JP2012059340A - Test method - Google Patents

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Takashi Ejima
崇 江島
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a test method capable of testing a device to be tested by using a simple tester.SOLUTION: The method of testing a plurality of devices to be tested (211-214) each having a storage circuit, with a test pattern divided and stored in the storage circuits of the plurality of devices to be tested, includes a test pattern read-out step where test patterns (DT0-DT3) are read out from the storage circuits of the plurality of devices to be tested and are merged, and the same test patterns (PTN0-PTN3) are supplied to the plurality of devices to be tested; and a test step where the plurality of devices to be tested are simultaneously tested with the use of the same test patterns that are supplied.

Description

本発明は、試験方法に関する。   The present invention relates to a test method.

1つの半導体チップ内に、記憶回路と論理回路を有する半導体チップがある。そのような半導体チップを試験する際には、記憶回路と論理回路は異なるテスタを用いて試験されており、テスタの乗せ換えによるコスト増加が発生している。   One semiconductor chip includes a semiconductor chip having a memory circuit and a logic circuit. When testing such a semiconductor chip, the memory circuit and the logic circuit are tested using different testers, and the cost increases due to the replacement of the tester.

また、論理回路は、記憶回路に比べ、試験に使用するピンの数が多い。そのため、論理回路用テスタによる論理回路の試験は、記憶回路用テスタによる記憶回路の試験と比べて、被試験デバイスの同時試験可能な個数が少なく、半導体チップ1個当たりの試験コストが高くなる原因となっている。   In addition, the logic circuit has a larger number of pins used for the test than the memory circuit. For this reason, the logic circuit test by the logic circuit tester has a smaller number of devices to be tested at the same time than the memory circuit test by the memory circuit tester, and the test cost per semiconductor chip increases. It has become.

また、被試験デバイスの不揮発性記憶回路の記憶容量は限られており、試験パタンの全ステップの内容を一括で格納することは困難である。   Further, the storage capacity of the nonvolatile memory circuit of the device under test is limited, and it is difficult to store the contents of all the steps of the test pattern in a lump.

また、LSIに内蔵されているメモリを用いてLSI内部の機能ブロックの実動作速度での機能テストが行えるLSIが知られている(例えば、特許文献1参照)。   Further, there is known an LSI capable of performing a function test at an actual operation speed of a functional block inside the LSI using a memory built in the LSI (see, for example, Patent Document 1).

また、半導体メモリとその半導体メモリのテスト回路すなわちテストパターンを発生するテストパターン発生回路を内蔵した半導体集積回路が知られている(例えば、特許文献2参照)。   There is also known a semiconductor integrated circuit including a semiconductor memory and a test circuit for the semiconductor memory, that is, a test pattern generation circuit for generating a test pattern (see, for example, Patent Document 2).

特開2001−91586号公報JP 2001-91586 A 特許第3867862号公報Japanese Patent No. 3867862

本発明の目的は、簡易なテスタにより被試験デバイスの試験を行うことができる試験方法を提供することである。   An object of the present invention is to provide a test method capable of testing a device under test using a simple tester.

試験方法は、各々が記憶回路を有する複数の被試験デバイスの試験方法であって、試験パタンが前記複数の被試験デバイスの記憶回路に分割されて記憶されており、前記複数の被試験デバイスの記憶回路から試験パタンを読み出して、前記読み出した複数の被試験デバイスの試験パタンを併合して前記複数の被試験デバイスに同じ試験パタンを供給する試験パタン読み出しステップと、前記供給された同じ試験パタンを用いて前記複数の被試験デバイスを同時に試験する試験ステップとを有する。   The test method is a test method for a plurality of devices under test each having a memory circuit, and a test pattern is divided and stored in the memory circuits of the plurality of devices under test. A test pattern reading step of reading a test pattern from the storage circuit, merging the read test patterns of the plurality of devices under test to supply the same test pattern to the plurality of devices under test, and the same test pattern supplied And testing the plurality of devices under test simultaneously using

試験パタンを分割して複数の被試験デバイスに記憶させることにより、大容量の試験パタンを記憶可能である。また、被試験デバイスに試験パタンを記憶させることにより、簡易なテスタで複数の被試験デバイスを同時に試験することができる。   A large-capacity test pattern can be stored by dividing the test pattern and storing it in a plurality of devices under test. Further, by storing the test pattern in the device under test, a plurality of devices under test can be simultaneously tested with a simple tester.

実施形態による被試験デバイスの試験方法を示すフローチャートである。3 is a flowchart illustrating a test method for a device under test according to an embodiment. 被試験デバイス及びその試験装置の構成例を示す図である。It is a figure which shows the structural example of a to-be-tested device and its test apparatus. 被試験デバイスの構成例を示す図である。It is a figure which shows the structural example of a device under test. 不揮発性記憶回路の第1の試験ステップの詳細を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the detail of the 1st test step of a non-volatile memory circuit. 不揮発性記憶回路の第1の試験を示す図である。It is a figure which shows the 1st test of a non-volatile memory circuit. 図6(A)〜(C)は不揮発性記憶回路の第1の試験を示す図である。6A to 6C are diagrams illustrating a first test of the nonvolatile memory circuit. 図7(A)は被試験デバイスの構成例を示す図であり、図7(B)はデータ書き込みの処理例を示すタイミングチャートである。FIG. 7A is a diagram showing a configuration example of the device under test, and FIG. 7B is a timing chart showing a data write processing example. 論理回路の試験ステップの詳細を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the detail of the test step of a logic circuit. 論理回路の試験を示す図である。It is a figure which shows the test of a logic circuit. 被試験デバイスの構成例を示す図である。It is a figure which shows the structural example of a device under test. 論理試験の処理例を示すタイミングチャートである。It is a timing chart which shows the example of a process of a logic test. 不揮発性記憶回路コントローラ及び不揮発性記憶回路の構成例を示す図である。It is a figure which shows the structural example of a non-volatile memory circuit controller and a non-volatile memory circuit. 期待値比較回路の構成例を示す図である。It is a figure which shows the structural example of an expected value comparison circuit. 不揮発性記憶回路の第2の試験ステップの詳細を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the detail of the 2nd test step of a non-volatile memory circuit. 図15(A)〜(C)は不揮発性記憶回路の第2の試験を示す図である。15A to 15C are diagrams illustrating a second test of the nonvolatile memory circuit. 図16(A)は被試験デバイスの構成例を示す図であり、図16(B)は論理試験結果判定の処理例を示すタイミングチャートである。FIG. 16A is a diagram illustrating a configuration example of a device under test, and FIG. 16B is a timing chart illustrating a processing example of logic test result determination. 被試験デバイス及びその試験装置の他の構成例を示す図である。It is a figure which shows the other example of a structure of a to-be-tested device and its test apparatus.

図1は、実施形態による被試験デバイスの試験方法を示すフローチャートである。被試験デバイスは、不揮発性記憶回路及び論理回路を搭載する半導体チップである。ステップS101では、テスタは、被試験デバイス内の不揮発性記憶回路の第1の試験を行う。そして、テスタは、被試験デバイス内の論理回路を試験するための試験パタンを被試験デバイス内の不揮発性記憶回路に書き込む。次に、ステップS102では、テスタは、被試験デバイス内の論理回路の試験を行い、試験結果を被試験デバイス内の不揮発性記憶回路に書き込む。次に、ステップS103では、テスタは、被試験デバイス内の不揮発性記憶回路の第2の試験を行う。そして、テスタは、被試験デバイス内の不揮発性記憶回路に書き込まれた試験結果を読み出し、試験結果の合格/不合格の判定を行う。   FIG. 1 is a flowchart illustrating a test method for a device under test according to an embodiment. The device under test is a semiconductor chip on which a nonvolatile memory circuit and a logic circuit are mounted. In step S101, the tester performs a first test of the nonvolatile memory circuit in the device under test. Then, the tester writes a test pattern for testing the logic circuit in the device under test into the nonvolatile memory circuit in the device under test. Next, in step S102, the tester tests the logic circuit in the device under test, and writes the test result in the nonvolatile memory circuit in the device under test. Next, in step S103, the tester performs a second test of the nonvolatile memory circuit in the device under test. Then, the tester reads the test result written in the nonvolatile memory circuit in the device under test, and determines whether the test result is acceptable or not.

図2は、被試験デバイス及びその試験装置の構成例を示す図である。被試験デバイス(DUT)211〜214は、同一の半導体ウエハ上の複数の半導体チップ、又はパッケージ状態の複数の半導体チップであり、同一の構成を有する半導体チップである。被試験デバイス211〜214は、不揮発性記憶回路及び論理回路を有する。テスタ201は、試験冶具202を介して、4個の被試験デバイス211〜214に接続され、4個の被試験デバイス211〜214を同時に試験することができる。テスタ201は、制御信号221を被試験デバイス211〜214に供給する。制御信号221は、クロック信号、リセット信号、被試験デバイス211〜214内の不揮発性記憶回路の書き込み/読み出し等を指示するための信号を含む。テスタ201は、4個の被試験デバイス211〜214内の不揮発性記憶回路からそれぞれデータDT0〜DT3を読み出し、4個の被試験デバイス211〜214にそれぞれ試験パタンPTN0〜PTN3として供給する。4個の被試験デバイス211〜214内の不揮発性記憶回路には異なる試験パタンデータDT0〜DT3が書き込まれている。試験パタンPTN0〜PTN3は、データDT0〜DT3を併合した同じ試験パタンである。4個の被試験デバイス211〜214に供給される試験パタンPTN0〜PTN3はすべて同じである。これにより、テスタ201は、同じ試験パタンPTN0〜PTN3を用いて4個の被試験デバイス211〜214を同時に試験することができる。例えば、各被試験デバイス211〜214の不揮発性記憶回路の記憶容量は、各試験パタンPTN0〜PTN3の全てを記憶するための容量より小さい。したがって、全ての試験パタンを1個の被試験デバイス211の不揮発性記憶回路に記憶させることができない。そこで、試験パタンを複数の被試験デバイス211〜214に分割してデータDT0〜DT3として記憶させる。そして、試験の際には、データDT0〜DT3を併合して試験データPTN0〜PTN3を生成し、4個の被試験デバイス211〜214を同時に試験する。試験データPTN0〜PTN3は、それぞれ例えば4ビットで構成され、同じ試験データである。データDT0は試験データPTN0〜PTN3の0ビット目のデータ、データDT1は試験データPTN0〜PTN3の1ビット目のデータ、データDT2は試験データPTN0〜PTN3の2ビット目のデータ、データDT3は試験データPTN0〜PTN3の3ビット目のデータである。   FIG. 2 is a diagram illustrating a configuration example of a device under test and a test apparatus thereof. The devices under test (DUT) 211 to 214 are a plurality of semiconductor chips on the same semiconductor wafer or a plurality of semiconductor chips in a package state, and are semiconductor chips having the same configuration. The devices under test 211 to 214 have a nonvolatile memory circuit and a logic circuit. The tester 201 is connected to the four devices under test 211 to 214 via the test jig 202 and can test the four devices under test 211 to 214 simultaneously. The tester 201 supplies a control signal 221 to the devices under test 211 to 214. The control signal 221 includes a clock signal, a reset signal, and a signal for instructing writing / reading of the nonvolatile memory circuit in the devices under test 211 to 214. The tester 201 reads data DT0 to DT3 from the nonvolatile storage circuits in the four devices under test 211 to 214, respectively, and supplies them to the four devices under test 211 to 214 as test patterns PTN0 to PTN3, respectively. Different test pattern data DT0 to DT3 are written in the nonvolatile memory circuits in the four devices under test 211 to 214. Test patterns PTN0 to PTN3 are the same test patterns obtained by merging data DT0 to DT3. The test patterns PTN0 to PTN3 supplied to the four devices under test 211 to 214 are all the same. As a result, the tester 201 can simultaneously test four devices under test 211 to 214 using the same test patterns PTN0 to PTN3. For example, the storage capacity of the nonvolatile memory circuit of each of the devices under test 211 to 214 is smaller than the capacity for storing all the test patterns PTN0 to PTN3. Therefore, all the test patterns cannot be stored in the nonvolatile memory circuit of one device under test 211. Therefore, the test pattern is divided into a plurality of devices under test 211 to 214 and stored as data DT0 to DT3. In the test, the data DT0 to DT3 are merged to generate test data PTN0 to PTN3, and the four devices under test 211 to 214 are tested simultaneously. The test data PTN0 to PTN3 are each composed of, for example, 4 bits and are the same test data. The data DT0 is the 0th bit data of the test data PTN0 to PTN3, the data DT1 is the 1st bit data of the test data PTN0 to PTN3, the data DT2 is the second bit data of the test data PTN0 to PTN3, and the data DT3 is the test data This is the third bit data of PTN0 to PTN3.

図3は、被試験デバイス211の構成例を示す図である。被試験デバイス212〜214も、被試験デバイス211と同様の構成を有する。被試験デバイス211は、不揮発性記憶回路301、試験回路302及び論理回路303を有する。被試験デバイス211は、図2に示したように、制御信号221及び試験パタンPTN0を入力し、データDT0を出力する。制御信号221は、テスタ201からの制御信号であり、信号端子の電源接続による入力固定信号を含む。試験回路302は、制御信号221の読み出し指示に応じて、不揮発性記憶回路301からデータDT0を読み出す。また、試験回路302は、試験パタンPTN0を入力し、試験パタン321を論理回路303に出力する。論理回路303は、試験パタン321を入力信号として動作し、動作結果の信号322を試験回路302に出力する。試験回路302は、動作結果の信号322が期待値に一致しているか否かを判定し、試験結果信号313を不揮発性記憶回路301に書き込む。   FIG. 3 is a diagram illustrating a configuration example of the device under test 211. The devices under test 212 to 214 also have the same configuration as the device under test 211. The device under test 211 includes a nonvolatile memory circuit 301, a test circuit 302, and a logic circuit 303. As shown in FIG. 2, the device under test 211 receives the control signal 221 and the test pattern PTN0 and outputs data DT0. The control signal 221 is a control signal from the tester 201, and includes an input fixing signal due to power connection of the signal terminal. The test circuit 302 reads the data DT0 from the nonvolatile memory circuit 301 in response to the read instruction of the control signal 221. Further, the test circuit 302 receives the test pattern PTN0 and outputs the test pattern 321 to the logic circuit 303. The logic circuit 303 operates using the test pattern 321 as an input signal, and outputs an operation result signal 322 to the test circuit 302. The test circuit 302 determines whether or not the operation result signal 322 matches the expected value, and writes the test result signal 313 into the nonvolatile memory circuit 301.

図5は、図1のステップS101の不揮発性記憶回路の第1の試験を示す図である。半導体ウエハ上には、第1の列には複数の被試験デバイス211が配列され、第2の列には複数の被試験デバイス212が配列され、第3の列には複数の被試験デバイス213が配列され、第4の列には複数の被試験デバイス214が配列される。なお、被試験デバイス211〜214は、半導体ウエハではなく、パッケージでもよい。テスタ201は、不揮発性記憶回路用の試験パタン及び論理回路用の試験パタンを記憶する。また、図2の冶具202は被試験デバイス211〜214同士を接続するパスがあるが、図5の冶具202は被試験デバイス同士を接続する必要がない。   FIG. 5 is a diagram showing a first test of the nonvolatile memory circuit in step S101 of FIG. On the semiconductor wafer, a plurality of devices under test 211 are arranged in the first column, a plurality of devices under test 212 are arranged in the second column, and a plurality of devices under test 213 are arranged in the third column. Are arranged, and a plurality of devices under test 214 are arranged in the fourth column. The devices under test 211 to 214 may be packages instead of semiconductor wafers. The tester 201 stores a test pattern for a nonvolatile memory circuit and a test pattern for a logic circuit. 2 has a path for connecting the devices under test 211 to 214, but the jig 202 of FIG. 5 does not need to connect the devices under test.

まず、テスタ201は、冶具202を介して、不揮発性記憶回路用の試験パタンを用いて2個の被試験デバイス211を同時に試験する。実際の試験では、数個〜数百個が同時に試験される。ハンドラは、半導体ウエハ試験では半導体ウエハ上の適切な位置へ冶具を移動し、パッケージ試験では冶具上の適切な位置へ被試験デバイス211を移動する。図5では、半導体ウエハ試験の例を示すが、パッケージ試験でも同様に実現可能である。次に、テスタ201は、冶具202を介して、2個の被試験デバイス211に対して論理回路用の試験パタンPTN0〜PTN3のうちの0ビット目のデータDT0を書き込む。同様にして、被試験デバイス211は、2個単位で、不揮発性記憶回路の試験及び0ビット目のデータDT0の書き込みが行われる。また、被試験デバイス212は、2個単位で、不揮発性記憶回路の試験及び1ビット目のデータDT1の書き込みが行われる。また、被試験デバイス213は、2個単位で、不揮発性記憶回路の試験及び2ビット目のデータDT2の書き込みが行われる。また、被試験デバイス214は、2個単位で、不揮発性記憶回路の試験及び3ビット目のデータDT3の書き込みが行われる。第1の列の複数の被試験デバイス211にはすべて同じデータDT0が書き込まれ、第2の列の複数の被試験デバイス212にはすべて同じデータDT1が書き込まれ、第3の列の複数の被試験デバイス212にはすべて同じデータDT2が書き込まれ、第4の列の複数の被試験デバイス213にはすべて同じデータDT3が書き込まれる。テスタ201が被試験デバイス211〜214を順に試験する方法を、図6(A)〜(C)を参照しながら説明する。   First, the tester 201 simultaneously tests two devices under test 211 using the test pattern for the nonvolatile memory circuit via the jig 202. In an actual test, several to several hundreds are tested simultaneously. In the semiconductor wafer test, the handler moves the jig to an appropriate position on the semiconductor wafer, and in the package test, the handler moves the device under test 211 to an appropriate position on the jig. FIG. 5 shows an example of a semiconductor wafer test, but the same can be realized by a package test. Next, the tester 201 writes the data DT0 of the 0th bit among the test patterns PTN0 to PTN3 for the logic circuit to the two devices under test 211 via the jig 202. Similarly, in the device under test 211, the nonvolatile memory circuit is tested and the 0th bit data DT0 is written in units of two. Further, the device under test 212 performs a test of the nonvolatile memory circuit and writing of the first bit data DT1 in units of two. In addition, the device under test 213 performs the test of the nonvolatile memory circuit and the writing of the second bit data DT2 in units of two. The device under test 214 performs a test of the nonvolatile memory circuit and writing of the third bit data DT3 in units of two. The same data DT0 is written to all the plurality of devices under test 211 in the first column, and the same data DT1 is written to all the plurality of devices under test 212 in the second column. The same data DT2 is written to all the test devices 212, and the same data DT3 is written to all the plurality of devices under test 213 in the fourth column. A method in which the tester 201 sequentially tests the devices under test 211 to 214 will be described with reference to FIGS.

図6(A)〜(C)は、図1のステップS101の不揮発性記憶回路の第1の試験を示す図である。図6(A)は、冶具位置jが0、書き込みビットnが0の場合を示す。書き込みビットnが0であるので、0ビット目のデータDT0が書き込まれる被試験デバイス211が選択される。また、冶具位置jが0であるので、冶具202が図の上側の2個の被試験デバイス211の位置に移動する。その後、テスタ201は、冶具202を介して、図の上側の2個の被試験デバイス211に対して不揮発性記憶回路の試験及び0ビット目の試験データDT0の書き込みを行う。   6A to 6C are diagrams illustrating a first test of the nonvolatile memory circuit in step S101 of FIG. FIG. 6A shows a case where the jig position j is 0 and the write bit n is 0. Since the write bit n is 0, the device under test 211 to which the data DT0 of the 0th bit is written is selected. Since the jig position j is 0, the jig 202 moves to the positions of the two devices under test 211 on the upper side of the drawing. Thereafter, the tester 201 performs the test of the nonvolatile memory circuit and the writing of the test data DT0 of the 0th bit to the two devices under test 211 on the upper side of the drawing via the jig 202.

図6(B)は、冶具位置jが1、書き込みビットnが0の場合を示す。書き込みビットnが0であるので、0ビット目のデータDT0が書き込まれる被試験デバイス211が選択される。また、冶具位置jが1であるので、冶具202が図の中央部の2個の被試験デバイス211の位置に移動する。その後、テスタ201は、冶具202を介して、図の中央部の2個の被試験デバイス211に対して不揮発性記憶回路の試験及び0ビット目の試験データDT0の書き込みを行う。   FIG. 6B shows a case where the jig position j is 1 and the write bit n is 0. Since the write bit n is 0, the device under test 211 to which the data DT0 of the 0th bit is written is selected. Since the jig position j is 1, the jig 202 moves to the positions of the two devices under test 211 in the center of the figure. Thereafter, the tester 201 performs a test of the nonvolatile memory circuit and writing of the test data DT0 of the 0th bit to the two devices under test 211 in the center part of the figure via the jig 202.

同様に、冶具位置jが2、書き込みビットnが0の場合には、テスタ201は、冶具202を介して、図の下側の2個の被試験デバイス211に対して不揮発性記憶回路の試験及び0ビット目の試験データDT0の書き込みを行う。   Similarly, when the jig position j is 2 and the write bit n is 0, the tester 201 tests the nonvolatile memory circuit with respect to the two devices under test 211 on the lower side of the figure via the jig 202. And the test data DT0 of the 0th bit is written.

また、冶具位置jが0〜2、書き込みビットnが1の場合、テスタ201は、冶具202を介して、2個単位で、被試験デバイス212に対して不揮発性記憶回路の試験及び1ビット目の試験データDT1の書き込みを行う。   When the jig position j is 0 to 2 and the write bit n is 1, the tester 201 performs the test of the nonvolatile memory circuit and the first bit with respect to the device under test 212 via the jig 202 in units of two. The test data DT1 is written.

また、冶具位置jが0〜2、書き込みビットnが2の場合、テスタ201は、冶具202を介して、2個単位で、被試験デバイス213に対して不揮発性記憶回路の試験及び2ビット目の試験データDT2の書き込みを行う。   When the jig position j is 0 to 2 and the write bit n is 2, the tester 201 tests the nonvolatile memory circuit and the second bit with respect to the device under test 213 via the jig 202 in units of two. The test data DT2 is written.

また、冶具位置jが0〜2、書き込みビットnが3の場合、テスタ201は、冶具202を介して、2個単位で、被試験デバイス214に対して不揮発性記憶回路の試験及び3ビット目の試験データDT3の書き込みを行う。   When the jig position j is 0 to 2 and the write bit n is 3, the tester 201 performs a nonvolatile memory circuit test and third bit on the device under test 214 via the jig 202 in units of two. The test data DT3 is written.

図6(C)は、冶具位置jが2、書き込みビットnが3の場合を示す。書き込みビットnが3であるので、3ビット目のデータDT3が書き込まれる被試験デバイス214が選択される。また、冶具位置jが2であるので、冶具202が図の下側の2個の被試験デバイス214の位置に移動する。その後、テスタ201は、冶具202を介して、図の下側の2個の被試験デバイス214に対して不揮発性記憶回路の試験及び3ビット目の試験データDT3の書き込みを行う。   FIG. 6C shows the case where the jig position j is 2 and the write bit n is 3. Since the write bit n is 3, the device under test 214 to which the third bit data DT3 is written is selected. Since the jig position j is 2, the jig 202 is moved to the positions of the two devices under test 214 on the lower side of the figure. Thereafter, the tester 201 performs the test of the nonvolatile memory circuit and the writing of the test data DT3 of the third bit to the two devices under test 214 on the lower side of the drawing through the jig 202.

図4は、図1のステップS101の不揮発性記憶回路の第1の試験ステップの詳細を示すフローチャートである。ステップS401では、テスタ201及びハンドラは、冶具位置j及び書き込みビットnにそれぞれ0を設定する。次に、ステップS402では、冶具202は、冶具位置j及び書き込みビットnに対応する2個の被試験デバイス211〜214の位置に選択される。次に、ステップS403では、テスタ201は、選択された2個の被試験デバイス211〜214に対して不揮発性記憶回路の試験を行う。次に、ステップS404では、テスタ201は、選択された2個の被試験デバイス211〜214の不揮発性記憶回路に対してnビット目の試験パタンデータDTnを書き込む。次に、ステップS405では、テスタ201及びハンドラは、冶具位置jをインクリメントする。次に、ステップS406では、テスタ201及びハンドラは、冶具位置jが最大冶具位置J(例えば2)より大きいか否かをチェックする。最大冶具位置J以下であればステップS402に戻り、最大冶具位置Jより大きければステップS407へ進む。ステップS407では、テスタ201及びハンドラは、書き込みビットnをインクリメントする。次に、ステップS408では、テスタ201及びハンドラは、書き込みビットnが最大ビットN(例えば3)より大きいか否かをチェックする。最大ビットN以下であればステップS402に戻り、最大ビットNより大きければ処理を終了する。上記の処理により、試験パタンを被試験デバイス211〜214の不揮発性記憶回路に分割して書き込むことができる。   FIG. 4 is a flowchart showing details of the first test step of the nonvolatile memory circuit in step S101 of FIG. In step S401, the tester 201 and the handler set 0 to the jig position j and the write bit n, respectively. Next, in step S402, the jig 202 is selected as the positions of the two devices under test 211 to 214 corresponding to the jig position j and the write bit n. Next, in step S403, the tester 201 tests the nonvolatile memory circuit with respect to the two selected devices under test 211 to 214. Next, in step S404, the tester 201 writes the nth bit test pattern data DTn to the nonvolatile memory circuits of the two selected devices under test 211-214. Next, in step S405, the tester 201 and the handler increment the jig position j. Next, in step S406, the tester 201 and the handler check whether the jig position j is larger than the maximum jig position J (for example, 2). If it is equal to or smaller than the maximum jig position J, the process returns to step S402. If it is larger than the maximum jig position J, the process proceeds to step S407. In step S407, the tester 201 and the handler increment the write bit n. Next, in step S408, the tester 201 and the handler check whether or not the write bit n is larger than the maximum bit N (for example, 3). If it is less than or equal to the maximum bit N, the process returns to step S402, and if it is greater than the maximum bit N, the process ends. By the above processing, the test pattern can be divided and written in the nonvolatile memory circuits of the devices under test 211 to 214.

以上のように、不揮発性記憶回路の第1の試験では、まず不揮発性記憶回路の試験を実施する。その後、不揮発性記憶回路へ論理試験用の試験パタンを書き込む。論理回路の試験パタンの入力には、複数ビット(Nビット)が必要である。どの被試験デバイス211〜214へどのデータDT0〜DT3を書き込むかは、テスタ201とハンドラに記憶されている。   As described above, in the first test of the nonvolatile memory circuit, the nonvolatile memory circuit is first tested. Thereafter, a test pattern for logic test is written in the nonvolatile memory circuit. A plurality of bits (N bits) are required to input the test pattern of the logic circuit. Which data DT0 to DT3 is written to which device under test 211 to 214 is stored in the tester 201 and the handler.

図7(A)は被試験デバイス211の構成例を示す図であり、図7(B)は図4のステップS404の処理例を示すタイミングチャートである。被試験デバイス211を例に説明するが、被試験デバイス212〜214も同様である。被試験デバイス211は、不揮発性記憶回路(マクロ)701及び順序回路(内部回路)702を有する。不揮発性記憶回路701は、テスタ201から書き込みアドレスADD、試験データDT0、クロック信号CLK及びモード信号TMを入力する。信号711はテスタ201の出力信号であり、信号712は被試験デバイス211の入力信号である。不揮発性記憶回路701は、例えば、16ワードの記憶容量を有する。1ワードは4ビットである。すなわち、不揮発性記憶回路701は、16×4=64ビットの試験データDT0を記憶することができる。1回の試験データPTN0〜PTN3はそれぞれ4ビットであるので、4ビット×64サイクルの試験を行うことが可能である。テスタ201から出力された信号711は、一定時間の遅延の後、被試験デバイス211へ信号712として入力される。不揮発性記憶回路701には、クロック信号CLKに同期して、試験データDT0が書き込まれる。モード信号TMがリードモードからライトモードに代わるタイミングに合わせて、試験データDT0及びそれを書き込むべきアドレスADDがテスタ201から被試験デバイス211へ出力される。ライトモードにおいて、不揮発性記憶回路701には、書き込みアドレスADDに基づき、試験データDT0が書き込まれる。   7A is a diagram showing a configuration example of the device under test 211, and FIG. 7B is a timing chart showing a processing example of step S404 in FIG. Although the device under test 211 will be described as an example, the same applies to the devices under test 212 to 214. The device under test 211 includes a nonvolatile memory circuit (macro) 701 and a sequential circuit (internal circuit) 702. The nonvolatile memory circuit 701 receives a write address ADD, test data DT0, a clock signal CLK, and a mode signal TM from the tester 201. A signal 711 is an output signal of the tester 201, and a signal 712 is an input signal of the device under test 211. The nonvolatile memory circuit 701 has a storage capacity of 16 words, for example. One word is 4 bits. That is, the nonvolatile memory circuit 701 can store 16 × 4 = 64 bits of test data DT0. Since each test data PTN0 to PTN3 is 4 bits, a test of 4 bits × 64 cycles can be performed. The signal 711 output from the tester 201 is input as a signal 712 to the device under test 211 after a predetermined time delay. Test data DT0 is written in the nonvolatile memory circuit 701 in synchronization with the clock signal CLK. The test data DT0 and the address ADD to which it is written are output from the tester 201 to the device under test 211 in accordance with the timing when the mode signal TM changes from the read mode to the write mode. In the write mode, test data DT0 is written to the nonvolatile memory circuit 701 based on the write address ADD.

図9(A)〜(C)は、図1のステップS102の論理回路の試験を示す図である。図9(A)は、冶具位置kが0の場合を示す。冶具位置kが0であるので、冶具202が第1の行の4個の被試験デバイス211〜214の位置に移動する。その後、テスタ201は、冶具202を介して、第1の行の4個の被試験デバイス211〜214に対して論理試験を同時に行う。具体的には、図2に示したように、4個の被試験デバイス211〜214から試験データDT0〜DT3を読み出し、4個の被試験デバイス211〜214にそれぞれ同じ試験パタンPTN0〜PT3を供給し、論理回路の試験を行う。   9A to 9C are diagrams showing the test of the logic circuit in step S102 of FIG. FIG. 9A shows a case where the jig position k is zero. Since the jig position k is 0, the jig 202 is moved to the positions of the four devices under test 211 to 214 in the first row. Thereafter, the tester 201 simultaneously performs a logic test on the four devices under test 211 to 214 in the first row via the jig 202. Specifically, as shown in FIG. 2, the test data DT0 to DT3 are read from the four devices under test 211 to 214, and the same test patterns PTN0 to PT3 are supplied to the four devices under test 211 to 214, respectively. And test the logic circuit.

図9(B)は、冶具位置kが1の場合を示す。冶具位置kが1であるので、冶具202が第2の行の4個の被試験デバイス211〜214の位置に移動する。その後、テスタ201は、冶具202を介して、第2の行の4個の被試験デバイス211〜214に対して論理試験を同時に行う。同様に、冶具位置kが2〜4の場合、テスタ201は、冶具202を介して、それぞれ第3〜第5の行の4個の被試験デバイス211〜214に対して論理試験を同時に行う。   FIG. 9B shows a case where the jig position k is 1. Since the jig position k is 1, the jig 202 moves to the positions of the four devices under test 211 to 214 in the second row. Thereafter, the tester 201 simultaneously performs a logic test on the four devices under test 211 to 214 in the second row via the jig 202. Similarly, when the jig position k is 2 to 4, the tester 201 simultaneously performs a logic test on the four devices under test 211 to 214 in the third to fifth rows via the jig 202, respectively.

図9(C)は、冶具位置kが5の場合を示す。冶具位置kが5であるので、冶具202が第6の行の4個の被試験デバイス211〜214の位置に移動する。その後、テスタ201は、冶具202を介して、第6の行の4個の被試験デバイス211〜214に対して論理試験を同時に行う。   FIG. 9C shows the case where the jig position k is 5. Since the jig position k is 5, the jig 202 moves to the positions of the four devices under test 211 to 214 in the sixth row. Thereafter, the tester 201 simultaneously performs a logic test on the four devices under test 211 to 214 in the sixth row via the jig 202.

図8は、図1のステップS102の論理回路の試験ステップの詳細を示すフローチャートである。ステップS801では、テスタ201及びハンドラは、冶具位置kに0を設定する。次に、ステップS802では、冶具202は、冶具位置kに対応する4個の被試験デバイス211〜214の位置に選択される。次に、ステップS803では、テスタ201は、選択された4個の被試験デバイス211〜214から4ビットの試験データDT0〜DT4を読み出して併合し、それぞれ同じ4ビットの試験パタンPTN0〜PTN3を選択された4個の被試験デバイス211〜214に供給し、選択された4個の被試験デバイス211〜214の論理回路の試験を行う。次に、ステップS804では、テスタ201及びハンドラは、冶具位置kをインクリメントする。次に、ステップS805では、テスタ201及びハンドラは、冶具位置kが最大冶具位置K(例えば5)より大きいか否かをチェックする。最大冶具位置K以下であればステップS802に戻り、最大冶具位置Kより大きければ処理を終了する。   FIG. 8 is a flowchart showing details of the logic circuit test step in step S102 of FIG. In step S801, the tester 201 and the handler set 0 to the jig position k. Next, in step S802, the jig 202 is selected as the position of the four devices under test 211 to 214 corresponding to the jig position k. Next, in step S803, the tester 201 reads and merges the 4-bit test data DT0 to DT4 from the selected four devices under test 211 to 214, and selects the same 4-bit test patterns PTN0 to PTN3, respectively. Are supplied to the four devices under test 211 to 214, and the logic circuits of the selected four devices under test 211 to 214 are tested. Next, in step S804, the tester 201 and the handler increment the jig position k. Next, in step S805, the tester 201 and the handler check whether the jig position k is larger than the maximum jig position K (for example, 5). If it is below the maximum jig position K, the process returns to step S802, and if it is larger than the maximum jig position K, the process is terminated.

以上のように、論理回路の試験では 不揮発性記憶回路に書き込まれた試験パタンを読み出し、読み出された試験パタンで論理回路を試験する。テスタ201は、クロック信号CLKと一部の制御信号(ロジック用試験簡易パタン)をもつのみの簡易のテスタでよい。したがって、論理回路専用のテスタは不要になり、論理回路の試験のためのテスタ201は、不揮発性記憶回路の試験のためのテスタ201と同一のものを用いることができる。   As described above, in the test of the logic circuit, the test pattern written in the non-volatile memory circuit is read, and the logic circuit is tested with the read test pattern. The tester 201 may be a simple tester having only the clock signal CLK and some control signals (logic test simple pattern). Therefore, a tester dedicated to the logic circuit is not required, and the tester 201 for testing the logic circuit can be the same as the tester 201 for testing the nonvolatile memory circuit.

図10は、被試験デバイス211の構成例を示す図である。被試験デバイス212〜214も、被試験デバイス211と同様の構成を有する。被試験デバイス211は、不揮発性記憶回路701、不揮発性記憶回路コントローラ(試験回路)1001、期待値比較回路(試験回路)1002、フリップフロップ1011〜1013、及び組み合わせ論理回路(内部回路)1014を有し、クロック信号CLK、リセット信号RS、及びモード信号TMをテスタ201から入力する。   FIG. 10 is a diagram illustrating a configuration example of the device under test 211. The devices under test 212 to 214 also have the same configuration as the device under test 211. The device under test 211 includes a nonvolatile memory circuit 701, a nonvolatile memory circuit controller (test circuit) 1001, an expected value comparison circuit (test circuit) 1002, flip-flops 1011 to 1013, and a combinational logic circuit (internal circuit) 1014. The clock signal CLK, the reset signal RS, and the mode signal TM are input from the tester 201.

上記では、4個の被試験デバイス211〜214に対して、試験パタンPTN0〜PTN3がそれぞれ4ビットデータDT0〜DT3で構成される場合を例に説明したが、ここでは、3個の被試験デバイス211〜213に対して、試験パタンPTN0〜PTN2がそれぞれ3ビットデータDT0〜DT2で構成される場合を例に説明する。試験パタンPTN0は、3ビットデータDT0〜DT2で構成される。データDT0は被試験デバイス211から読み出したデータであり、データDT1は被試験デバイス212から読み出したデータであり、データDT2は被試験デバイス213から読み出したデータである。   In the above description, the case where the test patterns PTN0 to PTN3 are configured by the 4-bit data DT0 to DT3, respectively, for the four devices under test 211 to 214 has been described as an example. An example in which the test patterns PTN0 to PTN2 are composed of 3-bit data DT0 to DT2 will be described with respect to 211 to 213, respectively. The test pattern PTN0 is composed of 3-bit data DT0 to DT2. Data DT 0 is data read from the device under test 211, data DT 1 is data read from the device under test 212, and data DT 2 is data read from the device under test 213.

ここでは、スキャン(SCAN)試験回路を示す。一般的には、データのビット数を増やし、スキャンやBIST(built-in self test)等によって試験回路が構成される。   Here, a scan (SCAN) test circuit is shown. Generally, the number of data bits is increased, and a test circuit is configured by scanning, BIST (built-in self test), or the like.

不揮発性記憶回路コントローラ1001は、モード信号TM、クロック信号CLK及びリセット信号RSを入力し、不揮発性記憶回路701から1ワード(4ビット)のデータを読み出し、その1ワードのデータを1ビットずつ順次サイクル毎にデータDT0として出力する。リセット信号RSが入力されると、不揮発性記憶回路コントローラ1001及びフリップフロップ1011〜1013の値が初期化される。モード信号TMにより、不揮発性記憶回路701は読み出しモードになる。クロック信号CLKに同期して、不揮発性記憶回路701からデータDT0が読み出される。データDT1及びDT2も、データDT0と同様に、被試験デバイス212及び213から読み出される。   The nonvolatile memory circuit controller 1001 receives the mode signal TM, the clock signal CLK, and the reset signal RS, reads 1 word (4 bits) of data from the nonvolatile memory circuit 701, and sequentially reads the data of 1 word bit by bit. Output as data DT0 for each cycle. When the reset signal RS is input, the values of the nonvolatile memory circuit controller 1001 and the flip-flops 1011 to 1013 are initialized. The nonvolatile memory circuit 701 enters a read mode by the mode signal TM. Data DT0 is read from the nonvolatile memory circuit 701 in synchronization with the clock signal CLK. The data DT1 and DT2 are also read from the devices under test 212 and 213 similarly to the data DT0.

試験パタンPTN0は、試験データDT0〜DT2を有する。例えば、試験データDT0はスキャン制御データであり、試験データDT1はスキャン入力データであり、試験データDT2は期待値データである。   The test pattern PTN0 has test data DT0 to DT2. For example, the test data DT0 is scan control data, the test data DT1 is scan input data, and the test data DT2 is expected value data.

次に、スキャン試験回路の動作を説明する。まず、スキャン制御データDT0として1を入力する。すると、3個のフリップフロップ1011〜1013は直列に接続され、スキャン入力データDT1は順次、フリップフロップ1011〜1013に記憶される。具体的には、3サイクルで、3個のフリップフロップ1011〜1013にデータDT1が記憶される。これにより、3個のフリップフロップ1011〜1013に所望の試験データを設定することができる。   Next, the operation of the scan test circuit will be described. First, 1 is input as the scan control data DT0. Then, the three flip-flops 1011 to 1013 are connected in series, and the scan input data DT1 is sequentially stored in the flip-flops 1011 to 1013. Specifically, data DT1 is stored in three flip-flops 1011 to 1013 in three cycles. Thereby, desired test data can be set in the three flip-flops 1011 to 1013.

その後、スキャン制御データDT0として0を入力する。すると、3個のフリップフロップ1011〜1013は、通常の使用状態と同様に、組み合わせ論理回路1014に接続される。組み合わせ論理回路1014は、フリップフロップ1013の値に応じた論理演算を行い、その演算結果をフリップフロップ1013に書き込む。   Thereafter, 0 is input as the scan control data DT0. Then, the three flip-flops 1011 to 1013 are connected to the combinational logic circuit 1014 as in the normal use state. The combinational logic circuit 1014 performs a logical operation according to the value of the flip-flop 1013 and writes the operation result in the flip-flop 1013.

このスキャン試験により、スキャン入力データDT1のテストデータをフリップフロップ1011〜1013に設定し、組み合わせ論理回路1014にテストデータを入力し、組み合わせ論理回路1014を試験することができる。組み合わせ論理回路1014の演算結果は、フリップフロップ1013に書き込まれる。スキャン入力データDT1のテストデータを入力した場合の組み合わせ論理回路1014の演算結果の期待値は、期待値データDT2として入力される。   By this scan test, the test data of the scan input data DT1 can be set in the flip-flops 1011 to 1013, the test data can be input to the combinational logic circuit 1014, and the combinational logic circuit 1014 can be tested. The operation result of the combinational logic circuit 1014 is written into the flip-flop 1013. The expected value of the operation result of the combinational logic circuit 1014 when the test data of the scan input data DT1 is input is input as the expected value data DT2.

期待値比較回路1002は、フリップフロップ1013に記憶されている演算結果データACと期待値データDT2を比較し、両者が一致しているか否かを示す比較結果データ(試験結果データ)ABを不揮発性記憶回路701に出力する。その後、モード信号TMにより、不揮発性記憶回路701は書き込みモードになり、比較結果データABは、不揮発性記憶回路701に書き込まれる。比較結果データABは、両者が一致していれば正常(良品)を示し、両者が異なっていれば異常(不良品)を示す。   The expected value comparison circuit 1002 compares the operation result data AC stored in the flip-flop 1013 and the expected value data DT2, and compares the comparison result data (test result data) AB indicating whether or not the two match with each other. The data is output to the memory circuit 701. Thereafter, the nonvolatile memory circuit 701 enters the write mode by the mode signal TM, and the comparison result data AB is written into the nonvolatile memory circuit 701. The comparison result data AB indicates normal (non-defective product) if the two match, and indicates abnormal (defective) if the two are different.

図11は、図8のステップS803の処理例を示すタイミングチャートである。信号1101は、テスタ201の出力信号であり、クロック信号CLK及びモード信号TMを有する。信号1102は、被試験デバイス211〜213の入力信号であり、クロック信号CLK及びモード信号TMを有する。データDT0は被試験デバイス211から読み出されるデータであり、データDT1は被試験デバイス212から読み出されるデータであり、データDT2は被試験デバイス213から読み出されるデータである。試験パタンPTN0は被試験デバイス211に入力されるパタンであり、試験パタンPTN1は被試験デバイス212に入力されるパタンであり、試験パタンPTN2は被試験デバイス213に入力されるパタンである。   FIG. 11 is a timing chart showing an example of processing in step S803 in FIG. A signal 1101 is an output signal of the tester 201 and includes a clock signal CLK and a mode signal TM. A signal 1102 is an input signal of the devices under test 211 to 213 and includes a clock signal CLK and a mode signal TM. The data DT0 is data read from the device under test 211, the data DT1 is data read from the device under test 212, and the data DT2 is data read from the device under test 213. The test pattern PTN0 is a pattern input to the device under test 211, the test pattern PTN1 is a pattern input to the device under test 212, and the test pattern PTN2 is a pattern input to the device under test 213.

論理試験では、テスタ201から被試験デバイス211〜213にクロック信号CLK及びモード信号TMが入力される。クロック信号CLK及びモード信号TMは、テスタ201と被試験デバイス211〜213との間を伝搬する時間により遅延する。被試験デバイス211〜213は、初期化モードが入力された時、リセット信号RSにより、フリップフロップ1011〜1013が初期化される。被試験デバイス211〜213は、テストモードの状態で、クロック信号CLKが入力された時、リセットが解除され、モード信号TMがリードモードになり、不揮発性記憶回路701のデータを読み出し、それぞれ試験パタンデータDT0〜DT2として出力する。同時に試験される被試験デバイス211〜213は、各々試験パタンの0、1、2ビット目のデータDT0、DT1、DT2を出力する。被試験デバイス211〜213は、それぞれ試験パタンPTN0〜PTN2を入力する。試験パタンPTN0〜PTN2は、同じパタンであり、データDT0、DT1及びDT2を有する。被試験デバイス211〜213が出力するデータDT0〜DT2は、試験冶具202を伝搬する時間により遅延し、試験パタンPTN0〜PTN2として被試験デバイス211〜213に入力される。同時に試験される全ての被試験デバイス211〜213は、3ビットの試験パタンPTN0〜PTN2を次のクロック信号CLKのタイミングで読み込む。全ての被試験デバイス211〜213の入力試験パタンPTN0〜PTN2は同じパタンである。被試験デバイス211〜213は、テストモードTMとしてライトモードが入力されると、論理試験の結果データABを被試験デバイス211〜213内の不揮発性記憶回路701に書き込む。   In the logic test, the clock signal CLK and the mode signal TM are input from the tester 201 to the devices under test 211 to 213. The clock signal CLK and the mode signal TM are delayed by the time for propagation between the tester 201 and the devices under test 211 to 213. When the initialization mode is input to the devices under test 211 to 213, the flip-flops 1011 to 1013 are initialized by the reset signal RS. When the device under test 211 to 213 is in the test mode and the clock signal CLK is input, the reset is released, the mode signal TM enters the read mode, the data in the nonvolatile memory circuit 701 is read, and the test pattern is read. Output as data DT0 to DT2. The devices under test 211 to 213 to be tested simultaneously output data DT0, DT1, and DT2 of 0, 1, and 2 bits of the test pattern, respectively. The devices under test 211 to 213 input test patterns PTN0 to PTN2, respectively. Test patterns PTN0 to PTN2 are the same pattern and have data DT0, DT1, and DT2. Data DT0 to DT2 output from the devices under test 211 to 213 are delayed by the time of propagation through the test jig 202 and input to the devices under test 211 to 213 as test patterns PTN0 to PTN2. All the devices under test 211 to 213 to be tested simultaneously read the 3-bit test patterns PTN0 to PTN2 at the timing of the next clock signal CLK. The input test patterns PTN0 to PTN2 of all the devices under test 211 to 213 are the same pattern. When the write mode is input as the test mode TM, the devices under test 211 to 213 write the logical test result data AB into the nonvolatile memory circuit 701 in the devices under test 211 to 213.

図12は、図10の不揮発性記憶回路コントローラ1001及び不揮発性記憶回路701の構成例を示す図である。不揮発性記憶回路コントローラ1001は、インクリメンタ1201、6ビットカウンタ1202、マルチプレクサ1203、及び分周器1204を有する。不揮発性記憶回路コントローラ1001による制御により、不揮発性記憶回路701のデータが読み書きされる。6ビットカウンタ1202は、リセット信号RSにより初期化され、インクリメンタ1201によりカウントアップされたビット値が、クロック信号CLKに同期して更新される。6ビットカウンタ1202の上位4ビットは、不揮発性記憶回路701の読み出し又は書き込みアドレスとして使用される。6ビットカウンタ1202の下位2ビットは、マルチプレクサ1203により不揮発性記憶回路701の4ビット出力信号の中から1ビットデータを選択し、試験パタンデータDT0として試験冶具202へ出力される。不揮発性記憶回路701は、1アドレスに1ワード(4ビット)を記憶するため、1アドレスに対して4ビットデータをマルチプレクサ1203に出力する。6ビットカウンタ1202の値はカウントアップされるので、マルチプレクサ1203はパラレル−シリアル変換により、4ビットデータを1ビットデータずつ順次出力する。この4ビットデータは、4サイクルの試験パタンに対応する。不揮発性記憶回路701は、4ビットアドレスに応じて1ワード(4ビット)単位で読み出しを行う。テストモードTMがリードモードのとき、不揮発性記憶回路701は分周器1204で1/4周期にされたクロック信号により、試験パタンデータDT0を順に読み出す。モード信号TMがライトモードのとき、比較結果データABは不揮発性記憶回路701へ書き込まれる。   FIG. 12 is a diagram illustrating a configuration example of the nonvolatile memory circuit controller 1001 and the nonvolatile memory circuit 701 in FIG. The nonvolatile memory circuit controller 1001 includes an incrementer 1201, a 6-bit counter 1202, a multiplexer 1203, and a frequency divider 1204. Under the control of the nonvolatile memory circuit controller 1001, data in the nonvolatile memory circuit 701 is read and written. The 6-bit counter 1202 is initialized by the reset signal RS, and the bit value counted up by the incrementer 1201 is updated in synchronization with the clock signal CLK. The upper 4 bits of the 6-bit counter 1202 are used as a read or write address for the nonvolatile memory circuit 701. For the lower 2 bits of the 6-bit counter 1202, 1-bit data is selected from the 4-bit output signal of the nonvolatile memory circuit 701 by the multiplexer 1203, and is output to the test jig 202 as the test pattern data DT0. Since the nonvolatile memory circuit 701 stores one word (4 bits) at one address, it outputs 4-bit data to the multiplexer 1203 for one address. Since the value of the 6-bit counter 1202 is counted up, the multiplexer 1203 sequentially outputs 4-bit data by 1-bit data by parallel-serial conversion. This 4-bit data corresponds to a test pattern of 4 cycles. The nonvolatile memory circuit 701 performs reading in units of 1 word (4 bits) according to a 4-bit address. When the test mode TM is the read mode, the non-volatile memory circuit 701 sequentially reads the test pattern data DT0 according to the clock signal that is ¼ cycle by the frequency divider 1204. When the mode signal TM is in the write mode, the comparison result data AB is written into the nonvolatile memory circuit 701.

図13は、図10の期待値比較回路1002の構成例を示す図である。期待値比較回路1002は、排他的論理和回路1301、論理和回路1302及びフリップフロップ1303を有する。フリップフロップ1303の値は、リセット信号RSによる初期化で0になる。排他的論理和回路1301は、演算結果データAC及び期待値データDT2の排他的論理和信号を出力する。排他的論理和信号は、演算結果データAC及び期待値データDT2が同じであれば0になり、演算結果データAC及び期待値データDT2が異なれば1になる。論理和回路1302は、排他的論理和回路1301の出力信号及びフリップフロップ1303の出力信号の論理和信号をフリップフロップ1303に出力する。フリップフロップ1303は、比較結果データABを出力する。複数サイクルの論理試験のうちの1回でも、排他的論理和回路1301が1を出力すれば、フリップフロップ1303の値は1に置きかえられる。すべての試験パタンについて演算結果データAC及び期待値データDT2が一致していれば比較結果データABは0になり、少なくとも1回の試験パタンについて演算結果データAC及び期待値データDT2が不一致であれば比較結果データABは1になる。比較結果データABは、最終的に不揮発性記憶回路701へ書き込まれる。   FIG. 13 is a diagram illustrating a configuration example of the expected value comparison circuit 1002 of FIG. The expected value comparison circuit 1002 includes an exclusive OR circuit 1301, an OR circuit 1302, and a flip-flop 1303. The value of the flip-flop 1303 becomes 0 upon initialization by the reset signal RS. The exclusive OR circuit 1301 outputs an exclusive OR signal of the operation result data AC and the expected value data DT2. The exclusive OR signal becomes 0 if the operation result data AC and the expected value data DT2 are the same, and becomes 1 if the operation result data AC and the expected value data DT2 are different. The OR circuit 1302 outputs a logical sum signal of the output signal of the exclusive OR circuit 1301 and the output signal of the flip-flop 1303 to the flip-flop 1303. The flip-flop 1303 outputs the comparison result data AB. If the exclusive OR circuit 1301 outputs 1 even in one of the multiple cycles of the logic test, the value of the flip-flop 1303 is replaced with 1. If the calculation result data AC and the expected value data DT2 match for all the test patterns, the comparison result data AB becomes 0, and if the calculation result data AC and the expected value data DT2 do not match for at least one test pattern. The comparison result data AB is 1. The comparison result data AB is finally written into the nonvolatile memory circuit 701.

図15(A)〜(C)は、図1のステップS103の不揮発性記憶回路の第2の試験を示す図である。テスタ201は、論理試験判定パタン及び不揮発性記憶回路試験パタンを有する。この試験は、半導体ウエハ試験でもパッケージ試験でもよい。また、図2の冶具202は被試験デバイス211〜214同士を接続するパスがあるが、図15(A)〜(C)の冶具202は被試験デバイス同士を接続する必要がない。   FIGS. 15A to 15C are diagrams showing a second test of the nonvolatile memory circuit in step S103 of FIG. The tester 201 has a logic test determination pattern and a nonvolatile memory circuit test pattern. This test may be a semiconductor wafer test or a package test. 2 has a path for connecting the devices under test 211 to 214, but the jig 202 of FIGS. 15A to 15C does not need to connect the devices under test.

図15(A)は、冶具位置kが0の場合を示す。冶具位置kが0であるので、冶具202が図の上側の2個の被試験デバイス211の位置に移動する。その後、テスタ201は、冶具202を介して、図の上側の2個の被試験デバイス211に対して論理試験結果の判定及び不揮発性記憶回路の試験を行う。論理試験結果の判定は、不揮発性記憶回路701内の比較結果データABの判定を行う。   FIG. 15A shows a case where the jig position k is zero. Since the jig position k is 0, the jig 202 moves to the positions of the two devices under test 211 on the upper side of the drawing. Thereafter, the tester 201 determines the logical test result and tests the nonvolatile memory circuit for the two devices under test 211 on the upper side of the drawing via the jig 202. The logical test result is determined by comparing the comparison result data AB in the nonvolatile memory circuit 701.

図15(B)は、冶具位置kが1の場合を示す。冶具位置kが1であるので、冶具202が図の中央部の2個の被試験デバイス211の位置に移動する。その後、テスト201は、冶具202を介して、図の中央部の2個の被試験デバイス211に対して論理試験結果の判定及び不揮発性記憶回路の試験を行う。   FIG. 15B shows a case where the jig position k is 1. Since the jig position k is 1, the jig 202 moves to the positions of the two devices under test 211 in the center of the figure. Thereafter, the test 201 performs determination of the logical test result and the test of the nonvolatile memory circuit with respect to the two devices under test 211 in the center portion of the drawing via the jig 202.

同様に、冶具位置kが2の場合には、図の下側の2個の被試験デバイス211の論理試験結果の判定及び不揮発性記憶回路の試験を行う。同様に、冶具位置kが3〜5の場合には、テスタ201は、被試験デバイス212の論理試験結果の判定及び不揮発性記憶回路の試験を行う。同様に、冶具位置kが6〜8の場合には、テスタ201は、被試験デバイス213の論理試験結果の判定及び不揮発性記憶回路の試験を行う。同様に、冶具位置kが9〜11の場合には、テスタ201は、被試験デバイス214の論理試験結果の判定及び不揮発性記憶回路の試験を行う。   Similarly, when the jig position k is 2, the determination of the logical test result of the two devices under test 211 on the lower side of the figure and the test of the nonvolatile memory circuit are performed. Similarly, when the jig position k is 3 to 5, the tester 201 determines the logical test result of the device under test 212 and tests the nonvolatile memory circuit. Similarly, when the jig position k is 6 to 8, the tester 201 determines the logical test result of the device under test 213 and tests the nonvolatile memory circuit. Similarly, when the jig position k is 9 to 11, the tester 201 determines the logical test result of the device under test 214 and tests the nonvolatile memory circuit.

図15(C)は、冶具位置kが11の場合を示す。冶具位置kが11であるので、冶具202が図の下側の2個の被試験デバイス214の位置に移動する。その後、テスト201は、冶具202を介して、図の下側の2個の被試験デバイス214に対して論理試験結果の判定及び不揮発性記憶回路の試験を行う。   FIG. 15C shows a case where the jig position k is 11. Since the jig position k is 11, the jig 202 moves to the positions of the two devices under test 214 on the lower side of the figure. Thereafter, the test 201 determines the logical test result and tests the nonvolatile memory circuit for the two devices under test 214 on the lower side of the drawing via the jig 202.

図14は、図1のステップS103の不揮発性記憶回路の第2の試験ステップの詳細を示すフローチャートである。ステップS1401では、テスタ201及びハンドラは、冶具位置kに0を設定する。次に、ステップS1402では、冶具202は、冶具位置kに対応する2個の被試験デバイス211〜214の位置に選択される。次に、ステップS1403では、テスタ201は、選択された2個の被試験デバイス211〜214から比較結果データABを読み出し、論理試験結果の判定を行う。比較結果データABが0であれば正常であると判定し、比較結果データABが1であれば異常であると判定する。試験結果が正常であれば、ステップS1404へ進む。ステップS1404では、テスタ201は、選択された2個の被試験デバイス211〜214に対して不揮発性記憶回路701の試験を行う。例えば、図4のステップS403の試験は低温試験であり、図14のステップS1404の試験は高温試験である。又は、図4のステップS403の試験は半導体ウエハ試験であり、図14のステップS1404の試験はパッケージ試験である。次に、ステップS1405では、テスタ201及びハンドラは、冶具位置kをインクリメントする。次に、ステップS1406では、テスタ201及びハンドラは、冶具位置kが最大冶具位置K(例えば11)より大きいか否かをチェックする。最大冶具位置K以下であればステップS1402に戻り、最大冶具位置Kより大きければ処理を終了する。   FIG. 14 is a flowchart showing details of the second test step of the nonvolatile memory circuit in step S103 of FIG. In step S1401, the tester 201 and the handler set 0 to the jig position k. Next, in step S1402, the jig 202 is selected as the position of the two devices under test 211 to 214 corresponding to the jig position k. Next, in step S1403, the tester 201 reads the comparison result data AB from the two selected devices under test 211 to 214, and determines the logical test result. If the comparison result data AB is 0, it is determined to be normal, and if the comparison result data AB is 1, it is determined to be abnormal. If the test result is normal, the process proceeds to step S1404. In step S1404, the tester 201 tests the nonvolatile memory circuit 701 for the two selected devices under test 211 to 214. For example, the test in step S403 in FIG. 4 is a low temperature test, and the test in step S1404 in FIG. 14 is a high temperature test. Alternatively, the test in step S403 in FIG. 4 is a semiconductor wafer test, and the test in step S1404 in FIG. 14 is a package test. Next, in step S1405, the tester 201 and the handler increment the jig position k. Next, in step S1406, the tester 201 and the handler check whether the jig position k is larger than the maximum jig position K (for example, 11). If it is below the maximum jig position K, the process returns to step S1402, and if it is larger than the maximum jig position K, the process is terminated.

図16(A)は被試験デバイス211の構成例を示す図であり、図16(B)は図14のステップS1403の処理例を示すタイミングチャートである。被試験デバイス211を例に説明するが、被試験デバイス212〜214も同様である。被試験デバイス211は、不揮発性記憶回路701及び順序回路(内部回路)702を有する。不揮発性記憶回路701は、テスタ201から4ビット読み出しアドレスADD、クロック信号CLK及びモード信号TMを入力し、比較結果データABを読み出す。信号1601はテスタ201の出力信号であり、信号1602は被試験デバイス211の入力信号である。不揮発性記憶回路701は、例えば、16ワードの記憶容量を有する。1ワードは4ビットである。テスタ201から出力された信号1601は、一定時間の遅延の後、被試験デバイス211へ信号1602として入力される。不揮発性記憶回路701は、クロック信号CLKに同期して、比較結果データABを読み出す。モード信号TMがリードモードになると、読み出しアドレスADDがテスタ201から被試験デバイス211へ出力される。リードモードにおいて、不揮発性記憶回路701は、読み出しアドレスADDに基づき、比較結果データABを読み出す。テスタ201は、読み出された比較結果データABを基に論理試験結果の正常/異常を判定する。   FIG. 16A is a diagram illustrating a configuration example of the device under test 211, and FIG. 16B is a timing chart illustrating a processing example of step S1403 in FIG. Although the device under test 211 will be described as an example, the same applies to the devices under test 212 to 214. The device under test 211 includes a nonvolatile memory circuit 701 and a sequential circuit (internal circuit) 702. The nonvolatile memory circuit 701 inputs the 4-bit read address ADD, the clock signal CLK, and the mode signal TM from the tester 201, and reads the comparison result data AB. A signal 1601 is an output signal of the tester 201, and a signal 1602 is an input signal of the device under test 211. The nonvolatile memory circuit 701 has a storage capacity of 16 words, for example. One word is 4 bits. The signal 1601 output from the tester 201 is input as a signal 1602 to the device under test 211 after a certain time delay. The nonvolatile memory circuit 701 reads the comparison result data AB in synchronization with the clock signal CLK. When the mode signal TM enters the read mode, the read address ADD is output from the tester 201 to the device under test 211. In the read mode, the nonvolatile memory circuit 701 reads the comparison result data AB based on the read address ADD. The tester 201 determines whether the logical test result is normal or abnormal based on the read comparison result data AB.

次に、テスタ201の構成を説明する。論理試験時に、テスタ201から被試験デバイス211〜214に与える制御信号221は、クロック信号CLKと一部の制御信号のみに制限することで、論理試験のためのテスタ201のコストを低く抑えることができ、不揮発性記憶回路のテスタ201と兼用することができる。このとき、被試験デバイス211〜214の不使用の入力ピンは試験冶具202によりハイレベル又はローレベルに固定する。   Next, the configuration of the tester 201 will be described. The control signal 221 given from the tester 201 to the devices under test 211 to 214 at the time of the logic test is limited to only the clock signal CLK and a part of the control signals, thereby reducing the cost of the tester 201 for the logic test. And can also be used as the tester 201 of the nonvolatile memory circuit. At this time, unused input pins of the devices under test 211 to 214 are fixed to a high level or a low level by the test jig 202.

なお、図1のステップS103の不揮発性記憶回路の第2の試験は削除してもよい。以下、論理回路の試験を論理試験という。図1のステップS102の論理回路の試験をする際、テスタ201が期待値データDT2を持ち、被試験デバイス211〜214から出力される比較結果データABと期待値データDT2を比較することにより、良品/不良品を判定する。これにより、論理試験結果の判定を、図1のステップS103の不揮発性記憶回路の第2の試験で実施する必要がなくなる。   Note that the second test of the nonvolatile memory circuit in step S103 of FIG. 1 may be deleted. Hereinafter, the logic circuit test is referred to as a logic test. When the test of the logic circuit in step S102 in FIG. 1 is performed, the tester 201 has the expected value data DT2, and the comparison result data AB output from the devices under test 211 to 214 is compared with the expected value data DT2. / Determine defective products. Thereby, it is not necessary to determine the logical test result in the second test of the nonvolatile memory circuit in step S103 of FIG.

図17は、被試験デバイス及びその試験装置の他の構成例を示す図である。図17は、図2に対して、論理試験パタンを格納せずに論理試験のみを実施する被試験デバイス215を追加したものである。以下、図17が図2と異なる点を説明する。被試験デバイス211〜214は、図2と同じであり、論理試験パタンを記憶する。被試験デバイス215は、論理試験パタンを記憶せず、被試験デバイス211〜214から読み出された論理試験パタンを入力して論理試験を行う。被試験デバイス215の論理試験方法は、被試験デバイス211〜214の論理試験方法と同様である。すなわち、テスタ201は、被試験デバイス211〜214から読み出して併合した同じ論理試験パタンを、論理試験パタンを記憶する被試験デバイス211〜214の他に、論理試験パタンを記憶しない被試験デバイス215に供給する。そして、テスタ201は、被試験デバイス211〜214から読み出して併合した同じ論理試験パタンを用いて、論理試験パタンを記憶する被試験デバイス211〜214及び論理試験パタンを記憶しない被試験デバイス215を同時に試験する。これにより、同時に論理試験する被試験デバイス211〜215の数を増やすことができる。また、論理試験パタンを格納しない被試験デバイス215を複数設け、パッケージ試験では、論理試験パタンを格納しない被試験デバイス215のみを入れ替えて論理試験することにより、論理試験パタンを格納する被試験デバイス211〜214の数を減らすことができる。   FIG. 17 is a diagram showing another configuration example of the device under test and its test apparatus. FIG. 17 is obtained by adding a device under test 215 that performs only a logical test without storing a logical test pattern to FIG. Hereinafter, the points of FIG. 17 different from FIG. 2 will be described. The devices under test 211 to 214 are the same as those in FIG. 2 and store logic test patterns. The device under test 215 does not store the logic test pattern, and performs the logic test by inputting the logic test pattern read from the devices under test 211 to 214. The logic test method for the device under test 215 is the same as the logic test method for the devices under test 211 to 214. That is, the tester 201 reads the same logical test pattern read and merged from the devices under test 211 to 214 into the device under test 215 that does not store the logical test pattern in addition to the devices under test 211 to 214 that store the logical test pattern. Supply. Then, the tester 201 uses the same logical test pattern read from the devices under test 211 to 214 and merges the devices under test 211 to 214 that store the logical test pattern and the devices under test 215 that do not store the logical test pattern at the same time. test. As a result, the number of devices under test 211 to 215 that perform logical tests simultaneously can be increased. Also, a plurality of devices under test 215 that do not store logic test patterns are provided, and in the package test, a device under test 211 that stores logic test patterns by replacing only the device under test 215 that does not store logic test patterns and performing a logic test. The number of ~ 214 can be reduced.

以上のように、論理試験パタンの容量は不揮発性記憶回路701の容量より大きいため、論理試験パタンを複数の被試験デバイス211〜214の不揮発性記憶回路701に分割して格納する。試験パタンを分割して複数の被試験デバイス211〜214に記憶させることにより、大容量の試験パタンを記憶可能である。テスタ201は、試験冶具202を介して、被試験デバイス211〜214から論理試験パタンを読み出して併合し、その併合した同じ論理試験パタンを基に被試験デバイス211〜215の論理試験を行う。被試験デバイス211〜214に試験パタンを記憶させることにより、簡易なテスタ201で複数の被試験デバイス214〜215を同時に試験することができる。これにより、テスタ201は、簡易なテスタでよく、不揮発性記憶回路701のテスタ201と同一のものを使用することができるので、不揮発性記憶回路701のためのテスタと論理試験のためのテスタとを別々なものを使用する場合に比べてテスタの乗せ換えによるコストを低減することができる。また、同時に論理試験する被試験デバイス211〜215の数を増やすことが出来るので、被試験デバイス211〜215の1個当たりの試験コストを低減することができる。   As described above, since the capacity of the logical test pattern is larger than the capacity of the nonvolatile memory circuit 701, the logical test pattern is divided and stored in the nonvolatile memory circuits 701 of the plurality of devices under test 211 to 214. A large-capacity test pattern can be stored by dividing the test pattern and storing it in a plurality of devices under test 211 to 214. The tester 201 reads and merges the logic test patterns from the devices under test 211 to 214 via the test jig 202, and performs a logic test of the devices under test 211 to 215 based on the same logic test pattern merged. By storing test patterns in the devices under test 211 to 214, a plurality of devices under test 214 to 215 can be simultaneously tested with a simple tester 201. Accordingly, the tester 201 may be a simple tester, and the same tester 201 as the nonvolatile memory circuit 701 can be used. Therefore, the tester for the nonvolatile memory circuit 701 and the tester for the logic test can be used. Compared with the case of using different ones, the cost of changing the tester can be reduced. In addition, since the number of devices under test 211 to 215 to be logically tested can be increased at the same time, the test cost per device under test 211 to 215 can be reduced.

なお、上記実施形態は、何れも本発明を実施するにあたっての具体化の例を示したものに過ぎず、これらによって本発明の技術的範囲が限定的に解釈されてはならないものである。すなわち、本発明はその技術思想、又はその主要な特徴から逸脱することなく、様々な形で実施することができる。   The above-described embodiments are merely examples of implementation in carrying out the present invention, and the technical scope of the present invention should not be construed in a limited manner. That is, the present invention can be implemented in various forms without departing from the technical idea or the main features thereof.

201 テスタ
202 試験冶具
211〜215 被試験デバイス
701 不揮発性記憶回路
1001 不揮発性記憶回路コントローラ
1002 期待値比較回路
1011〜1013 フリップフロップ
1014 組み合わせ論理回路
201 Tester 202 Test jig 211 to 215 Device under test 701 Nonvolatile memory circuit 1001 Nonvolatile memory circuit controller 1002 Expected value comparison circuit 1011 to 1013 Flip-flop 1014 Combinational logic circuit

Claims (4)

各々が記憶回路を有する複数の被試験デバイスの試験方法であって、
試験パタンが前記複数の被試験デバイスの記憶回路に分割されて記憶されており、前記複数の被試験デバイスの記憶回路から試験パタンを読み出して、前記読み出した複数の被試験デバイスの試験パタンを併合して前記複数の被試験デバイスに同じ試験パタンを供給する試験パタン読み出しステップと、
前記供給された同じ試験パタンを用いて前記複数の被試験デバイスを同時に試験する試験ステップと
を有することを特徴とする試験方法。
A test method for a plurality of devices under test each having a memory circuit,
A test pattern is divided and stored in the memory circuits of the plurality of devices under test, the test patterns are read from the memory circuits of the plurality of devices under test, and the test patterns of the plurality of devices under test are merged A test pattern reading step for supplying the same test pattern to the plurality of devices under test;
And a test step of simultaneously testing the plurality of devices under test using the same supplied test pattern.
さらに、前記試験パタン読み出しステップの前に、前記試験パタンを前記複数の被試験デバイスの記憶回路に分割して書き込む試験パタン書き込みステップを有することを特徴とする請求項1記載の試験方法。   2. The test method according to claim 1, further comprising a test pattern writing step of dividing and writing the test pattern into the memory circuits of the plurality of devices under test before the test pattern reading step. さらに、前記試験ステップの後に、前記複数の被試験デバイスの試験の結果をそれぞれ前記複数の被試験デバイスの記憶回路に書き込む試験結果書き込みステップを有することを特徴とする請求項1又は2記載の試験方法。   3. The test according to claim 1, further comprising a test result writing step of writing test results of the plurality of devices under test into storage circuits of the plurality of devices under test, respectively, after the test step. Method. 前記試験パタン読み出しステップは、前記併合した同じ試験パタンを、前記試験パタンを記憶する複数の被試験デバイスの他に、前記試験パタンを記憶しない被試験デバイスに供給し、
前記試験ステップは、前記併合した同じ試験パタンを用いて、前記試験パタンを記憶する複数の被試験デバイス及び前記試験パタンを記憶しない被試験デバイスを同時に試験することを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の試験方法。
The test pattern reading step supplies the merged same test pattern to a device under test that does not store the test pattern, in addition to a plurality of devices under test that store the test pattern,
The test step is characterized by simultaneously testing a plurality of devices under test storing the test pattern and a device under test not storing the test pattern using the merged same test pattern. The test method according to any one of the above.
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