JP2011195526A - Method for producing high purity anilide structure-containing glycidyl ether compound - Google Patents
Method for producing high purity anilide structure-containing glycidyl ether compound Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011195526A JP2011195526A JP2010065685A JP2010065685A JP2011195526A JP 2011195526 A JP2011195526 A JP 2011195526A JP 2010065685 A JP2010065685 A JP 2010065685A JP 2010065685 A JP2010065685 A JP 2010065685A JP 2011195526 A JP2011195526 A JP 2011195526A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- anilide
- glycidyl ether
- compound
- ether compound
- ether
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Epoxy Compounds (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
Description
本発明は、工業的に有用な高純度アニリド構造含有グリシジルエーテル化合物の製造方法に関するものである。 The present invention relates to a method for producing industrially useful high-purity anilide structure-containing glycidyl ether compounds.
アニリド構造含有グリシジルエーテル化合物は、有機化学分野および高分子化学分野で広く用いられている化合物であり、ファインケミカル、医農薬原料および樹脂原料、さらには電子情報材料や光学材料など、工業用途として多岐にわたる分野で有用な化合物である。 Anilide structure-containing glycidyl ether compounds are widely used in the fields of organic chemistry and polymer chemistry, and have a wide range of industrial applications such as fine chemicals, raw materials for medical and agricultural chemicals and resin materials, and electronic information materials and optical materials. It is a compound useful in the field.
さらに１官能エポキシ化合物であるアニリド構造含有グリシジルエーテル化合物は、多官能エポキシ化合物と混合し、種々の硬化剤で硬化させることにより、一般的に機械的性質、耐水性、耐薬品性、耐熱性および電気特性に優れた硬化物となり、接着剤、塗料、積層板および複合材料などの広い分野に利用されている。 Furthermore, the anilide structure-containing glycidyl ether compound, which is a monofunctional epoxy compound, is generally mixed with a polyfunctional epoxy compound and cured with various curing agents to generally provide mechanical properties, water resistance, chemical resistance, heat resistance and It is a cured product with excellent electrical properties and is used in a wide range of fields such as adhesives, paints, laminates and composite materials.
従来、アニリド構造含有グリシジルエーテル化合物の製造法として、サリチルアニリドを１０％水酸化ナトリウムに懸濁し、エピクロロヒドリンを加え、６０℃で２４時間加熱撹拌する方法が知られていた（特許文献１、非特許文献１参照）。上述の方法は、反応時間が長いため、目的生成物がさらに反応し、多くの副生物が生成していた。このため、目的のアニリド構造含有グリシジルエーテル化合物を単離精製する工程で大きな負荷がかかっていた。すなわち、副生物の生成を抑制するため、できる限り短時間で反応を終了させる必要があった。 Conventionally, as a method for producing an anilide structure-containing glycidyl ether compound, a method of suspending salicylanilide in 10% sodium hydroxide, adding epichlorohydrin, and heating and stirring at 60 ° C. for 24 hours has been known (Patent Document 1). Non-Patent Document 1). In the above-described method, since the reaction time is long, the target product further reacts and many by-products are generated. For this reason, a large load is applied in the process of isolating and purifying the target anilide structure-containing glycidyl ether compound. That is, in order to suppress the production of by-products, it was necessary to complete the reaction in as short a time as possible.
また、従来は、アニリド構造含有グリシジルエーテル化合物の単離精製は、アニリド構造含有グリシジルエーテル化合物を含有する油層の塩を水および飽和食塩水で洗浄・除去した後、無水硫酸マグネシウムで油層中の水分を脱水、蒸発乾固しており、これは工業的製造法とは言い難かった。すなわち、高収率で高純度アニリド構造含有グリシジルエーテル化合物を得るためには最適な晶析溶媒を選択する必要があった。 Conventionally, the isolation and purification of the anilide structure-containing glycidyl ether compound has been performed by washing and removing the oil layer salt containing the anilide structure-containing glycidyl ether compound with water and saturated saline, and then using anhydrous magnesium sulfate to remove the water content in the oil layer. Was dehydrated and evaporated to dryness, which was difficult to say as an industrial production method. That is, in order to obtain a high-purity anilide structure-containing glycidyl ether compound with a high yield, it is necessary to select an optimal crystallization solvent.
本発明の目的は、高収率で高純度アニリド構造含有グリシジルエーテル化合物の製造方法を提供することにある。 An object of the present invention is to provide a method for producing a high-purity anilide structure-containing glycidyl ether compound in a high yield.
本発明者らは、上記従来技術の現状に鑑み、製造方法について鋭意検討した結果、下記一般式の In light of the current state of the prior art described above, the present inventors have intensively studied the production method, and as a result, the following general formula
水酸基含有アニリド化合物とエピクロロヒドリンを、アルカリ、および、第四級アンモニウム塩を共存させて反応させて、下記一般式の A hydroxyl group-containing anilide compound and epichlorohydrin are allowed to react in the presence of an alkali and a quaternary ammonium salt to give the following general formula:
アニリド構造含有グリシジルエーテル化合物を製造する高純度アニリド構造含有グリシジルエーテル化合物の製造方法により、反応速度が向上し、速やかに反応が終了することを見いだした。 It has been found that the reaction rate is improved and the reaction is completed quickly by the production method of the high purity anilide structure-containing glycidyl ether compound for producing the anilide structure-containing glycidyl ether compound.
本発明の高純度アニリド構造含有グリシジルエーテル化合物の製造方法によると反応が速やかに進行し、高純度アニリド構造含有グリシジルエーテル化合物を、工業的かつ高効率に生産できる。 According to the method for producing a high-purity anilide structure-containing glycidyl ether compound of the present invention, the reaction proceeds rapidly, and the high-purity anilide structure-containing glycidyl ether compound can be produced industrially and efficiently.
本発明により得られた高純度アニリド構造含有グリシジルエーテル化合物は、硬化剤を混合して硬化させることにより、高強度、高弾性率、高接着性、高靭性、耐熱性、耐候性、耐溶剤性および耐衝撃性などの高機能なエポキシ樹脂硬化物を得ることができ、例えば、接着剤、塗料、強化繊維樹脂などに使用することができる硬化物を得ることができる。 The high purity anilide structure-containing glycidyl ether compound obtained by the present invention is mixed with a curing agent and cured to obtain high strength, high elastic modulus, high adhesion, high toughness, heat resistance, weather resistance, solvent resistance. In addition, it is possible to obtain a highly functional cured epoxy resin product such as impact resistance, and to obtain a cured product that can be used for, for example, adhesives, paints, reinforced fiber resins, and the like.
本発明は、高純度アニリド構造含有グリシジルエーテル化合物の製造方法である。本発明において、高純度アニリド構造含有グリシジルエーテル化合物とは、液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）で分析したときの化学純度（ａｒｅａ％）が、９５％以上のアニリド構造含有グリシジルエーテル化合物を意味する。本発明において、高純度アニリド構造含有グリシジルエーテル化合物の化学純度は、好ましくは、９７％以上、より好ましくは、９８％以上である。 The present invention is a method for producing a high-purity anilide structure-containing glycidyl ether compound. In the present invention, the high-purity anilide structure-containing glycidyl ether compound means an anilide structure-containing glycidyl ether compound having a chemical purity (area%) of 95% or more when analyzed by liquid chromatography (HPLC). In the present invention, the chemical purity of the high purity anilide structure-containing glycidyl ether compound is preferably 97% or more, and more preferably 98% or more.
以下に、本発明の高純度アニリド構造含有グリシジルエーテル化合物の製造方法について詳細に記載する。
下記一般式の
Below, it describes in detail about the manufacturing method of the highly purified anilide structure containing glycidyl ether compound of this invention.
Of the following general formula
水酸基含有アニリド化合物とエピクロロヒドリンを、アルカリ、および、第四級アンモニウム塩を共存させて反応させる。 A hydroxyl group-containing anilide compound and epichlorohydrin are reacted in the presence of an alkali and a quaternary ammonium salt.
本発明で用いられる水酸基含有アニリド化合物は、下記の一般式に示す化合物である。 The hydroxyl group-containing anilide compound used in the present invention is a compound represented by the following general formula.
本発明で用いられる水酸基含有アニリド化合物は、好ましくは、カルボニル基に対して、隣の２位に水酸基が結合した水酸基含有アニリド化合物である。 The hydroxyl group-containing anilide compound used in the present invention is preferably a hydroxyl group-containing anilide compound in which a hydroxyl group is bonded to the 2-position adjacent to the carbonyl group.
本発明の高純度アニリド構造含有グリシジルエーテル化合物の製造方法では、エピクロロヒドリンの使用量は、水酸基含有アニリド化合物に対し、１〜２０モル倍であり、より好ましくは、３〜１０モル倍である。エピクロロヒドリンの使用量が、水酸基含有アニリド化合物に対し、１〜２０モル倍であると、不純物の生成が抑制され、かつ経済的な観点からも好ましい。 In the manufacturing method of the high purity anilide structure containing glycidyl ether compound of this invention, the usage-amount of epichlorohydrin is 1-20 mol times with respect to a hydroxyl-containing anilide compound, More preferably, it is 3-10 mol times. is there. When the amount of epichlorohydrin used is 1 to 20 moles relative to the hydroxyl group-containing anilide compound, the generation of impurities is suppressed, and it is also preferable from an economical viewpoint.
本発明で用いられるアルカリは、具体的には、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸バリウム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、ナトリウムメトキシド、カリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムエトキシド、ナトリウムｎ−プロポキシド、カリウムｎ−プロポキシド、ナトリウムイソプロポキシド、カリウムイソプロポキシド、ナトリウムｎ−ブトキシド、カリウムｎ−ブトキシド、ナトリウムｔｅｒｔ−ブトキシド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド、ナトリウムｔｅｒｔ−アミラート、カリウムｔｅｒｔ−アミラート、ナトリウムｎ−ヘキシラート、およびカリウムｎ−ヘキシラートおよびテトラメチルアンモニウムヒドロキシドなどが例示されるが、中でも、水酸化ナトリウムと水酸化カリウムが好ましく用いられる。 Specifically, the alkali used in the present invention is lithium hydroxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide, barium hydroxide, magnesium hydroxide, calcium hydroxide, lithium carbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, barium carbonate, carbonate. Magnesium, calcium carbonate, lithium hydrogen carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, lithium hydride, sodium hydride, potassium hydride, sodium methoxide, potassium methoxide, sodium ethoxide, potassium ethoxide, sodium n-propoxide Potassium n-propoxide, sodium isopropoxide, potassium isopropoxide, sodium n-butoxide, potassium n-butoxide, sodium tert-butoxide, potassium tert-butoxide, sodium tert Amylate, although potassium tert- amylate, sodium n- Hekishirato, and potassium n- Hekishirato and tetramethylammonium hydroxide can be exemplified. Among them, potassium hydroxide and sodium hydroxide are preferably used.
本発明では、アルカリ化合物は、そのものを投入しても良いが、水またはアルコール溶液として滴下しても良い。 In the present invention, the alkali compound may be added as it is, but may be added dropwise as water or an alcohol solution.
アルカリ化合物の使用量は、水酸基含有アニリド化合物に対し、１〜１０モル倍が好ましく、より好ましくは１．０〜３．０モル倍用いられる。 The amount of the alkali compound used is preferably 1 to 10 mol times, more preferably 1.0 to 3.0 mol times based on the hydroxyl group-containing anilide compound.
本発明の高純度アニリド構造含有グリシジルエーテル化合物の製造方法は、第四級アンモニウム塩を共存させる。第四級アンモニウム塩は、好ましくは、触媒として作用し、水酸基含有アニリド化合物とエピクロロヒドリンとの反応を飛躍的に促進させる。 The method for producing a high-purity anilide structure-containing glycidyl ether compound of the present invention allows a quaternary ammonium salt to coexist. The quaternary ammonium salt preferably acts as a catalyst and dramatically accelerates the reaction between the hydroxyl group-containing anilide compound and epichlorohydrin.
本発明で用いられる第四級アンモニウム塩は、テトラメチルアンモニウム、トリメチル−エチルアンモニウム、ジメチルジエチルアンモニウム、トリエチル−メチルアンモニウム、トリプロピル−メチルアンモニウム、トリブチル−メチルアンモニウム、トリオクチル−メチルアンモニウム、テトラエチルアンモニウム、トリメチル−プロピルアンモニウム、トリメチルフェニルアンモニウム、ベンジルトリメチルアンモニウム、ベンジルトリエチルアンモニウム、ジアリルジメチルアンモニウム、ｎ−オクチルトリメチルアンモニウム、ステアリルトリメチルアンモニウム、セチルジメチルエチルアンモニウム、テトラプロピルアンモニウム、テトラｎ−ブチルアンモニウム、β−メチルコリン、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムおよびフェニルトリメチルアンモニウム等の臭化塩、塩化塩、ヨウ化塩、硫酸水素塩および水酸化物等を挙げることができる。 The quaternary ammonium salts used in the present invention are tetramethylammonium, trimethyl-ethylammonium, dimethyldiethylammonium, triethyl-methylammonium, tripropyl-methylammonium, tributyl-methylammonium, trioctyl-methylammonium, tetraethylammonium, trimethyl. -Propylammonium, trimethylphenylammonium, benzyltrimethylammonium, benzyltriethylammonium, diallyldimethylammonium, n-octyltrimethylammonium, stearyltrimethylammonium, cetyldimethylethylammonium, tetrapropylammonium, tetra n-butylammonium, β-methylcholine, Tetra-n-butylammonium and fluorine Bromide salts such as sulfonyl trimethylammonium, chloride salt, iodine Casio, may be mentioned hydrogen sulfate and hydroxide, and the like.
本発明で用いられる第四級アンモニウム塩は、特に好ましくは、トリオクチル−メチルアンモニウム、テトラエチルアンモニウム、ベンジルトリメチルアンモニウム、ベンジルトリエチルアンモニウム、テトラｎ−ブチルアンモニウムの臭化塩、塩化塩、硫酸水素塩および水酸化物である。 The quaternary ammonium salt used in the present invention is particularly preferably trioctyl-methylammonium, tetraethylammonium, benzyltrimethylammonium, benzyltriethylammonium, tetra-n-butylammonium bromide, chloride, hydrogensulfate and water. It is an oxide.
第四級アンモニウム塩の添加量は、水酸基含有アニリド化合物に対して０．００１〜０．５モル倍が好ましい。 The addition amount of the quaternary ammonium salt is preferably 0.001 to 0.5 mole times the hydroxyl group-containing anilide compound.
本発明の高純度アニリド構造含有グリシジルエーテル化合物の製造方法は、無溶媒でも実施しても良いし、溶媒存在下で実施しても良い。 The method for producing a high-purity anilide structure-containing glycidyl ether compound of the present invention may be carried out without a solvent or in the presence of a solvent.
本発明の高純度アニリド構造含有グリシジルエーテル化合物の製造方法では、溶媒を使用する場合、アルコールを含む溶媒が好ましく用いられる。アルコールとしては具体的にはメタノール、エタノール、１−プロパノール、１−ブタノール、１−ペンタノールおよび１−ヘキサノールなどの１級アルコール類、イソプロパノール、２−ブタノール、２−ペンタノール、３−ペンタノール、２−ヘキサノール、シクロヘキサノール、２−ヘプタノールおよび３−ヘプタノールなどの２級アルコール類、ｔｅｒｔ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ペンタノール、エチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、トリエチレングリコール、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコール-モノ ｎ−ブチルエーテル、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノフェニルエーテル、ジプロピレングリコール、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、トリプロピレングリコール、トリプロピレングリコールモノメチルエーテルおよびトリプロピレングリコール-モノ−ｎ−ブチルエーテルなどが挙げられる。中でもメタノール、エタノール、１−プロパノール、イソプロパノール、１−ブタノール、２―ブタノールを用いた場合、より好ましい。 In the method for producing a high-purity anilide structure-containing glycidyl ether compound of the present invention, when a solvent is used, a solvent containing an alcohol is preferably used. Specific examples of alcohol include primary alcohols such as methanol, ethanol, 1-propanol, 1-butanol, 1-pentanol and 1-hexanol, isopropanol, 2-butanol, 2-pentanol, 3-pentanol, Secondary alcohols such as 2-hexanol, cyclohexanol, 2-heptanol and 3-heptanol, tert-butanol, tert-pentanol, ethylene glycol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol mono-n- Propyl ether, ethylene glycol mono-n-butyl ether, ethylene glycol monophenyl ether, diethylene glycol, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol Monoethyl ether, diethylene glycol mono-n-propyl ether, diethylene glycol mono-n-butyl ether, triethylene glycol, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol-mono n-butyl ether, propylene glycol, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol mono Ethyl ether, propylene glycol mono-n-propyl ether, propylene glycol mono-n-butyl ether, propylene glycol monophenyl ether, dipropylene glycol, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol mono-n- Propyl ether, dipropylene glycol mono-n-buty Ether, tripropylene glycol, tripropylene glycol monomethyl ether and tripropylene glycol - such as mono -n- butyl ether. Of these, methanol, ethanol, 1-propanol, isopropanol, 1-butanol, and 2-butanol are more preferable.
アルコールを含む溶媒の使用量は、水酸基含有アニリド化合物に対し、好ましくは２〜２０重量倍であり、より好ましくは、２〜１０重量倍である。 The amount of the solvent containing alcohol is preferably 2 to 20 times by weight and more preferably 2 to 10 times by weight with respect to the hydroxyl group-containing anilide compound.
本発明の高純度アニリド構造含有グリシジルエーテル化合物の製造方法では、反応温度は、１０〜６０℃が好ましく、より好ましくは、３０〜５０℃である。 In the method for producing a high-purity anilide structure-containing glycidyl ether compound of the present invention, the reaction temperature is preferably 10 to 60 ° C, more preferably 30 to 50 ° C.
本発明の高純度アニリド構造含有グリシジルエーテル化合物の製造方法では、原料の仕込み順序および方法としては、下記の方法が例示される。
（１）水酸基含有アニリド化合物とエピクロロヒドリンに、アルカリを添加する。
（２）水酸基含有アニリド化合物を含む溶液とエピクロロヒドリンに、アルカリを添加する。
（３）水酸基含有アニリド化合物とエピクロロヒドリンを含む溶液に、アルカリを添加する。
（４）水酸基含有アニリド化合物を含む溶液とエピクロロヒドリンを含む溶液に、アルカリを添加する。
（５）水酸基含有アニリド化合物とアルカリに、エピクロロヒドリンを添加する。
（６）水酸基含有アニリド化合物を含む溶液とアルカリに、エピクロロヒドリンを添加する。
（７）水酸基含有アニリド化合物とアルカリに、エピクロロヒドリンを含む溶液を添加する。
（８）水酸基含有アニリド化合物を含む溶液とアルカリに、エピクロロヒドリンを含む溶液を添加する。
In the method for producing a high-purity anilide structure-containing glycidyl ether compound of the present invention, the following methods are exemplified as the raw material charging order and method.
(1) An alkali is added to the hydroxyl group-containing anilide compound and epichlorohydrin.
(2) An alkali is added to the solution containing the hydroxyl group-containing anilide compound and epichlorohydrin.
(3) An alkali is added to a solution containing a hydroxyl group-containing anilide compound and epichlorohydrin.
(4) An alkali is added to the solution containing the hydroxyl group-containing anilide compound and the solution containing epichlorohydrin.
(5) Epichlorohydrin is added to the hydroxyl group-containing anilide compound and the alkali.
(6) Epichlorohydrin is added to the solution containing the hydroxyl group-containing anilide compound and the alkali.
(7) A solution containing epichlorohydrin is added to the hydroxyl group-containing anilide compound and the alkali.
(8) A solution containing epichlorohydrin is added to the solution containing the hydroxyl group-containing anilide compound and the alkali.
本発明の高純度アニリド構造含有グリシジルエーテル化合物の製造方法では、好ましくは、上記（１）〜（４）の原料の仕込み順序および方法が好ましい。 In the method for producing a high-purity anilide structure-containing glycidyl ether compound of the present invention, the raw material charging order and method (1) to (4) are preferably used.
本発明の高純度アニリド構造含有グリシジルエーテル化合物の製造方法では、急激な発熱や反応暴走を防ぐために、添加する原料を時間をかけて連続的にまたは分割して間欠的に添加するなど反応速度に合わせて、添加速度を制御することが好ましい。添加に要する時間は、０．５〜６時間が好ましく選ばれる。 In the method for producing a glycidyl ether compound containing a high-purity anilide structure of the present invention, in order to prevent a sudden exotherm or reaction runaway, the raw material to be added is added continuously or divided over time to increase the reaction rate. In addition, it is preferable to control the addition rate. The time required for the addition is preferably selected from 0.5 to 6 hours.
本発明における反応時間は、原料添加終了後、撹拌下で、通常０．５〜１２時間である。 The reaction time in the present invention is usually 0.5 to 12 hours under stirring after completion of the raw material addition.
本発明の製造方法において、アニリド構造含有グリシジルエーテル化合物を単離精製するために、好ましくは、晶析法を用いる。晶析法としては、一般的な濃縮晶析、冷却晶析、貧溶媒晶析のいずれの方法を用いても良いし、これらを組み合わせてもよい。 In the production method of the present invention, a crystallization method is preferably used in order to isolate and purify the anilide structure-containing glycidyl ether compound. As the crystallization method, any of general concentrated crystallization, cooling crystallization, and poor solvent crystallization may be used, or these may be combined.
本発明の製造方法において、好ましく用いる晶析溶媒としては、芳香族炭化水素類、エーテル類、エステル類、ケトン類、アルコール類である。 In the production method of the present invention, preferably used crystallization solvents are aromatic hydrocarbons, ethers, esters, ketones, and alcohols.
芳香族炭化水素類としては、具体的には、ベンゼン、キシレン、ｏ−キシレン、ｍ−キシレン、ｐ−キシレン、エチルベンゼン、クメン、メシチレン、テトラリン、ブチルベンゼン、ｐ−シメン、シクロヘキシルベンゼン、ジエチルベンゼン、ペンチルベンゼン、ジペンチルベンゼン、ドデシルベンゼンなどが挙げられる。 Specific examples of aromatic hydrocarbons include benzene, xylene, o-xylene, m-xylene, p-xylene, ethylbenzene, cumene, mesitylene, tetralin, butylbenzene, p-cymene, cyclohexylbenzene, diethylbenzene, and pentyl. Examples include benzene, dipentylbenzene, dodecylbenzene and the like.
エーテル類としては、具体的には、ジイソピルエーテル、ジブチルエーテル、ジヘキシルエーテル、アニソール、フェネトール、ジフェニルエーテル、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、エチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテルおよびジエチレングリコールジブチルエーテルなどが挙げられる。 Specific examples of ethers include diisopropyl ether, dibutyl ether, dihexyl ether, anisole, phenetole, diphenyl ether, tetrahydrofuran, tetrahydropyran, ethylene glycol dibutyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, and diethylene glycol dibutyl ether. It is done.
エステル類としては、具体的には、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチルおよび酢酸イソブチルなどが挙げられる。
ケトン類としては、具体的には、アセトン、メチルエチルケトン、２−ペンタノン、３−ペンタノン、２−ヘキサン、メチルイソブチルケトン、２−ヘプタノン、４−ヘプタノン、ジイソブチルケトン、アセトニトリルアセトン、メチルオキシド、シクロヘキサノン、メチルヘキサン、アセトフェノンなどが挙げられる。
Specific examples of the esters include methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, isopropyl acetate, butyl acetate, and isobutyl acetate.
As ketones, specifically, acetone, methyl ethyl ketone, 2-pentanone, 3-pentanone, 2-hexane, methyl isobutyl ketone, 2-heptanone, 4-heptanone, diisobutyl ketone, acetonitrile acetone, methyl oxide, cyclohexanone, methyl Examples include hexane and acetophenone.
アルコール類としては、具体的には、メタノール、エタノール、１−プロパノール、１−ブタノール、１−ペンタノールおよび１−ヘキサノールなどの１級アルコール類、イソプロパノール、２−ブタノール、２−ペンタノール、３−ペンタノール、２−ヘキサノール、シクロヘキサノール、２−ヘプタノールおよび３−ヘプタノールなどの２級アルコール類、ｔｅｒｔ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ペンタノール、エチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、トリエチレングリコール、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコール−モノｎ−ブチルエーテル、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノフェニルエーテル、ジプロピレングリコール、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、トリプロピレングリコール、トリプロピレングリコールモノメチルエーテルおよびトリプロピレングリコール-モノｎ−ブチルエーテルなどが挙げられる。 Specific examples of alcohols include primary alcohols such as methanol, ethanol, 1-propanol, 1-butanol, 1-pentanol and 1-hexanol, isopropanol, 2-butanol, 2-pentanol, 3- Secondary alcohols such as pentanol, 2-hexanol, cyclohexanol, 2-heptanol and 3-heptanol, tert-butanol, tert-pentanol, ethylene glycol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol mono -N-propyl ether, ethylene glycol mono-n-butyl ether, ethylene glycol monophenyl ether, diethylene glycol, diethylene glycol monomethyl ether, polyethylene Glycol monoethyl ether, diethylene glycol mono-n-propyl ether, diethylene glycol mono-n-butyl ether, triethylene glycol, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol mono-n-butyl ether, propylene glycol, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol mono Ethyl ether, propylene glycol mono-n-propyl ether, propylene glycol mono-n-butyl ether, propylene glycol monophenyl ether, dipropylene glycol, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol mono-n- Propyl ether, dipropylene glycol mono-n Butyl ether, tripropylene glycol, tripropylene glycol monomethyl ether and tripropylene glycol - such as mono-n- butyl ether.
中でも、晶析溶媒として、アルコール類を用いた場合、収率が高く好ましい。より好ましくは、メタノール、エタノール、１−プロパノール、イソプロパノール、１−ブタノール、２―ブタノールである。 Among these, when alcohols are used as the crystallization solvent, the yield is high and preferable. More preferred are methanol, ethanol, 1-propanol, isopropanol, 1-butanol and 2-butanol.
晶析に用いる溶媒の使用量は、アニリド構造含有グリシジルエーテル化合物に対し、好ましくは１〜１０重量倍であり、より好ましくは、２〜５重量倍である。また、晶析温度は、−２０〜３０℃が好ましく、より好ましくは、−５〜２０℃である。 The amount of the solvent used for crystallization is preferably 1 to 10 times by weight, more preferably 2 to 5 times by weight with respect to the anilide structure-containing glycidyl ether compound. Moreover, -20-30 degreeC is preferable and, as for crystallization temperature, More preferably, it is -5-20 degreeC.
以下、実施例により具体的に説明する。 Hereinafter, specific examples will be described.
（実施例１）
温度計、冷却管、滴下ロートおよび撹拌機を取り付けた四つ口フラスコに、エピクロロヒドリン５００ｇ（５．４ｍｏｌ）、硫酸水素テトラブチルアンモニウム９．２ｇ（０．０２７ｍｏｌ）を仕込み、これにサリチルアニリド１９２ｇ（０．９ｍｏｌ）を添加した。この混合液に４８％水酸化ナトリウム９０ｇ（１．０８ｍｏｌ）を３０℃の温度で１時間かけて滴下し、さらに５０℃の温度で３時間撹拌しながら反応を行った。反応が終わった後、２８８ｇ（１．５重量倍／サリチルアニリド）の水で生成した塩を溶解し、分離した水層を分液除去し、油層６４５ｇ（２−（２，３−エポキシ）プロポキシ−Ｎ−フェニルベンズアミド化学純度（ＨＰＬＣ ａｒｅａ％）８５％）を得た。油相からエピクロロヒドリンの一部３２０ｇを減圧下留去し、メタノール５７６ｇ（３重量倍／サリチルアニリド）を加え、０℃から５℃で１５時間撹拌することで白色結晶が析出した。濾過により結晶を分離し、メタノール２８０ｇですすぎ、減圧下に乾燥することで２−（２，３−エポキシ）プロポキシ−Ｎ−フェニルベンズアミドを主成分とする結晶が１５４ｇ（化学純度（ＨＰＬＣ ａｒｅａ％）９９％、純度換算収率（サリチルアニリド基準）６３％）得られた。なお、分析は以下の方法で実施した。
Example 1
A four-necked flask equipped with a thermometer, a condenser, a dropping funnel and a stirrer was charged with 500 g (5.4 mol) of epichlorohydrin and 9.2 g (0.027 mol) of tetrabutylammonium hydrogen sulfate. 192 g (0.9 mol) of anilide was added. To this mixed solution, 90 g (1.08 mol) of 48% sodium hydroxide was added dropwise at a temperature of 30 ° C. over 1 hour, and the reaction was further performed with stirring at a temperature of 50 ° C. for 3 hours. After the reaction was completed, the salt formed with 288 g (1.5 times by weight / salicylanilide) of water was dissolved, the separated aqueous layer was separated and removed, and 645 g (2- (2,3-epoxy) propoxy of oil layer was removed. -N-phenylbenzamide chemical purity (HPLC area%) 85%). A portion of 320 g of epichlorohydrin was distilled off from the oil phase under reduced pressure, 576 g of methanol (3 times by weight / salicylanilide) was added, and white crystals were precipitated by stirring at 0 ° C. to 5 ° C. for 15 hours. The crystals were separated by filtration, rinsed with 280 g of methanol, and dried under reduced pressure to obtain 154 g of crystals mainly composed of 2- (2,3-epoxy) propoxy-N-phenylbenzamide (chemical purity (HPLC area%)) 99%, yield in terms of purity (based on salicylanilide) 63%). The analysis was performed by the following method.
（分析条件）
カラム： ＹＭＣ―Ｐａｃｋ ＯＤＳ−ＡＭ３０３ ４．６φ×２５０ｍｍ
カラム温度： ４０℃
移動相： メタノール：０．１％（ｖ／ｖ）リン酸水溶液＝６０：４０（ｖ／ｖ）
注入量： ２μｌ
検出： ＵＶ（２５４ｎｍ）
分析時間： ３０ｍｉｎ
分析サンプル調製： サンプル０．０２ｇを秤量し、メタノール約２５ｍｌに希釈した。
(Analysis conditions)
Column: YMC-Pack ODS-AM303 4.6φ × 250mm
Column temperature: 40 ° C
Mobile phase: Methanol: 0.1% (v / v) phosphoric acid aqueous solution = 60: 40 (v / v)
Injection volume: 2 μl
Detection: UV (254 nm)
Analysis time: 30min
Analysis sample preparation: 0.02 g of sample was weighed and diluted to about 25 ml of methanol.
（実施例２）
実施例１において、４８％水酸化ナトリウムを１５０ｇ（１．８ｍｏｌ）に変更した以外は実施例１と同様に実施した。２−（２，３−エポキシ）プロポキシ−Ｎ−フェニルベンズアミドを主成分とする結晶が６７ｇ（化学純度（ＨＰＬＣ ａｒｅａ％）９８％、純度換算収率（サリチルアニリド基準）２７％）得られた。
(Example 2)
The same procedure as in Example 1 was performed except that 48% sodium hydroxide was changed to 150 g (1.8 mol) in Example 1. 67 g (chemical purity (HPLC area%) 98%, purity conversion yield (based on salicylanilide) 27%) of crystals mainly containing 2- (2,3-epoxy) propoxy-N-phenylbenzamide was obtained.
（比較例１）
実施例１において、硫酸水素テトラブチルアンモニウムを加えなかったこと以外は実施例１と同様に実施した。反応が終わった後、水で生成した塩を溶解し、水層を分液除去して得た油相を分析したところ、主成分は原料のサリチルアニリドで、２−（２，３−エポキシ）プロポキシ−Ｎ−フェニルベンズアミド化学純度（ＨＰＬＣ ａｒｅａ％）は８％であった。
(Comparative Example 1)
In Example 1, it implemented like Example 1 except not having added tetrabutylammonium hydrogen sulfate. After the reaction was completed, the salt formed in water was dissolved, and the oil phase obtained by separating and removing the aqueous layer was analyzed. As a result, the main component was salicylanilide as a raw material, and 2- (2,3-epoxy) Propoxy-N-phenylbenzamide chemical purity (HPLC area%) was 8%.
（比較例２）
実施例１において、メタノールをｎ−ヘキサンに変更した以外は実施例１と同様に実施した。２−（２，３−エポキシ）プロポキシ−Ｎ−フェニルベンズアミドを主成分とする結晶が１９２ｇ（化学純度（ＨＰＬＣ ａｒｅａ％）８５％、純度換算収率（サリチルアニリド基準）６７％）得られた。
(Comparative Example 2)
In Example 1, it implemented like Example 1 except having changed methanol into n-hexane. As a result, 192 g (chemical purity (HPLC area%) 85%, purity conversion yield (salicylanilide standard) 67%) of crystals having 2- (2,3-epoxy) propoxy-N-phenylbenzamide as a main component was obtained.
Claims (3)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2010065685A JP2011195526A (en) | 2010-03-23 | 2010-03-23 | Method for producing high purity anilide structure-containing glycidyl ether compound |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2010065685A JP2011195526A (en) | 2010-03-23 | 2010-03-23 | Method for producing high purity anilide structure-containing glycidyl ether compound |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2011195526A true JP2011195526A (en) | 2011-10-06 |
Family
ID=44874180
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2010065685A Pending JP2011195526A (en) | 2010-03-23 | 2010-03-23 | Method for producing high purity anilide structure-containing glycidyl ether compound |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2011195526A (en) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4367328A (en) * | 1981-03-05 | 1983-01-04 | The Dow Chemical Company | Epoxy resins from hydroxy benzamides |
| JPS60146852A (en) * | 1984-01-10 | 1985-08-02 | Tooa Eiyoo Kk | Propanolamine derivative |
-
2010
- 2010-03-23 JP JP2010065685A patent/JP2011195526A/en active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4367328A (en) * | 1981-03-05 | 1983-01-04 | The Dow Chemical Company | Epoxy resins from hydroxy benzamides |
| JPS60146852A (en) * | 1984-01-10 | 1985-08-02 | Tooa Eiyoo Kk | Propanolamine derivative |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4775804B2 (en) | Epoxy compound and method for producing the same | |
| JP5894144B2 (en) | Production process of divinylarene dioxide | |
| JP2011098952A (en) | Method for producing diepoxy compound | |
| JP2011195526A (en) | Method for producing high purity anilide structure-containing glycidyl ether compound | |
| WO2011118349A1 (en) | High-purity epoxy compound and method for producing same | |
| JP5935584B2 (en) | Method for producing adamantanecarboxylic acid glycidyl ester compound | |
| JP2011213683A (en) | Phthalimide structure-containing glycidyl ether compound and method for producing the same | |
| JP5894141B2 (en) | Production process of divinylarene dioxide | |
| CN103702987B (en) | The manufacture method of alkyl diol list glycidyl ether | |
| WO2014162947A1 (en) | Method for producing diglycidylamine-type epoxy compound | |
| WO2013089006A1 (en) | Method for producing glycidylamine epoxy compound | |
| KR20150040283A (en) | Crystal containing unsaturated carboxylic acid amide compound and method for producing same | |
| US8669384B2 (en) | Process for preparing divinylarene dioxides | |
| CN103288641B (en) | A kind of synthetic method of Rocryl 410 | |
| JP2013545805A (en) | Method for preparing divinylarene oxide | |
| JP5636692B2 (en) | Method for producing 5-hydroxy-1,3-dioxane and method for producing branched glycerol trimer using 5-hydroxy-1,3-dioxane obtained by the method as a raw material | |
| SG184068A1 (en) | Process for preparing divinylarene dioxides | |
| JP6909127B2 (en) | Method for producing diepoxide compound | |
| US9266849B2 (en) | Process for recovering divinylarene dioxides | |
| JP2013075889A (en) | High-purity epoxy compound and method of producing the same | |
| JP6306419B2 (en) | Monoglycidyl ether compound and monoallyl ether compound | |
| CN116462569A (en) | Process for producing aromatic olefin compound and process for purifying the same | |
| JP2001072633A (en) | PRODUCTION OF t-BUTYLCRESOLS | |
| WO2013189829A1 (en) | Process for obtaining (s)-2-benzyl-4-((3ar,7as)-hexahydro-1 h-isoindol- 2(3h)-yl)-4-oxobutanoic acid and salts thereof | |
| JP2011213620A (en) | Method for producing primary alkyl bromide |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20121221 |
|
| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20121221 |
|
| RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20121221 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140325 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20140722 |