JP2012086520A - Exposure head and image forming apparatus - Google Patents

Exposure head and image forming apparatus Download PDF

Info

Publication number
JP2012086520A
JP2012086520A JP2010237543A JP2010237543A JP2012086520A JP 2012086520 A JP2012086520 A JP 2012086520A JP 2010237543 A JP2010237543 A JP 2010237543A JP 2010237543 A JP2010237543 A JP 2010237543A JP 2012086520 A JP2012086520 A JP 2012086520A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
organic
silicon substrate
substrate
light emitting
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2010237543A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Nozomi Inoue
望 井上
Takeshi Ikuma
健 井熊
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP2010237543A priority Critical patent/JP2012086520A/en
Publication of JP2012086520A publication Critical patent/JP2012086520A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Printers Or Recording Devices Using Electromagnetic And Radiation Means (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Facsimile Heads (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a technique which can suppress the occurrence of a ghost, in an exposure head in which a light-transmissive substrate is arranged between an organic EL and a light shielding member.SOLUTION: The exposure head includes: a silicon substrate on which the organic EL and a sealing member for sealing the organic EL are arranged; the light-transmissive substrate which covers the organic EL and the sealing member on the silicon substrate and transmits light emitted by the organic EL; a light shielding member in which holes are arranged. each of the holes having an opening part opened to the organic EL and allowing the light transmitted by the light-transmissive substrate and made incident on the opening part from the organic EL to pass, and in which the opening parts are arranged on the inside of the silicon substrate in such a manner that the opening part becomes smaller than the silicon substrate as viewed from the direction of the holes; and an optical system which image-forms the light passing through the holes of the light-shielding member.

Description

この発明は、有機ELが発光した光を結像光学系により結像する露光ヘッドに関するものである。   The present invention relates to an exposure head that forms an image of light emitted from an organic EL by an imaging optical system.

特許文献1では、LED(Light Emitting Diode)が形成されたLEDチップに対してレンズを配置し、発光素子(LED)からの光を光学系によって結像する露光ヘッドが記載されている。また、この露光ヘッドでは、対向する発光素子以外からの光が光学系に入射すると、いわゆるゴーストが引き起こされるおそれがある。特許文献1では、これを抑制するために、発光素子から光学系に向けて貫通する孔(導光孔)を有する遮光部材が、発光素子と光学系との間に配置されている。この遮光部材の孔は、発光素子に向けて開口する開口部を有しており、有機ELからの射出光はこの開口部から入って孔を通過した後に、光学系へと入射する。こうして、開口部に入射しない光の結像光学系への入射を制限することで、ゴーストの発生が抑制されている。   Patent Document 1 describes an exposure head in which a lens is disposed on an LED chip on which an LED (Light Emitting Diode) is formed, and light from the light emitting element (LED) is imaged by an optical system. Further, in this exposure head, when light from other than the facing light emitting element enters the optical system, there is a possibility that so-called ghost may be caused. In Patent Document 1, in order to suppress this, a light shielding member having a hole (light guide hole) penetrating from the light emitting element toward the optical system is disposed between the light emitting element and the optical system. The hole of the light shielding member has an opening that opens toward the light emitting element, and light emitted from the organic EL enters the optical system after passing through the opening and passing through the hole. In this way, the occurrence of ghost is suppressed by limiting the incidence of light that does not enter the aperture to the imaging optical system.

特開2009−029106号公報JP 2009-029106 A

ところで、上述のようなLEDチップに代えて、有機EL(Electro-Luminescence)を発光素子として形成したシリコン基板等を用いることが考えられる。ただし、有機ELは水分等により特性が劣化するため、有機ELを封止部材で封止して外気から遮断する必要がある。さらには、封止が破れないように、有機ELおよび封止部材をガラス基板等の光透過性基板で覆っておくことが好適である。つまり、この場合、有機ELおよび封止部材はガラス基板によって覆われており、有機ELの射出光は封止部材および光透過性基板を透過して、遮光部材の孔の開口へと入射する。   By the way, it can be considered to use a silicon substrate or the like in which organic EL (Electro-Luminescence) is formed as a light emitting element instead of the LED chip as described above. However, since the characteristics of the organic EL deteriorate due to moisture or the like, it is necessary to seal the organic EL with a sealing member and shield it from the outside air. Furthermore, it is preferable to cover the organic EL and the sealing member with a light-transmitting substrate such as a glass substrate so that the sealing is not broken. That is, in this case, the organic EL and the sealing member are covered with the glass substrate, and the light emitted from the organic EL passes through the sealing member and the light-transmitting substrate and enters the opening of the hole of the light shielding member.

しかしながら、このような構成では、遮光部材の孔の開口部に向けて進行する迷光が、シリコン基板の側方をすり抜けるようにして光透過性基板を透過した後に、当該開口部に入射してしまい、ゴーストを引き起こすおそれがあった。   However, in such a configuration, stray light traveling toward the opening of the hole of the light shielding member passes through the light transmissive substrate so as to pass through the side of the silicon substrate and then enters the opening. There was a risk of causing ghosts.

この発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、有機ELと遮光部材の間に光透過性基板を配した露光ヘッドにおいて、ゴーストの発生を抑制することを可能とする技術の提供を目的とする。   SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and an object thereof is to provide a technique capable of suppressing the occurrence of ghost in an exposure head in which a light-transmitting substrate is disposed between an organic EL and a light shielding member. To do.

この発明にかかる露光ヘッドは、上記目的を達成するために、有機ELおよび当該有機ELを封止する封止部材が配されるシリコン基板と、シリコン基板の有機ELおよび封止部材を覆うとともに、有機ELの発光する光が透過する光透過性基板と、有機ELに開口する開口部を有し、有機ELから光透過性基板を透過して開口部に入射する光が通過する孔が配されるとともに、孔の方向から見て開口部がシリコン基板より小さくシリコン基板の内側に配される遮光部材と、遮光部材の孔を通過する光を結像する光学系と、を備えることを特徴としている。   In order to achieve the above object, the exposure head according to the present invention covers a silicon substrate on which an organic EL and a sealing member for sealing the organic EL are disposed, an organic EL of the silicon substrate, and a sealing member, A light-transmitting substrate through which light emitted from the organic EL transmits, and an opening that opens to the organic EL, and a hole through which light that passes through the light-transmitting substrate from the organic EL and enters the opening is arranged. And a light shielding member having an opening smaller than the silicon substrate as viewed from the direction of the hole and disposed inside the silicon substrate, and an optical system for imaging light passing through the hole of the light shielding member. Yes.

また、この発明にかかる画像形成装置は、上記目的を達成するために、有機ELおよび当該有機ELを封止する封止部材が配されるシリコン基板、シリコン基板の有機ELおよび封止部材を覆うとともに有機ELの発光する光が透過する光透過性基板、有機ELに開口する開口部を有し有機ELから光透過性基板を透過して開口部に入射する光が通過する孔が配されるとともに孔の方向から見て開口部がシリコン基板より小さくシリコン基板の内側に配される遮光部材、および遮光部材の孔を通過する光を結像する光学系を有する露光ヘッドと、露光ヘッドの光学系が結像した光によって潜像が形成される潜像担持体と、を備えることを特徴としている。   In order to achieve the above object, an image forming apparatus according to the present invention covers a silicon substrate on which an organic EL and a sealing member that seals the organic EL are disposed, an organic EL of the silicon substrate, and a sealing member. At the same time, a light-transmitting substrate through which light emitted from the organic EL is transmitted, and an opening having an opening opening in the organic EL, through which the light that passes through the light-transmitting substrate from the organic EL and enters the opening pass are arranged. And an exposure head having an optical system that forms an image of light passing through the hole of the light shielding member, a light shielding member that is smaller in size than the silicon substrate and disposed inside the silicon substrate when viewed from the direction of the hole, And a latent image carrier on which a latent image is formed by light formed by the system.

このように構成された発明(露光ヘッド、画像形成装置)では、シリコン基板に配された有機ELおよび封止部材は光透過性基板により覆われている。そして、有機ELから光透過性基板を透過した光は、遮光部材の孔を通過した後に光学系により結像される。そのため、上述と同様の理由により、遮光部材の孔の開口部に向けて進行する迷光が、シリコン基板の側方をすり抜けるようにして光透過性基板を透過した後に、当該開口部に入射してしまい、ゴーストを引き起こすおそれがあった。これに対してこの発明では、遮光部材の孔の方向から見て当該孔の開口部がシリコン基板より小さくシリコン基板の内側に配される。そのため、遮光部材の孔の開口部に向けて進行する迷光の多くは、このシリコン基板により反射されて、光透過性基板に入射しない。こうして、この発明では、ゴーストの発生を抑制することが可能となっている。   In the invention configured as described above (exposure head, image forming apparatus), the organic EL and the sealing member disposed on the silicon substrate are covered with the light transmissive substrate. And the light which permeate | transmitted the light transmissive board | substrate from organic EL is imaged by an optical system, after passing the hole of a light shielding member. Therefore, for the same reason as described above, stray light traveling toward the opening of the hole of the light shielding member passes through the light transmissive substrate so as to pass through the side of the silicon substrate, and then enters the opening. This could cause ghosts. On the other hand, in the present invention, the opening of the hole is smaller than the silicon substrate when viewed from the direction of the hole of the light shielding member, and is arranged inside the silicon substrate. Therefore, most of the stray light traveling toward the opening of the hole of the light shielding member is reflected by the silicon substrate and does not enter the light transmissive substrate. Thus, in the present invention, it is possible to suppress the occurrence of ghost.

また、シリコン基板に配されて有機ELを駆動する駆動回路を備えるように構成しても良い。このように、有機ELと駆動回路をシリコン基板に集積することで、駆動回路を構成する部材をシリコン基板以外に設ける必要が無く、露光ヘッドの省スペース化を図ることが容易になる。   Moreover, you may comprise so that the drive circuit which distribute | arranges to a silicon substrate and drives organic EL may be provided. In this manner, by integrating the organic EL and the drive circuit on the silicon substrate, it is not necessary to provide a member constituting the drive circuit other than the silicon substrate, and it becomes easy to save the space of the exposure head.

このとき、より具体的には、駆動回路および有機ELをシリコン基板に積層しても良い。さらには、有機ELを駆動するための信号を駆動回路に与える配線がシリコン基板に配されてもよい。   At this time, more specifically, the drive circuit and the organic EL may be stacked on the silicon substrate. Furthermore, a wiring for supplying a signal for driving the organic EL to the driving circuit may be arranged on the silicon substrate.

また、光学系の結像倍率の絶対値は1未満であるように構成しても良い。後述するように、このように構成した場合、駆動回路を大きく形成して、駆動回路の駆動能力を容易に向上させることが可能となる。   Further, the absolute value of the imaging magnification of the optical system may be less than 1. As will be described later, in the case of such a configuration, the drive circuit can be formed large and the drive capability of the drive circuit can be easily improved.

また、光透過性基板としてはガラス基板を用いることができる。   Further, a glass substrate can be used as the light transmissive substrate.

本発明を適用可能なラインヘッドの一例を示す図。The figure which shows an example of the line head which can apply this invention. 図1のラインヘッドにおける発光素子の配置を示す図。The figure which shows arrangement | positioning of the light emitting element in the line head of FIG. 光軸方向から見たチップの部分平面図。The partial top view of the chip | tip seen from the optical axis direction. 長手方向LGDから見たチップの幅方向断面を部分的に示す図。The figure which shows partially the cross section of the width direction of the chip | tip seen from the longitudinal direction LGD. 実施形態の効果を説明する図。The figure explaining the effect of embodiment. ラインヘッドを適用可能な画像形成装置の一例を示す図。1 is a diagram illustrating an example of an image forming apparatus to which a line head can be applied. 図6の装置の電気的構成を示すブロック図。FIG. 7 is a block diagram showing an electrical configuration of the apparatus of FIG. 6. チップの変形例を示す図。The figure which shows the modification of a chip | tip. チップの変形例を示す図。The figure which shows the modification of a chip | tip. 発光素子グループを構成する発光素子の配列態様の変形例を示す図。The figure which shows the modification of the arrangement | sequence aspect of the light emitting element which comprises a light emitting element group. 結像光学系と発光素子グループの配置関係の変形例を示す図。The figure which shows the modification of the arrangement | positioning relationship between an imaging optical system and a light emitting element group.

図1は、本発明を適用可能なラインヘッドの一例を示す図であり、特にラインヘッド29の断面(図2に示すA−A線断面)を長手方向LGDから見た場合を部分的に示している。図1の破線で示すように、ラインヘッド29は、チップCPに形成された発光素子からの光を結像光学系LS1、LS2で結像して、感光体ドラム表面等の被露光面ESにスポットSPを形成するものである。また、図2は、図1のラインヘッドにおける発光素子の配置を示す図であり、特に発光素子Eが形成されたチップCPを支持するヘッド基板293の構成を光軸方向Doaから見た場合を部分的に示している。なお、図1および後に説明する図では、ガラス等の光透過製材料で構成された部材の断面に対してドットのハッチングが適宜施されている。また、図2では、ヘッド基板293に配置された部材以外の部材(LS1、LS2、D1)が一点・二点鎖線で示されているが、これは発光素子Eと各部材(LS1、LS2、D1)との対応関係を理解しやすくするために記載したものである。   FIG. 1 is a diagram showing an example of a line head to which the present invention can be applied. In particular, the cross-section of the line head 29 (A-A cross section shown in FIG. 2) is partially shown from the longitudinal direction LGD. ing. As shown by a broken line in FIG. 1, the line head 29 forms an image of light from the light emitting element formed on the chip CP by the imaging optical systems LS1 and LS2, and forms an exposed surface ES such as the surface of the photosensitive drum. The spot SP is formed. FIG. 2 is a diagram showing the arrangement of the light emitting elements in the line head of FIG. 1, particularly when the configuration of the head substrate 293 that supports the chip CP on which the light emitting element E is formed is viewed from the optical axis direction Doa. Partially shown. In addition, in FIG. 1 and the figure demonstrated later, the hatching of the dot is suitably given with respect to the cross section of the member comprised with optically transparent materials, such as glass. In FIG. 2, members (LS1, LS2, D1) other than the members arranged on the head substrate 293 are indicated by one-dot / two-dot chain lines, but this is the light-emitting element E and each member (LS1, LS2,. This is to make it easier to understand the correspondence with D1).

また、ラインヘッド29は、長手方向LGDに長尺で幅方向LTDに短尺な全体構成を備える。そこで、図1および後に説明する図面では必要に応じて、ラインヘッド29の長手方向LGDおよび幅方向LTDを示す。また、結像光学系LS1、LS2の光軸方向Doaについても適宜示すものとする。ここで、光軸方向Doaは、結像光学系LS1、LS2の光軸OAに平行であって、チップCPに形成された発光素子が光を射出する方向とする。なお、これらの方向LGD、LTD、Doaは互いに直交もしくは略直交している。また、以下では必要に応じて、光軸方向Doaの矢印側を「表」あるいは「上」と表現し、光軸方向Doaの矢印と反対側を「裏」「下」あるいは「底」と表現する。   The line head 29 has an overall configuration that is long in the longitudinal direction LGD and short in the width direction LTD. Therefore, in FIG. 1 and the drawings described later, the longitudinal direction LGD and the width direction LTD of the line head 29 are shown as necessary. In addition, the optical axis direction Doa of the imaging optical systems LS1 and LS2 is also shown as appropriate. Here, the optical axis direction Doa is parallel to the optical axis OA of the imaging optical systems LS1 and LS2, and is a direction in which the light emitting elements formed on the chip CP emit light. Note that these directions LGD, LTD, and Doa are orthogonal or substantially orthogonal to each other. Further, in the following, the arrow side in the optical axis direction Doa is expressed as “front” or “upper” and the opposite side to the arrow in the optical axis direction Doa is expressed as “back”, “lower”, or “bottom” as necessary. To do.

また、後述するとおり、同ラインヘッド29を画像形成装置に適用するにあたっては、ラインヘッド29は、主走査方向MDに直交もしくは略直交する副走査方向SDに移動する被露光面ES(感光体ドラム表面)に対して露光を行なうものであり、しかも、被露光面ESの主走査方向MDはラインヘッド29の長手方向LGDに平行もしくは略平行であり、被露光面ESの副走査方向SDはラインヘッド29の幅方向LTDに平行もしくは略平行である。そこで、必要に応じて、長手方向LGD・幅方向LTDと併せて、主走査方向MD・副走査方向SDも図示することとする。   As will be described later, when the line head 29 is applied to the image forming apparatus, the line head 29 is exposed to an exposed surface ES (photosensitive drum) that moves in the sub-scanning direction SD that is orthogonal or substantially orthogonal to the main scanning direction MD. The main scanning direction MD of the exposed surface ES is parallel or substantially parallel to the longitudinal direction LGD of the line head 29, and the sub-scanning direction SD of the exposed surface ES is a line. It is parallel or substantially parallel to the width direction LTD of the head 29. Therefore, as necessary, the main scanning direction MD and the sub-scanning direction SD are also illustrated together with the longitudinal direction LGD and the width direction LTD.

ラインヘッド29は、チップCPを支持するヘッド基板や、レンズLS1、LS2が形成されたレンズアレイLA1、LA2を具備する。チップCPでは、発光素子ピッチPeで長手方向LGDに2行千鳥状に並ぶ複数(16個)の発光素子Eがグループ化されて発光素子グループEGが構成されるとともに、複数(3個)の発光素子グループEGが長手方向LGDに所定ピッチ(Dg×2)で直線的に並んでいる。また、複数のチップCPが長手方向LGDに2行千鳥状に並んで、ガラス製のヘッド基板293の裏面293−tに固定されている。その結果、ヘッド基板293の裏面293−tには、複数の発光素子グループEGが長手方向LGDにピッチDgで2行千鳥状かつ離散的に並んでおり、発光素子グループEGの各発光素子Eからの光はヘッド基板293を透過して、ヘッド基板表面293−hから射出される。   The line head 29 includes a head substrate that supports the chip CP and lens arrays LA1 and LA2 on which lenses LS1 and LS2 are formed. In the chip CP, a plurality of (16) light emitting elements E arranged in a zigzag manner in two rows in the longitudinal direction LGD at the light emitting element pitch Pe are grouped to form a light emitting element group EG, and a plurality (three) of light emitting elements are formed. The element groups EG are linearly arranged at a predetermined pitch (Dg × 2) in the longitudinal direction LGD. A plurality of chips CP are arranged in a zigzag pattern in two rows in the longitudinal direction LGD and fixed to the back surface 293-t of the glass head substrate 293. As a result, on the back surface 293-t of the head substrate 293, a plurality of light emitting element groups EG are arranged in a staggered manner in two rows in a longitudinal direction LGD with a pitch Dg, and from the light emitting elements E of the light emitting element group EG. The light passes through the head substrate 293 and is emitted from the head substrate surface 293-h.

ヘッド基板293の表面293−hには、幅方向LTDの両側にスペーサーAS1が配置されており、これらスペーサーAS1にレンズアレイLA1が幅方向LTDに架設されている。このレンズアレイLA1の裏面には、発光素子グループEGの配置に対応して、複数のレンズLS1が長手方向LGDに2行千鳥で並んでいる。これにより、1個の発光素子グループEGに対して、1枚のレンズLS1が対向することとなる。ちなみに、レンズLS1は、発光素子グループEGに対して凸の形状を有し、樹脂で形成される。   On the surface 293-h of the head substrate 293, spacers AS1 are arranged on both sides in the width direction LTD, and a lens array LA1 is installed on these spacers AS1 in the width direction LTD. On the back surface of the lens array LA1, a plurality of lenses LS1 are arranged in a zigzag pattern in the longitudinal direction LGD corresponding to the arrangement of the light emitting element groups EG. Accordingly, one lens LS1 is opposed to one light emitting element group EG. Incidentally, the lens LS1 has a convex shape with respect to the light emitting element group EG and is made of resin.

さらに、レンズアレイLA1の表面には、幅方向LTDの両側にスペーサーAS2が配置されており、これらスペーサーAS2にレンズアレイLA2が幅方向LTDに架設されている。このレンズアレイLA2の裏面には、発光素子グループEGの配置に対応して、複数のレンズLS2が長手方向LGDに2行千鳥で並んでいる。これにより、1個の発光素子グループEGに対して、1枚のレンズLS2が対向することとなる。ちなみに、レンズLS2は、発光素子グループEGに対して凸の形状を有し、樹脂で形成される。   Further, spacers AS2 are arranged on both sides of the width direction LTD on the surface of the lens array LA1, and the lens array LA2 is installed in the width direction LTD on these spacers AS2. On the back surface of the lens array LA2, a plurality of lenses LS2 are arranged in a zigzag pattern in the longitudinal direction LGD corresponding to the arrangement of the light emitting element groups EG. As a result, one lens LS2 is opposed to one light emitting element group EG. Incidentally, the lens LS2 has a convex shape with respect to the light emitting element group EG and is made of resin.

また、ラインヘッド29は、ヘッド基板293とレンズアレイLA1との間に遮光部材295を具備する。この遮光部材295は、光軸方向Doaに並ぶ5枚の遮光平板FP1〜FP5を有している。より具体的には、遮光部材295では、幅方向LTDに間隔を空けてヘッド基板表面293−hに配置された2つのスペーサーが設けられており、これらのスペーサーの上に遮光平板FP1が架設されている。さらに、遮光部材295では、幅方向LTDに間隔を空けて遮光平板FP1表面に配置された2つのスペーサーが設けられ、これらのスペーサーの上に遮光平板FP2が架設されるとともに、同様に他の遮光平板FP3〜FP5もスペーサーを介して積み上げられている。   Further, the line head 29 includes a light shielding member 295 between the head substrate 293 and the lens array LA1. The light shielding member 295 has five light shielding plates FP1 to FP5 arranged in the optical axis direction Doa. More specifically, the light shielding member 295 is provided with two spacers arranged on the head substrate surface 293-h with an interval in the width direction LTD, and a light shielding plate FP1 is installed on these spacers. ing. Further, the light shielding member 295 is provided with two spacers arranged on the surface of the light shielding flat plate FP1 with an interval in the width direction LTD. The light shielding flat plate FP2 is installed on these spacers, and other light shielding is similarly performed. The flat plates FP3 to FP5 are also stacked via spacers.

遮光平板FP1には、レンズLS1、LS2の光軸OAを中心とする円形状を有して、光軸方向Doaに貫通する導光孔D1が、発光素子グループEG毎に形成されている。こうして、遮光平板FP1には、発光素子グループEGの配置に対応して、複数の導光孔D1が長手方向LGDに2行千鳥で並ぶ。また、同様に、その他の遮光平板FP2〜FP5それぞれに対しても、発光素子グループEGの配置に対応して、導光孔D2〜D5が長手方向LGDに2行千鳥で並ぶ。なお、ヘッド基板293に最近接の導光孔D1の径は、その他の導光孔D2〜D5の径よりも小さい。   In the light shielding plate FP1, a light guide hole D1 having a circular shape centered on the optical axis OA of the lenses LS1 and LS2 and penetrating in the optical axis direction Doa is formed for each light emitting element group EG. Thus, on the light shielding flat plate FP1, a plurality of light guide holes D1 are arranged in a zigzag pattern in the longitudinal direction LGD corresponding to the arrangement of the light emitting element groups EG. Similarly, for each of the other light shielding flat plates FP2 to FP5, light guide holes D2 to D5 are arranged in a zigzag pattern in the longitudinal direction LGD corresponding to the arrangement of the light emitting element groups EG. The diameter of the light guide hole D1 closest to the head substrate 293 is smaller than the diameters of the other light guide holes D2 to D5.

こうして、光軸方向Doaに一列に並ぶ導光孔D1〜D5およびレンズLS1、LS2が、各発光素子グループEGに対向する。したがって、発光素子グループEGの各発光素子Eが射出した光のうち、導光孔D1〜D5を通過した光がレンズLS1、LS2に入射して結像される。なお、結像光学系LS1、LS2は反転・縮小の結像倍率を有する(つまり、結像倍率は負の値で絶対値が1未満である)。   Thus, the light guide holes D1 to D5 and the lenses LS1 and LS2 arranged in a line in the optical axis direction Doa face each light emitting element group EG. Accordingly, among the light emitted from each light emitting element E of the light emitting element group EG, the light that has passed through the light guide holes D1 to D5 is incident on the lenses LS1 and LS2 and is imaged. The imaging optical systems LS1 and LS2 have inversion / reduction imaging magnification (that is, the imaging magnification is a negative value and an absolute value is less than 1).

以上が、ラインヘッド29の概略構成である。続いて、図3および図4を用いて、ラインヘッド29が備えるチップCPの詳細構成について説明する。ここで、図3は、光軸方向から見たチップの部分平面図である。また、図4は、長手方向LGDから見たチップの幅方向断面を部分的に示す図である。なお、図3では、チップCPに配置された部材以外の部材(D1)が一点・二点鎖線で示されているが、これはチップCPに形成された発光素子Eと各部材(D1)との対応関係を理解しやすくするために記載したものである。   The above is the schematic configuration of the line head 29. Next, a detailed configuration of the chip CP included in the line head 29 will be described with reference to FIGS. 3 and 4. Here, FIG. 3 is a partial plan view of the chip as seen from the optical axis direction. FIG. 4 is a diagram partially showing a cross-section in the width direction of the chip viewed from the longitudinal direction LGD. In FIG. 3, the members (D1) other than the members arranged on the chip CP are indicated by one-dot / two-dot chain lines, but this means that the light-emitting element E formed on the chip CP and each member (D1) This is to make it easier to understand the correspondence between

チップCPは、長手方向LGDに長さL1で幅方向LTDに幅L2(<L1)の長方形状を有するシリコン基板SSを備えている。このシリコン基板SSに対しては、発光素子Eとしての有機EL、発光素子Eを駆動する駆動回路DC、駆動回路DCにデータを転送する転送回路TC、および駆動回路と転送回路TCを接続する配線WL等が、半導体プロセスによって集積形成されている。   The chip CP includes a silicon substrate SS having a rectangular shape having a length L1 in the longitudinal direction LGD and a width L2 (<L1) in the width direction LTD. For this silicon substrate SS, an organic EL as the light-emitting element E, a drive circuit DC that drives the light-emitting element E, a transfer circuit TC that transfers data to the drive circuit DC, and wiring that connects the drive circuit and the transfer circuit TC WL and the like are integrated and formed by a semiconductor process.

より具体的には、シリコン基板SSでは、3組の発光素子グループEGが長手方向LGDに並べて形成されている。これら発光素子グループEGの各発光素子Eは、いわゆるトップエミッション型の有機ELであり、等しいもしくは略等しい発光スペクトルで発光する。そして、シリコン基板SSには、有機ELである発光素子Eを水分等から遮断するために、発光素子Eを封止する封止薄膜SLが形成されている。このとき封止薄膜SLとシリコン基板SSとの間からの水分の浸入等を防ぐため、発光素子Eの周囲には一定の余裕を持って封止薄膜SLを形成することが好ましい。具体的には、0.5[mm]〜2[mm]程度の余裕が適当である。なお、本実施形態のように、複数の発光素子グループEGを離散的に並べることで、チップCPの端から発光素子グループEGまでの距離を確保することができ、発光素子グループEGからチップCPの端の間に十分な余裕を持って封止薄膜SLを設けることができる。   More specifically, in the silicon substrate SS, three sets of light emitting element groups EG are formed side by side in the longitudinal direction LGD. Each light emitting element E of these light emitting element groups EG is a so-called top emission type organic EL, and emits light with an equal or substantially equal emission spectrum. A sealing thin film SL that seals the light emitting element E is formed on the silicon substrate SS in order to block the light emitting element E, which is an organic EL, from moisture and the like. At this time, in order to prevent moisture from entering between the sealing thin film SL and the silicon substrate SS, it is preferable to form the sealing thin film SL around the light emitting element E with a certain margin. Specifically, a margin of about 0.5 [mm] to 2 [mm] is appropriate. Note that, as in the present embodiment, by arranging a plurality of light emitting element groups EG in a discrete manner, the distance from the end of the chip CP to the light emitting element group EG can be secured, and the light emitting element group EG to the chip CP can be secured. The sealing thin film SL can be provided with a sufficient margin between the ends.

また、シリコン基板SSでは、発光素子Eに重なるように配置された駆動回路DCが、各発光素子Eの下層に形成されている(すなわち、発光素子Eと駆動回路DCが積層されている)。言い換えれば、駆動回路DCを発光素子ピッチPeで長手方向LGDに2行千鳥状に並べたものが、発光素子グループEGの下層に形成されている。こうして、幅方向LTDに長い短冊状の駆動回路DCが、各発光素子Eから幅方向LTDの外側に延設される。このように、トップエミッション型の有機ELを発光素子Eとして用いることで、駆動回路DCの真上に発光素子Eを形成することができる。そのため、駆動回路DCの配置領域を確保するために各発光素子Eの間隔を空ける必要が無く、各発光素子Eを高密度に配置することが可能となる。なお、この駆動回路DCは、発光素子Eを駆動するトランジスターや、トランジスターの入力端子にかかる電圧を保持するコンデンサーで構成されたものである。   In the silicon substrate SS, the drive circuit DC disposed so as to overlap the light emitting element E is formed in the lower layer of each light emitting element E (that is, the light emitting element E and the drive circuit DC are stacked). In other words, the drive circuits DC arranged in a zigzag pattern in the longitudinal direction LGD at the light emitting element pitch Pe are formed in the lower layer of the light emitting element group EG. Thus, the strip-like drive circuit DC that is long in the width direction LTD is extended from each light emitting element E to the outside of the width direction LTD. Thus, by using the top emission type organic EL as the light emitting element E, the light emitting element E can be formed directly above the drive circuit DC. For this reason, it is not necessary to provide a space between the light emitting elements E in order to secure the arrangement area of the drive circuit DC, and the light emitting elements E can be arranged at high density. The driving circuit DC is composed of a transistor that drives the light emitting element E and a capacitor that holds a voltage applied to an input terminal of the transistor.

また、発光素子グループEGの幅方向LTD両側には、長手方向LGDに延びる転送回路TCが形成されており、各駆動回路DCと転送回路TCが配線WLによって電気的に接続される。さらに、シリコン基板には外部との信号のやり取りのために端子TMが形成されている。したがって、端子TMから入力されてきたデータを転送回路TCが配線WLを介して駆動回路DCに与えると、駆動回路DCがこのデータに応じて発光素子Eを発光させる。   Further, transfer circuits TC extending in the longitudinal direction LGD are formed on both sides of the light emitting element group EG in the width direction LTD, and each drive circuit DC and the transfer circuit TC are electrically connected by the wiring WL. Further, terminals TM are formed on the silicon substrate for exchanging signals with the outside. Accordingly, when the transfer circuit TC supplies the data input from the terminal TM to the drive circuit DC via the wiring WL, the drive circuit DC causes the light emitting element E to emit light according to the data.

以上のように構成されたシリコン基板SSは、ガラス製のヘッド基板293(ガラス基板)の裏面にCOG(chip on glass)によって接合される。このように、ヘッド基板293にシリコン基板SSを接合することで、ヘッド基板293によってシリコン基板SSの変形が抑えられ、シリコン基板SSの変形によって発光素子Eの封止が破れることを抑制できる。特に、ヘッド基板293にシリコン基板SSの変形抑制機能を担わせることで、当該機能のためにカバーガラス等の部材を別途設ける必要がなく、ラインヘッド29全体の薄型化を図ることができる。さらには、ヘッド基板293に設けた配線と、シリコン基板SSに設けた配線の電極を容易に接続できるといった利点もある。なお、ヘッド基板293にシリコン基板SSを接合した構成では、ヘッド基板293を基準にしてシリコン基板SSの発光素子Eを位置決めすることができるが、この利点を積極的に活かすにあたってはヘッド基板293の厚みを0.3[mm]〜1.5[mm]として、ヘッド基板293の強度を保つことが好適である。   The silicon substrate SS configured as described above is bonded to the back surface of a glass head substrate 293 (glass substrate) by COG (chip on glass). Thus, by bonding the silicon substrate SS to the head substrate 293, the deformation of the silicon substrate SS is suppressed by the head substrate 293, and the sealing of the light emitting element E can be suppressed from being broken by the deformation of the silicon substrate SS. In particular, when the head substrate 293 has a function of suppressing deformation of the silicon substrate SS, it is not necessary to separately provide a member such as a cover glass for the function, and the entire line head 29 can be thinned. Further, there is an advantage that the wiring provided on the head substrate 293 and the wiring electrode provided on the silicon substrate SS can be easily connected. In the configuration in which the silicon substrate SS is bonded to the head substrate 293, the light emitting element E of the silicon substrate SS can be positioned with reference to the head substrate 293. However, in order to take advantage of this advantage, It is preferable to maintain the strength of the head substrate 293 by setting the thickness to 0.3 [mm] to 1.5 [mm].

そして、この実施形態では、シリコン基板SSに形成された発光素子グループEGに開口する導光孔D1の開口部と、シリコン基板SSとの関係が次のように設定されている。つまり、光軸方向Doa(導光孔D1の方向)から見て、導光孔D1の開口部がシリコン基板SSよりも小さく、導光孔D1の開口部の全体がシリコン基板SSの内側に位置している。換言すれば、光軸方向Doaから見て、導光孔D1の開口部の径Rdは、シリコン基板SSの長辺の長さL1および短辺の長さL2よりも短く、導光孔D1の開口部全体から外側にシリコン基板SSがはみ出している。そして、このように構成した結果、次のような効果が奏される。   In this embodiment, the relationship between the opening portion of the light guide hole D1 opening in the light emitting element group EG formed in the silicon substrate SS and the silicon substrate SS is set as follows. That is, when viewed from the optical axis direction Doa (the direction of the light guide hole D1), the opening of the light guide hole D1 is smaller than the silicon substrate SS, and the entire opening of the light guide hole D1 is located inside the silicon substrate SS. is doing. In other words, when viewed from the optical axis direction Doa, the diameter Rd of the opening of the light guide hole D1 is shorter than the long side length L1 and the short side length L2 of the silicon substrate SS. The silicon substrate SS protrudes outward from the entire opening. And as a result of having comprised in this way, there exist the following effects.

図5は、実施形態の効果を説明する図であり、ラインヘッド29の幅方向LTDの断面を部分的に示したものである。同図の下段に示す「比較形態」では、シリコン基板SSの長さL2が導光孔D1の開口部の径Rdよりも小さく、光軸方向Doaから見て、導光孔D1の開口部がシリコン基板SSの外側にはみ出している。その結果、導光孔D1の開口部に向けて進行する迷光LTが、シリコン基板SSの側方をすり抜けるようにしてヘッド基板293を透過した後に、当該開口部に入射してしまっている。したがって、この迷光LTが結像光学系LS1、LS2に入射すると、ゴーストが引き起こされるおそれがある。これに対してこの実施形態では、光軸方向Doa(導光孔D1の方向)から見て導光孔D1の開口部がシリコン基板SSより小さくシリコン基板SSの内側に配置されている。そのため、図5の「実施形態」に示すように、遮光部材の導光孔D1の開口部に向けて進行する迷光LTの多くは、このシリコン基板SSにより反射されて、ヘッド基板293に入射しない。こうして、この実施形態では、ゴーストの発生を抑制することが可能となっている。   FIG. 5 is a diagram for explaining the effect of the embodiment, and partially shows a cross section of the line head 29 in the width direction LTD. In the “comparative form” shown in the lower part of the figure, the length L2 of the silicon substrate SS is smaller than the diameter Rd of the opening of the light guide hole D1, and the opening of the light guide hole D1 is viewed from the optical axis direction Doa. It protrudes outside the silicon substrate SS. As a result, the stray light LT traveling toward the opening of the light guide hole D1 passes through the head substrate 293 so as to pass through the side of the silicon substrate SS, and then enters the opening. Therefore, when this stray light LT is incident on the imaging optical systems LS1 and LS2, there is a possibility that a ghost is caused. On the other hand, in this embodiment, when viewed from the optical axis direction Doa (the direction of the light guide hole D1), the opening of the light guide hole D1 is smaller than the silicon substrate SS and is disposed inside the silicon substrate SS. Therefore, as shown in the “embodiment” of FIG. 5, most of the stray light LT traveling toward the opening of the light guide hole D1 of the light shielding member is reflected by the silicon substrate SS and does not enter the head substrate 293. . Thus, in this embodiment, the occurrence of ghost can be suppressed.

また、上記実施形態では、発光素子E(有機EL)と駆動回路DCをシリコン基板SSに集積しているため、駆動回路DCを構成する部材をシリコン基板SS以外に設ける必要が無く、ラインヘッド29の省スペース化を図ることが容易になる。   In the above-described embodiment, since the light emitting element E (organic EL) and the drive circuit DC are integrated on the silicon substrate SS, it is not necessary to provide members constituting the drive circuit DC other than the silicon substrate SS, and the line head 29 It becomes easy to save the space.

また、上記実施形態では、結像光学系の結像倍率の絶対値は1未満である。そのため、駆動回路DCの能力向上を図ることが容易となっている。つまり、隣り合う2つの発光素子EのピッチPeと、これらの発光素子Eが発光して形成される2つのスポットSPのピッチPspと、結像光学系の結像倍率βとは、Pe/|β|=Pspを満たすが、|β|<1の条件下では、Pe>Pspが成立する。すなわち、発光素子EのピッチPeはスポットSPのピッチPspより大きい。このことは、比較的大きなピッチPeで発光素子Eを配置しても高解像度を得られることを意味する。したがって、高解像度を維持しつつも、発光素子Eに対して設けられる駆動回路DCの配列ピッチも同様に大きくとることができ、駆動回路DCを大型化して、駆動回路DCの能力向上を図ることが容易となっている。   In the above embodiment, the absolute value of the imaging magnification of the imaging optical system is less than 1. Therefore, it is easy to improve the performance of the drive circuit DC. That is, the pitch Pe of two adjacent light emitting elements E, the pitch Psp of two spots SP formed by the light emitting elements E emitting light, and the imaging magnification β of the imaging optical system are Pe / | Although β | = Psp is satisfied, Pe> Psp is satisfied under the condition of | β | <1. That is, the pitch Pe of the light emitting elements E is larger than the pitch Psp of the spots SP. This means that high resolution can be obtained even if the light emitting elements E are arranged at a relatively large pitch Pe. Therefore, while maintaining high resolution, the arrangement pitch of the drive circuits DC provided for the light-emitting elements E can be increased as well, and the drive circuit DC is enlarged to improve the performance of the drive circuit DC. Is easy.

画像形成装置の構成
続いて、上記実施形態で説明したラインヘッド29を適用可能な画像形成装置の一例について説明する。図6は上述したラインヘッドを適用可能な画像形成装置の一例を示す図である。また、図7は図6の装置の電気的構成を示すブロック図である。この画像形成装置1は、互いに異なる色の画像を形成する4個の画像形成ステーション2Y(イエロー用)、2M(マゼンタ用)、2C(シアン用)および2K(ブラック用)を備えている。そして、画像形成装置1は、イエロー(Y)、マゼンタ(M)、シアン(C)およびブラック(K)の4色のトナーを重ね合わせてカラー画像を形成するカラーモードと、ブラック(K)のトナーのみを用いてモノクロ画像を形成するモノクロモードとを選択的に実行可能となっている。
Configuration of Image Forming Apparatus Next, an example of an image forming apparatus to which the line head 29 described in the above embodiment can be applied will be described. FIG. 6 is a diagram illustrating an example of an image forming apparatus to which the above-described line head can be applied. FIG. 7 is a block diagram showing an electrical configuration of the apparatus of FIG. The image forming apparatus 1 includes four image forming stations 2Y (for yellow), 2M (for magenta), 2C (for cyan), and 2K (for black) that form images of different colors. The image forming apparatus 1 includes a color mode in which four color toners of yellow (Y), magenta (M), cyan (C), and black (K) are overlapped to form a color image, and black (K). A monochrome mode in which a monochrome image is formed using only toner can be selectively executed.

この画像形成装置では、ホストコンピューターなどの外部装置から画像形成指令がCPUやメモリーなどを有するメインコントローラーMCに与えられると、このメインコントローラーMCはエンジンコントローラーECに制御信号を与えるとともに画像形成指令に対応するビデオデータVDをヘッドコントローラーHCに与える。このとき、メインコントローラーMCは、ヘッドコントローラーHCから水平リクエスト信号HREQを受け取る毎に、主走査方向MDに1ライン分のビデオデータVDをヘッドコントローラーHCに与える。また、ヘッドコントローラーHCは、メインコントローラーMCからのビデオデータVDとエンジンコントローラーECからの垂直同期信号Vsyncおよびパラメーター値とに基づき、各色の画像形成ステーション2Y、2M、2C、2Kそれぞれのラインヘッド29を制御する。これによって、エンジン部ENGが所定の画像形成動作を実行し、複写紙、転写紙、用紙およびOHP用透明シートなどのシート状の記録媒体RMに画像形成指令に対応する画像を形成する。   In this image forming apparatus, when an image forming command is given from an external device such as a host computer to a main controller MC having a CPU, a memory, etc., the main controller MC provides a control signal to the engine controller EC and also supports the image forming command. The video data VD to be transmitted is supplied to the head controller HC. At this time, every time the main controller MC receives the horizontal request signal HREQ from the head controller HC, the main controller MC supplies video data VD for one line to the head controller HC in the main scanning direction MD. The head controller HC also sets the line heads 29 of the image forming stations 2Y, 2M, 2C, and 2K for each color based on the video data VD from the main controller MC, the vertical synchronization signal Vsync from the engine controller EC, and the parameter values. Control. Accordingly, the engine unit ENG executes a predetermined image forming operation, and forms an image corresponding to the image forming command on a sheet-like recording medium RM such as copy paper, transfer paper, paper, and an OHP transparent sheet.

各画像形成ステーション2Y、2M、2Cおよび2Kは、トナー色を除けばいずれも同じ構造および機能を有している。そこで、図6では、図を見やすくするために、画像形成ステーション2Cを構成する各部品にのみ符号を付し、他の画像形成ステーション2Y、2Mおよび2Kに付すべき符号については記載を省略する。また、以下の説明では、図6に付した符号を参照して画像形成ステーション2Cの構造および動作を説明するが、他の画像形成ステーション2Y、2Mおよび2Kの構造および動作も、トナー色が異なることを除けば同じである。   Each of the image forming stations 2Y, 2M, 2C, and 2K has the same structure and function except for the toner color. Therefore, in FIG. 6, in order to make the drawing easier to see, reference numerals are given only to the components constituting the image forming station 2 </ b> C, and description of the reference numerals to be attached to the other image forming stations 2 </ b> Y, 2 </ b> M, and 2 </ b> K is omitted. Further, in the following description, the structure and operation of the image forming station 2C will be described with reference to the reference numerals attached to FIG. 6, but the structure and operation of the other image forming stations 2Y, 2M, and 2K also differ in toner color. It is the same except that.

画像形成ステーション2Cには、シアン色のトナー像がその表面に形成される感光体ドラム21が設けられている。感光体ドラム21は、その回転軸が主走査方向MD(図6の紙面に対して垂直な方向)に平行もしくは略平行となるように配置されており、図6中矢印D21の方向に所定速度で回転駆動される。これにより、感光体ドラム21の表面が、主走査方向MDに直交もしくは略直交する副走査方向SDに移動することとなる。   The image forming station 2C is provided with a photosensitive drum 21 on which a cyan toner image is formed. The photosensitive drum 21 is arranged so that the rotation axis thereof is parallel or substantially parallel to the main scanning direction MD (direction perpendicular to the paper surface of FIG. 6), and is at a predetermined speed in the direction of arrow D21 in FIG. Is driven to rotate. As a result, the surface of the photosensitive drum 21 moves in the sub-scanning direction SD that is orthogonal or substantially orthogonal to the main scanning direction MD.

感光体ドラム21の周囲には、感光体ドラム21表面を所定の電位に帯電させるコロナ帯電器である帯電器22と、感光体ドラム21表面を画像信号に応じて露光することで静電潜像を形成するラインヘッド29と、該静電潜像をトナー像として顕像化する現像器24と、第1スクイーズ部25と、第2スクイーズ部26と、転写後の感光体ドラム21の表面をクリーニングするクリーニングユニットとが、それぞれこれらの順に感光体ドラム21の回転方向D21(図6では、時計回り)に沿って配設されている。   Around the photosensitive drum 21, a charger 22 that is a corona charger that charges the surface of the photosensitive drum 21 to a predetermined potential, and an electrostatic latent image is formed by exposing the surface of the photosensitive drum 21 according to an image signal. A line head 29 for forming the electrostatic latent image, a developing device 24 for visualizing the electrostatic latent image as a toner image, a first squeeze unit 25, a second squeeze unit 26, and the surface of the photosensitive drum 21 after transfer. The cleaning units for cleaning are arranged along the rotation direction D21 (clockwise in FIG. 6) of the photosensitive drum 21 in the order of these.

この実施形態では、帯電器22は2つのコロナ帯電器221、222で構成されており、感光体ドラム21の回転方向D21においてコロナ帯電器221がコロナ帯電器222に対して上流側に配置されており、2つのコロナ帯電器221、222により2段階で帯電されるように構成されている。各コロナ帯電器221、222は同一構成であり、感光体ドラム21の表面に接触しないものであり、スコロトロン帯電器である。   In this embodiment, the charger 22 includes two corona chargers 221 and 222, and the corona charger 221 is disposed upstream of the corona charger 222 in the rotation direction D 21 of the photosensitive drum 21. In addition, the two corona chargers 221 and 222 are configured to be charged in two stages. Each of the corona chargers 221 and 222 has the same configuration and does not contact the surface of the photosensitive drum 21 and is a scorotron charger.

そして、コロナ帯電器221、222により帯電された感光体ドラム21表面に対して、ラインヘッド29がビデオデータVDに基づいて静電潜像を形成する。つまり、ヘッドコントローラーHCがラインヘッド29にビデオデータVDを送信すると、このビデオデータVDに応じた駆動信号の供給を受けて、駆動回路DCが各発光素子Eを発光させる。これにより、感光体ドラム21表面が露光されて、画像信号に対応した静電潜像が形成される。なお、ラインヘッド29の具体的構成は、既に述べたとおりである。   The line head 29 forms an electrostatic latent image on the surface of the photosensitive drum 21 charged by the corona chargers 221 and 222 based on the video data VD. That is, when the head controller HC transmits the video data VD to the line head 29, the drive circuit DC emits each light emitting element E in response to the supply of the drive signal corresponding to the video data VD. As a result, the surface of the photosensitive drum 21 is exposed to form an electrostatic latent image corresponding to the image signal. The specific configuration of the line head 29 is as already described.

こうして形成された静電潜像に対して現像器24からトナーが付与されて、静電潜像がトナーにより現像される。この画像形成装置1の現像器24は、現像ローラー241を有している。この現像ローラー241は円筒状の部材であり、鉄等金属製の内芯の外周部に、ポリウレタンゴム、シリコンゴム、NBR、PFAチューブなどの弾性層を設けたものである。この現像ローラー241は現像用モーターに接続され、図6紙面において反時計回りに回転駆動されて感光体ドラム21に対してウィズ回転する。また、この現像ローラー241は図示を省略する現像バイアス発生部(定電圧電源)と電気的に接続されており、適当なタイミングで現像バイアスが印加されるように構成されている。   Toner is applied from the developing device 24 to the electrostatic latent image formed in this manner, and the electrostatic latent image is developed with the toner. The developing device 24 of the image forming apparatus 1 has a developing roller 241. The developing roller 241 is a cylindrical member, and is provided with an elastic layer such as polyurethane rubber, silicon rubber, NBR, or PFA tube on the outer periphery of an inner core made of metal such as iron. The developing roller 241 is connected to a developing motor and is rotated counterclockwise on the paper surface of FIG. 6 to rotate with respect to the photosensitive drum 21. Further, the developing roller 241 is electrically connected to a developing bias generator (constant voltage power source) (not shown) so that the developing bias is applied at an appropriate timing.

また、この現像ローラー241に対して液体現像剤を供給するためにアニロックスローラーが設けられており、アニロックスローラーを介して現像剤貯留部から現像ローラー241へ液体現像剤が供給される。このようにアニロックスローラーは現像ローラー241に対して液体現像剤を供給する機能を有する。このアニロックスローラーは、液体現像剤を担持し易いように表面に微細且つ一様に彫刻された螺旋溝などによる凹部パターンが形成されたローラーである。現像ローラー241と同様に、金属の芯金にウレタン、NBRなどのゴム層を巻き付けたものや、PFAチューブを被せたものなどが用いられる。また、アニロックスローラーは現像用モーターに接続されて回転する。   An anilox roller is provided to supply the liquid developer to the developing roller 241, and the liquid developer is supplied from the developer storage unit to the developing roller 241 via the anilox roller. As described above, the anilox roller has a function of supplying the liquid developer to the developing roller 241. This anilox roller is a roller in which a concave pattern is formed by spiral grooves or the like engraved finely and uniformly on the surface so as to easily carry the liquid developer. Similar to the developing roller 241, a metal cored bar wrapped with a rubber layer such as urethane or NBR, or a PFA tube is used. The anilox roller is connected to a developing motor and rotates.

現像剤貯留部に貯留される液体現像剤は、従来一般的に使用されている、Isopar(商標:エクソン)を液体キャリアとした低濃度(1〜2wt%)かつ低粘度の常温で揮発性を有する揮発性液体現像剤ではなく、高濃度かつ高粘度の、常温で不揮発性樹脂中へ顔料などの着色剤を分散させた平均粒径1μmの固形子を、有機溶媒、シリコンオイル、鉱物油又は食用油等の液体溶媒中へ分散剤とともに添加し、トナー固形分濃度を約20%とした高粘度(30〜10000mPa・s程度)の液体現像剤が用いられる。   The liquid developer stored in the developer storage section is volatile at room temperature at a low concentration (1-2 wt%) and low viscosity using Isopar (trademark: Exon) as a liquid carrier, which is generally used conventionally. Not a volatile liquid developer having a solid particle having a mean particle size of 1 μm, in which a colorant such as a pigment is dispersed in a non-volatile resin having a high concentration and high viscosity at room temperature, an organic solvent, silicon oil, mineral oil or A liquid developer having a high viscosity (about 30 to 10,000 mPa · s) added to a liquid solvent such as edible oil together with a dispersant and having a toner solid content concentration of about 20% is used.

上記のようにして、液体現像剤が供給された現像ローラー241はアニロックスローラーと同時に回転すると共に、感光体ドラム21の表面とは同方向に移動するように回転して現像ローラー241の表面に担持された液体現像剤を現像位置に搬送する。なお、トナー像を形成するため、現像ローラー241の回転方向は、その表面が感光体ドラム21の表面と同方向に移動するようにウィズ回転する必要があるが、アニロックスローラーに対しては、逆方向、或いは、同方向、どちらに移動する構成であってもよい。   As described above, the developing roller 241 supplied with the liquid developer rotates simultaneously with the anilox roller and rotates so as to move in the same direction as the surface of the photosensitive drum 21 and is carried on the surface of the developing roller 241. The liquid developer thus conveyed is conveyed to the development position. In order to form a toner image, the rotation direction of the developing roller 241 needs to be rotated so that the surface thereof moves in the same direction as the surface of the photosensitive drum 21, but is opposite to the anilox roller. It may be configured to move in either the direction or the same direction.

また、現像器24では、この現像ローラー241の回転方向において現像位置の上流側直前にトナー圧縮コロナ発生器242が現像ローラー241に対向して配置されている。このトナー圧縮コロナ発生器242は現像ローラー241の表面の帯電バイアスを増加させる電界印加手段であり、定電流電源で構成されたトナーチャージ発生部(図示省略)と電気的に接続されている。そして、トナー圧縮コロナ発生器242に対してトナーチャージバイアスが与えられると、現像ローラー241によって搬送される液体現像剤のトナーに対して、このトナー圧縮コロナ発生器242と近接する位置で電界が印加され、帯電、圧縮が施される。なお、このトナー帯電、圧縮には、電解印加によるコロナ放電に代えて、接触して帯電させるコンパクションローラーを用いてもよい。   In the developing device 24, a toner compression corona generator 242 is disposed opposite to the developing roller 241 immediately before the developing position in the rotation direction of the developing roller 241. The toner compression corona generator 242 is an electric field applying means for increasing the charging bias on the surface of the developing roller 241 and is electrically connected to a toner charge generator (not shown) configured with a constant current power source. When a toner charge bias is applied to the toner compression corona generator 242, an electric field is applied to the liquid developer toner conveyed by the developing roller 241 at a position close to the toner compression corona generator 242. Then, charging and compression are performed. For the toner charging and compression, a compaction roller that is charged by contact may be used instead of corona discharge by applying electrolysis.

また、このように構成された現像器24は感光体ドラム21上の潜像を現像する現像位置と感光体ドラム21から離れた退避位置との間で往復可能となっている。したがって、現像器24が退避位置に移動して位置決めされると、その間、シアン用の画像形成ステーション2Cでは、感光体ドラム21への新たな液体現像剤の供給は停止される。   Further, the developing device 24 configured as described above can reciprocate between a developing position for developing the latent image on the photosensitive drum 21 and a retracted position away from the photosensitive drum 21. Therefore, when the developing device 24 is moved to the retracted position and positioned, supply of new liquid developer to the photosensitive drum 21 is stopped in the cyan image forming station 2C.

感光体ドラム21の回転方向D21において現像位置の下流側に、第1スクイーズ部25が配置されるとともに、さらに第1スクイーズ部25の下流側に第2スクイーズ部26が配置されている。これらのスクイーズ部25、26にはスクイーズローラー251、261がそれぞれ設けられている。そして、スクイーズローラー251が第1スクイーズ位置で感光体ドラム21の表面と当接しながらメインモーターからの回転駆動力を受けて回転してトナー像の余剰現像剤を除去する。また、感光体ドラム21の回転方向D21において第1スクイーズ位置の下流側の第2スクイーズ位置でスクイーズローラー261が感光体ドラム21の表面と当接しながらメインモーターからの回転駆動力を受けて回転してトナー像の余剰液体キャリアやカブリトナーを除去する。また、本実施形態ではスクイーズ効率を高めるために、スクイーズローラー251、261に対して図示省略するスクイーズバイアス発生部(定電圧電源)が電気的に接続されており、適当なタイミングでスクイーズバイアスが印加されるように構成されている。なお、本実施形態では2つのスクイーズ部25、26を設けているが、スクイーズ部の個数や配置などはこれに限定されるものではなく、例えば1個のスクイーズ部を配置してもよい。   A first squeeze portion 25 is disposed on the downstream side of the developing position in the rotation direction D <b> 21 of the photosensitive drum 21, and a second squeeze portion 26 is disposed on the downstream side of the first squeeze portion 25. These squeeze portions 25 and 26 are provided with squeeze rollers 251 and 261, respectively. Then, the squeeze roller 251 rotates in response to the rotational driving force from the main motor while contacting the surface of the photosensitive drum 21 at the first squeeze position to remove excess developer in the toner image. Further, in the rotation direction D21 of the photosensitive drum 21, the squeeze roller 261 rotates in response to the rotational driving force from the main motor while contacting the surface of the photosensitive drum 21 at the second squeeze position downstream of the first squeeze position. Then, excess liquid carrier and fog toner in the toner image are removed. In this embodiment, a squeeze bias generator (constant voltage power supply) (not shown) is electrically connected to the squeeze rollers 251 and 261 in order to increase the squeeze efficiency, and the squeeze bias is applied at an appropriate timing. It is configured to be. In this embodiment, the two squeeze portions 25 and 26 are provided. However, the number and arrangement of the squeeze portions are not limited to this, and for example, one squeeze portion may be disposed.

これらのスクイーズ位置を通過してきたトナー像は転写部3の中間転写体31に1次転写される。この中間転写体31は、その表面、より詳しくはその外周面にトナー像を一時的に担持可能な像担持体としての無端状ベルトであり、複数のローラー32、33、34、35および36に掛け渡されている。これらのうちローラー32はメインモーターに連結されて、中間転写体31を図6の矢印方向D31に周回駆動するベルト駆動ローラーとして機能している。なお、本実施形態では、記録紙RMとの密着性を高めて記録紙RMへのトナー像の転写性を高めるために、中間転写体31の表面に弾性層を設け、当該弾性層の表面にトナー像が担持されるように構成されている。   The toner image that has passed through these squeeze positions is primarily transferred to the intermediate transfer member 31 of the transfer unit 3. The intermediate transfer member 31 is an endless belt as an image carrier that can temporarily carry a toner image on its surface, more specifically, on its outer peripheral surface. The intermediate transfer member 31 includes a plurality of rollers 32, 33, 34, 35, and 36. It is being handed over. Among these, the roller 32 is connected to the main motor, and functions as a belt driving roller for driving the intermediate transfer member 31 in the direction of the arrow D31 in FIG. In the present embodiment, an elastic layer is provided on the surface of the intermediate transfer body 31 in order to improve the adhesion with the recording paper RM and improve the transferability of the toner image onto the recording paper RM. A toner image is supported.

ここで、中間転写体31を掛け渡されたローラー32ないし36のうち、メインモーターにより駆動されるのは上記したベルト駆動ローラー32のみであり、他のローラー33ないし36は駆動源を有しない従動ローラーである。また、ベルト駆動ローラー32は、ベルト移動方向D31において一次転写位置TR1の下流側、かつ後述する二次転写位置TR2の上流側で中間転写体31を巻き掛けている。   Here, of the rollers 32 to 36 over which the intermediate transfer body 31 is stretched, only the belt driving roller 32 is driven by the main motor, and the other rollers 33 to 36 are driven without a driving source. It is a roller. Further, the belt driving roller 32 winds the intermediate transfer member 31 on the downstream side of the primary transfer position TR1 and the upstream side of the secondary transfer position TR2 described later in the belt moving direction D31.

転写部3は一次転写バックアップローラー37を有しており、一次転写バックアップローラー37は中間転写体31を挟んで感光体ドラム21と対向して配設されている。感光体ドラム21と中間転写体31とが当接する一次転写位置TR1では、感光体ドラム21の外周面が中間転写体31と当接して一次転写ニップ部NP1cを形成している。そして、感光体ドラム21上のトナー像が中間転写体31の外周面(一次転写位置TR1において下面)に転写される。こうして画像形成ステーション2Cにより形成されたシアン色のトナー像が中間転写体31に転写される。同様に、他の画像形成ステーション2Y、2Mおよび2Kでもトナー像の転写が実行されることで、各色のトナー像が中間転写体31上に順次重ね合わされ、フルカラーのトナー像が形成される。一方、モノクロトナー像が形成される際には、ブラック色に対応した画像形成ステーション2Kのみにおいて、中間転写体31へのトナー像転写が行われる。   The transfer unit 3 includes a primary transfer backup roller 37, and the primary transfer backup roller 37 is disposed to face the photosensitive drum 21 with the intermediate transfer member 31 interposed therebetween. At the primary transfer position TR1 where the photosensitive drum 21 and the intermediate transfer member 31 are in contact, the outer peripheral surface of the photosensitive drum 21 is in contact with the intermediate transfer member 31 to form the primary transfer nip portion NP1c. Then, the toner image on the photosensitive drum 21 is transferred to the outer peripheral surface of the intermediate transfer member 31 (the lower surface at the primary transfer position TR1). Thus, the cyan toner image formed by the image forming station 2C is transferred to the intermediate transfer member 31. Similarly, the toner images are transferred at the other image forming stations 2Y, 2M, and 2K, so that the toner images of the respective colors are sequentially superimposed on the intermediate transfer member 31 to form a full-color toner image. On the other hand, when a monochrome toner image is formed, the toner image is transferred to the intermediate transfer member 31 only in the image forming station 2K corresponding to the black color.

こうして中間転写体31に転写されたトナー像は、ベルト駆動ローラー32への巻き掛け位置を経由して二次転写位置TR2に搬送される。この二次転写位置TR2では、中間転写体31を巻き掛けられたローラー34に対して二次転写部4の二次転写ローラー42が中間転写体31を挟んで対向配置されており、中間転写体31表面と転写ローラー42表面とが互いに当接して二次転写ニップ部NP2を形成している。すなわち、ローラー34は二次転写バックアップローラーとして機能している。バックアップローラー34の回転軸は、例えばバネのような弾性部材である押圧部345によって弾性的に、かつ中間転写体31に対して近接・離間移動自在に支持されている。   The toner image transferred to the intermediate transfer member 31 in this way is conveyed to the secondary transfer position TR2 via the winding position around the belt driving roller 32. At the secondary transfer position TR2, the secondary transfer roller 42 of the secondary transfer unit 4 is disposed opposite to the roller 34 around which the intermediate transfer body 31 is wound, with the intermediate transfer body 31 interposed therebetween. The surface 31 and the surface of the transfer roller 42 are in contact with each other to form the secondary transfer nip portion NP2. That is, the roller 34 functions as a secondary transfer backup roller. The rotation shaft of the backup roller 34 is supported elastically by a pressing portion 345 which is an elastic member such as a spring and can be moved toward and away from the intermediate transfer member 31.

二次転写位置TR2においては、中間転写体31上に形成された単色あるいは複数色のトナー像が、一対のゲートローラー51から搬送経路PTに沿って搬送される記録媒体RMに転写される。また、トナー像が二次転写された記録媒体RMは、二次転写ローラー42から搬送経路PT上に設けられた定着ユニット7へ送出される。定着ユニット7では、記録媒体RMに転写されたトナー像に熱や圧力などが加えられて記録媒体RMへのトナー像の定着が行われる。こうして、記録媒体RMに所望の画像を形成することができる。   At the secondary transfer position TR2, the single-color or multi-color toner images formed on the intermediate transfer member 31 are transferred from the pair of gate rollers 51 to the recording medium RM conveyed along the conveyance path PT. Further, the recording medium RM on which the toner image is secondarily transferred is sent from the secondary transfer roller 42 to the fixing unit 7 provided on the transport path PT. In the fixing unit 7, heat or pressure is applied to the toner image transferred to the recording medium RM to fix the toner image on the recording medium RM. In this way, a desired image can be formed on the recording medium RM.

その他
以上のように、上記実施形態では、ラインヘッド29が本発明の「露光ヘッド」に相当し、感光体ドラム21が本発明の「潜像担持体」に相当する。また、封止薄膜SLが本発明の「封止部材」に相当し、シリコン基板SSが本発明の「シリコン基板」に相当し、ヘッド基板293が本発明の「光透過性基板」に相当し、導光孔D1が本発明の「孔」に相当し、遮光部材295が本発明の「遮光部材」に相当し、結像光学系LS1、LS2が本発明の「光学系」に相当する。また、駆動回路DCが本発明の「駆動回路」に相当し、配線WLが本発明の「配線」に相当する。
Others As described above, in the above embodiment, the line head 29 corresponds to the “exposure head” of the present invention, and the photosensitive drum 21 corresponds to the “latent image carrier” of the present invention. Further, the sealing thin film SL corresponds to the “sealing member” of the present invention, the silicon substrate SS corresponds to the “silicon substrate” of the present invention, and the head substrate 293 corresponds to the “light transmissive substrate” of the present invention. The light guide hole D1 corresponds to the “hole” of the present invention, the light shielding member 295 corresponds to the “light shielding member” of the present invention, and the imaging optical systems LS1 and LS2 correspond to the “optical system” of the present invention. The drive circuit DC corresponds to the “drive circuit” of the present invention, and the wiring WL corresponds to the “wiring” of the present invention.

なお、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて上述したものに対して種々の変更を加えることが可能である。そこで、チップCPの構成を、図8あるいは図9に示すものに変形することもできる。ここで、図8、図9はチップの変形例を示す図であり、長手方向LGDから見たチップの幅方向断面を部分的に示している。図8および図9に示す変形例では、COG等の不図示の接合手段によってシリコン基板SSがカバーガラス294に接合されており、これらシリコン基板SSとカバーガラス294で1つのチップCPが構成されている。そして、図8に示す変形例では、カバーガラス294の表面をヘッド基板裏面293−hに接合することで、ヘッド基板293によりチップCPを支持している。また、図9に示す変形例では、シリコン基板SSの裏面293−tをヘッド基板表面293−hに接合することで、ヘッド基板293によりチップCPを支持している。   The present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications can be made to the above-described one without departing from the spirit of the present invention. Therefore, the configuration of the chip CP can be modified to the one shown in FIG. 8 or FIG. Here, FIG. 8 and FIG. 9 are diagrams showing modifications of the chip, and partially show a cross section in the width direction of the chip as viewed from the longitudinal direction LGD. In the modification shown in FIGS. 8 and 9, the silicon substrate SS is bonded to the cover glass 294 by bonding means (not shown) such as COG, and one chip CP is constituted by the silicon substrate SS and the cover glass 294. Yes. In the modification shown in FIG. 8, the chip CP is supported by the head substrate 293 by bonding the front surface of the cover glass 294 to the head substrate back surface 293-h. In the modification shown in FIG. 9, the chip CP is supported by the head substrate 293 by bonding the back surface 293-t of the silicon substrate SS to the head substrate surface 293-h.

また、発光素子グループEGを構成する発光素子Eの配列態様についても、種々の変形が可能であり、例えば図10の(A)や(B)に示すように変形することができる。ここで、図10は、発光素子グループを構成する発光素子の配列態様の変形例を示す図である。同図では、長手方向LGDに直線状に並ぶ6個の発光素子Eからなるもの(発光素子行)を幅方向LTDに4組設けて、1個の発光素子グループEGが構成されている。また、図10の(A)では、発光素子グループEGから幅方向LTDの両側に外れた位置に駆動回路DCが形成されている。一方、図10の(B)では、駆動回路DCが2つのパートに分けられている。具体的には、発光素子Eに駆動信号を供給する大型トランジスターTrとそれ以外のパートに駆動回路DCが分割されている。そして、大型トランジスターTrは発光素子Eに積層される一方、大型トランジスターTr以外のパートは発光素子グループEGから幅方向LTDに外れた位置に配置されている。   Further, various modifications can be made to the arrangement of the light emitting elements E constituting the light emitting element group EG, for example, as shown in FIGS. 10A and 10B. Here, FIG. 10 is a diagram showing a modified example of the arrangement of the light emitting elements constituting the light emitting element group. In the drawing, four sets of six light emitting elements E (light emitting element rows) arranged linearly in the longitudinal direction LGD are provided in the width direction LTD to constitute one light emitting element group EG. In FIG. 10A, the drive circuit DC is formed at a position off the light emitting element group EG on both sides in the width direction LTD. On the other hand, in FIG. 10B, the drive circuit DC is divided into two parts. Specifically, the drive circuit DC is divided into a large transistor Tr that supplies a drive signal to the light emitting element E and other parts. The large transistor Tr is stacked on the light emitting element E, and the parts other than the large transistor Tr are arranged at positions away from the light emitting element group EG in the width direction LTD.

また、図11に示すように、結像光学系LS1、LS2の光軸OAに対して発光素子グループEGを幅方向LTDの外側に偏心させても良い。ここで、図11は、結像光学系と発光素子グループの配置関係の変形例を示す図である。具体的には、図11では、発光素子グループEGの幾何重心を通るシリコン基板SSの法線GCが、光軸OAに対して幅方向LTDの外側に偏心量Δdだけ偏心している。その結果、幅方向LTDに2つのシリコン基板SSが離間するために、各シリコン基板SSを大きくして、駆動回路DCを形成する領域を十分に確保することができる。その結果、駆動回路DCを大型化して、駆動回路DCの能力向上を図ることができる。   Further, as shown in FIG. 11, the light emitting element group EG may be decentered outside the width direction LTD with respect to the optical axis OA of the imaging optical systems LS1 and LS2. Here, FIG. 11 is a diagram showing a modification of the arrangement relationship between the imaging optical system and the light emitting element groups. Specifically, in FIG. 11, the normal line GC of the silicon substrate SS passing through the geometric center of gravity of the light emitting element group EG is decentered by an eccentric amount Δd outside the width direction LTD with respect to the optical axis OA. As a result, since the two silicon substrates SS are separated from each other in the width direction LTD, each silicon substrate SS can be enlarged to sufficiently secure a region for forming the drive circuit DC. As a result, the capacity of the drive circuit DC can be improved by increasing the size of the drive circuit DC.

さらに、このように発光素子グループEGを偏心させた上で、反転特性を有する結像光学系LS1、LS2を用いることで、各スポットSPの間の距離Δspを縮めることができる。そのため、次のような効果が得られる。つまり、画像形成装置では、スポットSPにより露光された部分は、幅方向LTD(副走査方向SD)下流側の現像位置にまで搬送されてトナー現像を受ける。このとき、スポットSPにより露光してからトナー現像までの時間(露光現像時間)が、各スポットSP間で大きく異なると、付着するトナー量が異なるなどの印字ムラが引き起こされるおそれがある。これに対して、各スポットSPの間の距離Δspを縮めることで、各スポットSP間における露光現像時間の差を小さくして、このような印字ムラの発生を抑制することが可能となっている。   Furthermore, the distance Δsp between the spots SP can be shortened by using the imaging optical systems LS1 and LS2 having reversal characteristics after decentering the light emitting element group EG in this way. Therefore, the following effects can be obtained. That is, in the image forming apparatus, the portion exposed by the spot SP is transported to the development position downstream in the width direction LTD (sub scanning direction SD) and undergoes toner development. At this time, if the time from exposure by the spot SP to toner development (exposure development time) differs greatly between the spots SP, there is a risk of causing printing unevenness such as different amounts of adhering toner. On the other hand, by reducing the distance Δsp between the spots SP, it is possible to reduce the difference in exposure and development time between the spots SP, thereby suppressing the occurrence of such printing unevenness. .

また、図11の構成は、上記以外に次のような効果も奏する。つまり、副走査方向SDにおいて異なる位置にある各結像光学系によって、主走査方向MDに平行なライン状の潜像を形成する場合、副走査方向SDの上流側の結像光学系LS1、LS2でスポットSPを形成し、それから所定時間ΔT後に副走査方向SDの下流側の結像光学系LS1、LS2でスポットSPを形成することで、各スポットSPで露光された部分を主走査方向MDに平行に並べる。このとき、所定時間ΔTの間に感光体ドラム21表面の速度が変動することで、ライン潜像に段差が生じてしまう。これに対して、各スポットSP間の距離Δspを縮めることによって、時間ΔTを短縮して感光体ドラム21表面の速度変動に起因したライン潜像の段差を抑制することができる。   In addition to the above, the configuration of FIG. 11 also has the following effects. That is, when a line-shaped latent image parallel to the main scanning direction MD is formed by the imaging optical systems at different positions in the sub-scanning direction SD, the imaging optical systems LS1, LS2 upstream of the sub-scanning direction SD. The spot SP is formed by the above, and then the spot SP is formed by the imaging optical systems LS1 and LS2 on the downstream side in the sub-scanning direction SD after a predetermined time ΔT, so that the portion exposed by each spot SP is aligned in the main scanning direction MD. Arrange them in parallel. At this time, the speed of the surface of the photosensitive drum 21 fluctuates during the predetermined time ΔT, thereby causing a step in the line latent image. On the other hand, by reducing the distance Δsp between the spots SP, the time ΔT can be shortened and the step of the line latent image due to the speed fluctuation on the surface of the photosensitive drum 21 can be suppressed.

また、ラインヘッド29が、感光体ドラム21に対して副走査方向SDにずれて取り付けられたような場合には、感光体ドラム21の表面が円筒形状であるために、各結像光学系から感光体ドラム21表面までの距離が異なってしまう。その結果、各結像光学系が形成するスポットSPの大きさも異なってしまい、このことが形成画像の濃度差を引き起こすおそれがある。これに対して、各スポットSP間の距離Δspを縮めることによって、スポットSPの大きさの差異を抑えて、このような濃度差を抑制することが可能となる。   When the line head 29 is attached to the photosensitive drum 21 so as to be shifted in the sub-scanning direction SD, the surface of the photosensitive drum 21 is cylindrical, so that each imaging optical system The distance to the surface of the photosensitive drum 21 is different. As a result, the size of the spot SP formed by each imaging optical system is also different, which may cause a density difference in the formed image. On the other hand, by reducing the distance Δsp between the spots SP, it is possible to suppress the difference in size of the spots SP and to suppress such a density difference.

遮光部材の295の構成は上記のように複数の遮光平板FP1〜FP5を積み上げた構成に限られず、種々の変形が可能である。したがって、1枚の厚板状の部材に光軸方向Doaに貫通する導光孔を穿設して、この厚板状部材を遮光部材295として用いても良い。   The configuration of the light shielding member 295 is not limited to the configuration in which the plurality of light shielding plates FP1 to FP5 are stacked as described above, and various modifications are possible. Therefore, a light guide hole penetrating in the optical axis direction Doa may be formed in one thick plate member, and this thick plate member may be used as the light shielding member 295.

また、ラインヘッド29を構成する各部(ヘッド基板293、レンズLS1、LS2等)の材料等は上記のものに限られず、上記以外の材料を用いることができる。   Further, the materials and the like of the respective parts (head substrate 293, lenses LS1, LS2, etc.) constituting the line head 29 are not limited to those described above, and materials other than those described above can be used.

22…感光体ドラム、 29…ラインヘッド、 293…ヘッド基板、 295…遮光部材、 OA…光軸、 FP1〜FP5…遮光平板、 D1〜D5…導光孔、 LS1、LS2…レンズ、 CP…チップ SS…シリコン基板、 DC…駆動回路、 WL…配線   DESCRIPTION OF SYMBOLS 22 ... Photosensitive drum, 29 ... Line head, 293 ... Head board | substrate, 295 ... Light-shielding member, OA ... Optical axis, FP1-FP5 ... Light-shielding flat plate, D1-D5 ... Light guide hole, LS1, LS2 ... Lens, CP ... Chip SS ... Silicon substrate, DC ... Drive circuit, WL ... Wiring

Claims (7)

有機ELおよび前記有機ELを封止する封止部材が配されるシリコン基板と、
前記シリコン基板の前記有機ELおよび前記封止部材を覆うとともに、前記有機ELの発光する光が透過する光透過性基板と、
前記有機ELに開口する開口部を有し、前記有機ELから前記光透過性基板を透過して前記開口部に入射する光が通過する孔が配されるとともに、前記孔の方向から見て前記開口部が前記シリコン基板より小さく前記シリコン基板の内側に配される遮光部材と、
前記遮光部材の前記孔を通過する光を結像する光学系と、
を備えることを特徴とする露光ヘッド。
A silicon substrate on which an organic EL and a sealing member for sealing the organic EL are disposed;
A light-transmitting substrate that covers the organic EL and the sealing member of the silicon substrate and transmits light emitted from the organic EL;
The organic EL has an opening, and a hole through which the light transmitted from the organic EL through the light-transmitting substrate and incident on the opening passes is disposed, and the hole is viewed from the direction of the hole. A light shielding member having an opening smaller than the silicon substrate and disposed inside the silicon substrate;
An optical system for imaging light passing through the hole of the light shielding member;
An exposure head comprising:
前記シリコン基板に配されて前記有機ELを駆動する駆動回路を備える請求項1に記載の露光ヘッド。   The exposure head according to claim 1, further comprising a drive circuit disposed on the silicon substrate and driving the organic EL. 前記駆動回路および前記有機ELを前記シリコン基板に積層する請求項2に記載の露光ヘッド。   The exposure head according to claim 2, wherein the drive circuit and the organic EL are stacked on the silicon substrate. 前記有機ELを駆動するための信号を前記駆動回路に与える配線が前記シリコン基板に配される請求項2または3に記載の露光ヘッド。   4. The exposure head according to claim 2, wherein a wiring for supplying a signal for driving the organic EL to the driving circuit is disposed on the silicon substrate. 前記光学系の結像倍率の絶対値は1未満である請求項2ないし4のいずれか一項に記載の露光ヘッド。   The exposure head according to any one of claims 2 to 4, wherein an absolute value of an imaging magnification of the optical system is less than 1. 前記光透過性基板はガラス基板である請求項1ないし5のいずれか一項に記載の露光ヘッド。   The exposure head according to claim 1, wherein the light transmissive substrate is a glass substrate. 有機ELおよび前記有機ELを封止する封止部材が配されるシリコン基板、前記シリコン基板の前記有機ELおよび前記封止部材を覆うとともに前記有機ELの発光する光が透過する光透過性基板、前記有機ELに開口する開口部を有し前記有機ELから前記光透過性基板を透過して前記開口部に入射する光が通過する孔が配されるとともに前記孔の方向から見て前記開口部が前記シリコン基板より小さく前記シリコン基板の内側に配される遮光部材、および前記遮光部材の前記孔を通過する光を結像する光学系を有する露光ヘッドと、
前記露光ヘッドの前記光学系が結像した光によって潜像が形成される潜像担持体と、
を備えることを特徴とする画像形成装置。
A silicon substrate on which an organic EL and a sealing member for sealing the organic EL are disposed, a light-transmitting substrate that covers the organic EL and the sealing member of the silicon substrate and transmits light emitted from the organic EL; A hole that has an opening that opens in the organic EL and through which the light that passes through the light-transmitting substrate from the organic EL and enters the opening passes, and the opening as viewed from the direction of the hole An exposure head having a light shielding member that is smaller than the silicon substrate and disposed inside the silicon substrate, and an optical system that images light passing through the hole of the light shielding member;
A latent image carrier on which a latent image is formed by light imaged by the optical system of the exposure head;
An image forming apparatus comprising:
JP2010237543A 2010-10-22 2010-10-22 Exposure head and image forming apparatus Withdrawn JP2012086520A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010237543A JP2012086520A (en) 2010-10-22 2010-10-22 Exposure head and image forming apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010237543A JP2012086520A (en) 2010-10-22 2010-10-22 Exposure head and image forming apparatus

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2012086520A true JP2012086520A (en) 2012-05-10

Family

ID=46258663

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010237543A Withdrawn JP2012086520A (en) 2010-10-22 2010-10-22 Exposure head and image forming apparatus

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2012086520A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2011110762A (en) Exposure head and image forming apparatus
JP2011115959A (en) Exposure head, image forming apparatus
JP2012240392A (en) Exposure head, and image forming device
JP2012086520A (en) Exposure head and image forming apparatus
US8355185B2 (en) Exposure head and image forming apparatus
CN101470379A (en) An exposure head and an image forming apparatus
JP2011235484A (en) Exposure head, and image forming apparatus
JP2012111134A (en) Exposure head and image forming apparatus
JP2012086522A (en) Exposure head and image forming apparatus
JP2011161632A (en) Exposure head and image forming apparatus
JP4586560B2 (en) Image printing device
JP2009099379A (en) Light-emitting device and electronic equipment
JP2012086521A (en) Exposure head and image forming apparatus
JP2012245635A (en) Exposure head and image forming device
JP2012187732A (en) Exposure head and image forming apparatus
JP2011235513A (en) Exposure head, and image forming apparatus
JP2012240363A (en) Exposure head, and image forming device
JP2012176506A (en) Image forming device
JP2011161631A (en) Exposure head and image forming apparatus
JP2012125967A (en) Exposure head, and image forming apparatus
JP2012121188A (en) Image forming apparatus
JP2011173264A (en) Exposure head, and image forming apparatus
JP2012218344A (en) Exposure head and image forming device
JP2011110761A (en) Exposure head, and image forming apparatus
JP2012171275A (en) Image forming device

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20140107