JP2012107088A - Resin-modifying agent, modified resin composition containing the same and coating material - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resin-modifying agent that has hydrolysis resistance and can impart hydrophilicity coating films without deteriorating the water resistance of the coating films.SOLUTION: The resin-modifying agent includes a polyoxyalkylene compound represented by one of formulae (1) to (3) as an essential component: (G-)S (1); (G-)-S-L{-S(-G)-L}-S(-G)(2); and (G-)-S-L{-U-L-S(-G)-L}-U-L-S(-G)(3) [wherein, S is a group of formula 4: Q{-(OA-)}; t is 2 to 4; L is a diglycidyl ether residue; U is a group of formula 5: Z{-(OA-)O-}; q is 0 to 1; G is glycidyl or H; at least one of G is glycidyl, wherein Q is a non-reducible di- or tri-saccharide residue; OA is oxyalkylene; Z is alkylene or arylene; n is 5 to 30; t is 2 to 4; m is 5 to 20; the total number of OA contained in the group (S) of formula 4 is 20 to 100].

Description

本発明は樹脂改質剤、これを含有してなる改質樹脂組成物及び塗料に関する。   The present invention relates to a resin modifier, a modified resin composition containing the same, and a coating material.

カチオン電着塗装後の塗膜に親水性を付与し、塗膜上に水滴が残るのを防止するための塗料添加剤として、アルキルアミンやアルキルアミドのエチレンオキシド付加体(特許文献1)及び非還元性の二又は三糖類の多量体のグリシジルエーテル化合物(特許文献2)等が知られている。   Ethylene oxide adducts of alkylamines and alkylamides (Patent Document 1) and non-reducing as paint additives for imparting hydrophilicity to the coating film after cationic electrodeposition coating and preventing water droplets from remaining on the coating film A dimeric or trisaccharide multimeric glycidyl ether compound (Patent Document 2) is known.

特開2002−226778号公報JP 2002-226778 A 特開2007−119653号公報JP 2007-119653 A

特許文献1に記載の塗料添加剤では、カチオン電着塗装後の工程で塗料浴中から塗膜を引き上げる際に塗料添加剤が塗膜上から流れ落ちたり、また水洗時に塗料添加剤が洗い流されたりし易く、塗膜に残存しにくいという問題がある。一方、残存量を増やすために使用量を増加すると、塗膜の耐水性(防錆性)に悪影響を与える等の問題がある。   In the paint additive described in Patent Document 1, when the paint film is pulled up from the paint bath in the step after the cationic electrodeposition coating, the paint additive flows down from the paint film, or the paint additive is washed away during washing with water. There is a problem that it is easy to do and hardly remains in the coating film. On the other hand, when the amount used is increased in order to increase the remaining amount, there are problems such as adversely affecting the water resistance (rust resistance) of the coating film.

特許文献2に記載の塗料添加剤では、多量体化にジハロゲン化物由来のエーテル結合を用いるため、加水分解を受け易くこれに伴なう性能低下をきたすという問題がある。   The coating additive described in Patent Document 2 has a problem in that since an ether bond derived from a dihalide is used for multimerization, it tends to be subject to hydrolysis, resulting in a decrease in performance.

すなわち、本発明の目的は、耐加水分解性を持ち、塗膜(コーティング樹脂)の耐水性(防錆性)を損なうことなく塗膜(コーティング樹脂)に親水性(耐乾きムラ性)を付与できる樹脂改質剤(コーティング樹脂改質剤)を提供することである。   That is, the object of the present invention is to have hydrolysis resistance and impart hydrophilicity (drying unevenness) to the coating film (coating resin) without impairing the water resistance (rust resistance) of the coating film (coating resin). It is to provide a resin modifier (coating resin modifier) that can be used.

本発明者は前記課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、本発明に達した。
すなわち本発明の樹脂改質剤の特徴は、一般式(1)〜(3)のいずれかで表されるポリオキシアルキレン化合物(Y)を必須成分としてなる点を要旨とする。
The inventor of the present invention has reached the present invention as a result of intensive studies to solve the above problems.
That is, the feature of the resin modifier of the present invention is that the polyoxyalkylene compound (Y) represented by any one of the general formulas (1) to (3) is an essential component.


(G-)S (1)

(G-)t-1S-L{-S(-G)t-2-L}-S(-G)t-1 (2)

(G-)t-1S-L{-U-L-S(-G)t-2-L}-U-L-S(-G)t-1 (3)

(G-) t S (1)

(G-) t-1 SL {-S (-G) t-2 -L} q- S (-G) t-1 (2)

(G-) t-1 SL {-ULS (-G) t-2 -L} q -ULS (-G) t-1 (3)

ただし、Sは一般式(4)で表される基、tは2〜4の整数、Lは炭素数10〜50のジグリシジルエーテルの反応残基、Uは一般式(5)で表される基、qは0、1又は2を表し、Gはグリシジル基又は水素原子を表すが、各一般式において少なくとも一つのGはグリシジル基である。   However, S is group represented by General formula (4), t is an integer of 2-4, L is the reaction residue of C10-50 diglycidyl ether, U is represented by General formula (5) Group q represents 0, 1 or 2, and G represents a glycidyl group or a hydrogen atom, but in each general formula, at least one G is a glycidyl group.


Q{-(OA-) (4)

Z{-(OA-)O}- (5)

Q {-(OA-) n } t (4)

Z {-(OA-) m O} 2- (5)

Qは非還元性の二又は三糖類のt個の1級水酸基から水素原子を除いた残基、OAは炭素数2〜4のオキシアルキレン基、Zは炭素数2〜15のアルキレン基又はアリーレン基、Oは酸素原子、nは5〜30の整数、tは2〜4の整数、mは5〜20の整数を表し、一般式(4)で表される基(S)に含まれるOAの総数は20〜100の整数であり、S、L、U、(OA)n、(OA)m、Q、Z、q、n、m、tが一分子中に複数個含まれる場合、複数個のそれぞれは同じでも異なっていてもよい。   Q is a residue obtained by removing a hydrogen atom from t primary hydroxyl groups of a non-reducing di- or trisaccharide, OA is an oxyalkylene group having 2 to 4 carbon atoms, Z is an alkylene group or arylene having 2 to 15 carbon atoms Group, O represents an oxygen atom, n represents an integer of 5 to 30, t represents an integer of 2 to 4, m represents an integer of 5 to 20, and OA contained in the group (S) represented by the general formula (4) Is an integer of 20 to 100, and when a plurality of S, L, U, (OA) n, (OA) m, Q, Z, q, n, m, and t are contained in one molecule, a plurality of Each of the pieces may be the same or different.

本発明の改質樹脂組成物の特徴は、樹脂及び上記の樹脂改質剤を含有してなり、樹脂及び樹脂改質剤の重量に基づいて5〜40重量%の樹脂改質剤を含有してなる点を要旨とする。   A feature of the modified resin composition of the present invention is that it contains a resin and the above resin modifier, and contains 5 to 40% by weight of a resin modifier based on the weight of the resin and the resin modifier. This is the summary.

本発明の塗料の特徴は、上記の改質樹脂組成物を含有してなる点を要旨とする。   The gist of the characteristics of the coating material of the present invention is that it contains the above-mentioned modified resin composition.

本発明の塗料組成物の特徴は、塗料及び上記の樹脂改質剤を含有してなり、塗料及び樹脂改質剤の重量に基づいて0.5〜5重量%の樹脂改質剤を含有してなる点を要旨とする。   The coating composition of the present invention is characterized by containing a coating material and the above resin modifier, and containing 0.5 to 5% by weight of a resin modifier based on the weight of the coating material and the resin modifier. This is the summary.

本発明の製造方法の特徴は、上記の樹脂改質剤を製造する方法であって、
非還元性の二又は三糖類(a1)1モル部と、炭素数2〜4のアルキレンオキシド(a2)20〜100モル部との化学反応(1)から化合物(a12)を得る工程(1);及び
化合物(a12)1モル部と、エピハロヒドリン(a3)1〜3モル部との化学反応(2)からポリオキシアルキレン化合物(Y1)を得る工程(2)を含む方法(1);
A feature of the production method of the present invention is a method for producing the above resin modifier,
Step (1) for obtaining a compound (a12) from a chemical reaction (1) between 1 mol part of a non-reducing di- or trisaccharide (a1) and 20 to 100 mol parts of an alkylene oxide (a2) having 2 to 4 carbon atoms And a method (1) comprising a step (2) of obtaining a polyoxyalkylene compound (Y1) from a chemical reaction (2) between 1 mol part of the compound (a12) and 1 to 3 mol parts of an epihalohydrin (a3);

非還元性の二又は三糖類(a1)1モル部と、炭素数2〜4のアルキレンオキシド(a2)20〜100モル部との化学反応(1)から化合物(a12)を得る工程(1);
化合物(a12)1モル部と、炭素数10〜50のジグリシジルエーテル(a4)0.5〜0.67モル部との化学反応(3)から化合物(a124)得るを工程(3);及び
化合物(a124)とエピハロヒドリン(a3)1〜3モル部との化学反応(4)からポリオキシアルキレン化合物(Y2)を得る工程(4)を含む方法(2);又は
Step (1) for obtaining a compound (a12) from a chemical reaction (1) between 1 mol part of a non-reducing di- or trisaccharide (a1) and 20 to 100 mol parts of an alkylene oxide (a2) having 2 to 4 carbon atoms ;
Compound (a124) is obtained from chemical reaction (3) of 1 mol part of compound (a12) and 0.5 to 0.67 mol part of diglycidyl ether (a4) having 10 to 50 carbon atoms; and step (3); A method (2) comprising a step (4) of obtaining a polyoxyalkylene compound (Y2) from a chemical reaction (4) of the compound (a124) and 1 to 3 mole parts of an epihalohydrin (a3); or

非還元性の二又は三糖類(a1)1モル部と、炭素数2〜4のアルキレンオキシド(a2)20〜100モル部との化学反応(1)から化合物(a12)を得る工程(1);
炭素数2〜15のグリコール(a5)1モル部と炭素数2〜4のアルキレンオキシド(a2)10〜40モル部との化学反応(5)から化合物(a52)を得る工程(5);
化合物(a12)1モル部と、化合物(a52)0.5〜0.67モル部と、炭素数10〜50のジグリシジルエーテル(a4)1〜1.33モル部との化学反応(6)から化合物(a12524)を得る工程(6);及び
化合物(a12524)とエピハロヒドリン(a3)1〜3モル部との化学反応(7)からポリオキシアルキレン化合物(Y3)を得る工程(7)を含む方法(3)からなる点を要旨とする。
Step (1) for obtaining a compound (a12) from a chemical reaction (1) between 1 mol part of a non-reducing di- or trisaccharide (a1) and 20 to 100 mol parts of an alkylene oxide (a2) having 2 to 4 carbon atoms ;
A step (5) of obtaining a compound (a52) from a chemical reaction (5) of 1 mol part of a glycol having 2 to 15 carbon atoms (a5) and 10 to 40 mol parts of an alkylene oxide having 2 to 4 carbon atoms (a2);
Chemical reaction (1) of 1 mol part of compound (a12), 0.5 to 0.67 mol part of compound (a52) and 1 to 1.33 mol part of diglycidyl ether (a4) having 10 to 50 carbon atoms A step (6) of obtaining a compound (a12524) from the above (6); and a step (7) of obtaining a polyoxyalkylene compound (Y3) from a chemical reaction (7) of 1 to 3 mole parts of the compound (a12524) and epihalohydrin (a3). The point which consists of method (3) makes it a summary.

本発明の樹脂改質剤(コーティング樹脂改質剤)は、優れた耐加水分解性を持ち、塗膜(コーティング樹脂)の耐水性(防錆性)を損なうことなく塗膜(コーティング樹脂)に親水性(耐乾きムラ性)を付与できる。   The resin modifier (coating resin modifier) of the present invention has excellent hydrolysis resistance and can be applied to a coating film (coating resin) without impairing the water resistance (rust prevention) of the coating film (coating resin). Hydrophilicity (drying unevenness resistance) can be imparted.

本発明の改質樹脂組成物は、上記の樹脂改質剤(コーティング樹脂改質剤)を含有するので、優れた耐加水分解性を持ち、塗膜(コーティング樹脂)の耐水性(防錆性)を損なうことなく塗膜(コーティング樹脂)に親水性(耐乾きムラ性)を付与できる。   Since the modified resin composition of the present invention contains the above-described resin modifier (coating resin modifier), it has excellent hydrolysis resistance and water resistance (rust resistance) of the coating film (coating resin). ) Can be imparted hydrophilicity (drying unevenness) to the coating film (coating resin).

本発明の塗料は、上記の改質樹脂組成物を含有するので、優れた耐加水分解性を持ち、塗膜(コーティング樹脂)の耐水性(防錆性)を損なうことなく塗膜(コーティング樹脂)に親水性(耐乾きムラ性)を付与できる。   Since the coating material of the present invention contains the above-mentioned modified resin composition, it has excellent hydrolysis resistance and the coating film (coating resin) without impairing the water resistance (rust prevention) of the coating film (coating resin) ) Can be imparted with hydrophilicity (drying unevenness).

本発明の塗料組成物は、上記の樹脂改質剤を含有するので、優れた耐加水分解性を持ち、塗膜(コーティング樹脂)の耐水性(防錆性)を損なうことなく塗膜(コーティング樹脂)に親水性(耐乾きムラ性)を付与できる。   Since the coating composition of the present invention contains the above-mentioned resin modifier, it has excellent hydrolysis resistance, and the coating film (coating) without impairing the water resistance (rust resistance) of the coating film (coating resin) Resin) can be given hydrophilicity (drying unevenness).

本発明の製造方法は、上記の樹脂改質剤を製造するのに最適な方法である。   The production method of the present invention is an optimum method for producing the above resin modifier.

一般式(4)で表される基(S)について説明する。
非還元性の二又は三糖類のt個の1級水酸基から水素原子を除いた残基(Q)を構成することができる糖類としては、蔗糖(サッカロース)、トレハロース、イソトレハロース、イソサッカロース、ゲンチアノース、ラフィノース、メレチトース及びプランテオース等が含まれる。これらのうち、親水性の観点等から、蔗糖、トレハロース、ゲンチアノース、ラフィノース及びプランテオースが好ましく、さらに好ましくは蔗糖及びトレハロースであり、供給性及びコスト等の観点から特に好ましくは蔗糖である。
The group (S) represented by the general formula (4) will be described.
Examples of saccharides that can constitute a residue (Q) obtained by removing a hydrogen atom from t primary hydroxyl groups of non-reducing di- or trisaccharides include sucrose, trehalose, isotrehalose, isosaccharose, gentianose , Raffinose, meretitol and planteose. Of these, sucrose, trehalose, gentianose, raffinose and planteose are preferable from the viewpoint of hydrophilicity and the like, more preferably sucrose and trehalose, and sucrose is particularly preferable from the viewpoint of supply ability and cost.

炭素数2〜4のオキシアルキレン基(OA)としては、オキシエチレン、オキシプロピレン、オキシブチレン及びこれらの混合等が挙げられる。これらのうち、親水性及び耐水性の観点等から、オキシエチレン、オキシプロピレン及びこれらの混合が好ましく、親水性(耐乾きムラ性)の観点等から、オキシエチレン及びオキシプロピレンの混合がさらに好ましい。   Examples of the oxyalkylene group (OA) having 2 to 4 carbon atoms include oxyethylene, oxypropylene, oxybutylene, and a mixture thereof. Among these, oxyethylene, oxypropylene, and a mixture thereof are preferable from the viewpoint of hydrophilicity and water resistance, and a mixture of oxyethylene and oxypropylene is more preferable from the viewpoint of hydrophilicity (dry unevenness resistance).

オキシプロピレン及び/又はオキシブチレンと、オキシエチレンとを含む場合、オキシエチレンの含有割合(モル%)は、オキシアルキレン基の全モル数に基づいて、2〜8が好ましく、さらに好ましくは4〜6である。また、この場合、反応残基(Q)から離れた端部にオキシプロピレン及び/又はオキシブチレンが位置することが好ましい。すなわち、(OA-)nにオキシエチレン基を含む場合、反応残基(Q)にオキシエチレン基が直接的に結合していることが好ましい。また、(OA-)nに複数種類のオキシアルキレン基を含む場合、オキシアルキレン基の結合順序(ブロック状、ランダム状及びこれらの組合せ)及び含有割合に制限はない。   When oxypropylene and / or oxybutylene and oxyethylene are included, the content ratio (mol%) of oxyethylene is preferably 2 to 8, more preferably 4 to 6, based on the total number of moles of oxyalkylene groups. It is. In this case, it is preferable that oxypropylene and / or oxybutylene is located at the end away from the reaction residue (Q). That is, when (OA-) n contains an oxyethylene group, it is preferable that the oxyethylene group is directly bonded to the reaction residue (Q). In addition, when (OA-) n includes a plurality of types of oxyalkylene groups, there is no limitation on the bonding order (block shape, random shape, and combinations thereof) and the content ratio of the oxyalkylene groups.

nは、5〜30の整数が好ましく、さらに好ましくは5〜28の整数、特に好ましくは8〜25の整数、最も好ましくは10〜25の整数である。この範囲であると、塗膜の親水性(耐乾きムラ性)及び耐水性(防錆性)がさらに良好となる。   n is preferably an integer of 5 to 30, more preferably an integer of 5 to 28, particularly preferably an integer of 8 to 25, and most preferably an integer of 10 to 25. Within this range, the hydrophilicity (drying unevenness) and water resistance (rust resistance) of the coating film are further improved.

tは、2〜4の整数が好ましく、さらに好ましくは3又は4、特に好ましくは3である。この範囲であると塗膜の耐水性(防錆性)及び親水性(耐乾きムラ性)がさらに良好となる。そして、tは、一般式(1)〜(3)のtに対応すると共に、二又は三糖類の1級水酸基の個数に対応しており、たとえば、蔗糖では3、トレハロースでは2、メレチトースでは4である。   t is preferably an integer of 2 to 4, more preferably 3 or 4, and particularly preferably 3. Within this range, the water resistance (rust resistance) and hydrophilicity (drying unevenness) of the coating film are further improved. T corresponds to t in the general formulas (1) to (3) and also corresponds to the number of primary hydroxyl groups of a di- or trisaccharide. For example, 3 for sucrose, 2 for trehalose, 4 for meretitose. It is.

一般式(4)で表される基(S)に含まれるOAの総数は、20〜100の整数が好ましく、さらに好ましくは20〜90の整数、特に好ましくは30〜80の整数、最も好ましくは30〜70の整数である。この範囲であると、塗膜の耐水性(防錆性)及び親水性(耐乾きムラ性)がさらに良好となる。   The total number of OA contained in the group (S) represented by the general formula (4) is preferably an integer of 20 to 100, more preferably an integer of 20 to 90, particularly preferably an integer of 30 to 80, most preferably. It is an integer of 30-70. Within this range, the water resistance (rust resistance) and hydrophilicity (drying unevenness) of the coating film are further improved.

炭素数10〜50のジグリシジルエーテルの反応残基(L)としては、炭素数10〜50のジグリシジルエーテルが持つ2個のエポキシ基が開環反応した残基が含まれる。   The reaction residue (L) of the diglycidyl ether having 10 to 50 carbon atoms includes a residue obtained by ring-opening reaction of two epoxy groups possessed by the diglycidyl ether having 10 to 50 carbon atoms.

このようなジグリシジルエーテルの反応残基としては、2,11−ジヒドロキシ−4,9−ジオキサドデシレン{−CHCH(OH)CHOCHCHCHCHOCHCH(OH)CH−}、2,6,10−トリヒドロキシ−4,8−ジオキサウンデシレン{−CHCH(OH)CHOCHCH(OH)CHOCHCH(OH)CH−}、2,10−ジヒドロキシ−4,8−ジオキサ−6,6−ジメチルウンデシレン{−CHCH(OH)CHOCHC(CHCHOCHCH(OH)CH−}、2,13−ジヒドロキシ−4,11−ジオキサテトラデシレン{−CHCH(OH)CHOCHCHCHCHCHCHOCHCH(OH)CH−}、2,10−ジヒドロキシ−4,8−ジオキサ−6−ヒドロキシメチル−6−エチルウンデシレン{−CHCH(OH)CHOCHC(C)(CHOH)CHOCHCH(OH)CH−}、2,10−ジヒドロキシ−4,8−ジオキサ−6,6−ビスヒドロキシメチルウンデシレン{−CHCH(OH)CHOCHC(CHOH)CHOCHCH(OH)CH−}、及びポリオキシアルキレン(グリコール/アルキレンオキシド付加物等、炭素数4〜44、アルキレンの炭素数は2〜4)ジグリシジルエーテルの反応残基等が挙げられる。 As a reaction residue of such diglycidyl ether, 2,11-dihydroxy-4,9-dioxadodecylene {—CH 2 CH (OH) CH 2 OCH 2 CH 2 CH 2 CH 2 OCH 2 CH ( OH) CH 2 -}, 2,6,10- trihydroxy-4,8-di oxa undecylenic {-CH 2 CH (OH) CH 2 OCH 2 CH (OH) CH 2 OCH 2 CH (OH) CH 2 - }, 2,10-dihydroxy-4,8-dioxa-6,6-dimethylundecylene {—CH 2 CH (OH) CH 2 OCH 2 C (CH 3 ) 2 CH 2 OCH 2 CH (OH) CH 2 —} , 2,13- dihydroxy-4,11-di oxa-tetramethyl decylene {-CH 2 CH (OH) CH 2 OCH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 OCH 2 CH ( H) CH 2 -}, 2,10- dihydroxy-4,8-dioxa-6-hydroxymethyl-6-ethyl undecylenic {-CH 2 CH (OH) CH 2 OCH 2 C (C 2 H 5) (CH 2 OH) CH 2 OCH 2 CH (OH) CH 2 —}, 2,10-dihydroxy-4,8-dioxa-6,6-bishydroxymethylundecylene {—CH 2 CH (OH) CH 2 OCH 2 C (CH 2 OH) 2 CH 2 OCH 2 CH (OH) CH 2 —}, and polyoxyalkylene (glycol / alkylene oxide adduct, etc., having 4 to 44 carbon atoms, alkylene having 2 to 4 carbon atoms) reaction of diglycidyl ether Examples include residues.

一般式(5)で表される基(U)について説明する。
炭素数2〜15のアルキレン基又はアリーレン基(Z)のうち、アルキレン基としては、炭素数2〜9のアルキレン等が用いられ、エチレン、3−オキサペンチレン(−CHCHOCHCH−)、プロピレン、3−オキサ−2,4−ジメチルペンチレン(−CHCH(CH)OCH(CH)CH−)、ブチレン、ヘキサメチレン、シクロヘキシレン、メチレンシクロへキシレンメチレン(−CH10CH−)、メチルシクロヘキシレン及びトリメチルシクロヘキシレン等が挙げられる。
The group (U) represented by the general formula (5) will be described.
Among the alkylene group or arylene group (Z) having 2 to 15 carbon atoms, as the alkylene group, alkylene having 2 to 9 carbon atoms or the like is used, and ethylene, 3-oxapentylene (—CH 2 CH 2 OCH 2 CH 2- ), propylene, 3-oxa-2,4-dimethylpentylene (—CH 2 CH (CH 3 ) OCH (CH 3 ) CH 2 —), butylene, hexamethylene, cyclohexylene, methylenecyclohexylenemethylene ( -CH 2 C 6 H 10 CH 2 -), and the like methyl cyclohexylene and trimethyl cyclohexylene.

アルキレン基又はアリーレン基(Z)のうち、アリーレン基としては、炭素数6〜15のアリーレン等が用いられ、フェニレン、メチルフェニレン、エチルフェニレン、テトラメチルフェニレン、キシリレン、ナフチレン、ビフェニリレン、ジメチルビフェニリレン、アントリレン、フェナントリレン、-(ph)-CH-(ph)-で表される基、-(ph)-C(CH-(ph)-で表される基、-(ph)-CHCH-(ph)-で表される基及び-CH-(ch)-CH-で表される基等が挙げられる(phはフェニレン基を、chはシクロヘキセニル基を表す)。 Among the alkylene group or arylene group (Z), as the arylene group, arylene having 6 to 15 carbon atoms is used, and phenylene, methylphenylene, ethylphenylene, tetramethylphenylene, xylylene, naphthylene, biphenylylene, dimethylbiphenylylene, Anthrylene, phenanthrylene, a group represented by-(ph) -CH 2- (ph)-, a group represented by-(ph) -C (CH 3 ) 2- (ph)-,-(ph) -CH 2 CH 2 — (ph) — and a group represented by —CH 2 — (ch) —CH 2 — (ph represents a phenylene group, and ch represents a cyclohexenyl group).

これらのアルキレン又はアリーレン基(Z)のうち、エチレン、プロピレン、ヘキサメチレン及び-(ph)-C(CH-(ph)-で表される基が好ましく、さらに好ましくはプロピレンである。 Of these alkylene or arylene groups (Z), ethylene, propylene, hexamethylene and groups represented by-(ph) -C (CH 3 ) 2- (ph)-are preferable, and propylene is more preferable.

炭素数2〜4のオキシアルキレン基(OA)は上記と同様であるが、親水性の観点から、オキシエチレン及びオキシプロピレンが好ましく、さらに好ましくはオキシプロピレンとオキシエチレンとの混合である。一方、耐水性の観点等から、オキシプロピレン及びオキシブチレンが好ましく、さらに好ましくはオキシプロピレンとオキシブチレンとの混合である。   The oxyalkylene group (OA) having 2 to 4 carbon atoms is the same as above, but oxyethylene and oxypropylene are preferable from the viewpoint of hydrophilicity, and more preferably a mixture of oxypropylene and oxyethylene. On the other hand, from the viewpoint of water resistance, oxypropylene and oxybutylene are preferable, and a mixture of oxypropylene and oxybutylene is more preferable.

(OA-)m内に複数種類のオキシアルキレン基を含む場合、これらのオキシアルキレン基の結合順序(ブロック状、ランダム状及びこれらの組合せ)及び含有割合には制限はない。   When a plurality of types of oxyalkylene groups are contained in (OA-) m, the bonding order (block shape, random shape, and combinations thereof) and content ratios of these oxyalkylene groups are not limited.

オキシプロピレン及び/又はオキシブチレンと、オキシエチレンとを含む場合、オキシエチレンの含有割合(モル%)は、オキシアルキレン基の全モル数に基づいて、5〜10が好ましい。また、この場合、アルキレン基又はアリーレン基(Z)から離れた端部にオキシエチレンが位置することが好ましい。すなわち、(OA-)mにオキシエチレン基を含む場合、アルキレン基又はアリーレン基(Z)から離れた端部にオキシエチレン基が結合していることが好ましい。   When oxypropylene and / or oxybutylene and oxyethylene are included, the content ratio (mol%) of oxyethylene is preferably 5 to 10 based on the total number of moles of oxyalkylene groups. In this case, it is preferable that the oxyethylene is located at the end away from the alkylene group or the arylene group (Z). That is, when (OA-) m contains an oxyethylene group, it is preferable that the oxyethylene group is bonded to the end portion away from the alkylene group or the arylene group (Z).

mは、5〜20の整数が好ましく、さらに好ましくは7〜20の整数、特に好ましくは7〜18の整数、最も好ましくは10〜15の整数である。この範囲であると、塗膜の耐水性(防錆性)がさらに良好となる。   m is preferably an integer of 5 to 20, more preferably an integer of 7 to 20, particularly preferably an integer of 7 to 18, and most preferably an integer of 10 to 15. Within this range, the water resistance (rust resistance) of the coating film is further improved.

qは、0又は1である。この範囲であると、親水性(耐乾きムラ性)とともに耐水性(防錆性)がさらに良好となる。   q is 0 or 1. Within this range, water resistance (rust resistance) as well as hydrophilicity (drying unevenness) are further improved.

Gはグリシジル基又は水素原子を表すが、一般式(1)において、t個のGのうち少なくとも一つのGはグリシジル基である。また、一般式(2)において、{(t−1)×2+(t−2)×q}個のGのうち少なくとも一つのGはグリシジル基である。また、一般式(3)において、{(t−1)×2+(t−2)×q}個のGのうち少なくとも一つのGはグリシジル基である。   G represents a glycidyl group or a hydrogen atom. In general formula (1), at least one G among t G is a glycidyl group. In the general formula (2), at least one G out of {(t−1) × 2 + (t−2) × q} G is a glycidyl group. In the general formula (3), at least one G out of {(t−1) × 2 + (t−2) × q} G is a glycidyl group.

一般式(1)〜(3)のいずれかで表されるポリオキシアルキレン化合物(Y)は、公知の化学反応を適用して製造できる。   The polyoxyalkylene compound (Y) represented by any one of the general formulas (1) to (3) can be produced by applying a known chemical reaction.

たとえば、ポリオキシアルキレン化合物(Y)のうち、一般式(1)で表されるポリオキシアルキレン化合物(Y1)は、非還元性の二又は三糖類(a1)1モル部と、炭素数2〜4のアルキレンオキシド(a2)20〜100モル部との化学反応(1)から化合物(a12)を得る工程(1);及び
化合物(a12)1モル部と、エピハロヒドリン(a3)1〜3モル部との化学反応(2)からポリオキシアルキレン化合物(Y1)を得る工程(2)を含む方法(1)等により製造できる。
For example, among the polyoxyalkylene compounds (Y), the polyoxyalkylene compound (Y1) represented by the general formula (1) has 1 mole part of a non-reducing di- or trisaccharide (a1), 2 to 2 carbon atoms. Step (1) to obtain compound (a12) from chemical reaction (1) with alkylene oxide (a2) 20-100 mol part of 4; and 1 mol part of compound (a12) and epihalohydrin (a3) 1-3 mol part It can manufacture by the method (1) etc. which include the process (2) which obtains a polyoxyalkylene compound (Y1) from the chemical reaction (2).

非還元性の二又は三糖類(a1)としては、一般式(1)における反応残基(Q)を構成することができる二又は三糖類と同じものが使用でき、好ましい範囲も同じである。   As the non-reducing di- or trisaccharide (a1), the same disaccharide or trisaccharide that can constitute the reaction residue (Q) in the general formula (1) can be used, and the preferred range is also the same.

アルキレンオキシド(a2)としては、炭素数2〜4のアルキレンオキシド等が使用でき、エチレンオキシド(EO)、プロピレンオキシド(PO)、ブチレンオキシド(BO)及びこれらの混合物等が挙げられる。これらのうち、塗膜の耐乾きムラ性等の観点から、EO、EOを含有する混合物及びPOが好ましく、さらに好ましくはEOを含有する混合物である。   As the alkylene oxide (a2), an alkylene oxide having 2 to 4 carbon atoms can be used, and examples thereof include ethylene oxide (EO), propylene oxide (PO), butylene oxide (BO), and mixtures thereof. Among these, from the viewpoint of dryness resistance of the coating film, EO, a mixture containing EO and PO are preferable, and a mixture containing EO is more preferable.

また、複数種類のアルキレンオキシドを用いる場合、反応させる順序(ブロック状、ランダム状及びこれらの組合せ)及び使用割合には制限ないが、ブロック状又はブロック状とランダム状の組合せを含むことが好ましくい。   Moreover, when using multiple types of alkylene oxides, the order of reaction (block, random and combinations thereof) and the usage rate are not limited, but it is preferable to include a block or a combination of block and random. .

また、EOを含有する場合、EOの使用割合(モル%)は、アルキレンオキシドの全モル数に基づいて、2〜8が好ましく、さらに好ましくは4〜6である。EOと、PO又は/及びBOとを含む場合、(a1)へのEOの反応後にPO及び/又はBOを反応させることが好ましい。   Moreover, when it contains EO, 2-8 are preferable based on the total number of moles of alkylene oxide, and, more preferably, it is 4-6, based on the total number of moles of EO. When EO and PO or / and BO are included, it is preferable to react PO and / or BO after the reaction of EO to (a1).

エピハロヒドリンとしては、エピクロルヒドリン及びエピブロモヒドリン等が挙げられる。このうち好ましいのはエピクロルヒドリンである。   Examples of epihalohydrin include epichlorohydrin and epibromohydrin. Of these, epichlorohydrin is preferred.

工程(1)において、アルキレンオキシド(a2)の使用量(モル部)としては、非還元性の二又は三糖類(a1)1モル部に対して、20〜100が好ましく、さらに好ましくは20〜90、特に好ましくは30〜80、最も好ましくは30〜70である(以下の方法においても同様である)。この範囲であると、塗膜の親水性(耐乾きムラ性)及び耐水性(防錆性)がさらに良好となる。   In the step (1), the amount (mole part) of the alkylene oxide (a2) used is preferably 20 to 100, more preferably 20 to 1 part by mole of the non-reducing di- or trisaccharide (a1). 90, particularly preferably 30 to 80, and most preferably 30 to 70 (the same applies to the following methods). Within this range, the hydrophilicity (drying unevenness) and water resistance (rust resistance) of the coating film are further improved.

工程(2)において、エピハロヒドリン(a3)の使用量(モル部)としては、化合物(a12){非還元性の二又は三糖類(a1)}1モル部に対して、
1〜3が好ましく、さらに好ましくは1〜2、特に好ましくは1〜1.8、最も好ましくは1.2〜1.8である。この範囲であると、塗膜の親水性(耐乾きムラ性)及び耐水性(防錆性)がさらに良好となる。
In the step (2), the usage amount (mol part) of the epihalohydrin (a3) is 1 mol part of the compound (a12) {non-reducing disaccharide or trisaccharide (a1)}.
1 to 3 is preferable, more preferably 1 to 2, particularly preferably 1 to 1.8, and most preferably 1.2 to 1.8. Within this range, the hydrophilicity (drying unevenness) and water resistance (rust resistance) of the coating film are further improved.

ポリオキシアルキレン化合物(Y)のうち、一般式(2)で表されるポリオキシアルキレン化合物(Y2)は、非還元性の二又は三糖類(a1)1モル部と、炭素数2〜4のアルキレンオキシド(a2)20〜100モル部との化学反応(1)から化合物(a12)を得る工程(1);
化合物(a12)1モル部と、炭素数10〜50のジグリシジルエーテル(a4)0.5〜0.67モル部との化学反応(3)から化合物(a124)を得る工程(3);及び
化合物(a124)とエピハロヒドリン(a3)1〜3モル部との化学反応(4)からポリオキシアルキレン化合物(Y2)を得る工程(4)を含む方法(2)等により製造できる。
Among the polyoxyalkylene compounds (Y), the polyoxyalkylene compound (Y2) represented by the general formula (2) has 1 mol part of a non-reducing di- or trisaccharide (a1) and 2 to 4 carbon atoms. Step (1) of obtaining compound (a12) from chemical reaction (1) with 20 to 100 parts by mole of alkylene oxide (a2);
A step (3) of obtaining a compound (a124) from a chemical reaction (3) of 1 mol part of the compound (a12) and 0.5 to 0.67 mol part of a diglycidyl ether having 10 to 50 carbon atoms (a4); and It can be produced by a method (2) or the like including a step (4) for obtaining a polyoxyalkylene compound (Y2) from a chemical reaction (4) between the compound (a124) and 1 to 3 mole parts of an epihalohydrin (a3).

炭素数10〜50のジグリシジルエーテル(a4)としては、テトラメチレンジグリシジルエーテル、グリセリンジグリシジルエーテル、2,2−ジメチルプロピレンジグリシジルエーテル、ヘキサメチレンジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンジグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールジグリシジルエーテル及びポリオキシアルキレン(グリコール/アルキレンオキシド付加物等、炭素数4〜44、アルキレンの炭素数は2〜4)ジグリシジルエーテル等が挙げられる。   Examples of the diglycidyl ether (a4) having 10 to 50 carbon atoms include tetramethylene diglycidyl ether, glycerin diglycidyl ether, 2,2-dimethylpropylene diglycidyl ether, hexamethylene diglycidyl ether, trimethylolpropane diglycidyl ether, penta Examples include erythritol diglycidyl ether and polyoxyalkylene (glycol / alkylene oxide adduct, etc., having 4 to 44 carbon atoms, alkylene having 2 to 4 carbon atoms) diglycidyl ether.

工程(3)において、炭素数10〜50のジグリシジルエーテル(a4)の使用量(モル部)としては、化合物(a12){非還元性の二又は三糖類(a1)}1モル部に対して、0.5〜0.67が好ましく、さらに好ましくは0.5〜0.65、特に好ましくは0.55〜0.65、最も好ましくは0.55〜0.63である。この範囲であると、塗膜の耐水性がさらに良好となる。   In the step (3), the amount (mole part) of the diglycidyl ether having 10 to 50 carbon atoms (a4) is used relative to 1 part by mole of the compound (a12) {non-reducing disaccharide or trisaccharide (a1)}. 0.5 to 0.67 is preferable, more preferably 0.5 to 0.65, particularly preferably 0.55 to 0.65, and most preferably 0.55 to 0.63. Within this range, the water resistance of the coating film is further improved.

工程(4)において、エピハロヒドリン(a3)の使用量(モル部)としては、化合物(a124){非還元性の二又は三糖類(a1)}1モル部に対して、1〜3が好ましく、さらに好ましくは1〜2.5、特に好ましくは1.5〜2.5、最も好ましくは1.7〜2.3である。この範囲であると、塗膜の親水性(耐乾きムラ性)及び耐水性(防錆性)がさらに良好となる。   In the step (4), the usage amount (mol part) of the epihalohydrin (a3) is preferably 1 to 3 with respect to 1 mol part of the compound (a124) {non-reducing di- or trisaccharide (a1)} More preferably, it is 1-2.5, Most preferably, it is 1.5-2.5, Most preferably, it is 1.7-2.3. Within this range, the hydrophilicity (drying unevenness) and water resistance (rust resistance) of the coating film are further improved.

ポリオキシアルキレン化合物(Y)のうち、一般式(3)で表されるポリオキシアルキレン化合物(Y3)は、非還元性の二又は三糖類(a1)1モル部と、炭素数2〜4のアルキレンオキシド(a2)20〜100モル部との化学反応(1)から化合物(a12)を得る工程(1);
炭素数2〜15のグリコール(a5)1モル部と炭素数2〜4のアルキレンオキシド(a2)10〜40モル部との化学反応(5)から化合物(a52)を得る工程(5);
化合物(a12)1モル部と、化合物(a52)0.5〜0.67モル部と、炭素数10〜50のジグリシジルエーテル(a4)1〜1.33モル部との化学反応(6)から化合物(a12524)を得る工程(6);及び
化合物(a12524)とエピハロヒドリン(a3)1〜3モル部との化学反応(7)からポリオキシアルキレン化合物(Y3)を得る工程(7)を含む方法(3)等により製造できる。
Among the polyoxyalkylene compounds (Y), the polyoxyalkylene compound (Y3) represented by the general formula (3) has 1 mol part of a non-reducing di- or trisaccharide (a1) and 2 to 4 carbon atoms. Step (1) of obtaining compound (a12) from chemical reaction (1) with 20 to 100 parts by mole of alkylene oxide (a2);
A step (5) of obtaining a compound (a52) from a chemical reaction (5) of 1 mol part of a glycol having 2 to 15 carbon atoms (a5) and 10 to 40 mol parts of an alkylene oxide having 2 to 4 carbon atoms (a2);
Chemical reaction (1) of 1 mol part of compound (a12), 0.5 to 0.67 mol part of compound (a52) and 1 to 1.33 mol part of diglycidyl ether (a4) having 10 to 50 carbon atoms A step (6) of obtaining a compound (a12524) from the above (6); and a step (7) of obtaining a polyoxyalkylene compound (Y3) from a chemical reaction (7) of 1 to 3 mole parts of the compound (a12524) and epihalohydrin (a3). It can be produced by the method (3) or the like.

グリコール(a5)としては、炭素数2〜9の脂肪族ジオール及び炭素数6〜15の芳香族ジオールが含まれる。   The glycol (a5) includes an aliphatic diol having 2 to 9 carbon atoms and an aromatic diol having 6 to 15 carbon atoms.

炭素数2〜9の脂肪族ジオールとしては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ブチレングリコール、ヘキサメチレングリコール、シクロヘキシレングリコール、ヒドロキシメチルシクロへキシルメチルアルコール、メチルシクロヘキシレングリコール及びトリメチルシクロヘキシレングリコール等が挙げられる。   Examples of the aliphatic diol having 2 to 9 carbon atoms include ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, butylene glycol, hexamethylene glycol, cyclohexylene glycol, hydroxymethylcyclohexylmethyl alcohol, methylcyclohexylene glycol and trimethylcyclohexyl. Examples include silylene glycol.

炭素数6〜15の芳香族ジオールとしては、ヒドロキノン、レゾルシノール、ジヒドロキシトルエン、ジヒドロキシエチルベンゼン、ジヒドロキシテトラメチルベンゼン、キシリレングリコール、ジヒロドキシナフタレン、ジヒドロキシビフェニル、ジヒドロキシジメチルビフェニル、ジヒドロキシアントラセン、ジヒドロキシフェナントレン、ビスフェノールF及びビスフェノールA等が挙げられる。   Examples of the aromatic diol having 6 to 15 carbon atoms include hydroquinone, resorcinol, dihydroxytoluene, dihydroxyethylbenzene, dihydroxytetramethylbenzene, xylylene glycol, dihydroxynaphthalene, dihydroxybiphenyl, dihydroxydimethylbiphenyl, dihydroxyanthracene, dihydroxyphenanthrene, Examples thereof include bisphenol F and bisphenol A.

これらグリコール(a5)のうち、エチレングリコール、プロピレングリコール、ヘキサメチレングリコール及び-ビスフェノールAが好ましく、さらに好ましくはプロピレングリコールである。   Of these glycols (a5), ethylene glycol, propylene glycol, hexamethylene glycol and -bisphenol A are preferable, and propylene glycol is more preferable.

工程(5)において、アルキレンオキシド(a2)の使用量(モル部)としては、グリコール(a5)1モル部に対して、10〜40が好ましく、さらに好ましくは14〜40、特に好ましくは14〜36、最も好ましくは20〜30である。この範囲であると、塗膜の親水性(耐乾きムラ性)及び耐水性(防錆性)がさらに良好となる。   In the step (5), the amount (mole part) of the alkylene oxide (a2) used is preferably 10 to 40, more preferably 14 to 40, particularly preferably 14 to 1 part by mole of the glycol (a5). 36, most preferably 20-30. Within this range, the hydrophilicity (drying unevenness) and water resistance (rust resistance) of the coating film are further improved.

工程(6)において、化合物(a52)の使用量(モル部)としては、化合物(a12){非還元性の二又は三糖類(a1)}1モル部に対して、0.5〜0.67が好ましく、さらに好ましくは0.5〜0.65、特に好ましくは0.55〜0.65、最も好ましくは0.55〜0.63である。この範囲であると、塗膜の親水性(耐乾きムラ性)及び耐水性(防錆性)がさらに良好となる。   In the step (6), the amount of the compound (a52) used (mole parts) is 0.5 to 0.00 with respect to 1 mol part of the compound (a12) {non-reducing di- or trisaccharide (a1)}. 67 is preferable, more preferably 0.5 to 0.65, particularly preferably 0.55 to 0.65, and most preferably 0.55 to 0.63. Within this range, the hydrophilicity (drying unevenness) and water resistance (rust resistance) of the coating film are further improved.

工程(6)において、炭素数10〜50のジグリシジルエーテル(a4)の使用量(モル部)としては、化合物(a12){非還元性の二又は三糖類(a1)}1モル部に対して、1〜1.33が好ましく、さらに好ましくは1〜1.3、特に好ましくは1.05〜1.3、最も好ましくは1.05〜1.25である。この範囲であると、塗膜の耐水性がさらに良好となる。   In the step (6), the amount (mole part) of the diglycidyl ether having 10 to 50 carbon atoms (a4) is used relative to 1 part by mole of the compound (a12) {non-reducing disaccharide or trisaccharide (a1)}. 1 to 1.33 is preferable, more preferably 1 to 1.3, particularly preferably 1.05 to 1.3, and most preferably 1.05 to 1.25. Within this range, the water resistance of the coating film is further improved.

非還元性の二又は三糖類(a1)又はグリコール(a5)と、アルキレンオキシド(a2)との付加反応には、公知の方法(特開2004−224945号公報等)等が適用でき、アニオン重合、カチオン重合又は配位アニオン重合等のいずれの形式で実施してもよい。また、これらの重合形式は単独でも、重合度等に応じて組み合わせて用いてもよい。   For the addition reaction between the non-reducing di- or trisaccharide (a1) or glycol (a5) and the alkylene oxide (a2), a known method (JP 2004-224945 A) or the like can be applied, and anionic polymerization , Cationic polymerization or coordinated anionic polymerization may be used. These polymerization forms may be used alone or in combination according to the degree of polymerization.

アルキレンオキシド(a2)の付加反応には公知の反応触媒(特開2004−224945号公報等)等が使用できる。なお、反応溶媒として以下に説明するアミドを用いる場合には反応触媒を用いる必要がない。   For the addition reaction of alkylene oxide (a2), a known reaction catalyst (JP 2004-224945 A) can be used. In addition, when using the amide demonstrated below as a reaction solvent, it is not necessary to use a reaction catalyst.

反応触媒を使用する場合、その使用量(重量%)は、非還元性の二又は三糖類(a1)又はグリコール(a5)とアルキレンオキシド(a2)との合計重量に基づいて、0.01〜1が好ましく、さらに好ましくは0.03〜0.8、特に好ましくは0.05〜0.6である。この範囲であると、経済性(製造の所要時間及び触媒コスト等)及び生成物の純度(単分散性等)等がさらに良好となる。   When a reaction catalyst is used, the amount used (% by weight) is 0.01 to based on the total weight of the non-reducing disaccharide or trisaccharide (a1) or glycol (a5) and the alkylene oxide (a2). 1 is preferable, 0.03 to 0.8 is more preferable, and 0.05 to 0.6 is particularly preferable. When it is within this range, the economy (required production time, catalyst cost, etc.), the purity of the product (monodispersity, etc.), etc. are further improved.

反応触媒を使用する場合、反応触媒は最終的に反応生成物から除去することが好ましく、除去方法としては、合成アルミノシリケートなどのアルカリ吸着剤{例えば、商品名:キョーワード700、協和化学工業(株)製}を用いる方法(特開昭53−123499号公報等)、キシレン又はトルエン等の溶媒に溶かして水洗する方法(特公昭49−14359号公報等)、イオン交換樹脂を用いる方法(特開昭51−23211号公報等)及びアルカリ性触媒を炭酸ガスで中和して生じる炭酸塩を濾過する方法(特公昭52−33000号公報)等が挙げられる。   When the reaction catalyst is used, it is preferable to finally remove the reaction catalyst from the reaction product. As the removal method, an alkali adsorbent such as a synthetic aluminosilicate {for example, trade name: Kyoward 700, Kyowa Chemical Industry ( Manufactured by the same company) (Japanese Patent Laid-Open No. 53-123499, etc.), a method of dissolving in a solvent such as xylene or toluene and washing with water (Japanese Patent Publication No. 49-14359, etc.), a method using an ion exchange resin (special And a method of filtering a carbonate formed by neutralizing an alkaline catalyst with carbon dioxide (Japanese Patent Publication No. 52-33000).

反応触媒の除去の終点としては、JIS K1557−4:2007に記載のCPR(Controlled Polymerization Rate)値が20以下であることが好ましく、さらに好ましくは10以下、特に好ましくは5以下、最も好ましくは2以下である。   As the end point of removal of the reaction catalyst, the CPR (Controlled Polymerization Rate) value described in JIS K1557-4: 2007 is preferably 20 or less, more preferably 10 or less, particularly preferably 5 or less, and most preferably 2. It is as follows.

反応には公知の反応容器(特開2004−224945号公報等)等が使用できる。反応雰囲気としては、アルキレンオキシド(a2)を反応系に導入する前に反応装置内を真空または乾燥した不活性気体(アルゴン、窒素及び二酸化炭素等)の雰囲気下とすることが好ましい。また、反応温度(℃)としては80〜150が好ましく、さらに好ましくは90〜130である。反応圧力(ゲージ圧:MPa、以下同じ)は0.8以下が好ましく、さらに好ましくは0.5以下である。   A known reaction vessel (JP 2004-224945 A) or the like can be used for the reaction. As the reaction atmosphere, it is preferable that the inside of the reaction apparatus is evacuated or dried in an inert gas atmosphere (such as argon, nitrogen and carbon dioxide) before introducing the alkylene oxide (a2) into the reaction system. Moreover, as reaction temperature (degreeC), 80-150 are preferable, More preferably, it is 90-130. The reaction pressure (gauge pressure: MPa, hereinafter the same) is preferably 0.8 or less, more preferably 0.5 or less.

反応終点の確認は、次の方法等により行うことができる。すなわち、反応温度を15分間一定に保ったとき、反応圧力の低下が0.001MPa以下となれば反応終点とする。所要反応時間は通常4〜12時間である。   The end point of the reaction can be confirmed by the following method. That is, when the reaction temperature is kept constant for 15 minutes, the reaction end point is determined when the decrease in the reaction pressure becomes 0.001 MPa or less. The required reaction time is usually 4 to 12 hours.

アルキレンオキシド(a2)の付加反応の工程には、反応溶媒を用いることができる。反応溶媒としては、活性水素を持たないものが好ましく、さらに好ましくは非還元性の二又は三糖類(a1)又はグリコール(a5)、アルキレンオキシド(a2)及び(a2)との反応により生成する生成物を溶解するものが好ましい。   A reaction solvent can be used in the step of the addition reaction of alkylene oxide (a2). As the reaction solvent, those having no active hydrogen are preferable, and more preferable is a product formed by reaction with non-reducing di- or trisaccharide (a1) or glycol (a5), alkylene oxide (a2) and (a2). Those that dissolve the product are preferred.

このような反応溶媒としては、炭素数3〜8のアルキルアミド及び炭素数5〜7の複素環式アミド等が使用できる。   As such a reaction solvent, alkyl amides having 3 to 8 carbon atoms and heterocyclic amides having 5 to 7 carbon atoms can be used.

アルキルアミドとしては、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジエチルアセトアミド、N−メチル−N−プロピルアセトアミド及び2−ジメチルアミノアセトアルデヒドジメチルアセタール等が挙げられる。   Examples of the alkylamide include N, N-dimethylformamide (DMF), N, N-dimethylacetamide, N, N-diethylacetamide, N-methyl-N-propylacetamide, 2-dimethylaminoacetaldehyde dimethylacetal and the like.

複素環式アミドとしては、N−メチルピロリドン、N−メチル−ε−カプロラクタム及びN,N−ジメチルピロールカルボン酸アミド等が挙げられる。   Examples of the heterocyclic amide include N-methylpyrrolidone, N-methyl-ε-caprolactam, and N, N-dimethylpyrrolecarboxylic acid amide.

これらのうち、アルキルアミド及びN−メチルピロリドンが好ましく、さらに好ましくはDMF、N,N−ジメチルアセトアミド及びN−メチルピロリドン、特に好ましくはDMF及びN−メチルピロリドン、最も好ましくはDMFである。   Of these, alkylamide and N-methylpyrrolidone are preferred, DMF, N, N-dimethylacetamide and N-methylpyrrolidone are more preferred, DMF and N-methylpyrrolidone are most preferred, and DMF is most preferred.

反応溶媒を用いる場合、その使用量(重量%)は、非還元性の二又は三糖類(a1)又はグリコール(a5)及びアルキレンオキシド(a2)の重量に基づいて、20〜200が好ましく、さらに好ましくは40〜180、特に好ましくは60〜150である。   When using a reaction solvent, the amount used (% by weight) is preferably 20 to 200 based on the weight of the non-reducing di- or trisaccharide (a1) or glycol (a5) and alkylene oxide (a2), Preferably it is 40-180, Most preferably, it is 60-150.

反応溶媒を用いた場合、反応後に反応溶媒を除去することが好ましい。反応溶媒の残存量(重量%)は、非還元性の二又は三糖類(a1)又はグリコール(a5)及びアルキレンオキシド(a2)の重量に基づいて、0.1以下であることが好ましく、さらに好ましくは0.05以下、特に好ましくは0.01以下である。なお、反応溶媒の残存量は、内部標準物質を用いるガスクロマトグラフィー法にて求めることができる。   When a reaction solvent is used, it is preferable to remove the reaction solvent after the reaction. The residual amount (% by weight) of the reaction solvent is preferably 0.1 or less based on the weight of the non-reducing di- or trisaccharide (a1) or glycol (a5) and the alkylene oxide (a2). Preferably it is 0.05 or less, Most preferably, it is 0.01 or less. The residual amount of the reaction solvent can be determined by gas chromatography using an internal standard substance.

反応溶媒の除去方法としては、特開2005−132916号公報に記載の方法などが挙げられる。   Examples of the method for removing the reaction solvent include the method described in JP-A-2005-132916.

化合物(a12)、化合物(a124)又は化合物(a12524)と、エピハロヒドリン(a3)との反応は、塩基性物質による脱ハロゲン化水素反応(Williamson合成反応:反応中に逐次生成するハロゲン化水素を塩基性物質により中和することにより反応を駆動する)等が利用できる。   The reaction between the compound (a12), the compound (a124) or the compound (a12524) and the epihalohydrin (a3) is carried out by a dehydrohalogenation reaction with a basic substance (Williamson synthesis reaction: a hydrogen halide generated sequentially during the reaction as a base The reaction is driven by neutralizing with a chemical substance).

反応条件としては、例えば窒素雰囲気下、攪拌しつつ反応温度を40〜80℃とすることが挙げられる。   As reaction conditions, for example, the reaction temperature is set to 40 to 80 ° C. with stirring in a nitrogen atmosphere.

この反応に用いることのできる塩基性物質としては、例えば、アルカリ金属若しくはアルカリ土類金属の水酸化物(水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化ルビジウム、水酸化セシウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム及び水酸化バリウム等)、アルカリ金属のアルコラート(炭素数1〜2:ナトリウムメチラート及びカリウムエチラート等)、アルカリ金属若しくはアルカリ土類金属の炭酸塩(炭酸ナトリウム、炭酸カリウム及び炭酸バリウム等)等が挙げられる。これらのうち、アルカリ金属の水酸化物が好ましく、さらに好ましくは水酸化ナトリウム及び水酸化カリウム、特に好ましくは水酸化ナトリウムである。   Examples of basic substances that can be used in this reaction include alkali metal or alkaline earth metal hydroxides (lithium hydroxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide, rubidium hydroxide, cesium hydroxide, magnesium hydroxide). , Calcium hydroxide and barium hydroxide, etc.), alkali metal alcoholates (C 1-2: sodium methylate and potassium ethylate, etc.), alkali metal or alkaline earth metal carbonates (sodium carbonate, potassium carbonate and carbonic acid) Barium etc.). Of these, alkali metal hydroxides are preferred, sodium hydroxide and potassium hydroxide are more preferred, and sodium hydroxide is particularly preferred.

この場合、塩基性物質の使用量は、塩基性物質の塩基当量(eq.)/ハロゲン化炭化水素のハロゲンの当量(eq.)比が、0.9〜1.1となる量が好ましく、さらに好ましくは0.95〜1.05となる量である。   In this case, the amount of the basic substance used is preferably such that the base equivalent (eq.) Of the basic substance / halogen equivalent (eq.) Ratio of the halogenated hydrocarbon is 0.9 to 1.1. The amount is more preferably 0.95 to 1.05.

反応終了後は生成した中和塩及び(残存する場合には)塩基性物質を除去することが好ましく、その方法としては、(1)塩基性物質が残存する場合にはまず酸性物質を用いて中和する。次いで中和塩等を濾過により取り除く方法、(2)まず生成した中和塩等を濾過により取り除き、次いで残存する塩基性物質等を吸着剤等を用いて除去する方法、(3)有機溶剤による抽出する方法等が適用できる。   After completion of the reaction, it is preferable to remove the formed neutralized salt and the basic substance (if remaining). (1) When the basic substance remains, first use an acidic substance. Neutralize. Next, a method for removing neutralized salts, etc. by filtration, (2) a method for removing first produced neutralized salts, etc. by filtration, and then a method for removing remaining basic substances using an adsorbent, etc., (3) by an organic solvent An extraction method or the like can be applied.

(1)の方法のうち、残存する塩基性物質を中和するには、鉱酸(塩酸、硫酸、硝酸及び燐酸など)、有機酸(蟻酸、酢酸、プロピオン酸、安息香酸、サリチル酸、テレフタル酸、シュウ酸、マロン酸、アジピン酸、コハク酸、乳酸など)が用いることが出来る。これらとの中和塩は濾過により除去する。   Among the methods of (1), in order to neutralize the remaining basic substances, mineral acids (hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, phosphoric acid, etc.), organic acids (formic acid, acetic acid, propionic acid, benzoic acid, salicylic acid, terephthalic acid) Oxalic acid, malonic acid, adipic acid, succinic acid, lactic acid, etc.) can be used. Neutralized salts with these are removed by filtration.

(2)の方法のうち、吸着剤等を用いて除去する方法は、アルキレンオキシド(a2)の付加反応の反応触媒の除去と同様にして除去できる。   Of the methods (2), the method using an adsorbent or the like can be removed in the same manner as the removal of the reaction catalyst for the addition reaction of alkylene oxide (a2).

(3)の抽出する方法とは、反応生成物に水と有機溶剤(ヘキサン、トルエン、キシレン等の水に対する溶解性の極めて低いもの)とを加え、振とうすることにより反応生成物を有機溶剤層に抽出し、中和塩及び塩基性物質を水層に分離する方法である。なお、有機溶剤層は、さらに脱イオン水等で洗浄することが好ましい。反応生成物:水:有機溶剤の体積比はほぼ1:1:1が適当である。このとき、水に対して1〜5重量%の食塩を加えると水相と有機相の分離性が改善されることがある。(3)の場合、最終的には(2)の方法を併用して中和塩及び塩基性物質を完全に除去することが好ましい。   The extraction method of (3) is to add water and an organic solvent (having very low solubility in water such as hexane, toluene, xylene, etc.) to the reaction product and shake the reaction product to remove the organic solvent. In this method, a neutralized salt and a basic substance are separated into an aqueous layer by extraction into a layer. The organic solvent layer is preferably further washed with deionized water or the like. A suitable volume ratio of reaction product: water: organic solvent is approximately 1: 1: 1. At this time, if 1 to 5% by weight of sodium chloride is added to water, the separation between the aqueous phase and the organic phase may be improved. In the case of (3), it is preferable to finally remove the neutralized salt and the basic substance by using the method of (2) together.

塩基性物質の除去の終点としては、JIS K1557−4:2007に記載のCPR(Controlled Polymerization Rate)値が20以下であることが好ましく、さらに好ましくは10以下、特に好ましくは5以下、最も好ましくは2以下である。   As the end point of the removal of the basic substance, the CPR (Controlled Polymerization Rate) value described in JIS K1557-4: 2007 is preferably 20 or less, more preferably 10 or less, particularly preferably 5 or less, most preferably 2 or less.

さらに水分を除去することが好ましい。この場合、減圧{ゲージ圧(以下同じ)−0.05〜−0.098MPa}下100〜130℃にて1〜2時間脱水する。生成物中の水分は0.1重量%以下、さらには0.05重量%以下とすることが好ましい。   Further, it is preferable to remove moisture. In this case, dehydration is performed at 100 to 130 ° C. under reduced pressure {gauge pressure (hereinafter the same) −0.05 to −0.098 MPa} for 1 to 2 hours. The water content in the product is preferably 0.1% by weight or less, more preferably 0.05% by weight or less.

なお、水分は、公知の方法で測定することができ、例えばKarl Fischer法(JIS K0113:2005、電量滴定方法)や、熱乾燥による重量減(例えば試料0.5gを130℃で1時間乾燥し、その前後の重量変化)により求めることができる。   Moisture can be measured by a known method. For example, Karl Fischer method (JIS K0113: 2005, coulometric titration method) or weight loss by thermal drying (for example, 0.5 g of a sample is dried at 130 ° C. for 1 hour). , Weight change before and after that).

反応容器としては、加熱、冷却及び撹拌及び滴下(圧入)が可能な反応容器を用いることが好ましい。反応雰囲気としては、エピハロヒドリン(a3)を反応系に導入する前に反応装置内を真空または乾燥した不活性気体(アルゴン、窒素及び二酸化炭素等)の雰囲気とすることが好ましい。また、反応温度(℃)としては40〜80が好ましく、さらに好ましくは50〜70である。   As the reaction vessel, it is preferable to use a reaction vessel capable of heating, cooling, stirring and dropping (press-fitting). The reaction atmosphere is preferably an atmosphere of inert gas (such as argon, nitrogen and carbon dioxide) in which the inside of the reaction apparatus is vacuumed or dried before introducing the epihalohydrin (a3) into the reaction system. Moreover, as reaction temperature (degreeC), 40-80 are preferable, More preferably, it is 50-70.

反応終点の確認は、次の方法等により行うことができる。すなわち、反応液のpHを測定し7〜9となれば反応終点とする。所要反応時間は通常4〜8時間である。   The end point of the reaction can be confirmed by the following method. That is, when the pH of the reaction solution is measured and becomes 7 to 9, the reaction is terminated. The required reaction time is usually 4-8 hours.

以上の方法により製造されるポリオキシアルキレン化合物(Y)は、オキシアルキレン基やqの数等に分布を生じる場合があり、この場合、厳密には複数種類のポリオキシアルキレン化合物の混合物となり、この混合物の中に、一般式(1)〜(3)のいずれかで表されるポリオキシアルキレン化合物が含まれるものである。なお、この場合でも製造方法を限定するものではない。   The polyoxyalkylene compound (Y) produced by the above method may have a distribution in the number of oxyalkylene groups, q, etc. In this case, strictly speaking, it becomes a mixture of a plurality of types of polyoxyalkylene compounds. A polyoxyalkylene compound represented by any one of the general formulas (1) to (3) is contained in the mixture. Even in this case, the manufacturing method is not limited.

一般式(1)〜(3)のいずれかで表されるポリオキシアルキレン化合物(Y)のうち、一般式(1)で表されるポリオキシアルキレン化合物(Y1)としては、表1で示した原料{非還元性の二又は三糖類(a1)、アルキレンオキシド(a2)及びエピハロヒドリン(a3)}を用いて製造される化合物等が好ましく例示できる。   Among the polyoxyalkylene compounds (Y) represented by any one of the general formulas (1) to (3), the polyoxyalkylene compound (Y1) represented by the general formula (1) is shown in Table 1. Preferred examples include compounds produced using raw materials {non-reducing di- or trisaccharide (a1), alkylene oxide (a2) and epihalohydrin (a3)}.

Figure 2012107088
Figure 2012107088

なお、Q1は蔗糖を、Q2はトレハロースを、Q3はメレチトースを表し、Pはプロピレンオキシドを、Eはエチレンオキシドを、Bはブチレンオキシドを、これらの添え字はそれぞれ、非還元性のニ又は三糖類1モルに対するモル数を、/はブロック状を、・はランダム状を表し、ECHはエピクロルヒドリンを表し、この添え字はそれぞれ、非還元性のニ又は三糖類1モルに対するモル数を表す。   Q1 represents sucrose, Q2 represents trehalose, Q3 represents meletitose, P represents propylene oxide, E represents ethylene oxide, B represents butylene oxide, and these subscripts are non-reducing di- or trisaccharides, respectively. The number of moles per mole, / represents a block shape, • represents a random shape, ECH represents epichlorohydrin, and the subscript represents the number of moles per mole of non-reducing di- or trisaccharide.

一般式(1)〜(3)のいずれかで表されるポリオキシアルキレン化合物(Y)のうち、一般式(2)で表されるポリオキシアルキレン化合物(Y2)としては、表2で示した原料{非還元性の二又は三糖類(a1)、アルキレンオキシド(a2)、エピハロヒドリン(a3)及びジグリシジルエーテル(a4)}を用いて製造される化合物等が好ましく例示できる。   Among the polyoxyalkylene compounds (Y) represented by any one of the general formulas (1) to (3), the polyoxyalkylene compound (Y2) represented by the general formula (2) is shown in Table 2. Preferred examples include compounds produced using raw materials {non-reducing di- or trisaccharide (a1), alkylene oxide (a2), epihalohydrin (a3) and diglycidyl ether (a4)}.

Figure 2012107088
Figure 2012107088


なお、Q1、Q2、Q3、P、E、B、/、・、ECH、添え字は表1と同様である。また、αはポリオキシエチレン(1.5モル)・ポリオキシプロピレン(15モル)・ポリオキシエチレン(1.5モル)グリコール(ポリオキシプロピレングリコールのエチレンオキシド付加体;プルロニックタイプ)のジグリシジルエーテルを、βは1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、γはポリオキシプロピレングリコール(3モル)ジグリシジルエーテルを、δはポリオキシプロピレングリコール(7モル)ジグリシジルエーテルを、添え字はそれぞれ、非還元性のニ又は三糖類1モルに対するモル数をを表す。   Q1, Q2, Q3, P, E, B, /,..., ECH, and suffixes are the same as those in Table 1. Α is diglycidyl ether of polyoxyethylene (1.5 mol), polyoxypropylene (15 mol), polyoxyethylene (1.5 mol) glycol (ethylene oxide adduct of polyoxypropylene glycol; pluronic type). , Β is 1,6-hexanediol diglycidyl ether, γ is polyoxypropylene glycol (3 mol) diglycidyl ether, δ is polyoxypropylene glycol (7 mol) diglycidyl ether, and the subscript is non-reducing. It represents the number of moles per mole of the sex di- or trisaccharide.

一般式(1)〜(3)のいずれかで表されるポリオキシアルキレン化合物(Y)のうち、一般式(3)で表されるポリオキシアルキレン化合物(Y3)としては、表3で示した原料{非還元性の二又は三糖類(a1)、アルキレンオキシド(a2)、エピハロヒドリン(a3)、ジグリシジルエーテル(a4)及びグリコール(a5)}を用いて製造される化合物等が好ましく例示できる。   Among the polyoxyalkylene compounds (Y) represented by any one of the general formulas (1) to (3), the polyoxyalkylene compound (Y3) represented by the general formula (3) is shown in Table 3. Preferred examples include compounds produced using raw materials {non-reducing disaccharides or trisaccharides (a1), alkylene oxides (a2), epihalohydrins (a3), diglycidyl ethers (a4) and glycols (a5)}.

Figure 2012107088
Figure 2012107088


なお、Q1、Q2、Q3、P、E、B、/、・、ECH、α、β、γ、δ及びこれらの添え字は表1、2と同様である。
また、DEGはジエチレングリコールを、DPGはジプロピレングリコール、HGはヘキサメチレングリコール、BPAはビスフェノールAを表し、これらの添え字は、それぞれ、非還元性のニ又は三糖類1モルに対するモル数を表す。
ただし、アルキレンオキシド(a2)の欄に記載された添え字は、表1、2と同様であるが、アルキレンオキシド(a2)’に記載された添え字は、グリコール1モルに対するモル数を表す。
Q1, Q2, Q3, P, E, B, /,..., ECH, α, β, γ, δ and their subscripts are the same as those in Tables 1 and 2.
Further, DEG represents diethylene glycol, DPG represents dipropylene glycol, HG represents hexamethylene glycol, and BPA represents bisphenol A, and these subscripts represent the number of moles relative to 1 mol of the non-reducing di- or trisaccharide, respectively.
However, the subscript described in the column of alkylene oxide (a2) is the same as in Tables 1 and 2, but the subscript described in alkylene oxide (a2) ′ represents the number of moles relative to 1 mol of glycol.

これらのうち、No.3、4、6、7、11、14、15、16、21、24、25、30、32、36又は40で表されるポリオキシアルキレン化合物が好ましく、さらに好ましくはNo.7、15、30又は36で表されるポリオキシアルキレン化合物である。   Of these, No. 3, 4, 6, 7, 11, 14, 15, 16, 21, 24, 25, 30, 32, 36 or 40 are preferred, and more preferably It is a polyoxyalkylene compound represented by 7, 15, 30 or 36.

ポリオキシアルキレン化合物(Y)のエポキシ当量(g/eq.)は、2,000〜10,000が好ましく、さらに好ましくは2,500〜9,000、特に好ましくは3,000〜8,000、最も好ましくは3,000〜7,000である。この範囲であると、塗膜の親水性(耐乾きムラ性)及び耐水性(防錆性)がさらに良好となる。   The epoxy equivalent (g / eq.) Of the polyoxyalkylene compound (Y) is preferably 2,000 to 10,000, more preferably 2,500 to 9,000, particularly preferably 3,000 to 8,000, Most preferably, it is 3,000-7,000. Within this range, the hydrophilicity (drying unevenness) and water resistance (rust resistance) of the coating film are further improved.

本発明の樹脂改質剤は、水性樹脂及び非水性樹脂のいずれにも適用することができる。これらのうち、水性樹脂に好適であり、さらに水性エポキシ樹脂、水性ウレタン樹脂、水性ポリエステル樹脂等に好適であり、特にカチオン電着塗料用樹脂、焼付け塗料用樹脂等に適している。これらの水性樹脂の数平均分子量は500〜10000程度が好ましい。   The resin modifier of the present invention can be applied to both aqueous and non-aqueous resins. Among these, it is suitable for water-based resins, further suitable for water-based epoxy resins, water-based urethane resins, water-based polyester resins, and the like, and particularly suitable for resins for cationic electrodeposition paints and resins for baking paints. The number average molecular weight of these aqueous resins is preferably about 500 to 10,000.

本発明の樹脂改質剤を用いて樹脂を改質する方法としては、水性樹脂又は非水性樹脂に含まれれば制限はないが、樹脂を合成する段階から含有することが好ましく、反応成分(単量体)の一つとして用いることが好ましい。   The method of modifying the resin using the resin modifier of the present invention is not limited as long as it is contained in an aqueous resin or non-aqueous resin, but it is preferably contained from the stage of synthesizing the resin, and the reaction component (simple It is preferable to use as one of (mer).

本発明の樹脂改質剤の使用量(重量%)としては、樹脂及び樹脂改質剤の重量に基づいて、5〜40が好ましく、さらに好ましくは7〜38、特に好ましくは7〜35、より特に好ましくは10〜33、最も好ましくは10〜30である。この範囲であると本発明の樹脂改質剤を含んでなる改質樹脂組成物を用いて製造される塗料の耐乾きムラ性がさらに良好となり、さらに塗膜の耐水性等(樹脂の持つ本来の耐水性)に悪影響を与えにくくなる。   The use amount (% by weight) of the resin modifier of the present invention is preferably 5 to 40, more preferably 7 to 38, particularly preferably 7 to 35, based on the weight of the resin and the resin modifier. Especially preferably, it is 10-33, Most preferably, it is 10-30. Within this range, the dryness unevenness of the coating produced using the modified resin composition comprising the resin modifier of the present invention is further improved, and the water resistance of the coating film (the inherent property of the resin) It is difficult to adversely affect the water resistance).

本発明の樹脂改質剤は、塗料に適している。塗料のうち、水性塗料に好適であり、さらにカチオン電着塗料、焼付け塗料に適している。   The resin modifier of the present invention is suitable for paints. Among the paints, it is suitable for water-based paints, and further suitable for cationic electrodeposition paints and baking paints.

本発明の樹脂改質剤を塗料に適用する場合、本発明の樹脂改質剤の含有量(重量%)は、塗料及び樹脂改質剤の重量に基づいて、0.5〜5が好ましく、さらに好ましくは1〜3である。   When the resin modifier of the present invention is applied to a paint, the content (% by weight) of the resin modifier of the present invention is preferably 0.5 to 5 based on the weight of the paint and the resin modifier, More preferably, it is 1-3.

本発明の樹脂改質剤と樹脂とを含有してなる改質樹脂組成物は、塗料に適している。塗料のうち、水性塗料に好適であり、さらにカチオン電着塗料に適している。   The modified resin composition comprising the resin modifier of the present invention and a resin is suitable for a paint. Among the paints, it is suitable for water-based paints and further suitable for cationic electrodeposition paints.

本発明の樹脂改質剤を用いた塗料は、通常の方法により被塗装体に塗装することができ、電着塗装、ハケ塗り、ローラー塗装、エアスプレー塗装、エアレス塗装、ロールコーター塗装及びフローコーター塗装等の塗装方法等が適用できる。   The coating material using the resin modifier of the present invention can be applied to an object to be coated by an ordinary method, and is electrodeposition coating, brush coating, roller coating, air spray coating, airless coating, roll coater coating and flow coater. A painting method such as painting can be applied.

以下、実施例により本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。尚、部及び%はそれぞれ重量部、重量%を表す。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited to this. Parts and% represent parts by weight and% by weight, respectively.

<製造例1>
攪拌、加熱、冷却、滴下、窒素による加圧及び真空ポンプによる減圧の可能な耐圧反応容器に、精製グラニュー糖{台糖(株)製、以下同じ}を342部(1モル部)、DMF{三菱ガス化学(株)製、以下同じ}1000部を投入した後、窒素ガスを用いて、ゲージ圧で0.4MPaになるまで加圧し0.02MPaになるまで排出する操作を3回繰り返した(以下、窒素置換と称す)。その後攪拌しつつ100℃まで昇温した後、この温度にてEO176部(4モル部)を2時間かけて滴下し、さらにPO1740部(30モル部)を8時間かけて滴下し、さらに同温度にて3時間攪拌を続けて残存するPOを反応させた。次いで120℃にて減圧下にてDMFを除去し、蔗糖/EO4モル/PO30モル付加物(B1)を得た。
<Production Example 1>
In a pressure-resistant reaction vessel capable of stirring, heating, cooling, dropping, pressurizing with nitrogen, and depressurization with a vacuum pump, 342 parts (1 mol part) of purified granulated sugar {manufactured by Taiyo Co., Ltd., hereinafter the same}, DMF {Mitsubishi After supplying 1000 parts by Gas Chemical Co., Ltd., the same applies hereinafter, the operation of pressurizing with nitrogen gas to 0.4 MPa with a gauge pressure and discharging to 0.02 MPa was repeated three times (hereinafter, , Referred to as nitrogen substitution). Thereafter, the temperature was raised to 100 ° C. with stirring, and at this temperature, 176 parts (4 mol parts) of EO was added dropwise over 2 hours, and 1740 parts (30 mol parts) of PO were further added dropwise over 8 hours. Stirring was continued for 3 hours to react the remaining PO. Next, DMF was removed under reduced pressure at 120 ° C. to obtain an adduct (B1) of sucrose / EO 4 mol / PO 30 mol.

上記と同様な耐圧反応容器に、蔗糖/EO4モル/PO30モル付加物(B1)2258部(1モル部)及び、水酸化カリウム{試薬特級、和光純薬工業(株)製、使用量は水分を除いた純分換算量で表示した。以下同じ。}8部を加えて窒素置換を3回繰り返し、さらに120℃にて0.6〜1.3kPaの減圧下にて脱水した。次いで減圧のまま100℃にて、PO2088部(36モル部)を6時間かけて滴下し、さらに120℃にて4時間攪拌を続けた。次いで90℃にて脱イオン水50部を加えた後、キョーワード700を150部を加え、同温度にて1時間攪拌した。次いで同温度にてNo.2濾紙{東洋濾紙(株)製}を用いて濾過してキョーワード700を取り除き、さらに1.3〜2.7kPaの減圧下120℃にて1時間脱水(以下、キョーワード処理及び脱水と略する。)して、蔗糖/EO4モル/PO66モル付加物(S1)を得た。   In a pressure-resistant reaction vessel similar to the above, sucrose / EO 4 mol / PO 30 mol adduct (B1) 2258 parts (1 mol part) and potassium hydroxide {reagent special grade, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd. The amount is expressed as a net equivalent amount excluding. same as below. } 8 parts were added and nitrogen substitution was repeated 3 times, and further dehydrated at 120 ° C. under reduced pressure of 0.6 to 1.3 kPa. Subsequently, PO2088 parts (36 mol parts) were added dropwise over 6 hours at 100 ° C. with reduced pressure, and stirring was further continued at 120 ° C. for 4 hours. Next, after adding 50 parts of deionized water at 90 ° C., 150 parts of Kyoward 700 was added and stirred at the same temperature for 1 hour. Next, at the same temperature, no. The filter was filtered using 2 filter papers {manufactured by Toyo Filter Paper Co., Ltd.} to remove Kyoward 700, and dehydrated at 120 ° C. under reduced pressure of 1.3 to 2.7 kPa for 1 hour (hereinafter abbreviated as Kyoward treatment and dehydration) To obtain an adduct (S1) of sucrose / EO 4 mol / PO 66 mol.

<製造例2>
製造例1と同様な耐圧反応容器に、精製グラニュー糖{台糖(株)製、以下同じ}を342部(1モル部)、DMF1000部を投入した後、窒素置換を実施した。その後攪拌しつつ100℃まで昇温した後、この温度にてEO88部(2モル部)を1時間かけて滴下し、さらにPO1740部(30モル部)を8時間かけて滴下し、さらに同温度にて3時間攪拌を続けて残存するPOを反応させた。次いで120℃にて減圧下にてDMFを除去し、蔗糖/EO2モル/PO30モル付加物(B2)を得た。
<Production Example 2>
Into a pressure-resistant reaction vessel similar to Production Example 1, 342 parts (1 mol part) of purified granulated sugar (manufactured by Taikaku Co., Ltd., the same shall apply hereinafter) and 1000 parts of DMF were added, followed by nitrogen substitution. Thereafter, the temperature was raised to 100 ° C. with stirring, and at this temperature, 88 parts (2 mole parts) of EO was added dropwise over 1 hour, and 1740 parts (30 mole parts) of PO were further added dropwise over 8 hours. Stirring was continued for 3 hours to react the remaining PO. Subsequently, DMF was removed under reduced pressure at 120 ° C. to obtain an adduct (B2) of sucrose / EO 2 mol / PO 30 mol.

製造例1と同様な耐圧反応容器に、蔗糖/EO2モル/PO30モル付加物(B2)2170部(1モル部)及び、水酸化カリウム10部を加えて窒素置換を3回繰り返し、さらに120℃にて0.6〜1.3kPaの減圧下にて脱水した。次いで減圧のまま100℃にて、PO3364部(58モル部)を9時間かけて滴下し、さらに120℃にて4時間攪拌を続けた。次いでキョーワード処理及び脱水して、蔗糖/EO2モル/PO88モル付加物(S2)を得た。   In a pressure-resistant reaction vessel similar to Production Example 1, 2170 parts (1 mole part) of sucrose / EO2 mole / PO30 mole adduct (B2) and 10 parts of potassium hydroxide were added, and nitrogen substitution was repeated three times. And dehydrated under reduced pressure of 0.6 to 1.3 kPa. Next, PO 3364 parts (58 mole parts) were added dropwise over 9 hours at 100 ° C. under reduced pressure, and stirring was further continued at 120 ° C. for 4 hours. Next, Kyoward treatment and dehydration were performed to obtain an adduct (S2) of sucrose / EO2 mol / PO88 mol.

<製造例3>
製造例1と同様な耐圧反応容器に、精製グラニュー糖を342部(1モル部)、DMF1000部を投入した後、窒素置換を実施した。その後攪拌しつつ100℃まで昇温した後、この温度にてPO1740部(30モル部)を8時間かけて滴下し、さらに同温度にて3時間攪拌を続けて残存するPOを反応させた。次いで120℃にて減圧下にてDMFを除去し、蔗糖/PO30モル付加物(S3)を得た。
<Production Example 3>
Into a pressure-resistant reaction vessel similar to Production Example 1, 342 parts (1 mole part) of purified granulated sugar and 1000 parts of DMF were added, and then nitrogen substitution was performed. Thereafter, the temperature was raised to 100 ° C. while stirring, and 1740 parts (30 mole parts) of PO was added dropwise at this temperature over 8 hours, and stirring was further continued for 3 hours at the same temperature to react with the remaining PO. Next, DMF was removed under reduced pressure at 120 ° C. to obtain a sucrose / PO 30 molar adduct (S3).

<製造例4>
製造例1と同様な耐圧反応容器に、蔗糖/PO30モル付加物(S3)2082部(1モル部)及び、水酸化カリウム9.0部を加えて窒素置換を3回繰り返し、さらに120℃にて0.6〜1.3kPaの減圧下にて脱水した。次いで減圧のまま100℃にて、PO2900部(50モル部)を8時間かけて滴下し、さらに120℃にて4時間攪拌を続けた。次いでキョーワード処理及び脱水して、蔗糖/PO80モル付加物(S4)を得た。
<Production Example 4>
In a pressure-resistant reaction vessel similar to Production Example 1, 2082 parts (1 mole part) of sucrose / PO 30 mole adduct (1 mole part) and 9.0 parts of potassium hydroxide were added, and the nitrogen substitution was repeated three times. And dehydrated under reduced pressure of 0.6 to 1.3 kPa. Subsequently, 2900 parts (50 mol parts) of PO was added dropwise at 100 ° C. over 8 hours while maintaining the reduced pressure, and stirring was further continued at 120 ° C. for 4 hours. Next, Kyoward treatment and dehydration were performed to obtain a sucrose / PO 80 mol adduct (S4).

<製造例5>
製造例1と同様な耐圧反応容器に、トレハロース{試薬特級、和光純薬工業(株)製}を342部(1モル部)、DMF1000部を投入した後、窒素置換を実施した。その後攪拌しつつ100℃まで昇温した後、この温度にてPO1160部(20モル部)を6時間かけて滴下し、さらに同温度にて3時間攪拌を続けて残存するPOを反応させた。次いで120℃にて減圧下にてDMFを除去し、トレハロース/PO20モル付加物(S5)を得た。
<Production Example 5>
Into a pressure-resistant reaction vessel similar to Production Example 1, 342 parts (1 mole part) of trehalose {special reagent grade, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.} and 1000 parts of DMF were added, and then nitrogen substitution was performed. Thereafter, the temperature was raised to 100 ° C. while stirring, and then 1160 parts (20 mole parts) of PO was dropped at this temperature over 6 hours, and stirring was further continued for 3 hours at the same temperature to react with the remaining PO. Next, DMF was removed under reduced pressure at 120 ° C. to obtain a trehalose / PO20 molar adduct (S5).

<製造例6>
製造例1と同様な耐圧反応容器に、トレハロース/PO20モル付加物(S5)1502部(1モル部)及び、水酸化カリウム5.0部を加えて窒素置換を3回繰り返し、さらに120℃にて0.6〜1.3kPaの減圧下にて脱水した。次いで減圧のまま100℃にて、PO2320部(40モル部)を8時間かけて滴下し、さらに120℃にて4時間攪拌を続けた。次いでキョーワード処理及び脱水して、トレハロース/PO60モル付加物(S6)を得た。
<Production Example 6>
1502 parts (1 mol part) of trehalose / PO 20 mol adduct (S5) and 5.0 parts of potassium hydroxide were added to the same pressure resistant reactor as in Production Example 1, and the nitrogen substitution was repeated three times. And dehydrated under reduced pressure of 0.6 to 1.3 kPa. Next, PO2320 parts (40 mol parts) were added dropwise at 100 ° C. over 8 hours while maintaining the reduced pressure, and stirring was further continued at 120 ° C. for 4 hours. Next, Kyoward treatment and dehydration were performed to obtain a trehalose / PO60 molar adduct (S6).

<製造例7>
製造例1と同様な耐圧反応容器に、メレチトース{試薬特級、和光純薬工業(株)製}を504部(1モル部)、DMF1500部を投入した後、窒素置換を実施した。その後攪拌しつつ100℃まで昇温した後、この温度にてPO2320部(40モル部)を10時間かけて滴下し、さらに同温度にて3時間攪拌を続けて残存するPOを反応させた。次いで120℃にて減圧下にてDMFを除去し、メレチトース/PO40モル付加物(S7)を得た。
<Production Example 7>
Into a pressure-resistant reaction vessel similar to Production Example 1, 504 parts (1 mole part) of meretitol {reagent special grade, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.} and 1500 parts of DMF were added, and then nitrogen substitution was performed. Thereafter, the temperature was raised to 100 ° C. while stirring, and then 2320 parts (40 mole parts) of PO was added dropwise at this temperature over 10 hours, and stirring was further continued for 3 hours at the same temperature to react with the remaining PO. Subsequently, DMF was removed under reduced pressure at 120 ° C. to obtain an adduct of meretitol / PO 40 mol (S7).

<製造例8>
製造例1と同様な耐圧反応容器に、メレチトースを504部(1モル部)、DMF1500部を投入した後、窒素置換を実施した。その後攪拌しつつ100℃まで昇温した後、この温度にてEO176部(4モル部)を2時間かけて滴下し、さらにPO1740部(30モル部)を8時間かけて滴下、続いて同温度にて3時間攪拌を続けて残存するPOを反応させた。次いで120℃にて減圧下にてDMFを除去し、メレチトース/EO4モル/PO30モル付加物(B3)を得た。
<Production Example 8>
Into a pressure-resistant reaction vessel similar to Production Example 1, 504 parts (1 mole part) of meretito and 1500 parts of DMF were added, and then nitrogen substitution was performed. Thereafter, the temperature was raised to 100 ° C. with stirring, and at this temperature, 176 parts (4 mole parts) of EO was added dropwise over 2 hours, and 1740 parts (30 mole parts) of PO were added dropwise over 8 hours, followed by the same temperature. Stirring was continued for 3 hours to react the remaining PO. Next, DMF was removed under reduced pressure at 120 ° C. to obtain an adduct (B3) of meretitol / EO 4 mol / PO 30 mol.

製造例1と同様な耐圧反応容器に、メレチトース/EO4モル/PO30モル付加物(B3)2420部(1モル部)及び、水酸化カリウム10.0部を加えて窒素置換を3回繰り返し、さらに120℃にて0.6〜1.3kPaの減圧下にて脱水した。次いで減圧のまま100℃にて、PO3828部(66モル部)を10時間かけて滴下し、さらに120℃にて4時間攪拌を続けた。次いでキョーワード処理及び脱水して、メレチトース/EO4モル/PO96モル付加物(S8)を得た。   To a pressure resistant reactor similar to Production Example 1, 2420 parts (1 part by mole) of meretito / EO4 mole / PO30 mole adduct (B3) and 10.0 parts of potassium hydroxide were added, and the nitrogen substitution was repeated three times. Dehydration was performed at 120 ° C. under reduced pressure of 0.6 to 1.3 kPa. Subsequently, PO3828 parts (66 mol parts) were added dropwise over 10 hours at 100 ° C. with reduced pressure, and stirring was further continued at 120 ° C. for 4 hours. Subsequently, Kyoward treatment and dehydration were carried out to obtain an adduct (S8) of meletitose / EO4 mol / PO96 mol.

<製造例9>
製造例1と同じ耐圧反応容器に、ジエチレングリコール{試薬特級、和光純薬工業(株)製、以下、「DEG」と略記する}106部(1モル部)及び水酸化カリウム2部を投入した後、窒素置換した。その後攪拌しつつ100℃まで昇温し、次いで同温度にてPO1160部(20モル部)を滴下、反応させた。次いでキョーワード処理して、DEG/PO20モル付加物(U1)を得た。
<Production Example 9>
After charging diethylene glycol {special grade reagent, Wako Pure Chemical Industries, Ltd., hereinafter abbreviated as “DEG”} 106 parts (1 mole part) and 2 parts of potassium hydroxide into the same pressure resistant reactor as in Production Example 1 And replaced with nitrogen. Thereafter, the temperature was raised to 100 ° C. while stirring, and then 1160 parts (20 mole parts) of PO was dropped and reacted at the same temperature. Next, Kyoward treatment gave DEG / PO 20 molar adduct (U1).

<製造例10>
製造例1と同じ耐圧反応容器に、ジプロピレングリコール{試薬特級、和光純薬工業(株)製、以下、「DPG」と略す}134部(1モル部)及び水酸化カリウム5部を投入した後、窒素置換した。その後攪拌しつつ100℃まで昇温し、次いで同温度にてPO2204部(38モル部)を滴下、反応させた。さらに同温度にてEO88部(2モル部)を滴下、反応させた。次いでキョーワード処理して、DPG/PO38モル/EO2モル付加物(U2)を得た。
<Production Example 10>
In the same pressure resistant reaction vessel as in Production Example 1, 134 parts (1 mole part) of dipropylene glycol {special grade reagent, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., hereinafter abbreviated as “DPG”} and 5 parts of potassium hydroxide were charged. Thereafter, the atmosphere was replaced with nitrogen. Thereafter, the temperature was raised to 100 ° C. while stirring, and then, 2204 parts (38 parts by mole) of PO2 were dropped and reacted at the same temperature. Further, 88 parts (2 mole parts) of EO were dropped and reacted at the same temperature. Next, Kyoward treatment was performed to obtain a DPG / PO 38 mol / EO 2 mol adduct (U2).

<製造例11>
製造例1と同じ耐圧反応容器に、ヘキサメチレングリコール{試薬特級、和光純薬工業(株)製、以下、「HG」と略す}118部(1モル部)及び水酸化カリウム1.5部を投入した後、窒素置換した。その後攪拌しつつ100℃まで昇温し、次いで同温度にてPO580部(10モル部)を滴下、反応させた。次いでキョーワード処理して、HG/PO10モル付加物(U3)を得た。
<Production Example 11>
In the same pressure resistant reactor as in Production Example 1, hexamethylene glycol {special grade reagent, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., hereinafter abbreviated as “HG”} 118 parts (1 mole part) and 1.5 parts of potassium hydroxide were added. After the addition, the atmosphere was replaced with nitrogen. Thereafter, the temperature was raised to 100 ° C. while stirring, and then 580 parts (10 mole parts) of PO was dropped and reacted at the same temperature. Next, Kyoward treatment was performed to obtain an HG / PO 10 molar adduct (U3).

<製造例12>
製造例1と同様な耐圧反応容器に、HG/PO10モル付加物(U3)698部(1モル部)及び水酸化カリウム2.5部を投入した後、窒素置換、脱水した。その後攪拌しつつ100℃まで昇温し、次いで同温度にて(PO)986部(17モル部)を滴下、反応させた。さらに同温度にてEO132部(3モル部)を滴下、反応させた。次いでキョーワード処理して、HG/PO27モル/EO3モル付加物(U4)を得た。
<Production Example 12>
698 parts (1 mol part) of HG / PO 10 mol adduct (U3) and 2.5 parts of potassium hydroxide were charged into a pressure resistant reaction vessel similar to Production Example 1, and then purged with nitrogen and dehydrated. Thereafter, the temperature was raised to 100 ° C. while stirring, and then 986 parts (17 mole parts) of (PO) were dropped and reacted at the same temperature. Further, 132 parts (3 mole parts) of EO was dropped and reacted at the same temperature. Next, Kyoward treatment was performed to obtain HG / PO27 mol / EO3 mol adduct (U4).

<製造例13>
製造例1と同様な耐圧反応容器に、DPG134部(1モル部)及び水酸化カリウム1.5部を投入した後、窒素置換した。その後攪拌しつつ100℃まで昇温し、次いで同温度にて(PO)754部(13モル部)を滴下し、反応させた。さらに(EO)132部(3モル部)を滴下し、反応させて、DPG/PO13モル/EO3モル付加物(EO1.5モル−PO15モル−EO1.5モルのプルロニック型グリコール)を得た。
<Production Example 13>
In a pressure-resistant reaction vessel similar to Production Example 1, 134 parts (1 mole part) of DPG and 1.5 parts of potassium hydroxide were added, and then purged with nitrogen. Thereafter, the temperature was raised to 100 ° C. while stirring, and then 754 parts (13 mole parts) of (PO) was dropped at the same temperature to cause reaction. Furthermore, 132 parts (3 parts by mole) of (EO) were added dropwise and reacted to obtain a DPG / PO13 mole / EO3 mole adduct (EO 1.5 mole-PO15 mole-EO 1.5 mole pluronic glycol).

次いで、上記と同様の耐圧反応容器に、このプルロニック型グリコールと、水酸化ナトリウム{試薬特級、和光純薬工業(株)製、水分を除いた純分換算量、以下同じ}80部(2モル部)及び水100部からなる水酸化ナトリウム水溶液とを仕込み、減圧下120℃にて3時間脱水した後、減圧のまま密閉下、エピクロルヒドリン{鹿島ケミカル(株)製}185部(2モル部)を攪拌下60℃にて3時間で滴下した。さらに同温度にて4時間攪拌した後、キョーワード処理及び脱水(但し温度は80℃とした、エピクロルヒドリン付加物の場合は以下同じ)して、プルロニック型グリコール(EO1.5モル−PO15モル−EO1.5モル)ジグリシジルエーテル(L1)を得た。エポキシ当量は570(g/eq)であった。   Next, in a pressure-resistant reaction vessel similar to the above, this pluronic glycol and sodium hydroxide {reagent special grade, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., pure component converted amount excluding moisture, hereinafter the same} 80 parts (2 moles) Part) and an aqueous solution of sodium hydroxide consisting of 100 parts of water, dehydrated at 120 ° C. under reduced pressure for 3 hours, and sealed under reduced pressure, and 185 parts (2 mole parts) of epichlorohydrin {manufactured by Kashima Chemical Co., Ltd.} Was added dropwise at 60 ° C. for 3 hours with stirring. Further, after stirring for 4 hours at the same temperature, Kyoward treatment and dehydration (however, the temperature was set to 80 ° C., the same applies to the case of epichlorohydrin adduct) and pluronic glycol (EO 1.5 mol-PO15 mol-EO1). .5 mol) diglycidyl ether (L1) was obtained. The epoxy equivalent was 570 (g / eq).

<実施例1>
製造例1と同様な耐圧反応容器に、蔗糖/EO2モル/PO88モル付加物(S2)5534部(1モル部)と、水酸化ナトリウム80部(2モル部)及び水100部からなる水酸化ナトリウム水溶液とを仕込み、減圧下120℃にて3時間脱水した後、減圧のまま密閉下、エピクロルヒドリン185部(2モル部)を60℃にて3時間で滴下した。さらに同温度にて4時間攪拌した後、キョーワード処理及び脱水して、本発明の樹脂改質剤(Y11)を得た。樹脂改質剤(1)のエポキシ当量(g/eq.)は2830であった。
<Example 1>
In a pressure-resistant reaction vessel similar to Production Example 1, 5534 parts (1 mole part) of sucrose / EO2 mole / PO88 mole adduct (S2), 80 parts of sodium hydroxide (2 mole part) and 100 parts of water are hydroxylated. An aqueous sodium solution was added and dehydrated at 120 ° C. under reduced pressure for 3 hours, and then 185 parts (2 mol parts) of epichlorohydrin was added dropwise at 60 ° C. for 3 hours while sealed under reduced pressure. Further, the mixture was stirred at the same temperature for 4 hours, then subjected to Kyoward treatment and dehydration to obtain a resin modifier (Y11) of the present invention. The epoxy equivalent (g / eq.) Of the resin modifier (1) was 2830.

<実施例2>
製造例1と同様な耐圧反応容器に、蔗糖/PO80モル付加物(S4)4982部(1モル部)と、水酸化ナトリウム92部(2.3モル部)及び水120部からなる水酸化ナトリウム水溶液とを仕込み、減圧下120℃にて3時間脱水した後、減圧のまま密閉下、エピクロルヒドリン213部(2.3モル部)を60℃にて3時間で滴下した。さらに同温度にて4時間攪拌した後、キョーワード処理及び脱水して、本発明の樹脂改質剤(Y12)を得た。樹脂改質剤(2)のエポキシ当量(g/eq.)は2280であった。
<Example 2>
Sodium hydroxide consisting of 4982 parts (1 mole part) of sucrose / PO 80 mole adduct (S4), 92 parts (2.3 mole parts) of sodium hydroxide and 120 parts of water in a pressure resistant reaction vessel similar to Production Example 1. The aqueous solution was charged and dehydrated at 120 ° C. for 3 hours under reduced pressure, and then 213 parts (2.3 mol parts) of epichlorohydrin was added dropwise at 60 ° C. for 3 hours under sealed conditions. Further, the mixture was stirred at the same temperature for 4 hours, then subjected to Kyoward treatment and dehydration to obtain a resin modifier (Y12) of the present invention. The epoxy equivalent (g / eq.) Of the resin modifier (2) was 2280.

<実施例3>
「蔗糖/EO2モル/PO88モル付加物(S2)5534部(1モル部)」と「トレハロース/PO60モル付加物(S6)3822部(1モル部)」に変更したこと、「水酸化ナトリウム80部(2モル部)及び水100部からなる水酸化ナトリウム水溶液」を「水酸化ナトリウム40部(1モル部)及び水50部からなる水酸化ナトリウム水溶液」に変更したこと、及び「エピクロルヒドリン185部(2モル部)」を「エピクロルヒドリン92.5部(1モル部)」に変更したこと以外、実施例1と同様にして、本発明の樹脂改質剤(Y13)を得た。樹脂改質剤(3)のエポキシ当量(g/eq.)は4,000であった。
<Example 3>
“Sucrose / EO 2 mol / PO 88 mol adduct (S2) 5534 parts (1 mol part)” and “trehalose / PO 60 mol adduct (S6) 3822 parts (1 mol part)”, “sodium hydroxide 80 Part (2 mole parts) and 100 parts of water "aqueous solution of sodium hydroxide" was changed to "sodium hydroxide solution of 40 parts (1 mole part) of sodium hydroxide and 50 parts of water" and "185 parts of epichlorohydrin" The resin modifier (Y13) of the present invention was obtained in the same manner as in Example 1 except that (2 mol parts) was changed to “92.5 parts (1 mol parts) of epichlorohydrin”. The epoxy equivalent (g / eq.) Of the resin modifier (3) was 4,000.

<実施例4>
「蔗糖/EO2モル/PO88モル付加物(S2)5534部(1モル部)」と「メレチトース/EO4モル/PO96モル付加物(S8)6248部(1モル部)」に変更したこと以外、実施例1と同様にして、本発明の樹脂改質剤(Y14)を得た。樹脂改質剤(4)のエポキシ当量(g/eq.)は3,300であった。
<Example 4>
Except for changing to "Sucrose / EO2 mol / PO88 mol adduct (S2) 5534 parts (1 mol part)" and "Meletitose / EO4 mol / PO96 mol adduct (S8) 6248 parts (1 mol part)" In the same manner as in Example 1, a resin modifier (Y14) of the present invention was obtained. The epoxy equivalent (g / eq.) Of the resin modifier (4) was 3,300.

<実施例5>
製造例1と同様な耐圧反応容器に、蔗糖/PO30モル付加物(S3)6246部(3モル部)と、水酸化ナトリウム60部(1.5モル部)及び水80部からなる水酸化ナトリウム水溶液とを投入し、減圧下120℃にて3時間脱水した後、約25℃まで冷却し、ポリオキシプロピレングリコール(7モル)ジグリシジルエーテル{グリシエールPP−300P、三洋化成工業(株)製、エポキシ当量290g/eq、「グリシエール」は同社の登録商標である}1160部(2モル部)を投入し、窒素置換した。その後攪拌しつつ100℃にて6時間反応させた。さらに、エピクロルヒドリン139部(1.5モル部)を攪拌下60℃にて3時間で滴下した。さらに同温度にて4時間攪拌した後、キョーワード処理及び脱水して、本発明の樹脂改質剤(Y21)を得た。樹脂改質剤(Y21)のエポキシ当量(g/eq.)は5,200であった。
<Example 5>
Sodium hydroxide consisting of 6246 parts (3 mol parts) of sucrose / PO 30 mol adduct (S3), 60 parts (1.5 mol parts) of sodium hydroxide and 80 parts of water in a pressure resistant reaction vessel similar to Production Example 1. An aqueous solution was added, dehydrated at 120 ° C. under reduced pressure for 3 hours, cooled to about 25 ° C., and polyoxypropylene glycol (7 mol) diglycidyl ether {Gliciere PP-300P, manufactured by Sanyo Chemical Industries, An epoxy equivalent of 290 g / eq, “Glicier” is a registered trademark of the company} 1160 parts (2 mole parts) was added, and the atmosphere was replaced with nitrogen. Thereafter, the mixture was reacted at 100 ° C. for 6 hours with stirring. Further, 139 parts (1.5 mole parts) of epichlorohydrin was added dropwise at 60 ° C. with stirring for 3 hours. Further, the mixture was stirred at the same temperature for 4 hours, then subjected to Kyoward treatment and dehydration to obtain a resin modifier (Y21) of the present invention. The epoxy equivalent (g / eq.) Of the resin modifier (Y21) was 5,200.

<実施例6>
製造例1と同様な耐圧反応容器に、蔗糖/EO4モル/PO66モル付加物(S1)8692部(2モル部)と、水酸化ナトリウム80部(2モル部)及び水100部からなる水酸化ナトリウム水溶液とを投入し、減圧下120℃にて3時間脱水した後、約25℃まで冷却し、ポリオキシプロピレングリコール(3モル)ジグリシジルエーテル{エピオールP−200、日油(株)製、エポキシ当量155g/eq、「エピオール」は同社の登録商標である}310部(1モル部)を投入し、窒素置換した。その後攪拌しつつ100℃にて6時間反応させた。さらに、エピクロルヒドリン185部(2モル部)を攪拌下60℃にて3時間で滴下した。さらに同温度にて4時間攪拌した後、キョーワード処理及び脱水して、本発明の樹脂改質剤(Y22)を得た。樹脂改質剤(Y22)のエポキシ当量(g/eq.)は4,800であった。
<Example 6>
In a pressure resistant reactor similar to Production Example 1, sucrose / EO 4 mol / PO 66 mol adduct (S1) 8692 parts (2 mol parts), sodium hydroxide 80 parts (2 mol parts) and water 100 parts of water Sodium aqueous solution was added and dehydrated at 120 ° C. under reduced pressure for 3 hours, and then cooled to about 25 ° C., polyoxypropylene glycol (3 mol) diglycidyl ether {Epiol P-200, manufactured by NOF Corporation, Epoxy equivalent of 155 g / eq, “Epiol” is a registered trademark of the company} 310 parts (1 mole part) was added, and the atmosphere was replaced with nitrogen. Thereafter, the mixture was reacted at 100 ° C. for 6 hours with stirring. Further, 185 parts (2 mole parts) of epichlorohydrin was added dropwise at 60 ° C. for 3 hours with stirring. Further, the mixture was stirred at the same temperature for 4 hours, then subjected to Kyoward treatment and dehydration to obtain a resin modifier (Y22) of the present invention. The epoxy equivalent (g / eq.) Of the resin modifier (Y22) was 4,800.

<実施例7>
製造例1と同様な耐圧反応容器に、トレハロース/PO20モル付加物(S5)4506部(3モル部)と、水酸化ナトリウム80部(2モル部)及び水100部からなる水酸化ナトリウム水溶液とを投入し、減圧下120℃にて3時間脱水した後、約25℃まで冷却し、グリシエールPP−300P1160部(2モル部)を投入し、窒素置換した。その後攪拌しつつ100℃にて6時間反応させた。さらに、エピクロルヒドリン185部(2モル部)を攪拌下60℃にて3時間で滴下した。さらに同温度にて4時間攪拌した後、キョーワード処理及び脱水して、本発明の樹脂改質剤(Y23)を得た。樹脂改質剤(Y23)のエポキシ当量(g/eq.)は3,100であった。
<Example 7>
In a pressure resistant reaction vessel similar to Production Example 1, trehalose / PO 20 mol adduct (S5) 4506 parts (3 mol parts), sodium hydroxide aqueous solution consisting of 80 parts (2 mol parts) sodium hydroxide and 100 parts water and The mixture was dehydrated at 120 ° C. under reduced pressure for 3 hours, and then cooled to about 25 ° C., and 1160 parts (2 mol parts) of Glicier PP-300P was added, followed by replacement with nitrogen. Thereafter, the mixture was reacted at 100 ° C. for 6 hours with stirring. Further, 185 parts (2 mole parts) of epichlorohydrin was added dropwise at 60 ° C. for 3 hours with stirring. Further, the mixture was stirred at the same temperature for 4 hours, then subjected to Kyoward treatment and dehydration to obtain a resin modifier (Y23) of the present invention. The epoxy equivalent (g / eq.) Of the resin modifier (Y23) was 3,100.

<実施例8>
製造例1と同様な耐圧反応容器に、メレチトース/PO40モル付加物(S7)8472部(3モル部)と、水酸化ナトリウム48部(1.2モル部)及び水60部からなる水酸化ナトリウム水溶液とを投入し、減圧下120℃にて3時間脱水した後、約25℃まで冷却し、製造例13で得たプルロニック型グリコール(EO1.5モル−PO15モル−EO1.5モル)ジグリシジルエーテル(L1)2280部(2モル部)を投入し、窒素置換した。その後攪拌しつつ100℃にて6時間反応させた。さらに、エピクロルヒドリン111部(1.5モル部)を攪拌下60℃にて3時間で滴下した。さらに同温度にて4時間攪拌した後、キョーワード処理及び脱水して、本発明の樹脂改質剤(Y24)を得た。樹脂改質剤(Y24)のエポキシ当量(g/eq.)は9,300であった。
<Example 8>
Sodium hydroxide consisting of 8472 parts (3 parts by mole) of meretitol / PO40 mole adduct (S7), 48 parts (1.2 parts by weight) of sodium hydroxide and 60 parts of water in the same pressure resistant reactor as in Production Example 1. An aqueous solution was added, dehydrated at 120 ° C. under reduced pressure for 3 hours, cooled to about 25 ° C., and the pluronic glycol (EO 1.5 mol—PO 15 mol—EO 1.5 mol) diglycidyl obtained in Production Example 13 2280 parts (2 mole parts) of ether (L1) was added, and the atmosphere was replaced with nitrogen. Thereafter, the mixture was reacted at 100 ° C. for 6 hours with stirring. Furthermore, 111 parts (1.5 mole parts) of epichlorohydrin was added dropwise at 60 ° C. with stirring for 3 hours. Further, the mixture was stirred at the same temperature for 4 hours, then subjected to Kyoward treatment and dehydration to obtain a resin modifier (Y24) of the present invention. The epoxy equivalent (g / eq.) Of the resin modifier (Y24) was 9,300.

<実施例9>
製造例1と同様な耐圧反応容器に、蔗糖/PO30モル付加物(S3)6246部(3モル部)と、製造例12で得たHG/PO27モル/EO3モル付加物(U4)3632部(2モル部)と、水酸化ナトリウム60部(1.5モル部)及び水80部からなる水酸化ナトリウム水溶液とを投入し、減圧下120℃にて3時間脱水した後、約25℃まで冷却し、エピオールP−200の1240部(4モル部)を投入し、窒素置換した。その後攪拌しつつ100℃にて6時間反応させた。さらに、エピクロルヒドリン139部(1.5モル部)を攪拌下60℃にて3時間で滴下した。さらに同温度にて4時間攪拌した後、キョーワード処理及び脱水して、本発明の樹脂改質剤(Y31)を得た。樹脂改質剤(Y31)のエポキシ当量(g/eq.)は7,800であった。
<Example 9>
In a pressure-resistant reaction vessel similar to Production Example 1, 6246 parts (3 mol parts) of sucrose / PO 30 mol adduct (S3) and 3632 parts of HG / PO 27 mol / EO3 mol adduct (U4) obtained in Production Example 12 ( 2 mol parts) and sodium hydroxide aqueous solution consisting of 60 parts (1.5 mol parts) of sodium hydroxide and 80 parts of water, dehydrated at 120 ° C. for 3 hours under reduced pressure, and then cooled to about 25 ° C. Then, 1240 parts (4 mole parts) of Epiol P-200 was added, and the atmosphere was replaced with nitrogen. Thereafter, the mixture was reacted at 100 ° C. for 6 hours with stirring. Further, 139 parts (1.5 mole parts) of epichlorohydrin was added dropwise at 60 ° C. with stirring for 3 hours. Further, the mixture was stirred at the same temperature for 4 hours, then subjected to Kyoward treatment and dehydration to obtain a resin modifier (Y31) of the present invention. The epoxy equivalent (g / eq.) Of the resin modifier (Y31) was 7,800.

<実施例10>
製造例1と同様な耐圧反応容器に、蔗糖/EO4モル/PO66モル付加物(S1)8692部(2モル部)と、製造例11で得たHG/PO10モル付加物(U3)698部(1モル部)と、水酸化ナトリウム80部(2モル部)及び水100部からなる水酸化ナトリウム水溶液とを投入し、減圧下120℃にて3時間脱水した後、約25℃まで冷却し、1,6HD−DEP(D){ヘキサメチレングリコールジグリシジルエーテル、四日市合成(株)製、エポキシ当量116g/eq}464部(2モル部)を投入し、窒素置換した。その後攪拌しつつ100℃にて6時間反応させた。さらに、エピクロルヒドリン185部(2モル部)を攪拌下60℃にて3時間で滴下した。さらに同温度にて4時間攪拌した後、キョーワード処理及び脱水して、本発明の樹脂改質剤(Y32)を得た。樹脂改質剤(Y32)のエポキシ当量(g/eq.)は5,200であった。
<Example 10>
In a pressure-resistant reaction vessel similar to Production Example 1, sucrose / EO 4 mol / PO 66 mol adduct (S1) 8692 parts (2 mol parts) and HG / PO 10 mol adduct (U3) 698 parts obtained in Production Example 11 ( 1 mol part), sodium hydroxide aqueous solution consisting of 80 parts of sodium hydroxide (2 mol parts) and 100 parts of water, dehydrated under reduced pressure at 120 ° C. for 3 hours, cooled to about 25 ° C., 1,6HD-DEP (D) {Hexamethylene glycol diglycidyl ether, Yokkaichi Gosei Co., Ltd., epoxy equivalent 116 g / eq} 464 parts (2 mole parts) was added, and the atmosphere was replaced with nitrogen. Thereafter, the mixture was reacted at 100 ° C. for 6 hours with stirring. Further, 185 parts (2 mole parts) of epichlorohydrin was added dropwise at 60 ° C. for 3 hours with stirring. Further, the mixture was stirred at the same temperature for 4 hours, then subjected to Kyoward treatment and dehydration to obtain a resin modifier (Y32) of the present invention. The epoxy equivalent (g / eq.) Of the resin modifier (Y32) was 5,200.

<実施例11>
製造例1と同様な耐圧反応容器に、トレハロース/PO20モル付加物(S5)3004部(2モル部)と、製造例10で得たDPG/PO38モル/EO2モル付加物(U2)2426部(1モル部)と、水酸化ナトリウム48部(1.2モル部)及び水100部からなる水酸化ナトリウム水溶液とを投入し、減圧下120℃にて3時間脱水した後、約25℃まで冷却し、製造例13で得たプルロニック型グリコール(EO1.5モル−PO15モル−EO1.5モル)ジグリシジルエーテルの2280部(2モル部)を投入し、窒素置換した。その後攪拌しつつ100℃にて6時間反応させた。さらに、エピクロルヒドリン111部(1.2モル部)を攪拌下60℃にて3時間で滴下した。さらに同温度にて4時間攪拌した後、キョーワード処理及び脱水して、本発明の樹脂改質剤(Y33)を得た。樹脂改質剤(Y33)のエポキシ当量(g/eq.)は6,800であった。
<Example 11>
In a pressure-resistant reaction vessel similar to Production Example 1, 3004 parts (2 mol parts) of trehalose / PO 20 mol adduct (S5) and 2426 parts of DPG / PO 38 mol / EO 2 mol adduct (U2) obtained in Production Example 10 ( 1 mol part), sodium hydroxide aqueous solution consisting of 48 parts (1.2 mol parts) of sodium hydroxide and 100 parts of water, dehydrated under reduced pressure at 120 ° C. for 3 hours, and then cooled to about 25 ° C. Then, 2280 parts (2 mole parts) of pluronic glycol (EO 1.5 mole-PO 15 mole-EO 1.5 mole) diglycidyl ether obtained in Production Example 13 was added, and the atmosphere was replaced with nitrogen. Thereafter, the mixture was reacted at 100 ° C. for 6 hours with stirring. Furthermore, 111 parts (1.2 mol parts) of epichlorohydrin was added dropwise at 60 ° C. with stirring for 3 hours. Further, the mixture was stirred at the same temperature for 4 hours, then subjected to Kyoward treatment and dehydration to obtain a resin modifier (Y33) of the present invention. The epoxy equivalent (g / eq.) Of the resin modifier (Y33) was 6,800.

<実施例12>
製造例1と同様な耐圧反応容器に、メレチトース/PO40モル付加物(S7)5648部(2モル部)と、製造例9で得たDEG/PO20モル付加物(U1)1266部(1モル部)と、水酸化ナトリウム80部(2モル部)及び水100部からなる水酸化ナトリウム水溶液とを投入し、減圧下120℃にて3時間脱水した後、約25℃まで冷却し、エピオールP−200の310部(2モル部)を投入し、窒素置換した。その後攪拌しつつ100℃にて6時間反応させた。さらに、エピクロルヒドリン185部(2モル部)を攪拌下60℃にて3時間で滴下した。さらに同温度にて4時間攪拌した後、キョーワード処理及び脱水して、本発明の樹脂改質剤(Y34)を得た。樹脂改質剤(Y34)のエポキシ当量(g/eq.)は3,700であった。
<Example 12>
In a pressure-resistant reaction vessel similar to Production Example 1, 5648 parts (2 mole parts) of meletitose / PO 40 mole adduct (S7) and 1266 parts (1 mole part) of DEG / PO 20 mole adduct (U1) obtained in Production Example 9 ) And sodium hydroxide aqueous solution consisting of 80 parts (2 mole parts) of sodium hydroxide and 100 parts of water, dehydrated at 120 ° C. for 3 hours under reduced pressure, cooled to about 25 ° C., and Epiol P— Then, 310 parts (2 mole parts) of 200 were added and replaced with nitrogen. Thereafter, the mixture was reacted at 100 ° C. for 6 hours with stirring. Further, 185 parts (2 mole parts) of epichlorohydrin was added dropwise at 60 ° C. for 3 hours with stirring. Further, the mixture was stirred at the same temperature for 4 hours, then subjected to Kyoward treatment and dehydration to obtain a resin modifier (Y34) of the present invention. The epoxy equivalent (g / eq.) Of the resin modifier (Y34) was 3,700.

<比較例1>
製造例1と同様な耐圧反応容器に、蔗糖/PO30モル付加物(S3)624.6部(0.3モル部)と、水酸化ナトリウム16部(0.4モル部)及び水22部からなる水酸化ナトリウム水溶液とを投入し、減圧下120℃にて3時間脱水した後、100℃にてジクロロメタン{試薬特級、シグマアルドリッチジャパン(株)製}17部(0.2モル部)を8時間かけて滴下し、さらに2時間100℃にて攪拌を続け完全に反応系の圧力が平衡に達したことを確認した。
次いでイオン交換水1000mLを投入し、一時間60℃にて攪拌した後、分液ロートに移した。1日静置後、生成した沈殿物を室温(約25℃)にてNo.2濾紙を用いて濾別して粗反応液状物を得た。粗反応液状物のうち500部をキョーワード処理及び脱水して、(S3)3モル/ジクロルメタン2モルからなるポリエーテル(HP1)を得た。
<Comparative Example 1>
In a pressure-resistant reaction vessel similar to Production Example 1, from 624.6 parts (0.3 mole parts) of sucrose / PO 30 mole adduct (S3), 16 parts of sodium hydroxide (0.4 mole parts) and 22 parts of water Then, after dehydrating at 120 ° C. for 3 hours under reduced pressure, dichloromethane (reagent special grade, manufactured by Sigma Aldrich Japan Co., Ltd.) 17 parts (0.2 mole part) was added at 100 ° C. It was added dropwise over a period of time, and stirring was further continued at 100 ° C. for 2 hours. It was confirmed that the pressure of the reaction system had completely reached equilibrium.
Next, 1000 mL of ion-exchanged water was added, and the mixture was stirred for 1 hour at 60 ° C. and then transferred to a separatory funnel. After standing for 1 day, the produced precipitate was subjected to No. A crude reaction liquid was obtained by filtration using two filter papers. 500 parts of the crude reaction liquid was subjected to Kyoward treatment and dehydration to obtain a polyether (HP1) composed of (S3) 3 mol / dichloromethane 2 mol.

製造例1と同様な耐圧反応容器に、(S3)3モル/ジクロルメタン2モルからなるポリエーテル(HP1)6270部(1モル部)と、水酸化ナトリウム60部(1.5モル部)及び水80部からなる水酸化ナトリウム水溶液とを仕込み、減圧下120℃にて3時間脱水した後、減圧のまま密閉下、エピクロルヒドリン139部(1.5モル部)を60℃にて3時間で滴下した。さらに同温度にて4時間攪拌した後、キョーワード処理及び脱水して、比較用の樹脂改質剤(H1)を得た。比較用の樹脂改質剤(H1)のエポキシ当量は4,500であった。   In a pressure-resistant reaction vessel similar to Production Example 1, 6270 parts (1 mole part) of polyether (HP1) consisting of 3 moles of (S3) / 2 moles of dichloromethane, 60 parts of sodium hydroxide (1.5 mole parts) and water A sodium hydroxide aqueous solution consisting of 80 parts was charged and dehydrated at 120 ° C. for 3 hours under reduced pressure. Then, 139 parts (1.5 mol parts) of epichlorohydrin was added dropwise at 60 ° C. for 3 hours under sealed conditions. . Further, the mixture was stirred at the same temperature for 4 hours, then subjected to Kyoward treatment and dehydration to obtain a comparative resin modifier (H1). The epoxy equivalent of the comparative resin modifier (H1) was 4,500.

<比較例2>
製造例1と同じ耐圧反応容器に、オレイルアミン{ナイミーン O−205、日本油脂(株)製}267部(1モル部)及び水酸化カリウム0.5部を仕込み窒素置換を実施した。その後攪拌しつつ100℃まで昇温し、同温度にてEO440部(10モル部)を4時間かけて滴下した後、同温度にて1時間攪拌を続けて残存するEOを反応させた。次いでキョーワード処理及び脱水して、比較用の樹脂改質剤(H2)を得た。
<Comparative example 2>
In the same pressure-resistant reaction vessel as in Production Example 1, 267 parts (1 mole part) of oleylamine {Naimine O-205, manufactured by Nippon Oil & Fats Co., Ltd.} and 0.5 part of potassium hydroxide were charged and nitrogen substitution was performed. Thereafter, the temperature was raised to 100 ° C. while stirring, and 440 parts (10 mole parts) of EO was added dropwise at the same temperature over 4 hours, followed by stirring for 1 hour at the same temperature to react with the remaining EO. Next, Kyoward treatment and dehydration were performed to obtain a comparative resin modifier (H2).

<比較例3>
ワンダミンAI100{ライオン(株)製、1−(2−ヒドロキシエチル)−2−アルキル−2−イミダゾリンの有効成分20%水溶液}を比較用の樹脂改質剤(H3)とした。
<Comparative Example 3>
Wandamine AI100 {Lion Corporation 1- (2-hydroxyethyl) -2-alkyl-2-imidazoline active ingredient 20% aqueous solution} was used as a comparative resin modifier (H3).

実施例及び比較例で得た樹脂改質剤を用いて、以下のようにして、カチオン電着塗料を調製した後、親水性(耐乾きムラ性)及び耐水性(防錆性)を評価し、結果を表5に示した。   Using the resin modifiers obtained in Examples and Comparative Examples, after preparing a cationic electrodeposition coating as follows, the hydrophilicity (dry unevenness resistance) and water resistance (rust resistance) were evaluated. The results are shown in Table 5.

(1)樹脂エマルションの調製
エピコート1004{シェル化学(株)製、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(エポキシ当量:950)}及び評価試料{実施例及び比較例で得た樹脂改質剤}を表4に示した配合量{(エポキシ当量/アミン当量)の比率を1.0以上(1.1〜1.2)でかつほぼ一定になるように配合量を決定した}を用いてこれらと、メチルイソブチルケトン(MIBK)240部と、N−メチルエタノールアミン55部と、ジエチレントリアミンのMIBKジケチミン化物を75%含有するMIBK溶液(ケチミン溶液)80部とを80℃にて6時間攪拌混合して、エポキシ樹脂溶液(1)〜(15)を得た。また、「エピコート1004」及び「評価試料」を「エピコート1004のみ」に変更したこと以外、上記と同様にしてエポキシ樹脂用液(ブランク)を得た。
(1) Preparation of Resin Emulsion Epicoat 1004 {manufactured by Shell Chemical Co., Ltd., bisphenol A type epoxy resin (epoxy equivalent: 950)} and evaluation sample {resin modifiers obtained in Examples and Comparative Examples} are shown in Table 4. These were used with the indicated blending amounts {the ratio of (epoxy equivalent / amine equivalent) was 1.0 or more (1.1 to 1.2) and the blending amount was determined to be substantially constant} and methyl isobutyl 240 parts of ketone (MIBK), 55 parts of N-methylethanolamine, and 80 parts of MIBK solution (ketimine solution) containing 75% of MIBK diketimine compound of diethylenetriamine were stirred and mixed at 80 ° C. for 6 hours to obtain an epoxy resin. Solutions (1) to (15) were obtained. Moreover, the liquid for epoxy resins (blank) was obtained like the above except having changed "Epicoat 1004" and "evaluation sample" into "Epicoat 1004 only".

Figure 2012107088
Figure 2012107088

ヘキサメチレンジイソシアネート(HDI){武田薬品工業(株)製、商品名:タケネート700}850部、MIBK600部、ジブチル錫ジラウレート{和光純薬(株)製}1部及びトリメチロールプロパン225部を60〜70℃にて6時間反応させた後、この反応生成物にメチルエチルケトオキシム430部を同温度にて加え、さらにn−ブタノール35部を加え、同温度で3時間攪拌して、完全ブロック化ポリイソシアネート樹脂溶液を得た。       Hexamethylene diisocyanate (HDI) {manufactured by Takeda Pharmaceutical Co., Ltd., trade name: Takenate 700} 850 parts, MIBK 600 parts, dibutyltin dilaurate {manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.} 1 part and 225 parts of trimethylolpropane After reacting at 70 ° C. for 6 hours, 430 parts of methyl ethyl ketoxime was added to the reaction product at the same temperature, 35 parts of n-butanol was further added, and the mixture was stirred at the same temperature for 3 hours to completely block polyisocyanate. A resin solution was obtained.

上記で得たエポキシ樹脂溶液の全量(表4の合計量)と完全ブロック化ポリイソシアネート樹脂溶液600部とを20〜30℃にて混合した後、これにエチレングリコールモノブチルエーテル100部及び6%酢酸水溶液550部を加えて中和し、さらに脱イオン水{和光純薬工業(株)製、試薬特級}2200部を加えて均一混合して乳化混合液を得た。この後、減圧下(−0.05〜−0.098MPa)で、50〜60℃にてこの乳化混合液から低沸点物を留去させて、約35%の樹脂エマルション(1)〜(15)及び(ブランク)を得た。       The total amount of the epoxy resin solution obtained above (total amount in Table 4) and 600 parts of the completely blocked polyisocyanate resin solution were mixed at 20 to 30 ° C., and then 100 parts of ethylene glycol monobutyl ether and 6% acetic acid were added thereto. 550 parts of an aqueous solution was added for neutralization, and 2200 parts of deionized water (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., reagent grade) were added and mixed uniformly to obtain an emulsified mixed solution. Thereafter, low-boiling substances are distilled off from the emulsified mixed solution at 50 to 60 ° C. under reduced pressure (−0.05 to −0.098 MPa) to obtain about 35% resin emulsions (1) to (15 ) And (blank).

(2)カチオン電着塗料の調製
約35%の樹脂エマルション(1〜15、ブランク)20部、二酸化チタン{石原産業(株)品、商品名:タイペーク R−930}30部、カオリン{土屋カオリン(株)品、商品名:ウルトラホワイト 90}15部、リンモリブデン酸アルミニウム{和光純薬(株)製試薬特級}3.5部、カーボンブラック{和光純薬(株)製試薬特級}1部、サンノニックSS−70{三洋化成工業(株)製、ノニオン性界面活性剤}0.5部及び脱イオン水30部をインペラー型羽根を装着したエクセルオートホモジナイザー(日本精器会社製、モデルED)にて最大粒度10μm以下(JIS K5600−2−5:1999に準拠して測定した。)まで分散(3000rpm×30分間 )させ、顔料ペースト(1〜15、ブランク)を得た。
(2) Preparation of cationic electrodeposition coating material 20 parts of about 35% resin emulsion (1-15, blank), titanium dioxide {Ishihara Sangyo Co., Ltd. product, trade name: Taipei R-930}, kaolin {Tsuchiya Kaolin Co., Ltd., product name: Ultra white 90} 15 parts, aluminum phosphomolybdate {special grade made by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.} 3.5 parts, carbon black {special grade grade made by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.} 1 part , Sannonic SS-70 {Sanyo Chemical Industries, Nonionic Surfactant} 0.5 parts and deionized water 30 parts Excel Auto Homogenizer equipped with impeller blades (manufactured by Nippon Seiki Co., Ltd., Model ED) And dispersed to a maximum particle size of 10 μm or less (measured in accordance with JIS K5600-2-5: 1999) (3000 rpm × 30 minutes) and pigment paste (1 to 5, blank) was obtained.

樹脂エマルション(1〜15、ブランク)400部と脱イオン水500部とを約25℃で均一混合し、これに顔料ペースト(1〜15、ブランク)100部を加えて、約25℃で均一混合して、カチオン電着塗料(1〜15、ブランク)を得た。       400 parts of resin emulsion (1-15, blank) and 500 parts of deionized water are uniformly mixed at about 25 ° C., and 100 parts of pigment paste (1-15, blank) is added thereto, and mixed uniformly at about 25 ° C. Thus, a cationic electrodeposition paint (1 to 15, blank) was obtained.

また、樹脂エマルション(ブランク)400部と脱イオン水500部とを約25℃で均一混合し、これに顔料ペースト(ブランク)100部、さらに樹脂改質剤(H2)25部を加えて、約25℃で均一混合して、カチオン電着塗料(14’)を得た。       Also, 400 parts of a resin emulsion (blank) and 500 parts of deionized water are uniformly mixed at about 25 ° C., and 100 parts of pigment paste (blank) and 25 parts of a resin modifier (H2) are added thereto. The mixture was uniformly mixed at 25 ° C. to obtain a cationic electrodeposition paint (14 ′).

また、樹脂エマルション(ブランク)400部と脱イオン水400部とを約25℃で均一混合し、これに顔料ペースト(ブランク)100部、さらに樹脂改質剤(H3)125部を加えて、約25℃で均一混合して、カチオン電着塗料(15)を得た。       Further, 400 parts of resin emulsion (blank) and 400 parts of deionized water are uniformly mixed at about 25 ° C., and 100 parts of pigment paste (blank) and 125 parts of resin modifier (H3) are added thereto. The mixture was uniformly mixed at 25 ° C. to obtain a cationic electrodeposition paint (15).

<親水性(耐乾きムラ性)−1>
親水性(耐乾きムラ性)は、特開平4−370165号公報に記載されている方法に準拠して次のようにして評価した。
カチオン電着塗料1000部をステンレスビーカーに投入し、リン酸亜鉛処理鉄板(被塗装板)を陰極に、ステンレスビーカーを陽極とし、塗料浴温度を28℃として電圧を230Vに印加して、約5分間かけて、リン酸亜鉛処理鉄板にウェット膜厚が28μmとなるようにカチオン電着塗装した。
次いで塗装したリン酸亜鉛処理鉄板を塗料浴から引き上げ、水道水約1Lにてシャワー水洗した後、25℃、50%相対湿度の条件下に、水平面に対して65度の角度で立てかけ30分間静置した。次いで温度170℃にて20分間焼付けて塗装板を得た。この塗装板の塗装面の乾きムラ痕の数を数え、これを親水性(耐乾きムラ性)−1とした。
<Hydrophilicity (drying unevenness resistance) -1>
The hydrophilicity (drying unevenness resistance) was evaluated as follows based on the method described in JP-A-4-370165.
1000 parts of cationic electrodeposition paint was put into a stainless beaker, the zinc phosphate-treated iron plate (coating plate) was used as the cathode, the stainless beaker was used as the anode, the paint bath temperature was 28 ° C., and the voltage was applied to 230 V. Over a period of time, cationic electrodeposition was applied to the zinc phosphate-treated iron plate so that the wet film thickness was 28 μm.
Next, the coated zinc phosphate-treated iron plate is lifted from the paint bath, washed with shower water with about 1 L of tap water, and then stood at an angle of 65 degrees with respect to a horizontal plane at 25 ° C. and 50% relative humidity for 30 minutes. I put it. Next, it was baked at a temperature of 170 ° C. for 20 minutes to obtain a coated plate. The number of dry unevenness marks on the coated surface of this coated plate was counted and designated hydrophilic (dry unevenness resistance) -1.

<親水性(耐乾きムラ性)−2>
親水性(耐乾きムラ性)−1と同じく、カチオン電着塗装した後、塗装したリン酸亜鉛処理鉄板を塗料浴から引き上げて水道水約1Lにてシャワー水洗した。次いで酢酸にてpH4に調整した水溶液に50℃にて2週間密閉浸漬した後、引き上げて水道水約1Lにてシャワー水洗した。その後25℃、50%相対湿度の条件下に、水平面に対して65度の角度で立てかけ30分間静置した。次いで温度170℃にて20分間焼付けて塗装板を得た。この塗装板の塗装面の乾きムラ痕の数を数え、これを耐乾きムラ性−2とした。
<Hydrophilicity (drying unevenness resistance) -2>
Similar to hydrophilic (drying unevenness resistance) -1, after cationic electrodeposition coating, the coated zinc phosphate-treated iron plate was pulled up from the paint bath and washed with about 1 L of tap water. Next, after sealingly immersing in an aqueous solution adjusted to pH 4 with acetic acid at 50 ° C. for 2 weeks, it was lifted and washed with about 1 L of tap water. After that, it was stood at an angle of 65 degrees with respect to the horizontal plane for 30 minutes under the conditions of 25 ° C. and 50% relative humidity. Next, it was baked at a temperature of 170 ° C. for 20 minutes to obtain a coated plate. The number of dry unevenness marks on the painted surface of this coated plate was counted, and this was designated as dry unevenness resistance-2.

<耐水性(防錆性)>
耐水性(防錆性)は特開平4−370165号公報に記載されている方法に準拠して次のようにして評価した。
親水性(耐乾きムラ性)−1で得た塗装板をJIS Z2371に従って500時間の塩水噴霧試験を行い、発生した錆の数を数え、これを耐水性(防錆性)とした。
<Water resistance (rust prevention)>
The water resistance (rust resistance) was evaluated as follows based on the method described in JP-A-4-370165.
The coated plate obtained with hydrophilic property (drying unevenness property) -1 was subjected to a salt spray test for 500 hours in accordance with JIS Z2371, and the number of generated rusts was counted to make it water resistant (rust-proof).

Figure 2012107088
Figure 2012107088

本発明の樹脂改質剤を用いたカチオン電着塗料(実施例1〜12)は、ブランクや比較例1〜3に比べて著しく耐乾きムラ性(親水性)が良好であった。また、本発明の樹脂改質剤は、防錆性(耐水性)の低下を招くことがなかった。また、親水性(耐乾きムラ性)−2の結果から、本発明の樹脂改質剤は、pH4の水溶液中で処理しても乾きムラがほとんどなく、比較例の樹脂改質剤に比べて耐加水分解性に優れていた。   The cationic electrodeposition paints (Examples 1 to 12) using the resin modifier of the present invention were remarkably good in dry unevenness (hydrophilicity) as compared with the blank and Comparative Examples 1 to 3. Moreover, the resin modifier of this invention did not cause the fall of rust prevention property (water resistance). In addition, from the result of hydrophilicity (drying unevenness resistance) -2, the resin modifier of the present invention has almost no dry unevenness even when treated in an aqueous solution of pH 4, compared with the resin modifier of the comparative example. Excellent hydrolysis resistance.

本発明の樹脂改質剤は、水性塗料及び非水性塗料のいずれにも適用することができるが、これらのうち水性塗料に好適であり、特にカチオン電着塗料に極めて有用である。   The resin modifier of the present invention can be applied to both water-based paints and non-water-based paints, but among these, it is suitable for water-based paints, and particularly useful for cationic electrodeposition paints.

Claims (7)

一般式(1)〜(3)のいずれかで表されるポリオキシアルキレン化合物(Y)を必須成分としてなることを特徴とする樹脂改質剤。

(G-)S (1)

(G-)t-1S-L{-S(-G)t-2-L}-S(-G)t-1 (2)

(G-)t-1S-L{-U-L-S(-G)t-2-L}-U-L-S(-G)t-1 (3)

ただし、Sは一般式(4)で表される基、tは2〜4の整数、Lは炭素数10〜50のジグリシジルエーテルの反応残基、Uは一般式(5)で表される基、qは0又は1を表し、Gはグリシジル基又は水素原子を表すが、各一般式において少なくとも一つのGはグリシジル基である。

Q{-(OA-) (4)

Z{-(OA-)O-} (5)

Qは非還元性の二又は三糖類のt個の1級水酸基から水素原子を除いた残基、OAは炭素数2〜4のオキシアルキレン基、Zは炭素数2〜15のアルキレン基又はアリーレン基、Oは酸素原子、nは5〜30の整数、tは2〜4の整数、mは5〜20の整数を表し、一般式(4)で表される基(S)に含まれるOAの総数は20〜100の整数であり、S、L、U、(OA)n、(OA)m、Q、Z、q、n、m、tが一分子中に複数個含まれる場合、複数個のそれぞれは同じでも異なっていてもよい。
A resin modifier comprising a polyoxyalkylene compound (Y) represented by any one of the general formulas (1) to (3) as an essential component.

(G-) t S (1)

(G-) t-1 SL {-S (-G) t-2 -L} q- S (-G) t-1 (2)

(G-) t-1 SL {-ULS (-G) t-2 -L} q -ULS (-G) t-1 (3)

However, S is group represented by General formula (4), t is an integer of 2-4, L is the reaction residue of C10-50 diglycidyl ether, U is represented by General formula (5) Group, q represents 0 or 1, and G represents a glycidyl group or a hydrogen atom, but in each general formula, at least one G is a glycidyl group.

Q {-(OA-) n } t (4)

Z {-(OA-) m O-} 2 (5)

Q is a residue obtained by removing a hydrogen atom from t primary hydroxyl groups of a non-reducing di- or trisaccharide, OA is an oxyalkylene group having 2 to 4 carbon atoms, Z is an alkylene group or arylene having 2 to 15 carbon atoms Group, O represents an oxygen atom, n represents an integer of 5 to 30, t represents an integer of 2 to 4, m represents an integer of 5 to 20, and OA contained in the group (S) represented by the general formula (4) Is an integer of 20 to 100, and when a plurality of S, L, U, (OA) n, (OA) m, Q, Z, q, n, m, and t are contained in one molecule, a plurality of Each of the pieces may be the same or different.
非還元性の二又は三糖類のt個の水酸基から水素原子を除いた残基(Q)が蔗糖の反応残基である請求項1に記載の樹脂改質剤。 The resin modifier according to claim 1, wherein the residue (Q) obtained by removing a hydrogen atom from t hydroxyl groups of a non-reducing di- or trisaccharide is a reaction residue of sucrose. ポリオキシアルキレン化合物(Y)が2,000〜10,000g/eq.のエポキシ当量をもつ請求項1又は2に記載の樹脂改質剤。 The polyoxyalkylene compound (Y) is 2,000 to 10,000 g / eq. The resin modifier of Claim 1 or 2 which has the epoxy equivalent of. 樹脂及び請求項1〜3のいずれかに記載の樹脂改質剤を含有してなり、樹脂及び樹脂改質剤の重量に基づいて5〜40重量%の樹脂改質剤を含有してなることを特徴とする改質樹脂組成物。 A resin and the resin modifier according to any one of claims 1 to 3 are contained, and 5 to 40% by weight of a resin modifier is contained based on the weight of the resin and the resin modifier. A modified resin composition characterized by the above. 請求項4に記載の改質樹脂組成物を含有してなることを特徴とする塗料。 A paint comprising the modified resin composition according to claim 4. 塗料及び請求項1〜3のいずれかに記載の樹脂改質剤を含有してなり、塗料及び樹脂改質剤の重量に基づいて0.5〜5重量%の樹脂改質剤を含有してなることを特徴とする塗料組成物。 It contains the resin modifier according to any one of claims 1 to 3, and contains 0.5 to 5% by weight of resin modifier based on the weight of the paint and resin modifier. A coating composition characterized by comprising: 請求項1〜3のいずれかに記載された樹脂改質剤を製造する方法であって、
非還元性の二又は三糖類(a1)1モル部と、炭素数2〜4のアルキレンオキシド(a2)20〜100モル部との化学反応(1)から化合物(a12)を得る工程(1);及び
化合物(a12)1モル部と、エピハロヒドリン(a3)1〜3モル部との化学反応(2)からポリオキシアルキレン化合物(Y1)を得る工程(2)を含む方法(1);

非還元性の二又は三糖類(a1)1モル部と、炭素数2〜4のアルキレンオキシド(a2)20〜100モル部との化学反応(1)から化合物(a12)を得る工程(1);
化合物(a12)1モル部と、炭素数10〜50のジグリシジルエーテル(a4)0.5〜0.67モル部との化学反応(3)から化合物(a124)を得る工程(3);及び
化合物(a124)とエピハロヒドリン(a3)1〜3モル部との化学反応(4)からポリオキシアルキレン化合物(Y2)を得る工程(4)を含む方法(2);又は

非還元性の二又は三糖類(a1)1モル部と、炭素数2〜4のアルキレンオキシド(a2)20〜100モル部との化学反応(1)から化合物(a12)を得る工程(1);
炭素数2〜15のグリコール(a5)1モル部と炭素数2〜4のアルキレンオキシド(a2)10〜40モル部との化学反応(5)から化合物(a52)を得る工程(5);
化合物(a12)1モル部と、化合物(a52)0.5〜0.67モル部と、炭素数10〜50のジグリシジルエーテル(a4)1〜1.33モル部との化学反応(6)から化合物(a12524)を得る工程(6);及び
化合物(a12524)とエピハロヒドリン(a3)1〜3モル部との化学反応(7)からポリオキシアルキレン化合物(Y3)を得る工程(7)を含む方法(3)からなることを特徴とする製造方法。
A method for producing the resin modifier according to any one of claims 1 to 3,
Step (1) for obtaining a compound (a12) from a chemical reaction (1) between 1 mol part of a non-reducing di- or trisaccharide (a1) and 20 to 100 mol parts of an alkylene oxide (a2) having 2 to 4 carbon atoms And a method (1) comprising a step (2) of obtaining a polyoxyalkylene compound (Y1) from a chemical reaction (2) between 1 mol part of the compound (a12) and 1 to 3 mol parts of an epihalohydrin (a3);

Step (1) for obtaining a compound (a12) from a chemical reaction (1) between 1 mol part of a non-reducing di- or trisaccharide (a1) and 20 to 100 mol parts of an alkylene oxide (a2) having 2 to 4 carbon atoms ;
A step (3) of obtaining a compound (a124) from a chemical reaction (3) of 1 mol part of the compound (a12) and 0.5 to 0.67 mol part of a diglycidyl ether having 10 to 50 carbon atoms (a4); and A method (2) comprising a step (4) of obtaining a polyoxyalkylene compound (Y2) from a chemical reaction (4) of the compound (a124) and 1 to 3 mole parts of an epihalohydrin (a3); or

Step (1) for obtaining a compound (a12) from a chemical reaction (1) between 1 mol part of a non-reducing di- or trisaccharide (a1) and 20 to 100 mol parts of an alkylene oxide (a2) having 2 to 4 carbon atoms ;
A step (5) of obtaining a compound (a52) from a chemical reaction (5) of 1 mol part of a glycol having 2 to 15 carbon atoms (a5) and 10 to 40 mol parts of an alkylene oxide having 2 to 4 carbon atoms (a2);
Chemical reaction (1) of 1 mol part of compound (a12), 0.5 to 0.67 mol part of compound (a52) and 1 to 1.33 mol part of diglycidyl ether (a4) having 10 to 50 carbon atoms A step (6) of obtaining a compound (a12524) from the above (6); and a step (7) of obtaining a polyoxyalkylene compound (Y3) from a chemical reaction (7) of 1 to 3 mole parts of the compound (a12524) and epihalohydrin (a3). A production method comprising the method (3).
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