JP2011524016A - Systems and methods for hybridization slide processing - Google Patents

Systems and methods for hybridization slide processing Download PDF

Info

Publication number
JP2011524016A
JP2011524016A JP2011513643A JP2011513643A JP2011524016A JP 2011524016 A JP2011524016 A JP 2011524016A JP 2011513643 A JP2011513643 A JP 2011513643A JP 2011513643 A JP2011513643 A JP 2011513643A JP 2011524016 A JP2011524016 A JP 2011524016A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
reaction
slide
chamber
rotor
reaction chamber
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
JP2011513643A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
ビー. エイディー,ニルス
モイヤー,トム
パーリー,ロブ
エメリー,デール
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
F Hoffmann La Roche AG
Original Assignee
F Hoffmann La Roche AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from US12/207,343 external-priority patent/US20100167943A1/en
Application filed by F Hoffmann La Roche AG filed Critical F Hoffmann La Roche AG
Publication of JP2011524016A publication Critical patent/JP2011524016A/en
Ceased legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N35/00Automatic analysis not limited to methods or materials provided for in any single one of groups G01N1/00 - G01N33/00; Handling materials therefor
    • G01N35/00029Automatic analysis not limited to methods or materials provided for in any single one of groups G01N1/00 - G01N33/00; Handling materials therefor provided with flat sample substrates, e.g. slides
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N35/00Automatic analysis not limited to methods or materials provided for in any single one of groups G01N1/00 - G01N33/00; Handling materials therefor
    • G01N35/00029Automatic analysis not limited to methods or materials provided for in any single one of groups G01N1/00 - G01N33/00; Handling materials therefor provided with flat sample substrates, e.g. slides
    • G01N2035/00099Characterised by type of test elements
    • G01N2035/00158Elements containing microarrays, i.e. "biochip"

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Apparatus Associated With Microorganisms And Enzymes (AREA)
  • Automatic Analysis And Handling Materials Therefor (AREA)

Abstract

複数のマイクロアレイスライドの実質的に自動化されたハイブリダイゼーションのためのシステム300が開示される。該システムは、容器310を備え、該容器310は、開放頂端を有する洗浄盤312、複数のマイクロアレイスライド基板362を受け取るための、支持軸318上で該洗浄盤内に配置された下部キャリアローター330、および複数のディスポーザブルチャンバアセンブリ240を受け取るための、支持軸上で該下部キャリアローターの上に配置された上部クランプローター340を備える。該システムはさらに、該上部クランプローターを下降させて該下部キャリアローターと噛み合わせることにより、該複数のチャンバアセンブリが該複数のスライド基板に取り付けられ、それによって複数の密閉された反応チャンバ244が形成されるように、また該上部クランプローターを上昇させて該下部キャリアリーターから取りはずすことにより、該複数のチャンバアセンブリを該複数のスライド基板から取りはずし、それによって該複数の反応チャンバを密閉状態から開放するように、設計される。
【選択図】図1
Disclosed is a system 300 for substantially automated hybridization of a plurality of microarray slides. The system includes a container 310 that is disposed in the cleaning disk on a support shaft 318 for receiving a cleaning disk 312 having an open top end and a plurality of microarray slide substrates 362. And an upper clamp rotor 340 disposed on the support shaft above the lower carrier rotor for receiving a plurality of disposable chamber assemblies 240. The system further includes lowering the upper clamp rotor to engage the lower carrier rotor to attach the plurality of chamber assemblies to the plurality of slide substrates thereby forming a plurality of sealed reaction chambers 244. And removing the plurality of chamber assemblies from the plurality of slide substrates, thereby lifting the plurality of reaction chambers from a sealed state by raising and removing the upper clamp rotor from the lower carrier reader. As designed.
[Selection] Figure 1

Description

本発明の属する分野は、一般的には、固定化DNAサンプルの分析のためのハイブリダイゼーションスライドの処理に関する。   The field to which this invention belongs generally relates to the processing of hybridization slides for the analysis of immobilized DNA samples.

発明の背景および関連技術
ハイブリダイゼーションスライド処理および分析、例えば蛍光In Situハイブリダイゼーション(FISH)は、所定のサンプル中に特定の核酸が存在するかどうかを検出するための周知の技術である。この技術は、概して、ガラススライド上に既知の核酸配列プローブを固定化し、その後、プローブにサンプル媒体を導入して、サンプルが任意の相補核酸配列を含むかどうかを判定することを含む。蛍光指示薬をサンプル媒体に結合させて、蛍光顕微鏡または類似のスライドリーダーを用いて、ハイブリダイズしたサンプルを後に調べるかまたは分析できるようにすることができる。適合配列が見出される場合、蛍光指示薬が適合を確認するように見える。
BACKGROUND OF THE INVENTION AND RELATED TECHNIQUES Hybridization slide processing and analysis, such as fluorescent in situ hybridization (FISH), is a well-known technique for detecting the presence of specific nucleic acids in a given sample. This technique generally involves immobilizing a known nucleic acid sequence probe on a glass slide and then introducing sample media into the probe to determine if the sample contains any complementary nucleic acid sequences. A fluorescent indicator can be attached to the sample medium so that the hybridized sample can be examined or analyzed later using a fluorescence microscope or similar slide reader. If a matching sequence is found, the fluorescent indicator appears to confirm the match.

ハイブリダイゼーションスライドはDNAサンプルの分析に使用されることが多いが、他のタイプのサンプルの診断検査に使用してもよい。マイクロアレイ中のプローブ位置は、種々の大きい生体分子、例えばDNA、RNA、およびタンパク質、小分子、例えば薬物、補因子、シグナル伝達分子、ペプチドまたはオリゴヌクレオチドから形成される。既知の反応物を基板上に固定し、未知の液体サンプルを固定化反応物に曝露し、反応産物を調べて、サンプルを特徴付けることが典型的であるが、1種以上の未知のサンプルを基板上に固定して、それらを1種以上の既知の反応物を含む液体に曝露することも可能である。   Hybridization slides are often used for the analysis of DNA samples, but may be used for diagnostic testing of other types of samples. Probe positions in the microarray are formed from a variety of large biomolecules such as DNA, RNA, and proteins, small molecules such as drugs, cofactors, signaling molecules, peptides or oligonucleotides. Typically, a known reactant is immobilized on a substrate, an unknown liquid sample is exposed to an immobilized reactant, the reaction product is examined, and the sample is characterized, but one or more unknown samples are deposited on the substrate. It is also possible to fix them on top and expose them to a liquid containing one or more known reactants.

後の分析のためのハイブリダイゼーションスライドの処理は、典型的に、かなりの数の処理ステップを必要とし、該ステップには、固定化反応物プローブのアレイを含むスライドの一部分の周囲に反応チャンバを形成するステップ、溶液中の可動性反応物試料で反応チャンバを満たすステップ、インキュベーションステップの間、試料をプローブとハイブリダイズさせるステップ、およびインキュベーション時間の終了時に、ハイブリダイズした反応物サンプルを損なうことなく、マイクロアレイスライドからハイブリダイズしていない液体サンプルを洗浄して除去するステップが含まれる。1以上の前記ステップを機械化する試みが行われているが、今日まで、ハイブリダーゼーション処理全体の自動化は、曝露されるマイクロアレイスライドの品質に関して入り混じった結果を生じさせているか、またはひどく高価である。多数の前記ステップは、依然として、高品質のハイブリダイズマイクロアレイが後の分析に利用可能になることを確実にするために多数の手動の操作を必要とする。   Processing of hybridization slides for later analysis typically requires a significant number of processing steps, including a reaction chamber around a portion of the slide that contains an array of immobilized reactant probes. Forming, filling the reaction chamber with a mobile reactant sample in solution, hybridizing the sample with the probe during the incubation step, and without damaging the hybridized reactant sample at the end of the incubation period , Washing and removing unhybridized liquid sample from the microarray slide. While attempts have been made to mechanize one or more of the above steps, to date automation of the entire hybridization process has yielded mixed results with respect to the quality of the exposed microarray slides, or is extremely expensive. is there. A number of the steps still require a number of manual operations to ensure that high quality hybridized microarrays will be available for later analysis.

各処理ステップはまた、複雑で特殊化した処理設備および方法を必要とする。例えば、限られた試料しか利用できないためにマイクロアレイ上で実施される反応は最小量のハイブリダイゼーションサンプル液しか消費しないのが望ましいことがよくある。しかし、マイクロアレイの領域にわたって少量のハイブリダイゼーション液しか拡散されない場合、液体層は非常に薄く、混合が施されないと、サンプル液は、特定の配列が、該配列を結合するスポット上で局所的に枯渇した状態になる可能性が生じる。標的試料が枯渇するので、反応速度論は遅くなり、小さなシグナルしか生じない。これは少量の配列に関する大きな問題である。ハイブリダイゼーションは小容量反応チャンバで混合しながら実施されることが特に望ましいと考えられる。小容量は、供給が限られている反応物を高濃度にすることを可能にし、混合は初期反応速度を維持し、ゆえに、より多量の反応産物を生じさせる。   Each processing step also requires complex and specialized processing equipment and methods. For example, it is often desirable that reactions performed on a microarray consume only a minimal amount of hybridization sample solution because only a limited sample is available. However, if only a small amount of hybridization solution is diffused over the area of the microarray, the liquid layer will be very thin and if not mixed, the sample solution will be depleted locally on the spot where the specific sequence binds the sequence. There is a possibility that it will be in the state. As the target sample is depleted, the reaction kinetics are slow and only a small signal is produced. This is a major problem with small arrays. It may be particularly desirable for hybridization to be performed with mixing in a small volume reaction chamber. The small volume allows for a high concentration of reactants with limited feed, and mixing maintains the initial reaction rate and therefore produces a larger amount of reaction product.

発明の要旨
本明細書中で具体化されかつ広く記載される発明では、本発明は、マイクロアレイスライド上にハイブリダイゼーション反応チャンバを設けるためのハイブリダイゼーションユニットを含む。該ハイブリダイゼーションユニットは、固定化反応物を担持する反応領域を有するマイクロアレイスライド基板を含む。スライド基板は、実質的に長方形であり、処理デバイスのキャリア取り付け具への連結のための露出した平行な2つの縁部を有してよい。ディスポーザブルチャンバアセンブリまたは「ミキサー」は、スライド基板に取りはずし可能に取り付けられて、反応領域を封入する密閉された小容量反応チャンバを形成する。チャンバアセンブリまたはミキサーは、プラスチックまたはポリマー材料でできていて、ディスポーザブルであってよい。ハイブリダイゼーションユニットは、ディスポーザブルチャンバアセンブリを処理デバイスのクランプ取り付け具に取り付けるための連結手段をさらに含み、クランプ取り付け具をキャリア取り付け具から離すことにより、ディスポーザブルチャンバアセンブリがスライド基板から取りはずされ、それにより密閉された反応チャンバが開放されるようになっている。
SUMMARY OF THE INVENTION In the invention embodied and broadly described herein, the present invention includes a hybridization unit for providing a hybridization reaction chamber on a microarray slide. The hybridization unit includes a microarray slide substrate having a reaction region carrying an immobilized reaction product. The slide substrate is substantially rectangular and may have two exposed parallel edges for connection to the carrier fixture of the processing device. A disposable chamber assembly or “mixer” is removably attached to the slide substrate to form a sealed small volume reaction chamber that encloses the reaction region. The chamber assembly or mixer is made of a plastic or polymer material and may be disposable. The hybridization unit further includes coupling means for attaching the disposable chamber assembly to the clamp fixture of the processing device, whereby the disposable chamber assembly is detached from the slide substrate by separating the clamp fixture from the carrier fixture, thereby A sealed reaction chamber is opened.

ディスポーザブルチャンバアセンブリは、上面および底面を有するフレキシブルな基層をさらに含んでよく、該底面は反応チャンバの天面を形成し、弱接着性ガスケットシールは基層の底面から下向きに延在して、反応チャンバの側壁を形成し、連結手段は、処理デバイスのクランプ取り付け具への連結のための、基層の上面から延在する強接着性上部パッチを含む。   The disposable chamber assembly may further include a flexible base layer having a top surface and a bottom surface, the bottom surface forming the top surface of the reaction chamber, and the weakly adhesive gasket seal extending downward from the bottom surface of the base layer, The connection means includes a strongly adhesive top patch extending from the top surface of the base layer for connection to a clamp fixture of the processing device.

ディスポーザブルチャンバアセンブリは、処理デバイスの上部クランプ取り付け具へのディスポーザブルチャンバアセンブリの取り付けを可能にするように、スライド基板の平行な2つの縁部を超えて延在する境界部を有して設計することもできる。スライド基板およびディスポーザブルチャンバアセンブリは、さらに、スライド基板を処理デバイスの下部キャリア取り付け具に取り付けるために、スライド基板の他の2つの平行な縁部を露出するように設計される。   The disposable chamber assembly should be designed with a boundary extending beyond the two parallel edges of the slide substrate to allow attachment of the disposable chamber assembly to the upper clamp fixture of the processing device. You can also. The slide substrate and disposable chamber assembly is further designed to expose the other two parallel edges of the slide substrate for attaching the slide substrate to the lower carrier fixture of the processing device.

ディスポーザブルチャンバアセンブリまたはミキサーは、ディスポーザブルチャンバアセンブリの充填口(fill port)および通気口と位置を合わせた充填孔および通気孔を有する、ディスポーザブルチャンバアセンブリの露出面に結合したマニホールドをさらに含んでよい。   The disposable chamber assembly or mixer may further include a manifold coupled to the exposed surface of the disposable chamber assembly having fill holes and vents aligned with the fill port and vent of the disposable chamber assembly.

本明細書中で具体化されかつ広く記載される発明では、本発明は、複数のマイクロアレイスライドの実質的に自動化されたハイブリダイゼーションのためのシステムをさらに含む。該システムは、開放頂端を有する水盤型容器、複数のマイクロアレイスライド基板を受けるための、水盤型容器内で支持軸上に配置された下部キャリアローター、および、複数のディスポーザブルチャンバアセンブリまたはミキサーを受けるための、支持軸上で下部キャリアローターの上に配置された上部クランプローターを含む。該システムは、クランプローターを下げてキャリアローターと噛み合わせることにより、複数のチャンバアセンブリが複数のスライド基板に取り付けられ、それによって複数の密閉された反応チャンバが形成されるように設計される。該システムは、さらに、上部クランプローターを上げて下部キャリアローターから取りはずすことにより、複数のチャンバアセンブリが複数のスライド基板から取りはずされ、それによって複数の反応チャンバが密閉状態から開放されるように設計される。   In the invention embodied and broadly described herein, the invention further includes a system for substantially automated hybridization of a plurality of microarray slides. The system receives a basin-type container having an open top end, a lower carrier rotor disposed on a support shaft within the basin-type container for receiving a plurality of microarray slide substrates, and a plurality of disposable chamber assemblies or mixers. And an upper clamp rotor disposed on the support shaft and above the lower carrier rotor. The system is designed such that a plurality of chamber assemblies are attached to a plurality of slide substrates by lowering the clamp rotor to engage the carrier rotor, thereby forming a plurality of sealed reaction chambers. The system is further designed to lift the upper clamp rotor and remove it from the lower carrier rotor, thereby removing the multiple chamber assemblies from the multiple slide substrates, thereby opening the multiple reaction chambers from the sealed state. Is done.

本発明はまた、複数のマイクロアレイスライドを処理デバイスに挿入するステップであって、マイクロアレイスライドのそれぞれが小容量反応チャンバアセンブリまたはミキサーにより覆われた反応領域を有する、上記ステップを含む、複数のマイクロアレイスライドを処理する方法を含む。該方法は、マイクロアレイスライドのそれぞれの反応領域をハイブリダイズさせるための少量のハイブリダイゼーション液で反応チャンバを満たすステップで続く。該方法は、反応チャンバアセンブリをマイクロアレイスライドのそれぞれから取りはずすことによりハイブリダイズした反応領域を露出させるステップ、マイクロアレイスライドを洗浄液の共有バスで洗浄するステップ、マイクロアレイスライドから洗浄液を除去するステップ、およびマイクロアレイスライドを処理デバイスから取りはずすステップをさらに含む。   The present invention also includes the step of inserting a plurality of microarray slides into a processing device, wherein each of the microarray slides has a reaction area covered by a small volume reaction chamber assembly or mixer Including a method of processing. The method continues with filling the reaction chamber with a small amount of hybridization solution to hybridize each reaction region of the microarray slide. The method includes exposing a hybridized reaction region by removing the reaction chamber assembly from each of the microarray slides, washing the microarray slide with a wash bath shared bath, removing the wash solution from the microarray slide, and the microarray slide. Further comprising removing from the processing device.

本発明はまた、固定化サンプルの分析のためのマイクロアレイスライドのin situ処理方法を含む。該方法は、固定化サンプルを担持する反応領域を有するスライド基板を取得するステップおよびスライド基板を自動化in situ処理のための処理デバイスに設置するステップを含む。該in situ処理は、ディスポーザブルチャンバアセンブリまたはミキサーをスライド基板に取り付けることにより反応領域を封入する小容量反応チャンバを形成させるステップ、固定化サンプルと反応させるためのハイブリダイゼーション液で反応チャンバを満たすステップ、インキュベーションの間、汚染を防ぐために反応チャンバを密閉するステップ、ミキサーをスライド基板から取りはずすことにより小容量反応チャンバを開放して反応領域を露出させるステップ、反応領域に大容積の洗浄液を流すことによりハイブリダイゼーション液を除去するステップ、およびスライド基板から洗浄液を除去するステップをさらに含む。   The present invention also includes a method for in situ processing of microarray slides for analysis of immobilized samples. The method includes obtaining a slide substrate having a reaction region carrying an immobilized sample and placing the slide substrate in a processing device for automated in situ processing. The in situ processing includes forming a small volume reaction chamber that encloses the reaction region by attaching a disposable chamber assembly or mixer to the slide substrate, filling the reaction chamber with a hybridization solution for reacting with the immobilized sample, During the incubation, the reaction chamber is sealed to prevent contamination, the small volume reaction chamber is opened by removing the mixer from the slide substrate to expose the reaction area, and a large volume of washing solution is flowed through the reaction area. The method further includes the step of removing the hybridization solution and the step of removing the washing solution from the slide substrate.

本発明の方法の他の態様は、反応チャンバ内でハイブリダイゼーション液を攪拌することによりマイクロアレイスライド上の固定化サンプルとの反応を増大させるステップ、およびミキサー/マニホールドアセンブリの充填孔および通気孔に複数のバルブピンを取りはずし可能に差し込むことにより反応チャンバを密閉するステップを含むことができる。   Other aspects of the methods of the invention include increasing the reaction with the immobilized sample on the microarray slide by agitating the hybridization solution in the reaction chamber, and a plurality of filler and vent holes in the mixer / manifold assembly. Sealing the reaction chamber by removably inserting the valve pin.

本発明はまた、ハイブリダイゼーション液を除去するために洗浄液で洗い流された、ハイブリダイズしたスライドの後処理方法を含む。該方法は、ディスポーザブルチャンバアセンブリまたはミキサーをスライド基板に再連結して、ハイブリダイズした反応領域を封入する小容量反応チャンバを再形成させるステップ、およびハイブリダイズしかつ洗浄されたマイクロアレイスライド上で核酸変性および回復などの種々の流体工学ステップを実施するステップを含むことができる。   The invention also includes a post-treatment method for hybridized slides that have been washed away with a wash solution to remove the hybridization solution. The method includes reconnecting a disposable chamber assembly or mixer to a slide substrate to re-form a small volume reaction chamber that encloses the hybridized reaction region, and nucleic acid denaturation on the hybridized and washed microarray slide. And performing various fluidics steps such as recovery.

本発明の別の態様では、ミキサーをスライド基板から取りはずして反応領域を大容積の洗浄液で洗い流す代わりに、溶出バッファーを反応チャンバ中へゆっくりポンプして反応領域を洗浄し、ハイブリダイゼーション液の元のサンプルを置き換え、それを押し出して、スライド基板の下に位置する適切な収集デバイスで収集する。そして反応チャンバを再密閉し、二次処理ステップのために再加熱して、その後、反応チャンバを通して追加の溶出バッファーをポンプし、追加の分析のための別の収集デバイス中へ反応液を流し込む。   In another embodiment of the present invention, instead of removing the mixer from the slide substrate and flushing the reaction area with a large volume of wash solution, the elution buffer is slowly pumped into the reaction chamber to wash the reaction area and the original hybridization solution. Replace the sample, extrude it and collect with a suitable collection device located under the slide substrate. The reaction chamber is then resealed and reheated for a secondary processing step, after which additional elution buffer is pumped through the reaction chamber and the reaction is flushed into another collection device for additional analysis.

図面の簡単な説明
本発明の特徴および利点は、以下の詳細な説明から明らかになる。該詳細な説明は添付の図面と合わせて解釈され、ともに本発明の特徴を説明する。これらの図面は単に本発明の典型的な実施形態を描写するものであり、したがって、その範囲の限定と解釈されるべきではないことが理解される。さらに、本発明の構成要素は、本明細書中の図面で概して記載され説明されるように、多種多様な異なる構成で配置および設計できることが容易に理解される。しかしながら、添付の図面を用いて、追加の特異性および詳細を有する本発明を記載し、説明する。
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Features and advantages of the present invention will become apparent from the following detailed description. The detailed description is to be construed in conjunction with the accompanying drawings, which together illustrate the features of the invention. It is understood that these drawings depict only typical embodiments of the invention and are therefore not to be construed as limiting its scope. Further, it will be readily appreciated that the components of the present invention can be arranged and designed in a wide variety of different configurations, as generally described and illustrated in the drawings herein. However, the accompanying drawings will be used to describe and explain the present invention with additional specificity and detail.

図1Aは、本発明の典型的な実施形態にしたがって、固定化反応物を担持する反応領域についての密閉された反応チャンバを形成させるためのディスポーザブル反応チャンバアセンブリの上面図を示す。図1Bは、切断線A−Aに沿った図1Aのディスポーザブル反応チャンバアセンブリの側断面図を示す。図1Cは、ストリップ上に設置された図1Aの複数のディスポーザブル反応チャンバアセンブリを示す。FIG. 1A shows a top view of a disposable reaction chamber assembly for forming a sealed reaction chamber for a reaction zone carrying an immobilized reactant, in accordance with an exemplary embodiment of the present invention. FIG. 1B shows a side cross-sectional view of the disposable reaction chamber assembly of FIG. 1A along section line AA. FIG. 1C shows the plurality of disposable reaction chamber assemblies of FIG. 1A installed on a strip. 図2Aは、ディスポーザブル反応チャンバアセンブリの別の典型的な実施形態の側断面図を示す。図2Bは、ディスポーザブル反応チャンバアセンブリの別の典型的な実施形態の側断面図を示す。FIG. 2A shows a side cross-sectional view of another exemplary embodiment of a disposable reaction chamber assembly. FIG. 2B shows a side cross-sectional view of another exemplary embodiment of a disposable reaction chamber assembly. 図3Aは、ディスポーザブル反応チャンバアセンブリの別の典型的な実施形態の側断面図を示す。図3Bは、ディスポーザブル反応チャンバアセンブリの別の典型的な実施形態の側断面図を示す。FIG. 3A shows a side cross-sectional view of another exemplary embodiment of a disposable reaction chamber assembly. FIG. 3B shows a side cross-sectional view of another exemplary embodiment of a disposable reaction chamber assembly. 図4は、本発明の典型的な実施形態にしたがって、ハイブリダイゼーションスライド上で密閉された反応チャンバを形成させ、次いで少量のhybe溶液でチャンバを満たす方法を示す。FIG. 4 illustrates a method for forming a sealed reaction chamber on a hybridization slide and then filling the chamber with a small amount of hybe solution according to an exemplary embodiment of the present invention. 図5は、本発明の別の典型的な実施形態にしたがって、少量のhybe溶液をアプライし、次いでハイブリダイゼーションスライド上で密閉された反応チャンバを形成させる方法を示す。FIG. 5 illustrates a method for applying a small amount of hybe solution and then forming a sealed reaction chamber on a hybridization slide, according to another exemplary embodiment of the present invention. 図6は、本発明の典型的な実施形態にしたがう、複数のハイブリダイゼーションスライドの半自動化ハイブリダイゼーションのためのシステムを示す。FIG. 6 illustrates a system for semi-automated hybridization of multiple hybridization slides according to an exemplary embodiment of the present invention. 図7は、図6のハイブリダイゼーションシステムに複数のハイブリダイゼーションスライドを取り付ける方法を示す。FIG. 7 illustrates a method of attaching a plurality of hybridization slides to the hybridization system of FIG. 図8は、少量のhybe溶液をアプライし、図6のハイブリダイゼーションシステム中に取り付けられた複数のハイブリダイゼーションスライド上で密閉された反応チャンバを形成させる方法を示す。FIG. 8 illustrates a method of applying a small amount of hybe solution to form a sealed reaction chamber on a plurality of hybridization slides mounted in the hybridization system of FIG. 図9は、ハイブリダイゼーションプロトコールを実施する前に図6のハイブリダイゼーションシステムを組み立てる方法を示す。FIG. 9 illustrates a method for assembling the hybridization system of FIG. 6 prior to performing a hybridization protocol. 図10A〜10Dは、共に、図4のハイブリダイゼーションシステムで本発明の典型的な実施形態にしたがって複数のハイブリダイゼーションスライドを処理する方法を示す。FIGS. 10A-10D together illustrate a method of processing multiple hybridization slides in accordance with the exemplary embodiment of the present invention with the hybridization system of FIG. 図11Aは、本発明の典型的な実施形態のハイブリダイゼーションユニットの上面図を示す。図11Bは、切断線B−Bに沿った、図1のハイブリダイゼーションユニットの側断面図を示す。FIG. 11A shows a top view of a hybridization unit of an exemplary embodiment of the present invention. FIG. 11B shows a cross-sectional side view of the hybridization unit of FIG. 1 along section line BB. 図12は、本発明の別の典型的な実施形態にしたがう、複数のハイブリダイゼーションスライドの自動化ハイブリダイゼーションのためのシステムの透視図を示す。FIG. 12 shows a perspective view of a system for automated hybridization of multiple hybridization slides in accordance with another exemplary embodiment of the present invention. 図13は、図12のハイブリダイゼーションシステムの上面図を示す。FIG. 13 shows a top view of the hybridization system of FIG. 図14は、図12のハイブリダイゼーションシステムの側断面図を示す。FIG. 14 shows a cross-sectional side view of the hybridization system of FIG. 図15は、図12のハイブリダイゼーションシステムの分解図を示す。FIG. 15 shows an exploded view of the hybridization system of FIG. 図16Aは、噛み合った位置のローターの側断面図を示す。図16Bは、噛み合った位置のローターの末端断面図(sectional end view)を示す。FIG. 16A shows a cross-sectional side view of the rotor in the engaged position. FIG. 16B shows a sectional end view of the rotor in the engaged position. 図17Aは、上部ローターを持ち上げてミキサーとスライド基板を離した後のローターの側断面図を示す。図17Bは、上部ローターを持ち上げてミキサーとスライド基板を離した後のローターの末端断面図を示す。FIG. 17A shows a side cross-sectional view of the rotor after lifting the upper rotor and separating the mixer and slide substrate. FIG. 17B shows a cross-sectional end view of the rotor after lifting the upper rotor and separating the mixer and slide substrate. 図18Aは、洗浄位置のローターの側断面図を示す。図18Bは、洗浄位置のローターの末端断面図を示す。FIG. 18A shows a side cross-sectional view of the rotor in the cleaning position. FIG. 18B shows a cross-sectional end view of the rotor in the cleaning position. 図19は、本発明の別の典型的な実施形態の自動化ハイブリダイゼーションシステムの透視図を示す。FIG. 19 shows a perspective view of an automated hybridization system of another exemplary embodiment of the present invention. 図20は、図19のハイブリダイゼーションシステムの分解図を示す。FIG. 20 shows an exploded view of the hybridization system of FIG. 図21は、本発明のさらに別の典型的な実施形態のハイブリダイゼーションシステムの分解透視図を示す。FIG. 21 shows an exploded perspective view of a hybridization system of yet another exemplary embodiment of the present invention. 図22は、図21のハイブリダイゼーションシステムの一側面の詳細図を示す。FIG. 22 shows a detailed view of one aspect of the hybridization system of FIG. 図23は、本発明の別の典型的な実施形態にしたがって、複数のハイブリダイゼーションユニットを図6のハイブリダイゼーションシステムに取り付ける方法を示す。FIG. 23 illustrates a method of attaching a plurality of hybridization units to the hybridization system of FIG. 6 according to another exemplary embodiment of the present invention. 図24は、ハイブリダイゼーションプロトコールを実施する前に図23のハイブリダイゼーションシステムを組み立てる方法を示す。FIG. 24 illustrates a method of assembling the hybridization system of FIG. 23 prior to performing the hybridization protocol. 図25A〜25Dは、共に、図23〜24のハイブリダイゼーションシステムで複数のハイブリダイゼーションスライドを処理する方法を示す。FIGS. 25A-25D together illustrate a method of processing multiple hybridization slides with the hybridization system of FIGS. 図26は、本発明の別の典型的な実施形態にしたがって、重力で誘発される気泡による混合を用いて、ハイブリダイゼーションシステムに取り付けられた複数のハイブリダイゼーションスライドを混合する方法のハイブリダイゼーションステップを示す。FIG. 26 illustrates a hybridization step of a method for mixing a plurality of hybridization slides attached to a hybridization system using gravity-induced bubble mixing according to another exemplary embodiment of the present invention. Show.

典型的な実施形態の詳細な説明
以下、図面で示される典型的な実施形態に言及し、同実施形態を説明するために特定の用語をここに使用する。それでもなお、それにより本発明の範囲の限定はまったく意図されないことが理解される。本明細書中で示される本発明の特徴の変更およびさらなる改変、および本明細書中で示される本発明の原理の追加の適用であって、関連技術の当業者で本開示を受領する当業者に自明のものは、本発明の範囲内であるとみなされるものとする。
DETAILED DESCRIPTION OF EXEMPLARY EMBODIMENTS Reference will now be made to the exemplary embodiments illustrated in the drawings, and specific language will be used herein to describe the same. It will nevertheless be understood that no limitation of the scope of the invention is thereby intended. Modifications and further modifications of the features of the invention set forth herein, as well as additional applications of the principles of the invention set forth herein, and those of ordinary skill in the relevant arts who receive this disclosure Anything obvious is to be considered within the scope of the present invention.

ハイブリダイゼーション処理のハイブリダイゼーションステップの後に、液量がハイブリダイゼーションに使用される液量よりずっと多い洗浄ステップを続けることが有益であることが発明者らによって認識された。また、特定の状況では、ハイブリダイゼーション処理の前に大容量洗浄ステップを行い、ハイブリダイゼーション前にハイブリダイゼーションスライドを浄化して準備することが有益であることが発明者らによって認識された。したがって、図1〜10には、半自動化されたハイブリダイゼーションスライド処理システムおよび方法の種々の典型的な実施形態が示され、それは、大容量プレハイブリダイゼーション洗浄ステップ、小容量ハイブリダイゼーションステップおよび大容量ポストハイブリダイゼーション洗浄ステップを含んでよい。あるいは、図11〜22には、実質的に自動化されたハイブリダイゼーションスライド処理システムおよび方法の種々の典型的な実施形態が示され、それは、小容量ハイブリダイゼーションステップおよび大容量ポストハイブリダイゼーション洗浄ステップを含んでよい。図23には、重力で誘発される気泡による混合を用いて複数の小容量ハイブリダイゼーションスライドを混合するための典型的なハイブリダイゼーションシステムおよび方法が示され、該ハイブリダイゼーションステップは半自動化または実質的に自動化されたスライド処理システムに含ませることができる。   The inventors have recognized that it is beneficial to follow the hybridization step of the hybridization process with a washing step in which the volume is much higher than the volume used for hybridization. Also, in certain circumstances, the inventors have recognized that it is beneficial to perform a large volume wash step prior to the hybridization process and to clean and prepare the hybridization slide prior to hybridization. Accordingly, FIGS. 1-10 illustrate various exemplary embodiments of semi-automated hybridization slide processing systems and methods, which include a large volume pre-hybridization wash step, a small volume hybridization step and a large volume. A post-hybridization wash step may be included. Alternatively, FIGS. 11-22 illustrate various exemplary embodiments of a substantially automated hybridization slide processing system and method that includes a small volume hybridization step and a large volume post-hybridization wash step. May include. FIG. 23 illustrates an exemplary hybridization system and method for mixing a plurality of small volume hybridization slides using gravity-induced bubble mixing, the hybridization step being semi-automated or substantially Can be included in an automated slide processing system.

本発明のハイブリダイゼーションシステムは、ディスポーザブル反応チャンバアセンブリ30を有するハイブリダイゼーションユニットの種々の典型的な実施形態を含んでよく、該アセンブリのいくつかが、図1〜3に、より詳細に示される。図4および図5を簡単に参照すると、ハイブリダイゼーションユニット10は、固定化DNAサンプルおよび組織切片などの固定化反応物24を担持するサンプルまたは反応領域22を有する実質的に長方形のガラススライド基板20を含んでよい。該反応領域は、ディスポーザブル反応チャンバアセンブリ30によって覆われていてよく、該ディスポーザブル反応チャンバアセンブリは、スライド基板20に取りはずし可能に取り付けられて、反応領域22を封入する小容量反応チャンバ26を形成させ、処理の間、ハイブリダイゼーション(「hybe」)溶液を担持することができる。チャンバアセンブリ30に取り付けられた長方形ガラススライド基板20は、一緒になって、ハイブリダイゼーションユニット10を形成することができる。   The hybridization system of the present invention may include various exemplary embodiments of a hybridization unit having a disposable reaction chamber assembly 30, some of which are shown in more detail in FIGS. Referring briefly to FIGS. 4 and 5, the hybridization unit 10 comprises a substantially rectangular glass slide substrate 20 having a sample or reaction region 22 carrying an immobilized reaction 24 such as an immobilized DNA sample and a tissue section. May be included. The reaction region may be covered by a disposable reaction chamber assembly 30 that is removably attached to the slide substrate 20 to form a small volume reaction chamber 26 that encloses the reaction region 22; During processing, a hybridization (“hybe”) solution can be carried. Together, the rectangular glass slide substrates 20 attached to the chamber assembly 30 can form the hybridization unit 10.

図1A〜1Bの参照に戻って、一態様では、チャンバアセンブリ30は、基層の底面から下向きに延在するシールガスケット42を有するフレキシブルな基層40を含んでよく、該基層の底面は小容量反応チャンバ26の天面を形成し、シールガスケット自体の厚みは反応チャンバの側壁を形成する。図に示されるように、ガスケットシール42は環状またはリング状であってよい;しかし、楕円、多角形または他の不規則な形状を含む他の形状も想定され、本発明の範囲内に入るとみなされる。シールガスケット42は、取りはずし可能な接着性ガスケット、エラストマーシール(例えばO−リングまたはガスケット(シリコーンガスケットを含む))または、処理の充填段階およびインキュベーション段階の間、hybe溶液を保持および担持可能な密閉された反応チャンバを形成させるために十分な、当技術分野で利用可能な任意の他の密閉機構であってよい。基層40は丸い末端を有する長方形の形状を有してよく、該丸い末端のサイズおよび位置をシールガスケット42と合わせてスライド基板への連結を容易にしてよい。図に示されるように、代表的なチャンバアセンブリ30は、反応チャンバ26の一端へのハイブリダイゼーション液、またはhybe溶液の導入および、それがhybe溶液で満たされたときの、他端からの封入空気またはガスの通気を可能にするための充填口56および通気口58を含んでもよい。   Returning to reference to FIGS. 1A-1B, in one aspect, the chamber assembly 30 may include a flexible base layer 40 having a seal gasket 42 extending downwardly from the bottom surface of the base layer, the bottom surface of the base layer being a small volume reaction. The top surface of the chamber 26 is formed, and the thickness of the seal gasket itself forms the side walls of the reaction chamber. As shown, the gasket seal 42 may be annular or ring-shaped; however, other shapes are envisioned, including ellipses, polygons, or other irregular shapes, and are within the scope of the present invention. It is regarded. The seal gasket 42 can be a removable adhesive gasket, an elastomeric seal (eg, an O-ring or gasket (including silicone gasket)) or a hermetically sealed to hold and support the hybe solution during the filling and incubation phases of the process. Any other sealing mechanism available in the art that is sufficient to form a reaction chamber. The base layer 40 may have a rectangular shape with rounded ends, and the size and position of the rounded ends may be combined with the seal gasket 42 to facilitate connection to the slide substrate. As shown in the figure, a typical chamber assembly 30 includes the introduction of hybridization or hybe solution to one end of the reaction chamber 26 and the enclosed air from the other end when it is filled with hybe solution. Alternatively, a filling port 56 and a ventilation port 58 for allowing gas to flow may be included.

フレキシブルな基層40の四角い末端は、反応チャンバ26から離れて側方に延在してタブを形成してよく、該タブに、基層の上面から上向きに延在する上部接着性パッチ44を設置することができる。チャンバアセンブリ30は、同様に基層40の上面から上向きに延在する上部圧力ガスケット46をさらに含んでよく、該上部圧力ガスケットは、底面から延在するシールガスケット42と実質的に位置を合わせることができる。以下でさらに詳細に考察されるように、圧力ガスケット46は、ハイブリダイゼーションプロトコールの間、反応チャンバをさらに密閉するために、シールガスケット42とスライド基板との間の界面に下向きに、上部クランプ取り付け具またはローターによって提供される密閉圧力を均一に移すように作動することができる。   The square end of the flexible base layer 40 may extend laterally away from the reaction chamber 26 to form a tab with an upper adhesive patch 44 extending upward from the top surface of the base layer. be able to. The chamber assembly 30 may further include a top pressure gasket 46 that also extends upwardly from the top surface of the base layer 40, which top pressure gasket may be substantially aligned with a seal gasket 42 that extends from the bottom surface. it can. As will be discussed in more detail below, the pressure gasket 46 is provided with an upper clamp fixture facing downwards at the interface between the seal gasket 42 and the slide substrate to further seal the reaction chamber during the hybridization protocol. Or it can be operated to transfer the sealing pressure provided by the rotor uniformly.

上部リリースライナーストリップ52を接着性パッチ44および環状圧力リング46の上面上に置いてよく、それは下部リリースライナーストリップ50とともに、保存および輸送の間、チャンバアセンブリを外部汚染から保護して密閉するように機能することができる。保存、輸送および使用を容易にするために、製造後に、複数のディスポーザブル反応チャンバアセンブリ30に単一のリリースライナーストリップ50を設置することができる(図3を参照のこと)。   An upper release liner strip 52 may be placed on top of the adhesive patch 44 and the annular pressure ring 46, which, along with the lower release liner strip 50, protects and seals the chamber assembly from external contamination during storage and shipping. Can function. A single release liner strip 50 can be installed in a plurality of disposable reaction chamber assemblies 30 after manufacture to facilitate storage, transport and use (see FIG. 3).

基層40は、曲げてスライド基板からはがすために十分にフレキシブルなままでありながら、その形状を保持し、チャンバアセンブリの取り扱いを支持し、反応チャンバ26の不浸透性の天面を提供するために十分に固い半フレキシブル構造として形成させることができる。一態様では、基層40は、底面上に下塗りを有するフレキシブルなプラスチックラミネートであってよく、シールガスケット42は接着性ガスケットであってよい。下塗り面は反応チャンバの内面を形成する方向に向けてよく、接着性ガスケットが接着する面でもある。接着性ガスケットはスライドより下塗り面に強く接着して結合して、ディスポーザブルチャンバアセンブリをスライドからきれいに取りはずすことを可能にすることができる。これらの材料は、約37℃でのハイブリダイゼーションの実施に使用されるデバイスでの使用に好ましく、逸脱は約90℃までであり、他の条件下で実施される反応では、他の材料がより望ましいことが理解される。したがって、特定の反応条件のために選択される物理的および化学的性質を有する他のプラスチックまたはポリマー材料をデバイスの構築に使用してよい。すべての材料は、それらが接触する任意の化学物質または反応物と適合性であり、そのような接触によって劣化せず、デバイス内で実施される化学反応を妨害しない。   The base layer 40 remains flexible enough to be bent and peeled away from the slide substrate while retaining its shape, supporting the handling of the chamber assembly, and providing an impervious top surface for the reaction chamber 26. It can be formed as a sufficiently rigid semi-flexible structure. In one aspect, the base layer 40 may be a flexible plastic laminate having a primer on the bottom surface and the seal gasket 42 may be an adhesive gasket. The primer surface may be oriented in the direction that forms the inner surface of the reaction chamber and is also the surface to which the adhesive gasket adheres. The adhesive gasket can adhere and bond strongly to the primer surface than the slide, allowing the disposable chamber assembly to be removed cleanly from the slide. These materials are preferred for use in devices used to perform hybridization at about 37 ° C., with deviations up to about 90 ° C., and reactions performed under other conditions are more It is understood that it is desirable. Accordingly, other plastic or polymeric materials having physical and chemical properties selected for specific reaction conditions may be used in the construction of the device. All materials are compatible with any chemical or reactant with which they come into contact, do not degrade by such contact, and do not interfere with the chemical reaction performed within the device.

本発明の接着性ガスケットは、基層40の底面上で形成させることができ、反応チャンバ26の周囲に気密密閉をつくり出すことが可能であり、所望のチャンバ容量をつくり出すために十分な圧縮率を有することができる。チャンバアセンブリがスライド基板から取りはずされたときに、シールガスケットがスライドではなく基層に接着したままであることは重要である。その理由は、ガスケット材料がスライド上に残ると、スライドリーダーを妨害する場合があるからである。ゆえに接着性ガスケットは、スライド基板よりも、基層の下塗りと優先的に接着しなければならない。種々の取りはずし可能で再配置可能な接着性物質を使用してよく、それには、非限定的に、アクリル、ウレタン、シリコーン、およびゴム接着性物質が含まれる。そのような材料は弾力性であり、塑性変形および/または弾性変形を受ける。接着性ガスケットは市販の接着性フィルムから形成させるか、あるいは、スプレーコーティング、シルクスクリーン、パッドプリントまたは、好適な仕上げおよび厚みを生じさせる他のプリント方法によって塗布してよい。   The adhesive gasket of the present invention can be formed on the bottom surface of the base layer 40, can create a hermetic seal around the reaction chamber 26, and has sufficient compressibility to create the desired chamber volume. be able to. It is important that when the chamber assembly is removed from the slide substrate, the seal gasket remains adhered to the base layer, not the slide. The reason is that if gasket material remains on the slide, it may interfere with the slide leader. Therefore, the adhesive gasket must preferentially adhere to the base layer primer rather than the slide substrate. A variety of removable and repositionable adhesive materials may be used, including but not limited to acrylic, urethane, silicone, and rubber adhesive materials. Such materials are elastic and undergo plastic deformation and / or elastic deformation. The adhesive gasket may be formed from a commercially available adhesive film or may be applied by spray coating, silk screen, pad printing or other printing methods that produce a suitable finish and thickness.

ディスポーザブルチャンバアセンブリ32〜34の追加の実施形態は図2A〜2Bでさらに詳細に示される。例えば、シリコーンシート材料の追加のストリップ48を基層のタブ部分の下に置くことができ、基層をその全長にわたって概して水平な位置に維持するよう上部接着性パッチ44の厚みが低減されていることを除き、ディスポーザブルチャンバアセンブリ32はチャンバアセンブリ30に非常に類似してよい。チャンバアセンブリ34はまた、上部圧力ガスケット46が除去され、上部リリースライナー52が、反応チャンバ26の上に横たわる基層40の上面に対して洗い流しを広げる(lay flush)ことを可能にするように上部接着性パッチ44の厚みが低減されていることを除き、以前のチャンバアセンブリ実施形態と類似している。チャンバアセンブリ30、32および34は充填口および通気口を含んでも含まなくてもよい。   Additional embodiments of the disposable chamber assemblies 32-34 are shown in further detail in FIGS. For example, an additional strip 48 of silicone sheet material can be placed under the tab portion of the base layer, and the thickness of the top adhesive patch 44 has been reduced to maintain the base layer in a generally horizontal position over its entire length. Apart from that, the disposable chamber assembly 32 may be very similar to the chamber assembly 30. The chamber assembly 34 also has an upper adhesive gasket that allows the upper pressure gasket 46 to be removed and the upper release liner 52 to lay flush against the upper surface of the base layer 40 that overlies the reaction chamber 26. Similar to previous chamber assembly embodiments, except that the thickness of the adhesive patch 44 is reduced. Chamber assemblies 30, 32 and 34 may or may not include fill and vents.

上記のように、実施形態30、32および34で使用されるシールガスケット42は接着性パッチ44と異なる接着性を有してよい。シールガスケット42は、適切な時点で(例えばハイブリダイゼーション後に)基層が持ち上げられたときに、シールガスケット42がスライド基板から解放され、反応チャンバを開放してハイブリダイズした内容物が隣接する環境に露出されるように軽度の接着性または非接着性であってよい。対照的に、接着性パッチ44は、基層のタブ部分と上部クランプローターまたは取り付け具との間の連結を提供するために強接着性であってよい。以下に記載されるように、上部クランプローターを持ち上げると、基層のタブ部分が上向きに引っ張られ、次いでシールガスケット42を含むチャンバアセンブリがはがされ、スライド基板から離れる。   As described above, the seal gasket 42 used in embodiments 30, 32 and 34 may have a different adhesion than the adhesive patch 44. The seal gasket 42 is released from the slide substrate when the substrate is lifted at an appropriate time (eg, after hybridization), opening the reaction chamber and exposing the hybridized contents to the adjacent environment. It may be mildly adhesive or non-adhesive. In contrast, the adhesive patch 44 may be highly adhesive to provide a connection between the tab portion of the base layer and the upper clamp rotor or fixture. As described below, when the upper clamp rotor is lifted, the tab portion of the base layer is pulled upward, and the chamber assembly including the seal gasket 42 is then peeled away from the slide substrate.

次いで、図3Aおよび3Bに示されるディスポーザブルチャンバアセンブリの実施形態36および38を参照すると、シールガスケットは、ドーム型チャンバ60(または「コンタクトレンズ」)と取り替えることができ、該ドーム型チャンバは、ハイブリダイゼーションの間、スライド基板に対して反応チャンバ26を密閉するために圧力下で下部リップ62の適度のゆがみを可能にする成形用ケイ素または類似の材料から形成させることができる。ドーム型チャンバ60は、ドーム型チャンバ60の下部リップ62がチャンバとスライド基板との間の密閉面を提供すれば、強接着性の環状64および円形66の下部接着性パッチで基層40に取り付けることができる。さらに、ドーム型チャンバの実施形態では、強接着性パッチ上部68はやはり環状または円形であってよく、反応チャンバ26上に直接配置することができ、ドーム型チャンバ60を直接上向きに持ち上げて、下部リップとスライド基板との間で形成された圧力密閉を解除することができる。   Referring now to the disposable chamber assembly embodiments 36 and 38 shown in FIGS. 3A and 3B, the seal gasket can be replaced with a dome-shaped chamber 60 (or “contact lens”), which is a high chamber. During hybridization, it may be formed from molding silicon or similar material that allows moderate distortion of the lower lip 62 under pressure to seal the reaction chamber 26 against the slide substrate. The dome chamber 60 is attached to the base layer 40 with a strong adhesive ring 64 and a circular 66 lower adhesive patch if the lower lip 62 of the dome chamber 60 provides a sealing surface between the chamber and the slide substrate. Can do. Further, in the dome chamber embodiment, the strong adhesive patch upper portion 68 may also be annular or circular and can be placed directly on the reaction chamber 26, with the dome chamber 60 lifted directly upward to The pressure seal formed between the lip and the slide substrate can be released.

サンプルまたは反応領域22上の代表的なディスポーザブル反応チャンバ30の配置およびhybe溶液のアプライが図4および5に示される。図からわかるように、固定化反応物24を担持する反応領域22は、スライド基板20の小さい部分にしかおよばず、ディスポーザブルチャンバアセンブリ30はそれに応じたサイズにすることができる。各スライド基板上で1つの反応領域のみが形成されることがよくあると予想されるが、単一のスライド上で複数の反応領域および複数のディスポーザブルチャンバアセンブリ30を使用することが可能である。   The placement of a representative disposable reaction chamber 30 on the sample or reaction region 22 and the application of hybe solution is shown in FIGS. As can be seen, the reaction region 22 carrying the immobilized reactant 24 extends only to a small portion of the slide substrate 20, and the disposable chamber assembly 30 can be sized accordingly. Although it is expected that only one reaction region will often be formed on each slide substrate, it is possible to use multiple reaction regions and multiple disposable chamber assemblies 30 on a single slide.

ディスポーザブルチャンバアセンブリ30はリリースライナーストリップ50上に供給することができる。図4に示される方法では、チャンバアセンブリ30をまずリリースライナーから取りはずし、反応領域22上に置いてよい。チャンバアセンブリを固い物で「こする(brayed)」か、またはスライド基板20中に押しつけてガスケットシール42をスライド基板の表面に良好に接着させ、上部リリースライナーストリップ52を取りはずして充填口56および通気口58および強接着性パッチ44を露出させてよい。次いで、ハイブリダイゼーション(「hybe」)またはプローブ溶液を、チャンバアセンブリの一端で基層40中に形成された充填口56に挿入されたピペットで小容量反応チャンバ26に導入し、一方、反対端で形成された通気口58を通して封入空気またはガスを放出させることができる。一態様では、反応チャンバ26の充填口および通気口は、上部取り付け具またはローターを基層の上面上に下げると、密閉することができる。あるいは、反応チャンバ26の充填口および通気口は、ハイブリダイゼーション前に基層の上部にテープの小さいパッチを配置して密閉される。   The disposable chamber assembly 30 can be supplied on the release liner strip 50. In the method shown in FIG. 4, the chamber assembly 30 may first be removed from the release liner and placed on the reaction zone 22. The chamber assembly is “brayed” with a hard object, or pressed into the slide substrate 20 to ensure that the gasket seal 42 adheres well to the surface of the slide substrate, the upper release liner strip 52 is removed and the fill port 56 and vent The mouth 58 and the strong adhesive patch 44 may be exposed. Hybridization (“hybe”) or probe solution is then introduced into the small volume reaction chamber 26 with a pipette inserted into the fill port 56 formed in the base layer 40 at one end of the chamber assembly, while formed at the opposite end. The sealed air or gas can be discharged through the vent 58 formed in the air. In one aspect, the fill and vents of the reaction chamber 26 can be sealed when the upper fixture or rotor is lowered onto the top surface of the base layer. Alternatively, the filling and venting ports of the reaction chamber 26 are sealed with a small patch of tape placed on top of the base layer prior to hybridization.

図5で示される方法は、ディスポーザブルチャンバアセンブリ30をスライド基板22上に配置する前にhybe(またはプローブ)溶液を反応領域22にアプライする点で図4で示される方法と異なる。この実施形態では、充填口および通気口は、反応チャンバ26の密閉に関する懸念を伴うので、基層中に形成されない。その理由は、反応チャンバの形成がスライド基板20へのチャンバアセンブリ30の連結で完成するからである。しかし、hybe溶液のアプライ部分の周囲でかつ反応チャンバ26内に閉じ込められる空気またはガスの量を最小にする様式でのチャンバアセンブリの配置を確実にするために追加のケアが必要とされる。   The method shown in FIG. 5 differs from the method shown in FIG. 4 in that a hybe (or probe) solution is applied to the reaction region 22 before the disposable chamber assembly 30 is placed on the slide substrate 22. In this embodiment, the fill and vent are not formed in the base layer because there are concerns about sealing the reaction chamber 26. The reason is that the formation of the reaction chamber is completed by connecting the chamber assembly 30 to the slide substrate 20. However, additional care is required to ensure placement of the chamber assembly around the apply portion of the hybe solution and in a manner that minimizes the amount of air or gas trapped within the reaction chamber 26.

図6には、複数のハイブリダイゼーションスライドの半自動化されたハイブリダイゼーションのための処理デバイス104が示される。処理デバイス104は開放頂端を有する水盤型容器110を含んでよい。該水盤型容器は、ハイブリダイゼーション処理の完了後にハイブリダイゼーションスライドを洗浄するための多量の洗浄液を保持するように設計された内部水盤を含んでよい。該水盤型容器は図に示されるように円形であるか、または複数のハイブリダイゼーションスライドを浸すかまたは沈めるために十分な多量の洗浄液を一時的に保持または担持可能な任意の他の形状または構成を有してよく、該範囲は、非限定的に0.1〜3.0リットルの洗浄液を含むことができる。   FIG. 6 shows a processing device 104 for semi-automated hybridization of a plurality of hybridization slides. The processing device 104 may include a basin-type container 110 having an open top end. The basin-type container may include an internal basin designed to hold a large amount of washing solution for washing the hybridization slide after completion of the hybridization process. The basin-type container is circular as shown, or any other shape or configuration capable of temporarily holding or carrying a sufficient amount of wash solution to immerse or sink a plurality of hybridization slides The range can include, but is not limited to, 0.1 to 3.0 liters of cleaning solution.

水盤型容器110は、制御可能なポンプ/バルブユニット120に流動的に取り付けることができ、該ポンプ/バルブユニットは、プレハイブリダイゼーション洗浄のためのエタノールまたは類似の液体の容器またはボトル、およびポストハイブリダイゼーション洗浄のための洗浄バッファー液の容器などの種々の液体供給源122からの選択が可能である。液体供給源122は室温で保存するか、または温水浴内などで所定の温度で維持することができる。水盤型容器110はまた、洗浄液を水盤に充填しかつ/または水盤から排出するためのバルブ(示されていない)およびパイプまたはチューブ126などの内部配管、ならびに蒸気またはガスの制御放出のための排気口128を含むことができる。   The basin-type container 110 can be fluidly attached to a controllable pump / valve unit 120 that includes an ethanol or similar liquid container or bottle for prehybridization washing, and a post-high. Selection from a variety of liquid sources 122, such as a wash buffer solution container for hybridization washing, is possible. The liquid source 122 can be stored at room temperature or maintained at a predetermined temperature, such as in a hot water bath. The basin-type container 110 also includes internal piping such as valves (not shown) and pipes or tubes 126 for filling and / or discharging cleaning liquid from the basin, and exhaust for controlled release of steam or gas. A mouth 128 may be included.

図7で示されるように、処理デバイス104は、水盤型容器110内に配置されたスライドキャリアを含むことができ、該スライドキャリアは、1以上の反応領域22を有する複数のハイブリダイゼーションスライド基板20を受けるように設計される。スライドキャリアは、支持軸118上で支持されかつスピンモーター(示されていない)によって駆動されるように設計された下部キャリアローター130であってよく、該スピンモーターは、水盤112およびその中に保持された洗浄液に対する下部キャリアローター(受容されたスライド基板を含む)の回転運動を可能にする。下部キャリアローター130は、回転軸の上下の垂直運動のために設計することもできる。下部キャリアローター130および水盤型容器110は、一緒になって、水盤112内に収容された洗浄液のバス内に下部キャリアローターを浸漬し、次いで下部キャリアローターをバスから取り出し、遠心してすべての残留する洗浄液を除去するように設計することができる。   As shown in FIG. 7, the processing device 104 can include a slide carrier disposed within a ladle-type container 110, which slide carrier includes a plurality of hybridization slide substrates 20 having one or more reaction regions 22. Designed to receive. The slide carrier may be a lower carrier rotor 130 supported on a support shaft 118 and designed to be driven by a spin motor (not shown), which spin motor is held in the basin 112 and therein. Allows the lower carrier rotor (including the received slide substrate) to rotate relative to the washed liquid. The lower carrier rotor 130 can also be designed for vertical movement up and down the axis of rotation. The lower carrier rotor 130 and the basin-type container 110 together immerse the lower carrier rotor in a bath of cleaning liquid contained in the basin 112, then remove the lower carrier rotor from the bath and centrifuge to leave all residue. It can be designed to remove the cleaning liquid.

スライド基板20を、下部キャリアローター130中に形成された等間隔のキャリアローター「ウインドウ」132に挿入することができる。キャリアローターウインドウ132は、スライド基板の側面および外縁を受けてつかむための、内面中に形成されたスロットまたはグルーブを有してよい。スロットはキャリアローターの中央部分に向かって開口し、外端で閉鎖し、スライド基板がローターの中央から設置されて、回転の間、特に残留する洗浄液を除去するための下部キャリアローター130の高速遠心の間、スライドがウインドウ132から滑り落ちるのを確実に防ぐようになっていてよい。   The slide substrate 20 can be inserted into equally spaced carrier rotor “windows” 132 formed in the lower carrier rotor 130. The carrier rotor window 132 may have a slot or groove formed in the inner surface for receiving and gripping the side and outer edges of the slide substrate. The slot opens towards the center part of the carrier rotor, closes at the outer end, and the slide substrate is installed from the center of the rotor, so that the high speed centrifugation of the lower carrier rotor 130 during the rotation, in particular to remove residual cleaning liquid. During this time, the slide may be reliably prevented from sliding off the window 132.

処理デバイス104は、水盤112の床から上向きに延在しかつ、典型的にハイブリダイゼーション処理の反応またはインキュベーション時間の間、スライドキャリアを水盤型容器110の底に下げたときにスライドキャリアウインドウ132の底中に入るスライド加熱パッド124を含んでよい。加熱パッド124はスライド基板20の底面に接して並ぶか、またはスライド基板20に対して押しつけられ、hybe溶液に熱を提供し、該hybe溶液はさらに、懸濁された反応物を励起して運動させ、反応の効率を増大させることができる。本発明の一態様では、スライド加熱パッドは、ハイブリダイゼーションプロトコールの間、スライド基板20を約95℃の温度まで加熱してサンプルおよびプローブ溶液を変性させ、次いで低い温度での長期間の加熱およびインキュベーションにより、ハイブリダイゼーションを完了させることができる。   The processing device 104 extends upwardly from the floor of the basin 112 and typically includes a slide carrier window 132 when the slide carrier is lowered to the bottom of the basin-type container 110 during the hybridization reaction or incubation time. A slide heating pad 124 may be included that enters the bottom. The heating pad 124 is aligned with the bottom surface of the slide substrate 20 or is pressed against the slide substrate 20 to provide heat to the hybe solution, which further excites the suspended reactants and moves. And increase the efficiency of the reaction. In one aspect of the invention, the slide heating pad heats the slide substrate 20 to a temperature of about 95 ° C. during the hybridization protocol to denature the sample and probe solution, and then prolonged heating and incubation at a lower temperature. Thus, hybridization can be completed.

図7のように設計された処理デバイス104を使用して、プレハイブリダイゼーション洗浄手順を行うことができる。例えば、固定化反応物24を担持するサンプルまたは反応領域22を有する1以上のスライド基板20を下部キャリアローター130中に設置し、そして該下部キャリアローターを水盤型容器110中の支持軸118上に置くことができる。水盤型容器の上開口部は洗浄カバー(示されていない)で閉じることができ、一定濃度のエタノールまたは類似のクレンザーなどのプレハイブリダイゼーション洗浄液で水盤112を満たして、スライド基板および反応領域22をともに浄化し、ハイブリダイゼーション用のサンプルを調製する。一態様では、下部ローターは、水盤112の床から上向きに延在するスライド加熱パッド124によってスライドキャリアウインドウが捕獲されるように容器の基部に対して底に置いてよい。あるいは、下部ローターを上げて、プレhybe洗浄溶液内で回転させてよい。いずれの位置付けでも、スライド加熱パッドを駆動させて、エタノール溶液を直接またはスライド基板を通して加熱することができる。プレハイブリダイゼーションプロトコールの間、水盤の排出および変動する組成の洗浄液での再充填を交互に行い、その後、下部キャリアローター130をバスから取りはずし、高速で遠心して、ローターまたはスライド基板からすべての残留する洗浄液を除去することができる。   A pre-hybridization wash procedure can be performed using the processing device 104 designed as in FIG. For example, one or more slide substrates 20 having a sample or reaction region 22 carrying an immobilized reactant 24 are placed in a lower carrier rotor 130 and the lower carrier rotor is placed on a support shaft 118 in a ladle-type container 110. Can be put. The top opening of the basin-type container can be closed with a cleaning cover (not shown), and the basin 112 is filled with a pre-hybridization cleaning solution such as ethanol or a similar cleanser at a constant concentration, so that the slide substrate and the reaction area 22 are separated. Purify together and prepare sample for hybridization. In one aspect, the lower rotor may be placed at the bottom relative to the base of the container such that the slide carrier window is captured by a slide heating pad 124 extending upward from the floor of the basin 112. Alternatively, the lower rotor may be raised and rotated in the prehybe cleaning solution. In any position, the slide heating pad can be driven to heat the ethanol solution directly or through the slide substrate. During the prehybridization protocol, the basin is alternately discharged and refilled with a cleaning solution of varying composition, after which the lower carrier rotor 130 is removed from the bath and centrifuged at high speed to remove any residual from the rotor or slide substrate. The cleaning liquid can be removed.

例えば、プレハイブリダイゼーション洗浄手順の代表的な実施形態は以下のプロトコール:
・ 2×SSC/0.5%lgepal、pH7.0中で37℃で15分間、スライドをインキュベートする;
・ 70%エタノール中で1分間、スライドをインキュベートする;
・ 85%エタノール中で1分間、スライドをインキュベートする;
・ 100%エタノール中で1分間、スライドをインキュベートする;および
・ 室温で遠心して乾燥する
を含んでよい。
For example, an exemplary embodiment of the prehybridization wash procedure is the following protocol:
Incubate the slide for 15 minutes at 37 ° C. in 2 × SSC / 0.5% lgepal, pH 7.0;
Incubate the slide for 1 minute in 70% ethanol;
Incubate the slide for 1 minute in 85% ethanol;
Incubate the slide for 1 minute in 100% ethanol; and • Centrifuge at room temperature to dry.

プレハイブリダイゼーション洗浄手順の完了後に反応チャンバ26をhybeまたはプローブ溶液で満たす1つの方法を図8に示す。該方法では、hybe溶液を反応領域22にアプライした後に、反応チャンバアセンブリ30をスライド基板20に連結して、組み立てられたハイブリダイゼーションユニット10を形成させる(図5も参照のこと)。しかし、上記のように、反応チャンバアセンブリ30をスライド基板20に連結してハイブリダイゼーションユニット10を形成させた後に、充填口を通して反応チャンバを満たすこともできる(図4を参照のこと)。反応チャンバをハイブリダイゼーション液で満たすために使用される手順にかかわらず、処理デバイス104は、ハイブリダイゼーションユニット10とともに、本発明の1つの典型的な実施形態である100を形成することができる。   One method of filling the reaction chamber 26 with hybe or probe solution after completion of the prehybridization wash procedure is shown in FIG. In this method, after the hybe solution is applied to the reaction region 22, the reaction chamber assembly 30 is connected to the slide substrate 20 to form the assembled hybridization unit 10 (see also FIG. 5). However, as described above, after the reaction chamber assembly 30 is connected to the slide substrate 20 to form the hybridization unit 10, the reaction chamber can be filled through the filling port (see FIG. 4). Regardless of the procedure used to fill the reaction chamber with the hybridization solution, the processing device 104 may form one exemplary embodiment 100 of the present invention with the hybridization unit 10.

図9で示されるように、ハイブリダイゼーションユニット10が形成され、hybeまたはプローブ溶液で満たされたら、下部キャリアローターおよび設置されたスライド基板上に上部「クランプ」ローター140を配置して、基層の上面に押しつけ、反応チャンバをさらに密閉することができる。図1A〜2Bに記載のディスポーザブルチャンバアセンブリ30、32および34が使用される場合、クランプロータ140を、上部圧力ガスケットに押しつけ、または基層に直接押しつけて、ハイブリダイゼーション後にチャンバアセンブリをスライド基板から取りはずすために使用できる、チャンバアセンブリのエンドタブ上に形成された強接着性パッチに沿って、反応チャンバの天面を形成させる。あるいは、ディスポーザブルチャンバアセンブリ36または38が使用される場合(図3A〜3B)、クランプローターを強接着性パッチ上に直接押しつけてよい。   As shown in FIG. 9, once the hybridization unit 10 has been formed and filled with hybe or probe solution, an upper “clamp” rotor 140 is placed on the lower carrier rotor and the installed slide substrate to provide a top surface of the base layer. The reaction chamber can be further sealed. When the disposable chamber assemblies 30, 32, and 34 described in FIGS. 1A-2B are used, the clamp rotor 140 may be pressed against the upper pressure gasket or directly against the substrate to remove the chamber assembly from the slide substrate after hybridization. The top surface of the reaction chamber is formed along a strong adhesive patch formed on the end tab of the chamber assembly. Alternatively, if a disposable chamber assembly 36 or 38 is used (FIGS. 3A-3B), the clamp rotor may be pressed directly onto the strong adhesive patch.

図9に示される上部クランプロータ140は、下部キャリアローター130の上の支持軸118上で支持し、洗浄液のバス内に下部キャリアローターとともに浸漬し回転させるように設計することができる。チャンバアセンブリ30をスライド基板20に連結してハイブリダイゼーションユニット10を形成させ、次に該ハイブリダイゼーションユニットを下部キャリアローター中に設置したら、上部ローター140および下部ローター130をともに噛み合わせて反応チャンバをさらに密閉し、上部接着性パッチをクランプローターと接触させることができる。接着性パッチは、ハイブリダイゼーションおよびポストハイブリダイゼーションプロトコールの間に行われる種々の加熱および浸漬ステップ後でさえ、チャンバアセンブリの基層と上部クランプローターとの間の連結を提供するために強接着性であってよい。ゆえに、強接着性により、後に上部および下部ローターを取りはずすと、チャンバアセンブリ30がスライド基板20から取りはずされてはがれ、反応チャンバの密閉状態が解除されて開放され、ハイブリダイズした内容物が隣接する環境に露出されることを確実にすることができる。   The upper clamp rotor 140 shown in FIG. 9 can be designed to be supported on a support shaft 118 above the lower carrier rotor 130 and immersed and rotated with the lower carrier rotor in a bath of cleaning liquid. After the chamber assembly 30 is connected to the slide substrate 20 to form the hybridization unit 10 and then the hybridization unit is installed in the lower carrier rotor, the upper rotor 140 and the lower rotor 130 are meshed together to further define the reaction chamber. Seal and allow the upper adhesive patch to contact the clamp rotor. The adhesive patch is highly adhesive to provide a connection between the base layer of the chamber assembly and the upper clamp rotor even after various heating and soaking steps performed during hybridization and post-hybridization protocols. It's okay. Therefore, due to the strong adhesion, when the upper and lower rotors are later removed, the chamber assembly 30 is detached from the slide substrate 20, the sealed state of the reaction chamber is released, and the hybridized contents are adjacent. Can be sure to be exposed to the environment.

図10A〜10Dには、プレハイブリダイゼーション、ハイブリダイゼーション、およびポストハイブリダイゼーションサイクルの種々の段階の間の、水盤型容器110の床およびスライドヒーター124に対して種々の位置の上部クランプローターおよび下部キャリアローターの側断面図および末端断面図が示される。図10Aで示されるように、下部キャリアローター130は、プレハイブリダイゼーション洗浄プロトコール後のディスポーザブルチャンバアセンブリ30とスライド基板20との連結によってハイブリダイゼーションユニット10が形成された後に生じうる、開いた、底に置いた位置にまず配置してよい。ハイブリダイゼーションユニット10の形成後、上部クランプローターおよび下部キャリアローターをともに、ハイブリダイゼーションプロトコールの間に生じうる、閉じた、底に置いた位置(図10B)、ポストhybe洗浄プロトコールの開始時に生じうる、閉じて、持ち上げられて、回転している位置(図10C)、およびポストhybe洗浄プロトコールの後の段階の間に生じうる、開いて、持ち上げられて、回転している位置(図10D)に配置してよい。   10A-10D show the upper clamp rotor and lower carrier at various positions relative to the floor of the ladle vessel 110 and the slide heater 124 during various stages of the prehybridization, hybridization, and posthybridization cycles. A side and end cross-sectional view of the rotor are shown. As shown in FIG. 10A, the lower carrier rotor 130 is open to the bottom, which can occur after the hybridization unit 10 is formed by the connection of the disposable chamber assembly 30 and the slide substrate 20 after the prehybridization cleaning protocol. You may place it first in the place you put it. After formation of the hybridization unit 10, both the upper clamp rotor and the lower carrier rotor can occur during the hybridization protocol, in a closed, bottom position (FIG. 10B), which can occur at the start of the post hybe wash protocol. Closed, lifted and rotating position (FIG. 10C) and placed in an open, lifted and rotating position (FIG. 10D) that can occur during later stages of the post hybe washing protocol You can do it.

例えば、上記のようにプレハイブリダイゼーションプロトコールが完了した後に、図10Aに記載されるように、下部キャリアローター130を下げてスライド加熱パッド124の周囲にはめ込み、ディスポーザブルチャンバアセンブリ30を、設置されたスライド20の反応領域の周囲に連結し、反応チャンバ26をhybe(またはプローブ)溶液で満たしてよい。次いで、上部クランプローター140を、図10Bに記載されるように、設置し、かつ/またはチャンバアセンブリ30の上に接するまで下げて、接着性パッチおよび/または圧力ガスケットを噛み合わせてハイブリダイゼーションチャンバ126の密閉を完了させてよい。この構成に達したら、ハイブリダイゼーションプロトコールにしたがってサンプルをハイブリダイズさせることができる。   For example, after the prehybridization protocol is completed as described above, the lower carrier rotor 130 is lowered and fitted around the slide heating pad 124, as shown in FIG. 10A, to dispose the disposable chamber assembly 30 with the installed slide. Connected around the 20 reaction zones, the reaction chamber 26 may be filled with hybe (or probe) solution. The upper clamp rotor 140 is then installed and / or lowered until it contacts and over the chamber assembly 30 as described in FIG. 10B to engage the adhesive patch and / or pressure gasket to hybridize the hybridization chamber 126. May be completed. Once this configuration is reached, the sample can be hybridized according to the hybridization protocol.

例えば、図4および10Bに記載のハイブリダイゼーションプロトコールの代表的な実施形態は以下のステップ:
・ ディスポーザブルチャンバアセンブリを反応領域上に連結するステップ;
・ プローブ溶液で反応チャンバを満たすステップ;
・ 75℃で5〜10分間、サンプルおよびプローブを変性させるステップ;および
・ 37℃で一晩インキュベートするステップ
を含んでよい。
For example, an exemplary embodiment of the hybridization protocol described in FIGS. 4 and 10B includes the following steps:
Connecting the disposable chamber assembly onto the reaction zone;
Filling the reaction chamber with probe solution;
Denaturing the sample and probe for 5-10 minutes at 75 ° C .; and • Incubating overnight at 37 ° C.

同様に、図5および10Bに記載のハイブリダイゼーションプロトコールの代表的な実施形態は以下のステップ:
・ プローブ溶液を反応領域上にアプライするステップ;
・ ディスポーザブルチャンバアセンブリを反応領域上に連結するステップ;
・ 75℃で5〜10分間、サンプルおよびプローブを変性させるステップ;および
・ 37℃で一晩インキュベートするステップ
を含んでよい。
Similarly, an exemplary embodiment of the hybridization protocol described in FIGS. 5 and 10B includes the following steps:
Applying a probe solution onto the reaction area;
Connecting the disposable chamber assembly onto the reaction zone;
Denaturing the sample and probe for 5-10 minutes at 75 ° C .; and • Incubating overnight at 37 ° C.

ハイブリダイゼーションプロトコールが完了した後、図10Cに記載されるように、洗浄盤112を洗浄バッファーで満たし、ローター130、140をともに持ち上げ、バッファー溶液106で浸しながらゆっくり回転させてよい。次いで、図10Dに記載されるように、上部クランプローター140を下部キャリアローター130から離し、チャンバアセンブリ30を上部ローターの底面に接着させ、スライド基板20から完全に取りはずし、スライド基板20の上面を洗浄のために露出させたままにしてよい。スライド基板を沈めてゆっくり回転させてガスケットシールを破ると、空気で運ばれる粒子の汚染から反応領域が確実に防御される。また、ある程度の液体回避(fluid sheer)が反応領域にすぐに適用されてhybe溶液をすばやく押し出し、隣接するスライド上で使用されるhybe溶液との交差汚染のリスクを減らすことが確実になる。   After the hybridization protocol is complete, the wash plate 112 may be filled with wash buffer, the rotors 130, 140 may be lifted together, and slowly rotated while immersed in the buffer solution 106, as described in FIG. 10C. 10D, the upper clamp rotor 140 is then moved away from the lower carrier rotor 130, the chamber assembly 30 is adhered to the bottom surface of the upper rotor, completely removed from the slide substrate 20, and the top surface of the slide substrate 20 is cleaned. May be left exposed for. Sinking the slide substrate and slowly rotating it to break the gasket seal ensures that the reaction area is protected from contamination of airborne particles. Also, a certain amount of fluid sheer is applied immediately to the reaction area to ensure that the hybe solution is pushed out quickly, reducing the risk of cross-contamination with the hybe solution used on adjacent slides.

図10Dのようにローターが分離されたら、典型的なポストhybeプロトコールなどのポストハイブリダイゼーション洗浄ステップにしたがって、分析用のハイブリダイズしたサンプルの浄化および調製を完了することができる。これは、水盤型容器の排出と種々の洗浄バッファー液106での充填を交互に行い、バッファー液内に沈められた下部キャリアを回転させてhybe溶液を完全に除去するステップを含んでよい。バッファー液からの下部キャリアローターの取り出しは、下部キャリアローターをバスから持ち上げて出すことによって、または水盤型容器から洗浄液を排出することによって達成することができる。   Once the rotor is separated as in FIG. 10D, purifying and preparing the hybridized sample for analysis can be completed according to a post-hybridization wash step such as a typical post-hybe protocol. This may include the step of alternately discharging the basin-type container and filling with various washing buffer solutions 106 and rotating the lower carrier submerged in the buffer solution to completely remove the hybe solution. Removal of the lower carrier rotor from the buffer solution can be accomplished by lifting the lower carrier rotor out of the bath or by draining the wash solution from the basin-type container.

ポストhybe段階の間、上部ローター140をバッファー液の表面より上に上げ、別々に高速で遠心して、後の乾燥または洗浄バッファー除去段階の間に、スライド基板にしたたり落ちて汚染する可能性があるすべての残留する洗浄液を振り落としてよい。一態様では、下部キャリアローターの洗浄が完了する前に、上部クランプローターを、連結されたチャンバアセンブリとともに、連結されたチャンバの浄化および取りはずしのために処理デバイスから完全に取りはずしてよい。   During the post-hybe phase, the upper rotor 140 may be raised above the surface of the buffer solution and centrifuged separately at high speed, which may cause contamination by dropping on the slide substrate during the subsequent drying or washing buffer removal phase. Any remaining cleaning solution may be shaken off. In one aspect, before the cleaning of the lower carrier rotor is complete, the upper clamp rotor along with the connected chamber assembly may be completely removed from the processing device for cleaning and removal of the connected chamber.

例えば、ポストハイブリダイゼーション洗浄手順の代表的な実施形態は以下のプロトコール:
・ 1×ポスト洗浄バッファーII(2×SCC/0.1%lgepal)中で室温で2分間、スライドを洗浄する;
・ 1×ポスト洗浄バッファーI(0.4×SCC/0.3%lgepal)中で72℃(+/−1℃)で2分間、攪拌せずに、スライドを洗浄する;
・ 1×ポスト洗浄バッファーII(2×SCC/0.1%lgepal)中で室温で1分間、攪拌せずに、スライドを洗浄する;
・ 室温で遠心して乾燥する
を含んでよい。
For example, an exemplary embodiment of a post-hybridization wash procedure is the following protocol:
Wash the slides in 1 × Post Wash Buffer II (2 × SCC / 0.1% lgepal) for 2 minutes at room temperature;
-Wash slides in 1x Post Wash Buffer I (0.4xSCC / 0.3% lgepal) at 72 ° C (+/- 1 ° C) for 2 minutes without agitation;
• Wash slides in 1x Post Wash Buffer II (2x SCC / 0.1% lgepal) for 1 minute at room temperature without agitation;
-It may include centrifuging and drying at room temperature.

本発明のハイブリダイゼーションシステム100は、非常に小容量の反応チャンバを使用するが、事前および事後の両方で大容量の洗浄段階を行うことができる反応段階を提供することによって先行技術より有益である。上記で開示されるように、これは、スライドの表面上で密閉された小容量反応チャンバを一時的に形成させることによって達成することができ、該密閉を解除して反応チャンバを開放し、洗浄液の大容量の洗い流しまたはバスにスライドを露出させることができる。大容量の洗浄の利益は、インキュベーションサイクルの間に利用される小容量反応チャンバに洗浄液を押し通すことによっては実現できないことが認識されている。さらに、反応チャンバを取りはずして、洗浄液の大容量の洗い流しまたはバスにスライドを露出させると、使用されたhybe溶液をスライドから、より完全にかつ高速に除去できることが認識された。   The hybridization system 100 of the present invention is advantageous over the prior art by providing a reaction step that uses a very small volume reaction chamber, but can perform a large volume wash step both pre- and post-hoc. . As disclosed above, this can be accomplished by temporarily forming a sealed small volume reaction chamber on the surface of the slide, releasing the seal to open the reaction chamber and washing liquid. Can expose slides to large volume washouts or baths. It has been recognized that the benefits of large volume washing cannot be realized by forcing washing liquid through the small volume reaction chamber utilized during the incubation cycle. Further, it was recognized that removing the reaction chamber and exposing the slide to a large volume of wash solution or bath could remove the used hybe solution from the slide more completely and quickly.

洗浄液の大容量の洗い流しまたはバスは複数のハイブリダイゼーションスライドのそれぞれに共通であってよいことが理解される。多数のスライド基板をプレhybeおよびポストhybeの両浄化液の同一バスに通して浸漬して動かすと、複数のスライドの同時浄化、および洗浄液の効率的かつ経済的な使用が提供される。さらに、大容量洗浄を使用すると交差汚染の機会を減らすこともできる。マイクロリットルサイズの容量のhybe溶液サンプルをずっと大きい数リットルサイズの量の洗浄液中で完全に押し流し、希釈することができるからである。   It will be appreciated that a large volume washout or bath of wash solution may be common to each of the plurality of hybridization slides. Moving multiple slide substrates through the same bath of both pre-hybe and post-hybe cleaning liquids provides simultaneous cleaning of multiple slides and efficient and economical use of the cleaning liquid. Furthermore, the use of large volume cleaning can also reduce the chance of cross contamination. This is because a microliter-sized hybe solution sample can be completely washed away and diluted in a much larger liter-sized amount of washing solution.

上記説明では、半自動化されたハイブリダイゼーションスライド処理システムおよびその使用方法のいくつかの代表的な実施形態を教示するが、以下、図11〜22では、実質的に自動化されたハイブリダイゼーションスライド処理システムおよびその使用方法の種々の実施形態が示され、それはまた、小容量ハイブリダイゼーションステップおよび大容量ポストハイブリダイゼーション洗浄ステップを含む。   While the above description teaches several exemplary embodiments of a semi-automated hybridization slide processing system and method of use thereof, hereinafter, substantially automated hybridization slide processing system will be described in FIGS. Various embodiments of the method and its use are shown, which also includes a small volume hybridization step and a large volume post-hybridization wash step.

実質的に自動化されたハイブリダイゼーションシステムの典型的な各実施形態は、図11A〜11Bに、より詳細に示されるハイブリダイゼーションユニット210を含んでよい。ハイブリダイゼーションユニット210は、固定化DNAサンプルなどの固定化反応物226を担持する反応領域224を有する実質的に長方形のガラススライド基板220を含んでよい。該反応領域を、ディスポーザブルチャンバアセンブリ、またはミキサー240によって覆い、該ディスポーザブルチャンバアセンブリまたはミキサーをスライド基板220に取りはずし可能に取り付けて、反応領域224を封入する小容量反応チャンバ244を形成させることができる。ミキサーをミキサーシール242でスライド基板に取り付けてよく、該ミキサーシールは、取りはずし可能な接着性物質、エラストマーシール(例えばOリングまたはガスケット(シリコーンガスケットを含む))または、処理の充填およびインキュベーション段階の間、ハイブリダイゼーション液を保持および担持するために十分な密閉された反応チャンバを形成させるために当技術分野で利用可能な任意の他の密閉機構であってよい。非接着性物質またはエラストマーシール242が使用される場合、少量のコーナー接着性物質258を、スライドのコーナーに配置して、以下でさらに詳細に考察されるように、ハイブリダイゼーションユニット210が処理デバイス中に配置されるまでミキサー240をスライド基板220に軽く取り付けることができる。反応チャンバ244に、充填口250および通気口252を備えて、ハイブリダイゼーション液の導入および封入空気またはガスの通気を可能にすることができる。   Each exemplary embodiment of a substantially automated hybridization system may include a hybridization unit 210 shown in more detail in FIGS. Hybridization unit 210 may include a substantially rectangular glass slide substrate 220 having a reaction region 224 carrying an immobilized reaction 226, such as an immobilized DNA sample. The reaction region can be covered by a disposable chamber assembly, or mixer 240, and the disposable chamber assembly or mixer can be removably attached to the slide substrate 220 to form a small volume reaction chamber 244 that encloses the reaction region 224. The mixer may be attached to the slide substrate with a mixer seal 242, which may be a removable adhesive material, an elastomeric seal (eg, an O-ring or gasket (including silicone gasket)) or during the filling and incubation stages of the process. Any other sealing mechanism available in the art to form a sufficiently closed reaction chamber to hold and carry the hybridization solution. If a non-adhesive material or elastomeric seal 242 is used, a small amount of corner adhesive material 258 is placed at the corner of the slide so that the hybridization unit 210 is in the processing device as discussed in more detail below. The mixer 240 can be lightly attached to the slide substrate 220 until it is placed on the slide substrate 220. The reaction chamber 244 can be provided with a filling port 250 and a vent 252 to allow introduction of hybridization fluid and venting of enclosed air or gas.

典型的に、固定化反応物226を担持する反応領域224はスライド基板220の上面を実質的に覆い、反応チャンバ244の外周の輪郭を定めるためのマイクロアレイスライドの縁部の周囲にミキサーシール242のための余地を残すことができる。単一の反応チャンバはスライドの表面上の反応領域全体を覆ってよい。しかし、固定化反応物を、異なる区画に分け、反応チャンバ244を複数の個別に密閉されたサブチャンバ246に細分することが可能であり、各サブチャンバは、スライドの表面を横切って延在するシール部分によって、隣接するサブチャンバから分離されている。例えば、図11A〜11Bで示される典型的な反応チャンバは、8個のサブチャンバ246に細分され、各サブチャンバは自身の充填口250および通気口252を有する。本発明の他の態様では、サブチャンバの数は、必要が生じれば、非限定的に、2、4、6または12サブチャンバを含んでよい。   Typically, the reaction region 224 carrying the immobilized reactant 226 substantially covers the top surface of the slide substrate 220 and provides a mixer seal 242 around the edge of the microarray slide to delineate the outer periphery of the reaction chamber 244. Can leave room for. A single reaction chamber may cover the entire reaction area on the surface of the slide. However, it is possible to divide the immobilized reactant into different compartments and subdivide the reaction chamber 244 into a plurality of individually sealed subchambers 246, each subchamber extending across the surface of the slide. It is separated from adjacent subchambers by a sealing portion. For example, the exemplary reaction chamber shown in FIGS. 11A-11B is subdivided into eight subchambers 246, each subchamber having its own fill port 250 and vent 252. In other aspects of the invention, the number of sub-chambers may include, but is not limited to, 2, 4, 6 or 12 sub-chambers as needed.

スライド基板220の上部とディスポーザブルチャンバアセンブリまたはミキサー240の底との間の距離(またはミキサーシールの厚み)によって定められる反応チャンバ(群)244、246の高さは、約1/1000インチ(または25μm)に制御することができるが、より大きい高さが使用されることもよくある。反応チャンバの高さを約1/1000インチに制御すると、チャンバの容量、およびゆえに必要とされるハイブリダイゼーション液の容量を約25μL以下に制限することが可能になる。しかし、反応チャンバの容量は、小さいサブチャンバ246の場合の約5μLから大きい単一の反応チャンバ244の場合の約100μLまで変動させることができることが理解される。当業者は、この範囲が小容量のハイブリダイゼーションを提供するとみなすことができ、該小容量のハイブリダイゼーションは、ハイブリダイゼーション液に懸濁された高濃度の標本をスライド220上の固定化プローブに接触させることを可能にする。   The height of the reaction chamber (s) 244, 246, defined by the distance between the top of the slide substrate 220 and the bottom of the disposable chamber assembly or mixer 240 (or the thickness of the mixer seal) is about 1/1000 inch (or 25 μm). ), But higher heights are often used. Controlling the height of the reaction chamber to about 1/1000 inch allows the chamber volume, and hence the volume of hybridization solution required, to be limited to about 25 μL or less. However, it is understood that the reaction chamber volume can vary from about 5 μL for the small subchamber 246 to about 100 μL for the large single reaction chamber 244. One skilled in the art can consider that this range provides a small volume of hybridization that contacts a high concentration of sample suspended in the hybridization solution with the immobilized probe on slide 220. Make it possible.

ディスポーザブルチャンバアセンブリまたはミキサー240は、多層の、フレキシブルなポリマー材料からなり、透明な積層構造を形成してよく、反応チャンバ244、246を満たし、現在の空気容量を通気孔252から押し出すときのハイブリダイゼーション液の前進を観察する能力をユーザーに提供する。該ミキサーは、空気袋(示されていない)などの組み込みの攪拌システムを備えてもよく、該攪拌システムはミキサーの天面部分中に形成させることができ、膨張すると反応チャンバ中に下向きに天面部分を広げるように作動することができる。空気袋は、空気圧で膨張および収縮して、インキュベーションの間、反応チャンバ内部のハイブリダイゼーション液を混合し続けることができる。空気袋とハイブリダイゼーションシステムを連絡する空気口254および空気ライン(pneumatic lines)256は、ミキサーの1つのエンドタブ248、好ましくは内部エンドタブ中に形成させることができる。ミキサーの空気圧撹拌システムは、2002年8月2日提出の米国特許第7,234,400号、「Laminated Microarray Interface Device」(該参考文献はその全体が本明細書中に組み入れられる)にさらに詳細に記載される。   The disposable chamber assembly or mixer 240 may be made of a multi-layer, flexible polymer material, forming a transparent laminate structure, filling the reaction chambers 244, 246, and hybridization as the current air volume is pushed out of the vent 252. Provides the user with the ability to observe liquid progress. The mixer may include a built-in agitation system such as a bladder (not shown), which can be formed in the top surface portion of the mixer and when inflated causes the ceiling to fall downward into the reaction chamber. Can operate to widen the surface portion. The bladder can be inflated and deflated with air pressure to continue mixing the hybridization solution inside the reaction chamber during the incubation. Air vents 254 and pneumatic lines 256 communicating the bladder and the hybridization system can be formed in one end tab 248 of the mixer, preferably the internal end tab. The mixer's pneumatic agitation system is further detailed in US Pat. No. 7,234,400, “Laminated Microarray Interface Device”, filed Aug. 2, 2002, which reference is incorporated herein in its entirety. It is described in.

ミキサー240は、オプションのマニホールドデバイス270と組み合わせることができ、該マニホールドデバイスは、反応チャンバ244またはサブチャンバ246の充填および密閉を容易にし、サンプルの交差汚染のリスクを減らすことができる。該マニホールドは、ミキサーの注入口250および通気口252とそれぞれ位置を合わせた一連の注入孔および通気路272を含むことができる。ピペットの先端を捕獲して注入/通気孔へ導き、ハイブリダイゼーション液を反応チャンバまたはサブチャンバ中へガイドするためのろうと状の開口部274を有する注入/通気孔272を形成させることができる。充填および通気後、ミキサー220の注入口250および通気口252を、差し込み式の栓、マニホールド中に組み込まれたスライド式の密閉バー、またはミキサー自体に組み込まれた貫通式の隔壁層(a piercable septum layer)などを含む種々の手段で閉じて、反応チャンバ244、246が、ハイブリダイゼーション処理のインキュベーション段階の間、外部汚染から防御された液密容器になるようにすることができる。さらに、マニホールド270、ミキサー240およびミキサーシール242をミキサー/マニホールドサブアセンブリ280として設計することができる。ミキサー240およびミキサー/マニホールドサブアセンブリはともに、ディスポーザブルであってよく、スライド基板220の上面に容易に取り付け、取りはずすことができるように設計することができる。   The mixer 240 can be combined with an optional manifold device 270 that can facilitate filling and sealing of the reaction chamber 244 or sub-chamber 246 and reduce the risk of sample cross-contamination. The manifold may include a series of inlet holes and vents 272 aligned with the mixer inlet 250 and vent 252 respectively. The tip of the pipette can be captured and directed to the injection / vent hole to form an injection / vent hole 272 with a funnel-shaped opening 274 for guiding the hybridization solution into the reaction chamber or sub-chamber. After filling and venting, the inlet 250 and vent 252 of the mixer 220 can be connected to a plug-in plug, a sliding sealing bar built into the manifold, or a piercable septum layer built into the mixer itself. The reaction chambers 244, 246 can be closed by various means including layers), etc., to be liquid tight containers that are protected from external contamination during the incubation phase of the hybridization process. Further, the manifold 270, the mixer 240 and the mixer seal 242 can be designed as a mixer / manifold subassembly 280. Both the mixer 240 and the mixer / manifold subassembly can be disposable and designed to be easily attached and removed from the top surface of the slide substrate 220.

ハイブリダイゼーションユニット210は、ミキサー240の境界がスライド基板の2つの平行な縁部230を超えて延在し、他の2つの平行な縁部232を露出させるように設計することもできる。図11A〜11Bで示される典型的な実施形態では、ミキサーはスライド基板の長軸に沿ってさらに(短い縁部を超えて)延在し、ハイブリダイゼーションユニットの両端230の2つのエンドタブ248を提供する。同時に、ディスポーザブルチャンバアセンブリまたはミキサー240はスライド基板220の幅より狭く、スライド基板の長さに縁をつける2つの縁部232を露出させることができる。本発明の別の態様では、平行な縁部のセットを交換し、ミキサーのフラップがスライド基板の長い縁部にわたり、それを超えて延在し、およびスライド基板の片側の短い縁部は露出したままにすることができる。   Hybridization unit 210 can also be designed such that the boundary of mixer 240 extends beyond two parallel edges 230 of the slide substrate and the other two parallel edges 232 are exposed. In the exemplary embodiment shown in FIGS. 11A-11B, the mixer further extends along the long axis of the slide substrate (beyond the short edges) and provides two end tabs 248 at both ends 230 of the hybridization unit. To do. At the same time, the disposable chamber assembly or mixer 240 is narrower than the width of the slide substrate 220 and can expose two edges 232 that edge the length of the slide substrate. In another aspect of the invention, the set of parallel edges is exchanged, the mixer flap extends over and beyond the long edge of the slide substrate, and the short edge on one side of the slide substrate is exposed. Can be left.

以下でさらに詳細に考察されるように、この設計は、ミキサー240を処理デバイスの上部クランプ取り付け具に取り付け、スライド基板220を処理デバイスの下部キャリア取り付け具に取り付けることを可能にする。ミキサーおよびスライド基板を受けた後、上部および下部取り付け具をともに噛み合わせ、ミキサーとスライド基板を結び付けて反応チャンバ244、246を形成させることができる。上部および下部取り付け具を取りはずすと、ミキサーがスライド基板から取りはずされ、反応チャンバ244、246の密閉状態が開放されて開く。   As discussed in more detail below, this design allows the mixer 240 to be attached to the upper clamp fixture of the processing device and the slide substrate 220 to be attached to the lower carrier fixture of the processing device. After receiving the mixer and slide substrate, the upper and lower fixtures can be mated together to join the mixer and slide substrate to form reaction chambers 244,246. When the upper and lower fixtures are removed, the mixer is removed from the slide substrate, and the sealed state of the reaction chambers 244, 246 is opened and opened.

ハイブリダイゼーションユニット360とともに、複数のマイクロアレイスライドの実質的に自動化されたハイブリダイゼーションのための本発明の典型的な実施形態300を形成する処理デバイス304は、概して、図12〜15に示される。処理デバイス304は開放頂端を有する水盤型容器310を含んでよい。該水盤型容器は、ハイブリダイゼーション処理の完了後にマイクロアレイスライドを洗浄するための多量の洗浄液を保持するように設計された水盤312を含んでよい。該水盤312は図に示されるように円形であるか、または複数のマイクロアレイスライドを浸すかまたは沈めるために十分な多量の洗浄液を一時的に保持または担持可能な任意の他の形状または構成を有してよく、該範囲は、非限定的に0.1〜3.0リットルの洗浄液を含むことができる。水盤型容器310は、洗浄液ボトルを保持するための凹部316を有する側面区画314、ならびに水盤から洗浄液を充填および排出するためのバルブおよびパイプなどの内部配管をさらに含んでよい。   A processing device 304 that, together with the hybridization unit 360, forms an exemplary embodiment 300 of the present invention for substantially automated hybridization of a plurality of microarray slides is generally illustrated in FIGS. The processing device 304 may include a basin container 310 having an open top end. The basin-type container may include a basin 312 designed to hold a large amount of washing solution for washing the microarray slide after completion of the hybridization process. The basin 312 is circular as shown, or has any other shape or configuration capable of temporarily holding or carrying a sufficient amount of cleaning solution to immerse or sink a plurality of microarray slides. The range may include, but is not limited to, 0.1-3.0 liters of cleaning liquid. The basin-type container 310 may further include a side compartment 314 having a recess 316 for holding a cleaning liquid bottle, and internal piping such as valves and pipes for filling and discharging cleaning liquid from the basin.

処理デバイス304は水盤型容器310内に配置されたスライドキャリアを含み、複数のマイクロアレイスライド基板362を受けるように設計することができる。該スライドキャリアは、実施形態の図に示されるように、支持軸318上で支持されかつスピンモーター320によって駆動される下部キャリアローター330であってよく、該スピンモーターは、水盤312およびその中に保持された洗浄液に対する下部キャリアローター(受容されたスライド基板を含む)の回転運動を可能にする。さらに、下部キャリアローター330および水盤型容器310はともに、水盤312内に収容された洗浄液のバス内に下部キャリアローターを浸漬し、次いで下部キャリアローターをバスから取り出し、すべての残留する洗浄液を除去するように設計することができる。バスからの下部キャリアローターの取り出しは、下部キャリアローターをバスから持ち上げて出すことによって、または水盤型容器から洗浄液を排出することによって達成することができる。本発明の一態様では、洗浄液を排出しながら、下部キャリアローター330を水盤312の床から離して上げ、かつ支持軸318の周囲を回転させることができる。   The processing device 304 includes a slide carrier disposed within the basin-type container 310 and can be designed to receive a plurality of microarray slide substrates 362. The slide carrier may be a lower carrier rotor 330 that is supported on a support shaft 318 and driven by a spin motor 320, as shown in the figures of the embodiments, the spin motor being in the basin 312 and therein. Allows rotational movement of the lower carrier rotor (including the received slide substrate) relative to the retained cleaning liquid. Further, both the lower carrier rotor 330 and the basin-type container 310 immerse the lower carrier rotor in a bath of cleaning liquid accommodated in the basin 312 and then remove the lower carrier rotor from the bath to remove all remaining cleaning liquid. Can be designed as Removal of the lower carrier rotor from the bath can be accomplished by lifting the lower carrier rotor out of the bath or by draining the cleaning liquid from the basin-type container. In one aspect of the present invention, the lower carrier rotor 330 can be lifted away from the floor of the basin 312 and rotated around the support shaft 318 while discharging the cleaning liquid.

処理デバイス304は、スライドキャリアの上に配置されたクランププレートをさらに含み、複数のミキサー/マニホールド364または個別のミキサー366を受けるように設計することができる。該クランププレートは、図12〜15で示されるように、同支持軸318上で支持されかつ下部キャリアローター330の上の上部クランプローター340であってよい。支持軸318は、水盤型容器310および下部キャリアローター330の両者と比べて区別される上部クランプローター340の回転運動を可能にするように分けることができる。上部クランプローターは、水盤312内に収容された洗浄液のバス内での浸漬および回転のために設計することもできる。   The processing device 304 further includes a clamp plate disposed on the slide carrier and can be designed to receive a plurality of mixer / manifolds 364 or individual mixers 366. The clamp plate may be an upper clamp rotor 340 supported on the same support shaft 318 and above the lower carrier rotor 330 as shown in FIGS. The support shaft 318 can be separated to allow rotational movement of the upper clamp rotor 340 that is distinct compared to both the ladle vessel 310 and the lower carrier rotor 330. The upper clamp rotor can also be designed for immersion and rotation in the bath of cleaning liquid contained in the basin 312.

図12〜15の回転する実施形態では、上部クランプローター340および下部キャリアローター330を、2つのディスク間の相対的垂直運動を備えることによって一方を他方と噛み合わせるために設計することができる。噛み合うと、上部クランプローター340によってあらかじめ収容された複数のミキサー/マニホールド364は、下部キャリアローター330上にあらかじめ収容された複数のスライド基板362と結び付いて、密閉されたハイブリダイゼーション反応チャンバを有する複数のハイブリダイゼーションユニット360を形成させることができる。そして、取りはずすと、上部クランプローターと下部キャリアローターとの間の分離した運動により、ミキサー/マニホールド364がスライド基板362から取りはずされ、ミキサーがスライド基板から引き抜かれ、複数の反応チャンバを形成する各ミキサーシールが開放されて開く。   In the rotating embodiment of FIGS. 12-15, the upper clamp rotor 340 and the lower carrier rotor 330 can be designed to mesh one with the other by providing a relative vertical motion between the two disks. When engaged, the plurality of mixers / manifolds 364 pre-accommodated by the upper clamp rotor 340 are coupled to the plurality of slide substrates 362 pre-contained on the lower carrier rotor 330 to provide a plurality of sealed hybridization reaction chambers. A hybridization unit 360 can be formed. When removed, the separate movement between the upper clamp rotor and the lower carrier rotor causes the mixer / manifold 364 to be removed from the slide substrate 362 and the mixer is withdrawn from the slide substrate to form a plurality of reaction chambers. The mixer seal is opened and opened.

上部クランプローター340に取り付けられたミキサー/マニホールド364は、2つのローターを一緒にする前に、下部キャリアローター330に取り付けられたスライド基板362と角度位置を合わせることができる。これは、ミキサー/マニホールドおよびスライド基板の位置が合うまで両ローターの角度位置をモニターして制御することによって達成することができる。   The mixer / manifold 364 attached to the upper clamp rotor 340 can be angularly aligned with the slide substrate 362 attached to the lower carrier rotor 330 before bringing the two rotors together. This can be accomplished by monitoring and controlling the angular position of both rotors until the mixer / manifold and slide substrate are aligned.

スライド基板362を、下部キャリアローター330中に形成された等間隔のキャリアローター「ウインドウ」332に挿入することができる。キャリアローターウインドウ332は、ミキサーによって覆われないスライド基板の露出縁部を受けてつかむために内部側面に形成されたスロットまたはグルーブ、および、設置の間には曲がって開き、その後、回転の間、特に下部キャリアローター330の高速遠心の間には、スライド基板362がウインドウ332から飛び出すのを防ぐためにパチンと閉じる、スロットの末端のフレキシブルなタブを有することができる。   The slide substrate 362 can be inserted into equally spaced carrier rotor “windows” 332 formed in the lower carrier rotor 330. The carrier rotor window 332 is a slot or groove formed on the inner side to receive and grab the exposed edge of the slide substrate that is not covered by the mixer, and bends open during installation, then during rotation, In particular, during the high speed centrifugation of the lower carrier rotor 330, it may have a flexible tab at the end of the slot that snaps closed to prevent the slide substrate 362 from popping out of the window 332.

ミキサー/マニホールド364は、スライド基板の縁部を超えて縦方向に延在するミキサー366のエンドタブを介して上部クランプローター340に連結することができる(図15を参照のこと)。エンドタブは、下部キャリアローターに向かって下向きに延在するクランプローター「ウインドウ」342の両端に形成されたクリップまたはタブによってつかむことができる。該クリップは、エンドタブとの連絡点として機能するだけでなく、2つのローターを良好に整列させてともに固定する連結配置(interlocking alignment)および噛み合わせ機構としても働くことができる。クリップ642を用いる追加の実施形態は図24および25A〜25Dに示される。   The mixer / manifold 364 can be coupled to the upper clamp rotor 340 via an end tab of the mixer 366 that extends longitudinally beyond the edge of the slide substrate (see FIG. 15). The end tabs can be grasped by clips or tabs formed at both ends of a clamp rotor “window” 342 that extends downwardly toward the lower carrier rotor. The clip not only functions as a point of contact with the end tab, but can also act as an interlocking alignment and interlocking mechanism that aligns and secures the two rotors together. Additional embodiments using clips 642 are shown in FIGS. 24 and 25A-25D.

図15への参照に戻って、上部クランプローター340は、個別のミキサー366またはミキサー/マニホールドサブアセンブリ368の両者を受けるように設計することができ、該マニホールドを、クランプローターに積載する前にミキサーに取り付けて、反応チャンバまたはサブチャンバのその後の充填、通気および密閉を容易にすることができる。   Returning to the reference to FIG. 15, the upper clamp rotor 340 can be designed to receive both a separate mixer 366 or a mixer / manifold subassembly 368, and the manifold is loaded into the mixer before being loaded onto the clamp rotor. Can be attached to facilitate subsequent filling, venting and sealing of the reaction chamber or subchamber.

本発明の一態様では、クランプローターウインドウは、ウインドウの内縁とマニホールド368との間のギャップにまたがるクランプローターウインドウ344の内縁の周囲に固定されたフレキシブルな「浮き蓋(floating lid)」346を備えることができる。2つのローターが離れると、浮き蓋は、マニホールドの周囲にぴったり(snuggly)はまり、マニホールドをつかんで、クランププレートローターにミキサー/マニホールド364をさらに固定するように作動することができる。そして、マニホールドの有無にかかわらず上部クランプローター340が下部キャリアローター330と噛み合うと、浮き蓋346は、ミキサー366の上面に押しつけられてミキサーシールを完全に圧縮し液密反応チャンバをつくり出すためのプレーナースプリングとして機能することができる。スプリング様浮き蓋を使用してミキサーの上面に対して押しつけると、上部ローターと下部ローターを噛み合わせたときに大きい許容範囲が提供され、スライド基板362が割れるか壊れるかもしれないクランププレートローターによる過剰な力の適用が回避される。   In one aspect of the present invention, the clamp rotor window comprises a flexible “floating lid” 346 secured around the inner edge of the clamp rotor window 344 that spans the gap between the inner edge of the window and the manifold 368. be able to. As the two rotors move apart, the floating lid snuggly fits around the manifold and can be operated to grab the manifold and further secure the mixer / manifold 364 to the clamp plate rotor. When the upper clamp rotor 340 engages the lower carrier rotor 330 with or without the manifold, the floating lid 346 is pressed against the upper surface of the mixer 366 to completely compress the mixer seal and create a liquid-tight reaction chamber. Can function as a spring. Pressing against the upper surface of the mixer using a spring-like floating lid provides greater tolerance when the upper and lower rotors are engaged, and the slide plate 362 may break or break due to excess clamping plate rotors Application of extra force is avoided.

本発明の別の態様では、マニホールド368を上部クランプローター340に恒久的に連結し、ミキサー366のみが取りはずし可能でハイブリダイゼーション処理の各サイクルでディスポーザブルであってよい。さらに、利用可能な種々のサブチャンバ設計にミキサーシェルを適合させるために汎用パターンの充填ろうとおよび通気路を有するマニホールドを設計することができる。   In another aspect of the invention, the manifold 368 may be permanently connected to the upper clamp rotor 340, and only the mixer 366 may be removed and disposable in each cycle of the hybridization process. In addition, manifolds with universal pattern filling funnels and vents can be designed to adapt the mixer shell to the various subchamber designs available.

本発明のさらに別の態様では、スライドを下部キャリアローター330中に設置する前にミキサー/マニホールド364またはミキサー366をスライド基板362に取り付けることができる。組み立て前のハイブリダイゼーションユニット360を受けた後、クランプローター340を下げてキャリアローターを噛み合わせ、ミキサー366の上部に必要な圧力を適用して反応チャンバを適正に密閉することができる。上記のように、クランプローターはミキサーのエンドタブに自動的に連結されて、その後、クランプローターを持ち上げるとミキサーシールが解除され、ミキサー366またはミキサー/マニホールド364がスライド基板362から取りはずされるようにすることができる。   In yet another aspect of the invention, the mixer / manifold 364 or mixer 366 can be attached to the slide substrate 362 prior to placing the slide into the lower carrier rotor 330. After receiving the pre-assembly hybridization unit 360, the clamp rotor 340 can be lowered to engage the carrier rotor and the required pressure can be applied to the top of the mixer 366 to properly seal the reaction chamber. As described above, the clamp rotor is automatically connected to the end tab of the mixer, and then lifting the clamp rotor releases the mixer seal so that the mixer 366 or mixer / manifold 364 is removed from the slide substrate 362. Can do.

ミキサーの空気ラインとの連絡のため送気管は、上部クランプローター中で形成させるか、上部クランプローターに連結することができる。送気管は、ミキサー中の空気口と位置を合わせたエラストマーシールを有する出口孔で終結することができる。上部クランプローターをミキサーの上面に対して押しつけてミキサーとスライド基板との間の液密反応チャンバをつくり出すと、送気管終結とミキサーのエンドタブ中の空気口との間の気密密閉が同時につくり出される。   The air line can be formed in the upper clamp rotor or connected to the upper clamp rotor for communication with the mixer air line. The air line can be terminated with an outlet hole having an elastomeric seal aligned with the air port in the mixer. Pressing the upper clamp rotor against the top surface of the mixer to create a liquid-tight reaction chamber between the mixer and the slide substrate creates a hermetic seal between the end of the air line and the air port in the mixer end tab at the same time. .

ハイブリダイゼーションシステムの追加の態様は、水盤312の床から上向きに延在し、典型的にハイブリダイゼーション処理の反応またはインキュベーション時間の間、スライドキャリアを水盤型容器310の底に下げたときにスライドキャリアウインドウ332の底に入るスライドヒーター324を含んでよい。スライドヒーター324はスライド基板362の底面に接して並ぶか、またはスライド基板362の底面に対して押しつけられ、ハイブリダイゼーション液に熱を供給し、該ハイブリダイゼーション液は、懸濁された反応物をさらに励起して運動させ、反応の効率を増大させることができる。本発明の一態様では、スライドヒーターは、スライド基板362を約95℃の温度まで加熱することができる。   An additional aspect of the hybridization system extends upward from the floor of the basin 312, typically when the slide carrier is lowered to the bottom of the basin container 310 during the hybridization reaction or incubation time. A slide heater 324 that enters the bottom of the window 332 may be included. The slide heater 324 is arranged in contact with the bottom surface of the slide substrate 362 or is pressed against the bottom surface of the slide substrate 362 to supply heat to the hybridization solution, and the hybridization solution further supplies the suspended reaction product. It can be excited and moved to increase the efficiency of the reaction. In one embodiment of the present invention, the slide heater can heat the slide substrate 362 to a temperature of about 95 ° C.

図16Aおよび16Bには、ハイブリダイゼーション処理の充填およびインキュベーション段階の間に生じうる閉じた位置の上部クランプローター340および下部キャリアローター330の側断面図および末端断面図が示される。この位置では、結合したローターが水盤型容器310の底に位置し、ヒーター324は、キャリアローターウインドウ中へ上向きに突出し、スライド基板362の底に接触する。上部クランプローターは、浮き蓋346でミキサー366の上面の外縁を押さえつけ、スライド基板362の上面に対してミキサーシールをしっかり押しつけて、液密密閉を有する反応チャンバを形成させることができる。マニホールド368をミキサーの上面の内部部分に取り付けて、注入口および通気口と位置を合わせることができる。さらに、上部クランプローター中の送気管348をミキサーの空気口との空気連絡中に配置し、インキュベーションの間、ハイブリダイゼーション液を攪拌および混合するためのミキサー空気袋の操作を可能にすることができる。   16A and 16B show side and end cross-sectional views of the upper clamp rotor 340 and the lower carrier rotor 330 in a closed position that can occur during the filling and incubation phases of the hybridization process. In this position, the coupled rotor is located at the bottom of the basin-shaped container 310, and the heater 324 projects upward into the carrier rotor window and contacts the bottom of the slide substrate 362. The upper clamp rotor can press the outer edge of the upper surface of the mixer 366 with the floating lid 346 and firmly press the mixer seal against the upper surface of the slide substrate 362 to form a reaction chamber having a liquid tight seal. A manifold 368 can be attached to the interior portion of the top surface of the mixer to align with the inlet and vent. In addition, the air line 348 in the upper clamp rotor can be placed in air communication with the air port of the mixer to allow manipulation of the mixer bladder to agitate and mix the hybridization solution during incubation. .

図17Aおよび17Bには、上部クランプローター340および下部キャリアローター330の、インキュベーション段階の完了時に、上部クランプローターを下部キャリアローターから持ち上げて離し、ミキサー/マニホールド366とスライド基板362を離した後の側断面図および末端断面図が示される。上部クランプローターの持ち上げ移動は、反応チャンバを形成させるミキサーシールを開放して開き、スライド基板からミキサーを引き抜き、洗浄のためにスライド基板の上面を露出したままにすることができる。水盤312を洗浄液で満たし、2つのローターを完全に浸漬した後に、上部ローターを持ち上げて離し、ミキサーをスライド基板から取りはずすことができる。スライド基板を沈めてミキサーシールを解除すると、反応チャンバが開放されたときにスライド基板の上の反応領域を洗浄液ですぐに洗い流し、任意の反応チャンバの内容物の、隣接するアレイへの交差汚染の可能性を最小にすることが可能になる。   17A and 17B show the side of the upper clamp rotor 340 and the lower carrier rotor 330 after the upper clamp rotor is lifted away from the lower carrier rotor and the mixer / manifold 366 and slide substrate 362 separated when the incubation phase is complete. A cross-sectional view and a terminal cross-sectional view are shown. The lifting movement of the upper clamp rotor can open and open the mixer seal that forms the reaction chamber, pull the mixer out of the slide substrate, and leave the top surface of the slide substrate exposed for cleaning. After the basin 312 is filled with the cleaning liquid and the two rotors are completely immersed, the upper rotor can be lifted and released to remove the mixer from the slide substrate. When the slide substrate is submerged and the mixer seal is released, the reaction area on the slide substrate is immediately flushed with cleaning liquid when the reaction chamber is opened, and any reaction chamber contents can be cross-contaminated to adjacent arrays. It is possible to minimize the possibility.

洗浄処理の間、水盤型容器の排出および種々の洗浄液での充填を交互に行い、ハイブリダイゼーション液を完全に除去することができる。ハイブリダイゼーション処理のこの段階で、上部ローター340を持ち上げて水盤容器の上に出し、別々に高速で遠心して、その後の乾燥または洗浄水除去段階の間に、スライド基板にしたたり落ちて汚染する可能性があるすべての残留する洗浄液を振り落としてよい。本発明の一態様では、下部キャリアローターの洗浄が完了する前に、上部クランプローターを、連結されたミキサーおよびマニホールドとともに、ミキサー/マニホールド364の浄化および取りはずしのために処理デバイスから完全に取りはずしてよい。   During the washing process, the basin-type container is alternately discharged and filled with various washing solutions, whereby the hybridization solution can be completely removed. At this stage of the hybridization process, the upper rotor 340 can be lifted out onto the basin container, centrifuged separately at high speed, and then contaminated by dropping or dropping onto the slide substrate during the subsequent drying or washing water removal stage. Any remaining cleaning solution that has the property may be shaken off. In one aspect of the invention, the upper clamp rotor, along with the connected mixer and manifold, may be completely removed from the processing device for cleaning and removal of the mixer / manifold 364 before the cleaning of the lower carrier rotor is complete. .

さらに図17Aおよび17Bには、クランプロータークリップまたはタブ344が示され、該クリップまたはタブはクランプローターから下向きに延在し、ミキサー366のエンドタブに連結し、上部クランプローター340を持ち上げて下部キャリアローター330から離すと、スライド基板362からミキサーが引き抜かれ、ハイブリダイゼーションユニット360が分解されるように作動することができる。また、浮き蓋346が示され、該浮き蓋は、2つのローターがともに結び付けられると、ミキサー366の上面に押しつけられてミキサーシールを完全に圧縮し、液密反応チャンバを有するハイブリダイゼーションユニットをつくり出すことができ、また、マニホールド368をつかみ、2つのディスクローターの分離の間、ミキサー/マニホールド364をクランププレートローター340にさらに固定することができる。   In addition, FIGS. 17A and 17B show a clamp rotor clip or tab 344 that extends downward from the clamp rotor and connects to an end tab of the mixer 366 to lift the upper clamp rotor 340 and lift the lower carrier rotor. When separated from 330, the mixer can be pulled out of the slide substrate 362 and operated to disassemble the hybridization unit 360. Also shown is a float lid 346 that, when the two rotors are tied together, is pressed against the top surface of the mixer 366 to fully compress the mixer seal and create a hybridization unit with a liquid tight reaction chamber. Also, the manifold / 368 can be grabbed and the mixer / manifold 364 can be further secured to the clamp plate rotor 340 during the separation of the two disk rotors.

図18Aおよび18Bで示されるように、下部キャリアローター330を持ち上げて突出したスライドヒーター324から離し、水盤312の底から部分的に離して、洗浄段階の間、ディスクがその支持軸の周囲を回転して、スライド基板362上およびその周囲での相対的運動または流動をつくり出すことを可能にするようにすることもできる。これは、反応領域およびスライド基板の底面の両方の、より高速かつより完全な浄化を提供することができる。さらに、回転速度を加減して、ハイブリダイズした固定化反応物プローブの損傷を回避することができる。   18A and 18B, the lower carrier rotor 330 is lifted away from the protruding slide heater 324 and partially away from the bottom of the basin 312 so that the disk rotates around its support shaft during the cleaning phase. Thus, it may be possible to create relative movement or flow on and around the slide substrate 362. This can provide faster and more complete cleaning of both the reaction area and the bottom surface of the slide substrate. In addition, the rotational speed can be adjusted to avoid damage to the hybridized immobilized reactant probe.

本発明の別の態様では、結合したローター330、340をともに持ち上げて突出したスライドヒーター323から離し、ディスクを分離する前に、回転式ローターを沈めるために十分な洗浄液で水盤312を満たしながら、一緒に回転させることができる。これは、スライド基板362からミキサー366またはミキサー/マニホールド364を取りはずす時にある程度の液体回避が存在し、スライド上のハイブリダイゼーション液をすばやく押し流し、交差汚染のリスクを減らすことを確実にする。これは、開放されたときに、すべての液体がすばやく除去されなければ、種々のハイブリダイゼーションサンプルの望ましくない混合を許容する複数のサブチャンバを有するマイクロアレイスライドに特に有益である。ローターディスクの回転を通してスライドの表面にわたる洗浄液の流動を誘導すると、交差汚染のリスクを最小にすることができる。   In another aspect of the invention, the combined rotors 330, 340 are lifted together and moved away from the projecting slide heater 323, and before the disk is separated, the basin 312 is filled with sufficient cleaning liquid to sink the rotary rotor, Can be rotated together. This ensures that there is some liquid avoidance when removing the mixer 366 or mixer / manifold 364 from the slide substrate 362, quickly flushing out the hybridization solution on the slide and reducing the risk of cross-contamination. This is particularly beneficial for microarray slides having multiple sub-chambers that allow undesired mixing of various hybridization samples if all liquid is not quickly removed when opened. Inducing the flow of cleaning fluid across the surface of the slide through rotation of the rotor disk can minimize the risk of cross-contamination.

上記の半自動化されたハイブリダイゼーションスライド処理システムと同様に、実質的に自動化されたハイブリダイゼーションシステム300は、非常に小容量の反応チャンバを使用する反応段階およびその後の大容量洗浄段階を提供することによって先行技術より有益である。上記で開示されるように、これは、スライドの表面上で密閉された小容量反応チャンバを一時的に形成させることによって達成することができ、該密閉を解除して反応チャンバを開放し、洗浄液の大容量の洗い流しまたはバスにスライドを露出させることができる。大容量の洗浄の利益は、インキュベーションサイクルの間に利用される小容量反応チャンバに洗浄液を押し通すことによっては実現できないことが認識されている。さらに、反応チャンバを取りはずして、洗浄液の大容量の洗い流しまたはバスにスライドを露出させると、使用されたハイブリダイゼーション液をスライドから、より完全にかつ高速に除去できることが認識された。   Similar to the semi-automated hybridization slide processing system described above, the substantially automated hybridization system 300 provides a reaction stage using a very small volume reaction chamber and a subsequent large volume wash stage. Is more beneficial than the prior art. As disclosed above, this can be accomplished by temporarily forming a sealed small volume reaction chamber on the surface of the slide, releasing the seal to open the reaction chamber and washing liquid. Can expose slides to large volume washouts or baths. It has been recognized that the benefits of large volume washing cannot be realized by forcing washing liquid through the small volume reaction chamber utilized during the incubation cycle. In addition, it was recognized that the hybridization solution used could be removed more completely and faster from the slide by removing the reaction chamber and exposing the slide to a large volume of wash solution or bath.

洗浄液の大容量の洗い流しまたはバスは複数のマイクロアレイスライドのそれぞれに共通であってよいことがさらに認識される。多数のスライド基板を浄化液の同一バスに通して浸漬して動かすと、複数のスライドの同時浄化、および洗浄液の効率的かつ経済的使用が提供される。さらに、大容量洗浄を使用すると交差汚染の機会を減らすこともできる。マイクロリットルサイズのハイブリダイゼーション液体サンプルをずっと大きいリットルサイズの量の洗浄液内で完全に押し流し、希釈することができるからである。   It will further be appreciated that a large volume washout or bath of wash solution may be common to each of the plurality of microarray slides. Moving multiple slide substrates through the same bath of cleaning liquid provides simultaneous cleaning of multiple slides and efficient and economical use of the cleaning liquid. Furthermore, the use of large volume cleaning can also reduce the chance of cross contamination. This is because microliter-sized hybridization liquid samples can be completely washed away and diluted in much larger liter-sized volumes of wash solution.

さらに、図18Aおよび18Bには、スライド取り付けグルーブまたはスロット334が示され、該グルーブまたはスロットは、ミキサーによって覆われないスライド基板の露出した縁部を受けてつかむためにキャリアローターウインドウ332中で形成させることができる。   In addition, FIGS. 18A and 18B show a slide mounting groove or slot 334 formed in the carrier rotor window 332 to receive and grab the exposed edge of the slide substrate not covered by the mixer. Can be made.

図12〜15で示される回転式の実施形態の参照に戻って、洗浄段階は、複数の洗浄液の使用を含み、該処理の間、水盤型容器310中の水盤312の排出および充填を交互に行い、その間、下部キャリアローター330および連結されたスライド基板362を回転させ続けることができる。洗浄段階が完了した後、水盤型容器からすべての液体を排出し、下部キャリアローターをさらに高い回転速度で遠心して、すべての残留する洗浄液を求心力によって振り落とすことができる。本発明の別の態様では、下部キャリアローターの真上に位置する上部クランプローター140に、スライドの表面からすべての残留する洗浄液を、それらが乾燥してハイブリダイズした反応領域を汚す前に吹き飛ばすための窒素ガス、または加湿もしくはオゾンフリーの空気のジェットを供給する下向きのノズルを備えることができる。   Returning to the reference to the rotary embodiment shown in FIGS. 12-15, the cleaning stage involves the use of a plurality of cleaning liquids, and alternately discharging and filling the basin 312 in the basin mold 310 during the process. In the meantime, the lower carrier rotor 330 and the connected slide substrate 362 can continue to rotate. After the cleaning phase is completed, all liquid can be drained from the basin-type container, the lower carrier rotor can be centrifuged at a higher rotational speed, and all remaining cleaning liquid can be shaken off by centripetal force. In another aspect of the present invention, the upper clamp rotor 140 located directly above the lower carrier rotor is blown away from the slide surface with all remaining wash solution before they dries and contaminates the hybridized reaction area. A downward nozzle that supplies a jet of nitrogen gas or humidified or ozone-free air can be provided.

非回転式構成要素を使用する本発明の別の典型的な実施形態400を、概して、図19および20に示す。該実施形態は開放頂端を有する水盤型容器410を含んでよい。該水盤型容器は、ハイブリダイゼーション処理のインキュベーション状態の完了後に複数のマイクロアレイスライドを浸すかまたは沈めるために十分な量の洗浄液を保持するように設計することができる。該水盤型容器は長方形であってよく、洗浄液ボトルを保持するための凹部を有する側面区画(示されていない)、ならびに水盤型容器から洗浄液を充填および排出するためのバルブおよびパイプなどの内部配管をさらに含んでよい。内部配管は、スライドが浸漬されていない時間を減らすために高速に排出および充填するように設計することができる。   Another exemplary embodiment 400 of the present invention that uses non-rotating components is generally shown in FIGS. The embodiment may include a basin-type container 410 having an open top end. The basin-type container can be designed to hold a sufficient amount of wash solution to immerse or submerge a plurality of microarray slides after completion of the hybridization treatment incubation state. The basin-type container may be rectangular and has a side compartment (not shown) having a recess for holding a cleaning liquid bottle, and internal piping such as valves and pipes for filling and discharging the cleaning liquid from the basin-type container May further be included. The internal tubing can be designed to drain and fill at high speed to reduce the time that the slide is not immersed.

該処理デバイスは、水盤型容器内に配置された下部キャリアプレートまたは取り付け具412を含み、複数のマイクロアレイスライド基板414を受けるように設計することができる。図に示される実施形態では、下部取り付け具412は、水盤型容器410の底面中に形成させることができる。該処理デバイスは、下部プレートの上に配置された上部クランププレートまたは取り付け具422を含み、複数のディスポーザブルミキサー426を受けるように設計してもよい。該上部クランプ取り付け具はすべてのミキサーに共通であるか、または、図に示されるように、各ミキサーに個別のクランプ取り付け具を有する処理デバイスを設計することができる。   The processing device can be designed to receive a plurality of microarray slide substrates 414 including a lower carrier plate or fixture 412 disposed within a basin-type container. In the illustrated embodiment, the lower fixture 412 can be formed in the bottom surface of the basin-type container 410. The processing device may include an upper clamp plate or fixture 422 disposed on the lower plate and may be designed to receive a plurality of disposable mixers 426. The upper clamp fixture is common to all mixers or, as shown in the figure, a processing device can be designed with a separate clamp fixture for each mixer.

図19および20の非回転式の実施形態では、クランプ取り付け具422は処理デバイスの上部カバー420と結合していてよく、上部取り付け具422と下部取り付け具412との間の相対的運動および噛み合わせを提供するためにピストン様アクチュエーター424を有するように設計することができる。噛み合うと、クランププレートによってあらかじめ収容されたミキサーシール428を有する複数のミキサー426を、あらかじめキャリアプレート412上に収容された複数のスライド基板414に取り付けて、複数の密閉されたハイブリダイゼーション反応チャンバを形成させることができる。そして、取りはずすと、上部クランプ取り付け具と下部キャリア取り付け具との間の分離移動により、複数のミキサーが複数のスライド基板から取りはずされ、ミキサーシールがスライド基板から引き抜かれ、複数の反応チャンバのそれぞれが開放されて開く。   In the non-rotating embodiment of FIGS. 19 and 20, the clamp fixture 422 may be coupled to the top cover 420 of the processing device, and the relative motion and engagement between the upper fixture 422 and the lower fixture 412. Can be designed to have a piston-like actuator 424. When engaged, a plurality of mixers 426 having mixer seals 428 previously accommodated by clamp plates are attached to a plurality of slide substrates 414 previously accommodated on a carrier plate 412 to form a plurality of sealed hybridization reaction chambers. Can be made. And when removed, due to the separation movement between the upper clamp fixture and the lower carrier fixture, the multiple mixers are removed from the multiple slide substrates, the mixer seals are pulled out of the slide substrates, and each of the multiple reaction chambers Is opened and opened.

上部カバー420を水盤型容器410に取り付けて、外側洗浄チャンバシール402で密閉して、複数のハイブリダイゼーションユニットを完全に囲み封入する外側チャンバ404を形成させることができる。該カバーが水盤上に固定されたら、ピストン様アクチュエーター424を作動してミキサー426とスライド基板412との間のギャップを閉じ、個別に密閉されたハイブリダイゼーション反応チャンバを形成させ、インキュベーションが完了した後に、引き抜いてスライド基板からミキサーを取りはずすことができる。   An upper cover 420 can be attached to the basin-type container 410 and sealed with an outer wash chamber seal 402 to form an outer chamber 404 that completely surrounds and encloses a plurality of hybridization units. Once the cover is secured on the basin, the piston-like actuator 424 is actuated to close the gap between the mixer 426 and the slide substrate 412 to form a separately sealed hybridization reaction chamber and after incubation is complete , Pull out and remove the mixer from the slide substrate.

インキュベーション段階の完了後のハイブリダイズしたスライド基板の洗い流しおよび洗浄は、処理デバイス中に設置されたすべてのマイクロアレイスライドに共通の封入された外側洗浄チャンバ404を通して洗浄液を流動させることによって達成することができる。該洗浄液は、液体ポンプまたは類似のデバイスで、収容されたスライド基板412に対して移動または流動させることができる。洗浄サイクルが完了した後の洗浄液の除去は、洗浄チャンバから洗浄液を排出し、スライド基板の上に窒素ガスまたは加湿もしくはオゾンフリーの空気の下向きのジェットを供給してすべての残留する洗浄液を除去することによって達成することができる。   Flushing and washing of the hybridized slide substrate after completion of the incubation step can be accomplished by flowing the wash solution through an enclosed outer wash chamber 404 common to all microarray slides installed in the processing device. . The cleaning liquid can be moved or flowed relative to the accommodated slide substrate 412 with a liquid pump or similar device. Cleaning solution removal after the cleaning cycle is completed drains the cleaning solution from the cleaning chamber and supplies a downward jet of nitrogen gas or humidified or ozone-free air onto the slide substrate to remove any remaining cleaning solution. Can be achieved.

図21には、本発明のハイブリダイゼーションシステムのさらに別の実施形態500が示され、該実施形態では、3つのディスクプレートまたはローターを用いる。下部回転式ディスクは、下部キャリアローター510および上部クランプローター520を含み、両者は上下に移動し、支持軸502の周囲を回転することができる。図21に示される実施形態は、第3の上部バルブディスク550を含んでもよい。該バルブディスクは軸方向(上下)の移動のために設計することができ、下部ディスクローターとともに回転してもしなくてもよい。   FIG. 21 shows yet another embodiment 500 of the hybridization system of the present invention, in which three disk plates or rotors are used. The lower rotary disk includes a lower carrier rotor 510 and an upper clamp rotor 520, both of which can move up and down and rotate around the support shaft 502. The embodiment shown in FIG. 21 may include a third upper valve disc 550. The valve disc can be designed for axial (up and down) movement and may or may not rotate with the lower disc rotor.

上部バルブディスク550は、下のクランプローター上に設置された複数のマニホールド/ミキサーとの相互連絡用に設計された複数のバルブステーション560を有するように設計することができる。各バルブステーション560の外向きまたは底から下向きの突出物はバルブピン566のセットであり、該バルブピンを、マニホールド中に形成された一連の注入/通気孔540(図11Bに示されるマニホールド中の孔272およびろうと274に類似している)に挿入することができる。バルブピンは固体であってよく、硬化材料またはステンレス金属材料から形成させることができる。バルブピンは、反応チャンバ(群)中への液体の流動および反応チャンバから外への液体の流動の両者を制御するために使用することができ、かつ、インキュベーション段階の間、反応チャンバを密閉するための栓として働くことができる。回転式処理デバイスを用いるハイブリダイゼーションシステムの実施形態300とともに記載されるが、バルブステーションは、非回転式処理デバイスとともに作動するように設計することもできる。   The upper valve disk 550 can be designed to have a plurality of valve stations 560 designed for interconnection with a plurality of manifold / mixers installed on the lower clamp rotor. The outward or bottom-down projection of each valve station 560 is a set of valve pins 566 that connect a series of injection / vent holes 540 formed in the manifold (holes 272 in the manifold shown in FIG. 11B). And similar to wax 274). The valve pin may be solid and can be formed from a hardened material or a stainless metal material. The valve pin can be used to control both the flow of liquid into and out of the reaction chamber (s) and to seal the reaction chamber during the incubation phase. Can work as a spigot. Although described with a hybridization system embodiment 300 using a rotating processing device, the valve station can also be designed to work with a non-rotating processing device.

バルブステーション560の一実施形態は図22にさらに詳細に示される。バルブステーションは、固定された、移動の基部を提供する上部プレート562、バルブピン作動プレート564、および適正な位置および方向でバルブピン566をガイドし維持するためのOリングを保持するプレート568を含む複数のプレートを含んでよい。作動プレート564は、スプリング574で下向きに片寄らせてよいが、空気ピストン(an air-powered (pneumatic) piston)572または類似のアクチュエーションデバイスによってその垂直位置を制御することができる。各バルブピン566と同心のOリング570は、バルブステーション560が下のミキサー/マニホールドに取り付けられたときにバルブピンと、マニホールド中のろうと状開口部542との間の密閉をつくり出す。   One embodiment of valve station 560 is shown in more detail in FIG. The valve station includes a plurality of plates including a fixed top plate 562 that provides a base of movement, a valve pin actuation plate 564, and a plate 568 that holds an O-ring to guide and maintain the valve pin 566 in the proper position and orientation. A plate may be included. The actuation plate 564 may be biased downward by a spring 574, but its vertical position can be controlled by an air-powered (pneumatic) piston 572 or similar actuation device. An O-ring 570 concentric with each valve pin 566 creates a seal between the valve pin and the waxy opening 542 in the manifold when the valve station 560 is attached to the lower mixer / manifold.

バルブピン566はマニホールド中の注入/通気孔540と相互連絡し、ハイブリダイゼーションの間、孔を密閉することができる。マニホールド中の注入/通気孔は、バルブピン566を受けて注入/通気孔中へガイドするためのろうと状開口部542を備えることができる。本発明の一態様では、マニホールドを、上部マニホールド530および下部マニホールド532に分け、その中に内部液体路を形成させることができる。例えば、該マニホールドは、複数の移動液体ライン536に連絡するメイン液体ライン534を有してよく、該移動液体ラインは、上部マニホールド530と下部マニホールド532との間の割れ目で注入/通気孔540と交わることができる。本発明の一態様では、バルブピン566を部分的に引き出して、メインライン534からの液体544が注入口540を通って反応チャンバ中に流れ落ちることを可能にすることができる。同様に、該バルブピンを部分的に取りはずして、液体路を通って適切な収集デバイス(示されていない)に入る、通気路から追放された液体の可逆的な流動を可能にすることができる。   Valve pin 566 interconnects with injection / vent hole 540 in the manifold and can seal the hole during hybridization. The infusion / vent in the manifold can include a funnel-shaped opening 542 for receiving the valve pin 566 and guiding it into the infusion / vent. In one aspect of the invention, the manifold can be divided into an upper manifold 530 and a lower manifold 532, in which an internal liquid path can be formed. For example, the manifold may have a main liquid line 534 that communicates with a plurality of moving liquid lines 536, the moving liquid lines being filled with the inlet / vent 540 at the break between the upper manifold 530 and the lower manifold 532. You can cross. In one aspect of the invention, the valve pin 566 can be partially withdrawn to allow liquid 544 from the main line 534 to flow down through the inlet 540 and into the reaction chamber. Similarly, the valve pin can be partially removed to allow reversible flow of liquid expelled from the vent path through the liquid path and into a suitable collection device (not shown).

バルブディスク550を利用する本発明の方法は、下部キャリアローター510中にスライド基板を設置し、上部クランプローター520中にミキサー/マニホールドを設置するステップ、およびクランプローターを下げてキャリアローターと噛み合わせ、ミキサー/マニホールドをスライド基板に取り付けて反応チャンバを形成させるステップを含んでよい。そして、マニホールド中のろうと状開口部542を通してハイブリダイゼーション液で該反応チャンバを満たすことができる。充填後、下向きに突出したバルブピン566を有するバルブディスク550を下げてマニホールドの注入/通気口540に入れ、反応チャンバを密閉することができる。そして、ミキサー中で形成された袋に送達された圧縮空気で制御されたインキュベーション段階の間、混合しながら、ハイブリダイゼーションを行うことができる。   The method of the present invention utilizing the valve disc 550 includes installing a slide substrate in the lower carrier rotor 510, installing a mixer / manifold in the upper clamp rotor 520, and lowering the clamp rotor to engage the carrier rotor. A step of attaching a mixer / manifold to the slide substrate to form a reaction chamber may be included. The reaction chamber can then be filled with hybridization solution through a funnel-shaped opening 542 in the manifold. After filling, the valve disc 550 with the downwardly projecting valve pin 566 can be lowered into the manifold inlet / vent 540 to seal the reaction chamber. Hybridization can then be performed with mixing during an incubation step controlled by compressed air delivered to the bag formed in the mixer.

ハイブリダイゼーションが完了した後、バルブディスク550を上げて、下部ローター510、520を浸漬するために十分な洗浄バッファーで水盤を満たしてよい。該下部ローターを洗浄バッファー内で回転させて、クランプローターをキャリアローターから離して、反応領域を覆う密閉されたチャンバを開放して開いたときにスライド基板上の即時の液体流動をつくり出すことができる。下部キャリアローター中に収容されたスライド基板の洗浄サイクルを以前に記載されたように継続することができる。   After hybridization is complete, the valve disc 550 may be raised and the basin filled with sufficient wash buffer to immerse the lower rotor 510, 520. The lower rotor can be rotated in the wash buffer to move the clamp rotor away from the carrier rotor, creating an immediate liquid flow on the slide substrate when the sealed chamber covering the reaction area is opened and opened. . The cleaning cycle of the slide substrate housed in the lower carrier rotor can be continued as previously described.

図21〜22の実施形態500の別の態様では、該方法は、洗浄サイクルが完了した後にクランプローター520とキャリアローター510を再連結して反応チャンバを再び確立するステップをさらに含んでよい。バルブディスク550を下げて、バルブピン566をミキサー/マニホールド中に再挿入し、ハイブリダイズしかつ洗浄されたマイクロアレイスライド上で核酸変性および回復などの種々の流体ステップを実施することができる。   In another aspect of the embodiment 500 of FIGS. 21-22, the method may further include reconnecting the clamp rotor 520 and the carrier rotor 510 to reestablish the reaction chamber after the cleaning cycle is complete. The valve disk 550 can be lowered and the valve pins 566 can be reinserted into the mixer / manifold to perform various fluid steps such as nucleic acid denaturation and recovery on the hybridized and washed microarray slides.

バルブステーション560は、ハイブリダイゼーション後のスライド基板の処理および洗浄に追加のフレキシビリティーを提供することが理解される。インキュベーションが完了した後、例えば、注入/通気孔540に差し込まれたバルブピン566を空気ピストン572によって部分的に開放し、溶出バッファーを反応チャンバ中にゆっくりポンプして反応領域を洗浄し、ハイブリダイゼーション液を置換し、通気路を通してハイブリダイゼーション液を押し出し、通気排出口の下に位置する適切な収集デバイスで収集することができる。そして、バルブピンを再び下げて反応チャンバを密閉し、スライド基板およびミキサー(例えばハイブリダイゼーションユニット)を再加熱することができる。第2の処理ステップの完了時に、バルブピンを再び開放し、反応チャンバを通して、加熱された追加の溶出バッファーをポンプして、反応した液体を別の収集デバイスに押し込むことができる。   It will be appreciated that the valve station 560 provides additional flexibility for processing and cleaning of the slide substrate after hybridization. After incubation is complete, for example, the valve pin 566 inserted into the injection / vent 540 is partially opened by the air piston 572, and the elution buffer is slowly pumped into the reaction chamber to wash the reaction region and the hybridization solution. And the hybridization solution can be pushed out through the vent and collected with a suitable collection device located under the vent outlet. The valve pin is then lowered again to seal the reaction chamber, and the slide substrate and mixer (eg, hybridization unit) can be reheated. Upon completion of the second processing step, the valve pin can be reopened and additional heated elution buffer can be pumped through the reaction chamber to force the reacted liquid into another collection device.

さらに、非回転式処理デバイスの場合、ハイブリダイゼーションが完了した後に、注入孔540に差し込まれたバルブピン566を部分的に開放し、クランプ取り付け具を押し上げ、ミキサーシールを解除し、スライド基板からミキサーを離すために十分な圧力で洗浄液を反応チャンバ中にポンプすることができる。外側洗浄チャンバシールは、大容量洗浄チャンバを維持するように無傷のままであってよい。洗浄シーケンスが完了した後、洗浄液を窒素ガスまたは加湿もしくはオゾンフリーの空気によって置き換えて、すべての残留する洗浄液をスライドから除去することができる。   Further, in the case of a non-rotating processing device, after hybridization is completed, the valve pin 566 inserted into the injection hole 540 is partially opened, the clamp fixture is pushed up, the mixer seal is released, and the mixer is removed from the slide substrate. Washing liquid can be pumped into the reaction chamber with sufficient pressure to release. The outer cleaning chamber seal may remain intact so as to maintain a high volume cleaning chamber. After the cleaning sequence is complete, the cleaning solution can be replaced by nitrogen gas or humidified or ozone-free air to remove any remaining cleaning solution from the slide.

処理デバイスの回転式および非回転式の両実施形態において、バルブピン566の使用(図21〜22を参照のこと)は先行技術より優れた大きな利点を提供することができる。例えば、バルブピンおよびバルブステーション560は可動部分が最小で組み立てが簡単であり、処理デバイスの製造コストを減らすことができる。インキュベーションのために充填された反応チャンバを密閉するためにバルブピンを使用すると、手でテープを貼るなどの現在の慣用の密閉方法より安価でもある。固体の金属性バルブピンは、繰り返し使用する場合に、より確実な密閉を提供することができる。注入孔540に対するディスポーザブルマニホールドのろうと状開口部542の柔らかい接触面は消耗点になり、継続して取り替えられる。しかし、もっとも重要なことに、バルブピンおよびマニホールドシステムは、反応チャンバの注入口および通気口とピンバルブの先端との間の「デッド」容量を1〜3μLの範囲の非常に小さい量に減らすことができ、それにより、試験を実施するために必要なハイブリダイゼーション液の量を節約することができる。   In both rotating and non-rotating embodiments of the processing device, the use of valve pin 566 (see FIGS. 21-22) can provide significant advantages over the prior art. For example, the valve pin and valve station 560 are simple to assemble with minimal moving parts and can reduce the manufacturing cost of the processing device. Using a valve pin to seal a reaction chamber filled for incubation is also cheaper than current conventional sealing methods such as tape application by hand. Solid metallic valve pins can provide a more secure seal when used repeatedly. The soft contact surface of the disposable manifold wax-like opening 542 with respect to the injection hole 540 becomes a wear point and is continuously replaced. Most importantly, however, the valve pin and manifold system can reduce the “dead” volume between the reaction chamber inlets and vents and the tip of the pin valve to a very small amount in the range of 1-3 μL. Thereby saving the amount of hybridization solution required to carry out the test.

図23および24は本発明の別の代表的な実施形態600を示す。上記の半自動化されたハイブリダイゼーションスライド処理システムおよび方法と同様に、ディスポーザブルチャンバアセンブリ624をスライド基板620に取りはずし可能に取り付けて、反応領域を囲む密閉された反応チャンバ626をつくり出し、ハイブリダイゼーションユニット610を形成させることができる。この場合、ハイブリダイゼーションユニット610は、反応チャンバ中へのhybe溶液の自動化された分配のためのマニホールドを必要としないが、キャリアローター630中への設置前に反応チャンバにピペットで手動で充填するための充填孔および通気孔を含むことができる。しかし、やはり上記の実質的に自動化されたハイブリダイゼーションシステムと同様に、ハイブリダイゼーションユニット610は、ディスポーザブルチャンバアセンブリ624中に形成された1以上の反応チャンバ626を含むことができ、スライド基板620の短い縁部を超えて延在する2つのエンドタブ628をさらに含むことができる。各エンドタブ628は、上部クランプローター640から下向きに延在するクリップ642をフレキシブルに収容するための連結孔622を含んでよい。   FIGS. 23 and 24 show another exemplary embodiment 600 of the present invention. Similar to the semi-automated hybridization slide processing system and method described above, the disposable chamber assembly 624 is removably attached to the slide substrate 620 to create a sealed reaction chamber 626 that surrounds the reaction region, and the hybridization unit 610 is Can be formed. In this case, the hybridization unit 610 does not require a manifold for automated dispensing of the hybe solution into the reaction chamber, but to manually fill the reaction chamber with a pipette prior to installation into the carrier rotor 630. Of filling holes and vents. However, again, similar to the substantially automated hybridization system described above, the hybridization unit 610 can include one or more reaction chambers 626 formed in the disposable chamber assembly 624, with a short slide substrate 620. Two end tabs 628 may also be included that extend beyond the edges. Each end tab 628 may include a connection hole 622 for flexibly receiving a clip 642 extending downward from the upper clamp rotor 640.

下部キャリアローター630は、クリップ642を受けるように設計されたキャリアウインドウの両端の凹部632を含んでもよい。例えば、ハイブリダイゼーションユニット610が設置された下部キャリアローター630を水盤型容器604中に入れて、スライド基板620をスライドヒーター606に隣接させた後(図23)、上部クランプローター640を水盤型容器中に積載し、上部クランプローター640から下向きに延在するクリップ642をディスポーザブルチャンバアセンブリ624中の連結孔622に押し通し、下部キャリアローター中に形成された凹部632に入れることができる(図24)。一態様では、クリップ642を凹部632と連結して、2つのローターをより良好に整列させ、ともに固定することができる。そして、ローター630、640が設置された水盤型容器604をカバー608で封入することができる。   The lower carrier rotor 630 may include a recess 632 at each end of the carrier window designed to receive the clip 642. For example, after the lower carrier rotor 630 in which the hybridization unit 610 is installed is placed in the basin-type container 604 and the slide substrate 620 is adjacent to the slide heater 606 (FIG. 23), the upper clamp rotor 640 is placed in the basin-type container. The clip 642 extending downward from the upper clamp rotor 640 can be pushed through the connecting hole 622 in the disposable chamber assembly 624 and into a recess 632 formed in the lower carrier rotor (FIG. 24). In one aspect, the clip 642 can be coupled to the recess 632 to better align the two rotors and secure them together. The basin-type container 604 in which the rotors 630 and 640 are installed can be sealed with the cover 608.

さらに、ハイブリダイゼーションプロトコールの間の下向きに延在するクリップ642の操作を図25A〜25Dに示す。該図は、プレハイブリダイゼーション、ハイブリダイゼーション、およびポストハイブリダイゼーションサイクルの種々の段階の間の、水盤型容器604の床およびスライドヒーター606に対して種々の位置の上部クランプローターおよび下部キャリアローターの側断面および末端断面図を示す。図25Aに示されるように、下部キャリアローター630を、ハイブリダイゼーションユニット610の連結後にスライドヒーター606に隣接する、開いた、底に置いた位置にまず配置してよい。次いで、上部クランプローターおよび下部キャリアローターをともに、ハイブリダイゼーションプロトコールの間に生じうる、閉じた、底に置いた位置(図25B)、ポストhybe洗浄プロトコールの開始時に生じうる、閉じて、持ち上げられて、回転している位置(図25C)、およびポストhybe洗浄プロトコールのその後の段階の間に生じうる、開いて、持ち上げられて、回転している位置(図25D)に配置してよい。   In addition, manipulation of the downwardly extending clip 642 during the hybridization protocol is shown in FIGS. The figure shows the side of the upper clamp rotor and lower carrier rotor at various positions relative to the floor of the ladle vessel 604 and the slide heater 606 during the various stages of the prehybridization, hybridization, and posthybridization cycles. Sectional and end sectional views are shown. As shown in FIG. 25A, the lower carrier rotor 630 may first be placed in an open, bottom position adjacent to the slide heater 606 after the hybridization unit 610 is connected. The upper clamp rotor and lower carrier rotor are then both closed and lifted, which can occur during the hybridization protocol, in a closed, bottom position (FIG. 25B), which can occur at the beginning of the post hybe wash protocol. , Rotated position (FIG. 25C), and may be opened, lifted and placed in the rotated position (FIG. 25D), which may occur during subsequent stages of the post hybe wash protocol.

例えば、ディスポーザブルチャンバアセンブリ624をスライド基板620の反応領域の周囲に連結して、反応チャンバ626をhybe(またはプローブ)溶液で満たした後に、ハイブリダイゼーションユニット610を下部キャリアローター630中に設置してよい。ハイブリダイゼーションユニットの設置後、図25Aに示されるように、下部キャリアローターをスライド加熱パッド606の周囲にはまるように配置してよい。そして、図25Bに示されるように、上部クランプローター640をチャンバアセンブリ624の上に設置し、かつ/または下げて、ディスポーザブルチャンバアセンブリのタブ中に形成された孔622内およびスライドキャリアローター中に形成された凹部632内にクリップ642を噛みあわせ、ハイブリダイゼーションチャンバ(群)126の密閉を完成させてよい。この構成に達したら、ハイブリダイゼーションプロトコールにしたがってサンプルをハイブリダイズさせることができる。   For example, after the disposable chamber assembly 624 is connected around the reaction area of the slide substrate 620 and the reaction chamber 626 is filled with a hybe (or probe) solution, the hybridization unit 610 may be installed in the lower carrier rotor 630. . After installation of the hybridization unit, the lower carrier rotor may be placed around the slide heating pad 606 as shown in FIG. 25A. Then, as shown in FIG. 25B, the upper clamp rotor 640 is installed over and / or lowered over the chamber assembly 624 and formed in the holes 622 formed in the tabs of the disposable chamber assembly and in the slide carrier rotor. The clip 642 may be engaged in the recessed portion 632 thus completed to complete the sealing of the hybridization chamber (s) 126. Once this configuration is reached, the sample can be hybridized according to the hybridization protocol.

ハイブリダイゼーションプロトコールが完了した後、図25Cに記載されるように、洗浄盤を洗浄バッファー602で満たし、ローター630、640をともに持ち上げ、バッファー溶液で浸しながらゆっくり回転させてよい。次いで、図25Dに記載されるように、上部クランプローター640を下部キャリアローター630から離し、チャンバアセンブリ624をクリップ642によって上部ローターの底面に保持し、スライド基板620から完全に取りはずし、スライド基板620の上面を洗浄のために露出させたままにしてよい。上記のように、スライド基板を沈めてゆっくり回転させて反応チャンバシールを破ると、空気で運ばれる粒子の汚染から反応領域が確実に防御される。また、ある程度の液体回避が反応領域にすぐに適用されて、hybe溶液をすばやく押し出し、隣接するスライド上で使用されるhybe溶液との交差汚染のリスクを減らすことが確実になる。   After the hybridization protocol is complete, the washer can be filled with wash buffer 602, the rotors 630, 640 can be lifted together, and slowly rotated while immersed in the buffer solution, as described in FIG. 25C. Then, as described in FIG. 25D, the upper clamp rotor 640 is moved away from the lower carrier rotor 630 and the chamber assembly 624 is held on the bottom surface of the upper rotor by the clip 642 and completely removed from the slide substrate 620. The top surface may be left exposed for cleaning. As described above, sinking the slide substrate and rotating it slowly to break the reaction chamber seal ensures that the reaction area is protected from contamination of airborne particles. Also, a certain amount of liquid avoidance is applied immediately to the reaction area to ensure that the hybe solution is pushed out quickly, reducing the risk of cross-contamination with the hybe solution used on adjacent slides.

図26には、本発明のさらに別の代表的な実施形態700が示され、該実施形態では、水盤型容器710は回転アーム720を含み、該回転アームはハイブリダイゼーションステップの前に下向きに回転して、結び付いた上部クランプローター740と下部キャリアローター730の上に連結することができる。そして該回転アームは、結び付いたローター740、730を一緒にユニットとして持ち上げ、アセンブリを90度回転させて、支持軸718が実質的に水平面に並び、ハイブリダイゼーションユニット710が実質的に垂直面で軸の周囲を回転するようにすることができる。さらに、空気または不活性ガスの小さい気泡を各ハイブリダイゼーションユニットの反応チャンバ中に導入し、ハイブリダイゼーション/インキュベーションステップの間に、実質的に水平な支持軸718の周囲の、結び付いたローターの回転が重力で誘発された気泡による混合を反応チャンバの内部で生じさせるようにすることができる。ハイブリダイゼーションステップ後、回転アーム720は、結び付いたローター740、730を水平な位置に戻すことができ、上記のように洗浄ステップを進行させることができる。   FIG. 26 shows yet another exemplary embodiment 700 of the present invention, in which the basin-type container 710 includes a rotating arm 720 that rotates downward prior to the hybridization step. Thus, the upper clamp rotor 740 and the lower carrier rotor 730 can be connected to each other. The rotating arm then lifts the associated rotors 740, 730 together as a unit, rotates the assembly 90 degrees, the support shaft 718 is aligned substantially in a horizontal plane, and the hybridization unit 710 is pivoted in a substantially vertical plane. Can be rotated around. In addition, a small bubble of air or inert gas is introduced into the reaction chamber of each hybridization unit, and the rotation of the associated rotor around the substantially horizontal support shaft 718 during the hybridization / incubation step Mixing by bubbles induced by gravity can occur inside the reaction chamber. After the hybridization step, the rotating arm 720 can return the associated rotors 740, 730 to a horizontal position and allow the wash step to proceed as described above.

気泡混合式の実施形態700は、上に記載されかつ図1〜10に示される半自動化されたハイブリダイゼーションシステム100に特に有用であるが、本発明の気泡混合式の実施形態は、上に記載されかつ図11〜22に示される実質的に自動化されたハイブリダイゼーションシステム400にインキュベーションの間の空気攪拌システムの補完または代替混合システムとして適用可能でもある。   While the bubble mixing embodiment 700 is particularly useful for the semi-automated hybridization system 100 described above and shown in FIGS. 1-10, the bubble mixing embodiment of the present invention is described above. And is also applicable to the substantially automated hybridization system 400 shown in FIGS. 11-22 as a complementary or alternative mixing system to the air agitation system during incubation.

前記の詳細な説明では、特定の典型的な実施形態を参照して本発明を説明している。しかし、特許請求の範囲で示される本発明の範囲から逸脱することなく、種々の改変および変更を施すことができることが理解される。詳細な説明および添付の図面は、限定的ではなく単に例示的であるとみなされるものとし、すべてのそのような改変または変更がもしあれば、それは、本明細書中に記載され示される本発明の範囲内に入るものとする。   In the foregoing detailed description, the invention has been described with reference to specific exemplary embodiments. However, it will be understood that various modifications and changes may be made without departing from the scope of the present invention as set forth in the claims. The detailed description and accompanying drawings are to be regarded as illustrative rather than restrictive, and it is intended that the invention, as described and shown herein, be any and all such modifications or changes. It shall fall within the range of

さらに具体的には、本発明の例示的で典型的な実施形態が本明細書中で記載されたが、本発明はこれらの実施形態に限定されず、前記の詳細な説明に基づいて当業者によって理解される、改変、省略、組み合わせ(例えば種々の実施形態にわたる態様の組み合わせ)、改作および/または変更を有する任意のおよびすべての実施形態を含む。特許請求の範囲における限定は、特許請求の範囲で用いられる用語に基づいて広く解釈され、前記の詳細な説明または出願の遂行の間に記載される例に限定されないものとし、該例は非排他的であると解釈されるものとする。例えば、本開示では、用語「好ましくは」は非排他的であり、「好ましくは、非限定的に」を意味するものとする。任意の方法または処理の請求項で引用される任意のステップは任意の順序で実行してよく、該請求項に記載の順序に限定されない。手段プラス機能またはステッププラス機能の限定は、特定の請求項の限定に関してすべての以下の条件:(a)「のための手段」または「のためのステップ」が明示的に引用されている;および(b)対応する機能が明示的に引用されている、が該限定中に存在する場合にのみ採用される。手段プラス機能を支持する構造、材料または作用は、本明細書中の説明に明示的に引用される。したがって、本発明の範囲は、上記説明および例によってではなく、特許請求の範囲および法律で認められるその等価物によってのみ決定されるべきである。   More specifically, exemplary exemplary embodiments of the present invention have been described herein, but the present invention is not limited to these embodiments, and those skilled in the art based on the foregoing detailed description. And any and all embodiments having modifications, omissions, combinations (eg, combinations of aspects across the various embodiments), adaptations and / or changes understood by. Limitations in the claims shall be construed broadly based on the terms used in the claims and shall not be limited to the examples described during the foregoing detailed description or performance of the application, which examples are non-exclusive. It should be interpreted as appropriate. For example, in the present disclosure, the term “preferably” is non-exclusive and shall mean “preferably, but not exclusively”. Any steps recited in any method or process claim may be executed in any order and are not limited to the order recited in the claims. Means-plus-function or step-plus-function limitations are expressly cited with all the following conditions regarding the limitations of a particular claim: (a) "means for" or "steps for"; and (B) Adopted only if the corresponding function is explicitly cited, if present in the limitation. Structures, materials or actions that support the means plus function are explicitly cited in the description herein. Accordingly, the scope of the invention should be determined not by the above description and examples, but only by the claims and their equivalents as permitted by law.

Claims (30)

スライド上に反応チャンバを設けるためのユニットであって、以下の構成要素:
反応領域、および処理デバイスのキャリア取り付け具への連結のための露出した平行な2つの縁部を有するスライド基板;
該スライド基板に取り外し可能に取り付けられて該反応領域を封入する密閉された反応チャンバを形成するチャンバアセンブリ;および
該チャンバアセンブリを処理デバイスのクランプ取り付け具に取り付けるための連結手段
を備え、該クランプ取り付け具を該キャリア取り付け具から離すことにより該チャンバアセンブリが該スライド基板から取りはずされ、それにより該密閉された反応チャンバが開放される、上記ユニット。
A unit for providing a reaction chamber on a slide comprising the following components:
A slide substrate having a reaction region and two exposed parallel edges for connection to the carrier fixture of the processing device;
A chamber assembly removably attached to the slide substrate to form a sealed reaction chamber that encloses the reaction region; and coupling means for attaching the chamber assembly to a clamp fixture of a processing device, the clamp attachment The unit, wherein the chamber assembly is removed from the slide substrate by releasing the tool from the carrier fixture, thereby opening the sealed reaction chamber.
以下の構成要素:
上面および底面を有するフレキシブルな基層であって、該底面が前記反応チャンバの天面を形成する、上記基層;および
該反応チャンバの側壁を形成する、該基層の底面から延在する弱接着性ガスケットシール
を備える前記チャンバアセンブリ;ならびに
前記処理デバイスのクランプ取り付け具への連結のための、前記基層の上面から延在する強接着性上部パッチを備える前記連結手段
をさらに備える、請求項1に記載のユニット。
The following components:
A flexible base layer having a top surface and a bottom surface, wherein the bottom surface forms the top surface of the reaction chamber; and the weakly adhesive gasket extending from the bottom surface of the base layer forming the side wall of the reaction chamber The chamber assembly comprising: a seal; and the coupling means comprising a strongly adhesive top patch extending from an upper surface of the base layer for coupling to a clamp fixture of the processing device. unit.
以下の構成要素:
前記反応領域を封入する密閉された反応チャンバを形成するためのフレキシブルな環状リップを有するドーム型シェルを備える前記チャンバアセンブリ;および
前記処理デバイスのクランプ取り付け具への連結のための、該ドームの上面から延在する強接着性上部パッチを備える前記連結手段
をさらに備える、請求項1に記載のユニット。
The following components:
The chamber assembly comprising a dome-shaped shell having a flexible annular lip to form a sealed reaction chamber enclosing the reaction region; and an upper surface of the dome for connection to a clamp fixture of the processing device The unit of claim 1, further comprising the connecting means comprising a strongly adhesive top patch extending from the top.
前記連結手段が1組のチャンバアセンブリ境界部を備え、該境界部は、前記チャンバアセンブリを処理デバイスのクランプ取り付け具に取り付けるためのスライド基板のさらなる2つの平行な縁部を超えて延在する、請求項1に記載のユニット。   The coupling means comprises a set of chamber assembly boundaries, the boundaries extending beyond two further parallel edges of a slide substrate for attaching the chamber assembly to a clamping fixture of a processing device; The unit according to claim 1. 前記1組のチャンバアセンブリ境界部が、前記スライド基板の短軸に平行な基板縁部を超えて延在する、請求項4に記載のユニット。   The unit of claim 4, wherein the set of chamber assembly boundaries extends beyond a substrate edge parallel to the minor axis of the slide substrate. 前記1組のチャンバアセンブリ境界部が、前記スライド基板の長軸に平行な基板縁部を超えて延在する、請求項4に記載のユニット。   The unit of claim 4, wherein the set of chamber assembly boundaries extends beyond a substrate edge parallel to a long axis of the slide substrate. 複数のマイクロアレイスライドのためのシステムであって、以下の構成要素:
水盤型容器;
少なくとも1つのスライド基板をその中に受け取るための、該水盤型容器内で支持軸上に配置されたスライドキャリアローター;
少なくとも1つのチャンバアセンブリをその中に受け取るための、該支持軸上で該キャリアローターに近接して配置されたクランプローター
を備え、
該クランプローターを該キャリアローターと噛み合わせることにより該チャンバアセンブリを該スライド基板に取り付けられ、それによって少なくとも1つの密閉された反応チャンバが形成され、かつ
該クランプローターを該キャリアローターから取りはずすことにより該チャンバアセンブリが該スライド基板から取りはずされ、それによって該少なくとも1つの反応チャンバが密閉状態から開放される、
上記システム。
A system for multiple microarray slides comprising the following components:
Ladle-type container;
A slide carrier rotor disposed on a support shaft in the basin-type container for receiving at least one slide substrate therein;
A clamp rotor disposed on the support shaft and proximate to the carrier rotor for receiving at least one chamber assembly therein;
The chamber assembly is attached to the slide substrate by engaging the clamp rotor with the carrier rotor, thereby forming at least one sealed reaction chamber, and the clamping rotor is removed from the carrier rotor. A chamber assembly is removed from the slide substrate, thereby releasing the at least one reaction chamber from sealing;
Above system.
ディスポーザブルな前記チャンバアセンブリが、以下の構成要素:
上面および底面を有するフレキシブルな基層であって、該底面が少なくとも1つの反応チャンバの天面を形成する、上記基層;
該少なくとも1つの反応チャンバの側壁を形成する、該基層の底面から延在する弱接着性ガスケットシール;および
前記処理デバイスのクランプ取り付け具への連結のための、該基層の上面から延在する強接着性上部パッチ
を備える、請求項7に記載のシステム。
The disposable chamber assembly comprises the following components:
A flexible base layer having a top surface and a bottom surface, wherein the bottom surface forms a top surface of at least one reaction chamber;
A weakly adhesive gasket seal extending from the bottom surface of the base layer forming a side wall of the at least one reaction chamber; and a strength extending from the top surface of the base layer for connection to a clamp fixture of the processing device The system of claim 7, comprising an adhesive top patch.
前記チャンバアセンブリが、以下の構成要素:
前記少なくとも1つの密閉された反応チャンバを形成するためのフレキシブルな環状リップを有するドーム型シェル;
上面および底面を有するフレキシブルな基層;
該ドーム型シェルを該基層に連結するための、該底面から延在する接着性下部パッチ;および
前記処理デバイスのクランプ取り付け具への連結のための、該基層の該上面から延在する接着性上部パッチ
を備える、請求項7に記載のシステム。
The chamber assembly comprises the following components:
A dome-shaped shell having a flexible annular lip to form the at least one sealed reaction chamber;
A flexible base layer having a top surface and a bottom surface;
An adhesive bottom patch extending from the bottom surface for connecting the dome-shaped shell to the base layer; and an adhesive property extending from the top surface of the base layer for connection to a clamp fixture of the processing device. The system of claim 7, comprising a top patch.
前記少なくとも1つのディスポーザブルシェルの前記露出面に結合した少なくとも1つのマニホールドをさらに備え、該マニホールドは、該ディスポーザブルシェル中の充填口(fill port)および通気口と位置を合わせた少なくとも1つの充填孔および少なくとも1つの通気孔を有する、請求項7に記載のシステム。   And at least one manifold coupled to the exposed surface of the at least one disposable shell, wherein the manifold includes at least one fill hole aligned with a fill port and a vent in the disposable shell; and The system of claim 7, having at least one vent. 前記クランプローターに近接して前記支持軸上に配置され、かつ外側に向かって突出したバルブピンを備える少なくとも1つのバルブステーションを有するバルブローターをさらに備え、該バルブローターを前記クランプローターと噛み合わせることにより該バルブピンが前記少なくとも1つのマニホールドの前記少なくとも1つの充填孔および前記少なくとも1つの通気孔に取りはずし可能に差し込まれる、請求項10に記載のシステム。   A valve rotor having at least one valve station with a valve pin disposed on the support shaft proximate to the clamp rotor and projecting outwardly; and meshing the valve rotor with the clamp rotor; The system of claim 10, wherein the valve pin is removably inserted into the at least one fill hole and the at least one vent hole of the at least one manifold. 複数のスライドを処理する方法であって、以下のステップ:
複数のスライドを処理デバイスに挿入するステップであって、該複数のスライドのそれぞれが小容量チャンバアセンブリにより封入されることにより小容量反応チャンバを形成する反応領域を有する、上記ステップ;
該反応領域と反応させるための少量の液体で該反応チャンバを満たすステップ;
該チャンバアセンブリを該複数のスライドから取りはずすことにより該反応領域を露出させるステップ;
該複数のスライドを洗浄液の共有バスで洗浄するステップ;
該複数のスライドを洗浄液の共有バスから取り出すステップ
を含む、上記方法。
A method for processing multiple slides, the following steps:
Inserting a plurality of slides into a processing device, each of the plurality of slides having a reaction region forming a small volume reaction chamber by being enclosed by a small volume chamber assembly;
Filling the reaction chamber with a small amount of liquid to react with the reaction zone;
Exposing the reaction region by removing the chamber assembly from the plurality of slides;
Washing the plurality of slides with a common bath of washing solution;
Removing the plurality of slides from a shared bath of wash solution.
前記処理デバイスが、洗浄液の共有バスを収容するために設計された水盤型容器内に配置された少なくとも1つのローターディスクをさらに備える、請求項12に記載の方法。   13. The method of claim 12, wherein the processing device further comprises at least one rotor disk disposed in a basin-type container designed to accommodate a shared bath of cleaning liquid. 前記複数のスライドを洗浄するステップが、前記水盤型容器中に収容された前記洗浄液の共有バス中に前記少なくとも1つのローターディスクを浸漬し、そこで回転させるステップをさらに含む、請求項13に記載の方法。   14. The step of cleaning the plurality of slides further comprises immersing the at least one rotor disk in a shared bath of the cleaning liquid contained in the basin-type container and rotating there. Method. 前記複数のスライドを洗浄液から取り出すステップが、前記少なくとも1つのローターディスクを前記洗浄液の共有バスから離すステップ、および該ローターディスクを遠心することにより前記洗浄液を振り落とすステップをさらに含む、請求項14に記載の方法。   15. The step of removing the plurality of slides from a cleaning liquid further comprises separating the at least one rotor disk from the cleaning liquid shared bath and shaking the cleaning liquid by centrifuging the rotor disk. The method described. 固定化サンプル分析のためのスライドのin situ処理方法であって、以下のステップ:
固定化サンプルを担持する反応領域を有するスライド基板を取得するステップ;
該スライド基板を自動化処理のための処理デバイスに設置するステップであって、
該処理は、以下のステップ:
チャンバアセンブリを該スライド基板に取り付けることにより該反応領域を封入する小容量反応チャンバを形成させるステップ;
該固定化サンプルと反応させるための液体で該反応チャンバを満たすステップ;
インキュベーションの間、該反応チャンバを密閉するステップ;
該チャンバアセンブリを該スライド基板から取りはずすことにより該反応チャンバを密閉状態から開放するステップ;
該反応領域に大容積の洗浄液を流すことにより反応液を除去するステップ;および
該スライド基板から該洗浄液を除去するステップ
をさらに含む、上記ステップ;ならびに
該スライド基板を該処理デバイスから取りはずすステップ
を含む、上記方法。
A method for in-situ processing of slides for analysis of immobilized samples comprising the following steps:
Obtaining a slide substrate having a reaction region carrying an immobilized sample;
Installing the slide substrate in a processing device for automated processing,
The process consists of the following steps:
Attaching a chamber assembly to the slide substrate to form a small volume reaction chamber that encloses the reaction region;
Filling the reaction chamber with a liquid to react with the immobilized sample;
Sealing the reaction chamber during incubation;
Releasing the reaction chamber from a sealed state by removing the chamber assembly from the slide substrate;
Removing the reaction solution by flowing a large volume of washing solution into the reaction region; and removing the washing solution from the slide substrate; and the step of removing the slide substrate from the processing device. , The above method.
前記小容量反応チャンバが100μL未満の液体を保持する、請求項16に記載の方法。   The method of claim 16, wherein the small volume reaction chamber holds less than 100 μL of liquid. 前記チャンバアセンブリが、該ディスポーザブルチャンバアセンブリ中の充填口および通気口と位置を合わせた少なくとも1つの充填孔および少なくとも1つの通気孔を有する取り付けられたマニホールドをさらに備え、それにより反応液での前記反応チャンバの充填を促進する、請求項16に記載の方法。   The chamber assembly further comprises an attached manifold having at least one fill hole and at least one vent aligned with the fill and vent in the disposable chamber assembly, whereby the reaction with reaction liquid The method of claim 16, wherein the method facilitates filling of the chamber. 前記反応チャンバを密閉するステップが、前記少なくとも1つの充填孔および前記少なくとも1つの通気孔に複数のバルブピンを取りはずし可能に差し込むステップをさらに含む、請求項18に記載の方法。   19. The method of claim 18, wherein sealing the reaction chamber further comprises removably inserting a plurality of valve pins into the at least one fill hole and the at least one vent hole. 前記反応チャンバのチャンバアセンブリ部分に設けられた空気袋を交互に膨張・収縮させることにより前記反応液を撹拌するステップをさらに含む、請求項16に記載の方法。   The method according to claim 16, further comprising agitating the reaction solution by alternately expanding and contracting air bags provided in a chamber assembly portion of the reaction chamber. 前記反応チャンバに気泡を導入し、かつ前記スライド基板を実質的に水平な軸の周りを回転させることにより前記反応液を撹拌するステップをさらに含む、請求項16に記載の方法。   The method of claim 16, further comprising agitating the reaction solution by introducing bubbles into the reaction chamber and rotating the slide substrate about a substantially horizontal axis. 前記スライド基板を加熱することにより前記反応液と前記固定化サンプルとの反応を改善するステップをさらに含む、請求項16に記載の方法。   The method according to claim 16, further comprising improving the reaction between the reaction solution and the immobilized sample by heating the slide substrate. 前記大容積の洗浄液が少なくとも約0.1リットルの洗浄液を構成する、請求項16に記載の方法。   17. The method of claim 16, wherein the large volume of cleaning liquid comprises at least about 0.1 liter of cleaning liquid. 前記洗浄液を除去するステップが、前記スライド基板から該洗浄液を遠心して落とすために遠心力を利用する、請求項16に記載の方法。   The method according to claim 16, wherein the step of removing the cleaning liquid uses centrifugal force to centrifuge and drop the cleaning liquid from the slide substrate. 前記洗浄液を除去するステップが、圧縮ガス流を用いて前記スライド基板から該洗浄液を吹き飛ばすステップをさらに含む、請求項16に記載の方法。   The method of claim 16, wherein removing the cleaning liquid further comprises blowing the cleaning liquid from the slide substrate using a compressed gas stream. 前記処理デバイス中で少なくとも2つのスライド基板を同時処理するステップをさらに含み、該少なくとも2つのスライド基板は、洗浄液の共有ボリューム中で洗い流される、請求項16に記載の方法。   The method of claim 16, further comprising co-processing at least two slide substrates in the processing device, wherein the at least two slide substrates are washed away in a shared volume of cleaning solution. 固定化サンプル分析のための少なくとも2つのスライドのin situ処理方法であって、以下のステップ:
固定化サンプルを担持する反応領域を有する少なくとも2つのスライド基板を取得するステップ;
各スライド基板にチャンバアセンブリを取り付けて、該反応領域を封入した小容量反応チャンバを形成させるステップ;
該固定化サンプルと反応させるための反応液で該反応チャンバを満たすステップ;
該少なくとも2つのスライド基板を処理のために処理デバイスに設置するステップであって、
該処理は以下のステップ:
インキュベーションの間、該反応チャンバを密閉するステップ;
インキュベーションの間、ハイブリダイゼーション液を撹拌することにより該反応液の反応性を増大させるステップ;
該チャンバアセンブリを該スライド基板から取りはずすことにより該反応チャンバを密閉状態から開放するステップ;
該少なくとも2つのスライド基板を共有洗浄液で洗い流すことにより、該反応領域から該反応液を除去するステップ;および
該洗浄液を該スライド基板から除去するステップ
をさらに含む、上記ステップ;ならびに
該少なくとも2つのスライド基板を該処理デバイスから取りはずすステップ
を含む、上記方法。
An in situ processing method of at least two slides for immobilized sample analysis comprising the following steps:
Obtaining at least two slide substrates having a reaction region carrying an immobilized sample;
Attaching a chamber assembly to each slide substrate to form a small volume reaction chamber enclosing the reaction region;
Filling the reaction chamber with a reaction solution for reacting with the immobilized sample;
Installing the at least two slide substrates in a processing device for processing,
The process includes the following steps:
Sealing the reaction chamber during incubation;
Increasing the reactivity of the reaction solution by agitating the hybridization solution during the incubation;
Releasing the reaction chamber from a sealed state by removing the chamber assembly from the slide substrate;
Removing the reaction solution from the reaction region by rinsing the at least two slide substrates with a common washing solution; and removing the washing solution from the slide substrate; and the at least two slides The above method comprising the step of removing the substrate from the processing device.
前記チャンバアセンブリが、該チャンバアセンブリ中の充填口および通気口と位置を合わせた少なくとも1つの充填孔および少なくとも1つの通気孔を有する取り付けられたマニホールドをさらに備え、それにより反応液での前記反応チャンバの充填を促進する、請求項27に記載の方法。   The chamber assembly further comprises an attached manifold having at least one fill hole and at least one vent aligned with the fill and vent in the chamber assembly, whereby the reaction chamber with reaction liquid 28. The method of claim 27, which facilitates filling. 前記反応チャンバを密閉するステップが、前記少なくとも1つの充填孔および前記少なくとも1つの通気孔に複数のバルブピンを取りはずし可能に差し込むステップをさらに含む、請求項28に記載の方法。   29. The method of claim 28, wherein sealing the reaction chamber further comprises removably inserting a plurality of valve pins into the at least one fill hole and the at least one vent hole. 複数のスライドを処理する方法であって、以下のステップ:
複数のスライドを処理デバイスのキャリア取り付け具に挿入するステップであって、該複数のスライドのそれぞれが固定化反応物を担持する反応領域を有する、上記ステップ;
該複数のスライドをプロトコールに従って洗浄液の共有バス中で洗浄するステップ;
複数のディスポーザブルなチャンバアセンブリを該複数のスライドに取り外し可能に取り付けることにより該反応領域を封入した密閉された反応チャンバを形成させるステップ;
封入された反応領域と反応させるための少量の反応溶液で該反応チャンバを満たすステップ;
クランプ取り付け具を該チャンバアセンブリに取り付けることにより、反応プロトコールの間、該反応チャンバをさらに密閉するステップ;
該クランプ取り付け具を持ち上げて該チャンバアセンブリを該複数のスライドから除去し、該反応領域を露出させるステップ;
該複数のハイブリダイゼーションスライドをプロトコールに従い洗浄液の共有バス中で洗浄するステップ;および
該複数のスライドを該処理デバイスの該キャリア取り付け具から取りはずすステップ
を含む、上記方法。
A method for processing multiple slides, the following steps:
Inserting a plurality of slides into a carrier fixture of a processing device, each of the plurality of slides having a reaction region carrying an immobilized reactant;
Washing the plurality of slides in a shared bath of washing fluid according to a protocol;
Removably attaching a plurality of disposable chamber assemblies to the plurality of slides to form a sealed reaction chamber enclosing the reaction region;
Filling the reaction chamber with a small amount of reaction solution to react with the enclosed reaction zone;
Further sealing the reaction chamber during a reaction protocol by attaching a clamp fixture to the chamber assembly;
Lifting the clamp fixture to remove the chamber assembly from the plurality of slides to expose the reaction area;
Washing the plurality of hybridization slides in a shared bath of washing fluid according to a protocol; and removing the plurality of slides from the carrier fixture of the processing device.
JP2011513643A 2008-06-09 2009-06-09 Systems and methods for hybridization slide processing Ceased JP2011524016A (en)

Applications Claiming Priority (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US6007008P 2008-06-09 2008-06-09
US61/060,070 2008-06-09
US12/207,343 US20100167943A1 (en) 2008-06-09 2008-09-09 System and Method for Hybridization Slide Processing
US12/207,343 2008-09-09
US15059909P 2009-02-06 2009-02-06
US61/150,599 2009-02-06
PCT/US2009/046795 WO2009152183A2 (en) 2008-06-09 2009-06-09 System and method for hybridization slide processing

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2011524016A true JP2011524016A (en) 2011-08-25

Family

ID=43530870

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011513643A Ceased JP2011524016A (en) 2008-06-09 2009-06-09 Systems and methods for hybridization slide processing

Country Status (5)

Country Link
EP (1) EP2291663A2 (en)
JP (1) JP2011524016A (en)
CN (1) CN102308217A (en)
CA (1) CA2727445A1 (en)
WO (1) WO2009152183A2 (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015040733A (en) * 2013-08-21 2015-03-02 株式会社日立ハイテクノロジーズ Flow cell-fixing device, and nucleic acid analyzer
JP2016006414A (en) * 2014-05-26 2016-01-14 株式会社コンソナルバイオテクノロジーズ Inspection system, inspection method, and inspection base
WO2023113120A1 (en) * 2021-12-16 2023-06-22 (주)레보스케치 Rotary multi-channel fluorescent scanner

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2010107936A2 (en) * 2009-03-17 2010-09-23 Biomicro Systems, Inc. Slide conditioning systems and methods

Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08332071A (en) * 1995-06-06 1996-12-17 Becton Dickinson & Co Assembly of culture slide
JP3186764B2 (en) * 1990-03-02 2001-07-11 ベンタナ・メデイカル・システムズ・インコーポレーテツド Automated biological reactor
JP2003222631A (en) * 2002-01-30 2003-08-08 Aloka Co Ltd Cleaning device
JP3455548B2 (en) * 1997-04-11 2003-10-14 ロシュ ダイアグノスティックス ゲーエムベーハー Test element storage device
JP2005515439A (en) * 2002-01-09 2005-05-26 カリパー・ライフ・サイエンシズ・インコーポレーテッド Slide cassette for fluid injection
WO2007035642A2 (en) * 2005-09-15 2007-03-29 Biotrove, Inc. Thermal cycler for microfluidic array assays
JP2007515627A (en) * 2003-11-24 2007-06-14 バイオセプト インコーポレイテッド Microarray hybridization device
JP2007155390A (en) * 2005-12-01 2007-06-21 Canon Inc Fluid control method and fluid control device
JP2007526479A (en) * 2004-03-02 2007-09-13 ダコ デンマーク アクティーゼルスカブ Reagent delivery system, dispensing device and container for biological staining apparatus
JP2007528485A (en) * 2003-09-09 2007-10-11 バイオジェネックス ラボラトリーズ Sample processing system
JP2008516203A (en) * 2004-10-06 2008-05-15 ダコ デンマーク アクティーゼルスカブ System and method for biological sample processing including means for vibrating the sample during processing

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5595707A (en) * 1990-03-02 1997-01-21 Ventana Medical Systems, Inc. Automated biological reaction apparatus

Patent Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3186764B2 (en) * 1990-03-02 2001-07-11 ベンタナ・メデイカル・システムズ・インコーポレーテツド Automated biological reactor
JPH08332071A (en) * 1995-06-06 1996-12-17 Becton Dickinson & Co Assembly of culture slide
JP3455548B2 (en) * 1997-04-11 2003-10-14 ロシュ ダイアグノスティックス ゲーエムベーハー Test element storage device
JP2005515439A (en) * 2002-01-09 2005-05-26 カリパー・ライフ・サイエンシズ・インコーポレーテッド Slide cassette for fluid injection
JP2003222631A (en) * 2002-01-30 2003-08-08 Aloka Co Ltd Cleaning device
JP2007528485A (en) * 2003-09-09 2007-10-11 バイオジェネックス ラボラトリーズ Sample processing system
JP2007515627A (en) * 2003-11-24 2007-06-14 バイオセプト インコーポレイテッド Microarray hybridization device
JP2007526479A (en) * 2004-03-02 2007-09-13 ダコ デンマーク アクティーゼルスカブ Reagent delivery system, dispensing device and container for biological staining apparatus
JP2008516203A (en) * 2004-10-06 2008-05-15 ダコ デンマーク アクティーゼルスカブ System and method for biological sample processing including means for vibrating the sample during processing
WO2007035642A2 (en) * 2005-09-15 2007-03-29 Biotrove, Inc. Thermal cycler for microfluidic array assays
JP2007155390A (en) * 2005-12-01 2007-06-21 Canon Inc Fluid control method and fluid control device

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015040733A (en) * 2013-08-21 2015-03-02 株式会社日立ハイテクノロジーズ Flow cell-fixing device, and nucleic acid analyzer
JP2016006414A (en) * 2014-05-26 2016-01-14 株式会社コンソナルバイオテクノロジーズ Inspection system, inspection method, and inspection base
WO2023113120A1 (en) * 2021-12-16 2023-06-22 (주)레보스케치 Rotary multi-channel fluorescent scanner

Also Published As

Publication number Publication date
WO2009152183A3 (en) 2010-03-11
EP2291663A2 (en) 2011-03-09
CA2727445A1 (en) 2009-12-17
WO2009152183A2 (en) 2009-12-17
CN102308217A (en) 2012-01-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN112226361B (en) Nucleic acid detection card box based on magnetic bead transfer and valve control liquid transfer and detection method
US20100167943A1 (en) System and Method for Hybridization Slide Processing
JP4721425B2 (en) Fluid moving method and fluid moving device
JP4721414B2 (en) REACTION CARTRIDGE, REACTOR, AND METHOD FOR TRANSFERRING REACTION CARTRIDGE SOLUTION
JP3630493B2 (en) Liquid processing method and apparatus using dispenser
JP5980030B2 (en) Biochemical processing equipment
JP6599962B2 (en) IHC, liquid exchange disposable tissue slide and system
JP2011524016A (en) Systems and methods for hybridization slide processing
US20080268458A1 (en) Method of Preparing Nucleic Acids for Detection
US20150098864A1 (en) Microfluidic chip with flow-guiding body and applications thereof
CN1511191A (en) Apparatus for purifying nucleic acid and method of purifying nucleic acid
WO2005016532A2 (en) Automated reaction chamber system for biological assays
JP2004500552A (en) An instrument for rapid DNA sample processing that integrates liquid processing, thermal cycling and purification
US20110190153A1 (en) System and method for hybridization slide processing
WO2003106612A1 (en) Reaction vessel and reaction product extracting device
JP2006162625A (en) Hybridization system
EP1605245A2 (en) Process for washing array substrates
CN108398311A (en) Totally enclosed type magnetic separation system
CN105723202B (en) Improved apparatus and method for reaction between solid and liquid phases
EP1605267A2 (en) Microarray washing apparatus and method
JP2007209910A (en) Microchip and reaction treatment device
WO2007122819A1 (en) Device for reactions with liquid media
KR20110090394A (en) Microarray reaction device and method for using the same
US20240271198A1 (en) Device and method for processing biological samples
TW201005290A (en) Gene-array analysis chip of fluidic operation

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20110125

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20120604

A761 Written withdrawal of application

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761

Effective date: 20120625

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120626

AA92 Notification that decision to refuse application was cancelled

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971092

Effective date: 20120710