−メチルベンソイルパーオキサイド、o−メチルベンソイルパーオキサイド、2,4−ジクミルパーオキサイド、2,5−ジメチル−ビス(2,5−t−ブチルパーオキシ)へキサン、ジ−t−ブチルパーオキサイド、、t−ブチルパーベンゾエート、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシカルボキシ)へキサン等が挙げられるが特にこれらに限定されるものではない。
.. (b) component (b) component is an organic peroxide used as a catalyst for accelerating the crosslinking reaction of component (a) in the organic peroxide curing reaction type organopolysiloxane composition. As the component (b), conventionally known organic peroxides can be used as long as the crosslinking reaction of the component (a) can be promoted. Specific examples thereof include benzoyl peroxide, 2,4-dichlorobenzoyl peroxide, p-methylbenzoyl peroxide, o-methylbenzoyl peroxide, 2,4-dicumyl peroxide, 2,5- Dimethyl-bis (2,5-t-butylperoxy) hexane, di-t-butylperoxide, t-butylperbenzoate, 1,1-bis (t-butylperoxycarboxy) hexane, etc. However, it is not limited to these.

(b)成分の添加量は、(a)成分の架橋反応を促進するための触媒としての有効量である。(a)成分100質量部に対して好ましくは0.1〜10質量部、より好ましくは0.2〜2質量部の範囲とすることができる。該添加量が(a)成分100質量部に対して0.1質量部より少なくなる量であると、硬化するまでの時間が長くかかり、経済的に不利である。また、該添加量が(a)成分100質量部に対して10質量部より多くなる量であると(b)成分由来の発泡が生じてしまい、さらに該硬化反応物の強度および耐熱性が悪影響を受ける。   The amount of component (b) added is an effective amount as a catalyst for promoting the crosslinking reaction of component (a). (A) Preferably it is 0.1-10 mass parts with respect to 100 mass parts of components, More preferably, it can be set as the range of 0.2-2 mass parts. When the added amount is less than 0.1 parts by mass with respect to 100 parts by mass of component (a), it takes a long time to cure, which is economically disadvantageous. Further, if the amount added is more than 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of component (a), foaming derived from component (b) occurs, and the strength and heat resistance of the cured reaction product are adversely affected. Receive.

・・(c)成分
任意成分である(c)成分のオルガノハイドロジェンポリシロキサンは、ケイ素原子に結合した水素原子(SiH基)を少なくとも2個(通常2〜200個)、好ましくは3個以上(通常3〜100個)含有する。(a)成分単独でも(b)成分を添加し、加熱することで硬化させることが可能であるが、(c)成分を添加することで、(a)成分単独の場合と比べて、(a)成分と反応しやすいため、より低温かつ短時間で、硬化させることができる。(c)成分の分子構造は特に限定されず、例えば、線状、環状、分岐状、三次元網状(樹脂状)等の、従来製造されているいずれのオルガノハイドロジェンポリシロキサンも(c)成分として使用することができる。(c)成分が線状構造を有する場合、SiH基は、分子鎖末端および分子鎖末端でない部分のどちらか一方でのみケイ素原子に結合していても、その両方でケイ素原子に結合していてもよい。また、1分子中のケイ素原子の数(または重合度)が、通常、2〜300個、好ましくは4〜150個程度であり、室温(25℃)において液状であるオルガノハイドロジェンポリシロキサンが、(c)成分として好ましく使用できる。
.. (c) Component (c), which is an optional component, is an organohydrogenpolysiloxane having at least two hydrogen atoms (SiH groups) bonded to silicon atoms (usually 2 to 200), preferably 3 or more (Usually 3 to 100). (A) The component alone can be cured by adding the component (b) and heating, but by adding the component (c), compared to the case of the component (a) alone, ) Since it easily reacts with the component, it can be cured at a lower temperature and in a shorter time. The molecular structure of the component (c) is not particularly limited. For example, any conventionally produced organohydrogenpolysiloxane such as linear, cyclic, branched, and three-dimensional network (resinous) can be used as the component (c). Can be used as When the component (c) has a linear structure, the SiH group is bonded to the silicon atom only in one of the molecular chain terminal and the non-molecular chain terminal, or both. Also good. The number of silicon atoms in one molecule (or the degree of polymerization) is usually 2 to 300, preferably about 4 to 150, and the organohydrogenpolysiloxane that is liquid at room temperature (25 ° C.) (C) It can use preferably as a component.

(c)成分としては、例えば、下記平均組成式(5);
5 SiO(4−b−c)/2 (5)
(式中、R5は同一または異種の非置換もしくは置換の、脂肪族不飽和結合を含有しない、炭素原子数が1〜10、より好ましくは1〜8の一価炭化水素基であり、bおよびcは、好ましくは0.7≦b≦2.1、0.001≦c≦1.0、かつ0.8≦b+c≦3.0、より好ましくは1.0≦b≦2.0、0.01≦c≦1.0、かつ1.5≦b+c≦2.5を満足する正数である。)
で示されるオルガノハイドロジェンポリシロキサンが用いられる。上記R5としては、例えば、上記平均組成式(4)中のRと同様の基(ただし、アルケニル基を除く。)が挙げられる。
As the component (c), for example, the following average composition formula (5):
R 5 b H c SiO (4-b-c) / 2 (5)
(In the formula, R 5 is a monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, more preferably 1 to 8 carbon atoms, which does not contain the same or different unsubstituted or substituted aliphatic unsaturated bond, and b And c are preferably 0.7 ≦ b ≦ 2.1, 0.001 ≦ c ≦ 1.0, and 0.8 ≦ b + c ≦ 3.0, more preferably 1.0 ≦ b ≦ 2.0, (It is a positive number satisfying 0.01 ≦ c ≦ 1.0 and 1.5 ≦ b + c ≦ 2.5.)
The organohydrogenpolysiloxane shown by these is used. Examples of R 5 include the same groups as R 4 in the average composition formula (4) (excluding alkenyl groups).

上記平均組成式(5)で表されるオルガノハイドロジェンポリシロキサンの具体例としては1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン、1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン、トリス(ハイドロジェンジメチルシロキシ)メチルシラン、トリス(ハイドロジェンジメチルシロキシ)フェニルシラン、メチルハイドロジェンシクロポリシロキサン、メチルハイドロジェンシロキサン・ジメチルシロキサン環状共重合体、両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンポリシロキサン、両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンシロキサン・ジメチルシロキサン共重合体、両末端メチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン、両末端メチルハイドロジェンシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンシロキサン・ジメチルシロキサン共重合体、両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンシロキサン・ジフェニルシロキサン共重合体、両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンシロキサン・ジフェニルシロキサン・ジメチルシロキサン共重合体、両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンシロキサン・メチルフェニルシロキサン・ジメチルシロキサン共重合体、両末端メチルハイドロジェンシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンシロキサン・ジフェニルシロキサン・ジメチルシロキサン共重合体、両末端メチルハイドロジェンシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンシロキサン・メチルフェニルシロキサン・ジメチルシロキサン共重合体、(CHHSiO1/2単位と(CHSiO2/2単位とSiO4/2単位とからなる共重合体、(CHHSiO1/2単位とSiO4/2単位とからなる共重合体、(CHHSiO1/2単位とSiO4/2単位と(CSiO1/2単位とからなる共重合体などが挙げられる。 Specific examples of the organohydrogenpolysiloxane represented by the above average composition formula (5) include 1,1,3,3-tetramethyldisiloxane, 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane, tris ( Hydrogendimethylsiloxy) methylsilane, tris (hydrogendimethylsiloxy) phenylsilane, methylhydrogencyclopolysiloxane, methylhydrogensiloxane-dimethylsiloxane cyclic copolymer, both ends trimethylsiloxy group-blocked methylhydrogenpolysiloxane, both ends Trimethylsiloxy group-blocked methylhydrogensiloxane / dimethylsiloxane copolymer, both ends methylhydrogensiloxy group-blocked dimethylpolysiloxane, both ends methylhydrogensiloxy group-blocked methylhydro Polysiloxane / dimethylsiloxane copolymer, trimethylsiloxy group-blocked methylhydrogensiloxane / diphenylsiloxane copolymer, trimethylsiloxy group-blocked methylhydrogensiloxane / diphenylsiloxane / dimethylsiloxane copolymer, trimethylsiloxy group at both ends Blocked methylhydrogensiloxane / methylphenylsiloxane / dimethylsiloxane copolymer, both-end methylhydrogensiloxy group-blocked methylhydrogensiloxane / diphenylsiloxane / dimethylsiloxane copolymer, both-end methylhydrogensiloxy group-blocked methylhydrogensiloxane methylphenylsiloxane-dimethylsiloxane copolymer, (CH 3) 2 HSiO 1/2 units and (CH 3) 2 S O 2/2 consisting of units and SiO 4/2 units, and copolymers, copolymers consisting of (CH 3) 2 HSiO 1/2 units and SiO 4/2 units, (CH 3) 2 HSiO 1/2 Examples thereof include a copolymer composed of a unit, a SiO 4/2 unit, and a (C 6 H 5 ) 3 SiO 1/2 unit.

(c)成分の添加量は、任意の量ではあるが、(a)成分100質量部に対して好ましくは0〜100質量部、より好ましくは0〜50質量部の範囲とすることができる。該添加量が(a)成分100質量部に対して100質量部より多くなる量であると(c)成分由来の発泡が生じてしまい、さらに該硬化反応物の強度および耐熱性が悪影響を受ける。 Although the addition amount of (c) component is arbitrary quantity, Preferably it is 0-100 mass parts with respect to 100 mass parts of (a) component, More preferably, it can be set as the range of 0-50 mass parts. When the added amount is more than 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of component (a), foaming derived from component (c) occurs, and the strength and heat resistance of the cured reaction product are adversely affected. .

・紫外線硬化反応性シリコーン組成物:
紫外線硬化反応性シリコーン組成物として、具体的には、例えば前記表面処理剤の他に、
(d)紫外線反応性オルガノポリシロキサン、および
(e)光重合開始剤
を含有する紫外線硬化反応性シリコーン組成物が挙げられる。
-UV curable reactive silicone composition:
As an ultraviolet curing reactive silicone composition, specifically, for example, in addition to the surface treatment agent,
(D) UV-reactive organopolysiloxane, and (e) UV-curable reactive silicone composition containing a photopolymerization initiator.

・・(d)成分
(d)成分の紫外線反応性オルガノポリシロキサンは、通常、紫外線硬化反応性シリコーン組成物においてベースポリマーとして作用する。(d)成分は、特に限定されず、好ましくは1分子中に少なくとも2個、より好ましくは2〜20個、特に好ましくは2〜10個の紫外線反応性基を有するオルガノポリシロキサンである。このオルガノポリシロキサン中に複数存在する前記紫外線硬化反応性基は、すべて同一でも異なっていてもよい。
-(D) component The ultraviolet-reactive organopolysiloxane of (d) component normally acts as a base polymer in an ultraviolet curing reactive silicone composition. The component (d) is not particularly limited, and is preferably an organopolysiloxane having at least 2, more preferably 2 to 20, particularly preferably 2 to 10 ultraviolet-reactive groups in one molecule. A plurality of the ultraviolet curing reactive groups present in the organopolysiloxane may be the same or different.

(d)成分のオルガノポリシロキサンは、基本的には、原料の入手のしやすさの観点から、分子鎖(主鎖)がジオルガノシロキサン単位(R SiO2/2単位)の繰返しからなり、分子鎖両末端がトリオルガノシロキシ基(R SiO1/2)で封鎖された、分岐を有しない直鎖状構造、または分子鎖が該ジオルガノシロキサン単位の繰返しからなる、分岐を有しない環状構造を有するが、三官能性シロキサン単位やSiO単位等の分岐状構造を部分的に含有してもよい。ここで、Rは式(4)に関して述べた通りである。(d)成分のオルガノポリシロキサンは、直鎖状構造を有する場合、紫外線反応性基を、分子鎖末端および分子鎖末端でない部分のどちらか一方にのみ有していても、その両方に有していてもよいが、少なくとも分子鎖両末端に紫外線反応性基を有することが好ましい。 From the viewpoint of easy availability of raw materials, the organopolysiloxane of component (d) is basically composed of repeating diorganosiloxane units (R 4 2 SiO 2/2 units) in the molecular chain (main chain). A straight chain structure in which both ends of the molecular chain are blocked with a triorganosiloxy group (R 4 3 SiO 1/2 ), without branching, or the molecular chain is composed of repeating diorganosiloxane units. Although it has a cyclic structure that it does not have, it may partially contain a branched structure such as a trifunctional siloxane unit or SiO 2 unit. Here, R 4 is as described regarding the formula (4). When the organopolysiloxane of component (d) has a linear structure, it has an ultraviolet-reactive group only at one of the molecular chain terminal and the part that is not the molecular chain terminal. However, it is preferable to have UV reactive groups at least at both ends of the molecular chain.

該紫外線反応性基としては、例えば、ビニル基、アリル基、プロペニル基等のアルケニル基;ビニルオキシ基、アリルオキシ基、プロペニルオキシ基、イソプロペニルオキシ基等のアルケニルオキシ基;アクリロイル基、メタクリロイル基等のアルケニル基以外の脂肪族不飽和基;エポキシ基;ヒドロシリル基等が挙げられ、好ましくはアクリロイル基、メタクリロイル基、メルカプト基、エポキシ基、およびヒドロシリル基が挙げられ、より好ましくはアクリロイル基およびメタクリロイル基が挙げられる。   Examples of the ultraviolet reactive group include alkenyl groups such as vinyl group, allyl group and propenyl group; alkenyloxy groups such as vinyloxy group, allyloxy group, propenyloxy group and isopropenyloxy group; acryloyl group and methacryloyl group. Aliphatic unsaturated groups other than alkenyl groups; epoxy groups; hydrosilyl groups and the like, preferably acryloyl groups, methacryloyl groups, mercapto groups, epoxy groups, and hydrosilyl groups, more preferably acryloyl groups and methacryloyl groups. Can be mentioned.

前記オルガノポリシロキサンの粘度は、特に限定されないが、25℃において100mPa.s〜1,000,000mPa.sであることが好ましく、200〜500,000mPa.sであることがより好ましく、200〜100,000mPa.sであることが特に好ましい。   The viscosity of the organopolysiloxane is not particularly limited, but is 100 mPa.s at 25 ° C. s to 1,000,000 mPa.s s, preferably 200 to 500,000 mPa.s. s, more preferably 200 to 100,000 mPa.s. Particularly preferred is s.

(d)成分の好ましい一形態として例えば、下記一般式(6a);   As a preferred form of the component (d), for example, the following general formula (6a);

Figure 2012144595
Figure 2012144595

[式中、R6は同一または異種の、紫外線反応性基を有しない非置換もしくは置換の一価炭化水素基であり、R7は同一または異種の、紫外線反応性基を有する基であり、R8は同一または異種の、紫外線反応性基を有する基であり、mは5〜1,000の整数であり、nは0〜100の整数であり、fは0〜3の整数であり、gは0〜3の整数であり、ただし、f+g+n≧2である]
または下記一般式(6b);
[Wherein R 6 is the same or different, unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group having no UV-reactive group, and R 7 is the same or different group having an UV-reactive group; R 8 is the same or different group having an ultraviolet reactive group, m is an integer of 5 to 1,000, n is an integer of 0 to 100, f is an integer of 0 to 3, g is an integer of 0 to 3, provided that f + g + n ≧ 2]
Or the following general formula (6b);

Figure 2012144595
Figure 2012144595

[式中、R6、R7、R8、m、n、f、gは上記一般式(6a)で定義した通りであり、hは2〜4の整数であり、iおよびjは各々1〜3の整数であり、ただしfi+gj+n≧2である]
で表される少なくとも2個の紫外線反応性基を有するオルガノポリシロキサンが挙げられる。
[Wherein R 6 , R 7 , R 8 , m, n, f, g are as defined in the general formula (6a), h is an integer of 2-4, and i and j are each 1 Is an integer of ~ 3, where fi + gj + n ≧ 2]
And an organopolysiloxane having at least two ultraviolet-reactive groups represented by the formula:

上記一般式(6a)および(6b)中、Rは、同一または異種の、紫外線反応性基を有しない非置換もしくは置換の一価の、炭素原子数が好ましくは1〜20、より好ましくは1〜10更により好ましくは、1〜8の一価炭化水素基である。Rで表される一価炭化水素基としては例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等のアルキル基;フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基等のアリール基;シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基等のシクロアルキル基;ベンジル基、フェニルエチル基等のアラルキル基;これらの炭化水素基に結合している水素原子の一部又は全部をハロゲン原子、シアノ基、カルボキシル基等で置換した基、例えばクロロメチル基、クロロプロピル基、ブロモエチル基、トリフロロプロピル基、シアノエチル基、3−シアノプロピル基等が挙げられ、好ましくはメチル基およびフェニル基が挙げられ、より好ましくはメチル基が挙げられる。また上記Rで表される一価炭化水素基は、その骨格中にスルホニル基、エーテル結合(−O−)、カルボニル基等を1種または2種以上有してもよい。 In the above general formulas (6a) and (6b), R 6 is preferably the same or different, unsubstituted or substituted monovalent, monovalent carbon atoms having no UV-reactive group, preferably 1 to 20, more preferably 1-10 is still more preferably a monovalent hydrocarbon group of 1-8. Examples of the monovalent hydrocarbon group represented by R 6 include alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group and hexyl group; aryl groups such as phenyl group, tolyl group, xylyl group and naphthyl group. A cycloalkyl group such as a cyclopentyl group, a cyclohexyl group or a cyclopentyl group; an aralkyl group such as a benzyl group or a phenylethyl group; a part or all of the hydrogen atoms bonded to these hydrocarbon groups are halogen atoms or cyano groups A group substituted with a carboxyl group, such as a chloromethyl group, a chloropropyl group, a bromoethyl group, a trifluoropropyl group, a cyanoethyl group, a 3-cyanopropyl group, preferably a methyl group and a phenyl group, More preferably, a methyl group is mentioned. The monovalent hydrocarbon group represented by R 3 may have one or more sulfonyl groups, ether bonds (—O—), carbonyl groups, and the like in its skeleton.

上記一般式(6a)および(6b)中、RおよびRに含まれる紫外線反応性基としては、例えば、ビニル基、アリル基、プロペニル基等のアルケニル基;ビニルオキシ基、アリルオキシ基、プロペニルオキシ基、イソプロペニルオキシ基等のアルケニルオキシ基;アクリロイル基、メタクリロイル基等のアルケニル基以外の脂肪族不飽和基;メルカプト基;エポキシ基;ヒドロシリル基等が挙げられ、好ましくはアクリロイル基、メタクロイル基、エポキシ基、およびヒドロシリル基が挙げられ、より好ましくはアクリロイル基およびメタクリロイル基が挙げられる。従って、RおよびRで表される紫外線反応性基を有する基は、例えば上で例示した紫外線反応基を有する一価の基であり、その具体例としては、ビニル基、アリル基、3−グリシドキシプロピル基、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチル基、3−メタクリロキシプロピル基、3−アクリロキシプロピル基、3−メルカプトプロピル基、2−{ビス(2−メタクリロキシエトキシ)メチルシリル}エチル基、2−{ビス(2−アクリロキシエトキシ)メチルシリル}エチル基、2−{(2−アクリロキシエトキシ)ジメチルシリル}エチル基、2−{ビス(1,3−ジメタクリロキ−2−プロポキシ)メチルシリル}エチル基、2−{(1,3−ジメタクリロキ−2−プロポキシ)ジメチルシリル}エチル基、2−{ビス(1−アクリロキシ−3−メタクリロキ−2−プロポキシ)メチルシリル}エチル基、および2−{ビス(1−アクリロキシ−3−メタクリロキ−2−プロポキシ)ジメチルシリル}エチル基等が挙げられ、好ましくは3−メタクリロキシプロピル基、3−アクリロキシプロピル基、2−{ビス(2−メタクリロキシエトキシ)メチルシリル}エチル基、2−{ビス(2−アクリロキシエトキシ)メチルシリル}エチル基、2−{(2−アクリロキシエトキシ)ジメチルシリル}エチル基、2−{(1,3−ジメタクリロキ−2−プロポキシ)ジメチルシリル}エチル基、2−{ビス(1−アクリロキシ−3−メタクリロキ−2−プロポキシ)メチルシリル}エチル基、および2−{ビス(1−アクリロキシ−3−メタクリロキ−2−プロポキシ)ジメチルシリル}エチル基が挙げられる。RおよびRは各々同一であっても異なっていてもよく、RおよびRどうしが同一であっても異なっていてもよい。 In the general formulas (6a) and (6b), examples of the ultraviolet-reactive group contained in R 7 and R 8 include alkenyl groups such as vinyl group, allyl group, propenyl group; vinyloxy group, allyloxy group, propenyloxy Group, alkenyloxy group such as isopropenyloxy group; aliphatic unsaturated group other than alkenyl group such as acryloyl group and methacryloyl group; mercapto group; epoxy group; hydrosilyl group and the like, preferably acryloyl group, methacryloyl group, An epoxy group and a hydrosilyl group are mentioned, More preferably, an acryloyl group and a methacryloyl group are mentioned. Therefore, the group having an ultraviolet reactive group represented by R 7 and R 8 is, for example, a monovalent group having the ultraviolet reactive group exemplified above. Specific examples thereof include a vinyl group, an allyl group, 3 -Glycidoxypropyl group, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyl group, 3-methacryloxypropyl group, 3-acryloxypropyl group, 3-mercaptopropyl group, 2- {bis (2-methacryloxyethoxy) ) Methylsilyl} ethyl group, 2- {bis (2-acryloxyethoxy) methylsilyl} ethyl group, 2-{(2-acryloxyethoxy) dimethylsilyl} ethyl group, 2- {bis (1,3-dimethacryloxy-2) -Propoxy) methylsilyl} ethyl group, 2-{(1,3-dimethacryloxy-2-propoxy) dimethylsilyl} ethyl group, 2- {bis (1 Acryloxy-3-methacryloxy-2-propoxy) methylsilyl} ethyl group, 2- {bis (1-acryloxy-3-methacryloxy-2-propoxy) dimethylsilyl} ethyl group, and the like, preferably 3-methacryloxypropyl Group, 3-acryloxypropyl group, 2- {bis (2-methacryloxyethoxy) methylsilyl} ethyl group, 2- {bis (2-acryloxyethoxy) methylsilyl} ethyl group, 2-{(2-acryloxyethoxy) ) Dimethylsilyl} ethyl group, 2-{(1,3-dimethacryloxy-2-propoxy) dimethylsilyl} ethyl group, 2- {bis (1-acryloxy-3-methacryloxy-2-propoxy) methylsilyl} ethyl group, and 2- {Bis (1-acryloxy-3-methacryloxy-2-propoxy) A dimethylsilyl} ethyl group. R 7 and R 8 may be the same or different, and R 7 and R 8 may be the same or different.

上記一般式(6a)および(6b)中、mは、通常、5〜1,000、好ましくは10〜800、より好ましくは50〜500の整数であり、nは、通常、0〜100、好ましくは0〜50、より好ましくは0〜20の整数であり、fは0〜3、好ましくは0〜2、より好ましくは1〜2の整数であり、gは0〜3、好ましくは0〜2の整数、より好ましくは1または2である。上記式(6b)中、hは通常2〜4の整数、好ましくは2または3である。iおよびjは各々1〜3の整数、好ましくは1または2整数である。更に、上記一般式(6a)および(6b)で表されるオルガノポリシロキサンは前述の通り、前記紫外線反応性基を少なくとも2個有するので、式(6a)ではf+g+n≧2となり式(6b)ではfi+gj+n≧2となる。   In the general formulas (6a) and (6b), m is usually an integer of 5 to 1,000, preferably 10 to 800, more preferably 50 to 500, and n is usually 0 to 100, preferably Is an integer of 0-50, more preferably 0-20, f is an integer of 0-3, preferably 0-2, more preferably 1-2, g is 0-3, preferably 0-2. An integer of 1, more preferably 1 or 2. In said formula (6b), h is an integer of 2-4 normally, Preferably it is 2 or 3. i and j are each an integer of 1 to 3, preferably 1 or 2. Furthermore, since the organopolysiloxane represented by the general formulas (6a) and (6b) has at least two UV-reactive groups as described above, f + g + n ≧ 2 in the formula (6a), and in the formula (6b) fi + gj + n ≧ 2.

上記式(6a)および(6b)で表されるオルガノポリシロキサンの具体例としては、下記に示すものなどが挙げられる。     Specific examples of the organopolysiloxane represented by the above formulas (6a) and (6b) include those shown below.

Figure 2012144595
Figure 2012144595

Figure 2012144595
Figure 2012144595

Figure 2012144595
Figure 2012144595

Figure 2012144595
Figure 2012144595

[上記式中、Rは90%がメチル基であり、10%がフェニル基である] [In the above formula, R 9 is 90% methyl group and 10% phenyl group]

・・(e)成分
(e)成分の光重合開始剤は、前記(d)成分中の紫外線反応性基の光重合を促進させる作用を有する。(e)成分は特に限定されず、その具体例としては、アセトフェノン、プロピオフェノン、ベンゾフェノン、キサントール、フルオレイン、ベンズアルデヒド、アンスラキノン、トリフェニルアミン、4−メチルアセトフェノン、3−ペンチルアセトフェノン、4−メトキシアセトフェノン、3−ブロモアセトフェノン、4−アリルアセトフェノン、p−ジアセチルベンゼン、3−メトキシベンゾフェノン、4−メチルベンゾフェノン、4−クロロベンゾフェノン、4,4’−ジメトキシベンゾフェノン、4−クロロ−4’−ベンジルベンゾフェノン、3−クロロキサントン、3,9−ジクロロキサントン、3−クロロ−8−ノニルキサントン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、ビス(4−ジメチルアミノフェニル)ケトン、ベンジルメトキシアセタール、2−クロロチオキサントン、ジエチルアセトフェノン、1−ヒドロキシクロロフェニルケトン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−(4−(メチルチオ)フェニル)−2−モルホリノ−1−プロパン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノンおよび2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン等が挙げられ、好ましくは高純度の観点からベンゾフェノン、4−メトキシアセトフェノン、4−メチルベンゾフェノン、ジエトキシアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンおよび2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オンが挙げられ、より好ましくはジエトキシアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンおよび2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オンが挙げられる。これらの光重合開始剤は1種単独で用いても2種以上を併用してもよい。
.. (e) Component The photopolymerization initiator of the component (e) has an action of promoting photopolymerization of the ultraviolet reactive group in the component (d). The component (e) is not particularly limited, and specific examples thereof include acetophenone, propiophenone, benzophenone, xanthol, fluorin, benzaldehyde, anthraquinone, triphenylamine, 4-methylacetophenone, 3-pentylacetophenone, 4- Methoxyacetophenone, 3-bromoacetophenone, 4-allylacetophenone, p-diacetylbenzene, 3-methoxybenzophenone, 4-methylbenzophenone, 4-chlorobenzophenone, 4,4'-dimethoxybenzophenone, 4-chloro-4'-benzylbenzophenone 3-chloroxanthone, 3,9-dichloroxanthone, 3-chloro-8-nonylxanthone, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin butyl ether, bis (4-dimethylamino) Phenyl) ketone, benzylmethoxyacetal, 2-chlorothioxanthone, diethylacetophenone, 1-hydroxychlorophenyl ketone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl- (4- (methylthio) phenyl) -2-morpholino-1-propane, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one and the like are preferable. From the viewpoint of high purity, benzophenone, 4-methoxyacetophenone, 4-methylbenzophenone, diethoxyacetophenone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone and 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one are preferable, and diethoxyacetate is more preferable. Tophenone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone and 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one. These photopolymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.

(e)成分の添加量は、特に限定されないが、(d)成分100質量部に対して、好ましくは、0.01〜10質量部、より好ましくは0.1〜3質量部、更により好ましくは0.5〜3質量部である。この添加量がこの範囲内であると、シリコーン組成物の硬化制御が行い易い。   Although the addition amount of (e) component is not specifically limited, Preferably it is 0.01-10 mass parts with respect to 100 mass parts of (d) component, More preferably, it is 0.1-3 mass parts, More preferably Is 0.5-3 parts by mass. When this addition amount is within this range, it is easy to control the curing of the silicone composition.

・付加硬化反応性シリコーン組成物:
付加硬化反応性シリコーン組成物として、具体的には、例えば、前記表面処理剤の他に、
(f)ケイ素原子に結合したアルケニル基を少なくとも2個含有するオルガノポリシロキサン、
(g)ケイ素原子に結合した水素原子(即ち、SiH基)を少なくとも2個含有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン 全硬化性シリコーン組成物中のアルケニル基1モル当たり、本(g)成分中のケイ素原子に結合した水素原子の量が0.1〜5モルとなる量、および
(h)白金族金属系触媒 有効量
を含有する付加硬化反応性シリコーン組成物が挙げられる。
Addition-curing reactive silicone composition:
As the addition curing reactive silicone composition, specifically, for example, in addition to the surface treatment agent,
(F) an organopolysiloxane containing at least two alkenyl groups bonded to silicon atoms,
(G) Organohydrogenpolysiloxane containing at least two hydrogen atoms bonded to silicon atoms (i.e., SiH groups) The silicon atoms in component (g) per mole of alkenyl groups in the total curable silicone composition And an addition curing reactive silicone composition containing an amount of 0.1 to 5 moles of hydrogen atoms bonded to and (h) an effective amount of a platinum group metal catalyst.

・・(f)成分
(f)成分のオルガノポリシロキサンは、付加硬化反応性シリコーン組成物のベースポリマーであり、ケイ素原子に結合したアルケニル基を少なくとも2個含有する。(f)成分としては公知のオルガノポリシロキサンを使用することが出来る。ゲルパーミッションクロマトグラフィー(以下、「GPC」とする。)により測定された(f)成分のオルガノポリシロキサンの重量平均分子量はポリスチレン換算で好ましくは3,000〜300,000程度である。さらに(f)成分のオルガノポリシロキサンの25℃に置ける粘度は、100〜1,000,000mPa.sであることが好ましく、1,000〜100,000mPa.s程度であることが特に好ましい。100mPa.s以下であると曳糸性が低く、繊維の細径化が困難となり、1,000,000mPa.s以上では取扱が困難となる。(f)成分のオルガノポリシロキサンは、基本的には、原料の入手のしやすさの観点から、分子鎖(主鎖)がジオルガノシロキサン単位(R10 SiO2/2単位)の繰返しからなり、分子鎖両末端がトリオルガノシロキシ基(R10 SiO1/2)で封鎖された、分岐を有しない直鎖状構造、または分子鎖が該ジオルガノシロキサン単位の繰返しからなる、分岐を有しない環状構造を有するが、R10SiO3/2単位やSiO4/2単位を含んだ分岐状構造を部分的に有してもよい。ここで、R10は下に説明する式(7)に関して述べる通りである。
.. (f) Component The organopolysiloxane of the component (f) is a base polymer of the addition-curing reactive silicone composition and contains at least two alkenyl groups bonded to silicon atoms. As the component (f), a known organopolysiloxane can be used. The weight average molecular weight of the organopolysiloxane of component (f) measured by gel permeation chromatography (hereinafter referred to as “GPC”) is preferably about 3,000 to 300,000 in terms of polystyrene. Furthermore, the viscosity of the organopolysiloxane of component (f) at 25 ° C. is 100 to 1,000,000 mPa.s. s, preferably 1,000 to 100,000 mPa.s. Particularly preferred is about s. 100 mPa. s or less, the spinnability is low and it is difficult to reduce the diameter of the fiber, and 1,000,000 mPa.s. Handling is difficult at s and above. From the viewpoint of easy availability of raw materials, the organopolysiloxane of component (f) is basically composed of repeating diorganosiloxane units (R 10 2 SiO 2/2 units) in terms of molecular chain (main chain). A linear structure having no branching, in which both ends of the molecular chain are blocked with a triorganosiloxy group (R 10 3 SiO 1/2 ), or a molecular chain consisting of repeating diorganosiloxane units. Although it has a cyclic structure that does not have, it may partially have a branched structure containing R 10 SiO 3/2 units or SiO 4/2 units. Here, R 10 is as described in relation to equation (7) described below.

(f)成分としては、例えば下記平均組成式(7);
10 SiO(4−l)/2 (7)
(式中、R10は前記同様、同一または異種の非置換もしくは置換の、炭素原子数が1〜10、より好ましくは1〜8の一価炭化水素基であり、lは好ましくは1.5〜2.8、より好ましくは1.8から2.5、さらにより好ましくは1.95〜2.05の範囲の正数である。)で示され、一分子中に少なくとも2個のアルケニル基を有するオルガノポリシロキサンが用いられる。上記R10としては、例えば、上記平均組成式(4)中のRについて例示した基が挙げられる。
As the component (f), for example, the following average composition formula (7):
R 10 l SiO (4-1) / 2 (7)
(In the formula, R 10 is the same or different unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, more preferably 1 to 8 carbon atoms, and l is preferably 1.5 as described above. -2.8, more preferably 1.8 to 2.5, and even more preferably a positive number in the range of 1.95 to 2.05), and at least two alkenyl groups in one molecule. An organopolysiloxane having the following formula is used. Examples of R 10 include the groups exemplified for R 4 in the average composition formula (4).

この場合、R10のうち少なくとも2個はアルケニル基(特に、炭素原子が好ましくは2〜8、より好ましくは2〜6のアルケニル基)である。なお、アルケニル基の含有量はケイ素原子に結合する全有機基中(即ち、前記平均組成式(7)においてR10で示される非置換または置換の全一価炭化水素基中)、好ましくは50〜99モル%、特に好ましくは75〜95モル%である。(f)成分のオルガノポリシロキサンが直鎖状構造を有する場合、このアルケニル基は、分子鎖末端および分子鎖末端でない部分のどちらか一方でのみケイ素原子に結合していても、その両方でケイ素原子に結合していてもよいが、組成物の硬化速度、硬化物の物性等の点から、少なくとも一個のアルケニル基が分子鎖末端のケイ素原子に結合していることが望ましい。 In this case, at least two of R 10 are alkenyl groups (particularly alkenyl groups having preferably 2 to 8, more preferably 2 to 6 carbon atoms). The content of the alkenyl group is in the total organic group bonded to the silicon atom (that is, in the unsubstituted or substituted all monovalent hydrocarbon group represented by R 10 in the average composition formula (7)), preferably 50. It is -99 mol%, Most preferably, it is 75-95 mol%. When the organopolysiloxane of component (f) has a linear structure, the alkenyl group is bonded to a silicon atom only in one of the molecular chain terminal and the non-molecular chain terminal, but both of them are silicon. Although it may be bonded to an atom, it is desirable that at least one alkenyl group is bonded to a silicon atom at the end of the molecular chain in view of the curing speed of the composition, the physical properties of the cured product, and the like.

・・(g)成分
(g)成分のオルガノハイドロジェンポリシロキサンは、ケイ素原子に結合した水素原子(SiH基)を少なくとも2個(通常2〜200個)、好ましくは3個以上(通常3〜100個)含有する。(g)成分は、(f)成分と反応し架橋剤として作用する。(g)成分の分子構造は特に限定されず、例えば、線状、環状、分岐状、三次元網状(樹脂状)等の、従来製造されているいずれのオルガノハイドロジェンポリシロキサンも(b)成分として使用することができる。(g)成分が線状構造を有する場合、SiH基は、分子鎖末端および分子鎖末端でない部分のどちらか一方でのみケイ素原子に結合していても、その両方でケイ素原子に結合していてもよい。また、1分子中のケイ素原子の数(または重合度)が、通常、2〜300個、好ましくは4〜150個程度であり、室温(25℃)において液状であるオルガノハイドロジェンポリシロキサンが、(g)成分として好ましく使用できる。
.. (g) Component (g) The organohydrogenpolysiloxane of component (g) has at least two hydrogen atoms (SiH groups) bonded to silicon atoms (usually 2 to 200), preferably 3 or more (usually 3 to 3). 100). The component (g) reacts with the component (f) and acts as a crosslinking agent. The molecular structure of the component (g) is not particularly limited. For example, any conventionally produced organohydrogenpolysiloxane such as linear, cyclic, branched, and three-dimensional network (resinous) can be used as the component (b). Can be used as (G) When the component has a linear structure, the SiH group is bonded to the silicon atom only in one of the molecular chain terminal and the non-molecular chain terminal, but is bonded to the silicon atom in both of them. Also good. The number of silicon atoms in one molecule (or the degree of polymerization) is usually 2 to 300, preferably about 4 to 150, and the organohydrogenpolysiloxane that is liquid at room temperature (25 ° C.) (G) It can use preferably as a component.

(g)成分としては、例えば、下記平均組成式(8);
11 SiO(4−p−q)/2 (8)
(式中、R11は同一または異種の非置換もしくは置換の、脂肪族不飽和結合を有しない、炭素原子数が1〜10、より好ましくは1〜8の一価炭化水素基であり、pおよびqは、好ましくは0.7≦p≦2.1、0.001≦q≦1.0、かつ0.8≦p+q≦3.0、より好ましくは1.0≦p≦2.0、0.01≦q≦1.0、かつ1.5≦p+q≦2.5を満足する正数である。)
で示されるオルガノハイドロジェンポリシロキサンが用いられる。上記R11としては、例えば、上記平均組成式(4)中のRについて例示した基(ただし、アルケニル基を除く。)が挙げられる。
As the component (g), for example, the following average composition formula (8):
R 11 pH q SiO (4-pq) / 2 (8)
(In the formula, R 11 is a monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, more preferably 1 to 8 carbon atoms, having the same or different unsubstituted or substituted, aliphatic unsaturated bonds, and p And q are preferably 0.7 ≦ p ≦ 2.1, 0.001 ≦ q ≦ 1.0, and 0.8 ≦ p + q ≦ 3.0, more preferably 1.0 ≦ p ≦ 2.0, (It is a positive number satisfying 0.01 ≦ q ≦ 1.0 and 1.5 ≦ p + q ≦ 2.5.)
The organohydrogenpolysiloxane shown by these is used. Examples of R 11 include the groups exemplified for R 4 in the average composition formula (4) (excluding alkenyl groups).

上記平均組成式(8)で表されるオルガノハイドロジェンポリシロキサンの具体例としては1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン、1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン、トリス(ハイドロジェンジメチルシロキシ)メチルシラン、トリス(ハイドロジェンジメチルシロキシ)フェニルシラン、メチルハイドロジェンシクロポリシロキサン、メチルハイドロジェンシロキサン・ジメチルシロキサン環状共重合体、両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンポリシロキサン、両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンシロキサン・ジメチルシロキサン共重合体、両末端メチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン、両末端メチルハイドロジェンシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンシロキサン・ジメチルシロキサン共重合体、両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンシロキサン・ジフェニルシロキサン共重合体、両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンシロキサン・ジフェニルシロキサン・ジメチルシロキサン共重合体、両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンシロキサン・メチルフェニルシロキサン・ジメチルシロキサン共重合体、両末端メチルハイドロジェンシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンシロキサン・ジフェニルシロキサン・ジメチルシロキサン共重合体、両末端メチルハイドロジェンシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンシロキサン・メチルフェニルシロキサン・ジメチルシロキサン共重合体、(CHHSiO1/2単位と(CHSiO2/2単位とSiO4/2単位とからなる共重合体、(CHHSiO1/2単位とSiO4/2単位とからなる共重合体、(CHHSiO1/2単位とSiO4/2単位と(CSiO1/2単位とからなる共重合体などが挙げられる。 Specific examples of the organohydrogenpolysiloxane represented by the above average composition formula (8) include 1,1,3,3-tetramethyldisiloxane, 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane, tris ( Hydrogendimethylsiloxy) methylsilane, tris (hydrogendimethylsiloxy) phenylsilane, methylhydrogencyclopolysiloxane, methylhydrogensiloxane-dimethylsiloxane cyclic copolymer, both ends trimethylsiloxy group-blocked methylhydrogenpolysiloxane, both ends Trimethylsiloxy group-blocked methylhydrogensiloxane / dimethylsiloxane copolymer, both ends methylhydrogensiloxy group-blocked dimethylpolysiloxane, both ends methylhydrogensiloxy group-blocked methylhydro Polysiloxane / dimethylsiloxane copolymer, trimethylsiloxy group-blocked methylhydrogensiloxane / diphenylsiloxane copolymer, trimethylsiloxy group-blocked methylhydrogensiloxane / diphenylsiloxane / dimethylsiloxane copolymer, trimethylsiloxy group at both ends Blocked methylhydrogensiloxane / methylphenylsiloxane / dimethylsiloxane copolymer, both-end methylhydrogensiloxy group-blocked methylhydrogensiloxane / diphenylsiloxane / dimethylsiloxane copolymer, both-end methylhydrogensiloxy group-blocked methylhydrogensiloxane methylphenylsiloxane-dimethylsiloxane copolymer, (CH 3) 2 HSiO 1/2 units and (CH 3) 2 S O 2/2 consisting of units and SiO 4/2 units, and copolymers, copolymers consisting of (CH 3) 2 HSiO 1/2 units and SiO 4/2 units, (CH 3) 2 HSiO 1/2 Examples thereof include a copolymer composed of a unit, a SiO 4/2 unit, and a (C 6 H 5 ) 3 SiO 1/2 unit.

(g)成分の添加量は、全硬化性シリコーン組成物中のアルケニル基1モル当たり、特に、全硬化性シリコーン組成物中のケイ素原子に結合したアルケニル基1モル当たり、とりわけ、(f)成分中のケイ素原子に結合したアルケニル基1モル当たり、本(g)成分中のSiH基の量が0.1〜5.0モル、好ましくは0.5〜3.0モル、より好ましくは0.8〜2.0モルとなる量である。このとき、全硬化性シリコーン組成物中に存在するアルケニル基に対する(f)成分中のケイ素原子と結合したアルケニル基の割合は80〜100モル%が好ましく、90〜100モル%がより好ましい。全硬化性シリコーン組成物中にアルケニル基を有する成分として(f)成分しか存在しない場合には、(f)成分中のアルケニル基1モル当たり、本(g)成分中のSiHの量が0.1〜5.0モル、好ましくは0.5〜3.0モル、より好ましくは0.8〜2.0モルとなる量である。該添加量が上記SiHの量が0.1モルより少なくなる量であると、硬化するまでの時間が長くかかり、経済的に不利である。
また、該添加量が上記SiHの量が5.0モルより多くなる量であると該硬化反応物中に脱水素反応による発泡が生じてしまい、さらに該硬化反応物の強度および耐熱性が悪影響を受ける。
The amount of component (g) added is, in particular, per mole of alkenyl groups in the total curable silicone composition, in particular per mole of alkenyl groups bonded to silicon atoms in the total curable silicone composition. The amount of SiH group in the component (g) is 0.1 to 5.0 mol, preferably 0.5 to 3.0 mol, more preferably 0.8 mol per mol of alkenyl group bonded to the silicon atom. The amount is 8 to 2.0 mol. At this time, the ratio of the alkenyl group bonded to the silicon atom in the component (f) to the alkenyl group present in the total curable silicone composition is preferably 80 to 100 mol%, and more preferably 90 to 100 mol%. When only the component (f) is present as the component having an alkenyl group in the total curable silicone composition, the amount of SiH in the component (g) is about 0.1 per mole of the alkenyl group in the component (f). The amount is 1 to 5.0 mol, preferably 0.5 to 3.0 mol, more preferably 0.8 to 2.0 mol. When the added amount is such that the amount of SiH is less than 0.1 mol, it takes a long time to cure, which is economically disadvantageous.
Further, if the amount of SiH added is more than 5.0 mol, foaming due to dehydrogenation reaction occurs in the cured reaction product, and the strength and heat resistance of the cured reaction product are adversely affected. Receive.

・・(h)成分
(h)成分の白金族金属系触媒は、(f)成分と(g)成分との付加硬化反応(ヒドロシリル化反応)を促進させるための触媒として使用される。(h)成分としては、公知の白金族金属系触媒を用いることができるが、白金もしくは白金化合物を用いることがこのましい。(h)成分の具体例としては、白金黒、塩化第二白金、塩化白金酸、塩化白金酸のアルコール変性物、塩化白金酸とオレフィン、アルデヒド、ビニルシロキサンまたはアセチレンアルコール類との錯体が挙げられる。
.. (h) Component The platinum group metal catalyst of the (h) component is used as a catalyst for promoting an addition curing reaction (hydrosilylation reaction) between the (f) component and the (g) component. As the component (h), a known platinum group metal catalyst can be used, but it is preferable to use platinum or a platinum compound. Specific examples of the component (h) include platinum black, platinum chloride, chloroplatinic acid, alcohol-modified chloroplatinic acid, and complexes of chloroplatinic acid with olefins, aldehydes, vinyl siloxanes, or acetylene alcohols. .

(h)成分の添加量は、触媒として有効量であり、希望する硬化反応速度に応じて適時増減すればよいが、(f)成分に対して白金族金属に換算して質量基準で、好ましくは0.1〜1,000ppm、より好ましくは0.2〜100ppmの範囲である。   The amount of component (h) added is an effective amount as a catalyst, and may be increased or decreased in a timely manner according to the desired curing reaction rate. Is in the range of 0.1 to 1,000 ppm, more preferably 0.2 to 100 ppm.

・縮合硬化反応型シリコーン組成物:
縮合硬化反応型シリコーン組成物として、具体的には、例えば、前記表面処理剤の他に、
(i)シラノール基(即ちケイ素原子結合水酸基)またはケイ素原子結合加水分解性基を少なくとも2個、好ましくは分子鎖両末端に含有するオルガノポリシロキサン、
(j)任意成分として、加水分解性シランおよび/またはその部分加水分解縮合物、ならびに
(k)任意成分として、縮合反応触媒
を含有する縮合硬化反応型シリコーン組成物が挙げられる。
・ Condensation curing type silicone composition:
As the condensation curing reaction type silicone composition, specifically, for example, in addition to the surface treatment agent,
(I) an organopolysiloxane containing at least two silanol groups (that is, silicon atom-bonded hydroxyl groups) or silicon atom-bonded hydrolyzable groups, preferably at both ends of the molecular chain;
(J) As an optional component, a hydrolyzable silane and / or a partially hydrolyzed condensate thereof, and (k) As an optional component, a condensation curing reaction type silicone composition containing a condensation reaction catalyst can be mentioned.

・・(i)成分
(i)成分はシラノール基またはケイ素原子結合加水分解性基を少なくとも2個含有するオルガノポリシロキサンであり、縮合硬化反応型シリコーン組成物のベースポリマーである。(i)成分のオルガノポリシロキサンは、基本的には、原料の入手のしやすさの観点から、分子鎖(主鎖)がジオルガノシロキサン単位(R11 SiO2/2単位)の繰返しからなり、分子鎖両末端がトリオルガノシロキシ基(R11 SiO1/2)で封鎖された、分岐を有しない直鎖状構造、または分子鎖が該ジオルガノシロキサン単位の繰返しからなる、分岐を有しない環状構造を有するが、分岐状構造を部分的に含有してもよい。ここで、R11は非置換もしくは置換の、炭素原子数が1〜10、より好ましくは1〜8の一価炭化水素基を表す。
.. (i) Component (i) The component is an organopolysiloxane containing at least two silanol groups or silicon atom-bonded hydrolyzable groups, and is a base polymer of a condensation curing reaction type silicone composition. From the viewpoint of easy availability of raw materials, the organopolysiloxane of component (i) is basically composed of repeating diorganosiloxane units (R 11 2 SiO 2/2 units) in the molecular chain (main chain). A straight chain structure in which both ends of the molecular chain are blocked with a triorganosiloxy group (R 11 3 SiO 1/2 ), without a branch, or the molecular chain is composed of repeating diorganosiloxane units. Although it has a cyclic structure that it does not have, it may partially contain a branched structure. Here, R 11 represents an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, more preferably 1 to 8 carbon atoms.

(i)成分のオルガノポリシロキサンにおいて、シラノール基以外の加水分解性基としては、例えば、アセトキシ基、オクタノイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等のアシロキし基;ジメチルケトオキシム基、メチルエチルケトオキシム基、ジエチルケトオキシム基等のケトオキシム基(即ち、イミノキシ基);メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等のアルコキシ基;メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、メトキシプロポキシ基等のアルコキシアルコキシ基;ビニロキシ基、イソプロペニルオキシ基,1−エチル−2−メチルビニルオキシ基等のアルケニルオキシ基;ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ブチルアミノ基、シクロヘキシルアミノ基等のアミノ基;ジメチルアミノキシ基、ジエチルアミノキシ基等のアミノキシ基;N−メチルアセトアミド、N−エチルアセトアミド基、N−メチルベンズアミド基等のアミド基等が挙げられる。   In the organopolysiloxane of component (i), examples of hydrolyzable groups other than silanol groups include acyl groups such as acetoxy group, octanoyloxy group, benzoyloxy group; dimethyl ketoxime group, methyl ethyl ketoxime group, diethyl Ketoxime groups such as ketoxime groups (ie, iminoxy groups); alkoxy groups such as methoxy groups, ethoxy groups, and propoxy groups; alkoxyalkoxy groups such as methoxyethoxy groups, ethoxyethoxy groups, and methoxypropoxy groups; vinyloxy groups, isopropenyloxy Groups, alkenyloxy groups such as 1-ethyl-2-methylvinyloxy group; amino groups such as dimethylamino group, diethylamino group, butylamino group and cyclohexylamino group; aminoxy groups such as dimethylaminoxy group and diethylaminoxy group N- methylacetamide, N- ethylacetamide group, and amide groups such as N- methylbenzamide group.

これらの加水分解性基は、例えば、トリアルコキシシロキシ基、ジアルコキシオルガノシロキシ基、トリアシロキシシロキシ基、ジアシロキシオルガノシロキシ基、トリイミノキシシロキシ基(即ち、トリケトオキシムシロキシ基)、ジイミノキシオルガノシロキシ基、トリアルケノキシシロキシ基、ジアルケノキシオツガノシロキシ基、トリアルコキシシロキシエチル基、ジアルコキシオルガノシロキシエチル基等の、2個もしくは3個の加水分解性基を含有するシロキシ基または2個もしくは3個の加水分解性基を含有するシロキシアルキル基等の形で直鎖状ジオルガノポリシロキサンの分子鎖両末端に位置していることが望ましい。   These hydrolyzable groups include, for example, trialkoxysiloxy groups, dialkoxyorganosiloxy groups, triacyloxysiloxy groups, diacyloxyorganosiloxy groups, triiminoxysiloxy groups (ie, triketoxime siloxy groups), diiminoxy groups Siloxy groups containing two or three hydrolyzable groups, such as organosiloxy groups, trialkenoxysiloxy groups, dialkenoxy tsuganosiloxy groups, trialkoxysiloxyethyl groups, dialkoxyorganosiloxyethyl groups, or two Alternatively, it is desirable to be located at both ends of the molecular chain of the linear diorganopolysiloxane in the form of a siloxyalkyl group containing three hydrolyzable groups.

ケイ素原子に結合した他の一価炭化水素基としては、上記平均組成式(4)における
について例示したものと同じ非置換または置換の一価炭化水素基が挙げられる。
Examples of the other monovalent hydrocarbon group bonded to the silicon atom include the same unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon groups as those exemplified for R 4 in the average composition formula (4).

(i)成分としては、例えば、   As the component (i), for example,

Figure 2012144595
Figure 2012144595

Figure 2012144595
Figure 2012144595

Figure 2012144595
Figure 2012144595

Figure 2012144595
Figure 2012144595

Figure 2012144595
Figure 2012144595

Figure 2012144595
Figure 2012144595

[上記の式中、Xは前記シラノール基以外の加水分解性基、aは1、2または3、nおよびmはそれぞれ1〜1,000の整数である]
が挙げられる。
[In the above formula, X is a hydrolyzable group other than the silanol group, a is 1, 2 or 3, and n and m are each an integer of 1 to 1,000]
Is mentioned.

(i)成分の具体例としては、分子鎖両末端シラノール基封鎖ジメチルポリシロキサン、分子鎖両末端シラノール基封鎖ジメチルシロキサン・メチルフェニルシロキサン共重合体、分子鎖両末端シラノール基封鎖ジメチルシロキサン・ジフェニルポリシロキサン共重合体、分子鎖両末端トリメトキシシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン、分子鎖両末端トリメトキシシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルフェニルシロキサン共重合体、分子鎖両末端トリメトキシシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・ジフェニルポリシロキサン共重合体、分子鎖両末端2−トリメトキシシロキシエチル基封鎖ジメチルポリシロキサン等が挙げられる。これらは1種単独でも2種以上を組み合わせても使用することができる。   Specific examples of the component (i) include molecular chain both ends silanol-blocked dimethylpolysiloxane, molecular chain both ends silanol-blocked dimethylsiloxane / methylphenylsiloxane copolymer, molecular chain both ends silanol-blocked dimethylsiloxane / diphenylpolysiloxane. Siloxane copolymer, trimethoxysiloxy group-capped dimethylpolysiloxane with molecular chain at both ends, trimethoxysiloxy group-capped dimethylsiloxane / methylphenylsiloxane copolymer with molecular chain at both ends, trimethoxysiloxy group-capped dimethylsiloxane / diphenyl Examples thereof include polysiloxane copolymers and 2-trimethoxysiloxyethyl group-blocked dimethylpolysiloxane having both molecular chain terminals. These can be used singly or in combination of two or more.

・・(j)成分
(j)成分の加水分解性シランおよび/またはその部分加水分解縮合物は任意成分であり、硬化剤として作用する。ベースポリマーである(i)成分がシラノール基以外のケイ素原子結合加水分解性基を1分子中に少なくとも2個含有するオルガノポリシロキサンである場合には、(j)成分を縮合硬化反応型シリコーン組成物に添加するのを省略することができる。(j)成分としては、1分子中に少なくとも3個のケイ素原子結合加水分解性基を含有するシランおよび/またはその部分加水分解縮合物(即ち、少なくとも1個、好ましくは2個以上の加水分解性基が残存するオルガノポリシロキサン)が好適に使用される。
.. (j) Component The hydrolyzable silane and / or partial hydrolysis condensate thereof as the component (j) are optional components and act as a curing agent. When component (i) which is a base polymer is an organopolysiloxane containing at least two silicon atom-bonded hydrolyzable groups other than silanol groups in one molecule, component (j) is a condensation-curing reaction type silicone composition. Adding to the product can be omitted. As the component (j), a silane containing at least three silicon atom-bonded hydrolyzable groups in one molecule and / or a partial hydrolysis condensate thereof (that is, at least one, preferably two or more hydrolysis products) An organopolysiloxane in which a functional group remains is preferably used.

前記シランとしては、例えば、式(9):
12 SiX4−r (9)
(式中、R12は非置換もしくは置換の、炭素原子数が1〜10、より好ましくは1〜8の一価炭化水素基、Xは加水分解性基、rは0または1である。)で表されるものが好ましく用いられる。前記R12としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等のアルキル基;フェニル基、トリル基等のアリール基;ビニル基、アリル基等のアルケニル基が特に好ましくあげられる。
Examples of the silane include a formula (9):
R 12 r SiX 4-r (9)
(In the formula, R 12 is an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, more preferably 1 to 8 carbon atoms, X is a hydrolyzable group, and r is 0 or 1.) What is represented by these is used preferably. R 12 is particularly preferably an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group or a hexyl group; an aryl group such as a phenyl group or a tolyl group; an alkenyl group such as a vinyl group or an allyl group. can give.

(j)成分の具体的例としては、例えば、メチルトリエトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、エチルオルソシリケート等およびこれらの部分加水分解縮合物が挙げられる。これらは1種単独でも2種以上組み合わせても使用することができる。   Specific examples of the component (j) include methyltriethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, ethyl orthosilicate and the like, and partial hydrolysis condensates thereof. These can be used singly or in combination of two or more.

(j)成分の加水分解性シランおよび/またはその部分加水分解縮合物を用いる場合、その添加量は(i)成分100質量部に対して好ましくは0.01〜20質量部、特に好ましくは0.1〜10質量部である。(j)成分を用いる場合、その添加量が上記範囲内にあると本発明組成物の貯蔵安定性および硬化反応速度は特に良好である。   (J) When using the component hydrolyzable silane and / or the partial hydrolysis condensate thereof, the amount added is preferably 0.01 to 20 parts by weight, particularly preferably 0 with respect to 100 parts by weight of component (i). .1 to 10 parts by mass. When the component (j) is used, the storage stability and curing reaction rate of the composition of the present invention are particularly good when the amount added is within the above range.

・・(j)成分
(j)成分の縮合反応触媒は任意成分であり、上記(j)成分の加水分解性シランおよび/またはその部分加水分解縮合物が、例えば、アミノキシ基、アミノ基、ケトオキシム基を有する場合には使用しなくてもよい。(k)成分の縮合反応触媒としては、例えばテトラブチルチタネート、テトライソブロピルチタネート、等の有機チタン酸エステル;ジイソプロポキシビス(アセチルアセトナート)チタン、ジイソプロポキシビス(エチルアセトアセテート)チタン等の有機チタンキレート化合物;アルミニウムトリス(アセチルアセトナート)、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテート)等の有機アルミニウム化合物;ジルコニウムテトラ(アセチルアセトナート)、ジルコニウムテトラブチレート等の有機ジルコニウム化合物;ジブチルスズジオクトエート、ジブチルスズジラウレート、ジブチルスズジ(2−エチルヘキサノエート)等の有機スズ化合物;ナフテン酸スズ、オレイン酸スズ、ブチル酸スズ、ナフテン酸コバルト、ステアリン酸亜鉛等の有機カルボン酸の金属塩;へキシルアミン、リン酸ドデシルアミン等のアミン化合物、およびその塩;ベンジルトリエチルアンモニウムアセテート等の4級アンモニウム塩;酢酸カリウム、硝酸リチウム等のアルカリ金属の低級脂肪酸塩;ジメチルヒドロキシルアミン、ジエチルヒドロキシルアミン等のジアルキルヒドロキシルアミン:グアニジル基含有有機珪素化合物等が挙げられる。これらは1種単独でも2種以上を組み合わせても使用することができる。
.. (j) Component (j) The condensation reaction catalyst of component (component) is an optional component, and the hydrolyzable silane and / or partial hydrolysis condensate thereof of component (j) is, for example, an aminoxy group, amino group, ketoxime If it has a group, it may not be used. Examples of the condensation reaction catalyst for component (k) include organic titanates such as tetrabutyl titanate and tetraisobropyrutitanate; diisopropoxybis (acetylacetonato) titanium, diisopropoxybis (ethylacetoacetate) titanium and the like. Organic titanium chelate compounds; organoaluminum compounds such as aluminum tris (acetylacetonate) and aluminum tris (ethylacetoacetate); organozirconium compounds such as zirconium tetra (acetylacetonate) and zirconium tetrabutyrate; dibutyltin dioctoate, Organotin compounds such as dibutyltin dilaurate and dibutyltin di (2-ethylhexanoate); tin naphthenate, tin oleate, tin butyrate, cobalt naphthenate, stearic acid Metal salts of organic carboxylic acids such as: amine compounds such as hexylamine and dodecylamine phosphate, and salts thereof; quaternary ammonium salts such as benzyltriethylammonium acetate; lower fatty acid salts of alkali metals such as potassium acetate and lithium nitrate; Examples include dialkylhydroxylamine such as dimethylhydroxylamine and diethylhydroxylamine: guanidyl group-containing organosilicon compounds. These can be used singly or in combination of two or more.

(k)成分の縮合反応触媒を用いる場合、その添加量は、特に限定されず、触媒としての有効量でよいが、(i)成分100質量部に対して好ましくは0.01〜20質量部、特に好ましくは0.1〜10質量部である。(k)成分を用いる場合、その添加量が上記範囲内にあると、硬化時間と硬化温度の観点から経済的に有利である。   When the condensation reaction catalyst of component (k) is used, the amount added is not particularly limited and may be an effective amount as a catalyst, but is preferably 0.01 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of component (i). Especially preferably, it is 0.1-10 mass parts. When the component (k) is used, it is economically advantageous from the viewpoint of curing time and curing temperature when the amount added is within the above range.

・有機過酸化物硬化反応型シリコーン組成物の硬化:
有機過酸化物硬化反応型シリコーン組成物を加熱することでラジカル反応が進行し、硬化反応が進行し、有機過酸化物シリコーン組成物は硬化する。有機過酸化物シリコーン組成物を硬化させる温度条件は、この際の加熱温度としては、硬化反応が被覆厚に依存する、すなわち、塗工量に依存するため、特に限定されないが、好ましくは80℃〜300℃より好ましくは150℃〜250℃である。また、必要に応じて2次キュアを行ってもよく、その際の温度条件としては好ましくは120℃以上、より好ましくは150℃〜250℃である。この際のキュア時間は好ましくは10分〜48時間さらに好ましくは30分〜24時間である。
-Curing of organic peroxide curing reactive silicone composition:
By heating the organic peroxide curing reaction type silicone composition, the radical reaction proceeds, the curing reaction proceeds, and the organic peroxide silicone composition is cured. The temperature condition for curing the organic peroxide silicone composition is not particularly limited because the curing reaction depends on the coating thickness, that is, the coating amount, but preferably 80 ° C. It is 150-250 degreeC more preferably -300 degreeC. Moreover, you may perform a secondary cure as needed, As temperature conditions in that case, Preferably it is 120 degreeC or more, More preferably, it is 150 to 250 degreeC. The curing time at this time is preferably 10 minutes to 48 hours, more preferably 30 minutes to 24 hours.

・紫外線硬化反応性シリコーン組成物の硬化:
紫外線硬化反応性シリコーン組成物に、紫外線を照射することで、光重合開始剤が反応し、硬化反応が進行し、紫外線硬化反応性シリコーン組成物は硬化する。紫外線照射条件は、硬化反応が被覆厚に依存する、すなわち、塗工量に依存するため、特に限定されないが、365nmに発光波長を持った紫外線発光ダイオードを用い、照度5〜500mW/cm、好ましくは10〜200mW/cm、光量0.5〜100J/cm、好ましくは.10〜50J/cmの条件で紫外線照射を行うことで硬化させることができる。また、必要に応じて2次キュアを行ってもよく、その際の温度条件としては好ましくは120℃以上、より好ましくは150℃〜250℃である。この際のキュア時間は好ましくは10分〜48時間さらに好ましくは30分〜24時間である。
-Curing of UV curable reactive silicone composition:
By irradiating the ultraviolet curable reactive silicone composition with ultraviolet rays, the photopolymerization initiator reacts, the curing reaction proceeds, and the ultraviolet curable reactive silicone composition is cured. The ultraviolet irradiation conditions are not particularly limited because the curing reaction depends on the coating thickness, that is, the coating amount, but an ultraviolet light emitting diode having an emission wavelength of 365 nm is used, and an illuminance of 5 to 500 mW / cm 2 , Preferably 10-200 mW / cm 2 , light quantity 0.5-100 J / cm 2 , preferably. It can be hardened by irradiating with ultraviolet rays under conditions of 10-50 J / cm 2 . Moreover, you may perform a secondary cure as needed, As temperature conditions in that case, Preferably it is 120 degreeC or more, More preferably, it is 150 to 250 degreeC. The curing time at this time is preferably 10 minutes to 48 hours, more preferably 30 minutes to 24 hours.

・付加硬化反応性シリコーン組成物の硬化:
付加硬化反応性シリコーン組成物を加熱することで、ヒドロシリル化反応が進行し、付加硬化反応性シリコーン組成物は硬化する。この際の加熱温度としては、硬化反応が被覆に依存する、すなわち、塗工量に依存するため、特に限定されないが、好ましくは80〜300℃、より好ましくは100〜200℃である。また、必要に応じて2次キュアを行ってもよく、その際の温度条件としては好ましくは120℃以上、より好ましくは150℃〜250℃である。この際のキュア時間は好ましくは10分〜48時間さらに好ましくは30分〜24時間である。
Curing of addition curing reactive silicone composition:
By heating the addition-curing reactive silicone composition, the hydrosilylation reaction proceeds and the addition-curing reactive silicone composition is cured. The heating temperature at this time is not particularly limited because the curing reaction depends on the coating, that is, depends on the coating amount, but is preferably 80 to 300 ° C, more preferably 100 to 200 ° C. Moreover, you may perform a secondary cure as needed, As temperature conditions in that case, Preferably it is 120 degreeC or more, More preferably, it is 150 to 250 degreeC. The curing time at this time is preferably 10 minutes to 48 hours, more preferably 30 minutes to 24 hours.

・縮合硬化反応型シリコーン組成物の硬化:
縮合硬化反応型シリコーン組成物を加熱することで縮合反応が進行し、縮合硬化反応性シリコーン組成物は硬化する。縮合硬化反応型シリコーン組成物を硬化させる温度条件は、この際の加熱温度としては、硬化反応が被覆厚に依存する、すなわち、塗工量に依存するため、特に限定されないが、好ましくは80℃〜300℃より好ましくは100℃〜200℃である。また、必要に応じて2次キュアを行ってもよく、その際の温度条件としては好ましくは120℃以上、より好ましくは150℃〜250℃である。この際のキュア時間は好ましくは10分〜48時間さらに好ましくは30分〜24時間である。
-Curing of condensation curing reaction type silicone composition:
The condensation reaction proceeds by heating the condensation curing reaction type silicone composition, and the condensation curing reaction silicone composition is cured. The temperature condition for curing the condensation-curing reaction type silicone composition is not particularly limited as the heating temperature in this case, since the curing reaction depends on the coating thickness, that is, depends on the coating amount, preferably 80 ° C. It is more preferably 100 ° C to 200 ° C. Moreover, you may perform a secondary cure as needed, As temperature conditions in that case, Preferably it is 120 degreeC or more, More preferably, it is 150 to 250 degreeC. The curing time at this time is preferably 10 minutes to 48 hours, more preferably 30 minutes to 24 hours.

・その他の成分:
本発明の組成物には、硬化機構の種類に関係なく、必要に応じて他の成分を配合することができ、例えば、分散性向上剤等が挙げられる。
・ Other ingredients:
Regardless of the type of curing mechanism, other components can be blended in the composition of the present invention as necessary, and examples thereof include a dispersibility improver.

分散性向上剤は、組成物中に添加することで前記表面処理シリカの分散性を高め組成物の流動性を向上させる働きがある。具体的にはヘキサメチルジシラザン、1,3-ジビニル‐1,1,3,3-テトラメチルジシラザン、1,1,3,5,5,5-ヘプタメチル‐3-ビニルトリシラザン等のオルガノシラザンや、ジメチルアミノトリメチルシラザン、ジメチルアミノジメチルビニルシラン等のオルガノアミノシランやオルガノクロロシラン、オルガノアルコキシシラン等のオルガノシラン類などの有機ケイ素化合物が挙げられる。   The dispersibility improver has the function of increasing the dispersibility of the surface-treated silica and improving the fluidity of the composition by being added to the composition. Specifically, organos such as hexamethyldisilazane, 1,3-divinyl-1,1,3,3-tetramethyldisilazane, 1,1,3,5,5,5-heptamethyl-3-vinyltrisilazane, etc. Examples thereof include organosilicon compounds such as silazane, organoaminosilanes such as dimethylaminotrimethylsilazane and dimethylaminodimethylvinylsilane, and organosilanes such as organochlorosilane and organoalkoxysilane.

組成物が付加硬化型である場合には付加反応制御剤として、エチニルメチリデンカルビノール、1−エチニル−1−ヘキシル−3−ブチン等を添加できる。   When the composition is an addition-curable type, ethynylmethylidenecarbinol, 1-ethynyl-1-hexyl-3-butyne, or the like can be added as an addition reaction control agent.

本発明の組成物を硬化して得られる硬化物は良好な熱伝導性を有し、熱伝導率が、ホットディスク法による25℃おける測定値が0.3W/m-K以上であることが好ましく、さらに0.4以上であることが望ましい。熱伝導率が0.3W/mK未満であると、発熱量の大きい発熱体への適用が適しない。また、該硬化物は透明性に優れるが、厚みが1mmの層状態で20℃において測定したときに、波長800nmの光の透過率が60%以上であることが好ましく、70%以上であることがより好ましい。さらに、該硬化物は厚みが1mmの層状態で測定したときに、UL94V-1の基準を満たす難燃性を有する。   The cured product obtained by curing the composition of the present invention has good thermal conductivity, and the thermal conductivity is preferably a measured value at 25 ° C. by a hot disk method of 0.3 W / mK or more. It is desirable that it is 0.4 or more. When the thermal conductivity is less than 0.3 W / mK, application to a heating element having a large calorific value is not suitable. Further, the cured product is excellent in transparency, but when measured at 20 ° C. in a layer state of 1 mm in thickness, the light transmittance at a wavelength of 800 nm is preferably 60% or more, and 70% or more. Is more preferable. Further, the cured product has flame retardancy that meets UL94V-1 standards when measured in a layer state of 1 mm thickness.

・調製例1:
−表面処理シリカ(C-1)の合成−
アンモニア水(28質量%)50g、水42g、メタノール625gの混合溶液にテトラメトキシシラン1165g添加し6時間攪拌した。続けてアンモニア水(5.4質量%)を400g加え4時間攪拌し、ゾル‐ゲルシリカを得た。さらに水1200gを加え、トリメトシキメチルシラン12gを添加し12時間攪拌させた後、メチルイソブチルケトン450g加え、水を留去した。その後、ヘキサメチルジシラザン150gを加え100℃で3時間攪拌した後、溶媒を留去し乾燥させることで表面処理シリカ(C-1)を得た。
-Preparation Example 1:
-Synthesis of surface-treated silica (C-1)-
To a mixed solution of 50 g of ammonia water (28% by mass), 42 g of water and 625 g of methanol, 1165 g of tetramethoxysilane was added and stirred for 6 hours. Subsequently, 400 g of ammonia water (5.4% by mass) was added and stirred for 4 hours to obtain sol-gel silica. Further, 1200 g of water was added, 12 g of trimethoxymethylsilane was added and stirred for 12 hours, 450 g of methyl isobutyl ketone was added, and water was distilled off. Thereafter, 150 g of hexamethyldisilazane was added and stirred at 100 ° C. for 3 hours, and then the solvent was distilled off and dried to obtain surface-treated silica (C-1).

−表面処理度の測定−
(C-1)の表面処理シリカ0.3gとテトラエトキシシラン3gと水酸化カリウム0.085gを採取し120℃で3時間加熱処理した。この時の標準サンプルとしてはトリス(トリメチルシロキシ)メチルシランを使用した。M単位はトリエトキシメチルシラン及びトリエトキシメチルシランとテトラエトキシシランの二量体の補正値を合算した検量線から求めた。またT単位はM単位量を基準としたガスクロマトグラフィーの面積比にmol比係数を乗じて求めた。
-Measurement of surface treatment degree-
Surface-treated silica (C-1) (0.3 g), tetraethoxysilane (3 g) and potassium hydroxide (0.085 g) were collected and heat-treated at 120 ° C. for 3 hours. As a standard sample at this time, tris (trimethylsiloxy) methylsilane was used. The M unit was determined from a calibration curve obtained by adding correction values of triethoxymethylsilane and dimers of triethoxymethylsilane and tetraethoxysilane. The T unit was obtained by multiplying the area ratio of gas chromatography based on the M unit amount by the mol ratio coefficient.

上述のように測定した結果を以下に示す。
M単位:0.0093 (mol/100g)
T単位:0.015 (mol/100g)
The results measured as described above are shown below.
M unit: 0.0093 (mol / 100g)
T unit: 0.015 (mol / 100g)

ゾル‐ゲルシリカはQ単位で構成されているので、測定で得たM単位、T単位の量を全体から差し引けばQ単位量を求めることが出来る。この場合のM単位はSiMe3O1/2であり式量が81.19、T単位はSiMeO3/2であり式量は67.12であるので、表面処理シリカ100g中にM単位は0.76gでT単位は1.00g含まれている。つまり100g中からM単位量とT単位量を引いた98.24gが処理シリカ100g中に含まれるQ単位量である。これをモル数に換算すると、1.64molであるので、モル基準で、p/q=0.015となる。 Since sol-gel silica is composed of Q units, the amount of Q units can be determined by subtracting the amount of M units and T units obtained from the measurement. In this case, the M unit is SiMe 3 O 1/2 and the formula weight is 81.19, and the T unit is SiMeO 3/2 and the formula weight is 67.12. Therefore, in 100 g of the surface-treated silica, the M unit is 0.76 g and the T unit. Contains 1.00g. That is, 98.24 g obtained by subtracting the M unit amount and the T unit amount from 100 g is the Q unit amount contained in 100 g of the treated silica. Since this is 1.64 mol in terms of the number of moles, p / q = 0.015 on a molar basis.

−平均粒径−
マイクロトラック法で測定したところ、130nmであった。
-Average particle size-
It was 130 nm when measured by the microtrack method.

・調製例2:
−表面処理シリカ(C-2)の合成−
調製例1と類似の手順で、表面処理シリカ(C-2)を合成し、同様にしてp/q=0.03と計算された。平均粒径は150nmと測定された。
-Preparation Example 2:
-Synthesis of surface-treated silica (C-2)-
Surface treated silica (C-2) was synthesized in the same procedure as in Preparation Example 1, and p / q = 0.03 was calculated in the same manner. The average particle size was measured as 150 nm.

・調製例3:
−表面処理シリカ(C-3)の合成−
調製例1と類似の手順で、表面処理シリカ(C-3)を合成し、同様にしてp/q=0.008と計算された。平均粒径は160nmと測定された。
-Preparation Example 3:
-Synthesis of surface-treated silica (C-3)-
Surface-treated silica (C-3) was synthesized in the same procedure as in Preparation Example 1, and p / q = 0.008 was calculated in the same manner. The average particle size was measured as 160 nm.

・調製例4:
−表面処理シリカ(C-4)の合成−
調製例1と類似の手順で、表面処理シリカ(C-4)を合成し、同様にしてp/q=0.04と計算された。平均粒径は150nmと測定された。
-Preparation Example 4:
-Synthesis of surface-treated silica (C-4)-
Surface-treated silica (C-4) was synthesized in the same procedure as in Preparation Example 1, and p / q = 0.04 was calculated in the same manner. The average particle size was measured as 150 nm.

・実施例1〜5、比較例1〜4
使用材料:
<(A)成分>
式:
-Examples 1-5, Comparative Examples 1-4
Materials used:
<(A) component>
formula:

Figure 2012144595
Figure 2012144595

(式中、Xはビニル基であり、nは下記の示す粘度(25℃)となる数である。)
で表されるオルガノポリシロキサン
(A−1)粘度:100mm2/s
(A−2)粘度:600mm2/s
(In the formula, X is a vinyl group, and n is a number having the following viscosity (25 ° C.).)
(A-1) Viscosity: 100 mm 2 / s
(A-2) Viscosity: 600 mm 2 / s

<(B)成分>
式:
<(B) component>
formula:

Figure 2012144595
Figure 2012144595

(式中、oは平均値28、pは平均値10)
で表されるオルガノハイドロジェンポリシロキサン
(Where, o is the average value 28, p is the average value 10)
Organohydrogenpolysiloxane represented by

<(C)成分>
シリカ
(C-1) p/q=0.015(平均粒径130nm)
(C-2) p/q=0.03(平均粒径150nm)
(C-3) p/q=0.008(平均粒径160nm)
(C-4) p/q=0.004(平均粒径150nm)
(C-5) 無処理のシリカ(アエロジル130)
<(C) component>
silica
(C-1) p / q = 0.015 (average particle size 130 nm)
(C-2) p / q = 0.03 (average particle size 150 nm)
(C-3) p / q = 0.008 (average particle size 160 nm)
(C-4) p / q = 0.004 (average particle size 150 nm)
(C-5) Untreated silica (Aerosil 130)

<(D)成分>
付加硬化触媒
5質量%塩化白金酸2-エチルヘキサノール溶液
<(E)成分>
付加反応制御剤として、エチニルメチリデンカルビノール。
(F)成分
ヘキサメチルジシラザン
<(D) component>
Addition curing catalyst
5 mass% chloroplatinic acid 2-ethylhexanol solution (component (E))
Ethynylmethylidenecarbinol as an addition reaction control agent.
Component (F) Hexamethyldisilazane

・・組成物の調製:
各実施例及び各比較例において、(A)成分、(C)成分を、表1に示す所定量、プラネタリーミキサーで60分間混練した。その後、得られた混練物に(D)成分、(E)成分を表1に示す所定の量加え、さらにセパレータとの離型を促す内添離型剤を有効量加えた後、30分間混練した。さらに(B)成分を表1に示す所定量加え、30分間混練し、組成物を得た。
・成形、硬化
各実施例、比較例の組成物を100mm×100mm×1mm(深さ)の金型に流し込み、プレス成形機を用いて110℃で10分間処理し成形した。特記しない限り、こうして得た1mm厚のシートを用いて以下の評価を行った。
・特性評価
次の特性を測定、評価した。結果を表1に示す。
..Preparation of composition:
In each example and each comparative example, the components (A) and (C) were kneaded for 60 minutes in a predetermined amount shown in Table 1 using a planetary mixer. Thereafter, the components (D) and (E) are added to the obtained kneaded material in predetermined amounts as shown in Table 1, and an effective amount of an internal release agent that promotes release from the separator is added, and then kneaded for 30 minutes. did. Further, a predetermined amount of component (B) shown in Table 1 was added and kneaded for 30 minutes to obtain a composition.
-Molding and curing The compositions of each Example and Comparative Example were poured into a 100 mm x 100 mm x 1 mm (depth) mold and processed at 110 ° C for 10 minutes using a press molding machine. Unless otherwise specified, the following evaluation was performed using the 1 mm thick sheet thus obtained.
-Characteristic evaluation The following characteristics were measured and evaluated. The results are shown in Table 1.

・・熱伝導率:
60mm×60mm×60mm(深さ)の金型を用いて作製した6mm厚のシート2枚を用いて熱伝導率計(TPA−501、京都電子工業株式会社製の商品名)により熱伝導率を測定した。
··Thermal conductivity:
Thermal conductivity was measured with a thermal conductivity meter (TPA-501, trade name of Kyoto Electronics Industry Co., Ltd.) using two 6mm thick sheets prepared using a 60mm x 60mm x 60mm (depth) mold. It was measured.

・・光透過性:
1mm厚のシートについて、分光光度計(日立製作所製)を用いて測定した。
··Optical transparency:
A 1 mm thick sheet was measured using a spectrophotometer (manufactured by Hitachi, Ltd.).

・・難燃性:
UL94の難燃性試験方法に準拠し試験を行なった。
··Flame retardance:
The test was conducted in accordance with UL94 flame retardancy test method.

Figure 2012144595
Figure 2012144595

・評価:
比較例1のように表面処理シリカのp/qの値が0.01よりも小さいと実施例1と同質量部数のシリカを充填しているにも関わらず、分散性が低下するため光透過性が低下した。比較例2のようにさらに表面処理度が下がると、より分散性が悪くなり光透過率が低下した。比較例3のように無処理のシリカを用いると充填性が著しく低下し、20質量部すら充填することが出来なかった。
・ Evaluation:
When the p / q value of the surface-treated silica is smaller than 0.01 as in Comparative Example 1, the dispersibility is lowered despite the fact that the same mass parts of silica as in Example 1 are filled, so that light transmittance is reduced. Declined. When the degree of surface treatment was further reduced as in Comparative Example 2, the dispersibility was worsened and the light transmittance was lowered. When untreated silica was used as in Comparative Example 3, the filling property was remarkably lowered, and even 20 parts by mass could not be filled.

本発明の熱伝導性シリコーン組成物は熱伝導性ないしは放熱性、難燃性に加えて透明性が求められる箇所に使用することができる。例えば、液晶パネルディスプレイ(LCD)の透明放熱保護フィルムとして、発光ダイオード(LED)素子の透明封止材や透明リフレクター材として有用である。   The thermally conductive silicone composition of the present invention can be used in places where transparency is required in addition to thermal conductivity or heat dissipation and flame retardancy. For example, it is useful as a transparent heat dissipation protective film for liquid crystal panel displays (LCD), as a transparent sealing material for transparent light emitting diode (LED) elements, and as a transparent reflector material.

Claims (8)

(α)SiO1/2単位(Q単位)からなる基材シリカと、その表面に処理され結合した表面処理剤とからなる疎水化表面処理シリカ、及び、
(β)ポリオルガノシロキサン成分
を含む熱伝導性シリコーン組成物にして、
前記の表面処理剤が、一般式(X):
Figure 2012144595
(式中、Rは3官能性分岐を有してもよいが4官能性分岐は有しない、ケイ素原子に結合する末端が酸素原子で停止している1価のオルガノシロキサン基であるか、又は置換若しくは非置換の1価の炭化水素基であり、Rはアルキル基であり、xは1〜3の整数である。)
で表される有機ケイ素化合物であり、
前記Q単位の数(q)に対する、基材シリカの表面に結合した表面処理剤を構成するケイ素原子の数(p)のモル比(p/q)が、0.01〜0.3の範囲内である、ことを特徴とする熱伝導性シリコーン組成物。
(Α) Hydrophobized surface-treated silica composed of a base silica composed of SiO 1/2 units (Q units) and a surface treatment agent treated and bonded to the surface, and
(Β) A thermally conductive silicone composition containing a polyorganosiloxane component,
The surface treatment agent has the general formula (X):
Figure 2012144595
(In the formula, R 1 may have a trifunctional branch but does not have a tetrafunctional branch, is a monovalent organosiloxane group whose terminal bonded to a silicon atom is terminated with an oxygen atom, or Or a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group, R 2 is an alkyl group, and x is an integer of 1 to 3. )
An organosilicon compound represented by
The molar ratio (p / q) of the number (p) of silicon atoms constituting the surface treatment agent bonded to the surface of the base silica with respect to the number (q) of Q units is in the range of 0.01 to 0.3. A thermally conductive silicone composition characterized by that.
前記表面処理シリカを、本組成物中のオルガノポリシロキサン成分100質量部に対して100〜500質量部含む請求項1に係るシリコーン組成物。   The silicone composition according to claim 1, comprising 100 to 500 parts by mass of the surface-treated silica with respect to 100 parts by mass of the organopolysiloxane component in the composition. 前記表面処理シリカの平均粒径が20nm以上200nm以下である請求項1又は2に係るシリコーン組成物。   The silicone composition according to claim 1 or 2, wherein the surface-treated silica has an average particle size of 20 nm to 200 nm. 付加反応硬化型である請求項1〜3のいずれか1項に係るシリコーン組成物。   The silicone composition according to any one of claims 1 to 3, which is an addition reaction curable type. 請求項1〜4のいずれか1項に記載の組成物を硬化させて得られるシリコーン硬化物。   The silicone hardened | cured material obtained by hardening the composition of any one of Claims 1-4. 熱伝導率が0.3W/mK以上である請求項5に係るシリコーン硬化物。   The cured silicone according to claim 5, which has a thermal conductivity of 0.3 W / mK or more. 厚みが1mmの層状態で20℃において測定したときに、波長800nmの光の透過率が60%以上で、透明性の高い請求項5又は6に係るシリコーン硬化物。   The cured silicone product according to claim 5 or 6, wherein when measured at 20 ° C in a layer state having a thickness of 1 mm, the transmittance of light having a wavelength of 800 nm is 60% or more and the transparency is high. 厚みが1mmの層状態で測定したときに、UL94V-1の基準を満たす難燃性を有する請求項5〜7のいずれか1項に係るシリコーン硬化物。
The cured silicone according to any one of claims 5 to 7, which has flame retardancy that satisfies UL94V-1 standards when measured in a layer state having a thickness of 1 mm.
JP2011002279A 2011-01-07 2011-01-07 Thermally conductive silicone composition and cured product excellent in transparency Active JP5589856B2 (en)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011002279A JP5589856B2 (en) 2011-01-07 2011-01-07 Thermally conductive silicone composition and cured product excellent in transparency
CN201180064371.0A CN103298885B (en) 2011-01-07 2011-12-22 Highly transparent, thermally conductive silicone composition and cured material
KR1020137020738A KR101780526B1 (en) 2011-01-07 2011-12-22 Highly transparent, thermally conductive silicone composition and cured material
PCT/JP2011/079907 WO2012093602A1 (en) 2011-01-07 2011-12-22 Highly transparent, thermally conductive silicone composition and cured material
TW100149837A TWI518138B (en) 2011-01-07 2011-12-30 Heat conductive silicone composition and cured product with excellent transparency

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011002279A JP5589856B2 (en) 2011-01-07 2011-01-07 Thermally conductive silicone composition and cured product excellent in transparency

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2012144595A true JP2012144595A (en) 2012-08-02
JP5589856B2 JP5589856B2 (en) 2014-09-17

Family

ID=46457462

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011002279A Active JP5589856B2 (en) 2011-01-07 2011-01-07 Thermally conductive silicone composition and cured product excellent in transparency

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP5589856B2 (en)
KR (1) KR101780526B1 (en)
CN (1) CN103298885B (en)
TW (1) TWI518138B (en)
WO (1) WO2012093602A1 (en)

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2014192402A1 (en) * 2013-05-30 2014-12-04 住友ベークライト株式会社 Hydrophobic inorganic particles, resin composition for heat dissipation member, and electronic component device
WO2014192499A1 (en) * 2013-05-30 2014-12-04 住友ベークライト株式会社 Hydrophobic inorganic particles, resin composition for heat dissipation member, and electronic component device
WO2014192472A1 (en) * 2013-05-30 2014-12-04 住友ベークライト株式会社 Hydrophobic inorganic particles, resin composition for heat dissipation member, and electronic component device
JP2015030827A (en) * 2013-08-06 2015-02-16 信越化学工業株式会社 Polytetrafluoroethylene powder composition, anti-dripping agent comprising the same, and resin composition containing the agent
WO2016024516A1 (en) * 2014-08-11 2016-02-18 株式会社アイ.エス.テイ Heat-transmitting modifier for elastomer, heat-transmission-modified crystalline elastomer, method for using crystalline polymer and precursor thereof, method for heat-transmission modification of elastomer, heater body, and heated body
JP2016044213A (en) * 2014-08-21 2016-04-04 信越化学工業株式会社 Heat-conductive silicone composition and heat-conductive sheet
JP2017078122A (en) * 2015-10-21 2017-04-27 株式会社Kri Thermally conductive filler and transparent thermally conductive resin composition
WO2018230179A1 (en) 2017-06-15 2018-12-20 信越化学工業株式会社 Silicone composition and production method for same
KR20200019139A (en) 2017-06-15 2020-02-21 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 Silicone composition and its manufacturing method

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI509024B (en) * 2012-10-02 2015-11-21 Daxin Materials Corp Hardenable resin composition, curried article using the same, and semiconductor device
CN103980857B (en) * 2014-05-21 2018-12-11 浙江新安化工集团股份有限公司 Adhesion type silicone grease composition and preparation method thereof
JP7124349B2 (en) * 2017-03-09 2022-08-24 三菱ケミカル株式会社 Plate-shaped compact and composite member

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11116807A (en) * 1997-10-13 1999-04-27 Suzuki Sogyo Co Ltd Silicone rubber composition having thermal conductivity and its molding product
JP2002188010A (en) * 2000-12-19 2002-07-05 Ge Toshiba Silicones Co Ltd Polyorganosiloxane composition curable by addition reaction
JP2003147203A (en) * 2001-11-14 2003-05-21 Shin Etsu Chem Co Ltd Room-temperature curing silicone rubber composition
JP2008120735A (en) * 2006-11-13 2008-05-29 Shin Etsu Chem Co Ltd Organosilicon compound
JP2008143725A (en) * 2006-12-06 2008-06-26 Toda Kogyo Corp Method for manufacturing surface-treated inorganic particle powder

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11116807A (en) * 1997-10-13 1999-04-27 Suzuki Sogyo Co Ltd Silicone rubber composition having thermal conductivity and its molding product
JP2002188010A (en) * 2000-12-19 2002-07-05 Ge Toshiba Silicones Co Ltd Polyorganosiloxane composition curable by addition reaction
JP2003147203A (en) * 2001-11-14 2003-05-21 Shin Etsu Chem Co Ltd Room-temperature curing silicone rubber composition
JP2008120735A (en) * 2006-11-13 2008-05-29 Shin Etsu Chem Co Ltd Organosilicon compound
JP2008143725A (en) * 2006-12-06 2008-06-26 Toda Kogyo Corp Method for manufacturing surface-treated inorganic particle powder

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI564331B (en) * 2013-05-30 2017-01-01 住友電木股份有限公司 Hydrophobic inorganic particles, resin composition for heat-dissipation member and electronic component device
WO2014192499A1 (en) * 2013-05-30 2014-12-04 住友ベークライト株式会社 Hydrophobic inorganic particles, resin composition for heat dissipation member, and electronic component device
WO2014192472A1 (en) * 2013-05-30 2014-12-04 住友ベークライト株式会社 Hydrophobic inorganic particles, resin composition for heat dissipation member, and electronic component device
WO2014192402A1 (en) * 2013-05-30 2014-12-04 住友ベークライト株式会社 Hydrophobic inorganic particles, resin composition for heat dissipation member, and electronic component device
JPWO2014192402A1 (en) * 2013-05-30 2017-02-23 住友ベークライト株式会社 Hydrophobic inorganic particles, resin composition for heat dissipation member, electronic component device, and method for producing hydrophobic inorganic particles
JP2015030827A (en) * 2013-08-06 2015-02-16 信越化学工業株式会社 Polytetrafluoroethylene powder composition, anti-dripping agent comprising the same, and resin composition containing the agent
WO2016024516A1 (en) * 2014-08-11 2016-02-18 株式会社アイ.エス.テイ Heat-transmitting modifier for elastomer, heat-transmission-modified crystalline elastomer, method for using crystalline polymer and precursor thereof, method for heat-transmission modification of elastomer, heater body, and heated body
CN106661439A (en) * 2014-08-11 2017-05-10 株式会社I.S.T Heat-transmitting modifier for elastomer, heat-transmission-modified crystalline elastomer, method for using crystalline polymer and precursor thereof, method for heat-transmission modification of elastomer, heater body, and heated body
CN106661439B (en) * 2014-08-11 2019-10-15 株式会社I.S.T The modified liquid crystal liquid crystal property elastomer of the thermal conductivity modifiers and thermal conductivity of elastomer
US11391526B2 (en) 2014-08-11 2022-07-19 I.S.T Corporation Heat-transmitting modifier for elastomer, heat-transmission-modified crystalline elastomer, method for using crystalline polymer and precursor thereof, method for heat-transmission modification of elastomer, heater body, and heated body
JP2016044213A (en) * 2014-08-21 2016-04-04 信越化学工業株式会社 Heat-conductive silicone composition and heat-conductive sheet
JP2017078122A (en) * 2015-10-21 2017-04-27 株式会社Kri Thermally conductive filler and transparent thermally conductive resin composition
WO2018230179A1 (en) 2017-06-15 2018-12-20 信越化学工業株式会社 Silicone composition and production method for same
KR20200019139A (en) 2017-06-15 2020-02-21 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 Silicone composition and its manufacturing method

Also Published As

Publication number Publication date
JP5589856B2 (en) 2014-09-17
WO2012093602A1 (en) 2012-07-12
CN103298885A (en) 2013-09-11
TW201231557A (en) 2012-08-01
CN103298885B (en) 2015-06-24
KR101780526B1 (en) 2017-10-10
TWI518138B (en) 2016-01-21
KR20140051116A (en) 2014-04-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5589856B2 (en) Thermally conductive silicone composition and cured product excellent in transparency
JP4828145B2 (en) Thermally conductive silicone rubber composition
US6380301B1 (en) Thermally conductive silicone rubber composition
TWI666267B (en) Silicone gel composition
US20100140538A1 (en) Silicone elastomer composition and silicone elastomer
TW201823362A (en) Thermoconductive silicone composition
JP2006274155A (en) Thermally conductive silicone rubber composition
US20040254275A1 (en) Heat-conductive silicone composition
JP2017210518A (en) Thermally conductive silicone composition and cured product of the same
EP3101062B1 (en) Nanoparticle, method for producing nanoparticle, addition curing silicone resin composition, and semiconductor apparatus
CN111148793A (en) Silicone composition comprising a filler
KR20120105528A (en) Silicone elastomer composition
JP4386361B2 (en) Silicone rubber composition for electrode protection
JP2009203373A (en) Thermoconductive silicone composition
WO2014038723A1 (en) Curable silicone composition and cured product thereof
US9150726B2 (en) Heat-stabilized silicone mixture
JP4645793B2 (en) Silicone rubber composition for electrode circuit protection, electrode circuit protection material and electric / electronic parts
JP2019001975A (en) Silicone composition and manufacturing method therefor
WO2018061754A1 (en) Crosslinkable organopolysiloxane composition, cured product thereof, and led device
JPWO2011043426A1 (en) Silicon carbide bonded body and silicon carbide member bonding method
WO2023053760A1 (en) Thermally conductive silicone composition and method for producing gap filler using said composition
JP2022543963A (en) Thermally conductive silicone composition
JP4844731B2 (en) Curable organopolysiloxane composition, seal for automobile engine peripheral parts and method for suppressing mass reduction
JP2024047866A (en) Method for curing ultraviolet-curable organopolysiloxane composition
EP3637193A1 (en) Silicone rubber composition for forming fixing members, and fixing member

Legal Events

Date Code Title Description
RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20120822

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20120824

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20121225

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20140114

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20140224

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20140311

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20140603

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20140610

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20140701

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20140714

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5589856

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150