JP2012000240A - Medical tool having surface lubricity in wetting - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、湿潤時に表面が潤滑性を有する医療用具に関する。 The present invention relates to a medical device whose surface has lubricity when wet.
カテーテル、ガイドワイヤ、留置針等生体内に挿入される医療用具は、血管などの組織損傷を低減させ、かつ術者の操作性を向上させるため、優れた潤滑性を示すことが要求される。このため、潤滑性を有する親水性高分子を基材表面に被覆する方法が開発され実用化されている。このような医療用具において、親水性高分子が基材表面から溶出・剥離してしまうことは、安全性や操作性の維持といった点で問題である。 Medical devices such as catheters, guide wires, and indwelling needles that are inserted into a living body are required to exhibit excellent lubricity in order to reduce tissue damage such as blood vessels and improve operability for the operator. For this reason, a method of coating the surface of a substrate with a hydrophilic polymer having lubricity has been developed and put into practical use. In such a medical device, it is a problem in terms of maintaining safety and operability that the hydrophilic polymer is eluted and separated from the surface of the base material.
このような問題を防止するため、特許文献1には、水溶性または水膨潤性重合体を医療用具の基材が膨潤する溶媒に溶解して重合体溶液を作製し、この重合体溶液に医療用具の基材を浸漬して膨潤させ、さらに基材表面でこの重合体を架橋または高分子化させることによって、基材表面に表面潤滑層を形成した医療用具が開示されている。
In order to prevent such a problem,
上記特許文献1に記載の方法でも、表面潤滑層をある程度強固に基材に固定することができる。特に基材自身が親水性高分子溶液によって膨潤する場合、基材高分子と表面潤滑層をなす親水性高分子とが相互貫入網目構造を形成することにより、非常に強固な固定が可能である。一方、基材高分子が親水性高分子溶液によって膨潤しにくい場合、表面潤滑層をなす親水性高分子は架橋または高分子化による不溶化の効果によってのみ基材に固定化され、相互貫入網目構造を形成する高分子基材に比べると表面潤滑層が剥離するリスクが高い。このため、難膨潤性の高分子基材表面に親水性高分子をより強固に固定化できる被覆方法が求められている。
Even by the method described in
高分子基材表面に親水性高分子を多量かつ強固に固定化する方法として、特許文献2には、基材層をなす高分子材料が分子内に第1の高次構造と、該第1の高次構造の少なくとも一方の末端に設けられた第1の官能基と、を有し、親水性高分子が、分子内に前記第1の高次構造と相互作用し得る第2の高次構造と、該第2の高次構造の少なくとも一方の末端に設けられ前記第1の官能基と水素結合可能な第2の官能基と、を有することを特徴とする医療用具が開示されている。
As a method for firmly fixing a large amount of hydrophilic polymer on the surface of a polymer substrate,
しかしながら、上記特許文献2に記載の方法では、基材高分子と親水性高分子との組み合わせが限定されるという問題があった。
However, the method described in
そこで本発明の目的は、上記した従来技術の問題点を解決し、種々の高分子基材と表面潤滑層とを、より簡便な手法で強固に固定化することにより、使用時の優れた表面潤滑性を永続的に発揮する医療用具を提供することである。 Accordingly, the object of the present invention is to solve the above-mentioned problems of the prior art, and to fix various polymer base materials and surface lubrication layers firmly by a simpler method, thereby providing an excellent surface during use. It is to provide a medical device that permanently exhibits lubricity.
上記目的を達成するための本発明は、(1) 少なくとも表面が高分子材料からなる基材層と、該基材層の少なくとも一部に担持された、分子内に複数のチオール基を有する化合物と、該分子内に複数のチオール基を有する化合物を覆う、反応性官能基を有する親水性高分子からなる表面潤滑層と、を備え、該チオール基を有する化合物が窒素を含有するイオン化ガスプラズマを照射することにより基材層に担持されており、かつ該チオール基を有する化合物と、該反応性官能基を有する親水性高分子とを反応させることで表面潤滑層が基材層に結合している、湿潤時に表面が潤滑性を有する医療用具である。 In order to achieve the above object, the present invention provides (1) a base material layer having at least a surface made of a polymer material, and a compound having a plurality of thiol groups in the molecule supported on at least a part of the base material layer. And a surface lubricating layer made of a hydrophilic polymer having a reactive functional group that covers the compound having a plurality of thiol groups in the molecule, wherein the compound having the thiol group contains nitrogen. The surface lubricant layer is bonded to the base material layer by reacting the compound having the thiol group and the hydrophilic polymer having the reactive functional group, which are supported on the base material layer by irradiating It is a medical device whose surface has lubricity when wet.
また、上記目的を達成するための本発明は、(2) 前記基材層表面に窒素を含有するイオン化ガスプラズマを照射し、その後前記チオール基を有する化合物を溶解した溶液を基材層表面に塗布することによって、前記チオール基を有する化合物が基材層に担持されている、上記(1)に記載の医療用具である。 Moreover, this invention for achieving the said objective is (2) Irradiating the ionized gas plasma containing nitrogen to the said base material layer surface, Then, the solution which melt | dissolved the said compound which has the said thiol group is applied to the base material layer surface. It is a medical device as described in said (1) by which the compound which has the said thiol group is carry | supported by the base material layer by apply | coating.
さらに、上記目的を達成するための本発明は、(3) 前記チオール基を有する化合物を溶解した溶液を前記基材層表面に塗布し、その後窒素を含有するイオン化ガスプラズマを照射することによって、前記チオール基を有する化合物が基材層に担持されている、上記(1)または(2)に記載の医療用具である。 Furthermore, the present invention for achieving the above object is (3) by applying a solution in which the compound having the thiol group is dissolved to the surface of the base material layer, and then irradiating with ionized gas plasma containing nitrogen, The medical device according to (1) or (2), wherein the compound having the thiol group is supported on a base material layer.
さらにまた、上記目的を達成するための本発明は、(4) 前記チオール基を有する化合物を溶解した溶液を基材層表面に塗布した後に前記窒素を含有するイオン化ガスプラズマを照射し、その後加熱処理することによって、前記チオール基を有する化合物が基材層に担持されている、上記(2)または(3)に記載の医療用具である。 Furthermore, the present invention for achieving the above object is as follows: (4) After irradiating the substrate layer surface with a solution in which the compound having the thiol group is dissolved, irradiating the ionized gas plasma containing nitrogen, followed by heating It is a medical device as described in said (2) or (3) by which the compound which has the said thiol group is carry | supported by the base material layer by processing.
本発明の医療用具によれば、種々の高分子基材と表面潤滑層とを、より簡便な手法で強固に固定化することにより、使用時の優れた表面潤滑性を永続的に発揮することができる。 According to the medical device of the present invention, various polymer base materials and surface lubrication layers can be firmly fixed by a simpler method to permanently exhibit excellent surface lubricity during use. Can do.
本発明は、少なくとも表面が高分子材料からなる基材層(以下、単に「高分子基材層」または「基材層」ともいう)と、該基材層の少なくとも一部に担持された、分子内に複数のチオール基(−SH:メルカプト基・スルフヒドリル基・水硫基と呼称することもある)を有する化合物(以下、単に「チオール化合物」ともいう)と、該分子内に複数のチオール基を有する化合物を覆う、反応性官能基を有する親水性高分子からなる表面潤滑層と、を備え、該チオール基を有する化合物が窒素を含有するイオン化ガスプラズマを照射(以下、単に「プラズマ処理」ともいう)することにより基材層に担持(固定化)されており、かつ該チオール基を有する化合物と、該反応性官能基を有する親水性高分子とを反応させることで表面潤滑層が基材層に結合している、湿潤時に表面が潤滑性を有する医療用具を提供する。 In the present invention, at least a surface of a base material layer made of a polymer material (hereinafter, also simply referred to as “polymer base material layer” or “base material layer”) and supported on at least a part of the base material layer, A compound having a plurality of thiol groups in the molecule (also referred to as —SH: mercapto group, sulfhydryl group, or hydrosulfur group) (hereinafter, also simply referred to as “thiol compound”), and a plurality of thiols in the molecule And a surface lubricating layer made of a hydrophilic polymer having a reactive functional group that covers the compound having a group, and the compound having the thiol group is irradiated with ionized gas plasma containing nitrogen (hereinafter simply referred to as “plasma treatment”). The surface lubricating layer is formed by reacting the compound having the thiol group with the hydrophilic polymer having the reactive functional group. Base material Are attached, the surface when wetted to provide a medical device having lubricity.
通常、ポリアミドやポリエチレンなどの高分子材料は、チオール基と反応する官能基を有していない。したがって、上記のような高分子材料からなる基材層表面の場合、単にチオール化合物を塗布しただけでは、チオール化合物と反応し得ないため、チオール化合物を介して表面潤滑層を基材層に強固に固定化することは不可能である。 Usually, polymer materials such as polyamide and polyethylene do not have a functional group that reacts with a thiol group. Therefore, in the case of the surface of the base material layer made of the polymer material as described above, the surface lubricant layer is firmly attached to the base material layer via the thiol compound because it cannot react with the thiol compound simply by applying the thiol compound. It is impossible to immobilize.
これに対して、本発明によるように、窒素を含有するイオン化ガスプラズマを照射することにより、チオール化合物を介して表面潤滑層を基材層に強固に結合(固定化)できる。 On the other hand, as in the present invention, by irradiating ionized gas plasma containing nitrogen, the surface lubricating layer can be firmly bonded (immobilized) to the base material layer via the thiol compound.
上記したように、チオール化合物を介して基材層を表面潤滑層に強固に結合(固定化)するメカニズムは明らかではないが、下記のように推測される。なお、本発明は、下記推測によって限定されるものではない。すなわち、本発明の医療用具では、チオール化合物を塗布する前の基材層表面に窒素を含有するイオン化ガスプラズマ照射を行うことで、ポリアミドやポリエチレン等の反応性官能基を持たない高分子材料からなる基材層であっても、その表面にカルボキシル基、ヒドロキシル基、パーオキサイド等の官能基を導入することができる。これによりチオール化合物を溶解した溶液に対する濡れ性が高まり、基材層表面にチオール化合物を均一に塗布することが可能になるとともに、基材層表面の上記官能基とチオール化合物のチオール基とが反応することによって、基材層表面にチオール化合物を強固に固定化することができる。そして、上記の通りイオン化ガスに窒素を含有させることで、基材層表面に上記官能基に加えてアミノ基を導入することができる。これにより、アミノ基とチオール化合物の間に水素結合や極性相互作用が働き、チオール化合物が基材層表面により安定的に保持されるため、チオール化合物とパーオキサイド等の官能基との反応が促進され、基材層表面にチオール化合物をより効率的に固定化することができる。あるいは、基材層表面にチオール化合物を塗布した後に窒素を含有するイオン化ガスプラズマ照射を行うことで、上記のような基材層表面に官能基を導入する効果に加えて、チオール化合物自体を活性化させて、チオール化合物と基材層表面との反応や、チオール化合物同士の重合を促進することができ、その結果、基材層表面にチオール化合物を強固に固定化することができる。また、本発明に係るチオール化合物は複数のチオール基を有するため、基材層表面への担持(固定化)に寄与しない残存チオール基が存在する。この残存チオール基が親水性高分子の反応性官能基(例えば、エポキシ基、イソシアネート基等)と反応して、表面潤滑層が形成される。このようにして、本発明によると、チオール化合物を介して表面潤滑層を種々の高分子材料からなる基材層表面に簡便な手法で強固に固定化することができ、使用時の優れた表面潤滑性を永続的に発揮することができる。 As described above, the mechanism for firmly bonding (immobilizing) the base material layer to the surface lubricating layer via the thiol compound is not clear, but is presumed as follows. The present invention is not limited by the following estimation. That is, in the medical device of the present invention, by performing ionized gas plasma irradiation containing nitrogen on the surface of the base material layer before applying the thiol compound, from a polymer material having no reactive functional group such as polyamide or polyethylene. Even if it is a base material layer which becomes, functional groups, such as a carboxyl group, a hydroxyl group, and a peroxide, can be introduce | transduced into the surface. As a result, the wettability with respect to the solution in which the thiol compound is dissolved is increased, and the thiol compound can be uniformly applied to the surface of the base material layer, and the functional group on the surface of the base material layer reacts with the thiol group of the thiol compound. By doing so, the thiol compound can be firmly fixed on the surface of the base material layer. And as above-mentioned, in addition to the said functional group, an amino group can be introduce | transduced to the base-material layer surface by containing nitrogen in ionization gas. As a result, hydrogen bonds and polar interaction work between the amino group and the thiol compound, and the thiol compound is stably held on the surface of the base material layer, thus promoting the reaction between the thiol compound and a functional group such as peroxide. Thus, the thiol compound can be more efficiently immobilized on the surface of the base material layer. Alternatively, by applying a nitrogen-containing ionized gas plasma after applying a thiol compound to the surface of the base material layer, in addition to the effect of introducing functional groups on the base material layer surface as described above, the thiol compound itself is activated. Thus, the reaction between the thiol compound and the surface of the base material layer and the polymerization between the thiol compounds can be promoted, and as a result, the thiol compound can be firmly fixed on the surface of the base material layer. Moreover, since the thiol compound according to the present invention has a plurality of thiol groups, there are residual thiol groups that do not contribute to supporting (immobilization) on the surface of the base material layer. This residual thiol group reacts with a reactive functional group (for example, an epoxy group, an isocyanate group, etc.) of the hydrophilic polymer to form a surface lubricating layer. Thus, according to the present invention, the surface lubricating layer can be firmly fixed to the surface of the base material layer made of various polymer materials through a thiol compound by a simple method, and an excellent surface during use. The lubricity can be demonstrated permanently.
以下、添付した図面を参照して本発明を適用した最良の実施形態を説明する。 DESCRIPTION OF EXEMPLARY EMBODIMENTS Hereinafter, exemplary embodiments to which the invention is applied will be described with reference to the accompanying drawings.
図1は、本発明に係る代表的な実施形態の湿潤時に表面が潤滑性を有する医療用具(以下、単に医療用具とも略記する)の表面の積層構造を模式的に表した部分断面図である。図2は、本実施形態の応用例として、表面の積層構造の異なる構成例を模式的に表した部分断面図である。なお、図1及び図2中の各付号は、それぞれ、下記を表わす。1は、基材層を;1aは、基材層コア部を;1bは、高分子表面層を;2は、分子内に複数のチオール基を有する化合物(チオール化合物)を;3は、表面潤滑層を;および10は、湿潤時に表面が潤滑性を有する医療用具を、それぞれ、表わす。 FIG. 1 is a partial cross-sectional view schematically showing a laminated structure of a surface of a medical device whose surface is lubricious when it is wet according to a representative embodiment of the present invention (hereinafter also simply referred to as a medical device). . FIG. 2 is a partial cross-sectional view schematically showing a configuration example having a different surface laminated structure as an application example of the present embodiment. In addition, each appendix in FIG.1 and FIG.2 represents the following, respectively. 1 is a base material layer; 1a is a base material layer core; 1b is a polymer surface layer; 2 is a compound having a plurality of thiol groups in the molecule (thiol compound); 3 is a surface Lubricant layer; and 10 respectively represent medical devices whose surfaces are lubricious when wet.
図1、図2に示されるように、本実施形態の医療用具10では、少なくとも表面が高分子材料からなる基材層1と、基材層1の少なくとも一部に担持された(図中では、図面内の基材層1表面の全体(全面)に担持された例を示す)分子内に複数のチオール基を有する化合物(チオール化合物)2と、分子内に複数のチオール基を有する化合物2を覆う反応性官能基を有する親水性高分子からなる表面潤滑層3と、を備え、該チオール基を有する化合物2が窒素を含有するイオン化ガスプラズマを照射することにより基材層1に担持(固定化)されており、かつ該チオール基を有する化合物2と、該反応性官能基を有する親水性高分子とを反応させることで表面潤滑層3がチオール化合物2を介して基材層1に結合している。
As shown in FIG. 1 and FIG. 2, in the
以下、本実施形態の医療用具を各構成部材ごとに詳しく説明する。 Hereinafter, the medical device of this embodiment is demonstrated in detail for every structural member.
(1)基材層1
本実施形態の医療用具を構成する基材層1は、少なくとも表面が高分子材料からなるものである。
(1)
The
(1a)基材層1の構成
基材層1が「少なくとも表面が高分子材料からなる」とは、基材層1の少なくとも表面が高分子材料で構成されていればよく、基材層1全体(全部)が高分子材料で構成(形成)されているものに何ら制限されるものではない。従って、図2に示されるように、金属材料やセラミックス材料等の硬い補強材料で形成された基材層コア部1aの表面に、金属材料等の補強材料に比して柔軟な高分子材料が適当な方法(浸漬(デッピング)、噴霧(スプレー)、塗布・印刷等の従来公知の方法)で被覆(コーティング)あるいは基材層コア部1aの金属材料等と表面高分子層1bの高分子材料とが複合化(適当な反応処理)されて、表面高分子層1bを形成しているものも、本発明の基材層1に含まれる。よって、基材層コア部1aが、異なる材料を多層に積層してなる多層構造体、あるいは医療用具の部分ごとに異なる材料で形成された部材を繋ぎ合わせた構造(複合体)などであってもよい。また、基材層コア部1aと表面高分子層1bとの間に、更に異なるミドル層(図示せず)が形成されていてもよい。更に、表面高分子層1bに関しても異なる高分子材料を多層に積層してなる多層構造体、あるいは医療用具の部分ごとに異なる高分子材料で形成された部材を繋ぎ合わせた構造(複合体)などであってもよい。
(1a) Configuration of
(1b)基材層コア部1aの構成
基材層コア部1aに用いることができる材料としては、特に制限されるものではなく、カテーテル、ガイドワイヤ、留置針等の用途に応じて最適な基材層コア部1aとしての機能を十分に発現し得る補強材料を適宜選択すればよい。例えば、SUS304、SUS316L、SUS420J2、SUS630などの各種ステンレス鋼(SUS)、金、白金、銀、銅、ニッケル、コバルト、チタン、鉄、アルミニウム、スズおよびニッケル−チタン合金、コバルト−クロム合金、亜鉛−タングステン合金等のそれらの合金などの各種金属材料、各種セラミックス材料などの無機材料、更には金属−セラミックス複合体などが例示できるが、これらに何ら制限されるものではない。
(1b) Configuration of the base material
(1c)基材層1ないし表面高分子層1bの構成
基材層1ないし表面高分子層1bに用いることができる高分子材料としては、特に限定されるものではなく、例えば、ナイロン6、ナイロン11、ナイロン12、ナイロン66(いずれも登録商標)などのポリアミド樹脂、直鎖状低密度ポリエチレン(LLDPE)、低密度ポリエチレン(LDPE)、高密度ポリエチレン(HDPE)などのポリエチレン樹脂やポリプロピレン樹脂などのポリオレフィン樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、ジアリルフタレート樹脂(アリル樹脂)、ポリカーボネート樹脂、フッ素樹脂、アミノ樹脂(ユリア樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂)、ポリエステル樹脂、スチロール樹脂、アクリル樹脂、ポリアセタール樹脂、酢酸ビニル樹脂、フェノール樹脂、塩化ビニル樹脂、シリコーン樹脂(ケイ素樹脂)などが挙げられる。これらは1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。上記高分子材料には、使用用途であるカテーテル、ガイドワイヤ、留置針等の高分子基材として最適な高分子材料を適宜選択すればよい。
(1c) Configuration of
(1d)ミドル層の構成
また、上記ミドル層(図示せず)に用いることができる材料としては、特に制限されるものではなく、使用用途に応じて適宜選択すればよい。例えば、各種金属材料、各種セラミックス材料、さらには有機−無機複合体などが例示できるが、これらに何ら限定されるものではない。以下、「少なくとも表面が高分子材料からなる基材層1」を単に「高分子基材層1」、あるいは「基材層1」とも略称する。
(1d) Structure of middle layer In addition, the material that can be used for the middle layer (not shown) is not particularly limited, and may be appropriately selected depending on the intended use. Examples include various metal materials, various ceramic materials, and organic-inorganic composites, but are not limited thereto. Hereinafter, “
(2)分子内に複数のチオール基を有する化合物2
本実施形態の医療用具を構成する分子内に複数のチオール基を有する化合物(以下、単に「チオール化合物」とも略称する)2は、高分子基材層1表面の少なくとも一部に担持されている。
(2)
A compound (hereinafter simply referred to as “thiol compound”) 2 having a plurality of thiol groups in a molecule constituting the medical device of the present embodiment is supported on at least a part of the surface of the polymer
ここで、チオール化合物2が、基材層1表面の少なくとも一部に担持されているとしたのは、使用用途であるカテーテル、ガイドワイヤ、留置針等の医療用具において、必ずしもこれらの医療用具の全ての表面(表面全体)が湿潤時に潤滑性を有する必要はなく、湿潤時に表面が潤滑性を有することが求められる表面部分(一部の場合もあれば全部の場合もある)のみにチオール化合物2が担持されていればよいためである。
Here, it is assumed that the
なお、ここでいう「担持」とは、チオール化合物2が基材層1表面から容易に遊離しない状態に固定化された状態である。
The “supporting” referred to here is a state in which the
チオール化合物2としては、分子内にチオール基を複数有する化合物であれば特に限定されないが、プラズマ処理及びその後の加熱処理等で基材層1表面の高分子材料と反応し強固に固定化した際に、残存するチオール基と表面潤滑層3の親水性高分子の反応性官能基が反応しやすいよう、チオール化合物2の最表面に残存するチオール基が露出しやすい構造を有していることが望ましい。かかる観点から、チオール化合物2としては、1分子内にチオール基を2個以上有する化合物であればよいが、好ましくは1分子内にチオール基を、2〜10個、より好ましくは3〜6個有する化合物である。
The
かかる観点から、上記チオール化合物としては、直鎖状、分岐鎖状、環状のいずれでもよく、例えば1,2−エタンジチオール、1,2−プロパンジチオール、1,3−プロパンジチオール、1,4−ブタンジチオール、2,3−ブタンジチオール、1,5−ペンタンジチオール、1,6−ヘキサンジチオール、1,8−オクタンジチオール、3,6−ジオキサ−1,8−オクタンジチオール、ビス(2−メルカプトエチル)エーテル、ビス(2−メルカプトエチル)スルフィド、1,2−ベンゼンジチオール、1,4−ベンゼンジチオール、1,4−ビス(メルカプトメチル)ベンゼン、トルエン−3,4−ジチオール、1,5−ジメルカプトナフタレン、4,4’−ビフェニルジチオール、4,4’−チオビスベンゼンチオール、テトラエチレングリコールビス(3−メルカプトプロピオネート)等の分子内にチオール基を2つ有する化合物、1,3,5−ベンゼントリチオール、トリス−[(3−メルカプトプロピオニルオキシ)−エチル]−イソシアヌレート(TEMPIC)、トリアジントリチオール、トリメチロールプロパントリス(3−メルカプトプロピオネート)(TMMP)等の分子内にチオール基を3つ有する化合物、ペンタエリスリトールテトラキス(メルカプトアセテート)、ペンタエリスリトールテトラキス(3−メルカプトプロピオネート)、ペンタエリスリトールテトラキス(3−メルカプトブチレート)等の分子内にチオール基を4つ有する化合物、ジペンタエリスリトールヘキサキス(3−メルカプトプロピオネート)等の分子内にチオール基を6つ有する化合物、およびそれらの誘導体や重合体などを好適に例示できる。これらは1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。好ましくは、基材層1表面にチオール基が固定化された際に、残存するチオール基と親水性高分子の反応性官能基が反応しやすいよう、最表面に残存チオール基が露出しやすい構造を有し、分子骨格が安定で、基材層1表面との親和性がよく、チオール基を3〜6個有する化合物である、トリス−[(3−メルカプトプロピオニルオキシ)−エチル]−イソシアヌレート(TEMPIC)、ジペンタエリスリトールヘキサキス(3−メルカプトプロピオネート)である。
From this viewpoint, the thiol compound may be linear, branched, or cyclic. For example, 1,2-ethanedithiol, 1,2-propanedithiol, 1,3-propanedithiol, 1,4- Butanedithiol, 2,3-butanedithiol, 1,5-pentanedithiol, 1,6-hexanedithiol, 1,8-octanedithiol, 3,6-dioxa-1,8-octanedithiol, bis (2-mercaptoethyl) ) Ether, bis (2-mercaptoethyl) sulfide, 1,2-benzenedithiol, 1,4-benzenedithiol, 1,4-bis (mercaptomethyl) benzene, toluene-3,4-dithiol, 1,5-di Mercaptonaphthalene, 4,4'-biphenyldithiol, 4,4'-thiobisbenzenethiol, tetra Compounds having two thiol groups in the molecule such as tylene glycol bis (3-mercaptopropionate), 1,3,5-benzenetrithiol, tris-[(3-mercaptopropionyloxy) -ethyl] -isocyanurate (TEMPIC), triazine trithiol, trimethylolpropane tris (3-mercaptopropionate) (TMMP) and other compounds having three thiol groups in the molecule, pentaerythritol tetrakis (mercaptoacetate), pentaerythritol tetrakis (3- Mercaptopropionate), pentaerythritol tetrakis (3-mercaptobutyrate) and other compounds having four thiol groups in the molecule, dipentaerythritol hexakis (3-mercaptopropionate) and other thiol groups in the molecule Compound 6 having, and can be suitably exemplified and their derivatives and polymers. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together. Preferably, when the thiol group is immobilized on the surface of the
また、本実施形態では、上記に例示したチオール化合物に何ら制限されるものではなく、本発明の作用効果を有効に発現し得るものであれば、他のチオール化合物も利用可能である。 Moreover, in this embodiment, it is not restrict | limited at all to the thiol compound illustrated above, Other thiol compounds can also be utilized if the effect of this invention can be expressed effectively.
(2a)チオール化合物2の厚さ
本実施形態の医療用具を構成するチオール化合物2の厚さは特に限定されるものではなく、表面潤滑層3を基材層1表面に強固に固定化でき、使用時の優れた表面潤滑性を永続的に発揮することができるだけの厚さを有していればよい。通常、厚さは10μm以下、好ましくは1μm以下である。また、いわゆる分子接着剤として有効に機能し得るものであれば、基材層1表面にチオール化合物の一分子膜層が形成された状態(=厚さ方向はチオール化合物1分子)であってもよい。さらに、チオール化合物2の厚さをより薄くすることによってカテーテル、ガイドワイヤ、留置針等の医療用具をより細くできるという観点から、基材層1表面にチオール化合物2が含浸した状態であってもよい。
(2a) Thickness of the
(2b)チオール化合物2の固定法
本発明の医療用具では、窒素を含有するイオン化ガスプラズマを照射すること(プラズマ処理)によりチオール化合物2を基材層1に固定化させている。
(2b) Fixing method of
チオール化合物2を基材層1に固定化させる具体的な形態としては、(i)チオール基を有する化合物を溶解した溶液を基材層表面に塗布する前に、前記基材層表面に窒素を含有するイオン化ガスプラズマを照射することによって、前記チオール基を有する化合物を基材層に担持する形態が挙げられる。具体的には、チオール化合物を溶解した溶液(チオール化合物溶液)を基材層1表面に塗布する前(チオール化合物塗布前)に、予め基材層1表面をプラズマ処理することによって、表面を改質、活性化した後、チオール化合物溶液を塗布して、チオール化合物2と基材層1表面とを反応(結合/固定化)させる形態である。当該形態では、窒素を含有するイオン化ガスプラズマ照射を行うことによって、基材層1表面にカルボキシル基、ヒドロキシル基、パーオキサイド等の官能基が導入される。これにより、チオール化合物溶液に対する濡れ性が高まり、基材層1表面にチオール化合物2を均一に塗布することができるとともに、基材層1表面の上記官能基とチオール化合物2のチオール基とが反応することによって、基材層1表面にチオール化合物2を強固に固定化することができる。そして、上記の通りイオン化ガスに窒素を含有させることで、基材層1表面に上記官能基に加えてアミノ基を導入することができる。これにより、アミノ基とチオール化合物2の間に水素結合や極性相互作用が働き、チオール化合物2が基材層1表面により安定的に保持されるため、チオール化合物2とパーオキサイド等の官能基との反応が促進され、基材層1表面にチオール化合物2をより効率的に固定化することができる。
As a specific form for immobilizing the
また、上記(i)の形態において、チオール化合物溶液を塗布した後、加熱処理等をしてもよい。チオール化合物溶液を塗布した後、加熱処理等をすることによって、基材層1表面とチオール化合物2の反応の促進、あるいはチオール化合物2自体を重合させることが可能である。このため、上記加熱処理等によって、チオール化合物を基材層表面により強固に固定化することができる。
In the form (i), a heat treatment or the like may be performed after the thiol compound solution is applied. After applying the thiol compound solution, it is possible to accelerate the reaction between the surface of the
また、(ii)チオール基を有する化合物を溶解した溶液を基材層表面に塗布し、その後窒素を含有するイオン化ガスプラズマを照射することによって、前記チオール基を有する化合物を基材層に担持する形態が挙げられる。具体的には、基材層1表面にチオール化合物溶液を塗布した後(チオール化合物塗布後)に、当該プラズマ処理を行うことで、チオール化合物2と基材層1表面とを反応(固定化)させる形態である。当該形態では、上記のような基材層1表面に官能基を導入する効果に加えて、チオール化合物2自体を活性化させて、チオール化合物2と基材層1表面との反応や、チオール化合物2同士の重合を促進することができ、その結果、基材層1表面にチオール化合物2を強固に固定化することができる。
Also, (ii) a solution in which a compound having a thiol group is dissolved is applied to the surface of the substrate layer, and then the compound having a thiol group is supported on the substrate layer by irradiating ionized gas plasma containing nitrogen. A form is mentioned. Specifically, after the thiol compound solution is applied to the surface of the base material layer 1 (after the application of the thiol compound), the plasma treatment is performed to react (immobilize) the
また、上記(ii)の形態において、窒素を含有するイオン化ガスプラズマを照射した後、加熱処理等をしてもよい。プラズマ処理を行った後、加熱処理等をすることによって、基材層1表面とチオール化合物2の反応、あるいはチオール化合物2自体の重合を促進させることが可能である。このため、上記加熱処理等によって、チオール化合物を基材層表面により強固に固定化することができる。
In the form (ii), heat treatment or the like may be performed after irradiation with ionized gas plasma containing nitrogen. After the plasma treatment, the reaction between the surface of the
さらに、上記(i)のチオール化合物塗布前と(ii)のチオール化合物塗布後のプラズマ処理を併用する形態、すなわち、(iii)基材層表面にイオン化ガスプラズマを照射し、前記チオール基を有する化合物を溶解した溶液を基材層表面に塗布し、再度イオン化ガスプラズマを照射することによって、前記チオール基を有する化合物を基材層に担持し、この際、上記2回のイオン化ガスプラズマの少なくとも一方が窒素を含有するイオン化ガスプラズマである形態が挙げられる。具体的には、チオール化合物塗布前に、基材層1表面をプラズマ処理することによって、表面を改質、活性化した後、チオール化合物溶液を塗布し、さらにその後再度プラズマ処理を行うことで、チオール化合物2と基材層1表面とを反応(固定化)させ、この際、上記2回のイオン化ガスプラズマの少なくとも一方が窒素を含有するイオン化ガスプラズマである形態である。当該形態において、基材層表面へのチオール化合物の固定強度などを考慮すると、上記2回のイオン化ガスプラズマ(基材層にチオール化合物溶液を塗布する前のイオン化ガスプラズマ処理、チオール化合物溶液を塗布した後のイオン化ガスプラズマ処理)のうち、少なくとも、基材層にチオール化合物溶液を塗布する前に窒素を含有するイオン化ガスプラズマ処理を予め行うことが好ましい。より好ましくは、チオール化合物溶液の塗布前及び後の双方で窒素を含有するイオン化ガスプラズマ処理を行うことである。当該形態は、基材層1表面にチオール化合物2を非常に強固に固定化することができ、基材層全面にわたって表面潤滑層を均一な強度でかつ均等に結合(固定化)できる点で優れている。特に上記2回のイオン化ガスプラズマが共に窒素を含有するイオン化ガスプラズマである場合には、上記効果がより一層達成しうる。
Further, a mode in which the plasma treatment before the application of the thiol compound of (i) and the plasma treatment after the application of the thiol compound of (ii) are used together, that is, (iii) the substrate layer surface is irradiated with ionized gas plasma and has the thiol group The compound-dissolved solution is applied to the surface of the base material layer, and again irradiated with ionized gas plasma, thereby supporting the compound having the thiol group on the base material layer. At this time, at least one of the above two ionized gas plasmas is supported. One of the forms is an ionized gas plasma containing nitrogen. Specifically, by applying a plasma treatment to the surface of the
この際にも、再度プラズマ処理を行った後、加熱処理等をしてもよい。このような加熱処理によって、基材層1表面とチオール化合物2の反応、あるいはチオール化合物2自体の重合を促進させることが可能である。このため、上記加熱処理等によって、チオール化合物を基材層表面により強固に固定化することができる。
Also in this case, heat treatment or the like may be performed after the plasma treatment is performed again. By such heat treatment, it is possible to promote the reaction between the surface of the
なお、チオール化合物は複数のチオール基を有するため、基材層表面への担持(固定化)に寄与しない残存チオール基が存在する。この残存チオール基が後述の親水性高分子の反応性官能基(例えば、エポキシ基、イソシアネート基等)と反応して、表面潤滑層が形成される。このようにして、チオール化合物を介して表面潤滑層を種々の高分子材料からなる基材層表面に簡便な手法で強固に固定化することができ、使用時の優れた表面潤滑性を永続的に発揮することができる。 Since the thiol compound has a plurality of thiol groups, there are residual thiol groups that do not contribute to supporting (immobilization) on the surface of the base material layer. This residual thiol group reacts with a reactive functional group (for example, an epoxy group, an isocyanate group, etc.) of the hydrophilic polymer described later to form a surface lubricating layer. In this way, the surface lubrication layer can be firmly fixed to the surface of the base material layer made of various polymer materials through a thiol compound by a simple method, and the excellent surface lubricity during use is permanent. Can be demonstrated.
以下、上記(i)、(ii)の形態を併用する上記(iii)の形態につき、説明する。なお、下記形態では、基材層にチオール化合物溶液を塗布する前のイオン化ガスプラズマ処理およびチオール化合物溶液を塗布した後のイオン化ガスプラズマ処理双方で窒素を含有するイオン化ガスプラズマ処理を行っているが、上記したように双方で行う必要はなく、少なくとも一方は窒素を含有しないイオン化ガスプラズマ処理を行ってもよい。ここで、「窒素を含有しないイオン化ガスプラズマ処理」とは、下記プラズマ処理に窒素を含ませない以外は、同様の操作、条件を適用できる。 Hereinafter, the form (iii) using the forms (i) and (ii) together will be described. In the following embodiment, the ionized gas plasma treatment containing nitrogen is performed in both the ionized gas plasma treatment before applying the thiol compound solution to the base material layer and the ionized gas plasma treatment after applying the thiol compound solution. As described above, it is not necessary to perform both, and at least one of them may be subjected to ionized gas plasma treatment not containing nitrogen. Here, with “ionized gas plasma treatment not containing nitrogen”, the same operation and conditions can be applied except that the following plasma treatment does not contain nitrogen.
(2b−1)チオール化合物塗布前のプラズマ処理
本形態では、基材層1にチオール化合物溶液を塗布する前(チオール化合物塗布前)に、予め基材層1表面に窒素を含有するイオン化ガスプラズマを照射するものである。これにより、基材層1表面を改質、活性化し、チオール化合物溶液に対する基材層1表面の濡れ性を向上させることができるため、チオール化合物溶液を基材層1表面に均一に塗布することができる。当該イオン化ガスプラズマ処理は、カテーテル、ガイドワイヤ、留置針等の医療用具の細く狭い内表面であっても、所望のプラズマ処理を施すことが可能である。
(2b-1) Plasma treatment before application of thiol compound In this embodiment, before applying the thiol compound solution to the base material layer 1 (before application of the thiol compound), ionized gas plasma containing nitrogen on the surface of the
基材層1表面に窒素を含有するイオン化ガスプラズマ照射する前に、予め適切な方法で基材層1表面を洗浄しておくのが好ましい。なお、上記(ii)の形態のように、チオール化合物塗布前のプラズマ処理を行わずに、チオール化合物塗布を行う場合でも、当該洗浄処理は、チオール化合物溶液を塗布する前に実施しておくのが望ましい。
Before irradiating the surface of the
チオール化合物塗布前のプラズマ処理での圧力条件は、特に制限されるものではなく、減圧下、大気圧下のいずれでも可能であるが、自由な角度からプラズマガスの照射ができ、真空装置が必要なく装置が小型化でき、省スペース、低コストでのシステム構成が実現でき、経済的にも優れることから、大気圧下で行うのが好ましい。また、プラズマ照射ノズルをガイドワイヤなどの被処理物を中心にその周りを一回転させながらプラズマガスを照射することで、被処理物の全周をムラなく均一にプラズマ処理することもできる。 There are no particular restrictions on the pressure conditions in the plasma treatment prior to the application of the thiol compound, which can be under reduced pressure or atmospheric pressure, but can be irradiated with plasma gas from any angle and requires a vacuum device. The apparatus can be downsized, space-saving, low-cost system configuration can be realized, and it is economically preferable. Further, the plasma irradiation nozzle is irradiated with the plasma gas while rotating around the object to be processed such as a guide wire, so that the entire periphery of the object to be processed can be uniformly subjected to the plasma processing.
チオール化合物塗布前のプラズマ処理に用いることのできるイオン化ガスとしては、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、二酸化炭素、一酸化炭素、水蒸気、酸素および水素等が挙げられる。この際、上記イオン化ガスは、単独で使用されてもあるいは2種以上の混合ガスの形態で使用されてもよい。 Examples of the ionized gas that can be used for the plasma treatment before the application of the thiol compound include helium, neon, argon, krypton, carbon dioxide, carbon monoxide, water vapor, oxygen, and hydrogen. At this time, the ionized gas may be used alone or in the form of two or more mixed gases.
ここで、上記イオン化ガスは、窒素を含有する。イオン化ガス中に窒素を含有させることにより、上記したように、基材層表面にチオール化合物をより効率的に固定化することができるという利点がある。ここで、イオン化ガス中の窒素の含有量は、上記したような効果を奏する量であれば特に制限されない。 Here, the ionized gas contains nitrogen. By including nitrogen in the ionized gas, as described above, there is an advantage that the thiol compound can be more efficiently immobilized on the surface of the base material layer. Here, the content of nitrogen in the ionized gas is not particularly limited as long as it has an effect as described above.
チオール化合物塗布前のプラズマ処理での照射時間は、10分以下、好ましくは0.1秒〜5分、さらに好ましくは1秒〜3分の範囲である。該プラズマ照射時間の下限値は特に制限されるものではないが、0.1秒未満の場合、基材層1表面の濡れ性(改質、活性化)を十分に高めるだけの時間の確保が困難となる可能性があり、チオール化合物の薄い被膜の形成が困難となる可能性がある。一方、プラズマ照射時間が10分を超える場合、基材層1表面の活性化が過度になるため、基材層1表面の高分子材料の結合の切断・再結合(分子構造の組み換えや架橋)が過剰に生じる可能性がある。
The irradiation time in the plasma treatment before application of the thiol compound is 10 minutes or less, preferably 0.1 second to 5 minutes, and more preferably 1 second to 3 minutes. The lower limit of the plasma irradiation time is not particularly limited, but when it is less than 0.1 seconds, it is possible to secure a time sufficient to sufficiently increase the wettability (modification, activation) of the surface of the
チオール化合物塗布前のプラズマ処理での被処理物(チオール化合物塗布前の基材層1)の温度は、該基材層1表面の高分子材料の融点より低い温度で、基材層1が変形しない温度範囲であれば特に制限されるものではなく、常温のほか、加熱または冷却して高温または低温にしてもよい。経済的な観点からは、加熱装置や冷却装置が不要な温度(5〜35℃)がよい。
The temperature of the workpiece (
チオール化合物塗布前のプラズマ処理条件としては、被処理物の面積、さらには使用するプラズマ照射装置やイオン化ガス種に応じて印加電流やガス流量等の照射条件を適宜決定すればよく、特に制限されるものではない。 The plasma treatment conditions prior to the application of the thiol compound are not particularly limited as long as the irradiation conditions such as the applied current and gas flow rate are appropriately determined according to the area of the object to be processed, and the plasma irradiation apparatus and ionized gas type to be used. It is not something.
チオール化合物塗布前のプラズマ処理に用いることのできるプラズマ照射装置(システム)としては、特に制限されるものではなく、例えば、ガス分子を導入し、これを励起してプラズマを発生するプラズマ発生管と、このプラズマ発生管の中のガス分子を励起する電極とを有し、プラズマ発生管の一端からプラズマを放出するような構成のプラズマ照射装置(システム)などが例示できるが、こうした構成(システム)に何ら制限されるものではない。例えば、既に市販されているものから、カテーテル、ガイドワイヤ、留置針等への照射に適しているイオン化ガスプラズマ照射装置(システム)、特に大気圧でのプラズマ照射装置(システム)を用いることができる。具体的には、TRI−STAR TECHNOLOGIES製のプラズマ照射装置:DURADYNE(商品名又は商標名)、DIENER ELECTRONIC製のプラズマ照射装置:PLASMABEAMなどを利用できるが、これらに何ら制限されるものではない。 The plasma irradiation apparatus (system) that can be used for plasma treatment before thiol compound coating is not particularly limited. For example, a plasma generation tube that introduces gas molecules and excites them to generate plasma. A plasma irradiation apparatus (system) having an electrode for exciting gas molecules in the plasma generation tube and configured to emit plasma from one end of the plasma generation tube can be exemplified. There is no limit to this. For example, an ionized gas plasma irradiation apparatus (system) suitable for irradiation to a catheter, a guide wire, an indwelling needle, etc., particularly a plasma irradiation apparatus (system) at atmospheric pressure can be used from those already on the market. . Specifically, a plasma irradiation device made by TRI-STAR TECHNOLOGIES: DURADYNE (trade name or trade name), a plasma irradiation device made by DIENER ELECTRONIC: PLASMABEAM, etc. can be used, but it is not limited thereto.
(2b−2)チオール化合物塗布
高分子基材層1にチオール化合物溶液を塗布する手法としては、特に制限されるものではなく、塗布・印刷法(コーティング法)、浸漬法(ディッピング法)、噴霧法(スプレー法)、スピンコート法、混合溶液含浸スポンジコート法など、従来公知の方法を適用することができる。
(2b-2) Application of thiol compound The method for applying the thiol compound solution to the polymer
以下では、チオール化合物溶液中に高分子基材層1を浸漬し、乾燥して、該チオール化合物溶液を高分子基材層1表面に塗布した後、プラズマ処理し、さらに加熱処理等によって、高分子基材層1表面に該チオール化合物2が固定化されてなる形態を例にとり詳しく説明する。但し、本発明がこれらの形成法に何ら制限されるものでない。なお、この形態の場合、高分子基材層1をチオール化合物溶液中に浸漬した状態で、系内を減圧にして脱泡させることで、カテーテル、ガイドワイヤ、注射針等の医療用具の細く狭い内面に素早く溶液を浸透させてチオール化合物2の塗布を促進するようにしても良い。
In the following, after immersing the polymer
また、高分子基材層1表面の一部にのみチオール化合物2を固定化する場合には、高分子基材層1の一部のみにチオール化合物溶液を塗布した(浸漬し、乾燥した)後、再度窒素を含有するイオン化ガスプラズマ照射を行い、さらに、必要に応じて加熱処理等を行うことで、高分子基材層1の所望の表面部位に、チオール化合物2を固定化することができる。
In the case where the
高分子基材層1表面の一部のみをチオール化合物溶液中に浸漬するのが困難な場合には、予めチオール化合物2を固定化しない高分子基材層1の表面部分を着脱(装脱着)可能な適切な部材や材料で保護(被覆等)してから、該基材層1をチオール化合物溶液中に浸漬し、乾燥させた後、再度窒素を含有するイオン化ガスプラズマ照射を行い、さらに、必要に応じて加熱処理等を行った後、チオール化合物2を固定化しない高分子基材層1の表面部分の保護部材(材料)を取り外すことで、該基材層1の所望の表面部位に、チオール化合物2を固定化することができる。但し、本発明では、これらの固定化法に何ら制限されるものではなく、従来公知の方法を適宜利用して、チオール化合物2を固定化することができる。例えば、基材層1の一部のみをチオール化合物溶液中に浸漬するのが困難な場合には、浸漬法に代えて、他のコーティング手法(例えば、塗布法や噴霧法など)を適用してもよい。但し、医療用具10の構造上、円筒状の用具の外表面と内表面の双方が、湿潤時に該表面が潤滑性を有する必要があるような場合(図1、図2の構成を参照のこと)には、一度に外表面と内表面の双方をコーティングすることができる点で、浸漬法(ディッピング法)が優れている。
When it is difficult to immerse only a part of the surface of the polymer
チオール化合物2を固定化させる際に用いられるチオール化合物溶液の濃度は、特に限定されない。所望の厚さに均一に被覆する観点からは、チオール化合物溶液中のチオール化合物の濃度は、好ましくは0.001〜20wt%、より好ましくは0.01〜10wt%である。チオール化合物の濃度が0.001wt%未満の場合、基材層1表面に十分な量のチオール化合物を固定化することができず、表面潤滑層3を基材層1に強固に固定することが困難な場合がある。また、チオール化合物の濃度が20wt%を超える場合、チオール化合物溶液の粘度が高くなりすぎて、均一な厚さのチオール化合物を固定化できない可能性があり、カテーテル、ガイドワイヤ、注射針等の医療用具の細く狭い内面に素早く被覆するのが困難な場合がある。但し、上記範囲を外れても、本発明の作用効果に影響を及ぼさない範囲であれば、十分に利用可能である。
The concentration of the thiol compound solution used when immobilizing the
また、チオール化合物溶液に用いられる溶媒としては、例えば、水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、エチレングリコール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、酢酸エチル等のエステル類、クロロホルム等のハロゲン化物、ブタン、ヘキサン等のアルカン類、テトラヒドロフラン(THF)、ブチルエーテル等のエーテル類、ベンゼン、トルエン等の芳香族類、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)等のアミド類などを例示することができるが、これらに何ら制限されるものではない。これらは1種単独で用いてもよいし、2種以上併用してもよい。 Examples of the solvent used in the thiol compound solution include water, methanol, ethanol, isopropanol, ethylene glycol and other alcohols, acetone, methyl ethyl ketone and other ketones, ethyl acetate and other esters, chloroform and other halides, Examples include alkanes such as butane and hexane, ethers such as tetrahydrofuran (THF) and butyl ether, aromatics such as benzene and toluene, amides such as N, N-dimethylformamide (DMF), and the like. There is no limitation to these. These may be used alone or in combination of two or more.
チオール化合物溶液の乾燥条件としては、特に制限されるものではない。即ち、本発明の対象となるカテーテル、ガイドワイヤ、留置針等の医療用具は非常に小さなものであり、乾燥にさほど時間がかからないことから、自然乾燥でも十分である。かかる観点から、チオール化合物溶液の乾燥条件における乾燥温度は、好ましくは20〜150℃、より好ましくは20〜130℃である。また、乾燥時間は、好ましくは1秒〜1時間、より好ましくは1〜30分である。乾燥時間が1秒未満の場合、未乾燥状態のままチオール化合物塗布後のプラズマ処理を行うことで、残存する溶媒等の蒸発にプラズマエネルギーが吸収され、基材層1表面やチオール化合物の活性化(例えば、基材層1の表面エネルギーを高めたり、基材層1表面やチオール化合物の元素の励起・イオン化などにより官能基(活性点ないし活性部位)を創り出したりすることなど)を十分に図ることが難しくなる可能性があり、基材層表面との結合部の確保が十分に図れない可能性がある。一方、乾燥時間が1時間を超える場合には、上記時間を超えて乾燥することによる更なる効果が得られず不経済でありうる。
The drying conditions for the thiol compound solution are not particularly limited. That is, since medical devices such as catheters, guide wires, and indwelling needles that are the subject of the present invention are extremely small and do not take much time to dry, natural drying is sufficient. From this viewpoint, the drying temperature of the thiol compound solution under the drying conditions is preferably 20 to 150 ° C, more preferably 20 to 130 ° C. The drying time is preferably 1 second to 1 hour, more preferably 1 to 30 minutes. When the drying time is less than 1 second, plasma energy is absorbed by evaporation of the remaining solvent, etc. by performing plasma treatment after application of the thiol compound in an undried state, and activation of the surface of the
乾燥時の圧力条件も何ら制限されるものではなく、常圧(大気圧)下で行うことができるほか、加圧ないし減圧下で行ってもよい。 The pressure condition at the time of drying is not limited at all, and it can be performed under normal pressure (atmospheric pressure), or under pressure or reduced pressure.
乾燥手段(装置)としては、例えば、オーブン、減圧乾燥機などを利用することができるが、自然乾燥の場合には、特に乾燥手段(装置)は不要である。 As the drying means (apparatus), for example, an oven, a vacuum dryer, or the like can be used. However, in the case of natural drying, the drying means (apparatus) is not particularly necessary.
(2b−3)チオール化合物塗布後のプラズマ処理
本形態では、基材層1表面に上記チオール化合物溶液を塗布後、再度窒素を含有するイオン化ガスプラズマ照射するものである。かかるプラズマ処理によっても、チオール化合物2自体を活性化させて、チオール化合物2と基材層1表面とを結合(反応)させ、チオール化合物2を強固に固定化することができる。また、当該プラズマ処理によってチオール化合物2自体を重合させることも可能である。
(2b-3) Plasma treatment after application of thiol compound In this embodiment, the thiol compound solution is applied to the surface of the
本形態のチオール化合物塗布後のプラズマ処理は、上述したチオール化合物塗布前のプラズマ処理と同じ条件で行うことができ、チオール化合物塗布前のプラズマ処理と同じプラズマ照射装置を用いて行うことができる。なお、本形態のチオール化合物塗布後のプラズマ処理条件は、チオール化合物塗布前のプラズマ処理に記載された好ましい範囲の条件であることが好ましいが、チオール化合物塗布前のプラズマ処理と同条件である必要はない。 The plasma treatment after application of the thiol compound of this embodiment can be performed under the same conditions as the plasma treatment before application of the thiol compound described above, and can be performed using the same plasma irradiation apparatus as the plasma treatment before application of the thiol compound. In addition, it is preferable that the plasma treatment conditions after application of the thiol compound of the present embodiment are in a preferable range described in the plasma treatment before application of the thiol compound, but the same conditions as the plasma treatment before application of the thiol compound are required. There is no.
(2b−4)チオール化合物2を固定化する際の加熱処理
チオール化合物2を基材層1表面に固定化する際、上記チオール化合物塗布後のプラズマ処理を行った後、さらに加熱処理等によって、基材層1表面とチオール化合物2の反応、あるいはチオール化合物2自体の重合を促進させることも可能である。
(2b-4) Heat treatment when immobilizing the
かかる加熱処理としては、チオール化合物の反応(重合)が促進し得るものであればよく、基材層1表面の高分子材料の温度特性(耐熱性)に応じて適宜決定すればよい。
Such heat treatment is not particularly limited as long as the reaction (polymerization) of the thiol compound can be accelerated, and may be appropriately determined according to the temperature characteristics (heat resistance) of the polymer material on the surface of the
従って、加熱処理温度(加熱炉などの加熱装置の設定温度)の下限としては、チオール化合物の反応(重合)が促進し得る温度以上、好ましくは40℃以上、より好ましくは50℃以上である。チオール化合物の反応(重合)が促進し得る温度未満では、所望の反応(重合)が十分に促進せず、加熱処理に長持間を要し不経済であるか、あるいは加熱処理による反応(重合)が進まず、所期の効果が得られない可能性がある。 Therefore, the lower limit of the heat treatment temperature (set temperature of a heating apparatus such as a heating furnace) is not less than a temperature at which the reaction (polymerization) of the thiol compound can be accelerated, preferably not less than 40 ° C., more preferably not less than 50 ° C. If the temperature is lower than the temperature at which the reaction (polymerization) of the thiol compound can be accelerated, the desired reaction (polymerization) is not sufficiently promoted, and the heat treatment takes a long time and is uneconomical, or the reaction by heat treatment (polymerization) May not be able to achieve the desired effect.
また、加熱処理温度の上限としては、基材層1表面の高分子材料の融点−5℃の温度以下、好ましくは融点−10℃以下である。基材層1表面の高分子材料の融点−5℃の温度よりも高い温度の場合には、反応(重合)は十分促進される反面、加熱炉などの加熱装置内部の温度分布によっては設定温度以上となることもあり、基材層1表面の一部が溶融したり、変形を受ける可能性がある。
Moreover, as an upper limit of heat processing temperature, it is below melting | fusing point-5 degreeC temperature of the polymeric material of the
また、基材層1表面に用いる幾つかの高分子材料を例にとり、その加熱処理温度範囲を以下に例示するが、本形態の加熱処理温度の範囲は、これらに何ら制限されるものではない。例えば、基材層1表面の高分子材料が各種ナイロン(ナイロン6、11、12、66等)の場合、加熱処理温度は、40〜150℃、好ましくは60〜140℃である。基材層1表面の高分子材料が各種ポリエチレン(LDPE、LLDPE、HDPE等)の場合、加熱処理温度は、40〜85℃、好ましくは50〜80℃である。
Further, some polymer materials used for the surface of the
加熱処理時間は、チオール化合物の反応(重合)が促進し得るものであればよく、特に制限されるものではないが、15分〜24時間、好ましくは30分〜12時間加熱処理するのが望ましい。加熱時間が15分未満の場合には、反応(重合)が十分になされない可能性があり、未反応のチオール化合物量が増加する可能性があり、基材層1表面との結合部の確保やチオール化合物2自身の重合による強度補填効果が十分に発現し得ない可能性がある。一方、加熱時間が24時間を超える場合には、上記時間を超えて加熱することによる更なる効果が得られず不経済である。
The heat treatment time is not particularly limited as long as the reaction (polymerization) of the thiol compound can be accelerated, but it is desirable to heat-treat for 15 minutes to 24 hours, preferably 30 minutes to 12 hours. . When the heating time is less than 15 minutes, there is a possibility that the reaction (polymerization) may not be sufficiently performed, the amount of unreacted thiol compound may be increased, and a bonding portion with the surface of the
但し、上記加熱処理温度や時間に関しては、チオール化合物塗布後のプラズマ処理を、例えば、低真空下で行う場合等では、プラズマ処理中に被処理物の温度が上昇し、プラズマ処理中に加熱処理と同じ反応(重合)が成される場合もあり、プラズマ処理条件も考慮して適宜決定するのが望ましいと言える。 However, regarding the above heat treatment temperature and time, when the plasma treatment after application of the thiol compound is performed under a low vacuum, for example, the temperature of the object to be treated rises during the plasma treatment, and the heat treatment is conducted during the plasma treatment. In some cases, the same reaction (polymerization) may be performed, and it may be desirable to appropriately determine the plasma treatment conditions.
加熱処理時の圧力条件も何ら制限されるものではなく、常圧(大気圧)下で行うことができるほか、加圧ないし減圧下で行ってもよい。 The pressure condition during the heat treatment is not limited at all, and it can be performed under normal pressure (atmospheric pressure), or under pressure or reduced pressure.
また、チオール化合物同士を重合させる場合、該重合を促進することができるように、熱重合開始剤などの添加剤を、チオール化合物溶液に適時適量を添加して用いてもよい。加熱手段(装置)としては、例えば、オーブン、ドライヤー、マイクロ波加熱装置などを利用することができる。 Moreover, when superposing | polymerizing thiol compounds, you may use additives, such as a thermal-polymerization initiator, adding a timely appropriate quantity to a thiol compound solution so that this polymerization can be accelerated | stimulated. As the heating means (device), for example, an oven, a dryer, a microwave heating device, or the like can be used.
チオール化合物の反応あるいは重合を促進させるための加熱処理以外の他の方法としては、例えば、UV照射、電子線照射などが例示できるが、これらに何ら制限されるものではない。 Examples of methods other than the heat treatment for promoting the reaction or polymerization of the thiol compound include UV irradiation and electron beam irradiation, but are not limited thereto.
チオール化合物2を固定化後、余剰のチオール化合物を、適用な溶剤で洗浄し、高分子基材層1表面に固定化したチオール化合物のみを残存させることも可能である。
After immobilizing the
(3)表面潤滑層3
本実施形態の医療用具を構成する表面潤滑層3は、チオール化合物2表面を覆う反応性官能基を有する親水性高分子からなるものである。
(3)
The
ここで、表面潤滑層3を構成する反応性官能基を有する親水性高分子(以下、単に「親水性高分子」とも略記する)は、チオール化合物2表面(全体)を覆うように形成されていればよい。ただし、チオール化合物2が湿潤時に表面が潤滑性を有することが求められる表面部分を含めた基材層1表面全体に形成されている場合には、チオール化合物2表面のうち、湿潤時に表面が潤滑性を有することが求められる表面部分(一部の場合もあれば全部の場合もある)のみに表面潤滑層3が形成されていてもよい。
Here, the hydrophilic polymer having a reactive functional group constituting the surface lubricating layer 3 (hereinafter, also simply referred to as “hydrophilic polymer”) is formed so as to cover the surface (the whole) of the
(3a)表面潤滑層3の厚さ
本実施形態の医療用具を構成する表面潤滑層3の厚さとしては、使用時の優れた表面潤滑性を永続的に発揮することができるだけの厚さを有していればよく、特に制限されない。未膨潤時の表面潤滑層3の厚さは、好ましくは0.5〜5μm、より好ましくは1〜5μm、さらにより好ましくは1〜3μmの範囲である。未膨潤時の表面潤滑層3の厚さが0.5μm未満の場合、均一な被膜を形成するのが困難であり、湿潤時に表面の潤滑性を十分発揮し得ない場合がある。一方、未膨潤時の表面潤滑層3の厚さが5μmを超える場合、高厚な表面潤滑層が膨潤することで、該医療用具10を生体内の血管等に挿入する際に、血管等と該医療用具とのクリアランスが小さい部位(例えば、末梢血管内部等)を通す際、こうした血管等の内部組織を損傷したり、該医療用具を通しにくくなる可能性がある。
(3a) Thickness of the
(3b)親水性高分子
表面潤滑層3を構成する反応性官能基を有する親水性高分子は、特に制限されないが、例えば、反応性官能基を分子内に有する単量体と親水性単量体とを共重合することにより得ることができる。
(3b) Hydrophilic polymer The hydrophilic polymer having a reactive functional group constituting the
(3b−1)反応性官能基を有する単量体
上記反応性官能基を有する単量体としては、チオール基と反応性を有するものであればよく、特に制限されない。具体的には、グリシジルアクリレートやグリシジルメタクリレートなどのエポキシ基を有する単量体、アクリロイルオキシエチルイソシアネートなどのイソシアネート基を分子内に有する単量体等を例示できる。なかでも、チオール基との反応性に優れることから反応性官能基がエポキシ基であり、反応が熱により促進され、さらに架橋構造を形成することで不溶化して容易に表面潤滑層を形成させることができ、取り扱いも比較的容易であるグリシジルアクリレートやグリシジルメタクリレートなどのエポキシ基を有する単量体が好ましい。エポキシ基を有する単量体を用いた親水性高分子は、イソシアネート基を分子内に有する単量体を用いた親水性高分子に比べて、加熱操作(加熱処理)等で反応させる際の反応速度が穏やか(適切な速度)である。そのため、加熱操作等で反応させる際、チオール化合物との反応や反応性官能基同士の架橋反応の際に、すぐに反応してゲル化したり、固まって表面潤滑層の架橋密度が上昇し潤滑性が低下するのを抑制・制御することができる程度に反応速度が穏やか(適切な速度)であることから、取り扱い性が良好であるといえる。これらの反応性官能基を有する単量体は、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
(3b-1) Monomer having a reactive functional group The monomer having a reactive functional group is not particularly limited as long as it has reactivity with a thiol group. Specific examples include monomers having an epoxy group such as glycidyl acrylate and glycidyl methacrylate, monomers having an isocyanate group such as acryloyloxyethyl isocyanate in the molecule, and the like. Above all, the reactive functional group is an epoxy group because of its excellent reactivity with thiol groups, the reaction is accelerated by heat, and it is insolubilized by forming a crosslinked structure to easily form a surface lubricating layer. A monomer having an epoxy group, such as glycidyl acrylate and glycidyl methacrylate, which can be used and is relatively easy to handle, is preferable. Hydrophilic polymers using monomers with epoxy groups are more reactive than those with monomers having isocyanate groups in the molecule when they are reacted by heating (heating treatment). The speed is moderate (appropriate speed). Therefore, when reacting by heating operation, etc., when reacting with a thiol compound or crosslinking reaction between reactive functional groups, it reacts immediately and gels or hardens to increase the crosslinking density of the surface lubrication layer and lubricity. Since the reaction rate is moderate (appropriate rate) to such an extent that it is possible to suppress and control the decrease in the pH, it can be said that the handleability is good. These monomers having reactive functional groups may be used alone or in combination of two or more.
(3b−2)親水性単量体
上記親水性単量体としては、体液や水系溶媒中において潤滑性を発現すればいかなるものであってもよく、特に制限されない。具体的には、アクリルアミドやその誘導体、ビニルピロリドン、アクリル酸やメタクリル酸及びそれらの誘導体、糖、リン脂質を側鎖に有する単量体を例示できる。例えば、N−メチルアクリルアミド、N,N−ジメチルアクリルアミド、アクリルアミド、アクリロイルモルホリン、N,N−ジメチルアミノエチルアクリレート、ビニルピロリドン、2−メタクリロイルオキシエチルフォスフォリルコリン、2−メタクリロイルオキシエチル−D−グリコシド、2−メタクリロイルオキシエチル−D−マンノシド、ビニルメチルエーテル、ヒドロキシエチルメタクリレートなどを好適に例示できる。合成の容易性や操作性の観点から、好ましくは、N,N−ジメチルアクリルアミドである。これらの親水性単量体は、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
(3b-2) Hydrophilic monomer The hydrophilic monomer is not particularly limited as long as it exhibits lubricity in body fluids and aqueous solvents. Specific examples include monomers having side chains of acrylamide and derivatives thereof, vinylpyrrolidone, acrylic acid and methacrylic acid and derivatives thereof, sugars, and phospholipids. For example, N-methylacrylamide, N, N-dimethylacrylamide, acrylamide, acryloylmorpholine, N, N-dimethylaminoethyl acrylate, vinylpyrrolidone, 2-methacryloyloxyethylphosphorylcholine, 2-methacryloyloxyethyl-D-glycoside, 2-Methacryloyloxyethyl-D-mannoside, vinyl methyl ether, hydroxyethyl methacrylate and the like can be suitably exemplified. From the viewpoint of ease of synthesis and operability, N, N-dimethylacrylamide is preferred. These hydrophilic monomers may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.
(3b−3)親水性高分子の好適な形態
良好な潤滑性を発現するためには反応性官能基を有する単量体が集まって反応性ドメインを形成し、かつ親水性単量体が集まって親水性ドメインを形成しているブロックもしくはグラフトコポリマーであることが望ましい。こうしたブロックもしくはグラフトコポリマーであると、表面潤滑層の強度や潤滑性において良好な結果が得られる。
(3b-3) Preferred form of hydrophilic polymer In order to develop good lubricity, monomers having reactive functional groups gather to form a reactive domain, and hydrophilic monomers gather. And a block or graft copolymer forming a hydrophilic domain. With such a block or graft copolymer, good results can be obtained in the strength and lubricity of the surface lubricating layer.
これらの親水性高分子の製造法(重合法)については、特に制限されるものではなく、例えば、リビングラジカル重合法、マクロモノマーを用いた重合法、マクロアゾ開始剤等の高分子開始剤を用いた重合法、重縮合法など、従来公知の重合法を適用して製造可能である。 The production method (polymerization method) of these hydrophilic polymers is not particularly limited. For example, a living radical polymerization method, a polymerization method using a macromonomer, a polymer initiator such as a macroazo initiator is used. It can be produced by applying conventionally known polymerization methods such as conventional polymerization methods and polycondensation methods.
(3c)表面潤滑層3の形成法(基材層1−表面潤滑層3間の結合形態)
本実施形態では、上記した基材層1、チオール化合物2、表面潤滑層3を備え、上述したように前記チオール化合物2が窒素を含有するイオン化ガスプラズマを照射することにより基材層1に固定化されており、さらにチオール化合物の残存チオール基と親水性高分子の反応性官能基とを反応させることで表面潤滑層3が基材層1に結合していることを特徴とするものである。
(3c) Formation method of surface lubricating layer 3 (bonding form between
In the present embodiment, the
そのため、表面潤滑層3を形成させる場合、親水性高分子を溶解した溶液(以下、「親水性高分子溶液」とも略記する)中に、チオール化合物2を固定化した基材層1を浸漬した後、乾燥させ、加熱処理等することにより、親水性高分子の反応性官能基(例えば、エポキシ基)とチオール化合物2の残存チオール基とを反応させることで、表面潤滑層3を形成するのと同時に、表面潤滑層3が基材層1に結合(固定化)することができるものである。なお、チオール化合物2を固定化した基材層1を親水性高分子溶液中に浸漬した状態で、系内を減圧にして脱泡させることで、カテーテル、ガイドワイヤ、注射針等の医療用具の細く狭い内面に素早く溶液を浸透させて表面潤滑層3の形成を促進するようにしても良い。
Therefore, when the
なお、チオール化合物2の一部にのみ表面潤滑層3を形成させる場合には、基材層1に固定化されたチオール化合物2の一部のみを親水性高分子溶液中に浸漬した後、加熱処理等することで、チオール化合物2の所望の表面部位に親水性高分子からなる表面潤滑層3を形成することができる。
In the case where the
基材層1に固定化されたチオール化合物2の一部のみを親水性高分子溶液中に浸漬するのが困難な場合には、予め表面潤滑層3を形成しないチオール化合物2の表面部分を着脱(装脱着)可能な適切な部材や材料で保護(被覆等)した上で、基材層1に固定化されたチオール化合物2を親水性高分子溶液中に浸漬してから、表面潤滑層3を形成しないチオール化合物2の表面部分の保護部材(材料)を取り外し、その後、加熱処理等することで、チオール化合物2の所望の表面部位に親水性高分子からなる表面潤滑層3を形成することができる。但し、本発明では、これらの形成法に何ら制限されるものではなく、従来公知の方法を適宜利用して、表面潤滑層3を形成することができる。
When it is difficult to immerse only a part of the
なお、上記親水性高分子溶液中にチオール化合物2を固定化した基材層1を浸漬する方法(浸漬法ないしディッピング法)に代えて、例えば、塗布・印刷法、噴霧法(スプレー法)、スピンコート法、混合溶液含浸スポンジコート法など、従来公知の方法を適用することができる。
In place of the method (immersion method or dipping method) of immersing the
また、チオール化合物と親水性高分子とを反応させる手法としても、特に制限されるものではなく、例えば、加熱処理、光照射、電子線照射、放射線照射など、従来公知の方法を適用することができる。 Further, the method of reacting the thiol compound with the hydrophilic polymer is not particularly limited, and for example, a conventionally known method such as heat treatment, light irradiation, electron beam irradiation, or radiation irradiation can be applied. it can.
以下では、基材層1に固定化されたチオール化合物2を親水性高分子溶液中に浸漬し、該親水性高分子溶液(コーティング溶液)をチオール化合物2表面にコーティング(被覆)した後、加熱操作によって、チオール化合物の残存チオール基と親水性高分子の反応性官能基とを反応させることで、表面潤滑層3を形成する形態を例にとり詳しく説明する。但し、本発明がこれらのコーティング及び反応処理操作に何ら制限されるものでない。
In the following, the
(3c−1)親水性高分子溶液の濃度
表面潤滑層3を形成させる際に用いられる親水性高分子溶液の濃度は、特に限定されない。所望の厚さに均一に被覆する観点からは、親水性高分子溶液中の親水性高分子の濃度は、0.1〜20wt%、好ましくは0.5〜15wt%、より好ましくは1〜10wt%である。親水性高分子溶液の濃度が0.1wt%未満の場合、所望の厚さの表面潤滑層3を得るために、上記した浸漬操作を複数回繰り返す必要が生じるなど、生産効率が低くなる可能性がある。一方、親水性高分子溶液の濃度が20wt%を超える場合、親水性高分子溶液の粘度が高くなりすぎて、均一な膜をコーティングできない可能性があり、またカテーテル、ガイドワイヤ、注射針等の医療用具の細く狭い内面に素早く被覆するのが困難となる可能性がある。但し、上記範囲を外れても、本発明の作用効果に影響を及ぼさない範囲であれば、十分に利用可能である。
(3c-1) Concentration of hydrophilic polymer solution The concentration of the hydrophilic polymer solution used when forming the
(3c−2)親水性高分子溶液に用いられる溶媒
また、親水性高分子を溶解するのに用いられる溶媒としては、例えば、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、クロロホルム、アセトン、テトラヒドロフラン(THF)、ジオキサン、ベンゼンなどを例示することができるが、これらに何ら制限されるものではない。これらは1種単独で用いてもよいし、2種以上併用してもよい。
(3c-2) Solvent used for the hydrophilic polymer solution In addition, examples of the solvent used for dissolving the hydrophilic polymer include N, N-dimethylformamide (DMF), chloroform, acetone, tetrahydrofuran (THF). ), Dioxane, benzene and the like, but are not limited thereto. These may be used alone or in combination of two or more.
(3c−3)表面潤滑層3を形成させる際の反応条件(加熱条件)
また本発明は、表面潤滑層3を形成させる際に、加熱処理等により親水性高分子の反応性官能基(例えば、エポキシ基)とチオール化合物2の残存チオール基とを反応させることで、表面潤滑層3を基材層1に結合させるものである。
(3c-3) Reaction conditions (heating conditions) when forming the
In addition, when the
かかる加熱処理の条件(反応条件)としては、親水性高分子の反応性官能基とチオール化合物2の残存チオール基との反応が進行(促進)し得るものであればよく、基材層1表面の高分子材料の温度特性(耐熱性)に応じて適宜決定すればよい。
Conditions for the heat treatment (reaction conditions) are not particularly limited as long as the reaction between the reactive functional group of the hydrophilic polymer and the remaining thiol group of the
従って、加熱処理温度(加熱炉などの加熱装置の設定温度)の下限としては、親水性高分子の反応性官能基とチオール化合物2の残存チオール基との反応が促進し得る温度以上、好ましくは40℃以上、より好ましくは50℃以上である。親水性高分子の反応性官能基とチオール化合物2の残存チオール基との反応が促進し得る温度未満では、所望の反応が十分に促進せず、加熱処理に長持間を要し不経済であるか、あるいは加熱処理による所望の反応が進まず、所期の効果が得られない可能性がある。
Therefore, the lower limit of the heat treatment temperature (set temperature of a heating device such as a heating furnace) is preferably at least the temperature at which the reaction between the reactive functional group of the hydrophilic polymer and the remaining thiol group of the
また、加熱処理温度の上限としては、基材層1表面の高分子材料の融点−5℃の温度以下、好ましくは融点−10℃以下である。基材層1表面の高分子材料の融点−5℃の温度よりも高い温度の場合には、所望の反応が十分促進される反面、加熱炉などの加熱装置内部の温度分布によっては設定温度以上となることもあり、基材層1表面の一部が溶融したり、変形を受ける可能性がある。
Moreover, as an upper limit of heat processing temperature, it is below melting | fusing point-5 degreeC temperature of the polymeric material of the
また、基材層1表面に用いる幾つかの高分子材料を例にとり、その加熱処理温度範囲を以下に例示するが、本形態の加熱処理温度の範囲は、これらに何ら制限されるものではない。例えば、基材層1表面の高分子材料が各種ナイロン(ナイロン6、11、12、66等)の場合、加熱処理温度は、40〜150℃、好ましくは60〜140℃である。基材層1表面の高分子材料が各種ポリエチレン(LDPE、LLDPE、HDPE等)の場合、加熱処理温度は、40〜85℃、好ましくは50〜80℃である。
Further, some polymer materials used for the surface of the
加熱処理時間は、親水性高分子の反応性官能基とチオール化合物2の残存チオール基との反応が促進し得るものであればよく、特に制限されるものではないが、15分〜15時間、好ましくは30分〜10時間であるのが好ましい。加熱時間が15分未満の場合、反応がほとんど進行せず未反応の親水性高分子が増加する可能性があり、表面潤滑性を長期間維持するのが困難となる場合がある。一方、加熱時間が15時間を超える場合、加熱による更なる効果が得られず不経済である。
The heat treatment time is not particularly limited as long as the reaction between the reactive functional group of the hydrophilic polymer and the remaining thiol group of the
加熱処理時の圧力条件も何ら制限されるものではなく、常圧(大気圧)下で行うことができるほか、加圧ないし減圧下で行ってもよい。また、親水性高分子の反応性官能基がエポキシ基の場合、チオール化合物2の残存チオール基との反応を促進することができるように、トリアルキルアミン系化合物やピリジン等の3級アミン系化合物などの反応触媒を、親水性高分子溶液に適時適量添加して用いてもよい。加熱手段(装置)としては、例えば、オーブン、ドライヤー、マイクロ波加熱装置などを利用することができる。
The pressure condition during the heat treatment is not limited at all, and it can be performed under normal pressure (atmospheric pressure), or under pressure or reduced pressure. In addition, when the reactive functional group of the hydrophilic polymer is an epoxy group, a tertiary amine compound such as a trialkylamine compound or pyridine can be used to promote the reaction with the remaining thiol group of the
また、加熱処理以外にも親水性高分子の反応性官能基とチオール化合物2の残存チオール基との反応を促進させる方法としては、光、電子線、放射線などが例示できるが、これらに何ら制限されるものではない。
In addition to the heat treatment, examples of the method for promoting the reaction between the reactive functional group of the hydrophilic polymer and the remaining thiol group of the
表面潤滑層3を形成させた後、余剰の親水性高分子を、適用な溶剤で洗浄し、表面潤滑層3が基材層1に強固に固定化されてなる親水性高分子のみを残存させることも可能である。
After the
こうして形成された表面潤滑層3は、患者の体温(30〜40℃)において吸水し、潤滑性を発現するものである。
The
(4)本発明の医療用具10の用途
本発明の湿潤時に表面が潤滑性を有する医療用具10は、体液や血液などと接触して用いる器具のことであり、体液や生理食塩水などの水系液体中において表面が潤滑性を有し、操作性の向上や組織粘膜の損傷の低減が可能なものである。具体的には、血管内で使用されるカテーテル、ガイドワイヤ、留置針等が挙げられるが、その他にも以下の医療用具が示される。
(4) Use of the
(4a)胃管カテーテル、栄養カテーテル、経管栄養用チューブなどの経口もしくは経鼻的に消化器官内に挿入ないし留置されるカテーテル類。 (4a) Catheters that are inserted or placed in the digestive organs orally or nasally, such as gastric tube catheters, feeding catheters, tube feeding tubes, and the like.
(4b)酸素カテーテル、酸素カヌラ、気管内チューブのチューブやカフ、気管切開チューブのチューブやカフ、気管内吸引カテーテルなどの経口または経鼻的に気道ないし気管内に挿入ないし留置されるカテーテル類。 (4b) Oxygen catheters, oxygen canulas, endotracheal tube tubes and cuffs, tracheostomy tube tubes and cuffs, intratracheal suction catheters, and other catheters that are inserted or placed in the trachea or trachea orally or nasally.
(4c)尿道カテーテル、導尿カテーテル、尿道バルーンカテーテルのカテーテルやバルーンなどの尿道ないし尿管内に挿入ないし留置されるカテーテル類。 (4c) Catheters inserted or placed in the urethra or ureter, such as urethral catheters, urinary catheters, urethral balloon catheter catheters and balloons.
(4d)吸引カテーテル、排液カテーテル、直腸カテーテルなどの各種体腔、臓器、組織内に挿入ないし留置されるカテーテル類。 (4d) Catheters inserted or placed in various body cavities, organs, tissues such as suction catheters, drainage catheters, rectal catheters.
(4e)留置針、IVHカテーテル、サーモダイリューションカテーテル、血管造影用カテーテル、血管拡張用カテーテルおよびダイレーターあるいはイントロデューサーなどの血管内に挿入ないし留置されるカテーテル類、あるいは、これらのカテーテル用のガイドワイヤ、スタイレットなど。 (4e) Indwelling needles, IVH catheters, thermodilution catheters, angiographic catheters, vasodilator catheters and catheters inserted or placed in blood vessels such as dilators or introducers, or for these catheters Guide wire, stylet, etc.
(4f)人工気管、人工気管支など。 (4f) Artificial trachea, artificial bronchi, etc.
(4g)体外循環治療用の医療器(人工肺、人工心臓、人工腎臓など)やその回路類。 (4g) Medical devices for extracorporeal circulation treatment (artificial lung, artificial heart, artificial kidney, etc.) and their circuits.
[実施例1]
ポリエチレン(直鎖状低密度ポリエチレン;ニポロン−Z(登録商標) ZF−260、東ソー株式会社製)の中空チューブ(内径 0.68mm,外径 0.87mm)をアセトン中で超音波洗浄した後、プラズマ照射装置(DURADYNE、TRI−STAR TECHNOLOGIES製)を用いて、大気圧下で窒素混合アルゴンイオンガスプラズマ処理を25秒行った(チオール化合物塗布前のプラズマ処理)。この際、プラズマ処理は、窒素ガスとアルゴンガスとを1:50(=窒素ガス:アルゴンガスの体積比)で混合したガスを用いて行った。
[Example 1]
After ultrasonically washing a hollow tube (inner diameter 0.68 mm, outer diameter 0.87 mm) of polyethylene (linear low density polyethylene; Nipolon-Z (registered trademark) ZF-260, manufactured by Tosoh Corporation) in acetone, Using a plasma irradiation apparatus (DURADYNE, manufactured by TRI-STAR TECHNOLOGIES), nitrogen mixed argon ion gas plasma treatment was performed at atmospheric pressure for 25 seconds (plasma treatment before thiol compound application). At this time, the plasma treatment was performed using a gas in which nitrogen gas and argon gas were mixed at 1:50 (= volume ratio of nitrogen gas: argon gas).
上記チオール化合物塗布前のプラズマ処理を施したポリエチレンチューブを、5重量%の濃度に調節したトリス−[(3−メルカプトプロピオニルオキシ)−エチル]−イソシアヌレート(TEMPIC)(SC有機化学製)のTHF溶液に浸漬し、室温で乾燥した後、上記プラズマ照射装置を用いて、再度大気圧下で窒素混合アルゴンイオンガスプラズマ照射を25秒行った(チオール化合物塗布後のプラズマ処理)。この際、プラズマ処理は、窒素ガスとアルゴンガスとを1:50(=窒素ガス:アルゴンガスの体積比)で混合したガスを用いて行った。その後、80℃のオーブンで5時間加熱することでポリエチレンチューブ表面にTEMPICを固定化した。さらに、TEMPICを固定化したポリエチレンチューブをTHF中で超音波洗浄することにより、チューブ表面に固定化されていない余剰のTEMPICを取り除いた。これにより基材層1(ポリエチレンチューブ)表面全体を覆うTEMPICからなるチオール化合物2を形成(固定化)した。
THF of tris-[(3-mercaptopropionyloxy) -ethyl] -isocyanurate (TEMPIC) (manufactured by SC Organic Chemical Co., Ltd.) in which a polyethylene tube subjected to plasma treatment before application of the thiol compound was adjusted to a concentration of 5% by weight After immersing in the solution and drying at room temperature, the mixture was again irradiated with nitrogen-mixed argon ion gas plasma under atmospheric pressure for 25 seconds (plasma treatment after application of the thiol compound). At this time, the plasma treatment was performed using a gas in which nitrogen gas and argon gas were mixed at 1:50 (= volume ratio of nitrogen gas: argon gas). Thereafter, TEMPIC was immobilized on the polyethylene tube surface by heating in an oven at 80 ° C. for 5 hours. Further, the TEMPIC-immobilized polyethylene tube was ultrasonically washed in THF to remove excess TEMPIC that was not immobilized on the tube surface. This formed (immobilized) the
親水性ドメインとしてポリジメチルアクリルアミド(DMAA)を、反応性ドメインとしてポリグリシジルメタクリレート(GMA)を有するブロックコポリマー[p(DMAA−b−GMA)](DMAA:GMA(モル比)=11.5:1)を3.5重量%の割合で溶解したTHF溶液(ブロックコポリマー溶液)に、TEMPICを固定化したポリエチレンチューブを浸漬後、室温で乾燥させ、80℃のオーブン中で5時間反応させることで表面潤滑層を形成させた。これにより、基材層1(ポリエチレンチューブ)表面に固定化されたTEMPICからなるチオール化合物2表面を覆うように、上記ブロックコポリマー(親水性高分子)からなる厚さ(未膨潤時)が2μmの表面潤滑層3を形成した(ポリエチレンチューブ(1))。
Block copolymer [p (DMAA-b-GMA)] having polydimethylacrylamide (DMAA) as the hydrophilic domain and polyglycidyl methacrylate (GMA) as the reactive domain (DMAA: GMA (molar ratio) = 11.5: 1) ) Is dissolved in a THF solution (block copolymer solution) at a ratio of 3.5% by weight. After immersing the polyethylene tube on which TEMPIC is immobilized, it is dried at room temperature and reacted in an oven at 80 ° C. for 5 hours. A lubricating layer was formed. Thereby, the thickness (when not swollen) made of the block copolymer (hydrophilic polymer) is 2 μm so as to cover the surface of the
[比較例1]
実施例1と同様のポリエチレンチューブ(高分子基材層1)を、アセトン中で超音波洗浄した後、実施例1と同じブロックコポリマー溶液に浸漬し、室温で乾燥させ、80℃のオーブン中で5時間反応させることで、基材層1(ポリエチレンチューブ)表面を覆うように、上記ブロックコポリマー(親水性高分子)からなる厚さ(未膨潤時)が2μmの表面潤滑層3を形成した(比較ポリエチレンチューブ(1))。
[Comparative Example 1]
A polyethylene tube (polymer substrate layer 1) similar to that in Example 1 was ultrasonically cleaned in acetone, then immersed in the same block copolymer solution as in Example 1, dried at room temperature, and then in an oven at 80 ° C. By reacting for 5 hours, the
[表面潤滑維持性評価]
上記実施例1で得られたポリエチレンチューブ(1)および比較例1で得られた比較ポリエチレンチューブ(1)について、下記方法にしたがって、図3に示される摩擦測定機(トリニティーラボ社製、ハンディートライボマスターTL201)20を用いて、表面潤滑維持性を評価した。
[Evaluation of surface lubricity]
For the polyethylene tube (1) obtained in Example 1 and the comparative polyethylene tube (1) obtained in Comparative Example 1, the friction measuring machine (manufactured by Trinity Labs, Handy Tribo) shown in FIG. Master TL201) 20 was used to evaluate surface lubricity maintenance.
すなわち、上記各ポリエチレンチューブ16に、ステンレス棒13(直径 0.63mm)を通したものを、シャーレ12中に貼り付け、ポリエチレンチューブ16全体が浸る高さの水中に浸漬した。このシャーレを、図3に示される摩擦測定機20に載置して、下記条件下で、チューブ表面を繰り返し25回摺動させたときの摺動抵抗値を測定した。この際、実施例1で得られたポリエチレンチューブ(1)および比較例1で得られた比較ポリエチレンチューブ(1)はそれぞれ3回試験を行い、その結果を、それぞれ、図4および図5に示す。
That is, a stainless steel rod 13 (diameter 0.63 mm) passed through each
<摺動抵抗値の測定条件>
速度:1,000mm/min
荷重:50g
移動距離:25mm
端子:ポリエチレン製円柱端子(φ20mm、R1mm)
図4および図5に示されるように、実施例1で得られたポリエチレンチューブ(1)は、比較例1で得られた比較ポリエチレンチューブ(1)に比べて、25回の繰り返し摺動に対して摺動抵抗値を低く維持することができ、表面潤滑層の耐久性が良好だった。
<Measurement conditions of sliding resistance value>
Speed: 1,000mm / min
Load: 50g
Travel distance: 25mm
Terminal: Polyethylene cylindrical terminal (φ20mm, R1mm)
As shown in FIGS. 4 and 5, the polyethylene tube (1) obtained in Example 1 is more resistant to sliding 25 times than the comparative polyethylene tube (1) obtained in Comparative Example 1. The sliding resistance value could be kept low, and the durability of the surface lubricating layer was good.
1…基材層、
1a…基材層コア部、
1b…高分子表面層、
2…チオール化合物、
3…表面潤滑層、
10…医療用具、
11…水、
12…シャーレ、
13…ステンレス棒、
14…ポリエチレン製円柱端子、
15…重り、
16…ポリエチレンチューブ(試料)、
20…摩擦測定機。
1 ... base material layer,
1a ... base material layer core part,
1b ... polymer surface layer,
2 ... thiol compound,
3 ... surface lubrication layer,
10 ... medical tools,
11 ... water,
12 ... Petri dish,
13 ... stainless steel rod,
14 ... Polyethylene cylindrical terminal,
15 ... Weight,
16 ... polyethylene tube (sample),
20: Friction measuring machine.
Claims (4)
該基材層の少なくとも一部に担持された、分子内に複数のチオール基を有する化合物と、
該分子内に複数のチオール基を有する化合物を覆う、反応性官能基を有する親水性高分子からなる表面潤滑層と、を備え、
該チオール基を有する化合物が窒素を含有するイオン化ガスプラズマを照射することにより基材層に担持されており、かつ該チオール基を有する化合物と、該反応性官能基を有する親水性高分子とを反応させることで表面潤滑層が基材層に結合している、湿潤時に表面が潤滑性を有する医療用具。 A base material layer having at least a surface made of a polymer material;
A compound having a plurality of thiol groups in the molecule carried on at least a part of the substrate layer;
A surface lubricating layer made of a hydrophilic polymer having a reactive functional group and covering a compound having a plurality of thiol groups in the molecule,
The compound having the thiol group is supported on the substrate layer by irradiation with ionized gas plasma containing nitrogen, and the compound having the thiol group and the hydrophilic polymer having the reactive functional group A medical device in which a surface lubricating layer is bonded to a base material layer by reacting, and the surface has lubricity when wet.
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