JP2012123050A - 露光装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】露光ヘッド3の上流側に傾き観察用の撮像装置8が配置されている。撮像装置8は、基板10上の露光領域11内に形成されている遮光層(ブラックマトリックスまたは電極層)を撮影する。撮像装置8によって撮影された画像から、基板搬送方向(y軸)に対する遮光層の傾きが求められる。駆動装置12は、フォトマスク4を回転させて、y軸に対する画素形成用パターン5の対する傾きを、y軸に対する遮光層の傾きに一致させる。
【選択図】図1
Description
2 搬送ステージ
3 露光ヘッド
4 フォトマスク
5 画素形成用パターン
7 撮像装置
8 撮像装置
9 光源
10 基板
11 露光領域
12 駆動機構
13 遮光層
Claims (3)
- 基板を一定方向に連続搬送しながら露光処理を行う露光装置であって、
搬送ステージと、
各々がフォトマスクと、前記フォトマスクを回転自在かつ搬送方向と直交する方向へ平行移動自在に保持する駆動機構とを有し、前記搬送ステージの上方に、前記搬送方向と直交する方向に並べて配置される複数の露光ヘッドと、
前記基板上の遮光層と前記フォトマスク上のアライメントマークとを同時に撮影する第1の撮像装置と、
前記露光ヘッドの上流側に配置され、搬送中の前記基板上の前記遮光層を撮像する第2の撮像装置とを備え、
前記基板上に塗布されたレジストの露光処理中に、前記駆動装置は、前記第1の撮像装置によって撮像される画像に基づいて、前記搬送方向と直交する方向における前記フォトマスクの位置を調整し、前記第2の撮像装置によって撮像される画像に基づいて、前記搬送方向に対する前記フォトマスク上の画素形成用パターンの傾きを、前記搬送方向に対する前記遮光層の傾きに一致させる、露光装置。 - 複数の前記第2の撮像装置が、所定間隔を空けて前記搬送方向と直交する方向に並べて配置される、請求項1に記載の露光装置。
- 前記第2の撮像装置は、前記搬送方向と直交する方向に移動自在である、請求項1または2に記載の露光装置。
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