JP2011510896A5 - - Google Patents
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Description
本願は、発明者:Nicholas F. BorelliおよびJoseph F. Schroeder IIIの名の下に2008年1月29日に出願した、米国特許出願第12/011,736号、および、発明者:Nicholas F. Borelli、Joseph F. Schroeder III、およびThomas P. Seward IIIの名の下に、それぞれ2008年12月18日および2009年12月16日に出願した、米国特許出願第12/337,920号および同第12/355,004号の優先権を主張する、一部継続出願である。本願、米国特許出願第12/011,736号、同第12/337,920号および同第12/355,004号は、共に、Corning Incorporated社に譲渡されている。 This application is based on US patent application Ser. No. 12 / 011,736 filed on Jan. 29, 2008 under the names of inventors: Nicholas F. Borelli and Joseph F. Schroeder III, and inventor: Nicholas F. Borelli, Joseph F. Schroeder III, and Thomas P. Claims priority of US patent application Ser. Nos. 12 / 337,920 and 12 / 355,004 filed on Dec. 18, 2008 and Dec. 16, 2009, respectively, under the name of Seward III. This is a continuation-in-part application. The present application, US patent application Ser. Nos. 12 / 011,736, 12 / 337,920 and 12 / 355,004 are all assigned to Corning Incorporated.
本発明は、偏光性かつ光屈折性の組成物で作られたガラス組成物および物品を対象とする。特に、本発明のガラス組成物は、同一のガラス素子において完全に一体化した偏光および回折特性を有するガラス物品の製造を可能にする。 The present invention is directed to glass compositions and articles made of polarizing and photorefractive compositions. In particular, the glass composition of the present invention enables the production of glass articles having polarization and diffraction properties that are fully integrated in the same glass element.
本明細書において、用語としての光屈折効果とは、光およびその後の熱処理によって生じる誘発性の屈折率変化が存在することを意味するように定義される。これは、しばしば、非線形の光学材料における光誘発性の電荷再分配に関係し、光学的な非線形性に起因して屈折率に局所的な変化を生じる内部電場を生成する伝統的な光屈折効果と区別して、「光熱効果」とも称される。 As used herein, the term photorefractive effect is defined to mean that there is an induced refractive index change caused by light and subsequent heat treatment. This is often related to light-induced charge redistribution in nonlinear optical materials, and traditional photorefractive effects that generate internal electric fields that cause local changes in refractive index due to optical nonlinearities This is also referred to as “photothermal effect”.
回折素子は、幅広い分野において用途が見出されている。例えば回折光学素子は、フィルタリング、ディスプレイにおけるビーム整形および光収集、安全保障、防衛、計測学、画像化およびテレコミュニケーションの用途に有用である。 Applications of diffractive elements have been found in a wide range of fields. For example, diffractive optical elements are useful for filtering , beam shaping and light collection in displays, security, defense, metrology, imaging and telecommunications applications.
特に有用な回折光学素子の1つは、ブラッグ格子である。ブラッグ格子は透明材料における屈折率の周期的変調によって形成される。この効果の有用な活用は、ブラッグ相に適合する条件を満たす光の波長は反射するが、他の波長は透過する、ブラッグ格子である。ブラッグ格子はテレコミュニケーション用途に特に有用である;例えば、それらは、多重化/逆多重化用途における選択反射フィルタ、および分散補償用途における波長依存性のパルス遅延装置として使用されている。 One particularly useful diffractive optical element is a Bragg grating. The Bragg grating is formed by periodic modulation of the refractive index in a transparent material. A useful use of this effect is a Bragg grating that reflects wavelengths of light that meet the conditions compatible with the Bragg phase, but transmits other wavelengths. Bragg gratings are particularly useful for telecommunications applications; for example, they are used as selective reflection filters in multiplexing / demultiplexing applications and wavelength dependent pulse delay devices in dispersion compensation applications.
ブラッグ格子は、一般に、光感受性(光屈折性)の材料を、周期的強度を有する放射パターンに曝露することによって製造される。多くの光感受性の材料が用いられている;しかしながら、性能およびコストの所望の組合せを提供しているものはほとんどない。例えば、ブラッグ格子はゲルマニウムをドープしたシリカガラス光ファイバに記録されており、このような格子は比較的頑丈である一方で、ファイバの形状および材料の融点の高さが、これらの格子を多くの光学系にとって不適合にしてしまう。ブラッグ格子はまた、鉄をドープしたニオブ酸リチウムなどの光屈折性の結晶にも記録されている。これらのフィルタは狭帯域のフィルタリング性能を有していたが、低い熱安定性、紫外線領域における不透過性、および記録後の可視線に対する感受性に悩まされていた。 Bragg gratings are generally manufactured by exposing a light sensitive (photorefractive) material to a radiation pattern having a periodic intensity. Many light sensitive materials are used; however, few offer the desired combination of performance and cost. For example, Bragg gratings have been recorded on silica glass optical fibers doped with germanium, while such gratings are relatively rugged, while the shape of the fiber and the high melting point of the material make these gratings many This is incompatible with the optical system. Bragg gratings are also recorded in photorefractive crystals such as iron-doped lithium niobate. These filters had narrow band filtering performance, but suffered from low thermal stability, impermeability in the ultraviolet region, and sensitivity to visible light after recording.
通常の非偏光はランダムに配向した電場および磁場を有するが、各波が互いに直交した、多くの波で構成されている。すべての電場、および、その結果としてすべての磁場が互いに平行に配列すると、光は直線偏光するであろう。通常光は、電場の方向によって決まる、垂直と平行の2つの偏光の組合せであると考えられている。別の言い方をすれば、すべての光は電磁波であり、これは、1つの面において上下に周期的に振動する電場、および電場に対して垂直な面において上下に周期的に振動する磁場を有する波であることを意味する。それらの面が交差する線は、波の伝播に沿った軸である。偏光子は、特定の方向を向いた電場を有する光のみを通過させるものである。 Normal non-polarized light has randomly oriented electric and magnetic fields, but is composed of many waves, each wave being orthogonal to each other. If all electric fields and consequently all magnetic fields are aligned parallel to each other, the light will be linearly polarized. Ordinary light is considered to be a combination of two polarizations, vertical and parallel, determined by the direction of the electric field. In other words, all light is an electromagnetic wave, which has an electric field that periodically oscillates up and down in one plane and a magnetic field that oscillates up and down in a plane perpendicular to the electric field. Means a wave. The line that the planes intersect is the axis along the wave propagation. The polarizer passes only light having an electric field directed in a specific direction.
偏光子の使用は、光ファイバ、特に単一モードの光ファイバを使用するテレコミュニケーションにおいて、重要である。単一モードのファイバは、実際、直交配向を有するモードを伝えることができる。円対称のコアを有するファイバは、2つの線形の偏光を識別することができない;すなわち、それらは機能的に等価であり、見分けることができないことから、縮退してしまう。光ファイバが完全な円対称である場合には、偏光はテレコミュニケーションにはほとんど影響を与えないであろう。しかしながら、ファイバの対称性は完全ではないことから、2つの偏光モードは異なる条件に晒され、異なる速度で、ファイバに沿って伝わる場合がある。これは、高性能のシステムに問題を生じうる、いわゆる「偏光モード分散」を引き起こす。結果的に、単一の偏光を有する光のみが光ファイバを通じて伝達されることが望ましい。 The use of polarizers is important in telecommunications using optical fibers, particularly single mode optical fibers. A single mode fiber can in fact carry a mode with orthogonal orientation. Fibers with a circularly symmetric core cannot distinguish between two linear polarizations; that is, they are degenerate because they are functionally equivalent and cannot be distinguished. If the optical fiber is perfectly circularly symmetric, polarization will have little effect on telecommunications. However, since the symmetry of the fiber is not perfect, the two polarization modes are subject to different conditions and may travel along the fiber at different speeds. This causes so-called “polarization mode dispersion” which can cause problems in high performance systems. Consequently, it is desirable that only light having a single polarization is transmitted through the optical fiber.
ガラス偏光子、材料組成物、ならびにガラスおよびガラス製の物品の製造方法は、多くの米国特許に記載されている。製品および組成物は、特許文献1〜11に記載されている。偏光性のガラス組成物、および/または銀含有組成物、および/または、偏光性のガラスまたは銀含有ガラスでできた物品の製造方法は、特許文献12〜21に記載されている。赤外波長において偏光するガラス物品は、特許文献22〜29および特許文献30〜31に記載されている。特許文献31には、銀系の偏光ガラスの代わりに銅系の偏光ガラスが記載されている。ガラス偏光子およびそれらの調製方法については、特許文献32(Araujoら)および特許文献33および34(共にBorrelliら)に記載されている。 Glass polarizers, material compositions, and methods for making glass and glass articles are described in many US patents. Products and compositions are described in US Pat. Patent Documents 12 to 21 describe a method for producing a polarizing glass composition and / or a silver-containing composition and / or an article made of polarizing glass or silver-containing glass. Glass articles that are polarized at infrared wavelengths are described in US Pat. Patent Document 31 describes a copper-based polarizing glass instead of a silver-based polarizing glass. Glass polarizers and methods for their preparation are described in US Pat. Nos. 6,053,086 (Arajo et al.) And US Pat.
Ce3+/Ag+のレドックス対に基づいた光感受性/光屈折性ガラスは、回折光学素子の形成のための基板として提案されている。例えば、特許文献35(Borrelli)には、酸化物に基づいた重量パーセントで、約14〜18%のNa2O、0〜6%のZnO、6〜12%のAl2O3、0〜5%のB2O3、65〜72%のSiO2および0〜0.2%のSb2O3、0.007〜0.0.4%のAgおよび0.008〜0.005%のCeO2、0.7〜1.25%のBrおよび1.5〜2.5%のFを含有する光感受性のガラスが開示されている。これらの材料では、放射(λ〜366nm)への曝露は、Ag+のコロイド状のAg0への光還元、およびCe3+のCe4+への光還元を引き起こし、これが、その後の加熱処理過程におけるNaF相の結晶化にとっての主要部として作用する。これらのガラスは300nm未満の波長において非常に高い吸収を有し、それらを、通常用いられる248nmのエキシマ・レーザー曝露システムと共に使用するには不適切にしてしまう。 Photosensitive / photorefractive glasses based on the Ce 3+ / Ag + redox couple have been proposed as substrates for the formation of diffractive optical elements. For example, Patent Document 35 (Borrelli) includes about 14-18% Na 2 O, 0-6% ZnO, 6-12% Al 2 O 3 , 0-5 in weight percent based on oxide. % B 2 O 3 , 65-72% SiO 2 and 0-0.2% Sb 2 O 3 , 0.007-0.0.4% Ag and 0.008-0.005% CeO 2 , a light sensitive glass containing 0.7 to 1.25% Br and 1.5 to 2.5% F is disclosed. In these materials, exposure to radiation (λ-366 nm) causes photoreduction of Ag + to colloidal Ag 0 and photoreduction of Ce 3+ to Ce 4+ , which is followed by subsequent heat treatment. Acts as the main part for the crystallization of the NaF phase in the process. These glasses have very high absorption at wavelengths below 300 nm, making them unsuitable for use with commonly used 248 nm excimer laser exposure systems.
最近になって、Elfimovらは特許文献36および37に、適切な曝露および熱現像により、NaF相の発展に伴って生じる近赤外における屈折率変化を生じるNaF系の光感受性のガラスについて記載している。そのガラス組成物は、上記段落に引用されるBorrelliの参考文献に記載される組成物の範囲内にある。この効果は、ブラッグ格子およびホログラム素子を備えた例を用いて、光屈折効果に基づいた光学素子への適用の可能性を開いた。Glebovらによって開示された具体的な組成物は、Borrelliらのものと非常に似ていた。上述のように、ガラスにおける重要な構成成分は、Ce+3(光線感作物質)、Ag+(光核物質)、およびFの濃度であり、後者は、生成しうるNaFの量を調節し、結果として、可能な誘発屈折率変化の最大量を調節する。ガラスにおける光感受性/光屈折効果を達成するため、Glebovの方法は、上述のBorrelliの参考文献と同様、300nm以上の近辺において光に曝露し、その後、520℃で2時間、加熱処理することが含まれていた。 Recently, Elfimov et al., In US Pat. Nos. 6,037,036 and 37, describe NaF-based photosensitive glasses that, with appropriate exposure and thermal development, produce refractive index changes in the near infrared that accompany the development of the NaF phase. ing. The glass composition is within the composition described in the Borreli reference cited in the above paragraph. This effect opens the possibility of application to optical elements based on the photorefractive effect, using an example with a Bragg grating and a hologram element. The specific composition disclosed by Glebov et al. Was very similar to that of Borrelli et al. As mentioned above, the important constituents in glass are the concentrations of Ce +3 (photosensitizer), Ag + (photonuclear), and F, the latter controlling the amount of NaF that can be produced. As a result, adjust the maximum amount of induced refractive index change possible. To achieve photosensitivity / photorefractive effects in glass, Glebov's method can be exposed to light in the vicinity of 300 nm and above, and then heat treated at 520 ° C. for 2 hours, as in the above-mentioned Borreli reference It was included.
上述の特許文献は偏光性または光屈折性/光感受性のいずれかのガラスについて記載しているが、偏光性かつ光屈折性/光感受性のガラスについて記載しているものはない。現時点では、回折光かつ偏光の目的のため、2つの分離した素子が必要とされる。言い換えれば、使用者は、回折格子素子および偏光子素子の両方を使用しなければならない。 The above-mentioned patent documents describe either polarizing or photorefractive / photosensitive glasses, but nothing describes polarizing and photorefractive / photosensitive glasses. At present, two separate elements are required for the purposes of diffracted light and polarization. In other words, the user must use both a diffraction grating element and a polarizer element.
本発明は、単一の素子または物品内に光屈折効果および偏光効果の両方の機能を果たすか、または示すことのできる、物品または素子の製造に使用可能なガラス組成物についての必要性を満たすものである。 The present invention meets the need for a glass composition that can be used to manufacture an article or element that can perform or exhibit both photorefractive and polarizing effects within a single element or article. Is.
本発明は、本明細書に記載されるすべての実施の形態において、光屈折性かつ偏光性の物品または素子の製造に使用することができるハロゲン化銀含有ガラス組成物(言い換えれば「光屈折性の偏光するガラス組成物」)、ガラスでできた光屈折性の偏光する物品または素子、および、光屈折性の偏光するガラスおよび光屈折性の偏光する物品の製造方法に関する。1つの実施の形態では、本発明は、重量パーセント(「重量%」)で、70〜73%のSiO2、13〜18%のB2O3、8〜10%のNa2O、2〜4%のAl2O3、0.005〜0.1%のCuO、<0.4%のCl、0.1〜0.5%のAg、0.1〜0.3%のBrから実質的になる組成を有するガラス;さらには、前記ガラス組成でできた、光屈折性と偏光性が一体化した物品または素子を対象とする。別の実施の形態では、ある組成を有するガラスは、実質的に、重量パーセント(「重量%」)で、70〜73%のSiO2、13〜18%のB2O3、7〜10%のNa2O、2〜4%のAl2O3、0.005〜0.1%のCuO、<0.4%のCl、0.1〜0.5%のAg、0.1〜0.3%のBrからなる。 The present invention, in all embodiments described herein, is a silver halide-containing glass composition (in other words, “photorefractive properties” that can be used in the manufacture of a photorefractive and polarizing article or device. The present invention relates to a photorefractive polarizing article or element made of glass, and a method for producing a photorefractive polarizing glass and a photorefractive polarizing article. In one embodiment, the present invention provides, in weight percent (“wt%”), 70-73% SiO 2 , 13-18% B 2 O 3 , 8-10% Na 2 O, 2- 4% Al 2 O 3, 0.005~0.1% of CuO, <0.4% of the Cl, 0.1 to 0.5 percent Ag, substantially from 0.1% to 0.3% of Br Further, the present invention is directed to an article or an element made of the above glass composition and having an integrated photorefractive property and polarization property. In another embodiment, a glass having a composition is substantially 70 to 73% SiO 2 , 13 to 18% B 2 O 3 , 7 to 10% in weight percent (“wt%”). Na 2 O, 2-4% Al 2 O 3 , 0.005-0.1% CuO, <0.4% Cl, 0.1-0.5% Ag, 0.1-0 .3% Br.
追加の実施の形態では、本発明は、71.1±0.5%のSiO2、14.7±0.5%のB2O3、9.3±0.5%のNa2O、3±0.5%のAl2O3、0.005±0.1%のCuO、<0.4%のCl、0.33±0.05%のAg、0.1〜0.3%のBrから実質的になる光屈折性かつ偏光性のガラス組成物、さらには、前記ガラス組成物でできた光屈折性と偏光性が一体化した物品または素子を対象とする。 In additional embodiments, the present invention provides 71.1 ± 0.5% SiO 2 , 14.7 ± 0.5% B 2 O 3 , 9.3 ± 0.5% Na 2 O, 3 ± 0.5% Al 2 O 3 , 0.005 ± 0.1% CuO, <0.4% Cl, 0.33 ± 0.05% Ag, 0.1-0.3% A photorefractive and polarizing glass composition substantially composed of Br, and an article or element made of the glass composition and integrated with the photorefractive and polarizing properties.
追加の実施の形態では、本発明は、重量パーセント(「重量%」)で、70〜73%のSiO2、13〜18%のB2O3、7〜10%のNa2O、2〜4%のAl2O3、0.005〜0.1%のCuO、<0.4%のCl、0.1〜0.5%のAg、>0.0〜<0.03%のアルカリ土類金属酸化物(CaO、BaO、SrOおよびMg、およびそれらの混合物からなる群より選択される)、および0.1〜0.3%のBrから実質的になる組成を有するガラス;さらには、前記ガラス組成でできた光屈折性と偏光性が一体化した物品または素子を対象とする。一部の実施の形態では、アルカリ土類金属酸化物はCaOである。 In additional embodiments, the present invention is, in weight percent ( "wt%"), 70-73% of SiO 2, 13 to 18% of B 2 O 3, 7 to 10% of Na 2 O,. 2 to 4% Al 2 O 3 , 0.005 to 0.1% CuO, <0.4% Cl, 0.1 to 0.5% Ag,> 0.0 to <0.03% alkali A glass having a composition consisting essentially of an earth metal oxide (selected from the group consisting of CaO, BaO, SrO and Mg, and mixtures thereof), and 0.1 to 0.3% Br; Articles or elements made of the glass composition and integrated with photorefractive properties and polarizing properties are intended. In some embodiments, the alkaline earth metal oxide is CaO.
別の実施の形態では、本発明は、重量パーセント(「重量%」)で、71±1%のSiO2、15.5〜17.5%のB2O3、7〜9%のNa2O、3±0.5%のAl2O3、0.01±0.005%のCuO、<0.4%のCl、0.33±0.05%のAg、>0〜<0.3%のCaO、および0.1〜0.3%のBrから実質的になる組成を有するガラス;さらには、前記ガラス組成でできた光屈折性と偏光性が一体化した物品または素子を対象とする。 In another embodiment, the present invention relates to 71 ± 1% SiO 2 , 15.5-17.5% B 2 O 3 , 7-9% Na 2 in weight percent (“wt%”). O, 3 ± 0.5% Al 2 O 3 , 0.01 ± 0.005% CuO, <0.4% Cl, 0.33 ± 0.05% Ag,> 0 <0. Glass having a composition substantially consisting of 3% CaO and 0.1 to 0.3% Br; and further, an object or element made of the glass composition in which photorefractive properties and polarization properties are integrated And
別の実施の形態では、本発明は、重量パーセント(「重量%」)で、71.7±0.5%のSiO2、15.8〜17.2%のB2O3、7.2〜8.5%のNa2O、3±0.5%のAl2O3、0.01±0.005%のCuO、<0.4%のCl、0.33±0.05%のAg、>0.0〜<0.03%のCaO(またはMgO、BaOおよびSrOなどの他のアルカリ土類金属酸化物)、および0.1〜0.3%のBrから実質的になるガラス組成物、さらには、前記ガラス組成物でできた光屈折性と偏光性が一体化した物品または素子を対象とする。 In another embodiment, the present invention provides, in weight percent (“wt%”), 71.7 ± 0.5% SiO 2 , 15.8 to 17.2% B 2 O 3 , 7.2. 8.5% of Na 2 O, 3 ± 0.5% of Al 2 O 3, 0.01 ± 0.005 % of CuO, of <0.4% Cl, a 0.33 ± 0.05% Glass substantially consisting of Ag,> 0.0- <0.03% CaO (or other alkaline earth metal oxides such as MgO, BaO and SrO), and 0.1-0.3% Br. Further, the present invention is directed to a composition, and further, an article or an element made of the glass composition, in which photorefractive properties and polarization properties are integrated.
本発明のすべての実施の形態では、組成物は0.3〜0.65の範囲、好ましくは0.35〜0.60の範囲の「R値」を有する。本発明のすべての実施の形態では、組成物は塩素および臭素からなる群より選択される少なくとも1種類のハロゲンを含む。 In all embodiments of the invention, the composition has an “R value” in the range of 0.3 to 0.65, preferably in the range of 0.35 to 0.60. In all embodiments of the invention, the composition comprises at least one halogen selected from the group consisting of chlorine and bromine.
本発明はまた、偏光ガラス光学素子または物品を対象とし、ここでガラスの屈折率は、ガラスまたはガラスの選択された部分を150〜400nmの波長範囲の紫外線放射(「UV」)に曝露することによって変化させることができる。1つの特定の実施の形態では、本発明は偏光する回折格子を対象とする。光学素子または物品は、少なくとも1つの偏光層を備える。 The present invention is also directed to polarizing glass optical elements or articles, wherein the refractive index of the glass exposes selected portions of the glass or glass to ultraviolet radiation (“UV”) in the 150-400 nm wavelength range. Can be changed. In one particular embodiment, the present invention is directed to a polarizing grating. The optical element or article comprises at least one polarizing layer.
別の実施の形態では、本発明は、ガラスの同一片において光屈折性かつ偏光性のガラス物品または素子;すなわち、光屈折性と偏光性が一体化した特性を有する、単一のガラス組成物でできた物品または素子を対象とする。このタイプのガラスは、完全に一体化した偏光子かつ光回折素子である物品または素子の製造に使用することができる。本発明のガラスを使用して製造できる物品または素子のタイプの例としては、限定はしないが、ディスプレイ、安全保障、防衛、計測学、さらには、画像化および通信の用途に使用するための、ブラッグ格子、フィルタ物品、ならびにビーム整形および光収集物品が挙げられる。 In another embodiment, the present invention provides a photorefractive and polarizing glass article or element in the same piece of glass; that is, a single glass composition having the combined photorefractive and polarizable properties. Articles or elements made of This type of glass can be used in the manufacture of articles or elements that are fully integrated polarizer and light diffractive elements. Examples of the types of articles or elements that can be made using the glass of the present invention include, but are not limited to, display, security, defense, metrology, and for use in imaging and communication applications. Examples include Bragg gratings, filter articles, and beam shaping and light collection articles.
本発明はまた、ハロゲン化銀含有ガラスおよび、ハロゲン化銀含有ガラス材料に形成される屈折率パターンを含む、光屈折性かつ偏光性の光学素子も対象とし、ここで、前記屈折率パターンは屈折率の高い領域および屈折率の低い領域を含み、前記ガラスは光屈折性かつ偏光性である。「屈折率の高い領域」および「屈折率の低い領域」という用語は、本明細書に説明されるように、「光屈折性の曝露」およびその後の第2の加熱処理の結果、ガラス内に、測定可能な程度に異なる屈折率を有する領域が存在することを意味する。 The present invention is also directed to a photorefractive and polarizing optical element comprising a silver halide-containing glass and a refractive index pattern formed in the silver halide-containing glass material, wherein the refractive index pattern is refracted. The glass is photorefractive and polarizable, including a high index region and a low refractive index region. The terms “region of high refractive index” and “region of low refractive index” are described in this document as a result of “photorefractive exposure” and subsequent second heat treatment, as described herein. , Which means that there are regions with different refractive indices to a measurable extent.
本発明はさらに、光屈折性の偏光ガラス素子または物品を製造する方法を対象とし、該方法は、
ハロゲン化銀を含有する光屈折性と偏光性の両方の特徴を有することが可能なガラス組成物を提供し(特性は処理の完了後まで顕在化しない)、
前記ガラス組成物をリドローに適した形状に成形し、
前記成形したガラスを、575〜725℃の温度で1〜4時間、第1の加熱処理に供して、ガラス中にハロゲン化銀粒子を形成し、
105Pa・s(106ポアズ)より大きいガラス粘度および、24130kPa(3500psi)より大きい力を印加し、銀粒子を引き伸ばすのに十分な引張り速度を可能にするガラスドロー温度でリドローし、
前記リドローしたガラスを、190〜360nmで1分〜7時間、紫外線放射に曝露することにより、前記ガラス上に光屈折性の曝露を行い、
前記光屈折性曝露したガラスを400〜500℃の範囲の温度で1〜4時間、第2の加熱処理に供し、
前記ガラスの水素還元を、390〜430℃の温度で1〜6時間行い、それによって、偏光性かつ光屈折性のガラスの素子または物品であるガラス物品を形成する、
各工程を有してなり、ここで前記物品は少なくとも1つの偏光ガラス層を有する。1つの実施の形態では、前記第2の加熱処理は、450〜500℃の範囲の温度で1〜4時間行う。少なくとも1つの偏光層の厚さは40μm以下である。偏光層の厚さは、還元時間、水素ガス圧力、またはその両方を増大させることによって増大させることができる。
The present invention is further directed to a method of manufacturing a photorefractive polarizing glass element or article, the method comprising:
Providing a glass composition capable of having both photorefractive and polarizable features containing silver halide (characteristics do not manifest until after processing is complete);
Forming the glass composition into a shape suitable for redrawing,
The molded glass is subjected to a first heat treatment at a temperature of 575 to 725 ° C. for 1 to 4 hours to form silver halide grains in the glass,
Applying a glass viscosity greater than 10 5 Pa · s (10 6 poise) and a force greater than 24,130 kPa (3500 psi) and redrawing at a glass draw temperature that allows a sufficient pull rate to stretch the silver particles;
Performing photorefractive exposure on the glass by exposing the redrawn glass to ultraviolet radiation at 190-360 nm for 1 minute to 7 hours;
Subjecting the photorefractive exposed glass to a second heat treatment at a temperature in the range of 400-500 ° C. for 1-4 hours;
The glass is subjected to hydrogen reduction at a temperature of 390 to 430 ° C. for 1 to 6 hours, thereby forming a glass article that is a polarizing and photorefractive glass element or article.
Comprising the steps, wherein the article comprises at least one polarizing glass layer. In one embodiment, the second heat treatment is performed at a temperature in the range of 450 to 500 ° C. for 1 to 4 hours. The thickness of at least one polarizing layer is 40 μm or less. The thickness of the polarizing layer can be increased by increasing the reduction time, hydrogen gas pressure, or both.
本発明は、偏光性かつ光屈折性のガラス物品の製造に使用することができるガラス組成物、さらには、紫外線放射への曝露およびその後の熱処理に応答して、偏光特性および屈折率変化の両方を示す、ガラス光学素子または物品を対象とする。よって、本発明のガラス組成物は、同一のガラス素子において、完全に一体化した偏光および回折特性を有するガラス物品または素子の製造を可能にする。本明細書では「光屈折効果」、「光屈折性ガラス」または「偏光する光屈折性ガラス」という用語は、ガラスを紫外線光に供し、その後に熱処理することによって生産されたガラスに、誘発性の屈折率変化が存在することを意味する。これは、伝統的な光屈折効果と区別するため、しばしば「光熱効果」とも称される。本明細書で与えられるすべてのパーセンテージは重量パーセント(「重量%」)である。「〜から実質的になる」という移行句は、請求項の範囲を、特定の材料または工程であって、特許請求の範囲に記載される本発明の基本的特性および新規特性に材料的に影響を与えないものに限定する。言い換えれば、本明細書では「〜から実質的になる」という移行句は、本明細書に記載されるガラス組成物または方法が、示される特定の元素、工程、または原料を含み、本発明の組成物のガラスを光屈折性かつ偏光性の単一の物品に製造することができる、本ガラスの基本的特性および新規特性に材料的に影響を与えるであろう追加の元素、工程、または原料を排除することを意味する。本明細書ではまた、「偏光する光屈折性ガラス組成物」、「光屈折性の偏光ガラス組成物」という用語、および同様の用語は、ガラスが本明細書に記載されるように処理した後に偏光性かつ光屈折性である物品を形成するために使用することができることを意味する。 The present invention provides a glass composition that can be used in the manufacture of polarizing and photorefractive glass articles, as well as both polarization properties and refractive index changes in response to exposure to ultraviolet radiation and subsequent heat treatment. A glass optical element or article showing Thus, the glass composition of the present invention enables the production of glass articles or elements having fully integrated polarization and diffraction properties in the same glass element. As used herein, the terms “photorefractive effect”, “photorefractive glass” or “polarizing photorefractive glass” refer to inductive properties in glass produced by subjecting the glass to ultraviolet light followed by heat treatment. Means that there is a refractive index change. This is often referred to as the “photothermal effect” to distinguish it from the traditional photorefractive effect. All percentages given herein are weight percent ("wt%"). The transitional phrase “consisting essentially of” refers to the scope of the claim as a specific material or process, which materially affects the basic and novel characteristics of the claimed invention. It is limited to the thing which does not give. In other words, the transitional phrase “consisting essentially of” is used herein to indicate that the glass composition or method described herein includes the particular element , step, or ingredient indicated, and Additional elements , processes, or raw materials that can materially affect the basic and novel properties of the glass, allowing the composition glass to be produced into a single photorefractive and polarizing article. Means to eliminate. Also herein, the terms "polarizing photorefractive glass composition", "photorefractive polarizing glass composition", and similar terms are used after the glass has been processed as described herein. It means that it can be used to form articles that are both polarizable and photorefractive.
当技術分野で説明されるように、偏光効果は、ガラスを伸張し、次いで、伸張したガラスを還元性雰囲気、典型的には水素含有雰囲気に曝露することによって、銀、銅または銅−カドミウム結晶を含むアルミノホウケイ酸塩ガラスにおいて生じる。ガラスは、ガラスのアニール温度よりも高い温度の応力下に設置される。これは、ガラスを引き伸ばし、それによって結晶を引き伸ばし、配向させる。粒子上に作用するせん断応力は、引き伸ばす際のガラスの粘度およびドロー速度に比例する。せん断力による歪みに対抗する復元力は、粒子半径に逆比例する。したがって、所望の度合いの粒子の引き伸ばし、および、所定の波長において得られる偏光効果を生じさせるための最適条件は、ガラスの多くの特性およびリドロー工程の複雑なバランスを包含する。ガラスを引き伸ばした後、引き伸ばしたガラス物品を、120℃よりも高く、ガラスの徐冷点よりも25℃を超えて高くはない温度で、還元性雰囲気に曝露する。これにより表面層が成長し、ここで、ガラス中に存在する金属ハロゲン化物の結晶は、少なくともある程度、銀または銅元素に還元される。 As described in the art, the polarization effect is achieved by stretching the glass and then exposing the stretched glass to a reducing atmosphere, typically a hydrogen-containing atmosphere, to produce silver, copper or copper-cadmium crystals. It occurs in aluminoborosilicate glasses containing. The glass is placed under stress at a temperature higher than the annealing temperature of the glass. This stretches the glass, thereby stretching and orienting the crystal. The shear stress acting on the particles is proportional to the viscosity and draw speed of the glass as it is stretched. The restoring force against the strain due to the shear force is inversely proportional to the particle radius. Thus, the optimum conditions for producing the desired degree of particle stretching and the polarization effect obtained at a given wavelength include a complex balance of many properties of glass and the redraw process. After stretching the glass, the stretched glass article is exposed to a reducing atmosphere at a temperature above 120 ° C. and no higher than 25 ° C. above the annealing point of the glass. This grows the surface layer, where the metal halide crystals present in the glass are reduced at least to some extent to silver or copper elements.
偏光ガラスの生産は、多くの特許文献に記載され、概ね下記の4つの工程を含む:
銀およびフッ素以外のハロゲンの供給源を含むガラスバッチを溶融し、ガラス本体を形成するか、または溶融物から形成し;
前記ガラス本体をガラスの歪み点よりも高い温度で加熱処理して、500〜2000オングストローム(Å)の大きさを有するハロゲン化物の結晶を生成し;
前記ハロゲン化物の結晶を含有するガラス本体を、ガラス徐冷点よりも高い温度における応力下で引き伸ばし、前記結晶を引き伸ばし、かつ配向させ;
前記引き伸ばされた本体を250℃〜500℃の温度で還元性雰囲気に曝露して、少なくとも2:1の縦横比を有する金属粒子を含む前記本体上に、還元された表面層を成長させる。
The production of polarizing glass is described in many patent documents and generally comprises the following four steps:
Melting a glass batch containing a source of halogen other than silver and fluorine to form a glass body or from a melt;
Heat-treating the glass body at a temperature higher than the strain point of the glass to produce a halide crystal having a size of 500 to 2000 Angstroms (Å);
Stretching the glass body containing the halide crystals under stress at a temperature higher than the glass annealing point to stretch and orient the crystals;
The stretched body is exposed to a reducing atmosphere at a temperature of 250 ° C. to 500 ° C. to grow a reduced surface layer on the body that includes metal particles having an aspect ratio of at least 2: 1.
光屈折性ガラスは、光への曝露およびその後の熱処理により、ガラス材料に屈折率変化を誘発することができるものである。本発明の組成物において、屈折率変化を誘発するのに必要とされる光は、紫外線の範囲内にある。米国特許第4,979,975号明細書に記載されるように、光屈折性ガラスは、シリカ、亜鉛、アルミニウム、セリウム、ホウ素、アンチモンおよびナトリウム、さらには、 銀、フッ素および臭素の酸化物からなるガラスバッチを溶融することによって調製した。その溶融物をガラスの変態温度範囲未満の温度まで冷却すると同時に、所望の形状のガラス本体へと成形した。次いで、ガラスの少なくとも一部分を300〜355nmの波長を有する紫外線放射に曝露し、次にガラスの軟化点未満の温度に加熱して、NaF相を成長させた。最後に、ガラスを室温まで冷却した。このガラスは光屈折性であったが、以下にさらに説明するように、フッ素およびセリウムの存在に起因して、光屈折性かつ偏光性ではなかった。 A photorefractive glass is one that can induce a refractive index change in a glass material upon exposure to light and subsequent heat treatment. In the compositions of the present invention, the light required to induce a refractive index change is in the ultraviolet range. As described in U.S. Pat. No. 4,979,975, photorefractive glass is composed of silica, zinc, aluminum, cerium, boron, antimony and sodium, as well as oxides of silver, fluorine and bromine. The resulting glass batch was prepared by melting. The melt was cooled to a temperature below the glass transformation temperature range and simultaneously formed into a glass body having a desired shape. Then at least a portion of the glass was exposed to ultraviolet radiation having a wavelength of 300-355 nm and then heated to a temperature below the softening point of the glass to grow the NaF phase. Finally, the glass was cooled to room temperature. Although this glass was photorefractive, it was not photorefractive and polarizable due to the presence of fluorine and cerium, as further described below.
偏光ガラスおよび光屈折性ガラスは当技術分野で知られているが、偏光性かつ光屈折性のガラスは知られていない。 Polarizing glass and photorefractive glass are known in the art, but polarizing and photorefractive glass is not known.
本発明は、重量パーセント(「重量%」)で、70〜73%のSiO2、13〜17%のB2O3、8〜10%のNa2O、2〜4%のAl2O3、0.005〜0.1%のCuO、<0.4%のCl、0.1〜0.5%のAg、0.1〜0.3%のBrから実質的になる組成を有する偏光する光屈折性ガラス、さらには、前記ガラス組成物でできた偏光する光屈折性の物品または素子を対象とする。別の実施の形態では、ある組成を有するガラスは、重量パーセント(「重量%」)で、70〜73%のSiO2、13〜18%のB2O3、7〜10%のNa2O、2〜4%のAl2O3、0.005〜0.1%のCuO、<0.4%のCl、0.1〜0.5%のAg、0.1〜0.3%のBrから実質的になる。本明細書に記載されるガラス組成物の調製では、金属CuおよびAgを除き、それらの酸化物、金属炭酸塩、硝酸塩、水酸化物および水和物、または前述のものの任意の混合物が、ガラス組成物の調製に使用される。CuおよびAgは、酸化物、金属炭酸塩、水酸化物および水和物として添加することができるが、それらは、ハロゲン化物(Br、Clのみ)、硝酸塩、亜硝酸化合物、または当技術分野で既知の偏光ガラスの製造に有用であるべき他の化合物として添加されることが好ましい。フッ化物は、その使用が偏光性かつ光屈折性ではないガラス組成物を生じる結果となることから、ハロゲンには含めない。その存在が、ガラスが偏光性かつ光屈折性であることを妨げるか、または着色したガラスを生じる結果となる元素は、排除される。さらに、本発明のガラスはセリウムを含まない。他の元素は汚染レベルで存在する場合がある;例えば、限定はしないが、リチウム、鉄およびカリウムが挙げられる。 The present invention is, in weight percent ( "wt%"), 70-73% of SiO 2, 13 to 17% of B 2 O 3, 8 to 10% of Na 2 O, 2 to 4% of Al 2 O 3 , 0.005-0.1% CuO, <0.4% Cl, 0.1-0.5% Ag, polarized light having a composition consisting essentially of 0.1-0.3% Br Further, the present invention is directed to a photorefractive glass to be polarized, and to a polarizing photorefractive article or element made of the glass composition. In another embodiment, the glass having a certain composition, in weight percent ( "wt%"), 70-73% of SiO 2, 13 to 18% of B 2 O 3, 7 to 10% of Na 2 O 2-4% Al 2 O 3 , 0.005-0.1% CuO, <0.4% Cl, 0.1-0.5% Ag, 0.1-0.3% It consists essentially of Br. In the preparation of the glass compositions described herein, with the exception of the metals Cu and Ag, their oxides, metal carbonates, nitrates, hydroxides and hydrates, or any mixture of the foregoing, are glass Used in the preparation of the composition. Cu and Ag can be added as oxides, metal carbonates, hydroxides and hydrates, but they are halides (Br, Cl only), nitrates, nitrites, or in the art It is preferably added as another compound that should be useful in the manufacture of known polarizing glasses. Fluoride is not included in the halogen because its use results in a glass composition that is neither polarizable nor photorefractive. Elements whose presence prevents the glass from being polarizable and photorefractive or results in a colored glass are excluded. Furthermore, the glass of the present invention does not contain cerium. Other elements may be present at contamination levels; for example, but not limited to, lithium, iron and potassium.
追加の実施の形態では、偏光する光屈折性ガラスは、重量パーセントで、71.1±0.5%のSiO2、14.7±0.5%のB2O3、9.3±0.5%のNa2O、3±0.5%のAl2O3、0.005〜0.1%のCuO、<0.4%のCl、0.33±0.05%のAg、0.1〜0.3%のBrから実質的になる組成を有し、さらには、前記ガラス組成でできた物品または素子も対象とする。追加の組成物は、重量パーセントで、71±1%のSiO2、15.5〜17.5%のB2O3、7〜9%のNa2O、3±0.5%のAl2O3、0.01±0.005%のCuO、<0.4%のCl、0.33±0.05%のAgおよび0.1〜0.3%のBrから実質的になるガラス;および、71.7±0.5%のSiO2、15.8〜17.2%のB2O3、7.2〜8.5%のNa2O、3±0.5%のAl2O3、0.01±0.005%のCuO、<0.4%のCl、0.33±0.05%のAg、および0.1〜0.3%のBrから実質的になるガラスである。 In an additional embodiment, the polarizing photorefractive glass is, by weight percent, 71.1 ± 0.5% SiO 2 , 14.7 ± 0.5% B 2 O 3 , 9.3 ± 0. 0.5% Na 2 O, 3 ± 0.5% Al 2 O 3 , 0.005-0.1% CuO, <0.4% Cl, 0.33 ± 0.05% Ag, Articles or elements having a composition substantially consisting of 0.1 to 0.3 % Br and further made of the glass composition are also targeted. The additional composition was, by weight percent, 71 ± 1% SiO 2 , 15.5-17.5% B 2 O 3 , 7-9% Na 2 O, 3 ± 0.5% Al 2. A glass consisting essentially of O 3 , 0.01 ± 0.005% CuO, <0.4% Cl, 0.33 ± 0.05% Ag and 0.1-0.3% Br; And 71.7 ± 0.5% SiO 2 , 15.8-17.2% B 2 O 3 , 7.2-8.5% Na 2 O, 3 ± 0.5% Al 2 A glass consisting essentially of O 3 , 0.01 ± 0.005% CuO, <0.4% Cl, 0.33 ± 0.05% Ag, and 0.1 to 0.3% Br. It is.
フッ化物を使用すると偏光性かつ光屈折性ではないガラス組成を生じることから、フッ化物は前記ハロゲンには含まれない。さらに、本発明のガラスはセリウムを含まない。他の元素は、汚染レベルで存在していて差し支えなく、例えば、限定はしないが、リチウム、鉄およびカリウムが挙げられる。 The use of fluoride results in a glass composition that is neither polarizable nor photorefractive, so fluoride is not included in the halogen. Furthermore, the glass of the present invention does not contain cerium. Other elements can be present at the level of contamination, including but not limited to lithium, iron and potassium.
追加の実施の形態では、本発明は、重量パーセント(「重量%」)で、70〜73%のSiO2、13〜18%のB2O3、7〜9%のNa2O、2〜4%のAl2O3、0.005〜0.1%のCuO、<0.4%のCl、0.1〜0.5%のAg、>0〜<0.3%のアルカリ土類金属酸化物,および0.1〜0.3%のBrから実質的になる組成を有するハロゲン化銀含有ガラス、さらには前記ガラス組成でできた物品または素子を対象とする。 In additional embodiments, the present invention is, in weight percent ( "wt%"), 70-73% of SiO 2, 13 to 18% of B 2 O 3, 7 to 9% of Na 2 O,. 2 to 4% Al 2 O 3, 0.005~0.1% of CuO, <0.4% of the Cl, 0.1 to 0.5 percent Ag,> 0~ <0.3% of the alkaline earth A silver halide-containing glass having a composition substantially consisting of a metal oxide and 0.1 to 0.3% Br, and an article or element made of the glass composition are also targeted.
別の実施の形態では、本発明は、重量パーセント(「重量%」)で、71±1%のSiO2、15.5〜17.5%のB2O3、7〜9%のNa2O、3±0.5%のAl2O3、0.01±0.005%のCuO、<0.4%のCl、0.33±0.05%のAg、>0〜<0.3%のCaO,および0.1〜0.3%のBrから実質的になる組成を有するハロゲン化銀含有ガラス、さらには、そのガラス組成物でできた物品または素子を対象とする。 In another embodiment, the present invention relates to 71 ± 1% SiO 2 , 15.5-17.5% B 2 O 3 , 7-9% Na 2 in weight percent (“wt%”). O, 3 ± 0.5% Al 2 O 3 , 0.01 ± 0.005% CuO, <0.4% Cl, 0.33 ± 0.05% Ag,> 0 <0. Silver halide-containing glass having a composition consisting essentially of 3% CaO and 0.1-0.3% Br, and also articles or elements made of the glass composition.
別の実施の形態では、ガラス組成は、重量パーセント(「重量%」)で、71.7±0.5%のSiO2、15.8〜17.2%のB2O3、7.2〜8.5%のNa2O、3±0.5%のAl2O3、0.01±0.005%のCuO、<0.4%のCl、0.33±0.05%のAg、>0〜<0.3%のCaO(またはMgO、BaOおよびSrOなどの他のアルカリ土類金属酸化物)、および0.1〜0.3%のBrである。 In another embodiment, the glass composition is, in weight percent (“wt%”), 71.7 ± 0.5% SiO 2 , 15.8 to 17.2% B 2 O 3 , 7.2. 8.5% of Na 2 O, 3 ± 0.5% of Al 2 O 3, 0.01 ± 0.005 % of CuO, of <0.4% Cl, a 0.33 ± 0.05% Ag,> 0- <0.3% CaO (or other alkaline earth metal oxides such as MgO, BaO and SrO), and 0.1-0.3% Br.
本発明のすべての実施の形態では、組成物は、0.3〜0.65、好ましくは0.35〜0.60の範囲の「R値」を有する。本発明のすべての実施の形態では、組成物は、塩素および臭素からなる群より選択される少なくとも1種類のハロゲンを含む。 In all embodiments of the invention, the composition has an “R value” in the range of 0.3 to 0.65, preferably 0.35 to 0.60. In all embodiments of the invention, the composition comprises at least one halogen selected from the group consisting of chlorine and bromine.
別の実施の形態では、本発明は、ガラスの同一片において光屈折性かつ偏光性であるガラス物品を対象とする。このタイプのガラスは、完全に一体化した偏光子かつ光回折素子である物品または素子の製造に用いられる。本発明のガラスを使用してできうる物品のタイプの例としては、限定はしないが、ディスプレイ、安全保障、防衛、計測学、画像化および通信の用途に使用するための、ブラッグ格子、フィルタ物品、およびビーム整形および光収集物品が挙げられる。 In another embodiment, the present invention is directed to a glass article that is photorefractive and polarizing in the same piece of glass. This type of glass is used in the manufacture of articles or elements that are fully integrated polarizer and light diffractive elements. Examples of types of articles that can be made using the glass of the present invention include, but are not limited to, Bragg gratings, filter articles for use in display, security, defense, metrology, imaging and communications applications. , And beam shaping and light collection articles.
一例として、限定はしないが、本発明のガラス組成物および物品は、ケイ素、ホウ素、アルミニウムおよびナトリウムの酸化物、炭酸塩、水酸化物および/または水和物(またはそれらの混合物)を一緒に混合し、その混合物をボールミル粉砕し、銀および銅を硝酸塩溶液の形態で添加し、塩化物および臭化物を溶液の形態で添加することによって作られた。すべての材料を完全に混合した後、混合物を適切な容器(例えば白金るつぼ)に入れ、溶融し、その後、リドローに適した形態(例えば棒状)に鋳造または押出成形した。 By way of example, but not limitation, the glass compositions and articles of the present invention together with silicon, boron, aluminum and sodium oxides, carbonates, hydroxides and / or hydrates (or mixtures thereof). It was made by mixing, ball milling the mixture, adding silver and copper in the form of a nitrate solution, and adding chloride and bromide in the form of a solution. After all materials were thoroughly mixed, the mixture was placed in a suitable container (eg, a platinum crucible), melted, and then cast or extruded into a form suitable for redraw (eg, a rod).
一例としてバーを用い、そのバーを575〜750℃の温度(第1の加熱処理)で1〜6時間、加熱し、ガラスのAgX(X=Clおよび/またはBr)相を成長させた。別の実施の形態では、加熱時間は1〜4時間である。ドロー温度が、105Pa・s(106ポアズ)よりも大きいガラス粘度、ならびに、24130kPa(3500psi)よりも大きい力(>24130kPa(3500psi))を印加して、少なくとも2:1、好ましくは少なくとも5:1の縦横比を有するようにAgX相を引き伸ばすのに十分な引張り速度を可能にする条件下で、加熱処理したガラス・バーをリドローした。熱処理は、一般に、ガラス組成物の軟化点似近い温度(25〜50℃の範囲内)で行う。 The bar was used as an example, and the bar was heated at a temperature of 575 to 750 ° C. (first heat treatment) for 1 to 6 hours to grow an AgX (X═Cl and / or Br) phase of the glass. In another embodiment, the heating time is 1 to 4 hours. Apply a glass viscosity greater than 10 5 Pa · s (10 6 poise) and a force greater than 24,130 kPa (3500 psi) (> 24,130 kPa (3,500 psi)) at least 2: 1, preferably at least The heat-treated glass bar was redrawn under conditions that allowed a sufficient pull rate to stretch the AgX phase to have an aspect ratio of 5: 1. The heat treatment is generally performed at a temperature close to the softening point of the glass composition (within a range of 25 to 50 ° C.).
工程のこの時点では、ガラスは無色であり、材料は透明であり、ガラス中のAgX結晶は伸張されている。伸張は、本明細書に列挙される組成を有するガラスに見られた、ガラスの強い複屈折パターンから明らかである。リドローが完了した後、ガラスを切断、切り取り、または他の方法で、意図する用途に適した寸法の物品または素子(サンプル)にすることができる。 At this point in the process, the glass is colorless, the material is transparent, and the AgX crystals in the glass are stretched. Elongation is evident from the strong birefringence pattern of the glass found in glasses having the compositions listed herein. After redrawing is complete, the glass can be cut, cut, or otherwise made into articles or elements (samples) of dimensions suitable for the intended use.
リドローおよびサンプル片の調製に続いて、190〜360nmの範囲の紫外線放射(例えば、193、248、266または355nmにおけるレーザー動作)を使用して、サンプルに「光屈折性の曝露」を行った。約1W/mm2、1〜10分間で、2〜48nm、10Hzのレーザー動作を用いて、または1〜2W/mm2、1〜7時間で355nm、10Hzのレーザー動作を用いて、ガラスサンプルを紫外線放射に曝露した。曝露は、意図する最終用途に応じて、ガラスサンプルのすべてまたは一部に行うことができる。例えば、サンプルがブラッグ格子などの回折格子にすることが意図される場合には、ガラスの選択された部分のみが紫外線放射に曝露される。「光屈折性の曝露」は、フォトマスク(位相マスクとも称される)を使用して行った。マスクは、ガラスサンプル全体またはサンプルの任意の部分に適用することができる。したがって、光屈折効果がサンプル全体またはサンプルの選択された部分に及ぶようなサンプルを生産することができる。 Following redraw and sample strip preparation, samples were “photorefractive exposed” using ultraviolet radiation in the range of 190-360 nm (eg, laser operation at 193, 248, 266 or 355 nm). About 1 W / mm 2 , 1 to 10 minutes, using 2-48 nm, 10 Hz laser operation, or 1-2 W / mm 2 , 1 to 7 hours using 355 nm, 10 Hz laser operation. Exposed to ultraviolet radiation. Exposure can be to all or part of the glass sample, depending on the intended end use. For example, if the sample is intended to be a diffraction grating such as a Bragg grating, only selected portions of the glass are exposed to ultraviolet radiation. “Photorefractive exposure” was performed using a photomask (also referred to as a phase mask). The mask can be applied to the entire glass sample or any part of the sample. Thus, a sample can be produced in which the photorefractive effect spans the entire sample or a selected portion of the sample.
位相マスクは、例えば、Ibsen Photonics社(デンマーク国ファールム所在)、StockerYale社(米国ニューハンプシャー州セーレム所在)、およびO/E Land,inc.社(カナダ国ケベック州サンローラン所在)から市販されている。光屈折性の曝露の工程の後、サンプルは無色であり、AgX結晶は引き伸ばされており、再球状化されていなかった。図1は、633nmで動作するNd:YAGレーザーの紫外線放射への曝露および上述の加熱処理の後の本発明のガラスに生じる時間の関数としての屈折率変化(「Δn))を示している。 Phase masks are described, for example, by Ibsen Photonics (Farm, Denmark), StockerYale (Salem, NH, USA), and O / E Land, Inc. (Available in Saint Laurent, Quebec, Canada). After the photorefractive exposure step, the sample was colorless and the AgX crystals were stretched and not re-globulized. FIG. 1 shows the refractive index change (“Δn)) as a function of time that occurs in glass of the present invention after exposure to ultraviolet radiation of a Nd: YAG laser operating at 633 nm and the heat treatment described above.
「光屈折性の曝露」後、サンプルを第2の加熱処理に供し、光屈折効果を生じさせた。400〜500℃の範囲の温度で1〜4時間、第2の加熱処理を行った。1つの実施の形態では、第2の加熱処理は、450〜500℃の範囲の温度で1〜4時間行った。この第2の加熱処理は、引き伸ばされたAgX粒子が再球状化されるのを防ぐために、500℃以下の温度で行うことが重要である。 After “photorefractive exposure”, the sample was subjected to a second heat treatment to produce a photorefractive effect. The second heat treatment was performed at a temperature in the range of 400 to 500 ° C. for 1 to 4 hours. In one embodiment, the second heat treatment was performed at a temperature in the range of 450 to 500 ° C. for 1 to 4 hours. It is important that the second heat treatment is performed at a temperature of 500 ° C. or lower in order to prevent the elongated AgX particles from being re-sphericalized.
第2の加熱処理の後、サンプルを、390〜450℃の範囲の温度で1〜6時間、H2雰囲気で還元した。1つの実施の形態では、第2の加熱処理後、サンプルを、390〜430℃の温度で1〜6時間、H2雰囲気で還元した。好ましくは、還元時間は2〜4時間の範囲であった。H2処理は、さらに長時間に延長することができ、および/または、引き伸ばされたAgX粒子のH2還元の深さを調節するための圧力下で行うことができる。温度の制御は、偏光子のコントラスト比を調節するために使用される。390〜430℃で2〜4時間、および1〜5気圧、好ましくは1〜2気圧のH2圧力での加熱処理は、40μm以下、典型的には20〜40μmの範囲の厚さを有する、図5Dに参照番号28で示された、表面偏光層を生成する。10気圧を超える圧力における水素還元は、50μmを超える偏光層の厚さを有する偏光子を生成することができる。還元後、サンプルは光屈折性かつ偏光性である。 After the second heat treatment, the sample was reduced in a H 2 atmosphere at a temperature in the range of 390-450 ° C. for 1-6 hours. In one embodiment, after the second heat treatment, the sample was reduced in a H 2 atmosphere at a temperature of 390-430 ° C. for 1-6 hours. Preferably, the reduction time was in the range of 2-4 hours. H 2 process further can be extended for a long time, and / or can be carried out under pressure to adjust the stretched depth H 2 reduction of AgX grains. Temperature control is used to adjust the contrast ratio of the polarizer. Heat treatment at 390-430 ° C. for 2-4 hours and H 2 pressure of 1-5 atm, preferably 1-2 atm, has a thickness in the range of 40 μm or less, typically 20-40 μm , A surface polarizing layer is generated , indicated by reference numeral 28 in FIG. 5D . Hydrogen reduction at pressures greater than 10 atmospheres can produce polarizers having polarizing layer thicknesses greater than 50 μm. After reduction, the sample is photorefractive and polarizable.
第1の加熱処理の間のハロゲン化銀結晶の形成は、光屈折性かつ偏光性のガラスの生産にとって絶対不可欠である。これは、575〜725℃の範囲の温度で1〜4時間行うことが好ましい。最終製品は、したがって、光屈折性かつ偏光性の、一体化した物品または素子である。ガラス中にハロゲン化銀結晶が存在しない場合、二色性または光屈折効果は存在し得ない(しかしながら、二色性効果を生じるためにはハロゲン化銀粒子はより大きいサイズでなければならない)。したがって、最終製品において、光屈折効果は、ハロゲン化銀粒子が還元されて、偏光効果を生じる銀粒子を形成する、薄い表面偏光層を除き、マスクが適用される場所に応じて、サンプル全体(物品または素子)またはサンプルの選択部分に及ぶ。最終製品は、したがって、光屈折性かつ偏光性の、一体化した物品または素子である。 The formation of silver halide crystals during the first heat treatment is absolutely essential for the production of photorefractive and polarizing glasses. This is preferably performed at a temperature in the range of 575 to 725 ° C. for 1 to 4 hours. The final product is therefore a photorefractive and polarizable integrated article or element. In the absence of silver halide crystals in the glass, there can be no dichroic or photorefractive effect (however, the silver halide grains must be larger in size to produce the dichroic effect). Thus, in the final product, photorefractive effect, the silver halide grains is reduced to form silver particles to produce a polarizing effect, except for a thin surface polarizing layer, depending on where the mask is applied, the entire sample ( Article or element) or a selected portion of the sample. The final product is therefore a photorefractive and polarizable integrated article or element.
本発明に従ったガラスの偏光透過スペクトルを図3に示す。2種類のガラスサンプルを調製した。1つのサンプルを720℃で第1の加熱処理に供し、第2のサンプルを675℃で第1の加熱処理に供した。次いでサンプルをリドローし、390〜430℃の温度で2〜4時間、水素雰囲気で還元した。次に、偏光透過スペクトルを測定したが、図3に示すように、両方のガラスサンプルが偏光することを明確に示唆している。 The polarization transmission spectrum of the glass according to the present invention is shown in FIG. Two types of glass samples were prepared. One sample was subjected to the first heat treatment at 720 ° C., and the second sample was subjected to the first heat treatment at 675 ° C. The sample was then redrawn and reduced in a hydrogen atmosphere at a temperature of 390-430 ° C. for 2-4 hours. Next, the polarization transmission spectrum was measured, which clearly suggests that both glass samples are polarized as shown in FIG.
本発明のガラスの偏光透過スペクトルの測定に加えて、代表的なサンプルの「R値」[「R」]を決定した。R値は、網目改質剤(「M」)からアルミナ(「A」)を差し引いた値の、ホウ素酸化物(「B」)に対するモル比;すなわち:
R=(M−A)÷B
として定義される。
In addition to measuring the polarization transmission spectrum of the glass of the present invention, the “R value” [“R”] of a representative sample was determined. R value is the molar ratio of network modifier ("M") minus alumina ("A") to boron oxide ("B");
R = (MA) / B
Is defined as
本発明の偏光する光屈折性ガラスは0.3〜0.65の範囲のR値を有する。好ましい実施の形態では、R値は0.35〜0.60の範囲である。前述の範囲内のR値を有するガラスは透明で、偏光性かつ光屈折性であるのに対し、前記範囲外のR値を有するものは着色しているか、または透明であっても、偏光性かつ光屈折性ではない。R値を計算する目的では、改質剤は、大部分は一重および二重にイオン化された(例えば+1および+2)元素であると考えられる。網目改質剤は、大部分は、組成物中に存在するアルカリおよびアルカリ土類元素の酸化物である。+2または+4の状態のいずれかでありうる、Sn、AsおよびSbなどの成分もまた、それらがガラスを着色しないことを条件として、改質剤として作用しうる。網目改質剤は、遷移金属がガラスを着色しないレベルである場合を除き(例えば銅および銀)、シリカ、ハロゲン化物、または遷移金属を含まない。よって、アルカリおよびアルカリ土類元素に加えて、網目改質剤は、Agおよび、Cu、Co、Mn、V、Cr、Ni、Feなどの遷移金属を含みうるが、これらの金属がガラスを着色する場合には、これら金属の量が、ガラスを着色しないようなレベルに維持されることを条件とする。ホウ素(「B」)、リン(「P」)、ゲルマニウム(「Ge」)およびケイ素は網目形成元素であり、B、PおよびGeは、R値が特定の限度の範囲内にとどまる場合には、ある程度Siの代わりとなりうる。最後に、他の元素は「中間物」と考えることができる。Al、Pb、Zn、ZrおよびTiは、それらの相対濃度に応じて、網目構造形成剤または網目改質剤のいずれかとして作用しうる。Pb、Zn、ZrおよびTiは、一般に、低濃度(1重量%未満)の場合には改質剤である。Alについては、アルカリおよびアルカリ土類金属の合計がAlを超えるならば(言い換えれば、R>0)、Alは網目構造形成剤として作用する。 The polarizing photorefractive glass of the present invention has an R value in the range of 0.3 to 0.65. In a preferred embodiment, the R value is in the range of 0.35 to 0.60. Glasses having an R value within the above range are transparent, polarizable and photorefractive, whereas those having an R value outside the above range are colored or transparent even if they are transparent. And it is not photorefractive. For purposes of calculating the R value, the modifier is considered to be mostly single and double ionized (eg, +1 and +2) elements . Network modifiers are mostly oxides of alkali and alkaline earth elements present in the composition. Components such as Sn, As and Sb, which can be in either the +2 or +4 state, can also act as modifiers provided they do not color the glass. The network modifier is free of silica, halide, or transition metal unless the transition metal is at a level that does not color the glass (eg, copper and silver). Thus, in addition to alkali and alkaline earth elements, the network modifier may contain Ag and transition metals such as Cu, Co, Mn, V, Cr, Ni, Fe, but these metals color the glass. If so, the amount of these metals must be maintained at a level that does not color the glass. Boron (“B”), phosphorus (“P”), germanium (“Ge”) and silicon are network-forming elements, and B, P, and Ge can be used if the R-value stays within certain limits. It can be substituted for Si to some extent. Finally, other elements can be considered “intermediates”. Al, Pb, Zn, Zr, and Ti can act as either a network structure forming agent or a network modifier, depending on their relative concentrations. Pb, Zn, Zr and Ti are generally modifiers at low concentrations (less than 1% by weight). For Al, if the sum of alkali and alkaline earth metal exceeds Al (in other words, R> 0), Al acts as a network structure forming agent.
カラー写真のグレースケール再現である図4は、本発明のガラス上に形成された格子の回折を示している。図3に使用するために同一の720℃で加熱処理したガラスのサンプルをリドローした後、355nm、10Hz、1〜2W/mm2で7時間のレーザーを用いて、光屈折性の曝露を加えた。光屈折性の曝露の完了後、ガラスに450℃で第2の加熱処理を加え、光屈折性の曝露を展開した。その後、サンプルを450℃において水素雰囲気で還元し、回折効果を決定し、図4に示した。誘発した屈折率(図1に示すΔn)は1〜2×10-5の値を与えた。図4では、入射レーザー光を100、0次の光を110、1次の回折光を120と表示している。1次の回折光は淡く、グレースケール再現(カラー写真ではないが)で見ることは困難である。その結果、図4では、より視覚的にするため、円で囲んだ領域で表し、その領域内に示す。 FIG. 4, which is a gray scale reproduction of a color photograph, shows the diffraction of a grating formed on the glass of the present invention. After redrawing the same glass sample heat treated at 720 ° C. for use in FIG. 3, photorefractive exposure was applied using a laser at 355 nm, 10 Hz, 1-2 W / mm 2 for 7 hours. . After completion of the photorefractive exposure, the glass was subjected to a second heat treatment at 450 ° C. to develop the photorefractive exposure. Thereafter, the sample was reduced in a hydrogen atmosphere at 450 ° C., the diffraction effect was determined, and is shown in FIG. The induced refractive index (Δn shown in FIG. 1) gave a value of 1-2 × 10 −5 . In FIG. 4, the incident laser light is indicated as 100, the 0th-order light is indicated as 110, and the first-order diffracted light is indicated as 120. First-order diffracted light is faint and difficult to see with grayscale reproduction (not a color photo). As a result, in FIG. 4, in order to make it more visual, it is represented by an area surrounded by a circle and shown in that area.
図5A〜5Dは、上記工程を辿ったガラス物品を例証している。図5Aは、575〜625℃での第1の加熱処理の後、成長したAgX結晶22を有するガラス物品または素子20を示している。図5Bは、リドロー後の細長いAgX粒子24を有するガラス物品20を示す。図5Cは、「光屈折性の曝露」後のパターンを有する、リドロー後のガラス物品20を示し、前記パターンを黒い太線26で示している。AgX粒子は図5Cには示していない。図5Dは、線26によって表される「光屈折性の曝露」後のパターン、およびH2処理後の偏光層28(斜線領域)を有するガラス物品20を示している。パターン線26は偏光した層(領域)28内に広がる。偏光しない層内のAgX粒子は図5Dには示されておらず、Ag0粒子は層28の斜線によって表されている。いかなる理論にも縛られるわけではないが、光屈折効果は、この時点では明確に理解されていない方式で、AgXに関係している。 5A-5D illustrate a glass article that has followed the above process. FIG. 5A shows a glass article or element 20 having AgX crystals 22 grown after a first heat treatment at 575-625 ° C. FIG. 5B shows the glass article 20 with elongated AgX particles 24 after redraw. FIG. 5C shows the glass article 20 after redrawing with a pattern after “photorefractive exposure”, which is indicated by a thick black line 26. AgX particles are not shown in FIG. 5C. FIG. 5D shows a glass article 20 having a pattern after “photorefractive exposure” represented by line 26 and a polarizing layer 28 (shaded area) after H 2 treatment. The pattern line 26 extends into the polarized layer (region) 28. AgX particles in the non-polarized layer are not shown in FIG. 5D, and Ag 0 particles are represented by diagonal lines in layer 28. Without being bound by any theory, the photorefractive effect is related to AgX in a way that is not clearly understood at this point.
本発明はまた、本発明に記載されるハロゲン化銀含有ガラス組成物で作られた、光屈折性かつ偏光性の光学素子または物品を対象とする。屈折率パターンは銀ハロゲン化物含有ガラス材料に形成され、その屈折率パターンは、屈折率の高い領域および屈折率の低い領域を含む。光学素子もまた、少なくとも1つの偏光層を有する。 The present invention is also directed to photorefractive and polarizing optical elements or articles made with the silver halide-containing glass compositions described in the present invention. The refractive index pattern is formed on a silver halide-containing glass material, and the refractive index pattern includes a region having a high refractive index and a region having a low refractive index. The optical element also has at least one polarizing layer.
さまざまな変更および変形が、本発明の精神または範囲を逸脱することなく、本発明になしうることは、当業者には明白であろう。したがって、本発明は、特許請求の範囲およびそれらの等価物の範囲内に含まれる本発明の変更および変形にも及ぶことが意図されている。 It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made to the present invention without departing from the spirit or scope of the invention. Thus, it is intended that the present invention cover modifications and variations of this invention that come within the scope of the following claims and their equivalents.
Claims (5)
(a)70〜73%のSiO2、13〜18%のB2O3、7〜10%のNa2O、2〜4%のAl2O3、0.005〜0.1%のCuO、<0.4%のCl、0.1〜0.5%のAg、および0.1〜0.3%のBrからなり、前記ガラスが0.3〜0.65の範囲のR値を有する組成物;および
(b)70〜73%のSiO2、13〜18%のB2O3、7〜10%のNa2O、2〜4%のAl2O3、0.005〜0.1%のCuO、<0.4%のCl、0.1〜0.5%のAg、>0〜<0.3%のアルカリ土類金属酸化物、および0.1〜0.3%のBrからなり、前記ガラスが0.3〜0.65の範囲のR値を有する組成物;
の群から選択され、
前記選択された組成物が、偏光性かつ光屈折性である物品または素子の製造に適している、組成物。 A glass composition of photorefractive and polarizing substantially, in weight percent:
(A) 70 to 73% of SiO 2, 13 to 18% of B 2 O 3, 7~10% of Na 2 O, 2~4% of Al 2 O 3, 0.005~0.1% of CuO , <0.4% Cl, 0.1 to 0.5% Ag, and 0.1 to 0.3% Br, wherein the glass has an R value in the range of 0.3 to 0.65 composition having; and (b) 70 to 73% of SiO 2, 13 to 18% of B 2 O 3, 7~10% of Na 2 O, 2~4% of Al 2 O 3, 0.005~0 0.1% CuO, <0.4% Cl, 0.1-0.5% Ag,> 0- <0.3% alkaline earth metal oxide, and 0.1-0.3% Wherein the glass has an R value in the range of 0.3 to 0.65;
Selected from the group of
A composition wherein the selected composition is suitable for the manufacture of an article or device that is polarizable and photorefractive.
(i)71.1±0.5%のSiO2、14.7±0.5%のB2O3、9.3±0.5%のNa2O、3±0.5%のAl2O3、0.005〜0.1%のCuO、<0.4%のCl、0.33±0.05%のAg、および0.1〜0.3%のBrからなり、前記ガラスが0.35〜0.60の範囲のR値を有する組成物;
(ii)71±1%のSiO2、15.5〜17.5%のB2O3、7〜9%のNa2O、3±0.5%のAl2O3、0.01±0.005%のCuO、<0.4%のCl、0.33±0.05%のAgおよび0.1〜0.3%のBrからなり、前記ガラスが0.35〜0.60の範囲のR値を有する組成物;
(iii)71.7±0.5%のSiO2、15.8〜17.2%のB2O3、7.2〜8.5%のNa2O、3±0.5%のAl2O3、0.01±0.005%のCuO、<0.4%のCl、0.33±0.05%のAg、および0.1〜0.3%のBrからなり、前記ガラスが0.35〜0.60の範囲のR値を有する組成物;
からなる群より選択されることを特徴とする請求項1記載の光屈折性かつ偏光性のガラス組成物。 Composition (a), substantially in weight percent:
(I) 71.1 ± 0.5% SiO 2 , 14.7 ± 0.5% B 2 O 3 , 9.3 ± 0.5% Na 2 O, 3 ± 0.5% Al 2 O 3 , 0.005 to 0.1% CuO, <0.4% Cl, 0.33 ± 0.05% Ag, and 0.1 to 0.3% Br. Having a R value in the range of 0.35 to 0.60;
(Ii) 71 ± 1% SiO 2 , 15.5-17.5% B 2 O 3 , 7-9% Na 2 O, 3 ± 0.5% Al 2 O 3 , 0.01 ± 0.005% CuO, <0.4% Cl, 0.33 ± 0.05% Ag and 0.1-0.3% Br, wherein the glass is 0.35-0.60 A composition having an R value in the range;
(Iii) 71.7 ± 0.5% SiO 2 , 15.8 to 17.2% B 2 O 3 , 7.2 to 8.5% Na 2 O, 3 ± 0.5% Al 2 O 3 , 0.01 ± 0.005% CuO, <0.4% Cl, 0.33 ± 0.05% Ag, and 0.1-0.3% Br. Having a R value in the range of 0.35 to 0.60;
2. The photorefractive and polarizing glass composition according to claim 1, wherein the glass composition is selected from the group consisting of:
(i)71±1%のSiO2、15.5〜17.5%のB2O3、7〜9%のNa2O、3±0.5%のAl2O3、0.01±0.005%のCuO、<0.4%のCl、0.33±0.05%のAg、>0〜<0.3%CaOおよび0.1〜0.3%のBrからなり、前記組成物が0.35〜0.60の範囲のR値を有する;
(ii)71.7±0.5%のSiO2、15.8〜17.2%のB2O3、7.2〜8.5%のNa2O、3±0.5%のAl2O3、0.01±0.005%のCuO、<0.4%のCl、0.33±0.05%のAg、>0〜<0.3%のCaOおよび0.1〜0.3%のBrからなり、前記組成物が0.35〜0.60の範囲のR値を有する;
組成物からなる群より選択されることを特徴とする請求項1記載の光屈折性かつ偏光性のガラス組成物。 Composition (b), substantially in weight percent:
(I) 71 ± 1% SiO 2 , 15.5-17.5% B 2 O 3 , 7-9% Na 2 O, 3 ± 0.5% Al 2 O 3 , 0.01 ± Consisting of 0.005% CuO, <0.4% Cl, 0.33 ± 0.05% Ag,> 0 <0.3% CaO and 0.1-0.3 % Br, The composition has an R value in the range of 0.35 to 0.60;
(Ii) 71.7 ± 0.5% SiO 2 , 15.8 to 17.2% B 2 O 3 , 7.2 to 8.5% Na 2 O, 3 ± 0.5% Al 2 O 3 , 0.01 ± 0.005% CuO, <0.4% Cl, 0.33 ± 0.05% Ag,> 0 <0.3% CaO and 0.1-0 .3% Br and the composition has an R value in the range of 0.35 to 0.60;
2. The photorefractive and polarizing glass composition according to claim 1, wherein the glass composition is selected from the group consisting of compositions.
光屈折性かつ偏光性の両方の特徴を有することができるガラス組成物を提供し、
前記ガラス組成物をリドローに適した形状へと成形し、
前記成形したガラスを、575〜725℃の範囲の温度で1〜4時間、第1の加熱処理に供し、ガラス中にハロゲン化銀粒子を形成し、
前記ガラスを、105Pa・s(106ポアズ)よりも大きいガラス粘度および24130kPa(3500psi)よりも大きい力を印加するのに十分な引張り速度を可能にするドロー温度でリドローして、前記ハロゲン化銀粒子を引き伸ばし、
前記リドローしたガラスを、190〜360nmの範囲で1分〜7時間、紫外線放射に曝露することによって、前記ガラス上に光屈折性の曝露を行い、
前記光屈折的に曝露したガラスを、400〜500℃の範囲の温度で1〜4時間、第2の加熱処理に供し、
前記ガラスの水素還元を、390〜450℃の範囲の温度で1〜6時間行い、それによって、偏光性かつ光屈折性のガラス物品を形成する、
各工程を有してなり、
前記水素還元した偏光層の厚さが40μm以下である、方法。 A method of producing a photorefractive and polarizing glass article or element comprising:
Providing a glass composition that can have both photorefractive and polarizing properties;
Forming the glass composition into a shape suitable for redrawing,
The molded glass is subjected to a first heat treatment at a temperature in the range of 575 to 725 ° C. for 1 to 4 hours to form silver halide grains in the glass,
The glass is redrawn at a draw temperature that allows a glass viscosity greater than 10 5 Pa · s (10 6 poise) and a pull rate sufficient to apply a force greater than 24,130 kPa (3500 psi), and the halogen Enlarge the silver halide grains,
Performing a photorefractive exposure on the glass by exposing the redrawn glass to ultraviolet radiation in the range of 190 to 360 nm for 1 minute to 7 hours;
The photorefractive exposed glass is subjected to a second heat treatment at a temperature in the range of 400-500 ° C. for 1-4 hours,
Performing hydrogen reduction of the glass at a temperature in the range of 390 to 450 ° C. for 1 to 6 hours, thereby forming a polarizing and photorefractive glass article;
Having each process,
The method wherein the thickness of the hydrogen-reduced polarizing layer is 40 μm or less.
(a)70〜73%のSiO2、13〜18%のB2O3、7〜10%のNa2O、2〜4%のAl2O3、0.005〜0.1%のCuO、<0.4%のCl、0.1〜0.5%のAg、および0.1〜0.3%のBrからなり、0.3〜0.65の範囲のR値を有する組成物、
(b)71.1±0.5%のSiO2、14.7±0.5%のB2O3、9.3±0.5%のNa2O、3±0.5%のAl2O3、0.005〜0.1%のCuO、<0.4%のCl、0.33±0.05%のAg、および0.1〜0.3%のBrからなり、0.35〜0.6の範囲のR値を有する組成物、
(c)70〜73%のSiO2、13〜18%のB2O3、8〜10%のNa2O、2〜4%のAl2O3、0.005〜0.1%のCuO、<0.4%のCl、0.1〜0.5%のAg、>0〜<0.3アルカリ土類金属酸化物、および0.1〜0.3%のBrからなり、0.3〜0.65の範囲のR値を有する組成物、
(d)71±1%のSiO2、15.5〜17.5%のB2O3、7〜9%のNa2O、3±0.5%のAl2O3、0.01±0.005%のCuO、<0.4%のCl、0.33±0.05%のAg、>0〜<0.3 CaO酸化物および0.1〜0.3%のBrからなり、0.35〜0.6の範囲のR値を有する組成物、
(e)71.7±0.5%のSiO2、15.8〜17.2%のB2O3、7.2〜8.5%のNa2O、3±0.5%のAl2O3、0.01±0.005%のCuO、<0.4%のCl、0.33±0.05%のAg、>0〜<0.3 CaO酸化物、および0.1〜0.3%のBrからなり、0.35〜0.6の範囲のR値を有する組成物、
からなる群より選択されるガラス組成物を提供することを特徴とする請求項4記載の方法。 Providing a glass composition having both photorefractive and polarizable characteristics, substantially in weight percent:
(A) 70 to 73% of SiO 2, 13 to 18% of B 2 O 3, 7~10% of Na 2 O, 2~4% of Al 2 O 3, 0.005~0.1% of CuO , <0.4% Cl, 0.1 to 0.5% Ag, and 0.1 to 0.3% Br and having an R value in the range of 0.3 to 0.65 ,
(B) 71.1 ± 0.5% SiO 2 , 14.7 ± 0.5% B 2 O 3 , 9.3 ± 0.5% Na 2 O, 3 ± 0.5% Al 2 O 3 , 0.005 to 0.1% CuO, <0.4% Cl, 0.33 ± 0.05% Ag, and 0.1 to 0.3% Br. A composition having an R value in the range of 35 to 0.6;
(C) 70 to 73% of SiO 2, 13 to 18% of B 2 O 3, 8~10% of Na 2 O, 2~4% of Al 2 O 3, 0.005~0.1% of CuO , <0.4% Cl, 0.1 to 0.5% Ag,> 0 to <0.3 alkaline earth metal oxide, and 0.1 to 0.3% Br. A composition having an R value in the range of 3 to 0.65;
(D) 71 ± 1% SiO 2 , 15.5-17.5% B 2 O 3 , 7-9% Na 2 O, 3 ± 0.5% Al 2 O 3 , 0.01 ± Consisting of 0.005% CuO, <0.4% Cl, 0.33 ± 0.05% Ag,> 0 <0.3 CaO oxide and 0.1-0.3 % Br, A composition having an R value in the range of 0.35 to 0.6;
(E) 71.7 ± 0.5% SiO 2 , 15.8-17.2% B 2 O 3 , 7.2-8.5% Na 2 O, 3 ± 0.5% Al 2 O 3 , 0.01 ± 0.005% CuO, <0.4% Cl, 0.33 ± 0.05% Ag,> 0 <0.3 CaO oxide, and 0.1 A composition comprising 0.3% Br and having an R value in the range of 0.35 to 0.6;
5. The method of claim 4, wherein a glass composition selected from the group consisting of:
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Families Citing this family (9)
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Family Cites Families (60)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US2319816A (en) * | 1938-10-29 | 1943-05-25 | Polaroid Corp | Light polarizer and process of manufacture |
US3540793A (en) * | 1968-07-03 | 1970-11-17 | Corning Glass Works | Photochromic polarizing glasses |
US3653863A (en) * | 1968-07-03 | 1972-04-04 | Corning Glass Works | Method of forming photochromic polarizing glasses |
US3978272A (en) * | 1974-03-13 | 1976-08-31 | Ppg Industries, Inc. | Coated article for solar control and process for its production |
SE402097B (en) * | 1974-03-28 | 1978-06-19 | Magnesital Feuerfest Gmbh | PULP FOR GUTTER AND SMOKE CHANNELS |
US3954485A (en) * | 1974-09-16 | 1976-05-04 | Corning Glass Works | Silver-free polarizing photochromic glasses |
US4188214A (en) * | 1975-08-11 | 1980-02-12 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Recording material |
US4017318A (en) * | 1976-01-02 | 1977-04-12 | Corning Glass Works | Photosensitive colored glasses |
US4125405A (en) * | 1976-11-05 | 1978-11-14 | Corning Glass Works | Colored, dichroic, birefringent glass articles produced by optical alteration of additively-colored glasses containing silver and silver halides |
US4125404A (en) * | 1976-11-05 | 1978-11-14 | Corning Glass Works | Photochromic glasses exhibiting dichroism, birefringence and color adaptation |
US4118214A (en) * | 1977-06-22 | 1978-10-03 | Corning Glass Works | Treating polychromatic glass in reducing atmospheres |
US4282022A (en) * | 1980-04-28 | 1981-08-04 | Corning Glass Works | Method for making polarizing glasses through extrusion |
US4304584A (en) * | 1980-04-28 | 1981-12-08 | Corning Glass Works | Method for making polarizing glasses by extrusion |
US4479819A (en) * | 1982-09-29 | 1984-10-30 | Corning Glass Works | Infrared polarizing glasses |
US5396368A (en) * | 1985-01-14 | 1995-03-07 | Rockwell International Corporation | Flexible rejection filter (U) |
US4792535A (en) * | 1987-09-02 | 1988-12-20 | Corning Glass Works | UV-transmitting glasses |
DE3801840A1 (en) * | 1988-01-20 | 1989-08-03 | Schott Glaswerke | UV-transparent glass |
FR2634752B1 (en) * | 1988-07-29 | 1992-09-18 | Corning France | PHOTOCHROMIC LENSES WITH HIGH REFRACTION INDEX |
US4908054A (en) * | 1989-02-21 | 1990-03-13 | Corning Incorporated | Method for making infrared polarizing glasses |
US4979975A (en) * | 1989-08-07 | 1990-12-25 | Corning Incorporated | Fast response photosensitive opal glasses |
US5184323A (en) * | 1990-03-09 | 1993-02-02 | Eastman Kodak Company | Photorefractive device and process for its use |
US5115336A (en) * | 1990-03-09 | 1992-05-19 | Eastman Kodak Company | Photorefractive system and process for its use |
US5217846A (en) * | 1991-06-11 | 1993-06-08 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photobleachable initiator systems |
EP0518019A1 (en) * | 1991-06-13 | 1992-12-16 | Corning Incorporated | Birefringent glass waveplate |
US6313947B1 (en) * | 1991-10-14 | 2001-11-06 | Hoya Corporation | Light polarizing glass containing copper particles and process for preparation thereof |
US5281562A (en) * | 1992-07-21 | 1994-01-25 | Corning Incorporated | Ultraviolet absorbing glasses |
US5275979A (en) * | 1992-10-30 | 1994-01-04 | Corning Incorporated | Colored glasses and method |
FR2701020B1 (en) * | 1993-02-01 | 1995-04-21 | Corning Inc | Photochromic lenses that darken to a pink tint. |
GB2279850B (en) * | 1993-06-02 | 1998-01-28 | Vtech Communications Ltd | Interface protocol method and apparatus |
US5625427A (en) * | 1993-12-15 | 1997-04-29 | Corning Incorporated | Ophthalmic lens |
US5430573A (en) * | 1993-12-15 | 1995-07-04 | Corning Incorporated | UV-absorbing, polarizing glass article |
US5517356A (en) * | 1993-12-15 | 1996-05-14 | Corning Incorporated | Glass polarizer for visible light |
US5540745A (en) * | 1994-11-07 | 1996-07-30 | Corning Incorporated | Glasses for laser protection |
US5534041A (en) * | 1994-11-07 | 1996-07-09 | Corning Incorporated | Method of making laser eyewear protection |
EP0719741B1 (en) | 1994-12-27 | 1998-05-27 | Hoya Corporation | Process for the production of polarizing glass |
DK1007999T3 (en) * | 1997-02-13 | 2008-04-21 | Koheras As | Polarization symmetric, active, optical waveguide, process for its preparation and its applications |
US6298691B1 (en) * | 1997-04-24 | 2001-10-09 | Corning Incorporated | Method of making glass having polarizing and non-polarizing regions |
US6912087B1 (en) * | 1998-05-14 | 2005-06-28 | Corning Incorporated | Ultra-thin glass polarizers and method of making same |
US6536236B2 (en) * | 1999-03-23 | 2003-03-25 | Corning, Incorporated | Method of making a polarizing glass |
US6466297B1 (en) * | 1999-07-02 | 2002-10-15 | Merck Patent Geselleschaft Mit Beschrankter Haftung | Method of preparing a broadband reflective polarizer |
US6673497B2 (en) * | 2000-01-04 | 2004-01-06 | University Of Central Florida | High efficiency volume diffractive elements in photo-thermo-refractive glass |
US6596201B1 (en) * | 2000-06-30 | 2003-07-22 | Corning Incorporated | Patterning an optical property on an optical element |
KR20040004389A (en) * | 2000-10-03 | 2004-01-13 | 코닝 인코포레이티드 | Photolithography methods and systems |
AU2002222583B2 (en) * | 2000-12-11 | 2006-06-15 | Jsr Corporation | Radiation-sensitive composition changing in refractive index and method of changing refractive index |
JP3896584B2 (en) * | 2000-12-11 | 2007-03-22 | Jsr株式会社 | Radiation sensitive refractive index changing composition and refractive index changing method |
US20030049551A1 (en) * | 2001-09-07 | 2003-03-13 | Xerox Corporation | Blue diode laser sensitive photoreceptor |
JP3549198B2 (en) * | 2001-09-21 | 2004-08-04 | Hoya株式会社 | Polarizing glass and manufacturing method thereof |
EP1456601A1 (en) * | 2001-11-27 | 2004-09-15 | Oy Optoinspection Ltd. | Detection of transient phase shifts in any optical wave front with photorefractive crystal and polarized beams |
US6563639B1 (en) * | 2002-01-24 | 2003-05-13 | Corning Incorporated | Polarizing glasses |
US20060142413A1 (en) * | 2003-02-25 | 2006-06-29 | Jose Zimmer | Antimicrobial active borosilicate glass |
DE102004007436B4 (en) * | 2004-02-16 | 2017-11-16 | Schott Ag | Use of a B2O3-free crystallization-stable aluminosilicate glass and its preparation |
JP3952034B2 (en) * | 2004-04-14 | 2007-08-01 | 富士ゼロックス株式会社 | Hologram recording method, hologram recording apparatus, hologram reproducing method, hologram reproducing apparatus, and information holding body |
JP2006023670A (en) * | 2004-07-09 | 2006-01-26 | Fuji Xerox Co Ltd | Hologram recording method, optical recording medium and hologram recording apparatus |
US7388100B2 (en) * | 2004-07-16 | 2008-06-17 | Tetsuya Nishio | Tertiary amine compounds |
DE102005005994B4 (en) * | 2005-02-09 | 2009-05-07 | Schott Ag | Lead- and arsenic-free optical heavy-duty glasses |
WO2007070080A2 (en) * | 2005-05-04 | 2007-06-21 | Brandt Innovative Technologies, Inc. | Method and apparatus of detecting an object |
JP2006313343A (en) * | 2005-05-04 | 2006-11-16 | Arisawa Mfg Co Ltd | Polarized glass and method for manufacturing same |
US7468148B2 (en) * | 2005-10-24 | 2008-12-23 | Corning Incorporated | Visible polarizing glass and process |
US7618908B2 (en) * | 2005-12-20 | 2009-11-17 | Corning Incorporated | Visible light optical polarizer made from stretched H2-treated glass |
US20080130171A1 (en) * | 2006-11-30 | 2008-06-05 | Francis Martin Behan | Calcium aluminosilicate glasses for use as information recording medium substrates |
-
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