JP2011197186A - Method for manufacturing wafer lens module, and method for manufacturing lens module - Google Patents

Method for manufacturing wafer lens module, and method for manufacturing lens module Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for appropriately sticking a wafer lens array having warpage.SOLUTION: The method for manufacturing the wafer lens module obtained by superposing a plurality of wafer lens arrays including a plurality of lenses arrayed one-dimensionally or two-dimensionally, and a substrate part to couple the lenses mutually includes: a step of fixing the wafer lens array on a substrate having higher rigidity than the wafer lens array; a step of remedying the warpage of the wafer lens array in a state the wafer lens array is fixed on the substrate having the higher rigidity; a step of bonding the wafer lens arrays fixed on the substrate having the higher rigidity so that the wafer lens arrays may be opposed to each other; and a step of removing the substrate having the higher rigidity from the wafer lens array after bonding.

Description

本発明はウェハレンズモジュールの製造方法および、該ウェハレンズモジュールの製造方法を利用したレンズモジュールの製造方法に関する。また、該ウェハレンズモジュールの製造方法を製造する際に得られるウェハレンズアレイよりも剛性の高い基板に固定されたウェハレンズモジュールに関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a wafer lens module and a method for manufacturing a lens module using the method for manufacturing a wafer lens module. The present invention also relates to a wafer lens module fixed to a substrate having higher rigidity than a wafer lens array obtained when manufacturing the method for manufacturing the wafer lens module.

ウェハレンズモジュールを製造する一般的な方法として、特許文献1に記載のような、平行平板の表裏に樹脂のレンズ部を成形する方法が知られている。この方法では平行平板とレンズ部の屈折率差から界面での反射によりレンズ性能が低下するという問題があった。また、特許文献1では、レンズの1つをガラスで加工しているが、ガラス部分は加工が困難なため、レンズ形状に制限があるという問題点もあった。これに対し、基板部及びレンズ部を同一材質で一体成形する方法も提案されている。例えば、特許文献2に記載する方法である。しかし、同一材質で一体成形する場合、成形の都合上、材質が実質的に樹脂に限られる。そして、樹脂製のウェハレンズアレイは反りが問題となる。反りが大きいウェハレンズアレイを2枚以上貼り合わせる場合、ウェハレンズアレイの貼り合わせ時に、光軸ずれや接着不良等の問題が発生しやすい。結果として、得られるレンズモジュールの性能が悪化したり、製品の得率が低下するという問題があった。   As a general method for manufacturing a wafer lens module, a method of molding resin lens portions on the front and back of a parallel plate as described in Patent Document 1 is known. This method has a problem that the lens performance deteriorates due to reflection at the interface due to the difference in refractive index between the parallel plate and the lens portion. In Patent Document 1, one of the lenses is processed with glass. However, since the glass portion is difficult to process, there is a problem that the lens shape is limited. On the other hand, a method of integrally forming the substrate portion and the lens portion with the same material has also been proposed. For example, it is a method described in Patent Document 2. However, when integrally molding with the same material, the material is substantially limited to resin for convenience of molding. The warpage of the resin wafer lens array becomes a problem. When two or more wafer lens arrays having large warpage are bonded, problems such as optical axis misalignment and adhesion failure are likely to occur when the wafer lens arrays are bonded. As a result, there are problems that the performance of the obtained lens module is deteriorated and the yield of the product is lowered.

一方、特許文献3には、複数のレンズを組み合わせる場合において、レンズをダミーの基板に固定した後、レンズが成形された面の裏面を研磨したものを1組用意し、研磨面同士を貼り合わせた後、ダミーの基板を除去する技術が開示されている。   On the other hand, in Patent Document 3, in the case of combining a plurality of lenses, after preparing the lens on a dummy substrate, prepare a set of polished back surfaces of the surfaces on which the lenses are molded, and bond the polished surfaces together. After that, a technique for removing the dummy substrate is disclosed.

WO2008/068909号パンフレットWO2008 / 068909 pamphlet WO2008/153102号パンフレットWO2008 / 153102 pamphlet 特開2005−43411号公報JP 2005-43411 A

上述のとおり、ウェハレンズアレイを貼り合わせる場合に、反りが問題となる場合がある。特に、薄くて反りが大きいウェハレンズアレイでは深刻である。本発明はかかる問題点を回避することを目的としたものであって、反りを生じるウェハレンズアレイを適切に貼り合わせることが可能なウェハレンズモジュールの製造方法を提供することを目的とする。   As described above, warping may be a problem when wafer lens arrays are bonded together. This is particularly serious in a wafer lens array which is thin and warps. An object of the present invention is to avoid such problems, and it is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a wafer lens module capable of appropriately bonding wafer lens arrays that cause warping.

かかる状況のもと、本発明者が鋭意検討を行った結果、ウェハレンズアレイを剛性の高い基板に固定した状態で、反りを矯正することを検討した。すなわち、特許文献3では、マイクロレンズアレイをダミーの基板には貼り付けた後に研磨しているが、マイクロレンズアレイの反りが強い場合、ダミー基板の材質等によっては、ダミー基板ごと反ってしまう場合がある。
そこで、本発明では、ウェハレンズアレイを該ウェハレンズアレイよりも剛性の高い基板に固定した状態で、反りを矯正し、その状態で、ウェハレンズアレイ同士を接合させることにより、適切に精度よくウェハレンズアレイを接合できることを見出し、本発明を完成するに至った。
Under such circumstances, as a result of intensive studies by the present inventor, it was studied to correct the warp in a state where the wafer lens array is fixed to a highly rigid substrate. That is, in Patent Document 3, the microlens array is affixed to a dummy substrate and then polished. However, if the microlens array is warped strongly, the dummy substrate may be warped depending on the material of the dummy substrate. There is.
Therefore, in the present invention, the wafer lens array is fixed to a substrate having rigidity higher than that of the wafer lens array, the warp is corrected, and the wafer lens arrays are bonded to each other in this state, so that the wafer is appropriately and accurately obtained. The inventors have found that a lens array can be joined, and have completed the present invention.

具体的には、以下の手段により達成された。
(1)一次元または二次元に配列される複数のレンズ部と、該レンズ部を相互に連結する基板部を備えたウェハレンズアレイを複数重ね合わせたウェハレンズモジュールの製造方法であって、
ウェハレンズアレイを該ウェハレンズアレイよりも剛性の高い基板に固定する工程と、
ウェハレンズアレイを剛性の高い基板に固定した状態で反りを矯正する工程と、
前記剛性の高い基板に固定したウェハレンズアレイ同士をウェハレンズアレイが対向するように接合する工程と、
該接合後にウェハレンズアレイから剛性の高い基板を除去する工程を含むことを特徴とするウェハレンズモジュールの製造方法。
(2)一次元または二次元に配列される複数のレンズ部と、該レンズ部を相互に連結する基板部を備えたウェハレンズアレイを該ウェハレンズアレイよりも剛性の高い基板に固定する工程と、
ウェハレンズアレイを剛性の高い基板に固定した状態で矯正する工程と、
剛性の高い基板に固定したウェハレンズアレイ同士を接合した後、剛性の高い基板の一方を除去する工程と、
剛性の高い基板に貼り合わせたウェハレンズアレイから剛性の高い基板の一方のみを除去した状態で、レンズユニットごとに切断した後、他方の剛性の高い基板を除去する工程を含む、レンズモジュールの製造方法。
(3)接合したウェハレンズアレイから剛性の高い基板を除去する際の剛性の高い基板を除去する条件が、該剛性の高い基板同士で互いに異なる、(2)に記載のレンズモジュールの製造方法。
(4)ウェハレンズアレイから剛性の高い基板を、2段階の温度で加熱することにより、一方ずつ段階的に除去することを特徴とする、(2)または(3)に記載のレンズモジュールの製造方法。
(5)剛性の高い基板とウェハレンズアレイとは、ウェハレンズアレイの基板部のみで接合している、(1)に記載のウェハレンズモジュールの製造方法。
(6)剛性の高い基板を、ウェハレンズアレイの表面の凹凸との嵌合により固定することを特徴とする(1)に記載のウェハレンズモジュールの製造方法。
(7)剛性の高い基板を、接着シートを用いてウェハレンズアレイに固定することを特徴とする(1)、(5)または(6)に記載のウェハレンズモジュールの製造方法。
(8)剛性の高い基板を、接着剤を用いてウェハレンズアレイに固定することを特徴とする(1)、(5)または(6)に記載のウェハレンズモジュールの製造方法。
(9)ウェハレンズアレイおよび剛性の高い基板、ならびに、接着シートまたは接着剤が、紫外線透過性を有することを特徴とする、(7)または(8)に記載のウェハレンズモジュールの製造方法。
(10)剛性の高い基板に固定したウェハレンズアレイを、治具を用いて真空吸着して矯正することを特徴とする(1)、(5)〜(9)のいずれか1項に記載のウェハレンズモジュールの製造方法。
(11)剛性の高い基板に固定したウェハレンズアレイ同士を接合する際に、ウェハレンズアレイ同士の平行性を高める処理を行うことを特徴とする(1)、(5)〜(10)のいずれか1項に記載のウェハレンズモジュールの製造方法。
(12)前記ウェハレンズアレイが樹脂製である、(1)、(5)〜(11)のいずれか1項に記載のウェハレンズモジュールの製造方法。
(13)一次元または二次元に配列される複数のレンズ部と、該レンズ部を相互に連結する基板部を備えた第一のウェハレンズアレイおよび第二のウェハレンズアレイを、それぞれのウェハレンズアレイよりも剛性の高い基板に固定し、第一のウェハレンズアレイおよび第二のウェハレンズアレイを、それぞれ、剛性の高い基板に固定した状態で反りを矯正し、剛性の高い基板に固定した第一のウェハレンズアレイおよび第二のウェハレンズアレイをレンズ側が対向するように接合した後、
該接合している状態のウェハレンズアレイから、剛性の高い基板の一方を除去して得られることを特徴とする剛性の高い基板に固定されたウェハレンズモジュール。
Specifically, it was achieved by the following means.
(1) A method of manufacturing a wafer lens module in which a plurality of lens parts arranged in one or two dimensions and a wafer lens array including a substrate part that interconnects the lens parts are overlapped,
Fixing the wafer lens array to a substrate having higher rigidity than the wafer lens array;
A process of correcting warpage with the wafer lens array fixed to a rigid substrate;
Bonding the wafer lens arrays fixed to the rigid substrate so that the wafer lens arrays face each other;
A method of manufacturing a wafer lens module, comprising a step of removing a highly rigid substrate from the wafer lens array after the bonding.
(2) fixing a wafer lens array including a plurality of lens units arranged one-dimensionally or two-dimensionally and a substrate unit interconnecting the lens units to a substrate having higher rigidity than the wafer lens array; ,
Correcting the wafer lens array in a state of being fixed to a rigid substrate;
A process of removing one of the rigid substrates after bonding the wafer lens arrays fixed to the rigid substrate;
Manufacturing of a lens module including a step of cutting each lens unit after removing only one of the rigid substrates from the wafer lens array bonded to the highly rigid substrate, and then removing the other rigid substrate. Method.
(3) The method for manufacturing a lens module according to (2), wherein the highly rigid substrates are different from each other in terms of removing the highly rigid substrates from the bonded wafer lens array.
(4) The manufacturing of the lens module according to (2) or (3), wherein the substrate having high rigidity is heated from the wafer lens array at a temperature in two stages to be removed step by step. Method.
(5) The method for manufacturing a wafer lens module according to (1), wherein the highly rigid substrate and the wafer lens array are joined only by the substrate portion of the wafer lens array.
(6) The method for manufacturing a wafer lens module according to (1), wherein the substrate having high rigidity is fixed by fitting with the irregularities on the surface of the wafer lens array.
(7) The method for producing a wafer lens module according to (1), (5), or (6), wherein a highly rigid substrate is fixed to the wafer lens array using an adhesive sheet.
(8) The method for manufacturing a wafer lens module according to (1), (5), or (6), wherein a highly rigid substrate is fixed to the wafer lens array using an adhesive.
(9) The method for producing a wafer lens module according to (7) or (8), wherein the wafer lens array, the highly rigid substrate, and the adhesive sheet or adhesive have ultraviolet transparency.
(10) The wafer lens array fixed to a highly rigid substrate is corrected by vacuum suction using a jig, and the correction is performed according to any one of (1) and (5) to (9) Manufacturing method of wafer lens module.
(11) Any one of (1) and (5) to (10), wherein when the wafer lens arrays fixed to a highly rigid substrate are bonded together, a process for increasing the parallelism between the wafer lens arrays is performed. A method for producing a wafer lens module according to claim 1.
(12) The method for manufacturing a wafer lens module according to any one of (1) and (5) to (11), wherein the wafer lens array is made of a resin.
(13) A first wafer lens array and a second wafer lens array each including a plurality of lens units arranged one-dimensionally or two-dimensionally and a substrate unit interconnecting the lens units. The first wafer lens array and the second wafer lens array are fixed to a rigid substrate, and the warp is corrected with the first wafer lens array and the second wafer lens array fixed to the rigid substrate. After bonding the one wafer lens array and the second wafer lens array so that the lens sides face each other,
A wafer lens module fixed to a highly rigid substrate, wherein the wafer lens module is obtained by removing one of the highly rigid substrates from the bonded wafer lens array.

本発明により、反りの強いウェハレンズアレイについても、高い精度で貼り合わせることが可能になった。   According to the present invention, a wafer lens array having a strong warp can be bonded with high accuracy.

本発明のレンズモジュールの製造工程を示す概略図である。It is the schematic which shows the manufacturing process of the lens module of this invention.

以下において、本発明の内容について詳細に説明する。尚、本願明細書において「〜」とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。   Hereinafter, the contents of the present invention will be described in detail. In the present specification, “to” is used to mean that the numerical values described before and after it are included as a lower limit value and an upper limit value.

本発明のウェハレンズモジュールの製造方法は、(1)ウェハレンズアレイを該ウェハレンズアレイよりも剛性の高い基板に固定する工程と、(2)ウェハレンズアレイを剛性の高い基板に固定した状態で反りを矯正する工程と、(3)前記剛性の高い基板に固定したウェハレンズアレイ同士をウェハレンズアレイが対向するように接合する工程と、(4)該接合後にウェハレンズアレイから剛性の高い基板を除去する工程を含む。
また、本発明のレンズモジュールの製造方法は、上記ウェハレンズアレイの製造方法において、さらに、(5)剛性の高い基板に貼り合わせたウェハレンズアレイから剛性の高い基板の一方のみを除去した状態で、レンズユニットごとに切断した後、他方の剛性の高い基板を除去する工程を含むことが好ましい。
ここで、本発明におけるウェハレンズアレイとは、一次元または二次元に配列される複数のレンズ部と、該レンズ部を相互に連結する基板部を備えたウェハレンズアレイである。本発明では、このようなウェハレンズアレイを複数重ね合わせてウェハレンズモジュールを製造する。さらに、ウェハレンズアレイをレンズユニットごとに裁断して、レンズモジュールを製造する。
The method for manufacturing a wafer lens module according to the present invention includes (1) a step of fixing a wafer lens array to a substrate having a higher rigidity than the wafer lens array, and (2) a state in which the wafer lens array is fixed to a substrate having a higher rigidity. A step of correcting warpage, (3) a step of bonding wafer lens arrays fixed to the high-stiffness substrate so that the wafer lens arrays face each other, and (4) a substrate having high rigidity from the wafer lens array after the bonding. The process of removing.
The lens module manufacturing method of the present invention is the above-described method for manufacturing a wafer lens array, in which (5) only one of the rigid substrates is removed from the wafer lens array bonded to the highly rigid substrate. It is preferable to include a step of removing the other rigid substrate after cutting for each lens unit.
Here, the wafer lens array in the present invention is a wafer lens array provided with a plurality of lens portions arranged one-dimensionally or two-dimensionally and a substrate portion that interconnects the lens portions. In the present invention, a wafer lens module is manufactured by overlapping a plurality of such wafer lens arrays. Further, the lens module is manufactured by cutting the wafer lens array for each lens unit.

以下、図1に従って、本発明の好ましいレンズモジュールの製造方法を説明する。図1では、レンズ面に垂直な面の断面図で示している。図1において、1はウェハレンズアレイを、2・2’はそれぞれ剛性の高い基板を、3は粘着テープを、4および4'はそれぞれウェハレンズアレイを剛性の高い基板に固定したものを、5および5'はそれぞれ治具を、6は接着層を示している。図1では、(2)までの工程と、(3)工程では尺度を変えて示している。また、本発明のレンズモジュールの製造方法は、これらの方法に限られるものではないことは言うまでもない。   Hereinafter, a preferred method of manufacturing a lens module according to the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a cross-sectional view of a surface perpendicular to the lens surface. In FIG. 1, 1 is a wafer lens array, 2 and 2 'are rigid substrates, 3 is an adhesive tape, and 4 and 4' are wafer wafer arrays fixed to a rigid substrate. And 5 'are jigs, and 6 is an adhesive layer. In FIG. 1, the scale up to the steps (2) and (3) are changed. Needless to say, the manufacturing method of the lens module of the present invention is not limited to these methods.

(1)ウェハレンズアレイを該ウェハレンズアレイよりも剛性の高い基板に固定する工程
本発明では、ウェハレンズアレイをウェハレンズアレイよりも剛性の高い基板に固定する(図1の(1))。通常、ウェハレンズアレイ1は、反っている。これは、ウェハレンズアレイが薄いためである。ウェハレンズアレイは、通常、レンズ面に垂直な方向の最大幅が500μm〜1500μmである。この反り幅は、樹脂製のウェハレンズアレイの場合、通常、数十マイクロメートルであり、例えば、40〜60μmである。このように反ったままの状態のもの複数枚を精度よく接合することは極めて困難である。そこで、本発明では、ウェハレンズアレイよりも剛性の高い基板2に固定している。ウェハレンズアレイが樹脂製の場合、剛性の高い基板としては、ガラス、LCP樹脂、セラミック、金属が挙げられる。本発明では特に、レンズアレイ同士の接合に紫外線硬化型接着剤を用いる場合、ウェハレンズアレイおよび剛性の高い基板として、紫外線透過性のものを用いる。紫外線透過性材料としては、ガラスやポリカーボネート等の高剛性プラスチックが例示される。
ここで、ウェハレンズアレイよりも剛性の高い基板は、反り幅が、ウェハレンズアレイよりも少なく、通常は、35μm以下であり、さらには、15μm〜35μm程度である。本発明で用いるウェハレンズアレイよりも剛性の高い基板は、厚さが500μm〜1500μmであることが好ましい。このような厚さの剛性の高い基板を用いることにより、該基板をウェハレンズアレイに設けたまま裁断することが容易になる。
ウェハレンズアレイを剛性の高い基板に固定する方法は、特に定めるものではないが、図1では、粘着テープ3で貼り合わせている。そのほか、接着剤を用いて貼り合わせてもよい。接着剤としては、光硬化型、熱硬化型、常温硬化型、シート型接着剤などから、適宜選定することができる。
また、剛性の高い基板とウェハレンズアレイとは、ウェハレンズアレイの基板部のみで接合していることが好ましい。このような手段を採用することにより、基板とレンズアレイの接合部材によるレンズ部の汚れを防止でき、また、レンズアレイ同士のアライメント精度を向上させることができる。一方、剛性の高い基板を、ウェハレンズアレイの表面の凹凸との嵌合により固定してもよい。具体的には、ウェハレンズアレイに周期的に凹形状を成形金型を加工して付与し、剛性基板にも同周期で凸形状を付与し、該凹凸部を勘合させる等の手段によって行う。
(1) Step of fixing wafer lens array to substrate having higher rigidity than wafer lens array In the present invention, the wafer lens array is fixed to a substrate having higher rigidity than the wafer lens array ((1) in FIG. 1). Normally, the wafer lens array 1 is warped. This is because the wafer lens array is thin. The wafer lens array usually has a maximum width in the direction perpendicular to the lens surface of 500 μm to 1500 μm. In the case of a resin wafer lens array, the warp width is usually several tens of micrometers, for example, 40 to 60 μm. It is extremely difficult to join a plurality of sheets in a warped state with high accuracy. Therefore, in the present invention, it is fixed to the substrate 2 having higher rigidity than the wafer lens array. When the wafer lens array is made of resin, examples of the highly rigid substrate include glass, LCP resin, ceramic, and metal. In the present invention, in particular, when an ultraviolet curable adhesive is used for bonding between lens arrays, an ultraviolet transmissive material is used as the wafer lens array and the highly rigid substrate. Examples of the ultraviolet light transmissive material include high-rigidity plastics such as glass and polycarbonate.
Here, the substrate having higher rigidity than the wafer lens array has a warp width smaller than that of the wafer lens array, and is usually 35 μm or less, and further is about 15 μm to 35 μm. The substrate having higher rigidity than the wafer lens array used in the present invention preferably has a thickness of 500 μm to 1500 μm. By using such a highly rigid substrate, it becomes easy to cut the substrate while it is provided on the wafer lens array.
A method for fixing the wafer lens array to the highly rigid substrate is not particularly defined, but in FIG. In addition, you may bond together using an adhesive agent. The adhesive can be appropriately selected from a photo-curing type, a thermosetting type, a room temperature curing type, a sheet type adhesive, and the like.
Moreover, it is preferable that the highly rigid substrate and the wafer lens array are joined only by the substrate portion of the wafer lens array. By adopting such means, it is possible to prevent the lens portion from being soiled by the bonding member between the substrate and the lens array, and to improve the alignment accuracy between the lens arrays. On the other hand, a highly rigid substrate may be fixed by fitting with the irregularities on the surface of the wafer lens array. Specifically, the concave shape is periodically processed and applied to the wafer lens array, the convex shape is also provided to the rigid substrate at the same period, and the uneven portion is fitted.

ここで、樹脂製のウェハレンズアレイの好ましい態様について説明する。本発明で用いるウェハレンズアレイは、好ましくは、熱により硬化する樹脂組成物、あるいは活性エネルギー線の照射(例えば紫外線、電子線照射)により硬化する樹脂組成物からなることが好ましい。型形状の転写適性等、成形性の観点から硬化前に適度な流動性を有していることが好ましい。具体的には常温で液体であり、粘度が1000〜50000mPa・s程度であるものが好ましい。一方、硬化後にはリフロー工程を通しても熱変形及び着色しない程度の耐熱性を有していることが好ましい。該観点から、硬化物のガラス転移温度は200℃以上であることが好ましく、250℃以上であることがより好ましく、300℃以上であることが特に好ましい。樹脂組成物にこのような高い耐熱性を付与するためには、分子レベルで運動性を束縛することが必要であり、有効な手段としては、(1)単位体積あたりの架橋密度を上げる手段、(2)剛直な環構造を有する樹脂を利用する手段(例えばシクロヘキサン、ノルボルナン、テトラシクロドデカン等の脂環構造、ベンゼン、ナフタレン等の芳香環構造、9,9−ビフェニルフルオレン等のカルド構造、スピロビインダン等のスピロ構造を有する樹脂、具体的に例えば、特開平9−137043号公報、同10−67970号公報、特開2003−55316号公報、同2007−334018号公報、同2007−238883号公報等に記載の樹脂)、(3)無機微粒子など高いガラス転移温度を有する物質を均一に分散させる手段(例えば特開平5−209027号公報、同10−298265号公報等に記載)等が挙げられる。これらの手段は複数併用してもよく、流動性、収縮率、屈折率特性など他の特性を損なわない範囲で調整することが好ましい。形状転写精度の観点から硬化反応による体積収縮率が小さい樹脂組成物が好ましい。本発明に用いられる樹脂組成物の硬化収縮率としては10%以下であることが好ましく、5%以下であることがより好ましく、3%以下であることが特に好ましい。   Here, a preferable aspect of the resin wafer lens array will be described. The wafer lens array used in the present invention is preferably made of a resin composition that is cured by heat, or a resin composition that is cured by irradiation with active energy rays (for example, irradiation with ultraviolet rays or electron beams). From the viewpoint of moldability, such as mold shape transfer suitability, it is preferable to have appropriate fluidity before curing. Specifically, a liquid that is liquid at room temperature and has a viscosity of about 1000 to 50000 mPa · s is preferable. On the other hand, it is preferable to have heat resistance that does not cause thermal deformation and coloring even after the reflow process after curing. From this viewpoint, the glass transition temperature of the cured product is preferably 200 ° C. or higher, more preferably 250 ° C. or higher, and particularly preferably 300 ° C. or higher. In order to impart such high heat resistance to the resin composition, it is necessary to constrain the mobility at the molecular level, and as effective means, (1) means for increasing the crosslinking density per unit volume, (2) Means utilizing a resin having a rigid ring structure (for example, alicyclic structures such as cyclohexane, norbornane, tetracyclododecane, aromatic ring structures such as benzene and naphthalene, cardo structures such as 9,9-biphenylfluorene, spirobiindane Resins having a spiro structure such as JP-A-9-137043, JP-A-10-67970, JP-A-2003-55316, JP-A-2007-334018, JP-A-2007-238883, etc. (3) means for uniformly dispersing a substance having a high glass transition temperature such as inorganic fine particles (for example, No. 5-209027, JP-described), and the like in the 10-298265 Patent Publication. A plurality of these means may be used in combination, and it is preferable to make adjustments within a range that does not impair other characteristics such as fluidity, shrinkage rate, and refractive index characteristics. From the viewpoint of shape transfer accuracy, a resin composition having a small volume shrinkage due to the curing reaction is preferable. The curing shrinkage rate of the resin composition used in the present invention is preferably 10% or less, more preferably 5% or less, and particularly preferably 3% or less.

また、レンズ部の形状は特に限定されず、用途などによって適宜調整することができる。但し、基板部とレンズ部は、それぞれの樹脂組成物が硬化したときに、光学特性が実質的に同じになる樹脂組成物からなることが好ましい。ここで実質的に同等の光学特性とは、屈折率の差が0.01以下であって、かつ、アッベ数の差が5以下である範囲のものをいう。屈折率の差は0.005以下がより好ましく、0.003以下が更に好ましい。アッベ数の差は、2以下がより好ましく、1以下が更に好ましく、0が最も好ましい。   Further, the shape of the lens portion is not particularly limited, and can be appropriately adjusted depending on the application. However, the substrate portion and the lens portion are preferably made of a resin composition that has substantially the same optical characteristics when the respective resin compositions are cured. Here, the substantially equivalent optical characteristics are those having a refractive index difference of 0.01 or less and an Abbe number difference of 5 or less. The difference in refractive index is more preferably 0.005 or less, and still more preferably 0.003 or less. The Abbe number difference is more preferably 2 or less, still more preferably 1 or less, and most preferably 0.

(2)ウェハレンズアレイを剛性の高い基板に固定した状態で反りを矯正する工程
本発明では、ウェハレンズアレイを剛性の高い基板に固定したもの4をこの状態でそりを矯正する(図1の(2))。すなわち、ウェハレンズアレイを剛性の高い基板に固定しても、該固定したもの4は、通常は、反っている。この反り幅は、剛性の高い基板の反り幅と同程度であり、通常は、35μm以下であり、さらには、15μm〜35μm程度である。
ウェハレンズアレイを剛性の高い基板に固定した状態で矯正する方法は特に定めるものではないが、通常、矯正治具5で矯正する。特に、治具を用いて真空吸着して矯正することが好ましい。これらの方法は、特開平8−273208号公報に記載の方法を参酌することができる。
(2) Step of correcting warpage in a state where the wafer lens array is fixed to a substrate having high rigidity In the present invention, the wafer lens array 4 fixed to a substrate having high rigidity is corrected in this state (see FIG. 1). (2)). That is, even if the wafer lens array is fixed to a highly rigid substrate, the fixed one 4 is usually warped. This warp width is about the same as the warp width of a highly rigid substrate, and is usually 35 μm or less, and further about 15 μm to 35 μm.
A method for correcting the wafer lens array in a state in which the wafer lens array is fixed to a highly rigid substrate is not particularly defined, but is usually corrected by the correction jig 5. In particular, it is preferable to correct by vacuum suction using a jig. For these methods, the method described in JP-A-8-273208 can be referred to.

(3)前記剛性の高い基板に固定したウェハレンズアレイ同士をウェハレンズアレイが対向するように接合する工程
次に、剛性の高い基板に固定したウェハレンズアレイ同士4・4’は、ウェハレンズアレイ同士が対向するように接合する(図1の(3))。治具等で矯正したままの状態で接合する方が、より精度の高いレンズモジュールが得られる。
接合する方法は、特に定めるものではないが、通常は、粘着テープや接着剤で貼り合わせる。接着剤としては、光硬化型、熱硬化型、常温硬化型、シート型接着剤など適宜選定することができる。またウェハレンズアレイ間のギャップを更に高精度に制御する目的として粒子分散を行った接着剤を使用することも可能である。また接着剤はカーボン等が分散した黒色で、遮光性を有することがより好ましい。
また、剛性の高い基板に固定したウェハレンズアレイ同士を接合する際に、ウェハレンズアレイ同士の平行性を高める処理を行うことも好ましい。具体的には、ウェハレンズアレイ同士の貼り合わせにおいて、通常アライナーを使用する。ウェハレンズアレイを剛性基板に貼り合わせる前に、このアライナーの上下の真空吸着ホルダーに剛性基板のみを吸着した状態で、剛性基板同士が向き合うように準備する。アライナーの片方の吸着台は通常可動であり、真空で吸着することで固定される。この吸着台を可動にしたまま、吸着している剛性基板を反対側の剛性基板に押し付け、その状態で吸着台を吸着して固定する。これを維持したまま剛性基板にウェハレンズアレイを貼り付け、反りを矯正した状態でウェハレンズアレイ同士を接合するなどの手段によって行う。このような手段を採用することにより、ウェハレンズアレイの接合時の光軸ずれ、接着不良等が改善される。
さらに、ウェハレンズアレイを接合する際、これらのレンズの光軸合わせ(アライメント)が重要になる。従って、本発明で用いるウェハレンズアレイには、アライメントマークが付与されていることが好ましく、その部分は、剛性の高い基板との接合面以外の部分に設けられることが好ましい。このような構成を採用することにより、アライメントマークの視認精度が向上し、それに伴いウェハレンズアレイのアライメント精度を向上させることができる。
(3) The process of joining the wafer lens arrays fixed to the highly rigid substrates so that the wafer lens arrays face each other. Next, the wafer lens arrays fixed to the highly rigid substrates, 4 and 4 ′, are wafer lens arrays. It joins so that it may mutually oppose ((3) of FIG. 1). A lens module with higher accuracy can be obtained by bonding in a state where it is corrected with a jig or the like.
The method of joining is not particularly defined, but is usually bonded with an adhesive tape or an adhesive. As the adhesive, a photo-curing type, a thermosetting type, a room temperature curing type, a sheet type adhesive, or the like can be appropriately selected. It is also possible to use an adhesive in which particles are dispersed for the purpose of controlling the gap between the wafer lens arrays with higher accuracy. The adhesive is more preferably black in which carbon or the like is dispersed and has a light shielding property.
It is also preferable to perform a process of increasing the parallelism between the wafer lens arrays when bonding the wafer lens arrays fixed to a highly rigid substrate. Specifically, an aligner is usually used in bonding wafer lens arrays. Before the wafer lens array is bonded to the rigid substrate, the rigid substrates are prepared so as to face each other in a state where only the rigid substrate is attracted to the vacuum suction holders above and below the aligner. The suction table on one side of the aligner is normally movable and is fixed by vacuum suction. The suction board is pressed against the rigid board on the opposite side while the suction stage is movable, and the suction stage is sucked and fixed in this state. While maintaining this, the wafer lens array is attached to the rigid substrate, and the wafer lens arrays are bonded to each other with the warp corrected. By adopting such means, optical axis misalignment, adhesion failure and the like during bonding of the wafer lens array are improved.
Furthermore, when the wafer lens array is bonded, alignment of the optical axes of these lenses is important. Therefore, the wafer lens array used in the present invention is preferably provided with an alignment mark, and the portion is preferably provided on a portion other than the bonding surface with the highly rigid substrate. By adopting such a configuration, the visual recognition accuracy of the alignment mark is improved, and accordingly, the alignment accuracy of the wafer lens array can be improved.

ここで、図1に示すように、剛性の高い基板に固定したウェハレンズアレイ同士4・4’が有するウェハレンズアレイは、光学特性及びレンズ形状は異なっていることが好ましい。特に高−低2種以上のアッベ数の異なるウェハレンズアレイを接合することが好ましい。高アッベ数側のウェハレンズアレイは、アッベ数が50以上であることが好ましく、より好ましくは55以上であり、特に好ましくは60以上である。屈折率は1.52以上であることが好ましく、より好ましくは1.55以上であり、特に好ましくは1.57以上である。低アッベ数側のウェハレンズアレイは、アッベ数が30以下であることが好ましく、より好ましくは25以下であり、特に好ましくは20以下である。屈折率は1.60以上であることが好ましく、より好ましくは1.63以上であり、特に好ましくは1.65以上である。
またレンズ形状はこれらの光学特性に応じて適宜変形される。またレンズ形状は凸の球面に限らず、凹の球面や非球面であってもよく、凸若しくは凹の球面、または非球面を種々に組み合わせることができる。
Here, as shown in FIG. 1, it is preferable that the wafer lens arrays included in the wafer lens arrays 4 and 4 ′ fixed to a highly rigid substrate have different optical characteristics and lens shapes. It is particularly preferable to join two or more wafer lens arrays having different Abbe numbers. The wafer lens array on the high Abbe number side preferably has an Abbe number of 50 or more, more preferably 55 or more, and particularly preferably 60 or more. The refractive index is preferably 1.52 or more, more preferably 1.55 or more, and particularly preferably 1.57 or more. The wafer lens array on the low Abbe number side preferably has an Abbe number of 30 or less, more preferably 25 or less, and particularly preferably 20 or less. The refractive index is preferably 1.60 or more, more preferably 1.63 or more, and particularly preferably 1.65 or more.
The lens shape is appropriately modified according to these optical characteristics. The lens shape is not limited to a convex spherical surface, and may be a concave spherical surface or an aspherical surface, and various combinations of convex or concave spherical surfaces or aspherical surfaces can be used.

(4)接合後にウェハレンズアレイから剛性の高い基板を除去する工程
本発明では、剛性の高い基板に固定したウェハレンズアレイ同士の接合後にウェハレンズアレイから剛性の高い基板を除去する(図1の(4))。ここで、剛性の高い基板は、同時に除去してもよいが、一方ずつ段階的に除去することが好ましい。本発明では、剛性の高い基板に貼り合わせたウェハレンズアレイから剛性の高い基板の一方のみを除去した状態で、レンズユニットごとに切断した後、他方の剛性の高い基板を除去することがより好ましい。この点について、後述する。
剛性の高い基板を除去する方法は特に定めるものではないが、例えば、加熱により、接着剤を溶融させて剥離することが挙げられる。
(4) Step of removing a highly rigid substrate from the wafer lens array after bonding In the present invention, the highly rigid substrate is removed from the wafer lens array after bonding of the wafer lens arrays fixed to the highly rigid substrate (FIG. 1). (4)). Here, the highly rigid substrate may be removed at the same time, but it is preferable to remove one by one step by step. In the present invention, it is more preferable to remove the other rigid substrate after cutting for each lens unit in a state where only one of the rigid substrates is removed from the wafer lens array bonded to the rigid substrate. . This point will be described later.
The method for removing the substrate having high rigidity is not particularly defined, and for example, the adhesive can be melted and peeled off by heating.

(5)剛性の高い基板に貼り合わせたウェハレンズアレイから剛性の高い基板の一方のみを除去した状態で、レンズユニットごとに切断した後、他方の剛性の高い基板を除去する工程
本発明では、上述のとおり、剛性の高い基板に貼り合わせたウェハレンズアレイから剛性の高い基板の一方のみを除去した状態で、レンズユニットごとに切断した後(図1の(5−1))、他方の剛性の高い基板を除去する(図1の(5−2))ことが好ましい。段階的な除去により、複数のメリットが得られる。第一に、ウェハレンズモジュールの切断が容易になる。すなわち、ウェハレンズモジュールを切断する際に、レンズが破損してしまったりすることがあったが、本発明では切断の際の破損を抑制することが可能になる。第二に、ダイサーの吸着台で剛性基板ごとレンズアレイの反りを矯正するため、切断面の基板面に対する垂直度が向上する。第三に切断したレンズモジュールのハンドリング性が向上する。例えば、(通常ウェハ形状の切断にはダイシングテープ等の仮固定シートを使用するが、本発明のように片側の剛性基板に貼りついている状態で切断することで、ダイシングテープ使用のプロセスを簡略化でき、またその後のサンプル運搬、ピックアップも容易となる。さらに、レンズ部は剛性の高い基板で被覆されているため、レンズ部の汚れを防止できる。すなわち、本発明では、剛性の高い基板は、単に反りの矯正だけでなく、切断(ダイシング)およびその後の段階(ピックアップ等)においても、ダミーの基板を利用して、ハンドリング性を向上させ、レンズ面を保護することが可能になる。
(5) The process of removing the other highly rigid substrate after cutting for each lens unit in a state where only one of the highly rigid substrates is removed from the wafer lens array bonded to the highly rigid substrate. As described above, after cutting each lens unit with only one of the rigid substrates removed from the wafer lens array bonded to the highly rigid substrate ((5-1) in FIG. 1), the other stiffness is obtained. It is preferable to remove the high substrate ((5-2) in FIG. 1). Multiple benefits can be obtained by gradual removal. First, the wafer lens module can be easily cut. That is, when the wafer lens module is cut, the lens may be damaged. However, in the present invention, it is possible to suppress the damage at the time of cutting. Second, since the warp of the lens array along with the rigid substrate is corrected by the adsorption table of the dicer, the perpendicularity of the cut surface to the substrate surface is improved. Third, handling of the cut lens module is improved. For example (usually a temporary fixing sheet such as a dicing tape is used for cutting the wafer shape, but the process of using the dicing tape is simplified by cutting the wafer while it is attached to a rigid substrate on one side as in the present invention. In addition, since the lens portion is covered with a rigid substrate, contamination of the lens portion can be prevented, that is, in the present invention, the rigid substrate is In addition to correcting warpage, it is possible to improve handling and protect the lens surface by using a dummy substrate not only in cutting (dicing) and the subsequent stage (pickup or the like).

また、本発明では、接合したウェハレンズアレイから剛性の高い基板を除去する際の剛性の高い基板を除去する条件が、剛性の高い基板2・2’同士で互いに異なることが好ましい。例えば、溶融する温度が異なる接着剤をそれぞれ用いることが考えられる。このような手段を採用することにより、2段階の温度で加熱することのみによって、簡単に、剛性の高い基板を、一方ずつ段階的に除去することができる。   Moreover, in the present invention, it is preferable that the conditions for removing the highly rigid substrate when the highly rigid substrate is removed from the bonded wafer lens array are different between the highly rigid substrates 2 and 2 ′. For example, it is conceivable to use adhesives having different melting temperatures. By adopting such means, it is possible to easily remove the rigid substrate one by one only by heating at two stages of temperature.

本発明の方法で得られるレンズモジュールは、撮像ユニット等に好ましく用いることができる。例えば、本発明のレンズモジュールを備えた撮像ユニットであって、撮像素子と、前記撮像素子が設けられた半導体基板とを備え、前記基板部と前記半導体基板とが、スペーサを介して一体に接合されたものを挙げることができる。   The lens module obtained by the method of the present invention can be preferably used for an imaging unit or the like. For example, an imaging unit including the lens module of the present invention, comprising an imaging device and a semiconductor substrate provided with the imaging device, wherein the substrate portion and the semiconductor substrate are integrally bonded via a spacer. Can be mentioned.

本発明のウェハレンズモジュールの製造方法は、反りの強いウェハレンズアレイを用いても、効率よくウェハレンズモジュールを製造できる。さらに、本発明のレンズモジュールの製造方法においては、段階的に剛性の高い基板を除去することにより、反りの矯正以外に、ハンドリング性の向上や汚れ防止など種々のメリットがある。従って、精密な素子に好ましく用いることができる。   The wafer lens module manufacturing method of the present invention can efficiently manufacture a wafer lens module even if a wafer lens array with strong warpage is used. Furthermore, in the method for manufacturing a lens module according to the present invention, there are various merits such as improvement of handling property and prevention of dirt in addition to correction of warping by removing a substrate having high rigidity in stages. Therefore, it can be preferably used for a precision element.

1 ウェハレンズアレイ
2 剛性の高い基板
3 粘着テープ
4 ウェハレンズアレイを剛性の高い基板に固定したもの
5 治具
6 接着層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Wafer lens array 2 Rigid substrate 3 Adhesive tape 4 Wafer lens array fixed to a rigid substrate 5 Jig 6 Adhesive layer

Claims (13)

一次元または二次元に配列される複数のレンズ部と、該レンズ部を相互に連結する基板部を備えたウェハレンズアレイを複数重ね合わせたウェハレンズモジュールの製造方法であって、
ウェハレンズアレイを該ウェハレンズアレイよりも剛性の高い基板に固定する工程と、
ウェハレンズアレイを剛性の高い基板に固定した状態で反りを矯正する工程と、
前記剛性の高い基板に固定したウェハレンズアレイ同士をウェハレンズアレイが対向するように接合する工程と、
該接合後にウェハレンズアレイから剛性の高い基板を除去する工程を含むことを特徴とするウェハレンズモジュールの製造方法。
A method of manufacturing a wafer lens module in which a plurality of lens parts arranged in a one-dimensional or two-dimensional manner and a plurality of wafer lens arrays each including a substrate part that interconnects the lens parts are overlapped,
Fixing the wafer lens array to a substrate having higher rigidity than the wafer lens array;
A process of correcting warpage with the wafer lens array fixed to a rigid substrate;
Bonding the wafer lens arrays fixed to the rigid substrate so that the wafer lens arrays face each other;
A method of manufacturing a wafer lens module, comprising a step of removing a highly rigid substrate from the wafer lens array after the bonding.
一次元または二次元に配列される複数のレンズ部と、該レンズ部を相互に連結する基板部を備えたウェハレンズアレイを該ウェハレンズアレイよりも剛性の高い基板に固定する工程と、
ウェハレンズアレイを剛性の高い基板に固定した状態で矯正する工程と、
剛性の高い基板に固定したウェハレンズアレイ同士を接合した後、剛性の高い基板の一方を除去する工程と、
剛性の高い基板に貼り合わせたウェハレンズアレイから剛性の高い基板の一方のみを除去した状態で、レンズユニットごとに切断した後、他方の剛性の高い基板を除去する工程を含む、レンズモジュールの製造方法。
Fixing a wafer lens array including a plurality of lens portions arranged in one dimension or two dimensions and a substrate portion interconnecting the lens portions to a substrate having higher rigidity than the wafer lens array;
Correcting the wafer lens array in a state of being fixed to a rigid substrate;
A process of removing one of the rigid substrates after bonding the wafer lens arrays fixed to the rigid substrate;
Manufacturing of a lens module including a step of cutting each lens unit after removing only one of the rigid substrates from the wafer lens array bonded to the highly rigid substrate, and then removing the other rigid substrate. Method.
接合したウェハレンズアレイから剛性の高い基板を除去する際の剛性の高い基板を除去する条件が、該剛性の高い基板同士で互いに異なる、請求項2に記載のレンズモジュールの製造方法。 The method for manufacturing a lens module according to claim 2, wherein conditions for removing a substrate having high rigidity when the substrate having high rigidity is removed from the bonded wafer lens array are different between the substrates having high rigidity. ウェハレンズアレイから剛性の高い基板を、2段階の温度で加熱することにより、一方ずつ段階的に除去することを特徴とする、請求項2または3に記載のレンズモジュールの製造方法。 4. The method of manufacturing a lens module according to claim 2, wherein the substrate having high rigidity is removed from the wafer lens array step by step by heating at a temperature of two steps. 剛性の高い基板とウェハレンズアレイとは、ウェハレンズアレイの基板部のみで接合している、請求項1に記載のウェハレンズモジュールの製造方法。 The method for manufacturing a wafer lens module according to claim 1, wherein the rigid substrate and the wafer lens array are joined only by the substrate portion of the wafer lens array. 剛性の高い基板を、ウェハレンズアレイの表面の凹凸との嵌合により固定することを特徴とする請求項1に記載のウェハレンズモジュールの製造方法。 2. The method of manufacturing a wafer lens module according to claim 1, wherein the substrate having high rigidity is fixed by fitting with the irregularities on the surface of the wafer lens array. 剛性の高い基板を、接着シートを用いてウェハレンズアレイに固定することを特徴とする請求項1、5または6に記載のウェハレンズモジュールの製造方法。 7. The method of manufacturing a wafer lens module according to claim 1, wherein a highly rigid substrate is fixed to the wafer lens array using an adhesive sheet. 剛性の高い基板を、接着剤を用いてウェハレンズアレイに固定することを特徴とする請求項1、5または6に記載のウェハレンズモジュールの製造方法。 7. The method of manufacturing a wafer lens module according to claim 1, wherein a highly rigid substrate is fixed to the wafer lens array using an adhesive. ウェハレンズアレイおよび剛性の高い基板、ならびに、接着シートまたは接着剤が、紫外線透過性を有することを特徴とする、請求項7または8に記載のウェハレンズモジュールの製造方法。 9. The method for manufacturing a wafer lens module according to claim 7, wherein the wafer lens array, the rigid substrate, and the adhesive sheet or adhesive have ultraviolet transparency. 剛性の高い基板に固定したウェハレンズアレイを、治具を用いて真空吸着して矯正することを特徴とする請求項1、5〜9のいずれか1項に記載のウェハレンズモジュールの製造方法。 10. The method of manufacturing a wafer lens module according to claim 1, wherein a wafer lens array fixed to a highly rigid substrate is corrected by vacuum suction using a jig. 剛性の高い基板に固定したウェハレンズアレイ同士を接合する際に、ウェハレンズアレイ同士の平行性を高める処理を行うことを特徴とする請求項1、5〜10のいずれか1項に記載のウェハレンズモジュールの製造方法。 11. The wafer according to claim 1, wherein when the wafer lens arrays fixed to a highly rigid substrate are bonded to each other, a process for increasing the parallelism between the wafer lens arrays is performed. A method for manufacturing a lens module. 前記ウェハレンズアレイが樹脂製である、請求項1、5〜11のいずれか1項に記載のウェハレンズモジュールの製造方法。 The method for manufacturing a wafer lens module according to claim 1, wherein the wafer lens array is made of a resin. 一次元または二次元に配列される複数のレンズ部と、該レンズ部を相互に連結する基板部を備えた第一のウェハレンズアレイおよび第二のウェハレンズアレイを、それぞれのウェハレンズアレイよりも剛性の高い基板に固定し、第一のウェハレンズアレイおよび第二のウェハレンズアレイを、それぞれ、剛性の高い基板に固定した状態で反りを矯正し、剛性の高い基板に固定した第一のウェハレンズアレイおよび第二のウェハレンズアレイをレンズ側が対向するように接合した後、
該接合している状態のウェハレンズアレイから、剛性の高い基板の一方を除去して得られることを特徴とする剛性の高い基板に固定されたウェハレンズモジュール。
A first wafer lens array and a second wafer lens array each having a plurality of lens portions arranged in a one-dimensional or two-dimensional manner, and a substrate portion for interconnecting the lens portions. First wafer fixed to a rigid substrate with the first wafer lens array and the second wafer lens array fixed to a rigid substrate while the warp is corrected. After joining the lens array and the second wafer lens array so that the lens sides face each other,
A wafer lens module fixed to a highly rigid substrate, wherein the wafer lens module is obtained by removing one of the highly rigid substrates from the bonded wafer lens array.
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