JP2012046394A - Electromagnetic casting device for silicon ingot - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electromagnetic casting device for a silicon ingot capable of increasing a melting speed while restraining generation of a side arc during continuous casting by an electromagnetic casting method.SOLUTION: In the electromagnetic casting device, a silicon raw material 11 is charged in a bottomless cooling crucible 7 through a raw material introduction pipe 10, the silicon raw material 11 is melted by electromagnetic induction heating from an induction coil 8 and plasma arc heating from a plasma torch 13 inserted into an upper part of the crucible 7, and the molten silicon 12 is solidified while pulling down the molten silicon 12 from the crucible 7, and the ingot 3 is continuously cast. The raw material introduction pipe 10 is supported through an insulation member 21, and an end of the raw material introduction pipe 10 is arranged in a position of the same height as an end of the plasma torch 13 in the crucible 7, or is arranged in a position higher than the end of the plasma torch 13 and lower than an upper end of the crucible 7, and the silicon raw material 11 is charged in the center of a surface of the molten silicon 12 through the raw material introduction pipe 10.

Description

本発明は、太陽電池用基板の素材であるシリコンインゴットを連続鋳造するための電磁鋳造装置に関する。   The present invention relates to an electromagnetic casting apparatus for continuously casting a silicon ingot that is a material of a substrate for a solar cell.

太陽電池の基板には、多結晶のシリコンウェーハを用いるのが主流である。その多結晶シリコンウェーハは、一方向性凝固のシリコンインゴットを素材とし、このインゴットをスライスして製造される。従って、太陽電池の普及を図るには、シリコンウェーハの品質を確保するとともに、コストを低減する必要があるため、その前段階で、シリコンインゴットを高品質で安価に製造することが要求される。この要求に対応できる方法として、例えば、特許文献1に開示されるように、電磁誘導を利用した連続鋳造方法(以下、「電磁鋳造法」ともいう)が実用化されている。   The mainstream of the solar cell substrate is a polycrystalline silicon wafer. The polycrystalline silicon wafer is manufactured by slicing a unidirectionally solidified silicon ingot. Therefore, in order to promote the spread of solar cells, it is necessary to secure the quality of the silicon wafer and reduce the cost. Therefore, it is required to manufacture the silicon ingot at a high quality and at a low cost in the previous stage. As a method that can meet this requirement, for example, as disclosed in Patent Document 1, a continuous casting method using electromagnetic induction (hereinafter also referred to as “electromagnetic casting method”) has been put into practical use.

図3は、電磁鋳造法で用いられる従来の代表的な電磁鋳造装置の構成を模式的に示す図である。同図に示すように、電磁鋳造装置はチャンバー1を備える。チャンバー1は、内部を外気から隔離し鋳造に適した不活性ガス雰囲気に維持する二重壁構造の水冷容器である。チャンバー1の上壁には、原料供給ホッパー2が連結されている。チャンバー1は、上部に不活性ガス導入口5が設けられ、下部の側壁に排気口6が設けられている。   FIG. 3 is a diagram schematically showing a configuration of a conventional typical electromagnetic casting apparatus used in the electromagnetic casting method. As shown in FIG. 1, the electromagnetic casting apparatus includes a chamber 1. The chamber 1 is a water-cooled container having a double wall structure in which the inside is isolated from the outside air and maintained in an inert gas atmosphere suitable for casting. A raw material supply hopper 2 is connected to the upper wall of the chamber 1. The chamber 1 is provided with an inert gas inlet 5 at the top and an exhaust port 6 at the lower side wall.

チャンバー1内には、無底冷却ルツボ7、誘導コイル8およびアフターヒーター9が配置されている。冷却ルツボ7は、溶解容器としてのみならず、鋳型としても機能し、熱伝導性および導電性に優れた金属(例えば、銅)製の角筒体であり、チャンバー1内に吊り下げられている。この冷却ルツボ7は、上部と下部を残して縦方向に図示しないスリットが複数形成され、このスリットにより周方向で複数の短冊状の素片に分割されており、内部を流通する冷却水によって強制冷却される。   In the chamber 1, a bottomless cooling crucible 7, an induction coil 8, and an after heater 9 are disposed. The cooling crucible 7 functions not only as a melting container but also as a mold, is a rectangular tube made of metal (for example, copper) having excellent thermal conductivity and conductivity, and is suspended in the chamber 1. . The cooling crucible 7 is formed with a plurality of slits (not shown) in the vertical direction, leaving the upper and lower portions, and is divided into a plurality of strip-shaped pieces in the circumferential direction by the slits, and is forced by cooling water flowing through the inside. To be cooled.

誘導コイル8は、冷却ルツボ7を囲繞するように、冷却ルツボ7と同芯に周設され、図示しない電源装置に接続されている。アフターヒーター9は、冷却ルツボ7の下方に冷却ルツボ7と同芯に複数連設され、冷却ルツボ7から引き下げられるシリコンインゴット3を加熱して、その軸方向に適切な温度勾配を与える。   The induction coil 8 is provided around the cooling crucible 7 so as to surround the cooling crucible 7 and is connected to a power supply device (not shown). A plurality of after-heaters 9 are concentrically connected to the cooling crucible 7 below the cooling crucible 7 and heat the silicon ingot 3 pulled down from the cooling crucible 7 to provide an appropriate temperature gradient in the axial direction thereof.

また、チャンバー1内には、原料供給ホッパー2の下方に原料導入管10が配設されている。粒状や塊状のシリコン原料11が原料供給ホッパー2から原料導入管10に供給され、原料導入管10を通じて冷却ルツボ7の上方から冷却ルツボ7内に投入される。   In the chamber 1, a raw material introduction pipe 10 is disposed below the raw material supply hopper 2. Granular or lump silicon raw material 11 is supplied from the raw material supply hopper 2 to the raw material introduction pipe 10 and is introduced into the cooling crucible 7 from above the cooling crucible 7 through the raw material introduction pipe 10.

チャンバー1の底壁には、アフターヒーター9の真下に、インゴット3を抜き出すための引出し口4が設けられ、この引出し口4はシールされている。インゴット3は、引出し口4を貫通して下降する支持台14によって支えられながら引き下げられる。   On the bottom wall of the chamber 1, a drawer port 4 for extracting the ingot 3 is provided directly below the after heater 9, and this drawer port 4 is sealed. The ingot 3 is pulled down while being supported by a support base 14 that descends through the drawer opening 4.

冷却ルツボ7の真上には、プラズマトーチ13が昇降可能に設けられている。プラズマトーチ13は、図示しないプラズマ電源装置の一方の極に接続され、他方の極は、インゴット3側に接続されている。このプラズマトーチ13は、下降により冷却ルツボ7の上部に挿入される。   A plasma torch 13 is provided directly above the cooling crucible 7 so as to be movable up and down. The plasma torch 13 is connected to one pole of a plasma power supply device (not shown), and the other pole is connected to the ingot 3 side. The plasma torch 13 is inserted into the upper part of the cooling crucible 7 by lowering.

このような電磁鋳造装置を用いた電磁鋳造法では、冷却ルツボ7にシリコン原料11を投入し、誘導コイル8に交流電流を印加するとともに、冷却ルツボ7の上部に挿入したプラズマトーチ13に通電を行う。このとき、冷却ルツボ7を構成する短冊状の各素片が互いに電気的に分割されていることから、誘導コイル8による電磁誘導に伴って各素片内で渦電流が発生し、冷却ルツボ7の内壁側の渦電流が冷却ルツボ7内に磁界を発生させる。これにより、冷却ルツボ7内のシリコン原料11は電磁誘導加熱されて溶解し、溶融シリコン12が形成される。また、プラズマトーチ13と溶融シリコン12との間にプラズマアークが発生し、プラズマアーク加熱によっても、シリコン原料11が加熱されて溶解し、電磁誘導加熱の負担を軽減して効率良く溶融シリコン12が形成される。   In the electromagnetic casting method using such an electromagnetic casting apparatus, the silicon raw material 11 is charged into the cooling crucible 7, an alternating current is applied to the induction coil 8, and the plasma torch 13 inserted at the top of the cooling crucible 7 is energized. Do. At this time, since the strip-shaped pieces constituting the cooling crucible 7 are electrically divided from each other, an eddy current is generated in each piece due to electromagnetic induction by the induction coil 8, and the cooling crucible 7 The eddy current on the inner wall side generates a magnetic field in the cooling crucible 7. As a result, the silicon raw material 11 in the cooling crucible 7 is melted by electromagnetic induction heating to form molten silicon 12. Further, a plasma arc is generated between the plasma torch 13 and the molten silicon 12, and the silicon raw material 11 is also heated and melted by the plasma arc heating, and the burden of electromagnetic induction heating is reduced, so that the molten silicon 12 is efficiently formed. It is formed.

溶融シリコン12は、冷却ルツボ7の内壁の渦電流に伴って生じる磁界と、溶融シリコン12の表面に発生する電流との相互作用により、溶融シリコン12の表面の内側法線方向に力(ピンチ力)を受けるため、冷却ルツボ7と非接触の状態に保持される。冷却ルツボ7内でシリコン原料11を溶解させながら、溶融シリコン12を支える支持台14を徐々に下降させると、誘導コイル8の下端から遠ざかるにつれて誘導磁界が小さくなることから、発熱量およびピンチ力が減少し、さらに冷却ルツボ7からの冷却により、溶融シリコン12は外周部から凝固が進行する。そして、支持台14の下降に伴って、原料導入管10を通じシリコン原料11を冷却ルツボ7の上方から逐次投入し、溶解および凝固を継続することにより、溶融シリコン12が一方向に凝固し、インゴット3を連続鋳造することができる。   The molten silicon 12 has a force (pinch force) in the inner normal direction of the surface of the molten silicon 12 due to the interaction between the magnetic field generated along with the eddy current on the inner wall of the cooling crucible 7 and the current generated on the surface of the molten silicon 12. ) Is held in a non-contact state with the cooling crucible 7. When the support 14 that supports the molten silicon 12 is gradually lowered while the silicon raw material 11 is dissolved in the cooling crucible 7, the induction magnetic field decreases as the distance from the lower end of the induction coil 8 decreases. Further, the molten silicon 12 is solidified from the outer peripheral portion by cooling from the cooling crucible 7. Then, as the support 14 is lowered, the silicon raw material 11 is sequentially introduced from above the cooling crucible 7 through the raw material introduction pipe 10 and is continuously melted and solidified, whereby the molten silicon 12 is solidified in one direction, and the ingot 3 can be continuously cast.

このような電磁鋳造装置によれば、溶融シリコン12と冷却ルツボ7との接触が軽減されるため、その接触に伴う冷却ルツボ7からの不純物汚染が防止され、高品質のインゴット3を得ることができる。しかも、連続鋳造であることから、安価にインゴット3を製造することが可能になる。   According to such an electromagnetic casting apparatus, contact between the molten silicon 12 and the cooling crucible 7 is reduced, so that impurity contamination from the cooling crucible 7 due to the contact is prevented, and a high-quality ingot 3 can be obtained. it can. And since it is continuous casting, it becomes possible to manufacture the ingot 3 at low cost.

国際公開WO02/053496号パンフレットInternational Publication WO02 / 053496 Pamphlet

上述した従来の電磁鋳造装置において、冷却ルツボ7の上端部は、チャンバー1に取り付けられた金属フレーム20に固定され、冷却ルツボ7はその金属フレーム20によってチャンバー1内に吊り下げ支持される。原料導入管10は、金属フレーム20上に固定された金属部材121によって支持される。そして、原料導入管10の先端は、冷却ルツボ7の上部に挿入されたプラズマトーチ13の先端(下端)から10cm以上上方に離れた位置に配置される。通常、原料導入管10の先端の配置高さは、前記図3に示すように、冷却ルツボ7の上端よりも高い位置とされる。   In the conventional electromagnetic casting apparatus described above, the upper end portion of the cooling crucible 7 is fixed to the metal frame 20 attached to the chamber 1, and the cooling crucible 7 is suspended and supported in the chamber 1 by the metal frame 20. The raw material introduction tube 10 is supported by a metal member 121 fixed on the metal frame 20. And the front-end | tip of the raw material introduction tube 10 is arrange | positioned in the position away from the front-end | tip (lower end) of the plasma torch 13 inserted in the upper part of the cooling crucible 7 10 cm or more upwards. Usually, the arrangement height of the tip of the raw material introduction pipe 10 is higher than the upper end of the cooling crucible 7 as shown in FIG.

このように原料導入管10の先端とプラズマトーチ13の先端とを離すのは、以下の理由による。プラズマトーチ13のアースは支持台14に接続され、この支持台14はインゴット3および溶融シリコン12と導通するとともに、チャンバー1とも導通している。このため、溶融シリコン12の電位は、チャンバー1と同じアース電位となる。このとき、プラズマトーチ13の先端と溶融シリコン12との間に形成されるプラズマ空間の近傍に、溶融シリコン12の電位(アース電位)と同じかそれよりも低い低電位の部材が配置された場合、その低電位の部材とプラズマトーチ13の先端との間にアークが発生する。このアークは、原料溶解に寄与することなく、むしろ連続鋳造の操業を不安定にする異常なアークであり、プラズマトーチ13と溶融シリコン12との間に発生し原料溶解に寄与する正常なアークと区別して、サイドアークと称される。   The reason why the tip of the raw material introduction tube 10 and the tip of the plasma torch 13 are separated as described above is as follows. The ground of the plasma torch 13 is connected to a support base 14, which is in conduction with the ingot 3 and the molten silicon 12 and also with the chamber 1. For this reason, the potential of the molten silicon 12 becomes the same ground potential as that of the chamber 1. At this time, a member having a low potential equal to or lower than the potential (ground potential) of the molten silicon 12 is disposed in the vicinity of the plasma space formed between the tip of the plasma torch 13 and the molten silicon 12. An arc is generated between the low potential member and the tip of the plasma torch 13. This arc is an abnormal arc that does not contribute to the melting of the raw material, but rather makes the continuous casting operation unstable, and is a normal arc that occurs between the plasma torch 13 and the molten silicon 12 and contributes to the melting of the raw material. This is referred to as a side arc.

ここで、原料導入管10の電位は、原料導入管10を支持する金属部材121を介しチャンバー1と同じアース電位になるため、原料導入管10の先端とプラズマトーチ13の先端とが近いと、これらの間にサイドアークが発生する。したがって、このサイドアークの発生を防止するため、原料導入管10の先端とプラズマトーチ13の先端とを離す必要がある。   Here, since the potential of the raw material introduction tube 10 becomes the same ground potential as that of the chamber 1 through the metal member 121 that supports the raw material introduction tube 10, if the tip of the raw material introduction tube 10 and the tip of the plasma torch 13 are close, A side arc is generated between them. Therefore, in order to prevent the occurrence of this side arc, it is necessary to separate the tip of the raw material introduction tube 10 from the tip of the plasma torch 13.

このような事情から、従来の電磁鋳造装置では、原料導入管10の先端が冷却ルツボ7の上端よりも高い位置に配置されているが、この場合、以下の問題が発生する。   Under such circumstances, in the conventional electromagnetic casting apparatus, the tip of the raw material introduction pipe 10 is disposed at a position higher than the upper end of the cooling crucible 7, but in this case, the following problems occur.

原料導入管10から投入されたシリコン原料11は、溶融シリコン12の湯面までの落下距離が長いため、落下の過程で大きく広がって溶融シリコン12の湯面上に広範に散らばり、その多くが、プラズマトーチ13の先端と溶融シリコン12との間に形成されるプラズマ空間から外れた領域に堆積する。このため、プラズマアーク加熱によるシリコン原料11の溶解が有効に進行せず、溶解速度が上がらないことから、インゴット3の引き下げ速度、すなわち鋳造速度を低く設定した操業を強いられる。その結果、生産性の向上が図れない。   Since the silicon raw material 11 charged from the raw material introduction pipe 10 has a long drop distance to the molten metal surface of the molten silicon 12, the silicon raw material 11 spreads greatly in the process of dropping and is scattered widely on the molten metal surface of the molten silicon 12. Deposited in a region outside the plasma space formed between the tip of the plasma torch 13 and the molten silicon 12. For this reason, the melting of the silicon raw material 11 by plasma arc heating does not proceed effectively, and the melting rate does not increase, so that the operation of setting the pulling speed of the ingot 3, that is, the casting speed, to be low is forced. As a result, productivity cannot be improved.

本発明は、上記の問題に鑑みてなされたものであり、原料溶解にプラズマアーク加熱を併用した電磁鋳造法によりシリコンインゴットを連続鋳造する際、サイドアークの発生を抑制しつつ、シリコン原料の溶解速度を上昇でき、これに応じて鋳造速度を上昇させて生産性を向上させることが可能なシリコンインゴットの電磁鋳造装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above problems, and when silicon ingots are continuously cast by an electromagnetic casting method in which plasma arc heating is used in combination with raw material melting, the generation of silicon raw materials is suppressed while suppressing the occurrence of side arcs. It is an object of the present invention to provide an electromagnetic casting apparatus for a silicon ingot that can increase the speed and increase the casting speed accordingly to improve the productivity.

本発明者らは、上記目的を達成するために鋭意検討を重ねた結果、下記の(a)〜(c)に示す知見を得た。   As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventors have obtained the findings shown in the following (a) to (c).

(a)プラズマトーチの先端と溶融シリコンとの間に形成されるプラズマ空間は、プラズマトーチの先端から吹き出されるArガスにより絞り込まれ、その温度は1万℃以上に達する。このプラズマ空間の直下は溶融シリコンの湯面の中央部に相当し、ここに集中してシリコン原料を投入することができれば、瞬時にシリコン原料が溶解し、溶解速度が上昇する。シリコン原料を散らばらせることなく、溶融シリコンの湯面中央部に集中して投入するには、原料導入管をその先端が冷却ルツボ内に配置されるように延長するのが有効である。   (A) The plasma space formed between the tip of the plasma torch and the molten silicon is narrowed down by Ar gas blown from the tip of the plasma torch, and the temperature reaches 10,000 ° C. or more. Immediately below this plasma space corresponds to the central portion of the molten silicon surface, and if the silicon material can be concentrated and charged here, the silicon material is instantaneously dissolved and the dissolution rate is increased. In order to concentrate the molten silicon at the center of the molten metal surface without scattering the silicon raw material, it is effective to extend the raw material introduction tube so that the tip is disposed in the cooling crucible.

(b)上記(a)に示す施策として、原料導入管を単に延長し、その先端を冷却ルツボ内に配置した場合、原料導入管の先端とプラズマトーチの先端とが近くなるため、これらの間にサイドアークが発生する。   (B) As a measure shown in the above (a), when the raw material introduction tube is simply extended and its tip is disposed in the cooling crucible, the tip of the raw material introduction tube and the tip of the plasma torch are close to each other. A side arc occurs.

(c)上記(b)に示すサイドアークの発生を抑制するには、原料導入管の電位をチャンバーの電位(アース電位)、すなわち溶融シリコンの電位よりも高くするのが有効であり、これは、原料導入管を電気的に絶縁した状態で支持することにより実現できる。   (C) In order to suppress the occurrence of the side arc shown in (b) above, it is effective to make the potential of the raw material introduction pipe higher than the potential of the chamber (ground potential), that is, the potential of molten silicon. This can be realized by supporting the raw material introduction pipe in an electrically insulated state.

本発明は、上記(a)〜(c)の知見に基づいて完成させたものであり、その要旨は、下記に示すシリコンインゴットの電磁鋳造装置にある。すなわち、チャンバー内に配置した導電性を有する無底冷却ルツボに原料導入管を通じてシリコン原料を投入し、無底冷却ルツボを囲繞する誘導コイルからの電磁誘導加熱、および無底冷却ルツボの上部に挿入されたプラズマトーチからのプラズマアーク加熱によりシリコン原料を溶解させ、この溶融シリコンを無底冷却ルツボから引き下げながら凝固させてシリコンインゴットを連続鋳造する電磁鋳造装置において、原料導入管が絶縁部材を介して支持されるとともに、原料導入管の先端が無底冷却ルツボ内でプラズマトーチの先端と同じ高さの位置、またはそれよりも高くて無底冷却ルツボの上端よりも低い位置に配置されており、この原料導入管を通じてシリコン原料が溶融シリコンの湯面の中央に投入されることを特徴とするシリコンインゴットの電磁鋳造装置である。   This invention is completed based on the knowledge of said (a)-(c), The summary exists in the electromagnetic casting apparatus of the silicon ingot shown below. That is, a silicon raw material is introduced into a conductive bottomless cooling crucible disposed in the chamber through a raw material introduction tube, and electromagnetic induction heating from an induction coil surrounding the bottomless cooling crucible is inserted into the top of the bottomless cooling crucible. In an electromagnetic casting apparatus for continuously casting a silicon ingot by melting a silicon raw material by plasma arc heating from a plasma torch and then solidifying the molten silicon while pulling it down from a bottomless cooling crucible, the raw material introduction pipe passes through an insulating member. In addition to being supported, the tip of the raw material introduction tube is arranged at the same height as the tip of the plasma torch in the bottomless cooling crucible, or higher and lower than the top of the bottomless cooling crucible, The silicon material is introduced into the center of the molten silicon melt surface through this material introduction pipe. An electromagnetic casting apparatus of the ingot.

上記の電磁鋳造装置では、前記絶縁部材が碍子で構成されることが好ましい。   In said electromagnetic casting apparatus, it is preferable that the said insulation member is comprised with an insulator.

また、上記の電磁鋳造装置においては、前記原料導入管が常磁性金属で構成され、この原料導入管の内面がシリコンで覆われていることが好ましい。この場合、前記常磁性金属がMoであることが好ましい。   In the electromagnetic casting apparatus described above, it is preferable that the raw material introduction tube is made of a paramagnetic metal and the inner surface of the raw material introduction tube is covered with silicon. In this case, the paramagnetic metal is preferably Mo.

また、上記の電磁鋳造装置では、前記原料導入管が絶縁セラミックスで構成されてもよい。   In the above electromagnetic casting apparatus, the raw material introduction tube may be made of insulating ceramics.

本発明のシリコンインゴットの電磁鋳造装置によれば、シリコンインゴットを連続鋳造する際に、原料導入管の先端を冷却ルツボ内に配置することにより、プラズマ空間の直下に相当する溶融シリコンの湯面中央部にシリコン原料を集中して投入することができるため、プラズマアーク加熱によるシリコン原料の溶解が瞬時に進行し、溶解速度が上昇する結果、鋳造速度を上昇させることができ、生産性を向上させることが可能になる。しかも、原料導入管が絶縁部材によって電気的に絶縁された状態で支持されているため、原料導入管の電位を溶融シリコンの電位よりも高くすることができ、これにより、原料導入管とプラズマトーチの互いの先端間でサイドアークの発生を抑制することができる。   According to the electromagnetic casting apparatus for a silicon ingot of the present invention, when the silicon ingot is continuously cast, the tip of the raw material introduction tube is disposed in the cooling crucible, so that the center of the molten silicon surface corresponding to the plasma space is directly below. Since the silicon raw material can be concentrated and introduced into the part, the melting of the silicon raw material by plasma arc heating proceeds instantaneously, resulting in an increase in the melting rate, thereby increasing the casting speed and improving the productivity. It becomes possible. In addition, since the raw material introduction tube is supported in an electrically insulated state by the insulating member, the potential of the raw material introduction tube can be made higher than the potential of the molten silicon. It is possible to suppress the occurrence of side arcs between the tips of each other.

本発明の電磁鋳造装置の構成を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the structure of the electromagnetic casting apparatus of this invention. 実施例の試験によるシリコンインゴットにおけるライフタイムの測定結果を示す図である。It is a figure which shows the measurement result of the lifetime in the silicon ingot by the test of an Example. 電磁鋳造法で用いられる従来の代表的な電磁鋳造装置の構成を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the structure of the conventional typical electromagnetic casting apparatus used with an electromagnetic casting method.

以下に、本発明のシリコンインゴットの電磁鋳造装置について、その実施形態を詳述する。   Below, the embodiment is described in full detail about the electromagnetic casting apparatus of the silicon ingot of this invention.

図1は、本発明の電磁鋳造装置の構成を模式的に示す図である。同図に示す本発明の電磁鋳造装置は、前記図3に示す電磁鋳造装置の構成を基本とし、それと同じ構成には同一の符号を付し、重複する説明は適宜省略する。   FIG. 1 is a diagram schematically showing the configuration of the electromagnetic casting apparatus of the present invention. The electromagnetic casting apparatus of the present invention shown in the figure is based on the configuration of the electromagnetic casting apparatus shown in FIG. 3, and the same components are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted as appropriate.

図1に示すように、本発明の電磁鋳造装置では、チャンバー1内で冷却ルツボ7を吊り下げ支持する金属フレーム20上に絶縁部材21が固定され、原料導入管10はその絶縁部材21によって支持されている。絶縁部材21には、電気絶縁性に加え、チャンバー1内の高温雰囲気下で安定して原料導入管10を支持できるように、耐熱性や機械強度なども求められることから、碍子が好適である。これにより、原料導入管10は、金属フレーム20、さらにはチャンバー1に対して電気的に絶縁された状態になり、その電位をチャンバー1のアース電位、すなわち溶融シリコン12の電位よりも高くすることができる。   As shown in FIG. 1, in the electromagnetic casting apparatus of the present invention, an insulating member 21 is fixed on a metal frame 20 that supports the cooling crucible 7 in a chamber 1, and the raw material introduction pipe 10 is supported by the insulating member 21. Has been. Since the insulating member 21 is required to have heat resistance and mechanical strength so that the raw material introduction tube 10 can be stably supported in a high temperature atmosphere in the chamber 1 in addition to electrical insulation, an insulator is preferable. . Thereby, the raw material introduction tube 10 is in a state of being electrically insulated from the metal frame 20 and further to the chamber 1, and its potential is made higher than the ground potential of the chamber 1, that is, the potential of the molten silicon 12. Can do.

この原料導入管10は、前記図3に示すものと比べて延長されており、その先端が冷却ルツボ7内に配置されている。すなわち、原料導入管10の先端は、冷却ルツボ7の上部に挿入されたプラズマトーチ13の先端と同じ高さの位置、またはそれよりも高くて冷却ルツボ7の上端よりも低い位置に配置されている。これにより、原料導入管10の先端の配置高さは、プラズマトーチ13の先端から上方に10cm以下となる。図1では、原料導入管10の先端がプラズマトーチ13の先端と同じ高さに配置された例を示している。   The raw material introduction pipe 10 is extended as compared with that shown in FIG. 3, and the tip thereof is disposed in the cooling crucible 7. That is, the tip of the raw material introduction tube 10 is arranged at the same height as the tip of the plasma torch 13 inserted in the upper part of the cooling crucible 7 or at a position higher than that and lower than the upper end of the cooling crucible 7. Yes. Thereby, the arrangement height of the tip of the raw material introduction tube 10 is 10 cm or less upward from the tip of the plasma torch 13. FIG. 1 shows an example in which the tip of the raw material introduction tube 10 is arranged at the same height as the tip of the plasma torch 13.

さらに、原料導入管10の先端は、シリコン原料11を溶融シリコン12の湯面の中央に投入できるように、プラズマトーチ13に接近して配置される。   Furthermore, the tip of the raw material introduction tube 10 is arranged close to the plasma torch 13 so that the silicon raw material 11 can be put into the center of the molten silicon 12.

このような原料導入管10とプラズマトーチ13との配置関係では、原料導入管10の先端とプラズマトーチ13の先端とが近くなるが、原料導入管10が絶縁部材21で支持されることにより、他のいずれの部材とも電気的に絶縁された状態であり、原料導入管10の電位を溶融シリコン12の電位(アース電位)よりも高くできるので、原料導入管10の先端とプラズマトーチ13の先端との間でサイドアークの発生を抑制することができる。   In such an arrangement relationship between the raw material introduction tube 10 and the plasma torch 13, the tip of the raw material introduction tube 10 and the tip of the plasma torch 13 are close to each other, but by supporting the raw material introduction tube 10 with the insulating member 21, Since it is electrically insulated from any other member and the potential of the raw material introduction tube 10 can be made higher than the potential of the molten silicon 12 (earth potential), the tip of the raw material introduction tube 10 and the tip of the plasma torch 13 The occurrence of side arcs can be suppressed.

また、本発明の電磁鋳造装置において、原料導入管10は、MoやWやステンレス鋼などの常磁性金属で構成し、この内面に、インゴットから切り出したシリコン板を貼り付けたり、シリコンの皮膜を形成したりするなどして、内面がシリコンで覆われた構成とすることができる。ここで原料導入管10を常磁性金属で構成するのは、誘導コイル8による電磁誘導に影響を与えないようにするためである。常磁性金属としては、耐熱性と加工性に優れるMoが好適である。一方、原料導入管10の内面をシリコンで覆う構成とするのは、原料導入管10の内面にはシリコン原料11が接触することから、この接触に伴うシリコン原料11の不純物汚染を予防するためである。   In the electromagnetic casting apparatus of the present invention, the raw material introduction tube 10 is made of a paramagnetic metal such as Mo, W, or stainless steel, and a silicon plate cut out from an ingot is attached to the inner surface, or a silicon film is applied. For example, the inner surface may be covered with silicon. The reason why the raw material introduction tube 10 is made of a paramagnetic metal is to prevent the electromagnetic induction by the induction coil 8 from being affected. As the paramagnetic metal, Mo which is excellent in heat resistance and workability is suitable. On the other hand, the reason why the inner surface of the raw material introduction tube 10 is covered with silicon is that the silicon raw material 11 is in contact with the inner surface of the raw material introduction tube 10 to prevent contamination of the silicon raw material 11 due to this contact. is there.

また、本発明の電磁鋳造装置において、原料導入管10は、絶縁セラミックスで構成することもできる。ここで原料導入管10を絶縁セラミックスで構成するのは、誘導コイル8による電磁誘導に影響を与えないようにすると同時に、原料導入管10自体を絶縁体にしてサイドアークの一層の抑制を図るためである。絶縁セラミックスとしては、磁器が好適である。   Moreover, in the electromagnetic casting apparatus of the present invention, the raw material introduction tube 10 can be composed of insulating ceramics. Here, the raw material introduction pipe 10 is made of insulating ceramic so as not to affect the electromagnetic induction by the induction coil 8, and at the same time, the raw material introduction pipe 10 itself is made an insulator to further suppress the side arc. It is. As the insulating ceramic, porcelain is suitable.

このような構成の電磁鋳造装置によれば、原料溶解にプラズマアーク加熱を併用した電磁鋳造法によりシリコンインゴットを連続鋳造する際に、原料導入管10の先端を冷却ルツボ7内に配置することにより、溶融シリコン12の湯面までのシリコン原料11の落下距離が短くなり、これに伴って、シリコン原料11を散らばらせることなく、プラズマ空間の直下に相当する溶融シリコン12の湯面中央部に集中して投入することができる。このため、プラズマアーク加熱によるシリコン原料11の溶解が瞬時に進行し、溶解速度が上昇する。これに応じて、鋳造速度を上昇させることができ、生産性を向上させることが可能になる。   According to the electromagnetic casting apparatus having such a configuration, when the silicon ingot is continuously cast by the electromagnetic casting method in which the raw material melting is combined with the plasma arc heating, the tip of the raw material introduction tube 10 is disposed in the cooling crucible 7. The drop distance of the silicon raw material 11 to the molten silicon 12 surface is shortened. Accordingly, the silicon raw material 11 is not scattered, and the molten silicon 12 is located in the central portion of the molten silicon 12 immediately below the plasma space. It can be concentrated. For this reason, the melting of the silicon raw material 11 by the plasma arc heating proceeds instantaneously and the melting rate is increased. Accordingly, the casting speed can be increased, and the productivity can be improved.

さらに、原料導入管10の先端がプラズマトーチ13の先端の近くに配置されても、原料導入管10が絶縁部材21によって電気的に絶縁された状態で支持されているため、原料導入管10の電位を溶融シリコン12の電位(アース電位)よりも高くすることができ、これにより、原料導入管10とプラズマトーチ13の互いの先端間でサイドアークの発生を抑制することができる。   Furthermore, even if the tip of the raw material introduction tube 10 is disposed near the tip of the plasma torch 13, the raw material introduction tube 10 is supported in an electrically insulated state by the insulating member 21. The potential can be made higher than the potential of the molten silicon 12 (earth potential), whereby the generation of side arcs between the tips of the raw material introduction tube 10 and the plasma torch 13 can be suppressed.

本発明の電磁鋳造装置による効果を確認するため、本発明例として、前記図1に示す電磁鋳造装置を用い、一辺が345mmの正方形断面で全長が7000mmのシリコンインゴットを連続鋳造した。また、比較例として、前記図3に示す従来の電磁鋳造装置を用い、同様の寸法のシリコンインゴットを連続鋳造した。その際、本発明例の連続鋳造では、鋳造速度(インゴットの引き下げ速度)を比較例の場合よりも速い速度に設定した。   In order to confirm the effect of the electromagnetic casting apparatus of the present invention, as an example of the present invention, a silicon ingot having a square section of 345 mm on one side and a total length of 7000 mm was continuously cast using the electromagnetic casting apparatus shown in FIG. As a comparative example, a silicon ingot having the same dimensions was continuously cast using the conventional electromagnetic casting apparatus shown in FIG. At that time, in the continuous casting of the example of the present invention, the casting speed (ingot pulling speed) was set to a speed higher than that of the comparative example.

いずれの連続鋳造も3バッチずつ実施し、得られた各インゴットから試料を採取し、ライフタイムを測定する試験を行った。試料は、インゴットの下端(連続鋳造の先頭の位置)から長さ3600mmに相当する断面において、インゴットの中心部から採取した。ライフタイムは、マイクロ波光導電率減衰法(Microwave Photo Conductivity Decay:μ−PCD法)により測定し、レーザ光を照射したときの照射時間に対する試料中のキャリアの再結合ライフタイムを調査した。   Each continuous casting was carried out in batches of 3 batches, samples were taken from each of the obtained ingots, and a test for measuring the lifetime was performed. The sample was collected from the center of the ingot in a cross section corresponding to a length of 3600 mm from the lower end of the ingot (the position at the beginning of continuous casting). The lifetime was measured by a microwave photo conductivity decay method (Microwave Photo Conductivity Decay: μ-PCD method), and the recombination lifetime of carriers in the sample with respect to the irradiation time when the laser beam was irradiated was investigated.

図2は、実施例の試験によるシリコンインゴットにおけるライフタイムの測定結果を示す図である。同図に示すように、比較例と比べ、本発明例では、シリコン原料の溶解速度の上昇に応じて鋳造速度を上昇させたことにより、凝固に伴う単位時間当たりの潜熱が増加し、この増加した潜熱を熱源に利用してインゴットを徐冷できるため、インゴットの結晶粒が拡大しつつ均一となり、その結果としてライフタイムが向上した。   FIG. 2 is a diagram illustrating a measurement result of lifetime in the silicon ingot by the test of the example. As shown in the figure, compared with the comparative example, in the present invention example, the casting heat was increased in accordance with the increase in the dissolution rate of the silicon raw material, thereby increasing the latent heat per unit time accompanying solidification. Since the ingot can be gradually cooled by using the latent heat as a heat source, the crystal grains of the ingot are enlarged and uniform, and as a result, the lifetime is improved.

本発明のシリコンインゴットの電磁鋳造装置によれば、原料溶解にプラズマアーク加熱を併用した電磁鋳造法によりシリコンインゴットを連続鋳造する際、原料導入管とプラズマトーチの互いの先端間でサイドアークの発生を抑制しつつ、シリコン原料の溶解速度を上昇でき、これに応じて鋳造速度を上昇させることが可能になる。したがって、本発明の電磁鋳造装置は、生産性を向上できる点で極めて有用である。   According to the electromagnetic casting apparatus for a silicon ingot of the present invention, when a silicon ingot is continuously cast by an electromagnetic casting method in which plasma arc heating is used in combination with raw material melting, a side arc is generated between the respective tips of the raw material introduction tube and the plasma torch. It is possible to increase the dissolution rate of the silicon raw material while suppressing the above, and to increase the casting speed accordingly. Therefore, the electromagnetic casting apparatus of the present invention is extremely useful in that productivity can be improved.

1:チャンバー、 2:原料供給ホッパー、 3:シリコンインゴット、
4:引出し口、 5:不活性ガス導入口、 6:排気口、
7:無底冷却ルツボ、 8:誘導コイル、 9:アフターヒーター、
10:原料導入管、 11:シリコン原料、 12:溶融シリコン、
13:プラズマトーチ、 14:支持台、
20:金属フレーム、 21:絶縁部材
1: chamber, 2: raw material supply hopper, 3: silicon ingot,
4: Drawer port, 5: Inert gas inlet port, 6: Exhaust port,
7: bottomless cooling crucible, 8: induction coil, 9: after heater,
10: Raw material introduction pipe, 11: Silicon raw material, 12: Molten silicon,
13: Plasma torch, 14: Support base,
20: Metal frame, 21: Insulating member

Claims (5)

チャンバー内に配置した導電性を有する無底冷却ルツボに原料導入管を通じてシリコン原料を投入し、無底冷却ルツボを囲繞する誘導コイルからの電磁誘導加熱、および無底冷却ルツボの上部に挿入されたプラズマトーチからのプラズマアーク加熱によりシリコン原料を溶解させ、この溶融シリコンを無底冷却ルツボから引き下げながら凝固させてシリコンインゴットを連続鋳造する電磁鋳造装置において、
原料導入管が絶縁部材を介して支持されるとともに、原料導入管の先端が無底冷却ルツボ内でプラズマトーチの先端と同じ高さの位置、またはそれよりも高くて無底冷却ルツボの上端よりも低い位置に配置されており、この原料導入管を通じてシリコン原料が溶融シリコンの湯面の中央に投入されることを特徴とするシリコンインゴットの電磁鋳造装置。
The silicon raw material was introduced into the conductive bottomless cooling crucible placed in the chamber through the raw material introduction tube, and was inserted into the top of the bottomless cooling crucible, and electromagnetic induction heating from the induction coil surrounding the bottomless cooling crucible. In an electromagnetic casting apparatus for continuously casting a silicon ingot by melting a silicon raw material by plasma arc heating from a plasma torch, solidifying the molten silicon while pulling it down from a bottomless cooling crucible,
The raw material introduction pipe is supported via an insulating member, and the tip of the raw material introduction pipe is located at the same height as the tip of the plasma torch in the bottomless cooling crucible or higher than the top of the bottomless cooling crucible. The silicon ingot electromagnetic casting apparatus is characterized in that the silicon raw material is placed in the center of the molten silicon surface through the raw material introduction pipe.
前記絶縁部材が碍子で構成されることを特徴とする請求項1に記載のシリコンインゴットの電磁鋳造装置。   2. The silicon ingot electromagnetic casting apparatus according to claim 1, wherein the insulating member is made of an insulator. 前記原料導入管が常磁性金属で構成され、この原料導入管の内面がシリコンで覆われていることを特徴とする請求項1または2に記載のシリコンインゴットの電磁鋳造装置。   3. The silicon ingot electromagnetic casting apparatus according to claim 1, wherein the raw material introduction tube is made of a paramagnetic metal, and an inner surface of the raw material introduction tube is covered with silicon. 前記常磁性金属がMoであることを特徴とする請求項3に記載のシリコンインゴットの電磁鋳造装置。   The electromagnetic casting apparatus for a silicon ingot according to claim 3, wherein the paramagnetic metal is Mo. 前記原料導入管が絶縁セラミックスで構成されることを特徴とする請求項1または2に記載のシリコンインゴットの電磁鋳造装置。   3. The silicon ingot electromagnetic casting apparatus according to claim 1, wherein the raw material introduction pipe is made of an insulating ceramic.
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