JP2011210148A - Method for manufacturing conductive member for touch panel and touch panel using the conductive member - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、配線構造を有するタッチパネル用導電性部材の製造方法であって、前記配線構造の少なくとも一部が、少なくとも平均粒径が0.1μm以下の銀超微粒子およびポリマーラテックスを含有する銀超微粒子含有組成物を塗布乾燥して得られた被膜を処理し形成された銀膜、あるいは少なくとも平均粒径が0.1μm以下の銀超微粒子、ポリマーラテックスおよび水溶性ハロゲン化物を含有する銀超微粒子含有組成物を塗布乾燥して得られた被膜を、紫外線の照射および/または水分の再付与により処理し形成された銀膜からなる事を特徴とするタッチパネル用導電性部材の製造方法に関する。 The present invention relates to a method for producing a conductive member for a touch panel having a wiring structure, wherein at least a part of the wiring structure contains silver ultrafine particles having an average particle size of 0.1 μm or less and a polymer latex. A silver film formed by treating a film obtained by applying and drying a fine particle-containing composition, or a silver ultrafine particle containing at least an ultrafine silver particle having an average particle size of 0.1 μm or less, a polymer latex, and a water-soluble halide. It is related with the manufacturing method of the electroconductive member for touchscreens which consists of a silver film formed by processing the film obtained by apply | coating and drying the containing composition by ultraviolet irradiation and / or re-application of moisture.
タッチパネルパネルは、例えば、銀行ATM、自動販売機、複写機、ファクシミリ、携帯ゲーム機、案内板、カーナビゲーション、携帯電話やPDAなど小型の情報端末機器等の入力機器として急激に普及している。 Touch panel panels are rapidly spreading as input devices such as small ATMs such as bank ATMs, vending machines, copiers, facsimiles, portable game machines, information boards, car navigation, mobile phones, and PDAs.
タッチパネルの方式としては、抵抗膜方式、光学方式、静電容量方式、超音波方式、圧力方式、電磁波誘導方式、振動検出方式などに分けられ、抵抗膜方式あるいは静電容量方式のタッチパネルが広く用いられている。これらのタッチパネルは、パターン化された透明導電膜や配線構造を有するタッチパネル用導電性部材がその構造の一部に用いられており、配線構造は額縁部分に例えば銀ペーストの印刷により設けられている。 The touch panel system is divided into a resistive film system, an optical system, a capacitive system, an ultrasonic system, a pressure system, an electromagnetic wave induction system, a vibration detection system, etc., and a resistive film system or a capacitive system touch panel is widely used. It has been. In these touch panels, a patterned transparent conductive film or a conductive member for a touch panel having a wiring structure is used as a part of the structure, and the wiring structure is provided on the frame portion by printing, for example, silver paste. .
図1に、タッチパネル用導電性部材の概略断面図を示す。フィルムあるいはガラス等の基材1上に、透明導電膜2が形成されており、更に額縁部分には配線3が形成されている。なお、配線3の下に透明導電膜2が無い場合もある。配線3のみあるいは配線3と透明導電膜2を含めた配線の集合を配線構造と言う。一般的に配線3は樹脂型銀ペーストをスクリーン印刷することにより形成される。
In FIG. 1, the schematic sectional drawing of the electroconductive member for touchscreens is shown. A transparent
近年、タッチパネルの小型の情報端末機器への適用がすすみ、広い入力エリアを確保するため、額縁部分の幅を狭くすること(狭額縁化)が求められている。額縁部分を狭くした場合には、それに伴い配線の幅が狭くなり配線の抵抗値やバラツキが上昇し、検出位置精度や感度が低下するという課題があり、配線の幅が狭くとも低抵抗値の配線、つまり低い体積抵抗を有する配線が求められていた。先の樹脂型銀ペーストを印刷、加熱硬化することにより得られる導体の体積抵抗率は、バルク銀の数十倍以上であり、細線化を可能とするには、不十分であった。更には、加熱硬化の時間も120〜150℃で10分から30分程度必要であり、製造効率は低いものであった。 In recent years, a touch panel has been applied to a small information terminal device, and in order to secure a wide input area, it is required to narrow the width of the frame portion (narrow frame). When the frame portion is narrowed, the width of the wiring becomes narrow accordingly, and the resistance value and variation of the wiring increase, and there is a problem that the detection position accuracy and sensitivity decrease. There has been a demand for wiring, that is, wiring having a low volume resistance. The volume resistivity of the conductor obtained by printing and heat-curing the previous resin-type silver paste is several tens of times that of bulk silver, which is insufficient to enable thinning. Furthermore, the heat curing time is required to be about 10 to 30 minutes at 120 to 150 ° C., and the production efficiency is low.
そのため、例えば特開2002−358163号公報(特許文献1)には、配線構造を樹脂の溶液に金粉または金粉と微量の金属粉を混合した金ペーストの焼成膜、あるいは樹脂の溶液に有機金化合物を混合した金ペーストの焼成膜で形成する事により、低抵抗値の配線を形成する製造方法が開示されている。 Therefore, for example, in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-358163 (Patent Document 1), the wiring structure is a fired film of gold paste obtained by mixing gold powder or gold powder and a small amount of metal powder in a resin solution, or an organic gold compound in a resin solution. A manufacturing method is disclosed in which a low resistance wiring is formed by forming a fired film of a gold paste mixed with.
しかしながら、この方法では500℃で焼成する必要があるため、PETフィルム等のフィルム基材では使用することが出来ず、更には焼成に時間が必要であるため製造効率が低いという課題があった。 However, since this method requires baking at 500 ° C., it cannot be used with a film substrate such as a PET film, and further, there is a problem that the production efficiency is low because time is required for baking.
また、近年静電容量方式のタッチパネルが広く用いられるようになっているが、抵抗膜方式と比較し、配線数が非常に多く、狭額縁化のためにはより細くかつ低抵抗値の配線が必要とされている。 In recent years, capacitive touch panels have been widely used, but the number of wires is much larger than that of resistive film methods, and thinner and lower resistance wires are required for narrower frames. is needed.
そのため、例えば、特開2010−39816号公報(特許文献2)の実施例には、銀合金を真空プロセスにより成膜し、これをエッチングすることにより、低抵抗値の配線構造を形成する製造方法が開示されている。真空プロセスにより成膜された銀合金は、同合金のバルク状態の数倍以下という低い体積抵抗率を示すが、真空プロセスを用いるため、材料の使用効率や製造効率が低いという課題があった。 Therefore, for example, in the example of JP 2010-39816 A (Patent Document 2), a silver alloy film is formed by a vacuum process, and this is etched to form a low resistance wiring structure. Is disclosed. A silver alloy formed by a vacuum process exhibits a low volume resistivity of several times or less of the bulk state of the alloy, but has a problem of low material use efficiency and manufacturing efficiency because the vacuum process is used.
本発明の目的は、タッチパネルにおいて、額縁部分に形成される配線構造の抵抗値を低くし狭額縁化を可能とし、かつ高い効率で製造する方法を提供することにある。 An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a touch panel with a high efficiency by reducing the resistance value of a wiring structure formed in a frame portion, enabling a narrow frame.
本発明の上記目的は、以下の発明によって基本的に達成された。
1.タッチパネル用導電性部材の製造方法であって、タッチパネルの額縁部分に形成される配線構造の一部が、水性媒体中に少なくとも平均粒径が0.1μm以下の銀超微粒子およびポリマーラテックスを含有する銀超微粒子含有組成物を塗布乾燥して得られた被膜(Z)を、以下(A)から(D)に記載される方法により処理し形成された銀膜、あるいは水性媒体中に少なくとも平均粒径が0.1μm以下の銀超微粒子、ポリマーラテックスおよび水溶性ハロゲン化物を含有する銀超微粒子含有組成物を塗布乾燥して得られた被膜を、紫外線の照射および/または水分の再付与により処理し形成された銀膜からなる事を特徴とするタッチパネル用導電性部材の製造方法。
(A)ハロゲン無機塩類を含有する水溶液と被膜(Z)との接触。
(B)銀イオンを還元することが出来る還元性化合物を含有する水溶液と被膜(Z)との接触。
(C)分子内に硫黄原子を有する酸の塩を含有する水溶液と被膜(Z)との接触。
(D)炭素数3以上のジカルボン酸化合物を含有する水溶液と被膜(Z)との接触。
2.該タッチパネルの額縁部分に形成される配線構造が、エッチングによりパターン化されたものである事を特徴とする上記1記載のタッチパネル用導電性部材の製造方法。
The above object of the present invention has been basically achieved by the following invention.
1. A method for manufacturing a conductive member for a touch panel, wherein a part of a wiring structure formed in a frame portion of the touch panel contains silver ultrafine particles having an average particle size of 0.1 μm or less and a polymer latex in an aqueous medium. A silver film formed by treating the coating (Z) obtained by applying and drying the silver ultrafine particle-containing composition by the method described in (A) to (D) below, or at least an average particle in an aqueous medium A coating obtained by applying and drying a composition containing ultrafine silver particles having a diameter of 0.1 μm or less, a polymer latex and a water-soluble halide, and drying is treated by irradiation with ultraviolet rays and / or re-application of moisture. A method for producing a conductive member for a touch panel, characterized by comprising a silver film formed.
(A) Contact between an aqueous solution containing a halogen inorganic salt and the coating (Z).
(B) Contact between an aqueous solution containing a reducing compound capable of reducing silver ions and the coating (Z).
(C) Contact between an aqueous solution containing an acid salt having a sulfur atom in the molecule and the coating (Z).
(D) Contact between an aqueous solution containing a dicarboxylic acid compound having 3 or more carbon atoms and the coating (Z).
2. 2. The method for manufacturing a conductive member for a touch panel as described in 1 above, wherein the wiring structure formed on the frame portion of the touch panel is patterned by etching.
本発明によれば、タッチパネルの額縁部分に、低い抵抗値の配線構造を形成する事が可能となり、抵抗膜方式や静電容量方式タッチパネルの狭額縁化が可能となる。 According to the present invention, it is possible to form a wiring structure with a low resistance value in the frame portion of the touch panel, and it is possible to narrow the frame of the resistive film type or capacitive type touch panel.
以下、本発明を詳細に説明する。なお、基材や配線等につく数字は、図中の符号を表す。 Hereinafter, the present invention will be described in detail. In addition, the numbers attached to the base material, the wiring, etc. represent the symbols in the figure.
本発明において、タッチパネル用導電性部材とは、抵抗膜方式あるいは静電容量方式のタッチパネルに用いられる導電性部材であり、基材1上にパターン化された透明導電膜2と配線構造を有している。抵抗膜方式であれば、4線式や8線式として知られているように、額縁部分に数本の低抵抗値の配線3を引き回す配線構造を形成し、導電性部材の端部に配線を集め、ここでACP(異方導電性ペースト)やACF(異方導電性フィルム)により外部接続用のFPC(フレキシブルプリント基板)と接続される。また静電容量方式では、パターン化された多数の透明導電膜から個別に引き出された多数の配線3を額縁部分に引き回す配線構造を形成し、同様に端部に集めFPCと接続される。
In the present invention, the conductive member for a touch panel is a conductive member used for a resistive film type or capacitive type touch panel, and has a transparent
本発明において、上記タッチパネルの額縁部分に形成される配線構造の一部が銀膜から形成され、該銀膜の形成には銀超微粒子含有組成物を用いる。該銀膜はその導電性を示す体積抵抗率が、金属銀の3〜10倍程度と低いため、従来用いられてきた樹脂型銀ペーストから形成される同一断面積の配線と比較し、抵抗値を低くすることが可能となり、同一抵抗値であればより細い配線とすることが可能となり、配線構造を緻密化し、狭額縁化することが可能となる。また、同一抵抗値であれば、配線をより薄くすることも可能であるため、より薄型のタッチパネルを製造する際に好適に用いることも出来る。 In this invention, a part of wiring structure formed in the frame part of the said touch panel is formed from a silver film, and the silver ultrafine particle containing composition is used for formation of this silver film. Since the volume resistivity of the silver film showing its conductivity is as low as about 3 to 10 times that of metallic silver, it has a resistance value as compared with a wiring having the same cross-sectional area formed from a conventional resin-type silver paste. If the resistance value is the same, the wiring can be made thinner, and the wiring structure can be densified and the frame can be narrowed. In addition, if the resistance value is the same, it is possible to make the wiring thinner, so that it can be suitably used when manufacturing a thinner touch panel.
本発明における銀超微粒子含有組成物とは、水性媒体中に銀超微粒子、ポリマーラテックス、あるいは銀超微粒子、ポリマーラテックス、水溶性ハロゲン化物の他に、印刷あるいは塗布方法に応じて添加される、粘度調整用の増粘剤(キサンタンガム、ポリアクリル酸、カルボキシメチルセルロース、カルボキシビニルポリマー、バイオセルロース等)、乾燥抑制用の高沸点溶媒(エチレングリコール、グリセリン等)、表面張力調整用の界面活性剤(アルキル硫酸ナトリウム類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル硫酸ナトリウム類、フッ素系界面活性剤等)の他、消泡剤、レベリング剤等が含まれた組成物を示す。 The silver ultrafine particle-containing composition in the present invention is added to the aqueous medium in addition to silver ultrafine particles, polymer latex, or silver ultrafine particles, polymer latex, water-soluble halide, depending on the printing or coating method. Thickeners for viscosity adjustment (xanthan gum, polyacrylic acid, carboxymethylcellulose, carboxyvinyl polymer, biocellulose, etc.), high boiling point solvents for controlling drying (ethylene glycol, glycerin, etc.), surfactants for surface tension adjustment ( In addition to sodium alkyl sulfates, polyoxyethylene alkyl ethers, sodium polyoxyethylene nonylphenyl ether sulfate, fluorine-based surfactants, etc.), a composition containing an antifoaming agent, a leveling agent and the like is shown.
本発明において水性媒体とは銀超微粒子含有組成物中の固形分以外の溶媒部分を示し、水が少なくとも80質量%以上であることを示し、好ましくは90質量%以上であり、特に好ましくは98質量%以上であることを意味する。水以外に含まれる溶媒としては、アルコール類、グリコール類等の水と混和性の高い有機溶媒を例示することが出来る。 In the present invention, the aqueous medium refers to a solvent portion other than the solid content in the composition containing silver ultrafine particles, indicating that water is at least 80% by mass or more, preferably 90% by mass or more, and particularly preferably 98%. It means that it is at least mass%. Examples of the solvent other than water include organic solvents having high miscibility with water, such as alcohols and glycols.
本発明で用いられる銀超微粒子とは、銀の占める割合が少なくとも50質量%以上である金属超微粒子であり、好ましくは銀の占める割合が70質量%以上であり、特に好ましくは90質量%以上である。銀以外に含まれる金属としては、金、銅、白金、パラジウム、ロジウム、ルテニウム、イリジウム、オスミウム、ニッケル、ビスマスを挙げることが出来る。銀以外の金属は銀超微粒子中に含まれていても良く、銀超微粒子と銀以外の金属の超微粒子が混合していても良い。 The silver ultrafine particles used in the present invention are metal ultrafine particles in which the proportion of silver is at least 50% by mass or more, preferably the proportion of silver is 70% by mass or more, and particularly preferably 90% by mass or more. It is. Examples of metals contained other than silver include gold, copper, platinum, palladium, rhodium, ruthenium, iridium, osmium, nickel, and bismuth. Metals other than silver may be contained in the silver ultrafine particles, or silver ultrafine particles and metal ultrafine particles other than silver may be mixed.
銀超微粒子の平均粒径は、銀超微粒子含有組成物中に含まれる銀超微粒子の分散安定性の観点から0.1μm以下である事が必要であり、好ましくは0.05μm以下である。なお、銀超微粒子の平均粒径は、電子顕微鏡下での観察により求めることが出来る。詳細にはポリエチレンテレフタレートフィルムの上に、銀超微粒子分散液を塗布、乾燥させ、走査型電子顕微鏡にて観察し、一定面積内に存在する100個の粒子各々の投影面積に等しい円の直径を粒子径として平均し求める。 The average particle diameter of the silver ultrafine particles needs to be 0.1 μm or less, preferably 0.05 μm or less, from the viewpoint of dispersion stability of the silver ultrafine particles contained in the silver ultrafine particle-containing composition. The average particle diameter of the ultrafine silver particles can be determined by observation under an electron microscope. Specifically, a silver ultrafine particle dispersion is coated on a polyethylene terephthalate film, dried, and observed with a scanning electron microscope. The diameter of a circle equal to the projected area of each of 100 particles existing within a certain area is obtained. The average is obtained as the particle diameter.
銀超微粒子としては、不活性ガス中で金属を蒸発させガスとの衝突により冷却・凝縮し回収するガス中蒸発法、レーザー照射のエネルギーにより液中で蒸発・凝縮し回収するレーザーアブレーション法、水溶液中で溶液中金属イオンを還元し生成・回収する化学的還元法、有機金属化合部の熱分解による方法、金属塩化物の気相中での還元による方法、酸化物の水素中還元法等、公知の種々の方法により製造された物を好ましく用いることが出来る。本発明においては、銀超微粒子含有組成物の作製が容易になる点より化学還元法で作製された物がより好ましく、分散剤として作用する水溶性高分子化合物と還元剤に多糖類を用いて作製された物が特に好ましい。 Silver ultrafine particles include vapor evaporation in which the metal is evaporated in an inert gas and cooled / condensed and recovered by collision with the gas, laser ablation that is evaporated / condensed and recovered in the liquid by the energy of laser irradiation, and aqueous solution Chemical reduction method that reduces and generates / recovers metal ions in solution, method by pyrolysis of organometallic compound part, method by reduction of metal chloride in gas phase, method for reduction of oxide in hydrogen, etc. The thing manufactured by the well-known various method can be used preferably. In the present invention, a product prepared by a chemical reduction method is more preferable from the viewpoint of facilitating preparation of a composition containing ultrafine silver particles, and a water-soluble polymer compound acting as a dispersant and a polysaccharide as a reducing agent are used. The prepared product is particularly preferable.
本発明で用いられるポリマーラテックスについて説明する。本発明においては水性媒体を使用するため、ポリマーラテックスとしては、単独重合体や共重合体等各種公知のラテックスの水分散物であるエマルジョンを用いることが好ましい。単独重合体としては酢酸ビニル、塩化ビニル、スチレン、メチルアクリレート、ブチルアクリレート、メタクリロニトリル、ブタジエン、イソプレン等の重合体があり、共重合体としてはエチレン・ブタジエン共重合体、スチレン・ブタジエン共重合体、スチレン・p−メトオキシスチレン共重合体、スチレン・酢酸ビニル共重合体、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合体、酢酸ビニル・マレイン酸ジエチル共重合体、メチルメタクリレート・アクリロニトリル共重合体、メチルメタクリレート・ブタジエン共重合体、メチルメタクリレート・スチレン共重合体、メチルメタクリレート・酢酸ビニル共重合体、メチルメタクリレート・塩化ビニリデン共重合体、メチルアクリレート・アクリロニトリル共重合体、メチルアクリレート・ブタジエン共重合体、メチルアクリレート・スチレン共重合体、メチルアクリレート・酢酸ビニル共重合体、アクリル酸・ブチルアクリレート共重合体、メチルアクリレート・塩化ビニル共重合体、ブチルアクリレート・スチレン共重合体、エチレン塩化ビニル共重合体、ポリエステル、各種ポリウレタン等がある。この中でもポリエステルラテックス、アクリルラテックスおよびポリウレタンラテックスを用いることが好ましく、更に導電性の観点からポリウレタンラテックスが好ましい。ポリマーラテックスの平均粒径は0.01〜10μmであることが好ましく、更に好ましくは0.02〜5μmである。なお、得られる導電性の観点よりポリマーラテックスの平均粒径は銀超微粒子よりも大きい方が好ましい。 The polymer latex used in the present invention will be described. Since an aqueous medium is used in the present invention, it is preferable to use an emulsion which is an aqueous dispersion of various known latexes such as a homopolymer and a copolymer, as the polymer latex. Homopolymers include polymers such as vinyl acetate, vinyl chloride, styrene, methyl acrylate, butyl acrylate, methacrylonitrile, butadiene, and isoprene. Copolymers include ethylene / butadiene copolymers and styrene / butadiene copolymers. Polymer, styrene / p-methoxystyrene copolymer, styrene / vinyl acetate copolymer, vinyl acetate / vinyl chloride copolymer, vinyl acetate / diethyl maleate copolymer, methyl methacrylate / acrylonitrile copolymer, methyl methacrylate・ Butadiene copolymer, methyl methacrylate / styrene copolymer, methyl methacrylate / vinyl acetate copolymer, methyl methacrylate / vinylidene chloride copolymer, methyl acrylate / acrylonitrile copolymer, methyl acrylate / butadiene Polymer, methyl acrylate / styrene copolymer, methyl acrylate / vinyl acetate copolymer, acrylic acid / butyl acrylate copolymer, methyl acrylate / vinyl chloride copolymer, butyl acrylate / styrene copolymer, ethylene vinyl chloride copolymer There are polymers, polyesters, various polyurethanes and the like. Among these, polyester latex, acrylic latex and polyurethane latex are preferably used, and polyurethane latex is more preferable from the viewpoint of conductivity. The average particle size of the polymer latex is preferably 0.01 to 10 μm, more preferably 0.02 to 5 μm. From the viewpoint of conductivity obtained, the average particle diameter of the polymer latex is preferably larger than that of the ultrafine silver particles.
ポリマーラテックスのガラス転移点温度あるいは最低造膜温度は、銀超微粒子含有組成物が塗布された後に暴露される周辺温度以下であることがバインダー機能の発現という観点から好ましい。ガラス転移点温度あるいは最低造膜温度の下限は特に無いが、市販されているポリマーラテックスにおいては、一般的に−40℃以上である。 The glass transition temperature or the minimum film-forming temperature of the polymer latex is preferably equal to or lower than the ambient temperature exposed after the silver ultrafine particle-containing composition is applied, from the viewpoint of manifesting the binder function. Although there is no particular lower limit of the glass transition temperature or the minimum film-forming temperature, it is generally −40 ° C. or higher in commercially available polymer latex.
本発明で用いられる水溶性ハロゲン化物としては、ハロゲン化水素、無機塩類等を挙げることが出来る。ハロゲン化水素として、塩酸、臭化水素酸等を挙げることが出来る。無機塩類として、リチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩、ジルコニウム塩、アルミニウム塩、マグネシウム塩、カルシウム塩、アンモニウム塩等を挙げることが出来る。例えば、塩化リチウム、塩化ナトリウム、塩化カリウム、塩化カルシウム、塩化アンモニウム、臭化リチウム、臭化ナトリウム、臭化カリウム、臭化カルシウム、臭化アンモニウム、沃化リチウム、沃化ナトリウム、沃化カリウム等を挙げる事が出来る。 Examples of the water-soluble halide used in the present invention include hydrogen halide and inorganic salts. Examples of the hydrogen halide include hydrochloric acid and hydrobromic acid. Examples of inorganic salts include lithium salts, sodium salts, potassium salts, ammonium salts, zirconium salts, aluminum salts, magnesium salts, calcium salts, ammonium salts, and the like. For example, lithium chloride, sodium chloride, potassium chloride, calcium chloride, ammonium chloride, lithium bromide, sodium bromide, potassium bromide, calcium bromide, ammonium bromide, lithium iodide, sodium iodide, potassium iodide, etc. I can list.
例示した水溶性ハロゲン化合物は、1種または2種以上組み合わせて用いる事が出来る。得られる導電性の観点より、塩化ナトリウム、塩化カリウム、塩化アンモニウムが特に好ましい。 The exemplified water-soluble halogen compounds can be used alone or in combination of two or more. From the viewpoint of conductivity obtained, sodium chloride, potassium chloride, and ammonium chloride are particularly preferable.
本発明において、タッチパネルの額縁部分に形成される配線構造の一部が銀膜から形成されるが、この銀膜の形成方法として、以下の2つの方法を示すことが出来る。 In the present invention, a part of the wiring structure formed in the frame portion of the touch panel is formed from a silver film. As a method for forming this silver film, the following two methods can be shown.
第一の方法は、水性媒体中に少なくとも平均粒径が0.1μm以下の銀超微粒子、ポリマーラテックスを含有する銀超微粒子含有組成物を塗布乾燥して得られた被膜(Z)を、以下(A)から(D)に記載される方法により処理し銀膜を形成する方法である。
(A)ハロゲン無機塩類を含有する水溶液と被膜(Z)との接触。
(B)銀イオンを還元することが出来る還元性化合物を含有する水溶液と被膜(Z)との接触。
(C)分子内に硫黄原子を有する酸の塩を含有する水溶液と被膜(Z)との接触。
(D)炭素数3以上のジカルボン酸化合物を含有する水溶液と被膜(Z)との接触。
The first method is to apply a coating (Z) obtained by coating and drying a silver ultrafine particle-containing composition containing at least an ultrafine silver particle having an average particle size of 0.1 μm or less and a polymer latex in an aqueous medium, It is a method of forming a silver film by processing by the method described in (A) to (D).
(A) Contact between an aqueous solution containing a halogen inorganic salt and the coating (Z).
(B) Contact between an aqueous solution containing a reducing compound capable of reducing silver ions and the coating (Z).
(C) Contact between an aqueous solution containing an acid salt having a sulfur atom in the molecule and the coating (Z).
(D) Contact between an aqueous solution containing a dicarboxylic acid compound having 3 or more carbon atoms and the coating (Z).
本方法の場合、ポリマーラテックスの含有量としては、銀超微粒子含有組成物中の銀:ポリマーラテックスの質量比は1:0.01〜1:0.4であることが好ましく、更に1:0.03〜1:0.3であることがより好ましい。1:0.4より多い場合、ポリマーラテックスの膜中に銀超微粒子がうまってしまい導電性は悪化する場合がある。また、1:0.01未満であればポリマーラテックスによる所望の密着性の効果が得られない場合がある。 In the case of this method, the content of the polymer latex is preferably such that the mass ratio of silver: polymer latex in the silver ultrafine particle-containing composition is 1: 0.01 to 1: 0.4, and more preferably 1: 0. More preferably, it is 0.03 to 1: 0.3. When the ratio is more than 1: 0.4, ultrafine silver particles are trapped in the polymer latex film, and the conductivity may deteriorate. Moreover, if it is less than 1: 0.01, the effect of the desired adhesiveness by polymer latex may not be acquired.
上記(A)に記す本発明に用いられるハロゲン無機塩類を含有する水溶液として、塩素、臭素、沃素等のアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、アンモニウム塩等の無機塩類を広く用いることが出来る。水に対する溶解度は高い方が好ましく、具体的には塩化ナトリウム、塩化カリウム、塩化リチウム、塩化カルシウム、塩化アンモニウム、臭化ナトリウム、臭化カリウム、臭化カルシウム、臭化アンモニウム、沃化ナトリウム、沃化カリウムの如きハロゲン塩類を含有する水溶液、および、カウンターイオンとしてハロゲンを有する無機高分子ハロゲン化物、例えば塩基性で高分子の多核縮合イオンを安定に含んでいるポリ水酸化アルミニウム(多木化学株式会社よりポリ塩化アルミニウムとして、株式会社理研グリーンよりピュラケムWTとして容易に入手出来る)を含有する水溶液を例示することが出来る。 As the aqueous solution containing the halogen inorganic salts used in the present invention described in (A) above, inorganic salts such as alkali metal salts such as chlorine, bromine and iodine, alkaline earth metal salts and ammonium salts can be widely used. Higher solubility in water is preferable. Specifically, sodium chloride, potassium chloride, lithium chloride, calcium chloride, ammonium chloride, sodium bromide, potassium bromide, calcium bromide, ammonium bromide, sodium iodide, and iodide. An aqueous solution containing a halogen salt such as potassium, and an inorganic polymer halide having halogen as a counter ion, for example, polyaluminum hydroxide stably containing a basic and polynuclear condensed ion (Taki Chemical Co., Ltd.) As an example of the polyaluminum chloride, an aqueous solution containing Purachem WT from Riken Green Co., Ltd.) can be used.
上記(B)に記す本発明に用いられる銀イオンを還元することが出来る還元性化合物としては、銀ナノ粒子を製造する際に用いられる還元剤や、無電解メッキで使用される還元剤を使用することが出来る。これらの還元性化合物は、菅沼克昭監修、金属ナノ粒子ペーストのインクジェット微細配線、シーエムシー出版(2006)、電気鍍金研究会編、無電解めっき基礎と応用、日刊工業新聞社(1994)等に記載されている。 As a reducing compound capable of reducing silver ions used in the present invention described in (B) above, a reducing agent used in producing silver nanoparticles or a reducing agent used in electroless plating is used. I can do it. These reducing compounds are described by Katsuaki Suganuma, metal nanoparticle paste inkjet fine wiring, CMC Publishing (2006), Electroplating Research Group, Electroless Plating Basics and Applications, Nikkan Kogyo Shimbun (1994), etc. Has been.
具体的にはアスコルビン酸、エリソルビン酸、クエン酸、およびそれらのアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、アンモニウム塩等、および、ヒドラジン、ヒドラジニウム塩類(硫酸ヒドラジニウム、炭酸ヒドラジニウム等)、アルデヒド類(ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド等の脂肪族飽和アルデヒド、グリオキザール、スクシンジアルデヒド、グルタルアルデヒド等の脂肪族ジアルデヒド、アクロレイン、クロトンアルデヒド、プロピオールアルデヒド等の不飽和アルデヒド等)、二酸化チオ尿素、水素化アルミニウムリチウム、ホウ素系還元剤類(水素化ホウ素ナトリウム、ジメチルアミンボラン、ジエチルアミンボラン、トリエチルアミンボラン等)を含有する水溶液を例示することが出来る。 Specifically, ascorbic acid, erythorbic acid, citric acid, and their alkali metal salts, alkaline earth metal salts, ammonium salts, etc., and hydrazine, hydrazinium salts (such as hydrazinium sulfate and hydrazinium carbonate), aldehydes (formaldehyde, Aliphatic saturated aldehydes such as acetaldehyde and propionaldehyde, aliphatic dialdehydes such as glyoxal, succindialdehyde and glutaraldehyde, unsaturated aldehydes such as acrolein, crotonaldehyde, and propiolaldehyde), thiourea dioxide, lithium aluminum hydride An aqueous solution containing boron-based reducing agents (sodium borohydride, dimethylamine borane, diethylamine borane, triethylamine borane, etc.) can be exemplified.
上記(C)に記す本発明に用いられる分子内に硫黄を有する酸の塩として、亜硫酸塩類、チオシアン酸塩類、チオ硫酸塩類、硫酸塩類を例示することが出来る。 Examples of the acid salt having sulfur in the molecule used in the present invention described in the above (C) include sulfites, thiocyanates, thiosulfates, and sulfates.
亜硫酸塩類として、亜硫酸、ピロ亜硫酸、および亜硫酸水素の塩が挙げられ、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩やアンモニウム塩等を広く用いることが出来る。水に対する溶解度は高い方が好ましく、具体的には亜硫酸リチウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸アンモニウム、亜硫酸水素カリウム、亜硫酸水素ナトリウム、亜硫酸水素アンモニウム、ピロ亜硫酸ナトリウム等を含有する水溶液を例示することが出来る。 Examples of the sulfites include sulfites, pyrosulfites, and hydrogen sulfites, and alkali metal salts, alkaline earth metal salts, ammonium salts, and the like can be widely used. It is preferable that the solubility in water is higher. Specifically, an aqueous solution containing lithium sulfite, potassium sulfite, sodium sulfite, ammonium sulfite, potassium hydrogen sulfite, sodium hydrogen sulfite, ammonium hydrogen sulfite, sodium pyrosulfite, etc. may be exemplified. I can do it.
チオシアン酸塩類として、チオシアン酸のアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩やアンモニウム塩等を用いることが出来る。水に対する溶解度は高い方が好ましく、具体的にはチオシアン酸カリウム、チオシアン酸ナトリウム、チオシアン酸カルシウム、チオシアン酸アンモニウム等を含有する水溶液を例示することが出来る。 As thiocyanates, alkali metal salts, alkaline earth metal salts, ammonium salts, and the like of thiocyanic acid can be used. Higher solubility in water is preferred, and specific examples include aqueous solutions containing potassium thiocyanate, sodium thiocyanate, calcium thiocyanate, ammonium thiocyanate, and the like.
チオ硫酸塩類として、チオ硫酸のアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩やアンモニウム塩等を広く用いることが出来る。水に対する溶解度は高い方が好ましく、具体的にはチオ硫酸カリウム、チオ硫酸ナトリウム、チオ硫酸カルシウム、チオ硫酸アンモニウム等を含有する水溶液を例示することが出来る。 As the thiosulfates, alkali metal salts, alkaline earth metal salts, ammonium salts, and the like of thiosulfuric acid can be widely used. Higher solubility in water is preferable, and specific examples include aqueous solutions containing potassium thiosulfate, sodium thiosulfate, calcium thiosulfate, ammonium thiosulfate, and the like.
硫酸塩類として、硫酸のアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩やアンモニウム塩等を広く用いることが出来る。水に対する溶解度は高い方が好ましく、具体的には硫酸ナトリウム、硫酸カリウム、硫酸アンモニウム等を含有する水溶液を例示することが出来る。 As sulfates, alkali metal salts, alkaline earth metal salts and ammonium salts of sulfuric acid can be widely used. Higher solubility in water is preferable, and specific examples include aqueous solutions containing sodium sulfate, potassium sulfate, ammonium sulfate and the like.
上記(D)に記す本発明に用いられる炭素数3以上のジカルボン酸として、水に対する溶解度の高いものが好ましく、溶解性の点から炭素数は8以下が好ましい。具体的にはマロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、マレイン酸、リンゴ酸、酒石酸、シトラコン酸、イタコン酸、メサコン酸等を含有する水溶液を例示することが出来る。 The dicarboxylic acid having 3 or more carbon atoms used in the present invention described in the above (D) is preferably one having high solubility in water, and preferably 8 or less in terms of solubility. Specific examples include aqueous solutions containing malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, maleic acid, malic acid, tartaric acid, citraconic acid, itaconic acid, mesaconic acid, and the like.
なお、上記(A)から(D)に記載の化合物は混合して用いても良く、これらの化合物を溶解した水溶液の濃度としては、1質量%以上であることが好ましく、より好ましくは10質量%以上であり、上限は溶解度により制限される。濃度は高い方が導電性をより向上させることが出来るため好ましい。また、水溶液および溶液の温度は高い方が導電性をより向上させることが出来るため好ましく、60℃以上が好ましく、より好ましくは70℃以上であり、上限はその化合物を含む水溶液の沸点である。 The compounds described in (A) to (D) above may be used as a mixture. The concentration of the aqueous solution in which these compounds are dissolved is preferably 1% by mass or more, more preferably 10% by mass. %, And the upper limit is limited by solubility. A higher concentration is preferable because the conductivity can be further improved. Moreover, since the one where the temperature of aqueous solution and a solution can improve electroconductivity more is preferable, 60 degreeC or more is preferable, More preferably, it is 70 degreeC or more, and an upper limit is the boiling point of the aqueous solution containing the compound.
本発明において、水溶液との接触とは、被膜(Z)に溶液あるいは水溶液を付着させる、あるいは被膜(Z)を溶液あるいは水溶液に浸漬することを示す。これにより導電性を有する銀膜とする事が出来る。接触する時間は、1秒以上が好ましく、10秒以上がより好ましい。上限は特に無いが、生産性を勘案すると10分以下が好ましい。更に、高湿度環境へ短時間暴露する事も導電性向上に有効であり、温度は10℃から80℃が好ましく、重量絶対湿度Hとして0.01kg/kgD.A.以上あることが好ましい。また、水溶液と接触させた後は、水による洗浄を行うことが好ましい。 In the present invention, the contact with the aqueous solution means that the solution or the aqueous solution is adhered to the coating (Z), or the coating (Z) is immersed in the solution or the aqueous solution. Thereby, it can be set as the silver film which has electroconductivity. The contact time is preferably 1 second or longer, and more preferably 10 seconds or longer. There is no particular upper limit, but 10 minutes or less is preferable in consideration of productivity. Furthermore, exposure to a high humidity environment for a short time is also effective for improving conductivity, and the temperature is preferably 10 ° C. to 80 ° C., and the weight absolute humidity H is 0.01 kg / kg D.P. A. It is preferable that there is more. Moreover, after making it contact with aqueous solution, it is preferable to wash | clean with water.
これらの方法のうち、得られる導電性の観点から、(1)Aの方法において塩素あるいは臭素の無機塩類を含有する水溶液へ被膜(Z)を接触させる方法、(2)Cの処理方法において、亜硫酸塩類あるいはチオ硫酸塩類を含有する水溶液へ被膜(Z)を接触させる方法、および(3)Dの処理方法においてオキシジカルボン酸類を含有する水溶液へ被膜(Z)を接触させる方法がより好ましく、特に好ましくはこれらの物質群から選択された複数の物質が溶解された水溶液への接触である。 Among these methods, from the viewpoint of the obtained conductivity, (1) the method of contacting the coating (Z) with an aqueous solution containing an inorganic salt of chlorine or bromine in the method A, (2) in the treating method of C, More preferred are a method of bringing the coating (Z) into contact with an aqueous solution containing sulfites or thiosulfates, and (3) a method of bringing the coating (Z) into contact with an aqueous solution containing oxydicarboxylic acids in the treatment method of D. Preferably, the contact is with an aqueous solution in which a plurality of substances selected from these substance groups are dissolved.
第二の方法は、水性媒体中に少なくとも平均粒径が0.1μm以下の銀超微粒子、ポリマーラテックスおよび水溶性ハロゲン化物を含有する銀超微粒子含有組成物を塗布乾燥して得られた被膜を、紫外線の照射および/または水分の再付与により処理し銀膜を形成する方法である。 The second method is to apply a coating obtained by applying and drying a silver ultrafine particle-containing composition containing at least an ultrafine silver particle having an average particle size of 0.1 μm or less, a polymer latex, and a water-soluble halide in an aqueous medium. In this method, a silver film is formed by treatment by ultraviolet irradiation and / or re-application of moisture.
ポリマーラテックスおよび水溶性ハロゲン化物の含有量としては、下記の式
2.93<A/B<168
A:銀超微粒子含有組成物中のポリマーラテックス固形分濃度(単位:質量%)
B:水溶性ハロゲン化物質量モル濃度(単位:mol/kg)
を満足することが好ましい。ここで水溶性ハロゲン化物質量モル濃度とは、水溶性ハロゲン化物の物質量を、銀超微粒子含有組成物の全質量から銀、ポリマーラテックス固形分、水溶性ハロゲン化物等の溶質の質量を差し引いた値で除した値を意味する。
As content of polymer latex and water-soluble halide, following formula 2.93 <A / B <168
A: Solid concentration of polymer latex in the composition containing ultrafine silver particles (unit: mass%)
B: Molar concentration of water-soluble halogenated substance (unit: mol / kg)
Is preferably satisfied. Here, the molar amount of water-soluble halide is the amount of water-soluble halide obtained by subtracting the mass of solutes such as silver, polymer latex solids, and water-soluble halides from the total mass of the silver ultrafine particle-containing composition. Means the value divided by the value.
A/Bが上記の式を満足しない場合、つまりポリマーラテックス、水溶性ハロゲン化物のいずれかの含有量が過剰である場合、形成した銀膜の導電性が低下する場合がある。また、水溶性ハロゲン化物の含有量が過剰である場合、銀超微粒子含有組成物の分散安定性が低下する場合がある。 When A / B does not satisfy the above formula, that is, when the content of either the polymer latex or the water-soluble halide is excessive, the conductivity of the formed silver film may be lowered. Further, when the content of the water-soluble halide is excessive, the dispersion stability of the silver ultrafine particle-containing composition may be lowered.
本発明において用いる紫外線には、光源として波長180〜400nmの近紫外線領域を利用することが一般に好ましい。この領域以外の、例えば青色、紫色領域の可視光(波長400〜500nm)を併用することも可能である。 For the ultraviolet rays used in the present invention, it is generally preferable to use a near ultraviolet region having a wavelength of 180 to 400 nm as a light source. For example, visible light (wavelength 400 to 500 nm) in a blue or purple region other than this region can be used in combination.
波長180〜400nmの近紫外線領域の紫外線、ならびに、波長400〜500nmの青色、紫色領域の可視光の光源としては、例えば、低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、ケミカルランプ、水銀−キセノンランプ、エキシマランプ、ショートアーク灯、ヘリウム−カドニウムレーザー、アルゴンレーザー、エキシマレーザー、UV無電極ランプ等が挙げられる。例えば、水銀の原子線は、184.9nm、253.7nm、365.0nm、435.8nmに輝線を示す。また、光源として太陽光を用いることも可能である。 Examples of the light source of near-ultraviolet light having a wavelength of 180 to 400 nm and blue and purple light having a wavelength of 400 to 500 nm include a low pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a metal halide lamp, and a chemical lamp. Mercury-xenon lamp, excimer lamp, short arc lamp, helium-cadmium laser, argon laser, excimer laser, UV electrodeless lamp, and the like. For example, the atomic beam of mercury shows emission lines at 184.9 nm, 253.7 nm, 365.0 nm, and 435.8 nm. It is also possible to use sunlight as the light source.
また、紫外線の代わりに電子線を用いる事も可能ではあるが、装置が簡便であり、設備コストも低くて良いことから、本発明においては紫外線を用いることが好ましい。 In addition, although an electron beam can be used instead of ultraviolet rays, ultraviolet rays are preferably used in the present invention because the apparatus is simple and the equipment cost may be low.
第二の方法において水分を再付与する方法としては、例えば(1)銀超微粒子含有組成物の塗布方法として例示する後述の方法を用い、水を塗布する、(2)スプレーノズルにより霧状水の噴霧を行う、(3)高湿度環境へ暴露する、といった方法が挙げられる。(3)の場合、温度は10℃から80℃が好ましく、重量絶対湿度Hとして0.01kg/kgD.A.以上あることが好ましい。 As a method of re-applying moisture in the second method, for example, (1) a method described later as an application method of the silver ultrafine particle-containing composition is applied, and water is applied. (2) A mist water by a spray nozzle And (3) exposure to a high humidity environment. In the case of (3), the temperature is preferably 10 ° C. to 80 ° C., and the absolute humidity H is 0.01 kg / kg D.D. A. It is preferable that there is more.
また、紫外線の照射および/または水分の再付与により銀膜を形成した後は、水による洗浄を行うことが好ましい。また、銀超微粒子含有組成物を塗布、乾燥し、紫外線の照射および/または水分の再付与ではなく、前述した第一の方法における(A)から(D)の方法を用いても銀膜とすることが可能であり、導電性に関しても同等である。 Moreover, after forming a silver film by ultraviolet irradiation and / or re-application of moisture, it is preferable to perform washing with water. In addition, the silver ultrafine particle-containing composition is applied and dried, and the silver film and the silver film can be obtained by using the methods (A) to (D) in the first method described above, instead of ultraviolet irradiation and / or re-application of moisture. The same is true for conductivity.
本発明において、基材1は特に限定されず、光透過性の公知のガラス基材およびプラスチック基材を用いることが出来る。抵抗膜方式のタッチパネルにおいては、タッチする部分に可動性が要求されるため、フィルム化され可撓性を有するプラスチック基材を用いることが好ましい。
In this invention, the
ガラス基材としては、一般に基板用ガラスとして使用されているものは、いずれも使用
することが出来る。例えば、ソーダライムガラス、無アルカリガラス、石英ガラス等を例示することが出来る。
Any glass substrate that is generally used as glass for a substrate can be used. For example, soda lime glass, non-alkali glass, quartz glass and the like can be exemplified.
プラスチック基材としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリブチレンテレフタレート、ポリメチルメタクリレート(PMMA)、ポリメタクリレート、ポリアクリレート、などのポリエステルや、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン、ポリエーテルスルフォン、セロハン、塩化ビニル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリビニルアルコール、エチレン/ビニルアルコール共重合体、ナイロン、ポリイミド(PI)、ポリアミド、アラミド、ポリカーボネート(PC)、トリアセチルセルロース、ポリカーボネート、ジアセチルセルロース、セルロース系樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂等からなるプラスチック基材を例示することが出来る。フィルム化は、溶融押出法もしくは溶液流延法等により形成される。 Examples of the plastic substrate include polyesters such as polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), polybutylene terephthalate, polymethyl methacrylate (PMMA), polymethacrylate, polyacrylate, polyolefins such as polyethylene and polypropylene, Polyether sulfone, cellophane, vinyl chloride, polyvinyl chloride, vinylidene chloride, polystyrene, polyvinyl alcohol, ethylene / vinyl alcohol copolymer, nylon, polyimide (PI), polyamide, aramid, polycarbonate (PC), triacetyl cellulose, polycarbonate Examples include plastic substrates made of acetylcellulose, cellulose resin, acrylic resin, urethane resin, etc. . The film is formed by a melt extrusion method or a solution casting method.
本発明において、透明導電膜2を形成する材料は導電性を有し透明な膜が形成出来るものであれば特に限定されず、公知の透明導電膜形成用材料を用いることが出来る。例えば、スズがドープされた酸化インジウム膜(ITO膜)、フッ素がドープされた酸化スズ膜(FTO膜)、アンチモンがドープされた酸化亜鉛膜などが挙げられる。中でもITOは透明性が高く、導電性にも優れることから好適に用いられる。
In the present invention, the material for forming the transparent
透明導電膜2を形成する方法は、特に限定されず公知の方法により形成することが可能である。例えば、スパッタ法、電子ビーム蒸着法、イオンプレーティング法、化学気相成膜法、ナノ粒子の印刷・塗布等が挙げられるがこれに限定されるものではない。透明導電膜2は、基材1の全面に形成してもよいが、額縁部分の一部、つまり配線構造と接続される部分まで形成してもよい。
The method for forming the transparent
本発明において、タッチパネル用導電性部材とするには、必要に応じパターン化された透明導電膜2、透明導電膜2と電気的に結合した配線3を有する構造を形成することが必要であるが、これを形成する方法として以下の例を挙げることが出来る。
1.必要に応じパターン化された透明導電膜11を有する基材10の額縁部分12に銀超微粒子含有組成物からなる配線パターンを印刷、乾燥後、上記処理により銀膜を形成し、配線構造を形成する方法。
2.必要に応じパターン化された透明導電膜11を有する基材10の額縁部分12に銀超微粒子含有組成物からなるベタ様の印刷あるいは塗布を行い、乾燥し被膜化した後、エッチングあるいはレーザーアブレーションによりパターン化し、上記処理により銀膜を形成し、配線構造を形成する方法。
3.必要に応じパターン化された透明導電膜11を有する基材10の額縁部分12に銀超微粒子含有組成物からなるベタ様の印刷あるいは塗布を行い、乾燥後、上記処理により銀膜を形成し、この銀膜をエッチングあるいはレーザーアブレーションによりパターン化し配線構造を形成する方法。
4.透明導電膜11を有する基材10の額縁部分12に銀超微粒子含有組成物からなるベタ様の印刷あるいは塗布を行い、乾燥後、エッチングあるいはレーザーアブレーションによりパターン化し、上記処理により銀膜を形成し、必要に応じパターン化された透明導電膜と配線構造を同時に形成する方法。
5.透明導電膜11を有する基材10の額縁部分12に銀超微粒子含有組成物からなるベタ様の印刷あるいは塗布を行い、乾燥後、上記処理により銀膜を形成し、エッチングあるいはレーザーアブレーションによりパターン化し、必要に応じパターン化された透明導電膜と配線構造を同時に形成する方法。
In the present invention, in order to form a conductive member for a touch panel, it is necessary to form a structure having a patterned transparent
1. A wiring pattern made of the composition containing silver ultrafine particles is printed on the
2. A solid-like printing or coating made of a composition containing ultrafine silver particles is applied to the
3. A solid-like printing or coating made of a composition containing silver ultrafine particles is performed on the
4). A solid-like printing or coating made of a composition containing ultrafine silver particles is applied to the
5. A solid-like printing or coating made of a composition containing ultrafine silver particles is applied to the
本発明において、1から5の方法はいずれも好適に用いることが出来るが、例えば多点検出を可能とするマトリクス様の透明導電膜を有する抵抗膜方式のタッチパネルや、静電容量方式のタッチパネル等、パターン化された透明導電膜を用いる場合には、4あるいは5の方法を用いることが、歩留や製造効率の観点から好ましい。
In the present invention, any of the
1の方法において、透明導電膜11と形成された配線構造との電気的な結合を取る方法として、透明導電膜に配線構造との接続部分(パッドエリア)を予め設けておき、配線構造の一部が接続部分と重なるように形成する方法を例示することが出来る。 In the first method, as a method of establishing electrical coupling between the transparent conductive film 11 and the formed wiring structure, a connection portion (pad area) to the wiring structure is provided in advance in the transparent conductive film, A method of forming the portion so as to overlap the connection portion can be exemplified.
2あるいは3の方法でパターン化にエッチングを用いる場合、透明導電膜11をエッチング時に保護する必要がある。これには、保護フィルムを貼合しても良いが、銀超微粒子含有組成物の被膜あるいは処理されてなる銀膜を額縁部分12に形成した後、紫外線硬化性を有するネガ型のドライフィルムの貼合あるいは液体レジストの塗布乾燥からなる未露光のレジスト層を透明導電膜側の全面に設け、裏面から紫外線を照射し、セルフパターニングし、硬化されたレジスト層を形成する事が好ましい。これは、銀超微粒子含有組成物の被膜あるいは処理されてなる銀膜が光学濃度を有するため、露光時にマスクとして作用するためである。
When etching is used for patterning by the
本発明において、銀超微粒子含有組成物は、公知の印刷方法、例えば、グラビア印刷、フレキソ印刷、インクジェット印刷、スクリーン印刷、オフセット印刷、グラビアオフセット印刷、ディスペンサー印刷、パッド印刷等により額縁部分12へのパターン化された配線構造の印刷、あるいはベタ様に塗布される。あるいは、ロッドバーコーティング、スリットダイコーティング、インクジェットコーティング等、公知のコーティング方法により、額縁部分12にベタ様に塗布される。また、印刷および塗布を行う前に、コロナ放電やUV照射、常圧プラズマ等、公知の方法による表面改質を行うことが出来る。
In the present invention, the silver ultrafine particle-containing composition is applied to the
塗布された銀超微粒子含有組成物を乾燥し被膜とする。乾燥方法としては特に限定されない。熱風乾燥を行う場合、熱風の温度および露点は、乾燥速度、基材の耐熱性等の観点より決定される。また、近赤外線、遠赤外線、紫外線による乾燥を行っても良く、特に紫外線による乾燥は、前述した第二の方法に必要となる紫外線照射と兼用することが出来る。含まれている水などの揮発成分を蒸発させるだけで良いため、数十秒程度の短時間で乾燥させる事が出来る。 The applied silver ultrafine particle-containing composition is dried to form a film. It does not specifically limit as a drying method. When performing hot air drying, the temperature and dew point of the hot air are determined from the viewpoint of the drying speed, the heat resistance of the substrate, and the like. Moreover, you may dry by a near infrared ray, a far infrared ray, and an ultraviolet-ray, and especially the drying by an ultraviolet-ray can be combined with the ultraviolet irradiation required for the 2nd method mentioned above. Since it is only necessary to evaporate volatile components such as water, it can be dried in a short time of about several tens of seconds.
銀超微粒子含有組成物の被膜あるいは処理されてなる銀膜のエッチングによるパターン化は、公知の各種のフォトリソグラフィーや直接印刷によりレジスト層を形成し、硝酸第二鉄水溶液や、リン酸と硝酸の混酸溶液等、公知の銀のエッチング溶液を用いて行う事が好ましい。 Patterning by etching of a silver ultrafine particle-containing composition film or a processed silver film is performed by forming a resist layer by various known photolithography and direct printing, and using ferric nitrate aqueous solution or phosphoric acid and nitric acid. It is preferable to use a known silver etching solution such as a mixed acid solution.
透明導電膜11のパターン化は、各種のフォトリソグラフィーや直接印刷によりレジスト層を形成しエッチングする方法、レーザーアブレーション等のドライプロセスにより不要な部分を除去する方法、透明導電膜を形成するナノ粒子をパターン化して印刷する方法等、公知の方法により行われる。例えば、ITO膜であれば、塩化第二鉄/塩酸水溶液を用いたウェットエッチングや、ヨウ化水素(HI)を含むガスを用いるドライエッチングをエッチング方法として用いることが出来る。 The patterning of the transparent conductive film 11 includes a method of forming and etching a resist layer by various photolithography and direct printing, a method of removing unnecessary parts by a dry process such as laser ablation, and a method of forming nanoparticles forming a transparent conductive film It is performed by a known method such as a method of patterning and printing. For example, for an ITO film, wet etching using a ferric chloride / hydrochloric acid aqueous solution or dry etching using a gas containing hydrogen iodide (HI) can be used as an etching method.
4あるいは5の方法でパターン化にエッチングを用いる場合、エッチングは、透明導電膜と銀膜を別個に行っても良いが、双方を同時にエッチングすることがより好ましい。例えば、ITO膜と銀膜であれば、硫酸セリウム水溶液、硝酸セリウム水溶液を例示することが出来る。市販品として、硫酸アンモニウム、硫酸セリウム、硫酸の混合水溶液であるマイクリーン(中外写真薬品(株)製)を挙げることが出来る。 When etching is used for patterning by the method 4 or 5, the transparent conductive film and the silver film may be separately etched, but it is more preferable to etch both simultaneously. For example, an ITO film and a silver film can be exemplified by an aqueous cerium sulfate solution and an aqueous cerium nitrate solution. As a commercially available product, Myclean (manufactured by Chugai Photo Chemical Co., Ltd.), which is a mixed aqueous solution of ammonium sulfate, cerium sulfate, and sulfuric acid, can be mentioned.
以上説明した方法により、タッチパネル用導電性部材を製造することが出来る。また、本発明は、配線構造の形成を迅速に行うことが出来るため、ロールツーロールによるタッチパネル製造工程において、特に好適に用いることが出来る。また、基材の両面に透明導電膜11と配線構造を設けても良い。 The conductive member for a touch panel can be manufactured by the method described above. Moreover, since this invention can perform formation of a wiring structure rapidly, it can be used especially suitably in the touch-panel manufacturing process by roll-to-roll. Moreover, you may provide the transparent conductive film 11 and the wiring structure on both surfaces of a base material.
以下、実施例により本発明を詳しく説明するが、本発明の内容は実施例に限られるものではない。 EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention in detail, the content of this invention is not restricted to an Example.
《実施例1》
<銀超微粒子分散液1の作製>
10Lのステンレスビーカーに焙焼デキストリン(日澱化学(株)製、デキストリンNo.3)を272gと純水4300gを加え、約30分間撹拌し溶解した。その後、硝酸銀659gを加え、約30分間撹拌し溶解した。この液を氷浴中にて約5℃まで冷却し、水酸化カリウム304.5gを純水419.5gに溶解した10℃の液を添加し、氷浴中で撹拌しながら1時間の還元反応を行った。得られた溶液に酢酸を添加し、pH=5.6に調整した後、ビオザイムF10SD(天野エンザイム(株)製)を1g添加し45℃で1時間撹拌した。次に、得られた銀超微粒子分散液を遠心分離法により精製した後、銀濃度が45質量%になるように純水を加えて再分散し、銀超微粒子分散液1を800g得た。含まれる銀超微粒子の平均粒径は20nm、収率は86%であった。
Example 1
<Preparation of silver
To a 10 L stainless beaker, 272 g of roasted dextrin (manufactured by Nissho Chemical Co., Ltd., dextrin No. 3) and 4300 g of pure water were added and dissolved by stirring for about 30 minutes. Thereafter, 659 g of silver nitrate was added and dissolved by stirring for about 30 minutes. This solution was cooled to about 5 ° C. in an ice bath, a 10 ° C. solution in which 304.5 g of potassium hydroxide was dissolved in 419.5 g of pure water was added, and the reduction reaction was performed for 1 hour while stirring in the ice bath. Went. Acetic acid was added to the resulting solution to adjust to pH = 5.6, 1 g of Biozyme F10SD (manufactured by Amano Enzyme) was added, and the mixture was stirred at 45 ° C. for 1 hour. Next, after the obtained ultrafine silver particle dispersion was purified by a centrifugal separation method, pure water was added and redispersed so that the silver concentration was 45% by mass, and 800 g of ultrafine
<銀超微粒子含有組成物1の作製>
銀超微粒子分散液1を200g取り、これにポリマーラテックスとして三洋化成工業(株)製ユーコートUWS−145(ポリウレタンラテックス、平均粒径0.02μm、固形分35質量%)を27g加え、更に界面活性剤、純水、エチレングリコールを加え、銀濃度30質量%、表面張力30mN/m、粘度9mPa・sの銀超微粒子含有組成物1を得た。
<Preparation of silver ultrafine particle-containing
200 g of the ultrafine
<タッチパネル用導電性部材1および2の作製>
サイズ10cm×10cm、厚み100μmのPETフィルム基材の片面全体にインジウム−スズ複合酸化物をターゲットに用いて、高周波マグネトロンスパッタリング法で、0.1μm厚、酸化スズ含有率8質量%のITO膜を成膜した。次いで、銀超微粒子含有組成物1をフレキソ印刷により図3の21に示すように印刷し、温風で乾燥した後、80℃の3N−塩化ナトリウム水溶液に30秒間浸漬し、水洗、乾燥を行い、額縁部分に銀膜を形成した。銀膜の形成に必要な時間は2分であった。これにネガ型のドライフィルムを貼合し、露光、エッチングを行う事により、図4のパターン31を有するタッチパネル用導電性部材1、図4のパターン32を有するタッチパネル用導電性部材2を作製した。なお、配線幅は80μmとした。
<Production of
An ITO film having a thickness of 0.1 μm and a tin oxide content of 8% by mass is formed by high-frequency magnetron sputtering using an indium-tin composite oxide as a target on the entire surface of a PET film substrate having a size of 10 cm × 10 cm and a thickness of 100 μm. A film was formed. Next, the silver ultrafine particle-containing
<タッチパネル1の作製>
得られたタッチパネル用導電性部材1および2のITO膜同士が向かい合わせになるようにEVA接着材にて貼合し、積層フィルムを得た。なお電極取り出し部分にはACFを用いて両面FPCを接続し、外部回路へ接続した。
<Production of
The obtained
《実施例2》
<銀超微粒子含有組成物2の作製>
銀超微粒子分散液1を200g取り、これにポリマーラテックスとして三洋化成工業(株)製ユーコートUWS−145(ポリウレタンラテックス、平均粒径0.02μm、固形分35質量%)を48g、1.2質量%濃度の塩化ナトリウム水溶液を130g、更に界面活性剤、純水、エチレングリコールを加え、銀濃度30質量%、表面張力30mN/m、粘度9mPa・sの銀超微粒子含有組成物2を得た。
Example 2
<Preparation of silver ultrafine particle-containing
200 g of the silver
<タッチパネル用導電性部材3および4の作製>
サイズ10cm×10cm、厚み100μmのPETフィルム基材の片面全体にインジウム−スズ複合酸化物をターゲットに用いて、高周波マグネトロンスパッタリング法で、0.1μm厚、酸化スズ含有率8質量%のITO膜を成膜した。次いで、銀超微粒子含有組成物1をフレキソ印刷により図3の21に示すように印刷し、温風で乾燥した後、紫外線(253.7nm、365.0nmの輝線を有する)を1.1J/m2照射し、更に、60℃90%Rh(重量絶対湿度H=0.133kg/kgD.A.)の条件下にて1分間暴露し、額縁部分に銀膜を形成し、更に水洗、乾燥を行った。銀膜の形成に必要な時間は4分であった。これにネガ型のドライフィルムを貼合し、露光、エッチングを行う事により、図4のパターン31を有するタッチパネル用導電性部材3、図4のパターン32を有するタッチパネル用導電性部材4を作製した。なお、配線幅は80μmとした。
<Production of
An ITO film having a thickness of 0.1 μm and a tin oxide content of 8% by mass is formed by high-frequency magnetron sputtering using an indium-tin composite oxide as a target on the entire surface of a PET film substrate having a size of 10 cm × 10 cm and a thickness of 100 μm. A film was formed. Next, the silver ultrafine particle-containing
<タッチパネル2の作製>
得られたタッチパネル用導電性部材3および4のITO膜同士が向かい合わせになるようにEVA接着材にて貼合し、積層フィルムを得た。なお電極取り出し部分にはACFを用いて両面FPCを接続し、外部回路へ接続した。
<Production of
Bonding was performed with an EVA adhesive so that the ITO films of the obtained
《実施例3》
<タッチパネル用導電性部材5および6の作製>
サイズ10cm×10cm、厚み100μmのPETフィルム基材の片面全体にインジウム−スズ複合酸化物をターゲットに用いて、高周波マグネトロンスパッタリング法で、0.1μm厚、酸化スズ含有率8質量%のITO膜を成膜した。これにネガ型のドライフィルムを貼合し、露光、エッチングを行う事により、図5のパターン41を有するITO膜、図5のパターン42を有するITO膜を作製した。次いで、銀超微粒子含有組成物1をフレキソ印刷を用いて図6のパターン51および、図6のパターン52を印刷し、実施例1と同様の処理を行い、図4のパターン31を有するタッチパネル用導電性部材5、図4のパターン32を有するタッチパネル用導電性部材6を作製した。なお、配線幅は80μmとした。
Example 3
<Production of conductive members 5 and 6 for touch panel>
An ITO film having a thickness of 0.1 μm and a tin oxide content of 8% by mass is formed by high-frequency magnetron sputtering using an indium-tin composite oxide as a target on the entire surface of a PET film substrate having a size of 10 cm × 10 cm and a thickness of 100 μm. A film was formed. A negative dry film was bonded thereto, and exposure and etching were performed to produce an ITO film having the
<タッチパネル3の作製>
得られたタッチパネル用導電性部材5および6のITO膜同士が向かい合わせになるようにEVA接着材にて貼合し、積層フィルムを得た。なお電極取り出し部分にはACFを用いて両面FPCを接続し、外部回路へ接続した。
<Production of
The obtained conductive films 5 and 6 for the touch panel were bonded with an EVA adhesive so that the ITO films face each other to obtain a laminated film. A double-sided FPC was connected to the electrode extraction portion using ACF and connected to an external circuit.
《比較例》
<タッチパネル用導電性部材7および8の作製>
サイズ10cm×10cm、厚み100μmのPETフィルム基材の片面全体にインジウム−スズ複合酸化物をターゲットに用いて、高周波マグネトロンスパッタリング法で、0.1μm厚、酸化スズ含有率8質量%のITO膜を成膜した。これにネガ型のドライフィルムを貼合し、露光、エッチングを行う事により、図5のパターン41を有するITO膜、図5のパターン42を有するITO膜を作製した。次いで、市販の樹脂型銀ペーストDW−260H−1(東洋紡績株式会社製)を、透過体積が10cc/m2、350メッシュのスクリーン版を用いて図6のパターン51および、図6のパターン52を印刷し、温風で乾燥した後、120℃で30分の加熱硬化を行い、額縁部分に配線構造を形成し、図4のパターン31を有するタッチパネル用導電性部材7、図4のパターン32を有するタッチパネル用導電性部材8を作製した。なお、配線幅は80μmとした。
《Comparative example》
<Production of conductive members 7 and 8 for touch panel>
An ITO film having a thickness of 0.1 μm and a tin oxide content of 8% by mass is formed by high-frequency magnetron sputtering using an indium-tin composite oxide as a target on the entire surface of a PET film substrate having a size of 10 cm × 10 cm and a thickness of 100 μm. A film was formed. A negative dry film was bonded thereto, and exposure and etching were performed to produce an ITO film having the
<タッチパネル4の作製>
得られたタッチパネル用導電性部材7および8のITO膜同士が向かい合わせになるようにEVA接着材にて貼合し、積層フィルムを得た。なお電極取り出し部分にはACFを用いて両面FPCを接続し、外部回路へ接続した。
<Production of touch panel 4>
The obtained conductive films 7 and 8 for the touch panel were bonded with an EVA adhesive so that the ITO films face each other to obtain a laminated film. A double-sided FPC was connected to the electrode extraction portion using ACF and connected to an external circuit.
<配線抵抗値の評価>
タッチパネル作製前のタッチパネル用導電性部材1から6の配線構造部分の抵抗値を測定した。測定する長さは50mmとした。その結果、タッチパネル用導電性部材1および2は約150Ω、タッチパネル用導電性部材3および4は約100Ωであり、測定場所による差異も無く抵抗値が安定していた。タッチパネル用導電性部材5および6は約150Ωから180オームであり、抵抗値の若干のバラツキも観察された。タッチパネル用導電性部材7および8は、約300Ωから500Ωと抵抗値が高く、また抵抗値のバラツキも観察された。
<Evaluation of wiring resistance>
The resistance values of the wiring structure portions of the
<タッチパネルの評価>
作製したタッチパネル1から4について、外部のタッチ位置検知回路(ドライバー)と接続し、入力のテストを行った。その結果、本発明のタッチパネル1および2は、位置検出の誤差は観察されず、本発明のタッチパネル3は位置検出の誤差が観察されたものの許容範囲内であった。これに対し比較例のタッチパネル4は位置検出の誤差が生じた。
<Evaluation of touch panel>
About the produced
以上の結果から明らかなように、本発明のタッチパネル用導電性部材1から6は、配線構造を形成するための銀膜を短時間で形成できるため、製造効率が高いことが判る。比較例のタッチパネル用導電性部材7および8は、加熱硬化に時間がかかり製造効率が低いことが判る。また、本発明のタッチパネル1および2は配線の抵抗値が低くかつ安定しているため、位置検出の誤差は観察されないが、比較例のタッチパネル4は配線の抵抗値が高く、かつバラツキがあるため、位置検出の誤差があり、タッチパネルの性能として劣っていることが判る。
As is clear from the above results, it can be seen that the
(1)基材
(2)透明導電膜
(3)配線
(10)基材
(11)ITO膜
(12)額縁部分
(21)印刷部分
(31)パターン
(32)パターン
(41)パターン
(42)パターン
(51)パターン
(52)パターン
(1) Base material (2) Transparent conductive film (3) Wiring (10) Base material (11) ITO film (12) Frame portion (21) Print portion (31) Pattern (32) Pattern (41) Pattern (42) Pattern (51) Pattern (52) Pattern
Claims (2)
(A)ハロゲン無機塩類を含有する水溶液と被膜(Z)との接触。
(B)銀イオンを還元することが出来る還元性化合物を含有する水溶液と被膜(Z)との接触。
(C)分子内に硫黄原子を有する酸の塩を含有する水溶液と被膜(Z)との接触。
(D)炭素数3以上のジカルボン酸化合物を含有する水溶液と被膜(Z)との接触。 A method for manufacturing a conductive member for a touch panel, wherein a part of a wiring structure formed in a frame portion of the touch panel contains silver ultrafine particles having an average particle size of 0.1 μm or less and a polymer latex in an aqueous medium. A silver film formed by treating the coating (Z) obtained by applying and drying the silver ultrafine particle-containing composition by the method described in (A) to (D) below, or at least an average particle in an aqueous medium A coating obtained by applying and drying a composition containing ultrafine silver particles having a diameter of 0.1 μm or less, a polymer latex and a water-soluble halide, and drying is treated by irradiation with ultraviolet rays and / or re-application of moisture. A method for producing a conductive member for a touch panel, characterized by comprising a silver film formed.
(A) Contact between an aqueous solution containing a halogen inorganic salt and the coating (Z).
(B) Contact between an aqueous solution containing a reducing compound capable of reducing silver ions and the coating (Z).
(C) Contact between an aqueous solution containing an acid salt having a sulfur atom in the molecule and the coating (Z).
(D) Contact between an aqueous solution containing a dicarboxylic acid compound having 3 or more carbon atoms and the coating (Z).
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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