JP2012031010A - Titanosilicate, and method for producing olefin oxide using the same as catalyst - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a catalyst which can produce an olefin oxide in a high yield from an oxidizing agent such as hydrogen peroxide and an olefin compound such as propylene.SOLUTION: A titanosilicate has an X-ray diffraction pattern exhibiting the following values of lattice spacings d/:Å of 12.4±0.8, 10.8±0.5, 9.0±0.3, 6.0±0.3, 3.9±0.1 and 3.4±0.1, and has a bulk density of 0.05 to 0.15 g/ml.

Description

本発明は、チタノシリケート及び該チタノシリケートを触媒とするオレフィンオキサイドの製造方法等に関する。   The present invention relates to titanosilicate, a method for producing olefin oxide using the titanosilicate as a catalyst, and the like.

プロピレンオキサイドなどのオレフィンオキサイドの製造方法には、チタノシリケートが触媒として用いられている。かかる触媒としては、例えば、特許文献1に、ホウ素含有化合物、オルトチタン酸テトラブチル、ヒュームドシリカ及びピペリジンを170℃の温度下、水熱合成し、得られた層状化合物(as−synthesizedサンプルとも称される)を還流条件下、硝酸水溶液と接触させて得られるチタノシリケートが記載されている。そして、特許文献1には、該チタノシリケートを触媒として用いることにより、過酸化水素及びプロピレンからプロピレンオキサイドを製造する方法も記載されている。   In the method for producing olefin oxide such as propylene oxide, titanosilicate is used as a catalyst. As such a catalyst, for example, in Patent Document 1, a boron-containing compound, tetrabutyl orthotitanate, fumed silica and piperidine are hydrothermally synthesized at a temperature of 170 ° C., and the obtained layered compound (also referred to as an as-synthesized sample) is used. Is obtained by contacting with a nitric acid aqueous solution under reflux conditions. Patent Document 1 also describes a method for producing propylene oxide from hydrogen peroxide and propylene by using the titanosilicate as a catalyst.

特開2005−262164号公報(実施例)JP-A-2005-262164 (Example)

従来のチタノシリケートを触媒とするプロピレンオキサイドの製造方法は、例えば、過酸化水素あたりのプロピレンオキサイドの収率など、酸化剤あたりのオレフィン化合物の収率(以下、単に「収率」と略記することがある)が必ずしも十分ではなかった。
本発明の目的は、酸化剤とオレフィン化合物とから、優れた収率でオレフィンオキサイドを製造し得る触媒を提供することである。
A conventional method for producing propylene oxide using titanosilicate as a catalyst is, for example, the yield of olefin compound per oxidant such as the yield of propylene oxide per hydrogen peroxide (hereinafter simply referred to as “yield”). But it was not always enough.
The objective of this invention is providing the catalyst which can manufacture an olefin oxide with the outstanding yield from an oxidizing agent and an olefin compound.

かかる課題を解決するために本発明者らは鋭意検討した結果、嵩高いチタノシリケートが優れた収率でオレフィンオキサイドを製造し得る触媒であることを見出し、以下の本発明に至った。
<1> 下記に示す値のX線回折パターンを有するチタノシリケートであり、該チタノシリケートの嵩密度は0.05〜0.15g/mlであることを特徴とするチタノシリケート。
X線回折パターン
格子面間隔d/Å(オングストローム)
12.4±0.8
10.8±0.5
9.0±0.3
6.0±0.3
3.9±0.1
3.4±0.1
<2> 嵩密度が0.08〜0.11g/mlであることを特徴とする請求項1記載のチタノシリケート。
In order to solve such problems, the present inventors have intensively studied. As a result, they have found that bulky titanosilicate is a catalyst capable of producing olefin oxide in an excellent yield, and have reached the following present invention.
<1> A titanosilicate having an X-ray diffraction pattern having a value shown below, wherein the titanosilicate has a bulk density of 0.05 to 0.15 g / ml.
X-ray diffraction pattern lattice spacing d / d (angstrom)
12.4 ± 0.8
10.8 ± 0.5
9.0 ± 0.3
6.0 ± 0.3
3.9 ± 0.1
3.4 ± 0.1
<2> The titanosilicate according to claim 1, wherein the bulk density is 0.08 to 0.11 g / ml.

<3> 下記の第1工程及び第2工程を有することを特徴とするチタノシリケートの製造方法。
第1工程:構造規定剤、周期表の13族元素を含有する化合物、チタン含有化合物、ケイ素含有化合物および水を含有する混合物を、155℃未満の最大温度まで加熱して固体を得る工程。
第2工程:無機酸およびチタン含有化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種と第1工程で得られた固体とを接触させる工程。
<4> 周期表の第13族元素を含む化合物がホウ素含有化合物であることを特徴とする<3>記載のチタノシリケートの製造方法。
<5> 構造規定剤がピペリジンまたはヘキサメチレンイミンであることを特徴とする<3>又は<4>記載のチタノシリケートの製造方法。
<3> A method for producing a titanosilicate comprising the following first step and second step.
First step: A step of obtaining a solid by heating a mixture containing a structure-directing agent, a compound containing a group 13 element of the periodic table, a titanium-containing compound, a silicon-containing compound and water to a maximum temperature of less than 155 ° C.
Second step: A step of bringing at least one selected from the group consisting of an inorganic acid and a titanium-containing compound into contact with the solid obtained in the first step.
<4> The method for producing a titanosilicate according to <3>, wherein the compound containing a Group 13 element in the periodic table is a boron-containing compound.
<5> The method for producing a titanosilicate according to <3> or <4>, wherein the structure directing agent is piperidine or hexamethyleneimine.

<6> 第2工程で得られたチタノシリケートを250〜1000℃の温度範囲で加熱する第3工程をさらに有する<3>〜<5>いずれか記載の製造方法。
<7> 第2工程又は第3工程で得られたチタノシリケートと構造規定剤とを接触する第4工程をさらに有する<3>〜<6>いずれか記載の製造方法。
<8> 第2工程、第3工程又は第4工程で得られたチタノシリケートをシリル化剤でシリル化する第5工程をさらに有する<3>〜<7>いずれか記載の製造方法。
<9> 第2工程、第3工程、第4工程又は第5工程で得られたチタノシリケートと過酸化水素とを接触する第6工程をさらに有する<3>〜<8>いずれか記載の製造方法。
<10> <3>〜<9>のいずれか記載の製造方法で得られたチタノシリケート。
<6> The method according to any one of <3> to <5>, further comprising a third step of heating the titanosilicate obtained in the second step in a temperature range of 250 to 1000 ° C.
<7> The method according to any one of <3> to <6>, further comprising a fourth step of contacting the titanosilicate obtained in the second step or the third step with the structure directing agent.
<8> The method according to any one of <3> to <7>, further comprising a fifth step of silylating the titanosilicate obtained in the second step, the third step or the fourth step with a silylating agent.
<9> The method according to any one of <3> to <8>, further including a sixth step of contacting the titanosilicate obtained in the second step, the third step, the fourth step, or the fifth step with hydrogen peroxide. Production method.
<10> A titanosilicate obtained by the production method according to any one of <3> to <9>.

<11> <1>、<2>又は<10>記載のチタノシリケートからなるオレフィンオキサイド製造用触媒。
<12> <11>記載の触媒存在下、オレフィン化合物を酸化剤で酸化させる工程を含むオレフィンオキサイドの製造方法。
<13> オレフィン化合物がプロピレンであり、酸化剤が過酸化水素であることを特徴とする<12>記載のオレフィンオキサイドの製造方法。
<11> A catalyst for producing olefin oxide, comprising the titanosilicate according to <1>, <2> or <10>.
<12> A method for producing an olefin oxide comprising a step of oxidizing an olefin compound with an oxidizing agent in the presence of the catalyst according to <11>.
<13> The method for producing an olefin oxide according to <12>, wherein the olefin compound is propylene and the oxidizing agent is hydrogen peroxide.

本発明によれば、酸化剤あたりの収率がより優れたオレフィンオキサイドの触媒として、新規なチタノシリケートが提供可能である。   According to the present invention, a novel titanosilicate can be provided as an olefin oxide catalyst having a better yield per oxidant.

実施例1で得られたチタノシリケートの電子顕微鏡写真Electron micrograph of the titanosilicate obtained in Example 1 参考例1で得られたチタノシリケートの電子顕微鏡写真Electron micrograph of titanosilicate obtained in Reference Example 1

本発明のチタノシリケートは、前記に示す値のX線回折パターンを有し、かつ、その嵩密度は0.05〜0.15g/ml、好ましくは、0.08〜0.11g/mlである。この様な特性を有するチタノシリケートは、優れた収率でオレフィンオキサイドが製造可能な触媒である。以下、上記特性を有するチタノシリケートからなる触媒を本触媒と記すことがある。本触媒は、後述するように、オレフィンオキサイドの製造方法に用いられる触媒として極めて有用である。   The titanosilicate of the present invention has an X-ray diffraction pattern having the value shown above, and its bulk density is 0.05 to 0.15 g / ml, preferably 0.08 to 0.11 g / ml. is there. Titanosilicate having such characteristics is a catalyst capable of producing olefin oxide in an excellent yield. Hereinafter, a catalyst composed of titanosilicate having the above characteristics may be referred to as the present catalyst. As will be described later, this catalyst is extremely useful as a catalyst used in a method for producing olefin oxide.

ここで、チタノシリケートとは、二酸化ケイ素骨格のケイ素原子の一部が、チタン原子に置き換わったものである。
二酸化ケイ素骨格のケイ素原子の一部が、チタン原子に置き換わったことは、当該チタノシリケートの200nm〜400nmの波長領域における紫外可視吸収スペクトルが、210nm〜230nmの波長領域で最大の吸収ピークが現れることから確認することができる(例えば、Chemical Communications 1026−1027,(2002) 図2(d)、(e)参照)。上記紫外可視吸収スペクトルは、拡散反射装置を付属した紫外可視分光光度計を用いて、拡散反射法にて測定することができる。
Here, the titanosilicate is a substance in which a part of silicon atoms in the silicon dioxide skeleton is replaced with titanium atoms.
The replacement of a part of silicon atoms of the silicon dioxide skeleton with titanium atoms means that the UV-visible absorption spectrum of the titanosilicate in the wavelength region of 200 nm to 400 nm shows the maximum absorption peak in the wavelength region of 210 nm to 230 nm. (See, for example, Chemical Communications 1026-1027, (2002) FIGS. 2D and 2E). The ultraviolet-visible absorption spectrum can be measured by a diffuse reflection method using an ultraviolet-visible spectrophotometer equipped with a diffuse reflection device.

本触媒は、チタノシリケートの中でも下記X線回折パターンを有する。
X線回折パターン
(格子面間隔d/Å)
12.4±0.8
10.8±0.5
9.0±0.3
6.0±0.3
3.9±0.1
3.4±0.1
上記X線回折パターンは、銅K−アルファ放射線を使用したX線回折装置を用いて求められる。詳細な分析条件は後述の[実施例]の項で説明する。
The present catalyst has the following X-ray diffraction pattern among titanosilicates.
X-ray diffraction pattern (lattice spacing d / Å)
12.4 ± 0.8
10.8 ± 0.5
9.0 ± 0.3
6.0 ± 0.3
3.9 ± 0.1
3.4 ± 0.1
The X-ray diffraction pattern is obtained using an X-ray diffraction apparatus using copper K-alpha radiation. Detailed analysis conditions will be described in the [Example] section below.

本触媒の嵩密度は、タップ密度法によって求められる。すなわち、メスシリンダーに本触媒を入れて、その重量を測定し、続いて、当該メスシリンダーをタッピングし、本触媒の容量が減少しなくなるまでタッピングし、タッピング後の本触媒の容量を測定する。かくして得られた前記重量と前記容量とから嵩密度(g/ml)を計算する。   The bulk density of the catalyst is determined by a tap density method. That is, the catalyst is put in a graduated cylinder and its weight is measured. Subsequently, the graduated cylinder is tapped until tapping is performed until the capacity of the catalyst is not reduced, and the capacity of the catalyst after tapping is measured. The bulk density (g / ml) is calculated from the weight and the volume thus obtained.

従来のチタノシリケートは1次粒子が凝集して2次粒子を形成する。一方、本触媒は、チタノシリケートの1次粒子が集合して外殻部を構成した2次粒子(例えば、2〜4μm程度)が内部に空間を有するものであるため、低い嵩密度であると考えられる。
本触媒の1次粒子は、例えば、六角平板の形状を有するチタノシリケートを挙げることができる。該六角平板の1辺は、例えば、0.05〜0.2μm程度であり、その厚さは、例えば、10〜50nm程度である。その代表例として、後述する実施例1で得られるチタノシリケートの電子顕微鏡写真を図1に示す。
In conventional titanosilicate, primary particles aggregate to form secondary particles. On the other hand, the present catalyst has a low bulk density because secondary particles (for example, about 2 to 4 μm) in which the primary particles of titanosilicate aggregate to form the outer shell portion have a space inside. it is conceivable that.
Examples of the primary particles of the catalyst include titanosilicate having a hexagonal flat plate shape. One side of the hexagonal flat plate is, for example, about 0.05 to 0.2 μm, and the thickness thereof is, for example, about 10 to 50 nm. As a representative example, an electron micrograph of titanosilicate obtained in Example 1 described later is shown in FIG.

本触媒は、例えば、下記の第1工程及び第2工程を有する製造方法により製造することができる。
第1工程:構造規定剤、元素周期表の13族元素を含有する化合物、チタン含有化合物、ケイ素含有化合物および水を含有する混合物を、最大155℃未満の温度条件まで加熱して固体を得る工程。
第2工程:無機酸およびチタン含有化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種と第1工程で得られた固体とを接触させる工程。
This catalyst can be manufactured by the manufacturing method which has the following 1st process and 2nd process, for example.
First step: a step of obtaining a solid by heating a mixture containing a structure-directing agent, a compound containing a group 13 element of the periodic table, a titanium-containing compound, a silicon-containing compound and water to a temperature condition of less than 155 ° C. .
Second step: A step of bringing at least one selected from the group consisting of an inorganic acid and a titanium-containing compound into contact with the solid obtained in the first step.

以下、第1工程に用いられる、元素周期表の13族元素を含有する化合物、ケイ素含有化合物、チタン含有化合物及び構造規定剤について説明する。
元素周期表の13族元素を含有する化合物(以下、13族元素含有化合物と記すことがある。)としては、例えば、ホウ素含有化合物、アルミニウム含有化合物、ガリウム含有化合物を挙げることができる。
ホウ素含有化合物としては、例えば、ホウ酸;ホウ酸塩;酸化ホウ素;ハロゲン化ホウ素;炭素数1〜4のアルキル基を有するトリアルキルホウ素含有化合物等が挙げられ、アルミニウム含有化合物としては、例えば、アルミン酸ナトリウム等が挙げられ、ガリウム含有化合物としては、例えば、酸化ガリウムが挙げられる。
好ましい13族元素含有化合物としては、例えば、ホウ素含有化合物等を挙げることができ、より好ましくは、ホウ酸が挙げられる。
Hereinafter, the compound containing the group 13 element of the periodic table, the silicon-containing compound, the titanium-containing compound, and the structure directing agent used in the first step will be described.
Examples of the compound containing a group 13 element in the periodic table (hereinafter sometimes referred to as a group 13 element-containing compound) include a boron-containing compound, an aluminum-containing compound, and a gallium-containing compound.
Examples of the boron-containing compound include boric acid; borate salt; boron oxide; boron halide; trialkyl boron-containing compound having an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and the aluminum-containing compound includes, for example, Examples of the gallium-containing compound include gallium oxide.
Preferable group 13 element-containing compounds include, for example, boron-containing compounds, and more preferably boric acid.

ケイ素含有化合物としては、例えば、ケイ酸、ケイ酸塩、酸化ケイ素、ハロゲン化ケイ素、ヒュームドシリカ、テトラアルキルオルトケイ酸エステルおよびコロイダルシリカ等を挙げることができ、好ましくはヒュームドシリカである。   Examples of the silicon-containing compound include silicic acid, silicate, silicon oxide, silicon halide, fumed silica, tetraalkylorthosilicate, colloidal silica, and the like, and fumed silica is preferable.

チタン含有化合物としては、例えば、チタンアルコキシド、チタンの有機酸塩、チタンの無機酸塩、ハロゲン化チタン、酸化チタン等を挙げることができる。
チタンアルコキシドとは、炭素数1〜4のアルコキシル基を有する化合物であり、例えば、テトラメチルオルソチタネート、テトラエチルオルソチタネート、テトライソプロピルオルソチタネート、及びテトラ−n−ブチルオルソチタネート等が挙げられる。
チタンの有機酸塩としては、例えば、酢酸チタン等が挙げられ、チタンの無機酸塩としては、例えば、硝酸チタン、硫酸チタン、リン酸チタン、過塩素酸チタン等が挙げられ、ハロゲン化チタンとしては、例えば、四塩化チタン等が挙げられ、酸化チタンとしては、例えば、二酸化チタン等が挙げられる。
チタン含有化合物としては、チタンアルコキシドが好ましく、中でもテトラ−n−ブチルオルソチタネートが好ましい。
本触媒のチタン原子含有量は、本触媒に含まれるケイ素原子1モルに対して、例えば、0.005〜0.05モルの範囲等を挙げることができ、好ましくは0.01〜0.05モルの範囲である。
本触媒に含まれるチタン原子含有量の調整方法としては、例えば、第1工程に用いられるチタン含有化合物及びケイ素含有化合物のそれぞれの使用量を、上記範囲内の所定のチタン原子含有量になるように適宜、調整すればよい。
Examples of the titanium-containing compound include titanium alkoxide, titanium organic acid salt, titanium inorganic acid salt, titanium halide, and titanium oxide.
Titanium alkoxide is a compound having an alkoxyl group having 1 to 4 carbon atoms, and examples thereof include tetramethyl orthotitanate, tetraethyl orthotitanate, tetraisopropyl orthotitanate, and tetra-n-butyl orthotitanate.
Examples of the organic acid salt of titanium include titanium acetate. Examples of the inorganic acid salt of titanium include titanium nitrate, titanium sulfate, titanium phosphate, titanium perchlorate, and the like. Examples of the titanium oxide include titanium tetrachloride. Examples of the titanium oxide include titanium dioxide.
As the titanium-containing compound, titanium alkoxide is preferable, and tetra-n-butyl orthotitanate is particularly preferable.
The titanium atom content of this catalyst can mention the range of 0.005-0.05 mol etc. with respect to 1 mol of silicon atoms contained in this catalyst, Preferably 0.01-0.05. The range of moles.
As a method for adjusting the titanium atom content contained in the present catalyst, for example, the respective usage amounts of the titanium-containing compound and the silicon-containing compound used in the first step are set to a predetermined titanium atom content within the above range. It may be adjusted as appropriate.

構造規定剤とは、ゼオライト構造の形成に寄与する窒素含有有機化合物を意味する。かかる構造規定剤は、その周囲にポリケイ酸イオンやポリメタロケイ酸イオンを組織することによりゼオライト構造の前駆体を形成することができる(ゼオライトの科学と工学33−34頁 2000年 講談社サイエンティフィク 参照)。
構造規定剤としては、例えば、ピペリジン、ヘキサメチレンイミン等の有機アミン;N,N,N−トリメチル−1−アダマンタンアンモニウム塩(N,N,N−トリメチル−1−アダマンタンアンモニウムヒドロキシド、N,N,N−トリメチル−1−アダマンタンアンモニウムイオダイド等)やChemistry Letters 916−917(2007)記載のオクチルトリメチルアンモニウム塩(オクチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、オクチルトリメチルアンモニウムブロマイド等)等の4級アンモニウム塩が挙げられる。構造規定剤は、1種類用いてもよいし、2種類以上を任意の割合で混合して用いてもよい。
好ましい構造規定剤としては、ピペリジン、ヘキサメチレンイミンおよびそれらの混合物である。
A structure directing agent means a nitrogen-containing organic compound that contributes to the formation of a zeolite structure. Such a structure-directing agent can form a precursor of a zeolite structure by organizing polysilicate ions or polymetallosilicate ions around it (see Zeolite Science and Engineering on pages 33-34, 2000, Kodansha Scientific). .
Examples of the structure-directing agent include organic amines such as piperidine and hexamethyleneimine; N, N, N-trimethyl-1-adamantanammonium salt (N, N, N-trimethyl-1-adamantanammonium hydroxide, N, N Quaternary ammonium salts such as octyltrimethylammonium salts (octyltrimethylammonium hydroxide, octyltrimethylammonium bromide, etc.) described in Chemistry Letters 916-917 (2007), and the like. . One type of structure directing agent may be used, or two or more types of structure directing agents may be mixed and used in an arbitrary ratio.
Preferred structure directing agents are piperidine, hexamethyleneimine and mixtures thereof.

次に、第1工程について説明する。
第1工程に用いられる水の量は、第1工程で用いられるケイ素含有化合物中のケイ素1モルに対し、5〜200モルの範囲、好ましくは10〜50モルの範囲に調整して用いればよい。
第1工程をさらに詳しく説明すると、構造規定剤、13族元素含有化合物、チタン含有化合物、ケイ素含有化合物および水を含有する混合物を、オートクレーブ等の密閉容器に入れ、最大155℃未満の温度範囲まで加熱する。好ましくは、100℃以上、155℃未満の温度範囲内、好ましくは、130℃〜150℃の温度範囲内で加熱する。100℃以上であると、本触媒の結晶性に優れる傾向があることから好ましく、155℃未満であると嵩密度0.15g/ml以下の本触媒を与えることができる。
ここで上記温度範囲とは、密閉容器の外表面の温度ではなく、混合物に直接あるいは鞘管等を使用し間接的に接触された温度計が表示する温度を意味する。
Next, the first step will be described.
The amount of water used in the first step may be adjusted to a range of 5 to 200 mol, preferably 10 to 50 mol, based on 1 mol of silicon in the silicon-containing compound used in the first step. .
The first step will be described in more detail. A mixture containing a structure-directing agent, a group 13 element-containing compound, a titanium-containing compound, a silicon-containing compound and water is placed in a closed container such as an autoclave, and the temperature range is less than 155 ° C. at the maximum. Heat. Preferably, it heats within the temperature range of 100 degreeC or more and less than 155 degreeC, Preferably, it is within the temperature range of 130 to 150 degreeC. When the temperature is 100 ° C or higher, the crystallinity of the present catalyst tends to be excellent, and when the temperature is lower than 155 ° C, the present catalyst having a bulk density of 0.15 g / ml or less can be provided.
Here, the temperature range means not the temperature of the outer surface of the sealed container but the temperature displayed by a thermometer that is directly or indirectly contacted with the mixture using a sheath tube or the like.

第1工程における加熱時間は、第1工程で得られる固体が前記X線回折パターンを与えるまでの時間であり、加熱温度及び原料の使用量によっても異なるが、100℃以上、155℃未満の温度範囲内で、例えば、10〜200時間の範囲内を挙げることができる。   The heating time in the first step is the time until the solid obtained in the first step gives the X-ray diffraction pattern, and varies depending on the heating temperature and the amount of raw material used. Within the range, for example, the range of 10 to 200 hours can be mentioned.

第1工程で得られた混合物は、例えば、濾過等により固液分離して、固体を得ることができる。
得られた固体は、第2工程に供する前に、構造規定剤、13族元素含有化合物、チタン含有化合物、ケイ素含有化合物などの未反応の原料等を除去するため、さらに、水等で洗浄することが好ましい。ここで、洗浄は、洗浄された液のpHが10〜11となるまで行うことが好ましい。
洗浄された固体を、例えば、通風乾燥、減圧乾燥、真空凍結乾燥等により、固体の重量減少が無くなるまで乾燥することが好ましい。
The mixture obtained in the first step can be solid-liquid separated by, for example, filtration to obtain a solid.
The obtained solid is further washed with water or the like to remove unreacted raw materials such as a structure-directing agent, a group 13 element-containing compound, a titanium-containing compound, and a silicon-containing compound before being subjected to the second step. It is preferable. Here, the washing is preferably performed until the pH of the washed liquid becomes 10 to 11.
It is preferable to dry the washed solid by, for example, ventilation drying, reduced pressure drying, vacuum freeze drying, or the like until there is no weight loss of the solid.

第2工程は、無機酸およびチタン含有化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種と第1工程で得られた固体とを接触する工程である。
ここで、無機酸としては、例えば、硫酸、塩酸、硝酸、過塩素酸、フルオロスルホン酸およびこれらの混合物等を挙げることができ、好ましくは、例えば、硝酸、過塩素酸、フルオロスルホン酸またはこれらの混合物等が挙げられる。
無機酸は、溶媒と混合した溶液であることが好ましく、かかる溶媒としては、例えば、水、アルコール溶媒、エーテル溶媒、エステル溶媒、ケトン溶媒及びこれらの混合物等を挙げることができ、好ましくは、水である。
無機酸の濃度としては、例えば、0.01M〜20M(M:無機酸のモル数/無機酸溶液の容量(L))の範囲、好ましくは1M〜5Mの範囲等を挙げることができる。
The second step is a step of contacting at least one selected from the group consisting of inorganic acids and titanium-containing compounds with the solid obtained in the first step.
Here, examples of the inorganic acid include sulfuric acid, hydrochloric acid, nitric acid, perchloric acid, fluorosulfonic acid, and a mixture thereof. Preferably, for example, nitric acid, perchloric acid, fluorosulfonic acid, or these And the like.
The inorganic acid is preferably a solution mixed with a solvent, and examples of such a solvent include water, alcohol solvents, ether solvents, ester solvents, ketone solvents, and mixtures thereof. It is.
Examples of the concentration of the inorganic acid include a range of 0.01M to 20M (M: number of moles of inorganic acid / volume of inorganic acid solution (L)), preferably a range of 1M to 5M.

第2工程に用いられるチタン含有化合物としては、第1工程で用いられるチタン含有化合物と同じものが例示される。
第2工程に用いられるチタン含有化合物の使用量としては、固体1重量部に対し、例えば、10重量部以下を挙げることができ、好ましくは0.01〜2重量部である。
Examples of the titanium-containing compound used in the second step are the same as the titanium-containing compound used in the first step.
As usage-amount of the titanium containing compound used for a 2nd process, 10 weight part or less can be mentioned with respect to 1 weight part of solid, for example, Preferably it is 0.01-2 weight part.

第2工程における接触温度としては、例えば、20〜150℃の温度範囲を挙げることができ、好ましくは、50〜104℃の温度範囲が挙げられる。
第2工程は、減圧下、常圧下、加圧下のいずれでもよいが、好ましくは、ゲージ圧力で0〜10MPa程度の範囲の微加圧下で行う。
また、第2工程は、溶媒存在下に行うことが好ましい。溶媒としては、無機酸に混合される溶媒として前記に例示された溶媒が好ましい。
As a contact temperature in a 2nd process, the temperature range of 20-150 degreeC can be mentioned, for example, Preferably, the temperature range of 50-104 degreeC is mentioned.
The second step may be performed under reduced pressure, normal pressure, or increased pressure, but is preferably performed under slight pressure in the range of about 0 to 10 MPa as a gauge pressure.
Moreover, it is preferable to perform a 2nd process in solvent presence. As a solvent, the solvent illustrated above as a solvent mixed with an inorganic acid is preferable.

第2工程で得られた本触媒は層状構造を有し、さらに脱水縮合された本触媒はTi−MWWを形成する。ここで、Ti−MWWとは、IZA(国際ゼオライト学会)の構造コードでMWW構造を有することを意味する。   The present catalyst obtained in the second step has a layered structure, and the present dehydrated and condensed catalyst forms Ti-MWW. Here, Ti-MWW means having an MWW structure in the structure code of IZA (International Zeolite Society).

第2工程で得られたチタノシリケートは、本触媒であるが、さらに、第3工程、すなわち、第2工程で得られたチタノシリケートをさらに250〜1000℃の温度範囲で加熱して得られたチタノシリケートも本触媒である。
第3工程を具体的に説明すると、例えば、第2工程で得られたものを電気などの加熱炉内に置き、1〜24時間かけて、250〜1000℃の温度範囲内、好ましくは300〜600℃の温度範囲内まで昇温し、その温度で更に1〜24時間保温し、炉内で自然放冷する工程等を挙げることができる。
第3工程は、例えば、窒素、アルゴン、ヘリウム等の不活性ガス;空気、酸素、二酸化炭素等の酸化性ガス;水素、一酸化炭素、プロピレン等の還元性ガスの雰囲気下の加熱炉内で行うことが好ましい。
第3工程によって、第2工程で得られたチタノシリケートは脱水縮合される。
The titanosilicate obtained in the second step is the present catalyst, and further obtained by heating the titanosilicate obtained in the third step, ie, the second step, in a temperature range of 250 to 1000 ° C. The titanosilicate produced is also the present catalyst.
The third step will be specifically described. For example, the product obtained in the second step is placed in a heating furnace such as electricity, and the temperature is within a temperature range of 250 to 1000 ° C. over 1 to 24 hours, preferably 300 to Examples include a step of raising the temperature to a temperature range of 600 ° C., further keeping the temperature for 1 to 24 hours, and naturally cooling in the furnace.
The third step is, for example, in a heating furnace under an atmosphere of an inert gas such as nitrogen, argon or helium; an oxidizing gas such as air, oxygen or carbon dioxide; or a reducing gas such as hydrogen, carbon monoxide or propylene. Preferably it is done.
By the third step, the titanosilicate obtained in the second step is dehydrated and condensed.

第2工程又は第3工程で得られたチタノシリケートと構造規定剤とを接触する工程(以下、第4工程と記すことがある)を経て得られたチタノシリケートも本触媒である。
第4工程の操作を具体的に説明すると、例えば、第2工程で得られたチタノシリケート又は第3工程で得られたチタノシリケートと、構造規定剤と、必要に応じて溶媒とをオートクレーブ等の密閉容器に入れ、加熱しつつ加圧する操作、例えば、大気下、ガラス製フラスコ等の容器内に、第2工程で得られたチタノシリケート又は第3工程で得られたチタノシリケートと、構造規定剤と、必要に応じて溶媒とを攪拌混合する操作、例えば、大気下、ガラス製フラスコ等の容器内に、第2工程で得られたチタノシリケート又は第3工程で得られたチタノシリケートと、構造規定剤と、必要に応じて溶媒とを静置混合する操作等を挙げることができる。
第4工程で用いられる溶媒としては、水、アルコール溶媒、エーテル溶媒、エステル溶媒、ケトン溶媒及びこれらの混合物等を挙げることができ、好ましくは、水である。
また、構造規定剤としては、第1工程で用いられる構造規定剤と同様のものが例示される。
The titanosilicate obtained through the step of contacting the titanosilicate obtained in the second step or the third step with the structure directing agent (hereinafter sometimes referred to as the fourth step) is also the present catalyst.
The operation of the fourth step will be specifically described. For example, the titanosilicate obtained in the second step or the titanosilicate obtained in the third step, a structure directing agent, and a solvent as necessary are autoclaved. In an airtight container such as a glass flask or the like, for example, in the atmosphere, in a container such as a glass flask, the titanosilicate obtained in the second step or the titanosilicate obtained in the third step The operation of stirring and mixing the structure directing agent and the solvent as necessary, for example, in the atmosphere, in a container such as a glass flask, the titanosilicate obtained in the second step or obtained in the third step Examples of the operation include static mixing of titanosilicate, a structure-directing agent, and, if necessary, a solvent.
Examples of the solvent used in the fourth step include water, an alcohol solvent, an ether solvent, an ester solvent, a ketone solvent, a mixture thereof, and the like, preferably water.
Examples of the structure-directing agent include those similar to the structure-directing agent used in the first step.

第4工程のチタノシリケートと構造規定剤との接触時における温度の下限は、例えば、0℃を挙げることができ、好ましくは20℃、より好ましくは50℃、とりわけより好ましくは100℃を挙げることができる。第4工程のチタノシリケートと構造規定剤との接触時における温度の上限は、例えば、250℃を挙げることができ、好ましくは200℃、より好ましくは180℃を挙げることができる。
第4工程のチタノシリケートと構造規定剤との接触時における圧力は、常圧下、減圧下、加圧下を挙げることができ、好ましくは、ゲージ圧力で0〜10MPaの常圧下から加圧下が好ましい。第4工程を経て得られたチタノシリケートは、例えば、ろ過により分離される。必要により、分離した固体を、さらに、洗浄、乾燥等の後処理を行ってもよい。
The lower limit of the temperature at the time of contact between the titanosilicate and the structure directing agent in the fourth step can be, for example, 0 ° C., preferably 20 ° C., more preferably 50 ° C., and particularly preferably 100 ° C. be able to. The upper limit of the temperature at the time of contact of the titanosilicate and the structure directing agent in the fourth step can be, for example, 250 ° C., preferably 200 ° C., more preferably 180 ° C.
The pressure at the time of contact between the titanosilicate and the structure directing agent in the fourth step can be under normal pressure, under reduced pressure or under pressure, and preferably under normal pressure from 0 to 10 MPa in terms of gauge pressure. . The titanosilicate obtained through the fourth step is separated by, for example, filtration. If necessary, the separated solid may be further subjected to post-treatment such as washing and drying.

第2工程、第3工程又は第4工程で得られたチタノシリケートをシリル化剤でシリル化する工程(以下、第5工程と記すことがある)を経て得られたチタノシリケートも本触媒である。
第5工程を具体的に説明すると、例えば、1,1,1,3,3,3−ヘキサメチルジシラザン等のシリル化剤を用い、第2工程で得られたチタノシリケート、第3工程で得られたチタノシリケート又は第4工程で得られたチタノシリケートをヨーロッパ公開特許EP1488853A1記載の方法に準じてシリル化する工程等を挙げることができる。
The titanosilicate obtained through the step of silylating the titanosilicate obtained in the second step, the third step or the fourth step with a silylating agent (hereinafter sometimes referred to as the fifth step) is also the present catalyst. It is.
The fifth step will be specifically described. For example, the titanosilicate obtained in the second step using a silylating agent such as 1,1,1,3,3,3-hexamethyldisilazane, the third step Examples thereof include a step of silylating the titanosilicate obtained in step 4 or the titanosilicate obtained in the fourth step according to the method described in European Patent Publication No. EP1488853A1.

第2工程、第3工程、第4工程又は第5工程で得られたチタノシリケートと過酸化水素とを接触する工程(以下、第6工程と記すことがある)を経て得られたものも本触媒である。
第6工程に用いられる過酸化水素の濃度は、例えば、0.0001重量%〜50重量%の範囲である。
ここで、過酸化水素溶液の溶媒としては、第4工程で例示された溶媒を挙げることができ、好ましくは、例えば、水、アセトニトリル及びこれらの混合溶媒等を挙げることができる。
第6工程における温度としては、例えば、0℃〜100℃の範囲、好ましくは0℃〜60℃の範囲を挙げることができる。
Also obtained through the step of contacting the titanosilicate obtained in the second step, the third step, the fourth step or the fifth step with hydrogen peroxide (hereinafter sometimes referred to as the sixth step) This catalyst.
The concentration of hydrogen peroxide used in the sixth step is, for example, in the range of 0.0001 wt% to 50 wt%.
Here, as a solvent of a hydrogen peroxide solution, the solvent illustrated at the 4th process can be mentioned, Preferably, water, acetonitrile, these mixed solvents, etc. can be mentioned, for example.
As temperature in a 6th process, the range of 0 degreeC-100 degreeC, for example, Preferably the range of 0 degreeC-60 degreeC can be mentioned.

本発明のオレフィンオキサイドの製造方法は、本触媒を用いる方法である。すなわち、本発明のオレフィンオキサイドの製造方法は、本触媒存在下、オレフィン化合物を酸化剤で酸化させる工程(以下、酸化反応と記すことがある)を含む。
酸化剤とはオレフィン化合物に酸素原子を与える化合物を意味する。酸化剤としては、例えば、酸素および過酸化物等が挙げられる。該過酸化物としては、例えば過酸化水素および有機過酸化物が挙げられる。
有機過酸化物としては、例えば、t−ブチルヒドロペルオキシド、ジ−t−ブチルペルオキシド、t−アミルヒドロペルオキシド、クメンヒドロペルオキシド、メチルシクロヘキシルヒドロペルオキシド、テトラリンヒドロペルオキシド、イソブチルベンゼンヒドロペルオキシド、エチルナフタレンヒドロペルオキシドおよび過酢酸が挙げられる。酸化剤として、上記例示した過酸化物を2種以上混合して使用することもできる。
過酸化水素は、市販されたものでよいし、酸化反応と同じ反応系内で貴金属の存在下に酸素と水素とから製造されたものでもよい。
好ましい酸化剤としては、過酸化物が挙げられ、より好ましくは過酸化水素が挙げられ、とりわけより好ましくは、0.0001重量%以上、100重量%未満の範囲の濃度の過酸化水素水溶液が挙げられる。
The method for producing olefin oxide of the present invention is a method using the present catalyst. That is, the method for producing olefin oxide of the present invention includes a step of oxidizing an olefin compound with an oxidizing agent in the presence of the present catalyst (hereinafter sometimes referred to as an oxidation reaction).
An oxidizing agent means the compound which gives an oxygen atom to an olefin compound. Examples of the oxidizing agent include oxygen and peroxide. Examples of the peroxide include hydrogen peroxide and organic peroxide.
Examples of the organic peroxide include t-butyl hydroperoxide, di-t-butyl peroxide, t-amyl hydroperoxide, cumene hydroperoxide, methylcyclohexyl hydroperoxide, tetralin hydroperoxide, isobutylbenzene hydroperoxide, ethyl naphthalene hydroperoxide. And peracetic acid. As the oxidizing agent, a mixture of two or more of the above-exemplified peroxides can be used.
Hydrogen peroxide may be commercially available, or may be produced from oxygen and hydrogen in the presence of a noble metal in the same reaction system as the oxidation reaction.
Preferable oxidizing agents include peroxides, more preferably hydrogen peroxide, and particularly preferably hydrogen peroxide aqueous solution having a concentration in the range of 0.0001% by weight or more and less than 100% by weight. It is done.

酸化剤の使用量は、オレフィン化合物の種類や反応条件等に応じて任意に選択することができ、オレフィン化合物100重量部に対して、例えば、0.01重量部以上、より好ましくは0.1重量部以上である。酸化剤の上限の使用量は、オレフィン化合物100重量部に対して、例えば、1000重量部を挙げることができ、好ましい上限として、例えば、100重量部が挙げられる。   The amount of the oxidizing agent used can be arbitrarily selected according to the type of olefin compound, reaction conditions, and the like. For example, 0.01 part by weight or more, more preferably 0.1 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the olefin compound. It is more than part by weight. The upper limit of the amount of the oxidizing agent used can be, for example, 1000 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the olefin compound, and a preferable upper limit is, for example, 100 parts by weight.

酸化反応に用いられるオレフィン化合物とは、置換基を有していてもよいヒドロカルビル基または水素がオレフィン二重結合を構成する炭素原子に結合した化合物である。
ヒドロカルビル基の置換基としては、水酸基、ハロゲン原子、カルボニル基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、ニトロ基等が挙げられる。ヒドロカルビル基としては、飽和のヒドロカルビル基が例示され、飽和のヒドロカルビル基としてはアルキル基が例示される。
オレフィン化合物としては、具体的には、炭素数2〜10のアルケン、炭素数4〜10のシクロアルケンが例示される。
上記炭素数2〜10のアルケンとしては、エチレン、プロピレン、ブテン、ペンテン、ヘキセン、ヘプテン、オクテン、ノネン、デセン、2−ブテン、イソブテン、2−ペンテン、3−ペンテン、2−ヘキセン、3−ヘキセン、4−メチル−1−ペンテン、2−ヘプテン、3−ヘプテン、2−オクテン、3−オクテン、2−ノネン、3−ノネン、2−デセン及び3−デセン等が例示される。
上記炭素数4〜10のシクロアルケンとしては、シクロブテン、シクロペンテン、シクロへキセン、シクロヘプテン、シクロオクテン、シクロノネン、シクロデセン等が例示される。
本発明において、オレフィン化合物としては、炭素数2〜10のアルケンが好ましく、炭素数2〜5のアルケンがより好ましく、プロピレンがとりわけ、より好ましい。
The olefin compound used in the oxidation reaction is a compound in which an optionally substituted hydrocarbyl group or hydrogen is bonded to a carbon atom constituting an olefin double bond.
Examples of the substituent of the hydrocarbyl group include a hydroxyl group, a halogen atom, a carbonyl group, an alkoxycarbonyl group, a cyano group, and a nitro group. Examples of the hydrocarbyl group include saturated hydrocarbyl groups, and examples of the saturated hydrocarbyl group include alkyl groups.
Specific examples of the olefin compound include alkene having 2 to 10 carbon atoms and cycloalkene having 4 to 10 carbon atoms.
Examples of the alkene having 2 to 10 carbon atoms include ethylene, propylene, butene, pentene, hexene, heptene, octene, nonene, decene, 2-butene, isobutene, 2-pentene, 3-pentene, 2-hexene and 3-hexene. 4-methyl-1-pentene, 2-heptene, 3-heptene, 2-octene, 3-octene, 2-nonene, 3-nonene, 2-decene, 3-decene and the like.
Examples of the cycloalkene having 4 to 10 carbon atoms include cyclobutene, cyclopentene, cyclohexene, cycloheptene, cyclooctene, cyclononene, and cyclodecene.
In the present invention, the olefin compound is preferably an alkene having 2 to 10 carbon atoms, more preferably an alkene having 2 to 5 carbon atoms, and particularly preferably propylene.

酸化反応において、オレフィン化合物の量は、その種類や反応条件等に応じて任意に選択することができ、例えば、酸化反応の反応溶液の合計量100重量部に対して、0.01重量部以上、より好ましくは0.1重量部以上である。オレフィン化合物の量は、反応溶液の合計量100重量部に対して、上限が1000重量部を挙げることができ、好ましくは100重量部が挙げられる。   In the oxidation reaction, the amount of the olefin compound can be arbitrarily selected according to the type, reaction conditions, etc., for example, 0.01 parts by weight or more with respect to 100 parts by weight of the total amount of the reaction solution for the oxidation reaction. More preferably, it is 0.1 parts by weight or more. The upper limit of the amount of the olefin compound can be 1000 parts by weight, preferably 100 parts by weight, with respect to 100 parts by weight of the total amount of the reaction solution.

酸化反応は、溶媒を用いることが好ましい。溶媒としては、水、有機溶媒あるいはその両者の混合物等が挙げられる。
有機溶媒としては、例えば、アルコール溶媒、ケトン溶媒、ニトリル溶媒、エーテル溶媒、脂肪族炭化水素溶媒、芳香族炭化水素溶媒、ハロゲン化炭化水素溶媒、エステル溶媒およびそれらの混合物が挙げられる。
脂肪族炭化水素溶媒としては、例えば、ヘキサン、ヘプタン等の炭素数5〜10の脂肪族炭化水素が挙げられる。芳香族炭化水素溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭素数6〜15の芳香族炭化水素溶媒が挙げられる。
アルコール溶媒としては、例えば、炭素数1〜6の1価アルコール、炭素数2〜8のグリコール等が挙げられる。アルコール溶媒としては、炭素数1〜8の脂肪族アルコールが好ましく、メタノール、エタノール、イソプロパノールおよびt−ブタノール等の炭素数1〜4の1価アルコールがより好ましく、t−ブタノールが更に好ましい。
ニトリル溶媒としては、例えば、アセトニトリル、プロピオニトリル、イソブチロニトリル、ブチロニトリル等の炭素数2〜4のアルキルニトリルおよびベンゾニトリル等を挙げることができ、好ましくは、アセトニトリルである。
酸化反応に用いる溶媒としては、触媒活性、選択性の観点から、水、アルコール溶媒、ニトリル溶媒およびこれらの混合溶媒が好ましい。
It is preferable to use a solvent for the oxidation reaction. Examples of the solvent include water, an organic solvent, a mixture of both, and the like.
Examples of the organic solvent include alcohol solvents, ketone solvents, nitrile solvents, ether solvents, aliphatic hydrocarbon solvents, aromatic hydrocarbon solvents, halogenated hydrocarbon solvents, ester solvents, and mixtures thereof.
Examples of the aliphatic hydrocarbon solvent include aliphatic hydrocarbons having 5 to 10 carbon atoms such as hexane and heptane. As an aromatic hydrocarbon solvent, C6-C15 aromatic hydrocarbon solvents, such as benzene, toluene, xylene, are mentioned, for example.
As an alcohol solvent, C1-C6 monohydric alcohol, C2-C8 glycol, etc. are mentioned, for example. The alcohol solvent is preferably an aliphatic alcohol having 1 to 8 carbon atoms, more preferably a monohydric alcohol having 1 to 4 carbon atoms such as methanol, ethanol, isopropanol and t-butanol, and further preferably t-butanol.
Examples of the nitrile solvent include C2-C4 alkyl nitriles such as acetonitrile, propionitrile, isobutyronitrile, butyronitrile, benzonitrile, and the like, and acetonitrile is preferable.
As the solvent used in the oxidation reaction, water, an alcohol solvent, a nitrile solvent, and a mixed solvent thereof are preferable from the viewpoint of catalytic activity and selectivity.

酸化反応において、本触媒の量は、オレフィン化合物の種類に応じて適宜選択することができるが、溶媒の合計量100重量部に対して、例えば、下限は、0.01重量部、好ましくは0.1重量部、より好ましくは0.5重量部を挙げることができ、上限は、例えば、20重量部、好ましくは10重量部、より好ましくは8重量部を挙げることができる。   In the oxidation reaction, the amount of the catalyst can be appropriately selected according to the type of the olefin compound. For example, the lower limit is 0.01 parts by weight, preferably 0 with respect to 100 parts by weight of the total amount of the solvent. 0.1 part by weight, more preferably 0.5 part by weight, and the upper limit may be, for example, 20 parts by weight, preferably 10 parts by weight, more preferably 8 parts by weight.

酸化反応における反応温度の下限としては、例えば、0℃を挙げることができ、好ましくは40℃を挙げることができる。上限としては、例えば、200℃を挙げることができ、好ましくは150℃を挙げることができる。
酸化反応の反応圧力の下限としては、例えば、0.1MPaを挙げることができ、好ましくは1MPaを挙げることができ、上限としては、例えば、20MPaを挙げることができ、好ましくは10MPaを挙げることができる。
As a minimum of reaction temperature in an oxidation reaction, 0 ° C can be mentioned, for example, Preferably 40 ° C can be mentioned. As an upper limit, 200 degreeC can be mentioned, for example, Preferably 150 degreeC can be mentioned.
The lower limit of the reaction pressure of the oxidation reaction can be, for example, 0.1 MPa, preferably 1 MPa, and the upper limit can be, for example, 20 MPa, preferably 10 MPa. it can.

酸化反応において、酸化剤が過酸化水素である場合、該過酸化水素は、酸化反応と同一反応系内で製造することにより供給してもよい。
該過酸化水素は、酸化反応と同一反応系内で製造する場合、例えば、貴金属触媒の存在下で酸素と水素から製造することができる。
該貴金属触媒としては、パラジウム、白金、ルテニウム、ロジウム、イリジウム、オスミウム、金等の貴金属、またはそれらの合金もしくは混合物があげられる。好ましい貴金属としては、パラジウム、白金、金があげられる。より好ましい貴金属はパラジウムである。パラジウムとしては、例えば、パラジウムコロイドを用いてもよい(例えば、特開2002−294301号公報、実施例1等参照)。上記貴金属触媒として、酸化反応系内で還元することにより貴金属に変換される貴金属化合物を用いてよい。
In the oxidation reaction, when the oxidizing agent is hydrogen peroxide, the hydrogen peroxide may be supplied by producing in the same reaction system as the oxidation reaction.
When the hydrogen peroxide is produced in the same reaction system as the oxidation reaction, it can be produced, for example, from oxygen and hydrogen in the presence of a noble metal catalyst.
Examples of the noble metal catalyst include noble metals such as palladium, platinum, ruthenium, rhodium, iridium, osmium and gold, or alloys or mixtures thereof. Preferable noble metals include palladium, platinum, and gold. A more preferred noble metal is palladium. As palladium, for example, a palladium colloid may be used (see, for example, JP-A-2002-294301, Example 1). As the noble metal catalyst, a noble metal compound that is converted into a noble metal by reduction in an oxidation reaction system may be used.

該貴金属触媒として、パラジウムを用いる場合、更に白金、金、ロジウム、イリジウム、オスミウム等のパラジウム以外の金属をパラジウムに混合して用いることができる。好ましいパラジウム以外の金属としては、金、白金があげられる。
該パラジウム化合物として、例えば、ヘキサクロロパラジウム(IV)酸ナトリウム四水和物、ヘキサクロロパラジウム(IV)酸カリウム等の4価のパラジウム化合物類;塩化パラジウム(II)、臭化パラジウム(II)、酢酸パラジウム(II)、パラジウムアセチルアセトナート(II)、ジクロロビス(ベンゾニトリル)パラジウム(II)、ジクロロビス(アセトニトリル)パラジウム(II)、ジクロロ(ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン)パラジウム(II)、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)、ジクロロテトラアンミンパラジウム(II)、ジブロモテトラアンミンパラジウム(II)、ジクロロ(シクロオクタ−1,5−ジエン)パラジウム(II)、パラジウムトリフルオロアセテート(II)等の2価パラジウム化合物類が例示される。
When palladium is used as the noble metal catalyst, metals other than palladium such as platinum, gold, rhodium, iridium, and osmium can be further mixed with palladium. Preferred metals other than palladium include gold and platinum.
Examples of the palladium compound include tetravalent palladium compounds such as sodium hexachloropalladium (IV) tetrahydrate and potassium hexachloropalladium (IV); palladium (II) chloride, palladium (II) bromide, palladium acetate (II), palladium acetylacetonate (II), dichlorobis (benzonitrile) palladium (II), dichlorobis (acetonitrile) palladium (II), dichloro (bis (diphenylphosphino) ethane) palladium (II), dichlorobis (triphenyl) Phosphine) palladium (II), dichlorotetraammine palladium (II), dibromotetraammine palladium (II), dichloro (cycloocta-1,5-diene) palladium (II), palladium trifluoroacetate (II) 2-valent palladium compounds such as are exemplified.

貴金属は、通常、担体に担持して使用される。貴金属は、本触媒に担持して使用することもできるし、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、ニオビア等の酸化物、ニオブ酸、ジルコニウム酸、タングステン酸、チタン酸等の水化物、炭素およびそれらの混合物に担持して使用することもできる。本触媒以外に貴金属を担持させた場合、貴金属を担持した担体を本触媒と混合し、当該混合物を触媒として使用することができる。
本触媒以外を担体として用いる場合、炭素が好ましい担体として挙げられる。炭素担体としては、活性炭、カーボンブラック、グラファイト、カーボンナノチューブ等が知られている。
The noble metal is usually used by being supported on a carrier. The noble metal can be used by being supported on the catalyst, oxides such as silica, alumina, titania, zirconia, and niobium, hydrates such as niobic acid, zirconium acid, tungstic acid, titanic acid, carbon, and the like. It can also be used by being supported on a mixture. When a noble metal is supported in addition to the present catalyst, a carrier supporting the noble metal can be mixed with the present catalyst, and the mixture can be used as a catalyst.
When a catalyst other than the present catalyst is used as a support, carbon is a preferable support. Known carbon carriers include activated carbon, carbon black, graphite, carbon nanotubes and the like.

貴金属触媒の調製方法としては、例えば、貴金属化合物を担体上に担持した後、還元する方法が知られている。貴金属化合物の担持は、含浸法等の従来公知の方法を用いることができる。
還元方法としては、水素等の還元剤を用いて還元してもよいし、不活性ガス雰囲気下、熱分解時に発生するアンモニアガスで還元してもよい。還元温度は、貴金属化合物の種類等によって異なるが、100〜500℃の範囲が好ましく、200〜350℃の範囲が更に好ましい。
貴金属触媒は、貴金属を、例えば、0.01〜20重量%の範囲、好ましくは0.1〜5重量%の範囲で含む。
本触媒に対する貴金属の重量比(貴金属の重量/本触媒の重量)は、好ましくは0.01〜100重量%、より好ましくは0.1〜20重量%である。
As a method for preparing a noble metal catalyst, for example, a method in which a noble metal compound is supported on a support and then reduced is known. For supporting the noble metal compound, a conventionally known method such as an impregnation method can be used.
As a reduction method, reduction may be performed using a reducing agent such as hydrogen, or reduction may be performed with ammonia gas generated during thermal decomposition in an inert gas atmosphere. The reduction temperature varies depending on the kind of the noble metal compound, but is preferably in the range of 100 to 500 ° C, more preferably in the range of 200 to 350 ° C.
The noble metal catalyst contains a noble metal, for example, in the range of 0.01 to 20% by weight, preferably in the range of 0.1 to 5% by weight.
The weight ratio of the noble metal to the catalyst (the weight of the noble metal / the weight of the catalyst) is preferably 0.01 to 100% by weight, more preferably 0.1 to 20% by weight.

酸化反応においては、緩衝剤を酸化反応の反応系内に存在させた場合、酸化剤あたりのオレフィンオキサイドの転化率及び収率をより向上させる傾向があることから好ましい。ここで緩衝剤とはpH緩衝作用を与えるアニオン及びカチオンからなる化合物を意味する。
緩衝剤は、酸化反応の反応系内に溶解させることが一般的であるが、同一反応系内で製造した過酸化水素を酸化剤として用いる場合、予め貴金属触媒に緩衝剤を含有させておいてよい。例えば、Pdテトラアンミンクロリド等のアンミン錯体等を担体上に含浸法等によって担持した後、還元し、アンモニウムイオンを残存させ、酸化反応中に緩衝剤を発生させる方法等を挙げることができる。
緩衝剤の添加量は、溶媒1kgあたり、例えば、0.001mmol/kg〜100mmol/kgの範囲等を挙げることができる。
In the oxidation reaction, when a buffering agent is present in the reaction system of the oxidation reaction, it is preferable because the conversion rate and yield of the olefin oxide per oxidizing agent tend to be further improved. Here, the buffering agent means a compound composed of an anion and a cation giving a pH buffering action.
The buffering agent is generally dissolved in the reaction system of the oxidation reaction. However, when hydrogen peroxide produced in the same reaction system is used as the oxidizing agent, a buffering agent is added to the precious metal catalyst in advance. Good. For example, there may be mentioned a method in which an ammine complex such as Pd tetraammine chloride is supported on a support by an impregnation method or the like and then reduced to leave ammonium ions and generate a buffer during the oxidation reaction.
Examples of the addition amount of the buffering agent include a range of 0.001 mmol / kg to 100 mmol / kg per 1 kg of the solvent.

緩衝剤としては、1)硫酸イオン、硫酸水素イオン、炭酸イオン、炭酸水素イオン、リン酸イオン、リン酸水素イオン、リン酸2水素イオン、ピロリン酸水素イオン、ピロリン酸イオン、ハロゲンイオン、硝酸イオン、水酸化物イオンおよび炭素数1〜10のカルボン酸イオンからなる群より選ばれるアニオンと、2)アンモニウム、炭素数1〜20のアルキルアンモニウム、炭素数7〜20のアルキルアリールアンモニウム、アルカリ金属およびアルカリ土類金属からなる群より選ばれるカチオンとからなる緩衝剤が例示される。
カルボン酸イオンとしては、酢酸イオン、蟻酸イオン、酢酸イオン、プロピオン酸イオン、酪酸イオン、吉草酸イオン、カプロン酸イオン、カプリル酸イオン、カプリン酸イオン、安息香酸イオンが挙げられる。
上記アルキルアンモニウムとしては、例えば、テトラメチルアンモニウム、テトラエチルアンモニウム、テトラ−n−プロピルアンモニウム、テトラ−n−ブチルアンモニウム、セチルトリメチルアンモニウムが挙げられ、アルカリ金属およびアルカリ土類金属カチオンの例は、リチウムカチオン、ナトリウムカチオン、カリウムカチオン、ルビジウムカチオン、セシウムカチオン、マグネシウムカチオン、カルシウムカチオン、ストロンチウムカチオン、バリウムカチオン等を挙げることができる。
好ましい緩衝剤としては、例えば、硫酸アンモニウム、硫酸水素アンモニウム、炭酸アンモニウム、炭酸水素アンモニウム、リン酸水素2アンモニウム、リン酸2水素アンモニウム、リン酸アンモニウム、ピロリン酸水素アンモニウム、ピロリン酸アンモニウム、塩化アンモニウム、硝酸アンモニウム等の無機酸のアンモニウム塩および酢酸アンモニウム等のカルボン酸のアンモニウム塩が挙げられ、好ましいアンモニウム塩としては、リン酸2水素アンモニウムが挙げられる。
As buffering agents, 1) sulfate ion, hydrogen sulfate ion, carbonate ion, hydrogen carbonate ion, phosphate ion, hydrogen phosphate ion, dihydrogen phosphate ion, hydrogen pyrophosphate ion, pyrophosphate ion, halogen ion, nitrate ion An anion selected from the group consisting of hydroxide ions and carboxylate ions having 1 to 10 carbon atoms, 2) ammonium, alkyl ammonium having 1 to 20 carbon atoms, alkylaryl ammonium having 7 to 20 carbon atoms, alkali metal, and Examples thereof include a buffer comprising a cation selected from the group consisting of alkaline earth metals.
Examples of the carboxylate ion include acetate ion, formate ion, acetate ion, propionate ion, butyrate ion, valerate ion, caproate ion, caprylate ion, caprate ion, and benzoate ion.
Examples of the alkylammonium include tetramethylammonium, tetraethylammonium, tetra-n-propylammonium, tetra-n-butylammonium, and cetyltrimethylammonium. Examples of alkali metal and alkaline earth metal cations are lithium cations. Sodium cation, potassium cation, rubidium cation, cesium cation, magnesium cation, calcium cation, strontium cation, barium cation and the like.
Preferable buffering agents include, for example, ammonium sulfate, ammonium hydrogen sulfate, ammonium carbonate, ammonium hydrogen carbonate, ammonium dihydrogen phosphate, ammonium dihydrogen phosphate, ammonium phosphate, ammonium hydrogen pyrophosphate, ammonium pyrophosphate, ammonium chloride, ammonium nitrate. An ammonium salt of inorganic acid such as ammonium salt and an ammonium salt of carboxylic acid such as ammonium acetate are preferable, and a preferable ammonium salt is ammonium dihydrogen phosphate.

酸化反応が、反応系内で酸素と水素から合成した過酸化水素を酸化剤として使用する場合は、キノイド化合物を酸化反応の反応系内に存在させることにより、オレフィンオキサイドの選択性が増大する傾向があることから好ましい。
キノイド化合物としては、下記式(1)

Figure 2012031010
(式中、R、R、RおよびRは、水素原子を表すかあるいは、RとR、あるいはRとRは、それぞれ独立に、その末端で結合し、それぞれが結合している炭素原子とともに、置換されていてもよいナフタレン環を表し、XおよびYは同一または互いに相異なり、酸素原子もしくはNH基を表す。)
のρ−キノイド化合物およびο−キノイド化合物が例示される。 When the oxidation reaction uses hydrogen peroxide synthesized from oxygen and hydrogen in the reaction system as an oxidizing agent, the selectivity of olefin oxide tends to increase by the presence of the quinoid compound in the reaction system of the oxidation reaction. This is preferable.
As a quinoid compound, following formula (1)
Figure 2012031010
(Wherein R 1 , R 2 , R 3 and R 4 represent a hydrogen atom, or R 1 and R 2 , or R 3 and R 4 are each independently bonded at their ends, Along with the bonded carbon atom, it represents an optionally substituted naphthalene ring, and X and Y are the same or different from each other and represent an oxygen atom or an NH group.)
The ρ-quinoid compound and the o-quinoid compound are exemplified.

式(1)の化合物としては、
1)式(1)において、R、R、RおよびRが、水素原子であり、XおよびYが共に酸素原子であるキノン化合物(1A)、
2)式(1)において、R、R、RおよびRが、水素原子であり、Xが酸素原子であり、YがNH基であるキノンイミン化合物(1B)、
3)式(1)において、R、R、RおよびRが、水素原子であり、XおよびYがNH基であるキノンジイミン化合物(1C)が例示される。
As a compound of Formula (1),
1) A quinone compound (1A) in which in formula (1), R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are hydrogen atoms, and X and Y are both oxygen atoms,
2) In formula (1), R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are hydrogen atoms, X is an oxygen atom, and Y is an NH group, a quinoneimine compound (1B),
3) In Formula (1), R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are hydrogen atoms, and quinonediimine compound (1C) in which X and Y are NH groups is exemplified.

式(1)のキノイド化合物には、下記のアントラキノン化合物(2)が含まれる。

Figure 2012031010
(式中、XおよびYは式(1)において定義されたとおりであり、R、R、RおよびRは、同一または互いに相異なり、水素原子、ヒドロキシル基もしくはアルキル基(例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル等のC−Cアルキル基)を表す。) The quinoid compound of the formula (1) includes the following anthraquinone compound (2).
Figure 2012031010
(Wherein X and Y are as defined in formula (1), R 5 , R 6 , R 7 and R 8 are the same or different from each other, and are each a hydrogen atom, a hydroxyl group or an alkyl group (for example, C 1 -C 5 alkyl groups such as methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl)).

式(1)および式(2)において、XおよびYは好ましくは、酸素原子を表す。
上記キノイド化合物としては、例えば、ベンゾキノン、ナフトキノン、アントラキノン、アルキルアントラキノン化合物、ポリヒドロキシアントラキノン、9,10−フェナントラキノン等があげられる。
上記アルキルアントラキノン化合物としては、例えば2−エチルアントラキノン、2−t−ブチルアントラキノン、2−アミルアントラキノン、2−メチルアントラキノン、2−ブチルアントラキノン、2−t−アミルアントラキノン、2−イソプロピルアントラキノン、2−s−ブチルアントラキノンまたは2−s−アミルアントラキノン等の2−アルキルアントラキノン化合物;1,3−ジエチルアントラキノン、2,3−ジメチルアントラキノン、1,4−ジメチルアントラキノン、2,7−ジメチルアントラキノン等のポリアルキルアントラキノン化合物が挙げられる。
上記ポリヒドロキシアントラキノンとしては、2,6−ジヒドロキシアントラキノン等が挙げられる。
In formula (1) and formula (2), X and Y preferably represent an oxygen atom.
Examples of the quinoid compound include benzoquinone, naphthoquinone, anthraquinone, alkylanthraquinone compound, polyhydroxyanthraquinone, and 9,10-phenanthraquinone.
Examples of the alkylanthraquinone compound include 2-ethylanthraquinone, 2-t-butylanthraquinone, 2-amylanthraquinone, 2-methylanthraquinone, 2-butylanthraquinone, 2-t-amylanthraquinone, 2-isopropylanthraquinone, and 2-s. 2-alkylanthraquinone compounds such as butylanthraquinone or 2-s-amylanthraquinone; polyalkylanthraquinones such as 1,3-diethylanthraquinone, 2,3-dimethylanthraquinone, 1,4-dimethylanthraquinone, 2,7-dimethylanthraquinone Compounds.
Examples of the polyhydroxyanthraquinone include 2,6-dihydroxyanthraquinone.

好ましいキノイド化合物としては、アントラキノンや、2−アルキルアントラキノン化合物(式(2)において、XおよびYが酸素原子であり、Rが2位に置換したアルキル基であり、Rが水素を表し、RおよびRが水素原子を表す。)があげられる。
上記キノイド化合物の使用量としては、溶媒1kgあたり、0.001mmol/kg〜500mmol/kgの範囲を挙げることができる。
好ましいキノイド化合物の量は、0.01mmol/kg〜50mmol/kgである。
本発明のオレフィンオキサイド製造方法においては、アンモニウム、アルキルアンモニウムまたはアルキルアリールアンモニウムからなる塩を同時に酸化反応の反応系内に加えることも可能である。
Preferred quinoid compounds include anthraquinone and 2-alkylanthraquinone compounds (in formula (2), X and Y are oxygen atoms, R 5 is an alkyl group substituted at the 2-position, R 6 represents hydrogen, R 7 and R 8 represent a hydrogen atom).
As the usage-amount of the said quinoid compound, the range of 0.001 mmol / kg-500 mmol / kg can be mentioned per 1 kg of solvent.
A preferable amount of the quinoid compound is 0.01 mmol / kg to 50 mmol / kg.
In the olefin oxide production method of the present invention, it is also possible to simultaneously add a salt comprising ammonium, alkylammonium or alkylarylammonium to the reaction system of the oxidation reaction.

上記キノイド化合物は、そのジヒドロ体を酸化反応の反応系内で酸素等を用いて酸化させることにより調製することもできる。例えばヒドロキノンや、9,10−アントラセンジオール等のキノイド化合物が水素化された化合物を酸化反応の反応系中に添加し、反応器内で酸素により酸化してキノイド化合物を発生させて使用してもよい。
キノイド化合物のジヒドロ体としては、前記式(1)および(2)の化合物のジヒドロ体である下記の式(3)および(4)の化合物が例示される。

Figure 2012031010
(式中、R、R、R、R、XおよびYは、前記式(1)に関して定義されたとおり。)
Figure 2012031010
(式中、X、Y、R、R、RおよびRは前記式(2)に関して定義されたとおり。)
式(3)および式(4)において、XおよびYは、好ましくは酸素原子を表す。
好ましいキノイド化合物のジヒドロ体としては、上述の好ましいキノイド化合物に対応するジヒドロ体が挙げられる。 The quinoid compound can also be prepared by oxidizing the dihydro form with oxygen or the like in the reaction system of the oxidation reaction. For example, hydroquinone or a compound in which a quinoid compound such as 9,10-anthracenediol is hydrogenated is added to the reaction system of the oxidation reaction, and oxidized with oxygen in the reactor to generate a quinoid compound. Good.
Examples of the dihydro form of the quinoid compound include compounds of the following formulas (3) and (4) which are dihydro forms of the compounds of the formulas (1) and (2).
Figure 2012031010
(Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , X and Y are as defined above for formula (1).)
Figure 2012031010
(Wherein X, Y, R 5 , R 6 , R 7 and R 8 are as defined above for formula (2).)
In formula (3) and formula (4), X and Y preferably represent an oxygen atom.
Preferred dihydro forms of quinoid compounds include dihydro forms corresponding to the above-mentioned preferred quinoid compounds.

酸化反応は、連続式、回分式、半回分式のいずれの化学反応プロセスに適用可能であり、好ましくは、回分式又は半回分式で行われる。   The oxidation reaction can be applied to any chemical reaction process of continuous type, batch type, or semi-batch type, and is preferably performed in a batch type or a semi-batch type.

予め製造した過酸化物を用いてオレフィン化合物を酸化する反応の場合、反応ガス雰囲気に制限はない。   In the case of a reaction in which an olefin compound is oxidized using a pre-produced peroxide, the reaction gas atmosphere is not limited.

酸化反応の反応系と同一の反応内で酸素と水素とから過酸化水素が製造される場合、該反応系内に供給される酸素と水素の分圧比は、例えば、酸素:水素=1:50〜50:1の範囲、好ましくは、1:2〜10:1の範囲を挙げることができる。酸素と水素の分圧比(酸素/水素)が50/1以下であるとオレフィンオキサイドの生成速度が向上する傾向があることから好ましい。また、酸素と水素の分圧比(酸素/水素)が1/50以上であると、オレフィン化合物が還元されたアルカン化合物の副生が減少し、オレフィンオキサイドの選択率が向上する傾向があることから好ましい。   When hydrogen peroxide is produced from oxygen and hydrogen in the same reaction as the reaction system of the oxidation reaction, the partial pressure ratio of oxygen and hydrogen supplied into the reaction system is, for example, oxygen: hydrogen = 1: 50. A range of ˜50: 1, preferably a range of 1: 2 to 10: 1 can be mentioned. It is preferable that the partial pressure ratio of oxygen and hydrogen (oxygen / hydrogen) is 50/1 or less because the production rate of olefin oxide tends to be improved. Moreover, when the partial pressure ratio of oxygen and hydrogen (oxygen / hydrogen) is 1/50 or more, the by-product of the alkane compound in which the olefin compound is reduced tends to decrease, and the selectivity of the olefin oxide tends to improve. preferable.

ここで、酸素および水素は希釈されていてもよい。希釈に用いるガスとしては、窒素,アルゴン,二酸化炭素、メタン,エタン,プロパンがあげられる。希釈用ガスの濃度に制限は無いが、必要により、酸素あるいは水素を希釈して過酸化水素の合成反応が行われる。
酸素としては、酸素をそのまま用いてもよいし、空気等の酸素及び前記の希釈に用いるガスの混合ガスであってもよい。酸素ガスは安価な圧力スウィング法で製造した酸素ガスも使用できるし、必要に応じて深冷分離等で製造した高純度酸素ガスを用いることもできる。
Here, oxygen and hydrogen may be diluted. Examples of the gas used for dilution include nitrogen, argon, carbon dioxide, methane, ethane, and propane. Although there is no restriction | limiting in the density | concentration of the gas for dilution, if necessary, oxygen or hydrogen is diluted and the synthesis reaction of hydrogen peroxide is performed.
As oxygen, oxygen may be used as it is, or a mixed gas of oxygen such as air and the gas used for the dilution. As the oxygen gas, oxygen gas produced by an inexpensive pressure swing method can be used, and high-purity oxygen gas produced by cryogenic separation or the like can be used as necessary.

酸化反応における反応温度としては、例えば、0℃〜200℃の範囲等を挙げることができ、好ましくは40℃〜150℃の範囲等が挙げられる。
反応温度が0℃以上であると反応速度が向上する傾向があることから好ましく、反応温度が200℃以下であると、副反応が抑制され、アルキレンオキサイドの選択率が向上する傾向があることから好ましい。
As reaction temperature in an oxidation reaction, the range of 0 degreeC-200 degreeC etc. can be mentioned, for example, Preferably the range of 40 degreeC-150 degreeC etc. are mentioned.
When the reaction temperature is 0 ° C. or higher, the reaction rate tends to be improved, and when the reaction temperature is 200 ° C. or lower, side reactions are suppressed and the alkylene oxide selectivity tends to be improved. preferable.

酸化反応における反応圧力は、例えば、ゲージ圧力で0.1MPa〜20MPaの範囲の加圧下等を挙げることができ、好ましくは、1MPa〜10MPaの範囲の加圧下が挙げられる。   The reaction pressure in the oxidation reaction can be, for example, under pressure in the range of 0.1 MPa to 20 MPa as a gauge pressure, and preferably under pressure in the range of 1 MPa to 10 MPa.

酸化反応が終了した後、オレフィンオキサイドは、例えば、酸化反応の反応生成物を蒸留等によって取り出すことができる。   After the oxidation reaction is completed, the olefin oxide can be extracted by, for example, distillation of the reaction product of the oxidation reaction.

以下、本発明を実施例により説明する。
<実施例における分析装置>
(元素分析方法)
本触媒に含まれるTi(チタン原子)、Si(ケイ素原子)重量は、ICP発光分析法により求めた。即ち、白金坩堝に試料約20mgを量り取り、試料上に炭酸ナトリウムを被せた後、ガスバーナーで融解操作を行った。融解後、純水及び硝酸で白金坩堝中の内容物を加熱溶解し、その後、純水で定容した後、この測定溶液をICP発光分析装置(ICPS−8000 島津製作所製)にて分析し、各元素の定量を行った。
Hereinafter, the present invention will be described with reference to examples.
<Analyzer in Examples>
(Elemental analysis method)
The weight of Ti (titanium atom) and Si (silicon atom) contained in the catalyst was determined by ICP emission analysis. That is, about 20 mg of a sample was weighed in a platinum crucible, and sodium carbonate was put on the sample, and then a melting operation was performed with a gas burner. After melting, the contents in the platinum crucible are heated and dissolved with pure water and nitric acid, and then the volume is adjusted with pure water. Then, this measurement solution is analyzed with an ICP emission analyzer (ICPS-8000 manufactured by Shimadzu Corporation). Quantification of each element was performed.

(粉末X線回折法(XRD))
本触媒を以下の装置、条件で粉末X線回折パターンを測定した。
装置:理学電機社製RINT2500V
線源:Cu Kα線
出力 40kV−300mA
走査範囲:2θ=0.75〜20°
走査速度: 1°/分
(Powder X-ray diffraction method (XRD))
The powder X-ray diffraction pattern of this catalyst was measured with the following apparatus and conditions.
Apparatus: RINT2500V manufactured by Rigaku Corporation
Radiation source: Cu Kα ray output 40kV-300mA
Scanning range: 2θ = 0.75-20 °
Scanning speed: 1 ° / min

(紫外可視吸収スペクトル(UV−Vis))
本触媒をメノウ乳鉢でよく粉砕し、更にペレット化(7mmφ)することにより測定用サンプルを調製し、該測定用サンプルについて以下の装置、条件で紫外可視吸収スペクトルを測定した。
装置:拡散反射装置(HARRICK製 Praying Mantis)
付属品:紫外可視分光光度計(日本分光製 V−7100)
圧力:大気圧
測定値:反射率
データ取込時間:0.1秒
バンド幅:2nm
測定波長:200〜900nm
スリット高さ:半開
データ取込間隔:1nm
ベースライン補正(リファレンス):BaSOペレット(7mmφ)
(Ultraviolet visible absorption spectrum (UV-Vis))
The catalyst was thoroughly pulverized in an agate mortar and further pelletized (7 mmφ) to prepare a measurement sample, and the ultraviolet-visible absorption spectrum of the measurement sample was measured using the following apparatus and conditions.
Device: Diffuse reflection device (Playing Mantis manufactured by HARRICK)
Accessories: UV-visible spectrophotometer (V-7100 manufactured by JASCO)
Pressure: Atmospheric pressure Measured value: Reflectance data acquisition time: 0.1 seconds Band width: 2 nm
Measurement wavelength: 200 to 900 nm
Slit height: Half-open data capture interval: 1 nm
Baseline correction (reference): BaSO 4 pellet (7mmφ)

(本触媒の嵩密度測定)
乳鉢でよく粉砕した5ml程度の本触媒を正確に秤量し、10mlメスシリンダー中に入れ、本触媒の容量が変化しなくなるまで該メスシリンダーに振動を与えた。秤量した本触媒の重量(g)及び、該メスシリンダーの目盛で測定した本触媒の容量(ml)から、本触媒の嵩密度(g/ml)を求めた。
(Bulk density measurement of this catalyst)
About 5 ml of the catalyst, which was well ground in a mortar, was accurately weighed and placed in a 10 ml graduated cylinder, and the graduated cylinder was vibrated until the volume of the catalyst remained unchanged. The bulk density (g / ml) of the catalyst was determined from the weighed weight (g) of the catalyst and the volume (ml) of the catalyst measured with the graduated cylinder scale.

(実施例1)
ピペリジン(和光純薬株式会社製)899g、イオン交換水2402g、TBOT(テトラ−n−ブチルオルソチタネート、和光純薬株式会社製)46.4g、ホウ酸(和光純薬株式会社製)565gおよびヒュームドシリカ(cab−o−sil M7D、キャボット社製)410gをオートクレーブ中で、25℃にて撹拌しながら溶解することによりゲルを得た。該ゲルをさらに1.5時間攪拌させた後、オートクレーブを密閉した。続いて、ゲルを撹拌しながら8時間かけて該ゲルの温度を150℃になるまで昇温させた後、同温度で120時間保持することにより懸濁溶液を得た。得られた懸濁溶液をろ過した後、ろ液のpHが10.3になるまで水洗した。得られた固形分を重量減少が見られなくなるまで50℃で乾燥し、524gの固体1を得た。
上記固体1 75gに2M硝酸3750mLおよびTBOT(和光純薬株式会社製)9.5gを加えた後、加熱して、20時間還流させた。次いで、得られた固体生成物をろ過し、ろ液のpHが5以上になるまで水洗し、続いて、水洗した固体生成物の重量減少が見られなくなるまで該固体生成物を150℃で加熱しながら真空乾燥して、59gの白色粉末を得た(触媒A)。この触媒AのX線回折パターンは、12.3d/Å、11.0d/Å、9.0d/Å、6.1d/Å、3.9d/Å、3.4d/Åのピークを有することが確認され、紫外可視吸収スペクトルから、チタノシリケートであることが判明した。また、元素分析により、チタン含量は1.99重量%であった。さらに、触媒Aの嵩密度は0.10g/mlであった。
Example 1
Piperidine (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 899 g, ion-exchanged water 2402 g, TBOT (tetra-n-butyl orthotitanate, Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 46.4 g, boric acid (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 565 g and fume A gel was obtained by dissolving 410 g of dosilica (cab-o-sil M7D, Cabot) in an autoclave while stirring at 25 ° C. The gel was further stirred for 1.5 hours and then the autoclave was sealed. Subsequently, the temperature of the gel was raised to 150 ° C. over 8 hours while stirring the gel, and then the suspension was obtained by maintaining the temperature at the same temperature for 120 hours. The obtained suspension solution was filtered, and then washed with water until the pH of the filtrate reached 10.3. The obtained solid was dried at 50 ° C. until no weight loss was observed, and 524 g of solid 1 was obtained.
After adding 3750 mL of 2M nitric acid and 9.5 g of TBOT (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) to 75 g of the solid 1, the mixture was heated and refluxed for 20 hours. The resulting solid product is then filtered, washed with water until the pH of the filtrate is 5 or higher, and then the solid product is heated at 150 ° C. until no weight loss of the washed solid product is observed. While drying under vacuum, 59 g of white powder was obtained (Catalyst A). The X-ray diffraction pattern of this catalyst A has peaks of 12.3d / Å, 11.0d / Å, 9.0d / Å, 6.1d / Å, 3.9d / Å, and 3.4d / Å. Was confirmed, and the UV-visible absorption spectrum revealed that it was titanosilicate. The titanium content was 1.99% by weight by elemental analysis. Furthermore, the bulk density of the catalyst A was 0.10 g / ml.

(実施例2)
実施例1で得られた触媒A 50gを530℃で6時間加熱し、45gの粉末状の触媒Bを得た。得られた触媒BのX線回折パターンは、12.3d/Å、11.0d/Å、9.0d/Å、6.1d/Å、3.9d/Å、3.4d/Åのピークを有することを確認した。紫外可視吸収スペクトル測定結果からチタノシリケートであることが判明した。さらに、触媒Bの嵩密度は0.11g/mlであった。
(Example 2)
50 g of the catalyst A obtained in Example 1 was heated at 530 ° C. for 6 hours to obtain 45 g of a powdery catalyst B. The X-ray diffraction pattern of the obtained catalyst B has peaks of 12.3d / Å, 11.0d / Å, 9.0d / Å, 6.1d / Å, 3.9d / Å, and 3.4d / Å. Confirmed to have. The UV-visible absorption spectrum measurement result revealed that it was titanosilicate. Furthermore, the bulk density of the catalyst B was 0.11 g / ml.

(実施例3)
ピペリジン(和光純薬株式会社製)899g、イオン交換水2402g、TBOT(和光純薬株式会社製)46g、ホウ酸(和光純薬株式会社製)565g、ヒュームドシリカ(cab−o−sil M7D、キャボット社製)410gをオートクレーブ中、25℃にて撹拌しながら溶解することによりゲルを得た。該ゲルをさらに1.5時間攪拌させた後、上記オートクレーブを密閉した。続いて、該ゲルを撹拌しながら8時間かけて該ゲルの温度を145℃になるまで昇温させた後、該温度で120時間保持することにより、懸濁溶液を得た。得られた懸濁溶液をろ過した後、ろ液のpHが10.5になるまで水洗した。得られた固形分を50℃で重量減少が見られなくなるまで乾燥し、508gの固体2を得た。
上記固体2 15gに2M硝酸750mLおよびTBOT(和光純薬株式会社製)1.9gを加えた後、加熱して、20時間還流させた。次いで、得られた固体生成物をろ過し、ろ液のpHが5以上になるまで水洗し、続いて、水洗した固体生成物の重量減少が見られなくなるまで該固体生成物を150℃で加熱しながら真空乾燥して、11.3gの白色粉末を得た(触媒C)。この触媒CのX線回折パターンは、12.3d/Å、11.0d/Å、9.0d/Å、6.1d/Å、3.9d/Å、3.4d/Åのピークを有することが確認され、紫外可視吸収スペクトルから、チタノシリケートであることが判明した。また、元素分析により、チタン含量は1.89重量%であった。さらに、触媒Cの嵩密度は0.09g/mlであった。
(Example 3)
Piperidine (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 899 g, ion-exchanged water 2402 g, TBOT (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 46 g, boric acid (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 565 g, fumed silica (cab-o-sil M7D, A gel was obtained by dissolving 410 g (manufactured by Cabot Corporation) in an autoclave while stirring at 25 ° C. The gel was further stirred for 1.5 hours, and then the autoclave was sealed. Subsequently, the temperature of the gel was raised to 145 ° C. over 8 hours while stirring the gel, and then held at the temperature for 120 hours to obtain a suspension solution. The obtained suspension solution was filtered, and then washed with water until the pH of the filtrate reached 10.5. The obtained solid was dried at 50 ° C. until no weight loss was observed, and 508 g of solid 2 was obtained.
After adding 750 mL of 2M nitric acid and 1.9 g of TBOT (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) to 15 g of the solid 2, the mixture was heated and refluxed for 20 hours. The resulting solid product is then filtered, washed with water until the pH of the filtrate is 5 or higher, and then the solid product is heated at 150 ° C. until no weight loss of the washed solid product is observed. While being vacuum dried, 11.3 g of white powder was obtained (Catalyst C). The X-ray diffraction pattern of this catalyst C has peaks of 12.3d / Å, 11.0d / Å, 9.0d / Å, 6.1d / Å, 3.9d / Å, and 3.4d / Å. Was confirmed, and the UV-visible absorption spectrum revealed that it was titanosilicate. Moreover, the titanium content was 1.89% by weight by elemental analysis. Furthermore, the bulk density of the catalyst C was 0.09 g / ml.

(実施例4)
ピペリジン(広栄化学工業株式会社製)300g、イオン交換水600g、および実施例2で得られた触媒B 80gをオートクレーブ中、25℃にて撹拌しながら溶解することによりゲルを得た。該ゲルをさらに1.5時間攪拌させた後、上記オートクレーブを密閉した。続いて、該ゲルを撹拌しながら4時間かけて該ゲルの温度を160℃になるまで昇温させた後、該温度で24時間保持することにより、懸濁溶液を得た。得られた懸濁溶液をろ過した後、ろ液のpHが10.5になるまで水洗し、続いて、水洗した固体生成物の重量減少が見られなくなるまで該固体生成物を150℃で加熱しながら真空乾燥して、79gの白色粉末を得た(触媒D)。この触媒DのX線回折パターンは、12.3d/Å、11.1d/Å、9.0d/Å、6.1d/Å、3.9d/Å、3.4d/Åのピークを有することが確認され、紫外可視吸収スペクトルから、チタノシリケートであることが判明した。また、元素分析により、チタン含量は2.08重量%であった。さらに、触媒Dの嵩密度は0.09g/mlであった。
Example 4
A gel was obtained by dissolving 300 g of piperidine (manufactured by Guangei Chemical Industry Co., Ltd.), 600 g of ion-exchanged water, and 80 g of catalyst B obtained in Example 2 while stirring at 25 ° C. in an autoclave. The gel was further stirred for 1.5 hours, and then the autoclave was sealed. Subsequently, the temperature of the gel was raised to 160 ° C. over 4 hours while stirring the gel, and then kept at the temperature for 24 hours to obtain a suspension solution. The obtained suspension solution is filtered, then washed with water until the pH of the filtrate reaches 10.5, and then the solid product is heated at 150 ° C. until no weight loss of the washed solid product is observed. While drying under vacuum, 79 g of white powder was obtained (Catalyst D). The X-ray diffraction pattern of the catalyst D has peaks of 12.3d / Å, 11.1d / Å, 9.0d / Å, 6.1d / Å, 3.9d / Å, and 3.4d / Å. Was confirmed, and the UV-visible absorption spectrum revealed that it was titanosilicate. Moreover, the titanium content was 2.08% by weight by elemental analysis. Furthermore, the bulk density of the catalyst D was 0.09 g / ml.

(実施例5)
上記触媒Dのシリル化を、特開2003−326171号公報の方法を参考に実施した。すなわち、1,1,1,3,3,3−ヘキサメチルジシラザン(和光純薬社製) 1.0g、トルエン(和光純薬社製)100mL、触媒D 0.5gを混合し、加熱して3時間還流させることでシリル化を行った。さらに、得られた反応混合物をろ過した後、得られた固形物をアセトン500mL、水/アセトニトリル(=1/4、質量比)混合溶媒1Lの順で洗浄し、洗浄後の固形物を質量減少が無くなるまで150℃で真空乾燥し、0.50gの白色粉末(触媒E)を得た。この触媒EのX線回折パターンは、12.5d/Å、11.2d/Å、9.1d/Å、6.2d/Å、3.9d/Å、3.4d/Åのピークを有することが確認され、紫外可視吸収スペクトルから、チタノシリケートであることが判明した。また、触媒Eの嵩密度は0.08g/mlであった。
(Example 5)
The silylation of the catalyst D was carried out with reference to the method of JP-A No. 2003-326171. That is, 1.0 g of 1,1,1,3,3,3-hexamethyldisilazane (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), 100 mL of toluene (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) and 0.5 g of catalyst D were mixed and heated. The silylation was performed by refluxing for 3 hours. Furthermore, after filtering the obtained reaction mixture, the obtained solid was washed with 500 mL of acetone and 1 L of a water / acetonitrile (= 1/4, mass ratio) mixed solvent in this order, and the solid after washing was reduced in mass. The mixture was vacuum-dried at 150 ° C. until disappearance gave 0.50 g of white powder (Catalyst E). The X-ray diffraction pattern of this catalyst E has peaks of 12.5 d / Å, 11.2 d / Å, 9.1 d / Å, 6.2 d / Å, 3.9 d / Å, 3.4 d / Å. Was confirmed, and the UV-visible absorption spectrum revealed that it was titanosilicate. Further, the bulk density of the catalyst E was 0.08 g / ml.

(参考例1)
Chemistry Letters 774−775 (2000)と同じ方法にてTi−MWW前駆体の合成を行った。即ち、25℃、Air雰囲気下、2Lの樹脂製ビーカー中で、ピペリジン(和光純薬株式会社製)200g、イオン交換水564gを混合し、ピペリジン水溶液を得た。該水溶液を382gずつに2分割し、ピペリジン水溶液(1)、ピペリジン水溶液(2)を準備した。
25℃、Air雰囲気下、ピペリジン水溶液(1)、TBOT(和光純薬株式会社製)5.6g、ヒュームドシリカ(cab−o−sil M7D、キャボット社製)49.5gを撹拌することによりゲル(1)を得た。該ゲルを1時間攪拌させた。
一方、25℃、Air雰囲気下、ピペリジン水溶液(2)、ホウ酸(和光純薬株式会社製)136.5g、ヒュームドシリカ(cab−o−sil M7D、キャボット社製)49.5gを撹拌することによりゲル(2)を得た。該ゲルを1時間攪拌させた。
25℃、Air雰囲気下、オートクレーブ中で、ゲル(1)およびゲル(2)を混合し、さらに1.5時間攪拌させることによりゲル(3)を得た。ゲル(3)中の混合物の組成(モル)比は、SiO:TiO:B:ピペリジン:HO=1:0.01:0.67:1.4:19であった。上記オートクレーブを密閉し、100rpmの回転速度にて攪拌しながら5.5時間かけて内容物の温度が130℃になるまで昇温した後、該温度で24時間保持した。130℃で保持後、1時間かけて内容物の温度が150℃になるまで昇温した後、該温度で24時間保持した。150℃で保持後、1時間かけて内容物の温度が170℃になるまで昇温した後、該温度で120時間保持することにより、懸濁溶液を得た。得られた懸濁溶液をろ過した後、ろ液のpHが10.0になるまで水洗した。得られた固形分を50℃で重量減少が見られなくなるまで乾燥し、117gの固体3を得た。
上記固体3 3gに2M硝酸 60mLを加え、撹拌しながら100℃で20時間保温した。次いで、得られた固体生成物をろ過し、ろ液のpHが5以上になるまで水洗し、150℃で重量減少が見られなくなるまで真空乾燥して2.3gの白色粉末を得た(触媒1)。この触媒1のX線回折パターンは、12.3d/Å、11.0d/Å、8.8d/Å、6.1d/Å、3.9d/Å、3.4d/Åのピークを有することが確認され、紫外可視吸収スペクトルから、チタノシリケートであることが判明した。また、元素分析により、チタン含量は0.76重量%であった。さらに、触媒1の嵩密度は0.18g/mlであった。
(Reference Example 1)
The Ti-MWW precursor was synthesized by the same method as Chemistry Letters 774-775 (2000). Specifically, 200 g of piperidine (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) and 564 g of ion-exchanged water were mixed in a 2 L resin beaker under an air atmosphere at 25 ° C. to obtain an aqueous piperidine solution. The aqueous solution was divided into two portions of 382 g to prepare a piperidine aqueous solution (1) and a piperidine aqueous solution (2).
The gel was obtained by stirring piperidine aqueous solution (1), TBOT (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 5.6 g, fumed silica (cab-o-sil M7D, manufactured by Cabot) 49.5 g at 25 ° C. in an air atmosphere. (1) was obtained. The gel was allowed to stir for 1 hour.
On the other hand, an aqueous piperidine solution (2), 136.5 g of boric acid (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), and 49.5 g of fumed silica (cab-o-sil M7D, manufactured by Cabot Corporation) are stirred in an Air atmosphere at 25 ° C. This gave a gel (2). The gel was allowed to stir for 1 hour.
Gel (1) and gel (2) were mixed in an autoclave under an Air atmosphere at 25 ° C., and further stirred for 1.5 hours to obtain gel (3). The composition (molar) ratio of the mixture in the gel (3) was SiO 2 : TiO 2 : B 2 O 3 : piperidine: H 2 O = 1: 0.01: 0.67: 1.4: 19. . The autoclave was sealed, heated up to a temperature of 130 ° C. over 5.5 hours with stirring at a rotational speed of 100 rpm, and then kept at that temperature for 24 hours. After maintaining at 130 ° C., the temperature of the contents was increased to 150 ° C. over 1 hour, and then maintained at that temperature for 24 hours. After maintaining at 150 ° C., the temperature of the contents was raised to 170 ° C. over 1 hour, and then maintained at that temperature for 120 hours to obtain a suspension solution. The obtained suspension solution was filtered, and then washed with water until the pH of the filtrate reached 10.0. The obtained solid was dried at 50 ° C. until no weight loss was observed, and 117 g of solid 3 was obtained.
60 mL of 2M nitric acid was added to 33 g of the solid 33, and the mixture was kept at 100 ° C. for 20 hours with stirring. Next, the obtained solid product was filtered, washed with water until the pH of the filtrate reached 5 or more, and dried at 150 ° C. until no weight loss was observed, and 2.3 g of white powder was obtained (catalyst) 1). The X-ray diffraction pattern of the catalyst 1 has peaks of 12.3 d / Å, 11.0 d / Å, 8.8 d / Å, 6.1 d / Å, 3.9 d / Å, and 3.4 d / Å. Was confirmed, and the UV-visible absorption spectrum revealed that it was titanosilicate. Moreover, the titanium content was 0.76% by weight by elemental analysis. Furthermore, the bulk density of the catalyst 1 was 0.18 g / ml.

(参考例2)
ピペリジン(和光純薬株式会社製)899g、イオン交換水2402g、TBOT(和光純薬株式会社製)47g、ホウ酸(和光純薬株式会社製)565g、ヒュームドシリカ(cab−o−sil M7D、キャボット社製)410gをオートクレーブ中、25℃にて撹拌しながら溶解することによりゲルを得た。該ゲルをさらに1.5時間攪拌させた後、上記オートクレーブを密閉した。続いて、該ゲルを撹拌しながら8時間かけて該ゲルの温度を160℃になるまで昇温させた後、該温度で120時間保持することにより、懸濁溶液を得た。得られた懸濁溶液をろ過した後、ろ液のpHが10.4になるまで水洗した。得られた固形分を50℃で重量減少が見られなくなるまで乾燥し、508gの固体4を得た。
上記固体4 75gに2M硝酸3750mLおよびTBOT(和光純薬株式会社製)9.5gを加えた後、加熱して、20時間還流させた。次いで、得られた固体生成物をろ過し、ろ液のpHが5以上になるまで水洗し、続いて、水洗した固体生成物の重量減少が見られなくなるまで該固体生成物を150℃まで加熱しながら真空乾燥して、56gの白色粉末を得た(触媒2)。この触媒2のX線回折パターンは、12.3d/Å、11.0d/Å、9.0d/Å、6.1d/Å、3.9d/Å、3.4d/Åのピークを有することが確認され、紫外可視吸収スペクトルから、チタノシリケートであることが判明した。また、元素分析により、チタン含量は1.89重量%であった。さらに、触媒2の嵩密度は0.35g/mlであった。
(Reference Example 2)
Piperidine (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 899 g, ion-exchanged water 2402 g, TBOT (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 47 g, boric acid (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 565 g, fumed silica (cab-o-sil M7D, A gel was obtained by dissolving 410 g (manufactured by Cabot Corporation) in an autoclave while stirring at 25 ° C. The gel was further stirred for 1.5 hours, and then the autoclave was sealed. Subsequently, the temperature of the gel was raised to 160 ° C. over 8 hours while stirring the gel, and then held at the temperature for 120 hours to obtain a suspension solution. The obtained suspension solution was filtered, and then washed with water until the pH of the filtrate was 10.4. The obtained solid content was dried at 50 ° C. until no weight loss was observed, and 508 g of solid 4 was obtained.
3750 mL of 2M nitric acid and 9.5 g of TBOT (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) were added to 75 g of the solid 4 and then heated and refluxed for 20 hours. The resulting solid product is then filtered, washed with water until the pH of the filtrate is 5 or higher, and then the solid product is heated to 150 ° C. until no weight loss of the washed solid product is observed. While drying under vacuum, 56 g of white powder was obtained (Catalyst 2). The X-ray diffraction pattern of the catalyst 2 has peaks of 12.3d / Å, 11.0d / Å, 9.0d / Å, 6.1d / Å, 3.9d / Å, and 3.4d / Å. Was confirmed, and the UV-visible absorption spectrum revealed that it was titanosilicate. Moreover, the titanium content was 1.89% by weight by elemental analysis. Furthermore, the bulk density of the catalyst 2 was 0.35 g / ml.

(参考例3)
参考例1で得られた触媒1 50gを530℃で6時間加熱し、45gの触媒3を得た。この触媒3のX線回折パターンは、12.3d/Å、11.0d/Å、8.9d/Å、6.1d/Å、3.9d/Å、3.4d/Åのピークを有することが確認され、紫外可視吸収スペクトルから、チタノシリケートであることが判明した。紫外可視吸収スペクトル測定結果からチタノシリケートであることが分かった。さらに、触媒3の嵩密度は0.35g/mlであった。
(Reference Example 3)
50 g of Catalyst 1 obtained in Reference Example 1 was heated at 530 ° C. for 6 hours to obtain 45 g of Catalyst 3. The X-ray diffraction pattern of the catalyst 3 has peaks of 12.3d / Å, 11.0d / Å, 8.9d / Å, 6.1d / Å, 3.9d / Å, and 3.4d / Å. Was confirmed, and the UV-visible absorption spectrum revealed that it was titanosilicate. The UV-visible absorption spectrum measurement result showed that it was titanosilicate. Furthermore, the bulk density of the catalyst 3 was 0.35 g / ml.

(参考例4)
ピペリジン(和光純薬株式会社製)899g、イオン交換水2402g、TBOT(広栄化学工業株式会社製)899g、ホウ酸(米山化学工業株式会社製)565g、ヒュームドシリカ(cab−o−sil M7D、キャボット社製)410gをオートクレーブ中、25℃にて撹拌しながら溶解することによりゲルを得た。該ゲルをさらに1.5時間攪拌させた後、上記オートクレーブを密閉した。続いて、該ゲルを撹拌しながら8時間かけて該ゲルの温度を160℃になるまで昇温させた後、該温度で120時間保持することにより、懸濁溶液を得た。得られた懸濁溶液をろ過した後、ろ液のpHが10.5になるまで水洗した。得られた固形分を50℃で重量減少が見られなくなるまで乾燥し、508gの固体5を得た。
上記固体5 75gに2M硝酸3750mLを加えた後、加熱して、20時間還流させた。次いで、得られた固体生成物をろ過し、ろ液のpHが5以上になるまで水洗し、続いて、水洗した固体生成物の重量減少が見られなくなるまで該固体生成物を150℃まで加熱しながら真空乾燥して、52gの白色粉末を得た(触媒4)。この触媒4のX線回折パターンは、12.3d/Å、11.0d/Å、8.9d/Å、6.1d/Å、3.9d/Å、3.4d/Åのピークを有することが確認され、紫外可視吸収スペクトルから、チタノシリケートであることが判明した。また、元素分析により、チタン含量は1.80重量%であった。さらに、触媒4の嵩密度は0.40g/mlであった。
(Reference Example 4)
Piperidine (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 899 g, ion-exchanged water 2402 g, TBOT (manufactured by Guangei Chemical Industry Co., Ltd.) 899 g, boric acid (manufactured by Yoneyama Chemical Co., Ltd.) 565 g, fumed silica (cab-o-sil M7D, A gel was obtained by dissolving 410 g (manufactured by Cabot Corporation) in an autoclave while stirring at 25 ° C. The gel was further stirred for 1.5 hours, and then the autoclave was sealed. Subsequently, the temperature of the gel was raised to 160 ° C. over 8 hours while stirring the gel, and then held at the temperature for 120 hours to obtain a suspension solution. The obtained suspension solution was filtered, and then washed with water until the pH of the filtrate reached 10.5. The obtained solid was dried at 50 ° C. until no weight loss was observed, and 508 g of solid 5 was obtained.
After adding 3750 mL of 2M nitric acid to 75 g of the solid 5, the mixture was heated and refluxed for 20 hours. The resulting solid product is then filtered, washed with water until the pH of the filtrate is 5 or higher, and then the solid product is heated to 150 ° C. until no weight loss of the washed solid product is observed. While being vacuum-dried, 52 g of white powder was obtained (Catalyst 4). The X-ray diffraction pattern of the catalyst 4 has peaks of 12.3 d / Å, 11.0 d / Å, 8.9 d / Å, 6.1 d / Å, 3.9 d / Å, and 3.4 d / Å. Was confirmed, and the UV-visible absorption spectrum revealed that it was titanosilicate. Moreover, the titanium content was 1.80% by weight by elemental analysis. Furthermore, the bulk density of the catalyst 4 was 0.40 g / ml.

(参考例5)
参考例4で得られた触媒4 50gを530℃で6時間加熱し、45gの固体6を得た。得られた固体6のX線回折パターンを測定したところ、特開2005−262164号公報中の図2と比較することにより、この固体がMWW構造を持つことを確認した。紫外可視吸収スペクトル測定結果からチタノシリケートであることが判明した。
ピペリジン(和光純薬株式会社製)45g、イオン交換水90g及び固体6 15gをオートクレーブ中、25℃にて撹拌しながら溶解することによりゲルを得た。該ゲルをさらに1.5時間攪拌させた後、上記オートクレーブを密閉した。続いて、該ゲルを撹拌しながら4時間かけて該ゲルの温度を160℃になるまで昇温させた後、該温度で16時間保持することにより、懸濁溶液を得た。得られた懸濁溶液をろ過した後、ろ液のpHが9.3になるまで水洗した。得られた固形分を50℃で重量減少が見られなくなるまで乾燥し、13.5gの触媒5を得た。この触媒5のX線回折パターンは、12.3d/Å、11.1d/Å、9.0d/Å、6.1d/Å、3.9d/Å、3.4d/Åのピークを有することが確認され、紫外可視吸収スペクトルから、チタノシリケートであることが判明した。また、元素分析により、チタン含量は1.80重量%であった。さらに触媒5の嵩密度は0.39g/mlであった。
(Reference Example 5)
50 g of the catalyst 4 obtained in Reference Example 4 was heated at 530 ° C. for 6 hours to obtain 45 g of solid 6. When the X-ray diffraction pattern of the obtained solid 6 was measured, it was confirmed that the solid had an MWW structure by comparing with FIG. 2 in JP-A-2005-262164. The UV-visible absorption spectrum measurement result revealed that it was titanosilicate.
A gel was obtained by dissolving 45 g of piperidine (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), 90 g of ion-exchanged water, and 15 g of solid 615 in an autoclave while stirring at 25 ° C. The gel was further stirred for 1.5 hours, and then the autoclave was sealed. Subsequently, the temperature of the gel was raised to 160 ° C. over 4 hours while stirring the gel, and then kept at the temperature for 16 hours to obtain a suspension solution. The obtained suspension solution was filtered and washed with water until the pH of the filtrate reached 9.3. The obtained solid was dried at 50 ° C. until no weight loss was observed, and 13.5 g of catalyst 5 was obtained. The X-ray diffraction pattern of the catalyst 5 has peaks of 12.3d / Å, 11.1d / Å, 9.0d / Å, 6.1d / Å, 3.9d / Å, and 3.4d / Å. Was confirmed, and the UV-visible absorption spectrum revealed that it was titanosilicate. Moreover, the titanium content was 1.80% by weight by elemental analysis. Furthermore, the bulk density of the catalyst 5 was 0.39 g / ml.

(過酸化水素処理)
本発明の実施例及び参考例で得られたチタノシリケートは、以下の方法に従い過酸化水素と接触させた。
チタノシリケート0.1g、及び、0.1重量%の過酸化水素を含む水/アセトニトリル=1/4(重量比)の溶液100gの混合物を、室温(約20℃)下、1時間攪拌した後、ろ過し、さらに得られたケークを500mLの水で洗浄し、過酸化水素処理されたチタノシリケートを得た。
(Hydrogen peroxide treatment)
The titanosilicate obtained in Examples and Reference Examples of the present invention was contacted with hydrogen peroxide according to the following method.
A mixture of 0.1 g of titanosilicate and 100 g of a solution of water / acetonitrile = 1/4 (weight ratio) containing 0.1% by weight of hydrogen peroxide was stirred at room temperature (about 20 ° C.) for 1 hour. Thereafter, the mixture was filtered, and the obtained cake was washed with 500 mL of water to obtain a titanosilicate treated with hydrogen peroxide.

(プロピレンオキサイドの製造例1:実施例6)
過酸化水素30重量%を含有する水溶液(和光純薬株式会社製)、アセトニトリル(ナカライテスク社製)及びイオン交換水を混合して、0.5重量%の過酸化水素を含むアセトニトリル/水混合溶媒(アセトニトル/水=4/1(重量比))溶液を調製した。調製した溶液60gと、別途、実施例1で得られた触媒Aを前記の過酸化水素処理した触媒A’ 0.010gとを100mLステンレスオートクレーブに充填した。次にオートクレーブを氷浴上に移し、プロピレン1.2gを充填した。さらにアルゴンで2MPa(ゲージ圧)までオートクレーブ内を昇圧した。オートクレーブ内の混合液を攪拌しながら、15分かけて60℃まで昇温し、同温度にて1時間攪拌した。次に、攪拌を止めオートクレーブを氷冷した。
氷冷後、得られた混合液をガスクロマトグラフィーにより分析したところ、過酸化水素量あたりのプロピレンオキサイド収率は49%であった。
(Propylene oxide production example 1: Example 6)
Aqueous solution containing 30% by weight of hydrogen peroxide (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), acetonitrile (manufactured by Nacalai Tesque) and ion-exchanged water are mixed, and an acetonitrile / water mixture containing 0.5% by weight of hydrogen peroxide is mixed. A solvent (acetonitol / water = 4/1 (weight ratio)) solution was prepared. Separately, 60 g of the prepared solution and 0.010 g of the catalyst A ′ obtained by treating the catalyst A obtained in Example 1 with the hydrogen peroxide were charged into a 100 mL stainless steel autoclave. The autoclave was then transferred to an ice bath and charged with 1.2 g of propylene. Further, the pressure in the autoclave was increased to 2 MPa (gauge pressure) with argon. While stirring the mixed solution in the autoclave, the temperature was raised to 60 ° C. over 15 minutes, and the mixture was stirred at the same temperature for 1 hour. Next, stirring was stopped and the autoclave was cooled with ice.
After cooling with ice, the resulting mixture was analyzed by gas chromatography. The yield of propylene oxide per hydrogen peroxide amount was 49%.

(プロピレンオキサイドの製造例2:実施例7)
触媒A’の代わりに実施例2で得られた触媒Bを過酸化水素処理した触媒B’を用いた以外は、実施例6と同様の操作を行い、プロピレンオキサイドの製造を行った。その結果、過酸化水素量あたりのプロピレンオキサイド収率は54%であった。
(Propylene oxide production example 2: Example 7)
Propylene oxide was produced in the same manner as in Example 6 except that the catalyst B ′ obtained by treating the catalyst B obtained in Example 2 with hydrogen peroxide instead of the catalyst A ′ was used. As a result, the yield of propylene oxide per amount of hydrogen peroxide was 54%.

(プロピレンオキサイドの製造例3:実施例8)
触媒A’の代わりに実施例3で得られた触媒Cを過酸化水素処理した触媒C’を用いた以外は、実施例6と同様に行った。その結果、過酸化水素量あたりのプロピレンオキサイド収率は51%であった。
(Propylene oxide production example 3: Example 8)
The same procedure as in Example 6 was performed except that the catalyst C ′ obtained by treating the catalyst C obtained in Example 3 with hydrogen peroxide instead of the catalyst A ′ was used. As a result, the yield of propylene oxide per amount of hydrogen peroxide was 51%.

(プロピレンオキサイドの製造例4:実施例9)
触媒A’の代わりに実施例4で得られた触媒Dを過酸化水素処理した触媒D’を用いた以外は、実施例6と同様の操作を行い、プロピレンオキサイドの製造を行った。その結果、過酸化水素量あたりのプロピレンオキサイド収率は63%であった。
(Propylene oxide production example 4: Example 9)
Propylene oxide was produced in the same manner as in Example 6 except that the catalyst D ′ obtained by treating the catalyst D obtained in Example 4 with hydrogen peroxide instead of the catalyst A ′ was used. As a result, the yield of propylene oxide per amount of hydrogen peroxide was 63%.

(プロピレンオキサイドの製造例5:実施例10)
触媒A’の代わりに実施例5で得られた触媒Eを過酸化水素処理した触媒E’を用いた以外は、実施例6と同様の操作を行い、プロピレンオキサイドの製造を行った。その結果、過酸化水素量あたりのプロピレンオキサイド収率は77%であった。
(Propylene oxide production example 5: Example 10)
Propylene oxide was produced in the same manner as in Example 6 except that the catalyst E ′ obtained by treating the catalyst E obtained in Example 5 with hydrogen peroxide instead of the catalyst A ′ was used. As a result, the yield of propylene oxide per amount of hydrogen peroxide was 77%.

(プロピレンオキサイドの参考製造例1:参考例1の触媒1の使用)
触媒A’ 0.010gの代わりに参考例1で得られた触媒1 0.020gを用いた以外は、実施例6と同様の操作を行い、プロピレンオキサイドの製造を行った。その結果、過酸化水素量あたりのプロピレンオキサイド収率は20%であった。
(Reference Production Example 1 of Propylene Oxide 1: Use of Catalyst 1 of Reference Example 1)
Propylene oxide was produced in the same manner as in Example 6 except that 0.020 g of catalyst 1 obtained in Reference Example 1 was used instead of 0.010 g of catalyst A ′. As a result, the yield of propylene oxide per amount of hydrogen peroxide was 20%.

(プロピレンオキサイドの参考製造例2:参考例1の触媒1を過酸化水素処理した触媒の使用)
触媒A’の代わりに参考例1で得られた触媒1を過酸化水素処理した触媒1’を用いた以外は、実施例6と同様の操作を行い、プロピレンオキサイドの製造を行った。その結果、過酸化水素量あたりのプロピレンオキサイド収率は29%であった。
(Reference Production Example 2 of Propylene Oxide: Use of Catalyst Treated with Hydrogen Peroxide from Catalyst 1 of Reference Example 1)
Propylene oxide was produced in the same manner as in Example 6 except that the catalyst 1 ′ obtained by treating the catalyst 1 obtained in Reference Example 1 with hydrogen peroxide instead of the catalyst A ′ was used. As a result, the yield of propylene oxide per amount of hydrogen peroxide was 29%.

(プロピレンオキサイドの参考製造例3:参考例2の触媒2を過酸化水素処理した触媒の使用)
触媒A’の代わりに参考例2で得られた触媒2を過酸化水素処理した触媒2’を用いた以外は、実施例6と同様の操作を行い、プロピレンオキサイドの製造を行った。その結果、過酸化水素量あたりのプロピレンオキサイド収率は42%であった。
(Reference Production Example 3 of Propylene Oxide: Use of Catalyst Treated with Hydrogen Peroxide from Catalyst 2 of Reference Example 2)
Propylene oxide was produced in the same manner as in Example 6 except that the catalyst 2 ′ obtained by treating the catalyst 2 obtained in Reference Example 2 with hydrogen peroxide instead of the catalyst A ′ was used. As a result, the yield of propylene oxide per amount of hydrogen peroxide was 42%.

(プロピレンオキサイドの参考製造例4:参考例3の触媒3を過酸化水素処理した触媒の使用)
触媒A’の代わりに参考例3で得られた触媒3を過酸化水素処理した触媒3’を用いた以外は、実施例6と同様の操作を行い、プロピレンオキサイドの製造を行った。その結果、過酸化水素量あたりのプロピレンオキサイド収率は38%であった。
(Reference Production Example 4 of Propylene Oxide: Use of Catalyst Treated with Hydrogen Peroxide from Catalyst 3 of Reference Example 3)
Propylene oxide was produced in the same manner as in Example 6 except that the catalyst 3 ′ obtained by hydrogen peroxide treatment of the catalyst 3 obtained in Reference Example 3 was used instead of the catalyst A ′. As a result, the yield of propylene oxide per amount of hydrogen peroxide was 38%.

(プロピレンオキサイドの参考製造例5:参考例4の触媒4を過酸化水素処理した触媒の使用)
触媒A’の代わりに参考例4で得られた触媒4を過酸化水素処理した触媒4’を用いた以外は、実施例6と同様の操作を行い、プロピレンオキサイドの製造を行った。その結果、過酸化水素量あたりのプロピレンオキサイド収率は43%であった。
(Reference Production Example 5 of Propylene Oxide: Use of Catalyst Treated with Hydrogen Peroxide of Catalyst 4 of Reference Example 4)
Propylene oxide was produced in the same manner as in Example 6 except that the catalyst 4 ′ obtained by treating the catalyst 4 obtained in Reference Example 4 with hydrogen peroxide instead of the catalyst A ′ was used. As a result, the yield of propylene oxide per amount of hydrogen peroxide was 43%.

(触媒A及び触媒1のFE−SEM観察)
以下の測定条件にて、実施例1で得られた触媒Aおよび参考例1で得られた触媒1の電子顕微鏡写真を撮影した。図1から触媒Aは中空状の2次粒子となっていることがわかり、図2から触媒1の2次粒子は単に1次粒子が凝集したものであることがわかる。
(測定条件)
測定装置:日立ハイテクノロジーズ社製電界放出形走査電子顕微鏡(FE−SEM)S−5500
観察条件:加速電圧30kVで暗視野走査透過像(STEM−DF像)を観察。
前処理方法:試料を常温硬化型エポキシ樹脂(エポキュアー)に混合・脱気して包埋。ミクロトーム(LEICA製ウルトラミクロトームEMUC6)(常温湿式)で膜厚80〜100nmの切片を作製し、観察用Cu製メッシュ上に採取。
(FE-SEM observation of catalyst A and catalyst 1)
Electron micrographs of the catalyst A obtained in Example 1 and the catalyst 1 obtained in Reference Example 1 were taken under the following measurement conditions. FIG. 1 shows that the catalyst A is hollow secondary particles, and FIG. 2 shows that the secondary particles of the catalyst 1 are simply aggregated primary particles.
(Measurement condition)
Measuring device: Field Emission Scanning Electron Microscope (FE-SEM) S-5500 manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation
Observation conditions: A dark field scanning transmission image (STEM-DF image) is observed at an acceleration voltage of 30 kV.
Pretreatment method: The sample is mixed and deaerated in room temperature curing type epoxy resin (epocure) and embedded. A section with a film thickness of 80 to 100 nm was prepared with a microtome (LEICA ultramicrotome EMUC6) (room temperature wet) and collected on a Cu mesh for observation.

本発明によれば、酸化剤あたりの収率がより優れたオレフィンオキサイドの触媒として、新規なチタノシリケートが提供可能である。   According to the present invention, a novel titanosilicate can be provided as an olefin oxide catalyst having a better yield per oxidant.

Claims (13)

下記に示す値のX線回折パターンを有し、かつ、嵩密度が0.05〜0.15g/mlであることを特徴とするチタノシリケート。
X線回折パターン
格子面間隔d/Å(オングストローム)
12.4±0.8
10.8±0.5
9.0±0.3
6.0±0.3
3.9±0.1
3.4±0.1
A titanosilicate having an X-ray diffraction pattern having the following value and a bulk density of 0.05 to 0.15 g / ml.
X-ray diffraction pattern lattice spacing d / d (angstrom)
12.4 ± 0.8
10.8 ± 0.5
9.0 ± 0.3
6.0 ± 0.3
3.9 ± 0.1
3.4 ± 0.1
嵩密度が0.08〜0.11g/mlであることを特徴とする請求項1記載のチタノシリケート。   The titanosilicate according to claim 1, which has a bulk density of 0.08 to 0.11 g / ml. 下記の第1工程及び第2工程を有することを特徴とするチタノシリケートの製造方法。
第1工程:構造規定剤、周期表の13族元素を含有する化合物、チタン含有化合物、ケイ素含有化合物および水を含有する混合物を、155℃未満の温度条件で加熱して固体を得る工程。
第2工程:無機酸およびチタン含有化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種と第1工程で得られた固体とを接触させる工程。
It has the following 1st process and 2nd process, The manufacturing method of the titanosilicate characterized by the above-mentioned.
First step: A step of obtaining a solid by heating a mixture containing a structure-directing agent, a compound containing a group 13 element of the periodic table, a titanium-containing compound, a silicon-containing compound and water under a temperature condition of less than 155 ° C.
Second step: A step of bringing at least one selected from the group consisting of an inorganic acid and a titanium-containing compound into contact with the solid obtained in the first step.
周期表の第13族元素を含む化合物がホウ素含有化合物であることを特徴とする請求項3記載のチタノシリケートの製造方法。   The method for producing a titanosilicate according to claim 3, wherein the compound containing a Group 13 element in the periodic table is a boron-containing compound. 構造規定剤がピペリジンまたはヘキサメチレンイミンであることを特徴とする請求項3又は4記載のチタノシリケートの製造方法。   5. The method for producing titanosilicate according to claim 3 or 4, wherein the structure directing agent is piperidine or hexamethyleneimine. 第2工程で得られたチタノシリケートを250〜1000℃の温度範囲で加熱する第3工程をさらに有する請求項3〜5いずれか記載の製造方法。   The manufacturing method according to any one of claims 3 to 5, further comprising a third step of heating the titanosilicate obtained in the second step in a temperature range of 250 to 1000 ° C. 第2工程又は第3工程で得られたチタノシリケートと構造規定剤とを接触する第4工程をさらに有する請求項3〜6いずれか記載の製造方法。   The manufacturing method according to any one of claims 3 to 6, further comprising a fourth step of contacting the titanosilicate obtained in the second step or the third step with the structure directing agent. 第2工程、第3工程又は第4工程で得られたチタノシリケートをシリル化剤でシリル化する第5工程をさらに有する請求項3〜7いずれか記載の製造方法。   The production method according to any one of claims 3 to 7, further comprising a fifth step of silylating the titanosilicate obtained in the second step, the third step or the fourth step with a silylating agent. 第2工程、第3工程、第4工程又は第5工程で得られたチタノシリケートと過酸化水素とを接触する第6工程をさらに有する請求項3〜8いずれか記載の製造方法。   The manufacturing method according to any one of claims 3 to 8, further comprising a sixth step of contacting the titanosilicate obtained in the second step, the third step, the fourth step or the fifth step with hydrogen peroxide. 請求項3〜9のいずれか記載の製造方法で得られたチタノシリケート。   The titanosilicate obtained with the manufacturing method in any one of Claims 3-9. 請求項1、2又は10記載のチタノシリケートからなるオレフィンオキサイド製造用触媒。   A catalyst for producing olefin oxide comprising the titanosilicate according to claim 1, 2 or 10. 請求項11記載の触媒存在下、オレフィン化合物を酸化剤で酸化させる工程を含むオレフィンオキサイドの製造方法。   The manufacturing method of the olefin oxide including the process of oxidizing an olefin compound with an oxidizing agent in presence of the catalyst of Claim 11. オレフィン化合物がプロピレンであり、酸化剤が過酸化水素であることを特徴とする請求項12記載のオレフィンオキサイドの製造方法。   The method for producing an olefin oxide according to claim 12, wherein the olefin compound is propylene and the oxidizing agent is hydrogen peroxide.
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