JP2011258851A - 発光素子基板およびその製法 - Google Patents
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Abstract
【課題】発光素子の周囲に設けられる撥液性の環状被膜を、一度に素早く形成することにより、その生産性を向上させることのできる発光素子基板およびその製法を提供する。
【解決手段】本発明の発光素子基板の製法は、フッ素を含有する撥液インクを、その表面に所定のパターンのインク保持部が形成されたフレキソ印刷版に保持させる工程と、このフレキソ印刷版に基板10を密着させ、上記インク保持部に保持された撥液インクを、発光素子3が配置される予定位置の周囲に転写する工程と、転写後の撥液インクの溶媒を蒸発させ、基板10の表面に、撥液性の環状被膜2を形成する工程と、基板10上の予定位置に発光素子3を配置して電気的に接続した後、この発光素子3の上方から所定量の封止用樹脂を滴下して、上記環状被膜2の内側に、この発光素子3を覆うドーム形の封止部4を形成する工程と、を備える。
【選択図】図2
【解決手段】本発明の発光素子基板の製法は、フッ素を含有する撥液インクを、その表面に所定のパターンのインク保持部が形成されたフレキソ印刷版に保持させる工程と、このフレキソ印刷版に基板10を密着させ、上記インク保持部に保持された撥液インクを、発光素子3が配置される予定位置の周囲に転写する工程と、転写後の撥液インクの溶媒を蒸発させ、基板10の表面に、撥液性の環状被膜2を形成する工程と、基板10上の予定位置に発光素子3を配置して電気的に接続した後、この発光素子3の上方から所定量の封止用樹脂を滴下して、上記環状被膜2の内側に、この発光素子3を覆うドーム形の封止部4を形成する工程と、を備える。
【選択図】図2
Description
本発明は、基板上に実装した発光素子を樹脂で封止した発光素子基板およびその製法に関するものである。
従来、機器の省エネルギー化のために、液晶TV,液晶ディスプレイ,液晶モニタ等の液晶表示パネル(以下、LCDパネル)の光源として、発光ダイオード(Light Emitting Diode:以下、LED)等の発光体を用いたバックライト(平面発光装置)が使用されている(例えば、特許文献1参照。)。
このバックライトは、近年、液晶TV等の大形化に伴い、平面状の基板上に多数の発光素子(ベアチップ)を並べて配置し、これら発光素子をワイヤボンディング等を用いて電気的に接続した後、各発光素子の上を樹脂で封止して、LED基板等の「発光素子基板」としてユニット化あるいはモジュール化したものを、縦横に複数組み合わせて使用することが増えている。
このような発光素子基板を製造する過程において、基板上に配置された各発光素子の上を樹脂で封止して封止部を形成する際は、シリンジ,ディスペンサ等を用いて封止用の樹脂を滴下供給(ポッティング)し、この封止部に光を上方に導くレンズ効果を付与するために、上記封止用樹脂の外形を、盾状あるいは略半球状等のドーム形に形成することが行われる(特許文献2参照)。
また、上記封止用樹脂を滴下する前には、基板上に配置された各発光素子の周囲に、予め、撥水,撥油性等を備える撥液インクを、上記ディスペンサ等を用いて、所要幅を有する環状(円状,楕円状や角の丸い方形状等、周方向に途切れのない帯状)に塗布し、これを乾燥させて撥液性の被膜を形成する(特許文献3参照)。
そして、上記封止用樹脂を滴下する際には、この環状被膜の撥液作用を、液体をせき止める堰あるいは堤として利用して、その内側の基板上(発光素子の上)に、封止用樹脂を上記のようなドーム形に盛り上げることが行われている(特許文献4参照)。
ところで、LCDパネル用のバックライトは、LCDパネルの利用範囲の拡大と大形化に伴い、その需要が急激に拡大しており、このバックライトに使用される上記発光素子基板も、その生産性の向上とコストダウンが急務とされる。
しかしながら、上記のように、従来の発光素子基板は、発光素子の周囲に設けられる撥液性の環状被膜を、ディスペンサ等により一つ一つ描いて形成しているため、この環状被膜形成工程の効率が上がらず、その改善が望まれている。
本発明は、このような事情に鑑みなされたもので、発光素子の周囲に設けられる撥液性の環状被膜を、一度に素早く形成することにより、その生産性を向上させることのできる発光素子基板およびその製法の提供を目的とする。
上記の目的を達成するため、本発明は、基板上に配置された発光素子の周囲に、フレキソ印刷により形成された撥液性の環状被膜が設けられ、この環状被膜の内側に、基板上面から滴下された封止用樹脂からなるドーム形の封止部が、上記発光素子を被覆した状態で形成されている発光素子基板を第1の要旨とする。
また、本発明は、フッ素を含有する撥液インクを、その表面に所定のパターンのインク保持部が形成されたフレキソ印刷版に保持させる工程と、このフレキソ印刷版に基板を密着させ、上記インク保持部に保持された撥液インクを、発光素子が配置される予定位置の周囲の所定位置に転写する工程と、上記転写後の撥液インクの溶媒を蒸発させ、上記基板の表面に、撥液性の環状被膜を形成する工程と、上記基板上の予定位置に発光素子を配置して電気的に接続した後、この発光素子の上方から所定量の封止用樹脂を滴下して、上記環状被膜の内側に、この発光素子を覆うドーム形の封止部を形成する工程と、を備える発光素子基板の製法を第2の要旨とする。
すなわち、本発明者は、前記課題を解決するため鋭意研究を重ね、その結果、撥水,撥油性等を備える撥液インクを用いて、フレキソ印刷法により基板の表面上に薄膜状の環状被膜を形成することによって、発光素子基板の製造過程における上記環状被膜形成工程の加工効率を、大幅に向上させることができることを見出し、本発明に到達した。
本発明は、以上のような知見にもとづきなされたものであり、本発明の発光素子基板は、基板上に配置された発光素子の周囲に、フレキソ印刷により形成された撥液性の環状被膜が設けられている。そのため、この発光素子基板は、封止用樹脂からなるドーム形の封止部の形成に必要な上記環状被膜が、一度に全部形成(塗布)され、従来のようにディスペンサ等を用いた場合に比べ、その加工に要する時間を大幅に短縮することができる。さらに、この環状被膜は、上記ディスペンサ等を用いて形成された被膜より薄くかつ均一で、それに用いる撥液インクの使用量も低減される。したがって、本発明の発光素子基板は、効率よくかつ安価に形成することが可能になる。
そして、上記環状被膜の膜厚が、1〜1000nmになっている発光素子基板は、上記封止用樹脂がこの環状被膜の外へ漏れ出ないようにする作用を維持しつつ、撥液インクの使用量を抑えることができる。
また、本発明の発光素子基板の製法によれば、フレキソ印刷により、基板上における発光素子が配置される予定位置の周囲の所定位置に、撥液性の環状被膜を形成するための各工程と、上記基板上に搭載された発光素子の上方から所定量の封止用樹脂を滴下して、上記環状被膜の内側に、この発光素子を覆うドーム形の封止部を形成する工程と、を備えている。これにより、上記発光素子基板の製法は、従来のディスペンサ等を用いて環状被膜を形成する方法に比べ、短時間で安価に発光素子基板を製造することができる。
そして、上記フレキソ印刷版のショアA硬度が、30〜65°の範囲内に設定されている場合は、発光素子基板の基材として好適に採用されるセラミック製基板等に対し、印刷に適した硬度となる。これにより、発光素子基板の製法は、高精細で鮮明なパターンの印刷(塗布)を長い間続けることが可能になる。また、その結果、上記フレキソ印刷版の印刷耐久性(耐刷性)が向上し、その寿命を延ばすことができるとともに、工程のコストダウンも可能になる。
つぎに、本発明の実施の形態を、図面にもとづいて詳しく説明する。
本実施形態における発光素子基板(LED基板)は、液晶TV等のLCDパネルのバックライト装置として用いられるものであり、図1に示すように、セラミックやガラス等からなる平板状の基板10の表面(上面)に、整列した状態で電極1が多数列設けられ、各電極1の上に、LED素子3(ベアチップ)が実装されている。また、これら各LED素子3の上には、これらを覆うドーム形の樹脂製封止部4が設けられ、LED基板の各発光部5が形成されている。このLED基板の特徴は、上記各ドーム形の各封止部4が、フレキソ印刷により形成された撥液性の環状被膜2の内側に、封止用の樹脂を盛り上げるようにして形成されている点である。
図2は、上記LED基板の製法を、1つの発光部5を例にとって説明する説明図であり、図中の左側列は発光部5周辺の要部拡大断面を、右側列は上記発光部5を上面から見た状態を示す。
上記LED基板の発光部5の作製は、まず、図2(a)のように、例えばセラミック製の平板状の基板10の上に、LED素子3を載置(実装)するための電極1(バンプ)を、エッチング等により形成する。そして、図2(b)に示すように、LED素子3を実装する予定位置(上記電極1の形成位置)の周囲に、フレキソ印刷により撥液インク(2)を塗布(印刷)して乾燥させ、撥液性の環状被膜2を形成する。ついで、図2(c)のように、上記電極1の上に、LED素子3を載置して電気的に接続(実装)し、その後、図2(d)に示すように、上記環状被膜2の内側に、シリンジやディスペンサ等を用いて封止用の樹脂(4)を所定量滴下供給して硬化させ、ドーム形の封止部4を形成する。
上記LED基板の製法について、詳細に説明する。
まず、上記電極1の作製は、基板10上に、蒸着,エッチング等により、電極材料となる金属を、LED素子3を載置する予定の位置に、正極と負極が対になった形で成形する〔図2(a)参照〕。この電極1の回路パターンは、蒸着前に基板10上の不要な部分を予め樹脂等によりマスキングしておく方法、あるいは、基板10上に形成した金属薄膜(箔)等の必要部分をマスキングし、他の不要部分をエッチング等により取り除く方法などを用いて形成することができる。
まず、上記電極1の作製は、基板10上に、蒸着,エッチング等により、電極材料となる金属を、LED素子3を載置する予定の位置に、正極と負極が対になった形で成形する〔図2(a)参照〕。この電極1の回路パターンは、蒸着前に基板10上の不要な部分を予め樹脂等によりマスキングしておく方法、あるいは、基板10上に形成した金属薄膜(箔)等の必要部分をマスキングし、他の不要部分をエッチング等により取り除く方法などを用いて形成することができる。
具体的には、金電極(金バンプ電極)を形成する場合、基板10上に真空蒸着等により金の薄膜を形成し、その上に、感光性樹脂(フォトレジスト)を塗布した後、露光,現像して、所定の回路パターンのレジスト膜を形成する。そして、金エッチング液(よう素系液等)を用いて、上記回路パターン以外の領域の金薄膜を溶解させた後、上記レジスト膜を除去することにより、所定回路パターンの電極1を得ることができる。
ついで、上記電極1の周囲に、フレキソ印刷機を用いて、撥液インクを、所定の環状パターンに塗布する。図3は、このLED基板に撥液インクを塗布するためのフレキソ印刷機の概略構成図であり、図4は、このフレキソ印刷に用いられるフレキソ印刷版のインク保持部のパターンを模式的に表した図である。なお、図3中の符号11は印刷版、12は版胴、13はアニロックスロール、14は移動ステージ、15はスキージ、16はインクタンクを示す。
上記フレキソ印刷機を用いた撥液インクの塗布は、図3に示すように、上記撥液インクを、その表面に所定のパターンのインク保持部が形成されたフレキソ印刷版11に保持させる工程と、このフレキソ印刷版11に基板10を密着させ、上記インク保持部に保持された撥液インクを、電極1の周囲の所定位置に転写する工程と、を含む。
使用する撥液インクとしては、フッ素を含有する撥液インク、例えばシリコーン樹脂(メチルシロキサン等)を主成分とし、溶媒として炭化水素系フッ素化合物を用いた撥液インク(粘度0.5〜1000mPa・s)が好適に採用される。上記溶媒には、フッ素系溶剤,シリコーン系溶剤,アルコール系溶剤,エーテル系溶剤,グリコールエーテル系溶剤等が含まれていてもよい。
また、用いるフレキソ印刷版11は、上記フッ素系撥液インクの溶媒(炭化水素系フッ素化合物)に対する耐膨潤性を考慮して、ウレタン系アクリレートのプレポリマーと、アクリレートオリゴマーと、アクリレートモノマー,光重合禁止剤,光重合開始剤等の混合物(感光性樹脂組成物)から構成され、そのショアA硬度は、30〜65°の範囲内に設定されている。
なお、上記フレキソ印刷版11のショアA硬度が30°未満の場合は、版が上記セラミック製基板10に対して柔らか過ぎて短時間ですり減ってしまい、高精細な印刷を維持できない傾向がみられる。また、逆に、フレキソ印刷版のショアA硬度が65°を超えた場合は、上記セラミック製基板10の表面や、その表面に形成された電極や配線等を傷つけてしまう傾向がみられる。
また、上記フレキソ印刷版11は、上記撥液インクの溶媒に対する膨潤度が低いほど好ましく、例えば、上記炭化水素系フッ素化合物に対する膨潤率(体積変化率)が0.5〜10%であることが望ましい。そのため、上記フレキソ印刷版11を構成するウレタン系アクリレートに、ポリエステル骨格,ポリブタジエン骨格,ポリエーテル骨格,ポリビニルアルコール骨格,カルボニル骨格等を有するものを用いてもよい。
そして、上記フレキソ印刷版11の表面(インク保持面)には、図4に例示するように、基板10上の電極1に対応する位置の周囲に、所定パターン(一定幅の帯状)の微細な凹凸が形成されており、これらの凸部の間に形成された凹部(インク保持部)に、上記撥液インクが保持されるようになっている。なお、このインク保持部に保持される単位面積あたりのインク保持量は、約0.05〜50ml/m2に設定されている。
上記のような構造のフレキソ印刷版11を用いた環状被膜2の塗布形成方法は、基本的には、通常のフレキソ印刷と同様の手順で行われる。まず、インクタンク16から供給された撥液インクを、アニロックスロール13を介してフレキソ印刷版11に供給し、このフレキソ印刷版11の表面に形成された所定環状パターンのインク保持部に、所定量の撥液インクを保持させる(インク保持工程)。
つぎに、このフレキソ印刷版11を版胴12とともに回転させつつ、移動ステージ14上に載置された基板(電極1が形成済みの基板10)を同期して移動させ、この基板10を上記フレキソ印刷版11に密着(キスタッチ)させることにより、上記インク保持部保持された撥液インクが、所要量この基板10上の所定位置(上記電極1の周囲)に転写される(インク転写工程)。
その後、上記撥液インクが転写された後の基板10を、オーブン等により加熱して、このインク中の溶剤等を蒸発させることにより、図2(b)のように、電極1の周囲に撥液性を有する環状被膜2が形成された基板10を得る。なお、形成された環状被膜2の好適な膜厚は、1〜1000nmである。
つぎに、図2(c)のように、その周囲に上記環状被膜2が形成された電極1の上に、はんだペースト等の導電性接着剤(図示せず)を介してLED素子3を接着(ダイボンド)し、電気的に接続する。なお、本実施形態においては、LED素子3が電極1に直接接触するバンプ接続の例を示したが、これらLED素子3の実装方法は、ワイヤボンディング等、その他の実装方法を用いてもよい。
その後、LED素子3の上(環状被膜2の内側)に、シリンジやディスペンサ等を用いて、封止用の樹脂を所定量、滴下供給する。このとき、先に述べたように、LED素子3の周囲に、上記撥液性を有する環状被膜2が、周方向に途切れのなく形成されているため、この環状被膜2が、上記封止用樹脂の広がり(漏れ出し)を抑える阻止帯(堰あるいは堤)として機能し、図2(d)のように、この封止用樹脂を、その表面張力を利用してドーム状に盛り上げることが可能になる。そして、その状態で上記封止用樹脂を、加熱または紫外線照射等により硬化させ、ドーム形の封止部4を有するLED基板を得る。
このように、本実施形態のLED基板は、基板10上に配置されたLED素子3の周囲に、フレキソ印刷により形成された撥液性の環状被膜2が設けられていることから、ドーム形の封止部4の形成(盛り上げ)に必要な上記環状被膜2が、図3のように、ワンパスで一度に全部塗布される。そのため、従来のようにディスペンサ等を用いた場合に比べ、その加工に要する時間を大幅に短縮することができる。
さらに、このLED基板は、上記環状被膜2が、上記ディスペンサ等を用いて形成された被膜より薄くかつ均一で、その膜厚が1〜1000nmに制御されている。そのため、これに用いる撥液インクの使用量も低減することができる。なお、上記環状被膜2の膜厚が1nm未満の場合は、均一で平滑な撥液性被膜を形成できず、上記封止用樹脂がこの被膜2を乗り越えて外へ流出してしまう傾向がみられる。逆に、環状被膜2の膜厚が1000nmを超えても、上記封止用樹脂をせき止める作用の増大は見込めず、そのコストが嵩んでしまう傾向がみられる。
また、上記LED基板の製法においては、それに使用するフレキソ印刷版11が、ウレタン系アクリレートのプレポリマーと、アクリレートオリゴマーと、アクリレートモノマー,光重合禁止剤,光重合開始剤からなる感光性樹脂組成物から形成されているため、上記フッ素を含有する撥液インクを使用して印刷しても、この撥液インクに用いられている溶剤に対する印刷版の耐性(耐膨潤性)が高く、精細なパターンの環状被膜2を、長期にわたり鮮明に印刷塗布することができる。
そして、上記フレキソ印刷版11が、そのショアA硬度が30〜65°の範囲内に設定されていることから、上記LED基板に好適に採用されるセラミック製基板10に対し、高い印刷耐久性(耐刷性)を発揮することができると同時に、その基板10上に形成された電極1や配線等を傷つけてしまうことがない。したがって、本実施形態におけるLED基板の製法は、そのフレキソ印刷版11の寿命が向上するとともに、製造するLED基板の品質および歩留りを向上させることができる。
なお、上記フレキソ印刷版11を構成するウレタン系アクリレートとしては、ポリエステル骨格を有するものが好ましい。
また、上記実施形態においては、基板10上に実装される発光素子としてLEDを用いた例を説明したが、この発光素子としては、例えばEL,有機EL等のその他の発光素子を使用してもよい。
つぎに、実施例について説明する。ただし、本発明は、以下の実施例に限定されるものではない。
この実施例においては、上記発光素子基板(LED基板)の製法において、電極1の周囲に形成される環状被膜2を、上記フレキソ印刷機を用いて塗布した場合の生産効率と、この環状被膜2を、従来のようにディスペンサ等を用いて塗布した場合の生産効率とを比較した。
LED基板に使用した基板と、撥液インクは以下のとおりである。
〔基板〕
セラミック板 70mm×70mm角 厚さ:0.7mm
〔撥液インク〕
フッ素系撥液インク
固形分:メチルシロキサン(3〜30wt%)
溶媒(希釈剤):炭化水素系フッ素化合物
粘度:0.5〜1000mPa・s
〔基板〕
セラミック板 70mm×70mm角 厚さ:0.7mm
〔撥液インク〕
フッ素系撥液インク
固形分:メチルシロキサン(3〜30wt%)
溶媒(希釈剤):炭化水素系フッ素化合物
粘度:0.5〜1000mPa・s
また、撥液インクの印刷(塗布)に用いたフレキソ印刷版とフレキソ印刷機等の仕様は、以下のとおりである。
〔フレキソ印刷機〕
MTテック社製 FC−33S
〔フレキソ印刷版〕
フレキソ印刷版は、ウレタン系アクリレートのプレポリマーと、アクリレートオリゴマーと、アクリレートモノマー,光重合禁止剤,光重合開始剤を混合した感光性樹脂組成物を、ネガフィルムを通した紫外線照射により硬化させ、成形した凸印刷版である。
コムラテック社製フレキソ印刷版
版厚さ−2.8mm 600線/inch 開口率0〜40%
硬度:30〜65°(ショアA硬度)
インク溶剤に対する膨潤率:0.5〜10%(重量変化率)
インク保持部のインク保持量:2ml/m2(調整幅:0.1〜30ml/m2)
塗布パターン(インク保持部のパターンは図4を参照)
基板上の撥液インク塗布必要個所:200〜600個所
撥液インクの塗布パターン(1箇所あたり):円形1.5mmφ(線幅0.1mm)
〔アニロックスロール〕
400線/inch(150〜600線/inch)
セル容量(セル容積):2ml/m2(調整幅:0.3〜30ml/m2)
〔フレキソ印刷機〕
MTテック社製 FC−33S
〔フレキソ印刷版〕
フレキソ印刷版は、ウレタン系アクリレートのプレポリマーと、アクリレートオリゴマーと、アクリレートモノマー,光重合禁止剤,光重合開始剤を混合した感光性樹脂組成物を、ネガフィルムを通した紫外線照射により硬化させ、成形した凸印刷版である。
コムラテック社製フレキソ印刷版
版厚さ−2.8mm 600線/inch 開口率0〜40%
硬度:30〜65°(ショアA硬度)
インク溶剤に対する膨潤率:0.5〜10%(重量変化率)
インク保持部のインク保持量:2ml/m2(調整幅:0.1〜30ml/m2)
塗布パターン(インク保持部のパターンは図4を参照)
基板上の撥液インク塗布必要個所:200〜600個所
撥液インクの塗布パターン(1箇所あたり):円形1.5mmφ(線幅0.1mm)
〔アニロックスロール〕
400線/inch(150〜600線/inch)
セル容量(セル容積):2ml/m2(調整幅:0.3〜30ml/m2)
上記撥液インクの印刷(塗布)は、以下の条件で行った(フレキソ印刷機の概略構成は図3を参照)。
〔フレキソ印刷条件〕
印刷速度(印刷ステージ移動量):25m/分(調整幅:5〜30m/分)
アニロックスロール速度:120rpm
アニロックスロール−印刷版間 ニップ幅:6〜7mm(調整幅:1〜15mm)
印刷版−基板間 ニップ幅:8〜9mm(調整幅:1〜20mm)
印刷チャンバーの環境(室温下 雰囲気)
〔印刷後の乾燥条件〕
温度:50〜100℃ 時間:5秒〜1分
〔フレキソ印刷条件〕
印刷速度(印刷ステージ移動量):25m/分(調整幅:5〜30m/分)
アニロックスロール速度:120rpm
アニロックスロール−印刷版間 ニップ幅:6〜7mm(調整幅:1〜15mm)
印刷版−基板間 ニップ幅:8〜9mm(調整幅:1〜20mm)
印刷チャンバーの環境(室温下 雰囲気)
〔印刷後の乾燥条件〕
温度:50〜100℃ 時間:5秒〜1分
上記の加工条件にて、基板上に撥液インクの塗布を行ったところ、上記のような「1枚あたりの撥液インクの塗布必要個所が400個所のLED基板」を、24時間あたり8000枚処理できた。これは、従来のようにディスペンサを用いて撥液インクを塗布した場合(24時間あたりの処理枚数:4000枚)に比べ、2倍の効率アップに相当する。
また、上記フレキソ印刷版は、そのショアA硬度を、上記セラミック基板に対して最適な30〜65°に設定したことから、印刷パターンが崩れず高精細な模様を印刷できる状態を、上記基板を4000回(枚)印刷する間、維持することができた。しかも、塗布された撥液性被膜の平均膜厚は、0.03nmであり、使用する撥液インクの量を、上記ディスペンサ等を用いて塗布した場合に比べ、5〜30wt%低減できた。
本発明の発光素子基板およびその製法によれば、基板上に実装した発光素子を樹脂で封止する発光素子基板を、効率的にかつ安価に製造することができる。
2 環状被膜
3 LED素子
4 封止部
3 LED素子
4 封止部
Claims (4)
- 基板上に配置された発光素子の周囲に、フレキソ印刷により形成された撥液性の環状被膜が設けられ、この環状被膜の内側に、基板上面から滴下された封止用樹脂からなるドーム形の封止部が、上記発光素子を被覆した状態で形成されていることを特徴とする発光素子基板。
- 上記環状被膜の膜厚が、1〜1000nmになっている請求項1記載の発光素子基板。
- フッ素を含有する撥液インクを、その表面に所定のパターンのインク保持部が形成されたフレキソ印刷版に保持させる工程と、このフレキソ印刷版に基板を密着させ、上記インク保持部に保持された撥液インクを、発光素子が配置される予定位置の周囲の所定位置に転写する工程と、上記転写後の撥液インクの溶媒を蒸発させ、上記基板の表面に、撥液性の環状被膜を形成する工程と、上記基板上の予定位置に発光素子を配置して電気的に接続した後、この発光素子の上方から所定量の封止用樹脂を滴下して、上記環状被膜の内側に、この発光素子を覆うドーム形の封止部を形成する工程と、を備えることを特徴とする発光素子基板の製法。
- 上記フレキソ印刷版のショアA硬度が、30〜65°の範囲内に設定されている請求項3記載の発光素子基板の製法。
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