JP2011218333A - Method of forming multilayer coating film and coated article - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of forming a multilayer coating film having excellent adhesiveness to a base material, particularly a plastic material and having remarkably excellent weather resistance and scuff resistance and to provide a coated article having the multilayer coating film.SOLUTION: The method of forming the multilayer coating film includes steps for: forming an undercoating film using an ordinary temperature-setting or thermosetting undercoating material composition (I) on a base material; and then, forming a topcoating film using an activated energy ray curing type topcoating material composition (II) containing a silsesquioxane compound (a) which has organic groups each directly bonded to a silicon atom and in which at least one of the organic groups directly bonded to the silicon atom is an organic group having an urethane bond and one (metha)acryloyloxy group and a photopolymerization initiator (b) thereon.

Description

本発明は、基材、特にプラスチック材料との付着性に優れ、しかも耐候性、耐擦り傷性に非常に優れた複層塗膜を形成しうる複層塗膜形成方法、及び該複層塗膜を有する塗装物品に関する。   The present invention relates to a method for forming a multilayer coating film capable of forming a multilayer coating film excellent in adhesion to a substrate, particularly a plastic material, and having excellent weather resistance and scratch resistance, and the multilayer coating film. It relates to the coated article which has.

ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリカーボネート樹脂等のプラスチック材料は、耐衝撃性、透明性に優れ、軽量であり、加工が容易であることなどから、ガラスに代わる材料として、建物の採光材、車両の窓、ランプレンズ、計器カバー等に用いられている。しかしながら、プラスチック材料は、ガラスと比較して耐擦り傷性、耐薬品性、耐候性等の表面特性に劣ることから、プラスチック材料の表面特性を改良することが行われている。プラスチック材料の表面特性を改良する方法としてポリオルガノシロキサン系、メラミン系等の熱硬化性塗料組成物を塗装する方法や多官能アクリレート系の活性エネルギー線硬化型塗料組成物を塗装する方法が提案されている。   Plastic materials such as polymethyl methacrylate resin, polystyrene resin, and polycarbonate resin are excellent in impact resistance, transparency, light weight, and easy to process. Used in windows, lamp lenses, and instrument covers. However, since plastic materials are inferior to glass in terms of surface properties such as scratch resistance, chemical resistance, and weather resistance, the surface properties of plastic materials have been improved. As methods for improving the surface properties of plastic materials, methods for applying polyorganosiloxane-based and melamine-based thermosetting coating compositions and methods for applying polyfunctional acrylate-based active energy ray-curable coating compositions have been proposed. ing.

これら方法に関連して、特許文献1及び2には、モノ又はポリペンタエリスリトールのポリ(メタ)アクリレート、1分子内に少なくとも2個の(メタ)アクリロイル基を有するウレタン(メタ)アクリレート、及びポリ[(メタ)アクリロイルオキシアルキル](イソ)シアヌレートを特定の割合で配合して得られる塗料組成物に関する発明が開示されている。この塗料組成物は、耐擦り傷性、耐候性に優れる。   In connection with these methods, Patent Documents 1 and 2 disclose poly (meth) acrylates of mono- or polypentaerythritol, urethane (meth) acrylates having at least two (meth) acryloyl groups in the molecule, and poly (meth) acrylates. An invention relating to a coating composition obtained by blending [(meth) acryloyloxyalkyl] (iso) cyanurate in a specific ratio is disclosed. This coating composition is excellent in scratch resistance and weather resistance.

一方、一般的な塗料組成物の耐擦り傷性、耐候性を向上させる方法として、塗料組成物中に無機材料や無機−有機ハイブリッド材料を配合する方法がある。例えば、特許文献3及び4には、珪素を中心原子とする4面体シートと金属を中心原子とする8面体シートとの2:1型または1:1型の積層体からなるフィロ珪酸塩鉱物型の層状構造を有し、珪素の少なくとも一部と共有結合する有機基をもつ層状珪素ポリマーが開示されている。また、特許文献5には、特許文献3及び4に記載の層状珪素ポリマーをフィラーとして用いた塗料組成物が記載されている。   On the other hand, as a method for improving the scratch resistance and weather resistance of a general coating composition, there is a method of blending an inorganic material or an inorganic-organic hybrid material in the coating composition. For example, Patent Documents 3 and 4 disclose a phyllosilicate mineral type composed of a 2: 1 type or 1: 1 type laminate of a tetrahedral sheet having silicon as a central atom and an octahedral sheet having a metal as a central atom. And a layered silicon polymer having an organic group covalently bonded to at least a part of silicon. Patent Document 5 describes a coating composition using the layered silicon polymer described in Patent Documents 3 and 4 as a filler.

近年、合成樹脂の屋外での用途が広がるに従い、プラスチック材料の表面特性(耐擦り傷性、耐候性)のさらなる向上が要求されている。しかし、特許文献5に記載の塗料組成物では、上記要求を満足する優れた耐擦り傷性、耐候性及びプラスチック基材に対する付着性を有する硬化被膜を形成する塗料組成物は得られない。また、特許文献3及び4に記載の層状珪素ポリマーを特許文献1及び2に記載の塗料組成物に配合しても、上記要求を満足する優れた耐擦り傷性、耐候性、プラスチック基材に対する付着性を有する硬化被膜を形成する塗料組成物は得られない。   In recent years, as the use of synthetic resins outdoors increases, further improvements in the surface properties (scratch resistance, weather resistance) of plastic materials are required. However, the coating composition described in Patent Document 5 cannot provide a coating composition that forms a cured film having excellent scratch resistance, weather resistance, and adhesion to a plastic substrate that satisfies the above requirements. Further, even when the layered silicon polymer described in Patent Documents 3 and 4 is blended with the coating composition described in Patent Documents 1 and 2, excellent scratch resistance, weather resistance, and adhesion to a plastic substrate satisfying the above requirements. The coating composition which forms the cured film which has the property cannot be obtained.

また上記のような塗料組成物による1コート塗膜の不具合を解消するために、特許文献6では特定の下塗り塗料を用いた複層塗膜形成方法が提案されている。しかしながら、特許文献6に記載の方法では、上塗り塗料の組成が有機成分主体であり、上述の特許文献3〜5の無機材料や無機−有機ハイブリッド材料を配合する組成と比べて耐候性や耐擦り傷性が不十分であるという問題があった。   Moreover, in order to eliminate the malfunction of the 1 coat coating film by the above coating compositions, the patent document 6 has proposed the multilayer coating film formation method using a specific undercoat. However, in the method described in Patent Document 6, the composition of the top coat is mainly composed of organic components, and weather resistance and scratch resistance compared to the composition containing the inorganic materials and inorganic-organic hybrid materials described in Patent Documents 3 to 5 above. There was a problem that the property was insufficient.

特開平5−230397号公報Japanese Patent Laid-Open No. 5-230397 特開平6−128502号公報JP-A-6-128502 特開平6−200034号公報JP-A-6-200034 特開平7−126396号公報JP-A-7-126396 特開平8−12899号公報JP-A-8-12899 特開2006−263616号公報JP 2006-263616 A

本発明は上記の事情に鑑みてなされたものであり、本発明の目的は、基材、特にプラスチック材料との付着性に優れ、しかも耐候性、耐擦り傷性に非常に優れた複層塗膜を形成しうる複層塗膜形成方法、及び該複層塗膜を有する塗装物品を提供することである。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is a multilayer coating film that is excellent in adhesion to a substrate, particularly a plastic material, and very excellent in weather resistance and scratch resistance. Is a multilayer coating film forming method, and a coated article having the multilayer coating film.

本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、特定のシルセスキオキサン化合物、及び光重合開始剤を含有する活性エネルギー線硬化型上塗り塗料組成物を用いることにより上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have solved the above problems by using an active energy ray-curable top coat composition containing a specific silsesquioxane compound and a photopolymerization initiator. The inventors have found that this can be solved, and have completed the present invention.

すなわち、本発明は、基材上に、常温硬化又は熱硬化性下塗り塗料組成物(I)を用いて下塗り塗膜を形成した後、その上に、ケイ素原子に直接に結合した有機基を有するシルセスキオキサン化合物であって、前記ケイ素原子に直接に結合した有機基の少なくとも1つがウレタン結合及び1つの(メタ)アクリロイルオキシ基を有する有機基であるシルセスキオキサン化合物(a)、及び光重合開始剤(b)を含有する活性エネルギー線硬化型上塗り塗料組成物(II)を用いて上塗り塗膜を形成することを特徴とする複層塗膜形成方法、及び該方法により形成される複層塗膜を有する塗装物品、に関する。   That is, the present invention has an organic group bonded directly to a silicon atom on an undercoating film formed on a substrate using a room temperature curing or thermosetting undercoating composition (I). A silsesquioxane compound (a), wherein at least one of the organic groups directly bonded to the silicon atom is an organic group having a urethane bond and one (meth) acryloyloxy group, and A multi-layer coating film forming method characterized by forming a top coating film using an active energy ray-curable top coating composition (II) containing a photopolymerization initiator (b), and formed by the method The present invention relates to a coated article having a multilayer coating film.

本発明によれば、特定の活性エネルギー線硬化型上塗り塗料組成物を用いることにより、耐擦り傷性、耐候性及び基材に対する付着性に優れた複層塗膜を得ることができる。また該複層塗膜を有する塗装物品を得ることができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the multilayer coating film excellent in abrasion resistance, a weather resistance, and the adhesiveness with respect to a base material can be obtained by using a specific active energy ray hardening-type top coat composition. Moreover, the coated article which has this multilayer coating film can be obtained.

本発明で用いられる常温硬化又は熱硬化性下塗り塗料組成物(I)は、常温で乾燥/硬化し得るもの、又は加熱により硬化し得るものであれば特に制限なく、従来公知の常温硬化又は熱硬化性塗料組成物を用いることができ、特に基材がプラスチックの場合に耐候性確保の観点から、アクリル樹脂、紫外線吸収剤、及び光安定剤を含有するものが好適に使用できる。   The room temperature curing or thermosetting undercoating composition (I) used in the present invention is not particularly limited as long as it can be dried / cured at room temperature, or can be cured by heating, and conventionally known room temperature curing or heat. A curable coating composition can be used. In particular, when the substrate is a plastic, those containing an acrylic resin, an ultraviolet absorber, and a light stabilizer can be suitably used from the viewpoint of ensuring weather resistance.

上記アクリル樹脂としては、従来公知のものが制限なく使用でき、例えば水酸基、カルボキシル基、アルコキシシリル基、エポキシ基などの少なくとも1種の架橋性官能基を含有するものであっても良く、通常、重合性不飽和モノマー混合物を共重合して得られるものが好適に使用できる。   As the above-mentioned acrylic resin, conventionally known ones can be used without limitation. For example, the acrylic resin may contain at least one crosslinkable functional group such as a hydroxyl group, a carboxyl group, an alkoxysilyl group, and an epoxy group. Those obtained by copolymerizing a polymerizable unsaturated monomer mixture can be suitably used.

重合性不飽和モノマーとしては、例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−プロピル(メタ)アクリレート、i−プロピル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、i−ブチル(メタ)アクリレート、tert−ブチル(メタ)アクリレート、n−ヘキシル(メタ)アクリレート、n−オクチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ノニル(メタ)アクリレート、トリデシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、「イソステアリルアクリレート」(商品名、大阪有機化学工業社製)、シクロヘキシル(メタ)アクリレ−ト、メチルシクロヘキシル(メタ)アクリレ−ト、t−ブチルシクロヘキシル(メタ)アクリレ−ト、シクロドデシル(メタ)アクリレ−ト等のアルキル又はシクロアルキル(メタ)アクリレート;イソボルニル(メタ)アクリレート等のイソボルニル基を有する重合性不飽和モノマー;アダマンチル(メタ)アクリレート等のアダマンチル基を有する重合性不飽和モノマー;スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエンなどのビニル芳香族化合物;ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(2−メトキシエトキシ)シラン、γ−(メタ)アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−(メタ)アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシランなどのアルコキシシリル基を有する重合性不飽和モノマー;パーフルオロブチルエチル(メタ)アクリレート、パーフルオロオクチルエチル(メタ)アクリレート等のパーフルオロアルキル(メタ)アクリレート;フルオロオレフィン等のフッ素化アルキル基を有する重合性不飽和モノマー;マレイミド基等の光重合性官能基を有する重合性不飽和モノマー;N−ビニルピロリドン、エチレン、ブタジエン、クロロプレン、プロピオン酸ビニル、酢酸ビニル等のビニル化合物;2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレ−ト、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレートなどの(メタ)アクリル酸と炭素数2〜8の2価アルコールとのモノエステル化物、(メタ)アクリル酸と炭素数2〜8の2価アルコールとのモノエステル化物のε−カプロラクトン変性体、N−ヒドロキシメチル(メタ)アクリルアミド、アリルアルコール、ポリオキシエチレン(メタ)アクリレート等の水酸基含有重合性不飽和モノマー;(メタ)アクリル酸、マレイン酸、クロトン酸、β−カルボキシエチルアクリレート等のカルボキシル基含有重合性不飽和モノマー;(メタ)アクリロニトリル、(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、N,N−ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド、グリシジル(メタ)アクリレートとアミン類との付加物等の含窒素重合性不飽和モノマー;アリル(メタ)アクリレ−ト、1,6−ヘキサンジオ−ルジ(メタ)アクリレ−ト等の重合性不飽和基を1分子中に2個以上有する重合性不飽和モノマー;グリシジル(メタ)アクリレート、β−メチルグリシジル(メタ)アクリレート、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレート、3,4−エポキシシクロヘキシルエチル(メタ)アクリレート、3,4−エポキシシクロヘキシルプロピル(メタ)アクリレート、アリルグリシジルエーテル等のエポキシ基含有重合性不飽和モノマー;分子末端がアルコキシ基であるポリオキシエチレン鎖を有する(メタ)アクリレート;2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸、アリルスルホン酸、スチレンスルホン酸ナトリウム塩、スルホエチルメタクリレート及びそのナトリウム塩やアンモニウム塩等のスルホン酸基を有する重合性不飽和モノマー;2−アクリロイルオキシエチルアシッドホスフェート、2−メタクリロイルオキシエチルアシッドホスフェート、2−アクリロイルオキシプロピルアシッドホスフェート、2−メタクリロイルオキシプロピルアシッドホスフェート等のリン酸基を有する重合性不飽和モノマー;2−ヒドロキシ−4−(3−メタクリロイルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)ベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−(3−アクリロイルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)ベンゾフェノン、2,2´−ジヒドロキシ−4−(3−メタクリロイルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)ベンゾフェノン、2,2´−ジヒドロキシ−4−(3−アクリロイルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)ベンゾフェノン、2−(2´−ヒドロキシ−5´−メタクリロイルオキシエチルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール等の紫外線吸収性官能基を有する重合性不飽和モノマー;4−(メタ)アクリロイルオキシ−1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジン、4−(メタ)アクリロイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−シアノ−4−(メタ)アクリロイルアミノ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、1−(メタ)アクリロイル−4−(メタ)アクリロイルアミノ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、1−(メタ)アクリロイル−4−シアノ−4−(メタ)アクリロイルアミノ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−クロトノイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−クロトノイルアミノ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、1−クロトノイル−4−クロトノイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン等の紫外線安定性重合性不飽和モノマー;アクロレイン、ダイアセトンアクリルアミド、ダイアセトンメタクリルアミド、アセトアセトキシエチルメタクリレート、ホルミルスチロール、4〜7個の炭素原子を有するビニルアルキルケトン(例えば、ビニルメチルケトン、ビニルエチルケトン、ビニルブチルケトン)等のカルボニル基を有する重合性不飽和モノマー化合物等が挙げられ、これらはそれぞれ単独でもしくは2種以上組み合わせて使用することができる。   Examples of the polymerizable unsaturated monomer include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, i-propyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, i-butyl ( (Meth) acrylate, tert-butyl (meth) acrylate, n-hexyl (meth) acrylate, n-octyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, nonyl (meth) acrylate, tridecyl (meth) acrylate, lauryl ( (Meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, “isostearyl acrylate” (trade name, manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.), cyclohexyl (meth) acrylate, methylcyclohexyl (meth) acrylate, t-butylcyclohexyl (meta) Alkyl or cycloalkyl (meth) acrylate such as acrylate, cyclododecyl (meth) acrylate; polymerizable unsaturated monomer having an isobornyl group such as isobornyl (meth) acrylate; an adamantyl group such as adamantyl (meth) acrylate Polymerizable unsaturated monomer: vinyl aromatic compounds such as styrene, α-methylstyrene, vinyltoluene; vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris (2-methoxyethoxy) silane, γ- (meth) acryloyloxypropyl Polymerizable unsaturated monomers having alkoxysilyl groups such as trimethoxysilane and γ- (meth) acryloyloxypropyltriethoxysilane; perfluorobutylethyl (meth) acrylate, perfluorooctylethyl Perfluoroalkyl (meth) acrylates such as meth) acrylate; polymerizable unsaturated monomers having a fluorinated alkyl group such as fluoroolefin; polymerizable unsaturated monomers having a photopolymerizable functional group such as maleimide group; N-vinylpyrrolidone , Ethylene, butadiene, chloroprene, vinyl propionate, vinyl acetate and other vinyl compounds; 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxy Ε of monoesterified product of (meth) acrylic acid such as butyl (meth) acrylate and dihydric alcohol having 2 to 8 carbon atoms, monoesterified product of (meth) acrylic acid and dihydric alcohol having 2 to 8 carbon atoms -Caprolactone modified product, N-hydroxymethyl (me ) Hydroxyl group-containing polymerizable unsaturated monomers such as acrylamide, allyl alcohol and polyoxyethylene (meth) acrylate; Carboxyl group-containing polymerizable unsaturated monomers such as (meth) acrylic acid, maleic acid, crotonic acid and β-carboxyethyl acrylate Including (meth) acrylonitrile, (meth) acrylamide, N, N-dimethylaminoethyl (meth) acrylate, N, N-dimethylaminopropyl (meth) acrylamide, adducts of glycidyl (meth) acrylate and amines, etc. Nitrogen polymerizable unsaturated monomer; polymerizable unsaturated monomer having two or more polymerizable unsaturated groups in one molecule such as allyl (meth) acrylate and 1,6-hexanediol di (meth) acrylate; Glycidyl (meth) acrylate, β-methylglycidyl (meth) Epoxy group-containing polymerizable unsaturated compounds such as acrylate, 3,4-epoxycyclohexylmethyl (meth) acrylate, 3,4-epoxycyclohexylethyl (meth) acrylate, 3,4-epoxycyclohexylpropyl (meth) acrylate, and allyl glycidyl ether Monomer; (Meth) acrylate having a polyoxyethylene chain whose molecular end is an alkoxy group; 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid, allylsulfonic acid, styrenesulfonic acid sodium salt, sulfoethyl methacrylate, and its sodium salt and ammonium Polymerizable unsaturated monomers having a sulfonic acid group such as a salt; 2-acryloyloxyethyl acid phosphate, 2-methacryloyloxyethyl acid phosphate, 2-acryloyloxyp Polymerizable unsaturated monomers having a phosphate group such as pyracyl phosphate, 2-methacryloyloxypropyl acid phosphate; 2-hydroxy-4- (3-methacryloyloxy-2-hydroxypropoxy) benzophenone, 2-hydroxy-4- ( 3-acryloyloxy-2-hydroxypropoxy) benzophenone, 2,2'-dihydroxy-4- (3-methacryloyloxy-2-hydroxypropoxy) benzophenone, 2,2'-dihydroxy-4- (3-acryloyloxy-2 Polymerizable unsaturated monomer having an ultraviolet-absorbing functional group such as -hydroxypropoxy) benzophenone, 2- (2'-hydroxy-5'-methacryloyloxyethylphenyl) -2H-benzotriazole; 4- (meth) acryloyloxy- , 2,2,6,6-pentamethylpiperidine, 4- (meth) acryloyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4-cyano-4- (meth) acryloylamino-2,2,6 , 6-tetramethylpiperidine, 1- (meth) acryloyl-4- (meth) acryloylamino-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 1- (meth) acryloyl-4-cyano-4- (meth) Acryloylamino-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4-crotonoyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4-crotonoylamino-2,2,6,6-tetramethylpiperidine UV-stable polymerizable unsaturated monomers such as 1-crotonoyl-4-crotonoyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine; Has a carbonyl group such as diacetone acrylamide, diacetone methacrylamide, acetoacetoxyethyl methacrylate, formyl styrene, vinyl alkyl ketone having 4 to 7 carbon atoms (for example, vinyl methyl ketone, vinyl ethyl ketone, vinyl butyl ketone) Examples thereof include polymerizable unsaturated monomer compounds, and these can be used alone or in combination of two or more.

上記重合性不飽和モノマーとして、水酸基含有モノマーを使用する場合には、後述するメラミン樹脂やポリイソシアネート化合物を架橋剤として用いることができる。   When a hydroxyl group-containing monomer is used as the polymerizable unsaturated monomer, a melamine resin or a polyisocyanate compound described later can be used as a crosslinking agent.

また上記重合性不飽和モノマーが、その成分の少なくとも一部として紫外線吸収性重合性不飽和モノマー及び/又は紫外線安定性重合性不飽和モノマーを用いる場合には、アクリル樹脂に紫外線吸収性官能基や紫外線安定性官能基が導入されるので、後述する紫外線吸収剤や光安定剤を下塗り塗料組成物(I)に配合しなくとも良い。   In the case where the polymerizable unsaturated monomer uses an ultraviolet absorbing polymerizable unsaturated monomer and / or an ultraviolet stable polymerizable unsaturated monomer as at least a part of its components, an ultraviolet absorbing functional group or Since an ultraviolet-stable functional group is introduced, it is not necessary to add an ultraviolet absorber or a light stabilizer described later to the undercoat coating composition (I).

上記重合性不飽和モノマーの共重合は、それ自体既知の方法、例えば有機溶剤中での溶液重合法などの方法により行なうことができる。溶液重合法による共重合法としては、例えば、前記モノマー成分とラジカル重合開始剤の混合物を、有機溶媒に溶解もしくは分散せしめ、通常、80℃〜200℃程度の温度で、通常1〜10時間程度撹拌しながら加熱して重合させる方法を挙げることができる。
共重合時に使用し得る有機溶媒としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類;酢酸エチル、酢酸ブチル、安息香酸メチル、プロピオン酸メチル等のエステル類;テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル類;エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、3−メトキシブチルアセテート等のグリコールエーテル類;芳香族炭化水素類、脂肪族炭化水素類等を挙げることができる。これらの有機溶剤は1種のみ又は2種以上を組合せて使用することができる。
The copolymerization of the polymerizable unsaturated monomer can be carried out by a method known per se, for example, a solution polymerization method in an organic solvent. As the copolymerization method by the solution polymerization method, for example, the mixture of the monomer component and the radical polymerization initiator is dissolved or dispersed in an organic solvent, and usually at a temperature of about 80 ° C. to 200 ° C., usually about 1 to 10 hours. A method of polymerizing by heating while stirring can be mentioned.
Examples of the organic solvent that can be used for copolymerization include ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone; esters such as ethyl acetate, butyl acetate, methyl benzoate, and methyl propionate; tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane, and the like. Ethers of ethylene; glycol ethers such as ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, 3-methoxybutyl acetate; aromatic hydrocarbons, aliphatic hydrocarbons, etc. be able to. These organic solvents can be used alone or in combination of two or more.

上記の通り得られるアクリル樹脂の重量平均分子量は、特に制限されるものではないが、耐候性の点から、通常、1,000〜200,000、特に2,000〜100,000の範囲内にあることが好ましい。   The weight average molecular weight of the acrylic resin obtained as described above is not particularly limited, but is usually in the range of 1,000 to 200,000, particularly 2,000 to 100,000 from the viewpoint of weather resistance. Preferably there is.

ここで本明細書において重量平均分子量は、溶媒としてテトラヒドロフランを使用し、ゲルパーミエーションクロマトグラフ(東ソー(株)社製、「HLC8120GPC」)で測定した保持時間(保持容量)を、ポリスチレンの重量平均分子量を基準にして換算した値である。カラムは、「TSKgel G−4000H×L」、「TSKgel G−3000H×L」、「TSKgel G−2500H×L」、「TSKgel G−2000H×L」(いずれも東ソー(株)社製、商品名)の4本を用い、移動相;テトラヒドロフラン、測定温度;40℃、流速;1ml/分、検出器;RIの条件で行ったものである。   Here, in this specification, the weight average molecular weight uses tetrahydrofuran as a solvent, and the retention time (retention capacity) measured with a gel permeation chromatograph (“HLC8120GPC” manufactured by Tosoh Corporation) is the weight average of polystyrene. It is a value converted based on the molecular weight. Columns are “TSKgel G-4000H × L”, “TSKgel G-3000H × L”, “TSKgel G-2500H × L”, “TSKgel G-2000H × L” (both manufactured by Tosoh Corporation, trade names) ), Mobile phase: tetrahydrofuran, measurement temperature: 40 ° C., flow rate: 1 ml / min, detector: RI.

紫外線吸収剤は、入射光を吸収し、光エネルギーを熱のような無害な形に変換することにより、被膜の劣化の開始に到達するのを抑制する作用がある。   The ultraviolet absorber has an action of suppressing the arrival of the deterioration of the film by absorbing incident light and converting light energy into a harmless form such as heat.

紫外線吸収剤としては、従来から公知のものが使用でき、例えば、ベンゾトリアゾール系吸収剤、トリアジン系吸収剤、サリチル酸誘導体系吸収剤、ベンゾフェノン系吸収剤等を使用できる。   As the ultraviolet absorber, conventionally known ones can be used. For example, a benzotriazole-based absorbent, a triazine-based absorbent, a salicylic acid derivative-based absorbent, a benzophenone-based absorbent, or the like can be used.

ベンゾトリアゾール系吸収剤の具体例としては、2−(2´−ヒドロキシ−5´−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2´−ヒドロキシ−5´−t−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2´−ヒドロキシ−3´,5´−ジ−t−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2´−ヒドロキシ−3´−t−ブチル−5´−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2´−ヒドロキシ−3´,5´−ジ−t−ブチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2´−ヒドロキシ−3´,5´−ジ−t−アミルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2´−ヒドロキシ−4´−オクトキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−{2´−ヒドロキシ−3´−(3´´,4´´,5´´,6´´−テトラヒドロフタルイミドメチル)−5´−メチルフェニル}ベンゾトリアゾール等が挙げられる。   Specific examples of the benzotriazole-based absorbent include 2- (2′-hydroxy-5′-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2′-hydroxy-5′-t-butylphenyl) benzotriazole, 2- ( 2'-hydroxy-3 ', 5'-di-t-butylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3'-t-butyl-5'-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2 -(2'-hydroxy-3 ', 5'-di-t-butylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3', 5'-di-t-amylphenyl) benzotriazole 2- (2′-hydroxy-4′-octoxyphenyl) benzotriazole, 2- {2′-hydroxy-3 ′-(3 ″, 4 ″, 5 ″, 6 ″ -tetrahydrophthalimi Methyl) -5'-methylphenyl} benzotriazole.

トリアジン系吸収剤の具体例としては、2,4−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−6−(2−ヒドロキシ−4−イソオクチルオキシフェニル)−1,3,5−トリアジンン、2−[4((2−ヒドロキシ−3−ドデシルオキシプロピル)−オキシ)−2−ヒドロキシフェニル]−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジンン、2−[4−((2−ヒドロキシ−3−トリデシルオキシプロピル)−オキシ)−2−ヒドロキシフェニル]−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジンン、2−(2,4−ジヒドロキシフェニル)−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン等が挙げられる。   Specific examples of the triazine-based absorbent include 2,4-bis (2,4-dimethylphenyl) -6- (2-hydroxy-4-isooctyloxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2- [4 ((2-hydroxy-3-dodecyloxypropyl) -oxy) -2-hydroxyphenyl] -4,6-bis (2,4-dimethylphenyl) -1,3,5-triazine, 2- [ 4-((2-hydroxy-3-tridecyloxypropyl) -oxy) -2-hydroxyphenyl] -4,6-bis (2,4-dimethylphenyl) -1,3,5-triazine, 2- (2,4-dihydroxyphenyl) -4,6-bis (2,4-dimethylphenyl) -1,3,5-triazine and the like.

サリチル酸誘導体系吸収剤の具体例としては、フェニルサリシレート、p−オクチルフェニルサリシレート、4−tert−ブチルフェニルサリシレート等が挙げられる。   Specific examples of the salicylic acid derivative-based absorbent include phenyl salicylate, p-octylphenyl salicylate, 4-tert-butylphenyl salicylate, and the like.

ベンゾフェノン系吸収剤の具体例としては、4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2,2´−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシ−2´−カルボキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシ−5−スルホベンゾフェノントリヒドレート、2,2´−ジヒドロキシ−4,4´−ジメトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−オクトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−オクタデシロキシベンゾフェノン、ナトリウム2,2´−ジヒドロキシ−4,4´−ジメトキシ−5−スルホベンゾフェノン、2,2´,4,4´−テトラヒドロキシベンゾフェノン、4−ドデシロキシ−2−ヒドロキシベンゾフェノン、5−クロロ−2−ヒドロキシベンゾフェノン、レゾルシノールモノベンゾエート、2,4−ジベンゾイルレゾルシノール、4,6−ジベンゾイルレゾルシノール、ヒドロキシドデシルベンゾフェノン等が挙げられる。紫外線吸収剤としては、また、公知の重合性紫外線吸収剤、例えば2−(2´−ヒドロキシ−5´−メタクリロイルオキシエチルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、2,2´−ジヒドロキシ−4(3−メタクリルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)ベンゾフェノンなども使用することが可能である。   Specific examples of the benzophenone-based absorbent include 4-dihydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2,2′-dihydroxy-4-methoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxy-2′-carboxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxy-5-sulfobenzophenone trihydrate, 2,2'-dihydroxy-4,4'-dimethoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-octoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-octadecyloxy Benzophenone, sodium 2,2'-dihydroxy-4,4'-dimethoxy-5-sulfobenzophenone, 2,2 ', 4,4'-tetrahydroxybenzophenone, 4-dodecyloxy-2-hydroxybenzophenone, 5-chloro-2 -Hydroxybenzo Examples include phenone, resorcinol monobenzoate, 2,4-dibenzoyl resorcinol, 4,6-dibenzoyl resorcinol, hydroxydodecylbenzophenone, and the like. Examples of the ultraviolet absorber include known polymerizable ultraviolet absorbers such as 2- (2′-hydroxy-5′-methacryloyloxyethylphenyl) -2H-benzotriazole, 2,2′-dihydroxy-4 (3- Methacryloxy-2-hydroxypropoxy) benzophenone and the like can also be used.

上記紫外線吸収剤の市販品としては、例えば、TINUVIN900、TINUVIN928、TINUVIN348−2、TINUVIN479、TINUVIN405(チバ スペシャルティ ケミカルズ社製、商品名)、RUVA93(大塚化学社製、商品名)等が挙げられる。   Examples of commercially available ultraviolet absorbers include TINUVIN 900, TINUVIN 928, TINUVIN 348-2, TINUVIN 479, TINUVIN 405 (trade name, manufactured by Ciba Specialty Chemicals), and RUVA 93 (trade name, manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd.).

下塗り塗料組成物(I)における上記紫外線吸収剤の使用量は、耐候性等の点から、該塗料組成物の不揮発分100質量部に対して0.5〜20質量部、好ましくは1〜15質量部の範囲が適当である。   The amount of the ultraviolet absorber used in the undercoat coating composition (I) is 0.5 to 20 parts by mass, preferably 1 to 15 with respect to 100 parts by mass of the nonvolatile content of the coating composition from the viewpoint of weather resistance and the like. The range of parts by mass is appropriate.

一方、光安定剤は、被膜の劣化過程で生成する活性なラジカル種を捕捉するラジカル連鎖禁止剤として用いられるもので、例えば、ヒンダードアミン系の光安定剤等が挙げられる。   On the other hand, the light stabilizer is used as a radical chain inhibitor that traps active radical species generated during the deterioration process of the film, and includes, for example, a hindered amine light stabilizer.

光安定剤のなかで優れた光安定化作用を示す光安定剤としてヒンダードピペリジン類が挙げられる。ヒンダードピペリジン類としては、例えば、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニル)セバケート、ビス(N−メチル−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニル)セバケート、4−ベンゾイルオキシ−2,2´,6,6´−テトラメチルピペリジン、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル){[3,5−ビス(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドロキシフェニル]メチル}ブチルマロネート等のモノマータイプのもの;ポリ{[6−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)イミノ−1,3,5−トリアジン−2,4−ジイル][(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ]ヘキサメチレン[(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノール]}等のオリゴマータイプのもの;4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチル−1−ピペリジンエタノールとコハク酸とのポリエステル化物等のポリエステル結合タイプのものなどが挙げられるが、これらに限ったものではない。光安定剤としては、また、公知の重合性光安定剤も使用することが可能である。   Among the light stabilizers, hindered piperidines may be mentioned as light stabilizers that exhibit an excellent light stabilizing action. Examples of hindered piperidines include bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) sebacate, bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidinyl) sebacate, and bis ( N-methyl-2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidinyl) sebacate, 4-benzoyloxy-2,2 ′, 6,6′-tetramethylpiperidine, bis (1,2,2,6, Monomer type such as 6-pentamethyl-4-piperidyl) {[3,5-bis (1,1-dimethylethyl) -4-hydroxyphenyl] methyl} butyl malonate; poly {[6- (1,1 , 3,3-tetramethylbutyl) imino-1,3,5-triazine-2,4-diyl] [(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) imino] hexamethylene [(2 , 2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) iminol]} and the like; polyesters of 4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethyl-1-piperidineethanol and succinic acid Examples thereof include, but are not limited to, polyester-bonded types. A known polymerizable light stabilizer can also be used as the light stabilizer.

上記光安定剤の市販品としては、例えば、TINUVIN123、TINUVIN152、TINUVIN292(チバ スペシャルティ ケミカルズ社製、商品名)、HOSTAVIN3058(クラリアント社製、商品名)、アデカスタブLA−82(株式会社ADEKA製、商品名)等が挙げられる。   Commercially available products of the above light stabilizer include, for example, TINUVIN123, TINUVIN152, TINUVIN292 (trade name, manufactured by Ciba Specialty Chemicals), HOSTAVIN 3058 (trade name, manufactured by Clariant), and ADK STAB LA-82 (trade name, manufactured by ADEKA Corporation). ) And the like.

下塗り塗料組成物(I)における上記光安定剤の使用量は、耐候性等の点から、該塗料組成物の不揮発分100質量部に対して0.1〜10質量部、好ましくは0.5〜5質量部の範囲が適当である。   The amount of the light stabilizer used in the undercoat coating composition (I) is from 0.1 to 10 parts by weight, preferably 0.5, based on 100 parts by weight of the nonvolatile content of the coating composition from the viewpoint of weather resistance and the like. A range of ˜5 parts by mass is suitable.

上記塗料組成物(I)は、必要に応じて架橋剤を含有することができる。架橋剤としては、上記アクリル樹脂中の官能基と反応しうる官能基を有する、例えばメラミン樹脂、尿素樹脂、(ブロック)ポリイソシアネート化合物、エポキシ化合物、カルボキシル基含有化合物、酸無水物、アルコキシシラン基含有化合物などが挙げられる。   The coating composition (I) can contain a crosslinking agent as required. The crosslinking agent has a functional group capable of reacting with the functional group in the acrylic resin, for example, melamine resin, urea resin, (block) polyisocyanate compound, epoxy compound, carboxyl group-containing compound, acid anhydride, alkoxysilane group Examples thereof include compounds.

本発明で用いる下塗り塗料組成物(I)には、さらに必要に応じて他の樹脂や各種添加剤を配合してもよく、所望により溶剤で希釈しても良い。他の樹脂としては、例えばポリエステル樹脂、アルキド樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、シリコン樹脂、フッ素樹脂、繊維素誘導体などが挙げられ、添加剤としては、例えば、硬化触媒、重合禁止剤、酸化防止剤、消泡剤、表面調整剤、可塑剤、顔料、充填剤等が挙げられる。   The undercoat coating composition (I) used in the present invention may further contain other resins and various additives as necessary, and may be diluted with a solvent as required. Examples of other resins include polyester resins, alkyd resins, urethane resins, epoxy resins, silicone resins, fluororesins, and fiber derivatives. Examples of additives include curing catalysts, polymerization inhibitors, and antioxidants. , Antifoaming agents, surface conditioners, plasticizers, pigments, fillers and the like.

希釈に用いる溶剤としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類;酢酸エチル、酢酸ブチル、安息香酸メチル、プロピオン酸メチル等のエステル類;テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル類;エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、3−メトキシブチルアセテート等のグリコールエーテル類;芳香族炭化水素類、脂肪族炭化水素類等が挙げられる。これらは、粘度の調整、塗布性の調整等の目的に応じて適宜組み合わせて使用することができる。   Examples of the solvent used for dilution include ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone; esters such as ethyl acetate, butyl acetate, methyl benzoate, and methyl propionate; ethers such as tetrahydrofuran, dioxane, and dimethoxyethane; Examples include glycol ethers such as ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, and 3-methoxybutyl acetate; aromatic hydrocarbons and aliphatic hydrocarbons. These can be used in appropriate combination depending on the purpose such as adjustment of viscosity and adjustment of coating property.

本発明の活性エネルギー線硬化型上塗り塗料組成物(II)は、シルセスキオキサン化合物(a)及び光重合開始剤(b)を含有する。   The active energy ray-curable top coating composition (II) of the present invention contains a silsesquioxane compound (a) and a photopolymerization initiator (b).

(a)成分
(a)成分であるシルセスキオキサン化合物は、ケイ素原子に直接に結合した有機基を有するシルセスキオキサン化合物であって、前記ケイ素原子に直接に結合した有機基の少なくとも1つがウレタン結合及び1つの(メタ)アクリロイルオキシ基を有する有機基であるシルセスキオキサン化合物である。
Component (a) The silsesquioxane compound as component (a) is a silsesquioxane compound having an organic group directly bonded to a silicon atom, and is at least one of the organic groups directly bonded to the silicon atom. One is a silsesquioxane compound which is an organic group having a urethane bond and one (meth) acryloyloxy group.

ここで、本明細書において「シルセスキオキサン化合物」は、Si−OH基(ヒドロキシシリル基)の全てが加水分解縮合した構造のシルセスキオキサン化合物のみを意味するのではなく、Si−OH基が残存したラダー構造、不完全籠型構造、ランダム縮合体のシルセスキオキサン化合物をも含むことができる。   Here, in the present specification, the “silsesquioxane compound” does not mean only a silsesquioxane compound having a structure in which all Si—OH groups (hydroxysilyl groups) are hydrolyzed and condensed, but Si—OH A ladder structure in which groups remain, an incomplete cage structure, and a silsesquioxane compound of a random condensate can also be included.

前記シルセスキオキサン化合物(a)は、Si−OH基の全てが加水分解縮合した構造のシルセスキオキサン化合物の割合が、好ましくは80質量%以上、より好ましくは90質量%以上、特に好ましくは100質量%であることが液安定性及び耐候性の点から好ましい。   In the silsesquioxane compound (a), the ratio of the silsesquioxane compound having a structure in which all Si—OH groups are hydrolytically condensed is preferably 80% by mass or more, more preferably 90% by mass or more, and particularly preferably. Is preferably 100% by mass from the viewpoint of liquid stability and weather resistance.

前記シルセスキオキサン化合物(a)として、例えば、前記ウレタン結合及び1つの(メタ)アクリロイルオキシ基を有する有機基が、下記一般式(A)で表される有機基であるシスセスキオキサン化合物を挙げることができる:   As the silsesquioxane compound (a), for example, a cissesquioxane compound in which the organic group having the urethane bond and one (meth) acryloyloxy group is an organic group represented by the following general formula (A) You can mention:

Figure 2011218333
Figure 2011218333

[式(A)中、Rは水素原子又はメチル基を示す。Rは炭素数1〜10の2価の炭化水素基を示す。Rは炭素数1〜10の2価の炭化水素基を示す。Yは [In Formula (A), R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group. R 2 represents a divalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms. R 3 represents a divalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms. Y is

Figure 2011218333
Figure 2011218333

(式中、Rは、前記に同じ。nは0〜9の整数を示す。)、 (In the formula, R 2 is the same as above. N represents an integer of 0 to 9).

Figure 2011218333
Figure 2011218333

(式中、Rは置換又は非置換の炭素数1〜6の1価の炭化水素基を示す。)、又は (Wherein R 4 represents a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms), or

Figure 2011218333
Figure 2011218333

(式中、Rは置換又は非置換の炭素数1〜6の1価の炭化水素基を示す。)を示す。]。 (Wherein R 5 represents a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms). ].

ここで、シルセスキオキサン化合物(a)としては、上記一般式(A)で表される有機基のうち、一種類を有していても、複数種類の有機基を有していてもよい。   Here, as a silsesquioxane compound (a), even if it has one type among the organic groups represented by the said general formula (A), it may have multiple types of organic groups. .

いいかえると、シルセスキオキサン化合物(a)としては、例えば、前記ウレタン結合及び1つの(メタ)アクリロイルオキシ基を有する有機基が、下記一般式(I)〜(III)で表される有機基からなる群より選択される少なくとも一種であるシルセスキオキサン化合物を挙げることができる。   In other words, as the silsesquioxane compound (a), for example, the organic group having the urethane bond and one (meth) acryloyloxy group is represented by the following general formulas (I) to (III). The silsesquioxane compound which is at least 1 type selected from the group which consists of can be mentioned.

Figure 2011218333
Figure 2011218333

[一般式(I)中、Rは水素原子又はメチル基を示す。Rは炭素数1〜10の2価の炭化水素基を示す。Rは炭素数1〜10の2価の炭化水素基を示す。nは0〜9の整数を示す。] [In General Formula (I), R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group. R 2 represents a divalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms. R 3 represents a divalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms. n shows the integer of 0-9. ]

Figure 2011218333
Figure 2011218333

[式(II)中、R〜Rは前記に同じ。Rは置換又は非置換の炭素数1〜6の1価の炭化水素基を示す。] [In formula (II), R 1 to R 3 are the same as above. R 4 represents a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms. ]

Figure 2011218333
Figure 2011218333

[式(III)中、R〜Rは前記に同じ。Rは置換又は非置換の炭素数1〜6の1価の炭化水素基を示す。]。 [In formula (III), R 1 to R 3 are the same as above. R 5 represents a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms. ].

前記Rとしては、炭素数1〜10の2価の炭化水素基であれば特に限定されるものではない。具体的には例えば、メチレン基、エチレン基、1,2−プロピレン基、1,3−プロピレン基、1,2−ブチレン基、1,4−ブチレン基、ヘキシレン基等のアルキレン基;シクロヘキシレン基等のシクロアルキレン基;フェニレン基、キシリレン基、ビフェニレン基等のアリーレン基等が挙げられる。なかでも、炭素数1〜6の2価の炭化水素基、特にエチレン基、1,2−プロピレン基、1,4−ブチレン基であることが、耐熱性、耐擦傷性及び極性の高い重合性不飽和化合物との相溶性がより優れる点から好ましい。 The R 2 is not particularly limited as long as it is a divalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms. Specifically, for example, methylene group, ethylene group, 1,2-propylene group, 1,3-propylene group, 1,2-butylene group, 1,4-butylene group, hexylene group and other alkylene groups; cyclohexylene group And aralkylene groups such as a phenylene group, a xylylene group, and a biphenylene group. Among them, a divalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, particularly an ethylene group, a 1,2-propylene group, and a 1,4-butylene group, have high heat resistance, scratch resistance, and high polarity polymerization. It is preferable from the viewpoint of better compatibility with unsaturated compounds.

前記Rとしては、炭素数1〜10の2価の炭化水素基であれば特に限定されるものではない。具体的には例えば、メチレン基、エチレン基、1,2−プロピレン基、1,3−プロピレン基、1,2−ブチレン基、1,4−ブチレン基、ヘキシレン基等のアルキレン基;シクロヘキシレン基等のシクロアルキレン基;フェニレン基、キシリレン基、ビフェニレン基等のアリーレン基等が挙げられる。なかでも、炭素数1〜6の2価の炭化水素基、特にエチレン基、1,3−プロピレン基であることが、耐熱性、耐擦傷性及び極性の高い重合性不飽和化合物との相溶性がより優れる点から好ましい。 The R 3 is not particularly limited as long as it is a divalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms. Specifically, for example, methylene group, ethylene group, 1,2-propylene group, 1,3-propylene group, 1,2-butylene group, 1,4-butylene group, hexylene group and other alkylene groups; cyclohexylene group And aralkylene groups such as a phenylene group, a xylylene group, and a biphenylene group. Among them, a divalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, particularly an ethylene group or a 1,3-propylene group, is compatible with heat-resistant, scratch-resistant and highly polar polymerizable unsaturated compounds. Is preferable from the viewpoint of more excellent.

前記nとしては、0〜9の整数であれば特に限定されるものではない。nとしては、好ましくは0〜5の整数、さらに好ましくは0〜3の整数、特に好ましくは0又は1である。   The n is not particularly limited as long as it is an integer of 0 to 9. n is preferably an integer of 0 to 5, more preferably an integer of 0 to 3, particularly preferably 0 or 1.

前記Rとしては、置換又は非置換の炭素数1〜6の1価の炭化水素基であれば特に限定されるものではない。具体的には例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、sec−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、シクロペンチル基、n−ヘキシル基、イソヘキシル基、シクロヘキシル基等の直鎖状又は分岐状のアルキル基といった非環状脂肪族1価炭化水素基又は環状脂肪族1価炭化水素基;トリフルオロメチル基、3,3,3−トリフルオロ−n−プロピル基等の含フッ素アルキル基等が挙げられる。特に、極性の高い重合性不飽和化合物との相溶性がより優れる点からメチル基が好ましい。 The R 4 is not particularly limited as long as it is a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms. Specifically, for example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, sec-butyl group, n-pentyl group, isopentyl group, neopentyl group, cyclopentyl An acyclic aliphatic monovalent hydrocarbon group or a cyclic aliphatic monovalent hydrocarbon group such as a linear or branched alkyl group such as a group, n-hexyl group, isohexyl group, cyclohexyl group; trifluoromethyl group, 3, And fluorine-containing alkyl groups such as 3,3-trifluoro-n-propyl group. In particular, a methyl group is preferable from the viewpoint of better compatibility with a highly polar polymerizable unsaturated compound.

前記Rとしては、置換又は非置換の炭素数1〜6の1価の炭化水素基であれば特に限定されるものではない。具体的には例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、sec−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、シクロペンチル基、n−ヘキシル基、イソヘキシル基、シクロヘキシル基等の直鎖状又は分岐状のアルキル基といった非環状脂肪族1価炭化水素基又は環状脂肪族1価炭化水素基;トリフルオロメチル基、3,3,3−トリフルオロ−n−プロピル基等の含フッ素アルキル基等が挙げられる。特に、極性の高い重合性不飽和化合物との相溶性がより優れる点からメチル基が好ましい。 The R 5 is not particularly limited as long as it is a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms. Specifically, for example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, sec-butyl group, n-pentyl group, isopentyl group, neopentyl group, cyclopentyl An acyclic aliphatic monovalent hydrocarbon group or a cyclic aliphatic monovalent hydrocarbon group such as a linear or branched alkyl group such as a group, n-hexyl group, isohexyl group, cyclohexyl group; trifluoromethyl group, 3, And fluorine-containing alkyl groups such as 3,3-trifluoro-n-propyl group. In particular, a methyl group is preferable from the viewpoint of better compatibility with a highly polar polymerizable unsaturated compound.

前記一般式(I)で表される有機基としては、耐熱性、耐擦傷性、極性の高い重合性不飽和化合物との相溶性及び活性エネルギー線硬化性がより優れる点から、Rが水素原子であり、Rがエチレン基又は1,4−ブチレン基であり、Rがエチレン基又は1,3−プロピレン基であり、かつnが0である有機基が好ましい。 As the organic group represented by the general formula (I), R 1 is hydrogen from the viewpoint that heat resistance, scratch resistance, compatibility with a highly polar polymerizable unsaturated compound and active energy ray curability are more excellent. An organic group which is an atom, R 2 is an ethylene group or a 1,4-butylene group, R 3 is an ethylene group or a 1,3-propylene group, and n is 0 is preferable.

前記一般式(II)で表される有機基としては、耐熱性、耐擦傷性、極性の高い重合性不飽和化合物との相溶性及び活性エネルギー線硬化性がより優れる点から、Rがメチル基であり、Rがエチレン基又は1,3−プロピレン基であり、Rが水素原子であり、かつRがエチレン基である有機基が好ましい。 As the organic group represented by the general formula (II), R 4 is methyl from the viewpoint of better heat resistance, scratch resistance, compatibility with a highly polar polymerizable unsaturated compound and active energy ray curability. And an organic group in which R 3 is an ethylene group or a 1,3-propylene group, R 1 is a hydrogen atom, and R 2 is an ethylene group.

前記一般式(III)で表される有機基としては、耐熱性、耐擦傷性、極性の高い重合性不飽和化合物との相溶性及び活性エネルギー線硬化性がより優れる点から、Rがメチル基であり、Rがエチレン基又は1,3−プロピレン基であり、Rが水素原子であり、かつRがエチレン基である有機基が好ましい。 Examples of the organic group represented by the general formula (III) include heat resistance, scratch resistance, compatibility with a highly polar polymerizable unsaturated compound, and active energy ray curability, so that R 5 is methyl. And an organic group in which R 3 is an ethylene group or a 1,3-propylene group, R 1 is a hydrogen atom, and R 2 is an ethylene group.

前記シルセスキオキサン化合物(a)は、単一の組成の化合物であってもよく、又は組成の異なる化合物の混合物であってもよい。   The silsesquioxane compound (a) may be a compound having a single composition or a mixture of compounds having different compositions.

前記シルセスキオキサン化合物(a)の重量平均分子量は、特に限定されるものではない。好ましくは重量平均分子量が1,000〜100,000、より好ましくは重量平均分子量が1,000〜10,000である。これら範囲は、シルセスキオキサン化合物(a)から得られた塗膜の耐熱性や、活性エネルギー線硬化型上塗り塗料組成物(II)の粘度及び塗装性の点で意義がある。   The weight average molecular weight of the silsesquioxane compound (a) is not particularly limited. The weight average molecular weight is preferably 1,000 to 100,000, more preferably 1,000 to 10,000. These ranges are significant in terms of the heat resistance of the coating film obtained from the silsesquioxane compound (a), and the viscosity and paintability of the active energy ray-curable top coating composition (II).

前記シルセスキオキサン化合物(a)は種々の方法により製造され得るが、その一例を示せば、例えば下記製造方法A又はBで示される方法により製造される。   The silsesquioxane compound (a) can be produced by various methods. For example, the silsesquioxane compound (a) can be produced by the following production method A or B.

製造方法A
製造方法Aとしては、ケイ素原子に直接に結合した有機基であり、かつウレタン結合及び1つの(メタ)アクリロイルオキシ基を有する有機基を有する加水分解性シランを含有する出発物質を用いた製造方法が挙げられる。
Manufacturing method A
Production method A is a production method using a starting material containing a hydrolyzable silane which is an organic group directly bonded to a silicon atom and has a urethane bond and an organic group having one (meth) acryloyloxy group Is mentioned.

具体的には例えば、出発物質に下記一般式(IV)で表される加水分解性シラン及び必要に応じて下記一般式(IV)で表される加水分解性シラン以外の加水分解性シランを用いて、触媒の存在下で加水分解縮合を行ってシルセスキオキサン化合物(a)を製造する方法が挙げられる。   Specifically, for example, a hydrolyzable silane represented by the following general formula (IV) and, if necessary, a hydrolyzable silane other than the hydrolyzable silane represented by the following general formula (IV) are used as a starting material. And a method of producing a silsesquioxane compound (a) by hydrolytic condensation in the presence of a catalyst.

SiX (IV)
前記一般式(IV)中のRは、ウレタン結合及び1つの(メタ)アクリロイルオキシ基を有する有機基である。Xは、同一又は異なって、塩素又は炭素数1〜6のアルコキシ基を示す。
R 6 SiX 3 (IV)
R 6 in the general formula (IV) is an organic group having a urethane bond and one (meth) acryloyloxy group. X is the same or different and represents chlorine or an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms.

炭素数1〜6のアルコキシ基としては、炭素数1〜6(好ましくは炭素数1〜4)の直鎖状又は分岐鎖状のアルコキシ基を挙げることができる。より具体的には、メトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、イソプロポキシ、n−ブトキシ、イソブトキシ、tert−ブトキシ、sec−ブトキシ、n−ペンチルオキシ、1−エチルプロポキシ、イソペンチルオキシ、ネオペンチルオキシ、n−ヘキシルオキシ、1,2,2−トリメチルプロポキシ、3,3−ジメチルブトキシ、2−エチルブトキシ、イソヘキシルオキシ、3−メチルペンチルオキシ基等が含まれる。   As a C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 (preferably C1-C4) linear or branched alkoxy group can be mentioned. More specifically, methoxy, ethoxy, n-propoxy, isopropoxy, n-butoxy, isobutoxy, tert-butoxy, sec-butoxy, n-pentyloxy, 1-ethylpropoxy, isopentyloxy, neopentyloxy, n -Hexyloxy, 1,2,2-trimethylpropoxy, 3,3-dimethylbutoxy, 2-ethylbutoxy, isohexyloxy, 3-methylpentyloxy group and the like are included.

従って、Xとしては、具体的には、例えば、塩素、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等が挙げられる。   Therefore, specific examples of X include chlorine, methoxy group, ethoxy group, propoxy group, butoxy group and the like.

前記一般式(IV)以外の加水分解性シランとしては、前記一般式(IV)で表される加水分解性シランとともに加水分解縮合することによりシルセスキオキサン化合物を製造できるものであれば特に限定されるものではない。具体的には例えば、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン等のアルキルトリアルコキシシラン;3−(メタ)アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、3−(メタ)アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン等の3−(メタ)アクリロイルオキシプロピルトリアルコキシシラン;ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン等のビニルトリアルコキシシラン等が挙げられる。   The hydrolyzable silane other than the general formula (IV) is particularly limited as long as it can produce a silsesquioxane compound by hydrolytic condensation together with the hydrolyzable silane represented by the general formula (IV). Is not to be done. Specifically, for example, alkyltrialkoxysilanes such as methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, and ethyltriethoxysilane; 3- (meth) acryloyloxypropyltrimethoxysilane, 3- (meth) acryloyl Examples include 3- (meth) acryloyloxypropyltrialkoxysilane such as oxypropyltriethoxysilane; vinyltrialkoxysilane such as vinyltrimethoxysilane and vinyltriethoxysilane.

ここで、前記一般式(IV)で表される加水分解性シランは、例えば、イソシアネート基を有するトリアルコキシシランと水酸基を有する(メタ)アクリル酸エステルを反応させることにより得ることができる。   Here, the hydrolyzable silane represented by the general formula (IV) can be obtained, for example, by reacting a trialkoxysilane having an isocyanate group and a (meth) acrylic acid ester having a hydroxyl group.

また、前記一般式(IV)で表される加水分解性シランとしては、具体的には例えば、下記一般式(V)で表される加水分解性シランが挙げられる。   Specific examples of the hydrolyzable silane represented by the general formula (IV) include hydrolyzable silanes represented by the following general formula (V).

Figure 2011218333
Figure 2011218333

[一般式(V)中、R、R、R、n及びXは、前記に同じ。]
前記一般式(V)で表される加水分解性シランは、例えば、下記一般式(VI)で表される加水分解性シランと、下記一般式(VII)で表される化合物とを反応させることにより得ることができる。
[In the general formula (V), R 1 , R 2 , R 3 , n and X are the same as above. ]
The hydrolyzable silane represented by the general formula (V) is obtained by, for example, reacting a hydrolyzable silane represented by the following general formula (VI) with a compound represented by the following general formula (VII). Can be obtained.

Figure 2011218333
Figure 2011218333

[一般式(VI)中、R及びXは、前記に同じ。] [In General Formula (VI), R 3 and X are the same as defined above. ]

Figure 2011218333
Figure 2011218333

[一般式(VII)中、R、R及びnは、前記に同じ。]
前記一般式(VI)で表される化合物としては、例えば、3−イソシアネートプロピルトリメトキシシラン、3−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。
[In General Formula (VII), R 1 , R 2 and n are the same as above. ]
Examples of the compound represented by the general formula (VI) include 3-isocyanatopropyltrimethoxysilane and 3-isocyanatepropyltriethoxysilane.

前記一般式(VII)で表される化合物としては、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート等が挙げられる。   Examples of the compound represented by the general formula (VII) include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, and 4-hydroxybutyl (meth). Examples include acrylate, diethylene glycol mono (meth) acrylate, triethylene glycol mono (meth) acrylate, and dipropylene glycol mono (meth) acrylate.

前記一般式(VI)で表される加水分解性シランと前記一般式(VII)で表される化合物との反応は、イソシアネート基と水酸基とを反応させる常法に従って行うことができる。   The reaction between the hydrolyzable silane represented by the general formula (VI) and the compound represented by the general formula (VII) can be performed according to a conventional method in which an isocyanate group and a hydroxyl group are reacted.

上記反応式における一般式(VI)で表される加水分解性シランと前記一般式(VII)で表される化合物との使用割合は、通常前者1モルに対し後者を0.90〜1.10モル程度、好ましくは0.95〜1.05モル程度とすればよい。   The use ratio of the hydrolyzable silane represented by the general formula (VI) and the compound represented by the general formula (VII) in the above reaction formula is usually 0.90 to 1.10. About a mole, preferably about 0.95 to 1.05 mole.

反応温度は、例えば、0〜200℃、好ましくは20〜200℃、更に好ましくは、20〜120℃である。また、この反応は圧力によらず実施できるが、0.02〜0.2MPa、特に0.08〜0.15MPaの圧力範囲が好ましい。当該反応は、通常、2〜10時間程度で終了する。   The reaction temperature is, for example, 0 to 200 ° C, preferably 20 to 200 ° C, more preferably 20 to 120 ° C. Although this reaction can be carried out regardless of pressure, a pressure range of 0.02 to 0.2 MPa, particularly 0.08 to 0.15 MPa is preferable. The reaction is usually completed in about 2 to 10 hours.

前記反応では適宜触媒を使用しても良い。触媒としては、トリエチルアミン等の第三級アミン、ジブチル錫ジラウレート等の有機金属化合物等が挙げられる。   In the reaction, a catalyst may be appropriately used. Examples of the catalyst include tertiary amines such as triethylamine and organometallic compounds such as dibutyltin dilaurate.

前記反応では適宜溶媒を使用しても良い。溶媒としては、具体的には例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メチルアミルケトン、エチルイソアミルケトン、ジイソブチルケトン、メチルへキシルケトン等のケトン類;酢酸エチル、酢酸ブチル、安息香酸メチル、プロピオン酸メチル等のエステル類;テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル類;プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、3−メトキシブチルアセテート等のグリコールエーテル類;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、脂肪族炭化水素類等が挙げられる。   In the reaction, a solvent may be appropriately used. Specific examples of the solvent include ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, methyl amyl ketone, ethyl isoamyl ketone, diisobutyl ketone, and methyl hexyl ketone; ethyl acetate, butyl acetate, methyl benzoate, propion Esters such as methyl acid; Ethers such as tetrahydrofuran, dioxane and dimethoxyethane; Glycol ethers such as propylene glycol monomethyl ether acetate and 3-methoxybutyl acetate; Aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; Aliphatic hydrocarbons And the like.

また、前記一般式(IV)で表される加水分解性シランの他の具体的な例としては、下記一般式(VIII)で表される加水分解性シラン及び下記一般式(IX)で表される加水分解性シランが挙げられる。   In addition, other specific examples of the hydrolyzable silane represented by the general formula (IV) are represented by the hydrolyzable silane represented by the following general formula (VIII) and the following general formula (IX). Hydrolyzable silanes.

Figure 2011218333
Figure 2011218333

[一般式(VIII)中、R、R、R、R及びXは前記に同じ。] [In General Formula (VIII), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and X are the same as above. ]

Figure 2011218333
Figure 2011218333

[一般式(IX)中、R、R、R、R及びXは前記に同じ。]
前記一般式(VIII)で表される加水分解性シランは、例えば、下記一般式(X)で表される加水分解性シランと下記一般式(XI)で表される化合物とを反応させ生成物を得た後、さらに該生成物に下記一般式(XII)で表される化合物を反応させることにより得ることができる。
[In General Formula (IX), R 1 , R 2 , R 3 , R 5 and X are the same as defined above. ]
The hydrolyzable silane represented by the general formula (VIII) is, for example, a product obtained by reacting a hydrolyzable silane represented by the following general formula (X) with a compound represented by the following general formula (XI). Then, the product can be further reacted with a compound represented by the following general formula (XII).

Figure 2011218333
Figure 2011218333

[一般式(X)中、R及びXは前記に同じ。] [In General Formula (X), R 3 and X are the same as above. ]

Figure 2011218333
Figure 2011218333

[一般式(XI)中、Rは前記に同じ。] [In general formula (XI), R 4 is the same as defined above. ]

Figure 2011218333
Figure 2011218333

[一般式(XII)中、R及びRは前記に同じ。]
前記一般式(X)で表される加水分解性シランとしては、具体的には例えば、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。
[In General Formula (XII), R 1 and R 2 are the same as above. ]
Specific examples of the hydrolyzable silane represented by the general formula (X) include 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane and 3-glycidoxypropyltriethoxysilane.

前記一般式(XI)で表される化合物としては、具体的には例えば、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、トリフルオロ酢酸、3,3,3−トリフルオロプロピオン酸等が挙げられる。   Specific examples of the compound represented by the general formula (XI) include acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, caproic acid, enanthic acid, trifluoroacetic acid, and 3,3,3-trifluoropropionic acid. Etc.

前記一般式(XII)で表される化合物としては、具体的には例えば、イソシアネートメチル(メタ)アクリレート、2−イソシアネートエチル(メタ)アクリレート、3−イソシアネートプロピル(メタ)アクリレート、イソシアネートオクチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。   Specific examples of the compound represented by the general formula (XII) include isocyanate methyl (meth) acrylate, 2-isocyanatoethyl (meth) acrylate, 3-isocyanatepropyl (meth) acrylate, and isocyanate octyl (meth). An acrylate etc. are mentioned.

前記一般式(IX)で表される加水分解性シランは、例えば、下記一般式(XIII)で表される加水分解性シランと下記一般式(XIV)で表される化合物とを反応させ生成物を得た後、さらに該生成物に下記一般式(XV)で表される化合物を反応させることにより得ることができる。   The hydrolyzable silane represented by the general formula (IX) is, for example, a product obtained by reacting a hydrolyzable silane represented by the following general formula (XIII) with a compound represented by the following general formula (XIV). Then, the product can be obtained by further reacting the product with a compound represented by the following general formula (XV).

Figure 2011218333
Figure 2011218333

[一般式(XIII)中、R及びXは前記に同じ。] [In General Formula (XIII), R 3 and X are the same as defined above. ]

Figure 2011218333
Figure 2011218333

[一般式(XIV)中、Rは前記に同じ。] [In general formula (XIV), R 5 is the same as defined above. ]

Figure 2011218333
Figure 2011218333

[一般式(XV)中、R及びRは前記に同じ。]
前記一般式(XIII)で表される加水分解性シランとしては、具体的には例えば、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン等が挙げられる。
[In General Formula (XV), R 1 and R 2 are the same as above. ]
Specific examples of the hydrolyzable silane represented by the general formula (XIII) include 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane and 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltri An ethoxysilane etc. are mentioned.

前記一般式(XIV)で表される化合物としては、具体的には例えば、前記一般式(XI)で表される化合物の説明において具体的に示した化合物と同じ化合物が挙げられる。   Specific examples of the compound represented by the general formula (XIV) include the same compounds as those specifically shown in the description of the compound represented by the general formula (XI).

前記一般式(XV)で表される化合物としては、具体的には例えば、前記一般式(XII)で表される化合物の説明において具体的に示した化合物と同じ化合物が挙げられる。   Specific examples of the compound represented by the general formula (XV) include the same compounds as those specifically shown in the description of the compound represented by the general formula (XII).

前記一般式(X)で表される加水分解性シランと前記一般式(XI)で表される化合物との反応、及び、前記一般式(XIII)で表される加水分解性シランと前記一般式(XIV)で表される化合物との反応は、カルボキシル基とエポキシ基とを反応させる常法に従って行うことができる。   Reaction of the hydrolyzable silane represented by the general formula (X) with the compound represented by the general formula (XI), and the hydrolyzable silane represented by the general formula (XIII) and the general formula The reaction with the compound represented by (XIV) can be carried out according to a conventional method in which a carboxyl group and an epoxy group are reacted.

上記反応における前記一般式(X)で表される加水分解性シランと前記一般式(XI)で表される化合物との使用割合は、通常前者1モルに対し後者を0.80〜1.20モル程度、好ましくは0.90〜1.10モル程度とすればよい。   The ratio of the hydrolyzable silane represented by the general formula (X) and the compound represented by the general formula (XI) in the above reaction is usually 0.80 to 1.20 with respect to 1 mole of the former. About a mole, preferably about 0.90 to 1.10 mole.

上記反応における前記一般式(XIII)で表される加水分解性シランと前記一般式(XIV)で表される化合物との使用割合は、通常前者1モルに対し後者を0.80〜1.20モル程度、好ましくは0.90〜1.10モル程度とすればよい。   In the above reaction, the proportion of the hydrolyzable silane represented by the general formula (XIII) and the compound represented by the general formula (XIV) is usually 0.80 to 1.20 with respect to 1 mole of the former. About a mole, preferably about 0.90 to 1.10 mole.

反応温度は、例えば、0〜200℃、好ましくは20〜200℃、更に好ましくは、20〜120℃である。当該反応は、通常、10〜24時間程度で終了する。   The reaction temperature is, for example, 0 to 200 ° C, preferably 20 to 200 ° C, more preferably 20 to 120 ° C. The reaction is usually completed in about 10 to 24 hours.

前記反応では適宜触媒を使用しても良い。触媒としては、具体的には例えば、トリエチルアミン、ベンジルジメチルアミン等の3級アミン;テトラメチルアンモニウムクロライド、テトラエチルアンモニウムブロマイド、テトラブチルアンモニウムブロマイド等の4級アンモニウム塩;ジエチルアミン等の酢酸塩、ギ酸塩等の2級アミン塩;水酸化ナトリウム、水酸化カルシウム等のアルカリ金属、アルカリ土類金属の水酸化物;酢酸ナトリウム、酢酸カルシウム等のアルカリ金属、アルカリ土類金属塩;イミダゾ−ル類;ジアザビシクロウンデセン等の環状含窒素化合物、トリフェニルフォスフィン、トリブチルフォスフィンなどのリン化合物等が挙げられる。触媒の使用量は、特に限定されるものではないが、反応原料に対して、0.01〜5質量%である。   In the reaction, a catalyst may be appropriately used. Specific examples of the catalyst include tertiary amines such as triethylamine and benzyldimethylamine; quaternary ammonium salts such as tetramethylammonium chloride, tetraethylammonium bromide and tetrabutylammonium bromide; acetates and formates such as diethylamine Secondary amine salts of sodium hydroxide, alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and calcium hydroxide, alkali metal and alkaline earth metal salts such as sodium acetate and calcium acetate, imidazoles, diaza Examples thereof include cyclic nitrogen-containing compounds such as bicycloundecene and phosphorus compounds such as triphenylphosphine and tributylphosphine. Although the usage-amount of a catalyst is not specifically limited, It is 0.01-5 mass% with respect to the reaction raw material.

前記反応では適宜溶媒を使用しても良い。溶媒は特に限定されるものではない。具体的には例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メチルアミルケトン、エチルイソアミルケトン、ジイソブチルケトン、メチルへキシルケトン等のケトン類;酢酸エチル、酢酸ブチル、安息香酸メチル、プロピオン酸メチル等のエステル類;テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル類;エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、3−メトキシブチルアセテート等のグリコールエーテル類;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、脂肪族炭化水素類等が挙げられる。   In the reaction, a solvent may be appropriately used. The solvent is not particularly limited. Specifically, for example, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, methyl amyl ketone, ethyl isoamyl ketone, diisobutyl ketone, methyl hexyl ketone; ethyl acetate, butyl acetate, methyl benzoate, methyl propionate, etc. Esters; ethers such as tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane; glycol ethers such as ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, 3-methoxybutyl acetate; toluene, xylene, etc. Aromatic hydrocarbons, aliphatic hydrocarbons and the like.

前記一般式(X)で表される加水分解性シランと前記一般式(XI)で表される化合物とを反応させて得た反応生成物(以下、単に反応生成物(X−XI)と示すこともある)と前記一般式(XII)で表される化合物との反応、及び、前記一般式(XIII)で表される加水分解性シランと前記一般式(XIV)で表される化合物とを反応させて得た反応生成物(以下、単に反応生成物(XIII−XIV)と示すこともある)と前記一般式(XV)で表される化合物との反応は、水酸基とイソシアネート基とを反応させる常法に従って行うことができる。   A reaction product obtained by reacting the hydrolyzable silane represented by the general formula (X) with the compound represented by the general formula (XI) (hereinafter simply referred to as reaction product (X-XI)). And a compound represented by the general formula (XII), a hydrolyzable silane represented by the general formula (XIII) and a compound represented by the general formula (XIV). The reaction between the reaction product obtained by the reaction (hereinafter sometimes simply referred to as the reaction product (XIII-XIV)) and the compound represented by the general formula (XV) involves reacting a hydroxyl group with an isocyanate group. Can be done according to conventional methods.

上記反応における前記反応生成物(X−XI)と前記一般式(XII)で表される化合物との使用割合は、通常前者1モルに対し後者を0.90〜1.10モル程度、好ましくは0.95〜1.05モル程度とすればよい。   The use ratio of the reaction product (X-XI) and the compound represented by the general formula (XII) in the above reaction is usually about 0.90 to 1.10 mol of the latter with respect to 1 mol of the former, preferably What is necessary is just to be about 0.95-1.05 mol.

上記反応における前記反応生成物(XIII−XIV)と前記一般式(XV)で表される化合物との使用割合は、通常前者1モルに対し後者を0.90〜1.10モル程度、好ましくは0.95〜1.05モル程度とすればよい。   The ratio of the reaction product (XIII-XIV) and the compound represented by the general formula (XV) used in the above reaction is usually about 0.90 to 1.10 moles of the latter with respect to 1 mole of the former, preferably What is necessary is just to be about 0.95-1.05 mol.

反応温度は、例えば、0〜200℃、好ましくは20〜200℃、更に好ましくは、20〜120℃である。また、この反応は圧力によらず実施できるが、0.02〜0.2MPa、特に0.08〜0.15MPaの圧力範囲が好ましい。当該反応は、通常、2〜10時間程度で終了する。   The reaction temperature is, for example, 0 to 200 ° C, preferably 20 to 200 ° C, more preferably 20 to 120 ° C. Although this reaction can be carried out regardless of pressure, a pressure range of 0.02 to 0.2 MPa, particularly 0.08 to 0.15 MPa is preferable. The reaction is usually completed in about 2 to 10 hours.

前記反応では適宜触媒を使用しても良い。触媒としては、トリエチルアミン等の第三級アミン、ジブチル錫ジラウレート等の有機金属化合物等が挙げられる。   In the reaction, a catalyst may be appropriately used. Examples of the catalyst include tertiary amines such as triethylamine and organometallic compounds such as dibutyltin dilaurate.

前記反応では適宜溶媒を使用しても良い。溶媒としては、具体的には例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メチルアミルケトン、エチルイソアミルケトン、ジイソブチルケトン、メチルへキシルケトン等のケトン類;酢酸エチル、酢酸ブチル、安息香酸メチル、プロピオン酸メチル等のエステル類;テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル類;プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、3−メトキシブチルアセテート等のグリコールエーテル類;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、脂肪族炭化水素類等が挙げられる。   In the reaction, a solvent may be appropriately used. Specific examples of the solvent include ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, methyl amyl ketone, ethyl isoamyl ketone, diisobutyl ketone, and methyl hexyl ketone; ethyl acetate, butyl acetate, methyl benzoate, propion Esters such as methyl acid; Ethers such as tetrahydrofuran, dioxane and dimethoxyethane; Glycol ethers such as propylene glycol monomethyl ether acetate and 3-methoxybutyl acetate; Aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; Aliphatic hydrocarbons And the like.

本製造方法において前記本発明のシルセスキオキサン化合物を得るためには、具体的には、
[1]前記一般式(IV)で表される加水分解性シランを出発物質に用いて触媒の存在下で加水分解縮合する、又は、
[2]前記一般式(IV)で表される加水分解性シラン及び前記一般式(IV)以外の加水分解性シランを出発物質に用いて触媒の存在下で加水分解縮合する、
ことが挙げられる。
In order to obtain the silsesquioxane compound of the present invention in the production method, specifically,
[1] Hydrolytic condensation using the hydrolyzable silane represented by the general formula (IV) as a starting material in the presence of a catalyst, or
[2] The hydrolyzable silane represented by the general formula (IV) and the hydrolyzable silane other than the general formula (IV) are used as starting materials and hydrolytically condensed in the presence of a catalyst.
Can be mentioned.

前記触媒としては、塩基性触媒が好適に用いられる。塩基性触媒としては、具体的には例えば、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化セシウム等のアルカリ金属水酸化物、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、ベンジルトリメチルアンモニウムヒドロキシド等の水酸化アンモニウム塩、テトラブチルアンモニウムフルオリド等のフッ化アンモニウム塩などが挙げられる。   As the catalyst, a basic catalyst is preferably used. Specific examples of the basic catalyst include alkali metal hydroxides such as potassium hydroxide, sodium hydroxide and cesium hydroxide, tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, tetrabutylammonium hydroxide, benzyltrimethyl Examples thereof include ammonium hydroxide salts such as ammonium hydroxide and ammonium fluoride salts such as tetrabutylammonium fluoride.

前記触媒の使用量は特に限定されるものではないが、多すぎるとコスト高、除去が困難等の問題があり、一方、少なすぎると反応が遅くなってしまう。そのため、触媒の使用量は、好ましくは加水分解性シラン1モルに対して0.0001〜1.0モル、より好ましくは0.0005〜0.1モルの範囲である。   The amount of the catalyst used is not particularly limited. However, if the amount is too large, there are problems such as high cost and difficulty in removal. On the other hand, if the amount is too small, the reaction becomes slow. Therefore, the usage-amount of a catalyst becomes like this. Preferably it is 0.0001-1.0 mol with respect to 1 mol of hydrolysable silane, More preferably, it is the range of 0.0005-0.1 mol.

加水分解縮合する場合(前記[1]又は[2]の場合)は水を使用する。加水分解性シランと水との量比は、特に限定されるものでない。水の使用量は、加水分解性シラン1モルに対し、好ましくは水0.1〜100モル、さらに好ましくは0.5〜3モルの割合である。水の量が少なすぎると、反応が遅くなり、目的とする本発明のシルセスキオキサン化合物の収率が低くなるおそれがあり、水の量が多すぎると高分子量化し、所望とする構造の生成物が減少するおそれがある。また、使用する水は塩基性触媒を水溶液として用いる場合はその水で代用してもよいし、別途水を加えてもよい。   In the case of hydrolytic condensation (in the case of [1] or [2] above), water is used. The quantity ratio of hydrolyzable silane and water is not particularly limited. The amount of water used is preferably 0.1 to 100 mol of water, more preferably 0.5 to 3 mol, per mol of hydrolyzable silane. If the amount of water is too small, the reaction slows down, and the yield of the desired silsesquioxane compound of the present invention may be lowered. If the amount of water is too large, the molecular weight increases and the desired structure is obtained. Product may be reduced. Moreover, when using a basic catalyst as aqueous solution, the water to be used may be substituted with the water, and water may be added separately.

前記加水分解縮合において、有機溶媒は使用してもよく、又は使用しなくてもよい。有機溶媒を用いることは、ゲル化を防止する点及び製造時の粘度を調節できる点から好ましい。有機溶媒としては、極性有機溶媒、非極性有機溶媒を単独又は混合物として用いることができる。   In the hydrolysis condensation, an organic solvent may be used or may not be used. It is preferable to use an organic solvent from the viewpoint of preventing gelation and adjusting the viscosity during production. As the organic solvent, polar organic solvents and nonpolar organic solvents can be used alone or as a mixture.

極性有機溶媒としてはメタノール、エタノール、2−プロパノール等の低級アルコール類、アセトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、テトラヒドロフラン等のエーテル類が用いられるが、特にアセトン、テトラヒドロフランは沸点が低く系が均一になり反応性が向上することから好ましい。非極性有機溶媒としては、炭化水素系溶媒が好ましく、トルエン、キシレン等の水よりも沸点が高い有機溶媒が好ましく、特にトルエン等の水と共沸する有機溶媒は系内から水を効率よく除去できるため好ましい。特に、極性有機溶媒と非極性有機溶媒とを混合することで、前述したそれぞれの利点が得られるため混合溶媒として用いることが好ましい。   As the polar organic solvent, lower alcohols such as methanol, ethanol and 2-propanol, ketones such as acetone and methyl isobutyl ketone, and ethers such as tetrahydrofuran are used. Particularly, acetone and tetrahydrofuran have a low boiling point and the system is uniform. It is preferable because the reactivity is improved. As the nonpolar organic solvent, a hydrocarbon solvent is preferable, and an organic solvent having a boiling point higher than that of water such as toluene and xylene is preferable. In particular, an organic solvent azeotropic with water such as toluene efficiently removes water from the system. This is preferable because it is possible. In particular, mixing a polar organic solvent and a nonpolar organic solvent provides the above-described advantages, so that it is preferably used as a mixed solvent.

加水分解縮合時の反応温度としては0〜200℃、好ましくは10〜200℃、更に好ましくは、10〜120℃である。また、この反応は圧力によらず実施できるが、0.02〜0.2MPa、特に0.08〜0.15MPaの圧力範囲が好ましい。当該反応は、通常、1〜12時間程度で終了する。   The reaction temperature during hydrolysis condensation is 0 to 200 ° C, preferably 10 to 200 ° C, and more preferably 10 to 120 ° C. Although this reaction can be carried out regardless of pressure, a pressure range of 0.02 to 0.2 MPa, particularly 0.08 to 0.15 MPa is preferable. The reaction is usually completed in about 1 to 12 hours.

加水分解縮合反応では、加水分解と共に縮合反応が進行し、加水分解性シランの加水分解性基[具体的には例えば、前記一般式(IV)中のX]の大部分、好ましくは100%がヒドロキシル基(OH基)に加水分解され、更にそのOH基の大部分、好ましくは80%以上、より好ましくは90%以上、特に好ましくは100%を縮合させることが液安定性及び耐候性の点から好ましい。   In the hydrolysis-condensation reaction, the condensation reaction proceeds with hydrolysis, and most of the hydrolyzable group of the hydrolyzable silane [specifically, for example, X in the general formula (IV), preferably 100%, It is liquid stability and weather resistance that it is hydrolyzed to a hydroxyl group (OH group), and further, most of the OH group, preferably 80% or more, more preferably 90% or more, particularly preferably 100%, is condensed. To preferred.

加水分解縮合後の混合液からは、溶媒や反応で生成したアルコール、触媒を公知の手法で除去してもよい。なお、得られた生成物は、その目的に応じて、触媒を洗浄、カラム分離、固体吸着剤等の各種の精製法によって除去し、更に精製してもよい。好ましくは、効率の点から水洗により触媒を除去することである。   From the mixed solution after hydrolysis condensation, the solvent, the alcohol generated by the reaction, and the catalyst may be removed by a known method. The obtained product may be further purified by removing the catalyst by various purification methods such as washing, column separation, and solid adsorbent according to the purpose. Preferably, the catalyst is removed by washing with water from the viewpoint of efficiency.

以上の製造方法によりシルセスキオキサン化合物(a)が製造される。   The silsesquioxane compound (a) is produced by the above production method.

ここで、前記加水分解縮合において100%縮合しない場合には、上記の製造方法により得られる生成物には、Si−OH基(ヒドロキシシリル基)の全てが加水分解縮合した構造のシルセスキオキサン化合物以外に、Si−OH基が残存したラダー構造、不完全籠型構造及び/又はランダム縮合体のシルセスキオキサン化合物が含まれる場合があるが、上記製造方法により得られるシルセスキオキサン化合物(a)は、それらラダー構造、不完全籠型構造及び/又はランダム縮合体を含んでいてもよい。   Here, when 100% condensation is not performed in the hydrolysis condensation, the product obtained by the above production method includes a silsesquioxane having a structure in which all Si—OH groups (hydroxysilyl groups) are hydrolyzed and condensed. In addition to the compound, a silsesquioxane compound having a ladder structure in which a Si—OH group remains, an incomplete cage structure, and / or a random condensate may be included. (A) may contain those ladder structures, incomplete cage structures and / or random condensates.

製造方法B
製造方法Bとしては、エポキシ基を有する加水分解性シランを用いて、エポキシ基を有するシルセスキオキサン化合物を製造する第B1工程、該第B1工程により得られたシルセスキオキサン化合物のエポキシ基に、カルボキシル基を有する化合物の該カルボキシル基を反応させ、2級水酸基を有するシルセスキオキサン化合物を製造する第B2工程、該第B2工程により得られたシルセスキオキサン化合物の2級水酸基に、(メタ)アクリロイルオキシ基及びイソシアネート基を有する化合物の該イソシアネート基を反応させる第B3工程を含む製造方法が挙げられる。
Manufacturing method B
As the production method B, using a hydrolyzable silane having an epoxy group, a step B1 for producing a silsesquioxane compound having an epoxy group, an epoxy group of the silsesquioxane compound obtained by the step B1 To the second hydroxyl group of the silsesquioxane compound obtained by the second step B2 in which the carboxyl group of the compound having a carboxyl group is reacted to produce a silsesquioxane compound having a secondary hydroxyl group. And a production method including Step B3 in which the isocyanate group of the compound having a (meth) acryloyloxy group and an isocyanate group is reacted.

第B1工程
前記第B1工程に用いるエポキシ基を有する加水分解性シランとしては、具体的には例えば、下記一般式(XVI)で表される加水分解性シラン、及び下記一般式(XVII)で表される加水分解性シランが挙げられる。
Step B1 Specific examples of the hydrolyzable silane having an epoxy group used in Step B1 include a hydrolyzable silane represented by the following general formula (XVI) and a general formula (XVII) below. Hydrolyzable silanes.

Figure 2011218333
Figure 2011218333

[一般式(XVI)及び一般式(XVII)中、R及びXは前記に同じ。]
前記第B1工程においてエポキシ基を有するシルセスキオキサン化合物を得るためには、具体的には、
[3]前記一般式(XVI)で表される加水分解性シラン及び/又は前記一般式(XVII)で表される加水分解性シランを出発物質に用いて触媒の存在下で加水分解縮合する、又は、
[4]前記一般式(XVI)で表される加水分解性シラン及び/又は一般式(XVII)で表される加水分解性シラン、並びにエポキシ基を有する加水分解性シラン以外の加水分解性シランを出発物質に用いて触媒の存在下で加水分解縮合する、
ことが挙げられる。
[In General Formula (XVI) and General Formula (XVII), R 3 and X are the same as defined above. ]
In order to obtain a silsesquioxane compound having an epoxy group in the step B1, specifically,
[3] The hydrolyzable silane represented by the general formula (XVI) and / or the hydrolyzable silane represented by the general formula (XVII) is used as a starting material for hydrolysis condensation in the presence of a catalyst. Or
[4] A hydrolyzable silane other than the hydrolyzable silane represented by the general formula (XVI) and / or the hydrolyzable silane represented by the general formula (XVII) and the hydrolyzable silane having an epoxy group. Hydrolytic condensation in the presence of a catalyst using as starting material,
Can be mentioned.

前記エポキシ基を有する加水分解性シラン以外の加水分解性シランとしては、前記エポキシ基を有する加水分解性シランとともに加水分解縮合することによりシルセスキオキサン化合物を製造できるものであれば特に限定されるものではない。具体的には例えば、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン等のアルキルトリアルコキシシラン;3−(メタ)アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、3−(メタ)アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン等の3−(メタ)アクリロイルオキシプロピルトリアルコキシシラン;ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン等のビニルトリアルコキシシラン等が挙げられる。   The hydrolyzable silane other than the hydrolyzable silane having an epoxy group is particularly limited as long as it can produce a silsesquioxane compound by hydrolytic condensation together with the hydrolyzable silane having the epoxy group. It is not a thing. Specifically, for example, alkyltrialkoxysilanes such as methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, and ethyltriethoxysilane; 3- (meth) acryloyloxypropyltrimethoxysilane, 3- (meth) acryloyl Examples include 3- (meth) acryloyloxypropyltrialkoxysilane such as oxypropyltriethoxysilane; vinyltrialkoxysilane such as vinyltrimethoxysilane and vinyltriethoxysilane.

前記触媒としては、塩基性触媒が好適に用いられる。塩基性触媒としては、具体的には例えば、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化セシウム等のアルカリ金属水酸化物、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、ベンジルトリメチルアンモニウムヒドロキシド等の水酸化アンモニウム塩、テトラブチルアンモニウムフルオリド等のフッ化アンモニウム塩などが挙げられる。   As the catalyst, a basic catalyst is preferably used. Specific examples of the basic catalyst include alkali metal hydroxides such as potassium hydroxide, sodium hydroxide and cesium hydroxide, tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, tetrabutylammonium hydroxide, benzyltrimethyl Examples thereof include ammonium hydroxide salts such as ammonium hydroxide and ammonium fluoride salts such as tetrabutylammonium fluoride.

前記触媒の使用量は特に限定されるものではないが、多すぎるとコスト高、除去が困難等の問題があり、一方、少なすぎると反応が遅くなってしまう。そのため、触媒の使用量は、好ましくは加水分解性シラン1モルに対して0.0001〜1.0モル、より好ましくは0.0005〜0.1モルの範囲である。   The amount of the catalyst used is not particularly limited. However, if the amount is too large, there are problems such as high cost and difficulty in removal. On the other hand, if the amount is too small, the reaction becomes slow. Therefore, the usage-amount of a catalyst becomes like this. Preferably it is 0.0001-1.0 mol with respect to 1 mol of hydrolysable silane, More preferably, it is the range of 0.0005-0.1 mol.

加水分解縮合する場合(前記[3]又は[4]の場合)は水を使用する。加水分解性シランと水との量比は、特に限定されるものでない。水の使用量は、加水分解性シラン1モルに対し、好ましくは水0.1〜100モル、さらに好ましくは0.5〜3モルの割合である。水の量が少なすぎると、反応が遅くなり、目的とするシルセスキオキサンの収率が低くなるおそれがあり、水の量が多すぎると高分子量化し、所望とする構造の生成物が減少するおそれがある。また、使用する水は塩基性触媒を水溶液として用いる場合はその水で代用してもよいし、別途水を加えてもよい。   In the case of hydrolytic condensation (in the case of [3] or [4] above), water is used. The quantity ratio of hydrolyzable silane and water is not particularly limited. The amount of water used is preferably 0.1 to 100 mol of water, more preferably 0.5 to 3 mol, per mol of hydrolyzable silane. If the amount of water is too small, the reaction may be slowed and the yield of the desired silsesquioxane may be reduced. If the amount of water is too large, the molecular weight will increase and the product of the desired structure will decrease. There is a risk. Moreover, when using a basic catalyst as aqueous solution, the water to be used may be substituted with the water, and water may be added separately.

前記加水分解縮合において、有機溶媒は使用してもよく、又は使用しなくてもよい。有機溶媒を用いることは、ゲル化を防止する点及び製造時の粘度を調節できる点から好ましい。有機溶媒としては、極性有機溶媒、非極性有機溶媒を単独又は混合物として用いることができる。   In the hydrolysis condensation, an organic solvent may be used or may not be used. It is preferable to use an organic solvent from the viewpoint of preventing gelation and adjusting the viscosity during production. As the organic solvent, polar organic solvents and nonpolar organic solvents can be used alone or as a mixture.

極性有機溶媒としてはメタノール、エタノール、2−プロパノール等の低級アルコール類、アセトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、テトラヒドロフラン等のエーテル類が用いられるが、特にアセトン、テトラヒドロフランは沸点が低く系が均一になり反応性が向上することから好ましい。非極性有機溶媒としては、炭化水素系溶媒が好ましく、トルエン、キシレン等の水よりも沸点が高い有機溶媒が好ましく、特にトルエン等の水と共沸する有機溶媒は系内から水を効率よく除去できるため好ましい。特に、極性有機溶媒と非極性有機溶媒とを混合することで、前述したそれぞれの利点が得られるため混合溶媒として用いることが好ましい。   As the polar organic solvent, lower alcohols such as methanol, ethanol and 2-propanol, ketones such as acetone and methyl isobutyl ketone, and ethers such as tetrahydrofuran are used. Particularly, acetone and tetrahydrofuran have a low boiling point and the system is uniform. It is preferable because the reactivity is improved. As the nonpolar organic solvent, a hydrocarbon solvent is preferable, and an organic solvent having a boiling point higher than that of water such as toluene and xylene is preferable. In particular, an organic solvent azeotropic with water such as toluene efficiently removes water from the system. This is preferable because it is possible. In particular, mixing a polar organic solvent and a nonpolar organic solvent provides the above-described advantages, so that it is preferably used as a mixed solvent.

加水分解縮合時の反応温度としては0〜200℃、好ましくは10〜200℃、更に好ましくは、10〜120℃である。当該反応は、通常、1〜12時間程度で終了する。   The reaction temperature during hydrolysis condensation is 0 to 200 ° C, preferably 10 to 200 ° C, and more preferably 10 to 120 ° C. The reaction is usually completed in about 1 to 12 hours.

加水分解縮合反応では、加水分解と共に縮合反応が進行し、加水分解性シランの加水分解性基[具体的には例えば、前記一般式(XVI)又は前記一般式(XVII)中のX]のXの大部分、好ましくは100%がヒドロキシル基(OH基)に加水分解され、更にそのOH基の大部分、好ましくは80%以上、より好ましくは90%以上、特に好ましくは100%を縮合させることが液安定性の点から好ましい。   In the hydrolysis-condensation reaction, the condensation reaction proceeds with hydrolysis, and the hydrolyzable group of the hydrolyzable silane [specifically, for example, X in the general formula (XVI) or the general formula (XVII)] X Most of the OH group, preferably 100% is hydrolyzed to hydroxyl groups (OH groups), and most of the OH groups are condensed, preferably 80% or more, more preferably 90% or more, particularly preferably 100%. Is preferable from the viewpoint of liquid stability.

第B2工程
前記第B2工程では、具体的には例えば、前記第B1工程により得られるケイ素原子に直接に結合した有機基として下記一般式(XVIII)で表される有機基を有するシルセスキオキサン化合物に、下記一般式(XIX)で表される化合物を反応させ、ケイ素原子に直接に結合した有機基として下記一般式(XX)で表される有機基を有するシルセスキオキサン化合物を製造する。
Step B2 In the step B2, specifically, for example, a silsesquioxane having an organic group represented by the following general formula (XVIII) as an organic group directly bonded to the silicon atom obtained in the step B1 A compound represented by the following general formula (XIX) is reacted with the compound to produce a silsesquioxane compound having an organic group represented by the following general formula (XX) as an organic group directly bonded to a silicon atom. .

Figure 2011218333
Figure 2011218333

[一般式(XVIII)、一般式(XIX)及び一般式(XX)中、R及びRは前記に同じ。]
また他の具体例としては例えば、前記第B1工程により得られるケイ素原子に直接に結合した有機基として下記一般式(XXI)で表される有機基を有するシルセスキオキサン化合物に、下記一般式(XXII)で表される化合物を反応させ、ケイ素原子に直接に結合した有機基として下記一般式(XXIII)で表される有機基を有するシルセスキオキサン化合物を製造する。
[In General Formula (XVIII), General Formula (XIX), and General Formula (XX), R 3 and R 4 are the same as above. ]
Other specific examples include, for example, a silsesquioxane compound having an organic group represented by the following general formula (XXI) as an organic group directly bonded to the silicon atom obtained in the step B1. A compound represented by (XXII) is reacted to produce a silsesquioxane compound having an organic group represented by the following general formula (XXIII) as an organic group directly bonded to a silicon atom.

Figure 2011218333
Figure 2011218333

[一般式(XXI)、一般式(XXII)及び一般式(XXIII)中、R及びRは前記に同じ。]
前記ケイ素原子に直接に結合した有機基として前記一般式(XX)で表される有機基を有するシルセスキオキサン化合物、及び前記ケイ素原子に直接に結合した有機基として前記一般式(XXIII)で表される有機基を有するシルセスキオキサン化合物を製造する際の反応は、エポキシ基とカルボキシル基とを反応させる常法に従って行うことができる。
[In General Formula (XXI), General Formula (XXII), and General Formula (XXIII), R 3 and R 5 are the same as above. ]
A silsesquioxane compound having an organic group represented by the general formula (XX) as an organic group directly bonded to the silicon atom, and a general formula (XXIII) as an organic group directly bonded to the silicon atom. The reaction for producing the silsesquioxane compound having the organic group represented can be performed according to a conventional method in which an epoxy group and a carboxyl group are reacted.

反応温度は、例えば、0〜200℃、好ましくは20〜200℃、更に好ましくは、20〜120℃である。当該反応は、通常、10〜24時間程度で終了する。   The reaction temperature is, for example, 0 to 200 ° C, preferably 20 to 200 ° C, more preferably 20 to 120 ° C. The reaction is usually completed in about 10 to 24 hours.

上記反応における前記一般式(XVIII)で表される有機基を有するシルセスキオキサン化合物と前記一般式(XIX)で表される化合物との使用割合は、シルセスキオキサン化合物が有する一般式(XVIII)で表される有機基1モルに対し一般式(XIX)で表される化合物を、通常、0.80〜1.20モル程度、好ましくは0.90〜1.10モル程度とすればよい。   The ratio of the silsesquioxane compound having an organic group represented by the general formula (XVIII) and the compound represented by the general formula (XIX) in the above reaction is represented by the general formula ( The compound represented by the general formula (XIX) is usually about 0.80 to 1.20 moles, preferably about 0.90 to 1.10 moles per mole of the organic group represented by XVIII). Good.

上記反応における前記一般式(XXI)で表される有機基を有するシルセスキオキサン化合物と前記一般式(XXII)で表される化合物との使用割合は、シルセスキオキサン化合物が有する一般式(XXI)で表される有機基1モルに対し一般式(XXII)で表される化合物を、通常、0.80〜1.20モル程度、好ましくは0.80〜1.20モル程度とすればよい。   The ratio of the silsesquioxane compound having an organic group represented by the general formula (XXI) and the compound represented by the general formula (XXII) in the above reaction is represented by the general formula ( The compound represented by the general formula (XXII) is usually about 0.80 to 1.20 moles, preferably about 0.80 to 1.20 moles per mole of the organic group represented by XXI). Good.

前記反応では適宜触媒を使用しても良い。触媒としては、具体的には例えば、トリエチルアミン、ベンジルジメチルアミン等の3級アミン;テトラメチルアンモニウムクロライド、テトラエチルアンモニウムブロマイド、テトラブチルアンモニウムブロマイド等の4級アンモニウム塩;ジエチルアミン等の酢酸塩、ギ酸塩等の2級アミン塩;水酸化ナトリウム、水酸化カルシウム等のアルカリ金属、アルカリ土類金属の水酸化物;酢酸ナトリウム、酢酸カルシウム等のアルカリ金属、アルカリ土類金属塩;イミダゾ−ル類;ジアザビシクロウンデセン等の環状含窒素化合物、トリフェニルフォスフィン、トリブチルフォスフィンなどのリン化合物等が挙げられる。触媒の使用量は、特に限定されるものではないが、反応原料に対して、0.01〜5質量%である。   In the reaction, a catalyst may be appropriately used. Specific examples of the catalyst include tertiary amines such as triethylamine and benzyldimethylamine; quaternary ammonium salts such as tetramethylammonium chloride, tetraethylammonium bromide and tetrabutylammonium bromide; acetates and formates such as diethylamine Secondary amine salts of sodium hydroxide, alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and calcium hydroxide, alkali metal and alkaline earth metal salts such as sodium acetate and calcium acetate, imidazoles, diaza Examples thereof include cyclic nitrogen-containing compounds such as bicycloundecene and phosphorus compounds such as triphenylphosphine and tributylphosphine. Although the usage-amount of a catalyst is not specifically limited, It is 0.01-5 mass% with respect to the reaction raw material.

前記反応では適宜溶媒を使用しても良い。溶媒は特に限定されるものではない。具体的には例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メチルアミルケトン、エチルイソアミルケトン、ジイソブチルケトン、メチルへキシルケトン等のケトン類;酢酸エチル、酢酸ブチル、安息香酸メチル、プロピオン酸メチル等のエステル類;テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル類;エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、3−メトキシブチルアセテート等のグリコールエーテル類;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、脂肪族炭化水素類等が挙げられる。   In the reaction, a solvent may be appropriately used. The solvent is not particularly limited. Specifically, for example, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, methyl amyl ketone, ethyl isoamyl ketone, diisobutyl ketone, methyl hexyl ketone; ethyl acetate, butyl acetate, methyl benzoate, methyl propionate, etc. Esters; ethers such as tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane; glycol ethers such as ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, 3-methoxybutyl acetate; toluene, xylene, etc. Aromatic hydrocarbons, aliphatic hydrocarbons and the like.

第B3工程
前記第B3工程では、具体的には例えば、前記第B2工程により得られるケイ素原子に直接に結合した有機基として前記一般式(XX)で表される有機基を有するシルセスキオキサン化合物に、下記一般式(XXIV)で表される化合物を反応させる。
Step B3 In the step B3, specifically, for example, a silsesquioxane having an organic group represented by the general formula (XX) as an organic group directly bonded to the silicon atom obtained in the step B2 The compound is reacted with a compound represented by the following general formula (XXIV).

Figure 2011218333
Figure 2011218333

[一般式(XXIV)中、R及びRは前記に同じ。]
この反応を行うことにより、ケイ素原子に直接に結合した有機基として前記一般式(II)で表される有機基を有するシルセスキオキサン化合物を得ることができる。
[In General Formula (XXIV), R 1 and R 2 are the same as defined above. ]
By carrying out this reaction, a silsesquioxane compound having an organic group represented by the general formula (II) as an organic group directly bonded to a silicon atom can be obtained.

また他の具体例としては例えば、前記第B2工程により得られるケイ素原子に直接に結合した有機基として前記一般式(XXIII)で表される有機基を有するシルセスキオキサン化合物に、下記一般式(XXV)で表される化合物を反応させる。   As another specific example, for example, a silsesquioxane compound having an organic group represented by the above general formula (XXIII) as an organic group directly bonded to a silicon atom obtained in the step B2 can be represented by the following general formula. The compound represented by (XXV) is reacted.

Figure 2011218333
Figure 2011218333

[一般式(XXV)中、R及びRは前記に同じ。]
この反応を行うことにより、ケイ素原子に直接に結合した有機基として前記一般式(III)で表される有機基を有するシルセスキオキサン化合物を得ることができる。
[In General Formula (XXV), R 1 and R 2 are the same as above. ]
By performing this reaction, a silsesquioxane compound having an organic group represented by the general formula (III) as an organic group directly bonded to a silicon atom can be obtained.

前記反応の反応温度としては、水酸基とイソシアネート基を反応させる常法に従って行うことができ、例えば、0〜200℃、好ましくは10〜200℃、更に好ましくは、10〜120℃である。当該反応は、通常、2〜10時間程度で終了する。   The reaction temperature of the reaction can be carried out according to a conventional method for reacting a hydroxyl group with an isocyanate group, and is, for example, 0 to 200 ° C, preferably 10 to 200 ° C, and more preferably 10 to 120 ° C. The reaction is usually completed in about 2 to 10 hours.

上記反応における前記一般式(XX)で表される有機基を有するシルセスキオキサン化合物と前記一般式(XXIV)で表される化合物との使用割合は、シルセスキオキサン化合物が有する一般式(XX)で表される有機基1モルに対し一般式(XXIV)で表される化合物を、通常、0.90〜1.10モル程度、好ましくは0.95〜1.05モル程度とすればよい。   The use ratio of the silsesquioxane compound having an organic group represented by the general formula (XX) and the compound represented by the general formula (XXIV) in the above reaction is represented by the general formula ( XX) The amount of the compound represented by the general formula (XXIV) is usually about 0.90 to 1.10 mol, preferably about 0.95 to 1.05 mol with respect to 1 mol of the organic group represented by XX). Good.

上記反応における前記一般式(XXIII)で表される有機基を有するシルセスキオキサン化合物と前記一般式(XXV)で表される化合物との使用割合は、シルセスキオキサン化合物が有する一般式(XXIII)で表される有機基1モルに対し一般式(XXV)で表される化合物を、通常、0.90〜1.10モル程度、好ましくは0.95〜1.05モル程度とすればよい。   The ratio of the silsesquioxane compound having an organic group represented by the general formula (XXIII) and the compound represented by the general formula (XXV) in the above reaction is represented by the general formula ( XXIII) The amount of the compound represented by the general formula (XXV) is usually about 0.90 to 1.10 mol, preferably about 0.95 to 1.05 mol with respect to 1 mol of the organic group represented by XXIII). Good.

前記反応では適宜触媒を使用しても良い。触媒としては、トリエチルアミン等の第三級アミン、ジブチル錫ジラウレート等の有機金属化合物等が挙げられる。   In the reaction, a catalyst may be appropriately used. Examples of the catalyst include tertiary amines such as triethylamine and organometallic compounds such as dibutyltin dilaurate.

以上の製造方法によりシルセスキオキサン化合物(a)が製造される。   The silsesquioxane compound (a) is produced by the above production method.

上記各反応により得られる目的とする化合物は、通常の分離手段により反応系内より分離され、さらに精製することができる。この分離及び精製手段としては、例えば、蒸留法、溶媒抽出法、希釈法、再結晶法、カラムクロマトグラフィー、イオン交換クロマトグラフィー、ゲルクロマトグラフィー、アフィニティークロマトグラフィー、等を用いることができる。   The target compound obtained by the above reactions can be separated from the reaction system by ordinary separation means and further purified. As this separation and purification means, for example, distillation method, solvent extraction method, dilution method, recrystallization method, column chromatography, ion exchange chromatography, gel chromatography, affinity chromatography, etc. can be used.

ここで、前記第B1工程の加水分解縮合において100%縮合しない場合には、製造方法Bにより得られる生成物には、Si−OH基(ヒドロキシシリル基)の全てが加水分解縮合した構造のシルセスキオキサン化合物以外に、Si−OH基が残存したラダー構造、不完全籠型構造及び/又はランダム縮合体のシルセスキオキサン化合物が含まれる場合があるが、上記製造方法Bにより得られるシルセスキオキサン化合物(a)は、それらラダー構造、不完全籠型構造及び/又はランダム縮合体を含んでいてもよい。   Here, in the case where 100% condensation is not performed in the hydrolysis and condensation in the B1 step, the product obtained by the production method B includes a silyl having a structure in which all Si—OH groups (hydroxysilyl groups) are hydrolyzed and condensed. In addition to the sesquioxane compound, a silsesquioxane compound having a ladder structure in which Si—OH groups remain, an incomplete cage structure and / or a random condensate may be included. The sesquioxane compound (a) may contain a ladder structure, an incomplete cage structure and / or a random condensate.

(b)成分
光重合開始剤(b)としては、活性エネルギー線を吸収してラジカルを発生する開始剤であれば特に限定されることなく使用できる。
The component (b) photopolymerization initiator (b) can be used without any particular limitation as long as it is an initiator that absorbs active energy rays and generates radicals.

光重合開始剤(b)としては、例えばベンジル、ジアセチル等のα−ジケトン類;ベンゾイン等のアシロイン類;ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル等のアシロインエーテル類;チオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、チオキサントン−4−スルホン酸等のチオキサントン類;ベンゾフェノン、4,4´−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4´−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン等のベンゾフェノン類;ミヒラーケトン類;アセトフェノン、2−(4−トルエンスルホニルオキシ)−2−フェニルアセトフェノン、p−ジメチルアミノアセトフェノン、α,α´−ジメトキシアセトキシベンゾフェノン、2,2´−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、p−メトキシアセトフェノン、2−メチル〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−モルフォリノ−1−プロパノン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタン−1−オン、α−イソヒドロキシイソブチルフェノン、α,α´−ジクロル−4−フェノキシアセトフェノン、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン等のアセトフェノン類;2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス(アシル)フォスフィンオキサイド等のアシルフォスフィンオキサイド類;アントラキノン、1,4−ナフトキノン等のキノン類;フェナシルクロライド、トリハロメチルフェニルスルホン、トリス(トリハロメチル)−s−トリアジン等のハロゲン化合物;ジ−t−ブチルパーオキサイド等の過酸化物等が挙げられる。これらは1種又は2種以上の混合物として使用できる。   Examples of the photopolymerization initiator (b) include α-diketones such as benzyl and diacetyl; acyloins such as benzoin; acyloin ethers such as benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether and benzoin isopropyl ether; thioxanthone, 2, 4 -Thioxanthones such as diethylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, thioxanthone-4-sulfonic acid; Benzophenones such as benzophenone, 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone, 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone; Michler's ketone Acetophenone, 2- (4-toluenesulfonyloxy) -2-phenylacetophenone, p-dimethylaminoacetophenone, α, α'-dimethoxyacetoxybenzophenone, 2,2'-dimeth Ci-2-phenylacetophenone, p-methoxyacetophenone, 2-methyl [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-1-propanone, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) Acetophenones such as 1-butan-1-one, α-isohydroxyisobutylphenone, α, α'-dichloro-4-phenoxyacetophenone, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone; 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine Acylphosphine oxides such as oxide and bis (acyl) phosphine oxide; Quinones such as anthraquinone and 1,4-naphthoquinone; Halo such as phenacyl chloride, trihalomethylphenylsulfone, tris (trihalomethyl) -s-triazine Emissions compounds; peroxides such as di -t- butyl peroxide and the like. These can be used as one or a mixture of two or more.

光重合開始剤(b)の市販品としては、例えば、イルガキュア(IRGACURE)−184、イルガキュア−127、イルガキュア−261、イルガキュア−500、イルガキュア−651、イルガキュア−819、イルガキュア−907、イルガキュア−CGI−1700(チバ スペシャルティ ケミカルズ社製、商品名)、ダロキュア(Darocur)−1173、ダロキュア−1116、ダロキュア−2959、ダロキュア−1664、ダロキュア−4043(メルクジャパン社製、商品名)、カヤキュア(KAYACURE)−MBP、カヤキュア−DETX−S、カヤキュア−DMBI、カヤキュア−EPA、カヤキュア−OA(日本化薬社製、商品名)、ビキュア(VICURE)−10、ビキュア−55〔ストウファー社(STAUFFER Co., LTD.)製、商品名〕、トリゴナル(TRIGONAL)P1〔アクゾ社(AKZO Co., LTD.)製、商品名〕、サンドレイ(SANDORAY)1000〔サンドズ社(SANDOZ Co., LTD.)製、商品名〕、ディープ(DEAP)〔アプジョン社(APJOHN Co., LTD.)製、商品名〕、カンタキュア(QUANTACURE)−PDO、カンタキュア−ITX、カンタキュア−EPD〔ウォードブレキンソプ社(WARD BLEKINSOP Co., LTD.)製、商品名〕、ESACURE−KIP150、ESACURE−ONE(LAMBERTI社製、商品名)、ルシリン−TPO等が挙げられる。   Examples of commercially available photopolymerization initiators (b) include IRGACURE-184, IRGACURE-127, IRGACURE-261, IRGACURE-500, IRGACURE-651, IRGACURE-819, IRGACURE-907, IRGACURE-CGI-. 1700 (trade name, manufactured by Ciba Specialty Chemicals), Darocur-1173, Darocur-1116, Darocur-2959, Darocur-1664, Darocur-4043 (trade name, manufactured by Merck Japan), KAYACURE-MBP , Kayacure-DETX-S, Kayacure-DMBI, Kayacure-EPA, Kayacure-OA (Nippon Kayaku Co., Ltd., trade name), Vicure-10, Vicure-55 (STAUFFER Co., LTD.) Product, trade name), Trigona (TRIGONAL) P1 [manufactured by AKZO Co., LTD., Product name], SANDORAY 1000 [manufactured by SANDOZ Co., LTD., Product name], Deep (DEAP) [APGEON (APJOHN Co., LTD., Trade name), CANTACURE-PDO, KANTACURE-ITX, KANTACURE-EPD (trade name, manufactured by WARD BLEKINSOP Co., LTD.), ESACURE -KIP150, ESACURE-ONE (trade name, manufactured by LAMBERTI), Lucillin-TPO and the like.

前記光重合開始剤(b)としては、光硬化性の点からチオキサントン類、アセトフェノン類及びアシルフォスフィンオキシド類の1種又は2種以上の混合物であることが好ましく、なかでもアセトフェノン類とアシルフォスフィンオキシド類との混合物であることが特に好適である。   The photopolymerization initiator (b) is preferably one or a mixture of two or more of thioxanthones, acetophenones and acylphosphine oxides from the viewpoint of photocurability. Particularly preferred are mixtures with fin oxides.

前記シルセスキオキサン化合物(a)と光重合開始剤(b)との使用割合としては、特に限定されるものではない。通常、前者の不揮発分100質量部に対し後者を1〜20質量部、好ましくは2〜10質量部とすればよい。   The proportion of the silsesquioxane compound (a) and the photopolymerization initiator (b) used is not particularly limited. Usually, the latter may be 1 to 20 parts by mass, preferably 2 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the former non-volatile content.

本発明で用いる活性エネルギー線硬化型上塗り塗料組成物(II)は、前記(a)、(b)成分を必須とするものであり、さらに必要に応じて、前記(a)成分以外の重合性不飽和化合物(c)を含有することができる。   The active energy ray-curable top coating composition (II) used in the present invention essentially comprises the components (a) and (b), and, if necessary, polymerizable properties other than the component (a). An unsaturated compound (c) can be contained.

重合性不飽和化合物(c)としては、本発明のシルセスキオキサン化合物以外の化合物であって、その化学構造中に重合性不飽和二重結合を少なくとも1つ有する化合物であれば特に限定されない。   The polymerizable unsaturated compound (c) is not particularly limited as long as it is a compound other than the silsesquioxane compound of the present invention and has at least one polymerizable unsaturated double bond in its chemical structure. .

前記重合性不飽和化合物(c)としては、例えば、一価アルコールと(メタ)アクリル酸とのエステル化物等が挙げられる。具体的には、例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−プロピル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、ネオペンチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、N−アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタルイミド等が挙げられる。また、例えば、多価アルコールと(メタ)アクリル酸とのエステル化物等が挙げられる。具体的には、例えば、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,3−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9−ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、グリセリンジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAエチレンオキサイド変性ジ(メタ)アクリレート等のジ(メタ)アクリレート化合物;グリセリントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンプロピレンオキサイド変性トリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキサイド変性トリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリス(2−アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、トリス(2−アクリロイルオキシプロピル)イソシアヌレート、ε−カプロラクトン変性トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート、1,6−ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート環付加物とヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートとの等モル反応物、イミノオキサジアジンジオン基を有する−ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート環付加物とヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートとの等モル反応物、等のトリ(メタ)アクリレート化合物;ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート等のテトラ(メタ)アクリレート化合物;その他、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等が挙げられる。さらに、ウレタン(メタ)アクリレート樹脂、エポキシ(メタ)アクリレート樹脂、ポリエステル(メタ)アクリレート樹脂等が挙げられる。ウレタン(メタ)アクリレート樹脂は、例えばポリイソシアネート化合物、ヒドロキシルアルキル(メタ)アクリレート及びポリオール化合物を原料として用い、イソシアネート基に対してヒドロキシル基が等モル量もしくは過剰になるような量で反応させることで得ることができる。これら重合性不飽和化合物は単独で又は2種以上組合せて使用することができる。   Examples of the polymerizable unsaturated compound (c) include esterified products of monohydric alcohol and (meth) acrylic acid. Specifically, for example, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, t-butyl (Meth) acrylate, neopentyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, N-acryloyloxyethylhexahydro Examples include phthalimide. Moreover, for example, an esterified product of a polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid can be used. Specifically, for example, ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, 1,3-butanediol di (meth) Acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,9-nonanediol di (meth) acrylate, glycerin di (meth) acrylate, trimethylolpropane di (meth) acrylate, pentaerythritol di (meth) acrylate, Dipentyl glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, pentaerythritol di (meth) acrylate, bisphenol A ethylene oxide modified di (meth) acrylate, etc. Meth) acrylate compounds; glycerin tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolpropane propylene oxide modified tri (meth) acrylate, trimethylolpropane ethylene oxide modified tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) ) Acrylate, tris (2-acryloyloxyethyl) isocyanurate, tris (2-acryloyloxypropyl) isocyanurate, ε-caprolactone modified tris (acryloxyethyl) isocyanurate, 1,6-hexamethylene diisocyanate isocyanurate ring addition Product and hydroxyalkyl (meth) acrylate equimolar reaction product, having iminooxadiazinedione group-hexamethylene diisocyanate Triisocyanate compound such as equimolar reaction product of isocyanurate cycloadduct of hydroxyate and hydroxyalkyl (meth) acrylate; tetra (meth) acrylate compound such as pentaerythritol tetra (meth) acrylate; Examples include pentaerythritol penta (meth) acrylate and dipentaerythritol hexa (meth) acrylate. Furthermore, urethane (meth) acrylate resin, epoxy (meth) acrylate resin, polyester (meth) acrylate resin and the like can be mentioned. The urethane (meth) acrylate resin is prepared by, for example, using a polyisocyanate compound, a hydroxylalkyl (meth) acrylate, and a polyol compound as raw materials, and reacting them in an amount such that the hydroxyl group is equimolar or excessive with respect to the isocyanate group. Obtainable. These polymerizable unsaturated compounds can be used alone or in combination of two or more.

前記重合性不飽和化合物(c)を含有する場合の使用量は特に限定されるものではないが、得られる塗膜の物性の点から、前記シルセスキオキサン化合物(a)の不揮発分100質量部に対して、0.1〜1000質量部が好ましく、1〜200質量部がさらに好ましい。   Although the usage-amount in the case of containing the said polymerizable unsaturated compound (c) is not specifically limited, From the point of the physical property of the coating film obtained, the non volatile matter of 100 mass of the said silsesquioxane compound (a) 0.1-1000 mass parts is preferable with respect to parts, and 1-200 mass parts is more preferable.

また本発明で用いる活性エネルギー線硬化型上塗り塗料組成物(II)には、耐擦傷性、耐磨耗性向上の観点から、必要に応じてコロイダルシリカを配合してもよい。コロイダルシリカは、通常、一次粒子径が1〜200mμの無水ケイ酸の超微粒子を水又はは有機溶媒に分散させたものである。かかるコロイダルシリカは加水分解性シラン化合物や重合性シラン化合物等による処理がなされているものであってもよい。   In addition, the active energy ray-curable top coating composition (II) used in the present invention may contain colloidal silica as necessary from the viewpoint of improving scratch resistance and abrasion resistance. Colloidal silica is usually obtained by dispersing ultrafine particles of silicic anhydride having a primary particle diameter of 1 to 200 mμ in water or an organic solvent. Such colloidal silica may be treated with a hydrolyzable silane compound or a polymerizable silane compound.

上記コロイダルシリカを含有する場合の使用量は特に限定されるものではないが、得られる塗膜の耐擦傷性や耐磨耗性向上、ワレ防止の点から、前記シルセスキオキサン化合物(a)の不揮発分100質量部に対して1〜60質量部が好ましく、5〜30質量部がさらに好ましい。   Although the usage-amount in the case of containing the said colloidal silica is not specifically limited, The said silsesquioxane compound (a) from the point of the abrasion resistance of a coating film obtained, an abrasion-resistant improvement, and a crack prevention. 1-60 mass parts is preferable with respect to 100 mass parts of non-volatile content of 5-30 mass parts.

本発明で用いる活性エネルギー線硬化型上塗り塗料組成物(II)には、さらに必要に応じて各種添加剤、飽和樹脂等を配合してもよく、所望により溶剤で希釈しても良い。添加剤としては、例えば、増感剤、紫外線吸収剤、光安定剤、重合禁止剤、酸化防止剤、消泡剤、表面調整剤、可塑剤、着色剤等が挙げられる。飽和樹脂としては、例えば、飽和アクリル樹脂、飽和ポリエステル樹脂、飽和ウレタン樹脂等が挙げられる。紫外線吸収剤や光安定剤としては、前述の下塗り塗料組成物(I)の説明で列記された中から適宜選択して使用することができる。   The active energy ray-curable top coating composition (II) used in the present invention may further contain various additives, saturated resins, etc., if necessary, and may be diluted with a solvent as required. Examples of the additive include a sensitizer, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, a polymerization inhibitor, an antioxidant, an antifoaming agent, a surface conditioner, a plasticizer, and a colorant. Examples of the saturated resin include saturated acrylic resin, saturated polyester resin, saturated urethane resin, and the like. As an ultraviolet absorber and a light stabilizer, it can use suitably selecting from what was listed by description of the above-mentioned undercoat coating composition (I).

希釈に用いる溶剤としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類;酢酸エチル、酢酸ブチル、安息香酸メチル、プロピオン酸メチル等のエステル類;テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル類;エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、3−メトキシブチルアセテート等のグリコールエーテル類;芳香族炭化水素類、脂肪族炭化水素類等が挙げられる。これらは、粘度の調整、塗布性の調整等の目的に応じて適宜組み合わせて使用することができる。   Examples of the solvent used for dilution include ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone; esters such as ethyl acetate, butyl acetate, methyl benzoate, and methyl propionate; ethers such as tetrahydrofuran, dioxane, and dimethoxyethane; Examples include glycol ethers such as ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, and 3-methoxybutyl acetate; aromatic hydrocarbons and aliphatic hydrocarbons. These can be used in appropriate combination depending on the purpose such as adjustment of viscosity and adjustment of coating property.

活性エネルギー線硬化型上塗り塗料組成物(II)の不揮発分は特に限定されるものではない。例えば、好ましくは20〜100質量%であり、さらに好ましくは25〜70質量%である。これら範囲は、塗膜の平滑性及び乾燥時間の短縮化の点で意義がある。
The nonvolatile content of the active energy ray-curable top coating composition (II) is not particularly limited. For example, Preferably it is 20-100 mass%, More preferably, it is 25-70 mass%. These ranges are significant in terms of smoothness of the coating film and shortening of the drying time.

本発明の複層塗膜形成方法は、基材上に、前述の常温硬化又は熱硬化性下塗り塗料組成物(I)を用いて下塗り塗膜を形成した後、その上に、上述の活性エネルギー線硬化型上塗り塗料組成物(II)を用いて上塗り塗膜を形成するものである。   In the method for forming a multilayer coating film of the present invention, an undercoating film is formed on a substrate using the above-mentioned room temperature curing or thermosetting undercoating composition (I), and then the above-mentioned active energy is formed thereon. An overcoating film is formed using the wire curable top coating composition (II).

本発明方法が適用される基材は特に限定されない。例えば、鉄、アルミニウム、真鍮、銅、ステンレス鋼、ブリキ、亜鉛メッキ鋼、合金化亜鉛(Zn−Al、Zn−Ni、Zn−Fe等)メッキ鋼等の金属材料;ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン(ABS)樹脂、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、塩化ビニリデン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂等の樹脂や各種のFRP等のプラスチック材料;ガラス、セメント、コンクリート等の無機材料;木材;繊維材料(紙、布等)等が挙げられ、なかでも、プラスチック材料が好適であり、特にポリカーボネート樹脂が好適である。   The substrate to which the method of the present invention is applied is not particularly limited. For example, metal materials such as iron, aluminum, brass, copper, stainless steel, tinplate, galvanized steel, alloyed zinc (Zn-Al, Zn-Ni, Zn-Fe, etc.) plated steel; polyethylene resin, polypropylene resin, acrylonitrile -Butadiene-styrene (ABS) resin, polyamide resin, acrylic resin, vinylidene chloride resin, polycarbonate resin, polyurethane resin, epoxy resin and other plastic materials such as FRP; glass, cement, concrete and other inorganic materials; wood A fiber material (paper, cloth, etc.) and the like. Among them, a plastic material is preferable, and a polycarbonate resin is particularly preferable.

また、本発明方法によって得られる塗装物品の用途としては、特に制限されず、例えば、乗用車、トラック、オートバイ、バス等の自動車車体の外板部;自動車部品;携帯電話、オーディオ機器等の家庭電気製品の外板部等が挙げられ、なかでも、自動車車体の外板部及び自動車部品が好ましい。   Further, the use of the coated article obtained by the method of the present invention is not particularly limited. For example, the outer plate of an automobile body such as a passenger car, a truck, a motorcycle, and a bus; automobile parts; Examples of the outer plate portion of the product and the like. Among them, the outer plate portion of the automobile body and the automobile part are preferable.

上記の基材に常温硬化又は熱硬化性下塗り塗料組成物(I)を塗布する方法は特に限定されるものではなく、例えば、ローラー塗装、ロールコーター塗装、スピンコーター塗装、カーテンロールコーター塗装、スリットコーター塗装、スプレー塗装、静電塗装、浸漬塗装、シルク印刷、スピン塗装等が挙げられる。塗膜の膜厚は目的に応じて適宜設定される。例えば膜厚は3〜50μmが好ましく、5〜40μmがさらに好ましい。膜厚がこれら範囲の下限値以上の場合には、塗膜の平滑性及び外観に優れる。またこれら範囲の上限値以下の場合には塗膜の硬化性、耐割れ性に優れる。   The method for applying the room temperature curing or thermosetting primer coating composition (I) to the above-mentioned substrate is not particularly limited. For example, roller coating, roll coater coating, spin coater coating, curtain roll coater coating, slitting. Examples include coater coating, spray coating, electrostatic coating, dip coating, silk printing, and spin coating. The film thickness of the coating film is appropriately set according to the purpose. For example, the film thickness is preferably 3 to 50 μm, more preferably 5 to 40 μm. When the film thickness is at least the lower limit of these ranges, the coating film is excellent in smoothness and appearance. Moreover, when it is below the upper limit value of these ranges, the curability and crack resistance of the coating film are excellent.

上記常温硬化又は熱硬化性下塗り塗料組成物(I)から塗膜を形成する際、塗装直後の塗膜の揮発分を減少させる又は揮発分を除去するために、予備加熱(プレヒート)、エアブロー等を行うことができる。プレヒートは、通常、塗装された被塗物を乾燥炉内で、50〜110℃、好ましくは60〜90℃の温度で1〜30分間直接的又は間接的に加熱することにより行うことができる。また、エアブローは、通常、被塗物の塗装面に常温又は25℃〜80℃の温度に加熱された空気を吹き付けることにより行なうことができる。   When forming a coating film from the room temperature curing or thermosetting undercoating composition (I), preheating, air blowing, etc. in order to reduce or remove the volatile content of the coating film immediately after coating It can be performed. The preheating can be usually performed by directly or indirectly heating the coated object to be coated in a drying furnace at a temperature of 50 to 110 ° C., preferably 60 to 90 ° C. for 1 to 30 minutes. Moreover, air blow can be normally performed by spraying the air heated to normal temperature or the temperature of 25 to 80 degreeC on the coating surface of the to-be-coated object.

上記の通り必要に応じて乾燥させた後に、加熱を行い硬化塗膜を形成しても良く、また乾燥/未硬化のまま次工程の上塗り塗料組成物を塗布しても良い。   As described above, after drying as necessary, a cured coating film may be formed by heating, or the top coating composition of the next step may be applied in a dry / uncured state.

上記常温硬化又は熱硬化性下塗り塗料組成物(I)による塗膜を硬化させる際の加熱条件は特に限定されるものではない。例えば、50〜140℃の温度で1〜60分間加熱することができる。   There are no particular limitations on the heating conditions for curing the coating film of the room temperature curing or thermosetting primer coating composition (I). For example, it can be heated at a temperature of 50 to 140 ° C. for 1 to 60 minutes.

上記の通り形成された下塗り塗膜の上に、活性エネルギー線硬化型上塗り塗料組成物(II)を塗布する方法は特に限定されるものではなく、例えば、ローラー塗装、ロールコーター塗装、スピンコーター塗装、カーテンロールコーター塗装、スリットコーター塗装、スプレー塗装、静電塗装、浸漬塗装、シルク印刷、スピン塗装等が挙げられる。   The method of applying the active energy ray-curable top coating composition (II) on the undercoat film formed as described above is not particularly limited. For example, roller coating, roll coater coating, spin coater coating , Curtain roll coater coating, slit coater coating, spray coating, electrostatic coating, immersion coating, silk printing, spin coating and the like.

前記活性エネルギー線硬化型上塗り塗料組成物(II)から塗膜を形成する際、必要に応じて乾燥を行うことができる。乾燥は、添加している溶剤を除去できる条件であれば特に限定されるものではない。例えば、20〜100℃の乾燥温度において3〜20分間の乾燥時間で行うことができる。   When forming a coating film from the said active energy ray hardening-type top coat composition (II), it can dry as needed. The drying is not particularly limited as long as the solvent that is added can be removed. For example, it can be performed at a drying temperature of 20 to 100 ° C. for a drying time of 3 to 20 minutes.

塗膜の膜厚は目的に応じて適宜設定される。例えば膜厚は1〜15μmが好ましく、2〜10μmがさらに好ましい。膜厚がこれら範囲の下限値以上の場合には、塗膜の平滑性及び外観に優れる。またこれら範囲の上限値以下の場合には塗膜の硬化性、耐割れ性に優れる。   The film thickness of the coating film is appropriately set according to the purpose. For example, the film thickness is preferably 1 to 15 μm, and more preferably 2 to 10 μm. When the film thickness is at least the lower limit of these ranges, the coating film is excellent in smoothness and appearance. Moreover, when it is below the upper limit value of these ranges, the curability and crack resistance of the coating film are excellent.

上記の通り必要に応じて乾燥させた後に、活性エネルギー線照射を行い硬化塗膜を形成する。活性エネルギー線照射の照射源及び照射量は特に限定されるものではない。例えば活性エネルギー線の照射源としては、超高圧、高圧、中圧、低圧の水銀灯、ケミカルランプ、カーボンアーク灯、キセノン灯、メタルハライド灯、蛍光灯、タングステン灯、太陽光等が挙げられる。照射量は、例えば好ましくは100〜10000mJ/cm、さらに好ましくは500〜5000mJ/cmの範囲が挙げられる。 After drying as needed as described above, active energy ray irradiation is performed to form a cured coating film. The irradiation source and irradiation amount of active energy ray irradiation are not particularly limited. For example, the active energy ray irradiation source includes ultra-high pressure, high pressure, medium pressure, low pressure mercury lamp, chemical lamp, carbon arc lamp, xenon lamp, metal halide lamp, fluorescent lamp, tungsten lamp, sunlight and the like. Dose, for example preferably 100~10000mJ / cm 2, more preferably include a range of 500~5000mJ / cm 2.

活性エネルギー線照射は、大気雰囲気下で行なってもよく、また不活性ガス雰囲気下で行なっても良い。不活性ガスとしては、窒素、二酸化炭素等が挙げられる。不活性ガス雰囲気下での活性エネルギー線照射が、硬化性の点から好ましい。   The active energy ray irradiation may be performed in an air atmosphere or in an inert gas atmosphere. Examples of the inert gas include nitrogen and carbon dioxide. Active energy ray irradiation in an inert gas atmosphere is preferable from the viewpoint of curability.

また、活性エネルギー線照射後、必要に応じて塗膜を加熱してもよい。加熱をすることによって、活性エネルギー線照射による塗膜の硬化により発生した塗膜の歪みを緩和することができる。さらにこの加熱によって塗膜の硬度、又は付着性の向上を行なうことができる場合がある。加熱は、通常、150〜250℃の雰囲気温度で1〜30分間の条件で行なうことができる。   Moreover, you may heat a coating film as needed after active energy ray irradiation. By heating, distortion of the coating film generated by curing of the coating film by active energy ray irradiation can be alleviated. Further, the heating may improve the hardness or adhesion of the coating film. Heating can usually be performed at an ambient temperature of 150 to 250 ° C. for 1 to 30 minutes.

以下、実施例を挙げて本発明をさらに詳細に説明する。尚、「部」及び「%」は、別記しない限り「質量部」及び「質量%」を示す。なお、製造例における構造解析及び測定は、本明細書に記載の前記分析装置に加え、以下の分析装置及び測定方法により行った。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. “Part” and “%” indicate “part by mass” and “% by mass” unless otherwise specified. In addition, the structural analysis and measurement in the production example were performed by the following analyzer and measurement method in addition to the analyzer described in this specification.

29Si−NMR、H−NMR分析)
装置:JEOL社製 FT−NMR EX−400
溶媒:CDCl
内部標準物質:テトラメチルシラン
(FT−IR分析)
装置:日本分光社製 FT/IR−610。
( 29 Si-NMR, 1 H-NMR analysis)
Apparatus: FT-NMR EX-400 manufactured by JEOL
Solvent: CDCl 3
Internal standard: Tetramethylsilane (FT-IR analysis)
Apparatus: FT / IR-610 manufactured by JASCO Corporation.

(SP値の測定方法)
本実施例におけるSP値とは溶解性パラメーターのことであり、簡便な実測法である濁点滴定により測定することができ、下記のK.W.SUH、J.M.CORBETTの式(Journalof Applied Polymer Science,12,2359,1968の記載参照)に従い算出される値である。
式 SP=(√Vml・δH+√Vmh・δD)/(√Vml+√Vmh)
濁点滴定では、試料0.5gをアセトン10mlに溶解した中に、n−ヘキサンを加えていき、濁点での滴定量H(ml)を読み、同様にアセトン溶液中に脱イオン水を加えたときの濁点における滴定量D(ml)を読み、これらを下記式に適用し、Vml、Vmh、δH、δDを算出する。なお、各溶剤の分子容(mol/ml)は、アセトン:74.4、n−ヘキサン:130.3、脱イオン水:18であり、各溶剤のSPは、アセトン:9.75、n−ヘキサン:7.24、脱イオン水:23.43である。
Vml=74.4×130.3/((1−VH)×130.3+VH×74.4)
Vmh=74.4×18/((1−VD)×18+VD×74.4)
VH=H/(10+H)
VD=D/(10+D)
δH=9.75×10/(10+H)+7.24×H/(10+H)
δD=9.75×10/(10+D)+23.43×D/(10+D)。
(SP value measurement method)
The SP value in this example is a solubility parameter, which can be measured by cloud point titration, which is a simple measurement method. W. SUH, J. et al. M.M. It is a value calculated according to the CORBETT equation (see description of Journalof Applied Polymer Science, 12, 2359, 1968).
Formula SP = (√Vml · δH + √Vmh · δD) / (√Vml + √Vmh)
In cloud point titration, when 0.5 g of sample was dissolved in 10 ml of acetone, n-hexane was added and the titration amount H (ml) at the cloud point was read, and similarly deionized water was added to the acetone solution. The titration amount D (ml) at the cloud point is read and applied to the following formula to calculate Vml, Vmh, δH, and δD. The molecular volume (mol / ml) of each solvent is acetone: 74.4, n-hexane: 130.3, deionized water: 18, and SP of each solvent is acetone: 9.75, n- Hexane: 7.24, deionized water: 23.43.
Vml = 74.4 × 130.3 / ((1−VH) × 130.3 + VH × 74.4)
Vmh = 74.4 × 18 / ((1−VD) × 18 + VD × 74.4)
VH = H / (10 + H)
VD = D / (10 + D)
δH = 9.75 × 10 / (10 + H) + 7.24 × H / (10 + H)
δD = 9.75 × 10 / (10 + D) + 23.43 × D / (10 + D).

シルセスキオキサン化合物(a)の製造
(製造例1)
還流冷却器、温度計、空気導入管、攪拌機を取り付けたセパラブルフラスコに、3−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン685部、2−ヒドロキシエチルアクリレート315部、p−メトキシフェノール1部を仕込み、乾燥空気を吹き込みながら100℃で12時間反応させ、生成物(P1)を得た。次に、還流冷却器、温度計、攪拌機を取り付けたセパラブルフラスコに、生成物(P1)728部、テトラヒドロフラン2800部を入れて常温で攪拌した。テトララブチルアンモニウムフルオリド三水和物4部を脱イオン水54部に溶解してフラスコに投入し、20℃にて24時間反応させた。1−メトキシ−2−プロパノール500部を入れて、減圧蒸留にて揮発分を除去した後、更に1−メトキシ−2−プロパノール500部を入れて減圧蒸留し、溶媒を交換した。生成物を1000部に調整し、生成物(P2)の不揮発分50%溶液1000部を得た。
Production of Silsesquioxane Compound (a) (Production Example 1)
A separable flask equipped with a reflux condenser, a thermometer, an air introduction tube, and a stirrer was charged with 685 parts of 3-isocyanatopropyltriethoxysilane, 315 parts of 2-hydroxyethyl acrylate, and 1 part of p-methoxyphenol, and dried air was added. The mixture was reacted at 100 ° C. for 12 hours while blowing to obtain a product (P1). Next, 728 parts of the product (P1) and 2800 parts of tetrahydrofuran were placed in a separable flask equipped with a reflux condenser, a thermometer, and a stirrer, and stirred at room temperature. 4 parts of tetrarabutylammonium fluoride trihydrate was dissolved in 54 parts of deionized water and charged into a flask, and reacted at 20 ° C. for 24 hours. After adding 500 parts of 1-methoxy-2-propanol and removing volatiles by distillation under reduced pressure, 500 parts of 1-methoxy-2-propanol was further added and distilled under reduced pressure, and the solvent was exchanged. The product was adjusted to 1000 parts to obtain 1000 parts of a 50% non-volatile solution of the product (P2).

生成物(P2)について29Si−NMR分析を行った結果、Siに結合した3つの酸素原子が全て他のSiと結合したT3構造に由来する−70ppm付近のピークのみが確認され、T0,T1、T2構造に由来するピークは観測されなかった。 As a result of 29 Si-NMR analysis of the product (P2), only a peak around −70 ppm derived from the T3 structure in which all three oxygen atoms bonded to Si were bonded to other Si was confirmed, and T0, T1 No peak derived from the T2 structure was observed.

また、生成物(P2)についてH−NMR分析を行った結果、Siに結合したメチレン基に由来する0.6ppmのピークが確認された。また、アクリロイルオキシ基の炭素−炭素不飽和結合に由来する5.9ppm、6.1ppm、6.4ppmのピークが確認された。これらのピーク強度比より計算したSiに結合したメチレン基に対するアクリロイルオキシ基の炭素−炭素不飽和結合のモル比率は、1.01であった。 As a result of 1 H-NMR analysis of the product (P2), a peak of 0.6 ppm derived from a methylene group bonded to Si was confirmed. In addition, 5.9 ppm, 6.1 ppm, and 6.4 ppm peaks derived from the carbon-carbon unsaturated bond of the acryloyloxy group were confirmed. The molar ratio of the carbon-carbon unsaturated bond of the acryloyloxy group to the methylene group bonded to Si calculated from these peak intensity ratios was 1.01.

また、生成物(P2)についてFT−IR分析を行った結果、ウレタン結合に帰属する1540cm−1付近のピークが確認された。 Moreover, as a result of conducting FT-IR analysis about the product (P2), the peak of 1540cm < -1 > vicinity which belongs to a urethane bond was confirmed.

また、生成物(P2)についてゲルパーミエーションクロマトグラフ(GPC)分析を行った結果、重量平均分子量は2,500であった。   Moreover, as a result of performing a gel permeation chromatograph (GPC) analysis about the product (P2), the weight average molecular weight was 2,500.

生成物(P2)についての前記29Si−NMR、H−NMR、FT−IR、GPCの結果から、生成物(P2)が、ケイ素原子に直接に結合した有機基の全てが下記式(XXVI)で表される有機基 From the 29 Si-NMR, 1 H-NMR, FT-IR, and GPC results for the product (P2), all of the organic groups in which the product (P2) was directly bonded to the silicon atom were represented by the following formula (XXVI ) Organic group

Figure 2011218333
Figure 2011218333

を有するシルセスキオキサン化合物であって、該シルセスキオキサン化合物がSi−OH基のほとんど全てが加水分解縮合した構造である重量平均分子量2,500のシルセスキオキサン化合物であることが確認された。得られたシルセスキオキサン化合物のSP値は10.7であった。 It is confirmed that the silsesquioxane compound is a silsesquioxane compound having a weight average molecular weight of 2,500, wherein the silsesquioxane compound has a structure in which almost all Si—OH groups are hydrolyzed and condensed. It was done. The resulting silsesquioxane compound had an SP value of 10.7.

(製造例2)
還流冷却器、温度計、空気導入管、攪拌機を取り付けたセパラブルフラスコに、3−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン646部、4−ヒドロキシブチルアクリレート363部、p−メトキシフェノール1部を仕込み、乾燥空気を吹き込みながら100℃で12時間反応させ、生成物(P3)を得た。次に、還流冷却器、温度計、攪拌機を取り付けたセパラブルフラスコに、生成物(P3)706部、テトラヒドロフラン2800部を入れて常温で攪拌した。テトララブチルアンモニウムフルオリド三水和物4部を脱イオン水48部に溶解してフラスコに投入し、20℃にて24時間反応させた。1−メトキシ−2−プロパノール500部を入れて、減圧蒸留にて揮発分を除去した後、更に1−メトキシ−2−プロパノール500部を入れて減圧蒸留し、溶媒を交換した。生成物を1000部に調整し、生成物(P4)の不揮発分50%溶液1000部を得た。
(Production Example 2)
In a separable flask equipped with a reflux condenser, a thermometer, an air introduction tube, and a stirrer, 646 parts of 3-isocyanatopropyltriethoxysilane, 363 parts of 4-hydroxybutyl acrylate, and 1 part of p-methoxyphenol were charged, and dry air was supplied. The mixture was reacted at 100 ° C. for 12 hours while blowing to obtain a product (P3). Next, 706 parts of the product (P3) and 2800 parts of tetrahydrofuran were placed in a separable flask equipped with a reflux condenser, a thermometer, and a stirrer, and stirred at room temperature. 4 parts of tetrarabutylammonium fluoride trihydrate was dissolved in 48 parts of deionized water and charged into the flask, and reacted at 20 ° C. for 24 hours. After adding 500 parts of 1-methoxy-2-propanol and removing volatiles by distillation under reduced pressure, 500 parts of 1-methoxy-2-propanol was further added and distilled under reduced pressure, and the solvent was exchanged. The product was adjusted to 1000 parts to obtain 1000 parts of a 50% nonvolatile solution of the product (P4).

生成物(P4)について29Si−NMR分析を行った結果、Siに結合した3つの酸素原子が全て他のSiと結合したT3構造に由来する−70ppm付近のピークのみが確認され、T0,T1、T2構造に由来するピークは観測されなかった。 As a result of 29 Si-NMR analysis of the product (P4), only a peak around −70 ppm derived from the T3 structure in which all three oxygen atoms bonded to Si were bonded to other Si was confirmed, and T0, T1 No peak derived from the T2 structure was observed.

また、生成物(P4)についてH−NMR分析を行った結果、Siに結合したメチレン基に由来する0.6ppmのピークが確認された。また、アクリロイルオキシ基の炭素−炭素不飽和結合に由来する5.9ppm、6.1ppm、6.4ppmのピークが確認された。これらのピーク強度比より計算したSiに結合したメチレン基に対するアクリロイルオキシ基の炭素−炭素不飽和結合のモル比率は、1.02であった。 Further, as a result of 1 H-NMR analysis of the product (P4), a peak of 0.6 ppm derived from a methylene group bonded to Si was confirmed. In addition, 5.9 ppm, 6.1 ppm, and 6.4 ppm peaks derived from the carbon-carbon unsaturated bond of the acryloyloxy group were confirmed. The molar ratio of the carbon-carbon unsaturated bond of the acryloyloxy group to the methylene group bonded to Si calculated from these peak intensity ratios was 1.02.

また、生成物(P4)についてFT−IR分析を行った結果、ウレタン結合に帰属する1540cm−1付近のピークが確認された。 Moreover, as a result of conducting FT-IR analysis about the product (P4), the peak of 1540cm < -1 > vicinity which belongs to a urethane bond was confirmed.

また、生成物(P4)についてGPC分析を行った結果、重量平均分子量は3,000であった。   Moreover, as a result of performing GPC analysis about a product (P4), the weight average molecular weight was 3,000.

生成物(P4)についての前記29Si−NMR、H−NMR、FT−IR、GPCの結果から、生成物(P4)が、ケイ素原子に直接に結合した有機基の全てが下記式(XXVII)で表される有機基 From the 29 Si-NMR, 1 H-NMR, FT-IR, and GPC results for the product (P4), all of the organic groups in which the product (P4) was directly bonded to the silicon atom were represented by the following formula (XXVII). ) Organic group

Figure 2011218333
Figure 2011218333

を有するシルセスキオキサン化合物であって、該シルセスキオキサン化合物がSi−OH基のほとんど全てが加水分解縮合した構造である重量平均分子量3,000のシルセスキオキサン化合物であることが確認された。得られたシルセスキオキサン化合物のSP値は10.5であった。 It is confirmed that the silsesquioxane compound is a silsesquioxane compound having a weight average molecular weight of 3,000 having a structure in which almost all Si—OH groups are hydrolyzed and condensed. It was done. The SP value of the obtained silsesquioxane compound was 10.5.

(製造例3)
還流冷却器、温度計、空気導入管、攪拌機を取り付けたセパラブルフラスコに、生成物(P1)246部、アクリロキシプロピルトリメトキシシラン470部、テトラヒドロフラン2800部を入れて常温で攪拌した。テトララブチルアンモニウムフルオリド三水和物4部を脱イオン水70部に溶解してフラスコに投入し、乾燥空気を吹き込みながら20℃にて24時間反応させた。1−メトキシ−2−プロパノール500部を入れて、減圧蒸留にて揮発分を除去した後、更に1−メトキシ−2−プロパノール500部を入れて減圧蒸留し、溶媒を交換した。生成物を1000部に調整し、生成物(P5)の不揮発分50%溶液1000部を得た。
(Production Example 3)
In a separable flask equipped with a reflux condenser, a thermometer, an air introduction tube, and a stirrer, 246 parts of the product (P1), 470 parts of acryloxypropyltrimethoxysilane, and 2800 parts of tetrahydrofuran were added and stirred at room temperature. 4 parts of tetrarabutylammonium fluoride trihydrate was dissolved in 70 parts of deionized water and charged into a flask, and reacted at 20 ° C. for 24 hours while blowing dry air. After adding 500 parts of 1-methoxy-2-propanol and removing volatiles by distillation under reduced pressure, 500 parts of 1-methoxy-2-propanol was further added and distilled under reduced pressure, and the solvent was exchanged. The product was adjusted to 1000 parts to obtain 1000 parts of a 50% nonvolatile solution of the product (P5).

生成物(P5)について29Si−NMR分析を行った結果、Siに結合した3つの酸素原子が全て他のSiと結合したT3構造に由来する−70ppm付近のピークのみが確認され、T0,T1、T2構造に由来するピークは観測されなかった。 As a result of 29 Si-NMR analysis of the product (P5), only a peak around −70 ppm derived from the T3 structure in which all three oxygen atoms bonded to Si were bonded to other Si was confirmed, and T0, T1 No peak derived from the T2 structure was observed.

また、生成物(P5)についてH−NMR分析を行った結果、Siに結合したメチレン基に由来する0.6ppmのピークが確認された。また、アクリロイルオキシ基の炭素−炭素不飽和結合に由来する5.9ppm、6.1ppm、6.4ppmのピークが確認された。これらのピーク強度比より計算したSiに結合したメチレン基に対するアクリロイルオキシ基の炭素−炭素不飽和結合のモル比率は、1.01であった。 As a result of 1 H-NMR analysis of the product (P5), a peak of 0.6 ppm derived from a methylene group bonded to Si was confirmed. In addition, 5.9 ppm, 6.1 ppm, and 6.4 ppm peaks derived from the carbon-carbon unsaturated bond of the acryloyloxy group were confirmed. The molar ratio of the carbon-carbon unsaturated bond of the acryloyloxy group to the methylene group bonded to Si calculated from these peak intensity ratios was 1.01.

また、生成物(P5)についてFT−IR分析を行った結果、ウレタン結合に帰属する1540cm−1付近のピークが確認された。 Moreover, as a result of conducting FT-IR analysis about the product (P5), the peak of 1540cm < -1 > vicinity which belongs to a urethane bond was confirmed.

また、生成物(P5)についてゲルパーミエーションクロマトグラフ(GPC)分析を行った結果、重量平均分子量は2,000であった。   Moreover, as a result of performing a gel permeation chromatograph (GPC) analysis about the product (P5), the weight average molecular weight was 2,000.

生成物(P5)についての前記29Si−NMR、H−NMR、FT−IR、GPCの結果から、生成物(P5)が、ケイ素原子に直接に結合した有機基の25モル%が上記式(XXVI)で表される有機基で、残りの75モル%が下記式(XXIX) From the results of the 29 Si-NMR, 1 H-NMR, FT-IR, and GPC for the product (P5), 25 mol% of the organic group in which the product (P5) is directly bonded to the silicon atom is represented by the above formula. In the organic group represented by (XXVI), the remaining 75 mol% is represented by the following formula (XXIX)

Figure 2011218333
Figure 2011218333

を有するシルセスキオキサン化合物であって、該シルセスキオキサン化合物がSi−OH基のほとんど全てが加水分解縮合した構造である重量平均分子量2,000のシルセスキオキサン化合物であることが確認された。得られたシルセスキオキサン化合物のSP値は10.4であった。 It is confirmed that the silsesquioxane compound is a silsesquioxane compound having a weight average molecular weight of 2,000, which is a structure in which almost all Si—OH groups are hydrolytically condensed. It was done. The SP value of the obtained silsesquioxane compound was 10.4.

(製造例4)
還流冷却器、温度計、空気導入管、攪拌機を取り付けたセパラブルフラスコに、Glycidyl POSS cage mixture(商品名、Hybrid Plastics社製)100部及び酢酸ブチル140部を仕込み、60℃で攪拌しながら溶解させた。ここに酢酸40部、p−メトキシフェノール0.5部、及びテトラブチルアンモニウムブロミド10部を仕込み、乾燥空気を吹き込みながら120℃で12時間反応させた。80℃まで冷却し、2−イソシアネートエチルアクリレート85部を加えて80℃で10時間反応させた後、減圧蒸留にて揮発分を除去し、1−メトキシ−2−プロパノールを500gを加えてさらに減圧蒸留し、生成物(P6)の不揮発分50%溶液を得た。
(Production Example 4)
A separable flask equipped with a reflux condenser, thermometer, air inlet tube, and stirrer was charged with 100 parts of Glycidyl POSS cage mixture (trade name, manufactured by Hybrid Plastics) and 140 parts of butyl acetate, and dissolved while stirring at 60 ° C. I let you. 40 parts of acetic acid, 0.5 part of p-methoxyphenol, and 10 parts of tetrabutylammonium bromide were added thereto, and reacted at 120 ° C. for 12 hours while blowing dry air. After cooling to 80 ° C. and adding 85 parts of 2-isocyanatoethyl acrylate and reacting at 80 ° C. for 10 hours, volatiles were removed by distillation under reduced pressure, and 500 g of 1-methoxy-2-propanol was added to further reduce the pressure. Distillation gave a 50% non-volatile solution of the product (P6).

原材料として用いたGlycidyl POSS cage mixtureは、3−グリシドキシプロピル基含有籠型ポリシルセスキオキサンであり、重量平均分子量は1,800、エポキシ当量は168g/eqであった。   The Glycidyl POSS cage mixture used as a raw material was a 3-glycidoxypropyl group-containing cage-type polysilsesquioxane, the weight average molecular weight was 1,800, and the epoxy equivalent was 168 g / eq.

生成物(P6)について29Si−NMR分析を行った結果、Siに結合した3つの酸素原子が全て他のSiと結合したT3構造に由来する−70ppm付近のピークのみが確認され、ヒドロキシシリル基の存在を示すT1やT2構造に由来するピークは確認されなかった。 As a result of 29 Si-NMR analysis of the product (P6), only a peak near −70 ppm derived from the T3 structure in which all three oxygen atoms bonded to Si were bonded to other Si was confirmed. No peak derived from the T1 or T2 structure indicating the presence of was observed.

また、生成物(P6)についてH−NMR分析を行った結果、Siに結合したメチレン基に由来する0.6ppmのピークが確認された。また、アクリロイルオキシ基の炭素−炭素不飽和結合に由来する5.9ppm、6.1ppm、6.4ppmのピークが確認された。これらのピーク強度比より計算したSiに結合したメチレン基に対するアクリロイルオキシ基の炭素−炭素不飽和結合のモル比率は、1.00であった。また、エポキシ基に帰属するピークは確認されなかった。滴定によって求めたエポキシ当量は10,000g/eq以上であった。 Further, as a result of 1 H-NMR analysis of the product (P6), a peak of 0.6 ppm derived from a methylene group bonded to Si was confirmed. In addition, 5.9 ppm, 6.1 ppm, and 6.4 ppm peaks derived from the carbon-carbon unsaturated bond of the acryloyloxy group were confirmed. The molar ratio of the carbon-carbon unsaturated bond of the acryloyloxy group to the methylene group bonded to Si calculated from these peak intensity ratios was 1.00. Moreover, the peak attributed to an epoxy group was not confirmed. The epoxy equivalent determined by titration was 10,000 g / eq or more.

また、生成物(P6)についてFT−IR分析を行った結果、原材料であるGlycidyl POSS cage mixtureにおいて確認されなかったウレタン結合に帰属する1540cm−1付近の幅広いピークが確認された。 Moreover, as a result of performing FT-IR analysis about the product (P6), a broad peak around 1540 cm −1 attributed to a urethane bond that was not confirmed in the raw material Glycidyl POSS cage mixture was confirmed.

また、生成物(P6)についてGPC分析を行った結果、重量平均分子量は4,000であった。   Moreover, as a result of performing GPC analysis about a product (P6), the weight average molecular weight was 4,000.

生成物(P6)についての前記29Si−NMR、H−NMR、FT−IR、GPCの結果から、生成物(P6)が、ケイ素原子に直接に結合した有機基の全てが下記式(XXVIII)で表される有機基 From the 29 Si-NMR, 1 H-NMR, FT-IR, and GPC results for the product (P6), all of the organic groups in which the product (P6) was directly bonded to the silicon atom were represented by the following formula (XXVIII). ) Organic group

Figure 2011218333
Figure 2011218333

を有するシルセスキオキサン化合物であって、該シルセスキオキサン化合物の55%以上がSi−OH基の全てが加水分解縮合した構造である重量平均分子量4,000のシルセスキオキサン化合物であることが確認された。得られたシルセスキオキサン化合物のSP値は11.2であった。 A silsesquioxane compound having a weight average molecular weight of 4,000 in which at least 55% of the silsesquioxane compound has a structure in which all Si—OH groups are hydrolyzed and condensed. It was confirmed. The SP value of the obtained silsesquioxane compound was 11.2.

下塗り塗料(I)用のアクリル樹脂の製造
製造例5
加熱装置、撹拌機、温度計、還流冷却管の備わったガラス製反応容器に、1−メトキシ−2−プロパノール50部を仕込み、加熱撹拌して100℃に保持した。この中に、メチルメタクリレート36部、イソボルニルアクリレート30部、n−ブチルメタクリレート10部、KBM−503(商品名、信越化学工業社製、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン)15部、2−(2´−ヒドロキシ−5´−メタクリロイルオキシエチルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール 8部、4−メタクリロイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン 1部、アゾビスイソブチロニトリル2部及び1−メトキシ−2−プロパノール50部からなる混合物を3時間かけて滴下した。滴下終了後、100℃で30分間熟成し、次に1−メトキシ−2−プロパノール10部及びアゾビスイソブチロニトリル0.2部からなる追加触媒混合液を1時間かけて滴下した。ついで100℃で1時間熟成したのち1−メトキシ−2−プロパノール40部を加えて冷却し、不揮発分40%のアクリル樹脂(i−1)溶液を得た。
Production and production example 5 of acrylic resin for undercoat paint (I)
A glass reaction vessel equipped with a heating device, a stirrer, a thermometer, and a reflux condenser was charged with 50 parts of 1-methoxy-2-propanol, heated and stirred, and maintained at 100 ° C. In this, 36 parts of methyl methacrylate, 30 parts of isobornyl acrylate, 10 parts of n-butyl methacrylate, KBM-503 (trade name, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., γ-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane), 15 parts, 2- (2'-hydroxy-5'-methacryloyloxyethylphenyl) -2H-benzotriazole 8 parts, 4-methacryloyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine 1 part, azobisisobutyronitrile 2 parts and A mixture consisting of 50 parts of 1-methoxy-2-propanol was added dropwise over 3 hours. After completion of the dropwise addition, the mixture was aged at 100 ° C. for 30 minutes, and then an additional catalyst mixture composed of 10 parts of 1-methoxy-2-propanol and 0.2 parts of azobisisobutyronitrile was added dropwise over 1 hour. Next, after aging at 100 ° C. for 1 hour, 40 parts of 1-methoxy-2-propanol was added and cooled to obtain an acrylic resin (i-1) solution having a nonvolatile content of 40%.

製造例6〜10
上記製造例5において、表1に示すモノマー配合とする以外は製造例5と同様の操作を行い、アクリル樹脂溶液(i−2)〜(i−6)を得た。これらのアクリル樹脂溶液の不揮発分、及び重量平均分子量等を表1に示す。
Production Examples 6 to 10
In the said manufacture example 5, except having set it as the monomer mixing | blending shown in Table 1, operation similar to manufacture example 5 was performed and acrylic resin solution (i-2)-(i-6) was obtained. Table 1 shows the nonvolatile content and the weight average molecular weight of these acrylic resin solutions.

Figure 2011218333
Figure 2011218333

下塗り塗料組成物(I)の作成
作成例1
製造例1で得られたアクリル樹脂の40%溶液 250部(不揮発分100部)、TINUVIN928(商品名、チバ スペシャルティ ケミカルズ社製、紫外線吸収剤)4部、TINUVIN479(商品名、チバ スペシャルティ ケミカルズ社製、紫外線吸収剤)4部、TINUVIN123(商品名、チバ スペシャルティ ケミカルズ社製、光安定剤)1部、及び表面調整剤としてBYK−315(商品名、ビックケミー社製)0.05部を均一に混合し、1−メトキシ−2−プロパノールで不揮発分を調整して、不揮発分30%の下塗り塗料組成物(I−1)を得た。
Preparation preparation example 1 of undercoat paint composition (I)
250 parts of a 40% acrylic resin solution obtained in Production Example 1 (non-volatile content: 100 parts), TINUVIN 928 (trade name, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Inc., UV absorber), TINUVIN 479 (trade name, manufactured by Ciba Specialty Chemicals) , UV absorber) 4 parts, TINUVIN 123 (trade name, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Inc., light stabilizer), and 0.05 part BYK-315 (trade name, manufactured by BYK Chemie) as a surface conditioner are uniformly mixed. Then, the nonvolatile content was adjusted with 1-methoxy-2-propanol to obtain an undercoat coating composition (I-1) having a nonvolatile content of 30%.

作成例2〜10
作成例1において、各成分の種類及び配合量を表2に記載の各成分の種類及び配合量にする以外は作成例1と同様にして、下塗り塗料組成物(I−2)〜(I−10)を得た。なお表2の配合量は、不揮発分の配合量を示す。また(注1)〜(注2)は下記の通りである。
Creation examples 2 to 10
In Preparation Example 1, undercoat paint compositions (I-2) to (I-) were prepared in the same manner as in Preparation Example 1, except that the types and amounts of each component were changed to the types and amounts of each component shown in Table 2. 10) was obtained. In addition, the compounding quantity of Table 2 shows the compounding quantity of a non volatile matter. (Note 1) to (Note 2) are as follows.

(注1)スミジュールN−3300:商品名、住化バイエルウレタン社製、イソシアヌレート変性ヘキサメチレンジイソシアネート、固形分100%
(注2)サイメル235:商品名、三井サイテック社製、メチル化・ブチル化メラミン樹脂
(Note 1) Sumidur N-3300: trade name, manufactured by Sumika Bayer Urethane Co., Ltd., isocyanurate-modified hexamethylene diisocyanate, solid content 100%
(Note 2) Cymel 235: trade name, manufactured by Mitsui Cytec, methylated / butylated melamine resin

Figure 2011218333
Figure 2011218333

活性エネルギー線硬化型上塗り塗料組成物(II)の作成
作成例11
製造例1で得られた生成物(P2)溶液200(不揮発分100部)、イルガキュア−184(商品名、チバ スペシャルティ ケミカルズ社製、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン)3部、イルガキュア−819(商品名、チバ スペシャルティ ケミカルズ社製、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド)1部、RUVA93(商品名、大塚化学社製、紫外線吸収剤) 2部、TINUVIN123(商品名、チバ スペシャルティ ケミカルズ社製、光安定剤) 1部、及び表面調整剤としてBYK−3500(商品名、ビックケミー社製)0.5部を混合し、1−メトキシ−2−プロパノールで不揮発分を調整して、不揮発分30%の活性エネルギー線硬化型上塗り塗料組成物(II−1)を得た。
Example 11 for preparing active energy ray-curable top coating composition (II)
200 parts of product (P2) solution obtained in Production Example 1 (100 parts of non-volatile content), Irgacure-184 (trade name, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone), Irgacure- 819 (trade name, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide) 1 part, RUVA 93 (trade name, manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd., UV absorber) 2 parts, TINUVIN 123 (trade name, Ciba Mix 1 part of Specialty Chemicals, light stabilizer) and 0.5 part of BYK-3500 (trade name, manufactured by Big Chemie) as a surface conditioner, and adjust the non-volatile content with 1-methoxy-2-propanol. An active energy ray-curable top coating composition (II-1) having a nonvolatile content of 30% was obtained. .

作成例12〜26
作成例11において、各成分の種類及び配合量を表3に記載の各成分の種類及び配合量にする以外は作成例11と同様にして、活性エネルギー線硬化型上塗り塗料組成物(II−2)〜(II−16)を得た。
Creation examples 12-26
In Preparation Example 11, the active energy ray-curable top coating composition (II-2) was prepared in the same manner as in Preparation Example 11 except that the types and amounts of each component were changed to the types and amounts of each component shown in Table 3. ) To (II-16) were obtained.

Figure 2011218333
Figure 2011218333

尚、上記表3中の配合量は不揮発分の配合量である。また(注3)〜(注11)は下記の通りである。   In addition, the compounding quantity of the said Table 3 is a compounding quantity of a non volatile matter. (Note 3) to (Note 11) are as follows.

(注3)Ebecryl1290k:商品名、ダイセル・サイテック社製、ウレタンアクリレート
(注4)アロニックス−M408:商品名、東亞合成社製、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート
(注5)アロニックスM−315:商品名、東亞合成社製、ビス(2−アクリロイルオキシエチル)ヒドロキシエチルイソシアヌレートとトリス(2−アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレートとの混合物
(注6)IRR214K:商品名、ダイセル・サイテック社製、トリシクロデカンジメタノールジメタクリレート
(注7)MEK−ST:商品名、日産化学社製、コルイダルシリカ。
(Note 3) Ebecryl 1290k: trade name, manufactured by Daicel-Cytec, urethane acrylate (Note 4) Aronix-M408: trade name, manufactured by Toagosei, ditrimethylolpropane tetraacrylate (Note 5) Aronix M-315: trade name, Toagosei Co., Ltd., a mixture of bis (2-acryloyloxyethyl) hydroxyethyl isocyanurate and tris (2-acryloyloxyethyl) isocyanurate (Note 6) IRR214K: trade name, manufactured by Daicel Cytec, Methanol dimethacrylate (Note 7) MEK-ST: trade name, manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd., colloidal silica.

(注8)重合性シラン変性コロイダルシリカ:次の通り製造した。還流冷却器、温度計、空気導入管及び攪拌機を取り付けたセパラブルフラスコに、コロイダルシリカ微粒子(分散媒;イソプロパノール、シリカ濃度;30質量%、平均一次粒子径;12nm、商品名;IPA−ST、日産化学工業社製)333部(シリカ微粒子は100部)、3−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン10部、p−メトキシフェノール0.2部及びイソプロパノール233部を配合した後、乾燥空気を吹き込み、攪拌しながら昇温した。揮発成分の還流が始まったところで、プロピレングリコールモノメチルエーテルを加えて共沸留出させ、反応系内の溶剤を置換した。続いて、95℃で2時間攪拌しながら脱水縮合反応を行った後、60℃に温度を下げてテトラブチルアンモニウムフルオリドを0.03部加えて更に1時間攪拌しながら反応させた。反応終了後、減圧状態で揮発成分を留出させ、さらにプロピレングリコールモノメチルエーテルを加えて共沸留出させた。プロピレングリコールモノメチルエーテルを加えて共沸留出する操作を数回行うことで溶剤を置換し、重合性シラン変性コロイダルシリカ粒子の不揮発分40%分散液を得た。   (Note 8) Polymerizable silane-modified colloidal silica: produced as follows. In a separable flask equipped with a reflux condenser, a thermometer, an air introduction tube and a stirrer, colloidal silica fine particles (dispersion medium: isopropanol, silica concentration: 30% by mass, average primary particle size: 12 nm, trade name: IPA-ST, Nissan Chemical Industries, Ltd.) 333 parts (silica fine particles 100 parts), 3-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane 10 parts, p-methoxyphenol 0.2 parts and isopropanol 233 parts, and then blown in dry air and stirred While raising the temperature. When the reflux of volatile components began, propylene glycol monomethyl ether was added and azeotropically distilled to replace the solvent in the reaction system. Subsequently, after performing a dehydration condensation reaction with stirring at 95 ° C. for 2 hours, the temperature was lowered to 60 ° C., 0.03 part of tetrabutylammonium fluoride was added, and the mixture was further reacted with stirring for 1 hour. After completion of the reaction, volatile components were distilled off under reduced pressure, and propylene glycol monomethyl ether was further added for azeotropic distillation. The solvent was replaced by adding propylene glycol monomethyl ether and performing azeotropic distillation several times to obtain a 40% nonvolatile dispersion of polymerizable silane-modified colloidal silica particles.

(注9)TINUVIN928:商品名、チバ スペシャルティ ケミカルズ社製、紫外線吸収剤
(注10)TINUVIN479:商品名、チバ スペシャルティ ケミカルズ社製、紫外線吸収剤
(注11)アデカスタブLA82:商品名、株式会社ADEKA製、光安定剤。
(Note 9) TINUVIN 928: Trade name, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Inc., UV absorber (Note 10) TINUVIN 479: Trade name, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Inc., UV absorber (Note 11) ADK STAB LA82: Trade name, manufactured by ADEKA Corporation , Light stabilizer.

実施例1〜32及び比較例1〜15
ポリカーボネート樹脂板に、表4に示す下塗り塗料組成物を乾燥膜厚が8μmとなるようエアスプレー塗装した。続いて5分間セッティングした後、80℃で30分間加熱した。次いで被塗物が50℃以下になった後、その上に、表4に示す活性エネルギー線硬化型上塗り塗料組成物を乾燥膜厚が5μmとなるようエアスプレー塗装した。続いて、60℃で5分間プレヒートした後、超高圧水銀灯を用い4,000mJ/cmの照射量で活性エネルギー線を照射して塗膜を硬化させ、各試験塗板を得た。得られた各試験塗板について、下記評価試験に供した。評価結果を表4に併せて示す。
Examples 1-32 and Comparative Examples 1-15
The undercoat paint composition shown in Table 4 was applied to a polycarbonate resin plate by air spray so that the dry film thickness was 8 μm. Then, after setting for 5 minutes, it heated at 80 degreeC for 30 minutes. Subsequently, after the object to be coated became 50 ° C. or lower, the active energy ray-curable top coating composition shown in Table 4 was applied thereon by air spray so that the dry film thickness was 5 μm. Then, after preheating at 60 degreeC for 5 minute (s), the coating film was hardened by irradiating an active energy ray with the irradiation amount of 4,000 mJ / cm < 2 > using the ultrahigh pressure mercury lamp, and each test coating plate was obtained. About each obtained test coating plate, it used for the following evaluation test. The evaluation results are also shown in Table 4.

Figure 2011218333
Figure 2011218333

実施例33〜38及び比較例16〜17
ポリカーボネート樹脂板に、表5に示す下塗り塗料組成物を乾燥膜厚が8μmとなるようエアスプレー塗装した。続いて5分間セッティングした後、120℃で30分間加熱した。次いで被塗物が50℃以下になった後、その上に、表5に示す活性エネルギー線硬化型上塗り塗料組成物を乾燥膜厚が5μmとなるようエアスプレー塗装した。続いて、60℃で5分間プレヒートした後、超高圧水銀灯を用い4,000mJ/cmの照射量で活性エネルギー線を照射して塗膜を硬化させ、各試験塗板を得た。得られた各試験塗板について、下記評価試験に供した。評価結果を表5に併せて示す。
Examples 33-38 and Comparative Examples 16-17
The undercoating composition shown in Table 5 was air spray-coated on a polycarbonate resin plate so that the dry film thickness was 8 μm. Then, after setting for 5 minutes, it heated at 120 degreeC for 30 minutes. Subsequently, after the object to be coated became 50 ° C. or lower, the active energy ray-curable top coating composition shown in Table 5 was applied thereon by air spray so that the dry film thickness was 5 μm. Then, after preheating at 60 degreeC for 5 minute (s), the coating film was hardened by irradiating an active energy ray with the irradiation amount of 4,000 mJ / cm < 2 > using the ultrahigh pressure mercury lamp, and each test coating plate was obtained. About each obtained test coating plate, it used for the following evaluation test. The evaluation results are also shown in Table 5.

Figure 2011218333
Figure 2011218333

(耐擦り傷性)
各試験板について、ASTM D1044に準じて、テーバー磨耗試験(磨耗輪CF−10F、荷重500g、500回転)を行った。試験前後の被膜についてヘイズ値を測定してその変化(ΔH)を求め、下記基準により評価した。
◎:ΔHが15未満
○:ΔHが15以上20未満
△:ΔHが20以上30未満
×:ΔHが30以上。
(Abrasion resistance)
Each test plate was subjected to a Taber abrasion test (abrasion wheel CF-10F, load 500 g, 500 rotations) in accordance with ASTM D1044. The haze value was measured about the film before and behind a test, the change ((DELTA) H) was calculated | required, and the following reference | standard evaluated.
A: ΔH is less than 15 ○: ΔH is 15 or more and less than 20 Δ: ΔH is 20 or more and less than 30 ×: ΔH is 30 or more.

(初期付着性)
JIS K 5600−5−6(1990)に準じて素地に達するまで塗膜に2mm×2mmのゴバン目100個を作り、その面に粘着テープを貼着し、急激に剥がした後に、塗面に残ったゴバン目被膜の数を評価した。
○:残存個数/全体個数=100個/100個
△:残存個数/全体個数=99個〜90個/100個
×:残存個数/全体個数=89個以下/100個。
(Initial adhesion)
According to JIS K 5600-5-6 (1990), make a 100mm 2mm x 2mm goby mesh on the coating until it reaches the base, and stick an adhesive tape on the surface. The number of remaining Goban eyes film was evaluated.
○: Remaining number / total number = 100/100 Δ: Remaining number / total number = 99 to 90/100 ×: Remaining number / total number = 89 or less / 100

(耐候性)
各試験板について、スーパーUVテスター(大日本プラスチック社製、W−13型、促進耐候性試験機)を用いて、ブラックパネル温度60℃、24時間紫外線照射−24時間水噴霧のサイクル条件を1サイクルとして40サイクルまで試験を行った。外観及び付着性を下記基準にて評価した。外観は目視で評価し、付着性は上記初期付着性と同じ方法で評価した。
○:塗膜にワレが生じていない、付着性は残存個数/全体個数=100個/100個
△:塗膜にワレが生じていないが、付着性は残存個数/個数=99個以下/100個
×:塗膜にワレが生じている
(Weatherability)
For each test plate, using a super UV tester (Dainippon Plastic Co., Ltd., W-13 type, accelerated weathering tester), a black panel temperature of 60 ° C., 24 hours ultraviolet irradiation-24 hours water spray cycle conditions are 1 The test was performed up to 40 cycles. Appearance and adhesion were evaluated according to the following criteria. The appearance was evaluated visually, and the adhesion was evaluated by the same method as the initial adhesion.
○: No cracking occurred in the coating film, adhesion was the remaining number / total number = 100/100 Δ: No cracking occurred in the coating film, but the remaining number / number = 99 or less / 100 Pieces ×: Cracks occurred in the coating film

Claims (5)

基材上に、常温硬化又は熱硬化性下塗り塗料組成物(I)を用いて下塗り塗膜を形成した後、その上に、ケイ素原子に直接に結合した有機基を有するシルセスキオキサン化合物であって、前記ケイ素原子に直接に結合した有機基の少なくとも1つがウレタン結合及び1つの(メタ)アクリロイルオキシ基を有する有機基であるシルセスキオキサン化合物(a)、及び光重合開始剤(b)を含有する活性エネルギー線硬化型上塗り塗料組成物(II)を用いて上塗り塗膜を形成することを特徴とする複層塗膜形成方法。 After forming an undercoating film on the base material using the room temperature curing or thermosetting undercoating composition (I), a silsesquioxane compound having an organic group directly bonded to a silicon atom is formed thereon. A silsesquioxane compound (a) in which at least one of the organic groups directly bonded to the silicon atom is an organic group having a urethane bond and one (meth) acryloyloxy group, and a photopolymerization initiator (b ) Containing an active energy ray-curable top coating composition (II), and forming a top coating film. (a)成分における前記ウレタン結合及び1つの(メタ)アクリロイルオキシ基を有する有機基が、下記一般式(A)で表される有機基である請求項1記載の複層塗膜形成方法。
Figure 2011218333
[式(A)中、Rは水素原子又はメチル基を示す。Rは炭素数1〜10の2価の炭化水素基を示す。Rは炭素数1〜10の2価の炭化水素基を示す。Yは
Figure 2011218333
(式中、Rは、前記に同じ。nは0〜9の整数を示す。)、
Figure 2011218333
(式中、Rは置換又は非置換の炭素数1〜6の1価の炭化水素基を示す。)、又は
Figure 2011218333
(式中、Rは置換又は非置換の炭素数1〜6の1価の炭化水素基を示す。)を示す。]
The multilayer coating film forming method according to claim 1, wherein the organic group having the urethane bond and one (meth) acryloyloxy group in the component (a) is an organic group represented by the following general formula (A).
Figure 2011218333
[In Formula (A), R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group. R 2 represents a divalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms. R 3 represents a divalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms. Y is
Figure 2011218333
(In the formula, R 2 is the same as above. N represents an integer of 0 to 9).
Figure 2011218333
(Wherein R 4 represents a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms), or
Figure 2011218333
(Wherein R 5 represents a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms). ]
活性エネルギー線硬化型上塗り塗料組成物(II)が、さらに重合性不飽和化合物(c)を含有する請求項1又は2記載の複層塗膜形成方法。 The method for forming a multilayer coating film according to claim 1 or 2, wherein the active energy ray-curable top coating composition (II) further contains a polymerizable unsaturated compound (c). 下塗り塗料組成物(I)が、アクリル樹脂、紫外線吸収剤及び光安定剤を含有するものである請求項1ないし3のいずれか1項に記載の複層塗膜形成方法。 The method for forming a multilayer coating film according to any one of claims 1 to 3, wherein the undercoat coating composition (I) contains an acrylic resin, an ultraviolet absorber and a light stabilizer. 請求項1ないし4のいずれか1項に記載の方法により形成される複層塗膜を有する塗装物品。 The coated article which has the multilayer coating film formed by the method of any one of Claims 1 thru | or 4.
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