JP2011191693A - Light selective transmission filter and method for producing the same - Google Patents

Light selective transmission filter and method for producing the same Download PDF

Info

Publication number
JP2011191693A
JP2011191693A JP2010059893A JP2010059893A JP2011191693A JP 2011191693 A JP2011191693 A JP 2011191693A JP 2010059893 A JP2010059893 A JP 2010059893A JP 2010059893 A JP2010059893 A JP 2010059893A JP 2011191693 A JP2011191693 A JP 2011191693A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
selective transmission
light selective
film
layer
transmission filter
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2010059893A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP5489796B2 (en
Inventor
Ai Matsumoto
愛 松本
Junichi Nakamura
潤一 中村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Shokubai Co Ltd
Original Assignee
Nippon Shokubai Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Shokubai Co Ltd filed Critical Nippon Shokubai Co Ltd
Priority to JP2010059893A priority Critical patent/JP5489796B2/en
Publication of JP2011191693A publication Critical patent/JP2011191693A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5489796B2 publication Critical patent/JP5489796B2/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing a light selective transmission filter, with which crack, layer peeling, break, warpage etc. do not take place, and with which a light selective transmission filter exhibiting excellent light selective transmission and having a uniform cutting plane is obtained with ease and with high productivity; and to provide the light selective transmission filter obtained with the production method, a support film of the light selective transmission filter, and a lens unit. <P>SOLUTION: The method for producing the light selective transmission filter having at least a substrate and a light selective transmission layer includes a step of cutting out the light selective transmission filter from a laminated film having the light selective transmission layer on at least one face of the substrate with a laser, wherein the substrate is a resin film composed of a resin layer formed of a predetermined organic material, or a glass film having the resin layer. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、光選択透過フィルター及びその製造方法に関する。より詳しくは、例えば光学部材、機械部品、電気・電子部品、自動車部品等の用途に用いられる光選択透過フィルターの製造方法、及び、このような製造方法から得られる光選択透過フィルターに関する。 The present invention relates to a light selective transmission filter and a manufacturing method thereof. More specifically, the present invention relates to a method for producing a light selective transmission filter used for applications such as optical members, mechanical parts, electrical / electronic parts, automobile parts, and the like, and a light selective transmission filter obtained from such a production method.

光選択透過フィルターは、特定波長の光の透過率を選択的に低減(遮断)するフィルターであり、一般に、基材と光選択透過層とを少なくとも有する構造からなる。このような光選択透過フィルターは、例えば、光学部材・機器、機械部品、電気・電子部品、自動車部品等の用途に有用であり、特に光学部材として好適に用いられている。具体的に例えば、カメラモジュールにおいては、光学ノイズとなる赤外線(特に波長>800nm)を遮断(カット)するフィルターが用いられている。このような赤外カットフィルターとしては、現在は、ガラス基材に金属等の無機層を蒸着させ無機多層膜とし、各波長の屈折率を制御した赤外線遮断ガラスが用いられており、通常は、これから所望の形状をダイシングカット法で切り出すことにより製造されている。 The light selective transmission filter is a filter that selectively reduces (blocks) the transmittance of light having a specific wavelength, and generally has a structure having at least a base material and a light selective transmission layer. Such a light selective transmission filter is useful for applications such as optical members / equipment, mechanical parts, electrical / electronic parts, automobile parts, etc., and is particularly preferably used as an optical member. Specifically, for example, in a camera module, a filter that blocks (cuts) infrared rays (particularly wavelength> 800 nm) that becomes optical noise is used. As such an infrared cut filter, an infrared shielding glass in which an inorganic layer such as a metal is vapor-deposited on a glass substrate to form an inorganic multilayer film, and the refractive index of each wavelength is controlled, is usually used. It is manufactured by cutting out a desired shape by a dicing cut method.

近年、光学部材・機器等の分野では、例えばカメラモジュールが携帯電話に搭載される等小型化が急速に進み、光学部材・機器等の小型化・軽量化が一層求められている。それに伴い、カメラモジュール等に用いられる光選択透過フィルターや、レンズ等を有するレンズユニットの小型化・軽量化も望まれるところである。そこで、充分に薄く、かつ耐熱性等の各種物性に優れる光選択透過フィルターが開発されている(特許文献1参照。)。この特許文献1には、光選択透過フィルターの切り出し方法として、レーザーカット、打ち抜き法、ダイシングカットが例示され、基材が有機材料であると、どのような切り出し法を用いても基材の欠けや割れが生じず、円形や多角形等の形状にも対応できること、及び、これらの手法の中でも打ち抜き法が好ましいこと等が記載されている。 In recent years, in the field of optical members / equipment and the like, for example, camera modules are mounted on mobile phones, and the miniaturization of the optical members / equipment and the like is further demanded. Along with this, it is also desired to reduce the size and weight of a light selective transmission filter used in a camera module or the like, or a lens unit having a lens or the like. Therefore, a light selective transmission filter that is sufficiently thin and excellent in various physical properties such as heat resistance has been developed (see Patent Document 1). This Patent Document 1 exemplifies laser cutting, punching, and dicing cut as methods for cutting out the light selective transmission filter. If the base material is an organic material, the base material can be cut off regardless of the cutting method used. No cracks occur, it can be applied to shapes such as circles and polygons, and among these methods, the punching method is preferred.

特開2008−181121号公報(第2、3、12頁等)JP 2008-181121 A (pages 2, 3, 12 etc.)

上述したように、基材と光選択透過層とを少なくとも有する光選択透過フィルターの製法には種々の切り出し方法があり、通常はダイシングカット法が採用されている。しかし、ダイシングカット法は、直線でカットする技術であり、四角形等の直線部分のみからなる形状には成形できるが、円形や楕円形等の曲線部分(非直線部分)を有する形状(異形状)に成形することはできない。また、異形状への成形、すなわち異形成形は、打ち抜き法やレーザーカット法により可能となるが、ガラスを基材とし光選択透過層とガラス基材とのみからなる構造の光選択透過フィルターでは、これらの手法を用いても基材や光選択透過層が割れるため適応することができない一方で、特許文献1に示されているように、樹脂を基材とする場合は可能である。しかしながら、特許文献1に記載の打ち抜き法では、金型やトムソン刃を、切り出そうとする対象物に押し当ててカットするため、樹脂を基材とする場合であっても、径が小さく、かつ曲線部分を含むような複雑な形状を得ようとする場合は、微小面積に高圧がかかり割れが生じることがある。したがって、たとえ、より径が小さく、かつ曲線部分を含むような微小異形状からなる光選択透過フィルターであっても、割れやクラック、層剥離等が生じることなく、より容易かつ高生産性で得ることができる微細加工技術が必要とされている。 As described above, there are various cutting methods for producing a light selective transmission filter having at least a base material and a light selective transmission layer, and a dicing cut method is usually employed. However, the dicing cut method is a technique of cutting with a straight line and can be formed into a shape consisting of only a straight part such as a quadrangle, but a shape having a curved part (non-linear part) such as a circle or an ellipse (unshaped) It cannot be molded into. In addition, forming into an irregular shape, that is, an irregularly shaped shape is possible by a punching method or a laser cutting method, but in a light selective transmission filter having a structure composed of only a light selective transmission layer and a glass base material using glass as a base material, Even if these methods are used, the substrate and the light selective transmission layer are broken and cannot be applied. However, as shown in Patent Document 1, it is possible to use a resin as a substrate. However, in the punching method described in Patent Document 1, since the die and the Thomson blade are pressed against the object to be cut and cut, the diameter is small even when the resin is used as a base material. In addition, when trying to obtain a complicated shape including a curved portion, a high pressure is applied to a small area, and cracking may occur. Therefore, even if the light selective transmission filter has a small irregular shape with a smaller diameter and includes a curved portion, it can be obtained more easily and with high productivity without causing cracks, cracks, delamination, etc. There is a need for microfabrication techniques that can be used.

ところで、例えば携帯電話等の光学機器に光選択透過フィルターとレンズとを備えたレンズユニットを装着する場合、従来はレンズと光選択透過フィルターとの形状が異なっていた。つまり、既存のレンズユニットでは、光選択透過フィルター(光選択透過層/ガラス基材)の形状は、ダイシングカット法で加工された四角形である一方で、レンズは円形や楕円形等の曲線部分を有する形状のものが通常であるため、この形状の相違に起因して、レンズと光選択透過フィルターとの接着作業が困難であった。特に小型の光学機器・部材では非常に煩雑な作業となるため、取扱性や作業性、生産性の点で課題があった。 By the way, when a lens unit including a light selective transmission filter and a lens is attached to an optical device such as a mobile phone, the shapes of the lens and the light selective transmission filter are conventionally different. That is, in the existing lens unit, the shape of the light selective transmission filter (light selective transmission layer / glass substrate) is a quadrangle processed by the dicing cut method, while the lens has a curved portion such as a circle or an ellipse. Since the shape having the shape is normal, the adhesion work between the lens and the light selective transmission filter is difficult due to the difference in shape. In particular, a small optical device / member is a very complicated operation, and there are problems in terms of handling, workability, and productivity.

本発明は、上記現状に鑑みてなされたものであり、クラックや層剥離、割れ、反り等が生じることなく、切断面の揃った、優れた光選択透過性を発揮できる光選択透過フィルターを、容易かつ高生産性で得ることができる光選択透過フィルターの製造方法、該製造方法により得られる光選択透過フィルター、光選択透過フィルター支持体フィルム、及び、レンズユニットを提供することを目的とするものである。 The present invention has been made in view of the above-mentioned present situation, without causing cracks or delamination, cracks, warpage, etc., a light selective transmission filter with a uniform cut surface and capable of exhibiting excellent light selective transmission, An object of the present invention is to provide a method for producing a light selective transmission filter that can be obtained easily and with high productivity, a light selective transmission filter obtained by the production method, a light selective transmission filter support film, and a lens unit. It is.

本発明者等は、基材と光選択透過層とを少なくとも有する光選択透過フィルターの製造方法について種々検討するうち、基材として、樹脂層からなる樹脂フィルム又は樹脂層を有するガラスフィルムを用いると、基材の強度や柔軟性が向上することに着目し、当該樹脂層を形成する有機材料として特定の材料を用いた場合にのみ、切断面の揃った光選択透過フィルターを得ることができることを見いだした。そして、このような基材の少なくとも一方の面に光選択透過層を有する積層フィルムから、レーザーにより光選択透過フィルターを切り出す工程を含む製造方法とすると、クラックや層剥離、割れ、反り等の発生が抑制され、切断面が揃った(整った)形状の光選択透過フィルターを、より容易かつ簡便に、しかも高生産性で得ることができることを見いだした。 While the inventors of the present invention have studied various methods for producing a light selective transmission filter having at least a base material and a light selective transmission layer, a resin film composed of a resin layer or a glass film having a resin layer is used as the base material. Focusing on improving the strength and flexibility of the base material, it is possible to obtain a light selective transmission filter with a uniform cut surface only when a specific material is used as the organic material for forming the resin layer. I found it. And when it is set as the manufacturing method including the process of cutting out a light selective transmission filter with a laser from a laminated film which has a light selective transmission layer in at least one side of such a substrate, generation of a crack, delamination, a crack, warpage, etc. It has been found that a light selective transmission filter having a shape in which cuts are suppressed and the cut surfaces are aligned (aligned) can be obtained more easily, simply and with high productivity.

このような製法によれば、たとえ、より径が小さく、かつ曲線を含むような微小異形状の光選択透過フィルターであっても、クラックや層剥離等が生じることなく、かつ光選択透過性を充分に発揮できる状態で、容易に得ることができるため、この製法が近年の光学分野等における小型化・軽量化・薄膜化等のニーズにより一層適応できる優れた技術であること、また、光選択透過フィルターを扱う際の取扱性や作業性、生産性までも更に向上できることを見いだした。また、このような製法により得られる光選択透過フィルターや該光選択透過フィルターを備えたレンズユニットが、特に携帯電話やデジタルカメラ用のカメラモジュールに好適に採用し得るものとなること、及び、支持体フィルム上に本発明の製法により得られる光選択透過フィルターを複数個有する形態の光選択透過フィルター支持フィルムが、光選択透過フィルターの移送や保存等に好適であることも見いだし、上記課題をみごとに解決することができることに想到し、本発明に到達したものである。 According to such a manufacturing method, even if the light selective transmission filter has a small irregular shape and includes a curved line, cracks and delamination do not occur, and light selective transmission can be achieved. Since it can be easily obtained in a state where it can be fully demonstrated, this manufacturing method is an excellent technology that can be further adapted to the needs of downsizing, weight reduction, thinning, etc. in recent optical fields, etc., and light selection We have found that handling, workability, and productivity can be further improved when handling permeation filters. In addition, the light selective transmission filter obtained by such a manufacturing method and the lens unit provided with the light selective transmission filter can be suitably used particularly for a camera module for a mobile phone or a digital camera. It has also been found that a light selective transmission filter support film having a plurality of light selective transmission filters obtained by the production method of the present invention on a body film is suitable for transfer and storage of the light selective transmission filter, and the above-mentioned problems are observed. Thus, the present invention has been achieved.

すなわち本発明は、基材と光選択透過層とを少なくとも有する光選択透過フィルターを製造する方法であって、該製造方法は、基材の少なくとも一方の面に光選択透過層を有する積層フィルムから、レーザーにより光選択透過フィルターを切り出す工程を含み、該基材は、フッ素化芳香族ポリマー、多環芳香族ポリマー、ポリ(アミド)イミド樹脂、含フッ素高分子化合物及び硬化性樹脂から選ばれる少なくとも1種の有機材料から形成される樹脂層からなる樹脂フィルム、又は、該樹脂層を有するガラスフィルムである光選択透過フィルターの製造方法である。
本発明はまた、上記製造方法により得られる光選択透過フィルターでもある。
本発明は更に、支持体フィルム上に、上記光選択透過フィルターを複数個有する光選択透過フィルター支持フィルムでもある。
本発明はそして、上記光選択透過フィルターを備えてなるレンズユニットでもある。
以下に本発明を詳述する。
That is, the present invention is a method for producing a light selective transmission filter having at least a base material and a light selective transmission layer, the manufacturing method comprising a laminated film having a light selective transmission layer on at least one surface of the base material. Cutting the light selective transmission filter with a laser, wherein the substrate is at least selected from a fluorinated aromatic polymer, a polycyclic aromatic polymer, a poly (amide) imide resin, a fluorine-containing polymer compound, and a curable resin. It is the manufacturing method of the light selective transmission filter which is a resin film which consists of a resin layer formed from 1 type of organic material, or a glass film which has this resin layer.
The present invention is also a light selective transmission filter obtained by the above production method.
The present invention is also a light selective transmission filter support film having a plurality of the above light selective transmission filters on a support film.
The present invention is also a lens unit including the light selective transmission filter.
The present invention is described in detail below.

<光選択透過フィルターの製造方法>
本発明の光選択透過フィルターの製造方法は、基材の少なくとも一方の面に光選択透過層を有する積層フィルムから、レーザーにより光選択透過フィルターを切り出す工程(「切り出し工程」とも称す)を含むが、他の1又は2以上の工程を更に含むものであってもよい。好ましくは、基材の片面又は両面に少なくとも光選択透過層を積層(形成)して積層フィルムを得る工程(「積層工程」とも称す)と、該積層フィルムからレーザーにより特定形状を切り出す工程(切り出し工程)を含むことである。
<Method for producing light selective transmission filter>
The method for producing a light selective transmission filter of the present invention includes a step of cutting out the light selective transmission filter with a laser from a laminated film having a light selective transmission layer on at least one surface of the substrate (also referred to as “cutout step”). Further, it may further include one or more other steps. Preferably, at least a light selective transmission layer is laminated (formed) on one side or both sides of the substrate to obtain a laminated film (also referred to as “lamination step”), and a step of cutting out a specific shape from the laminated film with a laser (cutout) Step).

上記積層フィルムは、少なくとも基材と光選択透過層とを有し、基材の片面又は両面に光選択透過層を有するものであればよいが、必要に応じて他の層(光選択透過層以外の機能性材料層)を更に有するものであってもよく、基材と光選択透過層との間に当該他の層が積層されたものであってもよい。また、これらの基材や層は、それぞれ単層構造又は多層構造のいずれであってもよい。
なお、基材や、光選択透過層等の機能性材料層の詳細については、後述する。
The laminated film may have at least a base material and a light selective transmission layer, and may have a light selective transmission layer on one side or both sides of the base material. (A functional material layer other than the above) may be further provided, and the other layer may be laminated between the base material and the light selective transmission layer. Moreover, these base materials and layers may each have a single layer structure or a multilayer structure.
The details of the base material and the functional material layer such as the light selective transmission layer will be described later.

上記積層フィルムの厚みは、得られる光選択透過フィルターの用途等に応じて適宜設定すればよいが、光選択透過フィルターを用いる用途において小型化・軽量化等をより実現する観点から、200μm以下であることが好適である。より好ましくは200μm未満である。特に、180μm以下、150μm以下、120μm以下、100μm以下、90μm以下、75μm以下、50μm以下が好適である(値が小さくなるほどより好ましい。)。また、積層フィルムの取扱性や作業性の観点等から、1μm以上であることが好ましく、より好ましくは5μm以上である。 The thickness of the laminated film may be set as appropriate depending on the use of the obtained light selective transmission filter, but is 200 μm or less from the viewpoint of realizing further reduction in size and weight in the use of the light selective transmission filter. Preferably it is. More preferably, it is less than 200 μm. In particular, 180 μm or less, 150 μm or less, 120 μm or less, 100 μm or less, 90 μm or less, 75 μm or less, or 50 μm or less is preferable (the smaller the value, the more preferable). Moreover, it is preferable that it is 1 micrometer or more from the viewpoint of the handleability of a laminated film, workability | operativity, etc., More preferably, it is 5 micrometers or more.

〔積層工程〕
上記積層工程において、基材(又は他の層)への光選択透過層の積層方法(形成方法)としては、例えば、気相法により基材(又は他の層)の片面又は両面に直接光選択透過層を形成する方法;気相法により得られた光選択透過層を基材(又は他の層)上に接着剤で張り合わせる方法;光選択透過層を形成する材料(例えば、無機材料等)を含有する液状組成物を基材(又は他の層)に塗布し、乾燥して製膜する方法等が好ましく採用される。気相法としては、CVD法(化学気相成長法)、真空蒸着法、スパッタリング法等が好適であり、真空蒸着法がより好ましい。
[Lamination process]
In the above laminating step, the light selective transmission layer is laminated on the base material (or other layer) (formation method) by, for example, direct light on one or both sides of the base material (or other layer) by a vapor phase method. Method for forming a selective transmission layer; Method for bonding a light selective transmission layer obtained by a vapor phase method onto a substrate (or other layer) with an adhesive; Material for forming a light selective transmission layer (for example, an inorganic material) Etc.) is preferably applied to a substrate (or other layer) and dried to form a film. As the vapor phase method, a CVD method (chemical vapor deposition method), a vacuum vapor deposition method, a sputtering method or the like is preferable, and a vacuum vapor deposition method is more preferable.

上記積層方法(形成方法)の中でも、気相法により基材(又は他の層)の片面又は両面に直接光選択透過層を形成する方法が好ましい。具体的には、例えば、基材(又は他の層)を蒸着装置等の中に設置し、その基材(又は他の層)の上(片面又は両面)に光選択透過層を蒸着により形成して密着させる。経済性の観点からは、基材上の光選択透過層の面積が大きい(基材と光選択透過層との面積が近い)ほど、多数個の光選択透過フィルターを切り出せるため好ましい。また、光選択透過性の均一化を図る観点からは、基材上の光選択透過層の面積が小さいほど、光選択透過層の膜厚や平滑性にむらが生じないため好ましい。基材のサイズと、その上に形成する光選択透過層の面積や形状は、上記の観点から適宜設定することが好ましい。 Among the above laminating methods (formation methods), a method in which a light selective transmission layer is directly formed on one side or both sides of a base material (or other layer) by a vapor phase method is preferable. Specifically, for example, a base material (or other layer) is installed in a vapor deposition apparatus or the like, and a light selective transmission layer is formed on the base material (or other layer) (one side or both sides) by vapor deposition. And adhere. From the economical viewpoint, it is preferable that the area of the light selective transmission layer on the base material is large (the area of the base material and the light selective transmission layer is close) because a large number of light selective transmission filters can be cut out. Further, from the viewpoint of achieving uniform light selective transmission, it is preferable that the area of the light selective transmission layer on the substrate is smaller because unevenness in the film thickness and smoothness of the light selective transmission layer does not occur. The size of the substrate and the area and shape of the light selective transmission layer formed thereon are preferably set as appropriate from the above viewpoint.

上記積層工程ではまた、基材(又は他の層)に光選択透過層を積層するときに、光選択透過層積層部位(光選択透過層形成部ともいう)の周囲に、光選択透過層が積層されていない縁(光選択透過層非形成部ともいう)を有するようにすることが好ましい。例えば、基材の端まで光選択透過層を積層して縁を設けない場合、基材の端に積層された光選択透過層が積層時又は積層後に剥がれる可能性がある。また、基材に固定するための穴等を作製する場合にも穴の周囲から光選択透過層が剥がれる可能性もある。これは、基材の端や穴の周囲等、基材の上面(平滑な表面)以外の側面等に光選択透過層が積層することにより、密着性がより充分とはならず、剥がれの起点になる可能性がある。基材の端又は穴の周囲に沿って光選択透過層非形成部を形成することにより、光選択透過層の剥がれをより充分に抑制することができる。このように、上記積層工程が、基材(又は他の層)の表面に光選択透過層の非形成部(縁)を有するように、基材(又は他の層)の片面又は両面に光選択透過層を積層する形態もまた、好適な形態の1つである。この場合、上記積層工程で得られる積層フィルムにおいては、光選択透過層積層部位の周囲に光選択透過層が積層されていない縁が形成されることになる。
なお、光選択透過層非形成部を設けるためには、スクリーンや蒸着用テープ等の光選択透過層の付着を防ぐものを用いることが好ましい。すなわち、光選択透過層積層部位の周囲をスクリーン及び/又は蒸着用テープでシールドした後に光選択透過層の積層を行うことが好ましい。
In the above-described lamination step, when the light selective transmission layer is laminated on the substrate (or other layer), the light selective transmission layer is disposed around the light selective transmission layer lamination portion (also referred to as a light selective transmission layer forming portion). It is preferable to have an edge that is not laminated (also referred to as a light selective transmission layer non-forming portion). For example, when the light selective transmission layer is laminated to the edge of the base material and no edge is provided, the light selective transmission layer laminated on the edge of the base material may be peeled off during or after the lamination. Moreover, also when producing the hole etc. for fixing to a base material, a light selective transmission layer may peel from the circumference | surroundings of a hole. This is because the light selective transmission layer is laminated on the side surface other than the upper surface (smooth surface) of the base material, such as the edge of the base material or the periphery of the hole, so that the adhesion is not sufficient, and the peeling starts. There is a possibility. By forming the light selective transmission layer non-forming portion along the edge or hole of the base material, peeling of the light selective transmission layer can be more sufficiently suppressed. In this way, light is applied to one surface or both surfaces of the base material (or other layer) so that the laminating step has a non-formation portion (edge) of the light selective transmission layer on the surface of the base material (or other layer). A form in which the permselective layer is laminated is also one suitable form. In this case, in the laminated film obtained by the laminating step, an edge where the light selective transmission layer is not laminated is formed around the light selective transmission layer lamination portion.
In order to provide the light selective transmission layer non-forming portion, it is preferable to use a material that prevents adhesion of the light selective transmission layer such as a screen or a vapor deposition tape. That is, it is preferable to laminate the light selective transmission layer after shielding the periphery of the light selective transmission layer lamination portion with a screen and / or a vapor deposition tape.

上記積層工程において、光選択透過層を形成(積層)する際の温度は、例えば、250℃以下に設定することが好適である。これによって、例えば耐リフロー性を有する基材を用いた場合に、当該基材への影響をより低減することができる。より好ましくは200℃以下、更に好ましくは170℃以下である。また、50℃以上であることが好適である。 In the laminating step, the temperature at which the light selective transmission layer is formed (laminated) is preferably set to 250 ° C. or lower, for example. Thereby, for example, when a base material having reflow resistance is used, the influence on the base material can be further reduced. More preferably, it is 200 degrees C or less, More preferably, it is 170 degrees C or less. Moreover, it is suitable that it is 50 degreeC or more.

上記積層工程ではまた、上記積層フィルムが光選択透過層に加えて更に他の機能性材料層を有する場合、これらの層は、用途・機能等に応じて基材と光選択透過層との間に積層(形成)してもよいし、光選択透過層や基材に対して積層(形成)してもよく、基材と光選択透過層の最外層に積層してもよい。また、積層は、上述した光選択透過層の積層と同様に行うことができる。 In the laminating step, when the laminated film further has another functional material layer in addition to the light selective transmission layer, these layers are provided between the base material and the light selective transmission layer according to the use and function. May be laminated (formed) on the light selective transmission layer or the base material, or may be laminated on the outermost layer of the base material and the light selective transmission layer. The lamination can be performed in the same manner as the above-described lamination of the light selective transmission layer.

〔切り出し工程〕
上記切り出し工程においては、上記積層フィルムにレーザー光を照射して所望の形状を切り出す(レーザーカット)ことになる。通常、光選択透過フィルターを得る場合は、打ち抜き法やダイシングカット法を採用するが、打ち抜き法では、金型やトムソン刃を、切り出そうとする対象物に押し当ててカットするため、例えば径がより小さく、かつ曲線部分を含むような微小異形状をより好適に得ることができないし、ダイシングカット法では曲線部分を含む形状を得ることができない。これに対し、本発明のレーザーカット法を採用すれば、切り出しが困難な特異な微小異形状であっても、より容易かつ簡便に得ることができる。また、レーザーカット法では、打ち抜き法やダイシングカット法とは異なって、対象物に非接触で成形(切り出し)できるため、圧力により光選択透過フィルターが割れることがなく、また、レーザーカット装置の設定変更だけで容易に所望の形状の変更(サイズ変更等)ができるため、打ち抜き法で必要な高価な金型を作製/使用する必要等がなく、経済性に優れる。更に、レーザーカット法では、打ち抜き法等に比較して割れやクラック等が生じにくく、一枚の積層フィルムから切り出せる(成形できる)光選択透過フィルターの数が多いため、生産性に非常に優れている。
[Cutting step]
In the cutout step, the laminated film is irradiated with laser light to cut out a desired shape (laser cut). Usually, when obtaining a light selective transmission filter, a punching method or a dicing cut method is adopted. However, in the punching method, a die or a Thomson blade is pressed against an object to be cut and cut, for example, a diameter. A small irregular shape that is smaller and includes a curved portion cannot be obtained more suitably, and a shape including a curved portion cannot be obtained by the dicing cut method. On the other hand, if the laser cutting method of the present invention is employed, even a unique minute irregular shape that is difficult to cut out can be obtained more easily and simply. In addition, unlike the punching and dicing cutting methods, the laser cut method can be molded (cut out) in a non-contact manner, so that the light selective transmission filter is not broken by pressure, and the laser cutting device is set. Since it is possible to easily change the desired shape (size change, etc.) simply by the change, there is no need to produce / use an expensive mold necessary for the punching method, and the cost is excellent. Furthermore, the laser cutting method is less prone to cracking and cracking than the punching method, and the number of light selective transmission filters that can be cut out (molded) from a single laminated film is very excellent in productivity. ing.

上記レーザーカット法で使用されるレーザーとしては、例えば、炭酸ガス(CO)レーザーや、UVヤグレーザー等が好ましい。中でも、炭酸ガスレーザーが好適である。また、レーザーのビーム径は、レーザーの性能や光選択透過フィルターの生産性等の観点から適宜設定すればよいが、例えば、炭酸ガスレーザーでは20〜100μm、UVヤグレーザーでは10〜80μmとすることが好ましい。 As the laser used in the laser cutting method, for example, a carbon dioxide (CO 2 ) laser, a UV yag laser, or the like is preferable. Among these, a carbon dioxide laser is preferable. In addition, the laser beam diameter may be set as appropriate from the viewpoints of laser performance, productivity of the light selective transmission filter, and the like, for example, 20 to 100 μm for a carbon dioxide laser and 10 to 80 μm for a UV yag laser. Is preferred.

上記切り出し工程ではまた、切り出し工程に供する積層フィルム1枚から光選択透過フィルターを切り出す、切り出し回数を複数回とすることが好適である。上述したように切り出し工程にレーザーカット法を採用すると1枚の積層フィルムから切り出せる光選択透過フィルターの数が多いため、切り出し回数を複数回とすれば、より生産性よく本発明の光選択透過フィルターを得ることが可能になる。 In the cutout process, it is preferable that the light selective transmission filter is cut out from one laminated film to be used in the cutout process, and the number of cutouts is plural. As described above, since the number of light selective transmission filters that can be cut out from a single laminated film is large when the laser cutting method is adopted in the cutting step, the light selective transmission of the present invention can be performed with higher productivity if the number of times of cutting is set to a plurality of times. It becomes possible to obtain a filter.

上記切り出し工程ではまた、レーザーによる切り出し時(レーザーカット)時に切断面から樹脂の飛散の可能性があるため、製品を汚れ等からより守るために、基材や光選択透過層等を保護するための保護フィルム(保護層)を更に有する状態で成形する(切り出す)ことが好適である。つまり、上記積層フィルムは、基材及び光選択透過層に加え、更に保護層を有するものであることが好適である。これによって、基材や光選択透過層等を汚れ等から保護することが可能になるため、例えば、切り出すときだけでなく、場合によっては光選択透過フィルターを移送したり保存したりするときにも好適である。このように上記積層フィルム及び光選択透過フィルターが更に保護層を有する形態もまた、本発明の好適な形態の1つである。 In the above cutting process, the resin may be scattered from the cut surface at the time of laser cutting (laser cutting), so that the substrate and the light selective transmission layer are protected in order to further protect the product from contamination. It is preferable to form (cut out) in a state further having a protective film (protective layer). That is, the laminated film preferably has a protective layer in addition to the base material and the light selective transmission layer. This makes it possible to protect the substrate and the light selective transmission layer from dirt, etc., for example, not only when cutting out, but also when transporting or storing the light selective transmission filter in some cases. Is preferred. Thus, the form in which the laminated film and the light selective transmission filter further have a protective layer is also a preferred form of the present invention.

上記保護層は、積層フィルム及び光選択透過フィルターの片面又は両面の最上層(最表層)に位置することが好適である。例えば、基材と光選択透過層とからなる積層フィルムを例にすると、(i)基材の両面に光選択透過層を有する場合は、その光選択透過層の少なくとも1つ又は両方の上層に保護層を有する形態、(ii)基材の一方の面に光選択透過層を有する場合は、その光選択透過層の上層、及び/又は、光選択透過層を有しない側の基材の上層に、保護層を有する形態等が挙げられる。このような形態の積層フィルムを用いて得られる光選択透過フィルターは、上記製造方法において、まず基材の片面又は両面に光選択透過層を形成した後、更にその片面又は両面に保護層を積層し、次いで切り出し工程を行うことにより得ることが好ましい。
なお、このように保護層を設けた場合には、必要に応じて上記切り出し工程後に保護層を剥がす工程を行うことが好適である。
The protective layer is preferably located on the uppermost layer (outermost layer) on one or both sides of the laminated film and the light selective transmission filter. For example, in the case of a laminated film composed of a base material and a light selective transmission layer, for example, (i) when the light selective transmission layer is provided on both surfaces of the base material, it is formed on at least one or both of the light selective transmission layers. Form having a protective layer, (ii) In the case of having a light selective transmission layer on one surface of the substrate, the upper layer of the light selective transmission layer and / or the upper layer of the base on the side not having the light selective transmission layer Examples include a form having a protective layer. The light selective transmission filter obtained using the laminated film of such a form is obtained by first forming a light selective transmission layer on one or both sides of the substrate in the above production method, and further laminating a protective layer on one or both sides thereof. Then, it is preferable to obtain by performing a cutting step.
In addition, when providing a protective layer in this way, it is suitable to perform the process of peeling a protective layer after the said cutting-out process as needed.

次に、上記積層フィルム及び光選択透過フィルターを構成する基材や機能性材料層について、更に説明する。
〔基材〕
上記基材は、特定の有機材料から形成される樹脂層からなる樹脂フィルム、又は、該樹脂層を有するガラスフィルムである。すなわち少なくとも樹脂層を含むものであるが、これによって、得られる光選択透過フィルターの欠けや割れが充分に抑制され、各種用途に有用なものとなる。通常、ガラス等の無機材料単独物からなる基材を使用した場合は強度や柔軟性等が充分ではないことがあるが、少なくとも樹脂層を含むことにより、無機材料単独の場合に比べて強度や柔軟性が向上されるため、搬送中、成形時や機器への組み入れ時、多層化や機能性の付与等を行うための後工程等において破損や割れ、変形等の発生を防ぐことができ、作業性に優れた光選択透過フィルターとすることができる。また本発明ではレーザーによる切り出し工程(レーザーカット)を行うが、この場合、カット部分に熱がかかるため、ガラス等の無機材料単独物からなる基材を使用すると、その温度差で光選択透過フィルターにクラックが入るおそれもある。しかし、少なくとも樹脂層を含む基材を用いることによって、クラックの発生を充分に防ぐことができる。
上記基材はまた、透明基材であることも好適である。
Next, the base material and the functional material layer constituting the laminated film and the light selective transmission filter will be further described.
〔Base material〕
The substrate is a resin film made of a resin layer formed from a specific organic material, or a glass film having the resin layer. That is, at least the resin layer is included, but this makes it possible to sufficiently suppress chipping and cracking of the obtained light selective transmission filter and to be useful for various applications. Usually, when a substrate made of an inorganic material alone such as glass is used, strength and flexibility may not be sufficient, but by including at least a resin layer, strength and Because flexibility is improved, breakage, cracking, deformation, etc. can be prevented in the post-process etc. to carry out multilayering and functionality addition during transportation, molding or incorporation into equipment, A light selective transmission filter excellent in workability can be obtained. In the present invention, a laser cutting step (laser cut) is performed. In this case, since the cut portion is heated, when a base material made of an inorganic material alone such as glass is used, a light selective transmission filter is used depending on the temperature difference. There is also a risk of cracks. However, the occurrence of cracks can be sufficiently prevented by using a substrate including at least a resin layer.
It is also preferred that the substrate is a transparent substrate.

上記基材として、樹脂層からなる樹脂フィルム、又は、樹脂層を有するガラスフィルムを用いることによって、加工性、成形性、柔軟性、経済性、強度(割れにくさ)等の点で、各種用途に有用な光選択透過フィルターが得られることになる。例えば、上記基材が樹脂層からなる樹脂フィルムであることによって、ガラス等の無機材料にはできない複雑な加工を安価に行うことができる。
上記樹脂層は、1種又は2種以上の有機材料から形成される層であるが、有機材料の1種を材料として形成されたもの(単層構造)でも、2種以上の混合物(好ましくは、透明性を維持するような混合物)を材料として形成されたものでもよく、また、2種以上を積層させた形態(多層構造)であってもよい。なお、混合物とする場合は有機材料を液状にして混合してもよい。
By using a resin film composed of a resin layer or a glass film having a resin layer as the base material, various uses in terms of processability, moldability, flexibility, economy, strength (hardness to crack), etc. Thus, a light selective transmission filter useful for the above can be obtained. For example, when the substrate is a resin film made of a resin layer, complicated processing that cannot be performed with an inorganic material such as glass can be performed at low cost.
The resin layer is a layer formed of one kind or two or more kinds of organic materials, but a mixture (single layer structure) formed using one kind of organic material as a material (preferably a mixture of two or more kinds (preferably , A mixture that maintains transparency) may be formed as a material, or may be a form in which two or more kinds are laminated (multilayer structure). In addition, when setting it as a mixture, you may mix and make an organic material liquid.

上記樹脂層からなる樹脂フィルムは、有機材料を、例えば溶剤キャスト法、溶融成形法等によって成膜することにより得ることができる。また、樹脂層を有するガラスフィルムとは、ガラスフィルムの一方の面又は両面に樹脂層を有する形態を意味し、例えば、ガラスフィルムの両面又は片面に、1種又は2種以上の有機材料を塗布又は注型することによって得ることができる。 The resin film comprising the resin layer can be obtained by forming an organic material by, for example, a solvent casting method, a melt molding method, or the like. Moreover, the glass film which has a resin layer means the form which has a resin layer on the one surface or both surfaces of a glass film, for example, apply | coating 1 type, or 2 or more types of organic material to both surfaces or one side of a glass film Or it can obtain by casting.

上記基材に含まれる樹脂層は、1種又は2種以上の有機材料から形成される層であり、当該有機材料は、(1)フッ素化芳香族ポリマー、(2)多環芳香族ポリマー、(3)ポリ(アミド)イミド樹脂、(4)含フッ素高分子化合物及び(5)硬化性樹脂からなる群より選ばれる少なくとも1種が適当である。すなわち、上記樹脂層は、これらの群より選ばれる少なくとも1種の有機材料から形成されるものが適当である。これらの有機材料を用いることで、強度や柔軟性を向上でき、また耐熱性や耐リフロー性等に優れるうえ、クラックや光選択透過層の欠けのない切断面が揃った光選択透過フィルターを得ることが可能になる。切断面が揃っていない場合には、切断部、すなわちレーザー光照射部分周辺において、光選択透過層が基材から剥離し基材が露出するおそれがあるため、光選択透過性が充分に発揮できなくなる。なお、たとえ樹脂層を有する基材を使用し、レーザーカットする場合でも、該樹脂層が上述した有機材料以外の有機材料から形成されるものであると、切断面を揃った状態にすることが難しく、光選択透過性を充分に発揮できないが、本発明では、上述した特定の有機材料を用いることによって初めて、切断面が揃い、優れた光選択透過性を発揮できる光選択透過フィルターを得ることを実現したのである。 The resin layer contained in the base material is a layer formed of one or more organic materials, and the organic material includes (1) a fluorinated aromatic polymer, (2) a polycyclic aromatic polymer, At least one selected from the group consisting of (3) poly (amide) imide resin, (4) fluorine-containing polymer compound and (5) curable resin is suitable. That is, the resin layer is suitably formed from at least one organic material selected from these groups. By using these organic materials, strength and flexibility can be improved, heat resistance and reflow resistance are excellent, and a light selective transmission filter having a cut surface without cracks or chipping of the light selective transmission layer is obtained. It becomes possible. If the cut surfaces are not aligned, the light selective transmission layer may be peeled off from the base material at the cutting part, that is, around the laser light irradiation part, and the base material may be exposed, so that the light selective transmission can be sufficiently exerted. Disappear. Even when a substrate having a resin layer is used and laser cutting is performed, if the resin layer is formed from an organic material other than the organic materials described above, the cut surfaces may be aligned. Although it is difficult and sufficient light selective transmission cannot be exhibited, in the present invention, by using the above-mentioned specific organic material, it is possible to obtain a light selective transmission filter that has a uniform cut surface and can exhibit excellent light selective transmission. Has been realized.

(1)フッ素化芳香族ポリマー
上記フッ素化芳香族ポリマーとしては、少なくとも1以上のフッ素基を有する芳香族環と、エーテル結合、ケトン結合、スルホン結合、アミド結合、イミド結合及びエステル結合の群より選ばれた少なくとも1つの結合とを含む繰り返し単位により構成された重合体等が挙げられ、具体的には、例えば、フッ素原子を有するポリイミド、ポリエーテル、ポリエーテルイミド、ポリエーテルケトン、ポリエーテルスルホン、ポリアミドエーテル、ポリアミド、ポリエーテルニトリル、ポリエステル等が挙げられる。これらの中でも、少なくとも1つ以上のフッ素基を有する芳香族環と、エーテル結合とを含む繰り返し単位を必須部位として有する重合体であることが好ましく、下記一般式(1−1)又は(1−2)で表される繰り返し単位を含む、フッ素原子を有するポリエーテルケトンがより好ましい。中でも特に、フッ素化ポリエーテルケトン(FPEK)が好適である。
なお、一般式(1−1)又は(1−2)で表される繰り返し単位は、同一でも異なっていてもよく、ブロック状、ランダム状等の何れの形態であってもよい。
(1) Fluorinated aromatic polymer As the fluorinated aromatic polymer, an aromatic ring having at least one fluorine group and an ether bond, a ketone bond, a sulfone bond, an amide bond, an imide bond, and an ester bond. And a polymer composed of a repeating unit containing at least one selected bond. Specifically, for example, polyimide having a fluorine atom, polyether, polyetherimide, polyetherketone, polyethersulfone , Polyamide ether, polyamide, polyether nitrile, polyester and the like. Among these, it is preferable that it is a polymer which has as an essential part the repeating unit containing the aromatic ring which has an at least 1 or more fluorine group, and an ether bond, and the following general formula (1-1) or (1- A polyether ketone having a fluorine atom containing the repeating unit represented by 2) is more preferred. Among these, fluorinated polyether ketone (FPEK) is particularly preferable.
In addition, the repeating unit represented by the general formula (1-1) or (1-2) may be the same or different, and may be in any form such as a block shape or a random shape.

Figure 2011191693
Figure 2011191693

上記一般式(1−1)中、Rは炭素数1〜150の芳香族環を有する2価の有機鎖を表す。Zは2価の鎖又は直接結合を表す。x及びyは0以上の整数であり、x+y=1〜8を満たし、同一又は異なって芳香族環に結合しているフッ素原子の数を表す。nは、重合度を表し、2〜5000の範囲内が好ましく、5〜500の範囲内がより好ましい。
上記一般式(1−2)中、Rは、置換基を有していてもよい炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数1〜12のアルキルアミノ基、炭素数1〜12のアルキルチオ基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数6〜20のアリールオキシ基、炭素数6〜20のアリールアミノ基又は炭素数6〜20のアリールチオ基を表す。Rは、炭素数1〜150の芳香族環を有する2価の有機鎖を表す。zは、芳香族環に結合しているフッ素原子の数であり、1又は2である。nは、重合度を表し、2〜5000の範囲内が好ましく、5〜500の範囲内がより好ましい。
In the general formula (1-1), R 1 represents a divalent organic chain having an aromatic ring having 1 to 150 carbon atoms. Z represents a divalent chain or a direct bond. x and y are integers of 0 or more, satisfy x + y = 1 to 8, and represent the number of fluorine atoms that are the same or different and are bonded to the aromatic ring. n 1 represents a degree of polymerization, preferably in the range of 2 to 5000, and more preferably in the range of 5 to 500.
In the general formula (1-2), R 2 may have a substituent, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, or an alkylamino group having 1 to 12 carbon atoms. Represents an alkylthio group having 1 to 12 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, an aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms, an arylamino group having 6 to 20 carbon atoms, or an arylthio group having 6 to 20 carbon atoms. R 3 represents a divalent organic chain having an aromatic ring having 1 to 150 carbon atoms. z is the number of fluorine atoms bonded to the aromatic ring and is 1 or 2. n 1 represents a degree of polymerization, preferably in the range of 2 to 5000, and more preferably in the range of 5 to 500.

上記一般式(1−1)において、x+yは2〜8の範囲内が好ましく、4〜8の範囲内がより好ましい。また、エーテル構造部分(−O−R−O−)が芳香族環に結合する位置としては、Zに対してパラ位であることが好ましい。 In the general formula (1-1), x + y is preferably in the range of 2 to 8, and more preferably in the range of 4 to 8. Further, the position at which the ether structure moiety (—O—R 1 —O—) is bonded to the aromatic ring is preferably para to Z.

上記一般式(1−1)及び(1−2)において、R及びRは2価の有機鎖であるが、例えば、下記の構造式群(2)で表されるいずれか一つ、又は、その組み合わせの有機鎖であることが好ましい。 In the general formulas (1-1) and (1-2), R 1 and R 3 are divalent organic chains. For example, any one represented by the following structural formula group (2): Or it is preferable that it is the organic chain of the combination.

Figure 2011191693
Figure 2011191693

上記構造式群(2)中、Y〜Yは、同一若しくは異なって、水素基又は置換基を表し、該置換基は、ハロゲン原子、又は、置換基を有していてもよいアルキル基、アルコキシ基、アルキルアミノ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールアミノ基若しくはアリールチオ基を表す。
上記R及びRのより好ましい具体例としては、下記の構造式群(3)で表される有機鎖が挙げられる。
In the structural formula group (2), Y 1 to Y 4 are the same or different and each represents a hydrogen group or a substituent, and the substituent is a halogen atom or an alkyl group which may have a substituent. Represents an alkoxy group, an alkylamino group, an alkylthio group, an aryl group, an aryloxy group, an arylamino group or an arylthio group.
More preferable specific examples of R 1 and R 3 include organic chains represented by the following structural formula group (3).

Figure 2011191693
Figure 2011191693

上記一般式(1−1)において、Zは、2価の鎖又は直接結合していることを表す。当該2価の鎖としては、例えば、下記構造式群(4)(構造式(4−1)〜(4−13))で表される鎖であることが好ましい。 In the general formula (1-1), Z represents a divalent chain or a direct bond. For example, the divalent chain is preferably a chain represented by the following structural formula group (4) (structural formulas (4-1) to (4-13)).

Figure 2011191693
Figure 2011191693

上記構造式群(4)中、Xは、炭素数1〜50の2価の有機鎖であるが、例えば、上述した構造式群(3)で表される有機鎖が挙げられ、その中でもジフェニルエーテル鎖、ビスフェノールA鎖、ビスフェノールF鎖、フルオレン鎖が好ましい。 In the structural formula group (4), X is a divalent organic chain having 1 to 50 carbon atoms. Examples thereof include the organic chain represented by the structural formula group (3) described above, and among them, diphenyl ether. A chain, a bisphenol A chain, a bisphenol F chain, and a fluorene chain are preferred.

上記一般式(1−2)中のRにおいて、アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、2−エチルヘキシル基等が好適である。
上記アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、2−エチルヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、ウンデシルオキシ基、ドデシルオキシ基、フルフリルオキシ基、アリルオキシ基等が好適である。
上記アルキルアミノ基としては、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、プロピルアミノ基、n−ブチルアミノ基、sec−ブチルアミノ基、tert−ブチルアミノ基等が好適である。
上記アルキルチオ基としては、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、n−ブチルチオ基、sec−ブチルチオ基、tert−ブチルチオ基、iso−プロピルチオ基等が好適である。
In R 2 in the general formula (1-2), examples of the alkyl group include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, sec-butyl, tert-butyl, pentyl, An isopentyl group, neopentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, undecyl group, dodecyl group, 2-ethylhexyl group and the like are preferable.
As the alkoxy group, methoxy group, ethoxy group, propoxy group, isopropoxy group, butoxy group, pentyloxy group, hexyloxy group, 2-ethylhexyloxy group, octyloxy group, nonyloxy group, decyloxy group, undecyloxy group , Dodecyloxy group, furfuryloxy group, allyloxy group and the like are preferable.
As the alkylamino group, methylamino group, ethylamino group, dimethylamino group, diethylamino group, propylamino group, n-butylamino group, sec-butylamino group, tert-butylamino group and the like are preferable.
As the alkylthio group, methylthio group, ethylthio group, propylthio group, n-butylthio group, sec-butylthio group, tert-butylthio group, iso-propylthio group and the like are preferable.

上記アリール基としては、フェニル基、ベンジル基、フェネチル基、o−、m−又はp−トリル基、2,3−又は2,4−キシリル基、メシチル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、ビフェニリル基、ベンズヒドリル基、トリチル基、ピレニル基等が好適である。
上記アリールオキシ基としては、フェノキシ基、ベンジルオキシ基、ヒドロキシ安息香酸及びそのエステル類(例えば、メチルエステル、エチルエステル、メトキシエチルエステル、エトキシエチルエステル、フルフリルエステル及びフェニルエステル等)由来の基、ナフトキシ基、o−、m−又はp−メチルフェノキシ基、o−、m−又はp−フェニルフェノキシ基、フェニルエチニルフェノキシ基、クレソチン酸及びそのエステル類由来の基等が好適である。
上記アリールアミノ基としては、アニリノ基、o−、m−又はp−トルイジノ基、1,2−又は1,3−キシリジノ基、o−、m−又はp−メトキシアニリノ基、アントラニル酸及びそのエステル類由来の基等が好適である。
上記アリールチオ基としては、フェニルチオ基、フェニルメタンチオ基、o−、m−又はp−トリルチオ基、チオサリチル酸及びそのエステル類由来の基等が好適である。
上記Rとしては、これらのうち、置換基を有していてもよいアルコキシ基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアミノ基が好ましい。ただし、Rには、二重結合又は三重結合が含まれていてもよいし、含まれていなくてもよい。
As the aryl group, phenyl group, benzyl group, phenethyl group, o-, m- or p-tolyl group, 2,3- or 2,4-xylyl group, mesityl group, naphthyl group, anthryl group, phenanthryl group, A biphenylyl group, a benzhydryl group, a trityl group, a pyrenyl group, and the like are preferable.
Examples of the aryloxy group include groups derived from a phenoxy group, a benzyloxy group, hydroxybenzoic acid and esters thereof (for example, methyl ester, ethyl ester, methoxyethyl ester, ethoxyethyl ester, furfuryl ester, and phenyl ester). A naphthoxy group, o-, m- or p-methylphenoxy group, o-, m- or p-phenylphenoxy group, phenylethynylphenoxy group, a group derived from cresotinic acid and esters thereof, and the like are preferable.
The arylamino group includes an anilino group, o-, m- or p-toluidino group, 1,2- or 1,3-xylidino group, o-, m- or p-methoxyanilino group, anthranilic acid and its Groups derived from esters are preferred.
The arylthio group is preferably a phenylthio group, a phenylmethanethio group, an o-, m- or p-tolylthio group, a group derived from thiosalicylic acid and esters thereof, and the like.
Of these, R 2 is preferably an alkoxy group, aryloxy group, arylthio group or arylamino group which may have a substituent. However, R 2 may or may not contain a double bond or a triple bond.

上記一般式(1−2)中のRにおける置換基としては、上述のような炭素数1〜12のアルキル基;フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子;シアノ基、ニトロ基、カルボキシエステル基等が好適である。また、これら置換基の水素がハロゲン化されていてもよいし、されていなくてもよい。これらの中でも、好ましくは、ハロゲン原子、水素がハロゲン化されていてもよいし、されていなくてもよいメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基及びカルボキシエステル基である。 Examples of the substituent for R 2 in the general formula (1-2) include an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms as described above; a halogen atom such as fluorine, chlorine, bromine and iodine; a cyano group, a nitro group, and a carboxy group. An ester group or the like is preferred. Moreover, hydrogen of these substituents may or may not be halogenated. Among these, preferably, a halogen atom, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, and a carboxy ester, which may or may not be halogenated. It is a group.

(2)多環芳香族ポリマー
上記多環芳香族ポリマーとしては、2つ以上の芳香環が、エーテル結合、ケトン結合、スルホン結合、アミド結合、イミド結合及びエステル結合からなる群より選択される少なくとも1種の結合から連結されているものである。例えば、主骨格として、ナフタレン環やフルオレン環等の2つ以上の連結した芳香環をモノマーユニットに有する化合物が好適である。具体的には、ナフタレンジカルボン酸を主たる酸成分とし、エチレングリコールを主たるグリコール成分とするポリエステル(ポリエチレンナフタレート)であることが好ましい。
(2) Polycyclic aromatic polymer As the polycyclic aromatic polymer, at least two aromatic rings are selected from the group consisting of an ether bond, a ketone bond, a sulfone bond, an amide bond, an imide bond and an ester bond. It is linked from one type of bond. For example, a compound having a monomer unit having two or more linked aromatic rings such as a naphthalene ring and a fluorene ring as the main skeleton is preferable. Specifically, polyester (polyethylene naphthalate) having naphthalenedicarboxylic acid as the main acid component and ethylene glycol as the main glycol component is preferable.

このようなポリエチレンナフタレートとしては、ポリエチレン−2,6−ナフタレンジカルボキシレートのホモポリマーが好適であるが、例えば、2,6−ナフタレンジカルボン酸成分の一部(30モル%未満)を、2,7−、1,5−、1,7−その他のナフタレンジカルボン酸の異性体又はテレフタル酸若しくはイソフタル酸;ジフェニルジカルボン酸、ジフェノキシエタンジカルボン酸、ジフェニルエーテルジカルボン酸、ジフェニルスルホンジカルボン酸等の他の芳香族ジカルボン酸;ヘキサヒドロテレフタル酸、ヘキサヒドロイソフタル酸等の脂環属族ジカルボン酸;アジピン酸、セバチン酸、アゼライン酸等の脂肪族ジカルボン酸;p−β−ヒドロキシエトキシ安息香酸、ε−オキシカプロン酸等のオキシ酸等の他の二官能性カルボン酸で置き換えてもよい。 As such a polyethylene naphthalate, a homopolymer of polyethylene-2,6-naphthalenedicarboxylate is suitable. For example, a part of the 2,6-naphthalenedicarboxylic acid component (less than 30 mol%) is converted to 2 , 7-, 1,5-, 1,7-Other naphthalenedicarboxylic acid isomers or terephthalic acid or isophthalic acid; diphenyldicarboxylic acid, diphenoxyethanedicarboxylic acid, diphenyletherdicarboxylic acid, diphenylsulfonedicarboxylic acid, etc. Aromatic dicarboxylic acids; Alicyclic dicarboxylic acids such as hexahydroterephthalic acid and hexahydroisophthalic acid; Aliphatic dicarboxylic acids such as adipic acid, sebacic acid and azelaic acid; p-β-hydroxyethoxybenzoic acid, ε-oxy Other bifunctional cals such as oxyacids such as caproic acid It may be replaced with boronic acid.

上記ポリエチレンナフタレートとしてはまた、上記エチレングリコール成分の一部を、例えばトリメチレングリコール、テトラメチレングリコール、ヘキサメチレングリコール、デカメチレングリコール、ネオペンチルグリコール、ジエチレングリコール、1,1−シクロヘキサンジメタノール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、2,2−ビス(4′−β−ヒドロキシエトキシフェニル)プロパン、ビス(4′−β−ヒドロキシエトキシフェニル)スルホン酸等の他の多官能化合物の1種以上で置換して30モル%未満の範囲で共重合させたコポリマーであってもよい。 As the polyethylene naphthalate, a part of the ethylene glycol component may be, for example, trimethylene glycol, tetramethylene glycol, hexamethylene glycol, decamethylene glycol, neopentyl glycol, diethylene glycol, 1,1-cyclohexanedimethanol, 1, Substitution with one or more other polyfunctional compounds such as 4-cyclohexanedimethanol, 2,2-bis (4'-β-hydroxyethoxyphenyl) propane, bis (4'-β-hydroxyethoxyphenyl) sulfonic acid The copolymer may be copolymerized in a range of less than 30 mol%.

上記多環芳香族ポリマーとしてより好ましい化合物は、例えば、下記式(5): A more preferable compound as the polycyclic aromatic polymer is, for example, the following formula (5):

Figure 2011191693
Figure 2011191693

(式中、nは、繰り返し数を表し2〜10000の整数である。)で表されるポリエチレンナフタレート(PEN)が挙げられ、具体的には、帝人デュポンフィルム社のテオネックスQ83(厚さ25μm又は75μm、融点269℃)が挙げられる。 (Wherein n 2 represents the number of repetitions and is an integer of 2 to 10000), for example, polyethylene naphthalate (PEN) represented by Teijin DuPont Films Theonex Q83 (thickness) 25 μm or 75 μm, melting point 269 ° C.).

(3)ポリ(アミド)イミド樹脂
上記ポリ(アミド)イミド樹脂とは、狭義のポリイミド樹脂(イミド結合を含み、アミド結合を含まない樹脂)、及び、ポリアミドイミド樹脂(アミド結合とイミド結合とを含む樹脂)のいずれをも包含する。
上記ポリ(アミド)イミド樹脂は、多価カルボン酸化合物と、多価アミン化合物及び/又は多価イソシアネート化合物との反応により得られるポリ(アミド)イミド樹脂の原料を、イミド化反応して得ることができる。
上記ポリ(アミド)イミド樹脂はまた、透明性を有することが好ましい。透明性向上のためには、芳香環が少ないほうが好ましい。中でも、芳香環を脂環又は脂肪鎖等で置き換えた構造を有することが更に好ましい。より好ましくは、全重量100%中の芳香環の重量が65%以下、更に好ましくは45%以下、特に好ましくは30%以下である。
(3) Poly (amide) imide resin The above poly (amide) imide resin is a narrowly defined polyimide resin (resin containing an imide bond and not containing an amide bond) and a polyamideimide resin (an amide bond and an imide bond). Any of the resins).
The poly (amide) imide resin is obtained by imidizing a raw material of a poly (amide) imide resin obtained by reacting a polyvalent carboxylic acid compound with a polyvalent amine compound and / or a polyvalent isocyanate compound. Can do.
The poly (amide) imide resin also preferably has transparency. In order to improve transparency, it is preferable that there are few aromatic rings. Among them, it is more preferable to have a structure in which the aromatic ring is replaced with an alicyclic ring or a fatty chain. More preferably, the weight of the aromatic ring in the total weight of 100% is 65% or less, more preferably 45% or less, and particularly preferably 30% or less.

上記ポリ(アミド)イミド樹脂としては、イミド結合を有する化合物であれば特に限定されないが、例えば、下記式(6): Although it will not specifically limit if it is a compound which has an imide bond as said poly (amide) imide resin, For example, following formula (6):

Figure 2011191693
Figure 2011191693

(式中、nは0〜4の整数、pは0又は1であり、n+pは1〜5の整数である。)で表される繰り返し単位を含むポリイミド樹脂であることが好ましい。具体的には、三菱ガス化学社製のネオプリムL−3430(厚さ50μm又は100μm)が挙げられる。 (Wherein n 3 is an integer of 0 to 4, p 3 is 0 or 1, and n 3 + p 3 is an integer of 1 to 5). preferable. Specifically, Neoprim L-3430 (thickness 50 μm or 100 μm) manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company may be mentioned.

(4)含フッ素高分子化合物
上記含フッ素高分子化合物としては、1分子中に少なくとも2つのシクロヘキシル環と2つのフルオロアルキル基とを含有する含フッ素脂環式ジアミン又は含フッ素芳香族ジアミンを、少なくとも単量体の一部に使用した含フッ素高分子化合物であることが好ましい。具体的には、例えば、下記式(8−1)〜(8−4):
(4) Fluorine-containing polymer compound As the above-mentioned fluorine-containing polymer compound, fluorine-containing alicyclic diamine or fluorine-containing aromatic diamine containing at least two cyclohexyl rings and two fluoroalkyl groups in one molecule, A fluorine-containing polymer compound used in at least a part of the monomer is preferable. Specifically, for example, the following formulas (8-1) to (8-4):

Figure 2011191693
Figure 2011191693

(式中、Rは、直鎖、分岐、脂環、芳香環及びヘテロ環からなる群より選択される少なくとも1種の2価の基を表し、部分的にフッ素、酸素又は窒素を含有してもよい。)で表される繰り返し単位を含む含フッ素脂環式ポリアミド構造又は含フッ素芳香族ポリアミド構造を有する含フッ素高分子化合物;下記式(9−1)〜(9−4): (In the formula, R 4 represents at least one divalent group selected from the group consisting of linear, branched, alicyclic, aromatic and heterocyclic rings, partially containing fluorine, oxygen or nitrogen. Or a fluorine-containing polymer compound having a fluorine-containing alicyclic polyamide structure or a fluorine-containing aromatic polyamide structure containing a repeating unit represented by the following formulas (9-1) to (9-4):

Figure 2011191693
Figure 2011191693

(式中、Rは、直鎖、分岐、脂環、芳香環及びヘテロ環からなる群より選択される少なくとも1種の4価の基を表し、部分的にフッ素、酸素又は窒素を含有してもよい。Rは、水素、又は、炭素数1〜20の直鎖若しくは分岐状のアルキル基であって、部分的にフッ素、酸素、窒素、不飽和結合又は環状構造を含んでもよい。)で表される繰り返し単位を含む含フッ素脂環式ポリアミド酸、含フッ素芳香族ポリアミド酸、又は、これらのエステル体である含フッ素高分子化合物;下記式(10−1)〜(10−4): (In the formula, R 5 represents at least one tetravalent group selected from the group consisting of linear, branched, alicyclic, aromatic and heterocyclic rings, partially containing fluorine, oxygen or nitrogen. R 6 is hydrogen or a linear or branched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and may partially contain fluorine, oxygen, nitrogen, an unsaturated bond, or a cyclic structure. ) -Containing fluorine-containing alicyclic polyamic acid, fluorine-containing aromatic polyamic acid, or fluorine-containing polymer compound which is an ester thereof; the following formulas (10-1) to (10-4) ):

Figure 2011191693
Figure 2011191693

(式中、Rは、直鎖、分岐、脂環、芳香環及びヘテロ環からなる群より選択される少なくとも1種の4価の基を表し、部分的にフッ素、酸素又は窒素を含有してもよい)で表される繰り返し単位を含む含フッ素脂環式ポリイミド又は含フッ素芳香族ポリイミドである含フッ素高分子化合物等が好適である。
なお、上記式(10−3)においてより好ましくは、式中のRが、下記式(11)で表される形態である。
(In the formula, R 5 represents at least one tetravalent group selected from the group consisting of linear, branched, alicyclic, aromatic and heterocyclic rings, partially containing fluorine, oxygen or nitrogen. And a fluorine-containing polymer compound which is a fluorine-containing alicyclic polyimide or fluorine-containing aromatic polyimide containing a repeating unit represented by
In the above formula (10-3), R 5 in the formula is more preferably a form represented by the following formula (11).

Figure 2011191693
Figure 2011191693

上記含フッ素高分子化合物としてより好ましい化合物は、例えば、下記式(12): A more preferable compound as the fluorine-containing polymer compound is, for example, the following formula (12):

Figure 2011191693
Figure 2011191693

で表される4,4’−ヘキサフルオロプロピリデンビスフタル酸二無水物(6FPA)と2,2’−ビス(トリフルオロメチル)−4,4’−ジアミノビフェニル(TFBD)とを反応させて重合体溶液を得て、その後加熱して得られるフッ素化ポリイミド樹脂(F−PI)(膜厚50μm)が挙げられる。 4,4′-hexafluoropropylidenebisphthalic dianhydride (6FPA) represented by the following reaction with 2,2′-bis (trifluoromethyl) -4,4′-diaminobiphenyl (TFBD) A fluorinated polyimide resin (F-PI) (film thickness 50 μm) obtained by obtaining a polymer solution and then heating is exemplified.

上記含フッ素高分子化合物としてはまた、テトラフルオロエチレンを含むものも好適である。特に、透明性の観点からは、テトラフルオロエチレン/パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体が好ましく、具体的には、ダイキン社製のネオフロンTMフィルムPFA(50μm)や、ニチアス社製のナフロンPFAシート(T/♯9000−PFA)等のPFAフィルム等が挙げられ、特に、ダイキン社製のネオフロンTMフィルムPFA(50μm)が好適である。 As the fluorine-containing polymer compound, those containing tetrafluoroethylene are also suitable. In particular, from the viewpoint of transparency, a tetrafluoroethylene / perfluoroalkyl vinyl ether copolymer is preferable. Specifically, a Neoflon TM film PFA (50 μm) manufactured by Daikin or a Naflon PFA sheet (T / # 9000-PFA) and the like, and Neoflon TM film PFA (50 μm) manufactured by Daikin is particularly suitable.

(5)硬化性樹脂
上記硬化性樹脂としては、エポキシ樹脂、アクリル樹脂等が好適である。
上記エポキシ樹脂とは、エポキシ基を有する化合物(エポキシ化合物)を含む硬化性組成物の硬化物である。硬化物の形態としてはエポキシ化合物をカチオン硬化触媒の存在下で光及び/又は熱硬化してなる形態、エポキシ化合物を付加的硬化剤と反応させることにより得られる硬化物の形態等が挙げられる。後者において硬化反応促進のため従来公知の硬化促進剤を併用することもできる。上記付加的硬化剤としては、例えば、酸無水物、多価フェノール化合物、多価アミン等が例示されるが、中でも酸無水物が好ましい。
(5) Curable resin As said curable resin, an epoxy resin, an acrylic resin, etc. are suitable.
The said epoxy resin is a hardened | cured material of the curable composition containing the compound (epoxy compound) which has an epoxy group. Examples of the form of the cured product include a form obtained by curing the epoxy compound with light and / or heat in the presence of a cationic curing catalyst, a form of a cured product obtained by reacting the epoxy compound with an additional curing agent, and the like. In the latter case, a conventionally known curing accelerator can be used in combination for accelerating the curing reaction. Examples of the additional curing agent include acid anhydrides, polyhydric phenol compounds, and polyvalent amines. Among them, acid anhydrides are preferable.

上記エポキシ化合物としては、芳香族エポキシ化合物、脂肪族エポキシ化合物、脂環式エポキシ化合物、水添エポキシ化合物等が好適であり、例えば、大阪ガスケミカル社製のフルオレンエポキシ(オンコートEX−1);ジャパンエポキシレジン社製のビスフェノールA型エポキシ樹脂(エピコート828EL);ジャパンエポキシレジン社製の水添ビスフェノールA型エポキシ樹脂(エピコートYX8000);ダイセル工業社製の脂環式液状エポキシ樹脂(セロキサイド2021)等が好ましく使用できる。
なお、本明細書中、エポキシ基とは、3員環のエーテルであるオキシラン環を含むものであり、狭義のエポキシ基の他、グリシジル基(グリシジルエーテル基及びグリシジルエステル基を含む)を含むものを意味する。
As said epoxy compound, an aromatic epoxy compound, an aliphatic epoxy compound, an alicyclic epoxy compound, a hydrogenated epoxy compound etc. are suitable, For example, Osaka Gas Chemical Co., Ltd. fluorene epoxy (Oncoat EX-1); Bisphenol A type epoxy resin (Epicoat 828EL) manufactured by Japan Epoxy Resin; Hydrogenated bisphenol A type epoxy resin (Epicoat YX8000) manufactured by Japan Epoxy Resin; Alicyclic liquid epoxy resin (Celoxide 2021) manufactured by Daicel Industries, Ltd. Can be preferably used.
In addition, in this specification, an epoxy group includes an oxirane ring that is a three-membered ether, and includes a glycidyl group (including a glycidyl ether group and a glycidyl ester group) in addition to a narrowly defined epoxy group. Means.

上記エポキシ樹脂はまた、その硬化前の硬化性組成物が、可撓性を有する成分(可撓性成分)を含むことが好適である。可撓性成分を含むことにより、成形時や基板、型等からはずすときに割れない、形が崩れない、剥がれやすい、柔軟性がある等の一体感のある樹脂組成物とすることができる。
上記可撓性成分としては、上記エポキシ化合物とは異なる化合物であってもよいし、上記エポキシ化合物の少なくとも1種が可撓性成分であってもよい。
In the epoxy resin, it is preferable that the curable composition before curing includes a flexible component (flexible component). By including a flexible component, it is possible to obtain a resin composition having a sense of unity, such as not cracking, not losing shape, being easily peeled off, and having flexibility when being removed from molding or from a substrate or mold.
The flexible component may be a compound different from the epoxy compound, or at least one of the epoxy compounds may be a flexible component.

上記可撓性成分として具体的には、−〔−(CH−O−〕−で表されるオキシアルキレン骨格を有する化合物(nは2以上、mは1以上の整数である。好ましくは、nは2〜12、mは1〜1000の整数であり、より好ましくは、nは3〜6、mは1〜20の整数である。)が好適であり、例えば、(I)オキシブチレン基を含むエポキシ化合物(ジャパンエポキシレジン社製のYED−216D;ジャパンエポキシレジン社製のYL−7217、エポキシ当量437、液状エポキシ化合物(10℃以上))が好適である。また、その他の好適な可撓性成分としては、(II)高分子エポキシ化合物(例えば、水添ビスフェノール(ジャパンエポキシレジン社製、YX−8040、エポキシ当量1000、固形水添エポキシ化合物));(III)脂環式固形エポキシ化合物(ダイセル工業社製 EHPE−3150);(IV)脂環式液状エポキシ化合物(ダイセル工業社製、セロキサイド2081)等のエポキシ基を含む化合物;(V)液状ニトリルゴム等の液状ゴム、ポリブタジエン等の高分子ゴム、粒径100nm以下の微粒子ゴム等が好ましい。これらの中でもより好ましくは、末端の側鎖や主鎖骨格等に硬化性の官能基を含む化合物である。なお、「硬化性の官能基」とは、エポキシ基等の熱又は光で硬化する官能基(有機樹脂を硬化反応させる基)をいう。 Specifically, the flexible component is a compound having an oxyalkylene skeleton represented by — [— (CH 2 ) n —O—] m — (n is 2 or more, and m is an integer of 1 or more. Preferably, n is 2 to 12, m is an integer of 1 to 1000, and more preferably, n is 3 to 6 and m is an integer of 1 to 20.), for example, (I) An epoxy compound containing an oxybutylene group (YED-216D manufactured by Japan Epoxy Resin; YL-7217 manufactured by Japan Epoxy Resin, epoxy equivalent 437, liquid epoxy compound (10 ° C. or higher)) is preferable. Other suitable flexible components include (II) polymer epoxy compounds (for example, hydrogenated bisphenol (manufactured by Japan Epoxy Resin, YX-8040, epoxy equivalent 1000, solid hydrogenated epoxy compound)); III) Alicyclic solid epoxy compound (EHPE-3150 manufactured by Daicel Industries, Ltd.); (IV) Compound containing epoxy group such as alicyclic liquid epoxy compound (Daicel Industry, Celoxide 2081); (V) Liquid nitrile rubber Liquid rubber such as polybutadiene, polymer rubber such as polybutadiene, and fine particle rubber having a particle size of 100 nm or less are preferable. Among these, more preferred are compounds containing a curable functional group in the terminal side chain or main chain skeleton. The “curable functional group” refers to a functional group that cures with heat or light, such as an epoxy group (a group that cures an organic resin).

上記アクリル樹脂とは、(メタ)アクリロイル基を有する化合物((メタ)アクリロイル基含有化合物)を含む硬化性組成物の硬化物である。 The acrylic resin is a cured product of a curable composition containing a compound having a (meth) acryloyl group ((meth) acryloyl group-containing compound).

上記基材に関し、樹脂層を有するガラスフィルムとは、1種又は2種以上の有機材料から形成される層(樹脂層)を、ガラスフィルムの一方の面又は両面に有する形態のものであればよい。このような形態で使用される有機材料としては、上述したように、(1)フッ素化芳香族ポリマー、(2)多環芳香族ポリマー、(3)ポリ(アミド)イミド樹脂、(4)含フッ素高分子化合物及び(5)硬化性樹脂からなる群より選ばれる少なくとも1種のものが適当である。これらの中でも、フッ素化芳香族ポリマー、エポキシ樹脂、及び、フッ素化芳香族ポリマーとエポキシ樹脂との複合樹脂が好ましい。これにより、更に一層、強度や柔軟性を向上することが可能になる。 Regarding the base material, a glass film having a resin layer is a form having a layer (resin layer) formed of one or more organic materials on one or both surfaces of the glass film. Good. As described above, organic materials used in such a form include (1) fluorinated aromatic polymer, (2) polycyclic aromatic polymer, (3) poly (amide) imide resin, and (4) At least one selected from the group consisting of fluorine polymer compounds and (5) curable resins is suitable. Among these, a fluorinated aromatic polymer, an epoxy resin, and a composite resin of a fluorinated aromatic polymer and an epoxy resin are preferable. As a result, the strength and flexibility can be further improved.

上記ガラスフィルムとしては、耐曲げ強度に優れる点や、より薄膜化を実現する点等から、厚みが150μm以下のものが好適である。より好ましくは100μm以下、更に好ましくは50μm以下である。また、ガラスフィルムは、シリカを主成分とする形態であればよく、透明性が80%(照射光波長500nm)で確保できれば、その他の成分の割合及び種類等は限定されない。ガラスフィルムとして好ましくは、SCHOTT社製のガラスコード(D263、30μm)等が挙げられる。 As the glass film, a film having a thickness of 150 μm or less is preferable from the viewpoint of excellent bending strength and the achievement of a thinner film. More preferably, it is 100 micrometers or less, More preferably, it is 50 micrometers or less. Moreover, the glass film should just be a form which has a silica as a main component, and if transparency can be ensured with 80% (irradiation light wavelength 500nm), the ratio of the other component, a kind, etc. will not be limited. The glass film is preferably a glass cord (D263, 30 μm) manufactured by SCHOTT.

上記樹脂層を有するガラスフィルムの好ましい形態としては、ガラスフィルムの両面に樹脂層を有する形態であり、中でも、樹脂層を形成する有機材料として、フッ素化芳香族ポリマー、エポキシ樹脂、又は、フッ素化芳香族ポリマーとエポキシ樹脂との複合樹脂を用いることが好ましい。
なお、割れをより防止する等という観点からは、ガラスフィルムに、他の層をのせた後に樹脂層を積層させたものであってもよい。
A preferred form of the glass film having the resin layer is a form having a resin layer on both surfaces of the glass film. Among them, as an organic material for forming the resin layer, a fluorinated aromatic polymer, an epoxy resin, or a fluorinated product is used. It is preferable to use a composite resin of an aromatic polymer and an epoxy resin.
In addition, from the viewpoint of preventing cracking and the like, a resin layer may be laminated after placing another layer on the glass film.

上記基材はまた、耐熱性を有するものであることが好適であり、これによって種々の分野に更に一層有用なものとなる。中でも特に、樹脂層を形成する有機材料が耐熱性を有することが好適である。耐熱性を有するとは、例えば基材の耐熱温度として、10%分解温度が200℃以上であることが好ましく、より好ましくは250℃以上、更に好ましくは300℃以上、特に好ましくは350℃以上である。また、基材のガラス転移温度(Tg)は、80℃以上であることが好ましく、より好ましくは150℃以上、更に好ましくは200℃以上、特に好ましくは250℃以上である。
なお、本発明では、光選択透過フィルターをレーザーカット法を用いて得ることから、耐熱性の高い基材を用いることがより好ましく、これによって、レーザーカット時の基材の変形がより充分に抑制され、無機層等の割れや剥がれの発生をより充分に防止できる。
The base material is also preferably heat resistant, which makes it even more useful in various fields. In particular, it is preferable that the organic material forming the resin layer has heat resistance. Having heat resistance means, for example, that the 10% decomposition temperature is preferably 200 ° C. or higher, more preferably 250 ° C. or higher, more preferably 300 ° C. or higher, particularly preferably 350 ° C. or higher, as the heat resistant temperature of the substrate. is there. Moreover, it is preferable that the glass transition temperature (Tg) of a base material is 80 degreeC or more, More preferably, it is 150 degreeC or more, More preferably, it is 200 degreeC or more, Most preferably, it is 250 degreeC or more.
In the present invention, since the light selective transmission filter is obtained by using the laser cut method, it is more preferable to use a base material having high heat resistance, thereby suppressing the deformation of the base material at the time of laser cutting more sufficiently. In addition, the occurrence of cracking and peeling of the inorganic layer can be more sufficiently prevented.

上記基材はまた、耐リフロー性を有するものも好適であり、これにより光選択透過フィルターの厚みが薄くても耐熱性により優れるものとすることができるため、光学用途等の各種用途に更に好適に用いることができる。例えば、光選択透過フィルター実装時の耐熱性をより充分なものとすることができるため、自動実装化が可能となって実装コストがより充分に低減され、リフローブルカメラモジュール等により好適に用いることができる。また、基材に光選択透過層を蒸着して形成する場合は、蒸着による耐熱性が必要となるが、この点からも耐リフロー性を有する基材であることが好ましい。このように、上記基材が耐リフロー性機能フィルムである形態もまた、本発明の好適な形態の1つである。 The above-mentioned base material is also suitable for those having reflow resistance, so that even if the thickness of the light selective transmission filter is thin, it can be made more excellent in heat resistance, so it is more suitable for various applications such as optical applications. Can be used. For example, since the heat resistance when mounting the light selective transmission filter can be made more sufficient, automatic mounting is possible, mounting costs are further reduced, and it is preferably used for reflowable camera modules, etc. Can do. Moreover, when forming a light selective transmission layer on a base material by vapor deposition, the heat resistance by vapor deposition is required, but also from this point, a base material having reflow resistance is preferable. Thus, the form in which the substrate is a reflow resistant functional film is also one of the preferred forms of the present invention.

ここで、耐リフロー性を有するとは、ハンダ付け工程の加熱に耐え得る特性を有することを意味し、例えば耐リフロー性機能フィルムは、カメラモジュール次世代仕様として有望視されているReflowable仕様のフィルムである。
上記耐リフロー性を有する基材として具体的には、250℃・3min、又は、200℃・5hrで形状を保持するものであることが好ましい。より好ましくは、250℃・3min、かつ200℃・5hrで形状を保持するものである。更に好ましくは、260℃・3min、又は、200℃・5hrで形状を保持するものであり、特に好ましくは、260℃・3min、かつ200℃・5hrで形状を保持するものである。耐リフロー性がない場合は、光選択透過層を基材に気相法にて製膜するときにフィルムが溶解し形状を保てず、蒸着することができなかったり、リフロー工程において形状が変化して実装することができなくなることもある。本発明において耐リフロー性を有するとは、熱を加える前後での形状・寸法変化が、元の形状・寸法の20%以下であることをいう。形状・寸法変化として好ましくは5%以下であり、より好ましくは1%以下である。
なお、250℃・3minで形状を保持しているとは、実装時の耐リフロー性が充分であることを示し、200℃・5hrで形状を保持しているとは、基材上に無機層等を積層させる蒸着時の耐リフロー性が充分であることを示す。また、260℃・3minで形状を保持する場合には、実装時の耐リフロー性がより向上されていることを示す。
Here, having reflow resistance means having a characteristic capable of withstanding the heating in the soldering process. For example, the reflow resistant functional film is a reflowable specification film that is promising as the next generation specification of a camera module. It is.
Specifically, the substrate having reflow resistance is preferably one that retains its shape at 250 ° C. · 3 min or 200 ° C. · 5 hr. More preferably, the shape is maintained at 250 ° C. · 3 min and 200 ° C. · 5 hr. More preferably, the shape is held at 260 ° C. · 3 min or 200 ° C. · 5 hr, and particularly preferably the shape is held at 260 ° C. · 3 min and 200 ° C. · 5 hr. If there is no reflow resistance, the film dissolves and cannot keep its shape when the light selective transmission layer is formed on the base material by the vapor phase method, and it cannot be deposited, or the shape changes during the reflow process. It may become impossible to implement. In the present invention, having reflow resistance means that the change in shape and dimensions before and after applying heat is 20% or less of the original shape and dimensions. The change in shape and dimensions is preferably 5% or less, and more preferably 1% or less.
Note that holding the shape at 250 ° C. for 3 minutes indicates that the reflow resistance at the time of mounting is sufficient, and holding the shape at 200 ° C. for 5 hours means that the inorganic layer is formed on the substrate. It shows that the reflow resistance at the time of vapor deposition for laminating etc. is sufficient. In addition, when the shape is maintained at 260 ° C. for 3 minutes, it indicates that the reflow resistance during mounting is further improved.

上記基材はまた、加熱処理した基材であることが好ましく、中でも、加熱処理を行った樹脂フィルム(樹脂層からなる樹脂フィルム)であることが好適である。すなわち、上記積層フィルム及び光選択透過フィルターは、加熱処理を行った樹脂フィルムを含むことが好適である。加熱処理した樹脂フィルムは、より優れた耐熱性を有するため、熱による変形がより起こりにくい光選択透過フィルターを得ることができる。加熱処理とは、熱プレス、熱ロール、延伸処理等を行うことである。例えば光選択透過フィルターを種々の用途に用いる際に加熱されることがあり、例えばレンズユニット等の光学用途では、通常ハンダ付けにより装着(実装)される。加熱処理した樹脂フィルムを基材として用いると、装着される際の熱変形がより充分に抑制され、カールすることがなく好ましい。言い換えると、このような光選択透過フィルターは、加熱処理した樹脂フィルムに光選択透過層等を形成することにより熱変形の課題をより解消することができる。また、加熱処理により、樹脂フィルムの機械的強度や耐熱性、密着性等をより一層向上することができる。 The base material is also preferably a heat-treated base material, particularly preferably a heat-treated resin film (resin film made of a resin layer). That is, the laminated film and the light selective transmission filter preferably include a heat-treated resin film. Since the heat-treated resin film has better heat resistance, it is possible to obtain a light selective transmission filter that is less likely to be deformed by heat. The heat treatment is to perform a hot press, a hot roll, a stretching treatment or the like. For example, the light selective transmission filter may be heated when used in various applications. For example, in an optical application such as a lens unit, it is usually mounted (mounted) by soldering. When a heat-treated resin film is used as a base material, it is preferable that thermal deformation during mounting is more sufficiently suppressed and no curling occurs. In other words, such a light selective transmission filter can further solve the problem of thermal deformation by forming a light selective transmission layer or the like on the heat-treated resin film. In addition, the heat treatment can further improve the mechanical strength, heat resistance, adhesion, and the like of the resin film.

上記加熱処理の条件としては、処理温度が樹脂フィルムを形成する有機材料のTg付近以上の温度であることが好ましい。より好ましくはTg以上の温度である。また、処理温度の温度範囲としては、Tg付近以上でありTg付近+150℃以下である温度範囲が好ましい。より好ましくは、Tg以上でありTg付近+150℃以下である温度範囲である。なお、「Tg付近」とは、ガラス転移温度に対して15℃以内の範囲にある温度のことである。 As a condition for the heat treatment, it is preferable that the treatment temperature is a temperature in the vicinity of Tg of the organic material forming the resin film. More preferably, the temperature is Tg or higher. Moreover, as a temperature range of process temperature, the temperature range which is Tg vicinity or more and Tg vicinity +150 degrees C or less is preferable. More preferably, the temperature range is Tg or more and around Tg + 150 ° C. or less. “Near Tg” means a temperature within a range of 15 ° C. with respect to the glass transition temperature.

上記基材は更に、隣接する層(光選択透過層等)との密着性により優れるという観点からは、上述した形態(樹脂層からなる樹脂フィルム又は樹脂層を有するガラスフィルム)の中でも、(1)フッ素化芳香族ポリマー、(2)多環芳香族ポリマー、(3)ポリ(アミド)イミド樹脂、及び、(5)硬化性樹脂からなる群より選択される少なくとも1種の有機材料から形成される樹脂層からなる樹脂フィルムであることが好適である。上記基材としてこのような樹脂フィルムを用いると、例えば、光選択透過層を蒸着して形成する場合に、蒸着した光選択透過層と基材との密着性により一層優れる蒸着フィルムとすることができる。 From the viewpoint that the base material is more excellent in adhesion with an adjacent layer (light selective transmission layer or the like), among the forms described above (resin film made of resin layer or glass film having a resin layer), (1 ) A fluorinated aromatic polymer, (2) a polycyclic aromatic polymer, (3) a poly (amide) imide resin, and (5) at least one organic material selected from the group consisting of curable resins. A resin film made of a resin layer is suitable. When such a resin film is used as the substrate, for example, when a light selective transmission layer is formed by vapor deposition, it is possible to obtain a vapor deposition film that is more excellent in the adhesion between the deposited light selective transmission layer and the substrate. it can.

上記基材の厚みとしては、例えば、200μm以下であることが好適である。これによって、光選択透過フィルターを小型化・薄膜化が要求される分野に更に好ましく適用できる。より好ましくは150μm以下、更に好ましくは100μm以下である。 The thickness of the substrate is preferably, for example, 200 μm or less. Thereby, the light selective transmission filter can be more preferably applied to a field where downsizing and thinning are required. More preferably, it is 150 micrometers or less, More preferably, it is 100 micrometers or less.

〔機能性材料層〕
上記機能性材料層とは、機能性材料から形成される層であり、光選択透過フィルターに付与する機能によって適宜選択することができる。例えば、本発明で必須とする光選択透過層の他、保護層、強靱性を有する層、光選択透過フィルターにかかる応力等を吸収するバッファー層(中間層、緩和層)、補強層、親水層、撥水層、反射防止層、位相差層、屈折率調節層、粘着層、導電層、絶縁層、光学補償層等から適宜選択することができる。また、光選択透過層に加えて、更に他の機能性材料層を形成する場合には、基材と光選択透過層の中間の熱膨張率を有する層を更に積層してもよい。
[Functional material layer]
The functional material layer is a layer formed from a functional material, and can be appropriately selected depending on the function imparted to the light selective transmission filter. For example, in addition to the light selective transmission layer essential in the present invention, a protective layer, a layer having toughness, a buffer layer (intermediate layer, relaxation layer) that absorbs stress applied to the light selective transmission filter, a reinforcing layer, a hydrophilic layer , A water repellent layer, an antireflection layer, a retardation layer, a refractive index adjusting layer, an adhesive layer, a conductive layer, an insulating layer, an optical compensation layer, and the like. Further, when another functional material layer is formed in addition to the light selective transmission layer, a layer having a thermal expansion coefficient intermediate between the base material and the light selective transmission layer may be further laminated.

上記光選択透過フィルターは、その両面に機能性材料層を有する構造を持つことが好ましい。例えば、基材の両面に機能性材料層を積層した構造を持つことが好ましい。光選択透過フィルターの両面を機能性材料で積層させた機能性材料層を形成することにより、より充実した機能を有する光選択透過フィルターとすることができる。また、蒸着により機能性材料を積層させる場合には、両面に材料を蒸着させることが好適だが、この場合は蒸着時及び/又は実装時のカールをより抑制でき、種々の用途により一層好適な光選択透過フィルターとすることができる。 The light selective transmission filter preferably has a structure having functional material layers on both sides thereof. For example, it is preferable to have a structure in which functional material layers are laminated on both sides of a substrate. By forming a functional material layer in which both surfaces of the light selective transmission filter are laminated with a functional material, a light selective transmission filter having a more fulfilling function can be obtained. In addition, when functional materials are laminated by vapor deposition, it is preferable to vapor-deposit materials on both surfaces, but in this case, curling during vapor deposition and / or mounting can be further suppressed, and light more suitable for various applications. It can be a selective transmission filter.

上記基材の両面には、それぞれ異なった機能性材料層を積層させてもよく、同じ機能を有する機能性材料層を積層させてもよい。この中でも好ましくは、(1)両面が光選択透過層である形態、(2)片側が光選択透過層でもう一方が反射防止層である形態、(3)片側が光選択透過層でもう一方が反射防止層/光選択透過層である形態である。これらの中でも、(1)の形態が好ましく、このように上記光選択透過フィルター及び積層フィルムが、基材の両面に光選択透過層を有する形態もまた、本発明の好適な形態の1つである。これによって、得られる光選択透過フィルターの反りや割れ等の発生をより充分に抑制できる。なお必要に応じ、基材と光選択透過層との間に他の機能性材料層を有していてもよい。
上記機能性材料層は、それぞれの機能が最も発揮できる形態に積層されることが好ましい。本発明においては、光選択透過層を適宜選択することにより所望の波長の透過率を低減させることができる。例えば、赤外光を低減する場合、上記(1)〜(3)の形態の中でも光選択透過層が、赤外カット層となる。
Different functional material layers may be laminated on both surfaces of the substrate, or functional material layers having the same function may be laminated. Among these, (1) a mode in which both sides are light selective transmission layers, (2) a mode in which one side is a light selective transmission layer and the other is an antireflection layer, and (3) one side is a light selective transmission layer and the other is preferred. Is an antireflection layer / light selective transmission layer. Among these, the form (1) is preferable, and the form in which the light selective transmission filter and the laminated film have the light selective transmission layers on both surfaces of the base material is also one of the preferable forms of the present invention. is there. Thereby, generation | occurrence | production of curvature, a crack, etc. of the light selective transmission filter obtained can be suppressed more fully. If necessary, another functional material layer may be provided between the base material and the light selective transmission layer.
The functional material layer is preferably laminated in a form in which each function can be exhibited most. In the present invention, the transmittance of a desired wavelength can be reduced by appropriately selecting the light selective transmission layer. For example, in the case of reducing infrared light, the light selective transmission layer is an infrared cut layer among the forms (1) to (3).

−光選択透過層−
上記光選択透過層は、光の透過率を選択的に低減(遮断)する性能、すなわち光選択透過性を有する機能性材料層であるが、中でも、レーザーによる劣化が起こり難い無機層であることが好適である。また、有機色素を無機バインダー又は有機バインダーに分散させた(有機)分散膜を光選択透過層として用いることもできる。
上記無機層とは、無機材料から形成される層を意味し、このような無機層を有することで、耐熱性等に優れる光選択透過フィルターとなる。無機材料は、無機成分を含むものであり、無機成分としては、無機層に期待する作用・機能や光選択透過フィルターの用途等に応じて適宜選択すればよい。
上記無機成分としては、例えば、金属(合金、金属間化合物を含む)、金属酸化物、金属フッ化物、金属炭化物、金属窒化物、金属カルコゲン化物(金属硫化物、金属セレン化物、金属テルル化物)等が好ましく例示される。中でも、金属、金属酸化物、金属フッ化物が、後述する気相成膜法によって本発明で好適な基材上に製膜し易い点で好ましい。
-Light selective transmission layer-
The light selective transmission layer is a functional material layer having the ability to selectively reduce (block) the light transmittance, that is, the light selective transmission, but in particular, it is an inorganic layer that is hardly deteriorated by laser. Is preferred. Further, an (organic) dispersion film in which an organic dye is dispersed in an inorganic binder or an organic binder can also be used as the light selective transmission layer.
The said inorganic layer means the layer formed from an inorganic material, and becomes a light selective transmission filter which is excellent in heat resistance etc. by having such an inorganic layer. The inorganic material contains an inorganic component, and the inorganic component may be appropriately selected according to the function / function expected of the inorganic layer, the use of the light selective transmission filter, and the like.
Examples of the inorganic component include metals (including alloys and intermetallic compounds), metal oxides, metal fluorides, metal carbides, metal nitrides, metal chalcogenides (metal sulfides, metal selenides, metal tellurides). Etc. are preferably exemplified. Among these, metals, metal oxides, and metal fluorides are preferable because they can be easily formed on a substrate suitable for the present invention by a vapor-phase film forming method described later.

上記金属として好ましくは、例えば、クロム、金、銀、銅、インジウム、マグネシウム、アルミニウム、カルシウム等が挙げられる。
上記金属酸化物として好ましくは、例えば、シリカ、チタニア、アルミナ、酸化チタン、酸化ジルコニウム、五酸化タンタル、五酸化ニオブ、酸化ランタン、酸化イットリウム、酸化亜鉛、硫化亜鉛、酸化インジウム、酸化チタン、酸化鉄、酸化錫、酸化セリウム、MgIn、MgIn等の単一酸化物や複合酸化物;スズドープ酸化インジウム(ITO)、フッ素ドープ酸化インジウム、リンドープ酸化スズ、アルミニウムドープ酸化亜鉛、インジウムドープ酸化亜鉛等の単一酸化物や複合酸化物に異種元素を固溶してなる固溶体金属酸化物等が挙げられる。
上記金属フッ化物として好ましくは、例えば、フッ化リチウム、フッ化ランタン、フッ化マグネシウム、六フッ化アルミニウムナトリウム等が挙げられる。
Preferred examples of the metal include chrome, gold, silver, copper, indium, magnesium, aluminum, and calcium.
Preferred examples of the metal oxide include silica, titania, alumina, titanium oxide, zirconium oxide, tantalum pentoxide, niobium pentoxide, lanthanum oxide, yttrium oxide, zinc oxide, zinc sulfide, indium oxide, titanium oxide, and iron oxide. , Tin oxide, cerium oxide, MgIn 2 O 4 , MgIn 2 O 4 and other single oxides and complex oxides; tin-doped indium oxide (ITO), fluorine-doped indium oxide, phosphorus-doped tin oxide, aluminum-doped zinc oxide, indium-doped Examples thereof include solid solution metal oxides formed by dissolving different elements in a single oxide or composite oxide such as zinc oxide.
Preferred examples of the metal fluoride include lithium fluoride, lanthanum fluoride, magnesium fluoride, and aluminum hexafluoride sodium.

上記無機層は、単層構造であっても多層構造(多層膜)であってもよく、各層を構成する無機成分は、単一組成であっても、2種以上の無機成分が混合した組成であってもよい。
上記無機層を構成する層の形態としては、実質的に上述した無機成分のみからなる薄膜の形態(形態1)、無機成分からなる微粒子を無機系バインダーに分散した形態(形態2)、無機成分からなる微粒子を有機バインダーに分散した形態(形態3)等が例示される。
上記無機層ではまた、本発明における効果が顕著となる点から、無機成分の割合が高いほど好ましい。例えば、無機層を構成する各層における無機成分の含有量が、当該層を形成する無機材料100質量%に対し、50質量%以上が好ましく、より好ましくは80質量%以上であり、更に好ましくは95質量%以上であり、特に好ましくは実質的に無機成分のみからなることである。また、後術するように光選択透過フィルター等の光学用途における光学性能や耐久性に優れる点から、実質的に有効成分のみからなる薄膜の形態が好ましい。
上記形態1の無機層は、後述するように、気相成膜法により好ましく形成される。また、上記形態2、形態3の無機層は、通常、塗布法により形成される。
The inorganic layer may have a single layer structure or a multilayer structure (multilayer film), and the inorganic component constituting each layer may be a single composition or a composition in which two or more inorganic components are mixed. It may be.
As the form of the layer constituting the inorganic layer, the form of the thin film substantially composed of only the inorganic component described above (form 1), the form in which fine particles composed of the inorganic component are dispersed in the inorganic binder (form 2), the inorganic component The form (form 3) etc. which the microparticles | fine-particles which consist of disperse | distribute to the organic binder are illustrated.
In the inorganic layer, the higher the proportion of the inorganic component, the more preferable the effect in the present invention is. For example, the content of the inorganic component in each layer constituting the inorganic layer is preferably 50% by mass or more, more preferably 80% by mass or more, and still more preferably 95% with respect to 100% by mass of the inorganic material forming the layer. It is more than mass%, and it is particularly preferable that it consists essentially of an inorganic component. Moreover, the form of the thin film which consists only of an active ingredient substantially from the point which is excellent in the optical performance and durability in optical uses, such as a light selective transmission filter so that it may be shown later, is preferable.
The inorganic layer of Form 1 is preferably formed by a vapor deposition method, as will be described later. Moreover, the inorganic layer of the said form 2 and form 3 is normally formed by the apply | coating method.

上記無機層はまた、所望の光をより充分に低減させる観点から、多層構造とすることが好適であり、より好ましくは多層蒸着膜である。多層構造とすることで、選択的に低減する波長の透過率を当該全波長領域において容易に10%以下にすることができる。言い換えると、透過させたい波長領域の透過率が高く、低減させたい波長領域の透過率が低いシャープな光選択透過フィルターとすることができる。具体的にいうと、光選択透過フィルターが780nm〜10μmの赤外光を低減する赤外カットフィルターである場合、780nmを境に透過率が急変することとなる。例えば、780nm未満の光は透過率70%以上で透過し、780nm以上では透過率10%以下しか透過しないものとなるように、透過率がシャープに変わることで、例えばカメラモジュールに用いる場合、シーモスセンサーに届く光から赤外光を選択的に除去できる等の利点がある。
上記無機層はまた、結晶性膜が非晶性膜より好ましい。上記無機層として特に好ましい形態は、結晶性の無機層から構成される多層蒸着膜である。
The inorganic layer preferably has a multilayer structure, more preferably a multilayer deposited film, from the viewpoint of sufficiently reducing desired light. By adopting a multilayer structure, the transmittance of the wavelength to be selectively reduced can be easily reduced to 10% or less in the entire wavelength region. In other words, a sharp light selective transmission filter having a high transmittance in the wavelength region desired to be transmitted and a low transmittance in the wavelength region desired to be reduced can be obtained. More specifically, when the light selective transmission filter is an infrared cut filter that reduces infrared light having a wavelength of 780 nm to 10 μm, the transmittance suddenly changes at 780 nm. For example, light having a transmittance of less than 780 nm is transmitted with a transmittance of 70% or more, and the transmittance is sharply changed so that it is transmitted with a transmittance of 10% or less at 780 nm or more. There is an advantage that infrared light can be selectively removed from light reaching the sensor.
The inorganic layer is preferably a crystalline film rather than an amorphous film. A particularly preferable form of the inorganic layer is a multilayer deposited film composed of a crystalline inorganic layer.

上記無機層としてより好ましい形態は、各波長の屈折率を制御できる無機多層膜;所望の波長の光を反射する機能を有する透明導電膜;所望の波長の光を吸収する機能を有する分散膜等である。このうち、透明導電膜としては、インジウム−スズ系酸化物(ITO)等の赤外線を反射する膜としての透明導電膜が好ましい。また、赤外線吸収性の分散膜としては、ITO等の無機粒子(好ましくは無機ナノ粒子)を、無機又は有機バインダーに分散させた膜等が好ましい。これらの好適な形態の中でも、耐熱性により優れる点で、無機多層膜、透明導電膜、無機ナノ粒子を無機バインダーに分散させた膜等が好適であり、中でも、無機多層膜が好適である。 A more preferable form of the inorganic layer is an inorganic multilayer film capable of controlling the refractive index of each wavelength; a transparent conductive film having a function of reflecting light of a desired wavelength; a dispersion film having a function of absorbing light of a desired wavelength, etc. It is. Among these, as the transparent conductive film, a transparent conductive film as a film that reflects infrared rays, such as indium-tin oxide (ITO), is preferable. Moreover, as an infrared-absorbing dispersion film, a film in which inorganic particles such as ITO (preferably inorganic nanoparticles) are dispersed in an inorganic or organic binder is preferable. Among these preferable forms, an inorganic multilayer film, a transparent conductive film, a film in which inorganic nanoparticles are dispersed in an inorganic binder, and the like are preferable because they are superior in heat resistance. Among these, an inorganic multilayer film is preferable.

上記無機多層膜を光選択透過層として有する光選択透過フィルターにおいては、基材やその他の機能性材料層の上に、真空蒸着法やスパッタリング法等により、低屈折率材料と高屈折率材料とを交互に積層させて、光選択透過層を形成し、低減させたい波長(例えば、赤外領域や紫外領域等)の光を選択的に反射させるとともに、入射光と反射光の位相を半波長ずれるようにして、光の透過率を選択的に低減させることとなる。すなわち、上記光選択透過層は、低屈折率材料及び高屈折率材料を交互に積層させた屈折率制御多層膜であることが特に好適である。具体的には、誘電体層Aと、誘電体層Aが有する屈折率よりも高い屈折率を有する誘電体層Bとを交互に積層した誘電体多層膜(例えば、赤外線反射膜、紫外線反射膜又は紫外線・赤外線反射膜等)が好ましい。このような誘電体多層膜を少なくとも基材(好ましくは透明基材)の一方の面に有することにより、所望の波長の光を選択的に反射する能力により優れた光選択透過フィルターとすることができる。中でも、基材の入射光の入射する側の面に低屈折率材料及び高屈折率材料を15〜60層(1〜7μm)程度積層させた構造の多層膜(多層蒸着層、多層蒸着膜、誘電体多層膜とも言う。)であることが特に好ましい。このように、上記光選択透過フィルターが誘電体多層膜からなる光選択透過層を有する形態もまた、本発明の好適な形態の1つである。 In the light selective transmission filter having the inorganic multilayer film as a light selective transmission layer, a low refractive index material and a high refractive index material are formed on a base material or other functional material layer by a vacuum deposition method or a sputtering method. Are alternately laminated to form a light selective transmission layer, which selectively reflects light of the wavelength to be reduced (for example, infrared region or ultraviolet region), and the phase of incident light and reflected light is half wavelength. By deviating, the light transmittance is selectively reduced. That is, the light selective transmission layer is particularly preferably a refractive index control multilayer film in which a low refractive index material and a high refractive index material are alternately laminated. Specifically, a dielectric multilayer film (for example, an infrared reflective film, an ultraviolet reflective film) in which dielectric layers A and dielectric layers B having a refractive index higher than that of the dielectric layer A are alternately stacked. Or, an ultraviolet / infrared reflective film) is preferable. By having such a dielectric multilayer film on at least one surface of a base material (preferably a transparent base material), a light selective transmission filter having an excellent ability to selectively reflect light of a desired wavelength can be obtained. it can. Among them, a multilayer film having a structure in which about 15 to 60 layers (1 to 7 μm) of a low-refractive index material and a high-refractive index material are stacked on the surface of the substrate on which incident light is incident (multilayer deposition layer, multilayer deposition film, It is particularly preferable that it is also referred to as a dielectric multilayer film. As described above, a mode in which the light selective transmission filter has a light selective transmission layer made of a dielectric multilayer film is also a preferred embodiment of the present invention.

上記誘電体層Aを構成する材料としては、屈折率が1.6以下の材料を通常用いることができ、好ましくは、屈折率の範囲が1.2〜1.6の材料が選択される。例えば、シリカ、アルミナ、フッ化ランタン、フッ化マグネシウム、六フッ化アルミニウムナトリウム等が好適である。
上記誘電体層Bを構成する材料としては、屈折率が1.7以上の材料を用いることができ、好ましくは、屈折率の範囲が1.7〜2.5の材料が選択される。例えば、酸化チタン、酸化ジルコニウム、五酸化タンタル、五酸化ニオブ、酸化ランタン、酸化イットリウム、酸化亜鉛、硫化亜鉛、酸化インジウム等及びこれらを主成分とし、酸化チタン、酸化錫、酸化セリウム等を少量含有させたもの等が好適である。
As the material constituting the dielectric layer A, a material having a refractive index of 1.6 or less can be generally used, and a material having a refractive index range of 1.2 to 1.6 is preferably selected. For example, silica, alumina, lanthanum fluoride, magnesium fluoride, sodium hexafluoride sodium and the like are suitable.
As the material constituting the dielectric layer B, a material having a refractive index of 1.7 or more can be used, and a material having a refractive index range of 1.7 to 2.5 is preferably selected. For example, titanium oxide, zirconium oxide, tantalum pentoxide, niobium pentoxide, lanthanum oxide, yttrium oxide, zinc oxide, zinc sulfide, indium oxide, etc., and these as the main components, containing a small amount of titanium oxide, tin oxide, cerium oxide, etc. What was made to do etc. is suitable.

上記誘電体層Aと誘電体層Bとを積層する方法については、これら材料層を積層した誘電体多層膜が形成される限り特に制限はないが、例えば、CVD法、スパッタリング法、真空蒸着法等により、誘電体層Aと誘電体層Bとを交互に積層することにより誘電体多層膜を形成することができる。このような方法により、誘電体多層膜を好適に形成することができるが、蒸着によって光選択透過フィルターが変形しカールしたり、割れが生じたりする可能性を小さくするために、次の方法を用いることができる。具体的には、離型処理したガラス等の仮の基材に蒸着層を形成し、光選択透過フィルターの基材となる真の基材に、該蒸着層を転写して多層膜を形成する多層膜の転写方法が好適である。この場合、光選択透過フィルターの基材とする真の基材には、接着層を形成しておくことが好ましい。また基材が樹脂層からなる樹脂フィルム又は樹脂層を有するガラスフィルムである場合には、樹脂層を形成する有機材料が未硬化又は半硬化の状態(基材)で、上記誘電体層等を蒸着した後、基材を硬化する方法が好適である。このような方法を用いると、多層蒸着後の冷却時に基材が流動的となり、液状に近い状態となるために、有機材料と誘電体層等との熱膨張係数差がより問題にならず、光選択透過フィルターの変形(カール)をより充分に抑制することができる。 The method for laminating the dielectric layer A and the dielectric layer B is not particularly limited as long as a dielectric multilayer film in which these material layers are laminated is formed. For example, CVD, sputtering, vacuum evaporation Thus, a dielectric multilayer film can be formed by alternately laminating the dielectric layers A and B. By such a method, a dielectric multilayer film can be suitably formed, but in order to reduce the possibility of the light selective transmission filter being deformed and curled or cracked by vapor deposition, the following method is used. Can be used. Specifically, a vapor-deposited layer is formed on a temporary substrate such as glass that has been subjected to a release treatment, and the vapor-deposited layer is transferred to a true substrate that is a substrate of a light selective transmission filter to form a multilayer film. A multilayer film transfer method is preferred. In this case, it is preferable to form an adhesive layer on the true base material used as the base material of the light selective transmission filter. When the substrate is a resin film made of a resin layer or a glass film having a resin layer, the organic material forming the resin layer is in an uncured or semi-cured state (substrate), A method of curing the substrate after vapor deposition is preferred. When such a method is used, the base material becomes fluid during cooling after multi-layer deposition and becomes a liquid state, so that the difference in thermal expansion coefficient between the organic material and the dielectric layer does not become a problem. Deformation (curl) of the light selective transmission filter can be more sufficiently suppressed.

上記誘電体層A及び誘電体層Bの各層の厚みは、通常、遮断しようとする光の波長λ(nm)の0.1λ〜0.5λの厚みである。厚みが上記範囲外になると、屈折率(n)と膜厚(d)との積(n×d)がλ/4で算出される光学的膜厚と大きく異なって反射・屈折の光学的特性の関係が崩れてしまい、特定波長の遮断・透過をするコントロールができないことがある。 The thicknesses of the dielectric layer A and the dielectric layer B are usually 0.1λ to 0.5λ of the wavelength λ (nm) of light to be blocked. When the thickness is out of the above range, the product (n × d) of the refractive index (n) and the film thickness (d) is significantly different from the optical film thickness calculated by λ / 4, and the optical characteristics of reflection and refraction are different. This may break the relationship, and control to block / transmit specific wavelengths may not be possible.

上記誘電体多層膜の積層数は、基材(好ましくは透明基材)の一方の面にのみ上記誘電体多層膜を有する場合は、通常10〜80層の範囲で、好ましくは15〜60層の範囲である。一方、基材(好ましくは透明基材)の両面に上記誘電体層膜を有する場合は、上記誘電体層の積層数は、基板両面の積層数全体として、通常10〜80層の範囲であり、好ましくは15〜60層の範囲である。 When the dielectric multilayer film has the dielectric multilayer film only on one surface of the base material (preferably a transparent base material), the number of the dielectric multilayer films is usually in the range of 10 to 80 layers, preferably 15 to 60 layers. Range. On the other hand, when the dielectric layer film is provided on both surfaces of a base material (preferably a transparent base material), the number of laminated layers of the dielectric layers is usually in the range of 10 to 80 layers as the whole number of laminated layers on both sides of the substrate. , Preferably in the range of 15-60 layers.

上記光選択透過フィルターにおいて、所望の波長の光をカットする機能は、上述したように光選択透過層(好ましくは多層膜の光選択透過層)を有する形態によって発揮されることが好適であるが、その他の形態によって発揮されるものであってもよい。例えば、赤外線の透過率を低減させる赤外カットフィルターにおいては、(i)可視光を透過し近赤外線を遮蔽する金属酸化物からなる薄膜を基材表面に形成する形態、(ii)赤外吸収機能を有する(例えば、赤外吸収色素を含有する)塗布膜を形成する形態、(iii)基材に赤外線をカットする機能を持つ材料(原料)を用いる形態等が好適である。その他の波長を選択的に低減する場合でも同様であり、このような形態を用いることで、多層膜(多層蒸着層)の積層数を低減できたり省略したりすることができ、光選択透過フィルターの膜厚を薄くできる。例えば上記(i)の形態では、単層構造の薄膜とすることができる。したがって、光路を短縮することができ、カメラモジュール等の光学部材において有用なものとすることができる。基材の構成材料として有機材料を用いる場合は、多層膜を形成する際の基材のカールを抑制でき、低コスト化にも効果がある。
なお、上記(i)の形態における金属酸化物からなる薄膜や、上記(ii)の形態のうち無機成分を含む塗布膜もまた、光選択透過フィルターにおける光選択透過層(無機層)に相当し得る。
In the light selective transmission filter, the function of cutting light of a desired wavelength is preferably exhibited by a form having a light selective transmission layer (preferably a multilayer light selective transmission layer) as described above. It may be exhibited by other forms. For example, in an infrared cut filter that reduces infrared transmittance, (i) a form in which a thin film made of a metal oxide that transmits visible light and shields near infrared rays is formed on the surface of the substrate; (ii) infrared absorption A form in which a coating film having a function (for example, containing an infrared absorbing dye) is formed, and (iii) a form in which a material (raw material) having a function of cutting infrared rays is used as a base material are suitable. The same applies to the case where other wavelengths are selectively reduced. By using such a configuration, the number of multilayer films (multilayer deposition layers) can be reduced or omitted, and a light selective transmission filter. The film thickness can be reduced. For example, in the form (i), a thin film having a single layer structure can be formed. Therefore, the optical path can be shortened, and it can be useful in an optical member such as a camera module. When an organic material is used as the constituent material of the base material, curling of the base material when forming the multilayer film can be suppressed, and the cost can be reduced.
The thin film made of the metal oxide in the form (i) and the coating film containing an inorganic component in the form (ii) also correspond to the light selective transmission layer (inorganic layer) in the light selective transmission filter. obtain.

上記(i)可視光を透過し近赤外線を遮蔽する金属酸化物からなる薄膜を基材表面に形成する形態としては、酸化インジウム系、酸化スズ系、酸化亜鉛系、酸化タングステン系等からなる赤外反射及び吸収機能の少なくとも一方を有する薄膜が好ましい。特に、SnやTi等の4価の金属元素又はフッ素を0.1〜20原子%(/インジウム)の割合で固溶してなるIn系酸化物;Sb、P等の5価の金属元素又はフッ素を0.1〜20原子%(/スズ)の割合で固溶してなるSnO系酸化物;B、Al、In等の3価金属元素又は4価金属元素又はフッ素を0.1〜20原子%(/亜鉛)の割合で固溶してなるZnO系酸化物;WOで示される酸化タングステン系;In、Znを金属成分とする複合酸化物(In−Zn系、In−Mg系、In−Sn系、Sn−Zn系等)等の可視光を透過し近赤外線を遮蔽する金属酸化物からなる薄膜を基材表面に形成する方法が好ましい。このような薄膜は、スパッタリング法、真空蒸着法等により形成することが好適である The above (i) a thin film made of a metal oxide that transmits visible light and shields near infrared rays is formed on the substrate surface as a red film made of indium oxide, tin oxide, zinc oxide, tungsten oxide, or the like. A thin film having at least one of external reflection and absorption functions is preferred. In particular, a tetravalent metal element such as Sn or Ti or an In 2 O 3 based oxide formed by dissolving 0.1 to 20 atomic% (/ indium) of fluorine; pentavalent such as Sb and P SnO 2 -based oxide formed by solid solution of metal element or fluorine at a ratio of 0.1 to 20 atomic% (/ tin); trivalent metal element such as B, Al, In or tetravalent metal element or fluorine is 0 ZnO-based oxide formed as a solid solution at a rate of 1 to 20 atomic% (/ zinc); tungsten oxide based on WO 3 ; complex oxide containing In and Zn as metal components (In-Zn based, In A method of forming a thin film made of a metal oxide that transmits visible light and shields near infrared rays, such as Mg-based, In-Sn-based, and Sn-Zn-based, is preferable. Such a thin film is preferably formed by sputtering, vacuum deposition, or the like.

上記(ii)赤外吸収機能を有する塗布膜を形成する形態としては、上記酸化物からなる超微粒子を含む塗布膜、金属フタロシアニン等の赤外吸収色素を含有する塗布膜を形成する方法が好ましい。このような塗布膜は、超微粒子や赤外吸収色素を有し、有機バインダーや無機バインダーをバインダーとして用いた塗料を成膜する方法が好適である。
上記(iii)基材に赤外線をカットする機能を持つ材料(原料)を用いる形態としては、基材に含まれる樹脂層を形成する有機材料中に、上記酸化物や色素を練り込んでフィルム状に成型(成形)する方法が好適である。
As the form for forming the coating film having the infrared absorption function (ii), a method of forming a coating film containing ultrafine particles made of the oxide and an infrared absorbing pigment such as metal phthalocyanine is preferable. . As such a coating film, a method of forming a paint having ultrafine particles and infrared absorbing dyes and using an organic binder or an inorganic binder as a binder is preferable.
(Iii) As a form using a material (raw material) having a function of cutting infrared rays in the base material, the oxide or pigment is kneaded into the organic material forming the resin layer contained in the base material, and is in the form of a film A method of forming (molding) into a suitable shape is suitable.

上記光選択透過層としては、曲げ強度をより向上させ、反りを更に少なくする観点や、また薄膜化をより実現する点等から、厚みが50μm以下であることが好適である。より好ましくは30μm以下、更に好ましくは10μm以下である。また、1nm以上が好ましく、より好ましくは3nm以上である。 The light selective transmission layer preferably has a thickness of 50 μm or less from the viewpoint of further improving the bending strength and further reducing warpage, and further realizing a thin film. More preferably, it is 30 micrometers or less, More preferably, it is 10 micrometers or less. Moreover, 1 nm or more is preferable, More preferably, it is 3 nm or more.

−保護層−
上記積層フィルム及び光選択透過フィルターはまた、上述したように保護層(「保護フィルム」とも称す)を更に有するものであることが好適である。これにより、基材や光選択透過層等を汚れ等から保護することが可能になるため、例えば、切り出すときだけでなく、場合によっては光選択透過フィルターを移送したり保存したりするときにも好適である。
-Protective layer-
It is preferable that the laminated film and the light selective transmission filter further have a protective layer (also referred to as “protective film”) as described above. This makes it possible to protect the substrate and the light selective transmission layer from dirt, etc., for example, not only when cutting out, but also when transporting or storing the light selective transmission filter in some cases. Is preferred.

上記保護層は、切り出し後の光選択透過フィルターからの離型性を考慮すると、保護層が積層(形成)された層や基材と微粘着状態になるようなものとすることが好適である。保護層が積層された層との粘着性が高すぎると、切り出し後の光選択透過フィルターから保護層を剥がすのが困難になり、保護層を必要としない用途では作業性をより向上することができないおそれがある。
また上記保護層を光選択透過層の両面に設ける場合、作業性を更に一層高めるために、これらの保護層の粘着性は異なっている方が好適である。特に好ましい形態は、上記積層フィルム(及び光選択透過フィルター)がその両面に保護層をそれぞれ有し、かつ該2つの保護層の粘着性が異なる形態である。これによって、積層フィルム(及び光選択透過フィルター)を扱う際の作業性が更に一層向上されることになる。
In consideration of releasability from the light selective transmission filter after cutting, it is preferable that the protective layer be in a slightly sticky state with the layer (substrate) on which the protective layer is laminated (formed) or the substrate. . If the adhesiveness with the layer on which the protective layer is laminated is too high, it becomes difficult to peel off the protective layer from the light selective transmission filter after cutting, which may improve the workability in applications that do not require a protective layer. It may not be possible.
Moreover, when providing the said protective layer on both surfaces of a light selective transmission layer, in order to improve workability | operativity further, it is suitable that the adhesiveness of these protective layers differs. A particularly preferred form is a form in which the laminated film (and the light selective transmission filter) has protective layers on both sides thereof, and the adhesiveness of the two protective layers is different. Thereby, the workability at the time of handling the laminated film (and the light selective transmission filter) is further improved.

上記保護層としては、1種又は2種以上の有機材料から形成される樹脂フィルムであることが好適であり、該有機材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタラート(PET)等のポリエステル系樹脂フィルム、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂フィルム等が挙げられる。中でも、ポリエステル系樹脂フィルム、ポリオレフィン系樹脂フィルムが好ましく、更に、PET系樹脂フィルム、ポリエチレン系樹脂フィルムが好適である。なお、ポリエチレン系樹脂フィルムは、PET系樹脂フィルムに比べるとレーザー加工性が充分ではなく、また、レーザー照射の強度等によっては炭化する可能性もあるため、光選択透過フィルター製造時の加工性等を考慮すると、PET系樹脂フィルムがより好ましい。また、このような理由から、ポリエチレン系樹脂フィルムはレーザー光側には設けない方が好適である。ただし、強度等を適宜調整することによって、ポリエチレン系樹脂フィルムをレーザー光側に設けてもよい場合もある。 The protective layer is preferably a resin film formed from one or more organic materials. Examples of the organic material include polyester resin films such as polyethylene terephthalate (PET), Examples thereof include polyolefin resin films such as polyethylene and polypropylene. Of these, polyester resin films and polyolefin resin films are preferable, and PET resin films and polyethylene resin films are more preferable. In addition, polyethylene-based resin film has insufficient laser processability compared to PET-based resin film, and may be carbonized depending on the intensity of laser irradiation. In view of the above, a PET resin film is more preferable. For these reasons, it is preferable not to provide the polyethylene resin film on the laser beam side. However, the polyethylene resin film may be provided on the laser beam side by appropriately adjusting the strength and the like.

上記保護層(保護フィルム)として使用する樹脂フィルムはまた、保護フィルムからの糊の離脱、汚染物質の発生、貼り付け又は剥し工程で積層体を損傷させることがないものが好ましい。好ましくは微粘着性の保護フィルムである。なお、少なくとも、基材又は光選択透過層等の保護しようとする層と接触させる面が微粘着処理されていることが好ましい。粘着力としては、1.2N/cm以下が好ましく、0.5N/cm以下がより好ましく、0.3N/cm以下が更に好ましく、0.1N/cm以下が最も好ましい。また、粘着力が低すぎると、加工時や運搬時に剥がれ落ちてしまうおそれがあるため、粘着力は0.0001N/cm以上が好ましく、0.001N/cm以上が更に好ましい。
上記保護フィルムを両面に設ける場合は、上部保護フィルム(レーザー光側)が下部保護フィルムよりも、低粘着であることが好ましい。上部保護フィルムの粘着力としては、0.2N/cm以下が好ましく、0.1N/cm以下が更に好ましく、0.05N/cm以下が最も好ましい。
また、本発明において好適な微粘着性を有する保護フィルムとしては、パナック社製パナプロテクト、日栄加工社製PET75−H2120等が好ましく例示される。
The resin film used as the protective layer (protective film) is also preferably a resin film that does not damage the laminate in the step of removing the glue from the protective film, generating contaminants, attaching or peeling off. Preferably, it is a slightly tacky protective film. In addition, it is preferable that at least a surface to be brought into contact with a layer to be protected such as a base material or a light selective transmission layer is subjected to a fine adhesion treatment. The adhesive strength is preferably 1.2 N / cm or less, more preferably 0.5 N / cm or less, still more preferably 0.3 N / cm or less, and most preferably 0.1 N / cm or less. Further, if the adhesive strength is too low, the adhesive strength is preferably 0.0001 N / cm or more, and more preferably 0.001 N / cm or more because there is a risk of peeling off during processing or transportation.
When providing the said protective film on both surfaces, it is preferable that an upper protective film (laser beam side) is low adhesion rather than a lower protective film. The adhesive strength of the upper protective film is preferably 0.2 N / cm or less, more preferably 0.1 N / cm or less, and most preferably 0.05 N / cm or less.
In addition, preferable examples of the protective film having slight adhesiveness in the present invention include Panaprotect manufactured by Panac, and PET75-H2120 manufactured by Niei Engineering Co., Ltd.

〔光選択透過フィルターの製造方法の特に好適な形態〕
本発明の製造方法として特に好ましい形態を、図面を用いて説明する。
図1〜3は、基材と光選択透過層とからなるフィルムbのレーザー光側に保護フィルムaを、フィルムbのレーザー光側とは反対側に保護フィルムc(及びd)を、それぞれ積層した形状からなる積層フィルムに、レーザー光を照射し、特定形状を切り出す方法の好ましい例を示す概念図である。これらの図に示すような手法によって、光選択透過フィルターをより好適に得ることができる。なお、フィルムbは、基材の一方の面に光選択透過層を有する形態であってもよいし、基材の両面に光選択透過層を有する形態であってもよく、また、更にその他の機能性材料層を有するものであってもよい。
[Especially preferred form of manufacturing method of light selective transmission filter]
A particularly preferred embodiment of the production method of the present invention will be described with reference to the drawings.
1 to 3, the protective film a is laminated on the laser beam side of the film b composed of the base material and the light selective transmission layer, and the protective film c (and d) is laminated on the opposite side of the film b from the laser beam side. It is a conceptual diagram which shows the preferable example of the method of irradiating the laminated | multilayer film which consisted of the shape which cut | disconnected a laser beam, and cutting out specific shape. A light selective transmission filter can be obtained more suitably by the technique shown in these drawings. The film b may be in a form having a light selective transmission layer on one surface of the substrate, may be in a form having a light selective transmission layer on both surfaces of the base material, It may have a functional material layer.

図1では、保護フィルムaとしてポリエチレンテレフタラート(PET)系樹脂フィルムを使用し、保護フィルムcとしてポリエチレン系樹脂フィルムを使用した例を示しているが、ポリエチレン系樹脂フィルムは、PET系樹脂フィルムに比べてレーザー光で切断されにくいため、この状態でレーザー光gを照射すると、保護フィルムa及びフィルムbからなる部分eが切り出せる。なお、製品として使用する場合は、必要に応じて保護フィルムaをフィルムbから剥がして使用することになる。 FIG. 1 shows an example in which a polyethylene terephthalate (PET) resin film is used as the protective film a and a polyethylene resin film is used as the protective film c. Since it is hard to cut | disconnect with a laser beam compared with this, if the laser beam g is irradiated in this state, the part e which consists of the protective film a and the film b can be cut out. In addition, when using as a product, the protective film a is peeled off from the film b as necessary.

図2では、保護フィルムaとしてPET系樹脂フィルムを使用し、保護フィルムcとして、保護フィルムaとして使用したものよりも厚膜のPET系樹脂フィルムを使用した例を示しているが、レーザー光gの強度を調整することによって、保護フィルムa、フィルムb及び保護フィルムcの一部からなる部分eを切り出すことができる。この場合、フィルムbの保護フィルムc側の接触断面が、図1の方法に比べてより滑らかになる。保護フィルムcとして使用する厚膜PET系樹脂フィルムとしては、例えば、50μm以上のものを用いることが好ましく、より好ましくは75μm以上である。なお、製品として使用する場合は、必要に応じて保護フィルムa及びcをフィルムbから剥がして使用することになる。 FIG. 2 shows an example in which a PET-based resin film is used as the protective film a, and a thicker PET-based resin film than that used as the protective film a is used as the protective film c. By adjusting the strength, the portion e consisting of a part of the protective film a, the film b and the protective film c can be cut out. In this case, the contact cross section of the film b on the protective film c side becomes smoother than the method of FIG. As the thick-film PET-based resin film used as the protective film c, for example, a film having a thickness of 50 μm or more is preferably used, and more preferably 75 μm or more. In addition, when using as a product, the protective films a and c are peeled off from the film b as necessary.

図3では、保護フィルムaとしてPET系樹脂フィルムを、保護フィルムcとしてPET系樹脂フィルムを、保護フィルムdとしてポリエチレン系樹脂フィルムをそれぞれ使用した例を示しているが、この例では、図1に示す方法と同様に、ポリエチレン系樹脂フィルムがPET系樹脂フィルムに比べてレーザー光で切断されにくいため、この状態でレーザー光gを照射すると、保護フィルムa、フィルムb及び保護フィルムcからなる部分eが切り出せる。この例では、図2の方法に比べてレーザー光gの強度の調整が不要であり、また図1の方法に比べてフィルムbの保護フィルムc側の接触断面が滑らかになる。なお、製品として使用する場合は、必要に応じて保護フィルムa及びcをフィルムbから剥がして使用することになるが、保護フィルムcと保護フィルムdとの粘着性や接着性を強めておくことによって、保護フィルムcをフィルムbからより容易に剥がすことが可能になる。 FIG. 3 shows an example in which a PET resin film is used as the protective film a, a PET resin film is used as the protective film c, and a polyethylene resin film is used as the protective film d. In this example, FIG. Similarly to the method shown, since the polyethylene-based resin film is less likely to be cut with laser light than the PET-based resin film, when irradiated with the laser light g in this state, a portion e composed of the protective film a, the film b, and the protective film c Can be cut out. In this example, it is not necessary to adjust the intensity of the laser beam g as compared with the method of FIG. 2, and the contact cross section on the protective film c side of the film b is smoother than that of the method of FIG. In addition, when used as a product, the protective films a and c are peeled off from the film b as necessary, but the adhesiveness and adhesiveness between the protective film c and the protective film d should be strengthened. Thus, the protective film c can be more easily peeled off from the film b.

このように、上記図1〜3で示されるような手法、すなわち、(1)少なくとも基材と光選択透過層とからなるフィルムbの両面に、レーザー加工性の異なる保護フィルムa,cをそれぞれ積層した後、レーザー加工性が高い保護フィルムaを有する側からレーザー光を照射して、該フィルムbと、該レーザー加工性が高い保護フィルムaとからなる光選択透過フィルターeを切り出す方法、(2)少なくとも基材と光選択透過層とからなるフィルムbの両面に、厚みの異なる保護フィルムa,cをそれぞれ積層した後、厚みが小さい保護フィルムaを有する側からレーザー光を照射して、該フィルムbと、該厚みの小さい保護フィルムaと、厚みが大きい保護フィルムcの一部とからなる光選択透過フィルターeを切り出す方法、(3)少なくとも基材と光選択透過層とからなるフィルムbの両面に保護フィルムa,cを積層し、更に、レーザー照射側とは反対側の面に積層された保護フィルムcよりもレーザー加工性の劣る保護フィルムdを、該保護フィルムc上に積層した後、レーザー光を照射して、該フィルムbと、保護フィルムaと、保護フィルムcとからなる光選択透過フィルターeを切り出す方法は、いずれも本発明の好適な実施形態の1つである。
なお、「レーザー加工性」とは、レーザー光照射による切断され易さを意味し、例えば、レーザー加工性が相違するフィルムのうちレーザー加工性が高いフィルムとは、同じレーザー光を照射した場合に切断され易い方のフィルムを指す。
Thus, the methods as shown in FIGS. 1 to 3 described above, that is, (1) The protective films a and c having different laser processability are respectively provided on both surfaces of the film b composed of at least the base material and the light selective transmission layer. After laminating, a method of cutting out a light selective transmission filter e comprising the film b and the protective film a having a high laser processability by irradiating laser light from the side having the protective film a having a high laser processability. 2) After laminating protective films a and c having different thicknesses on both surfaces of a film b composed of at least a base material and a light selective transmission layer, respectively, a laser beam is irradiated from the side having the protective film a having a small thickness, A method of cutting out a light selective transmission filter e comprising the film b, the protective film a having a small thickness, and a part of the protective film c having a large thickness; Protective films a and c are laminated on both sides of a film b composed of at least a base material and a light selective transmission layer, and more laser workability than the protective film c laminated on the opposite side of the laser irradiation side. After laminating an inferior protective film d on the protective film c, a method of irradiating a laser beam to cut out the light selective transmission filter e comprising the film b, the protective film a, and the protective film c Is also one of the preferred embodiments of the present invention.
“Laser workability” means ease of cutting by laser light irradiation. For example, a film having high laser workability among films having different laser workability is irradiated with the same laser light. The film that is easier to cut.

また図4に示すように、図1〜3等の手法で得たeを覆うように、より具体的にはeの上層に位置する保護フィルムaを覆うように、粘着シート/フィルムfを貼付することも好適である。これにより、粘着シート/フィルムfと接する保護フィルムaを、フィルムbからより容易に剥がすことができるため、例えば、光選択透過フィルターの移送・保存時にはフィルムbを粘着シート/フィルムf及び保護フィルムaによって保護することができ、実際の使用時には粘着シート/フィルムfを剥がすだけで、保護フィルムaも共に剥がれるため、より高品質の製品を、更に作業性や生産性高く得ることが可能になる。 Also, as shown in FIG. 4, an adhesive sheet / film f is applied so as to cover e obtained by the methods of FIGS. 1 to 3, and more specifically, to cover a protective film a positioned on the upper layer of e. It is also suitable to do. Thereby, since the protective film a in contact with the pressure-sensitive adhesive sheet / film f can be more easily peeled off from the film b, for example, the film b can be removed from the pressure-sensitive adhesive sheet / film f and the protective film a when transporting and storing the light selective transmission filter. Since the protective film a is also peeled off by simply peeling off the adhesive sheet / film f in actual use, a higher quality product can be obtained with higher workability and productivity.

<光選択透過フィルター支持フィルム>
本発明はまた、支持体フィルム上に、上記製造方法により得られる光選択透過フィルターを複数個有する光選択透過フィルター支持フィルムでもある。支持体フィルムとは、光選択透過フィルターを支持するためのフィルムであり、例えば、レーザーカットによる切り出し工程時に用いた保護フィルムや、上述した図4に示されるような、光選択透過フィルターを作製した後に被着させる粘着シート/フィルム等が例示される。
このような光選択透過フィルター支持フィルムは、光選択透過フィルターの移送や保存に特に有利である。
<Light selective transmission filter support film>
The present invention is also a light selective transmission filter support film having a plurality of light selective transmission filters obtained by the above production method on a support film. The support film is a film for supporting the light selective transmission filter. For example, the protective film used in the cutting process by laser cutting and the light selective transmission filter as shown in FIG. 4 described above were produced. Examples thereof include an adhesive sheet / film to be deposited later.
Such a light selective transmission filter support film is particularly advantageous for transport and storage of the light selective transmission filter.

上記支持体フィルムとして保護フィルムを用いた形態の光選択透過フィルター支持フィルムは、例えば、上記(2)や(3)の手法において、切り出し回数を複数回行うことにより得ることができる。すなわち、このような光選択透過フィルター支持フィルムとしては、レーザー照射によって切断されなかった保護フィルム(例えば、上記(2)の手法では保護フィルムcの残部、上記(3)の手法では保護フィルムd)上に、光選択透過フィルターeが複数個存在する形態や、また該光選択透過フィルターeからレーザー照射側に位置していた保護フィルムaを剥離した形態等が挙げられる。 The light selective transmission filter support film using the protective film as the support film can be obtained, for example, by performing the cutting out a plurality of times in the methods (2) and (3). That is, as such a light selective transmission filter support film, a protective film that has not been cut by laser irradiation (for example, the remainder of the protective film c in the method (2), and the protective film d in the method (3)). Examples include a form in which a plurality of light selective transmission filters e exist, and a form in which the protective film a located on the laser irradiation side is peeled from the light selective transmission filter e.

上記支持体フィルムとして粘着シート/フィルムを用いた形態の光選択透過フィルター支持フィルムとしては、例えば、台又はシートhに、上記(1)〜(3)の手法で得られた光選択透過フィルターeを複数個並べた後、その上面に粘着シート/フィルムfを被着させる(貼付する)ことにより得ることができる。また、上記(2)や(3)の手法において切り出し回数を複数回行うことによって、保護フィルムc/d上に複数個の光選択透過フィルターeが存在する形態のフィルムを得た後、各光選択透過フィルターeの保護フィルムc/dとの接着面とは反対側の面に粘着シート/フィルムfを被着させる(貼付する)ことによっても得ることができる。この場合、フィルムによって両面を保護、支持された形態の光選択透過フィルター支持フィルム、すなわち具体的には、支持体フィルムとして、レーザーカットによる切り出し工程時に用いた保護フィルムと、粘着シート/フィルムとを用いた形態の光選択透過フィルター支持フィルムが得られることになる。 As the light selective transmission filter support film in the form of using an adhesive sheet / film as the support film, for example, the light selective transmission filter e obtained by the methods (1) to (3) on the table or the sheet h. Can be obtained by adhering (attaching) an adhesive sheet / film f on the upper surface thereof. In addition, by obtaining a film having a plurality of light selective transmission filters e on the protective film c / d by performing a plurality of times of cutting in the methods (2) and (3) above, It can also be obtained by adhering (attaching) the pressure-sensitive adhesive sheet / film f to the surface of the selectively transmissive filter e opposite to the adhesive surface with the protective film c / d. In this case, the light selective transmission filter support film in a form in which both sides are protected and supported by the film, that is, as the support film, specifically, the protective film used in the cutting process by laser cutting, and the adhesive sheet / film The light selective transmission filter support film of the form used is obtained.

<光選択透過フィルター>
本発明はまた、上記製造方法により得られる光選択透過フィルターでもある。このような光選択透過フィルターは、上記製造方法により、クラックや層剥離、割れ、反り等が生じることなく、切断面の揃った、優れた光選択透過性を発揮できるものであるため、例えば、光学部材・機器、機械部品、電気・電子部品、自動車部品等の種々の分野で有用なものとなる。
<Light selective transmission filter>
The present invention is also a light selective transmission filter obtained by the above production method. Such a light selective transmission filter is capable of exhibiting excellent light selective transmission with a uniform cut surface without causing cracks, delamination, cracking, warping, etc., by the above manufacturing method. It is useful in various fields such as optical members / equipment, machine parts, electrical / electronic parts, automobile parts and the like.

上記光選択透過フィルターは、光の透過率を選択的に低減(遮断)するものであり、具体的には、反射又は吸収により所望の波長を遮断することが好ましい。低減させる光としては、10nm〜100μmの間のものであればよく、用途に応じて適宜選択することができる。選択的に低減させる波長の透過率としては、全波長の10%以下が好ましい。より好ましくは5%以下、更に好ましくは3%以下、最も好ましくは、実質的に0%である。また、光選択透過フィルターを透過させる波長の透過率としては、全波長の70%以上が好ましい。より好ましくは75%以上、更に好ましくは80%以上、特に好ましくは85%以上、最も好ましくは90%以上である。透過率がこのように高いことによって、光選択透過フィルターを通過する光の強度がより充分確保され、例えば、カメラモジュールや、撮像レンズのレンズユニットにおける光ノイズを遮断するためのフィルター等の光学用途に更に好適に用いることが可能になる。 The light selective transmission filter selectively reduces (blocks) light transmittance. Specifically, it is preferable to block a desired wavelength by reflection or absorption. The light to be reduced is not particularly limited as long as it is between 10 nm and 100 μm, and can be appropriately selected according to the application. The transmittance of the wavelength to be selectively reduced is preferably 10% or less of the total wavelength. More preferably, it is 5% or less, more preferably 3% or less, and most preferably substantially 0%. Further, the transmittance of the wavelength that transmits through the light selective transmission filter is preferably 70% or more of the total wavelength. More preferably, it is 75% or more, more preferably 80% or more, particularly preferably 85% or more, and most preferably 90% or more. With such a high transmittance, the intensity of light passing through the light selective transmission filter is more sufficiently secured. For example, optical applications such as a filter for blocking optical noise in a lens unit of a camera module or an imaging lens. It is possible to use it more suitably.

上記光選択透過フィルターではまた、選択的に低減させる波長以外の波長(すなわち、光選択透過フィルターを透過する波長)の透過率が一定であることが好ましい。特に、カメラモジュールや、撮像レンズのレンズユニットにおける光ノイズを遮断するためのフィルター等の光学用途に用いる場合、可視光380〜780nmの透過率が可視光の全波長域において一定であることが好ましい。上記用途においては、可視光のうち、波長400〜600nmで一定であることが特に好ましい。透過する光の強さが波長に依存せず一定であると、特定の波長の光に強弱が生じず、透過光が着色しないこととなる。したがって光選択透過フィルターを透過した光が着色せず、上記用途により好適に用いることができることとなる。 In the light selective transmission filter, it is also preferable that the transmittance of wavelengths other than the wavelength to be selectively reduced (that is, the wavelength that transmits the light selective transmission filter) is constant. In particular, when used for optical applications such as a filter for blocking optical noise in a camera module or a lens unit of an imaging lens, it is preferable that the transmittance of visible light 380 to 780 nm is constant in the entire wavelength range of visible light. . In the said use, it is especially preferable that it is constant with a wavelength of 400-600 nm among visible light. If the intensity of the transmitted light is constant without depending on the wavelength, the intensity of the light having a specific wavelength does not occur and the transmitted light is not colored. Therefore, the light transmitted through the light selective transmission filter is not colored and can be suitably used for the above application.

上記光選択透過フィルターとして具体的には、赤外線の透過率を選択的に低減する形態(赤外カットフィルター);紫外線の透過率を選択的に低減する形態(紫外カットフィルター);赤外線及び紫外線の両方の透過率を選択的に低減する形態(紫外線・赤外線カットフィルター)等であることが好適である。なお、これらの形態において、所望の波長の光をカットする機能(所望の光の透過率を選択的に低減させるという機能)は、上述した形態によって発揮されることになるが、この機能以外の種々の機能を有することもまた、好適である。 Specifically, the light selective transmission filter is a form that selectively reduces infrared transmittance (infrared cut filter); a form that selectively reduces ultraviolet transmittance (ultraviolet cut filter); A form (ultraviolet / infrared cut filter) or the like that selectively reduces both transmittances is preferable. In these forms, the function of cutting light of a desired wavelength (the function of selectively reducing the transmittance of the desired light) is exhibited by the form described above, but other than this function It is also suitable to have various functions.

〔赤外カットフィルター〕
上記赤外カットフィルター(赤外線カットフィルター、IRカットフィルター、IRCFともいう)は、吸収又は反射により赤外線を選択的に低減する(遮断する)機能を有するフィルターである。具体的には、赤外線領域である780nm〜10μmの波長を有する光のうち、いずれかの波長(範囲)の光を選択的に低減し、それ以外の光を透過する機能を有するフィルターであればよい。選択的に低減する波長の範囲としては、780nm〜2.5μm、780〜1000nm、800nm〜1μm、又は、1〜1.5μmであることが好適である。これらの範囲の波長のうち少なくとも一つを選択的に低減するフィルターもまた、本発明の好ましい形態の赤外カットフィルターに含まれる。選択的に低減する波長の範囲としては、近赤外線領域である780nm〜2.5μmであることがより好ましい。
[Infrared cut filter]
The infrared cut filter (also referred to as an infrared cut filter, IR cut filter, or IRCF) is a filter having a function of selectively reducing (blocking) infrared rays by absorption or reflection. Specifically, a filter having a function of selectively reducing light of any wavelength (range) among light having a wavelength of 780 nm to 10 μm that is an infrared region and transmitting other light. Good. The wavelength range to be selectively reduced is preferably 780 nm to 2.5 μm, 780 to 1000 nm, 800 nm to 1 μm, or 1 to 1.5 μm. A filter that selectively reduces at least one of the wavelengths in these ranges is also included in the preferred form of the infrared cut filter of the present invention. The range of the wavelength to be selectively reduced is more preferably 780 nm to 2.5 μm, which is the near infrared region.

上記選択的に低減する波長の透過率、それ以外の波長の透過率としては、上述した範囲であることが好適である。具体的には、上記赤外カットフィルターは、780〜1000nmの赤外線の透過率を選択的に10%以下に低減するものが好ましく、その他の波長域の透過率は70%以上が好ましく、これらの透過率の好適な範囲は、上述したとおりである。なお、フィルターの用途に応じて特定の波長域の透過率のみが高いものであってもよい。例えば、上記赤外カットフィルターをカメラモジュールとして用いる場合には、赤外光の透過率が5%以下、可視光(380〜780nm)の透過率が75%以上であることが好適であり、より好ましくは80%以上である。また、可視光の中でも400〜600nmの波長域の光の透過率が80%以上であることが好ましく、より好ましくは85%以上である。更に、可視光の中でも400〜700nmの波長域の透過率が80%以上であることが好ましく、より好ましくは85%以上である。
上記赤外カットフィルターとして特に好ましい形態としては、波長が400〜600nmにおける光の透過率が80%以上であり、かつ800〜1000nmにおける透過率が5%以下の赤外カットフィルターである形態である。これらの透過率の好適な範囲は、上述したとおりである。
The transmittance of the wavelength to be selectively reduced and the transmittance of the other wavelengths are preferably in the above-described range. Specifically, the infrared cut filter is preferably one that selectively reduces the infrared transmittance of 780 to 1000 nm to 10% or less, and the transmittance in other wavelength regions is preferably 70% or more. The preferable range of the transmittance is as described above. In addition, only the transmittance | permeability of a specific wavelength range may be high according to the use of a filter. For example, when the infrared cut filter is used as a camera module, it is preferable that the transmittance of infrared light is 5% or less and the transmittance of visible light (380 to 780 nm) is 75% or more. Preferably it is 80% or more. Moreover, it is preferable that the transmittance | permeability of the light of the wavelength range of 400-600 nm is 80% or more among visible light, More preferably, it is 85% or more. Furthermore, it is preferable that the transmittance | permeability of the wavelength range of 400-700 nm is 80% or more among visible light, More preferably, it is 85% or more.
A particularly preferable form of the infrared cut filter is an infrared cut filter having a light transmittance of 80% or more at a wavelength of 400 to 600 nm and a transmittance of 5% or less at 800 to 1000 nm. . A suitable range of these transmittances is as described above.

上記赤外カットフィルターが赤外線を低減(遮断)する機能以外の各種機能を有する形態としては、例えば、紫外線を遮蔽する機能等の赤外カット以外の各種機能を有する形態や、強靱性、強度等の赤外カットフィルターの物性を向上させる機能を有する形態等が好適である。このうち、上記赤外カットフィルターが紫外線を遮蔽する機能を有する形態としては、(a)酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウム等の可視光を透過し、紫外線を遮蔽する金属酸化物からなる薄膜を基材表面に形成する方法、(b)上記酸化物からなる超微粒子を含む塗布膜、有機系紫外線吸収剤を含有する塗布膜を形成する方法、(c)紫外線を遮蔽する機能を持つ材料(原料)を用いる方法により紫外線を遮蔽する機能を付与することが好適である。 Examples of the form in which the infrared cut filter has various functions other than the function of reducing (blocking) infrared rays include, for example, forms having various functions other than infrared cut such as a function of shielding ultraviolet rays, toughness, strength, and the like. A form having a function of improving the physical properties of the infrared cut filter is suitable. Among these, the infrared cut filter has a function of shielding ultraviolet rays. (A) A thin film made of a metal oxide that transmits visible light and shields ultraviolet rays such as titanium oxide, zinc oxide, and cerium oxide. A method of forming on the surface of the substrate, (b) a coating film containing ultrafine particles of the oxide, a method of forming a coating film containing an organic ultraviolet absorber, and (c) a material having a function of shielding ultraviolet rays ( It is preferable to impart a function of shielding ultraviolet rays by a method using a raw material.

上記(a)における薄膜形成方法、(b)における成膜方法としては、それぞれ、上記(i)可視光を透過し近赤外線を遮蔽する金属酸化物からなる薄膜を基材表面に形成する形態
における薄膜形成方法、(ii)赤外吸収機能を有する塗布膜を形成する形態における薄膜形成方法と同様であることが好ましい。(c)としては、基材の構成材料として有機材料を用いる場合に、上記酸化物や色素を練り込んだ有機材料をフィルム状に成型する方法が好適である。また、基材の構成材料として無機材料(例えば、ガラス)を用いる場合には、Ag、Bi、Co、Fe、Ni、Ti、Ce等の金属元素を固溶することにより得られる赤外線吸収ガラスを用いることが好適である。
The method for forming a thin film in (a) and the method for forming a film in (b) are as follows: (i) a thin film made of a metal oxide that transmits visible light and shields near infrared rays is formed on the substrate surface. It is preferable to be the same as the thin film forming method and (ii) the thin film forming method in the form of forming a coating film having an infrared absorption function. As (c), when an organic material is used as a constituent material of the base material, a method of forming an organic material kneaded with the oxide or the pigment into a film is preferable. In addition, when an inorganic material (for example, glass) is used as a constituent material of the base material, an infrared absorbing glass obtained by dissolving a metal element such as Ag, Bi, Co, Fe, Ni, Ti, or Ce is used. It is preferable to use it.

〔紫外カットフィルター〕
上記紫外カットフィルターは、紫外線を遮断する機能を有するフィルターである。選択的に低減する波長の範囲としては、350nm以下であることが好ましい。より好ましくは、380nm以下である。
上記選択的に低減する波長の透過率、それ以外の波長の透過率としては、上述した範囲であることが好適である。具体的には、上記紫外カットフィルターは、350nm以下である紫外線の透過率が10%以下であることが好ましく、中でも、波長が380nm以下の紫外線透過率が10%以下であることが好ましい。また、その他の波長域の透過率は70%以上が好ましい。なお、これらの透過率の好適な範囲は、上述したとおりである。
[Ultraviolet cut filter]
The ultraviolet cut filter is a filter having a function of blocking ultraviolet rays. The wavelength range to be selectively reduced is preferably 350 nm or less. More preferably, it is 380 nm or less.
The transmittance of the wavelength to be selectively reduced and the transmittance of the other wavelengths are preferably in the above-described range. Specifically, the ultraviolet cut filter preferably has an ultraviolet transmittance of 350% or less of 10% or less, and more preferably an ultraviolet transmittance of a wavelength of 380 nm or less is 10% or less. Further, the transmittance in other wavelength regions is preferably 70% or more. In addition, the suitable range of these transmittance | permeability is as having mentioned above.

上記紫外カットフィルターが紫外線を低減(遮蔽)する機能を有する形態としては、光選択透過層として、酸化チタン系、酸化亜鉛系、酸化セリウム系、酸化鉄系等の紫外線吸収機能を有する材料からなる薄膜を用いることが好適である。中でも、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウムにCu、Ag、Mn、Bi、Co、Fe、Niからなる群から選ばれる1種以上の金属元素を0.1〜20原子%の割合で固溶してなる酸化物を用いることが好ましい。 The ultraviolet cut filter has a function of reducing (blocking) ultraviolet rays, and is made of a material having an ultraviolet absorbing function such as titanium oxide, zinc oxide, cerium oxide, or iron oxide as the light selective transmission layer. It is preferable to use a thin film. Among them, one or more metal elements selected from the group consisting of Cu, Ag, Mn, Bi, Co, Fe, and Ni are dissolved in titanium oxide, zinc oxide, and cerium oxide at a ratio of 0.1 to 20 atomic%. It is preferable to use an oxide formed of

〔紫外線・赤外線カットフィルター〕
上記紫外線・赤外線カットフィルターは、紫外線及び赤外線の両方を遮断する機能を有するフィルターである。選択的に低減する波長の範囲、該波長の透過率、それ以外の波長の透過率としては、上述した範囲であることが好適である。
上記紫外線・赤外線カットフィルターにおいては、赤外線、紫外線以外の光の透過率は、高いほど好ましい。具体的には、可視光(380nm〜780nm)透過率が70%以上であることが好ましく、より好適な範囲は、上述したとおりである。更に、紫外線・赤外線カットフィルターを透過した光に着色させない(特定の可視光を選択的に吸収しない)観点から、可視光の各波長域における透過率がほぼ一定であることが好ましい。特に、波長400〜600nmにおける各波長での光透過率が85%以上であることが好ましく、より好ましくは90%以上である。紫外線・赤外線カットフィルターの赤外線を遮断する機能としては、反射又は吸収により赤外線を遮断することが好ましく、より好ましくは赤外線を主に反射することである。また、赤外線のうち、少なくとも800〜1000nmの波長の光を遮断することが更に好ましい。
[UV / IR cut filter]
The ultraviolet / infrared cut filter is a filter having a function of blocking both ultraviolet rays and infrared rays. The range of wavelengths to be selectively reduced, the transmittance of the wavelength, and the transmittance of other wavelengths are preferably in the above-described ranges.
In the said ultraviolet and infrared cut filter, the transmittance | permeability of light other than infrared rays and an ultraviolet-ray is so preferable that it is high. Specifically, the visible light (380 nm to 780 nm) transmittance is preferably 70% or more, and a more preferable range is as described above. Further, from the viewpoint of preventing the light transmitted through the ultraviolet / infrared cut filter from being colored (not selectively absorbing specific visible light), it is preferable that the transmittance of visible light in each wavelength region is substantially constant. In particular, the light transmittance at each wavelength in the wavelength range of 400 to 600 nm is preferably 85% or more, and more preferably 90% or more. The function of the ultraviolet ray / infrared cut filter for blocking infrared rays is preferably to block infrared rays by reflection or absorption, and more preferably to mainly reflect infrared rays. Further, it is more preferable to block light having a wavelength of at least 800 to 1000 nm among infrared rays.

上記紫外線・赤外線カットフィルターは、撮像レンズ用における光ノイズを遮断するためのフィルターとして、特に好適に用いることができる。撮像レンズ用等における光ノイズ遮断を目的とする光選択透過フィルターとしては、可視光領域の400〜600nmにおける各波長での光透過率が85%以上であることが好ましい。より好ましくは90%以上である。また、紫外線領域の350nm以下の紫外線の透過率が5%未満であることが好ましい。特に380nm以下の紫外線の透過率が5%未満であることが好ましい。また、上記光選択透過フィルターが、波長が400〜600nmにおける光の透過率が85%以上で、かつ800〜1000nmにおける透過率が5%以下であり、更に波長が300〜380nmにおける光の透過率が5%以下の紫外線・赤外線カットフィルターであることが特に好ましい。赤外線領域では、800nm〜1μmの波長の光を遮断することが好ましい。具体的には、800nm〜1μmにおける透過率が5%以下であることが好ましい。より好ましくは800nm〜1.5μmにおける透過率が5%以下、更に好ましくは800nm〜2.5μmにおける透過率が5%以下である。 The ultraviolet / infrared cut filter can be particularly suitably used as a filter for blocking optical noise in an imaging lens. As a light selective transmission filter for the purpose of blocking optical noise in an imaging lens or the like, the light transmittance at each wavelength in the visible light region of 400 to 600 nm is preferably 85% or more. More preferably, it is 90% or more. Moreover, it is preferable that the transmittance | permeability of 350 nm or less ultraviolet rays of an ultraviolet region is less than 5%. In particular, the transmittance of ultraviolet rays of 380 nm or less is preferably less than 5%. The light selective transmission filter has a light transmittance at a wavelength of 400 to 600 nm of 85% or more, a transmittance at 800 to 1000 nm of 5% or less, and a light transmittance at a wavelength of 300 to 380 nm. Is particularly preferably an ultraviolet / infrared cut filter with 5% or less. In the infrared region, it is preferable to block light having a wavelength of 800 nm to 1 μm. Specifically, the transmittance at 800 nm to 1 μm is preferably 5% or less. More preferably, the transmittance at 800 nm to 1.5 μm is 5% or less, and further preferably the transmittance at 800 nm to 2.5 μm is 5% or less.

上記紫外線・赤外線カットフィルターが紫外線及び赤外線を低減(遮蔽)する機能を有する形態としては、光選択透過層が上述した誘電体層(A)と(B)の積層構造であることが好ましい。また、酸化インジウム系、酸化スズ系、酸化亜鉛系、酸化タングステン系等の赤外線カット機能を有する酸化物層と、酸化チタン系、酸化亜鉛系、酸化セリウム系、酸化鉄系等の紫外線カット機能に優れる層とを積層する形態も好ましく用いることができる。 As a mode in which the ultraviolet / infrared cut filter has a function of reducing (blocking) ultraviolet rays and infrared rays, the light selective transmission layer preferably has a laminated structure of the dielectric layers (A) and (B) described above. In addition, for the oxide layer with infrared cut function such as indium oxide system, tin oxide system, zinc oxide system, tungsten oxide system, etc., and UV cut function such as titanium oxide system, zinc oxide system, cerium oxide system, iron oxide system etc. A form in which an excellent layer is laminated can also be preferably used.

上記光選択透過フィルターとしてはまた、小型化・軽量化等をより実現する観点から、その厚みが200μm以下であることが好適であり、より好ましくは200μm未満である。特に、180μm以下、150μm以下、120μm以下、100μm以下、90μm以下、75μm以下、50μm以下が好適である(値が小さくなるほどより好ましい。)。また、耐リフロー性、特に260℃以上の温度における耐熱性により優れる観点から、1μm以上であることが好ましく、より好ましくは5μm以上である。 The light selective transmission filter preferably has a thickness of 200 μm or less, more preferably less than 200 μm, from the viewpoint of further realizing a reduction in size and weight. In particular, 180 μm or less, 150 μm or less, 120 μm or less, 100 μm or less, 90 μm or less, 75 μm or less, or 50 μm or less is preferable (the smaller the value, the more preferable). Further, from the viewpoint of excellent reflow resistance, particularly heat resistance at a temperature of 260 ° C. or higher, the thickness is preferably 1 μm or more, and more preferably 5 μm or more.

このように光選択透過フィルターの厚みが充分に薄いことによって、光選択透過フィルターをより小型化・軽量化することができ、種々の用途に更に好適に用いることができる。特に、光学部材等の光学用途で更に好適に用いることができる。なお、光学用途においては、他の光学部材と同様に光選択透過フィルターも小型化・軽量化が強く求められているが、例えば厚みを200μm以下とすることによって、より薄膜化を達成でき、特にレンズユニットに用いた場合に、レンズユニットの低背化をより実現することができる。言い換えると薄膜の光選択透過フィルターを光学部材として用いた場合に、光路を短縮することができ、該光学部材を小さくすることができる。
この点について、レンズと光選択透過フィルターとシーモスセンサーとを有するカメラモジュールを例にして説明する。図5及び図6に、カメラモジュールの一例を、模式的に示した。これらの図は、エレクトロニックジャーナル第81回テクニカルセミナー(Electronic Journal 第81回 Technical Seminar)資料を参照した。
Thus, when the thickness of the light selective transmission filter is sufficiently thin, the light selective transmission filter can be further reduced in size and weight, and can be more suitably used for various applications. In particular, it can be used more suitably for optical applications such as optical members. In optical applications, as with other optical members, the light selective transmission filter is also strongly required to be small and light. For example, by making the thickness 200 μm or less, a thinner film can be achieved. When used in a lens unit, it is possible to further reduce the height of the lens unit. In other words, when a thin-film light selective transmission filter is used as an optical member, the optical path can be shortened and the optical member can be made small.
This point will be described by taking as an example a camera module having a lens, a light selective transmission filter, and a seamos sensor. 5 and 6 schematically show an example of the camera module. These figures refer to materials from the Electronic Journal 81st Technical Seminar (Electronic Journal 81st Technical Seminar).

図5に示すように、光選択透過フィルターは、所望の波長の光(カメラモジュールにおいては、例えば700nm以上の波長の光)をカットし、シーモスセンサーの誤作動を防ぐ役割がある。カメラモジュールに光選択透過フィルターを入れると、焦点距離が伸びるため、バックフォーカスが伸張し、モジュールが大きくなる。光選択透過フィルターの厚みがtで屈折率nが1.5程度の場合、図6に示すように、バックフォーカスが約t/3伸張し、モジュールが大きくなるが、光選択透過フィルターを薄くして、焦点距離を短くし、モジュールを小さくすることができる。それにより、例えば、1/10インチの光学サイズの光路長としては、光選択透過フィルターなしの場合の120%以下とすることが好ましい。より好ましくは110%以下であり、更に好ましくは105%以下である。 As shown in FIG. 5, the light selective transmission filter has a role of cutting light of a desired wavelength (in the camera module, light having a wavelength of 700 nm or more, for example), and preventing malfunction of the sea moss sensor. When a light selective transmission filter is inserted into the camera module, the focal length is extended, so that the back focus is extended and the module is enlarged. When the thickness of the light selective transmission filter is t and the refractive index n is about 1.5, as shown in FIG. 6, the back focus is extended by about t / 3 and the module is enlarged, but the light selective transmission filter is thinned. Thus, the focal length can be shortened and the module can be made smaller. Thereby, for example, the optical path length of an optical size of 1/10 inch is preferably 120% or less when there is no light selective transmission filter. More preferably, it is 110% or less, More preferably, it is 105% or less.

本発明の光選択透過フィルターとして好適な形態は、赤外カットフィルター、紫外カットフィルター、紫外線・赤外線カットフィルター等が挙げられる。本発明では特に小型化・軽量化・薄膜化等が要望されている光学部材・機器に好適に対応でき、これを扱う際の取扱性や作業性、生産性を充分に向上できる。また、このような効果に加え、これらのフィルターに要求される性能等を充分に発揮できる。例えば、赤外カットフィルターとして用いると、上記効果に加え、優れた赤外線カット能を有し、割れにくいため、自動車や建物等のガラス等に装着される熱線カットフィルター等として有用であるのみならず、特に、デジタルスチルカメラや携帯電話用カメラ等のCCDやCMOS等の固体撮像素子の視感度補正に有用である。紫外カットフィルターとして用いると、上記効果に加え、優れた紫外線カット能を有し、割れにくいため、紫外線保護フィルター、視感度補正用等として有用である。紫外線・赤外線カットフィルターとして用いると、上記効果に加え、優れた赤外線及び紫外線カット能を有し、割れにくく、撮像レンズ用における光ノイズを遮断するためのフィルターとして有用である。 Preferred forms of the light selective transmission filter of the present invention include an infrared cut filter, an ultraviolet cut filter, and an ultraviolet / infrared cut filter. In the present invention, it is possible to suitably cope with an optical member / equipment that is particularly required to be reduced in size, weight, and thickness, and the handling property, workability, and productivity can be sufficiently improved. In addition to such effects, the performance required for these filters can be sufficiently exhibited. For example, when used as an infrared cut filter, in addition to the above effects, it has excellent infrared cut ability and is difficult to break, so it is not only useful as a heat ray cut filter attached to glass of automobiles or buildings, etc. In particular, it is useful for correcting the visibility of a solid-state imaging device such as a CCD or CMOS, such as a digital still camera or a mobile phone camera. When used as an ultraviolet cut filter, in addition to the above effects, it has an excellent ultraviolet cut ability and is difficult to break, so it is useful as an ultraviolet protection filter, for correcting visibility. When used as an ultraviolet / infrared cut filter, in addition to the above effects, it has excellent infrared and ultraviolet cut ability, is difficult to break, and is useful as a filter for blocking optical noise for imaging lenses.

本発明ではまた、上述した本発明の製造方法を採用することによって、たとえ、より径が小さく、かつ曲線を含むような微小異形状の光選択透過フィルターであっても、クラック等が発生することなく、しかも光選択透過フィルターが有する特性(光選択透過性等)を低下させることなく、容易に得ることができる。したがって、例えば、曲線部分を含み、かつ最大径が6mm以下という、従来にはない特異な形状の光選択透過フィルターを実現することができる。最大径が6mm以下であれば、近年の携帯電話等の小型光学機器等にもより好ましく対応でき、取扱性や作業性、生産性をより発揮できることになる。最大径として好ましくは5.5mm以下、より好ましくは5mm以下、更に好ましくは4.5mm以下、特に好ましくは4mm以下、最も好ましくは3.5mm以下である。また、最小径は特に限定されず、例えば、上記製造方法で使用されるレーザー光によっても異なるが、例えば12μm以上であることが好ましい。
ここでいう「最大径」とは、光選択透過フィルターの平面部(すなわち側面部ではない部分、積層方向に対して垂直な面)のうち最も長い径を、「最小径」とは最も短い径を、それぞれ意味する。
また「曲線部分を含む」とは、光選択透過フィルターの平面部の外周が、曲線部分(非直線部分ともいう)のみからなる形状、又は、曲線部分と直線部分とを有する形状であることを意味する。例えば、光選択透過フィルターの平面部の外周の全長を100%とすると、曲線部分の全長が30%以上であることが好適である。より好ましくは50%以上である。また具体的には、例えば、円形状や楕円形状が好適である。
In the present invention, by adopting the manufacturing method of the present invention described above, even if the light selective transmission filter has a small irregular shape and a curved shape, cracks and the like are generated. In addition, the light selective transmission filter can be easily obtained without deteriorating the characteristics (light selective transmission, etc.) of the light selective transmission filter. Therefore, for example, it is possible to realize a light selective transmission filter having an unusual shape that includes a curved portion and has a maximum diameter of 6 mm or less. If the maximum diameter is 6 mm or less, it is possible to more preferably cope with a small optical device such as a cellular phone in recent years, and the handling property, workability, and productivity can be exhibited more. The maximum diameter is preferably 5.5 mm or less, more preferably 5 mm or less, still more preferably 4.5 mm or less, particularly preferably 4 mm or less, and most preferably 3.5 mm or less. Further, the minimum diameter is not particularly limited, and for example, although it varies depending on the laser beam used in the above production method, it is preferably 12 μm or more, for example.
The “maximum diameter” as used herein refers to the longest diameter of the planar portion of the light selective transmission filter (ie, the portion that is not the side surface portion, the surface perpendicular to the stacking direction), and the “minimum diameter” is the shortest diameter. Respectively.
Further, “including a curved portion” means that the outer periphery of the plane portion of the light selective transmission filter is a shape having only a curved portion (also referred to as a non-linear portion) or a shape having a curved portion and a straight portion. means. For example, when the total length of the outer periphery of the planar portion of the light selective transmission filter is 100%, the total length of the curved portion is preferably 30% or more. More preferably, it is 50% or more. Specifically, for example, a circular shape or an elliptical shape is suitable.

<レンズユニット>
本発明の光選択透過フィルターとしてはまた、レンズユニットを構成する材料として有用である。このように、上記光選択透過フィルターを備えてなるレンズユニットもまた、本発明の1つである。なお、レンズユニットとは、1個又は2個以上のレンズと、これらを支持、固定する鏡筒とを含み、光の入射及び/又は出射のために必要な開口部を備える素子を意味する。本発明の光選択透過フィルターは、レンズユニットにおける開口部の最大径又は該ユニット内の光路径が6mm以下であるレンズユニット(以下、マイクロレンズユニットともいう)を構成する材料として特に有用である。すなわち、上記光選択透過フィルターとレンズとを備えるマイクロレンズユニットもまた、本発明の好適な実施形態の1つである。
<Lens unit>
The light selective transmission filter of the present invention is also useful as a material constituting the lens unit. Thus, a lens unit including the light selective transmission filter is also one aspect of the present invention. The lens unit means an element that includes one or two or more lenses and a lens barrel that supports and fixes these lenses and that has an opening necessary for the incidence and / or emission of light. The light selective transmission filter of the present invention is particularly useful as a material constituting a lens unit (hereinafter also referred to as a microlens unit) in which the maximum diameter of the opening in the lens unit or the optical path diameter in the unit is 6 mm or less. That is, a microlens unit including the light selective transmission filter and the lens is also a preferred embodiment of the present invention.

ここで、上記光選択透過フィルターは、レンズユニット(好適にはマイクロレンズユニット)に組み込まずに、該レンズユニットの光入射側、又は、出射側に配置して使用することも好適な使用形態である。例えば、携帯電話やデジタルカメラに使用される撮像素子は、レンズユニットを搭載するが、光選択透過フィルターが該レンズユニットを構成する形態もあれば、レンズユニットとは独立にカメラモジュール内に配置される形態もある。本発明の光選択透過フィルターは、いずれの形態においても好適に採用し得る。 Here, the light selective transmission filter is not incorporated in a lens unit (preferably a microlens unit), and may be used by being arranged on the light incident side or the emission side of the lens unit. is there. For example, an image pickup device used in a mobile phone or a digital camera has a lens unit, but there is a mode in which a light selective transmission filter constitutes the lens unit. There are also forms. The light selective transmission filter of the present invention can be suitably employed in any form.

上記レンズユニットは、特に小型化・軽量化・薄膜化等が要望されている光学部材・機器に好適に対応でき、これを扱う際の取扱性や作業性、生産性を充分に向上できるという効果を発揮でき、この効果の発揮に加え、光路長が短くなり、レンズユニットを小さく、ユニットの厚みを薄くすることができるため、カメラモジュール等の種々の用途において好適に用いることができる。レンズユニットの長さとしては、光選択透過フィルターがない場合を100とすると、120以下であることが好ましい。より好ましくは110以下、更に好ましくは105以下である。
なお、上記光選択透過フィルターをレンズユニットに用いる場合、光選択透過フィルターの基材としては、耐リフロー性を有する基材を用いることが好適であり、これによって耐熱性を更に向上することができる。中でも、基材として耐リフロー性を有する樹脂フィルムを用いることである。
The above lens unit can be suitably applied to optical members / equipment that are particularly required to be small, light, thin, etc., and can be sufficiently improved in handling, workability, and productivity. In addition to exhibiting this effect, the optical path length is shortened, the lens unit can be made smaller, and the thickness of the unit can be reduced. Therefore, it can be suitably used in various applications such as a camera module. The length of the lens unit is preferably 120 or less, where 100 is the case where there is no light selective transmission filter. More preferably, it is 110 or less, More preferably, it is 105 or less.
In addition, when using the said light selective transmission filter for a lens unit, it is suitable to use the base material which has reflow resistance as a base material of a light selective transmission filter, and this can further improve heat resistance. . Among them, a resin film having reflow resistance is used as the base material.

上記レンズユニットにおいて、レンズは、耐リフロー性を有するもの(リフローレンズ)であることが好ましい。また、光選択透過フィルターは上述したいずれであってもよいが、特に耐リフロー性を有するものであることが好ましい。このように、レンズユニットを構成する光選択透過フィルター及びレンズが耐リフロー性を有するものである形態は、特に好ましい形態である。光選択透過フィルター及びレンズの両方が充分な耐熱性を有することにより、自動実装化が可能となり、実装コストが充分に低減され、カメラモジュール等の光学用途により一層好適に用いることができる。 In the lens unit, it is preferable that the lens has reflow resistance (reflow lens). In addition, the light selective transmission filter may be any of those described above, but it is particularly preferable that the filter has reflow resistance. Thus, the form in which the light selective transmission filter and the lens constituting the lens unit have reflow resistance is a particularly preferable form. Since both the light selective transmission filter and the lens have sufficient heat resistance, automatic mounting becomes possible, the mounting cost is sufficiently reduced, and it can be more suitably used for optical applications such as camera modules.

上記レンズは、アッベ数が45以上であることが好ましい。アッベ数を45以上とすることにより、光の分散が小さくなり、解像度があがり、光学特性により優れたものとすることができる。45未満であると、例えば、にじみがみられるおそれがあり、より充分な光学特性を発揮できず、レンズユニットにより一層好適な材料とはならないおそれがある。上記アッベ数として、より好ましくは50以上であり、上記レンズユニットは、アッベ数が50以上のレンズを一つ以上有することが好ましい。上記アッベ数として、更に好ましくは55以上、特に好ましくは58以上、最も好ましくは60以上である。 The lens preferably has an Abbe number of 45 or more. By setting the Abbe number to 45 or more, the dispersion of light is reduced, the resolution is increased, and the optical characteristics can be improved. If it is less than 45, for example, there is a risk of bleeding, and sufficient optical properties cannot be exhibited, and there is a possibility that the lens unit will not be a more suitable material. The Abbe number is more preferably 50 or more, and the lens unit preferably has one or more lenses having an Abbe number of 50 or more. The Abbe number is more preferably 55 or more, particularly preferably 58 or more, and most preferably 60 or more.

上記レンズユニットにおいて、レンズは1枚であってもよく、2枚以上であってもよい。1枚である場合、レンズのアッベ数としては、45以上であることが好ましい。2枚以上である場合、少なくとも1枚のレンズのアッベ数が45以上であればよく、その他のレンズはアッベ数45未満であってもよい。アッベ数が45以上のレンズとアッベ数が45未満のレンズとを組み合わせる場合において、アッベ数が50以上のレンズとアッベ数が40以下のレンズとを組み合わせる形態がより好ましい。アッベ数が50以上のレンズとアッベ数が40以下のレンズとを組み合わせることにより、解像度が向上し、レンズユニットに求められる特性を満足するという利点がある。 In the lens unit, the number of lenses may be one, or two or more. In the case of a single lens, the Abbe number of the lens is preferably 45 or more. When there are two or more lenses, it is sufficient that the Abbe number of at least one lens is 45 or more, and the other lenses may have an Abbe number of less than 45. In the case of combining a lens having an Abbe number of 45 or more and a lens having an Abbe number of less than 45, it is more preferable to combine a lens having an Abbe number of 50 or more and a lens having an Abbe number of 40 or less. By combining a lens having an Abbe number of 50 or more and a lens having an Abbe number of 40 or less, there is an advantage that the resolution is improved and the characteristics required for the lens unit are satisfied.

上記レンズは、厚みが1mm未満であることが好ましい。レンズの厚み(像を写す領域の最大厚み)を1mm未満とすることにより、厚みが200μm以下(好ましくは200μm未満)の光選択透過フィルターを用いることと相まって、光路長を短くすることができ、レンズユニットをより小さくすることができる。レンズの厚みとしてより好ましくは800μm未満であり、更に好ましくは500μm未満である。また、光選択透過フィルターとして厚みが100μm以下のものを用いることがより好ましい。 The lens preferably has a thickness of less than 1 mm. By making the thickness of the lens (the maximum thickness of the region where the image is captured) less than 1 mm, the optical path length can be shortened in combination with the use of a light selective transmission filter having a thickness of 200 μm or less (preferably less than 200 μm), The lens unit can be made smaller. The thickness of the lens is more preferably less than 800 μm, and further preferably less than 500 μm. It is more preferable to use a light selective transmission filter having a thickness of 100 μm or less.

上記レンズを構成する材料としては、耐熱材質であり、耐リフロー性を有するものであることが好ましい。具体的には、有機材料、無機材料、有機無機複合材料のいずれであってもよく、これらは1種又は2種以上を用いてもよい。
上記有機材料、有機無機複合材料における有機成分としては、有機樹脂が好ましく、シクロポリオレフィン、ポリカーボネート等の耐熱性に優れる熱可塑性樹脂、又は、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂等の硬化性樹脂硬化物がより好ましい。更に耐リフロー性に優れる点で硬化性樹脂硬化物が好ましい。すなわち、上記レンズユニットのより好ましい形態は、レンズが、硬化された熱硬化性樹脂を含む形態である。
上記有機材料、有機無機複合材料における有機成分としてはまた、アッベ数が45以上のものである形態、熱硬化性樹脂である形態、脂環式エポキシ化合物を必須として含む形態、分子量が700以上のものである形態が好ましい。
上記無機材料としては、ガラス等が好ましい。
The material constituting the lens is a heat-resistant material and preferably has reflow resistance. Specifically, any of an organic material, an inorganic material, and an organic-inorganic composite material may be used, and these may be used alone or in combination of two or more.
As the organic component in the organic material and the organic-inorganic composite material, an organic resin is preferable, and a thermoplastic resin excellent in heat resistance such as cyclopolyolefin and polycarbonate, or a curable resin cured material such as an epoxy resin and a silicone resin is more preferable. . Furthermore, a curable resin cured product is preferable in terms of excellent reflow resistance. That is, a more preferable form of the lens unit is a form in which the lens contains a cured thermosetting resin.
The organic component in the organic material or organic-inorganic composite material is also a form having an Abbe number of 45 or more, a form that is a thermosetting resin, a form containing an alicyclic epoxy compound as an essential component, or a molecular weight of 700 or more. The form which is a thing is preferable.
As the inorganic material, glass or the like is preferable.

上記有機無機複合材料における無機成分としては、無機微粒子又はメタロキサンポリマーであることが好適である。
上記無機微粒子としては、金属酸化微粒子である形態、湿式法により得られたものである形態、平均粒径が400nm以下のものである形態、溶液中に分散させたときの25℃におけるpHが3.4〜11のものである形態が好ましい。
上記メタロキサンポリマーとしては、好適には、オルガノシロキサンポリマーが好ましい。オルガノシロキサンポリマーとしては、例えば、かご状構造又はラダー状構造等のポリシルセスキオキサン;ジフェニルシロキサン単位、ジアルキルシロキサン単位、アルキルフェニルシロキサン単位等の繰り返しの基本単位とする鎖状ポリシロキサン等が挙げられる。
The inorganic component in the organic-inorganic composite material is preferably inorganic fine particles or a metalloxane polymer.
The inorganic fine particles include metal oxide fine particles, a form obtained by a wet method, a form having an average particle size of 400 nm or less, and a pH at 25 ° C. of 3 when dispersed in a solution. The form which is 4-11 is preferable.
The metalloxane polymer is preferably an organosiloxane polymer. Examples of the organosiloxane polymer include a polysilsesquioxane having a cage structure or a ladder structure; a chain polysiloxane having a repeating basic unit such as a diphenylsiloxane unit, a dialkylsiloxane unit, or an alkylphenylsiloxane unit. It is done.

上記レンズユニットとしては、上記光選択透過フィルターと2枚以上のレンズとを備え、該レンズは、厚みが1mm未満の耐リフロー性レンズであり、アッベ数50以上のレンズを一つ以上有することが好ましい。また、上記レンズユニットの厚みとしては、50mm以下であることが好ましい。このような厚みとすることにより、カメラモジュール等の種々の光学部材に好適に用いることができる。レンズユニットの厚みとしてより好ましくは30mm以下、更に好ましくは10mm以下である。 The lens unit includes the light selective transmission filter and two or more lenses, and the lens is a reflow resistant lens having a thickness of less than 1 mm, and has at least one lens having an Abbe number of 50 or more. preferable. The thickness of the lens unit is preferably 50 mm or less. By setting it as such thickness, it can use suitably for various optical members, such as a camera module. The thickness of the lens unit is more preferably 30 mm or less, and still more preferably 10 mm or less.

上記レンズユニットの小型化の観点からは、シーモスセンサーとレンズとの距離も重要である。シーモスセンサーとレンズとの距離とは、レンズの最も外側の表面とシーモスセンサーとの距離であり、光選択透過フィルターがシーモスセンサー側に装着されている場合は、該光選択透過フィルターとシーモスセンサーとの距離となる。 From the viewpoint of downsizing the lens unit, the distance between the sea moss sensor and the lens is also important. The distance between the sea moss sensor and the lens is the distance between the outermost surface of the lens and the sea moss sensor. When the light selective transmission filter is mounted on the side of the sea moss sensor, the light selective transmission filter and the sea moss sensor It becomes the distance.

上記レンズユニットにおいては、例えば、図5のように光選択透過フィルターがシーモスセンサー側に配置される形態であることが好適であるが、光選択透過フィルターはレンズの間に配置されていてもよい。また、所望の波長の光を充分に遮断する点からは、レンズの上部と下部との両方に配置される形態、すなわち、光の進行方向に沿って、光選択透過フィルター、1枚又は2枚以上のレンズ、光選択透過フィルター、シーモスセンサーの順に配置される形態も好適である。
上記レンズユニットにおいてはまた、上記以外の構成を更に備えていてもよい。
In the lens unit, for example, it is preferable that the light selective transmission filter is disposed on the side of the moth sensor as shown in FIG. 5, but the light selective transmission filter may be disposed between the lenses. . In addition, from the point of sufficiently blocking the light of the desired wavelength, it is arranged in both the upper part and the lower part of the lens, that is, the light selective transmission filter, one or two, along the light traveling direction. A form in which the lens, the light selective transmission filter, and the sea moss sensor are arranged in this order is also suitable.
The lens unit may further include a configuration other than the above.

本発明の光選択透過フィルターの製造方法は、上述のような構成よりなるので、クラックや層剥離、割れ、反り等が生じることなく、切断面の揃った、優れた光選択透過性を発揮できる光選択透過フィルターを、容易かつ高生産性で得ることができる。このような製法によれば、より径が小さく、かつ曲線部分を含むような特異な微小異形状の光選択透過フィルターであっても、クラックや層剥離等が生じることなく容易に得ることができる。また、本発明の製法によって得られる光選択透過フィルターは、小型部材・機器等にも好適に対応でき、その取扱性や作業性、生産性を向上できるものであり、例えばオプトデバイス用途、表示デバイス用途、機械部品、電気・電子部品等の様々な用途に好適に用いられるものである。 Since the method for producing a light selective transmission filter of the present invention has the above-described configuration, it can exhibit excellent light selective transmission with a uniform cut surface without causing cracks, delamination, cracks, warpage, or the like. A light selective transmission filter can be obtained easily and with high productivity. According to such a manufacturing method, even a light selective transmission filter having a unique minute irregular shape having a smaller diameter and including a curved portion can be easily obtained without causing cracks or delamination. . Moreover, the light selective transmission filter obtained by the production method of the present invention can be suitably applied to small members and equipment, and can improve its handling property, workability, and productivity. It is suitably used for various uses such as uses, mechanical parts, and electrical / electronic parts.

フィルムbの両面に保護フィルムを設けた積層フィルムにレーザー光を照射し、特定形状を切り出す方法の好ましい例を示す概念図である。It is a conceptual diagram which shows the preferable example of the method of irradiating a laminated film which provided the protective film on both surfaces of the film b, and cutting out a specific shape. フィルムbの両面に保護フィルムを設けた積層フィルムにレーザー光を照射し、特定形状を切り出す方法の好ましい例を示す概念図である。It is a conceptual diagram which shows the preferable example of the method of irradiating a laminated film which provided the protective film on both surfaces of the film b, and cutting out a specific shape. フィルムbの両面に保護フィルムを設けた積層フィルムにレーザー光を照射し、特定形状を切り出す方法の好ましい例を示す概念図である。It is a conceptual diagram which shows the preferable example of the method of irradiating a laminated film which provided the protective film on both surfaces of the film b, and cutting out a specific shape. 図1〜3に示す手法にて得た光選択透過フィルターeの上面に粘着シート/フィルムfを貼付した例を示す概念図である。It is a conceptual diagram which shows the example which stuck the adhesive sheet / film f on the upper surface of the light selective transmission filter e obtained by the method shown in FIGS. カメラモジュールの構成を示す断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram which shows the structure of a camera module. 光選択透過フィルターの有無によるバックフォーカスの伸張を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the expansion | extension of a back focus by the presence or absence of a light selective transmission filter.

以下に実施例を掲げて本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。特に断りのない限り、「部」は「重量部」を、「%」は「質量%」を意味するものとする。 The present invention will be described in more detail with reference to the following examples. However, the present invention is not limited to these examples. Unless otherwise specified, “part” means “part by weight” and “%” means “% by mass”.

1、基材
(1)FPEKフィルムの作成
<FPEKの合成>
温度計、冷却管、ガス導入管、及び、攪拌機を備えた反応器に、BPDE(4,4′−ビス(2,3,4,5,6−ペンタフルオロベンゾイル)ジフェニルエーテル) 16.74部、HF(9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン) 10.5部、炭酸カリウム 4.34部、DMAc(ジメチルアセトアミド) 90部を仕込んだ。この混合物を80℃に加温し、8時間反応した。反応終了後、反応溶液をブレンダーで激しく攪拌しながら、1%酢酸水溶液中に注加した。析出した反応物を濾別し、蒸留水及びメタノールで洗浄した後、減圧乾燥して、フッ素化芳香族ポリマー(FPEK(1))を得た。反応式を下記に示す。フッ素化芳香族ポリマーは、下記反応式で得られた繰り返し単位を含むフッ素化芳香族ポリマーである。
1. Base material (1) Preparation of FPEK film <Synthesis of FPEK>
In a reactor equipped with a thermometer, a cooling pipe, a gas introduction pipe, and a stirrer, 16.74 parts of BPDE (4,4′-bis (2,3,4,5,6-pentafluorobenzoyl) diphenyl ether), 10.5 parts of HF (9,9-bis (4-hydroxyphenyl) fluorene), 4.34 parts of potassium carbonate, and 90 parts of DMAc (dimethylacetamide) were charged. The mixture was warmed to 80 ° C. and reacted for 8 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was poured into a 1% aqueous acetic acid solution with vigorous stirring with a blender. The precipitated reaction product was separated by filtration, washed with distilled water and methanol, and then dried under reduced pressure to obtain a fluorinated aromatic polymer (FPEK (1)). The reaction formula is shown below. The fluorinated aromatic polymer is a fluorinated aromatic polymer containing a repeating unit obtained by the following reaction formula.

Figure 2011191693
Figure 2011191693

上記ポリマーのガラス転移点温度(Tg)は242℃、数平均分子量(Mn)が70770、表面抵抗値は1.0×1018Ω/cm以上であった。
<基材の形成>
溶剤キャスト法により50μmのフィルム(以下、FPEKフィルムとも言う。)を得、これを基材(1)として用いた。なお、製膜について、溶剤キャスト法を用いた際の溶媒は、酢酸エチルとトルエンの混合溶媒を用いた。
The polymer had a glass transition temperature (Tg) of 242 ° C., a number average molecular weight (Mn) of 70770, and a surface resistance value of 1.0 × 10 18 Ω / cm 2 or more.
<Formation of substrate>
A 50 μm film (hereinafter also referred to as FPEK film) was obtained by the solvent casting method, and this was used as the substrate (1). In addition, about the film forming, the solvent at the time of using the solvent cast method used the mixed solvent of ethyl acetate and toluene.

(2)ポリエチレンナフタレートフィルム(PENフィルム)
帝人デュポンフィルム社(テオネックスQ83)、厚さ75μm、融点269℃ (PENフィルム)(基材(2))を用いた。
(2) Polyethylene naphthalate film (PEN film)
Teijin DuPont Films (Teonex Q83), thickness 75 μm, melting point 269 ° C. (PEN film) (base material (2)) was used.

(3)ポリイミドフィルム
(3−1)三菱ガス化学社製、ネオプリムL−3430 厚さ50μm(基材(3−1))を用いた。
(3−2)三菱ガス化学社製、ネオプリムL−3430 厚さ100μm(基材(3−2))を用いた。
(3) Polyimide film (3-1) Mitsubishi Gas Chemical Company, Neoprim L-3430 Thickness 50 μm (base material (3-1)) was used.
(3-2) Neoprim L-3430, manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc., having a thickness of 100 μm (base material (3-2)) was used.

(4)エポキシ樹脂
<エポキシ樹脂の合成>
ポリテトラメチレンエーテルグリコールのジグリシジルエーテル(商品名:エピコートYL7217、ジャパンエポキシレジン社製)19部、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(商品名:エピコート828EL、ジャパンエポキシレジン社製)55部、水添ビスフェノールA型エポキシ樹脂(商品名:エピコートYX8000、ジャパンエポキシレジン社製)22部、六フッ化リン系アリールスルホニウム塩(商品名:UVI−6992、ザ・ダウ・ケミカル・カンパニー製)4部を自公転式遠心混合装置(製品名:あわとり練太郎(登録商標)、シンキー社製)を用いて混合した。
<基材の形成>
上記エポキシ樹脂組成物を、キャスト法により50μm厚で成膜した後、高圧水銀ランプを光源とする露光機(製品名:MA−60F、ミカサ社製)を用いて、照度10mW/cmで15分間、すなわち露光エネルギー9J/cmの紫外線照射を行って、光硬化することでエポキシ樹脂フィルムを得、これを基材(4)として用いた。
(4) Epoxy resin <Synthesis of epoxy resin>
19 parts of polytetramethylene ether glycol diglycidyl ether (trade name: Epicoat YL7217, manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.), 55 parts of bisphenol A type epoxy resin (trade name: Epicoat 828EL, manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.), hydrogenated bisphenol A Type epoxy resin (trade name: Epicoat YX8000, manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) 22 parts, phosphorus hexafluoride arylsulfonium salt (trade name: UVI-6922, manufactured by The Dow Chemical Company) 4 parts Mixing was performed using a centrifugal mixing device (product name: Awatori Nertaro (registered trademark), manufactured by Shinky Corporation).
<Formation of substrate>
The epoxy resin composition was formed into a film with a thickness of 50 μm by a casting method, and then exposed at an illuminance of 10 mW / cm 2 using an exposure machine (product name: MA-60F, manufactured by Mikasa) using a high-pressure mercury lamp as a light source. An epoxy resin film was obtained by performing photocuring by irradiating with ultraviolet rays at an exposure energy of 9 J / cm 2 for a minute, and this was used as a substrate (4).

(5)アートンフィルム
JSR社製 アートンF 厚み190μm(基材(5))を用いた。
(5) Arton Film JSR Co., Ltd. Arton F thickness 190micrometer (base material (5)) was used.

(6)ガラスフィルム
SCHOTT社製ガラスコード:D263、厚み30μm(基材(6))を用いた。
(6) Glass film SCHOTT glass cord: D263, thickness 30 μm (base material (6)) was used.

(7)FPEK/ガラス/FPEKフィルムの作成
フッ素化ポリエーテルケトン(FPEK)1.57gをプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート10.45gに添加して均一に撹拌した。スピンコート法を用いて、ガラスフィルム(30μm)の片面に5μm膜を成膜した後、もう一方の面のガラス面に同様の操作を行い、150℃で乾燥することでFPEK/ガラス/FPEKフィルムを得、これを基材(7)として用いた。
(7) Preparation of FPEK / glass / FPEK film 1.57 g of fluorinated polyether ketone (FPEK) was added to 10.45 g of propylene glycol monomethyl ether acetate and stirred uniformly. Using a spin coating method, after forming a 5 μm film on one side of a glass film (30 μm), the same operation is performed on the other side of the glass surface, followed by drying at 150 ° C. so that FPEK / glass / FPEK film This was used as a substrate (7).

(8)フルオレンエポキシ・FPEK/ガラス/フルオレンエポキシ・FPEKフィルムの作成
FPEK1.0g、フルオレンエポキシ(大阪ガスケミカル社製、オンコート EX−1020)0.5gをプロピレグリコールモノメチルエーテルアセテート10gに添加して、均一に撹拌した。その後、40℃以下にして、カチオン系重合開始剤(三新化学工業社、サンエイドSI−60L)0.016g(固形分:32%)を均一に撹拌した。製膜は、スピンコート操作にて、上記(7)と同様に行うことにより、フルオレンエポキシ・FPEK/ガラス/フルオレンエポキシ・FPEKフィルムを得、これを基材(8)として用いた。
(8) Preparation of fluorene epoxy / FPEK / glass / fluorene epoxy / FPEK film 1.0 g of FPEK and 0.5 g of fluorene epoxy (Osaka Gas Chemical Co., Ltd., ONCOAT EX-1020) were added to 10 g of propylene glycol monomethyl ether acetate. And stirred uniformly. Thereafter, the temperature was set to 40 ° C. or less, and 0.016 g (solid content: 32%) of a cationic polymerization initiator (Sanshin Chemical Co., Ltd., Sun-Aid SI-60L) was uniformly stirred. Film formation was performed in the same manner as in (7) above by spin coating, to obtain a fluorene epoxy / FPEK / glass / fluorene epoxy / FPEK film, which was used as the substrate (8).

2、積層フィルムの製造
1辺が60mmのこれら基材((1)〜(8))のそれぞれの両面に、蒸着基板温度150℃で赤外線を反射する多層膜〔シリカ(SiO:膜厚120〜190nm)層とチタニア(TiO:膜厚70〜120nm)層とが交互に積層されてなるもの、積層数は片面25層ずつ両面に蒸着:計50層〕を蒸着により形成し、無機積層フィルム((1)〜(8))を製造した。
2. Production of laminated film Multilayer film [silica (SiO 2 : film thickness 120) reflecting infrared rays at a deposition substrate temperature of 150 ° C. on both surfaces of each of the base materials ((1) to (8)) having a side of 60 mm. ˜190 nm) layers and titania (TiO 2 : film thickness: 70 to 120 nm) layers are alternately laminated, and the number of laminated layers is 25 layers on one side by vapor deposition: 50 layers in total. Films ((1) to (8)) were produced.

3、異形成形
<打ち抜き成形>
ダイの上にこれら積層フィルムを平置きし、上方よりトムソン刃を用いて打ち抜き、円型の光選択透過フィルターを得た。トムソン刃は直径が12mm、6.8mm、2.2mm、2.0mmのものを用いた。結果を表1に示す。なお、表1では、光選択透過フィルターにおいて割れやヒビが生じなかったものを「○」と評価し、割れやヒビが生じたものを「×」と評価した。
3. Different shape <Punching>
These laminated films were laid flat on a die and punched from above using a Thomson blade to obtain a circular light selective transmission filter. Thomson blades having a diameter of 12 mm, 6.8 mm, 2.2 mm, and 2.0 mm were used. The results are shown in Table 1. In Table 1, the light selective transmission filter that was not cracked or cracked was evaluated as “◯”, and the one that was cracked or cracked was evaluated as “x”.

Figure 2011191693
Figure 2011191693

基材(1)〜(3)を用い、かつ、12mm径、6.8mm径に打ち抜いた光選択透過フィルターは、割れが生じなかったが、2.2mm径、2.0mm径に打ち抜いた光選択透過フィルターは、無機層にヒビが入ってしまった。
基材(4)を用いた場合には、いずれの径のトムソン刃を用いても無機層、又は、無機層と基材ともにヒビが入ってしまった。
基材(6)〜(8)のガラスを含む基材においては、いずれの径のトムソン刃を用いても無機層と基材ともにヒビが入ってしまった。
The light selective transmission filter using the substrates (1) to (3) and punched to a diameter of 12 mm and a diameter of 6.8 mm did not crack, but the light punched to a diameter of 2.2 mm and a diameter of 2.0 mm The selective transmission filter has cracked the inorganic layer.
When the substrate (4) was used, the inorganic layer or the inorganic layer and the substrate were cracked regardless of the diameter of the Thomson blade.
In the base material containing the glass of the base materials (6) to (8), the inorganic layer and the base material were cracked regardless of the diameter of the Thomson blade.

<レーザーカット成形>
HITACHI社製COレーザーを用いてこれら積層フィルムのレーザーカットを行い、6mm径と2mm径の円形の光選択透過フィルターを得た。結果を表2に示す。なお、表2中の「○」、「×」は、表1と同様である。
基材(6)のガラスフィルム(ガラス単独基材)はレーザーカット時に無機層と基材ともにヒビが入ってしまったが、他の樹脂層を含む積層体は、割れることなく成形することができ、レーザーカット成形可能であることが分かった。
<Laser cut molding>
Perform laser cutting of the laminated film using a HITACHI Co. CO 2 laser, to obtain a circular light selective transmission filter of 6mm diameter and 2mm diameter. The results are shown in Table 2. In Table 2, “◯” and “x” are the same as those in Table 1.
The glass film of the base material (6) (glass single base material) has cracked both the inorganic layer and the base material during laser cutting, but a laminate containing other resin layers can be molded without cracking. It was found that laser cut molding is possible.

Figure 2011191693
Figure 2011191693

レーザーカット成形により得られた2mm径の光選択透過フィルターの外観評価を行った。結果を表3に示す。
基材(6)のガラスフィルム(ガラス単独基材)は、クラックが入り割れてしまったが、他の樹脂層を含む積層体は、レーザーカットによるクラックやくもりの発生がなかった。しかし基材(5)のアートンフィルムのみ、外周より0.2mmの範囲で光選択透過層が欠如していた。
The appearance of a 2 mm diameter light selective transmission filter obtained by laser cut molding was evaluated. The results are shown in Table 3.
Although the glass film (glass single base material) of the base material (6) was cracked and cracked, the laminate including the other resin layers was free from cracks and cloudiness due to laser cutting. However, only the ARTON film of the substrate (5) lacked the light selective transmission layer in the range of 0.2 mm from the outer periphery.

Figure 2011191693
Figure 2011191693

<保護層>
保護層を設けた状態でレーザーカットを行い複数個の2mm径の光選択透過フィルターを得た。結果を表4に示す。保護層は図1、図2又は図3の構成で設けた。
図1の構成では、上部保護フィルムaにはパナック社製パナプロテクトCT(25μm、PET)を、下部保護フィルムcには大和化成製マスキングフィルムP−30(55μm、ポリエチ)を用いた。
図2の構成では、上部保護フィルムaにはパナック社製パナプロテクトCT(25μm、PET)を、下部保護フィルムcにはパナック社製パナプロテクトST(100μm、PET)を用いた。
図3の構成では、上部保護フィルムaにはパナック社製パナプロテクトCT(25μm、PET)を、下部保護フィルムcにはパナック社製パナプロテクトCT(25μm、PET)を、dには大和化成製マスキングフィルムP−30(55μm、ポリエチ)を用いた。
<Protective layer>
Laser cutting was performed with the protective layer provided to obtain a plurality of 2 mm diameter light selective transmission filters. The results are shown in Table 4. The protective layer was provided in the configuration of FIG. 1, FIG. 2 or FIG.
In the configuration of FIG. 1, Panaprotect CT (25 μm, PET) manufactured by Panac Corporation was used for the upper protective film a, and a masking film P-30 (55 μm, polyethylene) manufactured by Daiwa Kasei was used for the lower protective film c.
In the configuration of FIG. 2, Panaprotect CT (25 μm, PET) manufactured by Panac is used for the upper protective film a, and Panaprotect ST (100 μm, PET) manufactured by Panac is used for the lower protective film c.
In the configuration of FIG. 3, Panaprotect CT (25 μm, PET) manufactured by Panac is used for the upper protective film a, Panaprotect CT (25 μm, PET) manufactured by Panac is used for the lower protective film c, and Daiwa Kasei is used for d. Masking film P-30 (55 μm, polyethylene) was used.

ここで、保護層なしでレーザーカットを行うと、レーザーカットにより発生した異物が光選択透過フィルターの表面に付着してしまったが、保護層を設けることにより、光選択透過フィルター表面の異物付着が改善された。図1、図2、図3のような保護層の構成にすることにより、レーザーカットの加工性を損なうことがなく、かつ、カット後の光選択透過フィルターが最下層の保護層により保持されて一体化しているので取り扱いが容易であった。図1の保護層を設けた状態でレーザーカットを行うと、光選択透過フィルターの切断面(保護層cと接している部分)がやや乱雑となり平滑性がより充分なものとはいえなかったが、図2、図3の保護層を設け、下部保護層も同時にレーザーカットすることにより、より平滑な切断面の光選択透過フィルターを得ることができた。基材(5)のアートンフィルムはいずれの場合にも切断面が乱雑となってしまった。 Here, when laser cutting is performed without a protective layer, foreign matter generated by laser cutting adheres to the surface of the light selective transmission filter. However, by providing a protective layer, foreign matter adheres to the surface of the light selective transmission filter. Improved. By adopting the protective layer structure as shown in FIGS. 1, 2, and 3, the laser cut processability is not impaired, and the light selective transmission filter after cutting is held by the lowermost protective layer. Since it is integrated, it was easy to handle. When laser cutting was performed with the protective layer of FIG. 1 provided, the cut surface of the light selective transmission filter (the portion in contact with the protective layer c) was somewhat messy, and the smoothness was not sufficient. 2 and 3 were provided, and the lower protective layer was also laser-cut simultaneously to obtain a light selective transmission filter having a smoother cut surface. In each case, the arton film of the substrate (5) had a messy cut surface.

光選択透過フィルターをレンズユニットに組み込む際、保護層を除去する必要があるため、レーザーカット後の光選択透過フィルターから保護層の除去検討を行った。
樹脂のみからなる基材(1)〜(5)の光選択透過フィルターは、容易に保護層を除去できたが、基材にガラスを含む(6)、(7)は、保護層を剥す際、光選択透過フィルターに割れが生じた。樹脂のみからなる基材を用いた光選択透過フィルターは、ガラスを含む光選択透過フィルターに比べ、取り扱い性の点で利点があることが分かった。
レーザーカット後、不要な部分(2mm径の円以外の部分や2mm径の円の上に残った上部保護フィルム等)を剥し、保護フィルムを再度貼ることにより、図4のような光選択透過フィルター支持フィルムを得ることができた。
Since it is necessary to remove the protective layer when incorporating the light selective transmission filter into the lens unit, the removal of the protective layer from the light selective transmission filter after laser cutting was examined.
The light selective transmission filters of the base materials (1) to (5) made of only the resin could easily remove the protective layer, but the base material contains glass (6) and (7) when peeling the protective layer. The light selective transmission filter was cracked. It has been found that a light selective transmission filter using a substrate made of only a resin has an advantage in terms of handleability compared to a light selective transmission filter containing glass.
After laser cutting, peel off unnecessary parts (parts other than circles with a diameter of 2 mm or upper protective films remaining on circles with a diameter of 2 mm), and re-apply the protective film, so that a light selective transmission filter as shown in FIG. A support film could be obtained.

Figure 2011191693
Figure 2011191693

4、光選択透過フィルターの評価
レーザーカット前の積層フィルムの透過率、レーザーカットにより得られた2mm径の光選択透過フィルターの透過率を測定した。結果を表5に示す。
基材(1)、(3−1)、(3−2)、(4)を用いた光選択透過フィルターはレーザーカット後も透過率の変化がほとんどなく、光選択透過フィルターとして優れた性能を示した。基材(2)を用いた光選択透過フィルターは、若干透過率が低下してしまったが、光選択透過フィルターとして使用可能であった。一方、基材(5)を用いた光選択透過フィルターは透過率が大きく低下し、使用できないレベルであった。
4. Evaluation of light selective transmission filter The transmittance of the laminated film before laser cutting and the transmittance of a 2 mm diameter light selective transmission filter obtained by laser cutting were measured. The results are shown in Table 5.
The light selective transmission filter using the substrates (1), (3-1), (3-2) and (4) has almost no change in transmittance even after laser cutting, and has excellent performance as a light selective transmission filter. Indicated. The light selective transmission filter using the substrate (2) had a slight decrease in transmittance, but could be used as a light selective transmission filter. On the other hand, the light selective transmission filter using the base material (5) has a low transmittance and is not usable.

Figure 2011191693
Figure 2011191693

a:保護フィルム
b:フィルム(基材と光選択透過層とからなる積層フィルム)
c:保護フィルム
d:保護フィルム
e:光選択透過フィルター
f:粘着シート/フィルム
g:レーザー光
h:台/シート
1:レンズ
2:光選択透過フィルター
3:センサー
a: Protective film b: Film (laminated film comprising a base material and a light selective transmission layer)
c: protective film d: protective film e: light selective transmission filter f: adhesive sheet / film g: laser light h: table / sheet 1: lens 2: light selective transmission filter 3: sensor

Claims (7)

基材と光選択透過層とを少なくとも有する光選択透過フィルターを製造する方法であって、該製造方法は、基材の少なくとも一方の面に光選択透過層を有する積層フィルムから、レーザーにより光選択透過フィルターを切り出す工程を含み、
該基材は、フッ素化芳香族ポリマー、多環芳香族ポリマー、ポリ(アミド)イミド樹脂、含フッ素高分子化合物及び硬化性樹脂から選ばれる少なくとも1種の有機材料から形成される樹脂層からなる樹脂フィルム、又は、該樹脂層を有するガラスフィルムであることを特徴とする光選択透過フィルターの製造方法。
A method for producing a light selective transmission filter having at least a base material and a light selective transmission layer, wherein the manufacturing method comprises light selection by a laser from a laminated film having a light selective transmission layer on at least one surface of the base material. Including a step of cutting the transmission filter,
The substrate comprises a resin layer formed of at least one organic material selected from a fluorinated aromatic polymer, a polycyclic aromatic polymer, a poly (amide) imide resin, a fluorine-containing polymer compound, and a curable resin. A method for producing a light selective transmission filter, which is a resin film or a glass film having the resin layer.
前記光選択透過フィルター及び積層フィルムは、更に、保護層を有することを特徴とする請求項1に記載の光選択透過フィルターの製造方法。 The method for producing a light selective transmission filter according to claim 1, wherein the light selective transmission filter and the laminated film further include a protective layer. 前記レーザーは、炭酸ガスレーザーであることを特徴とする請求項1又は2に記載の光選択透過フィルターの製造方法。 The method for producing a light selective transmission filter according to claim 1, wherein the laser is a carbon dioxide laser. 前記光選択透過フィルター及び積層フィルムは、基材の両面に光選択透過層を有することを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の光選択透過フィルターの製造方法。 The said selective light transmission filter and laminated film have a selective light transmission layer on both surfaces of a base material, The manufacturing method of the selective light transmission filter in any one of Claims 1-3 characterized by the above-mentioned. 請求項1〜4のいずれかに記載の製造方法により得られることを特徴とする光選択透過フィルター。 A light selective transmission filter obtained by the production method according to claim 1. 支持体フィルム上に、請求項5に記載の光選択透過フィルターを複数個有することを特徴とする光選択透過フィルター支持フィルム。 A light selective transmission filter support film comprising a plurality of the light selective transmission filters according to claim 5 on a support film. 請求項5に記載の光選択透過フィルターを備えてなることを特徴とするレンズユニット。 A lens unit comprising the light selective transmission filter according to claim 5.
JP2010059893A 2010-03-16 2010-03-16 Light selective transmission filter and manufacturing method thereof Expired - Fee Related JP5489796B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010059893A JP5489796B2 (en) 2010-03-16 2010-03-16 Light selective transmission filter and manufacturing method thereof

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010059893A JP5489796B2 (en) 2010-03-16 2010-03-16 Light selective transmission filter and manufacturing method thereof

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2011191693A true JP2011191693A (en) 2011-09-29
JP5489796B2 JP5489796B2 (en) 2014-05-14

Family

ID=44796643

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010059893A Expired - Fee Related JP5489796B2 (en) 2010-03-16 2010-03-16 Light selective transmission filter and manufacturing method thereof

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5489796B2 (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107545841A (en) * 2016-06-29 2018-01-05 三星显示有限公司 The method for covering window and manufacture covering window
JP2018059069A (en) * 2016-09-30 2018-04-12 住友化学株式会社 Optical film and laminated film using the same, and production method of optical film
CN109979318A (en) * 2019-04-09 2019-07-05 京东方科技集团股份有限公司 Display master blank and its manufacture and cutting method, display base plate and device

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05290971A (en) * 1992-04-03 1993-11-05 Stanley Electric Co Ltd Patterning method for el display element
JP2005526997A (en) * 2002-05-21 2005-09-08 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー Method for cleanly and quickly subdividing a multilayer optical film
JP2008181121A (en) * 2006-12-28 2008-08-07 Nippon Shokubai Co Ltd Light selective transmission filter
JP2008187138A (en) * 2007-01-31 2008-08-14 Bridgestone Corp Method for manufacturing optical filter for display, optical filter for display, and display and plasma display equipped with same

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05290971A (en) * 1992-04-03 1993-11-05 Stanley Electric Co Ltd Patterning method for el display element
JP2005526997A (en) * 2002-05-21 2005-09-08 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー Method for cleanly and quickly subdividing a multilayer optical film
JP2008181121A (en) * 2006-12-28 2008-08-07 Nippon Shokubai Co Ltd Light selective transmission filter
JP2008187138A (en) * 2007-01-31 2008-08-14 Bridgestone Corp Method for manufacturing optical filter for display, optical filter for display, and display and plasma display equipped with same

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107545841A (en) * 2016-06-29 2018-01-05 三星显示有限公司 The method for covering window and manufacture covering window
JP2018059069A (en) * 2016-09-30 2018-04-12 住友化学株式会社 Optical film and laminated film using the same, and production method of optical film
JP7112838B2 (en) 2016-09-30 2022-08-04 住友化学株式会社 OPTICAL FILM, LAMINATED FILM USING THE SAME, AND OPTICAL FILM MANUFACTURING METHOD
CN109979318A (en) * 2019-04-09 2019-07-05 京东方科技集团股份有限公司 Display master blank and its manufacture and cutting method, display base plate and device
CN109979318B (en) * 2019-04-09 2021-02-09 京东方科技集团股份有限公司 Display mother board, manufacturing and cutting method thereof, display substrate and device
US11416043B2 (en) 2019-04-09 2022-08-16 Chengdu Boe Optoelectronics Technology Co., Ltd. Display motherboard, manufacturing and cutting methods thereof

Also Published As

Publication number Publication date
JP5489796B2 (en) 2014-05-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5517404B2 (en) Light selective transmission filter
JP5517405B2 (en) Light selective transmission filter
JP5706932B2 (en) Light selective transmission filter, resin sheet, and solid-state image sensor
JP6017805B2 (en) Light selective transmission filter, purple light absorbing sheet and solid-state imaging device
CN106662686B (en) Optical filter, ambient light sensor, and electronic device
JP6773161B2 (en) Optical filter
JP5996901B2 (en) Light selective transmission filter, resin sheet, and solid-state image sensor
JP5883333B2 (en) Transparent sheet and method for producing the same
KR101779640B1 (en) Optical filter and imaging device comprising same
JP6243107B2 (en) Light selective transmission filter, its base material and application
JP5489796B2 (en) Light selective transmission filter and manufacturing method thereof
JP5450170B2 (en) Laminated body and light selective transmission filter
JP2009154490A (en) Laminated film
JP5284636B2 (en) LAMINATED FILM, LAMINATE, LIGHT SELECTIVE TRANSMISSION FILTER AND METHOD FOR PRODUCING THE LAMINATED FILM
JP2014067019A (en) Resin composition for forming light selective transmission filter and application thereof
JP2013257532A (en) Light selective transmission filter, resin sheet, and solid state imaging device
JP6631521B2 (en) Optical filter
JP5848654B2 (en) Light selective transmission filter, resin sheet, and solid-state image sensor
JP6001299B2 (en) Base material for light selective transmission filter, resin sheet, light selective transmission filter, and solid-state imaging device
JP2009132091A (en) Gas barrier film
TW202242010A (en) Substrate, optical filter, solid-state imaging device and camera module capable of being used in an optical filter which has excellent transmission characteristics of visible light rays and a part of near infrared rays and can suppress ghosting
TWI641649B (en) Resin composition for lamination and use thereof
JP2014071416A (en) Light selective transmission filter, resin sheet, and solid state imaging device
JP2013246266A (en) Optical filter
JP2017159221A (en) Manufacturing method for window transparent laminate film

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20121025

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20130530

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130604

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130725

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20131203

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20140120

A911 Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20140204

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20140225

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20140225

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5489796

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees