JP2012038972A - Method for manufacturing semiconductor laser module - Google Patents

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Katsuhisa Tawa
克久 田和
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing a semiconductor laser module capable of reducing percent defective of semiconductor laser elements and the manufacturing cost of the semiconductor laser module.SOLUTION: The method for manufacturing a semiconductor laser module 1 having a semiconductor laser element 3 and a optical fiber 7, comprises: a detecting step for detecting an end face phase of the semiconductor laser element 3; an acquisition step for acquiring a driving current value Ib1 corresponding to the end face phase detected in the detecting step from the driving current value Ib1 set so that its frequency characteristic may be nearly constant in any end face phase of the semiconductor laser element 3; and an adjusting step for adjusting an optical axis between the semiconductor laser element 3 and the optical fiber 7 so that the light output from the optical fiber 7 may be nearly constant when the driving current value Ib1 acquired in the acquisition step is supplied to the semiconductor laser element 3.

Description

本発明は、半導体レーザモジュールの製造方法に関し、特に、分布帰還型(DFB:DistributedFeedback)の半導体レーザ素子を備えた半導体レーザモジュールの製造方法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a semiconductor laser module, and more particularly to a method for manufacturing a semiconductor laser module including a distributed feedback (DFB) semiconductor laser element.

分布帰還型の半導体レーザモジュールとして、半導体レーザ素子と、半導体レーザ素子からの出射光が入力されるように配置された光ファイバと、半導体レーザ素子と光ファイバとの間に配置されたレンズ等とを備えたモジュールが知られている(例えば特許文献1参照)。このような半導体レーザモジュールの性能を示す指標としては、光出力と周波数特性とがあるが、半導体レーザモジュールは特に個体間における光出力のバラツキが大きいため、そのままでは製品として使うことが難しかった。   As a distributed feedback type semiconductor laser module, a semiconductor laser element, an optical fiber disposed so that light emitted from the semiconductor laser element is input, a lens disposed between the semiconductor laser element and the optical fiber, and the like There is known a module provided with (for example, see Patent Document 1). As an index indicating the performance of such a semiconductor laser module, there are optical output and frequency characteristics. However, since semiconductor laser modules have particularly large variations in optical output among individuals, it is difficult to use them as they are.

そこで、従来から、定電流源から一定電流を増やした駆動電流または閾値電流Ithから一定電流を増やした一定の駆動電流を所定数の半導体レーザ素子それぞれに与え、その時の光ファイバからの光出力が個体間において略一定となるように、半導体レーザ素子と光ファイバとの間における光軸を調整(調芯ともいう)するようにしていた。そして、光軸の調整後、半導体レーザ素子を保持する部材と光ファイバを保持する部材とを、YAGレーザなどの固定手段によって固定して、最終的なモジュール製品を得ていた。   Therefore, conventionally, a predetermined drive current obtained by increasing a constant current from a constant current source or a constant drive current obtained by increasing a constant current from a threshold current Ith is given to each of a predetermined number of semiconductor laser elements, and the light output from the optical fiber at that time is The optical axis between the semiconductor laser element and the optical fiber is adjusted (also referred to as alignment) so as to be substantially constant between the individual. Then, after adjusting the optical axis, the member for holding the semiconductor laser element and the member for holding the optical fiber are fixed by a fixing means such as a YAG laser to obtain a final module product.

特開平10―039174号公報JP 10-039174 A

ところで、上述した調整方法では、半導体レーザモジュールの性能を示す指標の1つである光出力は確かに個体間において略一定にすることができるものの、半導体レーザモジュールの性能を示すもう1つの指標である周波数特性は略一定ではなく個々の半導体レーザ素子の性能に依存した状態であり、モジュール毎にばらついていた。このため、伝送帯域を決める緩和振動周波数frといった周波数特性が所定の基準に満たない場合、その半導体レーザ素子又は半導体レーザモジュールは不良品として除外され、その結果、製造歩留まりが低下してしまい、半導体レーザモジュールの製造コストを押し上げる一因となっていた。   By the way, in the adjustment method described above, although the optical output, which is one of the indexes indicating the performance of the semiconductor laser module, can be made substantially constant among the individuals, it is another index indicating the performance of the semiconductor laser module. A certain frequency characteristic is not substantially constant but depends on the performance of each semiconductor laser element, and varies from module to module. For this reason, when the frequency characteristics such as the relaxation oscillation frequency fr that determines the transmission band do not satisfy a predetermined standard, the semiconductor laser element or the semiconductor laser module is excluded as a defective product, and as a result, the manufacturing yield decreases, and the semiconductor This was one factor that increased the manufacturing cost of laser modules.

そこで、本発明の課題は、半導体レーザ素子等が不良とされる率を低減させて、半導体レーザモジュールの製造コストを下げることのできる半導体レーザモジュールの製造方法を提供することを目的とする。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a method of manufacturing a semiconductor laser module that can reduce the rate at which a semiconductor laser element or the like is defective and reduce the manufacturing cost of the semiconductor laser module.

上記課題を解決するため、本発明者は、鋭意研究を重ねる課程で、各半導体レーザ素子の緩和振動周波数frと各半導体レーザ素子における端面位相との関係にまず着眼した(図3参照)。そして、この緩和振動周波数frが次の式(1)に示すように、バイアス電流Ibと閾値電流Ithとの差分を閾値電流Ithで割ったものの平方根に比例していることにも着眼し、駆動電流に対応するバイアス電流Ibを増減(図9参照)させることにより、緩和振動周波数frの値を個体間において略一定の値に調整できることを見出した。なお、図9では、同一のレーザ素子において、バイアス電流Ibを変化させることにより緩和振動周波数frが変化することを示している。

Figure 2012038972
In order to solve the above-mentioned problems, the present inventor first paid attention to the relationship between the relaxation oscillation frequency fr of each semiconductor laser element and the end face phase of each semiconductor laser element in the course of earnest research (see FIG. 3). Further, as shown in the following formula (1), the relaxation oscillation frequency fr is also proportional to the square root of the difference between the bias current Ib and the threshold current Ith divided by the threshold current Ith, and is driven. It has been found that the value of the relaxation oscillation frequency fr can be adjusted to a substantially constant value between individuals by increasing or decreasing the bias current Ib corresponding to the current (see FIG. 9). FIG. 9 shows that the relaxation oscillation frequency fr is changed by changing the bias current Ib in the same laser element.
Figure 2012038972

ところが、その一方、緩和振動周波数frを例えば20%増加させるには、式(1)における(Ib−Ith)を約44%増加させることになり、そのままでは半導体レーザモジュールの光出力も約44%増加してしまうことになり、光出力の許容範囲を超えてしまうおそれがあった。そこで、本発明者は、半導体レーザモジュールの光出力が許容範囲を超えてしまうことを防ぎつつ緩和振動周波数frの値を個体間において略一定(所定の範囲)に調整することができれば、従来、不良品として除外されていた半導体レーザ素子等の数を低減させて、半導体レーザモジュールの製造コストを下げることができるとの知見を得て、本発明を完成するに到った。   On the other hand, to increase the relaxation oscillation frequency fr by 20%, for example, (Ib−Ith) in equation (1) is increased by approximately 44%, and the optical output of the semiconductor laser module is also increased by approximately 44%. As a result, the allowable range of light output may be exceeded. Therefore, the present inventor can adjust the value of the relaxation oscillation frequency fr to be substantially constant (predetermined range) between individuals while preventing the optical output of the semiconductor laser module from exceeding the allowable range. Obtaining knowledge that the number of semiconductor laser elements and the like that have been excluded as defective products can be reduced to reduce the manufacturing cost of the semiconductor laser module, the present invention has been completed.

すなわち、上記課題を解決するため、本発明に係る半導体レーザモジュールの製造方法は、所定の端面位相を有する分布帰還型の半導体レーザ素子と、半導体レーザ素子からの出射光が入射される光ファイバとを備える半導体レーザモジュールの製造方法であって、半導体レーザ素子の端面位相を検出する検出工程と、半導体レーザ素子の端面位相が何れであってもその周波数特性が略一定となるように設定されている駆動電流値のうち検出工程で検出された端面位相に応じた駆動電流値を取得する取得工程と、取得工程で取得した駆動電流値の駆動電流を半導体レーザ素子に与えた際に光ファイバからの光出力が略一定となるように、半導体レーザ素子と光ファイバとの間の光軸調整を行う調整工程と、を備えている。   That is, in order to solve the above problems, a semiconductor laser module manufacturing method according to the present invention includes a distributed feedback semiconductor laser element having a predetermined end face phase, and an optical fiber into which light emitted from the semiconductor laser element is incident. A method for manufacturing a semiconductor laser module comprising: a detection step for detecting an end face phase of a semiconductor laser element; and a frequency characteristic set to be substantially constant regardless of the end face phase of the semiconductor laser element. An acquisition step for acquiring a drive current value corresponding to the end face phase detected in the detection step among the drive current values that are present, and an optical fiber when the drive current of the drive current value acquired in the acquisition step is given to the semiconductor laser element And an adjusting step for adjusting the optical axis between the semiconductor laser element and the optical fiber so that the optical output of the laser beam becomes substantially constant.

この製造方法では、周波数特性が略一定となるように設定されている駆動電流値のうち、検出された端面位相に応じた一の駆動電流値を取得し、この取得した駆動電流値の駆動電流を半導体レーザ素子に与えながら、その光出力が個体間で略一定となるように光軸調整を行うようになっている。この場合、半導体レーザモジュールの組み込みが完成する前の調整工程において、周波数特性が略一定となるように設定された駆動電流値の駆動電流を用いて光軸調整を行うようになっているため、仮に周波数特性を増加させるために光出力も増加させざるを得ない場合であったとしても、調整工程において、光出力を低くするような光軸調整を行うことができる。   In this manufacturing method, one drive current value corresponding to the detected end face phase is acquired from the drive current values set so that the frequency characteristics are substantially constant, and the drive current of the acquired drive current value is acquired. Is applied to the semiconductor laser element, and the optical axis is adjusted so that the light output thereof is substantially constant among the individual laser diodes. In this case, since the optical axis is adjusted using the drive current of the drive current value set so that the frequency characteristics are substantially constant in the adjustment step before the semiconductor laser module is completely assembled, Even if the light output is inevitably increased in order to increase the frequency characteristics, the adjustment of the optical axis can be performed so as to reduce the light output.

つまり、一旦、半導体レーザモジュールとして組み込まれた後だと、周波数特性を増加させるには光出力も増加させざるを得ず、光出力のみを低くすることは困難であるが、本願発明のように、半導体モジュールに組み込む前に調整を行うことにより、かかる課題を解決することができる。そして、この結果、本発明に係る製造方法によれば、周波数特性と光出力とを個体間において略一定とした半導体レーザモジュールを得ることができ、半導体レーザ素子等が不良品とされる率を低減させて、半導体レーザモジュールの製造コストを下げることが可能となる。なお、ここでいう不良品には、まったく使用できないレベルにある半導体レーザ素子だけでなく、ある用途であれば使用できる可能性があるものの、他のより高精度の用途には使用できないといったものも含まれる。   In other words, once it is incorporated as a semiconductor laser module, the optical output must be increased in order to increase the frequency characteristics, and it is difficult to reduce only the optical output. Such a problem can be solved by making an adjustment before being incorporated into the semiconductor module. As a result, according to the manufacturing method of the present invention, it is possible to obtain a semiconductor laser module in which the frequency characteristics and the optical output are substantially constant among individuals, and the rate at which the semiconductor laser element and the like are defective products can be obtained. Thus, the manufacturing cost of the semiconductor laser module can be reduced. The defective products mentioned here include not only semiconductor laser elements that are at a level that cannot be used at all, but also those that may be used in certain applications but cannot be used in other higher-precision applications. included.

また、上述した製造方法において、半導体レーザ素子の端面位相が何れであってもその周波数特性が略一定となるように設定されている駆動電流値は、端面位相が0.5πの場合に最小値をとり、端面位相が1.5πの場合に最大値をとるように設定されていることが好ましい。このように設定されていることにより、駆動電流値を取得する取得工程を容易にすることができる。   In the above manufacturing method, the drive current value set so that the frequency characteristics are substantially constant regardless of the end face phase of the semiconductor laser element is the minimum value when the end face phase is 0.5π. It is preferable that the maximum value is set when the end face phase is 1.5π. By setting in this way, the acquisition process of acquiring the drive current value can be facilitated.

また、上述した製造方法において、調整工程では、半導体レーザ素子と光ファイバとの間の結合損失が端面位相に応じた駆動電流値に比例して増減するように、半導体レーザ素子と光ファイバとの間の光軸調整を行うことが好ましい。このように、駆動電流値が増加する場合には結合損失も増加させ、駆動電流値が減少する場合には結合損失も減少させることにより、駆動電流値が異なる半導体レーザモジュール間において、それらの光出力を容易に略一定とすることができる。   In the manufacturing method described above, in the adjustment step, the coupling loss between the semiconductor laser element and the optical fiber is increased or decreased in proportion to the drive current value corresponding to the end face phase. It is preferable to adjust the optical axis in between. In this way, when the drive current value increases, the coupling loss also increases, and when the drive current value decreases, the coupling loss also decreases, so that the light between the semiconductor laser modules having different drive current values can be reduced. The output can be easily made substantially constant.

また、上述した製造方法において、半導体レーザモジュールは、半導体レーザ素子の駆動を行うための駆動回路を更に備え、調整工程で用いた駆動電流値が設定された駆動回路を半導体レーザ素子と共に半導体レーザモジュールに組み入れる組入工程を更に備えるようにしてもよい。この場合、駆動回路に調整工程で用いた駆動電流値が予め設定されることになるため、完成した半導体レーザモジュールを用いる際に駆動電流値をわざわざ設定入力する必要がなくなり。便利である。   In the manufacturing method described above, the semiconductor laser module further includes a drive circuit for driving the semiconductor laser element, and the drive circuit in which the drive current value used in the adjustment process is set is combined with the semiconductor laser element. You may make it further provide the incorporation process integrated in. In this case, since the drive current value used in the adjustment process is set in advance in the drive circuit, it is not necessary to set and input the drive current value when using the completed semiconductor laser module. Convenient.

本発明によれば、半導体レーザ素子が不良とされる率を低減させて、半導体レーザモジュールの製造コストを下げることのできる半導体レーザモジュールの製造方法を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the manufacturing method of the semiconductor laser module which can reduce the rate by which a semiconductor laser element is made defective, and can reduce the manufacturing cost of a semiconductor laser module can be provided.

半導体レーザ素子と光ファイバとの間の光軸調整を行うためのシステム構成の概略図である。It is the schematic of the system configuration | structure for performing the optical axis adjustment between a semiconductor laser element and an optical fiber. 半導体レーザモジュールの製造工程を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the manufacturing process of a semiconductor laser module. 緩和振動周波数frと端面位相との関係を示す図である。It is a figure which shows the relationship between relaxation vibration frequency fr and an end surface phase. 端面位相に応じて緩和振動周波数fr等が変わることを示す図であり、(a)は、端面位相が0.5πの場合、(b)は端面位相がπの場合を示す。It is a figure which shows that relaxation oscillation frequency fr etc. change according to an end surface phase, (a) shows the case where an end surface phase is 0.5 (pi), (b) shows the case where an end surface phase is (pi). 端面位相に応じて信号の波形が変わることを示す図であり、(a)は端面位相が0.5πの場合、(b)は端面位相がπの場合を示す。It is a figure which shows that the waveform of a signal changes according to an end surface phase, (a) shows the case where an end surface phase is 0.5 (pi), (b) shows the case where an end surface phase is (pi). 駆動電流を補正するための補正係数fr_Compと端面位相との関係を示す図である。It is a figure which shows the relationship between the correction coefficient fr_Comp for correct | amending a drive current, and an end surface phase. 本発明に係る製造方法により、緩和振動周波数frが略一定の範囲となっていることを示す図である。It is a figure which shows that the relaxation oscillation frequency fr is in the substantially constant range by the manufacturing method which concerns on this invention. 本発明に係る製造方法による電流のばらつきを示す図である。It is a figure which shows the dispersion | variation in the electric current by the manufacturing method which concerns on this invention. バイアス電流を変えることにより、緩和振動周波数frが変化することを示す図である。It is a figure which shows that relaxation oscillation frequency fr changes by changing bias current. 光モジュールに更に駆動回路等を組み込む際の製造工程を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the manufacturing process at the time of incorporating a drive circuit etc. further into an optical module.

以下、添付図面を参照して、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、説明において、同一要素又は同一機能を有する要素には、同一符号を用いることとし、重複する説明は省略する。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the description, the same reference numerals are used for the same elements or elements having the same function, and redundant description is omitted.

まず、本実施形態に係る製造方法によって製造される半導体レーザモジュール1について簡単に説明する。半導体レーザモジュール1は、図1に示されるように、半導体レーザ素子3と、半導体レーザ素子3を保持する保持部材5と、半導体レーザ素子3からの出射光が入射される光ファイバ7と、光ファイバ7を保持する保持部材9と、半導体レーザ素子3と光ファイバ7との間に配置されるレンズ11とを備えている。   First, the semiconductor laser module 1 manufactured by the manufacturing method according to the present embodiment will be briefly described. As shown in FIG. 1, the semiconductor laser module 1 includes a semiconductor laser element 3, a holding member 5 that holds the semiconductor laser element 3, an optical fiber 7 into which light emitted from the semiconductor laser element 3 is incident, A holding member 9 that holds the fiber 7 and a lens 11 disposed between the semiconductor laser element 3 and the optical fiber 7 are provided.

半導体レーザ素子3は、例えば発振波長が1.55μmのDFBレーザであり、安定した単一モードでの発振が要求される長距離光通信システムの光源として使用されるものが例示される。DFBレーザである半導体レーザ素子3は、回折格子を内部に備えており、へき開面に回折格子の所定の位相(端面位相)を有するようになっている。   The semiconductor laser element 3 is, for example, a DFB laser with an oscillation wavelength of 1.55 μm, and is exemplified as a light source used in a long-distance optical communication system that requires stable single mode oscillation. The semiconductor laser element 3 which is a DFB laser is provided with a diffraction grating inside, and has a predetermined phase (end face phase) of the diffraction grating on the cleavage plane.

この端面位相は、図3に示されるように、0〜2πの範囲で表され、半導体レーザ素子3の緩和振動周波数frの値と所定の関係を有するようになっている。緩和振動周波数frは、半導体レーザ素子3の伝送帯域を決める要素の1つとなっている。例えば、緩和振動周波数fr等(素子のCR時定数に起因する周波数特性含む)は、端面位相が0.5πの場合には、図4(a)に示すように、フラットな周波数特性となって表れるが、図4(b)に示すように、端面位相がπの場合には、フラットからやや外れた周波数特性となって表れる。   As shown in FIG. 3, this end face phase is expressed in a range of 0 to 2π and has a predetermined relationship with the value of the relaxation oscillation frequency fr of the semiconductor laser element 3. The relaxation oscillation frequency fr is one of the factors that determine the transmission band of the semiconductor laser element 3. For example, the relaxation oscillation frequency fr and the like (including the frequency characteristic due to the CR time constant of the element) have a flat frequency characteristic as shown in FIG. 4A when the end face phase is 0.5π. As shown in FIG. 4B, when the end face phase is π, the frequency characteristic appears slightly deviated from the flat.

そして、図4(a)に示した半導体レーザ素子3(端面位相が0.5π)では、図5(a)に示すように、信号の波形がきれいな形状となる。その一方、図4(b)に示した半導体レーザ素子3(端面位相がπ)では、図5(b)に示すように、ピークをもった一部ひずんだ形となり、信号の立ち上がりが遅くなる等のやや劣化した波形となる。つまり、半導体レーザ素子3における端面位相やそれに伴う緩和振動周波数frは、半導体レーザモジュール1の性能を決める重要な要素となっている。   Then, in the semiconductor laser element 3 (end face phase is 0.5π) shown in FIG. 4A, the signal waveform has a clean shape as shown in FIG. 5A. On the other hand, in the semiconductor laser element 3 (end face phase is π) shown in FIG. 4B, as shown in FIG. 5B, a part of the peak is distorted and the rise of the signal is delayed. It becomes a slightly deteriorated waveform. That is, the end face phase in the semiconductor laser element 3 and the accompanying relaxation oscillation frequency fr are important factors that determine the performance of the semiconductor laser module 1.

続いて、図1に戻り、半導体レーザモジュール1の製造方法において光軸調整を行うための光軸調整システム21について説明する。光軸調整システム21は、半導体レーザ素子3に所定の電流を与えるための電流源23と、光ファイバ7からの光出力を測定する光PowerMeter25と、半導体レーザ素子3と光ファイバ7との間の光軸を調整する調整部27と、電流源23、光PowerMeter25及び調整部27を制御するPC29と、PC29に半導体レーザ素子3の素子情報(端面位相情報など)を出力する素子情報提供部31と、半導体レーザ素子3の保持部材5と光ファイバ7の保持部材9とを固定するYAGレーザ33とを備えている。   Next, returning to FIG. 1, an optical axis adjustment system 21 for performing optical axis adjustment in the method of manufacturing the semiconductor laser module 1 will be described. The optical axis adjustment system 21 includes a current source 23 for giving a predetermined current to the semiconductor laser element 3, an optical PowerMeter 25 for measuring the optical output from the optical fiber 7, and the semiconductor laser element 3 and the optical fiber 7. An adjustment unit 27 that adjusts the optical axis, a PC 29 that controls the current source 23, the optical power meter 25, and the adjustment unit 27, and an element information provision unit 31 that outputs element information (end face phase information and the like) of the semiconductor laser element 3 to the PC 29 A YAG laser 33 for fixing the holding member 5 of the semiconductor laser element 3 and the holding member 9 of the optical fiber 7 is provided.

なお、調整部27は、図1に示されるように、光ファイバ7をX軸、Y軸及びZ軸の3軸方向などに適宜、移動させることで、光軸の調整を行う装置である。さらに、角度調整のための回転機構(不図示)を備えるようにしてもよい。   As shown in FIG. 1, the adjustment unit 27 is a device that adjusts the optical axis by appropriately moving the optical fiber 7 in the three axial directions of the X axis, the Y axis, and the Z axis. Furthermore, you may make it provide the rotation mechanism (not shown) for angle adjustment.

続いて、図1及び図2を参照しながら、本実施形態に係る半導体レーザモジュール1の製造方法について説明する。   Next, a method for manufacturing the semiconductor laser module 1 according to the present embodiment will be described with reference to FIGS.

まず、半導体レーザ素子3の基礎となる半導体基板を準備する(ステップS1)。ここで用いられる半導体基板として、例えばSnがドープされたInPからなる半導体基板が用意される。続いて、このような半導体基板にクラッド層や回折格子形成層などを順次積層して、積層体を形成する。回折格子形成層における回折格子は、例えば、半導体レーザ素子3の発振波長が1.55μmの場合、240nm程度の間隔からなっている。   First, a semiconductor substrate serving as a basis for the semiconductor laser element 3 is prepared (step S1). As a semiconductor substrate used here, for example, a semiconductor substrate made of InP doped with Sn is prepared. Subsequently, a clad layer, a diffraction grating formation layer, and the like are sequentially laminated on such a semiconductor substrate to form a laminated body. For example, when the oscillation wavelength of the semiconductor laser element 3 is 1.55 μm, the diffraction grating in the diffraction grating forming layer has an interval of about 240 nm.

続いて、クラッド層や回折格子形成層などが積層された積層体をへき開してチップ化する(ステップS2)。回折格子の間隔は、へき開精度に比べて2桁程度小さいものとなっているため、半導体レーザ素子3の端面における回折格子の位相(端面位相)の制御は困難であり、各半導体レーザ素子3において端面位相にばらつきが生じる。そして、端面位相の違いにより、内部光子密度分布が変化する結果、図3等について上述したように、緩和振動周波数fr等の周波数特性が半導体レーザ素子3の個体ごとにばらつくようになっている。   Subsequently, the laminated body in which the cladding layer, the diffraction grating formation layer, and the like are laminated is cleaved to form a chip (step S2). Since the interval between the diffraction gratings is about two orders of magnitude smaller than the cleavage accuracy, it is difficult to control the phase (end surface phase) of the diffraction grating at the end face of the semiconductor laser element 3. The end face phase varies. As a result of the change in the internal photon density distribution due to the difference in the end face phase, the frequency characteristics such as the relaxation oscillation frequency fr vary from one semiconductor laser element 3 to another as described above with reference to FIG.

続いて、へき開された各チップの両端面にHRコートやARコートといった端面コートを形成し、更に、電極層を形成する。これにより、複数の半導体レーザ素子3が完成する(ステップS2)。なお、半導体レーザ素子3の詳細な製造方法については、従来技術を適宜、用いることができるため省略する。   Subsequently, end faces such as HR coat and AR coat are formed on both end faces of each cleaved chip, and an electrode layer is further formed. Thereby, a plurality of semiconductor laser elements 3 are completed (step S2). The detailed manufacturing method of the semiconductor laser element 3 is omitted because the conventional technique can be used as appropriate.

続いて、半導体レーザ素子3の良否を判定するための各種測定を行う(ステップS3)。この測定の中には、各半導体レーザ素子3の端面位相の測定が含まれる。半導体レーザ素子3の端面位相を測定するには、例えば、特開2009−231830号に開示されているように、半導体レーザ素子3からの光出力Imを2つの温度(25℃と80℃)で測定すると共にその変化率ΔImを測定し、25℃での光出力Im25と変化率ΔImとに基づいて算出することができる。 Subsequently, various measurements for determining the quality of the semiconductor laser element 3 are performed (step S3). This measurement includes measurement of the end face phase of each semiconductor laser element 3. In order to measure the end face phase of the semiconductor laser element 3, for example, as disclosed in JP 2009-231830A, the optical output Im from the semiconductor laser element 3 is measured at two temperatures (25 ° C. and 80 ° C.). The change rate ΔIm can be measured and measured, and the light output Im 25 at 25 ° C. and the change rate ΔIm can be calculated.

続いて、ステップS3の測定に基づいて、半導体レーザ素子3を端面位相毎に選別する(ステップS4)。そして、ステップS4で選別された半導体レーザ素子3を保持部材5に搭載して固定させると共に、光ファイバ7を保持部材9の開口部に導入して仮固定する(ステップS5)。なお、この際、レンズ11等も配置される。   Subsequently, based on the measurement in step S3, the semiconductor laser element 3 is selected for each end face phase (step S4). Then, the semiconductor laser element 3 selected in step S4 is mounted and fixed on the holding member 5, and the optical fiber 7 is introduced into the opening of the holding member 9 and temporarily fixed (step S5). At this time, the lens 11 and the like are also arranged.

続いて、図1に示す光軸調整システム21を用いて、半導体レーザ素子3と光ファイバ7との間の光軸の調整を行う(ステップS6)。具体的には、まず、制御部として機能するPC29が光軸調整を行う半導体レーザ素子3の端面位相の情報と駆動電流Ibの補正係数fr_Compとを素子情報提供部31から取得する。この補正係数fr_Compは、端面位相が異なる各半導体レーザ素子3の緩和振動周波数frを下記の式(1)を用いて個体間において略一定とするために、駆動電流Ibを、半導体レーザ素子3の端面位相に応じて補正するための係数である。

Figure 2012038972
Subsequently, the optical axis between the semiconductor laser element 3 and the optical fiber 7 is adjusted using the optical axis adjustment system 21 shown in FIG. 1 (step S6). Specifically, first, the PC 29 functioning as a control unit obtains information on the end face phase of the semiconductor laser element 3 that performs optical axis adjustment and the correction coefficient fr_Comp of the drive current Ib from the element information providing unit 31. This correction coefficient fr_Comp is used to set the drive current Ib of the semiconductor laser element 3 in order to make the relaxation oscillation frequency fr of each semiconductor laser element 3 having different end face phases substantially constant among the individual using the following formula (1). It is a coefficient for correcting according to the end face phase.
Figure 2012038972

この補正係数fr_Compで補正される駆動電流Ib1は、以下の式(2)で表される。式(2)におけるIthは閾値電流を示し、βは高温での動作を考慮した付加値であり、通常は1〜2をとる。
(数2)
Ib1=(fr_Comp)×Ith×(1+β)・・・(2)
なお、fr_Compは、図6に示されるような連続して変化する値をとるのが好ましいが、本実施形態では、補正処理を容易にするため、以下の表1に示す16段階の値としている。
The drive current Ib1 corrected by the correction coefficient fr_Comp is expressed by the following equation (2). In formula (2), Ith represents a threshold current, and β is an additional value considering operation at a high temperature, and usually takes 1-2.
(Equation 2)
Ib1 = (fr_Comp) × Ith × (1 + β) (2)
Note that fr_Comp preferably takes a continuously changing value as shown in FIG. 6, but in the present embodiment, in order to facilitate the correction process, it is set to 16 levels shown in Table 1 below. .

Figure 2012038972
Figure 2012038972

なお、式(2)及び図6のグラフ(又は表1)から明らかなように、光軸調整工程において使用される駆動電流Ib1の値は、図6のグラフと略同等の軌跡を為すグラフとなる。つまり、補正された駆動電流Ib1は、端面位相が0.5πの場合に最小値をとり、端面位相が1.5πの場合に最大値をとるように設定されていることになる。   As is clear from the equation (2) and the graph of FIG. 6 (or Table 1), the value of the drive current Ib1 used in the optical axis adjustment step is a graph having a locus substantially equivalent to the graph of FIG. Become. That is, the corrected drive current Ib1 is set to take a minimum value when the end face phase is 0.5π and to take a maximum value when the end face phase is 1.5π.

次に、駆動電流Ibの補正係数fr_Comp等を取得した後、ステップS6の光軸調整工程では、半導体レーザ素子3の端面位相に応じて駆動電流Ibを補正係数fr_Compで補正して駆動電流Ib1を取得して、半導体レーザ素子3に与える。そして、緩和振動周波数frが略一定となるように設定されている駆動電流Ib1を与えながら、光ファイバ7からの光出力も略一定となるように、調整部27を用いて、半導体レーザ素子3と光ファイバ7との間の光軸調整を行う。なお、光ファイバ7からの光出力は光PowerMeterによって測定され、PC29が調整部27の動きを制御して、上述した光軸調整が実行される。   Next, after obtaining the correction coefficient fr_Comp and the like of the drive current Ib, in the optical axis adjustment step in step S6, the drive current Ib1 is corrected by correcting the drive current Ib with the correction coefficient fr_Comp according to the end face phase of the semiconductor laser element 3. Obtained and applied to the semiconductor laser element 3. Then, the semiconductor laser element 3 is used by using the adjusting unit 27 so that the light output from the optical fiber 7 is also substantially constant while the driving current Ib1 is set so that the relaxation oscillation frequency fr is substantially constant. The optical axis between the optical fiber 7 and the optical fiber 7. The optical output from the optical fiber 7 is measured by the optical PowerMeter, and the PC 29 controls the movement of the adjusting unit 27 to execute the optical axis adjustment described above.

ここで、半導体レーザ素子3と光ファイバ7との間で光軸調整を行って光出力が略一定となるための原理について簡単に説明する。ここで用いる光出力は、一般に以下の式(3)から表される。式(3)におけるLossは、半導体レーザ素子3と光ファイバ7との間における結合損失を示し、Seは、半導体レーザ素子3の発光効率を示す。
(数3)
光出力Pout=Loss×Se×(Ib−Ith)・・・(3)
Here, the principle for adjusting the optical axis between the semiconductor laser element 3 and the optical fiber 7 to make the optical output substantially constant will be briefly described. The light output used here is generally expressed by the following equation (3). Loss in equation (3) indicates the coupling loss between the semiconductor laser element 3 and the optical fiber 7, and Se indicates the light emission efficiency of the semiconductor laser element 3.
(Equation 3)
Optical output Pout = Loss × Se × (Ib−Ith) (3)

そして、上述したような補正した駆動電流Ib1を与えることにより、半導体レーザ素子3からの光出力は通常よりも高くなってしまう場合もあり得るが、本実施形態では、光ファイバの位置を調整部27で調整することにより、上述した式(3)のLoss(結合損失)も高くし、その結果、光出力を略一定とすることができるようになっている。言い換えると、半導体レーザ素子3と光ファイバ7との間の結合損失を、補正された駆動電流Ib1の値に応じて増減させることで、半導体レーザ素子3と光ファイバ7との間の光軸調整を行うようになっている。   Then, by providing the corrected drive current Ib1 as described above, the light output from the semiconductor laser element 3 may become higher than usual. In this embodiment, the position of the optical fiber is adjusted by the adjusting unit. By adjusting at 27, the loss (coupling loss) of the above-described equation (3) is also increased, and as a result, the optical output can be made substantially constant. In other words, by adjusting the coupling loss between the semiconductor laser element 3 and the optical fiber 7 according to the corrected value of the driving current Ib1, the optical axis between the semiconductor laser element 3 and the optical fiber 7 is adjusted. Is supposed to do.

続いて、ステップS6の光軸調整工程が終了すると、YAGレーザ33により、半導体レーザ素子3を保持する保持部材5と光ファイバ7を保持する保持部材9とを固定し、光出力と緩和振動周波数frとが固体間において略一定となった光ファイバモジュール1を得る。その後、各光ファイバモジュール1に対して、所定の検査・選別を行い、光ファイバモジュール1の製造を終了する(ステップS7)。   Subsequently, when the optical axis adjustment step of step S6 is completed, the holding member 5 holding the semiconductor laser element 3 and the holding member 9 holding the optical fiber 7 are fixed by the YAG laser 33, and the light output and the relaxation vibration frequency are fixed. An optical fiber module 1 in which fr becomes substantially constant between solids is obtained. Thereafter, predetermined inspection / sorting is performed on each optical fiber module 1 to complete the manufacture of the optical fiber module 1 (step S7).

以上のように、本実施形態に係る製造方法では、緩和振動周波数fr等が個体間において略一定となるように設定されている駆動電流値Ib1のうち、検出された端面位相に応じた一の駆動電流値Ib1を補正により取得し、この取得した駆動電流値Ib1の駆動電流を半導体レーザ素子3に与えながら、その光出力が個体間で略一定となるように光軸調整を行うようになっている。   As described above, in the manufacturing method according to the present embodiment, one of the drive current values Ib1 that is set so that the relaxation oscillation frequency fr and the like are substantially constant among the individuals according to the detected end face phase. The drive current value Ib1 is acquired by correction, and the optical axis adjustment is performed so that the optical output becomes substantially constant among the individual while giving the drive current of the acquired drive current value Ib1 to the semiconductor laser element 3. ing.

この場合、半導体レーザモジュール1の組み込みが完成する前の調整工程において、緩和振動周波数fr等が略一定となるように設定された駆動電流値Ib1の駆動電流を用いて光軸調整を行うようになっているため、仮に緩和振動周波数frを式(1)に基づいて増加させるために光出力も増加させざるを得ない場合であったとしても、式(3)に基づいた調整工程によって、光出力を低くするような光軸調整を行うことができる。   In this case, in the adjustment step before the semiconductor laser module 1 is completely assembled, the optical axis adjustment is performed using the drive current of the drive current value Ib1 set so that the relaxation oscillation frequency fr and the like become substantially constant. Therefore, even if the light output is inevitably increased in order to increase the relaxation oscillation frequency fr based on the equation (1), the adjustment step based on the equation (3) The optical axis can be adjusted so as to reduce the output.

つまり、一旦、半導体レーザモジュールとして組み込まれた後だと、周波数特性を増加させるには光出力も増加させざるを得ず、光出力のみを低くすることは困難であるが、本実施形態のように、半導体レーザモジュール1に組み込む前に調整を行うことにより、かかる課題を解決することができる。そして、この結果、本実施形態に係る製造方法によれば、緩和振動周波数frと光出力とを個体間において略一定とした半導体レーザモジュール1を得ることができる(図7及び図8参照)。図7及び図8における本手法で示される範囲が略一定を意味する。   That is, once incorporated as a semiconductor laser module, the optical output must be increased in order to increase the frequency characteristics, and it is difficult to reduce only the optical output. In addition, this problem can be solved by making an adjustment before being incorporated into the semiconductor laser module 1. As a result, according to the manufacturing method according to the present embodiment, it is possible to obtain the semiconductor laser module 1 in which the relaxation oscillation frequency fr and the optical output are substantially constant among individuals (see FIGS. 7 and 8). The range shown by this method in FIGS. 7 and 8 means substantially constant.

このように各個体間において緩和振動周波数frと光出力とを略一定とすることにより、半導体レーザ素子等が不良品とされる率を低減させることができ、半導体レーザモジュール1の製造コストを結果的に下げることが可能となる。なお、本実施形態における光軸調整を行った場合、図8に示すように、駆動電流のバラツキが若干増えるが、実用上、問題ないレベルとなっている。   Thus, by making the relaxation oscillation frequency fr and the optical output substantially constant among the individual members, the rate at which the semiconductor laser element or the like is defective can be reduced, and the manufacturing cost of the semiconductor laser module 1 can be reduced. Can be lowered. Note that when the optical axis adjustment is performed in the present embodiment, as shown in FIG. 8, the variation in the drive current is slightly increased, but the level is practically not problematic.

また、上述した製造方法において、半導体レーザ素子3の端面位相が何れであってもその緩和振動周波数frが略一定となるように設定されている駆動電流値Ib1は、端面位相が0.5πの場合に最小値をとり、端面位相が1.5πの場合に最大値をとるように設定されている(図6と式(2)参照)。このような設定がされていることにより、駆動電流値Ib1を取得する取得工程を容易にすることができる。   In the manufacturing method described above, the drive current value Ib1 set so that the relaxation oscillation frequency fr is substantially constant regardless of the end face phase of the semiconductor laser element 3 has an end face phase of 0.5π. In this case, the minimum value is set and the maximum value is set when the end face phase is 1.5π (see FIG. 6 and Expression (2)). With such a setting, the acquisition process of acquiring the drive current value Ib1 can be facilitated.

また、上述した製造方法において、調整工程では、半導体レーザ素子3と光ファイバ7との間の結合損失Lossが端面位相に応じた駆動電流値に比例して増減するように、半導体レーザ素子3と光ファイバ7との間の光軸調整が行われている。このように、駆動電流値Ib1が増加する場合には結合損失Lossも増加させ、駆動電流値Ib1が減少する場合には結合損失Lossも減少させることにより、駆動電流値が異なる半導体レーザモジュール1間において、それらの光出力を容易に略一定とすることができる。   Further, in the manufacturing method described above, in the adjustment step, the coupling loss Loss between the semiconductor laser element 3 and the optical fiber 7 is increased or decreased in proportion to the drive current value corresponding to the end face phase. Optical axis adjustment with the optical fiber 7 is performed. As described above, when the drive current value Ib1 is increased, the coupling loss Loss is also increased, and when the drive current value Ib1 is decreased, the coupling loss Loss is also decreased, so that the semiconductor laser modules 1 having different drive current values are connected. Therefore, their light outputs can be easily made substantially constant.

ところで、半導体レーザ素子3の端面位相に応じて、その緩和振動周波数frと光出力が略一定となるように、駆動電流値Ib1を調整した場合、特に駆動電流が所定の値を超えて調整される場合、半導体レーザの発熱等に起因した所謂駆動電流の熱暴走の現象を生じることがある。この熱暴走の現象は、駆動電流の増加等に伴い、半導体レーザの発熱等に起因して半導体レーザの光出力が低下し、この結果、さらに、光出力を一定に維持するために駆動電流が増加するように制御回路が機能するため、益々半導体レーザ素子の発熱と光出力の低下を生じることが原因と考えられる。このような熱暴走の現象を回避するために、半導体レーザ素子の駆動電流について、上限値を設け、この上限値以上の電流を供給しないように、あらかじめ駆動電流の制御部を設定することができる。あるいは、駆動電流供給電源部に、当該駆動電流の上限値以上電流を流さないように駆動電流制限回路を設けるようにしてもよい。図8において、駆動電流の電流制限は、この駆動電流の上限値設定によるものである。   By the way, when the drive current value Ib1 is adjusted in accordance with the end face phase of the semiconductor laser element 3 so that the relaxation oscillation frequency fr and the optical output are substantially constant, the drive current is particularly adjusted to exceed a predetermined value. In such a case, a so-called thermal runaway phenomenon of the drive current due to heat generation of the semiconductor laser may occur. This thermal runaway phenomenon is accompanied by a decrease in the optical output of the semiconductor laser due to the heat generation of the semiconductor laser as the drive current increases, and as a result, the drive current is increased to maintain the optical output constant. Since the control circuit functions so as to increase, it is considered that the cause is that the heat generation of the semiconductor laser element and the decrease in the optical output are increasingly caused. In order to avoid such a thermal runaway phenomenon, an upper limit value is set for the drive current of the semiconductor laser element, and a drive current control unit can be set in advance so as not to supply a current exceeding the upper limit value. . Alternatively, a drive current limiting circuit may be provided in the drive current supply power supply unit so that no current flows beyond the upper limit value of the drive current. In FIG. 8, the current limitation of the drive current is due to the setting of the upper limit value of the drive current.

以上、本発明の好適な実施形態について説明してきたが、本発明は必ずしも上述した実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で様々な変更が可能である。   The preferred embodiments of the present invention have been described above. However, the present invention is not necessarily limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made without departing from the scope of the present invention.

例えば、上述した実施形態では、特開2009−231830号公報に記載された方法により半導体レーザ素子3の端面位相を検出するようにしていたが、半導体レーザ素子3の光スペクトルから端面位相を検出するようにしてももちろんよい。   For example, in the above-described embodiment, the end face phase of the semiconductor laser element 3 is detected by the method described in JP 2009-231830 A. However, the end face phase is detected from the optical spectrum of the semiconductor laser element 3. Of course.

また、上述した実施形態では、半導体レーザ素子3を保持する保持部5と、光ファイバ7を保持する保持部9とを固定したモジュールとして製造を終了している。しかしながら、更に、半導体レーザモジュール1が、半導体レーザ素子3の駆動を行うための駆動回路(不図示)を更に備えるようにしてもよい。この場合、図10に示されるように、調整工程で用いた駆動電流値Ib1(モジュール特性情報)が設定された駆動回路(IC、電子部品)や機構部品を半導体レーザ素子3と共に半導体レーザモジュール1に組み入れる組入工程を更に備えるようにしてもよい。   Further, in the above-described embodiment, the manufacturing is finished as a module in which the holding unit 5 that holds the semiconductor laser element 3 and the holding unit 9 that holds the optical fiber 7 are fixed. However, the semiconductor laser module 1 may further include a drive circuit (not shown) for driving the semiconductor laser element 3. In this case, as shown in FIG. 10, the drive circuit (IC, electronic component) or mechanism component in which the drive current value Ib1 (module characteristic information) used in the adjustment process is set is combined with the semiconductor laser element 3 in the semiconductor laser module 1. You may make it further provide the incorporation process integrated in.

この場合、駆動回路に調整工程で用いた駆動電流値が予め設定されることになるため、完成した半導体レーザモジュール1を用いる際に駆動電流値Ib1をわざわざ設定入力する必要がなくなり。便利である。なお、このような追加工程を経た半導体レーザモジュール1でも特性検査が最終的には行われる。なお、この駆動回路には、先に述べた駆動電流の上限値についても設定されることができる。   In this case, since the drive current value used in the adjustment process is set in advance in the drive circuit, it is not necessary to set and input the drive current value Ib1 when using the completed semiconductor laser module 1. Convenient. Even in the semiconductor laser module 1 that has undergone such additional steps, the characteristic inspection is finally performed. In this drive circuit, the above-described upper limit value of the drive current can also be set.

1…半導体レーザモジュール、3…半導体レーザ素子、7…光ファイバ、27…調整部、31…素子情報提供部、33…YAGレーザ。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Semiconductor laser module, 3 ... Semiconductor laser element, 7 ... Optical fiber, 27 ... Adjustment part, 31 ... Element information provision part, 33 ... YAG laser

Claims (4)

所定の端面位相を有する分布帰還型の半導体レーザ素子と、前記半導体レーザ素子からの出射光が入射される光ファイバとを備える半導体レーザモジュールの製造方法であって、
前記半導体レーザ素子の端面位相を検出する検出工程と、
前記半導体レーザ素子の端面位相が何れであってもその周波数特性が略一定となるように設定されている駆動電流値のうち前記検出工程で検出された前記端面位相に応じた駆動電流値を取得する取得工程と、
前記取得工程で取得した前記駆動電流値の駆動電流を前記半導体レーザ素子に与えた際に前記光ファイバからの光出力が略一定となるように、前記半導体レーザ素子と前記光ファイバとの間の光軸調整を行う調整工程と、
を備えたことを特徴とする半導体レーザモジュールの製造方法。
A method of manufacturing a semiconductor laser module, comprising: a distributed feedback semiconductor laser element having a predetermined end face phase; and an optical fiber into which light emitted from the semiconductor laser element is incident.
A detection step of detecting an end face phase of the semiconductor laser element;
A drive current value corresponding to the end face phase detected in the detection step is acquired from drive current values set so that the frequency characteristics thereof are substantially constant regardless of the end face phase of the semiconductor laser element. An acquisition process to
When the drive current of the drive current value acquired in the acquisition step is applied to the semiconductor laser element, the optical output from the optical fiber is substantially constant between the semiconductor laser element and the optical fiber. An adjustment process for adjusting the optical axis;
A method of manufacturing a semiconductor laser module, comprising:
前記半導体レーザ素子の端面位相が何れであってもその周波数特性が略一定となるように設定されている前記駆動電流値は、端面位相が0.5πの場合に最小値をとり、端面位相が1.5πの場合に最大値をとるように設定されていることを特徴とする請求項1に記載の半導体レーザモジュールの製造方法。   The drive current value set so that the frequency characteristic is substantially constant regardless of the end face phase of the semiconductor laser element takes a minimum value when the end face phase is 0.5π, and the end face phase is 2. The method of manufacturing a semiconductor laser module according to claim 1, wherein the semiconductor laser module is set to take a maximum value in the case of 1.5 [pi]. 前記調整工程では、前記半導体レーザ素子と前記光ファイバとの間の結合損失が前記端面位相に応じた駆動電流値に比例して増減するように、前記半導体レーザ素子と前記光ファイバとの間の光軸調整を行うことを特徴とする請求項1又は2に記載の半導体レーザモジュールの製造方法。   In the adjustment step, the coupling loss between the semiconductor laser element and the optical fiber is increased or decreased between the semiconductor laser element and the optical fiber so as to increase or decrease in proportion to the drive current value corresponding to the end face phase. 3. The method of manufacturing a semiconductor laser module according to claim 1, wherein the optical axis is adjusted. 前記半導体レーザモジュールは、前記半導体レーザ素子の駆動を行うための駆動回路を更に備え、
前記調整工程で用いた前記駆動電流値が設定された前記駆動回路を前記半導体レーザ素子と共に前記半導体レーザモジュールに組み入れる組入工程を更に備えたことを特徴とする請求項1〜3の何れか一項に記載の半導体レーザモジュールの製造方法。
The semiconductor laser module further includes a drive circuit for driving the semiconductor laser element,
4. The method according to claim 1, further comprising an incorporation step of incorporating the drive circuit in which the drive current value used in the adjustment step is set into the semiconductor laser module together with the semiconductor laser element. The manufacturing method of the semiconductor laser module of description.
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