JP2011202124A - Composition for charge transporting film, organic electroluminescence element, organic el display and organic el lighting - Google Patents

Composition for charge transporting film, organic electroluminescence element, organic el display and organic el lighting Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a composition for a charge transporting film, which can form a film uniformly in formation of an organic thin film by a wet film-forming method, has excellent storage stability, and does not cause industrial problems, and to provide an electroluminescence element having an organic layer formed by a wet film-forming method, which has a uniform light emitting surface and a low voltage, causes no short circuit or dark spots and has a long driving life.SOLUTION: The composition for a charge transporting film includes a polymer having a dissociative group, an electron-accepting compound and an organic solvent, in which the content of large aggregates having a particle size (2R) of a micron order is low when observed by scanning microscopic light scattering.

Description

本発明は、有機電界発光素子の有機層等を形成するために用いられる、電荷輸送膜用組成物に関する。
本発明はまた、電荷輸送膜用組成物で形成された有機層を有する有機電界発光素子に関する。
The present invention relates to a charge transport film composition used for forming an organic layer or the like of an organic electroluminescence device.
The present invention also relates to an organic electroluminescent device having an organic layer formed of a composition for a charge transport film.

近年、有機薄膜を用いた電界発光素子(有機電界発光素子)の開発が行われている。有機電界発光素子における有機薄膜の形成方法としては、真空蒸着法と湿式成膜法が挙げられる。
このうち、真空蒸着法は積層化が可能であるため、陽極及び/又は陰極からの電荷注入
の改善、励起子の発光層封じ込めが容易であるという利点を有する。
In recent years, an electroluminescent element (organic electroluminescent element) using an organic thin film has been developed. Examples of the method for forming the organic thin film in the organic electroluminescence device include a vacuum deposition method and a wet film formation method.
Among these, since the vacuum deposition method can be laminated, it has an advantage that the charge injection from the anode and / or the cathode can be improved and the exciton light-emitting layer can be easily contained.

一方、湿式成膜法は真空プロセスが要らず、大面積化が容易で、1つの層(塗布液)に様々な機能をもった複数の材料を混合して入れることが容易である等の利点がある。
湿式成膜法で有機層を形成した例として、特許文献1や特許文献2に、正孔注入層、発光層を湿式成膜法で形成した有機電界発光素子の発明が開示されている。しかし、従来の組成物を用いて、湿式成膜法により有機薄膜を形成した場合、均一に成膜できないことがあった。そのため、該組成物を用いて湿式成膜法で形成された有機層を有する有機電界発光素子は、発光面にムラを生じたり、短絡を生じたり、電荷の集中によりダークスポットが生じたりとの問題があった。また、湿式成膜法に使用する組成物の保存安定性の低下により、歩留まりが低下したりポットライフが短いなどの工業的な問題が生じる場合があった。
On the other hand, the wet film formation method does not require a vacuum process, is easy to increase in area, and can be easily mixed with a plurality of materials having various functions in one layer (coating liquid). There is.
As an example of forming an organic layer by a wet film forming method, Patent Documents 1 and 2 disclose an invention of an organic electroluminescent element in which a hole injection layer and a light emitting layer are formed by a wet film forming method. However, when an organic thin film is formed by a wet film-forming method using a conventional composition, the film may not be formed uniformly. Therefore, an organic electroluminescence device having an organic layer formed by a wet film formation method using the composition causes unevenness on the light emitting surface, short circuit, or dark spots due to charge concentration. There was a problem. In addition, due to a decrease in the storage stability of the composition used in the wet film formation method, industrial problems such as a decrease in yield and a short pot life may occur.

特開2007−110093号公報JP 2007-110093 A 特開2007−335852号公報JP 2007-335852 A

本発明者らは、上記実情に鑑み、湿式成膜法により有機薄膜を形成した場合、均一に成膜可能であり、また、組成物の保存安定性に優れ、工業的な問題が生じない電荷輸送膜用組成物を提供することを課題とする。
また、湿式成膜法により形成された有機層を有する有機電界発光素子において、短絡やダークスポットが生じない有機電界発光素子を提供することを課題とする。
In view of the above circumstances, the inventors of the present invention can form a uniform film when an organic thin film is formed by a wet film formation method, and the charge is excellent in storage stability of the composition and causes no industrial problems. It is an object to provide a composition for a transport film.
It is another object of the present invention to provide an organic electroluminescent device that does not cause a short circuit or a dark spot in an organic electroluminescent device having an organic layer formed by a wet film formation method.

本発明者らは鋭意検討した結果、静的光散乱測定で、各々下記の条件を満たす組成物であれば上記課題を解決しうることを見出し、本発明に至った。
即ち、本発明は以下を要旨とする。
本発明は、解離性重合体、電子受容性化合物及び有機溶媒を含有する電荷輸送膜用組成物であって、静的光散乱測定において、散乱角(2θ)が8°であるときに、
下記式(1)を満たすことを特徴とする電荷輸送膜用組成物(以下、「本発明の電荷輸送膜用組成物」と称する場合がある)に存する。
As a result of intensive studies, the present inventors have found that the above-mentioned problems can be solved by static light scattering measurement as long as the composition satisfies the following conditions, and the present invention has been achieved.
That is, the gist of the present invention is as follows.
The present invention is a composition for a charge transport film comprising a dissociative polymer, an electron accepting compound and an organic solvent, and in a static light scattering measurement, when the scattering angle (2θ) is 8 °,
It exists in the composition for charge transport films characterized by satisfy | filling following formula (1) (Hereinafter, it may be called "the composition for charge transport films of this invention.").

ms/Im0≦35 (1)
(式(1)中、Imsは電荷輸送膜用組成物の補正散乱強度を表し、Ims=I×100/Tとして算出される値である。
m0は電荷輸送膜用組成物に含有される有機溶媒の補正散乱強度を表し、Im0=I×100/Tとして算出される値である。
I ms / I m0 ≦ 35 (1)
(In formula (1), I ms represents the corrected scattering intensity of the charge transport film composition, and is a value calculated as I ms = I s × 100 / T s .
I m0 represents the corrected scattering intensity of the organic solvent contained in the charge transport film composition, and is a value calculated as I m0 = I 0 × 100 / T 0 .

また、Iは静的光散乱測定による、電荷輸送膜用組成物の散乱強度、
は静的光散乱測定による、電荷輸送膜用組成物に含有される有機溶媒の散乱強度、
は透過率測定による、光散乱測定波長での電荷輸送膜用組成物の透過率(%)、
は透過率測定による、光散乱測定波長での電荷輸送膜用組成物に含有される有機溶媒の透過率(%)、
を表す。)
また、有機電界発光素子、並びにこれを含む有機ELディスプレイ及び有機EL照明に存する。
Also, I s by a static light scattering measurement, the scattering intensity of the charge transport coating composition,
I 0 is the scattering intensity of the organic solvent contained in the composition for a charge transport film by static light scattering measurement,
T s is the transmittance (%) of the charge transport film composition at the light scattering measurement wavelength, measured by transmittance.
T 0 is the transmittance (%) of the organic solvent contained in the composition for charge transport film at the light scattering measurement wavelength by transmittance measurement,
Represents. )
Moreover, it exists in an organic electroluminescent element, the organic electroluminescent display containing this, and organic electroluminescent illumination.

本発明の電荷輸送膜用組成物は、解離性基を有する重合体や電子受容性化合物などの各種溶質に起因する凝集体の発生や経時の増加が見られず保存安定性が高いため、湿式成膜法で有機層を形成する場合において、均一に成膜可能であり、また、目詰まりなく一定に濾過されるなど工業的観点から不利益を生じさせない。
また、本発明の電荷輸送膜用組成物を用いて、湿式成膜法により形成された有機層を有する有機電界発光素子は、短絡やダークスポットが生じない。この為、本発明の有機電界発光素子は、駆動寿命が長い。
The composition for a charge transport film of the present invention has high storage stability without generation of aggregates due to various solutes such as a polymer having a dissociable group or an electron-accepting compound, and an increase over time. In the case of forming an organic layer by a film forming method, it is possible to form a film uniformly, and there is no disadvantage from an industrial viewpoint, for example, it is filtered uniformly without clogging.
Moreover, the organic electroluminescent element which has the organic layer formed by the wet film-forming method using the composition for charge transport films of this invention does not produce a short circuit or a dark spot. For this reason, the organic electroluminescent element of the present invention has a long driving life.

従って、本発明の有機電界発光素子は、フラットパネル・ディスプレイ(例えばOAコンピュータ用や壁掛けテレビ)や面発光体としての特徴を生かした光源(例えば、複写機の光源、液晶ディスプレイや計器類のバックライト光源)、表示板、標識灯への応用が考えら、その技術的価値は高いものである。
また、本発明の電荷輸送膜用組成物は、保存安定性が高く、湿式成膜法で有機層を形成する場合において、均一に成膜可能であり、また工業的観点から不利益を生じさせないことから、有機電界発光素子に限らず、その他、電子写真感光体、光電変換素子、有機太陽電池、有機整流素子等の有機デバイスにも有効に利用することができる。
Therefore, the organic electroluminescent device of the present invention is a light source (for example, a light source of a copying machine, a liquid crystal display or an instrument back) utilizing characteristics of a flat panel display (for example, for OA computers or wall-mounted televisions) or a surface light emitter. The technical value is high when applied to light sources), display boards, and marker lamps.
The charge transport film composition of the present invention has high storage stability, and can form a uniform film when forming an organic layer by a wet film formation method, and does not cause a disadvantage from an industrial viewpoint. Therefore, it can be effectively used not only for organic electroluminescent elements but also for organic devices such as electrophotographic photosensitive members, photoelectric conversion elements, organic solar cells, and organic rectifying elements.

本発明の有機電界発光素子の構造の一例を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically an example of the structure of the organic electroluminescent element of this invention.

以下に本発明の電荷輸送膜用組成物、有機電界発光素子、有機ELディスプレイ及び有機EL照明の実施態様を詳細に説明するが、以下に記載する構成要件の説明は、本発明の実施態様の一例(代表例)であり、本発明はその要旨を超えない限り、これらの内容に特定されない。
<電荷輸送膜用組成物>
本発明の電荷輸送膜用組成物は、解離性重合体、電子受容性化合物及び有機溶媒を含有する電荷輸送膜用組成物であって、静的光散乱測定において、散乱角(2θ)が8°であるときに、下記式(1)を満たす電荷輸送膜用組成物である。
Hereinafter, embodiments of the composition for a charge transport film, the organic electroluminescence device, the organic EL display and the organic EL lighting of the present invention will be described in detail. However, the description of the constituent elements described below is the embodiment of the present invention. It is an example (representative example), and the present invention is not specified in these contents unless it exceeds the gist.
<Composition for charge transport film>
The charge transport film composition of the present invention is a charge transport film composition containing a dissociative polymer, an electron accepting compound and an organic solvent, and has a scattering angle (2θ) of 8 in static light scattering measurement. When it is, it is a composition for charge transport films satisfying the following formula (1).

ms/Im0≦35 (1)
(式(1)中、Imsは電荷輸送膜用組成物の補正散乱強度を表し、Ims=I×100/Tとして算出される値である。
m0は電荷輸送膜用組成物に含有される有機溶媒の補正散乱強度を表し、Im0=I
×100/Tとして算出される値である。
I ms / I m0 ≦ 35 (1)
(In formula (1), Ims represents the corrected scattering intensity of the composition for a charge transport film, and is a value calculated as I ms = I s × 100 / T s .
I m0 represents the corrected scattering intensity of the organic solvent contained in the charge transport film composition, and I m0 = I
It is a value calculated as 0 × 100 / T 0 .

また、Iは静的光散乱測定による、電荷輸送膜用組成物の散乱強度、
は静的光散乱測定による、電荷輸送膜用組成物に含有される有機溶媒の散乱強度、
は透過率測定による、光散乱測定波長での電荷輸送膜用組成物の透過率(%)、
は透過率測定による、光散乱測定波長での電荷輸送膜用組成物に含有される有機溶媒の透過率(%)、
を表す。)
光散乱測定では、該電荷輸送膜用組成物を充填したセルの透過率によって測定手法を適切に選択する。静的光散乱で測定する場合は、透過率に特に制限はないが、通常550〜800nm、好ましくは600〜700nmの波長を有するレーザー、特に好ましくはHe−Neレーザ(波長633nm)における透過率が、通常5%以上、好ましくは8%以上、さらに好ましくは10%以上である。
Also, I s by a static light scattering measurement, the scattering intensity of the charge transport coating composition,
I 0 is the scattering intensity of the organic solvent contained in the composition for a charge transport film by static light scattering measurement,
T s is the transmittance (%) of the charge transport film composition at the light scattering measurement wavelength, measured by transmittance.
T 0 is the transmittance (%) of the organic solvent contained in the composition for charge transport film at the light scattering measurement wavelength by transmittance measurement,
Represents. )
In the light scattering measurement, a measurement method is appropriately selected depending on the transmittance of the cell filled with the charge transport film composition. When measuring by static light scattering, the transmittance is not particularly limited, but the transmittance of a laser having a wavelength of usually 550 to 800 nm, preferably 600 to 700 nm, particularly preferably a He—Ne laser (wavelength 633 nm). Usually, it is 5% or more, preferably 8% or more, more preferably 10% or more.

透過率が低すぎると、散乱強度が低下してノイズが大きくなり、正確に測定できない場合がある。なお、透過率の上限は特に制限はない。
[静的光散乱測定]
本発明における静的光散乱測定とは、散乱強度と透過率を求めて、補正散乱強度を算出することを意味する。
If the transmittance is too low, the scattering intensity decreases and noise increases, which may prevent accurate measurement. The upper limit of the transmittance is not particularly limited.
[Static light scattering measurement]
The static light scattering measurement in the present invention means that the corrected scattering intensity is calculated by obtaining the scattering intensity and transmittance.

静的光散乱測定を行うことにより散乱強度が得られるが、本発明においては、さらに透過率を測定することによって、この散乱強度と透過率とから、補正散乱強度を求める。
(1.測定方法)
静的光散乱測定を行うためには、例えば、高分子フィルムダイナミックス解析装置DYNA―3000(大塚電子社製)を用いる。
Although the scattering intensity can be obtained by performing the static light scattering measurement, in the present invention, the corrected scattering intensity is obtained from the scattering intensity and the transmittance by further measuring the transmittance.
(1. Measurement method)
In order to perform the static light scattering measurement, for example, a polymer film dynamics analyzer DYNA-3000 (manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd.) is used.

解離性重合体、電子受容性化合物及び有機溶媒を含有する電荷輸送膜用組成物(以下、「測定サンプル」という)、および該電荷輸送膜用組成物に含有される有機溶媒(以下、「測定用溶媒」という)の各々について、上記高分子フィルムダイナミックス解析装置で測定することにより、測定サンプルと測定用溶媒の各々の、散乱角(2θ)に対する散乱強度が得られる。測定サンプルの散乱強度をI、測定用溶媒の散乱強度をIとする。尚、該測定の際の条件は、Vv散乱条件とする。また、測定には、He−Neレーザ(波長633nm)を用いる。 Charge transport film composition (hereinafter referred to as “measurement sample”) containing a dissociative polymer, an electron accepting compound and an organic solvent, and an organic solvent contained in the charge transport film composition (hereinafter referred to as “measurement”) For each of the “solvents”, the scattering intensity with respect to the scattering angle (2θ) of each of the measurement sample and the measurement solvent is obtained by measuring with the polymer film dynamics analyzer. The scattering intensity of the measurement sample is I s , and the scattering intensity of the measurement solvent is I 0 . The measurement conditions are Vv scattering conditions. For the measurement, a He—Ne laser (wavelength 633 nm) is used.

ここで、散乱角(2θ)が8°のときの、測定サンプルの散乱強度IsをIs(8°)、測定用溶媒の散乱強度IをI(8°)とする。
また、透過率を測定するためには、例えば、ファイバーマルチチャンネル分光器USB2000(オーシャンオプティクス社製)を用いる。
測定サンプル、及び測定用溶媒の各々について、上記ファイバーマルチチャンネル分光器で測定することにより、測定サンプル、及び測定用溶媒の各々の透過率が得られる。得られた透過率を用いて、前記の散乱強度を吸収補正する。測定サンプルの透過率をT(%)、測定用溶媒の透過率をT(%)とする。ここで透過率は、上記散乱強度を測定する際に用いた光波長(以下、「光散乱測定波長」という)において測定し、この場合は、He−Neレーザ(波長633nm)を用いて測定する。
Here, when the scattering angle (2θ) is 8 °, the scattering intensity Is of the measurement sample is Is (8 °), and the scattering intensity I 0 of the measurement solvent is I 0 (8 °).
In order to measure the transmittance, for example, a fiber multichannel spectrometer USB2000 (manufactured by Ocean Optics) is used.
The transmittance of each of the measurement sample and the measurement solvent can be obtained by measuring each of the measurement sample and the measurement solvent with the fiber multichannel spectrometer. Using the obtained transmittance, the scattering intensity is corrected for absorption. The transmittance of the measurement sample is T s (%), and the transmittance of the measurement solvent is T 0 (%). Here, the transmittance is measured at the light wavelength (hereinafter referred to as “light scattering measurement wavelength”) used in measuring the scattering intensity. In this case, the transmittance is measured using a He—Ne laser (wavelength 633 nm). .

上記得られた透過率および散乱強度から、補正散乱強度を算出する。散乱角(2θ)が8°であるときの、測定サンプルの散乱強度および測定用溶媒の散乱強度の各々につき、以下の式に当てはめることにより、測定サンプルの補正散乱強度Imsおよび測定用溶媒の補正散乱強度Im0を算出する。すなわち、上記I(8°)につき、下記式(1−1
)を用いて補正散乱強度を算出する。また、I(8°)につき、下記式(1−2)を用
いて補正散乱強度を算出する。
A corrected scattering intensity is calculated from the transmittance and scattering intensity obtained above. When the scattering angle (2θ) is 8 °, each of the scattering intensity of the measurement sample and the scattering intensity of the measurement solvent is applied to the following formula, thereby correcting the corrected scattering intensity I ms of the measurement sample and the measurement solvent. The corrected scattering intensity I m0 is calculated. That is, for the above I s (8 °), the following formula (1-1
) To calculate the corrected scattering intensity. Further, the following formula (1-2) is used for I 0 (8 °).
The corrected scattering intensity is calculated.

ms=I×100/T ・・・(1−1)
m0=I×100/T ・・・(1−2)
ここで、I(8°)から求められるImsをIms(8°)、I(8°)から求められるIm0をIm0(8°)、とする。
本発明において、静的光散乱測定において、散乱角(2θ)が8°であるときに、下記式(1)を満たすとは、すなわち、下記式(2−1)を満たすことを意味する。
I ms = I s × 100 / T s (1-1)
I m0 = I 0 × 100 / T 0 (1-2)
Here, the I ms obtained from I s (8 °) I ms (8 °), the I m0 obtained from I 0 (8 °) I m0 (8 °), and to.
In the present invention, in the static light scattering measurement, when the scattering angle (2θ) is 8 °, satisfying the following formula (1) means satisfying the following formula (2-1).

ms/Im0 ≦ 35 ・・・(1)
ms(8°)/Im0(8°) ≦ 35 ・・・(2−1)
本発明において、Ims/Im0は35以下であるが、好ましくは25以下、さらに好ましくは10以下、特に好ましくは5以下、最も好ましくは3以下である。Ims/Im0は、通常1以上であるが、測定サンプルや測定系温度、レーザー強度等の振れなどで0以上1未満の値になることもある。
I ms / I m0 ≦ 35 (1)
I ms (8 °) / I m0 (8 °) ≦ 35 (2-1)
In the present invention, I ms / I m0 is 35 or less, preferably 25 or less, more preferably 10 or less, particularly preferably 5 or less, and most preferably 3 or less. I ms / I m0 is usually 1 or more, but may be 0 or more and less than 1 due to fluctuations in the measurement sample, measurement system temperature, laser intensity, or the like.

また、Ims/Im0の値が上記範囲内であると、組成物の保存安定性が良好で、また湿式成膜法で有機層を形成する場合において均一に成膜しやすく、更に濾過を行った場合に目詰まりが生じにくく工業的観点から不利益が生じ難い。
この効果を得るために、特に散乱角(2θ)が8°及び15°であるときに上記式(1)を満たすことが好ましい。散乱角(2θ)が15°であるときのIms/Im0の算出方法は、上記散乱角(2θ)が8°である場合と同様である。
Further, when the value of I ms / I m0 is within the above range, the composition has good storage stability, and when an organic layer is formed by a wet film forming method, it is easy to form a film, and further filtration is performed. When this is done, clogging is less likely to occur, and disadvantages are less likely to occur from an industrial point of view.
In order to obtain this effect, it is preferable to satisfy the above formula (1) particularly when the scattering angle (2θ) is 8 ° and 15 °. The calculation method of I ms / I m0 when the scattering angle (2θ) is 15 ° is the same as that when the scattering angle (2θ) is 8 °.

さらに、本発明においては、散乱角(2θ)が8°≦2θ≦15°であるときに、Ims/Im0が常に前記式(1)を満たすことが、さらにろ過性が良好であり、組成物の保存安定性が低下しにくくなる点で好ましい。
電荷輸送膜用組成物が、散乱角(2θ)が8°≦2θ≦15°であるときに、常に上記式(1)を満たすとは、散乱角(2θ)が8°≦2θ≦15°の任意の値において、上記と同様に補正散乱強度を求めたときに、Ims/Im0≦35となることを意味する。
Furthermore, in the present invention, when the scattering angle (2θ) is 8 ° ≦ 2θ ≦ 15 °, I ms / I m0 always satisfies the above formula (1), and the filterability is further good. This is preferable in that the storage stability of the composition is hardly lowered.
The composition for charge transport films always satisfies the above formula (1) when the scattering angle (2θ) is 8 ° ≦ 2θ ≦ 15 °. The scattering angle (2θ) is 8 ° ≦ 2θ ≦ 15 °. This means that when the corrected scattering intensity is obtained in the same manner as described above, I ms / I m0 ≦ 35.

尚、本発明の特定に用いる測定機器は、上記と同等の測定が可能であれば、上記の測定機器に限定されるものではなく、その他の測定機器を用いてもよいが、上記の測定機器を用いることが好ましい。
(2.理由)
静的光散乱測定において、散乱角(2θ)が8°であるときに前記式(1)を満たすことで、本発明の効果が得られる理由は、以下の様に考えられる。
Note that the measuring device used for specifying the present invention is not limited to the above measuring device as long as the same measurement as described above is possible, and other measuring devices may be used. Is preferably used.
(2. Reason)
In the static light scattering measurement, the reason why the effect of the present invention can be obtained by satisfying the formula (1) when the scattering angle (2θ) is 8 ° is considered as follows.

小角散乱領域では、Mie散乱理論に従い、粒径が大きな粒子ほど、大きい散乱強度を示す傾向がある。
例えば、可視光波長領域に発振波長を有するレーザ、具体的には、静的光散乱測定で用いているHe−Neレーザ(波長633nm)を粒子に照射した場合、粒径がミクロンオーダの粒子であると、大きい散乱強度を示す傾向がある。
In the small-angle scattering region, according to the Mie scattering theory, the larger the particle size, the larger the scattering intensity tends to be exhibited.
For example, when a particle is irradiated with a laser having an oscillation wavelength in the visible light wavelength region, specifically, a He—Ne laser (wavelength 633 nm) used in static light scattering measurement, the particle size is a micron order particle. If present, there is a tendency to show a large scattering intensity.

従って、小角散乱領域で測定を行うことで、粒径がミクロンオーダである凝集体を含む割合を確認することができる。
本発明において、上記小角散乱領域は、Guinier領域(qR<1)とする。
さらに、以下、qR<1を用いて粒子半径(R)から、測定をするべき散乱角(2θ)を見積もる。ここで、波数qは、下記式(3)で表される。
Therefore, by measuring in the small angle scattering region, the ratio including aggregates whose particle size is on the order of microns can be confirmed.
In the present invention, the small angle scattering region is a Guinier region (qR <1).
Further, the scattering angle (2θ) to be measured is estimated from the particle radius (R) using qR <1. Here, the wave number q is represented by the following formula (3).

q=(4πn/λ)×sinθ (3)
(式(3)中、nは溶媒の屈折率を、λは入射光の波長(nm)を表す。また、θは散乱角(2θ)の1/2の値を表す。)
上記式(3)を用い、粒径(2R)が1μmである場合の、大きい散乱強度が見られる散乱角(2θ)の領域を見積もる。粒径(2R)が1μmである場合、q<1/R=2μm−1となり、ここで単純にq=2μm−1とする。これと、上記式(3)を用いて、散乱角(2θ)を単純に算出すると(例えば、n=1.5、λ=633nm)、散乱角(2θ)は8°と算出される。つまり、粒径がミクロンオーダである大きい凝集体は、散乱角(2θ)が8°以下であるときに、大きい散乱強度を示す。
q = (4πn / λ) × sin θ (3)
(In formula (3), n represents the refractive index of the solvent, λ represents the wavelength (nm) of the incident light, and θ represents a value half the scattering angle (2θ).)
Using the above formula (3), the region of the scattering angle (2θ) where a large scattering intensity is observed when the particle size (2R) is 1 μm is estimated. When the particle diameter (2R) is 1 μm, q <1 / R = 2 μm −1 , where q = 2 μm −1 is simply set. If the scattering angle (2θ) is simply calculated using this and the above equation (3) (for example, n = 1.5, λ = 633 nm), the scattering angle (2θ) is calculated as 8 °. That is, a large aggregate having a particle size of the order of microns exhibits a large scattering intensity when the scattering angle (2θ) is 8 ° or less.

本発明では、散乱角(2θ)が8°であるときの散乱強度を静的光散乱測定により測定して、得られた散乱強度を用いて評価を行っている。つまり、散乱角(2θ)が8°であるときに、小さい散乱強度である組成物は、粒径(2R)がミクロンオーダである凝集体を含む割合が少ないことを意味する。
より具体的には、組成物に含まれる有機溶媒のみには凝集体が含まれていないため、散乱角(2θ)が8°であるときに、組成物の補正散乱強度が、有機溶媒(組成物に含まれる有機溶媒)の補正散乱強度に比べて大きくなっている場合は、組成物中に含まれる、粒径(2R)がミクロンオーダである大きな凝集体を含む割合が大きいことを意味する。また、組成物の補正散乱強度が、有機溶媒の補正散乱強度とほぼ同等の値である場合は、組成物に中に含まれる、粒径(2R)がミクロンオーダである大きな凝集体を含む割合が小さいことを意味する。
In the present invention, the scattering intensity when the scattering angle (2θ) is 8 ° is measured by static light scattering measurement, and evaluation is performed using the obtained scattering intensity. That is, when the scattering angle (2θ) is 8 °, a composition having a small scattering intensity has a small proportion of aggregates having a particle size (2R) in the micron order.
More specifically, since the aggregate is not contained only in the organic solvent contained in the composition, when the scattering angle (2θ) is 8 °, the corrected scattering intensity of the composition is the organic solvent (composition If it is larger than the corrected scattering intensity of the organic solvent contained in the product, it means that the ratio of large aggregates having a particle size (2R) in the order of microns contained in the composition is large. . In addition, when the corrected scattering intensity of the composition is approximately the same as the corrected scattering intensity of the organic solvent, the ratio of the large aggregates having a particle size (2R) in the order of microns contained in the composition Means small.

同様にして、粒径(2R)が0.5μmであるときは散乱角(2θ)が15°と算出される。つまり、633nmの波長を有する入射光を用いたとき、散乱角(2θ)が15°であるときに、大きい散乱強度を示すと、粒径(2R)が0.5μmより大きい凝集体を含む割合が大きいことを意味する。
以上より、散乱角(2θ)が8°であるときのIms/Im0が10以下である場合、組成物中に含まれる、粒径がミクロンオーダである大きい凝集体を含む割合が小さいことを意味する。つまり、粒径がミクロンオーダである大きい凝集体を含む割合が小さいことが、保存安定性の向上という本発明が奏する効果をもたらすのである。
Similarly, when the particle size (2R) is 0.5 μm, the scattering angle (2θ) is calculated to be 15 °. That is, when incident light having a wavelength of 633 nm is used and the scattering angle (2θ) is 15 ° and the scattering intensity is large, the ratio of containing aggregates having a particle size (2R) larger than 0.5 μm Means big.
From the above, when I ms / I m0 when the scattering angle (2θ) is 8 ° is 10 or less, the ratio of containing large aggregates having a particle size of micron order contained in the composition is small. Means. In other words, the small proportion of large aggregates having a particle size on the order of microns brings about the effect of the present invention of improving storage stability.

[解離性重合体]
本発明の電荷輸送膜用組成物は、解離性基を有する重合体(以下、「解離性重合体」と称する場合がある。)を含有する。
(1.分子量について)
この解離性重合体を含む層を湿式成膜法により形成する場合には、溶解性、成膜性、耐熱性の点から、その重量平均分子量は、通常3,000,000以下、好ましくは1,000,000以下、より好ましくは500,000以下であり、また通常1,000以上、好ましくは2,500以上、より好ましくは5,000以上である。
[Dissociable polymer]
The composition for a charge transport film of the present invention contains a polymer having a dissociable group (hereinafter sometimes referred to as “dissociable polymer”).
(1. About molecular weight)
When the layer containing the dissociative polymer is formed by a wet film forming method, the weight average molecular weight is usually 3,000,000 or less, preferably 1 in terms of solubility, film forming property, and heat resistance. It is 1,000,000 or less, more preferably 500,000 or less, and usually 1,000 or more, preferably 2,500 or more, more preferably 5,000 or more.

また、本発明における解離性重合体の数平均分子量(Mn)は、通常2,500,000以下、好ましくは750,000以下、より好ましくは400,000以下であり、また通常500以上、好ましくは1,500以上、より好ましくは3,000以上である。
さらに、本発明における解離性重合体の分散度(Mw/Mn)は、通常10以下、好ましくは2.5以下、より好ましくは2.0以下であり、好ましくは1.0以上、さらに好ましくは1.1以上、特に好ましくは1.2以上である。
The number average molecular weight (Mn) of the dissociative polymer in the present invention is usually 2,500,000 or less, preferably 750,000 or less, more preferably 400,000 or less, and usually 500 or more, preferably 1,500 or more, more preferably 3,000 or more.
Furthermore, the dispersibility (Mw / Mn) of the dissociative polymer in the present invention is usually 10 or less, preferably 2.5 or less, more preferably 2.0 or less, preferably 1.0 or more, more preferably 1.1 or more, particularly preferably 1.2 or more.

上記範囲内であると、精製が容易であり、また解離性重合体の有機溶媒に対する溶解性や電荷輸送能が良好であるため好ましい。
本発明における重量平均分子量(及び数平均分子量)はSEC(サイズ排除クロマトグラフィー)測定により決定される。SEC測定では高分子量成分ほど溶出時間が短く、低
分子量成分ほど溶出時間が長くなるが、分子量既知のポリスチレン(標準試料)の溶出時間から算出した校正曲線を用いて、サンプルの溶出時間を分子量に換算することによって、重量平均分子量(及び数平均分子量)が算出される。
Within the above range, purification is easy, and the dissociative polymer has good solubility in organic solvents and charge transportability, which is preferable.
The weight average molecular weight (and number average molecular weight) in the present invention is determined by SEC (size exclusion chromatography) measurement. In SEC measurement, the elution time is shorter for higher molecular weight components and the elution time is longer for lower molecular weight components, but using the calibration curve calculated from the elution time of polystyrene (standard sample) with a known molecular weight, the elution time of the sample is changed to the molecular weight. By converting, the weight average molecular weight (and number average molecular weight) is calculated.

(解離性基について)
解離性基とは、溶媒に対して可溶性を示す基であり、結合している基(例えば、炭化水素環)から70℃以上で熱解離する基を表す。また、解離性基が解離することにより、ポリマーの溶媒への溶解度は低下する。
但し、解離後に、他の原子が結合する反応、例えば加水分解で解離する基などは除く。加水分解で解離する基は、解離後、分子内に活性プロトンを有することになる。この活性プロトンが素子中に存在すると、素子特性に影響する場合がある。
(About dissociable groups)
The dissociable group is a group that is soluble in a solvent, and represents a group that is thermally dissociated at 70 ° C. or higher from a bonded group (for example, a hydrocarbon ring). In addition, the dissociation of the dissociable group reduces the solubility of the polymer in the solvent.
However, a reaction in which other atoms are bonded after dissociation, for example, a group dissociated by hydrolysis is excluded. A group dissociating by hydrolysis has an active proton in the molecule after dissociation. If this active proton is present in the device, the device characteristics may be affected.

このような解離性基は、炭化水素環に結合し、該炭化水素環は極性基を有さない芳香族炭化水素環に縮合していることが好ましく、逆ディールスアルダー反応により熱解離する基であることがより好ましい。
また熱解離する温度は、好ましくは100℃以上、さらに好ましくは120℃以上、また好ましくは300℃以下、さらに好ましくは240℃以下である。
Such a dissociable group is preferably bonded to a hydrocarbon ring, and the hydrocarbon ring is preferably condensed to an aromatic hydrocarbon ring having no polar group. The group is thermally dissociated by a reverse Diels-Alder reaction. More preferably.
The temperature at which heat dissociates is preferably 100 ° C. or higher, more preferably 120 ° C. or higher, preferably 300 ° C. or lower, more preferably 240 ° C. or lower.

上記範囲内であると、ポリマーの合成が容易であり、また成膜時に化合物が分解するなどが起きにくい。
また特に、分子間のスタッキングを抑制する立体構造を有する基が可溶性に優れるため好ましい。化合物から解離性基が解離する反応の一例を下記に示す。
Within the above range, the synthesis of the polymer is easy, and the compound does not easily decompose during film formation.
In particular, a group having a three-dimensional structure that suppresses intermolecular stacking is preferable because it is excellent in solubility. An example of a reaction in which a dissociable group dissociates from a compound is shown below.

Figure 2011202124
Figure 2011202124

尚、上記反応式の場合、解離性基は、以下に示す構造の丸枠で囲った部分である。 In the case of the above reaction formula, the dissociable group is a portion surrounded by a round frame having the structure shown below.

Figure 2011202124
Figure 2011202124

このような解離性基の解離の例としては、例えば脱スルフィニルアセトアミド(JACS,V124,No.30,2002,8813参照)、脱オレフィン、脱アルコール、脱アルキル(H.Kwart and K.King,Department of Chemistry,University of Delaware,Nework,Delaware 19771,p415−447(1967),O.Diels and
K.Alder,Ber.,62,554(1929)及びM.C.Kloetzel,Org.Reactions,4,6(1948)参照)、脱1,3−ジオキソール(N.D.Field,J.Am.Chem.Soc.,83,3504(1961)参照)、脱ジエン(R.Huisgen,M.Seidel,G.Wallbillich,and H.Knupfer,Tetrahedron,17,3(1962)参照)、脱イソキサゾール(R.Huisgen and M,Christi,Angew.Chem.Intern.Ed.Engl.,5,456(1967)参照)、脱トリアゾール(R.Kreher and J.Seubert,Z.Naturforach.,20B,75(1965)参照)等が挙げられる。
Examples of such dissociable group dissociation include, for example, desulfinylacetamide (see JACS, V124, No. 30, 2002, 8813), deolefination, dealcoholization, dealkylation (H. Kwart and K. King, Department). of Chemistry, Universality of Delaware, New York, Delaware 19771, p415-447 (1967), O. Diels and
K. Alder, Ber. 62, 554 (1929) and M.M. C. Kloetzel, Org. Reactions, 4, 6 (1948)), 1,3-dioxole (see ND Field, J. Am. Chem. Soc., 83, 3504 (1961)), dediene (R. Huisgen, M.). Seidel, G. Wallbilich, and H. Knupfer, Tetrahedron, 17, 3 (1962)), deisoxazole (R. Huisgen and M, Christi, Angew. Chem. Inter. Ed. Engl., 5, 456 (19). )), Detriazole (see R. Kreher and J. Sebert, Z. Natureforach, 20B, 75 (1965)) and the like.

上記の中で特に、解離性基が結合する炭化水素環が、エテノ基またはエタノ基を含む環であることが、解離性基がより安定であり、合成がし易い点で好ましい。
尚、エテノ基又はエタノ基は、炭化水素環に含まれていることが好ましく、該炭化水素環はさらに6員環であることが好ましい。
本発明における解離性重合体は、解離性基が結合している部分構造を有する繰り返し単位として、下記化学式(U1)または(U2)で表される部分構造を繰り返し単位中に含むことが好ましい。この場合、ポリマー鎖中の繰り返し単位(U1)あるいは(U2)の含有量は、好ましくは10モル%以上、更に好ましくは30モル%以上である。
(繰り返し単位について)
Among these, it is particularly preferable that the hydrocarbon ring to which the dissociable group is bonded is an etheno group or a ring containing an ethano group because the dissociable group is more stable and easy to synthesize.
The etheno group or ethano group is preferably contained in a hydrocarbon ring, and the hydrocarbon ring is preferably a 6-membered ring.
The dissociative polymer in the present invention preferably contains a partial structure represented by the following chemical formula (U1) or (U2) in the repeating unit as a repeating unit having a partial structure to which a dissociable group is bonded. In this case, the content of the repeating unit (U1) or (U2) in the polymer chain is preferably 10 mol% or more, more preferably 30 mol% or more.
(Repeating unit)

Figure 2011202124
Figure 2011202124

(前記重合体が、式(U1)または式(U2)で表される構造を主鎖繰り返し単位中に有
する場合は式(U1)または式(U2)は2価の基を表す。
前記重合体が、式(U1)または式(U2)で表される構造を側鎖に有する場合は式(U1)または式(U2)は1価の基を表し、XおよびXで表される基の末端は水素原子である。
(When the polymer has a structure represented by the formula (U1) or the formula (U2) in the main chain repeating unit, the formula (U1) or the formula (U2) represents a divalent group.
When the polymer has a structure represented by the formula (U1) or the formula (U2) in the side chain, the formula (U1) or the formula (U2) represents a monovalent group, and is represented by X 2 and X 4 The terminal of the group to be formed is a hydrogen atom.

式(U1)において、
1及びXは、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数6以上50以下の
2価の芳香族炭化水素環基、または置換基を有していてもよい炭素数5以上50以下の2価の芳香族複素環基を表す。
環Aは解離性基が結合する芳香族環を表し、芳香族炭化水素環であってもよく、芳香族複素環であってもよいが、電気化学的安定性に優れるため、電荷が局在化しにくいため、芳香族炭化水素環であることが好ましい。該芳香族環は置換基を有していてもよく、また、該置換基同士が直接または2価の連結基を介して環を形成していてもよい。
In formula (U1):
X 1 and X 2 are each independently a divalent aromatic hydrocarbon ring group having 6 to 50 carbon atoms that may have a substituent, or 5 carbon atoms that may have a substituent. Represents a divalent aromatic heterocyclic group of 50 or less.
Ring A 0 represents an aromatic ring to which a dissociable group is bonded, and may be an aromatic hydrocarbon ring or an aromatic heterocyclic ring. However, since the electrochemical stability is excellent, the charge is locally An aromatic hydrocarbon ring is preferable because it is difficult to be present. The aromatic ring may have a substituent, and the substituents may form a ring directly or via a divalent linking group.

、S、R41〜R46は、それぞれ独立に、水素原子、水酸基、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環基、置換基を有していてもよい芳香族複素環基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいアリールオキシ基、置換基を有していてもよいアシル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有していてもよいアルキニル基、置換基を有していてもよいアシルオキシ基、置換基を有していてもよいアリールアミノ基、置換基を有していてもよいへテロアリールアミノ基または置換基を有していてもよいアシルアミノ基を表す。 S 1 , S 2 , R 41 to R 46 are each independently a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkyl group which may have a substituent, an aromatic hydrocarbon ring group which may have a substituent, An aromatic heterocyclic group which may have a substituent, an aralkyl group which may have a substituent, an alkoxy group which may have a substituent, an aryloxy which may have a substituent A group, an acyl group which may have a substituent, an alkenyl group which may have a substituent, an alkynyl group which may have a substituent, an acyloxy group which may have a substituent, It represents an arylamino group which may have a substituent, a heteroarylamino group which may have a substituent, or an acylamino group which may have a substituent.

また、式(U2)において、
11〜S14、R51〜R56、X、Xおよび環Bは、それぞれ独立に、上記S、S、R41〜R46、X、Xおよび環Aとして示したものと同様である。
〜nはそれぞれ独立に、0〜5の整数を表す。)
環A及びBが、芳香族炭化水素環である場合に、該芳香族炭化水素環の核炭素数は通常6以上である。また通常40以下であり、好ましくは30以下、より好ましくは20以下である。また、環A及びBが、芳香族複素環である場合に、該芳香族複素環の核炭素数は、通常3以上、好ましくは4以上、より好ましくは5以上である。また通常50以下であり、好ましくは30以下、より好ましくは20以下である。
In the formula (U2),
S 11 to S 14 , R 51 to R 56 , X 3 , X 4 and ring B 0 are each independently as S 1 , S 2 , R 41 to R 46 , X 1 , X 2 and ring A 0. It is the same as that shown.
n 1 ~n 4 each independently represent an integer of 0 to 5. )
When the rings A 0 and B 0 are aromatic hydrocarbon rings, the number of carbon atoms in the aromatic hydrocarbon ring is usually 6 or more. Moreover, it is 40 or less normally, Preferably it is 30 or less, More preferably, it is 20 or less. Further, when the rings A 0 and B 0 are aromatic heterocycles, the number of nuclear carbons of the aromatic heterocycle is usually 3 or more, preferably 4 or more, more preferably 5 or more. Moreover, it is 50 or less normally, Preferably it is 30 or less, More preferably, it is 20 or less.

該芳香族炭化水素環としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、ペリレン環、テトラセン環、ピレン環、ベンゾピレン環、クリセン環、ベンゾクリセン環、トリフェニレン環、フルオランテン環、フルオレン環等が挙げられる。
上記の中でも環Aおよび環Bが、それぞれ独立に、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環およびテトラセン環からなる群から選ばれることが好ましい。
Examples of the aromatic hydrocarbon ring include a benzene ring, naphthalene ring, anthracene ring, phenanthrene ring, perylene ring, tetracene ring, pyrene ring, benzopyrene ring, chrysene ring, benzochrysene ring, triphenylene ring, fluoranthene ring, and fluorene ring. Is mentioned.
Among the above, it is preferable that the ring A 0 and the ring B 0 are each independently selected from the group consisting of a benzene ring, a naphthalene ring, an anthracene ring, and a tetracene ring.

また芳香族複素環としては、フラン環、ベンゾフラン環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、オキサジアゾール環、インドール環、カルバゾール環、ピロロイミダゾール環、ピロロピラゾール環、ピロロピロール環、チエノピロール環、チエノチオフェン環、フロピロール環、フロフラン環、チエノフラン環、ベンゾイソオキサゾール環、ベンゾイソチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、キノリン環、イソキノリン環、キノキサリン環、ペリミジン環、キナゾリン環、キナゾリノン環、等が挙げられる。   Examples of the aromatic heterocycle include furan ring, benzofuran ring, thiophene ring, benzothiophene ring, pyrrole ring, pyrazole ring, imidazole ring, oxadiazole ring, indole ring, carbazole ring, pyrroloimidazole ring, pyrrolopyrazole ring, pyrrolo Pyrrole ring, thienopyrrole ring, thienothiophene ring, furopyrrole ring, furofuran ring, thienofuran ring, benzisoxazole ring, benzisothiazole ring, benzimidazole ring, pyridine ring, pyrazine ring, pyridazine ring, pyrimidine ring, quinoline ring, isoquinoline ring Quinoxaline ring, perimidine ring, quinazoline ring, quinazolinone ring, and the like.

また、上記化学式(U1)及び(U2)中の環A及び環Bは、同種または異なる2種以上の環構造単位が1以上10以下、直接、もしくは酸素原子、窒素原子、硫黄原子、
核炭素数1以上20以下のヘテロ原子を含んでもよい鎖状基、及び炭素数が1以上20以下の脂肪族基から選ばれる1種以上の2価の連結基を介して連結した構造とすることも可能である。なお連結される環構造単位としては、上記芳香族炭化水素環や芳香族複素環と同様、または異なる芳香族炭化水素環や芳香族複素環とすることができる。またこれらの芳香族炭化水素環及び芳香族複素環は置換基を有していてもよい。
Further, in the chemical formulas (U1) and (U2), the ring A 0 and the ring B 0 are the same or different two or more kinds of ring structural units of 1 or more and 10 or less, directly, or an oxygen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom,
A structure in which a chain group which may contain a hetero atom having 1 to 20 nuclear carbon atoms and a divalent linking group having one or more divalent groups selected from aliphatic groups having 1 to 20 carbon atoms is used. It is also possible. The ring structural unit to be connected may be the same or different aromatic hydrocarbon ring or aromatic heterocycle as the above aromatic hydrocarbon ring or aromatic heterocycle. Moreover, these aromatic hydrocarbon rings and aromatic heterocycles may have a substituent.

環Aまたは環Bの置換基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、2−プロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基等の炭素数1以上10以下の直鎖または分岐のアルキル基;ビニル基、アリル基、1−ブテニル基等の炭素数1以上8以下のアルケニル基;エチニル基、プロパルギル基等の炭素数1以上8以下のアルキニル基;ベンジル基等の炭素数2以上8以下のアラルキル基;フェニルアミノ基、ジフェニルアミノ基、ジトリルアミノ基等のアリールアミノ基;ピリジルアミノ基、チエニルアミノ基、ジチエニルアミノ基等のヘテロアリールアミノ基;アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基等のアシルアミノ基;メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基等の炭素数1以上8以下のアルコキシ基;アクリロイルオキシル基、メチルカルボニルアオキシル基、エチルカルボニルアオキシル基、ヒドロキシカルボニルメチルカルボニルオキシル基、ヒドロキシカルボニルエチルカルボニルオキシル基、ヒドロキシフェニルカルボニルオキシル基等の炭素数1以上15以下のアシルオキシル基;フェニルオキシ基、1−ナフチルオキシ基、2−ナフチルオキシ基、等の炭素数10以上20以下のアリールオキシル基;等が挙げられる。これらの置換基はお互いに直接、あるいは、−O−、−S−、>CO、>SO、−(C2x)−、−O−(C2y)−、置換もしくは無置換の炭素数2以上20以下のアルキリデン基、置換基を有していてもよい炭素数2以上20以下のアルキレン基等、2価の連結基を介して結合し、環状構造を形成してもよい。上記xおよびyは、それぞれ1以上20以下の整数を表す。 Examples of the substituent for ring A 0 or ring B 0 include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, a 2-propyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, and a tert-butyl group having 1 to 10 carbon atoms. Linear or branched alkyl group; alkenyl group having 1 to 8 carbon atoms such as vinyl group, allyl group and 1-butenyl group; alkynyl group having 1 to 8 carbon atoms such as ethynyl group and propargyl group; benzyl group and the like An aralkyl group having 2 to 8 carbon atoms; an arylamino group such as a phenylamino group, a diphenylamino group and a ditolylamino group; a heteroarylamino group such as a pyridylamino group, a thienylamino group and a dithienylamino group; an acetylamino group and a benzoyl group An acylamino group such as an amino group; an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms such as a methoxy group, an ethoxy group, or a butoxy group; An acyloxyl group having 1 to 15 carbon atoms, such as an yloxyl group, a methylcarbonyloxyl group, an ethylcarbonyloxyl group, a hydroxycarbonylmethylcarbonyloxyl group, a hydroxycarbonylethylcarbonyloxyl group, a hydroxyphenylcarbonyloxyl group; a phenyloxy group , 1-naphthyloxy group, 2-naphthyloxy group and the like, aryloxyl groups having 10 to 20 carbon atoms, and the like. These substituents may be directly to each other, or —O—, —S—,>CO,> SO 2 , — (C x H 2x ) —, —O— (C y H 2y ) —, substituted or unsubstituted. May be bonded via a divalent linking group such as an alkylidene group having 2 to 20 carbon atoms, an alkylene group having 2 to 20 carbon atoms which may have a substituent, and may form a cyclic structure. . Said x and y represent the integer of 1-20, respectively.

これらの置換基は1種のみ、または2種以上が任意の組み合わせで1つ、または2つ以上が環Aまたは環Bに置換していてもよい。
上記化学式(U1)及び化学式(U2)におけるS、S、R41〜R46、S11〜S14、R51〜R56は、それぞれ独立に、水素原子;
水酸基;
メチル基、エチル基、n−プロピル基、2−プロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基等の、置換基を有していてもよい炭素数が通常1以上、通常50以下、好ましくは10以下の直鎖または分岐のアルキル基;
置換基を有していてもよい核炭素数が通常5以上50以下の芳香族炭化水素環基;置換基を有していてもよい核炭素数が5以上40以下の芳香族複素環基;
ベンジル基等の置換基を有していてもよい核炭素数が通常6以上、好ましくは7以上、通常50以下、好ましくは8以下のアラルキル基;
メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基等の置換基を有していてもよい炭素数が通常1以上、通常50以下、好ましくは8以下のアルコキシ基;
フェニルオキシ基、1−ナフチルオキシ基、2−ナフチルオキシ基等の置換基を有していてもよい核炭素数が通常5以上、好ましくは6以上、通常50以下、好ましくは15以下のアリールオキシ基;
置換基を有していてもよい核炭素数が通常2以上50以下のアシル基;
ビニル基、アリル基、1−ブテニル基等の置換基を有していてもよい炭素数が通常1以上8以下のアルケニル基;エチニル基、プロパギル基等の置換基を有していてもよい炭素数が通常1以上8以下のアルキニル基;
アクリロイルオキシル基、メチルカルボニルオキシル基、エチルカルボニルオキシル基、ヒドロキシカルボニルメチルカルボニルオキシル基、ヒドロキシカルボニルエチルカルボニルオキシル基、ヒドロキシフェニルカルボニルオキシル基等の置換基を有していてもよい核炭素数が通常2以上、通常50以下、好ましくは15以下のアシルオキシ基;
フェニルアミノ基、ジフェニルアミノ基、ジトリルアミノ基等の置換基を有していてもよい核炭素数が通常6以上50以下のアリールアミノ基;
ピリジルアミノ基、チエニルアミノ基、ジチエニルアミノ基等の置換基を有していてもよい核炭素数が通常5以上50以下のへテロアリールアミノ基;
またはアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基等の置換基を有していてもよい炭素数が通常2以上50以下のアシルアミノ基を表す。
As for these substituents, only one type, or two or more types may be substituted in any combination, or two or more may be substituted with ring A 0 or ring B 0 .
S 1 , S 2 , R 41 to R 46 , S 11 to S 14 , and R 51 to R 56 in the chemical formula (U1) and the chemical formula (U2) are each independently a hydrogen atom;
Hydroxyl group;
The number of carbon atoms which may have a substituent such as a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, a 2-propyl group, an n-butyl group, an isobutyl group and a tert-butyl group is usually 1 or more and usually 50 or less. Preferably 10 or less linear or branched alkyl groups;
An aromatic hydrocarbon ring group having usually 5 to 50 nuclear carbon atoms which may have a substituent; an aromatic heterocyclic group having 5 to 40 nucleus carbon atoms which may have a substituent;
An aralkyl group having usually 6 or more, preferably 7 or more, usually 50 or less, preferably 8 or less, optionally having a substituent such as a benzyl group;
An alkoxy group having 1 or more, usually 50 or less, preferably 8 or less carbon atoms which may have a substituent such as a methoxy group, an ethoxy group or a butoxy group;
An aryloxy group having usually 5 or more, preferably 6 or more, and usually 50 or less, preferably 15 or less nuclear carbon atoms which may have a substituent such as phenyloxy group, 1-naphthyloxy group, 2-naphthyloxy group, etc. Group;
An acyl group having usually 2 or more and 50 or less nuclear carbon atoms which may have a substituent;
An alkenyl group having 1 to 8 carbon atoms which may have a substituent such as vinyl group, allyl group or 1-butenyl group; carbon which may have a substituent such as ethynyl group or propargyl group An alkynyl group having a number of usually 1 to 8,
The number of nuclear carbon atoms which may have a substituent such as acryloyloxyl group, methylcarbonyloxyl group, ethylcarbonyloxyl group, hydroxycarbonylmethylcarbonyloxyl group, hydroxycarbonylethylcarbonyloxyl group, hydroxyphenylcarbonyloxyl group is usually 2 Or more, usually 50 or less, preferably 15 or less acyloxy group;
An arylamino group having usually 6 or more and 50 or less nuclear carbon atoms, which may have a substituent such as a phenylamino group, a diphenylamino group or a ditolylamino group;
A heteroarylamino group having usually 5 or more and 50 or less nuclear carbon atoms which may have a substituent such as a pyridylamino group, a thienylamino group, a dithienylamino group;
Or the acylamino group whose carbon number which may have substituents, such as an acetylamino group and a benzoylamino group, is 2-50 normally.

このような解離性基は、加熱処理前において、その嵩高い分子構造から、分子間のスタッキングを防止したり、有機塗布溶媒に対して該ポリマーが良好な溶解性を有するものとすることができる。また、加熱処理によって該ポリマーから解離性基が解離するため、加熱後の化合物の溶媒への溶解性を著しく抑制することができ、該化合物を含む有機層に耐有機溶媒塗布性を付与することが出来る。したがって、本発明における解離性ポリマーを用いて形成された有機層上に、さらに湿式成膜法によって有機薄膜を積層して形成することが容易となる。
(式(4)について)
本発明の電荷輸送膜用組成物に含有される解離性重合体は、正孔輸送能が優れる点で、下記式(4)で表される繰り返し単位を含む重合体であることが好ましい。
Such a dissociable group can prevent stacking between molecules due to its bulky molecular structure before heat treatment, or the polymer can have good solubility in an organic coating solvent. . Further, since the dissociable group is dissociated from the polymer by the heat treatment, the solubility of the compound after heating in the solvent can be remarkably suppressed, and the organic layer containing the compound is imparted with an organic solvent coating resistance. I can do it. Therefore, it becomes easy to further form an organic thin film on the organic layer formed using the dissociable polymer in the present invention by a wet film forming method.
(Regarding formula (4))
The dissociative polymer contained in the charge transport film composition of the present invention is preferably a polymer containing a repeating unit represented by the following formula (4) from the viewpoint of excellent hole transport ability.

Figure 2011202124
Figure 2011202124

(式中、mは0〜3の整数を表し、
Ar31、及びAr32は、各々独立して、直接結合、2価の、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基又は置換基を有していてもよい芳香族複素環基を表し、Ar33〜Ar35は、各々独立に、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基又は置換基を有していてもよい芳香族複素環基を表す。Ar33及びAr35は1価の基を、Ar34は2価の基を示す。
(In the formula, m represents an integer of 0 to 3,
Ar 31 and Ar 32 each independently represent a direct bond, a divalent aromatic hydrocarbon group which may have a substituent, or an aromatic heterocyclic group which may have a substituent. Ar 33 to Ar 35 each independently represents an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent or an aromatic heterocyclic group which may have a substituent. Ar 33 and Ar 35 represent a monovalent group, and Ar 34 represents a divalent group.

但し、Ar31及びAr32が同時に、直接結合であることはない。)
(Ar31〜Ar35について)
式(4)中、Ar31及びAr32は、各々独立して、直接結合、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基、又は置換基を有していてもよい芳香族複素環基を表し、Ar33〜Ar35は、各々独立に、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基又は置換基を有していてもよい芳香族複素環基を表す。
However, Ar 31 and Ar 32 are not simultaneously a direct bond. )
(About Ar 31 to Ar 35 )
In formula (4), Ar 31 and Ar 32 are each independently a direct bond, an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent, or an aromatic heterocycle which may have a substituent. Ar 33 to Ar 35 each independently represents an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent or an aromatic heterocyclic group which may have a substituent.

置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、ペリレン環、テトラセン環、ピレン環、ベンズピレン環、クリセン環、トリフェニレン環、アセナフテン環、フルオランテン環、フルオレン環などの、6員環の単環又は2〜5縮合環由来の基が挙げられる。
置換基を有していてもよい芳香族複素環基としては、例えばフラン環、ベンゾフラン環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、オキサジアゾール環、インドール環、カルバゾール環、ピロロイミダゾール環、ピロロピラゾール環、ピロロピロール環、チエノピロール環、チエノチオフェン環、フロピロール環、フロフラン環、チエノフラン環、ベンゾイソオキサゾール環、ベンゾイソチアゾール環
、ベンゾイミダゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、トリアジン環、キノリン環、イソキノリン環、シノリン環、キノキサリン環、フェナントリジン環、ベンゾイミダゾール環、ペリミジン環、キナゾリン環、キナゾリノン環、アズレン環などの、5又は6員環の単環又は2〜4縮合環由来の基が挙げられる。
Examples of the aromatic hydrocarbon group which may have a substituent include, for example, a benzene ring, naphthalene ring, anthracene ring, phenanthrene ring, perylene ring, tetracene ring, pyrene ring, benzpyrene ring, chrysene ring, triphenylene ring, and acenaphthene. Examples thereof include a group derived from a 6-membered monocyclic ring or a 2-5 condensed ring, such as a ring, a fluoranthene ring, and a fluorene ring.
Examples of the aromatic heterocyclic group which may have a substituent include a furan ring, a benzofuran ring, a thiophene ring, a benzothiophene ring, a pyrrole ring, a pyrazole ring, an imidazole ring, an oxadiazole ring, an indole ring, and a carbazole ring. , Pyrroloimidazole ring, pyrrolopyrazole ring, pyrrolopyrrole ring, thienopyrrole ring, thienothiophene ring, furopyrrole ring, furofuran ring, thienofuran ring, benzoisoxazole ring, benzoisothiazole ring, benzimidazole ring, pyridine ring, pyrazine ring, pyridazine Ring, pyrimidine ring, triazine ring, quinoline ring, isoquinoline ring, sinoline ring, quinoxaline ring, phenanthridine ring, benzimidazole ring, perimidine ring, quinazoline ring, quinazolinone ring, azulene ring, etc. ring It can be mentioned groups derived from 2-4 fused rings.

溶媒に対する溶解性、及び耐熱性の点から、Ar31〜Ar35は、各々独立に、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、トリフェニレン環、ピレン環、チオフェン環、ピリジン環、フルオレン環からなる群より選ばれる環由来の基が好ましい。
また、Ar31〜Ar35としては、前記群から選ばれる1種又は2種以上の環を直接結合、又は―CH=CH―基により連結した基も好ましく、ビフェニル基及びターフェニル由来基、がさらに好ましい。
Ar 31 to Ar 35 are each independently from a benzene ring, a naphthalene ring, an anthracene ring, a phenanthrene ring, a triphenylene ring, a pyrene ring, a thiophene ring, a pyridine ring, and a fluorene ring from the viewpoint of solubility in a solvent and heat resistance. A group derived from a ring selected from the group consisting of
In addition, as Ar 31 to Ar 35 , a group in which one or two or more rings selected from the above group are directly bonded or connected by a —CH═CH— group is preferable, and a biphenyl group and a terphenyl-derived group are Further preferred.

前記置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基及び置換基を有していてもよい芳香族複素環基が有していてもよい置換基としては、例えば下記(置換基群Z)に記載の基が挙
げられる。
(置換基群Z)
メチル基、エチル基等の好ましくは炭素数1〜24、更に好ましくは炭素数1〜12のアルキル基;
ビニル基等の好ましくは炭素数2〜24、更に好ましくは炭素数2〜12のアルケニル基;
エチニル基等の好ましくは炭素数2〜24、更に好ましくは炭素数2〜12のアルキニル基;
メトキシ基、エトキシ基等の好ましくは炭素数1〜24、更に好ましくは炭素数1〜12のアルコキシ基;
フェノキシ基、ナフトキシ基、ピリジルオキシ基等の好ましくは炭素数4〜36、更に好ましくは炭素数5〜24のアリールオキシ基;
メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等の好ましくは炭素数2〜24、更に好ましくは炭素数2〜12のアルコキシカルボニル基;
ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基等の好ましくは炭素数2〜24、更に好ましくは炭素数2〜12のジアルキルアミノ基;
ジフェニルアミノ基、ジトリルアミノ基、N−カルバゾリル基等の好ましくは炭素数10〜36、更に好ましくは炭素数12〜24のジアリールアミノ基;
フェニルメチルアミノ基等の好ましくは炭素数6〜36、更に好ましくは炭素数7〜24のアリールアルキルアミノ基;
アセチル基、ベンゾイル基等の好ましくは炭素数2〜24、好ましくは炭素数2〜12のアシル基;
フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子;
トリフルオロメチル基等の好ましくは炭素数1〜12、更に好ましくは炭素数1〜6のハロアルキル基;
メチルチオ基、エチルチオ基等の好ましくは炭素数1〜24、更に好ましくは炭素数1〜12のアルキルチオ基;
フェニルチオ基、ナフチルチオ基、ピリジルチオ基等の好ましくは炭素数4〜36、更に好ましくは炭素数5〜24のアリールチオ基;
トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基等の好ましくは炭素数2〜36、更に好ましくは炭素数3〜24のシリル基;
トリメチルシロキシ基、トリフェニルシロキシ基等の好ましくは炭素数2〜36、更に好ましくは炭素数3〜24のシロキシ基;
シアノ基;
フェニル基、ナフチル基等の好ましくは炭素数6〜36、更に好ましくは炭素数6〜2
4の芳香族炭化水素基基;
チエニル基、ピリジル基等の好ましくは炭素数3〜36、更に好ましくは炭素数4〜24の芳香族複素環基。
Examples of the substituent that the aromatic hydrocarbon group that may have a substituent and the aromatic heterocyclic group that may have a substituent may have the following (substituent group Z): Group described in the above.
(Substituent group Z)
Preferably an alkyl group having 1 to 24 carbon atoms, more preferably 1 to 12 carbon atoms, such as a methyl group or an ethyl group;
An alkenyl group having preferably 2 to 24 carbon atoms, more preferably 2 to 12 carbon atoms, such as a vinyl group;
An alkynyl group having preferably 2 to 24 carbon atoms, more preferably 2 to 12 carbon atoms, such as an ethynyl group;
Preferably an alkoxy group having 1 to 24 carbon atoms, more preferably 1 to 12 carbon atoms, such as a methoxy group and an ethoxy group;
Preferably an aryloxy group having 4 to 36 carbon atoms, more preferably 5 to 24 carbon atoms, such as a phenoxy group, a naphthoxy group, and a pyridyloxy group;
An alkoxycarbonyl group having preferably 2 to 24 carbon atoms, more preferably 2 to 12 carbon atoms, such as a methoxycarbonyl group and an ethoxycarbonyl group;
A dialkylamino group having preferably 2 to 24 carbon atoms, more preferably 2 to 12 carbon atoms, such as a dimethylamino group and a diethylamino group;
A diarylamino group having preferably 10 to 36 carbon atoms, more preferably 12 to 24 carbon atoms, such as a diphenylamino group, a ditolylamino group, and an N-carbazolyl group;
An arylalkylamino group having preferably 6 to 36 carbon atoms, more preferably 7 to 24 carbon atoms, such as a phenylmethylamino group;
An acyl group having preferably 2 to 24 carbon atoms, preferably 2 to 12 carbon atoms, such as an acetyl group and a benzoyl group;
Halogen atoms such as fluorine atoms and chlorine atoms;
A haloalkyl group having preferably 1 to 12 carbon atoms, more preferably 1 to 6 carbon atoms, such as a trifluoromethyl group;
Preferably an alkylthio group having 1 to 24 carbon atoms, more preferably 1 to 12 carbon atoms, such as a methylthio group and an ethylthio group;
A phenylthio group, a naphthylthio group, a pyridylthio group and the like, preferably an arylthio group having 4 to 36 carbon atoms, more preferably 5 to 24 carbon atoms;
A silyl group having preferably 2 to 36 carbon atoms, more preferably 3 to 24 carbon atoms, such as a trimethylsilyl group and a triphenylsilyl group;
A siloxy group having preferably 2 to 36 carbon atoms, more preferably 3 to 24 carbon atoms, such as a trimethylsiloxy group and a triphenylsiloxy group;
A cyano group;
A phenyl group, a naphthyl group, etc., preferably 6 to 36 carbon atoms, more preferably 6 to 2 carbon atoms.
4 aromatic hydrocarbon radicals;
An aromatic heterocyclic group having preferably 3 to 36 carbon atoms, more preferably 4 to 24 carbon atoms, such as a thienyl group and a pyridyl group.

上記各置換基は、さらに置換基を有していてもよく、その例としては前記置換基群Zに例示した基が挙げられる。
Ar31〜Ar35における芳香族炭化水素基及び芳香族複素環基が有してもよい置換基の分子量としては、さらに置換した基を含めて500以下が好ましく、250以下がさらに好ましい。
Each of the above substituents may further have a substituent, and examples thereof include the groups exemplified in the substituent group Z.
The molecular weight of the substituent that the aromatic hydrocarbon group and the aromatic heterocyclic group in Ar 31 to Ar 35 may have is preferably 500 or less, more preferably 250 or less, including the substituted group.

溶媒に対する溶解性の点から、Ar31〜Ar35における芳香族炭化水素基及び芳香族複素環基が有していてもよい置換基としては、各々独立に、炭素数1〜12のアルキル基及び炭素数1〜12のアルコキシ基が好ましい。
なお、mが2以上である場合、前記式(4)で表される繰り返し単位は、2個以上のAr34及びAr35を有することになる。その場合、Ar34同士及びAr35同士は、各々、同じでもよく、異なっていてもよい。さらに、Ar34同士、Ar35同士は、各々互いに直接又は連結基を介して結合して環状構造を形成していてもよい。
From the viewpoint of solubility in a solvent, the aromatic hydrocarbon group and the aromatic heterocyclic group that may be possessed by Ar 31 to Ar 35 are each independently an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms and A C1-C12 alkoxy group is preferable.
In addition, when m is 2 or more, the repeating unit represented by the formula (4) has two or more Ar 34 and Ar 35 . In this case, Ar 34 and Ar 35 may be the same or different. Further, Ar 34 and Ar 35 may be bonded to each other directly or via a linking group to form a cyclic structure.

(2−2.mについて)
式(4)におけるmは、0以上、3以下の整数を表す。
mは0であることが、解離性重合体の、有機溶媒に対する溶解性及び成膜性が高められる点で好ましい。
また、mは1以上、3以下であることが、重合体の正孔輸送能が向上する点で好ましい。
(About 2-2.m)
M in Formula (4) represents an integer of 0 or more and 3 or less.
It is preferable that m is 0 from the viewpoint that the dissociative polymer has improved solubility in an organic solvent and film formability.
Further, m is preferably 1 or more and 3 or less from the viewpoint of improving the hole transport ability of the polymer.

(解離性基の割合)
解離性基は、上記解離性重合体の繰り返し単位以外の部分に含まれていてもよい。解離性重合体鎖の中に含まれる解離性基は、好ましくは平均5以上、より好ましくは平均10以上、より好ましくは平均50以上である。
上記範囲内であると、解離性重合体を用いて形成した有機層の有機溶媒に対する溶解性の低下が十分である点で好ましい。
(Percentage of dissociable groups)
The dissociable group may be contained in a portion other than the repeating unit of the dissociative polymer. The number of dissociable groups contained in the dissociable polymer chain is preferably 5 or more on average, more preferably 10 or more on average, and more preferably 50 or more on average.
Within the above range, it is preferable in that the solubility of the organic layer formed using the dissociative polymer in the organic solvent is sufficiently lowered.

以下、本発明における解離性重合体の好ましい具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
[具体例]
Hereinafter, although the preferable specific example of the dissociative polymer in this invention is shown below, this invention is not limited to these.
[Concrete example]

Figure 2011202124
Figure 2011202124

本発明における解離性重合体は、共役系の構造を有する繰り返し単位からなるため、十分な電荷輸送能を有し、また溶媒に対する十分な溶解性を有する点から、共役ポリマーであることが好ましい。
より具体的には、前記式(4)で表される繰り返し単位からなる重合体であることが好ましい。
The dissociative polymer in the present invention is preferably a conjugated polymer from the viewpoint of having sufficient charge transporting ability and sufficient solubility in a solvent because it comprises a repeating unit having a conjugated structure.
More specifically, it is preferably a polymer composed of a repeating unit represented by the formula (4).

(ガラス転移温度、その他の物性)
本発明における解離性重合体のガラス転移温度は、通常50℃以上、有機電界発光素子の耐熱性を含めた駆動安定性の点で好ましくは80℃以上、より好ましくは100℃以上、また、通常300℃以下である。
また、上記解離性重合体のイオン化ポテンシャルは、電荷輸送能が優れる点で、通常4.5eV以上、好ましくは4.8eV以上、また、通常6.0eV以下、好ましくは5.7eV以下である。
(Glass transition temperature, other physical properties)
The glass transition temperature of the dissociative polymer in the present invention is usually 50 ° C. or higher, preferably 80 ° C. or higher, more preferably 100 ° C. or higher, from the viewpoint of driving stability including the heat resistance of the organic electroluminescent device. It is 300 degrees C or less.
The ionization potential of the dissociative polymer is usually 4.5 eV or more, preferably 4.8 eV or more, and usually 6.0 eV or less, preferably 5.7 eV or less, from the viewpoint of excellent charge transport ability.

(組成物中の含有量)
本発明の電荷輸送膜用組成物における前記の解離性重合体の含有量は、通常1重量%以上、好ましくは2重量%以上、また、通常6重量%以下、好ましくは5重量%以下である。解離性重合体の含有量が少なすぎると電荷輸送能が不足する場合がある。また、多すぎると電荷輸送膜用組成物の有機溶媒に対する溶解性が低下する場合がある。異なる二種以上の解離性重合体を併用する場合は、これらの合計の含有量が上記範囲に含まれるように
する。
(Content in the composition)
The content of the dissociating polymer in the charge transport film composition of the present invention is usually 1% by weight or more, preferably 2% by weight or more, and usually 6% by weight or less, preferably 5% by weight or less. . If the content of the dissociable polymer is too small, the charge transport ability may be insufficient. Moreover, when there is too much, the solubility with respect to the organic solvent of the composition for charge transport films | membranes may fall. When two or more different dissociative polymers are used in combination, the total content thereof is included in the above range.

(解離性基を有する重合体であることの利点)
湿式成膜法で積層する場合、湿式成膜法で成膜する層の下層は、溶媒に対する溶解性が低い必要がある。
溶媒に対する溶解性を低下させる方法として、従来は架橋性基が用いられていた。架橋性基を用いる場合、架橋性基同士が結合して、溶媒に対する溶解性が低下するものとなる。
(Advantages of being a polymer having a dissociable group)
In the case of stacking by a wet film forming method, the lower layer of the layer formed by the wet film forming method needs to have low solubility in a solvent.
Conventionally, a crosslinkable group has been used as a method for reducing the solubility in a solvent. When using a crosslinkable group, crosslinkable groups couple | bond together and the solubility with respect to a solvent will fall.

また、架橋性基同士が結合しなければならないため、層を形成した場合に、未反応の架橋性基が残る場合がある。未反応の架橋性基が残ると、得られた素子を通電した場合、該架橋性基が酸化還元反応を起こし、素子の寿命に影響する場合がある。
一方、解離性基の場合は自己完結反応である為、架橋性基と比べて、形成した層中の未反応の解離性基が少なく、得られる素子の駆動寿命により影響し難い。
Further, since the crosslinkable groups must be bonded to each other, an unreacted crosslinkable group may remain when a layer is formed. If an unreacted crosslinkable group remains, when the obtained device is energized, the crosslinkable group may cause a redox reaction, which may affect the lifetime of the device.
On the other hand, in the case of a dissociable group, since it is a self-contained reaction, there are few unreacted dissociable groups in the formed layer compared with a crosslinkable group, and it is hard to be influenced by the drive lifetime of the element obtained.

さらに、解離反応後は、芳香族環系の構造となるため、架橋性基の架橋後に比べて、酸化還元反応に対して比較的安定である。
これらより、解離性基を有する重合体である方が、得られる素子の駆動寿命が長いものとなる。
[電子受容性化合物]
電子受容性化合物とは、酸化力を有し、上述の正孔輸送性化合物から一電子受容する能力を有する化合物が好ましく、具体的には、電子親和力が4eV以上である化合物が好ましく、5eV以上の化合物である化合物がさらに好ましい。
Furthermore, after the dissociation reaction, the structure becomes an aromatic ring system, so that it is relatively stable to the redox reaction as compared to after the crosslinking of the crosslinkable group.
From these, the polymer having a dissociable group has a longer driving life of the resulting device.
[Electron-accepting compound]
The electron-accepting compound is preferably a compound having an oxidizing power and the ability to accept one electron from the above-described hole transporting compound, specifically, a compound having an electron affinity of 4 eV or more is preferable, and 5 eV or more. The compound which is the compound of these is further more preferable.

このような電子受容性化合物としては、例えば、トリアリールホウ素化合物、ハロゲン化金属、ルイス酸、有機酸、オニウム塩、アリールアミンとハロゲン化金属との塩、アリールアミンとルイス酸との塩よりなる群から選ばれる1種または2種以上の化合物等が挙げられる。
本発明の電荷輸送膜用組成物に含有される電子受容性化合物は、周期表の第15〜17族に属する元素に、少なくとも一つの有機基が炭素原子で結合した構造を有するイオン化合物であることが好ましく、さらに下記式(I−1)〜(I−3)のいずれかで表される化合物であることが好ましい。
Examples of such electron-accepting compounds include triarylboron compounds, metal halides, Lewis acids, organic acids, onium salts, salts of arylamines and metal halides, and salts of arylamines and Lewis acids. Examples thereof include one or more compounds selected from the group.
The electron-accepting compound contained in the charge transport film composition of the present invention is an ionic compound having a structure in which at least one organic group is bonded to an element belonging to Groups 15 to 17 of the periodic table with a carbon atom. It is preferable that it is a compound represented by any one of the following formulas (I-1) to (I-3).

Figure 2011202124
Figure 2011202124

式(I−1)〜(I−3)中、R11、R21及びR31は、各々独立に、A1〜A3と炭素原
子で結合する有機基を表し、R12、R22、R23及びR32〜R34は、各々独立に、置換基を表す。R11〜R34のうち隣接する2以上の基が、互いに結合して環を形成していてもよい。
11、R21及びR31としては、A1〜A3との結合部分に炭素原子を有する有機基であれば、本発明の効果を損なわない限り、その種類は特に制限されない。本発明における有機基とは、少なくとも一つの炭素原子を含む基である。
In formulas (I-1) to (I-3), R 11 , R 21 and R 31 each independently represents an organic group bonded to A 1 to A 3 via a carbon atom, and R 12 , R 22 , R 23 and R 32 to R 34 each independently represent a substituent. Two or more adjacent groups among R 11 to R 34 may be bonded to each other to form a ring.
The type of R 11 , R 21 and R 31 is not particularly limited as long as it does not impair the effects of the present invention as long as it is an organic group having a carbon atom at the bonding portion with A 1 to A 3 . The organic group in the present invention is a group containing at least one carbon atom.

11、R21及びR31の分子量は、各々、その置換基を含めた値で、通常1000以下、好ましくは500以下の範囲である。R11、R21及びR31の好ましい例としては、正電荷を非局在化させる点から、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、芳香族炭化水素基、芳香族複素環基が挙げられる。中でも、正電荷を非局在化させるとともに熱的に安定であることから、芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基が好ましい。 The molecular weights of R 11 , R 21 and R 31 are each a value including the substituent, and are usually 1000 or less, preferably 500 or less. Preferred examples of R 11 , R 21 and R 31 include alkyl groups, alkenyl groups, alkynyl groups, aromatic hydrocarbon groups, and aromatic heterocyclic groups from the viewpoint of delocalizing positive charges. Among them, an aromatic hydrocarbon group or an aromatic heterocyclic group is preferable because it delocalizes positive charges and is thermally stable.

芳香族炭化水素基としては、5又は6員環の単環又は2〜5縮合環由来の1価の基であり、正電荷を当該基上により非局在化させられる基が挙げられる。その具体例としては、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、ペリレン環、テトラセン環、ピレン環、ベンズピレン環、クリセン環、トリフェニレン環、アセナフテン環、フルオレン環等の由来の一価の基が挙げられる。   Examples of the aromatic hydrocarbon group include a monovalent group derived from a 5- or 6-membered monocyclic ring or a 2-5 condensed ring, and a group capable of delocalizing a positive charge on the group. Specific examples thereof include monovalent groups derived from a benzene ring, naphthalene ring, anthracene ring, phenanthrene ring, perylene ring, tetracene ring, pyrene ring, benzpyrene ring, chrysene ring, triphenylene ring, acenaphthene ring, fluorene ring, and the like. Can be mentioned.

芳香族複素環基としては、5又は6員環の単環又は2〜4縮合環由来の1価の基であり、正電荷を当該基上により非局在化させられる基が挙げられる。その具体例としては、フラン環、ベンゾフラン環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、ピロール環、ピラゾール環、トリアゾール環、イミダゾール環、オキサジアゾール環、インドール環、カルバゾール環、ピロロイミダゾール環、ピロロピラゾール環、ピロロピロール環、チエノピロール環、チエノチオフェン環、フロピロール環、フロフラン環、チエノフラン環、ベンゾイソオキサゾール環、ベンゾイソチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、トリアジン環、キノリン環、イソキノリン環、シノリン環、キノキサリン環、フェナントリジン環、ベンゾイミダゾール環、ペリミジン環、キナゾリン環、キナゾリノン環、アズレン環等の由来の一価の基が挙げられる。   The aromatic heterocyclic group is a monovalent group derived from a 5- or 6-membered monocyclic ring or a 2-4 condensed ring, and includes a group that can delocalize a positive charge on the group. Specific examples thereof include furan ring, benzofuran ring, thiophene ring, benzothiophene ring, pyrrole ring, pyrazole ring, triazole ring, imidazole ring, oxadiazole ring, indole ring, carbazole ring, pyrroloimidazole ring, pyrrolopyrazole ring, Pyrrolopyrrole ring, thienopyrrole ring, thienothiophene ring, furopyrrole ring, furofuran ring, thienofuran ring, benzisoxazole ring, benzisothiazole ring, benzimidazole ring, pyridine ring, pyrazine ring, pyridazine ring, pyrimidine ring, triazine ring, quinoline And monovalent groups derived from a ring, an isoquinoline ring, a sinoline ring, a quinoxaline ring, a phenanthridine ring, a benzimidazole ring, a perimidine ring, a quinazoline ring, a quinazolinone ring, an azulene ring, and the like.

アルキル基としては、直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルキル基であって、その炭素数が通常1以上、また、通常12以下、好ましくは6以下のものが挙げられる。具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、2−プロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。
アルケニル基としては、炭素数が通常2以上、通常12以下、好ましくは6以下のものが挙げられる。具体例としては、ビニル基、アリル基、1−ブテニル基等が挙げられる。
Examples of the alkyl group include linear, branched, or cyclic alkyl groups having a carbon number of usually 1 or more and usually 12 or less, preferably 6 or less. Specific examples include methyl group, ethyl group, n-propyl group, 2-propyl group, n-butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, cyclohexyl group and the like.
Examples of the alkenyl group include those having usually 2 or more, usually 12 or less, preferably 6 or less. Specific examples include a vinyl group, an allyl group, and a 1-butenyl group.

アルキニル基としては、炭素数が通常2以上、通常12以下、好ましくは6以下のものが挙げられる。具体例としては、エチニル基、プロパルギル基等が挙げられる。
12、R22、R23及びR32〜R34の種類は、本発明の効果を損なわない限り特に制限されない。R12、R22、R23及びR32〜R34の分子量は、各々、その置換基を含めた値で、通常1000以下、好ましくは500以下の範囲である。R12、R22、R23及びR32〜R34の例としては、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、芳香族炭化水素基、芳香族複素環基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルカルボニルオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホニルオキシ基、シアノ基、水酸基、チオール基、シリル基等が挙げられる。中でも、R11、R21及びR31と同様、電子受容性が大きい点から、A1〜A3との結合部分に炭素原子を有する有機基が好ましく、例としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、芳香族炭化水素基、芳香族複素環基が好ましい。特に、電子受容性が大きいとともに
熱的に安定であることから、芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基が好ましい。
Examples of the alkynyl group include those having usually 2 or more, usually 12 or less, preferably 6 or less. Specific examples include ethynyl group and propargyl group.
The type of R 12 , R 22 , R 23 and R 32 to R 34 is not particularly limited as long as the effects of the present invention are not impaired. The molecular weights of R 12 , R 22 , R 23 and R 32 to R 34 are each a value including the substituent, and are usually 1000 or less, preferably 500 or less. Examples of R 12 , R 22 , R 23 and R 32 to R 34 include hydrogen atom, alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aromatic hydrocarbon group, aromatic heterocyclic group, amino group, alkoxy group, aryl Oxy, acyl, alkoxycarbonyl, aryloxycarbonyl, alkylcarbonyloxy, alkylthio, arylthio, sulfonyl, alkylsulfonyl, arylsulfonyl, sulfonyloxy, cyano, hydroxyl, thiol, silyl Groups and the like. Among them, like R 11 , R 21, and R 31 , an organic group having a carbon atom at the bond portion with A 1 to A 3 is preferable from the viewpoint of high electron acceptability. Examples include an alkyl group, an alkenyl group, Alkynyl groups, aromatic hydrocarbon groups, and aromatic heterocyclic groups are preferred. In particular, an aromatic hydrocarbon group or an aromatic heterocyclic group is preferable because it has a large electron accepting property and is thermally stable.

アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、芳香族炭化水素基、芳香族複素環基としては、R11、R21及びR31について先に説明したものと同様のものが挙げられる。
アミノ基としては、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アシルアミノ基等が挙げられる。
アルキルアミノ基としては、炭素数が通常1以上、また、通常12以下、好ましくは6以下のアルキル基を1つ以上有するアルキルアミノ基が挙げられる。具体例としては、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジベンジルアミノ基等が挙げられる。
Examples of the alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aromatic hydrocarbon group and aromatic heterocyclic group are the same as those described above for R 11 , R 21 and R 31 .
Examples of the amino group include an alkylamino group, an arylamino group, and an acylamino group.
Examples of the alkylamino group include alkylamino groups having one or more alkyl groups usually having 1 or more carbon atoms and usually 12 or less, preferably 6 or less carbon atoms. Specific examples include methylamino group, dimethylamino group, diethylamino group, dibenzylamino group and the like.

アリールアミノ基としては、炭素数が通常3以上、好ましくは4以上、また、通常25以下、好ましくは15以下の芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基を1つ以上有するアリールアミノ基が挙げられる。具体例としては、フェニルアミノ基、ジフェニルアミノ基、トリルアミノ基、ピリジルアミノ基、チエニルアミノ基等が挙げられる。
アシルアミノ基としては、炭素数が通常2以上、また、通常25以下、好ましくは15以下のアシル基を1つ以上有するアシルアミノ基が挙げられる。具体例としては、アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基等が挙げられる。
Examples of the arylamino group include arylamino groups having at least one aromatic hydrocarbon group or aromatic heterocyclic group having usually 3 or more, preferably 4 or more, and usually 25 or less, preferably 15 or less. It is done. Specific examples include phenylamino group, diphenylamino group, tolylamino group, pyridylamino group, thienylamino group and the like.
The acylamino group includes an acylamino group having one or more acyl groups having usually 2 or more carbon atoms and usually 25 or less, preferably 15 or less carbon atoms. Specific examples include an acetylamino group and a benzoylamino group.

アルコキシ基としては、炭素数が通常1以上、また、通常12以下、好ましくは6以下のアルコキシ基が挙げられる。具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基等が挙げられる。
アリールオキシ基としては、炭素数が通常3以上、好ましくは4以上、また、通常25以下、好ましくは15以下の芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基を有するアリールオキシ基が挙げられる。具体例としては、フェニルオキシ基、ナフチルオキシ基、ピリジルオキシ基、チエニルオキシ基等が挙げられる。
The alkoxy group includes an alkoxy group having usually 1 or more carbon atoms and usually 12 or less, preferably 6 or less. Specific examples include a methoxy group, an ethoxy group, and a butoxy group.
Examples of the aryloxy group include aryloxy groups having an aromatic hydrocarbon group or an aromatic heterocyclic group having usually 3 or more, preferably 4 or more, and usually 25 or less, preferably 15 or less. Specific examples include phenyloxy group, naphthyloxy group, pyridyloxy group, thienyloxy group and the like.

アシル基としては、炭素数が通常1以上、また、通常25以下、好ましくは15以下のアシル基が挙げられる。具体例としては、ホルミル基、アセチル基、ベンゾイル基等が挙げられる。
アルコキシカルボニル基としては、炭素数が通常2以上、また、通常10以下、好ましくは7以下のアルコキシカルボニル基が挙げられる。具体例としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等が挙げられる。
Examples of the acyl group include acyl groups having usually 1 or more carbon atoms and usually 25 or less, preferably 15 or less. Specific examples include formyl group, acetyl group, benzoyl group and the like.
The alkoxycarbonyl group includes an alkoxycarbonyl group having usually 2 or more carbon atoms and usually 10 or less, preferably 7 or less. Specific examples include a methoxycarbonyl group and an ethoxycarbonyl group.

アリールオキシカルボニル基としては、炭素数が通常3以上、好ましくは4以上、また、通常25以下、好ましくは15以下の芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基を有するものが挙げられる。具体例としては、フェノキシカルボニル基、ピリジルオキシカルボニル基等が挙げられる。
アルキルカルボニルオキシ基としては、炭素数が通常2以上、また、通常10以下、好ましくは7以下のアルキルカルボニルオキシ基が挙げられる。具体例としては、アセトキシ基、トリフルオロアセトキシ基等が挙げられる。
Examples of the aryloxycarbonyl group include those having an aromatic hydrocarbon group or an aromatic heterocyclic group having usually 3 or more, preferably 4 or more, and usually 25 or less, preferably 15 or less. Specific examples include a phenoxycarbonyl group and a pyridyloxycarbonyl group.
Examples of the alkylcarbonyloxy group include alkylcarbonyloxy groups having usually 2 or more carbon atoms and usually 10 or less, preferably 7 or less. Specific examples include an acetoxy group and a trifluoroacetoxy group.

アルキルチオ基としては、炭素数が通常1以上、また、通常12以下、好ましくは6以下のアルキルチオ基が挙げられる。具体例としては、メチルチオ基、エチルチオ基等が挙げられる。
アリールチオ基としては、炭素数が通常3以上、好ましくは4以上、また、通常25以下、好ましくは14以下のアリールチオ基が挙げられる。具体例としては、フェニルチオ基、ナフチルチオ基、ピリジルチオ基等が挙げられる。
The alkylthio group includes an alkylthio group having usually 1 or more carbon atoms and usually 12 or less, preferably 6 or less. Specific examples include a methylthio group and an ethylthio group.
The arylthio group includes an arylthio group having usually 3 or more, preferably 4 or more, and usually 25 or less, preferably 14 or less. Specific examples include a phenylthio group, a naphthylthio group, and a pyridylthio group.

アルキルスルホニル基及びアリールスルホニル基の具体例としては、メシル基、トシル
基等が挙げられる。
スルホニルオキシ基の具体例としては、メシルオキシ基、トシルオキシ基等が挙げられる。
シリル基の具体例としては、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基など挙げられる。
Specific examples of the alkylsulfonyl group and the arylsulfonyl group include a mesyl group and a tosyl group.
Specific examples of the sulfonyloxy group include a mesyloxy group and a tosyloxy group.
Specific examples of the silyl group include a trimethylsilyl group and a triphenylsilyl group.

以上、R11、R21、R31及びR12、R22,R23、R32〜R34として例示した基は、本発明の趣旨に反しない限りにおいて、更に他の置換基によって置換されていてもよい。置換基の種類は特に制限されないが、例としては、上記R11、R21、R31及びR12、R22,R23、R32〜R34として各々例示した基の他、ハロゲン原子、シアノ基、チオシアノ基、ニトロ基等が挙げられる。中でも、イオン化合物(電子受容性化合物)の耐熱性及び電子受容性の妨げにならない観点から、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、芳香族炭化水素基、芳香族複素環基が好ましい。 As described above, the groups exemplified as R 11 , R 21 , R 31 and R 12 , R 22 , R 23 , R 32 to R 34 are further substituted with other substituents unless they are contrary to the gist of the present invention. May be. The type of the substituent is not particularly limited, and examples thereof include the groups exemplified above as R 11 , R 21 , R 31 and R 12 , R 22 , R 23 , R 32 to R 34, as well as halogen atoms, cyano Group, thiocyano group, nitro group and the like. Among these, from the viewpoint of not hindering the heat resistance and electron acceptability of the ionic compound (electron accepting compound), an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an aromatic hydrocarbon group, an aromatic heterocyclic ring. Groups are preferred.

式(I−1)〜(I−3)中、A1およびA2は、周期表第3周期以降(第3〜第6周期)の元素、Aは周期表第2周期以降(第2〜第6周期)の元素であって、A1は、長周
期型周期表の第17族に属する元素を表し、A2は、第 16族に属する元素を表し、A3
は、第15族に属する元素を表す。
中でも、電子受容性及び入手容易性の観点から、周期表の第5周期以前の元素が好ましい。即ち、A1としてはヨウ素原子、臭素原子、塩素原子のうち何れかが好ましく、A2としてはテルル原子、セレン原子、硫黄原子のうち何れかが好ましく、A3としてはアンチ
モン原子、ヒ素原子、リン原子、窒素原子のうち何れかが好ましい。特に、電子受容性、化合物の安定性の面から、式(I−1)におけるA1が臭素原子又はヨウ素原子である電
子受容性化合物、式(I−2)におけるA2がセレン原子又は硫黄原子である電子受容性
化合物、式(I−3)におけるAが窒素原子である電子受容性化合物が好ましく、中でも、式(I−1)におけるA1がヨウ素原子である電子受容性化合物、式(I−3)にお
けるAが窒素原子である電子受容性化合物が最も好ましい。
In formulas (I-1) to (I-3), A 1 and A 2 are elements after the third period (third to sixth periods) of the periodic table, and A 3 is after the second period of the periodic table (second To 6th period), A 1 represents an element belonging to Group 17 of the long-period periodic table, A 2 represents an element belonging to Group 16 and A 3
Represents an element belonging to Group 15.
Among these, from the viewpoint of electron acceptability and availability, elements before the fifth period of the periodic table are preferable. That is, A 1 is preferably any one of an iodine atom, a bromine atom, and a chlorine atom, A 2 is preferably any one of a tellurium atom, a selenium atom, and a sulfur atom, and A 3 is preferably an antimony atom, an arsenic atom, Either a phosphorus atom or a nitrogen atom is preferable. In particular, from the viewpoint of electron acceptability and stability of the compound, A 1 in formula (I-1) is a bromine atom or iodine atom, and A 2 in formula (I-2) is selenium atom or sulfur. An electron-accepting compound that is an atom, and an electron-accepting compound in which A 3 in the formula (I-3) is a nitrogen atom are preferable. Among them, an electron-accepting compound in which A 1 in the formula (I-1) is an iodine atom, An electron-accepting compound in which A 3 in formula (I-3) is a nitrogen atom is most preferable.

式(I−1)〜(I−3)中、Z1 n1-〜Z3 n3-は、各々独立に、対アニオンを表す。対アニオンの種類は特に制限されず、単原子イオンであっても錯イオンであってもよい。但し、対アニオンのサイズが大きいほど負電荷が非局在化し、それに伴い正電荷も非局在化して電子受容能が大きくなるため、単原子イオンよりも錯イオンの方が好ましい。
〜nは、各々独立に、対アニオンZ1 n1-〜Z3 n3-のイオン価に相当する任意の正の整数である。n〜nの値は特に制限されないが、何れも1又は2であることが好ましく、1であることが最も好ましい。
In formulas (I-1) to (I-3), Z 1 n1 to Z 3 n3 each independently represents a counter anion. The type of the counter anion is not particularly limited, and may be a monoatomic ion or a complex ion. However, the larger the size of the counter anion, the more the negative charge is delocalized, and the positive charge is also delocalized thereby increasing the electron accepting ability. Therefore, the complex ion is preferable to the monoatomic ion.
n 1 to n 3 are each independently an arbitrary positive integer corresponding to the ionic value of the counter anions Z 1 n1 to Z 3 n3− . The values of n 1 to n 3 are not particularly limited, but all are preferably 1 or 2, and most preferably 1.

1 n1-〜Z3 n3-の具体例としては、水酸化物イオン、フッ化物イオン、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン、シアン化物イオン、硝酸イオン、亜硝酸イオン、硫酸イオン、亜硫酸イオン、過塩素酸イオン、過臭素酸イオン、過ヨウ素酸イオン、塩素酸イオン、亜塩素酸イオン、次亜塩素酸イオン、リン酸イオン、亜リン酸イオン、次亜リン酸イオン、ホウ酸イオン、イソシアン酸イオン、水硫化物イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、ヘキサフルオロリン酸イオン、ヘキサクロロアンチモン酸イオン;酢酸イオン、トリフルオロ酢酸イオン、安息香酸イオン等のカルボン酸イオン;メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸イオン等のスルホン酸イオン;メトキシイオン、t−ブトキシイオン等のアルコキシイオンなどが挙げられ、テトラフルオロホウ素酸イオン及びヘキフルオロホウ素酸イオンが好ましい。 Specific examples of Z 1 n1- to Z 3 n3- include hydroxide ion, fluoride ion, chloride ion, bromide ion, iodide ion, cyanide ion, nitrate ion, nitrite ion, sulfate ion, sulfite. Ion, perchlorate ion, perbromate ion, periodate ion, chlorate ion, chlorite ion, hypochlorite ion, phosphate ion, phosphite ion, hypophosphite ion, borate ion , Isocyanate ion, hydrosulfide ion, tetrafluoroborate ion, hexafluorophosphate ion, hexachloroantimonate ion; carboxylate ion such as acetate ion, trifluoroacetate ion, benzoate ion; methanesulfonic acid, trifluoromethane Sulfonate ions such as sulfonate ions; Alkoxy ions such as methoxy ions and t-butoxy ions And tetrafluoroborate ions and hexafluoroborate ions are preferred.

また、対アニオンZ1 n1-〜Z3 n3-としては、化合物の安定性、有機溶媒への溶解性の点で、下記式(I−4)〜(I−6)のいずれかで表される錯イオンが好ましく、サイズが大きいという点で、負電荷が非局在化し、それに伴い正電荷も非局在化して電子受容能が
大きくなるため、式(I−6)で表される錯イオンが更に好ましい。
The counter anions Z 1 n1 to Z 3 n3 are represented by any of the following formulas (I-4) to (I-6) from the viewpoint of the stability of the compound and the solubility in organic solvents. The complex ion represented by the formula (I-6) is preferable because the negative charge is delocalized and the positive charge is delocalized to increase the electron accepting ability. Ions are more preferred.

Figure 2011202124
Figure 2011202124

式(I−4)、(I−6)中、E1及びE3は、各々独立に、長周期型周期表の第13族に属する元素を表す。中でもホウ素原子、アルミニウム原子、ガリウム原子が好ましく、化合物の安定性、合成及び精製のし易さの点から、ホウ素原子が好ましい。
式(I−5)中、E2は、長周期型周期表の第15族に属する元素を表す。中でもリン
原子、ヒ素原子、アンチモン原子が好ましく、化合物の安定性、合成及び精製が容易である点から、毒性の点から、リン原子が好ましい。
In formulas (I-4) and (I-6), E 1 and E 3 each independently represent an element belonging to Group 13 of the long-period periodic table. Of these, a boron atom, an aluminum atom, and a gallium atom are preferable, and a boron atom is preferable from the viewpoint of stability of the compound and ease of synthesis and purification.
In formula (I-5), E 2 represents an element belonging to Group 15 of the long-period periodic table. Among these, a phosphorus atom, an arsenic atom, and an antimony atom are preferable, and a phosphorus atom is preferable from the viewpoint of stability of the compound, synthesis and purification, and toxicity.

式(I−4)、(I−5)中、Xは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子を表し、化合物の安定性、合成及び精製が容易である点から、フッ素原子、塩素原子であることが好ましく、フッ素原子であることが最も好ましい。
式(I−6)中、Ar1〜Ar4は、各々独立に、芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基を表す。芳香族炭化水素基、芳香族複素環基の例示としては、R11、R21及びR31について先に例示したものと同様の、5又は6員環の単環又は2〜4縮合環由来の1価の基が挙げられる。中でも、化合物の安定性、耐熱性の点から、ベンゼン環、ナフタレン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、トリアジン環、キノリン環、イソキノリン環由来の1価の基が好ましい。
In the formulas (I-4) and (I-5), X represents a halogen atom such as a fluorine atom, a chlorine atom, or a bromine atom, and the fluorine atom, A chlorine atom is preferred, and a fluorine atom is most preferred.
In formula (I-6), Ar 1 to Ar 4 each independently represents an aromatic hydrocarbon group or an aromatic heterocyclic group. Examples of the aromatic hydrocarbon group and aromatic heterocyclic group are derived from the same 5- or 6-membered monocyclic ring or 2-4 condensed ring as those exemplified above for R 11 , R 21 and R 31 . A monovalent group is mentioned. Among these, a monovalent group derived from a benzene ring, a naphthalene ring, a pyridine ring, a pyrazine ring, a pyridazine ring, a pyrimidine ring, a triazine ring, a quinoline ring, or an isoquinoline ring is preferable from the viewpoint of stability and heat resistance of the compound.

Ar1〜Ar4として例示した芳香族炭化水素基、芳香族複素環基は、本発明の趣旨に反しない限りにおいて、更に別の置換基によって置換されていてもよい。置換基の種類は特に制限されず、任意の置換基が適用可能であるが、電子吸引性の基であることが好ましい。
Ar1〜Ar4が有してもよい置換基として好ましい電子吸引性の基を例示するならば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子;シアノ基;チオシアノ基;ニトロ基;メシル基等のアルキルスルホニル基;トシル基等のアリールスルホニル基;ホルミル基、アセチル基、ベンゾイル基等の、炭素数が通常1以上、通常12以下、好ましくは6以下のアシル基;メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等の、炭素数が通常2以上、通常10以下、好ましくは7以下のアルコキシカルボニル基;フェノキシカルボニル基、ピリジルオキシカルボニル基等の、炭素数が通常3以上、好ましくは4以上、通常25以下、好ましくは15以下の芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基を有するアリールオキシカルボニル基;アミノカルボニル基;アミノスルホニル基;トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基等の、炭素数が通常1以上、通常10以下、好ましくは6以下の直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルキル基にフッ素原子、塩素原子などのハロゲン原子が置換したハロアルキル基、などが挙げられる。
The aromatic hydrocarbon group and aromatic heterocyclic group exemplified as Ar 1 to Ar 4 may be further substituted with another substituent as long as they do not contradict the gist of the present invention. The type of the substituent is not particularly limited, and any substituent can be applied, but an electron-withdrawing group is preferable.
Examples of preferable electron-withdrawing groups as the substituent that Ar 1 to Ar 4 may have include halogen atoms such as fluorine atom, chlorine atom and bromine atom; cyano group; thiocyano group; nitro group; mesyl group Alkylsulfonyl groups such as tosyl group; arylsulfonyl groups such as tosyl group; acyl groups such as formyl group, acetyl group, benzoyl group and the like, usually having 1 or more, usually 12 or less, preferably 6 or less; methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl An alkoxycarbonyl group having 2 or more carbon atoms, usually 10 or less, preferably 7 or less; a phenoxycarbonyl group, a pyridyloxycarbonyl group or the like, and usually having 3 or more carbon atoms, preferably 4 or more and usually 25 or less. An aryloxycarbonyl group having an aromatic hydrocarbon group or an aromatic heterocyclic group of preferably 15 or less; A fluorine atom on a linear, branched or cyclic alkyl group having usually 1 or more, usually 10 or less, preferably 6 or less, such as a sulfonyl group; an aminosulfonyl group; a trifluoromethyl group or a pentafluoroethyl group And a haloalkyl group substituted with a halogen atom such as a chlorine atom.

中でも、Ar1〜Ar4のうち少なくとも1つの基が、フッ素原子又は塩素原子を置換基として1つ又は2つ以上有することがより好ましい。特に、負電荷を効率よく非局在化する点、及び、適度な昇華性を有する点から、Ar1〜Ar4の水素原子がすべてフッ素原子
で置換されたパーフルオロアリール基であることが最も好ましい。パーフルオロアリール基の具体例としては、ペンタフルオロフェニル基、ヘプタフルオロ−2−ナフチル基、テトラフルオロ−4−ピリジル基等が挙げられる。
Among them, it is more preferable that at least one group out of Ar 1 to Ar 4 has one or more fluorine atoms or chlorine atoms as substituents. In particular, it is most preferably a perfluoroaryl group in which all of the hydrogen atoms of Ar 1 to Ar 4 are substituted with fluorine atoms from the viewpoint of efficiently delocalizing negative charges and having an appropriate sublimation property. preferable. Specific examples of the perfluoroaryl group include a pentafluorophenyl group, a heptafluoro-2-naphthyl group, and a tetrafluoro-4-pyridyl group.

本発明における電子受容性化合物の分子量は、通常100以上、好ましくは300以上、更に好ましくは400以上、また、通常5000以下、好ましくは3000以下、更に好ましくは2000以下の範囲である。電子受容性化合物の分子量が小さすぎると、正電荷及び負電荷の非局在化が不十分なため、電子受容能が低下するおそれがあり、電子受容性化合物の分子量が大きすぎると、電子受容性化合物自体が電荷輸送の妨げとなるおそれがある。   The molecular weight of the electron-accepting compound in the present invention is usually 100 or more, preferably 300 or more, more preferably 400 or more, and usually 5000 or less, preferably 3000 or less, more preferably 2000 or less. If the molecular weight of the electron-accepting compound is too small, delocalization of the positive charge and negative charge is insufficient, which may reduce the electron accepting ability. If the molecular weight of the electron-accepting compound is too large, the electron accepting compound The active compound itself may interfere with charge transport.

以下に本発明における電子受容性化合物の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Specific examples of the electron-accepting compound in the present invention are listed below, but the present invention is not limited thereto.

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上記具体例のうち、電子受容性、耐熱性、有機溶媒に対する溶解性の点で、好ましくは、A−1〜48、A−54、A−55、A−60〜62、A−64〜75、A−79〜83、B−1〜20、B−24、B−25、B−27、B−30〜37、B−39〜43、C−1〜10、C−19〜21、C−25〜27、C−30、C−31、D−15〜28の化合物であり、より好ましくは、A−1〜9、A−12〜15、A−17、A−19、A−24、A―29、A−31〜33、A−36、A−37、A−65、A−66、A−69、A−80〜82、B−1〜3、B−5、B−7〜10、B−16、B−30、B−33、B−39、C−1〜3、C−5、C−10、C−21、C−25、C−31、D−17〜28の化合物であり、最も好ましくは、A−1〜7、A−80、D−21〜24の化合物である。   Among the above specific examples, A-1 to 48, A-54, A-55, A-60 to 62, and A-64 to 75 are preferable from the viewpoint of electron acceptability, heat resistance, and solubility in organic solvents. A-79 to 83, B-1 to 20, B-24, B-25, B-27, B-30 to 37, B-39 to 43, C-1 to 10, C-19 to 21, C -25 to 27, C-30, C-31, D-15 to 28, and more preferably A-1 to 9, A-12 to 15, A-17, A-19, A-24. A-29, A-31 to 33, A-36, A-37, A-65, A-66, A-69, A-80 to 82, B-1 to 3, B-5, B-7 -10, B-16, B-30, B-33, B-39, C-1 to 3, C-5, C-10, C-21, C-25, C-31, D-17 to 28 And the most Preferably, A-1 to 7, a compound of A-80, D-21~24.

以上説明した電子受容性化合物を製造する方法は特に制限されず、各種の方法を用いて製造することが可能である。例としては、Chem.Rev.、66巻、243頁、1966年、及び、J.Org.Chem.、53巻、5571頁、1988年に記載の方法等が挙げられる。
本発明の電荷輸送膜用組成物は、上述の電子受容性化合物のうち何れか一種を単独で含
有していてもよく、二種以上を任意の組み合わせ及び比率で含有していてもよい。また、式(I−1)〜(I−3)のうち何れか一つの式に該当する電子受容性化合物を二種以上組み合わせてもよく、各々異なる式に該当する二種以上の電子受容性化合物を組み合わせてもよい。
The method for producing the electron-accepting compound described above is not particularly limited, and can be produced using various methods. As an example, Chem. Rev. 66, 243, 1966, and J. Am. Org. Chem. 53, page 5571, 1988, and the like.
The composition for a charge transport film of the present invention may contain any one of the above-described electron-accepting compounds alone, or may contain two or more kinds in any combination and ratio. Two or more electron-accepting compounds corresponding to any one of the formulas (I-1) to (I-3) may be combined, and two or more electron-accepting properties corresponding to different formulas may be used. You may combine a compound.

本発明の電荷輸送膜用組成物における上述の電子受容性化合物の含有量は、先述の解離性重合体に対する値で、通常0.1重量%以上、好ましくは1重量%以上、また、通常100重量%以下、好ましくは40重量%以下である。
上記範囲内であると、駆動電圧が低く、また成膜性が良好であるため好ましい。
二種以上の電子受容性化合物を併用する場合には、これらの合計の含有量が上記範囲に含まれるようにする。
The content of the above-described electron-accepting compound in the charge transport film composition of the present invention is usually 0.1% by weight or more, preferably 1% by weight or more, and usually 100%, based on the above-mentioned dissociative polymer. % By weight or less, preferably 40% by weight or less.
Within the above range, the driving voltage is low and the film formability is good, which is preferable.
When two or more kinds of electron-accepting compounds are used in combination, the total content is included in the above range.

[有機溶媒]
有機溶媒としては、本発明における解離性重合体を、通常0.05重量%以上、好ましくは0.5重量%以上、さらに好ましくは1重量%以上溶解する有機溶媒であることが好ましい。また、電子受容性化合物を0.005重量%以上溶解することが好ましく、0.05重量%以上溶解することがより好ましく、0.5重量%以上溶解することがさらに好ましい。
[Organic solvent]
The organic solvent is preferably an organic solvent that dissolves the dissociative polymer in the present invention in an amount of usually 0.05% by weight or more, preferably 0.5% by weight or more, and more preferably 1% by weight or more. In addition, it is preferable to dissolve 0.005% by weight or more of the electron-accepting compound, more preferably 0.05% by weight or more, and even more preferably 0.5% by weight or more.

有機溶媒としては、具体的には、芳香族系有機溶媒、含ハロゲン有機溶媒、エーテル系有機溶媒、及びエステル系有機溶媒が挙げられる。
芳香族系有機溶媒の具体例としては、トルエン、キシレン、メチシレン、シクロヘキシルベンゼン、ペンタフルオロメトキシベンゼン、エチル(ペンタフルオロベンゾエート)等、
含ハロゲン有機溶媒の具体例としては、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン、o−ジクロロベンゼン等、
エーテル系有機溶媒の具体例としては、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテルアセタート(PGMEA)等の脂肪族エーテル;1,2−ジメトキシベンゼン,1,3−ジメトキシベンゼン、アニソール、フェネトール、2−メトキシトルエン、3−メトキシトルエン,4
−メトキシトルエン、2,3−ジメチルアニソール,2,4−ジメチルアニソール、ジフェニルエーテル等の芳香族エーテル等、
エステル系有機溶媒の具体例としては、酢酸エチル、酢酸n―ブチル、乳酸エチル、乳酸n−ブチル等の脂肪族エステル;酢酸フェニル、プロピオン酸フェニル、安息香酸メチル、安息香酸エチル、安息香酸プロピル、安息香酸n−ブチル等の芳香族エステル等が挙げられる。
Specific examples of the organic solvent include aromatic organic solvents, halogen-containing organic solvents, ether-based organic solvents, and ester-based organic solvents.
Specific examples of the aromatic organic solvent include toluene, xylene, methicylene, cyclohexylbenzene, pentafluoromethoxybenzene, ethyl (pentafluorobenzoate), etc.
Specific examples of the halogen-containing organic solvent include 1,2-dichloroethane, chlorobenzene, o-dichlorobenzene, and the like.
Specific examples of the ether organic solvent include aliphatic ethers such as ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, propylene glycol-1-monomethyl ether acetate (PGMEA); 1,2-dimethoxybenzene, 1,3-dimethoxybenzene , Anisole, phenetole, 2-methoxytoluene, 3-methoxytoluene, 4
-Aromatic ethers such as methoxytoluene, 2,3-dimethylanisole, 2,4-dimethylanisole, diphenyl ether, etc.
Specific examples of the ester organic solvent include aliphatic esters such as ethyl acetate, n-butyl acetate, ethyl lactate, and n-butyl lactate; phenyl acetate, phenyl propionate, methyl benzoate, ethyl benzoate, propyl benzoate, And aromatic esters such as n-butyl benzoate.

解離性重合体を溶解させる必要があること、これら解離性重合体等の正孔輸送材料と電子受容性化合物の混合から生じる正孔注入・輸送性材料のカチオンラジカルを溶解する能力が高いことから、好ましくは、エーテル系有機溶媒、及びエステル系有機溶媒が挙げられる。
これらは1種で用いてもよく、2種以上の混合有機溶媒としてもよい。
Because it is necessary to dissolve the dissociative polymer, and the ability to dissolve the cation radical of the hole injection / transport material resulting from the mixture of the hole transport material such as the dissociative polymer and the electron accepting compound is high. Preferably, an ether organic solvent and an ester organic solvent are used.
These may be used alone or as a mixed organic solvent of two or more.

本発明の電荷輸送膜用組成物に含有される有機溶媒として、25℃における蒸気圧が2mmHg以上、好ましくは3mmHg以上、より好ましくは4mmHg以上(但し、上限値は好ましくは10mmHg以下である。)である有機溶媒と、25℃における蒸気圧が2mmHg未満、好ましくは1mmHg以下、より好ましくは0.5mmHg以下である有機溶媒との混合有機溶媒が挙げられる。   As an organic solvent contained in the composition for a charge transport film of the present invention, the vapor pressure at 25 ° C. is 2 mmHg or more, preferably 3 mmHg or more, more preferably 4 mmHg or more (however, the upper limit is preferably 10 mmHg or less). And an organic solvent having a vapor pressure at 25 ° C. of less than 2 mmHg, preferably 1 mmHg or less, more preferably 0.5 mmHg or less.

また、これらの有機溶媒の組成物中の濃度は、通常、10重量%以上、好ましくは30
重量%以上、より好ましくは50%重量以上である。なお、有機溶媒として、前述した有
機溶媒以外にも、必要に応じて、各種の他の有機溶媒を含んでいてもよい。このような他の有機溶媒としては、例えば、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド等のアミド系有機溶媒、ジメチルスルホキシド等が挙げられる。また、レベリング剤や消泡剤等の各種添加剤を含んでいてもよい。
The concentration of these organic solvents in the composition is usually 10% by weight or more, preferably 30%.
% By weight or more, more preferably 50% by weight or more. In addition to the organic solvents described above, various other organic solvents may be included as necessary as the organic solvent. Examples of such other organic solvents include amide organic solvents such as N, N-dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide, and dimethyl sulfoxide. Moreover, various additives, such as a leveling agent and an antifoamer, may be included.

なお、水分は有機電界発光素子の性能劣化、中でも特に連続駆動時の輝度低下を促進する可能性があることが広く知られており、塗膜中に残留する水分をできる限り低減するために、これらの有機溶媒の中でも、25℃における水の溶解度が1重量%以下であるものが好ましく、0.1重量%以下である有機溶媒がより好ましい。また、有機溶媒として、20℃における表面張力が、通常40dyn/cm未満、好ましくは36dyn/cm以下、より好ましくは33dyn/cm以下である有機溶媒が挙げられる。有機溶媒としてはまた、25℃における蒸気圧が10mmHg以下、好ましくは5mmHg以下で、通常0.1mmHg以上の有機溶媒が挙げられる。このような有機溶媒を使用することにより、有機電界発光素子を湿式成膜法により製造するプロセスに好適な、また、解離性重合体の性質に適した組成物を調製することができる。   In addition, it is widely known that moisture may promote deterioration of the performance of the organic electroluminescent element, particularly brightness reduction during continuous driving, in order to reduce moisture remaining in the coating film as much as possible. Among these organic solvents, those having a solubility of water at 25 ° C. of 1% by weight or less are preferable, and organic solvents having a solubility of 0.1% by weight or less are more preferable. Moreover, as an organic solvent, the organic solvent whose surface tension in 20 degreeC is less than 40 dyn / cm normally, Preferably it is 36 dyn / cm or less, More preferably, it is 33 dyn / cm or less. Examples of the organic solvent include organic solvents having a vapor pressure at 25 ° C. of 10 mmHg or less, preferably 5 mmHg or less and usually 0.1 mmHg or more. By using such an organic solvent, it is possible to prepare a composition suitable for a process for producing an organic electroluminescent device by a wet film forming method and suitable for the properties of a dissociative polymer.

[電荷輸送膜用組成物の物性について]
本発明の電荷輸送膜用組成物の粘度は、固形分の濃度に依存するが、通常15mPas以下、好ましくは10mPas以下、さらに好ましくは8mPas以下、また通常2mPas以上、好ましくは3mPas以上、さらに好ましくは5mPas以上である。
この上記範囲内であると、湿式成膜法にて膜形成時に、均一に成膜ができる点で好ましい。
[Physical properties of charge transport film composition]
The viscosity of the composition for a charge transport film of the present invention depends on the concentration of solids, but is usually 15 mPas or less, preferably 10 mPas or less, more preferably 8 mPas or less, and usually 2 mPas or more, preferably 3 mPas or more, more preferably 5 mPas or more.
Within this range, it is preferable in that a film can be uniformly formed during film formation by a wet film formation method.

尚、粘度の測定方法は、回転式粘度測定装置を用いて測定した。通常、粘度は、温度及び測定回転数に依存する。上記値は、測定温度23℃、測定回転数20回転の一定条件で測定での測定値である。
[添加剤]
また、本発明の電荷輸送膜用組成物は、必要に応じ、レベリング剤や消泡剤等の塗布性改良剤などの各種添加剤等を含んでいてもよい。この場合は、有機溶媒としては、解離性重合体と添加剤の双方を0.05重量%以上、好ましくは0.5重量%以上、さらに好ましくは1重量%以上溶解する有機溶媒を使用することが好ましい。
The viscosity was measured using a rotary viscosity measuring device. Usually, the viscosity depends on the temperature and the number of rotations measured. The above values are measured values under measurement conditions of a measurement temperature of 23 ° C. and a measurement rotation number of 20 rotations.
[Additive]
Moreover, the composition for charge transport films of the present invention may contain various additives such as coating improvers such as a leveling agent and an antifoaming agent, if necessary. In this case, as the organic solvent, an organic solvent that dissolves both the dissociative polymer and the additive at 0.05% by weight or more, preferably 0.5% by weight or more, more preferably 1% by weight or more should be used. Is preferred.

<用途>
本発明の電荷輸送膜用組成物は、保存安定性が高く、湿式成膜法で有機層を形成する場合において、均一に成膜可能であり、また工業的観点から不利益を生じさせないため、有機電界発光素子に用いられることが好ましい。
また、本発明における湿式成膜法とは、スピンコート法、ディップコート法、ダイコート法、バーコート法、ブレードコート法、ロールコート法、スプレーコート法、キャピラリーコート法、組成物ジェット法、スクリーン印刷法、グラビア印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷等の有機溶媒を含有する組成物を用いて成膜する方法をいう。パターニングのし易さという点で、ダイコート法、ロールコート法、スプレーコート法、組成物ジェット法、フレキソ印刷法が好ましい。
<Application>
The composition for a charge transport film of the present invention has high storage stability, and when an organic layer is formed by a wet film formation method, it can be formed uniformly and does not cause a disadvantage from an industrial viewpoint. It is preferably used for an organic electroluminescence device.
In addition, the wet film forming method in the present invention is a spin coating method, dip coating method, die coating method, bar coating method, blade coating method, roll coating method, spray coating method, capillary coating method, composition jet method, screen printing. The method of forming into a film using the composition containing organic solvents, such as a printing method, a gravure printing method, a flexographic printing method, and offset printing. From the viewpoint of easy patterning, a die coating method, a roll coating method, a spray coating method, a composition jet method, and a flexographic printing method are preferable.

<電荷輸送膜用組成物の製造方法>
本発明の電荷輸送膜用組成物の製造方法の一例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
特に、本発明の電荷輸送膜用組成物は、以下に記載する方法、特に好ましい方法を組み合わせるなどして用いることにより製造することができる。
<Method for producing composition for charge transport film>
Although an example of the manufacturing method of the composition for charge transport films | membranes of this invention is shown below, this invention is not limited to these.
In particular, the composition for a charge transport film of the present invention can be produced by using a combination of the methods described below, particularly preferable methods.

[1]添加形態・方法
本発明の電荷輸送膜用組成物に含有される、解離性重合体、電子受容性化合物及び有機溶媒を混合する場合、混合する解離性重合体及び電子受容性化合物は、各々独立に、固体であってもよく、また溶液であってもよい。
解離性重合体及び電子受容性化合物を共に溶液状態で混合することが好ましい。
[1] Addition form / method
When mixing the dissociative polymer, the electron accepting compound and the organic solvent contained in the charge transport film composition of the present invention, the dissociating polymer and the electron accepting compound to be mixed are each independently a solid. It may also be a solution.
It is preferable to mix the dissociable polymer and the electron-accepting compound together in a solution state.

この場合、各々の有機溶媒は、本発明の効果を損なわない限り先述した有機溶媒の範囲内であれば、異なる有機溶媒を用いてもよく、また2種以上を混合して用いてもよい。
また、解離性重合体及び電子受容性化合物の何れか一方が固体状態で、何れか一方が溶液状態で混合することが好ましい。この場合、固体の溶解を確認しながら添加できる点で溶液に、固体を入れることが好ましい。
In this case, as long as each organic solvent does not impair the effects of the present invention, different organic solvents may be used as long as they are within the range of the organic solvent described above, or two or more organic solvents may be mixed and used.
Further, it is preferable that either the dissociative polymer or the electron-accepting compound is mixed in a solid state and either one is mixed in a solution state. In this case, it is preferable to add the solid to the solution in that it can be added while confirming the dissolution of the solid.

さらに解離性重合体及び電子受容性化合物が共に固体で、これらを粉砕混合した後に、有機溶媒で溶解することが好ましい。
上記の通り固体で混合する場合、粒径は、通常5cm以下、好ましくは1cm以下、より好ましくは5mm以下、また通常0.5mm以上である。
[2]溶解工程
本発明の電荷輸送膜用組成物の製造方法においては、通常溶解工程を有する。
Furthermore, it is preferable that the dissociative polymer and the electron-accepting compound are both solid, and after these are pulverized and mixed, they are dissolved in an organic solvent.
When mixed as a solid as described above, the particle size is usually 5 cm or less, preferably 1 cm or less, more preferably 5 mm or less, and usually 0.5 mm or more.
[2] Dissolution process
In the manufacturing method of the composition for charge transport films of this invention, it has a melt | dissolution process normally.

溶解工程は、固体を有機溶媒に攪拌し、固体が浮遊していることが目視で確認できなくなるようにする工程をいう。
(溶解条件)
溶解工程における温度は、通常20℃以上、好ましくは40℃以上、また通常有機溶媒の沸点以下、好ましくは有機溶媒の沸点より10℃以上低い温度である。この上限値を上回ると、有機溶媒が一部蒸発し濃度が変化するおそれがあり、またこの下限値を下回ると使用有機溶媒が固化、あるいは溶解度が低下するために所望の濃度が得られないおそれがある。
The dissolution step refers to a step of stirring a solid in an organic solvent so that it cannot be visually confirmed that the solid is floating.
(solubility condition)
The temperature in the dissolving step is usually 20 ° C. or higher, preferably 40 ° C. or higher, and usually lower than the boiling point of the organic solvent, preferably 10 ° C. lower than the boiling point of the organic solvent. If the upper limit is exceeded, the organic solvent may partially evaporate and the concentration may change. If the lower limit is not reached, the organic solvent used may solidify or the solubility may decrease, and the desired concentration may not be obtained. There is.

溶解工程における雰囲気は、本発明の効果を損なわない限りは特に制限はないが、不活性ガスが挙げられる。不活性ガスとしては、例えば、窒素、アルゴン、などが挙げられ、取り扱い容易な点で、窒素が好ましい。
[3]超音波処理・光照射処理・加熱処理
本発明の電荷輸送膜用組成物を得るための製造方法としては、特に、超音波処理、光照射処理、加熱処理の少なくとも一つの処理を含むことが好ましい。
The atmosphere in the dissolution step is not particularly limited as long as the effects of the present invention are not impaired, and examples thereof include an inert gas. As an inert gas, nitrogen, argon, etc. are mentioned, for example, Nitrogen is preferable at the point which is easy to handle.
[3] Ultrasonic treatment, light irradiation treatment, heat treatment
The production method for obtaining the charge transport film composition of the present invention preferably includes at least one of ultrasonic treatment, light irradiation treatment, and heat treatment.

また、処理を行う時期は、本発明の効果を損なわない限り特に制限はなく、溶解工程で行ってもよく、また溶解工程の後に行ってもよい。
尚、これらの処理は、いずれか一種の処理を単独で行ってもよく、また併用して処理を行ってもよい。
(超音波処理)
超音波処理を行う場合、振動子28kHzを用いることが好ましい。
Moreover, there is no restriction | limiting in particular unless the effect of this invention is impaired, the time which performs a process may be performed in a melt | dissolution process, and may be performed after a melt | dissolution process.
In addition, these processes may perform any one kind of process independently, and may perform a process in combination.
(Sonication)
When performing ultrasonic treatment, it is preferable to use a vibrator of 28 kHz.

超音波処理における超音波時間は、通常5分以上、好ましくは10分以上、また通常2時間以下、好ましくは1時間以下である。
この上限値を上回ると、重合体が分解するおそれがあり、またこの下限値を下回ると溶解が不十分となるおそれがある。
(光照射処理)
光照射処理を行う場合、高圧水銀灯を用いることが好ましい。高圧水銀灯は404.7nm、435.8nm、546.1nm、577.0nm、及び579.1nmの輝線スペクトルからなる緑がかった青白色(5,700K)の光源で、253.7nm、365
.0nmの紫外線照射を伴う。
The ultrasonic time in the ultrasonic treatment is usually 5 minutes or longer, preferably 10 minutes or longer, and usually 2 hours or shorter, preferably 1 hour or shorter.
If the upper limit is exceeded, the polymer may be decomposed, and if the lower limit is not reached, dissolution may be insufficient.
(Light irradiation treatment)
When performing the light irradiation treatment, it is preferable to use a high-pressure mercury lamp. The high pressure mercury lamp is a greenish bluish white (5,700 K) light source composed of emission lines of 404.7 nm, 435.8 nm, 546.1 nm, 577.0 nm, and 579.1 nm, and is 253.7 nm, 365
. With 0 nm UV irradiation.

紫外線の照射方法としては、特に限定されるものではないが、上記調製した組成物に直接照射してもよいし、適当な容器に入れて紫外線を照射してもよい。容器が紫外線を透過する場合は容器を密閉した状態で紫外線を照射してもよいし、容器が紫外線を遮蔽する場合は、例えば蓋を開封し、開口部から紫外線を照射してもよい。紫外線照射に使用する装置としては、特に限定はされないが、キセノンランプ、水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、紫外線蛍光灯、D2ランプ、カーボンアーク灯、LEDなどが用いられる。   Although it does not specifically limit as an ultraviolet irradiation method, You may irradiate directly to the prepared composition, and you may irradiate an ultraviolet ray in a suitable container. When the container transmits ultraviolet rays, the container may be irradiated with ultraviolet rays, and when the container shields the ultraviolet rays, for example, the lid may be opened and the ultraviolet rays may be irradiated from the opening. The apparatus used for the ultraviolet irradiation is not particularly limited, and a xenon lamp, a mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a metal halide lamp, an ultraviolet fluorescent lamp, a D2 lamp, a carbon arc lamp, an LED, or the like is used.

また、組成物が溶媒を含む場合の組成物の液温度は、特に限定されるものではないが、通常、常温であるが、さらに冷却したり、加熱したりしてもよい。
紫外線の照射量は、通常10mJ/cm2以上、好ましくは100mJ/cm2以上、より好ましくは600mJ/cm2以上、通常50000mJ/cm2以 下、好ましくは1
0000mJ/cm2以下、より好ましくは5000mJ/cm2以下である。上記範囲内であると、解離性重合体から電子受容性化合物への電子移動度が十分であり、また解離性重合体が劣化しにくくなるため好ましい。
Further, the liquid temperature of the composition when the composition contains a solvent is not particularly limited, but is usually room temperature, but may be further cooled or heated.
The dose of the ultraviolet radiation is typically 10 mJ / cm 2 or more, preferably 100 mJ / cm 2 or more, more preferably 600 mJ / cm 2 or more, usually 50000mJ / cm 2 hereinafter, preferably 1
0000mJ / cm 2 or less, more preferably 5000 mJ / cm 2 or less. Within the above range, it is preferable because the electron mobility from the dissociative polymer to the electron accepting compound is sufficient, and the dissociative polymer is hardly deteriorated.

通常、紫外線は組成物表面で吸収されるため、紫外線照射後に組成物を撹拌して均一にしたり、攪拌しながら紫外線を照射することが好ましい。
紫外線の照射面積としては、組成物の入った容器全体に紫外線が照射されることが好ましいが、組成物の一部を照射してもよい。その場合は、紫外線照射後に組成物を攪拌することが好ましく、組成物を撹拌しながら照射することも好ましい。
Usually, since ultraviolet rays are absorbed on the surface of the composition, it is preferable to stir the composition uniformly after irradiation with ultraviolet rays or to irradiate ultraviolet rays while stirring.
As the irradiation area of the ultraviolet rays, it is preferable that the entire container containing the composition is irradiated with ultraviolet rays, but a part of the composition may be irradiated. In that case, it is preferable to stir the composition after ultraviolet irradiation, and it is also preferable to irradiate the composition while stirring.

(加熱処理)
加熱処理における加熱手段は、本発明の効果を損なわない限り、公知の技術を用いることができる。
具体的には、解離性重合体、電子受容性化合物及び有機溶媒を加熱可能な容器に入れ、攪拌しながら、加熱バスにより温度を調節し、加熱攪拌する方法が挙げられる。加熱バスとしては、水バス、オイルバス等が用いられる。
(Heat treatment)
As the heating means in the heat treatment, a known technique can be used as long as the effects of the present invention are not impaired.
Specifically, a method in which a dissociative polymer, an electron accepting compound, and an organic solvent are placed in a heatable container, the temperature is adjusted with a heating bath while stirring, and the mixture is heated and stirred. A water bath, an oil bath, etc. are used as a heating bath.

また、解離性重合体、電子受容性化合物及び有機溶媒を加熱容器に入れ攪拌した後、一定の温度制御可能な恒温槽内に置くことにより加熱処理できる。安全を考慮した観点から、加熱バスを用いた加熱攪拌による方法が好ましい。
加熱処理における加熱温度は、通常40℃以上、好ましくは80℃以上、また、通常、有機溶媒の沸点以下、好ましくは有機溶媒の沸点より10℃以上低いの温度である。
Moreover, after dissociating a polymer, an electron-accepting compound, and an organic solvent are put into a heating container and stirred, heat treatment can be performed by placing the dissociating polymer, an electron-accepting compound, and an organic solvent in a constant-temperature bath whose temperature can be controlled. From the viewpoint of safety, a method by heating and stirring using a heating bath is preferable.
The heating temperature in the heat treatment is usually 40 ° C. or higher, preferably 80 ° C. or higher, and usually lower than the boiling point of the organic solvent, preferably 10 ° C. lower than the boiling point of the organic solvent.

また、異なる2種の有機溶媒を用いている場合、上限値である沸点は、最も低い沸点の有機溶媒における沸点が基準となる。
この上限値を上回ると、有機溶媒が突沸するおそれがありかつ有機溶媒の蒸発により仕込み時の濃度変化をきたす。またこの下限値を下回ると加熱処理の効果がなく、溶解不十分になるおそれがある。
When two different kinds of organic solvents are used, the boiling point as the upper limit is based on the boiling point of the lowest boiling organic solvent.
If this upper limit is exceeded, there is a risk that the organic solvent will bump, and the concentration of the organic solvent will change due to evaporation of the organic solvent. On the other hand, if the lower limit is not reached, there is no possibility of heat treatment and there is a risk of insufficient dissolution.

加熱処理における加熱時間は、通常1時間以上、好ましくは5時間以上、また通常36時間以下、好ましくは24時間以下である。この上限値を上回ると、有機溶媒が蒸発するおそれがあり、またこの下限値を下回ると溶解が不十分となるおそれがある。
超音波処理、光照射処理又は加熱処理のうち少なくとも何れか一種の処理を行うことで、本発明の電荷輸送膜用組成物を製造できる理由は以下の様に推測される。
The heating time in the heat treatment is usually 1 hour or longer, preferably 5 hours or longer, and usually 36 hours or shorter, preferably 24 hours or shorter. If the upper limit is exceeded, the organic solvent may evaporate, and if the lower limit is not reached, dissolution may be insufficient.
The reason why the charge transport film composition of the present invention can be produced by performing at least one of ultrasonic treatment, light irradiation treatment, and heat treatment is presumed as follows.

超音波処理、光照射処理又は加熱処理の何れか一種の処理を行うことで、解離性重合体
の凝集状態が緩和されることにより、解離性重合体と電子受容性化合物が近接し易くなる。この近接により、解離性重合体は分子内でカチオンラジカル状態となり、アニオンラジカルである電子受容性化合物とイオン対状態となり、ポリマーの凝集や、電子受容性化合物の凝集が生じにくくなり、粒径がミクロンオーダである大きな凝集体を含む割合が小さい電荷輸送膜用組成物が製造できる。
By performing any one of ultrasonic treatment, light irradiation treatment, and heat treatment, the disaggregation state of the dissociative polymer is relaxed, so that the dissociative polymer and the electron-accepting compound are easily brought close to each other. Due to this proximity, the dissociative polymer becomes a cation radical state in the molecule, becomes an ion pair state with the electron accepting compound which is an anion radical, and the aggregation of the polymer and the electron accepting compound is less likely to occur. A composition for a charge transport film having a small proportion containing large aggregates on the order of microns can be produced.

[4]濾過工程
本発明の電荷輸送膜用組成物の製造方法においては、濾過工程を含むことが好ましい。また、本発明における濾過工程は、溶解工程の後に行うことが好ましい。
濾過工程に用いるフィルターの穴は、通常5μm以下、好ましくは0.5μm以下、また通常0.1μm以上である。
[4] Filtration process
In the manufacturing method of the composition for charge transport films of this invention, it is preferable to include a filtration process. Moreover, it is preferable to perform the filtration process in this invention after a melt | dissolution process.
The filter hole used in the filtration step is usually 5 μm or less, preferably 0.5 μm or less, and usually 0.1 μm or more.

この上限値を上回ると、不溶物が混入するおそれがあり、また、この下限値を下回ると濾過ができず目詰まりするおそれがある。
[成膜方法]
前述の如く、有機電界発光素子は、多数の有機化合物からなる層を積層して形成するため、膜質が均一であることが非常に重要である。湿式成膜法で層形成する場合、その材料や、下地の性質によって、スピンコート法、スプレー法などの塗布法や、インクジェット法、スクリーン法などの印刷法等、公知の成膜方法が採用できる。
If the upper limit is exceeded, insolubles may be mixed in, and if the lower limit is not reached, filtration may not be possible and clogging may occur.
[Film formation method]
As described above, since the organic electroluminescent element is formed by laminating a plurality of layers made of organic compounds, it is very important that the film quality is uniform. When a layer is formed by a wet film formation method, a known film formation method such as a coating method such as a spin coating method or a spray method, or a printing method such as an ink jet method or a screen method can be adopted depending on the material and properties of the base. .

湿式成膜法を用いる場合、本発明の電荷輸送膜用組成物を、スピンコート法やディップコート法等の手法により、形成する層の下層に該当する層上に塗布し、乾燥して層を形成する。
塗布後、通常加熱等により電荷輸送膜用組成物の膜を乾燥させる。乾燥させる方法としては、通常、加熱工程が行なわれる。加熱工程において使用する加熱手段の例を挙げると、クリーンオーブン、ホットプレート、赤外線、ハロゲンヒーター、マイクロ波照射などが挙げられる。中でも、膜全体に均等に熱を与えるためには、クリーンオーブン及びホットプレートが好ましい。
In the case of using a wet film forming method, the charge transport film composition of the present invention is applied onto a layer corresponding to the lower layer of the layer to be formed by a technique such as spin coating or dip coating, and dried to form a layer. Form.
After coating, the film of the charge transport film composition is dried by heating or the like. As a drying method, a heating step is usually performed. Examples of the heating means used in the heating step include a clean oven, a hot plate, infrared rays, a halogen heater, microwave irradiation and the like. Among them, a clean oven and a hot plate are preferable in order to uniformly apply heat to the entire film.

加熱工程における加熱温度は、本発明の効果を著しく損なわない限り、電荷輸送膜用組成物に用いた溶媒の沸点以上の温度で加熱することが好ましい。また、層中に前述した解離性基が解離する温度以上の温度で加熱することが好ましい。また、電荷輸送膜用組成物に用いた溶媒が2種類以上含まれている混合溶媒の場合、少なくとも1種類がその溶媒の沸点以上の温度で加熱されるのが好ましい。溶媒の沸点上昇を考慮すると、加熱工程においては、好ましくは120℃以上、好ましくは410℃以下で加熱することが好ましい。   The heating temperature in the heating step is preferably heated at a temperature equal to or higher than the boiling point of the solvent used in the charge transport film composition as long as the effects of the present invention are not significantly impaired. Moreover, it is preferable to heat at the temperature more than the temperature which the dissociative group mentioned above dissociates in a layer. In the case of a mixed solvent containing two or more types of solvents used in the charge transport film composition, at least one type is preferably heated at a temperature equal to or higher than the boiling point of the solvent. In consideration of an increase in the boiling point of the solvent, the heating step is preferably performed at 120 ° C or higher, preferably 410 ° C or lower.

また、加熱の他に、光などの活性エネルギー照射による場合には、超高圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、ハロゲンランプ、赤外ランプ等の紫外・可視・赤外光源を直接用いて照射する方法、あるいは前述の光源を内蔵するマスクアライナ、コンベア型光照射装置を用いて照射する方法などが挙げられる。光以外の活性エネルギー照射では、例えばマグネトロンにより発生させたマイクロ波を照射する装置、いわゆる電子レンジを用いて照射する方法が挙げられる。   In addition to heating, in the case of irradiation with active energy such as light, a method of irradiating directly using an ultraviolet / visible / infrared light source such as an ultrahigh pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a halogen lamp, an infrared lamp, Or the mask aligner incorporating the above-mentioned light source, the method of irradiating using a conveyor type | mold light irradiation apparatus, etc. are mentioned. In active energy irradiation other than light, for example, there is a method of irradiation using a so-called microwave oven that irradiates a microwave generated by a magnetron.

照射時間としては、不溶化反応が充分に起こるために必要な条件を設定することが好ましいが、通常、0.1秒以上、好ましくは10時間以下照射される。
加熱及び光などの活性エネルギー照射は、それぞれ単独、あるいは組み合わせて行ってもよい。組み合わせる場合、実施する順序は特に限定されない。
加熱及び光などの活性エネルギー照射は、実施後に層に含有する水分及び/又は表面に吸着する水分の量を低減するために、窒素ガス雰囲気等の水分を含まない雰囲気で行うことが好ましい。同様の目的で、加熱及び/又は光などの活性エネルギー照射を組み合わせ
て行う場合には、少なくとも発光層の形成直前の工程を窒素ガス雰囲気等の水分を含まない雰囲気で行うことが特に好ましい。
As the irradiation time, it is preferable to set conditions necessary for sufficient insolubilization reaction to occur, but irradiation is usually performed for 0.1 second or longer, preferably 10 hours or shorter.
The irradiation of active energy such as heating and light may be performed alone or in combination. When combined, the order of implementation is not particularly limited.
In order to reduce the amount of moisture contained in the layer and / or moisture adsorbed on the surface after execution, the irradiation of active energy such as heating and light is preferably performed in an atmosphere containing no moisture such as a nitrogen gas atmosphere. For the same purpose, when combined with heating and / or irradiation with active energy such as light, it is particularly preferable to perform at least the process immediately before the formation of the light emitting layer in an atmosphere containing no moisture such as a nitrogen gas atmosphere.

<有機電界発光素子>
本発明の有機電界発光素子は、基板上に、陽極及び陰極、該陽極及び陰極の間に配置された有機層を有する有機電界発光素子で、該有機層の少なくとも一層が、本発明の電荷輸送膜用組成物により形成された層であることを特徴とする。
有機層は1層であっても2層以上が積層されてなるものであってもよい。有機層としては正孔注入層、正孔輸送層、発光層、正孔阻止層、電子輸送層、電子注入層などが挙げられるが、本発明の電荷輸送膜用組成物により形成される層が陽極に隣接された層である有機電界発光素子は、短絡やダークスポットが生じないという効果がある。その為、通常、本発明の電荷輸送膜用組成物により形成された層は、正孔注入層であることが好ましい。また、有機層として、正孔注入層、正孔輸送層、及び発光層を有し、これら全てが湿式成膜法で形成されることが好ましい。また、本発明の有機電界発光素子は、無機層を有していてもよい。
<Organic electroluminescent device>
The organic electroluminescent device of the present invention is an organic electroluminescent device having an anode and a cathode, and an organic layer disposed between the anode and the cathode on a substrate, and at least one of the organic layers has the charge transport of the present invention. It is a layer formed of a film composition.
The organic layer may be a single layer or a laminate of two or more layers. Examples of the organic layer include a hole injection layer, a hole transport layer, a light-emitting layer, a hole blocking layer, an electron transport layer, an electron injection layer, and the like, and a layer formed by the charge transport film composition of the present invention. The organic electroluminescent element which is a layer adjacent to the anode has an effect that no short circuit or dark spot occurs. Therefore, it is usually preferable that the layer formed of the charge transport film composition of the present invention is a hole injection layer. Moreover, it is preferable that it has a positive hole injection layer, a positive hole transport layer, and a light emitting layer as an organic layer, and all these are formed by the wet film-forming method. Moreover, the organic electroluminescent element of this invention may have an inorganic layer.

以下に、本発明の方法で製造される有機電界発光素子の層構成の一例及びその一般的形成方法等について、図1を参照して説明する。
図1は本発明の方法により製造される有機電界発光素子の構造例を示す断面の模式図であり、図1において、1は基板、2は陽極、3は正孔注入層、4は正孔輸送層、5は発光層、6は正孔阻止層、7は電子輸送層、8は電子注入層、9は陰極を各々表す。
Hereinafter, an example of a layer structure of an organic electroluminescence device produced by the method of the present invention, a general formation method thereof, and the like will be described with reference to FIG.
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a structural example of an organic electroluminescent device manufactured by the method of the present invention. In FIG. 1, 1 is a substrate, 2 is an anode, 3 is a hole injection layer, and 4 is a hole. The transport layer, 5 represents a light emitting layer, 6 represents a hole blocking layer, 7 represents an electron transport layer, 8 represents an electron injection layer, and 9 represents a cathode.

なお、このような有機電界発光素子において、陽極と陰極との間の有機層を湿式成膜法で形成する場合は、以下に記載の各層の材料を有機溶媒へ分散又は溶解させて湿式成膜用組成物を作製し、該湿式成膜用組成物を用いて形成すればよい。
[基板]
基板は有機電界発光素子の支持体となるものであり、石英やガラスの板、金属板や金属箔、プラスチックフィルムやシート等が用いられる。特にガラス板や、ポリエステル、ポリメタクリレート、ポリカーボネート、ポリスルホン等の透明な合成樹脂の板が好ましい。合成樹脂基板を使用する場合にはガスバリア性に留意する必要がある。基板のガスバリア性が小さすぎると、基板を通過した外気により有機電界発光素子が劣化することがあるので好ましくない。このため、合成樹脂基板の少なくとも片面に緻密なシリコン酸化膜等を設けてガスバリア性を確保する方法も好ましい方法の一つである。
In addition, in such an organic electroluminescent element, when the organic layer between the anode and the cathode is formed by a wet film forming method, the material of each layer described below is dispersed or dissolved in an organic solvent to form a wet film. A composition for a film may be prepared and formed using the wet film-forming composition.
[substrate]
The substrate serves as a support for the organic electroluminescence device, and quartz or glass plates, metal plates or metal foils, plastic films, sheets, or the like are used. In particular, a glass plate or a transparent synthetic resin plate such as polyester, polymethacrylate, polycarbonate, polysulfone or the like is preferable. When using a synthetic resin substrate, it is necessary to pay attention to gas barrier properties. If the gas barrier property of the substrate is too small, the organic electroluminescent element may be deteriorated by the outside air that has passed through the substrate, which is not preferable. For this reason, a method of providing a gas barrier property by providing a dense silicon oxide film or the like on at least one surface of the synthetic resin substrate is also a preferable method.

[陽極]
陽極は発光層側の層への正孔注入の役割を果たすものである。
この陽極は、通常、アルミニウム、金、銀、ニッケル、パラジウム、白金等の金属、インジウム及び/又はスズの酸化物等の金属酸化物、ヨウ化銅等のハロゲン化金属、カーボンブラック、或いは、ポリ(3−メチルチオフェン)、ポリピロール、ポリアニリン等の導電性高分子等により構成される。
[anode]
The anode plays a role of hole injection into the layer on the light emitting layer side.
This anode is usually made of metal such as aluminum, gold, silver, nickel, palladium, platinum, metal oxide such as indium and / or tin oxide, metal halide such as copper iodide, carbon black, or poly It is composed of conductive polymers such as (3-methylthiophene), polypyrrole and polyaniline.

陽極の形成は通常、スパッタリング法、真空蒸着法等により行われることが多い。また、銀等の金属微粒子、ヨウ化銅等の微粒子、カーボンブラック、導電性の金属酸化物微粒子、導電性高分子微粉末等を用いて陽極を形成する場合には、適当なバインダー樹脂溶液に分散させて、基板上に塗布することにより陽極を形成することもできる。さらに、導電性高分子の場合は、電解重合により直接基板上に薄膜を形成したり、基板上に導電性高分子を塗布して陽極を形成したりすることもできる(Appl.Phys.Lett.,60巻,2711頁,1992年)。   The anode is usually formed by a sputtering method, a vacuum deposition method, or the like. In addition, when forming an anode using fine metal particles such as silver, fine particles such as copper iodide, carbon black, conductive metal oxide fine particles, and conductive polymer fine powder, an appropriate binder resin solution is used. The anode can also be formed by dispersing and coating the substrate. Further, in the case of a conductive polymer, a thin film can be directly formed on a substrate by electrolytic polymerization, or an anode can be formed by applying a conductive polymer on a substrate (Appl. Phys. Lett. , 60, 2711, 1992).

陽極は通常は単層構造であるが、所望により複数の材料からなる積層構造とすることも
可能である。
陽極の厚みは、必要とする透明性により異なる。透明性が必要とされる場合は、可視光の透過率を、通常60%以上、好ましくは80%以上とすることが好ましい。この場合、陽極の厚みは通常5nm以上、好ましくは10nm以上であり、また、通常1000nm以下、好ましくは500nm以下程度である。不透明でよい場合は陽極の厚みは任意であり、陽極は基板と同一でもよい。また、さらには、上記の陽極の上に異なる導電材料を積層することも可能である。
The anode usually has a single-layer structure, but it can also have a laminated structure composed of a plurality of materials if desired.
The thickness of the anode varies depending on the required transparency. When transparency is required, the visible light transmittance is usually 60% or more, preferably 80% or more. In this case, the thickness of the anode is usually 5 nm or more, preferably 10 nm or more, and is usually 1000 nm or less, preferably about 500 nm or less. When opaqueness is acceptable, the thickness of the anode is arbitrary, and the anode may be the same as the substrate. Furthermore, it is also possible to laminate different conductive materials on the anode.

陽極に付着した不純物を除去し、イオン化ポテンシャルを調製して正孔注入性を向上させることを目的に、陽極表面を紫外線(UV)/オゾン処理したり、酸素プラズマ、アルゴンプラズマ処理したりすることは好ましい。
[正孔注入層]
正孔注入層は、陽極から発光層へ正孔を輸送する機能を有する層であり、通常、陽極上に形成される。
For the purpose of removing impurities adhering to the anode and adjusting the ionization potential to improve the hole injection property, the anode surface is treated with ultraviolet (UV) / ozone, oxygen plasma or argon plasma. Is preferred.
[Hole injection layer]
The hole injection layer is a layer having a function of transporting holes from the anode to the light emitting layer, and is usually formed on the anode.

この機能を発現するため、正孔注入層は、本発明の電荷輸送膜用組成物により形成された層であることが好ましい。
(成膜方法)
本発明の電荷輸送膜用組成物を調製後、この組成物を湿式成膜により、正孔注入層の下層に該当する層(通常は、陽極)上に湿式成膜し、乾燥することにより正孔注入層を形成する。
In order to exhibit this function, the hole injection layer is preferably a layer formed of the charge transport film composition of the present invention.
(Film formation method)
After the charge transport film composition of the present invention is prepared, the composition is wet-deposited, wet-deposited on a layer corresponding to the lower layer of the hole injection layer (usually an anode), and dried to obtain a positive charge. A hole injection layer is formed.

湿式成膜における温度は、組成物中に結晶が生じることによる膜の欠損を防ぐため、10℃以上が好ましく、50℃以下が好ましい。
湿式成膜における相対湿度は、本発明の効果を著しく損なわない限り限定されないが、通常0.01ppm以上、また通常80%以下である。
成膜後、通常加熱等により本発明の電荷輸送膜用組成物の膜を乾燥させる。乾燥する方法が加熱である場合、加熱手段は特に制限されないが、例えば、クリーンオーブン、ホットプレート、赤外線、ハロゲンヒーター、マイクロ波照射などが挙げられる。中でも、膜全体に均等に熱を与えるためには、クリーンオーブン及びホットプレートが好ましい。
The temperature in the wet film formation is preferably 10 ° C. or higher, and preferably 50 ° C. or lower, in order to prevent film defects due to the formation of crystals in the composition.
The relative humidity in the wet film formation is not limited as long as the effect of the present invention is not significantly impaired, but is usually 0.01 ppm or more and usually 80% or less.
After film formation, the film of the composition for charge transport film of the present invention is dried by heating or the like. When the drying method is heating, the heating means is not particularly limited, and examples thereof include a clean oven, a hot plate, an infrared ray, a halogen heater, and microwave irradiation. Among them, a clean oven and a hot plate are preferable in order to uniformly apply heat to the entire film.

また、加熱温度は、本発明の効果を著しく損なわない限り、本発明の電荷輸送膜用組成物に用いた有機溶媒の沸点以上の温度で加熱することが好ましい。また、本発明の電荷輸送膜用組成物に用いる有機溶媒が2種類以上含まれている混合有機溶媒の場合、少なくとも1種類がその有機溶媒の沸点以上の温度で加熱されるのが好ましい。有機溶媒の沸点上昇を考慮すると、加熱工程においては、好ましくは120℃以上、好ましくは410℃以下で加熱することが好ましい。   Moreover, as for heating temperature, unless the effect of this invention is impaired remarkably, it is preferable to heat at the temperature more than the boiling point of the organic solvent used for the composition for charge transport films of this invention. In the case of a mixed organic solvent containing two or more organic solvents used in the charge transport film composition of the present invention, it is preferable that at least one kind is heated at a temperature equal to or higher than the boiling point of the organic solvent. In consideration of an increase in the boiling point of the organic solvent, the heating step is preferably performed at 120 ° C. or higher, preferably 410 ° C. or lower.

加熱温度が本発明の電荷輸送膜用組成物の有機溶媒の沸点以上であり、かつ湿式成膜により形成された膜が十分に不溶化されれば、加熱時間は特に制限されないが、好ましくは10秒以上、また通常180分以下である。上記範囲内であると、均一な膜が形成される傾向があり好ましい。加熱は2回に分けて行ってもよい。
上記の方法で形成した膜厚は、通常1nm以上、好ましくは5nm以上、また、通常1000nm以下、好ましくは500nm以下である。
The heating time is not particularly limited as long as the heating temperature is equal to or higher than the boiling point of the organic solvent of the composition for charge transport film of the present invention and the film formed by wet film formation is sufficiently insolubilized, but preferably 10 seconds. Above, and usually 180 minutes or less. Within the above range, a uniform film tends to be formed, which is preferable. Heating may be performed in two steps.
The film thickness formed by the above method is usually 1 nm or more, preferably 5 nm or more, and usually 1000 nm or less, preferably 500 nm or less.

[正孔輸送層]
本発明の有機電界発光素子は正孔輸送層を有することが好ましい。
本発明に係る正孔輸送層の形成方法は特に制限はないが、ダークスポット低減の観点から正孔輸送層を湿式成膜により形成することが好ましい。
正孔輸送層は、図1に示す構成の有機電界発光素子の場合は正孔注入層の上に形成する
ことができる。
[Hole transport layer]
The organic electroluminescent element of the present invention preferably has a hole transport layer.
The method for forming the hole transport layer according to the present invention is not particularly limited, but the hole transport layer is preferably formed by wet film formation from the viewpoint of reducing dark spots.
In the case of the organic electroluminescence device having the configuration shown in FIG. 1, the hole transport layer can be formed on the hole injection layer.

正孔輸送層に利用できる材料としては、正孔輸送性が高く、かつ、注入された正孔を効率よく輸送することができる材料であることが好ましい。そのために、イオン化ポテンシャルが小さく、可視光の光に対して透明性が高く、正孔移動度が大きく、安定性に優れ、トラップとなる不純物が製造時や使用時に発生しにくいことが好ましい。また、多くの場合発光層に接するため、発光層からの発光を消光したり、発光層との間でエキサイプレックスを形成して効率を低下させたりしないことが好ましい。   The material that can be used for the hole transport layer is preferably a material that has a high hole transport property and can efficiently transport the injected holes. Therefore, it is preferable that the ionization potential is small, the transparency to visible light is high, the hole mobility is large, the stability is high, and impurities that become traps are not easily generated during manufacturing or use. In many cases, it is in contact with the light-emitting layer, so it is preferable not to quench the light emitted from the light-emitting layer or reduce the efficiency by forming an exciplex with the light-emitting layer.

このような正孔輸送層の材料としては、従来正孔輸送層の材料として用いられている材料であればよい。例えば、本発明の電荷輸送膜用組成物に含有される正孔輸送性化合物として例示したものが挙げられる。また、4,4'−ビス[N−(1−ナフチル)−N−フ
ェニルアミノ]ビフェニルで代表される2個以上の3級アミンを含み2個以上の縮合芳香族環が窒素原子に置換した芳香族ジアミン(特開平5−234681号公報)、4,4'
,4''−トリス( 1−ナフチルフェニルアミノ)トリフェニルアミン等のスターバース
ト構造を有する芳香族アミン化合物(J.Lumin.,72−74巻、985頁、1997年)、トリフェニルアミンの四量体から成る芳香族アミン化合物(Chem.Commun.,2175頁、1996年)、2,2',7,7'−テトラキス−(ジフェニルアミノ)−9,9'−スピロビフルオレン等のスピロ化合物(Synth.Metals,
91巻、209頁、1997年)、4,4'−N,N'−ジカルバゾールビフェニルなどのカルバゾール誘導体などが挙げられる。また、例えばポリビニルカルバゾール、ポリビニルトリフェニルアミン(特開平7−53953号公報)、テトラフェニルベンジジンを含有するポリアリーレンエーテルサルホン(Polym.Adv.Tech.,7巻、33頁、1996年)等が挙げられる。
As a material for such a hole transport layer, any material that has been conventionally used as a material for a hole transport layer may be used. For example, what was illustrated as a hole transportable compound contained in the composition for charge transport films of this invention is mentioned. In addition, two or more condensed aromatic rings including two or more tertiary amines represented by 4,4′-bis [N- (1-naphthyl) -N-phenylamino] biphenyl are substituted with nitrogen atoms. Aromatic diamine (Japanese Patent Laid-Open No. 5-234681), 4,4 ′
, 4 ″ -tris (1-naphthylphenylamino) triphenylamine and other aromatic amine compounds having a starburst structure (J. Lumin., 72-74, 985, 1997), triphenylamine Spiro compounds such as aromatic amine compounds (Chem. Commun., 2175, 1996), 2,2 ′, 7,7′-tetrakis- (diphenylamino) -9,9′-spirobifluorene (Synth. Metals,
91, 209 (1997), carbazole derivatives such as 4,4′-N, N′-dicarbazolebiphenyl, and the like. Further, for example, polyvinyl carbazole, polyvinyl triphenylamine (Japanese Patent Laid-Open No. 7-53953), polyarylene ether sulfone (Polym. Adv. Tech., 7, 33, 1996) containing tetraphenylbenzidine, etc. Can be mentioned.

湿式成膜法で正孔輸送層を形成する場合は、正孔輸送層形成用組成物を調製した後、成膜、加熱乾燥させる。正孔輸送層形成用組成物には、正孔輸送性化合物の他、有機溶媒を含有する。有機溶媒は本発明の電荷輸送膜用組成物に用いたものと同様である。また、成膜条件、加熱乾燥条件等も正孔注入層形成時と同様である。
また、真空蒸着法により正孔輸送層を形成する場合の成膜条件等は下記の通りである。
In the case of forming a hole transport layer by a wet film formation method, a composition for forming a hole transport layer is prepared, followed by film formation and heat drying. The composition for forming a hole transport layer contains an organic solvent in addition to the hole transport compound. The organic solvent is the same as that used in the charge transport film composition of the present invention. The film forming conditions, heat drying conditions, and the like are the same as in forming the hole injection layer.
The film formation conditions and the like for forming the hole transport layer by vacuum vapor deposition are as follows.

(真空蒸着法による正孔輸送層の形成)
真空蒸着により正孔輸送層を形成する場合には、正孔輸送層の構成材料(前述の正孔輸送性化合物、電子受容性化合物等)の1種または2種以上を真空容器内に設置されたるつぼに入れ(2種以上の材料を用いる場合は各々のるつぼに入れ)、真空容器内を適当な真空ポンプで10−4Pa程度まで排気した後、るつぼを加熱して(2種以上の材料を用いる場合は各々のるつぼを加熱して)、蒸発量を制御して蒸発させ(2種以上の材料を用いる場合は各々独立に蒸発量を制御して蒸発させ)、るつぼと向き合って置かれた基板の陽極上に正孔輸送層を形成させる。なお、2種以上の材料を用いる場合は、それらの混合物をるつぼに入れ、加熱、蒸発させて正孔輸送層を形成することもできる。
(Formation of hole transport layer by vacuum evaporation)
When forming the hole transport layer by vacuum deposition, one or more of the constituent materials of the hole transport layer (the aforementioned hole transport compound, electron accepting compound, etc.) are placed in a vacuum vessel. Put in crucibles (in case of using two or more kinds of materials, put them in each crucible), evacuate the inside of the vacuum vessel to about 10 −4 Pa with a suitable vacuum pump, and then heat the crucible (two or more kinds) When using materials, heat each crucible) and evaporate by controlling the amount of evaporation (when using two or more materials, evaporate by independently controlling the amount of evaporation) and place it facing the crucible. A hole transport layer is formed on the anode of the substrate. In addition, when using 2 or more types of materials, those hole mixtures can also be put into a crucible, and it can heat and evaporate and can form a positive hole transport layer.

蒸着時の真空度は、本発明の効果を著しく損なわない限り限定されないが、通常0.1×10−6Torr(0.13×10−4Pa)以上、通常9.0×10−6Torr(12.0×10−4Pa)以下である。蒸着速度は、本発明の効果を著しく損なわない限り限定されないが、通常0.1Å/秒以上、通常5.0Å/秒以下である。蒸着時の成膜温度は、本発明の効果を著しく損なわない限り限定されないが、好ましくは10℃以上で、好ましくは50℃以下で行われる。 The degree of vacuum at the time of vapor deposition is not limited as long as the effect of the present invention is not significantly impaired, but is usually 0.1 × 10 −6 Torr (0.13 × 10 −4 Pa) or more, usually 9.0 × 10 −6 Torr. (12.0 × 10 −4 Pa) or less. The deposition rate is not limited as long as the effect of the present invention is not significantly impaired, but is usually 0.1 Å / second or more and usually 5.0 Å / second or less. The film forming temperature at the time of vapor deposition is not limited as long as the effect of the present invention is not significantly impaired, but is preferably 10 ° C. or higher, preferably 50 ° C. or lower.

正孔輸送層は、上記正孔輸送性化合物の他、各種の発光材料、電子輸送性化合物、バインダー樹脂、塗布性改良剤などを含有していてもよい。
正孔輸送層は架橋性化合物を架橋して形成される層であってもよい。架橋性化合物は、後述する架橋性基を有する化合物であって、架橋することにより網目状芳香族アミン系ポリマーを形成する。架橋性化合物は、モノマー、オリゴマー、ポリマーのいずれであってもよく、中でも芳香族アミン系ポリマーが好ましい。架橋性化合物は1種のみを有していてもよく、2種以上を任意の組み合わせ及び比率で有していてもよい。
The hole transport layer may contain various light emitting materials, electron transport compounds, binder resins, coatability improvers, and the like in addition to the hole transport compound.
The hole transport layer may be a layer formed by crosslinking a crosslinkable compound. The crosslinkable compound is a compound having a crosslinkable group, which will be described later, and forms a network-like aromatic amine-based polymer by crosslinking. The crosslinkable compound may be any of a monomer, an oligomer, and a polymer, and among them, an aromatic amine-based polymer is preferable. The crosslinkable compound may have only 1 type, and may have 2 or more types by arbitrary combinations and ratios.

また、架橋性基とは近傍に位置するほかの分子の同一又は異なる基と反応して、新規な化学結合を生成する基のことをいう。例えば、熱及び/又は活性エネルギー線の照射により、近傍に位置する他の分子の同一又は異なる基と反応して、新規な化学結合を生成する基が挙げられる。
架橋性基の例を挙げると、オキセタン基、エポキシ基などの環状エーテル;ビニル基、トリフルオロビニル基、スチリル基、アクリル基、メタクリロイル基、シンナモイル基等の不飽和二重結合;ベンゾシクロブタン基などが挙げられる。
Moreover, a crosslinkable group means the group which reacts with the same or different group of the other molecule | numerator located in the vicinity, and produces | generates a novel chemical bond. For example, the group which reacts with the same or different group of the other molecule | numerator located in the vicinity by irradiation of a heat | fever and / or active energy ray, and produces | generates a novel chemical bond is mentioned.
Examples of crosslinkable groups include cyclic ethers such as oxetane groups and epoxy groups; unsaturated double bonds such as vinyl groups, trifluorovinyl groups, styryl groups, acrylic groups, methacryloyl groups, cinnamoyl groups; benzocyclobutane groups, etc. Is mentioned.

架橋性基を有するモノマー、オリゴマー又はポリマーが有する架橋性基の数に特に制限はないが、電荷輸送ユニットあたり通常2.0未満、好ましくは0.8以下、より好ましくは0.5以下となる数が好ましい。架橋性化合物の比誘電率を好適な範囲に納めるためである。また、架橋性基の数が多すぎると、反応活性種が発生し、他の材料に悪影響を与える可能性があるためである。ここで、電荷輸送ユニットとは、網目状芳香族アミン系ポリマーを形成する材料がモノマーの場合、モノマーそのものであり、架橋性基をのぞいた骨格(主骨格)のことを示す。他種類のモノマーを混合する場合においても、各々のモノマーの主骨格のことを示す。網目状ポリマーを形成する材料が芳香族アミン系ポリマーの場合、有機化学的に共役がとぎれる構造の場合は、その繰り返しの構造を電荷輸送ユニットとする。また、広く共役が連なっている構造の場合には、電荷輸送性を示す最小繰り返し構造は、モノマーの構造をである。例えば、ナフタレン、トリフェニレン、フェナントレン、テトラセン、クリセン、ピレン、ペリレンなどの多環系芳香族、フルオレン、トリフェニレン、カルバゾール、トリアリールアミン、テトラアリールベンジジン、1,4−ビス(ジアリールアミノ)ベンゼンなどが挙げられる。   There is no particular limitation on the number of crosslinkable groups that the monomer, oligomer or polymer having a crosslinkable group has, but it is usually less than 2.0, preferably 0.8 or less, more preferably 0.5 or less per charge transport unit. Number is preferred. This is to keep the relative dielectric constant of the crosslinkable compound within a suitable range. Moreover, if the number of crosslinkable groups is too large, reactive active species are generated, which may adversely affect other materials. Here, when the material forming the network-like aromatic amine polymer is a monomer, the charge transport unit is a monomer itself, and indicates a skeleton excluding a crosslinkable group (main skeleton). Even when other types of monomers are mixed, the main skeleton of each monomer is shown. When the material forming the network polymer is an aromatic amine-based polymer, in the case of a structure in which conjugation is broken organically, the repeated structure is used as a charge transport unit. Further, in the case of a structure in which conjugation is widely linked, the minimum repeating structure exhibiting charge transporting property is the structure of a monomer. Examples include polycyclic aromatics such as naphthalene, triphenylene, phenanthrene, tetracene, chrysene, pyrene, and perylene, fluorene, triphenylene, carbazole, triarylamine, tetraarylbenzidine, 1,4-bis (diarylamino) benzene, and the like. It is done.

さらに、架橋性化合物としては、架橋性基を有する正孔輸送性化合物を用いることが好ましい。正孔輸送性化合物の例を挙げると、ピリジン誘導体、ピラジン誘導体、ピリミジン誘導体、トリアジン誘導体、キノリン誘導体、フェナントロリン誘導体、カルバゾール誘導体、フタロシアニン誘導体、ポルフィリン誘導体等の含窒素芳香族化合物誘導体;トリフェニルアミン誘導体;シロール誘導体;オリゴチオフェン誘導体、縮合多環芳香族誘導体、金属錯体などが挙げられる。その中でも、ピリジン誘導体、ピラジン誘導体、ピリミジン誘導体、トリアジン誘導体、キノリン誘導体、フェナントロリン誘導体、カルバゾール誘導体等の含窒素芳香族誘導体;トリフェニルアミン誘導体、シロール誘導体、縮合多環芳香族誘導体、金属錯体などが好ましく、特に、トリフェニルアミン誘導体がより好ましい。架橋性化合物の分子量は、通常5000以下、好ましくは2500以下であり、また好ましくは300以上、さらに好ましくは500以上である。   Furthermore, it is preferable to use a hole transporting compound having a crosslinkable group as the crosslinkable compound. Examples of hole transporting compounds include nitrogen-containing aromatic compound derivatives such as pyridine derivatives, pyrazine derivatives, pyrimidine derivatives, triazine derivatives, quinoline derivatives, phenanthroline derivatives, carbazole derivatives, phthalocyanine derivatives, porphyrin derivatives; triphenylamine derivatives Silole derivatives; oligothiophene derivatives, condensed polycyclic aromatic derivatives, metal complexes and the like. Among them, nitrogen-containing aromatic derivatives such as pyridine derivatives, pyrazine derivatives, pyrimidine derivatives, triazine derivatives, quinoline derivatives, phenanthroline derivatives, carbazole derivatives; triphenylamine derivatives, silole derivatives, condensed polycyclic aromatic derivatives, metal complexes, etc. Particularly preferred are triphenylamine derivatives. The molecular weight of the crosslinkable compound is usually 5000 or less, preferably 2500 or less, preferably 300 or more, more preferably 500 or more.

架橋性化合物を架橋して正孔輸送層を形成するには、通常、架橋性化合物を有機溶媒に溶解または分散した塗布液(正孔輸送層形成用組成物)を調製して、湿式成膜により成膜して架橋させる。
塗布液には、架橋性化合物の他、架橋反応を促進する添加物を含んでいてもよい。架橋反応を促進する添加物の例を挙げると、アルキルフェノン化合物、アシルホスフィンオキサイド化合物、メタロセン化合物、オキシムエステル化合物、アゾ化合物、オニウム塩等の架橋開始剤及び架橋促進剤;縮合多環炭化水素、ポルフィリン化合物、ジアリールケトン化合物等の光増感剤;などが挙げられる。また、さらに、レベリング剤、消泡剤等の塗布性改良剤;電子受容性化合物:バインダー樹脂、などを含有していてもよい。
In order to form a hole transport layer by crosslinking a crosslinkable compound, a coating liquid (composition for forming a hole transport layer) in which a crosslinkable compound is dissolved or dispersed in an organic solvent is usually prepared, and wet film formation is performed. To form a film and crosslink.
In addition to the crosslinkable compound, the coating solution may contain an additive that accelerates the crosslinking reaction. Examples of additives that accelerate the crosslinking reaction include: crosslinking initiators and crosslinking accelerators such as alkylphenone compounds, acylphosphine oxide compounds, metallocene compounds, oxime ester compounds, azo compounds, onium salts; condensed polycyclic hydrocarbons; And photosensitizers such as porphyrin compounds and diaryl ketone compounds. Further, it may contain a coating property improving agent such as a leveling agent and an antifoaming agent; an electron accepting compound: a binder resin, and the like.

塗布液に用いられる有機溶媒は、前記正孔注入層を形成するための有機溶媒として例示したものと同様である。塗布液は、架橋性化合物を通常0.01重量%以上、好ましくは0.05重量%以上、さらに好ましくは0.1重量%以上、通常50重量%以下、好ましくは20重量%以下、さらに好ましくは10重量%以下含有する。
塗布液を下層上に成膜後、加熱及び/または活性エネルギー線照射により、架橋性化合物を架橋させて網目状高分子化する。成膜後の加熱の手法は特に限定されないが、例としては加熱乾燥、減圧乾燥等が挙げられる。加熱乾燥の場合の条件としては、通常120℃以上、好ましくは400℃以下に成膜された層を加熱する。加熱時間としては、通常1分以上、好ましくは24時間以下である。加熱手段としては特に限定されないが、成膜された層を有する積層体をホットプレート上に載せたり、オーブン内で加熱するなどの手段が用いられる。例えば、ホットプレート上で120℃以上、1分間以上加熱する等の条件を用いることができる。
The organic solvent used for the coating solution is the same as that exemplified as the organic solvent for forming the hole injection layer. In the coating solution, the crosslinkable compound is usually 0.01% by weight or more, preferably 0.05% by weight or more, more preferably 0.1% by weight or more, usually 50% by weight or less, preferably 20% by weight or less, more preferably. Contains 10% by weight or less.
After forming the coating solution on the lower layer, the crosslinkable compound is crosslinked to form a network polymer by heating and / or irradiation with active energy rays. The heating method after film formation is not particularly limited, and examples thereof include heat drying and reduced pressure drying. As conditions for the heat drying, the layer formed at 120 ° C. or higher, preferably 400 ° C. or lower is heated. The heating time is usually 1 minute or longer, preferably 24 hours or shorter. The heating means is not particularly limited, and means such as placing a laminated body having a deposited layer on a hot plate or heating in an oven is used. For example, conditions such as heating on a hot plate at 120 ° C. or more for 1 minute or more can be used.

活性エネルギー線照射による場合には、超高圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、ハロゲンランプ、赤外ランプ等の紫外・可視・赤外光源を直接用いて照射する方法、あるいは前述の光源を内蔵するマスクアライナ、コンベア型光照射装置を用いて照射する方法などが挙げられる。光以外の活性エネルギー線照射では、例えばマグネトロンにより発生させたマイクロ波を照射する装置、いわゆる電子レンジを用いて照射する方法が挙げられる。照射時間としては、膜の溶解性を低下させるために必要な条件を設定することが好ましいが、通常、0.1秒以上、好ましくは10時間以下照射される。   In the case of active energy ray irradiation, a method of direct irradiation using an ultraviolet, visible, or infrared light source such as an ultra-high pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a halogen lamp, or an infrared lamp, or a mask aligner incorporating the aforementioned light source And a method of irradiating using a conveyor type light irradiation device. In active energy ray irradiation other than light, for example, there is a method of irradiation using a device that irradiates a microwave generated by a magnetron, a so-called microwave oven. As the irradiation time, it is preferable to set conditions necessary for reducing the solubility of the film, but irradiation is usually performed for 0.1 seconds or longer, preferably 10 hours or shorter.

加熱及び活性エネルギー線照射は、各々単独、あるいは組み合わせて行ってもよい。組み合わせる場合、実施する順序は特に限定されない。
加熱及び活性エネルギー線照射は、実施後に層に含有する水分及び/または表面に吸着する水分の量を低減するために、窒素ガス雰囲気等の水分を含まない雰囲気で行うことが好ましい。同様の目的で、加熱及び/または活性エネルギー線照射を組み合わせて行う場合には、少なくとも発光層の形成直前の工程を窒素ガス雰囲気等の水分を含まない雰囲気で行うことが特に好ましい。
Heating and active energy ray irradiation may be performed alone or in combination. When combined, the order of implementation is not particularly limited.
Heating and active energy ray irradiation are preferably performed in an atmosphere containing no moisture such as a nitrogen gas atmosphere in order to reduce the amount of moisture contained in the layer and / or moisture adsorbed on the surface after implementation. For the same purpose, when combined with heating and / or active energy ray irradiation, it is particularly preferable to perform at least the step immediately before the formation of the light emitting layer in an atmosphere containing no moisture such as a nitrogen gas atmosphere.

正孔輸送層の膜厚は、通常5nm以上、好ましくは10nm以上であり、また通常300nm以下、好ましくは100nm以下である。
[発光層]
正孔注入層の上、又は正孔輸送層を設けた場合には正孔輸送層の上には発光層が設けられる。発光層は、電界を与えられた電極間において、陽極から注入された正孔と、陰極から注入された電子との再結合により励起されて、主たる発光源となる層である。
The thickness of the hole transport layer is usually 5 nm or more, preferably 10 nm or more, and usually 300 nm or less, preferably 100 nm or less.
[Light emitting layer]
When a hole injection layer is provided on the hole injection layer or a hole transport layer, a light emitting layer is provided on the hole transport layer. The light emitting layer is a layer which is excited by recombination of holes injected from the anode and electrons injected from the cathode between the electrodes to which an electric field is applied, and becomes a main light emitting source.

<発光層の材料>
発光層は、その構成材料として、少なくとも、発光の性質を有する材料(発光材料)を含有するとともに、好ましくは、正孔移動の性質を有する化合物(正孔輸送材料)、あるいは、電子移動の性質を有する化合物(電子輸送材料)を含有する。発光材料については特に限定はなく、所望の発光波長で発光し、発光効率が良好である物質を用いればよい。また、電荷輸送材料を2成分以上含有していることが好ましい。更に、発光層は、本発明の効果を著しく損なわない範囲で、その他の成分を含有していてもよい。なお、湿式成膜法で発光層を形成する場合は、何れもモノマー量の材料を使用することが好ましい。
<Light emitting layer material>
The light emitting layer contains at least a material having a light emitting property (light emitting material) as a constituent material thereof, and preferably a compound having a hole moving property (hole transporting material) or an electron moving property. The compound (electron transport material) which has this. There is no particular limitation on the light-emitting material, and a material that emits light at a desired light emission wavelength and has favorable light emission efficiency may be used. Moreover, it is preferable to contain two or more charge transport materials. Furthermore, the light emitting layer may contain other components as long as the effects of the present invention are not significantly impaired. In addition, when forming a light emitting layer with a wet film-forming method, it is preferable to use the material of a monomer amount in any case.

(発光材料)
発光材料としては、任意の公知の材料を適用可能である。例えば、蛍光発光材料であってもよく、燐光発光材料であってもよいが、内部量子効率の観点から、好ましくは燐光発光材料である。
なお、溶媒への溶解性を向上させる目的で、発光材料の分子の対称性や剛性を低下させたり、或いはアルキル基などの親油性置換基を導入したりすることが好ましい。
(Luminescent material)
Any known material can be applied as the light emitting material. For example, a fluorescent material or a phosphorescent material may be used, but a phosphorescent material is preferable from the viewpoint of internal quantum efficiency.
For the purpose of improving the solubility in a solvent, it is preferable to reduce the symmetry and rigidity of the molecules of the luminescent material or introduce a lipophilic substituent such as an alkyl group.

以下、発光材料のうち蛍光色素の例を挙げるが、蛍光色素は以下の例示物に限定されるものではない。
青色発光を与える蛍光色素(青色蛍光色素)としては、例えば、ナフタレン、ペリレン、ピレン、アントラセン、クマリン、クリセン、p−ビス(2−フェニルエテニル)ベンゼン及びそれらの誘導体等が挙げられる。
Hereinafter, although the example of a fluorescent dye is mentioned among light emitting materials, a fluorescent dye is not limited to the following illustrations.
Examples of fluorescent dyes that give blue light emission (blue fluorescent dyes) include naphthalene, perylene, pyrene, anthracene, coumarin, chrysene, p-bis (2-phenylethenyl) benzene, and derivatives thereof.

緑色発光を与える蛍光色素(緑色蛍光色素)としては、例えば、キナクリドン誘導体、クマリン誘導体、Al(CNO)などのアルミニウム錯体等が挙げられる。
黄色発光を与える蛍光色素(黄色蛍光色素)としては、例えば、ルブレン、ペリミドン誘導体等が挙げられる。
赤色発光を与える蛍光色素(赤色蛍光色素)としては、例えば、DCM(4−(dicyanomethylene)−2−methyl−6−(p−dimethylaminostyryl)−4H−pyran)系化合物、ベンゾピラン誘導体、ローダミン誘導体、ベンゾチオキサンテン誘導体、アザベンゾチオキサンテン等が挙げられる。
Examples of fluorescent dyes that give green light emission (green fluorescent dyes) include quinacridone derivatives, coumarin derivatives, and aluminum complexes such as Al (C 9 H 6 NO) 3 .
Examples of fluorescent dyes that give yellow light (yellow fluorescent dyes) include rubrene and perimidone derivatives.
Examples of fluorescent dyes that give red luminescence (red fluorescent dyes) include DCM (4- (dicyanomethylene) -2-methyl-6- (p-dimethylaminostyryl) -4H-pyran) compounds, benzopyran derivatives, rhodamine derivatives, benzoates. Examples thereof include thioxanthene derivatives and azabenzothioxanthene.

燐光発光材料としては、例えば、長周期型周期表(以下、特に断り書きの無い限り「周期表」という場合には、長周期型周期表を指すものとする。)第7〜11族から選ばれる金属を含む有機金属錯体が挙げられる。
周期表第7〜11族から選ばれる金属として、好ましくは、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、銀、レニウム、オスミウム、イリジウム、白金、金等が挙げられる。
As the phosphorescent material, for example, a long-period type periodic table (hereinafter referred to as a long-period type periodic table when referred to as “periodic table” unless otherwise specified) is selected from the seventh to eleventh groups. And an organometallic complex containing a metal.
Preferred examples of the metal selected from Groups 7 to 11 of the periodic table include ruthenium, rhodium, palladium, silver, rhenium, osmium, iridium, platinum, and gold.

錯体の配位子としては、(ヘテロ)アリールピリジン配位子、(ヘテロ)アリールピラゾール配位子などの(ヘテロ)アリール基とピリジン、ピラゾール、フェナントロリンなどが連結した配位子が好ましく、特にフェニルピリジン配位子、フェニルピラゾール配位子が好ましい。ここで、(ヘテロ)アリールとは、アリール基またはヘテロアリール基を表す。   As the ligand of the complex, a ligand in which a (hetero) aryl group such as a (hetero) arylpyridine ligand or a (hetero) arylpyrazole ligand and a pyridine, pyrazole, phenanthroline, or the like is connected is preferable. A pyridine ligand and a phenylpyrazole ligand are preferable. Here, (hetero) aryl represents an aryl group or a heteroaryl group.

燐光発光材料として、具体的には、トリス(2−フェニルピリジン)イリジウム、トリス(2−フェニルピリジン)ルテニウム、トリス(2−フェニルピリジン)パラジウム、ビス(2−フェニルピリジン)白金、トリス(2−フェニルピリジン)オスミウム、トリス(2−フェニルピリジン)レニウム、オクタエチル白金ポルフィリン、オクタフェニル白金ポルフィリン、オクタエチルパラジウムポルフィリン、オクタフェニルパラジウムポルフィリン等が挙げられる。   Specific examples of the phosphorescent material include tris (2-phenylpyridine) iridium, tris (2-phenylpyridine) ruthenium, tris (2-phenylpyridine) palladium, bis (2-phenylpyridine) platinum, tris (2- Phenylpyridine) osmium, tris (2-phenylpyridine) rhenium, octaethyl platinum porphyrin, octaphenyl platinum porphyrin, octaethyl palladium porphyrin, octaphenyl palladium porphyrin, and the like.

発光材料として用いる化合物の分子量は、本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、通常10000以下、好ましくは5000以下、より好ましくは4000以下、更に好ましくは3000以下、また、通常100以上、好ましくは200以上、より好ましくは300以上、更に好ましくは400以上の範囲である。発光材料の分子量が小さ過ぎると、耐熱性が著しく低下したり、ガス発生の原因となったり、膜を形成した際の膜質の低下を招いたり、或いはマイグレーションなどによる有機電界発光素子のモルフォロジー変化を来したりする場合がある。一方、発光材料の分子量が大き過ぎると、発光材料の精製が困難となってしまったり、溶媒に溶解させる際に時間を要したりする傾向がある。   The molecular weight of the compound used as the light emitting material is arbitrary as long as the effect of the present invention is not significantly impaired, but is usually 10,000 or less, preferably 5000 or less, more preferably 4000 or less, still more preferably 3000 or less, and usually 100 or more, Preferably it is 200 or more, More preferably, it is 300 or more, More preferably, it is the range of 400 or more. If the molecular weight of the luminescent material is too small, the heat resistance will be significantly reduced, gas generation will be caused, the film quality will be reduced when the film is formed, or the morphology of the organic electroluminescent element will be changed due to migration, etc. Sometimes come. On the other hand, if the molecular weight of the luminescent material is too large, it tends to be difficult to purify the luminescent material, or it may take time to dissolve in the solvent.

なお、上述した発光材料は、いずれか1種のみを用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。
発光層における発光材料の割合は、本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、通常0.05重量%以上、好ましくは0.3重量%以上、より好ましくは0.5重量%
以上、また、通常35重量%以下、好ましくは25重量%以下、更に好ましくは20重量%以下である。発光材料が少なすぎると発光ムラを生じる可能性があり、多すぎると発光効率が低下する可能性がある。なお、2種以上の発光材料を併用する場合には、これらの合計の含有量が上記範囲に含まれるようにする。
In addition, any 1 type may be used for the luminescent material mentioned above, and 2 or more types may be used together by arbitrary combinations and a ratio.
The proportion of the light emitting material in the light emitting layer is arbitrary as long as the effect of the present invention is not significantly impaired, but is usually 0.05% by weight or more, preferably 0.3% by weight or more, more preferably 0.5% by weight.
In addition, it is usually 35% by weight or less, preferably 25% by weight or less, and more preferably 20% by weight or less. If the amount of the light emitting material is too small, uneven light emission may occur. If the amount is too large, the light emission efficiency may be reduced. In addition, when using together 2 or more types of luminescent material, it is made for the total content of these to be contained in the said range.

(正孔輸送材料)
発光層には、その構成材料として、正孔輸送材料を含有させてもよい。ここで、正孔輸送材料のうち、モノマー量の正孔輸送材料の例としては、前述の正孔注入層における(モノマー量の正孔輸送材料)として例示した各種の化合物のほか、例えば、4,4’−ビス[N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ]ビフェニルに代表される、2個以上の3級アミンを含み2個以上の縮合芳香族環が窒素原子に置換した芳香族ジアミン(特開平5−234681号公報)、4,4’,4”−トリス(1−ナフチルフェニルアミノ)トリフェニルアミン等のスターバースト構造を有する芳香族アミン化合物(Journal of Luminescence,1997年,Vol.72−74, pp.985)、トリフェニルアミンの四量体から成る芳香族アミン化合物(Chemical Communications,1996年,pp.2175)、2,2’,7,7’−テトラキス−(ジフェニルアミノ)−9,9’−スピロビフルオレン等のスピロ化合物(Synthetic Metals,1997年,Vol.91,pp.209)等が挙げられる。
(Hole transport material)
The light emitting layer may contain a hole transport material as a constituent material thereof. Here, among the hole transport materials, examples of the monomer-amount hole transport material include various compounds exemplified as (monomer-amount hole transport material) in the above-described hole injection layer, for example, 4 , 4′-bis [N- (1-naphthyl) -N-phenylamino] biphenyl, which includes two or more tertiary amines and two or more condensed aromatic rings substituted with nitrogen atoms Aromatic amine compounds having a starburst structure such as diamine (Japanese Patent Laid-Open No. 5-234811), 4,4 ′, 4 ″ -tris (1-naphthylphenylamino) triphenylamine (Journal of Luminescence, 1997, Vol. 72-74, pp. 985), an aromatic amine compound consisting of a tetramer of triphenylamine (Chemical Communication) , 1996, pp. 2175), spiro compounds such as 2,2 ′, 7,7′-tetrakis- (diphenylamino) -9,9′-spirobifluorene (Synthetic Metals, 1997, Vol. 91, pp.). .209) and the like.

なお、発光層において、正孔輸送材料は、1種のみを用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。
発光層における正孔輸送材料の割合は、本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、通常0.1重量%以上、好ましくは0.5重量%以上、より好ましくは1重量%以上、また、通常65重量%以下、好ましくは50重量%以下、更に好ましくは40重量%以下である。正孔輸送材料が少なすぎると短絡の影響を受けやすくなる可能性があり、多すぎると膜厚ムラを生じる可能性がある。なお、2種以上の正孔輸送材料を併用する場合には、これらの合計の含有量が上記範囲に含まれるようにする。
In the light emitting layer, only one type of hole transport material may be used, or two or more types may be used in any combination and ratio.
The ratio of the hole transport material in the light emitting layer is arbitrary as long as the effect of the present invention is not significantly impaired, but is usually 0.1% by weight or more, preferably 0.5% by weight or more, more preferably 1% by weight or more, Moreover, it is 65 weight% or less normally, Preferably it is 50 weight% or less, More preferably, it is 40 weight% or less. If the amount of the hole transport material is too small, it may be easily affected by a short circuit, and if it is too large, the film thickness may be uneven. In addition, when using together 2 or more types of hole transport materials, it is made for the total content of these to be contained in the said range.

(電子輸送材料)
発光層には、その構成材料として、電子輸送材料を含有させてもよい。ここで、電子輸送材料のうち、モノマー量の電子輸送材料の例としては、2,5−ビス(1−ナフチル)−1,3,4−オキサジアゾール(BND)や、2,5−ビス(6’−(2’,2”−ビピリジル))−1,1−ジメチル−3,4−ジフェニルシロール(PyPySPyPy)や、バソフェナントロリン(BPhen)や、2,9−ジメチル−4,7−ジフェニル−1,10−フェナントロリン(BCP、バソクプロイン)、2−(4−ビフェニリル)−5−(p−ターシャルブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール(tBu−PBD)や、4,4’−ビス(9−カルバゾール)−ビフェニル(CBP)等が挙げられる。なお、発光層において、電子輸送材料は、1種のみを用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。
(Electron transport material)
The light emitting layer may contain an electron transport material as a constituent material thereof. Here, among the electron transport materials, examples of the monomer amount electron transport material include 2,5-bis (1-naphthyl) -1,3,4-oxadiazole (BND) and 2,5-bis. (6 ′-(2 ′, 2 ″ -bipyridyl))-1,1-dimethyl-3,4-diphenylsilole (PyPySPyPy), bathophenanthroline (BPhen), 2,9-dimethyl-4,7-diphenyl -1,10-phenanthroline (BCP, bathocuproine), 2- (4-biphenylyl) -5- (p-tertiarybutylphenyl) -1,3,4-oxadiazole (tBu-PBD), 4,4 '-Bis (9-carbazole) -biphenyl (CBP), etc. In the light emitting layer, only one type of electron transport material may be used, and two or more types may be used in any combination and ratio. It may be used in combination.

発光層における電子輸送材料の割合は、本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、通常0.1重量%以上、好ましくは0.5重量%以上、より好ましくは1重量%以上、また、通常65重量%以下、好ましくは50重量%以下、更に好ましくは40重量%以下である。電子輸送材料が少なすぎると短絡の影響を受けやすくなる可能性があり、多すぎると膜厚ムラを生じる可能性がある。なお、2種以上の電子輸送材料を併用する場合には、これらの合計の含有量が上記範囲に含まれるようにする。
(発光層の形成)
本発明に係る湿式成膜法により発光層を形成する場合は、上述の材料を適切な有機溶媒に溶解させて湿式成膜用組成物を調製し、それを用いて成膜工程、好ましくは乾燥工程を
介して形成する。これらの工程の詳細は、先に説明した内容と同様である。なお、他の有機層を本発明に係る湿式成膜法で形成する場合は、発光層の形成に蒸着法、又はその他の方法を用いてもよい。
The ratio of the electron transport material in the light emitting layer is arbitrary as long as the effect of the present invention is not significantly impaired, but is usually 0.1% by weight or more, preferably 0.5% by weight or more, more preferably 1% by weight or more, The amount is usually 65% by weight or less, preferably 50% by weight or less, and more preferably 40% by weight or less. If the amount of the electron transporting material is too small, it may be easily affected by a short circuit, and if it is too large, the film thickness may be uneven. In addition, when using together 2 or more types of electron transport materials, it is made for the total content of these to be contained in the said range.
(Formation of light emitting layer)
When the light emitting layer is formed by the wet film formation method according to the present invention, a composition for wet film formation is prepared by dissolving the above materials in an appropriate organic solvent, and the film formation process, preferably drying is performed using the composition. It is formed through a process. Details of these steps are the same as those described above. In addition, when forming another organic layer with the wet film-forming method based on this invention, you may use a vapor deposition method or another method for formation of a light emitting layer.

発光層を本発明に係る湿式成膜法で形成するための湿式成膜用組成物に含有させる発光層用有機溶媒としては、発光層の形成が可能である限り任意のものを用いることができる。ただし、前述の発光材料、正孔輸送材料、及び電子輸送材料を溶解することが可能なものが好ましい。具体的な溶解性としては、常温・常圧下で、発光材料、正孔輸送材料あるいは電子輸送材料を、通常0.01重量%以上、中でも0.05重量%以上、特には0.1重量%以上溶解することが好ましい。   As the organic solvent for the light emitting layer to be contained in the wet film forming composition for forming the light emitting layer by the wet film forming method according to the present invention, any solvent can be used as long as the light emitting layer can be formed. . However, a material capable of dissolving the light-emitting material, the hole transport material, and the electron transport material is preferable. Specifically, the solubility of the light emitting material, the hole transport material or the electron transport material is usually 0.01% by weight or more, particularly 0.05% by weight or more, and particularly 0.1% by weight at room temperature / normal pressure. It is preferable to dissolve the above.

発光層用有機溶媒の好適な例は、前記本発明の電荷輸送膜用組成物で説明した有機溶媒と同一である。
発光層を形成するための湿式成膜用組成物に対する発光層用有機溶媒の比率は、本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、通常0.01重量%以上、好ましくは0.1重量%以上、より好ましくは0.5重量%以上、また、通常70重量%以下、好ましくは60重量%以下、更に好ましくは50重量%以下の範囲である。なお、発光層用有機溶媒として2種以上の有機溶媒を混合して用いる場合には、これらの有機溶媒の合計がこの範囲を満たすようにする。
Suitable examples of the organic solvent for the light emitting layer are the same as those described for the charge transport film composition of the present invention.
The ratio of the organic solvent for the light-emitting layer to the wet film-forming composition for forming the light-emitting layer is arbitrary as long as the effect of the present invention is not significantly impaired, but is usually 0.01% by weight or more, preferably 0.1%. % By weight or more, more preferably 0.5% by weight or more, and usually 70% by weight or less, preferably 60% by weight or less, more preferably 50% by weight or less. In addition, when mixing and using 2 or more types of organic solvents as an organic solvent for light emitting layers, it is made for the sum total of these organic solvents to satisfy | fill this range.

発光層を形成するための湿式成膜用組成物の湿式成膜後、得られた塗膜を乾燥し、発光層用有機溶媒を除去することにより、発光層が形成される。湿式成膜法の方式は、本発明の効果を著しく損なわない限り限定されず、前述のいかなる方式も用いることができる。
発光層の膜厚は本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、通常3nm以上、好ましくは5nm以上、また、通常200nm以下、好ましくは100nm以下の範囲である。発光層の膜厚が、薄すぎると膜に欠陥が生じる可能性があり、厚すぎると駆動電圧が上昇する可能性がある。
After the wet film formation of the composition for wet film formation for forming the light emitting layer, the obtained coating film is dried and the organic solvent for the light emitting layer is removed to form the light emitting layer. The method of the wet film forming method is not limited as long as the effect of the present invention is not significantly impaired, and any of the methods described above can be used.
The thickness of the light emitting layer is arbitrary as long as the effect of the present invention is not significantly impaired, but is usually 3 nm or more, preferably 5 nm or more, and usually 200 nm or less, preferably 100 nm or less. If the light emitting layer is too thin, defects may occur in the film, and if it is too thick, the driving voltage may increase.

[正孔阻止層]
発光層と後述の電子注入層との間に、正孔阻止層を設けてもよい。正孔阻止層は、発光層の上に、発光層の陰極側の界面に接するように積層される層である。
この正孔阻止層は、陽極から移動してくる正孔を陰極に到達するのを阻止する役割と、陰極から注入された電子を効率よく発光層の方向に輸送する役割とを有する。
[Hole blocking layer]
A hole blocking layer may be provided between the light emitting layer and an electron injection layer described later. The hole blocking layer is a layer stacked on the light emitting layer so as to be in contact with the cathode side interface of the light emitting layer.
The hole blocking layer has a role of blocking holes moving from the anode from reaching the cathode and a role of efficiently transporting electrons injected from the cathode toward the light emitting layer.

正孔阻止層を構成する材料に求められる物性としては、電子移動度が高く正孔移動度が低いこと、エネルギーギャップ(HOMO、LUMOの差)が大きいこと、励起三重項準位(T1)が高いことが挙げられる。このような条件を満たす正孔阻止層の材料としては、例えば、ビス(2−メチル−8−キノリノラト)(フェノラト)アルミニウム、ビス(2−メチル−8−キノリノラト)(トリフェニルシラノラト)アルミニウム等の混合配位子錯体、ビス(2−メチル−8−キノラト)アルミニウム−μ−オキソ−ビス−(2−メチル−8−キノリラト)アルミニウム二核金属錯体等の金属錯体、ジスチリルビフェニル誘導体等のスチリル化合物(特開平11−242996号公報)、3−(4−ビフェニルイル)−4−フェニル−5(4−tert−ブチルフェニル)−1,2,4−トリアゾール等のトリアゾール誘導体(特開平7−41759号公報)、バソクプロイン等のフェナントロリン誘導体(特開平10−79297号公報)などが挙げられる。更に、国際公開第2005−022962号パンフレットに記載の2,4,6位が置換されたピリジン環を少なくとも1個有する化合物も、正孔阻止層の材料として好ましい。   The physical properties required for the material constituting the hole blocking layer include high electron mobility, low hole mobility, large energy gap (difference between HOMO and LUMO), and excited triplet level (T1). It is expensive. Examples of the material for the hole blocking layer satisfying such conditions include bis (2-methyl-8-quinolinolato) (phenolato) aluminum, bis (2-methyl-8-quinolinolato) (triphenylsilanolato) aluminum, and the like. Mixed metal complexes such as bis (2-methyl-8-quinolato) aluminum-μ-oxo-bis- (2-methyl-8-quinolinato) aluminum binuclear metal complexes, distyrylbiphenyl derivatives, etc. Triazole derivatives such as styryl compounds (JP-A-11-242996), 3- (4-biphenylyl) -4-phenyl-5 (4-tert-butylphenyl) -1,2,4-triazole (JP-A-7 -41759), phenanthroline derivatives such as bathocuproine (JP-A-10-79297), and the like. That. Further, a compound having at least one pyridine ring substituted at the 2,4,6-positions described in International Publication No. 2005-022962 is also preferable as a material for the hole blocking layer.

なお、正孔阻止層の材料は、1種のみを用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。
正孔阻止層の形成方法に制限はない。従って、湿式成膜法、蒸着法や、その他の方法で形成できる。
正孔阻止層の膜厚は、本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、通常0.3nm以上、好ましくは0.5nm以上、また、通常100nm以下、好ましくは50nm以下である。
[電子輸送層]
発光層と後述の電子注入層の間に、電子輸送層を設けてもよい。
In addition, the material of a hole-blocking layer may use only 1 type, and may use 2 or more types together by arbitrary combinations and ratios.
There is no restriction | limiting in the formation method of a hole-blocking layer. Therefore, it can be formed by a wet film forming method, a vapor deposition method, or other methods.
The thickness of the hole blocking layer is arbitrary as long as the effect of the present invention is not significantly impaired, but is usually 0.3 nm or more, preferably 0.5 nm or more, and usually 100 nm or less, preferably 50 nm or less.
[Electron transport layer]
You may provide an electron carrying layer between a light emitting layer and the below-mentioned electron injection layer.

電子輸送層は、素子の発光効率を更に向上させることを目的として設けられるもので、電界を与えられた電極間において陰極から注入された電子を効率よく発光層の方向に輸送することができる化合物より形成される。
電子輸送層に用いられる電子輸送性化合物としては、通常、陰極又は電子注入層からの電子注入効率が高く、かつ、高い電子移動度を有し注入された電子を効率よく輸送することができる化合物を用いる。このような条件を満たす化合物としては、例えば、8−ヒドロキシキノリンのアルミニウム錯体などの金属錯体(特開昭59−194393号公報)、10−ヒドロキシベンゾ[h]キノリンの金属錯体、オキサジアゾール誘導体、ジスチリルビフェニル誘導体、シロール誘導体、3−ヒドロキシフラボン金属錯体、5−ヒドロキシフラボン金属錯体、ベンズオキサゾール金属錯体、ベンゾチアゾール金属錯体、トリスベンズイミダゾリルベンゼン(米国特許第5645948号明細書)、キノキサリン化合物(特開平6−207169号公報)、フェナントロリン誘導体(特開平5−331459号公報)、2−t−ブチル−9,10−N,N’−ジシアノアントラキノンジイミン、n型水素化非晶質炭化シリコン、n型硫化亜鉛、n型セレン化亜鉛などが挙げられる。
The electron transport layer is provided for the purpose of further improving the light emission efficiency of the device, and can efficiently transport electrons injected from the cathode between the electrodes to which an electric field is applied in the direction of the light emitting layer. Is formed.
The electron transporting compound used for the electron transporting layer is usually a compound that has high electron injection efficiency from the cathode or the electron injection layer and has high electron mobility and can efficiently transport the injected electrons. Is used. Examples of the compound satisfying such conditions include metal complexes such as aluminum complexes of 8-hydroxyquinoline (Japanese Patent Laid-Open No. 59-194393), metal complexes of 10-hydroxybenzo [h] quinoline, oxadiazole derivatives , Distyrylbiphenyl derivatives, silole derivatives, 3-hydroxyflavone metal complexes, 5-hydroxyflavone metal complexes, benzoxazole metal complexes, benzothiazole metal complexes, trisbenzimidazolylbenzene (US Pat. No. 5,645,948), quinoxaline compounds ( JP-A-6-207169), phenanthroline derivative (JP-A-5-331459), 2-t-butyl-9,10-N, N'-dicyanoanthraquinonediimine, n-type hydrogenated amorphous silicon carbide , N-type zinc sulfide, n-type Sele Zinc oxide and the like.

なお、電子輸送層の材料は、1種のみを用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。
電子輸送層の形成方法に制限はない。従って、湿式成膜法、蒸着法や、その他の方法で形成することができる。
In addition, only 1 type may be used for the material of an electron carrying layer, and 2 or more types may be used together by arbitrary combinations and a ratio.
There is no restriction | limiting in the formation method of an electron carrying layer. Therefore, it can be formed by a wet film forming method, a vapor deposition method, or other methods.

電子輸送層の膜厚は、本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、通常1nm以上、好ましくは5nm以上、また、通常300nm以下、好ましくは100nm以下の範囲である。
[電子注入層]
電子注入層は、陰極から注入された電子を効率よく発光層へ注入する役割を果たす。電子注入を効率よく行なうには、電子注入層を形成する材料は、仕事関数の低い金属が好ましい。例としては、ナトリウムやセシウム等のアルカリ金属、バリウムやカルシウムなどのアルカリ土類金属等が用いられ、その膜厚は通常0.1nm以上、5nm以下が好ましい。
The thickness of the electron transport layer is arbitrary as long as the effect of the present invention is not significantly impaired, but is usually 1 nm or more, preferably 5 nm or more, and usually 300 nm or less, preferably 100 nm or less.
[Electron injection layer]
The electron injection layer plays a role of efficiently injecting electrons injected from the cathode into the light emitting layer. In order to perform electron injection efficiently, the material for forming the electron injection layer is preferably a metal having a low work function. Examples include alkali metals such as sodium and cesium, alkaline earth metals such as barium and calcium, and the film thickness is preferably from 0.1 nm to 5 nm.

更に、バソフェナントロリン等の含窒素複素環化合物や8−ヒドロキシキノリンのアルミニウム錯体などの金属錯体に代表される有機電子輸送化合物に、ナトリウム、カリウム、セシウム、リチウム、ルビジウム等のアルカリ金属をドープする(特開平10−270171号公報、特開2002−100478号公報、特開2002−100482号公報などに記載)ことにより、電子注入・輸送性が向上し優れた膜質を両立させることが可能となるため好ましい。この場合の膜厚は、通常、5nm以上、中でも10nm以上が好ましく、また、通常200nm以下、中でも100nm以下が好ましい。   Furthermore, an organic electron transport compound represented by a metal complex such as a nitrogen-containing heterocyclic compound such as bathophenanthroline or an aluminum complex of 8-hydroxyquinoline is doped with an alkali metal such as sodium, potassium, cesium, lithium, or rubidium ( (As described in JP-A-10-270171, JP-A-2002-1000047, JP-A-2002-1000048, etc.), it is possible to improve the electron injection / transport properties and achieve excellent film quality. preferable. In this case, the film thickness is usually 5 nm or more, preferably 10 nm or more, and is usually 200 nm or less, preferably 100 nm or less.

なお、電子注入層の材料は、1種のみを用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。
電子注入層の形成方法に制限はない。従って、湿式成膜法、蒸着法や、その他の方法で形成することができる。
[陰極]
陰極は、発光層側の層(電子注入層又は発光層など)に電子を注入する役割を果たすものである。
In addition, only 1 type may be used for the material of an electron injection layer, and 2 or more types may be used together by arbitrary combinations and a ratio.
There is no restriction | limiting in the formation method of an electron injection layer. Therefore, it can be formed by a wet film forming method, a vapor deposition method, or other methods.
[cathode]
The cathode plays a role of injecting electrons into a layer (such as an electron injection layer or a light emitting layer) on the light emitting layer side.

陰極の材料としては、前記の陽極に使用される材料を用いることが可能であるが、効率よく電子注入を行なうには、仕事関数の低い金属が好ましく、例えば、スズ、マグネシウム、インジウム、カルシウム、アルミニウム、銀等の適当な金属又はそれらの合金が用いられる。具体例としては、マグネシウム−銀合金、マグネシウム−インジウム合金、アルミニウム−リチウム合金等の低仕事関数合金電極が挙げられる。   As the material of the cathode, it is possible to use the material used for the anode, but in order to perform electron injection efficiently, a metal having a low work function is preferable, for example, tin, magnesium, indium, calcium, A suitable metal such as aluminum or silver or an alloy thereof is used. Specific examples include low work function alloy electrodes such as magnesium-silver alloy, magnesium-indium alloy, and aluminum-lithium alloy.

なお、陰極の材料は、1種のみを用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。
陰極の膜厚は、通常、陽極と同様である。
さらに、低仕事関数金属から成る陰極を保護する目的で、この上に更に、仕事関数が高く大気に対して安定な金属層を積層すると、素子の安定性が増すので好ましい。この目的のために、例えば、アルミニウム、銀、銅、ニッケル、クロム、金、白金等の金属が使われる。なお、これらの材料は、1種のみで用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。
In addition, only 1 type may be used for the material of a cathode, and 2 or more types may be used together by arbitrary combinations and a ratio.
The thickness of the cathode is usually the same as that of the anode.
Further, for the purpose of protecting the cathode made of a low work function metal, it is preferable to further stack a metal layer having a high work function and stable to the atmosphere because the stability of the device is increased. For this purpose, for example, metals such as aluminum, silver, copper, nickel, chromium, gold and platinum are used. In addition, these materials may be used only by 1 type and may use 2 or more types together by arbitrary combinations and a ratio.

(その他の層)
本発明に係る有機電界発光素子は、その趣旨を逸脱しない範囲において、別の構成を有していてもよい。例えば、その性能を損なわない限り、陽極と陰極との間に、上記説明にある層の他に任意の層を有していてもよく、また、任意の層が省略されていてもよい。
[電子阻止層]
有していてもよい層としては、例えば、電子阻止層が挙げられる。
(Other layers)
The organic electroluminescent element according to the present invention may have another configuration without departing from the gist thereof. For example, as long as the performance is not impaired, an arbitrary layer may be provided between the anode and the cathode in addition to the layers described above, and an arbitrary layer may be omitted.
[Electron blocking layer]
Examples of the layer that may be included include an electron blocking layer.

電子阻止層は、正孔注入層又は正孔輸送層と発光層との間に設けられ、発光層から移動してくる電子が正孔注入層に到達するのを阻止することで、発光層内で正孔と電子との再結合確率を増やし、生成した励起子を発光層内に閉じこめる役割と、正孔注入層から注入された正孔を効率よく発光層の方向に輸送する役割とがある。特に、発光材料として燐光材料を用いたり、青色発光材料を用いたりする場合は電子阻止層を設けることが効果的である。   The electron blocking layer is provided between the hole injecting layer or the hole transporting layer and the light emitting layer, and prevents electrons moving from the light emitting layer from reaching the hole injecting layer. Increases the recombination probability of holes and electrons, and has the role of confining the generated excitons in the light-emitting layer and the role of efficiently transporting holes injected from the hole injection layer toward the light-emitting layer. . In particular, when a phosphorescent material or a blue light emitting material is used as the light emitting material, it is effective to provide an electron blocking layer.

電子阻止層に求められる特性としては、正孔輸送性が高く、エネルギーギャップ(HOMO、LUMOの差)が大きいこと、励起三重項準位(T1)が高いこと等が挙げられる。更に、本発明においては、発光層を湿式成膜法で作製する場合には、電子阻止層にも湿式成膜の適合性が求められる。このような電子阻止層に用いられる材料としては、F8−TFBに代表されるジオクチルフルオレンとトリフェニルアミンの共重合体(国際公開第2004/084260号パンフレット)等が挙げられる。   The characteristics required for the electron blocking layer include high hole transportability, a large energy gap (difference between HOMO and LUMO), and a high excited triplet level (T1). Furthermore, in the present invention, when the light emitting layer is produced by a wet film formation method, the electron blocking layer is also required to be compatible with the wet film formation. Examples of the material used for such an electron blocking layer include a copolymer of dioctylfluorene and triphenylamine typified by F8-TFB (International Publication No. 2004/084260).

なお、電子阻止層の材料は、1種のみを用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。
電子阻止層の形成方法に制限はない。従って、湿式成膜法、蒸着法や、その他の方法で形成することができる。
さらに陰極と発光層又は電子輸送層との界面に、例えばフッ化リチウム(LiF)、フッ化マグネシウム(MgF2)、酸化リチウム(Li2O)、炭酸セシウム(II)(CsCO3)等で形成された極薄絶縁膜(0.1〜5nm)を挿入することも、素子の効率を
向上させる有効な方法である(Applied Physics Letters, 1997年, Vol.70, pp.152;特開平10−74586号公報;IEEE
Transactions on Electron Devices, 1997年
,Vol.44, pp.1245;SID 04 Digest, pp.154等参照)。
In addition, the material of an electron blocking layer may use only 1 type, and may use 2 or more types together by arbitrary combinations and a ratio.
There is no restriction | limiting in the formation method of an electron blocking layer. Therefore, it can be formed by a wet film forming method, a vapor deposition method, or other methods.
Further, at the interface between the cathode and the light emitting layer or the electron transport layer, for example, lithium fluoride (LiF), magnesium fluoride (MgF 2 ), lithium oxide (Li 2 O), cesium carbonate (II) (CsCO 3 ), etc. are formed. It is also an effective method to improve the efficiency of the device by inserting a very thin insulating film (0.1 to 5 nm) (Applied Physics Letters, 1997, Vol. 70, pp. 152; No. 74586; IEEE
Transactions on Electron Devices, 1997, Vol. 44, pp. 1245; SID 04 Digest, pp. 154 etc.).

[正孔緩和層]
有していてもよい層としては、更に、正孔緩和層が挙げられる。
正孔緩和層は、発光層の陰極側に隣接して形成される層であり、発光層と正孔緩和層界面への正孔の蓄積を緩和する働きをする層である。また、電子を効率よく発光層の方向へ輸送する役割も有する。
[Hole relaxation layer]
Examples of the layer that may be included further include a hole relaxation layer.
The hole relaxation layer is a layer formed adjacent to the cathode side of the light emitting layer, and is a layer that functions to relax the accumulation of holes at the interface between the light emitting layer and the hole relaxation layer. It also has a role of efficiently transporting electrons toward the light emitting layer.

尚、正孔緩和層は、前記塗布発光層及び前期蒸着発光層との間に有していてもよい。
正孔緩和層のイオン化ポテンシャルは通常5.5eV以上、好ましくは5.6eV以上、より好ましくは5.7eV以上、また通常6.7eV以下、好ましくは6.4eV以下、より好ましくは6.0eV以下である。このイオン化ポテンシャルの値が大きすぎても、小さすぎても正孔を発光層と正孔緩和層の界面に留めてしまう可能性がある。
In addition, you may have a hole relaxation layer between the said application | coating light emitting layer and the previous vapor deposition light emitting layer.
The ionization potential of the hole relaxation layer is usually 5.5 eV or more, preferably 5.6 eV or more, more preferably 5.7 eV or more, and usually 6.7 eV or less, preferably 6.4 eV or less, more preferably 6.0 eV or less. It is. If the value of the ionization potential is too large or too small, there is a possibility that holes are retained at the interface between the light emitting layer and the hole relaxation layer.

イオン化ポテンシャル(Ip)はイオン化ポテンシャル測定装置PCR−101(Optel製)により測定することができる。
正孔緩和層の膜厚は、本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、好ましくは0.3nm以上、より好ましくは0.5nm以上であり、好ましくは100nm以下、より好ましくは50nm以下である。膜厚が薄すぎると、薄膜に欠陥が発生する可能性があり、厚すぎれば、駆動電圧が高くなる可能性がある。
The ionization potential (Ip) can be measured by an ionization potential measuring apparatus PCR-101 (manufactured by Optel).
The thickness of the hole relaxation layer is arbitrary as long as the effect of the present invention is not significantly impaired, but is preferably 0.3 nm or more, more preferably 0.5 nm or more, preferably 100 nm or less, more preferably 50 nm or less. It is. If the film thickness is too thin, defects may occur in the thin film, and if it is too thick, the drive voltage may increase.

正孔緩和層は蒸着成膜法によって形成するのが好ましい。ここで蒸着成膜法としては、真空蒸着法、レーザー転写法、抵抗加熱法、電子ビーム法、PVD(物理蒸着)、CVD(化学蒸着)が好ましく、中でも真空蒸着法がより好ましい。
正孔緩和層の陰極側には通常隣接して電子輸送層が形成されるが、正孔緩和層と電子輸送層のイオン化ポテンシャルの差は、本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、通常0.5eV未満、好ましくは0.3eV未満、より好ましくは0.2eV未満である。イオン化ポテンシャルの差が大きすぎると正孔が正孔緩和層内に溜まり劣化の原因となる可能性がある。
The hole relaxation layer is preferably formed by vapor deposition. As the vapor deposition film forming method, a vacuum vapor deposition method, a laser transfer method, a resistance heating method, an electron beam method, PVD (physical vapor deposition), and CVD (chemical vapor deposition) are preferable, and a vacuum vapor deposition method is more preferable.
Although the electron transport layer is usually formed adjacent to the cathode side of the hole relaxation layer, the difference in ionization potential between the hole relaxation layer and the electron transport layer is arbitrary as long as the effect of the present invention is not significantly impaired. , Usually less than 0.5 eV, preferably less than 0.3 eV, more preferably less than 0.2 eV. If the difference in ionization potential is too large, holes may accumulate in the hole relaxation layer and cause deterioration.

また、以上説明した層構成において、基板以外の構成要素を逆の順に積層することも可能である。例えば、図1の層構成であれば、基板上に他の構成要素を陰極、電子注入層、電子輸送層、正孔阻止層、発光層、正孔輸送層、正孔注入層、陽極の順に設けてもよい。

更には、少なくとも一方が透明性を有する2枚の基板の間に、基板以外の構成要素を積層することにより、本発明に係る有機電界発光素子を構成することも可能である。
Moreover, in the layer structure demonstrated above, it is also possible to laminate | stack components other than a board | substrate in reverse order. For example, in the case of the layer configuration of FIG. 1, the other components on the substrate are in the order of cathode, electron injection layer, electron transport layer, hole blocking layer, light emitting layer, hole transport layer, hole injection layer, and anode. It may be provided.

Furthermore, it is also possible to constitute the organic electroluminescent element according to the present invention by laminating components other than the substrate between two substrates, at least one of which is transparent.

また、基板以外の構成要素(発光ユニット)を複数段重ねた構造(発光ユニットを複数積層させた構造)とすることも可能である。その場合には、各段間(発光ユニット間)の界面層(陽極がITO、陰極がAlの場合は、それら2層)の代わりに、例えば五酸化バナジウム(V25)等からなる電荷発生層(Carrier Generation Layer:CGL)を設けると、段間の障壁が少なくなり、発光効率・駆動電圧の観点からより好ましい。 Further, a structure in which a plurality of components (light emitting units) other than the substrate are stacked in a plurality of layers (a structure in which a plurality of light emitting units are stacked) may be employed. In that case, instead of the interface layer between the steps (between the light emitting units) (when the anode is ITO and the cathode is Al, these two layers), for example, a charge made of vanadium pentoxide (V 2 O 5 ) or the like. When a generation layer (Carrier Generation Layer: CGL) is provided, a barrier between steps is reduced, which is more preferable from the viewpoint of light emission efficiency and driving voltage.

更には、本発明に係る有機電界発光素子は、単一の有機電界発光素子として構成してもよく、複数の有機電界発光素子がアレイ状に配置された構成に適用してもよく、陽極と陰極がX−Yマトリックス状に配置された構成に適用してもよい。
また、上述した各層には、本発明の効果を著しく損なわない限り、材料として説明した以外の成分が含まれていてもよい。
Furthermore, the organic electroluminescent device according to the present invention may be configured as a single organic electroluminescent device, or may be applied to a configuration in which a plurality of organic electroluminescent devices are arranged in an array. You may apply to the structure by which the cathode is arrange | positioned at XY matrix form.
Each layer described above may contain components other than those described as materials unless the effects of the present invention are significantly impaired.

<有機ELディスプレイ>
本発明の有機ELディスプレイは、上述のような本発明の有機電界発光素子を用いたものである。本発明の有機ELディスプレイの型式や構造については特に制限はなく、本発明の有機電界発光素子を用いて常法に従って組み立てることができる。
例えば、「有機ELディスプレイ」(オーム社、平成16年8月20日発行、時任静士、安達千波矢、村田英幸著)に記載されているような方法で、本発明の有機ELディスプレイを形成することができる。
<Organic EL display>
The organic EL display of the present invention uses the organic electroluminescent element of the present invention as described above. There is no restriction | limiting in particular about the model and structure of the organic electroluminescent display of this invention, It can assemble in accordance with a conventional method using the organic electroluminescent element of this invention.
For example, the organic EL display of the present invention is formed by a method as described in “Organic EL Display” (Ohm, published on August 20, 2004, Shizushi Tokito, Chiba Adachi, Hideyuki Murata). can do.

<有機EL照明>
本発明の有機EL照明は、上述の本発明の有機電界発光素子を用いたものである。本発明の有機EL照明の型式や構造については特に制限はなく、本発明の有機電界発光素子を用いて常法に従って組み立てることができる。
<Organic EL lighting>
The organic EL illumination of the present invention uses the above-described organic electroluminescent element of the present invention. There is no restriction | limiting in particular about the model and structure of the organic EL illumination of this invention, It can assemble in accordance with a conventional method using the organic electroluminescent element of this invention.

次に、本発明を実施例によって更に具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例の記載に限定されるものではない。
(実施例1)
まず、ガラス基板上にインジウム・スズ酸化物(ITO)透明導電膜(三容真空社製、スパッタ成膜品)が、2mm幅のストライプ状にパターニングされている基板を、界面活性剤水溶液による超音波洗浄、超純水による水洗、超純水による超音波洗浄、超純水による水洗の順で洗浄後、窒素ブローで乾燥させ、最後に紫外線オゾン洗浄を行なった。
(正孔注入層の形成)
下記式(I)の繰り返し構造を有するポリマー(重量平均分子質量85,000)100重量部と、下記式(II)であらわされる化合物20重量部と、溶媒としてシクロヘキシルベンゼン5880重量部を混合し、室温で3時間撹拌した後、100℃ホットプレートにて3時間加熱し、正孔注入層用塗布液(A1)を調製した。
EXAMPLES Next, although an Example demonstrates this invention further more concretely, this invention is not limited to description of a following example, unless the summary is exceeded.
Example 1
First, a substrate in which an indium tin oxide (ITO) transparent conductive film (manufactured by Sanyo Vacuum Co., Ltd., sputtered film) is patterned on a glass substrate in a 2 mm-wide stripe shape is super After washing in the order of sonic cleaning, rinsing with ultrapure water, sonic cleaning with ultrapure water, and rinsing with ultrapure water, they were dried with nitrogen blow, and finally subjected to ultraviolet ozone cleaning.
(Formation of hole injection layer)
100 parts by weight of a polymer having a repeating structure of the following formula (I) (weight average molecular mass 85,000), 20 parts by weight of a compound represented by the following formula (II), and 5880 parts by weight of cyclohexylbenzene as a solvent, After stirring at room temperature for 3 hours, the mixture was heated on a 100 ° C. hot plate for 3 hours to prepare a hole injection layer coating solution (A1).

Figure 2011202124
Figure 2011202124

洗浄処理したITO基板上に、上記正孔注入層用塗布溶液を用いてスピンコート法にて正孔注入層を形成した。スピンコートは気温23℃、相対湿度50%の大気中で行ない、回転数は2000rpm、回転時間は30秒とした。塗布後、ホットプレート上で80℃1分間加熱乾燥した後、不溶部分を拭き取り、オーブン大気中で230℃1時間ベークし
、式(I)で表される化合物を下記式(III)で表される化合物に変換し、膜厚27nmの正孔注入層を形成した。
A hole injection layer was formed on the cleaned ITO substrate by spin coating using the above-described coating solution for hole injection layer. The spin coating was performed in an air atmosphere at a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 50%, the rotation speed was 2000 rpm, and the rotation time was 30 seconds. After coating, after heating and drying on a hot plate at 80 ° C. for 1 minute, the insoluble portion is wiped off and baked in an oven atmosphere at 230 ° C. for 1 hour. The compound represented by the formula (I) is represented by the following formula (III). This was converted to a compound having a thickness of 27 nm.

Figure 2011202124
Figure 2011202124

(正孔輸送層の形成)
次に、正孔注入層上に正孔輸送層を形成した。正孔注入層塗布基板を酸素濃度1.0ppm、水分濃度1.0ppmの窒素グローブボックスに入れ、正孔輸送層用塗布液調製、スピンコート、ベークすべて、グローブボックス中で行った。
下記式(IV)の繰り返し構造を有するポリマー(重量平均分子質量95000)を、溶媒としてシクロヘキシルベンゼンに溶解させ、1.4重量%の溶液を調製し、正孔輸送層用塗布液を調製した。
(Formation of hole transport layer)
Next, a hole transport layer was formed on the hole injection layer. The hole injection layer-coated substrate was placed in a nitrogen glove box having an oxygen concentration of 1.0 ppm and a moisture concentration of 1.0 ppm, and the hole transport layer coating solution preparation, spin coating, and baking were all performed in the glove box.
A polymer having a repeating structure of the following formula (IV) (weight average molecular mass 95000) was dissolved in cyclohexylbenzene as a solvent to prepare a 1.4% by weight solution to prepare a hole transport layer coating solution.

Figure 2011202124
Figure 2011202124

正孔注入層上に、上記正孔輸送層用塗布液を用いてスピンコート法にて正孔注入層を形成した。回転数は1500rpm、回転時間は120秒とした。塗布後、ホットプレート上で230℃10秒間プレ乾燥した後、電極上の不要部分を拭き取り、次いで、ホットプレート上で230℃1時間ベークし、膜厚27nmの正孔輸送層を形成した。
(発光層の形成)
次に、正孔輸送層上に発光層を形成した。発光層用塗布液調製、スピンコート、ベークすべて、酸素濃度1.0ppm、水分濃度1.0ppmの窒素グローブボックス中で大気暴露させずに行った。
(発光層塗布液の調製)
下記式(V)で表される化合物を100重量部、下記式(VI)で表される化合物10重量部を、溶媒としてシクロヘキシルベンゼンに溶解させ、4重量%の溶液を調製し、発光層塗布液を調製した。
On the hole injection layer, a hole injection layer was formed by spin coating using the above hole transport layer coating solution. The number of rotations was 1500 rpm, and the rotation time was 120 seconds. After application, the film was pre-dried at 230 ° C. for 10 seconds on a hot plate, and then unnecessary portions on the electrode were wiped off, and then baked on the hot plate at 230 ° C. for 1 hour to form a 27 nm-thick hole transport layer.
(Formation of light emitting layer)
Next, a light emitting layer was formed on the hole transport layer. Preparation of the light emitting layer coating solution, spin coating, and baking were all performed in a nitrogen glove box having an oxygen concentration of 1.0 ppm and a moisture concentration of 1.0 ppm without being exposed to the atmosphere.
(Preparation of luminescent layer coating solution)
100 parts by weight of a compound represented by the following formula (V) and 10 parts by weight of a compound represented by the following formula (VI) are dissolved in cyclohexylbenzene as a solvent to prepare a 4% by weight solution, and a light emitting layer is applied. A liquid was prepared.

Figure 2011202124
Figure 2011202124

(発光層塗布成膜)
正孔輸送層上に、発光層塗布液を用いてスピンコート法にて発光層を形成した。回転数は2000rpm、回転時間は120秒とした。塗布後、ホットプレート上で130℃10秒間プレ乾燥した後、電極上の不要部分を拭き取り、次いで、ホットプレート上で130℃1時間真空加熱して乾燥し、膜厚50nmの発光層を形成した。
(Light-emitting layer coating)
On the hole transport layer, a light emitting layer was formed by spin coating using a light emitting layer coating solution. The rotation speed was 2000 rpm and the rotation time was 120 seconds. After coating, after pre-drying at 130 ° C. for 10 seconds on a hot plate, unnecessary portions on the electrode were wiped off, and then dried by vacuum heating on the hot plate at 130 ° C. for 1 hour to form a light-emitting layer having a thickness of 50 nm. .

この基板を一旦大気中に取り出し、速やかに真空蒸着装置のチャンバー内に設置した。チャンバーはロータリーポンプで粗引きした後、クライオポンプにて減圧した。真空度は1.0×10−4Paであった。基板には、所定の領域に、蒸着用マスクを配置し、チャンバーにはあらかじめ必要な蒸着材料をそれぞれ別のモリブデン製ボートに入れて配置しておいた。
(電子輸送層1の形成)
下記式(VII)で表される材料を入れたるつぼを通電加熱し、発光層上に蒸着した。蒸着時の真空度は1.0×10−4Pa、蒸着速度0.7Å/sとし、電子輸送層1を膜厚10nmで形成した。
The substrate was once taken out into the atmosphere and immediately placed in the chamber of the vacuum deposition apparatus. The chamber was roughed with a rotary pump and then depressurized with a cryopump. The degree of vacuum was 1.0 × 10 −4 Pa. A vapor deposition mask was disposed in a predetermined area on the substrate, and necessary vapor deposition materials were previously placed in separate molybdenum boats in the chamber.
(Formation of electron transport layer 1)
A crucible containing a material represented by the following formula (VII) was heated by current application and deposited on the light emitting layer. The degree of vacuum during the deposition was 1.0 × 10 −4 Pa, the deposition rate was 0.7 Å / s, and the electron transport layer 1 was formed with a film thickness of 10 nm.

Figure 2011202124
Figure 2011202124

(電子輸送層2の形成)
次に、下記式(VIII)で表されるAlqを入れたるつぼを通電加熱し、電子輸送層1の上に蒸着した。蒸着時の真空度は1.0×10−4Pa、蒸着速度1.0Å/sとし、電子輸送層2を膜厚30nmで形成した。
(Formation of electron transport layer 2)
Next, the crucible containing Alq 3 represented by the following formula (VIII) was heated by current application and deposited on the electron transport layer 1. The degree of vacuum during the deposition was 1.0 × 10 −4 Pa, the deposition rate was 1.0 Å / s, and the electron transport layer 2 was formed with a film thickness of 30 nm.

Figure 2011202124
Figure 2011202124

(陰極形成)
次に、基板を一旦大気中に取り出し、陰極蒸着用のマスクとして2mm幅のストライプ状シャドーマスクを、陽極のITOストライプと直交するように配置し、速やかに蒸着装置に設置した。チャンバーはロータリーポンプで粗引きした後、クライオポンプにて減圧した。真空度は3.0×10−4Paであった。陰極として、先ず、フッ化リチウム(LiF)を入れたモリブデン製ボートを通電加熱し、電子輸送層の上に蒸着した。蒸着条件は、蒸着時の真空度は3.0×10−4Pa、蒸着速度0.1Å/sとし、膜厚0.5nmで成膜した。最後に、アルミニウムを入れたモリブデン製ボートを通電加熱して陰極を蒸着した。蒸着条件は、蒸着時の真空度は4.0×10−4Pa、蒸着速度3.0Å/sとし、膜厚80nm成膜した。
(Cathode formation)
Next, the substrate was once taken out into the atmosphere, and a 2 mm wide striped shadow mask as a mask for cathode vapor deposition was arranged so as to be orthogonal to the ITO ITO stripe of the anode, and immediately placed in the vapor deposition apparatus. The chamber was roughed with a rotary pump and then depressurized with a cryopump. The degree of vacuum was 3.0 × 10 −4 Pa. As a cathode, first, a molybdenum boat containing lithium fluoride (LiF) was energized and heated and deposited on the electron transport layer. Deposition conditions were such that the degree of vacuum during deposition was 3.0 × 10 −4 Pa, the deposition rate was 0.1 Å / s, and the film thickness was 0.5 nm. Finally, a molybdenum boat containing aluminum was heated by energization to deposit a cathode. Deposition conditions were such that the degree of vacuum during deposition was 4.0 × 10 −4 Pa, the deposition rate was 3.0 Å / s, and a film thickness of 80 nm was formed.

(封止)
次に、基板を一旦大気中に取り出し、速やかに窒素置換されたグローブボックスに移した。窒素置換されたグローブボックス中では封止ガラス板の凹部に吸湿剤シートを貼り付け、封止ガラス板の凹部の周囲にUV硬化樹脂塗をディスペンサーにて塗布し、蒸着を行なった基板の蒸着領域を封止ガラス板で密封するように密着させ、UVランプにてUV光を照射してUV硬化樹脂を硬化させた。
(Sealing)
Next, the substrate was once taken out into the atmosphere and immediately transferred to a glove box substituted with nitrogen. In a nitrogen-substituted glove box, a hygroscopic sheet is attached to the concave portion of the sealing glass plate, and a UV curable resin coating is applied around the concave portion of the sealing glass plate with a dispenser. Were sealed so as to be sealed with a sealing glass plate, and UV light was irradiated with a UV lamp to cure the UV curable resin.

以上の様にして、有機電界発光素子を得た。
(素子評価)
この素子に通電したところ、発光欠陥の無い均一な発光面の青色発光が得られた。
この素子を1000cd/m2の輝度で発光させたときの電流発光効率は、4.63cd/Aであった。
As described above, an organic electroluminescent element was obtained.
(Element evaluation)
When this element was energized, uniform blue light emission with no light emission defects was obtained.
When this device was made to emit light at a luminance of 1000 cd / m 2, the current luminous efficiency was 4.63 cd / A.

また、この素子を初期輝度2000cd/mで点灯させ、定電流通電発光させたとき、輝度が半減するまでの時間は600時間であった。
(正孔注入層塗布液静的光散乱測定)
正孔注入層塗布液(A1)について静的光散乱測定を行ない、散乱角(2θ)が8°及び15°であるときのIms/Im0の値、および、8°≦2θ≦15°であるときのIms/Im0の最大値を表1に示す。
In addition, when this element was turned on with an initial luminance of 2000 cd / m 2 and light was emitted with constant current conduction, the time until the luminance was reduced to half was 600 hours.
(Hole injection layer coating solution static light scattering measurement)
Static hole light scattering measurement is performed on the hole injection layer coating solution (A1), and the value of I ms / I m0 when the scattering angle (2θ) is 8 ° and 15 °, and 8 ° ≦ 2θ ≦ 15 ° Table 1 shows the maximum value of I ms / I m0 when.

(実施例2)
実施例1において、正孔注入層用塗布液(A1)を、下記の通り調製した正孔注入層用塗布液(A2)に変更した他は、実施例1と同様にして素子を作製した。また、実施例1
と同様にして素子評価、及び正孔注入層用塗布液の静的光散乱測定を行った。
正孔注入層用塗布液の調製において、前記式(I)の繰り返し構造を有するポリマー100重量部と、前記式(II)であらわされる化合物20重量部と、溶媒としてシクロヘキシルベンゼン5880重量部を混合し、室温で3時間撹拌した。
(Example 2)
A device was fabricated in the same manner as in Example 1, except that the hole injection layer coating solution (A1) was changed to the hole injection layer coating solution (A2) prepared as described below. Example 1
In the same manner as above, device evaluation and static light scattering measurement of the coating solution for the hole injection layer were performed.
In preparation of the coating solution for the hole injection layer, 100 parts by weight of the polymer having a repeating structure of the above formula (I), 20 parts by weight of the compound represented by the above formula (II), and 5880 parts by weight of cyclohexylbenzene as a solvent are mixed. And stirred at room temperature for 3 hours.

次に、この溶液を褐色ガラス瓶に1g入れ、径が10mmφである瓶の開口部から、露光装置UX−1000SM−ACS01(ウシオ電機社製)にて、31mW/cmの紫外線を約33秒間照射、すなわち、光量1000mJ/cmのUV光を照射し、正孔注入層用塗布液(A2)を調製した。UX−1000SM−ACS01に使用されている光源は超高圧水銀灯であり、照射した紫外線の主波長は365nm(i線)、405nm(h線)、436nm(g線)、である。ここまでの操作は、常温、常圧、常湿で行った。 Next, 1 g of this solution is put in a brown glass bottle, and 31 mW / cm 2 of ultraviolet rays is irradiated for about 33 seconds from the opening of the bottle having a diameter of 10 mmφ using an exposure apparatus UX-1000SM-ACS01 (manufactured by USHIO INC.). That is, UV light having a light amount of 1000 mJ / cm 2 was irradiated to prepare a hole injection layer coating solution (A2). The light source used in the UX-1000SM-ACS01 is an ultra-high pressure mercury lamp, and the main wavelengths of the irradiated ultraviolet rays are 365 nm (i-line), 405 nm (h-line), and 436 nm (g-line). The operation so far was performed at normal temperature, normal pressure, and normal humidity.

(素子評価)
得られたの素子を通電したところ、発光欠陥の無い均一な発光面の青色発光が得られた。
この素子を1000cd/mの輝度で発光させたときの電流発光効率は、4.72cd/Aであった。
(Element evaluation)
When the obtained device was energized, blue light emission of a uniform light emitting surface free from light emitting defects was obtained.
When this device was made to emit light at a luminance of 1000 cd / m 2 , the current luminous efficiency was 4.72 cd / A.

また、この素子を初期輝度2000cd/mで点灯させ、定電流通電発光させたとき、輝度が半減するまでの時間は600時間であった。
(正孔注入層塗布液静的光散乱測定)
正孔注入層塗布液(A2)について静的光散乱測定を行ない、散乱角(2θ)が8°及び15°であるときのIms/Im0の値、および、8°≦2θ≦15°であるときのIms/Im0の最大値を表1に示す。
In addition, when this element was turned on with an initial luminance of 2000 cd / m 2 and light was emitted with constant current conduction, the time until the luminance was reduced to half was 600 hours.
(Hole injection layer coating solution static light scattering measurement)
Static hole light scattering measurement is performed on the hole injection layer coating solution (A2), and the value of I ms / I m0 when the scattering angle (2θ) is 8 ° and 15 °, and 8 ° ≦ 2θ ≦ 15 ° Table 1 shows the maximum value of I ms / I m0 when.

(実施例3)
実施例2において、正孔注入層用塗布液(A2)を、下記の通り調製した正孔注入層用塗布液(A3)に変更した他は、実施例2と同様にして素子を作製した。また、実施例1と同様にして素子評価、及び正孔注入層用塗布液の静的光散乱測定を行った。
正孔注入層用塗布液の調製において、実施例2と同様の露光装置UX−1000SM−ACS01(ウシオ電機社製)にて、開口部から、31mW/cmの紫外線を約162秒間照射、すなわち、光量5000mJ/cmのUV光を照射した以外は実施例2と同様にして正孔注入層用塗布液(A3)を調製した。
(Example 3)
A device was fabricated in the same manner as in Example 2, except that the hole injection layer coating solution (A2) was changed to the hole injection layer coating solution (A3) prepared as described below. Further, in the same manner as in Example 1, element evaluation and static light scattering measurement of the hole injection layer coating solution were performed.
In the preparation of the coating solution for the hole injection layer, the same exposure apparatus UX-1000SM-ACS01 (made by USHIO INC.) As in Example 2 was irradiated with 31 mW / cm 2 of ultraviolet rays for about 162 seconds from the opening. A hole injection layer coating solution (A3) was prepared in the same manner as in Example 2 except that UV light with a light amount of 5000 mJ / cm 2 was irradiated.

(素子評価)
得られた素子に通電したところ、発光欠陥の無い均一な発光面の青色発光が得られた。この素子を1000cd/mの輝度で発光させたときの電流発光効率は、4.75cd/Aであった。
また、この素子を初期輝度2000cd/mで点灯させ、定電流通電発光させたとき、輝度が半減するまでの時間は600時間であった。
(Element evaluation)
When the obtained device was energized, blue light emission of a uniform light emitting surface free from light emitting defects was obtained. The current luminous efficiency when this device was made to emit light at a luminance of 1000 cd / m 2 was 4.75 cd / A.
In addition, when this element was turned on with an initial luminance of 2000 cd / m 2 and light was emitted with constant current conduction, the time until the luminance was reduced to half was 600 hours.

(正孔注入層塗布液の静的光散乱測定)
正孔注入層塗布液(A3)について静的光散乱測定を行ない、散乱角(2θ)が8°及び15°であるときのIms/Im0の値、および、8°≦2θ≦15°であるときのIms/Im0の最大値を表1に示す。
(比較例1)
実施例1において、正孔注入層用塗布液(A1)を、下記の通り調製した正孔注入層用塗布液(A4)に変更した他は、実施例1と同様にして素子を作製した。また、実施例1と同様にして素子評価、及び正孔注入層用塗布液の静的光散乱測定を行った。
(Static light scattering measurement of hole injection layer coating solution)
Static hole light scattering measurement was performed on the hole injection layer coating solution (A3), and the value of I ms / I m0 when the scattering angle (2θ) was 8 ° and 15 °, and 8 ° ≦ 2θ ≦ 15 ° Table 1 shows the maximum value of I ms / I m0 when.
(Comparative Example 1)
A device was fabricated in the same manner as in Example 1, except that the hole injection layer coating solution (A1) was changed to the hole injection layer coating solution (A4) prepared as described below. Further, in the same manner as in Example 1, element evaluation and static light scattering measurement of the hole injection layer coating solution were performed.

正孔注入層用塗布液の調製において、100℃ホットプレートにて3時間加熱を行わなかった以外は、実施例1と同様にして正孔注入層用塗布液(A4)を調製した。
(素子評価)
得られた素子を通電したところ、青色発光が得られた。発光面を顕微鏡観察したところ、微小な濃淡のムラが多く観察された。
この素子を1000cd/mの輝度で発光させたときの電流発光効率は、3.82cd/Aであった。
In the preparation of the hole injection layer coating solution, a hole injection layer coating solution (A4) was prepared in the same manner as in Example 1 except that heating was not performed on a 100 ° C. hot plate for 3 hours.
(Element evaluation)
When the obtained device was energized, blue light emission was obtained. When the light emitting surface was observed with a microscope, a lot of minute shading unevenness was observed.
When this device was made to emit light at a luminance of 1000 cd / m 2 , the current luminous efficiency was 3.82 cd / A.

また、この素子を初期輝度2000cd/mで点灯させ、定電流通電発光させたとき、輝度が半減するまでの時間は300時間であった。
(正孔注入層塗布液静的光散乱測定)
正孔注入層塗布液(A4)について静的光散乱測定を行ない、散乱角(2θ)が8°及び15°であるときのIms/Im0の値、および、8°≦2θ≦15°であるときのIms/Im0の最大値を表1に示す。
In addition, when this element was lit at an initial luminance of 2000 cd / m 2 and light was emitted with a constant current, the time until the luminance was reduced to half was 300 hours.
(Hole injection layer coating solution static light scattering measurement)
The hole injection layer coating solution (A4) is subjected to static light scattering measurement, and the value of I ms / I m0 when the scattering angle (2θ) is 8 ° and 15 °, and 8 ° ≦ 2θ ≦ 15 ° Table 1 shows the maximum value of I ms / I m0 when.

(比較例2)
実施例2において、正孔注入層用塗布液(A2)を、下記の通り調製した正孔注入層用塗布液(A5)に変更した他は、実施例2と同様にして素子を作製した。また、実施例1と同様にして素子評価、及び正孔注入層用塗布液の静的光散乱測定を行った。
正孔注入層用塗布液の調製において、実施例2と同様の露光装置UX−1000SM−ACS01にて、開口部から、31mW/cmの紫外線を約16秒間照射、すなわち、光量500mJ/cmのUV光を照射した以外は実施例2と同様にして正孔注入層用塗布液(A5)を調製した。
(Comparative Example 2)
A device was fabricated in the same manner as in Example 2, except that the hole injection layer coating solution (A2) was changed to the hole injection layer coating solution (A5) prepared as described below. Further, in the same manner as in Example 1, element evaluation and static light scattering measurement of the hole injection layer coating solution were performed.
In preparation of the coating solution for the hole injection layer, the exposure apparatus UX-1000SM-ACS01 similar to that in Example 2 was irradiated with 31 mW / cm 2 of ultraviolet light from the opening for about 16 seconds, that is, the light amount was 500 mJ / cm 2. A hole injection layer coating solution (A5) was prepared in the same manner as in Example 2 except that the UV light was irradiated.

(素子評価)
この素子に通電したところ、青色発光が得られた。発光面を顕微鏡観察したところ、微小な濃淡のムラが多く観察された。
この素子を1000cd/mの輝度で発光させたときの電流発光効率は、4.11cd/Aであった。
(Element evaluation)
When this element was energized, blue light emission was obtained. When the light emitting surface was observed with a microscope, a lot of minute shading unevenness was observed.
When this device was made to emit light at a luminance of 1000 cd / m 2 , the current luminous efficiency was 4.11 cd / A.

また、この素子を初期輝度2000cd/mで点灯させ、定電流通電発光させたとき、輝度が半減するまでの時間は350時間であった。
(正孔注入層塗布液静的光散乱測定)
正孔注入層塗布液(A5)について静的光散乱測定を行ない、散乱角(2θ)が8°及び15°であるときのIms/Im0の値、および、8°≦2θ≦15°であるときのIms/Im0の最大値を表1に示す。
In addition, when this element was lit at an initial luminance of 2000 cd / m 2 and emitted with constant current, the time until the luminance was reduced to half was 350 hours.
(Hole injection layer coating solution static light scattering measurement)
Static hole light scattering measurement was performed on the hole injection layer coating solution (A5), and the value of I ms / I m0 when the scattering angle (2θ) was 8 ° and 15 °, and 8 ° ≦ 2θ ≦ 15 ° Table 1 shows the maximum value of I ms / I m0 when.

Figure 2011202124
Figure 2011202124

Figure 2011202124
Figure 2011202124

以上の結果より、本発明の電荷輸送膜用組成物を用いて形成された有機層を有する有機電界発光素子は、均一な発光面で発光効率が高く、輝度半減寿命が長いことがわかる。   From the above results, it can be seen that the organic electroluminescence device having an organic layer formed using the composition for charge transport film of the present invention has a uniform light emitting surface, high luminous efficiency, and long luminance half life.

本発明の電荷輸送膜用組成物は、保存安定性が高く、湿式成膜法で有機層を形成する場合において、均一に成膜可能であり、また工業的観点から不利益を生じさせない。
また、本発明の電荷輸送膜用組成物を用いて、湿式成膜法により形成された有機層を有する有機電界発光素子は、短絡やダークスポットを生じさせず、また駆動寿命が長い。
これより、本発明は、有機電界発光素子が使用される各種の分野、例えば、フラットパネル・ディスプレイ(例えばOAコンピュータ用や壁掛けテレビ)や面発光体としての特徴を生かした光源(例えば、複写機の光源、液晶ディスプレイや計器類のバックライト光源)、表示板、標識灯等の分野において、好適に使用することが出来る。
The composition for a charge transport film of the present invention has high storage stability, can form a film uniformly when forming an organic layer by a wet film formation method, and does not cause a disadvantage from an industrial viewpoint.
In addition, an organic electroluminescent device having an organic layer formed by a wet film formation method using the charge transport film composition of the present invention does not cause a short circuit or a dark spot, and has a long driving life.
Thus, the present invention provides a light source (for example, a copier) utilizing characteristics of various fields in which an organic electroluminescent element is used, for example, a flat panel display (for example, for an OA computer or a wall-mounted television) or a surface light emitter. Can be suitably used in the fields of a light source, a liquid crystal display and a backlight light source of instruments), a display panel, a marker lamp and the like.

1 基板
2 陽極
3 正孔注入層
4 正孔輸送層
5 発光層
6 正孔阻止層
7 電子輸送層
8 電子注入層
9 陰極
1 Substrate
2 Anode
3 Hole injection layer
4 hole transport layer
5 Light emitting layer
6 Hole blocking layer
7 Electron transport layer
8 Electron injection layer
9 Cathode

Claims (14)

熱解離可溶性基を有する重合体、電子受容性化合物及び有機溶媒を含有する電荷輸送膜用組成物であって、
静的光散乱測定において、散乱角(2θ)が8°であるときに、下記式(1)を満たすことを特徴とする電荷輸送膜用組成物。
ms/Im0≦35 (1)
(式(1)中、Imsは電荷輸送膜用組成物の補正散乱強度を表し、Ims=I×100/Tとして算出される値である。
m0は電荷輸送膜用組成物に含有される有機溶媒の補正散乱強度を表し、Im0=I×100/Tとして算出される値である。
また、Iは静的光散乱測定による、電荷輸送膜用組成物の散乱強度、
は静的光散乱測定による、電荷輸送膜用組成物に含有される有機溶媒の散乱強度、
は透過率測定による、光散乱測定波長での電荷輸送膜用組成物の透過率(%)、
は透過率測定による、光散乱測定波長での電荷輸送膜用組成物に含有される有機溶媒の透過率(%)、 を表す。)
A charge transport film composition comprising a polymer having a thermally dissociable soluble group, an electron accepting compound and an organic solvent,
In the static light scattering measurement, the charge transport film composition satisfies the following formula (1) when the scattering angle (2θ) is 8 °.
I ms / I m0 ≦ 35 (1)
(In formula (1), I ms represents the corrected scattering intensity of the charge transport film composition, and is a value calculated as I ms = I s × 100 / T s .
I m0 represents the corrected scattering intensity of the organic solvent contained in the charge transport film composition, and is a value calculated as I m0 = I 0 × 100 / T 0 .
Also, I s by a static light scattering measurement, the scattering intensity of the charge transport coating composition,
I 0 is the scattering intensity of the organic solvent contained in the composition for a charge transport film by static light scattering measurement,
T s is the transmittance (%) of the charge transport film composition at the light scattering measurement wavelength, measured by transmittance.
T 0 represents the transmittance (%) of the organic solvent contained in the charge transport film composition at the light scattering measurement wavelength by transmittance measurement. )
静的光散乱測定において、散乱角(2θ)が、8°および15°であるときに、ImsおよびIm0が上記式(1)を満たすことを特徴とする、請求項1に記載の電荷輸送膜用組成物。 The charge according to claim 1, wherein, in the static light scattering measurement, when the scattering angle (2θ) is 8 ° and 15 °, I ms and I m0 satisfy the above formula (1). A composition for a transport membrane. 静的光散乱測定において、散乱角(2θ)が、8°≦2θ≦15°であるときに、ImsおよびIm0が常に前記式(1)を満たすことを特徴とする、請求項1又は2に記載の電荷輸送膜用組成物。 In the static light scattering measurement, when the scattering angle (2θ) is 8 ° ≦ 2θ ≦ 15 °, I ms and I m0 always satisfy the equation (1), 3. The charge transport film composition according to 2. 前記熱解離可溶性基を有する重合体が、
繰り返し単位内に芳香族環を有し、前記芳香族環に結合した炭化水素環に、前記熱解離可溶性基が結合していることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか一項に記載の電荷輸送膜用組成物。
The polymer having the thermally dissociable soluble group is
The aromatic dissociation-soluble group is bonded to a hydrocarbon ring having an aromatic ring in a repeating unit and bonded to the aromatic ring, according to any one of claims 1 to 3. The composition for charge transport films as described.
前記熱解離可溶性基が 逆ディールスアルダー反応により熱解離する基であることを特徴とする、請求項1〜4のいずれか一項に記載の電荷輸送膜用組成物。   The composition for charge transport film according to any one of claims 1 to 4, wherein the thermally dissociable soluble group is a group thermally dissociated by a reverse Diels-Alder reaction. 前記熱解離可溶性基が、100℃以上300℃以下で熱解離する基であることを特徴とする、請求項1〜5のいずれか一項に記載の電荷輸送膜用組成物。   The composition for charge transport film according to any one of claims 1 to 5, wherein the thermally dissociable soluble group is a group that thermally dissociates at 100 ° C or more and 300 ° C or less. 前記熱解離可溶性基が、エテノ基またはエタノ基を含む環であることを特徴とする、請求項1〜6のいずれか一項に記載の電荷輸送膜用組成物。   The charge transport film composition according to claim 1, wherein the thermally dissociable soluble group is an etheno group or a ring containing an ethano group. 前記重合体が、下記式(U1)または式(U2)で表される構造を繰り返し単位中に含むことを特徴とする、請求項1〜7のいずれか一項に記載の電荷輸送膜用組成物。
Figure 2011202124
(前記重合体が、式(U1)または式(U2)で表される構造を主鎖繰り返し単位中に有する場合は式(U1)または式(U2)は2価の基を表す。
前記重合体が、式(U1)または式(U2)で表される構造を側鎖に有する場合は式(U1)または式(U2)は1価の基を表し、XおよびXで表される基の末端は水素原子である。
式(U1)において、
1及びXは、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数6以上50以下の
2価の芳香族炭化水素環基、または置換基を有していてもよい炭素数5以上50以下の2価の芳香族複素環基を表す。
環Aは解離性基が結合する芳香族環を表し、芳香族炭化水素環であってもよく、芳香族複素環であってもよいが、電気化学的安定性に優れるため、電荷が局在化しにくいため、芳香族炭化水素環であることが好ましい。該芳香族環は置換基を有していてもよく、また、該置換基同士が直接または2価の連結基を介して環を形成していてもよい。
、S、R41〜R46は、それぞれ独立に、水素原子、水酸基、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環基、置換基を有していてもよい芳香族複素環基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいアリールオキシ基、置換基を有していてもよいアシル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有していてもよいアルキニル基、置換基を有していてもよいアシルオキシ基、置換基を有していてもよいアリールアミノ基、置換基を有していてもよいへテロアリールアミノ基または置換基を有していてもよいアシルアミノ基を表す。
また、式(U2)において、
11〜S14、R51〜R56、X、Xおよび環Bは、それぞれ独立に、上記S、S、R41〜R46、X、Xおよび環Aとして示したものと同様である。
〜nはそれぞれ独立に、0〜5の整数を表す。)
The composition for a charge transport film according to any one of claims 1 to 7, wherein the polymer contains a structure represented by the following formula (U1) or formula (U2) in a repeating unit. object.
Figure 2011202124
(When the polymer has a structure represented by the formula (U1) or the formula (U2) in the main chain repeating unit, the formula (U1) or the formula (U2) represents a divalent group.
When the polymer has a structure represented by the formula (U1) or the formula (U2) in the side chain, the formula (U1) or the formula (U2) represents a monovalent group, and is represented by X 2 and X 4 The terminal of the group to be formed is a hydrogen atom.
In formula (U1):
X 1 and X 2 are each independently a divalent aromatic hydrocarbon ring group having 6 to 50 carbon atoms that may have a substituent, or 5 carbon atoms that may have a substituent. Represents a divalent aromatic heterocyclic group of 50 or less.
Ring A 0 represents an aromatic ring to which a dissociable group is bonded, and may be an aromatic hydrocarbon ring or an aromatic heterocyclic ring. However, since the electrochemical stability is excellent, the charge is locally An aromatic hydrocarbon ring is preferable because it is difficult to be present. The aromatic ring may have a substituent, and the substituents may form a ring directly or via a divalent linking group.
S 1 , S 2 , R 41 to R 46 are each independently a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkyl group which may have a substituent, an aromatic hydrocarbon ring group which may have a substituent, An aromatic heterocyclic group which may have a substituent, an aralkyl group which may have a substituent, an alkoxy group which may have a substituent, an aryloxy which may have a substituent A group, an acyl group which may have a substituent, an alkenyl group which may have a substituent, an alkynyl group which may have a substituent, an acyloxy group which may have a substituent, It represents an arylamino group which may have a substituent, a heteroarylamino group which may have a substituent, or an acylamino group which may have a substituent.
In the formula (U2),
S 11 to S 14 , R 51 to R 56 , X 3 , X 4 and ring B 0 are each independently as S 1 , S 2 , R 41 to R 46 , X 1 , X 2 and ring A 0. It is the same as that shown.
n 1 ~n 4 each independently represent an integer of 0 to 5. )
熱解離可溶性基を有する重合体が、下記式(4)で表される繰り返し単位を含むことを特徴とする、請求項1〜8の何れか一項に記載の電荷輸送膜用組成物。
Figure 2011202124
(式中、mは0〜3の整数を表し、
Ar31、及びAr32は、各々独立して、直接結合、2価の、置換基を有していても
よい芳香族炭化水素基又は置換基を有していてもよい芳香族複素環基を表し、Ar33〜Ar35は、各々独立に、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基又は置換基を有していてもよい芳香族複素環基を表す。Ar33及びAr35は1価の基を、Ar34は2価の基を示す。
但し、Ar31及びAr32が同時に、直接結合であることはない。)
The charge transport film composition according to any one of claims 1 to 8, wherein the polymer having a thermally dissociable soluble group contains a repeating unit represented by the following formula (4).
Figure 2011202124
(In the formula, m represents an integer of 0 to 3,
Ar 31 and Ar 32 each independently represent a direct bond, a divalent aromatic hydrocarbon group which may have a substituent, or an aromatic heterocyclic group which may have a substituent. Ar 33 to Ar 35 each independently represents an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent or an aromatic heterocyclic group which may have a substituent. Ar 33 and Ar 35 represent a monovalent group, and Ar 34 represents a divalent group.
However, Ar 31 and Ar 32 are not simultaneously a direct bond. )
電子受容性化合物が、下記式(I−1)〜(I−3)のいずれかで表される化合物からなる群より選ばれることを特徴とする、 請求項1〜9に記載の電荷輸送膜用組成物。
Figure 2011202124
(式(I−1)〜(I−3)中、R11、R21及びR31は、各々独立に、A1〜A3と炭素原子で結合する有機基を表す。R12、R22、R23及びR32〜R34は、各々独立に、置換基を表す。R11〜R34のうち隣接する2以上の基が、互いに結合して環を形成していてもよい。
1およびA2は、周期表第3周期以降(第3〜第6周期)の元素、Aは周期表第2周期以降(第2〜第6周期)の元素であって、Aは長周期型周期表の第17族に属する元素を表し、Aは長周期型周期表の第16族に属する元素を表し、Aは長周期型周期表の第15族に属する元素を表す。
1 n1-〜Z3 n3-は、各々独立に、対アニオンを表す。
〜nは、各々独立に、対アニオンZ1 n1-〜Z3 n3-のイオン価に相当する任意の正の整数である。)
The charge transport film according to claim 1, wherein the electron-accepting compound is selected from the group consisting of compounds represented by any of the following formulas (I-1) to (I-3): Composition.
Figure 2011202124
(In formulas (I-1) to (I-3), R 11 , R 21 and R 31 each independently represents an organic group bonded to A 1 to A 3 through a carbon atom. R 12 , R 22 , R 23 and R 32 to R 34 each independently represents a substituent, and two or more adjacent groups of R 11 to R 34 may be bonded to each other to form a ring.
A 1 and A 2 are elements after the third period (third to sixth periods) of the periodic table, A 3 is an element after the second period (second to sixth periods) of the periodic table, and A 1 is A 2 represents an element belonging to Group 16 of the long-periodic periodic table, and A 3 represents an element belonging to Group 15 of the long-periodic periodic table. .
Z 1 n1 − to Z 3 n3 each independently represents a counter anion.
n 1 to n 3 are each independently an arbitrary positive integer corresponding to the ionic value of the counter anion Z 1 n1 − to Z 3 n3 − . )
有機電界発光素子用であることを特徴とする、請求項1〜10の何れか一項に記載の電荷輸送膜用組成物。   It is an organic electroluminescent element, The composition for charge transport films as described in any one of Claims 1-10 characterized by the above-mentioned. 基板上に、陽極及び陰極、該陽極及び陰極の間に配置された有機層を有する有機電界発光素子において、該有機層の少なくとも一層が、請求項11に記載の電荷輸送膜用組成物を用いて形成された有機層であることを特徴とする、有機電界発光素子。   In the organic electroluminescent element which has an organic layer arrange | positioned between an anode and a cathode and this anode and a cathode on a board | substrate, at least one layer of this organic layer uses the composition for charge transport films | membranes of Claim 11. An organic electroluminescent device, characterized in that the organic electroluminescent device is an organic layer formed in the above manner. 請求項12に記載の有機電界発光素子を含むことを特徴とする、有機ELディスプレイ。   An organic EL display comprising the organic electroluminescent element according to claim 12. 請求項12に記載の有機電界発光素子を含むことを特徴とする、有機EL照明。   An organic EL illumination comprising the organic electroluminescent element according to claim 12.
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