JP2012118050A - Radiographic device - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a radiographic device capable of saving a time and effort required for sealing an electrode part again and also suppressing deterioration of moisture-proof properties at the electrode part.SOLUTION: In a state where connectors 38, 40 of a radiation detector are connected to flexible cables 42, 44, the radiation detector and connection parts of the flexible cables 42, 44 and the connectors 38, 40 are covered with a protective film 100 to seal them integrally, which eliminates the need for sealing an electrode part again and enables suppression of deterioration of moisture-proof properties at the electrode part.

Description

本発明は、放射線撮影装置に係り、特に、放射線源から射出されて被検者を透過した放射線により示される放射線画像の撮影を行う放射線撮影装置に関する。   The present invention relates to a radiation imaging apparatus, and more particularly, to a radiation imaging apparatus that captures a radiation image indicated by radiation emitted from a radiation source and transmitted through a subject.

近年、TFT(Thin Film Transistor)アクティブマトリクス基板上に放射線感応層を配置し、放射線を直接デジタルデータに変換できるFPD(Flat Panel Detector)等の放射線検出器が実用化されており、この放射線検出器を用いて、照射された放射線により表わされる放射線画像を撮影する放射線撮影装置が実用化されている。この放射線検出器を用いた放射線撮影装置は、従来のイメージングプレートを用いた放射線撮影装置に比べて、即時に画像を確認でき、連続的に放射線画像の撮影を行う透視撮影(動画撮影)も行うことができるといったメリットがある。   In recent years, radiation detectors such as flat panel detectors (FPDs) that can arrange radiation sensitive layers on TFT (Thin Film Transistor) active matrix substrates and convert radiation directly into digital data have been put into practical use. A radiographic apparatus that captures a radiographic image represented by irradiated radiation has been put to practical use. The radiography apparatus using this radiation detector can confirm an image immediately compared to a radiography apparatus using a conventional imaging plate, and also performs fluoroscopic imaging (moving image shooting) for continuously capturing radiographic images. There is an advantage that you can.

この種の放射線検出器は、種々のタイプのものが提案されており、例えば、放射線をシンチレータで光に変換した後にフォトダイオード等の半導体層で電荷に変換する間接変換方式や、放射線をアモルファスセレン等の半導体層で電荷に変換する直接変換方式等がある。放射線撮影装置では、放射線検出器に蓄積された電荷を電気信号として読み出し、読み出した電気信号をアンプで増幅した後にA/D(アナログ/デジタル)変換部でデジタルデータに変換している。   Various types of radiation detectors of this type have been proposed. For example, an indirect conversion method in which radiation is converted into light by a scintillator and then converted into electric charge in a semiconductor layer such as a photodiode, or radiation is converted into amorphous selenium. There is a direct conversion method for converting into electric charge in a semiconductor layer. In the radiation imaging apparatus, the electric charge accumulated in the radiation detector is read as an electric signal, and the read electric signal is amplified by an amplifier and then converted into digital data by an A / D (analog / digital) converter.

ところで、放射線検出器を保護することを目的として、パリレン(登録商標)などの有機材料でコーティングして放射線検出器を封止する場合がある。例えば、シンチレータとして用いられるCsI(ヨウ化セシウム)は、潮解性がある。このため、特許文献1、2には、センサー素子基板にシンチレータを蒸着した後、パリレン(登録商標)などの有機材料で封止することが提案されている。パリレン(登録商標)などの有機材料によるコーティングは、微細な隙間の奥まで均一でピンホールのない保護膜を形成できるため、シンチレータを用いた放射線検出器の封止に使われている。   By the way, in order to protect the radiation detector, the radiation detector may be sealed by coating with an organic material such as Parylene (registered trademark). For example, CsI (cesium iodide) used as a scintillator has deliquescence. For this reason, Patent Documents 1 and 2 propose that a scintillator is deposited on a sensor element substrate and then sealed with an organic material such as Parylene (registered trademark). Coating with an organic material such as Parylene (registered trademark) is used to seal a radiation detector using a scintillator because it can form a protective film that is uniform and has no pinholes up to the depths of minute gaps.

特開2000−284053号公報JP 2000-284053 A 特開2004−335870号公報JP 2004-335870 A

ところで、放射線検出器には、駆動回路などの外部回路と接続するための電極部が設けられており、電極部に外部回路と接続するためのフレキシブル基板などの接続配線が接続される。   By the way, the radiation detector is provided with an electrode portion for connecting to an external circuit such as a drive circuit, and a connection wiring such as a flexible substrate for connecting to the external circuit is connected to the electrode portion.

このため、特許文献1,2に記載のように、放射線検出器を有機材料でコーティングして封止した場合、接続配線を接続するため電極部のコーティングを除く必要がある。   For this reason, as described in Patent Documents 1 and 2, when the radiation detector is coated and sealed with an organic material, it is necessary to remove the coating of the electrode portion in order to connect the connection wiring.

このように、電極部のコーティングを取り除いた場合、電極部で防湿性が悪化する。このため、電極部に接続配線を接続した後に、放射線検出器の電極部を再度封止する必要があるため手間がかかり、また、再度封止したとしても電極部での防湿性が低下する懸念がある。   Thus, when the coating of the electrode part is removed, the moisture resistance deteriorates in the electrode part. For this reason, it is necessary to re-seal the electrode part of the radiation detector after connecting the connection wiring to the electrode part, and it takes time and effort, and even if it is sealed again, the moisture resistance at the electrode part may be reduced. There is.

本発明は上記事実に鑑みてなされたものであり、電極部を再度封止する手間を省きつつ、電極部での防湿性の低下を抑制した放射線撮影装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above-described facts, and an object of the present invention is to provide a radiographic apparatus that suppresses a decrease in moisture resistance at the electrode part while omitting the trouble of sealing the electrode part again.

上記目的を達成するために、請求項1に記載の放射線撮影装置は、入射する放射線により表わされる放射線画像が撮影可能とされ、放射線画像を撮影するための制御信号の入力及び撮影された放射線画像を示す画像信号を出力するための電極部が設けられた放射線検出器と、前記電極部に電気的に接続され、前記制御信号又は前記画像信号の少なくとも一方が流れる接続配線と、有機材料により構成され、前記放射線検出器の前記電極部に前記接続配線を接続した状態で前記放射線検出器及び前記接続配線の前記電極部との接続部分を覆って一体的に封止する保護膜と、を備えている。   In order to achieve the above object, the radiation imaging apparatus according to claim 1 is capable of capturing a radiation image represented by incident radiation, inputting a control signal for capturing the radiation image, and capturing the captured radiation image. A radiation detector provided with an electrode unit for outputting an image signal indicating the above, a connection wiring electrically connected to the electrode unit, through which at least one of the control signal or the image signal flows, and an organic material A protective film integrally covering and covering the connection portion of the radiation detector and the connection wiring with the electrode portion in a state where the connection wiring is connected to the electrode portion of the radiation detector. ing.

請求項1によれば、放射線検出器は、入射する放射線により表わされる放射線画像が撮影可能とされており、また、放射線画像を撮影するための制御信号の入力及び撮影された放射線画像を示す画像信号を出力するための電極部が設けられている。この放射線検出器の電極部には接続配線が電気的に接続されており、制御信号又は画像信号の少なくとも一方が接続配線に流れる。   According to the first aspect, the radiation detector is capable of capturing a radiation image represented by the incident radiation, and also includes an input of a control signal for capturing the radiation image and an image indicating the captured radiation image. An electrode portion for outputting a signal is provided. A connection wiring is electrically connected to the electrode portion of the radiation detector, and at least one of the control signal and the image signal flows through the connection wiring.

そして、請求項1によれば、放射線検出器の電極部に接続配線を接続した状態で放射線検出器及び接続配線の電極部との接続部分が保護膜により覆われて一体的に封止されている。   And according to Claim 1, in the state which connected the connection wiring to the electrode part of the radiation detector, the connection part with the electrode part of a radiation detector and a connection wiring is covered with the protective film, and is sealed integrally. Yes.

このように、請求項1に記載の発明によれば、放射線検出器の電極部に接続配線を接続した状態で放射線検出器及び接続配線と電極部の接続部分を保護膜で覆って一体的に封止しているので、電極部を再度封止する手間を省くことができる。また、接続配線の電極部の接続部分を保護膜で覆って封止しているので、電極部での防湿性の低下を抑制できる。   As described above, according to the first aspect of the present invention, the connection portion between the radiation detector and the connection wiring and the electrode portion is covered with the protective film in a state where the connection wiring is connected to the electrode portion of the radiation detector. Since sealing is performed, the trouble of sealing the electrode portion again can be saved. Moreover, since the connection part of the electrode part of connection wiring is covered and sealed with a protective film, the fall of moisture resistance in an electrode part can be suppressed.

なお、本発明は、請求項2記載の発明のように、前記接続配線が、前記制御信号の生成及び前記画像信号に対する信号処理の少なくとも一方を行う集積回路が設けられたフレキシブルな配線基板とされ、前記保護膜が、前記配線基板に設けられた前記集積回路部分も覆って封止してもよい。   According to the present invention, as in the invention described in claim 2, the connection wiring is a flexible wiring board provided with an integrated circuit that performs at least one of generation of the control signal and signal processing on the image signal. The protective film may cover and seal the integrated circuit portion provided on the wiring board.

また、本発明は、請求項3記載の発明のように、前記有機材料を、パリレン(登録商標)とすることが好ましい。   In the present invention, the organic material is preferably Parylene (registered trademark) as in the invention described in claim 3.

また、本発明は、請求項4記載の発明のように、前記保護膜の膜厚を5μm〜50μmとすることが好ましい。   In the present invention, it is preferable that the thickness of the protective film is 5 μm to 50 μm.

また、本発明において、前記放射線検出器は、バイアス電圧が印加された状態で、入射した放射線を電荷へ直接変換する光導電部と、当該光導電部に前記バイアス電圧を印加するための印加用電極部と、が設けられた直接変換型の放射線検出器であってもよく、この場合、本発明は、請求項5に記載したように、前記保護膜は、前記光導電部に前記バイアス電圧を印加するための印加用接続配線が前記放射線検出器の前記印加用電極部に接続された状態で、前記印加用接続配線と前記印加電極部との接続部分も覆って一体的に封止するように構成することができる。   Further, in the present invention, the radiation detector includes a photoconductive portion that directly converts incident radiation into an electric charge in a state where a bias voltage is applied, and an application for applying the bias voltage to the photoconductive portion. A direct-conversion radiation detector provided with an electrode unit, and in this case, the present invention provides the bias voltage applied to the photoconductive unit as described in claim 5. In a state in which the connection wiring for application for applying a voltage is connected to the application electrode portion of the radiation detector, the connection portion between the connection wiring for application and the application electrode portion is also covered and integrally sealed. It can be constituted as follows.

また、本発明において、前記放射線検出器は、バイアス電圧が印加された状態で、入射した放射線を電荷へ直接変換する光導電部と、当該光導電部に前記バイアス電圧を印加するための印加用電極部と、が設けられた直接変換型の放射線検出器であってもよく、この場合、本発明は、請求項6に記載したように、前記保護膜は、前記放射線検出器の前記印加電極部以外の部分を覆って一体的に封止する構成であってもよい。 Further, in the present invention, the radiation detector includes a photoconductive portion that directly converts incident radiation into an electric charge in a state where a bias voltage is applied, and an application for applying the bias voltage to the photoconductive portion. In this case, the protective film may be the application electrode of the radiation detector. In this case, the protective film may be the application electrode of the radiation detector. The structure which covers a part other than a part and is integrally sealed may be sufficient.

本発明によれば、電極部を再度封止する手間を省きつつ、電極部での防湿性の低下を抑制できる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the fall of moisture resistance in an electrode part can be suppressed, omitting the effort which seals an electrode part again.

実施の形態に係る電子カセッテの内部構成を示す透過斜視図である。It is a permeation | transmission perspective view which shows the internal structure of the electronic cassette concerning embodiment. 実施の形態に係る放射線検出器60の構成を模式的に示した断面図である。It is sectional drawing which showed typically the structure of the radiation detector 60 which concerns on embodiment. 実施の形態に係るTFT基板に形成されたTFT及び蓄積容量の構成が概略的に示した断面図である。It is sectional drawing which showed schematically the structure of TFT formed in the TFT substrate which concerns on embodiment, and a storage capacitor. 実施の形態に係る放射線検出器60の構成を示す平面図である。It is a top view which shows the structure of the radiation detector 60 which concerns on embodiment. 実施の形態に係る電子カセッテ内部の構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure inside the electronic cassette which concerns on embodiment. 放射線検出器への放射線の表面読取方式と裏面読取方式を説明するための断面側面図である。It is a cross-sectional side view for demonstrating the surface reading system and back surface reading system of the radiation to a radiation detector. 実施の形態に係る保護膜が形成された放射線検出器の断面構成を概略的に示した断面図である。It is sectional drawing which showed roughly the cross-sectional structure of the radiation detector in which the protective film which concerns on embodiment was formed. 第1の実施の形態に係る保護膜が形成された放射線検出器のコネクタとフレキシブルケーブルの接続部分の断面構成を示した拡大断面図である。It is the expanded sectional view which showed the cross-sectional structure of the connection part of the connector of a radiation detector and the flexible cable in which the protective film which concerns on 1st Embodiment was formed. フレキシブルケーブルの電極94部分の保護部材を除いた状態を示した拡大断面図である。It is the expanded sectional view which showed the state except the protective member of the electrode 94 part of the flexible cable. 第2の実施の形態に係る保護膜が形成された放射線検出器のコネクタとフレキシブルケーブルの接続部分の断面構成を概略的に示した断面図である。It is sectional drawing which showed schematically the cross-sectional structure of the connection part of the connector and flexible cable of a radiation detector in which the protective film which concerns on 2nd Embodiment was formed. 第1の実施の形態における保護膜の形成範囲を示す平面図である。It is a top view which shows the formation range of the protective film in 1st Embodiment. 第2の実施の形態における保護膜の形成範囲を示す平面図である。It is a top view which shows the formation range of the protective film in 2nd Embodiment. 直接変換方式の放射線検出器の概略構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows schematic structure of the radiation detector of a direct conversion system. 直接変換方式の放射線検出器における保護膜の形成範囲の一例を示す平面図である。It is a top view which shows an example of the formation range of the protective film in the radiation detector of a direct conversion system. 直接変換方式の放射線検出器における保護膜の形成範囲の他の例を示す平面図である。It is a top view which shows the other example of the formation range of the protective film in the radiation detector of a direct conversion system. 直接変換方式の放射線検出器における保護膜の形成範囲の他の例を示す平面図である。It is a top view which shows the other example of the formation range of the protective film in the radiation detector of a direct conversion system. 直接変換方式の放射線検出器における保護膜の形成範囲の他の例を示す平面図である。It is a top view which shows the other example of the formation range of the protective film in the radiation detector of a direct conversion system.

以下、図面を参照して、本発明を実施するための形態について詳細に説明する。なお、ここでは、本発明を、可搬型の放射線撮影装置(以下「電子カセッテ」ともいう。)に適用した場合の形態例について説明する。   DESCRIPTION OF EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention will be described in detail with reference to the drawings. Here, a description will be given of an example in which the present invention is applied to a portable radiation imaging apparatus (hereinafter also referred to as “electronic cassette”).

[第1の実施の形態]
図1には、本実施の形態に係る電子カセッテ10の構成が示されている。
[First Embodiment]
FIG. 1 shows a configuration of an electronic cassette 10 according to the present exemplary embodiment.

同図に示すように、電子カセッテ10は、放射線Xを透過させる材料からなる筐体55を備えており、防水性、密閉性を有する構造とされている。電子カセッテ10は、手術室等で使用されるとき、血液やその他の雑菌が付着するおそれがある。そこで、電子カセッテ10を防水性、密閉性を有する構造として、必要に応じて殺菌洗浄することにより、1つの電子カセッテ10を繰り返し続けて使用することができる。   As shown in the figure, the electronic cassette 10 includes a housing 55 made of a material that transmits the radiation X, and has a waterproof and airtight structure. When the electronic cassette 10 is used in an operating room or the like, there is a risk that blood and other germs may adhere. Therefore, one electronic cassette 10 can be used repeatedly by sterilizing and cleaning the electronic cassette 10 as a waterproof and airtight structure as necessary.

この筐体55の内部に、撮影の際に被検者を透過した放射線Xが照射される筐体55の照射面56側から順に、被検者を透過した放射線Xを検出する放射線検出器60、及び当該放射線検出器60を制御する制御基板22が順に設けられている。照射面56は、放射線検出器60が配置された範囲に対応し、放射線検出器60により放射線画像が撮影される領域が撮影領域56Aとされている。   A radiation detector 60 that detects the radiation X transmitted through the subject in order from the irradiation surface 56 side of the housing 55 irradiated with the radiation X transmitted through the subject during imaging. , And a control board 22 for controlling the radiation detector 60 is sequentially provided. The irradiation surface 56 corresponds to a range where the radiation detector 60 is arranged, and an area where a radiation image is captured by the radiation detector 60 is an imaging area 56A.

図2には、本実施の形態に係る放射線検出器60の構成を模式的に示した断面図が示されている。   FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing the configuration of the radiation detector 60 according to the present exemplary embodiment.

放射線検出器60は、絶縁性基板64に薄膜トランジスタ(TFT:Thin Film Transistor、以下「TFT」という)70、及び蓄積容量68が形成されたTFTアクティブマトリクス基板(以下、「TFT基板」という)66を備えている。   The radiation detector 60 includes a TFT active matrix substrate (hereinafter referred to as “TFT substrate”) 66 in which a thin film transistor (TFT) 70 and a storage capacitor 68 are formed on an insulating substrate 64. I have.

このTFT基板66上には、入射される放射線を光に変換するシンチレータ71が配置される。   On the TFT substrate 66, a scintillator 71 that converts incident radiation into light is disposed.

シンチレータ71としては、例えば、CsI:Tl、GOS(Gd2O2S:Tb)を用いることができる。なお、シンチレータ71は、これらの材料に限られるものではない。シンチレータ71が発する光の波長域は、可視光域(波長360nm〜830nm)であることが好ましく、この放射線検出器60によってモノクロ撮像を可能とするためには、緑色の波長域を含んでいることがより好ましい。   As the scintillator 71, for example, CsI: Tl, GOS (Gd2O2S: Tb) can be used. The scintillator 71 is not limited to these materials. The wavelength range of light emitted from the scintillator 71 is preferably the visible light range (wavelength 360 nm to 830 nm), and in order to enable monochrome imaging by the radiation detector 60, the wavelength range of green is included. Is more preferable.

ここで、本実施の形態では、シンチレータ71を、例えば、CsI:Tl等の柱状結晶としている。シンチレータ71は、蒸着基板73にCsI:Tl等の材料を蒸着することによって形成されており、蒸着基板73側に非柱状結晶領域71Aが形成され、先端側(TFT基板66側)に柱状結晶から成る柱状結晶領域71Bが形成されいる。   Here, in the present embodiment, the scintillator 71 is a columnar crystal such as CsI: Tl, for example. The scintillator 71 is formed by vapor-depositing a material such as CsI: Tl on the vapor deposition substrate 73, a non-columnar crystal region 71A is formed on the vapor deposition substrate 73 side, and a columnar crystal is formed on the tip side (TFT substrate 66 side). A columnar crystal region 71B is formed.

このように蒸着によってシンチレータ71を形成する場合、蒸着基板73は、X線の透過率、コストの面からAlの板がよく使用され、蒸着の際のハンドリング性、自重による反り防止、輻射熱による変形等からある程度(数mm程度)の厚みが必要となる。   Thus, when forming the scintillator 71 by vapor deposition, the vapor deposition substrate 73 is often an Al plate in terms of X-ray transmittance and cost, handling properties during vapor deposition, prevention of warpage due to its own weight, and deformation due to radiant heat. Therefore, a certain thickness (about several mm) is required.

シンチレータ71は、柱状結晶領域71B側がTFT基板66と対向するように配置され、TFT基板66に接着されている。   The scintillator 71 is disposed so that the columnar crystal region 71B side faces the TFT substrate 66, and is adhered to the TFT substrate 66.

絶縁性基板64としては、放射線の吸収が少ないものであれば何れでもよく、例えば、ガラス基板、透明セラミック基板、樹脂基板を用いることができる。なお、絶縁性基板64は、これらの材料に限られるものではない。   The insulating substrate 64 may be any substrate as long as it absorbs little radiation. For example, a glass substrate, a transparent ceramic substrate, or a resin substrate can be used. The insulating substrate 64 is not limited to these materials.

TFT基板66には、シンチレータ71によって変換された光が入射されることにより電荷を発生するセンサ部72が形成されている。本実施の形態に係るTFT基板66では、TFT70とセンサ部72を別な層で重なるように形成している。これにより、センサ部72でのシンチレータ71からの光の受光面積を大きくすることができる。また、TFT基板66には、TFT基板66上を平坦化するための平坦化層67が形成されている。また、TFT基板66とシンチレータ71との間であって、平坦化層67上には、シンチレータ71をTFT基板66に接着するための接着層69が形成されている。   The TFT substrate 66 is formed with a sensor portion 72 that generates charges when light converted by the scintillator 71 is incident thereon. In the TFT substrate 66 according to the present embodiment, the TFT 70 and the sensor unit 72 are formed so as to overlap each other. Thereby, the light receiving area of the light from the scintillator 71 in the sensor unit 72 can be increased. A flattening layer 67 for flattening the TFT substrate 66 is formed on the TFT substrate 66. An adhesive layer 69 for bonding the scintillator 71 to the TFT substrate 66 is formed between the TFT substrate 66 and the scintillator 71 and on the planarizing layer 67.

センサ部72は、上部電極72A、下部電極72B、及び該上下の電極間に配置された光電変換膜72Cを有している。   The sensor unit 72 includes an upper electrode 72A, a lower electrode 72B, and a photoelectric conversion film 72C disposed between the upper and lower electrodes.

上部電極72A、及び下部電極72BはITO(酸化インジウムスズ)やIZO(酸化亜鉛インジウム)などの光透過性の高い材料を用いて形成しており、光透過性を有する。   The upper electrode 72A and the lower electrode 72B are formed using a highly light-transmitting material such as ITO (indium tin oxide) or IZO (zinc indium oxide) and have light transmittance.

光電変換膜72Cは、シンチレータ71から発せられた光を吸収し、吸収した光に応じた電荷を発生する。光電変換膜72Cは、光が照射されることにより電荷を発生する材料により形成すればよく、例えば、アモルファスシリコンや有機光電変換材料などにより形成することができる。アモルファスシリコンを含む光電変換膜72Cであれば、幅広い吸収スペクトルを持ち、シンチレータ71による発光を吸収することができる。有機光電変換材料を含む光電変換膜72Cであれば、可視域にシャープな吸収スペクトルを持ち、シンチレータ71による発光以外の電磁波が光電変換膜72Cに吸収されることがほとんどなく、X線等の放射線が光電変換膜72Cで吸収されることによって発生するノイズを効果的に抑制することができる。   The photoelectric conversion film 72 </ b> C absorbs light emitted from the scintillator 71 and generates a charge corresponding to the absorbed light. The photoelectric conversion film 72C may be formed of a material that generates charges when irradiated with light. For example, the photoelectric conversion film 72C may be formed of amorphous silicon, an organic photoelectric conversion material, or the like. The photoelectric conversion film 72C containing amorphous silicon has a wide absorption spectrum and can absorb light emitted by the scintillator 71. If the photoelectric conversion film 72C includes an organic photoelectric conversion material, it has a sharp absorption spectrum in the visible range, and electromagnetic waves other than light emitted by the scintillator 71 are hardly absorbed by the photoelectric conversion film 72C, and radiation such as X-rays. Is effectively suppressed by the photoelectric conversion film 72C being absorbed.

有機光電変換材料としては、例えば、キナクリドン系有機化合物及びフタロシアニン系有機化合物が挙げられる。例えば、キナクリドンの可視域における吸収ピーク波長は560nmであるため、有機光電変換材料としてキナクリドンを用い、シンチレータ71の材料としてCsI:Tlを用いれば、上記ピーク波長の差を5nm以内にすることが可能となり、光電変換膜72Cで発生する電荷量をほぼ最大にすることができる。この光電変換膜72Cとして適用可能な有機光電変換材料については、特開2009−32854号公報において詳細に説明されているため説明を省略する。なお、光電変換膜72Cは、さらにフラーレン若しくはカーボンナノチューブを含有させて形成してもよい。   Examples of organic photoelectric conversion materials include quinacridone organic compounds and phthalocyanine organic compounds. For example, since the absorption peak wavelength in the visible region of quinacridone is 560 nm, if quinacridone is used as the organic photoelectric conversion material and CsI: Tl is used as the material of the scintillator 71, the difference between the peak wavelengths can be within 5 nm. Thus, the amount of charge generated in the photoelectric conversion film 72C can be substantially maximized. Since the organic photoelectric conversion material applicable as the photoelectric conversion film 72C is described in detail in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2009-32854, description thereof is omitted. The photoelectric conversion film 72C may be formed by further containing fullerenes or carbon nanotubes.

図3には、本実施の形態に係るTFT基板66に形成されたTFT70及び蓄積容量68の構成が概略的に示されている。   FIG. 3 schematically shows the configuration of the TFT 70 and the storage capacitor 68 formed on the TFT substrate 66 according to the present embodiment.

絶縁性基板64上には、下部電極72Bに対応して、下部電極72Bに移動した電荷を蓄積する蓄積容量68と、蓄積容量68に蓄積された電荷を電気信号に変換して出力するTFT70が形成されている。蓄積容量68及びTFT70の形成された領域は、平面視において下部電極72Bと重なる部分を有しており、このような構成とすることで、各画素部における蓄積容量68及びTFT70とセンサ部72とが厚さ方向で重なりを有することとなり、少なく面積で蓄積容量68及びTFT70とセンサ部72を配置できる。   On the insulating substrate 64, corresponding to the lower electrode 72B, a storage capacitor 68 for storing the charge transferred to the lower electrode 72B, and a TFT 70 for converting the charge stored in the storage capacitor 68 into an electric signal and outputting it. Is formed. The region where the storage capacitor 68 and the TFT 70 are formed has a portion that overlaps with the lower electrode 72B in a plan view. With such a configuration, the storage capacitor 68 and the TFT 70 in each pixel portion, the sensor portion 72, and the like. Therefore, the storage capacitor 68, the TFT 70, and the sensor unit 72 can be arranged with a small area.

蓄積容量68は、絶縁性基板64と下部電極72Bとの間に設けられた絶縁膜65Aを貫通して形成された導電性材料の配線を介して対応する下部電極72Bと電気的に接続されている。これにより、下部電極72Bで捕集された電荷を蓄積容量68に移動させることができる。   The storage capacitor 68 is electrically connected to the corresponding lower electrode 72B through a wiring made of a conductive material formed through an insulating film 65A provided between the insulating substrate 64 and the lower electrode 72B. Yes. Thereby, the charges collected by the lower electrode 72B can be moved to the storage capacitor 68.

TFT70は、ゲート電極70A、ゲート絶縁膜65B、及び活性層(チャネル層)70Bが積層され、さらに、活性層70B上にソース電極70Cとドレイン電極70Dが所定の間隔を開けて形成されている。活性層70Bは、例えば、アモルファスシリコンや非晶質酸化物、有機半導体材料、カーボンナノチューブなどにより形成することができる。なお、活性層70Bを構成する材料は、これらに限定されるものではない。   In the TFT 70, a gate electrode 70A, a gate insulating film 65B, and an active layer (channel layer) 70B are stacked, and a source electrode 70C and a drain electrode 70D are formed on the active layer 70B at a predetermined interval. The active layer 70B can be formed of, for example, amorphous silicon, amorphous oxide, organic semiconductor material, carbon nanotube, or the like. In addition, the material which comprises the active layer 70B is not limited to these.

活性層70Bを構成する非晶質酸化物としては、In、Ga及びZnのうちの少なくとも1つを含む酸化物(例えば、In−O系)が好ましく、In、Ga及びZnのうちの少なくとも2つを含む酸化物(例えば、In−Zn−O系、In−Ga−O系、Ga−Zn−O系)がより好ましく、In、Ga及びZnを含む酸化物が特に好ましい。In−Ga−Zn−O系非晶質酸化物としては、結晶状態における組成がInGaO3(ZnO)m(mは6未満の自然数)で表される非晶質酸化物が好ましく、特に、InGaZnO4がより好ましい。なお、活性層70Bを構成可能な非晶質酸化物は、これらに限定されるものではない。   As the amorphous oxide constituting the active layer 70B, an oxide containing at least one of In, Ga, and Zn (for example, In—O-based) is preferable, and at least two of In, Ga, and Zn are used. Are more preferable (for example, In—Zn—O, In—Ga—O, and Ga—Zn—O), and oxides including In, Ga, and Zn are particularly preferable. As the In—Ga—Zn—O-based amorphous oxide, an amorphous oxide whose composition in a crystalline state is represented by InGaO 3 (ZnO) m (m is a natural number of less than 6) is preferable, and InGaZnO 4 is particularly preferable. More preferred. The amorphous oxide that can form the active layer 70B is not limited to these.

活性層70Bを構成可能な有機半導体材料としては、フタロシアニン化合物や、ペンタセン、バナジルフタロシアニン等を挙げることができるがこれらに限定されるものではない。なお、フタロシアニン化合物の構成については、特開2009−212389号公報において詳細に説明されているため説明を省略する。   Examples of the organic semiconductor material that can form the active layer 70B include, but are not limited to, phthalocyanine compounds, pentacene, vanadyl phthalocyanine, and the like. In addition, about the structure of a phthalocyanine compound, since it is demonstrated in detail in Unexamined-Japanese-Patent No. 2009-212389, description is abbreviate | omitted.

TFT70の活性層70Bを非晶質酸化物や有機半導体材料、カーボンナノチューブで形成したものとすれば、X線等の放射線を吸収せず、あるいは吸収したとしても極めて微量に留まるため、ノイズの発生を効果的に抑制することができる。   If the active layer 70B of the TFT 70 is formed of an amorphous oxide, an organic semiconductor material, or a carbon nanotube, noise such as X-rays is not absorbed, or even if it is absorbed, the amount of noise remains extremely small. Can be effectively suppressed.

また、活性層70Bをカーボンナノチューブで形成した場合、TFT70のスイッチング速度を高速化することができ、また、可視光域での光の吸収度合の低いTFT70を形成できる。なお、カーボンナノチューブで活性層70Bを形成する場合、活性層70Bに極微量の金属性不純物が混入するだけで、TFT70の性能は著しく低下するため、遠心分離などにより極めて高純度のカーボンナノチューブを分離・抽出して形成する必要がある。   Further, when the active layer 70B is formed of carbon nanotubes, the switching speed of the TFT 70 can be increased, and the TFT 70 having a low light absorption degree in the visible light region can be formed. In addition, when forming the active layer 70B with carbon nanotubes, the performance of the TFT 70 is remarkably deteriorated only by mixing a very small amount of metallic impurities into the active layer 70B. Therefore, extremely high purity carbon nanotubes are separated by centrifugation or the like.・ It needs to be extracted and formed.

ここで、TFT70の活性層70Bを構成する非晶質酸化物、有機半導体材料、カーボンナノチューブや、光電変換膜72Cを構成する有機光電変換材料は、いずれも低温での成膜が可能である。従って、絶縁性基板64としては、石英基板、及びガラス基板等の耐熱性の高い基板に限定されず、プラスチック等の可撓性基板、アラミド、バイオナノファイバを用いることもできる。具体的には、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリイミド、ポリシクロオレフィン、ノルボルネン樹脂、ポリ(クロロトリフルオロエチレン)等の可撓性基板を用いることができる。このようなプラスチック製の可撓性基板を用いれば、軽量化を図ることもでき、例えば、持ち運び等に有利となる。なお、絶縁性基板64には、絶縁性を確保するための絶縁層、水分や酸素の透過を防止するためのガスバリア層、平坦性あるいは電極等との密着性を向上するためのアンダーコート層等を設けてもよい。   Here, any of the amorphous oxide, the organic semiconductor material, the carbon nanotube, and the organic photoelectric conversion material forming the photoelectric conversion film 72 </ b> C constituting the active layer 70 </ b> B of the TFT 70 can be formed at a low temperature. Therefore, the insulating substrate 64 is not limited to a substrate having high heat resistance such as a quartz substrate and a glass substrate, and a flexible substrate such as plastic, aramid, or bionanofiber can also be used. Specifically, flexible materials such as polyesters such as polyethylene terephthalate, polybutylene phthalate, polyethylene naphthalate, polystyrene, polycarbonate, polyethersulfone, polyarylate, polyimide, polycycloolefin, norbornene resin, poly (chlorotrifluoroethylene), etc. A conductive substrate can be used. If such a plastic flexible substrate is used, it is possible to reduce the weight, which is advantageous for carrying around, for example. The insulating substrate 64 includes an insulating layer for ensuring insulation, a gas barrier layer for preventing permeation of moisture and oxygen, an undercoat layer for improving flatness or adhesion to electrodes, and the like. May be provided.

アラミドは、200度以上の高温プロセスを適用できるために、透明電極材料を高温硬化させて低抵抗化でき、また、ハンダのリフロー工程を含むドライバICの自動実装にも対応できる。また、アラミドは、ITO(indium tin oxide)やガラス基板と熱膨張係数が近いため、製造後の反りが少なく、割れにくい。また、アラミドは、ガラス基板等と比べて薄く基板を形成できる。なお、超薄型ガラス基板とアラミドを積層して絶縁性基板64を形成してもよい。   Since aramid can be applied at a high temperature process of 200 ° C. or more, the transparent electrode material can be cured at a high temperature to reduce the resistance, and can also be used for automatic mounting of a driver IC including a solder reflow process. Moreover, since aramid has a thermal expansion coefficient close to that of ITO (indium tin oxide) or a glass substrate, warping after production is small and it is difficult to crack. In addition, aramid can form a substrate thinner than a glass substrate or the like. Note that the insulating substrate 64 may be formed by stacking an ultrathin glass substrate and aramid.

バイオナノファイバは、バクテリア(酢酸菌、Acetobacter Xylinum)が産出するセルロースミクロフィブリル束(バクテリアセルロース)と透明樹脂との複合したものである。セルロースミクロフィブリル束は、幅50nmと可視光波長に対して1/10のサイズで、かつ、高強度、高弾性、低熱膨である。バクテリアセルロースにアクリル樹脂、エポキシ樹脂等の透明樹脂を含浸・硬化させることで、繊維を60−70%も含有しながら、波長500nmで約90%の光透過率を示すバイオナノファイバが得られる。バイオナノファイバは、シリコン結晶に匹敵する低い熱膨張係数(3−7ppm)を有し、鋼鉄並の強度(460MPa)、高弾性(30GPa)で、かつフレキシブルであることから、ガラス基板等と比べて薄く絶縁性基板64を形成できる。   Bionanofiber is a composite of cellulose microfibril bundles (bacterial cellulose) produced by bacteria (Acetobacter Xylinum) and a transparent resin. The cellulose microfibril bundle has a width of 50 nm and a size of 1/10 of the visible light wavelength, and has high strength, high elasticity, and low thermal expansion. By impregnating and curing a transparent resin such as an acrylic resin or an epoxy resin in bacterial cellulose, a bio-nanofiber having a light transmittance of about 90% at a wavelength of 500 nm can be obtained while containing 60-70% of the fiber. Bionanofiber has a low coefficient of thermal expansion (3-7ppm) comparable to silicon crystals, and is as strong as steel (460MPa), highly elastic (30GPa), and flexible, compared to glass substrates, etc. A thin insulating substrate 64 can be formed.

図4には、本実施の形態に係る放射線検出器60の構成を示す平面図が示されている。   FIG. 4 is a plan view showing the configuration of the radiation detector 60 according to the present exemplary embodiment.

TFT基板66には、上述のセンサ部72、蓄積容量68、TFT70と、を含んで構成される画素74が一定方向(図4の行方向)及び一定方向に対する交差方向(図4の列方向)に2次元状に複数設けられている。   The TFT substrate 66 includes a pixel 74 including the sensor unit 72, the storage capacitor 68, and the TFT 70 described above in a certain direction (row direction in FIG. 4) and a cross direction with respect to the certain direction (column direction in FIG. 4). Are provided two-dimensionally.

また、TFT基板66には、一定方向(行方向)に延設され各TFT70をオン・オフさせるための複数本のゲート配線76と、交差方向(列方向)に延設されオン状態のTFT70を介して電荷を読み出すための複数本のデータ配線78が設けられている。   The TFT substrate 66 includes a plurality of gate wirings 76 extending in a certain direction (row direction) for turning on / off the TFTs 70, and an on-state TFT 70 extending in a crossing direction (column direction). A plurality of data wirings 78 are provided for reading out charges through the wirings.

放射線検出器60は、平板状で平面視において外縁に4辺を有する四辺形状をしている。具体的には矩形状に形成されている。   The radiation detector 60 is flat and has a quadrilateral shape with four sides on the outer edge in plan view. Specifically, it is formed in a rectangular shape.

本実施の形態に係る放射線検出器60は、図2に示すように、このようなTFT基板66の表面にシンチレータ71が貼り付けられて形成される。   As shown in FIG. 2, the radiation detector 60 according to the present exemplary embodiment is formed by attaching a scintillator 71 to the surface of such a TFT substrate 66.

シンチレータ71は、照射されたX線やγ線などの放射線Xを光に変換する。センサ部72は、シンチレータ71から照射された光を受けて電荷を蓄積する。   The scintillator 71 converts radiation X such as irradiated X-rays and γ-rays into light. The sensor unit 72 receives the light emitted from the scintillator 71 and accumulates electric charges.

そして、各データ配線78には、データ配線78に接続された何れかのTFT70がONされることによりセンサ部72に蓄積された電荷量に応じて放射線画像を示す電気信号(画像信号)が流れるようになっている。   An electric signal (image signal) indicating a radiographic image flows in each data line 78 according to the amount of charge accumulated in the sensor unit 72 when any of the TFTs 70 connected to the data line 78 is turned on. It is like that.

放射線検出器60のデータ配線78方向の一端側には、結線用のコネクタ38が複数個並んで設けられ、ゲート配線76方向の一端側には、コネクタ40が複数個並んで設けられている。そして、各データ配線78は所定本ずつコネクタ38に接続され、各ゲート配線76は所定本ずつコネクタ40に接続されている。   A plurality of connectors 38 for connection are arranged side by side at one end of the radiation detector 60 in the direction of the data wiring 78, and a plurality of connectors 40 are arranged at one end of the radiation detector 60 in the direction of the gate wiring 76. Each data wiring 78 is connected to the connector 38 by a predetermined number, and each gate wiring 76 is connected to the connector 40 by a predetermined number.

これらコネクタ38には、フレキシブルケーブル42の一端が電気的に接続されている。また、コネクタ40には、フレキシブルケーブル44の一端が電気的に接続されている。   One end of a flexible cable 42 is electrically connected to these connectors 38. One end of the flexible cable 44 is electrically connected to the connector 40.

そして、これらフレキシブルケーブル42及びフレキシブルケーブル44は、制御基板22に電気的に接続される。   The flexible cable 42 and the flexible cable 44 are electrically connected to the control board 22.

制御基板22には、放射線検出器60による撮影動作の制御、及び各データ配線78に流れる電気信号に対する信号処理の制御を行う制御部46が設けられ、制御部46は、信号検出回路48と、スキャン信号制御回路50と、を備えている。   The control board 22 is provided with a control unit 46 that controls the imaging operation by the radiation detector 60 and the signal processing for the electric signal flowing through each data wiring 78. The control unit 46 includes a signal detection circuit 48, And a scan signal control circuit 50.

信号検出回路48には、複数個のコネクタ52が設けられており、これらのコネクタ52に、上述したフレキシブルケーブル42の他端が電気的に接続されている。信号検出回路48は、データ配線78毎に、入力される電気信号を増幅する増幅回路を内蔵している。この構成により、信号検出回路48は、各データ配線78より入力される電気信号を増幅回路により増幅して検出することで、画像を構成する各画素の情報として、各センサ部72に蓄積された電荷量を検出する。   The signal detection circuit 48 is provided with a plurality of connectors 52, and the other end of the flexible cable 42 described above is electrically connected to these connectors 52. The signal detection circuit 48 includes an amplification circuit for amplifying an input electric signal for each data wiring 78. With this configuration, the signal detection circuit 48 amplifies and detects the electric signal input from each data wiring 78 by the amplification circuit, and is stored in each sensor unit 72 as information of each pixel constituting the image. Detect the amount of charge.

一方、スキャン信号制御回路50には、複数個のコネクタ54が設けられており、これらのコネクタ54に、上述したフレキシブルケーブル44の他端が電気的に接続されており、スキャン信号制御回路50が各ゲート配線76にTFT70をON/OFFするための制御信号を出力可能とされている。   On the other hand, the scan signal control circuit 50 is provided with a plurality of connectors 54, and the other end of the flexible cable 44 described above is electrically connected to these connectors 54. A control signal for turning on / off the TFT 70 can be output to each gate wiring 76.

図5には、本実施の形態に係る電子カセッテ10内部の構成を示す断面図が示されている。   FIG. 5 is a cross-sectional view showing an internal configuration of the electronic cassette 10 according to the present exemplary embodiment.

電子カセッテ10の筐体55は、フロントパネル57と、バックパネル58により構成されている。フロントパネル57は、撮影面56を構成する天板57Aと、天板57Aを保持する保持部57Bにより構成されている。   A housing 55 of the electronic cassette 10 is constituted by a front panel 57 and a back panel 58. The front panel 57 includes a top plate 57A that constitutes the photographing surface 56, and a holding portion 57B that holds the top plate 57A.

放射線検出器60は、筐体55の天板57A部分の放射線Xが入射する面の反対側の面にTFT基板66側が対向するように配置されている。   The radiation detector 60 is arranged so that the TFT substrate 66 side faces the surface opposite to the surface on which the radiation X of the top plate 57A of the housing 55 is incident.

ここで、放射線検出器60は、図6に示すように、シンチレータ71が形成された側から放射線が照射されて、当該放射線の入射面の裏面側に設けられたTFT基板66により放射線画像を読み取る、いわゆる裏面読取方式(所謂PSS(Penetration Side Sampling)方式)とされた場合、シンチレータ71の同図上面側(TFT基板66の反対側)でより強く発光し、TFT基板66側から放射線が照射されて、当該放射線の入射面の表面側に設けられたTFT基板66により放射線画像を読み取る、いわゆる表面読取方式(所謂ISS(Irradiation Side Sampling)方式)とされた場合、TFT基板66を透過した放射線がシンチレータ71に入射してシンチレータ71のTFT基板66側がより強く発光する。TFT基板66に設けられた各センサ部72には、シンチレータ71で発生した光により電荷が発生する。このため、放射線検出器60は、表面読取方式とされた場合の方が裏面読取方式とされた場合よりもTFT基板66に対するシンチレータ71の発光位置が近いため、撮影によって得られる放射線画像の分解能が高い。   Here, as shown in FIG. 6, the radiation detector 60 is irradiated with radiation from the side on which the scintillator 71 is formed, and reads a radiation image by the TFT substrate 66 provided on the back side of the incident surface of the radiation. In the case of the so-called back side scanning method (so-called PSS (Penetration Side Sampling) method), the scintillator 71 emits light more strongly on the upper surface side (the opposite side of the TFT substrate 66) of the scintillator 71, and radiation is irradiated from the TFT substrate 66 side. In the case of a so-called surface reading method (so-called ISS (Irradiation Side Sampling) method) in which a radiation image is read by the TFT substrate 66 provided on the surface side of the radiation incident surface, the radiation transmitted through the TFT substrate 66 is transmitted. The light enters the scintillator 71 and the TFT substrate 66 side of the scintillator 71 emits light more intensely. Electric charges are generated by the light generated by the scintillator 71 in each sensor unit 72 provided on the TFT substrate 66. For this reason, since the radiation detector 60 is closer to the light emission position of the scintillator 71 with respect to the TFT substrate 66 when the front side reading method is used than when the rear side reading method is used, the resolution of the radiation image obtained by imaging is higher. high.

本実施の形態では、図5に示すように、電子カセッテ10内部に、撮影面56から入射する放射線Xに対して表面読取方式となるように放射線検出器60が配置されている。   In the present embodiment, as shown in FIG. 5, a radiation detector 60 is arranged inside the electronic cassette 10 so as to be a surface reading method for the radiation X incident from the imaging surface 56.

放射線画像の撮影を行う場合、放射線検出器60には被検者を透過した放射線Xが照射される。照射された放射線Xはシンチレータ71で光に変換され、センサ部72に照射される。センサ部72は、シンチレータ71から照射された光を受けて電荷を蓄積する。   When taking a radiographic image, the radiation detector 60 is irradiated with the radiation X transmitted through the subject. The irradiated radiation X is converted into light by the scintillator 71 and irradiated to the sensor unit 72. The sensor unit 72 receives the light emitted from the scintillator 71 and accumulates electric charges.

画像読出時には、スキャン信号制御回路50から放射線検出器60のTFT70のゲート電極にゲート配線76を介して順次ON信号(+10〜20V)が印加される。これにより、放射線検出器60のTFT70が順次ONされることによりセンサ部72に蓄積された電荷量に応じた電気信号がデータ配線78に流れ出す。信号検出回路48は、放射線検出器60のデータ配線78に流れ出した電気信号に基づいて各センサ部72に蓄積された電荷量を、画像を構成する各画素の情報として検出する。これにより、放射線検出器60に照射された放射線により示される画像を示す画像情報を得る。   At the time of image reading, an ON signal (+10 to 20 V) is sequentially applied from the scan signal control circuit 50 to the gate electrode of the TFT 70 of the radiation detector 60 through the gate wiring 76. Accordingly, when the TFTs 70 of the radiation detector 60 are sequentially turned on, an electrical signal corresponding to the amount of charge accumulated in the sensor unit 72 flows out to the data wiring 78. The signal detection circuit 48 detects the amount of electric charge accumulated in each sensor unit 72 based on the electrical signal that has flowed out to the data wiring 78 of the radiation detector 60 as information of each pixel constituting the image. Thereby, image information indicating an image indicated by the radiation applied to the radiation detector 60 is obtained.

次に、本実施の形態に係る放射線検出器60の封止について説明する。   Next, sealing of the radiation detector 60 according to the present embodiment will be described.

図7には、放射線検出器60の断面構成を概略的に示されている。また、図8には、第1の実施の形態に係る放射線検出器60のコネクタ38とフレキシブルケーブル42の接続部分の断面構成が示されている。なお、放射線検出器60のコネクタ40とフレキシブルケーブル44の接続部分についても同様の構成であるため、対応する箇所にコネクタ40及びフレキシブルケーブル44の符号を括弧で付して説明する。   FIG. 7 schematically shows a cross-sectional configuration of the radiation detector 60. FIG. 8 shows a cross-sectional configuration of a connection portion between the connector 38 and the flexible cable 42 of the radiation detector 60 according to the first embodiment. In addition, since it is the same structure also about the connection part of the connector 40 of the radiation detector 60 and the flexible cable 44, the code | symbol of the connector 40 and the flexible cable 44 is attached | subjected and demonstrated to a corresponding location.

放射線検出器60は、蒸着基板73にCsI:Tl等の材料を蒸着させて形成されたCsI:Tlの柱状結晶によるシンチレータ71を、柱状結晶領域71B側をTFT基板66に対向させるようにしてTFT基板66に接着している。   The radiation detector 60 includes a scintillator 71 made of a columnar crystal of CsI: Tl formed by vapor-depositing a material such as CsI: Tl on a vapor deposition substrate 73, and a TFT with the columnar crystal region 71B side facing the TFT substrate 66. Bonded to the substrate 66.

TFT基板66のコネクタ38(40)には、電極90A上に異方性導電フィルム(ACF(Anisotropic Conductive Film))90Bが設けられている。TFT基板66のコネクタ38には、フレキシブルケーブル42の一端の電極92が接続され、コネクタ40にフレキシブルケーブル44の一端の電極92が接続される。   The connector 38 (40) of the TFT substrate 66 is provided with an anisotropic conductive film (ACF (Anisotropic Conductive Film)) 90B on the electrode 90A. An electrode 92 at one end of the flexible cable 42 is connected to the connector 38 of the TFT substrate 66, and an electrode 92 at one end of the flexible cable 44 is connected to the connector 40.

このフレキシブルケーブル42、44の制御基板22に接続される他端側の電極94には、剥離可能な保護部材を設けている。本実施の形態では、PET(ポリエチレンテレフタレート)などの樹脂によるカバー96で覆った後にマスキングテープ97で覆っている。   A peelable protective member is provided on the electrode 94 on the other end side connected to the control board 22 of the flexible cables 42 and 44. In the present embodiment, the mask 96 is covered with a mask 96 after being covered with a cover 96 made of a resin such as PET (polyethylene terephthalate).

本実施の形態に係る放射線検出器60は、このようにコネクタ38、40にフレキシブルケーブル42、44を接続した状態で放射線検出器60、及びフレキシブルケーブル42、44を一体的に覆うように保護膜100を形成する。   The radiation detector 60 according to the present embodiment has a protective film so as to integrally cover the radiation detector 60 and the flexible cables 42 and 44 in a state where the flexible cables 42 and 44 are connected to the connectors 38 and 40 as described above. 100 is formed.

保護膜100は、ポリパラキシリレン樹脂(例えば、パリレン(登録商標))等の大気中の水分に対してバリア性を有する有機材料が用いられ、熱CVD(Chemical vapor deposition)法等の気相重合などにより形成される。なお、保護膜100は、有機膜と無機膜の積層構造を用いることもでき、無機膜の材料としては、例えば、窒化珪素(SiNx)膜、酸化珪素(SiOx)膜、酸窒化珪素(SiOxNy)膜、Al2O3等が好適である。   The protective film 100 is made of an organic material having a barrier property against moisture in the air, such as polyparaxylylene resin (for example, parylene (registered trademark)), and is a vapor phase such as thermal CVD (Chemical vapor deposition). It is formed by polymerization or the like. The protective film 100 can also be a laminated structure of an organic film and an inorganic film. Examples of the inorganic film material include a silicon nitride (SiNx) film, a silicon oxide (SiOx) film, and a silicon oxynitride (SiOxNy). A film, Al 2 O 3 or the like is preferable.

保護膜100の膜厚は、5〜50μm程度が好ましく、さらに10〜30μm程度であることがより好ましい。膜厚が、5μm未満であると、防湿効果を発揮されず、50μmを超えると、フレキシブルケーブル42、44の柔軟性が確保できなくなる。   The film thickness of the protective film 100 is preferably about 5 to 50 μm, and more preferably about 10 to 30 μm. When the film thickness is less than 5 μm, the moisture-proof effect is not exhibited, and when it exceeds 50 μm, the flexibility of the flexible cables 42 and 44 cannot be ensured.

このように、放射線検出器60にフレキシブルケーブル42、44を接続した状態で保護膜100を形成することにより、コネクタ38、40部分での防湿性が悪化を防止できる。また、一度の封止処理で、放射線検出器60と共に、コネクタ38、40とフレキシブルケーブル42、44の接続部分も保護することができる。   Thus, by forming the protective film 100 in a state where the flexible cables 42 and 44 are connected to the radiation detector 60, it is possible to prevent the moisture resistance at the connectors 38 and 40 from deteriorating. Moreover, the connection part of the connectors 38 and 40 and the flexible cables 42 and 44 can be protected with the radiation detector 60 by one sealing process.

フレキシブルケーブル42、44は、制御基板22に接続する場合、マスキングテープ97及びカバー96が除去される。これにより、図9に示すように、フレキシブルケーブル42、44は、マスキングテープ97と共に保護膜100が取り除かれて電極94部分が露出するため、接続端子部分を制御基板22と接続させた際に保護膜100によって絶縁されることを防止できる(図11も参照)。   When the flexible cables 42 and 44 are connected to the control board 22, the masking tape 97 and the cover 96 are removed. As a result, as shown in FIG. 9, the flexible cables 42 and 44 are protected when the connecting terminal portion is connected to the control board 22 because the protective film 100 is removed together with the masking tape 97 and the electrode 94 portion is exposed. Insulation by the film 100 can be prevented (see also FIG. 11).

以上のように、本実施の形態によれば、放射線検出器60のコネクタ38、40にフレキシブルケーブル42、44を接続した状態で放射線検出器60及びフレキシブルケーブル42、44とコネクタ38、40の接続部分を保護膜100で覆って一体的に封止しているので、コネクタ38、40を再度封止する手間を省きつつ、コネクタ38、40での防湿性の低下を抑制できる。   As described above, according to the present embodiment, the radiation detector 60 and the flexible cables 42 and 44 and the connectors 38 and 40 are connected in a state where the flexible cables 42 and 44 are connected to the connectors 38 and 40 of the radiation detector 60. Since the portion is covered with the protective film 100 and integrally sealed, it is possible to suppress a decrease in moisture resistance in the connectors 38 and 40 while omitting the trouble of sealing the connectors 38 and 40 again.

[第2の実施の形態]
次に、第2の実施の形態について説明する。
[Second Embodiment]
Next, a second embodiment will be described.

第2の実施の形態に係る電子カセッテ10の構成、TFT基板66の構成は、上記第1の実施の形態(図1〜図3参照)と同一であるので、ここでの説明は省略する。   Since the configuration of the electronic cassette 10 and the configuration of the TFT substrate 66 according to the second embodiment are the same as those of the first embodiment (see FIGS. 1 to 3), description thereof is omitted here.

図10には第2の実施の形態に係る放射線検出器60のコネクタ38とフレキシブルケーブル42の接続部分の断面構成が示されている。なお、放射線検出器60のコネクタ40とフレキシブルケーブル44の接続部分についても同様の構成であるため、対応する箇所にコネクタ40及びフレキシブルケーブル44の符号を括弧で付して説明する。   FIG. 10 shows a cross-sectional configuration of a connection portion between the connector 38 and the flexible cable 42 of the radiation detector 60 according to the second exemplary embodiment. In addition, since it is the same structure also about the connection part of the connector 40 of the radiation detector 60 and the flexible cable 44, the code | symbol of the connector 40 and the flexible cable 44 is attached | subjected and demonstrated to a corresponding location.

本実施の形態では、フレキシブルケーブル42、44をそれぞれフレキシブルな配線基板とする。また、信号検出回路48及びスキャン信号制御回路50をそれぞれ集積回路化し、信号検出回路48として機能するアンプIC(Integrated Circuit)102をフレキシブルケーブル42にTCP(Tape Carrier Package)実装させ、スキャン信号制御回路50として機能するゲートIC104をフレキシブルケーブル44にTCP実装させる。   In the present embodiment, the flexible cables 42 and 44 are respectively flexible wiring boards. In addition, the signal detection circuit 48 and the scan signal control circuit 50 are respectively integrated, and an amplifier IC (Integrated Circuit) 102 that functions as the signal detection circuit 48 is mounted on the flexible cable 42 by TCP (Tape Carrier Package), so that the scan signal control circuit The gate IC 104 functioning as 50 is TCP mounted on the flexible cable 44.

そして、本実施の形態に係る放射線検出器60は、コネクタ38、40にフレキシブルケーブル42、44を接続した状態で放射線検出器60、及びフレキシブルケーブル42、44を一体的に覆うように保護膜100を形成する。   Then, the radiation detector 60 according to the present exemplary embodiment includes the protective film 100 so as to integrally cover the radiation detector 60 and the flexible cables 42 and 44 in a state where the flexible cables 42 and 44 are connected to the connectors 38 and 40. Form.

これにより、フレキシブルケーブル42、44に実装されたアンプIC102及びゲートIC104も一体的に保護膜100で封止できる(図12も参照)。   Accordingly, the amplifier IC 102 and the gate IC 104 mounted on the flexible cables 42 and 44 can be integrally sealed with the protective film 100 (see also FIG. 12).

以上のように、本実施の形態よれば、フレキシブルケーブル42、44にアンプIC102及びゲートIC104を実装させ、アンプIC102及びゲートIC104も一体的に保護膜100で封止することにより、アンプIC102及びゲートIC104も一体的に保護でき、また、アンプIC102及びゲートIC104に外部からノイズが入ることを防止できる。   As described above, according to the present embodiment, the amplifier IC 102 and the gate IC 104 are mounted on the flexible cables 42 and 44, and the amplifier IC 102 and the gate IC 104 are also integrally sealed with the protective film 100, thereby The IC 104 can also be integrally protected, and noise from the outside can be prevented from entering the amplifier IC 102 and the gate IC 104.

以上、本発明を第1、第2の実施の形態を用いて説明したが、本発明の技術的範囲は上記各実施の形態に記載の範囲には限定されない。発明の要旨を逸脱しない範囲で上記各実施の形態に多様な変更または改良を加えることができ、当該変更または改良を加えた形態も本発明の技術的範囲に含まれる。   As mentioned above, although this invention was demonstrated using 1st, 2nd embodiment, the technical scope of this invention is not limited to the range as described in each said embodiment. Various modifications or improvements can be added to the above-described embodiments without departing from the gist of the invention, and embodiments to which the modifications or improvements are added are also included in the technical scope of the present invention.

また、上記の実施の形態は、クレーム(請求項)にかかる発明を限定するものではなく、また実施の形態の中で説明されている特徴の組み合わせの全てが発明の解決手段に必須であるとは限らない。前述した実施の形態には種々の段階の発明が含まれており、開示される複数の構成要件における適宜の組み合わせにより種々の発明を抽出できる。実施の形態に示される全構成要件から幾つかの構成要件が削除されても、効果が得られる限りにおいて、この幾つかの構成要件が削除された構成が発明として抽出され得る。   The above embodiments do not limit the invention according to the claims (claims), and all the combinations of features described in the embodiments are essential for the solution means of the invention. Is not limited. The embodiments described above include inventions at various stages, and various inventions can be extracted by appropriately combining a plurality of disclosed constituent elements. Even if some constituent requirements are deleted from all the constituent requirements shown in the embodiment, as long as an effect is obtained, a configuration from which these some constituent requirements are deleted can be extracted as an invention.

例えば、上記各実施の形態では、可搬型の放射線撮影装置である電子カセッテ10に本発明を適応した場合について説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、据置型の放射線撮影装置に適用してもよい。   For example, in each of the above embodiments, the case where the present invention is applied to the electronic cassette 10 which is a portable radiation imaging apparatus has been described. However, the present invention is not limited to this, and the stationary radiation imaging apparatus is used. You may apply to.

また、上記各実施の形態では、放射線検出器60のコネクタ38、40にフレキシブルケーブル42、44を接続した状態でパリレン(登録商標)等により1回封止を行う場合について説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、蒸着基板73に蒸着によりCsI:Tlの柱状結晶を形成したシンチレータ71全体に保護膜を形成して一度封止を行い、保護膜が形成されたシンチレータ71とTFT基板66を接着し、TFT基板66のコネクタ38、40にフレキシブルケーブル42、44を接続した状態でパリレン(登録商標)等により封止を行うものとしてもよい。シンチレータ71の防湿性を高めるため、保護膜100の膜厚を厚くした場合、フレキシブルケーブル42、44の柔軟性が確保できなくなるが、シンチレータ71を個別に封止することにより、フレキシブルケーブル42、44の柔軟性を確保しつつ、シンチレータ71の防湿性を高めることができる。   In each of the above embodiments, the case where sealing is performed once with Parylene (registered trademark) in a state where the flexible cables 42 and 44 are connected to the connectors 38 and 40 of the radiation detector 60 has been described. Is not limited to this. For example, a protective film is formed on the entire scintillator 71 in which a columnar crystal of CsI: Tl is formed by vapor deposition on the vapor deposition substrate 73, sealing is performed once, and the scintillator 71 on which the protective film is formed and the TFT substrate 66 are bonded to each other. It is good also as what seals with parylene (trademark) etc. in the state which connected the flexible cables 42 and 44 to the connectors 38 and 40 of the board | substrate 66. FIG. If the thickness of the protective film 100 is increased in order to increase the moisture resistance of the scintillator 71, the flexibility of the flexible cables 42 and 44 cannot be secured. However, by sealing the scintillator 71 individually, the flexible cables 42 and 44 are sealed. It is possible to improve the moisture resistance of the scintillator 71 while ensuring the flexibility.

また、上記各実施の形態では、間接変換方式の放射線検出器60に本発明を適用した場合について説明したが、これに限定されるものではない。例えば、アモルファスセレン等を用いた光導電層により、放射線を電荷へ直接変換して蓄積する直接変換方式の放射線検出器に本発明を適用してもよい。   In each of the above embodiments, the case where the present invention is applied to the indirect conversion type radiation detector 60 has been described, but the present invention is not limited to this. For example, the present invention may be applied to a direct conversion type radiation detector that directly converts radiation into electric charges and accumulates it by a photoconductive layer using amorphous selenium or the like.

直接変換方式の放射線検出器120の一例を図13に示す。この放射線検出器120では、入射される放射線を電荷に変換する光導電層122がTFT基板124上に形成されている。光導電層122としては、アモルファスSe、Bi12MO20(M:Ti、Si、Ge)、Bi4312(M:Ti、Si、Ge)、Bi23、BiMO4(M:Nb、Ta、V)、Bi2WO6、Bi24239、ZnO、ZnS、ZnSe、ZnTe、MNbO3(M:Li、Na、K)、PbO、HgI2、PbI2、CdS、CdSe、CdTe、BiI3、GaAs等のうち少なくとも1つを主成分とする化合物などが用いられるが、暗抵抗が高く、照射された放射線に対して良好な光導電性を示し、真空蒸着法により低温で大面積成膜が可能な非晶質(アモルファス)材料が好適である。 An example of the direct conversion type radiation detector 120 is shown in FIG. In the radiation detector 120, a photoconductive layer 122 that converts incident radiation into charges is formed on the TFT substrate 124. As the photoconductive layer 122, amorphous Se, Bi 12 MO 20 (M: Ti, Si, Ge), Bi 4 M 3 O 12 (M: Ti, Si, Ge), Bi 2 O 3 , BiMO 4 (M: Nb, Ta, V), Bi 2 WO 6 , Bi 24 B 2 O 39 , ZnO, ZnS, ZnSe, ZnTe, MNbO 3 (M: Li, Na, K), PbO, HgI 2 , PbI 2 , CdS, CdSe , CdTe, BiI 3 , GaAs, and the like are used, but they have high dark resistance, show good photoconductivity with respect to the irradiated radiation, and are low in temperature by vacuum deposition. An amorphous material capable of forming a large-area film is preferable.

光導電層122上には、光導電層122の表面側に形成され、光導電層122にバイアス電圧を印加するためのバイアス電極126が形成される。またTFT基板124には、間接変換方式の放射線検出器60と同様に、光導電層122で発生した電荷を収集する電荷収集電極128が形成されている。一方、直接変換方式の放射線検出パネルのTFT基板124は、各電荷収集電極128で収集された電荷を蓄積する電荷蓄積容量130が設けられている。各電荷蓄積容量130に蓄積された電荷はスイッチング素子132がオンされることで読み出される。   On the photoconductive layer 122, a bias electrode 126 is formed on the surface side of the photoconductive layer 122 to apply a bias voltage to the photoconductive layer 122. Similarly to the indirect conversion radiation detector 60, the TFT substrate 124 is formed with a charge collection electrode 128 that collects charges generated in the photoconductive layer 122. On the other hand, the TFT substrate 124 of the direct conversion type radiation detection panel is provided with a charge storage capacitor 130 for storing charges collected by the charge collection electrodes 128. The charges stored in each charge storage capacitor 130 are read when the switching element 132 is turned on.

また、一例として図14に示すように、直接変換方式の放射線検出器120には、バイアス電極126と電気的に接続された印加用電極部134が設けられる。この印加用電極部134には、印加用接続配線136の一端部が、導電性を有する接着剤等によって接着される。また、印加用接続配線136の他端部には電極138が形成され、電極138は、バイアス電圧を発生させる電圧発生部140に設けられたコネクタ142に接続される。   As an example, as shown in FIG. 14, the direct-conversion radiation detector 120 is provided with an application electrode unit 134 electrically connected to the bias electrode 126. One end portion of the application connection wiring 136 is bonded to the application electrode portion 134 with a conductive adhesive or the like. In addition, an electrode 138 is formed at the other end of the application connection wiring 136, and the electrode 138 is connected to a connector 142 provided in the voltage generator 140 that generates a bias voltage.

放射線検出器120における保護膜100の形成は、印加用接続配線136の一端部を印加用電極部134に接着し、印加用接続配線136の電極138をカバー96及びマスキングテープ97で覆った状態で、これらを保護膜100で一体的に覆うように行う。これにより、印加用電極部134の防湿性が低下することを抑制できる。また、一度の封止処理で、放射線検出器120、コネクタ38,40とフレキシブルケーブル42,44の接続部分に加えて、印加用電極部134と印加用接続配線136との接続部分も保護することができる。   The protective film 100 is formed in the radiation detector 120 in a state where one end portion of the application connection wiring 136 is bonded to the application electrode portion 134 and the electrode 138 of the application connection wiring 136 is covered with the cover 96 and the masking tape 97. These are performed so as to be integrally covered with the protective film 100. Thereby, it can suppress that the moisture proof property of the application electrode part 134 falls. In addition to the connection portion between the radiation detector 120, the connectors 38 and 40 and the flexible cables 42 and 44, the connection portion between the application electrode portion 134 and the application connection wiring 136 can be protected by a single sealing process. Can do.

なお、印加用接続配線136の電極138を覆うカバー96及びマスキングテープ97は、保護膜100が形成された後で除去され、その後、電極138は電圧発生部140に設けられたコネクタ142に接続される。そして、電極138とコネクタ142との接続部分は、絶縁性の封止剤によって封止することができる。   Note that the cover 96 and the masking tape 97 that cover the electrode 138 of the connection wiring 136 for application are removed after the protective film 100 is formed, and then the electrode 138 is connected to the connector 142 provided in the voltage generator 140. The The connecting portion between the electrode 138 and the connector 142 can be sealed with an insulating sealant.

また図14には、放射線検出器120として、第1の実施の形態に係る放射線検出器60と同様に、フレキシブルケーブル42,44を介して制御基板22に電気的に接続される構成を示したが、これに限定されるものではなく、図15に示す構成でもよい。図15に示す放射線検出器120は、第2の実施の形態と同様に、フレキシブルケーブル42,44を各々フレキシブルな配線基板とし、フレキシブルケーブル42にアンプIC102を、フレキシブルケーブル44にゲートIC104を各々TCP実装させている。   FIG. 14 shows a configuration in which the radiation detector 120 is electrically connected to the control board 22 via the flexible cables 42 and 44 as in the radiation detector 60 according to the first embodiment. However, the configuration is not limited to this, and the configuration shown in FIG. As in the second embodiment, the radiation detector 120 shown in FIG. 15 uses flexible cables 42 and 44 as flexible wiring boards, the amplifier IC 102 is connected to the flexible cable 42, and the gate IC 104 is connected to the flexible cable 44 and TCP. It is implemented.

この態様における保護膜100の形成についても、印加用接続配線136の一端部を印加用電極部134に接着し、印加用接続配線136の電極138をカバー96及びマスキングテープ97で覆った状態で、これらを保護膜100で一体的に覆うように行う。これにより、印加用電極部134の防湿性が悪化することを防止できる。また、一度の封止処理で、放射線検出器120、コネクタ38、40とフレキシブルケーブル42、44の接続部分に加えて、印加用電極部134と印加用接続配線136との接続部分も保護することができる。   Also in the formation of the protective film 100 in this embodiment, one end portion of the application connection wiring 136 is bonded to the application electrode portion 134, and the electrode 138 of the application connection wiring 136 is covered with the cover 96 and the masking tape 97. These are performed so as to be integrally covered with the protective film 100. Thereby, it can prevent that the moisture resistance of the application electrode part 134 deteriorates. In addition to the connection portion between the radiation detector 120, the connectors 38 and 40 and the flexible cables 42 and 44, the connection portion between the application electrode portion 134 and the application connection wiring 136 can be protected by a single sealing process. Can do.

また、保護膜100の形成は、図14,15に示す態様のように、印加用接続配線136の一端部を印加用電極部134に接着した状態で行うことに限られるものではない。図16,17には、放射線検出器120、コネクタ38,40及びフレキシブルケーブル42,44を保護膜100で封止した後に、一端部が電圧発生部140に接続された印加用接続配線144の他端部が印加用電極部134に接着される態様を示す。この態様では、印加用電極部134をカバー96及びマスキングテープ97で覆った状態で保護膜100の形成が行われ、保護膜100が形成された後で印加用電極部134を覆うカバー96及びマスキングテープ97が除去される。その後、導電性を有する接着剤等によって印加用接続配線144の他端部が印加用電極部134に接着され、印加用接続配線144と印加用電極部134との接続部分が絶縁性の封止剤によって封止される。   Further, the formation of the protective film 100 is not limited to being performed in a state where one end portion of the application connection wiring 136 is bonded to the application electrode portion 134 as in the embodiments shown in FIGS. In FIGS. 16 and 17, the radiation detector 120, the connectors 38 and 40, and the flexible cables 42 and 44 are sealed with the protective film 100, and then the application connection wiring 144 having one end connected to the voltage generator 140. An embodiment in which the end portion is bonded to the application electrode portion 134 is shown. In this embodiment, the protective film 100 is formed in a state where the application electrode portion 134 is covered with the cover 96 and the masking tape 97, and the cover 96 and masking covering the application electrode portion 134 after the protective film 100 is formed. Tape 97 is removed. Thereafter, the other end portion of the application connection wiring 144 is bonded to the application electrode portion 134 with a conductive adhesive or the like, and the connection portion between the application connection wiring 144 and the application electrode portion 134 is insulatively sealed. Sealed by the agent.

また、上記各実施の形態では、放射線としてX線を検出することにより放射線画像を撮影する放射線撮影装置に本発明を適用した場合について説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、検出対象とする放射線は、X線の他、ガンマ線、粒子線等いずれであってもよい。   Moreover, although each said embodiment demonstrated the case where this invention was applied to the radiography apparatus which image | photographs a radiographic image by detecting an X-ray as a radiation, this invention is not limited to this. For example, the radiation to be detected may be any of gamma rays, particle rays, etc. in addition to X-rays.

また、上記各実施の形態では、制御基板22を1つで形成した場合について説明したが、本発明はかかる実施の形態に限定されるものではなく、制御基板22が機能毎に複数に分かれていてもよい。さらに、制御基板22を、放射線検出器60と垂直方向(筐体55の厚み方向)に並んで配置する場合を説明したが、放射線検出器60と水平方向に並んで配置するようにしてもよい。   In each of the above embodiments, the case where the single control board 22 is formed has been described. However, the present invention is not limited to this embodiment, and the control board 22 is divided into a plurality of functions. May be. Furthermore, although the case where the control board 22 is arranged side by side in the vertical direction (thickness direction of the housing 55) with the radiation detector 60 has been described, the control board 22 may be arranged side by side with the radiation detector 60 in the horizontal direction. .

その他、上記各実施の形態で説明した構成は一例であり、本発明の主旨を逸脱しない範囲内において、不要な部分を削除したり、新たな部分を追加したり、接続状態等を変更したりすることができることは言うまでもない。   In addition, the configuration described in each of the above embodiments is an example, and an unnecessary part is deleted, a new part is added, or a connection state is changed without departing from the gist of the present invention. It goes without saying that you can do it.

10 電子カセッテ
38 コネクタ(電極部)
40 コネクタ(電極部)
42 フレキシブルケーブル(接続配線)
44 フレキシブルケーブル(接続配線)
60 放射線検出器
100 保護膜
102 アンプIC
104 ゲートIC
10 Electronic cassette 38 Connector (electrode part)
40 Connector (electrode part)
42 Flexible cable (connection wiring)
44 Flexible cable (connection wiring)
60 Radiation detector 100 Protective film 102 Amplifier IC
104 Gate IC

Claims (6)

入射する放射線により表わされる放射線画像が撮影可能とされ、放射線画像を撮影するための制御信号の入力及び撮影された放射線画像を示す画像信号を出力するための電極部が設けられた放射線検出器と、
前記電極部に電気的に接続され、前記制御信号又は前記画像信号の少なくとも一方が流れる接続配線と、
有機材料により構成され、前記放射線検出器の前記電極部に前記接続配線を接続した状態で前記放射線検出器及び前記接続配線の前記電極部との接続部分を覆って一体的に封止する保護膜と、
を備えた放射線撮影装置。
A radiation detector provided with an electrode unit that can capture a radiation image represented by incident radiation, inputs a control signal for capturing the radiation image, and outputs an image signal indicating the captured radiation image; ,
A connection wiring that is electrically connected to the electrode portion and through which at least one of the control signal or the image signal flows;
A protective film made of an organic material and integrally covering the radiation detector and the connection portion of the connection wiring with the electrode portion in a state where the connection wiring is connected to the electrode portion of the radiation detector When,
A radiography apparatus comprising:
前記接続配線は、前記制御信号の生成及び前記画像信号に対する信号処理の少なくとも一方を行う集積回路が設けられたフレキシブルな配線基板とされ、
前記保護膜は、前記配線基板に設けられた前記集積回路部分も覆って封止する
請求項1記載の放射線撮影装置。
The connection wiring is a flexible wiring board provided with an integrated circuit that performs at least one of generation of the control signal and signal processing on the image signal,
The radiation imaging apparatus according to claim 1, wherein the protective film covers and seals the integrated circuit portion provided on the wiring board.
前記有機材料を、パリレン(登録商標)とした
請求項1又は請求項2記載の放射線撮影装置。
The radiation imaging apparatus according to claim 1, wherein the organic material is Parylene (registered trademark).
前記保護膜は、膜厚を5μm〜50μmとした
請求項1〜請求項3の何れか1項記載の放射線撮影装置。
The radiation imaging apparatus according to claim 1, wherein the protective film has a thickness of 5 μm to 50 μm.
前記放射線検出器は、バイアス電圧が印加された状態で、入射した放射線を電荷へ直接変換する光導電部と、当該光導電部に前記バイアス電圧を印加するための印加用電極部と、が設けられた直接変換型の放射線検出器であり、
前記保護膜は、前記光導電部に前記バイアス電圧を印加するための印加用接続配線が前記放射線検出器の前記印加用電極部に接続された状態で、前記印加用接続配線と前記印加電極部との接続部分も覆って一体的に封止する請求項1〜請求項4の何れか1項記載の放射線撮影装置。
The radiation detector includes a photoconductive portion that directly converts incident radiation into an electric charge in a state where a bias voltage is applied, and an application electrode portion for applying the bias voltage to the photoconductive portion. Direct conversion type radiation detector,
The protective film includes the application connection wire and the application electrode portion in a state where an application connection wire for applying the bias voltage to the photoconductive portion is connected to the application electrode portion of the radiation detector. The radiation imaging apparatus according to claim 1, wherein the radiation imaging apparatus is also integrally sealed so as to cover a connection portion.
前記放射線検出器は、バイアス電圧が印加された状態で、入射した放射線を電荷へ直接変換する光導電部と、当該光導電部に前記バイアス電圧を印加するための印加用電極部と、が設けられた直接変換型の放射線検出器であり、
前記保護膜は、前記放射線検出器の前記印加電極部以外の部分を覆って一体的に封止する請求項1〜請求項4の何れか1項記載の放射線撮影装置。
The radiation detector includes a photoconductive portion that directly converts incident radiation into an electric charge in a state where a bias voltage is applied, and an application electrode portion for applying the bias voltage to the photoconductive portion. Direct conversion type radiation detector,
5. The radiation imaging apparatus according to claim 1, wherein the protective film covers and integrally seals a portion other than the application electrode portion of the radiation detector.
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